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JP2006153536A - Mark detection method and apparatus - Google Patents

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JP2006153536A
JP2006153536A JP2004341577A JP2004341577A JP2006153536A JP 2006153536 A JP2006153536 A JP 2006153536A JP 2004341577 A JP2004341577 A JP 2004341577A JP 2004341577 A JP2004341577 A JP 2004341577A JP 2006153536 A JP2006153536 A JP 2006153536A
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JP
Japan
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mark
lens
detected
temporary reference
reference layout
Prior art date
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Application number
JP2004341577A
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Japanese (ja)
Inventor
Norihisa Tanaka
紀久 田中
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Hoya Corp
Original Assignee
Hoya Corp
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Publication date
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    • G02OPTICS
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    • G02C7/00Optical parts
    • G02C7/02Lenses; Lens systems ; Methods of designing lenses
    • G02C7/021Lenses; Lens systems ; Methods of designing lenses with pattern for identification or with cosmetic or therapeutic effects
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06KGRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
    • G06K7/00Methods or arrangements for sensing record carriers, e.g. for reading patterns
    • G06K7/10Methods or arrangements for sensing record carriers, e.g. for reading patterns by electromagnetic radiation, e.g. optical sensing; by corpuscular radiation
    • G06K7/14Methods or arrangements for sensing record carriers, e.g. for reading patterns by electromagnetic radiation, e.g. optical sensing; by corpuscular radiation using light without selection of wavelength, e.g. sensing reflected white light
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reliably detect marks applied to lenses to be inspected on the basis of pickup images of the lenses inspected even in the case that the pickup images contain a large number of noise components. <P>SOLUTION: This mark detection apparatus detects a plurality of temporary reference layout marks 4A-4C applied to a lens to be inspected L on the basis of pickup images of the lens to be inspected L (spectacle lens 1) includes an imaging device for imaging the lens to be inspect and acquiring the pickup images. One temporary reference layout mark 4A having a highest precision of matching is searched for and detected by pattern matching from the pickup images. A region in which another temporary reference layout mark 4B in a specific positional relation to the temporary reference layout mark 4A is present is set as a detection region 26. Pattern matching is executed only on the detection region to search for the temporary reference layout mark 4B. In the case that the temporary reference layout mark is not appropriately detected, image enhancement processing is performed on the detection region 26 to search for and detect the temporary reference layout mark 4B by pattern matching. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、被検体(特に眼鏡レンズなどの光学レンズ)の撮像画像から、当該被検体に設けられた複数のマークを検出するマーク検出方法及び装置に関する。   The present invention relates to a mark detection method and apparatus for detecting a plurality of marks provided on a subject from a captured image of the subject (particularly an optical lens such as an eyeglass lens).

未加工の眼鏡レンズを眼鏡装用者の所望する眼鏡フレームに装着する場合、その眼鏡フレームの形状に合わせて眼鏡レンズの縁摺り加工を行う。その際、図5に示すように、眼鏡装用者の瞳孔中心と眼鏡レンズ1のフィッティングポイント2とが一致するように、眼鏡レンズ1のフィッティングポイント2を加工の基準点として縁摺り加工する。眼鏡レンズ1のフィッティングポイント2をレンズ表面に直接表示することができないため、眼鏡レンズ1、特に累進屈折力眼鏡レンズの設計においては、設計の基準となる位置(例えばプリズム測定基準点O)から所定の距離だけ離れた位置に隠しマーク3と呼ばれるマークを予め形成しておき、この隠しマーク3の位置から眼鏡レンズ1の遠用部及び近用部の度数測定位置、フィッティングポイント2等の位置を導き出せるようにしている。   When an unprocessed spectacle lens is attached to a spectacle frame desired by a spectacle wearer, the spectacle lens is trimmed in accordance with the shape of the spectacle frame. At that time, as shown in FIG. 5, edge processing is performed using the fitting point 2 of the spectacle lens 1 as a processing reference point so that the pupil center of the spectacle wearer and the fitting point 2 of the spectacle lens 1 coincide. Since the fitting point 2 of the spectacle lens 1 cannot be directly displayed on the lens surface, in the design of the spectacle lens 1, particularly a progressive power spectacle lens, a predetermined position from a position serving as a design reference (for example, the prism measurement reference point O) is predetermined. A mark called a hidden mark 3 is formed in advance at a position separated by a distance, and the positions of the distance measurement and near distance portions of the spectacle lens 1 from the position of the hidden mark 3, the positions of the fitting points 2, etc. So that it can be derived.

また、仮基準レイアウトマーク4は、前記隠しマーク3を付与する際の基準を示すものであり、更に、眼鏡レンズ1の製造工程において位置決めするための基準点として用いられる。これらの隠しマーク3及び仮基準レイアウトマーク4は、一般的には刻印マークと称され、例えば、レーザー刻印装置によってレンズ表面にマーキングされる。刻印マークは、眼鏡レンズ1の商品としての性質上、レンズ表面の凹凸を最小限に抑えるように付与され、かつ、マーク自身ができるだけ目立たないことが要求される。そのため、これらの隠しマーク3及び仮基準レイアウトマーク4は、眼鏡レンズ1の表面などにおいて、通常、肉眼で認識することができず、必要に応じて(例えば、特定の角度から観察することによって)認識できるように施される。尚、図5中の符号8は、眼鏡フレームの玉型形状を示す。   The temporary reference layout mark 4 indicates a reference when the hidden mark 3 is applied, and is further used as a reference point for positioning in the manufacturing process of the spectacle lens 1. The hidden mark 3 and the temporary reference layout mark 4 are generally referred to as marking marks, and are marked on the lens surface by, for example, a laser marking device. The stamped mark is given so as to minimize the unevenness of the lens surface, and the mark itself is required to be as inconspicuous as possible because of the properties of the spectacle lens 1 as a product. Therefore, the hidden mark 3 and the temporary reference layout mark 4 cannot normally be recognized with the naked eye on the surface of the spectacle lens 1 or the like, and as necessary (for example, by observing from a specific angle). It is given so that it can be recognized. In addition, the code | symbol 8 in FIG. 5 shows the target lens shape of a spectacles frame.

従来、眼鏡レンズの表面に施された隠しマーク3や仮基準レイアウトマーク4等の刻印マークを観察し検出するためのマーク検出方法及び装置が、例えば本出願人により特許文献1に記載されている。
このマーク検出装置では、表面に隠しマーク3等が施された被検体(被検レンズ)としての眼鏡レンズ1を撮像装置が撮像し、この撮像画像を画像処理装置が取り込んで図6に示す画像処理を実施し、上記隠しマーク3等を検出している。
Conventionally, a mark detection method and apparatus for observing and detecting engraved marks such as a hidden mark 3 and a temporary reference layout mark 4 provided on the surface of a spectacle lens has been described in, for example, Patent Document 1 by the present applicant. .
In this mark detection apparatus, the imaging apparatus captures the eyeglass lens 1 as a subject (test lens) having a hidden mark 3 or the like on the surface, and the captured image is captured by the image processing apparatus and the image shown in FIG. Processing is performed to detect the hidden mark 3 and the like.

つまり、上記画像処理装置は、CCDカメラなどの撮像装置から撮像画像を取り込み(S101)、この撮像画像を2値化して(S102)、所定のフィルタリングを施し(S103)、このフィルタリングした画像から複数の隠しマーク3を同時に検出する。つまり、画像処理装置は、まず〇印の隠しマーク3を検出してその数をカウントし(S104)、次にH印の隠しマーク3を検出してその数をカウントする(S105)。   That is, the image processing apparatus captures a captured image from an image capturing apparatus such as a CCD camera (S101), binarizes the captured image (S102), performs predetermined filtering (S103), and performs a plurality of filtering from the filtered image. The hidden mark 3 is simultaneously detected. That is, the image processing apparatus first detects the number of hidden marks 3 marked with “O” and counts the number (S104), and then detects the number of hidden marks 3 marked “H” and counts the number (S105).

画像処理装置は、ステップS104でカウントした○印の隠しマーク3が2個であるか否かを判断し(S106)、○印の隠しマーク3が2個でない場合に、この〇印の隠しマーク3が1個であるか否かを判断し(S107)、○印の隠しマーク3が1個であれば、ステップS105でカウントしたH印の隠しマーク3が1個であるか否かを判断する(S108)。   The image processing apparatus determines whether or not there are two hidden marks 3 marked ○ in step S104 (S106). If there are not two hidden marks 3 marked ○, this hidden mark marked with ○ 3 is determined to be one (S107). If there is one hidden mark 3 marked with ○, it is determined whether there is one hidden mark 3 marked H counted in step S105. (S108).

〇印の隠しマーク3が2個でも1個でもない場合、または〇印の隠しマーク3が1個であるがH印の隠しマーク3が1個でない場合、画像処理装置は、ステップS101〜S108の処理を繰り返す。
〇印の隠しマーク3が2個の場合、または○印とH印の隠しマークが共に1個の場合には、画像処理装置は、被検体としての眼鏡レンズ1に施された隠しマーク3が適正に検出されたものと判断して、隠しマーク3の検出を完了する(S109)。
If the number of the hidden mark 3 with ◯ is not two or one, or the number of the hidden mark 3 with ◯ is one but the number of the hidden mark 3 with H is not one, the image processing apparatus performs steps S101 to S108. Repeat the process.
When there are two hidden marks 3 marked with ◯, or when both the hidden marks marked with ◯ and H are one, the image processing apparatus uses the hidden mark 3 applied to the spectacle lens 1 as the subject. The detection of the hidden mark 3 is completed by determining that it is properly detected (S109).

特開2002‐1638号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-1638

ところが、上述のマーク検出装置では、眼鏡レンズ1における隠しマーク3等のマーク検出環境が良好な場合には支障なく隠しマーク3等のマークを検出できるが、被検体としての眼鏡レンズ1に塵埃が付着しやすい環境では、この塵埃がノイズ成分の発生原因となり、撮像装置により撮像された眼鏡レンズ1の撮像画像にノイズ成分が多くなり、隠しマーク3等のマークを複数同時に検出すると、このノイズ成分をマークとして誤検出してしまう恐れがある。   However, in the above-described mark detection apparatus, when the mark detection environment such as the hidden mark 3 in the spectacle lens 1 is good, the mark such as the hidden mark 3 can be detected without any problem, but dust is present on the spectacle lens 1 as the subject. In an environment that tends to adhere, this dust causes a noise component, and the noise component increases in the captured image of the eyeglass lens 1 captured by the imaging device. When a plurality of marks such as the hidden mark 3 are detected simultaneously, the noise component is detected. May be erroneously detected as a mark.

本発明の目的は、上述の事情を考慮してなされたものであり、被検体の撮像画像にノイズ成分が多い場合であっても、当該撮像画像から被検体に施されたマークを確実に検出できるマーク検出方法及び装置を提供することにある。   The object of the present invention has been made in consideration of the above-described circumstances, and even when a picked-up image of a subject has a lot of noise components, the mark applied to the subject is reliably detected from the picked-up image. An object of the present invention is to provide a mark detection method and apparatus.

請求項1に記載の発明に係るマーク検出方法は、被検体の撮像画像から当該被検体に設けられた複数のマークを検出するマーク検出方法であって、上記被検体の撮像画像から、パターンマッチングによりマッチング精度が最も高いマークを一つ探索して検出し、次に、このマークに対して特定の位置関係にある他のマークが存在する領域を検出領域とし、この検出領域にのみ上記パターンマッチングを実施して上記他のマークを探索して検出することを特徴とするものである。   A mark detection method according to a first aspect of the present invention is a mark detection method for detecting a plurality of marks provided on a subject from a captured image of the subject, and pattern matching is performed from the captured image of the subject. To find and detect one mark with the highest matching accuracy, and then set the area where there is another mark in a specific positional relationship to this mark as the detection area. To search for and detect the other marks.

請求項2に記載の発明に係るマーク検出方法は、請求項1に記載の発明において、上記他のマークが存在する検出領域において、パターンマッチングを実施して上記他のマークを探索し、この他のマークが適正に検出されない場合には、撮像画像の輪郭、明るさ、色の濃さなどをはっきりさせる画像強調処理を実施した後に、パターンマッチングにより上記他のマークを再度探索して検出することを特徴とするものである。   A mark detection method according to a second aspect of the present invention is the mark detection method according to the first aspect of the invention, wherein pattern matching is performed in the detection region where the other mark exists to search for the other mark. If the mark is not detected properly, after performing image enhancement to clarify the contour, brightness, color density, etc. of the captured image, search again for the other marks by pattern matching and detect them. It is characterized by.

請求項3に記載の発明に係るマーク検出方法は、請求項1または2に記載の発明において、上記マークの検出順序は、曲線成分を多く含むマークを先に探索して検出し、その後に、直線成分を多く含むマークを探索して検出することを特徴とするものである。   A mark detection method according to a third aspect of the present invention is the mark detection method according to the first or second aspect of the invention, wherein the mark detection order is performed by first searching for and detecting a mark containing a large amount of a curve component, It is characterized by searching for and detecting a mark containing a large amount of linear components.

請求項4に記載の発明に係るマーク検出方法は、請求項1乃至3のいずれかに記載の発明において、上記被検体が眼鏡レンズであり、上記マークが仮基準レイアウトマークであることを特徴とするものである。   A mark detection method according to a fourth aspect of the invention is characterized in that, in the invention according to any one of the first to third aspects, the subject is a spectacle lens, and the mark is a temporary reference layout mark. To do.

請求項5に記載の発明に係るマーク検出装置は、被検体の撮像画像から当該被検体に設けられた複数のマークを検出するマーク検出装置であって、上記被検体を撮像して撮像画像を得る撮像手段と、上記撮像画像からパターンマッチングによりマッチング精度が最も高いマークを一つ探索して検出し、このマークに対して特定の位置関係にある他のマークが存在する領域を検出領域とし、この検出領域にのみ上記パターンマッチングを実施して上記他のマークを探索して検出する画像処理手段と、を有することを特徴とするものである。   A mark detection apparatus according to a fifth aspect of the present invention is a mark detection apparatus that detects a plurality of marks provided on a subject from a captured image of the subject, and captures the captured image by imaging the subject. The image capturing means to be obtained and the mark having the highest matching accuracy by pattern matching are searched for and detected from the captured image, and an area where another mark having a specific positional relationship with this mark exists is set as a detection area. Image processing means for performing the pattern matching only in the detection area and searching for and detecting the other marks.

請求項6に記載の発明に係るマーク検出装置は、請求項5に記載の発明において、上記画像処理手段は、他のマークが存在する検出領域において、パターンマッチングを実施して上記他のマークを探索し、この他のマークが適正に検出されない場合には、撮像画像の輪郭、明るさ、色の濃さなどをはっきりさせる画像強調処理を実施した後に、パターンマッチングにより上記他のマークを再度探索して検出することを特徴とするものである。   A mark detection apparatus according to a sixth aspect of the present invention is the mark detection device according to the fifth aspect, wherein the image processing means performs pattern matching in a detection region where another mark is present to detect the other mark. If this other mark is not detected properly, image enhancement is performed to clarify the contour, brightness, color density, etc. of the captured image, and then the other mark is searched again by pattern matching. Thus, the detection is performed.

請求項7に記載の発明に係るマーク検出装置は、請求項5または6に記載の発明において、上記画像処理手段は、曲線成分を多く含むマークを先に探索して検出し、その後に、直線成分を多く含むマークを探索して検出することを特徴とするものである。   A mark detection apparatus according to a seventh aspect of the present invention is the mark detection device according to the fifth or sixth aspect, wherein the image processing means first searches for and detects a mark containing a large amount of a curve component, and thereafter a straight line. It is characterized by searching for and detecting a mark containing many components.

請求項8に記載の発明に係るマーク検出装置は、請求項5乃至7のいずれかに記載の発明において、上記被検体が眼鏡レンズであり、上記マークが仮基準レイアウトマークであることを特徴とするものである。   The mark detection apparatus according to an eighth aspect of the invention is characterized in that, in the invention according to any one of the fifth to seventh aspects, the subject is a spectacle lens, and the mark is a temporary reference layout mark. To do.

請求項1、4に記載の発明によれば、被検体の撮像画像から、パターンマッチングによりマッチング精度が最も高いマークを一つ探索して検出し、次に、このマークに対して特定の位置関係にある他のマークが存在する領域を検出領域として、この検出領域にのみパターンマッチングを実施し上記他のマークを探索して検出することから、複数のマークを同時に探索して検出する場合に比べ、特に特定領域に絞り込んでパターンマッチングを実施し他のマークを探索して検出するので、被検体の撮像画像にノイズ成分が多い場合であっても、複数のマークの検出を確実に実施できる。   According to the first and fourth aspects of the present invention, one mark having the highest matching accuracy is searched and detected from the captured image of the subject by pattern matching, and then a specific positional relationship with respect to this mark is detected. Compared to the case where a plurality of marks are searched and detected at the same time, since the area where other marks exist in the detection area is used as a detection area, pattern matching is performed only in this detection area and the other marks are searched and detected. Particularly, since pattern matching is performed by narrowing down to a specific area and other marks are searched and detected, a plurality of marks can be reliably detected even when the picked-up image of the subject has a lot of noise components.

請求項2に記載の発明によれば、他のマークが存在する検出領域において、画像強調処理は、上記検出領域内にあるノイズ成分をも強調してしまうので、当該画像強調処理を実施しない状態でパターンマッチングにより他のマークを探索して検出することによって、この他のマークを、ノイズ成分の影響を極力排除した状態で高精度に検出することができる。   According to the second aspect of the present invention, in the detection region where another mark exists, the image enhancement processing also enhances the noise component in the detection region, so that the image enhancement processing is not performed. Thus, by searching for and detecting another mark by pattern matching, it is possible to detect this other mark with high accuracy in a state in which the influence of the noise component is eliminated as much as possible.

また、この他のマークが適正に検出されない場合に、撮像画像の輪郭、明るさ、色の濃さなどをはっきりさせる画像強調処理を実施した後に、パターンマッチングにより上記他のマークを再度探索して検出することから、検出領域の画像中における他のマークが背景に対し鮮鋭化されるので、この他のマークを確実に探索して検出できる。   In addition, when other marks are not properly detected, after performing image enhancement processing for clarifying the contour, brightness, color density, etc. of the captured image, the other marks are searched again by pattern matching. By detecting, other marks in the image of the detection area are sharpened with respect to the background, so that these other marks can be reliably searched and detected.

請求項3に記載の発明によれば、曲線成分を多く含むマークを先に探索して検出し、その後に、直線成分を多く含むマークを探索して検出することから、撮像画像の領域内に含まれるノイズ成分は直線成分が多いので、このノイズ成分と明らかに異なる曲線成分を多く含むマークを先に検出することで、検出不良を低く抑えることができる。   According to the third aspect of the present invention, since a mark that includes a large amount of curved components is first searched for and detected, and then a mark that includes a large amount of linear components is searched for and detected, it is within the region of the captured image. Since the included noise components include many linear components, detection defects can be suppressed to a low level by first detecting a mark that includes many curve components that are clearly different from the noise components.

請求項5、8に記載の発明によれば、画像処理手段は、撮像手段が撮像した被検体の撮像画像から、パターンマッチングによりマッチング精度が最も高いマークを一つ探索して検出し、このマークに対して特定の位置関係にある他のマークが存在する領域を検出領域として、この検出領域にのみパターンマッチングを実施し上記他のマークを探索して検出することから、複数のマークを同時に探索して検出する場合に比べ、特に特定領域に絞り込んでパターンマッチングを実施し他のマークを探索して検出するので、被検体の撮像画像にノイズ成分が多い場合であっても、複数のマークの検出を確実に実施できる。   According to the fifth and eighth aspects of the present invention, the image processing means searches for and detects one of the marks with the highest matching accuracy by pattern matching from the captured image of the subject imaged by the imaging means. Since a region where other marks having a specific positional relationship exist as a detection region, pattern matching is performed only in this detection region and the other marks are searched and detected, so a plurality of marks are searched simultaneously. Compared to the case where the detection is performed, the pattern matching is performed by narrowing down to a specific area, and other marks are searched for and detected. Detection can be performed reliably.

請求項6に記載の発明によれば、他のマークが存在する検出領域において、画像強調処理は、上記検出領域内にあるノイズ成分をも強調してしまうので、画像処理手段が、当該画像強調処理を実施しない状態でパターンマッチングにより他のマークを探索して検出することによって、この他のマークを、ノイズ成分の影響を極力排除した状態で高精度に検出することができる。   According to the sixth aspect of the present invention, in the detection region where another mark exists, the image enhancement processing also enhances the noise component in the detection region. By searching for and detecting other marks by pattern matching in a state where processing is not performed, these other marks can be detected with high accuracy in a state in which the influence of noise components is eliminated as much as possible.

また、この他のマークが適正に検出されない場合に、画像処理手段が、撮像画像の輪郭、明るさ、色の濃さなどをはっきりさせる画像強調処理を実施した後に、パターンマッチングにより上記他のマークを再度探索して検出することから、検出領域の画像中における他のマークが背景に対し鮮鋭化されるので、この他のマークを確実に探索して検出できる。   In addition, when the other mark is not properly detected, the image processing means performs image enhancement processing for clarifying the outline, brightness, color density, etc. of the captured image, and then performs the other mark by pattern matching. Since another mark in the image of the detection region is sharpened with respect to the background, the other mark can be reliably searched and detected.

請求項7に記載の発明によれば、画像処理手段が、曲線成分を多く含むマークを先に探索して検出し、その後に、直線成分を多く含むマークを探索して検出することから、撮像画像の領域内に含まれるノイズ成分は直線成分が多いので、このノイズ成分と明らかに異なる曲線成分を多く含むマークを先に検出することで、検出不良を低く抑えることができる。   According to the seventh aspect of the present invention, the image processing means first searches for and detects a mark that includes a large amount of curved components, and then searches for and detects a mark that includes a large amount of linear components. Since the noise component included in the image region includes many linear components, detection failure can be suppressed to a low level by first detecting a mark that includes a lot of curve components that are clearly different from the noise component.

以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面に基づき説明する。
図1は、本発明に係るマーク検出装置の一実施形態を示す光学系のレイアウト図である。
The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a layout diagram of an optical system showing an embodiment of a mark detection apparatus according to the present invention.

この図1に示すマーク検出装置10は、被検体としての被検レンズL(本実施の形態では図5に示す眼鏡レンズ1)の表面などに施された複数のマーク、特に被検レンズLの周辺部に施された仮基準レイアウトマーク4を、その被検レンズLの画像を観察することで検出するものであり、図1に示すように、照明光学系11、撮像光学系12及び画像処理装置25を有して構成される。これらの照明光学系11と撮像光学系12は、ビームスプリッタ(ハーフミラー)13を用いて、照明光学系11の光軸P1と撮像光学系12の光軸P2とが同一となるように配置されている。   The mark detection apparatus 10 shown in FIG. 1 has a plurality of marks, particularly the test lens L, provided on the surface of a test lens L (spectacle lens 1 shown in FIG. 5 in the present embodiment) as a test object. The temporary reference layout mark 4 provided on the peripheral portion is detected by observing the image of the lens L, and as shown in FIG. 1, the illumination optical system 11, the imaging optical system 12, and the image processing The apparatus 25 is comprised. The illumination optical system 11 and the imaging optical system 12 are arranged using a beam splitter (half mirror) 13 so that the optical axis P1 of the illumination optical system 11 and the optical axis P2 of the imaging optical system 12 are the same. ing.

上記照明光学系11は、その光軸P1上に光源14、コンデンサレンズ15、ピンホール(絞り)16、ビームスプリッタ13、対物レンズ17、結像レンズ18及び反射型スクリーン19が順次配置されて構成され、被検レンズLを載置する位置が対物レンズ17と結像レンズ18との間に設定される。上記光源14、コンデンサレンズ15及びピンホール16を光源ユニット14Aと称する。   The illumination optical system 11 is configured by sequentially arranging a light source 14, a condenser lens 15, a pinhole (aperture) 16, a beam splitter 13, an objective lens 17, an imaging lens 18 and a reflective screen 19 on the optical axis P1. Then, the position where the test lens L is placed is set between the objective lens 17 and the imaging lens 18. The light source 14, the condenser lens 15, and the pinhole 16 are referred to as a light source unit 14A.

光源14から発せられた光束はコンデンサレンズ15にて集光され、ピンホール16を通過して均一で効率の良い照明光となる。この照明光が、ビームスプリッタ13に反射されて対物レンズ17に入射する。この対物レンズ17は、その焦点位置が光源ユニット14Aにおけるピンホール16の位置となるように配置されているため、対物レンズ17から被検レンズLを載置する位置を含むまでの範囲、つまり本実施形態では、対物レンズ17から結像レンズ18に至るまでの範囲で、光束は、主光線が照明光学系11の光軸P1(つまり対物レンズ17及び結像レンズ18の光軸と一致)に平行な平行光となる。この平行光の照明光が被検レンズLに照射され、この被検レンズLを射出した光束が結像レンズ18を経て反射型スクリーン19に到達し、被検レンズLの仮基準レイアウトマーク4等を含む画像が反射型スクリーン19に投影される。   The light beam emitted from the light source 14 is collected by the condenser lens 15 and passes through the pinhole 16 to become uniform and efficient illumination light. This illumination light is reflected by the beam splitter 13 and enters the objective lens 17. Since the objective lens 17 is arranged so that the focal position thereof is the position of the pinhole 16 in the light source unit 14A, the range from the objective lens 17 to the position where the test lens L is placed, that is, the book In the embodiment, in the range from the objective lens 17 to the imaging lens 18, the principal ray has a principal ray on the optical axis P <b> 1 of the illumination optical system 11 (that is, coincident with the optical axes of the objective lens 17 and the imaging lens 18). Parallel light becomes parallel. The parallel illumination light is irradiated onto the test lens L, and the light beam emitted from the test lens L reaches the reflective screen 19 via the imaging lens 18, and the temporary reference layout mark 4 of the test lens L, etc. Is projected onto the reflective screen 19.

前記撮像光学系12は、その光軸P2上に反射型スクリーン19、結像レンズ18、対物レンズ17、ビームスプリッタ13、及びCCDカメラなどの撮像装置20が順次配置されて構成され、結像レンズ18と対物レンズ17との間に被検レンズLを載置する位置が設定される。   The imaging optical system 12 is configured by sequentially arranging an imaging device 20 such as a reflective screen 19, an imaging lens 18, an objective lens 17, a beam splitter 13, and a CCD camera on the optical axis P2. A position where the test lens L is placed between 18 and the objective lens 17 is set.

撮像装置20は、当該撮像装置20に内蔵の撮像レンズの光学絞り面(不図示)が、対物レンズ17の焦点位置に配置される。これにより、対物レンズ17から被検レンズLを載置する位置を含むまでの範囲、つまり本実施形態では、対物レンズ17から結像レンズ18までの範囲で、光束は、主光線が撮像光学系12の光軸P2(つまり、対物レンズ17及び結像レンズ18の光軸と一致)に平行な平行光となる。この配置により、撮像装置20の受光面と反射型スクリーン19とが共役となり、反射型スクリーン19に投影された被検レンズLの画像が反射され、結像レンズ18、上記被検レンズL、対物レンズ17及びビームスプリッタ13を透過して、撮像装置20の受光面(CCD素子面)に結像される。   In the imaging device 20, the optical aperture surface (not shown) of the imaging lens built in the imaging device 20 is disposed at the focal position of the objective lens 17. Thus, in the range from the objective lens 17 to the position where the lens L is placed, that is, in the present embodiment, the range from the objective lens 17 to the imaging lens 18, the principal ray is the principal ray. The parallel light is parallel to the twelve optical axes P2 (that is, coincident with the optical axes of the objective lens 17 and the imaging lens 18). With this arrangement, the light receiving surface of the imaging device 20 and the reflective screen 19 become conjugate, and the image of the test lens L projected on the reflective screen 19 is reflected, and the imaging lens 18, the test lens L, the objective The light passes through the lens 17 and the beam splitter 13 and forms an image on the light receiving surface (CCD element surface) of the imaging device 20.

上記撮像装置20が撮像する被検レンズLの撮像倍率は、被検レンズLの全表面に対応する視野範囲(例えば、被検レンズLの直径が80mmの場合には直径82mmの視野範囲)を、撮像レンズ20の受光面(例えば1/2インチサイズのCCD素子面)に確保できる倍率であり、この倍率は、撮像装置20及び対物レンズ17の配置位置などを調整することにより実現される。   The imaging magnification of the lens L to be imaged by the imaging device 20 is a field-of-view range corresponding to the entire surface of the lens L (for example, a field-of-view range of 82 mm when the diameter of the lens L is 80 mm). The magnification that can be secured on the light receiving surface of the imaging lens 20 (for example, a 1/2 inch size CCD element surface), and this magnification is realized by adjusting the arrangement positions of the imaging device 20 and the objective lens 17.

また、上記光源14は、被検レンズLの仮基準レイアウトマーク4等のマークを良好に投影してシャープな画像を得るために、例えば赤色光または近赤外線を発光するLEDが用いられる。また、ビームスプリッタ13は、透過率と反射率の比が7:3のものが用いられる。更に、反射型スクリーン19は、反射率を高めるために、ガラスやアルミニウムなどの微細粒子を塗布した反射シートが貼着されて構成される。この反射型スクリーン19は、表面の明るさ及び背景を均一化させるために、モータ21によって高速回転(例えば3400rpm)され、この状態で被検レンズLの画像を反射する。   The light source 14 is, for example, an LED that emits red light or near-infrared light in order to project a mark such as the temporary reference layout mark 4 of the lens L to be examined and obtain a sharp image. Further, the beam splitter 13 having a transmittance to reflectance ratio of 7: 3 is used. Further, the reflection type screen 19 is configured by attaching a reflection sheet coated with fine particles such as glass and aluminum in order to increase the reflectance. The reflective screen 19 is rotated at a high speed (for example, 3400 rpm) by the motor 21 in order to make the surface brightness and background uniform, and reflects the image of the lens L in this state.

結像レンズ18は正の焦点距離を有するレンズ(凸レンズ)であり、前述のごとく被検レンズLの載置位置と反射型スクリーン19との間に配置される。この結像レンズ18は、図2に示すように、被検レンズLを通過した光束を集光する作用を有する。特に、被検レンズLがマイナス度数レンズである場合には、この被検レンズLを通過した光線A、B(光線Aは平行光、光線Bは後述。以下同様)はマイナス度数の影響で広げられ発散するが、この発散する光線A及びBを結像レンズ18が集光して反射型スクリーン19に投影する。この結像レンズ18は、被検レンズLを載置する位置に接近して配置されることが、被検レンズLを通過した後の上記発散光の大部分を捕捉して集光させる点、および結像レンズ18と反射型スクリーン19を最適なサイズに設定できる点などで好ましく、当該結像レンズ18と被検レンズLを載置する位置との距離Mは、例えば13mmに設定される。   The imaging lens 18 is a lens (convex lens) having a positive focal length, and is disposed between the mounting position of the test lens L and the reflective screen 19 as described above. As shown in FIG. 2, the imaging lens 18 has a function of condensing the light beam that has passed through the lens L to be examined. In particular, when the test lens L is a negative power lens, the light beams A and B (light beam A is parallel light, the light beam B will be described later; the same applies hereinafter) that have passed through the test lens L are spread by the influence of the negative power. The diverging rays A and B are collected by the imaging lens 18 and projected onto the reflection type screen 19. The imaging lens 18 is arranged close to the position where the test lens L is placed, so that most of the divergent light after passing through the test lens L is captured and condensed. The imaging lens 18 and the reflective screen 19 are preferable in that they can be set to an optimum size, and the distance M between the imaging lens 18 and the position where the lens L is placed is set to 13 mm, for example.

ところで、一般に、撮像装置を用いて被検レンズL(眼鏡レンズ1)の上方から当該被検レンズLを撮影し、この被検レンズLの画像を観察すると、被検レンズLの画像の周辺部に影S(図5)が発生してしまう。この影Sが発生すると、被検レンズLの周辺部に施された仮基準レイアウトマーク4は、上記影Sによって認識できなくなってしまい、その位置を検出することができない場合がある。   By the way, generally, when the subject lens L is photographed from above the subject lens L (eyeglass lens 1) using an imaging device and the image of the subject lens L is observed, the peripheral portion of the image of the subject lens L is observed. A shadow S (FIG. 5) is generated. When this shadow S occurs, the temporary reference layout mark 4 provided on the periphery of the lens L to be tested cannot be recognized by the shadow S, and the position thereof may not be detected.

このように、被検レンズL(眼鏡レンズ1)の周辺部に影Sが発生する原因は、次のように考えられる。
まず、光源から被検レンズLに入射される光束が発散光であると、被検レンズLがコバ(縁)の厚いマイナス度数レンズ(負の焦点距離を有するレンズ)の場合、図2に示すように、被検レンズLの縁部分に入射した光線Cは、被検レンズLの第1面5で屈折して被検レンズL内を進行した後、被検レンズLの第2面6で全反射して被検レンズLのコバ面7に至り、被検レンズLの外部へ射出できなくなるために、結果として、上記影Sが発生すると考えられる。
Thus, the cause of the shadow S occurring in the peripheral portion of the lens L (eyeglass lens 1) can be considered as follows.
First, if the light beam incident on the test lens L from the light source is diverging light, the test lens L is a negative power lens (lens having a negative focal length) with a thick edge (edge) as shown in FIG. As described above, the light beam C incident on the edge portion of the test lens L is refracted by the first surface 5 of the test lens L and travels through the test lens L, and then the second surface 6 of the test lens L. It is considered that the shadow S is generated as a result of total reflection that reaches the edge surface 7 of the lens L and cannot be emitted to the outside of the lens L.

また、被検レンズLがマイナス度数レンズであって、この被検レンズLの縁部分に入射した光束が被検レンズLから射出した場合、この射出した光束は、マイナス度数レンズのマイナス度数の影響で広げられて発散してしまうので、反射型スクリーンに至らず、その結果として、上記影Sが発生してしまうとも考えられる。   Further, when the test lens L is a negative power lens and a light beam incident on the edge portion of the test lens L is emitted from the test lens L, the emitted light beam is influenced by the negative power of the negative power lens. It is considered that the shadow S is generated as a result of not spreading to the reflection type screen.

これに対し、本実施形態のマーク検出装置10では、図1に示す対物レンズ17と結像レンズ18との間を進む光束は、主光線が照明光学系11の光軸P1及び撮像光学系12の光軸P2に平行な平行光となり、この平行光が対物レンズ17から被検レンズLへ入射されることから、被検レンズLがコバ(縁)の厚いマイナス度数レンズであっても、この被検レンズLの縁部分に入射した光線Aは、図2に示すように、被検レンズLの第1面5で屈折して被検レンズL内を進行した後、当該被検レンズLの第2面6での全反射が減少し、被検レンズL外へ射出しやすくなるので、マイナス度数レンズの縁部分においても光束を通過させることができる。従って、被検レンズLがマイナス度数レンズである場合にも、この被検レンズLの画像の周辺部に生ずる影S(図5)が減少する。   On the other hand, in the mark detection apparatus 10 of the present embodiment, the principal ray of the light beam traveling between the objective lens 17 and the imaging lens 18 shown in FIG. 1 is the optical axis P1 of the illumination optical system 11 and the imaging optical system 12. Since the parallel light is incident on the test lens L from the objective lens 17, even if the test lens L is a minus power lens having a thick edge (edge), the parallel light is parallel to the optical axis P2. As shown in FIG. 2, the light ray A that has entered the edge portion of the test lens L is refracted by the first surface 5 of the test lens L and travels through the test lens L. Since the total reflection at the second surface 6 is reduced and the light is easily emitted outside the lens L, the light beam can be passed through the edge portion of the negative power lens. Therefore, even when the test lens L is a negative power lens, the shadow S (FIG. 5) generated in the peripheral portion of the image of the test lens L is reduced.

しかも、被検レンズLの載置位置と反射型スクリーン19との間に結像レンズ18が配置されているので、この結像レンズ18によって、被検レンズLから反射型スクリーン19へ向かう光線A及びBを集光することができる。このため、被検レンズLがマイナス度数レンズである場合に、このマイナス度数レンズを通過した光束が広がり発散することを結像レンズ18の集光作用により抑制できるので、この点からも、被検レンズLがマイナス度数レンズの場合に、この被検レンズLの画像の周辺部に生ずる影Sが減少する。   In addition, since the imaging lens 18 is arranged between the mounting position of the test lens L and the reflection type screen 19, the light ray A traveling from the test lens L to the reflection type screen 19 by this imaging lens 18. And B can be condensed. For this reason, when the test lens L is a negative power lens, it is possible to suppress the light beam that has passed through the negative power lens from spreading and diverging by the condensing function of the imaging lens 18. When the lens L is a minus power lens, the shadow S generated in the peripheral portion of the image of the lens L to be measured is reduced.

更に、結像レンズ18が被検レンズLの載置位置に接近して配置されたことから、被検レンズLがマイナス度数レンズであって、このマイナス度数レンズを通過した光線A及びBが広がり発散しても、その大部分の光束を結像レンズ18が捕捉して集光し、その発散を抑制して反射型スクリーン19へ導くことができる。この点からも、被検レンズLがマイナス度数レンズの場合に、この被検レンズLの画像の周辺部に生ずる影Sが減少する。   Further, since the imaging lens 18 is arranged close to the mounting position of the test lens L, the test lens L is a negative power lens, and light rays A and B that have passed through the negative power lens spread. Even if the light diverges, most of the light flux can be captured and collected by the imaging lens 18, and the divergence can be suppressed and guided to the reflective screen 19. Also from this point, when the test lens L is a negative power lens, the shadow S generated in the peripheral portion of the image of the test lens L is reduced.

被検レンズLがプラス度数レンズの場合には、このレンズの縁が薄いので、この被検レンズLの縁部分を光束が良好に通過し、この被検レンズLの画像の周辺部に影Sが発生せず、この周辺部に施された仮基準レイアウトマーク4等を、被検レンズLの画像を観察することで良好に検出できる。同様に、被検レンズLがマイナス度数レンズの場合にも、上述のようにして被検レンズLの画像の周辺部に生ずる影Sが低減されたので、この被検レンズLの周辺部に施された仮基準レイアウトマーク4等を良好に検出できる。   When the test lens L is a plus power lens, since the edge of the lens is thin, the light beam passes through the edge of the test lens L well, and a shadow S is formed on the periphery of the image of the test lens L. The temporary reference layout mark 4 and the like applied to the peripheral portion can be detected well by observing the image of the lens L to be tested. Similarly, when the test lens L is a negative power lens, the shadow S generated in the peripheral portion of the image of the test lens L is reduced as described above. The provisional reference layout mark 4 and the like can be detected well.

図1に示すように、被検レンズLの載置位置と反射型スクリーン19との間に結像レンズ18が配置されたことから、被検レンズLがマイナス度数レンズの場合に、このマイナス度数レンズを通過した光束が図2の光線A及びBに示すように広がり発散しても、この光束の発散を上記結像レンズ18の集光作用によって抑制でき、反射型スクリーン19へ至る光束の光量の低下を抑えることができる。このため、被検レンズL(マイナス度数レンズ)の画像が明るくなる。   As shown in FIG. 1, since the imaging lens 18 is disposed between the mounting position of the test lens L and the reflective screen 19, this negative power is used when the test lens L is a negative power lens. Even if the light beam that has passed through the lens spreads and diverges as indicated by light rays A and B in FIG. 2, the divergence of this light beam can be suppressed by the condensing action of the imaging lens 18, and the amount of light beam that reaches the reflective screen 19 Can be suppressed. For this reason, the image of the lens L (minus power lens) is brightened.

結像レンズ18が被検レンズLを載置する位置に接近して配置されている場合には、被検レンズL(マイナス度数レンズ)を通過して広がり発散した光束の大部分を結像レンズ18が捕捉して集光し、その発散を抑制することができるので、反射型スクリーン19へ至る光束の光量の低下をより一層抑えることができ、被検レンズL(マイナス度数レンズ)の画像がより一層明るくなる。   When the imaging lens 18 is disposed close to the position where the test lens L is placed, most of the luminous flux that has spread and diverged through the test lens L (minus power lens) is focused on the imaging lens. 18 can capture and condense and suppress the divergence of the light, so that it is possible to further suppress a decrease in the amount of light flux reaching the reflective screen 19, and an image of the lens L (minus power lens) can be obtained. It becomes even brighter.

被検レンズLがプラス度数レンズの場合には、このレンズ自身の集光作用によって被検レンズLの画像は明るいが、上述のように被検レンズLがマイナス度数レンズの場合にも、その被検レンズLの画像を明るくできる。このため、被検レンズLがマイナス度数レンズの場合とプラス度数レンズの場合とで生ずる被検レンズLの画像の明暗差が小さくなる。   When the test lens L is a plus power lens, the image of the test lens L is bright due to the condensing action of the lens itself, but when the test lens L is a negative power lens as described above, the test lens L is also bright. The image of the lens L can be brightened. For this reason, the difference in brightness of the image of the test lens L generated when the test lens L is a minus power lens and a plus power lens is reduced.

結像レンズ18が被検レンズLを載置する位置に接近して配置された場合には、特に被検レンズLがマイナス度数レンズの場合に、この被検レンズLを通過した光束の発散がより一層抑制されるので、結像レンズ18及び反射型スクリーン19が小型化される。   When the imaging lens 18 is arranged close to the position where the test lens L is placed, especially when the test lens L is a negative power lens, the divergence of the light beam that has passed through the test lens L is diverged. Since it is further suppressed, the imaging lens 18 and the reflective screen 19 are reduced in size.

図1に示す対物レンズ17と結像レンズ18との間を進む光束は、主光線が照明光学系11の光軸P1及び撮像光学系12の光軸P2に平行な平行光となることから、照明光学系11及び撮像光学系12をアフォーカル光学系とすることができる。このため、平行光が通る対物レンズ17と結像レンズ18との間で被検レンズLが光軸方向に位置変化しても、撮像装置20が撮像する被検レンズLの画像の撮像倍率は一定となる。撮像装置20の被写界深度が深いことから被検レンズLの画像のピントも適切となる。従って、被検レンズLがプラス度数レンズとマイナス度数レンズとで厚さが異なっても、また、被検レンズLのセット位置に多少の位置ずれが生じていても、撮像装置20により、被検レンズLの画像が同一の撮像倍率で明瞭に撮像される。   The light beam traveling between the objective lens 17 and the imaging lens 18 shown in FIG. 1 becomes parallel light whose principal ray is parallel to the optical axis P1 of the illumination optical system 11 and the optical axis P2 of the imaging optical system 12. The illumination optical system 11 and the imaging optical system 12 can be an afocal optical system. For this reason, even if the test lens L changes its position in the optical axis direction between the objective lens 17 through which the parallel light passes and the imaging lens 18, the imaging magnification of the image of the test lens L taken by the imaging device 20 is It becomes constant. Since the depth of field of the imaging device 20 is deep, the focus of the image of the test lens L is also appropriate. Therefore, even if the test lens L has different thicknesses between the plus power lens and the minus power lens, and even if there is a slight misalignment in the set position of the test lens L, the imaging device 20 performs the test. The image of the lens L is clearly captured at the same imaging magnification.

図1に示すように、被検レンズLの表面の画像は当該被検レンズLを通って反射型スクリーン19に投影され、この反射型スクリーン19にて反射されて上記被検レンズLを通り撮像装置20に取り込まれる。従って、被検レンズLが乱視軸の入ったレンズであって、反射型スクリーン19に投影された画像に乱視軸による歪みが生じていても、被検レンズLの表面の画像が当該被検レンズLを2度通過して撮像装置20へ至るので、乱視軸による画像の歪みが相殺されて、撮像装置20により歪みのない画像が撮影される。   As shown in FIG. 1, the image of the surface of the test lens L is projected on the reflective screen 19 through the test lens L, reflected by the reflective screen 19, and imaged through the test lens L. Captured by the device 20. Therefore, even if the test lens L is a lens with an astigmatism axis and the image projected on the reflective screen 19 is distorted by the astigmatism axis, the image on the surface of the test lens L is the test lens. Since it passes through L twice and reaches the imaging device 20, the distortion of the image due to the astigmatic axis is canceled out, and an image without distortion is taken by the imaging device 20.

また、図1に示すように、対物レンズ17と被検レンズLを載置する位置との間に、正の焦点距離を有する補助レンズ22を脱着可能に配置した場合には、被検レンズLに入射する光束を収束光にすることが可能となる。この収束光の光線Bは、図2に示すように、被検レンズL内に入射されて当該被検レンズL内を進行した後、この被検レンズLの第2面6での全反射が光線Aに比べてより減少し、被検レンズL外へより一層射出しやすくなり、被検レンズLであるマイナス度数レンズの縁部分においても光束を通過させる機能が増大する。このため、特に、強度数の被検レンズL(マイナス度数レンズ)であっても画像の周辺部に生ずる影S(図5)がより一層減少し、更に、例えばφ80mmほどの大きな口径の被検レンズL(マイナス度数レンズ)であっても画像の周辺部に生ずる影Sがより一層減少する。この補助レンズ22の脱着は、上述のように被検レンズLのレンズ度数や口径等を考慮して適宜選択される。   As shown in FIG. 1, when the auxiliary lens 22 having a positive focal length is detachably disposed between the objective lens 17 and the position where the test lens L is placed, the test lens L It becomes possible to make the light beam incident on the beam into convergent light. As shown in FIG. 2, the convergent light beam B is incident on the test lens L and travels through the test lens L. Then, the total reflection on the second surface 6 of the test lens L is performed. Compared to the light beam A, the number of light beams decreases, and the light beam can be more easily emitted out of the lens L, and the function of allowing the light beam to pass through the edge portion of the negative power lens, which is the lens L, is increased. For this reason, in particular, even in the case of a test lens L (negative power lens) having an intensity number, the shadow S (FIG. 5) generated on the periphery of the image is further reduced, and further, for example, a test with a large aperture of about φ80 mm. Even with the lens L (minus power lens), the shadow S generated at the periphery of the image is further reduced. The attachment / detachment of the auxiliary lens 22 is appropriately selected in consideration of the lens power, the aperture, and the like of the test lens L as described above.

上述のように撮像装置20により撮影された被検レンズL(眼鏡レンズ1)の画像は、この撮像装置20により光電変換されて画像信号となり、図1に示す画像処理装置25に取り込まれる。この画像処理装置25は、後述のごとく画像処理して、被検レンズL(眼鏡レンズ1)の撮像画像から複数の仮基準レイアウトマーク4を検出する。この検出された複数の仮基準レイアウトマーク4の位置から隠しマーク3の位置が算出される。   As described above, the image of the lens L (eyeglass lens 1) photographed by the imaging device 20 is photoelectrically converted by the imaging device 20 into an image signal, and is taken into the image processing device 25 shown in FIG. The image processing device 25 performs image processing as will be described later, and detects a plurality of temporary reference layout marks 4 from a captured image of the lens L (glasses lens 1). The position of the hidden mark 3 is calculated from the detected positions of the plurality of temporary reference layout marks 4.

つまり、図5に示すように、隠しマーク3は、仮基準レイアウトマーク4のうち、互いに対向して施される○印の仮基準レイアウトマーク4A及び4Bを結んだ直線E上にあり、更に×印の仮基準レイアウトマーク4Cから上記直線Eに垂直に下ろした直線Fと上記直線Eとの交点をOとすると、この交点Oから両側に等距離の位置に設けられる。上記交点Oが、前述のプリズム測定基準点である。   That is, as shown in FIG. 5, the hidden mark 3 is on the straight line E connecting the temporary reference layout marks 4A and 4B marked with ○ among the temporary reference layout marks 4, and further × If the intersection point between the straight line E and the straight line E drawn perpendicularly to the straight line E from the temporary reference layout mark 4C marked with the straight line E is O, they are provided at equidistant positions on both sides from the intersection point O. The intersection point O is the prism measurement reference point described above.

上記画像処理装置25が実施する、仮基準レイアウトマーク4を検出するための画像処理手順を、図3及び図4を用いて以下に説明する。   An image processing procedure for detecting the temporary reference layout mark 4 performed by the image processing device 25 will be described below with reference to FIGS. 3 and 4.

画像処理装置25は、撮像装置20から被検レンズL(眼鏡レンズ1)の撮像画像を取り込み(S1)、この撮像画像からパターンマッチングにより○印の仮基準レイアウトマーク4を探索し、マッチング精度が最も高い仮基準レイアウトマーク4Aを検出する(S2)。このパターンマッチングは、事前に登録されたパターンの特徴(本実施の形態ではパターンの形状の特徴)に類似しているものを被検レンズLの撮像画像から探索して検出し、その検出結果が、上記パターンに対し類似する類似性(信頼性)を数値として表示する画像処理手法である。信頼性は、事前に登録されたパターンの特徴に対して検索するパターンがおおよそどの程度見えているかを百分率の数値で示したもので、例えば、検索するパターンの半分が不明確であれば、信頼性は50%以下になる。   The image processing device 25 fetches the captured image of the lens L (eyeglass lens 1) from the imaging device 20 (S1), searches the captured image for the temporary reference layout mark 4 with a circle by pattern matching, and the matching accuracy is high. The highest temporary reference layout mark 4A is detected (S2). This pattern matching is performed by searching and detecting from the captured image of the lens L a pattern similar to a pre-registered pattern characteristic (in this embodiment, a pattern shape characteristic). This is an image processing method for displaying similarity (reliability) similar to the above pattern as a numerical value. The reliability is a percentage value indicating the approximate level of the pattern to be searched against the pre-registered pattern features. For example, if half of the pattern to be searched is unclear, The property becomes 50% or less.

画像処理装置25は、このパターンマッチングにより検出した仮基準レイアウトマーク4Aが1個であり、且つこの検出した仮基準レイアウトマーク4Aの信頼性が90%以上であるか否かを判断する(S3)。画像処理装置25は、仮基準レイアウトマーク4Aを複数検出するか、または検出した1個の仮基準レイアウトマーク4Aの信頼性が90%未満であれば、検出不良であると判断して、この時点で仮基準レイアウトマーク4の検出を終了する。   The image processing apparatus 25 determines whether or not the temporary reference layout mark 4A detected by the pattern matching is one and the reliability of the detected temporary reference layout mark 4A is 90% or more (S3). . The image processing device 25 detects a plurality of provisional reference layout marks 4A, or if the reliability of one detected provisional reference layout mark 4A is less than 90%, determines that there is a detection failure. Then, the detection of the temporary reference layout mark 4 is finished.

画像処理装置25は、検出した仮基準レイアウトマーク4Aが1個であり、且つこの検出した仮基準レイアウトマーク4Aの信頼性が90%以上であれば、この仮基準レイアウトマーク4Aに対し特定の位置関係にある他の仮基準レイアウトマーク4B、つまり、図3(A)に示すように、上記仮基準レイアウトマーク4Aに対し被検レンズLの画像中心に対して対向する位置にある他の仮基準レイアウトマーク4Bが存在する領域を検出領域26とし、パターンマッチングによる検出領域を検出領域26に絞り込む(S4)。画像処理装置25は、この検出領域26においてのみ上述のパターンマッチング(後述の画像強調処理を実施しない状態で実施するパターンマッチング)を実施して、仮基準レイアウトマーク4Bを探索し検出する(S5)。   If the detected temporary reference layout mark 4A is one and the reliability of the detected temporary reference layout mark 4A is 90% or more, the image processing device 25 has a specific position with respect to the temporary reference layout mark 4A. Other temporary reference layout marks 4B having a relationship, that is, other temporary reference marks located at positions facing the temporary reference layout mark 4A with respect to the image center of the lens L as shown in FIG. The area where the layout mark 4B exists is set as the detection area 26, and the detection area by pattern matching is narrowed down to the detection area 26 (S4). The image processing apparatus 25 performs the above-described pattern matching only in the detection area 26 (pattern matching performed without performing image enhancement processing described later), and searches for and detects the temporary reference layout mark 4B (S5). .

画像処理装置25は、このパターンマッチングにより検出した仮基準レイアウトマーク4Bが1個であり、且つ検出した仮基準レイアウトマーク4Bの信頼性が90%以上であるか否かを判断する(S6)。画像処理装置25は、仮基準レイアウトマーク4Bが適正に検出されない場合、つまり、検出した仮基準レイアウトマーク4Bが複数検出されるか、または検出した1個の仮基準レイアウトマーク4Bの信頼性が90%未満である場合に、この検出領域26に対してのみ画像強調処理を実施する(S7)。   The image processing apparatus 25 determines whether there is one temporary reference layout mark 4B detected by the pattern matching and the reliability of the detected temporary reference layout mark 4B is 90% or more (S6). When the temporary reference layout mark 4B is not properly detected, that is, the image processing apparatus 25 detects a plurality of detected temporary reference layout marks 4B, or the reliability of one detected temporary reference layout mark 4B is 90. If it is less than%, image enhancement processing is performed only for this detection area 26 (S7).

この画像強調処理は、検出領域26における撮像画像の輪郭、明るさ、色の濃さなどをはっきりさせて画像を見やすくする画像処理手法である。本実施形態では、この画像強調処理は、検出領域26における撮像画像において、仮基準レイアウトマーク4Bと背景との間の濃度勾配を強調することで、仮基準レイアウトマーク4Bを鮮鋭化する処理である。   This image enhancement process is an image processing technique that makes the image easy to see by clarifying the contour, brightness, color density, and the like of the captured image in the detection region 26. In the present embodiment, this image enhancement process is a process for sharpening the temporary reference layout mark 4B by enhancing the density gradient between the temporary reference layout mark 4B and the background in the captured image in the detection region 26. .

画像処理装置25は、検出領域26に上記画像強調処理を実施した後に、当該検出領域26に対してのみパターンマッチングを実施して仮基準レイアウトマーク4Bを探索し検出する(S8)。   After performing the image enhancement processing on the detection area 26, the image processing apparatus 25 performs pattern matching only on the detection area 26 to search for and detect the temporary reference layout mark 4B (S8).

画像処理装置25は、パターンマッチングにより検出した仮基準レイアウトマーク4Bが1個であり、且つこの検出した仮基準レイアウトマーク4Bの信頼性が90%以上であるか否かを判断する(S9)。画像処理装置25は、仮基準レイアウトマーク4Bが複数検出されるか、または検出した1個の仮基準レイアウトマーク4Bの信頼性が90%未満であれば、検出不良であると判断して、この時点で仮基準レイアウトマーク4の検出を終了する。   The image processing apparatus 25 determines whether there is one temporary reference layout mark 4B detected by pattern matching and the reliability of the detected temporary reference layout mark 4B is 90% or more (S9). If a plurality of temporary reference layout marks 4B are detected or the reliability of one detected temporary reference layout mark 4B is less than 90%, the image processing device 25 determines that the detection is defective, and this At that time, the detection of the temporary reference layout mark 4 is finished.

画像処理装置25は、ステップS6及びS9において、仮基準レイアウトマーク4Bを1個検出し、且つこの検出した仮基準レイアウトマーク4Bの信頼性が90%以上である場合に、検出した仮基準レイアウトマーク4A及び4Bと特定の関係にある他の仮基準レイアウトマーク4C、つまり、図3(C)に示すように、仮基準レイアウトマーク4Aと仮基準レイアウトマーク4Bとを結んだ直線Eに直交し、且つ画像の中心を通る位置にある他の仮基準レイアウトマーク4Cが存在する領域を検出領域27とし、図3(B)に示すように、パターンマッチングによる検出領域を当該検出領域27に絞り込む(S10)。   In steps S6 and S9, the image processing apparatus 25 detects one temporary reference layout mark 4B, and if the detected temporary reference layout mark 4B has a reliability of 90% or more, the detected temporary reference layout mark 4B is detected. As shown in FIG. 3C, other temporary reference layout marks 4C having a specific relationship with 4A and 4B, that is, orthogonal to a straight line E connecting the temporary reference layout mark 4A and the temporary reference layout mark 4B, Further, an area where another temporary reference layout mark 4C exists at a position passing through the center of the image is set as a detection area 27, and as shown in FIG. 3B, the detection area by pattern matching is narrowed down to the detection area 27 (S10). ).

画像処理装置25は、この検出領域27においてのみパターンマッチング(画像強調処理を実施しない状態で実施するパターンマッチング)を実施して、仮基準レイアウトマーク4Cを探索し検出する(S11)。   The image processing apparatus 25 searches and detects the temporary reference layout mark 4C by performing pattern matching (pattern matching performed without performing image enhancement processing) only in the detection region 27 (S11).

画像処理装置25は、このパターンマッチングにより検出した仮基準レイアウトマーク4Cが1個であり、且つこの検出した仮基準レイアウトマーク4Cの信頼性が90%以上であるか否かを判断する(S12)。画像処理装置25は、仮基準レイアウトマーク4Cが適正に検出されない場合、つまり仮基準レイアウトマーク4Cを複数検出するか、または検出した1個の仮基準レイアウトマーク4Cの信頼性が90%未満である場合に、この検出領域27に対してのみ上述の画像強調処理を実施する(S13)。   The image processing device 25 determines whether or not there is one temporary reference layout mark 4C detected by the pattern matching and the reliability of the detected temporary reference layout mark 4C is 90% or more (S12). . When the temporary reference layout mark 4C is not properly detected, that is, the image processing device 25 detects a plurality of temporary reference layout marks 4C, or the reliability of one detected temporary reference layout mark 4C is less than 90%. In this case, the above-described image enhancement process is performed only on the detection area 27 (S13).

この画像強調処理では、検出領域27における撮像画像において、仮基準レイアウトマーク4Cと背景との間で濃度勾配が強調されて仮基準レイアウトマーク4Cが鮮鋭化される。この画像強調処理がなされた状態で、画像処理装置25は、当該検出領域27に対してのみパターンマッチングを実施して仮基準レイアウトマーク4Cを探索し検出する(S14)。   In this image enhancement process, in the captured image in the detection region 27, the density gradient is enhanced between the temporary reference layout mark 4C and the background, and the temporary reference layout mark 4C is sharpened. In a state where the image enhancement processing has been performed, the image processing device 25 performs pattern matching only on the detection area 27 to search for and detect the temporary reference layout mark 4C (S14).

画像処理装置25は、このパターンマッチングにより検出した仮基準レイアウトマーク4Cが1個であり、且つこの検出した仮基準レイアウトマーク4Cの信頼性が90%以上であるか否かを判断する(S15)。画像処理装置25は、仮基準レイアウトマーク4Cを複数検出するか、または検出した1個の仮基準レイアウトマーク4Cの信頼性が90%未満であれば、検出不良であると判断して、この時点で仮基準レイアウトマーク4の検出を終了する。   The image processing device 25 determines whether or not there is one temporary reference layout mark 4C detected by this pattern matching and the reliability of the detected temporary reference layout mark 4C is 90% or more (S15). . The image processing device 25 determines that the detection is defective if a plurality of temporary reference layout marks 4C are detected or if the reliability of one detected temporary reference layout mark 4C is less than 90%. Then, the detection of the temporary reference layout mark 4 is finished.

画像処理装置25は、ステップS12及びS15において、仮基準レイアウトマーク4Cを1個検出し、且つこの検出した仮基準レイアウトマーク4Cの信頼性が90%以上である場合に、図3(C)に示すように、検出した仮基準レイアウトマーク4Aと仮基準レイアウトマーク4Bとを結んだ直線Eに、検出した仮基準レイアウトマーク4Cから垂直に直線Fを下ろし、これらの直線Eと直線Fとの交点Oの位置を検出して、仮基準レイアウトマークの検出を完了する(S16)。   In step S12 and S15, the image processing apparatus 25 detects one temporary reference layout mark 4C, and when the reliability of the detected temporary reference layout mark 4C is 90% or more, FIG. As shown, a straight line F is dropped vertically from the detected temporary reference layout mark 4C to a straight line E connecting the detected temporary reference layout mark 4A and the temporary reference layout mark 4B, and an intersection of the straight line E and the straight line F is shown. The position of O is detected, and the detection of the temporary reference layout mark is completed (S16).

この仮基準レイアウトマークを検出するための画像処理手順では、パターンマッチングの手法により、○印の仮基準レイアウトマークを探索して検出した後に×印の仮基準レイアウトマークを探索して検出している。この理由は、○印が曲線成分を多く含む形状なのに対して×印は直線成分を多く含む形状であり、被検レンズLの撮像画像の領域内に含まれるノイズ成分は直線成分が多いので、このノイズ成分と明らかに異なる成分の多い○印を先に検出する方が容易であり、検出不良を低く抑えられるためである。   In the image processing procedure for detecting the temporary reference layout mark, the pattern matching method is used to search for and detect the temporary reference layout mark with a circle and then to detect the temporary reference layout mark with an X mark. . The reason for this is that the mark ○ has a shape containing a lot of curved components, whereas the mark x has a shape containing a lot of straight components, and the noise component contained in the area of the captured image of the lens L has a lot of straight components. This is because it is easier to detect the ◯ mark, which has many components that are clearly different from the noise component, and to suppress the detection failure.

以上のように構成されたことから、上記実施の形態によれば、次の効果(1)〜(3)を奏する。
(1)画像処理装置25は、撮像装置20が撮像した被検レンズL(眼鏡レンズ1)の撮像画像から、パターンマッチングによりマッチング精度が最も高いマーク(仮基準レイアウトマーク4A)を一つ探索して検出し、この仮基準レイアウトマーク4Aに対して特定の位置関係にある仮基準レイアウトマーク4Bが存在する領域を検出領域26として、この検出領域26にのみパターンマッチングを実施し上記仮基準レイアウトマーク4Bを探索して検出し、更に、仮基準レイアウトマーク4A及び4Bに対して特定の位置関係にある他の仮基準レイアウトマーク4Cが存在する領域を検出領域27として、この検出領域27にのみパターンマッチングを実施して仮基準レイアウトマーク4Cを探索して検出する。従って、複数の仮基準レイアウトマーク4A、4B、4Cを同時に探索して検出する場合に比べ、特に検出領域26、27に絞り込んでパターンマッチングを実施し、仮基準レイアウトマーク4B、4Cをそれぞれ探索して検出するので、被検レンズL(眼鏡レンズ1)の撮像画像にノイズ成分が多い場合であっても、複数の仮基準レイアウトマーク4A、4B、4Cの検出を確実に実施できる。
With the configuration as described above, the following effects (1) to (3) are achieved according to the above embodiment.
(1) The image processing device 25 searches for one mark (temporary reference layout mark 4A) having the highest matching accuracy by pattern matching from the captured image of the lens L (glasses lens 1) captured by the imaging device 20. An area where the temporary reference layout mark 4B having a specific positional relationship with the temporary reference layout mark 4A exists is set as a detection area 26, and pattern matching is performed only on the detection area 26, and the temporary reference layout mark 4B is searched for and detected, and an area in which another temporary reference layout mark 4C having a specific positional relationship with the temporary reference layout marks 4A and 4B exists is set as a detection area 27, and a pattern is formed only in the detection area 27. Matching is performed to search and detect the temporary reference layout mark 4C. Therefore, compared with the case where a plurality of temporary reference layout marks 4A, 4B, and 4C are simultaneously searched and detected, pattern matching is performed by focusing on the detection areas 26 and 27, and the temporary reference layout marks 4B and 4C are respectively searched. Therefore, even if the picked-up image of the lens L (eyeglass lens 1) has a large amount of noise components, the plurality of temporary reference layout marks 4A, 4B, 4C can be reliably detected.

(2)画像処理装置25が、仮基準レイアウトマーク4B、4Cが存在するそれぞれの検出領域26、27において、撮像画像の輪郭、明るさ、色の濃さなどをはっきりさせる画像強調処理を実施した後に、パターンマッチングにより上記仮基準レイアウトマーク4B、4Cを探索して検出することから、画像強調処理を実施することで、検出領域26、27のそれぞれの画像中における仮基準レイアウトマーク4B、4Cが背景に対し鮮鋭化されるので、これらの仮基準レイアウトマーク4B、4Cを確実に探索して検出できる。   (2) The image processing apparatus 25 performs image enhancement processing for clarifying the contour, brightness, color density, etc. of the captured image in each of the detection areas 26, 27 where the temporary reference layout marks 4B, 4C exist. Later, the temporary reference layout marks 4B and 4C are searched for and detected by pattern matching. Therefore, by performing image enhancement processing, the temporary reference layout marks 4B and 4C in the respective images of the detection areas 26 and 27 are detected. Since the background is sharpened, the temporary reference layout marks 4B and 4C can be reliably searched and detected.

(3)画像強調処理は、検出領域26、27内にあるノイズ成分をも強調してしまうので、画像処理装置25が上記強調処理前に、当該画像強調処理を実施しない状態でパターンマッチングにより仮基準レイアウトマーク4B、4Cを探索して検出し、このパターンマッチングにより仮基準レイアウトマーク4B、4Cが適正に検出されない場合に限り画像強調処理を実施することによって、これらの仮基準レイアウトマーク4B、4Cを、ノイズ成分の影響を極力排除した状態で高精度に検出することができる。   (3) Since the image enhancement process also enhances noise components in the detection areas 26 and 27, the image processing apparatus 25 temporarily performs pattern matching before performing the enhancement process, without performing the image enhancement process. By searching for and detecting the reference layout marks 4B and 4C and performing the image enhancement process only when the temporary reference layout marks 4B and 4C are not properly detected by this pattern matching, these temporary reference layout marks 4B and 4C are obtained. Can be detected with high accuracy in a state in which the influence of the noise component is eliminated as much as possible.

以上、本発明を上記実施の形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。
例えば、上記実施の形態の仮基準レイアウトマーク4等のマークは、成形型による転写によって形成されたもの、またはレーザー等により凸形状または凹形状に形成されたものなど、いかなるマークであってもよい。
As mentioned above, although this invention was demonstrated based on the said embodiment, this invention is not limited to this.
For example, the mark such as the temporary reference layout mark 4 in the above embodiment may be any mark such as a mark formed by transfer using a mold or a mark formed in a convex shape or a concave shape by a laser or the like. .

また、上記実施の形態では、被検レンズLが眼鏡レンズ1の場合を述べたが、望遠鏡や顕微鏡などに用いられる光学レンズであってもよい。   In the above-described embodiment, the case where the lens L to be examined is the spectacle lens 1 has been described. However, an optical lens used in a telescope, a microscope, or the like may be used.

本発明に係るマーク検出装置の一実施形態を示す光学系のレイアウト図である。1 is a layout diagram of an optical system showing an embodiment of a mark detection apparatus according to the present invention. 図1の被検レンズ及び結像レンズを拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows the to-be-tested lens and imaging lens of FIG. 図1の画像処理装置が実行する仮基準レイアウトマークの検出手順を示す動作図である。FIG. 6 is an operation diagram illustrating a procedure for detecting a temporary reference layout mark executed by the image processing apparatus of FIG. 1. 図1の画像処理装置が実行する仮基準レイアウトマークの検出手順を示すフローチャートである。3 is a flowchart showing a procedure for detecting a temporary reference layout mark executed by the image processing apparatus of FIG. 1. 図1の被検レンズとしての眼鏡レンズを、その表面に施されたマークとともに示す平面図である。It is a top view which shows the spectacle lens as a test lens of FIG. 1 with the mark given to the surface. 従来のマーク検出方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the conventional mark detection method.

符号の説明Explanation of symbols

1 眼鏡レンズ(被検体)
4、4A、4B、4C 仮基準レイアウトマーク
10 マーク検出装置
20 撮像装置
25 画像処理装置
26、27 検出領域
L 被検レンズ
1 Eyeglass lens (subject)
4, 4A, 4B, 4C Temporary reference layout mark 10 Mark detection device 20 Imaging device 25 Image processing device 26, 27 Detection area L Test lens

Claims (8)

被検体の撮像画像から当該被検体に設けられた複数のマークを検出するマーク検出方法であって、
上記被検体の撮像画像から、パターンマッチングによりマッチング精度が最も高いマークを一つ探索して検出し、次に、このマークに対して特定の位置関係にある他のマークが存在する領域を検出領域とし、この検出領域にのみ上記パターンマッチングを実施して上記他のマークを探索して検出することを特徴とするマーク検出方法。
A mark detection method for detecting a plurality of marks provided on a subject from a captured image of the subject,
From the captured image of the subject, one mark having the highest matching accuracy is detected and detected by pattern matching, and then an area in which another mark having a specific positional relationship with this mark exists is detected. A mark detection method, wherein the pattern matching is performed only on the detection area to search for and detect the other marks.
上記他のマークが存在する検出領域において、パターンマッチングを実施して上記他のマークを探索し、この他のマークが適正に検出されない場合には、撮像画像の輪郭、明るさ、色の濃さなどをはっきりさせる画像強調処理を実施した後に、パターンマッチングにより上記他のマークを再度探索して検出することを特徴とする請求項1に記載のマーク検出方法。   In the detection area where the other mark exists, pattern matching is performed to search for the other mark, and when the other mark is not properly detected, the contour, brightness, and color density of the captured image are detected. The mark detection method according to claim 1, wherein after performing image enhancement processing to clarify the above, the other marks are searched again by pattern matching and detected. 上記マークの検出順序は、曲線成分を多く含むマークを先に探索して検出し、その後に、直線成分を多く含むマークを探索して検出することを特徴とする請求項1または2に記載のマーク検出方法。   3. The detection order of the marks according to claim 1 or 2, wherein a mark including a large amount of curved components is first searched and detected, and thereafter a mark including a large amount of linear components is searched and detected. Mark detection method. 上記被検体が眼鏡レンズであり、上記マークが仮基準レイアウトマークであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のマーク検出方法。   4. The mark detection method according to claim 1, wherein the subject is a spectacle lens, and the mark is a temporary reference layout mark. 被検体の撮像画像から当該被検体に設けられた複数のマークを検出するマーク検出装置であって、
上記被検体を撮像して撮像画像を得る撮像手段と、
上記撮像画像からパターンマッチングによりマッチング精度が最も高いマークを一つ探索して検出し、このマークに対して特定の位置関係にある他のマークが存在する領域を検出領域とし、この検出領域にのみ上記パターンマッチングを実施して上記他のマークを探索して検出する画像処理手段と、
を有することを特徴とするマーク検出装置。
A mark detection apparatus for detecting a plurality of marks provided on a subject from a captured image of the subject,
Imaging means for imaging the subject to obtain a captured image;
Search for and detect one mark with the highest matching accuracy by pattern matching from the captured image, and set the detection area as the area where other marks that have a specific positional relationship with this mark exist. Image processing means for searching for and detecting the other marks by performing the pattern matching;
A mark detection apparatus comprising:
上記画像処理手段は、他のマークが存在する検出領域において、パターンマッチングを実施して上記他のマークを探索し、この他のマークが適正に検出されない場合に、撮像画像の輪郭、明るさ、色の濃さなどをはっきりさせる画像強調処理を実施した後に、パターンマッチングにより上記他のマークを再度探索して検出することを特徴とする請求項5に記載のマーク検出装置。   The image processing means searches for the other mark by performing pattern matching in a detection region where another mark exists, and when the other mark is not properly detected, the contour, brightness, 6. The mark detection apparatus according to claim 5, wherein after performing image enhancement processing for clarifying color intensity, the other mark is searched again and detected by pattern matching. 上記画像処理手段は、曲線成分を多く含むマークを先に探索して検出し、その後に、直線成分を多く含むマークを探索して検出することを特徴とする請求項5または6に記載のマーク検出装置。   7. The mark according to claim 5, wherein the image processing means searches for and detects a mark containing a large amount of curve components first, and then searches for and detects a mark containing a lot of straight line components. Detection device. 上記被検体が眼鏡レンズであり、上記マークが仮基準レイアウトマークであることを特徴とする請求項5乃至7のいずれかに記載のマーク検出装置。   8. The mark detection apparatus according to claim 5, wherein the subject is a spectacle lens, and the mark is a temporary reference layout mark.
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