JP2006073668A - Wiring circuit and its forming method - Google Patents
Wiring circuit and its forming method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006073668A JP2006073668A JP2004253392A JP2004253392A JP2006073668A JP 2006073668 A JP2006073668 A JP 2006073668A JP 2004253392 A JP2004253392 A JP 2004253392A JP 2004253392 A JP2004253392 A JP 2004253392A JP 2006073668 A JP2006073668 A JP 2006073668A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wiring circuit
- thickness direction
- resin binder
- metal
- wiring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
Abstract
Description
本発明は、導電性に優れた配線回路と、その形成方法に関するものである。 The present invention relates to a wiring circuit having excellent conductivity and a method for forming the wiring circuit.
プリント配線板等の配線回路としては、基板表面に積層した銅箔上に感光性のレジストを塗布し、露光、現像、エッチングの各工程を経てパターニングして形成したものが一般的であった。しかし、より簡易にパターニングできる上、レジスト工程やエッチング工程を経る必要がなく、レジストを現像した後の廃溶剤の処理や、銅箔をエッチングした後の廃液の処理等を必要としないことから、近年では、金属フィラーと樹脂バインダとを含む導電ペーストを、例えばスクリーン印刷法等の印刷方法によって基板上に印刷して形成する配線回路が広く用いられるようになってきた。 A wiring circuit such as a printed wiring board is generally formed by applying a photosensitive resist on a copper foil laminated on the surface of a substrate and patterning it through the steps of exposure, development, and etching. However, since it can be patterned more easily, it is not necessary to go through a resist process or an etching process, and it does not require treatment of waste solvent after developing the resist, treatment of waste liquid after etching the copper foil, etc. In recent years, a wiring circuit in which a conductive paste containing a metal filler and a resin binder is printed on a substrate by a printing method such as a screen printing method has been widely used.
上記の配線回路においては、金属フィラーとして、フレーク状あるいは鱗片状とも呼ばれる平板状のものが、一般的に用いられている。平板状の金属フィラーは、導電ペーストを、スクリーン印刷法等の印刷方法によって印刷する際に、例えばスクリーン印刷法の場合はスキージによって導電ペーストに加えられる応力によって配線回路の面方向に配向される。そして、面方向に隣り合う金属フィラー同士の接触によって導電性が確保されるため、配線回路に所定の導電性を付与することができる。 In the above-described wiring circuit, a flat plate shape called flake shape or scale shape is generally used as the metal filler. When the conductive paste is printed by a printing method such as a screen printing method, the flat metal filler is oriented in the plane direction of the wiring circuit by the stress applied to the conductive paste by a squeegee, for example. And since electroconductivity is ensured by the contact of the metal fillers adjacent to a surface direction, predetermined | prescribed electroconductivity can be provided to a wiring circuit.
ところが、プリント配線板の微細化が進み、配線回路の回路幅が狭くなる傾向にある現在では、単に、平板状の金属フィラーを面方向に配向させただけでは、配線回路の導電性が不十分になりつつあるのが現状であり、回路抵抗の、更なる低抵抗化が求められている。 However, at present, when the printed wiring board is becoming finer and the circuit width of the wiring circuit tends to be narrowed, the electrical conductivity of the wiring circuit is insufficient only by simply orienting the planar metal filler in the plane direction. Currently, there is a demand for further reduction in circuit resistance.
そこで、特許文献1においては、配線回路や、あるいは多層配線板の配線回路間を繋ぐビア等を導電ペーストで形成するにあたり、導電粉末(金属フィラー)として、平板状のものに代えて、比表面積が2〜5m2/gである微小な貴金属粉末を用いるとともに、乾燥後の配線回路やビアを、10MPa以上の圧力で加圧しながら加熱して樹脂バインダを硬化させることによって、上記貴金属粉末を高充てんして、回路抵抗を現状よりも低抵抗化することが提案されている。
特許文献1で使用している、比表面積が2〜5m2/gという微小な貴金属粉末は製造コストが高くつく上、樹脂バインダと混合して均一に分散させるのが容易でなく、導電ペーストの製造コストも高くつくことから、配線回路を形成するためのコストが高くなるという問題がある。 The fine noble metal powder having a specific surface area of 2 to 5 m 2 / g used in Patent Document 1 is expensive to manufacture and is not easy to mix and disperse uniformly with a resin binder. Since the manufacturing cost is high, there is a problem that the cost for forming the wiring circuit is high.
また、特許文献1に記載のように、上記の微小な貴金属粉末を、10MPa以上の圧力で加圧しながら加熱して樹脂バインダを硬化させることによって高充てんしてやれば、確かに、配線回路等の回路抵抗を低減することは可能である。しかし、この構成は、例えばガラスエポキシ基板等の、強化繊維で強化された樹脂基板や、あるいはセラミックス基板等に形成する配線回路においては非常に有効であるものの、フレキシブル配線板等に多用される、ポリイミドフィルム等の、強化繊維で強化されていない樹脂のフィルムやシートからなる基板上に形成する配線回路の形成には適していないという問題もある。 In addition, as described in Patent Document 1, if the above-mentioned fine noble metal powder is heated at a pressure of 10 MPa or more and heated to harden the resin binder, it will surely be a circuit such as a wiring circuit. It is possible to reduce the resistance. However, although this configuration is very effective in a wiring circuit formed on a resin substrate reinforced with reinforcing fibers, such as a glass epoxy substrate, or a ceramic substrate, for example, it is frequently used for flexible wiring boards, There is also a problem that it is not suitable for forming a wiring circuit formed on a substrate made of a resin film or sheet that is not reinforced with a reinforcing fiber, such as a polyimide film.
すなわち、導電ペーストを、強化繊維で強化されていない樹脂のフィルムやシートからなる基板上に印刷した後、高充てんして回路抵抗を低減するために、10MPa以上という高い圧力で加圧しながら加熱して樹脂バインダを硬化させた場合には、基板が厚み方向に圧縮されることで面方向に大きく伸長することから、当該基板上に形成した配線回路の寸法精度が著しく低下する。 That is, the conductive paste is printed on a substrate made of a resin film or sheet not reinforced with reinforcing fibers, and then heated while being pressurized at a high pressure of 10 MPa or more in order to reduce the circuit resistance by high filling. When the resin binder is cured, the substrate is compressed in the thickness direction and greatly expanded in the surface direction, so that the dimensional accuracy of the wiring circuit formed on the substrate is remarkably lowered.
また、基板が面方向に大きく伸長すると、配線回路における金属フィラーの充てん率が低下して、却って、金属フィラーを高充てんして、配線回路の回路抵抗を低減する効果が得られないおそれがある。特に、前記のように、面方向に隣り合う金属フィラー同士の接触によって導電性を確保する平板状のフィラーを用いた配線回路において、基板が面方向に伸長した場合には、金属フィラー同士の接触が引き離されて、導電性が著しく低下してしまう。また、例えば、絶縁カバーの貼り付け等の後加工の工程において、貼り付ける絶縁カバーと配線回路との寸法が合わないなどの不良を生じるおそれもある。 In addition, when the substrate extends greatly in the surface direction, the filling rate of the metal filler in the wiring circuit is lowered, and on the contrary, the effect of reducing the circuit resistance of the wiring circuit by filling the metal filler high may not be obtained. . In particular, in a wiring circuit using a flat filler that ensures conductivity by contact between adjacent metal fillers in the surface direction as described above, when the substrate extends in the surface direction, the contact between the metal fillers Are pulled apart, and the conductivity is significantly reduced. Further, for example, in a post-processing step such as attaching the insulating cover, there is a possibility that a defect such as a mismatch between the size of the insulating cover to be attached and the wiring circuit may occur.
本発明の目的は、通常の、平板状の金属フィラーを用いて、これまでよりも回路抵抗が低抵抗化された配線回路を提供することにある。また、本発明の他の目的は、上記のように平板状の金属フィラーからなる低抵抗化された配線回路を、その寸法精度や導電性を低下させることなしに、より効率的に形成するための形成方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a wiring circuit having a circuit resistance lower than before by using a normal flat metal filler. Another object of the present invention is to more efficiently form a low-resistance wiring circuit made of a flat metal filler as described above without reducing the dimensional accuracy and conductivity. It is in providing the formation method.
上記課題を解決するため、発明者は、平板状の金属フィラーと、樹脂バインダとを含む導電ペーストを印刷して形成される配線回路中における、金属フィラーの分布状況について検討した。その結果、内部に、平板状の金属フィラー起源の金属相と、樹脂バインダ起源の樹脂相とが混在している配線回路を厚み方向に切断した断面において、当該金属相の、配線回路の厚み方向に連続する長さの平均値Yと、上記金属相の、配線回路の厚み方向と直交する方向に連続する長さの平均値Xとの比Y/Xを0.4以上として、平板状の金属フィラーを、配線回路の面方向に隣り合うものだけでなく、それと直交する厚み方向に隣り合うもの同士も接触させるようにすると、従来の、単に平板状の金属フィラーを用いただけの配線回路に比べて、その回路抵抗を大きく低抵抗化できることを見出した。 In order to solve the above-mentioned problems, the inventor examined the distribution state of the metal filler in a wiring circuit formed by printing a conductive paste containing a flat metal filler and a resin binder. As a result, in the cross-section obtained by cutting in the thickness direction the wiring circuit in which the metal phase originating from the flat metal filler and the resin phase originating from the resin binder are mixed, the thickness direction of the wiring phase of the metal phase The ratio Y / X of the average value Y of the continuous lengths to the average value X of the lengths of the metal phases continuous in the direction perpendicular to the thickness direction of the wiring circuit is 0.4 or more, By making metal fillers not only those that are adjacent in the plane direction of the wiring circuit but also those that are adjacent to each other in the thickness direction orthogonal thereto, the conventional wiring circuit in which only a flat metal filler is used is used. In comparison, the inventors have found that the circuit resistance can be greatly reduced.
したがって、請求項1記載の発明は、平板状の金属フィラーと樹脂バインダとを含む導電ペーストを印刷して形成され、内部に、金属フィラー起源の金属相と、樹脂バインダ起源の樹脂相とが混在している配線回路であって、その厚み方向の断面において、金属相の、配線回路の厚み方向に連続する長さの平均値Yと、上記金属相の、配線回路の厚み方向と直交する方向に連続する長さの平均値Xとの比Y/Xが0.4以上であることを特徴とする配線回路である。 Therefore, the invention described in claim 1 is formed by printing a conductive paste containing a flat metal filler and a resin binder, and a metal phase originating from the metal filler and a resin phase originating from the resin binder are mixed inside. In the cross section in the thickness direction, the average value Y of the length of the metal phase continuous in the thickness direction of the wiring circuit and the direction of the metal phase perpendicular to the thickness direction of the wiring circuit The ratio Y / X with respect to the average value X of continuous lengths is 0.4 or more.
なお、比Y/Xが2.5を超える場合には、相対的に、配線回路の面方向に隣り合う金属フィラー同士の接続が少なくなるため、却って回路抵抗を低抵抗化できないおそれがあり、比Y/Xは2.5以下であるのが好ましい。したがって、請求項2記載の発明は、比Y/Xが2.5以下である請求項1記載の配線回路である。 When the ratio Y / X exceeds 2.5, the connection between the metal fillers adjacent to each other in the plane direction of the wiring circuit is relatively reduced, so that the circuit resistance may not be lowered. The ratio Y / X is preferably 2.5 or less. Therefore, the invention according to claim 2 is the wiring circuit according to claim 1, wherein the ratio Y / X is 2.5 or less.
比Y/Xが上記の範囲内に調整された配線回路を形成するためには、特許文献1に記載の発明と同様に、平板状の金属フィラーと、樹脂バインダとを含む導電ペーストを印刷後、その厚み方向に加圧しながら加熱して樹脂バインダを硬化させて形成する方法が採用される。この方法によれば、加圧および加熱の条件を変更することで、比Y/Xを任意に、しかも簡単に調整できる。 In order to form a wiring circuit in which the ratio Y / X is adjusted within the above range, similarly to the invention described in Patent Document 1, after printing a conductive paste containing a flat metal filler and a resin binder A method is adopted in which the resin binder is cured by heating while pressing in the thickness direction. According to this method, the ratio Y / X can be arbitrarily and easily adjusted by changing the pressure and heating conditions.
だたし、導電ペーストを印刷して形成した層をできるだけ効率よく圧縮すると共に、特に、強化繊維を含まない樹脂のフィルムまたはシートからなる基板上に配線回路を形成する際に、基板が面方向に大きく伸長して、導電性が低下するのを防止するためには、加圧の圧力は、0.1〜9MPaである必要がある。また、その際の加熱温度は、100〜250℃である必要がある。 However, the layer formed by printing the conductive paste is compressed as efficiently as possible, and particularly when forming a wiring circuit on a substrate made of a resin film or sheet that does not contain reinforcing fibers, In order to prevent the conductivity from being greatly reduced and the conductivity from being lowered, the pressure of pressurization needs to be 0.1 to 9 MPa. Moreover, the heating temperature in that case needs to be 100-250 degreeC.
したがって、請求項3記載の発明は、請求項1または2記載の配線回路を形成する方法であって、平板状の金属フィラーと、樹脂バインダとを含む導電ペーストを印刷後、その厚み方向に0.1〜9MPaで加圧しながら、100〜250℃に加熱して樹脂バインダを硬化させることを特徴とする配線回路の形成方法である。 Accordingly, the invention described in claim 3 is a method for forming the wiring circuit according to claim 1 or 2, wherein the conductive paste containing the flat metal filler and the resin binder is printed and then 0 in the thickness direction. A method of forming a wiring circuit, wherein the resin binder is cured by heating to 100 to 250 ° C. while pressurizing at 1 to 9 MPa.
以下に、本発明を説明する。
本発明の配線回路は、前記のように、平板状の金属フィラーと樹脂バインダとを含む導電ペーストを印刷して形成され、層中に、金属フィラー起源の金属相と、樹脂バインダ起源の樹脂相とが混在しているものであって、その厚み方向の断面において、金属相の、配線回路の厚み方向に連続する長さの平均値Yと、上記金属相の、配線回路の厚み方向と直交する方向に連続する長さの平均値Xとの比Y/Xが0.4以上であることを特徴とするものである。
The present invention is described below.
The wiring circuit of the present invention is formed by printing a conductive paste containing a flat metal filler and a resin binder as described above, and in the layer, a metal phase originating from the metal filler and a resin phase originating from the resin binder. In the cross section in the thickness direction, the average value Y of the length of the metal phase continuous in the thickness direction of the wiring circuit and the thickness direction of the wiring phase of the metal phase orthogonal to the thickness direction of the wiring circuit The ratio Y / X with respect to the average value X of the lengths continuous in the direction to be measured is 0.4 or more.
すなわち、図2に示すように、形成した配線回路を厚み方向に切断した断面において、図中に色の薄い領域として表れている、金属フィラー起源の金属相(配線回路の面方向および厚み方向に隣り合う複数の金属フィラーが、配線回路中で一体化して形成される)の、配線回路の厚み方向に連続する長さ(太線の直線で示す長さ)を測定して、その平均値Y(μm)を求め、かつ、図3に示すように、同じ断面において、上記金属相の、配線回路の厚み方向と直交する方向に連続する長さ(太線の直線で示す長さ)を測定してその平均値X(μm)を求めると共に、平均値Y、Xから比Y/Xを求めた際に、この比Y/Xが0.4に限定される。 That is, as shown in FIG. 2, in the cross section of the formed wiring circuit cut in the thickness direction, the metal phase originating from the metal filler (in the plane direction and the thickness direction of the wiring circuit), which appears as a light-colored region in the figure. A plurality of adjacent metal fillers are formed integrally in the wiring circuit, and the length continuous in the thickness direction of the wiring circuit (the length indicated by a thick straight line) is measured, and the average value Y ( μm) and, as shown in FIG. 3, in the same cross section, measure the length of the metal phase continuous in the direction perpendicular to the thickness direction of the wiring circuit (the length indicated by the bold straight line). When the average value X (μm) is obtained and the ratio Y / X is obtained from the average values Y and X, the ratio Y / X is limited to 0.4.
これにより、先に説明したように、平板状の金属フィラーを、配線回路の面方向に隣り合うものだけでなく、それと直交する厚み方向に隣り合うもの同士も接触させて、配線回路の回路抵抗を、従来の、平板状の金属フィラーを用いたものに比べて大きく低抵抗化することが可能となる。 Thereby, as explained above, the flat metal filler is not only adjacent to the surface direction of the wiring circuit, but also adjacent to the thickness direction perpendicular to it, so that the circuit resistance of the wiring circuit Can be greatly reduced in resistance as compared with the conventional one using a flat metal filler.
なお、比Y/Xが2.5を超える場合には、却って回路抵抗を低抵抗化できないおそれがある。これは、相対的に、配線回路の面方向に隣り合う金属フィラー同士の接続が少なくなるためであり、したがって、比Y/Xは2.5以下であるのが好ましい。また、配線回路の面方向に隣り合う金属フィラー同士の接触と、厚み方向に隣り合う金属フィラー同士の接触とのバランスをとって、回路抵抗をより一層、低抵抗化することを考慮すると、比Y/Xは、上記の範囲内でも特に、0.5〜1.0であるのが好ましい。 If the ratio Y / X exceeds 2.5, the circuit resistance may not be lowered. This is because there is relatively less connection between metal fillers adjacent to each other in the plane direction of the wiring circuit, and therefore the ratio Y / X is preferably 2.5 or less. In addition, considering the balance between the contact between the metal fillers adjacent to each other in the plane direction of the wiring circuit and the contact between the metal fillers adjacent in the thickness direction, the circuit resistance can be further reduced. Y / X is preferably 0.5 to 1.0 even in the above range.
上記配線回路を形成する平板状の金属フィラーとしては、従来と同様の、導電ペースト用として汎用されているものを用いることができ、それにより、引用文献1に記載されたごく微小な貴金属粉末を使用する場合に比べて、それ自体の製造コストを低減すると共に、当該平板状の金属フィラーは、微小な貴金属粉末に比べて、樹脂バインダと混合して均一に分散させるのが容易であるため、導電ペーストの製造コストを低減することもでき、結果として、配線回路を形成するためのコストを低減することができる。 As the flat metal filler for forming the wiring circuit, the same conventional ones used for conductive pastes can be used, so that the very fine noble metal powder described in the cited reference 1 can be used. Compared to the case of using it, while reducing the manufacturing cost of itself, the flat metal filler is easy to mix and uniformly disperse with a resin binder, compared to a fine noble metal powder. The manufacturing cost of the conductive paste can be reduced, and as a result, the cost for forming the wiring circuit can be reduced.
かかる平板状の金属フィラーとしては、例えば銀、銅、ニッケル、アルミニウム、亜鉛等の金属単体、若しくはこれらの金属を含む2種以上の金属の合金や、2種以上の金属の複合構造体等からなり、フレーク状、鱗片状等の種々の平板状の形状を有する金属フィラーが、いずれも使用可能である。中でも、特にAgフィラーや、表面がAgでコートされたCuフィラーが、表面酸化が少なく、かつ加熱による酸化も生じにくいことから、金属フィラーとして好適に使用される。金属フィラーの大きさは、特に限定されないが、プリント配線板の微細化に対応するためには、その中心粒径が0.1〜20μmであるのが好ましい。なお、平板状とは、最大長さLと厚みDとの比L/Dが3以上であるものを言うこととする。また、金属フィラーとしては、例えば導電ペーストの粘性、印刷性、レべリング性等を調整するため、平板状のものと共に、球状のフィラーを併用してもよい。 Examples of such flat metal fillers include simple metals such as silver, copper, nickel, aluminum, and zinc, or alloys of two or more metals containing these metals, or composite structures of two or more metals. Any metal filler having various flat plate shapes such as flakes and scales can be used. Of these, Ag filler and Cu filler coated with Ag on the surface are particularly suitable for use as metal fillers because they have little surface oxidation and hardly undergo oxidation due to heating. Although the magnitude | size of a metal filler is not specifically limited, In order to respond | correspond to refinement | miniaturization of a printed wiring board, it is preferable that the center particle size is 0.1-20 micrometers. In addition, suppose that flat form means that ratio L / D of the maximum length L and thickness D is 3 or more. Moreover, as a metal filler, in order to adjust the viscosity, printability, leveling property, etc. of an electrically conductive paste, you may use a spherical filler together with a flat thing.
また、上記金属フィラーと共に導電ペーストを構成する樹脂バインダとしては、やはり、従来と同様の、導電ペースト用として汎用されているものを用いることができる。すなわち、樹脂バインダとしては、例えばエポキシ樹脂、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂や、ポリエステル、ポリアミドイミド、ポリイミド等の、高耐熱性の熱可塑性樹脂等が挙げられ、中でも、特にエポキシ樹脂が、耐熱性と柔軟性の点から、樹脂バインダとして好適に使用される。また、エポキシ樹脂としては、未硬化の状態での分子量が10,000以上のものを用いるのが、柔軟性の点で好ましい。 Moreover, as a resin binder which comprises an electrically conductive paste with the said metal filler, what is generally used for electrically conductive pastes similarly to the past can be used. That is, examples of the resin binder include thermosetting resins such as epoxy resins and phenol resins, and thermoplastic resins having high heat resistance such as polyester, polyamide imide, and polyimide. From the point of property and flexibility, it is suitably used as a resin binder. In addition, it is preferable from the viewpoint of flexibility that an epoxy resin having an uncured molecular weight of 10,000 or more is used.
導電ペーストには、上記の他に、例えば、樹脂バインダが熱硬化性樹脂である場合にはその硬化剤等が配合される他、導電ペーストの粘度を調整するための溶剤等が配合される。各成分の配合割合は特に限定されないが、金属フィラーは、固形分の総量、すなわち、金属フィラーと、樹脂バインダと、当該樹脂バインダが熱硬化性樹脂である場合はその硬化剤との合計量中に占める割合が、40〜75体積%であるのが好ましく、50〜70体積%であるのがさらに好ましい。金属フィラーの割合がこの範囲未満では、十分な導電性を有する配線回路を形成できないおそれがあり、この範囲を超える場合には、相対的に樹脂バインダの割合が少なくなるため、配線回路の基板への密着性や、配線回路自体の強度が不十分になるおそれがある。 In addition to the above, for example, when the resin binder is a thermosetting resin, the conductive paste is blended with a curing agent or the like, and a solvent for adjusting the viscosity of the conductive paste. The blending ratio of each component is not particularly limited, but the metal filler is a total amount of solids, that is, in the total amount of the metal filler, the resin binder, and the curing agent when the resin binder is a thermosetting resin. It is preferable that the ratio to 40 to 75 volume% is more preferable, and it is more preferable that it is 50 to 70 volume%. If the ratio of the metal filler is less than this range, there is a possibility that a wiring circuit having sufficient conductivity may not be formed. If the ratio exceeds this range, the ratio of the resin binder is relatively reduced, so that the wiring circuit substrate can be reduced. There is a risk that the adhesion of the wiring and the strength of the wiring circuit itself will be insufficient.
本発明の配線回路は、上記の各成分を含む導電ペーストを、例えばスクリーン印刷法等の任意の印刷法によって基板の表面にパターニングして、溶媒を含む場合は予備加熱して乾燥させた後、プレス機等を用いて、その厚み方向に加圧しながら加熱する、本発明の形成方法によって形成するのが好ましい。この際、樹脂バインダが熱硬化性樹脂である場合には、加熱によって硬化反応される。 In the wiring circuit of the present invention, the conductive paste containing each of the above components is patterned on the surface of the substrate by an arbitrary printing method such as a screen printing method. It is preferable to form by the forming method of the present invention, which is heated while pressing in the thickness direction using a press machine or the like. At this time, when the resin binder is a thermosetting resin, the resin binder is cured by heating.
本発明の配線回路の形成方法においては、上記加圧の圧力が、0.1〜9MPaに限定されると共に、加熱の温度が、100〜250℃に限定される。圧力が0.1MPa未満では、加熱の温度にもよるが、たとえ十分な加熱温度が加えられて、樹脂バインダが軟化していたとしても、層を、前記比Y/Xが0.4以上となるまで十分に圧縮することができない。また、加熱の温度が100℃未満では、加圧の圧力にもよるが、たとえ十分な圧力が加えられていたとても、樹脂バインダが十分に軟化しないため、やはり、層を、前記比Y/Xが0.4以上となるまで十分に圧縮することができない。また、樹脂バインダが熱硬化性樹脂である場合には、当該樹脂バインダを十分に硬化反応させることができない。したがって、このいずれの場合にも、層を効率よく圧縮して、前記比Y/Xが0.4以上である、本発明の配線回路を形成することができない。 In the method for forming a wiring circuit of the present invention, the pressure of the pressurization is limited to 0.1 to 9 MPa, and the heating temperature is limited to 100 to 250 ° C. When the pressure is less than 0.1 MPa, depending on the heating temperature, even if a sufficient heating temperature is applied and the resin binder is softened, the layer has a ratio Y / X of 0.4 or more. It cannot be fully compressed until Also, when the heating temperature is less than 100 ° C., although depending on the pressure of the pressurization, the resin binder is not sufficiently softened even if a sufficient pressure is applied. Cannot be sufficiently compressed until the value becomes 0.4 or more. Further, when the resin binder is a thermosetting resin, the resin binder cannot be sufficiently cured. Therefore, in any of these cases, it is impossible to efficiently compress the layer and form the wiring circuit of the present invention in which the ratio Y / X is 0.4 or more.
また、圧力が9MPaを超える場合には、特に、フレキシブル配線板等に多用されるポリイミドフィルム等の、強化繊維で強化されていない樹脂のフィルムやシートからなる基板が厚み方向に圧縮されることで面方向に大きく伸長するため、当該基板上に形成した配線回路の寸法精度が著しく低下する。また、基板が面方向に大きく伸長することで、面方向に隣り合う金属フィラー同士の接触が引き離されることと、厚み方向に重なり合う金属フィラー同士の接触が増加することとが相まって、比Y/Xが2.5を超えるおそれもある。 When the pressure exceeds 9 MPa, a substrate made of a resin film or sheet not reinforced with reinforcing fibers, such as a polyimide film frequently used for flexible wiring boards, is compressed in the thickness direction. Since it extends greatly in the surface direction, the dimensional accuracy of the wiring circuit formed on the substrate significantly decreases. Further, the ratio of Y / X in combination with the fact that the contact between the metal fillers adjacent to each other in the plane direction is separated from the increase in the contact between the metal fillers overlapping in the thickness direction by greatly extending the substrate in the plane direction. May exceed 2.5.
また、加熱の温度が250℃を超える場合にも、同様に、強化繊維で強化されていない樹脂のフィルムやシートからなる基板が厚み方向に圧縮されることで面方向に大きく伸長するため、当該基板上に形成した配線回路の寸法精度が著しく低下する。また、樹脂バインダが熱劣化して、配線回路の基板への密着性や、配線回路自体の強度が不十分になるおそれもある。 In addition, even when the heating temperature exceeds 250 ° C., the substrate made of a resin film or sheet not reinforced with reinforcing fibers is expanded in the surface direction by being compressed in the thickness direction. The dimensional accuracy of the wiring circuit formed on the substrate is significantly reduced. Further, the resin binder may be thermally deteriorated, and the adhesion of the wiring circuit to the substrate and the strength of the wiring circuit itself may be insufficient.
なお、加圧の圧力は、寸法精度や導電性を低下させることなしに、より効率的に、配線回路を形成することを考慮すると、上記の範囲内でも特に、0.1〜2MPaであるのが好ましい。また、加熱の温度は、樹脂バインダの種類にもよるが、例えばエポキシ樹脂の場合は、180〜220℃であるのが好ましい。 Note that the pressure of the pressurization is 0.1 to 2 MPa, particularly within the above range, in consideration of forming the wiring circuit more efficiently without reducing the dimensional accuracy and conductivity. Is preferred. Moreover, although the temperature of a heating is based also on the kind of resin binder, in the case of an epoxy resin, it is preferable that it is 180-220 degreeC.
さらに、加圧しながら加熱する工程に要する時間は、配線回路の生産性を向上すると共に、樹脂バインダ等の熱劣化を防止することを考慮すると、1時間以下であるのが好ましい。また、導電ペーストを印刷して形成した層を十分に加圧、加熱して、前記比Y/Xを0.4以上とするためには、15分間以上であるのが好ましい。 Furthermore, it is preferable that the time required for the heating step while applying pressure is 1 hour or less in consideration of improving the productivity of the wiring circuit and preventing thermal deterioration of the resin binder or the like. Further, in order to sufficiently pressurize and heat the layer formed by printing the conductive paste so that the ratio Y / X is 0.4 or more, it is preferably 15 minutes or more.
なお、ここで言う配線回路とは、基板上の二次元の配線回路だけでなく、異なる層間を接続する三次元の配線回路をも含むものとする。例えば、ブラインドビアホール(Blind Via Hole)、ベリードビアホール(Buried Via Hole)、インタースティシャルビアホール(Interstitial Via Hole)等のビアホールや、スルーホール(Through Hole)等の、三次元回路の層間接続部分や、この層間接続部と、それによって繋がれる2層以上の二次元の配線回路を含む、三次元の配線回路の全体を、本発明の構成とすることができる。 The wiring circuit mentioned here includes not only a two-dimensional wiring circuit on a substrate but also a three-dimensional wiring circuit connecting different layers. For example, via holes such as blind via holes, buried via holes, and interstitial via holes, and through-holes such as through holes, The entire three-dimensional wiring circuit including the interlayer connection portion and two or more layers of two-dimensional wiring circuits connected by the interlayer connection portion can be configured as the configuration of the present invention.
以下に本発明を、実施例、比較例に基づいて説明する。 Hereinafter, the present invention will be described based on examples and comparative examples.
実施例1:
金属フィラーとしての、平板状の銀フィラー(中心粒径2.6μm)60重量部と、樹脂バインダとしてのビスフェノールA型エポキシ樹脂(分子量50,000)のブチルカルビトールアセテート溶液(固形分濃度40重量%)11重量部とを配合し、3本ロールで混合した後、イミダゾール系の潜在性硬化剤を加えて再度、混合して導電ペーストを調製した。銀フィラーの、固形分の総量、すなわち銀フィラーとエポキシ樹脂と硬化剤との合計量中に占める割合は60体積%であった。
Example 1:
60 parts by weight of a tabular silver filler (center particle size 2.6 μm) as a metal filler and a butyl carbitol acetate solution of a bisphenol A type epoxy resin (molecular weight 50,000) as a resin binder (solid content concentration 40 weight) %) 11 parts by weight and mixed with three rolls, an imidazole-based latent curing agent was added and mixed again to prepare a conductive paste. The total amount of the solid content of the silver filler, that is, the ratio of the silver filler to the total amount of the epoxy resin and the curing agent was 60% by volume.
次に、スクリーン印刷機を使用して、基板としての、厚み25μmのポリイミドフィルム〔東レデュポン(株)製のカプトン(登録商標)EN〕の片面に、上記の導電ペーストを、幅3mm、長さ80mmの回路部を含む配線回路の形状に印刷し、100℃で10分間、予備加熱して乾燥させた後、プレス機を使用して、印刷した層を、その厚み方向に、圧力3.9MPa、温度200℃で30分間、加圧しながら加熱して配線回路を形成した。 Next, using a screen printing machine, the conductive paste was applied to one side of a 25 μm-thick polyimide film [Kapton (registered trademark) EN manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.] as a substrate. After printing in the shape of a wiring circuit including a circuit part of 80 mm, preheating at 100 ° C. for 10 minutes and drying, the printed layer was pressed in the thickness direction with a pressure of 3.9 MPa using a press machine. Then, heating was carried out for 30 minutes at a temperature of 200 ° C. to form a wiring circuit.
形成した配線回路を厚み方向に切断して断面を露出させ、その断面を、走査型電子顕微鏡を用いて撮影したところ、図1に示すように、金属フィラー起源の金属相と、樹脂バインダ起源の樹脂相とが混在していることが確認された。また、この画像から、図2に示すように、金属相の、配線回路の厚み方向に連続する長さ(太線の直線で示す長さ)を測定した。測定は、図の断面を含む、配線回路上の、任意の3個所の断面の画像について行い、その全ての測定値から平均値Y(μm)を求めたところ、1.22μmであった。 The formed wiring circuit was cut in the thickness direction to expose the cross section, and the cross section was photographed using a scanning electron microscope. As shown in FIG. 1, the metal phase originated from the metal filler and the resin binder originated. It was confirmed that the resin phase was mixed. In addition, from this image, as shown in FIG. 2, the length of the metal phase that is continuous in the thickness direction of the wiring circuit (the length indicated by a bold straight line) was measured. The measurement was performed on images of arbitrary three cross sections on the wiring circuit including the cross section of the figure, and the average value Y (μm) was obtained from all the measured values, and was 1.22 μm.
また、同じ画像から、図3に示すように、上記金属相の、配線回路の厚み方向と直交する方向に連続する長さ(太線の直線で示す長さ)を測定した。測定は、上記と同様に、図の断面を含む、配線回路上の、任意の3個所の断面の画像について行い、その全ての測定値から平均値X(μm)を求めたところ、1.39μmであり、比Y/Xは0.88であった。 Further, from the same image, as shown in FIG. 3, the length (length indicated by a thick straight line) of the metal phase that is continuous in the direction orthogonal to the thickness direction of the wiring circuit was measured. In the same manner as described above, the measurement was performed on images of arbitrary three cross sections on the wiring circuit including the cross section of the figure, and the average value X (μm) was obtained from all the measured values. The ratio Y / X was 0.88.
実施例2:
加熱の温度を150℃としたこと以外は実施例1と同様にして配線回路を形成した。形成した配線回路を厚み方向に切断して断面を露出させ、その断面を、走査型電子顕微鏡を用いて撮影したところ、図4に示すように、金属フィラー起源の金属相と、樹脂バインダ起源の樹脂相とが混在していることが確認された。また、図4の画像を含む、配線回路上の、任意の3個所の断面の画像について、実施例1と同様にして、金属相の、配線回路の厚み方向に連続する長さ(太線の直線で示す長さ)を測定し、その全ての測定値から平均値Y(μm)を求めたところ、0.77μmであった。
Example 2:
A wiring circuit was formed in the same manner as in Example 1 except that the heating temperature was 150 ° C. The formed wiring circuit was cut in the thickness direction to expose the cross section, and the cross section was photographed using a scanning electron microscope. As shown in FIG. 4, the metal phase originated from the metal filler and the resin binder originated. It was confirmed that the resin phase was mixed. Further, for the images of the cross-sections at arbitrary three points on the wiring circuit including the image of FIG. 4, the length of the metal phase continuous in the thickness direction of the wiring circuit (thick straight line) in the same manner as in Example 1. The average value Y (μm) was determined from all the measured values, and was 0.77 μm.
また、図4の画像を含む、配線回路上の、任意の3個所の断面の画像について、金属相の、配線回路の厚み方向と直交する方向に連続する長さ(太線の直線で示す長さ)を測定し、その全ての測定値から平均値X(μm)を求めたところ、1.60μmであり、比Y/Xは0.48であった。 In addition, regarding the image of the cross section at any three points on the wiring circuit including the image of FIG. 4, the length of the metal phase that is continuous in the direction orthogonal to the thickness direction of the wiring circuit (the length indicated by the bold line) ) And the average value X (μm) was determined from all the measured values, and was 1.60 μm, and the ratio Y / X was 0.48.
実施例3:
加圧の圧力を1.5MPaとしたこと以外は実施例1と同様にして配線回路を形成した。形成した配線回路を厚み方向に切断して断面を露出させ、その断面を、走査型電子顕微鏡を用いて撮影したところ、図5に示すように、金属フィラー起源の金属相と、樹脂バインダ起源の樹脂相とが混在していることが確認された。また、図5の画像を含む、配線回路上の、任意の3個所の断面の画像について、実施例1と同様にして、金属相の、配線回路の厚み方向に連続する長さ(太線の直線で示す長さ)を測定し、その全ての測定値から平均値Y(μm)を求めたところ、1.52μmであった。
Example 3:
A wiring circuit was formed in the same manner as in Example 1 except that the pressure applied was 1.5 MPa. The formed wiring circuit was cut in the thickness direction to expose the cross section, and the cross section was photographed using a scanning electron microscope. As shown in FIG. 5, the metal phase originating from the metal filler and the resin binder originating It was confirmed that the resin phase was mixed. Further, for the images of the cross-sections at arbitrary three points on the wiring circuit including the image of FIG. 5, the length of the metal phase continuous in the thickness direction of the wiring circuit (thick straight line) in the same manner as in Example 1. The average value Y (μm) was determined from all the measured values, and was 1.52 μm.
また、図5の画像を含む、配線回路上の、任意の3個所の断面の画像について、金属相の、配線回路の厚み方向と直交する方向に連続する長さ(太線の直線で示す長さ)を測定し、その全ての測定値から平均値X(μm)を求めたところ、2.67μmであり、比Y/Xは0.57であった。 In addition, regarding the image of the cross section at any three points on the wiring circuit including the image of FIG. 5, the length of the metal phase continuous in the direction orthogonal to the thickness direction of the wiring circuit (the length indicated by the bold line) ), And an average value X (μm) was determined from all the measured values. As a result, it was 2.67 μm and the ratio Y / X was 0.57.
実施例4:
加圧の圧力を0.5MPaとしたこと以外は実施例1と同様にして配線回路を形成した。形成した配線回路を厚み方向に切断して断面を露出させ、その断面を、走査型電子顕微鏡を用いて撮影したところ、図6に示すように、金属フィラー起源の金属相と、樹脂バインダ起源の樹脂相とが混在していることが確認された。また、図6の画像を含む、配線回路上の、任意の3個所の断面の画像について、実施例1と同様にして、金属相の、配線回路の厚み方向に連続する長さ(太線の直線で示す長さ)を測定し、その全ての測定値から平均値Y(μm)を求めたところ、1.50μmであった。
Example 4:
A wiring circuit was formed in the same manner as in Example 1 except that the pressure of the pressurization was 0.5 MPa. The formed wiring circuit was cut in the thickness direction to expose the cross section, and the cross section was photographed using a scanning electron microscope. As shown in FIG. 6, the metal phase originated from the metal filler and the resin binder originated. It was confirmed that the resin phase was mixed. Further, for the image of the cross section at any three points on the wiring circuit including the image of FIG. 6, the length of the metal phase continuous in the thickness direction of the wiring circuit (thick straight line) in the same manner as in Example 1. The average value Y (μm) was determined from all the measured values and found to be 1.50 μm.
また、図6の画像を含む、配線回路上の、任意の3個所の断面の画像について、金属相の、配線回路の厚み方向と直交する方向に連続する長さ(太線の直線で示す長さ)を測定し、その全ての測定値から平均値X(μm)を求めたところ、2.28μmであり、比Y/Xは0.66であった。 In addition, regarding the image of the cross section at any three points on the wiring circuit including the image of FIG. 6, the length of the metal phase that is continuous in the direction orthogonal to the thickness direction of the wiring circuit (the length indicated by the bold line) ) And the average value X (μm) was determined from all the measured values, and was 2.28 μm, and the ratio Y / X was 0.66.
実施例5:
加圧の圧力を0.2MPaとしたこと以外は実施例1と同様にして配線回路を形成した。形成した配線回路を厚み方向に切断して断面を露出させ、その断面を、走査型電子顕微鏡を用いて撮影したところ、図7に示すように、金属フィラー起源の金属相と、樹脂バインダ起源の樹脂相とが混在していることが確認された。また、図7の画像を含む、配線回路上の、任意の3個所の断面の画像について、実施例1と同様にして、金属相の、配線回路の厚み方向に連続する長さ(太線の直線で示す長さ)を測定し、その全ての測定値から平均値Y(μm)を求めたところ、1.10μmであった。
Example 5:
A wiring circuit was formed in the same manner as in Example 1 except that the pressure applied was 0.2 MPa. The formed wiring circuit was cut in the thickness direction to expose the cross section, and the cross section was photographed using a scanning electron microscope. As shown in FIG. 7, the metal phase originated from the metal filler and the resin binder originated. It was confirmed that the resin phase was mixed. In addition, with respect to the image of the cross section at any three points on the wiring circuit including the image of FIG. 7, the length of the metal phase continuous in the thickness direction of the wiring circuit (thick straight line) in the same manner as in Example 1. The average value Y (μm) was determined from all the measured values, and was 1.10 μm.
また、図7の画像を含む、配線回路上の、任意の3個所の断面の画像について、金属相の、配線回路の厚み方向と直交する方向に連続する長さ(太線の直線で示す長さ)を測定し、その全ての測定値から平均値X(μm)を求めたところ、2.00μmであり、比Y/Xは0.55であった。 In addition, regarding the image of the cross section at any three points on the wiring circuit including the image of FIG. 7, the length of the metal phase that is continuous in the direction orthogonal to the thickness direction of the wiring circuit (the length indicated by the bold line) ), And an average value X (μm) was determined from all the measured values. As a result, it was 2.00 μm, and the ratio Y / X was 0.55.
比較例1:
パターニングした層を加圧せず、200℃に設定したオーブン中で、常圧で30分間、加熱したこと以外は実施例1と同様にして配線回路を形成した。形成した配線回路を厚み方向に切断して断面を露出させ、その断面を、走査型電子顕微鏡を用いて撮影したところ、図8に示すように、金属フィラー起源の金属相と、樹脂バインダ起源の樹脂相とが混在していることが確認された。また、図8の画像を含む、配線回路上の、任意の3個所の断面の画像について、図9に示すように、実施例1と同様にして、金属相の、配線回路の厚み方向に連続する長さ(太線の直線で示す長さ)を測定し、その全ての測定値から平均値Y(μm)を求めたところ、0.47μmであった。
Comparative Example 1:
A wiring circuit was formed in the same manner as in Example 1 except that the patterned layer was not pressurized and heated in an oven set at 200 ° C. for 30 minutes at normal pressure. The formed wiring circuit was cut in the thickness direction to expose the cross section, and the cross section was photographed using a scanning electron microscope. As shown in FIG. 8, the metal phase originated from the metal filler and the resin binder originated. It was confirmed that the resin phase was mixed. Further, as shown in FIG. 9, images of arbitrary three cross sections on the wiring circuit including the image of FIG. 8 are continuous in the thickness direction of the wiring circuit in the same manner as in Example 1. The measured length (length indicated by a thick straight line) was measured, and the average value Y (μm) was determined from all the measured values, which was 0.47 μm.
また、図8の画像を含む、配線回路上の、任意の3個所の断面の画像について、図10に示すように、金属相の、配線回路の厚み方向と直交する方向に連続する長さ(太線の直線で示す長さ)を測定し、その全ての測定値から平均値X(μm)を求めたところ、1.60μmであり、比Y/Xは0.29であった。 Further, as shown in FIG. 10, for the images of the cross sections at arbitrary three points on the wiring circuit including the image of FIG. 8, the length of the metal phase that is continuous in the direction orthogonal to the thickness direction of the wiring circuit ( The length (indicated by a bold straight line) was measured, and the average value X (μm) was determined from all the measured values. As a result, it was 1.60 μm, and the ratio Y / X was 0.29.
比較例2:
加圧の温度を30℃とした以外は実施例1と同様にして配線回路を形成した。形成した配線回路を厚み方向に切断して断面を露出させ、その断面を、走査型電子顕微鏡を用いて撮影したところ、図11に示すように、金属フィラー起源の金属相と、樹脂バインダ起源の樹脂相とが混在していることが確認された。また、図11の画像を含む、配線回路上の、任意の3個所の断面の画像について、実施例1と同様にして、金属相の、配線回路の厚み方向に連続する長さ(太線の直線で示す長さ)を測定し、その全ての測定値から平均値Y(μm)を求めたところ、0.74μmであった。
Comparative Example 2:
A wiring circuit was formed in the same manner as in Example 1 except that the temperature of pressurization was 30 ° C. The formed wiring circuit was cut in the thickness direction to expose the cross section, and the cross section was photographed using a scanning electron microscope. As shown in FIG. 11, the metal phase originated from the metal filler and the resin binder originated. It was confirmed that the resin phase was mixed. Further, for the image of the cross section at any three points on the wiring circuit including the image of FIG. 11, the length of the metal phase continuous in the thickness direction of the wiring circuit (thick straight line) in the same manner as in Example 1. The average value Y (μm) was determined from all the measured values, and was 0.74 μm.
また、図11の画像を含む、配線回路上の、任意の3個所の断面の画像について、金属相の、配線回路の厚み方向と直交する方向に連続する長さ(太線の直線で示す長さ)を測定し、その全ての測定値から平均値X(μm)を求めたところ、2.24μmであり、比Y/Xは0.33であった。 In addition, for images of cross sections at arbitrary three points on the wiring circuit including the image of FIG. 11, the length of the metal phase that is continuous in the direction orthogonal to the thickness direction of the wiring circuit (the length indicated by the bold line) ) And the average value X (μm) was determined from all the measured values, and found to be 2.24 μm and the ratio Y / X was 0.33.
比較例3:
金属フィラーとして、球状の銀フィラー(平均粒径0.3μm)を同量、使用したこと以外は実施例1と同様にして、導電ペーストを調製した。そして、この導電ペーストを用いたことと、加圧の圧力を14.7MPaとしたこと以外は実施例1と同様にして配線回路を形成した。
Comparative Example 3:
A conductive paste was prepared in the same manner as in Example 1 except that the same amount of spherical silver filler (average particle size: 0.3 μm) was used as the metal filler. Then, a wiring circuit was formed in the same manner as in Example 1 except that this conductive paste was used and the pressure applied was 14.7 MPa.
比較例4:
加圧の圧力を10MPaとしたこと以外は実施例1と同様にして配線回路を形成した。
Comparative Example 4:
A wiring circuit was formed in the same manner as in Example 1 except that the pressure applied was 10 MPa.
上記各実施例、比較例で形成した配線回路について、下記の各試験を行って、その特性を評価した。 About the wiring circuit formed in each said Example and comparative example, the following each test was done and the characteristic was evaluated.
体積抵抗率の測定:
実施例、比較例において、前記の工程を経て形成した配線回路のうち、幅3mm、長さ80mmの回路部について、四端子法によって抵抗値を測定して、体積抵抗率を求めた。
Volume resistivity measurement:
In Examples and Comparative Examples, among the wiring circuits formed through the above-described steps, the resistance value was measured by a four-terminal method for a circuit portion having a width of 3 mm and a length of 80 mm to obtain a volume resistivity.
基板寸法変化率の測定:
実施例、比較例で使用したポリイミドフィルムの、配線回路を形成する表面に、その幅方向に沿って80mmを隔てて、2個所のマーキングを施すと共に、この2個所のマーキングから、それぞれポリイミドフィルムの長さ方向に沿って80mmを隔てて2個所のマーキングを施した。そして、前記の工程を経て配線回路を形成する前後の時点で、それぞれ、ポリイミドフィルムの幅方向に並ぶ2個所ずつのマーキングの間隔と、長さ方向に並ぶ2個所ずつのマーキングの間隔とを測定して、その平均値を求めた後、この2つの平均値から、寸法変化率を、式:
In the polyimide film used in the examples and comparative examples, markings on the surface forming the wiring circuit were made at two locations with a separation of 80 mm along the width direction. Two markings were made along the length direction with an interval of 80 mm. Then, before and after forming the wiring circuit through the above-described steps, the intervals between the markings arranged in the width direction of the polyimide film and the intervals between the markings arranged in the length direction are measured. Then, after obtaining the average value, from these two average values, the dimensional change rate is expressed by the formula:
亀裂の観察:
実施例、比較例において、前記の工程を経て形成した配線回路に亀裂が入っているか否かを観察した。以上の結果を表1に示す。
In the examples and comparative examples, it was observed whether or not the wiring circuit formed through the above steps had cracks. The results are shown in Table 1.
表より、印刷した層を加圧しなかった比較例1の配線回路は、比Y/Xが0.4未満であると共に、体積抵抗率が高いことから、導電性が低いことがわかった。また、プレス時の加熱の温度を100℃未満とした比較例2の配線回路は、やはり比Y/Xが0.4未満であると共に、体積抵抗率が高いことから、導電性が低いことがわかった。また、金属フィラーとして球状のものを用いると共に、プレス時の加圧の圧力を、9MPaを超える範囲とした比較例3の配線回路、および平板状の金属フィラーを用いたものの、プレス時の加圧の圧力を、9MPaを超える範囲とした比較例4の配線回路は、ともに、亀裂が生じるなどして、実用に適さないことがわかった。 From the table, it was found that the wiring circuit of Comparative Example 1 that did not pressurize the printed layer had a ratio Y / X of less than 0.4 and a high volume resistivity, so that the conductivity was low. Further, the wiring circuit of Comparative Example 2 in which the heating temperature at the time of pressing is less than 100 ° C. is low in conductivity because the ratio Y / X is also less than 0.4 and the volume resistivity is high. all right. Moreover, while using a spherical thing as a metal filler and using the wiring circuit of the comparative example 3 which made the pressure of pressurization the range exceeding 9 MPa, and the flat metal filler, pressurization at the time of press It was found that the wiring circuit of Comparative Example 4 having a pressure exceeding 9 MPa was not suitable for practical use because cracks occurred.
これに対し、実施例1〜5の配線回路は、いずれも比Y/Xが0.4以上の範囲であると共に、体積抵抗率が低く、導電性に優れることが確認された。また、寸法変化率が小さいことから、各実施例の配線回路は、いずれも寸法精度にも優れることも確認された。 On the other hand, it was confirmed that the wiring circuits of Examples 1 to 5 all had a ratio Y / X in the range of 0.4 or more, a low volume resistivity, and excellent conductivity. Moreover, since the dimensional change rate was small, it was also confirmed that all the wiring circuits of the respective examples were excellent in dimensional accuracy.
Claims (3)
A method of forming a wiring circuit according to claim 1 or 2, wherein after printing a conductive paste containing a flat metal filler and a resin binder, pressurizing at 0.1 to 9 MPa in the thickness direction, 100 A method of forming a wiring circuit, wherein the resin binder is cured by heating to ˜250 ° C.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004253392A JP2006073668A (en) | 2004-08-31 | 2004-08-31 | Wiring circuit and its forming method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004253392A JP2006073668A (en) | 2004-08-31 | 2004-08-31 | Wiring circuit and its forming method |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010025484A Division JP2010103573A (en) | 2010-02-08 | 2010-02-08 | Wiring circuit |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006073668A true JP2006073668A (en) | 2006-03-16 |
Family
ID=36153987
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004253392A Pending JP2006073668A (en) | 2004-08-31 | 2004-08-31 | Wiring circuit and its forming method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006073668A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008069035A1 (en) * | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Solar cell module |
JP2020057775A (en) * | 2019-09-13 | 2020-04-09 | 住友ベークライト株式会社 | Stretchable wiring board and wearable device |
JP2021015985A (en) * | 2020-10-14 | 2021-02-12 | 住友ベークライト株式会社 | Stretchable wiring board and wearable device |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1064331A (en) * | 1996-08-21 | 1998-03-06 | Hitachi Chem Co Ltd | Conductive paste, electric circuit using conductive paste, and manufacture of electric circuit |
-
2004
- 2004-08-31 JP JP2004253392A patent/JP2006073668A/en active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1064331A (en) * | 1996-08-21 | 1998-03-06 | Hitachi Chem Co Ltd | Conductive paste, electric circuit using conductive paste, and manufacture of electric circuit |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008069035A1 (en) * | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Solar cell module |
JPWO2008069035A1 (en) * | 2006-11-28 | 2010-03-18 | 三洋電機株式会社 | Solar cell module |
JP5171641B2 (en) * | 2006-11-28 | 2013-03-27 | 三洋電機株式会社 | Solar cell module |
EP2091088A4 (en) * | 2006-11-28 | 2013-07-03 | Sanyo Electric Co | Solar cell module |
US8754324B2 (en) | 2006-11-28 | 2014-06-17 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Solar cell module |
JP2020057775A (en) * | 2019-09-13 | 2020-04-09 | 住友ベークライト株式会社 | Stretchable wiring board and wearable device |
JP2021015985A (en) * | 2020-10-14 | 2021-02-12 | 住友ベークライト株式会社 | Stretchable wiring board and wearable device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5141249B2 (en) | Conductive paste and multilayer printed wiring board using the same | |
TWI393496B (en) | Wiring board, production method therefor, and via paste | |
US20090083975A1 (en) | Method of interconnecting layers of a printed circuit board | |
TW201338650A (en) | Wiring board and manufacturing method therefor | |
TW201340807A (en) | Flexible wiring board, method for manufacturing flexible wiring board, package product using flexible wiring board, and flexible multilayer wiring board | |
WO2016088540A1 (en) | Conductive composition, wiring board and method for producing same | |
EP2333787B1 (en) | Conductive paste and method for manufacturing multilayer printed wiring board using the same | |
JP2006073668A (en) | Wiring circuit and its forming method | |
JP2010103573A (en) | Wiring circuit | |
JP2011228481A (en) | Conductive paste, flexible printed-wiring board and electronic equipment | |
JP3683506B2 (en) | Process for producing conductive paste composition for via filling | |
JP2022066525A (en) | Multilayer substrate, and component mounting substrate | |
JP2009026700A (en) | Conductive paste, and multilayer printed wiring board using the same | |
WO2007043438A1 (en) | Multilayer printed wiring board and method for producing same | |
JP3818512B2 (en) | Printed circuit board manufacturing method and printed circuit board | |
JP2007109697A (en) | Multilayer printed wiring board and method of manufacturing same | |
JP4481734B2 (en) | Conductive paste composition for multilayer wiring board | |
JP2003347695A (en) | Method of manufacturing printed wiring board | |
JP4763813B2 (en) | Multilayer printed wiring board and manufacturing method thereof | |
CN103098564B (en) | Multi-layer printed circuit board and manufacture method thereof | |
JP2675810B2 (en) | Manufacturing method of electric laminate | |
JP2009070724A (en) | Conductive paste | |
JP2005302992A (en) | Resistive element and passive element accommodating printed wiring board | |
JP5077801B2 (en) | Manufacturing method of multilayer printed wiring board | |
JP2007273253A (en) | Conductive paste |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20070221 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090806 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20090915 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20091210 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20100208 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100513 |