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JP2006040632A - Anisotropic conductive connector, its manufacturing method, adapter device and electrical inspection device of circuit device - Google Patents

Anisotropic conductive connector, its manufacturing method, adapter device and electrical inspection device of circuit device Download PDF

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JP2006040632A
JP2006040632A JP2004216041A JP2004216041A JP2006040632A JP 2006040632 A JP2006040632 A JP 2006040632A JP 2004216041 A JP2004216041 A JP 2004216041A JP 2004216041 A JP2004216041 A JP 2004216041A JP 2006040632 A JP2006040632 A JP 2006040632A
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JP
Japan
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conductive
anisotropic conductive
path forming
conductive path
adapter
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Application number
JP2004216041A
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Japanese (ja)
Inventor
Kiyoshi Kimura
潔 木村
Fujio Hara
富士雄 原
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JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
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Publication date
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Priority to CNA2005800242334A priority patent/CN1989664A/en
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anisotropic conductive connector capable of surely accomplishing required electrical connection to respective electrodes regardless of a pattern of electrodes, and of accomplishing required electrical connection to the respective electrodes even if the electrodes are arranged at minute intervals and in high density, and manufacturable at a low cost; to provide an adapter device equipped with it; and to provide an electrical inspection device of a circuit device. <P>SOLUTION: This anisotropic conductive connector is provided by forming a plurality of conductive path formation parts by laser-processing an conductive elastomer layer formed by dispersing conductive particles into an elastic polymer substance supported on a die-separating support plate in a form oriented in its thickness direction, by entering the respective conductive path formation parts formed on the die-separating support plate into a material layer for an insulation part formed so as to close an opening of a frame plate and formed of a liquid polymer substance formation material solidified to become the elastic polymer substance, and by solidifying the material layer for an insulation part. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、例えばプリント回路基板などの回路装置の電気的検査に好適に用いることができる異方導電性コネクターおよびその製造方法、この異方導電性コネクターを具えたアダプター装置、並びにこのアダプター装置を具えた回路装置の電気的検査装置に関するものである。   The present invention relates to an anisotropic conductive connector that can be suitably used for electrical inspection of a circuit device such as a printed circuit board, a method for manufacturing the same, an adapter device including the anisotropic conductive connector, and an adapter device including the adapter device. The present invention relates to an electrical inspection device for a circuit device.

一般に集積回路装置、その他の電子部品などを構成するまたは搭載するための回路基板については、電子部品などを組み立てる以前に或いは電子部品などを搭載する以前に、当該回路基板の配線パターンが所期の性能を有することを確認するためにその電気的特性を検査することが必要である。
従来、回路基板の電気的検査を実行する方法としては、縦横に並ぶ格子点位置に従って複数の検査電極が配置されてなる検査電極装置と、この検査電極装置の検査電極に検査対象である回路基板の被検査電極を電気的に接続するアダプターとを組み合わせて用いる方法などが知られている。この方法において用いられるアダプターは、ピッチ変換ボードと称されるプリント配線板よりなるものである。
このアダプターとしては、一面に検査対象である回路基板の被検査電極に対応するパターンに従って配置された複数の接続用電極を有し、他面に検査電極装置の検査電極と同一のピッチの格子点位置に配置された複数の端子電極を有するもの、一面に検査対象である回路基板の被検査電極に対応するパターンに従って配置された、電流供給用接続用電極および電圧測定用接続用電極よりなる複数の接続用電極対を有し、他面に検査電極装置の検査電極と同一のピッチの格子点位置に配置された複数の端子電極を有するものなどが知られており、前者のアダプターは、例えば回路基板における各回路のオープン・ショート試験などに用いられ、後者のアダプターは、回路基板における各回路の電気抵抗測定試験に用いられている。
而して、回路基板の電気的検査においては、一般に、検査対象である回路基板とアダプターとの安定な電気的接続を達成するために、検査対象である回路基板とアダプターとの間に、異方導電性エラストマーシートを介在させることが行われている。
In general, for a circuit board for configuring or mounting an integrated circuit device or other electronic component, the wiring pattern of the circuit board is expected before the electronic component is assembled or before the electronic component is mounted. It is necessary to inspect its electrical characteristics to confirm that it has performance.
Conventionally, as a method of performing an electrical inspection of a circuit board, a test electrode device in which a plurality of test electrodes are arranged according to lattice point positions arranged vertically and horizontally, and a circuit board to be inspected on the test electrodes of this test electrode device A method of using a combination with an adapter for electrically connecting the electrodes to be inspected is known. The adapter used in this method is a printed wiring board called a pitch conversion board.
This adapter has a plurality of connection electrodes arranged in accordance with a pattern corresponding to the inspection target electrode of the circuit board to be inspected on one surface, and a lattice point having the same pitch as the inspection electrode of the inspection electrode device on the other surface. A plurality of terminals having a plurality of terminal electrodes arranged at positions, and comprising a current supply connection electrode and a voltage measurement connection electrode arranged in accordance with a pattern corresponding to an electrode to be inspected on a circuit board to be inspected on one side Are known, and the other adapter has, for example, a plurality of terminal electrodes arranged at lattice point positions at the same pitch as the inspection electrodes of the inspection electrode device on the other surface. It is used for an open / short test of each circuit on a circuit board, and the latter adapter is used for an electrical resistance measurement test for each circuit on the circuit board.
Therefore, in the electrical inspection of a circuit board, in general, in order to achieve a stable electrical connection between the circuit board to be inspected and the adapter, there is a difference between the circuit board to be inspected and the adapter. It has been practiced to interpose a directionally conductive elastomer sheet.

この異方導電性エラストマーシートは、厚さ方向にのみ導電性を示すもの、あるいは加圧されたときに厚さ方向にのみ導電性を示す多数の加圧導電性導電部を有するものである。
このような異方導電性エラストマーシートとしては、従来、種々の構造のものが知られており、その代表的な例としては、金属粒子をエラストマー中に均一に分散して得られるもの(例えば特許文献1参照。)、導電性磁性金属粒子をエラストマー中に不均一に分散させることにより、厚み方向に伸びる多数の導電路形成部と、これらを相互に絶縁する絶縁部とが形成されてなるもの(例えば特許文献2参照。)、導電路形成部の表面と絶縁部との間に段差が形成されたもの(例えば特許文献3参照。)などが挙げられる。
そして、配置ピッチの小さい被検査電極を有する回路基板に対しては、当該回路基板の被検査電極のパターンに対応するパターンに従って導電路形成部が形成されてなる異方導電性エラストマーシートが、高い接続信頼性が得られる点で好ましい。
This anisotropically conductive elastomer sheet has conductivity only in the thickness direction, or has a number of pressurized conductive portions that show conductivity only in the thickness direction when pressed.
As such an anisotropically conductive elastomer sheet, those having various structures are conventionally known, and typical examples thereof are those obtained by uniformly dispersing metal particles in an elastomer (for example, patents). Reference 1), in which conductive magnetic metal particles are non-uniformly dispersed in an elastomer to form a number of conductive path forming portions extending in the thickness direction and insulating portions that insulate them from each other. (For example, refer to Patent Document 2), and those in which a step is formed between the surface of the conductive path forming portion and the insulating portion (for example, refer to Patent Document 3).
For a circuit board having electrodes to be inspected with a small arrangement pitch, an anisotropic conductive elastomer sheet in which a conductive path forming portion is formed according to a pattern corresponding to the pattern of the electrodes to be inspected on the circuit board is high. This is preferable in that connection reliability can be obtained.

然るに、このような異方導電性エラストマーシートは、それ自体が単独の製品として製造され、また単独で取り扱われるものであって、電気的接続作業においてはアダプターおよび回路基板に対して特定の位置関係をもって保持固定することが必要である。
しかしながら、独立した異方導電性エラストマーシートを利用して回路基板の電気的接続を達成する手段においては、検査対象である回路基板における被検査電極の配置ピッチ、すなわち互いに隣接する被検査電極の中心間距離が小さくなるに従って異方導電性エラストマーシートの位置合わせおよび保持固定が困難となる、という問題点がある。
また、一旦は所望の位置合わせおよび保持固定が実現された場合においても、温度変化による熱履歴を受けた場合などには、熱膨張および熱収縮による応力の程度が、検査対象である回路基板を構成する材料と異方導電性エラストマーシートを構成する材料との間で大きく異なるため、電気的接続状態が変化して安定な接続状態が維持されない、という問題点がある。
However, such an anisotropically conductive elastomer sheet is manufactured as a single product and handled alone, and has a specific positional relationship with respect to the adapter and the circuit board in electrical connection work. It is necessary to hold and fix.
However, in the means for achieving the electrical connection of the circuit board using an independent anisotropic conductive elastomer sheet, the arrangement pitch of the electrodes to be inspected on the circuit board to be inspected, that is, the centers of the electrodes to be inspected adjacent to each other There is a problem in that it becomes difficult to align and hold the anisotropic conductive elastomer sheet as the distance between them becomes smaller.
Even when the desired alignment and holding / fixing are realized once, when a thermal history due to a temperature change is received, the degree of stress due to thermal expansion and contraction is determined by the circuit board to be inspected. There is a problem in that since the constituent material and the material constituting the anisotropic conductive elastomer sheet are greatly different, the electrical connection state is changed and a stable connection state is not maintained.

従来、以上のような問題を解決するために、異方導電性エラストマーシートの周縁部が金属よりなるフレーム板によって支持されてなる異方導電性コネクターが提案されている(例えば特許文献4参照。)。
このような異方導電性コネクターは、例えば次のようにして製造される。
先ず、図24に示すような構成の金型を用意する。この金型は、基板81上に、例えば検査対象である回路基板の被検査電極と同一のパターンに従って強磁性体部82が配置されると共に、当該強磁性体部82以外の部分に非磁性体部83が配置されてなる一方の型板(以下、「上型」という。)80と、基板86上に、検査対象である回路基板の被検査電極と対掌のパターンに従って強磁性体部87が配置されると共に、当該強磁性体部87以外の部分に非磁性体部88が配置されてなる他方の型板(以下、「下型」という。)85とにより構成されている。
そして、この金型内に、図25に示すように、開口91を有するフレーム板90を配置すると共に、このフレーム板90の開口91を塞ぐよう異方導電性エラストマー用材料層95Aを形成する。この異方導電性エラストマー用材料層95Aは、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材料中に磁性を示す導電性粒子Pが含有されてなるものである。
次いで、上型80の上面および下型85の下面に一対の電磁石(図示省略)を配置し、この電磁石を作動させることにより、上型80の強磁性体部82からこれに対応する下型85の強磁性体部87に向かう方向に平行磁場を作用させる。このとき、上型80の強磁性体部82および下型85の強磁性体部87の各々が磁極として作用するため、上型80の強磁性体部82と下型85の強磁性体部87との間の領域には、それ以外の領域よりも大きい強度の磁場が作用する。その結果、異方導電性エラストマー用材料層95Aにおいては、当該異方導電性エラストマー用材料層95A中に分散されていた導電性粒子Pが、上型80の強磁性体部82と下型85の強磁性体部87との間に位置する部分に向かって移動して当該部分に集合し、更に厚み方向に並ぶよう配向する。
この状態で、異方導電性エラストマー用材料層95Aに対して例えば加熱による硬化処理を行うことにより、図26に示すように、導電性粒子Pが含有されてなる厚み方向に伸びる多数の導電路形成部96とこれらを相互に絶縁する絶縁部97とよりなる異方導電性エラストマーシート95が、フレーム板90に支持されてなる異方導電性コネクターが製造される。
Conventionally, in order to solve the above problems, an anisotropic conductive connector in which the peripheral edge portion of an anisotropic conductive elastomer sheet is supported by a frame plate made of metal has been proposed (for example, see Patent Document 4). ).
Such an anisotropic conductive connector is manufactured as follows, for example.
First, a mold having a configuration as shown in FIG. 24 is prepared. In this mold, a ferromagnetic part 82 is arranged on a substrate 81 in accordance with the same pattern as, for example, an electrode to be inspected of a circuit board to be inspected, and a non-magnetic substance is provided in a part other than the ferromagnetic part 82. The ferromagnetic body portion 87 is placed on one template (hereinafter referred to as “upper die”) 80 in which the portion 83 is disposed and on the substrate 86 according to the pattern of the electrodes to be inspected and the palms of the circuit board to be inspected. And the other template (hereinafter referred to as “lower mold”) 85 in which a non-magnetic part 88 is arranged in a part other than the ferromagnetic part 87.
Then, as shown in FIG. 25, a frame plate 90 having an opening 91 is disposed in the mold, and an anisotropic conductive elastomer material layer 95A is formed so as to close the opening 91 of the frame plate 90. This anisotropic conductive elastomer material layer 95A is formed by containing conductive particles P exhibiting magnetism in a liquid polymer material-forming material that is cured to become an elastic polymer material.
Next, a pair of electromagnets (not shown) are arranged on the upper surface of the upper mold 80 and the lower surface of the lower mold 85, and the electromagnet is operated, so that the lower mold 85 corresponding to the lower mold 85 corresponds to this. A parallel magnetic field is applied in the direction toward the ferromagnetic body portion 87 of the. At this time, each of the ferromagnetic body portion 82 of the upper mold 80 and the ferromagnetic body section 87 of the lower mold 85 acts as a magnetic pole, and therefore, the ferromagnetic body section 82 of the upper mold 80 and the ferromagnetic body section 87 of the lower mold 85. A magnetic field having a larger strength than the other regions acts on the region between the two regions. As a result, in the anisotropic conductive elastomer material layer 95 </ b> A, the conductive particles P dispersed in the anisotropic conductive elastomer material layer 95 </ b> A are converted into the ferromagnetic part 82 of the upper mold 80 and the lower mold 85. It moves toward the part located between the ferromagnetic part 87 and gathers in the part, and further aligns in the thickness direction.
In this state, by performing, for example, a curing process by heating on the anisotropic conductive elastomer material layer 95A, a large number of conductive paths extending in the thickness direction containing the conductive particles P as shown in FIG. An anisotropic conductive connector is manufactured in which an anisotropic conductive elastomer sheet 95 composed of a forming portion 96 and an insulating portion 97 that insulates them from each other is supported by a frame plate 90.

このような異方導電性コネクターによれば、回路基板の電気的検査において、回路基板に対する異方導電性エラストマーシートの位置合わせ作業を容易に行うことができ、また、異方導電性エラストマーシートの熱膨張をフレーム板によって規制することができるので、温度変化による熱履歴などの環境の変化に対しても良好な電気的接続状態が安定に維持され、従って高い接続信頼性が得られる。   According to such an anisotropic conductive connector, it is possible to easily align the anisotropic conductive elastomer sheet with respect to the circuit board in the electrical inspection of the circuit board. Since the thermal expansion can be regulated by the frame plate, a favorable electrical connection state is stably maintained against environmental changes such as thermal history due to temperature changes, and thus high connection reliability can be obtained.

しかしながら、上記の異方導電性コネクターにおいては、以下のような問題がある。
電子部品を構成または搭載するための回路基板としては、その電極が例えば矩形の四辺に沿って枠状に配置されてなるものが知られている。而して、このような回路基板の電気的検査を行うためには、導電路形成部96が矩形の四辺に沿って枠状に配置されてなる異方導電性エラストマーシート95を有する異方導電性コネクターを用いることが必要である。然るに、このような異方導電性エラストマーシート95は、導電路形成部96に囲まれた中央部分がすべて絶縁部97となるため、当該異方導電性エラストマーシート95の形成において、異方導電性エラストマー用材料層95Aの中央部分に存在する導電性粒子についてはその移動距離が極めて長いものとなる結果、当該導電性粒子を導電路形成部となるべき部分に確実に集合させることは困難である。そのため、得られる導電路形成部96には、所要の量の導電性粒子が充填されず、しかも、絶縁部97には、相当な量の導電性粒子が残存するため、所期の異方導電性エラストマーシートを確実に形成することができない。
However, the anisotropic conductive connector has the following problems.
As a circuit board for configuring or mounting an electronic component, one in which electrodes are arranged in a frame shape along, for example, four sides of a rectangle is known. Thus, in order to perform an electrical inspection of such a circuit board, the anisotropic conductive film having the anisotropic conductive elastomer sheet 95 in which the conductive path forming portion 96 is arranged in a frame shape along the four sides of the rectangle. It is necessary to use a sex connector. However, in such an anisotropic conductive elastomer sheet 95, since the central portion surrounded by the conductive path forming portion 96 is all the insulating portion 97, the anisotropic conductive elastomer sheet 95 is formed in the anisotropic conductive elastomer sheet 95. As for the conductive particles existing in the central portion of the elastomer material layer 95A, the moving distance becomes extremely long, and as a result, it is difficult to reliably gather the conductive particles in the portion to be the conductive path forming portion. . For this reason, the obtained conductive path forming portion 96 is not filled with a required amount of conductive particles, and a considerable amount of conductive particles remain in the insulating portion 97. A reliable elastomer sheet cannot be formed reliably.

また、現在、集積回路装置においては、その高機能化、高容量化に伴って電極数が増加し、電極の配置ピッチすなわち隣接する電極の中心間距離が小さくなって高密度化が一層推進される傾向にある。従って、このような集積回路装置を構成または搭載するための回路基板に対して電気的検査を行う場合には、導電路形成部のピッチが小さくて高密度に配置された異方導電性コネクターを用いることが必要である。
而して、このような異方導電性コネクターの製造においては、当然のことながら強磁性体部82,87が極めて小さいピッチで配置された上型80および下型85を用いることが必要である。
In addition, in integrated circuit devices, the number of electrodes has increased with the increase in functionality and capacity, and the arrangement pitch of electrodes, that is, the distance between the centers of adjacent electrodes has decreased, further increasing the density. Tend to. Therefore, when an electrical inspection is performed on a circuit board for configuring or mounting such an integrated circuit device, anisotropic conductive connectors arranged at high density with a small pitch of the conductive path forming portions are provided. It is necessary to use it.
Thus, in manufacturing such an anisotropic conductive connector, it is naturally necessary to use the upper mold 80 and the lower mold 85 in which the ferromagnetic portions 82 and 87 are arranged at an extremely small pitch. .

然るに、このような上型80および下型85を用い、上述のようにして異方導電性エラストマーシート95を形成する場合には、図27に示すように、上型80および下型85の各々において、或る強磁性体部82a,87aとこれに隣接する強磁性体部82b,87bとの間の離間距離が小さいため、上型80の強磁性体部82aからこれに対応する下型85の強磁性体部87aに向かう方向(矢印Xで示す)のみならず、例えば上型80の強磁性体部82aからこれに対応する下型85の強磁性体部87aに隣接する強磁性体部87bに向かう方向(矢印Yで示す)にも磁場が作用することとなる。そのため、異方導電性エラストマー用材料層95Aにおいて、導電性磁性体粒子を、上型80の強磁性体部82aとこれに対応する下型85の強磁性体部87aとの間に位置する部分に集合させることが困難となり、上型80の強磁性体部82aと下型85の強磁性体部87bとの間に位置する部分にも導電性磁性体粒子が集合してしまい、また、導電性粒子を異方導電性エラストマー用材料層95Aの厚み方向に十分に配向させることが困難となり、その結果、所期の導電路形成部および絶縁部を有する異方導電性コネクターが得られない。   However, when the anisotropic conductive elastomer sheet 95 is formed using the upper mold 80 and the lower mold 85 as described above, each of the upper mold 80 and the lower mold 85 is formed as shown in FIG. In FIG. 5, since the separation distance between a certain ferromagnetic part 82a, 87a and the adjacent ferromagnetic parts 82b, 87b is small, the lower part 85 corresponding to the lower part 85 corresponds to the ferromagnetic part 82a of the upper mold 80. In addition to the direction toward the ferromagnetic part 87a (indicated by the arrow X), for example, the ferromagnetic part adjacent to the ferromagnetic part 87a of the lower mold 85 corresponding to the ferromagnetic part 82a of the upper mold 80, for example. The magnetic field also acts in the direction toward 87b (indicated by arrow Y). Therefore, in the anisotropic conductive elastomer material layer 95A, the conductive magnetic particles are located between the ferromagnetic part 82a of the upper die 80 and the corresponding ferromagnetic part 87a of the lower die 85. It becomes difficult to collect the conductive magnetic particles in the portion located between the ferromagnetic body portion 82a of the upper mold 80 and the ferromagnetic body section 87b of the lower mold 85, and the conductive It is difficult to sufficiently orient the conductive particles in the thickness direction of the anisotropic conductive elastomer material layer 95A, and as a result, an anisotropic conductive connector having a desired conductive path forming portion and insulating portion cannot be obtained.

また、異方導電性エラストマーシートの形成においては、前述したように、上型80および下型85の2つの型板が必要である。これらの型板は、例えば検査対象である回路基板に応じて個別的に製造されるものであり、また、その製造工程が煩雑なものであるため、異方導電性コネクターの製造コストが極めて高いものとなり、延いては回路装置の検査コストの増大を招く。   Further, in forming the anisotropic conductive elastomer sheet, as described above, two mold plates of the upper mold 80 and the lower mold 85 are necessary. These templates are individually manufactured according to the circuit board to be inspected, for example, and the manufacturing process is complicated, so that the manufacturing cost of the anisotropic conductive connector is extremely high. As a result, the inspection cost of the circuit device is increased.

特開昭51−93393号公報JP 51-93393 A 特開昭53−147772号公報Japanese Patent Laid-Open No. 53-147772 特開昭61−250906号公報JP-A-61-250906 特開平11−40224号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-40224

本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その第1の目的は、接続すべき電極の配置パターンに関わらず、当該電極の各々に対して所要の電気的接続を確実に達成することができると共に、接続すべき電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該電極の各々に対して所要の電気的接続を確実に達成することができ、しかも、小さいコストで製造することができる異方導電性コネクターおよびその製造方法を提供することにある。
本発明の第2の目的は、検査対象である回路装置の被検査電極の配置パターンに関わらず、当該回路装置について所要の電気的接続を確実に達成することができると共に、被検査電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該回路装置について所要の電気的接続を確実に達成することができ、しかも、小さいコストで製造することができるアダプター装置を提供することにある。
本発明の第3の目的は、検査対象である回路装置の被検査電極の配置パターンに関わらず、当該回路装置について所要の電気的検査を確実に実行することができると共に、検査対象である回路装置の被検査電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該回路装置について所要の電気的検査を確実に実行することができる回路装置の電気的検査装置を提供することにある。
The present invention has been made based on the above circumstances, and a first object of the present invention is to provide required electrical connection to each of the electrodes regardless of the arrangement pattern of the electrodes to be connected. It can be reliably achieved, and even if the electrodes to be connected are arranged with a small pitch and a high density, the required electrical connection is reliably achieved for each of the electrodes. It is another object of the present invention to provide an anisotropic conductive connector that can be manufactured at low cost and a method for manufacturing the same.
The second object of the present invention is to reliably achieve the required electrical connection for the circuit device regardless of the arrangement pattern of the electrode to be inspected of the circuit device to be inspected. Provided is an adapter device that can reliably achieve a required electrical connection for the circuit device even when the pitch is very small and densely arranged, and can be manufactured at a low cost. There is to do.
The third object of the present invention is to perform a required electrical inspection for the circuit device reliably regardless of the arrangement pattern of the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected, and to the circuit to be inspected. An electrical inspection device for a circuit device capable of surely executing a required electrical inspection for the circuit device even when the electrodes to be inspected are arranged at a minute pitch and at a high density. It is to provide.

本発明の異方導電性コネクターの製造方法は、1または2以上の開口が形成されたフレーム板と、このフレーム板の開口を塞ぐよう配置され、当該フレーム板に支持された1または2以上の弾性異方導電膜とよりなり、前記弾性異方導電膜は、前記フレーム板の開口内に配置された、磁性を示す導電性粒子が厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されてなる厚み方向に伸びる複数の導電路形成部と、導電路形成部の周囲に形成された絶縁部とよりなる異方導電性コネクターを製造する方法であって、
離型性支持板上に支持された弾性高分子物質中に磁性を示す導電性粒子が厚み方向に並ぶよう配向した状態で分散されてなる導電性エラストマー層をレーザー加工することにより、当該離型性支持板上に複数の導電路形成部を形成し、
この離型性支持板に形成された導電路形成部の各々を、フレーム板の開口を塞ぐよう形成された、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材料よりなる絶縁部用材料層中に浸入させ、この状態で前記絶縁部用材料層を硬化処理することにより絶縁部を形成する工程を有することを特徴とする。
The method of manufacturing an anisotropic conductive connector according to the present invention includes a frame plate having one or more openings formed therein, and one or more of the frame plates arranged to close the opening of the frame plate and supported by the frame plate. The elastic anisotropic conductive film is formed in a thickness direction in which the elastic anisotropic conductive film is contained in a state in which the conductive particles exhibiting magnetism arranged in the opening of the frame plate are aligned in the thickness direction. A method of manufacturing an anisotropic conductive connector comprising a plurality of conductive path forming portions extending in the direction and an insulating portion formed around the conductive path forming portion,
By performing laser processing on the conductive elastomer layer in which the conductive particles exhibiting magnetism are aligned in the thickness direction in the elastic polymer material supported on the releasable support plate, the mold release is performed. Forming a plurality of conductive path forming portions on the conductive support plate,
Each of the conductive path forming portions formed on the releasable support plate is for an insulating portion made of a liquid polymer material forming material which is cured to become an elastic polymer material so as to close the opening of the frame plate. It has a step of forming an insulating portion by intruding into the material layer and curing the insulating material layer in this state.

本発明の異方導電性コネクターの製造方法においては、レーザー加工は、炭酸ガスレーザーによるものであることが好ましい。   In the anisotropic conductive connector manufacturing method of the present invention, the laser processing is preferably performed by a carbon dioxide laser.

また、本発明の異方導電性コネクターの製造方法においては、導電性エラストマー層の表面に、形成すべき導電路形成部のパターンに従って金属マスクを形成し、その後、当該導電性エラストマー層をレーザー加工することにより、複数の導電路形成部を形成することが好ましい。
このような製造方法においては、導電性エラストマー層の表面をメッキ処理することにより、金属マスクを形成することが好ましい。
また、導電性エラストマー層の表面に金属薄層を形成し、この金属薄層の表面に特定のパターンに従って開口が形成されたレジスト層を形成し、前記金属薄層における前記レジスト層の開口から露出した部分の表面をメッキ処理することにより、金属マスクを形成することが好ましい。
In the anisotropic conductive connector manufacturing method of the present invention, a metal mask is formed on the surface of the conductive elastomer layer according to the pattern of the conductive path forming portion to be formed, and then the conductive elastomer layer is laser processed. By doing so, it is preferable to form a plurality of conductive path forming portions.
In such a manufacturing method, it is preferable to form a metal mask by plating the surface of the conductive elastomer layer.
Further, a thin metal layer is formed on the surface of the conductive elastomer layer, a resist layer having an opening formed in accordance with a specific pattern is formed on the surface of the thin metal layer, and exposed from the opening of the resist layer in the thin metal layer. It is preferable to form a metal mask by plating the surface of the part.

また、本発明の異方導電性コネクターの製造方法においては、硬化されて弾性高分子物質となる液状のエラストマー用材料中に磁性を示す導電性粒子が含有されてなる導電性エラストマー用材料層に対して、その厚み方向に磁場を作用させると共に、当該導電性エラストマー用材料層を硬化処理することにより、導電性エラストマー層を形成することが好ましい。   In the method for producing an anisotropic conductive connector according to the present invention, a conductive elastomer material layer in which conductive particles exhibiting magnetism are contained in a liquid elastomer material that is cured to become an elastic polymer substance. On the other hand, it is preferable to form a conductive elastomer layer by applying a magnetic field in the thickness direction and curing the conductive elastomer material layer.

本発明の異方導電性コネクターは、上記の製造方法によって得られることを特徴とする。   The anisotropic conductive connector of the present invention is obtained by the above-described manufacturing method.

本発明のアダプター装置は、表面に検査すべき回路装置における被検査電極に対応するパターンに従って複数の接続用電極が形成された接続用電極領域を有するアダプター本体と、
このアダプター本体の接続用電極領域上に配置された、当該アダプター本体における接続用電極に対応するパターンに従って形成された複数の導電路形成部を有する、上記の異方導電性コネクターと
を具えてなることを特徴とする。
The adapter device of the present invention has an adapter body having a connection electrode region in which a plurality of connection electrodes are formed in accordance with a pattern corresponding to an electrode to be inspected in a circuit device to be inspected on the surface;
The anisotropic conductive connector having a plurality of conductive path forming portions arranged on the connection electrode region of the adapter main body and formed according to a pattern corresponding to the connection electrode in the adapter main body. It is characterized by that.

また、本発明のアダプター装置は、表面に検査すべき回路装置における被検査電極に対応するパターンに従ってそれぞれ電流供給用および電圧測定用の2つの接続用電極からなる複数の接続用電極対が形成された接続用電極領域を有するアダプター本体と、
このアダプター本体の接続用電極領域上に配置された、当該アダプター本体における接続用電極に対応するパターンに従って形成された複数の導電路形成部を有する、上記の異方導電性コネクターと
を具えてなることを特徴とする。
The adapter device according to the present invention has a plurality of connection electrode pairs each formed of two connection electrodes for current supply and voltage measurement according to a pattern corresponding to an electrode to be inspected in a circuit device to be inspected on the surface. An adapter body having a connecting electrode region;
The anisotropic conductive connector having a plurality of conductive path forming portions arranged on the connection electrode region of the adapter main body and formed according to a pattern corresponding to the connection electrode in the adapter main body. It is characterized by that.

本発明の回路装置の電気的検査装置は、上記のアダプター装置を具えてなることを特徴とする。   An electrical inspection device for a circuit device according to the present invention comprises the adapter device described above.

本発明の異方導電性コネクターの製造方法によれば、導電性エラストマー層をレーザー加工することにより、導電路形成部を形成するため、所期の導電性を有する導電路形成部を確実に得ることができる。また、離型性支持板上に導電路形成部を形成したうえで、当該導電路形成部をエラストマー用材料層中に浸入させ、当該エラストマー用材料層を硬化処理することにより絶縁部を形成するため、導電性粒子が全く存在しない絶縁部を確実に得ることができる。しかも、従来の異方導電性コネクターを製造するために使用されていた多数の強磁性体部が配列されてなる金型を用いることが不要である。
従って、このような方法によって得られる本発明の異方導電性コネクターによれば、接続すべき電極の配置パターンに関わらず、当該電極の各々に対して所要の電気的接続が確実に達成されると共に、接続すべき電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該電極の各々に対して所要の電気的接続が確実に達成され、しかも、小さいコストで製造することができる。
According to the method for manufacturing the anisotropic conductive connector of the present invention, the conductive path forming portion is formed by laser processing the conductive elastomer layer, so that the conductive path forming portion having the desired conductivity is obtained with certainty. be able to. Further, after forming a conductive path forming portion on the releasable support plate, the conductive path forming portion is infiltrated into the elastomer material layer, and the elastomer material layer is cured to form an insulating portion. Therefore, it is possible to reliably obtain an insulating part in which no conductive particles are present. In addition, it is not necessary to use a mold in which a large number of ferromagnetic parts used to manufacture a conventional anisotropically conductive connector are arranged.
Therefore, according to the anisotropic conductive connector of the present invention obtained by such a method, the required electrical connection can be reliably achieved for each of the electrodes regardless of the arrangement pattern of the electrodes to be connected. At the same time, even when the electrodes to be connected are arranged with a small pitch and a high density, the required electrical connection to each of the electrodes can be reliably achieved, and the manufacturing can be performed at a low cost. can do.

本発明のアダプター装置によれば、上記の異方導電性コネクターを具えてなるため、検査対象である回路装置の被検査電極の配置パターンに関わらず、当該回路装置について所要の電気的接続を確実に達成することができると共に、被検査電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該回路装置について所要の電気的接続を確実に達成することができ、しかも、小さいコストで製造することができる。   According to the adapter device of the present invention, since the anisotropic conductive connector described above is provided, the required electrical connection can be ensured for the circuit device regardless of the arrangement pattern of the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected. Even if the electrodes to be inspected are arranged with a small pitch and a high density, it is possible to reliably achieve the required electrical connection for the circuit device. Can be manufactured at low cost.

本発明の回路装置の電気的検査装置によれば、上記のアダプター装置を具えてなるため、検査対象である回路装置の被検査電極の配置パターンに関わらず、当該回路装置について所要の電気的検査を確実に実行することができると共に、回路装置の被検査電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該回路装置について所要の電気的検査を確実に実行することができる。   According to the electrical inspection apparatus for a circuit device of the present invention, since the adapter device is provided, the required electrical inspection is performed on the circuit device regardless of the arrangement pattern of the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected. Can be reliably executed, and even if the electrodes to be inspected of the circuit device are arranged with a small pitch and a high density, the required electrical inspection is reliably performed on the circuit device. be able to.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
〈異方導電性コネクター〉
図1は、本発明に係る異方導電性コネクターの一例における構成を示す説明用断面図であり、図2は、図1に示す異方導電性コネクターの要部を拡大して示す説明用断面図である。この異方導電性コネクター10は、複数の開口12が形成されたフレーム板11と、このフレーム板11の開口12の各々を塞ぐよう配置され、当該フレーム板11に支持された単一の弾性異方導電膜15とにより構成されている。
弾性異方導電膜15においては、その厚み方向に伸びる複数の導電路形成部16が、特定のパターンに従ってフレーム板11の開口12内に位置するよう配置され、導電路形成部16の各々の周囲には、隣接する導電路形成部16を相互に絶縁する一体の絶縁部17が導電路形成部16に一体的に接着した状態で形成されている。導電路形成部16の特定のパターンは、接続すべき電極例えば検査対象である回路装置の被検査電極のパターンに対応するパターンである。
導電路形成部16は、絶縁性の弾性高分子物質中に磁性を示す導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されて構成されている。これに対し、絶縁部17は、導電性粒子Pを全く含有しない弾性高分子物質により構成されている。
図示の例においては、弾性異方導電膜15の一面(図1において上面)において、導電路形成部16が絶縁部17の表面から突出する突出部が形成されている。
このような例によれば、加圧による圧縮の程度が絶縁部17より導電路形成部16において大きいために十分に抵抗値の低い導電路が確実に導電路形成部16に形成され、これにより、加圧力の変化乃至変動に対して抵抗値の変化を小さくすることができ、その結果、弾性異方導電膜15に作用される加圧力が不均一であっても、各導電路形成部16間における導電性のバラツキの発生を防止することができる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
<Anisotropic conductive connector>
FIG. 1 is a cross-sectional view for explaining the structure of an example of the anisotropic conductive connector according to the present invention, and FIG. 2 is an explanatory cross-sectional view showing an enlarged main part of the anisotropic conductive connector shown in FIG. FIG. The anisotropic conductive connector 10 includes a frame plate 11 having a plurality of openings 12 and a single elastic member supported by the frame plate 11 and arranged to close each of the openings 12 of the frame plate 11. The conductive film 15 is constituted.
In the elastic anisotropic conductive film 15, a plurality of conductive path forming portions 16 extending in the thickness direction are arranged so as to be positioned in the openings 12 of the frame plate 11 in accordance with a specific pattern, and the periphery of each of the conductive path forming portions 16. In the present embodiment, an integral insulating portion 17 that insulates adjacent conductive path forming portions 16 from each other is formed in a state of being integrally bonded to the conductive path forming portion 16. The specific pattern of the conductive path forming portion 16 is a pattern corresponding to a pattern of an electrode to be connected, for example, an inspection target electrode of a circuit device to be inspected.
The conductive path forming part 16 is configured by containing conductive particles P exhibiting magnetism in an insulating elastic polymer substance so as to be aligned in the thickness direction. On the other hand, the insulating portion 17 is made of an elastic polymer material that does not contain the conductive particles P at all.
In the example shown in the drawing, on one surface of the elastic anisotropic conductive film 15 (upper surface in FIG. 1), a protruding portion in which the conductive path forming portion 16 protrudes from the surface of the insulating portion 17 is formed.
According to such an example, since the degree of compression by pressurization is greater in the conductive path forming section 16 than in the insulating section 17, a sufficiently low conductive path is reliably formed in the conductive path forming section 16, thereby The change in the resistance value can be reduced with respect to the change or fluctuation of the applied pressure. As a result, even if the applied pressure applied to the elastic anisotropic conductive film 15 is not uniform, each conductive path forming portion 16 It is possible to prevent the occurrence of conductive variation between the two.

フレーム板11を構成する材料としては、機械的強度の高い種々の非金属材料および金属材料を用いることができる。
非金属材料の具体例としては、液晶ポリマー、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアラミド樹脂、ポリアミド樹脂等の樹脂材料、ガラス繊維補強型エポキシ樹脂、ガラス繊維補強型ポリエステル樹脂、ガラス繊維補強型ポリイミド樹脂等の繊維補強型樹脂材料、エポキシ樹脂等にアルミナ、ポロンナイトライド等の無機材料をフィラーとして含有した複合樹脂材料などが挙げられる。
金属材料としては、金、銀、銅、鉄、ニッケル、コバルト若しくはこれらの合金または合金鋼なとが挙げられる。
また、異方導電性コネクターを高温環境下で使用する場合には、フレーム板11として、線熱膨張係数が3×10-5/K以下のものを用いることが好ましく、より好ましくは1×10-6〜2×10-5/K、特に好ましくは1×10-6〜6×10-6/Kである。このようなフレーム板11を用いることにより、弾性異方導電膜15の熱膨張による位置ずれを抑制することができる。
また、フレーム板11の厚みは、10〜200μmであることが好ましく、より好ましくは15〜100μmである。この厚みが過小である場合には、当該フレーム板11に必要な強度が得られないことがある。一方、この厚みが過大である場合には、弾性異方導電膜15の厚みが必然的に大きくなり、従って、良好な導電性が得られないことがある。
As a material constituting the frame plate 11, various non-metallic materials and metallic materials having high mechanical strength can be used.
Specific examples of non-metallic materials include resin materials such as liquid crystal polymers, polyimide resins, polyester resins, polyaramid resins, polyamide resins, glass fiber reinforced epoxy resins, glass fiber reinforced polyester resins, glass fiber reinforced polyimide resins, etc. Examples thereof include a fiber reinforced resin material, an epoxy resin, and a composite resin material containing an inorganic material such as alumina or poron nitride as a filler.
Examples of the metal material include gold, silver, copper, iron, nickel, cobalt, alloys thereof, and alloy steels.
When the anisotropic conductive connector is used in a high temperature environment, it is preferable to use a frame plate 11 having a linear thermal expansion coefficient of 3 × 10 −5 / K or less, more preferably 1 × 10 6. −6 to 2 × 10 −5 / K, particularly preferably 1 × 10 −6 to 6 × 10 −6 / K. By using such a frame plate 11, it is possible to suppress misalignment due to thermal expansion of the elastic anisotropic conductive film 15.
Moreover, it is preferable that the thickness of the frame board 11 is 10-200 micrometers, More preferably, it is 15-100 micrometers. When this thickness is too small, the strength required for the frame plate 11 may not be obtained. On the other hand, when this thickness is excessive, the thickness of the elastic anisotropic conductive film 15 is inevitably large, and therefore, good conductivity may not be obtained.

弾性異方導電膜15において、導電路形成部16を構成する弾性高分子物質と絶縁部17を構成する弾性高分子物質とは、互いに異なる種類のものであっても同じ種類のものであってもよい。
導電路形成部16および絶縁部17を構成する弾性高分子物質としては、架橋構造を有する高分子物質が好ましい。このような弾性高分子物質を得るために用いることのできる硬化性の高分子物質形成材料としては、種々のものを用いることができ、その具体例としては、ポリブタジエンゴム、天然ゴム、ポリイソプレンゴム、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴムなどの共役ジエン系ゴムおよびこれらの水素添加物、スチレン−ブタジエン−ジエンブロック共重合体ゴム、スチレン−イソプレンブロック共重合体などのブロック共重合体ゴムおよびこれらの水素添加物、クロロプレン、ウレタンゴム、ポリエステル系ゴム、エピクロルヒドリンゴム、シリコーンゴム、エチレン−プロピレン共重合体ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴムなどが挙げられる。これらの中では、耐久性、成形加工性および電気特性の観点から、シリコーンゴムを用いることが好ましい。
In the elastic anisotropic conductive film 15, the elastic polymer material constituting the conductive path forming portion 16 and the elastic polymer material constituting the insulating portion 17 are of the same type, even if they are of different types. Also good.
As the elastic polymer material constituting the conductive path forming portion 16 and the insulating portion 17, a polymer material having a crosslinked structure is preferable. Various materials can be used as the curable polymer substance-forming material that can be used to obtain such an elastic polymer substance. Specific examples thereof include polybutadiene rubber, natural rubber, and polyisoprene rubber. , Conjugated diene rubbers such as styrene-butadiene copolymer rubber and acrylonitrile-butadiene copolymer rubber and hydrogenated products thereof, blocks such as styrene-butadiene-diene block copolymer rubber, styrene-isoprene block copolymer, etc. Examples include copolymer rubber and hydrogenated products thereof, chloroprene, urethane rubber, polyester rubber, epichlorohydrin rubber, silicone rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, and ethylene-propylene-diene copolymer rubber. In these, it is preferable to use a silicone rubber from a viewpoint of durability, a moldability, and an electrical property.

シリコーンゴムとしては、液状シリコーンゴムを架橋または縮合したものが好ましい。液状シリコーンゴムは、その粘度が歪速度10-1secで105 ポアズ以下のものが好ましく、縮合型のもの、付加型のもの、ビニル基やヒドロキシル基を含有するものなどのいずれであってもよい。具体的には、ジメチルシリコーン生ゴム、メチルビニルシリコーン生ゴム、メチルフェニルビニルシリコーン生ゴムなどを挙げることができる。
また、シリコーンゴムは、その分子量Mw(標準ポリスチレン換算重量平均分子量をいう。以下同じ。)が10,000〜40,000のものであることが好ましい。また、得られる導電路形成部16に良好な耐熱性が得られることから、分子量分布指数(標準ポリスチレン換算重量平均分子量Mwと標準ポリスチレン換算数平均分子量Mnとの比Mw/Mnの値をいう。以下同じ。)が2以下のものが好ましい。
As the silicone rubber, those obtained by crosslinking or condensing liquid silicone rubber are preferable. The liquid silicone rubber preferably has a viscosity of 10 5 poise or less at a strain rate of 10 −1 sec, and may be any of a condensation type, an addition type, a vinyl group or a hydroxyl group. Good. Specific examples include dimethyl silicone raw rubber, methyl vinyl silicone raw rubber, methyl phenyl vinyl silicone raw rubber, and the like.
The silicone rubber preferably has a molecular weight Mw (referred to as a standard polystyrene-converted weight average molecular weight; the same shall apply hereinafter) of 10,000 to 40,000. Moreover, since favorable heat resistance is acquired in the obtained conductive path formation part 16, it says the value of molecular weight distribution index (ratio Mw / Mn of standard polystyrene conversion weight average molecular weight Mw and standard polystyrene conversion number average molecular weight Mn). The same shall apply hereinafter) is preferably 2 or less.

導電路形成部16に含有される導電性粒子Pとしては、後述する方法により当該粒子を容易に厚み方向に並ぶよう配向させることができることから、磁性を示す導電性粒子が用いられる。このような導電性粒子の具体例としては、鉄、コバルト、ニッケルなどの磁性を有する金属の粒子若しくはこれらの合金の粒子またはこれらの金属を含有する粒子、またはこれらの粒子を芯粒子とし、当該芯粒子の表面に金、銀、パラジウム、ロジウムなどの導電性の良好な金属のメッキを施したもの、あるいは非磁性金属粒子若しくはガラスビーズなどの無機物質粒子またはポリマー粒子を芯粒子とし、当該芯粒子の表面に、ニッケル、コバルトなどの導電性磁性金属のメッキを施したものなどが挙げられる。
これらの中では、ニッケル粒子を芯粒子とし、その表面に導電性の良好な金のメッキを施したものを用いることが好ましい。
芯粒子の表面に導電性金属を被覆する手段としては、特に限定されるものではないが、例えば化学メッキまたは電解メッキ法、スパッタリング法、蒸着法などが用いられている。
As the conductive particles P contained in the conductive path forming portion 16, magnetic particles are used because the particles can be easily aligned in the thickness direction by a method described later. Specific examples of such conductive particles include particles of metal having magnetism such as iron, cobalt, nickel, particles of these alloys, particles containing these metals, or these particles as core particles, The core particles are formed by plating the surface of the core particles with a metal having good conductivity such as gold, silver, palladium, rhodium, or non-magnetic metal particles or inorganic particles such as glass beads or polymer particles. The surface of the particles may be plated with a conductive magnetic metal such as nickel or cobalt.
Among these, it is preferable to use nickel particles as core particles and the surfaces thereof plated with gold having good conductivity.
The means for coating the surface of the core particles with the conductive metal is not particularly limited, and for example, chemical plating or electrolytic plating, sputtering, vapor deposition or the like is used.

導電性粒子Pとして、芯粒子の表面に導電性金属が被覆されてなるものを用いる場合には、良好な導電性が得られることから、粒子表面における導電性金属の被覆率(芯粒子の表面積に対する導電性金属の被覆面積の割合)が40%以上であることが好ましく、さらに好ましくは45%以上、特に好ましくは47〜95%である。
また、導電性金属の被覆量は、芯粒子の0.5〜50質量%であることが好ましく、より好ましくは2〜30質量%、さらに好ましくは3〜25質量%、特に好ましくは4〜20質量%である。被覆される導電性金属が金である場合には、その被覆量は、芯粒子の0.5〜30質量%であることが好ましく、より好ましくは2〜20質量%、さらに好ましくは3〜15質量%である。
When the conductive particles P used are those in which the surface of the core particles is coated with a conductive metal, good conductivity can be obtained. Therefore, the coverage of the conductive metal on the particle surface (the surface area of the core particles) The ratio of the covering area of the conductive metal with respect to is preferably 40% or more, more preferably 45% or more, and particularly preferably 47 to 95%.
Further, the coating amount of the conductive metal is preferably 0.5 to 50% by mass of the core particle, more preferably 2 to 30% by mass, further preferably 3 to 25% by mass, and particularly preferably 4 to 20%. % By mass. When the conductive metal to be coated is gold, the coating amount is preferably 0.5 to 30% by mass of the core particles, more preferably 2 to 20% by mass, and further preferably 3 to 15%. % By mass.

また、導電性粒子Pの粒子径は、1〜100μmであることが好ましく、より好ましくは2〜50μm、さらに好ましくは3〜30μm、特に好ましくは4〜20μmである。 また、導電性粒子Pの粒子径分布(Dw/Dn)は、1〜10であることが好ましく、より好ましくは1.01〜7、さらに好ましくは1.05〜5、特に好ましくは1.1〜4である。
このような条件を満足する導電性粒子を用いることにより、得られる導電路形成部16は、加圧変形が容易なものとなり、また、当該導電路形成部16において導電性粒子間に十分な電気的接触が得られる。
また、導電性粒子Pの形状は、特に限定されるものではないが、高分子物質形成材料中に容易に分散させることができる点で、球状のもの、星形状のものあるいはこれらが凝集した2次粒子であることが好ましい。
また、導電性粒子Pとして、その表面がシランカップリング剤などのカップリング剤や潤滑剤で処理されたものを適宜用いることができる。カップリング剤や潤滑剤で粒子表面を処理することにより、異方導電性性コネクターの耐久性が向上する。
Moreover, it is preferable that the particle diameter of the electroconductive particle P is 1-100 micrometers, More preferably, it is 2-50 micrometers, More preferably, it is 3-30 micrometers, Most preferably, it is 4-20 micrometers. The particle size distribution (Dw / Dn) of the conductive particles P is preferably 1 to 10, more preferably 1.01 to 7, still more preferably 1.05 to 5, particularly preferably 1.1. ~ 4.
By using the conductive particles satisfying such conditions, the obtained conductive path forming part 16 can be easily deformed under pressure, and sufficient electric current is provided between the conductive particles in the conductive path forming part 16. Contact is obtained.
Further, the shape of the conductive particles P is not particularly limited, but spherical particles, star-shaped particles, or agglomerated particles 2 can be easily dispersed in the polymer substance-forming material. Secondary particles are preferred.
Further, as the conductive particles P, those whose surfaces are treated with a coupling agent such as a silane coupling agent or a lubricant can be appropriately used. By treating the particle surface with a coupling agent or a lubricant, the durability of the anisotropically conductive connector is improved.

このような導電性粒子Pは、導電路形成部16中に体積分率で15〜45%、好ましくは20〜40%となる割合で含有されていることが好ましい。この割合が過小である場合には、十分に電気抵抗値の小さい導電路形成部16が得られないことがある。一方、この割合が過大である場合には、得られる導電路形成部16は脆弱なものとなりやすく、導電路形成部16として必要な弾性が得られないことがある。   Such conductive particles P are preferably contained in the conductive path forming portion 16 at a volume fraction of 15 to 45%, preferably 20 to 40%. When this ratio is too small, the conductive path forming portion 16 having a sufficiently small electric resistance value may not be obtained. On the other hand, when this ratio is excessive, the obtained conductive path forming part 16 tends to be fragile, and the elasticity necessary for the conductive path forming part 16 may not be obtained.

また、導電路形成部16の厚みは、20〜250μmであることが好ましく、より好ましくは30〜200μmである。この厚みが過小である場合には、十分な凹凸吸収能が得られないことがある。一方、この厚みが過大である場合には、良好な導電性が得られないことがある。
また、導電路形成部16の突出部の突出高さは、当該導電路形成部16の厚みの5〜70%であることが好ましく、より好ましくは10〜60%である。
Moreover, it is preferable that the thickness of the conductive path formation part 16 is 20-250 micrometers, More preferably, it is 30-200 micrometers. When this thickness is too small, sufficient unevenness absorbing ability may not be obtained. On the other hand, if this thickness is excessive, good conductivity may not be obtained.
Moreover, it is preferable that the protrusion height of the protrusion part of the conductive path formation part 16 is 5-70% of the thickness of the said conductive path formation part 16, More preferably, it is 10-60%.

本発明において、上記の異方導電性コネクター10は、離型性支持板上に支持された弾性高分子物質中に磁性を示す導電性粒子が厚み方向に並ぶよう配向した状態で分散されてなる導電性エラストマー層をレーザー加工することにより、当該離型性支持板上に複数の導電路形成部16を形成し、この離型性支持板に形成された導電路形成部16の各々を、フレーム板11の開口12を塞ぐよう形成された、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材料よりなる絶縁部用材料層中に浸入させ、この状態で前記絶縁部用材料層を硬化処理することにより絶縁部17を形成することによって、得られる。
また、上記の導電性エラストマー層は、離型性支持板上に、硬化されて弾性高分子物質となる液状のエラストマー用材料中に磁性を示す導電性粒子が含有されてなる導電性エラストマー用材料層を形成し、この導電性エラストマー用材料層にその厚み方向に磁場を作用させると共に、当該導電性エラストマー用材料層を硬化処理することにより、得られる。
以下、異方導電性コネクター10の製造方法を具体的に説明する。
In the present invention, the anisotropic conductive connector 10 is dispersed in a state in which conductive particles exhibiting magnetism are aligned in the thickness direction in an elastic polymer material supported on a releasable support plate. By laser processing the conductive elastomer layer, a plurality of conductive path forming portions 16 are formed on the releasable support plate, and each of the conductive path forming portions 16 formed on the releasable support plate is attached to the frame. The insulating portion material layer made of a liquid polymer material forming material, which is cured to become an elastic polymer material, is formed so as to close the opening 12 of the plate 11, and in this state, the insulating material layer is It is obtained by forming the insulating portion 17 by performing a curing process.
In addition, the conductive elastomer layer is a material for a conductive elastomer in which conductive particles exhibiting magnetism are contained in a liquid elastomer material that is cured to become an elastic polymer substance on a releasable support plate. It is obtained by forming a layer, applying a magnetic field to the conductive elastomer material layer in the thickness direction, and curing the conductive elastomer material layer.
Hereinafter, a method for manufacturing the anisotropic conductive connector 10 will be specifically described.

《導電性エラストマー層の形成》
先ず、硬化されて弾性高分子物質となる液状のエラストマー用材料中に磁性を示す導電性粒子が分散されてなる導電性エラストマー用材料を調製し、図3に示すように、導電路形成部形成用の離型性支持板13上に、導電性エラストマー用材料を塗布することによって導電性エラストマー用材料層16Aを形成する。ここで、導電性エラストマー用材料層16A中においては、図4に示すように、磁性を示す導電性粒子Pが分散された状態で含有されている。
次いで、導電性エラストマー用材料層16Aに対してその厚み方向に磁場を作用させることにより、図5に示すように、導電性エラストマー用材料層16A中に分散されていた導電性粒子Pを当該導電性エラストマー用材料層16Aの厚み方向に並ぶよう配向させる。そして、導電性エラストマー用材料層16Aに対する磁場の作用を継続しながら、或いは磁場の作用を停止した後、導電性エラストマー用材料層16Aの硬化処理を行うことにより、図6に示すように、弾性高分子物質中に導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されてなる導電性エラストマー層16Bが、離型性支持板13上に支持された状態で形成される。
<Formation of conductive elastomer layer>
First, a conductive elastomer material in which conductive particles exhibiting magnetism are dispersed in a liquid elastomer material that is cured to become an elastic polymer substance is prepared. As shown in FIG. A conductive elastomer material layer 16 </ b> A is formed on the mold release support plate 13 by applying a conductive elastomer material. Here, in the conductive elastomer material layer 16A, as shown in FIG. 4, the conductive particles P exhibiting magnetism are contained in a dispersed state.
Next, by applying a magnetic field to the conductive elastomer material layer 16A in the thickness direction, the conductive particles P dispersed in the conductive elastomer material layer 16A are made conductive as shown in FIG. The material layer 16A is oriented so as to be aligned in the thickness direction. Then, while continuing the action of the magnetic field on the conductive elastomer material layer 16A or after the action of the magnetic field is stopped, the conductive elastomer material layer 16A is cured to perform elasticity as shown in FIG. A conductive elastomer layer 16 </ b> B is formed in a state in which the conductive particles P are contained in the polymer material so that the conductive particles P are aligned in the thickness direction and are supported on the releasable support plate 13.

以上において、離型性支持板13を構成する材料としては、金属、セラミックス、樹脂およびこれらの複合材などを用いることができる。
導電性エラストマー用材料を塗布する方法としては、スクリーン印刷などの印刷法、ロール塗布法、ブレード塗布法などを利用することができる。
導電性エラストマー用材料層16Aの厚みは、形成すべき導電路形成部の厚みに応じて設定される。
導電性エラストマー用材料層16Aに磁場を作用させる手段としては、電磁石、永久磁石などを用いることができる。
導電性エラストマー用材料層16Aに作用させる磁場の強度は、0.2〜2.5テスラとなる大きさが好ましい。
導電性エラストマー用材料層16Aの硬化処理は、通常、加熱処理によって行われる。具体的な加熱温度および加熱時間は、導電性エラストマー用材料層16Aを構成するエラストマー用材料の種類、導電性粒子の移動に要する時間などを考慮して適宜設定される。
In the above, as a material constituting the releasable support plate 13, metals, ceramics, resins, composite materials thereof, and the like can be used.
As a method for applying the conductive elastomer material, a printing method such as screen printing, a roll coating method, a blade coating method, or the like can be used.
The thickness of the conductive elastomer material layer 16A is set according to the thickness of the conductive path forming portion to be formed.
As means for applying a magnetic field to the conductive elastomer material layer 16A, an electromagnet, a permanent magnet, or the like can be used.
The strength of the magnetic field applied to the conductive elastomer material layer 16A is preferably 0.2 to 2.5 Tesla.
The curing process of the conductive elastomer material layer 16A is usually performed by a heating process. The specific heating temperature and heating time are appropriately set in consideration of the type of elastomer material constituting the conductive elastomer material layer 16A, the time required to move the conductive particles, and the like.

《導電路形成部の形成》
図7に示すように、離型性支持板13上に支持された導電性エラストマー層16Bの表面に、メッキ電極用の金属薄層14を形成する。次いで、図8に示すように、この金属薄層14上に、フォトリソグラフィーの手法により、形成すべき導電路形成部のパターンすなわち接続すべき電極のパターンに対応する特定のパターンに従って複数の開口18aが形成されたレジスト層18を形成する。その後、図9に示すように、金属薄層14をメッキ電極として、当該金属薄層14におけるレジスト層18の開口18aを介して露出した部分に、電解メッキ処理を施すことにより、当該レジスト層18の開口18a内に金属マスク19を形成する。そして、この状態で、導電性エラストマー層16B、金属薄層14およびレジスト層18に対してレーザー加工を施すことにより、レジスト層18、金属薄層14および導電性エラストマー層16Bの一部が除去され、その結果、図10に示すように、特定のパターンに従って配置された複数の導電路形成部16が離型性支持板13上に支持された状態で形成される。その後、導電路形成部16の表面から残存する金属薄層14および金属マスク19を剥離する。
<< Formation of conductive path forming part >>
As shown in FIG. 7, a thin metal layer 14 for a plating electrode is formed on the surface of the conductive elastomer layer 16B supported on the releasable support plate 13. Next, as shown in FIG. 8, a plurality of openings 18a are formed on the thin metal layer 14 by photolithography according to a specific pattern corresponding to the pattern of the conductive path forming portion to be formed, that is, the pattern of the electrode to be connected. Then, the resist layer 18 having the above is formed. Thereafter, as shown in FIG. 9, the resist layer 18 is subjected to electrolytic plating treatment on the exposed portion of the metal thin layer 14 through the opening 18a of the resist layer 18 using the metal thin layer 14 as a plating electrode. A metal mask 19 is formed in the opening 18a. In this state, the conductive elastomer layer 16B, the metal thin layer 14 and the resist layer 18 are subjected to laser processing to remove a part of the resist layer 18, the metal thin layer 14 and the conductive elastomer layer 16B. As a result, as shown in FIG. 10, a plurality of conductive path forming portions 16 arranged according to a specific pattern are formed on the releasable support plate 13. Thereafter, the remaining thin metal layer 14 and metal mask 19 are peeled off from the surface of the conductive path forming portion 16.

以上において、導電性エラストマー層16Bの表面に金属薄層14を形成する方法としては、無電解メッキ法、スパッタ法などを利用することができる。
金属薄層14を構成する材料としては、銅、金、アルミニウム、ロジウムなどを用いることができる。
金属薄層14の厚みは、0.05〜2μmであることが好ましく、より好ましくは0.1〜1μmである。この厚みが過小である場合には、均一な薄層が形成されず、メッキ電極として不適なものとなることがある。一方、この厚みが過大である場合には、レーザー加工によって除去することが困難となることがある。
レジスト層18の厚みは、形成すべき金属マスク19の厚みに応じて設定される。
金属マスク19を構成する材料としては、銅、鉄、アルミウニム、金、ロジウムなどを用いることができる。
金属マスク19の厚みは、2μm以上であることが好ましく、より好ましくは5〜20μmである。この厚みが過小である場合には、レーザーに対するマスクとして不適なものとなることがある。
レーザー加工は、炭酸ガスレーザーによるものが好ましく、これにより、目的とする形態の導電路形成部16を確実に形成することができる。
In the above, as a method of forming the metal thin layer 14 on the surface of the conductive elastomer layer 16B, an electroless plating method, a sputtering method, or the like can be used.
As a material constituting the metal thin layer 14, copper, gold, aluminum, rhodium, or the like can be used.
The thickness of the thin metal layer 14 is preferably 0.05 to 2 μm, more preferably 0.1 to 1 μm. When this thickness is too small, a uniform thin layer is not formed, which may be inappropriate as a plating electrode. On the other hand, if this thickness is excessive, it may be difficult to remove by laser processing.
The thickness of the resist layer 18 is set according to the thickness of the metal mask 19 to be formed.
As a material constituting the metal mask 19, copper, iron, aluminum uni, gold, rhodium, or the like can be used.
The thickness of the metal mask 19 is preferably 2 μm or more, more preferably 5 to 20 μm. If this thickness is too small, it may be unsuitable as a mask for the laser.
The laser processing is preferably performed using a carbon dioxide laser, whereby the conductive path forming portion 16 having a desired form can be reliably formed.

《絶縁部の形成》
図11に示すように、絶縁部形成用の離型性支持板13Aを用意し、この離型性支持板13Aの表面に、フレーム板11を配置すると共に、硬化されて絶縁性の弾性高分子物質となる液状のエラストマー用材料を塗布することにより、絶縁部用材料層17Aを形成する。次いで、図12に示すように、複数の導電路形成部16が形成された離型性支持板13を、絶縁部用材料層17Aが形成された離型性支持板13A上に重ね合わせることにより、導電路形成部16の各々を絶縁部用材料層17A中に浸入させて離型性支持板13Aに接触させる。これにより、隣接する導電路形成部16の間に絶縁部用材料層17Aが形成された状態となる。その後、この状態で、絶縁部用材料層17Aの硬化処理を行うことにより、図13に示すように、導電路形成部16の各々の周囲に、これらを相互に絶縁する絶縁部17が、導電路形成部16に一体的に形成され、以て弾性異方導電膜15が形成される。
そして、離型性支持板13,13Aから弾性異方導電膜15を離型させることにより、図1に示す構成の異方導電性コネクター10が得られる。
<Formation of insulation>
As shown in FIG. 11, a releasable support plate 13A for forming an insulating portion is prepared, and a frame plate 11 is disposed on the surface of the releasable support plate 13A and cured to be an insulating elastic polymer. The insulating material layer 17A is formed by applying a liquid elastomer material that is a substance. Next, as shown in FIG. 12, the releasable support plate 13 formed with a plurality of conductive path forming portions 16 is overlaid on the releasable support plate 13A formed with the insulating material layer 17A. Each of the conductive path forming portions 16 is infiltrated into the insulating portion material layer 17A and brought into contact with the releasable support plate 13A. Thereby, the insulating material layer 17 </ b> A is formed between the adjacent conductive path forming portions 16. Thereafter, in this state, the insulating portion material layer 17A is cured, so that the insulating portion 17 that insulates the conductive path forming portion 16 from each other is formed around the conductive path forming portion 16 as shown in FIG. The elastic anisotropic conductive film 15 is formed integrally with the path forming portion 16.
And the anisotropic conductive connector 10 of the structure shown in FIG. 1 is obtained by releasing the elastic anisotropic conductive film 15 from the releasable support plates 13 and 13A.

以上において、離型性支持板13Aを構成する材料としては、導電路形成部形成用の離型性支持板13と同様のものを用いることができる。
エラストマー用材料を塗布する方法としては、スクリーン印刷などの印刷法、ロール塗布法、ブレード塗布法などを利用することができる。
絶縁部用材料層17Aの厚みは、形成すべき絶縁部の厚みに応じて設定される。
絶縁部用材料層17Aの硬化処理は、通常、加熱処理によって行われる。具体的な加熱温度および加熱時間は、絶縁部用材料層17Aを構成するエラストマー用材料の種類などを考慮して適宜設定される。
In the above, as the material constituting the releasable support plate 13A, the same material as the releasable support plate 13 for forming the conductive path forming portion can be used.
As a method of applying the elastomer material, a printing method such as screen printing, a roll coating method, a blade coating method, or the like can be used.
The thickness of the insulating part material layer 17A is set according to the thickness of the insulating part to be formed.
The curing process of the insulating part material layer 17A is usually performed by a heating process. The specific heating temperature and heating time are appropriately set in consideration of the type of elastomer material constituting the insulating material layer 17A.

上記の製造方法によれば、導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で分散されてなる導電性エラストマー層16Bをレーザー加工してその一部を除去することにより、目的とする形態の導電路形成部16を形成するため、所要の量の導電性粒子Pが充填された所期の導電性を有する導電路形成部16を確実に得ることができる。
また、離型性支持板13上に特定のパターンに従って配置された複数の導電路形成部16を形成したうえで、これらの導電路形成部16の間に絶縁部用材料層17Aを形成して硬化処理することにより絶縁部17を形成するため、導電性粒子Pが全く存在しない絶縁部17を確実に得ることができる。
しかも、従来の異方導電性コネクターを製造するために使用されていた多数の強磁性体部が配列されてなる高価な金型を用いることが不要である。
従って、このような方法によって得られる異方導電性コネクター10によれば、接続すべき電極の配置パターンに関わらず、当該電極の各々に対して所要の電気的接続を確実に達成することができると共に、接続すべき電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該電極の各々に対して所要の電気的接続を確実に達成することができ、しかも、製造コストの低減化を図ることができる。
According to the above manufacturing method, the conductive elastomer layer 16B, which is dispersed in a state in which the conductive particles P are aligned so as to be aligned in the thickness direction, is laser-processed to remove a part of the conductive elastomer layer 16B. Since the conductive path forming portion 16 is formed, it is possible to reliably obtain the conductive path forming portion 16 having the desired conductivity filled with a required amount of the conductive particles P.
Further, after forming a plurality of conductive path forming portions 16 arranged according to a specific pattern on the releasable support plate 13, an insulating material layer 17A is formed between these conductive path forming portions 16. Since the insulating part 17 is formed by performing the curing process, the insulating part 17 in which the conductive particles P are not present can be reliably obtained.
In addition, it is not necessary to use an expensive mold in which a large number of ferromagnetic parts used to manufacture a conventional anisotropically conductive connector are arranged.
Therefore, according to the anisotropic conductive connector 10 obtained by such a method, a required electrical connection can be reliably achieved for each of the electrodes regardless of the arrangement pattern of the electrodes to be connected. At the same time, even when the electrodes to be connected are arranged with a small pitch and a high density, it is possible to reliably achieve the required electrical connection to each of the electrodes, and to manufacture the electrodes. Cost can be reduced.

〈アダプター装置〉
図14は、本発明に係るアダプター装置の第1の例における構成を示す説明用断面図であり、図15は、図14に示すアダプター装置におけるアダプター本体を示す説明用断面図である。このアダプター装置は、例えばプリント回路基板などの回路装置について、例えばオープン・ショート試験を行うために用いられる回路装置検査用のものであって、多層配線板よりなるアダプター本体20を有する。
アダプター本体20の表面(図14および図15において上面)には、検査対象である回路装置の被検査電極のパターンに対応する特定のパターンに従って複数の接続用電極21が配置された接続用電極領域25が形成されている。
アダプター本体20の裏面には、例えばピッチが0.8mm、0.75mm、1.5mm、1.8mm、2.54mmの格子点位置に従って複数の端子電極22が配置され、端子電極22の各々は、内部配線部23によって接続用電極21に電気的に接続されている。
このアダプター本体20の表面には、その接続用電極領域25上に、基本的に図1に示す構成の異方導電性コネクター10が配置され、当該アダプター本体20に適宜の手段(図示省略)によって固定されている。
この異方導電性コネクター10においては、アダプター本体20における接続用電極21に係る特定のパターンと同一のパターンに従って複数の導電路形成部16が形成されており、当該異方導電性コネクター10は、導電路形成部16の各々がアダプター本体20の接続用電極21上に位置されるよう配置されている。
<Adapter device>
FIG. 14 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of the adapter device according to the first example of the present invention, and FIG. 15 is an explanatory cross-sectional view showing an adapter main body in the adapter device shown in FIG. This adapter device is for inspecting a circuit device used for, for example, performing an open / short test on a circuit device such as a printed circuit board, and has an adapter body 20 made of a multilayer wiring board.
On the surface of the adapter body 20 (upper surface in FIGS. 14 and 15), a connection electrode region in which a plurality of connection electrodes 21 are arranged according to a specific pattern corresponding to the pattern of the electrode to be inspected of the circuit device to be inspected. 25 is formed.
A plurality of terminal electrodes 22 are arranged on the back surface of the adapter main body 20 according to lattice point positions having a pitch of 0.8 mm, 0.75 mm, 1.5 mm, 1.8 mm, 2.54 mm, for example. The internal wiring portion 23 is electrically connected to the connection electrode 21.
On the surface of the adapter body 20, the anisotropic conductive connector 10 having the configuration shown in FIG. 1 is basically disposed on the connection electrode region 25. The adapter body 20 is provided with appropriate means (not shown). It is fixed.
In the anisotropic conductive connector 10, a plurality of conductive path forming portions 16 are formed according to the same pattern as the specific pattern related to the connection electrode 21 in the adapter body 20, and the anisotropic conductive connector 10 includes: Each of the conductive path forming portions 16 is disposed on the connection electrode 21 of the adapter body 20.

このようなアダプター装置によれば、図1に示す構成の異方導電性コネクター10を有するため、検査対象である回路装置の検査電極の配置パターンに関わらず、当該被検査電極の各々に対して所要の電気的接続を確実に達成することができると共に、被検査電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該被検査電極の各々に対して所要の電気的接続を確実に達成することができ、しかも、製造コストの低減化を図ることができる。   According to such an adapter device, since the anisotropic conductive connector 10 having the configuration shown in FIG. 1 is provided, each of the electrodes to be inspected regardless of the arrangement pattern of the inspection electrodes of the circuit device to be inspected. The required electrical connection can be reliably achieved, and even if the electrodes to be inspected are arranged with a small pitch and a high density, the required electrical connection to each of the electrodes to be inspected can be achieved. Connection can be reliably achieved, and the manufacturing cost can be reduced.

図16は、本発明に係るアダプター装置の第2の例における構成を示す説明用断面図であり、図17は、図16に示すアダプター装置におけるアダプター本体を示す説明用断面図である。このアダプター装置は、例えばプリント回路基板などの回路装置について、各配線パターンの電気抵抗測定試験を行うために用いられる回路装置検査用のものであって、多層配線板よりなるアダプター本体20を有する。
アダプター本体20の表面(図16および図17において上面)には、それぞれ同一の被検査電極に電気的に接続される互いに離間して配置された電流供給用の接続用電極(以下、「電流供給用電極」ともいう。)21bおよび電圧測定用の接続用電極(以下、「電圧測定用電極」ともいう。)21cよりなる複数の接続用電極対21aが配置された接続用電極領域25が形成されている。これらの接続用電極対21aは、検査対象である回路装置の被検査電極のパターンに対応するパターンに従って配置されている。
アダプター本体20の裏面には、例えばピッチが0.8mm、0.75mm、1.5mm、1.8mm、2.54mmの格子点位置に従って複数の端子電極22が配置されている。
そして、電流供給用電極21bおよび電圧測定用電極21cの各々は、内部配線部23によって端子電極22に電気的に接続されている。
このアダプター本体20の表面には、その接続用電極領域25上に、基本的に図1に示す構成の異方導電性コネクター10が配置され、当該アダプター本体20に適宜の手段(図示省略)によって固定されている。
この異方導電性コネクター10においては、アダプター本体20における接続用電極21b,21cに係る特定のパターンと同一のパターンに従って複数の導電路形成部16が形成されており、当該異方導電性コネクター10は、導電路形成部16の各々がアダプター本体20の接続用電極21b,21c上に位置されるよう配置されている。
16 is an explanatory cross-sectional view showing the configuration of the adapter device according to the second example of the present invention, and FIG. 17 is an explanatory cross-sectional view showing the adapter main body in the adapter device shown in FIG. This adapter device is for testing a circuit device used for conducting an electrical resistance measurement test of each wiring pattern on a circuit device such as a printed circuit board, and has an adapter body 20 made of a multilayer wiring board.
On the surface of the adapter main body 20 (the upper surface in FIGS. 16 and 17), connection electrodes for current supply (hereinafter referred to as “current supply”) that are spaced apart from each other and are electrically connected to the same electrode to be inspected. A connection electrode region 25 in which a plurality of connection electrode pairs 21a each including a connection electrode 21b and a voltage measurement connection electrode (hereinafter also referred to as a "voltage measurement electrode") 21c are formed. Has been. These connection electrode pairs 21a are arranged according to a pattern corresponding to the pattern of the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected.
A plurality of terminal electrodes 22 are arranged on the back surface of the adapter main body 20 according to lattice point positions having a pitch of 0.8 mm, 0.75 mm, 1.5 mm, 1.8 mm, 2.54 mm, for example.
Each of the current supply electrode 21 b and the voltage measurement electrode 21 c is electrically connected to the terminal electrode 22 by the internal wiring portion 23.
On the surface of the adapter body 20, the anisotropic conductive connector 10 having the configuration shown in FIG. 1 is basically disposed on the connection electrode region 25. The adapter body 20 is provided with appropriate means (not shown). It is fixed.
In the anisotropic conductive connector 10, a plurality of conductive path forming portions 16 are formed according to the same pattern as the specific pattern related to the connection electrodes 21 b and 21 c in the adapter body 20, and the anisotropic conductive connector 10. Are arranged such that each of the conductive path forming portions 16 is positioned on the connection electrodes 21 b and 21 c of the adapter body 20.

上記のアダプター装置によれば、図1に示す構成の異方導電性コネクター10を有するため、検査対象である回路装置の検査電極の配置パターンに関わらず、当該被検査電極の各々に対して所要の電気的接続を確実に達成することができると共に、被検査電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該被検査電極の各々に対して所要の電気的接続を確実に達成することができ、しかも、製造コストの低減化を図ることができる。   According to the adapter device described above, since the anisotropic conductive connector 10 having the configuration shown in FIG. 1 is provided, each of the electrodes to be inspected is required regardless of the arrangement pattern of the inspection electrodes of the circuit device to be inspected. Can be reliably achieved, and even if the electrodes to be inspected are arranged with a small pitch and a high density, the required electrical connection to each of the electrodes to be inspected can be achieved. The connection can be reliably achieved, and the manufacturing cost can be reduced.

〈回路装置の電気的検査装置〉
図18は、本発明に係る回路基板の電気的検査装置の第1の例における構成を示す説明図である。この電気的検査装置は、両面に被検査電極6,7が形成されたプリント回路基板などの回路装置5について、例えばオープン・ショート試験を行うものであって、回路装置5を検査実行領域Eに保持するためのホルダー2を有し、このホルダー2には、回路装置5を検査実行領域Eにおける適正な位置に配置するための位置決めピン3が設けられている。検査実行領域Eの上方には、図14に示すような構成の上部側アダプター装置1aおよび上部側検査ヘッド50aが下からこの順で配置され、更に、上部側検査ヘッド50aの上方には、上部側支持板56aが配置されており、上部側検査ヘッド50aは、支柱54aによって支持板56aに固定されている。一方、検査実行領域Eの下方には、図14に示すような構成の下部側アダプター装置1bおよび下部側検査ヘッド50bが上からこの順で配置され、更に、下部側検査ヘッド50bの下方には、下部側支持板56bが配置されており、下部側検査ヘッド50bは、支柱54bによって下部側支持板56bに固定されている。
上部側検査ヘッド50aは、板状の検査電極装置51aと、この検査電極装置51aの下面に固定されて配置された弾性を有する異方導電性シート55aとにより構成されている。検査電極装置51aは、その下面に上部側アダプター装置1aの端子電極22と同一のピッチの格子点位置に配列された複数のピン状の検査電極52aを有し、これらの検査電極52aの各々は、電線53aによって、上部側支持板56aに設けられたコネクター57aに電気的に接続され、更に、このコネクター57aを介してテスターの検査回路(図示省略)に電気的に接続されている。
下部側検査ヘッド50bは、板状の検査電極装置51bと、この検査電極装置51bの上面に固定されて配置された弾性を有する異方導電性シート55bとにより構成されている。検査電極装置51bは、その上面に下部側アダプター装置1bの端子電極22と同一のピッチの格子点位置に配列された複数のピン状の検査電極52bを有し、これらの検査電極52bの各々は、電線53bによって、下部側支持板56bに設けられたコネクター57bに電気的に接続され、更に、このコネクター57bを介してテスターの検査回路(図示省略)に電気的に接続されている。
<Electrical inspection equipment for circuit devices>
FIG. 18 is an explanatory diagram showing the configuration of the first example of the circuit board electrical inspection apparatus according to the present invention. This electrical inspection device performs, for example, an open / short test on a circuit device 5 such as a printed circuit board having electrodes 6 and 7 to be inspected on both sides, and the circuit device 5 is placed in an inspection execution region E. The holder 2 for holding is provided with a positioning pin 3 for arranging the circuit device 5 at an appropriate position in the inspection execution region E. Above the inspection execution area E, an upper-side adapter device 1a and an upper-side inspection head 50a configured as shown in FIG. 14 are arranged in this order from the bottom, and further above the upper-side inspection head 50a, A side support plate 56a is disposed, and the upper side inspection head 50a is fixed to the support plate 56a by a column 54a. On the other hand, below the inspection execution area E, a lower-side adapter device 1b and a lower-side inspection head 50b configured as shown in FIG. 14 are arranged in this order from above, and further below the lower-side inspection head 50b. The lower side support plate 56b is disposed, and the lower side inspection head 50b is fixed to the lower side support plate 56b by a support 54b.
The upper side inspection head 50a includes a plate-like inspection electrode device 51a and an anisotropic conductive sheet 55a having elasticity that is fixed and arranged on the lower surface of the inspection electrode device 51a. The inspection electrode device 51a has a plurality of pin-shaped inspection electrodes 52a arranged on the lower surface thereof at lattice point positions having the same pitch as the terminal electrodes 22 of the upper-side adapter device 1a. The electric wire 53a is electrically connected to a connector 57a provided on the upper support plate 56a, and is further electrically connected to a tester inspection circuit (not shown) via the connector 57a.
The lower inspection head 50b is composed of a plate-shaped inspection electrode device 51b and an anisotropic conductive sheet 55b having elasticity and fixed to the upper surface of the inspection electrode device 51b. The inspection electrode device 51b has a plurality of pin-shaped inspection electrodes 52b arranged on the upper surface thereof at lattice point positions having the same pitch as the terminal electrodes 22 of the lower adapter device 1b. Each of these inspection electrodes 52b The electric wire 53b is electrically connected to a connector 57b provided on the lower support plate 56b, and is further electrically connected to an inspection circuit (not shown) of the tester via the connector 57b.

上部側検査ヘッド50aおよび下部側検査ヘッド50bにおける異方導電性シート55a,55bは、いずれもその厚み方向にのみ導電路を形成する導電路形成部が形成されてなるものである。このような異方導電性シート55a,55bとしては、各導電路形成部が少なくとも一面において厚み方向に突出するよう形成されているものが、高い電気的な接触安定性を発揮する点で好ましい。   The anisotropic conductive sheets 55a and 55b in the upper side inspection head 50a and the lower side inspection head 50b are each formed with a conductive path forming portion that forms a conductive path only in the thickness direction. As such anisotropically conductive sheets 55a and 55b, those in which the respective conductive path forming portions are formed so as to protrude in the thickness direction on at least one surface are preferable in terms of exhibiting high electrical contact stability.

このような回路基板の電気的検査装置においては、検査対象である回路装置5がホルダー2によって検査実行領域Eに保持され、この状態で、上部側支持板56aおよび下部側支持板56bの各々が回路装置5に接近する方向に移動することにより、当該回路装置5が上部側アダプター装置1aおよび下部側アダプター装置1bによって挟圧される。
この状態においては、回路装置5の上面における被検査電極6は、上部側アダプター装置1aの接続用電極21に、当該異方導電性コネクター10の導電路形成部16を介して電気的に接続され、この上部側アダプター装置1aの端子電極22は、異方導電性シート55aを介して検査電極装置51aの検査電極52aに電気的に接続されている。一方、回路装置5の下面における被検査電極7は、下部側アダプター装置1bの接続用電極21に、当該異方導電性コネクター10の導電路形成部16を介して電気的に接続され、この下部側アダプター装置1bの端子電極22は、異方導電性シート55bを介して検査電極装置51bの検査電極52bに電気的に接続されている。
In such an electrical inspection device for circuit boards, the circuit device 5 to be inspected is held in the inspection execution region E by the holder 2, and in this state, each of the upper support plate 56a and the lower support plate 56b is By moving in the direction approaching the circuit device 5, the circuit device 5 is pinched by the upper adapter device 1a and the lower adapter device 1b.
In this state, the electrode 6 to be inspected on the upper surface of the circuit device 5 is electrically connected to the connection electrode 21 of the upper adapter device 1a via the conductive path forming portion 16 of the anisotropic conductive connector 10. The terminal electrode 22 of the upper adapter device 1a is electrically connected to the inspection electrode 52a of the inspection electrode device 51a via an anisotropic conductive sheet 55a. On the other hand, the electrode 7 to be inspected on the lower surface of the circuit device 5 is electrically connected to the connection electrode 21 of the lower-side adapter device 1b via the conductive path forming portion 16 of the anisotropic conductive connector 10, and this lower portion The terminal electrode 22 of the side adapter device 1b is electrically connected to the inspection electrode 52b of the inspection electrode device 51b via the anisotropic conductive sheet 55b.

このようにして、回路装置5の上面および下面の両方の被検査電極6,7の各々が、上部側検査ヘッド50aにおける検査電極装置51aの検査電極52aおよび下部側検査ヘッド50bにおける検査電極装置51bの検査電極52bの各々に電気的に接続されることにより、テスターの検査回路に電気的に接続された状態が達成され、この状態で所要の電気的検査が行われる。   In this way, the test electrodes 6 and 7 on both the upper and lower surfaces of the circuit device 5 are respectively connected to the test electrode 52a of the test electrode device 51a in the upper test head 50a and the test electrode device 51b in the lower test head 50b. By being electrically connected to each of the test electrodes 52b, a state of being electrically connected to the tester test circuit is achieved, and a required electrical test is performed in this state.

上記の回路基板の電気的検査装置によれば、図14に示すような構成の上部側アダプター装置1aおよび下部側アダプター装置1bを有するため、回路装置5の被検査電極6,7の配置パターンに関わらず、当該回路装置5について所要の電気的検査を確実に実行することができると共に、回路装置5の被検査電極6,7が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該回路装置5について所要の電気的検査を確実に実行することができる。   According to the circuit board electrical inspection apparatus described above, the upper side adapter device 1a and the lower side adapter device 1b having the configuration shown in FIG. Regardless, the required electrical inspection can be surely performed for the circuit device 5 and the electrodes 6 and 7 of the circuit device 5 are arranged with a small pitch and a high density. However, the required electrical inspection can be reliably executed for the circuit device 5.

図19は、本発明に係る回路基板の電気的検査装置の第2の例における構成を示す説明図である。この電気的検査装置は、両面に被検査電極6,7が形成されたプリント回路基板などの回路装置5について、各配線パターンの電気抵抗測定試験を行うためのものであって、回路装置5を検査実行領域Eに保持するためのホルダー2を有し、このホルダー2には、回路装置5を検査実行領域Eにおける適正な位置に配置するための位置決めピン3が設けられている。
検査実行領域Eの上方には、図16に示すような構成の上部側アダプター装置1aおよび上部側検査ヘッド50aが下からこの順で配置され、更に、上部側検査ヘッド50aの上方には、上部側支持板56aが配置されており、上部側検査ヘッド50aは、支柱54aによって支持板56aに固定されている。一方、検査実行領域Eの下方には、図16に示すような構成の下部側アダプター装置1bおよび下部側検査ヘッド50bが上からこの順で配置され、更に、下部側検査ヘッド50bの下方には、下部側支持板56bが配置されており、下部側検査ヘッド50bは、支柱54bによって支持板56bに固定されている。
上部側検査ヘッド50aは、板状の検査電極装置51aと、この検査電極装置51aの下面に固定されて配置された弾性を有する異方導電性シート55aとにより構成されている。検査電極装置51aは、その下面に上部側アダプター装置1aの端子電極22と同一のピッチの格子点位置に配列された複数のピン状の検査電極52aを有し、これらの検査電極52aの各々は、電線53aによって、上部側支持板56aに設けられたコネクター57aに電気的に接続され、更に、このコネクター57aを介してテスターの検査回路(図示省略)に電気的に接続されている。
下部側検査ヘッド50bは、板状の検査電極装置51bと、この検査電極装置51bの上面に固定されて配置された弾性を有する異方導電性シート55bとにより構成されている。検査電極装置51bは、その上面に下部側アダプター装置1bの端子電極22と同一のピッチの格子点位置に配列された複数のピン状の検査電極52bを有し、これらの検査電極52bの各々は、電線53bによって、下部側支持板56bに設けられたコネクター57bに電気的に接続され、更に、このコネクター57bを介してテスターの検査回路(図示省略)に電気的に接続されている。
上部側検査ヘッド50aおよび下部側検査ヘッド50bにおける異方導電性シート55a,55bは、第1の例の電気的検査装置と基本的に同様の構成である。
FIG. 19 is an explanatory diagram showing the configuration of a second example of the electrical inspection apparatus for circuit boards according to the present invention. This electrical inspection device is for performing an electrical resistance measurement test of each wiring pattern on a circuit device 5 such as a printed circuit board on which both electrodes 6 and 7 to be inspected are formed. The holder 2 for holding in the inspection execution area E is provided, and the holder 2 is provided with positioning pins 3 for arranging the circuit device 5 at an appropriate position in the inspection execution area E.
Above the inspection execution area E, an upper-side adapter device 1a and an upper-side inspection head 50a configured as shown in FIG. 16 are arranged in this order from the bottom, and further above the upper-side inspection head 50a, A side support plate 56a is disposed, and the upper side inspection head 50a is fixed to the support plate 56a by a column 54a. On the other hand, below the inspection execution area E, a lower-side adapter device 1b and a lower-side inspection head 50b configured as shown in FIG. 16 are arranged in this order from above, and further below the lower-side inspection head 50b. The lower side support plate 56b is disposed, and the lower side inspection head 50b is fixed to the support plate 56b by a support column 54b.
The upper side inspection head 50a includes a plate-like inspection electrode device 51a and an anisotropic conductive sheet 55a having elasticity that is fixed and arranged on the lower surface of the inspection electrode device 51a. The inspection electrode device 51a has a plurality of pin-shaped inspection electrodes 52a arranged on the lower surface thereof at lattice point positions having the same pitch as the terminal electrodes 22 of the upper-side adapter device 1a. The electric wire 53a is electrically connected to a connector 57a provided on the upper support plate 56a, and is further electrically connected to a tester inspection circuit (not shown) via the connector 57a.
The lower inspection head 50b is composed of a plate-shaped inspection electrode device 51b and an anisotropic conductive sheet 55b having elasticity and fixed to the upper surface of the inspection electrode device 51b. The inspection electrode device 51b has a plurality of pin-shaped inspection electrodes 52b arranged on the upper surface thereof at lattice point positions having the same pitch as the terminal electrodes 22 of the lower adapter device 1b. Each of these inspection electrodes 52b The electric wire 53b is electrically connected to a connector 57b provided on the lower support plate 56b, and is further electrically connected to an inspection circuit (not shown) of the tester via the connector 57b.
The anisotropic conductive sheets 55a and 55b in the upper side inspection head 50a and the lower side inspection head 50b have basically the same configuration as that of the electrical inspection apparatus of the first example.

このような回路基板の電気的検査装置においては、検査対象である回路装置5がホルダー2によって検査実行領域Eに保持され、この状態で、上部側支持板56aおよび下部側支持板56bの各々が回路装置5に接近する方向に移動することにより、当該回路装置5が上部側アダプター装置1aおよび下部側アダプター装置1bによって挟圧される。
この状態においては、回路装置5の上面における被検査電極6は、上部側アダプター装置1aの接続用電極対21aにおける電流供給用電極21bおよび電圧測定用電極21cの両方に、異方導電性コネクター10の導電路形成部16を介して電気的に接続され、この上部側アダプター装置1aの端子電極22は、異方導電性シート55aを介して検査電極装置51aの検査電極52aに電気的に接続されている。一方、回路装置5の下面における被検査電極7は、下部側アダプター装置1bの接続用電極対21aにおける電流供給用電極21bおよび電圧測定用電極21cの両方に、異方導電性コネクター10の導電路形成部16を介して電気的に接続され、この下部側アダプター装置1bの端子電極22は、異方導電性シート55bを介して検査電極装置51bの検査電極52bに電気的に接続されている。
In such an electrical inspection device for circuit boards, the circuit device 5 to be inspected is held in the inspection execution region E by the holder 2, and in this state, each of the upper support plate 56a and the lower support plate 56b is By moving in the direction approaching the circuit device 5, the circuit device 5 is pinched by the upper adapter device 1a and the lower adapter device 1b.
In this state, the electrode 6 to be inspected on the upper surface of the circuit device 5 is connected to both the current supply electrode 21b and the voltage measurement electrode 21c in the connection electrode pair 21a of the upper-side adapter device 1a. The terminal electrode 22 of the upper adapter device 1a is electrically connected to the inspection electrode 52a of the inspection electrode device 51a via the anisotropic conductive sheet 55a. ing. On the other hand, the electrode 7 to be inspected on the lower surface of the circuit device 5 is connected to both the current supply electrode 21b and the voltage measurement electrode 21c in the connection electrode pair 21a of the lower adapter device 1b. The terminal electrode 22 of the lower-side adapter device 1b is electrically connected to the inspection electrode 52b of the inspection electrode device 51b via the anisotropic conductive sheet 55b.

このようにして、回路装置5の上面および下面の両方の被検査電極6,7の各々が、上部側検査ヘッド50aにおける検査電極装置51aの検査電極52aおよび下部側検査ヘッド50bにおける検査電極装置51bの検査電極52bの各々に電気的に接続されることにより、テスターの検査回路に電気的に接続された状態が達成され、この状態で所要の電気的検査が行われる。具体的には、上部側アダプター装置1aにおける電流供給用電極21bと下部側アダプター装置1bにおける電流供給用電極21bとの間に一定の値の電流が供給されると共に、上部側のアダプター装置1aにおける複数の電圧測定用電極21cの中から1つを指定し、当該指定された1つの電圧測定用電極21cと、当該電圧測定用電極21cに電気的に接続された上面側の被検査電極5に対応する下面側の被検査電極6に電気的に接続された、下部側アダプター装置1bにおける電圧測定用電極21cとの間の電圧が測定され、得られた電圧値に基づいて、当該指定された1つの電圧測定用電極21cに電気的に接続された上面側の被検査電極5とこれに対応する他面側の被検査電極6との間に形成された配線パターンの電気抵抗値が取得される。そして、指定する電圧測定用電極21cを順次変更することにより、全ての配線パターンの電気抵抗の測定が行われる。   In this way, the test electrodes 6 and 7 on both the upper and lower surfaces of the circuit device 5 are respectively connected to the test electrode 52a of the test electrode device 51a in the upper test head 50a and the test electrode device 51b in the lower test head 50b. By being electrically connected to each of the test electrodes 52b, a state of being electrically connected to the test circuit of the tester is achieved, and a required electrical test is performed in this state. Specifically, a constant current is supplied between the current supply electrode 21b in the upper-side adapter device 1a and the current-supply electrode 21b in the lower-side adapter device 1b, and in the upper-side adapter device 1a. One of the plurality of voltage measuring electrodes 21c is designated, and the designated one voltage measuring electrode 21c is connected to the inspected electrode 5 on the upper surface side electrically connected to the voltage measuring electrode 21c. A voltage is measured between the voltage measuring electrode 21c in the lower adapter device 1b and electrically connected to the corresponding electrode 6 to be inspected on the lower surface side. Based on the obtained voltage value, the designated voltage is measured. The electrical resistance value of the wiring pattern formed between the upper electrode under test 5 electrically connected to one voltage measuring electrode 21c and the corresponding other electrode 6 under test is taken. It is. And the electrical resistance of all the wiring patterns is measured by sequentially changing the designated voltage measuring electrode 21c.

上記の回路基板の電気的検査装置によれば、図16に示すような構成の上部側アダプター装置1aおよび下部側アダプター装置1bを有するため、回路装置5の被検査電極6,7の配置パターンに関わらず、当該回路装置5について所要の電気的検査を確実に実行することができると共に、回路装置5の被検査電極6,7が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該回路装置5について所要の電気的検査を確実に実行することができる。   According to the circuit board electrical inspection apparatus described above, since the upper side adapter device 1a and the lower side adapter device 1b having the configuration shown in FIG. Regardless, the required electrical inspection can be surely performed for the circuit device 5 and the electrodes 6 and 7 of the circuit device 5 are arranged with a small pitch and a high density. However, the required electrical inspection can be reliably executed for the circuit device 5.

本発明においては、上記の実施の形態に限定されず種々の変更を加えることが可能である。
例えば、異方導電性コネクター10においては、導電路形成部16に突出部が形成されることは必須のことではなく、弾性異方導電膜15の表面全体が平坦なものであってもよい。
また、導電路形成部16は、その両面に突出部が形成されていてもよい。このような導電路形成部16を有する弾性異方導電膜15は、以下のようにして得ることができる。すなわち、絶縁部17の形成において、離型性支持板13,13Aによって導電路形成部16を厚み方向に加圧して圧縮させ、この状態で絶縁部用材料層17Aを硬化処理することにより、絶縁部17を形成する。その後、離型性支持板13,13Aによる導電路形成部16に対する加圧を解除することによって、圧縮された導電路形成部16を元の形態に復元させ、これにより、絶縁部17の両面から突出する突出部を有する導電路形成部16が得られる。
また、検査対象である回路装置は、プリント回路基板に限定されず、パッケージIC、MCMなどの半導体集積回路装置であってもよい。
The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made.
For example, in the anisotropic conductive connector 10, it is not essential that the conductive path forming portion 16 is formed with a protruding portion, and the entire surface of the elastic anisotropic conductive film 15 may be flat.
Further, the conductive path forming portion 16 may have protrusions formed on both sides thereof. The elastic anisotropic conductive film 15 having such a conductive path forming portion 16 can be obtained as follows. That is, in forming the insulating portion 17, the conductive path forming portion 16 is pressed and compressed in the thickness direction by the releasable support plates 13 and 13A, and the insulating portion material layer 17A is cured in this state, thereby insulating the insulating portion 17. A portion 17 is formed. After that, by releasing the pressure applied to the conductive path forming portion 16 by the releasable support plates 13 and 13A, the compressed conductive path forming portion 16 is restored to the original form. A conductive path forming portion 16 having a protruding portion that protrudes is obtained.
The circuit device to be inspected is not limited to the printed circuit board, and may be a semiconductor integrated circuit device such as a package IC or MCM.

また、離型性支持板13上に支持された導電性エラストマー層16Bを形成する方法としては、予め製造された、絶縁性の弾性高分子物質中に磁性を示す導電性粒子が厚み方向に並ぶよう配向した状態で分散されてなる導電性エラストマーシートを、当該導電性エラストマーシートの有する粘着性によって或いは適宜の粘着剤によって、離型性支持板13上に粘着して支持させる方法を利用することもできる。ここで、導電性エラストマーシートは、例えば2枚の樹脂シートの間に導電性エラストマー用材料層を形成し、この導電性エラストマー層に対してその厚み方向に磁場を作用させることにより、導電性エラストマー用材料層中の導電性粒子を厚み方向に並ぶよう配向させ、磁場の作用を継続しながら、或いは磁場の作用を停止した後、導電性エラストマー用材料層の硬化処理を行うことによって、製造することができる。   In addition, as a method of forming the conductive elastomer layer 16B supported on the releasable support plate 13, conductive particles exhibiting magnetism are arranged in the thickness direction in an insulating elastic polymer material manufactured in advance. Utilizing a method in which a conductive elastomer sheet dispersed in such an oriented state is adhered and supported on the releasable support plate 13 by the adhesive property of the conductive elastomer sheet or by an appropriate adhesive. You can also. Here, the conductive elastomer sheet is formed, for example, by forming a conductive elastomer material layer between two resin sheets and applying a magnetic field in the thickness direction to the conductive elastomer layer. It is manufactured by orienting the conductive particles in the material layer to be aligned in the thickness direction and curing the material layer for the conductive elastomer while continuing the action of the magnetic field or after stopping the action of the magnetic field. be able to.

また、導電路形成部16の形成においては、レーザー加工によって導電性エラストマー層16Bにおける導電路形成部となる部分以外の部分の全部が除去されることにより、導電路形成部を形成することもできるが、図20および図21に示すように、導電性エラストマー層16Bにおける導電路形成部となる部分の周辺部分のみが除去されることにより、導電路形成部16を形成することもできる。この場合には、導電性エラストマー層16Bの残部は、離型性支持板13から機械的に剥離することによって除去することができる。   In forming the conductive path forming portion 16, the conductive path forming portion can be formed by removing all of the conductive elastomer layer 16B other than the portion to be the conductive path forming portion by laser processing. However, as shown in FIGS. 20 and 21, the conductive path forming portion 16 can be formed by removing only the peripheral portion of the conductive elastomer layer 16 </ b> B that becomes the conductive path forming portion. In this case, the remaining part of the conductive elastomer layer 16B can be removed by mechanically peeling from the releasable support plate 13.

また、異方導電性コネクター10としては、図22に示すように、単一の開口12が形成されたフレーム板11と、このフレーム板11の開口12を塞ぐよう配置された単一の弾性異方導電膜15とよりなる構成のものであってもよい。
また、異方導電性コネクター10としては、図23に示すように、複数の開口12が形成されたフレーム板11と、それぞれフレーム板11の一の開口12を塞ぐよう配置された複数の弾性異方導電膜15とよりなる構成のものであってもよい。
更に、異方導電性コネクター10としては、複数の開口が形成されたフレーム板と、フレーム板の一の開口を塞ぐよう配置された1または2以上の弾性異方導電膜と、フレーム板の複数の開口を塞ぐよう配置された1つまたは2以上の弾性異方導電膜とよりなる構成であってもよい。
Further, as shown in FIG. 22, the anisotropic conductive connector 10 includes a frame plate 11 having a single opening 12 and a single elastic member disposed so as to close the opening 12 of the frame plate 11. The structure which consists of the direction conductive film 15 may be sufficient.
In addition, as shown in FIG. 23, the anisotropic conductive connector 10 includes a frame plate 11 having a plurality of openings 12 and a plurality of elastic plates each arranged so as to close one opening 12 of the frame plate 11. The structure which consists of the direction conductive film 15 may be sufficient.
Further, the anisotropic conductive connector 10 includes a frame plate in which a plurality of openings are formed, one or more elastic anisotropic conductive films arranged so as to close one opening of the frame plate, and a plurality of frame plates. The structure which consists of 1 or 2 or more elastic anisotropic conductive films arrange | positioned so that the opening of this may be plugged may be sufficient.

以下、本発明の具体的な実施例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, specific examples of the present invention will be described, but the present invention is not limited to the following examples.

〈実施例1〉
(1)導電性エラストマー層の形成:
付加型液状シリコーンゴム100重量部中に、ニッケルよりなる芯粒子に金が被覆されてなる導電性粒子(数平均粒子径が12μm,芯粒子に対する金の割合が2重量%)400重量部を分散させることにより、導電性エラストマー用材料を調製した。この導電性エラストマー用材料を、厚みが5mmのステンレスよりなる離型性支持板(13)の表面に、スクリーン印刷により塗布することにより、当該離型性支持板(13)上に、厚みが100μmの導電性エラストマー用材料層(16A)を形成した(図3および図4参照)。 次いで、導電性エラストマー用材料層(16A)に対して、電磁石によって厚み方向に2テスラの磁場を作用させながら、120℃、1時間の条件で硬化処理を行うことにより、離型性支持板13上に支持された厚みが100μmの導電性エラストマー層(16B)を形成した(図5および図6参照)。この導電性エラストマー層における導電性粒子の含有割合は、体積分率で30%であった。
<Example 1>
(1) Formation of conductive elastomer layer:
Dispersed in 100 parts by weight of addition-type liquid silicone rubber is 400 parts by weight of conductive particles in which core particles made of nickel are coated with gold (number average particle diameter is 12 μm, the ratio of gold to core particles is 2% by weight). Thus, a conductive elastomer material was prepared. By applying this conductive elastomer material to the surface of a releasable support plate (13) made of stainless steel having a thickness of 5 mm by screen printing, a thickness of 100 μm is formed on the releasable support plate (13). The conductive elastomer material layer (16A) was formed (see FIGS. 3 and 4). Next, a release treatment support plate 13 is obtained by subjecting the conductive elastomer material layer (16A) to a curing process at 120 ° C. for 1 hour while applying a magnetic field of 2 Tesla in the thickness direction by an electromagnet. A conductive elastomer layer (16B) having a thickness of 100 μm supported thereon was formed (see FIGS. 5 and 6). The content ratio of the conductive particles in this conductive elastomer layer was 30% in terms of volume fraction.

(2)導電路形成部の形成:
離型性支持板(13)上に支持された導電性エラストマー層(16B)の表面に、無電解メッキ処理を施すことによって、厚みが0.3μmの銅よりなる金属薄層(14)を形成し、この金属薄層(14)上に、フォトリソグラフィーの手法により、それぞれ寸法が120μm×60μmの矩形の4800個の開口(18a)が、最小の離間距離が30μm(最小の中心間距離が90μm)で形成された、厚みが25μmのレジスト層(18)を形成した(図7および図8参照)。その後、金属薄層(14)の表面に電解メッキ処理を施すことにより、レジスト層(18)の開口(18a)内に厚みが約20μmの銅よりなる金属マスク(19)を形成した(図9参照)。そして、この状態で、導電性エラストマー層(16B)、金属薄層(14)およびレジスト層(18)に対して、炭酸ガスレーザー装置によってレーザー加工を施すことにより、それぞれ離型性支持板(13)上に支持された4800個の導電路形成部(16)を形成し(図10参照)、その後、導電路形成部(16)の表面から残存する金属薄層(14)および金属マスク(19)を剥離した。
以上において、炭酸ガスレーザー装置によるレーザー加工条件は、以下の通りである。 すなわち、装置として、炭酸ガスレーザー加工機「ML−605GTX」(三菱電機(株)製)を用い、レーザービーム径が直径60μm,レーザー出力が0.8mJの条件で、1つの加工点にレーザービームを10ショット照射することによりレーザー加工を行った。
(2) Formation of conductive path forming part:
A thin metal layer (14) made of copper having a thickness of 0.3 μm is formed by subjecting the surface of the conductive elastomer layer (16B) supported on the releasable support plate (13) to electroless plating. On the thin metal layer (14), 4800 rectangular openings (18a) each having a size of 120 μm × 60 μm are formed by photolithography, and the minimum separation distance is 30 μm (the minimum center-to-center distance is 90 μm). ), And a resist layer (18) having a thickness of 25 μm was formed (see FIGS. 7 and 8). Thereafter, the surface of the metal thin layer (14) is subjected to an electrolytic plating process to form a metal mask (19) made of copper having a thickness of about 20 μm in the opening (18a) of the resist layer (18) (FIG. 9). reference). In this state, the conductive elastomer layer (16B), the metal thin layer (14), and the resist layer (18) are subjected to laser processing using a carbon dioxide gas laser device, so that the releasable support plates (13 ) 4800 conductive path forming portions (16) supported thereon are formed (see FIG. 10), and then the thin metal layer (14) and the metal mask (19) remaining from the surface of the conductive path forming portion (16) are formed. ) Was peeled off.
In the above, the laser processing conditions by the carbon dioxide laser device are as follows. That is, a carbon dioxide gas laser processing machine “ML-605GTX” (manufactured by Mitsubishi Electric Corporation) is used as an apparatus, and a laser beam is applied to one processing point under the conditions of a laser beam diameter of 60 μm and a laser output of 0.8 mJ. Was irradiated with 10 shots to perform laser processing.

(3)フレーム板の作製:
図1に示す構成に従い、以下のようにしてフレーム板(11)を作製した。
厚みが50μmの液晶ポリマーよりなる樹脂シートの両面に銅箔が積層されてなる積層シート(新日鐵化学製の「エスパネックス LB18−50−18NEP」)を用意し、この積層シートの一面の銅箔上にドライフィルムレジストをラミネートすることによりレジスト膜を形成した。次いで、形成されたレジスト膜に対して露光処理および現像処理を施すことにより、当該レジスト膜に目的とするフレーム板の開口に対応するパターン孔を形成し、更に、エッチング処理を行うことにより、銅箔に目的とするフレーム板の開口に対応するパターンの開口を形成し、その後、レジスト膜を除去した。
そして、積層シートにおける樹脂シートに対して、銅箔に形成された開口を介してレーザー加工を施して開口を形成し、その後、積層シートにおける両面の銅箔を、エッチング処理によって除去することにより、フレーム板(11)を作成した。
このフレーム板(11)は、材質が液晶ポリマーで、寸法が190mm×130mm×50μmであり、開口(12)は、直径が400μmの円形であり、開口(12)の総数は2400である。
(3) Production of frame plate:
According to the configuration shown in FIG. 1, a frame plate (11) was produced as follows.
Prepare a laminated sheet (“Espanex LB18-50-18NEP” manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) in which copper foil is laminated on both sides of a resin sheet made of a liquid crystal polymer having a thickness of 50 μm. A resist film was formed by laminating a dry film resist on the foil. Next, the resist film thus formed is subjected to an exposure process and a development process to form a pattern hole corresponding to the opening of the target frame plate in the resist film. An opening having a pattern corresponding to the opening of the target frame plate was formed in the foil, and then the resist film was removed.
And, for the resin sheet in the laminated sheet, laser processing is performed through the opening formed in the copper foil to form an opening, and then the copper foil on both sides in the laminated sheet is removed by etching treatment, A frame plate (11) was prepared.
The frame plate (11) is made of a liquid crystal polymer and has dimensions of 190 mm × 130 mm × 50 μm. The opening (12) is a circle having a diameter of 400 μm, and the total number of openings (12) is 2400.

(4)絶縁部の形成:
離型性支持板(13A)の表面に、付加型液状シリコーンゴムを塗布することにより、厚みが10μmの塗布膜を形成し、この塗布膜上にフレーム板(11)を配置し、更に、付加型液状シリコーンゴムを塗布することにより、フレーム板(11)の開口(12)を塞ぐよう配置された、全体の厚みが70μmの絶縁部用材料層(17A)を形成し、この絶縁部用材料層(127)上に、4800個の導電路形成部(16)が形成された離型性支持板(13)を位置合わせして重ね合わせることにより、当該導電路形成部(16)の各々を絶縁部用材料層(17A)中に浸入させ離型性支持板(13A)に接触させた(図11および図12参照)。そして、離型性支持板(13)に800kgfの圧力を加えることにより、導電路形成部(16)の厚みを100μmから80μmに弾性的に圧縮させ、この状態で、120℃、1時間の条件で、絶縁部用材料層(17A)の硬化処理を行うことにより、導電路形成部(16)の周囲に一体の絶縁部(17)を形成し、以て弾性異方導電膜(15)を形成し(図13参照)、その後、弾性異方導電膜(15)を離型性支持板(13,13A)から離型させることにより、本発明の異方導電性コネクター(10)を製造した。この異方導電性コネクター(10)における弾性異方導電膜(15)は、導電路形成部(16)の厚みが100μm、絶縁部(17)の厚みが70μm、導電路形成部(16)の最小の離間距離が30μm(最小の中心間距離が90μm)であり、2個の導電路形成部(16)がフレーム板(11)の開口(12)内に位置するよう配置されている。また、導電路形成部(17)は絶縁部(17)の両面の各々から突出しており、導電路形成部(16)の突出高さが合計で30μmである。
(4) Formation of insulating part:
By applying addition-type liquid silicone rubber to the surface of the releasable support plate (13A), a coating film having a thickness of 10 μm is formed, and a frame plate (11) is disposed on this coating film, and further, By applying the mold type liquid silicone rubber, an insulating part material layer (17A) having an overall thickness of 70 μm, which is arranged so as to close the opening (12) of the frame plate (11), is formed. Each of the conductive path forming portions (16) is placed on the layer (127) by aligning and overlapping the releasable support plate (13) on which 4800 conductive path forming portions (16) are formed. It was made to infiltrate into the insulating material layer (17A) and contact with the releasable support plate (13A) (see FIGS. 11 and 12). Then, by applying a pressure of 800 kgf to the releasable support plate (13), the thickness of the conductive path forming portion (16) is elastically compressed from 100 μm to 80 μm, and in this state, the condition of 120 ° C. for 1 hour Then, the insulating part material layer (17A) is cured to form an integral insulating part (17) around the conductive path forming part (16), and thus the elastic anisotropic conductive film (15) is formed. After forming (see FIG. 13), the anisotropic anisotropic conductive film (15) was released from the release support plate (13, 13A) to produce the anisotropic conductive connector (10) of the present invention. . The elastic anisotropic conductive film (15) in the anisotropic conductive connector (10) has a conductive path forming portion (16) thickness of 100 μm, an insulating portion (17) thickness of 70 μm, and a conductive path forming portion (16). The minimum separation distance is 30 μm (the minimum center-to-center distance is 90 μm), and the two conductive path forming portions (16) are arranged so as to be positioned in the opening (12) of the frame plate (11). In addition, the conductive path forming portion (17) protrudes from both surfaces of the insulating portion (17), and the protruding height of the conductive path forming portion (16) is 30 μm in total.

(5)アダプター装置の製造:
図15に示す構成に従い、下記の仕様のアダプター本体(20)を製造した。
すなわち、このアダプター本体(20)は、縦横の寸法が160mm×120mmで、基板材質がガラス繊維補強型エポキシ樹脂であり、当該アダプター本体(20)の表面における接続用電極領域には、寸法が120μm×60μmの矩形の接続用電極(21)が、最小の離間距離が30μm(最小の中心間距離が90μm)で合計で4800個配置されている。また、アダプター本体(20)の裏面には、直径が400μmの円形の端子電極(22)が、750μmのピッチで合計で4800個配置されている。
そして、このアダプター本体(20)の表面における接続用電極領域上に、上記の異方導電性コネクター(10)を、その導電路形成部(16)の各々が接続用電極(21)上に位置するよう配置して固定することにより、本発明のアダプター装置を製造した。
(5) Manufacture of adapter device:
An adapter body (20) having the following specifications was manufactured according to the configuration shown in FIG.
That is, the adapter body (20) has a vertical and horizontal dimensions of 160 mm × 120 mm, and the substrate material is a glass fiber reinforced epoxy resin. The dimensions of the connection electrode region on the surface of the adapter body (20) are 120 μm. 4800 rectangular connection electrodes (21) each having a minimum separation distance of 30 μm (minimum center-to-center distance of 90 μm) are arranged in a rectangular shape of × 60 μm. Further, a total of 4800 circular terminal electrodes (22) having a diameter of 400 μm are arranged on the back surface of the adapter body (20) at a pitch of 750 μm.
The anisotropic conductive connector (10) is placed on the connection electrode region on the surface of the adapter body (20), and each of the conductive path forming portions (16) is positioned on the connection electrode (21). The adapter device of the present invention was manufactured by arranging and fixing as described above.

(6)アダプター装置の評価:
上記のアダプター装置について、電気抵抗測定器を用い、導電路形成部の各々をその厚み方向に5%圧縮した状態で、当該導電路形成部の表面と当該導電路形成部に電気的に接続された端子電極との間の電気抵抗(以下、「導通抵抗」という。)を測定し、この導通抵抗が0.1Ω以下である導電路形成部の割合を求めたところ100%であった。
また、電気抵抗測定器を用い、導電路形成部の各々をその厚み方向に5%圧縮した状態で、互いに隣接する2つの導電路形成部(以下、「導電路形成部対」という。)の間の電気抵抗(以下、「絶縁抵抗」という。)を測定し、この絶縁抵抗が100MΩ以上である導電路形成部対の割合を求めたところ、100%であった。
このように、上記のアダプター装置においては、全ての導電路形成部に高い導電性が得られ、しかも、全ての導電路形成部について、隣接する導電路形成部の間において十分な絶縁状態が達成されていることが確認された。
(6) Evaluation of adapter device:
About said adapter apparatus, it electrically connected to the surface of the said conductive path formation part and the said conductive path formation part in the state which compressed each 5% of the conductive path formation parts in the thickness direction using an electrical resistance measuring device. The electrical resistance (hereinafter referred to as “conduction resistance”) between the terminal electrode and the terminal electrode was measured, and the ratio of the conductive path forming portion having this conduction resistance of 0.1Ω or less was determined to be 100%.
In addition, using an electrical resistance measuring instrument, each of the conductive path forming portions is compressed by 5% in the thickness direction, and two adjacent conductive path forming portions (hereinafter referred to as “conductive path forming portion pair”) are adjacent to each other. The electrical resistance between them (hereinafter referred to as “insulation resistance”) was measured, and the ratio of the pair of conductive path forming portions having this insulation resistance of 100 MΩ or more was determined to be 100%.
Thus, in the above adapter device, high conductivity is obtained in all the conductive path forming portions, and sufficient insulation is achieved between the adjacent conductive path forming portions for all the conductive path forming portions. It has been confirmed.

〈比較例1〉
(1)金型の作製:
図24に示す構成に示す構成に従い、下記の仕様の異方導電膜成形用の金型を作製した。
上型(80)および下型(85)の各々における基板(81,86)は、材質が鉄で、厚みが6mmである。
強磁性体部(82,87)は、材質がニッケルで、縦横の寸法が120μm×60μmの矩形で、厚みが100μmであり、板状の強磁性体部(82、87)の最小の離間距離30μm(最小の中心間距離が90μm)で、強磁性体層の総数は4800個である。
非磁性体部(83,88)は、材質がドライフィルムレジストを硬化処理したものであり、厚みが0.115mmである。
(2)フレーム板の作製:
実施例1と同様にしてフレーム板(90)を作製した。
(3)異方導電性エラストマー用材料の調製:
付加型液状シリコーンゴム100重量部に、平均粒子径が12μmの導電性粒子60重量部を添加して混合し、その後、減圧による脱泡処理を施すことにより、異方導電性エラストマー用材料を調製した。以上において、導電性粒子としては、ニッケルよりなる芯粒子に金メッキが施されてなるもの(平均被覆量:芯粒子の重量の2重量%)を用いた。
<Comparative example 1>
(1) Mold production:
According to the configuration shown in FIG. 24, a mold for forming an anisotropic conductive film having the following specifications was produced.
The substrate (81, 86) in each of the upper mold (80) and the lower mold (85) is made of iron and has a thickness of 6 mm.
The ferromagnetic part (82, 87) is made of nickel, is rectangular with a vertical and horizontal dimension of 120 μm × 60 μm, has a thickness of 100 μm, and has a minimum separation distance between the plate-like ferromagnetic parts (82, 87). At 30 μm (minimum center-to-center distance is 90 μm), the total number of ferromagnetic layers is 4800.
The non-magnetic part (83, 88) is made of a hardened dry film resist and has a thickness of 0.115 mm.
(2) Production of frame plate:
A frame plate (90) was produced in the same manner as in Example 1.
(3) Preparation of anisotropic conductive elastomer material:
An anisotropic conductive elastomer material is prepared by adding 60 parts by weight of conductive particles having an average particle size of 12 μm to 100 parts by weight of addition-type liquid silicone rubber, and then performing defoaming treatment under reduced pressure. did. In the above, as the conductive particles, the core particles made of nickel and plated with gold (average coating amount: 2% by weight of the weight of the core particles) were used.

(4)弾性異方導電膜の形成:
上記の金型の下型(85)の成形面に、160mm×120mmの開口が形成された厚みが10μmのスペーサーを位置合わせして配置し、このスペーサーの開口内に、調製した異方導電性エラストマー用材料をスクリーン印刷によって塗布することにより、厚みが10μmの異方導電性エラストマー用材料層を形成した。次いで、スペーサーおよび異方導電性エラストマー層上に、作製したフレーム板(90)および160mm×120mmの開口が形成された厚みが10μmのスペーサーをこの順で位置合わせして配置し、調整した異方導電性エラストマー用材料をスクリーン印刷によって塗布することにより、目的とする弾性異方導電膜に対応する形態の異方導電性エラストマー用材料層(95A)を形成した。
そして、上型(80)を異方導電性エラストマー用材料層(95A)上に位置合わせして配置し、異方導電性エラストマー用材料層(95A)に対し、強磁性体部(82,87)の間に位置する部分に、電磁石によって厚み方向に2Tの磁場を作用させながら、120℃、1時間の条件で硬化処理を施すことにより、導電性粒子が密に含有された厚み方向に伸びる4800個の導電路形成部と、これらの周囲に形成された絶縁部とよりなる弾性異方導電膜を形成し、以て、比較用の異方導電性コネクターを製造した。
この異方導電性コネクターにおける弾性異方導電膜は、導電路形成部の厚みが100μm、絶縁部の厚みが70μm、導電路形成部の最小の離間距離が30μm(最小の中心間距離が90μm)であり、2個の導電路形成部がフレーム板の開口内に位置するよう配置されている。また、導電路形成部は絶縁部の両面の各々から突出しており、導電路形成部の突出高さが合計で30μmである。また、導電路形成部における導電性粒子の含有割合は、体積分率で約30%である。
(4) Formation of elastic anisotropic conductive film:
A spacer having a thickness of 10 μm in which an opening of 160 mm × 120 mm is formed is positioned on the molding surface of the lower mold (85) of the above-described mold, and the prepared anisotropic conductivity is placed in the opening of the spacer. By applying the elastomer material by screen printing, an anisotropic conductive elastomer material layer having a thickness of 10 μm was formed. Next, on the spacer and the anisotropic conductive elastomer layer, the prepared frame plate (90) and a spacer having a thickness of 10 μm in which an opening of 160 mm × 120 mm is formed are aligned and arranged in this order, and adjusted anisotropic By applying the conductive elastomer material by screen printing, an anisotropic conductive elastomer material layer (95A) having a form corresponding to the target elastic anisotropic conductive film was formed.
Then, the upper mold (80) is positioned and arranged on the anisotropic conductive elastomer material layer (95A), and the ferromagnetic portion (82, 87) is arranged against the anisotropic conductive elastomer material layer (95A). ) By applying a 2T magnetic field in the thickness direction by an electromagnet to a portion located between the conductive particles at 120 ° C. for 1 hour to extend in the thickness direction in which conductive particles are densely contained. An elastic anisotropic conductive film composed of 4800 conductive path forming portions and insulating portions formed around them was formed, and a comparative anisotropic conductive connector was manufactured.
The elastic anisotropic conductive film in this anisotropic conductive connector has a conductive path forming portion thickness of 100 μm, an insulating portion thickness of 70 μm, and a minimum separation distance of the conductive path forming portion of 30 μm (minimum center-to-center distance is 90 μm). The two conductive path forming portions are arranged so as to be located in the opening of the frame plate. The conductive path forming portion protrudes from both surfaces of the insulating portion, and the total protruding height of the conductive path forming portion is 30 μm. Moreover, the content rate of the electroconductive particle in a conductive path formation part is about 30% in a volume fraction.

(5)アダプター装置の製造:
実施例1と同様の仕様のアダプター本体を作製し、このアダプター本体の表面における接続用電極領域上に、上記の異方導電性コネクターを、その導電路形成部の各々が接続用電極上に位置するよう配置して固定することにより、比較用のアダプター装置を製造した。
(6)アダプター装置の評価:
上記のアダプター装置について、実施例1と同様にして導通抵抗を測定し、この導通抵抗が0.1Ω以下である導電路形成部の割合を求めたところ100%であった。
また、実施例1と同様にして絶縁抵抗を測定し、この絶縁抵抗が100MΩ以上である導電路形成部対の割合を求めたところ、95%であった。
このように、上記の比較用のアダプター装置においては、全ての導電路形成部に高い導電性が得られたが、全ての導電路形成部について、隣接する導電路形成部の間において十分な絶縁状態を達成することができなかった。
(5) Manufacture of adapter device:
An adapter body having the same specifications as in Example 1 was prepared, and the anisotropic conductive connector was placed on the connection electrode region on the surface of the adapter body, and each of the conductive path forming portions was located on the connection electrode. The adapter device for comparison was manufactured by arranging and fixing as described above.
(6) Evaluation of adapter device:
With respect to the adapter device, the conduction resistance was measured in the same manner as in Example 1, and the ratio of the conductive path forming portion having this conduction resistance of 0.1Ω or less was determined to be 100%.
In addition, the insulation resistance was measured in the same manner as in Example 1, and the ratio of the conductive path forming portion pair having this insulation resistance of 100 MΩ or more was determined to be 95%.
As described above, in the above adapter device for comparison, high conductivity was obtained in all the conductive path forming portions, but sufficient insulation was provided between adjacent conductive path forming portions for all the conductive path forming portions. The condition could not be achieved.

本発明に係る異方導電性コネクターの一例における構成を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the structure in an example of the anisotropically conductive connector which concerns on this invention. 図1に示す異方導電性コネクターの要部の構成を拡大して示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which expands and shows the structure of the principal part of the anisotropically conductive connector shown in FIG. 離型性支持板上に導電性エラストマー用材料層が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the material layer for conductive elastomers was formed on the releasable support plate. 導電性エラストマー用材料層を拡大して示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which expands and shows the material layer for electroconductive elastomers. 導電性エラストマー用材料層にその厚み方向に磁場が作用された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the magnetic field was acted on the thickness direction of the conductive elastomer material layer. 離型性支持板上に導電性エラストマー層が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state in which the electroconductive elastomer layer was formed on the releasable support plate. 導電性エラストマー層上に金属薄層が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the metal thin layer was formed on the conductive elastomer layer. 金属薄層上に開口を有するレジスト層が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state in which the resist layer which has an opening was formed on the metal thin layer. レジスト層の開口内に金属マスクが形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state in which the metal mask was formed in opening of a resist layer. 離型性支持体上に特定のパターンに従って複数の導電路形成部が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state in which the several conductive path formation part was formed according to the specific pattern on the releasable support body. 離型性支持体上に、フレーム板が配置されると共に、絶縁部用材料層が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the frame board was arrange | positioned on the releasable support body, and the material layer for insulation parts was formed. 絶縁部用材料層が形成された離型性支持板上に、導電路形成部が形成された離型性支持板が重ね合わされた状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the releasable support board in which the conductive path formation part was formed was piled up on the releasable support board in which the material layer for insulation parts was formed. 導電路形成部の周囲に一体の絶縁部が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state in which the integral insulating part was formed around the conductive path formation part. 本発明に係るアダプター装置の第1の例における構成を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the structure in the 1st example of the adapter apparatus which concerns on this invention. 図14に示すアダプター装置におけるアダプター本体の構成を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the structure of the adapter main body in the adapter apparatus shown in FIG. 本発明に係るアダプター装置の第2の例における構成を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the structure in the 2nd example of the adapter apparatus which concerns on this invention. 図16に示すアダプター装置におけるアダプター本体の構成を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the structure of the adapter main body in the adapter apparatus shown in FIG. 本発明に係る回路装置の電気的検査装置の第1の例における構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure in the 1st example of the electrical inspection apparatus of the circuit apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る回路装置の電気的検査装置の第2の例における構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure in the 2nd example of the electrical inspection apparatus of the circuit apparatus which concerns on this invention. 導電性エラストマー層における導電路形成部となる部分の周辺部分のみが除去されることにより、導電路形成部が形成された状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state in which the conductive path formation part was formed by removing only the peripheral part of the part used as the conductive path formation part in a conductive elastomer layer. 導電性エラストマー層における導電路形成部となる部分の周辺部分のみが除去されることにより、導電路形成部が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state in which the conductive path formation part was formed by removing only the peripheral part of the part used as the conductive path formation part in a conductive elastomer layer. 本発明に係る異方導電性コネクターの他の例における構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure in the other example of the anisotropically conductive connector which concerns on this invention. 本発明に係る異方導電性コネクターの更に他の例における構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure in the further another example of the anisotropically conductive connector which concerns on this invention. 従来の異方導電性コネクターの製造方法において、異方導電性エラストマーシートを成形するための金型の構成を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the structure of the metal mold | die for shape | molding an anisotropically conductive elastomer sheet in the manufacturing method of the conventional anisotropically conductive connector. 図22に示す金型内に、フレーム板が配置されると共に、異方導電性エラストマー用材料層が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the frame board was arrange | positioned in the metal mold | die shown in FIG. 22, and the anisotropic conductive elastomer material layer was formed. 従来の異方導電性コネクターが製造された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the conventional anisotropically conductive connector was manufactured. 従来の異方導電性コネクターの製造方法において、異方導電性エラストマー用材料層に作用される磁場の方向を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the direction of the magnetic field which acts on the anisotropically conductive elastomer material layer in the manufacturing method of the conventional anisotropically conductive connector.

符号の説明Explanation of symbols

1a 上部側アダプター装置
1b 下部側アダプター装置
2 ホルダー
3 位置決めピン
5 回路装置
6,7 被検査電極
10 異方導電性コネクター
11 フレーム板
12 開口
13,13A 離型性支持板
14 金属薄層
15 弾性異方導電膜
16 導電路形成部
16A 導電性エラストマー用材料層
16B 導電性エラストマー層
17 絶縁部
17A 絶縁部用材料層
18 レジスト層
18a 開口
19 金属マスク
20 アダプター本体
21,21b,21c 接続用電極
21a 接続用電極対
22 端子電極
23 内部配線部
25 接続用電極領域
50a 上部側検査ヘッド
50b 下部側検査ヘッド
51a,51b 検査電極装置
52a,52b 検査電極
53a,53b 電線
54a,54b 支柱
55a,55b 異方導電性シート
56a 上部側支持板
56b 下部側支持板
57a,57b コネクター
80 一方の型板
81 基板
82,82a,82b 強磁性体部
83 非磁性体部
85 他方の型板
86 基板
87,87a,87b 強磁性体部
88 非磁性体部
90 フレーム板
91 開口
95 異方導電性エラストマーシート
95A 異方導電性エラストマー用材料層
96 導電路形成部
97 絶縁部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1a Upper side adapter apparatus 1b Lower side adapter apparatus 2 Holder 3 Positioning pin 5 Circuit apparatus 6,7 Electrode 10 to be inspected 10 Anisotropic conductive connector 11 Frame board 12 Opening 13 and 13A Releasable support board 14 Metal thin layer 15 Elasticity difference Conductive film 16 Conductive path forming part 16A Conductive elastomer material layer 16B Conductive elastomer layer 17 Insulating part 17A Insulating part material layer 18 Resist layer 18a Opening 19 Metal mask 20 Adapter body 21, 21b, 21c Connection electrode 21a Connection Electrode pair 22 Terminal electrode 23 Internal wiring part 25 Connection electrode region 50a Upper side inspection head 50b Lower side inspection head 51a, 51b Inspection electrode device 52a, 52b Inspection electrode 53a, 53b Electric wire 54a, 54b Strut 55a, 55b Anisotropic conduction Sheet 56a Upper support plate 56b Lower support Holding plate 57a, 57b Connector 80 One template
81 Substrate 82, 82a, 82b Ferromagnetic part 83 Nonmagnetic part 85 Other template 86 Substrate 87, 87a, 87b Ferromagnetic part 88 Nonmagnetic part 90 Frame plate 91 Opening 95 Anisotropically conductive elastomer sheet 95A Material layer for anisotropic conductive elastomer 96 Conductive path forming portion 97 Insulating portion

Claims (10)

1または2以上の開口が形成されたフレーム板と、このフレーム板の開口を塞ぐよう配置され、当該フレーム板に支持された1または2以上の弾性異方導電膜とよりなり、前記弾性異方導電膜は、前記フレーム板の開口内に配置された、磁性を示す導電性粒子が厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されてなる厚み方向に伸びる複数の導電路形成部と、導電路形成部の周囲に形成された絶縁部とよりなる異方導電性コネクターを製造する方法であって、
離型性支持板上に支持された弾性高分子物質中に磁性を示す導電性粒子が厚み方向に並ぶよう配向した状態で分散されてなる導電性エラストマー層をレーザー加工することにより、当該離型性支持板上に複数の導電路形成部を形成し、
この離型性支持板に形成された導電路形成部の各々を、フレーム板の開口を塞ぐよう形成された、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材料よりなる絶縁部用材料層中に浸入させ、この状態で前記絶縁部用材料層を硬化処理することにより絶縁部を形成する工程を有することを特徴とする異方導電性コネクターの製造方法。
A frame plate having one or more openings formed therein, and one or more elastic anisotropic conductive films arranged to close the frame plate and supported by the frame plate, the elastic anisotropic The conductive film includes a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction, which are arranged in the opening of the frame plate, and are arranged in a state in which the conductive particles exhibiting magnetism are aligned in the thickness direction, and a conductive path formation A method of manufacturing an anisotropic conductive connector comprising an insulating portion formed around a portion,
By performing laser processing on the conductive elastomer layer in which the conductive particles exhibiting magnetism are aligned in the thickness direction in the elastic polymer material supported on the releasable support plate, the mold release is performed. Forming a plurality of conductive path forming portions on the conductive support plate,
Each of the conductive path forming portions formed on the releasable support plate is for an insulating portion made of a liquid polymer material forming material which is cured to become an elastic polymer material so as to close the opening of the frame plate. A method for manufacturing an anisotropic conductive connector, comprising the step of forming an insulating portion by intrusion into a material layer and curing the insulating material layer in this state.
レーザー加工は、炭酸ガスレーザーによるものであることを特徴とする請求項1に記載の異方導電性コネクターの製造方法。   The method of manufacturing an anisotropic conductive connector according to claim 1, wherein the laser processing is performed by a carbon dioxide laser. 導電性エラストマー層の表面に、形成すべき導電路形成部のパターンに従って金属マスクを形成し、その後、当該導電性エラストマー層をレーザー加工することにより、複数の導電路形成部を形成することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の異方導電性コネクターの製造方法。   A metal mask is formed on the surface of the conductive elastomer layer in accordance with the pattern of the conductive path forming portion to be formed, and then the conductive elastomer layer is laser processed to form a plurality of conductive path forming portions. A method for producing an anisotropic conductive connector according to claim 1 or 2. 導電性エラストマー層の表面をメッキ処理することにより、金属マスクを形成することを特徴とする請求項3に記載の異方導電性コネクターの製造方法。   4. The method of manufacturing an anisotropic conductive connector according to claim 3, wherein the metal mask is formed by plating the surface of the conductive elastomer layer. 導電性エラストマー層の表面に金属薄層を形成し、この金属薄層の表面に特定のパターンに従って開口が形成されたレジスト層を形成し、前記金属薄層における前記レジスト層の開口から露出した部分の表面をメッキ処理することにより、金属マスクを形成することを特徴とする請求項3に記載の異方導電性コネクターの製造方法。   A thin metal layer is formed on the surface of the conductive elastomer layer, a resist layer having an opening formed in accordance with a specific pattern is formed on the surface of the thin metal layer, and a portion of the thin metal layer exposed from the opening of the resist layer 4. The method of manufacturing an anisotropic conductive connector according to claim 3, wherein a metal mask is formed by plating the surface of the connector. 硬化されて弾性高分子物質となる液状のエラストマー用材料中に磁性を示す導電性粒子が含有されてなる導電性エラストマー用材料層に対して、その厚み方向に磁場を作用させると共に、当該導電性エラストマー用材料層を硬化処理することにより、導電性エラストマー層を形成することを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の異方導電性コネクターの製造方法。   A magnetic field is applied in the thickness direction to the conductive elastomer material layer in which conductive particles exhibiting magnetism are contained in a liquid elastomer material that is cured to become an elastic polymer substance. 6. The method for producing an anisotropic conductive connector according to claim 1, wherein the conductive elastomer layer is formed by curing the material layer for elastomer. 請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の製造方法によって得られることを特徴とする異方導電性コネクター。   An anisotropic conductive connector obtained by the manufacturing method according to claim 1. 表面に検査すべき回路装置における被検査電極に対応するパターンに従って複数の接続用電極が形成された接続用電極領域を有するアダプター本体と、
このアダプター本体の接続用電極領域上に配置された、当該アダプター本体における接続用電極に対応するパターンに従って形成された複数の導電路形成部を有する、請求項7に記載の異方導電性コネクターと
を具えてなることを特徴とするアダプター装置。
An adapter body having a connection electrode region in which a plurality of connection electrodes are formed according to a pattern corresponding to an electrode to be inspected in a circuit device to be inspected on the surface;
The anisotropic conductive connector according to claim 7, wherein the anisotropic conductive connector has a plurality of conductive path forming portions formed on a connection electrode region of the adapter main body and formed according to a pattern corresponding to the connection electrode in the adapter main body. An adapter device characterized by comprising:
表面に検査すべき回路装置における被検査電極に対応するパターンに従ってそれぞれ電流供給用および電圧測定用の2つの接続用電極からなる複数の接続用電極対が形成された接続用電極領域を有するアダプター本体と、
このアダプター本体の接続用電極領域上に配置された、当該アダプター本体における接続用電極に対応するパターンに従って形成された複数の導電路形成部を有する、請求項7に記載の異方導電性コネクターと
を具えてなることを特徴とするアダプター装置。
Adapter main body having a connection electrode region in which a plurality of connection electrode pairs each formed of two connection electrodes for current supply and voltage measurement are formed according to a pattern corresponding to an electrode to be inspected in a circuit device to be inspected on the surface When,
The anisotropic conductive connector according to claim 7, wherein the anisotropic conductive connector has a plurality of conductive path forming portions formed on a connection electrode region of the adapter main body and formed according to a pattern corresponding to the connection electrode in the adapter main body. An adapter device characterized by comprising:
請求項8または請求項9に記載のアダプター装置を具えてなることを特徴とする回路装置の電気的検査装置。
An electrical inspection device for a circuit device comprising the adapter device according to claim 8 or 9.
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