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JP2005337824A - Probe card and electrical performance inspection method - Google Patents

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JP2005337824A
JP2005337824A JP2004155381A JP2004155381A JP2005337824A JP 2005337824 A JP2005337824 A JP 2005337824A JP 2004155381 A JP2004155381 A JP 2004155381A JP 2004155381 A JP2004155381 A JP 2004155381A JP 2005337824 A JP2005337824 A JP 2005337824A
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Japan
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semiconductor chip
probe
electrical performance
probe card
semiconductor
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JP2004155381A
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Japanese (ja)
Inventor
Tadahisa Inui
忠久 乾
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

【課題】 積層した半導体チップより構成される半導体装置に対して、総合的な電気的性能検査を可能にするプローブカードと組み立て工程の生産性を高める電気的性能検査方法の提供を目的とする。
【解決手段】 半導体チップ8上に他の半導体チップ10を積層して形成された半導体装置に対して電気的性能検査を行うのに用いるプローブカードの、ホルダー(2a,2b,2c)に積層する半導体チップの厚み分の段差を設けることにより、プローブピン(5a,5b,5c)が両方の半導体チップの電極パッドに正しく接続することができるため、積層した半導体チップより構成される半導体装置に対して、総合的な電気的性能検査を可能にするプローブカードと組み立て工程の生産性を高める電気的性能検査方法を提供することができるものである。
【選択図】 図1
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a probe card capable of comprehensive electrical performance inspection for a semiconductor device composed of stacked semiconductor chips and an electrical performance inspection method for improving productivity of an assembly process.
A probe card used for performing an electrical performance test on a semiconductor device formed by stacking another semiconductor chip on a semiconductor chip is stacked on a holder (2a, 2b, 2c). By providing a step corresponding to the thickness of the semiconductor chip, the probe pins (5a, 5b, 5c) can be correctly connected to the electrode pads of both semiconductor chips. Thus, it is possible to provide a probe card that enables comprehensive electrical performance inspection and an electrical performance inspection method that increases the productivity of the assembly process.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、積層半導体集積回路装置の電気的性能検査に用いるプローブカードと、それを用いた電気的性能検査方法に関するものである。   The present invention relates to a probe card used for electrical performance inspection of a laminated semiconductor integrated circuit device and an electrical performance inspection method using the same.

以下、従来のプローブ検査について説明する。
図7は従来のプローブカードとプローバステージの断面構造,図8は従来の電気的性能検査時のプローブカードとプローバステージの断面構造図である。
Hereinafter, conventional probe inspection will be described.
FIG. 7 is a cross-sectional structure of a conventional probe card and a prober stage, and FIG. 8 is a cross-sectional structure diagram of a probe card and a prober stage during a conventional electrical performance test.

まず、従来のプローブカードとプローバステージの構成について説明する。
図7において、ベース1に複数のコネクター3とその内周にリング4が取り付けられ、複数のコネクター3と複数のプローブピン5の根元が各々接続している。プローブピン5の先端は半導体ウエーハ8の電極パッドに接触し易いように折り曲げられている。リング4とプローブピン5を固定材6で固定し、プローブピン5の配置を補正する。ステージ7上に半導体ウエーハ8を回路面が上向きになるように配置し、半導体ウエーハ8回路面に形成した半導体チップの複数電極パッドに各々プローブピン5の先端が接触可能なように配置する。
First, the configuration of a conventional probe card and prober stage will be described.
In FIG. 7, a plurality of connectors 3 and a ring 4 are attached to the base 1 on the inner periphery thereof, and the bases of the plurality of connectors 3 and the plurality of probe pins 5 are connected to each other. The tip of the probe pin 5 is bent so as to be in contact with the electrode pad of the semiconductor wafer 8. The ring 4 and the probe pin 5 are fixed with a fixing material 6 to correct the arrangement of the probe pin 5. The semiconductor wafer 8 is arranged on the stage 7 so that the circuit surface faces upward, and the tip of the probe pin 5 is arranged so as to be in contact with the plurality of electrode pads of the semiconductor chip formed on the circuit surface of the semiconductor wafer 8.

以上のように構成された従来のプローブ検査の動作について図8を用いて説明する。
図8のように、ステージ7が上昇することによりプローブピン5の先端がステージ7上に配置した半導体ウエーハ8の複数電極パッドに接触し、電気的性能検査を行う。
The operation of the conventional probe inspection configured as described above will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 8, when the stage 7 is raised, the tip of the probe pin 5 comes into contact with the plurality of electrode pads of the semiconductor wafer 8 disposed on the stage 7, and an electrical performance test is performed.

積層した半導体チップより構成される半導体装置を製造する場合も、従来は各々の半導体チップは積層する前にウエーハ状態で電気的性能検査を行い、その後、個々の半導体チップに分断して半導体装置として組み立てられる(例えば、特許文献1参照)。
特開平9−102520号公報
Even in the case of manufacturing a semiconductor device composed of stacked semiconductor chips, conventionally, each semiconductor chip is subjected to an electrical performance inspection in a wafer state before being stacked, and then divided into individual semiconductor chips as semiconductor devices. It is assembled (see, for example, Patent Document 1).
JP-A-9-102520

しかしながら、積層した半導体チップより構成される半導体装置を製造する場合、積層する前にウエーハ状態で電気的性能検査を行うと、積層した半導体チップ間の整合性までは検査できず、総合的な電気的性能検査は組み立て工程後となる。   However, when manufacturing a semiconductor device composed of stacked semiconductor chips, if the electrical performance inspection is performed in a wafer state before stacking, the consistency between the stacked semiconductor chips cannot be inspected. The performance inspection is after the assembly process.

この時、各々ウエーハ状態時での電気的性能検査結果と、ウエーハから分断し半導体チップを積層した状態での総合的な電気的性能結果が異なる場合がある。つまり、各々の半導体チップは電気的性能検査良品であっても、積層した半導体チップとしては電気的検査良品でない場合もあり、生産ロスが発生し、組み立て工程の生産性が低下することがあるという問題点があった。   At this time, the electrical performance inspection result in each wafer state may be different from the overall electrical performance result in the state where the semiconductor chips are separated from the wafer and stacked. In other words, even if each semiconductor chip is a non-defective product for electrical performance inspection, the stacked semiconductor chip may not be a good product for electrical inspection, resulting in production loss and reduced assembly process productivity. There was a problem.

本発明は、積層した半導体チップより構成される半導体装置に対して、総合的な電気的性能検査を可能にするプローブカードと組み立て工程の生産性を高める電気的性能検査方法の提供を目的とする。   An object of the present invention is to provide a probe card that enables a comprehensive electrical performance test for a semiconductor device composed of stacked semiconductor chips and an electrical performance test method that increases the productivity of the assembly process. .

上記目的を達成するために、本発明の請求項1記載のプローブカードは、第1の半導体チップ上に第2の半導体チップを積層して形成された半導体装置に対する電気的性能検査に用いるプローブカードであって、全体の骨格となるベースと、前記ベースに設置され独立して可動する複数のホルダーと、前記ホルダー毎に固定され外部の検査装置と電気的に接続する複数のコネクターと、前記それぞれのコネクターに電気的に接続され前記第1の半導体チップまたは前記第2の半導体チップの対応する電極パッドに電気的に接続される複数のプローブピンとを有し、前記プローブピンの先端部分の前記半導体装置に対する垂直方向の高さが、接続される半導体チップに対応して異なることを特徴とする。   To achieve the above object, a probe card according to claim 1 of the present invention is a probe card used for electrical performance inspection of a semiconductor device formed by stacking a second semiconductor chip on a first semiconductor chip. A base as a whole skeleton, a plurality of holders installed on the base and independently movable, a plurality of connectors fixed to each holder and electrically connected to an external inspection device, And a plurality of probe pins electrically connected to corresponding electrode pads of the first semiconductor chip or the second semiconductor chip, and the semiconductor at the tip portion of the probe pin The height in the vertical direction with respect to the device is different according to the semiconductor chip to be connected.

請求項2記載のプローブカードは、請求項1記載のプローブカードにおいて、前記第2の半導体チップに対応する前記ホルダーの厚さを、前記第1の半導体チップに対応する前記ホルダーの厚さより前記第2の半導体チップの厚さ分薄くすることにより、前記プローブピンの先端部分の前記半導体装置に対する垂直方向の高さに差異を設けることを特徴とする。   The probe card according to claim 2 is the probe card according to claim 1, wherein the thickness of the holder corresponding to the second semiconductor chip is set to be greater than the thickness of the holder corresponding to the first semiconductor chip. By reducing the thickness of the semiconductor chip 2 by the thickness, a difference is provided in the height in the vertical direction of the tip portion of the probe pin with respect to the semiconductor device.

請求項3記載のプローブカードは、請求項1記載のプローブカードにおいて、前記第2の半導体チップに対応する前記プローブピンの先端部分の前記半導体装置に対する垂直方向の高さが前記第1の半導体チップに対応する前記プローブピンの先端部分の前記半導体装置に対する垂直方向の高さより前記第2の半導体チップの厚さ分低くなるように、前記第1の半導体チップに対応する前記プローブピンの長さより前記第2の半導体チップに対応する前記プローブピンの長さを短くすることを特徴とする。   The probe card according to claim 3 is the probe card according to claim 1, wherein a height of a tip portion of the probe pin corresponding to the second semiconductor chip in a direction perpendicular to the semiconductor device is the first semiconductor chip. The length of the probe pin corresponding to the first semiconductor chip is lower than the height of the tip portion of the probe pin corresponding to the height of the second semiconductor chip than the height in the direction perpendicular to the semiconductor device. The length of the probe pin corresponding to the second semiconductor chip is shortened.

請求項4記載のプローブカードは、請求項1または請求項2または請求項3のいずれか記載のプローブカードにおいて、前記ホルダーがベアリングを介して前記ベースに設置されることによりホルダーが可動となることを特徴とする。   The probe card according to claim 4 is the probe card according to claim 1 or claim 2 or claim 3, wherein the holder becomes movable by being installed on the base via a bearing. It is characterized by.

請求項5記載のプローブカードは、請求項1または請求項2または請求項3のいずれか記載のプローブカードにおいて、前記ホルダーがシリコーンゴムを介して前記ベースに設置されることによりホルダーが可動となることを特徴とする。   The probe card according to claim 5 is the probe card according to claim 1 or claim 2 or claim 3, wherein the holder becomes movable when the holder is placed on the base via silicone rubber. It is characterized by that.

請求項6記載の電気的性能検査方法は、第1の半導体チップ上に第2の半導体チップを積層して形成された半導体装置に対する電気的性能検査を請求項1または請求項2または請求項3のいずれかに記載のプローブカードを用いて行う電気的性能検査方法であって、前記プローブカードを介して前記第1の半導体チップと前記第2の半導体チップの接続を行うと共に、前記半導体チップの電極パッドとプローブピンの接続状態を最適化することを特徴とする。   6. The electrical performance inspection method according to claim 6, wherein electrical performance inspection is performed on a semiconductor device formed by stacking a second semiconductor chip on a first semiconductor chip. An electrical performance inspection method performed using the probe card according to any one of the above, wherein the first semiconductor chip and the second semiconductor chip are connected via the probe card, and the semiconductor chip The connection state between the electrode pad and the probe pin is optimized.

請求項7記載の電気的性能検査方法は、第1の半導体チップ上に第2の半導体チップを積層して形成された半導体装置に対する、リードフレームに搭載した状態での電気的性能検査を請求項1または請求項2または請求項3のいずれかに記載のプローブカードを用いて行う電気的性能検査方法であって、前記プローブカードを介して前記第1の半導体チップと前記第2の半導体チップの接続を行うと共に、前記半導体チップの電極パッドとプローブピンの接続状態を最適化することを特徴とする。   The electrical performance inspection method according to claim 7 is an electrical performance inspection in a state where the semiconductor device is formed by stacking the second semiconductor chip on the first semiconductor chip and mounted on the lead frame. An electrical performance inspection method using the probe card according to claim 1 or claim 2, wherein the first semiconductor chip and the second semiconductor chip are connected via the probe card. The connection is performed and the connection state between the electrode pad of the semiconductor chip and the probe pin is optimized.

以上により、積層した半導体チップより構成される半導体装置に対して、総合的な電気的性能検査を可能にするプローブカードと組み立て工程の生産性を高める電気的性能検査方法を提供することができる。   As described above, it is possible to provide a probe card that enables comprehensive electrical performance inspection and an electrical performance inspection method that enhances the productivity of the assembly process for a semiconductor device composed of stacked semiconductor chips.

本発明は、半導体チップ上に他の半導体チップを積層して形成された半導体装置に対して電気的性能検査を行うのに用いるプローブカードのプローブピンの電極パッドと接続する先端部分の半導体装置に対する垂直方向の高さ(以下、プローブピンの先端部分の高さと称す)に積層する半導体チップの厚み分に相当する差を設けることにより、プローブピンが両方の半導体チップの電極パッドに正しく接続することができるため、積層した半導体チップより構成される半導体装置に対して、総合的な電気的性能検査を可能にするプローブカードと組み立て工程の生産性を高める検査方法を提供することができるものである。   The present invention relates to a semiconductor device at a tip portion connected to an electrode pad of a probe pin of a probe card used for performing an electrical performance test on a semiconductor device formed by stacking another semiconductor chip on a semiconductor chip. Proper connection of the probe pin to the electrode pads of both semiconductor chips by providing a difference corresponding to the thickness of the semiconductor chip to be stacked on the vertical height (hereinafter referred to as the height of the tip of the probe pin) Therefore, it is possible to provide a probe card that enables comprehensive electrical performance inspection and an inspection method that increases the productivity of the assembly process for a semiconductor device composed of stacked semiconductor chips. .

特に、ホルダーに積層する半導体チップの厚み分の段差を設けることにより、プローブピンが両方の半導体チップの電極パッドに正しく接続することができるため、積層した半導体チップより構成される半導体装置に対して、総合的な電気的性能検査を可能にするプローブカードと組み立て工程の生産性を高める電気的性能検査方法を提供することができるものである。   In particular, by providing a step corresponding to the thickness of the semiconductor chip to be stacked on the holder, the probe pin can be correctly connected to the electrode pads of both semiconductor chips. It is possible to provide a probe card that enables comprehensive electrical performance inspection and an electrical performance inspection method that increases the productivity of the assembly process.

また、プローブピンの長さに積層する半導体チップの厚み分に相当する差を設けることにより、プローブピンが両方の半導体チップの電極パッドに正しく接続することができるため、積層した半導体チップより構成される半導体装置に対して、総合的な電気的性能検査を可能にするプローブカードと組み立て工程の生産性を高める検査方法を提供することができるものである。   Also, by providing a difference corresponding to the thickness of the semiconductor chip to be stacked on the length of the probe pin, the probe pin can be correctly connected to the electrode pads of both semiconductor chips, and therefore, it is composed of stacked semiconductor chips. Therefore, it is possible to provide a probe card that enables comprehensive electrical performance inspection and an inspection method that increases the productivity of the assembly process.

本発明のプローブカードは、半導体チップを積層して形成された半導体装置に対する電気的性能検査に用い、プローブピンの先端部分の高さを、接続する半導体チップに対応して異なるものにしている。   The probe card of the present invention is used for electrical performance inspection of a semiconductor device formed by stacking semiconductor chips, and the height of the tip portion of the probe pin is made different according to the semiconductor chip to be connected.

例えば、第1の半導体チップ上に第2の半導体チップを積層して形成された半導体装置に対して電気的性能検査を行う場合、あらかじめ、第2の半導体チップに接続するプローブピンを第2の半導体チップの厚さ分だけ第1の半導体チップに接続するプローブピンの先端部分の高さより高くしている。   For example, when an electrical performance test is performed on a semiconductor device formed by stacking a second semiconductor chip on a first semiconductor chip, a probe pin connected to the second semiconductor chip is previously connected to the second semiconductor chip. The height of the tip of the probe pin connected to the first semiconductor chip is made higher by the thickness of the semiconductor chip.

以上のように、プローブピンの先端部分の高さが接続される半導体チップに対応して異なることにより、検査時に、プローブピンが両方の半導体チップの電極パッドに正しく接続することができるため、積層した半導体チップより構成される半導体装置に対して、総合的な電気的性能検査を可能にするプローブカードと組み立て工程の生産性を高める検査方法を提供することができるものである。
(実施の形態1)
以下、本発明の実施の形態1について、図面を参照しながら説明する。
図1は本発明の実施の形態1におけるプローブカードとプローバステージの断面構造図を示すものである。
As described above, since the height of the tip portion of the probe pin differs corresponding to the semiconductor chip to be connected, the probe pin can be correctly connected to the electrode pads of both semiconductor chips at the time of inspection. Thus, it is possible to provide a probe card that enables comprehensive electrical performance inspection and an inspection method that increases the productivity of the assembly process for a semiconductor device including the semiconductor chip.
(Embodiment 1)
Embodiment 1 of the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 shows a cross-sectional structure diagram of a probe card and a prober stage according to Embodiment 1 of the present invention.

図1において、ベース1は全体の骨格となる。ホルダー2a・2b・2cはベース1と並行あるいは下方に位置する。コネクター3a・3b・3cはホルダー2a・2b・2cの下方に、固定部6a・6b・6cもホルダー2a・2b・2cの下方に位置する。コネクター3a・3b・3cはホルダー2a・2b・2cの各々外周に位置し、リング4a・4b・4cはホルダー2a・2b・2cの各々内周に位置する。プローブピン5a・5b・5cはコネクター3a・3b・3cと根元で接続し、固定材6a・6b・6cはプローブピン5a・5b・5cの中間付近でリング4a・4b・4c下部に位置し、それぞれプローブピン5a・5b・5cを固定する。ステージ7はベース1の下方に位置し、半導体ウエーハ8はステージ7上に、半導体チップ10は接着剤9を介して半導体ウエーハ8上に位置する。   In FIG. 1, the base 1 is the entire skeleton. The holders 2a, 2b, and 2c are positioned parallel to or below the base 1. The connectors 3a, 3b, and 3c are positioned below the holders 2a, 2b, and 2c, and the fixing portions 6a, 6b, and 6c are also positioned below the holders 2a, 2b, and 2c. The connectors 3a, 3b and 3c are located on the outer circumferences of the holders 2a, 2b and 2c, and the rings 4a, 4b and 4c are located on the inner circumferences of the holders 2a, 2b and 2c. The probe pins 5a, 5b, and 5c are connected to the connectors 3a, 3b, and 3c at the base, and the fixing members 6a, 6b, and 6c are positioned below the rings 4a, 4b, and 4c near the middle of the probe pins 5a, 5b, and 5c, The probe pins 5a, 5b and 5c are fixed respectively. The stage 7 is located below the base 1, the semiconductor wafer 8 is located on the stage 7, and the semiconductor chip 10 is located on the semiconductor wafer 8 via the adhesive 9.

次に、図1のプローブカードとプローバステージの構成について説明する。
ベース1は全体の骨格、ホルダー2a・2b・2cは各プローブピンを物理的に支持するパーツ、コネクター3a・3b・3cは各プローブピンを検査機器と電気的に接続するためのパーツ、リング4a・4b・4cは各プローブピンの高精度配置を補助するパーツ、プローブピン5a・5b・5cは半導体ウエーハの電極パッドに接触し電気的に接続するパーツ、固定材6a・6b・6cは各プローブピンの配置を固定するパーツ、ステージ7はウエーハを配置・固定するパーツである。
Next, the configuration of the probe card and prober stage of FIG. 1 will be described.
The base 1 is the entire skeleton, the holders 2a, 2b, and 2c are the parts that physically support each probe pin, the connectors 3a, 3b, and 3c are the parts that electrically connect each probe pin to the inspection equipment, and the ring 4a 4b and 4c are parts for assisting high-precision placement of each probe pin, probe pins 5a, 5b and 5c are parts which are in contact with and electrically connected to electrode pads of the semiconductor wafer, and fixing members 6a, 6b and 6c are probes. The part 7 for fixing the pin arrangement is a part for arranging and fixing the wafer.

ベース1にベアリング(図示せず)を介することで上下に可動する複数のホルダー2a・2b・2cを組み込み、ホルダー毎に複数のコネクター3a・3b・3cとその内周にリング4a・4b・4cが取り付けられ、コネクター3a・3b・3cと複数のプローブピン5a・5b・5cの根元が各々接続している。プローブピン5a・5b・5cの先端は積層した半導体チップ10と半導体ウエーハ8の電極パッドに接触し易いように折り曲げられている。固定材6a・6b・6cはプローブピン5a・5b・5cの折り曲げ部位とコネクター3a・3b・3cとの間に位置し、リング4a・4b・4cとプローブピン5a・5b・5cを固定し、プローブピン5a・5b・5cの配置を補正する。ステージ7は上下に可動する。ここで、ホルダー2aとホルダー2b・2cの厚さは、積層する半導体チップ10の厚さの分だけ差がある。   A plurality of holders 2 a, 2 b, 2 c that can be moved up and down via bearings (not shown) are incorporated in the base 1, and a plurality of connectors 3 a, 3 b, 3 c and rings 4 a, 4 b, 4 c on the inner periphery of each holder Are attached, and the bases of the connectors 3a, 3b, 3c and the probe pins 5a, 5b, 5c are connected to each other. The tips of the probe pins 5 a, 5 b, and 5 c are bent so as to be in contact with the stacked semiconductor chip 10 and the electrode pads of the semiconductor wafer 8. The fixing members 6a, 6b, and 6c are located between the bent portions of the probe pins 5a, 5b, and 5c and the connectors 3a, 3b, and 3c, and fix the rings 4a, 4b, and 4c and the probe pins 5a, 5b, and 5c, The arrangement of the probe pins 5a, 5b and 5c is corrected. The stage 7 is movable up and down. Here, the thicknesses of the holder 2a and the holders 2b and 2c differ by the thickness of the semiconductor chip 10 to be laminated.

以上のように構成された本発明の実施の形態1におけるプローブカードとプローバステージの動作を図2で説明する。
図2は本発明の実施の形態1における電気的性能検査時のプローブカードと積層した半導体チップの断面構造図を示すものである。
The operation of the probe card and the prober stage configured as described above according to Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 2 shows a cross-sectional structure diagram of the semiconductor chip laminated with the probe card at the time of electrical performance inspection in Embodiment 1 of the present invention.

ステージ7が上昇することにより、プローブピン5aの先端が半導体チップ10の電極パッドに接触し、プローブピン5b・5cの先端が半導体ウエーハ8の電極パッドに接触する。半導体ウエーハ8に積層した半導体チップ10の電極パッドでは、半導体チップ10の厚さ分(100〜300μm)の段差が生じるが、ホルダー2a・2b・2cのホルダー間の段差が、厚さ分の段差を相殺する。さらにホルダーが可動であることにより各々の電極パッドに対し、プローブピンが均一に接触するようにホルダーの位置を調節して最適化することができる。   As the stage 7 moves up, the tips of the probe pins 5 a come into contact with the electrode pads of the semiconductor chip 10, and the tips of the probe pins 5 b and 5 c come into contact with the electrode pads of the semiconductor wafer 8. In the electrode pad of the semiconductor chip 10 laminated on the semiconductor wafer 8, a step corresponding to the thickness of the semiconductor chip 10 (100 to 300 μm) is generated, but the step between the holders 2a, 2b, and 2c is a step corresponding to the thickness. Offset. Further, since the holder is movable, the position of the holder can be adjusted and optimized so that the probe pins are in uniform contact with each electrode pad.

プローバステージの上昇に伴いプローブピンと半導体ウエーハの電極パッドが物理的に非接触状態から接触状態に移り変わるが、この初期接触時の移動点より更に上昇させた場合の移動点までプローバステージ移動量がオーバードライブ量である。100μm未満を低オーバードライブ、100μm以上を高オーバードライブと区別し、本説明でのオーバードライブ量は上層の半導体チップ10を対象として示す。   As the prober stage is raised, the probe pin and the electrode pad of the semiconductor wafer are physically changed from the non-contact state to the contact state, but the prober stage movement amount exceeds the movement point when it is further raised from the movement point at the initial contact. Drive amount. A less than 100 μm is distinguished from a low overdrive, and a 100 μm or more is distinguished from a high overdrive.

比較として、図9に従来のプローブカードとプローバステージを用い低オーバードライブ量にて、積層した半導体チップを電気的性能検査した場合の断面構造を示す。
上層の半導体チップ10の電極パッドにはプローブピン5aが接触するが、下層の半導体ウエーハ8の電極パッドにはプローブピン1b・1cが接触せず、電気的導通を得られず、電気的性能検査が出来ない。
For comparison, FIG. 9 shows a cross-sectional structure in the case where an electrical performance test is performed on stacked semiconductor chips with a low overdrive amount using a conventional probe card and a prober stage.
The probe pins 5a are in contact with the electrode pads of the upper semiconductor chip 10, but the probe pins 1b and 1c are not in contact with the electrode pads of the lower semiconductor wafer 8, so that electrical continuity cannot be obtained, and electrical performance inspection is performed. I can't.

もうひとつの比較として、図10に従来のプローブカードとプローバステージを用いて、高オーバードライブ量にて、積層した半導体チップを電気的性能検査した場合の断面構造を示す。   As another comparison, FIG. 10 shows a cross-sectional structure when a stacked semiconductor chip is inspected for electrical performance with a high overdrive amount using a conventional probe card and a prober stage.

下層の半導体ウエーハ8の電極パッドにはプローブピン1b・1cが接触するが、上層の半導体チップ10の電極パッドにはプローブピン5aが過剰に接触し、電極パッドの損傷・破損を引き起こし、電気的性能検査が出来ない。   The probe pins 1b and 1c are in contact with the electrode pads of the lower semiconductor wafer 8, but the probe pins 5a are excessively in contact with the electrode pads of the upper semiconductor chip 10, causing damage and breakage of the electrode pads. The performance inspection is not possible.

本発明の実施の形態1では、以上のような電極パッドの損傷・破損を引き起こすことなく、プローブピンが確実に電極パッドに接触し、積層した半導体チップと半導体ウエーハの整合性を含めた、電気的性能検査を実施できる。   In the first embodiment of the present invention, the probe pin reliably contacts the electrode pad without causing the damage or breakage of the electrode pad as described above, and the electrical characteristics including the matching between the stacked semiconductor chip and the semiconductor wafer are included. Performance tests can be performed.

尚、本発明の実施の形態1ではベース5に組み込むホルダー8はベアリングを介して上下に可動すると説明したが、ベアリングを使わず、伸縮性のあるシリコーンゴムを介することで上下に可動する構成もある。
(実施の形態2)
次に、本発明の第2実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
In the first embodiment of the present invention, it has been described that the holder 8 incorporated in the base 5 can be moved up and down via a bearing. However, there is a configuration in which the holder 8 is movable up and down by using elastic silicone rubber without using a bearing. is there.
(Embodiment 2)
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図3は本発明の実施の形態2におけるプローブカードとプローバステージの断面構造図である。
ベース1は全体の骨格となる。ホルダー2a・2b・2cはベース1と同位あるいは下方に位置する。コネクター3a・3b・3cはホルダー2a・2b・2cに下方に、固定部6a・6b・6cもホルダー2a・2b・2cに下方に位置する。コネクター3a・3b・3cはホルダー2a・2b・2cの外周に位置し、リング4a・4b・4cはホルダー2a・2b・2cの内周に位置する。
FIG. 3 is a cross-sectional structure diagram of the probe card and the prober stage according to the second embodiment of the present invention.
Base 1 is the entire skeleton. The holders 2a, 2b, and 2c are located at the same level as or below the base 1. The connectors 3a, 3b, and 3c are positioned below the holders 2a, 2b, and 2c, and the fixing portions 6a, 6b, and 6c are positioned below the holders 2a, 2b, and 2c. The connectors 3a, 3b, and 3c are positioned on the outer periphery of the holders 2a, 2b, and 2c, and the rings 4a, 4b, and 4c are positioned on the inner periphery of the holders 2a, 2b, and 2c.

プローブピン5a・5b・5cはコネクター3a・3b・3cと各々の根元で接続し、固定部6a・6b・6cはプローブピン5a・5b・5cの中間付近でリング4a・4b・4c下部に位置する。   The probe pins 5a, 5b, and 5c are connected to the connectors 3a, 3b, and 3c at their respective bases, and the fixing portions 6a, 6b, and 6c are positioned below the rings 4a, 4b, and 4c near the middle of the probe pins 5a, 5b, and 5c. To do.

ステージ7はベース5の下方に位置し、半導体ウエーハ8はステージ7上に、半導体チップ10は接着剤9を介して半導体ウエーハ8上に位置する。
次に、図3のプローブカードとプローバステージの構成について説明する。
The stage 7 is positioned below the base 5, the semiconductor wafer 8 is positioned on the stage 7, and the semiconductor chip 10 is positioned on the semiconductor wafer 8 via the adhesive 9.
Next, the configuration of the probe card and prober stage of FIG. 3 will be described.

骨格となるベース1にベアリング(図示せず)を介することで上下に可動する複数のホルダー2a・2b・2cを組み込み、ホルダー2a・2b・2c毎に複数のコネクター3a・3b・3cとその内周にリング4a・4b・4cが取り付けられ、コネクター3a・3b・3cと複数のプローブピン5a・5b・5cの根元が各々接続している。プローブピン5a・5b・5cの先端は半導体ウエーハ8と半導体チップ10の電極パッドに接触し易いように折り曲げられ、固定部6a・6b・6cはプローブピン5a・5b・5cの折り曲げ部位とコネクター3a・3b・3cとの間に位置し、リング4a・4b・4cとプローブピン4a・4b・4cを固定し、プローブピン4a・4b・4cの配置を補正する。ステージ7は上下に可動する。プローブピン5aの先端側の長さはプローブピン5b・5cの先端側の長さと異なり、プローブピン5b・5cの先端部分の高さよりプローブピン5aの先端部分の高さを半導体チップ9の厚さ分高くなる構成である。   A plurality of holders 2 a, 2 b, 2 c that can be moved up and down via bearings (not shown) are incorporated in the base 1 that is a skeleton, and a plurality of connectors 3 a, 3 b, 3 c and the inside of each holder 2 a, 2 b, 2 c Rings 4a, 4b, and 4c are attached to the periphery, and the bases of the connectors 3a, 3b, and 3c and the plurality of probe pins 5a, 5b, and 5c are connected to each other. The tips of the probe pins 5a, 5b, and 5c are bent so as to be in contact with the semiconductor wafer 8 and the electrode pads of the semiconductor chip 10, and the fixing portions 6a, 6b, and 6c are bent at the probe pins 5a, 5b, and 5c and the connector 3a. Positioned between 3b and 3c, the rings 4a, 4b, and 4c and the probe pins 4a, 4b, and 4c are fixed, and the arrangement of the probe pins 4a, 4b, and 4c is corrected. The stage 7 is movable up and down. The length of the distal end side of the probe pin 5a is different from the length of the distal end side of the probe pins 5b and 5c, and the height of the distal end portion of the probe pin 5a is set to the thickness of the semiconductor chip 9 from the height of the distal end portion of the probe pins 5b and 5c. It is a configuration that becomes higher by a minute.

以上のように構成された本発明のプローブカードとプローバステージの動作について図4を用いて説明する。
図4は本発明の実施の形態2における電気的性能検査時のプローブカードと積層した半導体チップの断面構造図である。
The operation of the probe card and the prober stage of the present invention configured as described above will be described with reference to FIG.
FIG. 4 is a cross-sectional structure diagram of a semiconductor chip laminated with a probe card at the time of electrical performance inspection in Embodiment 2 of the present invention.

ステージ7が上昇することによりプローブピン5aの先端が半導体チップ10の電極パッドに接触し、プローブピン5b・5cの先端がウエーハ8の電極パッドに接触する。ウエーハ8に積層した半導体チップ10の電極パッドでは、半導体チップ9の厚さ分(100〜300μm)の段差が生じるが、プローブピン5b・5cの先端部分の高さよりプローブピン5aの先端部分の高さを半導体チップ9の厚さ分高くすることにより半導体チップ10厚の段差を相殺する。さらに、ホルダー4a・4b・4cの可動により各々の電極パッドに対し、プローブピンが均一に接触する。また、プローブピン5a・5b・5cの折り曲げ部より根元側の形状は一定の長さに留めることにより、チップ厚段差のある電極パッド表面への応力が均等になり、プローブ痕は均一で且つ小さくできる。   As the stage 7 moves up, the tips of the probe pins 5 a come into contact with the electrode pads of the semiconductor chip 10, and the tips of the probe pins 5 b and 5 c come into contact with the electrode pads of the wafer 8. In the electrode pad of the semiconductor chip 10 stacked on the wafer 8, a step corresponding to the thickness of the semiconductor chip 9 (100 to 300 μm) occurs, but the height of the tip of the probe pin 5a is higher than the height of the tip of the probe pins 5b and 5c. By increasing the thickness by the thickness of the semiconductor chip 9, the step of the semiconductor chip 10 is offset. Further, the probe pins uniformly contact each electrode pad by the movement of the holders 4a, 4b, and 4c. Further, by keeping the shape of the base side from the bent part of the probe pins 5a, 5b, and 5c to a fixed length, the stress on the electrode pad surface with the chip thickness step becomes uniform, and the probe trace is uniform and small. it can.

したがって、本発明の実施の形態2におけるプローブカードでは、電極パッドの損傷・破損を引き起こすことなく、プローブピンが確実に電極パッドに接触し、積層した半導体チップと半導体ウエーハの整合性を含めた、電気的性能検査を実施できる。
(実施の形態3)
次に、本発明の実施の形態3におけるプローブカードを用いた検査方法について図5を参照しながら説明する。
Therefore, in the probe card according to the second embodiment of the present invention, the probe pin surely contacts the electrode pad without causing damage / breakage of the electrode pad, and includes the consistency between the stacked semiconductor chip and the semiconductor wafer. Conduct electrical performance tests.
(Embodiment 3)
Next, an inspection method using the probe card according to Embodiment 3 of the present invention will be described with reference to FIG.

図5は本発明の実施の形態3における電気的性能検査時のプローブカードと積層した半導体チップの断面構造図である。
図5において、まず、上層になる半導体チップ10はウエーハ状態ではチップ毎に電気的性能検査を実施しないままバックグラインド工程とダイシング工程を経て、個々に分断する。次に、下層になる半導体ウエーハ8もウエーハ状態ではチップ毎には電気的性能検査を実施しないまま、半導体ウエーハ8回路面上に半導体チップ10を回路面が上向きとなるように接着剤9を介して接着する。この時点で半導体チップ10を積層した半導体ウエーハ8が存在する。半導体チップ10を積層した半導体ウエーハ8をプローバステージ7の上に配置し、本発明の実施の形態1または実施の形態2におけるプローブカードを用いて、半導体チップ10の外部導出用電極パッドにプローブピン1aを接触、半導体ウエーハ8の内部インターフェース用の電極パッドにプローブピン1bを接触、半導体ウエーハ8の外部導出用電極パッドにプローブピン1cを接触させ、電気的に接続する。この時、プローブピンの先端部分の高さに半導体チップ10の厚さ分の差があるため、両半導体チップへのプローブピンの接続が可能となり、さらに、上下に可動するホルダーにより、より確実な接続状態となるようにプローブピンの高さを調整して接続状態の最適化が可能となる。また、半導体ウエーハ8の内部インターフェース用電極パッドと、内部インターフェース用電極パッドと後工程にてワイヤーで結線し電気的に導通する半導体チップ10の外部導出用電極パッドがプローブカード内の回路を通じて導通することにより、個々の半導体チップの電気的性能検査のみならず、ウエーハ8上に積層した半導体チップ10を1つのユニットとなった半導体チップとして整合性を含めた電気的性能検査が実施できる。
(実施の形態4)
次に、本発明の実施の形態4におけるプローブカードを用いた検査方法について図6を参照しながら説明する。
FIG. 5 is a cross-sectional structure diagram of a semiconductor chip laminated with a probe card at the time of electrical performance inspection in Embodiment 3 of the present invention.
In FIG. 5, first, the semiconductor chip 10 as an upper layer is divided individually through a back grinding process and a dicing process without performing an electrical performance inspection for each chip in the wafer state. Next, in the wafer state, the lower semiconductor wafer 8 is not subjected to electrical performance inspection for each chip, and the semiconductor chip 10 is placed on the circuit surface of the semiconductor wafer 8 with the adhesive 9 so that the circuit surface faces upward. And glue. At this point, there is a semiconductor wafer 8 in which the semiconductor chips 10 are stacked. A semiconductor wafer 8 on which a semiconductor chip 10 is laminated is placed on a prober stage 7, and a probe pin is connected to an external lead electrode pad of the semiconductor chip 10 using the probe card according to the first or second embodiment of the present invention. 1a is brought into contact, the probe pin 1b is brought into contact with the internal interface electrode pad of the semiconductor wafer 8, and the probe pin 1c is brought into contact with the external lead-out electrode pad of the semiconductor wafer 8 to be electrically connected. At this time, since there is a difference in the thickness of the tip of the probe pin by the thickness of the semiconductor chip 10, the probe pin can be connected to both semiconductor chips, and further, the holder that can be moved up and down is more reliable. It is possible to optimize the connection state by adjusting the height of the probe pin so as to be in the connection state. Also, the internal interface electrode pad of the semiconductor wafer 8 and the external interface electrode pad of the semiconductor chip 10 which is electrically connected to the internal interface electrode pad by a wire in a subsequent process are electrically connected through a circuit in the probe card. As a result, not only the electrical performance inspection of individual semiconductor chips, but also the electrical performance inspection including consistency can be performed as a semiconductor chip in which the semiconductor chip 10 laminated on the wafer 8 is formed as one unit.
(Embodiment 4)
Next, an inspection method using a probe card according to Embodiment 4 of the present invention will be described with reference to FIG.

図6は本発明の実施の形態4における電気的性能検査時のプローブカードと積層した半導体チップの断面構造図である。
図6において、まず、下層になる半導体チップ14はウエーハ状態ではチップ毎に電気的性能検査を実施しないままバックグラインド工程とダイシング工程を経て、個々の半導体チップに分断する。次に、上層になる半導体チップ10もウエーハ状態ではチップ毎に電気的性能検査を実施しないままバックグラインド工程とダイシング工程を経て、個々の半導体チップに分断する。その後、半導体チップ14を回路面が上向きになるようにリードフレーム11上に絶縁性接着剤12を介して固着し、半導体チップ14の回路面上に半導体チップ10を回路面が上向きになるように接着フィルム13を介して固着する。リードフレームが搬送できるようにガイドレールを配備したステージ15上に積層したリードフレーム11を配置し、本発明の実施の形態1または実施の形態2のプローブカードを用いて、半導体チップ10の外部導出用電極パッドにプローブピン5aを接触、半導体ウエーハ14の内部インターフェース用の電極パッドにプローブピン5bを接触、外部導出用電極パッドにプローブピン5cを接触させ、電気的に接続する。この時、プローブピンの先端部分の高さに半導体チップ10の厚さ分の差があるため、両半導体チップへのプローブピンの接続が可能となり、さらに、上下に可動するホルダーにより、より確実な接続状態となるようにプローブピンの高さを調整して接続状態の最適化が可能となる。また、半導体ウエーハ14の内部インターフェース用電極パッドと、内部インターフェース用電極パッドと後工程にてワイヤーで結線し電気的に導通する半導体チップ10の外部導出用電極パッドがプローブカード内の回路を通じて導通することにより、個々の半導体チップの電気的性能検査のみならず、リードフレーム11上に積層した半導体チップ10と半導体チップ14が1つのユニットになった半導体チップとして整合性を含めた電気的性能検査が実施できる。
FIG. 6 is a cross-sectional structure diagram of a semiconductor chip laminated with a probe card at the time of electrical performance inspection in Embodiment 4 of the present invention.
In FIG. 6, first, in the wafer state, the lower semiconductor chip 14 is divided into individual semiconductor chips through a back grinding process and a dicing process without performing an electrical performance inspection for each chip. Next, in the wafer state, the upper semiconductor chip 10 is divided into individual semiconductor chips through a back grinding process and a dicing process without performing electrical performance inspection for each chip. Thereafter, the semiconductor chip 14 is fixed on the lead frame 11 with an insulating adhesive 12 so that the circuit surface faces upward, and the semiconductor chip 10 is placed on the circuit surface of the semiconductor chip 14 so that the circuit surface faces upward. It is fixed through the adhesive film 13. A lead frame 11 laminated on a stage 15 provided with guide rails is arranged so that the lead frame can be conveyed, and the probe card according to the first or second embodiment of the present invention is used to lead out the semiconductor chip 10 to the outside. The probe pin 5a is brought into contact with the electrode pad for use, the probe pin 5b is brought into contact with the electrode pad for the internal interface of the semiconductor wafer 14, and the probe pin 5c is brought into contact with the electrode pad for leading out to be electrically connected. At this time, since there is a difference in the thickness of the tip of the probe pin by the thickness of the semiconductor chip 10, the probe pin can be connected to both semiconductor chips, and further, the holder that can be moved up and down is more reliable. It is possible to optimize the connection state by adjusting the height of the probe pin so as to be in the connection state. In addition, the internal interface electrode pad of the semiconductor wafer 14 and the external interface electrode pad of the semiconductor chip 10 which are electrically connected to the internal interface electrode pad by a wire in a subsequent process are electrically connected through a circuit in the probe card. As a result, not only the electrical performance inspection of individual semiconductor chips but also the electrical performance inspection including consistency as a semiconductor chip in which the semiconductor chip 10 and the semiconductor chip 14 stacked on the lead frame 11 are formed as one unit. Can be implemented.

本発明のプローブカードおよび電気的性能検査は、積層した半導体チップより構成される半導体装置に対して、総合的な電気的性能検査を可能にするプローブカードと組み立て工程の生産性を高める検査方法を提供することができ、積層半導体集積回路装置の電気的性能検査に用いるプローブカードと、それを用いた電気的性能検査方法等として有用である。   The probe card and electrical performance inspection of the present invention are a probe card that enables comprehensive electrical performance inspection for a semiconductor device composed of stacked semiconductor chips and an inspection method that increases the productivity of the assembly process. The probe card can be provided, and is useful as a probe card used for electrical performance inspection of a stacked semiconductor integrated circuit device, and an electrical performance inspection method using the same.

本発明の実施の形態1におけるプローブカードとプローバステージの断面構造図Sectional structure diagram of probe card and prober stage in Embodiment 1 of the present invention 本発明の実施の形態1における電気的性能検査時のプローブカードと積層した半導体チップの断面構造図Sectional structure diagram of semiconductor chip laminated with probe card at the time of electrical performance inspection in Embodiment 1 of the present invention 本発明の実施の形態2におけるプローブカードとプローバステージの断面構造図Sectional structure diagram of probe card and prober stage in embodiment 2 of the present invention 本発明の実施の形態2における電気的性能検査時のプローブカードと積層した半導体チップの断面構造図Sectional structure diagram of semiconductor chip stacked with probe card at the time of electrical performance inspection in Embodiment 2 of the present invention 本発明の実施の形態3における電気的性能検査時のプローブカードと積層した半導体チップの断面構造図Sectional structure diagram of semiconductor chip laminated with probe card at the time of electrical performance inspection in Embodiment 3 of the present invention 本発明の実施の形態4における電気的性能検査時のプローブカードと積層した半導体チップの断面構造図Sectional structure diagram of semiconductor chip laminated with probe card at the time of electrical performance inspection in Embodiment 4 of the present invention 従来のプローブカードとプローバステージの断面構造図Cross-sectional structure diagram of conventional probe card and prober stage 従来の電気的性能検査時のプローブカードとプローバステージの断面構造図Cross-sectional structure diagram of probe card and prober stage during conventional electrical performance inspection 従来のプローブカードとプローバステージを用い、低オーバードライブ量にて、積層した半導体チップを電気的性能検査した場合の断面構造図Cross-sectional structure diagram of electrical performance inspection of stacked semiconductor chips with a low overdrive amount using a conventional probe card and prober stage 従来のプローブカードとプローバステージを用い、高オーバードライブ量にて、積層した半導体チップを電気的性能検査した場合の断面構造図Cross-sectional structure diagram of electrical performance inspection of stacked semiconductor chips using a conventional probe card and prober stage with a high overdrive amount

符号の説明Explanation of symbols

1 ベース
2a ホルダー
2b ホルダー
2c ホルダー
3 コネクター
3a コネクター
3b コネクター
3c コネクター
4 リング
4a リング
4b リング
4c リング
5 プローブピン
5a プローブピン
5b プローブピン
5c プローブピン
6 固定材
6a 固定材
6b 固定材
6c 固定材
7 ステージ
8 半導体ウエーハ
9 接着剤
10 半導体チップ
11 リードフレーム
12 絶縁性接着剤
13 接着フィルム
14 半導体チップ
15 ガイドレールを配備したステージ
1 Base 2a Holder 2b Holder 2c Holder 3 Connector 3a Connector 3b Connector 3c Connector 4 Ring 4a Ring 4b Ring 4c Ring 5 Probe Pin 5a Probe Pin 5b Probe Pin 5c Probe Pin 6 Fixing Material 6a Fixing Material 6b Fixing Material 6c Fixing Material 6c Fixing Material 6c 8 Semiconductor wafer 9 Adhesive 10 Semiconductor chip 11 Lead frame 12 Insulating adhesive 13 Adhesive film 14 Semiconductor chip 15 Stage provided with guide rail

Claims (7)

第1の半導体チップ上に第2の半導体チップを積層して形成された半導体装置に対する電気的性能検査に用いるプローブカードであって、
全体の骨格となるベースと、
前記ベースに設置され独立して可動する複数のホルダーと、
前記ホルダー毎に固定され外部の検査装置と電気的に接続する複数のコネクターと、
前記それぞれのコネクターに電気的に接続され前記第1の半導体チップまたは前記第2の半導体チップの対応する電極パッドに電気的に接続される複数のプローブピンと
を有し、前記プローブピンの先端部分の前記半導体装置に対する垂直方向の高さが、接続される半導体チップに対応して異なることを特徴とするプローブカード。
A probe card used for electrical performance inspection of a semiconductor device formed by stacking a second semiconductor chip on a first semiconductor chip,
The base that is the whole skeleton,
A plurality of holders installed on the base and independently movable;
A plurality of connectors fixed for each holder and electrically connected to an external inspection device;
A plurality of probe pins electrically connected to the respective connectors and electrically connected to corresponding electrode pads of the first semiconductor chip or the second semiconductor chip; A probe card, wherein a height in a vertical direction with respect to the semiconductor device is different according to a semiconductor chip to be connected.
前記第2の半導体チップに対応する前記ホルダーの厚さを、前記第1の半導体チップに対応する前記ホルダーの厚さより前記第2の半導体チップの厚さ分薄くすることにより、前記プローブピンの先端部分の前記半導体装置に対する垂直方向の高さに差異を設けることを特徴とする請求項1記載のプローブカード。   By making the thickness of the holder corresponding to the second semiconductor chip thinner than the thickness of the holder corresponding to the first semiconductor chip by the thickness of the second semiconductor chip, the tip of the probe pin 2. The probe card according to claim 1, wherein a difference is provided in a height in a vertical direction of the portion with respect to the semiconductor device. 前記第2の半導体チップに対応する前記プローブピンの先端部分の前記半導体装置に対する垂直方向の高さが前記第1の半導体チップに対応する前記プローブピンの先端部分の前記半導体装置に対する垂直方向の高さより前記第2の半導体チップの厚さ分低くなるように、前記第1の半導体チップに対応する前記プローブピンの長さより前記第2の半導体チップに対応する前記プローブピンの長さを短くすることを特徴とする請求項1記載のプローブカード。   The vertical height of the tip portion of the probe pin corresponding to the second semiconductor chip with respect to the semiconductor device is the vertical height of the tip portion of the probe pin corresponding to the first semiconductor chip with respect to the semiconductor device. The length of the probe pin corresponding to the second semiconductor chip is made shorter than the length of the probe pin corresponding to the first semiconductor chip so as to be lower than the thickness of the second semiconductor chip. The probe card according to claim 1. 前記ホルダーがベアリングを介して前記ベースに設置されることによりホルダーが可動となることを特徴とする請求項1または請求項2または請求項3のいずれか記載のプローブカード。   The probe card according to claim 1, wherein the holder is movable when the holder is installed on the base via a bearing. 前記ホルダーがシリコーンゴムを介して前記ベースに設置されることによりホルダーが可動となることを特徴とする請求項1または請求項2または請求項3のいずれか記載のプローブカード。   4. The probe card according to claim 1, wherein the holder is movable when the holder is placed on the base via silicone rubber. 第1の半導体チップ上に第2の半導体チップを積層して形成された半導体装置に対する電気的性能検査を請求項1または請求項2または請求項3のいずれかに記載のプローブカードを用いて行う電気的性能検査方法であって、
前記プローブカードを介して前記第1の半導体チップと前記第2の半導体チップの接続を行うと共に、前記半導体チップの電極パッドとプローブピンの接続状態を最適化することを特徴とする電気的性能検査方法。
An electrical performance test is performed on the semiconductor device formed by stacking the second semiconductor chip on the first semiconductor chip using the probe card according to claim 1, claim 2, or claim 3. An electrical performance inspection method,
Electrical performance inspection characterized in that the first semiconductor chip and the second semiconductor chip are connected via the probe card, and the connection state between the electrode pads and the probe pins of the semiconductor chip is optimized. Method.
第1の半導体チップ上に第2の半導体チップを積層して形成された半導体装置に対する、リードフレームに搭載した状態での電気的性能検査を請求項1または請求項2または請求項3のいずれかに記載のプローブカードを用いて行う電気的性能検査方法であって、
前記プローブカードを介して前記第1の半導体チップと前記第2の半導体チップの接続を行うと共に、前記半導体チップの電極パッドとプローブピンの接続状態を最適化することを特徴とする電気的性能検査方法。
4. The electrical performance inspection of the semiconductor device formed by stacking the second semiconductor chip on the first semiconductor chip in a state of being mounted on the lead frame. An electrical performance inspection method performed using the probe card described in 1.
Electrical performance inspection characterized in that the first semiconductor chip and the second semiconductor chip are connected via the probe card, and the connection state between the electrode pads and the probe pins of the semiconductor chip is optimized. Method.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011169772A (en) * 2010-02-19 2011-09-01 Hioki Ee Corp Probe unit and circuit board inspection apparatus
CN102901886A (en) * 2011-07-27 2013-01-30 三星电机株式会社 Apparatus for detecting electrical condition
JP2014038091A (en) * 2012-08-10 2014-02-27 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Production method of jig for electric inspection

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011169772A (en) * 2010-02-19 2011-09-01 Hioki Ee Corp Probe unit and circuit board inspection apparatus
CN102901886A (en) * 2011-07-27 2013-01-30 三星电机株式会社 Apparatus for detecting electrical condition
JP2013029504A (en) * 2011-07-27 2013-02-07 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Electric inspection device
JP2014038091A (en) * 2012-08-10 2014-02-27 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Production method of jig for electric inspection

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