[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP2005346655A - Process control system, process control method, process control program and recording medium for program - Google Patents

Process control system, process control method, process control program and recording medium for program Download PDF

Info

Publication number
JP2005346655A
JP2005346655A JP2004168968A JP2004168968A JP2005346655A JP 2005346655 A JP2005346655 A JP 2005346655A JP 2004168968 A JP2004168968 A JP 2004168968A JP 2004168968 A JP2004168968 A JP 2004168968A JP 2005346655 A JP2005346655 A JP 2005346655A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
abnormality
cause
related information
process management
correspondence
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004168968A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3744527B2 (en
Inventor
Toru Fujii
徹 藤井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Omron Corp
Original Assignee
Omron Corp
Omron Tateisi Electronics Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Omron Corp, Omron Tateisi Electronics Co filed Critical Omron Corp
Priority to JP2004168968A priority Critical patent/JP3744527B2/en
Publication of JP2005346655A publication Critical patent/JP2005346655A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3744527B2 publication Critical patent/JP3744527B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/02Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/30Computing systems specially adapted for manufacturing

Landscapes

  • General Factory Administration (AREA)
  • Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a process control system enabling a user to select a proper abnormal causes and countermeasure, even when there are a plurality of causes for a certain abnormality. <P>SOLUTION: The process control system first stores a time series data collected, until an abnormality occurs in the process (S10/S11), extracts waveform features of the time series data of a specified interval (S12) when the abnormality occurs (S11), calculates similarities to the past waveform features (S13), adds priority orders to the causes for abnormality based on the calculated waveform similarities (S14), and outputs to the user the causes for abnormality and countermeasures based on the priority orders added (S15). <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、多数の工程を管理する工程管理装置、工程管理方法、工程管理プログラム、および該プログラムを記録した記録媒体に関するものである。   The present invention relates to a process management apparatus, a process management method, a process management program, and a recording medium that records the program.

従来、種々の製造工程において、異常を検出し、その原因や対処方法を特定する工程管理方法として多数の方法が実施され、また提案されている。   Conventionally, a number of methods have been implemented and proposed as process management methods for detecting abnormalities in various manufacturing processes and identifying causes and countermeasures.

一般に実施されている方法としては下記のような工程管理方法がある。すなわち、製造工程における設備の稼働データや、製品の品質データを時系列で収集するとともに、収集した時系列データを管理図で表わすことにより、工程の異常を設備の稼働中にかつリアルタイムで自動検出する。そして、異常を検出した場合には、予め人の手により作成されたFMEA(故障モード影響解析(Failure Mode and Effects Analysis))に従って、異常の症状を調べて、異常の原因と対処方法とを導出する。   As a generally practiced method, there are the following process control methods. In other words, facility operation data and product quality data in the manufacturing process are collected in time series, and the collected time series data is represented in a control chart to automatically detect process abnormalities in real time during equipment operation. To do. When an abnormality is detected, the cause of the abnormality and a countermeasure are derived by examining the symptoms of the abnormality according to FMEA (Failure Mode and Effects Analysis) prepared in advance by human hands. To do.

また、特許文献1に記載の半導体装置の製造管理システムでは、下記の工程管理方法が提案されている。まず、半導体装置の製造工程での製造条件と、実際の処理で実行した条件とを工程毎に収集・蓄積し、検査工程の測定値を含む測定項目毎の測定結果を収集・蓄積するとともに、前記検査工程で測定された測定項目毎の測定値を、予め登録されている規格及び判定方法に従って判定する。判定の結果不良が発生した場合には、予め登録された解析データ及び解析手順に基づいて解析を自動実行し、原因設備・原因工程・原因ロットの特定を行う。   Further, in the semiconductor device manufacturing management system described in Patent Document 1, the following process management method has been proposed. First, the manufacturing conditions in the manufacturing process of the semiconductor device and the conditions executed in the actual processing are collected and accumulated for each process, and the measurement results for each measurement item including the measurement values in the inspection process are collected and accumulated. A measurement value for each measurement item measured in the inspection process is determined according to a standard and a determination method registered in advance. When a defect occurs as a result of the determination, the analysis is automatically executed based on the analysis data and the analysis procedure registered in advance, and the cause equipment, the cause process, and the cause lot are specified.

設備が原因の場合には、前記原因設備の条件修正による対応が可能であるか否かを判断し、可能なときには前記原因設備で作業する後続ロットの条件を修正する一方、不可能なときには前記原因設備での作業をストップする。一方、ロットが原因の場合には、原因ロットの後工程での条件の修正による対応が可能であるか否かを判断し、可能なときには後工程の条件を修正する一方、不可能なときには原因ロットの後工程の作業をストップする。   If the equipment is the cause, it is determined whether or not it is possible to cope with the condition modification of the cause equipment, and if possible, the condition of the subsequent lot working on the cause equipment is corrected, while if not possible, Stop working at the cause equipment. On the other hand, if the lot is the cause, it is determined whether it can be dealt with by correcting the conditions in the post-process of the cause lot. If possible, the conditions of the post-process are corrected. Stop work on the lot after the lot.

また、特許文献2に記載の品質分析方法では、下記の方法が提案されている。まず、設備稼働あるいは製品品質のデータを収録し、そのデータより製品の不良に対応する不良特徴抽出データを抽出加工する。そして、既知の典型的な不良特徴抽出データとそれに対応する不良要因あるいは不良に対する設備のメンテナンス情報との関係を表現した対応表DB(データベース)と、抽出加工された上記不良特徴抽出データとを照合し、不良要因あるいは設備のメンテナンス情報を出力する。   Further, in the quality analysis method described in Patent Document 2, the following method has been proposed. First, equipment operation or product quality data is recorded, and defect feature extraction data corresponding to product defects is extracted and processed from the data. Then, the correspondence table DB (database) expressing the relationship between known typical defect feature extraction data and the corresponding failure factor or the maintenance information of the equipment for the defect is compared with the extracted defect feature extraction data. Then, the cause of failure or the maintenance information of the equipment is output.

また、特許文献3に記載の設備のメンテナンス方法では、下記の方法が提案されている。まず、製品を製造する設備において、製品の品質を検査して得られた各種品質・稼働情報を品質・稼働DBとしてDB化して管理する。次に、この設備の各部構成ユニットに起因する製品の品質不良と設備のメンテナンス情報とを関連付けて、知識DBとしてDB化する。次に、前記品質・稼働DB内の情報を用いて、製品不良および稼働低下の原因を自動分析する。そして、この分析結果と前記知識DBとを用いて、設備メンテナンス部分を絞り込む。
特開平6−333791号公報(1994年12月2日公開) 特開平8−32281号公報(1996年2月2日公開) 特開平9−289396号公報(1997年11月4日公開)
In addition, in the equipment maintenance method described in Patent Document 3, the following method has been proposed. First, in a facility for manufacturing a product, various quality / operation information obtained by inspecting the quality of the product is managed as a quality / operation DB. Next, the product quality defect caused by each component unit of the equipment and the maintenance information of the equipment are associated with each other and stored as a knowledge DB. Next, using the information in the quality / operation DB, the cause of product failure and operation deterioration is automatically analyzed. Then, using this analysis result and the knowledge DB, the facility maintenance portion is narrowed down.
Japanese Patent Laid-Open No. 6-333791 (released on December 2, 1994) JP-A-8-32281 (published February 2, 1996) JP-A-9-289396 (published November 4, 1997)

しかしながら、上述の工程管理方法では、下記に示すような問題点がある。   However, the above-described process management method has the following problems.

まず、一般に実施されている方法では、工程の異常までは自動的に検出できるが、検出された異常から異常の症状を調べるときに、人がFMEAに従って異常の症状を全て目視でチェックする必要がある。このため、異常原因と対処方法とを導出するまでに時間がかかる結果となっていた。また、FMEAは、製造工程に係わる作業員が異常の因果関係に関して議論することによりリスト化されたものであるため、作業員の主観に左右される、定量化が困難であるといった問題がある。   First of all, in the generally practiced method, even process abnormalities can be automatically detected, but when examining abnormal symptoms from the detected abnormalities, it is necessary for a person to visually check all abnormal symptoms according to FMEA. is there. For this reason, it took a long time to derive the cause of the abnormality and the countermeasure. Moreover, since FMEA is listed by the workers involved in the manufacturing process discussing the causal relationship of abnormality, there is a problem that quantification is difficult depending on the subjectivity of the workers.

また、特許文献1に記載の方法では、不良が発生した場合の原因設備・原因工程・原因ロットの特定を、予め登録された解析データ及び解析手順に基づいて解析を自動実行することにより行っている。このため、不良の因果関係を予め分析して求めておくことが必要であるが、このことは、工程が複雑になればなるほど困難となる。   In the method described in Patent Document 1, the cause equipment, the cause process, and the cause lot when a defect occurs is identified by automatically executing analysis based on analysis data and analysis procedures registered in advance. Yes. For this reason, it is necessary to analyze and determine the causal relationship of defects in advance, but this becomes more difficult as the process becomes more complicated.

また、特許文献2に記載の方法では、既知の典型的な不良特徴抽出データとそれに対応する不良要因あるいは不良に対する設備のメンテナンス情報との関係を表現した対応表DBを利用している。しかしながら、工程が複雑になればなるほど、不良の原因が多種多様となり、上記対応表DBの作成が困難となる。また、未知の不良原因により不良が発生した場合に対応することができないといった問題もある。   Further, the method described in Patent Document 2 uses a correspondence table DB that expresses the relationship between known typical defect feature extraction data and the corresponding failure factor or facility maintenance information for the failure. However, the more complicated the process is, the more various causes of defects become, making it difficult to create the correspondence table DB. In addition, there is a problem that it is impossible to deal with a case where a failure occurs due to an unknown failure cause.

また、特許文献3に記載の方法では、製品不良および稼働低下の原因を自動分析した後、さらに設備メンテナンス部分の絞り込みを行っている。しかしながら、この絞り込みは、人間との対話形式で行われるため、作業員に手間をかけさせる結果となる。また、工程が複雑になればなるほど、製品不良および稼働低下の原因が多種多様となり、絞り込みに時間がかかる結果となる。   In the method described in Patent Document 3, the equipment maintenance portion is further narrowed down after automatically analyzing the cause of product failure and operation deterioration. However, since this narrowing down is performed in the form of dialogue with humans, it results in making the worker troublesome. In addition, the more complicated the process, the more various causes of product defects and reduced operation, resulting in a longer time for narrowing down.

本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、或る異常に対して異常の原因および/または対処方法が複数存在する場合でも、ユーザが適切な異常の原因および/または対処方法を選択することができる工程管理装置などを提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and the object of the present invention is to provide a user with an appropriate cause of abnormality and / or an appropriate abnormality even when there are a plurality of causes and / or countermeasures for the abnormality. Another object of the present invention is to provide a process management apparatus or the like that can select a coping method.

上記課題を解決するため、本発明に係る工程管理装置は、多数の工程の管理を行う工程管理装置において、上記工程の異常と、該異常に関連する異常関連情報との対応関係を記憶する記憶手段と、上記工程の異常を検出する検出手段と、上記記憶手段が記憶した対応関係を用いて、上記検出手段が検出した異常に対応する1または複数の上記異常関連情報を抽出する抽出手段と、上記抽出手段が抽出した異常関連情報を含むリストを、上記異常関連情報の適合度、および/または上記異常が上記工程に与える影響度に基づいて作成するリスト作成手段とを備えることを特徴としている。   In order to solve the above problems, a process management apparatus according to the present invention is a process management apparatus that manages a large number of processes, and stores a correspondence relationship between the abnormality of the process and abnormality-related information related to the abnormality. Means, detection means for detecting an abnormality in the process, and extraction means for extracting one or more of the abnormality-related information corresponding to the abnormality detected by the detection means using the correspondence stored in the storage means And a list creation means for creating a list including the abnormality related information extracted by the extraction means based on the fitness of the abnormality related information and / or the degree of influence of the abnormality on the process. Yes.

ここで、異常関連情報としては、異常の原因や異常に対する対処方法が挙げられる。   Here, examples of the abnormality-related information include the cause of the abnormality and a countermeasure for the abnormality.

上記の構成において、工程の異常を検出すると、検出した異常に対応する1または複数の異常関連情報を、対応関係を用いて抽出し、抽出した異常関連情報を含むリストを、適合度および/または影響度に基づいて作成している。これにより、或る異常に対して異常関連情報が複数存在する場合でも、上記適合度や上記影響度に基づいてリストを作成するので、作成されたリストをユーザが参照することにより、適切な、かつ/または影響の大きな異常関連情報を選択することができる。   In the above configuration, when a process abnormality is detected, one or a plurality of abnormality-related information corresponding to the detected abnormality is extracted using the correspondence relationship, and a list including the extracted abnormality-related information is displayed as the fitness and / or Created based on impact. Thereby, even when there are a plurality of abnormality-related information for a certain abnormality, a list is created based on the degree of conformity and the degree of influence, so the user can refer to the created list appropriately, And / or abnormality-related information having a large influence can be selected.

また、本発明に係る工程管理装置は、上記の構成において、上記異常関連情報が確定したときに、確定した異常関連情報に基づいて、上記記憶手段が記憶する対応関係を更新する対応関係更新手段をさらに備えることを特徴としている。   Further, the process management apparatus according to the present invention, in the above configuration, when the abnormality related information is confirmed, the correspondence update means for updating the correspondence stored in the storage means based on the confirmed abnormality related information. Is further provided.

上記の構成によると、異常が発生して対処が行われ、異常関連情報が確定すると、確定した異常関連情報に基づいて対応関係が更新される。これにより、詳細かつ高精度の対応関係が構築されるので、或る異常に対してより適切な異常関連情報を抽出することができる。   According to the above configuration, when an abnormality occurs and a countermeasure is taken and the abnormality related information is confirmed, the correspondence is updated based on the confirmed abnormality related information. As a result, a detailed and highly accurate correspondence is established, so that more appropriate abnormality related information can be extracted for a certain abnormality.

また、確定した異常関連情報が以前の対応関係に存在しない場合には、以前の対応関係に新たな対応関係が追加されることになる。したがって、記憶手段に予め対応関係を記憶しておかなくても、対応関係更新手段が対応関係の更新を繰り返すことにより、詳細かつ高精度の対応関係を構築することができる。   In addition, when the determined abnormality related information does not exist in the previous correspondence relationship, a new correspondence relationship is added to the previous correspondence relationship. Therefore, even if the correspondence relationship is not stored in advance in the storage unit, the correspondence relationship updating unit repeatedly updates the correspondence relationship, so that a detailed and highly accurate correspondence relationship can be established.

また、本発明に係る工程管理装置は、上記の構成において、上記異常関連情報は、上記異常の原因であり、上記記憶手段は、上記工程の異常と該異常の原因との対応関係である異常・原因対応関係を上記対応関係として記憶しており、さらに、上記異常の原因と上記異常に対する対処方法との対応関係である原因・対処対応関係を記憶することを特徴としている。   In the process management device according to the present invention, in the above configuration, the abnormality-related information is a cause of the abnormality, and the storage unit is an abnormality that is a correspondence relationship between the abnormality of the process and the cause of the abnormality. The cause correspondence relationship is stored as the correspondence relationship, and the cause / response correspondence relationship that is the correspondence relationship between the cause of the abnormality and a countermeasure for the abnormality is stored.

上記の構成によると、原因・対処対応関係を用いて異常の原因に対応する対処方法を求めることができるので、ユーザに適切な対処方法を指示することができる。   According to the above configuration, since a coping method corresponding to the cause of the abnormality can be obtained using the cause / coping correspondence relationship, an appropriate coping method can be instructed to the user.

また、本発明に係る工程管理装置は、上記の構成において、上記記憶手段が記憶した原因・対処対応関係を用いて、上記抽出手段が検出した異常の原因のそれぞれに対応する対処方法を抽出する対処方法抽出手段と、上記対処方法抽出手段が抽出した対処方法を含む対処方法リストを、上記対処方法の適合度に基づいて作成する対処方法リスト作成手段とをさらに備えることを特徴としている。   Further, in the above-described configuration, the process management apparatus according to the present invention extracts a coping method corresponding to each cause of the abnormality detected by the extraction unit, using the cause / coping correspondence relationship stored by the storage unit. The present invention is further characterized by further comprising a handling method extraction unit and a handling method list creation unit that creates a handling method list including the handling method extracted by the handling method extraction unit based on the degree of suitability of the handling method.

上記の構成によると、抽出した異常の原因に対応する1または複数の対処方法を、上記原因・対処対応関係を用いて抽出し、抽出した対処方法を含む対処方法リストを、対処方法の適合度に基づいて作成している。これにより、或る異常の原因に対して対処方法が複数存在する場合でも、上記適合度に基づいて対処方法リストを作成するので、作成された対処方法リストをユーザが参照することにより、適切な対処方法を選択することができる。   According to the above configuration, one or a plurality of coping methods corresponding to the cause of the extracted abnormality are extracted using the above cause / coping correspondence relationship, and a coping method list including the extracted coping methods is obtained, and the degree of suitability of the coping method Create based on. Thus, even when there are a plurality of countermeasures for the cause of a certain abnormality, the countermeasure list is created based on the degree of conformity. Therefore, the user can refer to the prepared countermeasure list and A coping method can be selected.

また、本発明に係る工程管理装置は、上記の構成において、上記対処方法が確定したときに、確定した対処方法に基づいて、上記記憶手段が記憶する原因・対処対応関係を更新する対応関係更新手段をさらに備えることを特徴としている。   Further, the process management apparatus according to the present invention, in the above configuration, when the coping method is determined, based on the determined coping method, update the cause / coping correspondence stored in the storage unit It is characterized by further providing a means.

上記の構成によると、異常が発生して対処が行われ、対処方法が確定すると、確定した対処方法に基づいて原因・対処対応関係が更新される。これにより、詳細かつ高精度の原因・対処対応関係が構築されるので、或る異常の原因に対してより適切な対処方法を抽出することができる。   According to the above configuration, when an abnormality occurs and a countermeasure is performed and a countermeasure is determined, the cause / response correspondence is updated based on the determined countermeasure. As a result, a detailed and highly accurate cause / response relationship is established, so that a more appropriate response method can be extracted for the cause of a certain abnormality.

また、確定した対処方法が以前の原因・対処対応関係に存在しない場合には、以前の原因・対処対応関係に新たな原因・対処対応関係が追加されることになる。したがって、記憶手段に予め原因・対処対応関係を記憶しておかなくても、対応関係更新手段が原因・対処対応関係の更新を繰り返すことにより、詳細かつ高精度の対応関係を構築することができる。   In addition, when the determined countermeasure method does not exist in the previous cause / response correspondence, a new cause / response correspondence is added to the previous cause / response correspondence. Therefore, even if the cause / countermeasure correspondence is not stored in the storage unit in advance, the correspondence update unit can construct a detailed and high-precision correspondence by repeatedly updating the cause / countermeasure correspondence. .

また、本発明に係る工程管理装置は、上記の構成において、上記工程に関する時系列データを収集する収集手段をさらに備えており、上記検出手段は、上記収集手段が収集した時系列データを管理図法で処理することにより、上記工程の異常を検出することを特徴としている。   Further, the process management apparatus according to the present invention further includes a collecting unit that collects time-series data relating to the process in the configuration described above, and the detection unit uses the control projection method to collect the time-series data collected by the collecting unit. It is characterized by detecting the abnormality of the said process by processing by.

ここで、工程に関する時系列データとしては、例えば、工程における設備の稼働に関するデータや、製品の品質に関するデータが挙げられる。   Here, as the time series data regarding the process, for example, data regarding the operation of the equipment in the process and data regarding the quality of the product can be cited.

上記の構成によると、時系列データを管理図法で処理して工程の異常を検出しているので、偶発的な異常を排除して、何らかの原因を有する異常を検出することができる。   According to the above configuration, since the process abnormality is detected by processing the time-series data by the control chart method, it is possible to eliminate an accidental abnormality and detect an abnormality having some cause.

また、本発明に係る工程管理装置は、上記の構成において、上記対応関係は、上記工程の異常時における上記時系列データの波形特徴量と、上記異常関連情報との対応関係であり、上記抽出手段は、上記対応関係を用いて、上記検出手段が異常を検出した時の時系列データの波形特徴量に近い複数の波形特徴量に対応する複数の異常関連情報を取得しており、上記異常関連情報の適合度は、上記検出手段が検出した上記時系列データの波形特徴量と、上記複数の異常関連情報にそれぞれ対応する波形特徴量との間の類似度を含むことを特徴としている。   In the process management device according to the present invention, in the configuration described above, the correspondence relationship is a correspondence relationship between the waveform feature amount of the time-series data and the abnormality-related information when the process is abnormal, and the extraction is performed. The means obtains a plurality of abnormality related information corresponding to a plurality of waveform feature quantities close to the waveform feature quantity of the time series data when the detection means detects the abnormality using the correspondence relationship, and the abnormality The degree of fitness of related information is characterized in that it includes the similarity between the waveform feature quantity of the time series data detected by the detection means and the waveform feature quantities respectively corresponding to the plurality of abnormality related information.

上記の構成によると、異常状態は、時系列データの波形特徴量で表わされ、リストを作成するときに利用される適合度として、異常検出時の波形特徴量と、対応関係に含まれる波形特徴量との間の類似度を利用することができる。これにより、或る異常状態に合致する異常関連情報を定量的にかつ客観的に求めることができる。   According to the above configuration, the abnormal state is represented by the waveform feature amount of the time-series data, and the waveform feature amount at the time of abnormality detection and the waveform included in the correspondence relationship are used as the fitness used when creating the list. The degree of similarity between the feature quantities can be used. As a result, abnormality-related information that matches a certain abnormal state can be obtained quantitatively and objectively.

なお、異常関連情報の適合度としては、上記波形特徴量の類似度の他に、例えば、異常の発生頻度および異常確率が挙げられる。また、異常が工程に与える影響度としては、例えば異常による損失割合、平均対策時間、直近不良率、および直近不良増加率が挙げられる。   In addition to the similarity of the waveform feature amount, the degree of conformity of the abnormality-related information includes, for example, an abnormality occurrence frequency and an abnormality probability. Examples of the degree of influence of an abnormality on a process include a loss ratio due to abnormality, an average countermeasure time, a recent failure rate, and a recent failure increase rate.

本発明に係る工程管理装置は、多数の工程の管理を行う工程管理装置において、上記工程の異常と該異常に関連する異常関連情報との対応関係を記憶する記憶手段と、上記異常関連情報が確定したときに、確定した異常関連情報に基づいて上記対応関係を更新する対応関係更新手段とを備えることを特徴としている。   The process management apparatus according to the present invention is a process management apparatus for managing a large number of processes, wherein a storage means for storing a correspondence relationship between the abnormality of the process and the abnormality-related information related to the abnormality, and the abnormality-related information It is characterized by comprising correspondence updating means for updating the correspondence based on the confirmed abnormality related information when confirmed.

上記の構成によると、異常が発生して対処が行われ、異常関連情報が確定すると、確定した異常関連情報に基づいて対応関係が更新される。これにより、詳細かつ高精度の対応関係が構築されるので、或る異常に対してより適切な異常関連情報を抽出することができる。   According to the above configuration, when an abnormality occurs and a countermeasure is taken and the abnormality related information is confirmed, the correspondence is updated based on the confirmed abnormality related information. As a result, a detailed and highly accurate correspondence is established, so that more appropriate abnormality related information can be extracted for a certain abnormality.

また、確定した異常関連情報が以前の対応関係に存在しない場合には、以前の対応関係に新たな対応関係が追加されることになる。したがって、記憶手段に予め対応関係を記憶しておかなくても、対応関係更新手段が対応関係の更新を繰り返すことにより、詳細かつ高精度の対応関係を構築することができる。   In addition, when the determined abnormality related information does not exist in the previous correspondence relationship, a new correspondence relationship is added to the previous correspondence relationship. Therefore, even if the correspondence relationship is not stored in advance in the storage unit, the correspondence relationship updating unit repeatedly updates the correspondence relationship, so that a detailed and highly accurate correspondence relationship can be established.

また、本発明に係る工程管理装置は、上記の構成において、上記記憶手段は、上記工程の異常と該異常の原因との対応関係である異常・原因対応関係を上記対応関係として記憶し、さらに、上記異常の原因と上記異常に対する対処方法との対応関係である原因・対処対応関係を記憶しており、上記対処方法が確定したときに、確定した対処方法に基づいて、上記原因・対処対応関係を更新する対応関係更新手段をさらに備えることを特徴としている。   In the process management apparatus according to the present invention, in the configuration described above, the storage unit stores an abnormality / cause correspondence that is a correspondence between the abnormality of the process and the cause of the abnormality as the correspondence. , The cause / action correspondence that is the correspondence between the cause of the abnormality and the countermeasure against the abnormality is stored, and when the countermeasure is determined, the cause / response is determined based on the determined countermeasure. It further comprises correspondence update means for updating the relationship.

上記の構成によると、異常が発生して対処が行われ、対処方法が確定すると、確定した対処方法に基づいて原因・対処対応関係が更新される。これにより、詳細かつ高精度の原因・対処対応関係が構築されるので、或る異常の原因に対してより適切な対処方法を抽出することができる。   According to the above configuration, when an abnormality occurs and a countermeasure is performed and a countermeasure is determined, the cause / response correspondence is updated based on the determined countermeasure. As a result, a detailed and highly accurate cause / response relationship is established, so that a more appropriate response method can be extracted for the cause of a certain abnormality.

また、確定した対処方法が以前の原因・対処対応関係に存在しない場合には、以前の原因・対処対応関係に新たな原因・対処対応関係が追加されることになる。したがって、記憶手段に予め原因・対処対応関係を記憶しておかなくても、原因・対処対応関係更新手段が原因・対処対応関係の更新を繰り返すことにより、詳細かつ高精度の原因・対処対応関係を構築することができる。   In addition, when the determined countermeasure method does not exist in the previous cause / response correspondence, a new cause / response correspondence is added to the previous cause / response correspondence. Therefore, even if the cause / response correspondence is not previously stored in the storage means, the cause / response correspondence update means repeats the update of the cause / response correspondence so that detailed and highly accurate cause / response correspondence is obtained. Can be built.

本発明に係る工程管理装置の工程管理方法は、多数の工程の管理を行う工程管理装置の工程管理方法であって、該工程管理装置は、上記工程の異常と該異常に関連する異常関連情報との対応関係を記憶する記憶手段を備えており、上記工程の異常を検出する検出ステップと、上記記憶手段が記憶した対応関係を用いて、上記検出ステップにて検出された異常に対応する1または複数の異常関連情報を抽出する抽出ステップと、上記抽出ステップにて抽出された異常関連情報を含むリストを、上記異常関連情報の適合度、および/または上記異常が上記工程に与える影響度に基づいて作成するリスト作成ステップとを含むことを特徴としている。   The process management method of the process management apparatus according to the present invention is a process management method of a process management apparatus that manages a large number of processes, and the process management apparatus includes the abnormality in the process and abnormality related information related to the abnormality. Storage means for storing the correspondence relationship between the detection step and the detection step for detecting an abnormality in the process, and using the correspondence relationship stored in the storage means, 1 corresponding to the abnormality detected in the detection step. Alternatively, an extraction step for extracting a plurality of abnormality-related information, and a list including the abnormality-related information extracted in the extraction step are used as the degree of fitness of the abnormality-related information and / or the degree of influence of the abnormality on the process. And a list creation step of creating based on the list.

上記の方法によると、工程の異常を検出すると、検出した異常に対応する1または複数の異常関連情報を、対応関係を用いて抽出し、抽出した異常関連情報を含むリストを、適合度および/または影響度に基づいて作成している。これにより、或る異常に対して異常関連情報が複数存在する場合でも、上記適合度や上記影響度に基づいてリストを作成するので、作成されたリストをユーザが参照することにより、適切な、かつ/または影響の大きな異常関連情報を選択することができる。   According to the above method, when a process abnormality is detected, one or a plurality of abnormality-related information corresponding to the detected abnormality is extracted using the correspondence relationship, and the list including the extracted abnormality-related information is obtained as the fitness level and / or Or create based on the impact. Thereby, even when there are a plurality of abnormality-related information for a certain abnormality, a list is created based on the degree of conformity and the degree of influence, so the user can refer to the created list appropriately, And / or abnormality-related information having a large influence can be selected.

なお、上記工程管理装置における各手段を、工程管理プログラムによりコンピュータ上で実行させることができる。さらに、上記工程管理プログラムをコンピュータ読取り可能な記録媒体に記憶させることにより、任意のコンピュータ上で上記工程管理プログラムを実行させることができる。   Each unit in the process management apparatus can be executed on a computer by a process management program. Furthermore, by storing the process management program in a computer-readable recording medium, the process management program can be executed on an arbitrary computer.

以上のように、本発明に係る工程管理装置は、検出した異常に対応する1または複数の異常原因や対処方法を含むリストを、適合度および/または影響度に基づいて作成しているので、ユーザが適切な、かつ/または影響の大きな異常原因や対処方法を選択できるという効果を奏する。   As described above, the process management apparatus according to the present invention creates a list including one or more abnormality causes and countermeasures corresponding to the detected abnormality based on the fitness and / or the influence. There is an effect that the user can select an appropriate cause and / or an abnormal cause having a great influence and a coping method.

また、本発明に係る工程管理装置は、異常原因や対処方法が確定すると、確定した異常原因や対処方法に基づいて対応関係が更新されるので、更新を繰り返すことにより、詳細かつ高精度の対応関係が構築されるので、或る異常に対してより適切な異常原因や対処方法をユーザに提供できるという効果を奏する。   In addition, since the correspondence relationship is updated based on the determined abnormality cause and the coping method when the abnormality cause and the coping method are determined, the process management apparatus according to the present invention can deal with detailed and high accuracy by repeating the update. Since the relationship is established, there is an effect that it is possible to provide the user with a more appropriate cause of abnormality and a countermeasure for a certain abnormality.

以下、本発明の一実施形態について図1〜図7に基づいて説明する。図2は、本発明の一実施形態である工程管理システムの概略構成を示している。図示のように、工程管理システム1は、複数の設備稼働センサ2、複数の製品品質センサ3、工程管理装置4、および端末5を備える構成である。なお、図には示していないが、各装置は、他の装置と信号の送受信を行うための各種I/F(インターフェース)を備えている。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 2 shows a schematic configuration of a process management system according to an embodiment of the present invention. As illustrated, the process management system 1 includes a plurality of equipment operation sensors 2, a plurality of product quality sensors 3, a process management apparatus 4, and a terminal 5. Although not shown in the figure, each device includes various I / Fs (interfaces) for transmitting / receiving signals to / from other devices.

設備稼働センサ2は、複数の工程に設けられた複数の設備のそれぞれに設けられ、該設備の稼働状態を設備の稼働中にリアルタイムで計測するものである。設備稼働センサ2は、計測したアナログ信号をデジタルデータに変換し、変換したデジタルデータを設備稼働データとして工程管理装置4に送信する。設備稼働センサ2は、設備稼働データの送信を所定周期ごと、製品ごと、または製品ロットごとに行う。   The facility operation sensor 2 is provided in each of a plurality of facilities provided in a plurality of processes, and measures the operation state of the facility in real time during operation of the facility. The equipment operation sensor 2 converts the measured analog signal into digital data, and transmits the converted digital data to the process management apparatus 4 as equipment operation data. The equipment operation sensor 2 transmits equipment operation data every predetermined period, every product, or every product lot.

製品品質センサ3は、複数の工程のそれぞれに設けられ、製品の品質状態を工程の実行中にリアルタイムで計測するものである。製品品質センサ3は、計測したアナログ信号をデジタルデータに変換し、変換したデジタルデータを製品品質データとして工程管理装置4に送信する。製品品質センサ3は、製品品質データの送信を所定周期ごと、製品ごと、または製品ロットごとに行う。   The product quality sensor 3 is provided in each of a plurality of processes, and measures the quality state of the product in real time during the execution of the processes. The product quality sensor 3 converts the measured analog signal into digital data, and transmits the converted digital data to the process management apparatus 4 as product quality data. The product quality sensor 3 transmits product quality data every predetermined period, every product, or every product lot.

工程管理装置4は、複数の工程を管理するものである。本実施形態では、工程管理装置4は、工程の異常と異常原因との因果関係(対応関係)を示す異常・原因対応テーブル(異常・原因対応関係)18と、異常原因と対処方法との対応関係を示す原因・対処対応テーブル(原因・対処対応関係)19とを記憶する記憶部(記憶手段)11を備える。   The process management device 4 manages a plurality of processes. In the present embodiment, the process management apparatus 4 includes an abnormality / cause correspondence table (abnormality / cause correspondence) 18 indicating a causal relationship (correspondence) between a process abnormality and an abnormality cause, and a correspondence between the abnormality cause and a countermeasure. A storage unit (storage unit) 11 that stores a cause / response correspondence table (cause / response correspondence) 19 indicating the relationship is provided.

また、工程管理装置4は、上記工程の異常を検出すると、異常・原因対応テーブル18に基づいて、検出した異常に対応する1または複数の異常原因を抽出するとともに、原因・対処対応テーブル19に基づいて、抽出した異常原因のそれぞれに対応する1または複数の対処方法を抽出する。また、工程管理装置4は、抽出した異常原因および対処方法を含む原因・対処リストを、上記異常原因の適合度、および/または上記異常が上記工程に与える影響度に基づいて、優先順位の高いものから異常原因および対処方法を並べて作成し、作成した原因・対処リストを端末5に送信する。   When the process management device 4 detects an abnormality in the process, the process management apparatus 4 extracts one or a plurality of abnormality causes corresponding to the detected abnormality based on the abnormality / cause correspondence table 18 and stores them in the cause / response correspondence table 19. Based on the extracted abnormal causes, one or a plurality of coping methods corresponding to each of the extracted abnormal causes are extracted. In addition, the process management device 4 displays a cause / action list including the extracted abnormality causes and countermeasures on the basis of the suitability of the abnormality causes and / or the influence of the abnormality on the processes. Anomaly causes and countermeasures are created side by side, and the created cause / action list is transmitted to the terminal 5.

また、工程管理装置4は、ユーザが確定した異常原因および対処方法の情報を端末5から受け取ると、確定した異常の原因に基づいて、異常・原因対応テーブル18および原因・対処対応テーブル19を更新するものである。   In addition, when the process management apparatus 4 receives the information on the cause of the abnormality and the coping method determined by the user from the terminal 5, the process management apparatus 4 updates the abnormality / cause handling table 18 and the cause / action handling table 19 based on the determined cause of the abnormality. To do.

端末5は、工程管理装置4に対し情報の入出力を行うものである。本実施形態では、端末5は、工程管理装置4から受信した原因・対処リストを表示出力するとともに、ユーザが確定した異常原因および対処方法の情報の入力を受け付けて、工程管理装置4に送るものである。   The terminal 5 inputs / outputs information to / from the process management device 4. In the present embodiment, the terminal 5 displays and outputs the cause / handling list received from the process management device 4, accepts input of information on the cause of abnormality and the coping method determined by the user, and sends the information to the process management device 4. It is.

上記構成の工程管理システム1において、工程管理装置4は、工程の異常を検出すると、検出した異常に対応する1または複数の異常原因を異常・原因対応テーブル18から抽出し、抽出した異常原因に対応する1または複数の対処方法を原因・対処対応テーブル19から抽出し、抽出した異常原因および対処方法を含む原因・対処リストを、上記適合度および/または上記影響度に基づいて、優先順位の高いものから異常原因および対処方法を並べて作成し、作成した原因・対処リストを端末5の表示部20に表示している。   In the process management system 1 having the above-described configuration, when the process management apparatus 4 detects a process abnormality, the process management apparatus 4 extracts one or a plurality of abnormality causes corresponding to the detected abnormality from the abnormality / cause correspondence table 18, and sets the extracted abnormality cause. One or more corresponding coping methods are extracted from the cause / coping correspondence table 19, and a cause / cooking list including the extracted abnormality cause and coping method is extracted based on the degree of conformity and / or the degree of influence. The causes and countermeasures are prepared in order from the highest one, and the created cause and countermeasure list is displayed on the display unit 20 of the terminal 5.

これにより、或る異常に対して異常原因が複数存在する場合でも、上記適合度や上記影響度に基づいて原因・対処リストを作成するので、作成された原因・対処リストをユーザが参照することにより、適切な、かつ/または影響の大きな異常原因をユーザが選択することができる。また、或る異常原因に対して対処方法が複数存在する場合でも、上記適合度に基づいて原因・対処リストを作成するので、作成された原因・対処リストをユーザが参照することにより、適切な対処方法をユーザが選択することができる。   As a result, even when there are a plurality of abnormality causes for a certain abnormality, the cause / action list is created based on the degree of conformity and the degree of influence, so the user can refer to the created cause / action list. Thus, the user can select an appropriate and / or greatly affected cause of the abnormality. In addition, even when there are a plurality of countermeasures for a certain cause of an abnormality, a cause / action list is created based on the degree of conformity. The user can select a coping method.

以下、工程管理装置4および端末5に関して詳細に説明する。図2に示されるように、工程管理装置4は、制御部10および記憶部11を備える構成であり、端末5は、表示部20および入力部21を備える構成である。   Hereinafter, the process management device 4 and the terminal 5 will be described in detail. As shown in FIG. 2, the process management device 4 is configured to include a control unit 10 and a storage unit 11, and the terminal 5 is configured to include a display unit 20 and an input unit 21.

制御部10は、工程管理装置4内における各種構成の動作を統括的に制御するものである。制御部10は、例えばPC(Personal Computer)ベースのコンピュータによって構成される。そして、各種構成の動作制御は、制御プログラムをコンピュータに実行させることによって行われる。このプログラムは、例えばCD−ROMなどのリムーバブルメディアに記録されているものを読み込んで使用する形態であってもよいし、ハードディスクなどにインストールされたものを読み込んで使用する形態であってもよい。また、図示しない外部I/Fを介して上記プログラムをダウンロードしてハードディスクなどにインストールして実行する形態なども考えられる。なお、制御部10における各ブロックの詳細については後述する。   The control unit 10 comprehensively controls the operations of various components in the process management apparatus 4. The control unit 10 is configured by a PC (Personal Computer) -based computer, for example. And operation control of various composition is performed by making a computer run a control program. This program may be in the form of reading and using what is recorded on a removable medium such as a CD-ROM, or may be in the form of reading and using what is installed on a hard disk or the like. Further, a mode in which the program is downloaded via an external I / F (not shown), installed on a hard disk, and the like is also conceivable. Details of each block in the control unit 10 will be described later.

記憶部11は、上記したハードディスクなどの不揮発性の記憶装置によって構成される。この記憶部11に記憶される内容としては、上記した制御プログラム、OS(operating system)プログラム、およびその他各種プログラム、ならびに各種データが挙げられる。   The storage unit 11 is configured by a nonvolatile storage device such as the hard disk described above. The contents stored in the storage unit 11 include the above-described control program, OS (operating system) program, various other programs, and various data.

表示部20は、CRT(陰極線管)、LCD(液晶表示素子)などの表示デバイスによって構成されている。表示部20は、工程管理装置4から受信した表示データに基づいて、文字や画像などの各種の情報を表示出力する。   The display unit 20 is configured by a display device such as a CRT (cathode ray tube) or LCD (liquid crystal display element). The display unit 20 displays and outputs various types of information such as characters and images based on the display data received from the process management device 4.

入力部21は、ユーザから各種の入力を受け付けるものであり、入力用ボタン、キーボード、マウスなどのポインティングデバイス、その他の入力デバイスによって構成されている。入力部21は、利用者から入力された情報を入力データに変換して工程管理装置4に送信する。   The input unit 21 receives various inputs from the user, and includes an input button, a keyboard, a pointing device such as a mouse, and other input devices. The input unit 21 converts information input from the user into input data and transmits the input data to the process management device 4.

次に、制御部10の各ブロック、および記憶部11のデータについて詳細に説明する。制御部10は、工程状態収集部(収集手段)12、工程異常監視部(検出手段)13、異常原因抽出部(抽出手段)14、原因・対処リスト作成部(リスト作成手段、対処方法抽出手段、対処方法リスト作成手段)15、および原因・対処修正部(対応関係更新手段、原因・対処対応関係更新手段)16を備える構成である。また、記憶部11が記憶する各種データには、工程状態DB17、異常・原因対応テーブル18、および原因・対処対応テーブル19が含まれる。   Next, each block of the control unit 10 and data in the storage unit 11 will be described in detail. The control unit 10 includes a process state collection unit (collection unit) 12, a process abnormality monitoring unit (detection unit) 13, an abnormality cause extraction unit (extraction unit) 14, and a cause / handling list creation unit (list creation unit, countermeasure method extraction unit). , Coping method list creating means) 15 and cause / coping correcting unit (corresponding relation updating means, causal / coping correspondence updating means) 16. The various data stored in the storage unit 11 includes a process state DB 17, an abnormality / cause correspondence table 18, and a cause / response correspondence table 19.

工程状態収集部12は、全ての工程の状態情報を収集するものであり、具体的には、全ての設備稼働センサ2から設備稼働データを収集し、かつ全ての製品品質センサ3から製品品質データを収集するものである。工程状態収集部12は、収集した設備稼働データおよび製品品質データをその受信時刻とともに時系列データとして記憶部11の工程状態DB17に記憶する。   The process state collection unit 12 collects state information of all processes. Specifically, the process state collection unit 12 collects facility operation data from all facility operation sensors 2 and product quality data from all product quality sensors 3. Is to collect. The process state collection unit 12 stores the collected facility operation data and product quality data in the process state DB 17 of the storage unit 11 as time series data together with the reception time.

工程異常監視部13は、記憶部11の工程状態DB17に記憶された時系列データを参照して、工程の異常を監視するものである。工程異常監視部13は、工程が異常であるかの否かの判定を、管理図法に従って行う。なお、この異常か否かの判定は、JIS(Japanese Industrial Standard)に規定されている判定規則に従っても良いし、ユーザが独自に規定しても良い。また、時系列データの平均およびバラツキを利用する管理図に限らず、時系列データをそのまま使用しても良い。   The process abnormality monitoring unit 13 refers to time series data stored in the process state DB 17 of the storage unit 11 and monitors process abnormality. The process abnormality monitoring unit 13 determines whether or not the process is abnormal according to the control chart method. The determination as to whether or not this abnormality is present may be in accordance with a determination rule defined in JIS (Japanese Industrial Standard), or may be defined independently by the user. In addition, the time-series data may be used as it is without being limited to the control chart using the average and variation of the time-series data.

工程異常監視部13は、工程の異常を検出した場合、図示しない警報器などを用いて現場の作業員に警告する。同時に、工程異常監視部13は、設備稼働センサ2および製品品質センサ3のそれぞれに係る時系列データに関して、異常発生時より所定の時間またはデータ数だけ前から、異常発生時より所定の時間またはデータ数だけ後までの時系列データを抽出して、異常原因抽出部14に送信する。   When the process abnormality monitoring unit 13 detects a process abnormality, the process abnormality monitoring unit 13 warns an on-site worker using an alarm device (not shown). At the same time, the process abnormality monitoring unit 13 relates to time series data relating to each of the equipment operation sensor 2 and the product quality sensor 3 from a predetermined time or number of data before the occurrence of the abnormality, and for a predetermined time or data from the occurrence of the abnormality. The time-series data up to the number after is extracted and transmitted to the abnormality cause extraction unit 14.

図4は、管理図の一例を示すものである。管理図は、工程における偶然による変動と異常原因による変動とを区分して工程を管理するために考案されたものである。図示のように、管理図は、横軸が時間軸、縦軸がデータ軸であり、横軸に平行に1本の中心線CLと、該中心線CLの上下に合理的に設定された上方管理限界線UCLおよび下方管理限界線LCLとが描かれている。この管理図に、時系列データをプロットしたとき、全ての点が、上方管理限界線UCLおよび下方管理限界線LCLの間に存在し、かつ点の並び方に癖が無い場合には、工程は正常であると判断することができる。   FIG. 4 shows an example of a management chart. The control chart is devised to manage the process by distinguishing a change due to chance and a change due to an abnormality in the process. As shown in the figure, the control chart is such that the horizontal axis is the time axis and the vertical axis is the data axis, one center line CL parallel to the horizontal axis, and the upper side reasonably set above and below the center line CL. A control limit line UCL and a lower control limit line LCL are drawn. When time series data is plotted on this control chart, if all points exist between the upper control limit line UCL and the lower control limit line LCL, and there is no flaw in the way the points are arranged, the process is normal. Can be determined.

一方、点が、上方管理限界線UCLおよび下方管理限界線LCLの間からはみ出した場合、或いは点の並び方に癖がある場合には、工程に異常が生じていると判断することができる。この場合、上述のように、異常発生時より所定の時間またはデータ数だけ前から、異常発生時より所定の時間またはデータ数だけ後までの抽出区間に存在する時系列データが抽出される。なお、異常の発生は、発生する前の状態に起因することが多いので、図4に示されるように、上記抽出区間は、異常発生以前の方が異常発生以後よりも長いことが望ましい。   On the other hand, if a point protrudes between the upper control limit line UCL and the lower control limit line LCL, or if there is a flaw in the way the points are arranged, it can be determined that an abnormality has occurred in the process. In this case, as described above, time-series data existing in the extraction section from a predetermined time or number of data before the occurrence of the abnormality to a predetermined time or the number of data after the occurrence of the abnormality is extracted. Since the occurrence of an abnormality is often caused by a state before the occurrence, as shown in FIG. 4, it is desirable that the extraction section is longer before the occurrence of the abnormality than after the occurrence of the abnormality.

図3は、異常原因抽出部14および原因・対処リスト作成部15の詳細を示している。異常原因抽出部14は、特徴量抽出部22および類似度算出部23を備える構成であり、原因・対処リスト作成部15は、優先順位付与部24およびリスト作成部25を備える構成である。   FIG. 3 shows details of the abnormality cause extraction unit 14 and the cause / action list creation unit 15. The abnormality cause extraction unit 14 includes a feature amount extraction unit 22 and a similarity calculation unit 23, and the cause / action list creation unit 15 includes a priority order assignment unit 24 and a list creation unit 25.

特徴量抽出部22は、工程異常監視部13が工程の異常を検出して抽出した時系列データを受信すると、受信した時系列データから現在の波形特徴量を算出するとともに、異常・原因対応テーブル18から全ての異常原因について過去の波形特徴量を抽出するものである。特徴量抽出部22は、算出した現在の波形特徴量と、抽出した過去の波形特徴量とを類似度算出部23に送信する。   When the process abnormality monitoring unit 13 receives the time series data extracted by detecting the process abnormality, the feature quantity extraction unit 22 calculates the current waveform feature quantity from the received time series data, and the abnormality / cause correspondence table. The past waveform feature values are extracted from all the abnormal causes from 18. The feature amount extraction unit 22 transmits the calculated current waveform feature amount and the extracted past waveform feature amount to the similarity calculation unit 23.

図5(a)は、異常・原因対応テーブル18の一例を表形式で示している。図示のように、異常・原因対応テーブル18は、複数の異常原因と、各異常原因に対応する波形特徴量、発生回数、および損失金額とを含む構成である。なお、異常原因の種類が少ないために異常原因の表示の必要がない場合には、異常・原因対応テーブル18を、異常原因の代わりに対処方法に直接関係付けてもよい。   FIG. 5A shows an example of the abnormality / cause correspondence table 18 in a table format. As shown in the figure, the abnormality / cause correspondence table 18 includes a plurality of abnormality causes, waveform feature amounts corresponding to each abnormality cause, the number of occurrences, and a loss amount. If there is no need to display the cause of the abnormality because there are few types of causes of the abnormality, the abnormality / cause correspondence table 18 may be directly related to a countermeasure method instead of the cause of the abnormality.

ところで、図4に示される抽出区間は、抽出の度に多少のズレが生じる。このため、工程異常監視部13が抽出した時系列データの波形そのものや平均波形を波形特徴量とすることは望ましくない。そこで、波形特徴量は、単純な平均、分散等の統計量や、FFT(Fast Fourier Transform)変換、自己相関係数等の周波数成分のような位置不変量であることが望ましい。   By the way, in the extraction section shown in FIG. For this reason, it is not desirable to use the waveform itself or the average waveform of the time series data extracted by the process abnormality monitoring unit 13 as the waveform feature amount. Therefore, the waveform feature quantity is desirably a position invariant such as a simple statistical quantity such as average or variance, or a frequency component such as FFT (Fast Fourier Transform) transform or autocorrelation coefficient.

類似度算出部23は、特徴量抽出部22から受信した現在の波形特徴量と過去の波形特徴量とを比較して波形類似度を算出するものである。類似度算出部23は、算出した波形類似度を優先順位付与部24に送信する。   The similarity calculator 23 calculates the waveform similarity by comparing the current waveform feature received from the feature extractor 22 with the past waveform feature. The similarity calculation unit 23 transmits the calculated waveform similarity to the priority level assigning unit 24.

波形類似度は、優先順位付与部24にて優先順位を付与することを考慮すると、0〜1の値をとるように規格化されていることが望ましい。本実施形態では、波形類似度として、簡便に算出できる相関関数の絶対値を使用している。相関関数は、複数の波形特徴量を成分とするベクトルから単位ベクトルを算出し、現在の波形特徴量に関する単位ベクトルと過去の波形特徴量に関する単位ベクトルとの内積を計算したものである。単位ベクトルの内積は、−1〜+1の値をとるが、ベクトルの方向性のみを考慮し、向きを無視すれば、内積の絶対値をとることと等価となる。   It is desirable that the waveform similarity is standardized so as to take a value of 0 to 1 in consideration of giving priority by the priority assigning unit 24. In this embodiment, the absolute value of the correlation function that can be easily calculated is used as the waveform similarity. The correlation function is obtained by calculating a unit vector from vectors having a plurality of waveform feature quantities as components, and calculating the inner product of the unit vector relating to the current waveform feature quantity and the unit vector relating to the past waveform feature quantity. The inner product of the unit vectors takes a value of −1 to +1, but if only the directionality of the vector is considered and the direction is ignored, it is equivalent to taking the absolute value of the inner product.

相関関数の絶対値を波形類似度とする場合、波形類似度Xsiは、次式から求めることができる。
Xsi=|{kが1からpまでの(Xaik×Xck)の総和}/{(kが1からpまでのXaikの総和)1/2×(kが1からpまでのXckの総和)1/2}|。
ここで、Xaikは過去の平均波形特徴量であり、Xaik=Xik/Yiで表わされる。また、Xikは過去の波形特徴量の総和であり、Yiは発生回数である。また、Xckは現在の波形特徴量である。また、iは、図5(a)に示される異常・原因対応テーブル18における異常原因の順番であり、1,2,…,mの値をとる。また、kは、異常・原因対応テーブル18の各異常原因における波形特徴量の順番であり、1,2,…,pの値をとる。
When the absolute value of the correlation function is the waveform similarity, the waveform similarity Xsi can be obtained from the following equation.
Xsi = | {k is the sum of up to p 1 (Xaik × Xck)} / { sum of XCK 2 (k from 1 Xaik sum of 2 to p) from 1/2 × (k is 1 to p ) 1/2 } |.
Here, Xaik is a past average waveform feature amount, and is represented by Xaik = Xik / Yi. Xik is the total sum of past waveform feature values, and Yi is the number of occurrences. Xck is the current waveform feature amount. Further, i is the order of the cause of abnormality in the abnormality / cause correspondence table 18 shown in FIG. 5A, and takes values of 1, 2,. Further, k is the order of the waveform feature amount in each abnormality cause in the abnormality / cause correspondence table 18, and takes values of 1, 2,..., P.

優先順位付与部24は、類似度算出部23から受信した波形類似度と、過去の発生頻度および損失割合とを用いて確信度を算出し、算出した確信度に基づいて異常原因の優先順位付けを行うものである。優先順位付与部24は、上記異常原因の優先順位付けをリスト作成部25に送信する。   The priority level assigning unit 24 calculates the certainty factor using the waveform similarity degree received from the similarity calculating unit 23, the past occurrence frequency and the loss ratio, and prioritizes abnormal causes based on the calculated certainty factor. Is to do. The priority level assigning unit 24 transmits the prioritization of the cause of abnormality to the list creating unit 25.

確信度Piは、次式から求めることができ、求めた確信度Piの高い順に異常原因を並べ替えたものが優先順位となる。
Pi=Xsi×Yri×Zri。
ここで、Xsiは上述のように波形類似度である。また、Yriは発生頻度であり、発生回数Yiを用いて、Yri=Yi/(全ての異常原因の中でのYiの最大値)で表わされる。また、Zriは損失割合であり、損失金額Ziを用いて、Zri=Zi/(全ての異常原因の中でのZiの最大値)で表わされる。また、iは、上述のように、異常・原因対応テーブル18における異常原因の順番であり、1,2,…,mの値をとる。
The certainty factor Pi can be obtained from the following equation, and the order of abnormality causes is arranged in descending order of the obtained certainty factor Pi.
Pi = Xsi * Yri * Zri.
Here, Xsi is the waveform similarity as described above. Yri is the frequency of occurrence, and is expressed as Yri = Yi / (the maximum value of Yi among all abnormal causes) using the number of occurrences Yi. Zri is a loss ratio, and is expressed as Zri = Zi / (maximum value of Zi among all abnormal causes) using the loss amount Zi. Further, i is the order of the cause of abnormality in the abnormality / cause correspondence table 18 as described above, and takes values of 1, 2,..., M.

なお、発生頻度Yriおよび損失割合Zriを、発生回数Yiおよび損失金額Ziの最大値に対する比率としているが、これは、確信度Piの算出を考慮すると、発生頻度Yriおよび損失割合Zriが、波形類似度Xsiの場合同様に0〜1に規格化されることが望ましいためである。   The occurrence frequency Yri and the loss ratio Zri are the ratios of the occurrence frequency Yi and the loss amount Zi to the maximum value, but considering the calculation of the certainty factor Pi, the occurrence frequency Yri and the loss ratio Zri are similar in waveform. This is because it is desirable to be normalized to 0 to 1 in the case of the degree Xsi.

リスト作成部25は、優先順位付与部24から受信した優先順位と、原因・対処対応テーブル19とに基づいて、原因・対処リストを作成するものである。リスト作成部25は作成した原因・対処リストを端末5に送信することにより、端末5の表示部20に原因・対処リストが表示される。上記原因・対処リストの作成手順を以下に説明する。   The list creation unit 25 creates a cause / response list based on the priority received from the priority level assigning unit 24 and the cause / response table 19. The list creation unit 25 transmits the created cause / response list to the terminal 5, whereby the cause / response list is displayed on the display unit 20 of the terminal 5. The procedure for creating the cause / action list will be described below.

図5(b)は、原因・対処対応テーブル19の一例を表形式で示している。図示のように、原因・対処対応テーブル19は、複数の異常原因と、各異常原因に対応する複数の対処方法および発生回数とを含む構成である。   FIG. 5B shows an example of the cause / countermeasure correspondence table 19 in a table format. As shown in the figure, the cause / countermeasure correspondence table 19 includes a plurality of abnormality causes, a plurality of countermeasure methods corresponding to each abnormality cause, and the number of occurrences.

まず、リスト作成部25は、優先順位付与部24から受信した優先順位における上位の異常原因に関して、原因・対処対応テーブル19から複数の対処方法および発生回数を読み出す。次に、読み出した発生回数Cijから発生頻度Crijを次式から求める。
Crij=Cij/(或る異常原因Aiの中でのCijの最大値)。
ここで、iは、原因・対処対応テーブル19における異常原因の順番であり、i=1,2,…,mの値をとる。また、jは、原因・対処対応テーブル19の或る異常原因における対策方法の順番であり、j=1,2,…,nの値をとる。
First, the list creation unit 25 reads a plurality of coping methods and the number of occurrences from the cause / coping correspondence table 19 with respect to the upper abnormal cause in the priority order received from the priority order assigning unit 24. Next, the occurrence frequency Crij is obtained from the following expression from the read occurrence number Cij.
Crij = Cij / (maximum value of Cij among certain abnormality causes Ai).
Here, i is the order of the cause of abnormality in the cause / countermeasure correspondence table 19, and takes values of i = 1, 2,..., M. Further, j is the order of countermeasure methods for a certain cause of abnormality in the cause / countermeasure correspondence table 19, and takes values j = 1, 2,..., N.

次に、発生頻度Crijの高い順に対処方法を選択して、原因・対処リストを作成する。図6は、原因・対処リストの一例を表形式で示している。図示の場合では、原因・対処リストは、優先順位の高い方から、異常原因とその確信度が配列し、異常原因ごとに対処方法および発生回数が、発生頻度Crijの高い方から配列している。   Next, a coping method is selected in descending order of occurrence frequency Crij, and a cause / coping list is created. FIG. 6 shows an example of the cause / action list in a table format. In the case shown in the figure, the cause / action list is arranged with the cause of abnormality and the certainty degree from the highest priority, and the countermeasure method and the number of occurrences are arranged for each abnormality cause from the highest occurrence frequency Crij. .

なお、端末5の表示部20は、原因・対処リストの全てを画面に表示しても良いし、発生頻度の高いもののみを表示してもよいし、異常原因の数で区切ってもよいし、確信度の値で区切ってもよい。   The display unit 20 of the terminal 5 may display the entire cause / response list on the screen, may display only frequently occurring items, or may be divided by the number of abnormal causes. , It may be separated by a certainty value.

再び図2を参照すると、原因・対処修正部16は、工程の異常に対する対処作業を実際に実施して、適切な異常原因および対処方法が判明した後に、異常・原因対応テーブル18および原因・対処対応テーブル19を修正するものである。   Referring again to FIG. 2, the cause / response correcting unit 16 actually performs a response operation for the process abnormality, and after determining an appropriate error cause and a response method, the error / cause correspondence table 18 and the cause / response The correspondence table 19 is corrected.

具体的には、原因・対処修正部16は、まず、異常・原因対応テーブル18および原因・対処対応テーブル19の全部または必要な部分を端末5に送信して、端末5の表示部20にて表示する。次に、適切な異常原因または対処方法が、異常・原因対応テーブル18および原因・対処対応テーブル19に存在しない場合には、ユーザの入力部21からの指示により、異常・原因対応テーブル18および原因・対処対応テーブル19に新たな異常原因の項目または対処方法の項目を追加する。   Specifically, the cause / response correcting unit 16 first transmits all or necessary parts of the abnormality / cause correspondence table 18 and the cause / response correspondence table 19 to the terminal 5, and the display unit 20 of the terminal 5 indicate. Next, when an appropriate abnormality cause or countermeasure is not present in the abnormality / cause correspondence table 18 and the cause / response correspondence table 19, the abnormality / cause correspondence table 18 and the cause are indicated by an instruction from the input unit 21 of the user. Add a new abnormality cause item or countermeasure item to the countermeasure handling table 19.

そして、ユーザの入力部21からの指示により、異常・原因対応テーブル18および原因・対処対応テーブル19における適切な異常原因および対処方法の項目の波形特徴量、発生回数および損失金額を、それぞれ以前のものに加算して更新する。   Then, according to an instruction from the input unit 21 by the user, the waveform feature amount, occurrence frequency, and loss amount of the appropriate abnormality cause and countermeasure method items in the abnormality / cause correspondence table 18 and the cause / response correspondence table 19 are respectively set to the previous values. Add to things and update.

次に、上記構成の工程管理装置4における処理動作を図1および図7に基づいて説明する。図1は、工程を監視して、異常が発生した場合に異常原因および対処方法を端末5の表示部20に表示する処理の流れを示している。また、図7は、実際の対処作業の終了後に異常・原因対応テーブル18および原因・対処対応テーブル19を更新する処理の流れを示している。   Next, the processing operation in the process management apparatus 4 having the above-described configuration will be described with reference to FIGS. FIG. 1 shows a flow of processing for monitoring a process and displaying the cause of an abnormality and a countermeasure on the display unit 20 of the terminal 5 when an abnormality occurs. FIG. 7 shows a flow of processing for updating the abnormality / cause correspondence table 18 and the cause / response correspondence table 19 after the actual countermeasure work is completed.

図1に示されるように、まず、工程の異常が発生するまでは、工程状態収集部12が、収集した設備稼働データおよび製品品質データをその受信時刻とともに時系列データとして記憶部11の工程状態DB17に記憶している(ステップS10(以下、単に「S10」と記載することがある。他のステップについても同様である。)、S11でNO)。   As shown in FIG. 1, first, until a process abnormality occurs, the process state collection unit 12 uses the collected equipment operation data and product quality data as time series data together with the reception time of the process state of the storage unit 11. It is stored in the DB 17 (Step S10 (hereinafter simply referred to as “S10”. The same applies to other steps), NO in S11).

工程の異常が発生すると(S11でYES)、工程異常監視部13は、抽出区間(図4)の時系列データを工程状態DB17から抽出し、特徴量抽出部22が、抽出した時系列データから現在の波形特徴量を算出するとともに、異常・原因対応テーブル18から全ての異常原因について過去の波形特徴量を抽出する(S12)。   When a process abnormality occurs (YES in S11), the process abnormality monitoring unit 13 extracts the time series data of the extraction section (FIG. 4) from the process state DB 17, and the feature amount extraction unit 22 extracts the time series data from the extracted time series data. The current waveform feature amount is calculated, and the past waveform feature amount is extracted for all abnormality causes from the abnormality / cause correspondence table 18 (S12).

次に、類似度算出部23が、現在の波形特徴量と過去の波形特徴量とを比較して波形類似度を算出する(S13)。次に、優先順位付与部24が、類似度算出部23が算出した波形類似度と、過去の発生頻度および損失割合とを用いて確信度を算出し、算出した確信度に基づいて異常原因の優先順位付けを行う(S14)。そして、リスト作成部25が、上記優先順位と原因・対処対応テーブル19とに基づいて、異常原因および対処方法を含む原因・対処リストを作成して端末5に出力する(S15)。その後、ステップS10に戻って、以上の動作を繰り返す。   Next, the similarity calculation unit 23 compares the current waveform feature amount with the past waveform feature amount to calculate the waveform similarity (S13). Next, the priority level assigning unit 24 calculates the certainty factor using the waveform similarity calculated by the similarity calculating unit 23, the past occurrence frequency and the loss ratio, and based on the calculated certainty factor, Prioritization is performed (S14). Then, the list creation unit 25 creates a cause / countermeasure list including the cause of the abnormality and the coping method based on the priority order and the cause / countermeasure handling table 19, and outputs it to the terminal 5 (S15). Then, it returns to step S10 and repeats the above operation | movement.

実際の対処作業が終了すると、図7に示されるように、まず、原因・対処修正部16が、異常・原因対応テーブル18および原因・対処対応テーブル19の全部または必要な部分を端末5の表示部20に表示させて、適切な異常原因が存在するか否かをユーザに判断させる(S20)。ユーザの入力部21からの指示により、ユーザが適切な異常原因が存在しないと判断した場合には、異常・原因対応テーブル18および原因・対処対応テーブル19に新たな異常原因の項目を追加するとともに(S21)、原因・対処対応テーブル19に新たな対処方法の項目を追加する(S22)。   When the actual coping operation is completed, as shown in FIG. 7, first, the cause / response correcting unit 16 displays all or necessary parts of the abnormality / cause correspondence table 18 and the cause / response correspondence table 19 on the terminal 5. The information is displayed on the unit 20 to allow the user to determine whether or not an appropriate abnormality cause exists (S20). When the user determines that there is no appropriate cause of abnormality according to an instruction from the input unit 21, a new abnormality cause item is added to the abnormality / cause correspondence table 18 and the cause / action correspondence table 19. (S21), a new countermeasure method item is added to the cause / countermeasure correspondence table 19 (S22).

一方、ユーザが適切な異常原因が存在すると判断した場合には、適切な対処方法が存在するか否かをユーザに判断させ(S23)、存在しない場合には、原因・対処対応テーブル19において該当する異常原因の項目に新たな対処方法の項目を追加する(S22)。   On the other hand, when the user determines that there is an appropriate cause of abnormality, the user is determined whether or not an appropriate countermeasure is present (S23). The item of the new coping method is added to the item of the cause of abnormality to be performed (S22).

次に、ユーザの入力部21からの指示により、原因・対処修正部16は、異常・原因対応テーブル18および原因・対処対応テーブル19における適切な異常原因および対処方法の項目の波形特徴量、発生回数および損失金額を、それぞれ以前のものに加算して更新する(S24)。その後、処理を終了する。   Next, in response to an instruction from the user input unit 21, the cause / response correcting unit 16 generates a waveform feature amount and occurrence of an appropriate abnormality cause and countermeasure method item in the abnormality / cause correspondence table 18 and the cause / response correspondence table 19. The number of times and the amount of loss are each updated by adding to the previous one (S24). Thereafter, the process ends.

本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。すなわち、請求項に示した範囲で適宜変更した技術的手段を組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope shown in the claims. That is, embodiments obtained by combining technical means appropriately modified within the scope of the claims are also included in the technical scope of the present invention.

例えば、上記実施形態では、異常・原因対応テーブル18により工程の異常と異常原因とを対応付け、原因・対処対応テーブル19により異常原因と対処方法とを対応付けているが、工程の異常と対処方法とを対応付けることもできる。この場合、異常が発生すると、異常原因を介さずに対処方法を直接導き出すことができる。このように、工程の異常と対応付けるものとしては、異常原因、対処方法など、異常に関連する任意の異常関連情報を利用することができる。   For example, in the above-described embodiment, the abnormality / cause correspondence table 18 associates the process abnormality with the abnormality cause, and the cause / response correspondence table 19 associates the abnormality cause with the countermeasure. Methods can also be associated. In this case, when an abnormality occurs, a countermeasure can be directly derived without going through the cause of the abnormality. As described above, any abnormality-related information related to the abnormality such as the cause of the abnormality and the countermeasures can be used as the one associated with the process abnormality.

また、上記実施形態では、波形類似度として相関関数の絶対値を使用しているが、集合論的な分布を考慮するならば、Mahalanobis距離を算出して、その値に対する正規分布の高さを分布の所属確率として考えても良い。この場合、複数の波形特徴量の平均値だけでなく、分散共分散行列を算出できる情報も記憶部11の異常・原因対応テーブル18に記憶しておく必要がある。   In the above embodiment, the absolute value of the correlation function is used as the waveform similarity. However, if a set-theoretic distribution is considered, the Mahalanobis distance is calculated, and the height of the normal distribution with respect to that value is calculated. It may be considered as a distribution probability. In this case, it is necessary to store not only an average value of a plurality of waveform feature amounts but also information capable of calculating a variance-covariance matrix in the abnormality / cause correspondence table 18 of the storage unit 11.

また、上記実施形態では、優先順位の高い順にリストを並べ替えて表示しているが、優先順位の高いものの文字の大きさや色、背景色を変更することにより、優先順位の高いものを強調して表示するようにしてもよい。また、表示部20に表示する代わりに、プリンタやスピーカを用いて印刷したり音声出力したりするなど、他の出力形態を利用することもできる。   In the above embodiment, the list is rearranged and displayed in descending order of priority. However, by changing the character size, color, and background color of the higher priority, the higher priority is emphasized. May be displayed. Further, instead of displaying on the display unit 20, other output forms such as printing using a printer or a speaker or outputting sound can be used.

また、上記実施形態では、波形類似度、発生頻度、および損失割合を用いて優先順位を付与しているが、これらの少なくとも1つを用いて優先順位を付与してもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the priority order is provided using the waveform similarity, the occurrence frequency, and the loss ratio, the priority order may be provided using at least one of these.

また、波形類似度および発生頻度の他に、異常の原因の適合度として、異常確率を用いてもよい。異常確率は、工程異常が発生している確率を管理図から算出して使用することができ、例えば、上限管理限界からはみ出た量が大きいほど高い確率とすることができる。   In addition to the waveform similarity and the occurrence frequency, an abnormality probability may be used as the degree of conformity of the cause of the abnormality. The abnormality probability can be used by calculating the probability that a process abnormality has occurred from a control chart. For example, the abnormality probability can be higher as the amount of protrusion exceeds the upper limit control limit.

また、異常が工程に与える影響度として、損失割合の他に、平均対策時間、直近不良率、直近不良増加率などを用いてもよい。ここで、平均対策時間とは、工程異常の対策を実施するのに要した時間の平均値をいい、直近不良率とは、工程異常が発生した直前の不良率をいい、直近不良増加率とは、上記直近不良率の増加率をいう。   Further, as the degree of influence of the abnormality on the process, in addition to the loss ratio, an average countermeasure time, the latest failure rate, the latest failure increase rate, or the like may be used. Here, the average countermeasure time refers to the average value of the time required to implement the countermeasure for the process abnormality, and the latest defect rate refers to the defect rate immediately before the process abnormality occurs, and the latest defect increase rate. Means the rate of increase of the most recent defect rate.

また、上記実施形態では、工程の異常を検出する方法として、管理図法を利用している
が、工程の異常を検出し、異常時のデータを取得できる任意の方法を利用することができる。例えば、従来からプロセス系に適用されている機能としてオンラインモニター機能がある。オンラインモニター機能とは、工程の時系列データから所定の特徴量を算出し、算出した特徴量が、製造物に対する固有の製造技術に基づいて予め設定された管理範囲を逸脱したときに現場作業者に警告するものが多い。このようなオンラインモニター機能は、工程の異常を自動的に検出でき、異常時の時系列データを取得することができるので、工程の異常を検出する方法として上記実施形態に適用することができる。
Moreover, in the said embodiment, although the control chart method is utilized as a method of detecting the abnormality of a process, the arbitrary methods which can detect the abnormality of a process and can acquire the data at the time of abnormality can be utilized. For example, an online monitoring function is a function that has been applied to process systems. The online monitor function calculates a predetermined feature amount from time-series data of the process, and when the calculated feature amount deviates from the management range set in advance based on the specific manufacturing technology for the product, There are many warnings. Such an online monitoring function can automatically detect process abnormalities and can acquire time-series data at the time of abnormalities, and thus can be applied to the above-described embodiment as a method for detecting process abnormalities.

また、工程管理装置4における制御部10の各ブロックは、ハードウェアロジックによって構成してもよいし、次のようにCPUを用いてソフトウェアによって実現してもよい。   Each block of the control unit 10 in the process management apparatus 4 may be configured by hardware logic, or may be realized by software using a CPU as follows.

すなわち、制御部10は、各機能を実現する制御プログラムの命令を実行するCPU、上記プログラムを格納したROM、上記プログラムを展開するRAM、上記プログラムおよび各種データを格納するメモリ等の記憶装置(記録媒体)などを備えている。そして、本発明の目的は、上述した機能を実現するソフトウェアである制御部10の制御プログラムのプログラムコード(実行形式プログラム、中間コードプログラム、ソースプログラム)をコンピュータで読み取り可能に記録した記録媒体を、上記制御部10に供給し、そのコンピュータ(またはCPUやMPU)が記録媒体に記録されているプログラムコードを読み出し実行することによっても、達成可能である。   That is, the control unit 10 is a storage device (recording device) such as a CPU that executes instructions of a control program that realizes each function, a ROM that stores the program, a RAM that expands the program, a memory that stores the program and various data, and the like. Medium). An object of the present invention is a recording medium on which a program code (execution format program, intermediate code program, source program) of a control program of the control unit 10 which is software that realizes the above-described functions is recorded so as to be readable by a computer. This can also be achieved by supplying the control unit 10 and reading and executing the program code recorded on the recording medium by the computer (or CPU or MPU).

上記記録媒体としては、例えば、磁気テープやカセットテープ等のテープ系、フレキシブルディスク/ハードディスク等の磁気ディスクやCD−ROM/MO/MD/DVD/CD−R等の光ディスクを含むディスク系、ICカード(メモリカードを含む)/光カード等のカード系、あるいはマスクROM/EPROM/EEPROM/フラッシュROM等の半導体メモリ系などを用いることができる。   Examples of the recording medium include a tape system such as a magnetic tape and a cassette tape, a disk system including a magnetic disk such as a flexible disk / hard disk and an optical disk such as a CD-ROM / MO / MD / DVD / CD-R, and an IC card. A card system such as an optical card (including a memory card) or a semiconductor memory system such as a mask ROM / EPROM / EEPROM / flash ROM can be used.

また、制御部10を通信ネットワークと接続可能に構成し、上記プログラムコードを通信ネットワークを介して供給してもよい。この通信ネットワークとしては、特に限定されず、例えば、インターネット、イントラネット、エキストラネット、LAN、ISDN、VAN、CATV通信網、仮想専用網(virtual private network)、電話回線網、移動体通信網、衛星通信網等が利用可能である。また、通信ネットワークを構成する伝送媒体としては、特に限定されず、例えば、IEEE1394、USB、電力線搬送、ケーブルTV回線、電話線、ADSL回線等の有線でも、IrDAやリモコンのような赤外線、Bluetooth(登録商標)、802.11無線、HDR、携帯電話網、衛星回線、地上波デジタル網等の無線でも利用可能である。なお、本発明は、上記プログラムコードが電子的な伝送で具現化された搬送波あるいはデータ信号列の形態でも実現され得る。   The control unit 10 may be configured to be connectable to a communication network, and the program code may be supplied via the communication network. The communication network is not particularly limited. For example, the Internet, intranet, extranet, LAN, ISDN, VAN, CATV communication network, virtual private network, telephone line network, mobile communication network, satellite communication. A net or the like is available. Further, the transmission medium constituting the communication network is not particularly limited. For example, even in the case of wired such as IEEE 1394, USB, power line carrier, cable TV line, telephone line, ADSL line, etc., infrared rays such as IrDA and remote control, Bluetooth ( (Registered trademark), 802.11 wireless, HDR, mobile phone network, satellite line, terrestrial digital network, and the like can also be used. The present invention can also be realized in the form of a carrier wave or a data signal sequence in which the program code is embodied by electronic transmission.

本発明に係る工程管理装置は、製造工程以外にも、本発明は、製造工程以外にも、家電製品や自動車など、電子制御される装置やシステム内で行われる各種の処理工程を管理する場合にも適用することができる。   In addition to the manufacturing process, the process management apparatus according to the present invention manages various processing processes performed in electronically controlled apparatuses and systems such as home appliances and automobiles in addition to the manufacturing process. It can also be applied to.

本発明の一実施形態である工程管理システムの工程管理装置において、工程を監視して、異常が発生した場合に異常原因および対処方法を出力する処理の流れを示すフローチャートである。5 is a flowchart showing a flow of processing for monitoring a process and outputting an abnormality cause and a coping method when an abnormality occurs in the process management apparatus of the process management system according to the embodiment of the present invention. 上記工程管理システムの概略構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows schematic structure of the said process management system. 上記工程管理装置の異常原因抽出部および原因対処リスト作成部の詳細を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the detail of the abnormality cause extraction part and cause coping list preparation part of the said process management apparatus. 上記工程管理装置の工程異常監視部が工程の異常を監視するために利用する管理図の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the control chart utilized in order that the process abnormality monitoring part of the said process management apparatus may monitor process abnormality. 同図(a)は、上記工程管理装置の記憶部に記憶される異常・原因対応テーブルの一例を表形式で示す図であり、同図(b)は、上記記憶部に記憶される原因・対処対応テーブルの一例を表形式で示す図である。FIG. 6A is a diagram showing an example of an abnormality / cause correspondence table stored in the storage unit of the process management apparatus in a table format. FIG. It is a figure which shows an example of a countermeasure correspondence table in a table format. 上記工程管理装置の原因・対処リスト作成部が作成する原因・対処リストの一例を表形式で示す図である。It is a figure which shows an example of the cause and countermeasure list which the cause and countermeasure list preparation part of the said process management apparatus produces in a table format. 上記工程管理装置において、実際の対処作業の終了後に上記異常・原因対応テーブルおよび上記原因・対処対応テーブルを更新する処理の流れを示すフローチャートである。FIG. 5 is a flowchart showing a flow of processing for updating the abnormality / cause correspondence table and the cause / response correspondence table after the actual countermeasure work is completed in the process management apparatus. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 工程管理システム
4 工程管理装置
11 記憶部(記憶手段)
12 工程状態収集部(収集手段)
13 工程異常監視部(検出手段)
14 異常原因抽出部(抽出手段)
15 原因・対処リスト作成部(リスト作成手段、対処方法抽出手段、対処方法リスト作成手段)
16 原因・対処修正部(対応関係更新手段、原因・対処対応関係更新手段)
18 異常・原因対応テーブル(対応関係、異常・原因対応関係)
19 原因・対処対応テーブル(原因・対処対応関係)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Process management system 4 Process management apparatus 11 Memory | storage part (memory | storage means)
12 Process status collection unit (collection means)
13 Process abnormality monitoring part (detection means)
14 Abnormal cause extraction unit (extraction means)
15 Cause / Correction List Creation Unit (List creation means, countermeasure method extraction means, countermeasure method list creation means)
16 Cause / Correction Correction Unit (Correspondence Update Unit, Cause / Countermeasure Update Unit)
18 Abnormality / cause correspondence table (correspondence, abnormality / cause correspondence)
19 Cause / Countermeasure Response Table (Cause / Countermeasure Response Relationship)

本発明は、複数の工程を管理する工程管理装置、工程管理方法、工程管理プログラム、および該プログラムを記録した記録媒体に関するものである。 The present invention relates to a process management apparatus that manages a plurality of processes, a process management method, a process management program, and a recording medium on which the program is recorded.

従来、種々の製造工程において、異常を検出し、その原因や対処方法を特定する工程管理方法として多数の方法が実施され、また提案されている。   Conventionally, a number of methods have been implemented and proposed as process management methods for detecting abnormalities in various manufacturing processes and identifying causes and countermeasures.

一般に実施されている方法としては下記のような工程管理方法がある。すなわち、製造工程における設備の稼働データや、製品の品質データを時系列で収集するとともに、収集した時系列データを管理図で表わすことにより、工程の異常を設備の稼働中にかつリアルタイムで自動検出する。そして、異常を検出した場合には、予め人の手により作成されたFMEA(故障モード影響解析(Failure Mode and Effects Analysis))に従って、異常の症状を調べて、異常の原因と対処方法とを導出する。   As a generally practiced method, there are the following process control methods. In other words, facility operation data and product quality data in the manufacturing process are collected in time series, and the collected time series data is represented in a control chart to automatically detect process abnormalities in real time during equipment operation. To do. When an abnormality is detected, the cause of the abnormality and a countermeasure are derived by examining the symptoms of the abnormality according to FMEA (Failure Mode and Effects Analysis) prepared in advance by human hands. To do.

また、特許文献1に記載の半導体装置の製造管理システムでは、下記の工程管理方法が提案されている。まず、半導体装置の製造工程での製造条件と、実際の処理で実行した条件とを工程毎に収集・蓄積し、検査工程の測定値を含む測定項目毎の測定結果を収集・蓄積するとともに、前記検査工程で測定された測定項目毎の測定値を、予め登録されている規格及び判定方法に従って判定する。判定の結果不良が発生した場合には、予め登録された解析データ及び解析手順に基づいて解析を自動実行し、原因設備・原因工程・原因ロットの特定を行う。   Further, in the semiconductor device manufacturing management system described in Patent Document 1, the following process management method has been proposed. First, the manufacturing conditions in the manufacturing process of the semiconductor device and the conditions executed in the actual processing are collected and accumulated for each process, and the measurement results for each measurement item including the measurement values in the inspection process are collected and accumulated. A measurement value for each measurement item measured in the inspection process is determined according to a standard and a determination method registered in advance. When a defect occurs as a result of the determination, the analysis is automatically executed based on the analysis data and the analysis procedure registered in advance, and the cause equipment, the cause process, and the cause lot are specified.

設備が原因の場合には、前記原因設備の条件修正による対応が可能であるか否かを判断し、可能なときには前記原因設備で作業する後続ロットの条件を修正する一方、不可能なときには前記原因設備での作業をストップする。一方、ロットが原因の場合には、原因ロットの後工程での条件の修正による対応が可能であるか否かを判断し、可能なときには後工程の条件を修正する一方、不可能なときには原因ロットの後工程の作業をストップする。   If the equipment is the cause, it is determined whether or not it is possible to cope with the condition modification of the cause equipment, and if possible, the condition of the subsequent lot working on the cause equipment is corrected, while if not possible, Stop working at the cause equipment. On the other hand, if the lot is the cause, it is determined whether it can be dealt with by correcting the conditions in the post-process of the cause lot. If possible, the conditions of the post-process are corrected. Stop work on the lot after the lot.

また、特許文献2に記載の品質分析方法では、下記の方法が提案されている。まず、設備稼働あるいは製品品質のデータを収録し、そのデータより製品の不良に対応する不良特徴抽出データを抽出加工する。そして、既知の典型的な不良特徴抽出データとそれに対応する不良要因あるいは不良に対する設備のメンテナンス情報との関係を表現した対応表DB(データベース)と、抽出加工された上記不良特徴抽出データとを照合し、不良要因あるいは設備のメンテナンス情報を出力する。   Further, in the quality analysis method described in Patent Document 2, the following method has been proposed. First, equipment operation or product quality data is recorded, and defect feature extraction data corresponding to product defects is extracted and processed from the data. Then, the correspondence table DB (database) expressing the relationship between known typical defect feature extraction data and the corresponding failure factor or the maintenance information of the equipment for the defect is compared with the extracted defect feature extraction data. Then, the cause of failure or the maintenance information of the equipment is output.

また、特許文献3に記載の設備のメンテナンス方法では、下記の方法が提案されている。まず、製品を製造する設備において、製品の品質を検査して得られた各種品質・稼働情報を品質・稼働DBとしてDB化して管理する。次に、この設備の各部構成ユニットに起因する製品の品質不良と設備のメンテナンス情報とを関連付けて、知識DBとしてDB化する。次に、前記品質・稼働DB内の情報を用いて、製品不良および稼働低下の原因を自動分析する。そして、この分析結果と前記知識DBとを用いて、設備メンテナンス部分を絞り込む。
特開平6−333791号公報(1994年12月2日公開) 特開平8−32281号公報(1996年2月2日公開) 特開平9−289396号公報(1997年11月4日公開)
In addition, in the equipment maintenance method described in Patent Document 3, the following method has been proposed. First, in a facility for manufacturing a product, various quality / operation information obtained by inspecting the quality of the product is managed as a quality / operation DB. Next, the product quality defect caused by each component unit of the equipment and the maintenance information of the equipment are associated with each other and stored as a knowledge DB. Next, using the information in the quality / operation DB, the cause of product failure and operation deterioration is automatically analyzed. Then, using this analysis result and the knowledge DB, the facility maintenance portion is narrowed down.
Japanese Patent Laid-Open No. 6-333791 (released on December 2, 1994) JP-A-8-32281 (published February 2, 1996) JP-A-9-289396 (published November 4, 1997)

しかしながら、上述の工程管理方法では、下記に示すような問題点がある。   However, the above-described process management method has the following problems.

まず、一般に実施されている方法では、工程の異常までは自動的に検出できるが、検出された異常から異常の症状を調べるときに、人がFMEAに従って異常の症状を全て目視でチェックする必要がある。このため、異常原因と対処方法とを導出するまでに時間がかかる結果となっていた。また、FMEAは、製造工程に係わる作業員が異常の因果関係に関して議論することによりリスト化されたものであるため、作業員の主観に左右される、定量化が困難であるといった問題がある。   First of all, in the generally practiced method, even process abnormalities can be automatically detected, but when examining abnormal symptoms from the detected abnormalities, it is necessary for a person to visually check all abnormal symptoms according to FMEA. is there. For this reason, it took a long time to derive the cause of the abnormality and the countermeasure. Moreover, since FMEA is listed by the workers involved in the manufacturing process discussing the causal relationship of abnormality, there is a problem that quantification is difficult depending on the subjectivity of the workers.

また、特許文献1に記載の方法では、不良が発生した場合の原因設備・原因工程・原因ロットの特定を、予め登録された解析データ及び解析手順に基づいて解析を自動実行することにより行っている。このため、不良の因果関係を予め分析して求めておくことが必要であるが、このことは、工程が複雑になればなるほど困難となる。   In the method described in Patent Document 1, the cause equipment, the cause process, and the cause lot when a defect occurs is identified by automatically executing analysis based on analysis data and analysis procedures registered in advance. Yes. For this reason, it is necessary to analyze and determine the causal relationship of defects in advance, but this becomes more difficult as the process becomes more complicated.

また、特許文献2に記載の方法では、既知の典型的な不良特徴抽出データとそれに対応する不良要因あるいは不良に対する設備のメンテナンス情報との関係を表現した対応表DBを利用している。しかしながら、工程が複雑になればなるほど、不良の原因が多種多様となり、上記対応表DBの作成が困難となる。また、未知の不良原因により不良が発生した場合に対応することができないといった問題もある。   Further, the method described in Patent Document 2 uses a correspondence table DB that expresses the relationship between known typical defect feature extraction data and the corresponding failure factor or facility maintenance information for the failure. However, the more complicated the process is, the more various causes of defects become, making it difficult to create the correspondence table DB. In addition, there is a problem that it is impossible to deal with a case where a failure occurs due to an unknown failure cause.

また、特許文献3に記載の方法では、製品不良および稼働低下の原因を自動分析した後、さらに設備メンテナンス部分の絞り込みを行っている。しかしながら、この絞り込みは、人間との対話形式で行われるため、作業員に手間をかけさせる結果となる。また、工程が複雑になればなるほど、製品不良および稼働低下の原因が多種多様となり、絞り込みに時間がかかる結果となる。   In the method described in Patent Document 3, the equipment maintenance portion is further narrowed down after automatically analyzing the cause of product failure and operation deterioration. However, since this narrowing down is performed in the form of dialogue with humans, it results in making the worker troublesome. In addition, the more complicated the process, the more various causes of product defects and reduced operation, resulting in a longer time for narrowing down.

本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、或る異常に対して異常の原因および/または対処方法が複数存在する場合でも、ユーザが適切な異常の原因および/または対処方法を選択することができる工程管理装置などを提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and the object of the present invention is to provide a user with an appropriate cause of abnormality and / or an appropriate abnormality even when there are a plurality of causes and / or countermeasures for the abnormality. Another object of the present invention is to provide a process management apparatus or the like that can select a coping method.

上記課題を解決するため、本発明に係る工程管理装置は、複数の工程の管理を行う工程管理装置において、上記工程に関する時系列データを収集する収集手段と、上記工程の異常時における上記時系列データの波形特徴量と、上記異常に関連する異常関連情報との対応関係を記憶する記憶手段と、上記工程の異常を検出する検出手段と、上記記憶手段が記憶した対応関係を用いて、上記検出手段が異常を検出した時に上記収集手段が収集した時系列データの波形特徴量に近い複数の波形特徴量に対応する複数の上記異常関連情報を抽出する抽出手段と、上記抽出手段が抽出した異常関連情報を含むリストを、上記検出手段が異常を検出した時に上記収集手段が収集した上記時系列データの波形特徴量と、上記複数の異常関連情報にそれぞれ対応する波形特徴量との間の類似度に基づいて作成するリスト作成手段とを備えることを特徴としている。 In order to solve the above problems, a process management apparatus according to the present invention is a process management apparatus that manages a plurality of processes, a collection unit that collects time-series data relating to the process, and the time series when the process is abnormal. a waveform feature amount of data, by using a storage means for storing a correspondence relationship between the abnormality-related information related to the abnormality, a detection means for detecting an abnormality of the process, the relationship which the storage means is stored, the Extraction means for extracting a plurality of the abnormality related information corresponding to a plurality of waveform feature quantities close to the waveform feature quantities of the time series data collected by the collection means when the detection means detects an abnormality, and the extraction means extracted abnormality list including related information, the waveform feature amount of the time-series data which the collecting means collects when said detecting means detects the abnormality, respectively pairs to the plurality of abnormality-related information It is characterized in that it comprises a list creation means for creating, based on the similarity between the waveform feature amount.

ここで、異常関連情報としては、異常の原因や異常に対する対処方法が挙げられる。また、工程に関する時系列データとしては、例えば、工程における設備の稼働に関するデータや、製品の品質に関するデータが挙げられる。 Here, examples of the abnormality-related information include the cause of the abnormality and a countermeasure for the abnormality. Examples of time-series data related to the process include data related to operation of equipment in the process and data related to product quality.

上記の構成において、工程の異常を検出すると、検出した異常に対応する複数の異常関連情報を、対応関係を用いて抽出し、抽出した異常関連情報を含むリストを、類似度に基づいて作成している。この類似度は、異常関連情報の適合の度合を示す適合度に含まれるものである。これにより、或る異常に対して異常関連情報が複数存在する場合でも、上記類似度に基づいてリストを作成するので、作成されたリストをユーザが参照することにより、適切な異常関連情報を選択することができる。また、異常検出時の波形特徴量と、対応関係に含まれる波形特徴量との間の類似度を利用してリストを作成することにより、或る異常状態に合致する異常関連情報を定量的にかつ客観的に求めることができる。 In the above configuration, when a process abnormality is detected, a plurality of abnormality related information corresponding to the detected abnormality is extracted using the correspondence relationship, and a list including the extracted abnormality related information is created based on the similarity. ing. This similarity is included in the degree of matching indicating the degree of matching of the abnormality related information. As a result, even when a plurality of abnormality-related information exists for a certain abnormality, a list is created based on the similarity , and the user selects appropriate abnormality-related information by referring to the created list. can do. In addition, by creating a list using the similarity between the waveform feature amount at the time of abnormality detection and the waveform feature amount included in the correspondence relationship, abnormality-related information that matches a certain abnormal state can be quantitatively analyzed. And it can be obtained objectively.

また、本発明に係る工程管理装置は、上記の構成において、上記異常関連情報が確定したときに、確定した異常関連情報に基づいて、上記記憶手段が記憶する対応関係を更新する対応関係更新手段をさらに備えることを特徴としている。   Further, the process management apparatus according to the present invention, in the above configuration, when the abnormality related information is confirmed, the correspondence update means for updating the correspondence stored in the storage means based on the confirmed abnormality related information. Is further provided.

上記の構成によると、異常が発生して対処が行われ、異常関連情報が確定すると、確定した異常関連情報に基づいて対応関係が更新される。これにより、詳細かつ高精度の対応関係が構築されるので、或る異常に対してより適切な異常関連情報を抽出することができる。   According to the above configuration, when an abnormality occurs and a countermeasure is taken and the abnormality related information is confirmed, the correspondence is updated based on the confirmed abnormality related information. As a result, a detailed and highly accurate correspondence is established, so that more appropriate abnormality related information can be extracted for a certain abnormality.

また、確定した異常関連情報が以前の対応関係に存在しない場合には、以前の対応関係に新たな対応関係が追加されることになる。したがって、記憶手段に予め対応関係を記憶しておかなくても、対応関係更新手段が対応関係の更新を繰り返すことにより、詳細かつ高精度の対応関係を構築することができる。   In addition, when the determined abnormality related information does not exist in the previous correspondence relationship, a new correspondence relationship is added to the previous correspondence relationship. Therefore, even if the correspondence relationship is not stored in advance in the storage unit, the correspondence relationship updating unit repeatedly updates the correspondence relationship, so that a detailed and highly accurate correspondence relationship can be established.

また、本発明に係る工程管理装置は、上記の構成において、上記異常関連情報は、上記異常の原因であり、上記記憶手段は、上記工程の異常と該異常の原因との対応関係である異常・原因対応関係を上記対応関係として記憶しており、さらに、上記異常の原因と上記異常に対する対処方法との対応関係である原因・対処対応関係を記憶することを特徴としている。   In the process management device according to the present invention, in the above configuration, the abnormality-related information is a cause of the abnormality, and the storage unit is an abnormality that is a correspondence relationship between the abnormality of the process and the cause of the abnormality. The cause correspondence relationship is stored as the correspondence relationship, and the cause / response correspondence relationship that is the correspondence relationship between the cause of the abnormality and a countermeasure for the abnormality is stored.

上記の構成によると、原因・対処対応関係を用いて異常の原因に対応する対処方法を求めることができるので、ユーザに適切な対処方法を指示することができる。   According to the above configuration, since a coping method corresponding to the cause of the abnormality can be obtained using the cause / coping correspondence relationship, an appropriate coping method can be instructed to the user.

また、本発明に係る工程管理装置は、上記の構成において、上記記憶手段が記憶した原因・対処対応関係を用いて、上記抽出手段が検出した異常の原因のそれぞれに対応する複数の対処方法を抽出する対処方法抽出手段と、上記対処方法抽出手段が抽出した複数の対処方法を含む対処方法リストを、上記対処方法の適合の度合を示す適合度に基づいて作成する対処方法リスト作成手段とをさらに備えることを特徴としている。 Further, the process management apparatus according to the present invention has a plurality of coping methods corresponding to each cause of the abnormality detected by the extracting unit using the cause / coping correspondence relationship stored by the storing unit in the above configuration. A coping method extracting means for extracting, and a coping method list creating means for creating a coping method list including a plurality of coping methods extracted by the coping method extracting means based on a matching degree indicating a degree of fitting of the coping method. Furthermore, it is characterized by providing.

上記の構成によると、抽出した異常の原因に対応する複数の対処方法を、上記原因・対処対応関係を用いて抽出し、抽出した対処方法を含む対処方法リストを、対処方法の適合度に基づいて作成している。これにより、或る異常の原因に対して対処方法が複数存在する場合でも、上記適合度に基づいて対処方法リストを作成するので、作成された対処方法リストをユーザが参照することにより、適切な対処方法を選択することができる。   According to the above configuration, a plurality of coping methods corresponding to the cause of the extracted abnormality are extracted using the above cause / coping correspondence relationship, and the coping method list including the extracted coping methods is based on the suitability of the coping method Have created. Thus, even when there are a plurality of countermeasures for the cause of a certain abnormality, the countermeasure list is created based on the degree of conformity. Therefore, the user can refer to the prepared countermeasure list and A coping method can be selected.

また、本発明に係る工程管理装置は、上記の構成において、上記対処方法が確定したときに、確定した対処方法に基づいて、上記記憶手段が記憶する原因・対処対応関係を更新する対応関係更新手段をさらに備えることを特徴としている。   Further, the process management apparatus according to the present invention, in the above configuration, when the coping method is determined, based on the determined coping method, update the cause / coping correspondence stored in the storage unit It is characterized by further providing a means.

上記の構成によると、異常が発生して対処が行われ、対処方法が確定すると、確定した対処方法に基づいて原因・対処対応関係が更新される。これにより、詳細かつ高精度の原因・対処対応関係が構築されるので、或る異常の原因に対してより適切な対処方法を抽出することができる。   According to the above configuration, when an abnormality occurs and a countermeasure is performed and a countermeasure is determined, the cause / response correspondence is updated based on the determined countermeasure. As a result, a detailed and highly accurate cause / response relationship is established, so that a more appropriate response method can be extracted for the cause of a certain abnormality.

また、確定した対処方法が以前の原因・対処対応関係に存在しない場合には、以前の原因・対処対応関係に新たな原因・対処対応関係が追加されることになる。したがって、記憶手段に予め原因・対処対応関係を記憶しておかなくても、対応関係更新手段が原因・対処対応関係の更新を繰り返すことにより、詳細かつ高精度の対応関係を構築することができる。   In addition, when the determined countermeasure method does not exist in the previous cause / response correspondence, a new cause / response correspondence is added to the previous cause / response correspondence. Therefore, even if the cause / countermeasure correspondence is not stored in the storage unit in advance, the correspondence update unit can construct a detailed and high-precision correspondence by repeatedly updating the cause / countermeasure correspondence. .

また、本発明に係る工程管理装置は、上記の構成において、上記検出手段は、上記収集手段が収集した時系列データを管理図法で処理することにより、上記工程の異常を検出することを特徴としている。   Further, the process management apparatus according to the present invention is characterized in that, in the above configuration, the detection means detects abnormality in the process by processing the time series data collected by the collection means by a control projection method. Yes.

上記の構成によると、時系列データを管理図法で処理して工程の異常を検出しているので、偶発的な異常を排除して、何らかの原因を有する異常を検出することができる。   According to the above configuration, since the process abnormality is detected by processing the time-series data by the control chart method, it is possible to eliminate an accidental abnormality and detect an abnormality having some cause.

なお、上記リスト作成手段は、上記異常関連情報の適合の度合を示す適合度であって、上記類似度を含む適合度に基づいて上記リストを作成することもできる。ここで、異常関連情報の適合度としては、上記波形特徴量の類似度の他に、例えば、異常の発生頻度および異常確率が挙げられる。 Note that the list creation means can create the list based on the degree of conformity indicating the degree of conformity of the abnormality-related information and including the similarity. Here, the degree of conformity of the abnormality-related information includes, for example, an abnormality occurrence frequency and an abnormality probability in addition to the similarity of the waveform feature amount.

また、上記リスト作成手段は、上記類似度と、上記異常が上記工程に与える影響の度合を示す影響度とに基づいて上記リストを作成することもできる。ここで、異常が工程に与える影響度としては、例えば異常による損失割合、平均対策時間、直近不良率、および直近不良増加率が挙げられる。 The list creation means can also create the list based on the similarity and the degree of influence indicating the degree of influence of the abnormality on the process. Here , examples of the degree of influence of an abnormality on a process include a loss ratio due to abnormality, an average countermeasure time, a recent failure rate, and a recent failure increase rate.

また、時系列データの波形特徴量としては、時系列データの統計量および周波数成分が挙げられる。Further, examples of the waveform feature amount of the time series data include a statistic amount and a frequency component of the time series data.

本発明に係る工程管理装置は、複数の工程の管理を行う工程管理装置において、上記工程に関する時系列データを収集する収集手段と、上記工程の異常時における上記時系列データの波形特徴量と、上記異常に関連する異常関連情報との対応関係を記憶する記憶手段と、上記工程の異常を検出する検出手段と、該検出手段が上記工程の異常を検出すると、上記収集手段が収集した時系列データの波形特徴量を抽出する特徴量抽出手段と、該特徴量抽出手段が抽出した波形特徴量と、上記記憶手段が記憶する波形特徴量との間の類似度を算出する類似度算出手段と、該類似度算出手段が算出した類似度に基づいて、上記記憶手段が記憶する複数の波形特徴量に対応する複数の上記異常関連情報を含むリストを作成するリスト作成手段とを備えることを特徴としている。The process management apparatus according to the present invention is a process management apparatus that manages a plurality of processes, a collection unit that collects time-series data related to the process, and a waveform feature amount of the time-series data when the process is abnormal, Storage means for storing the correspondence relationship with the abnormality-related information related to the abnormality, detection means for detecting the abnormality of the process, and time series collected by the collecting means when the detection means detects the abnormality of the process Feature amount extraction means for extracting the waveform feature amount of data, similarity calculation means for calculating the similarity between the waveform feature amount extracted by the feature amount extraction means and the waveform feature amount stored in the storage means; And a list creation means for creating a list including a plurality of the abnormality related information corresponding to the plurality of waveform feature quantities stored in the storage means based on the similarity calculated by the similarity calculation means. It is characterized by a door.

上記の構成において、工程の異常を検出すると、収集手段が収集した時系列データの波形特徴量を抽出し、抽出した波形特徴量と、記憶手段が記憶する波形特徴量との間の類似度を算出し、算出した類似度に基づいて、上記記憶手段が記憶する複数の波形特徴量に対応する複数の異常関連情報を含むリストを作成している。これにより、或る異常に対して異常関連情報が複数存在する場合でも、異常検出時の波形特徴量と、対応関係に含まれる波形特徴量との間の類似度に基づいてリストを作成するので、或る異常状態に合致する異常関連情報を定量的にかつ客観的に求めることができる。したがって、作成されたリストをユーザが参照することにより、適切な異常関連情報を選択することができる。In the above configuration, when a process abnormality is detected, the waveform feature amount of the time series data collected by the collecting unit is extracted, and the similarity between the extracted waveform feature amount and the waveform feature amount stored by the storage unit is obtained. Based on the calculated similarity, a list including a plurality of abnormality related information corresponding to the plurality of waveform feature values stored in the storage unit is created. As a result, even when there are a plurality of abnormality-related information for a certain abnormality, a list is created based on the similarity between the waveform feature amount at the time of abnormality detection and the waveform feature amount included in the correspondence relationship. Therefore, it is possible to quantitatively and objectively obtain abnormality related information that matches a certain abnormal state. Accordingly, appropriate abnormality-related information can be selected by the user referring to the created list.

本発明に係る工程管理装置の工程管理方法は、複数の工程の管理を行う工程管理装置であって、上記工程に関する時系列データを収集する収集手段と、上記工程の異常時における上記時系列データの波形特徴量と、上記異常に関連する異常関連情報との対応関係を記憶する記憶手段とを備える工程管理装置の工程管理方法であって、上記工程管理装置は、上記工程の異常を検出すると、上記記憶手段が記憶した対応関係を用いて、上記収集手段が収集した時系列データの波形特徴量に近い複数の波形特徴量に対応する複数の上記異常関連情報を抽出、抽出した異常関連情報を含むリストを、上記収集手段が収集した上記時系列データの波形特徴量と、上記複数の異常関連情報にそれぞれ対応する波形特徴量との間の類似度に基づいて作成することを特徴としている。 The process management method of the process management apparatus according to the present invention is a process management apparatus that manages a plurality of processes, and includes a collection unit that collects time-series data regarding the process, and the time-series data when the process is abnormal. a waveform feature amount of a process control method for process management and storage means for storing a correspondence relationship between the abnormality-related information related to the abnormality, the process management apparatus detects the abnormality of the process , using the corresponding relationship said memory means has stored, extracts a plurality of the abnormality-related information corresponding to a plurality of waveform feature amount is close to the waveform feature quantity of time-series data the collecting means collects the extracted abnormality-related a list containing information, to create on the basis of the similarity between the waveform feature amount of the time-series data which the collecting means collects, a waveform feature amounts corresponding respectively to the plurality of abnormality-related information It is characterized in that.

上記の方法によると、工程の異常を検出すると、検出した異常に対応する複数の異常関連情報を、対応関係を用いて抽出し、抽出した異常関連情報を含むリストを、類似度に基づいて作成している。これにより、或る異常に対して異常関連情報が複数存在する場合でも、上記類似度に基づいてリストを作成するので、作成されたリストをユーザが参照することにより、適切な異常関連情報を選択することができる。また、異常検出時の波形特徴量と、対応関係に含まれる波形特徴量との間の類似度を利用してリストを作成することにより、或る異常状態に合致する異常関連情報を定量的にかつ客観的に求めることができる。 According to the above method, when a process abnormality is detected, a plurality of abnormality related information corresponding to the detected abnormality is extracted using the correspondence relation, and a list including the extracted abnormality related information is created based on the similarity. doing. As a result, even when a plurality of abnormality-related information exists for a certain abnormality, a list is created based on the similarity , and the user selects appropriate abnormality-related information by referring to the created list. can do. In addition, by creating a list using the similarity between the waveform feature amount at the time of abnormality detection and the waveform feature amount included in the correspondence relationship, abnormality-related information that matches a certain abnormal state can be quantitatively analyzed. And it can be obtained objectively.

なお、上記工程管理装置における各手段を、工程管理プログラムによりコンピュータ上で実行させることができる。さらに、上記工程管理プログラムをコンピュータ読取り可能な記録媒体に記憶させることにより、任意のコンピュータ上で上記工程管理プログラムを実行させることができる。   Each unit in the process management apparatus can be executed on a computer by a process management program. Furthermore, by storing the process management program in a computer-readable recording medium, the process management program can be executed on an arbitrary computer.

以上のように、本発明に係る工程管理装置は、検出した異常に対応する複数の異常原因や対処方法を含むリストを、異常検出時の波形特徴量と、対応関係に含まれる波形特徴量との間の類似度に基づいて作成しているので、或る異常状態に合致する異常関連情報を定量的にかつ客観的に求めることができ、ユーザが適切な異常原因や対処方法を選択できるという効果を奏する。 As described above, the process management apparatus according to the present invention includes a list including a plurality of causes of abnormality and countermeasures corresponding to the detected abnormality, a waveform feature amount at the time of abnormality detection, and a waveform feature amount included in the correspondence relationship. Because it is created based on the similarity between the two, it is possible to quantitatively and objectively find abnormality-related information that matches a certain abnormal state, and the user can select an appropriate cause and countermeasure method There is an effect.

以下、本発明の一実施形態について図1〜図7に基づいて説明する。図2は、本発明の一実施形態である工程管理システムの概略構成を示している。図示のように、工程管理システム1は、複数の設備稼働センサ2、複数の製品品質センサ3、工程管理装置4、および端末5を備える構成である。なお、図には示していないが、各装置は、他の装置と信号の送受信を行うための各種I/F(インターフェース)を備えている。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 2 shows a schematic configuration of a process management system according to an embodiment of the present invention. As illustrated, the process management system 1 includes a plurality of equipment operation sensors 2, a plurality of product quality sensors 3, a process management apparatus 4, and a terminal 5. Although not shown in the figure, each device includes various I / Fs (interfaces) for transmitting / receiving signals to / from other devices.

設備稼働センサ2は、複数の工程に設けられた複数の設備のそれぞれに設けられ、該設備の稼働状態を設備の稼働中にリアルタイムで計測するものである。設備稼働センサ2は、計測したアナログ信号をデジタルデータに変換し、変換したデジタルデータを設備稼働データとして工程管理装置4に送信する。設備稼働センサ2は、設備稼働データの送信を所定周期ごと、製品ごと、または製品ロットごとに行う。   The facility operation sensor 2 is provided in each of a plurality of facilities provided in a plurality of processes, and measures the operation state of the facility in real time during operation of the facility. The equipment operation sensor 2 converts the measured analog signal into digital data, and transmits the converted digital data to the process management apparatus 4 as equipment operation data. The equipment operation sensor 2 transmits equipment operation data every predetermined period, every product, or every product lot.

製品品質センサ3は、複数の工程のそれぞれに設けられ、製品の品質状態を工程の実行中にリアルタイムで計測するものである。製品品質センサ3は、計測したアナログ信号をデジタルデータに変換し、変換したデジタルデータを製品品質データとして工程管理装置4に送信する。製品品質センサ3は、製品品質データの送信を所定周期ごと、製品ごと、または製品ロットごとに行う。   The product quality sensor 3 is provided in each of a plurality of processes, and measures the quality state of the product in real time during the execution of the processes. The product quality sensor 3 converts the measured analog signal into digital data, and transmits the converted digital data to the process management apparatus 4 as product quality data. The product quality sensor 3 transmits product quality data every predetermined period, every product, or every product lot.

工程管理装置4は、複数の工程を管理するものである。本実施形態では、工程管理装置4は、工程の異常と異常原因との因果関係(対応関係)を示す異常・原因対応テーブル(異常・原因対応関係)18と、異常原因と対処方法との対応関係を示す原因・対処対応テーブル(原因・対処対応関係)19とを記憶する記憶部(記憶手段)11を備える。   The process management device 4 manages a plurality of processes. In the present embodiment, the process management apparatus 4 includes an abnormality / cause correspondence table (abnormality / cause correspondence) 18 indicating a causal relationship (correspondence) between a process abnormality and an abnormality cause, and a correspondence between the abnormality cause and a countermeasure. A storage unit (storage unit) 11 that stores a cause / response correspondence table (cause / response correspondence) 19 indicating the relationship is provided.

また、工程管理装置4は、上記工程の異常を検出すると、異常・原因対応テーブル18に基づいて、検出した異常に対応する1または複数の異常原因を抽出するとともに、原因・対処対応テーブル19に基づいて、抽出した異常原因のそれぞれに対応する1または複数の対処方法を抽出する。また、工程管理装置4は、抽出した異常原因および対処方法を含む原因・対処リストを、上記異常原因の適合度、および/または上記異常が上記工程に与える影響度に基づいて、優先順位の高いものから異常原因および対処方法を並べて作成し、作成した原因・対処リストを端末5に送信する。   When the process management device 4 detects an abnormality in the process, the process management apparatus 4 extracts one or a plurality of abnormality causes corresponding to the detected abnormality based on the abnormality / cause correspondence table 18 and stores them in the cause / response correspondence table 19. Based on the extracted abnormal causes, one or a plurality of coping methods corresponding to each of the extracted abnormal causes are extracted. In addition, the process management device 4 displays a cause / action list including the extracted abnormality causes and countermeasures on the basis of the suitability of the abnormality causes and / or the influence of the abnormality on the processes. Anomaly causes and countermeasures are created side by side, and the created cause / action list is transmitted to the terminal 5.

また、工程管理装置4は、ユーザが確定した異常原因および対処方法の情報を端末5から受け取ると、確定した異常の原因に基づいて、異常・原因対応テーブル18および原因・対処対応テーブル19を更新するものである。   In addition, when the process management apparatus 4 receives the information on the cause of the abnormality and the coping method determined by the user from the terminal 5, the process management apparatus 4 updates the abnormality / cause handling table 18 and the cause / action handling table 19 based on the determined cause of the abnormality. To do.

端末5は、工程管理装置4に対し情報の入出力を行うものである。本実施形態では、端末5は、工程管理装置4から受信した原因・対処リストを表示出力するとともに、ユーザが確定した異常原因および対処方法の情報の入力を受け付けて、工程管理装置4に送るものである。   The terminal 5 inputs / outputs information to / from the process management device 4. In the present embodiment, the terminal 5 displays and outputs the cause / handling list received from the process management device 4, accepts input of information on the cause of abnormality and the coping method determined by the user, and sends the information to the process management device 4. It is.

上記構成の工程管理システム1において、工程管理装置4は、工程の異常を検出すると、検出した異常に対応する1または複数の異常原因を異常・原因対応テーブル18から抽出し、抽出した異常原因に対応する1または複数の対処方法を原因・対処対応テーブル19から抽出し、抽出した異常原因および対処方法を含む原因・対処リストを、上記適合度および/または上記影響度に基づいて、優先順位の高いものから異常原因および対処方法を並べて作成し、作成した原因・対処リストを端末5の表示部20に表示している。   In the process management system 1 having the above-described configuration, when the process management apparatus 4 detects a process abnormality, the process management apparatus 4 extracts one or a plurality of abnormality causes corresponding to the detected abnormality from the abnormality / cause correspondence table 18, and sets the extracted abnormality cause. One or more corresponding coping methods are extracted from the cause / coping correspondence table 19, and a cause / cooking list including the extracted abnormality cause and coping method is extracted based on the degree of conformity and / or the degree of influence. The causes and countermeasures are prepared in order from the highest one, and the created cause and countermeasure list is displayed on the display unit 20 of the terminal 5.

これにより、或る異常に対して異常原因が複数存在する場合でも、上記適合度や上記影響度に基づいて原因・対処リストを作成するので、作成された原因・対処リストをユーザが参照することにより、適切な、かつ/または影響の大きな異常原因をユーザが選択することができる。また、或る異常原因に対して対処方法が複数存在する場合でも、上記適合度に基づいて原因・対処リストを作成するので、作成された原因・対処リストをユーザが参照することにより、適切な対処方法をユーザが選択することができる。   As a result, even when there are a plurality of abnormality causes for a certain abnormality, the cause / action list is created based on the degree of conformity and the degree of influence, so the user can refer to the created cause / action list. Thus, the user can select an appropriate and / or greatly affected cause of the abnormality. In addition, even when there are a plurality of countermeasures for a certain cause of an abnormality, a cause / action list is created based on the degree of conformity. The user can select a coping method.

以下、工程管理装置4および端末5に関して詳細に説明する。図2に示されるように、工程管理装置4は、制御部10および記憶部11を備える構成であり、端末5は、表示部20および入力部21を備える構成である。   Hereinafter, the process management device 4 and the terminal 5 will be described in detail. As shown in FIG. 2, the process management device 4 is configured to include a control unit 10 and a storage unit 11, and the terminal 5 is configured to include a display unit 20 and an input unit 21.

制御部10は、工程管理装置4内における各種構成の動作を統括的に制御するものである。制御部10は、例えばPC(Personal Computer)ベースのコンピュータによって構成される。そして、各種構成の動作制御は、制御プログラムをコンピュータに実行させることによって行われる。このプログラムは、例えばCD−ROMなどのリムーバブルメディアに記録されているものを読み込んで使用する形態であってもよいし、ハードディスクなどにインストールされたものを読み込んで使用する形態であってもよい。また、図示しない外部I/Fを介して上記プログラムをダウンロードしてハードディスクなどにインストールして実行する形態なども考えられる。なお、制御部10における各ブロックの詳細については後述する。   The control unit 10 comprehensively controls the operations of various components in the process management apparatus 4. The control unit 10 is configured by a PC (Personal Computer) -based computer, for example. And operation control of various composition is performed by making a computer run a control program. This program may be in the form of reading and using what is recorded on a removable medium such as a CD-ROM, or may be in the form of reading and using what is installed on a hard disk or the like. Further, a mode in which the program is downloaded via an external I / F (not shown), installed on a hard disk, and the like is also conceivable. Details of each block in the control unit 10 will be described later.

記憶部11は、上記したハードディスクなどの不揮発性の記憶装置によって構成される。この記憶部11に記憶される内容としては、上記した制御プログラム、OS(operating system)プログラム、およびその他各種プログラム、ならびに各種データが挙げられる。   The storage unit 11 is configured by a nonvolatile storage device such as the hard disk described above. The contents stored in the storage unit 11 include the above-described control program, OS (operating system) program, various other programs, and various data.

表示部20は、CRT(陰極線管)、LCD(液晶表示素子)などの表示デバイスによって構成されている。表示部20は、工程管理装置4から受信した表示データに基づいて、文字や画像などの各種の情報を表示出力する。   The display unit 20 is configured by a display device such as a CRT (cathode ray tube) or LCD (liquid crystal display element). The display unit 20 displays and outputs various types of information such as characters and images based on the display data received from the process management device 4.

入力部21は、ユーザから各種の入力を受け付けるものであり、入力用ボタン、キーボード、マウスなどのポインティングデバイス、その他の入力デバイスによって構成されている。入力部21は、利用者から入力された情報を入力データに変換して工程管理装置4に送信する。   The input unit 21 receives various inputs from the user, and includes an input button, a keyboard, a pointing device such as a mouse, and other input devices. The input unit 21 converts information input from the user into input data and transmits the input data to the process management device 4.

次に、制御部10の各ブロック、および記憶部11のデータについて詳細に説明する。制御部10は、工程状態収集部(収集手段)12、工程異常監視部(検出手段)13、異常原因抽出部(抽出手段)14、原因・対処リスト作成部(リスト作成手段、対処方法抽出手段、対処方法リスト作成手段)15、および原因・対処修正部(対応関係更新手段、原因・対処対応関係更新手段)16を備える構成である。また、記憶部11が記憶する各種データには、工程状態DB17、異常・原因対応テーブル18、および原因・対処対応テーブル19が含まれる。   Next, each block of the control unit 10 and data in the storage unit 11 will be described in detail. The control unit 10 includes a process state collection unit (collection unit) 12, a process abnormality monitoring unit (detection unit) 13, an abnormality cause extraction unit (extraction unit) 14, and a cause / handling list creation unit (list creation unit, countermeasure method extraction unit). , Coping method list creating means) 15 and cause / coping correcting unit (corresponding relation updating means, causal / coping correspondence updating means) 16. The various data stored in the storage unit 11 includes a process state DB 17, an abnormality / cause correspondence table 18, and a cause / response correspondence table 19.

工程状態収集部12は、全ての工程の状態情報を収集するものであり、具体的には、全ての設備稼働センサ2から設備稼働データを収集し、かつ全ての製品品質センサ3から製品品質データを収集するものである。工程状態収集部12は、収集した設備稼働データおよび製品品質データをその受信時刻とともに時系列データとして記憶部11の工程状態DB17に記憶する。   The process state collection unit 12 collects state information of all processes. Specifically, the process state collection unit 12 collects facility operation data from all facility operation sensors 2 and product quality data from all product quality sensors 3. Is to collect. The process state collection unit 12 stores the collected facility operation data and product quality data in the process state DB 17 of the storage unit 11 as time series data together with the reception time.

工程異常監視部13は、記憶部11の工程状態DB17に記憶された時系列データを参照して、工程の異常を監視するものである。工程異常監視部13は、工程が異常であるかの否かの判定を、管理図法に従って行う。なお、この異常か否かの判定は、JIS(Japanese Industrial Standard)に規定されている判定規則に従っても良いし、ユーザが独自に規定しても良い。また、時系列データの平均およびバラツキを利用する管理図に限らず、時系列データをそのまま使用しても良い。   The process abnormality monitoring unit 13 refers to time series data stored in the process state DB 17 of the storage unit 11 and monitors process abnormality. The process abnormality monitoring unit 13 determines whether or not the process is abnormal according to the control chart method. The determination as to whether or not this abnormality is present may be in accordance with a determination rule defined in JIS (Japanese Industrial Standard), or may be defined independently by the user. In addition, the time-series data may be used as it is without being limited to the control chart using the average and variation of the time-series data.

工程異常監視部13は、工程の異常を検出した場合、図示しない警報器などを用いて現場の作業員に警告する。同時に、工程異常監視部13は、設備稼働センサ2および製品品質センサ3のそれぞれに係る時系列データに関して、異常発生時より所定の時間またはデータ数だけ前から、異常発生時より所定の時間またはデータ数だけ後までの時系列データを抽出して、異常原因抽出部14に送信する。   When the process abnormality monitoring unit 13 detects a process abnormality, the process abnormality monitoring unit 13 warns an on-site worker using an alarm device (not shown). At the same time, the process abnormality monitoring unit 13 relates to time series data relating to each of the equipment operation sensor 2 and the product quality sensor 3 from a predetermined time or number of data before the occurrence of the abnormality, and for a predetermined time or data from the occurrence of the abnormality. The time-series data up to the number after is extracted and transmitted to the abnormality cause extraction unit 14.

図4は、管理図の一例を示すものである。管理図は、工程における偶然による変動と異常原因による変動とを区分して工程を管理するために考案されたものである。図示のように、管理図は、横軸が時間軸、縦軸がデータ軸であり、横軸に平行に1本の中心線CLと、該中心線CLの上下に合理的に設定された上方管理限界線UCLおよび下方管理限界線LCLとが描かれている。この管理図に、時系列データをプロットしたとき、全ての点が、上方管理限界線UCLおよび下方管理限界線LCLの間に存在し、かつ点の並び方に癖が無い場合には、工程は正常であると判断することができる。   FIG. 4 shows an example of a management chart. The control chart is devised to manage the process by distinguishing a change due to chance and a change due to an abnormality in the process. As shown in the figure, the control chart is such that the horizontal axis is the time axis and the vertical axis is the data axis, one center line CL parallel to the horizontal axis, and the upper side reasonably set above and below the center line CL. A control limit line UCL and a lower control limit line LCL are drawn. When time series data is plotted on this control chart, if all points exist between the upper control limit line UCL and the lower control limit line LCL, and there is no flaw in the way the points are arranged, the process is normal. Can be determined.

一方、点が、上方管理限界線UCLおよび下方管理限界線LCLの間からはみ出した場合、或いは点の並び方に癖がある場合には、工程に異常が生じていると判断することができる。この場合、上述のように、異常発生時より所定の時間またはデータ数だけ前から、異常発生時より所定の時間またはデータ数だけ後までの抽出区間に存在する時系列データが抽出される。なお、異常の発生は、発生する前の状態に起因することが多いので、図4に示されるように、上記抽出区間は、異常発生以前の方が異常発生以後よりも長いことが望ましい。   On the other hand, if a point protrudes between the upper control limit line UCL and the lower control limit line LCL, or if there is a flaw in the way the points are arranged, it can be determined that an abnormality has occurred in the process. In this case, as described above, time-series data existing in the extraction section from a predetermined time or number of data before the occurrence of the abnormality to a predetermined time or the number of data after the occurrence of the abnormality is extracted. Since the occurrence of an abnormality is often caused by a state before the occurrence, as shown in FIG. 4, it is desirable that the extraction section is longer before the occurrence of the abnormality than after the occurrence of the abnormality.

図3は、異常原因抽出部14および原因・対処リスト作成部15の詳細を示している。異常原因抽出部14は、特徴量抽出部22および類似度算出部23を備える構成であり、原因・対処リスト作成部15は、優先順位付与部24およびリスト作成部25を備える構成である。   FIG. 3 shows details of the abnormality cause extraction unit 14 and the cause / action list creation unit 15. The abnormality cause extraction unit 14 includes a feature amount extraction unit 22 and a similarity calculation unit 23, and the cause / action list creation unit 15 includes a priority order assignment unit 24 and a list creation unit 25.

特徴量抽出部22は、工程異常監視部13が工程の異常を検出して抽出した時系列データを受信すると、受信した時系列データから現在の波形特徴量を算出するとともに、異常・原因対応テーブル18から全ての異常原因について過去の波形特徴量を抽出するものである。特徴量抽出部22は、算出した現在の波形特徴量と、抽出した過去の波形特徴量とを類似度算出部23に送信する。   When the process abnormality monitoring unit 13 receives the time series data extracted by detecting the process abnormality, the feature quantity extraction unit 22 calculates the current waveform feature quantity from the received time series data, and the abnormality / cause correspondence table. The past waveform feature values are extracted from all the abnormal causes from 18. The feature amount extraction unit 22 transmits the calculated current waveform feature amount and the extracted past waveform feature amount to the similarity calculation unit 23.

図5(a)は、異常・原因対応テーブル18の一例を表形式で示している。図示のように、異常・原因対応テーブル18は、複数の異常原因と、各異常原因に対応する波形特徴量、発生回数、および損失金額とを含む構成である。なお、異常原因の種類が少ないために異常原因の表示の必要がない場合には、異常・原因対応テーブル18を、異常原因の代わりに対処方法に直接関係付けてもよい。   FIG. 5A shows an example of the abnormality / cause correspondence table 18 in a table format. As shown in the figure, the abnormality / cause correspondence table 18 includes a plurality of abnormality causes, waveform feature amounts corresponding to each abnormality cause, the number of occurrences, and a loss amount. If there is no need to display the cause of the abnormality because there are few types of causes of the abnormality, the abnormality / cause correspondence table 18 may be directly related to a countermeasure method instead of the cause of the abnormality.

ところで、図4に示される抽出区間は、抽出の度に多少のズレが生じる。このため、工程異常監視部13が抽出した時系列データの波形そのものや平均波形を波形特徴量とすることは望ましくない。そこで、波形特徴量は、単純な平均、分散等の統計量や、FFT(Fast Fourier Transform)変換、自己相関係数等の周波数成分のような位置不変量であることが望ましい。   By the way, in the extraction section shown in FIG. For this reason, it is not desirable to use the waveform itself or the average waveform of the time series data extracted by the process abnormality monitoring unit 13 as the waveform feature amount. Therefore, the waveform feature quantity is desirably a position invariant such as a simple statistical quantity such as average or variance, or a frequency component such as FFT (Fast Fourier Transform) transform or autocorrelation coefficient.

類似度算出部23は、特徴量抽出部22から受信した現在の波形特徴量と過去の波形特徴量とを比較して波形類似度を算出するものである。類似度算出部23は、算出した波形類似度を優先順位付与部24に送信する。   The similarity calculator 23 calculates the waveform similarity by comparing the current waveform feature received from the feature extractor 22 with the past waveform feature. The similarity calculation unit 23 transmits the calculated waveform similarity to the priority level assigning unit 24.

波形類似度は、優先順位付与部24にて優先順位を付与することを考慮すると、0〜1の値をとるように規格化されていることが望ましい。本実施形態では、波形類似度として、簡便に算出できる相関関数の絶対値を使用している。相関関数は、複数の波形特徴量を成分とするベクトルから単位ベクトルを算出し、現在の波形特徴量に関する単位ベクトルと過去の波形特徴量に関する単位ベクトルとの内積を計算したものである。単位ベクトルの内積は、−1〜+1の値をとるが、ベクトルの方向性のみを考慮し、向きを無視すれば、内積の絶対値をとることと等価となる。   It is desirable that the waveform similarity is standardized so as to take a value of 0 to 1 in consideration of giving priority by the priority assigning unit 24. In this embodiment, the absolute value of the correlation function that can be easily calculated is used as the waveform similarity. The correlation function is obtained by calculating a unit vector from vectors having a plurality of waveform feature quantities as components, and calculating the inner product of the unit vector relating to the current waveform feature quantity and the unit vector relating to the past waveform feature quantity. The inner product of the unit vectors takes a value of −1 to +1, but if only the directionality of the vector is considered and the direction is ignored, it is equivalent to taking the absolute value of the inner product.

相関関数の絶対値を波形類似度とする場合、波形類似度Xsiは、次式から求めることができる。
Xsi=|{kが1からpまでの(Xaik×Xck)の総和}/{(kが1からpまでのXaikの総和)1/2×(kが1からpまでのXckの総和)1/2}|。
ここで、Xaikは過去の平均波形特徴量であり、Xaik=Xik/Yiで表わされる。また、Xikは過去の波形特徴量の総和であり、Yiは発生回数である。また、Xckは現在の波形特徴量である。また、iは、図5(a)に示される異常・原因対応テーブル18における異常原因の順番であり、1,2,…,mの値をとる。また、kは、異常・原因対応テーブル18の各異常原因における波形特徴量の順番であり、1,2,…,pの値をとる。
When the absolute value of the correlation function is the waveform similarity, the waveform similarity Xsi can be obtained from the following equation.
Xsi = | {k is the sum of up to p 1 (Xaik × Xck)} / { sum of XCK 2 (k from 1 Xaik sum of 2 to p) from 1/2 × (k is 1 to p ) 1/2 } |.
Here, Xaik is a past average waveform feature amount, and is represented by Xaik = Xik / Yi. Xik is the total sum of past waveform feature values, and Yi is the number of occurrences. Xck is the current waveform feature amount. Further, i is the order of the cause of abnormality in the abnormality / cause correspondence table 18 shown in FIG. 5A, and takes values of 1, 2,. Further, k is the order of the waveform feature amount in each abnormality cause in the abnormality / cause correspondence table 18, and takes values of 1, 2,..., P.

優先順位付与部24は、類似度算出部23から受信した波形類似度と、過去の発生頻度および損失割合とを用いて確信度を算出し、算出した確信度に基づいて異常原因の優先順位付けを行うものである。優先順位付与部24は、上記異常原因の優先順位付けをリスト作成部25に送信する。   The priority level assigning unit 24 calculates the certainty factor using the waveform similarity degree received from the similarity calculating unit 23, the past occurrence frequency and the loss ratio, and prioritizes abnormal causes based on the calculated certainty factor. Is to do. The priority level assigning unit 24 transmits the prioritization of the cause of abnormality to the list creating unit 25.

確信度Piは、次式から求めることができ、求めた確信度Piの高い順に異常原因を並べ替えたものが優先順位となる。
Pi=Xsi×Yri×Zri。
ここで、Xsiは上述のように波形類似度である。また、Yriは発生頻度であり、発生回数Yiを用いて、Yri=Yi/(全ての異常原因の中でのYiの最大値)で表わされる。また、Zriは損失割合であり、損失金額Ziを用いて、Zri=Zi/(全ての異常原因の中でのZiの最大値)で表わされる。また、iは、上述のように、異常・原因対応テーブル18における異常原因の順番であり、1,2,…,mの値をとる。
The certainty factor Pi can be obtained from the following equation, and the order of abnormality causes is arranged in descending order of the obtained certainty factor Pi.
Pi = Xsi * Yri * Zri.
Here, Xsi is the waveform similarity as described above. Yri is the frequency of occurrence, and is expressed as Yri = Yi / (the maximum value of Yi among all abnormal causes) using the number of occurrences Yi. Zri is a loss ratio, and is expressed as Zri = Zi / (maximum value of Zi among all abnormal causes) using the loss amount Zi. Further, i is the order of the cause of abnormality in the abnormality / cause correspondence table 18 as described above, and takes values of 1, 2,..., M.

なお、発生頻度Yriおよび損失割合Zriを、発生回数Yiおよび損失金額Ziの最大値に対する比率としているが、これは、確信度Piの算出を考慮すると、発生頻度Yriおよび損失割合Zriが、波形類似度Xsiの場合同様に0〜1に規格化されることが望ましいためである。   The occurrence frequency Yri and the loss ratio Zri are the ratios of the occurrence frequency Yi and the loss amount Zi to the maximum value, but considering the calculation of the certainty factor Pi, the occurrence frequency Yri and the loss ratio Zri are similar in waveform. This is because it is desirable to be normalized to 0 to 1 in the case of the degree Xsi.

リスト作成部25は、優先順位付与部24から受信した優先順位と、原因・対処対応テーブル19とに基づいて、原因・対処リストを作成するものである。リスト作成部25は作成した原因・対処リストを端末5に送信することにより、端末5の表示部20に原因・対処リストが表示される。上記原因・対処リストの作成手順を以下に説明する。   The list creation unit 25 creates a cause / response list based on the priority received from the priority level assigning unit 24 and the cause / response table 19. The list creation unit 25 transmits the created cause / response list to the terminal 5, whereby the cause / response list is displayed on the display unit 20 of the terminal 5. The procedure for creating the cause / action list will be described below.

図5(b)は、原因・対処対応テーブル19の一例を表形式で示している。図示のように、原因・対処対応テーブル19は、複数の異常原因と、各異常原因に対応する複数の対処方法および発生回数とを含む構成である。   FIG. 5B shows an example of the cause / countermeasure correspondence table 19 in a table format. As shown in the figure, the cause / countermeasure correspondence table 19 includes a plurality of abnormality causes, a plurality of countermeasure methods corresponding to each abnormality cause, and the number of occurrences.

まず、リスト作成部25は、優先順位付与部24から受信した優先順位における上位の異常原因に関して、原因・対処対応テーブル19から複数の対処方法および発生回数を読み出す。次に、読み出した発生回数Cijから発生頻度Crijを次式から求める。
Crij=Cij/(或る異常原因Aiの中でのCijの最大値)。
ここで、iは、原因・対処対応テーブル19における異常原因の順番であり、i=1,2,…,mの値をとる。また、jは、原因・対処対応テーブル19の或る異常原因における対策方法の順番であり、j=1,2,…,nの値をとる。
First, the list creation unit 25 reads a plurality of coping methods and the number of occurrences from the cause / coping correspondence table 19 with respect to the upper abnormal cause in the priority order received from the priority order assigning unit 24. Next, the occurrence frequency Crij is obtained from the following expression from the read occurrence number Cij.
Crij = Cij / (maximum value of Cij among certain abnormality causes Ai).
Here, i is the order of the cause of abnormality in the cause / countermeasure correspondence table 19, and takes values of i = 1, 2,..., M. Further, j is the order of countermeasure methods for a certain cause of abnormality in the cause / countermeasure correspondence table 19, and takes values j = 1, 2,..., N.

次に、発生頻度Crijの高い順に対処方法を選択して、原因・対処リストを作成する。図6は、原因・対処リストの一例を表形式で示している。図示の場合では、原因・対処リストは、優先順位の高い方から、異常原因とその確信度が配列し、異常原因ごとに対処方法および発生回数が、発生頻度Crijの高い方から配列している。   Next, a coping method is selected in descending order of occurrence frequency Crij, and a cause / coping list is created. FIG. 6 shows an example of the cause / action list in a table format. In the case shown in the figure, the cause / action list is arranged with the cause of abnormality and the certainty degree from the highest priority, and the countermeasure method and the number of occurrences are arranged for each abnormality cause from the highest occurrence frequency Crij. .

なお、端末5の表示部20は、原因・対処リストの全てを画面に表示しても良いし、発生頻度の高いもののみを表示してもよいし、異常原因の数で区切ってもよいし、確信度の値で区切ってもよい。   The display unit 20 of the terminal 5 may display the entire cause / response list on the screen, may display only frequently occurring items, or may be divided by the number of abnormal causes. , It may be separated by a certainty value.

再び図2を参照すると、原因・対処修正部16は、工程の異常に対する対処作業を実際に実施して、適切な異常原因および対処方法が判明した後に、異常・原因対応テーブル18および原因・対処対応テーブル19を修正するものである。   Referring again to FIG. 2, the cause / response correcting unit 16 actually performs a response operation for the process abnormality, and after determining an appropriate error cause and a response method, the error / cause correspondence table 18 and the cause / response The correspondence table 19 is corrected.

具体的には、原因・対処修正部16は、まず、異常・原因対応テーブル18および原因・対処対応テーブル19の全部または必要な部分を端末5に送信して、端末5の表示部20にて表示する。次に、適切な異常原因または対処方法が、異常・原因対応テーブル18および原因・対処対応テーブル19に存在しない場合には、ユーザの入力部21からの指示により、異常・原因対応テーブル18および原因・対処対応テーブル19に新たな異常原因の項目または対処方法の項目を追加する。   Specifically, the cause / response correcting unit 16 first transmits all or necessary parts of the abnormality / cause correspondence table 18 and the cause / response correspondence table 19 to the terminal 5, and the display unit 20 of the terminal 5 indicate. Next, when an appropriate abnormality cause or countermeasure is not present in the abnormality / cause correspondence table 18 and the cause / response correspondence table 19, the abnormality / cause correspondence table 18 and the cause are indicated by an instruction from the input unit 21 of the user. Add a new abnormality cause item or countermeasure item to the countermeasure handling table 19.

そして、ユーザの入力部21からの指示により、異常・原因対応テーブル18および原因・対処対応テーブル19における適切な異常原因および対処方法の項目の波形特徴量、発生回数および損失金額を、それぞれ以前のものに加算して更新する。   Then, according to an instruction from the input unit 21 by the user, the waveform feature amount, occurrence frequency, and loss amount of the appropriate abnormality cause and countermeasure method items in the abnormality / cause correspondence table 18 and the cause / response correspondence table 19 are respectively set to the previous values. Add to things and update.

次に、上記構成の工程管理装置4における処理動作を図1および図7に基づいて説明する。図1は、工程を監視して、異常が発生した場合に異常原因および対処方法を端末5の表示部20に表示する処理の流れを示している。また、図7は、実際の対処作業の終了後に異常・原因対応テーブル18および原因・対処対応テーブル19を更新する処理の流れを示している。   Next, the processing operation in the process management apparatus 4 having the above-described configuration will be described with reference to FIGS. FIG. 1 shows a flow of processing for monitoring a process and displaying the cause of an abnormality and a countermeasure on the display unit 20 of the terminal 5 when an abnormality occurs. FIG. 7 shows a flow of processing for updating the abnormality / cause correspondence table 18 and the cause / response correspondence table 19 after the actual countermeasure work is completed.

図1に示されるように、まず、工程の異常が発生するまでは、工程状態収集部12が、収集した設備稼働データおよび製品品質データをその受信時刻とともに時系列データとして記憶部11の工程状態DB17に記憶している(ステップS10(以下、単に「S10」と記載することがある。他のステップについても同様である。)、S11でNO)。   As shown in FIG. 1, first, until a process abnormality occurs, the process state collection unit 12 uses the collected equipment operation data and product quality data as time series data together with the reception time of the process state of the storage unit 11. It is stored in the DB 17 (Step S10 (hereinafter simply referred to as “S10”. The same applies to other steps), NO in S11).

工程の異常が発生すると(S11でYES)、工程異常監視部13は、抽出区間(図4)の時系列データを工程状態DB17から抽出し、特徴量抽出部22が、抽出した時系列データから現在の波形特徴量を算出するとともに、異常・原因対応テーブル18から全ての異常原因について過去の波形特徴量を抽出する(S12)。   When a process abnormality occurs (YES in S11), the process abnormality monitoring unit 13 extracts the time series data of the extraction section (FIG. 4) from the process state DB 17, and the feature amount extraction unit 22 extracts the time series data from the extracted time series data. The current waveform feature amount is calculated, and the past waveform feature amount is extracted for all abnormality causes from the abnormality / cause correspondence table 18 (S12).

次に、類似度算出部23が、現在の波形特徴量と過去の波形特徴量とを比較して波形類似度を算出する(S13)。次に、優先順位付与部24が、類似度算出部23が算出した波形類似度と、過去の発生頻度および損失割合とを用いて確信度を算出し、算出した確信度に基づいて異常原因の優先順位付けを行う(S14)。そして、リスト作成部25が、上記優先順位と原因・対処対応テーブル19とに基づいて、異常原因および対処方法を含む原因・対処リストを作成して端末5に出力する(S15)。その後、ステップS10に戻って、以上の動作を繰り返す。   Next, the similarity calculation unit 23 compares the current waveform feature amount with the past waveform feature amount to calculate the waveform similarity (S13). Next, the priority level assigning unit 24 calculates the certainty factor using the waveform similarity calculated by the similarity calculating unit 23, the past occurrence frequency and the loss ratio, and based on the calculated certainty factor, Prioritization is performed (S14). Then, the list creation unit 25 creates a cause / countermeasure list including the cause of the abnormality and the coping method based on the priority order and the cause / countermeasure handling table 19, and outputs it to the terminal 5 (S15). Then, it returns to step S10 and repeats the above operation | movement.

実際の対処作業が終了すると、図7に示されるように、まず、原因・対処修正部16が、異常・原因対応テーブル18および原因・対処対応テーブル19の全部または必要な部分を端末5の表示部20に表示させて、適切な異常原因が存在するか否かをユーザに判断させる(S20)。ユーザの入力部21からの指示により、ユーザが適切な異常原因が存在しないと判断した場合には、異常・原因対応テーブル18および原因・対処対応テーブル19に新たな異常原因の項目を追加するとともに(S21)、原因・対処対応テーブル19に新たな対処方法の項目を追加する(S22)。   When the actual coping operation is completed, as shown in FIG. 7, first, the cause / response correcting unit 16 displays all or necessary parts of the abnormality / cause correspondence table 18 and the cause / response correspondence table 19 on the terminal 5. The information is displayed on the unit 20 to allow the user to determine whether or not an appropriate abnormality cause exists (S20). When the user determines that there is no appropriate cause of abnormality according to an instruction from the input unit 21, a new abnormality cause item is added to the abnormality / cause correspondence table 18 and the cause / action correspondence table 19. (S21), a new countermeasure method item is added to the cause / countermeasure correspondence table 19 (S22).

一方、ユーザが適切な異常原因が存在すると判断した場合には、適切な対処方法が存在するか否かをユーザに判断させ(S23)、存在しない場合には、原因・対処対応テーブル19において該当する異常原因の項目に新たな対処方法の項目を追加する(S22)。   On the other hand, when the user determines that there is an appropriate cause of abnormality, the user is determined whether or not an appropriate countermeasure is present (S23). The item of the new coping method is added to the item of the cause of abnormality to be performed (S22).

次に、ユーザの入力部21からの指示により、原因・対処修正部16は、異常・原因対応テーブル18および原因・対処対応テーブル19における適切な異常原因および対処方法の項目の波形特徴量、発生回数および損失金額を、それぞれ以前のものに加算して更新する(S24)。その後、処理を終了する。   Next, in response to an instruction from the user input unit 21, the cause / response correcting unit 16 generates a waveform feature amount and occurrence of an appropriate abnormality cause and countermeasure method item in the abnormality / cause correspondence table 18 and the cause / response correspondence table 19. The number of times and the amount of loss are each updated by adding to the previous one (S24). Thereafter, the process ends.

本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。すなわち、請求項に示した範囲で適宜変更した技術的手段を組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope shown in the claims. That is, embodiments obtained by combining technical means appropriately modified within the scope of the claims are also included in the technical scope of the present invention.

例えば、上記実施形態では、異常・原因対応テーブル18により工程の異常と異常原因とを対応付け、原因・対処対応テーブル19により異常原因と対処方法とを対応付けているが、工程の異常と対処方法とを対応付けることもできる。この場合、異常が発生すると、異常原因を介さずに対処方法を直接導き出すことができる。このように、工程の異常と対応付けるものとしては、異常原因、対処方法など、異常に関連する任意の異常関連情報を利用することができる。   For example, in the above-described embodiment, the abnormality / cause correspondence table 18 associates the process abnormality with the abnormality cause, and the cause / response correspondence table 19 associates the abnormality cause with the countermeasure. Methods can also be associated. In this case, when an abnormality occurs, a countermeasure can be directly derived without going through the cause of the abnormality. As described above, any abnormality-related information related to the abnormality such as the cause of the abnormality and the countermeasures can be used as the one associated with the process abnormality.

また、上記実施形態では、波形類似度として相関関数の絶対値を使用しているが、集合論的な分布を考慮するならば、Mahalanobis距離を算出して、その値に対する正規分布の高さを分布の所属確率として考えても良い。この場合、複数の波形特徴量の平均値だけでなく、分散共分散行列を算出できる情報も記憶部11の異常・原因対応テーブル18に記憶しておく必要がある。   In the above embodiment, the absolute value of the correlation function is used as the waveform similarity. However, if a set-theoretic distribution is considered, the Mahalanobis distance is calculated, and the height of the normal distribution with respect to that value is calculated. It may be considered as a distribution probability. In this case, it is necessary to store not only an average value of a plurality of waveform feature amounts but also information capable of calculating a variance-covariance matrix in the abnormality / cause correspondence table 18 of the storage unit 11.

また、上記実施形態では、優先順位の高い順にリストを並べ替えて表示しているが、優先順位の高いものの文字の大きさや色、背景色を変更することにより、優先順位の高いものを強調して表示するようにしてもよい。また、表示部20に表示する代わりに、プリンタやスピーカを用いて印刷したり音声出力したりするなど、他の出力形態を利用することもできる。   In the above embodiment, the list is rearranged and displayed in descending order of priority. However, by changing the character size, color, and background color of the higher priority, the higher priority is emphasized. May be displayed. Further, instead of displaying on the display unit 20, other output forms such as printing using a printer or a speaker or outputting sound can be used.

また、上記実施形態では、波形類似度、発生頻度、および損失割合を用いて優先順位を付与しているが、これらの少なくとも1つを用いて優先順位を付与してもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the priority order is provided using the waveform similarity, the occurrence frequency, and the loss ratio, the priority order may be provided using at least one of these.

また、波形類似度および発生頻度の他に、異常の原因の適合度として、異常確率を用いてもよい。異常確率は、工程異常が発生している確率を管理図から算出して使用することができ、例えば、上限管理限界からはみ出た量が大きいほど高い確率とすることができる。   In addition to the waveform similarity and the occurrence frequency, an abnormality probability may be used as the degree of conformity of the cause of the abnormality. The abnormality probability can be used by calculating the probability that a process abnormality has occurred from a control chart. For example, the abnormality probability can be higher as the amount of protrusion exceeds the upper limit control limit.

また、異常が工程に与える影響度として、損失割合の他に、平均対策時間、直近不良率、直近不良増加率などを用いてもよい。ここで、平均対策時間とは、工程異常の対策を実施するのに要した時間の平均値をいい、直近不良率とは、工程異常が発生した直前の不良率をいい、直近不良増加率とは、上記直近不良率の増加率をいう。   Further, as the degree of influence of the abnormality on the process, in addition to the loss ratio, an average countermeasure time, the latest failure rate, the latest failure increase rate, or the like may be used. Here, the average countermeasure time refers to the average value of the time required to implement the countermeasure for the process abnormality, and the latest defect rate refers to the defect rate immediately before the process abnormality occurs, and the latest defect increase rate. Means the rate of increase of the most recent defect rate.

また、上記実施形態では、工程の異常を検出する方法として、管理図法を利用している
が、工程の異常を検出し、異常時のデータを取得できる任意の方法を利用することができる。例えば、従来からプロセス系に適用されている機能としてオンラインモニター機能がある。オンラインモニター機能とは、工程の時系列データから所定の特徴量を算出し、算出した特徴量が、製造物に対する固有の製造技術に基づいて予め設定された管理範囲を逸脱したときに現場作業者に警告するものが多い。このようなオンラインモニター機能は、工程の異常を自動的に検出でき、異常時の時系列データを取得することができるので、工程の異常を検出する方法として上記実施形態に適用することができる。
Moreover, in the said embodiment, although the control chart method is utilized as a method of detecting the abnormality of a process, the arbitrary methods which can detect the abnormality of a process and can acquire the data at the time of abnormality can be utilized. For example, an online monitoring function is a function that has been applied to process systems. The online monitor function calculates a predetermined feature amount from time-series data of the process, and when the calculated feature amount deviates from the management range set in advance based on the specific manufacturing technology for the product, There are many warnings. Such an online monitoring function can automatically detect process abnormalities and can acquire time-series data at the time of abnormalities, and thus can be applied to the above-described embodiment as a method for detecting process abnormalities.

また、工程管理装置4における制御部10の各ブロックは、ハードウェアロジックによって構成してもよいし、次のようにCPUを用いてソフトウェアによって実現してもよい。   Each block of the control unit 10 in the process management apparatus 4 may be configured by hardware logic, or may be realized by software using a CPU as follows.

すなわち、制御部10は、各機能を実現する制御プログラムの命令を実行するCPU、上記プログラムを格納したROM、上記プログラムを展開するRAM、上記プログラムおよび各種データを格納するメモリ等の記憶装置(記録媒体)などを備えている。そして、本発明の目的は、上述した機能を実現するソフトウェアである制御部10の制御プログラムのプログラムコード(実行形式プログラム、中間コードプログラム、ソースプログラム)をコンピュータで読み取り可能に記録した記録媒体を、上記制御部10に供給し、そのコンピュータ(またはCPUやMPU)が記録媒体に記録されているプログラムコードを読み出し実行することによっても、達成可能である。   That is, the control unit 10 is a storage device (recording device) such as a CPU that executes instructions of a control program that realizes each function, a ROM that stores the program, a RAM that expands the program, a memory that stores the program and various data, and the like. Medium). An object of the present invention is a recording medium on which a program code (execution format program, intermediate code program, source program) of a control program of the control unit 10 which is software that realizes the above-described functions is recorded so as to be readable by a computer. This can also be achieved by supplying the control unit 10 and reading and executing the program code recorded on the recording medium by the computer (or CPU or MPU).

上記記録媒体としては、例えば、磁気テープやカセットテープ等のテープ系、フレキシブルディスク/ハードディスク等の磁気ディスクやCD−ROM/MO/MD/DVD/CD−R等の光ディスクを含むディスク系、ICカード(メモリカードを含む)/光カード等のカード系、あるいはマスクROM/EPROM/EEPROM/フラッシュROM等の半導体メモリ系などを用いることができる。   Examples of the recording medium include a tape system such as a magnetic tape and a cassette tape, a disk system including a magnetic disk such as a flexible disk / hard disk and an optical disk such as a CD-ROM / MO / MD / DVD / CD-R, and an IC card. A card system such as an optical card (including a memory card) or a semiconductor memory system such as a mask ROM / EPROM / EEPROM / flash ROM can be used.

また、制御部10を通信ネットワークと接続可能に構成し、上記プログラムコードを通信ネットワークを介して供給してもよい。この通信ネットワークとしては、特に限定されず、例えば、インターネット、イントラネット、エキストラネット、LAN、ISDN、VAN、CATV通信網、仮想専用網(virtual private network)、電話回線網、移動体通信網、衛星通信網等が利用可能である。また、通信ネットワークを構成する伝送媒体としては、特に限定されず、例えば、IEEE1394、USB、電力線搬送、ケーブルTV回線、電話線、ADSL回線等の有線でも、IrDAやリモコンのような赤外線、Bluetooth(登録商標)、802.11無線、HDR、携帯電話網、衛星回線、地上波デジタル網等の無線でも利用可能である。なお、本発明は、上記プログラムコードが電子的な伝送で具現化された搬送波あるいはデータ信号列の形態でも実現され得る。   The control unit 10 may be configured to be connectable to a communication network, and the program code may be supplied via the communication network. The communication network is not particularly limited. For example, the Internet, intranet, extranet, LAN, ISDN, VAN, CATV communication network, virtual private network, telephone line network, mobile communication network, satellite communication. A net or the like is available. Further, the transmission medium constituting the communication network is not particularly limited. For example, even in the case of wired such as IEEE 1394, USB, power line carrier, cable TV line, telephone line, ADSL line, etc., infrared rays such as IrDA and remote control, Bluetooth ( (Registered trademark), 802.11 wireless, HDR, mobile phone network, satellite line, terrestrial digital network, and the like can also be used. The present invention can also be realized in the form of a carrier wave or a data signal sequence in which the program code is embodied by electronic transmission.

また、本発明は以下のように構成することもできる。The present invention can also be configured as follows.

すなわち、本発明に係る工程管理装置は、多数の工程の管理を行う工程管理装置において、上記工程の異常と、該異常に関連する異常関連情報との対応関係を記憶する記憶手段と、上記工程の異常を検出する検出手段と、上記記憶手段が記憶した対応関係を用いて、上記検出手段が検出した異常に対応する1または複数の上記異常関連情報を抽出する抽出手段と、上記抽出手段が抽出した異常関連情報を含むリストを、上記異常関連情報の適合度、および/または上記異常が上記工程に与える影響度に基づいて作成するリスト作成手段とを備える構成である。That is, the process management apparatus according to the present invention is a process management apparatus that manages a large number of processes, a storage unit that stores a correspondence relationship between the abnormality of the process and abnormality-related information related to the abnormality, and the process Detection means for detecting the abnormality, extraction means for extracting one or a plurality of the abnormality-related information corresponding to the abnormality detected by the detection means using the correspondence relationship stored in the storage means, and the extraction means And a list creation unit that creates a list including the extracted abnormality-related information based on the degree of fitness of the abnormality-related information and / or the degree of influence of the abnormality on the process.

上記の構成において、工程の異常を検出すると、検出した異常に対応する1または複数の異常関連情報を、対応関係を用いて抽出し、抽出した異常関連情報を含むリストを、適合度および/または影響度に基づいて作成している。これにより、或る異常に対して異常関連情報が複数存在する場合でも、上記適合度や上記影響度に基づいてリストを作成するので、作成されたリストをユーザが参照することにより、適切な、かつ/または影響の大きな異常関連情報を選択することができる。In the above configuration, when a process abnormality is detected, one or a plurality of abnormality-related information corresponding to the detected abnormality is extracted using the correspondence relationship, and a list including the extracted abnormality-related information is displayed as the fitness and / or Created based on impact. Thereby, even when there are a plurality of abnormality-related information for a certain abnormality, a list is created based on the degree of conformity and the degree of influence, so the user can refer to the created list appropriately, And / or abnormality-related information having a large influence can be selected.

また、本発明に係る工程管理装置は、上記の構成において、上記対応関係は、上記工程の異常時における上記時系列データの波形特徴量と、上記異常関連情報との対応関係であり、上記抽出手段は、上記対応関係を用いて、上記検出手段が異常を検出した時の時系列データの波形特徴量に近い複数の波形特徴量に対応する複数の異常関連情報を取得しており、上記異常関連情報の適合度は、上記検出手段が検出した上記時系列データの波形特徴量と、上記複数の異常関連情報にそれぞれ対応する波形特徴量との間の類似度を含む構成である。In the process management device according to the present invention, in the configuration described above, the correspondence relationship is a correspondence relationship between the waveform feature amount of the time-series data and the abnormality-related information when the process is abnormal, and the extraction is performed. The means obtains a plurality of abnormality related information corresponding to a plurality of waveform feature quantities close to the waveform feature quantity of the time series data when the detection means detects an abnormality using the correspondence relationship, and the abnormality The degree of fitness of the related information includes a similarity between the waveform feature amount of the time series data detected by the detection unit and the waveform feature amount corresponding to each of the plurality of abnormality related information.

上記の構成によると、異常状態は、時系列データの波形特徴量で表わされ、リストを作成するときに利用される適合度として、異常検出時の波形特徴量と、対応関係に含まれる波形特徴量との間の類似度を利用することができる。これにより、或る異常状態に合致する異常関連情報を定量的にかつ客観的に求めることができる。According to the above configuration, the abnormal state is represented by the waveform feature amount of the time-series data, and the waveform feature amount at the time of abnormality detection and the waveform included in the correspondence relationship are used as the fitness used when creating the list. The degree of similarity between the feature quantities can be used. As a result, abnormality-related information that matches a certain abnormal state can be obtained quantitatively and objectively.

本発明に係る工程管理装置は、多数の工程の管理を行う工程管理装置において、上記工程の異常と該異常に関連する異常関連情報との対応関係を記憶する記憶手段と、上記異常関連情報が確定したときに、確定した異常関連情報に基づいて上記対応関係を更新する対応関係更新手段とを備える構成である。The process management apparatus according to the present invention is a process management apparatus for managing a large number of processes, wherein a storage means for storing a correspondence relationship between the abnormality of the process and the abnormality-related information related to the abnormality, and the abnormality-related information It is a structure provided with the corresponding relationship update means which updates the said corresponding relationship based on the confirmed abnormality related information when it is fixed.

上記の構成によると、異常が発生して対処が行われ、異常関連情報が確定すると、確定した異常関連情報に基づいて対応関係が更新される。これにより、詳細かつ高精度の対応関係が構築されるので、或る異常に対してより適切な異常関連情報を抽出することができる。According to the above configuration, when an abnormality occurs and a countermeasure is taken and the abnormality related information is confirmed, the correspondence is updated based on the confirmed abnormality related information. As a result, a detailed and highly accurate correspondence is established, so that more appropriate abnormality related information can be extracted for a certain abnormality.

また、確定した異常関連情報が以前の対応関係に存在しない場合には、以前の対応関係に新たな対応関係が追加されることになる。したがって、記憶手段に予め対応関係を記憶しておかなくても、対応関係更新手段が対応関係の更新を繰り返すことにより、詳細かつ高精度の対応関係を構築することができる。In addition, when the determined abnormality related information does not exist in the previous correspondence relationship, a new correspondence relationship is added to the previous correspondence relationship. Therefore, even if the correspondence relationship is not stored in advance in the storage unit, the correspondence relationship updating unit repeatedly updates the correspondence relationship, so that a detailed and highly accurate correspondence relationship can be established.

また、本発明に係る工程管理装置は、上記の構成において、上記記憶手段は、上記工程の異常と該異常の原因との対応関係である異常・原因対応関係を上記対応関係として記憶し、さらに、上記異常の原因と上記異常に対する対処方法との対応関係である原因・対処対応関係を記憶しており、上記対処方法が確定したときに、確定した対処方法に基づいて、上記原因・対処対応関係を更新する対応関係更新手段をさらに備える構成である。In the process management apparatus according to the present invention, in the configuration described above, the storage unit stores an abnormality / cause correspondence that is a correspondence between the abnormality of the process and the cause of the abnormality as the correspondence. Stores the cause / response relationship that is the correspondence between the cause of the abnormality and the countermeasure against the abnormality, and when the countermeasure is determined, the cause / response is determined based on the determined countermeasure. The configuration further includes correspondence update means for updating the relationship.

上記の構成によると、異常が発生して対処が行われ、対処方法が確定すると、確定した対処方法に基づいて原因・対処対応関係が更新される。これにより、詳細かつ高精度の原因・対処対応関係が構築されるので、或る異常の原因に対してより適切な対処方法を抽出することができる。According to the above configuration, when an abnormality occurs and a countermeasure is performed and a countermeasure is determined, the cause / response correspondence is updated based on the determined countermeasure. As a result, a detailed and highly accurate cause / response relationship is established, so that a more appropriate response method can be extracted for the cause of a certain abnormality.

また、確定した対処方法が以前の原因・対処対応関係に存在しない場合には、以前の原因・対処対応関係に新たな原因・対処対応関係が追加されることになる。したがって、記憶手段に予め原因・対処対応関係を記憶しておかなくても、原因・対処対応関係更新手段が原因・対処対応関係の更新を繰り返すことにより、詳細かつ高精度の原因・対処対応関係を構築することができる。In addition, when the determined countermeasure method does not exist in the previous cause / response correspondence, a new cause / response correspondence is added to the previous cause / response correspondence. Therefore, even if the cause / response correspondence is not previously stored in the storage means, the cause / response correspondence update means repeats the update of the cause / response correspondence so that detailed and highly accurate cause / response correspondence is obtained. Can be built.

本発明に係る工程管理装置の工程管理方法は、多数の工程の管理を行う工程管理装置の工程管理方法であって、該工程管理装置は、上記工程の異常と該異常に関連する異常関連情報との対応関係を記憶する記憶手段を備えており、上記工程の異常を検出する検出ステップと、上記記憶手段が記憶した対応関係を用いて、上記検出ステップにて検出された異常に対応する1または複数の異常関連情報を抽出する抽出ステップと、上記抽出ステップにて抽出された異常関連情報を含むリストを、上記異常関連情報の適合度、および/または上記異常が上記工程に与える影響度に基づいて作成するリスト作成ステップとを含む方法である。The process management method of the process management apparatus according to the present invention is a process management method of a process management apparatus that manages a large number of processes, and the process management apparatus includes the abnormality in the process and abnormality related information related to the abnormality. Storage means for storing the correspondence relationship between the detection step and the detection step for detecting an abnormality in the process, and using the correspondence relationship stored in the storage means, 1 corresponding to the abnormality detected in the detection step. Alternatively, an extraction step for extracting a plurality of abnormality-related information, and a list including the abnormality-related information extracted in the extraction step are used as the degree of fitness of the abnormality-related information and / or the degree of influence of the abnormality on the process. A list creation step of creating based on the list.

上記の方法によると、工程の異常を検出すると、検出した異常に対応する1または複数の異常関連情報を、対応関係を用いて抽出し、抽出した異常関連情報を含むリストを、適合度および/または影響度に基づいて作成している。これにより、或る異常に対して異常関連情報が複数存在する場合でも、上記適合度や上記影響度に基づいてリストを作成するので、作成されたリストをユーザが参照することにより、適切な、かつ/または影響の大きな異常関連情報を選択することができる。According to the above method, when a process abnormality is detected, one or a plurality of abnormality-related information corresponding to the detected abnormality is extracted using the correspondence relationship, and the list including the extracted abnormality-related information is obtained as the fitness level and / or Or create based on the impact. Thereby, even when there are a plurality of abnormality-related information for a certain abnormality, a list is created based on the degree of conformity and the degree of influence, so the user can refer to the created list appropriately, And / or abnormality-related information having a large influence can be selected.

本発明に係る工程管理装置は、製造工程以外にも、本発明は、製造工程以外にも、家電製品や自動車など、電子制御される装置やシステム内で行われる各種の処理工程を管理する場合にも適用することができる。   In addition to the manufacturing process, the process management apparatus according to the present invention manages various processing processes performed in electronically controlled apparatuses and systems such as home appliances and automobiles in addition to the manufacturing process. It can also be applied to.

本発明の一実施形態である工程管理システムの工程管理装置において、工程を監視して、異常が発生した場合に異常原因および対処方法を出力する処理の流れを示すフローチャートである。5 is a flowchart showing a flow of processing for monitoring a process and outputting an abnormality cause and a coping method when an abnormality occurs in the process management apparatus of the process management system according to the embodiment of the present invention. 上記工程管理システムの概略構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows schematic structure of the said process management system. 上記工程管理装置の異常原因抽出部および原因対処リスト作成部の詳細を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the detail of the abnormality cause extraction part and cause coping list preparation part of the said process management apparatus. 上記工程管理装置の工程異常監視部が工程の異常を監視するために利用する管理図の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the control chart utilized in order that the process abnormality monitoring part of the said process management apparatus may monitor process abnormality. 同図(a)は、上記工程管理装置の記憶部に記憶される異常・原因対応テーブルの一例を表形式で示す図であり、同図(b)は、上記記憶部に記憶される原因・対処対応テーブルの一例を表形式で示す図である。FIG. 6A is a diagram showing an example of an abnormality / cause correspondence table stored in the storage unit of the process management apparatus in a table format. FIG. It is a figure which shows an example of a countermeasure correspondence table in a table format. 上記工程管理装置の原因・対処リスト作成部が作成する原因・対処リストの一例を表形式で示す図である。It is a figure which shows an example of the cause and countermeasure list which the cause and countermeasure list preparation part of the said process management apparatus produces in a table format. 上記工程管理装置において、実際の対処作業の終了後に上記異常・原因対応テーブルおよび上記原因・対処対応テーブルを更新する処理の流れを示すフローチャートである。FIG. 5 is a flowchart showing a flow of processing for updating the abnormality / cause correspondence table and the cause / response correspondence table after the actual countermeasure work is completed in the process management apparatus. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 工程管理システム
4 工程管理装置
11 記憶部(記憶手段)
12 工程状態収集部(収集手段)
13 工程異常監視部(検出手段)
14 異常原因抽出部(抽出手段)
15 原因・対処リスト作成部(リスト作成手段、対処方法抽出手段、対処方法リスト作成手段)
16 原因・対処修正部(対応関係更新手段、原因・対処対応関係更新手段)
18 異常・原因対応テーブル(対応関係、異常・原因対応関係)
19 原因・対処対応テーブル(原因・対処対応関係)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Process management system 4 Process management apparatus 11 Memory | storage part (memory | storage means)
12 Process status collection unit (collection means)
13 Process abnormality monitoring part (detection means)
14 Abnormal cause extraction unit (extraction means)
15 Cause / Correction List Creation Unit (List creation means, countermeasure method extraction means, countermeasure method list creation means)
16 Cause / Correction Correction Unit (Correspondence Update Unit, Cause / Countermeasure Update Unit)
18 Abnormality / cause correspondence table (correspondence, abnormality / cause correspondence)
19 Cause / Countermeasure Response Table (Cause / Countermeasure Response Relationship)

Claims (15)

多数の工程の管理を行う工程管理装置において、
上記工程の異常と、該異常に関連する異常関連情報との対応関係を記憶する記憶手段と、
上記工程の異常を検出する検出手段と、
上記記憶手段が記憶した対応関係を用いて、上記検出手段が検出した異常に対応する1または複数の上記異常関連情報を抽出する抽出手段と、
上記抽出手段が抽出した異常関連情報を含むリストを、上記異常関連情報の適合度、および/または上記異常が上記工程に与える影響度に基づいて作成するリスト作成手段とを備えることを特徴とする工程管理装置。
In a process management device that manages many processes,
Storage means for storing a correspondence relationship between the abnormality in the process and the abnormality-related information related to the abnormality;
Detecting means for detecting an abnormality in the above process;
Extraction means for extracting one or more of the abnormality-related information corresponding to the abnormality detected by the detection means using the correspondence relationship stored by the storage means;
And a list creation means for creating a list including the abnormality related information extracted by the extraction means based on the degree of fitness of the abnormality related information and / or the degree of influence of the abnormality on the process. Process management device.
上記異常関連情報が確定したときに、確定した異常関連情報に基づいて、上記記憶手段が記憶する対応関係を更新する対応関係更新手段をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の工程管理装置。   The process management according to claim 1, further comprising: correspondence updating means for updating the correspondence stored in the storage unit based on the confirmed abnormality related information when the abnormality related information is confirmed. apparatus. 上記異常関連情報は、上記異常の原因、または上記異常に対する対処方法であることを特徴とする請求項1に記載の工程管理装置。   The process management apparatus according to claim 1, wherein the abnormality related information is a cause of the abnormality or a coping method for the abnormality. 上記異常関連情報は、上記異常の原因であり、
上記記憶手段は、上記工程の異常と該異常の原因との対応関係である異常・原因対応関係を上記対応関係として記憶し、さらに、上記異常の原因と上記異常に対する対処方法との対応関係である原因・対処対応関係を記憶することを特徴とする請求項1に記載の工程管理装置。
The abnormality related information is the cause of the abnormality,
The storage means stores an abnormality / cause correspondence relationship that is a correspondence relationship between the abnormality of the process and the cause of the abnormality as the correspondence relationship, and further includes a correspondence relationship between the cause of the abnormality and a countermeasure for the abnormality. The process management apparatus according to claim 1, wherein a certain cause / response correspondence is stored.
上記記憶手段が記憶した原因・対処対応関係を用いて、上記抽出手段が検出した異常の原因のそれぞれに対応する対処方法を抽出する対処方法抽出手段と、
上記対処方法抽出手段が抽出した対処方法を含む対処方法リストを、上記対処方法の適合度に基づいて作成する対処方法リスト作成手段とをさらに備えることを特徴とする請求項4に記載の工程管理装置。
A coping method extraction unit that extracts coping methods corresponding to each cause of the abnormality detected by the extraction unit using the cause / coping correspondence relationship stored by the storage unit;
5. The process management according to claim 4, further comprising: a handling method list creating unit that creates a handling method list including the handling method extracted by the handling method extraction unit based on a degree of suitability of the handling method. apparatus.
上記対処方法が確定したときに、確定した対処方法に基づいて、上記記憶手段が記憶する原因・対処対応関係を更新する原因・対処対応関係更新手段をさらに備えることを特徴とする請求項4に記載の工程管理装置。   5. The apparatus according to claim 4, further comprising a cause / countermeasure correspondence updating unit that updates the cause / countermeasure correspondence stored by the storage unit based on the fixed measure when the coping method is determined. The process management apparatus described. 上記工程に関する時系列データを収集する収集手段をさらに備えており、
上記検出手段は、上記収集手段が収集した時系列データを管理図法で処理することにより、上記工程の異常を検出することを特徴とする請求項1に記載の工程管理装置。
It further comprises a collecting means for collecting time series data related to the above process,
2. The process management apparatus according to claim 1, wherein the detection means detects the abnormality of the process by processing the time-series data collected by the collection means by a control projection method.
上記対応関係は、上記工程の異常時における上記時系列データの波形特徴量と、上記異常関連情報との対応関係であり、
上記抽出手段は、上記対応関係を用いて、上記検出手段が異常を検出した時の時系列データの波形特徴量に近い複数の波形特徴量に対応する複数の異常関連情報を取得しており、
上記異常関連情報の適合度は、上記検出手段が検出した上記時系列データの波形特徴量と、上記複数の異常関連情報にそれぞれ対応する波形特徴量との間の類似度を含むことを特徴とする請求項7に記載の工程管理装置。
The correspondence relationship is a correspondence relationship between the waveform feature amount of the time-series data at the time of abnormality in the process and the abnormality-related information,
The extraction means uses the correspondence relationship to obtain a plurality of abnormality related information corresponding to a plurality of waveform feature quantities close to the waveform feature quantity of the time series data when the detection means detects an abnormality,
The degree of fitness of the abnormality-related information includes a similarity between the waveform feature amount of the time-series data detected by the detection means and the waveform feature amount corresponding to each of the plurality of abnormality-related information, The process management apparatus according to claim 7.
上記異常関連情報の適合度は、上記異常の発生頻度を含むことを特徴とする請求項1に記載の工程管理装置。   The process management apparatus according to claim 1, wherein the degree of conformity of the abnormality-related information includes the frequency of occurrence of the abnormality. 上記異常が上記工程に与える影響度は、上記異常による損失割合を含むことを特徴とする請求項1に記載の工程管理装置。   The process management apparatus according to claim 1, wherein the degree of influence of the abnormality on the process includes a loss ratio due to the abnormality. 多数の工程の管理を行う工程管理装置において、
上記工程の異常と該異常に関連する異常関連情報との対応関係を記憶する記憶手段と、
上記異常関連情報が確定したときに、確定した異常関連情報に基づいて上記対応関係を更新する対応関係更新手段とを備えることを特徴とする工程管理装置。
In a process management device that manages many processes,
Storage means for storing a correspondence relationship between the abnormality in the process and the abnormality-related information related to the abnormality;
A process management apparatus comprising: a correspondence update unit that updates the correspondence based on the confirmed abnormality-related information when the abnormality-related information is confirmed.
上記記憶手段は、上記工程の異常と該異常の原因との対応関係である異常・原因対応関係を上記対応関係として記憶し、さらに、上記異常の原因と上記異常に対する対処方法との対応関係である原因・対処対応関係を記憶しており、
上記対処方法が確定したときに、確定した対処方法に基づいて、上記原因・対処対応関係を更新する原因・対処対応関係更新手段をさらに備えることを特徴とする請求項11に記載の工程管理装置。
The storage means stores an abnormality / cause correspondence relationship that is a correspondence relationship between the abnormality of the process and the cause of the abnormality as the correspondence relationship, and further includes a correspondence relationship between the cause of the abnormality and a countermeasure for the abnormality. Remembers the cause / response relationship,
12. The process management apparatus according to claim 11, further comprising a cause / countermeasure correspondence updating unit that updates the cause / countermeasure correspondence based on the confirmed measure when the countermeasure is determined. .
多数の工程の管理を行う工程管理装置の工程管理方法であって、
該工程管理装置は、上記工程の異常と該異常に関連する異常関連情報との対応関係を記憶する記憶手段を備えており、
上記工程の異常を検出する検出ステップと、
上記記憶手段が記憶した対応関係を用いて、上記検出ステップにて検出された異常に対応する1または複数の異常関連情報を抽出する抽出ステップと、
上記抽出ステップにて抽出された異常関連情報を含むリストを、上記異常関連情報の適合度、および/または上記異常が上記工程に与える影響度に基づいて作成するリスト作成ステップとを含むことを特徴とする工程管理装置の工程管理方法。
A process management method for a process management apparatus for managing a large number of processes,
The process management apparatus includes storage means for storing a correspondence relationship between the abnormality of the process and abnormality-related information related to the abnormality,
A detection step for detecting an abnormality in the above process;
An extraction step for extracting one or more abnormality-related information corresponding to the abnormality detected in the detection step using the correspondence relationship stored in the storage means;
A list creation step for creating a list including the abnormality-related information extracted in the extraction step based on the degree of fitness of the abnormality-related information and / or the degree of influence of the abnormality on the process. A process management method for a process management apparatus.
請求項1ないし10の何れか1項に記載の工程管理装置を動作させるための工程管理プログラムであって、コンピュータを上記各手段として機能させるための工程管理プログラム。   11. A process management program for operating the process management apparatus according to claim 1, wherein the process management program causes a computer to function as each means. 請求項14に記載の工程管理プログラムが記録されたコンピュータ読取り可能な記録媒体。   A computer-readable recording medium on which the process management program according to claim 14 is recorded.
JP2004168968A 2004-06-07 2004-06-07 Process management device, process management method, process management program, and recording medium recording the program Expired - Fee Related JP3744527B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004168968A JP3744527B2 (en) 2004-06-07 2004-06-07 Process management device, process management method, process management program, and recording medium recording the program

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004168968A JP3744527B2 (en) 2004-06-07 2004-06-07 Process management device, process management method, process management program, and recording medium recording the program

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005346655A true JP2005346655A (en) 2005-12-15
JP3744527B2 JP3744527B2 (en) 2006-02-15

Family

ID=35498939

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004168968A Expired - Fee Related JP3744527B2 (en) 2004-06-07 2004-06-07 Process management device, process management method, process management program, and recording medium recording the program

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3744527B2 (en)

Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007280301A (en) * 2006-04-11 2007-10-25 Omron Corp Malfunction management device, malfunction management method, malfunction management program and recording medium which records the program
WO2007129565A1 (en) * 2006-05-09 2007-11-15 Tokyo Electron Limited Server device, and program
JP2008257700A (en) * 2007-03-14 2008-10-23 Omron Corp Quality improvement system
JP2008310402A (en) * 2007-06-12 2008-12-25 Nikon Corp Operation information management system
JP2009080612A (en) * 2007-09-26 2009-04-16 Toshiba Corp Method for evaluating distribution, method for producing article, distribution evaluation program, and distribution evaluation system
JP2009211472A (en) * 2008-03-05 2009-09-17 Fuji Xerox Co Ltd Failure-diagnosing device and program
JP2010511232A (en) * 2006-12-01 2010-04-08 デュール システムズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング How to log errors for paint plants
JP2010134642A (en) * 2008-12-03 2010-06-17 Toyota Auto Body Co Ltd Vehicle body precision trend management system
JP2010282541A (en) * 2009-06-08 2010-12-16 Toppan Printing Co Ltd Method for automatically generating reference waveform of device data and method for predicting failure information
JP2011107947A (en) * 2009-11-17 2011-06-02 Toppan Printing Co Ltd Abnormality detection method and abnormality detection system
JP2012200814A (en) * 2011-03-25 2012-10-22 Kobe Steel Ltd Temporary stop analyzer and temporary stop analysis program of welding robot
DE102017004439A1 (en) 2016-05-16 2017-11-16 Fanuc Corporation Manufacturing cell and manufacturing cell management system
KR20170126553A (en) * 2016-05-09 2017-11-20 한국전자통신연구원 Apparatus of recommending and inputting worker's event
JP2018501561A (en) * 2014-12-02 2018-01-18 エヌイーシー ラボラトリーズ アメリカ インクNEC Laboratories America, Inc. Quality control engine for complex physical systems
JP2018055315A (en) * 2016-09-28 2018-04-05 株式会社岩崎電機製作所 Product diagnostic apparatus, product diagnostic method and product diagnostic program
JPWO2017212552A1 (en) * 2016-06-07 2018-06-14 三菱電機株式会社 Data processing apparatus, data processing method, and data processing program
KR20190117834A (en) * 2018-03-26 2019-10-17 (주)뉴텍오토메이션 A System of Lightening Big Data of Modular Packing Machine Using PLC Data
JP2020035287A (en) * 2018-08-31 2020-03-05 ファナック株式会社 Knowledge production system
WO2020162099A1 (en) * 2019-02-06 2020-08-13 株式会社日立製作所 Apparatus maintenance system and method
JP2020126443A (en) * 2019-02-05 2020-08-20 株式会社日立製作所 Measures recommendation device and measures recommendation method
JP2021086554A (en) * 2019-11-29 2021-06-03 株式会社東芝 Dam management system, guide device, and guide notification method
JP2022032522A (en) * 2020-08-12 2022-02-25 株式会社日立製作所 Factor estimation device, factor estimation system and program
US11366627B2 (en) 2017-12-18 2022-06-21 Mitsubishi Electric Corporation Display control device, display system, display device, and display method
JP2022099377A (en) * 2020-12-23 2022-07-05 三菱Ufjリサーチ&コンサルティング株式会社 Measure proposing device, measure proposing system and measure proposing substrate
WO2022244068A1 (en) * 2021-05-17 2022-11-24 株式会社ニデック State management program and state management method
US11636586B2 (en) 2019-09-04 2023-04-25 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Process control system and process control method
JP7289037B2 (en) 2019-07-12 2023-06-09 パナソニックIpマネジメント株式会社 remote control system
US12099939B2 (en) 2018-09-03 2024-09-24 Mitsubishi Electric Corporation Signal display control device and computer readable medium

Cited By (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007280301A (en) * 2006-04-11 2007-10-25 Omron Corp Malfunction management device, malfunction management method, malfunction management program and recording medium which records the program
KR101050813B1 (en) * 2006-05-09 2011-07-20 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Server devices and recording media
WO2007129565A1 (en) * 2006-05-09 2007-11-15 Tokyo Electron Limited Server device, and program
US8190283B2 (en) 2006-05-09 2012-05-29 Tokyo Electron Limited Server and program
JP2010511232A (en) * 2006-12-01 2010-04-08 デュール システムズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング How to log errors for paint plants
US9582942B2 (en) 2006-12-01 2017-02-28 Durr Systems Gmbh Error logging method for a coating plant
JP2008257700A (en) * 2007-03-14 2008-10-23 Omron Corp Quality improvement system
JP2008310402A (en) * 2007-06-12 2008-12-25 Nikon Corp Operation information management system
JP2009080612A (en) * 2007-09-26 2009-04-16 Toshiba Corp Method for evaluating distribution, method for producing article, distribution evaluation program, and distribution evaluation system
JP2009211472A (en) * 2008-03-05 2009-09-17 Fuji Xerox Co Ltd Failure-diagnosing device and program
JP2010134642A (en) * 2008-12-03 2010-06-17 Toyota Auto Body Co Ltd Vehicle body precision trend management system
JP2010282541A (en) * 2009-06-08 2010-12-16 Toppan Printing Co Ltd Method for automatically generating reference waveform of device data and method for predicting failure information
JP2011107947A (en) * 2009-11-17 2011-06-02 Toppan Printing Co Ltd Abnormality detection method and abnormality detection system
JP2012200814A (en) * 2011-03-25 2012-10-22 Kobe Steel Ltd Temporary stop analyzer and temporary stop analysis program of welding robot
JP2018501561A (en) * 2014-12-02 2018-01-18 エヌイーシー ラボラトリーズ アメリカ インクNEC Laboratories America, Inc. Quality control engine for complex physical systems
KR20170126553A (en) * 2016-05-09 2017-11-20 한국전자통신연구원 Apparatus of recommending and inputting worker's event
DE102017004439A1 (en) 2016-05-16 2017-11-16 Fanuc Corporation Manufacturing cell and manufacturing cell management system
JP2017207822A (en) * 2016-05-16 2017-11-24 ファナック株式会社 Processing cell and processing cell control system
US10607868B2 (en) 2016-05-16 2020-03-31 Fanuc Corporation Manufacturing cell and manufacturing cell management system
JPWO2017212552A1 (en) * 2016-06-07 2018-06-14 三菱電機株式会社 Data processing apparatus, data processing method, and data processing program
JP2018055315A (en) * 2016-09-28 2018-04-05 株式会社岩崎電機製作所 Product diagnostic apparatus, product diagnostic method and product diagnostic program
US11366627B2 (en) 2017-12-18 2022-06-21 Mitsubishi Electric Corporation Display control device, display system, display device, and display method
KR102085277B1 (en) * 2018-03-26 2020-03-05 (주)뉴텍오토메이션 A System of Lightening Big Data of Modular Packing Machine Using PLC Data
KR20190117834A (en) * 2018-03-26 2019-10-17 (주)뉴텍오토메이션 A System of Lightening Big Data of Modular Packing Machine Using PLC Data
JP2020035287A (en) * 2018-08-31 2020-03-05 ファナック株式会社 Knowledge production system
US12099939B2 (en) 2018-09-03 2024-09-24 Mitsubishi Electric Corporation Signal display control device and computer readable medium
JP2020126443A (en) * 2019-02-05 2020-08-20 株式会社日立製作所 Measures recommendation device and measures recommendation method
JP7140690B2 (en) 2019-02-05 2022-09-21 株式会社日立製作所 Countermeasure recommendation device and countermeasure recommendation method
JP2020126533A (en) * 2019-02-06 2020-08-20 株式会社日立製作所 Apparatus maintenance system and method
JP7199986B2 (en) 2019-02-06 2023-01-06 株式会社日立製作所 Equipment maintenance system and method
WO2020162099A1 (en) * 2019-02-06 2020-08-13 株式会社日立製作所 Apparatus maintenance system and method
JP7289037B2 (en) 2019-07-12 2023-06-09 パナソニックIpマネジメント株式会社 remote control system
US11636586B2 (en) 2019-09-04 2023-04-25 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Process control system and process control method
JP2021086554A (en) * 2019-11-29 2021-06-03 株式会社東芝 Dam management system, guide device, and guide notification method
JP7438729B2 (en) 2019-11-29 2024-02-27 株式会社東芝 Dam management system, guide device, and guide notification method
JP2022032522A (en) * 2020-08-12 2022-02-25 株式会社日立製作所 Factor estimation device, factor estimation system and program
JP7457601B2 (en) 2020-08-12 2024-03-28 株式会社日立製作所 Factor estimation device, factor estimation system and program
JP2022099377A (en) * 2020-12-23 2022-07-05 三菱Ufjリサーチ&コンサルティング株式会社 Measure proposing device, measure proposing system and measure proposing substrate
WO2022244068A1 (en) * 2021-05-17 2022-11-24 株式会社ニデック State management program and state management method

Also Published As

Publication number Publication date
JP3744527B2 (en) 2006-02-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3744527B2 (en) Process management device, process management method, process management program, and recording medium recording the program
JP4046309B2 (en) Plant monitoring device
US11003178B2 (en) Facility diagnosis device, facility diagnosis method, and facility diagnosis program
JP6601433B2 (en) Event analysis device, event analysis system, event analysis method, event analysis program, and recording medium
WO2021241576A1 (en) Abnormal modulation cause identification device, abnormal modulation cause identification method, and abnormal modulation cause identification program
JP6200833B2 (en) Diagnostic equipment for plant and control equipment
JPH10510385A (en) Method and system for software quality architecture based analysis
JP6540531B2 (en) Monitoring device and control method of monitoring device
US11436769B2 (en) Visualized data generation device, visualized data generation system, and visualized data generation method
JP2019028834A (en) Abnormal value diagnostic device, abnormal value diagnostic method, and program
WO2021241580A1 (en) Abnormality/irregularity cause identifying apparatus, abnormality/irregularity cause identifying method, and abnormality/irregularity cause identifying program
US11900223B2 (en) Device and method for monitoring a system
JP2010218301A (en) Failure diagnosis apparatus, failure diagnosis method, and failure diagnosis program
JP6540532B2 (en) Monitoring device and control method of monitoring device
JP6312955B1 (en) Quality analysis apparatus and quality analysis method
WO2021241578A1 (en) Abnormal modulation cause identifying device, abnormal modulation cause identifying method, and abnormal modulation cause identifying program
JP6885321B2 (en) Process status diagnosis method and status diagnosis device
US7366639B2 (en) Methods for establishing alerts and/or alert limits for monitoring mechanical devices
WO2021241579A1 (en) Abnormal modulation cause identifying device, abnormal modulation cause identifying method, and abnormal modulation cause identifying program
JP2017117034A (en) Diagnosis device and diagnostic method
EP4160338A1 (en) Abnormal modulation cause display device, abnormal modulation cause display method, and abnormal modulation cause display program
JP2023113024A (en) Data processing device, method and program
JP6247777B2 (en) Abnormality diagnosis apparatus and abnormality diagnosis method
US20210295275A1 (en) Maintenance management device, maintenance management method, and program
JP7511797B2 (en) Maintenance support system, maintenance support method, and maintenance support program

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20050705

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20050908

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20051101

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20051114

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3744527

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091202

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101202

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101202

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111202

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111202

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121202

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131202

Year of fee payment: 8

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D02

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D04

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees