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JP2005243240A - Optical recording medium - Google Patents

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JP2005243240A
JP2005243240A JP2005153129A JP2005153129A JP2005243240A JP 2005243240 A JP2005243240 A JP 2005243240A JP 2005153129 A JP2005153129 A JP 2005153129A JP 2005153129 A JP2005153129 A JP 2005153129A JP 2005243240 A JP2005243240 A JP 2005243240A
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JP
Japan
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layer
pits
reflective layer
grooves
spacer
Prior art date
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Pending
Application number
JP2005153129A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuya Iida
哲哉 飯田
Tomoharu Jinno
智施 神野
Takanobu Higuchi
隆信 樋口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pioneer Corp
Original Assignee
Pioneer Electronic Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Pioneer Electronic Corp filed Critical Pioneer Electronic Corp
Priority to JP2005153129A priority Critical patent/JP2005243240A/en
Publication of JP2005243240A publication Critical patent/JP2005243240A/en
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical disk for reproducing which can be stably manufactured and is durable against an external environment and secular change, and on which pits or grooves for carrying information are formed in multiple layers. <P>SOLUTION: In this optical recording medium, a singular or a plurality of spacer layers in which the pits or grooves for carrying information are formed and a singular or a plurality of reflective layers, mutually overlap and constitute a multilayer. Further, in the optical recording medium, a silane coupling processing of a surface on which the reflective layer or the spacer layer mutually overlaps is carried out. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は光ディスク、特に情報を坦持するピットまたはグルーブが多層に形成された再生用光ディスクに関する。 The present invention relates to an optical disc, and more particularly to a playback optical disc in which pits or grooves carrying information are formed in multiple layers.

従来再生用光ディスクとして図7に示すいわゆるコンパクトディスク(以下CDと呼ぶ)が知られている。図7はCDのピットまたはグルーブが形成される部分の概略断面図である。101は透光性基板であり、CDのスタンパを成型機の金型に取り付けて熱可塑性樹脂のポリカーボネートを射出成形あるいは射出圧縮成形することにより、表面にスタンパのピットが転写されて形成される。また102は通常反射層であり、真空蒸着またはスパッタリングによってアルミニウム等を透光性基板101上にコーティングした金属薄膜で形成され、透光性基板101に密着してCDのピット102aまたはグルーブ102bを形成する。また103は保護膜であり通常反射層102の劣化や傷を防止するために例えば紫外線硬化型アクリル系樹脂を通常反射層102上でスピンコート法によりほぼ均一の厚さに塗布し硬化させて形成される。また104はCDのラベルであり、例えばスクリーン印刷等の手法により保護膜103上に塗着された合成樹脂の塗膜である。 A so-called compact disc (hereinafter referred to as CD) shown in FIG. 7 is known as a conventional reproducing optical disc. FIG. 7 is a schematic sectional view of a portion where CD pits or grooves are formed. Reference numeral 101 denotes a translucent substrate, which is formed by attaching a stamper of a CD to a mold of a molding machine and injection molding or injection compression molding of a polycarbonate of a thermoplastic resin, thereby transferring pits of the stamper on the surface. Reference numeral 102 is usually a reflective layer, which is formed of a metal thin film obtained by coating aluminum or the like on the light-transmitting substrate 101 by vacuum evaporation or sputtering, and is in close contact with the light-transmitting substrate 101 to form CD pits 102a or grooves 102b. To do. Reference numeral 103 denotes a protective film, which is usually formed by applying and curing, for example, an ultraviolet curable acrylic resin to the substantially uniform thickness on the reflective layer 102 by a spin coating method in order to prevent the reflective layer 102 from being deteriorated or scratched. Is done. Reference numeral 104 denotes a CD label, which is, for example, a synthetic resin coating film coated on the protective film 103 by a method such as screen printing.

従来のCDのピットまたはグルーブは以上のように形成され図示しない光ピックアップのレーザ光が回転するCDの透光性基板101面上方(図7中矢印Aの方向)よりピット102aまたはグルーブ102b照射してその反射光を読取ることによって記録情報を再生していた。 The conventional CD pits or grooves are formed as described above, and the pits 102a or grooves 102b are irradiated from above the surface of the CD transparent substrate 101 (in the direction of arrow A in FIG. 7) on which the laser beam of an optical pickup (not shown) rotates. The recorded information is reproduced by reading the reflected light.

ところが近年情報の高密度化にともなって光ディスクが坦持するピットまたはグルーブにも高密度が要求されていてピットまたはグルーブが多層構造の光ディスクが検討されている。これは通常反射層102に加えて、透光性基板101と通常反射層102との間に交互に積層されたスペーサ層と中間反射層を複数層設け、それぞれの中間反射層とスペーサ層が坦持するピットまたはグルーブを多層に構成することによって形成される。 However, with the recent increase in information density, high density is also required for the pits or grooves carried by the optical disk, and optical disks having a multi-layer structure of pits or grooves have been studied. In this case, in addition to the normal reflection layer 102, a plurality of spacer layers and intermediate reflection layers, which are alternately laminated between the translucent substrate 101 and the normal reflection layer 102, are provided. It is formed by forming pits or grooves to be held in multiple layers.

多層構造の光ディスクは例えば図8に示すピットまたはグルーブが2層から成る光ディスクの製造工程に見られるように、工程(a)によって透光性基板101が形成された後工程(b)により第1中間反射層102が形成され、次に工程(c)で第1中間反射層102が坦持するピットまたはグルーブとは別のピットまたはグルーブが転写されたスタンパ105上に例えば紫外線硬化型アクリル系樹脂を均一に塗布し、第1中間反射層102をスタンパに対して所定の間隔に重ねた状態で透光性基板101面の上方より紫外線を照射して硬化させることにより第1スペーサ層106が形成される。つぎに工程(d)においてディスクはスタンパから剥離されて工程(e)で第1スペーサ層106上に、真空蒸着またはスパッタリングによって形成された所定の反射率を有する金属薄膜からなる通常反射層107が形成される。次に、図示しない工程によって通常反射層107上に保護膜が形成され、さらに保護膜の上にはラベルが形成されてピットまたはグルーブが2層から成る光ディスクが製造される。 For example, as shown in FIG. 8 in the manufacturing process of an optical disk having two layers of pits or grooves, the multi-layered optical disk is first processed by the step (b) after the translucent substrate 101 is formed by the step (a). For example, an ultraviolet curable acrylic resin is formed on the stamper 105 on which the intermediate reflection layer 102 is formed, and then pits or grooves different from the pits or grooves carried by the first intermediate reflection layer 102 are transferred in the step (c). The first spacer layer 106 is formed by applying UV light from above the surface of the light-transmitting substrate 101 in a state where the first intermediate reflective layer 102 is stacked at a predetermined interval with respect to the stamper. Is done. Next, in step (d), the disk is peeled off from the stamper, and in step (e), a normal reflective layer 107 made of a metal thin film having a predetermined reflectance formed by vacuum deposition or sputtering is formed on the first spacer layer 106. It is formed. Next, a protective film is formed on the normal reflective layer 107 by a process (not shown), and a label is formed on the protective film to produce an optical disk having two pits or grooves.

また3層ディスク以上のディスクについても同様に図8の工程(e)に引き続き各層に対応するピットまたはグルーブが転写されたスタンパを用いて工程(c)乃至(d)と同様の工程により、スペーサ層と反射層を交互に積層した後保護膜およびラベルを形成することによって、ピットまたはグルーブが多層から成る光ディスクが製造される。このように従来のピットまたはグルーブが多層構造の光ディスクは設けられた反射層の数に比例してスタンパの剥離工程を繰り返しながら製造されていたが、スペーサ層上に反射層を、または反射層上にスペーサ層を成型する場合に周囲の湿度や成型材料が含んでいる水分によって反射層とスペーサ層界面に水分が残留する場合がある。この場合スペーサ層と反射層の密着力が弱いとスタンパをスペーサ層から剥離する際にスペーサ層が反射層から剥れてスタンパ側に残ってしまいディスクが容易に製造できないという欠点があった。 In the same way as for the discs having three or more layers, spacers are formed in the same manner as in steps (c) to (d) using a stamper to which pits or grooves corresponding to the respective layers are transferred following step (e) in FIG. By alternately laminating layers and reflective layers and then forming a protective film and a label, an optical disc having a multi-layered pit or groove is manufactured. As described above, a conventional optical disk having a multi-layer structure of pits or grooves was manufactured by repeating the stamper peeling process in proportion to the number of the reflective layers provided, but the reflective layer on the spacer layer or on the reflective layer was manufactured. When the spacer layer is molded, moisture may remain at the interface between the reflective layer and the spacer layer due to ambient humidity or moisture contained in the molding material. In this case, if the adhesion between the spacer layer and the reflective layer is weak, there is a drawback that when the stamper is peeled from the spacer layer, the spacer layer peels off from the reflective layer and remains on the stamper side, so that the disk cannot be easily manufactured.

また製造された光ディスクが外部環境や経年変化によりスペーサ層と反射層が一部剥離してディスクに照射する光ピックアップの光ビームの反射または透過光路に乱れを生じるのでディスクを再生する場合に正確なピットの読取りができないという欠点があった。 In addition, since the manufactured optical disk partially peels off the spacer layer and the reflective layer due to the external environment and aging, the optical beam reflected or transmitted light path of the optical pickup that irradiates the disk is disturbed. There was a drawback that the pit could not be read.

本発明は上記の欠点に鑑みなされたものであって、安定して製造ができ、かつ外部環境や経年変化にも強い、情報を坦持するピットまたはグルーブが多層に形成された再生用光ディスクを提供するものである。 The present invention has been made in view of the above drawbacks, and is a reproduction optical disc in which pits or grooves carrying information are formed in multiple layers, which can be stably manufactured and are resistant to external environment and aging. It is to provide.

請求項1記載の発明は、情報を坦持するピットまたはグルーブが形成された単数あるいは複数のスペーサ層と、単数あるいは複数の反射層とが互いに重なって多層を形成される光記録媒体において、反射層またはスペーサ層は互いに重なる面がシランカップリング処理されていることを特徴とする光記録媒体を備えて構成する。請求項2記載の発明は、反射層は−OH基を有する材料で構成され、スペーサ層と重なる面がシランカップリング処理されていることを特徴とする請求項1記載の光記録媒体を備えて構成する。請求項3記載の発明は、反射層は表面が単層または多層からなる酸化物被膜で構成され、スペーサ層と互いに重なる面がシランカップリング処理されていることを特徴とする請求項1記載の光記録媒体を備えて構成する。 According to the first aspect of the present invention, there is provided an optical recording medium in which a single or a plurality of spacer layers formed with pits or grooves for carrying information and a single or a plurality of reflecting layers overlap each other to form a multilayer. The layer or spacer layer comprises an optical recording medium characterized in that the surfaces overlapping each other are subjected to silane coupling treatment. According to a second aspect of the present invention, there is provided the optical recording medium according to the first aspect, wherein the reflective layer is made of a material having -OH groups, and a surface overlapping the spacer layer is subjected to silane coupling treatment. Constitute. The invention according to claim 3 is characterized in that the reflective layer is formed of an oxide film having a single layer or multiple layers, and a surface overlapping with the spacer layer is subjected to silane coupling treatment. An optical recording medium is provided.

本発明は以上のように構成したので、請求項1記載の発明によれば、情報を坦持するピットまたはグルーブが多層に形成された再生用光ディスクを製造する場合に、各層を形成する反射層とスペーサ層とが重なる面にシランカップリング処理を施すようにしたため、スペーサ層と反射層の密着力を強化することができる。また、請求項2記載の発明によれば、請求項1記載の光ディスクの各反射層は−OH基を有する材料で構成されるので、各層を形成する反射層とスペーサ層とが重なる面に容易にかつ安定してシランカップリング処理を施すことができるのでスペーサ層と反射層の密着力を強化することができる。また、請求項3記載の発明によれば、請求項1記載の光ディスクの各反射層はスペーサ層と互いに重なる面に単層または多層からなる酸化物被膜が形成されるので、各層を形成する反射層のスペーサ層と重なる面に容易にかつ安定してシランカップリング処理を施すことができるのでスペーサ層と反射層の密着力を強化することができる。 Since the present invention is configured as described above, according to the first aspect of the present invention, when manufacturing a reproduction optical disc in which pits or grooves for carrying information are formed in multiple layers, the reflective layer that forms each layer Since the silane coupling process is performed on the surface where the spacer layer and the spacer layer overlap, the adhesion between the spacer layer and the reflective layer can be enhanced. According to the second aspect of the present invention, since each reflective layer of the optical disk according to the first aspect is made of a material having —OH groups, the reflective layer forming each layer and the spacer layer easily overlap each other. In addition, since the silane coupling treatment can be performed stably, the adhesion between the spacer layer and the reflective layer can be enhanced. According to the invention described in claim 3, since each reflective layer of the optical disk according to claim 1 is formed with a single layer or a multilayer oxide film on a surface overlapping with the spacer layer, the reflection forming each layer is formed. Since the silane coupling treatment can be easily and stably performed on the surface of the layer overlapping the spacer layer, the adhesion between the spacer layer and the reflective layer can be enhanced.

次に本発明における第1の実施例について図1乃至図2に基づいて以下に説明する。図1は本発明の第1の実施例における多層光ディスクにおいてピットまたはグルーブが形成される部分を示す概略断面図であり、(a)は2層光ディスク、(b)は3層光ディスクの場合を表している。図中1は透光性基板であり、表面にピットまたはグルーブに対応した凹凸形状を有するスタンパを成型機の金型に取り付けて例えばポリカーボネートやアクリル樹脂等所定の光の透過率を有する熱可塑性樹脂を射出成形あるいは射出圧縮成形することにより、表面にスタンパのピットまたはグルーブが転写されて形成される。 Next, a first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a portion where pits or grooves are formed in a multilayer optical disk according to the first embodiment of the present invention, where (a) shows a case of a two-layer optical disk and (b) shows a case of a three-layer optical disk. ing. In the figure, reference numeral 1 denotes a light-transmitting substrate, and a thermoplastic resin having a predetermined light transmittance such as polycarbonate or acrylic resin by attaching a stamper having an uneven shape corresponding to a pit or groove on the surface to a mold of a molding machine. Is formed by transferring the pits or grooves of the stamper on the surface.

また2は第1中間反射層であり、例えば金属薄膜、またはフタロシアニン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、ジアリールエテン誘導体等の有機色素もしくは無機誘電体などを所定の厚みで単層または複層に透光性基板1上にコーティングして所定の光の反射率および透過率を有する層からなり、透光性基板1に密着してディスクの1層目のピット1aまたはグルーブ1bを形成する。また透光性基板1にコーティングされた第1中間反射層2の表面は酸化処理によって酸化膜を形成させる。 Reference numeral 2 denotes a first intermediate reflection layer. For example, a metal thin film or an organic dye or an inorganic dielectric such as a phthalocyanine derivative, a naphthalocyanine derivative, a spiropyran derivative, a spirooxazine derivative, or a diarylethene derivative is formed in a single layer or a plurality of layers with a predetermined thickness. The light-transmitting substrate 1 is coated on the light-transmitting substrate 1 to have a predetermined light reflectance and transmittance. The first layer pit 1a or groove 1b of the disk is formed in close contact with the light-transmitting substrate 1. . Further, an oxide film is formed on the surface of the first intermediate reflective layer 2 coated on the translucent substrate 1 by an oxidation treatment.

また3は第1スペーサ層であり、2層目のピットまたはグルーブが転写された図示しないスタンパ上に例えば紫外線硬化型アクリル系樹脂を均一に塗布し、第1中間反射層2をスタンパに対して所定の間隔に重ねた状態で透光性基板1面の上方より紫外線を照射して硬化させることにより形成される。この場合予め第1中間反射層2の表面に形成された酸化膜に後述するシランカップリング処理を施しておく。 Reference numeral 3 denotes a first spacer layer. For example, an ultraviolet curable acrylic resin is uniformly applied on a stamper (not shown) to which the second pit or groove is transferred, and the first intermediate reflection layer 2 is applied to the stamper. It is formed by irradiating with ultraviolet rays from above the surface of the translucent substrate 1 in a state of being overlapped at a predetermined interval. In this case, the oxide film formed on the surface of the first intermediate reflective layer 2 in advance is subjected to a silane coupling process described later.

また4は第2中間反射層であり、第1中間反射層2と同様の材料を用いて所定の厚みで単層または複層に第1スペーサ層3上にコーティングして所定の光の反射率および透過率を有する層からなり、第1スペーサ層3に密着してディスクの2層目のピットまたはグルーブを形成する。 Reference numeral 4 denotes a second intermediate reflection layer, which is coated on the first spacer layer 3 in a single layer or multiple layers with a predetermined thickness using the same material as that of the first intermediate reflection layer 2 and has a predetermined light reflectance. In addition, the second pit or groove of the disk is formed in close contact with the first spacer layer 3.

また5は第2スペーサ層であり、紫外線硬化型アクリル系樹脂を用いて第2中間反射層4上に第1スペーサ層3と同様の方法を用いて所定の厚みで形成される。なおこの場合も予め第2中間反射層4の表面に形成された酸化膜に後述するシランカップリング処理を施しておく。 Reference numeral 5 denotes a second spacer layer, which is formed on the second intermediate reflective layer 4 with a predetermined thickness using the same method as the first spacer layer 3 using an ultraviolet curable acrylic resin. Also in this case, the oxide film formed on the surface of the second intermediate reflective layer 4 is subjected to a silane coupling process described later.

また6は通常反射層であり、真空蒸着またはスパッタリングによってアルミニウム等の金属を(a)においては第1スペーサ層3上に積層し第1スペーサ層3に密着してディスクの2層目のピットまたはグルーブを形成し、(b)においては第2スペーサ層5上に積層し第2スペーサ層5に密着してディスクの3層目のピットまたはグルーブを形成する。また保護膜103はディスクの各反射層の劣化や傷を防止するために図1において通常反射層6上に形成される。 Reference numeral 6 denotes a normal reflection layer. In (a), a metal such as aluminum is laminated on the first spacer layer 3 and is in close contact with the first spacer layer 3 by vacuum deposition or sputtering. Grooves are formed, and in (b), the pits or grooves of the third layer of the disk are formed by being stacked on the second spacer layer 5 and in close contact with the second spacer layer 5. Further, the protective film 103 is formed on the normal reflection layer 6 in FIG. 1 in order to prevent the deterioration and scratches of each reflection layer of the disk.

ここで先に示したシランカップリング処理は例えばガラス基板7上に電気回路のパターニングや文字のシルク印刷を施す際に、銅箔や印刷塗料が密着しやすいようにガラス基板7の表面の水分をはじくための疎水処理であり、薬剤であるヘキサメチルジシラザン9を密閉容器中におき、中に処理したいガラス板を放置して気相処理することにより、図2に示す様にガラス基板7の表面に存在する−OH基8のHが−Si(CH3)10と置換されることで得られる。このようにシランカップリング処理は−OH基または酸化物を含む材料のように親水性を有するものを置換処理によって疎水化する効果を有する。 Here, the silane coupling process described above, for example, when moisture is applied to the surface of the glass substrate 7 so that the copper foil and the printed paint are in close contact with each other when the patterning of the electric circuit and the silk printing of characters are performed on the glass substrate 7. It is a hydrophobic treatment for repelling, and hexamethyldisilazane 9 as a drug is placed in a sealed container, and the glass plate to be treated is left in the gas phase treatment to form the glass substrate 7 as shown in FIG. It is obtained by replacing H of —OH group 8 present on the surface with —Si (CH 3 ) 3 10. Thus, the silane coupling treatment has an effect of hydrophobizing a hydrophilic material such as a material containing —OH groups or oxides by a substitution treatment.

また本発明における図1の多層光ディスクのシランカップリング処理に用いられる薬剤として例えば、(1)ビニルトリエトキシシラン、(2)γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、(3)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、(4)γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、(5)N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、(6)ヘキサメチルジシラザン、(7)テトラメチルジシラザン等があり、いずれも通常反射層2または第1反射層4または第2反射層6がシランカップリング処理されると各反射層の表面の酸化被膜の−Oが、−Si(CH3)と置換されて疎水性を呈する。したがって通常反射層2と第1スペーサ層3の界面、および第1反射層4と第2スペーサ層5の界面では水分が残留しないので密着力を増すことになる。 Examples of the agent used for the silane coupling treatment of the multilayer optical disk of FIG. 1 in the present invention include (1) vinyltriethoxysilane, (2) γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and (3) γ-aminopropyltri. Ethoxysilane, (4) γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, (5) N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, (6) hexamethyldisilazane, (7) tetramethyldisilazane In both cases, when the reflective layer 2 or the first reflective layer 4 or the second reflective layer 6 is subjected to silane coupling treatment, -O of the oxide film on the surface of each reflective layer becomes -Si (CH3) 3 . Substituted to be hydrophobic. Therefore, since moisture does not remain at the interface between the reflective layer 2 and the first spacer layer 3 and at the interface between the first reflective layer 4 and the second spacer layer 5, the adhesion is increased.

また(1)ビニルトリエトキシシラン、(2)γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、(3)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、(4)γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、(5)N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシランは比較的蒸気圧の低いことからメチルアルコール、エチルアルコール等に5〜10%程度溶かし布、ペーパタオル等に含ませて塗布して用いる。またスピンコート法によっても塗布可能である。 (1) vinyltriethoxysilane, (2) γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, (3) γ-aminopropyltriethoxysilane, (4) γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, (5) N- Since (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane has a relatively low vapor pressure, it is dissolved in methyl alcohol, ethyl alcohol or the like in an amount of about 5 to 10% and is used after being applied to a cloth or paper towel. It can also be applied by spin coating.

また(6)ヘキサメチルジシラザン、(7)テトラメチルジシラザンのように比較的蒸気圧の高いものは各々の薬剤を密閉容器中におき、中に処理したい基板を放置して気相処理して塗布可能である。 In addition, (6) hexamethyldisilazane and (7) tetramethyldisilazane, which have relatively high vapor pressure, place each chemical in a sealed container and leave the substrate to be processed in the gas phase. Can be applied.

次に本発明における第2の実施例について図3乃至図4に基づいて以下に説明する。図3は本発明における第2の実施例における2層光ディスクのピットまたはグルーブを示す概略断面図である。図中11は透光性基板であり、スタンパを成型機の金型に取り付けて屈折率が1.569のポリカーボネートを1mm前後の厚さに射出成形することにより、表面にスタンパのピットが転写されている。 Next, a second embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 3 is a schematic sectional view showing the pits or grooves of the double-layer optical disk in the second embodiment of the present invention. In the figure, reference numeral 11 denotes a translucent substrate. By attaching a stamper to a mold of a molding machine and injection-molding polycarbonate having a refractive index of 1.569 to a thickness of about 1 mm, the pits of the stamper are transferred to the surface. ing.

また12は4層から成る第1中間反射層であり、屈折率1.5、厚さ1300オングストロームのSiOからなる誘電体12a、屈折率2.11、厚さ924オングストロームのZnSSiOからなる誘電体12b、屈折率1.5、厚さ1300オングストロームのSiOからなる誘電体12c、屈折率2.11、厚さ924オングストロームのZnSSiOからなる誘電体12dを順次積層コーティングして複層膜を構成したものであり、透光性基板1に密着してディスクの1層目のピット11aおよびグルーブ11bを形成している。また第1中間反射層12表面の誘電体12dは先に述べたシランカップリング処理が施されていて第1中間反射層12表面は疎水性を有する。 Reference numeral 12 denotes a first intermediate reflection layer having four layers, a dielectric 12a made of SiO 2 having a refractive index of 1.5 and a thickness of 1300 Å, and a dielectric made of ZnSSiO 2 having a refractive index of 2.11 and a thickness of 924 Å. A multilayer film is formed by sequentially coating a body 12b, a dielectric 12c made of SiO 2 having a refractive index of 1.5 and a thickness of 1300 angstroms, and a dielectric 12d made of ZnSSiO 2 having a refractive index of 2.11 and a thickness of 924 angstroms. The first layer pits 11a and grooves 11b of the disk are formed in close contact with the translucent substrate 1. The dielectric 12d on the surface of the first intermediate reflective layer 12 has been subjected to the silane coupling process described above, and the surface of the first intermediate reflective layer 12 has hydrophobicity.

また13は第1スペーサ層であり、2層目のピットまたはグルーブが転写された図示しないスタンパ上に例えば屈折率1.569の紫外線硬化型アクリル系樹脂を均一に塗布し、第1中間反射層12をスタンパに対して所定の間隔に重ねた状態で透光性基板11面の上方より紫外線を照射して硬化させることによりおよそ数十μmの厚さに形成される。この場合第1中間反射層12表面は疎水性を有するので第1スペーサ層13と第1中間反射層12は密着力が大となる。また14は通常反射層であり、第1スペーサ層13上にアルミニウムを真空蒸着またはスパッタリングによって1000オングストロームの厚さに形成して得られる。また15は紫外線硬化型アクリル系樹脂からなる保護膜でありディスクの各反射層の劣化や傷を防止するために通常反射層上に10μm程度の厚さで形成されれ、さらに保護膜15の上には紙またはシルク印刷による塗膜でラベル16が形成されてピットまたはグルーブが2層から成る光ディスクを形成する。 Reference numeral 13 denotes a first spacer layer, which is formed by uniformly applying, for example, an ultraviolet curable acrylic resin having a refractive index of 1.569 on a stamper (not shown) onto which a second layer of pits or grooves has been transferred. A thickness of about several tens of μm is formed by irradiating ultraviolet rays from above the surface of the translucent substrate 11 in a state where 12 is overlapped with the stamper at a predetermined interval. In this case, since the surface of the first intermediate reflective layer 12 is hydrophobic, the first spacer layer 13 and the first intermediate reflective layer 12 have a high adhesion. Reference numeral 14 denotes a normal reflective layer, which is obtained by forming aluminum on the first spacer layer 13 to a thickness of 1000 angstroms by vacuum evaporation or sputtering. Reference numeral 15 denotes a protective film made of an ultraviolet curable acrylic resin, which is usually formed on the reflective layer with a thickness of about 10 μm in order to prevent deterioration and scratches of each reflective layer of the disk. A label 16 is formed by a coating film by paper or silk printing to form an optical disk having two layers of pits or grooves.

また図4は図3における2層光ディスクにおいて誘電体12dの膜厚を変化させた場合の第1中間反射層12の反射率および透過率の測定結果をグラフに示したものである。図4において縦軸は反射率または透過率を、横軸は誘電体12dの厚さを表している。また測定に用いた光は波長が780nmのレーザ光であり、図3の矢印Bの方向から照射して図4における反射率17、透過率18を得ている。同図より誘電体12dの厚さが924オングストロームの場合に第1中間反射層12の反射率17は約37%となり、透過率18は約63%となる。 FIG. 4 is a graph showing the measurement results of the reflectance and transmittance of the first intermediate reflective layer 12 when the thickness of the dielectric 12d is changed in the two-layer optical disk of FIG. In FIG. 4, the vertical axis represents the reflectance or transmittance, and the horizontal axis represents the thickness of the dielectric 12d. The light used for the measurement is laser light having a wavelength of 780 nm, and the reflectance 17 and the transmittance 18 in FIG. 4 are obtained by irradiation from the direction of arrow B in FIG. From the figure, when the thickness of the dielectric 12d is 924 angstroms, the reflectance 17 of the first intermediate reflective layer 12 is about 37% and the transmittance 18 is about 63%.

したがって、図3において2層光ディスク上方より図示しない光ピックアップの収束レーザ光をディスクの第1層目のピットおよび第2層目のピットに照射して得られた反射光をピックアップの受光器で受光し情報を読取る場合に、光ビームの焦点を第1層目のピットを坦持する第1中間反射層12に合わせると第1層目のピットからの反射光は約37%の反射率で受光される。 Therefore, the reflected light obtained by irradiating the first layer pit and the second layer pit of the optical pickup with a convergent laser beam (not shown) from above the two-layer optical disk in FIG. 3 is received by the optical receiver of the pickup. When the information is read, when the light beam is focused on the first intermediate reflection layer 12 carrying the first layer pit, the reflected light from the first layer pit is received with a reflectance of about 37%. Is done.

また光ビームの焦点を第2層目のピットを坦持する通常反射層14に合わせると、光ピックアップから照射された光は第1中間反射層12を透過率63%で通過した後通常反射層14でわずかな損失で全反射し、再び第1中間反射層12を透過率63%で通過した後ピックアップの受光器で受光される。このため受光器が得る第2層目のピットからの反射光の反射率はほぼ第1層目のピットからの反射光の反射率と等しくなる。 When the light beam is focused on the normal reflection layer 14 carrying the second layer of pits, the light irradiated from the optical pickup passes through the first intermediate reflection layer 12 with a transmittance of 63%, and then the normal reflection layer. 14 is totally reflected with a slight loss, and again passes through the first intermediate reflection layer 12 with a transmittance of 63%, and then received by the light receiver of the pickup. For this reason, the reflectance of the reflected light from the pit of the second layer obtained by the light receiver is substantially equal to the reflectance of the reflected light from the pit of the first layer.

以上により、図3における2層光ディスクの各層が坦持するピットを読取る場合に、一つの光ピックアップを用いて各層のピットに択一的に焦点を合わせるだけで各層のピットを読取ることができるので多層ディスクの読取装置に複数のピックアップを用いる必要がなく読取装置の構成がシンプルとなる。 As described above, when reading the pits carried by each layer of the two-layer optical disc in FIG. 3, the pits of each layer can be read only by selectively focusing on the pits of each layer using one optical pickup. It is not necessary to use a plurality of pickups in the multi-layer disk reader, and the structure of the reader is simplified.

なお本発明の実施例ではピットまたはグルーブが2層または3層の光ディスクについて説明したが、図5のように4層以上で構成してもよい。また本発明の実施例では通常反射層はアルミニウムで形成したが、アルミニウム−チタン合金、金、銀、ニッケル、クロム、銅等の金属を用いても良い。また多層ディスクの各中間反射層は酸化物からなる誘電体で構成したが、−OH基を持つ所定の反射率、透過率を有する材料を用いても良い。また多層ディスクの各中間反射層および各スペーサ層はそれぞれ異なる反射率及び透過率を有しても良く、ディスクの各層の目標反射率に合わせて適宜選択される。 In the embodiment of the present invention, an optical disk having two or three pits or grooves has been described. However, it may be composed of four or more layers as shown in FIG. In the embodiments of the present invention, the reflective layer is usually formed of aluminum, but a metal such as an aluminum-titanium alloy, gold, silver, nickel, chromium, or copper may be used. Further, each intermediate reflective layer of the multilayer disk is made of a dielectric made of an oxide, but a material having a predetermined reflectance and transmittance having an —OH group may be used. Further, each intermediate reflection layer and each spacer layer of the multilayer disc may have different reflectances and transmittances, and are appropriately selected according to the target reflectance of each layer of the disc.

また本発明において多層ディスクの各層が坦持するピットまたはグルーブを光ピックアップの光ビームをディスク片面より照射することによって反射光を受光して読取るように構成したが、多層ディスクを2枚貼合わせて図6の様にディスク両面より読取る様に構成しても良い。 Further, in the present invention, the pits or grooves carried by each layer of the multilayer disk are configured to receive and read the reflected light by irradiating the light beam of the optical pickup from one side of the disk. As shown in FIG. 6, it may be configured to read from both sides of the disk.

本発明の第1の実施例における多層光ディスクの概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of a multilayer optical disc in a first embodiment of the present invention. 本発明に用いられる薬剤によってガラス表面がシランカップリング処理されて親水性から疎水性に置換される様子を表す。It shows a state in which the glass surface is subjected to silane coupling treatment by the chemical used in the present invention to be substituted from hydrophilic to hydrophobic. 本発明における第2の実施例における2層光ディスクの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the double layer optical disk in the 2nd Example in this invention. 本発明における図3の2層光ディスクの第1中間反射層の反射率および透過率の測定結果をグラフに示したものである。FIG. 4 is a graph showing the measurement results of the reflectance and transmittance of the first intermediate reflective layer of the two-layer optical disk of FIG. 3 in the present invention. 本発明の他の実施例における多層(N層)光デイスクの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the multilayer (N layer) optical disc in the other Example of this invention. 本発明のその他の実施例における両面読取り用多層光デイスクの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the multilayer optical disk for double-sided reading in the other Example of this invention. 従来におけるCDのピットまたはグルーブが形成される部分の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the part in which the pit or groove of CD in the past was formed. 従来における2層光ディスクの製造工程を示したものである。The conventional manufacturing process of a two-layer optical disc is shown.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・・透光性基板
2・・・・第1中間反射層
3・・・・第1スペーサ層
4・・・・第2中間反射層
5・・・・第2スペーサ層
6・・・・通常反射層
7・・・・ガラス基板
8・・・・−OH基
9・・・・ヘキサメチルジシラザン
10・・・−Si(CH3)3
11・・・透光性基板
11a・・ピット
11b・・グルーブ
12・・・第1中間反射層
12a・・誘電体
12b・・誘電体
12c・・誘電体
12d・・誘電体
13・・・第1スペーサ層
14・・・通常反射層
15・・・保護膜
16・・・ラベル
17・・・反射率
18・・・透過率
19・・・第(N−2)中間反射層
20・・・第(N−2)スペーサ層
21・・・第(N−1)中間反射層
22・・・第(N−1)スペーサ層
23・・・通常反射層
24・・・透光性基板
25・・・通常反射層
26・・・第4スペーサ層
27・・・第4中間反射層
28・・・第3スペーサ層
29・・・第3中間反射層
30・・・透光性基板


DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ...... Translucent substrate 2 ... 1st intermediate | middle reflective layer 3 ... 1st spacer layer 4 ... 2nd intermediate | middle reflective layer 5 ... 2nd spacer layer 6 ... ··· Normal reflective layer 7 ··· Glass substrate 8 ··· -OH group 9 ··· Hexamethyldisilazane 10 ··· -Si (CH3) 3
11... Translucent substrate 11a... Pit 11b... Groove 12... First intermediate reflection layer 12a.. Dielectric 12b.. Dielectric 12c. 1 spacer layer 14 ... normal reflective layer 15 ... protective film 16 ... label 17 ... reflectance 18 ... transmittance 19 ... (N-2) intermediate reflective layer 20 ... (N-2) spacer layer 21 ... (N-1) intermediate reflection layer 22 ... (N-1) spacer layer 23 ... normal reflection layer 24 ... translucent substrate 25 ..Normal reflection layer 26 ... fourth spacer layer 27 ... fourth intermediate reflection layer 28 ... third spacer layer 29 ... third intermediate reflection layer 30 ... translucent substrate


Claims (3)

情報を坦持するピットまたはグルーブが形成された単数あるいは複数のスペーサ層と、単数あるいは複数の反射層とがそれぞれ交互に重なって形成される多層を有する光記録媒体であって、前記反射層の前記スペーサ層と重なる面がシランカップリング処理されていることを特徴とする光記録媒体。 An optical recording medium having a multilayer in which a single or a plurality of spacer layers formed with pits or grooves for carrying information and a single or a plurality of reflective layers are alternately overlapped with each other. An optical recording medium, wherein a surface overlapping with the spacer layer is subjected to silane coupling treatment. 前記反射層は−OH基を有する材料で構成され、前記スペーサ層と重なる面がシランカップリング処理されていることを特徴とする請求項1記載の光記録媒体。 The optical recording medium according to claim 1, wherein the reflective layer is made of a material having an —OH group, and a surface overlapping the spacer layer is subjected to silane coupling treatment. 前記反射層は表面が単層または多層からなる酸化物被膜で構成され、前記スペーサ層と互いに重なる面がシランカップリング処理されていることを特徴とする請求項1記載の光記録媒体。



2. The optical recording medium according to claim 1, wherein the reflective layer is formed of an oxide film having a single layer or a multilayer surface, and a surface overlapping with the spacer layer is subjected to silane coupling treatment.



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