JP2005129108A

JP2005129108A - 光情報記録媒体

Info

Publication number: JP2005129108A
Application number: JP2003361465A
Authority: JP
Inventors: Yoshihisa Usami; 由久宇佐美
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2003-10-22
Filing date: 2003-10-22
Publication date: 2005-05-19
Also published as: TWI307504B; EP1526518A3; TW200519932A; US20050122891A1; EP1526518A2

Abstract

【課題】情報の高密度記録が可能であり、プリライトが不要で、プリピットとプリグルーブとの深さが同じであっても、実用上問題ないレベルでプリピット信号を得ることができる光情報記録媒体を提供する。
【解決手段】レーザの照射により情報の記録再生が可能であり、少なくとも、プリピット１０およびプリグルーブ２０が設けられてなる光情報記録媒体であって、レーザの波長が６００ｎｍ以下であり、プリピット１０の幅が、プリグルーブ２０の幅より大きいことを特徴とする光情報記録媒体である。
【選択図】図１

Description

本発明は、光情報記録媒体に関し、特に、個別情報や著作権保護情報等の補助情報が記録された光情報記録媒体に関する。

近年、記録密度のより高い光情報記録媒体が求められている。このような要望に対しては、すでに追記型デジタル・ヴァサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）が上市されている。

また、最近では、インターネット等のネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。そして、ＨＤＴＶ（ＨｉｇｈＤｅｆｉｎｉｔｉｏｎＴｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映も考慮して、画像情報を安価簡便に記録するための大容量記録媒体の要求が益々高まっている。
ＤＶＤ−Ｒは、大容量の記録媒体としての地位をある程度までは確保しているものの、将来の要求に対応できる程の充分大きな記録容量を有しているとはいえない。そこで、ＤＶＤ−Ｒよりもさらに短波長のレーザーを用いることによって記録密度を向上させ、より大きな記録容量を備えた光情報記録媒体の開発が進められている。

ところで、かかる大容量化に伴い、光情報記録媒体に記録した情報の流通や不正コピー防止技術が進展している。すなわち、セキュリティ技術として、光情報記録媒体に対して個々の情報を記録することが要望されている。

このような要望に対し、光情報記録媒体に対する個別情報としては、例えば、再生専用型の光記録情報媒体のピット部に、バーコードを重ね書きした追記領域（ＢｕｒｓｔＣｕｔｔｉｎｇＡｒｅａ、以下「ＢＣＡ」ということがある）を設け、媒体ごとに異なる情報や、暗号鍵・復号鍵等に関する情報といった補助情報を記録する技術が一般的に適用されている（例えば、特許文献１〜４参照）。

しかし、特に、ＤＶＤ−Ｒでは、上記補助情報の記録（プリライト）は、媒体１枚ごとに行っていた。そのため、当該記録が失敗した場合に、光情報記録媒体自体が不良となって生産性を低下させてしまう。

そこで、生産性等を考慮して、グルーブとプリピットとを混在させた光情報記録媒体が提案されている（例えば、特許文献５参照）。しかし、十分なプリピット信号を得るために、グルーブおよびプリピットの深さを変える必要があった。マスタリングでグルーブおよびプリピットの深さを変えることは、大量生産を考えると実際的ではない。
特開２００２−１３３７２６号公報特開２００２−１９７６７０号公報特開２００２−２０８１８８号公報特開２００３−１９６８４３号公報特許第２９５７６５１号公報

本発明は、上記問題点を解消するためになされたもので、下記目的を達成することを課題とする。
すなわち、本発明は、情報の高密度記録が可能であり、プリライトが不要で、プリピットとプリグルーブとの深さが同じであっても、実用上問題ないレベルでプリピット信号を得ることができる光情報記録媒体を提供することを目的とする。

上記課題を解決すべく、鋭意検討の結果、本発明者は下記本発明に想到し、当該課題を解決できることを見出した。
すなわち、本発明は、レーザの照射により情報の記録再生が可能であり、少なくとも、プリピットおよびプリグルーブ（以下、「プリグルーブ」を「グルーブ」ということがある）が設けられてなる光情報記録媒体であって、前記レーザの波長が６００ｎｍ以下であり、前記プリピットの幅が、前記プリグルーブの幅より大きいことを特徴とする光情報記録媒体である。
本発明の光情報記録媒体は、前記プリピットの幅と前記プリグルーブの幅との差が、１０ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましい。また、前記プリピットの幅が、１００ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましい。

本発明の光情報記録媒体は、情報の高密度記録が可能であり、プリライトが不要で、プリピットとプリグルーブとの深さが同じであっても、実用上問題ないレベルでプリピット信号を得ることができる。

〔光情報記録媒体〕
本発明の光情報記録媒体は、レーザの照射により情報の記録再生が可能であり、少なくとも、プリピットおよびプリグルーブが設けられてなり、前記レーザの波長が６００ｎｍ以下で、前記プリピットの幅が、前記プリグルーブの幅より大きくなっている。

レーザの波長を６００ｎｍ以下とすることで、ＤＶＤ等よりもプリグルーブのトラックピッチや溝幅等を小さくすることできるため、記録密度の高い光情報記録媒体とすることができる。

図１に、プリピットおよびプリグルーブが形成された基板の部分断面図を示す。図１に示すように、プリグルーブ２０の途中に、プリグルーブ２０より幅の大きいプリピット１０が設けられている。プリグルーブが同心円状に形成されている場合は、図１に示すように、一つの同心円をプリピット１０およびプリグルーブ２０で混在させて形成してもよく、また、プリピット１０だけで形成してもよい。プリピットおよび／またはプリグルーブは、例えば、ＤＶＤ等でいうＢＣＡ等に形成されることがある。

プリピット１０の幅（図１中のＷ₁₀に相当）が、プリグルーブ２０の幅（図１中のＷ₂₀に相当）より大きくなっていることで、プリピット信号の振幅を大きくすることができる。その結果、プリグルーブ２０およびプリピット１０の深さを同一としても、実用上問題なくプリピット信号を発信することが可能となる。
なお、プリピット１０およびプリグルーブ２０は、射出成形または押出成形等により基板表面に設けることができる。そして、プリピット１０の幅をプリグルーブ２０の幅より大きくすることは、スタンパの設計で容易に対応することができる。すなわち、当該設計変更は、プリグルーブ２０およびプリピット１０の深さを変えるよりも容易であるため、生産性の高い光情報記録媒体とすることができる。

ここで、「プリピットの幅が、前記プリグルーブの幅より大きくなっている」とは、プリピット１０の幅（Ｗ₁₀）とプリグルーブ２０の幅（Ｗ₂₀）との差（Ｗ₁₀−Ｗ₂₀）が１０〜１００ｎｍの範囲にあることをいう。かかる範囲にあることで、プリピット信号の振幅を大きくしながら、実用性を維持することができる。
上記範囲中、当該（Ｗ₁₀−Ｗ₂₀）の好ましい上限は８０ｎｍであり、より好ましくは７０ｎｍであり、さらに好ましくは６０ｎｍである。一方、好ましい下限は２０ｎｍであり、より好ましくは３０ｎｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍである。

プリピット１０の幅（半径方向の長さ）の上限は、３００ｎｍとすることが好ましく、２７０ｎｍとすることがより好ましく、２３０ｎｍとすることがさらに好ましい。また、下限は、１００ｎｍとすることが好ましく、１３０ｎｍとすることがより好ましく、１８０ｎｍとすることがさらに好ましい。

プリグルーブ２０の幅（半径方向の長さ）の上限は、２５０ｎｍとすることが好ましく、２２０ｎｍとすることがより好ましく、１９０ｎｍとすることがさらに好ましい。また、下限は、８０ｎｍとすることが好ましく、１３０ｎｍとすることがより好ましく、１５０ｎｍとすることがさらに好ましい。

プリピット１０およびプリグルーブ２０のそれぞれの深さの上限は、２００ｎｍとすることが好ましく、１６０ｎｍとすることがより好ましく、１２０ｎｍとすることがさらに好ましい。また、下限は３０ｎｍとすることが好ましく、４０ｎｍとすることがより好ましく、５０ｎｍとすることがさらに好ましく、６０ｎｍとすることが最も好ましい。
なお、プリグルーブの幅等の定義は、後述する。

プリピット１０および／またはプリグルーブ２０のピッチ（図１中のＰに相当）の上限は、１０００ｎｍとすることが好ましく、６００ｎｍとすることがより好ましく、４００ｎｍとすることがさらに好ましく、３２０ｎｍとすることが特に好ましい。また、下限は５０ｎｍとすることが好ましく、１００ｎｍとすることがより好ましく、２００ｎｍとすることがさらに好ましく、２８０ｎｍとすることが最も好ましい。記録部よりピッチを広めにすると、信号の分解能が向上し、また、記録部と異なることが判別できるため好ましい。

プリピット１０とプリピット１０との間隔（円周方向の長さ）の上限は、１０００ｎｍとすることが好ましく、８５０ｎｍとすることがより好ましく、７５０ｎｍとすることがさらに好ましい。また、下限は３００ｎｍとすることが好ましく、３５０ｎｍとすることがより好ましく、４００ｎｍとすることがさらに好ましい。

プリピットの形成により種々の補助情報が光情報記録媒体に記録される。当該補助情報としては、使用可能者指定情報、使用期間指定情報、使用可能回数指定情報、レンタル情報、分解能指定情報、レイヤー指定情報、ユーザ指定情報、著作権者情報、著作権番号情報、製造者情報、製造日情報、販売日情報、販売店または販売者情報、使用セット番号情報、地域指定情報、言語指定情報、用途指定情報、製品使用者情報、使用番号情報等が挙げられる。
本発明の光情報記録媒体は、当該補助情報を再生する際は、従来の光情報記録媒体と同等の信頼性（例えば、違法コピー防止に対する信頼性等）を発揮することができる。

本発明の光情報記録媒体の種類としては、追記型、書換え可能型等のいずれでもよいが、追記型であることが好ましい。また、記録形式としては、相変化型、光磁気型、色素型等、特に制限されないが、色素型であることが好ましい。

代表的な層構成としては、下記の通りである。
（１）第１の層構成は、基板上に記録層、反射層、接着層を順次形成し、接着層上にダミー基板を設ける構成である。
（２）第２の層構成は、基板上に記録層、反射層、保護層、接着層を順次形成し、接着層上にダミー基板を設ける構成である。
（３）第３の層構成は、基板上に記録層、反射層、保護層、接着層、保護層を順次形成し、該保護層上にダミー基板を設ける構成である。
（４）第４の層構成は、基板上に記録層、反射層、保護層、接着層、保護層、反射層を順次形成し、該反射層上にダミー基板を設ける構成である。
（５）第５の層構成は、基板上に記録層、反射層、接着層、反射層を順次形成し、該反射層上にダミー基板を設ける構成である。
なお、上記（１）〜（５）の層構成は単なる例示であり、当該層構成は上述の順番のみでなく、一部を入れ替えてもよく、また、一部を省略してもかまわない。さらに、各層は１層で構成されても複数層で構成されてもよい。

本発明の光情報記録媒体として、円盤状の第１の基板上に、記録層、反射層、接着層、ダミー基板をこの順に有する構成を例にとって、その詳細と本発明の光情報記録媒体の製造方法とを以下に説明する。

（基板）
本発明の光情報記録媒体の基板は、従来の光情報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から任意に選択することができる。
基板材料としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエステルなどを挙げることができ、所望によりそれらを併用してもよい。
なお、これらの材料はフィルム状としてまたは剛性のある基板として使うことができる。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および価格などの点からポリカーボネートが好ましい。

基板の厚さは、０．５〜１．２ｍｍとすることが好ましい。グルーブを設ける場合、トラックピッチや溝幅等は、適用する媒体によって適切な条件を採用することが好ましい。
また、より高い記録密度を達成するためにＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べて、より狭いトラックピッチのグルーブが形成された基板を用いることが好ましい。この場合、グルーブのトラックピッチは、２００〜４００μｍの範囲にとすることが好ましく、２５０〜３５０ｎｍの範囲とすることがより好ましい。グルーブの溝傾斜角度は、２０〜８０°の範囲とすることが好ましく、３０〜７０°の範囲とすることがより好ましい。

ここで、グルーブの形状を表す概略断面図を図２に示す。この図において定義されるように、グルーブの深さ（溝深さ）Ｄは、溝形成前の基板表面から溝の最も深い箇所までの距離であり、グルーブの溝幅Ｗは、Ｄ／２の深さでの溝の幅であり、グルーブの溝傾斜角度θは、溝形成前の基板表面からＤ／１０の深さの傾斜部と溝の最も深い箇所からＤ／１０の高さの傾斜部とを結ぶ直線と基板面とが成す角度である。これらの値はＡＦＭ（原子間力顕微鏡）により測定することができる。なお、プリピットの場合も上記定義が適用され、同様の方法で測定することができる。

記録層が設けられる側の基板表面側（グルーブが形成された面側）には、平面性の改善、接着力の向上および記録層の変質防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。
下塗層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；およびシランカップリング剤などの表面改質剤などを挙げることができる。下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。
下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。

（記録層）
基板上に形成される記録層は、色素を含有する色素型とすることが好ましいが、これに限定されず、相変化型、光磁気型等とすることもできる。
従って、記録層に含有される記録物質としては、色素等の有機化合物および相変化金属化合物等が挙げられる。

前記有機化合物の具体例としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられる。
また、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、および同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素が好適に用いられる。
さらに、記録物質は色素には限定されず、トリアゾール化合物、トリアジン化合物、シアニン化合物、メロシアニン化合物、アミノブタジエン化合物、フタロシアニン化合物、桂皮酸化合物、ビオロゲン化合物、アゾ化合物、オキソノールベンゾオキサゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物等の有機化合物も好適に用いられる。これらの化合物の中では、シアニン化合物、アミノブタジエン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、フタロシアニン化合物が特に好ましい。

記録層は、色素等の記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。

記録層の形成は、蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ又は溶剤塗布等の方法によって行うことができるが、溶剤塗布が好ましい。この場合、前記色素等の他、更に所望によりクエンチャー、結合剤などを溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより行うことができる。

塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；メチルシクロヘキサンなどの炭化水素；ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロバノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。
上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。

結合剤を使用する場合、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブナラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。

記録層の材料として結合剤を併用する場合、結合剤の使用量は、一般に色素の質量の０．０１倍量〜５０倍量の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量の範囲にある。

前記溶剤塗布の塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる。記録層は単層でも重層でもよい。記録層の層厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは１５〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは２０〜１５０ｎｍの範囲にある。

記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の枢色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては、一般的に、一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。その具体例としては、特聞昭５８−１７５６９３号、同５９−３１１９４号、同６０−１８３８７号、同６０−１９５８６号、同６０−１９５８７号、同６０−３５０５４号、同６０−３６１９０号、同６０−３６１９１号、同６０−４４５５４号、同６０−４４５５５号、同６０−４４３８９号、同６０−４４３９０号、同６０−５４８９２号、同６０−４７０６９号、同６８−２０９９９５号、特開平４−２５４９２号、特公平１−３８６８０号、及び同６−２６０２８号等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁などに記載のものを挙げることができる。

前記一重項酸素クエンチャーなどの褪色防止剤の使用量は、通常、色素の質量の０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。

（反射層）
情報の再生時における反射率の向上の目的で、記録層に隣接して反射層が設けられることがある。反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ金属、Ａｇ金属、Ａｌ金属あるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｇ金属、Ａｌ金属あるいはそれらの合金である。反射層は、例えば、上記光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより基板もしくは記録層の上に形成することができる。反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲にあり、５０〜２００ｎｍの範囲にあることが好ましい。

（接着層）
接着層は、上記反射層と、ダミー基板との密着性を向上させるために形成される任意の層である。
接着層を構成する材料としては、光硬化性樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような光硬化性樹脂としては、例えば、大日本インク社製の「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−３４７」等のＵＶ硬化性樹脂（ＵＶ硬化性接着剤）を挙げることができる。また、接着層の厚さは、弾力性を持たせるため、１〜１０００μｍの範囲が好ましく、５〜５００μｍの範囲がより好ましく、１０〜１００μｍの範囲が特に好ましい。

（ダミー基板）
ダミー基板は、保護基板としての機能を有し、第１の基板と同じ材質で、同じ形状のものを使用することができる。

以下に、他の構成で採用される保護層について説明する。
（保護層）
反射層や記録層などを物理的および化学的に保護する目的で保護層を設けられることある。
なお、ＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体の製造の場合と同様の形態、すなわち二枚の基板（一方がダミー基板の場合を含む）を記録層を内側にして貼り合わせる構成をとる場合は、必ずしも保護層の付設は必要ではない。

保護層に用いられる材料の例としては、ＺｎＳ、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。保護層は、例えば、プラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して反射層上にラミネートすることにより形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。

また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の層厚は一般には０．１μｍ〜１ｍｍの範囲にある。

また、その他の構成として、例えば、基板上に、反射層、記録層、カバー層が順次形成された構成とすることもよい。前記カバー層は、接着層を介して記録層上に形成されていることが好ましい。この場合、カバー層以外の構成については、既述の通りである。

（カバー層）
カバー層は、光情報記録媒体内部を衝撃などから防ぐために形成され、透明な材質であれば特に限定されないが、好ましくはポリカーボネート、三酢酸セルロース等であり、より好ましくは、２３℃５０％ＲＨでの吸湿率が５％以下の材料である。
なお、「透明」とは、記録光および再生光の光に対して、該光を透過する（透過率：９０％以上）ほどに透明であることを意味する。

カバー層は、接着層を構成する光硬化性樹脂を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を所定温度で記録層上に塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜上に、例えばプラスチックの押出加工で得られた三酢酸セルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）をラミネートし、ラミネートしたＴＡＣフィルムの上から光を照射して塗布膜を硬化させて形成される。前記ＴＡＣフィルムとしては、紫外線吸収剤を含むものが好ましい。カバー層の厚さは、０．０１〜０．２ｍｍの範囲であり、好ましくは０．０３〜０．１ｍｍの範囲、より好ましくは０．０５〜０．０９５ｍｍの範囲である。
また、カバーシートとして、ポリカーボネートシート等を使用することもできる。

粘度制御のため、塗布温度は２３〜５０℃の範囲が好ましく、２４〜４０℃の範囲がより好ましく、２５〜３７℃の範囲がさらに好ましい。
ディスクの反りを防止するため、塗布膜への紫外線の照射はパルス型の光照射器（好ましくは、ＵＶ照射器）を用いて行うのが好ましい。パルス間隔はｍｓｅｃ以下が好ましく、μｓｅｃ以下がより好ましい。１パルスの照射光量は特に制限されないが、３ｋＷ／ｃｍ²以下が好ましく、２ｋＷ／ｃｍ²以下がより好ましい。
また、照射回数は特に制限されないが、２０回以下が好ましく、１０回以下がより好ましい。

また、本発明の光情報記録媒体は、レーザ光により再生可能な情報が記録された記録部（ピット）を有する、いわゆる再生専用型の光情報記録媒体に適用することができるのは既述の通りである。

〔光情報記録再生方法〕
本発明の光情報記録媒体への光情報記録方法は、上記光情報記録媒体を用いて、例えば、次のように行われる。まず、光情報記録媒体を定線速度または定角速度にて回転させながら、基板側あるいは保護層（もしくはカバー層）側から半導体レーザー光などの記録用の光を照射する。
この光の照射により、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。

記録光としては、波長が６００ｎｍ以下のレーザを使用する。例えば、３９０〜４４０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザー光が用いられる。このときの好ましい光源としては３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光、中心発振波長８５０ｎｍ又は８２０ｎｍの赤外半導体レーザー光を光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長がそれぞれ４２５ｎｍ又は４１０ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザー光を挙げることができる。特に、記録密度の点で青紫色半導体レーザー光を用いることが好ましい。上記のように記録された情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザー光を基板側（場合により、ダミー基板、カバー層）側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。

本発明を以下の実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

〔実施例１〕
（光情報記録媒体の作製）
射出成形によりポリカーボネート樹脂製で、所定のプリピットおよびプリグルーブを有する基板を作製した。
なお、上記基板は、厚さ０．６ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍでスパイラル状のグルーブ（溝深さ８０ｎｍ、溝幅１７０ｎｍ、トラックピッチ４００ｎｍ）を有する。ＡＦＭで測定した溝の傾斜角度は６０°であった。また、所定のプリピットおよびプリグルーブは、当該所定のプリピットおよびプリグルーブが形成されるようなスタンパを使用して、形成した。
形成されたプリピットの溝深さは８０ｎｍ、溝幅は、下記表１に示すようにした。

下記化学式で表わされる２ｇの色素（式中のＲｎはα−ＳＯ₂Ｃ₄Ｈ₉を示し、ＭはＣｕを示す）を２，２，３，３−テトラフロロプロパノール１００ｍｌ中に添加して溶解し、色素塗布液を調製した。調製した色素塗布液を、スピンコート法により回転数３００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃５０％ＲＨの条件で基板（グルーブが形成されている面）上に塗布した。その後、２３℃５０％ＲＨで１時間保存して、記録層（溝内（グルーブ）での厚さ：１５０ｎｍ、ランド部での厚さ：１００ｎｍ）を形成した。

記録層を形成した後、クリーンオーブンにてアニール処理を施した。アニール処理は、基板を垂直のスタックポールにスペーサーで支持しながら、８０℃で１時間保持して行った。

記録層上に、Ａｒ雰囲気中、ＤＣスパッタリング（Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅ）によりＡＰＣ反射層（Ａｇ：９８．１質量％、Ｐｄ：０．９質量％、Ｃｕ：１質量％、厚さ：１００ｎｍ）を形成した。膜厚の調整はスパッタリング時間によって行った。

スピンコートにより、反射層上に紫外線硬化樹脂（ＳＤ６６１大日本インキ製）を塗布し、ポリカーボネート製のダミー基板（厚さ：０．６ｍｍ）を貼り合わせ、紫外線を照射して、光情報記録媒体を作製した。
作製した光情報記録媒体における紫外線硬化樹脂からなる接着層の厚さは、約３０μｍであった。

〔比較例１〕
プリピットの溝幅とプリグルーブの溝幅とを同一（１７０ｎｍ）とした以外は、実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製した。

実施例１および比較例１で作製された光情報記録媒体について、パルステック社製のＤＤＵ１０００（ＮＡ０．６５、波長４０５ｎｍ）を使用して再生試験を行い、プリピット部の反射率を測定することで、補助情報の再生特性を評価した。結果を下記表１に示す。

比較例１で作製された光情報記録媒体には、良好な反射率が得られなかったのに対し、実施例１で作製された光情報記録媒体には、いずれのピット幅でも、ピットがない部分の反射率４７％と充分に異なり、補助情報の再生特性が実用上問題無いこと確認された。

基板に形成されたプリピットおよびプリグルーブを説明する部分断面図である基板の溝形状を説明する部分断面図である。

符号の説明

１０…プリピット
２０…プリグルーブ

Claims

レーザの照射により情報の記録再生が可能であり、少なくとも、プリピットおよびプリグルーブが設けられてなる光情報記録媒体であって、
前記レーザの波長が６００ｎｍ以下であり、
前記プリピットの幅が、前記プリグルーブの幅より大きいことを特徴とする光情報記録媒体。
前記プリピットの幅と前記プリグルーブの幅との差が、１０ｎｍ〜１００ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
前記プリピットの幅が、１００ｎｍ〜３００ｎｍであることを特徴とする請求項１または２に記載の光情報記録媒体。