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JP2005038288A - Touch panel glass, and method for manufacturing it - Google Patents

Touch panel glass, and method for manufacturing it Download PDF

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JP2005038288A
JP2005038288A JP2003276169A JP2003276169A JP2005038288A JP 2005038288 A JP2005038288 A JP 2005038288A JP 2003276169 A JP2003276169 A JP 2003276169A JP 2003276169 A JP2003276169 A JP 2003276169A JP 2005038288 A JP2005038288 A JP 2005038288A
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JP
Japan
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glass
touch panel
transparent layer
glass substrate
group
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2003276169A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshimi Otani
義美 大谷
Yoshinori Hatanaka
芳典 畠中
Daiki Fujimoto
大樹 藤本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a touch panel glass which is excellent in transparency, wear resistance, finger slidability in touching with a fingertip, further has an anti-glare function, and is manufacturable at low cost, and a method for manufacturing it. <P>SOLUTION: This touch panel glass comprises a glass substrate and a transparent layer formed on the glass substrate. The touch panel glass has 10-point average roughness R<SB>z</SB>on the surface of the transparent layer of 0.5-6.0μm, or an arithmetic average roughness R<SB>a</SB>of 0.05-0.20μm. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、タッチパネルの接触面として用いられるタッチパネル用ガラスおよびその製造方法に関する。   The present invention relates to glass for a touch panel used as a contact surface of a touch panel and a method for manufacturing the same.

タッチパネルの機能は、人体の指先または他の物体等の媒体をタッチパネル表面の特定位置に接触させ、その接触位置を検出することにある。接触位置を検出する方法としては、抵抗膜および導電性フィルムを使用する方法と赤外線、超音波または静電容量を使用する方法とに大別されている。   The function of the touch panel is to bring a medium such as a human fingertip or other object into contact with a specific position on the surface of the touch panel and detect the contact position. The method for detecting the contact position is roughly classified into a method using a resistance film and a conductive film and a method using infrared rays, ultrasonic waves or capacitance.

抵抗膜および導電性フィルムを使用する方法では、指先でパネル表面を押すことによりパネルの裏面に形成された抵抗膜が導電性フィルムに接触し、その導電性フィルムの抵抗値が変化することを利用している。小型化、薄型化、かつ低消費電力化が可能である利点がある一方で、応答時間、感度、耐久性等の点で問題があった。さらに抵抗膜を貼り付ける透明基板としてフィルムを用いているため、フィルムの劣化に伴い光の透過率が著しく低下し表示品質が劣化する問題があった(例えば、特許文献1参照。)。   The method using a resistive film and conductive film utilizes the fact that the resistive film formed on the back surface of the panel comes into contact with the conductive film by pressing the panel surface with a fingertip, and the resistance value of the conductive film changes. is doing. While there is an advantage that it is possible to reduce the size and thickness and to reduce power consumption, there are problems in terms of response time, sensitivity, durability, and the like. Further, since a film is used as the transparent substrate to which the resistance film is attached, there is a problem that the light transmittance is remarkably lowered with the deterioration of the film and the display quality is deteriorated (for example, refer to Patent Document 1).

これに対し、赤外線を使用する方法では、透明基板上に赤外線を透明基板表面とほぼ平行に通し、指先の接触等で赤外線が遮蔽されることにより位置を検出することを利用している。また、超音波を使用する方法では、表面弾性波を透明基板上に励振させその表面波の伝播特性が指先の接触等によって変化することを利用している。それゆえ、抵抗膜等を形成する必要がなく光の透過率が非常に高くなり、表示品質が劣化せず、応答時間、感度、耐久性等の点も優れている。   On the other hand, in the method using infrared rays, the infrared rays are passed through the transparent substrate substantially parallel to the surface of the transparent substrate, and the position is detected by shielding the infrared rays by contact with a fingertip or the like. Also, the method using ultrasonic waves utilizes the fact that surface acoustic waves are excited on a transparent substrate and the propagation characteristics of the surface waves are changed by contact of a fingertip or the like. Therefore, it is not necessary to form a resistance film or the like, the light transmittance is extremely high, display quality is not deteriorated, and response time, sensitivity, durability, and the like are excellent.

タッチパネルに用いられる透明基板上には、従来、蛍光灯の映り込み等によって表示面の映像が見え難くなることを防止するために、アンチグレア(AG)機能や反射防止(AR)機能を付加することが行なわれてきた。   Conventionally, an anti-glare (AG) function and an anti-reflection (AR) function are added on a transparent substrate used for a touch panel in order to prevent the image on the display surface from becoming difficult to see due to the reflection of a fluorescent lamp. Has been done.

AG機能を付加する方法としては、フッ酸等によるエッチング処理により透明基板表面に凹凸面を形成する方法、表面が凹凸形状をしたプラスチックフィルムを透明基板表面に貼り付ける方法等が知られている。   As a method for adding an AG function, a method of forming a concavo-convex surface on the surface of a transparent substrate by etching treatment with hydrofluoric acid, a method of attaching a plastic film having a concavo-convex surface to the surface of the transparent substrate, and the like are known.

しかし、エッチング処理により凹凸を形成する方法は、製法上高価であり、またAG効果の度合も制御しがたい等の問題があった。また、プラスチックフィルムを貼り付ける方法は、プラスチックフィルムの耐摩耗性が低く、今後の需要の増加が見込まれる超音波を使用する方法のタッチパネルには使用しがたい等の問題があった。   However, the method of forming irregularities by etching treatment is expensive in terms of manufacturing method, and there are problems that the degree of AG effect is difficult to control. In addition, the method of attaching the plastic film has a problem that the abrasion resistance of the plastic film is low and it is difficult to use for a touch panel that uses ultrasonic waves, which is expected to increase in demand in the future.

そこで、AR機能を付加するために、微粒子をゾルゲル法による調製後のゾル液に混合し、それを基板上に塗布することにより低反射膜を形成し焼成する方法が提案されている(例えば、特許文献2参照。)。しかし、上記低反射膜は、多孔質化されているため耐磨耗性が劣る問題があった。   Therefore, in order to add the AR function, a method has been proposed in which fine particles are mixed with a sol solution prepared by a sol-gel method, and a low-reflection film is formed and fired by applying the mixture onto a substrate (for example, (See Patent Document 2). However, since the low reflection film is made porous, there is a problem that the wear resistance is inferior.

特開2002−196876号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-196876

特開平10−133002号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-13003

本発明は、指滑り性に優れ、AG機能を有し、かつ透明性に優れ、低コストで製造可能なタッチパネル用ガラスを提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a glass for a touch panel that has excellent finger slipping properties, has an AG function, is excellent in transparency, and can be manufactured at low cost.

すなわち、本発明は、下記(1)〜(5)を提供する。
(1)ガラス基板と、前記ガラス基板上に形成された透明層とを有するタッチパネル用ガラスであって、前記透明層の表面における十点平均粗さRが0.5〜6.0μmであることを特徴とするタッチパネル用ガラス。
(2)ガラス基板と、前記ガラス基板上に形成された透明層とを有するタッチパネル用ガラスであって、前記透明層の表面における算術平均粗さRが0.05〜0.20μmであることを特徴とするタッチパネル用ガラス。
(3)前記透明層がシリカ膜である請求項1または2に記載のタッチパネル用ガラス。
(4)40〜90℃に予熱したガラス基板上に、SiO換算で0.5〜7.0質量%のシリカ前駆体を含む塗布液を塗布し、100〜700℃で焼成することによりガラス基板上にシリカ膜を形成することを特徴とするタッチパネル用ガラスの製造方法。
(5)前記シリカ前駆体として、テトラアルコキシシランまたはその部分加水分解物と、テトラアルコキシシラン以外のアルコキシシランまたはその部分加水分解物とを含む請求項4に記載のタッチパネル用ガラスの製造方法。
That is, the present invention provides the following (1) to (5).
(1) A glass for a touch panel having a glass substrate and a transparent layer formed on the glass substrate, and a ten-point average roughness R z on the surface of the transparent layer is 0.5 to 6.0 μm. The glass for touchscreens characterized by this.
(2) a glass substrate, a glass for a touch panel and a transparent layer formed on the glass substrate, an arithmetic mean roughness R a of the surface of the transparent layer is 0.05~0.20μm The glass for touch panels characterized by this.
(3) The glass for a touch panel according to claim 1 or 2, wherein the transparent layer is a silica film.
(4) On a glass substrate preheated to 40 to 90 ° C., a coating solution containing 0.5 to 7.0% by mass of a silica precursor in terms of SiO 2 is applied and baked at 100 to 700 ° C. A method for producing glass for a touch panel, wherein a silica film is formed on a substrate.
(5) The manufacturing method of the glass for touchscreens of Claim 4 containing tetraalkoxysilane or its partial hydrolyzate as said silica precursor, and alkoxysilane other than tetraalkoxysilane, or its partial hydrolyzate.

本発明のタッチパネル用ガラスは、指滑り性に優れ、さらにAG機能を有するため有用である。特に、赤外線、超音波または静電容量を利用したタッチパネル用のガラスとして有用である。   The glass for a touch panel of the present invention is useful because it has excellent finger slipping properties and has an AG function. In particular, it is useful as a glass for a touch panel using infrared rays, ultrasonic waves, or capacitance.

本発明のタッチパネル用ガラス(以下、「本発明のガラス」ともいう。)は、ガラス基板と、前記ガラス基板上に形成された透明層とを有するタッチパネル用ガラスであって、前記透明層の表面における十点平均粗さRが0.5〜6.0μm、または前記透明層の表面における算術平均粗さRが0.05〜0.20μmであるタッチパネル用ガラスである。 The glass for a touch panel of the present invention (hereinafter also referred to as “the glass of the present invention”) is a glass for a touch panel having a glass substrate and a transparent layer formed on the glass substrate, and the surface of the transparent layer. the ten-point average roughness of R z is 0.5~6.0μm or arithmetic mean roughness R a of the surface of the transparent layer, is a glass for a touch panel which is 0.05~0.20Myuemu.

以下に、本発明のガラスの構成を示す好適な一例について概略断面図である図1を用いて説明するが、本発明のガラスはこれに限定されない。   Hereinafter, a preferred example showing the configuration of the glass of the present invention will be described with reference to FIG. 1 which is a schematic cross-sectional view, but the glass of the present invention is not limited thereto.

図1に示されるように、指先15の接触による入力が可能な赤外線を使用するタッチパネルは、ガラス基板5とガラス基板5上に形成された透明層3とを有するタッチパネル用ガラス1、ベゼル7・8、レンズ9・10、発光ダイオード11、検出回路13・14、およびフォトトランジスタ17により構成されている。発光ダイオード11から発振された赤外線が、レンズ9により拡大され、タッチパネル用ガラス1の表面とほぼ平行に通され、再びレンズ10により縮小されフォトトランジスタ17によって感知される。この表面とほぼ平行に通されている赤外線を指先15によって遮断することにより、その部分の赤外線がフォトトランジスタ17により感知されなくなることを利用してパネル上での指先15の接触位置を検出する。このとき、検出回路13・14により、その位置検出の精度を上げることができる。レンズ9・10、発光ダイオード11、検出回路13・14、およびフォトトランジスタ17の各構成部品は、ベゼル7・8により保護されている。   As shown in FIG. 1, a touch panel using infrared rays that can be input by contact with a fingertip 15 includes a glass 1 for a touch panel having a glass substrate 5 and a transparent layer 3 formed on the glass substrate 5, a bezel 7. 8, lenses 9 and 10, light emitting diode 11, detection circuits 13 and 14, and phototransistor 17. The infrared light oscillated from the light emitting diode 11 is magnified by the lens 9, passed almost parallel to the surface of the touch panel glass 1, reduced again by the lens 10, and sensed by the phototransistor 17. By blocking the infrared light that is passed substantially parallel to the surface by the fingertip 15, the contact position of the fingertip 15 on the panel is detected using the fact that the infrared light at that portion is not detected by the phototransistor 17. At this time, the position detection accuracy can be increased by the detection circuits 13 and 14. The components of the lenses 9 and 10, the light emitting diode 11, the detection circuits 13 and 14, and the phototransistor 17 are protected by bezels 7 and 8.

ガラス基板としては、無色透明なガラスであれば特に組成等の種類は限定されないが、例えば、無色透明なソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、リチウムアルミノシリケートガラス、石英ガラス、無アルカリガラス、その他の各種ガラスからなる透明ガラス板等を用いることができる。これらのうち、ソーダライムシリケートガラスを用いることが膜密着性の点で好ましい。ガラス基板の可視光透過率は85%以上であることが、視認性の点で好ましい。   The glass substrate is not particularly limited as long as it is colorless and transparent glass, but for example, colorless and transparent soda lime silicate glass, aluminosilicate glass, lithium aluminosilicate glass, quartz glass, alkali-free glass, other A transparent glass plate made of various glasses can be used. Of these, use of soda lime silicate glass is preferable in terms of film adhesion. The visible light transmittance of the glass substrate is preferably 85% or more from the viewpoint of visibility.

ガラス基板の板厚は0.3〜10.0mmであることが好ましい。ガラス基板の板厚がこの範囲であると、ガラスの強度、板厚および重量のバランスに優れる。特に好ましくは1.1〜5.0mmである。上記ガラス基板は、特に平面状のものである必要はなく、本発明の効果を奏する範囲において、曲面状や異形状のガラス基板を用いてもよい。   The plate thickness of the glass substrate is preferably 0.3 to 10.0 mm. When the plate thickness of the glass substrate is within this range, the balance of strength, plate thickness and weight of glass is excellent. Especially preferably, it is 1.1-5.0 mm. The glass substrate is not particularly required to be planar, and a curved or irregular glass substrate may be used as long as the effects of the present invention are achieved.

上記透明層としては、屈折率が1.3〜1.5の低屈折率膜が好適に用いられ、具体的には、シリカ膜が好適に例示される。上記透明層は、タッチパネルの機能を阻害しない程度の透明性が要求される。具体的には、透明層を形成したガラス基板の可視光透過率が85%以上、特に90%以上であることが好ましい。   As the transparent layer, a low refractive index film having a refractive index of 1.3 to 1.5 is preferably used, and specifically, a silica film is preferably exemplified. The transparent layer is required to have transparency that does not hinder the function of the touch panel. Specifically, the visible light transmittance of the glass substrate on which the transparent layer is formed is preferably 85% or more, particularly 90% or more.

また、透明層に帯電防止機能や電磁波遮蔽機能を持たせるために、透明層にAg、Ru、AgとPdとの合金、RuとAuとの合金等の金属導電性微粒子やSnドープIn(ITO)、SbドープSnO(ATO)等の酸化物導電性微粒子を含有させることもできる。また、透過率の調整やコントラストの向上のため、有機顔料や染料を含有させることもできる。さらに、撥水性を持たせるための撥水剤、紫外線や赤外線による劣化の防止のためのTiO等の紫外線吸収剤や赤外線吸収剤、反射率低減のための低屈折率材料をそれぞれ含有させることもできる。透明層を形成する塗布液に上記添加物を添加することにより、他の塗布液を製造・塗布することなく、1層のみの塗布によって電磁波遮蔽等の機能を付与でき、製造コストを低減できる。 Further, in order to give the transparent layer an antistatic function and an electromagnetic wave shielding function, the transparent layer is made of metal conductive fine particles such as Ag, Ru, an alloy of Ag and Pd, an alloy of Ru and Au, or Sn-doped In 2 O. 3 (ITO), oxide conductive fine particles such as Sb-doped SnO 2 (ATO) can also be contained. In addition, an organic pigment or a dye may be contained for adjusting the transmittance and improving the contrast. Furthermore, a water repellent agent for imparting water repellency, an ultraviolet absorber such as TiO 2 for preventing deterioration due to ultraviolet rays and infrared rays, an infrared ray absorbent, and a low refractive index material for reducing reflectance are included. You can also. By adding the above-mentioned additives to the coating liquid for forming the transparent layer, functions such as electromagnetic wave shielding can be imparted by coating only one layer without producing and coating another coating liquid, and the production cost can be reduced.

タッチパネル用ガラスは、接触位置を正確に認識する必要があるため、接触したときに滑りすぎず、かつ引っかかりのない性質、つまり指滑り性が要求される。本発明者は、鋭意検討した結果、指滑り性が上記透明層の表面における算術平均粗さRおよび十点平均粗さRに関係することを見出し、特にこれらを下記の範囲とすることにより、タッチパネル用ガラス用途としての指滑り性が優れたものになることを見出した。なお、算術平均粗さRおよび十点平均粗さRは、JIS−B0601(1994年)により定義された値である。本発明のタッチパネル用ガラスの透明層の表面における十点平均粗さRは0.5〜6.0μm、好ましくは0.5〜2.5μmであり、算術平均粗さRは0.05〜0.20μm、好ましくは0.08〜0.20μmである。 Since the glass for touch panels needs to recognize a contact position correctly, the touch panel glass is required not to slip too much when touched and to be caught, that is, to have finger slipperiness. As a result of intensive studies, the present inventor has found that finger slipperiness is related to the arithmetic average roughness Ra and the ten-point average roughness Rz on the surface of the transparent layer, and in particular, to make them within the following ranges. Thus, it has been found that the finger slipperiness as a glass application for a touch panel is excellent. The arithmetic average roughness Ra and the ten-point average roughness Rz are values defined by JIS-B0601 (1994). The ten-point average roughness R z on the surface of the transparent layer of the glass for touch panel of the present invention is 0.5 to 6.0 μm, preferably 0.5 to 2.5 μm, and the arithmetic average roughness Ra is 0.05. It is -0.20 micrometer, Preferably it is 0.08-0.20 micrometer.

タッチパネル用ガラスの表面にAG機能を付与するために、ガラス基板表面に光沢を持たせることが好ましい。光沢は、60°鏡面光沢度を用いて表すことができ、塗布液やガラス基板の予熱温度等を調整することで制御できる。60°鏡面光沢度とは、ガラス基板表面と垂直な線に対する入射角が60°の光に対する光沢度を意味し、10〜90%であることが好ましい。上記範囲外では、AG機能が不充分である。特に好ましくは、30〜70%である。   In order to give the AG function to the surface of the glass for touch panel, it is preferable to give the glass substrate surface gloss. The gloss can be expressed using a 60 ° specular gloss, and can be controlled by adjusting the coating liquid, the preheating temperature of the glass substrate, and the like. The 60 ° specular glossiness means glossiness for light having an incident angle of 60 ° with respect to a line perpendicular to the glass substrate surface, and is preferably 10 to 90%. Outside the above range, the AG function is insufficient. Most preferably, it is 30 to 70%.

透明層としてシリカ膜を形成する場合、塗布液としてシリカの前駆体を含む溶液が用いられ、具体的にはアルコキシシランまたはその部分加水分解物を含む溶液が好ましく用いられる。アルコキシシランまたはその部分加水分解物としては、Si(OR)(Rはアルキル基)で示されるテトラアルコキシシランまたはそれらの部分加水分解物が好ましい。前記テトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が例示される。アルコキシシランの部分加水分解物としては、テトラアルコキシシランが部分加水分解してその2〜20分子が縮重合した低重合体などが挙げられる。テトラアルコキシシランの部分加水分解物の典型例として、エチルシリケート40(商品名)が挙げられる。このエチルシリケート40は、(CO)Si(OSi(OCOC(nの平均値は約5)で示されるテトラエトキシシラン低重合体を主成分とし、SiOの含有量は約40質量%である。 When a silica film is formed as the transparent layer, a solution containing a silica precursor is used as the coating solution, and specifically, a solution containing alkoxysilane or a partial hydrolyzate thereof is preferably used. As the alkoxysilane or a partial hydrolyzate thereof, a tetraalkoxysilane represented by Si (OR) 4 (R is an alkyl group) or a partial hydrolyzate thereof is preferable. Examples of the tetraalkoxysilane include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane. Examples of the partially hydrolyzed product of alkoxysilane include a low polymer obtained by partial hydrolysis of tetraalkoxysilane and condensation polymerization of 2 to 20 molecules thereof. A typical example of a partial hydrolyzate of tetraalkoxysilane is ethyl silicate 40 (trade name). This ethylsilicate 40 is mainly composed of a tetraethoxysilane low polymer represented by (C 2 H 5 O) 3 Si (OSi (OC 2 H 5 ) 2 ) n OC 2 H 5 (the average value of n is about 5). As a component, the content of SiO 2 is about 40% by mass.

上記塗布液中のシリカ前駆体の濃度は、SiO換算で0.5〜7.0質量%であることが、適当な塗布時間により透明膜の表面粗さを適当な値に制御できる点で好ましい。 The concentration of the silica precursor in the coating solution is 0.5 to 7.0% by mass in terms of SiO 2 in that the surface roughness of the transparent film can be controlled to an appropriate value by an appropriate application time. preferable.

塗布液の溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられ、具体的には沸点が120℃以下の有機溶媒が好ましく用いられる。前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エチル等のカルボン酸エステル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類等が挙げられ、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   As the solvent for the coating solution, an organic solvent is preferably used, and specifically, an organic solvent having a boiling point of 120 ° C. or less is preferably used. Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, carboxylic acid esters such as methyl acetate and ethyl acetate, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone. In addition, two or more kinds may be used in combination.

また、上記有機溶媒に、沸点が120〜180℃の中沸点溶媒や沸点が180℃超の高沸点溶媒を添加してもよい。この中沸点溶媒や高沸点溶媒を添加することにより、指滑り性に優れ、かつAG機能を有する透明層を形成することが可能となる。中沸点溶媒の添加量は、塗布液中に0.1〜50質量%であることが好ましく、高沸点溶媒の添加量は、塗布液中に0.1〜30質量%であることが好ましい。中沸点溶媒および低沸点溶媒の添加量が少なすぎると指滑り性が不充分であり、多すぎると効果的なAG機能が付与しにくくなり好ましくない。中沸点溶媒としてはジアセトンアルコールが、高沸点溶媒としてはエチレングリコール、プロピレンアルコールが例示される。   Further, a medium boiling solvent having a boiling point of 120 to 180 ° C. or a high boiling solvent having a boiling point exceeding 180 ° C. may be added to the organic solvent. By adding the medium-boiling point solvent or the high-boiling point solvent, it becomes possible to form a transparent layer having excellent finger slipping properties and an AG function. The addition amount of the medium boiling point solvent is preferably 0.1 to 50% by mass in the coating solution, and the addition amount of the high boiling point solvent is preferably 0.1 to 30% by mass in the coating solution. If the addition amount of the medium-boiling point solvent and the low-boiling point solvent is too small, the finger slipping property is insufficient, and if it is too large, it is difficult to impart an effective AG function. Examples of the medium boiling point solvent include diacetone alcohol, and examples of the high boiling point solvent include ethylene glycol and propylene alcohol.

塗布液中にテトラアルコキシシランまたはそれらの部分加水分解物が含まれている場合、この塗布液中には、シリカ前駆体としてさらにテトラアルコキシシラン以外のアルコキシシラン(「テトラアルコキシシラン以外のアルコキシシラン」を以下、「他のアルコキシシラン」という。)またはその部分加水分解物が含まれていることが好ましい。他のアルコキシシランの具体例としては、XSi(OR)4−n(n=1〜3、Rはアルキル基、Xはアルコキシ基以外の1価基。)や2量体である(RO)3−mSi−Y−SiX(OR)3−m(m=0〜2、Rはアルキル基、Yは2価基(ただし、両結合末端原子は酸素ではない。)。)で示される化合物が例示される。 When tetraalkoxysilane or a partial hydrolyzate thereof is contained in the coating solution, the coating solution further contains an alkoxysilane other than tetraalkoxysilane (“alkoxysilane other than tetraalkoxysilane”) as a silica precursor. Is hereinafter referred to as “other alkoxysilane”) or a partial hydrolyzate thereof. Examples of other alkoxysilanes, X n Si (OR) 4 -n is a (n = 1~3, R is an alkyl group, X 1 monovalent group other than alkoxy groups.) And dimer (RO ) 3-m X m Si- Y-SiX m (OR) 3-m (m = 0~2, R is an alkyl group, Y is a divalent group (provided that both bonds terminal atoms are not oxygen.).) The compound shown by these is illustrated.

ここで、1価基Xとしては、ビニル基、スチリル基、エポキシ基含有基(3−グリシドキシプロピル基、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基等)、メタクリロイルオキシ基含有基(3−メタクリロキシプロピル基等)、アクリロキシ基含有基(3−アクリロキシプロピル基等)、ウレイド基含有基(3−ウレイドプロピル基等)、メルカプト基含有基(3−メルカプトプロピル基等)、スルフィド基含有基(ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド等)、イソシアネート基含有基(3−イソシアネートプロピル基等)、アルコキシシリル基含有基(トリメトキシシリルヘキシル基等)、アルキル基(メチル基、エチル基等)、アリール基(フェニル基等)が例示される。   Here, as monovalent group X, vinyl group, styryl group, epoxy group-containing group (3-glycidoxypropyl group, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group, etc.), methacryloyloxy group-containing group ( 3-methacryloxypropyl group, etc.), acryloxy group-containing group (3-acryloxypropyl group, etc.), ureido group-containing group (3-ureidopropyl group, etc.), mercapto group-containing group (3-mercaptopropyl group, etc.), sulfide Group-containing groups (such as bis (triethoxysilylpropyl) tetrasulfide), isocyanate group-containing groups (such as 3-isocyanatopropyl group), alkoxysilyl group-containing groups (such as trimethoxysilylhexyl group), alkyl groups (methyl group, ethyl group) Group) and aryl groups (phenyl group and the like).

また、2価基Yとしては、ポリメチレン基(エチレン基、トリメチレン基、ヘキサメチレン基等)、ポリメチレン基の水素をハロゲンで置換したハロゲン化ポリメチレン基、または1価基Xの水素を抜き2価基としたものが例示される。   The divalent group Y includes a polymethylene group (ethylene group, trimethylene group, hexamethylene group, etc.), a halogenated polymethylene group obtained by substituting the hydrogen of the polymethylene group with a halogen, or a divalent group obtained by removing the hydrogen of the monovalent group X. Are exemplified.

塗布液中の他のアルコキシシランの濃度は、SiO換算で0.01〜0.5質量%であることが好ましい。0.01質量%未満では、適当な指滑り性が得られにくく、0.5質量%超では、塗膜の耐磨耗性が不充分になるおそれがある。 Concentration of other alkoxysilane in the coating solution is preferably 0.01 to 0.5 wt% in terms of SiO 2. If it is less than 0.01% by mass, it is difficult to obtain appropriate finger slipping properties, and if it exceeds 0.5% by mass, the abrasion resistance of the coating film may be insufficient.

上記塗布液中に樹脂成分を含んでもよい。樹脂成分とは、有機化合物を主成分とする高分子化合物を意味し、具体的にはアクリル樹脂が例示される。塗布液中に樹脂成分を含ませることにより指滑り性が良好となるが、そのメカニズムは明確ではない。しかし、樹脂成分を含有させることで塗布液中の溶媒が蒸発する速度を調整でき、その結果、塗布液中に含まれるシリカ粒子と樹脂成分とが相互作用することにより指滑り性が発現すると推測している。樹脂成分としてアクリル樹脂を用いる場合、他のアルコキシシランとして3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシランを用いることが塗膜の耐磨耗性と指滑り性の点で特に好ましい。   A resin component may be included in the coating solution. The resin component means a polymer compound containing an organic compound as a main component, and specifically an acrylic resin is exemplified. By including a resin component in the coating solution, finger slipping is improved, but the mechanism is not clear. However, the rate at which the solvent in the coating solution evaporates can be adjusted by containing the resin component, and as a result, it is assumed that the finger slipping property is expressed by the interaction between the silica particles contained in the coating solution and the resin component. is doing. When an acrylic resin is used as the resin component, it is particularly preferable to use 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane as the other alkoxysilane from the viewpoint of the wear resistance and finger slipping property of the coating film.

上記塗布液としては、具体的には、エチレングリコールを1〜20質量%好ましくは3〜15質量%、エタノールを50〜90質量%、およびイソプロピルアルコールを5〜40質量%、その他メタノールやメチルエチルケトンを少量の割合で混合した混合溶媒100mlに対し、テトラエトキシシランまたはその加水分解物をSiO換算で0.0028〜0.1mol、1.6−ビストリメトキシシリルヘキサンを0.001〜0.03mol、水をテトラエトキシシランまたはその加水分解物に対し12〜24倍mol、塩酸、硫酸、硝酸等の酸を触媒量含有させてなる塗布液が適度なAG機能、ガラスと透明層との密着性および指滑り性の点で好ましく例示される。SiOの含有割合がこの範囲であれば、透明層の形成時間を短縮でき、さらに透明層のAG機能が優れる点で好ましい。また、水の含有割合がこの範囲であれば、形成される透明層の表面の算術平均粗さRを上述した0.05〜0.20μmの範囲とできることから好ましい。 Specifically, as the coating solution, ethylene glycol is 1 to 20% by mass, preferably 3 to 15% by mass, ethanol is 50 to 90% by mass, isopropyl alcohol is 5 to 40% by mass, and other methanol or methyl ethyl ketone is used. Tetraethoxysilane or a hydrolyzate thereof is 0.0028 to 0.1 mol in terms of SiO 2 and 1.6-bistrimethoxysilylhexane is 0.001 to 0.03 mol with respect to 100 ml of the mixed solvent mixed in a small proportion. A coating solution containing water in a catalytic amount of 12 to 24 times mol of tetraethoxysilane or a hydrolyzate thereof, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and the like has an appropriate AG function, adhesion between the glass and the transparent layer, and It is preferably exemplified in terms of finger slipperiness. If the content ratio of SiO 2 is within this range, it is preferable in that the formation time of the transparent layer can be shortened and the AG function of the transparent layer is excellent. Further, if the content of water is within this range, the arithmetic mean roughness R a of the surface of the transparent layer formed preferably because it can range from 0.05~0.20μm described above.

透明層の好ましい形成方法は以下のとおりである。ガラス基板を40〜90℃の範囲内になるように予熱し、ガラス基板表面に上記塗布液をスプレーで吹き付けて塗布し、塗布後に100〜700℃、好ましくは250〜350℃で5〜60分、好ましくは15〜30分大気中で加熱焼成する。ガラス基板の予熱温度が上記範囲であれば、塗布した塗布液がガラス基板表面上で適当な濡れ状態となるため、AG機能を有する透明層を形成でき、さらに加熱焼成後に形成されるガラス基板と透明層との密着性が良好となる点で好ましい。また、加熱焼成の温度および加熱時間がこの範囲であれば、ガラス基板と透明層との密着性が良好となり、さらに得られる本発明のタッチパネル用ガラスが実用上充分な耐磨耗性を有することから好ましい。   A preferred method for forming the transparent layer is as follows. The glass substrate is preheated to be in the range of 40 to 90 ° C., and the coating solution is sprayed onto the surface of the glass substrate by spraying, and after coating, 100 to 700 ° C., preferably 250 to 350 ° C., 5 to 60 minutes. Preferably, the baking is performed in the air for 15 to 30 minutes. If the preheating temperature of the glass substrate is within the above range, the applied coating solution is in an appropriate wet state on the glass substrate surface, so that a transparent layer having an AG function can be formed, and a glass substrate formed after heating and firing, It is preferable at the point from which adhesiveness with a transparent layer becomes favorable. Moreover, if the temperature and heating time for heating and baking are within this range, the adhesion between the glass substrate and the transparent layer will be good, and the resulting glass for touch panels of the present invention will have practically sufficient wear resistance. To preferred.

本発明のタッチパネル用ガラスは、上述した製造方法により透明層を形成したガラス基板をそのまま使用することもできるし、必要に応じて透明層を形成したガラス基板を切断・面取りし、使用することもできる。なお、透明層を形成する前のガラス基板を切断・面取りし、その後透明層を形成してもよい。   The glass for a touch panel of the present invention can be used as it is a glass substrate on which a transparent layer is formed by the above-described production method, or can be used by cutting, chamfering and chamfering a glass substrate on which a transparent layer is formed as necessary. it can. The glass substrate before forming the transparent layer may be cut and chamfered, and then the transparent layer may be formed.

本発明のタッチパネル用ガラスは、耐磨耗性に優れ、指滑り性に優れ、さらにAG機能を有するため有用である。これは、多孔質化されていないため耐磨耗性に優れ、また十点平均粗さRまたは算術平均粗さRが上述した範囲にあることから、タッチパネルに対して指滑り性が良好、つまり指先が滑りすぎず、かつ引っかかりもなく、さらに光沢が上述した範囲にあり表面がギラつかないためであると考えられる。 The glass for a touch panel of the present invention is useful because it has excellent abrasion resistance, excellent finger slipperiness, and has an AG function. This is excellent in wear resistance because it is not made porous, and has a ten-point average roughness R z or arithmetic average roughness Ra in the above-mentioned range, and thus has good finger slipperiness with respect to the touch panel. That is, it is considered that the fingertip does not slide too much and is not caught, and the gloss is in the above-described range and the surface is not glaring.

本発明のタッチパネル用ガラスは、ガラス基板を用いていることからプラスチックや樹脂フィルム等と比較して耐久性、耐熱性、耐薬品性にも優れ、使用環境における温度の影響を受けず、アルコール洗浄が可能であるという利点を有する。特に、本発明のタッチパネル用ガラスは、赤外線、超音波や静電容量を利用したタッチパネル用のガラスとして有用である。   Since the glass for touch panel of the present invention uses a glass substrate, it is excellent in durability, heat resistance and chemical resistance compared to plastics and resin films, etc., and is not affected by temperature in the use environment, and is alcohol-cleaned. Has the advantage of being possible. In particular, the glass for a touch panel of the present invention is useful as a glass for a touch panel using infrared rays, ultrasonic waves, or capacitance.

以下に、実施例(例1)および比較例(例2〜4)を挙げて本発明のタッチパネル用ガラスについて詳細に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。   Below, an Example (Example 1) and a comparative example (Examples 2-4) are mentioned, and the glass for touchscreens of this invention is demonstrated in detail. However, the present invention is not limited to this.

(塗布液の調整)
メタノール1g、エタノール68.3g、メチルエチルケトン1g、イソプロピルアルコール8g、エチレングリコール7g、水7g、61%硝酸1.1gの混合溶媒に対し、テトラエトキシシラン(商品名:エチルシリケート40、多摩化学工業社製)を6g、1,6−ビストリメトキシシリルヘキサン0.6gを混合し、撹拌して塗布液を得た。塗布液中のシリカ分は、SiO換算で、2.6質量%(1,6−ビストリメトキシシリルヘキサン由来のシリカ分は0.2質量%)であった。
(Coating solution adjustment)
Tetraethoxysilane (trade name: Ethyl silicate 40, manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd.) with respect to a mixed solvent of 1 g of methanol, 68.3 g of ethanol, 1 g of methyl ethyl ketone, 8 g of isopropyl alcohol, 7 g of ethylene glycol, 7 g of water and 1.1 g of 61% nitric acid. ) And 6 g of 1,6-bistrimethoxysilylhexane were mixed and stirred to obtain a coating solution. The silica content in the coating solution was 2.6% by mass in terms of SiO 2 (1,6-bistrimethoxysilylhexane-derived silica content was 0.2% by mass).

(例1)
塗布液50mlを、70℃の面温になるように予熱したソーダライムシリケートガラス(面積:0.1m、厚さ:2.7mm)からなるガラス基板の表面にスプレーで吹き付けて塗布した後、300℃で30分間、大気中で加熱焼成することによりシリカ膜(屈折率=1.4)を形成し、タッチパネル用ガラスを得た。
(Example 1)
After applying 50 ml of coating solution by spraying onto the surface of a glass substrate made of soda lime silicate glass (area: 0.1 m 2 , thickness: 2.7 mm) preheated to a surface temperature of 70 ° C., A silica film (refractive index = 1.4) was formed by heating and baking in the atmosphere at 300 ° C. for 30 minutes, and a glass for a touch panel was obtained.

(例2)
ガラス基板を95℃の面温となるように予熱した以外は、例1と同様に処理してタッチパネル用ガラスを得た。
(Example 2)
A glass for a touch panel was obtained in the same manner as in Example 1 except that the glass substrate was preheated to a surface temperature of 95 ° C.

(例3)
ガラス基板を35℃の面温となるように予熱した以外は、例1と同様に処理してタッチパネル用ガラスを得た。
(Example 3)
A glass for a touch panel was obtained in the same manner as in Example 1 except that the glass substrate was preheated to a surface temperature of 35 ° C.

(例4)
ガラス基板そのものをタッチパネル用ガラスとして用いた。
(Example 4)
The glass substrate itself was used as the glass for the touch panel.

得られたタッチパネル用ガラスおよびガラス基板の表面粗さ(算術平均粗さRおよび十点平均粗さR)、指滑り性、60°鏡面光沢度、可視光透過率を測定し、評価した。結果を表1に示す。また、表面粗さ、指滑り性、60°鏡面光沢度および可視光透過率は下記の方法で測定した。 The surface roughness (arithmetic average roughness Ra and ten-point average roughness R z ), finger slipperiness, 60 ° specular gloss, and visible light transmittance of the obtained glass for touch panel and glass substrate were measured and evaluated. . The results are shown in Table 1. The surface roughness, finger slipperiness, 60 ° specular gloss, and visible light transmittance were measured by the following methods.

(表面粗さ)
JIS−B0601(1994年)に記載の方法により、表面粗さ(算術平均粗さRおよび十点平均粗さR)を測定した。表面粗さの測定は、表面粗さ測定機(サーフコム1400D:東京精密社製)を用いて、スキャン長さ=5.0mm、カットオフ値=0.8mm、触針=5μmR、4mNの測定条件下で、任意の4つの測定点で測定し、平均を算出した。
(Surface roughness)
The surface roughness (arithmetic average roughness Ra and ten-point average roughness Rz ) was measured by the method described in JIS-B0601 (1994). The surface roughness is measured using a surface roughness measuring machine (Surfcom 1400D: manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.), scan length = 5.0 mm, cut-off value = 0.8 mm, stylus = 5 μmR, 4 mN. Below, it measured at arbitrary four measurement points, and calculated the average.

(指滑り性)
指滑り性は、次に示す官能試験を行い評価した。すなわち、各例1〜4までのタッチパネル用ガラスの表面を、乾燥した人差し指で軽く滑らせ、滑りすぎず、かつ引っかかりがなく移動が可能であったかどうかを5段階(1〜5点)で評価した。評価は、10人の被験者の平均値が3.5以上であれば○とし、1.5以上3.5未満であれば△とし、1.5未満であれば×とした。
(Finger slipperiness)
Finger slipping was evaluated by performing the following sensory test. That is, the surface of the glass for a touch panel in each of Examples 1 to 4 was lightly slid with a dry index finger, and it was evaluated on a five-point scale (1 to 5 points) whether it was possible to move without slipping and without being caught. . Evaluation was evaluated as ◯ when the average value of 10 subjects was 3.5 or more, △ when it was 1.5 or more and less than 3.5, and × when it was less than 1.5.

(60°鏡面光沢度)
JIS−Z8741(1997年)に記載の方法により、鏡面光沢度測定機(デジタル変角光沢計UGV−5K、およびSMカラーコンピューターSM−5、いずれもスガ試験機社製)を用いて、ガラス基板の裏面に黒色塗料を塗り裏面の反射防止処理を行なった上で、試料の中心点の60°鏡面光沢度を測定した。
(60 ° specular gloss)
Using a method described in JIS-Z8741 (1997), using a specular gloss measuring machine (digital variable gloss meter UGV-5K and SM color computer SM-5, both manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), a glass substrate A black paint was applied to the back surface of the sample, and antireflection treatment was performed on the back surface, and the 60 ° specular gloss at the center point of the sample was measured.

(可視光透過率)
JIS−R3106(1998年)に記載の方法により、分光光度計(UV−3100PC、島津製作所製)を用い、試料の中心部の可視光透過率を測定した。
(Visible light transmittance)
The visible light transmittance at the center of the sample was measured using a spectrophotometer (UV-3100PC, manufactured by Shimadzu Corporation) by the method described in JIS-R3106 (1998).

Figure 2005038288
Figure 2005038288

表1に示す結果から、算術平均粗さRおよび十点平均粗さRを適当な範囲とすることにより、指滑り性が良好な値となっていることが分かる。また、本発明のタッチパネル用ガラスは、60°鏡面光沢度が適当な範囲となっているため充分なAG機能を有し、可視光透過率が高く透明性に優れることが分かる。 From the results shown in Table 1, it can be seen that the finger slipperiness is a good value by setting the arithmetic average roughness Ra and the ten-point average roughness Rz within appropriate ranges. Moreover, it can be seen that the glass for touch panel of the present invention has a sufficient AG function because the 60 ° specular gloss is in an appropriate range, has a high visible light transmittance, and is excellent in transparency.

本発明のタッチパネル用ガラスは、透明性および指滑り性に優れ、さらにAG機能を有し、特に、赤外線、超音波または静電容量を利用したタッチパネル用のガラスとして有用である。   The glass for a touch panel of the present invention is excellent in transparency and finger slipping property, has an AG function, and is particularly useful as a glass for a touch panel using infrared rays, ultrasonic waves, or capacitance.

タッチパネル装置の一例を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows an example of a touch-panel apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

1:タッチパネル用ガラス
3:透明層
5:ガラス基板
7、8:ベゼル
9、10:レンズ
11:発光ダイオード
13、14:検出回路
15:指先
17:フォトトランジスタ
1: Glass for touch panel 3: Transparent layer 5: Glass substrate 7, 8: Bezel 9, 10: Lens 11: Light emitting diode 13, 14: Detection circuit 15: Fingertip 17: Phototransistor

Claims (5)

ガラス基板と、前記ガラス基板上に形成された透明層とを有するタッチパネル用ガラスであって、前記透明層の表面における十点平均粗さRが0.5〜6.0μmであることを特徴とするタッチパネル用ガラス。 A glass for a touch panel having a glass substrate and a transparent layer formed on the glass substrate, wherein the ten-point average roughness R z on the surface of the transparent layer is 0.5 to 6.0 μm. Glass for touch panels. ガラス基板と、前記ガラス基板上に形成された透明層とを有するタッチパネル用ガラスであって、前記透明層の表面における算術平均粗さRが0.05〜0.20μmであることを特徴とするタッチパネル用ガラス。 And the glass substrate, a glass for a touch panel and a transparent layer formed on the glass substrate, and an arithmetic average roughness R a of the surface of the transparent layer is 0.05~0.20μm Touch panel glass. 前記透明層がシリカ膜である請求項1または2に記載のタッチパネル用ガラス。   The glass for a touch panel according to claim 1 or 2, wherein the transparent layer is a silica film. 40〜90℃に予熱したガラス基板上に、SiO換算で0.5〜7.0質量%のシリカ前駆体を含む塗布液を塗布し、100〜700℃で焼成することによりガラス基板上にシリカ膜を形成することを特徴とするタッチパネル用ガラスの製造方法。 A glass substrate preheated to 40 to 90 ° C. is coated with a coating solution containing 0.5 to 7.0% by mass of a silica precursor in terms of SiO 2 and baked at 100 to 700 ° C. A method for producing glass for a touch panel, comprising forming a silica film. 前記シリカ前駆体として、テトラアルコキシシランまたはその部分加水分解物と、テトラアルコキシシラン以外のアルコキシシランまたはその部分加水分解物とを含む請求項4に記載のタッチパネル用ガラスの製造方法。
The manufacturing method of the glass for touchscreens of Claim 4 which contains tetraalkoxysilane or its partial hydrolyzate as said silica precursor, and alkoxysilane other than tetraalkoxysilane, or its partial hydrolyzate.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012075070A1 (en) * 2010-11-30 2012-06-07 Corning Incorporated Display device with light diffusive glass panel
JP2013010686A (en) * 2008-08-18 2013-01-17 Nippon Electric Glass Co Ltd Method for manufacturing glass for touch panel
JP2013189007A (en) * 2012-02-13 2013-09-26 Central Glass Co Ltd Fingerprint resistance transparent substrate
WO2015125929A1 (en) * 2014-02-21 2015-08-27 旭硝子株式会社 Article with anti-glare film, manufacturing method therefor, and image display device
CN107124900A (en) * 2015-12-25 2017-09-01 松下知识产权经营株式会社 Touch panel and the display device using the touch panel

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013010686A (en) * 2008-08-18 2013-01-17 Nippon Electric Glass Co Ltd Method for manufacturing glass for touch panel
WO2012075070A1 (en) * 2010-11-30 2012-06-07 Corning Incorporated Display device with light diffusive glass panel
CN103250122A (en) * 2010-11-30 2013-08-14 康宁股份有限公司 Display device with light diffusive glass panel
JP2014505268A (en) * 2010-11-30 2014-02-27 コーニング インコーポレイテッド Display device with light diffusing glass panel
US8957873B2 (en) 2010-11-30 2015-02-17 Corning Incorporated Display device with light diffusive glass panel
TWI572947B (en) * 2010-11-30 2017-03-01 康寧公司 Display device with light diffusive glass panel
EP3147767A1 (en) * 2010-11-30 2017-03-29 Corning Incorporated Display device with light diffusive glass panel
US10330830B2 (en) 2010-11-30 2019-06-25 Corning Incorporated Display device with light diffusive glass panel
JP2013189007A (en) * 2012-02-13 2013-09-26 Central Glass Co Ltd Fingerprint resistance transparent substrate
WO2015125929A1 (en) * 2014-02-21 2015-08-27 旭硝子株式会社 Article with anti-glare film, manufacturing method therefor, and image display device
CN107124900A (en) * 2015-12-25 2017-09-01 松下知识产权经营株式会社 Touch panel and the display device using the touch panel

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