JP2005088431A - バリア性フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】 酸素ガス等の透過を阻止するガスバリア性に優れたフィルム。
【解決手段】 少なくとも、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に設けたバリア性層とからなり、更に、該バリア性層は、先に、物理気相成長法による金属酸化物層を設け、更に、該金属酸化物層の上に、少なくとも２室以上の製膜室を使用し、かつ、各室毎に、少なくとも、有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、および、不活性ガスを含有する製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えて調製した２以上の製膜用混合ガス組成物を使用し、その各製膜用混合ガス組成物を使用して製膜した２層以上のプラズマ化学気相成長法による多層の珪素酸化物層を設けた構成からなり、かつ、上記の各珪素酸化物層は、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、各珪素酸化物層毎に炭素原子含有量が異なる構成からなることを特徴とするバリア性フィルムに関するものである。
【選択図】 図４

Description

本発明は、バリア性フィルムに関するものである。

近年、包装用材料に使用されるバリア性素材として、例えば、２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、あるいは、２軸延伸ナイロンフィルム等の基材フィルムの一方の面に、酸化珪素、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設けた透明バリア性フィルムが、開発、提案され、その動向が注目されている。

例えば、透明なプラスチックフィルムからなる基材の表面に酸化アルミニウム薄膜を介して、酸化珪素薄膜を設けたことを特徴とするレトルト耐性を有する透明バリア−複合フィルムが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。

また、透明フィルムの少なくとも片面に、厚さ２０００Å以下のアルミ酸化物蒸着膜を形成し、そのアルミ酸化物蒸着膜の上に、厚さ２０００Å以下の珪素酸化物蒸着膜を形成したことを特徴とする、ハイバリヤ−性、強密着性、及び非カ−ル性の透明蒸着フィルム等も提案されている（例えば、特許文献２参照。）。

更に、透明性を有する高分子材料からなる基材の片面に無機化合物からなる透明ガスバリア層を積層した積層フィルムにおいて、前記透明ガスバリア層が膜厚３０〜３００ｎｍの金属酸化物薄膜層と炭素を５〜４０ａｔ％の範囲で含む４０〜１５０ｎｍの酸化珪素薄膜層、および印刷層を順次形成した積層構成であることを特徴とする、透明で印刷層を有するガスバリア性積層フィルムが提案されている（例えば、特許文献３参照。）。

また、可撓性プラスチック基材の上に、少なくとも２層以上の無機酸化物の薄膜を積層してなることを特徴とする透明バリアフィルムも提案されている（例えば、特許文献４参照。）。

更にまた、透明高分子フィルムからなる基材の少なくとも片面に、無機化合物膜を設けてなる包装要フィルムにおいて、無機化合物膜が少なくとも２層からなり、基材に接する層が酸化アルミニウム、表面層が酸化珪素からなることを特徴とする包装用フィルムも提案されている（例えば、特許文献５参照。）。

また、２軸延伸ナイロンフィルム基材の一方の面に、少なくとも２種以上の無機酸化物による第１の薄膜と第２の薄膜とを積層して設けたことを特徴とする透明バリア性ナイロンフィルムが提案されている（例えば、特許文献６参照。）。
特許第２６８２１０１号公報（特許請求の範囲等） 特開平３−６４４４９号公報（特許請求の範囲等） 特許第３０７０４０４号公報（特許請求の範囲等） 特開平１０−１０１８２５号公報（特許請求の範囲等） 特開平１０−１２８９０１号公報（特許請求の範囲等） 特開平１１−１０５１８９号公報（特許請求の範囲等）

しかしながら、上記の〔特許文献１〕にかかる発明では、酸化アルミニウム薄膜および酸化珪素薄膜は、いずれも、物理蒸着法で積層されているものであり、その蒸着膜は、単に、基材に物理的に付着しているだけであり、かつ、その膜は、堅く、可撓性、柔軟性等に劣り、延展、屈曲等により簡単にクラックを発生し、しばしば、バリア性に欠けるという問題点がある。

更に、上記の酸化アルミニウム薄膜および酸化珪素薄膜は、レトルト処理等による熱が加わったとき、基材が変形し、その基材の変形に対し、その追随性に欠け、簡単にクラック等を発生し、結果として、バリア性が低下してしまうという問題点もある。

更に、上記の酸化アルミニウム薄膜および酸化珪素薄膜を製膜化する際に、密着性に優れるスパッタリング、イオンプレ−ティング法等を用いているが、そのような方法で製膜化する場合、生産性に劣るため、食品包装等の包材の製造には使用できないという問題点もある。

次に、上記の〔特許文献２〕にかかる発明では、上記の〔特許文献１〕にかかる発明と同様に、珪素酸化物蒸着膜およびアルミ酸化物蒸着膜は、いずれも、物理蒸着法で積層されているものであり、その蒸着膜は、単に、基材に物理的に付着しているだけであり、かつ、その膜は、堅く、可撓性、柔軟性等に劣り、延展、屈曲等により簡単にクラックを発生し、しばしば、バリア性に欠けるという問題点がある。

また、上記の〔特許文献３〕にかかる発明では、プラズマ化学気相成長法を用いて、炭素原子を含む酸化珪素薄膜を形成しているが、その酸化珪素薄膜の膜厚は、４０ｎｍ以上というものであり、而して、そのような厚い膜からなる酸化珪素薄膜は、延展、屈曲等により簡単にクラックを発生し、このため、著しくバリア性に欠けるという問題点がある。

次に、上記の〔特許文献４〕および〔特許文献６〕にかかる発明では、第１層目に酸化アルミニウム層を設けることで、基材からのデガス防止性およびバリア性を持たせるという特徴を有するものであるが、２層目を物理気相成長法により珪素酸化物層を積層させた場合、酸化アルミニウム層、珪素酸化物層等の膜は、屈曲、延展性に弱く、酸化アルミニウム層、珪素酸化物層の双方にクラック等が生じてしまい、結果的に、バリア性が得られないという問題点がある。

また、化学気相成長法により珪素酸化物層を積層させる場合でも、該珪素酸化物層は、単層膜からなるものであり、また、炭素、水素、珪素および酸素の１種類、あるいは、２種類以上の元素からなる化合物を少なくとも含有する連続層であり、該化合物は、単層膜内で連続的に変化しているだけであり、酸素ガス、水蒸気等がいったん膜中に取り込まれてしまうと、酸素ガス、水蒸気等の透過を抑えることが敵内という問題点がある。

更に、上記の〔特許文献５〕にかかる発明では、酸化アルミニウム層の膜厚が、５〜１０ｎｍという非常に薄い膜であることから、その膜自身のバリア性は、ほとんどなく、その上に積層される酸化珪素層によるバリア性しか発現し得ないものであり、結果的には、バリア性に著しく劣るという問題点がある。

上記のように酸化アルミニウム層、珪素酸化物層等の無機酸化物の薄膜を重層し、その重層した無機酸化物の薄膜層をバリア性層とする従来の透明バリア性フィルムにおいては、包装用材料に使用されるバリア性素材として、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止し得るものではあるが、更に高いガスバリア性を有するバリア性フィルムとしては、未だ十分に満足し得る状況ではないものであるというのが実状である。

そこで本発明は、金属酸化物層と珪素酸化物層とを重層し、その重層膜をバリア性層とし、基材フィルムとバリア性層との密着性に優れていると共にその延展性、屈曲性、可撓性等に優れ、更に、クラック発生の原因となる異物、塵埃等が混入することなく、例えば、包装用材料等に使用されるバリア性素材として、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するガスバリア性に優れ、更に、そのガスバリア性の性能の低下も認められない極めて有用なバリア性フィルムを提供することである。

本発明者は、上記のような課題を解決すべく種々検討の結果、まず、基材フィルムの上に、先に、物理気相成長法による金属酸化物層を設け、更に、該金属酸化物層の上に、少なくとも２室以上の製膜室を使用し、かつ、各室毎に、少なくとも、有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、および、不活性ガスを含有する製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えて調製した２以上の製膜用混合ガス組成物を使用し、その各製膜用混合ガス組成物を使用して製膜した２層以上のプラズマ化学気相成長法による多層の珪素酸化物層を設け、その金属酸化物層と多層の珪素酸化物層との重層膜からバリア性層を構成し、かつ、上記のバリア性層を構成する各珪素酸化物層は、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、各珪素酸化物層毎に炭素原子含有量が異なる構成からなるバリア性フィルムを製造したところ、まず、金属酸化物層によるバリア性と共に、プラズマ化学気相成長法により珪素酸化物層を金属酸化物層の上に多層に積層することにより、金属酸化物層と珪素酸化物層との密着性に優れていると共にその珪素酸化物層は、延展性、屈曲性、可撓性、柔軟性等に優れ、かつ、第１層目から極めて優れた高いバリア性に富む膜を製膜化することができ、更に、少なくとも２室以上の製膜室からなるプラズマ化学気相成長装置を使用して珪素酸化物層を連続的に２層以上の多層を積層させ、かつ、それぞれの各層が、高いバリア性を有する膜を製膜化成することができることから、単層のそれよりも更に高いガスバリア性を得ることができ、かつ、大気に開放ぜす連続的に製膜化することによりクラックの発生原因となる異物、塵埃等が製膜層間に混入することを防止することができ、更に、そのバリア性の低下も認められず、更にまた、各珪素酸化物層は、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、各珪素酸化物層毎に炭素原子含有量が異なる異なる不連続層であることから、酸素ガス、水蒸気等の透過を完全に阻止することができ、特に、金属酸化物層は、延展性、屈曲性、可撓性、柔軟性等に優れた多層の珪素酸化物層との密接着性に優れ、該金属酸化物層と多層の珪素酸化物層との重層膜により、ハイバリア性膜を構成することができ、例えば、包装用材料等に使用されるバリア性素材として、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するガスバリア性に優れると共にそのガスバリア性の性能の低下も認められない極めて有用なバリア性フィルムを製造し得ることができることを見出して本発明を完成したものである。

すなわち、本発明は、少なくとも、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に設けたバリア性層とからなり、更に、該バリア性層は、先に、物理気相成長法による金属酸化物層を設け、更に、該金属酸化物層の上に、少なくとも２室以上の製膜室を使用し、かつ、各室毎に、少なくとも、有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、および、不活性ガスを含有する製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えて調製した２以上の製膜用混合ガス組成物を使用し、その各製膜用混合ガス組成物を使用して製膜した２層以上のプラズマ化学気相成長法による多層の珪素酸化物層を設けた構成からなり、かつ、上記の各珪素酸化物層は、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、各珪素酸化物層毎に炭素原子含有量が異なる構成からなることを特徴とするバリア性フィルムに関するものである。

上記の本発明によれば、まず、基材フィルムの上に、先に設けた金属酸化物層によるバリア性と共に、プラズマ化学気相成長法により珪素酸化物層を金属酸化物層の上に多層に積層することにより、金属酸化物層と珪素酸化物層との密着性に優れていると共にその珪素酸化物層は、延展性、屈曲性、可撓性、柔軟性等に優れ、かつ、第１層目から極めて優れた高いバリア性に富む膜を製膜化することができ、更に、少なくとも２室以上の製膜室からなるプラズマ化学気相成長装置を使用して珪素酸化物層を連続的に２層以上を積層させ、かつ、それぞれの各層が、高いバリア性を有する膜を製膜化成することができることから、単層のそれよりも更に高いガスバリア性を得ることができ、かつ、大気に開放ぜす連続的に製膜化することによりクラックの発生原因となる異物、塵埃等が製膜層間に混入することを防止することができ、更に、そのバリア性の低下も認められず、更にまた、各珪素酸化物層は、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、各珪素酸化物層毎に炭素原子含有量が異なる不連続層であることから、酸素ガス、水蒸気等の透過を完全に阻止することができ、特に、金属酸化物層は、延展性、屈曲性、可撓性、柔軟性等に優れた多層の珪素酸化物層との密接着性に優れ、該珪素酸化物層と金属酸化物層との重層膜により、その両者によるハイバリア性膜を構成することができ、例えば、包装用材料等に使用されるバリア性素材として、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するガスバリア性に優れると共にそのガスバリア性の性能の低下も認められない極めて有用なバリア性フィルムを製造し得ることができるというものである。

上記の本発明ににかかるバリア性フィルムについて以下に図面等を用いて更に詳しく説明する。

図１、図２および図３は、本発明にかかるバリア性フィルムについてその製造装置の一二例の概略の構成を示す概略的構成図であり、図４は、本発明にかかるバリア性フィルムについてその層構成の一例を示す概略的断面図である。

まず、本発明にかかるバリア性フィルムについてその製造法を説明すると、本発明にかかるバリア性フィルムは、まず、基材フィルムの一方の面に、物理気相成長法による金属酸化物層を形成するものである。

而して、本発明にかかるバリア性フィルムを構成する金属酸化物層の形成法ついて更に詳しく説明すると、かかる物理気相成長法による金属酸化物層としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法、イオンクラスタ−ビ−ム法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）を用いて金属酸化物層を形成することができる。

本発明において、具体的には、金属の酸化物を原料とし、これを加熱して蒸気化し、これを蒸着する真空蒸着法、または、原料として金属または金属の酸化物を使用し、酸素ガスを導入して酸化させて、金属酸化物を蒸着する酸化反応蒸着法、更に酸化反応をプラズマで助成するプラズマ助成式の酸化反応蒸着法等を用いて金属酸化物層を形成することが好ましいものである。

上記において、蒸着材料の加熱方式としては、例えば、抵抗加熱方式、高周波誘導加熱方式、エレクトロンビ−ム加熱方式（ＥＢ）等にて行うことができる。

本発明において、物理気相成長法による金属酸化物層を形成する方法について、その具体例を挙げると、図１は、巻き取り式真空蒸着装置の一例を示す概略的構成図である。

図１に示すように、巻き取り式真空蒸着装置１の真空チャンバ−２の中で、巻き出しロ−ル３から、基材フィルム４を繰り出し、次いで、該基材フィルム４を、必要ならば、ガイドロ−ル等を介して、冷却したコ−ティングドラム５に案内する。

而して、上記の冷却したコ−ティングドラム５上に案内された基材フィルム４の上に、るつぼ６で、例えば、電子銃７にて電子線８を照射して、それにより熱せられた蒸着源９、例えば、金属アルミニウム、あるいは、酸化アルミニウム等を蒸発させ、更に、必要ならば、巻き取り式真空蒸着装置１の外に配置した酸素ガスボンベ１０から酸素ガス吹出口１１より酸素ガス等を噴出し、これを供給しながら、マスク１２を介して、例えば、酸化アルミニウム等の金属酸化物の蒸着膜を成膜化して金属酸化物層を形成し、次いで、上記において、基材フィルム４の上に、酸化アルミニウム等の金属酸化物層を形成した基材フィルム１を、必要ならば、ガイドロ−ル等を介して送り出し、次いで、巻き取りロ−ル１３に巻き取ることによって、その一方の面に、金属酸化物層を形成した基材フィルム４を形成することができる。

上記において、金属酸化物層としては、基本的に金属の酸化物の状態で蒸着した薄膜であれば使用可能であり、例えば、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、カリウム（Ｋ）、スズ（Ｓｎ）、ナトリウム（Ｎａ）、ホウ素（Ｂ）、チタン（Ｔｉ）、鉛（Ｐｂ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、イットリウム（Ｙ）等の金属の酸化物層を使用することができる。

而して、好ましいものとしては、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）等の金属酸化物層を挙げることができる。

而して、上記の金属酸化物層は、ケイ素酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等のように金属酸化物として呼ぶことができ、その表記は、例えば、ＳｉＯ_X 、ＡｌＯ_X 、ＭｇＯ_X 等のようにＭＯ_X （ただし、式中、Ｍは、金属元素を表し、Ｘの値は、金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。）で表される。

また、上記のＸの値の範囲としては、ケイ素（Ｓｉ）は、０〜２、アルミニウム（Ａｌ）は、０〜１．５、マグネシウム（Ｍｇ）は、０〜１、カルシウム（Ｃａ）は、０〜１、カリウム（Ｋ）は、０〜０．５、スズ（Ｓｎ）は、０〜２、ナトリウム（Ｎａ）は、０〜０．５、ホウ素（Ｂ）は、０〜１、５、チタン（Ｔｉ）は、０〜２、鉛（Ｐｂ）は、０〜１、ジルコニウム（Ｚｒ）は０〜２、イットリウム（Ｙ）は、０〜１．５の範囲の値をとることができる。

上記において、Ｘ＝０の場合、完全な金属であり、透明ではなく全く使用することができない、また、Ｘの範囲の上限は、完全に酸化した値である。

本発明において、一般的に、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）以外は、使用される例に乏しく、ケイ素（Ｓｉ）は、１．０〜２．０、アルミニウム（Ａｌ）は、０．５〜１．５の範囲の値のものを使用することができる。

本発明において、上記のような金属酸化物層の膜厚としては、使用する金属、または、金属の酸化物の種類等によって異なるが、例えば、５０〜２０００Å位、好ましくは、１００〜１０００Å位の範囲内で任意に選択して形成することが望ましい。

また、本発明においては、金属酸化物層としては、使用する金属、または、金属の酸化物としては、１種または２種以上の混合物で使用し、異種の材質で混合した金属酸化物層を構成することもできる。

次に、本発明において、上記のように基材フィルムの一方の面に、物理気相成長法による金属酸化物層を形成した後、該金属酸化物層の上に、多層の珪素酸化物層を設け、その金属酸化物層と多層の珪素酸化物層とからなるバリア性層を形成して、本発明にかかるバリア性フィルムを製造することがてきる。

上記の本発明にかかるバリア性フィルムを構成する多層の珪素酸化物層の形成法について更に詳しく説明すると、かかる多層の珪素酸化物層としては、例えば、化学気相成長法等を用いて多層の珪素酸化物層を製膜化することによって形成することができる。

具体的には、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＣＶＤ法）等を用いて珪素酸化物層を多層に製膜化することにより形成することができ、而して、それらの中でも、特に、低温プラズマ化学気相成長法を用いて製膜化して形成することが望ましいものである。

本発明においては、具体的には、上記で基材フィルムの一方の面に、金属酸化物層を形成した後、その金属酸化物層の上に、有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマ−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとして、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、かつ、それらから製膜用混合ガス組成物を調製し、これを使用し、低温プラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気相成長法を用いて珪素酸化物等からなる多層の珪素酸化物層を製膜化することができる。

上記において、低温プラズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用することがてき、而して、本発明においては、高活性の安定したプラズマを得るためには、高周波プラズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。

具体的に、本発明にかかるバリア性フィルムを構成する多層の珪素酸化物層についてその製造法を説明すると、図２は、プラズマ化学気相成長法により多層の珪素酸化物層を製膜化する低温プラズマ化学気相成長装置についてその概要を示す概略的構成図である。

本発明においては、図２に示すように、プラズマ化学気相成長装置２１としては、上記でその一方の面に金属酸化物層を形成した基材フィルム４を供給する供給室 2２、第１の製膜室２３、第２の製膜室２４、第３の製膜室２５、および、基材フィルム１の上に金属酸化物層と多層の珪素酸化物層を製膜化し、それらを重層した本発明にかかるバリア性フィルムを巻き取る巻取り室２６から構成されることを基本構造とするものである。

而して、本発明においては、まず、巻き出しロ−ル２７に巻き取られている、その一方の面に金属酸化物層を形成した基材フィルム４を第１の製膜室２３に繰り出し、更に、該基材フィルム４を、補助ロ−ル２９を介して所定の速度で冷却・電極ドラム３０周面上に搬送する。

次に、本発明においては、原料揮発供給装置３１、および、ガス供給装置３２等から有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、不活性ガス、その他等を供給し、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、原料供給ノズル３３を通して第１の製膜室２３内に上記の製膜用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム３０周面上に搬送された基材フィルム４の金属酸化物層の上に、グロ−放電プラズマ３４によってプラズマを発生させ、これを照射して、珪素酸化物等からなる第１層の珪素酸化物層を製膜化する。

次に、上記の第１の製膜室２３で金属酸化物層の上に第１層の珪素酸化物層を製膜化した基材フィルム４を補助ロ−ル３５、３６等を介して第２の製膜室２４に繰り出し、次いで、上記と同様に、金属酸化物層と第１層の珪素酸化物層とを製膜化した基材フィルム４を所定の速度で冷却・電極ドラム３７周面上に搬送する。

しかる後、上記と同様に、本発明においては、原料揮発供給装置３８、および、ガス供給装置３９等から有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、不活性ガス、その他等を供給し、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、原料供給ノズル４０を通して第２の製膜室２４内に上記の製膜用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム３７周面上に搬送された金属酸化物層と第１層の珪素酸化物層を製膜化した基材フィルム４の第１層の珪素酸化物層の上に、グロ−放電プラズマ４１によってプラズマを発生させ、これを照射して、珪素酸化物等からなる第２層の珪素酸化物層を製膜化する。

更に、本発明においては、上記と同様にして、上記の第２の製膜室２４で金属酸化物層と第１層と第２層の珪素酸化物層とを製膜化した基材フィルム４を補助ロ−ル４２、４３等を介して第３の製膜室２５に繰り出し、次いで、上記と同様に、金属酸化物層と第１層と第２層の珪素酸化物層とを製膜化した基材フィルム４を所定の速度で冷却・電極ドラム４４周面上に搬送する。

しかる後、上記と同様に、本発明においては、原料揮発供給装置４５、および、ガス供給装置４６等から有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、不活性ガス、その他等を供給し、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、原料供給ノズル４７を通して、第３の製膜室２５内に上記の製膜用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム４４周面上に搬送された金属酸化物層と第１層と第２層の珪素酸化物層とを製膜化した基材フィルム４の第２層の珪素酸化物層の上に、グロ−放電プラズマ４８によってプラズマを発生させ、これを照射して、珪素酸化物等からなる第３層の珪素酸化物層を製膜化する。

次いで、本発明においては、上記で金属酸化物層と第１層、第２層、および、第３層からなる多層の珪素酸化物層とを製膜化し、それらの層を重層した基材フィルム４を、補助ロ−ル４９を介して、巻取り室２６に繰り出し、次いで、巻取りロ−ル５０に巻き取って、金属酸化物層と第１層、第２層、および、第３層からなる多層の珪素酸化物層とが重層した本発明にかかるバリア性フィルムを製造することができるものである。

なお、本発明においては、各第１、第２、および、第３の製膜室２３、２４、２５に配設されている各冷却・電極ドラム３０、３７、４４は、各第１、第２、および、第３の製膜室２３、２４、２５の外に配置されている電源５１から所定の電力が印加されており、また、各冷却・電極ドラム３０、３７、４４の近傍には、マグネット５２、５３、５４を配置してプラズマの発生が促進されるものである。

なお、図示しないが、上記のプラズマ化学気相成長装置には、真空ポンプ等が設けられ、各製膜室等は真空に保持されるように調製し得ることは勿論である。

上記の例示は、その一例を例示するものであり、これによって本発明は限定されるものではないことは言うまでもないことである。

例えば、上記の例においては、第１層、第２層、および、第３層からなる多層の珪素酸化物層を重層した本発明にかかるバリア性フィルムを製造しているが、珪素酸化物層は、製膜室を任意に調製し、例えば、２層、あるいは、４層以上等からなる多層の珪素酸化物層を製膜化することができ、その層の数を任意に製膜化し、それらを重層した構造に任意に製膜化し得るものであり、本発明は、上記の第１層、第２層、および、第３層からなる多層の珪素酸化物層が重層した本発明にかかるバリア性フィルムを製造する例だけに限定されるものではないものである。

次に、本発明において、本発明にかかるバリア性フィルムを構成する多層の珪素酸化物層を製造するプラズマ化学気相成長装置について別の例を例示すると、図３に示すように、上記の図２に示すプラズマ化学気相成長装置２１において、原料揮発供給装置３１、３８、４５、および、ガス供給装置３２、３９、４６等から、有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、不活性ガス、その他等を供給し、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、原料供給ノズル３３、４０、４７を通して第１、第２、第３の製膜室２３、２４、２５内に上記の製膜用混合ガス組成物を導入する代りに、一つの製膜室に、二本の原料供給ノズルを設けることにより、すなわち、第１の製膜室２３に、二本の原料供給ノズル３３、３３ａを設けて、原料揮発供給装置３１、３１、および、ガス供給装置３２、３２等から、有機珪素化合物の１種以上からなる蒸着用モノマ−ガス、酸素ガス、不活性ガス、その他等を供給し、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、上記の二本の原料供給ノズル３３、３３ａから第１の製膜室２３内に上記の製膜用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム３０周面上に搬送された基材フィルム４の上に、グロ−放電プラズマ３４によってプラズマを発生させ、これを照射して、その一方の面に金属酸化物層を形成した基材フィルム４の金属酸化物層の上に、珪素酸化物等からなる第１層の珪素酸化物層を製膜化し、以下、上記と同様にし、第２の製膜室２４に、二本の原料供給ノズル４０、４０ａを設けて、原料揮発供給装置３８、３８、および、ガス供給装置３９、３９等から、有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、不活性ガス、その他等を供給し、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、上記の二本の原料供給ノズル４０、４０ａを通して第２の製膜室２４内に上記の製膜用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム３７周面上に搬送された第１層の珪素酸化物層を製膜化した金属酸化物層と第１の珪素酸化物層とを製膜化した基材フィルム４の第１層の珪素酸化物層の上に、グロ−放電プラズマ４１によってプラズマを発生させ、これを照射して、珪素酸化物等からなる第２層の珪素酸化物層を製膜化し、更に、上記と同様に、第３の製膜室２５に、二本の原料供給ノズル４７、４７ａを設けて、原料揮発供給装置４５、４５、および、ガス供給装置４６、４６等から有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、不活性ガス、その他等を供給し、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、上記の二本の原料供給ノズル４７、４７ａを通して、第３の製膜室２５内に上記の製膜用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム４４周面上に搬送された金属酸化物層と第１層と第２層の珪素酸化物層とを製膜化した基材フィルム４の第２層の珪素酸化物層の上に、グロ−放電プラズマ４８によってプラズマを発生させ、これを照射して、珪素酸化物等からなる第３層の珪素酸化物層を製膜化し、次いで、本発明においては、上記で金属酸化物層と第１層、第２層、および、第３層の多層の珪素酸化物層とを製膜化し、それらの層を重層した基材フィルム４を、補助ロ−ル４９を介して、巻取り室２６に繰り出し、次いで、巻取りロ−ル５０に巻き取って、金属酸化物層と第１層、第２層、および、第３層からなる多層の珪素酸化物層とが重層した本発明にかかるバリア性フィルムを製造することができるものである。

上記において、各製膜室は、真空ポンプ等により減圧し、真空度１×１０^-1〜１×１０^-8Ｔｏｒｒ位、好ましくは、真空度１×１０^-3〜１×１０^-7Ｔｏｒｒ位に調製することが望ましいものである。

一方、各冷却・電極ドラムには、電源から所定の電圧が印加されているため、各製膜室内の原料供給ノズルの開口部と冷却・電極ドラムとの近傍でグロ−放電プラズマが生成され、このグロ−放電プラズマは、製膜用混合ガス組成物なかの１つ以上のガス成分から導出されるものであり、この状態において、基材フィルムを一定速度で搬送させ、グロ−放電プラブマによって、冷却・電極ドラム周面上の基材フィルムの上に、珪素酸化物等からなる珪素酸化物層を製膜化することができるものである。

なお、このときの各製膜室内の真空度は、１×１０^-1〜１×１０^-4Ｔｏｒｒ位、好ましくは、真空度１×１０^-1〜１×１０^-2Ｔｏｒｒ位に調製することが望ましく、また、基材フィルムの搬送速度は、１０〜３００ｍ／分位、好ましくは、５０〜１５０ｍ／分位に調製することが望ましいものである。

なお、本発明において、各製膜室内の真空度は、各室において同じないし異なっていてもよいものである。

また、原料揮発供給装置においては、原料である有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマ−ガスを揮発させ、ガス供給装置から供給される酸素ガス、不活性ガス等と混合させ、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、その製膜用混合ガス組成物を原料供給ノズルを介して各製膜室内に導入されるものである。

この場合、製膜用混合ガス組成物の各ガス成分のガス混合比としては、有機珪素化合物の１種からなる製膜用モノマ−ガスの含有量は、１〜４０％位、酸素ガスの含有量は、０〜７０％位、不活性ガスの含有量は、１〜６０％位の範囲として調製することが好ましいものである。

而して、本発明においては、各製膜室毎に、各製膜室に導入される製膜用混合ガス組成物の各ガス成分のガス混合比を変えて調製した製膜用混合ガス組成物を使用し、各製膜室毎に製膜化して、珪素酸化物等からなる珪素酸化物層を重層して、本発明にかかるバリア製フィルムを製造するものである。

すなわち、本発明においては、少なくとも、有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、および、不活性ガスを含有する製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えて２以上の製膜用混合ガス組成物を調製し、その製膜用混合ガス組成物を各製膜室毎に変えて使用し、それらの各製膜用混合ガス組成物を使用した２層以上のプラズマ化学気相成長法による多層の珪素酸化物層を製膜化するものである。

ところで、本発明において、上記の製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比としては、例えば、第１の製膜用混合ガス組成物としては、製膜用モノマ−ガス：酸素ガス：不活性ガス＝１：０〜５：１（単位：ｓｌｍ、スタンダ−ドリッタ−ミニットの略である。）のガス組成比からなる製膜用混合ガス組成物、また、他の第２の製膜用混合ガス組成物としては、製膜用モノマ−ガス：酸素ガス：不活性ガス＝１：６〜１５：１（単位：ｓｌｍ、スタンダ−ドリッタ−ミニットの略である。）のガス組成比からなる製膜用混合ガス組成物等を使用することができる。

而して、本発明においては、上記のような製膜用混合ガス組成物を任意に組み合わせて、第１、第２、あるいは、第３の製膜室に、製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えた製膜用混合ガス組成物を使用して製膜化することができるものである。

なお、上記の製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えた製膜用混合ガス組成物を使用して製膜化する場合、第１の製膜用混合ガス組成物を使用すると、製膜化した珪素酸化物層中の炭素原子量が増加し、Ｃ−Ｃ結合、Ｓｉ−ＣＨ₃ 結合が増加する傾向にあり、それにより、柔軟性の高い、かつ、水蒸気に対して高いバリア性を持つ撥水性の珪素酸化物層を製膜化可能とすることができる。

また、本発明において、第２の製膜用混合ガス組成物を使用すると、製膜化した珪素酸化物層中に適度の炭素量を含有することができ、また、Ｓｉ−ＣＨ₃ 結合も適度に含有することができ、それにより、柔軟性が高く、更に、酸素に対して高いバリア性を持つ珪素酸化物層を製膜化可能とすることができる。

而して、本発明において、上記のような製膜用混合ガス組成物を使用し、製膜化する場合、その製膜用混合ガス組成物を使用する順序としては、例えば、第１の製膜用混合ガス組成物、第２の製膜用混合ガス組成物の順、あるいは、第１の製膜用混合ガス組成物、第２の製膜用混合ガス組成物、第１の製膜用混合ガス組成物の順等で各製膜用混合ガス組成物を各製膜室に導入して製膜化することが好ましいものである。

上記において、第１の製膜用混合ガス組成物を２室で使用することにより、柔軟性が高く、水蒸気に対して高いバリア性を持つ珪素酸化物層を製膜化可能とするという利点を有するものである。

また、上記のプラズマ化学気相成長装置において、珪素酸化物等からなる珪素酸化物層の製膜化は、各製膜室において、基材フィルムの上に、プラズマ化した原料ガスを酸素ガスで酸化しながらＳｉＯ_X の形で薄膜状に製膜化されるので、当該製膜化される珪素酸化物等からなる珪素酸化物層は、多層に重層された構造からなり、各層共に、緻密で、隙間の少ない、延展性、屈曲性、可撓性等に富む薄膜となるものであり、従って、酸化珪素等からなる珪素酸化物のバリア性は、従来の真空蒸着法等によって形成される珪素酸化物等からなる珪素酸化物層と比較してはるかに高いものとなり、しかも、多層に重層した構造体からなることから、極めて高い、十分なバリア性を得ることができるものである。

また、本発明においては、ＳｉＯ_X プラズマにより基材フィルムの表面が、清浄化され、基材フィルムの表面に、極性基やフリ−ラジカル等が発生するので、製膜化される珪素酸化物等からなる珪素酸化物層と基材フィルムとの密接着性が高いものとなるという利点を有するものである。

更に、上記のように珪素酸化物等からなる珪素酸化物層の製膜化時の真空度は、１×１０^-1〜１×１０^-4Ｔｏｒｒ位、好ましくは、１×１０^-1〜１×１０^-2Ｔｏｒｒ位に調製することから、従来の真空蒸着法により珪素酸化物等からなる珪素酸化物層を製膜化する時の真空度、１×１０^-4〜１×１０^-5Ｔｏｒｒ位に比較して低真空度であることから、基材フィルムを原反交換時の真空状態設定時間を短くすることができ、真空度を安定しやすく、製膜プロセスが安定するものである。

また、本発明において、各製膜室で製膜化される、有機珪素化合物の１種以上からなる蒸着モノマ−ガスを使用して形成される珪素酸化物等からなる珪素酸化物層は、有機珪素化合物の１種以上からなる蒸着モノマ−ガスと酸素ガス等とが化学反応し、その反応生成物が、基材フィルムの一方の面に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜を形成するものであり、通常、一般式ＳｉＯ_X （ただし、Ｘは、０〜２の数を表す）で表される珪素酸化物を主体とする連続状の薄膜からなるものである。

而して、上記の各製膜室で製膜化される珪素酸化物層としては、透明性、バリア性等の点から、一般式ＳｉＯ_X （ただし、Ｘは、１．３〜１．９の数を表す。）で表される珪素酸化物を主体とする薄膜であることが好ましいものである。

上記において、Ｘの値は、有機珪素化合物の１種以上からなる蒸着モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマのエネルギ−等により変化するが、一般的に、Ｘの値が小さくなればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色性を帯び、透明性が悪くなる。

また、本発明において、各製膜室において製膜化される珪素酸化物等からなる珪素酸化物層は、珪素酸化物を主体とし、これに、更に、炭素、水素、珪素または酸素の１種類、または、その２種類以上の元素からなる化合物を少なくとも１種類を化学結合等により含有する蒸着膜からなることを特徴とするものである。

例えば、Ｃ−Ｈ結合を有する化合物、Ｓｉ−Ｈ結合を有する化合物、または、炭素単位がグラファイト状、ダイヤモンド状、フラ−レン状等になっている場合、更に、原料の有機珪素化合物やそれらの誘導体を化学結合等によって含有する場合があるものである。

具体例を挙げると、ＣＨ₃ 部位を持つハイドロカ−ボン、ＳｉＨ₃ シリル、ＳｉＨ₂ シリレン等のハイドロシリカ、ＳｉＨ₂ ＯＨシラノ−ル等の水酸基誘導体等を挙げることができる。

上記以外でも、製膜化過程の条件等を変化させることにより、各製膜室において製膜化される珪素酸化物層中に含有される化合物の種類、量等を変化させることができる。

而して、上記の化合物が、各製膜室において製膜化される珪素酸化物層中に含有する含有量としては、０．１〜５０％位、好ましくは、５〜２０％位が望ましいものである。

上記において、含有率が、０．１％未満であると、各製膜室において製膜化される珪素酸化物層の耐衝撃性、延展性、屈曲性、可撓性、柔軟性等が不十分となり、曲げなどにより、擦り傷、クラック等が発生し易く、高いバリア性を安定して維持することが困難になり、また、５０％を越えると、バリア性が低下して好ましくないものである。

更に、本発明においては、各製膜室において製膜化される珪素酸化物層において、上記の化合物の含有量が、各珪素酸化物層の表面から深さ方向に向かって増加させることが好ましく、これにより、各珪素酸化物層の表面においては、上記の化合物等により耐衝撃性等を高められ、他方、基材フィルムとの界面においては、上記の化合物の含有量が少ないために、基材フィルムと珪素酸化物層との密着性、あるいは、珪素酸化物層と珪素酸化物層との密着性等が強固なものとなるという利点を有するものである。

而して、本発明において、各製膜室において製膜化される上記の珪素酸化物層について、例えば、Ｘ線光電子分光装置（Ｘｒａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ、ＸＰＳ）、二次イオン質量分析装置（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ Ｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ、ＳＩＭＳ）等の表面分析装置を用い、深さ方向にイオンエッチング等により分析する方法を利用して、各珪素酸化物層の元素分析を行うことより、上記のような物性を確認することができる。

また、本発明において、上記の第１の製膜用混合ガス組成物を使用して製膜化した珪素酸化物層は、Ｓｉ原子数１００に対しＯ原子数１５０〜２００、Ｃ原子数５０〜１００の成分割合からなり、更に、１０３０ｃｍ^-1〜１０６０ｃｍ^-1の間にＳｉ−Ｏ−Ｓｉ伸縮振動に基づくＩＲ吸収があり、かつ、１２７４±４ｃｍ^-1にＳｉ−ＣＨ₃ 伸縮振動に基づくＩＲ吸収があることを特徴とするものである。

而して、上記のようなことは、珪素酸化物層中に炭素成分が含まれており、Ｃ−Ｃ結合、Ｓｉ−ＣＨ₃ 結合が多く含まれているため、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ伸縮振動に基づくＩＲ吸収のピ−ク位置が、減少する方へシフトしていることを示しているものである。

すなわち、柔軟性の高い、水蒸気に対して高いバリア性を持つ撥水性の膜であることを確認することができるものである。

更に、本発明において、上記の第２の製膜用混合ガス組成物を使用して製膜化した珪素酸化物層は、Ｓｉ原子数１００に対しＯ原子数１５０〜２００、Ｃ原子数５０以下の成分割合からなり、更に、１０４５ｃｍ^-1〜１０７５ｃｍ^-1の間にＳｉ−Ｏ−Ｓｉ伸縮振動に基づくＩＲ吸収があり、かつ、１２７４±４ｃｍ^-1にＳｉ−ＣＨ₃ 伸縮振動に基づくＩＲ吸収があることを特徴とするものである。

而して、上記のようなことは、珪素酸化物層中の炭素成分が少なく、Ｓｉ−ＣＨ₃ 結合のみが含まれているため、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ伸縮振動に基づくＩＲ吸収のピ−ク位置が、シフトしていないことを示しているものである。

すなわち、柔軟性の高い、酸素に対して高いバリア性を持つ膜であることを確認することができるものである。

次に、本発明において、バリア性層を構成する各製膜室において製膜化される珪素酸化物層の総膜厚としては、膜厚６０Å〜４０００Å位であることが望ましく、具体的には、その膜厚としては、１００〜１０００Å位が望ましく、而して、上記において、１０００Å、更には、４０００Åより厚くなると、その膜にクラック等が発生し易くなるので好ましくなく、また、１００Å、更には、６０Å未満であると、バリア性の効果を奏することが困難になることから好ましくないものである。

また、本発明において、バリア性層を構成する各製膜室において製膜化される珪素酸化物層の各層の膜厚としては、まず、第１層を構成する珪素酸化物層の膜厚としては、２０Å〜２００Å位、好ましくは、３０Å〜１００Å位が望ましく、また、第２層を構成する珪素酸化物層の膜厚としては、２０Å〜２００Å位、好ましくは、３０Å〜１００Å位が望ましく、更に、第３層を構成する珪素酸化物層の膜厚としては、２０Å〜２００Å位、好ましくは、３０Å〜１００Å位が望ましいものである。

上記において、２０Å以下であると、それ自身のバリア性が発現しないことから好ましくなく、また、２００Åを越えると、膜にクラック等が入りやすく、特に、製膜中に、基材フィルムが巻き取られる間にクラックが入りやすい傾向にあることから好ましくないものである。

上記のおいて、その膜厚は、例えば、株式会社理学製の蛍光Ｘ線分析装置（機種名、ＲＩＸ２０００型）を用いて、ファンダメンタルパラメ−タ−法で測定することができる。

また、上記において、上記の珪素酸化物層の膜厚を変更する手段としては、その層の体積速度を大きくすること、すなわち、製膜用モノマ−ガスと酸素ガスの量を多くする方法や製膜する速度を遅くする方法等によって行うことができる。

次に、本発明において、製膜用モノマ−ガスを構成する有機珪素化合物としては、例えば、１．１．３．３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他等を使用することができる。

本発明において、上記のような有機珪素化合物の中でも、１．１．３．３−テトラメチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成された連続膜の特性等から、特に、好ましい原料である。

また、本発明において、不活性ガスとしては、例えば、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用することができる。

本発明において、上記のように基材フィルムの一方の面に、物理気相成長法による金属酸化物層を設けた後、該金属酸化物層の上に、多層の珪素酸化物層を設け、その金属酸化物層と多層の珪素酸化物層とからなるバリア性層を形成して、本発明にかかるバリア性フィルムを製造することがてきる。

なお、本発明において、前述の多層の珪素酸化物を形成するプラズマ化学気相成長装置と金属酸化物層を形成する巻き取り式真空蒸着装置とは、インラインでその両者が連結されて配設されてもよく、また、オフラインで個々に配設されていてもよいものである。

次に、本発明において、本発明にかかるバリア性フィルムを構成する基材フィルムについて説明すると、かかる基材フィルムとしては、化学的ないし物理的強度に優れ、各珪素酸化物層、金属酸化物層等を製膜化する条件等に耐え、また、その珪素酸化物層、金属酸化物層等の膜特性を損なうことなく良好に保持し得ることができる樹脂のフィルムないしシートを使用することができる。

而して、本発明において、上記の樹脂のフィルムないしシートとしては、具体的には、例えば、ポリエチレン系樹脂あるいはポリプロピレン系樹脂等のポリオレフイン系樹脂、環状ポリオレフイン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリルースチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリルループタジェンースチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、各種のナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アセタール系樹脂、セルロース系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィルムないしシートを使用することができる。

本発明においては、上記の樹脂のフィルムないしシートの中でも、特に、ポリエステル系樹脂、ポリオレフイン系樹脂、または、ポリアミド系樹脂のフィルムないしシートを使用することが好ましいものである。

本発明において、上記の各種の樹脂のフィルムないしシートとしては、例えば、上記の各種の樹脂の１種ないしそれ以上を使用し、押出法、キャスト成形法、Ｔダイ法、切削法、インフレーション法、その他等の製膜化法を用いて、上記の各種の樹脂を単独で製膜化する方法、あるいは、２種以上の各種の樹脂を使用して多層共押し出し製膜化する方法、更には、２種以上の樹脂を使用し、製膜化する前に混合して製膜化する方法等により、各種の樹脂のフィルムないしシートを製造し、更に、要すれば、例えば、テンター方式、あるいは、チューブラー方式等を利用して１軸ないし２軸方向に延伸してなる各種の樹脂のフィルムないしシートを使用することができる。

本発明において、各種の樹脂のフィルムないしシートの膜厚としては、６〜２００μm 位、より好ましくは、９〜１００μm 位が望ましい。

なお、上記の各種の樹脂の１種ないしそれ以上を使用し、その製膜化に際して、例えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、強度、その他等を改良、改質する目的で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量としては、極く微量から数十％まで、その目的に応じて、任意に添加することができる。

上記において、一般的な添加剤としては、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料、その他等を使用することができ、更には、改質用樹脂等も使用することがてきる。

また、本発明において、各種の樹脂のフィルムないしシートの表面は、無機酸化物の蒸着膜との密接着性等を向上させるために、必要に応じて、予め、所望の表面処理層を設けることができるものである。

本発明において、上記の表面処理層としては、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理、化学薬品等を用いて処理する酸化処理、その他等の前処理を任意に施し、例えば、コロナ処理層、オゾン処理層、プラズマ処理層、酸化処理層、その他等を形成して設けることができる。

上記の表面前処理は、各種の樹脂のフィルムないしシートと無機酸化物の蒸着膜との密接着性等を改善するための方法として実施するものであるが、上記の密接着性を改善する方法として、その他、例えば、各種の樹脂のフィルムないしシートの表面に、予め、プライマーコート剤層、アンダーコート剤層、アンカーコート剤層、接着剤層、あるいは、蒸着アンカーコート剤層等を任意に形成して、表面処理層とすることもできる。

上記の前処理のコート剤層としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレン或いはポリプロピレン等のポリオレフイン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹脂、セルロース系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用することができる。

以上の説明で明らかなように、上記のようして製膜化して製造される本発明にかかるバリア性フィルムは、図４に示すように、基材フィルム５１と、該基材フィルム５１の一方の面に設けたバリア性層５２とからなり、更に、該バリア性層５２は、物理気相成長法により設けた金属酸化物層５３と、該金属酸化物層５３の上に設けた、少なくとも２室以上の製膜室を使用し、かつ、各製膜室毎に、少なくとも、有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、および、不活性ガスを含有する製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えて調製した２以上の製膜用混合ガス組成物を使用し、その各製膜用混合ガス組成物を使用して製膜した２層以上のプラズマ化学気相成長法による多層の珪素酸化物層５４ａ、５４ｂ、５４ｃとからなり、更に、上記の各珪素酸化物層５４ａ、５４ｂ、５４ｃは、珪素酸化物を主体とし、炭素、水素、珪素、および、酸素の中の１種類または２種類以上の元素からなる化合物を少なくとも１種類含有し、かつ、各珪素酸化物層５３ａ、５３ｂ、５３ｃ毎に上記の化合物の含有量が異なる構成からなることを特徴とするバリア性フィルムＡに係るものである。

而して、本発明にかかるバリア性フィルムは、まず、基材フィルムの上に、先に設けた金属酸化物層によるバリア性と共に、プラズマ化学気相成長法により珪素酸化物層を金属酸化物層の上に多層に積層することにより、金属酸化物層と珪素酸化物層との密着性に優れていると共にその珪素酸化物層は、延展性、屈曲性、可撓性、柔軟性等に優れ、かつ、第１層目から極めて優れた高いバリア性に富む膜を製膜化することができ、更に、少なくとも２室以上の製膜室からなるプラズマ化学気相成長装置を使用して珪素酸化物層を連続的に２層以上を積層させ、かつ、それぞれの各層が、高いバリア性を有する膜を製膜化成することができることから、単層のそれよりも更に高いガスバリア性を得ることができ、かつ、大気に開放ぜす連続的に製膜化することによりクラックの発生原因となる異物、塵埃等が製膜層間に混入することを防止することができ、更に、そのバリア性の低下も認められず、更にまた、各珪素酸化物層は、珪素酸化物を主体とし、炭素、水素、珪素、および、酸素の中の１種類または２種類以上の元素からなる化合物を少なくとも１種類含有し、かつ、各珪素酸化物層毎に上記の化合物の含有量が異なる不連続層であることから、酸素ガス、水蒸気等の透過を完全に阻止することができ、特に、金属酸化物層は、延展性、屈曲性、可撓性、柔軟性等に優れた多層の珪素酸化物層との密接着性に優れ、該珪素酸化物層と金属酸化物層との重層膜により、その両者によるハイバリア性膜を構成することができ、例えば、包装用材料等に使用されるバリア性素材として、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するガスバリア性に優れると共にそのガスバリア性の性能の低下も認められない極めて有用なバリア性フィルムを製造し得ることができるというものである。

このため、本発明にかかるバリア性フィルムは、例えば、包装用材料等に使用されるバリア性素材として、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するガスバリア性に優れ、更に、そのガスバリア性の性能の低下も認められない極めて有用なバリア性フィルムにかかるものである。

すなわち、本発明において、上記で製造される本発明にかかるバリア性フィルムは、これをバリア性素材として使用し、これと、他のプラスチックフィルム、紙基材、金属箔ないし金属板、セロハン、織布ないし不織布、ガラス板、その他等の種々の基材の１種ないし２種以上と任意に積層して、種々の形態からなる積層材を製造し、而して、該積層材を包装用材料、光学部材、太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト、有機ＥＬディスプレイ用保護フィルム、フィルム液晶ディスプレイ用保護フィルム、ポリマ−バッテリ−用包材、または、アルミ包装材料、その他等の種々の用途に適用し得るものである。

上記の積層材の製造法について例示すれば、例えば、前述の本発明にかかるバリア性フィルムを構成するバリア性層を形成する珪素酸化物層の面に、まず、プライマ−剤層を形成し、次いで、該プライマ−剤層の面に、ラミネ−ト用接着剤層を形成し、しかる後、該プライマ−剤層およびラミネ−ト用接着剤層等を介して、例えば、ヒ−トシ−ル性樹脂層等を構成するプラスチックチフィルム等の所望の基材をドライラミネ−ト積層法を用いて積層することにより、種々の形態からなる積層材を製造することができる。

あるいは、本発明においては、例えば、本発明かかるバリア性フィルムを構成するバリア性層を形成する珪素酸化物層の面に、まず、プライマ−剤層を形成し、次いで、該プライマ−剤層の面に、アンカ−コ−ト剤層を形成し、しかる後、該プライマ−剤層およびアンカ−コ−ト剤層等を介して、各種の樹脂等を溶融押出して、例えば、ヒ−トシ−ル性樹脂層等を構成するプラスチックチフィルム等の所望の基材を積層する押出ラミネ−ト積層法を用いて積層することにより、各種の形態からなる積層材を製造することができる。

なお、本発明においては、本発明にかかるバリア性フィルムを構成する基材フィルムの面にも、上記と同様にして所望の他の基材を任意に積層して種々の形態からなる積層材を製造し得るものであり、また、本発明においては、各層間に所望の基材を任意に積層して種々の形態からなる積層材を製造し得るものであり、而して、本発明においては、その使用目的、使用形態、用途、その他等によって、他の基材を任意に積層して、種々の形態の積層材を設計して製造することができるものである。

また、本発明において、上記のような積層を行う際に、本発明にかかるバリア性フィルムを構成するバリア性層を形成する珪素酸化物層の面には、例えば、プラズマ処理、コロナ放電処理、その他等の前処理を任意に行うことができるものである。

次に、本発明において、上記のような積層材の使用例として、包装用容器を例にして説明すると、本発明においては、包装用容器としては、例えば、上記の積層材を２枚用意し、その最内層に位置するヒ−トシ−ル性樹脂層の面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部の三方をヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成すると共に上方に開口部を設けて、三方シ−ル型の軟包装用容器を製造することができる。

而して、本発明においては、図示しないが、上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用容器の開口部から、例えば、飲食品、その他等の内容物を充填し、次いで、上方の開口部をヒ−トシ−ルして上方のシ−ル部等を形成し、更に、必要に応じて、例えば、ボイル処理、レトルト処理等を施して、種々の形態からなる包装製品を製造することができるものである。

なお、本発明においては、上記に例示の包装用容器に限定されるものでないことは言うまでもないことであり、その目的、用途等により、軟包装用袋、液体紙製容器、紙缶、その他等の種々の形態の包装用容器を製造することができることは言うまでもないことである。

次に、本発明において、上記の積層材を構成するプライマ−剤層について説明すると、かかるプライマ−剤層としては、まず、ポリウレタン系樹脂あるいはポリエステル系樹脂等をビヒクルの主成分とし、該ポリウレタン系樹脂あるいはポリエステル系樹脂等１〜３０重量％に対し、シランカップリング剤０．０５〜１０重量％位、好ましくは、０．１重量％〜５重量％位、充填剤０．１〜２０重量％位、好ましくは、１〜１０重量％位の割合で添加し、更に、必要ならば、安定剤、硬化剤、架橋剤、滑剤、紫外線吸収剤、その他等の添加剤を任意に添加し、溶媒、希釈剤等を加えて充分に混合してポリウレタン系あるいはポリエステル系樹脂組成物を調整し、而して、該ポリウレタン系あるいはポリエステル系樹脂組成物を使用し、これを、例えば、ロ−ルコ−ト、グラビアコ−ト、ナイフコ−ト、デップコ−ト、スプレイコ−ト、その他のコ−ティング法等により、前述の本発明にかかるバリア性フィルムを構成するバリア性層を形成する珪素酸化物層の面にコ−ティングし、しかる後、コ−ティング膜を乾燥させて溶媒、希釈剤等を除去し、更に、要すれば、エ−ジング処理等を行って、本発明にかかるプライマ−剤層を形成することができる。

なお、本発明において、プライマ−剤層の膜厚としては、例えば、０．１ｇ／ｍ² 〜１．０ｇ／ｍ² （乾燥状態）位が望ましい。

而して、本発明においては、上記のようなプライマ−剤層により、本発明にかかるバリア性フィルムを構成するバリア性層を形成する金属酸化物層と、ヒ−トシ−ル性樹脂層との密接着性等を向上させると共にプライマ−剤層の伸長度を向上させ、例えば、ラミネ−ト加工、あるいは、製袋加工等の後加工適性を向上させ、後加工時における本発明にかかるバリア性フィルムを構成する珪素酸化物層のクラック等の発生を防止するものである。

上記において、ポリウレタン系樹脂組成物を構成するポリウレタン系樹脂としては、例えば、多官能イソシアネ−トとヒドロキシル基含有化合物との反応により得られるポリウレタン系樹脂を使用することができる。

具体的には、例えば、トリレンジイソシアナ−ト、ジフェニルメタンジイソシアナ−ト、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアナ−ト等の芳香族ポリイソシアナ−ト、あるいは、ヘキサメチレンジイソシアナ−ト、キシリレンジイソシアナ−ト等の脂肪族ポリイソシアナ−ト等の多官能イソシアネ−トと、ポリエ−テルポリオ−ル、ポリエステルポリオ−ル、ポリアクリレ−トポリオ−ル、その他等のヒドロキシル基含有化合物との反応により得られる一液ないし二液硬化型のポリウレタン系樹脂を使用することができる。

而して、本発明において、上記のようなポリウレタン系樹脂を使用することにより、珪素酸化物層とヒ−トシ−ル性樹脂層との密接着性等を向上させると共にプライマ−剤層の伸長度を向上させ、例えば、ラミネ−ト加工、あるいは、製袋加工等の後加工適性を向上させ、後加工時における珪素酸化物層のクラック等の発生を防止するものである。

また、上記において、上記のポリエステル系樹脂組成物を構成するポリエステル系樹脂としては、例えば、例えば、テレフタル酸等のベンゼン核を基本骨格とする芳香族飽和ジカルボン酸の一種またはそれ以上と、飽和二価アルコ−ルの一種またはそれ以上との重縮合により生成する熱可塑性のポリエステル系樹脂を使用することができる。 上記において、ベンゼン核を基本骨格とする芳香族飽和ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、ジフェニルエ−テル−４、４−ジカルボン酸、その他等を使用することができる。

また、上記において、飽和二価アルコ−ルとしては、エチレングリコ−ル、プロピレングリコ−ル、トリメチレングリコ−ル、テトラメチレングリコ−ル、ジエチレングリコ−ル、ポリエチレングリコ−ル、ポリプロピレングリコ−ル、ポリテトラメチレングリコ−ル、ヘキサメチレングリコ−ル、ドデカメチレングリコ−ル、ネオペンチルグリコ−ル等の脂肪族グリコ−ル、シクロヘキサンジメタノ−ル等の脂環族グリコ−ル、２．２−ビス（４′−β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン、ナフタレンジオ−ル、その他の芳香族ジオ−等を使用することができる。

本発明において、上記のポリエステル系樹脂としては、具体的には、例えば、テレフタル酸とエチレングリコ−ルとの重縮合により生成する熱可塑性ポリエチレンテレフタレ−ト樹脂、テレフタル酸とテトラメチレングリコ−ルとの重縮合により生成する熱可塑性ポリブチレンテレフタレ−ト樹脂、テレフタル酸と１、４−シクロヘキサンジメタノ−ルとの重縮合により生成する熱可塑性ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレ−ト樹脂、テレフタル酸とイソフタル酸とエチレングリコ−ルとの共重縮合により生成する熱可塑性ポリエチレンテレフタレ−ト樹脂、テレフタル酸とエチレングリコ−ルと１、４−シクロヘキサンジメタノ−ルとの共重縮合により生成する熱可塑性ポリエチレンテレフタレ−ト樹脂、テレフタル酸とイソフタル酸とエチレングリコ−ルとプロピレングリコ−ルとの共重縮合により生成する熱可塑性ポリエチレンテレフタレ−ト樹脂、ポリエステルポリオ−ル樹脂、その他等を使用することができる。

なお、本発明においては、上記のようなベンゼン核を基本骨格とする飽和芳香族ジカルボン酸に、更に、例えば、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン酸等の脂肪族飽和ジカルボン酸の一種ないしそれ以上を添加して共重縮合することもでき、その使用量としては、ベンゼン核を基本骨格とする芳香族飽和ジカルボン酸に対し、１〜１０重量％位を添加して使用することが好ましい。

而して、本発明において、上記のようなポリエステル系樹脂を使用することにより、その密接着性等を向上させると共にプライマ−剤層の伸長度を向上させ、例えば、ラミネ−ト加工、あるいは、製袋加工等の後加工適性を向上させ、後加工時における珪素酸化物層のクラック等の発生を防止するものである。

次にまた、上記において、ポリウレタン系あるいはポリエステル系樹脂組成物を構成するシランカップリング剤としては、二元反応性を有する有機官能性シランモノマ−類を使用することができ、例えば、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルシリコ−ンの水溶液等の１種ないしそれ以上を使用することができる。

上記のようなシランカップリング剤は、その分子の一端にある官能基、通常、クロロ、アルコキシ、または、アセトキシ基等が加水分解し、シラノ−ル基（ＳｉＯＨ）を形成し、これが、珪素酸化物層を構成する金属、あるいは、珪素酸化物層の膜表面上の活性な基、例えば、水酸基等の官能基と何らかの作用により、例えば、脱水縮合反応等の反応を起こして、珪素酸化物層の膜表面上にシランカップリング剤が共有結合等で修飾され、更に、シラノ−ル基自体の珪素酸化物層の膜表面に吸着や水素結合等により強固な結合を形成する。

他方、シランカップリング剤の他端にあるビニル、メタクリロキシ、アミノ、エポキシ、あるいは、メルカプト等の有機官能基が、そのシランカップリング剤の薄膜の上に形成される、例えば、印刷模様層、ラミネ−ト用接着剤層、アンカ−コ−ト剤層、その他の層等を構成する物質と反応して強固な結合を形成し、更に、上記の印刷模様層、ラミネ−ト用接着剤層、アンカ−コ−ト剤層等を介して、ヒ−トシ−ル性樹脂層が強固に密接着して、そのラミネ−ト強度を高め、このようにして、本発明においては、ラミネ−ト強度の高い強固な積層構造を形成可能とするものである。

本発明においては、シランカップリング剤が有する無機性と有機性とを利用し、珪素酸化物層と、印刷模様層、接着剤層あるいはアンカ−コ−ト剤層を介して、ヒ−トシ−ル性樹脂層との密接着性を向上させ、これにより、そのラミネ−ト強度等を高めるものである。

次に、本発明において、上記のポリウレタン系あるいはポリエステル系樹脂組成物を構成する充填剤としては、例えば、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナホワイト、シリカ、タルク、ガラスフリット、樹脂粉末、その他等のものを使用することができる。

而して、上記の充填剤は、ポリウレタン系あるいはポリエステル系樹脂組成物液の粘度等を調製し、そのコ−ティング適性を向上させると共にバインダ−樹脂としてのポリウレタン系あるいはポリエステル系樹脂とシランカップリング剤を介して結合し、コ−ティング膜の凝集力を向上させるものである。

次に、本発明において、積層材を構成するラミネ−ト用接着剤層について説明すると、かかるラミネ−ト用接着剤層を構成する接着剤としては、例えば、ポリ酢酸ビニル系接着剤、アクリル酸のエチル、ブチル、２−エチルヘキシルエステル等のホモポリマ−、あるいは、これらとメタクリル酸メチル、アクリロニトリル、スチレン等との共重合体等からなるポリアクリル酸エステル系接着剤、シアノアクリレ−ト系接着剤、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸エチル、アクリル酸、メタクリル酸等のモノマ−との共重合体等からなるエチレン共重合体系接着剤、セルロ−ス系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリアミド系接着剤、ポリイミド系接着剤、尿素樹脂またはメラミン樹脂等からなるアミノ樹脂系接着剤、フェノ−ル樹脂系接着剤、エポキシ系接着剤、ポリウレタン系接着剤、反応型（メタ）アクリル系接着剤、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム等からなるゴム系接着剤、シリコ−ン系接着剤、アルカリ金属シリケ−ト、低融点ガラス等からなる無機系接着剤、その他等の接着剤を使用することがてきる。

上記の接着剤の組成系は、水性型、溶液型、エマルジョン型、分散型等のいずれの組成物形態でもよく、また、その性状は、フィルム・シ−ト状、粉末状、固形状等のいずれの形態でもよく、更に、接着機構については、化学反応型、溶剤揮発型、熱溶融型、熱圧型等のいずれの形態でもよいものである。

而して、上記の接着剤は、例えば、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、その他等のコ−ト法、あるいは、印刷法等によって施すことができ、そのコ−ティング量としては、０．１〜１０ｇ／ｍ² （乾燥状態）位が望ましい。

次に、本発明において、積層材を構成するアンカ−コ−ト剤層について説明すると、かかるアンカ−コ−ト剤層を構成するアンカ−コ−ト剤としては、例えば、アルキルチタネ−ト等の有機チタン系、イソシアネ−ト系、ポリエチレンイミン系、ポリプタジエン系、その他等の水性ないし油性の各種のアンカ−コ−ト剤を使用することができる。

上記のアンカ−コ−ト剤は、例えば、ロ−ルコ−ト、グラビアロ−ルコ−ト、キスコ−ト、その他等のコ−ティング法を用いてコ−ティングすることができ、そのコ−ティング量としては、０．１〜５ｇ／ｍ² （乾燥状態）位が望ましい。

また、上記の溶融押出積層方式における溶融押出樹脂層としては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、酸変性ポリエチレン系樹脂、酸変性ポリプロピレン系樹脂、エチレン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、サ−リン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル系樹脂、エチレン−アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル共重合体、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、その他等の熱可塑性樹脂の１種ないし２種以上を使用することができる。
なお、上記の溶融押出積層方式において、より強固な接着強度を得るために、例えば、上記のアンカ−コ−ト剤等のアンカ−コ−ト剤層を介して、積層することができる。

次に、本発明において、積層材の最内層等を形成するプラスチックフィルム等の基材としては、例えば、熱によって溶融し相互に融着し得るヒ−トシ−ル性樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができ、具体的には、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状（線状）低密度ポリエチレン、メタロセン触媒を使用して重合したエチレン−α・オレフィン共重合体、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸メチル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポリブテンポリマ−、ポリエチレンまたはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマ−ル酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフィン樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、その他等の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
而して、上記のフィルムないしシ−トは、その樹脂を含む組成物によるコ−ティング膜の状態で使用することができる。
その膜もしくはフィルムないしシ−トの厚さとしては、５μｍないし３００μｍ位が好ましくは、更には、１０μｍないし１００μｍ位が望ましい。

更にまた、本発明において、上記の積層材を構成するプラスチックフィルム等の基材としては、例えば、積層材の基本素材となるものとして、機械的、物理的、化学的、その他等において優れた性質を有し、特に、強度を有して強靱であり、かつ耐熱性を有する樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができ、具体的には、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアラミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、フッ素系樹脂、その他等の強靱な樹脂のフィルムないしシ−ト、その他等を使用することができる。
而して、上記の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、未延伸フィルム、あるいは、一軸方向または二軸方向に延伸した延伸フィルム等のいずれのものでも使用することができる。
そのフィルムの厚さとしては、５μｍないし１００μｍ位、好ましくは、１０μｍないし５０μｍ位が望ましい。
なお、本発明においては、上記のような基材フィルムには、例えば、文字、図形、記号、絵柄、模様等の所望の印刷絵柄を通常の印刷法で表刷り印刷あるいは裏刷り印刷等が施されていてもよい。

次にまた、本発明において、上記の積層材を構成する基材としては、例えば、紙層を構成する各種の紙基材を使用することができ、具体的には、本発明において、紙基材としては、賦型性、耐屈曲性、剛性等を持たせるものであり、例えば、強サイズ性の晒または未晒の紙基材、あるいは純白ロ−ル紙、クラフト紙、板紙、加工紙等の紙基材、その他等を使用することができる。
上記において、紙層を構成する紙基材としては、坪量約８０〜６００ｇ／ｍ² 位のもの、好ましくは、坪量約１００〜４５０ｇ／ｍ² 位のものを使用することが望ましい。
勿論、本発明においては、紙層を構成する紙基材と、上記に挙げた基材フィルムとしての各種の樹脂のフィルムないしシ−ト等を併用して使用することができる。

更に、本発明において、上記の積層材を構成する材料として、例えば、水蒸気、水等のバリア−性を有する低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体等の樹脂のフィルムないしシ−ト、あるいは、酸素、水蒸気等に対するバリア−性を有するポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコ−ル、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物、ナイロンＭＸＤ６樹脂等の樹脂のフィルムないしシ−ト、樹脂に顔料等の着色剤を、その他、所望の添加剤を加えて混練してフィルム化してなる遮光性を有する各種の着色樹脂のフィルムないしシ−ト等を使用することができる。
これらの材料は、一種ないしそれ以上を組み合わせて使用することができる。 上記のフィルムないしシ−トの厚さとしては、任意であるが、通常、５μｍないし３００μｍ位、更には、１０μｍないし１００μｍ位が望ましい。

なお、本発明においては、通常、上記の積層材は各種の用途に適用される場合、物理的にも化学的にも過酷な条件におかれることから、上記の積層材には、厳しい条件が要求され、変形防止強度、落下衝撃強度、耐ピンホ−ル性、耐熱性、密封性、品質保全性、作業性、衛生性、その他等の種々の条件が要求され、このために、本発明においては、上記のような諸条件を充足する材料を任意に選択して使用することができ、具体的には、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ系樹脂）、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体（ＡＢＳ系樹脂）、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ−ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トから任意に選択して使用することができる。
その他、例えば、セロハン等のフィルム、合成紙等も使用することができる。 本発明において、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ないし二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用することができる。
また、その厚さは、任意であるが、数μｍから３００μｍ位の範囲から選択して使用することができる。
更に、本発明においては、フィルムないしシ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。

而して、本発明においては、上記の積層を行う際に、必要ならば、例えば、コロナ処理、オゾン処理等の前処理をフィルムに施すことができ、また、例えば、イソシアネ−ト系（ウレタン系）、ポリエチレンイミン系、ポリブタジェン系、有機チタン系等のアンカ−コ−ティング剤、あるいはポリウレタン系、ポリアクリル系、ポリエステル系、エポキシ系、ポリ酢酸ビニル系、セルロ−ス系、その他等のラミネ−ト用接着剤等の公知の前処理、アンカ−コ−ト剤、接着剤等を使用することができる。

なお、本発明においては、上記の積層材を構成するいずれかの層間に所望の印刷模様層を形成することができるものである。
而して、上記の印刷模様層としては、通常のインキビヒクルの１種ないし２種以上を主成分とし、これに、必要ならば、可塑剤、安定剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、硬化剤、架橋剤、滑剤、帯電防止剤、充填剤、その他等の添加剤の１種ないし２種以上を任意に添加し、更に、染料・顔料等の着色剤を添加し、溶媒、希釈剤等で充分に混練してインキ組成物を調整し、次いで、該インキ組成物を使用し、例えば、グラビア印刷、オフセット印刷、凸版印刷、スクリ−ン印刷、転写印刷、フレキソ印刷、その他等の印刷方式を使用し、前述のコ−ティング薄膜の上に、文字、図形、記号、模様等からなる所望の印刷模様を印刷して、本発明にかかる印刷模様層を形成することができる。

なお、本発明においては、前述の酸化アルミニウム等の金属酸化物層の面に設けるプライマ−剤層としては、前述のポリウレタン系あるいはポリエステル系樹脂組成物によるプライマ−剤層の他に、更に、例えば、ポリアミド系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレンアルイハポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹脂、セルロ−ス系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用してプライマ−剤層を形成することができる。
なお、本発明においては、例えば、ロ−ルコ−ト、グラビアロ−ルコ−ト、キスコ−ト、その他等のコ−ティング法を用いてコ−ティングしてプライマ−コ−ト剤層を形成することができ、而して、そのコ−ティング量としては、０．１〜１０ｇ／ｍ² （乾燥状態）位が望ましい。

次に、本発明において、上記のような積層材を使用して包装用容器を製造する製袋ないし製函する方法について説明すると、例えば、包装用容器がプラスチックフィルム等からなる軟包装袋の場合、上記のような方法で製造した積層材を使用し、その内層のヒ−トシ−ル性フィルムの面を対向させて、それを折り重ねるか、或いはその二枚を重ね合わせ、更にその周辺端部をヒ−トシ−ルしてシ−ル部を設けて袋体を構成することができる。
而して、その製袋方法としては、上記の積層材を、その内層の面を対向させて折り曲げるか、あるいはその二枚を重ね合わせ、更にその外周の周辺端部を、例えば、側面シ−ル型、二方シ−ル型、三方シ−ル型、四方シ−ル型、封筒貼りシ−ル型、合掌貼りシ−ル型（ピロ−シ−ル型）、ひだ付シ−ル型、平底シ−ル型、角底シ−ル型、その他等のヒ−トシ−ル形態によりヒ−トシ−ルして、本発明にかかる種々の形態の包装用容器を製造することができる。
その他、例えば、自立性包装袋（スタンディングパウチ）等も製造することが可能であり、更に、本発明においては、上記の積層材を使用してチュ−ブ容器等も製造することができる。
上記において、ヒ−トシ−ルの方法としては、例えば、バ−シ−ル、回転ロ−ルシ−ル、ベルトシ−ル、インパルスシ−ル、高周波シ−ル、超音波シ−ル等の公知の方法で行うことができる。
なお、本発明においては、上記のような包装用容器には、例えば、ワンピ−スタイプ、ツウ−ピ−スタイプ、その他等の注出口、あるいは開閉用ジッパ−等を任意に取り付けることができる。

次にまた、包装用容器として、紙基材を含む液体充填用紙容器の場合、例えば、積層材として、紙基材を積層した積層材を製造し、これから所望の紙容器を製造するブランク板を製造し、しかる後該ブランク板を使用して胴部、底部、頭部等を製函して、例えば、ブリックタイプ、フラットタイプあるいはゲ−ベルトップタイプの液体用紙容器等を製造することができる。
また、その形状は、角形容器、丸形等の円筒状の紙缶等のいずれのものでも製造することができる。

本発明において、上記のようにして製造した包装用容器は、種々の飲食品、接着剤、粘着剤等の化学品、化粧品、医薬品、ケミカルカイロ等の雑貨品、その他等の物品の充填包装に使用されるものである。
而して、本発明においては、特に、例えば、醤油、ソ−ス、ス−プ等を充填包装する液体用小袋、餅を充填包装する小袋、生菓子等を充填包装する軟包装用袋、あるいは、ボイルあるいはレトルト食品等を充填包装する軟包装用袋等の飲食物等を充填包装する包装用容器として有用なものである。

上記の本発明について以下に実施例を挙げて更に具体的に説明する。
まず、基材フィルムとして、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを準備し、これを前述の図１に示す１室からなる真空蒸着装置（ＰＶＤ装置）に装着した。
次に、チャンバ−内を減圧し、るつぼ内に充填したアルミニウムに電子銃で電子線を照射して、そのアルミニウムを加熱、蒸発させた。
他方、ガス吹き出し口から酸素ガスを導入して、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを４００ｍ／ｍｉｎの速度で搬送させながら、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方のコロナ処理面の上に、膜厚１５０Åの酸化アルミニウムからなる金属酸化物層を積層した。
次に、上記で金属酸化物層を形成した基材フィルムとしての厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを、前述の図２に示すような３室からなるプラズマ化学気相成長装置に装着した。
次に、プラズマ化学気相成長装置のチャンバ−内を減圧した。
一方、原料である有機珪素化合物であるヘキサメチルジシロキサン（以下、ＨＭＤＳＯという。）を原料揮発供給装置おいて揮発させ、ガス供給装置から供給された酸素ガスおよび不活性ガスであるヘリウムと混合させて原料ガスとした。
第１の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、ＨＭＤＳＯ：Ｏ₂ ：Ｈｅ＝１：０：１（単位；ｓｌｍ、スタンダ−ドリッタ−ミニット）とし、また、第２の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、ＨＭＤＳＯ：Ｏ₂ ：Ｈｅ＝１：１０：１（単位；ｓｌｍとした。
なお、第３の製膜室は使用しなかった。
上記のような原料ガスを使用し、その原料ガスをそれぞれ第１の製膜室および第２の製膜室にそれぞれ導入し、次いで、上記の厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムをライン速度２００ｍ／ｍｉｎで搬送させながら、電力を印加させ、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの金属酸化物層の上に、第１層の膜厚６５Å、第２層の膜厚６５Å、総膜厚１３０Åからなる２層重層の珪素酸化物層を製膜化して、本発明にかかるバリア製フィルムを製造した。。

まず、基材フィルムとして、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを準備し、これを前述の図１に示す１室からなる真空蒸着装置（ＰＶＤ装置）に装着した。
次に、チャンバ−内を減圧し、るつぼ内に充填したアルミニウムに電子銃で電子線を照射して、そのアルミニウムを加熱、蒸発させた。
他方、ガス吹き出し口から酸素ガスを導入して、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを４００ｍ／ｍｉｎの速度で搬送させながら、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方のコロナ処理面の上に、膜厚１５０Åの酸化アルミニウムからなる金属酸化物層を積層した。
次に、上記で金属酸化物層を形成した基材フィルムとしての厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを、前述の図２に示すような３室からなるプラズマ化学気相成長装置に装着した。
次に、プラズマ化学気相成長装置のチャンバ−内を減圧した。
一方、原料である有機珪素化合物であるヘキサメチルジシロキサン（以下、ＨＭＤＳＯという。）を原料揮発供給装置おいて揮発させ、ガス供給装置から供給された酸素ガスおよび不活性ガスであるヘリウムと混合させて原料ガスとした。
第１の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、ＨＭＤＳＯ：Ｏ₂ ：Ｈｅ＝１：０：１（単位；ｓｌｍ、スタンダ−ドリッタ−ミニット）とし、また、第２の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、ＨＭＤＳＯ：Ｏ₂ ：Ｈｅ＝１：１０：１（単位；ｓｌｍ）とし、更に、第３の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、ＨＭＤＳＯ：Ｏ₂ ：Ｈｅ＝１：０：１（単位；ｓｌｍ）とした。
上記のような原料ガスを使用し、その原料ガスをそれぞれ第１の製膜室、第２の製膜室、および、第３の製膜室にそれぞれ導入し、次いで、上記の厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムをライン速度３００ｍ／ｍｉｎで搬送させながら、電力を印加させ、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの金属酸化物層の上に、第１層の膜厚４５Å、第２層の膜厚４０Å、第３層の膜厚４５Å、総膜厚１３０Åからなる３層重層の珪素酸化物層を製膜化して、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。

上記の実施例２において、第１の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、ＨＭＤＳＯ：Ｏ₂ ：Ｈｅ＝１：１０：１（単位；ｓｌｍ、スタンダ−ドリッタ−ミニット）とし、また、第２の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、ＨＭＤＳＯ：Ｏ₂ ：Ｈｅ＝１：０：１（単位；ｓｌｍ）とし、更に、第３の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、ＨＭＤＳＯ：Ｏ₂ ：Ｈｅ＝１：８：１（単位；ｓｌｍ）とし、その他は、上記の実施例２と全く同様にして、上記の実施例２と同様に、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。

上記の実施例２において、原料ガスを構成する有機珪素化合物であるＨＭＤＳＯの代りに、テトラメトキシシラン（以下、ＴＭＯＳという。）を使用し、その他は、上記の実施例２と全く同様にして、上記の実施例２と同様に、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。

上記の実施例２において、原料ガスを構成する有機珪素化合物であるＨＭＤＳＯの代りに、テトラエトキシシラン（以下、ＴＥＯＳという。）を使用し、その他は、上記の実施例２と全く同様にして、上記の実施例２と同様に、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。

上記の実施例２において、第２の製膜室における原料ガスを構成する有機珪素化合物であるＨＭＤＳＯの代りに、テトラメトキシシラン（以下、ＴＭＯＳという。）を使用し、その他は、上記の実施例２と全く同様にして、上記の実施例２と同様に、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。

上記の実施例２において、第２の製膜室における原料ガスを構成する有機珪素化合物であるＨＭＤＳＯの代りに、テトラメトキシシラン（以下、ＴＭＯＳという。）を使用し、また、第２の製膜室における原料ガスを構成する有機珪素化合物であるＨＭＤＳＯの代りに、テトラエトキシシラン（以下、ＴＥＯＳという。）を使用し、その他は、上記の実施例２と全く同様にして、上記の実施例２と同様に、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。

まず、基材フィルムとして、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを準備し、これを前述の図１に示す１室からなる真空蒸着装置（ＰＶＤ装置）に装着した。
次に、チャンバ−内を減圧し、るつぼ内に充填したアルミニウムに電子銃で電子線を照射して、そのアルミニウムを加熱、蒸発させた。
他方、ガス吹き出し口から酸素ガスを導入して、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを４００ｍ／ｍｉｎの速度で搬送させながら、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方のコロナ処理面の上に、膜厚１５０Åの酸化アルミニウムからなる金属酸化物層を積層した。
次に、上記で金属酸化物層を形成した基材フィルムとしての厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを、前述の図３に示すような各室に導入する流量を独立制御できる二つの供給パイプを設置したプラズマ化学気相成長装置に装着した。
次に、プラズマ化学気相成長装置のチャンバ−内を減圧した。
一方、原料である有機珪素化合物であるＨＭＤＳＯ（ヘキサメチルジシロキサン）を原料揮発供給装置おいて揮発させ、ガス供給装置から供給された酸素ガスおよび不活性ガスであるヘリウムと混合させて原料ガスとした。
次に、下記の表１に示すガス混合比からなる原料ガスを使用し、その原料ガスをそれぞれ第１の製膜室および第２の製膜室にそれぞれに独立制御できる二つの供給パイプから導入し、次いで、上記の厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムをライン速度２００ｍ／ｍｉｎで搬送させながら、電力を印加させ、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの金属酸化物層の上に、第１層の膜厚６５Å、第２層の膜厚６０Å、総膜厚１２５Åからなる２層重層の珪素酸化物層を製膜化して、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。

（表１）
┌───┬───────────────────────────┐ │ │ 第１室の供給パイプ１ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＨＭＤＳＯ │ ０．５：５：０．５ │ │第１室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第１室の供給パイプ２ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＨＭＤＳＯ │ ０．５：０：０．５ │ ├───┼───────────┴───────────────┤ │ │ 第２室の供給パイプ１ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＨＭＤＳＯ │ ０．５：５：０．５ │ │第２室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第２室の供給パイプ２ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＨＭＤＳＯ │ ０．５：０：０．５ │ ├───┼───────────┴───────────────┤ │第３室│ 使用せず │ └───┴───────────────────────────┘

まず、基材フィルムとして、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを準備し、これを前述の図１に示す１室からなる真空蒸着装置（ＰＶＤ装置）に装着した。
次に、チャンバ−内を減圧し、るつぼ内に充填したアルミニウムに電子銃で電子線を照射して、そのアルミニウムを加熱、蒸発させた。
他方、ガス吹き出し口から酸素ガスを導入して、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを４００ｍ／ｍｉｎの速度で搬送させながら、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方のコロナ処理面の上に、膜厚１５０Åの酸化アルミニウムからなる金属酸化物層を積層した。
次に、上記で金属酸化物層を形成した基材フィルムとしての厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを、前述の図３に示すような各室に導入する流量を独立制御できる二つの供給パイプを設置したプラズマ化学気相成長装置に装着した。
次に、プラズマ化学気相成長装置のチャンバ−内を減圧した。
一方、原料である有機珪素化合物であるＨＭＤＳＯ（ヘキサメチルジシロキサン）を原料揮発供給装置おいて揮発させ、ガス供給装置から供給された酸素ガスおよび不活性ガスであるヘリウムと混合させて原料ガスとした。
次に、下記の表２に示すガス混合比からなる原料ガスを使用し、その原料ガスをそれぞれ第１の製膜室、第２の製膜室、および、第３の製膜室にそれぞれに独立制御できる二つの供給パイプから導入し、次いで、上記の厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムをライン速度３００ｍ／ｍｉｎで搬送させながら、電力を印加させ、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの金属酸化物層の上に、第１層の膜厚４５Å、第２層の膜厚４０Å、第３層の膜厚４５Å、総膜厚１３０Åからなる３層重層の珪素酸化物層を製膜化して、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。

（表２）
┌───┬───────────────────────────┐ │ │ 第１室の供給パイプ１ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＨＭＤＳＯ │ ０．５：５：０．５ │ │第１室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第１室の供給パイプ２ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＨＭＤＳＯ │ ０．５：０：０．５ │ ├───┼───────────┴───────────────┤ │ │ 第２室の供給パイプ１ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＨＭＤＳＯ │ ０．５：５：０．５ │ │第２室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第２室の供給パイプ２ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＨＭＤＳＯ │ ０．５：０：０．５ │ ├───┼───────────┴───────────────┤ │ │ 第３室の供給パイプ１ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＨＭＤＳＯ │ ０．５：５：０．５ │ │第３室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第３室の供給パイプ２ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＨＭＤＳＯ │ ０．５：０：０．５ │ └───┴───────────┴───────────────┘

まず、基材フィルムとして、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを準備し、これを前述の図１に示す１室からなる真空蒸着装置（ＰＶＤ装置）に装着した。
次に、チャンバ−内を減圧し、るつぼ内に充填したアルミニウムに電子銃で電子線を照射して、そのアルミニウムを加熱、蒸発させた。
他方、ガス吹き出し口から酸素ガスを導入して、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを４００ｍ／ｍｉｎの速度で搬送させながら、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方のコロナ処理面の上に、膜厚１５０Åの酸化アルミニウムからなる金属酸化物層を積層した。
次に、上記で金属酸化物層を形成した基材フィルムとしての厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを、前述の図３に示すような各室に導入する流量を独立制御できる二つの供給パイプを設置したプラズマ化学気相成長装置に装着した。
次に、プラズマ化学気相成長装置のチャンバ−内を減圧した。
一方、原料である有機珪素化合物であるＨＭＤＳＯ（ヘキサメチルジシロキサン）とＴＭＯＳ（テトラメトキシシラン）を原料揮発供給装置おいて揮発させ、ガス供給装置から供給された酸素ガスおよび不活性ガスであるヘリウムと混合させて原料ガスとした。
次に、下記の表３に示すガス混合比からなる原料ガスを使用し、その原料ガスをそれぞれ第１の製膜室、第２の製膜室、および、第３の製膜室にそれぞれに独立制御できる二つの供給パイプから導入し、次いで、上記の厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムをライン速度３００ｍ／ｍｉｎで搬送させながら、電力を印加させ、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの金属酸化物層の上に、第１層の膜厚４５Å、第２層の膜厚４５Å、第３層の膜厚４０Å、総膜厚１３０Åからなる３層重層の珪素酸化物層を製膜化して、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。

（表３）
┌───┬───────────────────────────┐ │ │ 第１室の供給パイプ１ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＴＭＯＳ │ ０．５：２．５：０．５ │ │第１室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第１室の供給パイプ２ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＨＭＤＳＯ │ ０．５：０：０．５ │ ├───┼───────────┴───────────────┤ │ │ 第２室の供給パイプ１ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＴＭＯＳ │ ０．５：２．５：０．５ │ │第２室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第２室の供給パイプ２ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＨＭＤＳＯ │ ０．５：０：０．５ │ ├───┼───────────┴───────────────┤ │ │ 第３室の供給パイプ１ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＴＭＯＳ │ ０．５：２．５：０．５ │ │第３室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第３室の供給パイプ２ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＨＭＤＳＯ │ ０．５：０：０．５ │ └───┴───────────┴───────────────┘

まず、基材フィルムとして、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを準備し、これを前述の図１に示す１室からなる真空蒸着装置（ＰＶＤ装置）に装着した。
次に、チャンバ−内を減圧し、るつぼ内に充填したアルミニウムに電子銃で電子線を照射して、そのアルミニウムを加熱、蒸発させた。
他方、ガス吹き出し口から酸素ガスを導入して、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを４００ｍ／ｍｉｎの速度で搬送させながら、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方のコロナ処理面の上に、膜厚１５０Åの酸化アルミニウムからなる金属酸化物層を積層した。
次に、上記で金属酸化物層を形成した基材フィルムとしての厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを、前述の図３に示すような各室に導入する流量を独立制御できる二つの供給パイプを設置したプラズマ化学気相成長装置に装着した。
次に、プラズマ化学気相成長装置のチャンバ−内を減圧した。
一方、原料である有機珪素化合物であるＨＭＤＳＯ（ヘキサメチルジシロキサン）とＴＭＯＳ（テトラメトキシシラン）とＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）を原料揮発供給装置おいて揮発させ、ガス供給装置から供給された酸素ガスおよび不活性ガスであるヘリウムと混合させて原料ガスとした。
次に、下記の表４に示すガス混合比からなる原料ガスを使用し、その原料ガスをそれぞれ第１の製膜室、第２の製膜室、および、第３の製膜室にそれぞれに独立制御できる二つの供給パイプから導入し、次いで、上記の厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムをライン速度３００ｍ／ｍｉｎで搬送させながら、電力を印加させ、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの金属酸化物層の上に、第１層の膜厚４５Å、第２層の膜厚４０Å、第３層の膜厚４５Å、総膜厚１３０Åからなる３層重層の珪素酸化物層を製膜化して、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。

（表４）
┌───┬───────────────────────────┐ │ │ 第１室の供給パイプ１ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＴＭＯＳ │ ０．５：２．５：０．５ │ │第１室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第１室の供給パイプ２ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＨＭＤＳＯ │ ０．５：０：０．５ │ ├───┼───────────┴───────────────┤ │ │ 第２室の供給パイプ１ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＴＥＯＳ │ ０．５：２．５：０．５ │ │第２室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第２室の供給パイプ２ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＴＥＯＳ │ ０．５：０：０．５ │ ├───┼───────────┴───────────────┤ │ │ 第３室の供給パイプ１ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＴＭＯＳ │ ０．５：２．５：０．５ │ │第３室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第３室の供給パイプ２ │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比（単位：ｓｌｍ） │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ ＨＭＤＳＯ │ ０．５：０：０．５ │ └───┴───────────┴───────────────┘

上記の実施例２において、基材フィルムとして、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用する代りに、基材フィルムとして、厚さ１５μｍの２軸延伸ナイロン６フィルムを使用し、その他は、上記の実施例２と全く同様にして、上記の実施例２と同様に、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。

上記の実施例２において、基材フィルムとして、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用する代りに、基材フィルムとして、厚さ２０μｍの２軸延伸ポリプロピレンフィルムを使用し、その他は、上記の実施例２と全く同様にして、上記の実施例２と同様に、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。

上記の実施例９において、基材フィルムとして、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用する代りに、基材フィルムとして、厚さ１５μｍの２軸延伸ナイロン６フィルムを使用し、その他は、上記の実施例９と全く同様にして、上記の実施例９と同様に、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。

上記の実施例９において、基材フィルムとして、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用する代りに、基材フィルムとして、厚さ２０μｍの２軸延伸ポリプロピレンフィルムを使用し、その他は、上記の実施例９と全く同様にして、上記の実施例９と同様に、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。

（比較例１）
まず、基材フィルムとして、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを準備し、これを前述の図１に示す１室からなる真空蒸着装置（ＰＶＤ装置）に装着した。
次に、チャンバ−内を減圧し、るつぼ内に充填したアルミニウムに電子銃で電子線を照射して、そのアルミニウムを加熱、蒸発させた。
他方、ガス吹き出し口から酸素ガスを導入して、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを４００ｍ／ｍｉｎの速度で搬送させながら、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方のコロナ処理面の上に、膜厚１５０Åの酸化アルミニウムからなる金属酸化物層を積層した。
次に、上記で金属酸化物層を形成した基材フィルムとしての厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを、前述の図２に示すような３室からなるプラズマ化学気相成長装置に装着した。
次に、プラズマ化学気相成長装置のチャンバ−内を減圧した。
一方、原料である有機珪素化合物であるＨＭＤＳＯ（ヘキサメチルジシロキサン）を原料揮発供給装置おいて揮発させ、ガス供給装置から供給された酸素ガスおよび不活性ガスであるヘリウムと混合させて原料ガスとした。
第１の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、ＨＭＤＳＯ：Ｏ₂ ：Ｈｅ＝１：１０：１（単位；ｓｌｍ、スタンダ−ドリッタ−ミニット）とした。
なお、第２のく製膜室、第３の製膜室は使用しなかった。
上記のような原料ガスを使用し、その原料ガスをそれぞれ第１の製膜室に導入し、次いで、上記の厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムをライン速度１００ｍ／ｍｉｎで搬送させながら、電力を印加させ、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの金属酸化物層の上に、膜厚１３０Åからなる１層の珪素酸化物層を製膜化して、バリア性フィルムを製造した。

（比較例２）
まず、基材フィルムとして、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを準備し、これを前述の図１に示す１室からなる真空蒸着装置（ＰＶＤ装置）に装着した。
次に、チャンバ−内を減圧し、るつぼ内に充填したアルミニウムに電子銃で電子線を照射して、そのアルミニウムを加熱、蒸発させた。
他方、ガス吹き出し口から酸素ガスを導入して、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを４００ｍ／ｍｉｎの速度で搬送させながら、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方のコロナ処理面の上に、膜厚１５０Åの酸化アルミニウムからなる金属酸化物層を積層した。
次に、上記で金属酸化物層を形成した基材フィルムとしての厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを、前述の図２に示すような３室からなるプラズマ化学気相成長装置に装着した。
次に、プラズマ化学気相成長装置のチャンバ−内を減圧した。
一方、原料である有機珪素化合物であるＨＭＤＳＯ（ヘキサメチルジシロキサン）を原料揮発供給装置おいて揮発させ、ガス供給装置から供給された酸素ガスおよび不活性ガスであるヘリウムと混合させて原料ガスとした。
第１の製膜室で使用する原料ガス、および、第２の製膜室で使用する原料ガスとして共に、原料ガスの混合比を、ＨＭＤＳＯ：Ｏ₂ ：Ｈｅ＝１：１０：１（単位；ｓｌｍ）とした。
なお、第３の製膜室は使用しなかった。
上記のような原料ガスを使用し、その原料ガスをそれぞれ第１と第２の製膜室に導入し、次いで、上記の厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムをライン速度１００ｍ／ｍｉｎで搬送させながら、電力を印加させ、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの金属酸化物層の上に、膜厚１２５Åからなる１層の珪素酸化物層を製膜化して、バリア性フィルムを製造した。

（比較例３）
まず、基材フィルムとして、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを準備し、これを前述の図１に示す１室からなる真空蒸着装置（ＰＶＤ装置）に装着した。
次に、チャンバ−内を減圧し、るつぼ内に充填したアルミニウムに電子銃で電子線を照射して、そのアルミニウムを加熱、蒸発させた。
他方、ガス吹き出し口から酸素ガスを導入して、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを４００ｍ／ｍｉｎの速度で搬送させながら、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方のコロナ処理面の上に、膜厚１５０Åの酸化アルミニウムからなる金属酸化物層を積層した。
次に、上記で金属酸化物層を形成した基材フィルムとしての厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを、前述の図２に示すような３室からなるプラズマ化学気相成長装置に装着した。
次に、プラズマ化学気相成長装置のチャンバ−内を減圧した。
一方、原料である有機珪素化合物であるＨＭＤＳＯ（ヘキサメチルジシロキサン）を原料揮発供給装置おいて揮発させ、ガス供給装置から供給された酸素ガスおよび不活性ガスであるヘリウムと混合させて原料ガスとした。
第１の製膜室で使用する原料ガス、第２の製膜室で使用する原料ガス、および、第３の製膜室で使用する原料ガスとして共に、原料ガスの混合比を、ＨＭＤＳＯ：Ｏ₂ ：Ｈｅ＝１：１０：１（単位；ｓｌｍ）とした。
上記のような原料ガスを使用し、その原料ガスをそれぞれ第１の製膜室、第２の製膜室、および、第３の製膜室にそれぞれ導入し、次いで、上記の厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムをライン速度３００ｍ／ｍｉｎで搬送させながら、電力を印加させ、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの金属酸化物層の上に、第１層の膜厚４５Å、第２層の膜厚４５Å、第３層の膜厚４５Å、総膜厚１３５Åからなる３層重層の珪素酸化物層を製膜化して、バリア性フィルムを製造した。

（比較例４）
上記の比較例１において、基材フィルムとして、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用する代りに、基材フィルムとして、厚さ１５μｍの２軸延伸ナイロン６フィルムを使用し、その他は、上記の比較例１と全く同様にして、上記の比較例１と同様に、バリア性フィルムを製造した。

（比較例５）
上記の比較例１において、基材フィルムとして、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用する代りに、基材フィルムとして、厚さ２０μｍの２軸延伸ポリプロピレンフィルムを使用し、その他は、上記の比較例１と全く同様にして、上記の比較例１と同様に、バリア性フィルムを製造した。

（実験例１）
上記の実施例１〜１５、および、比較例１〜５で製造したバリア性フィルムについて、酸素透過度および水蒸気透過度を測定した。
（１）．酸素透過度の測定
これは、バリア性フィルムについて、温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件で、米国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の測定機〔機種名、オクストラン（ＯＸ−ＴＲＡＮ２／２０）〕にて測定した。
（２）．水蒸気透過度の測定
これは、バリア性フィルムについて、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件で、米国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の測定機〔機種名、パ−マトラン（ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ３／３１）〕にて測定した。
上記の測定結果について、下記の表５に示す。

（表５）
┌─────┬────────────────┐ │ │ バリア性フィルム │ │ ├───────┬────────┤ │ │ 酸素透過度 │ 水蒸気透過度 │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例１ │ ０．６ │ １．１ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例２ │ ０．５ │ ０．５ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例３ │ ０．３ │ ０．８ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例４ │ ０．３ │ ０．８ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例５ │ ０．７ │ １．０ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例６ │ ０．３ │ ０．５ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例７ │ ０．４ │ ０．３ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例８ │ ０．２ │ ０．３ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例９ │ ０．３ │ ０．４ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例１０│ ０．２ │ ０．４ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例１１│ ０．２ │ ０．３ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例１２│ １．０ │ ３．２ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例１３│ ４．２ │ ０．９ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例１４│ ０．９ │ ３．０ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例１５│ ４．０ │ ０．８ │ ├─────┼───────┼────────┤ │比較例１ │ ２．９ │ ３．１ │ ├─────┼───────┼────────┤ │比較例２ │ ２．４ │ ３．２ │ ├─────┼───────┼────────┤ │比較例３ │ ２．１ │ ２．７ │ ├─────┼───────┼────────┤ │比較例４ │ ４．５ │ ８．６ │ ├─────┼───────┼────────┤ │比較例５ │ １１．５ │ ２．６ │ └─────┴───────┴────────┘ 上記の表５において、酸素透過度の単位は、〔ｃｃ／ｍ² ／ｄａｙ・２３℃・９０％ＲＨ〕であり、水蒸気透過度の単位は、〔ｇ／ｍ² ／ｄａｙ・４０℃・９０％ＲＨ〕である。

上記の表５に示す結果より明らかなように、本発明にかかるバリア性フィルムは、酸素透過度および水蒸気透過度において優れているものであった。

（実験例２）
上記の実施例１〜１５、および、比較例１〜５で製造したバリア性フィルムについて、そのバリア性層を構成する最表面の珪素酸化物の面に、グロ−放電プラズマ発生装置を使用し、パワ−９ｋｗ、酸素ガス（Ｏ₂ ）：アルゴンガス（Ａｒ）＝７．０：２．５（単位：ｓｌｍ）からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧６×１０^-5Ｔｏｒｒ、処理速度４２０ｍ／ｍｉｎで酸素／アルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、珪素酸化物層の膜面の表面張力を５４ｄｙｎｅ／ｃｍ以上向上させてたプラズマ処理面を形成した。
次に、上記で形成したプラズマ処理面の面に、ポリウレタン系樹脂の初期縮合物に、エポキシ系のシランカップリング剤（８．０重量％）とブロッキング防止剤（１．０重量％）を添加し、十分に混練してなるプライマ−剤組成物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚０．４ｇ／ｍ² （乾燥状態）になるようにコ−ティングしてプライマ−剤層を形成した。
更に、上記で形成したプライマ−層の面に、２液硬化型のポリウレタン系ラミネ−ト用接着剤を使用し、これを、グラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚４．０ｇ／ｍ² （乾燥状態）になるようにコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成した。
次に、上記で形成したラミネ−ト用接着剤層の面に、厚さ５０μｍの直鎖状低密度ポリエチレンフィルムを、そのコロナ処理面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その両者をドライラミネ−ト積層して、積層材を製造した。
次いで、上記の積層材について、上記の実験例１と同様にして、酸素透過度および水蒸気透過度を測定した。
（１）．酸素透過度の測定
これは、積層材について、温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件で、米国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の測定機〔機種名、オクストラン（ＯＸ−ＴＲＡＮ２／２０）〕にて測定した。
（２）．水蒸気透過度の測定
これは、積層材について、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件で、米国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の測定機〔機種名、パ−マトラン（ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ３／３１）〕にて測定した。
上記の測定結果について、下記の表６に示す。

（表６）
┌─────┬────────────────┐ │ │ 積 層 材 │ │ ├───────┬────────┤ │ │ 酸素透過度 │ 水蒸気透過度 │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例１ │ ０．５ │ ０．６ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例２ │ ０．４ │ ０．３ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例３ │ ０．３ │ ０．５ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例４ │ ０．２ │ ０．６ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例５ │ ０．６ │ ０．８ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例６ │ ０．３ │ ０．４ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例７ │ ０．３ │ ０．３ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例８ │ ０．１ │ ０．２ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例９ │ ０．２ │ ０．２ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例１０│ ０．１ │ ０．２ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例１１│ ０．２ │ ０．２ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例１２│ ０．７ │ １．５ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例１３│ ３．０ │ ０．６ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例１４│ ０．７ │ １．４ │ ├─────┼───────┼────────┤ │実施例１５│ ２．７ │ ０．５ │ ├─────┼───────┼────────┤ │比較例１ │ ２．７ │ ２．４ │ ├─────┼───────┼────────┤ │比較例２ │ ２．２ │ ２．５ │ ├─────┼───────┼────────┤ │比較例３ │ １．９ │ ２．４ │ ├─────┼───────┼────────┤ │比較例４ │ ３．９ │ ５．５ │ ├─────┼───────┼────────┤ │比較例５ │ １０．４ │ ２．５ │ └─────┴───────┴────────┘ 上記の表６において、酸素透過度の単位は、〔ｃｃ／ｍ² ／ｄａｙ・２３℃・９０％ＲＨ〕であり、水蒸気透過度の単位は、〔ｇ／ｍ² ／ｄａｙ・４０℃・９０％ＲＨ〕である。

上記の表６に示す結果より明らかなように、本発明にかかるバリア性フィルムを使用した積層材は、酸素透過度および水蒸気透過度において優れているものであった。

（実験例３）
上記の実施例２、および、比較例１で製造したバリア性フィルムにおいて、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方の面に、珪素酸化物層を形成した後、その珪素酸化物層の深さ方向の構成成分の変化を測定した。
なお、酸化アルミニウムからなる金属酸化物層の上に、珪素酸化物層を形成しなかったものである。
次に、珪素酸化物層を形成した厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムについて、Ｘ線光電子分光装置（Ｘｒａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：ＸＰＳ）を用いて、珪素酸化物層の膜表面から深さ方向に元素分析を行い、その際に検出された珪素、酸素、および、炭素量を測定して評価した。
上記の結果について、下記の表７よ示す。
また、実施例２、および、比較例１で製造したバリア性フィルムにおいて、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方の面に、珪素酸化物層を形成した後、その珪素酸化物層を形成した厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムについて、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ伸縮振動に基づくＩＲ吸収ピ−ク位置およびＳｉ−ＣＨ₃ 伸縮振動に基づくＩＲ吸収ピ−ク強度を測定した。
なお、酸化アルミニウムからなる金属酸化物層の上に、珪素酸化物層を形成しなかったものである。
これは、珪素酸化物層を形成した厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムについて、多重反射測定装置（日本分光株式会社製、機種名、ＡＴＲ−３００／Ｈ）を備えたフ−リェ変換型赤外分光光度計（日本分光株式会社製、機種名、Ｈｅｒｓｃｈｅｌ ＦＴ／ＩＲ−６１０）によって測定した。
なお、赤外吸収スペクトルにプリズムとしてゲルマニウム結晶を用い、入射角４５度で測定した。
上記の結果について、下記の表７に示す。

（表７）
┌───────┬──────────┬─────────┬──────┐ │ │ Ｓｉ：Ｏ：Ｃ │Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピ−│Ｓｉ−ＣＨ₃ │ │ │ │ ク位置〔ｃｍ^-1〕│ 吸収強度│ ├─┬─────┼──────────┼─────────┼──────┤ │実│１の層 │ │ │ │ │施│ （表層）│１００：１６０：９０│ １０３８ │０．０２８ │ │例├─────┼──────────┼─────────┼──────┤ │２│２の層 │１００：１８５：１３│ １０６５ │０．０１０ │ │ ├─────┼──────────┼─────────┼──────┤ │ │３の層 │ │ │ │ │ │（基材側）│１００：１７０：８５│ １０４０ │０．０２７ │ ├─┼─────┼──────────┼─────────┼──────┤ │比│１の層 │ │ │ │ │較│ （表層）│１００：１８０：１７│ １０６０ │０．０１２ │ │例├─────┼──────────┼─────────┼──────┤ │１│２の層 │１００：１８５：１５│ １０６５ │０．０１１ │ │ ├─────┼──────────┼─────────┼──────┤ │ │３の層 │ │ │ │ │ │（基材側）│１００：１８８：１５│ １０６５ │０．０１２ │ └─┴─────┴──────────┴─────────┴──────┘

上記の表７に示す結果より、上記の実施例２、および、比較例１で製造したバリア性フィルムについて、そのバリア性層を構成する珪素酸化物層の深さ方向の構成成分の変化、および、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ伸縮振動に基づくＩＲ吸収ピ−ク位置およびＳｉ−ＣＨ₃ 伸縮振動に基づくＩＲ吸収ピ−ク強度は、上記のとおりであった。

本発明は、金属酸化物層と珪素酸化物層とを重層し、その重層膜をバリア性層とし、基材フィルムとバリア性層との密着性に優れていると共にその延展性、屈曲性、可撓性等に優れ、更に、クラック発生の原因となる異物、塵埃等が混入することなく、例えば、包装用材料等に使用されるバリア性素材として、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するガスバリア性に優れ、更に、そのガスバリア性の性能の低下も認められない極めて有用なバリア性フィルムに関し、而して、そのバリア性フィルムは、これをバリア性素材として使用し、これと、他のプラスチックフィルム、紙基材、金属箔ないし金属板、セロハン、織布ないし不織布、ガラス板、その他等の種々の基材の１種ないし２種以上と任意に積層して、種々の形態からなる積層材を製造し、その積層材は、例えば、包装用材料、光学部材、太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト、有機ＥＬディスプレイ用保護フィルム、フィルム液晶ディスプレイ用保護フィルム、ポリマ−バッテリ−用包材、または、アルミ包装材料、その他等の種々の用途に適用し得るものである。

本発明にかかるバリア性フィルムについてその製造装置の一例の概略の構成を示す概略的構成図である。 本発明にかかるバリア性フィルムについてその製造装置の一例の概略の構成を示す概略的構成図である。 本発明にかかるバリア性フィルムについてその製造装置の一例の概略の構成を示す概略的構成図である。 本発明にかかるバリア性フィルムについてその層構成の一例を示す概略的断面図である。

符号の説明

Ａ バリア性フィルム
５１ 基材フィルム
５２ バリア性層
５３ 金属酸化物層
５４ａ 珪素酸化物層
５４ｂ 珪素酸化物層
５４ｃ 珪素酸化物層

Claims (12)

1. 少なくとも、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に設けたバリア性層とからなり、更に、該バリア性層は、先に、物理気相成長法による金属酸化物層を設け、更に、該金属酸化物層の上に、少なくとも２室以上の製膜室を使用し、かつ、各室毎に、少なくとも、有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、および、不活性ガスを含有する製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えて調製した２以上の製膜用混合ガス組成物を使用し、その各製膜用混合ガス組成物を使用して製膜した２層以上のプラズマ化学気相成長法による多層の珪素酸化物層を設けた構成からなり、かつ、上記の各珪素酸化物層は、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、各珪素酸化物層毎に炭素原子含有量が異なる構成からなることを特徴とするバリア性フィルム。
2. 基材フィルムが、２軸延伸ポリエステル系樹脂フィルム、２軸延伸ポリアミド系樹脂フィルム、または、２軸延伸ポリオレフイン系樹脂フィルムからなることを特徴とする上記の請求項１に記載するバリア性フィルム。
3. 金属酸化物層が、酸化アルミニウムの蒸着膜からなることを特徴とする上記の請求項１〜２のいずれか１項に記載するバリア性フィルム。
4. 有機珪素化合物が、１．１．３．３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、または、オクタメチルシクロテトラシロキサンの１種以上からなることを特徴とする上記の請求項１〜３のいずれか１項に記載するバリア性フィルム。
5. 不活性ガスが、アルゴンガス、または、ヘリウムガスからなることを特徴とする上記の請求項１〜４のいずれか１項に記載するバリア性フィルム。
6. １の製膜用混合ガス組成物が、製膜用モノマ−ガス：酸素ガス：不活性ガス＝１：０〜５：１（単位：ｓｌｍ、スタンダ−ドリッタ−ミニットの略である。）のガス組成比からなることを特徴とする上記の請求項１〜５のいずれか１項に記載するバリア性フィルム。
7. ２の製膜用混合ガス組成物が、製膜用モノマ−ガス：酸素ガス：不活性ガス＝１：６〜１５：１（単位：ｓｌｍ、スタンダ−ドリッタ−ミニットの略である。）のガス組成比からなることを特徴とする上記の請求項１〜６のいずれか１項に記載するバリア性フィルム。
8. 珪素酸化物層は、Ｓｉ原子数１００に対しＯ原子数１５０〜２００、Ｃ原子数５０〜１００の成分割合からなり、更に、１０３０ｃｍ^-1〜１０６０ｃｍ^-1の間にＳｉ−Ｏ−Ｓｉ伸縮振動に基づくＩＲ吸収があり、かつ、１２７４±４ｃｍ^-1にＳｉ−ＣＨ₃ 伸縮振動に基づくＩＲ吸収があることを特徴とする上記の請求項６に記載するバリア性フィルム。
9. 珪素酸化物層は、Ｓｉ原子数１００に対しＯ原子数１５０〜２００、Ｃ原子数５０以下の成分割合からなり、更に、１０４５ｃｍ^-1〜１０７５ｃｍ^-1の間にＳｉ−Ｏ−Ｓｉ伸縮振動に基づくＩＲ吸収があり、かつ、１２７４±４ｃｍ^-1にＳｉ−ＣＨ₃ 伸縮振動に基づくＩＲ吸収があることを特徴とする上記の請求項７に記載するバリア性フィルム。
10. 珪素酸化物層が、第１層を膜厚３０Å〜３００Å、第２層を３０Å〜３００Åに調製して製膜した珪素酸化物層、または、第１層を膜厚２０Å〜２００Å、第２層を２０Å〜２００Å、第３層を２０Å〜２００Åに調製して製膜した珪素酸化物層からなることを特徴とする上記の請求項１〜９のいずれか１項に記載するバリア性フィルム。
11. 珪素酸化物層が、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、その膜中の炭素含有量が膜表面から深さ方向に向かって増加していることを特徴とする上記の請求項１〜１０のいずれか１項に記載するバリア性フィルム。
12. プラズマ化学気相成長法が、低温プラズマ化学気相成長法からなることを特徴とする上記の請求項１〜１１のいずれか１項に記載するバリア性フィルム。

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