JP2004327820A - Power-supply stabilizing circuit, and semiconductor integrated circuit device having same stabilizing circuit - Google Patents
Power-supply stabilizing circuit, and semiconductor integrated circuit device having same stabilizing circuit Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004327820A JP2004327820A JP2003122164A JP2003122164A JP2004327820A JP 2004327820 A JP2004327820 A JP 2004327820A JP 2003122164 A JP2003122164 A JP 2003122164A JP 2003122164 A JP2003122164 A JP 2003122164A JP 2004327820 A JP2004327820 A JP 2004327820A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- power supply
- mos transistor
- circuit
- channel mos
- internal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Dram (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、電源安定化回路に関し、より特定的には、電源電位および接地電位を供給する電源回路に付加される電源安定化回路およびそれを備える半導体集積回路装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
LSI(半導体集積回路)の安定動作を保証する目的から、LSIの内部回路に電源電位を伝達する電源ラインと接地電位を伝達する接地ラインとの間には、電源安定化回路としてデカップリング容量が配される。
【0003】
このデカップリング容量としては、MOS(Metal Oxide Semiconductor)トランジスタのゲート容量によって形成される、いわゆるMOS容量が一般的である(例えば、特許文献1参照)。
【0004】
電源電圧の安定化には、デカップリング容量の容量値が大きいほど有効であることから、MOS容量においては、MOSトランジスタのゲート面積の増大およびゲート酸化膜の薄膜化によって容量値の増加が図られている。
【0005】
一方、近年のLSI製造プロセス技術において、トランジスタの微細化が進むにつれて、100ナノノード以下の微細化されたトランジスタでは、ゲート酸化膜の膜厚が薄くなり、ゲート電極と基板との間にゲートリークが発生するという問題が生じている。
【0006】
このゲートリークによる電流は、回路全体の消費電力の増大を招くことから、ゲート酸化膜の薄膜化が進む今日において、ますます顕著となってきている。
【0007】
なお、ゲートリークによる電流は、ゲート酸化膜を電荷が突き抜けることによって生じることから、トランジスタのゲート面積およびゲート印加電圧に比例して増大する。
【0008】
特に、上記のMOS容量においては、容量値の増加のためにMOSトランジスタのゲート面積を可能なかぎり大きく設計している場合が多く、微細化の進展によりゲートリークの問題が深刻化されることが予想される。
【0009】
【特許文献1】
特開平2−58275号公報(第1図)
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、MOS容量は、電源安定化のために用いられるもので、LSI本体の安定動作を保証するための言わば付随的な装置である。
【0011】
ところで、90ナノノード以降の世代においては、LSIに搭載されるMOSトランジスタにおけるゲートリーク電流がリーク電流の大半を占め、アクティブ電流と同等になるとまで言われている。
【0012】
これは、あくまでもLSI本体に関しての予想であって、電源安定化のための付随的な装置である電源安定化回路における消費電流は含まれていない。
【0013】
一方、電源安定化回路において、MOS容量を形成するMOSトランジスタのゲート面積は、LSI本体に搭載されるMOSトランジスタのゲート面積と同等であることは珍しくないのが現状である。
【0014】
とすれば、微細化が進むLSIの将来において、LSI本体の消費電流と電源安定化回路における消費電流とが同程度となるものと判断されることから、電源安定化回路のゲートリークは大問題となり得ることが予想される。
【0015】
それゆえ、この発明の目的は、ゲートリークによる消費電流の増大を抑制することが可能な電源安定化回路および、それを備える半導体集積回路装置を提供することである。
【0016】
【課題を解決するための手段】
この発明に従う電源安定化回路によれば、半導体集積回路の内部回路に供給する電源電位および接地電位を安定化させるための電源安定化回路であって、電源電位と接地電位との間に設けられる容量素子と、電源電位と容量素子との間または容量素子と接地電位との間に接続されるスイッチ回路とを備える。スイッチ回路は、半導体集積回路の動作状態において、対応する電源電位または接地電位と容量素子との間を電気的に結合し、半導体集積回路の非動作状態において、対応する電源電位または接地電位と容量素子との間を電気的に分離する。
【0017】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付し、その説明は繰返さない。
【0018】
[実施の形態1]
図1は、この発明の実施の形態1に従う電源安定化回路の構成を示す図である。
【0019】
図1を参照して、電源安定化回路200は、LSI100に電源電位VDDを供給する電源端子111と接地電位VSSを供給する接地端子112とに結合される。
【0020】
LSI100において、電源端子111および接地端子112は、それぞれ内部電源ライン101および内部接地ライン102に結合される。電源電位VDDおよび接地電位VSSは、内部電源ライン101および内部接地ライン102を介して内部回路110に供給される。
【0021】
電源安定化回路200は、電源電位VDDを伝達する電源ライン1と接地電位VSSを伝達する接地ライン2との間に結合されるNチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11と、NチャネルMOSトランジスタ10のゲートと電源ライン1との間に結合されるスイッチ回路SW1と、PチャネルMOSトランジスタ11のゲート電極と接地ライン2との間に結合されるスイッチ回路SW2とを含む。
【0022】
NチャネルMOSトランジスタ10は、ゲート電極がスイッチ回路SW1を介して電源ライン1に接続され、ソース、ドレインおよび基板電極が接地ライン2に接続され、MOS容量を形成する。
【0023】
スイッチ回路SW1は、LSI100の動作/非動作を制御するための制御信号CNT1に応答してオン/オフすることにより、電源ライン1とNチャネルMOSトランジスタ10のゲート電極とを電気的に結合/分離する。
【0024】
PチャネルMOSトランジスタ11は、ゲート電極がスイッチ回路SW2を介して接地ライン2に接続され、ソース、ドレインおよび基板電極が電源ライン1に接続され、MOS容量を形成する。
【0025】
スイッチ回路SW2は、制御信号CNT2に応じてオン/オフすることにより、PチャネルMOSトランジスタ11のゲート電極と接地ライン2とを電気的に結合/分離する。
【0026】
以上の構成において、LSI100の動作期間において、スイッチ回路SW1は、オン状態となり、電源ライン1とNチャネルMOSトランジスタ10のゲート電極とを電気的に結合する。同時に、スイッチ回路SW2は、オン状態となり、接地ライン2とPチャネルMOSトランジスタ11のゲート電極とを電気的に結合する。
【0027】
このようにして、NチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量は、LSI100の動作期間において、デカップリング容量として電源電位VDDおよび接地電位VSSの安定的な供給を可能とする。
【0028】
一方、LSI100の非動作期間において、スイッチ回路SW1は、オフ状態となり、電源ライン1とNチャネルMOSトランジスタ10のゲート電極とを電気的に分離する。これにより、NチャネルMOSトランジスタ10からなるMOS容量において、電源電位VDDと接地電位VSSとのパスが切断される。
【0029】
同時に、スイッチ回路SW2はオフ状態となり、接地ライン2とPチャネルMOSトランジスタ11のゲート電極とを電気的に分離する。これにより、PチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量においても、電源電位VDDと接地電位VSSとのパスが切断される。
【0030】
したがって、LSI100の非動作期間においては、MOS容量におけるゲートリークが発生しないことから、ゲートリーク電流による電流消費を抑えることができる。
【0031】
なお、この場合は、MOS容量による電源安定化の効果を得ることができないが、LSI100自体が非動作状態であることから何ら支障は生じない。
【0032】
また、本実施の形態では、電源安定化回路200として、NチャネルMOSトランジスタ10からなるMOS容量とPチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量とを対とする構成としたが、いずれか一方のみを単独で用いた構成とすることによっても同様の効果を得ることができる。
【0033】
[実施の形態1の変更例]
図2は、この発明の実施の形態1の変更例に従う電源安定化回路の構成を示す図である。
【0034】
図2を参照して、電源安定化回路200は、LSI100に結合される電源ライン1と接地ライン2との間に結合されたNチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11と、NチャネルMOSトランジスタ10のソース、ドレインおよび基板電極と接地ライン2との間に結合されたスイッチ回路SW3と、PチャネルMOSトランジスタ11のソース、ドレインおよび基板電極と電源ライン1との間に結合されたスイッチ回路SW4とを含む。
【0035】
NチャネルMOSトランジスタ10は、ゲート電極が電源ライン1に接続され、ソース、ドレインおよび基板電極がスイッチ回路SW3を介して接地ライン2に接続され、実施の形態1と同様に、MOS容量を形成する。
【0036】
スイッチ回路SW3は、LSI100の動作/非動作を制御するための制御信号CNT3に応答してオン/オフすることにより、接地ライン2とNチャネルMOSトランジスタ10のソース、ドレインおよび基板電極とを電気的に結合/分離する。
【0037】
PチャネルMOSトランジスタ11は、ゲート電極が接地ライン2に接続され、ソース、ドレインおよび基板電極がスイッチ回路SW4を介して電源ライン1に接続され、実施の形態1と同様に、MOS容量を形成する。
【0038】
スイッチ回路SW4は、制御信号CNT4に応じてオン/オフすることにより、PチャネルMOSトランジスタ11のソース、ドレインおよび基板電極と電源ライン1とを電気的に結合/分離する。
【0039】
以上の構成において、LSI100の動作期間において、スイッチ回路SW3は、オン状態となり、接地ライン2とNチャネルMOSトランジスタ10のソース、ドレインおよび基板電極とを電気的に結合する。同時に、スイッチ回路SW4はオン状態となり、電源ライン1とPチャネルMOSトランジスタ11のソース、ドレインおよび基板電極とを電気的に結合する。
【0040】
これにより、NチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量によって、LSI100に供給される電源電位VDDおよび接地電位VSSの安定化が図られる。
【0041】
一方、LSI100の非動作期間において、スイッチ回路SW3は、オフ状態となり、接地ライン2とNチャネルMOSトランジスタ10のソース、ドレインおよび基板電極とを電気的に分離する。これにより、NチャネルMOSトランジスタ10からなるMOS容量において、電源電位VDDと接地電位VSSとのパスが切断される。
【0042】
同時に、スイッチ回路SW4はオフ状態となり、電源ライン1とPチャネルMOSトランジスタ11のソース、ドレインおよび基板電極とを電気的に分離する。これにより、PチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量において、電源電位VDDと接地電位VSSとの間のパスが切断される。
【0043】
したがって、各MOS容量におけるゲートリークが発生しないことから、ゲートリーク電流による電流消費を抑えることができる。
【0044】
以上のように、この発明の実施の形態1に従えば、電源安定化回路において、LSIの動作/非動作状態に応じて電源電位と接地電位との間を結合/分離するスイッチ回路をMOSトランジスタで形成されるMOS容量に付加することにより、LSIの電源安定化を図るとともに、MOSトランジスタのゲートリークによる消費電流の増大を抑えることができる。
【0045】
[実施の形態2]
図3は、この発明の実施の形態2に従う電源安定化回路の構成を示す図である。
【0046】
図3を参照して、電源安定化回路200は、LSI100内部に配設され、内部電源ライン101および内部接地ライン102に結合される。電源電位VDDおよび接地電位VSSは、電源端子111および接地端子112を介して、それぞれ内部電源ライン101および内部接地ライン102に与えられる。
【0047】
電源安定化回路200は、内部電源ライン101と内部接地ライン102との間に結合されるNチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11と、NチャネルMOSトランジスタ10のゲートと内部電源ライン101との間に結合されるスイッチ回路SW1と、PチャネルMOSトランジスタ11のゲート電極と内部接地ライン102との間に結合されるスイッチ回路SW2とを含む。
【0048】
本実施の形態は、図1の実施の形態1に対して、電源安定化回路200をLSI100内部に配置した点でのみ異なり、回路構成については共通する。したがって、重複する部分についての詳細な説明は省略する。
【0049】
図3に示すように、スイッチ回路SW1,SW2のオン/オフ動作を制御する制御信号CNT1,CNT2は、LSI100内部の制御回路120から出力される。制御回路120は、LSI100の動作/非動作が切換わるタイミングにおいて、制御信号CNT1,CNT2を出力する。
【0050】
以上の構成において、LSI100の動作期間において、スイッチ回路SW1は、オン状態となり、内部電源ライン101とNチャネルMOSトランジスタ10のゲート電極とを電気的に結合する。同時に、スイッチ回路SW2は、オン状態となり、内部接地ライン102とPチャネルMOSトランジスタ11のゲート電極とを電気的に結合する。これにより、NチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量は、電源電位VDDおよび接地電位VSSを内部回路110に安定的に供給する。
【0051】
一方、LSI100の非動作期間において、スイッチ回路SW1は、オフ状態となり、内部電源ライン101とNチャネルMOSトランジスタ10のゲート電極とを電気的に分離する。これにより、NチャネルMOSトランジスタ10からなるMOS容量において、内部電源ライン101と内部接地ライン102とのパスが切断される。
【0052】
同時に、スイッチ回路SW2はオフ状態となり、内部接地ライン102とPチャネルMOSトランジスタ11のゲート電極とを電気的に分離する。これにより、PチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量においても、内部電源ライン101と内部接地ライン102とのパスが切断される。
【0053】
したがって、LSI100の非動作期間においては、MOS容量におけるゲートリークが発生しないことから、ゲートリーク電流による電流消費を抑えることができる。
【0054】
図4は、図3の電源安定化回路200の配置例を概略的に示す図である。
図4を参照して、電源安定化回路200は、LSI100の外周部分の斜線で示す領域に配設される。
【0055】
斜線領域には、内部電源ライン101および内部接地ライン102が配線されており、電源電位VDDおよび接地電位VSSが内部回路110へと伝達される。
【0056】
なお、本実施の形態では、一例として、LSI100の外周の空き領域に電源安定化回路200を配する構成を示したが、LSI100上であって、トランジスタなどのアクティブ素子が存在しない領域であれば、いずれの領域にも配置することが可能である。
【0057】
また、LSI100の内部に搭載される電源安定化回路200は、本実施の形態で示した構成に限定されず、図2に示す構成を採用しても同様の効果を得ることができる。
【0058】
さらに、MOS容量については、NチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11のうちのいずれか一方のみで構成することも可能である。
【0059】
以上のように、この発明の実施の形態2に従えば、LSI内部に配した電源回路において、LSIの動作/非動作に応じてスイッチ回路のオン・オフを制御することにより、電源安定化とともにゲートリークによる消費電流の増大を抑えることが可能となる。
【0060】
なお、電源安定化回路は、LSI内部の空き領域若しくは内部電源ラインなどの幹線領域に形成されることから、電源安定化回路の配置に伴なう回路規模の増大は回避される。
【0061】
[実施の形態3]
図5は、この発明の実施の形態3に従う電源安定化回路の構成を示す図である。
【0062】
図5を参照して、LSI100は、動作内容に応じて、複数のブロック100a,100b・・・(図示省略)に分割される。各ブロック100a,100b・・・には、内部回路110a,110b・・・に供給する電源電位VDDおよび接地電位VSSを安定化させるための電源安定化回路200a,200b・(図示省略)がそれぞれ配設される。
【0063】
なお、電源安定化回路200a,200b・・・の配置については、各ブロック100a,100b・・・の動作内容に応じて、電源供給が必要なブロックにのみ配する構成とすればよい。
【0064】
また、本実施の形態においても、電源安定化回路200a,200b・・・は、図4に示す実施の形態2の配置例と同様に、各ブロック100a,100b・・・において、トランジスタなどのアクティブ素子が存在しない領域であれば、いずれの領域にも配置することが可能である。
【0065】
電源安定化回路200a,200b・・・のそれぞれの回路構成は、図3に示す構成と同様である。例えば、ブロック100aを参照して、電源安定化回路200aは、内部電源ライン101aと内部接地ライン102aとの間に結合されるMOSトランジスタ10a,11aからなるMOS容量と、NチャネルMOSトランジスタ10aと内部電源ライン101aとの間に結合されるスイッチ回路SW1aと、PチャネルMOSトランジスタ11aと内部接地ライン102aとの間に結合されるスイッチ回路SW2aとを有する。
【0066】
内部電源ライン101a,101b・・・および内部接地ライン102a,102b・・・は、ブロック100a,100b・・・の各々に対応して分離されて配設される。これにより、電源電位VDDおよび接地電位VSSは、ブロック毎に独立して供給されることとなる。
【0067】
このとき、PチャネルMOSトランジスタ11a,11b・・・においては、基板電極が内部電源ライン101a,101b・・・に接続されていることから、内部電源ライン101a,101b・・・の分割と同時に、MOSトランジスタの基板もブロック毎に分離される。
【0068】
以上の構成において、電源安定化回路200a,200b・・・の各々に内包されるスイッチ回路SW1a,SW2a,SW1b,SW2b・・・のオン/オフ制御は、制御部120から出力される各ブロックの動作状態を示す制御信号CNT1a,CNT2a,CNT1b,CNT2b・・・に応じて、ブロック単位で独立して行なわれる。
【0069】
例えば、ブロック100aが動作状態であり、かつブロック100b・・・が非動作状態であるときには、ブロック100aにのみ電源電位VDDおよび接地電位VSSが供給される。さらに、電源安定化回路200aにおいては、制御信号CNT1a,CNT2aに応じて、スイッチ回路SW1a,SW2aがオンされる。これにより、NチャネルMOSトランジスタ10aおよびPチャネルMOSトランジスタ11aは、デカップリング容量として作用する。
【0070】
一方、電源安定化回路200bにおいては、スイッチ回路SW1b,SW2bはオフされ、内部電源ライン101bと内部接地ライン102bとの間のパスが切断される。図示しない電源安定化回路200c・・・においても、同様に、内部電源ライン101c・・・と内部接地ライン102c・・・との間のパスがそれぞれ切断される。
【0071】
これによって、動作状態にあるブロック100aにおいて電源安定化が図られると同時に、非動作状態にあるブロック100b,100c・・・においては、電源安定化回路200b,200c・・・におけるゲートリーク電流の発生が抑えられる。
【0072】
以上のように、この発明の実施の形態3に従えば、LSI100を複数のブロックに分割して、ブロック毎に必要に応じて電源電位および接地電位の供給源と電源安定化回路とを配設する構成とし、動作状態にあるブロックに対応する電源安定化回路のみを活性化するとともに、非動作状態のブロックに対応する電源安定化回路を非活性化することにより、ゲートリークによる電流消費をより一層低減することができる。
【0073】
[実施の形態4]
図6は、この発明の実施の形態4に従う電源安定化回路の構成の一例を示す図である。
【0074】
図6を参照して、電源安定化回路200は、LSI100に電源電位VDDを伝達する電源ライン1と接地電位VSSを伝達する接地ライン2との間に結合されたNチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11と、NチャネルMOSトランジスタ10のゲート電極と電源ライン1との間に結合されたPチャネルMOSトランジスタ20と、PチャネルMOSトランジスタ11のゲート電極と接地ライン2との間に結合されたNチャネルMOSトランジスタ21とを含む。
【0075】
本実施の形態の電源安定化回路200は、図1の実施の形態1の電源安定化回路200におけるスイッチ回路SW1の一例として、PチャネルMOSトランジスタ20で構成したものである。また、スイッチ回路SW2の一例として、NチャネルMOSトランジスタ21で構成したものである。よって、共通する部分についての詳細な説明は省略する。
【0076】
PチャネルMOSトランジスタ20は、ゲート電極がLSI100の動作状態を制御する制御信号CNT1の入力端子(図示せず)に接続され、ソースが電源ライン1に接続され、ドレインがNチャネルMOSトランジスタ10のゲート電極に接続される。
【0077】
PチャネルMOSトランジスタ20は、制御信号CNT1の電位に応じてオン/オフされると、電源ライン1とNチャネルMOSトランジスタ10のゲート電極とを電気的に結合/分離する。
【0078】
ここで、図示しない制御信号入力端子から入力される制御信号CNT1は、H(論理ハイ)およびL(論理ロー)に相当する2つの電位状態を遷移する信号であり、LSI100が動作状態のときにおいてLレベルとなり、非動作状態のときにおいてHレベルとなる。
【0079】
したがって、PチャネルMOSトランジスタ20は、LSI100の動作期間において、Lレベルの制御信号CNT1に応じてオン状態となると、電源ライン1とNチャネルMOSトランジスタ10のゲート電極とを電気的に結合する。
【0080】
一方、PチャネルMOSトランジスタ20は、LSI100の非動作期間において、Hレベルの制御信号CNT1に応じてオフ状態となると、MOS容量に対する電源電位VDDと接地電位VSSとの間のパスが切断されることから、ゲートリークの発生が抑制される。
【0081】
NチャネルMOSトランジスタ21は、ゲート電極が図示しない制御信号CNT2の入力端子に接続され、ドレインがPチャネルMOSトランジスタ11のゲート電極に、ソースが接地ライン2に接続される。
【0082】
NチャネルMOSトランジスタ21は、制御信号CNT2の電位に応じてオン/オフされると、接地ライン2とPチャネルMOSトランジスタ11のゲート電極とを電気的に結合/分離する。
【0083】
ここで、制御信号CNT2は、HおよびLに相当する2つの電位状態を遷移する信号であり、LSI100が動作状態のときにおいてHレベルとなり、非動作状態のときにおいてLレベルとなる。
【0084】
したがって、NチャネルMOSトランジスタ21は、LSI100の動作期間において、Hレベルの制御信号CNT2に応じてオン状態となると、接地ライン2とPチャネルMOSトランジスタ11のゲート電極とを電気的に結合する。
【0085】
一方、NチャネルMOSトランジスタ21は、LSI100の非動作期間において、Lレベルの制御信号CNT2に応じてオフ状態となると、MOS容量に対する電源電位VDDと接地電位VSSとの間のパスが切断されることから、ゲートリークの発生が抑制される。
【0086】
以上をまとめると、LSI100の動作期間においては、PチャネルMOSトランジスタ20およびNチャネルMOSトランジスタ21は、いずれもオン状態となり、NチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量によって、LSI100の電源安定化が図られる。
【0087】
一方、LSI100の非動作期間においては、PチャネルMOSトランジスタ20およびNチャネルMOSトランジスタ21は、いずれもオフ状態となり、NチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量におけるゲートリークの発生を抑制することができる。
【0088】
なお、LSI100の動作期間において、オンされたPチャネルMOSトランジスタ20のソース−ドレイン間には電位降下が生じないことから、Nチャネルトランジスタ10のゲート電位は、電源電位VDDと等電位となる。
【0089】
また、オンされたNチャネルMOSトランジスタ11のドレイン−ソース間には電位上昇が生じないことから、PチャネルMOSトランジスタ11のゲート電位は接地電位VSSと等電位となる。
【0090】
したがって、NチャネルMOSトランジスタ11およびPチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量には、電源電位VDDと接地電位VSSとの電位差によって最大限の電荷が蓄えられることとなり、高い電源安定化効果を得ることができる。
【0091】
[実施の形態4の変更例]
図7は、この発明の実施の形態4の変更例に従う電源安定化回路の構成の一例を示す図である。
【0092】
図7を参照して、電源安定化回路200は、LSI100に結合される電源ライン1と接地ライン2との間に結合されたNチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11と、NチャネルMOSトランジスタ10のソース、ドレインおよび基板電極と接地ライン2との間に結合されたNチャネルMOSトランジスタ22と、PチャネルMOSトランジスタ11のソース、ドレインおよび基板電極と電源ライン1との間に結合されたPチャネルMOSトランジスタ23とを含む。
【0093】
本実施の形態の電源安定化回路200は、図2の電源安定化回路200におけるスイッチ回路SW3の一例として、NチャネルMOSトランジスタ22で構成したものである。また、スイッチ回路SW4の一例として、PチャネルMOSトランジスタ23で構成したものである。よって、共通する部分についての詳細な説明は省略する。
【0094】
NチャネルMOSトランジスタ22は、ゲート電極が制御信号CNT3の入力端子(図示せず)に接続され、ドレインがNチャネルMOSトランジスタ10のソース、ドレインおよび基板電極に接続され、ソースが接地ライン2に接続される。
【0095】
NチャネルMOSトランジスタ22は、制御信号CNT3の電位に応じてオン/オフされると、接地ライン2とNチャネルMOSトランジスタ10のソース、ドレインおよび基板電極とを電気的に結合/分離する。
【0096】
ここで、図示しない制御信号入力端子から入力される制御信号CNT3は、HおよびLに相当する2つの電位状態を遷移する信号であり、LSI100が動作状態のときにおいてHレベルとなり、非動作状態のときにおいてLレベルとなる。
【0097】
したがって、NチャネルMOSトランジスタ22は、LSI100の動作期間において、Hレベルの制御信号CNT3に応じてオン状態となると、接地ライン2とNチャネルMOSトランジスタ10のソース、ドレインおよび基板電極とを電気的に結合する。
【0098】
一方、NチャネルMOSトランジスタ22は、LSI100の非動作期間において、Lレベルの制御信号に応じてオフ状態となると、MOS容量に対する電源電位VDDと接地電位VSSとの間のパスが切断されることから、ゲートリークの発生が抑制される。
【0099】
PチャネルMOSトランジスタ23は、ゲート電極が図示しない制御信号CNT4の入力端子に接続され、ソースが電源ライン1に接続され、ドレインがPチャネルMOSトランジスタ11のソース、ドレインおよび基板電極に接続される。
【0100】
PチャネルMOSトランジスタ23は、制御信号CNT4の電位に応じてオン/オフされると、電源ライン1とPチャネルMOSトランジスタ11のソース、ドレインおよび基板電極とを電気的に結合/分離する。
【0101】
制御信号CNT4は、HおよびLに相当する2つの電位状態を遷移する信号であり、LSI100が動作状態のときにおいてLレベルとなり、非動作状態のときにおいてHレベルとなる。
【0102】
したがって、PチャネルMOSトランジスタ23は、LSI100の動作期間において、Lレベルの制御信号CNT4に応じてオン状態となると、電源ライン1とPチャネルMOSトランジスタ11のソース、ドレインおよび基板電極とを電気的に結合する。
【0103】
一方、PチャネルMOSトランジスタ23は、LSI100の非動作期間において、Hレベルの制御信号CNT4に応じてオフ状態となると、MOS容量に対する電源電位VDDと接地電位VSSとの間のパスが切断されることから、ゲートリークの発生が抑制される。
【0104】
以上をまとめると、LSI100の動作期間においては、NチャネルMOSトランジスタ22およびPチャネルMOSトランジスタ23は、いずれもオン状態となり、NチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量によって、LSI100の電源安定化が図られる。
【0105】
一方、LSI100の非動作期間においては、NチャネルMOSトランジスタ22およびPチャネルMOSトランジスタ23は、いずれもオフ状態となり、NチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量におけるゲートリークの発生を抑制することができる。
【0106】
なお、LSI100の動作期間において、オンされたNチャネルMOSトランジスタ22のソース−ドレイン間には、閾値電圧による電位上昇が生じないとともに、オンされたPチャネルMOSトランジスタ23のソース−ドレイン間には電位降下が生じないことから、NチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量には、電源電位VDDと接地電位VSSとの電位差によって最大限の電荷が蓄えられることとなる。
【0107】
以上のように、この発明の実施の形態4に従えば、LSIの動作/非動作に応じて、MOS容量と電源電位および接地電位との間のスイッチ回路をオン/オフすることにより、LSIに安定的に電源電位および接地電位を供給するとともに、ゲートリークによる電流消費を低減することができる。
【0108】
また、スイッチ回路とデカップリング容量とをいずれもMOSトランジスタで構成することから、電源安定化回路を容易に形成することができる。
【0109】
なお、図6,7に示す本実施の形態に係る電源安定化回路200を、図3のようにLSI100内部に配設したときにおいても、同様の効果を得ることができる。このとき、スイッチ回路の制御信号CNT1,CNT2は、それぞれLSI100内部の制御部120から出力される。また、図6,7の電源ライン1および接地ライン2は、それぞれ内部電源ライン101および内部接地ライン102に置換される。
【0110】
[実施の形態5]
図8は、この発明の実施の形態5に従う電源安定化回路の構成の一例を示す図である。
【0111】
図8を参照して、電源安定化回路200は、LSI100に結合される電源ライン1と接地ライン2との間に結合されたNチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11と、NチャネルMOSトランジスタ10のゲート電極と電源ライン1との間に結合されたNチャネルMOSトランジスタ22と、PチャネルMOSトランジスタ11のゲート電極と接地ライン2との間に結合されたPチャネルMOSトランジスタ23とを含む。
【0112】
本実施の形態の電源安定化回路200は、図1の実施の形態1の電源安定化回路200におけるスイッチ回路SW1の一例として、NチャネルMOSトランジスタ22で構成したものである。また、スイッチ回路SW2の一例として、PチャネルMOSトランジスタ23で構成したものである。よって、共通する部分についての詳細な説明は省略する。
【0113】
NチャネルMOSトランジスタ22は、ゲート電極が図示しない制御信号CNT3の入力端子に接続され、ドレインが電源ライン1に接続され、ソースがNチャネルMOSトランジスタ10のゲート電極に接続される。
【0114】
NチャネルMOSトランジスタ22は、制御信号CNT3の電位に応じてオン/オフされると、電源ライン1とNチャネルMOSトランジスタ10のゲート電極とを電気的に結合/分離する。
【0115】
NチャネルMOSトランジスタ22は、LSI100の動作期間において、Hレベルの制御信号CNT3に応じてオン状態となると、電源ライン1とNチャネルMOSトランジスタ10のゲート電極とを電気的に結合する。
【0116】
一方、NチャネルMOSトランジスタ22は、LSI100の非動作期間において、Lレベルの制御信号CNT3に応じてオフ状態となると、MOS容量に対する電源電位VDDと接地電位VSSとの間のパスが切断されることから、ゲートリークの発生が抑制される。
【0117】
PチャネルMOSトランジスタ23は、ゲート電極が図示しない制御信号CNT4の入力端子に接続され、ソースがPチャネルMOSトランジスタ11のゲート電極に、ドレインが接地ライン2に接続される。
【0118】
PチャネルMOSトランジスタ23は、制御信号CNT4の電位に応じてオン/オフされると、接地ライン2とPチャネルMOSトランジスタ11のゲート電極とを電気的に結合/分離する。
【0119】
PチャネルMOSトランジスタ23は、LSI100の動作期間において、Lレベルの制御信号CNT4に応じてオン状態となると、接地ライン2とPチャネルMOSトランジスタ11のゲート電極とを電気的に結合する。
【0120】
一方、PチャネルMOSトランジスタ23は、LSI100の非動作期間において、Hレベルの制御信号CNT4に応じてオフ状態となると、MOS容量に対する電源電位VDDと接地電位VSSとの間のパスが切断されることから、ゲートリークの発生が抑制される。
【0121】
以上をまとめると、LSI100の動作期間においては、NチャネルMOSトランジスタ22およびPチャネルMOSトランジスタ23は、いずれもオン状態となり、NチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量によって、LSI100の電源安定化が図られる。
【0122】
一方、LSI100の非動作期間においては、NチャネルMOSトランジスタ22およびPチャネルMOSトランジスタ23は、いずれもオフ状態となり、NチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量におけるゲートリークの発生を抑制することができる。
【0123】
なお、LSI100の動作期間において、オンされたNチャネルMOSトランジスタ22のソース−ドレイン間には閾値電圧分の電位降下が生じることから、Nチャネルトランジスタ10のゲート電位は、電源電位VDDから閾値電圧だけ低い電位となる。
【0124】
また、オンされたPチャネルMOSトランジスタ23のソース−ドレイン間には閾値電圧分の電位上昇が生じることから、PチャネルMOSトランジスタ11のゲート電位は接地電位VSSから閾値電圧だけ高い電位となる。
【0125】
したがって、NチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量には、電源電位VDDと接地電位VSSとの電位差からNチャネルMOSトランジスタ22およびPチャネルMOSトランジスタ23の閾値電圧分の和に相当する電位を減じた電位が印加されることとなる。MOS容量にて発生するゲートリーク電流量は、ゲート印加電圧に比例することから、本構成によれば、LSI100の動作期間においても、ゲートリーク電流を低減し、低消費電流化を実現することが可能となる。
【0126】
[実施の形態5の変更例]
図9は、この発明の実施の形態5の変更例に従う電源安定化回路の構成の一例を示す図である。
【0127】
図9を参照して、電源安定化回路200は、LSI100に結合される電源ラン1と接地ライン2との間に結合されたNチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11と、NチャネルMOSトランジスタ10のソース、ドレインおよび基板電極と接地ライン2との間に結合されたPチャネルMOSトランジスタ20と、PチャネルMOSトランジスタ11のソース、ドレインおよび基板電極と電源ライン1との間に結合されたNチャネルMOSトランジスタ21とを含む。
【0128】
本実施の形態の電源安定化回路200は、図2の実施の形態1の変更例に係る電源安定化回路200におけるスイッチ回路SW3の一例として、PチャネルMOSトランジスタ20で構成したものである。また、スイッチ回路SW4の一例として、NチャネルMOSトランジスタ21で構成したものである。よって、共通する部分についての詳細な説明は省略する。
【0129】
PチャネルMOSトランジスタ20は、ゲート電極が図示しない制御信号CNT1の入力端子に接続され、ソースがNチャネルMOSトランジスタ10のソース、ドレインおよび基板電極に接続され、ドレインが接地ライン2に接続される。
【0130】
PチャネルMOSトランジスタ20は、LSI100の動作期間において、Lレベルの制御信号CNT1に応じてオン状態となると、接地ライン2とNチャネルMOSトランジスタ10のソース、ドレインおよび基板電極とを電気的に結合する。
【0131】
一方、PチャネルMOSトランジスタ20は、LSI100の非動作期間において、Hレベルの制御信号CNT1に応じてオフ状態となると、MOS容量に対する電源電位VDDと接地電位VSSとの間のパスが切断されることから、ゲートリークの発生が抑制される。
【0132】
NチャネルMOSトランジスタ21は、ゲート電極が図示しない制御信号CNT2の入力端子に接続され、ドレインが電源ライン1に接続され、ソースがPチャネルMOSトランジスタ11のソース、ドレインおよび基板電極に接続される。
【0133】
NチャネルMOSトランジスタ21は、LSI100の動作期間において、Hレベルの制御信号CNT2に応じてオン状態となると、電源ライン1とPチャネルMOSトランジスタ11のソース、ドレインおよび基板電極とを電気的に結合する。
【0134】
一方、NチャネルMOSトランジスタ21は、LSI100の非動作期間において、Lレベルの制御信号CNT2に応じてオフ状態となると、MOS容量に対する電源電位VDDと接地電位VSSとの間のパスが切断されることから、ゲートリークの発生が抑制される。
【0135】
以上をまとめると、LSI100の動作期間においては、PチャネルMOSトランジスタ20およびNチャネルMOSトランジスタ21は、いずれもオン状態となり、NチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量によって、LSI100の電源安定化が図られる。
【0136】
一方、LSI100の非動作期間においては、PチャネルMOSトランジスタ20およびNチャネルMOSトランジスタ21は、いずれもオフ状態となり、NチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量におけるゲートリークの発生を抑制することができる。
【0137】
なお、LSI100の動作期間において、オンされたPチャネルMOSトランジスタ20のソース−ドレイン間には閾値電圧分の電位上昇が生じるとともに、オンされたNチャネルMOSトランジスタ21のソース−ドレイン間には閾値電圧分の電位降下が生じることから、NチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量には、電源電位VDDと接地電位VSSとの電位差からPチャネルMOSトランジスタ20およびNチャネルMOSトランジスタ21の閾値電圧の和に相当する電位分を減じた電位が印加されることとなる。したがって、LSI100の動作状態においても、各MOS容量におけるゲートリークによる消費電流が抑えられることとなる。
【0138】
以上のように、この発明の実施の形態5に従えば、LSIの電源安定化を図るとともに、LSIの動作状態および非動作状態において、ゲートリークによる電流消費を抑えることができ、一層の低消費電力化を実現することができる。
【0139】
なお、本実施の形態の電源安定化回路200を、図3に示すように、LSI100内部に配設したときにおいても同様の効果を得ることができる。この場合は、スイッチ回路の制御信号CNT1,CNT2は、それぞれLSI100内部の制御部120から出力される。また、図8,9中の電源ライン1および接地ライン2は、それぞれ内部電源ライン101および内部接地ライン102に置換される。
【0140】
[実施の形態6]
図10は、この発明の実施の形態6に従う電源安定化回路の構成を示す図である。
【0141】
図10を参照して、電源安定化回路200は、LSI100に結合される電源ライン1と接地ライン2との間に結合されたNチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11と、電源3と電源ライン1との間に結合されたPチャネルMOSトランジスタ20とを含む。
【0142】
NチャネルMOSトランジスタ10は、ゲート電極が電源ライン1に接続され、ソース、ドレインおよび基板電極が接地ライン2に接続される。
【0143】
PチャネルMOSトランジスタ11は、ソース、ドレインおよび基板電極が電源ライン1に接続され、ゲート電極が接地ライン2に接続される。
【0144】
本実施の形態の電源安定化回路200は、図1の実施の形態1におけるスイッチ回路SW1および図2の実施の形態2におけるスイッチ回路SW4の一例として、PチャネルMOSトランジスタ20で構成したものである。
【0145】
PチャネルMOSトランジスタ20は、ゲート電極が図示しない制御信号CNT1の入力端子に接続され、ドレインが電源ライン1に接続され、ソースが電源3に接続される。
【0146】
本実施の形態では、NチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11により形成されるMOS容量は、スイッチ回路であるPチャネルMOSトランジスタ20を介さず、直接電源ライン1と接地ライン2との間に結合される。この点において、MOS容量とスイッチ回路であるPチャネルMOSトランジスタ20を一体として電源ライン1と接地ライン2との間に結合する実施の形態4,5の構成と相違する。
【0147】
PチャネルMOSトランジスタ20は、LSI100の動作期間において、Lレベルの制御信号CNT1に応じてオンされると、電源3と電源ライン1とを電気的に結合する。
【0148】
電源3と電源ライン1とが結合することにより、電源ライン1が電源電位VDDに駆動されると、NチャネルMOSトランジスタ10のゲート電極およびPチャネルMOSトランジスタ11のソース、ドレインおよび基板電極は、電源電位VDDとなる。
【0149】
したがって、NチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11により、電源電位VDDおよび接地電位VSSが安定的にLSI100に供給される。
【0150】
ここで、オン状態となったPチャネルMOSトランジスタ20は、オン抵抗として、MOS容量に直列接続される抵抗成分を有する。
【0151】
したがって、先の実施の形態で示したように、電源ライン1と接地ライン2との間にPチャネルMOSトランジスタ20とMOS容量とを一体化して配した場合、電源ライン1と接地ライン2との間には、抵抗を介してMOS容量が付加されることとなる。
【0152】
LSI100の動作期間において、内部回路110が所定の速度で動作すると、内部回路110の動作速度に応じてMOS容量への充放電が繰り返される。内部回路110の動作が高速となるに伴ない、MOS容量への充放電の速度も高速化される。
【0153】
しかしながら、抵抗を介してMOS容量が付加されているときには、抵抗に起因して充放電の過渡特性における時定数が大きくなることから、内部回路110の動作速度がある一定値以上となると、充放電が動作速度に追従できなくなり、電源ライン1と接地ライン2との間にMOS容量が存在しない状態と等しくなってしまう。
【0154】
すなわち、内部回路110の高速動作時においては、MOSトランジスタによるスイッチ回路の抵抗成分により、MOS容量による電源安定化の効果を十分に得ることができない。
【0155】
そこで、図10に示すように、MOS容量をスイッチ回路であるPチャネルMOSトランジスタ20を介さず、直接電源ライン1と接地ライン2との間に結合する本実施の形態によれば、PチャネルMOSトランジスタ20のオン抵抗による高周波特性の劣化を招くことなく、高速動作においても電源安定化の効果を最大限に享受することができる。
【0156】
なお、LSI100の非動作期間においては、Hレベルの制御信号CNT1に応じてPチャネルMOSトランジスタ20がオフ状態となると、電源3から電源ライン1に対しての電源電位VDDの供給が行なわれない。
【0157】
したがって、NチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量に対して、電源電位VDDと接地電位VSSとのパスが切断されることから、ゲートリーク電流の発生が抑えられる。
【0158】
さらに、図示しないLSI100の内部回路110に対する電源電位VDDと接地電位VSSとの間のパスも切断されることから、内部回路110におけるリーク電流の発生も抑制することができる。
【0159】
[実施の形態6の変更例1]
図11は、この発明の実施の形態6の変更例1に従う電源安定化回路の構成を示す図である。
【0160】
図11を参照して、電源安定化回路200は、LSI100に結合される電源ライン1と接地ライン2との間に結合されたNチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11と、接地ライン2と接地電位との間に結合されたNチャネルMOSトランジスタ22とを含む。
【0161】
NチャネルMOSトランジスタ10は、ゲート電極が電源ライン1に接続され、ソース、ドレインおよび基板電極が接地ライン2に接続される。
【0162】
PチャネルMOSトランジスタ11は、ソース、ドレインおよび基板電極が電源ライン1に接続され、ゲート電極が接地ライン2に接続される。
【0163】
本実施の形態の電源安定化回路200は、図2の実施の形態2におけるスイッチ回路SW3および図1の実施の形態1におけるスイッチ回路SW2の一例として、NチャネルMOSトランジスタ22で構成したものである。
【0164】
NチャネルMOSトランジスタ22は、ゲート電極が図示しない制御信号CNT3の入力端子に接続され、ドレインが接地ライン2に接続され、ソースが接地電位に接続される。
【0165】
図11では、図10と同様に、MOS容量は、スイッチ回路であるNチャネルMOSトランジスタ22を介さず、直接電源ライン1と接地ラインとの間に結合される。
【0166】
これにより、先述のように、LSI100の動作期間において、NチャネルMOSトランジスタ22のオン抵抗による高周波特性の劣化を招くことなく、高速動作においても電源安定化の効果を最大限に享受することができる。
【0167】
また、LSI100の非動作期間においては、Lレベルの制御信号CNT3に応じてNチャネルMOSトランジスタ22がオフされると、NチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量におけるゲートリーク電流の発生が抑えられるとともに、内部回路110におけるリーク電流の発生も抑制することができる。
【0168】
[実施の形態6の変更例2]
図12は、この発明の実施の形態6の変更例2に従う電源安定化回路の構成を示す図である。
【0169】
図12を参照して、電源安定化回路200は、LSI100に結合される電源ライン1と接地ライン2との間に結合されたNチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11と、電源3と電源ライン1との間に結合されたPチャネルMOSトランジスタ20と、接地ライン2と接地電位との間に結合されたNチャネルMOSトランジスタ22とを含む。
【0170】
本実施の形態の電源安定化回路200は、図1の実施の形態1におけるスイッチ回路SW1および図2の実施の形態2におけるスイッチ回路SW4の一例として、PチャネルMOSトランジスタ20で構成したものである。
【0171】
さらに、図2の実施の形態2におけるスイッチ回路SW3および図1の実施の形態1におけるスイッチ回路SW2の一例として、NチャネルMOSトランジスタ22で構成したものである。
【0172】
PチャネルMOSトランジスタ20は、ゲート電極が図示しない制御信号CNT1の入力端子に接続され、ソースが電源3に接続され、ドレインが電源ライン1に接続される。
【0173】
PチャネルMOSトランジスタ20は、LSI100の動作期間において、Lレベルの制御信号CNT1に応じてオンされると、電源3と電源ライン1とを電気的に結合する。これにより、電源ライン1は電源電位VDDに駆動される。
【0174】
一方、PチャネルMOSトランジスタ20は、LSI100の非動作期間において、Hレベルの制御信号CNT1に応じてオフされると、電源3と電源ライン1とを電気的に分離する。
【0175】
NチャネルMOSトランジスタ22は、ゲート電極が図示しない制御信号CNT3の入力端子に接続され、ドレインが接地ライン2に接続され、ソースが接地電位に接続される。
【0176】
NチャネルMOSトランジスタ22は、LSI100の動作期間において、Hレベルの制御信号CNT3に応じてオンされると、接地電位と接地ライン2とを電気的に結合する。これにより、接地ライン2は接地電位VSSに駆動される。
【0177】
一方、NチャネルMOSトランジスタ22は、LSI100の非動作期間において、Lレベルの制御信号に応じてオフ状態となると、接地電位と接地ライン2とを電気的に分離する。
【0178】
図12では、図10,11と同様に、MOS容量は、スイッチ回路であるPチャネルMOSトランジスタ20およびNチャネルMOSトランジスタ22を介さず、直接電源ライン1と接地ラインとの間に結合される。
【0179】
したがって、LSI100の動作期間において、PチャネルMOSトランジスタ20およびNチャネルMOSトランジスタ22のオン抵抗による高周波特性の劣化を招くことなく、高速動作においても電源安定化の効果を最大限に享受することができる。
【0180】
また、LSI100の非動作期間においては、PチャネルMOSトランジスタ20およびNチャネルMOSトランジスタ22のいずれもがオフされると、NチャネルMOSトランジスタ10およびPチャネルMOSトランジスタ11からなるMOS容量におけるゲートリーク電流の発生が抑えられるとともに、内部回路110におけるリーク電流の発生も抑制することができる。
【0181】
以上のように、この発明の実施の形態6に従えば、LSIの動作期間において、MOSトランジスタからなるスイッチ回路を介さずに、電源ラインと接地ラインとの間にMOS容量を直結することにより、MOSトランジスタのオン抵抗による高周波特性の劣化を回避して、高速動作においても電源安定化による安定動作が保証される。
【0182】
また、LSIの非動作期間において、電源電位と接地電位との間のパスを切断することにより、MOS容量におけるゲートリーク電流の発生を抑えるとともに、内部回路におけるリーク電流の発生を抑制することができることから、一層の低消費電流化が実現される。
【0183】
以上に挙げた実施の形態1〜6のうち、実施の形態5,6においては、スイッチ回路の一例としてMOSトランジスタを用いる構成について示した。ここで、スイッチ回路のMOSトランジスタのゲート酸化膜を内部回路等に含まれる他のMOSトランジスタのゲート酸化膜よりも厚膜化すれば、スイッチ回路のオン状態、すなわち、MOSトランジスタのオン状態において、スイッチ回路内で生じるゲートリーク電流を低減することができる。したがって、LSIの動作期間において一層の低消費電流が可能となる。
【0184】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した説明ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【0185】
【発明の効果】
以上のように、この発明の電源安定化回路によれば、LSIの動作状態の応じて、電源電位と接地電位との間を電気的に結合/分離するスイッチ回路をMOS容量に付加した構成することにより、LSIの電源安定化を図るとともに、MOS容量を形成するMOSトランジスタのゲートリークによる消費電流の増大を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施の形態1に従う電源安定化回路の構成を示す図である。
【図2】この発明の実施の形態1の変更例に従う電源安定化回路の構成を示す図である。
【図3】この発明の実施の形態2に従う電源安定化回路の構成を示す図である。
【図4】図3の電源安定化回路200の配置例を概略的に示す図である。
【図5】この発明の実施の形態3に従う電源安定化回路の構成を示す図である。
【図6】この発明の実施の形態4に従う電源安定化回路の構成を示す図である。
【図7】この発明の実施の形態4の変更例に従う電源安定化回路の構成の一例を示す図である。
【図8】この発明の実施の形態5に従う電源安定化回路の構成を示す図である。
【図9】この発明の実施の形態5の変更例に従う電源安定化回路の構成を示す図である。
【図10】この発明の実施の形態6に従う電源安定化回路の構成を示す図である。
【図11】この発明の実施の形態6の変更例1に従う電源安定化回路の構成を示す図である。
【図12】この発明の実施の形態6の変更例2に従う電源安定化回路の構成を示す図である。
【符号の説明】
1 電源ライン、2 接地ライン、3 電源、10,10a,10b・・・,20,22 NチャネルMOSトランジスタ、11,11a,11b・・・,21,23 PチャネルMOSトランジスタ、100 LSI、100a,100b・・・ ブロック、101,101a,101b・・・ 内部電源ライン、102,102a,102b・・・ 内部接地ライン、110,110a,110b・・・ 内部回路、111 電源端子、112 接地端子、120 制御部、200,200a,200b・・・ 電源安定化回路、SW1,SW1a,SW1b・・・,SW2,SW2a,SW2b・・・,SW3,SW4 スイッチ回路、CNT1,CNT1a,CNT1b・・・,CNT2,CNT2a,CNT2b・・・,CNT3,CNT4 制御信号、VDD 電源電位、VSS 接地電位。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a power supply stabilization circuit, and more particularly to a power supply stabilization circuit added to a power supply circuit for supplying a power supply potential and a ground potential, and a semiconductor integrated circuit device including the same.
[0002]
[Prior art]
For the purpose of guaranteeing a stable operation of an LSI (semiconductor integrated circuit), a decoupling capacitance as a power supply stabilizing circuit is provided between a power supply line transmitting a power supply potential to an internal circuit of the LSI and a ground line transmitting a ground potential. Be placed.
[0003]
As the decoupling capacitance, a so-called MOS capacitance formed by the gate capacitance of a MOS (Metal Oxide Semiconductor) transistor is generally used (for example, see Patent Document 1).
[0004]
Since the larger the capacitance value of the decoupling capacitor is, the more effective the stabilization of the power supply voltage is. The capacity of the MOS capacitor is increased by increasing the gate area of the MOS transistor and reducing the thickness of the gate oxide film. ing.
[0005]
On the other hand, in recent LSI manufacturing process technology, as transistor miniaturization progresses, in a miniaturized transistor of 100 nanonodes or less, the thickness of the gate oxide film becomes thinner, and gate leakage occurs between the gate electrode and the substrate. There is a problem that occurs.
[0006]
Since the current due to the gate leakage causes an increase in the power consumption of the entire circuit, it is becoming more and more remarkable in today's thinner gate oxide film.
[0007]
Note that a current due to gate leakage is generated by charges penetrating through a gate oxide film, and thus increases in proportion to a gate area and a gate applied voltage of the transistor.
[0008]
In particular, in the above MOS capacitor, the gate area of the MOS transistor is often designed to be as large as possible in order to increase the capacitance value, and the problem of gate leakage becomes serious due to the progress of miniaturization. is expected.
[0009]
[Patent Document 1]
JP-A-2-58275 (FIG. 1)
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
As described above, the MOS capacitor is used for stabilizing the power supply, and is a so-called auxiliary device for guaranteeing the stable operation of the LSI body.
[0011]
By the way, it is said that in the generations after the 90 nano node, the gate leakage current in the MOS transistor mounted on the LSI occupies most of the leakage current and becomes equal to the active current.
[0012]
This is only a prediction regarding the LSI body, and does not include the current consumption in the power supply stabilizing circuit which is an auxiliary device for stabilizing the power supply.
[0013]
On the other hand, in the power supply stabilizing circuit, it is not uncommon for the gate area of the MOS transistor forming the MOS capacitor to be equal to the gate area of the MOS transistor mounted on the LSI body.
[0014]
In this case, in the future of LSIs that are being miniaturized, it is determined that the current consumption of the LSI main body and the current consumption of the power supply stabilization circuit will be substantially the same. It is expected that
[0015]
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a power supply stabilizing circuit capable of suppressing an increase in current consumption due to gate leakage, and a semiconductor integrated circuit device including the same.
[0016]
[Means for Solving the Problems]
According to the power supply stabilizing circuit according to the present invention, there is provided a power supply stabilizing circuit for stabilizing a power supply potential and a ground potential supplied to an internal circuit of a semiconductor integrated circuit, provided between the power supply potential and the ground potential. A capacitive element; and a switch circuit connected between the power supply potential and the capacitive element or between the capacitive element and the ground potential. The switch circuit electrically couples a corresponding power supply potential or ground potential to a capacitance element in an operation state of the semiconductor integrated circuit, and a corresponding power supply potential or ground potential and a capacitance in a non-operation state of the semiconductor integrated circuit. It is electrically separated from the element.
[0017]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding portions have the same reference characters allotted, and description thereof will not be repeated.
[0018]
[Embodiment 1]
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a power supply stabilizing circuit according to the first embodiment of the present invention.
[0019]
Referring to FIG. 1, power
[0020]
In
[0021]
Power
[0022]
The N-
[0023]
The switch circuit SW1 is turned on / off in response to a control signal CNT1 for controlling the operation / non-operation of the
[0024]
The P-
[0025]
The switch circuit SW2 is electrically turned on / off in response to the control signal CNT2 to electrically couple / separate the gate electrode of the P-
[0026]
In the above configuration, during the operation period of the
[0027]
As described above, the MOS capacitor including the N-
[0028]
On the other hand, during the non-operation period of the
[0029]
At the same time, the switch circuit SW2 is turned off, and electrically separates the
[0030]
Therefore, during the non-operation period of the
[0031]
In this case, the effect of stabilizing the power supply by the MOS capacitor cannot be obtained, but no problem occurs because the
[0032]
Further, in the present embodiment, the power
[0033]
[Modification of First Embodiment]
FIG. 2 shows a configuration of a power supply stabilizing circuit according to a modification of the first embodiment of the present invention.
[0034]
Referring to FIG. 2, power
[0035]
N-
[0036]
The switch circuit SW3 turns on / off in response to a control signal CNT3 for controlling operation / non-operation of the
[0037]
P-
[0038]
The switch circuit SW4 is turned on / off according to the control signal CNT4 to electrically couple / separate the power supply line 1 from the source, drain and substrate electrode of the P-
[0039]
In the above configuration, during the operation period of the
[0040]
Thus, the power supply potential VDD and the ground potential VSS supplied to the
[0041]
On the other hand, during the non-operation period of the
[0042]
At the same time, the switch circuit SW4 is turned off, and electrically separates the power supply line 1 from the source and drain of the P-
[0043]
Therefore, since no gate leakage occurs in each MOS capacitor, current consumption due to gate leakage current can be suppressed.
[0044]
As described above, according to the first embodiment of the present invention, in the power supply stabilizing circuit, the switch circuit for coupling / separating between the power supply potential and the ground potential according to the operation / non-operation state of the LSI is provided by the MOS transistor In addition to stabilizing the power supply of the LSI, it is possible to suppress an increase in current consumption due to gate leakage of the MOS transistor.
[0045]
[Embodiment 2]
FIG. 3 shows a configuration of a power supply stabilizing circuit according to the second embodiment of the present invention.
[0046]
Referring to FIG. 3, power
[0047]
Power
[0048]
This embodiment is different from the first embodiment shown in FIG. 1 only in that a power
[0049]
As shown in FIG. 3, control signals CNT1 and CNT2 for controlling on / off operations of the switch circuits SW1 and SW2 are output from a
[0050]
In the above configuration, during the operation period of the
[0051]
On the other hand, during the non-operation period of the
[0052]
At the same time, switch circuit SW2 is turned off, and electrically separates
[0053]
Therefore, during the non-operation period of the
[0054]
FIG. 4 is a diagram schematically showing an example of arrangement of power
Referring to FIG. 4, power
[0055]
In the shaded region, an internal
[0056]
In the present embodiment, as an example, the configuration in which the power
[0057]
Further, the power
[0058]
Further, the MOS capacitor can be configured with only one of the N-
[0059]
As described above, according to the second embodiment of the present invention, in the power supply circuit disposed inside the LSI, by controlling the ON / OFF of the switch circuit according to the operation / non-operation of the LSI, the power supply can be stabilized. It is possible to suppress an increase in current consumption due to gate leakage.
[0060]
Since the power supply stabilization circuit is formed in a free area in the LSI or in a trunk area such as an internal power supply line, an increase in circuit size due to the arrangement of the power supply stabilization circuit is avoided.
[0061]
[Embodiment 3]
FIG. 5 shows a configuration of a power supply stabilizing circuit according to the third embodiment of the present invention.
[0062]
Referring to FIG. 5,
[0063]
The
[0064]
Also in the present embodiment, the power
[0065]
The circuit configuration of each of the
[0066]
The internal
[0067]
At this time, since the substrate electrodes of the P-
[0068]
In the above configuration, on / off control of the switch circuits SW1a, SW2a, SW1b, SW2b,... Included in each of the
[0069]
For example, when the
[0070]
On the other hand, in power
[0071]
.., The power
[0072]
As described above, according to the third embodiment of the present invention,
[0073]
[Embodiment 4]
FIG. 6 shows an example of a configuration of a power supply stabilizing circuit according to the fourth embodiment of the present invention.
[0074]
Referring to FIG. 6, power
[0075]
The power
[0076]
P-
[0077]
When turned on / off according to the potential of control signal CNT1, P
[0078]
Here, the control signal CNT1 input from a control signal input terminal (not shown) is a signal that transitions between two potential states corresponding to H (logic high) and L (logic low). It becomes L level and becomes H level in the non-operation state.
[0079]
Therefore, when P-
[0080]
On the other hand, when the P-
[0081]
The N-
[0082]
When turned on / off according to the potential of control signal CNT2, N-
[0083]
Here, the control signal CNT2 is a signal that transitions between two potential states corresponding to H and L, and is at the H level when the
[0084]
Therefore, when N-
[0085]
On the other hand, when the N-
[0086]
To summarize the above, during the operation period of the
[0087]
On the other hand, during the non-operating period of the
[0088]
Note that, during the operation period of the
[0089]
Further, since the potential does not increase between the drain and the source of the turned on N-
[0090]
Therefore, the MOS capacitor composed of the N-
[0091]
[Modification of Embodiment 4]
FIG. 7 shows an example of a configuration of a power supply stabilizing circuit according to a modification of the fourth embodiment of the present invention.
[0092]
Referring to FIG. 7, power
[0093]
The power
[0094]
N-
[0095]
When turned on / off according to the potential of control signal CNT3, N-
[0096]
Here, the control signal CNT3 input from a control signal input terminal (not shown) is a signal that transitions between two potential states corresponding to H and L, becomes H level when the
[0097]
Therefore, when the N-
[0098]
On the other hand, when the N-
[0099]
The P-
[0100]
When turned on / off according to the potential of control signal CNT4, P-
[0101]
The control signal CNT4 is a signal that transitions between two potential states corresponding to H and L, and goes to L level when the
[0102]
Therefore, when P-
[0103]
On the other hand, when the P-
[0104]
In summary, during the operation period of the
[0105]
On the other hand, during the non-operating period of the
[0106]
Note that during the operation period of the
[0107]
As described above, according to the fourth embodiment of the present invention, by turning on / off the switch circuit between the MOS capacitor and the power supply potential and the ground potential in accordance with the operation / non-operation of the LSI, Power supply potential and ground potential can be supplied stably, and current consumption due to gate leakage can be reduced.
[0108]
Further, since both the switch circuit and the decoupling capacitance are formed by MOS transistors, a power supply stabilizing circuit can be easily formed.
[0109]
Note that the same effect can be obtained when the power
[0110]
[Embodiment 5]
FIG. 8 shows an example of a configuration of a power supply stabilizing circuit according to the fifth embodiment of the present invention.
[0111]
Referring to FIG. 8, power
[0112]
The power
[0113]
The N-
[0114]
When turned on / off according to the potential of control signal CNT3, N-
[0115]
N-
[0116]
On the other hand, when the N-
[0117]
The P-
[0118]
When turned on / off in response to the potential of control signal CNT4, P-
[0119]
P
[0120]
On the other hand, when the P-
[0121]
In summary, during the operation period of the
[0122]
On the other hand, during the non-operating period of the
[0123]
Note that during the operation period of the
[0124]
Further, since a potential rise corresponding to the threshold voltage occurs between the source and the drain of the turned on P-
[0125]
Therefore, the MOS capacitor composed of N-
[0126]
[Modification of Embodiment 5]
FIG. 9 shows an example of a configuration of a power supply stabilizing circuit according to a modification of the fifth embodiment of the present invention.
[0127]
Referring to FIG. 9, power
[0128]
The power
[0129]
P-
[0130]
When P-
[0131]
On the other hand, when the P-
[0132]
The N-
[0133]
When the N-
[0134]
On the other hand, when the N-
[0135]
To summarize the above, during the operation period of the
[0136]
On the other hand, during the non-operating period of the
[0137]
In the operation period of the
[0138]
As described above, according to the fifth embodiment of the present invention, the power supply of the LSI can be stabilized, and the current consumption due to the gate leak can be suppressed in the operating state and the non-operating state of the LSI. Electricity can be realized.
[0139]
Note that the same effect can be obtained when the power
[0140]
Embodiment 6
FIG. 10 shows a structure of a power supply stabilizing circuit according to a sixth embodiment of the present invention.
[0141]
Referring to FIG. 10, power
[0142]
N
[0143]
P
[0144]
The power
[0145]
The P-
[0146]
In the present embodiment, the MOS capacitance formed by N-
[0147]
When turned on in response to an L-level control signal CNT1 during the operation of
[0148]
When power supply line 1 is driven to power supply potential VDD by coupling power supply 3 and power supply line 1, the gate electrode of N-
[0149]
Therefore, power supply potential VDD and ground potential VSS are stably supplied to
[0150]
Here, the P-
[0151]
Therefore, as shown in the previous embodiment, when P-
[0152]
When the
[0153]
However, when the MOS capacitance is added via a resistor, the time constant in the transient characteristics of charging and discharging increases due to the resistance. Cannot follow the operation speed, which is equivalent to a state in which no MOS capacitor exists between the power supply line 1 and the
[0154]
That is, during the high-speed operation of the
[0155]
Therefore, as shown in FIG. 10, according to the present embodiment in which the MOS capacitance is directly coupled between the power supply line 1 and the
[0156]
Note that, during the non-operation period of the
[0157]
Therefore, the path between the power supply potential VDD and the ground potential VSS is cut off with respect to the MOS capacitor including the N-
[0158]
Further, since the path between the power supply potential VDD and the ground potential VSS for the
[0159]
[Modification 1 of Embodiment 6]
FIG. 11 shows a structure of a power supply stabilizing circuit according to a first modification of the sixth embodiment of the present invention.
[0160]
Referring to FIG. 11, power
[0161]
N
[0162]
P
[0163]
The power
[0164]
N-
[0165]
In FIG. 11, as in FIG. 10, the MOS capacitance is directly coupled between the power supply line 1 and the ground line without passing through the N-
[0166]
Thus, as described above, during the operation period of the
[0167]
When the N-
[0168]
[
FIG. 12 shows a configuration of a power supply stabilizing circuit according to a second modification of the sixth embodiment of the present invention.
[0169]
12, power
[0170]
The power
[0171]
Further, as an example of the switch circuit SW3 in the second embodiment of FIG. 2 and the switch circuit SW2 in the first embodiment of FIG. 1, an N-
[0172]
The P-
[0173]
When turned on in response to an L-level control signal CNT1 during the operation of
[0174]
On the other hand, when the P-
[0175]
N-
[0176]
N-
[0177]
On the other hand, when the N-
[0178]
In FIG. 12, as in FIGS. 10 and 11, the MOS capacitor is directly coupled between the power supply line 1 and the ground line without passing through the P-
[0179]
Therefore, during the operation period of the
[0180]
Further, during the non-operating period of the
[0181]
As described above, according to the sixth embodiment of the present invention, during the operation period of the LSI, the MOS capacitance is directly connected between the power supply line and the ground line without passing through the switch circuit including the MOS transistor. Deterioration of high-frequency characteristics due to the ON resistance of the MOS transistor is avoided, and stable operation due to power supply stabilization is ensured even in high-speed operation.
[0182]
Further, by cutting the path between the power supply potential and the ground potential during the non-operation period of the LSI, it is possible to suppress the generation of the gate leak current in the MOS capacitor and the generation of the leak current in the internal circuit. Therefore, a further reduction in current consumption is realized.
[0183]
In the fifth and sixth embodiments among the first to sixth embodiments described above, the configuration using the MOS transistor as an example of the switch circuit has been described. Here, if the gate oxide film of the MOS transistor of the switch circuit is made thicker than the gate oxide films of the other MOS transistors included in the internal circuit and the like, the ON state of the switch circuit, that is, the ON state of the MOS transistor, Gate leak current generated in the switch circuit can be reduced. Therefore, lower current consumption can be achieved during the operation period of the LSI.
[0184]
The embodiments disclosed this time are to be considered in all respects as illustrative and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.
[0185]
【The invention's effect】
As described above, according to the power supply stabilization circuit of the present invention, a switch circuit for electrically coupling / separating between the power supply potential and the ground potential is added to the MOS capacitor according to the operation state of the LSI. This makes it possible to stabilize the power supply of the LSI and suppress an increase in current consumption due to gate leakage of the MOS transistor forming the MOS capacitor.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a power supply stabilizing circuit according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a power supply stabilizing circuit according to a modification of the first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a power supply stabilizing circuit according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a diagram schematically showing an example of arrangement of a power
FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a power supply stabilizing circuit according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a diagram showing a configuration of a power supply stabilizing circuit according to a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 7 shows an example of a configuration of a power supply stabilizing circuit according to a modification of the fourth embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a diagram showing a configuration of a power supply stabilizing circuit according to a fifth embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a diagram showing a configuration of a power supply stabilizing circuit according to a modification of the fifth embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a diagram showing a configuration of a power supply stabilizing circuit according to a sixth embodiment of the present invention.
FIG. 11 is a diagram showing a configuration of a power supply stabilizing circuit according to a first modification of the sixth embodiment of the present invention.
FIG. 12 is a diagram showing a configuration of a power supply stabilizing circuit according to a second modification of the sixth embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
1 power supply line, 2 ground line, 3 power supply, 10, 10a, 10b ..., 20, 22 N-channel MOS transistor, 11, 11a, 11b ..., 21, 23 P-channel MOS transistor, 100 LSI, 100a, 100b ... block, 101, 101a, 101b ... internal power supply line, 102, 102a, 102b ... internal ground line, 110, 110a, 110b ... internal circuit, 111 power supply terminal, 112 ground terminal, 120 Control unit, 200, 200a, 200b ... Power stabilization circuit, SW1, SW1a, SW1b ..., SW2, SW2a, SW2b ..., SW3, SW4 Switch circuit, CNT1, CNT1a, CNT1b ..., CNT2 , CNT2a, CNT2b ..., CNT3, CNT4 control signal, VDD power supply potential, VSS ground potential.
Claims (13)
前記電源電位と前記接地電位との間に設けられる容量素子と、
前記電源電位と前記容量素子との間または前記容量素子と前記接地電位との間に接続されるスイッチ回路とを備え、
前記スイッチ回路は、
前記半導体集積回路の動作状態において、対応する前記電源電位または前記接地電位と前記容量素子との間を電気的に結合し、
前記半導体集積回路の非動作状態において、対応する前記電源電位または前記接地電位と前記容量素子との間を電気的に分離する、電源安定化回路。A power supply stabilization circuit for stabilizing a power supply potential and a ground potential supplied to an internal circuit of a semiconductor integrated circuit,
A capacitor provided between the power supply potential and the ground potential;
A switch circuit connected between the power supply potential and the capacitance element or between the capacitance element and the ground potential;
The switch circuit,
In the operating state of the semiconductor integrated circuit, the corresponding power supply potential or the ground potential and the capacitive element are electrically coupled,
A power supply stabilization circuit for electrically separating a corresponding one of the power supply potential or the ground potential and the capacitance element when the semiconductor integrated circuit is not operating.
内包する内部回路の動作内容に応じて分割された複数のブロックと、
前記複数のブロックの各々を動作/非動作状態に駆動する制御部と、
各前記複数のブロックに対して配され、前記内部回路に前記電源電位および前記接地電位をそれぞれ供給するための内部電源配線および内部接地配線と、
前記複数のブロックのうちの前記所定の動作を実行するブロックに対して配され、前記電源電位および前記接地電位を安定化させるための電源安定化回路とを備え、
前記電源安定化回路は、
前記内部電源配線と前記内部接地配線との間に設けられる容量素子と、
前記内部電源配線と前記容量素子との間または前記容量素子と前記内部電源配線との間に接続されるスイッチ回路とを含み、
前記スイッチ回路は、
前記制御部から出力される前記ブロックの動作状態を示す制御信号に応じて、対応する前記内部電源配線または前記内部接地配線と前記容量素子との間を電気的に結合し、
前記制御部から出力される前記ブロックの非動作状態を示す制御信号に応じて対応する前記内部電源配線または前記内部接地配線と前記容量素子との間を電気的に分離する、半導体集積回路装置。A semiconductor integrated circuit device that performs a predetermined operation in response to a power supply potential and a ground potential,
A plurality of blocks divided according to the operation content of the internal circuit included therein,
A control unit for driving each of the plurality of blocks to an operation / non-operation state;
An internal power supply line and an internal ground line arranged for each of the plurality of blocks, for supplying the power supply potential and the ground potential to the internal circuit, respectively;
A power supply stabilizing circuit arranged for a block that performs the predetermined operation of the plurality of blocks, for stabilizing the power supply potential and the ground potential;
The power stabilization circuit includes:
A capacitive element provided between the internal power supply wiring and the internal ground wiring,
A switch circuit connected between the internal power supply line and the capacitive element or between the capacitive element and the internal power supply line,
The switch circuit,
In response to a control signal indicating an operation state of the block output from the control unit, electrically coupled between the corresponding internal power supply wiring or the internal ground wiring and the capacitive element,
A semiconductor integrated circuit device electrically separating a corresponding one of the internal power supply wiring or the internal ground wiring and the capacitive element in response to a control signal output from the control unit and indicating a non-operation state of the block.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003122164A JP2004327820A (en) | 2003-04-25 | 2003-04-25 | Power-supply stabilizing circuit, and semiconductor integrated circuit device having same stabilizing circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003122164A JP2004327820A (en) | 2003-04-25 | 2003-04-25 | Power-supply stabilizing circuit, and semiconductor integrated circuit device having same stabilizing circuit |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004327820A true JP2004327820A (en) | 2004-11-18 |
Family
ID=33500485
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003122164A Pending JP2004327820A (en) | 2003-04-25 | 2003-04-25 | Power-supply stabilizing circuit, and semiconductor integrated circuit device having same stabilizing circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004327820A (en) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006303377A (en) * | 2005-04-25 | 2006-11-02 | Renesas Technology Corp | Semiconductor device |
JP2009152453A (en) * | 2007-12-21 | 2009-07-09 | Fujitsu Microelectronics Ltd | Electronic circuit device and control method therefor |
JP2010062304A (en) * | 2008-09-03 | 2010-03-18 | Nec Electronics Corp | Semiconductor integrated circuit and method of leveling switching noise thereof |
US7719310B2 (en) | 2008-03-31 | 2010-05-18 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device and method for manufacturing the same |
JP2010157711A (en) * | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Hynix Semiconductor Inc | Power distribution device, integrated circuit with the same, and memory device |
JP2012119702A (en) * | 2007-01-01 | 2012-06-21 | Sandisk Corp | Integrated circuits and methods with two types of decoupling capacitors |
-
2003
- 2003-04-25 JP JP2003122164A patent/JP2004327820A/en active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006303377A (en) * | 2005-04-25 | 2006-11-02 | Renesas Technology Corp | Semiconductor device |
JP2012119702A (en) * | 2007-01-01 | 2012-06-21 | Sandisk Corp | Integrated circuits and methods with two types of decoupling capacitors |
JP2009152453A (en) * | 2007-12-21 | 2009-07-09 | Fujitsu Microelectronics Ltd | Electronic circuit device and control method therefor |
US7868685B2 (en) | 2007-12-21 | 2011-01-11 | Fujitsu Semiconductor Limited | Electronic circuit device operable under power supply |
US7719310B2 (en) | 2008-03-31 | 2010-05-18 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device and method for manufacturing the same |
JP2010062304A (en) * | 2008-09-03 | 2010-03-18 | Nec Electronics Corp | Semiconductor integrated circuit and method of leveling switching noise thereof |
JP2010157711A (en) * | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Hynix Semiconductor Inc | Power distribution device, integrated circuit with the same, and memory device |
US8890490B2 (en) | 2008-12-26 | 2014-11-18 | Hynix Semiconductor Inc. | Power distributor and semiconductor device having the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9479154B2 (en) | Semiconductor integrated circuit | |
JP5162956B2 (en) | Semiconductor integrated circuit and operation method thereof | |
JP2007200987A (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
US6661260B2 (en) | Output circuit of semiconductor circuit with power consumption reduced | |
JP2009527193A (en) | A method for reducing insertion loss of a MOSFET switch and providing power-down protection for the MOSFET switch. | |
JP3544096B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
US7199490B2 (en) | Semiconductor device for preventing noise generation | |
US20120140366A1 (en) | Integrated circuit | |
EP1717955B1 (en) | Buffer circuit | |
US6819159B1 (en) | Level shifter circuit | |
US6335648B1 (en) | Circuit using internal pull-up/pull-down resistor during reset | |
US6188243B1 (en) | Input/output circuit with high input/output voltage tolerance | |
US6313661B1 (en) | High voltage tolerant I/O buffer | |
JP2004327820A (en) | Power-supply stabilizing circuit, and semiconductor integrated circuit device having same stabilizing circuit | |
US8976496B2 (en) | Electrostatic discharge blocking circuits | |
JP2001127611A (en) | Semiconductor integrated circuit | |
JP2000250641A (en) | Output circuit and battery pack | |
JP2005516454A (en) | Integrated circuit and battery-powered electronic device | |
US20020089350A1 (en) | Dual rail power supply sequence tolerant off-chip driver | |
JP2003229748A (en) | Analog switch circuit | |
US6714615B2 (en) | MOS-type semiconductor integrated circuit | |
US20060044024A1 (en) | Output circuit | |
JP4647143B2 (en) | Semiconductor integrated circuit | |
JP3722741B2 (en) | Voltage supply circuit | |
JP2004180241A (en) | Analog switch circuit |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060130 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090501 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090512 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090915 |