JP2004355975A - 表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】非発光欠陥の発生を防止し、表示品質を高めることができる表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの総膜厚を、厚い方から赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇ，青色有機層１６Ｂの順とし、それらの総膜厚の厚い色から順に形成する。共振器構造を導入した場合に総膜厚が最も薄くなる青色有機層１６Ｂに、蒸着マスク１００との度重なる接触に起因して多くの非発光欠陥が発生することが防止される。
【選択図】 図３
【解決手段】赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの総膜厚を、厚い方から赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇ，青色有機層１６Ｂの順とし、それらの総膜厚の厚い色から順に形成する。共振器構造を導入した場合に総膜厚が最も薄くなる青色有機層１６Ｂに、蒸着マスク１００との度重なる接触に起因して多くの非発光欠陥が発生することが防止される。
【選択図】 図３
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表示装置の製造方法に係り、特に、有機発光素子を用いた表示装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、有機発光素子の有機層を各色別に形成するため蒸着マスクをアライメントすると、先に蒸着された有機層に蒸着マスクが接触してしまい、有機層に傷を生じたり、蒸着マスクの異物が有機層に転写され、その結果、先に蒸着された有機層には、後から蒸着される有機層よりもダークスポットあるいは非発光欠陥が発生しやすくなることが知られている。この対策としては、非発光欠陥の周囲の輝度が高いと目立ってしまうことを考慮して、輝度の低い色から順に有機層を形成するということが行われている。通常、全白を表示した場合には、輝度が高い方から緑色，赤色，青色の順になるので、有機層の形成は、逆に輝度の低い方から青色，赤色，緑色の順に行うようにしている。
【０００３】
ところで、有機発光素子については、共振器構造を導入することによって、発光色の色純度を向上させたり、輝度を高めるなど、発光層で発生する光を制御する試みが行われてきた（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
【特許文献１】
国際公開第０１／３９５５４号パンフレット
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
このような共振器構造を導入した有機発光素子では、発光波長に応じて有機層の総膜厚が制御され、厚い方から赤色，緑色，青色の順になる。しかしながら、有機層を形成する際に、従来のように輝度の低い方から青色，赤色，緑色の順にすると、総膜厚の比較的薄い青色の有機層が何度も蒸着マスクに接触してしまい、青色の有機発光素子に多くの非発光欠陥が生じてしまうおそれがあるという問題があった。
【０００６】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、非発光欠陥の発生を防止し、表示品質を高めることができる表示装置の製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明による表示装置の製造方法は、基板に、赤色発光層を含む赤色有機層を有する赤色有機発光素子と、緑色発光層を含む緑色有機層を有する緑色有機発光素子と、青色発光層を含む青色有機層を有する青色有機発光素子とを備え、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層の総膜厚を互いに異ならせた表示装置を製造するものであって、赤色有機層のうち少なくとも赤色発光層と、緑色有機層のうち少なくとも緑色発光層と、青色有機層のうち少なくとも青色発光層とを、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するものである。ここで「総膜厚」とは、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層が、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層を含む複数の層の積層構造を有する場合にはそれらの複数の層の積層方向の膜厚の和をいい、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層のみを有する場合には赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の積層方向の膜厚をいう。
【０００８】
本発明による表示装置の製造方法では、赤色有機層のうち少なくとも赤色発光層と、緑色有機層のうち少なくとも緑色発光層と、青色有機層のうち少なくとも青色発光層とが、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成される。よって、総膜厚の最も薄い色の発光層が最後に形成され、非発光欠陥の発生が防止される。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００１０】
図１ないし図５は、本発明の一実施の形態に係る表示装置の製造方法を表すものである。まず、図１（Ａ）に示したように、例えばガラスなどの絶縁材料よりなる基板１１を用意し、この基板１１の上にＴＦＴ１２を形成する。続いて、同じく図１（Ａ）に示したように、例えばポリイミドを塗布、露光、現像および焼成することにより、平坦化膜１３を形成する。露光の際には、コンタクトホール１３Ａを形成する。
【００１１】
次に、図１（Ｂ）に示したように、平坦化膜１３の上に、例えばスパッタ法により、例えばクロムよりなる膜を例えば１００ｎｍ〜１５０ｎｍの厚みで成膜する。続いて、レジストを塗布し、露光および現像することにより図示しないマスクを形成し、このマスクを用いてクロム膜を選択的にエッチングして第１電極１４を形成する。そののち、マスクを剥離する。
【００１２】
続いて、図１（Ｃ）に示したように、第１電極１４の上に、例えばポリイミドを塗布、露光、現像および焼成することにより、素子分離のための絶縁膜１５を形成すると共に、発光領域に対応して開口部１５Ａを形成する。絶縁膜１５の厚みＴは例えば１μｍ、開口部１５Ａの幅Ｗは例えば数十μｍ〜百数十μｍとすることができる。
【００１３】
そののち、窒素（Ｎ２ ）雰囲気下でベークを行い、酸素（Ｏ２ ）プラズマにより基板１１の前処理を行う。
【００１４】
続いて、図２（Ａ）ないし図３（Ａ）を参照して以下に詳細に説明するように、赤色有機発光素子１０Ｒの形成予定位置に、赤色発光層を含む赤色有機層１６Ｒを形成し、緑色有機発光素子１０Ｇの形成予定位置に、緑色発光層を含む緑色有機層１６Ｇを形成し、青色有機発光素子１０Ｂの形成予定位置に、青色発光層を含む青色有機層１６Ｂを形成する。赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの構成材料としては、例えば低分子材料を用いることができ、その場合、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂは、蒸着マスクを用いた蒸着法により、各色別に形成することが好ましい。
【００１５】
ここで、本実施の形態では、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂを形成する際に、それらの総膜厚を異ならせる。これは、赤色有機発光素子１０Ｒ，緑色有機発光素子１０Ｇおよび青色有機発光素子１０Ｂが後述するような共振器構造を有するようにするためである。すなわち、発光波長に応じて赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの総膜厚を制御し、厚い方から赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇ，青色有機層１６Ｂの順とする。本実施の形態では、赤色有機層１６Ｒの総膜厚を例えば１５０ｎｍ、緑色有機層１６Ｇの総膜厚を例えば１１０ｎｍ、青色有機層１６Ｂの総膜厚を例えば７０ｎｍとする。
【００１６】
また、本実施の形態では、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂを、それらの総膜厚の厚い色から順に形成する。これは、共振器構造を導入した場合に総膜厚が最も薄くなる青色有機層１６Ｂに多くの非発光欠陥が発生するのを防止するためである。すなわち、まず、総膜厚の最も厚い赤色有機層１６Ｒを形成し、次に、総膜厚の二番目に厚い緑色有機層１６Ｇを形成し、最後に、総膜厚の最も薄い青色有機層１６Ｂを形成する。
【００１７】
まず、真空を破らずに基板１１を蒸着装置の蒸着室へと搬送し、図２（Ａ）に示したように、蒸着マスク１００をアライメントし、この蒸着マスク１００を用いて、第１電極１４の上に、赤色正孔注入層１６ＡＲ，赤色正孔輸送層１６ＢＲ，赤色発光層１６ＣＲおよび赤色電子輸送層１６ＤＲを順に積層し、赤色有機層１６Ｒを形成する。赤色正孔注入層１６ＡＲは、リークを防止するためのバッファ層であり、リークが支障のないレベルであれば省略可能である。赤色正孔輸送層１６ＢＲは、赤色発光層１６ＣＲへの正孔注入効率を高めるためのものである。赤色発光層１６ＣＲは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものであり、絶縁膜１５の開口部１５Ａに対応した領域で発光するようになっている。赤色電子輸送層１６ＤＲは、赤色発光層１６ＣＲへの電子注入効率を高めるためのものである。蒸着マスク１００は、厚みが十数μｍないし数十μｍであり、例えばニッケル（Ｎｉ）あるいはニッケルを含む合金など、着磁性のある材料により構成されている。
【００１８】
赤色正孔注入層１６ＡＲの構成材料としては例えば４，４’，４”−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）あるいは４，４’，４”−トリス（２−ナフチルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（２−ＴＮＡＴＡ）を用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上３００ｎｍ以下とすることができる。赤色正孔輸送層１６ＢＲの構成材料としては例えばビス［（Ｎ−ナフチル）−Ｎ−フェニル］ベンジジン（α−ＮＰＤ）を用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。赤色発光層１６ＣＲの構成材料としては例えば８−キノリノールアルミニウム錯体（Ａｌｑ３ ）に２，６−ビス［４−［Ｎ−（４−メトキシフェニル）−Ｎ−フェニル］アミノスチリル］ナフタレン−１，５−ジカルボニトリル（ＢＳＮ−ＢＣＮ）を４０体積％混合したものを用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。赤色電子輸送層１６ＤＲの構成材料としては例えばＡｌｑ３ を用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。
【００１９】
そののち、真空を破らずに基板１１を別の蒸着装置または蒸着室へと搬送し、図２（Ｂ）に示したように、蒸着マスク１００をアライメントし、この蒸着マスク１００を用いた蒸着法により、第１電極１４の上に、緑色正孔注入層１６ＡＧ，緑色正孔輸送層１６ＢＧ，緑色発光層１６ＣＧおよび緑色電子輸送層１６ＤＧを含む緑色有機層１６Ｇを形成する。緑色正孔注入層１６ＡＧは、リークを防止するためのバッファ層であり、リークが支障のないレベルであれば省略可能である。緑色正孔輸送層１６ＢＧは、緑色発光層１６ＣＧへの正孔注入効率を高めるためのものである。緑色発光層１６ＣＧは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものであり、絶縁膜１５の開口部１５Ａに対応した領域で発光するようになっている。緑色電子輸送層１６ＤＧは、緑色発光層１６ＣＧへの電子注入効率を高めるためのものである。なお、蒸着マスク１００は、赤色有機層１６Ｒの形成に用いたものと同じものを用いてもよいし、別のものを用いてもよい。
【００２０】
緑色正孔注入層１６ＡＧの構成材料としては例えばｍ−ＭＴＤＡＴＡあるいは２−ＴＮＡＴＡを用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上３００ｎｍ以下とすることができる。緑色正孔輸送層１６ＢＧの構成材料としては例えばα−ＮＰＤを用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。緑色発光層１６ＣＧの構成材料としては例えばＡｌｑ３ にクマリン６（Ｃｏｕｍａｒｉｎ６）を３体積％混合したものを用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。緑色電子輸送層１６ＤＧの構成材料としては例えばＡｌｑ３ を用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。
【００２１】
続いて、真空を破らずに基板１１を更に別の蒸着装置または蒸着室へと搬送し、図３（Ａ）に示したように、蒸着マスク１００をアライメントし、この蒸着マスク１００を用いた蒸着法により、第１電極１４の上に、青色正孔注入層１６ＡＢ，青色正孔輸送層１６ＢＢ，青色発光層１６ＣＢおよび青色電子輸送層１６ＤＢを含む青色有機層１６Ｂを形成する。青色正孔注入層１６ＡＢは、リークを防止するためのバッファ層であり、リークが支障のないレベルであれば省略可能である。青色正孔輸送層１６ＢＢは、青色発光層１６ＣＢへの正孔注入効率を高めるためのものである。青色発光層１６ＣＢは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものであり、絶縁膜１５の開口部１５Ａに対応した領域で発光するようになっている。青色電子輸送層１６ＤＢは、青色発光層１６ＣＢへの電子注入効率を高めるためのものである。なお、蒸着マスク１００は、赤色有機層１６Ｒまたは緑色有機層１６Ｇの形成に用いたものと同じものを用いてもよいし、別のものを用いてもよい。
【００２２】
青色正孔注入層１６ＡＢの構成材料としては例えばｍ−ＭＴＤＡＴＡあるいは２−ＴＮＡＴＡを用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上３００ｎｍ以下とすることができる。青色正孔輸送層１６ＢＢの構成材料としては例えばα−ＮＰＤを用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。青色発光層１６ＣＢの構成材料としては例えばスピロ６Φ（ｓｐｉｒｏ６Φ）を用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。青色電子輸送層１６ＤＢの構成材料としては例えばＡｌｑ３ を用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。
【００２３】
このような順序をとる場合、最初に形成される赤色有機層１６Ｒの上で蒸着マスク１００をアライメントしたり交換したりすることになる。しかし、赤色有機層１６Ｒは総膜厚が厚いため、従来のように青色有機層１６Ｂを最初に形成する場合に比較して蒸着マスク１００の接触による悪影響が小さくてすむ。
【００２４】
そののち、真空を破らずに基板１１を更に別の蒸着装置または蒸着室へと搬送し、図３（Ｂ）に示したように、図示しない蒸着マスクを用いて、例えばフッ化リチウム（ＬｉＦ）よりなる電子注入層１７およびマグネシウム（Ｍｇ）−銀（Ａｇ）合金よりなる半透過性電極１８Ａを順に形成する。電子注入層１７の厚みは例えば１ｎｍ、半透過性電極１８Ａの厚みは例えば１０ｎｍとすることができる。
【００２５】
続いて、真空を破らずに基板１１を更に別の蒸着装置または蒸着室へと搬送し、図４（Ａ）に示したように、半透過性電極１８Ａの形成に用いた蒸着マスクと同様の図示しない蒸着マスクを用いて、例えばインジウム（Ｉｎ）と亜鉛（Ｚｎ）と酸素（Ｏ）とを含む化合物（ＩＺＯ；Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ ）よりなる透明電極１８Ｂを形成する。透明電極１８Ｂは、半透過性電極１８Ａの電気抵抗を下げるためのものであり、その厚みは例えば１００ｎｍとすることができる。これにより、半透過性電極１８Ａと透明電極１８Ｂとが積層された第２電極１８を形成する。
【００２６】
そののち、真空を破らずに基板１１を更に別の蒸着装置または蒸着室へと搬送し、図４（Ｂ）に示したように、図示しない蒸着マスクを用いて、例えば窒化ケイ素（ＳｉＮｘ ）よりなる保護膜１９を形成する。保護膜１９の厚みは例えば１μｍとすることができる。
【００２７】
続いて、図５に示したように、保護膜１９の上に例えば熱硬化性樹脂よりなる接着層２０を形成し、この接着層２０を介して、基板１１とカラーフィルタ３２が形成された封止用基板３１とを貼り合わせる。そのとき、加熱などにより接着層２０を硬化させる前に、カラーフィルタ３２と赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂとをアライメントしておくことが望ましい。以上により、基板１１に、赤色有機層１６Ｒを有する赤色有機発光素子１０Ｒ，緑色有機層１６Ｇを有する緑色有機発光素子１０Ｇおよび青色有機層１６Ｂを有する青色有機発光素子１０Ｂを備えた表示装置が完成する。
【００２８】
このようにして形成された赤色有機発光素子１０Ｒ，緑色有機発光素子１０Ｇおよび青色有機発光素子１０Ｂは、第１電極１４の赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧまたは青色発光層１６ＣＢ側の端面を第１端部Ｐ１、半透過性電極１８Ａの赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧまたは青色発光層１６ＣＢ側の端面を第２端部Ｐ２とし、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇまたは青色有機層１６Ｂを共振部として、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧまたは青色発光層１６ＣＢで発生した光を共振させて第２端部Ｐ２の側から取り出す共振器構造を有している。このように共振器構造を有するようにすれば、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧまたは青色発光層１６ＣＢで発生した光が多重干渉を起こし、一種の狭帯域フィルタとして作用することにより、取り出される光のスペクトルの半値幅が減少し、色純度を向上させることができるので好ましい。また、封止用基板３１から入射した外光についても多重干渉により減衰させることができ、カラーフィルタ３２との組合せにより赤色有機発光素子１０Ｒ，緑色有機発光素子１０Ｇおよび青色有機発光素子１０Ｂにおける外光の反射率を極めて小さくすることができるので好ましい。
【００２９】
そのためには、共振器の第１端部Ｐ１と第２端部Ｐ２との間の光学的距離Ｌは数２を満たすようにし、共振器の共振波長（取り出される光のスペクトルのピーク波長）と、取り出したい光のスペクトルのピーク波長とを一致させることが好ましい。光学的距離Ｌは、実際には、数２を満たす正の最小値となるように選択することが好ましい。
【００３０】
【数２】
（２Ｌ）／λ＋Φ／（２π）＝ｍ
（式中、Ｌは第１端部Ｐ１と第２端部Ｐ２との間の光学的距離、Φは第１端部Ｐ１で生じる反射光の位相シフトΦ１ と第２端部Ｐ２で生じる反射光の位相シフトΦ２ との和（Φ＝Φ１ ＋Φ２ ）（ｒａｄ）、λは第２端部Ｐ２の側から取り出したい光のスペクトルのピーク波長、ｍはＬが正となる整数をそれぞれ表す。なお、数２においてＬおよびλは単位が共通すればよいが、例えば（ｎｍ）を単位とする。）
【００３１】
この表示装置では、第１電極１４と第２電極１８との間に所定の電圧が印加されると、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧまたは青色発光層１６ＣＢに電流が注入され、正孔と電子とが再結合することにより、発光が起こる。この光は、第１端部Ｐ１と第２端部Ｐ２との間で多重反射し、第２電極１８，カラーフィルタ３２および封止用基板３１を透過して取り出される。このとき、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂのうち総膜厚の最も薄い青色有機層１６Ｂが最後に形成されているので、蒸着マスク１００との度重なる接触に起因する青色有機層１６Ｂのキズあるいは異物混入が防止されている。よって、青色有機層１６Ｂに多くの非発光欠陥が発生することが防止される。
【００３２】
このように、本実施の形態では、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂを、それらの総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにしたので、総膜厚の最も薄い青色有機層１６Ｂを最後に形成し、非発光欠陥の発生を防止して表示品質を高めることができる。
【００３３】
〔変形例１〜変形例３〕
以下、本実施の形態の変形例１〜変形例３について説明する。
【００３４】
本実施の形態において、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂのうち材料または厚みの同じ層がある場合には、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂに共通に形成するようにしてもよい。このようにすることにより、材料が共通化されると共に製造工程が単純化されるので、製造効率を高めることができ、量産体制の確立に有利である。以下の変形例１ないし変形例３はその具体例であるが、必ずしもこれらに限られるものではない。
【００３５】
（変形例１）
例えば、図６（Ａ）に示したように、赤色正孔注入層１６ＡＲ，緑色正孔注入層１６ＢＲおよび青色正孔注入層１６ＡＢの材料および厚みを同じにして、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂに共通の連続正孔注入層４６Ａを形成する。そののち、図６（Ｂ）に示したように、赤色正孔輸送層１６ＢＲ，赤色発光層１６ＣＲおよび赤色電子輸送層１６ＤＲを形成し、総膜厚の最も厚い赤色有機層１６Ｒを形成する。次に、図７（Ａ）に示したように、緑色正孔輸送層１６ＢＧ，緑色発光層１６ＣＧおよび緑色電子輸送層１６ＤＧを形成し、総膜厚の二番目に厚い緑色有機層１６Ｇを形成する。最後に、図７（Ｂ）に示したように、青色正孔輸送層１６ＢＢ，青色発光層１６ＣＢおよび青色電子輸送層１６ＤＢを形成し、総膜厚の最も薄い青色有機層１６Ｂを形成する。なお、連続正孔注入層４６Ａは赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂのすべてに形成する必要はなく、それらのうち必要な色のみ、少なくとも２色に共通であればよい。
【００３６】
（変形例２）
あるいは、赤色電子輸送層１６ＤＲ，緑色電子輸送層１６ＤＲおよび青色電子輸送層１６ＤＢの材料および厚みを同じにしてもよい。この場合、まず、図８（Ａ）に示したように、総膜厚の最も厚い赤色有機層１６Ｒのうち赤色正孔注入層１６ＡＲ，赤色正孔輸送層１６ＢＲおよび赤色発光層１６ＣＲを形成する。次に、図８（Ｂ）に示したように、総膜厚の二番目に厚い緑色有機層１６Ｇのうち緑色正孔注入層１６ＡＧ，緑色正孔輸送層１６ＢＧおよび緑色発光層１６ＣＧを形成する。続いて、図９（Ａ）に示したように、総膜厚の最も薄い青色有機層１６Ｂのうち青色正孔注入層１６ＡＢ，青色正孔輸送層１６ＢＢおよび青色発光層１６ＣＢを形成する。最後に、図９（Ｂ）に示したように、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂに共通の連続電子輸送層４６Ｄを形成する。なお、連続電子輸送層４６Ｄは赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂのすべてに形成する必要はなく、それらのうち必要な色のみ、少なくとも２色に共通であればよい。
【００３７】
（変形例３）
更に、変形例１と変形例２とを重畳して行うようにしてもよい。例えば、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂに共通の連続正孔注入層４６Ａを形成する。そののち、総膜厚の最も厚い赤色有機層１６Ｒのうち赤色正孔輸送層１６ＢＲおよび赤色発光層１６ＣＲを形成し、次に、総膜厚の二番目に厚い緑色有機層のうち緑色正孔輸送層１６ＢＧおよび緑色発光層１６ＣＧを形成し、続いて、総膜厚の最も薄い青色有機層１６Ｂのうち青色正孔輸送層１６ＢＢおよび青色発光層１６ＣＢを形成し、最後に、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂに共通の連続電子輸送層４６Ｄを形成する。
【００３８】
【実施例】
更に、本発明の具体的な実施例について説明する。
【００３９】
上記実施の形態と同様にして、表示装置を作製した。その際、赤色有機層１６Ｒの総膜厚を１５０ｎｍ、緑色有機層１６Ｇの総膜厚を１１０ｎｍ、青色有機層１６Ｂの総膜厚を７０ｎｍとし、それらの総膜厚の厚い色から順に、すなわち赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇ，青色有機層１６Ｂの順で、各色別に形成した。
【００４０】
本実施例に対する比較例として、従来のように輝度の低い色から順に、すなわち青色有機層１６Ｂ，赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇの順で、各色別に形成したことを除き、本実施例と同様にして表示装置を作製した。
【００４１】
得られた実施例および比較例の表示装置について、所定の電流値で連続点灯させた場合の非発光欠陥の経時変化を調べた。その結果を図１０に示す。図１０では、比較例における３６０時間連続点灯させたときの青色の非発光欠陥の数を１００として、実施例および比較例における各色の非発光欠陥の経時変化を表している。
【００４２】
本実施例と比較例との初期特性を比較したところ、発光効率および色度は同等であったが、本実施例の方が比較例に比べて初期の非発光欠陥が少なかった。また、連続点灯させた場合の非発光欠陥の経時変化を比較したところ、比較例では特に青色で非発光欠陥が著しく増加したのに対して、本実施例では青色の非発光欠陥はほとんど増加せず、大幅に改善することができた。すなわち、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層を、それらの総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにすれば、非発光欠陥の増加を抑えることができることが分かった。
【００４３】
以上、実施の形態および実施例を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態および実施例に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂのすべての層を、総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにした場合について説明したが、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂのうち材料または厚みの異なる層のみを、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成すれば足りる。
【００４４】
具体的には、例えば、赤色有機層１６Ｒのうち少なくとも赤色正孔輸送層１６ＢＲおよび赤色発光層１６ＣＲと、緑色有機層１６Ｇのうち少なくとも緑色正孔輸送層１６ＢＧおよび緑色発光層１６ＣＧと、青色有機層１６Ｂのうち少なくとも青色正孔輸送層１６ＢＢおよび青色発光層１６ＣＢとを、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにしてもよい。なぜなら、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの総膜厚は、実際には、赤色正孔輸送層１６ＢＲおよび赤色発光層１６ＣＲ，緑色正孔輸送層１６ＢＧおよび緑色発光層１６ＣＧ，ならびに青色正孔輸送層１６ＢＢおよび青色発光層１６ＣＢの厚みのみを変えることにより、光学的距離Ｌが数２を満たすように制御することが可能な場合があるからである。また、赤色正孔注入層１６ＡＲ，緑色正孔注入層１６ＡＧあるいは青色正孔注入層１６ＡＢ、または赤色電子輸送層１６ＢＲ，緑色電子輸送層１６ＤＧあるいは青色電子輸送層１６ＤＢは、しばしば省略され、あるいは、すべての色の有機発光素子に設けられるとは限らないからである。
【００４５】
また、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの総膜厚を、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢの厚みのみを変えることにより、光学的距離Ｌが数２を満たすように制御することが可能な場合には、赤色有機層１６Ｒのうち少なくとも赤色発光層１６ＣＲと、緑色有機層１６Ｇのうち少なくとも緑色発光層１６ＣＧと、青色有機層１６Ｂのうち少なくとも青色発光層１６ＣＢとを、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにしてもよい。
【００４６】
更にまた、上記実施の形態および実施例では、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂを低分子材料により構成する場合について説明したが、本発明は、有機層に高分子材料を用いる場合にも適用することができる。ここで高分子材料とは、分子量１００００以上のものである。この場合、例えば、赤色有機層は赤色正孔輸送層および赤色発光層を含み、緑色有機層は緑色正孔輸送層および緑色発光層を含み、青色有機層は青色正孔輸送層および青色発光層を含む構成とすることができる。また、共振器構造を導入する場合には、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層の総膜厚は、赤色発光層，緑色発光層および青色発光層の厚みのみを変えることにより、光学的距離Ｌが数２を満たすように制御することが可能である。よって、赤色有機層のうち少なくとも赤色発光層と、緑色有機層のうち少なくとも緑色発光層と、青色有機層のうち少なくとも青色発光層とを、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにすれば足りる。
【００４７】
加えてまた、例えば、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。例えば、上記実施の形態においては、基板１１の上に、第１電極１４，赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂ，ならびに第２電極１８を基板１１の側から順で積層し、封止用基板３１の側から光を取り出すようにした場合について説明したが、積層順序を逆にして、基板１１の上に、第２電極１８，赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂ，ならびに第１電極１４を基板１１の側から順に積層し、基板１１の側から光を取り出すようにすることもできる。
【００４８】
更にまた、例えば、上記実施の形態では、第１電極１４を陽極、第２電極１８を陰極とする場合について説明したが、陽極および陰極を逆にして、第１電極１４を陰極、第２電極１８を陽極としてもよい。さらに、第１電極１４を陰極、第２電極１８を陽極とすると共に、基板１１の上に、第２電極１８，赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂ，ならびに第１電極１４を基板１１の側から順に積層し、基板１１の側から光を取り出すようにすることもできる。
【００４９】
加えてまた、上記実施の形態では、赤色有機発光素子１０Ｒ，緑色有機発光素子１０Ｇおよび青色有機発光素子１０Ｂの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。例えば、第１電極１４と赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂとの間に、酸化クロム（ＩＩＩ）（Ｃｒ２ Ｏ３ ），ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：インジウム（Ｉｎ）およびスズ（Ｓｎ）の酸化物混合膜）などからなる正孔注入用薄膜層を備えていてもよい。また、例えば第１電極１４を、誘電体多層膜またはＡｌなどの反射膜の上部に透明導電膜を積層した２層構造とすることもできる。この場合、この反射膜の発光層側の端面が共振部の端部を構成し、透明導電膜は共振部の一部を構成することになる。
【００５０】
更にまた、上記実施の形態では、第２電極１８が半透過性電極１８Ａと透明電極１８Ｂとが第１電極１４の側から順に積層されている場合について説明したが、第２電極１４は、半透過性電極１８Ａのみを有する構成としてもよい。
【００５１】
加えてまた、上記実施の形態において、半透過性電極１８Ａを一方の端部とし、透明電極１８Ｂを挟んで半透過性電極１８Ａに対向する位置に他方の端部を設け、透明電極１８Ｂを共振部とする共振器構造を形成するようにしてもよい。さらに、そのような共振器構造を設けた上で、赤色有機発光素子１０Ｒ，緑色有機発光素子１０Ｇおよび青色有機発光素子１０Ｂを保護膜１９で覆うようにし、この保護膜１９を、透明電極１８Ａを構成する材料と同程度の屈折率を有する材料により構成すれば、保護膜１９を共振部の一部とすることができ、好ましい。
【００５２】
更にまた、本発明は、第２電極１８を透明電極１８Ｂにより構成すると共に、この透明電極１８Ｂの赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂと反対側の端面の反射率が大きくなるように構成し、第１電極１４の赤色発光層１６Ｒ，緑色発光層１６Ｇおよび青色発光層１６Ｂ側の端面を第１端部、透明電極１８Ｂの赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂと反対側の端面を第２端部とした共振器構造を構成した場合についても適用することができる。例えば、透明電極１８Ｂを大気層に接触させ、透明電極１８Ｂと大気層との境界面の反射率を大きくして、この境界面を第２端部としてもよい。また、接着層２０との境界面での反射率を大きくして、この境界面を第２端部としてもよい。更に、保護膜１９との境界面での反射率を大きくして、この境界面を第２端部としてもよい。
【００５３】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の表示装置の製造方法によれば、赤色有機層のうち少なくとも赤色発光層と、緑色有機層のうち少なくとも緑色発光層と、青色有機層のうち少なくとも青色発光層とを、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにしたので、総膜厚の最も薄い色の発光層を最後に形成し、非発光欠陥の発生を防止して表示品質を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係る表示装置の製造方法を工程順に表す断面図である。
【図２】図１に続く工程を表す断面図である。
【図３】図２に続く工程を表す断面図である。
【図４】図３に続く工程を表す断面図である。
【図５】図４に続く工程を表す断面図である。
【図６】本発明の変形例１に係る表示装置の製造方法を工程順に表す断面図である。
【図７】図６に続く工程を表す断面図である。
【図８】本発明の変形例２に係る表示装置の製造方法を工程順に表す断面図である。
【図９】図８に続く工程を表す断面図である。
【図１０】本発明の実施例および比較例における非発光欠陥の数の経時変化を表す図である。
【符号の説明】
１０Ｒ…赤色有機発光素子、１０Ｇ…緑色有機発光素子、１０Ｂ…青色有機発光素子、１１…基板、１２…ＴＦＴ、１３…平坦化膜、１３Ａ…コンタクトホール、１４…第１電極、１５…絶縁膜、１６Ｒ…赤色有機層、１６ＡＲ…赤色正孔注入層、１６ＢＲ…赤色正孔輸送層、１６ＣＲ…赤色発光層、１６ＤＲ…赤色電子輸送層、１６Ｇ…緑色有機層、１６ＡＧ…緑色正孔注入層、１６ＢＧ…緑色正孔輸送層、１６ＣＧ…緑色発光層、１６ＤＧ…緑色電子輸送層、１６Ｂ…青色有機層、１６ＡＢ…青色正孔注入層、１６ＢＢ…青色正孔輸送層、１６ＣＢ…青色有機層、１６ＤＢ…青色電子輸送層、１７…電子注入層、１８…第２電極、１８Ａ…半透過性電極、１８Ｂ…透明電極、１９…保護膜、２０…接着層、３１…封止用基板、３２…カラーフィルタ、１００…蒸着マスク
【発明の属する技術分野】
本発明は、表示装置の製造方法に係り、特に、有機発光素子を用いた表示装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、有機発光素子の有機層を各色別に形成するため蒸着マスクをアライメントすると、先に蒸着された有機層に蒸着マスクが接触してしまい、有機層に傷を生じたり、蒸着マスクの異物が有機層に転写され、その結果、先に蒸着された有機層には、後から蒸着される有機層よりもダークスポットあるいは非発光欠陥が発生しやすくなることが知られている。この対策としては、非発光欠陥の周囲の輝度が高いと目立ってしまうことを考慮して、輝度の低い色から順に有機層を形成するということが行われている。通常、全白を表示した場合には、輝度が高い方から緑色，赤色，青色の順になるので、有機層の形成は、逆に輝度の低い方から青色，赤色，緑色の順に行うようにしている。
【０００３】
ところで、有機発光素子については、共振器構造を導入することによって、発光色の色純度を向上させたり、輝度を高めるなど、発光層で発生する光を制御する試みが行われてきた（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
【特許文献１】
国際公開第０１／３９５５４号パンフレット
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
このような共振器構造を導入した有機発光素子では、発光波長に応じて有機層の総膜厚が制御され、厚い方から赤色，緑色，青色の順になる。しかしながら、有機層を形成する際に、従来のように輝度の低い方から青色，赤色，緑色の順にすると、総膜厚の比較的薄い青色の有機層が何度も蒸着マスクに接触してしまい、青色の有機発光素子に多くの非発光欠陥が生じてしまうおそれがあるという問題があった。
【０００６】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、非発光欠陥の発生を防止し、表示品質を高めることができる表示装置の製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明による表示装置の製造方法は、基板に、赤色発光層を含む赤色有機層を有する赤色有機発光素子と、緑色発光層を含む緑色有機層を有する緑色有機発光素子と、青色発光層を含む青色有機層を有する青色有機発光素子とを備え、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層の総膜厚を互いに異ならせた表示装置を製造するものであって、赤色有機層のうち少なくとも赤色発光層と、緑色有機層のうち少なくとも緑色発光層と、青色有機層のうち少なくとも青色発光層とを、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するものである。ここで「総膜厚」とは、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層が、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層を含む複数の層の積層構造を有する場合にはそれらの複数の層の積層方向の膜厚の和をいい、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層のみを有する場合には赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の積層方向の膜厚をいう。
【０００８】
本発明による表示装置の製造方法では、赤色有機層のうち少なくとも赤色発光層と、緑色有機層のうち少なくとも緑色発光層と、青色有機層のうち少なくとも青色発光層とが、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成される。よって、総膜厚の最も薄い色の発光層が最後に形成され、非発光欠陥の発生が防止される。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００１０】
図１ないし図５は、本発明の一実施の形態に係る表示装置の製造方法を表すものである。まず、図１（Ａ）に示したように、例えばガラスなどの絶縁材料よりなる基板１１を用意し、この基板１１の上にＴＦＴ１２を形成する。続いて、同じく図１（Ａ）に示したように、例えばポリイミドを塗布、露光、現像および焼成することにより、平坦化膜１３を形成する。露光の際には、コンタクトホール１３Ａを形成する。
【００１１】
次に、図１（Ｂ）に示したように、平坦化膜１３の上に、例えばスパッタ法により、例えばクロムよりなる膜を例えば１００ｎｍ〜１５０ｎｍの厚みで成膜する。続いて、レジストを塗布し、露光および現像することにより図示しないマスクを形成し、このマスクを用いてクロム膜を選択的にエッチングして第１電極１４を形成する。そののち、マスクを剥離する。
【００１２】
続いて、図１（Ｃ）に示したように、第１電極１４の上に、例えばポリイミドを塗布、露光、現像および焼成することにより、素子分離のための絶縁膜１５を形成すると共に、発光領域に対応して開口部１５Ａを形成する。絶縁膜１５の厚みＴは例えば１μｍ、開口部１５Ａの幅Ｗは例えば数十μｍ〜百数十μｍとすることができる。
【００１３】
そののち、窒素（Ｎ２ ）雰囲気下でベークを行い、酸素（Ｏ２ ）プラズマにより基板１１の前処理を行う。
【００１４】
続いて、図２（Ａ）ないし図３（Ａ）を参照して以下に詳細に説明するように、赤色有機発光素子１０Ｒの形成予定位置に、赤色発光層を含む赤色有機層１６Ｒを形成し、緑色有機発光素子１０Ｇの形成予定位置に、緑色発光層を含む緑色有機層１６Ｇを形成し、青色有機発光素子１０Ｂの形成予定位置に、青色発光層を含む青色有機層１６Ｂを形成する。赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの構成材料としては、例えば低分子材料を用いることができ、その場合、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂは、蒸着マスクを用いた蒸着法により、各色別に形成することが好ましい。
【００１５】
ここで、本実施の形態では、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂを形成する際に、それらの総膜厚を異ならせる。これは、赤色有機発光素子１０Ｒ，緑色有機発光素子１０Ｇおよび青色有機発光素子１０Ｂが後述するような共振器構造を有するようにするためである。すなわち、発光波長に応じて赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの総膜厚を制御し、厚い方から赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇ，青色有機層１６Ｂの順とする。本実施の形態では、赤色有機層１６Ｒの総膜厚を例えば１５０ｎｍ、緑色有機層１６Ｇの総膜厚を例えば１１０ｎｍ、青色有機層１６Ｂの総膜厚を例えば７０ｎｍとする。
【００１６】
また、本実施の形態では、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂを、それらの総膜厚の厚い色から順に形成する。これは、共振器構造を導入した場合に総膜厚が最も薄くなる青色有機層１６Ｂに多くの非発光欠陥が発生するのを防止するためである。すなわち、まず、総膜厚の最も厚い赤色有機層１６Ｒを形成し、次に、総膜厚の二番目に厚い緑色有機層１６Ｇを形成し、最後に、総膜厚の最も薄い青色有機層１６Ｂを形成する。
【００１７】
まず、真空を破らずに基板１１を蒸着装置の蒸着室へと搬送し、図２（Ａ）に示したように、蒸着マスク１００をアライメントし、この蒸着マスク１００を用いて、第１電極１４の上に、赤色正孔注入層１６ＡＲ，赤色正孔輸送層１６ＢＲ，赤色発光層１６ＣＲおよび赤色電子輸送層１６ＤＲを順に積層し、赤色有機層１６Ｒを形成する。赤色正孔注入層１６ＡＲは、リークを防止するためのバッファ層であり、リークが支障のないレベルであれば省略可能である。赤色正孔輸送層１６ＢＲは、赤色発光層１６ＣＲへの正孔注入効率を高めるためのものである。赤色発光層１６ＣＲは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものであり、絶縁膜１５の開口部１５Ａに対応した領域で発光するようになっている。赤色電子輸送層１６ＤＲは、赤色発光層１６ＣＲへの電子注入効率を高めるためのものである。蒸着マスク１００は、厚みが十数μｍないし数十μｍであり、例えばニッケル（Ｎｉ）あるいはニッケルを含む合金など、着磁性のある材料により構成されている。
【００１８】
赤色正孔注入層１６ＡＲの構成材料としては例えば４，４’，４”−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）あるいは４，４’，４”−トリス（２−ナフチルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（２−ＴＮＡＴＡ）を用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上３００ｎｍ以下とすることができる。赤色正孔輸送層１６ＢＲの構成材料としては例えばビス［（Ｎ−ナフチル）−Ｎ−フェニル］ベンジジン（α−ＮＰＤ）を用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。赤色発光層１６ＣＲの構成材料としては例えば８−キノリノールアルミニウム錯体（Ａｌｑ３ ）に２，６−ビス［４−［Ｎ−（４−メトキシフェニル）−Ｎ−フェニル］アミノスチリル］ナフタレン−１，５−ジカルボニトリル（ＢＳＮ−ＢＣＮ）を４０体積％混合したものを用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。赤色電子輸送層１６ＤＲの構成材料としては例えばＡｌｑ３ を用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。
【００１９】
そののち、真空を破らずに基板１１を別の蒸着装置または蒸着室へと搬送し、図２（Ｂ）に示したように、蒸着マスク１００をアライメントし、この蒸着マスク１００を用いた蒸着法により、第１電極１４の上に、緑色正孔注入層１６ＡＧ，緑色正孔輸送層１６ＢＧ，緑色発光層１６ＣＧおよび緑色電子輸送層１６ＤＧを含む緑色有機層１６Ｇを形成する。緑色正孔注入層１６ＡＧは、リークを防止するためのバッファ層であり、リークが支障のないレベルであれば省略可能である。緑色正孔輸送層１６ＢＧは、緑色発光層１６ＣＧへの正孔注入効率を高めるためのものである。緑色発光層１６ＣＧは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものであり、絶縁膜１５の開口部１５Ａに対応した領域で発光するようになっている。緑色電子輸送層１６ＤＧは、緑色発光層１６ＣＧへの電子注入効率を高めるためのものである。なお、蒸着マスク１００は、赤色有機層１６Ｒの形成に用いたものと同じものを用いてもよいし、別のものを用いてもよい。
【００２０】
緑色正孔注入層１６ＡＧの構成材料としては例えばｍ−ＭＴＤＡＴＡあるいは２−ＴＮＡＴＡを用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上３００ｎｍ以下とすることができる。緑色正孔輸送層１６ＢＧの構成材料としては例えばα−ＮＰＤを用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。緑色発光層１６ＣＧの構成材料としては例えばＡｌｑ３ にクマリン６（Ｃｏｕｍａｒｉｎ６）を３体積％混合したものを用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。緑色電子輸送層１６ＤＧの構成材料としては例えばＡｌｑ３ を用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。
【００２１】
続いて、真空を破らずに基板１１を更に別の蒸着装置または蒸着室へと搬送し、図３（Ａ）に示したように、蒸着マスク１００をアライメントし、この蒸着マスク１００を用いた蒸着法により、第１電極１４の上に、青色正孔注入層１６ＡＢ，青色正孔輸送層１６ＢＢ，青色発光層１６ＣＢおよび青色電子輸送層１６ＤＢを含む青色有機層１６Ｂを形成する。青色正孔注入層１６ＡＢは、リークを防止するためのバッファ層であり、リークが支障のないレベルであれば省略可能である。青色正孔輸送層１６ＢＢは、青色発光層１６ＣＢへの正孔注入効率を高めるためのものである。青色発光層１６ＣＢは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものであり、絶縁膜１５の開口部１５Ａに対応した領域で発光するようになっている。青色電子輸送層１６ＤＢは、青色発光層１６ＣＢへの電子注入効率を高めるためのものである。なお、蒸着マスク１００は、赤色有機層１６Ｒまたは緑色有機層１６Ｇの形成に用いたものと同じものを用いてもよいし、別のものを用いてもよい。
【００２２】
青色正孔注入層１６ＡＢの構成材料としては例えばｍ−ＭＴＤＡＴＡあるいは２−ＴＮＡＴＡを用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上３００ｎｍ以下とすることができる。青色正孔輸送層１６ＢＢの構成材料としては例えばα−ＮＰＤを用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。青色発光層１６ＣＢの構成材料としては例えばスピロ６Φ（ｓｐｉｒｏ６Φ）を用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。青色電子輸送層１６ＤＢの構成材料としては例えばＡｌｑ３ を用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。
【００２３】
このような順序をとる場合、最初に形成される赤色有機層１６Ｒの上で蒸着マスク１００をアライメントしたり交換したりすることになる。しかし、赤色有機層１６Ｒは総膜厚が厚いため、従来のように青色有機層１６Ｂを最初に形成する場合に比較して蒸着マスク１００の接触による悪影響が小さくてすむ。
【００２４】
そののち、真空を破らずに基板１１を更に別の蒸着装置または蒸着室へと搬送し、図３（Ｂ）に示したように、図示しない蒸着マスクを用いて、例えばフッ化リチウム（ＬｉＦ）よりなる電子注入層１７およびマグネシウム（Ｍｇ）−銀（Ａｇ）合金よりなる半透過性電極１８Ａを順に形成する。電子注入層１７の厚みは例えば１ｎｍ、半透過性電極１８Ａの厚みは例えば１０ｎｍとすることができる。
【００２５】
続いて、真空を破らずに基板１１を更に別の蒸着装置または蒸着室へと搬送し、図４（Ａ）に示したように、半透過性電極１８Ａの形成に用いた蒸着マスクと同様の図示しない蒸着マスクを用いて、例えばインジウム（Ｉｎ）と亜鉛（Ｚｎ）と酸素（Ｏ）とを含む化合物（ＩＺＯ；Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ ）よりなる透明電極１８Ｂを形成する。透明電極１８Ｂは、半透過性電極１８Ａの電気抵抗を下げるためのものであり、その厚みは例えば１００ｎｍとすることができる。これにより、半透過性電極１８Ａと透明電極１８Ｂとが積層された第２電極１８を形成する。
【００２６】
そののち、真空を破らずに基板１１を更に別の蒸着装置または蒸着室へと搬送し、図４（Ｂ）に示したように、図示しない蒸着マスクを用いて、例えば窒化ケイ素（ＳｉＮｘ ）よりなる保護膜１９を形成する。保護膜１９の厚みは例えば１μｍとすることができる。
【００２７】
続いて、図５に示したように、保護膜１９の上に例えば熱硬化性樹脂よりなる接着層２０を形成し、この接着層２０を介して、基板１１とカラーフィルタ３２が形成された封止用基板３１とを貼り合わせる。そのとき、加熱などにより接着層２０を硬化させる前に、カラーフィルタ３２と赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂとをアライメントしておくことが望ましい。以上により、基板１１に、赤色有機層１６Ｒを有する赤色有機発光素子１０Ｒ，緑色有機層１６Ｇを有する緑色有機発光素子１０Ｇおよび青色有機層１６Ｂを有する青色有機発光素子１０Ｂを備えた表示装置が完成する。
【００２８】
このようにして形成された赤色有機発光素子１０Ｒ，緑色有機発光素子１０Ｇおよび青色有機発光素子１０Ｂは、第１電極１４の赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧまたは青色発光層１６ＣＢ側の端面を第１端部Ｐ１、半透過性電極１８Ａの赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧまたは青色発光層１６ＣＢ側の端面を第２端部Ｐ２とし、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇまたは青色有機層１６Ｂを共振部として、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧまたは青色発光層１６ＣＢで発生した光を共振させて第２端部Ｐ２の側から取り出す共振器構造を有している。このように共振器構造を有するようにすれば、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧまたは青色発光層１６ＣＢで発生した光が多重干渉を起こし、一種の狭帯域フィルタとして作用することにより、取り出される光のスペクトルの半値幅が減少し、色純度を向上させることができるので好ましい。また、封止用基板３１から入射した外光についても多重干渉により減衰させることができ、カラーフィルタ３２との組合せにより赤色有機発光素子１０Ｒ，緑色有機発光素子１０Ｇおよび青色有機発光素子１０Ｂにおける外光の反射率を極めて小さくすることができるので好ましい。
【００２９】
そのためには、共振器の第１端部Ｐ１と第２端部Ｐ２との間の光学的距離Ｌは数２を満たすようにし、共振器の共振波長（取り出される光のスペクトルのピーク波長）と、取り出したい光のスペクトルのピーク波長とを一致させることが好ましい。光学的距離Ｌは、実際には、数２を満たす正の最小値となるように選択することが好ましい。
【００３０】
【数２】
（２Ｌ）／λ＋Φ／（２π）＝ｍ
（式中、Ｌは第１端部Ｐ１と第２端部Ｐ２との間の光学的距離、Φは第１端部Ｐ１で生じる反射光の位相シフトΦ１ と第２端部Ｐ２で生じる反射光の位相シフトΦ２ との和（Φ＝Φ１ ＋Φ２ ）（ｒａｄ）、λは第２端部Ｐ２の側から取り出したい光のスペクトルのピーク波長、ｍはＬが正となる整数をそれぞれ表す。なお、数２においてＬおよびλは単位が共通すればよいが、例えば（ｎｍ）を単位とする。）
【００３１】
この表示装置では、第１電極１４と第２電極１８との間に所定の電圧が印加されると、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧまたは青色発光層１６ＣＢに電流が注入され、正孔と電子とが再結合することにより、発光が起こる。この光は、第１端部Ｐ１と第２端部Ｐ２との間で多重反射し、第２電極１８，カラーフィルタ３２および封止用基板３１を透過して取り出される。このとき、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂのうち総膜厚の最も薄い青色有機層１６Ｂが最後に形成されているので、蒸着マスク１００との度重なる接触に起因する青色有機層１６Ｂのキズあるいは異物混入が防止されている。よって、青色有機層１６Ｂに多くの非発光欠陥が発生することが防止される。
【００３２】
このように、本実施の形態では、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂを、それらの総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにしたので、総膜厚の最も薄い青色有機層１６Ｂを最後に形成し、非発光欠陥の発生を防止して表示品質を高めることができる。
【００３３】
〔変形例１〜変形例３〕
以下、本実施の形態の変形例１〜変形例３について説明する。
【００３４】
本実施の形態において、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂのうち材料または厚みの同じ層がある場合には、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂに共通に形成するようにしてもよい。このようにすることにより、材料が共通化されると共に製造工程が単純化されるので、製造効率を高めることができ、量産体制の確立に有利である。以下の変形例１ないし変形例３はその具体例であるが、必ずしもこれらに限られるものではない。
【００３５】
（変形例１）
例えば、図６（Ａ）に示したように、赤色正孔注入層１６ＡＲ，緑色正孔注入層１６ＢＲおよび青色正孔注入層１６ＡＢの材料および厚みを同じにして、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂに共通の連続正孔注入層４６Ａを形成する。そののち、図６（Ｂ）に示したように、赤色正孔輸送層１６ＢＲ，赤色発光層１６ＣＲおよび赤色電子輸送層１６ＤＲを形成し、総膜厚の最も厚い赤色有機層１６Ｒを形成する。次に、図７（Ａ）に示したように、緑色正孔輸送層１６ＢＧ，緑色発光層１６ＣＧおよび緑色電子輸送層１６ＤＧを形成し、総膜厚の二番目に厚い緑色有機層１６Ｇを形成する。最後に、図７（Ｂ）に示したように、青色正孔輸送層１６ＢＢ，青色発光層１６ＣＢおよび青色電子輸送層１６ＤＢを形成し、総膜厚の最も薄い青色有機層１６Ｂを形成する。なお、連続正孔注入層４６Ａは赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂのすべてに形成する必要はなく、それらのうち必要な色のみ、少なくとも２色に共通であればよい。
【００３６】
（変形例２）
あるいは、赤色電子輸送層１６ＤＲ，緑色電子輸送層１６ＤＲおよび青色電子輸送層１６ＤＢの材料および厚みを同じにしてもよい。この場合、まず、図８（Ａ）に示したように、総膜厚の最も厚い赤色有機層１６Ｒのうち赤色正孔注入層１６ＡＲ，赤色正孔輸送層１６ＢＲおよび赤色発光層１６ＣＲを形成する。次に、図８（Ｂ）に示したように、総膜厚の二番目に厚い緑色有機層１６Ｇのうち緑色正孔注入層１６ＡＧ，緑色正孔輸送層１６ＢＧおよび緑色発光層１６ＣＧを形成する。続いて、図９（Ａ）に示したように、総膜厚の最も薄い青色有機層１６Ｂのうち青色正孔注入層１６ＡＢ，青色正孔輸送層１６ＢＢおよび青色発光層１６ＣＢを形成する。最後に、図９（Ｂ）に示したように、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂに共通の連続電子輸送層４６Ｄを形成する。なお、連続電子輸送層４６Ｄは赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂのすべてに形成する必要はなく、それらのうち必要な色のみ、少なくとも２色に共通であればよい。
【００３７】
（変形例３）
更に、変形例１と変形例２とを重畳して行うようにしてもよい。例えば、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂに共通の連続正孔注入層４６Ａを形成する。そののち、総膜厚の最も厚い赤色有機層１６Ｒのうち赤色正孔輸送層１６ＢＲおよび赤色発光層１６ＣＲを形成し、次に、総膜厚の二番目に厚い緑色有機層のうち緑色正孔輸送層１６ＢＧおよび緑色発光層１６ＣＧを形成し、続いて、総膜厚の最も薄い青色有機層１６Ｂのうち青色正孔輸送層１６ＢＢおよび青色発光層１６ＣＢを形成し、最後に、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂに共通の連続電子輸送層４６Ｄを形成する。
【００３８】
【実施例】
更に、本発明の具体的な実施例について説明する。
【００３９】
上記実施の形態と同様にして、表示装置を作製した。その際、赤色有機層１６Ｒの総膜厚を１５０ｎｍ、緑色有機層１６Ｇの総膜厚を１１０ｎｍ、青色有機層１６Ｂの総膜厚を７０ｎｍとし、それらの総膜厚の厚い色から順に、すなわち赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇ，青色有機層１６Ｂの順で、各色別に形成した。
【００４０】
本実施例に対する比較例として、従来のように輝度の低い色から順に、すなわち青色有機層１６Ｂ，赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇの順で、各色別に形成したことを除き、本実施例と同様にして表示装置を作製した。
【００４１】
得られた実施例および比較例の表示装置について、所定の電流値で連続点灯させた場合の非発光欠陥の経時変化を調べた。その結果を図１０に示す。図１０では、比較例における３６０時間連続点灯させたときの青色の非発光欠陥の数を１００として、実施例および比較例における各色の非発光欠陥の経時変化を表している。
【００４２】
本実施例と比較例との初期特性を比較したところ、発光効率および色度は同等であったが、本実施例の方が比較例に比べて初期の非発光欠陥が少なかった。また、連続点灯させた場合の非発光欠陥の経時変化を比較したところ、比較例では特に青色で非発光欠陥が著しく増加したのに対して、本実施例では青色の非発光欠陥はほとんど増加せず、大幅に改善することができた。すなわち、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層を、それらの総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにすれば、非発光欠陥の増加を抑えることができることが分かった。
【００４３】
以上、実施の形態および実施例を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態および実施例に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂのすべての層を、総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにした場合について説明したが、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂのうち材料または厚みの異なる層のみを、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成すれば足りる。
【００４４】
具体的には、例えば、赤色有機層１６Ｒのうち少なくとも赤色正孔輸送層１６ＢＲおよび赤色発光層１６ＣＲと、緑色有機層１６Ｇのうち少なくとも緑色正孔輸送層１６ＢＧおよび緑色発光層１６ＣＧと、青色有機層１６Ｂのうち少なくとも青色正孔輸送層１６ＢＢおよび青色発光層１６ＣＢとを、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにしてもよい。なぜなら、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの総膜厚は、実際には、赤色正孔輸送層１６ＢＲおよび赤色発光層１６ＣＲ，緑色正孔輸送層１６ＢＧおよび緑色発光層１６ＣＧ，ならびに青色正孔輸送層１６ＢＢおよび青色発光層１６ＣＢの厚みのみを変えることにより、光学的距離Ｌが数２を満たすように制御することが可能な場合があるからである。また、赤色正孔注入層１６ＡＲ，緑色正孔注入層１６ＡＧあるいは青色正孔注入層１６ＡＢ、または赤色電子輸送層１６ＢＲ，緑色電子輸送層１６ＤＧあるいは青色電子輸送層１６ＤＢは、しばしば省略され、あるいは、すべての色の有機発光素子に設けられるとは限らないからである。
【００４５】
また、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの総膜厚を、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢの厚みのみを変えることにより、光学的距離Ｌが数２を満たすように制御することが可能な場合には、赤色有機層１６Ｒのうち少なくとも赤色発光層１６ＣＲと、緑色有機層１６Ｇのうち少なくとも緑色発光層１６ＣＧと、青色有機層１６Ｂのうち少なくとも青色発光層１６ＣＢとを、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにしてもよい。
【００４６】
更にまた、上記実施の形態および実施例では、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂを低分子材料により構成する場合について説明したが、本発明は、有機層に高分子材料を用いる場合にも適用することができる。ここで高分子材料とは、分子量１００００以上のものである。この場合、例えば、赤色有機層は赤色正孔輸送層および赤色発光層を含み、緑色有機層は緑色正孔輸送層および緑色発光層を含み、青色有機層は青色正孔輸送層および青色発光層を含む構成とすることができる。また、共振器構造を導入する場合には、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層の総膜厚は、赤色発光層，緑色発光層および青色発光層の厚みのみを変えることにより、光学的距離Ｌが数２を満たすように制御することが可能である。よって、赤色有機層のうち少なくとも赤色発光層と、緑色有機層のうち少なくとも緑色発光層と、青色有機層のうち少なくとも青色発光層とを、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにすれば足りる。
【００４７】
加えてまた、例えば、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。例えば、上記実施の形態においては、基板１１の上に、第１電極１４，赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂ，ならびに第２電極１８を基板１１の側から順で積層し、封止用基板３１の側から光を取り出すようにした場合について説明したが、積層順序を逆にして、基板１１の上に、第２電極１８，赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂ，ならびに第１電極１４を基板１１の側から順に積層し、基板１１の側から光を取り出すようにすることもできる。
【００４８】
更にまた、例えば、上記実施の形態では、第１電極１４を陽極、第２電極１８を陰極とする場合について説明したが、陽極および陰極を逆にして、第１電極１４を陰極、第２電極１８を陽極としてもよい。さらに、第１電極１４を陰極、第２電極１８を陽極とすると共に、基板１１の上に、第２電極１８，赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂ，ならびに第１電極１４を基板１１の側から順に積層し、基板１１の側から光を取り出すようにすることもできる。
【００４９】
加えてまた、上記実施の形態では、赤色有機発光素子１０Ｒ，緑色有機発光素子１０Ｇおよび青色有機発光素子１０Ｂの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。例えば、第１電極１４と赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂとの間に、酸化クロム（ＩＩＩ）（Ｃｒ２ Ｏ３ ），ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：インジウム（Ｉｎ）およびスズ（Ｓｎ）の酸化物混合膜）などからなる正孔注入用薄膜層を備えていてもよい。また、例えば第１電極１４を、誘電体多層膜またはＡｌなどの反射膜の上部に透明導電膜を積層した２層構造とすることもできる。この場合、この反射膜の発光層側の端面が共振部の端部を構成し、透明導電膜は共振部の一部を構成することになる。
【００５０】
更にまた、上記実施の形態では、第２電極１８が半透過性電極１８Ａと透明電極１８Ｂとが第１電極１４の側から順に積層されている場合について説明したが、第２電極１４は、半透過性電極１８Ａのみを有する構成としてもよい。
【００５１】
加えてまた、上記実施の形態において、半透過性電極１８Ａを一方の端部とし、透明電極１８Ｂを挟んで半透過性電極１８Ａに対向する位置に他方の端部を設け、透明電極１８Ｂを共振部とする共振器構造を形成するようにしてもよい。さらに、そのような共振器構造を設けた上で、赤色有機発光素子１０Ｒ，緑色有機発光素子１０Ｇおよび青色有機発光素子１０Ｂを保護膜１９で覆うようにし、この保護膜１９を、透明電極１８Ａを構成する材料と同程度の屈折率を有する材料により構成すれば、保護膜１９を共振部の一部とすることができ、好ましい。
【００５２】
更にまた、本発明は、第２電極１８を透明電極１８Ｂにより構成すると共に、この透明電極１８Ｂの赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂと反対側の端面の反射率が大きくなるように構成し、第１電極１４の赤色発光層１６Ｒ，緑色発光層１６Ｇおよび青色発光層１６Ｂ側の端面を第１端部、透明電極１８Ｂの赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂと反対側の端面を第２端部とした共振器構造を構成した場合についても適用することができる。例えば、透明電極１８Ｂを大気層に接触させ、透明電極１８Ｂと大気層との境界面の反射率を大きくして、この境界面を第２端部としてもよい。また、接着層２０との境界面での反射率を大きくして、この境界面を第２端部としてもよい。更に、保護膜１９との境界面での反射率を大きくして、この境界面を第２端部としてもよい。
【００５３】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の表示装置の製造方法によれば、赤色有機層のうち少なくとも赤色発光層と、緑色有機層のうち少なくとも緑色発光層と、青色有機層のうち少なくとも青色発光層とを、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにしたので、総膜厚の最も薄い色の発光層を最後に形成し、非発光欠陥の発生を防止して表示品質を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係る表示装置の製造方法を工程順に表す断面図である。
【図２】図１に続く工程を表す断面図である。
【図３】図２に続く工程を表す断面図である。
【図４】図３に続く工程を表す断面図である。
【図５】図４に続く工程を表す断面図である。
【図６】本発明の変形例１に係る表示装置の製造方法を工程順に表す断面図である。
【図７】図６に続く工程を表す断面図である。
【図８】本発明の変形例２に係る表示装置の製造方法を工程順に表す断面図である。
【図９】図８に続く工程を表す断面図である。
【図１０】本発明の実施例および比較例における非発光欠陥の数の経時変化を表す図である。
【符号の説明】
１０Ｒ…赤色有機発光素子、１０Ｇ…緑色有機発光素子、１０Ｂ…青色有機発光素子、１１…基板、１２…ＴＦＴ、１３…平坦化膜、１３Ａ…コンタクトホール、１４…第１電極、１５…絶縁膜、１６Ｒ…赤色有機層、１６ＡＲ…赤色正孔注入層、１６ＢＲ…赤色正孔輸送層、１６ＣＲ…赤色発光層、１６ＤＲ…赤色電子輸送層、１６Ｇ…緑色有機層、１６ＡＧ…緑色正孔注入層、１６ＢＧ…緑色正孔輸送層、１６ＣＧ…緑色発光層、１６ＤＧ…緑色電子輸送層、１６Ｂ…青色有機層、１６ＡＢ…青色正孔注入層、１６ＢＢ…青色正孔輸送層、１６ＣＢ…青色有機層、１６ＤＢ…青色電子輸送層、１７…電子注入層、１８…第２電極、１８Ａ…半透過性電極、１８Ｂ…透明電極、１９…保護膜、２０…接着層、３１…封止用基板、３２…カラーフィルタ、１００…蒸着マスク
Claims (8)
- 基板に、赤色発光層を含む赤色有機層を有する赤色有機発光素子と、緑色発光層を含む緑色有機層を有する緑色有機発光素子と、青色発光層を含む青色有機層を有する青色有機発光素子とを備え、前記赤色有機層，前記緑色有機層および前記青色有機層の総膜厚を互いに異ならせた表示装置の製造方法であって、
前記赤色有機層のうち少なくとも前記赤色発光層と、前記緑色有機層のうち少なくとも前記緑色発光層と、前記青色有機層のうち少なくとも前記青色発光層とを、前記赤色有機層，前記緑色有機層および前記青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成する
ことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 前記赤色有機発光素子，前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子は、前記赤色発光層，前記緑色発光層および前記青色発光層で発生した光を第１端部と第２端部との間で共振させる共振器構造を有するものである
ことを特徴とする請求項１記載の表示装置の製造方法。 - 前記第１端部で生じる反射光の位相シフトと前記第２端部で生じる反射光の位相シフトとの和をΦ、前記第１端部と前記第２端部との間の光学的距離をＬ、前記第２端部の側から取り出したい光のスペクトルのピーク波長をλとすると、前記光学的距離が数１を満たすようにする
ことを特徴とする請求項２記載の表示装置の製造方法。
- 前記赤色有機層，前記緑色有機層および前記青色有機層の総膜厚を、厚い方から赤色有機層，緑色有機層，青色有機層の順とする
ことを特徴とする請求項３記載の表示装置の製造方法。 - 前記赤色有機層のうち少なくとも前記赤色発光層および赤色正孔輸送層と、前記緑色有機層のうち少なくとも前記緑色発光層および緑色正孔輸送層と、前記青色有機層のうち少なくとも前記青色発光層および青色正孔輸送層とを、前記赤色有機層，前記緑色有機層および前記青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成する
ことを特徴とする請求項１記載の表示装置の製造方法。 - 前記赤色有機層，前記緑色有機層および前記青色有機層のうち材料および厚みの同じ層を、前記赤色有機層，前記緑色有機層および前記青色有機層のうち少なくとも２色に共通の連続層として形成する
ことを特徴とする請求項１記載の表示装置の製造方法。 - 前記赤色有機層，前記緑色有機層および前記青色有機層を、低分子材料により構成する
ことを特徴とする請求項１記載の表示装置の製造方法。 - 前記赤色有機層，前記緑色有機層および前記青色有機層を、蒸着マスクを用いた蒸着法により、各色別に形成する
ことを特徴とする請求項１記載の表示装置の製造方法。
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