JP2004349568A - 入出力端子および半導体素子収納用パッケージならびに半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】入出力端子で伝送される高周波信号の伝送効率を良好なものとし、また半導体素子収納用パッケージ内部の気密信頼性を向上させること。
【解決手段】上面に一辺から対向する他辺にかけて形成された線路導体3およびこの線路導体3の両側に等間隔をもって形成された同一面接地導体4を有する誘電体から成る四角形状の平板部1と、この平板部1の上面に接合され、上面に上部接地導体6が形成された誘電体から成る直方体状の立壁部5とを具備した入出力端子9において、立壁部5は、内部に内層接地導体8が形成されているとともに、線路導体3の線路方向に直交する一対の側面5cで2つの同一面接地導体4に接する部位に、それぞれ内面に導体層5bが形成された溝5aが上下面にわたって形成されており、内層接地導体8が導体層5bを介して上部接地導体6および同一面接地導体4に電気的に接続されている。
【選択図】 図1
【解決手段】上面に一辺から対向する他辺にかけて形成された線路導体3およびこの線路導体3の両側に等間隔をもって形成された同一面接地導体4を有する誘電体から成る四角形状の平板部1と、この平板部1の上面に接合され、上面に上部接地導体6が形成された誘電体から成る直方体状の立壁部5とを具備した入出力端子9において、立壁部5は、内部に内層接地導体8が形成されているとともに、線路導体3の線路方向に直交する一対の側面5cで2つの同一面接地導体4に接する部位に、それぞれ内面に導体層5bが形成された溝5aが上下面にわたって形成されており、内層接地導体8が導体層5bを介して上部接地導体6および同一面接地導体4に電気的に接続されている。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高周波信号で作動する半導体素子を収納するための半導体素子収納用パッケージの信号入出力部に使用される入出力端子および半導体素子収納用パッケージならびに半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、マイクロ波帯やミリ波帯等の高周波信号を用いる半導体素子を収納するための半導体素子収納用パッケージ(以下、パッケージともいう)には、半導体素子と外部電気回路基板とを電気的に接続するための入出力端子が設けられている。この入出力端子を図6に斜視図で示す。
【0003】
同図において、101はアルミナ(Al2O3)質セラミックス,窒化アルミニウム(AlN)質セラミックス,ムライト(3Al2O3・2SiO2)質セラミックス等の誘電体から成る四角形状の平板部であり、平板部101はその上面に、一辺から対向する他辺にかけて形成され、タングステン(W),モリブデン(Mo)等のメタライズ層から成る線路導体103と、線路導体103の両側に等間隔をもって形成されたW,Mo等のメタライズ層から成る同一面接地導体104とを有する。また、平板部101の下面には、その全面に線路導体103と同様のメタライズ層から成る下部接地導体102を有する。
【0004】
平板部101の上面には、線路導体103の一部を間に挟んで接合されているとともに、上面に上部接地導体106を有するAl2O3質セラミックス,AlN質セラミックス,3Al2O3・2SiO2質セラミックス等の誘電体から成る直方体状の立壁部105が設置されている。これにより、線路導体103は、平板部101と立壁部105とに狭持されていない部位のマイクロストリップ線路と、平板部101と立壁部105とに狭持されている部位のストリップ線路とを有するものとなる。また、平板部101と立壁部105の線路導体103の線路方向に平行な側面には線路導体103と同様のメタライズ層から成る側面接地導体107が形成されている。
【0005】
また、線路導体103の両側には等間隔をもって同一面接地導体104が形成されており、線路導体103を伝送する高周波信号の周波数に応じて、線路導体103と同一面接地導体104との間の間隔を適宜調整することによって、線路導体103を特性インピーダンスに整合させ得る。このように、線路導体103を特性インピーダンスに整合させることによって、線路導体103を伝送する高周波信号の伝送効率を良好なものとできる。
【0006】
このような、平板部101と立壁部105とから構成された入出力端子109は、パッケージに設けられ、パッケージ内外を気密に遮断し、その内部を封止することができる(例えば、下記の特許文献1参照)。
【0007】
この入出力端子109が取着されたパッケージは、その構成部材の1つである金属製の枠体に設けられた切欠きまたは貫通孔から成る取付部に入出力端子109を嵌着したいわゆるメタルウォールタイプや、セラミックス製の枠体に信号の伝送線路としての入出力端子部を一体的に設けたいわゆるセラミックウォールタイプがあり、用途に応じて適宜選択され使用されている。
【0008】
【特許文献1】
特開2002−184888号公報
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の入出力端子109では、線路導体103を伝送する高周波信号の周波数が高周波になるにつれ、線路導体103の線路方向に直交する立壁部103の側面の下端が接する線路導体103の部分、つまり線路導体103のマイクロストリップ線路とストリップ線路との境界部で高周波信号が立壁部105内に放射されて、高周波信号の伝送効率が低下し易くなるという問題があった。特に、線路導体103を伝送する高周波信号が10GHz以上である場合、上記問題点が顕著なものとなっていた。
【0010】
そこで、立壁部105の幅や厚みを小さくして立壁部105内に放射される高周波信号を低減させることが考えられる。しかしながら、入出力端子109は、線路導体103の線路方向に平行な側面および上面が銀(Ag)−銅(Cu)ろう等のろう材を介してパッケージの枠体や枠体の上面に設けられた金属製のシールリングに接合されるため、枠体やシールリングとの熱膨張差により熱歪が発生し易く、幅や厚みを小さくした立壁部105を用いた場合、この熱歪により立壁部105にクラック等の破損が発生する場合があった。その結果、パッケージの内部を気密に封止できなくなり、また破損が平板部101にまで及んだ場合には、線路導体103が断線し半導体素子と外部電気回路基板との間で高周波信号を伝送できなくなるという問題点が発生していた。
【0011】
従って、本発明は上記問題点に鑑み完成されたものであり、その目的は、パッケージに収納された半導体素子に高周波信号を伝送させるための入出力端子において、線路導体で高周波信号の放射、反射等の伝送損失が生ずるのを防止することにより、半導体素子と外部電気回路基板との間における高周波信号の伝送効率を向上させ、また内部の気密信頼性を良好に維持してパッケージ内に収納する半導体素子を長期にわたり正常かつ安定に作動させ得るものとすることにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明の入出力端子は、上面に一辺から対向する他辺にかけて形成された線路導体および該線路導体の両側に等間隔をもって形成された同一面接地導体を有する誘電体から成る四角形状の平板部と、該平板部の上面に前記線路導体の一部および前記同一面接地導体の一部を間に挟んで接合され、上面に上部接地導体が形成された誘電体から成る直方体状の立壁部とを具備した入出力端子において、前記立壁部は、内部に内層接地導体が形成されているとともに、前記線路導体の線路方向に直交する一対の側面で前記2つの同一面接地導体に接する部位に、それぞれ内面に導体層が形成された溝が上下面にわたって形成されており、前記内層接地導体が前記導体層を介して前記上部接地導体および前記同一面接地導体に電気的に接続されていることを特徴とする。
【0013】
本発明の入出力端子は、立壁部が、内部に内層接地導体が形成されているとともに、線路導体の線路方向に直交する一対の側面で2つの同一面接地導体に接する部位に、それぞれ内面に導体層が形成された溝が上下面にわたって形成されており、内層接地導体が導体層を介して上部接地導体および同一面接地導体に電気的に接続されていることから、線路導体の線路方向に直交する立壁部の側面で電磁遮蔽効果(シールド効果)が得られ、線路導体の線路方向に直交する立壁部の側面の下端が接する線路導体の部分、つまり線路導体のマイクロストリップ線路とストリップ線路との境界部において、この電磁遮蔽効果により、線路導体を伝送する高周波信号が立壁部の内部に放射されても、その放射された高周波信号の成分は2つの導体層と内層接地導体とで囲まれる領域内に閉じ込められることにより損失が有効に抑えられる。その結果、立壁部の幅や厚みを小さくせずに熱歪みに耐え得る大きさの入出力端子としながら、高周波信号を効率よく伝送させることができる。
【0014】
また、導体層および内層接地導体により線路導体に対する接地電位をより強化することができる。その結果、線路導体を伝送する高周波信号の伝送モードがマイクロストリップ線路のモードからストリップ線路のモードに、またはストリップ線路のモードからマイクロストリップ線路のモードに変化しても、高周波信号の反射損失や透過損失をより有効に抑制することができ、高周波信号を極めて効率良く入出力させることができる。
【0015】
本発明の半導体素子収納用パッケージにおいて、好ましくは、前記立壁部は、前記側面に形成された2つの前記溝の間にわたって前記側面と上面との間に前記内層接地導体が露出するように段差が形成されており、該段差の側面に前記上部接地導体と前記導体層と前記内層接地導体とに接続された側部導体層が形成されていることを特徴とする。
【0016】
本発明の半導体素子収納用パッケージは、立壁部の側面に形成された2つの溝の間にわたって側面と上面との間に内層接地導体が露出するように段差が形成されており、この段差の側面に上部接地導体と導体層と内層接地導体とに接続された側部導体層が形成されていることから、側部導体層によって立壁部の側面をより覆うことができ、線路導体に対してより電磁遮蔽効果を向上させることができる。また、側部導体層によって導体層と上部接地導体との導電性が向上し、内層接地導体および導体層の接地電位を半導体素子収納用パッケージのケースグランドとなる枠体に接合される上部接地導体の接地電位に近づけることができ、線路導体に対する接地をより強化することができる。その結果、高周波信号をより効率よく伝送させることができる。
【0017】
また、立壁部の厚さが、溝が形成された端部から中央にかけて段階的に厚くなっていることから、高周波信号が線路導体の露出した部位から立壁部の端部の薄い誘電体で覆われた部位を経て立壁部の中央の厚い誘電体で覆われた部位を伝送することとなり、高周波信号の伝送モードが急激に変化して損失が生じるのを有効に抑制することができる。
【0018】
本発明の半導体素子収納用パッケージは、上面に半導体素子が載置される載置部を有する基体と、該基体の上面に前記載置部を囲繞するように取着され、側部に貫通孔または切欠きから成る入出力端子の取付部が形成された枠体と、前記取付部に嵌着された上記構成の入出力端子とを具備していることを特徴とする。
【0019】
本発明の半導体素子収納用パッケージは、上記構成により、線路導体を伝送する高周波信号の伝送効率を良好なものとできるとともに、入出力端子にクラックが発生するのを防止して半導体素子収納用パッケージ内部を気密に保持することができる。その結果、半導体素子を長期にわたり正常かつ安定に作動させることができる信頼性の高い半導体素子収納用パッケージとなる。
【0020】
本発明の半導体装置は、上記構成の半導体素子収納用パッケージと、前記載置部に載置固定されるとともに前記入出力端子に電気的に接続された半導体素子と、前記枠体の上面に取着された蓋体とを具備していることを特徴とする。
【0021】
本発明の半導体装置は、上記構成により、上記本発明の半導体素子収納用パッケージを用いた、高周波信号の伝送性に優れるとともに気密信頼性に優れたものとなる。
【0022】
【発明の実施の形態】
本発明の入出力端子および半導体素子収納用パッケージならびに半導体装置について以下に詳細に説明する。図1は本発明の入出力端子について実施の形態の一例を示す斜視図である。同図において、1は平板部、3は線路導体、4は同一面接地導体、5は立壁部、6は上部接地導体、8は内層接地導体、9は入出力端子である。
【0023】
本発明の入出力端子9は、上面に一辺から対向する他辺にかけて形成された線路導体3およびこの線路導体3の両側に等間隔をもって形成された同一面接地導体4を有する誘電体から成る四角形状の平板部1と、この平板部1の上面に線路導体3の一部および同一面接地導体4の一部を間に挟んで接合され、上面に上部接地導体6が形成された誘電体から成る直方体状の立壁部5とを具備している。
【0024】
平板部1は、Al2O3質セラミックス,AlN質セラミックス,3Al2O3・2SiO2質セラミックス等の誘電体からなる四角形状のものである。
【0025】
線路導体3および同一面接地導体4は、平板部1の上面に形成されたW,Mo等のメタライズ層から成る。また、平板部1の下面にはその全面に線路導体3と同様のメタライズ層から成る下部接地導体2を有する。
【0026】
立壁部5は、Al2O3質セラミックス,AlN質セラミックス,3Al2O3・2SiO2質セラミックス等の誘電体からなる直方体状のものであり、平板部1の上面に、間に線路導体3および同一面接地導体4の一部を挟んで接合されている。
【0027】
また、平板部1の下面および立壁部5の上面にはそれぞれ全面に線路導体3と同様のメタライズ層から成る下部接地導体2および上部接地導体6を有する。さらに、平板部1の側面および立壁部5の側面には線路導体3と同様のメタライズ層から成る側面接地導体7が形成されている。これらの下部接地導体2、上部接地導体6および側面接地導体7と同一面接地導体4とにより、線路導体3に対する接地が強化され、線路導体3の高周波信号の伝送効率に優れたものとなる。
【0028】
さらに、立壁部5は、内部に内層接地導体8が形成されているとともに、線路導体3の線路方向に直交する一対の側面5cで2つの同一面接地導体4に接する部位に、それぞれ内面に導体層5bが形成された溝5aが上下面にわたって形成されており、内層接地導体8が導体層5bを介して上部接地導体6および同一面接地導体4に電気的に接続されている。
【0029】
これにより、立壁部5の側面5cで電磁遮蔽効果が得られ、立壁部5の側面5cの下端が接する線路導体3の部分、つまり線路導体3のマイクロストリップ線路とストリップ線路との境界部において、この電磁遮蔽効果により、線路導体3を伝送する高周波信号が立壁部5の内部に放射されても、その放射された高周波信号の成分は2つの導体層5bと内層接地導体8とで囲まれる領域内に閉じ込められることにより損失が有効に抑えられる。その結果、立壁部5の幅や厚みを小さくせずに熱歪みに耐え得る大きさの入出力端子9としながら、高周波信号を効率よく伝送させることができる。
【0030】
また、導体層5bおよび内層接地導体8により線路導体3に対する接地電位をより強化することができる。その結果、線路導体3を伝送する高周波信号の伝送モードがマイクロストリップ線路のモードからストリップ線路のモードに、またはストリップ線路のモードからマイクロストリップ線路のモードに変化しても、高周波信号の反射損失や透過損失をより有効に抑制することができ、高周波信号を極めて効率良く入出力させることができる。
【0031】
溝5aの拡大断面図を図2に示す。同図に示すように、溝5aの幅XはX=0.3〜1.5mm、深さDはD=0.1〜1mmが良く、この構成により、立壁部5の線路導体3の側面5cの下端が接する部分において、線路導体3のマイクロストリップ線路とストリップ線路との境界部を伝送する高周波信号が立壁部5の内部に放射されても、溝5aの電磁遮蔽効果によってその放射された高周波信号の成分を2つの導体層間に閉じ込めることにより損失が有効に抑えられる。また、立壁部5の側面5cの下端において線路導体3に対する接地電位をより強化でき、線路導体3を伝送する高周波信号の伝送モードがマイクロストリップ線路のモードからストリップ線路のモードに、またはストリップ線路のモードからマイクロストリップ線路のモードに変化しても、高周波信号の反射損失や透過損失が生ずるのをより有効に抑制することができる。
【0032】
X<0.3mmの場合、溝5aの幅が小さすぎて、溝5aを形成するためのセラミックグリーンシートの打ち抜き加工が困難になるとともに、線路導体3に対する接地電位の強化が困難となり、電磁遮蔽効果も低下し易くなる。X>1.5mmの場合、溝5aの幅が大きすぎて立壁部5の角部が欠けやすくなる。また、D<0.1mmの場合、溝5aが浅いため、溝5aを形成するためのセラミックグリーンシートの打ち抜き加工が困難となるとともに、線路導体3に対する接地電位の強化が困難となり、電磁遮蔽効果も低下し易くなる。D>1mmの場合、溝5aが深すぎて、対向する溝5aの間の立壁部5が薄くなり、入出力端子9をパッケージに接合した際に立壁部5にクラック等の破損が生じやすくなる。
【0033】
溝5aの断面形状は、図2のような四角形状や半円状、U字状等の種々の形状とされる。このうち、立壁部5の強度を維持しながら溝5aを深くして電磁遮蔽効果を高くすることができるという観点からU字状のものが好ましい。
【0034】
入出力端子9のX−X’における断面図を図3に示す。同図に示すように、線路導体3と内層接地導体8との距離HはH=0.2〜0.7mmが良く、この構成により、線路導体3のストリップ線路を伝送する高周波信号が立壁部5の上側に放射されるのを有効に抑制できる。また、溝5aに形成された導体層5bと電気的に接続されることにより、ストリップ線路に対する接地電位がより強化され、ストリップ線路を伝送する高周波信号の反射損失や透過損失が生じるのを有効に抑制することができる。
【0035】
H<0.2mmの場合、線路導体3と内層接地導体8との距離が近すぎて、インピーダンスの整合を行うためには、容量成分の低減が必要となって線路導体3を細くしなければならず、線路導体3の形成が困難になるという問題が生じやすい。また、線路導体3と内層接地導体8との間のセラミックグリーンシートを薄くする必要があるため、セラミックグリーンシートを積層して立壁部5を構成する際にセラミックグリーンシートがたわむ等の問題が生じやすくなる。H>0.7mmの場合、線路導体3と内層接地導体8との距離が大きくなるため、十分な電磁遮蔽効果が得られ難くなる。
【0036】
このような入出力端子9は以下のようにして作製される。例えば、Al2O3質セラミックスから成る場合、先ず酸化アルミニウム、酸化珪素(SiO2)、酸化マグネシウム(MgO)および酸化カルシウム(CaO)等の原料粉末に適当な有機バインダー、可塑剤、溶剤等を添加混合して泥漿状と成す。これを従来周知のドクターブレード法やカレンダーロール法等のテープ成形技術により複数のセラミックグリーンシートを得る。
【0037】
次に、このセラミックグリーンシートに、W,Mo等の高融点金属粉末に適当な有機バインダー、可塑剤、溶剤等を添加混合して得た金属ペーストを、スクリーン印刷法等の厚膜形成技術により印刷塗布して、下部接地導体2、線路導体3、同一面接地導体4、上部接地導体6、内層接地導体8となるメタライズ層を所定パターンに形成する。また、立壁部5となるセラミックグリーンシートに金型等によって打ち抜き加工を施すことによって、所望の位置に溝5aを形成し、溝5aの内面に導体層5bとなるW,Mo等の高融点金属粉末に適当な有機バインダー、可塑剤、溶剤等を添加混合して得た金属ペーストを塗布する。
【0038】
その後、セラミックグリーンシートを複数枚積層し、側面接地導体7となるW,Mo等の高融点金属粉末に適当な有機バインダー、可塑剤、溶剤等を添加混合して得た金属ペーストを塗布する。そして、これを還元雰囲気中、約1600℃の温度で焼成することにより製作される。
【0039】
導体層5bの厚さは5〜30μmがよく、5μm未満では、W等のメタライズにより導体層5bを形成するのが困難となって均一な厚みの導体層5bを形成できず、線路導体3に対する接地電位の強化が困難となり、電磁遮蔽効果も低下し易くなる。また、30μmを超えると、導体層5bと立壁部5との間の熱膨張差により立壁部5に加わる応力が大きくなり立壁部5が破損し易くなる。
【0040】
内層接地導体8の厚さは5〜20μmがよく、5μm未満では、W等のメタライズにより内層接地導体8を形成するのが困難となって均一な厚みの内層接地導体8を形成できず、線路導体3に対する接地電位の強化が困難となり、電磁遮蔽効果も低下し易くなる。また、20μmを超えると、内層接地導体8と立壁部5との間の熱膨張差により立壁部5に加わる応力が大きくなり立壁部5が破損し易くなる。
【0041】
本発明の入出力端子9は、図4に示すように、平板部1において、線路導体3の線路方向に直交する一対の側面1cで2つの同一面接地導体4に接する部位に、それぞれ内面に導体層1bが形成された溝1aが上下面にわたって形成されており、導体層1bを介して下部接地導体2と同一面接地導体4とが電気的に接続されていても良い。この場合、溝1aは、平板部1となるセラミックグリーンシートに金型等によって打ち抜き加工を施すことによって所望の位置に形成される。そして、溝1aに導体層1bとなるW,Mo等の高融点金属粉末に適当な有機バインダー、可塑剤、溶剤等を添加混合して得た金属ペーストを塗布し焼成することによって、導体層1bが形成される。
【0042】
溝1aに導体層1bが形成されていることにより、線路導体3に対する接地電位が強化される。その結果、線路導体3を特性インピーダンスにより整合し易くし、半導体素子と電気的に接続するためのボンディングワイヤ等や外部電気回路と電気的に接続するためのリード端子等を線路導体3の端部に接続しても、これらの接続部で高周波信号の反射損失や透過損失が生ずるのを有効に防止でき、線路導体3を伝送する高周波信号の伝送特性をより良好にすることができる。
【0043】
溝1aの断面形状は、溝5aと同様に四角形状や半円状、U字状等の種々の形状とされる。
【0044】
なお立壁部5は、側面に形成された2つの溝5aの間にわたって上部接地導体6と導体層5bとに接続された側部導体層5dが形成されていてもよい。これにより側部導体層5dによって立壁部5の側面をより覆うことができ、線路導体3に対してより電磁遮蔽効果を向上させることができる。また、内層接地導体8および導体層5bの接地電位をパッケージのケースグランドとなる枠体に接合される上部接地導体6の接地電位に近づけることができ、線路導体3に対する接地をより強化することができる。
【0045】
また本発明の入出力端子9は、好ましくは、図7に示すように立壁部5の側面に形成された2つの溝5aの間にわたって側面と上面との間に内層接地導体8が露出するように段差が形成されており、この段差の側面に上部接地導体5dと導体層5bと内層接地導体8とに接続された側部導体層5dが形成されているのがよい。
【0046】
これにより、側部導体層5dによって立壁部5の側面をより覆うことができ、線路導体3に対してより電磁遮蔽効果を向上させることができる。また、側部導体層5dによって導体層5bと上部接地導体6との導電性が向上し、内層接地導体8および導体層5bの接地電位をパッケージのケースグランドとなる枠体に接合される上部接地導体6の接地電位に近づけることができ、線路導体3に対する接地をより強化することができる。その結果、高周波信号をより効率よく伝送させることができる。
【0047】
また、立壁部5の厚さが、溝5aが形成された端部から中央にかけて段階的に厚くなっていることから、高周波信号が線路導体3の露出した部位から立壁部5の端部の薄い誘電体で覆われた部位を経て立壁部5の中央の厚い誘電体で覆われた部位を伝送することとなり、高周波信号の伝送モードが急激に変化して損失が生じるのを有効に抑制することができる。
【0048】
立壁部5に形成した段差は、好ましくは、図7に示すように溝5aと一体になって形成されているのがよい。この構成により、側部導体層5dを導体層5bと同時に形成することができ、入出力端子9を効率よく作製することができる。
【0049】
次に、本発明のパッケージについて図5に基づいて説明する。同図は本発明のパッケージについて実施の形態の一例を示す斜視図であり、21は基体、22は枠体、23は取付部である。
【0050】
本発明のパッケージは、上面に半導体素子25が載置される載置部21aを有する基体21と、この基体21の上面に載置部21aを囲繞するように取着され、側部に貫通孔または切欠きから成る入出力端子9の取付部23が形成された枠体22と、取付部23に嵌着された入出力端子9とを具備している。
【0051】
これにより、線路導体3を伝送する高周波信号の伝送効率を良好なものとできるとともに、入出力端子9にクラックが発生するのを防止してパッケージ内部を気密に保持することができる。その結果、半導体素子25を長期にわたり正常かつ安定に作動させることができる信頼性の高いパッケージとなる。
【0052】
基体21は、上面にIC,LSI,半導体レーザ(LD),フォトダイオード(PD)等の半導体素子25を載置するための載置部21aを有している。図5では載置部21aを凹部とした例を示したが、基体21を平板状としてその上面に載置部21aを形成してもよい。
【0053】
この基体21は、鉄(Fe)−ニッケル(Ni)−コバルト(Co)合金,Cu−W合金等の金属、またはAl2O3質セラミックス,AlN質セラミックス,3Al2O3・2SiO2質セラミックス等の誘電体からなる。基体21が金属からなる場合、そのインゴットに圧延加工や打ち抜き加工等の従来周知の金属加工法を施すことによって所定形状に製作される。一方、基体21がセラミックスから成る場合、その原料粉末に適当な有機バインダや溶剤等を添加混合しペースト状と成し、このペーストをドクターブレード法やカレンダーロール法等によってセラミックグリーンシートと成し、しかる後、セラミックグリーンシートに適当な打ち抜き加工を施し、これを複数枚積層し約1600℃の高温で焼成することによって作製される。
【0054】
なお、基体21が金属からなる場合、その表面に耐蝕性に優れ、かつろう材との濡れ性に優れる金属、具体的には厚さ0.5〜9μmのNi層と厚さ0.5〜5μmの金(Au)層とを順次メッキ法により被着させておくのがよい。これにより、基体21が酸化腐蝕するのを有効に防止できるとともに、基体21上面の載置部21aに半導体素子25を強固に接着固定させることができる。一方、基体21がセラミックスから成る場合、載置部21aに、W,Mo等のメタライズ層を下地層として形成し、この表面に耐蝕性に優れ、かつろう材との濡れ性に優れる金属、具体的には厚さ0.5〜9μmのNi層と厚さ0.5〜5μmのAu層とを順次メッキ法により被着させておくのがよい。これにより、載置部21aに半導体素子25を強固に接着固定することができる。
【0055】
また、枠体22は、基体21上に載置部21aを囲繞するようにAgろう、Ag−Cuろう材等の高融点金属ろう材により接合されており、基体21と同様に誘電体または金属から成る。また、枠体22の側部には、貫通孔または切欠きから成る入出力端子9の取付部23が形成されている。なお、図5に示すように、基体21にも同様の切欠きを設けて入出力端子9の取付部23の一部が形成されていてもよい。
【0056】
取付部23は、枠体22および基体21が誘電体からなる場合、内面にメタライズ層等の導電層が形成されている。この導電層は、基体21および/または枠体22に被着形成された接地導体に接続されて接地されている。
【0057】
取付部23には本発明の入出力端子9がAgろう、Ag−Cuろう材等の高融点金属ろう材により嵌着接合されている。そして、入出力端子9の下部接地導体2、上部接地導体6および側面接地導体7は、枠体22および基体21が誘電体からなる場合、取付部23の内面に形成された導電層に接続されることにより接地され、ケースグランドとなる。あるいは、枠体22および基体21が金属からなる場合、入出力端子9の下部接地導体2、上部接地導体6および側面接地導体7は、金属製の枠体22や基体21に接続されて接地され、ケースグランドとなる。また、入出力端子9の上部接地導体6は、図5に示すように枠体22の上面に取着されるFe−Ni−Co合金等の金属からなるシールリング24に接続されて接地され、ケースグランドとなっていてもよい。
【0058】
このような本発明のパッケージは、上記本発明の入出力端子9を具備していることから、高周波信号の誘電体損失を最小限に抑えて高周波信号の伝送損失を小さくした、良好な伝送特性を有するものとなる。
【0059】
そして、線路導体3を載置部21aに載置される半導体素子25の電極ならびに外部電気回路基板の配線導体にボンディングワイヤ,リボン,リード端子等(図示せず)を介して接続して、半導体素子25と外部電気回路基板とを電気的に接続する。次に、必要に応じて枠体22の上面にシールリング24を鉛(Pb)−錫(Sn)半田やAu−Sn半田等の低融点金属ろう材やAg−Cuろう材等の高融点金属ろう材等により取着し、シールリング24の上面にFe−Ni−Co合金等から成る蓋体26を半田付けやシームウエルド法等の溶接により取着することにより、半導体素子25がパッケージ内部に収納された製品としての半導体装置となる。
【0060】
また、図5の実施の形態では枠体22の対向する側部に入出力端子9を2つ設けているが、必要に応じて他の側部に設けてもよく、または1つの側部に複数の入出力端子9を取り付けてもよく、この場合取付部23を1つの側部に複数設けて入出力端子9を並列的に複数取り付ければよい。
【0061】
このような本発明の半導体装置は、上記本発明の入出力端子9を具備していることから、高周波信号の誘電体損失を最小限に抑えて高周波信号の伝送損失を小さくし、伝送効率を良好に保持することができる。
【0062】
【実施例】
本発明の入出力端子9の実施例を以下に説明する。
【0063】
図1の入出力端子9を以下のように構成した。先ず、焼成後の比誘電率が9.5となるAl2O3質セラミックグリーンシートに打ち抜き加工を施し、Wペーストを印刷塗布することにより下部接地導体2、線路導体3、同一面接地導体4、導体層5b、上部接地導体6、側面接地導体7、内層接地導体8となるメタライズ層を形成するためのWペースト層を形成した。
【0064】
そして、これらを積層し、還元雰囲気中で約1600℃の温度で焼成することにより、縦1.2mm×横3.7mm×高さ1.24mmの直方体の立壁部5と縦3.2mm×横3.7mm×高さ0.76mmの直方体の平板部1とを有した入出力端子9を作製した。
【0065】
なお、平板部1の上面の中央部には縦方向に一辺から他辺にかけて幅が0.5mmの線路導体3が形成され、そして線路導体3の両側に0.35mm離して線路導体3と平行な幅が1.25mmの同一面接地導体4が形成され、立壁部5の両側面には線路導体3の両側の0.6mm離れた位置に上側から下側にかけて幅0.4mm×深さ0.2mmの溝5aが4箇所形成され、かつ平板部1上面(立壁部5下側)から1mm上側の位置に内層接地導体8が設けられたサンプルを作製した。これをサンプルPとした。
【0066】
また、図7の構成のサンプルQをサンプルPと同様に作製した。なお、このサンプルQでは、内層接地導体8より上側の立壁部5に、立壁部5の側面に形成された2つの溝5aの間にわたって側面と上面との間に内層接地導体8が露出するように深さ0.2mmの段差が形成されており、この段差の側面に上部接地導体6,導体層5bおよび内層接地導体8に接続された側部導体層5dが形成されている。この側部導体層5dを設けること以外はサンプルPと同様とした。
【0067】
また、比較例として図6の構成のサンプルRをサンプルPと同様に作製した。なお、このサンプルRは、溝5a、導体層5b、内層接地導体8を設けないこと以外はサンプルPと同様とした。
【0068】
そして、線路導体3に1〜40GHzの高周波信号を入力してその反射損失を測定した結果を図8に示す。図8より、サンプルP,QはサンプルRに比べて1〜40GHzの全周波数帯域で反射損失が改善され、1〜40GHz帯域の高周波信号を入出力する場合に反射損失を有効に低減できることがわかった。特に、サンプルQでは10GHz以上の高周波帯域で反射損失を大幅に低減できることが判った。
【0069】
なお、本発明は上記実施の形態および実施例に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更を施すことは何等差し支えない。
【0070】
【発明の効果】
本発明の入出力端子は、上面に一辺から対向する他辺にかけて形成された線路導体およびこの線路導体の両側に等間隔をもって形成された同一面接地導体を有する誘電体から成る四角形状の平板部と、この平板部の上面に線路導体の一部および同一面接地導体の一部を間に挟んで接合され、上面に上部接地導体が形成された誘電体から成る直方体状の立壁部とを具備した入出力端子において、立壁部は、内部に内層接地導体が形成されているとともに、線路導体の線路方向に直交する一対の側面で2つの同一面接地導体に接する部位に、それぞれ内面に導体層が形成された溝が上下面にわたって形成されており、内層接地導体が導体層を介して上部接地導体および同一面接地導体に電気的に接続されていることから、線路導体の線路方向に直交する立壁部の側面で電磁遮蔽効果が得られ、線路導体の線路方向に直交する立壁部の側面の下端が接する線路導体の部分、つまり線路導体のマイクロストリップ線路とストリップ線路との境界部において、この電磁遮蔽効果により、線路導体を伝送する高周波信号が立壁部の内部に放射されても、その放射された高周波信号の成分は2つの導体層と内層接地導体とで囲まれる領域内に閉じ込められることにより損失が有効に抑えられる。その結果、立壁部の幅や厚みを小さくせずに熱歪みに耐え得る大きさの入出力端子としながら、高周波信号を効率よく伝送させることができる。
【0071】
また、導体層および内層接地導体により線路導体に対する接地電位をより強化することができる。その結果、線路導体を伝送する高周波信号の伝送モードがマイクロストリップ線路のモードからストリップ線路のモードに、またはストリップ線路のモードからマイクロストリップ線路のモードに変化しても、高周波信号の反射損失や透過損失をより有効に抑制することができ、高周波信号を極めて効率良く入出力させることができる。
【0072】
本発明の半導体素子収納用パッケージは、上面に半導体素子が載置される載置部を有する基体と、この基体の上面に載置部を囲繞するように取着され、側部に貫通孔または切欠きから成る入出力端子の取付部が形成された枠体と、取付部に嵌着された上記構成の入出力端子とを具備していることにより、線路導体を伝送する高周波信号の伝送効率を良好なものとできるとともに、入出力端子にクラックが発生するのを防止して半導体素子収納用パッケージ内部を気密に保持することができる。その結果、半導体素子を長期にわたり正常かつ安定に作動させることができる信頼性の高い半導体素子収納用パッケージとなる。
【0073】
本発明の半導体素子収納用パッケージは、立壁部の側面に形成された2つの溝の間にわたって側面と上面との間に内層接地導体が露出するように段差が形成されており、この段差の側面に上部接地導体と導体層と内層接地導体とに接続された側部導体層が形成されていることから、側部導体層によって立壁部の側面をより覆うことができ、線路導体に対してより電磁遮蔽効果を向上させることができる。また、側部導体層によって導体層と上部接地導体との導電性が向上し、内層接地導体および導体層の接地電位を半導体素子収納用パッケージのケースグランドとなる枠体に接合される上部接地導体の接地電位に近づけることができ、線路導体に対する接地をより強化することができる。その結果、高周波信号をより効率よく伝送させることができる。
【0074】
また、立壁部の厚さが、溝が形成された端部から中央にかけて段階的に厚くなっていることから、高周波信号が線路導体の露出した部位から立壁部の端部の薄い誘電体で覆われた部位を経て立壁部の中央の厚い誘電体で覆われた部位を伝送することとなり、高周波信号の伝送モードが急激に変化して損失が生じるのを有効に抑制することができる。
【0075】
本発明の半導体装置は、上記構成の半導体素子収納用パッケージと、載置部に載置固定されるとともに入出力端子に電気的に接続された半導体素子と、枠体の上面に取着された蓋体とを具備していることにより、上記本発明の半導体素子収納用パッケージを用いた、高周波信号の伝送性に優れるとともに気密信頼性に優れたものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の入出力端子について実施の形態の例を示す斜視図である。
【図2】図1の入出力端子における溝を示す要部拡大断面図である。
【図3】図1の入出力端子のX−X’線における断面図である。
【図4】本発明の入出力端子について実施の形態の他の例を示す斜視図である。
【図5】本発明の半導体素子収納用パッケージについて実施の形態の例を示す分解斜視図である。
【図6】従来の入出力端子の斜視図である。
【図7】本発明の入出力端子について実施の形態の他の例を示す斜視図である。
【図8】従来の入出力端子と本発明の入出力端子について高周波信号の反射損失を測定した結果のグラフである。
【符号の説明】
1:平板部
3:線路導体
4:同一面接地導体
5:立壁部
5a:溝
5b:導体層
5c:線路導体の線路方向に直交する側面
5d:側部導体層
6:上部接地導体
8:内層接地導体
9:入出力端子
21:基体
22:枠体
23:取付部
25:半導体素子
26:蓋体
【発明の属する技術分野】
本発明は、高周波信号で作動する半導体素子を収納するための半導体素子収納用パッケージの信号入出力部に使用される入出力端子および半導体素子収納用パッケージならびに半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、マイクロ波帯やミリ波帯等の高周波信号を用いる半導体素子を収納するための半導体素子収納用パッケージ(以下、パッケージともいう)には、半導体素子と外部電気回路基板とを電気的に接続するための入出力端子が設けられている。この入出力端子を図6に斜視図で示す。
【0003】
同図において、101はアルミナ(Al2O3)質セラミックス,窒化アルミニウム(AlN)質セラミックス,ムライト(3Al2O3・2SiO2)質セラミックス等の誘電体から成る四角形状の平板部であり、平板部101はその上面に、一辺から対向する他辺にかけて形成され、タングステン(W),モリブデン(Mo)等のメタライズ層から成る線路導体103と、線路導体103の両側に等間隔をもって形成されたW,Mo等のメタライズ層から成る同一面接地導体104とを有する。また、平板部101の下面には、その全面に線路導体103と同様のメタライズ層から成る下部接地導体102を有する。
【0004】
平板部101の上面には、線路導体103の一部を間に挟んで接合されているとともに、上面に上部接地導体106を有するAl2O3質セラミックス,AlN質セラミックス,3Al2O3・2SiO2質セラミックス等の誘電体から成る直方体状の立壁部105が設置されている。これにより、線路導体103は、平板部101と立壁部105とに狭持されていない部位のマイクロストリップ線路と、平板部101と立壁部105とに狭持されている部位のストリップ線路とを有するものとなる。また、平板部101と立壁部105の線路導体103の線路方向に平行な側面には線路導体103と同様のメタライズ層から成る側面接地導体107が形成されている。
【0005】
また、線路導体103の両側には等間隔をもって同一面接地導体104が形成されており、線路導体103を伝送する高周波信号の周波数に応じて、線路導体103と同一面接地導体104との間の間隔を適宜調整することによって、線路導体103を特性インピーダンスに整合させ得る。このように、線路導体103を特性インピーダンスに整合させることによって、線路導体103を伝送する高周波信号の伝送効率を良好なものとできる。
【0006】
このような、平板部101と立壁部105とから構成された入出力端子109は、パッケージに設けられ、パッケージ内外を気密に遮断し、その内部を封止することができる(例えば、下記の特許文献1参照)。
【0007】
この入出力端子109が取着されたパッケージは、その構成部材の1つである金属製の枠体に設けられた切欠きまたは貫通孔から成る取付部に入出力端子109を嵌着したいわゆるメタルウォールタイプや、セラミックス製の枠体に信号の伝送線路としての入出力端子部を一体的に設けたいわゆるセラミックウォールタイプがあり、用途に応じて適宜選択され使用されている。
【0008】
【特許文献1】
特開2002−184888号公報
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の入出力端子109では、線路導体103を伝送する高周波信号の周波数が高周波になるにつれ、線路導体103の線路方向に直交する立壁部103の側面の下端が接する線路導体103の部分、つまり線路導体103のマイクロストリップ線路とストリップ線路との境界部で高周波信号が立壁部105内に放射されて、高周波信号の伝送効率が低下し易くなるという問題があった。特に、線路導体103を伝送する高周波信号が10GHz以上である場合、上記問題点が顕著なものとなっていた。
【0010】
そこで、立壁部105の幅や厚みを小さくして立壁部105内に放射される高周波信号を低減させることが考えられる。しかしながら、入出力端子109は、線路導体103の線路方向に平行な側面および上面が銀(Ag)−銅(Cu)ろう等のろう材を介してパッケージの枠体や枠体の上面に設けられた金属製のシールリングに接合されるため、枠体やシールリングとの熱膨張差により熱歪が発生し易く、幅や厚みを小さくした立壁部105を用いた場合、この熱歪により立壁部105にクラック等の破損が発生する場合があった。その結果、パッケージの内部を気密に封止できなくなり、また破損が平板部101にまで及んだ場合には、線路導体103が断線し半導体素子と外部電気回路基板との間で高周波信号を伝送できなくなるという問題点が発生していた。
【0011】
従って、本発明は上記問題点に鑑み完成されたものであり、その目的は、パッケージに収納された半導体素子に高周波信号を伝送させるための入出力端子において、線路導体で高周波信号の放射、反射等の伝送損失が生ずるのを防止することにより、半導体素子と外部電気回路基板との間における高周波信号の伝送効率を向上させ、また内部の気密信頼性を良好に維持してパッケージ内に収納する半導体素子を長期にわたり正常かつ安定に作動させ得るものとすることにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明の入出力端子は、上面に一辺から対向する他辺にかけて形成された線路導体および該線路導体の両側に等間隔をもって形成された同一面接地導体を有する誘電体から成る四角形状の平板部と、該平板部の上面に前記線路導体の一部および前記同一面接地導体の一部を間に挟んで接合され、上面に上部接地導体が形成された誘電体から成る直方体状の立壁部とを具備した入出力端子において、前記立壁部は、内部に内層接地導体が形成されているとともに、前記線路導体の線路方向に直交する一対の側面で前記2つの同一面接地導体に接する部位に、それぞれ内面に導体層が形成された溝が上下面にわたって形成されており、前記内層接地導体が前記導体層を介して前記上部接地導体および前記同一面接地導体に電気的に接続されていることを特徴とする。
【0013】
本発明の入出力端子は、立壁部が、内部に内層接地導体が形成されているとともに、線路導体の線路方向に直交する一対の側面で2つの同一面接地導体に接する部位に、それぞれ内面に導体層が形成された溝が上下面にわたって形成されており、内層接地導体が導体層を介して上部接地導体および同一面接地導体に電気的に接続されていることから、線路導体の線路方向に直交する立壁部の側面で電磁遮蔽効果(シールド効果)が得られ、線路導体の線路方向に直交する立壁部の側面の下端が接する線路導体の部分、つまり線路導体のマイクロストリップ線路とストリップ線路との境界部において、この電磁遮蔽効果により、線路導体を伝送する高周波信号が立壁部の内部に放射されても、その放射された高周波信号の成分は2つの導体層と内層接地導体とで囲まれる領域内に閉じ込められることにより損失が有効に抑えられる。その結果、立壁部の幅や厚みを小さくせずに熱歪みに耐え得る大きさの入出力端子としながら、高周波信号を効率よく伝送させることができる。
【0014】
また、導体層および内層接地導体により線路導体に対する接地電位をより強化することができる。その結果、線路導体を伝送する高周波信号の伝送モードがマイクロストリップ線路のモードからストリップ線路のモードに、またはストリップ線路のモードからマイクロストリップ線路のモードに変化しても、高周波信号の反射損失や透過損失をより有効に抑制することができ、高周波信号を極めて効率良く入出力させることができる。
【0015】
本発明の半導体素子収納用パッケージにおいて、好ましくは、前記立壁部は、前記側面に形成された2つの前記溝の間にわたって前記側面と上面との間に前記内層接地導体が露出するように段差が形成されており、該段差の側面に前記上部接地導体と前記導体層と前記内層接地導体とに接続された側部導体層が形成されていることを特徴とする。
【0016】
本発明の半導体素子収納用パッケージは、立壁部の側面に形成された2つの溝の間にわたって側面と上面との間に内層接地導体が露出するように段差が形成されており、この段差の側面に上部接地導体と導体層と内層接地導体とに接続された側部導体層が形成されていることから、側部導体層によって立壁部の側面をより覆うことができ、線路導体に対してより電磁遮蔽効果を向上させることができる。また、側部導体層によって導体層と上部接地導体との導電性が向上し、内層接地導体および導体層の接地電位を半導体素子収納用パッケージのケースグランドとなる枠体に接合される上部接地導体の接地電位に近づけることができ、線路導体に対する接地をより強化することができる。その結果、高周波信号をより効率よく伝送させることができる。
【0017】
また、立壁部の厚さが、溝が形成された端部から中央にかけて段階的に厚くなっていることから、高周波信号が線路導体の露出した部位から立壁部の端部の薄い誘電体で覆われた部位を経て立壁部の中央の厚い誘電体で覆われた部位を伝送することとなり、高周波信号の伝送モードが急激に変化して損失が生じるのを有効に抑制することができる。
【0018】
本発明の半導体素子収納用パッケージは、上面に半導体素子が載置される載置部を有する基体と、該基体の上面に前記載置部を囲繞するように取着され、側部に貫通孔または切欠きから成る入出力端子の取付部が形成された枠体と、前記取付部に嵌着された上記構成の入出力端子とを具備していることを特徴とする。
【0019】
本発明の半導体素子収納用パッケージは、上記構成により、線路導体を伝送する高周波信号の伝送効率を良好なものとできるとともに、入出力端子にクラックが発生するのを防止して半導体素子収納用パッケージ内部を気密に保持することができる。その結果、半導体素子を長期にわたり正常かつ安定に作動させることができる信頼性の高い半導体素子収納用パッケージとなる。
【0020】
本発明の半導体装置は、上記構成の半導体素子収納用パッケージと、前記載置部に載置固定されるとともに前記入出力端子に電気的に接続された半導体素子と、前記枠体の上面に取着された蓋体とを具備していることを特徴とする。
【0021】
本発明の半導体装置は、上記構成により、上記本発明の半導体素子収納用パッケージを用いた、高周波信号の伝送性に優れるとともに気密信頼性に優れたものとなる。
【0022】
【発明の実施の形態】
本発明の入出力端子および半導体素子収納用パッケージならびに半導体装置について以下に詳細に説明する。図1は本発明の入出力端子について実施の形態の一例を示す斜視図である。同図において、1は平板部、3は線路導体、4は同一面接地導体、5は立壁部、6は上部接地導体、8は内層接地導体、9は入出力端子である。
【0023】
本発明の入出力端子9は、上面に一辺から対向する他辺にかけて形成された線路導体3およびこの線路導体3の両側に等間隔をもって形成された同一面接地導体4を有する誘電体から成る四角形状の平板部1と、この平板部1の上面に線路導体3の一部および同一面接地導体4の一部を間に挟んで接合され、上面に上部接地導体6が形成された誘電体から成る直方体状の立壁部5とを具備している。
【0024】
平板部1は、Al2O3質セラミックス,AlN質セラミックス,3Al2O3・2SiO2質セラミックス等の誘電体からなる四角形状のものである。
【0025】
線路導体3および同一面接地導体4は、平板部1の上面に形成されたW,Mo等のメタライズ層から成る。また、平板部1の下面にはその全面に線路導体3と同様のメタライズ層から成る下部接地導体2を有する。
【0026】
立壁部5は、Al2O3質セラミックス,AlN質セラミックス,3Al2O3・2SiO2質セラミックス等の誘電体からなる直方体状のものであり、平板部1の上面に、間に線路導体3および同一面接地導体4の一部を挟んで接合されている。
【0027】
また、平板部1の下面および立壁部5の上面にはそれぞれ全面に線路導体3と同様のメタライズ層から成る下部接地導体2および上部接地導体6を有する。さらに、平板部1の側面および立壁部5の側面には線路導体3と同様のメタライズ層から成る側面接地導体7が形成されている。これらの下部接地導体2、上部接地導体6および側面接地導体7と同一面接地導体4とにより、線路導体3に対する接地が強化され、線路導体3の高周波信号の伝送効率に優れたものとなる。
【0028】
さらに、立壁部5は、内部に内層接地導体8が形成されているとともに、線路導体3の線路方向に直交する一対の側面5cで2つの同一面接地導体4に接する部位に、それぞれ内面に導体層5bが形成された溝5aが上下面にわたって形成されており、内層接地導体8が導体層5bを介して上部接地導体6および同一面接地導体4に電気的に接続されている。
【0029】
これにより、立壁部5の側面5cで電磁遮蔽効果が得られ、立壁部5の側面5cの下端が接する線路導体3の部分、つまり線路導体3のマイクロストリップ線路とストリップ線路との境界部において、この電磁遮蔽効果により、線路導体3を伝送する高周波信号が立壁部5の内部に放射されても、その放射された高周波信号の成分は2つの導体層5bと内層接地導体8とで囲まれる領域内に閉じ込められることにより損失が有効に抑えられる。その結果、立壁部5の幅や厚みを小さくせずに熱歪みに耐え得る大きさの入出力端子9としながら、高周波信号を効率よく伝送させることができる。
【0030】
また、導体層5bおよび内層接地導体8により線路導体3に対する接地電位をより強化することができる。その結果、線路導体3を伝送する高周波信号の伝送モードがマイクロストリップ線路のモードからストリップ線路のモードに、またはストリップ線路のモードからマイクロストリップ線路のモードに変化しても、高周波信号の反射損失や透過損失をより有効に抑制することができ、高周波信号を極めて効率良く入出力させることができる。
【0031】
溝5aの拡大断面図を図2に示す。同図に示すように、溝5aの幅XはX=0.3〜1.5mm、深さDはD=0.1〜1mmが良く、この構成により、立壁部5の線路導体3の側面5cの下端が接する部分において、線路導体3のマイクロストリップ線路とストリップ線路との境界部を伝送する高周波信号が立壁部5の内部に放射されても、溝5aの電磁遮蔽効果によってその放射された高周波信号の成分を2つの導体層間に閉じ込めることにより損失が有効に抑えられる。また、立壁部5の側面5cの下端において線路導体3に対する接地電位をより強化でき、線路導体3を伝送する高周波信号の伝送モードがマイクロストリップ線路のモードからストリップ線路のモードに、またはストリップ線路のモードからマイクロストリップ線路のモードに変化しても、高周波信号の反射損失や透過損失が生ずるのをより有効に抑制することができる。
【0032】
X<0.3mmの場合、溝5aの幅が小さすぎて、溝5aを形成するためのセラミックグリーンシートの打ち抜き加工が困難になるとともに、線路導体3に対する接地電位の強化が困難となり、電磁遮蔽効果も低下し易くなる。X>1.5mmの場合、溝5aの幅が大きすぎて立壁部5の角部が欠けやすくなる。また、D<0.1mmの場合、溝5aが浅いため、溝5aを形成するためのセラミックグリーンシートの打ち抜き加工が困難となるとともに、線路導体3に対する接地電位の強化が困難となり、電磁遮蔽効果も低下し易くなる。D>1mmの場合、溝5aが深すぎて、対向する溝5aの間の立壁部5が薄くなり、入出力端子9をパッケージに接合した際に立壁部5にクラック等の破損が生じやすくなる。
【0033】
溝5aの断面形状は、図2のような四角形状や半円状、U字状等の種々の形状とされる。このうち、立壁部5の強度を維持しながら溝5aを深くして電磁遮蔽効果を高くすることができるという観点からU字状のものが好ましい。
【0034】
入出力端子9のX−X’における断面図を図3に示す。同図に示すように、線路導体3と内層接地導体8との距離HはH=0.2〜0.7mmが良く、この構成により、線路導体3のストリップ線路を伝送する高周波信号が立壁部5の上側に放射されるのを有効に抑制できる。また、溝5aに形成された導体層5bと電気的に接続されることにより、ストリップ線路に対する接地電位がより強化され、ストリップ線路を伝送する高周波信号の反射損失や透過損失が生じるのを有効に抑制することができる。
【0035】
H<0.2mmの場合、線路導体3と内層接地導体8との距離が近すぎて、インピーダンスの整合を行うためには、容量成分の低減が必要となって線路導体3を細くしなければならず、線路導体3の形成が困難になるという問題が生じやすい。また、線路導体3と内層接地導体8との間のセラミックグリーンシートを薄くする必要があるため、セラミックグリーンシートを積層して立壁部5を構成する際にセラミックグリーンシートがたわむ等の問題が生じやすくなる。H>0.7mmの場合、線路導体3と内層接地導体8との距離が大きくなるため、十分な電磁遮蔽効果が得られ難くなる。
【0036】
このような入出力端子9は以下のようにして作製される。例えば、Al2O3質セラミックスから成る場合、先ず酸化アルミニウム、酸化珪素(SiO2)、酸化マグネシウム(MgO)および酸化カルシウム(CaO)等の原料粉末に適当な有機バインダー、可塑剤、溶剤等を添加混合して泥漿状と成す。これを従来周知のドクターブレード法やカレンダーロール法等のテープ成形技術により複数のセラミックグリーンシートを得る。
【0037】
次に、このセラミックグリーンシートに、W,Mo等の高融点金属粉末に適当な有機バインダー、可塑剤、溶剤等を添加混合して得た金属ペーストを、スクリーン印刷法等の厚膜形成技術により印刷塗布して、下部接地導体2、線路導体3、同一面接地導体4、上部接地導体6、内層接地導体8となるメタライズ層を所定パターンに形成する。また、立壁部5となるセラミックグリーンシートに金型等によって打ち抜き加工を施すことによって、所望の位置に溝5aを形成し、溝5aの内面に導体層5bとなるW,Mo等の高融点金属粉末に適当な有機バインダー、可塑剤、溶剤等を添加混合して得た金属ペーストを塗布する。
【0038】
その後、セラミックグリーンシートを複数枚積層し、側面接地導体7となるW,Mo等の高融点金属粉末に適当な有機バインダー、可塑剤、溶剤等を添加混合して得た金属ペーストを塗布する。そして、これを還元雰囲気中、約1600℃の温度で焼成することにより製作される。
【0039】
導体層5bの厚さは5〜30μmがよく、5μm未満では、W等のメタライズにより導体層5bを形成するのが困難となって均一な厚みの導体層5bを形成できず、線路導体3に対する接地電位の強化が困難となり、電磁遮蔽効果も低下し易くなる。また、30μmを超えると、導体層5bと立壁部5との間の熱膨張差により立壁部5に加わる応力が大きくなり立壁部5が破損し易くなる。
【0040】
内層接地導体8の厚さは5〜20μmがよく、5μm未満では、W等のメタライズにより内層接地導体8を形成するのが困難となって均一な厚みの内層接地導体8を形成できず、線路導体3に対する接地電位の強化が困難となり、電磁遮蔽効果も低下し易くなる。また、20μmを超えると、内層接地導体8と立壁部5との間の熱膨張差により立壁部5に加わる応力が大きくなり立壁部5が破損し易くなる。
【0041】
本発明の入出力端子9は、図4に示すように、平板部1において、線路導体3の線路方向に直交する一対の側面1cで2つの同一面接地導体4に接する部位に、それぞれ内面に導体層1bが形成された溝1aが上下面にわたって形成されており、導体層1bを介して下部接地導体2と同一面接地導体4とが電気的に接続されていても良い。この場合、溝1aは、平板部1となるセラミックグリーンシートに金型等によって打ち抜き加工を施すことによって所望の位置に形成される。そして、溝1aに導体層1bとなるW,Mo等の高融点金属粉末に適当な有機バインダー、可塑剤、溶剤等を添加混合して得た金属ペーストを塗布し焼成することによって、導体層1bが形成される。
【0042】
溝1aに導体層1bが形成されていることにより、線路導体3に対する接地電位が強化される。その結果、線路導体3を特性インピーダンスにより整合し易くし、半導体素子と電気的に接続するためのボンディングワイヤ等や外部電気回路と電気的に接続するためのリード端子等を線路導体3の端部に接続しても、これらの接続部で高周波信号の反射損失や透過損失が生ずるのを有効に防止でき、線路導体3を伝送する高周波信号の伝送特性をより良好にすることができる。
【0043】
溝1aの断面形状は、溝5aと同様に四角形状や半円状、U字状等の種々の形状とされる。
【0044】
なお立壁部5は、側面に形成された2つの溝5aの間にわたって上部接地導体6と導体層5bとに接続された側部導体層5dが形成されていてもよい。これにより側部導体層5dによって立壁部5の側面をより覆うことができ、線路導体3に対してより電磁遮蔽効果を向上させることができる。また、内層接地導体8および導体層5bの接地電位をパッケージのケースグランドとなる枠体に接合される上部接地導体6の接地電位に近づけることができ、線路導体3に対する接地をより強化することができる。
【0045】
また本発明の入出力端子9は、好ましくは、図7に示すように立壁部5の側面に形成された2つの溝5aの間にわたって側面と上面との間に内層接地導体8が露出するように段差が形成されており、この段差の側面に上部接地導体5dと導体層5bと内層接地導体8とに接続された側部導体層5dが形成されているのがよい。
【0046】
これにより、側部導体層5dによって立壁部5の側面をより覆うことができ、線路導体3に対してより電磁遮蔽効果を向上させることができる。また、側部導体層5dによって導体層5bと上部接地導体6との導電性が向上し、内層接地導体8および導体層5bの接地電位をパッケージのケースグランドとなる枠体に接合される上部接地導体6の接地電位に近づけることができ、線路導体3に対する接地をより強化することができる。その結果、高周波信号をより効率よく伝送させることができる。
【0047】
また、立壁部5の厚さが、溝5aが形成された端部から中央にかけて段階的に厚くなっていることから、高周波信号が線路導体3の露出した部位から立壁部5の端部の薄い誘電体で覆われた部位を経て立壁部5の中央の厚い誘電体で覆われた部位を伝送することとなり、高周波信号の伝送モードが急激に変化して損失が生じるのを有効に抑制することができる。
【0048】
立壁部5に形成した段差は、好ましくは、図7に示すように溝5aと一体になって形成されているのがよい。この構成により、側部導体層5dを導体層5bと同時に形成することができ、入出力端子9を効率よく作製することができる。
【0049】
次に、本発明のパッケージについて図5に基づいて説明する。同図は本発明のパッケージについて実施の形態の一例を示す斜視図であり、21は基体、22は枠体、23は取付部である。
【0050】
本発明のパッケージは、上面に半導体素子25が載置される載置部21aを有する基体21と、この基体21の上面に載置部21aを囲繞するように取着され、側部に貫通孔または切欠きから成る入出力端子9の取付部23が形成された枠体22と、取付部23に嵌着された入出力端子9とを具備している。
【0051】
これにより、線路導体3を伝送する高周波信号の伝送効率を良好なものとできるとともに、入出力端子9にクラックが発生するのを防止してパッケージ内部を気密に保持することができる。その結果、半導体素子25を長期にわたり正常かつ安定に作動させることができる信頼性の高いパッケージとなる。
【0052】
基体21は、上面にIC,LSI,半導体レーザ(LD),フォトダイオード(PD)等の半導体素子25を載置するための載置部21aを有している。図5では載置部21aを凹部とした例を示したが、基体21を平板状としてその上面に載置部21aを形成してもよい。
【0053】
この基体21は、鉄(Fe)−ニッケル(Ni)−コバルト(Co)合金,Cu−W合金等の金属、またはAl2O3質セラミックス,AlN質セラミックス,3Al2O3・2SiO2質セラミックス等の誘電体からなる。基体21が金属からなる場合、そのインゴットに圧延加工や打ち抜き加工等の従来周知の金属加工法を施すことによって所定形状に製作される。一方、基体21がセラミックスから成る場合、その原料粉末に適当な有機バインダや溶剤等を添加混合しペースト状と成し、このペーストをドクターブレード法やカレンダーロール法等によってセラミックグリーンシートと成し、しかる後、セラミックグリーンシートに適当な打ち抜き加工を施し、これを複数枚積層し約1600℃の高温で焼成することによって作製される。
【0054】
なお、基体21が金属からなる場合、その表面に耐蝕性に優れ、かつろう材との濡れ性に優れる金属、具体的には厚さ0.5〜9μmのNi層と厚さ0.5〜5μmの金(Au)層とを順次メッキ法により被着させておくのがよい。これにより、基体21が酸化腐蝕するのを有効に防止できるとともに、基体21上面の載置部21aに半導体素子25を強固に接着固定させることができる。一方、基体21がセラミックスから成る場合、載置部21aに、W,Mo等のメタライズ層を下地層として形成し、この表面に耐蝕性に優れ、かつろう材との濡れ性に優れる金属、具体的には厚さ0.5〜9μmのNi層と厚さ0.5〜5μmのAu層とを順次メッキ法により被着させておくのがよい。これにより、載置部21aに半導体素子25を強固に接着固定することができる。
【0055】
また、枠体22は、基体21上に載置部21aを囲繞するようにAgろう、Ag−Cuろう材等の高融点金属ろう材により接合されており、基体21と同様に誘電体または金属から成る。また、枠体22の側部には、貫通孔または切欠きから成る入出力端子9の取付部23が形成されている。なお、図5に示すように、基体21にも同様の切欠きを設けて入出力端子9の取付部23の一部が形成されていてもよい。
【0056】
取付部23は、枠体22および基体21が誘電体からなる場合、内面にメタライズ層等の導電層が形成されている。この導電層は、基体21および/または枠体22に被着形成された接地導体に接続されて接地されている。
【0057】
取付部23には本発明の入出力端子9がAgろう、Ag−Cuろう材等の高融点金属ろう材により嵌着接合されている。そして、入出力端子9の下部接地導体2、上部接地導体6および側面接地導体7は、枠体22および基体21が誘電体からなる場合、取付部23の内面に形成された導電層に接続されることにより接地され、ケースグランドとなる。あるいは、枠体22および基体21が金属からなる場合、入出力端子9の下部接地導体2、上部接地導体6および側面接地導体7は、金属製の枠体22や基体21に接続されて接地され、ケースグランドとなる。また、入出力端子9の上部接地導体6は、図5に示すように枠体22の上面に取着されるFe−Ni−Co合金等の金属からなるシールリング24に接続されて接地され、ケースグランドとなっていてもよい。
【0058】
このような本発明のパッケージは、上記本発明の入出力端子9を具備していることから、高周波信号の誘電体損失を最小限に抑えて高周波信号の伝送損失を小さくした、良好な伝送特性を有するものとなる。
【0059】
そして、線路導体3を載置部21aに載置される半導体素子25の電極ならびに外部電気回路基板の配線導体にボンディングワイヤ,リボン,リード端子等(図示せず)を介して接続して、半導体素子25と外部電気回路基板とを電気的に接続する。次に、必要に応じて枠体22の上面にシールリング24を鉛(Pb)−錫(Sn)半田やAu−Sn半田等の低融点金属ろう材やAg−Cuろう材等の高融点金属ろう材等により取着し、シールリング24の上面にFe−Ni−Co合金等から成る蓋体26を半田付けやシームウエルド法等の溶接により取着することにより、半導体素子25がパッケージ内部に収納された製品としての半導体装置となる。
【0060】
また、図5の実施の形態では枠体22の対向する側部に入出力端子9を2つ設けているが、必要に応じて他の側部に設けてもよく、または1つの側部に複数の入出力端子9を取り付けてもよく、この場合取付部23を1つの側部に複数設けて入出力端子9を並列的に複数取り付ければよい。
【0061】
このような本発明の半導体装置は、上記本発明の入出力端子9を具備していることから、高周波信号の誘電体損失を最小限に抑えて高周波信号の伝送損失を小さくし、伝送効率を良好に保持することができる。
【0062】
【実施例】
本発明の入出力端子9の実施例を以下に説明する。
【0063】
図1の入出力端子9を以下のように構成した。先ず、焼成後の比誘電率が9.5となるAl2O3質セラミックグリーンシートに打ち抜き加工を施し、Wペーストを印刷塗布することにより下部接地導体2、線路導体3、同一面接地導体4、導体層5b、上部接地導体6、側面接地導体7、内層接地導体8となるメタライズ層を形成するためのWペースト層を形成した。
【0064】
そして、これらを積層し、還元雰囲気中で約1600℃の温度で焼成することにより、縦1.2mm×横3.7mm×高さ1.24mmの直方体の立壁部5と縦3.2mm×横3.7mm×高さ0.76mmの直方体の平板部1とを有した入出力端子9を作製した。
【0065】
なお、平板部1の上面の中央部には縦方向に一辺から他辺にかけて幅が0.5mmの線路導体3が形成され、そして線路導体3の両側に0.35mm離して線路導体3と平行な幅が1.25mmの同一面接地導体4が形成され、立壁部5の両側面には線路導体3の両側の0.6mm離れた位置に上側から下側にかけて幅0.4mm×深さ0.2mmの溝5aが4箇所形成され、かつ平板部1上面(立壁部5下側)から1mm上側の位置に内層接地導体8が設けられたサンプルを作製した。これをサンプルPとした。
【0066】
また、図7の構成のサンプルQをサンプルPと同様に作製した。なお、このサンプルQでは、内層接地導体8より上側の立壁部5に、立壁部5の側面に形成された2つの溝5aの間にわたって側面と上面との間に内層接地導体8が露出するように深さ0.2mmの段差が形成されており、この段差の側面に上部接地導体6,導体層5bおよび内層接地導体8に接続された側部導体層5dが形成されている。この側部導体層5dを設けること以外はサンプルPと同様とした。
【0067】
また、比較例として図6の構成のサンプルRをサンプルPと同様に作製した。なお、このサンプルRは、溝5a、導体層5b、内層接地導体8を設けないこと以外はサンプルPと同様とした。
【0068】
そして、線路導体3に1〜40GHzの高周波信号を入力してその反射損失を測定した結果を図8に示す。図8より、サンプルP,QはサンプルRに比べて1〜40GHzの全周波数帯域で反射損失が改善され、1〜40GHz帯域の高周波信号を入出力する場合に反射損失を有効に低減できることがわかった。特に、サンプルQでは10GHz以上の高周波帯域で反射損失を大幅に低減できることが判った。
【0069】
なお、本発明は上記実施の形態および実施例に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更を施すことは何等差し支えない。
【0070】
【発明の効果】
本発明の入出力端子は、上面に一辺から対向する他辺にかけて形成された線路導体およびこの線路導体の両側に等間隔をもって形成された同一面接地導体を有する誘電体から成る四角形状の平板部と、この平板部の上面に線路導体の一部および同一面接地導体の一部を間に挟んで接合され、上面に上部接地導体が形成された誘電体から成る直方体状の立壁部とを具備した入出力端子において、立壁部は、内部に内層接地導体が形成されているとともに、線路導体の線路方向に直交する一対の側面で2つの同一面接地導体に接する部位に、それぞれ内面に導体層が形成された溝が上下面にわたって形成されており、内層接地導体が導体層を介して上部接地導体および同一面接地導体に電気的に接続されていることから、線路導体の線路方向に直交する立壁部の側面で電磁遮蔽効果が得られ、線路導体の線路方向に直交する立壁部の側面の下端が接する線路導体の部分、つまり線路導体のマイクロストリップ線路とストリップ線路との境界部において、この電磁遮蔽効果により、線路導体を伝送する高周波信号が立壁部の内部に放射されても、その放射された高周波信号の成分は2つの導体層と内層接地導体とで囲まれる領域内に閉じ込められることにより損失が有効に抑えられる。その結果、立壁部の幅や厚みを小さくせずに熱歪みに耐え得る大きさの入出力端子としながら、高周波信号を効率よく伝送させることができる。
【0071】
また、導体層および内層接地導体により線路導体に対する接地電位をより強化することができる。その結果、線路導体を伝送する高周波信号の伝送モードがマイクロストリップ線路のモードからストリップ線路のモードに、またはストリップ線路のモードからマイクロストリップ線路のモードに変化しても、高周波信号の反射損失や透過損失をより有効に抑制することができ、高周波信号を極めて効率良く入出力させることができる。
【0072】
本発明の半導体素子収納用パッケージは、上面に半導体素子が載置される載置部を有する基体と、この基体の上面に載置部を囲繞するように取着され、側部に貫通孔または切欠きから成る入出力端子の取付部が形成された枠体と、取付部に嵌着された上記構成の入出力端子とを具備していることにより、線路導体を伝送する高周波信号の伝送効率を良好なものとできるとともに、入出力端子にクラックが発生するのを防止して半導体素子収納用パッケージ内部を気密に保持することができる。その結果、半導体素子を長期にわたり正常かつ安定に作動させることができる信頼性の高い半導体素子収納用パッケージとなる。
【0073】
本発明の半導体素子収納用パッケージは、立壁部の側面に形成された2つの溝の間にわたって側面と上面との間に内層接地導体が露出するように段差が形成されており、この段差の側面に上部接地導体と導体層と内層接地導体とに接続された側部導体層が形成されていることから、側部導体層によって立壁部の側面をより覆うことができ、線路導体に対してより電磁遮蔽効果を向上させることができる。また、側部導体層によって導体層と上部接地導体との導電性が向上し、内層接地導体および導体層の接地電位を半導体素子収納用パッケージのケースグランドとなる枠体に接合される上部接地導体の接地電位に近づけることができ、線路導体に対する接地をより強化することができる。その結果、高周波信号をより効率よく伝送させることができる。
【0074】
また、立壁部の厚さが、溝が形成された端部から中央にかけて段階的に厚くなっていることから、高周波信号が線路導体の露出した部位から立壁部の端部の薄い誘電体で覆われた部位を経て立壁部の中央の厚い誘電体で覆われた部位を伝送することとなり、高周波信号の伝送モードが急激に変化して損失が生じるのを有効に抑制することができる。
【0075】
本発明の半導体装置は、上記構成の半導体素子収納用パッケージと、載置部に載置固定されるとともに入出力端子に電気的に接続された半導体素子と、枠体の上面に取着された蓋体とを具備していることにより、上記本発明の半導体素子収納用パッケージを用いた、高周波信号の伝送性に優れるとともに気密信頼性に優れたものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の入出力端子について実施の形態の例を示す斜視図である。
【図2】図1の入出力端子における溝を示す要部拡大断面図である。
【図3】図1の入出力端子のX−X’線における断面図である。
【図4】本発明の入出力端子について実施の形態の他の例を示す斜視図である。
【図5】本発明の半導体素子収納用パッケージについて実施の形態の例を示す分解斜視図である。
【図6】従来の入出力端子の斜視図である。
【図7】本発明の入出力端子について実施の形態の他の例を示す斜視図である。
【図8】従来の入出力端子と本発明の入出力端子について高周波信号の反射損失を測定した結果のグラフである。
【符号の説明】
1:平板部
3:線路導体
4:同一面接地導体
5:立壁部
5a:溝
5b:導体層
5c:線路導体の線路方向に直交する側面
5d:側部導体層
6:上部接地導体
8:内層接地導体
9:入出力端子
21:基体
22:枠体
23:取付部
25:半導体素子
26:蓋体
Claims (4)
- 上面に一辺から対向する他辺にかけて形成された線路導体および該線路導体の両側に等間隔をもって形成された同一面接地導体を有する誘電体から成る四角形状の平板部と、該平板部の上面に前記線路導体の一部および前記同一面接地導体の一部を間に挟んで接合され、上面に上部接地導体が形成された誘電体から成る直方体状の立壁部とを具備した入出力端子において、前記立壁部は、内部に内層接地導体が形成されているとともに、前記線路導体の線路方向に直交する一対の側面で前記2つの同一面接地導体に接する部位に、それぞれ内面に導体層が形成された溝が上下面にわたって形成されており、前記内層接地導体が前記導体層を介して前記上部接地導体および前記同一面接地導体に電気的に接続されていることを特徴とする入出力端子。
- 前記立壁部は、前記側面に形成された2つの前記溝の間にわたって前記側面と上面との間に前記内層接地導体が露出するように段差が形成されており、該段差の側面に前記上部接地導体と前記導体層と前記内層接地導体とに接続された側部導体層が形成されていることを特徴とする請求項1記載の入出力端子。
- 上面に半導体素子が載置される載置部を有する基体と、該基体の上面に前記載置部を囲繞するように取着され、側部に貫通孔または切欠きから成る入出力端子の取付部が形成された枠体と、前記取付部に嵌着された請求項1または請求項2記載の入出力端子とを具備していることを特徴とする半導体素子収納用パッケージ。
- 請求項3記載の半導体素子収納用パッケージと、前記載置部に載置固定されるとともに前記入出力端子に電気的に接続された半導体素子と、前記枠体の上面に取着された蓋体とを具備していることを特徴とする半導体装置。
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