JP2004250453A - ジイソシアネートの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】式(I)のジイソシアネートを、式(II)の相応の蒸気質のジアミンを、場合により不活性ガス又は不活性溶剤の蒸気で希釈された蒸気質のジアミン及びホスゲンを200℃〜600℃の温度で別個に加熱し、管型反応器中で混合及び反応させてホスゲン化することによって製造するための方法において、管型反応器中に配置された管型反応器の軸に平行に並ぶn≧2の数のノズルを有し、その際、ジアミン含有流をn個のノズルを介して管型反応器中に供給し、かつホスゲン流を残りの自由空間を介して反応器中に供給する方法によって解決される。
【選択図】なし
Description
a)出発材料の反応が実質的に自発的であり(高い反応速度)、
b)1種以上の出発材料が比較的高い反応速度で生成物と反応して、不所望の二量体又はオリゴマーの副生成物が得られ、かつ/又は
c)二量体乃至オリゴマーの副生成物が出発材料又は所望の生成物よりもかなり高い沸点を有し、反応温度で反応器中において凝縮し、かつ反応器壁に堆積物(例えば分解生成物、ポリマー性副生成物)を形成する
場合に決定的である。
OCN−R−NCO (I)
[式中、Rは15個以下の炭素原子を有する(脂環式)脂肪族又は芳香族の炭化水素基を表すが、但し、少なくとも2個の炭素原子は2つのNCO基の間に配置される]のジイソシアネートを、式(II)
H2N−R′−NH2 (II)
[式中、R′は15個以下、有利には4〜13個の炭素原子を有する(脂環式)脂肪族又は芳香族の炭化水素基を表すが、但し、少なくとも2個の炭素原子は2つのアミノ基の間に配置される]の相応の蒸気質のジアミンを、場合により不活性ガス又は不活性溶剤の蒸気で希釈された蒸気質のジアミン及びホスゲンを200℃〜600℃の温度で別個に加熱し、管型反応器中で混合及び反応させてホスゲン化することによって製造するための方法において、管型反応器中に配置された管型反応器の軸に平行に並ぶn≧2の数のノズルを有し、その際、ジアミン含有流をn個のノズルを介して管型反応器中に供給し、かつホスゲン流を残りの自由空間を介して反応器中に供給する方法を提供している。
引き続いてイソシアネート凝縮段階、また後続のイソシアネート後処理(先行技術による)を伴う図1による組み合わされた混合及び反応管2において、2,4−/2,6−トルイレンジアミン(TDA80/20)の異性体混合物、ホスゲン及び窒素をモル比1:6:0.2で反応管2中に突出した中央に配置された単一ノズル3を介して連続的に流した。出発材料を互いに別個に純粋形で蒸発させ、かつ予備熱交換器段階において340〜370℃の温度に過熱した。窒素及びTDA(E1)の混合物を単一ノズル3を介して流し、ホスゲン(E2)を管型反応器2及び単一ノズル3の間の環状空間4中に流した。反応室の断面積と単一ノズルの断面積との比は192:1であった。該反応領域における圧力は1.5バールであった。反応室8中の単一ノズル3の後の反応混合物の流速は約1.6m/秒であった。気相中の約2.5秒の滞留時間の後に、反応生成物2,4−/2,6−トルエンジイソシアネート(TDI80/20)を反応管2の末端で噴射冷却によって凝縮させ、次いで脱ホスゲン化のために使用し、かつホスゲン含有の粗製TDI(凝縮物)の蒸留による分離又は副生成物の塩化水素(蒸気)の精製によって後処理した。TDIの収率はホスゲン含有の粗製TDIの試料で試験の間の種々の時点で測定し、引き続きポリマーの副生成物の蒸留及び定量的測定、及び研究所での蒸留物のTDI含量のガスクロマトグラフィー測定を行った。TDI収率は使用されるTDAに対して最大で理論値の98.3%であった。選択された配置は非常に均一な作業を実現する。制御された反応の終結及び96時間の作業後の汚染についての反応器の確認の後に、不均一に分布した汚染領域が上方の反応領域に確認された。かかる汚染領域は、長期間の連続作業の間に流れに工業的に悪影響を及ぼし、かつますます反応管2の壁上に堆積物をもたらす。
引き続いてのイソシアネート凝縮段階、また後続のイソシアネート後処理を伴う図2による組み合わされた混合及び反応管2中で、2,4−/2,6−トルエンジアミンの異性体混合物(TDA80/20)、ホスゲン及び窒素を1:6:0.2のモル比で、環状に配置された、反応管2中に突出した6個の個々の反応ノズル5を有する多重ノズルを介して連続的に流した。出発材料を互いに別個に純粋形で蒸発させ、かつ予備熱交換器段階において340〜370℃の温度に過熱した。窒素及びTDA(E1)の混合物を環状に配置された6個の単独ノズル5を介して流し、ホスゲン(E2)を単独ノズル5の周りの残りの自由空間6中に流動させた。反応室8の断面積と6個の単独ノズル5の全面積との比は(例1と同様に)192:1であった。該反応領域における圧力は1.5バールであった。多重ノズルの後の反応混合物の流速は約1.6m/秒であった。気相中での約2.5秒の滞留時間の後、反応生成物2,4−/2,6−トルイレンジイソシアネート(TDI80/20)を反応管2の末端で噴射冷却によって凝縮し、次いで脱ホスゲン化のために使用し、かつホスゲン含有の粗製TDI(凝縮物)の蒸留並びに副生成物の塩化水素(蒸気)の精製によって後処理した。TDIの収率を試験の間の種々の時間でホスゲン含有の粗製TDIの試料で測定し、引き続きポリマーの副生成物の蒸留による分離及び定量的測定、及び研究所での蒸留物のTDI含量のガスクロマトグラフィー測定を行った。TDI収率は使用されるTDAに対して最大で理論値の98.4%であった。選択された配置は非常に均一な作業を実現する。制御された反応の終結及び114時間の作業後の汚染に関する反応器の確認の後に、僅かに均一に分布した汚染領域が上方の反応領域に検出され、それはより長期間の連続的作業の間に流れに関するいかなる欠点も呈さない。
Claims (1)
- 式(I)
OCN−R−NCO (I)
[式中、Rは15個以下の炭素原子を有する(脂環式)脂肪族又は芳香族の炭化水素基を表すが、但し、少なくとも2個の炭素原子は2つのNCO基の間に配置される]のジイソシアネートを、式(II)
H2N−R′−NH2 (II)
[式中、R′は15個以下の炭素原子を有する(脂環式)脂肪族又は芳香族の炭化水素基を表すが、但し、少なくとも2個の炭素原子は2つのアミノ基の間に配置される]の相応の蒸気質のジアミンを、場合により不活性ガス又は不活性溶剤の蒸気で希釈された蒸気質のジアミン及びホスゲンを約200℃〜約600℃の温度に別個に加熱し、管型反応器中に配置された管型反応器の軸に平行に並ぶn≧2の数のノズルを有する管型反応器中で混合及び反応させ、その際、ジアミン含有流をn個のノズルを介して管型反応器中に供給し、かつホスゲン流を残りの自由空間を介して管型反応器中に供給することでホスゲン化することによって製造する、ジイソシアネートの製造方法。
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