JP2004178891A - Manufacturing method of electron emitting type light emitting device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子放出型発光素子の製造方法に係る発明であって、特に、カソード電極又は抵抗層上に形成される電子放出源を備える、電子放出型発光素子の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、フラットパネル型表示装置の研究が活発になり、多種多様な表示装置が開発されている。その中で、平面状に配置された電界放出型冷陰極(コールドカソードともいう)を電子放出源とし、蛍光体を発光させる原理の電子放出型発光素子(FED(Field Emission Display))が注目されている。それは、高輝度、高コントラスト、広視野角及び低消費電力などの面で優れた次世代フラットパネル型表示装置として期待されているためである。特に、カーボンナノチューブ(以下、CNTともいう)を電界放出型冷陰極の電子放出源として利用することにより、複雑なプロセスを経ることなく印刷処理により電子放出源を製造することが可能となる。そのため、製造コストが安価なフラットパネル型表示装置として期待されている。
【0003】
このCNTは、アーク放電やCVD(Chemical Vapor Deposition)により生成され、その形状は外径が10〜数10nm、長さが数μmのチューブ形状である。そのため、チューブ形状の先端に電界が集中しやすく、電子が放出しやすい特性を有している。電子放出型発光素子(FED)では、このCNTを含むカーボン物質をエチルセルロースなどの樹脂とテルピネオールやブチルカルビトールなどを含む溶剤に混合してペーストを作製し、このペーストをカソード電極上に印刷し、焼成することにより電子放出源として利用している。
【0004】
特許文献1では、CNTを電子放出源とした電子放出型発光素子(FED)の代表的な構造が示されている。この特許文献1で示されている構造は、前面ガラスと背面ガラスとの間にスペーサを配置し、低融点ガラスで接合して外囲器を構成している。なお、外囲器内を真空に引くため外囲器には、チップガラス管が設けられ、真空排気後にチップガラス管を溶かして閉塞している。また、外囲器内の真空度を保つためにゲッタが外囲器内に設けられることが多い。前面ガラス上には、アノード電極となるアルミパック膜でコートされた蛍光体層が設けられている。また、背面ガラス上にはカソード電極が形成され、その上にCNTの電子放出源が設けられている。さらに、アノード電極とカソード電極との間には金属板にメッシュ状の穴が開いた構造のゲート電極が設けられている。
【0005】
このような構造にすることで、アノード電極に高電圧を印加し、ゲート電極がカソード電極に対して正電位となるように適当な電圧を印加したとき、CNTの先端から電子が放出される。放出された電子は、ゲート電極のメッシュ状の穴を通過し、高電圧のアノード電極に加速されて蛍光体層に衝突する。電子が蛍光体層に衝突することによって、蛍光体層が発光し電子放出型発光素子(FED)の表示が行われる。なお、ゲート電極がない場合でも、アノード電極により高い電圧を印加することで、カソード電極から電子を放出させることは可能である。
【0006】
次に、電子放出源であるCNTは、一般的にカーボン不純物と共存した形で生成される。そのため、電子放出源として利用するためには、CNTを粉砕やフィルターパスなどの粒子形の調整、高温度による精製処理が必要となる。また、精製されたCNTは、エチルセルロースなどの樹脂とテルピネオールやブチルカルビトールなどを含む溶剤に混合してペーストを生成し、カソード電極に印刷される。その後、焼成することにより溶剤などが蒸発して、CNTはカソード電極に結合される。この結合は、無秩序に並んだCNTとカソード電極との分子間力による維持されいる。
【0007】
【特許文献1】
特開2002−216679号公報(第3−4頁、第1−5図)
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
以上のような方法で電子放出源を作製すると、CNTを含むカーボン物質は、分子間力によりカソード電極と結合している。そのため、CNTを含むカーボン物質は、機械的接触により弱く、容易にカソード電極から剥がれてしまう問題があった。また、電子放出型発光素子(FED)を駆動させゲート電極に電圧を印加させると、CNTとゲート電極間に静電力が生じ、CNTを含むカーボン物質がカソード電極から剥がれる問題もあった。このように、カソード電極から剥離したCNTを含むカーボン物質は、ゲート電極に引きつけられ、カソード−ゲート間ショートを生じさせたり、ゲート電極に付着して不要な電子を放出させたりする不具合を生じさせていた。
【0009】
そのため、従来の電子放出型発光素子(FED)では、CNTの剥離を防止するためにゲート電極にあまり高い電圧を印加しなかったり、カソード−ゲート間を長く設定したりして対処していた。これにより、従来の電子放出型発光素子(FED)では、電界強度が制約され、十分な電子放出量を安定的に得ることができなかった。
【0010】
そこで、本発明は、CNTを含むカーボン物質の剥がれによるカソード−ゲート間ショートや不要箇所からの電子放出を生じさせず、低電圧駆動で十分な電子放出量を安定的に得ることができる、電子放出源を有する電子放出型発光素子の製造方法を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る解決手段は、カソード電極を備え、カソード電極上に電子放出材料が配設された電子放出型発光素子の製造方法であって、絶縁基板上に導電材料を被着し、カソード電極を形成する工程と、カソード電極上に低融点ガラスと電子放出材料とを含むペースト状の混合物を印刷する工程と、絶縁基板を焼成し、低融点ガラスを溶融させて電子放出材料をカソード電極に結合させる工程と、外力を加えることにより、カソード電極に結合している低融点ガラス及び電子放出材料のうち結合力の弱い部分をカソード電極から取り除く除去工程とを備えている。
【0012】
また、本発明に係る解決手段は、カソード電極を備え、カソード電極上に電子放出材料が配設された電子放出型発光素子の製造方法であって、絶縁基板上に導電材料と低融点ガラスとの混合物を印刷し、カソード電極を形成する工程と、カソード電極上に電子放出材料を含むペースト状の物質を印刷する工程と、絶縁基板を焼成し、低融点ガラスを溶融させて電子放出材料をカソード電極に結合させる工程と、外力を加えることにより、カソード電極に結合している低融点ガラス及び電子放出材料のうち結合力の弱い部分をカソード電極から取り除く除去工程とを備えている。
【0013】
また、本発明に係る解決手段は、カソード電極を備え、カソード電極上に電子放出材料が配設された電子放出型発光素子の製造方法であって、絶縁基板上に導電材料を被着し、カソード電極を形成する工程と、カソード電極上に電子放出材料を含むペースト状の物質を印刷する工程と、電子放出材料上に低融点ガラスを含むペースト状のガラス物質を印刷する工程と、絶縁基板を焼成し、低融点ガラスを溶融させて電子放出材料をカソード電極に結合させる工程と、外力を加えることにより、カソード電極に結合している低融点ガラス及び電子放出材料のうち結合力の弱い部分をカソード電極から取り除く除去工程とを備えている。
【0014】
さらに、本発明に係る別の解決手段は、カソード電極を備え、カソード電極上に電子放出材料が配設された電子放出型発光素子の製造方法であって、絶縁基板上に導電材料を被着し、カソード電極を形成する工程と、カソード電極上に抵抗材料を被着し、抵抗層を形成する工程と、抵抗層上に低融点ガラスと電子放出材料とを含むペースト状の混合物を印刷する工程と、絶縁基板を焼成し、低融点ガラスを溶融させて電子放出材料を抵抗層に結合させる工程と、外力を加えることにより、抵抗層に結合している低融点ガラス及び電子放出材料のうち結合力の弱い部分を抵抗層から取り除く除去工程とを備えている。
【0015】
また、本発明に係る別の解決手段は、カソード電極を備え、カソード電極上に電子放出材料が配設された電子放出型発光素子の製造方法であって、絶縁基板上に導電材料を被着し、カソード電極を形成する工程と、カソード電極上に抵抗材料と低融点ガラスとの混合物を印刷し、抵抗層を形成する工程と、抵抗層上に電子放出材料を含むペースト状の電子放出材料を印刷する工程と、絶縁基板を焼成し、低融点ガラスを溶融させて電子放出材料を抵抗層に結合させる工程と、外力を加えることにより、抵抗層に結合している低融点ガラス及び電子放出材料のうち結合力の弱い部分を抵抗層から取り除く除去工程とを備えている。
【0016】
また、本発明に係る別の解決手段は、カソード電極を備え、カソード電極上に電子放出材料が配設された電子放出型発光素子の製造方法であって、絶縁基板上に導電材料を被着し、カソード電極を形成する工程と、カソード電極上に抵抗材料を被着し、抵抗層を形成する工程と、抵抗層上に電子放出材料を含むペースト状の電子放出材料を印刷する工程と、電子放出材料上に低融点ガラスを含むペースト状のガラス物質を印刷する工程と、絶縁基板を焼成し、低融点ガラスを溶融させて電子放出材料を抵抗層に結合させる工程と、外力を加えることにより、抵抗層に結合している低融点ガラス及び電子放出材料のうち結合力の弱い部分を抵抗層から取り除く除去工程とを備えている。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、本発明をその実施の形態を示す図面に基づいて具体的に説明する。
【0018】
(実施の形態1)
図1に、本実施の形態に係る電子放出型発光素子の断面図を示す。前面ガラス基板101と背面ガラス基板102とは、スペーサガラス103を挟んで対向配置され外囲器を形成している。外囲器内は真空に排気する必要があるため、背面ガラス102にチップガラス管104が取り付けられている。このチップガラス管104は、外囲器内を真空に排気した後に閉塞するが、閉塞後の真空度を維持するためにチップガラス管104内にはゲッタ105が設けられている。
【0019】
前面ガラス基板101上(背面ガラス基板102に対向する面)には、アノード電極となる、アルミパック膜122でコートされた蛍光体層121が設けられている。このアノード電極に電圧を供給するためのアノード引き出し配線111は、前面ガラス基板101とスペーサガラス103との間を通って外部に配線されている。
【0020】
一方、背面ガラス基板102上(前面ガラス基板101に対向する面)には、カソード電極131が形成され、その上に電子放出材料であるCNTを含むカーボン物質201が低融点ガラス粒子221により固着されている。このカソード電極131に電圧を供給するため、カソード引き出し配線113は、背面ガラス基板102とスペーサガラス103との間を通って外部に配線されている。
【0021】
電子放出源であるカーボン物質201から電子を引き出すため、カーボン物質201及び低融点ガラス粒子221の上に、ゲート電極302が設けられている。このゲート電極302は、1枚の金属板で形成され、カーボン物質201から放出された電子がアノード電極側に通過できるように、メッシュ状に成形されている。また、ゲート電極302は、背面ガラス基板102に設けられたゲート電極支持部(リブ)301に支持され、低融点ガラス106で固着されている。このゲート電極302に電圧を供給するため、ゲート引き出し配線112は、背面ガラス基板102とスペーサガラス103との間を通って外部に配線されている。
【0022】
以上のように構成された電子放出型発光素子において、本実施の形態では、電子放出源の製造方法に特徴があるため、以下では、その製造方法について説明する。図2に、本実施の形態に係る背面ガラス基板102の断面図を示す。まず、背面ガラス基板102上(図2の上方向が、前面ガラス基板101に対向する面である。)に、導電材料であるITO(Indium Tin Oxide)を蒸着又はITOを含むペーストをスクリーン印刷して、カソード電極131を形成する。
【0023】
ここで、カソード電極131の導電材料としては、一般的に銀ペーストが使用される場合が多い。この銀ペーストの場合、背面ガラス基板102上にスクリーン印刷して、120℃〜150℃で乾燥、焼成することによりカソード電極131を形成する。しかし、銀ペーストを用いると、その上に形成されるCNTを焼失させる傾向があり、電子放出源の電子放出能力を低下させてしまう。そのため、本実施の形態では、CNTを焼失させ難いITOをカソード電極131の導電材料として利用する。
【0024】
次に、CNT211を含むカーボン物質201と低融点ガラス粒子221とを均一に混合し、樹脂と溶剤でペースト状にし、そのペーストをカソード電極131上にスクリーン印刷する。その後、カーボン物質201と低融点ガラス粒子221とを含むペーストを乾燥させる。ここで、カーボン物質201は、100%CNT211であれば望ましいが、現実的には100%のCNT211を生成することは困難であり、カーボン不純物212を含んでいる。また、混合する樹脂は、例えばエチルセルロースなどあり、混合する溶剤は、例えばテルピネオールやブチルカルビトールなどがある。
【0025】
低融点ガラス粒子221には、ビスマス系、亜鉛系、鉛系の材料があり、粒子径は数μmから数十μm程度のものが使用される。この低融点ガラス粒子221の粒子径は、電子放出源となるカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221の膜厚と関係があり、粒子径が大きくなると膜厚も大きくなる。図3に、本実施の形態に係るカーボン物質201と低融点ガラス粒子221とを含むペーストを乾燥させた後のカソード電極の断面図を示す。
【0026】
次に、乾燥後の背面ガラス基板102を焼成し、低融点ガラス粒子221を溶融させて、カーボン物質201とカソード電極131とを固着させる。ここで、カーボン物質201に含まれるCNT211は、焼成時に低融点ガラス粒子221との関係で焼失することがある。これは、低融点ガラス粒子221によってCNT211の焼失が促進されると考えられる。特に、ビスマス系や亜鉛系の低融点ガラス粒子221に比べて、鉛系の低融点ガラス粒子221はCNT211をより高い割合で焼失させる傾向がある。そのため、低融点ガラス粒子221に鉛系を使用する場合は、CNT211の焼失を少しでも減らすために、軟化点と同程度の焼成温度で、できるだけ短時間に焼成を行うことが必要である。
【0027】
図4に、本実施の形態に係る焼成後のカソード電極の断面図を示す。図4では、低融点ガラス粒子221にカーボン物質201が取り込まれて、カソード電極131に固着している様子が示されている。図中の点線で囲った部分は、カーボン物質201を取り込んでいるが、カソード電極131に十分固着していない低融点ガラス粒子221を示している。このような低融点ガラス粒子221は、カソード電極131と分子間力のみで結合しているため、容易にカソード電極131から剥がれてしまう。カソード電極131から剥離したカーボン物質201は、ゲート電極302に引きつけられ、カソード−ゲート間ショートを生じさせたり、ゲート電極302に付着して不要な電子を放出させたりする。
【0028】
次に、外力を加えることにより、カソード電極131上に結合しているカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221のうち結合力の弱い部分を除去する除去工程を行う。カソード電極131上に機械的な外力を加える方法としては、塵を発生させない防塵布501をカソード電極131上に押し当てて複数回拭き取る方法がある。これにより、カソード電極131と分子間力のみで結合しているような、結合力の弱いカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221の部分を、除去することができる。
【0029】
図5に、本実施の形態に係るカソード電極上の除去工程の概念図を示す。ここで、防塵布501は、例えばセルロース100%の材質を使用する。防塵布501をカソード電極131上に押し当てる圧力は、最大で数百グラム/平方cm程度に制限される。これは、機械的強度を有するCNT211であっても、防塵布501を押し当てる圧力が大きくなりすぎると、CNT211が潰されるためである。また、カソード電極131に十分固着しているカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221のみを残して、カーボン物質201及び低融点ガラス粒子221を除去するためには、他の条件によって異なるが数十回以上の拭き取り動作が必要となる。
【0030】
防塵布501により拭き取ったカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221は、カソード電極131に再付着する可能性がある。そのため、拭き取られたカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221は、エアブロー等によって吹き飛ばす。これにより、カソード電極131上にカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221が安定的に固着した電子放出型発光素子が形成される。図6に、本実施の形態に係る除去工程後のカソード電極の断面図を示す。図6に示すように、カーボン物質201を取り込んだ低融点ガラス粒子221が、島のようにカソード電極131上に固着している。このような低融点ガラス粒子221の島が、カソード電極131上に均一に形成されることにより、均一な電子放出源が形成される。
【0031】
また、カーボン物質201及び低融点ガラス粒子221が機械的に除去される除去工程により、カソード電極131上に十分固着しているカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221の表面も機械的に研磨されることになる。そのため、低融点ガラス粒子221内に取り込まれ先端が露出していないCNT211であっても、除去工程の機械的な研磨によりCNT211の先端が露出する。また、CNT211などに付着している焼成工程後の残留樹脂成分も、除去工程の機械的な研磨によって除去されることになる。これにより、電子放出源であるCNT211の電子放出特性が改善され、低電圧駆動で十分な電子放出量を得ることができる。
【0032】
以上の製造工程により、CNT211を含むカーボン物質201は剥がれ難くなり、カソード−ゲート間ショートや不要箇所からの電子放出しない電子放出源を有する電子放出型発光素子を製造することができる。また、低電圧駆動で十分な電子放出量を安定的に得ることができる電子放出源を有する電子放出型発光素子を製造することができる。さらに、十分固着しているカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221のみをカソード電極131上に残すため、電子放出源の膜厚を大幅に薄くことができる。よって、カソード−ゲート間の距離を短くすることができ、背面ガラス基板102上に形成したリブで、ゲート電極302を支持する構造の場合は、リブの高さを低くでき、リブの印刷回数を減らすことができる。
【0033】
(実施の形態2)
本実施の形態は、実施の形態1において説明した電子放出型発光素子と同じ構造を有している。そのため、本実施の形態における電子放出型発光素子の構造については、説明を省略する。図7に、本実施の形態に係るカーボン物質201を印刷、乾燥させた後のカソード電極の断面図を、図8に、本実施の形態に係る除去工程後のカソード電極の断面図を示す。以下に、図7及び図8を参照しつつ、本実施の形態に係る製造方法について説明する。まず、背面ガラス基板102上に、導電材料であるITOを含むペーストに、低融点ガラス粒子221を均一に混合してスクリーン印刷する。その後、背面ガラス基板102を乾燥して、カソード電極131を形成する。ここで、CNT211を焼失させ易い点に注意すれば、銀ペーストをカソード電極131の導電材料として使用しても良い。
【0034】
次に、CNT211を含むカーボン物質201を樹脂と溶剤でペースト状にし、カソード電極131上にスクリーン印刷する。その後、カーボン物質201を含むペーストを乾燥させる。ここで、カソード電極131に含まれる低融点ガラス粒子221の一部がカーボン物質201と接することが必要である。そのため、低融点ガラス粒子221の粒子径や導電材料の膜厚を設定する必要がある。
【0035】
次に、乾燥後の背面ガラス基板102を焼成し、低融点ガラス粒子221を溶融させて、カーボン物質201をカソード電極131に固着させる。つまり、カーボン物質201と低融点ガラス粒子221とが接する部分で、カーボン物質201が低融点ガラス粒子221に固着する。ここで、低融点ガラス粒子221の位置が、カーボン物質201の固着位置となるため、低融点ガラス粒子221の位置の均一性により、電子放出の均一性が決まることになる。低融点ガラス粒子221に固着していないカーボン物質201は、カソード電極131と分子間力のみで結合しているため、容易にカソード電極131から剥がれてしまう。カソード電極131から剥離したカーボン物質201は、ゲート電極302に引きつけられ、カソード−ゲート間ショートを生じさせたり、ゲート電極302に付着して不要な電子を放出させたりする。
【0036】
次に、外力を加えることにより、カソード電極131上に結合しているカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221のうち結合力の弱い部分を除去する除去工程を行う。実施の形態1と同様、カソード電極131上に機械的な外力を加える方法としては、塵を発生させない防塵布501をカソード電極131上に押し当てて複数回拭き取る方法がある。これにより、カソード電極131と分子間力のみで結合しているような、結合力の弱いカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221の部分を、除去することができる。
【0037】
拭き取られたカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221は、エアブロー等によって吹き飛ばし、カソード電極131上にカーボン物質201が安定的に固着した電子放出型発光素子が形成される。図8に示すように、低融点ガラス粒子221に固着したカーボン物質201が、島のようにカソード電極131上に存在している。このような島が、カソード電極131上に均一に形成されることにより、均一な電子放出源が形成される。
【0038】
また、実施の形態1と同様、低融点ガラス粒子221に十分固着しているカーボン物質201の表面も、除去工程で機械的に研磨される。そのため、CNT211などに付着している焼成工程後の残留樹脂成分は、機械的な研磨によって除去されることになる。これにより、電子放出源であるCNT211の電子放出特性が改善され、低電圧駆動で十分な電子放出量を得ることができる。
【0039】
以上の製造工程により、CNT211を含むカーボン物質201が剥がれ難くなり、カソード−ゲート間ショートや不要箇所からの電子放出がない電子放出源を有する電子放出型発光素子を製造することができる。また、低電圧駆動で十分な電子放出量を安定的に得ることができる電子放出源を有する電子放出型発光素子を製造することができる。さらに、カーボン物質201を固着する低融点ガラス粒子221がカソード電極131に埋め込まれる構造であるため、電子放出源の膜厚を実施の形態1よりも薄くことができる。そのため、カソード−ゲート間の距離をより短くすることができ、ゲート電極302を背面ガラス基板102上に形成したリブで支持している構造の場合は、リブの高さを低くでき、リブの印刷回数を減らすことができる。
【0040】
(実施の形態3)
本実施の形態も、実施の形態1において説明した電子放出型発光素子と同じ構造を有している。そのため、本実施の形態における電子放出型発光素子の構造については、説明を省略する。図9に、低融点ガラス粒子221をスクリーン印刷・乾燥した後の本実施の形態に係るカソード電極の断面図を、図10に、本実施の形態に係る除去工程後のカソード電極の断面図を示す。以下に、図9及び図10を参照しつつ、本実施の形態に係る製造方法について説明する。まず、背面ガラス基板102上に、導電材料であるITOを蒸着又はITOを含むペーストをスクリーン印刷して、カソード電極131を形成する。その後、背面ガラス基板102を乾燥させる。ここで、CNT211を焼失させ易い点に注意すれば、銀ペーストをカソード電極131の導電材料として使用しても良い。
【0041】
次に、CNT211を含むカーボン物質201を樹脂と溶剤でペースト状にし、カソード電極131上にスクリーン印刷する。その後、カーボン物質201を含むペーストを乾燥させ、樹脂と溶剤でペースト状した低融点ガラス粒子221を、カーボン物質201の上にスクリーン印刷する。
【0042】
次に、乾燥後の背面ガラス基板102を焼成し、低融点ガラス粒子221を溶融させて、カーボン物質201を覆うようにカソード電極131に固着させる。つまり、低融点ガラス粒子221は、焼成により溶融し、カーボン物質201を上側から覆うようにカソード電極131に垂れ下がり固着する。ここで、カーボン物質201が高密度に存在するときは、低融点ガラス粒子221が溶融してもカーボン物質201に阻まれてカソード電極131に届かない場合がある。また、低融点ガラス粒子221の粒子径が小さいときは、溶融した低融点ガラスが少ないためカソード電極131に届かない場合がある。このような場合を回避するため、カーボン物質201をペースト状にする際に、カーボン物質201と樹脂との混合比を変えてカーボン物質201の密度を低くしたり、低融点ガラス粒子221の粒子径を大きくしたりすることで対応している。
【0043】
低融点ガラス粒子221によりカソード電極131に固着していないカーボン物質201は、カソード電極131と分子間力のみで結合している。そのため、容易にカソード電極131から剥がれてしまう。カソード電極131から剥離したカーボン物質201は、ゲート電極302に引きつけられ、カソード−ゲート間ショートを生じさせたり、ゲート電極302に付着して不要な電子を放出させたりする。
【0044】
次に、外力を加えることにより、カソード電極131上に結合しているカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221のうち結合力の弱い部分を除去する除去工程を行う。実施の形態1と同様、カソード電極131上に機械的な外力を加える方法としては、塵を発生させない防塵布501をカソード電極131上に押し当てて複数回拭き取る方法がある。これにより、カソード電極131と分子間力のみで結合しているような、結合力の弱いカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221の部分を、除去することができる。
【0045】
拭き取られたカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221は、エアブロー等によって吹き飛ばし、カソード電極131上にカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221が安定的に固着した電子放出型発光素子が形成される。図10に示すように、カーボン物質201を含む低融点ガラス粒子221が、島のようにカソード電極131上に固着している。このような島が、カソード電極131上に均一に形成されることにより、均一な電子放出源が形成される。
【0046】
また、実施の形態1と同様に、低融点ガラス粒子221によりカソード電極131に十分固着しているカーボン物質201の表面も、除去工程で機械的に研磨されることになる。そのため、低融点ガラス粒子221内に取り込まれているCNT211の先端が露出していない場合であっても、機械的な研磨後はCNT211の先端が露出する。また、CNT211などに付着している焼成工程後の残留樹脂成分も、機械的な研磨によって除去されることになる。これにより、電子放出源であるCNT211の電子放出特性が改善され、低電圧駆動で十分な電子放出量を得ることができる。なお、本実施の形態の場合は、低融点ガラス粒子221が上側からカーボン物質201を覆ってカソード電極131に固着させため、固着した低融点ガラス粒子221の上側を研磨してもCNT211を露出させることは難しい。しかし、CNT211は低融点ガラス粒子221の側面にも付着しているため、この部分のCNT211は研磨により露出し、電子放出源として十分動作する。
【0047】
以上の製造工程により、CNT211を含むカーボン物質201は剥がれ難くなり、カソード−ゲート間ショートや不要箇所からの電子放出がない電子放出源を有する電子放出型発光素子を製造することができる。また、低電圧駆動で十分な電子放出量を安定的に得ることができる電子放出源を有する電子放出型発光素子を製造することができるなど、実施の形態1と同様の効果が得られる。
【0048】
(実施の形態4)
図11に、本実施の形態に係る除去工程後のカソード電極の断面図を示す。本実施の形態は、実施の形態1において説明した電子放出型発光素子と基本的に同じ構造を有している。異なる点は、図11に示すように、カソード電極131と電子放出源であるカーボン物質201との間に、酸化ルテニウムのような抵抗層141が積層されている点である。そのため、本実施の形態のカーボン物質201は、低融点ガラス粒子221によって抵抗層141に固着されることになる。
【0049】
以下に、本実施の形態に係る製造方法について説明する。まず、背面ガラス基板102上に、導電材料であるITOを蒸着又はITOを含むペーストをスクリーン印刷して、カソード電極131を形成する。その後、背面ガラス基板102を乾燥させる。カソード電極131上に抵抗材料、例えば酸化ルテニウムをスクリーン印刷し、乾燥させて抵抗層141を形成する。
【0050】
次に、CNT211を含むカーボン物質201と低融点ガラス粒子221を混合し、樹脂と溶剤でペースト状にして抵抗層141上にスクリーン印刷する。その後、カーボン物質201を含むペーストを乾燥させる。そして、乾燥後の背面ガラス基板102を焼成し、低融点ガラス粒子221を溶融させて、カーボン物質201を抵抗層141に固着させる。低融点ガラス粒子221により抵抗層141に固着していないカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221は、抵抗層141と分子間力のみで結合しているため、容易に抵抗層141から剥がれてしまう。抵抗層141から剥離したカーボン物質201は、ゲート電極302に引きつけられ、カソード−ゲート間ショートを生じさせたり、ゲート電極302に付着して不要な電子を放出させたりする。
【0051】
次に、外力を加えることにより、抵抗層141上に結合しているカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221のうち結合力の弱い部分を除去する除去工程を行う。実施の形態1と同様、抵抗層141上に機械的な外力を加える方法としては、塵を発生させない防塵布501を抵抗層141上に押し当てて複数回拭き取る方法がある。これにより、抵抗層141と分子間力のみで結合しているような、結合力の弱いカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221の部分を、除去することができる。
【0052】
拭き取られたカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221は、エアブロー等によって吹き飛ばし、抵抗層141上にカーボン物質201が安定的に固着した電子放出型発光素子が形成される。図11に示すように、カーボン物質201が取り込まれた低融点ガラス粒子221が、島のように抵抗層141上に固着している。このような島が、抵抗層141上に均一に形成されることにより、均一な電子放出源が形成される。
【0053】
また、実施の形態1と同様、低融点ガラス粒子221により抵抗層141に十分固着しているカーボン物質201の表面も、除去工程で機械的に研磨されることになる。そのため、低融点ガラス粒子221内に取り込まれCNT211の先端が露出していない場合であっても、機械的な研磨後はCNT211の先端が露出する。また、CNT211などに付着している焼成工程後の残留樹脂成分も、機械的な研磨によって除去されることになる。これにより、電子放出源であるCNT211の電子放出特性が改善され、低電圧駆動で十分な電子放出量を得ることができる。
【0054】
以上の製造工程により、CNT211を含むカーボン物質201は剥がれ難くなり、カソード−ゲート間ショートや不要箇所からの電子放出がない電子放出源を有する電子放出型発光素子を製造することができる。また、低電圧駆動で十分な電子放出量を安定的に得ることができる電子放出源を有する電子放出型発光素子を製造することができる。さらに、電子放出源であるカーボン物質201とカソード電極131の間に抵抗層141を積層することで、島のように点在するカーボン物質201間を流れる、横方向の電気的な流れはなくなり、カソード電極131から抵抗層141を介して、それぞれのカーボン物質201の島へ直接流れる電気的な流れとなる。つまり、カーボン量が多く、電子を放出しやすいカーボン物質201の島は、抵抗層141によって電圧降下が発生し、電流が制限されることになる。そのため、カーボン物質201の島の間で生じていた電子放出の偏りが軽減され、より均一な電子放出源を備える電子放出型発光素子を得ることができる。
【0055】
実施の形態1に対する実施の形態2及び実施の形態3のように、本実施の形態の変形例として、以下に示す2つの製造方法がある。最初の変形例は、背面ガラス基板102上に、導電材料であるITOを蒸着又はITOを含むペーストをスクリーン印刷し、乾燥させてカソード電極131を形成する。その後、抵抗材料である酸化ルテニウムと低融点ガラス粒子221を混合し、樹脂と溶剤でペースト状にしたものをカソード電極131上にスクリーン印刷し、乾燥して抵抗層141を形成する。
【0056】
次に、樹脂と溶剤でCNT211を含むカーボン物質201をペースト状にして、抵抗層141上にスクリーン印刷し、乾燥させる。そして、乾燥後の背面ガラス基板102を焼成し、低融点ガラス粒子221を溶融させて、カーボン物質201を低融点ガラス粒子221の一部に固着させる。ここで、抵抗層141に含まれる低融点ガラス粒子221の一部がカーボン物質201と接することが必要である。そのため、低融点ガラス粒子221の粒子径や抵抗材料の膜厚を設定する必要がある。
【0057】
次に、外力を加えることにより、抵抗層141上に結合しているカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221のうち結合力の弱い部分を除去する除去工程を行う。実施の形態1と同様、抵抗層141上に機械的な外力を加える方法としては、塵を発生させない防塵布501を抵抗層141上に押し当てて複数回拭き取る方法がある。これにより、抵抗層141と分子間力のみで結合しているような、結合力の弱いカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221の部分を、除去することができる。拭き取られたカーボン物質201は、エアブロー等によって吹き飛ばす。
【0058】
図12に、本実施の形態の変形例に係る除去工程後のカソード電極の断面図を示す。抵抗層141に埋め込まれた低融点ガラス粒子221の一部にカーボン物質201が固着している。本変形例の製造方法は、実施の形態2で示したカソード電極131に低融点ガラス粒子221を埋め込む点を、抵抗層141に低融点ガラス粒子221を埋め込む点に変更している。そのため、実施の形態2及び本実施の形態の効果と同様の効果を得ることができる。
【0059】
別の変形例は、背面ガラス基板102上に、導電材料であるITOを蒸着又はITOを含むペーストをスクリーン印刷し、乾燥させてカソード電極131を形成する。その後、抵抗材料である酸化ルテニウムをカソード電極131上にスクリーン印刷し、乾燥させて抵抗層141を形成する。さらに、樹脂と溶剤でCNT211を含むカーボン物質201をペースト状にして、抵抗層141上にスクリーン印刷し、乾燥させる。
【0060】
次に、カーボン物質201上に、樹脂と溶剤でペースト状した低融点ガラス粒子221をスクリーン印刷し、乾燥する。その後、背面ガラス基板102を焼成し、低融点ガラス粒子221を溶融させて、カーボン物質201を覆うように抵抗層141に固着させる。つまり、低融点ガラスは、焼成により溶融し、カーボン物質201を上側から覆うように抵抗層141に垂れ下がり固着する。ここで、カーボン物質201が高密度に存在するときは、溶融した低融点ガラスがカーボン物質201に阻まれて抵抗層141に届かない場合がある。また、低融点ガラス粒子221の粒子径が小さいときは、溶融した低融点ガラスが少ないため抵抗層141に届かない場合がある。このような場合、カーボン物質201をペースト状にする際に、カーボン物質201と樹脂との混合比を変えてカーボン物質201の密度を低くしたり、低融点ガラス粒子221の粒子径を大きくすることで対応する。
【0061】
次に、外力を加えることにより、抵抗層141上に結合しているカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221のうち結合力の弱い部分を除去する除去工程を行う。実施の形態1と同様、抵抗層141上に機械的な外力を加える方法としては、塵を発生させない防塵布501を抵抗層141上に押し当てて複数回拭き取る方法がある。これにより、抵抗層141と分子間力のみで結合しているような、結合力の弱いカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221の部分を、除去することができる。拭き取られたカーボン物質201は、エアブロー等によって吹き飛ばす。
【0062】
図13に、本実施の形態の変形例に係る除去工程後のカソード電極の断面図を示す。本変形例の製造方法は、実施の形態3で示したカソード電極131上の構造に抵抗層141を追加した点が異なる。そのため、実施の形態3及び本実施の形態の効果と同様の効果を得ることができる。
【0063】
(実施の形態5)
本実施の形態は、実施の形態1において説明した電子放出型発光素子と同じ構造を有している。そのため、本実施の形態における電子放出型発光素子の構造については、説明を省略する。本実施の形態は、実施の形態1乃至実施の形態4で説明してきた除去工程とは異なる方法で、外力を加えることにより、カソード電極131上に結合しているカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221のうち結合力の弱い部分を除去する除去工程を説明する。
【0064】
実施の形態1乃至実施の形態4では、カソード電極131上に十分固着していないカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221を機械的に除去する方法として、防塵布501をカソード電極131上に押し当てて複数回拭き取っていた。本実施の形態では、この防塵布501の代わりに、表面に微細な毛を有するローラ502をカソード電極131上に押し当てて、カソード電極131上に十分固着していないカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221を機械的に除去する。図14に、本実施の形態に係るカソード電極上の除去工程の概念図を示す。
【0065】
ここで、ローラ502は、例えば液晶ディスプレイの配向処理工程でよく使用されるラビング布を巻いたローラを使用することができる。このローラ502をカソード電極131上に押し当てて回転させることにより、ローラ502の微細な毛がカソード電極131上に十分固着していないカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221を弾き出す。このようなローラ502の動作を背面ガラス基板102全面に複数回行う。このローラ502も防塵布501と同様、CNT211の機械的な強度の制限により、押し当てる圧力は最大で数百グラム/平方cm程度に制限されている。また、カソード電極131に十分固着しているカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221のみを残して、不要なカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221を除去するためには、他の条件により異なるが数十回以上の拭き取り動作が必要となる。
【0066】
次に、ローラ502により除去したカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221は、カソード電極131に再付着する可能性がある。そのため、防塵布501と同様、除去されたカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221をエアブロー等によって吹き飛ばす。これにより、カソード電極131上にカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221が安定的に固着した電子放出型発光素子が形成される。
【0067】
以上のように、防塵布501をローラ502に代えて、実施に形態1乃至実施の形態4の除去工程を行っても、それぞれの実施の形態の効果と同様の効果を得ることができる。なお、実施の形態4の場合は、カソード電極131上にカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221はなく、抵抗層141上にカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221が形成される。そのため、本実施の形態では、抵抗層141上のカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221に対する除去工程と読み替える。さらに、本実施の形態では、除去工程に液晶ディスプレイの配向処理工程でよく使用されるローラ502が使用されるため、液晶ディスプレイの配向処理装置をそのまま利用できる。よって、本発明のために新たに製造装置を設計開発する必要がなく、開発コストを大幅に削減することができる。
【0068】
(実施の形態6)
本実施の形態は、実施の形態1において説明した電子放出型発光素子と同じ構造を有している。そのため、本実施の形態における電子放出型発光素子の構造については、説明を省略する。本実施の形態は、実施の形態1乃至実施の形態4で説明してきた除去工程とは異なる方法で、外力を加えることにより、カソード電極131上に結合しているカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221のうち結合力の弱い部分を除去する除去工程を説明する。
【0069】
実施の形態1では、カソード電極131上に十分固着していないカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221を機械的に除去する方法として、防塵布501をカソード電極131上に押し当てて複数回拭き取っていた。本実施の形態では、この防塵布501の代わりに、超音波でカソード電極131上に十分固着されていないの低融点ガラス221及びカーボン物質201を剥離させ、剥離した低融点ガラス221及びカーボン物質201を液体で洗浄して除去を行う。つまり、超音波洗浄器510を用いてカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221を機械的に除去する。図15に、本実施の形態に係る超音波洗浄器510の概念図を示す。
【0070】
ここで、本実施の形態で使用する超音波洗浄器510は、搬送中の背面ガラス基板102とわずかな隙間を介してフラットバー511が配置され、このわずかな隙間にフラットバー511に設けられて洗浄液噴出ノズル512から洗浄液が供給される。供給された洗浄液は、背面ガラス基板102とフラットバー511との間に水の膜を形成する。その膜に超音波発信器513からの超音波を反射させ、フラットバー511全面に伝達させる。これにより、背面ガラス基板102前面を洗浄することができる。この超音波洗浄器510については、特開平9−330896に詳しく記載されている。
【0071】
以上のように、防塵布501を超音波洗浄器510に代えることにより、洗浄液噴出ノズル512から供給された洗浄液が超音波の振動成分をもち、カソード電極131上に十分固着していない低融点ガラス221及びカーボン物質201を剥離させる。さらに、洗浄液は、剥離した低融点ガラス221及びカーボン物質201を洗い流す。これにより、本実施の形態における除去工程を行っても、実施の形態1乃至実施の形態4の効果と、同様の効果を得ることができる。
【0072】
なお、実施の形態4の場合は、カソード電極131上にカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221はなく、抵抗層141上にカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221が形成される。そのため、本実施の形態では、抵抗層141上のカーボン物質201及び低融点ガラス粒子221に対する除去工程と読み替える。さらに、本実施の形態では、剥離した低融点ガラス221及びカーボン物質201を洗浄液で洗い流すことができるため、発塵を防止することができる。本実施の形態では、背面ガラス基板102を搬送するコンベア式の除去工程を示したが、バッチ式で背面ガラス基板102を処理する除去工程にも使用することができる。
【0073】
【発明の効果】
本発明に記載の電子放出型発光素子の製造方法は、絶縁基板を焼成し、低融点ガラスを溶融して電子放出材料をカソード電極に結合させる工程と、カソード電極に結合している低融点ガラス及び電子放出材料の一部をカソード電極から取り除く除去工程とを備えているので、電子放出材料が剥がれ難くなり、カソード−ゲート間ショートや不要箇所からの電子放出のない電子放出源を有する電子放出型発光素子を製造することができる。また、低電圧駆動で十分な電子放出量を安定的に得ることができる電子放出源を有する電子放出型発光素子を製造することができる。さらに、リブでゲート電極を支持している構造の場合、電子放出源の膜厚を大幅に薄くことができるため、リブの高さを低くでき、リブの印刷回数を減らすことができる。なお、低融点ガラス粒子がカソード電極に埋め込まれた製造方法の場合、電子放出源の膜厚をさらに薄くすることができる。
【0074】
また、本発明に記載の電子放出型発光素子の別の製造方法は、電子放出源であるカーボン物質とカソード電極の間に抵抗層を積層するため、電子を放出しやすいカーボン物質の島には、抵抗層によって電圧降下が発生し、電流が制限される。そのため、カーボン物質の島間で生じている電子放出の偏りが軽減され、より均一な電子放出源を備える電子放出型発光素子を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1に係る電子放出型発光素子の断面図である。
【図2】本発明の実施の形態1に係る背面ガラス基板の断面図である。
【図3】本発明の実施の形態1に係る電子放出材料と低融点ガラスとを印刷、乾燥させた後のカソード電極の断面図である。
【図4】本発明の実施の形態1に係る焼成後のカソード電極の断面図である。
【図5】本発明の実施の形態1に係るカソード電極上の除去工程の概念図である。
【図6】本発明の実施の形態1に係る除去工程後のカソード電極の断面図である。
【図7】本発明の実施の形態2に係る電子放出材料を印刷、乾燥させた後のカソード電極の断面図である。
【図8】本発明の実施の形態2に係る除去工程後のカソード電極の断面図である。
【図9】本発明の実施の形態3に係る電子放出材料を印刷、乾燥させた後のカソード電極の断面図である。
【図10】本発明の実施の形態3に係る除去工程後のカソード電極の断面図である。
【図11】本発明の実施の形態4に係る除去工程後の抵抗層の断面図である。
【図12】本発明の実施の形態4の変形例に係る除去工程後の抵抗層の断面図である。
【図13】本発明の実施の形態4の変形例に係る除去工程後の抵抗層の断面図である。
【図14】本発明の実施の形態5に係るカソード電極上の除去工程の概念図である。
【図15】本発明の実施の形態6に係る超音波洗浄器の概念図である。
【符号の説明】
101 前面ガラス基板、102 背面ガラス基板、103 スペーサガラス、104 チップガラス管、105 ゲッタ、106 低融点ガラス、111 アノード引き出し配線、112 ゲート引き出し配線、113 カソード引き出し配線、121 蛍光体層、122 アルミパック膜、131 カソード電極、201 カーボン物質、211 CNT、212 カーボン不純物、221 低融点ガラス粒子、301 ゲート電極支持部、302 ゲート電極、501 防塵の布、502 ローラ、510 超音波洗浄器、511 フラットバー、512 洗浄液噴出ノズル、513 超音波発信器。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for manufacturing an electron emission light emitting device, and more particularly to a method for manufacturing an electron emission light emitting device including an electron emission source formed on a cathode electrode or a resistance layer.
[0002]
[Prior art]
In recent years, research on flat panel display devices has become active, and various display devices have been developed. Among them, a field emission type cold cathode (also referred to as a cold cathode), which is arranged in a plane, is used as an electron emission source, and an electron emission type light emitting element (FED (Field Emission Display)) having a principle of emitting a fluorescent light attracts attention. ing. This is because it is expected to be a next-generation flat panel display excellent in terms of high brightness, high contrast, wide viewing angle, and low power consumption. In particular, by using a carbon nanotube (hereinafter, also referred to as CNT) as an electron emission source of a field emission cold cathode, an electron emission source can be manufactured by a printing process without going through a complicated process. Therefore, it is expected as a flat panel type display device whose manufacturing cost is low.
[0003]
The CNT is generated by arc discharge or CVD (Chemical Vapor Deposition), and has a tube shape having an outer diameter of 10 to several tens nm and a length of several μm. For this reason, the electric field is easily concentrated on the tip of the tube shape, and the electron is easily emitted. In an electron emission light emitting device (FED), a paste is produced by mixing a carbon material containing CNT with a resin such as ethyl cellulose and a solvent containing terpineol or butyl carbitol, and printing the paste on a cathode electrode. By firing, it is used as an electron emission source.
[0004]
Patent Literature 1 discloses a typical structure of an electron emission light emitting device (FED) using CNT as an electron emission source. In the structure disclosed in Patent Literature 1, a spacer is arranged between a front glass and a rear glass, and is joined with low-melting glass to form an envelope. Note that a chip glass tube is provided in the envelope to evacuate the inside of the envelope, and the chip glass tube is melted and closed after evacuation. Also, a getter is often provided in the envelope to maintain the degree of vacuum in the envelope. A phosphor layer coated with an aluminum pack film serving as an anode electrode is provided on the front glass. Further, a cathode electrode is formed on the back glass, and an electron emission source of CNT is provided thereon. Further, a gate electrode having a structure in which a mesh-like hole is formed in a metal plate is provided between the anode electrode and the cathode electrode.
[0005]
With such a structure, when a high voltage is applied to the anode electrode and an appropriate voltage is applied so that the gate electrode has a positive potential with respect to the cathode electrode, electrons are emitted from the tip of the CNT. The emitted electrons pass through the mesh-shaped holes of the gate electrode, are accelerated by the high-voltage anode electrode, and collide with the phosphor layer. When the electrons collide with the phosphor layer, the phosphor layer emits light and an electron emission type light emitting device (FED) is displayed. Note that even when there is no gate electrode, electrons can be emitted from the cathode electrode by applying a higher voltage to the anode electrode.
[0006]
Next, CNT as an electron emission source is generally generated in a form coexisting with carbon impurities. Therefore, in order to use the CNTs as an electron emission source, it is necessary to adjust the particle shape such as pulverization and filter pass of the CNTs, and to perform a purification treatment at a high temperature. Further, the purified CNT is mixed with a resin such as ethyl cellulose and a solvent containing terpineol or butyl carbitol to form a paste, which is printed on the cathode electrode. Thereafter, by baking, the solvent or the like evaporates, and the CNT is bonded to the cathode electrode. This bond is maintained by the intermolecular force between the randomly arranged CNTs and the cathode electrode.
[0007]
[Patent Document 1]
JP-A-2002-216679 (page 3-4, FIG. 1-5)
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
When the electron emission source is manufactured by the above method, the carbon material including CNT is bonded to the cathode electrode by an intermolecular force. Therefore, there is a problem that the carbon material containing CNT is weak due to mechanical contact and easily peels off from the cathode electrode. Further, when a voltage is applied to the gate electrode by driving the electron emission light emitting device (FED), an electrostatic force is generated between the CNT and the gate electrode, and there is a problem that the carbon material containing the CNT is peeled off from the cathode electrode. As described above, the carbon material containing CNT separated from the cathode electrode is attracted to the gate electrode, causing a short-circuit between the cathode and the gate or causing a problem that unnecessary electrons are emitted by adhering to the gate electrode. I was
[0009]
Therefore, in the conventional electron emission type light emitting device (FED), in order to prevent the CNT from being peeled off, a high voltage is not applied to the gate electrode, or a long distance is set between the cathode and the gate. As a result, in the conventional electron emission type light emitting device (FED), the electric field intensity is restricted, and a sufficient electron emission amount cannot be stably obtained.
[0010]
Therefore, the present invention can provide a sufficient electron emission amount at a low voltage drive without causing a cathode-gate short circuit or electron emission from unnecessary parts due to peeling of a carbon material including CNTs. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an electron emission light emitting device having an emission source.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
A solution according to the present invention is a method for manufacturing an electron emission type light emitting device comprising a cathode electrode and an electron emission material disposed on the cathode electrode, comprising: applying a conductive material on an insulating substrate; Forming a paste-like mixture containing a low-melting glass and an electron-emitting material on the cathode electrode; and sintering the insulating substrate to melt the low-melting glass to convert the electron-emitting material to the cathode electrode. A bonding step; and a removing step of removing a weak bonding portion from the low melting point glass and the electron emitting material bonded to the cathode electrode from the cathode electrode by applying an external force.
[0012]
Further, a solution according to the present invention is a method for manufacturing an electron emission type light emitting device including a cathode electrode, wherein an electron emission material is provided on the cathode electrode, wherein a conductive material and a low melting point glass are provided on an insulating substrate. Forming a cathode electrode, printing a paste-like substance containing an electron-emitting material on the cathode electrode, firing the insulating substrate, melting the low-melting glass, and forming the electron-emitting material. The method includes a step of bonding to the cathode electrode, and a removing step of removing, from the cathode electrode, a portion of the low-melting glass and the electron-emitting material having low bonding strength bonded to the cathode electrode by applying an external force.
[0013]
Further, a solution according to the present invention is a method for manufacturing an electron emission type light emitting device comprising a cathode electrode and an electron emission material disposed on the cathode electrode, wherein a conductive material is applied on an insulating substrate, Forming a cathode electrode, printing a paste-like substance containing an electron emission material on the cathode electrode, printing a paste-like glass substance containing a low melting point glass on the electron emission material, Baking the low-melting glass to fuse the electron-emitting material to the cathode electrode, and applying an external force to the portion of the low-melting glass and the electron-emitting material bonded to the cathode electrode, where the bonding force is weak. Removing step from the cathode electrode.
[0014]
Further, another solution according to the present invention is a method for manufacturing an electron emission type light emitting device comprising a cathode electrode, wherein the electron emission material is disposed on the cathode electrode, wherein the conductive material is coated on an insulating substrate. Forming a cathode electrode; applying a resistive material on the cathode electrode to form a resistive layer; and printing a paste-like mixture containing a low-melting glass and an electron-emitting material on the resistive layer. And baking the insulating substrate, melting the low-melting glass to bond the electron-emitting material to the resistance layer, and applying an external force to the low-melting glass and the electron-emitting material bonded to the resistance layer. Removing a portion having a weak bonding force from the resistance layer.
[0015]
Further, another solution according to the present invention is a method for manufacturing an electron emission type light emitting device including a cathode electrode, wherein an electron emission material is disposed on the cathode electrode, wherein a conductive material is coated on an insulating substrate. A step of forming a cathode electrode; a step of printing a mixture of a resistance material and a low-melting glass on the cathode electrode to form a resistance layer; and a paste-like electron emission material containing an electron emission material on the resistance layer. Printing, baking the insulating substrate, melting the low-melting glass and bonding the electron-emitting material to the resistance layer, and applying an external force to the low-melting glass and the electron emission bonded to the resistance layer. Removing a portion of the material having a weak bonding force from the resistance layer.
[0016]
Further, another solution according to the present invention is a method for manufacturing an electron emission type light emitting device including a cathode electrode, wherein an electron emission material is disposed on the cathode electrode, wherein a conductive material is coated on an insulating substrate. And forming a cathode electrode, applying a resistive material on the cathode electrode, forming a resistive layer, and printing a paste-like electron emitting material including an electron emitting material on the resistive layer, Printing a paste-like glass material containing a low-melting glass on the electron-emitting material, baking the insulating substrate, melting the low-melting glass to bond the electron-emitting material to the resistance layer, and applying an external force. And removing a portion of the low-melting glass and the electron-emitting material having a weak bonding force from the low-melting glass and the electron-emitting material bonded to the resistance layer.
[0017]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to the drawings showing the embodiments.
[0018]
(Embodiment 1)
FIG. 1 shows a cross-sectional view of the electron emission type light emitting device according to the present embodiment. The
[0019]
On the front glass substrate 101 (the surface facing the rear glass substrate 102), a
[0020]
On the other hand, a
[0021]
A
[0022]
In the electron emission type light-emitting element configured as described above, the present embodiment is characterized by a method for manufacturing an electron emission source, and the manufacturing method will be described below. FIG. 2 shows a cross-sectional view of
[0023]
Here, as a conductive material of the
[0024]
Next, the
[0025]
The low-melting
[0026]
Next, the dried
[0027]
FIG. 4 shows a cross-sectional view of the fired cathode electrode according to the present embodiment. FIG. 4 shows a state in which the
[0028]
Next, a removing step is performed to remove a portion of the
[0029]
FIG. 5 shows a conceptual diagram of the removal step on the cathode electrode according to the present embodiment. Here, the
[0030]
The
[0031]
Further, in the removal step in which the
[0032]
Through the above manufacturing steps, the
[0033]
(Embodiment 2)
This embodiment has the same structure as the electron-emitting light-emitting element described in Embodiment 1. Therefore, the description of the structure of the electron emission type light emitting element in this embodiment is omitted. FIG. 7 is a cross-sectional view of the cathode electrode after the
[0034]
Next, the
[0035]
Next, the dried
[0036]
Next, a removing step is performed to remove a portion of the
[0037]
The wiped-off
[0038]
Further, as in the first embodiment, the surface of the
[0039]
According to the above manufacturing steps, the
[0040]
(Embodiment 3)
This embodiment also has the same structure as the electron-emitting light-emitting device described in Embodiment 1. Therefore, the description of the structure of the electron emission type light emitting element in this embodiment is omitted. FIG. 9 is a cross-sectional view of the cathode electrode according to the present embodiment after the low-melting
[0041]
Next, the
[0042]
Next, the dried
[0043]
The
[0044]
Next, a removing step is performed to remove a portion of the
[0045]
The wiped
[0046]
Further, as in the first embodiment, the surface of the
[0047]
Through the above manufacturing steps, the
[0048]
(Embodiment 4)
FIG. 11 shows a cross-sectional view of the cathode electrode after the removal step according to the present embodiment. This embodiment has basically the same structure as the electron emission type light emitting element described in the first embodiment. The difference is that, as shown in FIG. 11, a
[0049]
Hereinafter, the manufacturing method according to the present embodiment will be described. First, a
[0050]
Next, the
[0051]
Next, a removing step of removing a portion of the
[0052]
The wiped
[0053]
Further, as in the first embodiment, the surface of the
[0054]
Through the above manufacturing steps, the
[0055]
As in the second embodiment and the third embodiment with respect to the first embodiment, there are the following two manufacturing methods as modifications of the present embodiment. In the first modification, a
[0056]
Next, the
[0057]
Next, a removing step of removing a portion of the
[0058]
FIG. 12 shows a cross-sectional view of the cathode electrode after the removal step according to the modification of the present embodiment. The
[0059]
In another modification, a
[0060]
Next, low-melting
[0061]
Next, a removing step of removing a portion of the
[0062]
FIG. 13 shows a cross-sectional view of the cathode electrode after the removal step according to the modification of the present embodiment. The manufacturing method of this modification is different in that a
[0063]
(Embodiment 5)
This embodiment has the same structure as the electron-emitting light-emitting element described in Embodiment 1. Therefore, the description of the structure of the electron emission type light emitting element in this embodiment is omitted. In this embodiment, the
[0064]
In the first to fourth embodiments, as a method of mechanically removing the
[0065]
Here, as the
[0066]
Next, the
[0067]
As described above, even if the
[0068]
(Embodiment 6)
This embodiment has the same structure as the electron-emitting light-emitting element described in Embodiment 1. Therefore, the description of the structure of the electron emission type light emitting element in this embodiment is omitted. In this embodiment, the
[0069]
In the first embodiment, as a method of mechanically removing the
[0070]
Here, in the
[0071]
As described above, by replacing the
[0072]
In the fourth embodiment, the
[0073]
【The invention's effect】
The method for manufacturing an electron emission light-emitting device according to the present invention includes a step of firing an insulating substrate, melting a low-melting glass, and bonding the electron-emitting material to the cathode electrode, And a removing step of removing a part of the electron-emitting material from the cathode electrode. A type light emitting device can be manufactured. Further, it is possible to manufacture an electron emission type light emitting element having an electron emission source capable of stably obtaining a sufficient amount of electron emission at low voltage driving. Further, in the case of the structure in which the gate electrode is supported by the rib, the thickness of the electron emission source can be significantly reduced, so that the height of the rib can be reduced and the number of times of printing of the rib can be reduced. In the case of the manufacturing method in which the low melting point glass particles are embedded in the cathode electrode, the thickness of the electron emission source can be further reduced.
[0074]
Another method of manufacturing an electron emission light emitting device according to the present invention is to stack a resistive layer between a carbon material that is an electron emission source and a cathode electrode. In addition, a voltage drop occurs due to the resistance layer, and the current is limited. Therefore, the bias of electron emission occurring between islands of the carbon substance is reduced, and an electron emission type light emitting device having a more uniform electron emission source can be obtained.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view of an electron emission type light emitting device according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of the back glass substrate according to Embodiment 1 of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view of the cathode electrode after printing and drying the electron-emitting material and the low-melting glass according to Embodiment 1 of the present invention.
FIG. 4 is a cross-sectional view of a fired cathode electrode according to Embodiment 1 of the present invention.
FIG. 5 is a conceptual diagram of a removal step on a cathode electrode according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a cross-sectional view of the cathode electrode after a removal step according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a cross-sectional view of a cathode electrode after printing and drying an electron emission material according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a cross-sectional view of a cathode electrode after a removal step according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a cross-sectional view of a cathode electrode after printing and drying an electron emission material according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a cross-sectional view of a cathode electrode after a removing step according to Embodiment 3 of the present invention.
FIG. 11 is a cross-sectional view of a resistance layer after a removal step according to a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 12 is a cross-sectional view of a resistance layer after a removing step according to a modification of the fourth embodiment of the present invention.
FIG. 13 is a sectional view of a resistance layer after a removing step according to a modification of the fourth embodiment of the present invention.
FIG. 14 is a conceptual diagram of a removing step on a cathode electrode according to a fifth embodiment of the present invention.
FIG. 15 is a conceptual diagram of an ultrasonic cleaner according to Embodiment 6 of the present invention.
[Explanation of symbols]
101 front glass substrate, 102 rear glass substrate, 103 spacer glass, 104 chip glass tube, 105 getter, 106 low melting point glass, 111 anode lead wiring, 112 gate lead wiring, 113 cathode lead wiring, 121 phosphor layer, 122 aluminum pack Membrane, 131 cathode electrode, 201 carbon substance, 211 CNT, 212 carbon impurities, 221 low melting glass particles, 301 gate electrode support, 302 gate electrode, 501 dustproof cloth, 502 roller, 510 ultrasonic cleaner, 511 flat bar , 512 Cleaning liquid ejection nozzle, 513 Ultrasonic transmitter.
Claims (9)
絶縁基板上に導電材料を被着し、前記カソード電極を形成する工程と、
前記カソード電極上に低融点ガラスと電子放出材料とを含むペースト状の混合物を印刷する工程と、
前記絶縁基板を焼成し、前記低融点ガラスを溶融させて前記電子放出材料を前記カソード電極に結合させる工程と、
外力を加えることにより、前記カソード電極に結合している前記低融点ガラス及び前記電子放出材料のうち結合力の弱い部分を前記カソード電極から取り除く除去工程とを備えている電子放出型発光素子の製造方法。A method for manufacturing an electron emission type light emitting device comprising a cathode electrode, wherein an electron emission material is disposed on the cathode electrode,
Applying a conductive material on an insulating substrate to form the cathode electrode;
A step of printing a paste-like mixture containing a low-melting glass and an electron-emitting material on the cathode electrode,
Baking the insulating substrate, melting the low-melting glass and bonding the electron-emitting material to the cathode electrode,
Removing the portion of the low-melting-point glass and the electron-emitting material having a weak bonding force from the cathode electrode by applying an external force to the cathode electrode. Method.
絶縁基板上に導電材料と低融点ガラスとの混合物を印刷し、前記カソード電極を形成する工程と、
前記カソード電極上に電子放出材料を含むペースト状の物質を印刷する工程と、
前記絶縁基板を焼成し、前記低融点ガラスを溶融させて前記電子放出材料を前記カソード電極に結合させる工程と、
外力を加えることにより、前記カソード電極に結合している前記低融点ガラス及び前記電子放出材料のうち結合力の弱い部分を前記カソード電極から取り除く除去工程とを備えている電子放出型発光素子の製造方法。A method for manufacturing an electron emission type light emitting device comprising a cathode electrode, wherein an electron emission material is disposed on the cathode electrode,
Printing a mixture of a conductive material and low-melting glass on an insulating substrate, and forming the cathode electrode;
Printing a paste-like substance containing an electron-emitting material on the cathode electrode,
Baking the insulating substrate, melting the low-melting glass and bonding the electron-emitting material to the cathode electrode,
Removing the portion of the low-melting-point glass and the electron-emitting material having a weak bonding force from the cathode electrode by applying an external force to the cathode electrode. Method.
絶縁基板上に導電材料を被着し、前記カソード電極を形成する工程と、
前記カソード電極上に電子放出材料を含むペースト状の物質を印刷する工程と、
前記電子放出材料上に低融点ガラスを含むペースト状のガラス物質を印刷する工程と、
前記絶縁基板を焼成し、前記低融点ガラスを溶融させて前記電子放出材料を前記カソード電極に結合させる工程と、
外力を加えることにより、前記カソード電極に結合している前記低融点ガラス及び前記電子放出材料のうち結合力の弱い部分を前記カソード電極から取り除く除去工程とを備えている電子放出型発光素子の製造方法。A method for manufacturing an electron emission type light emitting device comprising a cathode electrode, wherein an electron emission material is disposed on the cathode electrode,
Applying a conductive material on an insulating substrate to form the cathode electrode;
Printing a paste-like substance containing an electron-emitting material on the cathode electrode,
A step of printing a paste-like glass material containing a low-melting glass on the electron-emitting material,
Baking the insulating substrate, melting the low-melting glass and bonding the electron-emitting material to the cathode electrode,
Removing the portion of the low-melting-point glass and the electron-emitting material having a weak bonding force from the cathode electrode by applying an external force to the cathode electrode. Method.
絶縁基板上に導電材料を被着し、前記カソード電極を形成する工程と、
前記カソード電極上に抵抗材料を被着し、抵抗層を形成する工程と、
前記抵抗層上に低融点ガラスと電子放出材料とを含むペースト状の混合物を印刷する工程と、
前記絶縁基板を焼成し、前記低融点ガラスを溶融させて前記電子放出材料を前記抵抗層に結合させる工程と、
外力を加えることにより、前記抵抗層に結合している前記低融点ガラス及び前記電子放出材料のうち結合力の弱い部分を前記抵抗層から取り除く除去工程とを備えている電子放出型発光素子の製造方法。A method for manufacturing an electron emission type light emitting device comprising a cathode electrode, wherein an electron emission material is disposed on the cathode electrode,
Applying a conductive material on an insulating substrate to form the cathode electrode;
Applying a resistive material on the cathode electrode to form a resistive layer;
A step of printing a paste-like mixture containing a low-melting glass and an electron-emitting material on the resistance layer,
Baking the insulating substrate, melting the low melting glass, and bonding the electron emitting material to the resistance layer;
Removing the portion of the low-melting glass and the electron-emitting material having a weak bonding force from the low-melting glass and the electron-emitting material bonded to the resistance layer by applying an external force to the resistance layer. Method.
絶縁基板上に導電材料を被着し、前記カソード電極を形成する工程と、
前記カソード電極上に抵抗材料と低融点ガラスとの混合物を印刷し、抵抗層を形成する工程と、
前記抵抗層上に電子放出材料を含むペースト状の電子放出材料を印刷する工程と、
前記絶縁基板を焼成し、前記低融点ガラスを溶融させて前記電子放出材料を前記抵抗層に結合させる工程と、
外力を加えることにより、前記抵抗層に結合している前記低融点ガラス及び前記電子放出材料のうち結合力の弱い部分を前記抵抗層から取り除く除去工程とを備えている電子放出型発光素子の製造方法。A method for manufacturing an electron emission type light emitting device comprising a cathode electrode, wherein an electron emission material is disposed on the cathode electrode,
Applying a conductive material on an insulating substrate to form the cathode electrode;
Printing a mixture of a resistance material and a low-melting glass on the cathode electrode, and forming a resistance layer;
Printing a paste-like electron-emitting material containing an electron-emitting material on the resistance layer,
Baking the insulating substrate, melting the low melting glass, and bonding the electron emitting material to the resistance layer;
Removing the portion of the low-melting glass and the electron-emitting material having a weak bonding force from the low-melting glass and the electron-emitting material bonded to the resistance layer by applying an external force to the resistance layer. Method.
絶縁基板上に導電材料を被着し、前記カソード電極を形成する工程と、
前記カソード電極上に抵抗材料を被着し、抵抗層を形成する工程と、
前記抵抗層上に電子放出材料を含むペースト状の電子放出材料を印刷する工程と、
前記電子放出材料上に低融点ガラスを含むペースト状のガラス物質を印刷する工程と、
前記絶縁基板を焼成し、前記低融点ガラスを溶融させて前記電子放出材料を前記抵抗層に結合させる工程と、
外力を加えることにより、前記抵抗層に結合している前記低融点ガラス及び前記電子放出材料のうち結合力の弱い部分を前記抵抗層から取り除く除去工程とを備えている電子放出型発光素子の製造方法。A method for manufacturing an electron emission type light emitting device comprising a cathode electrode, wherein an electron emission material is disposed on the cathode electrode,
Applying a conductive material on an insulating substrate to form the cathode electrode;
Applying a resistive material on the cathode electrode to form a resistive layer;
Printing a paste-like electron-emitting material containing an electron-emitting material on the resistance layer,
A step of printing a paste-like glass material containing a low-melting glass on the electron-emitting material,
Baking the insulating substrate, melting the low melting glass, and bonding the electron emitting material to the resistance layer;
Removing the portion of the low-melting glass and the electron-emitting material having a weak bonding force from the low-melting glass and the electron-emitting material bonded to the resistance layer by applying an external force to the resistance layer. Method.
前記除去工程は、防塵布で前記低融点ガラス及び前記電子放出材料を複数回拭き取る工程を含むことを特徴とする電子放出型発光素子の製造方法。A method for manufacturing an electron emission type light emitting device according to claim 1, wherein:
The method of manufacturing an electron emission light emitting device, wherein the removing step includes a step of wiping the low melting point glass and the electron emitting material a plurality of times with a dustproof cloth.
前記除去工程は、表面に微細な毛を有するローラで前記低融点ガラス及び前記電子放出材料を複数回拭き取る工程を含むことを特徴とする電子放出型発光素子の製造方法。A method for manufacturing an electron emission type light emitting device according to claim 1, wherein:
The method of manufacturing an electron-emitting light emitting device, wherein the removing step includes a step of wiping the low-melting glass and the electron-emitting material a plurality of times with a roller having fine hairs on a surface.
前記除去工程は、超音波で前記カソード電極又は前記抵抗層から前記低融点ガラス及び前記電子放出材料を剥離させ、剥離した前記低融点ガラス及び前記電子放出材料を液体で洗浄する工程を含むことを特徴とする電子放出型発光素子の製造方法。A method for manufacturing an electron emission type light emitting device according to claim 1, wherein:
The removing step includes peeling the low-melting glass and the electron-emitting material from the cathode electrode or the resistance layer with ultrasonic waves, and washing the separated low-melting glass and the electron-emitting material with a liquid. A method for manufacturing an electron-emitting type light emitting device.
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