JP2004172157A - 半導体パッケージおよびパッケージスタック半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】複雑な電気的接続を必要とせずに積層可能した半導体パッケージおよびこれを複数個積層したパッケージスタック半導体装置を提供する。
【解決手段】下面に外部接続端子を備えたベース配線基板上に複数の半導体素子がダイボンドされて積層され、最上段の半導体素子上には、上面に外部接続端子を備えた中継用配線基板が更にダイボンドされ、各半導体素子および中継用配線基板がワイヤボンドによりベース配線基板上面に接続され、中継用配線基板の外部接続端子が露出するように樹脂封止されている半導体パッケージ。上記半導体パッケージが複数個積層され、下段半導体パッケージの封止樹脂から露出した上面の外部接続端子と、上段半導体パッケージのベース配線基板下面の外部接続端子とがはんだ接合されて上下の半導体パッケージが電気的に接続されているパッケージスタック半導体装置。
【選択図】 図4
【解決手段】下面に外部接続端子を備えたベース配線基板上に複数の半導体素子がダイボンドされて積層され、最上段の半導体素子上には、上面に外部接続端子を備えた中継用配線基板が更にダイボンドされ、各半導体素子および中継用配線基板がワイヤボンドによりベース配線基板上面に接続され、中継用配線基板の外部接続端子が露出するように樹脂封止されている半導体パッケージ。上記半導体パッケージが複数個積層され、下段半導体パッケージの封止樹脂から露出した上面の外部接続端子と、上段半導体パッケージのベース配線基板下面の外部接続端子とがはんだ接合されて上下の半導体パッケージが電気的に接続されているパッケージスタック半導体装置。
【選択図】 図4
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、複数の半導体素子を積層して搭載した半導体パッケージおよび更にこの半導体パッケージを複数個積層したパッケージスタック半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、半導体素子を用いた電子機器、特に携帯用電子機器は、小型化・高性能化が急速に進められており、これに応えるべく単一の半導体パッケージにできるだけ多数の半導体素子を搭載し、複数の半導体素子を搭載した半導体パッケージを実装基板単位面積内できるだけ多数個実装することが要請されている。
【0003】
しかし、単一の半導体パッケージに搭載できる半導体素子の個数には限界があり、また、単位面積に多数個実装するために複数のパッケージを積層(スタック)するとパッケージ間の電気的な接続が複雑になるという問題があった(例えば、特許文献1を参照)。
【0004】
【特許文献1】
特開2002−124628号公報(図13〜15、図18、段落0046〜0056、段落0065〜0066)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、複雑な電気的接続を必要とせずに複数個のパッケージを積層可能にする複数の半導体素子を搭載した半導体パッケージおよびこの半導体パッケージを複数個積層したパッケージスタック半導体装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明の半導体パッケージは、下面に外部接続端子を備えたベース配線基板上に複数の半導体素子がダイボンドされ、該半導体素子上には、上面に外部接続端子を備えた中継用配線基板が更にダイボンドされ、前記半導体素子および中継用配線基板はそれぞれ上面に備えた接続端子がワイヤボンドによりベース配線基板上面の接続端子に接続され、上記中継用配線基板の外部接続端子が露出するように封止されていることを特徴とする。
【0007】
前記の半導体パッケージにおいて、前記ベース配線基板上に複数の半導体素子がダイボンドにより積層されている構造とすることができる。
【0008】
前記の半導体パッケージにおいて、前記中継用配線基板に代えて、前記半導体素子は上面に外部接続端子を含む再配線を備えた半導体素子がダイボンドされており、各半導体素子はそれぞれ上面に備えた接続端子がワイヤボンドによりベース配線基板上面の接続端子に接続され、上記最上段半導体素子の外部接続端子が露出するように封止されている構造としてもよい。
【0009】
これらの半導体パッケージにおいて、最下段の半導体素子はダイボンドに代えてフリップチップボンドによりベース配線基板に接続されていてもよい。
【0010】
本発明は更に、上記いずれかの半導体パッケージが複数個積層され、下段半導体パッケージの封止部材から露出した上面の外部接続端子と、上段半導体パッケージのベース配線基板下面の外部接続端子とが接合されて上段半導体パッケージと下段半導体パッケージとが電気的に接続されていることを特徴とするパッケージスタック半導体装置を提供する。
【0011】
上記いずれかの半導体パッケージの封止部材から露出した上面の外部接続端子に他の電子部品が接続されて搭載されていてもよい。
【0012】
【発明の実施の形態】
本発明の半導体パッケージは、ベース配線基板上に複数の半導体素子をダイボンド(最下段はフリップチップボンドでも可)により積層し、各半導体素子とベース配線基板とをワイヤボンドにより電気的に接続し、パッケージの上面および下面に外部接続端子を設けたパッケージ構造としたことにより、スタックされるパッケージ間の電気的接続は単に上下のパッケージの外部接続端子同士をはんだ接合すれば実現できるので、複雑な電気的接続を必要とせずにパッケージスタックが可能になる。
【0013】
〔実施形態1〕
図1を参照して、本発明の一実施形態による半導体パッケージの構造を説明する。
【0014】
半導体パッケージ1は、下面に外部接続端子10を備えたベース配線基板12上に2個の半導体素子14A,14Bが接着剤16によりダイボンドされて積層され、最上段の半導体素子14B上には、上面に外部接続端子18を備えた中継用配線基板20が更に接着剤16によりダイボンドされ、各半導体素子14A、14Bおよび中継用配線基板20はそれぞれ上面に備えた接続端子14Ap、14Bp、20pがボンディングワイヤ22によりベース配線基板12上面の接続端子12pに接続され、上記中継用配線基板20の外部接続端子18が露出するように樹脂24により封止されている。ベース配線基板12には、半導体素子14A、14B、および中継用配線基板20の間を接続する配線が形成されている。
【0015】
なお、ベース配線基板12、半導体素子14A、半導体素子14B、中継用配線基板20は、この順で平面図面積が順次小さくなっており、ベース基板12、半導体素子14A、半導体素子14Bの各上面にそれぞれ接続端子12p、14Ap、14Bpを設けるためのスペースが確保されている。
【0016】
〔実施形態2〕
図2を参照して、本発明の他の実施形態による半導体パッケージの構造を説明する。
【0017】
半導体パッケージ2は、実施形態1の半導体パッケージ1において、中継用配線基板20に代えて、最上段の半導体素子14Cの上面に外部接続端子18を含む再配線層26を備えており、各半導体素子14A、14B、14Cはそれぞれ上面に備えた接続端子14Ap、14Bp、14Cpがボンディングワイヤ22によりベース配線基板12上面の接続端子12pに接続され、上記最上段半導体素子14Cの外部接続端子18が露出するように樹脂24により封止されている。ベース配線基板12には、半導体素子14A、14B、14C、および中継用配線基板20の間を接続する配線が形成されている。
【0018】
なお、ベース配線基板12、半導体素子14A、半導体素子14B、半導体素子14Cは、この順で平面図面積が順次小さくなっており、ベース基板12、半導体素子14A、半導体素子14Bの各上面にそれぞれワイヤボンド用の接続端子12p、14Ap、14Bpを設けるためのスペースが確保されている。
【0019】
〔実施形態3〕
図3を参照して、本発明のもう1つの実施形態による半導体パッケージの構造を説明する。
【0020】
半導体パッケージ3は、実施形態1の半導体パッケージ1において、最下段の半導体素子14Aは接着剤16によるダイボンドに代えてフリップチップボンド28によりベース配線基板12に接続されている。
【0021】
この場合、半導体素子14Aの上面にワイヤボンド用接続端子を設ける必要はなく、そのためのスペースも不要なので、半導体素子14A上に積層する半導体素子14Bの平面図面積を半導体素子14Aより小さくする必要はない。
【0022】
したがって、例えば図示したように半導体素子14Bを半導体素子14Aと同一サイズとすることができ、その上に積層する中継用配線基板20も実施形態1、2のパッケージ1、2の場合よりも一回り大きくすることができる。
【0023】
更に、図示はしていないが、半導体素子14Bと中継用配線基板20との間に更に追加して半導体パッケージを積層する場合には、そのサイズについても実施形態1、2において更に追加の半導体パッケージを積層する場合よりも一回り大きいサイズとすることができる。これにより、ベース配線基板20の単位面積当たり実装密度を更に高められる。
【0024】
なお、本実施形態においては、最上層に実施形態1と同様の中継用配線基板20を配置した例を説明したが、中継用配線基板20の代わりに、最上層に実施形態2と同様に再配線層26を備えた半導体素子14Cを配置してもよい。
【0025】
以上の実施形態1、2、3においては、半導体素子14Bを省略した構造とすることもできる。すなわち、ベース配線基板12上に半導体素子14Aを搭載し、この半導体素子14A上に直接、中継用配線基板20を、または再配線層26を備えた半導体素子14Cを搭載してもよい。
【0026】
〔実施形態4〕
図4を参照して、本発明の更にもう1つ実施形態によるパッケージスタック半導体装置の構造を説明する。
【0027】
パッケージスタック半導体装置40は、実施形態1の半導体パッケージ1およびその一部を変更した半導体パッケージ1X、1Yが積層されている。
【0028】
すなわち、最下段の半導体パッケージ1は実施形態1の半導体パッケージ1と全く同じ構造である。
【0029】
中段の半導体パッケージ1Xは、ベース配線基板12の下面の外部接続端子18を、その下段に位置する最下段の半導体パッケージ1の上面に設けた外部接続端子に対応する箇所にのみ設けた点で変更してある。
【0030】
最上段の半導体パッケージ1Yは、ベース配線基板12の下面の外部接続端子18を、その下段に位置する中段の半導体パッケージ1Xの上面に設けた外部接続端子に対応する箇所にのみ設けた点と、パッケージ内の最上段を中継用配線基板20ではなく半導体素子14Bとしその上面全体を樹脂24で封止した点で変更してある。
【0031】
そして、下段半導体パッケージの封止樹脂24から露出した上面の外部接続端子18と、上段半導体パッケージのベース配線基板12下面の外部接続端子10とがはんだ接合されている。
【0032】
すなわち、最下段の半導体パッケージ1の封止樹脂24から露出した上面の外部接続端子18と、その上段に位置する中段の半導体パッケージ1Xのベース配線基板12下面の外部接続端子10とがはんだ接合されてパッケージ1と1Xとが電気的に接続されており、中段の半導体パッケージ1Xの封止樹脂24から露出した上面の外部接続端子18と、その上段に位置する最上段の半導体パッケージ1Yのベース配線基板12下面の外部接続端子10とがはんだ接合されてパッケージ1Xと1Yとが電気的に接続されている。
【0033】
図5(1)〜(5)および図6(1)〜(3)に、本実施形態のパッケージスタック半導体装置40を製造する手順の一例を示す。
【0034】
工程1(図5(1))
下面に外部接続端子用パッド10’を備えたベース配線基板12上に、半導体素子14Aを接着剤16によりダイボンドする。半導体素子14Aのダイボンド領域を囲むようにベース配線基板12の上面にはワイヤボンド用の接続端子12pが配列されている。半導体素子14Aの上面周縁部にはワイヤボンド用の接続端子14Apが配列されている。
【0035】
なお、実際には大判のベース配線基板12に多数個のパッケージを一括して形成した後に、個々のパッケージ毎に切断分離するが、図示の便宜上、半導体パッケージ1個分に対応するベース配線基板12の一部分のみを図示した。
【0036】
工程2(図5(2))
半導体素子14A上に更に半導体素子14Bを接着剤16によりダイボンドする。上段の半導体素子14Bは下段の半導体素子14Aよりも平面図面積が一回り小さく設定されており、下段半導体素子14Aのワイヤボンド用接続端子14Apが配列されている上面周縁部は上段半導体素子14Bに覆われずに露出する。半導体素子14Bの上面周縁部にはワイヤボンド用の接続端子14Bpが配列されている。
【0037】
工程3(図5(3))
上段の半導体素子14B上に更に中継用配線基板20を接着剤16によりダイボンドする。中継用配線基板20は半導体素子14Bよりも平面図面積が一回り小さく設定されており、半導体素子14Bのワイヤボンド用接続端子14Bpが配列されている上面周縁部は中継用配線基板20に覆われずに露出する。中継用配線基板20は上面に外部接続端子18を備えており、上面周縁部にはワイヤボンド用の接続端子20pが配列されている。
【0038】
工程4(図5(4))
半導体素子14A、14Bおよび中継用配線基板20のワイヤボンド用接続端子14Ap、14Bpおよび20pと、ベース配線基板12のワイヤボンド用接続端子12pとをボンディングワイヤ22で接続する。
【0039】
工程5(図5(5))
中継用配線基板20上面の外部接続端子18を設けた領域のみが露出するように、ベース配線基板12上の全領域を樹脂24で封止する。この樹脂封止はトランスファーモールドにより行い、その際、樹脂封止せずに露出させる上記領域に対応する金型部位に凸部を設けた封止金型を用いる。
【0040】
工程6(図6(1))
ベース配線基板12下面の外部接続端子用パッド10’にはんだボールを搭載して外部接続端子10とする。
【0041】
工程7(図6(2))
大判のベース配線基板12上に工程6までを一括して行なった後に、個々の半導体パッケージ毎に切断する。これにより図1の半導体パッケージ1が多数個得られる。
【0042】
半導体パッケージ1の上に積層する他の半導体パッケージ1X、1Yは、上記の工程1〜7を一部変更した下記の手順で作製する。
【0043】
まず、パッケージ1上に積層するパッケージ1Xは、図6(3)に示すように、ベース配線基板12の下面にはパッケージ1の上面外部接続端子18の位置に対応して中央部付近にのみ外部接続端子(はんだボール)10Xを設けた構造である。図1のパッケージ1と共通する部位には図1と同じ参照符号を付した。
【0044】
パッケージ1Xを作製するには、工程1(図5(1))においてベース配線基板12として、パッケージ1上面の外部接続端子18に対応する位置にのみ下面の外部接続端子用パッド10’が設けられているものを用いる。それ以外は、上記工程1〜7と全く同じ工程を行なえばよい。これにより、図6(3)に示したパッケージ1Xが多数個得られる。
【0045】
次に、このパッケージ1X上に積層するパッケージ1Yは、図6(4)に示すように、ベース配線基板12の下面にはパッケージ1Xの上面外部接続端子18の位置に対応して中央部付近にのみ外部接続端子(はんだボール)10Yを設けた構造である。更に、ベース配線基板12上には半導体素子14A、14Bのみが積層されており、パッケージ1や1Xのような最上段の中継用配線基板20は設けず、パッケージ上面には露出領域を設けずに全面が樹脂封止されている。
【0046】
パッケージ1Yを作製するには、工程1(図5(1))においてベース配線基板12として、パッケージ1X上面の外部接続端子18の位置に対応する位置にのみ下面の外部接続端子用パッド10’が設けられているものを用いる。工程1〜2と同様の操作により半導体素子14A、14Bを順次ダイボンドした後、工程3は省略し、工程4と同様の操作により半導体素子14A、14Bとベース配線基板12とのワイヤボンドを行う。これにより、図5(4)において中継用配線基板20、対応する接着剤層16、対応するボンディングワイヤ22を省略した状態になる。次いで、工程5と同様の操作により樹脂封止を行なう。ただし、パッケージ1、1Xのような露出領域は残さずに、ベース配線基板12上の全面を樹脂封止する。その後、工程6、7(図6(1)、(2))と同様の操作によりはんだボール搭載、切断分離を行う。これにより、図6(4)に示したパッケージ1Yが多数個得られる。
【0047】
工程8(図4)
最後に、上記で作製したパッケージ1、1X、1Yを順次積層し、パッケージ1Xの下面外部接続端子(はんだボール)10Xによりパッケージ1上にパッケージ1Xをはんだ接合して両者を電気的に接続し、パッケージ1Yの下面外部接続端子(はんだボール)10Yによりパッケージ1X上にパッケージ1Yをはんだ接合して両者を電気的に接続する。
【0048】
これにより、図4に示したパッケージスタック半導体装置40が得られる。
【0049】
なお、実施形態4においては、実施形態1の半導体パッケージ1を積層したパッケージスタック半導体装置40の例を示した。しかし、本発明のパッケージスタック半導体装置はこれに限定する必要はなく、実施形態2または実施形態3の半導体パッケージ2または半導体パッケージ3を実施形態1の半導体パッケージ1と同様に積層してパッケージスタック半導体装置を得ることができる。
【0050】
〔実施形態5〕
図4のパッケージスタック半導体装置40は、同サイズの半導体パッケージ同士を積層した例であるが、下段半導体パッケージにこれよりも小さいサイズの半導体パッケージを積層することもできる。
【0051】
一例として、図7に示したパッケージスタック半導体装置50は、実施形態1の半導体パッケージ1上に、これよりも小さいサイズの半導体パッケージ4を積層してある。半導体パッケージ4は、ベース配線基板12上に半導体素子14Dが接着剤16によりダイボンドされて搭載されており、半導体素子14Dの接続端子14Dpがボンディングワイヤ22によりベース基板12の接続端子12pに電気的に接続されている。
【0052】
上段の半導体パッケージ4のベース配線基板12下面に設けた外部接続端子10と、下段の半導体パッケージ1の上面に設けた外部接続端子18とがはんだ接合されて半導体パッケージ4と半導体パッケージ1とが電気的に接続されている。
【0053】
〔実施形態6〕
本発明の半導体パッケージは、他の電子部品を搭載した形態の半導体パッケージとすることもできる。
【0054】
一例として、図8に示した半導体パッケージ5は、実施形態1の半導体パッケージ1の封止樹脂24から露出した上面の外部接続端子18にキャパシタ、抵抗等の電子部品30をはんだ10により接続して搭載した構造である。
【0055】
なお、実施形態5および実施形態6において、実施形態1の半導体パッケージ1を用いた例を示したが、これに限定する必要はなく、実施形態2または実施形態3の半導体パッケージ2または半導体パッケージ3も同様に用いることができる。
【0056】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、複雑な電気的接続を必要とせずに複数個のパッケージを積層可能にする複数の半導体素子を搭載した半導体パッケージおよびこの半導体パッケージを複数個積層したパッケージスタック半導体装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の一実施形態による半導体パッケージの断面図である。
【図2】図2は、本発明の他の実施形態による半導体パッケージの断面図である。
【図3】図3は、本発明の更にもう1つの実施形態による半導体パッケージの断面図である。
【図4】図4は、本発明の半導体パッケージを複数積層したパッケージスタック半導体装置の一実施形態を示す断面図である。
【図5】図5(1)〜(5)は、本発明の半導体パッケージおよびパッケージスタック半導体装置を作製する工程を示す断面図である。
【図6】図6(1)〜(4)は、図5(5)の工程に次いで行なう工程(図6(1)、(2))および積層する他のパッケージ(図6(3)、(4))をそれぞれ示す断面図である。
【図7】図7は、本発明のパッケージスタック半導体装置の他の態様を示す断面図である。
【図8】図8は、本発明の半導体パッケージの別の態様を示す断面図である。
【符号の説明】
1、1X、1Y、5…本発明の半導体パッケージ
10…パッケージ下面の外部接続端子(はんだボール)
10’…外部接続端子用パッド
12…ベース配線基板
12p…ベース配線基板12のワイヤボンド用接続端子
14A、14B、14C、14D…半導体素子
14Ap、14Bp、14Cp、14Dp…半導体素子14A、14B、14C、14Dのワイヤボンド用接続端子
16…ダイボンド用接着剤
18…パッケージ上面の外部接続端子
20…中継用配線基板
20p…中継用配線基板20のワイヤボンド用接続端子
22…ボンディングワイヤ
24…封止樹脂
26…再配線層
40、50…パッケージスタック半導体装置
【発明の属する技術分野】
本発明は、複数の半導体素子を積層して搭載した半導体パッケージおよび更にこの半導体パッケージを複数個積層したパッケージスタック半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、半導体素子を用いた電子機器、特に携帯用電子機器は、小型化・高性能化が急速に進められており、これに応えるべく単一の半導体パッケージにできるだけ多数の半導体素子を搭載し、複数の半導体素子を搭載した半導体パッケージを実装基板単位面積内できるだけ多数個実装することが要請されている。
【0003】
しかし、単一の半導体パッケージに搭載できる半導体素子の個数には限界があり、また、単位面積に多数個実装するために複数のパッケージを積層(スタック)するとパッケージ間の電気的な接続が複雑になるという問題があった(例えば、特許文献1を参照)。
【0004】
【特許文献1】
特開2002−124628号公報(図13〜15、図18、段落0046〜0056、段落0065〜0066)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、複雑な電気的接続を必要とせずに複数個のパッケージを積層可能にする複数の半導体素子を搭載した半導体パッケージおよびこの半導体パッケージを複数個積層したパッケージスタック半導体装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明の半導体パッケージは、下面に外部接続端子を備えたベース配線基板上に複数の半導体素子がダイボンドされ、該半導体素子上には、上面に外部接続端子を備えた中継用配線基板が更にダイボンドされ、前記半導体素子および中継用配線基板はそれぞれ上面に備えた接続端子がワイヤボンドによりベース配線基板上面の接続端子に接続され、上記中継用配線基板の外部接続端子が露出するように封止されていることを特徴とする。
【0007】
前記の半導体パッケージにおいて、前記ベース配線基板上に複数の半導体素子がダイボンドにより積層されている構造とすることができる。
【0008】
前記の半導体パッケージにおいて、前記中継用配線基板に代えて、前記半導体素子は上面に外部接続端子を含む再配線を備えた半導体素子がダイボンドされており、各半導体素子はそれぞれ上面に備えた接続端子がワイヤボンドによりベース配線基板上面の接続端子に接続され、上記最上段半導体素子の外部接続端子が露出するように封止されている構造としてもよい。
【0009】
これらの半導体パッケージにおいて、最下段の半導体素子はダイボンドに代えてフリップチップボンドによりベース配線基板に接続されていてもよい。
【0010】
本発明は更に、上記いずれかの半導体パッケージが複数個積層され、下段半導体パッケージの封止部材から露出した上面の外部接続端子と、上段半導体パッケージのベース配線基板下面の外部接続端子とが接合されて上段半導体パッケージと下段半導体パッケージとが電気的に接続されていることを特徴とするパッケージスタック半導体装置を提供する。
【0011】
上記いずれかの半導体パッケージの封止部材から露出した上面の外部接続端子に他の電子部品が接続されて搭載されていてもよい。
【0012】
【発明の実施の形態】
本発明の半導体パッケージは、ベース配線基板上に複数の半導体素子をダイボンド(最下段はフリップチップボンドでも可)により積層し、各半導体素子とベース配線基板とをワイヤボンドにより電気的に接続し、パッケージの上面および下面に外部接続端子を設けたパッケージ構造としたことにより、スタックされるパッケージ間の電気的接続は単に上下のパッケージの外部接続端子同士をはんだ接合すれば実現できるので、複雑な電気的接続を必要とせずにパッケージスタックが可能になる。
【0013】
〔実施形態1〕
図1を参照して、本発明の一実施形態による半導体パッケージの構造を説明する。
【0014】
半導体パッケージ1は、下面に外部接続端子10を備えたベース配線基板12上に2個の半導体素子14A,14Bが接着剤16によりダイボンドされて積層され、最上段の半導体素子14B上には、上面に外部接続端子18を備えた中継用配線基板20が更に接着剤16によりダイボンドされ、各半導体素子14A、14Bおよび中継用配線基板20はそれぞれ上面に備えた接続端子14Ap、14Bp、20pがボンディングワイヤ22によりベース配線基板12上面の接続端子12pに接続され、上記中継用配線基板20の外部接続端子18が露出するように樹脂24により封止されている。ベース配線基板12には、半導体素子14A、14B、および中継用配線基板20の間を接続する配線が形成されている。
【0015】
なお、ベース配線基板12、半導体素子14A、半導体素子14B、中継用配線基板20は、この順で平面図面積が順次小さくなっており、ベース基板12、半導体素子14A、半導体素子14Bの各上面にそれぞれ接続端子12p、14Ap、14Bpを設けるためのスペースが確保されている。
【0016】
〔実施形態2〕
図2を参照して、本発明の他の実施形態による半導体パッケージの構造を説明する。
【0017】
半導体パッケージ2は、実施形態1の半導体パッケージ1において、中継用配線基板20に代えて、最上段の半導体素子14Cの上面に外部接続端子18を含む再配線層26を備えており、各半導体素子14A、14B、14Cはそれぞれ上面に備えた接続端子14Ap、14Bp、14Cpがボンディングワイヤ22によりベース配線基板12上面の接続端子12pに接続され、上記最上段半導体素子14Cの外部接続端子18が露出するように樹脂24により封止されている。ベース配線基板12には、半導体素子14A、14B、14C、および中継用配線基板20の間を接続する配線が形成されている。
【0018】
なお、ベース配線基板12、半導体素子14A、半導体素子14B、半導体素子14Cは、この順で平面図面積が順次小さくなっており、ベース基板12、半導体素子14A、半導体素子14Bの各上面にそれぞれワイヤボンド用の接続端子12p、14Ap、14Bpを設けるためのスペースが確保されている。
【0019】
〔実施形態3〕
図3を参照して、本発明のもう1つの実施形態による半導体パッケージの構造を説明する。
【0020】
半導体パッケージ3は、実施形態1の半導体パッケージ1において、最下段の半導体素子14Aは接着剤16によるダイボンドに代えてフリップチップボンド28によりベース配線基板12に接続されている。
【0021】
この場合、半導体素子14Aの上面にワイヤボンド用接続端子を設ける必要はなく、そのためのスペースも不要なので、半導体素子14A上に積層する半導体素子14Bの平面図面積を半導体素子14Aより小さくする必要はない。
【0022】
したがって、例えば図示したように半導体素子14Bを半導体素子14Aと同一サイズとすることができ、その上に積層する中継用配線基板20も実施形態1、2のパッケージ1、2の場合よりも一回り大きくすることができる。
【0023】
更に、図示はしていないが、半導体素子14Bと中継用配線基板20との間に更に追加して半導体パッケージを積層する場合には、そのサイズについても実施形態1、2において更に追加の半導体パッケージを積層する場合よりも一回り大きいサイズとすることができる。これにより、ベース配線基板20の単位面積当たり実装密度を更に高められる。
【0024】
なお、本実施形態においては、最上層に実施形態1と同様の中継用配線基板20を配置した例を説明したが、中継用配線基板20の代わりに、最上層に実施形態2と同様に再配線層26を備えた半導体素子14Cを配置してもよい。
【0025】
以上の実施形態1、2、3においては、半導体素子14Bを省略した構造とすることもできる。すなわち、ベース配線基板12上に半導体素子14Aを搭載し、この半導体素子14A上に直接、中継用配線基板20を、または再配線層26を備えた半導体素子14Cを搭載してもよい。
【0026】
〔実施形態4〕
図4を参照して、本発明の更にもう1つ実施形態によるパッケージスタック半導体装置の構造を説明する。
【0027】
パッケージスタック半導体装置40は、実施形態1の半導体パッケージ1およびその一部を変更した半導体パッケージ1X、1Yが積層されている。
【0028】
すなわち、最下段の半導体パッケージ1は実施形態1の半導体パッケージ1と全く同じ構造である。
【0029】
中段の半導体パッケージ1Xは、ベース配線基板12の下面の外部接続端子18を、その下段に位置する最下段の半導体パッケージ1の上面に設けた外部接続端子に対応する箇所にのみ設けた点で変更してある。
【0030】
最上段の半導体パッケージ1Yは、ベース配線基板12の下面の外部接続端子18を、その下段に位置する中段の半導体パッケージ1Xの上面に設けた外部接続端子に対応する箇所にのみ設けた点と、パッケージ内の最上段を中継用配線基板20ではなく半導体素子14Bとしその上面全体を樹脂24で封止した点で変更してある。
【0031】
そして、下段半導体パッケージの封止樹脂24から露出した上面の外部接続端子18と、上段半導体パッケージのベース配線基板12下面の外部接続端子10とがはんだ接合されている。
【0032】
すなわち、最下段の半導体パッケージ1の封止樹脂24から露出した上面の外部接続端子18と、その上段に位置する中段の半導体パッケージ1Xのベース配線基板12下面の外部接続端子10とがはんだ接合されてパッケージ1と1Xとが電気的に接続されており、中段の半導体パッケージ1Xの封止樹脂24から露出した上面の外部接続端子18と、その上段に位置する最上段の半導体パッケージ1Yのベース配線基板12下面の外部接続端子10とがはんだ接合されてパッケージ1Xと1Yとが電気的に接続されている。
【0033】
図5(1)〜(5)および図6(1)〜(3)に、本実施形態のパッケージスタック半導体装置40を製造する手順の一例を示す。
【0034】
工程1(図5(1))
下面に外部接続端子用パッド10’を備えたベース配線基板12上に、半導体素子14Aを接着剤16によりダイボンドする。半導体素子14Aのダイボンド領域を囲むようにベース配線基板12の上面にはワイヤボンド用の接続端子12pが配列されている。半導体素子14Aの上面周縁部にはワイヤボンド用の接続端子14Apが配列されている。
【0035】
なお、実際には大判のベース配線基板12に多数個のパッケージを一括して形成した後に、個々のパッケージ毎に切断分離するが、図示の便宜上、半導体パッケージ1個分に対応するベース配線基板12の一部分のみを図示した。
【0036】
工程2(図5(2))
半導体素子14A上に更に半導体素子14Bを接着剤16によりダイボンドする。上段の半導体素子14Bは下段の半導体素子14Aよりも平面図面積が一回り小さく設定されており、下段半導体素子14Aのワイヤボンド用接続端子14Apが配列されている上面周縁部は上段半導体素子14Bに覆われずに露出する。半導体素子14Bの上面周縁部にはワイヤボンド用の接続端子14Bpが配列されている。
【0037】
工程3(図5(3))
上段の半導体素子14B上に更に中継用配線基板20を接着剤16によりダイボンドする。中継用配線基板20は半導体素子14Bよりも平面図面積が一回り小さく設定されており、半導体素子14Bのワイヤボンド用接続端子14Bpが配列されている上面周縁部は中継用配線基板20に覆われずに露出する。中継用配線基板20は上面に外部接続端子18を備えており、上面周縁部にはワイヤボンド用の接続端子20pが配列されている。
【0038】
工程4(図5(4))
半導体素子14A、14Bおよび中継用配線基板20のワイヤボンド用接続端子14Ap、14Bpおよび20pと、ベース配線基板12のワイヤボンド用接続端子12pとをボンディングワイヤ22で接続する。
【0039】
工程5(図5(5))
中継用配線基板20上面の外部接続端子18を設けた領域のみが露出するように、ベース配線基板12上の全領域を樹脂24で封止する。この樹脂封止はトランスファーモールドにより行い、その際、樹脂封止せずに露出させる上記領域に対応する金型部位に凸部を設けた封止金型を用いる。
【0040】
工程6(図6(1))
ベース配線基板12下面の外部接続端子用パッド10’にはんだボールを搭載して外部接続端子10とする。
【0041】
工程7(図6(2))
大判のベース配線基板12上に工程6までを一括して行なった後に、個々の半導体パッケージ毎に切断する。これにより図1の半導体パッケージ1が多数個得られる。
【0042】
半導体パッケージ1の上に積層する他の半導体パッケージ1X、1Yは、上記の工程1〜7を一部変更した下記の手順で作製する。
【0043】
まず、パッケージ1上に積層するパッケージ1Xは、図6(3)に示すように、ベース配線基板12の下面にはパッケージ1の上面外部接続端子18の位置に対応して中央部付近にのみ外部接続端子(はんだボール)10Xを設けた構造である。図1のパッケージ1と共通する部位には図1と同じ参照符号を付した。
【0044】
パッケージ1Xを作製するには、工程1(図5(1))においてベース配線基板12として、パッケージ1上面の外部接続端子18に対応する位置にのみ下面の外部接続端子用パッド10’が設けられているものを用いる。それ以外は、上記工程1〜7と全く同じ工程を行なえばよい。これにより、図6(3)に示したパッケージ1Xが多数個得られる。
【0045】
次に、このパッケージ1X上に積層するパッケージ1Yは、図6(4)に示すように、ベース配線基板12の下面にはパッケージ1Xの上面外部接続端子18の位置に対応して中央部付近にのみ外部接続端子(はんだボール)10Yを設けた構造である。更に、ベース配線基板12上には半導体素子14A、14Bのみが積層されており、パッケージ1や1Xのような最上段の中継用配線基板20は設けず、パッケージ上面には露出領域を設けずに全面が樹脂封止されている。
【0046】
パッケージ1Yを作製するには、工程1(図5(1))においてベース配線基板12として、パッケージ1X上面の外部接続端子18の位置に対応する位置にのみ下面の外部接続端子用パッド10’が設けられているものを用いる。工程1〜2と同様の操作により半導体素子14A、14Bを順次ダイボンドした後、工程3は省略し、工程4と同様の操作により半導体素子14A、14Bとベース配線基板12とのワイヤボンドを行う。これにより、図5(4)において中継用配線基板20、対応する接着剤層16、対応するボンディングワイヤ22を省略した状態になる。次いで、工程5と同様の操作により樹脂封止を行なう。ただし、パッケージ1、1Xのような露出領域は残さずに、ベース配線基板12上の全面を樹脂封止する。その後、工程6、7(図6(1)、(2))と同様の操作によりはんだボール搭載、切断分離を行う。これにより、図6(4)に示したパッケージ1Yが多数個得られる。
【0047】
工程8(図4)
最後に、上記で作製したパッケージ1、1X、1Yを順次積層し、パッケージ1Xの下面外部接続端子(はんだボール)10Xによりパッケージ1上にパッケージ1Xをはんだ接合して両者を電気的に接続し、パッケージ1Yの下面外部接続端子(はんだボール)10Yによりパッケージ1X上にパッケージ1Yをはんだ接合して両者を電気的に接続する。
【0048】
これにより、図4に示したパッケージスタック半導体装置40が得られる。
【0049】
なお、実施形態4においては、実施形態1の半導体パッケージ1を積層したパッケージスタック半導体装置40の例を示した。しかし、本発明のパッケージスタック半導体装置はこれに限定する必要はなく、実施形態2または実施形態3の半導体パッケージ2または半導体パッケージ3を実施形態1の半導体パッケージ1と同様に積層してパッケージスタック半導体装置を得ることができる。
【0050】
〔実施形態5〕
図4のパッケージスタック半導体装置40は、同サイズの半導体パッケージ同士を積層した例であるが、下段半導体パッケージにこれよりも小さいサイズの半導体パッケージを積層することもできる。
【0051】
一例として、図7に示したパッケージスタック半導体装置50は、実施形態1の半導体パッケージ1上に、これよりも小さいサイズの半導体パッケージ4を積層してある。半導体パッケージ4は、ベース配線基板12上に半導体素子14Dが接着剤16によりダイボンドされて搭載されており、半導体素子14Dの接続端子14Dpがボンディングワイヤ22によりベース基板12の接続端子12pに電気的に接続されている。
【0052】
上段の半導体パッケージ4のベース配線基板12下面に設けた外部接続端子10と、下段の半導体パッケージ1の上面に設けた外部接続端子18とがはんだ接合されて半導体パッケージ4と半導体パッケージ1とが電気的に接続されている。
【0053】
〔実施形態6〕
本発明の半導体パッケージは、他の電子部品を搭載した形態の半導体パッケージとすることもできる。
【0054】
一例として、図8に示した半導体パッケージ5は、実施形態1の半導体パッケージ1の封止樹脂24から露出した上面の外部接続端子18にキャパシタ、抵抗等の電子部品30をはんだ10により接続して搭載した構造である。
【0055】
なお、実施形態5および実施形態6において、実施形態1の半導体パッケージ1を用いた例を示したが、これに限定する必要はなく、実施形態2または実施形態3の半導体パッケージ2または半導体パッケージ3も同様に用いることができる。
【0056】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、複雑な電気的接続を必要とせずに複数個のパッケージを積層可能にする複数の半導体素子を搭載した半導体パッケージおよびこの半導体パッケージを複数個積層したパッケージスタック半導体装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の一実施形態による半導体パッケージの断面図である。
【図2】図2は、本発明の他の実施形態による半導体パッケージの断面図である。
【図3】図3は、本発明の更にもう1つの実施形態による半導体パッケージの断面図である。
【図4】図4は、本発明の半導体パッケージを複数積層したパッケージスタック半導体装置の一実施形態を示す断面図である。
【図5】図5(1)〜(5)は、本発明の半導体パッケージおよびパッケージスタック半導体装置を作製する工程を示す断面図である。
【図6】図6(1)〜(4)は、図5(5)の工程に次いで行なう工程(図6(1)、(2))および積層する他のパッケージ(図6(3)、(4))をそれぞれ示す断面図である。
【図7】図7は、本発明のパッケージスタック半導体装置の他の態様を示す断面図である。
【図8】図8は、本発明の半導体パッケージの別の態様を示す断面図である。
【符号の説明】
1、1X、1Y、5…本発明の半導体パッケージ
10…パッケージ下面の外部接続端子(はんだボール)
10’…外部接続端子用パッド
12…ベース配線基板
12p…ベース配線基板12のワイヤボンド用接続端子
14A、14B、14C、14D…半導体素子
14Ap、14Bp、14Cp、14Dp…半導体素子14A、14B、14C、14Dのワイヤボンド用接続端子
16…ダイボンド用接着剤
18…パッケージ上面の外部接続端子
20…中継用配線基板
20p…中継用配線基板20のワイヤボンド用接続端子
22…ボンディングワイヤ
24…封止樹脂
26…再配線層
40、50…パッケージスタック半導体装置
Claims (6)
- 下面に外部接続端子を備えたベース配線基板上に半導体素子がダイボンドされ、該半導体素子上には、上面に外部接続端子を備えた中継用配線基板が更にダイボンドされ、前記半導体素子および中継用配線基板はそれぞれ上面に備えた接続端子がワイヤボンドによりベース配線基板上面の接続端子に接続され、上記中継用配線基板の外部接続端子が露出するように封止されていることを特徴とする半導体パッケージ。
- 請求項1記載の半導体パッケージにおいて、前記ベース配線基板上に複数の半導体素子がダイボンドにより積層されていることを特徴とする半導体パッケージ。
- 請求項1または2記載の半導体パッケージにおいて、前記中継用配線基板に代えて、前記半導体素子は上面に外部接続端子を含む再配線を備えた半導体素子がダイボンドされており、各半導体素子はそれぞれ上面に備えた接続端子がワイヤボンドによりベース配線基板上面の接続端子に接続され、上記最上段半導体素子の外部接続端子が露出するように封止されていることを特徴とする半導体パッケージ。
- 請求項1から3までのいずれか1項記載の半導体パッケージにおいて、最下段の半導体素子はダイボンドに代えてフリップチップボンドによりベース配線基板に接続されていることを特徴とする半導体パッケージ。
- 請求項1から4までのいずれか1項記載の半導体パッケージが複数個積層され、下段半導体パッケージの封止部材から露出した上面の外部接続端子と、上段半導体パッケージのベース配線基板下面の外部接続端子とが接合されて上段半導体パッケージと下段半導体パッケージとが電気的に接続されていることを特徴とするパッケージスタック半導体装置。
- 請求項1から4までのいずれか1項記載の半導体パッケージの封止部材から露出した上面の外部接続端子に他の電子部品が接続されて搭載されていることを特徴とする半導体パッケージ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002332582A JP2004172157A (ja) | 2002-11-15 | 2002-11-15 | 半導体パッケージおよびパッケージスタック半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002332582A JP2004172157A (ja) | 2002-11-15 | 2002-11-15 | 半導体パッケージおよびパッケージスタック半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004172157A true JP2004172157A (ja) | 2004-06-17 |
Family
ID=32697564
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002332582A Pending JP2004172157A (ja) | 2002-11-15 | 2002-11-15 | 半導体パッケージおよびパッケージスタック半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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