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JP2003323152A - Driver circuit and el (electroluminescence) display device - Google Patents

Driver circuit and el (electroluminescence) display device

Info

Publication number
JP2003323152A
JP2003323152A JP2002127533A JP2002127533A JP2003323152A JP 2003323152 A JP2003323152 A JP 2003323152A JP 2002127533 A JP2002127533 A JP 2002127533A JP 2002127533 A JP2002127533 A JP 2002127533A JP 2003323152 A JP2003323152 A JP 2003323152A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transistor
current
pixel
signal line
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002127533A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Takahara
博司 高原
Atsuhiro Yamano
敦浩 山野
Hitoshi Tsuge
仁志 柘植
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Display Central Inc
Original Assignee
Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd filed Critical Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd
Priority to JP2002127533A priority Critical patent/JP2003323152A/en
Publication of JP2003323152A publication Critical patent/JP2003323152A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Shift Register Type Memory (AREA)
  • Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)
  • Control Of El Displays (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a driver circuit having a shift register circuit with clock stoppage whose blanking period is short. <P>SOLUTION: This driver circuit is the source driver circuit of a matrix type display device. The source driver is provided with a latch circuit for latching display data by the rising of a fundamental clock and a shift register with clock stoppage and only the shift register of the first stage is provided with a circuit which does not output shift register output but outputs a start pulse whose length is adjusted to a length equivalent to two clocks of the fundamental clock. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明の主として自発光で画
像を表示するEL表示パネルなどとこれらのEL表示パ
ネルなどを用いた携帯電話などの情報表示装置などに関
するものである。また、EL表示パネルなどを駆動する
駆動回路に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention mainly relates to an EL display panel which displays an image by self-luminous display and an information display device such as a mobile phone which uses these EL display panels. The present invention also relates to a drive circuit that drives an EL display panel and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示パネルは、薄型で低消費電力と
いう利点から、携帯用機器等に多く採用されているた
め、ワードプロセッサやパーソナルコンピュータ、テレ
ビ(TV)などの機器や、ビデオカメラのビューファイ
ンダ、モニターなどにも用いられている。
2. Description of the Related Art Liquid crystal display panels are widely used in portable devices and the like because of their thinness and low power consumption. Therefore, devices such as word processors, personal computers, televisions (TV), and viewfinders for video cameras are used. It is also used for monitors.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、液晶表示パネ
ルは、自発光デバイスではないため、バックライトを用
いないと画像を表示できないという問題点がある。バッ
クライトを構成するためには所定の厚みが必要であるた
め、表示モジュールの厚みが厚くなるという問題があっ
た。また、液晶表示パネルでカラー表示を行うために
は、カラーフィルターを使用する必要がある。そのた
め、光利用効率が低いという問題点があった。また、色
再現範囲が狭いという問題点があった。
However, since the liquid crystal display panel is not a self-luminous device, there is a problem that an image cannot be displayed unless a backlight is used. Since a predetermined thickness is required to form the backlight, there is a problem that the display module becomes thick. Further, in order to perform color display on the liquid crystal display panel, it is necessary to use a color filter. Therefore, there is a problem that the light utilization efficiency is low. There is also a problem that the color reproduction range is narrow.

【0004】近年、有機EL(エレクトロルミネッセン
ス)表示パネルが開発されてきている。有機EL表示パ
ネルは、低温ポリシリコンTFT(薄膜トランジスタ)
アレイを用いてパネルを構成する。しかし、有機ELデ
バイスは、電流により発光するため、TFTの特性にバ
ラツキがあると、表示ムラが発生するという課題があっ
た。
In recent years, organic EL (electroluminescence) display panels have been developed. The organic EL display panel is a low temperature polysilicon TFT (thin film transistor)
A panel is constructed using the array. However, since the organic EL device emits light by electric current, there is a problem that display unevenness occurs if the TFT characteristics vary.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の第1の本発明(請求項1に対応)は、ソース信号線を
駆動するドライバー回路であって、原振クロックの立ち
上がりで表示データをラッチするラッチ回路と、クロッ
ク停止付きシフトレジスタを具備し、第1段のシフトレ
ジスタのシフトレジスタ出力と、前記原振クロックの2
クロック分の長さに調整されたスタートパルスを出力す
る回路を具備するドライバー回路である。
A first aspect of the present invention (corresponding to claim 1) for solving the above-mentioned problems is a driver circuit for driving a source signal line, wherein display data is displayed at a rising edge of an original clock. And a shift register with a clock stop, the shift register output of the first stage shift register and the original clock 2
The driver circuit includes a circuit that outputs a start pulse adjusted to the length of a clock.

【0006】第2の本発明(請求項2に対応)は、自段
のシフトレジスタの正転出力信号と後段シフトレジスタ
の反転出力信号との論理積をシフトレジスタの出力信号
とする第1の本発明のドライバー回路である。
According to a second aspect of the present invention (corresponding to claim 2), the logical product of the normal output signal of the shift register of its own stage and the inverted output signal of the latter stage shift register is used as the output signal of the shift register. It is a driver circuit of the present invention.

【0007】第3の本発明(請求項3に対応)は、最終
段のシフトレジスタの後段にダミーのシフトレジスタを
具備する第1の本発明のドライバー回路である。
A third aspect of the present invention (corresponding to claim 3) is the driver circuit according to the first aspect of the present invention, which is provided with a dummy shift register in a subsequent stage of the final stage shift register.

【0008】第4の本発明(請求項4に対応)は、シフ
トレジスタの正転出力信号と、自段のシフトレジスタの
正転出力信号の論理和により、自段のシフトレジスタの
クロック信号の入力を遮断する第1の本発明のドライバ
ー回路である。
According to a fourth aspect of the present invention (corresponding to claim 4), the clock signal of the shift register of the self stage is obtained by the logical sum of the normal output signal of the shift register and the normal output signal of the shift register of the self stage. It is a driver circuit according to the first aspect of the present invention that cuts off an input.

【0009】第5の本発明(請求項5に対応)は、原振
クロックの1クロック長のリセット信号を発生するリセ
ット回路において、入力されたスタートパルスを原振ク
ロックの立ち上がりで保持する第1のD型フリップフロ
ップの正転出力と、前記正転出力を原振クロックの立ち
上がりで保持する第2のD型フリップフロップの反転出
力との反転論理積で構成される第1の本発明のドライバ
ー回路である。
According to a fifth aspect of the present invention (corresponding to claim 5), in a reset circuit for generating a reset signal having one clock length of an original clock, the input start pulse is held at the rising edge of the original clock. Driver according to the first aspect of the present invention, which is configured by inverting AND of the non-inverted output of the D-type flip-flop and the inversion output of the second D-type flip-flop that holds the non-inverted output at the rising edge of the original clock. Circuit.

【0010】第6の本発明(請求項6に対応)は、原振
クロックを前記原振クロックの立下りで分周する第3の
D型のフリップフロップと、前記原振クロックの1クロ
ック長のリセット信号により生成される第1の本発明の
ドライバー回路である。
According to a sixth aspect of the present invention (corresponding to claim 6), a third D-type flip-flop for dividing the original clock by the falling edge of the original clock and one clock length of the original clock. 2 is a driver circuit of the first aspect of the present invention generated by the reset signal of FIG.

【0011】第7の本発明(請求項7に対応)は、原振
クロックの1クロック長のリセット信号の反転信号と、
その反転信号を原振クロックの立ち上がりで保持する第
4のD型フリップフロップの正転出力との論理和で構成
される第1の本発明のドライバー回路である。
According to a seventh aspect of the present invention (corresponding to claim 7), an inversion signal of a reset signal of one clock length of an original clock,
The driver circuit according to the first aspect of the present invention is constituted by a logical sum of the inverted signal and the non-inverted output of the fourth D-type flip-flop which holds the inverted signal at the rising edge of the original clock.

【0012】第8の本発明(請求項8に対応)は、シフ
トクロックをブランキング期間の間、停止することを特
徴とする第7の本発明のドライバー回路である。
An eighth aspect of the present invention (corresponding to claim 8) is the driver circuit according to the seventh aspect of the present invention, wherein the shift clock is stopped during the blanking period.

【0013】第9の本発明(請求項9に対応)は、ブラ
ンキング期間の間、シフトクロックを停止させる手段と
して、最終段のシフトレジスタの出力信号を原振クロッ
クの立ち上がりで保持する第5のD型フリップフロップ
の正転出力により、前記第1のD型フリップフロップの
分周動作を停止させ、またリセット信号により前記第5
のD型フリップフロップをリセットすることにより、前
記第1のD型フリップフロップの分周動作を開始させる
第7の本発明のドライバー回路である。
In a ninth aspect of the present invention (corresponding to claim 9), the fifth aspect of the present invention is to hold the output signal of the shift register at the final stage at the rising of the original clock as means for stopping the shift clock during the blanking period. The normal output of the D-type flip-flop stops the frequency dividing operation of the first D-type flip-flop, and the fifth signal is reset by the reset signal.
Is a driver circuit according to the seventh aspect of the present invention, wherein the frequency dividing operation of the first D-type flip-flop is started by resetting the D-type flip-flop.

【0014】第10の本発明(請求項10に対応)は、
第1〜9の本発明のいずれかのドライバー回路と、マト
リックス状に配置されたEL素子とを具備するEL表示
装置である。
The tenth invention of the present invention (corresponding to claim 10) is
An EL display device including the driver circuit according to any one of the first to ninth aspects of the present invention and EL elements arranged in a matrix.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本明細書において各図面は理解を
容易にまたは/および作図を容易にするため、省略また
は/および拡大縮小した箇所がある。たとえば、図11
に図示する表示パネルの断面図では封止膜111などを
十分厚く図示している。一方、図10において、封止フ
タ85は薄く図示している。また、省略した箇所もあ
る。たとえば、本発明の表示パネルなどでは、不要光の
反射防止のための位相フィルムなどを省略していが、適
時付加することが望ましい。以上のことは以下の図面に
対しても同様である。また、同一番号または、記号等を
付した箇所は同一もしくは類似の形態もしくは材料ある
いは機能もしくは動作を有する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the present specification, each drawing has a portion omitted or / and enlarged or reduced in order to facilitate understanding and / or drawing. For example, in FIG.
In the cross-sectional view of the display panel shown in FIG. 1, the sealing film 111 and the like are shown sufficiently thick. On the other hand, in FIG. 10, the sealing lid 85 is thinly illustrated. In addition, some parts are omitted. For example, in the display panel and the like of the present invention, a phase film or the like for preventing reflection of unnecessary light is omitted, but it is desirable to add it at a proper time. The above also applies to the following drawings. Further, the parts having the same numbers or symbols have the same or similar forms or materials or functions or operations.

【0016】なお、各図面等で説明した内容は特に断り
がなくとも、他の実施例等と組み合わせることができ
る。たとえば、図8の表示パネルにタッチパネルなどを
付加し、図19、図59から図61に図示する情報表示
装置とすることができる。また、拡大レンズ582を取
り付けビデオカメラ(図59など参照のこと)などに用
いるビューファインダ(図58を参照のこと)を構成す
ることもできる。また、図4、図15、図18、図2
1、図23などで説明した本発明の駆動方法は、いずれ
の本発明の表示装置または表示パネルに適用することが
できる。つまり、本明細書で記載された駆動方法は本発
明の表示パネルに適用することができる。また、本発明
は各画素にトランジスタが形成されたアクティブマトリ
ックス型表示パネルを主に説明するがこれに限定するも
のではなく、単純マトリックス型にも適用することがで
きることはいうまでもない。
The contents described in the drawings and the like can be combined with other embodiments, etc., unless otherwise specified. For example, a touch panel or the like may be added to the display panel of FIG. 8 to provide the information display device illustrated in FIGS. 19 and 59 to 61. Further, a viewfinder (see FIG. 58) to which a magnifying lens 582 is attached and which is used in a video camera (see FIG. 59 or the like) can be configured. In addition, FIG. 4, FIG. 15, FIG.
The driving method of the present invention described with reference to FIG. 1 and FIG. 23 can be applied to any display device or display panel of the present invention. That is, the driving method described in this specification can be applied to the display panel of the present invention. Further, the present invention mainly describes an active matrix type display panel in which a transistor is formed in each pixel, but the present invention is not limited to this, and it goes without saying that it can be applied to a simple matrix type.

【0017】このように特に明細書中に例示されていな
くとも、明細書、図面中で記載あるいは説明した事項、
内容、仕様は、互いに組み合わせて請求項に記載するこ
とができる。すべての組み合わせについて明細書などで
記述することは不可能であるからである。
As described above, even if not specifically illustrated in the specification, matters described or explained in the specification and drawings,
The contents and specifications can be combined with each other and described in the claims. This is because it is impossible to describe all combinations in the specification or the like.

【0018】近年、低消費電力でかつ高表示品質であ
り、更に薄型化が可能な表示パネルとして、有機エレク
トロルミネッセンス(EL)素子の複数をマトリクス状
に配列して構成される有機EL表示パネルが注目されて
いる。有機EL表示パネルは、図10に示すように、画
素電極としての透明電極105が形成されたガラス板7
1(アレイ基板)上に、電子輸送層、発光層、正孔輸送
層などからなる少なくとも1層の有機機能層(EL層)
15、及び金属電極(反射膜)(カソード)106が積
層されたものである。透明電極(画素電極)105であ
る陽極(アノード)にプラス、金属電極(反射電極)1
06の陰極(カソード)にマイナスの電圧を加え、すな
わち、透明電極105及び金属電極106間に直流を印
加することにより、有機機能層(EL層)15が発光す
る。良好な発光特性を期待することのできる有機化合物
を有機機能層に使用することによって、EL表示パネル
が実用に耐えうるものになっている。なお、本発明は有
機EL表示パネルを例にして説明をするが、これに限定
するものではなく、無機EL表示パネルにも適用するこ
とができる。また、構造、回路などはTN液晶表示パネ
ル、STN液晶表示パネルなど、他の表示パネルにも適
用できる事項がある。
In recent years, as a display panel which has low power consumption and high display quality and can be further thinned, an organic EL display panel constituted by arranging a plurality of organic electroluminescence (EL) elements in a matrix form. Attention has been paid. As shown in FIG. 10, the organic EL display panel has a glass plate 7 on which transparent electrodes 105 as pixel electrodes are formed.
1 (array substrate) on which at least one organic functional layer (EL layer) including an electron transport layer, a light emitting layer, a hole transport layer, etc.
15 and a metal electrode (reflection film) (cathode) 106 are laminated. A positive electrode (anode) which is a transparent electrode (pixel electrode) 105, and a metal electrode (reflection electrode) 1
By applying a negative voltage to the cathode of 06, that is, by applying a direct current between the transparent electrode 105 and the metal electrode 106, the organic functional layer (EL layer) 15 emits light. By using an organic compound, which can be expected to have good light emitting characteristics, in the organic functional layer, the EL display panel can be put to practical use. Although the present invention is described by taking an organic EL display panel as an example, the present invention is not limited to this and can be applied to an inorganic EL display panel. In addition, there are some items such as structures and circuits that can be applied to other display panels such as a TN liquid crystal display panel and an STN liquid crystal display panel.

【0019】カソード電極、アノード電極あるいは反射
膜は、ITO電極に誘電体多層膜からなる光学的干渉膜
を形成して構成してもよい。誘電体多層膜は低屈折率の
誘電体膜と高屈折率の誘電体膜とを交互に多層に形成し
たものである。つまり、誘電体ミラーである。この誘電
体多層膜は有機EL構造から放射される光の色調を良好
なもの(フィルタ効果)にする機能を有する。なお、透
明電極のITOはIZOなどの他の材料でもよい。この
事項は画素電極に対しても同様である。
The cathode electrode, the anode electrode or the reflection film may be formed by forming an optical interference film made of a dielectric multilayer film on the ITO electrode. The dielectric multilayer film is formed by alternately forming a low refractive index dielectric film and a high refractive index dielectric film. That is, it is a dielectric mirror. This dielectric multilayer film has a function of improving the color tone of light emitted from the organic EL structure (filter effect). The ITO of the transparent electrode may be another material such as IZO. The same applies to the pixel electrode.

【0020】アノードあるいはカソードへ電流を供給す
る配線(図8のカソード配線86、アノード配線87)
には大きな電流が流れる。たとえば、EL表示装置の画
面サイズが40インチサイズになると100(A)程度
の電流が流れる。したがって、これらの配線の抵抗値は
十分低く作製する必要がある。この課題に対して、本発
明では、まず、アノードなどの配線を薄膜で形成する。
そして、この薄膜配線に電解めっき技術あるいは無電解
めっき技術で導体の厚みを厚く形成している。めっき金
属としては、クロム、ニッケル、金、銅、アルミあるい
はこれらの合金、アマンガムもしくは積層構造などが例
示される。また、必要に応じて、配線そのもの、あるい
は配線に銅薄からなる金属配線を付加している。また、
配線の上に銅ペーストなどをスクリーン印刷し、ペース
トなどを積層させることにより配線の厚みを厚くし、配
線抵抗を低下させる。また、ボンディング技術で配線を
重複して形成し、配線を補強してもよい。また、必要に
応じて、配線に積層してグランドパターンを形成し、配
線との間にコンデンサ(容量)を形成してもよい。
Wiring for supplying current to the anode or cathode (cathode wiring 86, anode wiring 87 in FIG. 8)
A large current flows through. For example, when the screen size of the EL display device becomes 40 inches, a current of about 100 (A) flows. Therefore, the resistance value of these wirings must be made sufficiently low. With respect to this problem, in the present invention, first, the wiring such as the anode is formed of a thin film.
Then, the thin-film wiring is formed with a thick conductor by electrolytic plating or electroless plating. Examples of the plating metal include chromium, nickel, gold, copper, aluminum, alloys thereof, amangum, and a laminated structure. If necessary, the wiring itself or a metal wiring made of thin copper is added to the wiring. Also,
A copper paste or the like is screen-printed on the wiring and the paste or the like is laminated to increase the thickness of the wiring and reduce the wiring resistance. Alternatively, the wiring may be formed redundantly by a bonding technique to reinforce the wiring. Further, if necessary, a ground pattern may be formed by stacking on the wiring to form a capacitor (capacitance) between the wiring and the wiring.

【0021】また、アノードあるいはカソード配線に大
きな電流を供給するため、電流供給手段から高電圧で小
電流の電力配線で、前記アノード配線などの近傍まで配
線し、DCDCコンバータなどを用いて低電圧、高電流
に電力変換して供給している。つまり、電源から高電
圧、小電流配線で電力消費対象まで配線し、電力消費対
象の近傍で大電流、低電圧に変換する。このようなもの
として、DCDCコンバータ、トランスなどが例示され
る。
Further, in order to supply a large current to the anode or cathode wiring, a high-voltage, small-current power wiring is connected from the current supply means to the vicinity of the anode wiring or the like, and a low voltage is supplied by using a DCDC converter or the like. The power is converted into a high current and supplied. That is, the power supply is wired to the power consumption target with a high voltage, small current wiring, and converted into a large current and a low voltage near the power consumption target. As such a thing, a DCDC converter, a transformer, etc. are illustrated.

【0022】金属電極106には、リチウム、銀、アル
ミニウム、マグネシウム、インジウム、銅または各々の
合金等の仕事関数が小さなものを用いることが好まし
い。特に、例えばAl−Li合金を用いることが好まし
い。また、透明電極105には、ITO等の仕事関数の
大きな導電性材料または金等を用いることができる。な
お、金を電極材料として用いた場合、電極は半透明の状
態となる。なお、ITOはIZOなどの他の材料でもよ
い。この事項は他の画素電極105に対しても同様であ
る。
As the metal electrode 106, it is preferable to use one having a small work function such as lithium, silver, aluminum, magnesium, indium, copper or an alloy of each. In particular, it is preferable to use, for example, an Al-Li alloy. Further, for the transparent electrode 105, a conductive material having a large work function such as ITO or gold can be used. When gold is used as the electrode material, the electrode becomes semitransparent. The ITO may be another material such as IZO. The same applies to the other pixel electrodes 105.

【0023】なお、画素電極105などに薄膜を蒸着す
る際は、アルゴン雰囲気中で有機EL膜15を成膜する
とよい。また、画素電極105としてのITO上にカー
ボン膜を20以上50nm以下で成膜することにより、
界面の安定性が向上し、発光輝度および発光効率も良好
なものとなる。また、EL膜15は蒸着で形成すること
に限定するものではなく、インクジェットで形成しても
よいことは言うまでもない。特に高分子有機EL材料で
はこのインクジェット工法は有効である。この場合は、
高分子有機EL材料を塗布する箇所に親水膜を形成して
おくとよい。
When depositing a thin film on the pixel electrode 105 or the like, the organic EL film 15 may be formed in an argon atmosphere. Further, by forming a carbon film with a thickness of 20 nm or more and 50 nm or less on ITO as the pixel electrode 105,
The stability of the interface is improved, and the emission brightness and emission efficiency are also improved. Further, it goes without saying that the EL film 15 is not limited to being formed by vapor deposition and may be formed by inkjet. This inkjet method is particularly effective for high molecular weight organic EL materials. in this case,
It is advisable to form a hydrophilic film at the location where the high molecular weight organic EL material is applied.

【0024】以下、本発明のEL表示パネル構造の理解
を容易とするため、まず、本発明の有機EL表示パネル
の製造方法について説明をする。
In order to facilitate understanding of the structure of the EL display panel of the present invention, a method of manufacturing the organic EL display panel of the present invention will be described first.

【0025】基板85、基板71の放熱性を良くするた
め、基板はサファイアガラスで形成してもよい。また、
熱伝導性のよい薄膜あるいは厚膜を形成したりしてもよ
い。たとえば、ダイヤモンド薄膜(DLCなど)を形成
した基板を使用することが例示される。もちろん、石英
ガラス基板、ソーダガラス基板を用いてもよい。その
他、アルミナなどのセラミック基板を使用したり、銅な
どからなる金属板を使用したり、絶縁膜に金属膜、カー
ボン膜を蒸着あるいは塗布などのコーティングしたりし
たものを用いてもよい。画素電極105を反射型とする
場合は、基板材料としては基板の表面方向より光が出射
される。したがって、ガラス、石英や樹脂等の透明ない
し半透明材料に加えてステンレスなどの非透過材料を用
いることもできる。
In order to improve the heat dissipation of the substrate 85 and the substrate 71, the substrate may be made of sapphire glass. Also,
A thin film or a thick film having good thermal conductivity may be formed. For example, it is exemplified to use a substrate on which a diamond thin film (DLC or the like) is formed. Of course, a quartz glass substrate or a soda glass substrate may be used. Alternatively, a ceramic substrate such as alumina may be used, a metal plate made of copper or the like may be used, or a metal film or a carbon film may be coated on the insulating film by vapor deposition or coating. When the pixel electrode 105 is of a reflective type, the substrate material emits light from the surface direction of the substrate. Therefore, in addition to transparent or translucent materials such as glass, quartz and resin, non-transmissive materials such as stainless steel can be used.

【0026】また、基板85、基板71の外部あるいは
内部に、画素形状に対応してマイクロレンズを形成また
は配置してもよい。マイクロレンズを構成することによ
り、EL膜から放射する光の指向性が狭くなり、高輝度
化を実現することができる。
Further, microlenses may be formed or arranged on the outside or inside of the substrates 85 and 71 in accordance with the pixel shape. By configuring the microlens, the directivity of the light emitted from the EL film is narrowed and high brightness can be realized.

【0027】本発明の実施例では、カソード電極106
などを金属膜で形成するとしたが、これに限定するもの
ではなく、ITO、IZOなどの透明膜で形成してもよ
い。このようにEL素子15のアノードとカソードの両
方の電極を透明電極にすることにより、透明EL表示パ
ネルを構成できる(もちろん、一方を光透過性のある金
属膜で形成してもよい。あるいは、極薄い金属膜をカソ
ード電極とし、このカソード電極上にITOなどの透明
導電体材料を積層して構成してもよい)。金属膜を使わ
ずに透過率を約80%まで上げることにより、文字や絵
を表示しながら表示パネルの向こう側がほとんど透けて
見えるように構成できる。
In the embodiment of the present invention, the cathode electrode 106 is used.
Although the above is formed of a metal film, it is not limited to this and may be formed of a transparent film such as ITO or IZO. Thus, a transparent EL display panel can be constructed by using both the anode and cathode electrodes of the EL element 15 as transparent electrodes (of course, one of them may be formed of a light-transmissive metal film. Alternatively, an extremely thin metal film may be used as a cathode electrode, and a transparent conductor material such as ITO may be laminated on the cathode electrode). By increasing the transmittance to about 80% without using a metal film, it is possible to display characters and pictures while allowing the other side of the display panel to be almost transparent.

【0028】基板85、71はプラスチック基板を用い
てもよいことは言うまでもない。プラスチック基板はわ
れにくく、また、軽量のため携帯電話の表示パネル用基
板として最適である。プラスチック基板は、芯材となる
ベース基板の一方の面に補助の基板を接着剤で貼り合わ
せて積層基板として用いることが好ましい。もちろん、
これらの基板等は板に限定するものではなく、厚さ0.
05mm以上0.3mm以下のフィルムでもよい。
Needless to say, the substrates 85 and 71 may be plastic substrates. Since the plastic substrate is hard to break and is lightweight, it is optimal as a substrate for a display panel of a mobile phone. The plastic substrate is preferably used as a laminated substrate by adhering an auxiliary substrate to one surface of a base substrate which is a core material with an adhesive. of course,
These substrates and the like are not limited to plates and have a thickness of 0.
A film having a thickness of 05 mm or more and 0.3 mm or less may be used.

【0029】ベース基板の基板として、脂環式ポリオレ
フィン樹脂を用いることが好ましい。このような脂環式
ポリオレフィン樹脂として日本合成ゴム社製ARTON
の厚さ200μmの1枚板が例示される。ベース基板の
一方の面に、耐熱性、耐溶剤性または耐透湿性機能を持
つハードコート層、および耐透気性機能を持つガスバリ
ア層が形成されたポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂
あるいはポリエーテルスルホン樹脂などからなる補助の
基板(あるいはフィルムもしくは膜)を配置する。
An alicyclic polyolefin resin is preferably used as the base substrate. As such an alicyclic polyolefin resin, ARTON manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.
An example is a single plate having a thickness of 200 μm. From a polyester resin, polyethylene resin or polyether sulfone resin, etc., on one surface of the base substrate, a hard coat layer having heat resistance, solvent resistance or moisture permeation resistance function and a gas barrier layer having air permeation resistance function are formed. Place an auxiliary substrate (or film or membrane) that will become.

【0030】以上のように基板71などをプラスチック
で構成する場合は、基板71などはベース基板と補助基
板から構成する。ベース基板の他方の面に、前述と同様
にハードコート層およびガスバリア層が形成されたポリ
エーテルスルホン樹脂などからなる補助基板(あるいは
フィルムもしくは膜)を配置する。補助基板の光学的遅
相軸と補助基板の光学的遅相軸とのなす角度が90度と
なるようにすることが好ましい。なお、ベース基板と補
助基板とは接着剤もしくは粘着剤を介して貼り合わせて
積層基板とする。
When the substrate 71 and the like are made of plastic as described above, the substrate 71 and the like are made up of a base substrate and an auxiliary substrate. On the other surface of the base substrate, an auxiliary substrate (or film or film) made of polyethersulfone resin or the like having a hard coat layer and a gas barrier layer formed thereon is arranged as described above. It is preferable that the angle formed by the optical slow axis of the auxiliary substrate and the optical slow axis of the auxiliary substrate be 90 degrees. Note that the base substrate and the auxiliary substrate are attached to each other with an adhesive or a pressure-sensitive adhesive to form a laminated substrate.

【0031】接着剤としてはUV(紫外線)硬化型でア
クリル系の樹脂からなるものを用いることが好ましい。
また、アクリル樹脂はフッ素基を有するものを用いるこ
とが好ましい。その他、エポキシ系の接着剤あるいは粘
着剤を用いてもよい。接着剤あるいは粘着剤の屈折率は
1.47以上1.54以下のものを用いることが好まし
い。また、基板の屈折率との屈折率差が0.03以下と
なるようにすることが好ましい。特に接着剤は先に記載
いたような酸化チタンなどの光拡散材を添加し、光散乱
層として機能させることが好ましい。
As the adhesive, it is preferable to use a UV (ultraviolet) curing type acrylic resin.
Further, it is preferable to use an acrylic resin having a fluorine group. Besides, an epoxy adhesive or pressure-sensitive adhesive may be used. It is preferable to use an adhesive or pressure-sensitive adhesive having a refractive index of 1.47 or more and 1.54 or less. Further, it is preferable that the difference between the refractive index of the substrate and the refractive index of the substrate is 0.03 or less. In particular, it is preferable that the adhesive be added with a light diffusing material such as titanium oxide as described above to function as a light scattering layer.

【0032】補助基板および補助基板をベース基板に貼
り合わせる際には、補助基板の光学的遅相軸と補助基板
の光学的遅相軸とがなす角度を45度以上120度以下
にすることが好ましい。さらに好ましくは80度以上1
00度以下することがよい。この範囲にすることによ
り、補助基板および補助基板であるポリエーテルスルホ
ン樹脂などで発生する位相差を積層基板内で完全に打ち
消すことができる。したがって、表示パネル用プラスチ
ック基板は位相差の無い等方性基板として扱うことがで
きるようになる。したがって、円偏光板を使用した構成
で、位相状態が異なることによる表示パネルのムラが発
生しない。もちろん、円偏光板に関する事項は、基板が
プラスチックに限定されるものではなく、ガラス基板の
場合にも有効であることは言うまでもない。基板表面で
反射する外光によるコントラスト低下を有効に抑制など
できるからである。
When the auxiliary substrate and the auxiliary substrate are attached to the base substrate, the angle between the optical slow axis of the auxiliary substrate and the optical slow axis of the auxiliary substrate should be 45 degrees or more and 120 degrees or less. preferable. More preferably 80 degrees or more 1
It is preferable to set it to 00 degrees or less. Within this range, the phase difference generated in the auxiliary substrate and the auxiliary substrate, such as polyethersulfone resin, can be completely canceled in the laminated substrate. Therefore, the plastic substrate for the display panel can be treated as an isotropic substrate having no phase difference. Therefore, in the configuration using the circularly polarizing plate, unevenness of the display panel due to different phase states does not occur. Needless to say, the matters relating to the circularly polarizing plate are not limited to the plastic substrate, and are valid for a glass substrate. This is because it is possible to effectively suppress deterioration of contrast due to external light reflected on the substrate surface.

【0033】この構成により、位相差を持ったフィルム
基板またはフィルム積層基板に比べて、著しく汎用性が
広がる。つまり、位相差フィルムとを組み合わせること
により直線偏光を楕円偏光に設計どおりに変換できるよ
うになるからである。基板などに位相差があるとこの位
相差により設計値との誤差が発生する。
With this structure, versatility is remarkably widened as compared with a film substrate or a film laminated substrate having a phase difference. That is, by combining with a retardation film, it becomes possible to convert linearly polarized light into elliptically polarized light as designed. If there is a phase difference on the substrate, etc., an error from the design value will occur due to this phase difference.

【0034】ここで、ハードコート層としては、ポリエ
ステル樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂またはア
クリル系樹脂等を用いることができ、ストライプ状電極
(単純マトリックス型EL表示パネル)あるいは画素電
極(アクティブマトリックス型表示パネル)を透明導電
膜の第1のアンダーコート層とを兼ねる。
Here, as the hard coat layer, polyester resin, epoxy resin, urethane resin, acrylic resin or the like can be used, and stripe electrodes (simple matrix type EL display panel) or pixel electrodes (active matrix). The mold display panel) also serves as the first undercoat layer of the transparent conductive film.

【0035】また、ガスバリア層としては、SiO2
SiOxなどの無機材料、またはポリビニールアルコー
ル、ポリイミドなどの有機材料等を用いることができ
る。粘着剤、接着剤などとしては、先に記述したアクリ
ル系の他にエポキシ系接着剤、またはポリエステル系接
着剤等を用いることができる。なお、接着層の厚みは1
00μm以下とする。ただし、基板など表面の凹凸を平
滑化するために10μm以上とすることが好ましい。
Further, as the gas barrier layer, SiO 2 ,
An inorganic material such as SiO x or an organic material such as polyvinyl alcohol or polyimide can be used. As the pressure-sensitive adhesive, the adhesive or the like, an epoxy-based adhesive, a polyester-based adhesive, or the like can be used in addition to the acrylic-based adhesive described above. The thickness of the adhesive layer is 1
It is set to 00 μm or less. However, it is preferably 10 μm or more in order to smooth the surface irregularities of the substrate and the like.

【0036】また、基板71、85などを構成する補助
基板および補助基板として、厚さ40μm以上400μ
mのものを用いることが好ましい。また、補助基板およ
び補助基板の厚さを120μm以下にすることにより、
ポリエーテルスルホン樹脂のダイラインと呼ばれる溶融
押し出し成形時のむらまたは位相差を低く抑えることが
できる。好ましくは、補助基板の厚みを50μm以上8
0μm以下とする。
Further, as an auxiliary substrate constituting the substrates 71 and 85 and an auxiliary substrate, a thickness of 40 μm or more and 400 μm or more
It is preferable to use m. Further, by setting the thickness of the auxiliary substrate and the auxiliary substrate to 120 μm or less,
It is possible to suppress unevenness or phase difference at the time of melt extrusion molding called a die line of polyethersulfone resin. Preferably, the thickness of the auxiliary substrate is 50 μm or more 8
It is set to 0 μm or less.

【0037】次に、この積層基板に、透明導電膜の補助
アンダーコート層としてSiOxを形成し、必要に応じ
て画素電極となるITOからなる透明導電膜をスパッタ
技術で形成する。また、必要に応じて静電気防止として
ITO膜を形成する。このようにして製造した表示パネ
ル用プラスチック基板の透明導電膜は、その膜特性とし
て、シート抵抗値25Ω/□、透過率80%を実現する
ことができる。
Next, on this laminated substrate, SiOx is formed as an auxiliary undercoat layer of a transparent conductive film, and if necessary, a transparent conductive film made of ITO to be a pixel electrode is formed by a sputtering technique. In addition, an ITO film is formed as necessary to prevent static electricity. The transparent conductive film of the plastic substrate for a display panel manufactured as described above can realize a sheet resistance value of 25Ω / □ and a transmittance of 80% as its film characteristics.

【0038】ベース基板の厚さが50μmから100μ
mの薄い場合には、表示パネルの製造工程において、表
示パネル用プラスチック基板が熱処理によってカールし
てしまう。また、回路部品の接続においても良好な結果
は得られない。ベース基板を1枚板で厚さ200μm以
上500μm以下とした場合は、基板の変形がなく平滑
性に優れ、搬送性が良好で、透明導電膜特性も安定す
る。また、回路部品の接続も問題なく実施することがで
きる。さらに、特に厚さは250μm以上450μm以
下がよい。適度な柔軟性と平面性をもっているためと考
えられる。なお、ITOはIZOなどの他の材料でもよ
い。この事項は画素電極に対しても同様である。
The thickness of the base substrate is 50 μm to 100 μm
When m is thin, the display panel plastic substrate is curled by heat treatment in the manufacturing process of the display panel. Also, good results cannot be obtained when connecting circuit components. When the thickness of the base substrate is 200 μm or more and 500 μm or less with one plate, the substrate is not deformed, the smoothness is excellent, the transportability is good, and the transparent conductive film characteristics are stable. Moreover, the connection of the circuit components can be performed without any problem. Furthermore, the thickness is particularly preferably 250 μm or more and 450 μm or less. This is probably because it has appropriate flexibility and flatness. The ITO may be another material such as IZO. The same applies to the pixel electrode.

【0039】なお、基板などとして前述のプラスチック
基板などの有機材料を使用する場合は、光変調層に接す
る面にもバリア層として無機材料からなる薄膜を形成す
ることが好ましい。この無機材料からなるバリア層は、
AIRコートと同一材料で形成することが好ましい。な
お、封止フタ85、基板71と同様に技術あるいは構成
により作製できることは言うまでもない。
When an organic material such as the above-mentioned plastic substrate is used as the substrate or the like, it is preferable to form a thin film made of an inorganic material as a barrier layer also on the surface in contact with the light modulation layer. The barrier layer made of this inorganic material is
It is preferable to use the same material as the AIR coat. Needless to say, the sealing lid 85 and the substrate 71 can be manufactured by the same technique or configuration.

【0040】また、バリア膜を画素電極あるいはストラ
イプ状電極上に形成する場合は、光変調層に印加される
電圧のロスを極力低減させるために低誘電率材料を使用
することが好ましい。たとえば、フッ素を添加したアモ
ルファスカーボン膜(比誘電率2.0〜2.5)が例示
される。その他、JSR社が製造販売しているLKDシ
リーズ(LKD−T200シリーズ(比誘電率2.5〜
2.7)、LKD−T400シリーズ(比誘電率2.0
〜2.2))が例示される。LKDシリーズはMSQ
(methy−silsesquioxane)をベー
スにしたスピン塗布形であり、比誘電率も2.0〜2.
7と低く好ましい。その他、ポリイミド、ウレタン、ア
クリル等の有機材料や、SiNx、SiO2などの無機材
料でもよい。これらのバリア膜材料は補助基板に用いて
もよいことは言うまでもない。
When the barrier film is formed on the pixel electrode or the stripe-shaped electrode, it is preferable to use a low dielectric constant material in order to reduce the loss of the voltage applied to the light modulation layer as much as possible. For example, an amorphous carbon film containing fluorine (relative dielectric constant of 2.0 to 2.5) is exemplified. In addition, the LKD series (LKD-T200 series (dielectric constant 2.5-
2.7), LKD-T400 series (relative permittivity 2.0
~ 2.2)) are exemplified. LKD series is MSQ
(Methy-silsesquioxane) based spin coating type, with a relative dielectric constant of 2.0-2.
It is as low as 7, which is preferable. In addition, organic materials such as polyimide, urethane and acrylic, and inorganic materials such as SiN x and SiO 2 may be used. It goes without saying that these barrier film materials may be used for the auxiliary substrate.

【0041】プラスチックで形成した基板85あるいは
71を用いることにより、割れない、軽量化できるとい
う利点を発揮できる。他に、プレス加工できるという利
点もある。つまり、プレス加工あるいは切削加工により
任意の形状の基板を作製できる。また、融解あるいは化
学薬品処理により任意の形状、厚みに加工することがで
きる。たとえば、円形に形成したり、球形(曲面など)
にしたり、円錐状に加工したりすることが例示される。
また、プレス加工により、基板の製造と同時に、一方の
基板面に凹凸形状を形成し、散乱面の形成、あるいはエ
ンボス加工を行うことができる。
By using the substrate 85 or 71 formed of plastic, it is possible to exert the advantages that it does not break and the weight can be reduced. Another advantage is that it can be pressed. That is, a substrate having an arbitrary shape can be manufactured by pressing or cutting. Further, it can be processed into any shape and thickness by melting or chemical treatment. For example, it can be formed into a circle or a sphere (curved surface, etc.)
It is illustrated that it is formed into a circular shape or is processed into a conical shape.
Further, by press working, at the same time as manufacturing the substrate, it is possible to form a concavo-convex shape on one surface of the substrate and form a scattering surface or embossing.

【0042】また、プラスチックをプレス加工すること
により形成した基板71の穴(図示せず)に、封止フタ
85の位置決めピンを挿入できるように形成することも
容易である。また、基板71内に厚膜技術あるいは薄膜
技術で形成したコンデンサあるいは抵抗などの電気回路
を構成してもよい。また、基板71などに凹部(図示せ
ず)を形成し、基板85に凸部を形成し、この凹部と凸
部とがちょうどはめ込めるように形成することにより、
基板71と基板85とをはめ込みにより一体化すること
ができるように構成してもよい。
It is also easy to form the positioning pin of the sealing lid 85 into the hole (not shown) of the substrate 71 formed by pressing the plastic. Further, an electric circuit such as a capacitor or a resistor formed by the thick film technique or the thin film technique may be formed in the substrate 71. Further, by forming a concave portion (not shown) in the substrate 71 and the like, forming a convex portion in the substrate 85, and forming the concave portion and the convex portion so that they can be fitted exactly,
The substrate 71 and the substrate 85 may be configured to be integrated by fitting.

【0043】ガラス基板を用いた場合は、画素16の周
辺部にELを蒸着する際に使用する土手を形成してい
た。土手(リブ)は樹脂材料を用いて、1.0μm以上
3.5μm以下の厚みで凸部状に形成する。さらに好ま
しくは1.5μm以上2.5μm以下の高さに形成す
る。土手この樹脂からなる土手(凸部)101を基板7
1の形成と同時に作製することもできる。なお、土手1
01材料はアクリル樹脂、ポリイミド樹脂の他、SOG
材料でもよい。土手101は基板71をプレス加工する
際に樹脂の凸部と同時に形成することが好ましい。これ
は基板71などを樹脂で形成することにより発生する大
きな効果である。
When a glass substrate was used, a bank used when depositing EL was formed around the pixel 16. The bank (rib) is made of a resin material and is formed in a convex shape with a thickness of 1.0 μm or more and 3.5 μm or less. More preferably, the height is 1.5 μm or more and 2.5 μm or less. Embankment Embankment 101 made of this resin is used as the substrate 7
It can also be manufactured at the same time as the formation of 1. In addition, bank 1
01 material is acrylic resin, polyimide resin, SOG
Material may be used. It is preferable that the bank 101 is formed at the same time as the convex portion of the resin when the substrate 71 is pressed. This is a great effect generated by forming the substrate 71 and the like with resin.

【0044】このように樹脂部を基板と同時に形成する
ことにより製造時間を短縮できるので低コスト化が可能
である。また、基板71などの製造時に、表示領域部に
ドット状に凸部を形成する。この凸部は隣接画素間に形
成するとよい。この凸部は土手101となる。
By thus forming the resin portion at the same time as the substrate, the manufacturing time can be shortened and the cost can be reduced. In addition, when manufacturing the substrate 71 or the like, a dot-shaped convex portion is formed in the display area portion. This convex portion may be formed between adjacent pixels. This convex portion becomes the bank 101.

【0045】なお、以上の実施例では、土手として機能
する凸部を形成するとしたが、これに限定することはな
い。例えば、画素部をプレス加工などにより掘り下げる
(凹部)としてもよい。なお、平面な基板71を最初に
形成し、その後、再加熱によりプレスして凹凸を形成す
る方式も含まれる。
In the above embodiments, the convex portion functioning as a bank is formed, but the present invention is not limited to this. For example, the pixel portion may be dug down (recessed portion) by pressing or the like. In addition, a method of forming the flat substrate 71 first and then pressing it by reheating to form the unevenness is also included.

【0046】また、基板71、85を直接着色すること
により、モザイク状のカラーフィルターを形成してもよ
い。基板にインクジェット印刷などの技術を用いて染
料、色素などを塗布し、浸透させる。浸透後、高温で乾
燥させ、また、表面をUV樹脂などの樹脂、酸化シリコ
ンあるいは酸化窒素などの無機材料で被覆すればよい。
また、グラビア印刷技術、オフセット印刷技術、スピン
ナーで膜を塗布し、現像する半導体パターン形成技術な
どでカラーフィルターを形成する。同様に技術を用いて
カラーフィルターの他、黒色もしくは暗色あるいは変調
する光の補色の関係にあるの着色によりブラックマトリ
ックス(BM)を直接形成してもよい。また、基板面に
画素に対応するように凹部を形成し、この凹部にカラー
フィルター、BMあるいはトランジスタを埋め込むよう
に構成してもよい。特に表面をアクリル樹脂で被膜する
ことが好ましい。この構成では画素電極面などが平坦化
されるという利点もある。
Alternatively, a mosaic color filter may be formed by directly coloring the substrates 71 and 85. Dyes, pigments, etc. are applied to the substrate by a technique such as ink jet printing and made to penetrate. After permeation, it may be dried at a high temperature, and the surface may be coated with a resin such as a UV resin or an inorganic material such as silicon oxide or nitric oxide.
Further, a color filter is formed by a gravure printing technique, an offset printing technique, a semiconductor pattern forming technique of applying and developing a film with a spinner. Similarly, a black matrix (BM) may be directly formed by a technique using a color filter or coloring by a black or dark color or a complementary color of modulated light. Alternatively, a recess may be formed on the surface of the substrate so as to correspond to the pixel, and a color filter, BM, or transistor may be embedded in the recess. In particular, it is preferable to coat the surface with an acrylic resin. This configuration also has an advantage that the pixel electrode surface and the like are flattened.

【0047】また、導電性ポリマーなどにより基板表面
の樹脂を導電化し、画素電極105あるいはカソード電
極106を直接に構成してもよい。さらに大きくは基板
に穴を開け、この穴にコンデンサなどの電子部品を挿入
する構成も例示される。基板が薄く構成できる利点が発
揮される。
Alternatively, the pixel electrode 105 or the cathode electrode 106 may be directly constructed by making the resin on the substrate surface conductive by using a conductive polymer or the like. More broadly, a configuration in which a hole is formed in a substrate and an electronic component such as a capacitor is inserted into this hole is also exemplified. The advantage is that the substrate can be made thin.

【0048】また、基板の表面を切削することにより、
自由に模様を形成したりしてもよい。また、基板71な
どの周辺部を溶かすことにより形成してもよい。また、
有機EL表示パネルの場合は外部からの水分の進入を阻
止するため、基板の周辺部を溶かして封止してもよい。
By cutting the surface of the substrate,
The pattern may be freely formed. Alternatively, it may be formed by melting the peripheral portion of the substrate 71 or the like. Also,
In the case of an organic EL display panel, in order to prevent moisture from entering from the outside, the peripheral portion of the substrate may be melted and sealed.

【0049】以上のように、基板を樹脂で形成すること
により、基板への穴あけ加工が容易である。また、プレ
ス加工などにより自由に基板形状を構成することができ
る。また、基板71に穴をあけ、この穴に導電樹脂など
を充填し、基板の表と裏とを電気的に導通させたりする
こともできる。基板71などが多層回路基板あるいは両
面基板として利用できる。
As described above, by forming the substrate with resin, it is easy to make a hole in the substrate. Further, the substrate shape can be freely configured by pressing or the like. It is also possible to make a hole in the substrate 71 and fill the hole with a conductive resin or the like to electrically connect the front and back of the substrate. The board 71 or the like can be used as a multilayer circuit board or a double-sided board.

【0050】また、導電樹脂のかわりに導電ピンなどを
挿入してもよい。形成した穴にコンデンサなどの電子部
品の端子を差し込めるように構成してもよい。また、基
板内に薄膜による回路配線、コンデンサ、コイルあるい
は抵抗を形成してもよい。つまり、基板71など自身を
多層の配線基板としてもよい。多層化は薄い基板をはり
あわせることのより構成する。はり合わせる基板(フィ
ルム)の1枚以上を着色してもよい。
A conductive pin or the like may be inserted instead of the conductive resin. You may comprise so that the terminal of electronic components, such as a capacitor, can be inserted in the formed hole. Further, circuit wiring, a capacitor, a coil or a resistor made of a thin film may be formed in the substrate. That is, the substrate 71 or the like may be a multilayer wiring substrate. Multi-layering consists of laminating thin substrates. One or more substrates (films) to be laminated may be colored.

【0051】また、基板材料に染料、色素を加えて基板
自身に着色を行ったり、フィルタを形成したりすること
ができる。また、製造番号を基板作製と同時に形成する
こともできる。また、表示領域以外の部分だけを着色し
たりすることにより、積載したICチップに光が照射さ
れることのより誤動作することを防止できる。
Further, the substrate itself can be colored by adding a dye or pigment to the substrate material, or a filter can be formed. Further, the serial number can be formed at the same time when the substrate is manufactured. Further, by coloring only the portion other than the display area, it is possible to prevent malfunction due to irradiation of light on the mounted IC chips.

【0052】また、基板の表示領域の半分を異なる色に
着色することもできる。これは、樹脂板加工技術(イン
ジェクション加工、コンプレクション加工など)を応用
すればよい。また、同様の加工技術を用いることのより
表示領域の半分を異なるEL層膜厚にすることもでき
る。また、表示部と回路部とを同時に形成することもで
きる。また、表示領域とドライバー積載領域との基板厚
みを変化させることも容易である。
Further, half of the display area of the substrate can be colored with different colors. For this, a resin plate processing technique (injection processing, complexion processing, etc.) may be applied. Further, by using the same processing technique, half of the display area can have different EL layer thicknesses. Further, the display portion and the circuit portion can be formed at the same time. It is also easy to change the substrate thickness between the display area and the driver loading area.

【0053】また、基板71または基板85に、画素に
対応するように、あるいは表示領域に対応するようにマ
イクロレンズを形成することもできる。また、基板7
1、85を加工することにより、回折格子を形成しても
よい。また、画素サイズよりも十分に微細な凹凸を形成
し、視野角を改善したり、視野角依存性を持たせたりす
ることができる。なお、このような任意形状の加工、微
細加工技術などはオムロン(株)が開発したマイクロレ
ンズ形成するスタンパ技術で実現できる。
Further, microlenses can be formed on the substrate 71 or the substrate 85 so as to correspond to pixels or display regions. Also, the substrate 7
The diffraction grating may be formed by processing 1, 85. In addition, it is possible to improve the viewing angle or to provide the viewing angle dependency by forming unevenness finer than the pixel size. It should be noted that such arbitrary shape processing and fine processing technology can be realized by the stamper technology developed by OMRON Corporation for forming microlenses.

【0054】基板71、85が空気と接する面には、反
射防止膜(AIRコート)が形成される。基板71など
に偏光板などが張り付けられていない場合は、基板71
などに直接に反射防止膜(AIRコート)が形成され
る。偏光板(偏光フィルム)など他の構成材料が張り付
けられている場合は、その構成材料の表面などに反射防
止膜(AIRコート)が形成される。
An antireflection film (AIR coat) is formed on the surfaces of the substrates 71 and 85 which come into contact with air. When a polarizing plate or the like is not attached to the substrate 71 or the like, the substrate 71
An antireflection film (AIR coat) is directly formed on the above. When another constituent material such as a polarizing plate (polarizing film) is attached, an antireflection film (AIR coat) is formed on the surface of the constituent material.

【0055】なお、以上の実施例は基板71などがプラ
スチックで形成することを中心として説明したが、これ
に限定するものではない。たとえば、基板71、859
がガラス基板、金属基板であっても、プレス加工、切削
加工などにより、土手101などの凹凸部を形成または
構成できる。また、基板への着色なども可能である。し
たがって、説明した事項はプラスチック基板に限定する
ものではない。また、基板に限定するものでもない。た
とえば、フィルムあるいはシートでもよい。
In the above embodiments, the substrate 71 and the like are mainly made of plastic, but the present invention is not limited to this. For example, the substrates 71 and 859
Even if it is a glass substrate or a metal substrate, it is possible to form or configure the uneven portion such as the bank 101 by pressing or cutting. Further, it is possible to color the substrate. Therefore, the matters described are not limited to plastic substrates. Further, it is not limited to the substrate. For example, it may be a film or a sheet.

【0056】また、偏光板の表面へのごみの付着を防止
あるいは抑制するため、フッ素樹脂からなる薄膜を形成
することが有効である。また、静電防止のために親水基
を有する薄膜、導電性ポリマー膜、金属膜などの導電体
膜を塗布あるいは蒸着してもよい。
Further, in order to prevent or suppress the adhesion of dust to the surface of the polarizing plate, it is effective to form a thin film made of fluororesin. Further, in order to prevent static electricity, a thin film having a hydrophilic group, a conductive polymer film, a conductive film such as a metal film may be applied or deposited.

【0057】なお、表示パネルの光入射面あるいは光出
射面に配置または形成する偏光板(偏光フィルム)は直
線偏光にするものに限定するものではなく、楕円偏光と
なるものであってもよい。また、複数の偏光板をはり合
わせたり、偏光板と位相差板とを組み合わせたり、もし
くははり合わせたものを用いてもよい。
The polarizing plate (polarizing film) arranged or formed on the light incident surface or the light emitting surface of the display panel is not limited to a linearly polarized light, but may be an elliptically polarized light. Further, a plurality of polarizing plates may be laminated, a polarizing plate and a retardation plate may be combined, or a laminated structure may be used.

【0058】偏光フィルムを構成する主たる材料として
はTACフィルム(トリアセチルセルロースフィルム)
が最適である。TACフィルムは、優れた光学特性、表
面平滑性および加工適性を有するからである。
TAC film (triacetyl cellulose film) is the main material for the polarizing film.
Is the best. This is because the TAC film has excellent optical properties, surface smoothness and processability.

【0059】AIRコートは誘電体単層膜もしくは多層
膜で形成する構成が例示される。その他、1.35〜
1.45の低屈折率の樹脂を塗布してもよい。たとえ
ば、フッ素系のアクリル樹脂などが例示される。特に屈
折率が1.37以上1.42以下のものが特性は良好で
ある。
The AIR coat is exemplified by a dielectric single layer film or a multilayer film. Others, 1.35
A resin having a low refractive index of 1.45 may be applied. For example, a fluorinated acrylic resin is exemplified. In particular, those having a refractive index of 1.37 or more and 1.42 or less have good characteristics.

【0060】また、AIRコートは3層の構成あるいは
2層構成がある。なお、3層の場合は広い可視光の波長
帯域での反射を防止するために用いられる。これをマル
チコートと呼ぶ。2層の場合は特定の可視光の波長帯域
での反射を防止するために用いられる。これをVコート
と呼ぶ。マルチコートとVコートは表示パネルの用途に
応じて使い分ける。なお、2層以上の限定するものでは
なく、1層でもよい。
The AIR coat has a three-layer structure or a two-layer structure. In the case of three layers, it is used to prevent reflection in a wide visible wavelength band. This is called a multi coat. In the case of two layers, it is used to prevent reflection in a specific visible light wavelength band. This is called a V coat. The multi coat and the V coat are used properly according to the use of the display panel. The number of layers is not limited to two or more, and one layer may be used.

【0061】マルチコートの場合は酸化アルミニウム
(Al2O3)を光学的膜厚がnd=λ/4、ジルコニ
ウム(ZrO2)をnd1=λ/2、フッ化マグネシウ
ム(MgF2)をnd1=λ/4積層して形成する。通
常、λとして520nmもしくはその近傍の値として薄
膜は形成される。
In the case of multi-coating, aluminum oxide (Al2O3) is laminated to have an optical film thickness of nd = λ / 4, zirconium (ZrO2) is nd1 = λ / 2, and magnesium fluoride (MgF2) is nd1 = λ / 4. To form. Usually, a thin film is formed with λ of 520 nm or a value in the vicinity thereof.

【0062】Vコートの場合は一酸化シリコン(Si
O)を光学的膜厚nd1=λ/4とフッ化マグネシウム
(MgF2)をnd1=λ/4、もしくは酸化イットリ
ウム(Y23)とフッ化マグネシウム(MgF2)をn
d1=λ/4積層して形成する。SiOは青色側に吸収
帯域があるため青色光を変調する場合はY23を用いた
方がよい。また、物質の安定性からもY23の方が安定
しているため好ましい。また、SiO2薄膜を使用して
もよい。もちろん、低屈折率の樹脂等を用いてAIRコ
ートとしてもよい。たとえばフッ素等のアクリル樹脂が
例示される。これらは紫外線硬化タイプを用いることが
好ましい。
In the case of V coat, silicon monoxide (Si
O) is an optical film thickness nd1 = λ / 4 and magnesium fluoride (MgF 2 ) is nd1 = λ / 4, or yttrium oxide (Y 2 O 3 ) and magnesium fluoride (MgF 2 ) are n.
d1 = λ / 4 stacked layers are formed. Since SiO has an absorption band on the blue side, it is preferable to use Y 2 O 3 when modulating blue light. In addition, Y 2 O 3 is more stable in terms of the stability of the substance, which is preferable. Alternatively, a SiO 2 thin film may be used. Of course, the AIR coat may be made by using a resin having a low refractive index. For example, acrylic resin such as fluorine is exemplified. It is preferable to use an ultraviolet curing type of these.

【0063】なお、表示パネルに静電気がチャージされ
ることを防止するため、カバー基板などの導光板、表示
パネルなどの表面に親水性の樹脂を塗布しておくこと、
あるいはパネルなどの基板材料に親水性が良好な材料で
構成しておくことが好ましい。
In order to prevent the display panel from being charged with static electricity, a hydrophilic resin is applied to the surface of the light guide plate such as the cover substrate or the display panel,
Alternatively, it is preferable that the substrate material such as the panel is made of a material having a good hydrophilicity.

【0064】1画素には複数のスイッチング素子あるい
は電流制御素子としての薄膜トランジスタ(トランジス
タ)を形成する。形成するトランジスタは、同じ種類の
トランジスタであってもよいし、Pチャンネル型とNチ
ャンネル型のトランジスタというように、違う種類のト
ランジスタであってもよいが望ましくはスイッチングト
ランジスタ、駆動用トランジスタとも同極性のものが望
ましい。またトランジスタの構造は、プレーナー型のト
ランジスタで限定されるものではなく、スタガー型で
も、逆スタガー型でもよく、また、セルフアライン方式
を用いて不純物領域(ソース、ドレイン)が形成された
ものでも、非セルフアライン方式によるものでもよい。
A thin film transistor (transistor) as a plurality of switching elements or current control elements is formed in one pixel. The transistors to be formed may be transistors of the same type or may be transistors of different types such as P-channel type and N-channel type transistors, but preferably the switching transistor and the driving transistor have the same polarity. The thing of is desirable. In addition, the structure of the transistor is not limited to the planar type transistor, and may be a stagger type or an inverted stagger type, or a structure in which the impurity region (source, drain) is formed by using the self-alignment method, A non-self-aligned method may be used.

【0065】本発明のEL表示素子15は、基板上に、
ホール注入電極(画素電極)となるITO、1種以上の
有機層と、電子注入電極とが順次積層されたEL構造体
を有する。前記基板にはトランジスタが設けられてい
る。
The EL display element 15 of the present invention is formed on a substrate by
It has an EL structure in which ITO serving as a hole injection electrode (pixel electrode), one or more kinds of organic layers, and an electron injection electrode are sequentially stacked. Transistors are provided on the substrate.

【0066】本発明のEL表示素子を製造するには、ま
ず、基板上にトランジスタのアレイを所望の形状に形成
する。そして、平坦化膜上の画素電極として透明電極で
あるITOをスパッタ法で成膜、パターニングする。そ
の後、有機EL層、電子注入電極等を積層する。
To manufacture the EL display element of the present invention, first, an array of transistors is formed in a desired shape on a substrate. Then, ITO, which is a transparent electrode, is formed as a pixel electrode on the flattening film by a sputtering method and patterned. Then, an organic EL layer, an electron injection electrode, etc. are laminated.

【0067】トランジスタとしては、通常の多結晶シリ
コントランジスタを用いればよい。トランジスタは、E
L構造体の各画素の端部に設けられ、その大きさは10
〜30μm程度である。なお、画素の大きさは20μm
×20μm〜300μm×300μm程度である。
As the transistor, an ordinary polycrystalline silicon transistor may be used. The transistor is E
It is provided at the end of each pixel of the L structure and has a size of 10
It is about 30 μm. The pixel size is 20 μm
It is about 20 μm to 300 μm × 300 μm.

【0068】基板71上には、トランジスタの配線電極
が設けられる。配線電極は抵抗が低く、ホール注入電極
を電気的に接続して抵抗値を低く抑える機能があり、一
般的にはその配線電極は、Al、Alおよび遷移金属
(ただしTiを除く)、Tiまたは窒化チタン(Ti
N)のいずれか1種または2種以上を含有するものが使
われるが、本発明においてはこの材料に限られるもので
はない。EL構造体の下地となるホール注入電極とトラ
ンジスタの配線電極とを併せた全体の厚さとしては、特
に制限はないが、通常100〜1000nm程度とすれ
ばよい。
On the substrate 71, wiring electrodes of transistors are provided. The wiring electrode has a low resistance and has a function of electrically connecting the hole injecting electrode to keep the resistance value low. Generally, the wiring electrode is made of Al, Al and a transition metal (excluding Ti), Ti or Titanium nitride (Ti
Materials containing any one or more of N) are used, but the present invention is not limited to this material. The total thickness of the hole injecting electrode, which is the base of the EL structure, and the wiring electrode of the transistor is not particularly limited, but it is usually about 100 to 1000 nm.

【0069】トランジスタ11の配線電極とEL構造体
の有機層との間には絶縁層を設ける。絶縁層は、SiO
2等の酸化ケイ素、窒化ケイ素などの無機系材料をスパ
ッタや真空蒸着で成膜したもの、SOG(スピン・オン
・グラス)で形成した酸化ケイ素層、フォトレジスト、
ポリイミド、アクリル樹脂などの樹脂系材料の塗膜な
ど、絶縁性を有するものであればいずれであってもよ
い。中でもポリイミドが好ましい。また、絶縁層は、配
線電極を水分や腐食から守る耐食・耐水膜の役割も果た
す。
An insulating layer is provided between the wiring electrode of the transistor 11 and the organic layer of the EL structure. The insulating layer is SiO
Silicon oxide such as 2 and silicon nitride, inorganic material such as silicon nitride formed by sputtering or vacuum deposition, SOG (spin on glass) formed silicon oxide layer, photoresist,
Any film having insulation properties such as a coating film of a resin material such as polyimide or acrylic resin may be used. Of these, polyimide is preferable. The insulating layer also plays a role of a corrosion / water resistant film that protects the wiring electrodes from moisture and corrosion.

【0070】EL構造体の発光ピークは2つ以上であっ
てもかまわない。本発明のEL表示素子は、緑および青
色発光部は、例えば、青緑色発光のEL構造体と、緑色
透過層または青色透過層との組み合わせにより得られ
る。赤色発光部は、青緑色発光のEL構造体と、このE
L構造体の青緑発光を赤色に近い波長に変換する蛍光変
換層により得ることができる。
The EL structure may have two or more emission peaks. In the EL display element of the present invention, the green and blue light emitting portions are obtained by, for example, combining a blue green light emitting EL structure with a green transmission layer or a blue transmission layer. The red light emitting portion is composed of a blue green light emitting EL structure and this E structure.
It can be obtained by a fluorescence conversion layer that converts the blue-green emission of the L structure into a wavelength close to red.

【0071】次に、本発明のEL表示素子15を構成す
るEL構造体について説明する。本発明のEL構造体
は、透明電極である電子注入電極と、1種以上の有機層
と、ホール注入電極とを有する。有機層は、それぞれ少
なくとも1層のホール輸送層および発光層を有し、例え
ば、電子注入輸送層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層
を順次有する。なお、ホール輸送層はなくてもよい。本
発明のEL構造体の有機層は、種々の構成とすることが
でき、電子注入・輸送層を省略したり、あるいは発光層
と一体としたり、正孔注入輸送層と発光層とを混合して
もよい。電子注入電極は、蒸着、スパッタ法等、好まし
くは蒸着法で成膜される仕事関数の小さい金属、化合物
または合金で構成される。
Next, the EL structure which constitutes the EL display element 15 of the present invention will be described. The EL structure of the present invention has an electron injection electrode which is a transparent electrode, at least one organic layer, and a hole injection electrode. The organic layer has at least one hole transport layer and at least one light emitting layer, for example, an electron injecting and transporting layer, a light emitting layer, a hole transporting layer, and a hole injecting layer in that order. The hole transport layer may be omitted. The organic layer of the EL structure of the present invention can have various constitutions, such as omitting the electron injecting / transporting layer or integrating with the light emitting layer, or by mixing the hole injecting / transporting layer and the light emitting layer. May be. The electron injection electrode is made of a metal, compound or alloy having a small work function, which is preferably formed by a vapor deposition method such as a vapor deposition method or a sputtering method.

【0072】ホール注入電極としては、ホール注入電極
側から発光した光を取り出す構造であるため、例えば、
ITO(錫ドープ酸化インジウム)、IZO(亜鉛ドー
プ酸化インジウム)、ZnO、SnO2 、In23
等が挙げられるが、特にITO、IZOが好ましい。ホ
ール注入電極の厚さは、ホール注入を十分行える一定以
上の厚さを有すれば良く、通常、10〜500nm程度
とすることが好ましい。素子の信頼性を向上させるため
に駆動電圧が低いことが必要であるが、好ましいものと
して、10〜30Ω/□(膜厚50〜300nm)のI
TOが挙げられる。実際に使用する場合には、ITO等
のホール注入電極界面での反射による干渉効果が、光取
り出し効率や色純度を十分に満足するように、電極の膜
厚や光学定数を設定すればよい。
Since the hole injecting electrode has a structure in which light emitted from the hole injecting electrode side is taken out, for example,
ITO (tin-doped indium oxide), IZO (zinc-doped indium oxide), ZnO, SnO 2 , In 2 O 3
Etc., but ITO and IZO are particularly preferable. The thickness of the hole injecting electrode may be a certain thickness or more capable of sufficiently injecting holes, and normally, it is preferably about 10 to 500 nm. It is necessary that the driving voltage is low in order to improve the reliability of the element, but a preferable value is 10 to 30 Ω / □ (film thickness 50 to 300 nm).
TO is mentioned. In actual use, the film thickness and optical constants of the electrodes may be set so that the interference effect due to reflection at the hole injection electrode interface such as ITO sufficiently satisfies the light extraction efficiency and color purity.

【0073】ホール注入電極は、蒸着法等によっても形
成できるが、スパッタ法により形成することが好まし
い。スパッタガスとしては、特に制限するものではな
く、Ar、He、Ne、Kr、Xe等の不活性ガス、あ
るいはこれらの混合ガスを用いればよい。
The hole injecting electrode can be formed by a vapor deposition method or the like, but is preferably formed by a sputtering method. The sputtering gas is not particularly limited, and an inert gas such as Ar, He, Ne, Kr, Xe, or a mixed gas thereof may be used.

【0074】電子注入電極は、蒸着、スパッタ法等、好
ましくは蒸着法で成膜される仕事関数の小さい金属、化
合物または合金で構成される。成膜される電子注入電極
の構成材料としては例えば、K、Li、Na、Mg、L
a、Ce、Ca、Sr、Ba、Al、Ag、In、S
n、Zn、Zr等の金属元素単体、または安定性を向上
させるためにそれらを含む2成分、3成分の合金系を用
いることが好ましい。合金系としては、例えばAg・M
g(Ag:1〜20at%)、Al・Li(Li:0.
3〜14at%)、In・Mg(Mg:50〜80at
%)、Al・Ca(Ca:5〜20at%)等が好まし
い。
The electron injecting electrode is made of a metal, compound or alloy having a small work function, which is preferably formed by vapor deposition, sputtering or the like. The constituent material of the electron injection electrode to be formed is, for example, K, Li, Na, Mg, L.
a, Ce, Ca, Sr, Ba, Al, Ag, In, S
It is preferable to use a simple metal element such as n, Zn, or Zr, or a two-component or three-component alloy system containing them in order to improve stability. As an alloy system, for example, Ag · M
g (Ag: 1 to 20 at%), Al.Li (Li: 0.
3 to 14 at%), In.Mg (Mg: 50 to 80 at)
%), Al.Ca (Ca: 5 to 20 at%) and the like are preferable.

【0075】電子注入電極薄膜の厚さは、電子注入を十
分行える一定以上の厚さとすれば良く、0.1nm以
上、好ましくは1nm以上とすればよい。また、その上
限値には特に制限はないが、通常、膜厚は100〜50
0nm程度とすればよい。
The thickness of the electron injecting electrode thin film may be a certain thickness or more capable of sufficiently injecting electrons, and may be 0.1 nm or more, preferably 1 nm or more. The upper limit value is not particularly limited, but usually the film thickness is 100 to 50.
It may be about 0 nm.

【0076】正孔注入層は、ホール注入電極からの正孔
の注入を容易にする機能を有し、正孔輸送層は、正孔を
輸送する機能および電子を妨げる機能を有し、電荷注入
層、電荷輸送層とも称される。
The hole injecting layer has a function of facilitating injection of holes from the hole injecting electrode, and the hole transporting layer has a function of transporting holes and a function of hindering electrons, and injects charge. It is also called a layer or a charge transport layer.

【0077】電子注入輸送層は、発光層に用いる化合物
の電子注入輸送機能がさほど高くないときなどに設けら
れ、電子注入電極からの電子の注入を容易にする機能、
電子を輸送する機能および正孔を妨げる機能を有する。
正孔注入層、正孔輸送層および電子注入輸送層は、発光
層へ注入される正孔や電子を増大・閉じ込めさせ、再結
合領域を最適化させ、発光効率を改善する。なお、電子
注入輸送層は、注入機能を持つ層と輸送機能を持つ層と
に別個に設けてもよい。
The electron injecting and transporting layer is provided when the compound used for the light emitting layer does not have a very high electron injecting and transporting function, and the function of facilitating the injection of electrons from the electron injecting electrode,
It has a function of transporting electrons and a function of hindering holes.
The hole injection layer, the hole transport layer, and the electron injection transport layer increase and confine holes and electrons injected into the light emitting layer, optimize the recombination region, and improve the light emission efficiency. Note that the electron injecting and transporting layer may be separately provided in a layer having an injecting function and a layer having a transporting function.

【0078】発光層の厚さ、正孔注入層と正孔輸送層と
を併せた厚さおよび電子注入輸送層の厚さは特に限定さ
れず、形成方法によっても異なるが、通常、5〜100
nm程度とすることが好ましい。
The thickness of the light emitting layer, the combined thickness of the hole injecting layer and the hole transporting layer, and the thickness of the electron injecting and transporting layer are not particularly limited and may vary depending on the forming method.
It is preferably about nm.

【0079】正孔注入層、正孔輸送層の厚さおよび電子
注入輸送層の厚さは、再結合・発光領域の設計による
が、発光層の厚さと同程度もしくは1/10〜10倍程
度とすればよい。正孔注入層、正孔輸送層の厚さ、およ
び、電子注入層と電子輸送層とを分ける場合のそれぞれ
の厚さは、注入層は1nm以上、輸送層は20nm以上
とするのが好ましい。このときの注入層、輸送層の厚さ
の上限は、通常、注入層で100nm程度、輸送層で1
00nm程度である。このような膜厚については注入輸
送層を2層設けるときも同じである。
The thickness of the hole injecting layer, the hole transporting layer and the thickness of the electron injecting and transporting layer are the same as the thickness of the light emitting layer or about 1/10 to 10 times, depending on the design of the recombination / light emitting region. And it is sufficient. The thicknesses of the hole injection layer and the hole transport layer, and the thicknesses of the electron injection layer and the electron transport layer when separated, are preferably 1 nm or more for the injection layer and 20 nm or more for the transport layer. At this time, the upper limit of the thickness of the injection layer and the transport layer is usually about 100 nm in the injection layer and 1 in the transport layer.
It is about 00 nm. Such a film thickness is the same when two injecting and transporting layers are provided.

【0080】また、組み合わせる発光層や電子注入輸送
層や正孔注入輸送層のキャリア移動度やキャリア密度
(イオン化ポテンシャル・電子親和力により決まる)を
考慮しながら、膜厚をコントロールすることで、再結合
領域・発光領域を自由に設計することが可能であり、発
光色の設計や、両電極の干渉効果による発光輝度・発光
スペクトルの制御や、発光の空間分布の制御を可能にで
きる。
Further, the recombination is performed by controlling the film thickness while considering the carrier mobility and carrier density (determined by the ionization potential and electron affinity) of the light emitting layer, electron injecting and transporting layer and hole injecting and transporting layer to be combined. It is possible to freely design the area and the light emitting area, and it is possible to design the light emitting color, control the light emitting luminance and the light emitting spectrum by the interference effect of both electrodes, and control the spatial distribution of light emission.

【0081】本発明のEL素子15の発光層には、発光
機能を有する化合物である蛍光性物質を含有させる。こ
の蛍光性物質としては、トリス(8−キノリノラト)ア
ルミニウム〔Alq3〕等の金属錯体色素、フェニルア
ントラセン誘導体、テトラアリールエテン誘導体、青緑
色発光材料が挙げられる。
The light emitting layer of the EL element 15 of the present invention contains a fluorescent substance which is a compound having a light emitting function. Examples of the fluorescent substance include metal complex dyes such as tris (8-quinolinolato) aluminum [Alq3], phenylanthracene derivatives, tetraarylethene derivatives, and blue-green light emitting materials.

【0082】なお、正孔注入層の材料に2%のフタルシ
アニンを添加したCuPcを採用するとよい。CuPc
を単独で使う場合に比較して格段に耐熱性が向上する。
It is preferable to use CuPc in which 2% phthalcyanine is added to the material of the hole injection layer. CuPc
The heat resistance is remarkably improved as compared with the case of using alone.

【0083】85℃で1000時間駆動した後の輝度
は、初期の輝度(400cd/m2に設定)に対し、C
uPcのみでは約45%低下するが、フタルシアニンを
添加したものが約35%減にとどまる。これは、フタル
シアニンの添加によってCuPcの結晶化が抑制された
ためと推定される。CuPcがアモルファス状態を保て
ば、輝度低下を抑えることができる。フタルシアニン添
加による耐熱性向上の効果は、1%以上5%以上で最も
大きくなる。特に1%以上3%以下が適切である。な
お、20%くらいまでは添加の効果はあるが、それ以上
に添加量が増えるとかえって耐熱性は低下する。
The luminance after driving at 85 ° C. for 1000 hours is C with respect to the initial luminance (set to 400 cd / m 2).
With uPc alone, there is a decrease of about 45%, but with addition of phthalcyanine, the decrease is only about 35%. It is presumed that this is because the addition of phthalcyanine suppressed the crystallization of CuPc. If CuPc remains in the amorphous state, it is possible to suppress the decrease in brightness. The effect of improving the heat resistance due to the addition of phthalcyanine is maximized at 1% or more and 5% or more. Particularly, 1% or more and 3% or less is suitable. It should be noted that the effect of addition is up to about 20%, but if the amount of addition is further increased, the heat resistance is rather lowered.

【0084】青色発光の有機EL素子15は、発光層の
材料に発光波長が約400nmの「DMPhen(Tr
iphenylamine)」を用いるとよい。この
際、発光効率を高める目的で、電子注入層(Batho
cuproine)と正孔注入層(M−MTDATX
A)にバンド・ギャップが発光層と同じ材料を採用する
ことが好ましい。バンド・ギャップが3.4eVと大き
いDMPhenを発光層に用いただけでは、電子は電子
注入層に、正孔は正孔注入層にとどまり、発光層で電子
と正孔の再結合が起こりにくいからである。DMPhe
nのようにアミン基を備える発光材料は構造が不安定で
長寿命化し難いという課題に対しては、DMPhen中
で励起したエネルギーをドーパントに移動させ、ドーパ
ントから発光させることにより解決できる。
The organic EL element 15 for emitting blue light is made of "DMPhen (Tr
iphenylamine) "may be used. At this time, an electron injection layer (Bath
and the hole injection layer (M-MTDATX)
It is preferable to adopt a material having the same band gap as that of the light emitting layer in A). If only DMPhen having a large band gap of 3.4 eV is used in the light emitting layer, the electrons remain in the electron injecting layer and the holes remain in the hole injecting layer, so that recombination of electrons and holes is unlikely to occur in the light emitting layer. is there. DMPhe
The problem that the structure of the light-emitting material having an amine group such as n is unstable and it is difficult to prolong the life can be solved by transferring energy excited in DMPhen to the dopant and causing the dopant to emit light.

【0085】EL材料として、りん光発光材料を用いる
ことにより発光効率を向上できる。蛍光発光材料は、そ
の外部量子効率は2〜3%程度である。蛍光発光材料は
内部量子効率(励起によるエネルギーが光に変わる効
率)が25%なのに対し、りん光発光材料は100%近
くに達するため、外部量子効率が高くなる。
The luminous efficiency can be improved by using a phosphorescent material as the EL material. The external quantum efficiency of the fluorescent light emitting material is about 2 to 3%. The fluorescent material has an internal quantum efficiency (efficiency of converting energy by excitation into light) of 25%, whereas the phosphorescent material has a quantum efficiency of nearly 100%, and thus the external quantum efficiency is high.

【0086】有機EL素子の発光層のホスト材料にはC
BPを用いるとよい。ここに赤色(R)や緑色(G)、
青色(B)のりん光発光材料をドーピングしている。ド
ーピングした材料はすべてIrを含む。R材料はBtp
2Ir(acac)、G材料は(ppy)2Ir(ac
ac)、B材料はFIrpicを用いると良い。
C is used as the host material of the light emitting layer of the organic EL device.
It is preferable to use BP. Red (R) and green (G),
It is doped with a blue (B) phosphorescent material. All doped materials contain Ir. R material is Btp
2Ir (acac), G material is (ppy) 2Ir (ac
It is preferable to use FIrpic as the ac) and B materials.

【0087】また、正孔注入層・正孔輸送層には、各種
有機化合物を用いることができる。正孔注入輸送層、発
光層および電子注入輸送層の形成には、均質な薄膜が形
成できることから真空蒸着法を用いることが好ましい。
以下、本発明のEL表示パネルの製造方法および構造に
ついてさらに詳しく説明をする。以前に説明したよう
に、まず、アレイ基板71に画素を駆動するトランジス
タ11を形成する。1つの画素は2個以上、好ましくは
4個または5個のトランジスタで構成される。また、画
素は電流プログラムされ、プログラムされた電流がEL
素子15に供給される。通常、電流プログラムされた値
は電圧値として蓄積容量19に保持される。このトラン
ジスタ11の組み合わせなど画素構成については後に説
明をする。次にトランジスタ11に正孔注入電極として
の画素電極を形成する。画素電極105はフォトリソグ
ラフィーによりパターン化する。なお、トランジスタ1
1の下層、あるいは上層にはトランジスタ11に光入射
することにより発生するホトコンダクタ現象(以後、ホ
トコンと呼ぶ)による画質劣化を防止するために、遮光
膜を形成または配置する。なお、電流プログラムとは、
ソースドライバ回路14からプログラム電流を画素に印
加し(もしくは画素からソースドライバ回路14に吸収
し)、この電流に相当する信号値を画素に保持させるも
のである。この保持された信号値に対応する電流をEL
素子15に流す(もしくは、EL素子15から流し込
む)。つまり、電流でプログラムし、プログラムされた
電流に相当(対応)する電流をEL素子15に流すよう
にするものである。一方、電圧プログラムとは、ソース
ドライバ回路14からプログラム電圧を画素に印加し、
この電圧に相当する信号値を画素に保持させるものであ
る。この保持された電圧に対応する電流をEL素子15
に流す。つまり、電圧でプログラムし、画素内で電圧を
電流値に変換し、プログラムされた電圧に相当(対応)
する電流をEL素子15に流すようにするものである。
プラスチック基板にトランジスタを形成するためには、
有機半導体を形成する表面を加工することで、炭素と水
素からなるペンタセン分子を利用し電子薄膜を形成すれ
ばよい。この薄膜は、従来の結晶粒の20倍から100
倍の大きさを持つとともに、電子デバイス製造に適した
十分な半導体特性を具備する。ペンタセンは、シリコン
基板上で成長する際に表面の不純物に付着する傾向があ
る。このため、成長が不規則となり、高品質のデバイス
を製造するには小さすぎる結晶粒になる。結晶粒をより
大きく成長させるために、まずシリコン基板の上に、シ
クロヘキセンと呼ばれる分子の単一層「分子バッファ」
を塗布するとよい。この層がシリコン上の「stick
y sites(くっつきやすい場所)」を覆うため、
清浄な表面ができてペンタセンが非常に大きな結晶粒に
まで成長する。これらの新しい大きな結晶粒の薄膜を使
うことにより、大型結晶粒のペンタセンを用いたフレキ
シブルなトランジスタ(トランジスタ)を作製すること
ができる。このようなフレキシブルなトランジスタの大
量生産のために、低い温度で液状の材料を塗ることによ
ってトランジスタ(トランジスタ)を製造することがで
きる。また、基板上にゲートとなる金属薄膜と島状に形
成し、この上にアモルファスシリコン膜を蒸着あるいは
塗布した後、加熱して半導体膜を形成してもよい。島状
に形成した部分に半導体膜が良好に結晶化する。そのた
め、モビリティが良好となる。有機トランジスタ(トラ
ンジスタ)として、静電誘導トランジスタ(SIT)と
呼ぶ構造を採用することが好ましい。アモルファス状態
のペンタセンを使用する。正孔の移動度は1×10cm
2/Vsと結晶化したペンタセンよりも低い。しかし、
SIT構造を採用することにより周波数特性を高めるこ
とができる。ペンタセンの膜厚は100以上300nm
とすることが好ましい。
Various organic compounds can be used for the hole injection layer / hole transport layer. For forming the hole injecting and transporting layer, the light emitting layer and the electron injecting and transporting layer, it is preferable to use the vacuum deposition method because a uniform thin film can be formed.
Hereinafter, the manufacturing method and structure of the EL display panel of the present invention will be described in more detail. As described above, first, the transistor 11 for driving the pixel is formed on the array substrate 71. One pixel is composed of two or more transistors, preferably four or five transistors. Also, the pixel is current programmed and the programmed current is EL
It is supplied to the element 15. Usually, the current programmed value is held in the storage capacitor 19 as a voltage value. The pixel configuration such as the combination of the transistors 11 will be described later. Next, a pixel electrode as a hole injecting electrode is formed in the transistor 11. The pixel electrode 105 is patterned by photolithography. The transistor 1
A light-shielding film is formed or arranged in the lower layer or the upper layer of 1 in order to prevent image quality deterioration due to a photoconductor phenomenon (hereinafter referred to as photocon) that occurs when light is incident on the transistor 11. The current program is
A program current is applied to the pixel from the source driver circuit 14 (or is absorbed by the source driver circuit 14 from the pixel), and a signal value corresponding to this current is held in the pixel. EL the current corresponding to the held signal value
It flows into the element 15 (or it flows in from the EL element 15). That is, the current is programmed, and the current corresponding to (corresponding to) the programmed current is passed through the EL element 15. On the other hand, voltage programming means applying a program voltage from the source driver circuit 14 to a pixel,
The pixel holds a signal value corresponding to this voltage. A current corresponding to the held voltage is applied to the EL element 15
Shed on. In other words, programming with voltage, converting voltage into current value within the pixel, equivalent to the programmed voltage (corresponding)
The current to be applied is passed through the EL element 15.
To form a transistor on a plastic substrate,
By processing the surface on which the organic semiconductor is formed, an electronic thin film may be formed by utilizing pentacene molecules composed of carbon and hydrogen. This thin film has 20 times to 100 times the size of conventional crystal grains.
It has double the size and has sufficient semiconductor characteristics suitable for electronic device manufacturing. Pentacene tends to adhere to surface impurities as it grows on a silicon substrate. This results in irregular growth and grain sizes that are too small to produce high quality devices. In order to grow the crystal grains larger, a single layer of molecules called cyclohexene “molecular buffer” is first formed on a silicon substrate.
Should be applied. This layer is "stick" on silicon.
to cover "y sites"
A clean surface is formed and pentacene grows to very large crystal grains. By using these new thin film of large crystal grains, a flexible transistor (transistor) using pentacene of large crystal grains can be manufactured. For mass production of such flexible transistors, transistors can be manufactured by applying a liquid material at low temperature. Alternatively, a semiconductor thin film may be formed by forming an island shape with a metal thin film to be a gate on a substrate, vapor-depositing or coating an amorphous silicon film on this, and then heating. The semiconductor film is excellently crystallized in the island-shaped portion. Therefore, the mobility becomes good. As the organic transistor (transistor), it is preferable to adopt a structure called a static induction transistor (SIT). Amorphous pentacene is used. Hole mobility is 1 × 10 cm
2 / Vs, which is lower than that of crystallized pentacene. But,
The frequency characteristic can be improved by adopting the SIT structure. The thickness of pentacene is 100 to 300 nm
It is preferable that

【0088】また、有機トランジスタとしてp型電界効
果トランジスタでもよい。プラスチック基板上にトラン
ジスタを形成できる。プラスチック基板ごと折り曲げる
ことが可能なので、フレキシブルなトランジスタ型表示
パネルを構成できるペンタセンは多結晶状態とすること
が好ましい。ゲート絶縁膜の材料にはPMMAを使用す
ることが好ましい。有機トランジスタの活性層にはナフ
タセンを使ってもよい。洗浄時に酸素プラズマ、O2ア
ッシャーを使用すると、画素電極105の周辺部の平坦
化膜102も同時にアッシングされ、画素電極105の
周辺部がえぐられてしまう。この課題を解決するため
に、画素電極105の周辺部をアクリル樹脂からなるエ
ッジ保護膜(基本的には土手101)を形成している。
エッジ保護膜105の構成材料としては、平坦化膜10
2を構成するアクリル系樹脂、ポリイミド樹脂などの有
機材料と同一材料が例示され、その他、SiO2、Si
xなどの無機材料が例示される。その他、Al23
Ta23などであってもよいことは言うまでもない。エ
ッジ保護膜101は画素電極105のパターニング後、
画素電極105間を埋めるように形成する。もちろん、
このエッジ保護膜101を2以上4μm以下の高さに形
成し、有機EL材料を塗り分ける際のメタルマスクの土
手(メタルマスクが画素電極105とが直接に接しない
ようにするスペーサ)としてもよいことは言うまでもな
い。
A p-type field effect transistor may be used as the organic transistor. The transistor can be formed on a plastic substrate. Since the plastic substrate can be bent together, it is preferable that pentacene, which can form a flexible transistor type display panel, be in a polycrystalline state. It is preferable to use PMMA as the material of the gate insulating film. You may use naphthacene for the active layer of an organic transistor. If oxygen plasma and O 2 asher are used during cleaning, the flattening film 102 around the pixel electrode 105 is also ashed at the same time, and the peripheral portion of the pixel electrode 105 is scooped out. In order to solve this problem, an edge protection film (basically the bank 101) made of acrylic resin is formed around the pixel electrode 105.
As a constituent material of the edge protection film 105, the flattening film 10 is used.
Examples of the same material as the organic material such as acrylic resin and polyimide resin that composes 2 include SiO 2 , Si
An inorganic material such as N x is exemplified. In addition, Al 2 O 3 ,
It goes without saying that it may be Ta 2 O 3 or the like. The edge protection film 101 is formed after patterning the pixel electrode 105.
It is formed so as to fill the space between the pixel electrodes 105. of course,
The edge protection film 101 may be formed to a height of 2 μm or more and 4 μm or less to serve as a bank of a metal mask (spacer that prevents the metal mask from directly contacting the pixel electrode 105) when the organic EL materials are separately applied. Needless to say.

【0089】ゲート絶縁膜に比誘電率が24と高いTa
25を採用するとよい。ゲート絶縁膜の厚さは129n
mと厚く、しかもチャネル長は500μmと長いにも関
わらずP型トランジスタは電源電圧−5Vで良好に動作
する。チャネル層の材料には、ペンタセンと呼ばれる有
機材料を用いる。キャリアである正孔(ホール)の移動
度は0.40cm2/Vs以上、トランジスタがオン時
のドレイン電流と、オフ時の漏れ電流との比は104
実現できる。
Ta having a high relative dielectric constant of 24 in the gate insulating film
It is recommended to use 2 O 5 . The thickness of the gate insulating film is 129n
Although the thickness is as thick as m and the channel length is long as 500 μm, the P-type transistor operates well at a power supply voltage of −5V. An organic material called pentacene is used for the material of the channel layer. The mobility of holes as carriers is 0.40 cm 2 / Vs or more, and the ratio of the drain current when the transistor is on to the leakage current when the transistor is off can be 10 4 .

【0090】画素電極105上にEL膜(15R
(赤)、15G(緑)、15B(青))が形成される。
各EL膜15はわずかな隙間をあけて形成されるか、周
辺部を重ねられる。重ねられた箇所はほとんど発光しな
い。また、EL膜15上にカソードとなるアルミ膜10
6が形成される。真空蒸着装置は市販の高真空蒸着装置
(日本真空技術株式会社製、EBV−6DA型)を改造
した装置を用いる。主たる排気装置は排気速度1500
リットル/minのターボ分子ポンプ(大阪真空株式会
社製、TC1500)であり、到達真空度は約1×10
-6Torr以下であり、全ての蒸着は2〜3×10e
-6Torrの範囲で行う。また、全ての蒸着はタングス
テン製の抵抗加熱式蒸着ボートに直流電源(菊水電子株
式会社製、PAK10−70A)を接続して行うとよ
い。
An EL film (15R) is formed on the pixel electrode 105.
(Red), 15G (green), 15B (blue)) are formed.
Each EL film 15 is formed with a slight gap, or the peripheral portions are overlapped. Almost no light is emitted at the overlapped portions. The aluminum film 10 serving as a cathode is formed on the EL film 15.
6 is formed. As the vacuum vapor deposition device, a device obtained by modifying a commercially available high vacuum vapor deposition device (EBV-6DA type manufactured by Nippon Vacuum Technology Co., Ltd.) is used. The main exhaust system is exhaust speed 1500
It is a turbo molecular pump (TC1500, manufactured by Osaka Vacuum Co., Ltd.) of liter / min, and the ultimate vacuum is about 1 × 10.
e -6 Torr or less, all vapor depositions are 2-3 × 10e
-Perform in the range of -6 Torr. In addition, all vapor deposition may be performed by connecting a DC power source (PAK10-70A, manufactured by Kikusui Electronics Co., Ltd.) to a resistance heating type vapor deposition boat made of tungsten.

【0091】このようにして真空層中に配置したアレイ
基板上に、カーボン膜20〜50nmを成膜する。次
に、正孔注入層として4−(N、N−ビス(p−メチル
フェニル)アミノ)−α−フェニルスチルベンを0.3
nm/secの蒸着速度で膜厚約5nmに形成する。正
孔輸送層として、N、N’−ビス(4’−ジフェニルア
ミノ−4−ビフェニリル)−N、N’−ジフェニルベン
ジジン(保土ヶ谷化学株式会社製)と、4−N、N−ジ
フェニルアミノ−α−フェニルスチルベンを、それぞれ
0.3nm/sおよび0.01nm/sの蒸着速度で共
蒸着して膜厚約80nmに形成した。発光層(電子輸送
層)としてトリス(8−キノリノラト)アルミニウム
(同仁化学株式会社製)を0.3nm/secの蒸着速
度で膜厚約40nmに形成する。次に、電子注入電極と
して、AlLi合金(高純度化学株式会社製、Al/L
i重量比99/1)から低温でLiのみを、約0.1n
m/secの蒸着速度で膜厚約1nmに形成し、続い
て、そのAlLi合金をさらに昇温する。Liが出尽く
した状態から、Alのみを、約1.5nm/sの蒸着速
度で膜厚約100nmに形成し、積層型の電子注入電極
とした。このようにして作成した有機薄膜EL素子15
は、蒸着槽内を乾燥窒素でリークした後、乾燥窒素雰囲
気下で、コーニング7059ガラス製の封止フタ85を
シール接着剤(シール剤)(アネルバ株式会社製、商品
名スーパーバックシール953−7000)で貼り付け
て表示パネルとする。なお、封止フタ85とアレイ基板
71との空間には乾燥剤107を配置する。これは、有
機EL膜15は湿度に弱いためである。乾燥剤107に
よりシール剤を浸透する水分を吸収し有機EL膜15の
劣化を防止する。シール剤15からの水分の浸透を抑制
するためには外部からの経路(パス)を長くすることが
良好な対策である。このため、本発明の表示パネルで
は、表示領域の周辺部に微細な凹凸を形成している。ア
レイ基板71の周辺部に形成した凹凸部は少なくとも2
重に形成する。凸と凸との間隔(形成ピッチ)は100
μm以上500μm以下に形成することが好ましく、ま
た、凸の高さは30μm以上300μm以下とすること
が好ましい。この凸部はスタンパ技術で形成する。この
スタンパ技術はオムロン社がマイクロレンズ形成の方法
として採用している方式、松下電器がCDのピックアッ
プレンズで微小レンズの形成方式として用いている方式
などを応用する。一方、封止フタ85にも凹または凸部
を形成する。凹または凸部の形成ピッチは基板71に形
成した凸部の形成ピッチと同一にする。このように基板
71と基板85の凹または凸部の形成ピッチを同一にす
ることにより凸部に凹部がちょうどはまり込む。そのた
め、表示パネルの製造時に封止フタ85とアレイ基板7
1との位置ずれが発生しない。凸部と凹部間にはシール
剤を配置する。シール剤は封止フタ85とアレイ基板7
1とを接着するとともに、外部からの水分の浸入を防止
する。
A carbon film of 20 to 50 nm is formed on the array substrate thus arranged in the vacuum layer. Then, 4- (N, N-bis (p-methylphenyl) amino) -α-phenylstilbene is used as a hole injection layer in an amount of 0.3.
The film is formed to a thickness of about 5 nm at a vapor deposition rate of nm / sec. As the hole transport layer, N, N′-bis (4′-diphenylamino-4-biphenylyl) -N, N′-diphenylbenzidine (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) and 4-N, N-diphenylamino-α. -Phenylstilbene was co-deposited at a deposition rate of 0.3 nm / s and 0.01 nm / s to form a film thickness of about 80 nm. As a light emitting layer (electron transport layer), tris (8-quinolinolato) aluminum (manufactured by Dojindo Co., Ltd.) is formed at a deposition rate of 0.3 nm / sec to a film thickness of about 40 nm. Next, as an electron injection electrode, an AlLi alloy (manufactured by Kojundo Chemical Co., Ltd., Al / L
i weight ratio is 99/1), and only Li at low temperature is about 0.1n
It is formed to a film thickness of about 1 nm at a vapor deposition rate of m / sec, and then the AlLi alloy is further heated. From the state where Li was exhausted, only Al was formed to a film thickness of about 100 nm at a vapor deposition rate of about 1.5 nm / s to form a laminated electron injection electrode. Organic thin-film EL device 15 thus prepared
After leaking the inside of the vapor deposition tank with dry nitrogen, in a dry nitrogen atmosphere, a sealing lid 85 made of Corning 7059 glass is used as a sealing adhesive (sealant) (manufactured by ANELVA CORPORATION, trade name Super Back Seal 953-7000). ) To paste it as a display panel. A desiccant 107 is placed in the space between the sealing lid 85 and the array substrate 71. This is because the organic EL film 15 is weak against humidity. The desiccant 107 absorbs moisture that permeates the sealant to prevent the deterioration of the organic EL film 15. In order to suppress the permeation of water from the sealant 15, it is a good measure to lengthen the path from the outside. Therefore, in the display panel of the present invention, fine irregularities are formed in the peripheral portion of the display area. At least two concave and convex portions formed on the periphery of the array substrate 71
Form in multiple layers. The distance between the protrusions (formation pitch) is 100.
It is preferable to form it in the range of not less than μm and not more than 500 μm, and the height of the protrusion is preferably not less than 30 μm and not more than 300 μm. This convex portion is formed by a stamper technique. This stamper technology applies the method adopted by Omron as a method for forming a microlens, the method used by Matsushita Electric as a method for forming a minute lens in a pickup lens of a CD, and the like. On the other hand, a concave portion or a convex portion is also formed on the sealing lid 85. The formation pitch of the concave portions or the convex portions is the same as the formation pitch of the convex portions formed on the substrate 71. In this way, by making the formation pitches of the concave portions or the convex portions of the substrate 71 and the substrate 85 the same, the concave portions just fit into the convex portions. Therefore, when the display panel is manufactured, the sealing lid 85 and the array substrate 7 are
No positional deviation from 1 occurs. A sealant is placed between the convex portion and the concave portion. The sealing agent is the sealing lid 85 and the array substrate 7.
1 and are bonded together, and moisture is prevented from entering from the outside.

【0092】シール剤としてはUV(紫外線)硬化型で
アクリル系の樹脂からなるものを用いることが好まし
い。また、アクリル樹脂はフッ素基を有するものを用い
ることが好ましい。その他、エポキシ系の接着剤あるい
は粘着剤を用いてもよい。接着剤あるいは粘着剤の屈折
率は1.47以上1.54以下のものを用いることが好
ましい。特にシール接着剤は酸化チタンの微粉末、酸化
シリコンなどの微粉末を重量比で65%以上95%以下
の割合で添加することが好ましい。また、この微粉末の
粒子径は平均直径20μm以上100μm以下とするこ
とが好ましい。微粉末の重量比が多くなるほど外部から
の湿度の進入を抑制する効果が高くなる。しかし、あま
りに多いと気泡などが入りやすく、かえって空間が大き
くなりシール効果が低下してしまう。乾燥剤107の重
量はシールの長さ10mmあたり0.04g以上0.2
g以下をすることが好ましい。特にシールの長さ10m
mあたり0.06g以上0.15g以下をすることが望
ましい。乾燥剤の量がすくなすぎると水分防止効果が少
なくすぐに有機EL層15が劣化する。多すぎると乾燥
剤がシールをする際に障害となり、良好なシールを行う
ことができない。なお、乾燥剤107はシート状に形成
しておき、フタ85とEL膜間に配置するとよい。その
際、乾燥剤107にUV硬化樹脂を塗布しておき、配置
後、紫外線を照射し、UV樹脂を硬化させて固定させる
とよい。図10はガラスのフタ85を用いて封止する構
成であるが、図11のようにフィルム(薄膜でもよい。
つまり薄膜封止膜)111を用いた封止であってもよ
い。たとえば、封止フィルム(薄膜封止膜)111とし
ては電解コンデンサのフィルムにDLC(ダイヤモンド
ライク カーボン)を蒸着したものを用いることが例
示される。このフィルムは水分浸透性が極めて悪い(防
湿)。このフィルムを封止膜111して用いる。また、
DLC膜などを電極106の表面に直接蒸着する構成も
のよいことは言うまでもない。なお、この場合は、カソ
ードとアノードの位置関係は逆転する場合がある。薄膜
の膜厚はn・d(nは薄膜の屈折率、複数の薄膜が積層
されている場合はそれらの屈折率を総合(各薄膜のn・
dを計算)にして計算する。dは薄膜の膜厚、複数の薄
膜が積層されている場合はそれらの屈折率を総合して計
算する。)が、EL素子15の発光主波長λ以下となる
ようにするとよい。この条件を満足させることにより、
EL素子15からの光取り出し効率が、ガラス基板で封
止した場合に比較して2倍以上になる。また、アルミニ
ウムと銀の合金あるいは混合物あるいは積層物を形成し
てもよい。以上のようにフタ85を用いず、封止膜11
1で封止する構成を薄膜封止と呼ぶ。基板71側から光
を取り出す「下取り出し(図10を参照、光取り出し方
向は図10の矢印方向である)」の場合の薄膜封止は、
EL膜を形成後、EL膜上にカソードとなるアルミ電極
を形成する。次にこのアルミ膜上に緩衝層としての樹脂
層を形成する。緩衝層としては、アクリル、エポキシな
どの有機材料が例示される。また、膜厚は1μm以上1
0μm以下の厚みが適する。さらに好ましくは、膜厚は
2μm以上6μm以下の厚みが適する。この緩衝膜上の
封止膜74を形成する。緩衝膜がないと、応力によりE
L膜の構造が崩れ、筋状に欠陥が発生する。封止膜11
1は前述したように、DLC(ダイヤモンド ライク
カーボン)、あるいは電界コンデンサの層構造(誘電体
薄膜とアルミ薄膜とを交互に多層蒸着した構造)が例示
される。EL層15側から光を取り出す「上取り出し図
11を参照、光取り出し方向は図11の矢印方向であ
る」」の場合の薄膜封止は、EL膜15を形成後、EL
膜15上にカソード(アノード)となるAg−Mg膜を
20オングストローム以上300オングストロームの膜
厚で形成する。その上に、ITOなどの透明電極を形成
して低抵抗化する。次にこの電極膜上に緩衝層としての
樹脂層を形成する。この緩衝膜上に封止膜111を形成
する。有機EL層15から発生した光の半分は、反射膜
106で反射され、アレイ基板71と透過して出射され
る。しかし、反射膜106には外光を反射し写り込みが
発生して表示コントラストを低下させる。この対策のた
めに、アレイ基板71にλ/4板108および偏光板
(偏光フィルム)109を配置している。なお、画素が
反射電極の場合はEL層15から発生した光は上方向に
出射される。したがって、位相板108および偏光板1
09は光出射側に配置することはいうまでもない。な
お、反射型画素は、画素電極105を、アルミニウム、
クロム、銀などで構成して得られる。また、画素電極1
05の表面に、凸部(もしくは凹凸部)を設けることで
有機EL層15との界面が広くなり発光面積が大きくな
り、また、発光効率が向上する。なお、カソード106
(アノード105)となる反射膜を透明電極に形成す
る、あるいは反射率を30%以下に低減できる場合は、
円偏光板は不要である。写り込みが大幅に減少するから
である。また、光の干渉も低減し望ましい。
As the sealant, it is preferable to use a UV (ultraviolet) curable type acrylic resin. Further, it is preferable to use an acrylic resin having a fluorine group. Besides, an epoxy adhesive or pressure-sensitive adhesive may be used. It is preferable to use an adhesive or pressure-sensitive adhesive having a refractive index of 1.47 or more and 1.54 or less. Particularly, as the seal adhesive, it is preferable to add fine powder of titanium oxide, fine powder of silicon oxide or the like in a ratio of 65% or more and 95% or less by weight. The particle size of the fine powder is preferably 20 μm or more and 100 μm or less in average diameter. The larger the weight ratio of the fine powder, the higher the effect of suppressing the entry of humidity from the outside. However, if the amount is too large, bubbles and the like tend to enter, and the space becomes rather large and the sealing effect decreases. The weight of the desiccant 107 is 0.04 g or more per 10 mm of the seal length 0.2
It is preferably g or less. Especially the length of the seal is 10m
It is desirable that the amount is 0.06 g or more and 0.15 g or less per m. If the amount of the desiccant is too small, the effect of preventing moisture is small and the organic EL layer 15 is deteriorated immediately. If the amount is too large, the desiccant becomes a hindrance in sealing, and good sealing cannot be performed. Note that the desiccant 107 is preferably formed in a sheet shape and placed between the lid 85 and the EL film. At that time, it is preferable that a UV curable resin is applied to the desiccant 107, and after the arrangement, ultraviolet rays are irradiated to cure the UV resin and fix it. Although FIG. 10 shows a configuration in which the glass lid 85 is used for sealing, a film (thin film may be used as shown in FIG. 11).
That is, the sealing may be performed using the thin film sealing film) 111. For example, as the sealing film (thin film sealing film) 111, a film of an electrolytic capacitor on which DLC (diamond-like carbon) is deposited is used. This film has extremely poor water permeability (moisture proof). This film is used as the sealing film 111. Also,
It goes without saying that a structure in which a DLC film or the like is directly vapor-deposited on the surface of the electrode 106 may be used. In this case, the positional relationship between the cathode and the anode may be reversed. The thickness of the thin film is n · d (where n is the refractive index of the thin film, and when a plurality of thin films are laminated, the total refractive index of the thin films (n.
Calculate d). d is a film thickness of a thin film, and when a plurality of thin films are laminated, their refractive indexes are comprehensively calculated. ) Is preferably the emission main wavelength λ of the EL element 15 or less. By satisfying this condition,
The light extraction efficiency from the EL element 15 is more than double that in the case of sealing with a glass substrate. Also, an alloy or mixture of aluminum and silver or a laminate may be formed. As described above, without using the lid 85, the sealing film 11
The configuration of sealing with 1 is called thin film sealing. The thin film sealing in the case of “downward extraction (see FIG. 10, the light extraction direction is the direction of the arrow in FIG. 10)” for extracting light from the substrate 71 side is
After forming the EL film, an aluminum electrode serving as a cathode is formed on the EL film. Next, a resin layer as a buffer layer is formed on this aluminum film. Examples of the buffer layer include organic materials such as acrylic and epoxy. The film thickness is 1 μm or more 1
A thickness of 0 μm or less is suitable. More preferably, the film thickness is 2 μm or more and 6 μm or less. A sealing film 74 on this buffer film is formed. Without a buffer film, stress causes E
The structure of the L film collapses, causing streak-like defects. Sealing film 11
As mentioned above, 1 is DLC (Diamond-like).
Carbon) or a layered structure of an electric field capacitor (structure in which dielectric thin films and aluminum thin films are alternately deposited in multiple layers) is exemplified. In the case of "outcoupling is shown in FIG. 11, the light extraction direction is the direction of the arrow in FIG. 11" for extracting light from the EL layer 15 side, thin film sealing is performed after forming the EL film 15
An Ag—Mg film serving as a cathode (anode) is formed on the film 15 with a film thickness of 20 angstroms or more and 300 angstroms. A transparent electrode made of ITO or the like is formed thereon to reduce the resistance. Next, a resin layer as a buffer layer is formed on this electrode film. The sealing film 111 is formed on this buffer film. Half of the light generated from the organic EL layer 15 is reflected by the reflective film 106, transmitted through the array substrate 71, and emitted. However, external light is reflected on the reflective film 106 to cause reflection, which lowers the display contrast. As a countermeasure, a λ / 4 plate 108 and a polarizing plate (polarizing film) 109 are arranged on the array substrate 71. When the pixel is a reflective electrode, the light generated from the EL layer 15 is emitted upward. Therefore, the phase plate 108 and the polarizing plate 1
It goes without saying that 09 is arranged on the light emitting side. In the reflective pixel, the pixel electrode 105 is made of aluminum,
It is made of chrome, silver, etc. Also, the pixel electrode 1
By providing a convex portion (or a concave-convex portion) on the surface of 05, the interface with the organic EL layer 15 is widened, the light emitting area is increased, and the luminous efficiency is improved. The cathode 106
If a reflective film to be the (anode 105) is formed on the transparent electrode or the reflectance can be reduced to 30% or less,
A circularly polarizing plate is unnecessary. This is because the reflection is significantly reduced. In addition, light interference is reduced, which is desirable.

【0093】また、ディスプレイ内部に2層の薄膜を形
成することによって実現する外光反射を光学干渉によっ
て打ち消すことで有機EL表示パネルのコントラストを
向上することができる。従来の円偏光板を使う場合に比
べてコストを低減できる。また、円偏光板が抱えていた
拡散反射の問題や、表示色の視野角依存性及び有機EL
発光層の膜厚依存性の問題を解決できる。
Further, the external light reflection realized by forming the two-layer thin film inside the display is canceled by the optical interference, so that the contrast of the organic EL display panel can be improved. The cost can be reduced as compared with the case where the conventional circularly polarizing plate is used. In addition, the problem of diffuse reflection that the circularly polarizing plate had, the viewing angle dependence of the display color, and the organic EL
The problem of the thickness dependence of the light emitting layer can be solved.

【0094】基板71と偏光板(偏光フィルム)109
間には1枚あるいは複数の位相フィルム108(位相
板、位相回転手段、位相差板、位相差フィルム)が配置
される。位相フィルムとしてはポリカーボネートを使用
することが好ましい。位相フィルムは入射光を出射光に
位相差を発生させ、効率よく光変調を行うのに寄与す
る。
The substrate 71 and the polarizing plate (polarizing film) 109
One or more phase films 108 (phase plate, phase rotating means, phase difference plate, phase difference film) are arranged in between. It is preferable to use polycarbonate as the phase film. The phase film generates a phase difference between the incident light and the emitted light and contributes to efficient light modulation.

【0095】その他、位相フィルムとして、ポリエステ
ル樹脂、PVA樹脂、ポリサルホン樹脂、塩化ビニール
樹脂、ゼオネックス樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン
樹脂等の有機樹脂板あるいは有機樹脂フィルムなどを用
いてもよい。その他、水晶などの結晶を用いてもよい。
1つの位相板の位相差は一軸方向に50nm以上350
nm以下とすることが好ましく、さらには80nm以上
220nm以下とすることが好ましい。なお、位相フィ
ルムと偏光板とを一体化した円偏光板(円偏光フィル
ム)を用いてもよいことはいうまでもない。位相フィル
ム108は染料あるいは顔料で着色しフィルタとしての
機能をもたせることが好ましい。特に有機EL15は赤
(R)の純度が悪い。そのため、着色した位相フィルム
108で一定の波長範囲をカットして色温度を調整す
る。カラーフィルターは、染色フィルタとして顔料分散
タイプの樹脂で設けられるのが一般的である。顔料が特
定の波長帯域の光を吸収して、吸収されなかった波長帯
域の光を透過する。
In addition, as the phase film, an organic resin plate or an organic resin film of polyester resin, PVA resin, polysulfone resin, vinyl chloride resin, Zeonex resin, acrylic resin, polystyrene resin or the like may be used. Alternatively, crystals such as quartz may be used.
The phase difference of one phase plate is 50 nm or more in the uniaxial direction 350
The thickness is preferably not more than nm, more preferably not less than 80 nm and not more than 220 nm. It goes without saying that a circularly polarizing plate (circularly polarizing film) in which a phase film and a polarizing plate are integrated may be used. It is preferable that the phase film 108 be colored with a dye or a pigment to have a function as a filter. In particular, the organic EL 15 has poor red (R) purity. Therefore, the colored phase film 108 cuts a certain wavelength range to adjust the color temperature. The color filter is generally provided by a pigment dispersion type resin as a dyeing filter. The pigment absorbs light in a specific wavelength band and transmits light in the unabsorbed wavelength band.

【0096】以上のように位相フィルム108の一部も
しくは全体を着色したり、一部もしくは全体に拡散機能
をもたせたりしてもよい。また、表面をエンボス加工し
たり、反射防止のために反射防止膜を形成したりしても
よい。また、画像表示に有効でない箇所もしくは支障の
ない箇所に、遮光膜もしくは光吸収膜を形成し、表示画
像の黒レベルをひきしめたり、ハレーション防止による
コントラスト向上効果を発揮させたりすることが好まし
い。また、位相フィルムの表面に凹凸を形成することに
よりかまぼこ状あるいはマトリックス状にマイクロレン
ズを形成してもよい。マイクロレンズは1つの画素電極
あるいは3原色の画素にそれぞれ対応するように配置す
る。
As described above, a part or the whole of the phase film 108 may be colored, or a part or the whole may have a diffusion function. In addition, the surface may be embossed or an antireflection film may be formed to prevent reflection. In addition, it is preferable to form a light-shielding film or a light-absorbing film at a position that is not effective for image display or a position that does not hinder the display, thereby reducing the black level of the display image and exhibiting a contrast improving effect by preventing halation. Further, the microlenses may be formed in a semicylindrical shape or a matrix shape by forming irregularities on the surface of the phase film. The microlenses are arranged so as to correspond to one pixel electrode or pixels of three primary colors, respectively.

【0097】先にも記述したが、位相フィルムの機能は
カラーフィルターに持たせてもよい。たとえば、カラー
フィルターの形成時に圧延し、もしくは光重合により一
定の方向に位相差が生じるようにすることにより位相差
を発生させることができる。その他、平滑化膜102を
光重合させることにより位相差を持たせてもよい。この
ように構成すれば位相フィルムを基板外に構成あるいは
配置する必要がなくなり表示パネルの構成が簡易にな
り、低コスト化が望める。なお、以上の事項は偏光板に
適用してもよいことはいうまでもない。
As described above, the color filter may have the function of the phase film. For example, the phase difference can be generated by rolling when forming the color filter or by causing the phase difference to occur in a certain direction by photopolymerization. Alternatively, the smoothing film 102 may be photopolymerized to have a phase difference. With this structure, it is not necessary to form or dispose the phase film outside the substrate, the structure of the display panel is simplified, and cost reduction can be expected. Needless to say, the above items may be applied to the polarizing plate.

【0098】偏光板(偏光フィルム)109を構成する
主たる材料としてはTACフィルム(トリアセチルセル
ロースフィルム)が最適である。TACフィルムは、優
れた光学特性、表面平滑性および加工適性を有するから
である。TACフィルムの製造については、溶液流延製
膜技術で作製することが最適である。
A TAC film (triacetyl cellulose film) is most suitable as a main material constituting the polarizing plate (polarizing film) 109. This is because the TAC film has excellent optical properties, surface smoothness and processability. For the production of TAC film, it is optimal to produce it by the solution casting film forming technique.

【0099】偏光板109はヨウ素などをポリビニール
アルコール(PVA)樹脂に添加した樹脂フィルムのも
のが例示される。一対の偏光分離手段の偏光板109は
入射光のうち特定の偏光軸方向と異なる方向の偏光成分
を吸収することにより偏光分離を行うので、光の利用効
率が比較的悪い。そこで、入射光のうち特定の偏光軸方
向と異なる方向の偏光成分(reflective p
olarizer:リフレクティブ・ポラライザー)を
反射することにより偏光分離を行う反射偏光子を用いて
もよい。このように構成すれば、反射偏光子により光の
利用効率が高まって、偏光板を用いた上述の例よりもよ
り明るい表示が可能となる。
The polarizing plate 109 is exemplified by a resin film in which iodine or the like is added to polyvinyl alcohol (PVA) resin. The polarizing plates 109 of the pair of polarization separation means perform polarization separation by absorbing the polarization component of the incident light in a direction different from the specific polarization axis direction, and thus the light utilization efficiency is relatively poor. Therefore, the polarization component (reflective p) of the incident light in a direction different from the specific polarization axis direction
It is also possible to use a reflective polarizer that performs polarized light separation by reflecting an optical polarizer (reflecting polarizer). According to this structure, the light utilization efficiency is increased by the reflective polarizer, and a brighter display can be performed as compared with the above example using the polarizing plate.

【0100】また、このような偏光板や反射偏光子以外
にも、本発明の偏光分離手段としては、例えばコレステ
リック液晶層と(1/4)λ板108を組み合わせたも
の、ブリュースターの角度を利用して反射偏光と透過偏
光とに分離するもの、ホログラムを利用するもの、偏光
ビームスプリッタ(PBS)等を用いることも可能であ
る。
In addition to such a polarizing plate and a reflective polarizer, as the polarization separating means of the present invention, for example, a combination of a cholesteric liquid crystal layer and a (1/4) λ plate 108, and a Brewster angle are set. It is also possible to use a polarization beam splitter (PBS) or the like that uses reflected light and transmitted polarized light to separate it, uses a hologram.

【0101】図10では図示していないが、偏光板10
9の表面にはAIRコートを施している。AIRコート
は誘電体単層膜もしくは多層膜で形成する構成が例示さ
れる。その他、1.35〜1.45の低屈折率の樹脂を
塗布してもよい。たとえば、フッ素系のアクリル樹脂な
どが例示される。特に屈折率が1.37以上1.42以
下のものが特性は良好である。
Although not shown in FIG. 10, the polarizing plate 10
The surface of 9 has an AIR coat. The AIR coat is exemplified by a structure formed of a dielectric single layer film or a multilayer film. In addition, a resin having a low refractive index of 1.35 to 1.45 may be applied. For example, a fluorinated acrylic resin is exemplified. In particular, those having a refractive index of 1.37 or more and 1.42 or less have good characteristics.

【0102】また、AIRコートは3層の構成あるいは
2層構成がある。なお、3層の場合は広い可視光の波長
帯域での反射を防止するために用いられ、これをマルチ
コートと呼ぶ。2層の場合は特定の可視光の波長帯域で
の反射を防止するために用いられ、これをVコートと呼
ぶ。マルチコートとVコートは表示パネルの用途に応じ
て使い分ける。なお、2層以上の限定するものではな
く、1層でもよい。
The AIR coat has a three-layer structure or a two-layer structure. In the case of three layers, it is used to prevent reflection in a wide wavelength band of visible light, and this is called multicoat. In the case of two layers, it is used to prevent reflection in a specific visible light wavelength band, and this is called a V coat. The multi coat and the V coat are used properly according to the use of the display panel. The number of layers is not limited to two or more, and one layer may be used.

【0103】マルチコートの場合は酸化アルミニウム
(Al23)を光学的膜厚がnd=λ/4、ジルコニウ
ム(ZrO2)をnd1=λ/2、フッ化マグネシウム
(MgF2)をnd1=λ/4積層して形成する。通
常、λとして520nmもしくはその近傍の値として薄
膜は形成される。Vコートの場合は一酸化シリコン(S
iO)を光学的膜厚nd1=λ/4とフッ化マグネシウ
ム(MgF2)をnd1=λ/4、もしくは酸化イット
リウム(Y23)とフッ化マグネシウム(MgF2)を
n d1=λ/4積層して形成する。SiOは青色側に
吸収帯域があるため青色光を変調する場合はY23を用
いた方がよい。また、物質の安定性からもY 23の方が
安定しているため好ましい。また、SiO2薄膜を使用
してもよい。もちろん、低屈折率の樹脂等を用いてAI
Rコートとしてもよい。たとえばフッ素等のアクリル樹
脂が例示される。これらは紫外線硬化タイプを用いるこ
とが好ましい。
Aluminum oxide in case of multi-coat
(Al2O3) Has an optical film thickness of nd = λ / 4, zirconium
Mu (ZrO2) Nd1 = λ / 2, magnesium fluoride
(MgF2) Is formed by stacking nd1 = λ / 4. Communication
Normally, λ is 520 nm or a thin value near 520 nm
The film is formed. In the case of V coat, silicon monoxide (S
iO) with an optical film thickness of nd1 = λ / 4 and magnesium fluoride
Mu (MgF2) Is nd1 = λ / 4, or it is oxidized
Rium (Y2O3) And magnesium fluoride (MgF2)
It is formed by stacking n d1 = λ / 4. SiO is on the blue side
Y when modulating blue light because of the absorption band2O3For
You had better stay. Also, from the stability of the substance, Y 2O3Is better
It is preferable because it is stable. Also, SiO2Use thin film
You may. Of course, using a low refractive index resin, etc.
It may be an R coat. For example, acrylic trees such as fluorine
An example is fat. These must be UV curable types.
And are preferred.

【0104】なお、表示パネルに静電気がチャージされ
ることを防止するため、表示パネルなどの表面に親水性
の樹脂を塗布しておくことが好ましい。その他、表面反
射を防止するため、偏光板54の表面などにエンボス加
工を行ってもよい。また、画素電極105にはトランジ
スタが接続されるとしたがこれに限定されるものではな
い。アクティブマトリックスとは、スイッチング素子と
して薄膜トランジスタ(トランジスタ)の他、ダイオー
ド方式(TFD)、バリスタ、サイリスタ、リングダイ
オード、ホトダオード、ホトトランジスタ、FET、M
OSトランジスタ、PLZT素子などでもよいことは言
うまでもない。つまり、スイッチ素子11、駆動素子1
1と構成するものはこれらのいずれでも使用することが
できる。また、略ストライプ状電極を複数本配置した単
純マトリックス型の画素構成でもよい。また、トランジ
スタはLDD(ロー ドーピング ドレイン)構造を採
用することが好ましい。なお、トランジスタとは、FE
Tなどスイッチングなどのトランジスタ動作をするすべ
ての素子一般を意味する。また、EL膜の構成、パネル
構造などは単純マトリックス型表示パネルにも適用でき
ることは言うまでもない。また、本明細書ではEL素子
として有機EL素子(OEL、PEL、PLED、OL
EDなど多種多様な略称で記述される)15を例のあげ
て説明するがこれに限定するものではなく、無機EL素
子にも適用されることは言うまでもない。
In order to prevent the display panel from being charged with static electricity, it is preferable to apply a hydrophilic resin to the surface of the display panel or the like. In addition, in order to prevent surface reflection, the surface of the polarizing plate 54 may be embossed. Further, although the transistor is connected to the pixel electrode 105, the invention is not limited to this. The active matrix means a thin film transistor (transistor) as a switching element, a diode type (TFD), a varistor, a thyristor, a ring diode, a photodiode, a phototransistor, an FET, and an M.
Needless to say, it may be an OS transistor, a PLZT element, or the like. That is, the switch element 11 and the drive element 1
Any of these can be used as the one configured as 1. Further, a simple matrix type pixel configuration in which a plurality of substantially striped electrodes are arranged may be used. Further, the transistor preferably has an LDD (low doping drain) structure. Note that the transistor is FE
It means all elements in general that perform transistor operations such as switching such as T. Further, it goes without saying that the structure of the EL film, the panel structure and the like can be applied to the simple matrix type display panel. Further, in this specification, an organic EL element (OEL, PEL, PLED, OL
15 described by various abbreviations such as ED) will be described as an example, but the present invention is not limited to this, and it goes without saying that the invention is also applied to an inorganic EL element.

【0105】まず、有機EL表示パネルに用いられるア
クティブマトリックス方式は、1.特定の画素を選択
し、必要な表示情報を与えられること。2、1フレーム
期間を通じてEL素子に電流を流すことができることと
いう2つの条件を満足させなければならない。
First, the active matrix system used for the organic EL display panel is as follows. To be able to select specific pixels and be given the necessary display information. It is necessary to satisfy the two conditions that a current can be passed through the EL element during 2 and 1 frame periods.

【0106】この2つの条件を満足させるため、図62
に図示する従来の有機ELの画素構成では、第1のトラ
ンジスタ11bは画素を選択するためのスイッチング用
トランジスタ、第2のトランジスタ11aはEL素子
(EL膜)15に電流を供給するための駆動用トランジ
スタとする。
In order to satisfy these two conditions, FIG.
In the conventional organic EL pixel configuration shown in FIG. 1, the first transistor 11b is a switching transistor for selecting a pixel, and the second transistor 11a is a driving transistor for supplying a current to the EL element (EL film) 15. Use as a transistor.

【0107】ここで液晶に用いられるアクティブマトリ
ックス方式と比較すると、スイッチング用トランジスタ
11bは液晶用にも必要であるが、駆動用トランジスタ
11aはEL素子15を点灯させるために必要である。
この理由は液晶の場合は、電圧を印加することでオン状
態を保持することができるが、EL素子15の場合は、
電流を流しつづけなければ画素16の点灯状態を維持で
きないからである。
Compared to the active matrix system used for liquid crystal, the switching transistor 11b is also required for liquid crystal, but the driving transistor 11a is necessary for lighting the EL element 15.
The reason for this is that in the case of liquid crystal, the ON state can be maintained by applying a voltage, but in the case of the EL element 15,
This is because the lighting state of the pixel 16 cannot be maintained unless current is continuously supplied.

【0108】したがって、EL表示パネルでは電流を流
し続けるためにトランジスタ11aをオンさせ続けなけ
ればならない。まず、走査線、データ線が両方ともオン
になると、スイッチング用トランジスタ11bを通して
キャパシタ19に電荷が蓄積される。このキャパシタ1
9が駆動用トランジスタ11aのゲートに電圧を加え続
けるため、スイッチング用トランジスタ11bがオフに
なっても、電流供給線(Vdd)から電流が流れつづ
け、1フレーム期間にわたり画素16をオンできる。
Therefore, in the EL display panel, the transistor 11a must be kept on in order to keep the current flowing. First, when both the scanning line and the data line are turned on, charges are accumulated in the capacitor 19 through the switching transistor 11b. This capacitor 1
Since 9 continues to apply voltage to the gate of the driving transistor 11a, even if the switching transistor 11b is turned off, current continues to flow from the current supply line (Vdd) and the pixel 16 can be turned on for one frame period.

【0109】この構成を用いて階調を表示させる場合、
駆動用トランジスタ11aのゲート電圧として階調に応
じた電圧を印加する必要がある。したがって、駆動用ト
ランジスタ11aのオン電流のばらつきがそのまま表示
に現れる。
When displaying gradation using this structure,
It is necessary to apply a voltage according to the gradation as the gate voltage of the driving transistor 11a. Therefore, the variation in the on-current of the driving transistor 11a appears on the display as it is.

【0110】トランジスタのオン電流は単結晶で形成さ
れたトランジスタであれば、きわめて均一であるが、安
価なガラス基板に形成することのできる形成温度が45
0度以下の低温ポリシリ技術で形成した低温多結晶トタ
ンジスタでは、そのしきい値のばらつきが±0.2V〜
0.5Vの範囲でばらつきがある。そのため、駆動用ト
ランジスタ11aを流れるオン電流がこれに対応してば
らつき、表示にムラが発生する。これらのムラは、しき
い値電圧のばらつきのみならず、トランジスタの移動
度、ゲート絶縁膜の厚みなどでも発生する。また、トラ
ンジスタ11の劣化によっても特性は変化する。なお、
低温ポリシリコン技術に限定されるものではなく、プロ
セス温度が450度(摂氏)以上の高温ポリシリコン技
術を用いて構成してもよく、また、固相(CGS)成長
させた半導体膜を用いてTFTなどを形成したものをも
ちいてもよい。その他、有機TFTを用いたものであっ
ても良い。なお、本明細書では低温ポリシリコン技術で
形成したTFTを主として説明する。しかし、TFTの
バラツキが発生するなどの課題は他の方式でも同一であ
る。
The on-current of a transistor is extremely uniform if it is a transistor formed of a single crystal, but the formation temperature at which it can be formed on an inexpensive glass substrate is 45.
In the low temperature polycrystalline transistor formed by the low temperature poly-silicon technique of 0 degrees or less, the variation in the threshold value is ± 0.2V to
There are variations in the range of 0.5V. Therefore, the on-current flowing through the driving transistor 11a varies correspondingly, and display unevenness occurs. These irregularities occur not only in the variation of the threshold voltage but also in the mobility of the transistor and the thickness of the gate insulating film. The characteristics also change due to deterioration of the transistor 11. In addition,
The present invention is not limited to the low-temperature polysilicon technology, and may be formed by using a high-temperature polysilicon technology with a process temperature of 450 degrees Celsius or higher, or by using a semiconductor film grown by solid phase (CGS). You may use what formed TFT etc. Alternatively, an organic TFT may be used. In this specification, a TFT formed by the low temperature polysilicon technique will be mainly described. However, the problems such as the variation of the TFT are the same in other methods.

【0111】したがって、アナログ的に階調を表示させ
る方法では、均一な表示を得るために、デバイスの特性
を厳密に制御する必要があり、現状の低温多結晶ポリシ
リコントランジスタではこのバラツキを所定範囲以内の
抑えるというスペックを満足できない。この問題を解決
するため、1画素内に4つ以上のトランジスタをもうけ
て、しきい値電圧のばらつきをコンデンサにより補償さ
せて均一な電流を得る方法、定電流回路を1画素ごとに
形成し電流の均一化を図る方法などが考えられる。
Therefore, in the method of displaying gray scales in an analog manner, it is necessary to strictly control the characteristics of the device in order to obtain a uniform display. In the current low temperature polycrystal polysilicon transistor, this variation is within a predetermined range. I can't satisfy the specifications to keep within. In order to solve this problem, four or more transistors are provided in one pixel, and the variation in threshold voltage is compensated by a capacitor to obtain a uniform current. A constant current circuit is formed for each pixel. It is possible to consider a method for making the temperature uniform.

【0112】しかしながら、これらの方法は、プログラ
ムされる電流がEL素子15を通じてプログラムされる
ため電流経路が変化した場合に電源ラインに接続される
スイッチングトランジスタに対し駆動電流を制御するト
ランジスタがソースフォロワとなり駆動マージンが狭く
なる。したがって、駆動電圧が高くなるという課題を有
する。
However, in these methods, since the programmed current is programmed through the EL element 15, the transistor controlling the drive current becomes the source follower for the switching transistor connected to the power supply line when the current path changes. The drive margin becomes narrow. Therefore, there is a problem that the driving voltage becomes high.

【0113】また、電源に接続するスイッチングトラン
ジスタをインピーダンスの低い領域で使用する必要があ
り、この動作範囲がEL素子15の特性変動により影響
を受けるという課題もある。その上、飽和領域における
電圧電流特性に、キンク電流が発生する場合、トランジ
スタのしきい値電圧の変動が発生した場合、記憶された
電流値が変動するとう課題もある。
Further, it is necessary to use the switching transistor connected to the power source in the region of low impedance, and there is also a problem that this operating range is affected by the characteristic variation of the EL element 15. In addition, when the kink current occurs in the voltage-current characteristics in the saturation region, or when the threshold voltage of the transistor changes, the stored current value also changes.

【0114】本発明のEL素子構造は、上記課題に対し
て、EL素子15に流れる電流を制御するトランジスタ
11が、ソースフォロワ構成とならず、かつそのトラン
ジスタにキンク電流があっても、キンク電流の影響を最
小に抑えることが出来て記憶される電流値の変動を小さ
くすることが出来る構成である。
In the EL device structure of the present invention, in order to solve the above problems, even if the transistor 11 for controlling the current flowing through the EL device 15 does not have the source follower structure and the transistor has a kink current, the kink current is It is possible to minimize the influence of the above and reduce the fluctuation of the stored current value.

【0115】本発明のEL表示装置の画素構造は、具体
的には図1に示すように単位画素が最低4つからなる複
数のトランジスタ11ならびにEL素子により形成され
る。なお、画素電極はソース信号線と重なるように構成
する。つまり、ソース信号線18上に絶縁膜あるいはア
クリル材料からなる平坦化膜を形成して絶縁し、この絶
縁膜上に画素電極105を形成する。このようにソース
信号線18上に画素電極を重ねる構成をハイアパーチャ
(HA)構造と呼ぶ。
The pixel structure of the EL display device of the present invention is specifically formed by a plurality of transistors 11 each having at least four unit pixels and an EL element as shown in FIG. Note that the pixel electrode is formed so as to overlap with the source signal line. That is, an insulating film or a flattening film made of an acrylic material is formed on the source signal line 18 for insulation, and the pixel electrode 105 is formed on this insulating film. Such a structure in which the pixel electrode is overlapped on the source signal line 18 is called a high aperture (HA) structure.

【0116】ゲート信号線(第1の走査線)17aをア
クティブ(ON電圧を印加)とすることによりEL素子
15駆動用のトランジスタ(トランジスタあるいはスイ
ッチング素子)11aおよびトランジスタ(トランジス
タあるいはスイッチング素子)11cを通して、前記E
L素子15に流すべき電流値をソースドライバ回路14
から流す。また、トランジスタ11aのゲートとドレイ
ン間を短絡するようにトランジスタ11bがゲート信号
線17aアクティブ(ON電圧を印加)となることによ
り開くと共に、トランジスタ11aのゲートとソース間
に接続されたコンデンサ(キャパシタ、蓄積容量、付加
容量)19に、前記電流値を流すようにトランジスタ1
1aのゲート電圧(あるいはドレイン電圧)を記憶する
(図3(a)を参照のこと)。
By activating the gate signal line (first scanning line) 17a (applying the ON voltage), the transistor (transistor or switching element) 11a for driving the EL element 15 and the transistor (transistor or switching element) 11c are passed. , Said E
The current value to be passed through the L element 15 is set to the source driver circuit 14
Shed from. Further, the transistor 11b is opened by activating the gate signal line 17a (applying an ON voltage) so that the gate and the drain of the transistor 11a are short-circuited, and the capacitor (capacitor, which is connected between the gate and the source of the transistor 11a). Storage capacitor, additional capacitor 19 so that the current value flows through the transistor 1
The gate voltage (or drain voltage) of 1a is stored (see FIG. 3A).

【0117】なお、トランジスタ11aのソース(S)
−ゲート(G)間容量(コンデンサ)19は0.2pF
以上の容量とすることが好ましい。他の構成として、別
途、コンデンサ19を形成する構成も例示される。つま
り、コンデンサ電極レイヤーとゲート絶縁膜およびゲー
トメタルから蓄積容量を形成する構成である。トランジ
スタ11cのリークによる輝度低下を防止する観点、表
示動作を安定化させるための観点からはこのように別途
コンデンサを構成するほうが好ましい。なお、コンデン
サ(蓄積容量)19の大きさは、0.2pF以上2pF
以下とすることがよく、中でもコンデンサ(蓄積容量)
19の大きさは、0.4pF以上1.2pF以下とする
ことがよい。
The source (S) of the transistor 11a
-Capacitance (capacitor) 19 between gate (G) is 0.2 pF
It is preferable to set the capacity to the above. As another configuration, a configuration in which the capacitor 19 is separately formed is also exemplified. That is, the storage capacitor is formed from the capacitor electrode layer, the gate insulating film, and the gate metal. From the viewpoint of preventing a decrease in luminance due to the leakage of the transistor 11c and stabilizing the display operation, it is preferable to separately form the capacitor in this way. The size of the capacitor (storage capacity) 19 is 0.2 pF or more and 2 pF or more.
The following is preferable, and above all, capacitors (storage capacity)
The size of 19 is preferably 0.4 pF or more and 1.2 pF or less.

【0118】なお、コンデンサ19は隣接する画素間の
非表示領域におおむね形成することがこのましい。一般
的に、フルカラー有機EL15を作成する場合、有機E
L層15をメタルマスクによるマスク蒸着で形成するた
めマスク位置ずれによるEL層の形成位置が発生する。
位置ずれが発生すると各色の有機EL層15(15R、
15G、15B)が重なる危険性がある。そのため、各
色の隣接する画素間の非表示領域は10μm以上離れな
ければならない。この部分は発光に寄与しない部分とな
る。したがって、蓄積容量19をこの領域に形成するこ
とは開口率向上のために有効な手段となる。
It is preferable that the capacitor 19 is generally formed in the non-display area between adjacent pixels. Generally, when creating a full-color organic EL15, organic E
Since the L layer 15 is formed by mask vapor deposition using a metal mask, the EL layer formation position occurs due to the mask position shift.
When the displacement occurs, the organic EL layer 15 (15R,
15G, 15B) may overlap. Therefore, the non-display area between adjacent pixels of each color must be separated by 10 μm or more. This portion does not contribute to light emission. Therefore, forming the storage capacitor 19 in this region is an effective means for improving the aperture ratio.

【0119】なお、メタルマスクは磁性体で作製し、基
板71の裏面から磁石でメタルマスクを磁力で吸着す
る。磁力により、メタルマスクは基板と隙間なく密着す
る。以上の製造方法に関する事項は、本発明の他の製造
方法にも適用される。
The metal mask is made of a magnetic material, and the metal mask is magnetically attracted from the back surface of the substrate 71 with a magnet. Due to the magnetic force, the metal mask adheres to the substrate without any gap. The matters regarding the above manufacturing method are also applied to the other manufacturing methods of the present invention.

【0120】次に、ゲート信号線17aを非アクティブ
(OFF電圧を印加)、ゲート信号線17bをアクティ
ブとして、電流の流れる経路を前記第1のトランジスタ
11a並びにEL素子15に接続されたトランジスタ1
1dならびに前記EL素子15を含む経路に切り替え
て、記憶した電流を前記EL素子15に流すように動作
する(図3(b)を参照のこと)。
Next, the gate signal line 17a is made inactive (OFF voltage is applied) and the gate signal line 17b is made active, and the current flow path is connected to the first transistor 11a and the transistor 1 connected to the EL element 15.
It switches to a path including 1d and the EL element 15, and operates so that the stored current flows through the EL element 15 (see FIG. 3B).

【0121】この回路は1画素内に4つのトランジスタ
11を有しており、トランジスタ11a のゲートはト
ランジスタ11bのソースに接続されている。また、ト
ランジスタ11bおよびトランジスタ11cのゲートは
ゲート信号線17aに接続されている。トランジスタ1
1bのドレインはトランジスタ11cのソースならびに
トランジスタ11dのソースに接続され、トランジスタ
11cのドレインはソース信号線18に接続されてい
る。トランジスタ11dのゲートはゲート信号線17b
に接続され、トランジスタ11dのドレインはEL素子
15のアノード電極に接続されている。
This circuit has four transistors 11 in one pixel, and the gate of the transistor 11a is connected to the source of the transistor 11b. The gates of the transistors 11b and 11c are connected to the gate signal line 17a. Transistor 1
The drain of 1b is connected to the source of the transistor 11c and the source of the transistor 11d, and the drain of the transistor 11c is connected to the source signal line 18. The gate of the transistor 11d is the gate signal line 17b.
The drain of the transistor 11d is connected to the anode electrode of the EL element 15.

【0122】なお、図1ではすべてのトランジスタはP
チャンネルで構成している。Pチャンネルは多少Nチャ
ンネルのトランジスタに比較してモビリティが低いが、
耐圧が大きくまた劣化も発生しにくいので好ましい。し
かし、本発明はEL素子構成をPチャンネルで構成する
ことのみに限定するものではない。Nチャンネルのみで
構成してもよい。また、NチャンネルとPチャンネルの
両方を用いて構成してもよい。
In FIG. 1, all the transistors are P
It consists of channels. The mobility of P-channel is somewhat lower than that of N-channel transistor,
It is preferable because it has a large withstand voltage and is less likely to deteriorate. However, the present invention is not limited to the configuration of the EL device including P channels. You may comprise only N channels. Further, both N channel and P channel may be used.

【0123】なお、図1においてトランジスタ11c、
11bは同一の極性で構成し、かつNチャンネルで構成
し、トランジスタ11a、11dはPチャンネルで構成
することが好ましい。一般的にPチャンネルトランジス
タはNチャンネルトランジスタに比較して、信頼性が高
い、キンク電流が少ないなどの特長があり、電流を制御
することによって目的とする発光強度を得るEL素子1
5に対しては、トランジスタ11aをPチャンネルにす
る効果が大きい。最適には画素を構成するTFT11を
すべてPチャンネルで形成し、内蔵ゲートドライバ12
もPチャンネルで形成することが好ましい。このように
アレイをPチャンネルのみのTFTで形成することによ
り、マスク枚数が5枚となり、低コスト化、高歩留まり
かを実現できる。
In FIG. 1, the transistor 11c,
It is preferable that 11b is configured with the same polarity and is configured with an N channel, and the transistors 11a and 11d are configured with a P channel. Generally, the P-channel transistor has features such as higher reliability and less kink current than the N-channel transistor, and the EL element 1 that obtains a desired light emission intensity by controlling the current
5, the effect of making the transistor 11a P-channel is large. Optimally, all the TFTs 11 constituting the pixel are formed by P channels, and the built-in gate driver 12
Is also preferably formed by a P channel. By forming the array with TFTs of only P-channel in this way, the number of masks becomes 5, and it is possible to realize low cost and high yield.

【0124】以下、さらに本発明の理解を容易にするた
めに、本発明のEL素子構成について図3を用いて説明
する。本発明のEL素子構成は2つのタイミングにより
制御される。第1のタイミングは必要な電流値を記憶さ
せるタイミングである。このタイミングでトランジスタ
11bならびにトランジスタ11cがONすることによ
り、等価回路として図3(a)となる。ここで、信号線
より所定の電流Iwが書き込まれる。これによりトラン
ジスタ11aはゲートとドレインが接続された状態とな
り、このトランジスタ11aとトランジスタ11cを通
じて電流Iwが流れる。従って、トランジスタ11aの
ゲートーソースの電圧はI1が流れるような電圧V1と
なる。
In order to facilitate the understanding of the present invention, the EL element structure of the present invention will be described below with reference to FIG. The EL element structure of the present invention is controlled by two timings. The first timing is a timing for storing a necessary current value. By turning on the transistors 11b and 11c at this timing, an equivalent circuit shown in FIG. 3A is obtained. Here, a predetermined current Iw is written from the signal line. As a result, the gate and drain of the transistor 11a are connected to each other, and the current Iw flows through the transistor 11a and the transistor 11c. Therefore, the gate-source voltage of the transistor 11a becomes the voltage V1 at which I1 flows.

【0125】第2のタイミングはトランジスタ11aと
トランジスタ11cが閉じ、トランジスタ11dが開く
タイミングであり、そのときの等価回路は図3(b)と
なる。トランジスタ11aのソース−ゲート間の電圧は
保持されたままとなる。この場合、トランジスタ11a
は常に飽和領域で動作するため、Iwの電流は一定とな
る。
The second timing is the timing when the transistors 11a and 11c are closed and the transistor 11d is opened, and the equivalent circuit at that time is shown in FIG. 3 (b). The source-gate voltage of the transistor 11a remains held. In this case, the transistor 11a
Always operates in the saturation region, the current of Iw is constant.

【0126】このように動作させると、図5に図示する
ようになる。つまり、図5(a)の51aは表示画面5
0における、ある時刻での電流プログラムされている画
素(行)(書き込み画素行)を示している。この画素
(行)51aは、図5(b)に図示するように非点灯
(非表示画素(行))とする。他の、画素(行)は表示
画素(行)53とする(非画素53のEL素子15には
電流が流れ、EL素子15が発光している)。
When operated in this way, it becomes as shown in FIG. That is, 51a in FIG.
0 shows a pixel (row) (current writing pixel row) in which the current is programmed at a certain time. The pixel (row) 51a is not illuminated (non-display pixel (row)) as illustrated in FIG. The other pixels (rows) are display pixels (rows) 53 (current flows through the EL elements 15 of the non-pixels 53, and the EL elements 15 emit light).

【0127】図1の画素構成の場合、図3(a)に示す
ように、電流プログラム時は、プログラム電流Iwがソ
ース信号線18に流れる。この電流Iwがトランジスタ
11aを流れ、Iwを流す電流が保持されるように、コ
ンデンサ19に電圧設定(プログラム)される。このと
き、トランジスタ11dはオープン状態(オフ状態)で
ある。
In the case of the pixel configuration of FIG. 1, as shown in FIG. 3A, the program current Iw flows through the source signal line 18 during current programming. The voltage is set (programmed) in the capacitor 19 so that the current Iw flows through the transistor 11a and the current flowing through Iw is retained. At this time, the transistor 11d is in an open state (off state).

【0128】次に、EL素子15に電流を流す期間は図
3(b)のように、トランジスタ11c、11bがオフ
し、トランジスタ11dが動作する。つまり、ゲート信
号線17aにオフ電圧(Vgh)が印加され、トランジ
スタ11b、11cがオフする。一方、ゲート信号線1
7bにオン電圧(Vgl)が印加され、トランジスタ1
1dがオンする。
Next, during the period in which a current is passed through the EL element 15, the transistors 11c and 11b are turned off and the transistor 11d operates as shown in FIG. 3B. That is, the off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17a, and the transistors 11b and 11c are turned off. On the other hand, the gate signal line 1
The on-voltage (Vgl) is applied to 7b, and the transistor 1
1d turns on.

【0129】このタイミングチャートを図4に図示す
る。なお、図4などにおいて、括弧内の添え字(たとえ
ば、(1)など)は画素行の番号を示している。つま
り、ゲート信号線17a(1)とは、画素行(1)のゲ
ート信号線17aを示している。また、図4の上段の*
Hとは、水平走査期間を示している。つまり、1Hとは
第1番目の水平走査期間である。なお、以上の事項は、
説明を容易にするためであって、限定(1Hの番号、1
H周期、画素行番号の順番など)するものではない。
This timing chart is shown in FIG. Note that, in FIG. 4 and the like, subscripts in parentheses (for example, (1) and the like) indicate pixel row numbers. That is, the gate signal line 17a (1) indicates the gate signal line 17a of the pixel row (1). In addition, * in the upper part of FIG.
H indicates a horizontal scanning period. That is, 1H is the first horizontal scanning period. The above items are
For ease of explanation, the limitation (1H number, 1
H period, order of pixel row numbers, etc.).

【0130】図4でわかるように、各選択された画素行
(選択期間は、1Hとしている)において、ゲート信号
線17aにオン電圧が印加されている時には、ゲート信
号線17bにはオフ電圧が印加されている。また、この
期間は、EL素子15には電流が流れていない(非点灯
状態)。選択されていない画素行において、ゲート信号
線17aにオフ電圧が印加され、ゲート信号線17bに
はオン電圧が印加されている。また、この期間は、EL
素子15に電流が流れている(点灯状態)。
As can be seen from FIG. 4, in each selected pixel row (the selection period is 1H), when the ON voltage is applied to the gate signal line 17a, the OFF voltage is applied to the gate signal line 17b. Is being applied. During this period, no current flows in the EL element 15 (non-lighting state). In the unselected pixel rows, an off voltage is applied to the gate signal line 17a and an on voltage is applied to the gate signal line 17b. Also, during this period, EL
A current is flowing through the element 15 (lighting state).

【0131】なお、トランジスタ11aのゲートとトラ
ンジスタ11cのゲートは同一のゲート信号線11aに
接続している。しかし、トランジスタ11aのゲートと
トランジスタ11cのゲートとを異なるゲート信号線1
1に接続してもよい(図32を参照のこと)。1画素の
ゲート信号線は3本となる(図1の構成は2本であ
る)。トランジスタ11bのゲートのON/OFFタイ
ミングとトランジスタ11cのゲートのON/OFFタ
イミングを個別に制御することにより、トランジスタ1
1aのばらつきによるEL素子15の電流値バラツキを
さらに低減することができる。
The gate of the transistor 11a and the gate of the transistor 11c are connected to the same gate signal line 11a. However, the gate of the transistor 11a and the gate of the transistor 11c have different gate signal lines 1
1 may be connected (see FIG. 32). The number of gate signal lines for one pixel is three (the configuration of FIG. 1 is two). By individually controlling the ON / OFF timing of the gate of the transistor 11b and the ON / OFF timing of the gate of the transistor 11c, the transistor 1
It is possible to further reduce the variation in the current value of the EL element 15 due to the variation of 1a.

【0132】ゲート信号線17aとゲート信号線17b
とを共通にし、トランジスタ11cと11dが異なった
導電型(NチャンネルとPチャンネル)とすると、駆動
回路の簡略化、ならびに画素の開口率を向上させること
が出来る。
Gate signal line 17a and gate signal line 17b
If the transistors 11c and 11d have different conductivity types (N channel and P channel) in common, the driving circuit can be simplified and the aperture ratio of the pixel can be improved.

【0133】このように構成すれば本発明の動作タイミ
ングとしては信号線からの書きこみ経路がオフになる。
すなわち所定の電流が記憶される際に、電流の流れる経
路に分岐があると正確な電流値がトランジスタ11aの
ソース(S)−ゲート(G)間容量(コンデンサ)に記
憶されない。トランジスタ11cとトランジスタ11d
を異なった導電形にすることにより、お互いの閾値を制
御することによって走査線の切り替わりのタイミングで
必ずトランジスタ11cがオフしたのちに、トランジス
タ11dがオンすることが可能になる。
With this structure, the write path from the signal line is turned off in the operation timing of the present invention.
That is, when a predetermined current is stored, an accurate current value is not stored in the source (S) -gate (G) capacitance (capacitor) of the transistor 11a if there is a branch in the current flow path. Transistor 11c and transistor 11d
It is possible to turn on the transistor 11d after the transistor 11c is turned off at the timing of switching the scanning lines by controlling the thresholds of the transistors by making the transistors different in conductivity type.

【0134】ただし、この場合お互いの閾値を正確にコ
ントロールする必要があるのでプロセスの注意が必要で
ある。なお、以上述べた回路は最低4つのトランジスタ
で実現可能であるが、より正確なタイミングのコントロ
ールあるいは後述するように、ミラー効果低減のために
トランジスタ11eを図2に示すように、カスケード接
続してトランジスタの総数が4以上になっても動作原理
は同じである。このようにトランジスタ11eを加えた
構成とすることにより、トランジスタ11cを介してプ
ログラムした電流がより精度よくEL素子15に流すこ
とができるようになる。
However, in this case, it is necessary to control the threshold values of each other accurately, and therefore the process needs to be careful. Although the circuit described above can be realized with at least four transistors, the transistor 11e is cascade-connected as shown in FIG. 2 for more accurate timing control or for reducing the Miller effect, as will be described later. The operating principle is the same even if the total number of transistors is four or more. With the configuration including the transistor 11e in this manner, the programmed current can be made to flow through the EL element 15 with higher accuracy through the transistor 11c.

【0135】図1の構成において、第1のトランジスタ
11aの飽和領域における電流値Idsが下式の条件を
満足させることがさらに好ましい。なお、下式において
λの値は、隣接する画素間において0.06以下0.0
1以上の条件を満足させる。
In the configuration of FIG. 1, it is more preferable that the current value Ids in the saturation region of the first transistor 11a satisfies the condition of the following equation. In the equation below, the value of λ is 0.06 or less between adjacent pixels 0.0
Satisfy one or more conditions.

【0136】 Ids=k×(Vgs−Vth)2(1+Vds×λ) 本発明では、トランジスタ11aの動作範囲を飽和領域
に限定するが、一般的に飽和領域におけるトランジスタ
特性は、理想的な特性より外れ、ソースードレイン間電
圧の影響を受ける。この効果をミラー効果という。
Ids = k × (Vgs−Vth) 2 (1 + Vds × λ) In the present invention, the operating range of the transistor 11a is limited to the saturation region. Generally, the transistor characteristic in the saturation region is lower than the ideal characteristic. It comes off and is affected by the voltage between source and drain. This effect is called the mirror effect.

【0137】隣接する画素におけるそれぞれのトランジ
スタ11aにΔVtなる閾値のシフトが発生した場合を
考える。この場合記憶される電流値は同じである。閾値
のシフトをΔLとすれば、約ΔV×λがトランジスタ1
1aの閾値が変動することによる、EL素子15の電流
値のずれに相当する。したがって、電流のずれをx
(%)以下に抑えるためには、閾値のシフトの許容量を
隣接する画素間でy(V)を許容するとして、λは0.
01×x/y以下でなければならないことが判る。
Consider a case where a threshold shift of ΔVt occurs in each transistor 11a in adjacent pixels. In this case, the stored current values are the same. If the shift of the threshold value is ΔL, about ΔV × λ is about 1
This corresponds to the deviation of the current value of the EL element 15 due to the change in the threshold value of 1a. Therefore, the deviation of the current is x
In order to suppress the threshold value to less than or equal to (%), y is set to 0.
It can be seen that it must be 01 × x / y or less.

【0138】この許容値はアプリケーションの輝度によ
り変化する。輝度が100cd/m 2から1000cd
/m2までの輝度領域においては、変動量が2%以上あ
れば人間は変動した境界線を認識する。したがって、輝
度(電流量)の変動量が2%以内であることが必要であ
る。輝度が100cd/cm2より高い場合は隣接する
画素の輝度変化量は2%以上となる。本発明のEL表示
素子を携帯端末用ディスプレイとして用いる場合、その
要求輝度は100cd/m2程度である。実際に図1の
画素構成を試作し、閾値の変動を測定すると、隣接する
画素のトランジスタ11aおいては閾値の変動の最大値
は0.3Vであることが判った。したがって、輝度の変
動を2%以内に抑えるためにはλは0.06以下でなけ
ればならない。しかし、0.01以下にする必要はな
い。人間が変化を認識することができないからである。
また、この閾値のバラツキを達成するためにはトランジ
スタサイズを十分大きくする必要があり、非現実的であ
る。
This tolerance depends on the brightness of the application.
Change. Brightness is 100 cd / m 2To 1000 cd
/ M2In the luminance range up to, the fluctuation amount is 2% or more.
Then, the human recognizes the changed boundary line. Therefore, shining
It is necessary that the fluctuation amount of the degree (current amount) is within 2%
It Brightness is 100 cd / cm2Adjacent if higher
The amount of change in luminance of the pixel is 2% or more. EL display of the present invention
When using the device as a display for mobile terminals,
Required brightness is 100 cd / m2It is a degree. In fact
Prototype the pixel configuration and measure the threshold variation
The maximum value of the fluctuation of the threshold in the transistor 11a of the pixel
Was found to be 0.3V. Therefore, the brightness change
In order to keep the movement within 2%, λ must be 0.06 or less.
I have to. However, it is not necessary to set it below 0.01
Yes. This is because humans cannot recognize the change.
In addition, in order to achieve this threshold variation, the transition
It is necessary to make the star size large enough,
It

【0139】また、第1のトランジスタ11aの飽和領
域における電流値Idsが下式を満足するように構成す
ることが好ましい。なお、λの変動が隣接する画素間に
おいて5%以下1%以上とする。
It is preferable that the current value Ids in the saturation region of the first transistor 11a satisfies the following equation. The variation of λ is 5% or less and 1% or more between adjacent pixels.

【0140】 Ids=k×(Vgs−Vth)2(1+Vds×λ) 隣接する画素間において、たとえ閾値の変動が存在しな
い場合でも上記式のλに変動があれば、ELを流れる電
流値が変動する。変動を±2%以内に抑えるためには、
λの変動を±5%に抑えなければならない。しかし、し
かし、1%以下にする必要はない。人間が変化を認識す
ることができないからである。また、1%以下を達成す
るためにはトランジスタサイズを相当に大きくする必要
があり、非現実的である。
Ids = k × (Vgs−Vth) 2 (1 + Vds × λ) Even if there is no change in the threshold value between adjacent pixels, if λ in the above formula changes, the current value flowing through the EL changes. To do. To keep the fluctuation within ± 2%,
The variation of λ must be suppressed to ± 5%. However, however, it does not have to be 1% or less. This is because humans cannot recognize the change. Further, in order to achieve 1% or less, the transistor size needs to be considerably increased, which is unrealistic.

【0141】また、実験、アレイ試作および検討によれ
ば第1のトランジスタ11aのチャンネル長が10μm
以上200μm以下とすることが好ましい。さらに好ま
しくは、第1のトランジスタ11aのチャンネル長が1
5μm以上150μm以下とすることが好ましい。これ
は、チャンネル長Lを長くした場合、チャンネルに含ま
れる粒界が増えることによって電界が緩和されキンク効
果が低く抑えられるためであると考えられる。
Further, according to experiments, array trial manufacture and examination, the channel length of the first transistor 11a is 10 μm.
It is preferable that the thickness is 200 μm or less. More preferably, the channel length of the first transistor 11a is 1
The thickness is preferably 5 μm or more and 150 μm or less. This is considered to be because when the channel length L is lengthened, the grain boundaries included in the channel increase, and the electric field is relaxed, and the kink effect is suppressed to a low level.

【0142】また、画素を構成するトランジスタ11
が、レーザー再結晶化方法(レーザアニ−ル)により形
成されたポリシリコントランジスタで形成され、すべて
のトランジスタにおけるチャンネルの方向がレーザーの
照射方向に対して同一の方向であることが好ましい。ま
た、レーザーは同一箇所を2回以上スキャンして半導体
膜を形成することが好ましい。
Further, the transistor 11 forming the pixel
Is preferably a polysilicon transistor formed by a laser recrystallization method (laser anneal), and the channel directions in all transistors are preferably the same as the laser irradiation direction. Further, it is preferable that the laser scans the same portion twice or more to form a semiconductor film.

【0143】本特許の発明の目的は、トランジスタ特性
のばらつきが表示に影響を与えない回路構成を提案する
ものであり、そのために4トランジスタ以上が必要であ
る。これらのトランジスタ特性により、回路定数を決定
する場合、4つのトランジスタの特性がそろわなけれ
ば、適切な回路定数を求めることが困難である。レーザ
ー照射の長軸方向に対して、チャンネル方向が水平の場
合と垂直の場合では、トランジスタ特性の閾値と移動度
が異なって形成される。なお、どちらの場合もばらつき
の程度は同じである。水平方向と、垂直方向では移動
度、閾値のあたいの平均値が異なる。したがって、画素
を構成するすべてのトランジスタのチャンネル方向は同
一であるほうが望ましい。
The object of the invention of this patent is to propose a circuit configuration in which variations in transistor characteristics do not affect the display, and therefore four or more transistors are required. When the circuit constant is determined based on these transistor characteristics, it is difficult to obtain an appropriate circuit constant unless the four transistors have the same characteristics. When the channel direction is horizontal or vertical with respect to the long-axis direction of laser irradiation, the threshold and mobility of transistor characteristics are different. The degree of variation is the same in both cases. The mobility and the average value of the thresholds are different between the horizontal direction and the vertical direction. Therefore, it is desirable that the channel directions of all the transistors forming the pixel are the same.

【0144】また、蓄積容量19の容量値をCs、第2
のトランジスタ11bのオフ電流値をIoffとした場
合、次式を満足させることが好ましい。
The capacitance value of the storage capacitor 19 is set to Cs, the second
When the off-state current value of the transistor 11b is Ioff, it is preferable to satisfy the following equation.

【0145】3 < Cs/Ioff < 24 さらに好ましくは、次式を満足させることが好ましい。3 <Cs / Ioff <24 More preferably, it is preferable to satisfy the following formula.

【0146】6 < Cs/Ioff < 18 トランジスタ11bのオフ電流を5pA以下とすること
により、ELを流れる電流値の変化を2%以下に抑える
ことが可能である。これはリーク電流が増加すると、電
圧非書き込み状態においてゲート−ソース間(コンデン
サの両端)に貯えられた電荷を1フィールド間保持でき
ないためである。したがって、コンデンサ19の蓄積用
容量が大きければオフ電流の許容量も大きくなる。前記
式を満たすことによって隣接画素間の電流値の変動を2
%以下に抑えることができる。
6 <Cs / Ioff <18 By setting the off current of the transistor 11b to 5 pA or less, it is possible to suppress the change in the current value flowing through the EL to 2% or less. This is because when the leak current increases, the charge stored between the gate and the source (both ends of the capacitor) cannot be retained for one field in the voltage non-writing state. Therefore, the larger the storage capacity of the capacitor 19, the larger the allowable amount of off-current. By satisfying the above equation, the fluctuation of the current value between adjacent pixels can be reduced by 2
% Or less.

【0147】また、アクティブマトリックスを構成する
トランジスタがp−chポリシリコン薄膜トランジスタ
に構成され、トランジスタ11bがデュアルゲート以上
であるマルチゲート構造とすることが好ましい。トラン
ジスタ11bは、トランジスタ11aのソース−ドレイ
ン間のスイッチとして作用するため、できるだけON/
OFF比の高い特性が要求される。トランジスタ11b
のゲートの構造をデュアルゲート構造以上のマルチゲー
ト構造とすることによりON/OFF比の高い特性を実
現できる。
Further, it is preferable that the transistors forming the active matrix are formed of p-ch polysilicon thin film transistors, and the transistor 11b has a multi-gate structure having at least dual gates. Since the transistor 11b acts as a switch between the source and drain of the transistor 11a, it is turned on / off as much as possible.
High OFF ratio characteristics are required. Transistor 11b
A high ON / OFF ratio characteristic can be realized by adopting a multi-gate structure having a dual gate structure or more as the gate structure.

【0148】また、アクティブマトリックスを構成する
トランジスタがポリシリコン薄膜トランジスタで構成さ
れており、各トランジスタの(チャンネル幅W)×(チ
ャンネル長L)を54μm2以下とすることが好まし
い。(チャンネル幅W)×(チャンネル長L)とトラン
ジスタ特性のバラツキとは相関がある。トランジスタ特
性におけるばらつきの原因は、レーザーの照射によるエ
ネルギーのばらつきなどに起因するものが大きく、した
がってこれを吸収するためには、できるだけレーザーの
照射ピッチ(一般的には10数μm)をチャンネル内に
より多く含む構造が望ましい。各トランジスタの(チャ
ンネル幅W)×(チャンネル長L)を54μm2以下と
することによりレーザー照射に起因するばらつきがな
く、特性のそろった薄膜トランジスタを得ることができ
る。なお、あまりにもトランジスタサイズが小さくなる
と面積による特性ばらつきが発生する。したがって、各
トランジスタの(チャンネル幅W)×(チャンネル長
L)は9μm2以上となるようにする。なお、さらに好
ましくは、各トランジスタの(チャンネル幅W)×(チ
ャンネル長L)は16μm2以上45μm2以下となるよ
うにすることが好ましい。
It is preferable that the transistors forming the active matrix are polysilicon thin film transistors, and the (channel width W) × (channel length L) of each transistor is 54 μm 2 or less. There is a correlation between (channel width W) × (channel length L) and variations in transistor characteristics. The cause of the variation in transistor characteristics is largely due to the variation in energy due to laser irradiation. Therefore, in order to absorb this, the laser irradiation pitch (generally 10 and several μm) should be set as much as possible within the channel. A structure containing many is desirable. By setting (channel width W) × (channel length L) of each transistor to 54 μm 2 or less, there can be obtained a thin film transistor having uniform characteristics without variations due to laser irradiation. It should be noted that if the transistor size becomes too small, the characteristics will vary depending on the area. Therefore, the (channel width W) × (channel length L) of each transistor should be 9 μm 2 or more. It is more preferable that the (channel width W) × (channel length L) of each transistor be 16 μm 2 or more and 45 μm 2 or less.

【0149】また、隣接する単位画素での第1のトラン
ジスタ11aの移動度変動が20%以下であるようにす
ることが好ましい。移動度が不足することによりスイッ
チングトランジスタの充電能力が劣化し、時間内に必要
な電流値を流すまでに、M1のゲート−ソース間の容量
を充電できない。従って移動のばらつきを20%以内に
抑えることにより画素間の輝度のばらつきを認知限以下
にすることができる。
Further, it is preferable that the mobility fluctuation of the first transistor 11a in the adjacent unit pixel is 20% or less. Due to the lack of mobility, the charging capacity of the switching transistor deteriorates, and the gate-source capacitance of M1 cannot be charged by the time the necessary current value is passed. Therefore, by suppressing the variation in movement within 20%, it is possible to reduce the variation in luminance between pixels to the recognition limit or less.

【0150】以上の説明は、画素構成が図1の構成とし
て説明したが、以上の事項は他の画素構成にも適用する
ことができる。以下、その一例として図38の画素構成
について、構成、動作について説明をする。
Although the above description has been made assuming that the pixel configuration is that of FIG. 1, the above items can also be applied to other pixel configurations. The configuration and operation of the pixel configuration shown in FIG. 38 will be described below as an example.

【0151】EL素子15に流す電流を設定する時、ト
ランジスタ11aに流す信号電流をIw、その結果トラ
ンジスタ11aに生ずるゲートーソース間電圧をVgs
とする。書き込み時はトランジスタ11dによってトラ
ンジスタ11aのゲート・ドレイン間が短絡されている
ので、トランジスタ11aは飽和領域で動作する。よっ
て、Iwは、以下の式で与えられる。
When the current flowing through the EL element 15 is set, the signal current flowing through the transistor 11a is Iw, and as a result, the gate-source voltage generated in the transistor 11a is Vgs.
And At the time of writing, since the gate and drain of the transistor 11a are short-circuited by the transistor 11d, the transistor 11a operates in the saturation region. Therefore, Iw is given by the following formula.

【0152】 Iw=μ1・Cox1・(W1/L1)/2(Vgs−Vth1)2 … (1) ここで、Coxは単位面積当たりのゲート容量であり、
Cox=ε0・εr/dで与えられる。Vthはトラン
ジスタの閾値、μはキャリアの移動度、Wはチャンネル
幅、Lはチャンネル長、ε0は真空の移動度、εrはゲ
ート絶縁膜の比誘電率を示し、dはゲート絶縁膜の厚み
である。
Iw = μ1 · Cox1 · (W1 / L1) / 2 (Vgs−Vth1) 2 (1) Here, Cox is a gate capacitance per unit area,
It is given by Cox = ε0 · εr / d. Vth is the threshold of the transistor, μ is the carrier mobility, W is the channel width, L is the channel length, ε0 is the vacuum mobility, εr is the relative dielectric constant of the gate insulating film, and d is the thickness of the gate insulating film. is there.

【0153】EL素子15に流れる電流をIddとする
と、Iddは、EL素子15と直列に接続されるトラン
ジスタ1bによって電流レベルが制御される。本発明で
は、そのゲートーソース間電圧が(1)式のVgsに一
致するので、トランジスタ1bが飽和領域で動作すると
仮定すれば、以下の式が成り立つ。
When the current flowing through the EL element 15 is Idd, the current level of Idd is controlled by the transistor 1b connected in series with the EL element 15. In the present invention, since the gate-source voltage thereof matches Vgs of the equation (1), the following equation is established assuming that the transistor 1b operates in the saturation region.

【0154】 Idrv=μ2・Cox2・(W2/L2)/2(Vgs−Vth2)2 … (2) 絶縁ゲート電界効果型の薄膜トランジスタ(トランジス
タ)が飽和領域で動作するための条件は、Vdsをドレ
イン・ソース間電圧として、一般に以下の式で与えられ
る。
Idrv = μ2 · Cox2 · (W2 / L2) / 2 (Vgs−Vth2) 2 (2) The condition for the insulated gate field effect thin film transistor (transistor) to operate in the saturation region is to drain Vds -The voltage between sources is generally given by the following formula.

【0155】 |Vds|>|Vgs−Vth| … (3) ここで、トランジスタ11aとトランジスタ11bは、
小さな画素内部に近接して形成されるため、大略μ1=
μ2及びCox1=Cox2であり、特に工夫を凝らさ
ない限り、Vth1=Vth2と考えられる。すると、
このとき(1)式及び(2)式から容易に以下の式が導
かれる。
| Vds |> | Vgs−Vth | (3) Here, the transistors 11a and 11b are
Since it is formed close to the inside of a small pixel, approximately μ1 =
μ2 and Cox1 = Cox2, and it is considered that Vth1 = Vth2 unless special measures are taken. Then,
At this time, the following equations are easily derived from the equations (1) and (2).

【0156】 Idrv/Iw=(W2/L2)/(W1/L1) … (4) ここで注意すべき点は、(1)式及び(2)式におい
て、μ、Cox、Vthの値自体は、画素毎、製品毎、
あるいは製造ロット毎にばらつくのが普通であるが、
(4)式はこれらのパラメータを含まないので、Idr
v/Iwの値はこれらのばらつきに依存しないというこ
とである。
Idrv / Iw = (W2 / L2) / (W1 / L1) (4) The point to be noted here is that the values of μ, Cox, and Vth in equations (1) and (2) are , Per pixel, per product,
Or it is usually different for each production lot,
Since Equation (4) does not include these parameters, Idr
This means that the value of v / Iw does not depend on these variations.

【0157】仮にW1=W2、L1=L2と設計すれ
ば、Idrv/Iw=1、すなわちIwとIdrvが同
一の値となる。すなわちトランジスタの特性ばらつきに
よらず、EL素子15に流れる駆動電流Iddは、正確
に信号電流Iwと同一になるので、結果としてEL素子
15の発光輝度を正確に制御できる。
If W1 = W2 and L1 = L2 are designed, Idrv / Iw = 1, that is, Iw and Idrv have the same value. That is, the drive current Idd flowing through the EL element 15 is exactly the same as the signal current Iw regardless of variations in transistor characteristics, and as a result, the emission brightness of the EL element 15 can be accurately controlled.

【0158】以上の様に、駆動用トランジスタ11aの
Vth1と駆動用トランジスタ11bのVth2は基本
的に同一である為、両トランジスタお互いにの共通電位
にあるゲートに対してカットオフレベルの信号電圧が印
加されると、トランジスタ11a及びトランジスタ11
b共に非導通状態になるはずである。ところが、実際に
は画素内でもパラメータのばらつきなどの要因により、
Vth1よりもVth2が低くなってしまうことがあ
る。この時には、駆動用トランジスタ11bにサブスレ
ッショルドレベルのリーク電流が流れる為、EL素子1
5は微発光を呈する。この微発光により画面のコントラ
ストが低下し表示特性が損なわれる。
As described above, since Vth1 of the driving transistor 11a and Vth2 of the driving transistor 11b are basically the same, the cut-off level signal voltage is applied to the gates at the common potential of both transistors. When applied, transistor 11a and transistor 11
Both b should be in a non-conducting state. However, in reality, due to factors such as parameter variations within the pixel,
Vth2 may be lower than Vth1. At this time, since a sub-threshold level leak current flows through the driving transistor 11b, the EL element 1
5 exhibits weak light emission. This slight light emission lowers the contrast of the screen and impairs the display characteristics.

【0159】本発明では特に、駆動用トランジスタ11
bの閾電圧Vth2が画素内で対応する駆動用トランジ
スタ11aの閾電圧Vth1より低くならない様に設定
している。例えば、トランジスタ11bのゲート長L2
をトランジスタ11aのゲート長L1よりも長くして、
これらの薄膜トランジスタのプロセスパラメータが変動
しても、Vth2がVth1よりも低くならない様にす
る。これにより、微少な電流リークを抑制することが可
能である。以上の事項は図1のトランジスタ11aとト
ランジスタ11dの関係にも適用される。
Particularly in the present invention, the driving transistor 11 is used.
The threshold voltage Vth2 of b is set so as not to be lower than the threshold voltage Vth1 of the corresponding driving transistor 11a in the pixel. For example, the gate length L2 of the transistor 11b
Is longer than the gate length L1 of the transistor 11a,
Even if the process parameters of these thin film transistors change, Vth2 does not become lower than Vth1. This makes it possible to suppress a minute current leak. The above items also apply to the relationship between the transistor 11a and the transistor 11d in FIG.

【0160】図38に示すように、信号電流が流れる駆
動用トランジスタ11a、EL素子15等からなる発光
素子に流れる駆動電流を制御する駆動用トランジスタ1
1bの他、ゲート信号線17a1の制御によって画素回
路とデータ線dataとを接続もしくは遮断する取込用
トランジスタ11c、ゲート信号線17a2の制御によ
って書き込み期間中にトランジスタ11aのゲート・ド
レインを短絡するスイッチ用トランジスタ11d、トラ
ンジスタ11aのゲート−ソース間電圧を書き込み終了
後も保持するための容量C19および発光素子としての
EL素子15などから構成される。
As shown in FIG. 38, the driving transistor 1a for controlling the driving current flowing through the light emitting element including the driving transistor 11a through which the signal current flows, the EL element 15 and the like.
1b, a gate transistor 11c for connecting or disconnecting the pixel circuit and the data line data by controlling the gate signal line 17a1, and a switch for short-circuiting the gate and drain of the transistor 11a during the writing period by controlling the gate signal line 17a2. Transistor 11d, a capacitor C19 for holding the gate-source voltage of the transistor 11a after writing is completed, and an EL element 15 as a light emitting element.

【0161】図38でトランジスタ11c、11dはN
チャンネルMOS(NMOS)、その他のトランジスタ
はPチャンネルMOS(PMOS)で構成しているが、
これは一例であって、必ずしもこの通りである必要はな
い。容量Cは、その一方の端子をトランジスタ11aの
ゲートに接続され、他方の端子はVdd(電源電位)に
接続されているが、Vddに限らず任意の一定電位でも
良い。EL素子15のカソード(陰極)は接地電位に接
続されている。したがって、以上の事項は図1などにも
適用されることは言うまでもない。
In FIG. 38, the transistors 11c and 11d are N
Channel MOS (NMOS) and other transistors are P channel MOS (PMOS),
This is an example, and it does not necessarily have to be the same. Although one terminal of the capacitor C is connected to the gate of the transistor 11a and the other terminal is connected to Vdd (power supply potential), the capacitance C is not limited to Vdd and may be any constant potential. The cathode (cathode) of the EL element 15 is connected to the ground potential. Therefore, it goes without saying that the above items also apply to FIG.

【0162】EL素子15の端子電圧は温度によっても
変化する。通常、温度が低い時は高く、温度が高くなる
につれ、低くなる。この傾向はリニアの関係にある。し
たがって、Vdd電圧を外部温度によって(正確にはE
L素子15の温度によって)調整することが好ましい。
温度センサで外部温度を検出し、Vdd電圧発生部ある
いはVk電圧発生部のフィードバックをかけてVdd電
圧あるいはVk電圧を変化させる。Vdd電圧などは摂
氏10℃の変化で、2%以上8%以下変化するようにす
ることが好ましい。中でも3%以上6%以下とすること
が好ましい。
The terminal voltage of the EL element 15 also changes with temperature. Usually, it is high when the temperature is low, and becomes low when the temperature is high. This tendency has a linear relationship. Therefore, the Vdd voltage depends on the external temperature (to be exact, E
It is preferable to adjust (by the temperature of the L element 15).
The temperature sensor detects the external temperature, and the Vdd voltage or the Vk voltage is changed by feeding back the Vdd voltage generator or the Vk voltage generator. It is preferable that the Vdd voltage and the like change by 2% or more and 8% or less with a change of 10 ° C. Above all, it is preferably 3% or more and 6% or less.

【0163】なお、図1などのVdd電圧はトランジス
タ11bのオフ電圧(トランジスタがPチャンネル時)
よりも低くすることが好ましい。具体的には、Vgh
(ゲートのオフ電圧)は少なくともVdd−0.5
(V)よりの高くするべきである。これよりも低いとト
ランジスタのオフリークが発生し、レーザーアニ−ルの
ショットムラが目立つようになる。また、Vdd+4
(V)よりも低くすべきである。あまりにも高いと逆に
オフリーク量が増加する。
The Vdd voltage in FIG. 1 is the off voltage of the transistor 11b (when the transistor is a P channel).
It is preferable to lower it. Specifically, Vgh
(Gate off voltage) is at least Vdd-0.5
It should be higher than (V). If it is lower than this, off-leakage of the transistor occurs, and shot unevenness of the laser anneal becomes conspicuous. Also, Vdd + 4
Should be lower than (V). If it is too high, on the contrary, the amount of off leak increases.

【0164】したがって、ゲートのオフ電圧(図1では
Vgh、つまり、電源電圧に近い電圧側)は、電源電圧
(図1ではVdd)は、よりも−0.5(V)以上+4
(V)以下とすべきである。さらに好ましくは、電源電
圧(図1ではVdd)は、よりも0(V)以上+2
(V)以下とすべきである。つまり、ゲート信号線に印
加するトランジスタのオフ電圧は、十分オフになるよう
にする。トランジスタがNチャンネルの場合は、Vgl
がオフ電圧となる。したがって、VglはGND電圧に
対して−4(V)以上0.5(V)以下の範囲となるよ
うにする。さらに好ましくは−2(V)以上0(V)以
下の範囲することが好ましい。
Therefore, the off-voltage of the gate (Vgh in FIG. 1, that is, the voltage side close to the power supply voltage), the power supply voltage (Vdd in FIG. 1) is -0.5 (V) or more +4.
(V) Should be below. More preferably, the power supply voltage (Vdd in FIG. 1) is 0 (V) or more and +2.
(V) Should be below. That is, the off voltage of the transistor applied to the gate signal line is set to be sufficiently off. When the transistor is N channel, Vgl
Is the off voltage. Therefore, Vgl is set within the range of -4 (V) or more and 0.5 (V) or less with respect to the GND voltage. More preferably, the range is −2 (V) or more and 0 (V) or less.

【0165】以上の事項は、図1の電流プログラムの画
素構成について述べたが、これに限定するものではな
く、電圧プログラムの画素構成にも適用できることは言
うまでもない。なお、電圧プログラムのVtオフセット
キャンセルは、R、G、Bごとに個別に補償することが
好ましい。
Although the above description has been made with respect to the pixel configuration of the current program shown in FIG. 1, it is needless to say that the present invention is not limited to this and can be applied to the pixel configuration of the voltage program. The Vt offset cancellation of the voltage program is preferably individually compensated for each of R, G, and B.

【0166】駆動用トランジスタ11bは、コンデンサ
19に保持された電圧レベルをゲートに受け入れそれに
応じた電流レベルを有する駆動電流はチャネルを介して
EL素子15に流す。トランジスタトランジスタ11a
のゲートとトランジスタトランジスタ11bのゲートと
が直接に接続されてカレントミラー回路を構成し、信号
電流Iwの電流レベルと駆動電流の電流レベルとが比例
関係となる様にしている。
The driving transistor 11b receives the voltage level held in the capacitor 19 at its gate and supplies a driving current having a current level corresponding to the voltage level to the EL element 15 through the channel. Transistor transistor 11a
Is directly connected to the gate of the transistor transistor 11b to form a current mirror circuit, and the current level of the signal current Iw and the current level of the drive current are in a proportional relationship.

【0167】トランジスタ11bは飽和領域で動作し、
そのゲートに印加された電圧レベルと閾電圧との差に応
じた駆動電流をEL素子15に流す。
The transistor 11b operates in the saturation region,
A drive current according to the difference between the voltage level applied to the gate and the threshold voltage is passed through the EL element 15.

【0168】トランジスタ11bは、その閾電圧が画素
内で対応するランジスタ11aの閾電圧より低くならな
い様に設定されている。具体的には、トランジスタ11
bは、そのゲート長がトランジスタ11aのゲート長よ
り短くならない様に設定されている。あるいは、トラン
ジスタ11bは、そのゲート絶縁膜が画素内で対応する
トランジスタ11aのゲート絶縁膜より薄くならないよ
うに設定しても良い。
The transistor 11b is set so that its threshold voltage does not become lower than the threshold voltage of the corresponding transistor 11a in the pixel. Specifically, the transistor 11
b is set so that its gate length is not shorter than the gate length of the transistor 11a. Alternatively, the transistor 11b may be set such that its gate insulating film is not thinner than the gate insulating film of the corresponding transistor 11a in the pixel.

【0169】あるいは、トランジスタ11bは、そのチ
ャネルに注入される不純物濃度を調整して、閾電圧が画
素内で対応するトランジスタ11aの閾電圧より低くな
らない様に設定してもよい。仮に、トランジスタ11a
とトランジスタ11bの閾電圧が同一となる様に設定し
た場合、共通接続されたトランジスタのゲートにカット
オフレベルの信号電圧が印加されると、トランジスタ1
1a及びトランジスタ11bは両方共オフ状態になるは
ずである。ところが、実際には画素内にも僅かながらプ
ロセスパラメータのばらつきがあり、トランジスタ11
aの閾電圧よりトランジスタ11bの閾電圧が低くなる
場合がある。
Alternatively, the transistor 11b may be set by adjusting the concentration of impurities implanted into its channel so that the threshold voltage does not become lower than the threshold voltage of the corresponding transistor 11a in the pixel. For example, the transistor 11a
When the threshold voltage of the transistor 11b and the threshold voltage of the transistor 11b are set to be the same, when the cutoff level signal voltage is applied to the gates of the commonly connected transistors, the transistor 1
Both 1a and transistor 11b should be off. However, in reality, there are slight variations in the process parameters even within the pixel, and the transistor 11
The threshold voltage of the transistor 11b may be lower than the threshold voltage of a.

【0170】この時には、カットオフレベル以下の信号
電圧でもサブスレッショルドレベルの微弱電流が駆動用
トランジスタ11bに流れる為、EL素子15は微発光
し画面のコントラスト低下が現れる。そこで、トランジ
スタ11bのゲート長をトランジスタ11aのゲート長
よりも長くしている。これにより、トランジスタ11の
プロセスパラメータが画素内で変動しても、トランジス
タ11bの閾電圧がトランジスタ11aの閾電圧よりも
低くならない様にする。
At this time, a weak current of sub-threshold level flows through the driving transistor 11b even if the signal voltage is below the cutoff level, so that the EL element 15 slightly emits light and the contrast of the screen deteriorates. Therefore, the gate length of the transistor 11b is made longer than that of the transistor 11a. This prevents the threshold voltage of the transistor 11b from becoming lower than the threshold voltage of the transistor 11a even if the process parameter of the transistor 11 varies within the pixel.

【0171】ゲート長Lが比較的短い短チャネル効果領
域Aでは、ゲート長Lの増加に伴いVthが上昇する。
一方、ゲート長Lが比較的大きな抑制領域Bではゲート
長Lに関わらずVthはほぼ一定である。この特性を利
用して、トランジスタ11bのゲート長をトランジスタ
11aのゲート長よりも長くしている。例えば、トラン
ジスタ11aのゲート長が7μmの場合、トランジスタ
11bのゲート長を10μm程度にする。
In the short channel effect region A having a relatively short gate length L, Vth rises as the gate length L increases.
On the other hand, in the suppression region B having a relatively large gate length L, Vth is almost constant regardless of the gate length L. By utilizing this characteristic, the gate length of the transistor 11b is made longer than that of the transistor 11a. For example, when the gate length of the transistor 11a is 7 μm, the gate length of the transistor 11b is about 10 μm.

【0172】トランジスタ11aのゲート長が短チャネ
ル効果領域Aに属する一方、トランジスタ11bのゲー
ト長が抑制領域Bに属する様にしても良い。これによ
り、トランジスタ11bにおける短チャネル効果を抑制
することができるとともに、プロセスパラメータの変動
による閾電圧低減を抑制可能である。以上により、トラ
ンジスタ11bに流れるサブスレッショルドレベルのリ
ーク電流を抑制してEL素子15の微発光を抑え、コン
トラスト改善に寄与可能である。
The gate length of the transistor 11a may belong to the short channel effect region A, while the gate length of the transistor 11b may belong to the suppression region B. Accordingly, the short channel effect in the transistor 11b can be suppressed, and the threshold voltage reduction due to the change of the process parameter can be suppressed. As described above, it is possible to suppress the sub-threshold level leak current flowing in the transistor 11b, suppress the slight light emission of the EL element 15, and contribute to the improvement of contrast.

【0173】このようにして作製した図1、図2、図3
8などで説明したEL表示素子15に直流電圧を印加
し、10mA/cm2の一定電流密度で連続駆動させ
た。EL構造体は、7.0V 、200cd/cm2の
緑色(発光極大波長λmax =460nm)の発光が
確認できた。青色発光部は、輝度100cd/cm2
で、色座標がx=0.129、y=0.105、緑色発
光部は、輝度200cd/cm2 で、色座標がx=
0.340、y=0.625、赤色発光部は、輝度10
0cd/cm2 で、色座標がx=0.649、y=
0.338の発光色が得られた。フルカラー有機EL表
示パネルでは、開口率の向上が重要な開発課題になる。
開口率を高めると光の利用効率が上がり、高輝度化や長
寿命化につながるためである。開口率を高めるために
は、有機EL層からの光を遮るトランジスタの面積を小
さくすればよい。低温多結晶Si−トランジスタはアモ
ルファスシリコンに比較して10−100倍の性能を持
ち、電流の供給能力が高いため、トランジスタの大きさ
を非常に小さくできる。したがって、有機EL表示パネ
ルでは、画素トランジスタ、周辺駆動回路を低温ポリシ
リコン技術で作製することが好ましい。もちろん、アモ
ルファスシリコン技術で形成してもよいが画素開口率は
かなり小さくなってしまう。
FIGS. 1, 2 and 3 produced in this way
A direct current voltage was applied to the EL display element 15 described in 8, etc., and it was continuously driven at a constant current density of 10 mA / cm 2 . In the EL structure, light emission of 7.0 V and 200 cd / cm 2 in green color (maximum emission wavelength λmax = 460 nm) was confirmed. The brightness of the blue light emitting portion is 100 cd / cm 2.
, The color coordinate is x = 0.129, y = 0.105, the green light emitting portion has a luminance of 200 cd / cm 2 , and the color coordinate is x =
0.340, y = 0.625, the red light emitting portion has a brightness of 10
At 0 cd / cm 2 , the color coordinates are x = 0.649, y =
An emission color of 0.338 was obtained. For full-color organic EL display panels, improving the aperture ratio is an important development issue.
This is because if the aperture ratio is increased, the light utilization efficiency is increased, which leads to higher brightness and longer life. In order to increase the aperture ratio, the area of the transistor that blocks light from the organic EL layer may be reduced. The low-temperature polycrystalline Si-transistor has a performance 10 to 100 times higher than that of amorphous silicon and has a high current supply capability, so that the size of the transistor can be made extremely small. Therefore, in the organic EL display panel, it is preferable to manufacture the pixel transistor and the peripheral drive circuit by the low temperature polysilicon technique. Of course, it may be formed by the amorphous silicon technique, but the pixel aperture ratio becomes considerably small.

【0174】ゲートドライバ回路12あるいはソースド
ライバ回路14などの駆動回路をガラス基板71上に形
成することにより、電流駆動の有機EL表示パネルで特
に問題になる抵抗を下げることができる。TCPの接続
抵抗がなくなるうえに、TCP接続の場合に比べて電極
からの引き出し線が2〜3mm短くなり配線抵抗が小さ
くなる。さらに、TCP接続のための工程がなくなる、
材料コストが下がるという利点があるとする。
By forming a driving circuit such as the gate driver circuit 12 or the source driver circuit 14 on the glass substrate 71, it is possible to reduce the resistance which is a particular problem in the current driven organic EL display panel. In addition to eliminating the connection resistance of TCP, the lead wire from the electrode is shortened by 2 to 3 mm and the wiring resistance is reduced as compared with the case of TCP connection. Furthermore, the process for TCP connection is eliminated,
Suppose there is an advantage that the material cost is reduced.

【0175】次に、本発明のEL表示パネルあるいはE
L表示装置について説明をする。図6はEL表示装置の
回路を中心とした説明図である。画素16がマトリック
ス状に配置または形成されている。各画素16には各画
素の電流プログラムを行う電流を出力するソースドライ
バ回路14が接続されている。ソースドライバ回路14
の出力段は映像信号のビット数に対応したカレントミラ
ー回路が形成されている(後に説明する)。たとえば、
64階調であれば、63個のカレントミラー回路が各ソ
ース信号線に形成され、これらのカレントミラー回路の
個数を選択することにより所望の電流をソース信号線1
8に印加できるように構成されている。
Next, the EL display panel or E of the present invention is used.
The L display device will be described. FIG. 6 is an explanatory diagram centering on the circuit of the EL display device. The pixels 16 are arranged or formed in a matrix. A source driver circuit 14 that outputs a current for performing a current program of each pixel is connected to each pixel 16. Source driver circuit 14
A current mirror circuit corresponding to the number of bits of the video signal is formed in the output stage of (described later). For example,
In the case of 64 gradations, 63 current mirror circuits are formed in each source signal line, and a desired current is supplied to the source signal line 1 by selecting the number of these current mirror circuits.
It is configured so that it can be applied to eight.

【0176】なお、1つのカレントミラー回路の最小出
力電流は10nA以上50nAにしている。特にカレン
トミラー回路の最小出力電流は15nA以上35nAに
することがよい。ドライバーIC14内のカレントミラ
ー回路を構成するトランジスタの精度を確保するためで
ある。
The minimum output current of one current mirror circuit is 10 nA or more and 50 nA. In particular, the minimum output current of the current mirror circuit should be 15 nA or more and 35 nA. This is to ensure the accuracy of the transistors forming the current mirror circuit in the driver IC 14.

【0177】また、ソース信号線18の電荷を強制的に
放出または充電するプリチャージあるいはディスチャー
ジ回路を内蔵する。ソース信号線18の電荷を強制的に
放出または充電するプリチャージあるいはディスチャー
ジ回路の電圧(電流)出力値は、R、G、Bで独立に設
定できるように構成することが好ましい。EL素子15
の閾値がRGBでことなるからである。
Further, a built-in precharge or discharge circuit for forcibly releasing or charging the electric charge of the source signal line 18 is incorporated. It is preferable that the voltage (current) output value of the precharge or discharge circuit for forcibly discharging or charging the charge of the source signal line 18 can be set independently by R, G, and B. EL element 15
This is because the threshold value of is different for RGB.

【0178】以上に説明した画素構成、アレイ構成、パ
ネル構成などは、以下に説明する構成、方法、装置に適
用されることは言うまでもない。また、以下に説明する
構成、方法、装置は、すでに説明した画素構成、アレイ
構成、パネル構成などが適用されることは言うまでもな
い。有機EL素子は大きな温度依存性特性(温特)があ
ることが知られている。この温特による発光輝度変化を
調整するため、カレントミラー回路に出力電流を変化さ
せるサーミスタあるいはポジスタなどの非直線素子を付
加し、温特による変化を前記サーミスタなどで調整する
ことによりアナログ的に基準電流を作成する。
It goes without saying that the pixel configuration, array configuration, panel configuration and the like described above are applied to the configurations, methods and devices described below. Further, it goes without saying that the pixel configuration, array configuration, panel configuration, etc. already described are applied to the configurations, methods, and devices described below. It is known that the organic EL element has a large temperature-dependent characteristic (temperature characteristic). In order to adjust the change in emission brightness due to this temperature characteristic, a non-linear element such as a thermistor or posistor that changes the output current is added to the current mirror circuit, and the change due to the temperature characteristic is adjusted with the thermistor etc. Create an electric current.

【0179】この場合は、選択するEL材料で一義的に
決定されるから、マイコンなどのソフト制御する必要が
ない場合が多い。つまり、液晶材料により、一定のシフ
ト量などに固定しておいてもよい。重要なのは発光色材
料により温特が異なっている点であり、発光色(R、
G、B)ごとに最適な温特補償を行う必要がある点であ
る。
In this case, since it is uniquely determined by the EL material to be selected, it is often unnecessary to perform software control of a microcomputer or the like. That is, the liquid crystal material may be fixed at a fixed shift amount or the like. What is important is that the temperature characteristics differ depending on the luminescent color material, and the luminescent color (R,
That is, it is necessary to perform optimum temperature compensation for each of G and B).

【0180】R、G、Bの各EL素子の温特は一定範囲
内にする必要がある。R、G、BのEL素子15の温特
はない事が好ましいのはいうまでもない。少なくとも
R、G、Bの温特方向が同一方向か、もしくは変化しな
いようにする。また、変化は各色摂氏10℃の変化で、
2%以上8%以下変化するようにすることが好ましい。
中でも3%以上6%以下とすることが好ましい。また、
温特補償はマイコンでおこなってもよい。温度センサで
EL表示パネルの温度を測定し、測定した温度によりマ
イコン(図示せず)などで変化させる。また、切り替え
時に基準電流などをマイコン制御などにより自動的に切
り替えてもよいし、また、特定のメニュー表示を表示で
きるように制御してもよい。また、マウスなどを用いて
切り替えできるように構成できる。また、EL表示装置
の表示画面をタッチパネルにし、かつメニューを表示し
て特定箇所を押さえることにより切り替えできるように
構成してもよい。
The temperature characteristics of the R, G and B EL elements must be within a certain range. It goes without saying that it is preferable that the R, G and B EL elements 15 have no temperature characteristics. At least the R, G, and B temperature characteristic directions are the same direction or do not change. Also, the change is a change of 10 degrees Celsius for each color,
It is preferable to change it by 2% or more and 8% or less.
Above all, it is preferably 3% or more and 6% or less. Also,
The temperature compensation may be performed by a microcomputer. The temperature of the EL display panel is measured by the temperature sensor, and the temperature is changed by a microcomputer (not shown) or the like. Further, at the time of switching, the reference current or the like may be automatically switched by microcomputer control or the like, or may be controlled so that a specific menu display can be displayed. In addition, it can be configured to switch using a mouse or the like. Further, the display screen of the EL display device may be a touch panel, and a menu may be displayed to switch the display screen by pressing a specific portion.

【0181】本発明ではソースドライバは半導体シリコ
ンチップで形成し、ガラスオンチップ(COG)技術で
基板71のソース信号線18の端子と接続されている。
ソース信号線18などの信号線の配線はクロム、アルミ
ニウム、銀などの金属配線が用いられる。細い配線幅で
低抵抗の配線が得られるからである。配線は画素が反射
型の場合は画素の反射膜を構成する材料で、反射膜と同
時に形成することが好ましい。工程が簡略できるからで
ある。
In the present invention, the source driver is formed of a semiconductor silicon chip and is connected to the terminal of the source signal line 18 of the substrate 71 by the glass on chip (COG) technique.
Wiring for signal lines such as the source signal line 18 is made of metal such as chromium, aluminum, and silver. This is because a low resistance wiring can be obtained with a narrow wiring width. When the pixel is of a reflective type, the wiring is a material forming a reflective film of the pixel, and is preferably formed at the same time as the reflective film. This is because the process can be simplified.

【0182】本発明はCOG技術に限定するものではな
く、チップオンフィルム(COF)技術に前述のソース
ドライバIC14などを積載し、表示パネルの信号線と
接続した構成としてもよい。また、ドライブICは電源
IC82を別途作製し、3チップ構成としてもよい。
The present invention is not limited to the COG technique, and the above-mentioned source driver IC 14 or the like may be mounted on the chip-on-film (COF) technique and connected to the signal line of the display panel. Further, the drive IC may have a three-chip configuration by separately producing the power supply IC 82.

【0183】また、TCFテープを用いてもよい。TC
Fテープ向けフィルムは、ポリイミドフィルムと銅(C
u)箔を、接着剤を使わずに熱圧着することができる。
接着剤を使わずにポリイミドフィルムにCuを付けるT
CPテープ向けフィルムにはこのほか、Cu箔の上に溶
解したポリイミドを重ねてキャスト成型する方式と、ポ
リイミドフィルム上にスパッタリングで形成した金属膜
の上にCuをメッキや蒸着で付ける方式がある。これら
のいずれでもよいが、接着剤を使わずにポリイミドフィ
ルムにCuを付けるTCPテープを用いる方法が最も好
ましい。30μm以下のリード・ピッチには、接着剤を
使わないCuはり積層板で対応する。接着剤を使わない
Cuはり積層板のうち、Cu層をメッキや蒸着で形成す
る方法はCu層の薄型化に適しているため、リード・ピ
ッチの微細化に有利である。
Also, TCF tape may be used. TC
Films for F tape are polyimide film and copper (C
u) The foil can be thermocompressed without the use of adhesives.
Attach Cu to polyimide film without using adhesive T
In addition to the above, the CP tape film includes a method in which molten polyimide is superposed on a Cu foil and cast molding, and a method in which Cu is plated or deposited on a metal film formed by sputtering on the polyimide film. Although any of these may be used, the method of using a TCP tape in which Cu is attached to a polyimide film without using an adhesive is most preferable. For a lead pitch of 30 μm or less, a Cu beam laminated plate that does not use an adhesive is used. Among the Cu beam laminates that do not use an adhesive, the method of forming the Cu layer by plating or vapor deposition is suitable for thinning the Cu layer, and is therefore advantageous for miniaturizing the lead pitch.

【0184】一方、ゲートドライバ回路12は低温ポリ
シリコン技術で形成している。つまり、画素のトランジ
スタと同一のプロセスで形成している。これは、ソース
ドライバ回路14に比較して内部の構造が容易で、動作
周波数も低いためである。したがって、低温ポリシリ技
術で形成しても容易に形成することができ、また、狭額
縁化を実現できる。もちろん、ゲートドライバ12をシ
リコンチップで形成し、COG技術などを用いて基板7
1上に実装してもよいことは言うまでもない。また、画
素トランジスタなどのスイッチング素子、ゲートドライ
バなどは高温ポリシリコン技術で形成してもよく、有機
材料で形成(有機トランジスタ)してもよい。
On the other hand, the gate driver circuit 12 is formed by the low temperature polysilicon technique. That is, it is formed in the same process as the pixel transistor. This is because the internal structure is easier and the operating frequency is lower than that of the source driver circuit 14. Therefore, it can be easily formed even if it is formed by the low-temperature poly-silicon technique, and a narrow frame can be realized. Of course, the gate driver 12 is formed of a silicon chip, and the substrate 7 is formed using COG technology or the like.
It goes without saying that it may be mounted on one. Further, switching elements such as pixel transistors, gate drivers, etc. may be formed by a high temperature polysilicon technique or may be formed by an organic material (organic transistor).

【0185】ゲートドライバ12はゲート信号線17a
用のシフトレジスタ回路61aと、ゲート信号線17b
用のシフトレジスタ回路61bとを内蔵する。各シフト
レジスタ回路61は正相と負相のクロック信号(CLK
xP、CLKxN)、スタートパルス(STx)で制御
される。その他、ゲート信号線の出力、非出力を制御す
るイネーブル(ENABL)信号、シフト方向を上下逆
転するアップダウン(UPDWM)信号を付加すること
が好ましい。他に、スタートパルスがシフトレジスタに
シフトされ、そして出力されていることを確認する出力
端子などを設けることが好ましい。なお、シフトレジス
タのシフトタイミングはコントロールIC81からの制
御信号で制御される。また、外部データのレベルシフト
を行うレベルシフト回路を内蔵する。また、検査回路を
内蔵する。
The gate driver 12 has a gate signal line 17a.
Shift register circuit 61a and gate signal line 17b
And a shift register circuit 61b for. Each shift register circuit 61 has positive and negative phase clock signals (CLK
xP, CLKxN), and start pulse (STx). In addition, it is preferable to add an enable (ENABL) signal that controls output and non-output of the gate signal line and an up-down (UPDWM) signal that vertically reverses the shift direction. In addition, it is preferable to provide an output terminal for confirming that the start pulse is shifted to the shift register and then output. The shift timing of the shift register is controlled by a control signal from the control IC 81. In addition, it has a built-in level shift circuit that shifts the level of external data. It also has a built-in inspection circuit.

【0186】シフトレジスタ回路61のバッファ容量は
小さいため、直接にはゲート信号線17を駆動すること
ができない。そのため、シフトレジスタ回路61の出力
とゲート信号線17を駆動する出力ゲート63間には少
なくとも2つ以上のインバータ回路62が形成されてい
る。
Since the buffer capacity of the shift register circuit 61 is small, the gate signal line 17 cannot be directly driven. Therefore, at least two or more inverter circuits 62 are formed between the output of the shift register circuit 61 and the output gate 63 that drives the gate signal line 17.

【0187】ソースドライバ14を低温ポリシリなどの
ポリシリ技術で基板71上に直接形成する場合も同様で
あり、ソース信号線18を駆動するトランスファーゲー
トなどのアナログスイッチのゲートとソースドライバ回
路14のシフトレジスタ間には複数のインバータ回路が
形成される。以下の事項(シフトレジスタの出力と、信
号線を駆動する出力段(出力ゲートあるいはトランスフ
ァーゲートなどの出力段間に配置されるインバータ回路
に関する事項)は、ソースドライブおよびゲートドライ
ブ回路に共通の事項である。
The same applies to the case where the source driver 14 is directly formed on the substrate 71 by a polysilicon technique such as low temperature polysilicon, and the gate of an analog switch such as a transfer gate for driving the source signal line 18 and the shift register of the source driver circuit 14 are formed. A plurality of inverter circuits are formed between them. The following items (the output of the shift register and the output stage that drives the signal line (the items related to the inverter circuit placed between the output stages such as the output gate or the transfer gate) are common to the source drive and gate drive circuits. is there.

【0188】たとえば、図6ではソースドライバ14の
出力が直接ソース信号線18に接続されているように図
示したが、実際には、ソースドライバのシフトレジスタ
の出力は多段のインバータ回路が接続されて、インバー
タの出力がトランスファーゲートなどのアナログスイッ
チのゲートに接続されている。
For example, in FIG. 6, the output of the source driver 14 is shown as being directly connected to the source signal line 18, but in reality, the output of the shift register of the source driver is connected to a multistage inverter circuit. The output of the inverter is connected to the gate of an analog switch such as a transfer gate.

【0189】インバータ回路62はPチャンネルのMO
SトランジスタとNチャンネルのMOSトランジスタか
ら構成される。先にも説明したようにゲートドライバ回
路12のシフトレジスタ回路61の出力端にはインバー
タ回路62が多段に接続されており、その最終出力が出
力ゲート回路63に接続されている。なお、インバータ
回路62はPチャンネルのみで構成してもよい。ただ
し、この場合は、インバータではなく単なるゲート回路
として構成してもよい。
The inverter circuit 62 is a P-channel MO
It is composed of an S-transistor and an N-channel MOS transistor. As described above, the inverter circuit 62 is connected to the output end of the shift register circuit 61 of the gate driver circuit 12 in multiple stages, and the final output thereof is connected to the output gate circuit 63. The inverter circuit 62 may be composed of only P channels. However, in this case, it may be configured as a simple gate circuit instead of the inverter.

【0190】図8は本発明の表示装置の信号、電圧の供
給の構成図あるいは表示装置の構成図である。コンとロ
ールIC81からソースドライバ回路14aに供給する
信号(電源配線、データ配線など)はフレキシブル基板
84を介して供給する。
FIG. 8 is a configuration diagram of signal and voltage supply of the display device of the present invention or a configuration diagram of the display device. Signals (power supply wiring, data wiring, etc.) supplied from the control and roll IC 81 to the source driver circuit 14a are supplied via the flexible substrate 84.

【0191】図8ではゲートドライバ12の制御信号は
コントロールICで発生させ、ソースドライバ14でい
ったん、レベルシフトを行った後、ゲートドライバ12
に印加している。ソースドライバ14の駆動電圧は4〜
8(V)であるから、コントロールIC81から出力さ
れた3.3(V)振幅の制御信号を、ゲートドライバ1
2が受け取れる5(V)振幅に変換することができる。
In FIG. 8, the control signal of the gate driver 12 is generated by the control IC, the source driver 14 once level shifts it, and then the gate driver 12 is controlled.
Is being applied to. The drive voltage of the source driver 14 is 4 to
Since it is 8 (V), the gate driver 1 outputs the control signal of 3.3 (V) amplitude output from the control IC 81.
It can be converted to a 5 (V) amplitude that 2 can receive.

【0192】ソースドライバ14内には画像メモリーを
持たせることが好ましい。画像メモリーの画像データは
誤差拡散処理あるいはディザ処理を行った後のデータを
メモリーしてもよい。誤差拡散処理、ディザ処理などを
行うことにより、26万色表示データを4096色など
に変換することができ、画像メモリーの容量を小さくす
ることができる。誤差拡散処理などは誤差拡散コントロ
ーラ81で行うことができる。また、ディザ処理を行っ
た後、さらに誤差拡散処理を行ってもよい。以上の事項
は、逆誤差拡散処理にも適用される。
It is preferable that the source driver 14 has an image memory. The image data in the image memory may be data after the error diffusion process or the dither process. By performing error diffusion processing, dither processing, etc., the 260,000-color display data can be converted into 4096 colors and the like, and the capacity of the image memory can be reduced. The error diffusion processing can be performed by the error diffusion controller 81. Further, the error diffusion process may be further performed after the dither process is performed. The above items also apply to the inverse error diffusion processing.

【0193】なお、図8などにおいて14をソースドラ
イバと記載したが、単なるドライバーだけでなく、電源
回路、バッファ回路(シフトレジスタなどの回路を含
む)、データ変換回路、ラッチ回路、コマンドデコー
ダ、シフト回路、アドレス変換回路、画像メモリーなど
を内蔵させてもよい。なお、図8などで説明する構成に
あっても、図9などで説明する3辺フリー構成あるいは
構成、駆動方式などを適用できることはいうまでもな
い。
Although reference numeral 14 is shown as a source driver in FIG. 8 and the like, not only a driver but also a power supply circuit, a buffer circuit (including a circuit such as a shift register), a data conversion circuit, a latch circuit, a command decoder, and a shift circuit. A circuit, an address conversion circuit, an image memory, etc. may be incorporated. It is needless to say that the configuration described with reference to FIG. 8 and the like can also be applied to the three-side free configuration or the configuration and drive method described with reference to FIG.

【0194】表示パネルを携帯電話などの情報表示装置
に使用する場合、ソースドライバIC(回路)14、ゲ
ートドライバIc(回路)12を図9に示すように、表
示パネルの一辺に実装(形成)することが好ましい(な
お、このように一辺にドライバーIC(回路)を実装
(形成)する形態を3辺フリー構成(構造)と呼ぶ。従
来は、表示領域のX辺にゲートドライバIC12が実装
され、Y辺にソースドライバIC14が実装されてい
た)。画面50の中心線が表示装置の中心になるように
設計し易く、また、ドライバーICの実装も容易となる
からである。なお、ゲートドライバ回路を高温ポリシリ
コンあるいは低温ポリシリコン技術などで3辺フリーの
構成で作製してもよい(つまり、図9のソースドライバ
回路14とゲートドライバ回路12のうち、少なくとも
一方をポリシリコン技術で基板71に直接形成する)。
When the display panel is used for an information display device such as a mobile phone, the source driver IC (circuit) 14 and the gate driver Ic (circuit) 12 are mounted (formed) on one side of the display panel as shown in FIG. It is preferable that the driver IC (circuit) is mounted (formed) on one side in this way is called a three-side free configuration (structure). Conventionally, the gate driver IC 12 is mounted on the X side of the display area. , The source driver IC 14 was mounted on the Y side). This is because it is easy to design so that the center line of the screen 50 becomes the center of the display device, and it is easy to mount the driver IC. It should be noted that the gate driver circuit may be manufactured by a high-temperature polysilicon technique or a low-temperature polysilicon technique in a three-side free configuration (that is, at least one of the source driver circuit 14 and the gate driver circuit 12 in FIG. 9 is polysilicon). Formed directly on the substrate 71 by a technique).

【0195】なお、3辺フリー構成とは、基板71に直
接ICを積載あるいは形成した構成だけでなく、ソース
ドライバIC(回路)14、ゲートドライバIC(回
路)12などを取り付けたフィルム(TCP、TAB技
術など)を基板71の一辺(もしくはほぼ一辺)にはり
つけた構成も含む。つまり、2辺にICが実装あるいは
取り付けられていない構成、配置あるいはそれに類似す
るすべてを意味する。
The three-side free structure is not limited to the structure in which the ICs are directly mounted or formed on the substrate 71, but also the film (TCP, TCP) to which the source driver IC (circuit) 14 and the gate driver IC (circuit) 12 are attached. A configuration in which TAB technology or the like is attached to one side (or almost one side) of the substrate 71 is also included. That is, it means a configuration, an arrangement or the like in which ICs are not mounted or attached on two sides.

【0196】図9のようにゲートドライバ回路12をソ
ースドライバ回路14の横に配置すると、ゲート信号線
17は辺Cの沿って形成し、画面表示領域50まで形成
する必要がある。
When the gate driver circuit 12 is arranged beside the source driver circuit 14 as shown in FIG. 9, the gate signal line 17 needs to be formed along the side C and up to the screen display area 50.

【0197】なお、図9などにおいて太い実線で図示し
た箇所はゲート信号線17が並列して形成した箇所を示
している。したがって、bの部分(画面下部)は走査信
号線の本数分のゲート信号線17が並列して形成され、
aの部分(画面上部)はゲート信号線17が1本形成さ
れている。
The thick solid line in FIG. 9 and the like indicates the portion where the gate signal lines 17 are formed in parallel. Therefore, the gate signal lines 17 corresponding to the number of scanning signal lines are formed in parallel in the portion b (the lower portion of the screen),
One gate signal line 17 is formed in the portion a (upper part of the screen).

【0198】C辺に形成するゲート信号線17のピッチ
は5μm以上12μm以下にする。5μm未満では隣接
ゲート信号線に寄生容量の影響によりノイズが乗ってし
まう。実験によれば7μ以下で寄生容量の影響が顕著に
発生する。さらに5μm未満では表示画面にビート状な
どの画像ノイズが激しく発生する。特にノイズの発生は
画面の左右で異なり、このビート状などの画像ノイズを
低減することは困難である。また、低減12μmを越え
ると表示パネルの額縁幅Dが大きくなりすぎ実用的でな
い。
The pitch of the gate signal lines 17 formed on the C side is set to 5 μm or more and 12 μm or less. When the thickness is less than 5 μm, noise is added to the adjacent gate signal line due to the influence of parasitic capacitance. According to the experiment, the effect of the parasitic capacitance remarkably occurs at 7 μm or less. Further, if it is less than 5 μm, image noise such as beats is intensely generated on the display screen. In particular, the generation of noise differs between the left and right of the screen, and it is difficult to reduce this image noise such as beats. Further, when the reduction exceeds 12 μm, the frame width D of the display panel becomes too large, which is not practical.

【0199】前述の画像ノイズを低減するためには、ゲ
ート信号線17を形成した部分の下層あるいは上層に、
グラントパターン(一定電圧に電圧固定あるいは全体と
して安定した電位に設定されている導電パターン)を配
置することにより低減できる。また、別途設けたシール
ド板(シールド箔(一定電圧に電圧固定あるいは全体と
して安定した電位に設定されている導電パターン))を
ゲート信号線17上に配置すればよい。
In order to reduce the above-mentioned image noise, in the lower layer or the upper layer where the gate signal line 17 is formed,
This can be reduced by arranging a grant pattern (a conductive pattern in which the voltage is fixed to a constant voltage or is set to a stable potential as a whole). Further, a separately provided shield plate (shield foil (conducting pattern in which voltage is fixed to a constant voltage or set to a stable potential as a whole)) may be arranged on the gate signal line 17.

【0200】図9のC辺のゲート信号線17はITO電
極で形成してもよいが、低抵抗化するため、ITOと金
属薄膜とを積層して形成することが好ましい。また、金
属膜で形成することが好ましい。ITOと積層する場合
は、ITO上にチタン膜を形成し、その上にアルミニウ
ムあるいはアルミニウムとモリブデンの合金薄膜を形成
する。もしくはITO上にクロム膜を形成する。金属膜
の場合は、アルミニウム薄膜、クロム薄膜で形成する。
以上の事項は本発明の他の実施例でも同様である。
The gate signal line 17 on the C side in FIG. 9 may be formed of an ITO electrode, but it is preferable to form it by laminating ITO and a metal thin film in order to reduce the resistance. In addition, it is preferable to form a metal film. In the case of stacking with ITO, a titanium film is formed on ITO, and aluminum or an aluminum-molybdenum alloy thin film is formed thereon. Alternatively, a chrome film is formed on ITO. In the case of a metal film, it is formed of an aluminum thin film or a chromium thin film.
The above matters also apply to other embodiments of the present invention.

【0201】なお、図9などにおいて、ゲート信号線1
7などは表示領域の片側に配置するとしたがこれに限定
するものではなく、両方に配置してもよい。たとえば、
ゲート信号線17aを表示領域50の右側に配置(形
成)し、ゲート信号線17bを表示領域50の左側に配
置(形成)してもよい。以上の事項は他の実施例でも同
様である。
In FIG. 9 and the like, the gate signal line 1
Although 7 and the like are arranged on one side of the display area, the invention is not limited to this and may be arranged on both sides. For example,
The gate signal line 17a may be arranged (formed) on the right side of the display region 50, and the gate signal line 17b may be arranged (formed) on the left side of the display region 50. The above matters are the same in other embodiments.

【0202】また、ソースドライバIC14とゲートド
ライバIC12とを1チップ化してもよい。1チップ化
すれば、表示パネルへのICチップの実装が1個で済
む。したがって、実装コストも低減できる。また、1チ
ップドライバIC内で使用する各種電圧も同時に発生す
ることができる。
Further, the source driver IC 14 and the gate driver IC 12 may be integrated into one chip. If integrated into one chip, only one IC chip needs to be mounted on the display panel. Therefore, the mounting cost can be reduced. Further, various voltages used in the one-chip driver IC can be generated at the same time.

【0203】なお、ソースドライバIC14、ゲートド
ライバIC12はシリコンなどの半導体ウェハで作製
し、表示パネルに実装するとしたがこれに限定するもの
ではなく、低温ポリシリコン技術、高温ポリシリコン技
術により表示パネル82に直接形成してもよいことは言
うまでもない。
The source driver IC 14 and the gate driver IC 12 are made of a semiconductor wafer such as silicon and are mounted on the display panel. However, the present invention is not limited to this, and the display panel 82 is manufactured by the low temperature polysilicon technology or the high temperature polysilicon technology. It goes without saying that it may be formed directly on the.

【0204】図1などで図示した構成ではEL素子15
のトランジスタ11aを介してVdd電位に接続されて
いる。しかし、各色を構成する有機ELの駆動電圧が異
なるという問題がある。たとえば、単位平方センチメー
トルあたり0.01(A)の電流を流した場合、青
(B)ではEL素子の端子電圧は5(V)であるが、緑
(G)および赤(R)では9(V)である。つまり、端
子電圧がBとG、Rで異なる。したがって、BとG、R
では保持するトランジスタ11aのソース−ドレイン電
圧(SD電圧)が異なる。そのため、各色でトランジス
タのソース−ドレイン電圧(SD電圧)間オフリーク電
流が異なることになる。オフリーク電流が発生し、かつ
オフリーク特性が各色で異なると、色バランスのずれた
状態でフリッカが発生する、発光色に相関してガンマ特
性がずれるという複雑な表示状態をなる。
In the configuration shown in FIG. 1 etc., the EL element 15
Is connected to the Vdd potential via the transistor 11a. However, there is a problem in that the driving voltage of the organic EL that constitutes each color is different. For example, when a current of 0.01 (A) per square centimeter is applied, the terminal voltage of the EL element is 5 (V) in blue (B), but is 9 (V) in green (G) and red (R). ). That is, the terminal voltage differs between B, G, and R. Therefore, B, G, R
, The source-drain voltage (SD voltage) of the held transistor 11a is different. Therefore, the off-leakage current between the source-drain voltage (SD voltage) of the transistor is different for each color. When an off-leakage current is generated and the off-leakage characteristics are different for each color, flicker occurs in a state where the color balance is deviated, and the gamma characteristic shifts in correlation with the emission color, resulting in a complicated display state.

【0205】この課題に対応するため、少なくともR、
G、B色のうち、1つのカソード電極の電位を他色のカ
ソード電極の電位と異ならせるように構成している。も
しくはR、G、B色のうち、1つのVddの電位を他色
のVddの電位と異ならせるように構成している。
In order to meet this problem, at least R,
Among the G and B colors, the potential of one cathode electrode is different from the potential of the cathode electrodes of the other colors. Alternatively, one of the R, G, and B colors is configured so that the potential of one Vdd is different from the potential of the Vdd of another color.

【0206】R、G、BのEL素子15の端子電圧は極
力一致させることが好ましいことは言うまでもない。少
なくとも、白ピーク輝度を表示しており、色温度が60
00K以上9000K以下の範囲で、R、G、BのEL
素子の端子電圧は10(V)以下となるように材料ある
いは構造選定をする必要がある。また、R、G、Bのの
うち、EL素子の最大の端子電圧と最小の端子電圧との
差は、2.5(V)以内にする必要がある。さらに好ま
しくは1.5(V)以下にする必要がある。なお、以上
の実施例では、色はRGBとしたがこれに限定するもの
ではない。このことは後に説明する。
It goes without saying that it is preferable to make the terminal voltages of the R, G, and B EL elements 15 coincide with each other as much as possible. At least the white peak brightness is displayed and the color temperature is 60
EL of R, G, B in the range from 00K to 9000K
It is necessary to select the material or structure so that the terminal voltage of the device is 10 (V) or less. Further, among R, G, and B, the difference between the maximum terminal voltage and the minimum terminal voltage of the EL element needs to be within 2.5 (V). More preferably, it should be 1.5 (V) or less. Although the colors are RGB in the above embodiments, the colors are not limited to these. This will be explained later.

【0207】また、色ムラの補正も必要である。これ
は、各色のEL材料を塗り分けるため、膜厚のバラツ
キ、特性のバラツキによって発生する。これを補正する
ため、30%もしくは70%の輝度で白ラスター表示を
行い、表示領域50内の各色の面内分布を測定する。面
内分布は少なくとも30画素に1ポイントずつは測定す
る。この測定データをメモリーからなるテーブルに保存
し、この保存されたデータを使用して、入力画像データ
を補正して表示画面50に表示するように構成する。
It is also necessary to correct color unevenness. This is caused by variations in film thickness and characteristics because EL materials of different colors are applied separately. In order to correct this, white raster display is performed at a luminance of 30% or 70%, and the in-plane distribution of each color in the display area 50 is measured. The in-plane distribution is measured at least every 30 pixels. The measurement data is stored in a table including a memory, and the stored data is used to correct the input image data and display it on the display screen 50.

【0208】なお、画素は、R、G、Bの3原色とした
がこれに限定するものではなく、シアン、イエロー、マ
ゼンダの3色でもよい。また、Bとイエローの2色でも
よい。もちろん、単色でもよい。また、R、G、B、シ
アン、イエロー、マゼンダの6色でもよい。R、G、
B、シアン、マゼンダの5色でもよい。これらはナチュ
ラルカラーとして色再現範囲が拡大し良好な表示を実現
できる。その他、R、G、B、白の4色でもよい。R、
G、B、シアン、イエロー、マゼンダ、黒、白の7色で
もよいまた、白色発光の画素を表示領域50全体に形成
(作製)し、RGBなどのカラーフィルターで3原色表
示としてもよい。この場合は、EL層に各色の発光材料
を積層して形成すればよい。また、1画素をBとイエロ
ーのように塗り分けても良い。以上のように本発明のE
L表示装置は、RGBの3原色でカラー表示を行うもの
に限定されるものではない。
Although the pixel has three primary colors of R, G, and B, it is not limited to this, and three colors of cyan, yellow, and magenta may be used. Also, two colors of B and yellow may be used. Of course, it may be a single color. Further, six colors of R, G, B, cyan, yellow and magenta may be used. R, G,
Five colors of B, cyan and magenta may be used. These are natural colors with a wide color reproduction range and good display. In addition, four colors of R, G, B, and white may be used. R,
Seven colors of G, B, cyan, yellow, magenta, black, and white may be used. Alternatively, white emission pixels may be formed (produced) in the entire display region 50, and three primary colors may be displayed by a color filter such as RGB. In this case, light emitting materials of respective colors may be stacked on the EL layer. Alternatively, one pixel may be painted separately such as B and yellow. As described above, the E of the present invention
The L display device is not limited to one that performs color display with the three primary colors of RGB.

【0209】有機EL表示パネルのカラー化には主に三
つの方式があり、色変換方式はこのうちの一つである。
発光層として青色のみの単層を形成すればよく、フルカ
ラー化に必要な残りの緑色と赤色は、青色光から色変換
によって作り出す。したがって、RGBの各層を塗り分
ける必要がない、RGBの各色の有機EL材料をそろえ
る必要がないという利点がある。色変換方式は、塗り分
け方式のようは歩留まり低下がない。本発明のEL表示
パネルなどはこのいずれの方式でも適用される。
There are mainly three methods for colorizing the organic EL display panel, and the color conversion method is one of them.
It is only necessary to form a single layer of blue as the light emitting layer, and the remaining green and red required for full colorization are created by color conversion from blue light. Therefore, there are advantages that it is not necessary to separately paint each layer of RGB, and it is not necessary to prepare organic EL materials of each color of RGB. The color conversion method does not reduce the yield unlike the color-coding method. The EL display panel and the like of the present invention can be applied in any of these systems.

【0210】また、3原色の他に、白色発光の画素を形
成してもよい。白色発光の画素はR、G、B発光の構造
を積層することのより作製(形成または構成)すること
により実現できる。1組の画素は、RGBの3原色と、
白色発光の画素16Wからなる。白色発光の画素を形成
することにより、白色のピーク輝度が表現しやすくな
る。したがって、輝き感のある画像表示実現できる。
In addition to the three primary colors, white light emitting pixels may be formed. A white light emitting pixel can be realized by manufacturing (forming or configuring) by stacking R, G, and B light emitting structures. One set of pixels has three primary colors of RGB,
It is composed of white light emitting pixels 16W. By forming the pixels that emit white light, the white peak luminance can be easily expressed. Therefore, it is possible to realize a bright image display.

【0211】RGBなどの3原色を1組の画素をする場
合であっても、図169に図示するように、各色の画素
電極の面積は異ならせることが好ましい。もちろん、各
色の発光効率がバランスよく、色純度もバランスがよけ
れば、同一面積でもかまわない。しかし、1つまたは複
数の色のバランスが悪ければ、画素電極(発光面積)を
調整することが好ましい。各色の電極面積は電流密度を
基準に決定すればよい。つまり、色温度が6000K
(ケルビン)以上9000K以下の範囲で、ホワイトバ
ランスを調整した時、各色の電流密度の差が±30%以
内となるようにする。さらに好ましくは±15%以内と
なるようにする。たとえば、電流密度が100A/平方
メーターをすれば、3原色がいずれも70A/平方メー
ター以上130A/平方メーター以下となるようにす
る。さらに好ましくは、3原色がいずれも85A/平方
メーター以上115A/平方メーター以下となるように
する。
Even when one set of three primary colors such as RGB is used, it is preferable that the area of the pixel electrode for each color be different as shown in FIG. Of course, the same area may be used as long as the luminous efficiency of each color is well balanced and the color purity is well balanced. However, if the balance of one or more colors is poor, it is preferable to adjust the pixel electrode (light emitting area). The electrode area for each color may be determined based on the current density. In other words, the color temperature is 6000K
When the white balance is adjusted in the range of (Kelvin) or more and 9000K or less, the difference between the current densities of the respective colors should be within ± 30%. It is more preferably within ± 15%. For example, if the current density is 100 A / square meter, all three primary colors should be 70 A / square meter or more and 130 A / square meter or less. More preferably, all three primary colors are set to 85 A / square meter or more and 115 A / square meter or less.

【0212】また、隣接した画素行で、3原色の配置が
異なるように配置することが好ましい。たとえば、偶数
行目が、左からR、G、Bの配置であれば、奇数行目は
B、G、Rの配置とする。このように配置することによ
り、少ない画素数でも、画像の斜め方向の解像度が改善
される。さらに、1行目を左からR、G、B、R、G、
Bの配置とし、2行目をG、B、R、G、B、Rの配置
とし、3行目をB、R、G、B、R、Gの配置とするよ
うに、3画素行以上で、画素配置を異ならせてもよい。
もちろん、R、G、Bの画素配置もしくは、シアン、イ
エロー、マゼンダなどの色配置は、デルタ配置(1/2
画素ずらす配置)としてもよいことは言うまでもない。
Further, it is preferable that adjacent pixel rows are arranged such that the arrangement of the three primary colors is different. For example, if the even-numbered row has the arrangement of R, G, and B from the left, the odd-numbered row has the arrangement of B, G, and R. By arranging in this way, the resolution in the diagonal direction of the image is improved even with a small number of pixels. Furthermore, the first line from the left is R, G, B, R, G,
B arrangement, 3 rows or more so that the second row is G, B, R, G, B, R arrangement and the third row is B, R, G, B, R, G arrangement. Therefore, the pixel arrangement may be different.
Of course, the R, G, and B pixel arrangements or the color arrangements such as cyan, yellow, and magenta are delta arrangements (1/2
It goes without saying that the arrangement may be such that the pixels are shifted.

【0213】有機EL15は自己発光素子である。この
発光による光がスイッチング素子としてのトランジスタ
に入射するとホトコンダクタ現象(ホトコン)が発生す
る。ホトコンとは、光励起によりトランジスタなどのス
イッチング素子のオフ時でのリーク(オフリーク)が増
える現象を言う。
The organic EL 15 is a self-luminous element. When the light generated by this light emission enters a transistor as a switching element, a photoconductor phenomenon occurs. The photocon refers to a phenomenon in which a leak (off leak) when a switching element such as a transistor is turned off is increased by photoexcitation.

【0214】この課題に対処するため、本発明ではゲー
トドライバ12(場合によってはソースドライバ14)
の下層、画素トランジスタ11の下層の遮光膜を形成し
ている。遮光膜はクロムなどの金属薄膜で形成し、その
膜厚は50nm以上150nm以下にする。膜厚が薄い
と遮光効果が乏しく、厚いと凹凸が発生して上層のトラ
ンジスタ11A1のパターニングが困難になる。
In order to cope with this problem, in the present invention, the gate driver 12 (source driver 14 in some cases) is used.
The lower layer and the lower layer of the pixel transistor 11 form a light-shielding film. The light-shielding film is formed of a metal thin film such as chromium and has a film thickness of 50 nm or more and 150 nm or less. If the film thickness is thin, the light-shielding effect is poor, and if it is thick, irregularities occur and patterning of the upper transistor 11A1 becomes difficult.

【0215】遮光膜上に20以上100nm以下の無機
材料からなる平滑化膜を形成する。この遮光膜のレイヤ
ーを用いて蓄積容量19の一方の電極を形成してもよ
い。この場合、平滑膜は極力薄く作り蓄積容量の容量値
を大きくすることが好ましい。また遮光膜をアルミで形
成し、陽極酸化技術を用いて酸化シリコン膜を遮光膜の
表面に形成し、この酸化シリコン膜を蓄積容量19の誘
電体膜として用いてもよい。平滑化膜上にはハイアパー
チャ(HA)構造の画素電極が形成される。
A smoothing film made of an inorganic material having a thickness of 20 to 100 nm is formed on the light shielding film. One of the electrodes of the storage capacitor 19 may be formed using the layer of the light shielding film. In this case, it is preferable to make the smoothing film as thin as possible to increase the capacitance value of the storage capacitor. Alternatively, the light-shielding film may be formed of aluminum, a silicon oxide film may be formed on the surface of the light-shielding film by using an anodic oxidation technique, and this silicon oxide film may be used as the dielectric film of the storage capacitor 19. A pixel electrode having a high aperture (HA) structure is formed on the smoothing film.

【0216】ドライバー回路12などは裏面だけでな
く、表面からの光の進入も抑制するべきである。ホトコ
ンの影響により誤動作するからである。したがって、本
発明では、カソード電極が金属膜の場合は、ドライバー
12などの表面にもカソード電極を形成し、この電極を
遮光膜として用いている。
The driver circuit 12 and the like should prevent light from entering not only from the back surface but also from the front surface. This is because a malfunction occurs due to the influence of photo control. Therefore, in the present invention, when the cathode electrode is a metal film, the cathode electrode is also formed on the surface of the driver 12 or the like, and this electrode is used as a light shielding film.

【0217】しかし、ドライバー12の上にカソード電
極を形成すると、このカソード電極からの電界によるド
ライバーの誤動作あるいはカソード電極とドライバー回
路の電気的接触が発生する可能性がある。この課題に対
処するため、本発明ではドライバー回路12などの上に
少なくとも1層、好ましくは複数層の有機EL膜を画素
電極上の有機EL膜形成と同時に形成する。
However, if the cathode electrode is formed on the driver 12, there is a possibility that the electric field from the cathode electrode may cause the driver to malfunction or the cathode electrode and the driver circuit to make electrical contact. In order to solve this problem, in the present invention, at least one layer, preferably a plurality of layers of organic EL films are formed on the driver circuit 12 and the like at the same time when the organic EL films are formed on the pixel electrodes.

【0218】基本的に有機EL膜は絶縁物であるから、
ドライバー上に有機EL膜を形成することにより、カソ
ードとドライバー間が隔離される。したがって、前述の
課題を解消することができる。
Since the organic EL film is basically an insulator,
By forming the organic EL film on the driver, the cathode and the driver are isolated from each other. Therefore, the above-mentioned problem can be solved.

【0219】画素の1つ以上のトランジスタ11の端子
間あるいはトランジスタ11と信号線とが短絡すると、
EL素子15が常時、点灯する輝点となる場合がある。
この輝点は視覚的にめだつので黒点化(非点灯)する必
要がある。輝点に対しては、該当画素16を検出し、コ
ンデンサ19にレーザー光を照射してコンデンサの端子
間を短絡させる。したがって、コンデンサ19には電荷
を保持できなくなるので、トランジスタ11aは電流を
流さなくすることができる。
When the terminals of one or more transistors 11 of the pixel or the transistor 11 and the signal line are short-circuited,
The EL element 15 may be a bright spot that is always lit.
Since these bright spots are visually unnoticeable, it is necessary to turn them into black dots (not lit). For the bright spot, the corresponding pixel 16 is detected, and the condenser 19 is irradiated with laser light to short-circuit the terminals of the condenser. Therefore, the electric charge cannot be retained in the capacitor 19, so that the transistor 11a can stop the flow of current.

【0220】なお、レーザー光を照射する位置にあた
る。カソード膜を除去しておくことが望ましい。レーザ
ー照射により、コンデンサ19の端子電極とカソード膜
とがショートすることを防止するためである。
It should be noted that it corresponds to the position where the laser beam is emitted. It is desirable to remove the cathode film. This is to prevent a short circuit between the terminal electrode of the capacitor 19 and the cathode film due to laser irradiation.

【0221】画素16のトランジスタ11の欠陥は、ド
ライバーIC14などにも影響を与える。例えば、図5
8では駆動トランジスタ11aにソース−ドレイン(S
D)ショート582が発生していると、パネルのVdd
電圧がソースドライバIC14に印加される。したがっ
て、ソースドライバIC14の電源電圧は、パネルの電
源電圧Vddと同一かもしくは高くしておくことが好ま
しい。なお、ソースドライバICで使用する基準電流は
電子ボリウム581で調整できるように構成しておくこ
とが好ましい。
The defect of the transistor 11 of the pixel 16 affects the driver IC 14 and the like. For example, in FIG.
In FIG. 8, the source-drain (S
D) When the short circuit 582 occurs, Vdd of the panel
The voltage is applied to the source driver IC 14. Therefore, it is preferable that the power supply voltage of the source driver IC 14 is equal to or higher than the power supply voltage Vdd of the panel. It is preferable that the reference current used in the source driver IC can be adjusted by the electronic volume 581.

【0222】トランジスタ11aにSDショート582
が発生していると、EL素子15に過大な電流が流れ
る。つまり、EL素子15が常時点灯状態(輝点)とな
る。輝点は欠陥として目立ちやすい。たとえば、図58
において、トランジスタ11aのソース−ドレイン(S
D)ショートが発生していると、トランジスタ11aの
ゲート(G)端子電位の大小に関わらず、Vdd電圧か
らEL素子15に電流が常時流れる(トランジスタ11
dがオンの時)。したがって、輝点となる。
SD short 582 to transistor 11a
Occurs, an excessive current flows through the EL element 15. That is, the EL element 15 is always in a lighting state (bright spot). Bright spots are easily noticeable as defects. For example, FIG.
, The source-drain (S
D) When a short circuit occurs, current always flows from the Vdd voltage to the EL element 15 regardless of the gate (G) terminal potential of the transistor 11a (transistor 11a).
d is on). Therefore, it becomes a bright spot.

【0223】一方、トランジスタ11aにSDショート
が発生していると、トランジスタ11cがオン状態の
時、Vdd電圧がソース信号線18に印加されソースド
ライバ14にVdd電圧が印加される。もし、ソースド
ライバ14の電源電圧がVdd以下であれば、耐圧を越
えて、ソースドライバ14が破壊される恐れがある。そ
のため、ソースドライバ14の電源電圧はVdd電圧
(パネルの高い方の電圧)以上にすることが好ましい。
On the other hand, if the SD short circuit occurs in the transistor 11a, the Vdd voltage is applied to the source signal line 18 and the Vdd voltage is applied to the source driver 14 when the transistor 11c is in the ON state. If the power supply voltage of the source driver 14 is Vdd or lower, the withstand voltage may be exceeded and the source driver 14 may be destroyed. Therefore, it is preferable that the power supply voltage of the source driver 14 be equal to or higher than the Vdd voltage (the higher voltage of the panel).

【0224】トランジスタ11aのSDショートなど
は、点欠陥にとどまらず、パネルのソースドライバ回路
を破壊につながる恐れがあり、また、輝点は目立つため
パネルとしては不良となる。したがって、図58のトラ
ンジスタ11aとEL素子15間を接続する配線を切断
し、輝点を黒点欠陥にする必要がある。この切断には、
レーザー光などの光学手段を用いて切断することがよ
い。なお、光学手段とはレーザーに限定されるものでは
なく、キセノンランプなどから発生する光を集光し、こ
の集光した光で配線を切断する方式でもよい。また、切
断箇所にサンドブラスト方式で切断(微粒子の砂を吹き
付け、切断する)する方法を採用してもよい。つまり、
切断手段としては何を用いても良い。しかし、レーザー
などの光学手段を用いる方法は切断箇所に非接触で加工
を行うことができ好ましい。
The SD short-circuit of the transistor 11a is not limited to point defects, and may damage the source driver circuit of the panel, and the bright spots are conspicuous, resulting in a defective panel. Therefore, it is necessary to disconnect the wiring connecting the transistor 11a and the EL element 15 in FIG. 58 to make the bright spot a black spot defect. This disconnection
It is preferable to cut using an optical means such as laser light. The optical means is not limited to the laser, and may be a method of condensing light generated from a xenon lamp or the like and cutting the wiring with the condensed light. Further, a method of cutting (cutting by spraying fine particle sand) on the cut portion by a sandblast method may be adopted. That is,
Any cutting means may be used. However, a method using an optical means such as a laser is preferable because it allows the cut portion to be processed without contact.

【0225】なお、レーザー光は連続方式のものより
は、Qスイッチを用いたパルス発振のものを採用するこ
とが好ましい。また、切断箇所には複数のレーザーパル
スが照射されるようにする。そして、レーザーのパルス
間隔は0.1msec以上100msec以下にするこ
とが好ましい。特に1msec以上10msec以下に
することが好ましい。この間隔では、先に照射したレー
ザー光による加工箇所の溶融状態が継続しており、良好
な切断あるいは加工が実施できるからである。また、レ
ーザー光の波長は1μm前後が好ましい。この波長のレ
ーザーとしてはYAGレーザーが例示される。もちろ
ん、他のレーザーでもよい。たとえば、炭酸ガスレーザ
ー、エキシマレーザー、ネオンヘリウムレーザーなどが
例示される。
It is preferable to use pulsed laser light using a Q switch, rather than continuous laser light. In addition, a plurality of laser pulses are applied to the cut portion. The laser pulse interval is preferably 0.1 msec or more and 100 msec or less. Particularly, it is preferably set to 1 msec or more and 10 msec or less. This is because at this interval, the melted state of the processed portion due to the previously irradiated laser light continues, and good cutting or processing can be performed. The wavelength of the laser light is preferably around 1 μm. A YAG laser is illustrated as a laser of this wavelength. Of course, other lasers may be used. For example, a carbon dioxide gas laser, an excimer laser, a neon helium laser, etc. are exemplified.

【0226】なお、以上の実施例は配線を切断させると
したが、黒表示するためにはこれに限定されるものでは
ない。たとえば、図1でもわかるように、トランジスタ
11aの電源Vddが、トランジスタ11aのゲート
(G)端子に常時印加されるように修正してもよい。た
とえば、コンデンサ19の2つの電極間をショートさせ
れば、Vdd電圧がトランジスタ11aのゲート(G)
端子に印加されるようになる。したがって、トランジス
タ11aは完全にオフ状態になり、EL素子15に電流
を流さなくすることができる。これば、コンデンサ19
にレーザー光を照射することによりコンデンサ電極をシ
ョートできるから、容易に実現できる。また、実際に
は、画素電極の下層にVdd配線が配置されているか
ら、Vdd配線と画素電極とにレーザー光を照射するこ
とにより、画素の表示状態を制御(修正)することがで
きる。
In the above embodiment, the wiring is cut, but it is not limited to this for displaying black. For example, as can be seen from FIG. 1, the power supply Vdd of the transistor 11a may be modified so that it is always applied to the gate (G) terminal of the transistor 11a. For example, if the two electrodes of the capacitor 19 are short-circuited, the Vdd voltage will be the gate (G) of the transistor 11a.
It will be applied to the terminals. Therefore, the transistor 11a is completely turned off, and the EL element 15 can be prevented from passing a current. This is the condenser 19
Since the capacitor electrodes can be short-circuited by irradiating the laser beam on the, it can be easily realized. In addition, in reality, since the Vdd wiring is arranged under the pixel electrode, the display state of the pixel can be controlled (corrected) by irradiating the Vdd wiring and the pixel electrode with laser light.

【0227】その他、トランジスタ11aのSD間(チ
ャンネル)をオープンにすることでも実現できる。簡単
にはトランジスタ11aにレーザー光を照射し、トラン
ジスタ11aのチャンネルをオープンにする。同様に、
トランジスタ11dのチャンネルをオープンにしてもよ
い。もちろん、トランジスタ11bのチャンネルをオー
プンしても該当画素16が選択されないから、黒表示と
なる。
Alternatively, it can be realized by opening the SD (channel) of the transistor 11a. Simply, the transistor 11a is irradiated with laser light to open the channel of the transistor 11a. Similarly,
The channel of the transistor 11d may be opened. Of course, even if the channel of the transistor 11b is opened, the corresponding pixel 16 is not selected, so that black display is performed.

【0228】画素16を黒表示するためには、EL素子
15を劣化させてもよい。たとえば、レーザー光をEL
層15に照射し、EL層15を物理的にあるいは化学的
に劣化させ、発光しないようにする(常時黒表示)。レ
ーザー光の照射によりEL層15を加熱し、容易に劣化
させることができる。また、エキシマレーザーを用いれ
ば、EL膜15の化学的変化を容易に行うことができ
る。
In order to display the pixel 16 in black, the EL element 15 may be deteriorated. For example, the laser light is EL
The layer 15 is irradiated to physically or chemically deteriorate the EL layer 15 so that it does not emit light (always black display). The EL layer 15 can be heated and easily deteriorated by irradiation with laser light. Further, if an excimer laser is used, the EL film 15 can be easily chemically changed.

【0229】なお、以上の実施例は、図1に図示した画
素構成を例示したが、本発明はこれに限定するものでは
ない。レーザー光を用いて配線あるいは電極をオープン
あるいはショートさせることは、カレントミラーなどの
他の電流駆動の画素構成あるいは図62、図51などで
図示する電圧駆動の画素構成であっても適用できること
は言うまでもない。
Although the above embodiment has illustrated the pixel configuration shown in FIG. 1, the present invention is not limited to this. It is needless to say that opening or short-circuiting a wiring or an electrode using laser light can be applied to other current-driven pixel configurations such as a current mirror or voltage-driven pixel configurations illustrated in FIGS. 62 and 51. Yes.

【0230】カソード(もしくはアノード)電極が透明
電極の場合、画素電極を反射タイプとし共通電極を透明
電極(ITO、IZOなど)にする光上取り出しの構造
(ガラス基板71側から光を取り出すのは下取出し、E
L膜蒸着面から光を取り出すのが上取り出し)の場合
は、透明電極のシート抵抗値が問題となる。透明電極は
高抵抗であるが、有機ELのカソードには高い電流密度
で電流を流す必要がある。しがたって、ITO膜の単層
でカソード電極を形成すると発熱により加熱状態となっ
たり、表示画面に極度の輝度傾斜が発生したりする。
When the cathode (or anode) electrode is a transparent electrode, the pixel electrode is of a reflection type and the common electrode is a transparent electrode (ITO, IZO, etc.). Bottom take-out, E
In the case of taking out light from the L film deposition surface), the sheet resistance value of the transparent electrode becomes a problem. Although the transparent electrode has a high resistance, it is necessary to pass a current with a high current density to the cathode of the organic EL. Therefore, if the cathode electrode is formed of a single layer of the ITO film, heat is generated due to heat generation, or an extreme brightness gradient occurs on the display screen.

【0231】この課題に対応するため、カソード電極の
表面に金属薄膜からなる低抵抗化配線を形成すればよ
い。低抵抗化配線は液晶表示パネルのブラックマトリッ
クス(BM)と同様の構成(クロムまたはアルミ材料で
50nm〜200nmの膜厚)で、かつ同様の位置(画
素電極間、ドライバー12の上など)である。しかし、
有機ELではBMを形成する必要はないから機能は全く
異なる。なお、低抵抗化配線は透明電極の表面に限定す
るものではなく、裏面(有機EL膜と接する面)に形成
してもよい。また、BM状に形成した金属膜として、M
g・Ag、Mg・Li、Al・Liなどの合金あるいは
積層構造体など、アルミニウム、マグネシウム、インジ
ウム、銅または各々の合金等を用いてもよい。なお、B
M上には腐食などを防止するため、さらにITO、IZ
O膜を積層し、また、SiNx、SiO2などの無機薄
膜、あるいはポリイミドなどの有機薄膜を形成する。
To meet this problem, a low resistance wiring made of a metal thin film may be formed on the surface of the cathode electrode. The low resistance wiring has the same structure as the black matrix (BM) of the liquid crystal display panel (film thickness of 50 nm to 200 nm made of chrome or aluminum material) and at the same position (between the pixel electrodes, on the driver 12, etc.). . But,
In the organic EL, it is not necessary to form the BM, so the function is completely different. The low resistance wiring is not limited to the front surface of the transparent electrode, but may be formed on the back surface (the surface in contact with the organic EL film). In addition, as a metal film formed in a BM shape, M
Alloys such as g.Ag, Mg.Li, and Al.Li or laminated structures such as aluminum, magnesium, indium, copper, or alloys thereof may be used. In addition, B
To prevent corrosion on M, ITO, IZ
An O film is laminated, and an inorganic thin film such as SiNx or SiO 2 or an organic thin film such as polyimide is formed.

【0232】また、EL膜の蒸着面から光を取り出す場
合(上取り出し)の場合は、有機EL膜15上のMg−
Al膜を形成し、その上にITO、IZO膜を形成する
ことが好ましい。また、有機EL膜15上のMg−Al
膜を形成し、その上にブラックマトリックス(液晶表示
パネルのようなブラックマトリックス)を形成すること
が好ましい。このブラックマトリックスはクロム、A
l、Ag、Au、Cuなどで形成し、この上に、SiO
2、SiNxなどの無機絶縁膜、ポリエステル、アクリル
などの有機絶縁膜からなる保護膜を形成することが好ま
しい。さらに、この保護膜上に、反射防止膜(AIRコ
ート)を形成する。
When light is to be extracted from the vapor deposition surface of the EL film (upper extraction), Mg-on the organic EL film 15 is to be used.
It is preferable to form an Al film and then form an ITO or IZO film thereon. In addition, Mg-Al on the organic EL film 15
It is preferable to form a film and form a black matrix (black matrix such as a liquid crystal display panel) on the film. This black matrix is chrome, A
l, Ag, Au, Cu, etc., and SiO
2 , it is preferable to form a protective film made of an inorganic insulating film such as SiN x or an organic insulating film such as polyester or acrylic. Further, an antireflection film (AIR coat) is formed on this protective film.

【0233】AIRコートは3層の構成あるいは2層構
成がある。3層構成の場合は酸化アルミニウム(Al2
3)を光学的膜厚がnd=λ/4、ジルコニウム(Z
rO2)をnd1=λ/2、フッ化マグネシウム(Mg
2)をnd1=λ/4積層して形成する。通常、λと
して520nmもしくはその近傍の値として薄膜は形成
される。
The AIR coat has a three-layer structure or a two-layer structure. Aluminum oxide (Al 2
O 3 ) has an optical film thickness of nd = λ / 4, zirconium (Z
rO 2 nd1 = λ / 2, magnesium fluoride (Mg
F 2 ) is formed by stacking nd1 = λ / 4. Usually, a thin film is formed with λ of 520 nm or a value in the vicinity thereof.

【0234】2層構成の場合は一酸化シリコン(Si
O)を光学的膜厚nd1=λ/4とフッ化マグネシウム
(MgF2)をnd1=λ/4、もしくは酸化イットリ
ウム(Y23)とフッ化マグネシウム(MgF2)をn
d1=λ/4積層して形成する。
In the case of a two-layer structure, silicon monoxide (Si
O) is an optical film thickness nd1 = λ / 4 and magnesium fluoride (MgF 2 ) is nd1 = λ / 4, or yttrium oxide (Y 2 O 3 ) and magnesium fluoride (MgF 2 ) are n.
d1 = λ / 4 stacked layers are formed.

【0235】1層の場合は、フッ化マグネシウム(Mg
2)をnd1=λ/2積層して形成する。
In the case of one layer, magnesium fluoride (Mg
F 2 ) is formed by stacking nd1 = λ / 2.

【0236】なお、下取り出しの場合であっても、カソ
ード電極106の金属膜の透過率を高くすることは効果
がある。基板71側から表示画像を見る構成であって
も、金属膜の透過率を高いため、写り込みが減少するか
らである。写り込みが減少すれば、円偏光板(位相板)
108は不要となる。したがって、上取り出しよりも光
取り出し効率が向上する場合がある。金属膜の透過率
は、60%以上90%以下にすることが好ましい。特に
70%以上90%以下にすることが好ましい。60%以
下であるとカソード電極のシート抵抗値が低くなる。し
かし、写り込みが大きくなる。逆に90%以上ではカソ
ード電極のシート抵抗値が高くなる。したがって、表示
画像の輝度傾斜が大きくなる。
Even in the case of the bottom extraction, it is effective to increase the transmittance of the metal film of the cathode electrode 106. This is because even if the display image is viewed from the substrate 71 side, the reflection is reduced because the transmittance of the metal film is high. Circularly polarizing plate (phase plate) if the reflection is reduced
108 is unnecessary. Therefore, the light extraction efficiency may be improved as compared with the upper extraction. The transmittance of the metal film is preferably 60% or more and 90% or less. In particular, it is preferably 70% or more and 90% or less. If it is 60% or less, the sheet resistance value of the cathode electrode becomes low. However, the reflection becomes large. On the contrary, when it is 90% or more, the sheet resistance value of the cathode electrode becomes high. Therefore, the brightness gradient of the display image becomes large.

【0237】金属膜の透過率を高くするにはAl膜を薄
く形成する。厚みは20nm以上100nm以下に形成
する。その上にITO、IZO膜を形成することが好ま
しい。また、Al膜上にブラックマトリックスを形成す
ることが好ましい。このブラックマトリックスはクロ
ム、Al、Ag、Au、Cuなどで形成し、この上に、
SiO2、SiNxなどの無機絶縁膜、ポリエステル、ア
クリルなどの有機絶縁膜からなる保護膜を形成すること
が好ましい。さらに、この保護膜上に、反射防止膜(A
IRコート)を形成することが好ましい。
To increase the transmittance of the metal film, the Al film is formed thin. The thickness is 20 nm or more and 100 nm or less. It is preferable to form an ITO or IZO film on it. Further, it is preferable to form a black matrix on the Al film. This black matrix is made of chromium, Al, Ag, Au, Cu, etc., and on top of this,
It is preferable to form a protective film made of an inorganic insulating film such as SiO 2 or SiN x , or an organic insulating film such as polyester or acrylic. Furthermore, an antireflection film (A
It is preferable to form an IR coat).

【0238】なお、EL膜15または画素電極105
は、円弧状に限定するものではなく、三角錐状、円錐
状、サインカーブ状でもよく、また、これらを組み合わ
せた構造でもよい。また、1画素に微細な円弧上、三角
錐状、円錐状、サインカーブ状が形成されたり、これら
が組み合わされたり、もしくは、ランダムな凹凸が形成
された構成であっても良い。
Incidentally, the EL film 15 or the pixel electrode 105.
Is not limited to a circular arc shape, but may be a triangular pyramid shape, a conical shape, a sine curve shape, or a structure in which these are combined. Further, one pixel may have a fine arc shape, a triangular pyramid shape, a conical shape, a sine curve shape, a combination thereof, or a structure in which random unevenness is formed.

【0239】画素16のトランジスタ11を構成する半
導体膜は、低温ポリシリコン技術において、レーザーア
ニ−ルにより形成するのが一般的である。このレーザー
アニ−ルの条件のバラツキがトランジスタ11特性のバ
ラツキとなる。しかし、1画素16内のトランジスタ1
1の特性が一致していれば、図1などの電流プログラム
を行う方式では、所定の電流がEL素子15に流れるよ
うに駆動することができる。この点は、電圧プログラム
にない利点である。レーザーとしてはエキシマレーザー
を用いることが好ましい。
The semiconductor film forming the transistor 11 of the pixel 16 is generally formed by laser annealing in the low temperature polysilicon technique. The variation in the conditions of this laser annealing causes the variation in the characteristics of the transistor 11. However, the transistor 1 in one pixel 16
If the characteristics of 1 are the same, the current programming method shown in FIG. 1 or the like can drive the EL element 15 so that a predetermined current flows. This is an advantage over voltage programming. An excimer laser is preferably used as the laser.

【0240】なお、本発明において、半導体膜の形成
は、レーザーアニ−ル方法に限定するものではなく、熱
アニ−ル方法、固相(CGS)成長による方法でもよ
い。その他、低温ポリシリコン技術に限定するものでは
なく、高温ポリシリコン技術を用いても良いことはいう
までもない。
In the present invention, the formation of the semiconductor film is not limited to the laser annealing method, but may be a thermal annealing method or a solid phase (CGS) growth method. Besides, it is needless to say that the high temperature polysilicon technique is not limited to the low temperature polysilicon technique.

【0241】この課題に対して、本発明では図7に示す
ように、アニ−ルの時のレーザー照射スポット(レーザ
ー照射範囲)72をソース信号線18に平行に照射す
る。また、1画素列に一致するようにレーザー照射スポ
ット72を移動させる。もちろん、1画素列に限定する
ものではなく、たとえば、図72のRGBを1画素16
という単位でレーザーを照射してもよい(この場合は、
3画素列ということになる)。また、複数の画素に同時
に照射してもよい。また、レーザーの照射範囲の移動が
オーバーラップしてもよいことは言うまでもない(通
常、移動するレーザー光の照射範囲はオーバーラップす
るのが普通である)。
To solve this problem, in the present invention, as shown in FIG. 7, a laser irradiation spot (laser irradiation range) 72 at the time of annealing is irradiated in parallel to the source signal line 18. Further, the laser irradiation spot 72 is moved so as to coincide with one pixel column. Of course, the number of pixels is not limited to one pixel row, and for example, RGB of FIG.
You may irradiate the laser in units of (in this case,
It means 3 pixel columns). Further, a plurality of pixels may be simultaneously irradiated. Needless to say, the movements of the laser irradiation areas may overlap (usually, the movement areas of the moving laser light generally overlap).

【0242】画素はRGBの3画素で正方形の形状とな
るように作製されている。したがって、R、G、Bの各
画素は縦長の画素形状となる。したがって、レーザー照
射スポット72を縦長にしてアニ−ルすることにより、
1画素内ではトランジスタ11の特性バラツキが発生し
ないようにすることができる。また、1つのソース信号
線18に接続されたトランジスタ11の特性(モビリテ
ィ、Vt、S値など)を均一にすることができる(つま
り、隣接したソース信号線18のトランジスタ11とは
特性が異なる場合があるが、1つのソース信号線に接続
されたトランジスタ11の特性はほぼ等しくすることが
できる)。
The pixel is made up of three RGB pixels and has a square shape. Therefore, each of the R, G, and B pixels has a vertically long pixel shape. Therefore, by making the laser irradiation spot 72 vertically long and annealing it,
It is possible to prevent characteristic variations of the transistor 11 from occurring within one pixel. Further, the characteristics (mobility, Vt, S value, etc.) of the transistors 11 connected to one source signal line 18 can be made uniform (that is, when the characteristics are different from those of the transistors 11 of the adjacent source signal lines 18). However, the characteristics of the transistor 11 connected to one source signal line can be made almost equal).

【0243】一般的にレーザー照射スポット72の長さ
は10インチというように固定値である。このレーザー
照射スポット72を移動させるのであるから、1つのレ
ーザー照射スポット72を移動できる範囲内におさまる
ようにパネルを配置する必要がある(つまり、パネルの
表示領域50の中央部でレーザー照射スポット72が重
ならないよういする)。
Generally, the length of the laser irradiation spot 72 is a fixed value such as 10 inches. Since this laser irradiation spot 72 is moved, it is necessary to arrange the panel so that one laser irradiation spot 72 is placed within the movable range (that is, the laser irradiation spot 72 is located at the center of the display area 50 of the panel). Do not overlap).

【0244】図7の構成では、レーザー照射スポット7
2の長さの範囲内に3つのパネルが縦に配置されるよう
に形成されている。レーザー照射スポット72を照射す
るアニ−ル装置はガラス基板74の位置決めマーカー7
3a、73bを認識(パターン認識による自動位置決
め)してレーザー照射スポット72を移動させる。位置
決めマーカー73の認識はパターン認識装置で行う。ア
ニ−ル装置(図示せず)は位置決めマーカー73を認識
し、画素列の位置をわりだす(レーザー照射範囲72が
ソース信号線18と平行になるようにする)。画素列位
置に重なるようにレーザー照射スポット72を照射して
アニ−ルを順次行う。
In the configuration of FIG. 7, the laser irradiation spot 7
The three panels are formed to be vertically arranged within the range of the length of 2. The annealing device for irradiating the laser irradiation spot 72 is a positioning marker 7 on the glass substrate 74.
The laser irradiation spot 72 is moved by recognizing 3a and 73b (automatic positioning by pattern recognition). The recognition of the positioning marker 73 is performed by a pattern recognition device. An anneal device (not shown) recognizes the positioning marker 73 and finds the position of the pixel column (so that the laser irradiation range 72 is parallel to the source signal line 18). The laser irradiation spot 72 is irradiated so as to overlap the pixel row position, and annealing is sequentially performed.

【0245】図7で説明したレーザーアニ−ル方法(ソ
ース信号線18に平行にライン状のレーザースポットを
照射する方式)は、有機EL表示パネルの電流プログラ
ム方式の時に特に採用することが好ましい。なぜなら
ば、ソース信号線に平行方向にトランジスタ11の特性
が一致しているためである(縦方向に隣接した画素トラ
ンジスタの特性が近似している)。そのため、電流駆動
時にソース信号線の電圧レベルの変化が少なく、電流書
き込み不足が発生しにくい。
The laser annealing method (method of irradiating a linear laser spot parallel to the source signal line 18) described with reference to FIG. 7 is preferably adopted especially in the current programming method of the organic EL display panel. This is because the characteristics of the transistor 11 match in the direction parallel to the source signal line (the characteristics of pixel transistors adjacent in the vertical direction are similar). Therefore, the change in the voltage level of the source signal line is small during current driving, and insufficient current writing is less likely to occur.

【0246】たとえば、白ラスター表示であれば、隣接
した各画素のトランジスタ11aに流す電流はほぼ同一
のため、ソースドライバIC14から出力する電流振幅
の変化が少ない。もし、図1のトランジスタ11aの特
性が同一であり、各画素に電流プログラムする電流値が
画素列で等しいのであれば、電流プログラム時のソース
信号線18の電位は一定である。したがって、ソース信
号線18の電位変動は発生しない。1つのソース信号線
18に接続されたトランジスタ11aの特性がほぼ同一
であれば、ソース信号線18の電位変動は小さいことに
なる。このことは、図38などの他の電流プログラム方
式の画素構成でも同一である(つまり、図7の製造方法
を適用することが好ましい)。
For example, in the case of white raster display, since the currents flowing through the transistors 11a of adjacent pixels are almost the same, the change in current amplitude output from the source driver IC 14 is small. If the characteristics of the transistor 11a in FIG. 1 are the same and the current value for current programming in each pixel is the same in the pixel column, the potential of the source signal line 18 during current programming is constant. Therefore, the potential fluctuation of the source signal line 18 does not occur. If the characteristics of the transistors 11a connected to one source signal line 18 are almost the same, the potential fluctuation of the source signal line 18 is small. This is the same in other current programming pixel configurations such as FIG. 38 (that is, it is preferable to apply the manufacturing method in FIG. 7).

【0247】また、図27、図30などで説明する複数
の画素行を同時書き込みする方式で均一が画像表示(主
としてトランジスタ特性のばらつきに起因する表示ムラ
が発生しにくいからである)を実現できる。図27など
は複数画素行同時に選択するから、隣接した画素行のト
ランジスタが均一であれば、縦方向のトランジスタ特性
ムラはドライバー回路14で吸収できる。
Further, it is possible to realize uniform image display (because display unevenness is not likely to occur mainly due to variations in transistor characteristics) by the method of simultaneously writing a plurality of pixel rows described with reference to FIGS. 27 and 30. . Since a plurality of pixel rows are selected at the same time in FIG. 27 and the like, the driver circuit 14 can absorb the transistor characteristic unevenness in the vertical direction if the transistors in the adjacent pixel rows are uniform.

【0248】なお、図7では、ソースドライバ回路14
は、ICチップを積載するように図示しているが、これ
に限定するものではなく、ソースドライバ回路14を画
素16と同一プロセスで形成してもよいことは言うまで
もない。
In FIG. 7, the source driver circuit 14
Although the IC chip is illustrated as being stacked, it is not limited to this, and it goes without saying that the source driver circuit 14 may be formed in the same process as the pixel 16.

【0249】以下、図1の画素構成について、その駆動
方法について説明をする。図1に示すように、ゲート信
号線17aは行選択期間に導通状態(ここでは図1のト
ランジスタ11がpチャネルトランジスタであるためロ
ーレベルで導通となる)となり、ゲート信号線17bは
非選択期間時に導通状態とする。
The driving method of the pixel configuration shown in FIG. 1 will be described below. As shown in FIG. 1, the gate signal line 17a becomes conductive during the row selection period (because the transistor 11 of FIG. 1 is a p-channel transistor here, it becomes conductive at a low level), and the gate signal line 17b becomes non-selection period. Sometimes it becomes conductive.

【0250】ソース信号線18には寄生容量(図示せ
ず)が存在する。寄生容量は、ソース信号線18とゲー
ト信号線17とのクロス部の容量、トランジスタ11
b、11cのチャンネル容量などにより発生する。
The source signal line 18 has a parasitic capacitance (not shown). The parasitic capacitance is the capacitance of the cross portion between the source signal line 18 and the gate signal line 17, the transistor 11
It is caused by the channel capacity of b and 11c.

【0251】ソース信号線18の電流値変化に要する時
間tは浮遊容量の大きさをC、ソース信号線の電圧を
V、ソース信号線に流れる電流をIとするとt=C・V
/Iであるため電流値を10倍大きくできることは電流
値変化に要する時間が10分の1近くまで短くできる。
またはソース容量が10倍になっても所定の電流値に変
化できるということを示す。従って、短い水平走査期間
内に所定の電流値を書きこむためには電流値を増加させ
ることが有効である。
The time t required for changing the current value of the source signal line 18 is t = C · V, where C is the size of the stray capacitance, V is the voltage of the source signal line, and I is the current flowing through the source signal line.
Since / I, the current value can be increased ten times, and the time required to change the current value can be shortened to nearly one tenth.
Alternatively, it indicates that the current value can be changed to a predetermined current value even if the source capacitance is increased 10 times. Therefore, it is effective to increase the current value in order to write a predetermined current value within a short horizontal scanning period.

【0252】入力電流を10倍にすると出力電流も10
倍となり、ELの輝度が10倍となるため所定の輝度を
得るために、図1のトランジスタ17dの導通期間を従
来の10分の1とし、発光期間を10分の1とすること
で、所定輝度を表示するようにした。
If the input current is multiplied by 10, the output current is also increased by 10.
Since the brightness of EL becomes 10 times, the conductive period of the transistor 17d in FIG. 1 is set to 1/10 and the light emission period is set to 1/10 of the conventional one in order to obtain a predetermined brightness. Displayed the brightness.

【0253】つまり、ソース信号線18の寄生容量の充
放電を十分に行い、所定の電流値を画素16のトランジ
スタ11aにプログラムを行うためには、ソースドライ
バ14から比較的大きな電流を出力する必要がある。し
かし、このように大きな電流をソース信号線18に流す
とこの電流値が画素にプログラムされてしまい、所定の
電流に対し大きな電流がEL素子15に流れる。たとえ
ば、10倍の電流でプログラムすれば、当然、10倍の
電流がEL素子15に流れ、EL素子15は10倍の輝
度で発光する。所定の発光輝度にするためには、EL素
子15に流れる時間を1/10にすればよい。このよう
に駆動することにより、ソース信号線18の寄生容量を
十分に充放電できるし、所定の発光輝度を得ることがで
きる。
That is, in order to sufficiently charge and discharge the parasitic capacitance of the source signal line 18 and program a predetermined current value in the transistor 11a of the pixel 16, it is necessary to output a relatively large current from the source driver 14. There is. However, when such a large current is supplied to the source signal line 18, this current value is programmed in the pixel, and a large current flows to the EL element 15 with respect to a predetermined current. For example, if programming is performed with a current of 10 times, naturally, a current of 10 times flows into the EL element 15, and the EL element 15 emits light with a brightness of 10 times. In order to obtain a predetermined light emission brightness, the time for flowing through the EL element 15 may be set to 1/10. By driving in this way, the parasitic capacitance of the source signal line 18 can be sufficiently charged and discharged, and a predetermined light emission luminance can be obtained.

【0254】なお、10倍の電流値を画素のトランジス
タ11a(正確にはコンデンサ19の端子電圧を設定し
ている)に書き込み、EL素子15のオン時間を1/1
0にするとしたがこれは一例である。場合によっては、
10倍の電流値を画素のトランジスタ11aに書き込
み、EL素子15のオン時間を1/5にしてもよい。逆
に10倍の電流値を画素のトランジスタ11aに書き込
み、EL素子15のオン時間を1/2倍にする場合もあ
るであろう。
A ten-fold current value is written in the pixel transistor 11a (more precisely, the terminal voltage of the capacitor 19 is set), and the ON time of the EL element 15 is 1/1.
It is set to 0, but this is an example. In some cases,
A ten times larger current value may be written in the pixel transistor 11a, and the ON time of the EL element 15 may be reduced to ⅕. On the contrary, there may be a case where a 10-fold current value is written in the pixel transistor 11a to halve the ON time of the EL element 15.

【0255】本発明は、画素への書き込み電流を所定値
以外の値にし、EL素子15に流れる電流を間欠状態に
して駆動することに特徴がある。本明細書では説明を容
易にするため、N倍の電流値を画素のトランジスタ11
に書き込み、EL素子15のオン時間を1/N倍にする
として説明する。しかし、これに限定するものではな
く、N1倍の電流値を画素のトランジスタ11に書き込
み、EL素子15のオン時間を1/N2倍(N1とN2
とは異なる)でもよいことは言うまでもない。なお、間
欠する間隔は等間隔に限定するものではない。たとえ
ば、ランダムでもよい(全体として、表示期間もしくは
非表示期間が所定値(一定割合)となればよい)。ま
た、RGBで異なっていてもよい。つまり、白(ホワイ
ト)バランスが最適になるように、R、G、B表示期間
もしくは非表示期間が所定値(一定割合)となるように
調整(設定)すればよいまた、説明を容易にするため、
1/Nを1F(1フィールドまたは1フレーム)を基準
にしてこの1Fを1/Nにするとして説明する。しか
し、1画素行が選択され、電流値がプログラムされる時
間(通常、1水平走査期間(1H))があるし、また、
走査状態によっては誤差も生じる。したがって、以上の
説明はあくまでも説明を容易にするための便宜状の問題
だけであり、これに限定するものではない。
The present invention is characterized in that the write current to the pixel is set to a value other than the predetermined value and the current flowing in the EL element 15 is driven in an intermittent state. In this specification, in order to facilitate the description, a current value N times larger than that of the pixel transistor 11 is used.
, And the ON time of the EL element 15 is multiplied by 1 / N. However, the present invention is not limited to this, and the current value of N1 times is written in the transistor 11 of the pixel, and the ON time of the EL element 15 is 1 / N2 times (N1 and N2 times).
Needless to say, it may be different). The intermittent intervals are not limited to equal intervals. For example, it may be random (as a whole, the display period or the non-display period has a predetermined value (constant rate)). Further, it may be different for RGB. That is, the R, G, and B display periods or the non-display period may be adjusted (set) to a predetermined value (constant ratio) so that the white balance is optimized. For,
It is assumed that 1 / N is based on 1F (1 field or 1 frame) and 1F is set to 1 / N. However, there is a time (usually one horizontal scanning period (1H)) when one pixel row is selected and a current value is programmed, and
An error may occur depending on the scanning state. Therefore, the above description is merely a matter of convenience for facilitating the description, and the present invention is not limited to this.

【0256】有機(無機)EL表示装置は、CRTのよ
うに電子銃で線表示の集合として画像を表示するディス
プレイとは表示方法が基本的に異なる点にも課題があ
る。つまり、EL表示装置では、1F(1フィールドあ
るいは1フレーム)の期間の間は、画素に書き込んだ電
流(電圧)を保持する。そのため、動画表示を行うと表
示画像の輪郭ぼけが発生するという課題が発生する。
The organic (inorganic) EL display device also has a problem in that the display method is basically different from that of a display that displays an image as a group of line displays with an electron gun, such as a CRT. That is, the EL display device holds the current (voltage) written in the pixel for a period of 1F (one field or one frame). Therefore, when a moving image is displayed, the problem occurs that the outline of the displayed image is blurred.

【0257】本発明では、1F/Nの期間の間だけ、E
L素子15に電流を流し、他の期間(1F(N−1)/
N)は電流を流さない。この駆動方式を実施し画面の一
点を観測した場合を考える。この表示状態では1Fごと
に画像データ表示、黒表示(非点灯)が繰り返し表示さ
れる。つまり、画像データ表示状態が時間的に飛び飛び
表示(間欠表示)状態となる。動画データ表示を、この
間欠表示状態でみると画像の輪郭ぼけがなくなり良好な
表示状態を実現できる。つまり、CRTに近い動画表示
を実現することができる。また、間欠表示を実現する
が、回路のメインクロックは従来と変わらない。したが
って、回路の消費電力が増加することもない。
In the present invention, E only during the period of 1 F / N
A current is passed through the L element 15 for another period (1F (N-1) /
N) does not carry current. Consider the case where this driving method is implemented and one point on the screen is observed. In this display state, image data display and black display (non-lighting) are repeatedly displayed for each 1F. That is, the image data display state becomes a temporally intermittent display (intermittent display) state. When the moving image data display is viewed in this intermittent display state, the outline of the image is not blurred and a good display state can be realized. That is, it is possible to realize moving image display close to that of a CRT. Although the intermittent display is realized, the main clock of the circuit is the same as the conventional one. Therefore, the power consumption of the circuit does not increase.

【0258】液晶表示パネルの場合は、光変調をする画
像データ(電圧)は液晶層に保持される。したがって、
黒挿入表示を実施しようとすると液晶層に印加している
データを書き換える必要がある。そのため、ソースドラ
イバIC14の動作クロックを高くし、画像データを黒
表示データとを交互にソース信号線18に印加する必要
がある。したがって、黒挿入(黒表示などの間欠表示)
を実現しょうとすると回路のメインクロックをあげる必
要がある。また、時間軸伸張を実施するための画像メモ
リーも必要になる。
In the case of a liquid crystal display panel, image data (voltage) for light modulation is held in the liquid crystal layer. Therefore,
In order to perform black insertion display, it is necessary to rewrite the data applied to the liquid crystal layer. Therefore, it is necessary to increase the operation clock of the source driver IC 14 and apply the image data and the black display data to the source signal line 18 alternately. Therefore, black insertion (intermittent display such as black display)
In order to realize, it is necessary to raise the main clock of the circuit. Also, an image memory for performing the time axis expansion is required.

【0259】図1、図2、図38などに示す本発明のE
L表示パネルの画素構成では、画像データはコンデンサ
19に保持されている。このコンデンサ19の端子電圧
に対応する電流をEL素子15に流す。したがって、画
像データは液晶表示パネルのように光変調層に保持され
ているのではない。
E of the present invention shown in FIGS. 1, 2, 38, etc.
In the pixel configuration of the L display panel, the image data is held in the capacitor 19. A current corresponding to the terminal voltage of the capacitor 19 is passed through the EL element 15. Therefore, the image data is not held in the light modulation layer like the liquid crystal display panel.

【0260】本発明はスイッチングのトランジスタ11
d、あるいはトランジスタ11eなどをオンオフさせる
だけでEL素子15に流す電流を制御する。つまり、E
L素子15に流れる電流Iwをオフしても、画像データ
はそのままコンデンサ19の保持されている。したがっ
て、次のタイミングでスイッチング素子11dなどをオ
ンさせ、EL素子15に電流を流せば、その流れる電流
は前に流れていた電流値と同一である。本発明では黒挿
入(黒表示などの間欠表示)を実現しょうとすると際に
おいても回路のメインクロックをあげる必要がない。ま
た、時間軸伸張を実施する必要もないための画像メモリ
ーも不要である。また、有機EL素子15は電流を印加
してから発光するまでの時間が短く高速応答である。そ
のため、動画表示に適し、さらに間欠表示を実施するこ
とのより従来のデータ保持型の表示パネル(液晶表示パ
ネル、EL表示パネルなど)の問題である動画表示の問
題を解決できる。
The present invention is a switching transistor 11
The current flowing through the EL element 15 is controlled only by turning on or off the transistor d or the transistor 11e. That is, E
Even if the current Iw flowing through the L element 15 is turned off, the image data is still held in the capacitor 19. Therefore, when the switching element 11d and the like are turned on at the next timing and a current is passed through the EL element 15, the current flowing is the same as the current value that was flowing before. In the present invention, when black insertion (intermittent display such as black display) is to be realized, it is not necessary to raise the main clock of the circuit. Moreover, an image memory is not necessary because it is not necessary to perform time-axis expansion. In addition, the organic EL element 15 has a short time from applying a current to emitting light and has a high-speed response. Therefore, it is suitable for displaying moving images, and by implementing intermittent display, it is possible to solve the problem of displaying moving images, which is a problem of conventional data-retention display panels (such as liquid crystal display panels and EL display panels).

【0261】さらに、大型の表示装置でソース容量が大
きくなる場合はソース電流を10倍以上にしてやればよ
い。一般にソース電流値をN倍にした場合、ゲート信号
線17b(トランジスタ11d)の導通期間を1F/N
とすればよい。これによりテレビ、モニター用の表示装
置などにも適用が可能である。
Further, in the case of a large display device having a large source capacitance, the source current may be increased by a factor of 10 or more. Generally, when the source current value is multiplied by N, the conduction period of the gate signal line 17b (transistor 11d) is set to 1 F / N.
And it is sufficient. As a result, it can be applied to display devices for televisions and monitors.

【0262】以下、図面を参照しながら、本発明の駆動
方法についてさらに詳しく説明をする。ソース信号線1
8の寄生容量は、隣接したソース信号線18間の結合容
量、ソースドライブIC(回路)14のバッファ出力容
量、ゲート信号線17とソース信号線18とのクロス容
量などにより発生する。この寄生容量は通常10pF以
上となる。電圧駆動の場合は、ドライバーIC14から
は低インピーダンスで電圧がソース信号線18に印加さ
れるため、寄生容量が多少大きくとも駆動では問題とな
らない。
Hereinafter, the driving method of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. Source signal line 1
The parasitic capacitance of 8 is generated by the coupling capacitance between the adjacent source signal lines 18, the buffer output capacitance of the source drive IC (circuit) 14, the cross capacitance between the gate signal line 17 and the source signal line 18, and the like. This parasitic capacitance is usually 10 pF or more. In the case of voltage driving, since a voltage is applied from the driver IC 14 to the source signal line 18 with low impedance, there is no problem in driving even if the parasitic capacitance is somewhat large.

【0263】しかし、電流駆動では特に黒レベルの画像
表示では5nA以下の微小電流で画素のコンデンサ19
をプログラムする必要がある。したがって、寄生容量が
所定値以上の大きさで発生すると、1画素行にプログラ
ムする時間(通常、1H以内、ただし、2画素行を同時
に書き込む場合もあるので1H以内に限定されるもので
はない。)内に寄生容量を充放電することができない。
1H期間で充放電できなれば、画素への書き込み不足と
なり、解像度がでない。
However, in the current driving, particularly in the image display of the black level, the pixel capacitor 19 is supplied with a minute current of 5 nA or less.
Need to be programmed. Therefore, when the parasitic capacitance is generated with a magnitude equal to or larger than a predetermined value, the programming time for one pixel row (usually within 1H, but two pixel rows may be written at the same time is not limited to within 1H). It is not possible to charge and discharge the parasitic capacitance inside the parentheses.
If charging / discharging cannot be performed in the 1H period, writing into the pixel becomes insufficient, resulting in poor resolution.

【0264】図1の画素構成の場合、図3(a)に示す
ように、電流プログラム時は、プログラム電流Iwがソ
ース信号線18に流れる。この電流Iwがトランジスタ
11aを流れ、Iwを流す電流が保持されるように、コ
ンデンサ19に電圧設定(プログラム)される。このと
き、トランジスタ11dはオープン状態(オフ状態)で
ある。
In the case of the pixel configuration of FIG. 1, as shown in FIG. 3A, the program current Iw flows through the source signal line 18 during current programming. The voltage is set (programmed) in the capacitor 19 so that the current Iw flows through the transistor 11a and the current flowing through Iw is retained. At this time, the transistor 11d is in an open state (off state).

【0265】次に、EL素子15に電流を流す期間は図
3(b)のように、トランジスタ11c、11bがオフ
し、トランジスタ11dが動作する。つまり、ゲート信
号線17aにオフ電圧(Vgh)が印加され、トランジ
スタ11b、11cがオフする。一方、ゲート信号線1
7bにオン電圧(Vgl)が印加され、トランジスタ1
1dがオンする。
Next, during a period in which a current is passed through the EL element 15, as shown in FIG. 3B, the transistors 11c and 11b are turned off and the transistor 11d operates. That is, the off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17a, and the transistors 11b and 11c are turned off. On the other hand, the gate signal line 1
The on-voltage (Vgl) is applied to 7b, and the transistor 1
1d turns on.

【0266】今、電流I1が本来流す電流(所定値)の
N倍であるとすると、図3(b)のEL素子15に流れ
る電流もIwとなる。したがって、所定値の10倍の輝
度でEL素子15は発光する。つまり、図12に図示す
るように、倍率Nを高くするほど、表示パネルの表示輝
度Bも高くなる。したがって、倍率と輝度とは比例関係
となる。逆には、1/Nと駆動することにより、輝度と
倍率とは反比例の関係となる。
Now, assuming that the current I1 is N times the current (predetermined value) originally flowing, the current flowing through the EL element 15 in FIG. 3B is also Iw. Therefore, the EL element 15 emits light with a brightness 10 times the predetermined value. That is, as shown in FIG. 12, the higher the magnification N, the higher the display brightness B of the display panel. Therefore, the magnification and the luminance have a proportional relationship. On the contrary, by driving with 1 / N, the luminance and the magnification have an inversely proportional relationship.

【0267】そこで、トランジスタ11dを本来オンす
る時間(約1F)の1/Nの期間だけオンさせ、他の期
間(N−1)/N期間はオフさせれば、1F全体の平均
輝度は所定の輝度となる。この表示状態は、CRTが電
子銃で画面を走査しているのと近似する。異なる点は、
画像を表示している範囲が画面全体の1/N(全画面を
1とする)が点灯している点である(CRTでは、点灯
している範囲は1画素行(厳密には1画素である)。
Therefore, if the transistor 11d is turned on for a period of 1 / N of the time it is originally turned on (about 1F) and turned off for the other period (N-1) / N periods, the average luminance of the entire 1F is predetermined. It becomes the brightness of. This display state is similar to that of a CRT scanning the screen with an electron gun. The difference is that
The range where the image is displayed is the point where 1 / N of the entire screen is illuminated (the entire screen is 1) (In the CRT, the illuminated range is 1 pixel row (strictly 1 pixel is is there).

【0268】本発明では、この1F/Nの画像表示領域
53が図13(b)に示すように画面50の上から下に
移動する。本発明では、1F/Nの期間の間だけ、EL
素子15に電流が流れ、他の期間(1F・(N−1)/
N)は電流を流れない。したがって、各画素は間欠表示
となる。しかし、人間の目には残像により画像が保持さ
れた状態となるので、全画面が均一に表示されているよ
うに見える。
In the present invention, the 1F / N image display area 53 moves from the top to the bottom of the screen 50 as shown in FIG. 13B. In the present invention, the EL is used only for the period of 1F / N.
A current flows through the element 15 and the other period (1F · (N−1) /
N) does not carry current. Therefore, each pixel is displayed intermittently. However, since the image is held by the afterimage in human eyes, the entire screen appears to be displayed uniformly.

【0269】なお、図13に図示するように、書き込み
画素行51aは非点灯表示52aとする。しかし、これ
は、図1、図2などの画素構成の場合である。図38な
どで図示するカレントミラーの画素構成では、書き込み
画素行51aは点灯状態としてもよい。しかし、本明細
書では、説明を容易にするため、主として、図1の画素
構成を例示して説明をする。また、図13、図16など
の所定駆動電流Iwよりも大きい電流でプログラムし、
間欠駆動する駆動方法をN倍パルス駆動と呼ぶ。
As shown in FIG. 13, the writing pixel row 51a is the non-illuminated display 52a. However, this is the case with the pixel configurations shown in FIGS. In the pixel configuration of the current mirror illustrated in FIG. 38 and the like, the writing pixel row 51a may be in a lighting state. However, in this specification, in order to facilitate the description, the pixel configuration of FIG. 1 is mainly illustrated and described. Also, programming with a current larger than the predetermined drive current Iw shown in FIGS. 13 and 16,
The driving method of intermittent driving is called N times pulse driving.

【0270】この表示状態では1Fごとに画像データ表
示、黒表示(非点灯)が繰り返し表示される。つまり、
画像データ表示状態が時間的に飛び飛び表示(間欠表
示)状態となる。液晶表示パネル(本発明以外のEL表
示パネル)では、1Fの期間、画素にデータが保持され
ているため、動画表示の場合は画像データが変化しても
その変化に追従することができず、動画ボケとなってい
た(画像の輪郭ボケ)。しかし、本発明では画像を間欠
表示するため、画像の輪郭ぼけがなくなり良好な表示状
態を実現できる。つまり、CRTに近い動画表示を実現
することができる。
In this display state, image data display and black display (non-lighting) are repeatedly displayed for each 1F. That is,
The image data display state becomes a temporally intermittent display (intermittent display) state. In the liquid crystal display panel (EL display panel other than the present invention), data is held in the pixel for the period of 1F, and therefore, in the case of moving image display, even if the image data changes, the change cannot be followed, The image was blurred (outlined image). However, in the present invention, since the image is displayed intermittently, the outline of the image is not blurred and a good display state can be realized. That is, it is possible to realize moving image display close to that of a CRT.

【0271】このタイミングチャートを図14に図示す
る。なお、本発明などにおいて、特に断りがない時の画
素構成は図1であるとする。図14でわかるように、各
選択された画素行(選択期間は、1Hとしている)にお
いて、ゲート信号線17aにオン電圧(Vgl)が印加
されている時(図14(a)を参照)には、ゲート信号
線17bにはオフ電圧(Vgh)が印加されている(図
14(b)を参照)。また、この期間は、EL素子15
には電流が流れていない(非点灯状態)。選択されてい
ない画素行において、ゲート信号線17aにオフ電圧
(Vgh)が印加され、ゲート信号線17bにはオン電
圧(Vgl)が印加されている。また、この期間は、E
L素子15に電流が流れている(点灯状態)。また、点
灯状態では、EL素子15は所定のN倍の輝度(N・
B)で点灯し、その点灯期間は1F/Nである。したが
って、1Fを平均した表示パネルの表示輝度は、(N・
B)×(1/N)=B(所定輝度)となる。
This timing chart is shown in FIG. Note that, in the present invention and the like, the pixel configuration is as shown in FIG. 1 unless otherwise specified. As can be seen from FIG. 14, in each selected pixel row (the selection period is set to 1H), when the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17a (see FIG. 14A). The OFF voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17b (see FIG. 14B). Also, during this period, the EL element 15
Current is not flowing through (non-lighting state). In the unselected pixel rows, the off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17a, and the on voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b. Also, during this period,
A current is flowing through the L element 15 (lighting state). Further, in the lighted state, the EL element 15 has a predetermined N-fold luminance (N ·
It is lit in B), and its lighting period is 1 F / N. Therefore, the display brightness of the display panel obtained by averaging 1F is (N.
B) × (1 / N) = B (predetermined brightness).

【0272】図15は、図14の動作を各画素行に適用
した実施例である。ゲート信号線17に印加する電圧波
形を示している。電圧波形はオフ電圧をVgh(Hレベ
ル)とし、オン電圧をVgl(Lレベル)としている。
(1)(2)などの添え字は選択している画素行番号を
示している。
FIG. 15 shows an embodiment in which the operation of FIG. 14 is applied to each pixel row. The waveform of the voltage applied to the gate signal line 17 is shown. In the voltage waveform, the off voltage is Vgh (H level) and the on voltage is Vgl (L level).
Subscripts such as (1) and (2) indicate the selected pixel row number.

【0273】図15において、ゲート信号線17a
(1)が選択され(Vgl電圧)、選択された画素行の
トランジスタ11aからソースドライバ14に向かって
ソース信号線18にプログラム電流が流れる。このプロ
グラム電流は所定値のN倍(説明を容易にするため、N
=10として説明する。もちろん、所定値とは画像を表
示するデータ電流であるから、白ラスター表示などでな
い限り固定値ではない。)である。したがって、コンデ
ンサ19には10倍に電流がトランジスタ11aに流れ
るようにプログラムされる。画素行(1)が選択されて
いる時は、図1の画素構成ではゲート信号線17b
(1)はオフ電圧(Vgh)が印加され、EL素子15
には電流が流れない。
In FIG. 15, gate signal line 17a
(1) is selected (Vgl voltage), and the program current flows from the transistor 11a of the selected pixel row toward the source driver 14 in the source signal line 18. This program current is N times the predetermined value (for ease of explanation, N
= 10 will be described. Of course, since the predetermined value is a data current for displaying an image, it is not a fixed value unless it is a white raster display or the like. ). Therefore, the capacitor 19 is programmed so that 10 times as much current flows through the transistor 11a. When the pixel row (1) is selected, the gate signal line 17b is used in the pixel configuration of FIG.
In (1), the off voltage (Vgh) is applied, and the EL element 15
No current flows through.

【0274】1H後には、ゲート信号線17a(2)が
選択され(Vgl電圧)、選択された画素行のトランジ
スタ11aからソースドライバ14に向かってソース信
号線18にプログラム電流が流れる。このプログラム電
流は所定値のN倍(説明を容易にするため、N=10と
して説明する)である。したがって、コンデンサ19に
は10倍に電流がトランジスタ11aに流れるようにプ
ログラムされる。画素行(2)が選択されている時は、
図1の画素構成ではゲート信号線17b(2)はオフ電
圧(Vgh)が印加され、EL素子15には電流が流れ
ない。しかし、先の画素行(1)のゲート信号線17a
(1)にはオフ電圧(Vgh)が印加され、ゲート信号
線17b(1)にはオン電圧(Vgl)が印加されるた
め、点灯状態となっている。
After 1H, the gate signal line 17a (2) is selected (Vgl voltage), and the program current flows from the transistor 11a in the selected pixel row to the source driver 14 in the source signal line 18. This program current is N times the predetermined value (for ease of explanation, N = 10 will be described). Therefore, the capacitor 19 is programmed so that 10 times as much current flows through the transistor 11a. When the pixel row (2) is selected,
In the pixel configuration of FIG. 1, the gate signal line 17b (2) is applied with the off voltage (Vgh), and no current flows through the EL element 15. However, the gate signal line 17a of the previous pixel row (1)
Since the off voltage (Vgh) is applied to (1) and the on voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b (1), it is in a lighting state.

【0275】次の1H後には、ゲート信号線17a
(3)が選択され、ゲート信号線17b(3)はオフ電
圧(Vgh)が印加され、画素行(3)のEL素子15
には電流が流れない。しかし、先の画素行(1)(2)
のゲート信号線17a(1)(2)にはオフ電圧(Vg
h)が印加され、ゲート信号線17b(1)(2)には
オン電圧(Vgl)が印加されるため、点灯状態となっ
ている。
After the next 1H, the gate signal line 17a
(3) is selected, the off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17b (3), and the EL element 15 of the pixel row (3) is selected.
No current flows through. However, the previous pixel row (1) (2)
To the gate signal lines 17a (1) (2) of the off voltage (Vg
h) is applied and the on-voltage (Vgl) is applied to the gate signal lines 17b (1) (2), so that the gate signal lines 17b (1) (17) are in a lighting state.

【0276】以上の動作を1Hの同期信号に同期して画
像を表示していく。しかし、図15の駆動方式では、E
L素子15には10倍の電流が流れる。したがって、表
示画面50は約10倍の輝度で表示される。もちろん、
この状態で所定の輝度表示を行うためには、プログラム
電流を1/10にしておけばよいことは言うまでもな
い。しかし、1/10の電流であれば寄生容量などによ
り書き込み不足が発生するため、高い電流でプログラム
し、黒画面52挿入により所定の輝度を得るのは本発明
の基本的な主旨である。
An image is displayed in synchronism with the above operation in synchronization with the 1H synchronization signal. However, in the driving method of FIG.
A 10 times larger current flows through the L element 15. Therefore, the display screen 50 is displayed with a brightness of about 10 times. of course,
It is needless to say that the program current may be set to 1/10 in order to display a predetermined brightness in this state. However, if the current is 1/10, writing shortage will occur due to parasitic capacitance and the like. Therefore, programming with a high current to obtain a predetermined brightness by inserting the black screen 52 is the basic gist of the present invention.

【0277】なお、本発明の駆動方法において、所定電
流よりも高い電流がEL素子15に流れるようにし、ソ
ース信号線18の寄生容量を十分に充放電するという概
念である。つまり、EL素子15にN倍の電流を流さな
くともよい。たとえば、EL素子15に並列に電流経路
を形成し(ダミーのEL素子を形成し、このEL素子は
遮光膜を形成して発光させないなど)、ダミーEL素子
とEL素子15に分流して電流を流しても良い。たとえ
ば、信号電流が0.2μAのとき、プログラム電流を
2.2μAとして、トランジスタ11aには2.2μA
を流す。この電流のうち、信号電流0.2μAをEL素
子15に流して、2μAをダミーのEL素子に流すなど
の方式が例示される。
In the driving method of the present invention, the concept is that a current higher than a predetermined current is made to flow in the EL element 15 to sufficiently charge and discharge the parasitic capacitance of the source signal line 18. That is, it is not necessary to pass N times the current through the EL element 15. For example, a current path is formed in parallel with the EL element 15 (a dummy EL element is formed, and this EL element is formed with a light-shielding film so as not to emit light), and the current is divided into the dummy EL element and the EL element 15. You can wash it. For example, when the signal current is 0.2 μA, the program current is 2.2 μA, and the transistor 11a has 2.2 μA.
Shed. Among these currents, a method is exemplified in which a signal current of 0.2 μA is passed through the EL element 15 and 2 μA is passed through a dummy EL element.

【0278】以上のように構成することにより、ソース
信号線18に流す電流をN倍に増加させることにより、
駆動トランジスタ11aにN倍の電流が流れるようにプ
ログラムすることができ、かつ、電流EL素子15に
は、N倍よりは十分小さい電流をながることができるこ
とになる。以上の方法では、図5に図示するように、非
点灯領域52を設けることなく、全表示領域50を画像
表示領域53とすることができる。
With the above configuration, the current flowing through the source signal line 18 is increased N times,
It is possible to program the driving transistor 11a so that N times as much current flows, and the current EL element 15 can be supplied with a current sufficiently smaller than N times. With the above method, as shown in FIG. 5, the entire display area 50 can be used as the image display area 53 without providing the non-lighted area 52.

【0279】図13(a)は表示画像50への書き込み
状態を図示している。図13(a)において、51aは
書き込み画素行である。ソースドライバIC14から各
ソース信号線18にプログラム電流が供給される。な
お、図13などでは1H期間に書き込む画素行は1行で
ある。しかし、何ら1Hに限定するのものではなく、
0.5H期間でも、2H期間でもよい。また、ソース信
号線18にプログラム電流を書き込むとしたが、本発明
は電流プログラム方式に限定するものではなく、ソース
信号線18に書き込まれるのは電圧である電圧プログラ
ム方式でもよい。
FIG. 13A shows a writing state in the display image 50. In FIG. 13A, 51a is a writing pixel row. A program current is supplied from the source driver IC 14 to each source signal line 18. Note that, in FIG. 13 and the like, one pixel row is written in the 1H period. However, it is not limited to 1H at all,
The period may be 0.5H or 2H. Further, although the programming current is written in the source signal line 18, the present invention is not limited to the current programming method, and a voltage programming method in which the voltage is written in the source signal line 18 may be used.

【0280】図13(a)において、ゲート信号線17
aが選択されるとソース信号線18に流れる電流がトラ
ンジスタ11aにプログラムされる。この時、ゲート信
号線17bはオフ電圧が印加されEL素子15には電流
が流れない。これは、EL素子15側にトランジスタ1
1dがオン状態であると、ソース信号線18からEL素
子15の容量成分が見え、この容量に影響されてコンデ
ンサ19に十分に正確な電流プログラムができなくなる
ためである。したがって、図1の構成を例にすれば、図
13(b)で示すように電流を書き込まれている画素行
は非点灯領域52となる。
In FIG. 13A, the gate signal line 17
When a is selected, the current flowing through the source signal line 18 is programmed in the transistor 11a. At this time, an off voltage is applied to the gate signal line 17b, and no current flows in the EL element 15. This is the transistor 1 on the EL element 15 side.
This is because when 1d is in the on state, the capacitance component of the EL element 15 can be seen from the source signal line 18, and the capacitance 19 affects the capacitance component, which makes it impossible to perform accurate current programming in the capacitor 19. Therefore, taking the configuration of FIG. 1 as an example, the pixel row in which the current is written becomes the non-lighting area 52 as shown in FIG. 13B.

【0281】今、N(ここでは、先に述べたようにN=
10とする)倍の電流でプログラムしたとすれば、画面
の輝度は10倍になる。したがって、表示領域50の9
0%の範囲を非点灯領域52とすればよい。したがっ
て、画像表示領域の水平走査線がQCIFの220本
(S=220)とすれば、22本と表示領域53とし、
220−22=198本を非表示領域52とすればよ
い。一般的に述べれば、水平走査線(画素行数)をSと
すれば、S/Nの領域を表示領域53とし、この表示領
域53をN倍の輝度で発光させる。そして、この表示領
域53を画面の上下方向に走査する。したがって、S
(N−1)/Nの領域は非点灯領域52とする。この非
点灯領域は黒表示(非発光)である。また、この非発光
部52はトランジスタ11dをオフさせることにより実
現する。なお、N倍の輝度で点灯させるとしたが、当然
のことながら明るさ調整、ガンマ調整によりN倍の値と
調整することは言うまでもない。
Now, N (here, as described above, N =
If programmed with 10 times the current, the brightness of the screen will be 10 times. Therefore, 9 of the display area 50
The 0% range may be set as the non-lighting area 52. Therefore, if the horizontal scanning lines in the image display area are 220 lines (S = 220) of QCIF, 22 lines and the display region 53 are obtained.
220-22 = 198 may be used as the non-display area 52. Generally speaking, if the horizontal scanning line (the number of pixel rows) is S, the S / N area is the display area 53, and the display area 53 is made to emit light with N times the brightness. Then, the display area 53 is scanned in the vertical direction of the screen. Therefore, S
The (N-1) / N area is a non-lighting area 52. This non-lighting area is black display (non-light emission). Further, the non-light emitting portion 52 is realized by turning off the transistor 11d. It is to be noted that the light is turned on with the brightness of N times, but it goes without saying that the brightness and the gamma adjustment are adjusted to the value of N times.

【0282】また、先の実施例で、10倍の電流でプロ
グラムしたとすれば、画面の輝度は10倍になり、表示
領域50の90%の範囲を非点灯領域52とすればよい
とした。しかし、これは、RGBの画素を共通に非点灯
領域52とすることに限定するものではない。例えば、
Rの画素は、1/8を非点灯領域52とし、Gの画素
は、1/6を非点灯領域52とし、Bの画素は、1/1
0を非点灯領域52と、それぞれの色により変化させて
もよい。また、RGBの色で個別に非点灯領域52(あ
るいは点灯領域53)を調整できるようにしてもよい。
これらを実現するためには、R、G、Bで個別のゲート
信号線17bが必要になる。しかし、以上のRGBの個
別調整を可能にすることにより、ホワイトバランスを調
整することが可能になり、各階調において色のバランス
調整が容易になる(図41を参照のこと)。
Further, in the previous embodiment, if programming is performed with a current of 10 times, the brightness of the screen will be 10 times, and 90% of the display area 50 should be the non-lighted area 52. . However, this is not limited to the common use of the RGB pixels as the non-lighting area 52. For example,
The R pixel has 1/8 the non-lighting area 52, the G pixel has 1/6 the non-lighting area 52, and the B pixel has the 1/1
0 may be changed depending on the non-illuminated area 52 and each color. Further, the non-lighting area 52 (or the lighting area 53) may be individually adjusted with RGB colors.
In order to realize these, separate gate signal lines 17b are required for R, G, and B. However, by enabling the individual RGB adjustments described above, it is possible to adjust the white balance, which facilitates color balance adjustment at each gradation (see FIG. 41).

【0283】図13(b)に図示するように、書き込み
画素行51aを含む画素行が非点灯領域52とし、書き
込み画素行51aよりも上画面のS/N(時間的には1
F/N)の範囲を表示領域53とする(書き込み走査が
画面の上から下方向の場合、画面を下から上に走査する
場合は、その逆となる)。画像表示状態は、表示領域5
3が帯状になって、画面の上から下に移動する。
As shown in FIG. 13B, the pixel row including the writing pixel row 51a is the non-lighting area 52, and the S / N of the screen above the writing pixel row 51a (temporarily 1
The range of (F / N) is set as the display area 53 (when writing scanning is from the top to the bottom of the screen, and vice versa when scanning the screen from the bottom to the top). The image display state is the display area 5
3 becomes a band and moves from the top to the bottom of the screen.

【0284】図13の表示では、1つの表示領域53が
画面の上から下方向に移動する。フレームレートが低い
と、表示領域53が移動するのが視覚的に認識される。
特に、まぶたを閉じた時、あるいは顔を上下に移動させ
た時などに認識されやすくなる。
In the display of FIG. 13, one display area 53 moves downward from the top of the screen. When the frame rate is low, it is visually recognized that the display area 53 moves.
In particular, it becomes easy to be recognized when the eyelids are closed or when the face is moved up and down.

【0285】この課題に対しては、図16に図示するよ
うに、表示領域53を複数に分割するとよい。この分割
された総和がS(N−1)/Nの面積となれば、図13
の明るさと同等になる。なお、分割された表示領域53
は等しく(等分に)する必要はない。また、分割された
非表示領域52も等しくする必要はない。
To solve this problem, the display area 53 may be divided into a plurality as shown in FIG. If the total of the divided areas is the area of S (N-1) / N,
It is equivalent to the brightness of. The divided display area 53
Do not have to be equal (equal). Further, it is not necessary to make the divided non-display areas 52 equal.

【0286】以上のように、表示領域53を複数に分割
することにより画面のちらつきは減少する。したがっ
て、フリッカの発生はなく、良好な画像表示を実現でき
る。なお、分割はもっと細かくしてもよい。しかし、分
割すればするほど動画表示性能は低下する。
As described above, the flicker on the screen is reduced by dividing the display area 53 into a plurality of areas. Therefore, flicker does not occur and good image display can be realized. The division may be finer. However, the more divided it is, the lower the moving image display performance becomes.

【0287】図17はゲート信号線17の電圧波形およ
びELの発光輝度を図示している。図17デ明らかなよ
うに、ゲート信号線17bをVglにする期間(1F/
N)を複数に分割(分割数K)している。つまり、Vg
lにする期間は1F/(K/N)の期間をK回実施す
る。このように制御すれば、フリッカの発生を抑制で
き、低フレームレートの画像表示を実現できる。また、
この画像の分割数も可変できるように構成することが好
ましい。たとえば、ユーザーが明るさ調整スイッチを押
すことにより、あるいは明るさ調整ボリウムを回すこと
により、この変化を検出してKの値を変更してもよい。
また、ユーザーが輝度を調整するように構成してもよ
い。表示する画像の内容、データにより手動で、あるい
は自動的に変化させるように構成してもよい。
FIG. 17 shows the voltage waveform of the gate signal line 17 and the EL emission brightness. As is clear from FIG. 17, the period (1 F /
N) is divided into a plurality (the number of divisions K). That is, Vg
The period of 1 is performed 1F / (K / N) times K times. By controlling in this way, it is possible to suppress the occurrence of flicker and realize image display at a low frame rate. Also,
It is preferable that the number of divided images is variable. For example, the user may press the brightness adjustment switch or turn the brightness adjustment volume to detect the change and change the value of K.
Alternatively, the user may adjust the brightness. It may be configured to change manually or automatically depending on the content and data of the image to be displayed.

【0288】なお、図17などにおいて、ゲート信号線
17bをVglにする期間(1F/N)を複数に分割
(分割数K)し、Vglにする期間は1F/(K/N)
の期間をK回実施するとしたがこれ限定するものではな
い。1F/(K/N)の期間をL(L≠K)回実施して
もよい。つまり、本発明は、EL素子15に流す期間
(時間)を制御することにより画像50を表示するもの
である。したがって、1F/(K/N)の期間をL(L
≠K)回実施することは本発明の技術的思想に含まれ
る。また、Lの値を変化させることにより、画像50の
輝度をデジタル的に変更することができる。たとえば、
L=2とL=3では50%の輝度(コントラスト)変化
となる。また、画像の表示領域53を分割する時、ゲー
ト信号線17bをVglにする期間は同一期間に限定す
るものではない。
In FIG. 17 and the like, the period (1F / N) in which the gate signal line 17b is set to Vgl is divided into a plurality (the number of divisions K), and the period in which Vgl is set is 1F / (K / N).
It is assumed that the period is performed K times, but the period is not limited to this. The period of 1F / (K / N) may be performed L (L ≠ K) times. That is, the present invention displays the image 50 by controlling the period (time) of flowing into the EL element 15. Therefore, the period of 1F / (K / N) is L (L
≠ K) times is included in the technical idea of the present invention. Further, by changing the value of L, the brightness of the image 50 can be changed digitally. For example,
When L = 2 and L = 3, the luminance (contrast) change is 50%. Further, when the image display area 53 is divided, the period in which the gate signal line 17b is set to Vgl is not limited to the same period.

【0289】以上の実施例は、EL素子15に流れる電
流を遮断し、また、EL素子に流れる電流を接続するこ
とにより、表示画面50をオンオフ(点灯、非点灯)す
るものであった。つまり、コンデンサ19に保持された
電荷によりトランジスタ11aに複数回、略同一電流を
流すものである。本発明はこれに限定するものではな
い。たとえば、コンデンサ19に保持された電荷を充放
電させることにより、表示画面50をオンオフ(点灯、
非点灯)する方式でもよい。
In the above-described embodiment, the display screen 50 is turned on / off (lit or unlit) by cutting off the current flowing through the EL element 15 and connecting the current flowing through the EL element. That is, the substantially same current is caused to flow through the transistor 11a a plurality of times by the electric charge held in the capacitor 19. The present invention is not limited to this. For example, by charging / discharging the charge held in the capacitor 19, the display screen 50 is turned on / off (lighted,
The method of non-lighting) may be used.

【0290】図18は図16の画像表示状態を実現する
ための、ゲート信号線17に印加する電圧波形である。
図18と図15の差異は、ゲート信号線17bの動作で
ある。ゲート信号線17bは画面を分割する個数に対応
して、その個数分だけオンオフ(VglとVgh)動作
する。他の点は図15と同一であるので説明を省略す
る。
FIG. 18 shows a voltage waveform applied to the gate signal line 17 for realizing the image display state of FIG.
The difference between FIG. 18 and FIG. 15 is the operation of the gate signal line 17b. The gate signal lines 17b are turned on / off (Vgl and Vgh) by the number corresponding to the number of divided screens. Since the other points are the same as those in FIG. 15, description thereof will be omitted.

【0291】EL表示装置では黒表示は完全に非点灯で
あるから、液晶表示パネルを間欠表示した場合のよう
に、コントラスト低下もない。また、図1の構成におい
ては、トランジスタ11dをオンオフ操作するだけで、
図38の構成においては、トランジスタ素子11eをオ
ンオフ操作するだけで、間欠表示を実現することができ
る。これは、コンデンサ19に画像データがメモリー
(アナログ値であるから階調数は無限大)されているた
めである。つまり、各画素16に、画像データは1Fの
期間中は保持されている。この保持されている画像デー
タに相当する電流をEL素子15に流すか否かをトラン
ジスタ11d、11eの制御により実現しているのであ
る。
In the EL display device, the black display is completely non-illuminated, and therefore, the contrast is not lowered unlike the case where the liquid crystal display panel is intermittently displayed. Further, in the configuration of FIG. 1, by simply turning on and off the transistor 11d,
In the configuration of FIG. 38, intermittent display can be realized by simply turning on and off the transistor element 11e. This is because the image data is stored in the condenser 19 (the number of gradations is infinite because it is an analog value). That is, the image data is held in each pixel 16 during the period of 1F. Whether or not a current corresponding to the held image data is passed through the EL element 15 is realized by controlling the transistors 11d and 11e.

【0292】コンデンサ19の端子電圧を維持すること
は重要である。1フィールド(フレーム)期間でコンデ
ンサ19の端子電圧が変化(充放電)すると、画面輝度
が変化し、フレームレートが低下した時にちらつき(フ
リッカなど)が発生するからである。トランジスタ11
aが1フレーム(1フィールド)期間でEL素子15に
流す電流は、少なくとも65%以下に低下しないように
する必要がある。この65%とは、画素16に書き込
み、EL素子15に流す電流の最初が100%とした
時、次のフレーム(フィールド)で前記画素16に書き
込む直前のEL素子15に流す電流が65%以上とする
ことである。
It is important to maintain the terminal voltage of the capacitor 19. This is because if the terminal voltage of the capacitor 19 changes (charges and discharges) in one field (frame) period, the screen brightness changes and flicker (such as flicker) occurs when the frame rate decreases. Transistor 11
It is necessary that the current flowing through the EL element 15 in a period of one frame (one field) does not drop to at least 65% or less. The 65% means that when the current of writing to the pixel 16 and flowing to the EL element 15 is 100% at first, the current flowing to the EL element 15 immediately before writing to the pixel 16 in the next frame (field) is 65% or more. Is to

【0293】図1の画素構成では、間欠表示を実現する
場合としない場合では、1画素を構成するトランジスタ
11の個数に変化はない。つまり、画素構成はそのまま
で、ソース信号線18の寄生容量の影響と除去し、良好
な電流プログラムを実現している。その上、CRTに近
い動画表示を実現しているのである。
In the pixel configuration of FIG. 1, the number of transistors 11 forming one pixel does not change between the case where the intermittent display is realized and the case where the intermittent display is not realized. In other words, the effect of the parasitic capacitance of the source signal line 18 is eliminated and the good current programming is realized while keeping the pixel configuration. In addition, a moving image display similar to a CRT is realized.

【0294】また、ゲートドライバ回路12の動作クロ
ックはソースドライバ回路14の動作クロックに比較し
て十分に遅いため、回路のメインクロックが高くなると
いうことはない。また、Nの値の変更も容易である。
Since the operating clock of the gate driver circuit 12 is sufficiently slower than the operating clock of the source driver circuit 14, the main clock of the circuit does not become high. Moreover, the value of N can be easily changed.

【0295】なお、画像表示方向(画像書き込み方向)
は、1フィールド(1フレーム)目では画面の上から下
方向とし、つぎの第2フィールド(フレーム)目では画
面の下から上方向としてもよい。つまり、上から下方向
と、下から上方向とを交互にくりかえす。
Note that the image display direction (image writing direction)
May be from the top to the bottom of the screen in the first field (one frame), and may be from the bottom to the top of the screen in the next second field (frame). That is, the direction from top to bottom and the direction from bottom to top are alternately repeated.

【0296】さらに、1フィールド(1フレーム)目で
は画面の上から下方向とし、いったん、全画面を黒表示
(非表示)とした後、つぎの第2フィールド(フレー
ム)目では画面の下から上方向としてもよい。また、い
ったん、全画面を黒表示(非表示)としてもよい。
Further, in the first field (one frame), the screen is directed downward from the top of the screen, and once the entire screen is displayed in black (not displayed), the second field (frame) is displayed from the bottom of the screen. It may be upward. Alternatively, the entire screen may be temporarily displayed in black (non-display).

【0297】なお、以上の駆動方法の説明では、画面の
書き込み方法を画面の上から下あるいは下から上とした
が、これに限定するものではない。画面の書き込み方向
は絶えず、画面の上から下あるいは下から上と固定し、
非表示領域52の動作方向を1フィールド目では画面の
上から下方向とし、つぎの第2フィールド目では画面の
下から上方向としてもよい。以上の事項は他の本発明の
実施例でも同様である。非表示領域52は完全に非点灯
状態である必要はない。微弱な発光あるいはうっすらと
した画像表示があっても実用上は問題ない。つまり、画
像表示領域53よりも表示輝度が低い領域と解釈するべ
きである。また、非表示領域52とは、R、G、B画像
表示のうち、1色または2色のみが非表示状態という場
合も含まれる。
In the above description of the driving method, the screen writing method is described as top to bottom or bottom to top of the screen, but the present invention is not limited to this. The writing direction of the screen is constantly fixed from top to bottom or bottom to top of the screen,
The operation direction of the non-display area 52 may be from the top to the bottom of the screen in the first field, and may be from the bottom to the top of the screen in the next second field. The above matters also apply to other embodiments of the present invention. The non-display area 52 does not need to be completely unlit. There is no problem in practice even if there is faint light emission or faint image display. That is, it should be interpreted as an area having a lower display brightness than the image display area 53. The non-display area 52 also includes the case where only one or two colors of the R, G, and B image displays are in the non-display state.

【0298】基本的には表示領域53の輝度(明るさ)
が所定値に維持される場合、表示領域53の面積が広く
なるほど、画面50の輝度は高くなる。たとえば、表示
領域53の輝度が100(nt)の場合、表示領域53
が全画面50に占める割合が10%から20%にすれ
ば、画面の輝度は2倍となる。したがって、全画面50
に占める表示領域53の面積を変化させることにより、
画面の表示輝度を変化することができる。
Basically, the brightness (brightness) of the display area 53
Is maintained at a predetermined value, the larger the area of the display region 53, the higher the brightness of the screen 50. For example, when the brightness of the display area 53 is 100 (nt), the display area 53
If the ratio of occupying the entire screen 50 is changed from 10% to 20%, the screen brightness is doubled. Therefore, the full screen 50
By changing the area of the display area 53 occupied by
The display brightness of the screen can be changed.

【0299】表示領域53の面積はシフトレジスタ61
へのデータパルス(ST2)を制御することにより、任
意に設定できる。また、データパルスの入力タイミン
グ、周期を変化させることにより、図16の表示状態と
図13の表示状態とを切り替えることができる。1F周
期でのデータパルス数を多くすれば、画面50は明るく
なり、少なくすれば、画面50は暗くなる。また、連続
してデータパルスを印加すれば図13の表示状態とな
り、間欠にデータパルスを入力すれば図16の表示状態
となる。
The area of the display area 53 is the same as that of the shift register 61.
It can be arbitrarily set by controlling the data pulse (ST2) to the. Further, the display state of FIG. 16 and the display state of FIG. 13 can be switched by changing the input timing and the cycle of the data pulse. If the number of data pulses in the 1F cycle is increased, the screen 50 becomes bright, and if it is decreased, the screen 50 becomes dark. If the data pulses are applied continuously, the display state shown in FIG. 13 is obtained, and if the data pulses are intermittently input, the display state shown in FIG. 16 is obtained.

【0300】図19(a)は図13のように表示領域5
3が連続している場合の明るさ調整方式である。図19
(a1)の画面50の表示輝度が最も明るい。図19
(a2)の画面50の表示輝度が次に明るく、図19
(a3)の画面50の表示輝度が最も暗い。図19(a
1)から図19(a3)への変化(あるいはその逆)
は、先にも記載したようにゲートドライバ回路12のシ
フトレジスタ回路61などの制御により、容易に実現で
きる。この際、図1のVdd電圧は変化させる必要がな
い。つまり、電源電圧を変化させずに表示画面50の輝
度変化を実施できる。また、図19(a1)から図19
(a3)への変化の際、画面のガンマ特性は全く変化し
ない。したがって、画面50の輝度によらず、表示画像
のコントラスト、階調特性が維持される。これは本発明
の効果のある特徴である。従来の画面の輝度調整では、
画面50の輝度が低い時は、階調性能が低下する。つま
り、高輝度表示の時は64階調表示を実現できても、低
輝度表示の時は、半分以下の階調数しか表示できない場
合がほとんどである。これに比較して、本発明の駆動方
法では、画面の表示輝度に依存せず、最高の64階調表
示を実現できる。
FIG. 19A shows the display area 5 as shown in FIG.
This is a brightness adjustment method when 3 is continuous. FIG. 19
The display brightness of the screen 50 of (a1) is the brightest. FIG. 19
The display brightness of the screen 50 of (a2) is the next highest, and
The display brightness of the screen 50 of (a3) is the darkest. FIG. 19 (a
Change from 1) to Figure 19 (a3) (or vice versa)
Can be easily realized by controlling the shift register circuit 61 of the gate driver circuit 12 as described above. At this time, it is not necessary to change the Vdd voltage in FIG. That is, the brightness of the display screen 50 can be changed without changing the power supply voltage. 19 (a1) to FIG.
When changing to (a3), the gamma characteristic of the screen does not change at all. Therefore, the contrast and gradation characteristics of the display image are maintained regardless of the brightness of the screen 50. This is an effective feature of the present invention. With conventional screen brightness adjustment,
When the brightness of the screen 50 is low, the gradation performance deteriorates. That is, in most cases, 64 gradations can be displayed in the high brightness display, but only half or less gradations can be displayed in the low brightness display. On the other hand, the driving method of the present invention can realize the maximum 64 gradation display without depending on the display brightness of the screen.

【0301】図19(b)は図16のように表示領域5
3が分散している場合の明るさ調整方式である。図19
(b1)の画面50の表示輝度が最も明るい。図19
(b2)の画面50の表示輝度が次に明るく、図19
(b3)の画面50の表示輝度が最も暗い。図19(b
1)から図19(b3)への変化(あるいはその逆)
は、先にも記載したようにゲートドライバ回路12のシ
フトレジスタ回路61などの制御により、容易に実現で
きる。図19(b)のように表示領域53を分散させれ
ば、低フレームレートでもフリッカが発生しない。
FIG. 19B shows the display area 5 as shown in FIG.
This is a brightness adjustment method when 3 is dispersed. FIG. 19
The display brightness of the screen 50 of (b1) is the brightest. FIG. 19
The display brightness of the screen 50 of (b2) is next brighter, and
The display brightness of the screen 50 of (b3) is the darkest. FIG. 19 (b)
Change from 1) to Figure 19 (b3) (or vice versa)
Can be easily realized by controlling the shift register circuit 61 of the gate driver circuit 12 as described above. If the display areas 53 are dispersed as shown in FIG. 19B, flicker does not occur even at a low frame rate.

【0302】さらに低フレームレートでも、フリッカが
発生しないようにするには、図19(c)のように表示
領域53を細かく分散させればよい。しかし、動画の表
示性能は低下する。したがって、動画を表示するには、
図19(a)の駆動方法が適している。静止画を表示
し、低消費電力化を要望する時は、図19(c)の駆動
方法が適している。図19(a)から図19(c)の駆
動方法の切り替えも、シフトレジスタ61の制御により
容易に実現できる。
To prevent flicker even at a lower frame rate, the display areas 53 may be finely dispersed as shown in FIG. 19C. However, the display performance of moving images is degraded. So to display a video,
The driving method shown in FIG. 19A is suitable. When displaying a still image and demanding low power consumption, the driving method of FIG. 19C is suitable. The switching of the driving method shown in FIGS. 19A to 19C can be easily realized by controlling the shift register 61.

【0303】図20はソース信号線18に流れる電流を
増大させる他の実施例の説明図である。基本的に複数の
画素行を同時に選択し、複数の画素行をあわせた電流で
ソース信号線18の寄生容量などを充放電し電流書き込
み不足を大幅に改善する方式である。ただし、複数の画
素行を同時に選択するため、1画素あたりの駆動する電
流を減少させることができる。したがって、EL素子1
5に流れる電流を減少させることができる。ここで、説
明を容易にするため、一例として、N=10として説明
する(ソース信号線18に流す電流を10倍にする)。
図20で説明する本発明は、画素行は同時にK画素行を
選択する。ソースドライバIC14からは所定電流のN
倍電流をソース信号線18に印加する。各画素にはEL
素子15に流す電流のN/K倍の電流がプログラムされ
る。EL素子15を所定発光輝度とするために、EL素
子15に流れる時間を1フレーム(1フィールド)のK
/N時間にする。このように駆動することにより、ソー
ス信号線18の寄生容量を十分に充放電でき、良好な解
像度を所定の発光輝度を得ることができる。
FIG. 20 is an explanatory diagram of another embodiment for increasing the current flowing through the source signal line 18. Basically, this is a method in which a plurality of pixel rows are selected at the same time, and the parasitic capacitance of the source signal line 18 is charged / discharged by a current combined with the plurality of pixel rows to significantly reduce the insufficient current writing. However, since a plurality of pixel rows are selected at the same time, the driving current per pixel can be reduced. Therefore, the EL element 1
The current flowing through 5 can be reduced. Here, in order to facilitate the description, N = 10 will be described as an example (the current flowing through the source signal line 18 is multiplied by 10).
In the present invention described with reference to FIG. 20, the pixel rows simultaneously select K pixel rows. From the source driver IC 14, a predetermined current of N
A double current is applied to the source signal line 18. EL for each pixel
A current N / K times the current passed through the element 15 is programmed. In order to make the EL element 15 have a predetermined emission brightness, the time to flow to the EL element 15 is set to K for one frame (one field).
/ N hours. By driving in this way, the parasitic capacitance of the source signal line 18 can be sufficiently charged and discharged, and good resolution and predetermined light emission luminance can be obtained.

【0304】つまり、1フレーム(1フィールド)のK
/Nの期間の間だけ、EL素子15に電流を流し、他の
期間(1F(N−1)K/N)は電流を流さない。この
表示状態では1Fごとに画像データ表示、黒表示(非点
灯)が繰り返し表示される。つまり、画像データ表示状
態が時間的に飛び飛び表示(間欠表示)状態となる。し
たがって、画像の輪郭ぼけがなくなり良好な動画表示を
実現できる。また、ソース信号線18にはN倍の電流で
駆動するため、寄生容量の影響をうけず、高精細表示パ
ネルにも対応できる。
That is, K of one frame (one field)
The current flows through the EL element 15 only during the period / N, and the current does not flow during the other period (1F (N-1) K / N). In this display state, image data display and black display (non-lighting) are repeatedly displayed for each 1F. That is, the image data display state becomes a temporally intermittent display (intermittent display) state. Therefore, the outline of the image is not blurred and a good moving image can be displayed. Further, since the source signal line 18 is driven by a current N times larger, it is not affected by parasitic capacitance and can be applied to a high-definition display panel.

【0305】図21は、図20の駆動方法を実現するた
めの駆動波形の説明図である。信号波形はオフ電圧をV
gh(Hレベル)とし、オン電圧をVgl(Lレベル)
としている。各信号線の添え字は画素行の番号((1)
(2)(3)など)を記載している。なお、行数はQC
IF表示パネルの場合は220本であり、VGAパネル
では480本である。
FIG. 21 is an explanatory diagram of drive waveforms for realizing the drive method of FIG. The signal waveform has an off voltage of V
gh (H level) and ON voltage is Vgl (L level)
I am trying. The suffix of each signal line is the pixel row number ((1)
(2) (3) etc. are described. The number of rows is QC
The IF display panel has 220 lines, and the VGA panel has 480 lines.

【0306】図21において、ゲート信号線17a
(1)が選択され(Vgl電圧)、選択された画素行の
トランジスタ11aからソースドライバ14に向かって
ソース信号線18にプログラム電流が流れる。ここでは
説明を容易にするため、まず、書き込み画素行51aが
画素行(1)番目であるとして説明する。
In FIG. 21, the gate signal line 17a
(1) is selected (Vgl voltage), and the program current flows from the transistor 11a of the selected pixel row toward the source driver 14 in the source signal line 18. Here, in order to facilitate the description, first, it is assumed that the write pixel row 51a is the pixel row (1) th.

【0307】また、ソース信号線18に流れるプログラ
ム電流は所定値のN倍(説明を容易にするため、N=1
0として説明する。もちろん、所定値とは画像を表示す
るデータ電流であるから、白ラスター表示などでない限
り固定値ではない。)である。また、5画素行が同時に
選択(K=5)として説明をする。したがって、理想的
には1つの画素のコンデンサ19には2倍(N/K=1
0/5=2)に電流がトランジスタ11aに流れるよう
にプログラムされる。
Also, the program current flowing through the source signal line 18 is N times the predetermined value (for the sake of simplicity, N = 1.
It will be described as 0. Of course, since the predetermined value is a data current for displaying an image, it is not a fixed value unless it is a white raster display or the like. ). Also, description will be made assuming that five pixel rows are simultaneously selected (K = 5). Therefore, ideally, the capacitor 19 of one pixel is doubled (N / K = 1
0/5 = 2) is programmed so that current flows through transistor 11a.

【0308】書き込み画素行が(1)画素行目である
時、図21で図示したように、ゲート信号線17aは
(1)(2)(3)(4)(5)が選択されている。つ
まり、画素行(1)(2)(3)(4)(5)のスイッ
チングトランジスタ11b、トランジスタ11cがオン
状態である。また、ゲート信号線17bはゲート信号線
17aの逆位相となっている。したがって、画素行
(1)(2)(3)(4)(5)のスイッチングトラン
ジスタ11dがオフ状態であり、対応する画素行のEL
素子15には電流が流れていない。つまり、非点灯状態
52である。
When the writing pixel row is the (1) th pixel row, (1), (2), (3), (4) and (5) are selected as the gate signal lines 17a as shown in FIG. . That is, the switching transistors 11b and the transistors 11c in the pixel rows (1), (2), (3), (4), and (5) are on. Further, the gate signal line 17b has a phase opposite to that of the gate signal line 17a. Therefore, the switching transistors 11d of the pixel rows (1), (2), (3), (4), and (5) are in the off state, and the EL of the corresponding pixel row is
No current is flowing through the element 15. That is, the non-lighting state 52.

【0309】理想的には、5画素のトランジスタ11a
が、それぞれIw×2の電流をソース信号線18に流す
(つまり、ソース信号線18にはIw×2×N=Iw×
2×5=Iw×10。したがって、本発明のN倍パルス
駆動を実施しない場合が所定電流Iwとすると、Iwの
10倍の電流がソース信号線18に流れる)。
Ideally, the transistor 11a of 5 pixels
However, a current of Iw × 2 is applied to the source signal line 18 (that is, Iw × 2 × N = Iw × is applied to the source signal line 18).
2 × 5 = Iw × 10. Therefore, assuming that the N times pulse driving of the present invention is not performed and the predetermined current is Iw, a current 10 times as large as Iw flows through the source signal line 18.

【0310】以上の動作(駆動方法)により、各画素1
6のコンデンサ19には、2倍の電流がプログラムされ
る。ここでは、理解を容易にするため、各トランジスタ
11aは特性(Vt、S値)が一致しているとして説明
をする。
By the above operation (driving method), each pixel 1
The 6th capacitor 19 is programmed with double the current. Here, for ease of understanding, the description will be made assuming that the characteristics (Vt, S value) of each transistor 11a match.

【0311】同時に選択する画素行が5画素行(K=
5)であるから、5つの駆動トランジスタ11aが動作
する。つまり、1画素あたり、10/5=2倍の電流が
トランジスタ11aに流れる。ソース信号線18には、
5つのトランジスタ11aのプログラム電流を加えた電
流が流れる。たとえば、書き込み画素行51aに、本
来、書き込む電流Iwとし、ソース信号線18には、I
w×10の電流を流す。書き込み画素行(1)より以降
に画像データを書き込む書き込み画素行51bソース信
号線18への電流量を増加させるため、補助的に用いる
画素行である。しかし、書き込み画素行51bは後に正
規の画像データが書き込まれるので問題がない。
The pixel rows selected at the same time are five pixel rows (K =
Since it is 5), the five drive transistors 11a operate. That is, a current of 10/5 = 2 times per pixel flows through the transistor 11a. In the source signal line 18,
A current obtained by adding the program currents of the five transistors 11a flows. For example, the current Iw originally written in the write pixel row 51a is set to I and the source signal line 18 is set to Iw.
A current of w × 10 is passed. A write pixel row 51b for writing image data after the write pixel row (1) is an auxiliary pixel row used to increase the amount of current to the source signal line 18. However, since normal image data is written in the writing pixel row 51b later, there is no problem.

【0312】したがって、4画素行51bにおいて、1
H期間の間は51aと同一表示である。そのため、書き
込み画素行51aと電流を増加させるために選択した画
素行51bとを少なくとも非表示状態52とするのであ
る。ただし、図38のようなカレントミラーの画素構
成、その他の電圧プログラム方式の画素構成では、場合
によっては表示状態としてもよい。
Therefore, in the 4-pixel row 51b, 1
During the H period, the same display as 51a is displayed. Therefore, at least the write pixel row 51a and the pixel row 51b selected for increasing the current are set to the non-display state 52. However, in the current mirror pixel configuration as shown in FIG. 38 and other voltage programming type pixel configurations, the display state may be set in some cases.

【0313】次の、1H後には、ゲート信号線17a
(1)は非選択となり、ゲート信号線17bにはオン電
圧(Vgl)が印加される。また、同時に、ゲート信号
線17a(6)が選択され(Vgl電圧)、選択された
画素行(6)のトランジスタ11aからソースドライバ
14に向かってソース信号線18にプログラム電流が流
れる。このように動作することのより、画素行(1)に
は正規の画像データが保持される。
After the next 1H, the gate signal line 17a
(1) is not selected, and the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b. At the same time, the gate signal line 17a (6) is selected (Vgl voltage), and the program current flows from the transistor 11a of the selected pixel row (6) to the source driver 14 in the source signal line 18. By operating in this way, regular image data is held in the pixel row (1).

【0314】次の、1H後には、ゲート信号線17a
(2)は非選択となり、ゲート信号線17bにはオン電
圧(Vgl)が印加される。また、同時に、ゲート信号
線17a(7)が選択され(Vgl電圧)、選択された
画素行(7)のトランジスタ11aからソースドライバ
14に向かってソース信号線18にプログラム電流が流
れる。このように動作することのより、画素行(2)に
は正規の画像データが保持される。以上の動作と1画素
行づつシフトしながら走査することにより1画面が書き
換えられる。
After the next 1H, the gate signal line 17a
(2) is not selected, and the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b. At the same time, the gate signal line 17a (7) is selected (Vgl voltage), and the program current flows from the transistor 11a of the selected pixel row (7) to the source driver 14 in the source signal line 18. By operating in this way, regular image data is held in the pixel row (2). One screen is rewritten by the above operation and scanning while shifting by one pixel row.

【0315】図20の駆動方法では、各画素には2倍の
電流(電圧)でプログラムを行うため、各画素のEL素
子15の発光輝度は理想的には2倍となる。したがっ
て、表示画面の輝度は所定値よりも2倍となる。これを
所定の輝度とするためには、図16に図示するように、
書き込み画素行51を含み、かつ表示領域50の1/2
の範囲を非表示領域52とすればよい。
In the driving method of FIG. 20, each pixel is programmed with a double current (voltage), so that the emission brightness of the EL element 15 of each pixel is ideally doubled. Therefore, the brightness of the display screen is twice the predetermined value. In order to make this a predetermined brightness, as shown in FIG.
1/2 of the display area 50 including the writing pixel row 51
The range may be set as the non-display area 52.

【0316】図13と同様に、図20のように1つの表
示領域53が画面の上から下方向に移動すると、フレー
ムレートが低いと、表示領域53が移動するのが視覚的
に認識される。特に、まぶたを閉じた時、あるいは顔を
上下に移動させた時などに認識されやすくなる。
Similar to FIG. 13, when one display area 53 moves downward from the top of the screen as shown in FIG. 20, it is visually recognized that the display area 53 moves when the frame rate is low. . In particular, it becomes easy to be recognized when the eyelids are closed or when the face is moved up and down.

【0317】この課題に対しては、図22に図示するよ
うに、表示領域53を複数に分割するとよい。分割され
た非表示領域52を加えた部分がS(N−1)/Nの面
積となれば、分割しない場合と同一となる。
To solve this problem, the display area 53 may be divided into a plurality as shown in FIG. If the area to which the divided non-display area 52 is added has an area of S (N-1) / N, it is the same as the case without division.

【0318】図23はゲート信号線17に印加する電圧
波形である。図21と図23との差異は、基本的にはゲ
ート信号線17bの動作である。ゲート信号線17bは
画面を分割する個数に対応して、その個数分だけオンオ
フ(VglとVgh)動作する。他の点は図21とほぼ
同一あるいは類推できるので説明を省略する。
FIG. 23 shows a voltage waveform applied to the gate signal line 17. The difference between FIG. 21 and FIG. 23 is basically the operation of the gate signal line 17b. The gate signal lines 17b are turned on / off (Vgl and Vgh) by the number corresponding to the number of divided screens. Other points are almost the same as or can be inferred from FIG.

【0319】以上のように、表示領域53を複数に分割
することにより画面のちらつきは減少する。したがっ
て、フリッカの発生はなく、良好な画像表示を実現でき
る。なお、分割はもっと細かくしてもよい。しかし、分
割すればするほどフリッカは軽減する。特にEL素子1
5の応答性は速いため、5μsecよりも小さい時間で
オンオフしても、表示輝度の低下はない。
As described above, the flicker on the screen is reduced by dividing the display area 53 into a plurality of areas. Therefore, flicker does not occur and good image display can be realized. The division may be finer. However, the more divided it is, the more the flicker is reduced. Especially EL element 1
Since the response of No. 5 is fast, the display luminance does not decrease even if it is turned on / off in a time shorter than 5 μsec.

【0320】本発明の駆動方法において、EL素子15
のオンオフは、ゲート信号線17bに印加する信号のオ
ンオフで制御できる。そのため、クロック周波数はKH
zオーダーの低周波数で制御が可能である。また、黒画
面挿入(非表示領域52挿入)を実現するのには、画像
メモリーなどを必要としない。したがって、低コストで
本発明の駆動回路あるいは方法を実現できる。
In the driving method of the present invention, the EL element 15
ON / OFF can be controlled by turning on / off a signal applied to the gate signal line 17b. Therefore, the clock frequency is KH
It can be controlled at a low frequency of z order. Moreover, an image memory or the like is not required to realize the black screen insertion (the non-display area 52 insertion). Therefore, the drive circuit or method of the present invention can be realized at low cost.

【0321】図24は同時に選択する画素行が2画素行
の場合である。検討した結果によると、低温ポリシリコ
ン技術で形成した表示パネルでは、2画素行を同時に選
択する方法は表示均一性が実用的であった。これは、隣
接した画素の駆動用トランジスタ11aの特性が極めて
一致しているためと推定される。また、レーザーアニ−
ルする際に、ストライプ状のレーザーの照射方向はソー
ス信号線18と平行に照射することで良好な結果が得ら
れた。
FIG. 24 shows a case where the pixel rows selected at the same time are two pixel rows. According to the examination result, in the display panel formed by the low temperature polysilicon technology, the display uniformity was practical in the method of simultaneously selecting two pixel rows. It is presumed that this is because the characteristics of the driving transistors 11a of the adjacent pixels are extremely matched. Also, laser animation
Good results were obtained by irradiating the source in which the stripe-shaped laser was irradiated in parallel with the source signal line 18.

【0322】これは同一時間にアニ−ルされる範囲の半
導体膜は特性が均一であるためである。つまり、ストラ
イプ状のレーザー照射範囲内では半導体膜が均一に作製
され、この半導体膜を利用したTFTのVt、モビリテ
ィがほぼ等しくなるためである。したがって、ソース信
号線18の形成方向に平行にストライプ状のレーザーシ
ョットを照射し、この照射位置を移動させることによ
り、ソース信号線18に沿った画素(画素列、画面の上
下方向の画素)の特性はほぼ等しく作製される。したが
って、複数の画素行を同時にオンさせて電流プログラム
を行った時、プログラム電流は、同時に選択されて複数
の画素にはプログラム電流を選択された画素数で割った
電流が、ほぼ同一に電流プログラムされる。したがっ
て、目標値に近い電流プログラムを実施でき、均一表示
を実現できる。したがって、レーザーショット方向と図
24などで説明する駆動方式とは相乗効果がある。
This is because the semiconductor films in the range of being annealed at the same time have uniform characteristics. That is, the semiconductor film is uniformly formed within the stripe-shaped laser irradiation range, and the Vt and the mobility of the TFT using this semiconductor film are substantially equal. Therefore, by irradiating a stripe-shaped laser shot parallel to the formation direction of the source signal line 18 and moving this irradiation position, the pixels (pixel rows, pixels in the vertical direction of the screen) along the source signal line 18 The characteristics are made almost equal. Therefore, when a plurality of pixel rows are turned on at the same time and a current program is performed, the program current is selected at the same time and the current obtained by dividing the program current by the number of selected pixels is substantially the same. To be done. Therefore, a current program close to the target value can be executed, and uniform display can be realized. Therefore, there is a synergistic effect between the laser shot direction and the driving method described with reference to FIG.

【0323】以上のように、レーザーショットの方向を
ソース信号線18の形成方向と略一致させることによ
り、画素の上下方向のTFT11aの特性がほぼ同一に
なり、良好な電流プログラムを実施することができる
(画素の左右方向のTFT11aの特性が一致していな
くとも)。以上の動作は、1H(1水平走査期間)に同
期して、1画素行あるいは複数画素行づつ選択画素行位
置をずらせて実施する。なお、本発明は、レーザーショ
ットの方向をソース信号線18と平行にするとしたが、
平行でなくともよい。ソース信号線18に対して斜め方
向にレーザーショットを照射しても1つのソース信号線
18に沿った画素の上下方向のTFT11aの特性はほ
ぼ一致して形成されるからある。したがって、ソース信
号線に平行にレーザーショットを照射するというの意味
はソース信号線18の沿った任意の画素の上または下に
隣接した画素を、1つのレーザー照射範囲に入るように
形成するということである。また、ソース信号線18と
は一般的には、映像信号となるプログラム電流あるいは
電圧を伝達する配線である。
As described above, by making the direction of the laser shot substantially coincide with the forming direction of the source signal line 18, the characteristics of the TFT 11a in the vertical direction of the pixel become substantially the same, and good current programming can be carried out. It is possible (even if the characteristics of the TFT 11a in the horizontal direction of the pixel do not match). The above operation is performed in synchronization with 1H (1 horizontal scanning period) by shifting the position of the selected pixel row by one pixel row or by a plurality of pixel rows. In the present invention, the direction of the laser shot is parallel to the source signal line 18, but
It does not have to be parallel. This is because the characteristics of the TFTs 11a in the vertical direction of the pixels along one source signal line 18 are formed to be substantially the same even if the source signal line 18 is irradiated with a laser shot in an oblique direction. Therefore, the meaning of irradiating the laser shot in parallel with the source signal line means that adjacent pixels above or below any pixel along the source signal line 18 are formed so as to be within one laser irradiation range. Is. Further, the source signal line 18 is generally a wiring for transmitting a program current or a voltage which becomes a video signal.

【0324】なお、本発明の実施例では1Hごとに、書
き込み画素行位置をシフトさせるとしたが、これに限定
するものではなく、2Hごとにシフトしてもよく、ま
た、それ以上の画素行づつシフトさせてもよい。また、
任意の時間単位でシフトしてもよい。また、画面位置に
応じて、シフトする時間を変化させてもよい。たとえ
ば、画面の中央部でのシフト時間を短くし、画面の上下
部でシフト時間を長くしてもよい。また、フレームごと
にシフト時間を変化させてもよい。また、連続した複数
画素行を選択することに限定するものではない。例え
ば、1画素行へだてた画素行を選択してもよい。つま
り、第1番目の水平走査期間に第1番目の画素行と第3
番目の画素行を選択し、第2番目の水平走査期間に第2
番目の画素行と第4番目の画素行を選択し、第3番目の
水平走査期間に第3番目の画素行と第5番目の画素行を
選択し、第4番目の水平走査期間に第4番目の画素行と
第6番目の画素行を選択する駆動方法である。もちろ
ん、第1番目の水平走査期間に第1番目の画素行と第3
番目の画素行と第5番目の画素行を選択するという駆動
方法も技術的範疇である。
In the embodiment of the present invention, the writing pixel row position is shifted every 1H, but the invention is not limited to this, and it may be shifted every 2H. You may shift by one. Also,
You may shift by arbitrary time units. Further, the shift time may be changed according to the screen position. For example, the shift time at the center of the screen may be shortened and the shift time at the top and bottom of the screen may be increased. Also, the shift time may be changed for each frame. Further, it is not limited to selecting a plurality of consecutive pixel rows. For example, a pixel row extended to one pixel row may be selected. That is, in the first horizontal scanning period, the first pixel row and the third pixel row
The second pixel row is selected and the second pixel is selected in the second horizontal scanning period.
The fourth pixel row and the fourth pixel row are selected, the third pixel row and the fifth pixel row are selected in the third horizontal scanning period, and the fourth pixel row is selected in the fourth horizontal scanning period. This is a driving method for selecting the sixth pixel row and the sixth pixel row. Of course, in the first horizontal scanning period, the first pixel row and the third pixel row
The driving method of selecting the fifth pixel row and the fifth pixel row is also in the technical category.

【0325】なお、以上のレーザーショット方向と、複
数本の画素行を同時に選択するという組み合わせは、図
1、図2、図32の画素構成のみに限定されるものでは
なく、カレントミラーの画素構成である図38、図4
2、図50などの他の電流駆動方式の画素構成にも適用
できることはいうまでもない。また、図43、図51、
図54、図62などの電圧駆動の画素構成にも適用でき
る。つまり、画素上下のTFTの特性が一致しておれ
ば、同一のソース信号線18に印加した電圧値により良
好に電圧プログラムを実施できるからである。
The combination of selecting the laser shot direction and a plurality of pixel rows at the same time is not limited to the pixel configurations shown in FIGS. 1, 2 and 32, but the pixel configuration of the current mirror. 38 and FIG.
It goes without saying that the present invention can be applied to other current-driven pixel configurations such as those shown in FIG. Also, FIG. 43, FIG.
It can also be applied to voltage-driven pixel configurations shown in FIGS. That is, if the TFTs above and below the pixel have the same characteristics, the voltage program can be satisfactorily executed by the voltage value applied to the same source signal line 18.

【0326】図24において、書き込み画素行が(1)
画素行目である時、ゲート信号線17aは(1)(2)
が選択されている(図25を参照のこと)。つまり、画
素行(1)(2)のスイッチングトランジスタ11b、
トランジスタ11cがオン状態である。また、ゲート信
号線17bはゲート信号線17aの逆位相となってい
る。したがって、少なくとも画素行(1)(2)のスイ
ッチングトランジスタ11dがオフ状態であり、対応す
る画素行のEL素子15には電流が流れていない。つま
り、非点灯状態52である。なお、図24では、フリッ
カの発生を低減するため、表示領域53を5分割してい
る。
In FIG. 24, the writing pixel row is (1)
When in the pixel row, the gate signal line 17a is (1) (2)
Has been selected (see Figure 25). That is, the switching transistors 11b in the pixel rows (1) and (2),
The transistor 11c is on. Further, the gate signal line 17b has a phase opposite to that of the gate signal line 17a. Therefore, at least the switching transistors 11d of the pixel rows (1) and (2) are in the off state, and no current flows in the EL element 15 of the corresponding pixel row. That is, the non-lighting state 52. Note that in FIG. 24, the display area 53 is divided into five in order to reduce the occurrence of flicker.

【0327】理想的には、2画素(行)のトランジスタ
11aが、それぞれIw×5(N=10の場合。つま
り、K=2であるから、ソース信号線18に流れる電流
はIw×K×5=Iw×10となる)の電流をソース信
号線18に流す。そして、各画素16のコンデンサ19
には、5倍の電流がプログラムされる。
Ideally, the transistors 11a of two pixels (rows) each have Iw × 5 (N = 10. That is, K = 2. Therefore, the current flowing through the source signal line 18 is Iw × K ×. 5 = Iw × 10) is applied to the source signal line 18. Then, the capacitor 19 of each pixel 16
Is programmed with 5 times the current.

【0328】同時に選択する画素行が2画素行(K=
2)であるから、2つの駆動トランジスタ11aが動作
する。つまり、1画素あたり、10/2=5倍の電流が
トランジスタ11aに流れる。ソース信号線18には、
2つのトランジスタ11aのプログラム電流を加えた電
流が流れる。
The pixel rows selected at the same time are two pixel rows (K =
Since it is 2), the two drive transistors 11a operate. That is, a current of 10/2 = 5 times per pixel flows through the transistor 11a. In the source signal line 18,
A current obtained by adding the program currents of the two transistors 11a flows.

【0329】たとえば、書き込み画素行51aに、本
来、書き込む電流Idとし、ソース信号線18には、I
w×10の電流を流す。書き込み画素行51bは後に正
規の画像データが書き込まれるので問題がない。画素行
51bは、1H期間の間は51aと同一表示である。そ
のため、書き込み画素行51aと電流を増加させるため
に選択した画素行51bとを少なくとも非表示状態52
とするのである。
For example, the current Id originally written in the write pixel row 51a is set to I in the source signal line 18.
A current of w × 10 is passed. There is no problem because the writing pixel row 51b is written with regular image data later. The pixel row 51b has the same display as 51a during the 1H period. Therefore, at least the write pixel row 51a and the pixel row 51b selected to increase the current are in the non-display state 52.
And

【0330】次の、1H後には、ゲート信号線17a
(1)は非選択となり、ゲート信号線17bにはオン電
圧(Vgl)が印加される。また、同時に、ゲート信号
線17a(3)が選択され(Vgl電圧)、選択された
画素行(3)のトランジスタ11aからソースドライバ
14に向かってソース信号線18にプログラム電流が流
れる。このように動作することのより、画素行(1)に
は正規の画像データが保持される。
After the next 1H, the gate signal line 17a
(1) is not selected, and the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b. At the same time, the gate signal line 17a (3) is selected (Vgl voltage), and the program current flows from the transistor 11a of the selected pixel row (3) to the source driver 14 in the source signal line 18. By operating in this way, regular image data is held in the pixel row (1).

【0331】次の、1H後には、ゲート信号線17a
(2)は非選択となり、ゲート信号線17bにはオン電
圧(Vgl)が印加される。また、同時に、ゲート信号
線17a(4)が選択され(Vgl電圧)、選択された
画素行(4)のトランジスタ11aからソースドライバ
14に向かってソース信号線18にプログラム電流が流
れる。このように動作することのより、画素行(2)に
は正規の画像データが保持される。以上の動作と1画素
行づつシフト(もちろん、複数画素行づつシフトしても
よい。たとえば、擬似インターレース駆動であれば、2
行づつシフトするであろう。また、画像表示の観点か
ら、複数の画素行に同一画像を書き込む場合もあるであ
ろう)しながら走査することにより1画面が書き換えら
れる。
After the next 1H, the gate signal line 17a
(2) is not selected, and the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b. At the same time, the gate signal line 17a (4) is selected (Vgl voltage), and the program current flows from the transistor 11a of the selected pixel row (4) to the source driver 14 in the source signal line 18. By operating in this way, regular image data is held in the pixel row (2). The above operation and shifting by one pixel row (of course, shifting may be performed by a plurality of pixel rows. For example, in the case of pseudo interlace driving, 2
Will shift line by line. Further, from the viewpoint of image display, the same image may be written in a plurality of pixel rows in some cases.) While scanning, one screen is rewritten.

【0332】図16と同様であるが、図24の駆動方法
では、各画素には5倍の電流(電圧)でプログラムを行
うため、各画素のEL素子15の発光輝度は理想的には
5倍となる。したがって、表示領域53の輝度は所定値
よりも5倍となる。これを所定の輝度とするためには、
図16などに図示するように、書き込み画素行51を含
み、かつ表示画面1の1/5の範囲を非表示領域52と
すればよい。
Although it is similar to FIG. 16, in the driving method of FIG. 24, since programming is performed with a current (voltage) of 5 times for each pixel, the light emission luminance of the EL element 15 of each pixel is ideally 5 Doubled. Therefore, the brightness of the display area 53 is five times higher than the predetermined value. To make this a predetermined brightness,
As shown in FIG. 16 and the like, the non-display area 52 may include a writing pixel row 51 and a range of 1/5 of the display screen 1.

【0333】図27に図示するように、2本の書き込み
画素行51(51a、51b)が選択され、画面50の
上辺から下辺に順次選択されていく(図26も参照のこ
と。図26では画素行16aと16bが選択されてい
る)。しかし、図27(b)のように、画面の下辺まで
くると書き込み画素行51aは存在するが、51bはな
くなる。つまり、選択する画素行が1本しかなくなる。
そのため、ソース信号線18に印加された電流は、すべ
て画素行51aに書き込まれる。したがって、画素行5
1aに比較して、2倍の電流が画素にプログラムされて
しまう。
As shown in FIG. 27, two write pixel rows 51 (51a, 51b) are selected and sequentially selected from the upper side to the lower side of the screen 50 (see also FIG. 26. In FIG. 26). Pixel rows 16a and 16b are selected). However, as shown in FIG. 27B, when the writing pixel row 51a exists at the bottom of the screen, 51b disappears. That is, only one pixel row is selected.
Therefore, all the current applied to the source signal line 18 is written in the pixel row 51a. Therefore, pixel row 5
Twice as much current is programmed into the pixel as compared to 1a.

【0334】この課題に対して、本発明は、図27
(b)に図示するように画面50の下辺にダミー画素行
281を形成(配置)している。したがって、選択画素
行が画面50の下辺まで選択された場合は、画面50の
最終画素行とダミー画素行281が選択される。そのた
め、図27(b)の書き込み画素行には、規定どおりの
電流が書き込まれる。
To solve this problem, the present invention is shown in FIG.
As shown in (b), a dummy pixel row 281 is formed (arranged) on the lower side of the screen 50. Therefore, when the selected pixel row is selected up to the lower side of the screen 50, the final pixel row and the dummy pixel row 281 of the screen 50 are selected. Therefore, a prescribed current is written in the write pixel row of FIG.

【0335】図28は図27(b)の状態を示してい
る。図28で明らかのように、選択画素行が画面50の
下辺の画素16c行まで選択された場合は、画面50の
最終画素行281が選択される。ダミー画素行281は
表示領域50外に配置する。つまり、ダミー画素行28
1は点灯しない、あるいは点灯させない、もしくは点灯
しても表示として見えないように構成する。たとえば、
画素電極とTFT11とのコンタクトホールをなくすと
か、ダミー画素行にはEL膜を形成しないとかである。
FIG. 28 shows the state of FIG. 27 (b). As is clear from FIG. 28, when the selected pixel row is selected up to the pixel 16c row on the lower side of the screen 50, the final pixel row 281 of the screen 50 is selected. The dummy pixel row 281 is arranged outside the display area 50. That is, the dummy pixel row 28
1 is not turned on, or is not turned on, or is configured not to be displayed as a display even when turned on. For example,
For example, the contact hole between the pixel electrode and the TFT 11 is eliminated, or the EL film is not formed in the dummy pixel row.

【0336】図27では、画面50の下辺にダミー画素
(行)281を設ける(形成する、配置する)とした
が、これに限定するものではない。たとえば、図29
(a)に図示するように、画面の下辺から上辺に走査す
る(上下逆転走査)する場合は、図29(b)に図示す
るように画面50の上辺にもダミー画素行281を形成
すべきである。つまり、画面50の上辺を下辺のそれぞ
れにダミー画素行281を形成(配置)する。以上のよ
うに構成することにより、画面の上下反転走査にも対応
できるようになる。以上の実施例は、2画素行を同時選
択する場合であった。
In FIG. 27, dummy pixels (rows) 281 are provided (formed or arranged) on the lower side of the screen 50, but the invention is not limited to this. For example, in FIG.
When scanning is performed from the bottom side to the top side of the screen as shown in (a) (upside down scanning), dummy pixel rows 281 should be formed also on the top side of the screen 50 as shown in FIG. 29 (b). Is. That is, the dummy pixel rows 281 are formed (arranged) on the upper side and the lower side of the screen 50, respectively. With the above configuration, it is possible to support upside down scanning of the screen. In the above-described embodiment, two pixel rows are simultaneously selected.

【0337】本発明はこれに限定するものではなく、た
とえば、5画素行を同時選択する方式(図23を参照の
こと)でもよい。つまり、5画素行同時駆動の場合は、
ダミー画素行281は4行分形成すればよい。本発明の
ダミー画素行構成あるいはダミー画素行駆動は、少なく
とも1つ以上のダミー画素行を用いる方式である。もち
ろん、ダミー画素行駆動方法とN倍パルス駆動とを組み
合わせて用いることが好ましい。
The present invention is not limited to this, and for example, a method of simultaneously selecting 5 pixel rows (see FIG. 23) may be used. In other words, in the case of 5 pixel row simultaneous drive,
Four dummy pixel rows 281 may be formed. The dummy pixel row configuration or the dummy pixel row driving of the present invention is a method using at least one dummy pixel row. Of course, it is preferable to use the dummy pixel row driving method and the N times pulse driving in combination.

【0338】複数本の画素行を同時に選択する駆動方法
では、同時に選択する画素行数が増加するほど、トラン
ジスタ11aの特性バラツキを吸収することが困難にな
る。しかし、選択本数が低下すると、1画素にプログラ
ムする電流が大きくなり、EL素子15に大きな電流を
流すことになる。EL素子15に流す電流が大きいとE
L素子15が劣化しやすくなる。
In the driving method in which a plurality of pixel rows are selected at the same time, it becomes more difficult to absorb the characteristic variation of the transistor 11a as the number of pixel rows selected at the same time increases. However, if the number of selected pixels decreases, the current programmed for one pixel increases, and a large current flows through the EL element 15. If the current flowing through the EL element 15 is large, E
The L element 15 is likely to deteriorate.

【0339】図30はこの課題を解決するものである。
図30の基本概念は、1/2H(水平走査期間の1/
2)は、図22、図29で説明したように、複数の画素
行を同時に選択する方法である。その後の1/2H(水
平走査期間の1/2)は図5、図13などで説明したよ
うに、1画素行を選択する方法を組み合わせたものであ
る。このようにくみあわせることにより、トランジスタ
11aの特性バラツキを吸収しより、高速にかつ面内均
一性を良好にすることができる。
FIG. 30 solves this problem.
The basic concept of FIG. 30 is 1 / 2H (1 / H of the horizontal scanning period).
2) is a method of simultaneously selecting a plurality of pixel rows, as described with reference to FIGS. 22 and 29. The subsequent 1 / 2H (1/2 of the horizontal scanning period) is a combination of the methods for selecting one pixel row, as described with reference to FIGS. By combining in this way, it is possible to absorb the characteristic variation of the transistor 11a and to improve the in-plane uniformity at high speed.

【0340】図30において、説明を容易にするため、
第1の期間では5画素行を同時に選択し、第2の期間で
は1画素行を選択するとして説明をする。まず、第1の
期間(前半の1/2H)では、図30(a1)に図示す
るように、5画素行を同時に選択をする。この動作は図
22を用いて説明したので省略する。一例としてソース
信号線18に流す電流は所定値の25倍とする。したが
って、各画素16のトランジスタ11a(図1の画素構
成の場合)には5倍の電流(25/5画素行=5)がプ
ログラムされる。25倍の電流であるから、ソース信号
線18などに発生する寄生容量は極めて短期間に充放電
される。したがって、ソース信号線18の電位は、短時
間で目標の電位となり、各画素16のコンデンサ19の
端子電圧も5倍電流を流すようにプログラムされる。こ
の25倍電流の印加時間は前半の1/2H(1水平走査
期間の1/2)とする。
In FIG. 30, for ease of explanation,
It is assumed that 5 pixel rows are simultaneously selected in the first period and 1 pixel row is selected in the second period. First, in the first period (1 / 2H in the first half), as shown in FIG. 30 (a1), five pixel rows are simultaneously selected. This operation has been described with reference to FIG. 22 and will not be described. As an example, the current passed through the source signal line 18 is 25 times the predetermined value. Therefore, the transistor 11a of each pixel 16 (in the case of the pixel configuration of FIG. 1) is programmed with a 5 times larger current (25/5 pixel rows = 5). Since the current is 25 times, the parasitic capacitance generated in the source signal line 18 and the like is charged and discharged in a very short time. Therefore, the potential of the source signal line 18 becomes a target potential in a short time, and the terminal voltage of the capacitor 19 of each pixel 16 is also programmed so as to flow a five times larger current. The application time of the 25-fold current is set to 1 / 2H of the first half (1/2 of one horizontal scanning period).

【0341】当然のことながら、書き込み画素行の5画
素行は同一画像データが書き込まれるから、表示しない
ように5画素行のトランジスタ11dはオフ状態とされ
る。したがって、表示状態は図30(a2)となる。
As a matter of course, since the same image data is written in the writing pixel row of the 5 pixel rows, the transistor 11d of the 5 pixel row is turned off so as not to display. Therefore, the display state is as shown in FIG.

【0342】次の後半の1/2H期間は、1画素行を選
択し、電流(電圧)プログラムを行う。この状態を図3
0(b1)に図示している。書き込み画素行51aは先
と同様に5倍の電流を流すように電流(電圧)プログラ
ムされる。図30(a1)と図30(b1)とで各画素
に流す電流を同一にするのは、プログラムされたコンデ
ンサ19の端子電圧の変化を小さくして、より高速に目
標の電流を流せるようにするためである。
During the subsequent 1 / 2H period, one pixel row is selected and current (voltage) programming is performed. This state is shown in Figure 3.
It is illustrated in 0 (b1). The write pixel row 51a is current-programmed (voltage) so as to flow five times as much current as before. 30 (a1) and 30 (b1) are made to have the same current to each pixel so that a change in the programmed terminal voltage of the capacitor 19 can be reduced so that the target current can be made to flow faster. This is because

【0343】つまり、図30(a1)で、複数の画素に
電流を流し、高速に概略の電流が流れる値まで近づけ
る。この第1の段階では、複数のトランジスタ11aで
プログラムしているため、目標値に対してトランジスタ
のバラツキによる誤差が発生している。次の第2の段階
で、データを書き込みかつ保持する画素行のみを選択し
て、概略の目標値から、所定の目標値まで完全なプログ
ラムを行うのである。
That is, in FIG. 30 (a1), a current is caused to flow through a plurality of pixels, and the values are approximated to a value at which a rough current flows at high speed. In the first stage, since programming is performed by a plurality of transistors 11a, an error occurs due to variations in the transistors with respect to the target value. In the next second step, only the pixel row in which data is written and held is selected, and complete programming is performed from a rough target value to a predetermined target value.

【0344】なお、非点灯領域52を画面の上から下方
向に走査し、また、書き込み画素行51aも画面の上か
ら下方向に走査することは図13などの実施例と同様で
あるので説明を省略する。
The non-lighting area 52 is scanned downward from the top of the screen, and the write pixel row 51a is also scanned downward from the top of the screen, which is the same as the embodiment shown in FIG. 13 and the like. Is omitted.

【0345】図31は図30の駆動方法を実現するため
の駆動波形である。図31でわかるように、1H(1水
平走査期間)は2つのフェーズで構成されている。この
2つのフェーズはISEL信号で切り替える。ISEL
信号は図31に図示している。
FIG. 31 shows drive waveforms for realizing the drive method of FIG. As can be seen from FIG. 31, 1H (1 horizontal scanning period) is composed of two phases. These two phases are switched by the ISEL signal. ISEL
The signal is illustrated in FIG.

【0346】まず、ISEL信号について説明をしてお
く。図30を実施するドライバー回路14は、電流出力
回路Aと電流出力回路Bとを具備している。それぞれの
電流出力回路は、8ビットの階調データをDA変換する
DA回路とオペンアンプなどから構成される。図30の
実施例では、電流出力回路Aは25倍の電流を出力する
ように構成されている。一方、電流出力回路Bは5倍の
電流を出力するように構成されている。電流出力回路A
と電流出力回路Bの出力はISEL信号により電流出力
部に形成(配置)されたスイッチ回路が制御され、ソー
ス信号線18に印加される。この電流出力回路は各ソー
ス信号線に配置されている。
First, the ISEL signal will be described. The driver circuit 14 that implements FIG. 30 includes a current output circuit A and a current output circuit B. Each current output circuit is composed of a DA circuit that performs DA conversion of 8-bit grayscale data, an open amplifier, and the like. In the embodiment of FIG. 30, the current output circuit A is configured to output 25 times the current. On the other hand, the current output circuit B is configured to output 5 times the current. Current output circuit A
The output of the current output circuit B is applied to the source signal line 18 by controlling the switch circuit formed (arranged) in the current output section by the ISEL signal. This current output circuit is arranged on each source signal line.

【0347】ISEL信号は、Lレベルの時、25倍電
流を出力する電流出力回路Aが選択されてソース信号線
18からの電流をソースドライバIC14が吸収する
(より適切には、ソースドライバ回路14内に形成され
た電流出力回路Aが吸収する)。25倍、5倍などの電
流出力回路電流の大きさ調整は容易である。複数の抵抗
とアナログスイッチで容易に構成できるからである。
When the ISEL signal is at the L level, the current output circuit A that outputs 25 times the current is selected and the current from the source signal line 18 is absorbed by the source driver IC 14 (more appropriately, the source driver circuit 14). It is absorbed by the current output circuit A formed therein). It is easy to adjust the magnitude of the current output circuit current such as 25 times or 5 times. This is because it can be easily configured with a plurality of resistors and analog switches.

【0348】図30に示すように書き込み画素行が
(1)画素行目である時(図30の1Hの欄を参照)、
ゲート信号線17aは(1)(2)(3)(4)(5)
が選択されている(図1の画素構成の場合)。つまり、
画素行(1)(2)(3)(4)(5)のスイッチング
トランジスタ11b、トランジスタ11cがオン状態で
ある。また、ISELがLレベルであるから、25倍電
流を出力する電流出力回路Aが選択され、ソース信号線
18と接続されている。また、ゲート信号線17bに
は、オフ電圧(Vgh)が印加されている。したがっ
て、画素行(1)(2)(3)(4)(5)のスイッチ
ングトランジスタ11dがオフ状態であり、対応する画
素行のEL素子15には電流が流れていない。つまり、
非点灯状態52である。
When the writing pixel row is the (1) th pixel row as shown in FIG. 30 (see the column 1H in FIG. 30),
The gate signal line 17a is (1) (2) (3) (4) (5)
Is selected (in the case of the pixel configuration of FIG. 1). That is,
The switching transistors 11b and the transistors 11c of the pixel rows (1), (2), (3), (4), and (5) are in the ON state. Since ISEL is at L level, the current output circuit A that outputs 25 times the current is selected and connected to the source signal line 18. Further, an off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17b. Therefore, the switching transistors 11d of the pixel rows (1), (2), (3), (4), and (5) are in the off state, and no current flows in the EL element 15 of the corresponding pixel row. That is,
The non-lighting state 52.

【0349】理想的には、5画素のトランジスタ11a
が、それぞれIw×2の電流をソース信号線18に流
す。そして、各画素16のコンデンサ19には、5倍の
電流がプログラムされる。ここでは、理解を容易にする
ため、各トランジスタ11aは特性(Vt、S値)が一
致しているとして説明をする。
Ideally, the transistor 11a of 5 pixels
Respectively, a current of Iw × 2 is passed through the source signal line 18. Then, the capacitor 19 of each pixel 16 is programmed with five times the current. Here, for ease of understanding, the description will be made assuming that the characteristics (Vt, S value) of each transistor 11a match.

【0350】同時に選択する画素行が5画素行(K=
5)であるから、5つの駆動トランジスタ11aが動作
する。つまり、1画素あたり、25/5=5倍の電流が
トランジスタ11aに流れる。ソース信号線18には、
5つのトランジスタ11aのプログラム電流を加えた電
流が流れる。たとえば、書き込み画素行51aに、従来
の駆動方法で画素に書き込む電流Iwとする時、ソース
信号線18には、Iw×25の電流を流す。書き込み画
素行(1)より以降に画像データを書き込む書き込み画
素行51bソース信号線18への電流量を増加させるた
め、補助的に用いる画素行である。しかし、書き込み画
素行51bは後に正規の画像データが書き込まれるので
問題がない。
The pixel rows selected at the same time are five pixel rows (K =
Since it is 5), the five drive transistors 11a operate. That is, a current of 25/5 = 5 times per pixel flows through the transistor 11a. In the source signal line 18,
A current obtained by adding the program currents of the five transistors 11a flows. For example, when the current Iw to be written in the pixel by the conventional driving method is applied to the write pixel row 51a, a current of Iw × 25 is applied to the source signal line 18. A write pixel row 51b for writing image data after the write pixel row (1) is an auxiliary pixel row used to increase the amount of current to the source signal line 18. However, since normal image data is written in the writing pixel row 51b later, there is no problem.

【0351】したがって、画素行51bは、1H期間の
間は51aと同一表示である。そのため、書き込み画素
行51aと電流を増加させるために選択した画素行51
bとを少なくとも非表示状態52とするのである。
Therefore, the pixel row 51b displays the same as 51a during the 1H period. Therefore, the writing pixel row 51a and the pixel row 51 selected to increase the current are written.
b and at least the non-display state 52.

【0352】次の1/2H(水平走査期間の1/2)で
は、書き込み画素行51aのみを選択する。つまり、
(1)画素行目のみを選択する。図31で明らかなよう
に、ゲート信号線17a(1)のみが、オン電圧(Vg
l)が印加され、ゲート信号線17a(2)(3)
(4)(5)はオフ(Vgh)が印加されている。した
がって、画素行(1)のトランジスタ11aは動作状態
(ソース信号線18に電流を供給している状態)である
が、画素行(2)(3)(4)(5)のスイッチングト
ランジスタ11b、トランジスタ11cがオフ状態であ
る。つまり、非選択状態である。また、ISELがHレ
ベルであるから、5倍電流を出力する電流出力回路Bが
選択され、この電流出力回路Bとソース信号線18とが
接続されている。また、ゲート信号線17bの状態は先
の1/2Hの状態と変化がなく、オフ電圧(Vgh)が
印加されている。したがって、画素行(1)(2)
(3)(4)(5)のスイッチングトランジスタ11d
がオフ状態であり、対応する画素行のEL素子15には
電流が流れていない。つまり、非点灯状態52である。
In the next 1 / 2H (1/2 of the horizontal scanning period), only the write pixel row 51a is selected. That is,
(1) Only the pixel row is selected. As is apparent from FIG. 31, only the gate signal line 17a (1) is turned on (Vg
l) is applied to the gate signal lines 17a (2) (3)
In (4) and (5), off (Vgh) is applied. Therefore, although the transistor 11a in the pixel row (1) is in an operating state (a state in which current is supplied to the source signal line 18), the switching transistor 11b in the pixel rows (2), (3), (4), and (5) is The transistor 11c is off. That is, it is in a non-selected state. Further, since ISEL is at the H level, the current output circuit B that outputs 5 times the current is selected, and the current output circuit B and the source signal line 18 are connected. The state of the gate signal line 17b does not change from the previous 1 / 2H state, and the off voltage (Vgh) is applied. Therefore, pixel row (1) (2)
(3) (4) (5) switching transistor 11d
Is in an off state, and no current flows in the EL element 15 of the corresponding pixel row. That is, the non-lighting state 52.

【0353】以上のことから、画素行(1)のトランジ
スタ11aが、それぞれIw×5の電流をソース信号線
18に流す。そして、各画素行(1)のコンデンサ19
には、5倍の電流がプログラムされる。
From the above, the transistors 11a in the pixel row (1) each supply a current of Iw × 5 to the source signal line 18. Then, the capacitors 19 of each pixel row (1)
Is programmed with 5 times the current.

【0354】次の水平走査期間では1画素行、書き込み
画素行がシフトする。つまり、今度は書き込み画素行が
(2)である。最初の1/2Hの期間では、図31に示
すように書き込み画素行が(2)画素行目である時、ゲ
ート信号線17aは(2)(3)(4)(5)(6)が
選択されている。つまり、画素行(2)(3)(4)
(5)(6)のスイッチングトランジスタ11b、トラ
ンジスタ11cがオン状態である。また、ISELがL
レベルであるから、25倍電流を出力する電流出力回路
Aが選択され、ソース信号線18と接続されている。ま
た、ゲート信号線17bには、オフ電圧(Vgh)が印
加されている。したがって、画素行(2)(3)(4)
(5)(6)のスイッチングトランジスタ11dがオフ
状態であり、対応する画素行のEL素子15には電流が
流れていない。つまり、非点灯状態52である。一方、
画素行(1)のゲート信号線17b(1)はVgl電圧
が印加されているから、トランジスタ11dはオン状態
であり、画素行(1)のEL素子15は点灯する。
In the next horizontal scanning period, one pixel row and the writing pixel row are shifted. That is, the write pixel row is (2) this time. In the first 1 / 2H period, when the writing pixel row is the (2) th pixel row as shown in FIG. 31, the gate signal lines 17a are (2) (3) (4) (5) (6). It is selected. That is, pixel rows (2) (3) (4)
(5) The switching transistor 11b and the transistor 11c of (6) are on. Also, ISEL is L
Because of the level, the current output circuit A that outputs 25 times the current is selected and connected to the source signal line 18. Further, an off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17b. Therefore, pixel rows (2) (3) (4)
(5) The switching transistor 11d of (6) is in the off state, and no current flows in the EL element 15 of the corresponding pixel row. That is, the non-lighting state 52. on the other hand,
Since the Vgl voltage is applied to the gate signal line 17b (1) of the pixel row (1), the transistor 11d is in the ON state and the EL element 15 of the pixel row (1) is turned on.

【0355】同時に選択する画素行が5画素行(K=
5)であるから、5つの駆動トランジスタ11aが動作
する。つまり、1画素あたり、25/5=5倍の電流が
トランジスタ11aに流れる。ソース信号線18には、
5つのトランジスタ11aのプログラム電流を加えた電
流が流れる。
The pixel rows selected at the same time are five pixel rows (K =
Since it is 5), the five drive transistors 11a operate. That is, a current of 25/5 = 5 times per pixel flows through the transistor 11a. In the source signal line 18,
A current obtained by adding the program currents of the five transistors 11a flows.

【0356】次の1/2H(水平走査期間の1/2)で
は、書き込み画素行51aのみを選択する。つまり、
(2)画素行目のみを選択する。図31で明らかなよう
に、ゲート信号線17a(2)のみが、オン電圧(Vg
l)が印加され、ゲート信号線17a(3)(4)
(5)(6)はオフ(Vgh)が印加されている。した
がって、画素行(1)(2)のトランジスタ11aは動
作状態(画素行(1)はEL素子15に電流を流し、画
素行(2)はソース信号線18に電流を供給している状
態)であるが、画素行(3)(4)(5)(6)のスイ
ッチングトランジスタ11b、トランジスタ11cがオ
フ状態である。つまり、非選択状態である。また、IS
ELがHレベルであるから、5倍電流を出力する電流出
力回路Bが選択され、この電流出力回路1222bとソ
ース信号線18とが接続されている。また、ゲート信号
線17bの状態は先の1/2Hの状態と変化がなく、オ
フ電圧(Vgh)が印加されている。したがって、画素
行(2)(3)(4)(5)(6)のスイッチングトラ
ンジスタ11dがオフ状態であり、対応する画素行のE
L素子15には電流が流れていない。つまり、非点灯状
態52である。
In the next 1 / 2H (1/2 of the horizontal scanning period), only the write pixel row 51a is selected. That is,
(2) Only the pixel row is selected. As is apparent from FIG. 31, only the gate signal line 17a (2) is turned on (Vg
l) is applied to the gate signal lines 17a (3) (4)
In (5) and (6), off (Vgh) is applied. Therefore, the transistors 11a in the pixel rows (1) and (2) are in an operating state (the pixel row (1) supplies a current to the EL element 15 and the pixel row (2) supplies a current to the source signal line 18). However, the switching transistors 11b and the transistors 11c in the pixel rows (3), (4), (5), and (6) are in the off state. That is, it is in a non-selected state. Also, IS
Since EL is at the H level, the current output circuit B that outputs 5 times the current is selected, and the current output circuit 1222b and the source signal line 18 are connected. The state of the gate signal line 17b does not change from the previous 1 / 2H state, and the off voltage (Vgh) is applied. Therefore, the switching transistors 11d of the pixel rows (2), (3), (4), (5), and (6) are in the off state, and E of the corresponding pixel row is
No current is flowing through the L element 15. That is, the non-lighting state 52.

【0357】以上のことから、画素行(2)のトランジ
スタ11aが、それぞれIw×5の電流をソース信号線
18に流す。そして、各画素行(2)のコンデンサ19
には、5倍の電流がプログラムされる。以上の動作を順
次、実施することにより1画面を表示することができ
る。
From the above, the transistors 11a in the pixel row (2) cause a current of Iw × 5 to flow in the source signal line 18. Then, the capacitors 19 of each pixel row (2)
Is programmed with 5 times the current. One screen can be displayed by sequentially performing the above operation.

【0358】図30で説明した駆動方法は、第1の期間
でG画素行(Gは2以上)を選択し、各画素行にはN倍
の電流を流すようにプログラムする。第1の期間後の第
2の期間ではB画素行(BはGよりも小さく、1以上)
を選択し、画素にはN倍の電流を流すようにプログラム
する方式である。
In the driving method described with reference to FIG. 30, G pixel rows (G is 2 or more) are selected in the first period, and programming is performed so that N times the current is passed through each pixel row. In the second period after the first period, B pixel rows (B is smaller than G and is 1 or more)
Is selected, and programming is performed so that N times the current flows through the pixel.

【0359】しかし、他の方策もある。第1の期間でG
画素行(Gは2以上)を選択し、各画素行の総和電流が
N倍の電流となるようにプログラムする。第1の期間後
の第2の期間ではB画素行(BはGよりも小さく、1以
上)を選択し、選択された画素行の総和の電流(ただ
し、選択画素行が1の時は、1画素行の電流)がN倍と
なるようにプログラムする方式である。たとえば、図3
0(a1)において、5画素行を同時に選択し、各画素
のトランジスタ11aには2倍の電流を流す。したがっ
て、ソース信号線18には5×2倍=10倍の電流が流
れる。次の第2の期間では図30(b1)において、1
画素行を選択する。この1画素のトランジスタ11aに
は10倍の電流を流す。
However, there are other measures. G in the first period
Pixel rows (G is 2 or more) are selected and programmed so that the total current of each pixel row is N times the current. In the second period after the first period, B pixel rows (B is smaller than G and is 1 or more) are selected, and the total current of the selected pixel rows (however, when the selected pixel row is 1, This is a method of programming so that the current of one pixel row) becomes N times. For example, in FIG.
In 0 (a1), 5 pixel rows are selected at the same time, and a double current is applied to the transistor 11a of each pixel. Therefore, 5 × 2 times = 10 times the current flows through the source signal line 18. In the next second period, 1 in FIG. 30 (b1).
Select a pixel row. A ten times larger current is passed through the transistor 11a of this one pixel.

【0360】なお、図31において、複数の画素行を同
時に選択する期間を1/2Hとし、1画素行を選択する
期間を1/2Hとしたがこれに限定するものではない。
複数の画素行を同時に選択する期間を1/4Hとし、1
画素行を選択する期間を3/4Hとしてもよい。また、
複数の画素行を同時に選択する期間と、1画素行を選択
する期間とを加えた期間は1Hとしたがこれに限定する
ものではない。たとえば、2H期間でも、1.5H期間
であっても良い。
In FIG. 31, the period for simultaneously selecting a plurality of pixel rows is 1 / 2H and the period for selecting one pixel row is 1 / 2H, but the invention is not limited to this.
The period for simultaneously selecting a plurality of pixel rows is set to 1 / 4H, and 1
The period for selecting a pixel row may be set to 3 / 4H. Also,
The period including the period of simultaneously selecting a plurality of pixel rows and the period of selecting one pixel row is set to 1H, but is not limited to this. For example, it may be a 2H period or a 1.5H period.

【0361】また、図30において、5画素行を同時に
選択する期間を1/2Hとし、次の第2の期間では2画
素行を同時に選択するとしてもよい。この場合でも実用
上、支障のない画像表示を実現できる。
Further, in FIG. 30, the period for simultaneously selecting five pixel rows may be set to 1 / 2H, and two pixel rows may be simultaneously selected in the next second period. Even in this case, it is possible to realize image display without any trouble in practical use.

【0362】また、図30において、5画素行を同時に
選択する第1の期間を1/2Hとし、1画素行を選択す
る第2の期間を1/2Hとする2段階としたがこれに限
定するものではない。たとえば、第1の段階は、5画素
行を同時に選択し、第2の期間は前記5画素行のうち、
2画素行を選択し、最後に、1画素行を選択する3つの
段階としてもよい。つまり、複数の段階で画素行に画像
データを書き込んでも良い。
Further, in FIG. 30, the first period for simultaneously selecting 5 pixel rows is set to 1 / 2H, and the second period for selecting 1 pixel row is set to 1 / 2H. However, the present invention is not limited to this. Not something to do. For example, in the first stage, 5 pixel rows are simultaneously selected, and in the second period, among the 5 pixel rows,
There may be three stages of selecting two pixel rows and finally selecting one pixel row. That is, the image data may be written in the pixel rows in a plurality of stages.

【0363】以上の本発明のN倍パルス駆動方法では、
各画素行で、ゲート信号線17bの波形を同一にし、1
Hの間隔でシフトさせて印加していく。このように走査
することにより、EL素子15が点灯している時間を1
F/Nに規定しながら、順次、点灯する画素行をシフト
させることができる。このように、各画素行で、ゲート
信号線17bの波形を同一にし、シフトさせていること
を実現することは容易である。図6のシフトレジスタ回
路61a、61bに印加するデータであるST1、ST
2を制御すればよいからである。たとえば、入力ST2
がLレベルの時、ゲート信号線17bにVglが出力さ
れ、入力ST2がHレベルの時、ゲート信号線17bに
Vghが出力されるとすれば、シフトレジスタ17bに
印加するST2を1F/Nの期間だけLレベルで入力
し、他の期間はHレベルにする。この入力されたST2
を1Hに同期したクロックCLK2でシフトしていくだ
けである。
In the above N-fold pulse driving method of the present invention,
In each pixel row, the waveform of the gate signal line 17b should be the same and 1
The voltage is shifted and applied at intervals of H. By scanning in this way, the time during which the EL element 15 is lit is set to 1
The pixel rows to be turned on can be sequentially shifted while defining the F / N. In this way, it is easy to realize that the gate signal lines 17b have the same waveform and are shifted in each pixel row. Data ST1 and ST applied to the shift register circuits 61a and 61b of FIG.
This is because it is only necessary to control 2. For example, input ST2
Is at L level, Vgl is output to the gate signal line 17b, and when input ST2 is at H level, Vgh is output to the gate signal line 17b. Input at L level only for a period and set to H level for other periods. This input ST2
Is only shifted by the clock CLK2 synchronized with 1H.

【0364】なお、EL素子15をオンオフする周期は
0.5msec以上にする必要がある。この周期が短い
と、人間の目の残像特性により完全な黒表示状態となら
ず、画像がぼやけたようになり、あたかも解像度が低下
したようになる。また、データ保持型の表示パネルの表
示状態となる。しかし、オンオフ周期を100msec
以上になると、点滅状態に見える。したがって、EL素
子のオンオフ周期は0.5μsec以上100msec
以下にすべきである。さらに好ましくは、オンオフ周期
を2msec以上30msec以下にすべきである。さ
らに好ましくは、オンオフ周期を3msec以上20m
sec以下にすべきである。
The cycle for turning on / off the EL element 15 must be 0.5 msec or more. When this cycle is short, the image is not completely displayed in black due to the afterimage characteristic of human eyes, and the image becomes blurry and the resolution is lowered. Further, the display state of the data holding type display panel is set. However, the on / off cycle is 100 msec.
When it is above, it looks like blinking. Therefore, the ON / OFF cycle of the EL element is 0.5 μsec or more and 100 msec.
Should be: More preferably, the on / off period should be 2 msec or more and 30 msec or less. More preferably, the on / off cycle is 3 msec or more and 20 m
It should be less than sec.

【0365】黒画面152の分割数は、1つにすると良
好な動画表示を実現できるが、画面のちらつきが見えや
すくなる。したがって、黒挿入部を複数に分割すること
が好ましい。しかし、分割数をあまりに多くすると動画
ボケが発生する。分割数は1以上8以下とすべきであ
る。さらに好ましくは1以上5以下とすることが好まし
い。
If the number of divisions of the black screen 152 is set to one, a good moving image display can be realized, but the flicker on the screen is easily visible. Therefore, it is preferable to divide the black insertion part into a plurality of parts. However, if the number of divisions is too large, moving image blur occurs. The number of divisions should be 1 or more and 8 or less. More preferably, it is 1 or more and 5 or less.

【0366】なお、黒画面の分割数は静止画と動画で変
更できるように構成することが好ましい。分割数とは、
N=4では、75%が黒画面であり、25%が画像表示
である。このとき、75%の黒表示部を75%の黒帯状
態で画面の上下方向に走査するのが分割数1である。2
5%の黒画面と25/3%の表示画面の3ブロックで走
査するのが分割数3である。静止画は分割数を多くす
る。動画は分割数を少なくする。切り替えは入力画像に
応じて自動的(動画検出など)に行っても良く、ユーザ
ーが手動で行ってもよい。また、表示装置の映像などに
入力コンセントに対応して切り替ええするように構成す
ればよい。
It is preferable that the number of divisions of the black screen can be changed between a still image and a moving image. What is the number of divisions?
When N = 4, 75% is a black screen and 25% is an image display. At this time, the number of divisions 1 is to scan 75% of the black display portion in the vertical direction of the screen with the black band state of 75%. Two
The number of divisions is 3 when scanning is performed with 3 blocks of a 5% black screen and a 25/3% display screen. For still images, increase the number of divisions. For movies, reduce the number of divisions. The switching may be performed automatically (moving image detection or the like) according to the input image, or may be performed manually by the user. Further, it may be configured such that the image of the display device or the like can be switched according to the input outlet.

【0367】たとえば、携帯電話などにおいて、壁紙表
示、入力画面では、分割数を10以上とする(極端には
1Hごとにオンオフしてもよい)。NTSCの動画を表
示するときは、分割数を1以上5以下とする。なお、分
割数は3以上の多段階に切り替えできるように構成する
ことが好ましい。たとえば、分割数なし、2、4、8な
どである。
For example, in a mobile phone or the like, the number of divisions is set to 10 or more in the wallpaper display and the input screen (extremely, it may be turned on and off every 1H). When displaying an NTSC video, the number of divisions should be 1 or more and 5 or less. It is preferable that the number of divisions can be switched in multiple stages of 3 or more. For example, there are no division numbers, such as 2, 4, 8 and the like.

【0368】また、全表示画面に対する黒画面の割合
は、全画面の面積を1とした時、0.2以上0.9以下
(Nで表示すれば1.2以上9以下)とすることが好ま
しい。また、特に0.25以上0.6以下(Nで表示す
れば1.25以上6以下)とすることが好ましい。0.
20以下であると動画表示での改善効果が低い。0.9
以上であると、表示部分の輝度が高くなり、表示部分が
上下に移動することが視覚的に認識されやすくなる。
The ratio of the black screen to the total display screen is 0.2 or more and 0.9 or less (1.2 or more and 9 or less when displayed by N) when the area of the entire screen is 1. preferable. In addition, it is particularly preferably 0.25 or more and 0.6 or less (when displayed by N, 1.25 or more and 6 or less). 0.
If it is 20 or less, the effect of improving the moving image display is low. 0.9
If it is above, the brightness of a display part will become high and it will become easy to be visually recognized that a display part moves up and down.

【0369】また、1秒あたりのフレーム数は、10以
上100以下(10Hz以上100Hz以下)が好まし
い。さらには12以上65以下(12Hz以上65Hz
以下)が好ましい。フレーム数が少ないと、画面のちら
つきが目立つようになり、あまりにもフレーム数が多い
と、ドライバー回路14などからの書き込みが苦しくな
り解像度が劣化する。
Further, the number of frames per second is preferably 10 or more and 100 or less (10 Hz or more and 100 Hz or less). Furthermore, 12 or more and 65 or less (12 Hz or more and 65 Hz
The following) are preferable. If the number of frames is small, the flickering of the screen becomes noticeable, and if the number of frames is too large, writing from the driver circuit 14 becomes difficult and the resolution deteriorates.

【0370】いずれにせよ、本発明では、ゲート信号線
17の制御により画像の明るさを変化させることができ
る。ただし、画像の明るさはソース信号線18に印加す
る電流(電圧)を変化させて行ってもよいことは言うま
でもない。また、先に説明した(図33、図35などを
用いて)ゲート信号線17の制御と、ソース信号線18
に印加する電流(電圧)を変化させることを組み合わせ
て行ってもよいことは言うまでもない。
In any case, in the present invention, the brightness of the image can be changed by controlling the gate signal line 17. However, it goes without saying that the brightness of the image may be changed by changing the current (voltage) applied to the source signal line 18. In addition, the control of the gate signal line 17 and the source signal line 18 described above (using FIG. 33, FIG. 35, etc.)
It goes without saying that changing the current (voltage) to be applied may be performed in combination.

【0371】なお、以上の事項は、図38などの電流プ
ログラムの画素構成、図43、図51、図54などの電
圧プログラムの画素構成でも適用できることは言うまで
もない。図38では、トランジスタ11dを、図43で
はトランジスタ11dを、図51ではトランジスタ11
eをオンオフ制御すればよい。このように、EL素子1
5に電流を流す配線をオンオフすることにより、本発明
のN倍パルス駆動を容易に実現できる。
It goes without saying that the above items can be applied to the pixel configuration of the current program shown in FIG. 38 and the like and the pixel configuration of the voltage program shown in FIGS. 43, 51 and 54. 38, the transistor 11d is shown in FIG. 43, the transistor 11d is shown in FIG.
It suffices to control e on / off. In this way, the EL element 1
By turning on and off the wiring through which the current flows through 5, the N-fold pulse driving of the present invention can be easily realized.

【0372】また、ゲート信号線17bの1F/Nの期
間だけ、Vglにする時刻は1F(1Fに限定するもの
ではない。単位期間でよい。)の期間のうち、どの時刻
でもよい。単位時間にうち、所定の期間だけEL素子1
5をオンさせることにより、所定の平均輝度を得るもの
だからである。ただし、電流プログラム期間(1H)
後、すぐにゲート信号線17bをVglにしてEL素子
15を発光させる方がよい。図1のコンデンサ19の保
持率特性の影響を受けにくくなるからである。
Further, the time to set Vgl only for the period of 1F / N of the gate signal line 17b may be any time within the period of 1F (not limited to 1F; it may be a unit period). EL element 1 for a predetermined period of time per unit time
This is because a predetermined average luminance is obtained by turning on 5. However, current program period (1H)
Immediately after that, it is better to set the gate signal line 17b to Vgl to cause the EL element 15 to emit light. This is because the capacitor 19 in FIG. 1 is less likely to be affected by the holding ratio characteristic.

【0373】また、この画像の分割数も可変できるよう
に構成することが好ましい。たとえば、ユーザーが明る
さ調整スイッチを押すことにより、あるいは明るさ調整
ボリウムを回すことにより、この変化を検出してKの値
を変更する。表示する画像の内容、データにより手動
で、あるいは自動的に変化させるように構成してもよ
い。
Further, it is preferable that the number of divisions of this image is variable. For example, when the user presses the brightness adjustment switch or turns the brightness adjustment volume, this change is detected and the value of K is changed. It may be configured to change manually or automatically depending on the content and data of the image to be displayed.

【0374】このようにKの値(画像表示部53の分割
数)を変化させることも容易に実現できる。図6におい
てSTに印加するデータのタイミング(1FのいつにL
レベルにするか)を調整あるいは可変できるように構成
しておけばよいからである。
Thus, the value of K (the number of divisions of the image display unit 53) can be easily changed. In FIG. 6, the timing of data applied to ST (when L on 1F
This is because it may be configured so that the level can be adjusted or changed.

【0375】なお、図16などでは、ゲート信号線17
bをVglにする期間(1F/N)を複数に分割(分割
数K)し、Vglにする期間は1F/(K/N)の期間
をK回実施するとしたがこれ限定するものではない。1
F/(K/N)の期間をL(L≠K)回実施してもよ
い。つまり、本発明は、EL素子15に流す期間(時
間)を制御することにより画像50を表示するものであ
る。したがって、1F/(K/N)の期間をL(L≠
K)回実施することは本発明の技術的思想に含まれる。
また、Lの値を変化させることにより、画像50の輝度
をデジタル的に変更することができる。たとえば、L=
2とL=3では50%の輝度(コントラスト)変化をな
る。これらの制御も、本発明の他の実施例にも適用でき
ることは言うまでもない(もちろん、以降に説明する本
発明にも適用できる)。これらも本発明のN倍パルス駆
動である。以上の実施例は、EL素子15と駆動用トラ
ンジスタ11aとの間にスイッチング素子としてのトラ
ンジスタ11dを配置(形成)し、このトランジスタ1
1dを制御することにより、画面50をオンオフ表示す
るものであった。この駆動方法により、電流プログラム
方式の黒表示状態での電流書き込み不足をなくし、良好
な解像度あるいは黒表示を実現するものであった。つま
り、電流プログラム方式では、良好な黒表示を実現する
ことが重要である。次に説明する駆動方法は、駆動用ト
ランジスタ11aをリセットし、良好な黒表示を実現す
るものである。以下、図32を用いて、その実施例につ
いて説明をする。
In FIG. 16 and the like, the gate signal line 17
Although the period (1F / N) in which b is Vgl is divided into a plurality (division number K) and the period in which Vgl is 1F / (K / N) is performed K times, the period is not limited to this. 1
The period of F / (K / N) may be performed L (L ≠ K) times. That is, the present invention displays the image 50 by controlling the period (time) of flowing into the EL element 15. Therefore, the period of 1F / (K / N) is L (L ≠
Performing K) times is included in the technical idea of the present invention.
Further, by changing the value of L, the brightness of the image 50 can be changed digitally. For example, L =
With 2 and L = 3, there is a 50% change in brightness (contrast). It goes without saying that these controls can also be applied to other embodiments of the present invention (of course, they can also be applied to the present invention described below). These are also N-times pulse driving according to the present invention. In the above embodiment, the transistor 11d as a switching element is arranged (formed) between the EL element 15 and the driving transistor 11a.
The screen 50 is displayed on / off by controlling 1d. By this driving method, insufficient current writing in the black display state of the current program method is eliminated and good resolution or black display is realized. That is, it is important to realize good black display in the current programming method. The driving method described below is to reset the driving transistor 11a to realize good black display. The embodiment will be described below with reference to FIG.

【0376】図32は基本的には図1の画素構成であ
る。図32の画素構成では、プログラムされたIw電流
がEL素子15に流れ、EL素子15が発光する。つま
り、駆動トランジスタ11aはプログラムされることに
より、電流を流す能力を保持している。この電流を流す
能力を利用してトランジスタ11aをリセット(オフ状
態)にする方式が図32の駆動方式である。以降、この
駆動方式をリセット駆動と呼ぶ。
32 basically shows the pixel configuration of FIG. In the pixel configuration of FIG. 32, the programmed Iw current flows through the EL element 15, and the EL element 15 emits light. That is, the drive transistor 11a is programmed to retain the ability to pass a current. A method of resetting the transistor 11a (off state) by utilizing this ability to flow the current is the driving method of FIG. Hereinafter, this driving method is referred to as reset driving.

【0377】図1の画素構成でリセット駆動を実現する
ためには、トランジスタ11bとトランジスタ11cを
独立してオンオフ制御できるように構成する必要があ
る。つまり、図32で図示するようにトランジスタ11
bをオンオフ制御するゲート信号線11a(ゲート信号
線WR)、トランジスタ11cをオンオフ制御するゲー
ト信号線11c(ゲート信号線EL)とを独立して制御
できるようにする。ゲート信号線11aとゲート信号線
11cの制御は図6に図示するように独立した2つのシ
フトレジスタ61で行えばよい。
In order to realize the reset drive with the pixel configuration of FIG. 1, it is necessary to configure the transistors 11b and 11c so that they can be controlled on and off independently. That is, as shown in FIG.
The gate signal line 11a (gate signal line WR) for ON / OFF control of b and the gate signal line 11c (gate signal line EL) for ON / OFF control of the transistor 11c can be controlled independently. Control of the gate signal line 11a and the gate signal line 11c may be performed by two independent shift registers 61 as shown in FIG.

【0378】ゲート信号線WRとゲート信号線ELの駆
動電圧は変化させるとよい。ゲート信号線WRの振幅値
(オン電圧とオフ電圧との差)は、ゲート信号線ELの
振幅値よりも小さくする。基本的にゲート信号線の振幅
値が大きいと、ゲート信号線と画素との突き抜け電圧が
大きくなり、黒浮きが発生する。ゲート信号線WRの振
幅は、ソース信号線18の電位が画素16に印加されな
い(印加する(選択時))を制御すればよいのである。
ソース信号線18の電位変動は小さいから、ゲート信号
線WRの振幅値は小さくすることができる。一方、ゲー
ト信号線ELはELのオンオフ制御を実施する必要があ
る。したがって、振幅値は大きくなる。これに対応する
ため、シフトレジスタ61aと61bとの出力電圧を変
化させる。画素がPチャンネルTFTで形成されている
場合は、シフトレジスタ61aと61bのVgh(オフ
電圧)を略同一にし、シフトレジスタ61aのVgl
(オン電圧)をシフトレジスタ61bのVgl(オン電
圧)よりも低くする。
The drive voltage of the gate signal line WR and the gate signal line EL may be changed. The amplitude value of the gate signal line WR (difference between ON voltage and OFF voltage) is made smaller than the amplitude value of the gate signal line EL. Basically, when the amplitude value of the gate signal line is large, the punch-through voltage between the gate signal line and the pixel becomes large, and black floating occurs. The amplitude of the gate signal line WR may be controlled so that the potential of the source signal line 18 is not applied (applied (selected)) to the pixel 16.
Since the potential fluctuation of the source signal line 18 is small, the amplitude value of the gate signal line WR can be reduced. On the other hand, for the gate signal line EL, it is necessary to control ON / OFF of EL. Therefore, the amplitude value becomes large. To deal with this, the output voltages of the shift registers 61a and 61b are changed. When the pixel is formed by a P-channel TFT, the Vgh (off voltage) of the shift registers 61a and 61b is set to be substantially the same, and the Vgl of the shift register 61a is set to the same value.
(ON voltage) is made lower than Vgl (ON voltage) of the shift register 61b.

【0379】以下、図33を参照しながら、リセット駆
動方式について説明をする。図33はリセット駆動の原
理説明図である。まず、図33(a)に図示するよう
に、トランジスタ11c、トランジスタ11dをオフ状
態にし、トランジスタ11bをオン状態にする。する
と、駆動用トランジスタ11aのドレイン(D)端子と
ゲート(G)端子はショート状態となり、Ib電流が流
れる。一般的に、トランジスタ11aは1つ前のフィー
ルド(フレーム)で電流プログラムされ、電流を流す能
力がある。この状態でトランジスタ11dがオフ状態と
なり、トランジスタ11bがオン状態にすれば、駆動電
流Ibがトランジスタ11aのゲート(G)端子に流れ
る。そのため、トランジスタ11aのゲート(G)端子
とドレイン(D)端子とが同一電位となり、トランジス
タ11aはリセット(電流を流さない状態)になる。
The reset drive method will be described below with reference to FIG. FIG. 33 is a diagram illustrating the principle of reset driving. First, as illustrated in FIG. 33A, the transistors 11c and 11d are turned off and the transistor 11b is turned on. Then, the drain (D) terminal and the gate (G) terminal of the driving transistor 11a are short-circuited, and the Ib current flows. In general, the transistor 11a is current-programmed in the previous field (frame) and has a capability of flowing current. In this state, if the transistor 11d is turned off and the transistor 11b is turned on, the drive current Ib flows to the gate (G) terminal of the transistor 11a. Therefore, the gate (G) terminal and the drain (D) terminal of the transistor 11a have the same potential, and the transistor 11a is reset (state in which no current flows).

【0380】このトランジスタ11aのリセット状態
(電流を流さない状態)は、図51などで説明する電圧
オフセットキャンセラ方式のオフセット電圧を保持した
状態と等価である。つまり、図33(a)の状態では、
コンデンサ19の端子間には、オフセット電圧が保持さ
れていることになる。このオフセット電圧はトランジス
タ11aの特性に応じて異なる電圧値である。したがっ
て、図33(a)の動作を実施することにより、各画素
のコンデンサ19にはトランジスタ11aが電流を流さ
ない(つまり、黒表示電流(ほどんど0に等しい)が保
持されることになるのである。
The reset state (state in which no current flows) of the transistor 11a is equivalent to the state in which the offset voltage of the voltage offset canceller system described in FIG. 51 and the like is held. That is, in the state of FIG.
The offset voltage is held between the terminals of the capacitor 19. This offset voltage has a different voltage value depending on the characteristics of the transistor 11a. Therefore, by carrying out the operation of FIG. 33 (a), the capacitor 19 of each pixel holds the current which the transistor 11a does not flow (that is, the black display current (which is almost equal to 0)). is there.

【0381】なお、図33(a)の動作の前に、トラン
ジスタ11b、トランジスタ11cをオフ状態にし、ト
ランジスタ11dをオン状態にし、駆動用トランジスタ
11aに電流を流すという動作を実施することが好まし
い。この動作は、極力短時間にすることが好ましい。E
L素子15に電流が流れてEL素子15が点灯し、表示
コントラストを低下させる恐れがあるからである。この
動作時間は、1H(1水平走査期間)の0.1%以上1
0%以下とすることが好ましい。さらに好ましくは0.
2%以上2%以下となるようにすることが好ましい。も
しくは0.2μsec以上5μsec以下となるように
することが好ましい。また、全画面の画素16に一括し
て前述の動作(図33(a)の前に行う動作)を実施し
てもよい。以上の動作を実施することにより、駆動用ト
ランジスタ11aのドレイン(D)端子電圧が低下し、
図33(a)の状態でスムーズなIb電流を流すことが
できるようになる。なお、以上の事項は、本発明の他の
リセット駆動方式にも適用される。
Before the operation of FIG. 33 (a), it is preferable to carry out the operation of turning off the transistors 11b and 11c, turning on the transistor 11d, and passing a current through the driving transistor 11a. This operation is preferably made as short as possible. E
This is because a current may flow through the L element 15 to turn on the EL element 15 and reduce the display contrast. This operation time is 0.1% or more of 1H (1 horizontal scanning period) 1
It is preferably 0% or less. More preferably 0.
It is preferable to set it to 2% or more and 2% or less. Alternatively, it is preferably set to 0.2 μsec or more and 5 μsec or less. In addition, the above-described operation (operation performed before FIG. 33A) may be collectively performed on the pixels 16 of the entire screen. By performing the above operation, the drain (D) terminal voltage of the driving transistor 11a decreases,
In the state of FIG. 33 (a), a smooth Ib current can be passed. The above items also apply to other reset driving methods of the present invention.

【0382】図33(a)の実施時間を長くするほど、
Ib電流が流れ、コンデンサ19の端子電圧が小さくな
る傾向がある。したがって、図33(a)の実施時間は
固定値にする必要がある。実験および検討によれば、図
33(a)の実施時間は、1H以上5H以下にすること
が好ましい。なお、この期間は、R、G、Bの画素で異
ならせることが好ましい。各色の画素でEL材料が異な
り、このEL材料の立ち上がり電圧などに差異があるた
めである。RGBの各画素で、EL材料に適応して、も
っとも最適な期間を設定する。なお、実施例において、
この期間は1H以上5H以下にするとしたが、黒挿入
(黒画面を書き込む)を主とする駆動方式では、5H以
上であってもよいことは言うまでもない。なお、この期
間が長いほど、画素の黒表示状態は良好となる。
As the execution time of FIG. 33 (a) is lengthened,
The Ib current flows, and the terminal voltage of the capacitor 19 tends to decrease. Therefore, the implementation time of FIG. 33A needs to be a fixed value. According to experiments and studies, the implementation time of FIG. 33 (a) is preferably 1H or more and 5H or less. Note that this period is preferably different for the R, G, and B pixels. This is because the EL material is different for each color pixel, and there is a difference in the rising voltage of the EL material. For each pixel of RGB, the most suitable period is set according to the EL material. In the examples,
This period is set to 1H or more and 5H or less, but it goes without saying that it may be 5H or more in a driving method mainly for black insertion (writing a black screen). Note that the longer this period, the better the black display state of the pixel.

【0383】図33(a)を実施後、1H以上5H以下
の期間おいて、図33(b)の状態にする。図33
(b)はトランジスタ11c、トランジスタ11bをオ
ンさせ、トランジスタ11dをオフさせた状態である。
図33(b)の状態は、以前にも説明したが、電流プロ
グラムを行っている状態である。つまり、ソースドライ
バ回路14からプログラム電流Iwを出力(あるいは吸
収)し、このプログラム電流Iwを駆動用トランジスタ
11aに流す。このプログラム電流Iwが流れるよう
に、駆動用トランジスタ11aのゲート(G)端子の電
位を設定するのである(設定電位はコンデンサ19に保
持される)。
After carrying out FIG. 33 (a), the state shown in FIG. 33 (b) is obtained in a period of 1H or more and 5H or less. FIG. 33
(B) shows a state in which the transistors 11c and 11b are turned on and the transistor 11d is turned off.
The state of FIG. 33B is a state in which current programming is being performed, as described above. That is, the source driver circuit 14 outputs (or absorbs) the program current Iw, and the program current Iw is supplied to the driving transistor 11a. The potential of the gate (G) terminal of the driving transistor 11a is set so that the program current Iw flows (the set potential is held in the capacitor 19).

【0384】もし、プログラム電流Iwが0(A)であ
れば、トランジスタ11aは電流を図33(a)の電流
を流さない状態が保持されたままとなるから、良好な黒
表示を実現できる。また、図33(b)で白表示の電流
プログラムを行う場合であっても、各画素の駆動用トラ
ンジスタの特性バラツキが発生していても、完全に黒表
示状態のオフセット電圧から電流プログラムを行う。し
たがって、目標の電流値にプログラムされる時間が階調
に応じて等しくなる。そのため、トランジスタ11aの
特性バラツキによる階調誤差がなく、良好な画像表示を
実現できる。
If the program current Iw is 0 (A), the transistor 11a remains in the state in which no current flows as shown in FIG. 33 (a), so that good black display can be realized. Further, even when the current program for white display is performed in FIG. 33B, even if the characteristic variation of the driving transistor of each pixel occurs, the current program is performed from the offset voltage in the completely black display state. . Therefore, the time to be programmed to the target current value becomes equal according to the gradation. Therefore, there is no gradation error due to the characteristic variation of the transistor 11a, and good image display can be realized.

【0385】図33(b)の電流プログラミング後、図
33(c)に図示するように、トランジスタ11b、ト
ランジスタ11cとオフし、トランジスタ11dをオン
させて、駆動用トランジスタ11aからのプログラム電
流Iw(=Ie)をEL素子15に流し、EL素子15
を発光させる。図33(c)に関しても、図1などで以
前に説明をしたので詳細は省略する。
After the current programming of FIG. 33 (b), as shown in FIG. 33 (c), the transistors 11b and 11c are turned off and the transistor 11d is turned on, so that the program current Iw ( = Ie) is passed through the EL element 15,
Light up. 33 (c) has also been described above with reference to FIG.

【0386】つまり、図33で説明した駆動方式(リセ
ット駆動)は、駆動用トランジスタ11aとEL素子1
5間を切断(電流が流れない状態)し、かつ、駆動用ト
ランジスタのドレイン(D)端子とゲート(G)端子
(もしくはソース(S)端子とゲート(G)端子、さら
に一般的に表現すれば駆動用トランジスタのゲート
(G)端子を含む2端子)間をショートする第1の動作
と、前記動作の後、駆動用トランジスタに電流(電圧)
プログラムを行う第2の動作とを実施するものである。
そして、少なくとも第2の動作は第1の動作後に行うも
のである。なお、リセット駆動を実施するためには、図
32の構成のように、トランジスタ11bとトランジス
タ11cとを独立に制御できるように、構成しておかね
ばならない。
That is, the driving method (reset driving) described with reference to FIG. 33 uses the driving transistor 11a and the EL element 1.
5 is cut (state in which no current flows), and the drain (D) terminal and the gate (G) terminal (or the source (S) terminal and the gate (G) terminal of the driving transistor are expressed more generally. For example, the first operation of short-circuiting between the two terminals including the gate (G) terminal of the driving transistor, and a current (voltage) to the driving transistor after the above operation.
And a second operation of programming.
Then, at least the second operation is performed after the first operation. In order to carry out the reset drive, the transistors 11b and 11c must be configured to be independently controllable as in the configuration of FIG.

【0387】画像表示状態は(もし、瞬時的な変化が観
察できるのであれば)、まず、電流プログラムを行われ
る画素行は、リセット状態(黒表示状態)になり、1H
後に電流プログラムが行われる(この時も黒表示状態で
ある。トランジスタ11dがオフだからである。)。次
に、EL素子15に電流が供給され、画素行は所定輝度
(プログラムされた電流)で発光する。つまり、画面の
上から下方向に、黒表示の画素行が移動し、この画素行
が通りすぎた位置で画像が書き換わっていくように見え
るはずである。なお、リセット後、1H後に電流プログ
ラムを行うとしたがこの期間は、5H程度以内としても
よい。図33(a)のリセットが完全に行われるのに比
較的長時間を必要とするからである。もし、この期間を
5Hとすれば、5画素行が黒表示(電流プログラムの画
素行もいれると6画素行)となるはずである。
In the image display state (if an instantaneous change can be observed), first, the pixel row for which the current program is performed is in the reset state (black display state) for 1H.
After that, current programming is performed (the black display state is also present at this time, because the transistor 11d is off). Next, a current is supplied to the EL element 15, and the pixel row emits light with a predetermined brightness (programmed current). That is, the pixel row for black display should move from the top to the bottom of the screen, and the image should be rewritten at the position where the pixel row has passed. Although the current program is performed 1H after the reset, this period may be within 5H. This is because it takes a relatively long time to completely perform the reset of FIG. If this period is set to 5H, 5 pixel rows should be displayed in black (6 pixel rows including the pixel row for current programming).

【0388】また、リセット状態は1画素行ずつ行うこ
とに限定するものではなく、複数画素行ずつ同時にリセ
ット状態にしてもよい。また、複数画素行ずつ同時にリ
セット状態にし、かつオーバーラップしながら走査して
もよい。たとえば、4画素行を同時にリセットするので
あれば、第1の水平走査期間(1単位)に、画素行
(1)(2)(3)(4)をリセット状態にし、次の第
2の水平走査期間に、画素行(3)(4)(5)(6)
をリセット状態にし、さらに次の第3の水平走査期間
に、画素行(5)(6)(7)(8)をリセット状態に
する。また、次の第4の水平走査期間に、画素行(7)
(8)(9)(10)をリセット状態にするという駆動
状態が例示される。なお、当然、図33(b)、図33
(c)の駆動状態も図33(a)の駆動状態と同期して
実施される。
The reset state is not limited to one pixel row at a time, but a plurality of pixel rows may be simultaneously reset. Alternatively, a plurality of pixel rows may be reset simultaneously and scanning may be performed while overlapping. For example, if four pixel rows are reset at the same time, the pixel rows (1), (2), (3), and (4) are reset in the first horizontal scanning period (1 unit), and the next second horizontal scanning is performed. In the scanning period, pixel rows (3) (4) (5) (6)
To the reset state, and during the next third horizontal scanning period, the pixel rows (5), (6), (7) and (8) are reset. Further, in the next fourth horizontal scanning period, the pixel row (7)
A driving state in which (8), (9) and (10) are reset is illustrated. Incidentally, as a matter of course, FIG.
The drive state of (c) is also performed in synchronization with the drive state of FIG. 33 (a).

【0389】また、1画面の画素すべてを同時にあるい
は走査状態でリセット状態にしてから、図33(b)
(c)の駆動を実施してもよいことはいうまでもない。
また、インターレース駆動状態(1画素行あるいは複数
画素行の飛び越し走査)で、リセット状態(1画素行あ
るいは複数画素行飛び越し)にしてもよいことは言うま
でもない。また、ランダムのリセット状態を実施しても
よい。また、本発明のリセット駆動の説明は、画素行を
操作する方式である(つまり、画面の上下方向の制御す
る)。しかし、リセット駆動の概念は、制御方向が画素
行に限定されるものではない。たとえば、画素列方向に
リセット駆動を実施してもよいことは言うまでのない。
Further, after all the pixels of one screen are reset at the same time or in the scanning state, FIG.
It goes without saying that the driving of (c) may be performed.
Needless to say, the interlace drive state (interlaced scanning of one pixel row or a plurality of pixel rows) may be set to the reset state (interlaced one pixel row or a plurality of pixel rows). Also, a random reset state may be implemented. Further, the explanation of the reset driving of the present invention is a method of operating a pixel row (that is, controlling the vertical direction of the screen). However, the concept of reset driving is not limited to the control of the pixel row. For example, it goes without saying that reset driving may be performed in the pixel column direction.

【0390】なお、図33のリセット駆動は、本発明の
N倍パルス駆動などと組み合わせること、インターレー
ス駆動と組み合わせることによりさらに良好な画像表示
を実現できる。特に図22の構成は、間欠N/K倍パル
ス駆動(1画面に点灯領域を複数設ける駆動方法であ
る。この駆動方法は、ゲート信号線17bを制御し、ト
ランジスタ11dをオンオフ動作させることにより容易
に実現できる。このことは以前に説明をした。)を容易
に実現できるので、フリッカの発生もなく、良好な画像
表示を実現できる。これは、図22あるいはその変形構
成のすぐれた特徴である。また、他の駆動方法、たとえ
ば、以降の説明する逆バイアス駆動方式、プリチャージ
駆動方式、突き抜け電圧駆動方式などと組み合わせるこ
とによりさらに優れた画像表示を実現できることは言う
までもない。以上のように、本発明と同様にリセット駆
動も本明細書の他の実施例と組み合わせて実施すること
ができることは言うまでもない。
The reset drive shown in FIG. 33 can be combined with the N-times pulse drive of the present invention or the like, or can be combined with the interlace drive to realize better image display. In particular, the configuration of FIG. 22 is an intermittent N / K times pulse drive (a drive method in which a plurality of lighting regions are provided in one screen. This drive method is easy by controlling the gate signal line 17b and turning on / off the transistor 11d. This can be easily realized, and thus good image display can be realized without the occurrence of flicker. This is an excellent feature of FIG. 22 or its modified configuration. Further, it goes without saying that a more excellent image display can be realized by combining with another driving method, for example, a reverse bias driving method, a precharge driving method, a punch-through voltage driving method which will be described later. As described above, it goes without saying that the reset driving can be performed in combination with the other embodiments of the present specification as in the present invention.

【0391】図34はリセット駆動を実現する表示装置
の構成図である。ゲートドライバ回路12aは、図32
におけるゲート信号線17aおよびゲート信号線17b
を制御する。ゲート信号線17aにオンオフ電圧を印加
することによりトランジスタ11bがオンオフ制御され
る。また、ゲート信号線17bにオンオフ電圧を印加す
ることによりトランジスタ11dがオンオフ制御され
る。ゲートドライバ回路12bは、図32におけるゲー
ト信号線17cを制御する。ゲート信号線17cにオン
オフ電圧を印加することによりトランジスタ11cがオ
ンオフ制御される。
FIG. 34 is a block diagram of a display device which realizes reset driving. The gate driver circuit 12a is shown in FIG.
Signal line 17a and gate signal line 17b in
To control. The transistor 11b is on / off controlled by applying an on / off voltage to the gate signal line 17a. Further, the transistor 11d is on / off controlled by applying an on / off voltage to the gate signal line 17b. The gate driver circuit 12b controls the gate signal line 17c in FIG. The transistor 11c is on / off controlled by applying an on / off voltage to the gate signal line 17c.

【0392】したがって、ゲート信号線17aはゲート
ドライバ回路12aで操作し、ゲート信号線17cはゲ
ートドライバ回路12bで操作する。そのため、トラン
ジスタ11bをオンさせて駆動用トランジスタ11aを
リセットするタイミングと、トランジスタ111cをオ
ンさせて駆動用トランジスタ11aに電流プログラムを
行うタイミングとを自由に設定できる。他の構成など
は、以前に説明したものと同一または類似するため説明
を省略する。
Therefore, the gate signal line 17a is operated by the gate driver circuit 12a, and the gate signal line 17c is operated by the gate driver circuit 12b. Therefore, the timing of turning on the transistor 11b to reset the driving transistor 11a and the timing of turning on the transistor 111c to perform current programming in the driving transistor 11a can be freely set. Other configurations are the same as or similar to those described above, and thus description thereof will be omitted.

【0393】図35はリセット駆動のタイミングチャー
トである。ゲート信号線17aにオン電圧を印加し、ト
ランジスタ11bをオンさせ、駆動用トランジスタ11
aをリセットしている時には、ゲート信号線17bには
オフ電圧を印加し、トランジスタ11dをオフ状態にし
ている。したがって、図32(a)の状態となってい
る。この期間にIb電流が流れる。
FIG. 35 is a timing chart of reset driving. An on voltage is applied to the gate signal line 17a to turn on the transistor 11b, and the driving transistor 11
When a is being reset, an off voltage is applied to the gate signal line 17b to turn off the transistor 11d. Therefore, the state is as shown in FIG. Ib current flows during this period.

【0394】図35のタイミングチャートでは、リセッ
ト時間は2H(ゲート信号線17aにオン電圧が印加さ
れ、トランジスタ11bがオンする)としているが、こ
れに限定するものではない。2H以上でもよい。また、
リセットが極めて高速に行える場合は、リセット時間は
1H未満であってもよい。また、リセット期間を何H期
間にするかはゲートドライバ回路12に入力するDAT
A(ST)パルス期間で容易に変更できる。たとえば、
ST端子に入力するDATAを2H期間の間Hレベルと
すれば、各ゲート信号線17aから出力されるリセット
期間は2H期間となる。同様に、ST端子に入力するD
ATAを5H期間の間Hレベルとすれば、各ゲート信号
線17aから出力されるリセット期間は5H期間とな
る。
In the timing chart of FIG. 35, the reset time is 2H (the ON voltage is applied to the gate signal line 17a and the transistor 11b is turned ON), but the reset time is not limited to this. It may be 2H or more. Also,
If the reset can be performed very quickly, the reset time may be less than 1H. Further, the DAT input to the gate driver circuit 12 determines which H period the reset period is set to.
It can be easily changed in the A (ST) pulse period. For example,
If DATA input to the ST terminal is set to the H level for the 2H period, the reset period output from each gate signal line 17a becomes the 2H period. Similarly, D input to the ST terminal
If ATA is set to the H level for the 5H period, the reset period output from each gate signal line 17a becomes the 5H period.

【0395】1H期間のリセット後、画素行(1)のゲ
ート信号線17c(1)に、オン電圧が印加される。ト
ランジスタ11cがオンすることにより、ソース信号線
18に印加されたプログラム電流Iwがトランジスタ1
1cを介して駆動用トランジスタ11aに書き込まれ
る。
After the reset for the 1H period, the ON voltage is applied to the gate signal line 17c (1) of the pixel row (1). When the transistor 11c is turned on, the program current Iw applied to the source signal line 18 is applied to the transistor 1
It is written in the driving transistor 11a via 1c.

【0396】電流プログラム後、画素(1)のゲート信
号線17cにオフ電圧が印加され、トランジスタ11c
がオフし、画素がソース信号線と切り離される。同時
に、ゲート信号線17aにもオフ電圧が印加され、駆動
用トランジスタ11aのリセット状態が解消される(な
お、この期間は、リセット状態と表現するよりも、電流
プログラム状態と表現する方が適切である)。また、ゲ
ート信号線17bにはオン電圧が印加され、トランジス
タ11dがオンして、駆動用トランジスタ11aにプロ
グラムされた電流がEL素子15に流れる。なお、画素
行(2)以降についても、画素行(1)と同様であり、
また、図35からその動作は明らかであるから説明を省
略する。
After the current programming, the off voltage is applied to the gate signal line 17c of the pixel (1), and the transistor 11c
Turns off and the pixel is disconnected from the source signal line. At the same time, an off voltage is applied to the gate signal line 17a as well, and the reset state of the driving transistor 11a is canceled (note that during this period, it is more appropriate to describe the current programming state than the reset state. is there). Further, an ON voltage is applied to the gate signal line 17b, the transistor 11d is turned on, and the current programmed in the driving transistor 11a flows through the EL element 15. The pixel rows (2) and thereafter are the same as the pixel rows (1),
Further, since the operation is clear from FIG. 35, the description will be omitted.

【0397】図35において、リセット期間は1H期間
であった。図36はリセット期間を5Hとした実施例で
ある。リセット期間を何H期間にするかはゲートドライ
バ回路12に入力するDATA(ST)パルス期間で容
易に変更できる。図36ではゲートドライバ回路12a
のST1端子に入力するDATAを5H期間の間Hレベ
ルし、各ゲート信号線17aから出力されるリセット期
間を5H期間とした実施例である。リセット期間は、長
いほど、リセットが完全に行われ、良好な黒表示を実現
できる。しかし、リセット期間の割合分は表示輝度が低
下することになる。
In FIG. 35, the reset period was the 1H period. FIG. 36 shows an example in which the reset period is 5H. The H period of the reset period can be easily changed by the DATA (ST) pulse period input to the gate driver circuit 12. In FIG. 36, the gate driver circuit 12a
In this embodiment, DATA input to the ST1 terminal is set to the H level for the 5H period, and the reset period output from each gate signal line 17a is set to the 5H period. The longer the reset period, the more completely the reset is performed, and good black display can be realized. However, the display brightness is reduced for the proportion of the reset period.

【0398】図36はリセット期間を5Hとした実施例
であった。また、このリセット状態は連続状態であっ
た。しかし、リセット状態は連続して行うことに限定さ
れるものではない。たとえば、各ゲート信号線17aか
ら出力される信号を1Hごとにオンオフ動作させてもよ
い。このようにオンオフ動作させるのは、シフトレジス
タの出力段に形成されたイネーブル回路(図示せず)を
操作することにより容易に実現できる。また、ゲートド
ライバ回路12に入力するDATA(ST)パルスを制
御することで容易に実現できる。
FIG. 36 shows an embodiment in which the reset period is 5H. Moreover, this reset state was a continuous state. However, the reset state is not limited to continuous operation. For example, the signal output from each gate signal line 17a may be turned on / off every 1H. Such on / off operation can be easily realized by operating an enable circuit (not shown) formed in the output stage of the shift register. Further, it can be easily realized by controlling the DATA (ST) pulse input to the gate driver circuit 12.

【0399】図34の回路構成では、ゲートドライバ回
路12aは少なくとも2つのシフトレジスタ回路(1つ
はゲート信号線17a制御用、他の1つはゲート信号線
17b制御用)が必要であった。そのため、ゲートドラ
イバ回路12aの回路規模が大きくなるという課題があ
った。図37はゲートドライバ回路12aのシフトレジ
スタを1つにした実施例である。図37の回路を動作さ
せた出力信号のタイミングチャートは図35のごとくな
る。なお、図35と図37とはゲートドライバ回路12
a、12bから出力されているゲート信号線17の記号
が異なっているので注意が必要である。
In the circuit configuration of FIG. 34, the gate driver circuit 12a requires at least two shift register circuits (one for controlling the gate signal line 17a and the other for controlling the gate signal line 17b). Therefore, there is a problem that the circuit scale of the gate driver circuit 12a becomes large. FIG. 37 shows an embodiment in which the gate driver circuit 12a has only one shift register. The timing chart of the output signal when the circuit of FIG. 37 is operated is as shown in FIG. Note that FIG. 35 and FIG. 37 show the gate driver circuit 12
Note that the symbols of the gate signal lines 17 output from a and 12b are different.

【0400】図37のOR回路371が付加されている
ことから明らかであるが、各ゲート信号線17aの出力
は、シフトレジスタ回路61aの前段出力とのORをと
って出力される。つまり、2H期間、ゲート信号線17
aからはオン電圧が出力される。一方、ゲート信号線1
7cはシフトレジスタ回路61aの出力がそのまま出力
される。したがって、1H期間の間、オン電圧が印加さ
れる。
As is apparent from the addition of the OR circuit 371 of FIG. 37, the output of each gate signal line 17a is ORed with the output of the preceding stage of the shift register circuit 61a. That is, during the 2H period, the gate signal line 17
An on-voltage is output from a. On the other hand, the gate signal line 1
7c outputs the output of the shift register circuit 61a as it is. Therefore, the ON voltage is applied during the 1H period.

【0401】たとえば、シフトレジスタ回路61aの2
番目にHレベル信号が出力されている時、画素16
(1)のゲート信号線17cにオン電圧が出力され、画
素16(1)が電流(電圧)プログラムの状態である。
同時に、画素16(2)のゲート信号線17aにもオン
電圧が出力され、画素16(2)のトランジスタ11b
がオン状態となり、画素16(2)の駆動用トランジス
タ11aがリセットされる。
For example, 2 of the shift register circuit 61a.
When the H-level signal is output next, the pixel 16
The ON voltage is output to the gate signal line 17c of (1), and the pixel 16 (1) is in a current (voltage) program state.
At the same time, the ON voltage is output to the gate signal line 17a of the pixel 16 (2), and the transistor 11b of the pixel 16 (2) is output.
Is turned on, and the driving transistor 11a of the pixel 16 (2) is reset.

【0402】同様に、シフトレジスタ回路61aの3番
目にHレベル信号が出力されている時、画素16(2)
のゲート信号線17cにオン電圧が出力され、画素16
(2)が電流(電圧)プログラムの状態である。同時
に、画素16(3のゲート信号線17aにもオン電圧が
出力され、画素16(3)トランジスタ11bがオン状
態となり、画素16(3)駆動用トランジスタ11aが
リセットされる。つまり、2H期間、ゲート信号線17
aからはオン電圧が出力され、ゲート信号線17cに1
H期間、オン電圧が出力される。
Similarly, when the H level signal is output to the third of the shift register circuit 61a, the pixel 16 (2)
The ON voltage is output to the gate signal line 17c of the pixel 16
(2) is the state of current (voltage) programming. At the same time, the ON voltage is also output to the gate signal line 17a of the pixel 16 (3), the transistor 16b of the pixel 16 (3) is turned on, and the transistor 11a for driving the pixel 16 (3) is reset. Gate signal line 17
ON voltage is output from a, and 1 is applied to the gate signal line 17c.
During the H period, the ON voltage is output.

【0403】プログラム状態の時は、トランジスタ11
bとトランジスタ11cが同時にオン状態となる(図3
3(b))ら、非プログラム状態(図33(c))に移
行する際、トランジスタ11cがトランジスタ11bよ
りも先にオフ状態となると、図33(b)のリセット状
態となってしまう。これと防止するためには、トランジ
スタ11cがトランジスタ11bよりもあとからオフ状
態にする必要がある。そのためには、ゲート信号線17
aがゲート信号線17cよりも先にオン電圧が印加され
るように制御する必要がある。
In the programmed state, the transistor 11
b and the transistor 11c are turned on at the same time (see FIG. 3).
3 (b)) to the non-programmed state (FIG. 33 (c)), if the transistor 11c is turned off prior to the transistor 11b, the reset state shown in FIG. 33 (b) will result. To prevent this, the transistor 11c needs to be turned off later than the transistor 11b. For that purpose, the gate signal line 17
It is necessary to control so that the ON voltage is applied to the a before the gate signal line 17c.

【0404】以上の実施例は、図32(基本的には図
1)の画素構成に関する実施例であった。しかし、本発
明はこれに限定されるものではない。たとえば、図38
に示すようなカレントミラーの画素構成であっても実施
することができる。なお、図38ではトランジスタ11
eをオンオフ制御することにより、図13、図15など
で図示するN倍パルス駆動を実現できる。図39は図3
8のカレントミラーの画素構成での実施例の説明図であ
る。以下、図39を参照しながら、カレントミラーの画
素構成におけるリセット駆動方式について説明をする。
The above examples are examples relating to the pixel configuration of FIG. 32 (basically FIG. 1). However, the present invention is not limited to this. For example, in FIG.
The present invention can be implemented even with a current mirror pixel configuration as shown in FIG. Note that in FIG. 38, the transistor 11
By controlling on / off of e, the N-fold pulse driving shown in FIGS. 13 and 15 can be realized. FIG. 39 shows FIG.
It is explanatory drawing of the Example in the pixel structure of the current mirror of FIG. Hereinafter, the reset driving method in the pixel configuration of the current mirror will be described with reference to FIG.

【0405】図39(a)に図示するように、トランジ
スタ11c、トランジスタ11eをオフ状態にし、トラ
ンジスタ11dをオン状態にする。すると、電流プログ
ラム用トランジスタ11bのドレイン(D)端子とゲー
ト(G)端子はショート状態となり、図に示すようにI
b電流が流れる。一般的に、トランジスタ11bは1つ
前のフィールド(フレーム)で電流プログラムされ、電
流を流す能力がある(ゲート電位はコンデンサ19に1
F期間保持され、画像表示をおこなっているから当然で
ある。ただし、完全な黒表示を行っている場合、電流は
流れない)。この状態でトランジスタ11eがオフ状態
とし、トランジスタ11dがオン状態にすれば、駆動電
流Ibがトランジスタ11aのゲート(G)端子の方向
に流れる(ゲート(G)端子とドレイン(D)端子がシ
ョートされる)。そのため、トランジスタ11aのゲー
ト(G)端子とドレイン(D)端子とが同一電位とな
り、トランジスタ11aはリセット(電流を流さない状
態)になる。また、駆動用トランジスタ11bのゲート
(G)端子は電流プログラム用トランジスタ11aのゲ
ート(G)端子と共通であるから、駆動用トランジスタ
11bもリセット状態となる。
As shown in FIG. 39A, the transistors 11c and 11e are turned off and the transistor 11d is turned on. Then, the drain (D) terminal and the gate (G) terminal of the current programming transistor 11b are short-circuited, and as shown in FIG.
b current flows. In general, the transistor 11b is current-programmed in the previous field (frame) and has a capability of flowing current (the gate potential is 1 in the capacitor 19).
This is natural because it is held for F period and an image is displayed. However, current does not flow when displaying completely black). If the transistor 11e is turned off and the transistor 11d is turned on in this state, the drive current Ib flows in the direction of the gate (G) terminal of the transistor 11a (the gate (G) terminal and the drain (D) terminal are short-circuited). ). Therefore, the gate (G) terminal and the drain (D) terminal of the transistor 11a have the same potential, and the transistor 11a is reset (state in which no current flows). Further, since the gate (G) terminal of the driving transistor 11b is common with the gate (G) terminal of the current programming transistor 11a, the driving transistor 11b is also in the reset state.

【0406】このトランジスタ11a、トランジスタ1
1bのリセット状態(電流を流さない状態)は、図51
などで説明する電圧オフセットキャンセラ方式のオフセ
ット電圧を保持した状態と等価である。つまり、図39
(a)の状態では、コンデンサ19の端子間には、オフ
セット電圧(電流が流れ始める開始電圧。この電圧の絶
対値以上の電圧を印加することにより、トランジスタ1
1に電流が流れる)が保持されていることになる。この
オフセット電圧はトランジスタ11a、トランジスタ1
1bの特性に応じて異なる電圧値である。したがって、
図39(a)の動作を実施することにより、各画素のコ
ンデンサ19にはトランジスタ11a、トランジスタ1
1bが電流を流さない(つまり、黒表示電流(ほどんど
0に等しい))状態が保持されることになるのである
(電流が流れ始める開始電圧にリセットされた)。
This transistor 11a and transistor 1
The reset state of 1b (state in which no current flows) is shown in FIG.
This is equivalent to the state of holding the offset voltage of the voltage offset canceller method described in the above. That is, FIG.
In the state of (a), an offset voltage (starting voltage at which a current starts to flow between the terminals of the capacitor 19. By applying a voltage equal to or higher than the absolute value of this voltage, the transistor 1
Current flows through 1). This offset voltage is applied to the transistors 11a and 1
The voltage value varies depending on the characteristics of 1b. Therefore,
By performing the operation of FIG. 39 (a), the transistors 19a and 1
Therefore, the state in which 1b does not flow current (that is, the black display current (which is almost equal to 0)) is maintained (reset to the starting voltage at which the current starts flowing).

【0407】なお、図39(a)においても図33
(a)と同様に、リセットの実施時間を長くするほど、
Ib電流が流れ、コンデンサ19の端子電圧が小さくな
る傾向がある。したがって、図39(a)の実施時間は
固定値にする必要がある。実験および検討によれば、図
39(a)の実施時間は、1H以上10H(10水平走
査期間)以下とすることが好ましい。さらには1H以上
5H以下にすることが好ましい。あるいは、20μse
c以上2msec以下とすることが好ましい。このこと
は図33の駆動方式でも同様である。
Note that in FIG. 39 (a) as well, FIG.
As in (a), the longer the reset time is,
The Ib current flows, and the terminal voltage of the capacitor 19 tends to decrease. Therefore, the implementation time of FIG. 39 (a) needs to be a fixed value. According to experiments and studies, it is preferable that the execution time of FIG. 39 (a) is 1H or more and 10H (10 horizontal scanning periods) or less. Furthermore, it is preferable to set it to 1H or more and 5H or less. Alternatively, 20 μse
It is preferable to be c or more and 2 msec or less. This also applies to the drive system shown in FIG.

【0408】図33(a)も同様であるが、図39
(a)のリセット状態と、図39(b)の電流プログラ
ム状態とを同期をとって行う場合は、図39(a)のリ
セット状態から、図39(b)の電流プログラム状態ま
での期間が固定値(一定値)となるから問題はない(固
定値にされている)。つまり、図33(a)あるいは図
39(a)のリセット状態から、図33(b)あるいは
図39(b)の電流プログラム状態までの期間が、1H
以上10H(10水平走査期間)以下とすることが好ま
しい。さらには1H以上5H以下にすることが好ましい
のである。あるいは、20μsec以上2msec以下
とすることが好ましいのである。この期間が短いと駆動
用トランジスタ11が完全にリセットされない。また、
あまりにも長いと駆動用トランジスタ11が完全にオフ
状態となり、今度は電流をプログラムするのに長時間を
要するようになる。また、画面50の輝度も低下する。
The same applies to FIG. 33 (a), but FIG.
When the reset state of (a) and the current program state of FIG. 39 (b) are synchronized, the period from the reset state of FIG. 39 (a) to the current program state of FIG. 39 (b) is There is no problem because it is a fixed value (constant value) (fixed value). That is, the period from the reset state of FIG. 33 (a) or 39 (a) to the current program state of FIG. 33 (b) or 39 (b) is 1H.
It is preferable to be 10H (10 horizontal scanning periods) or less. Furthermore, it is preferable to set it to 1H or more and 5H or less. Alternatively, it is preferably 20 μsec or more and 2 msec or less. If this period is short, the driving transistor 11 is not completely reset. Also,
If it is too long, the driving transistor 11 is completely turned off, and it takes a long time to program the current. Further, the brightness of the screen 50 also decreases.

【0409】図39(a)を実施後、図39(b)の状
態にする。図39(b)はトランジスタ11c、トラン
ジスタ11dをオンさせ、トランジスタ11eをオフさ
せた状態である。図39(b)の状態は、電流プログラ
ムを行っている状態である。つまり、ソースドライバ回
路14からプログラム電流Iwを出力(あるいは吸収)
し、このプログラム電流Iwを電流プログラム用トラン
ジスタ11aに流す。このプログラム電流Iwが流れる
ように、駆動用トランジスタ11bのゲート(G)端子
の電位をコンデンサ19に設定するのである。
After performing FIG. 39 (a), the state shown in FIG. 39 (b) is obtained. FIG. 39B shows a state in which the transistors 11c and 11d are turned on and the transistor 11e is turned off. The state of FIG. 39 (b) is a state in which current programming is being performed. That is, the source driver circuit 14 outputs (or absorbs) the program current Iw.
Then, the programming current Iw is passed through the current programming transistor 11a. The potential of the gate (G) terminal of the driving transistor 11b is set in the capacitor 19 so that the program current Iw flows.

【0410】もし、プログラム電流Iwが0(A)(黒
表示)であれば、トランジスタ11bは電流を図33
(a)の電流を流さない状態が保持されたままとなるか
ら、良好な黒表示を実現できる。また、図39(b)で
白表示の電流プログラムを行う場合は、各画素の駆動用
トランジスタの特性バラツキが発生していても、完全に
黒表示状態のオフセット電圧(各駆動用トランジスタの
特性に応じて設定された電流が流れる開始電圧)から電
流プログラムを行う。したがって、目標の電流値にプロ
グラムされる時間が階調に応じて等しくなる。そのた
め、トランジスタ11aあるいはトランジスタ11bの
特性バラツキによる階調誤差がなく、良好な画像表示を
実現できる。
If the program current Iw is 0 (A) (black display), the transistor 11b outputs the current as shown in FIG.
Since the state in which the current of (a) does not flow is maintained, a good black display can be realized. In the case of performing the current program for white display in FIG. 39B, even if the characteristic variation of the driving transistor of each pixel occurs, the offset voltage in the completely black display state (the characteristic of each driving transistor is The current program is performed from the starting voltage at which the set current flows). Therefore, the time to be programmed to the target current value becomes equal according to the gradation. Therefore, there is no gradation error due to the characteristic variation of the transistor 11a or the transistor 11b, and good image display can be realized.

【0411】図39(b)の電流プログラミング後、図
39(c)に図示するように、トランジスタ11c、ト
ランジスタ11dとオフし、トランジスタ11eをオン
させて、駆動用トランジスタ11bからのプログラム電
流Iw(=Ie)をEL素子15に流し、EL素子15
を発光させる。図39(c)に関しても、以前に説明を
したので詳細は省略する。
After the current programming of FIG. 39 (b), as shown in FIG. 39 (c), the transistor 11c and the transistor 11d are turned off, the transistor 11e is turned on, and the program current Iw (from the driving transistor 11b ( = Ie) is passed through the EL element 15,
Light up. 39 (c) has also been described above, and the details thereof will be omitted.

【0412】図33、図39で説明した駆動方式(リセ
ット駆動)は、駆動用トランジスタ11aあるいはトラ
ンジスタ11bとEL素子15間を切断(電流が流れな
い状態。トランジスタ11eあるいはトランジスタ11
dで行う)し、かつ、駆動用トランジスタのドレイン
(D)端子とゲート(G)端子(もしくはソース(S)
端子とゲート(G)端子、さらに一般的に表現すれば駆
動用トランジスタのゲート(G)端子を含む2端子)間
をショートする第1の動作と、前記動作の後、駆動用ト
ランジスタに電流(電圧)プログラムを行う第2の動作
とを実施するものである。そして、少なくとも第2の動
作は第1の動作後に行うものである。なお、第1の動作
における駆動用トランジスタ11aあるいはトランジス
タ11bとEL素子15間を切断するという動作は、必
ずしも必須の条件ではない。もし、第1の動作における
駆動用トランジスタ11aあるいはトランジスタ11b
とEL素子15間を切断せずに、駆動用トランジスタの
ドレイン(D)端子とゲート(G)端子間をショートす
る第1の動作を行っても多少のリセット状態のバラツキ
が発生する程度で済む場合があるからである。これは、
作製したアレイのトランジスタ特性を検討して決定す
る。
In the driving method (reset driving) described with reference to FIGS. 33 and 39, the driving transistor 11a or transistor 11b and the EL element 15 are disconnected (no current flows. Transistor 11e or transistor 11).
d) and the drain (D) terminal and gate (G) terminal (or source (S)) of the driving transistor.
A first operation for short-circuiting between the terminal and the gate (G) terminal, or more generally, two terminals including the gate (G) terminal of the driving transistor), and a current ( And a second operation for programming a voltage). Then, at least the second operation is performed after the first operation. Note that the operation of disconnecting the EL element 15 from the driving transistor 11a or the transistor 11b in the first operation is not always an essential condition. If the driving transistor 11a or the transistor 11b in the first operation
Even if the first operation of short-circuiting the drain (D) terminal and the gate (G) terminal of the driving transistor without disconnecting between the EL element 15 and the EL element 15 is performed, the reset state may be slightly varied. This is because there are cases. this is,
The transistor characteristics of the fabricated array are examined and determined.

【0413】図39のカレントミラーの画素構成は、電
流プログラムトランジスタ11aをリセットすることに
より、結果として駆動用トランジスタ11bをリセット
する駆動方法であった。
The pixel configuration of the current mirror of FIG. 39 is a driving method in which the current program transistor 11a is reset, and as a result, the driving transistor 11b is reset.

【0414】図39のカレントミラーの画素構成では、
リセット状態では、必ずしも駆動用トランジスタ11b
とEL素子15間を切断する必要はない。したがって、
電流プログラム用トランジスタaのドレイン(D)端子
とゲート(G)端子(もしくはソース(S)端子とゲー
ト(G)端子、さらに一般的に表現すれば電流プログラ
ム用トランジスタのゲート(G)端子を含む2端子、あ
るいは駆動用トランジスタのゲート(G)端子を含む2
端子)間をショートする第1の動作と、前記動作の後、
電流プログラム用トランジスタに電流(電圧)プログラ
ムを行う第2の動作とを実施するものである。そして、
少なくとも第2の動作は第1の動作後に行うものであ
る。
In the pixel configuration of the current mirror of FIG. 39,
In the reset state, the driving transistor 11b is not always required.
It is not necessary to disconnect between the EL element 15 and the EL element 15. Therefore,
The drain (D) terminal and the gate (G) terminal (or the source (S) terminal and the gate (G) terminal of the current programming transistor a, or more generally, the gate (G) terminal of the current programming transistor is included. 2 terminals or 2 including the gate (G) terminal of the driving transistor
The first operation of shorting the terminals) and after the above operation,
A second operation of performing current (voltage) programming on the current programming transistor is performed. And
At least the second operation is performed after the first operation.

【0415】画像表示状態は(もし、瞬時的な変化が観
察できるのであれば)、まず、電流プログラムを行われ
る画素行は、リセット状態(黒表示状態)になり、所定
H後に電流プログラムが行われる。画面の上から下方向
に、黒表示の画素行が移動し、この画素行が通りすぎた
位置で画像が書き換わっていくように見えるはずであ
る。
In the image display state (if an instantaneous change can be observed), first, the pixel row for which the current program is performed is in the reset state (black display state), and the current program is performed after a predetermined H. Be seen. The pixel row for black display should move from the top to the bottom of the screen, and the image should be rewritten at the position where this pixel row has passed.

【0416】以上の実施例は、電流プログラムの画素構
成を中心として説明をしたが、本発明のリセット駆動は
電圧プログラムの画素構成にも適用することができる。
図43は電圧プログラムの画素構成におけるリセット駆
動を実施するための本発明の画素構成(パネル構成)の
説明図である。
Although the above embodiments have been described centering on the pixel configuration of the current program, the reset driving of the present invention can be applied to the pixel configuration of the voltage program.
FIG. 43 is an explanatory diagram of a pixel configuration (panel configuration) of the present invention for implementing reset driving in the voltage programmed pixel configuration.

【0417】図43の画素構成では、駆動用トランジス
タ11aをリセット動作させるためのトランジスタ11
eが形成されている。ゲート信号線17eにオン電圧が
印加されることにより、トランジスタ11eがオンし、
駆動用トランジスタ11aのゲート(G)端子とドレイ
ン(D)端子間をショートさせる。また、EL素子15
と駆動用トランジスタ11aとの電流経路を切断するト
ランジスタ11dが形成されている。以下、図44を参
照しながら、電圧プログラムの画素構成における本発明
のリセット駆動方式について説明をする。
In the pixel configuration of FIG. 43, the transistor 11 for resetting the driving transistor 11a is used.
e is formed. By applying an on-voltage to the gate signal line 17e, the transistor 11e is turned on,
The gate (G) terminal and the drain (D) terminal of the driving transistor 11a are short-circuited. In addition, the EL element 15
And a transistor 11d for disconnecting the current path between the drive transistor 11a and the drive transistor 11a. Hereinafter, the reset driving method of the present invention in the pixel configuration of voltage programming will be described with reference to FIG.

【0418】図44(a)に図示するように、トランジ
スタ11b、トランジスタ11dをオフ状態にし、トラ
ンジスタ11eをオン状態にする。駆動用トランジスタ
11aのドレイン(D)端子とゲート(G)端子はショ
ート状態となり、図に示すようにIb電流が流れる。そ
のため、トランジスタ11aのゲート(G)端子とドレ
イン(D)端子とが同一電位となり、駆動用トランジス
タ11aはリセット(電流を流さない状態)になる。な
お、トランジスタ11aをリセットする前に、図33あ
るいは図39で説明したように、HD同期信号に同期し
て、最初にトランジスタ11dをオンさせ、トランジス
タ11eをオフさせて、トランジスタ11aに電流を流
しておく。その後、図44(a)の動作を実施する。
As shown in FIG. 44A, the transistors 11b and 11d are turned off and the transistor 11e is turned on. The drain (D) terminal and the gate (G) terminal of the driving transistor 11a are short-circuited, and an Ib current flows as shown in the figure. Therefore, the gate (G) terminal and the drain (D) terminal of the transistor 11a have the same potential, and the driving transistor 11a is reset (state in which no current flows). Before resetting the transistor 11a, as described with reference to FIG. 33 or FIG. 39, the transistor 11d is first turned on and the transistor 11e is turned off in synchronization with the HD sync signal, so that a current flows through the transistor 11a. Keep it. Then, the operation of FIG. 44 (a) is performed.

【0419】このトランジスタ11a、トランジスタ1
1bのリセット状態(電流を流さない状態)は、図41
などで説明した電圧オフセットキャンセラ方式のオフセ
ット電圧を保持した状態と等価である。つまり、図44
(a)の状態では、コンデンサ19の端子間には、オフ
セット電圧(リセット電圧)が保持されていることにな
る。このリセット電圧は駆動用トランジスタ11aの特
性に応じて異なる電圧値である。つまり、図44(a)
の動作を実施することにより、各画素のコンデンサ19
には駆動用トランジスタ11aが電流を流さない(つま
り、黒表示電流(ほどんど0に等しい))状態が保持さ
れることになるのである(電流が流れ始める開始電圧に
リセットされた)。
This transistor 11a and transistor 1
The reset state of 1b (state in which no current flows) is shown in FIG.
This is equivalent to the state in which the offset voltage of the voltage offset canceller method described above is held. That is, FIG.
In the state of (a), the offset voltage (reset voltage) is held between the terminals of the capacitor 19. This reset voltage has a different voltage value depending on the characteristics of the driving transistor 11a. That is, FIG. 44 (a)
By carrying out the operation of
Therefore, the state in which the driving transistor 11a does not flow current (that is, the black display current (which is almost equal to 0)) is maintained (reset to the start voltage at which the current starts to flow).

【0420】なお、電圧プログラムの画素構成において
も、電流プログラムの画素構成と同様に、図44(a)
のリセットの実施時間を長くするほど、Ib電流が流
れ、コンデンサ19の端子電圧が小さくなる傾向があ
る。したがって、図44(a)の実施時間は固定値にす
る必要がある。実施時間は、0.2H以上5H(5水平
走査期間)以下とすることが好ましい。さらには0.5
H以上4H以下にすることが好ましい。あるいは、2μ
sec以上400μsec以下とすることが好ましい。
Also in the pixel configuration of the voltage program, as in the pixel configuration of the current program, FIG.
The longer the reset execution time is, the more the Ib current flows, and the terminal voltage of the capacitor 19 tends to decrease. Therefore, the implementation time of FIG. 44 (a) needs to be a fixed value. The execution time is preferably 0.2H or more and 5H (5 horizontal scanning periods) or less. Furthermore 0.5
It is preferable that it is H or more and 4H or less. Or 2μ
It is preferable that the time is not less than sec and not more than 400 μsec.

【0421】また、ゲート信号線17eは前段の画素行
のゲート信号線17aと共通にしておくことが好まし
い。つまり、ゲート信号線17eと前段の画素行のゲー
ト信号線17aとをショート状態で形成する。この構成
を前段ゲート制御方式と呼ぶ。なお、前段ゲート制御方
式とは、着目画素行より少なくとも1H前以上に選択さ
れる画素行のゲート信号線波形を用いるものである。し
たがって、1画素行前に限定されるものではない。たと
えば、2画素行前のゲート信号線の信号波形を用いて着
目画素の駆動用トランジスタ11aのリセットを実施し
てもよい。
Further, it is preferable that the gate signal line 17e is shared with the gate signal line 17a of the preceding pixel row. That is, the gate signal line 17e and the gate signal line 17a in the preceding pixel row are formed in a short-circuited state. This configuration is called the pre-stage gate control method. The pre-gate control method uses a gate signal line waveform of a pixel row selected at least 1H before the pixel row of interest. Therefore, it is not limited to one pixel row before. For example, the driving transistor 11a of the target pixel may be reset by using the signal waveform of the gate signal line two rows before.

【0422】前段ゲート制御方式をさらに具体的に記載
すれば以下のようになる。着目する画素行が(N)画素
行とし、そのゲート信号線がゲート信号線17e
(N)、ゲート信号線17a(N)とする。1H前に選
択される前段の画素行は、画素行が(N−1)画素行と
し、そのゲート信号線がゲート信号線17e(N−
1)、ゲート信号線17a(N−1)とする。また、着
目画素行の次の1H後に選択される画素行が(N+1)
画素行とし、そのゲート信号線がゲート信号線17e
(N+1)、ゲート信号線17a(N+1)とする。
The pre-stage gate control method will be described in more detail below. The pixel row of interest is the (N) pixel row, and its gate signal line is the gate signal line 17e.
(N) and the gate signal line 17a (N). In the previous pixel row selected 1H before, the pixel row is the (N-1) pixel row, and its gate signal line is the gate signal line 17e (N-
1) and the gate signal line 17a (N-1). Further, the pixel row selected 1H after the target pixel row is (N + 1)
The pixel signal line is a gate signal line 17e.
(N + 1) and the gate signal line 17a (N + 1).

【0423】第(N−1)H期間では、第(N−1)画
素行のゲート信号線17a(N−1)にオン電圧が印加
されると、第(N)画素行のゲート信号線17e(N)
にもオン電圧が印加される。ゲート信号線17e(N)
と前段の画素行のゲート信号線17a(N−1)とがシ
ョート状態で形成されているからである。したがって、
第(N−1)画素行の画素のトランジスタ11b(N−
1)がオンし、ソース信号線18の電圧が駆動用トラン
ジスタ11a(N−1)のゲート(G)端子に書き込ま
れる。同時に、第(N)画素行の画素のトランジスタ1
1e(N)がオンし、駆動用トランジスタ11a(N)
のゲート(G)端子とドレイン(D)端子間がショート
され、駆動用トランジスタ11a(N)がリセットされ
る。
During the (N-1) Hth period, when the ON voltage is applied to the gate signal line 17a (N-1) of the (N-1) th pixel row, the gate signal line of the (N) th pixel row is applied. 17e (N)
Is also applied with an on-voltage. Gate signal line 17e (N)
This is because the gate signal line 17a (N-1) of the preceding pixel row is formed in a short-circuited state. Therefore,
The transistor 11b (N-
1) is turned on, and the voltage of the source signal line 18 is written in the gate (G) terminal of the driving transistor 11a (N-1). At the same time, the transistor 1 of the pixel in the (N) th pixel row
1e (N) turns on, driving transistor 11a (N)
The gate (G) terminal and the drain (D) terminal are short-circuited, and the driving transistor 11a (N) is reset.

【0424】第(N−1)H期間の次の第(N)期間で
は、第(N)画素行のゲート信号線17a(N)にオン
電圧が印加されると、第(N+1)画素行のゲート信号
線17e(N+1)にもオン電圧が印加される。したが
って、第(N)画素行の画素のトランジスタ11b
(N)がオンし、ソース信号線18に印加されている電
圧が駆動用トランジスタ11a(N)のゲート(G)端
子に書き込まれる。同時に、第(N+1)画素行の画素
のトランジスタ11e(N+1)がオンし、駆動用トラ
ンジスタ11a(N+1)のゲート(G)端子とドレイ
ン(D)端子間がショートされ、駆動用トランジスタ1
1a(N+1)がリセットされる。
In the (N) th period subsequent to the (N-1) Hth period, when the ON voltage is applied to the gate signal line 17a (N) of the (N) th pixel row, the (N + 1) th pixel row The on-voltage is also applied to the gate signal line 17e (N + 1). Therefore, the transistor 11b of the pixel in the (N) th pixel row is
(N) is turned on, and the voltage applied to the source signal line 18 is written to the gate (G) terminal of the driving transistor 11a (N). At the same time, the transistor 11e (N + 1) of the pixel in the (N + 1) th pixel row is turned on, the gate (G) terminal and the drain (D) terminal of the driving transistor 11a (N + 1) are short-circuited, and the driving transistor 1
1a (N + 1) is reset.

【0425】以下同様に、第(N)H期間の次の第(N
+1)期間では、第(N+1)画素行のゲート信号線1
7a(N+1)にオン電圧が印加されると、第(N+
2)画素行のゲート信号線17e(N+2)にもオン電
圧が印加される。したがって、第(N+1)画素行の画
素のトランジスタ11b(N+1)がオンし、ソース信
号線18に印加されている電圧が駆動用トランジスタ1
1a(N+1)のゲート(G)端子に書き込まれる。同
時に、第(N+2)画素行の画素のトランジスタ11e
(N+2)がオンし、駆動用トランジスタ11a(N+
2)のゲート(G)端子とドレイン(D)端子間がショ
ートされ、駆動用トランジスタ11a(N+2)がリセ
ットされる。
[0425] Similarly, the (N) th period next to the (Nth)
In the (+1) period, the gate signal line 1 of the (N + 1) th pixel row
When the ON voltage is applied to 7a (N + 1), the (N +
2) The ON voltage is also applied to the gate signal line 17e (N + 2) of the pixel row. Therefore, the transistor 11b (N + 1) of the pixel in the (N + 1) th pixel row is turned on, and the voltage applied to the source signal line 18 is applied to the driving transistor 1
It is written in the gate (G) terminal of 1a (N + 1). At the same time, the transistor 11e of the pixel in the (N + 2) th pixel row
(N + 2) is turned on, and the driving transistor 11a (N +
The gate (G) terminal and the drain (D) terminal of 2) are short-circuited, and the driving transistor 11a (N + 2) is reset.

【0426】以上の本発明の前段ゲート制御方式では、
1H期間、駆動用トランジスタ11aはリセットされ、
その後、電圧(電流)プログラムが実施される。
In the preceding stage gate control system of the present invention,
During the 1H period, the driving transistor 11a is reset,
Then, the voltage (current) program is executed.

【0427】図33(a)も同様であるが、図44
(a)のリセット状態と、図44(b)の電圧プログラ
ム状態とを同期をとって行う場合は、図44(a)のリ
セット状態から、図44(b)の電流プログラム状態ま
での期間が固定値(一定値)となるから問題はない(固
定値にされている)。この期間が短いと駆動用トランジ
スタ11が完全にリセットされない。また、あまりにも
長いと駆動用トランジスタ11aが完全にオフ状態とな
り、今度は電流をプログラムするのに長時間を要するよ
うになる。また、画面12の輝度も低下する。
The same applies to FIG. 33 (a), but FIG.
When the reset state of (a) and the voltage programmed state of FIG. 44 (b) are synchronized, the period from the reset state of FIG. 44 (a) to the current programmed state of FIG. 44 (b) is There is no problem because it is a fixed value (constant value) (fixed value). If this period is short, the driving transistor 11 is not completely reset. If it is too long, the driving transistor 11a is completely turned off, and it takes a long time to program the current. Also, the brightness of the screen 12 is reduced.

【0428】図44(a)を実施後、図44(b)の状
態にする。図44(b)はトランジスタ11bをオンさ
せ、トランジスタ11e、トランジスタ11dをオフさ
せた状態である。図44(b)の状態は、電圧プログラ
ムを行っている状態である。つまり、ソースドライバ回
路14からプログラム電圧を出力し、このプログラム電
圧を駆動用トランジスタ11aのゲート(G)端子に書
き込む(駆動用トランジスタ11aのゲート(G)端子
の電位をコンデンサ19に設定する)。なお、電圧プロ
グラム方式の場合は、電圧プログラム時にトランジスタ
11dを必ずしもオフさせる必要はない。また、図1
3、図15などのN倍パルス駆動などと組み合わせるこ
と、あるいは以上のような、間欠N/K倍パルス駆動
(1画面に点灯領域を複数設ける駆動方法である。この
駆動方法は、トランジスタ11eをオンオフ動作させる
ことにより容易に実現できる)を実施する必要がなけれ
ば、トランジスタ11eが必要でない。このことは以前
に説明をしたので、説明を省略する。
After carrying out FIG. 44 (a), the state shown in FIG. 44 (b) is obtained. FIG. 44B shows a state in which the transistor 11b is turned on and the transistors 11e and 11d are turned off. The state of FIG. 44 (b) is a state in which voltage programming is being performed. That is, the source driver circuit 14 outputs a program voltage, and the program voltage is written to the gate (G) terminal of the driving transistor 11a (the potential of the gate (G) terminal of the driving transistor 11a is set in the capacitor 19). In the case of the voltage programming method, it is not always necessary to turn off the transistor 11d during voltage programming. Also, FIG.
3, N-times pulse driving as shown in FIG. 15 or the like, or intermittent N / K-times pulse driving as described above (a driving method in which a plurality of lighting regions are provided in one screen. This driving method uses the transistor 11e. The transistor 11e is not necessary unless it is necessary to implement (on-off operation). Since this has been described before, the description is omitted.

【0429】図43の構成あるいは図44の駆動方法で
白表示の電圧プログラムを行う場合は、各画素の駆動用
トランジスタの特性バラツキが発生していても、完全に
黒表示状態のオフセット電圧(各駆動用トランジスタの
特性に応じて設定された電流が流れる開始電圧)から電
圧プログラムを行う。したがって、目標の電流値にプロ
グラムされる時間が階調に応じて等しくなる。そのた
め、トランジスタ11aの特性バラツキによる階調誤差
がなく、良好な画像表示を実現できる。
When the voltage display for white display is performed by the configuration of FIG. 43 or the driving method of FIG. 44, even if the characteristic variation of the driving transistor of each pixel occurs, the offset voltage of each black display state (each The voltage program is performed from the starting voltage at which the current is set according to the characteristics of the driving transistor). Therefore, the time to be programmed to the target current value becomes equal according to the gradation. Therefore, there is no gradation error due to the characteristic variation of the transistor 11a, and good image display can be realized.

【0430】図44(b)の電流プログラミング後、図
44(c)に図示するように、トランジスタ11bをオ
フし、トランジスタ11dをオンさせて、駆動用トラン
ジスタ11aからのプログラム電流をEL素子15に流
し、EL素子15を発光させる。
After the current programming of FIG. 44 (b), as shown in FIG. 44 (c), the transistor 11b is turned off, the transistor 11d is turned on, and the program current from the driving transistor 11a is supplied to the EL element 15. Then, the EL element 15 is caused to emit light.

【0431】以上のように、図43の電圧プログラムに
おける本発明のリセット駆動は、まず、HD同期信号に
同期して、最初にトランジスタ11dをオンさせ、トラ
ンジスタ11eをオフさせて、トランジスタ11aに電
流を流す第1の動作と、トランジスタ11aとEL素子
15間を切断し、かつ、駆動用トランジスタ11aのド
レイン(D)端子とゲート(G)端子(もしくはソース
(S)端子とゲート(G)端子、さらに一般的に表現す
れば駆動用トランジスタのゲート(G)端子を含む2端
子)間をショートする第2の動作と、前記動作の後、駆
動用トランジスタ11aに電圧プログラムを行う第3の
動作とを実施するものである。
As described above, in the reset drive of the present invention in the voltage program of FIG. 43, first, the transistor 11d is first turned on and the transistor 11e is turned off in synchronism with the HD synchronizing signal, so that the current is supplied to the transistor 11a. The first operation of flowing the current, disconnecting between the transistor 11a and the EL element 15, and drain (D) terminal and gate (G) terminal (or source (S) terminal and gate (G) terminal) of the driving transistor 11a. More generally, a second operation of short-circuiting between two terminals including the gate (G) terminal of the driving transistor, and a third operation of performing voltage programming on the driving transistor 11a after the operation. And are to be carried out.

【0432】以上の実施例では、駆動トランジスタ素子
11a(図1の画素構成の場合)からEL素子15に流
す電流を制御するのに、トランジスタ11dをオンオフ
させて行う。トランジスタ11dをオンオフさせるため
には、ゲート信号線17bを走査する必要があり、走査
のためには、シフトレジスタ61(ゲート回路12)が
必要となる。しかし、シフトレジスタ61は規模が大き
く、ゲート信号線17bの制御にシフトレジスタ61を
用いたのでは狭額縁化できない。図40で説明する方式
は、この課題を解決するものである。なお、本発明は、
主として図1などに図示する電流プログラムの画素構成
を例示して説明をするが、これに限定するものではな
く、図38などで説明した他の電流プルグラム構成(カ
レントミラーの画素構成)であっても適用できることは
いうまでもない。また、ブロックでオンオフする技術的
概念は、図41などの電圧プログラムの画素構成であっ
ても適用できることは言うまでもない。また、本発明
は、EL素子15に流れる電流を間欠にする方式である
から、図50などで説明する逆バイアス電圧を印加する
方式とも組み合わせることができることは言うまでもな
い。以上のように、本発明は他の実施例と組み合わせて
実施することができる。図40はブロック駆動方式の実
施例である。まず、説明を容易にするため、ゲートドラ
イバ回路12は基板71に直接形成したか、もしくはシ
リコンチップのゲートドライバIC12を基板71に積
載したとして説明をする。また、ソースドライバ14お
よびソース信号線18は図面が煩雑になるため省略す
る。図40において、ゲート信号線17aはゲートドラ
イバ回路12と接続されている。一方、各画素のゲート
信号線17bは点灯制御線401と接続されている。図
40では4本のゲート信号線17bが1つの点灯制御線
401と接続されている。なお、4本のゲート信号線1
7bでブロックするというのはこれに限定するものでは
なく、それ以上であってもよいことは言うまでもない。
一般的に表示領域50は少なくとも5以上に分割するこ
とが好ましい。さらに好ましくは、10以上に分割する
ことが好ましい。さらには、20以上に分割することが
好ましい。分割数が少ないと、フリッカが見えやすい。
あまりにも分割数が多いと、点灯制御線401の本数が
多くなり、制御線401のレイアウトが困難になる。し
たがって、QCIF表示パネルの場合は、垂直走査線の
本数が220本であるから、少なくとも、220/5=
44本以上でブロック化する必要があり、好ましくは、
220/10=11以上でブロック化する必要がある。
ただし、奇数行と偶数行で2つのブロック化を行った場
合は、低フレームレートでも比較的フリッカの発生が少
ないため、2つのブロック化で十分の場合がある。図4
0の実施例では、点灯制御線401a、401b、40
1c、401d……401nと順次、オン電圧(Vg
l)を印加するか、もしくはオフ電圧(Vgh)を印加
し、ブロックごとにEL素子15に流れる電流をオンオ
フさせる。なお、図40の実施例では、ゲート信号線1
7bと点灯制御線401とがクロスすることがない。し
たがって、ゲート信号線17bと点灯制御線401との
ショート欠陥は発生しない。また、ゲート信号線17b
と点灯制御線401とが容量結合することがないため、
点灯制御線401からゲート信号線17b側を見た時の
容量付加が極めて小さい。したがって、点灯制御線40
1を駆動しやすい。ゲートドライバ12にはゲート信号
線17aが接続されている。ゲート信号線17aにオン
電圧を印加することにより、画素行が選択され、選択さ
れた各画素のトランジスタ11b、11cはオンして、
ソース信号線18に印加された電流(電圧)を各画素の
コンデンサ19にプログラムする。一方、ゲート信号線
17bは各画素のトランジスタ11dのゲート(G)端
子と接続されている。したがって、点灯制御線401に
オン電圧(Vgl)が印加されたとき、駆動トランジス
タ11aとEL素子15との電流経路を形成し、逆にオ
フ電圧(Vgh)が印加された時は、EL素子15のア
ノード端子をオープンにする。なお、点灯制御線401
に印加するオンオフ電圧の制御タイミングと、ゲートド
ライバ回路12がゲート信号線17aに出力する画素行
選択電圧(Vgl)のタイミングは1水平走査クロック
(1H)に同期していることが好ましい。しかし、これ
に限定するものではない。点灯制御線401に印加する
信号は単に、EL素子15への電流をオンオフさせるだ
けである。また、ソースドライバ14が出力する画像デ
ータと同期がとれている必要もない。点灯制御線401
に印加する信号は、各画素16のコンデンサ19にプロ
グラムされた電流を制御するものだからである。したが
って、必ずしも、画素行の選択信号と同期がとれている
必要はない。また、同期する場合であってもクロックは
1H信号に限定されるものではなく、1/2Hでも、1
/4Hであってもよい。図38に図示したカレントミラ
ーの画素構成の場合であっても、ゲート信号線17bを
点灯制御線401に接続することにより、トランジスタ
11eをオンオフ制御できる。したがって、ブロック駆
動を実現できる。なお、図32において、ゲート信号線
17aを点灯制御線401に接続し、リセットを実施す
れば、プロック駆動を実現できる。つまり、本発明のブ
ロック駆動とは、1つの制御線で、複数の画素行を同時
に非点灯(あるいは黒表示)とする駆動方法である。
In the above embodiments, the transistor 11d is turned on / off to control the current flowing from the drive transistor element 11a (in the case of the pixel configuration of FIG. 1) to the EL element 15. In order to turn on / off the transistor 11d, it is necessary to scan the gate signal line 17b, and the scanning requires the shift register 61 (gate circuit 12). However, the shift register 61 has a large scale, and if the shift register 61 is used to control the gate signal line 17b, the frame cannot be narrowed. The method described in FIG. 40 solves this problem. The present invention is
The pixel configuration of the current program illustrated in FIG. 1 and the like will be mainly described below, but the present invention is not limited to this, and the current programming pixel configuration (current mirror pixel configuration) described in FIG. It goes without saying that it is also applicable. Further, it goes without saying that the technical concept of turning on and off in blocks can be applied to the pixel configuration of voltage programming such as FIG. 41. Further, since the present invention is a method of intermittently flowing the current flowing through the EL element 15, it goes without saying that it can be combined with the method of applying a reverse bias voltage described in FIG. 50 and the like. As described above, the present invention can be implemented in combination with other embodiments. FIG. 40 shows an example of a block drive system. First, for ease of explanation, it is assumed that the gate driver circuit 12 is directly formed on the substrate 71 or that the gate driver IC 12 of a silicon chip is mounted on the substrate 71. The source driver 14 and the source signal line 18 are omitted because the drawing is complicated. In FIG. 40, the gate signal line 17a is connected to the gate driver circuit 12. On the other hand, the gate signal line 17b of each pixel is connected to the lighting control line 401. In FIG. 40, the four gate signal lines 17b are connected to one lighting control line 401. The four gate signal lines 1
It is needless to say that the block at 7b is not limited to this and may be more.
Generally, the display area 50 is preferably divided into at least 5 or more. More preferably, it is preferably divided into 10 or more. Furthermore, it is preferable to divide into 20 or more. If the number of divisions is small, flicker is easy to see.
If the number of divisions is too large, the number of lighting control lines 401 will increase and the layout of the control lines 401 will be difficult. Therefore, in the case of the QCIF display panel, since the number of vertical scanning lines is 220, at least 220/5 =
It is necessary to block 44 or more, and preferably,
It is necessary to form blocks at 220/10 = 11 or more.
However, when two blocks are formed in the odd-numbered row and the even-numbered row, flicker is relatively small even at a low frame rate, and thus the two blocks may be sufficient. Figure 4
In the example of No. 0, the lighting control lines 401a, 401b, 40
ON voltage (Vg
1) is applied or an off voltage (Vgh) is applied to turn on / off the current flowing through the EL element 15 for each block. In the embodiment of FIG. 40, the gate signal line 1
7b and the lighting control line 401 do not cross each other. Therefore, a short defect between the gate signal line 17b and the lighting control line 401 does not occur. Also, the gate signal line 17b
And the lighting control line 401 are not capacitively coupled,
When the gate signal line 17b side is viewed from the lighting control line 401, the capacity addition is extremely small. Therefore, the lighting control line 40
1 is easy to drive. A gate signal line 17a is connected to the gate driver 12. By applying an ON voltage to the gate signal line 17a, a pixel row is selected, and the transistors 11b and 11c of each selected pixel are turned on,
The current (voltage) applied to the source signal line 18 is programmed in the capacitor 19 of each pixel. On the other hand, the gate signal line 17b is connected to the gate (G) terminal of the transistor 11d of each pixel. Therefore, when the ON voltage (Vgl) is applied to the lighting control line 401, a current path is formed between the drive transistor 11a and the EL element 15, and conversely, when the OFF voltage (Vgh) is applied, the EL element 15 is turned on. Open the anode terminal of. The lighting control line 401
It is preferable that the control timing of the on / off voltage applied to the gate driver circuit 12 and the timing of the pixel row selection voltage (Vgl) output to the gate signal line 17a by the gate driver circuit 12 are synchronized with one horizontal scanning clock (1H). However, the present invention is not limited to this. The signal applied to the lighting control line 401 simply turns on / off the current to the EL element 15. Further, it does not need to be synchronized with the image data output by the source driver 14. Lighting control line 401
This is because the signal applied to the pixel controls the current programmed in the capacitor 19 of each pixel 16. Therefore, it does not necessarily have to be synchronized with the selection signal of the pixel row. Further, the clock is not limited to the 1H signal even in the case of synchronization, and even if it is 1 / 2H, the clock is 1H.
It may be / 4H. Even in the case of the current mirror pixel configuration illustrated in FIG. 38, the transistor 11e can be on / off controlled by connecting the gate signal line 17b to the lighting control line 401. Therefore, block driving can be realized. Note that in FIG. 32, if the gate signal line 17a is connected to the lighting control line 401 and a reset is performed, block driving can be realized. That is, the block drive of the present invention is a drive method in which a plurality of pixel rows are simultaneously turned off (or displayed in black) with one control line.

【0433】以上の実施例は、1画素行ごとに1本の選
択画素行を配置(形成)する構成であった。本発明は、
これに限定するものではなく、複数の画素行で1本の選
択ゲート信号線を配置(形成)してもよい。
In the above-mentioned embodiments, one selected pixel row is arranged (formed) for each pixel row. The present invention is
The present invention is not limited to this, and one selection gate signal line may be arranged (formed) in a plurality of pixel rows.

【0434】図41はその実施例である。なお、説明を
容易にするため、画素構成は図1の場合を主として例示
して説明をする。図41では画素行の選択ゲート信号線
17aは3つの画素(16R、16G、16B)を同時
に選択する。Rの記号とは赤色の画素関連を意味し、G
の記号とは緑色の画素関連を意味し、Bの記号とは青色
の画素関連を意味するものとする。
FIG. 41 shows an example thereof. For ease of explanation, the pixel configuration will be described mainly by exemplifying the case of FIG. In FIG. 41, the selection gate signal line 17a in the pixel row simultaneously selects three pixels (16R, 16G, 16B). The symbol R means the pixel relation of red, and G
The symbol of means a green pixel relation, and the symbol of B means a blue pixel relation.

【0435】したがって、ゲート信号線17aの選択に
より、画素16R、画素16Gおよび画素16Bが同時
に選択されデータ書き込み状態となる。画素16Rはソ
ース信号線18Rからデータをコンデンサ19Rに書き
込み、画素16Gはソース信号線18Gからデータをコ
ンデンサ19Gに書き込む。画素16Bはソース信号線
18Bからデータをコンデンサ19Bに書き込む。
Therefore, the pixel 16R, the pixel 16G and the pixel 16B are simultaneously selected by the selection of the gate signal line 17a to be in the data writing state. The pixel 16R writes data from the source signal line 18R to the capacitor 19R, and the pixel 16G writes data from the source signal line 18G to the capacitor 19G. The pixel 16B writes data from the source signal line 18B to the capacitor 19B.

【0436】画素16Rのトランジスタ11dはゲート
信号線17bRに接続されている。また、画素16Gの
トランジスタ11dはゲート信号線17bGに接続さ
れ、画素16Bのトランジスタ11dはゲート信号線1
7bBに接続されている。したがって、画素16RのE
L素子15R、画素16GのEL素子15G、画素16
BのEL素子15Bは別個にオンオフ制御することがで
きる。つまり、EL素子15R、EL素子15G、EL
素子15Bはそれぞれのゲート信号線17bR、17b
G、17bBを制御することにより、点灯時間、点灯周
期を個別に制御可能である。
The transistor 11d of the pixel 16R is connected to the gate signal line 17bR. The transistor 11d of the pixel 16G is connected to the gate signal line 17bG, and the transistor 11d of the pixel 16B is connected to the gate signal line 1b.
It is connected to 7bB. Therefore, E of the pixel 16R
L element 15R, pixel 16G EL element 15G, pixel 16
The B EL element 15B can be individually turned on and off. That is, the EL element 15R, the EL element 15G, the EL element
The element 15B has respective gate signal lines 17bR and 17b.
By controlling G and 17bB, the lighting time and the lighting cycle can be individually controlled.

【0437】この動作を実現するためには、図6の構成
において、ゲート信号線17aを走査するシフトレジス
タ回路61と、ゲート信号線17bRを走査するシフト
レジスタ回路61と、ゲート信号線17bGを走査する
シフトレジスタ回路61と、ゲート信号線17bBを走
査するシフトレジスタ回路61の4つを形成(配置)す
ることが適切である。なお、ソース信号線18に所定電
流のN倍の電流を流し、EL素子15に所定電流のN倍
の電流を1/Nの期間流すとしたが、実用上はこれを実
現できない。実際にはゲート信号線17に印加した信号
パルスがコンデンサ19に突き抜け、コンデンサ19に
所望の電圧値(電流値)を設定できないからである。一
般的にコンデンサ19には所望の電圧値(電流値)より
も低い電圧値(電流値)が設定される。たとえば、10
倍の電流値を設定するように駆動しても、5倍程度の電
流しかコンデンサ19には設定されない。たとえば、N
=10としても実際にEL素子15に流れる電流はN=
5の場合と同一となる。したがって、本発明はN倍の電
流値を設定し、N倍に比例したあるいは対応する電流を
EL素子15に流れるように駆動する方法である。もし
くは、所望値よりも大きい電流をEL素子15にパルス
状に印加する駆動方法である。また、所望値より電流
(そのまま、EL素子15に連続して電流を流すと所望
輝度よりも高くなるような電流)を駆動トランジスタ1
1a(図1を例示する場合)に電流(電圧)プログラム
を行い、EL素子15に流れる電流を間欠にすることに
より、所望のEL素子の発光輝度を得るものである。な
お、このコンデンサ19への突き抜けによる補償回路
は、ソースドライバ回路14内に導入する。この事項に
ついては後ほど説明をする。
To realize this operation, in the configuration of FIG. 6, a shift register circuit 61 for scanning the gate signal line 17a, a shift register circuit 61 for scanning the gate signal line 17bR, and a gate signal line 17bG are scanned. It is appropriate to form (arrange) four shift register circuits 61 that perform scanning and the shift register circuits 61 that scan the gate signal line 17bB. Note that the source signal line 18 is supplied with a current N times the predetermined current and the EL element 15 is supplied with a current N times the predetermined current for a period of 1 / N, but this cannot be realized in practice. This is because the signal pulse applied to the gate signal line 17 actually penetrates into the capacitor 19 and a desired voltage value (current value) cannot be set in the capacitor 19. Generally, a voltage value (current value) lower than a desired voltage value (current value) is set in the capacitor 19. For example, 10
Even if driving is performed so as to set a double current value, only about five times the current is set in the capacitor 19. For example, N
= 10, the current actually flowing in the EL element 15 is N =
It becomes the same as the case of 5. Therefore, the present invention is a method of setting a current value of N times and driving such that a current proportional to or corresponding to N times flows through the EL element 15. Alternatively, it is a driving method in which a current larger than a desired value is applied to the EL element 15 in a pulse shape. In addition, a current higher than a desired value (a current that becomes higher than a desired brightness when a current is continuously applied to the EL element 15 as it is) is applied to the drive transistor 1.
A current (voltage) program is performed on 1a (in the case of exemplifying FIG. 1) to intermittently make the current flowing through the EL element 15 to obtain a desired emission brightness of the EL element. The compensating circuit for punching through the capacitor 19 is introduced in the source driver circuit 14. This matter will be described later.

【0438】また、図1などのスイッチングトランジス
タ11b、11cなどはNチャンネルで形成することが
好ましい。コンデンサ19への突き抜け電圧が低減する
からである。また、コンデンサ19のオフリークも減少
するから、10Hz以下の低いフレームレートにも適用
できるようになる。
The switching transistors 11b and 11c shown in FIG. 1 and the like are preferably formed by N-channel. This is because the penetration voltage to the capacitor 19 is reduced. Further, since the off-leakage of the condenser 19 is also reduced, it can be applied to a low frame rate of 10 Hz or less.

【0439】また、画素構成によっては、突き抜け電圧
がEL素子15に流れる電流を増加させる方向に作用す
る場合は、白ピーク電流が増加し、画像表示のコントラ
スト感が増加する。したがって、良好な画像表示を実現
できる。
Depending on the pixel configuration, when the punch-through voltage acts in the direction of increasing the current flowing through the EL element 15, the white peak current increases and the contrast feeling of image display increases. Therefore, good image display can be realized.

【0440】逆に、図1のスイッチングトランジスタ1
1b、11cをPチャンネルにすることのより突き抜け
を発生させて、より黒表示を良好にする方法も有効であ
る。Pチャンネルトランジスタ11bがオフするときに
はVgh電圧となる。そのため、コンデンサ19の端子
電圧がVdd側に少しシフトする。そのため、トランジ
スタ11aのゲート(G)端子電圧は上昇し、より黒表
示となる。また、第1階調表示とする電流値を大きくす
ることができるから(階調1までに一定のベース電流を
流すことができる)、電流プログラム方式で書き込み電
流不足を軽減できる。
On the contrary, the switching transistor 1 of FIG.
It is also effective to make Pb channels 1b and 11c more punch-through to improve black display. When the P-channel transistor 11b turns off, the voltage becomes Vgh voltage. Therefore, the terminal voltage of the capacitor 19 slightly shifts to the Vdd side. Therefore, the gate (G) terminal voltage of the transistor 11a rises, resulting in a more black display. In addition, since the current value for the first gradation display can be increased (a constant base current can be flown up to gradation 1), the shortage of the write current can be reduced by the current program method.

【0441】その他、ゲート信号線17aとトランジス
タ11aのゲート(G)端子間に積極的にコンデンサ1
9bを形成し、突き抜け電圧を増加させる構成も有効で
ある(図42(a)を参照)。このコンデンサ19bの
容量は正規のコンデンサ19aの容量の1/50以上1
/10以下にすることが好ましい。さらには1/40以
上1/15以下とすることが好ましい。もしくはトラン
ジスタ11bのソース−ゲート(ソース−ドレイン(S
G)もしくはゲート−ドレイン(GD))容量の1倍以
上10倍以下にする。さらに好ましくは、SG容量の2
倍以上6倍以下にすることが好ましい。なお、コンデン
サ19bの形成位置は、コンデンサ19aの一方の端子
(トランジスタ11aのゲート(G)端子)とトランジ
スタ11dのソース(S)端子間に形成または配置して
もよい。この場合も容量などは先に説明した値と同様で
ある。
In addition, the capacitor 1 is positively connected between the gate signal line 17a and the gate (G) terminal of the transistor 11a.
It is also effective to form 9b to increase the punch-through voltage (see FIG. 42 (a)). The capacity of this capacitor 19b is 1/50 or more of the capacity of the regular capacitor 19a 1
It is preferably / 10 or less. Furthermore, it is preferable to set it to 1/40 or more and 1/15 or less. Alternatively, the source-gate (source-drain (S
G) or the gate-drain (GD) capacity is 1 to 10 times. More preferably, the SG capacity is 2
It is preferable that the number of times is 6 times or more. The formation position of the capacitor 19b may be formed or arranged between one terminal of the capacitor 19a (the gate (G) terminal of the transistor 11a) and the source (S) terminal of the transistor 11d. Also in this case, the capacity and the like are the same as the values described above.

【0442】突き抜け電圧発生用のコンデンサ19bの
容量(容量をCb(pF)とする)は、電荷保持用のコ
ンデンサ19aの容量(容量とCa(pF)とする)
と、トランジスタ11aの白ピーク電流時(画像表示で
表示最大輝度の白ラスター時)のゲート(G)端子電圧
Vwを黒表示での電流を流す(基本的には電流は0であ
る。つまり、画像表示で黒表示としている時)時のゲー
ト(G)端子電圧Vbが関連する。これらの関係は、 Ca/(200Cb) ≦ |Vw−Vb| ≦ Ca
/(8Cb) の条件を満足させることが好ましい。なお、|Vw−V
b|とは、駆動用トランジスタの白表示時の端子電圧と
黒表示時の端子電圧との差の絶対値である(つまり、変
化する電圧幅)。
The capacitance of the capacitor 19b for generating punch-through voltage (capacitance is Cb (pF)) is the capacitance of the capacitor 19a for charge retention (capacitance and Ca (pF)).
Then, the gate (G) terminal voltage Vw of the transistor 11a at the time of the white peak current (at the time of the white raster of the maximum brightness displayed in the image display) is made to flow the current in the black display (basically the current is 0. The gate (G) terminal voltage Vb at the time of black display in the image display is related. These relationships are as follows: Ca / (200Cb) ≤ | Vw-Vb | ≤ Ca
It is preferable to satisfy the condition of / (8Cb). Note that | Vw-V
b | is the absolute value of the difference between the terminal voltage of the driving transistor when displaying white and the terminal voltage when displaying black (that is, the varying voltage width).

【0443】さらに好ましくは、 Ca/(100Cb) ≦ |Vw−Vb| ≦ Ca
/(10Cb) の条件を満足させることが好ましい。
More preferably, Ca / (100Cb) ≤ | Vw-Vb | ≤ Ca
It is preferable to satisfy the condition of / (10Cb).

【0444】トランジスタ11bはPチャンネルにし、
このPチャンネルは少なくともダブルゲート以上にす
る。このましくは、トリプルゲート以上にする。さらに
好ましくは、4ゲート以上にする。そして、トランジス
タ11bのソース−ゲート(SGもしくはゲート−ドレ
イン(GD))容量(トランジスタがオンしているとき
の容量)の1倍以上10倍以下のコンデンサを並列に形
成または配置することが好ましい。
The transistor 11b is a P channel,
This P channel should be at least a double gate or more. This is preferably triple gate or higher. More preferably, the number of gates is 4 or more. Then, it is preferable to form or dispose capacitors in parallel with the source-gate (SG or gate-drain (GD)) capacitance (capacitance when the transistor is on) of the transistor 11b that is 1 to 10 times.

【0445】なお、以上の事項は、図1の画素構成だけ
でなく、他の画素構成でも有効である。たとえば、図4
2(b)に図示するようにカレントミラーの画素構成に
おいて、突き抜けを発生させるコンデンサをゲート信号
線17aまたは17bとトランジスタ11aのゲート
(G)端子間に配置または形成する。スイッチングトラ
ンジスタ11cのNチャンネルはダプルゲート以上とす
る。もしくはスイッチングトランジスタ11c、11d
をPチャンネルとし、トリプルゲート以上とする。
The above matters are effective not only in the pixel configuration of FIG. 1 but also in other pixel configurations. For example, in FIG.
In the pixel configuration of the current mirror as shown in FIG. 2 (b), a capacitor that causes punch-through is arranged or formed between the gate signal line 17a or 17b and the gate (G) terminal of the transistor 11a. The N channel of the switching transistor 11c has a double gate or more. Alternatively, the switching transistors 11c and 11d
Is a P-channel and has a triple gate or more.

【0446】41の電圧プログラムの構成にあっては、
ゲート信号線17cと駆動用トランジスタ11aのゲー
ト(G)端子間に突き抜け電圧発生用のコンデンサ19
cを形成または配置する。また、スイッチングトランジ
スタ11cはトリプルゲート以上とする。突き抜け電圧
発生用のコンデンサ19cはトランジスタ11cのドレ
イン(D)端子(コンデンサ19b側)と、ゲート信号
線17a間に配置してもよい。また、突き抜け電圧発生
用のコンデンサ19cはトランジスタ11aのゲート
(G)端子と、ゲート信号線17a間に配置してもよ
い。また、突き抜け電圧発生用のコンデンサ19cはト
ランジスタ11cのドレイン(D)端子(コンデンサ1
9b側)と、ゲート信号線17c間に配置してもよい。
In the configuration of the voltage program of 41,
A capacitor 19 for generating a punch-through voltage between the gate signal line 17c and the gate (G) terminal of the driving transistor 11a.
Form or place c. The switching transistor 11c has a triple gate or more. The capacitor 19c for generating the punch-through voltage may be arranged between the drain (D) terminal (on the capacitor 19b side) of the transistor 11c and the gate signal line 17a. Further, the punch-through voltage generating capacitor 19c may be arranged between the gate (G) terminal of the transistor 11a and the gate signal line 17a. Further, the capacitor 19c for generating the punch-through voltage is the drain (D) terminal (capacitor 1c of the transistor 11c.
9b side) and the gate signal line 17c.

【0447】また、電荷保持用のコンデンサ19aの容
量をCaとし、スイッチング用のトランジスタ11cま
たは11d)のソース−ゲート容量Cc(突き抜け用の
コンデンサがある場合には、その容量を加えた値)と
し、ゲート信号線に印加される高電圧信号(Vgh)と
し、ゲート信号線に印加される低電圧信号(Vgl)と
した時、以下の条件を満足するように構成することによ
り、良好な黒表示を実現できる。
Further, the capacitance of the charge holding capacitor 19a is Ca, and the source-gate capacitance Cc of the switching transistor 11c or 11d (if there is a punch-through capacitor, its capacitance is added). , When a high voltage signal (Vgh) is applied to the gate signal line and a low voltage signal (Vgl) is applied to the gate signal line, a good black display is achieved by configuring the following conditions. Can be realized.

【0448】0.05(V) ≦ (Vgh−Vgl)
×(Cc/Ca) ≦ 0.8(V) さらに好ましくは、以下の条件を満足させることが好ま
しい。
0.05 (V) ≤ (Vgh-Vgl)
X (Cc / Ca) ≤ 0.8 (V) More preferably, the following conditions are satisfied.

【0449】0.1(V) ≦ (Vgh−Vgl)×
(Cc/Ca) ≦ 0.5(V) 以上の事項は図43などの画素構成にも有効である。図
43の電圧プログラムの画素構成では、トランジスタ1
1aのゲート(G)端子とゲート信号線17a間に突き
抜け電圧発生用のコンデンサ19bを形成または配置す
る。
0.1 (V) ≦ (Vgh-Vgl) ×
(Cc / Ca) ≤ 0.5 (V) The above items are also effective for the pixel configuration shown in FIG. In the pixel configuration of the voltage program of FIG. 43, the transistor 1
A capacitor 19b for generating punch-through voltage is formed or placed between the gate (G) terminal of 1a and the gate signal line 17a.

【0450】なお、突き抜け電圧を発生させるコンデン
サ19bは、トランジスタのソース配線とゲート配線で
形成する。ただし、トランジスタ11のソース幅を広げ
て、ゲート信号線17と重ねて形成する構成であるか
ら、実用上は明確にトランジスタと分離できない構成で
ある場合がある。
The capacitor 19b for generating the punch-through voltage is formed by the source wiring and the gate wiring of the transistor. However, since the source width of the transistor 11 is widened so as to overlap the gate signal line 17, the transistor 11 may not be clearly separated from the transistor in practical use.

【0451】また、スイッチングトランジスタ11b、
11c(図1の構成の場合)を必要以上に大きく形成す
ることにより、見かけ上、突き抜け電圧用のコンデンサ
19bを構成する方式も本発明の範疇である。スイッチ
ングトランジスタ11b、11cはチャンネル幅W/チ
ャンネル長L=6/6μmで形成することが多い。これ
をWと大きくすることも突き抜け電圧用のコンデンサ1
9bを構成することになる。例えば、W:Lの比を2:
1以上20:1以下にする構成が例示される。好ましく
は、W:Lの比を3:1以上10:1以下にすることが
よい。
Further, the switching transistor 11b,
A method of apparently forming the capacitor 19b for punch-through voltage by forming 11c (in the case of the configuration of FIG. 1) larger than necessary is also within the scope of the present invention. The switching transistors 11b and 11c are often formed with a channel width W / channel length L = 6/6 μm. It is also possible to increase this to W so that the capacitor for punch-through voltage 1
9b will be configured. For example, a W: L ratio of 2:
A configuration in which the ratio is 1 or more and 20: 1 or less is exemplified. Preferably, the W: L ratio is 3: 1 or more and 10: 1 or less.

【0452】また、突き抜け電圧用のコンデンサ19b
は、画素が変調するR、G、Bで大きさ(容量)を変化
させることが好ましい。R、G、Bの各EL素子15の
駆動電流が異なるためである。また、EL素子15のカ
ットオフ電圧が異なるためである。そのため、EL素子
15の駆動用トランジスタ11aのゲート(G)端子に
プログラムする電圧(電流)が異なるからである。たと
えば、Rの画素のコンデンサ11bRを0.02pFと
した場合、他の色(G、Bの画素)のコンデンサ11b
G、11bBを0.025pFとする。また、Rの画素
のコンデンサ11bRを0.02pFとした場合、Gの
画素のコンデンサ11bGと0.03pFとし、Bの画
素のコンデンサ11bBを0.025pFとするなどで
ある。このように、R、G、Bの画素ごとにコンデンサ
11bの容量を変化させることのよりオフセットの駆動
電流をRGBごとに調整することができる。したがっ
て、各RGBの黒表示レベルを最適値にすることができ
る。
Further, the capacitor 19b for punch-through voltage
It is preferable to change the size (capacity) of R, G, and B modulated by the pixel. This is because the drive currents of the R, G, and B EL elements 15 are different. This is also because the cutoff voltage of the EL element 15 is different. Therefore, the voltage (current) programmed in the gate (G) terminal of the driving transistor 11a of the EL element 15 is different. For example, when the capacitor 11bR for the R pixel is 0.02 pF, the capacitors 11b for other colors (pixels for G and B) are
G and 11bB are set to 0.025 pF. Further, when the capacitor 11bR of the R pixel is 0.02 pF, the capacitors 11bG and G of the G pixel are 0.03 pF, and the capacitor 11bB of the B pixel is 0.025 pF. In this way, by changing the capacitance of the capacitor 11b for each of the R, G, and B pixels, the offset drive current can be adjusted for each RGB. Therefore, the black display level of each RGB can be set to the optimum value.

【0453】以上は、突き抜け電圧発生用のコンデンサ
19bの容量を変化させるとしたが、突き抜け電圧は、
保持用のコンデンサ19aと突き抜け電圧発生用のコン
デンサ19bとの容量の相対的なものである。したがっ
て、コンデンサ19bをR、G、Bの画素で変化するこ
とに限定するものではない。つまり、保持用コンデンサ
19aの容量を変化させてもよい。たとえば、Rの画素
のコンデンサ11aRを1.0pFとした場合、Gの画
素のコンデンサ11aGと1.2pFとし、Bの画素の
コンデンサ11aBを0.9pFとするなどである。こ
の時、突き抜け用コンデンサ19bの容量は、R、G、
Bで共通の値とする。したがって、本発明は、保持用の
コンデンサ19aと突き抜け電圧発生用のコンデンサ1
9bとの容量比を、R、G、Bの画素のうち、少なくと
も1つを他と異ならせたものである。なお、保持用のコ
ンデンサ19aの容量と突き抜け電圧発生用のコンデン
サ19bとの容量との両方をR、G、B画素で変化させ
てもよい。
In the above, the capacity of the capacitor 19b for generating the punch-through voltage is changed, but the punch-through voltage is
This is a relative capacitance of the holding capacitor 19a and the punch-through voltage generating capacitor 19b. Therefore, the capacitor 19b is not limited to being changed for the R, G, and B pixels. That is, the capacitance of the holding capacitor 19a may be changed. For example, when the capacitor 11aR of the R pixel is 1.0 pF, the capacitors 11aG and G of the G pixel are 1.2 pF, and the capacitor 11aB of the B pixel is 0.9 pF. At this time, the capacitance of the punch-through capacitor 19b is R, G,
B has a common value. Therefore, according to the present invention, the capacitor 19a for holding and the capacitor 1 for generating the punch-through voltage are provided.
9B, at least one of the R, G, and B pixels has a different capacity ratio from the others. Note that both the capacitance of the holding capacitor 19a and the capacitance of the punch-through voltage generating capacitor 19b may be changed for the R, G, and B pixels.

【0454】また、画面50の左右で突き抜け電圧用の
コンデンサ19bの容量を変化させてもよい。ゲートド
ライバ12に近い位置にある画素16は信号供給側に配
置されているので、ゲート信号の立ち上がりが速い(ス
ルーレートが高いからである)ため、突き抜け電圧が大
きくなる。ゲート信号線17端に配置(形成)されてい
る画素は、信号波形が鈍っている(ゲート信号線17に
は容量があるためである)。ゲート信号の立ち上がりが
遅い(スルーレートが遅い)ため、突き抜け電圧が小さ
くなるためである。したがって、ゲートドライバ12と
の接続側に近い画素16の突き抜け電圧用コンデンサ1
9bを小さくする。また、ゲート信号線17端はコンデ
ンサ19bを大きくする。たとえば、画面の左右でコン
デンサの容量は10%程度変化させる。
Further, the capacitance of the capacitor 19b for punch-through voltage may be changed between the left and right sides of the screen 50. Since the pixel 16 located near the gate driver 12 is arranged on the signal supply side, the gate signal rises quickly (because the slew rate is high), and thus the punch-through voltage becomes large. Pixels arranged (formed) at the end of the gate signal line 17 have a dull signal waveform (because the gate signal line 17 has a capacitance). This is because the gate signal rises slowly (the slew rate is slow), and the punch-through voltage becomes small. Therefore, the punch-through voltage capacitor 1 of the pixel 16 near the connection side with the gate driver 12
9b is reduced. Further, the end of the gate signal line 17 enlarges the capacitor 19b. For example, the capacitance of the capacitor is changed on the left and right of the screen by about 10%.

【0455】発生する突き抜け電圧は、保持用コンデン
サ19aと突き抜け電圧発生用のコンデンサ19bの容
量比で決定される。したがって、画面の左右で突き抜け
電圧発生用のコンデンサ19bの大きさを変化させると
したが、これに限定するものではない。突き抜け電圧発
生用のコンデンサ19bは画面の左右で一定にし、電荷
保持用のコンデンサ19aの容量を画面の左右で変化さ
せてもよい。また、突き抜け電圧発生用のコンデンサ1
9bと、電荷保持用のコンデンサ19a容量の両方を画
面の左右で変化させてもよいことは言うまでもない。
The punch-through voltage generated is determined by the capacitance ratio between the holding capacitor 19a and the punch-through voltage generating capacitor 19b. Therefore, although the size of the capacitor 19b for generating the punch-through voltage is changed on the left and right of the screen, the present invention is not limited to this. The punch-through voltage generating capacitor 19b may be constant on the left and right sides of the screen, and the capacitance of the charge holding capacitor 19a may be changed on the left and right sides of the screen. Also, a capacitor 1 for generating punch-through voltage
It goes without saying that both 9b and the capacitance of the charge holding capacitor 19a may be changed on the left and right of the screen.

【0456】本発明のN倍パルス駆動の課題にEL素子
15に印加する電流が瞬時的ではあるが、従来と比較し
てN倍大きいという問題がある。電流が大きいとEL素
子の寿命を低下させる場合がある。この課題を解決する
ためには、EL素子15に逆バイアス電圧Vmを印加す
ることが有効である。
The problem of the N-fold pulse driving of the present invention is that the current applied to the EL element 15 is instantaneous, but there is a problem that it is N-fold larger than the conventional one. If the current is large, the life of the EL element may be shortened. In order to solve this problem, it is effective to apply the reverse bias voltage Vm to the EL element 15.

【0457】EL素子15において、電子は陰極(カソ
ード)より電子輸送層に注入されると同時に正孔も陽極
(アノード)から正孔輸送層に注入される。注入された
電子、正孔は印加電界により対極に移動する。その際、
有機層中にトラップされたり、発光層界面でのエネルギ
ー準位の差によりのようにキャリアが蓄積されたりす
る。
In the EL element 15, electrons are injected from the cathode (cathode) into the electron transport layer, and at the same time holes are also injected from the anode (anode) into the hole transport layer. The injected electrons and holes move to the counter electrode due to the applied electric field. that time,
They may be trapped in the organic layer or carriers may be accumulated due to the difference in energy level at the light emitting layer interface.

【0458】有機層中に空間電荷が蓄積されると分子が
酸化もしくは還元され、生成されたラジカル陰イオン分
子もしくはラジカル陽イオン分子が不安定であること
で、膜質の低下により輝度の低下および定電流駆動時の
駆動電圧の上昇を招くことが知られている。これを防ぐ
ために、一例としてデバイス構造を変化させ、逆方向電
圧を印加している。
When space charges are accumulated in the organic layer, the molecules are oxidized or reduced, and the generated radical anion molecules or radical cation molecules are unstable, so that the film quality is deteriorated and the brightness is lowered and the brightness is reduced. It is known that driving voltage during current driving increases. In order to prevent this, as an example, the device structure is changed and a reverse voltage is applied.

【0459】逆バイアス電圧が印加されると、逆方向電
流が印加されるため、注入された電子及び正孔がそれぞ
れ陰極及び陽極へ引き抜かれる。これにより、有機層中
の空間電荷形成を解消し、分子の電気化学的劣化を抑え
ることで寿命を長くすることが可能となる。
When a reverse bias voltage is applied, a reverse current is applied, so the injected electrons and holes are extracted to the cathode and anode, respectively. This eliminates the formation of space charges in the organic layer and suppresses the electrochemical deterioration of the molecules, which makes it possible to prolong the life.

【0460】図45は、逆バイアス電圧VmとEL素子
15の端子電圧の変化を示している。この端子電圧と
は、EL素子15に定格電流を印加した時である。図4
5はEL素子15に流す電流が電流密度100A/平方
メーターの場合であるが、図45の傾向は、電流密度5
0〜100A/平方メーターの場合とほとんど差がなか
った。したがって、広い範囲の電流密度で適用できると
推定される。
FIG. 45 shows changes in the reverse bias voltage Vm and the terminal voltage of the EL element 15. The terminal voltage is when the rated current is applied to the EL element 15. Figure 4
No. 5 is a case where the current passed through the EL element 15 has a current density of 100 A / square meter, the tendency of FIG.
There was almost no difference from the case of 0 to 100 A / square meter. Therefore, it is estimated that it can be applied in a wide range of current density.

【0461】縦軸は初期のEL素子15の端子電圧に対
して、2500時間後の端子電圧との比である。たとえ
ば、経過時間0時間において、電流密度100A/平方
メーターの電流の印加した時の端子電圧が8(V)と
し、経過時間2500時間において、電流密度100A
/平方メーターの電流の印加した時の端子電圧が10
(V)とすれば、端子電圧比は、10/8=1.25で
ある。
The vertical axis represents the ratio of the initial terminal voltage of the EL element 15 to the terminal voltage after 2500 hours. For example, when the elapsed time is 0 hours, the terminal voltage is 8 (V) when a current density of 100 A / square meter is applied, and the elapsed time is 2500 hours, the current density is 100 A.
/ Terminal voltage when current of square meter is applied is 10
If it is (V), the terminal voltage ratio is 10/8 = 1.25.

【0462】横軸は、逆バイアス電圧Vmと1周期に逆
バイアス電圧を印加した時間t1の積に対する定格端子
電圧V0の比である。たとえば、60Hz(とくに60
Hzに意味はないが)で、逆バイアス電圧Vmを印加し
た時間が1/2(半分)であれば、t1=0.5であ
る。また、経過時間0時間において、電流密度100A
/平方メーターの電流の印加した時の端子電圧(定格端
子電圧)が8(V)とし、逆バイアス電圧Vmを8
(V)とすれば、|逆バイアス電圧×t1|/(定格端
子電圧×t2)=|−8(V)×0.5|/(8(V)
×0.5)=1.0となる。
The horizontal axis represents the ratio of the rated terminal voltage V0 to the product of the reverse bias voltage Vm and the time t1 when the reverse bias voltage is applied in one cycle. For example, 60Hz (especially 60
However, if the time when the reverse bias voltage Vm is applied is 1/2 (half), t1 = 0.5. Further, at the elapsed time of 0 hours, the current density is 100 A
/ The terminal voltage (rated terminal voltage) when a current of square meter is applied is 8 (V), and the reverse bias voltage Vm is 8
If (V), then | reverse bias voltage × t1 | / (rated terminal voltage × t2) = | −8 (V) × 0.5 | / (8 (V)
× 0.5) = 1.0.

【0463】図45によれば、|逆バイアス電圧×t1
|/(定格端子電圧×t2)が1.0以上で端子電圧比
の変化はなくなる(初期の定格端子電圧から変化しな
い)。逆バイアス電圧Vmの印加による効果がよく発揮
されている。しかし、|逆バイアス電圧×t1|/(定
格端子電圧×t2)が1.75以上で端子電圧比は増加
する傾向にある。したがって、|逆バイアス電圧×t1
|/(定格端子電圧×t2)は1.0以上にするように
逆バイアス電圧Vmの大きさおよび印加時間比t1(も
しくはt2、あるいはt1とt2との比率)を決定する
とよい。また、好ましくは、|逆バイアス電圧×t1|
/(定格端子電圧×t2)は1.75以下になるように
ように逆バイアス電圧Vmの大きさおよび印加時間比t
1などを決定するとよい。
According to FIG. 45, | reverse bias voltage × t1
When | / (rated terminal voltage × t2) is 1.0 or more, the terminal voltage ratio does not change (it does not change from the initial rated terminal voltage). The effect of applying the reverse bias voltage Vm is well exhibited. However, when | reverse bias voltage × t1 | / (rated terminal voltage × t2) is 1.75 or more, the terminal voltage ratio tends to increase. Therefore, | reverse bias voltage × t1
The magnitude of the reverse bias voltage Vm and the application time ratio t1 (or t2, or the ratio of t1 and t2) may be determined so that | / (rated terminal voltage × t2) is 1.0 or more. Further, preferably, | reverse bias voltage × t1 |
The magnitude of the reverse bias voltage Vm and the application time ratio t are set so that / (rated terminal voltage × t2) becomes 1.75 or less.
You may decide 1 or the like.

【0464】ただし、バイアス駆動を行う場合は、逆バ
イアスVmと定格電流とを交互に印加する必要がある。
図46のようにサンプルAとBとの単位時間あたりの平
均輝度を等しくしようとすると、逆バイアス電圧を印加
する場合は、印加しない場合に比較して瞬時的には高い
電流を流す必要がある。そのため、逆バイアス電圧Vm
を印加する場合(図46のサンプルA)のEL素子15
の端子電圧も高くなる。
However, when the bias driving is performed, it is necessary to alternately apply the reverse bias Vm and the rated current.
When it is attempted to equalize the average brightness per unit time of the samples A and B as shown in FIG. 46, when a reverse bias voltage is applied, it is necessary to instantaneously flow a high current as compared with the case where no reverse bias voltage is applied. . Therefore, the reverse bias voltage Vm
EL element 15 when applying a voltage (Sample A in FIG. 46)
The terminal voltage of is also high.

【0465】しかし、図45では、逆バイアス電圧を印
加する駆動方法でも、定格端子電圧V0とは、平均輝度
を満足する端子電圧(つまり、EL素子15を点灯する
端子電圧)とする(本明細書の具体例によれば、電流密
度200A/平方メーターの電流の印加した時の端子電
圧である。ただし、1/2デューティであるので、1周
期の平均輝度は電流密度200A/平方メーターでの輝
度となる)。
However, in FIG. 45, even in the driving method in which the reverse bias voltage is applied, the rated terminal voltage V0 is the terminal voltage satisfying the average luminance (that is, the terminal voltage for lighting the EL element 15) (this specification). According to the specific example of the book, the terminal voltage when a current having a current density of 200 A / square meter is applied, but since the duty is 1/2, the average luminance of one cycle is 200 A / square meter. Brightness).

【0466】以上の事項は、EL素子15を、白ラスタ
ー表示(画面全体のEL素子に最大電流を印加している
場合)を想定している。しかし、EL表示装置の映像表
示を行う場合は、自然画であり、階調表示を行う。した
がって、たえず、EL素子15の白ピーク電流(最大白
表示で流れる電流。本明細書の具体例では、平均電流密
度100A/平方メーターの電流)が流れているのでは
ない。
The above items assume that the EL element 15 is a white raster display (when the maximum current is applied to the EL elements on the entire screen). However, when displaying an image on the EL display device, it is a natural image, and gradation display is performed. Therefore, the white peak current of the EL element 15 (current flowing at maximum white display; in the specific example of the present specification, average current density of 100 A / square meter of current) does not always flow.

【0467】一般的に、映像表示を行う場合は、各EL
素子15に印加される電流(流れる電流)は、白ピーク
電流(定格端子電圧時に流れる電流。本明細書の具体例
によれば、電流密度100A/平方メーターの電流)の
約0.2倍である。
Generally, when displaying images, each EL is
The current applied to the element 15 (current flowing) is about 0.2 times the white peak current (current flowing at the rated terminal voltage. According to the specific example of the present specification, current density is 100 A / square meter current). is there.

【0468】したがって、図45の実施例では、映像表
示を行う場合は横軸の値に0.2をかけるものとする必
要がある。したがって、|逆バイアス電圧×t1|/
(定格端子電圧×t2)は0.2以上にするように逆バ
イアス電圧Vmの大きさおよび印加時間比t1(もしく
はt2、あるいはt1とt2との比率など)を決定する
とよい。また、好ましくは、|逆バイアス電圧×t1|
/(定格端子電圧×t2)は1.75×0.2=0.3
5以下になるようにように逆バイアス電圧Vmの大きさ
および印加時間比t1などを決定するとよい。
Therefore, in the embodiment of FIG. 45, it is necessary to multiply the value on the horizontal axis by 0.2 when displaying an image. Therefore, | reverse bias voltage × t1 | /
The magnitude of the reverse bias voltage Vm and the application time ratio t1 (or t2, or the ratio between t1 and t2) may be determined so that (rated terminal voltage × t2) is 0.2 or more. Further, preferably, | reverse bias voltage × t1 |
/ (Rated terminal voltage x t2) is 1.75 x 0.2 = 0.3
The magnitude of the reverse bias voltage Vm, the application time ratio t1 and the like may be determined so as to be 5 or less.

【0469】つまり、図45の横軸(|逆バイアス電圧
×t1|/(定格端子電圧×t2))において、1.0
の値を0.2とする必要がある。したがって、表示パネ
ルに映像を表示する(この使用状態が通常であろう。白
ラスターを常時表示することはないであろう)時は、|
逆バイアス電圧×t1|/(定格端子電圧×t2)が
0.2よりも大きくなるように、逆バイアス電圧Vmを
所定時間t1印加するようにする。また、|逆バイアス
電圧×t1|/(定格端子電圧×t2)の値が大きくな
っても、図45で図示するように、端子電圧比の増加は
大きくない。したがって、上限値は白ラスター表示を実
施することも考慮して、|逆バイアス電圧×t1|/
(定格端子電圧×t2)の値が1.75以下を満足する
ようにすればよい。
That is, on the horizontal axis of FIG. 45 (| reverse bias voltage × t1 | / (rated terminal voltage × t2)), 1.0
The value of must be 0.2. Therefore, when displaying an image on the display panel (this usage state is normal, the white raster will not always be displayed),
The reverse bias voltage Vm is applied for a predetermined time t1 so that the reverse bias voltage × t1 | / (rated terminal voltage × t2) becomes larger than 0.2. Further, even if the value of | reverse bias voltage × t1 | / (rated terminal voltage × t2) becomes large, the increase in the terminal voltage ratio is not large as shown in FIG. Therefore, considering the white raster display as the upper limit, | reverse bias voltage × t1 | /
The value of (rated terminal voltage × t2) may be set to satisfy 1.75 or less.

【0470】以下、図面を参照しながら、本発明の逆バ
イアス方式について説明をする。なお、本発明はEL素
子15に電流が流れていない期間に逆バイアス電圧Vm
(電流)を印加することを基本とする。しかし、これに
限定するものではない。たとえば、EL素子15に電流
が流れている状態で、強制的に逆バイアス電圧Vmを印
加してもよい。なお、この場合は、結果としてEL素子
15には電流が流れず、非点灯状態(黒表示状態)とな
るであろう。また、本発明は、主として電流プログラム
の画素構成で逆バイアス電圧Vmを印加することを中心
として説明するがこれに限定するものではない。
The reverse bias method of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the present invention, the reverse bias voltage Vm
It is basically applied (current). However, the present invention is not limited to this. For example, the reverse bias voltage Vm may be forcibly applied while a current is flowing through the EL element 15. In this case, as a result, no current will flow through the EL element 15, and the EL element 15 will be in a non-lighting state (black display state). Further, although the present invention is mainly described by applying the reverse bias voltage Vm in the pixel configuration of the current program, the present invention is not limited to this.

【0471】逆バイアス駆動の画素構成では、図47に
図示するように、トランジスタ11gをNチャンネルと
する。もちろん、Pチャンネルでもよい。
In the pixel structure of the reverse bias drive, as shown in FIG. 47, the transistor 11g is an N channel. Of course, the P channel may be used.

【0472】図47では、ゲート電位制御線473に印
加する電圧を逆バイアス線471に印加している電圧よ
りも高くすることにより、トランジスタ11g(N)が
オンし、EL素子15のアノード電極に逆バイアス電圧
Vmが印加される。
In FIG. 47, by making the voltage applied to the gate potential control line 473 higher than the voltage applied to the reverse bias line 471, the transistor 11g (N) is turned on and the anode electrode of the EL element 15 is turned on. Reverse bias voltage Vm is applied.

【0473】また、図47の画素構成などにおいて、ゲ
ート電位制御線473を常時、電位固定して動作させて
もよい。たとえば、図47においてVk電圧が0(V)
とする時、ゲート電位制御線473の電位を0(V)以
上(好ましくは2(V)以上)にする。なお、この電位
をVsgとする。この状態で、逆バイアス線471の電
位を逆バイアス電圧Vm(0(V)以下、好ましくはV
kより−5(V)以上小さい電圧)にすると、トランジ
スタ11g(N)がオンし、EL素子15のアノード
に、逆バイアス電圧Vmが印加される。逆バイアス線4
71の電圧をゲート電位制御線473の電圧(つまり、
トランジスタ11gのゲート(G)端子電圧)よりも高
くすると、トランジスタ11gはオフ状態であるため、
EL素子15には逆バイアス電圧Vmは印加されない。
もちろん、この状態の時に、逆バイアス線471をハイ
インピーダンス状態(オープン状態など)としてもよい
ことは言うまでもない。
Further, in the pixel structure of FIG. 47 or the like, the gate potential control line 473 may always be fixed in potential and operated. For example, in FIG. 47, the Vk voltage is 0 (V).
In that case, the potential of the gate potential control line 473 is set to 0 (V) or higher (preferably 2 (V) or higher). Note that this potential is Vsg. In this state, the potential of the reverse bias line 471 is set to the reverse bias voltage Vm (0 (V) or less, preferably V
When the voltage is smaller than k by −5 (V) or more), the transistor 11g (N) is turned on, and the reverse bias voltage Vm is applied to the anode of the EL element 15. Reverse bias line 4
71 is the voltage of the gate potential control line 473 (that is,
When the voltage is higher than the gate (G) terminal voltage of the transistor 11g), the transistor 11g is in the off state,
The reverse bias voltage Vm is not applied to the EL element 15.
Needless to say, the reverse bias line 471 may be in a high impedance state (open state or the like) in this state.

【0474】また、図48に図示するように、逆バイア
ス線471を制御するゲートドライバ回路12cを別途
形成または配置してもよい。ゲートドライバ回路12c
は、ゲートドライバ回路12aと同様に順次シフト動作
し、シフト動作に同期して、逆バイアス電圧を印加する
位置がシフトされる。
Further, as shown in FIG. 48, the gate driver circuit 12c for controlling the reverse bias line 471 may be separately formed or arranged. Gate driver circuit 12c
Shift sequentially in the same manner as the gate driver circuit 12a, and the position to which the reverse bias voltage is applied is shifted in synchronization with the shift operation.

【0475】以上の駆動方法では、トランジスタ11g
のゲート(G)端子は電位固定し、逆バイアス線471
の電位を変化させるだけで、EL素子15に逆バイアス
電圧Vmを印加することができる。したがって、逆バイ
アス電圧Vmの印加制御が容易である。また、トランジ
スタ11gのゲート(G)端子とソース(S)端子間に
印加される電圧を低減できる。このことは、トランジス
タ11gがPチャンネルの場合も同様である。
In the above driving method, the transistor 11g
The gate (G) terminal of the
The reverse bias voltage Vm can be applied to the EL element 15 only by changing the potential of the. Therefore, it is easy to control the application of the reverse bias voltage Vm. Further, the voltage applied between the gate (G) terminal and the source (S) terminal of the transistor 11g can be reduced. This is the same when the transistor 11g is a P channel.

【0476】また、逆バイアス電圧Vmの印加は、EL
素子15に電流を流していない時に行うものである。し
たがって、トランジスタ11dがオンしていない時に、
トランジスタ11gをオンさせることにより行えばよ
い。つまり、トランジスタ11dのオンオフロジックの
逆をゲート電位制御線473に印加すればよい。たとえ
ば、図47では、ゲート信号線17bにトランジスタ1
1dおよびトランジスタ11gのゲート(G)端子を接
続すればよい。トランジスタ11dはPチャンネルであ
り、トランジスタ11gはNチャンネルであるため、オ
ンオフ動作は反対となる。
The reverse bias voltage Vm is applied by EL
This is done when no current is flowing through the element 15. Therefore, when the transistor 11d is not turned on,
This may be done by turning on the transistor 11g. That is, the reverse of the on / off logic of the transistor 11d may be applied to the gate potential control line 473. For example, in FIG. 47, the transistor 1 is connected to the gate signal line 17b.
1d and the gate (G) terminal of the transistor 11g may be connected. Since the transistor 11d is a P channel and the transistor 11g is an N channel, the on / off operation is opposite.

【0477】図49は逆バイアス駆動のタイミングチャ
ートである。なお、チャート図において(1)(2)な
どの添え字は、画素行を示している。説明を容易にする
ため、(1)とは、第1画素行目と示し、(2)とは第
2画素行目を示すとして説明をするが、これに限定する
ものではない。(1)がN画素行目を示し、(2)がN
+1画素行目を示すと考えても良い。以上のことは他の
実施例でも、特例を除いて同様である。また、図49な
どの実施例では、図1などの画素構成を例示して説明を
するがこれに限定されるものではない。たとえば、図4
1、図38などの画素構成においても適用できるもので
ある。
FIG. 49 is a timing chart of reverse bias drive. In the chart, subscripts such as (1) and (2) indicate pixel rows. For ease of description, (1) will be described as the first pixel row and (2) will be described as the second pixel row, but the present invention is not limited to this. (1) shows the Nth pixel row, and (2) shows N pixel rows.
It may be considered to indicate the + 1st pixel row. The above is the same in other embodiments except for special cases. Further, in the embodiment shown in FIG. 49 and the like, the pixel configuration shown in FIG. 1 and the like will be described as an example, but the present invention is not limited to this. For example, in FIG.
The present invention can also be applied to the pixel configurations shown in FIG.

【0478】第1画素行目のゲート信号線17a(1)
にオン電圧(Vgl)が印加されている時には、第1画
素行目のゲート信号線17b(1)にはオフ電圧(Vg
h)が印加される。つまり、トランジスタ11dはオフ
であり、EL素子15には電流が流れていない。
The gate signal line 17a (1) of the first pixel row
When the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b (1) of the first pixel row, the OFF voltage (Vg
h) is applied. That is, the transistor 11d is off, and no current flows in the EL element 15.

【0479】逆バイアス線471(1)には、Vsl電
圧(トランジスタ11gがオンする電圧)が印加され
る。したがって、トランジスタ11gがオンし、EL素
子15には逆バイアス電圧が印加されている。逆バイア
ス電圧は、ゲート信号線17bにオフ電圧(Vgh)が
印加された後、所定期間(1Hの1/200以上の期
間、または、0.5μsec)後に、逆バイアス電圧が
印加される。また、ゲート信号線17bにオン電圧(V
gl)が印加される所定期間(1Hの1/200以上の
期間、または、0.5μsec)前に、逆バイアス電圧
がオフされる。これは、トランジスタ11dとトランジ
スタ11gが同時にオンとなることを回避するためであ
る。
The reverse bias line 471 (1) is applied with the Vsl voltage (voltage at which the transistor 11g turns on). Therefore, the transistor 11g is turned on, and the reverse bias voltage is applied to the EL element 15. The reverse bias voltage is applied after a predetermined period (1/200 or more of 1H or 0.5 μsec) after the off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17b. Also, the on-voltage (V
The reverse bias voltage is turned off before a predetermined period (1/200 or more of 1H or 0.5 μsec) in which gl) is applied. This is to prevent the transistors 11d and 11g from turning on at the same time.

【0480】次の水平走査期間(1H)には、ゲート信
号線17aにはオフ電圧(Vgh)が印加され、第2画
素行が選択される。つまり、ゲート信号線17b(2)
にオン電圧が印加される。一方、ゲート信号線17bに
はオン電圧(Vgl)が印加され、トランジスタ11d
がオンして、EL素子15にトランジスタ11aから電
流が流れEL素子15が発光する。また、逆バイアス線
471(1)にはオフ電圧(Vsh)が印加されて、第
1画素行(1)のEL素子15には逆バイアス電圧が印
加されないようになる。第2画素行の逆バイアス線47
1(2)にはVsl電圧(逆バイアス電圧)が印加され
る。
In the next horizontal scanning period (1H), the off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17a, and the second pixel row is selected. That is, the gate signal line 17b (2)
ON voltage is applied to the. On the other hand, an on-voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b, and the transistor 11d
Is turned on, current flows from the transistor 11a to the EL element 15, and the EL element 15 emits light. Further, the off voltage (Vsh) is applied to the reverse bias line 471 (1), and the reverse bias voltage is not applied to the EL element 15 of the first pixel row (1). Reverse bias line 47 of the second pixel row
The Vsl voltage (reverse bias voltage) is applied to 1 (2).

【0481】以上の動作を順次くりかえすことにより、
1画面の画像が書き換えられる。以上の実施例では、各
画素にプログラムされている期間に、逆バイアス電圧を
印加するという構成であった。しかし、図48の回路構
成はこれに限定されるものではない。複数の画素行に連
続して逆バイアス電圧を印加することもできることは明
らかである。また、ブロック駆動(図40参照)や、N
倍パルス駆動、リセット駆動、ダミー画素駆動とも組み
合わせることができることは明らかである。
By repeating the above operation in sequence,
The image on one screen is rewritten. In the above embodiments, the reverse bias voltage is applied during the period programmed in each pixel. However, the circuit configuration of FIG. 48 is not limited to this. It is obvious that the reverse bias voltage can be continuously applied to a plurality of pixel rows. Also, block drive (see FIG. 40) and N
It is obvious that the double pulse driving, the reset driving, and the dummy pixel driving can be combined.

【0482】以上の実施例は、図1の画素構成の場合で
あったが、他の構成においても、図38、図41などの
逆バイアス電圧を印加する構成に適用できることは言う
までもない。たとえば、図50は電流プログラム方式の
画素構成である。
Although the above-described embodiment has been applied to the pixel configuration shown in FIG. 1, it is needless to say that the present invention can be applied to other configurations such as those shown in FIGS. 38 and 41 for applying a reverse bias voltage. For example, FIG. 50 shows a pixel configuration of a current programming method.

【0483】図50は、カレントミラーの画素構成であ
る。トランジスタ11cは画素選択素子である。ゲート
信号線17a1にオン電圧を印加することにより、トラ
ンジスタ11cがオンする。トランジスタ11dはリセ
ット機能と、駆動用トランジスタ11aのドレイン
(D)−ゲート(G)端子間をショート(GDショー
ト)する機能を有するスイッチ素子である。トランジス
タ11dはゲート信号線17a2にオン電圧を印加する
ことによりオンする。
FIG. 50 shows the pixel configuration of the current mirror. The transistor 11c is a pixel selection element. The transistor 11c is turned on by applying an on-voltage to the gate signal line 17a1. The transistor 11d is a switch element having a reset function and a function of short-circuiting (GD short-circuiting) the drain (D) -gate (G) terminals of the driving transistor 11a. The transistor 11d is turned on by applying an on voltage to the gate signal line 17a2.

【0484】トランジスタ11dは、該当画素が選択す
る1H(1水平走査期間、つまり1画素行)以上前にオ
ンする。好ましくは3H前にはオンさせる。3H前とす
れば、3H前にトランジスタ11dがオンし、トランジ
スタ11aのゲート(G)端子とドレイン(D)端子が
ショートされる。そのため、トランジスタ11aはオフ
する。したがって、トランジスタ11bには電流が流れ
なくなり、EL素子15は非点灯となる。
The transistor 11d is turned on at least 1H (one horizontal scanning period, that is, one pixel row) before the corresponding pixel is selected. Preferably, it is turned on before 3H. If it is 3H before, the transistor 11d is turned on before 3H, and the gate (G) terminal and the drain (D) terminal of the transistor 11a are short-circuited. Therefore, the transistor 11a is turned off. Therefore, no current flows through the transistor 11b, and the EL element 15 is turned off.

【0485】EL素子15が非点灯状態の時、トランジ
スタ11gがオンし、EL素子15に逆バイアス電圧が
印加される。したがって、逆バイアス電圧は、トランジ
スタ11dがオンされている期間、印加されることにな
る。そのため、ロジック的にはトランジスタ11dとト
ランジスタ11gとは同時にオンすることになる。
When the EL element 15 is in a non-lighting state, the transistor 11g is turned on and a reverse bias voltage is applied to the EL element 15. Therefore, the reverse bias voltage is applied while the transistor 11d is on. Therefore, in terms of logic, the transistor 11d and the transistor 11g are turned on at the same time.

【0486】トランジスタ11gのゲート(G)端子は
Vsg電圧が印加されて固定されている。逆バイアス線
471をVsg電圧より十分に小さな逆バイアス電圧を
逆バイアス線471に印加することによりトランジスタ
11gがオンする。
The gate (G) terminal of the transistor 11g is fixed by applying the Vsg voltage. By applying a reverse bias voltage that is sufficiently smaller than the Vsg voltage to the reverse bias line 471, the transistor 11g is turned on.

【0487】その後、前記該当画素に映像信号が印加
(書き込まれる)される水平走査期間がくると、ゲート
信号線17a1にオン電圧が印加され、トランジスタ1
1cがオンする。したがって、ソースドライバ回路14
からソース信号線18に出力された映像信号電圧がコン
デンサ19に印加される(トランジスタ11dはオン状
態が維持されている)。
Thereafter, when a horizontal scanning period in which a video signal is applied (written) to the corresponding pixel comes, an ON voltage is applied to the gate signal line 17a1 and the transistor 1 is applied.
1c turns on. Therefore, the source driver circuit 14
The video signal voltage output from the source signal line 18 to the source signal line 18 is applied to the capacitor 19 (the transistor 11d is kept in the ON state).

【0488】トランジスタ11dをオンさせると黒表示
となる。1フィールド(1フレーム)期間に占めるトラ
ンジスタ11dのオン期間が長くなるほど、黒表示期間
の割合が長くなる。したがって、黒表示期間が存在して
も1フィールド(1フレーム)の平均輝度を所望値とす
るためには、表示期間の輝度を高くする必要がある。つ
まり、表示期間にEL素子15に流す電流と大きくする
必要がある。この動作は、本発明のN倍パルス駆動であ
る。したがって、N倍パルス駆動と、トランジスタ11
dをオンさせて黒表示とする駆動とを組み合わせること
が本発明の1つの特徴ある動作である。また、EL素子
15が非点灯状態で、逆バイアス電圧をEL素子15に
印加することが本発明の特徴ある構成(方式)である。
When the transistor 11d is turned on, black display is performed. The longer the ON period of the transistor 11d in one field (one frame) period, the longer the ratio of the black display period. Therefore, in order to set the average luminance of one field (one frame) to a desired value even if there is a black display period, it is necessary to increase the luminance of the display period. That is, it is necessary to increase the current supplied to the EL element 15 during the display period. This operation is the N-fold pulse driving of the present invention. Therefore, N times pulse driving and the transistor 11 are performed.
One of the characteristic operations of the present invention is to combine the driving for turning on d to display black. Further, it is a characteristic configuration (method) of the present invention that a reverse bias voltage is applied to the EL element 15 when the EL element 15 is in a non-lighting state.

【0489】以上の実施例では、画像表示時において、
画素が非点灯時に逆バイアス電圧を印加する方式であっ
たが、逆バイアス電圧を印加する構成はこれに限定する
ものではない。画像を非表示に逆バイアス電圧を印加す
るのであれば、逆バイアス用のTFT11gを各画素に
形成する必要はない。非点灯時とは、表示パネルの使用
を終了した後、あるいは使用前に逆バイアス電圧を印加
する構成である。
In the above embodiment, when displaying an image,
Although the method of applying the reverse bias voltage when the pixel is not illuminated is not limited to this, the configuration of applying the reverse bias voltage. If the reverse bias voltage is applied without displaying the image, it is not necessary to form the reverse bias TFT 11g in each pixel. The non-lighting state is a configuration in which the reverse bias voltage is applied after the use of the display panel is finished or before the use.

【0490】例えば、図1の画素構成において、画素1
6を選択し(TFT11b、TFT11cをオンさせ
る)、ソースドライバIC(回路)14から、ソースド
ライバICが出力できる低い電圧V0(例えば、GND
電圧)を出力して駆動用TFT11aのドレイン端子
(D)に印加する。この状態でTFT11dもオンさせ
ればELのアノード端子にV0電圧が印加される。同時
に、EL素子15のカソードVkにV0電圧に対し、−
5〜−15(V)低い電圧Vm電圧を印加すればEL素
子15に逆バイアス電圧が印加される。また、Vdd電
圧もV0電圧より0〜−5(V)低い電圧を印加するこ
とにより、TFT11aもオフ状態となる。以上のよう
にソースドライバ回路14から電圧を出力し、ゲート信
号線17を制御することにより、逆バイアス電圧をEL
素子15に印加することができる。
For example, in the pixel configuration of FIG.
6 is selected (TFT 11b and TFT 11c are turned on), the source driver IC (circuit) 14 outputs a low voltage V0 (for example, GND) that the source driver IC can output.
Voltage is output and applied to the drain terminal (D) of the driving TFT 11a. If the TFT 11d is also turned on in this state, the V0 voltage is applied to the anode terminal of the EL. At the same time, with respect to the V0 voltage at the cathode Vk of the EL element 15, −
A reverse bias voltage is applied to the EL element 15 by applying a voltage Vm which is lower by 5 to -15 (V). Further, the Vdd voltage is also applied a voltage that is 0 to −5 (V) lower than the V0 voltage, so that the TFT 11a is also turned off. By outputting the voltage from the source driver circuit 14 and controlling the gate signal line 17 as described above, the reverse bias voltage is changed to EL.
It can be applied to the element 15.

【0491】N倍パルス駆動は、1フィールド(1フレ
ーム)期間内において、1度、黒表示をしても再度、E
L素子15に所定の電流(プログラムされた電流(コン
デンサ19に保持されている電圧による))を流すこと
ができる。しかし、図50の構成では、一度、トランジ
スタ11dがオンすると、コンデンサ19の電荷は放電
(減少を含む)されるため、EL素子15に所定の電流
(プログラムされた電流を流すことができない。しか
し、回路動作が容易であるという特徴がある。
In the N-fold pulse driving, even if black display is performed once within one field (one frame) period, the
A predetermined current (a programmed current (depending on the voltage held in the capacitor 19)) can be passed through the L element 15. However, in the configuration of FIG. 50, once the transistor 11d is turned on, the electric charge of the capacitor 19 is discharged (including reduction), so that a predetermined current (a programmed current cannot flow in the EL element 15). The circuit operation is easy.

【0492】なお、以上の実施例は画素が電流プログラ
ムの画素構成であったが、本発明はこれに限定するもの
ではなく、図38、図50のような他の電流方式の画素
構成にも適用することができる。また、図51、図5
4、図62に図示するような電圧プログラムの画素構成
でも適用することができる。
In the above embodiments, the pixel has a pixel configuration of current programming. However, the present invention is not limited to this, and pixel configurations of other current methods as shown in FIGS. 38 and 50 are also possible. Can be applied. Also, FIG. 51 and FIG.
4, it is also applicable to the pixel configuration of the voltage program as shown in FIG.

【0493】図51は一般的に最も簡単な電圧プログラ
ムの画素構成である。トランジスタ11bが選択スイッ
チング素子であり、トランジスタ11aがEL素子15
に電流を印加する駆動用トランジスタである。この構成
で、EL素子15のアノードに逆バイアス電圧印加用の
トランジスタ(スイッチング素子)11gを配置(形
成)している。
FIG. 51 is generally the simplest pixel configuration for voltage programming. The transistor 11b is the selection switching element, and the transistor 11a is the EL element 15
It is a driving transistor for applying a current to the. With this configuration, a transistor (switching element) 11g for applying a reverse bias voltage is arranged (formed) on the anode of the EL element 15.

【0494】図51の画素構成では、EL素子15に流
す電流は、ソース信号線18に印加され、トランジスタ
11bが選択されることにより、トランジスタ11aの
ゲート(G)端子に印加される。
In the pixel configuration of FIG. 51, the current flowing through the EL element 15 is applied to the source signal line 18 and selected by the transistor 11b, so that it is applied to the gate (G) terminal of the transistor 11a.

【0495】まず、図51の構成を説明するために、基
本動作について図52を用いて説明をする。図51の画
素構成は電圧オフセットキャンセラという構成であり、
初期化動作、リセット動作、プログラム動作、発光動作
の4段階で動作する。
First, in order to explain the configuration of FIG. 51, the basic operation will be described with reference to FIG. The pixel configuration of FIG. 51 is a configuration called a voltage offset canceller,
It operates in four stages: initialization operation, reset operation, program operation, and light emission operation.

【0496】水平同期信号(HD)後、初期化動作が実
施される。ゲート信号線17bにオン電圧が印加され、
トランジスタ11gがオンする。また、ゲート信号線1
7aにもオン電圧が印加され、トランジスタ11cがオ
ンする。この時、ソース信号線18にはVdd電圧が印
加される。したがって、コンデンサ19bのa端子には
Vdd電圧が印加されることになる。この状態で、駆動
用トランジスタ11aはオンし、EL素子15に僅かな
電流が流れる。この電流により駆動用トランジスタ11
aのドレイン(D)端子は少なくともトランジスタ11
aの動作点よりも大きな絶対値の電圧値となる。
After the horizontal synchronizing signal (HD), the initialization operation is carried out. ON voltage is applied to the gate signal line 17b,
The transistor 11g turns on. Also, the gate signal line 1
The on-voltage is also applied to 7a, and the transistor 11c is turned on. At this time, the Vdd voltage is applied to the source signal line 18. Therefore, the Vdd voltage is applied to the a terminal of the capacitor 19b. In this state, the driving transistor 11a is turned on, and a slight current flows through the EL element 15. This current causes the driving transistor 11
The drain (D) terminal of a is at least the transistor 11
The absolute voltage value is larger than the operating point of a.

【0497】次にリセット動作が実施される。ゲート信
号線17bにオフ電圧が印加され、トランジスタ11e
がオフする。一方、ゲート信号線17cにT1の期間、
オン電圧が印加され、トランジスタ11bがオンする。
このT1の期間がリセット期間である。また、ゲート信
号線17aには1Hの期間、継続してオン電圧が印加さ
れる。なお、T1は1H期間の20%以上90%以下の
期間とすることが好ましい。もしくは、20μsec以
上160μsec以下の時間とすることが好ましい。ま
た、コンデンサ19b(Cb)とコンデンサ19a(C
a)の容量の比率は、Cb:Ca=6:1以上1:2以
下とすることが好ましい。
Next, the reset operation is carried out. The off voltage is applied to the gate signal line 17b, and the transistor 11e
Turns off. On the other hand, during the period of T1 on the gate signal line 17c,
The on voltage is applied, and the transistor 11b is turned on.
This T1 period is a reset period. The ON voltage is continuously applied to the gate signal line 17a for the period of 1H. Note that T1 is preferably a period of 20% or more and 90% or less of the 1H period. Alternatively, the time is preferably 20 μsec or more and 160 μsec or less. In addition, the capacitor 19b (Cb) and the capacitor 19a (C
The capacity ratio of a) is preferably Cb: Ca = 6: 1 or more and 1: 2 or less.

【0498】リセット期間では、トランジスタ11bの
オンにより、駆動用トランジスタ11aのゲート(G)
端子とドレイン(D)端子間がショートされる。したが
って、トランジスタ11aのゲート(G)端子電圧とド
レイン(D)端子電圧が等しくなり、トランジスタ11
aはオフセット状態(リセット状態:電流が流れない状
態)となる。このリセット状態とはトランジスタ11a
のゲート(G)端子が、電流を流し始める開始電圧近傍
になる状態である。このリセット状態を維持するゲート
電圧はコンデンサ19bのb端子に保持される。したが
って、コンデンサ19には、オフセット電圧(リセット
電圧)が保持されていることになる。
In the reset period, the gate (G) of the driving transistor 11a is turned on by turning on the transistor 11b.
The terminal and the drain (D) terminal are short-circuited. Therefore, the gate (G) terminal voltage and the drain (D) terminal voltage of the transistor 11a become equal,
a is in an offset state (reset state: state in which no current flows). This reset state means the transistor 11a
The gate (G) terminal of is close to the starting voltage at which the current starts to flow. The gate voltage for maintaining this reset state is held at the b terminal of the capacitor 19b. Therefore, the capacitor 19 holds the offset voltage (reset voltage).

【0499】次のプログラム状態では、ゲート信号線1
7cにオフ電圧が印加されトランジスタ11bがオフす
る。一方、ソース信号線18には、Tdの期間、DAT
A電圧が印加される。したがって、駆動用トランジスタ
11aのゲート(G)端子には、DATA電圧+オフセ
ット電圧(リセット電圧)が加えられたものが印加され
る。そのため、駆動用トランジスタ11aはプログラム
された電流を流せるようになる。
In the next programmed state, the gate signal line 1
An off voltage is applied to 7c to turn off the transistor 11b. On the other hand, the source signal line 18 has DAT for the period of Td.
A voltage is applied. Therefore, to the gate (G) terminal of the driving transistor 11a, the one to which the DATA voltage + the offset voltage (reset voltage) is added is applied. Therefore, the driving transistor 11a can flow the programmed current.

【0500】プログラム期間後、ゲート信号線17aに
はオフ電圧が印加され、トランジスタ11cはオフ状態
となり、駆動用トランジスタ11aはソース信号線18
から切り離される。また、ゲート信号線17cにもオフ
電圧が印加され、トランジスタ11bがオフし、このオ
フ状態は1Fの期間保持される。一方、ゲート信号線1
7bには、必要に応じてオン電圧とオフ電圧とが周期的
に印加される。つまり、図13、図15などのN倍パル
ス駆動などと組み合わせること、インターレース駆動と
組み合わせることによりさらに良好な画像表示を実現で
きる。
After the programming period, an off voltage is applied to the gate signal line 17a, the transistor 11c is turned off, and the driving transistor 11a is turned on by the source signal line 18.
Separated from. Further, an off voltage is applied to the gate signal line 17c, the transistor 11b is turned off, and this off state is maintained for a period of 1F. On the other hand, the gate signal line 1
An on-voltage and an off-voltage are periodically applied to 7b as needed. That is, even better image display can be realized by combining with N times pulse driving as shown in FIGS. 13 and 15 or by combining with interlace driving.

【0501】図52の駆動方式では、リセット状態でコ
ンデンサ19には、トランジスタ11aの開始電流電圧
(オフセット電圧、リセット電圧)が保持される。その
ため、このリセット電圧がトランジスタ11aのゲート
(G)端子に印加されている時が、最も暗い黒表示状態
である。しかし、ソース信号線18と画素16とのカッ
プリング、コンデンサ19への突き抜け電圧あるいはト
ランジスタの突き抜けにより、黒浮き(コントラスト低
下)が発生する。したがって、図53で説明した駆動方
法では、表示コントラストを高くすることができない。
In the drive system of FIG. 52, the capacitor 19 holds the starting current voltage (offset voltage, reset voltage) of the transistor 11a in the reset state. Therefore, the darkest black display state is when the reset voltage is applied to the gate (G) terminal of the transistor 11a. However, due to the coupling between the source signal line 18 and the pixel 16, the punch-through voltage to the capacitor 19 or the punch-through of the transistor, black floating (decrease in contrast) occurs. Therefore, the driving method described with reference to FIG. 53 cannot increase the display contrast.

【0502】逆バイアス電圧VmをEL素子15に印加
するためには、トランジスタ11aがオフさせる必要が
ある。トランジスタ11aをオフさせるためには、トラ
ンジスタ11aのVdd端子とゲート(G)端子間をシ
ョートすればよい。この構成については、後に図53を
用いて説明をする。
In order to apply the reverse bias voltage Vm to the EL element 15, it is necessary to turn off the transistor 11a. In order to turn off the transistor 11a, the Vdd terminal and the gate (G) terminal of the transistor 11a may be short-circuited. This configuration will be described later with reference to FIG.

【0503】また、ソース信号線18にVdd電圧また
はトランジスタ11aをオフさせる電圧を印加し、トラ
ンジスタ11bをオンさせてトランジスタ11aのゲー
ト(G)端子に印加させてもよい。この電圧によりトラ
ンジスタ11aがオフする(もしくは、ほとんど、電流
が流れないような状態にする(略オフ状態:トランジス
タ11aが高インピーダンス状態))。その後、トラン
ジスタ11gをオンさせて、EL素子15に逆バイアス
電圧を印加する。この逆バイアス電圧Vmの印加は、全
画素同時に行ってもよい。つまり、ソース信号線18に
トランジスタ11aを略オフする電圧を印加し、すべて
の(複数の)画素行のトランジスタ11bをオンさせ
る。したがって、トランジスタ11aがオフする。その
後、トランジスタ11gをオンさせて、逆バイアス電圧
をEL素子15に印加する。その後、順次、各画素行に
映像信号を印加し、表示装置に画像を表示する。
Further, the Vdd voltage or the voltage for turning off the transistor 11a may be applied to the source signal line 18, and the transistor 11b may be turned on to apply it to the gate (G) terminal of the transistor 11a. This voltage turns off the transistor 11a (or puts it in a state in which almost no current flows (substantially off state: the transistor 11a is in a high impedance state)). Then, the transistor 11g is turned on to apply a reverse bias voltage to the EL element 15. The reverse bias voltage Vm may be applied to all pixels at the same time. That is, a voltage that substantially turns off the transistor 11a is applied to the source signal line 18 to turn on the transistors 11b in all (a plurality of) pixel rows. Therefore, the transistor 11a is turned off. Then, the transistor 11g is turned on, and a reverse bias voltage is applied to the EL element 15. After that, a video signal is sequentially applied to each pixel row to display an image on the display device.

【0504】次に、図51の画素構成におけるリセット
駆動について説明をする。図53はその実施例である。
図53に示すように画素16aのトランジスタ11cの
ゲート(G)端子に接続されたゲート信号線17aは次
段画素16bのリセット用トランジスタ11bのゲート
(G)端子にも接続されている。同様に、画素16bの
トランジスタ11cのゲート(G)端子に接続されたゲ
ート信号線17aは次段画素16cのリセット用トラン
ジスタ11bのゲート(G)端子に接続されている。
Next, reset driving in the pixel configuration of FIG. 51 will be described. FIG. 53 is an example thereof.
As shown in FIG. 53, the gate signal line 17a connected to the gate (G) terminal of the transistor 11c of the pixel 16a is also connected to the gate (G) terminal of the reset transistor 11b of the next-stage pixel 16b. Similarly, the gate signal line 17a connected to the gate (G) terminal of the transistor 11c of the pixel 16b is connected to the gate (G) terminal of the reset transistor 11b of the next-stage pixel 16c.

【0505】したがって、画素16aのトランジスタ1
1cのゲート(G)端子に接続されたゲート信号線17
aにオン電圧を印加すると、画素16aが電圧プログラ
ム状態となるとともに、次段画素16bのリセット用ト
ランジスタ11bがオンし、画素16bの駆動用トラン
ジスタ11aがリセット状態となる。同様に、画素16
bのトランジスタ11cのゲート(G)端子に接続され
たゲート信号線17aにオン電圧を印加すると、画素1
6bが電流プログラム状態となるとともに、次段画素1
6cのリセット用トランジスタ11bがオンし、画素1
6cの駆動用トランジスタ11aがリセット状態とな
る。したがって、容易に前段ゲート制御方式によるリセ
ット駆動を実現できる。また、各画素あたりのゲート信
号線の引き出し本数を減少させることができる。
Therefore, the transistor 1 of the pixel 16a is
Gate signal line 17 connected to the gate (G) terminal of 1c
When the ON voltage is applied to a, the pixel 16a enters the voltage program state, the reset transistor 11b of the next-stage pixel 16b turns on, and the driving transistor 11a of the pixel 16b enters the reset state. Similarly, pixel 16
When an on-voltage is applied to the gate signal line 17a connected to the gate (G) terminal of the transistor 11c of FIG.
6b is in the current program state and the next-stage pixel 1
The resetting transistor 11b of 6c is turned on, and the pixel 1
The driving transistor 11a of 6c is reset. Therefore, it is possible to easily realize the reset drive by the front gate control method. Further, the number of gate signal lines drawn out for each pixel can be reduced.

【0506】さらに詳しく説明する。図53(a)のよ
うにゲート信号線17に電圧が印加されているとする。
つまり、画素16aのゲート信号線17aにオン電圧が
印加され、他の画素16のゲート信号線17aにオフ電
圧が印加されているとする。また、ゲート信号線17b
は画素16a、16bにはオフ電圧が印加され、画素1
6c、16dにはオン電圧が印加されているとする。
This will be described in more detail. It is assumed that a voltage is applied to the gate signal line 17 as shown in FIG.
That is, it is assumed that the ON voltage is applied to the gate signal line 17a of the pixel 16a and the OFF voltage is applied to the gate signal line 17a of the other pixel 16. Also, the gate signal line 17b
Is applied with an off voltage to the pixels 16a and 16b,
It is assumed that an on-voltage is applied to 6c and 16d.

【0507】この状態では、画素16aは電圧プログラ
ム状態で非点灯、画素16bはリセット状態で非点灯、
画素16cはプログラム電流の保持状態で点灯、画素1
6dはプログラム電流の保持状態で点灯状態である。
In this state, the pixel 16a is not illuminated in the voltage program state, and the pixel 16b is not illuminated in the reset state.
Pixel 16c lights up while holding the program current, pixel 1
6d is a lighting state in which the program current is held.

【0508】1H後、制御用ゲートドライバ回路12の
シフトレジスタ回路61内のデータが1ビットシフト
し、図53(b)の状態となる。図53(b)の状態
は、画素16aはプログラム電流保持状態で点灯、画素
16bは電流プログラム状態で非点灯、画素16cはリ
セット状態で非点灯、画素16dはプログラム保持状態
で点灯状態である。
After 1H, the data in the shift register circuit 61 of the control gate driver circuit 12 is shifted by 1 bit, and the state shown in FIG. 53 (b) is obtained. In the state of FIG. 53B, the pixel 16a is lit in the program current holding state, the pixel 16b is not lit in the current program state, the pixel 16c is unlit in the reset state, and the pixel 16d is lit in the program holding state.

【0509】以上のことから、各画素は前段に印加され
たゲート信号線17aの電圧により、次段の画素の駆動
用トランジスタ11aがリセットされ、次の水平走査期
間に電圧プログラムが順次行われることがわかる。
From the above, in each pixel, the driving transistor 11a of the pixel of the next stage is reset by the voltage of the gate signal line 17a applied to the previous stage, and the voltage program is sequentially performed in the next horizontal scanning period. I understand.

【0510】図43に図示する電圧プログラムの画素構
成でも前段ゲート制御を実現できる。図54は図43の
画素構成を前段ゲート制御方式の接続とした実施例であ
る。
The pre-stage gate control can also be realized by the pixel configuration of the voltage program shown in FIG. FIG. 54 shows an embodiment in which the pixel configuration of FIG. 43 is connected by the pre-gate control method.

【0511】図54に示すように画素16aのトランジ
スタ11bのゲート(G)端子に接続されたゲート信号
線17aは次段画素16bのリセット用トランジスタ1
1eのゲート(G)端子に接続されている。同様に、画
素16bのトランジスタ11bのゲート(G)端子に接
続されたゲート信号線17aは次段画素16cのリセッ
ト用トランジスタ11eのゲート(G)端子に接続され
ている。
As shown in FIG. 54, the gate signal line 17a connected to the gate (G) terminal of the transistor 11b of the pixel 16a is the reset transistor 1 of the next-stage pixel 16b.
It is connected to the gate (G) terminal of 1e. Similarly, the gate signal line 17a connected to the gate (G) terminal of the transistor 11b of the pixel 16b is connected to the gate (G) terminal of the resetting transistor 11e of the next-stage pixel 16c.

【0512】したがって、画素16aのトランジスタ1
1bのゲート(G)端子に接続されたゲート信号線17
aにオン電圧を印加すると、画素16aが電圧プログラ
ム状態となるとともに、次段画素16bのリセット用ト
ランジスタ11eがオンし、画素16bの駆動用トラン
ジスタ11aがリセット状態となる。同様に、画素16
bのトランジスタ11bのゲート(G)端子に接続され
たゲート信号線17aにオン電圧を印加すると、画素1
6bが電流プログラム状態となるとともに、次段画素1
6cのリセット用トランジスタ11eがオンし、画素1
6cの駆動用トランジスタ11aがリセット状態とな
る。したがって、容易に前段ゲート制御方式によるリセ
ット駆動を実現できる。
Therefore, the transistor 1 of the pixel 16a is
Gate signal line 17 connected to the gate (G) terminal of 1b
When the ON voltage is applied to a, the pixel 16a enters the voltage program state, the reset transistor 11e of the next-stage pixel 16b turns on, and the driving transistor 11a of the pixel 16b enters the reset state. Similarly, pixel 16
When the on-voltage is applied to the gate signal line 17a connected to the gate (G) terminal of the transistor 11b of the pixel b, the pixel 1
6b is in the current program state and the next-stage pixel 1
The resetting transistor 11e of 6c is turned on, and the pixel 1
The driving transistor 11a of 6c is reset. Therefore, it is possible to easily realize the reset drive by the front gate control method.

【0513】さらに詳しく説明する。図55(a)のよ
うにゲート信号線17に電圧が印加されているとする。
つまり、画素16aのゲート信号線17aにオン電圧が
印加され、他の画素16のゲート信号線17aにオフ電
圧が印加されているとする。また、すべての逆バイアス
用トランジスタ11gはオフ状態であるとする。
This will be described in more detail. It is assumed that a voltage is applied to the gate signal line 17 as shown in FIG. 55 (a).
That is, it is assumed that the ON voltage is applied to the gate signal line 17a of the pixel 16a and the OFF voltage is applied to the gate signal line 17a of the other pixel 16. Further, it is assumed that all reverse bias transistors 11g are in the off state.

【0514】この状態では、画素16aは電圧プログラ
ム状態、画素16bはリセット状態、画素16cはプロ
グラム電流の保持状態、画素16dはプログラム電流の
保持状態である。
In this state, the pixel 16a is in the voltage program state, the pixel 16b is in the reset state, the pixel 16c is in the program current holding state, and the pixel 16d is in the program current holding state.

【0515】1H後、制御用ゲートドライバ回路12の
シフトレジスタ回路61内のデータが1ビットシフト
し、図55(b)の状態となる。図55(b)の状態
は、画素16aはプログラム電流保持状態、画素16b
は電流プログラム状態、画素16cはリセット状態、画
素16dはプログラム保持状態である。
After 1H, the data in the shift register circuit 61 of the control gate driver circuit 12 is shifted by 1 bit, and the state shown in FIG. 55 (b) is obtained. In the state of FIG. 55B, the pixel 16a is in the program current holding state, and the pixel 16b is
Indicates a current program state, the pixel 16c is in a reset state, and the pixel 16d is in a program holding state.

【0516】以上のことから、各画素は前段に印加され
たゲート信号線17aの電圧により、次段の画素の駆動
用トランジスタ11aがリセットされ、次の水平走査期
間に電圧プログラムが順次行われることがわかる。
From the above, in each pixel, the driving transistor 11a of the pixel of the next stage is reset by the voltage of the gate signal line 17a applied to the previous stage, and the voltage program is sequentially performed in the next horizontal scanning period. I understand.

【0517】以下、図面を参照しながら、本発明のソー
スドライバ回路(IC)14について説明をする。な
お、ソースドライバ回路14とは、半導体のシリコンチ
ップで形成されたICの他、低温ポリシリコンあるいは
高温ポリシリコンなどのポリシリコン技術で、基板71
に直接に形成されたものも含まれる。
The source driver circuit (IC) 14 of the present invention will be described below with reference to the drawings. The source driver circuit 14 is not only an IC formed of a semiconductor silicon chip, but also a polysilicon technology such as low-temperature polysilicon or high-temperature polysilicon.
Also included are those formed directly on the.

【0518】本発明のソースドライバ14の第1番目の
目的は、表示装置の駆動用ドライバーICの回路構成に
関するものであり、主に低消費電力を実現しつつ、かつ
ブランキング期間の短縮化を図り、高表示品位を実現す
るものである。第2番目の目的は、EL表示パネルに良
好な電流駆動方式を実現し、高コントラスト表示と、高
解像度の両立を実現するものである。
A first object of the source driver 14 of the present invention relates to a circuit configuration of a driver IC for driving a display device, which mainly realizes low power consumption and shortens the blanking period. It is intended to realize high display quality. The second purpose is to realize a good current drive system for the EL display panel and to achieve both high contrast display and high resolution.

【0519】以下、図面を参照しながら、本発明の第1
の目的を達成するドライバー構成およびその駆動方法に
ついて説明をする。
The first aspect of the present invention will now be described with reference to the drawings.
A driver configuration and a driving method thereof that achieve the above object will be described.

【0520】液晶表示パネルや有機EL表示パネル等の
表示パネルは、複数の走査線(ゲート信号線17)と複
数の映像信号線(ソース信号線18)をマトリクス状に
配置した表示素子で構成されている。表示パネルを駆動
するために、ゲート信号線17側は低温ポリシリコンな
どの技術で内蔵されたゲートドライバ回路14を用い、
ソース信号線18側は単結晶シリコンで作成されたソー
スドライバIC14をCOG(チップオンガラス)実装
する方式が主流になりつつある。ソース信号線18を駆
動する単結晶シリコンのソースドライバIC14の構成
としては、携帯電話やPDA等の携帯端末表示パネルに
は、表示メモリーを内蔵したものが主流である。なお、
モニターやテレビ等の表示パネルには、表示メモリーを
内蔵してない。
A display panel such as a liquid crystal display panel or an organic EL display panel is composed of display elements in which a plurality of scanning lines (gate signal lines 17) and a plurality of video signal lines (source signal lines 18) are arranged in a matrix. ing. In order to drive the display panel, the gate signal line 17 side uses a gate driver circuit 14 incorporated by a technique such as low temperature polysilicon,
On the source signal line 18 side, a method in which the source driver IC 14 made of single crystal silicon is mounted by COG (chip on glass) is becoming mainstream. As a configuration of the source driver IC 14 made of single crystal silicon for driving the source signal line 18, a mobile phone display panel such as a mobile phone or a PDA having a display memory built-in is the mainstream. In addition,
The display panel of monitors and TVs does not have a built-in display memory.

【0521】図102に、表示メモリーを内蔵してない
ソースドライバIC14の一般的な構成を示す。図10
2において、1021はクロック停止付きシフトレジス
タ、1022は入力段ラッチ、1023は第1段ラッ
チ、1024は第2段ラッチ、1025はD/Aコンバ
ータ、1026は出力バッファである。
FIG. 102 shows a general structure of the source driver IC 14 having no built-in display memory. Figure 10
2, 1021 is a shift register with clock stop, 1022 is an input stage latch, 1023 is a first stage latch, 1024 is a second stage latch, 1025 is a D / A converter, and 1026 is an output buffer.

【0522】原振クロックに同期してコントローラから
シリアルに送られてきたRGB各6ビットの表示データ
DR0〜DR5、DG0〜DG5、DB0〜DB5は、
一旦入力段ラッチにラッチされた後、シフトレジスタか
ら出力されるラッチ信号にしたがって、順次第1段ラッ
チにラッチされる。1水平期間後、水平同期パルスに同
期したラッチ信号LDにより、第1段ラッチの出力信号
が第2段ラッチに一斉にラッチされる。第2段ラッチの
出力信号は、D/Aコンバータによりアナログ電圧に変
換され、出力バッファを通して表示素子を点灯させる。
一般に、表示メモリーを内蔵してない信号線駆動用ドラ
イバーICは、上述したように、クロック停止付きシフ
トレジスタで構成されている。
Display data DR0-DR5 of 6-bit RGB, DG0-DG5, DB0-DB5, which are serially sent from the controller in synchronization with the original clock, are
After being latched in the input stage latch once, it is sequentially latched in the first stage latch according to the latch signal output from the shift register. After one horizontal period, the output signals of the first-stage latches are simultaneously latched by the second-stage latches by the latch signal LD synchronized with the horizontal synchronizing pulse. The output signal of the second stage latch is converted into an analog voltage by the D / A converter, and the display element is turned on through the output buffer.
Generally, the signal line driving driver IC having no built-in display memory is composed of a shift register with a clock stop, as described above.

【0523】図103に、一般的なクロック停止付きシ
フトレジスタの構成を示す。図103において、103
1はシフトレジスタを構成するD型フリップフロップ
を、1032はクロック停止回路を表す。
FIG. 103 shows the configuration of a general shift register with clock stop. In FIG. 103, 103
Reference numeral 1 represents a D-type flip-flop that constitutes a shift register, and 1032 represents a clock stop circuit.

【0524】図103に示すクロック停止付きシフトレ
ジスタの動作原理としては、前段のシフトレジスタから
スタートパルス信号が入力されているか、または自段の
シフトレジスタがスタートパルス信号を出力している間
は、スタートパルス信号が自段のシフトレジスタを通過
中なので、自段のシフトレジスタのクロック端子にクロ
ック信号FYを供給する。それ以外は、クロック信号F
Yの入力を遮断することにより、シフトレジスタの無駄
な動作を排除し、低消費電力を実現する。
As the operating principle of the shift register with clock stop shown in FIG. 103, while the start pulse signal is input from the shift register of the previous stage or the shift register of its own stage is outputting the start pulse signal, Since the start pulse signal is passing through the shift register of the own stage, the clock signal FY is supplied to the clock terminal of the shift register of the own stage. Otherwise, clock signal F
By cutting off the input of Y, unnecessary operation of the shift register is eliminated and low power consumption is realized.

【0525】この機能を実現する回路が、図103のク
ロック停止回路1032である。すなわち、1032に
示すように、前段のシフトレジスタの出力信号と自段の
シフトレジスタの出力信号の論理和と、クロック信号F
Yとの論理積をD型フリップフロップのクロック端子に
入力することにより、スタートパルス信号が自段のシフ
トレジスタを通過中のときのみ、自段のシフトレジスタ
が動作し、それ以外は自段のシフトレジスタは動作しな
い。このような構成にすることにより、シフトレジスタ
の消費電力を数mWから数100μWに低減することが
でき、低消費電力化を実現できる。
The circuit that realizes this function is the clock stop circuit 1032 in FIG. That is, as indicated by 1032, the logical sum of the output signal of the shift register of the previous stage and the output signal of the shift register of the own stage and the clock signal F
By inputting the logical product with Y to the clock terminal of the D-type flip-flop, the shift register of the own stage operates only when the start pulse signal is passing through the shift register of the own stage, and other than that, the shift register of the own stage is operated. The shift register does not work. With such a configuration, the power consumption of the shift register can be reduced from several mW to several 100 μW, and low power consumption can be realized.

【0526】しかしながら、このようなクロック停止付
きシフトレジスタでは、スタートパルス入力後、最初の
表示データが第1段ラッチにラッチされるまでに数クロ
ックを要し、その分ブランキング期間を長く設定しなく
てはならず、フリッカの発生等の表示品位を低下させる
原因となっている。
However, in such a shift register with a clock stop, it takes several clocks until the first display data is latched by the first stage latch after the start pulse is input, and the blanking period is set longer by that amount. It is indispensable and causes the deterioration of display quality such as occurrence of flicker.

【0527】図104に、クロック停止付きシフトレジ
スタのタイミングチャートを示す。図104に示すよう
に、原振クロックFYの立ち上がりでスタートパルスS
Tが入力されたとすると、リセット信号RSTを生成
し、分周クロックFYSを発振させ、内部で2クロック
長に調整されたスタートパルスSTSをもとに、シフト
レジスタを動作させると、第1段、第2段、第3段、・
・・のシフトレジスタの出力波形は、G1、G2、G
3、・・・のようになる。
FIG. 104 shows a timing chart of the shift register with clock stop. As shown in FIG. 104, the start pulse S is generated at the rising of the original oscillation clock FY.
If T is input, the reset signal RST is generated, the divided clock FYS is oscillated, and the shift register is operated based on the start pulse STS internally adjusted to 2 clocks, the first stage, Second stage, third stage ...
.. The output waveforms of the shift registers are G1, G2, G
3, ...

【0528】スタートパルスSTを入力後、最初のデー
タが第1段ラッチにラッチされるのは、第1段のシフト
レジスタの出力信号G1の立下りであるので、入力段ラ
ッチ後のデータの真ん中でラッチするためには、入力デ
ータはスタートパルス入力してから2.5クロック後に
入力せざるを得ない。すなわち、その分ブランキング期
間を長く設定する必要があり、フリッカの発生等の表示
品位を低下させている。
After the start pulse ST is input, the first data is latched in the first-stage latch at the falling edge of the output signal G1 of the first-stage shift register. In order to latch with, the input data must be input 2.5 clocks after the start pulse is input. That is, it is necessary to set the blanking period longer, and the display quality such as occurrence of flicker is reduced.

【0529】図95に、本発明のソースドライバ回路1
4のシフトレジスタ部を示す。図95において、951
はシフトレジスタを構成するD型フリップフロップ、9
52は自段のシフトレジスタの正転出力信号と後段シフ
トレジスタの反転出力信号との論理積をシフトレジスタ
の出力信号とするための回路である。
FIG. 95 shows the source driver circuit 1 of the present invention.
4 shows a shift register unit of No. 4. In FIG. 95, 951
Is a D-type flip-flop forming a shift register, 9
Reference numeral 52 is a circuit for taking the logical product of the normal output signal of the shift register of its own stage and the inverted output signal of the latter stage shift register as the output signal of the shift register.

【0530】なお、説明を容易二するため、ソースドラ
イバ回路14を例示して説明するがこれに限定するもの
ではなく、ゲートドライバ回路12にも適用することが
できることは言うまでもない。
Note that the source driver circuit 14 is described as an example for ease of explanation, but the present invention is not limited to this, and it is needless to say that the present invention can be applied to the gate driver circuit 12.

【0531】また、953は最終段のシフトレジスタの
後段に追加されたダミーのシフトレジスタ、954は前
段のシフトレジスタの正転出力信号と自段シフトレジス
タの正転出力信号の論理和により自段シフトレジスタの
クロック信号の入力を遮断するための回路である。以
下、本発明のソースドライバ回路14におけるクロック
停止付きシフトレジスタの動作を示す。
[0531] Further, 953 is a dummy shift register added after the final stage shift register, and 954 is a self-stage based on the logical sum of the normal output signal of the previous shift register and the normal output signal of the own shift register. It is a circuit for cutting off the input of the clock signal of the shift register. The operation of the shift register with clock stop in the source driver circuit 14 of the present invention will be described below.

【0532】図95において、シフトレジスタの初段の
出力G1は、シフトレジスタ出力ではなく、原振クロッ
クの2クロック分の長さに調整されたスタートパルスS
TSを用いる。シフトレジスタ出力を用いていたので
は、前述したように、スタートパルス直後のデータを第
1段ラッチにラッチできず、スタートパルスから2.5
クロック後にデータを入力せざるを得ないからである。
In FIG. 95, the output G1 of the first stage of the shift register is not the shift register output, but the start pulse S adjusted to the length of two clocks of the original oscillation clock.
Use TS. If the shift register output was used, as described above, the data immediately after the start pulse could not be latched in the first stage latch, and the 2.5
This is because there is no choice but to input data after the clock.

【0533】図96に本発明のタイミングチャートを示
す。図96において、入力されたスタートパルスSTか
ら、原振クロックの2クロック分の長さに調整されたス
タートパルスSTSを発生させる。このSTSをシフト
レジスタの第1段の出力とすることにより、STSの立
下りで入力段ラッチ後のデータをラッチするので、図1
03に示すようなシフトレジスタ出力を第1段の出力と
する場合よりも早くデータをラッチすることが可能とな
る。
FIG. 96 shows a timing chart of the present invention. In FIG. 96, a start pulse STS adjusted to have a length of two clocks of the original oscillation clock is generated from the input start pulse ST. By using this STS as the output of the first stage of the shift register, the data after the input stage is latched is latched at the falling edge of STS.
Data can be latched earlier than when the shift register output as shown in 03 is used as the output of the first stage.

【0534】また、本発明では、シフトレジスタの出力
信号Gとして、D型フリップフロップの正転出力信号Q
をそのまま出力するのではなく、自段のフリップフロッ
プの正転出力信号Qnと後段のフリップフロップの反転
出力信号NQn+1との論理積を自段のシフトレジスタの
出力信号Gnとしている。このような構成にすると、図
97に示すように、フリップフロップの正転出力信号Q
nよりも0.5シフトクロック(FYS)早く立ち下が
るので、その分早くデータをラッチすることが可能とな
る。
Further, in the present invention, the normal output signal Q of the D-type flip-flop is used as the output signal G of the shift register.
Is not output as it is, but the logical product of the normal output signal Q n of the flip-flop of the current stage and the inverted output signal NQ n + 1 of the flip-flop of the subsequent stage is used as the output signal G n of the shift register of the current stage. . With such a configuration, as shown in FIG. 97, the normal output signal Q of the flip-flop is output.
Since it falls 0.5 shift clock (FYS) earlier than n , the data can be latched earlier accordingly.

【0535】この機能を実現する回路が、図95の95
2に示す点線部分である。最終段の出力に関しては、後
段のシフトレジスタの出力がないので、この機能を実現
できない。そこで、図95に示すように、最終段の後段
にダミーのシフトレジスタを追加することにより、最終
段のシフトレジスタの出力波形も0.5シフトクロック
(FYS)早く立ち下げることが可能となる。
A circuit that realizes this function is shown at 95 in FIG.
It is a dotted line portion shown in FIG. Regarding the output of the final stage, there is no output of the shift register of the subsequent stage, so this function cannot be realized. Therefore, as shown in FIG. 95, by adding a dummy shift register in the rear stage of the final stage, the output waveform of the shift register in the final stage can also fall 0.5 shift clock (FYS) earlier.

【0536】以上に示す本発明の回路構成により、図9
6に示すようにスタートパルス入力後、原振クロックの
1クロック遅れでデータを入力すると、入力段ラッチ後
のデータを真ん中で第1段ラッチにラッチできる。従来
のクロック停止付きシフトレジスタでは、上述したよう
に、スタートパルス入力後、原振クロックの2.5クロ
ック遅れでデータを入力せざるを得ないので、本発明に
より、ブランキング期間を短縮することでフリッカ等の
発生を抑制でき、高品位表示が可能となる。
With the circuit configuration of the present invention described above, FIG.
As shown in FIG. 6, if data is input with a delay of one clock of the original clock after the start pulse is input, the data after the input stage latch can be latched in the first stage latch in the middle. In the conventional shift register with a clock stop, as described above, since the data must be input with a delay of 2.5 clocks of the original clock after the start pulse is input, the blanking period can be shortened by the present invention. Thus, it is possible to suppress the occurrence of flicker and the like, and it becomes possible to perform high-quality display.

【0537】なお、クロック停止付きシフトレジスタの
回路構成としては、図95に示すように、前段シフトレ
ジスタの正転出力信号と、自段シフトレジスタの正転出
力信号の論理和により、自段シフトレジスタのクロック
信号の入力を遮断することにより実現している。図98
に示すように、自段シフトレジスタをスタートパルスが
通過している期間だけ、クロック信号が自段シフトレジ
スタに入力されて動作するので、低消費電力を実現でき
る。
As for the circuit configuration of the shift register with clock stop, as shown in FIG. 95, the own stage shift is performed by the logical sum of the normal output signal of the preceding shift register and the normal output signal of the own shift register. It is realized by cutting off the input of the clock signal of the register. Fig. 98
As shown in, the clock signal is input to the self-stage shift register to operate only during the period when the start pulse passes through the self-stage shift register, so that low power consumption can be realized.

【0538】図99は本発明の第2の実施例である。図
99に、本発明の原振クロックの1クロック長のリセッ
ト信号RST、原振クロックの分周クロックであるシフ
トクロック信号FYS、原振クロックの2クロック長の
スタートパルス信号STSの生成回路を示す。
FIG. 99 shows the second embodiment of the present invention. FIG. 99 shows a circuit for generating a reset signal RST having a length of one clock of the original clock, a shift clock signal FYS which is a divided clock of the original clock, and a start pulse signal STS having a length of two clocks of the original clock of the present invention. .

【0539】図99において、991は原振クロックの
1クロック長のリセット信号発生部、992は原振クロ
ックの分周クロックであるシフトクロック信号発生部、
993は原振クロックの2クロック長のスタートパルス
信号発生部である。図100に各部のタイミングチャー
トを示す。以下、各種制御信号の発生方法について説明
する。
In FIG. 99, reference numeral 991 is a reset signal generator having one clock length of the original clock, 992 is a shift clock signal generator which is a divided clock of the original clock,
Reference numeral 993 is a start pulse signal generator having a length of 2 clocks of the original oscillation clock. FIG. 100 shows a timing chart of each part. Hereinafter, a method of generating various control signals will be described.

【0540】まず、原振クロックの1クロック長のリセ
ット信号発生方法について説明する。本発明は、原振ク
ロックの1クロック長のリセット信号を発生するリセッ
ト回路の構成として、入力されたスタートパルスを原振
クロックの立ち上がりで保持する第1のD型フリップフ
ロップの正転出力と、その正転出力を原振クロックの立
ち上がりで保持する第2のD型フリップフロップの反転
出力との反転論理積で構成されたことを特徴としてい
る。
First, a method of generating a reset signal of one clock length of the original clock will be described. The present invention has a configuration of a reset circuit for generating a reset signal having a length of one clock of an original clock, and a normal output of a first D-type flip-flop that holds an input start pulse at the rising edge of the original clock, It is characterized in that it is constituted by an inverted logical product with the inverted output of the second D-type flip-flop that holds the non-inverted output at the rising edge of the original clock.

【0541】図99の991のリセット信号発生部の動
作は、図100のタイミングチャートに示すように、入
力されたスタートパルスSTを原振クロックFYの立ち
上がりで保持したD型フリップフロップの正転信号A
と、その信号を1原振クロック遅れで保持したD型フリ
ップフロップの反転信号Bとの反転論理積をとることに
より、原振クロックの1クロック分の長さのリセット信
号RSTを発生する。このリセット信号により、シフト
レジスタを構成するD型フリップフロップと原振クロッ
クを分周してシフトクロックを作成するD型フリップフ
ロップをリセットする。
As shown in the timing chart of FIG. 100, the operation of the reset signal generator 991 of FIG. 99 is the normal signal of the D-type flip-flop which holds the input start pulse ST at the rising of the original clock FY. A
And the inverted logical product of the signal and the inverted signal B of the D-type flip-flop which is held with a delay of one source clock, thereby generating the reset signal RST having a length of one clock of the source clock. The reset signal resets the D-type flip-flop that forms the shift register and the D-type flip-flop that creates the shift clock by dividing the original clock.

【0542】次に、原振クロックの分周クロックである
シフトクロック信号発生方法について説明する。本発明
は、前記シフトレジスタを動作させるシフトクロックと
して、前記原振クロックを前記原振クロックの立下りで
分周する第3のD型のフリップフロップと、前記原振ク
ロックの1クロック長のリセット信号により生成された
ことを特徴としている。
Next, a method of generating a shift clock signal which is a divided clock of the original clock will be described. The present invention provides, as a shift clock for operating the shift register, a third D-type flip-flop that divides the original clock by a falling edge of the original clock, and resets the original clock with one clock length. It is characterized by being generated by a signal.

【0543】図99の992のシフトクロック信号発生
部の動作は、図100のタイミングチャートに示すよう
に、入力された原振クロックFYを原振クロックの立下
りで保持したD型フリップフロップの反転信号を入力信
号とすることにより、原振クロックの立下りで分周され
たシフトクロックFYSが発生される。これにより、リ
セット信号によるリセット動作解除後、原振クロックの
0.5クロック遅れで動作するシフトクロックを生成す
ることができる。
As shown in the timing chart of FIG. 100, the operation of the shift clock signal generation unit 992 of FIG. 99 is the inversion of the D-type flip-flop which holds the input original clock FY at the falling edge of the original clock. By using the signal as the input signal, the shift clock FYS divided at the falling edge of the original oscillation clock is generated. As a result, after the reset operation is released by the reset signal, it is possible to generate a shift clock that operates with a delay of 0.5 clock of the original clock.

【0544】次に、原振クロックの2クロック長のスタ
ートパルス信号発生方法について説明する。本発明は、
前記原振クロックの2クロック長に調整されたスタート
パルスを生成する回路の構成として、前記原振クロック
の1クロック長のリセット信号の反転信号と、その反転
信号を原振クロックの立ち上がりで保持する第4のD型
フリップフロップの正転出力との論理和で構成されたこ
とを特徴としている。
Next, a method of generating a start pulse signal having a two clock length of the original clock will be described. The present invention is
As a configuration of a circuit that generates a start pulse adjusted to the two clock length of the original clock, an inverted signal of the reset signal having one clock length of the original clock and the inverted signal are held at the rising edge of the original clock. It is characterized in that it is constituted by a logical sum with the non-inverted output of the fourth D-type flip-flop.

【0545】図99のスタートパルス信号発生部の動作
は、図100のタイミングチャートに示すように、原振
クロックの1クロック長のリセット信号の反転信号C
と、その反転信号を原振クロックの立ち上がりで保持す
る第4のD型フリップフロップの正転出力Dとの論理和
をとることにより、原振クロックの2クロック長に調整
されたスタートパルスSTHが生成される。
As shown in the timing chart of FIG. 100, the operation of the start pulse signal generating section of FIG. 99 is the inversion signal C of the reset signal of one clock length of the original clock.
And the inversion signal thereof is ORed with the non-inverted output D of the fourth D-type flip-flop which holds the rising edge of the original clock, the start pulse STH adjusted to the two clock length of the original clock is obtained. Is generated.

【0546】以上の本発明による回路構成で生成された
クロック停止付きシフトレジスタを制御する各種制御信
号の動作を、図100を参照しながら説明する。図10
0において、スタートパルスSTが入力されると、原振
クロックの立ち上がりでリセット信号RSTが生成さ
れ、シフトクロックと各段のシフトレジスタがリセット
される。シフトクロックFYSは、リセット解除後、
0.5原振クロック遅れで、原振クロックの立下りに同
期して生成される。一方、入力されたスタートパルスS
Tから、原振クロックの2クロック長に調整されたスタ
ートパルスSTHが生成される。
The operation of various control signals for controlling the shift register with clock stop generated by the circuit configuration according to the present invention will be described with reference to FIG. Figure 10
At 0, when the start pulse ST is input, the reset signal RST is generated at the rising of the original oscillation clock, and the shift clock and the shift register of each stage are reset. The shift clock FYS is
It is generated in synchronization with the falling edge of the original oscillation clock with a delay of 0.5 original oscillation clock. On the other hand, the input start pulse S
From T, the start pulse STH adjusted to the two clock length of the original oscillation clock is generated.

【0547】第1段のシフトレジスタの出力Q1は、こ
の2クロック長に調整されたスタートパルスSTHであ
り、以降シフトクロックに同期して、第2段のシフトレ
ジスタの出力Q2、第3段のシフトレジスタの出力Q
3、・・・が出力される。これら、シフトレジスタの出
力Q1、Q2、Q3、・・・は、それぞれ後段の反転出
力と論理積をとることにより、G1、G2、G3、・・
・の波形に変形されて、第1段のラッチ信号となる。表
示データは、スタートパルスST入力後、原振クロック
の1クロック遅れで入力すると、入力段ラッチ後のデー
タの真ん中で第1段ラッチにラッチされる。すなわち、
ブランキング期間を短くでき、高品位表示を実現するこ
とができる。
The output Q1 of the first-stage shift register is the start pulse STH adjusted to this 2 clock length, and thereafter, in synchronization with the shift clock, the output Q2 of the second-stage shift register and the output of the third-stage shift register STH. Output Q of shift register
3, ... Is output. The outputs Q1, Q2, Q3, ... Of these shift registers are logically ANDed with the inversion outputs of the subsequent stages to generate G1, G2, G3, ...
It is transformed into the waveform of and becomes the latch signal of the first stage. When the display data is input with a delay of one clock of the original oscillation clock after the start pulse ST is input, the display data is latched in the first stage latch in the middle of the data after the input stage latch. That is,
The blanking period can be shortened and high quality display can be realized.

【0548】先に説明したクロック停止付きシフトレジ
スタは、低消費電力を実現するために、スタートパルス
が通過中のときだけ、D型フリップフロップにクロック
信号が入力されて動作させていた。次に説明をするソー
スドライバ回路14は、ブランキング期間にシフトクロ
ックを停止させることにより、低消費電力を実現させる
ことである。
In order to realize low power consumption, the shift register with clock stop described above is operated by inputting the clock signal to the D-type flip-flop only while the start pulse is passing. The source driver circuit 14 described next is to realize low power consumption by stopping the shift clock during the blanking period.

【0549】これを実現するために、本発明では、シフ
トクロックをブランキング期間の間、停止したことを特
徴としている。そして、ブランキング期間の間、シフト
クロックを停止させる手段として、最終段のシフトレジ
スタの出力信号を原振クロックの立ち上がりで保持する
第5のD型フリップフロップの正転出力により、前記第
1のD型フリップフロップの分周動作を停止させ、また
リセット信号により前記第5のD型フリップフロップを
リセットすることにより、前記第1のD型フリップフロ
ップの分周動作を開始させることを特徴としている。
In order to realize this, the present invention is characterized in that the shift clock is stopped during the blanking period. Then, as means for stopping the shift clock during the blanking period, the first D-type flip-flop for holding the output signal of the shift register at the final stage at the rising edge of the original clock causes normal rotation output of the first D-type flip-flop. The dividing operation of the D-type flip-flop is stopped, and the dividing operation of the first D-type flip-flop is started by resetting the fifth D-type flip-flop by a reset signal. .

【0550】図101に、本発明のブランキング期間、
シフトクロックの動作を停止させる回路構成を示す。図
101において、71は第1のD型フリップフロップ、
72は第5のD型フリップフロップである。図101の
動作を説明すると、最終段のシフトレジスタの出力信号
G176を第5のD型フリップフロップにより検出す
る。
FIG. 101 shows the blanking period of the present invention,
The circuit configuration for stopping the operation of the shift clock is shown. In FIG. 101, 71 is a first D-type flip-flop,
72 is a fifth D-type flip-flop. The operation of FIG. 101 will be described. The output signal G176 of the final-stage shift register is detected by the fifth D-type flip-flop.

【0551】すなわち、最終段のシフトレジスタの出力
信号G176(QCIFパネルの出力数176×RGB
を前提としている)がHIGHになると、第5のD型フ
リップフロップの正転出力は常にHIGHとなる。する
と、原振クロックを分周してシフトクロックを生成する
第1のD型フリップフロップには、常にHIGH信号が
入力されるので、その出力はHIGH固定となり、シフ
トクロックの生成を停止しる。スタートパルスが入力さ
れてリセット信号が第5のD型フリップフロップと第1
のD型フリップフロップに入力されると、初期状態とな
り、シフトクロックは生成される。
That is, the output signal G176 of the final stage shift register (the output number of the QCIF panel is 176 × RGB).
Becomes high, the non-inverted output of the fifth D-type flip-flop always becomes HIGH. Then, since the HIGH signal is always input to the first D-type flip-flop that divides the original clock to generate the shift clock, its output is fixed at HIGH and the generation of the shift clock is stopped. The reset signal is input to the fifth D-type flip-flop and the first reset pulse when the start pulse is input.
When it is input to the D-type flip-flop, the shift clock is generated in the initial state.

【0552】以上の動作により、最終段のシフトレジス
タが出力してからスタートパルスが入力されるまでのブ
ランキング期間は、シフトクロックが生成されず、クロ
ックラインでの消費電力を削減でき、低消費電力化を実
現できる。
With the above operation, the shift clock is not generated during the blanking period from the output of the final-stage shift register to the input of the start pulse, so that the power consumption on the clock line can be reduced and the low power consumption can be achieved. Electricity can be realized.

【0553】以上のように、本発明のクロック停止付き
シフトレジスタによるソースドライバ回路(IC)14
では、スタートパルスが通過してないとき、シフトレジ
スタは動作を停止し、またブランキング期間ではシフト
クロックが動作を停止するので低消費電力を実現でき、
かつ、スタートパルス入力後、1原振クロック遅れで表
示データを入力できるので、ブランキング期間を短く設
定できる。また、フリッカ等の発生が抑制されて高品位
表示を実現することが可能となる。
As described above, the source driver circuit (IC) 14 using the shift register with clock stop according to the present invention.
Then, when the start pulse does not pass, the shift register stops operating, and the shift clock stops operating during the blanking period, so low power consumption can be realized.
Moreover, since the display data can be input with a delay of one original oscillation clock after the input of the start pulse, the blanking period can be set short. Further, it is possible to realize high quality display by suppressing the occurrence of flicker and the like.

【0554】以後、本発明の電流駆動方式のソースドラ
イバIC(回路)14について説明をする。まず、図7
2に、従来の電流駆動方式のドライバー回路の一例を示
す。ただし、このような電流ドライバーICが存在する
のではなく、本発明の電流駆動方式のソースドライバI
Cを説明するための原理的なものである。
The current-driven source driver IC (circuit) 14 of the present invention will be described below. First, FIG.
Fig. 2 shows an example of a conventional current-driven driver circuit. However, such a current driver IC does not exist, but the current driver type source driver I of the present invention is used.
This is a principle for explaining C.

【0555】図72において、721はD/A変換器で
ある。D/A変換器721にはnビットのデータ信号が
入力され、入力されたデータに基づき、D/A変換器か
らアナログ信号が出力される。このアナログ信号はオペ
アンプ722に入力される。オペアンプ722はNチャ
ンネルトランジスタ631aに入力され、トランジスタ
631aに流れる電流が抵抗691に流れる。抵抗Rの
端子電圧はオペアンプ722の−入力となり、この−端
子の電圧とオペアンプ722の+端子とは同一電圧とな
る。したがってD/A変換器721の出力電圧は抵抗6
91の端子電圧となる。
In FIG. 72, 721 is a D / A converter. An n-bit data signal is input to the D / A converter 721, and an analog signal is output from the D / A converter based on the input data. This analog signal is input to the operational amplifier 722. The operational amplifier 722 is input to the N-channel transistor 631a, and the current flowing through the transistor 631a flows through the resistor 691. The terminal voltage of the resistor R serves as the-input of the operational amplifier 722, and the voltage at this-terminal and the positive terminal of the operational amplifier 722 are the same voltage. Therefore, the output voltage of the D / A converter 721 is the resistance 6
It becomes the terminal voltage of 91.

【0556】今、抵抗691の抵抗値が1MΩとし、D
/A変換器721の出力が1(V)であれば、抵抗69
1には1(V)/1MΩ=1(μA)の電流が流れる。
これが定電流回路となる。したがって、データ信号の値
に応じて、D/A変換器721のアナログ出力が変化
し、このアナログ出力に値にもとづいて抵抗691に所
定電流が流れる。
Now, assume that the resistance value of the resistor 691 is 1 MΩ and D
If the output of the A / A converter 721 is 1 (V), the resistance 69
A current of 1 (V) / 1 MΩ = 1 (μA) flows through 1.
This becomes a constant current circuit. Therefore, the analog output of the D / A converter 721 changes according to the value of the data signal, and a predetermined current flows through the resistor 691 based on the value of this analog output.

【0557】トランジスタ631p1と631p2とは
カレントミラー回路を構成している。なお、トランジス
タ631pはPチャンネル型トランジスタである。一
方、633nはカレントミラーを構成するnチャンネル
型トランジスタである。駆動用トランジスタ631aの
ソース−ドレイン(SD)にも同じ電流が流れ、631
p1と631p2で構成されるカレントミラー回路にも
同じ電流値が流れ、各トランジスタ633nで構成され
るカレントミラー回路にも同じ電流値が流れるので、出
力端子O1、O2、O3、O4、O5、・・・は同一の
電流が流れる定電流出力端子となる(カレント倍率が等
しい時)。
The transistors 631p1 and 631p2 form a current mirror circuit. The transistor 631p is a P-channel transistor. On the other hand, 633n is an n-channel type transistor forming a current mirror. The same current flows through the source-drain (SD) of the driving transistor 631a,
Since the same current value also flows in the current mirror circuit configured by p1 and 631p2 and the same current value also flows in the current mirror circuit configured by each transistor 633n, the output terminals O1, O2, O3, O4, O5 ,.・ ・ Is a constant current output terminal through which the same current flows (when the current magnification is the same).

【0558】しかしながら、ICは、同一のマスクから
同一のプロセスに基づいて製造されても、半導体チップ
上に形成されるトランジスタや抵抗などの各素子の電気
的特性は異なり、ドライバーICの出力電流は、たとえ
同一ICであっても、定電流出力端子間では各出力間の
ばらつきは存在する。この場合、各定電流出力端子の出
力電流値にばらつきが生じると、発光素子の発光量など
にばらつきが生じ、ディスプレイパネルでは表示むらを
生じる。したがって、ドライバーIC14を使用して、
有機EL表示パネルなどの発光素子を駆動する場合は、
定電流出力端子間のばらつきをできるだけ最小限にする
ことが必要となる。
However, even if the IC is manufactured from the same mask based on the same process, the electrical characteristics of each element such as a transistor and a resistor formed on the semiconductor chip are different, and the output current of the driver IC is Even with the same IC, there are variations among the outputs between the constant current output terminals. In this case, if the output current value of each constant current output terminal varies, the light emission amount of the light emitting element also varies, and display unevenness occurs on the display panel. Therefore, using the driver IC 14,
When driving a light emitting element such as an organic EL display panel,
It is necessary to minimize variations between constant current output terminals.

【0559】本発明はかかる点に鑑みてなされたもので
あり、定電流出力端子間の出力電流ばらつきをできるだ
け最小限にするための回路構成、レイアウト構成を有す
る電流駆動型ドライバーIC(回路)14を提供する。
The present invention has been made in view of the above points, and has a circuit configuration and a layout configuration for minimizing the output current variation between the constant current output terminals as much as possible. I will provide a.

【0560】図63に、本発明の電流駆動方式のソース
ドライバIC(回路)14の構成図を示す。図1は、一
例として電流源を3段構成(631、632、633)
とした場合の多段式カレントミラー回路を示している。
FIG. 63 is a block diagram of the current-driving source driver IC (circuit) 14 of the present invention. In FIG. 1, as an example, a current source is configured in three stages (631, 632, 633).
Shows a multistage current mirror circuit in the case of.

【0561】図63において、第1段の電流源631の
電流値は、N個(ただし、Nは任意の整数)の第2段電
流源632にカレントミラー回路によりコピーされる。
更に、第2段電流源632の電流値は、M個(ただし、
Mは任意の整数)の第3段電流源633にカレントミラ
ー回路によりコピーされる。この構成により、結果とし
て第1段電流源631の電流値は、N×M個の第3段電
流源633にコピーされることになる。
In FIG. 63, the current value of the first stage current source 631 is copied to N (where N is an arbitrary integer) second stage current source 632 by the current mirror circuit.
Further, the current value of the second stage current source 632 is M (however,
The current mirror circuit copies M to an arbitrary integer 3rd stage current source 633. With this configuration, as a result, the current value of the first-stage current source 631 is copied to the N × M third-stage current sources 633.

【0562】例えば、QCIF形式の表示パネルのソー
ス信号線18に1個のドライバーIC14で駆動する場
合は、176出力(ソース信号線が各RGBで176出
力必要なため)となる。この場合は、Nを16個とし、
M=11個とする。しがたって、16×11=176と
なり、176出力に対応できる。このように、Nまたは
Mのうち、一方を8または16もしくはその倍数とする
ことにより、ドライバーICの電流源のレイアウト設計
が容易になる。
For example, when one driver IC 14 drives the source signal line 18 of the QCIF format display panel, the output is 176 (because the source signal line requires 176 outputs for each RGB). In this case, N is 16,
Let M = 11. Therefore, 16 × 11 = 176, which corresponds to 176 outputs. Thus, by setting one of N and M to 8 or 16 or a multiple thereof, the layout design of the current source of the driver IC becomes easy.

【0563】従来の電流駆動方式のソースドライバIC
(仮想で想定している)では、第1段電流源631の電
流値を直接N×M個の第3段電流源にカレントミラー回
路でコピーしていたので、第1段電流源631のトラン
ジスタ特性と第3段電流源のトランジスタ特性に差が生
じると、それがそのまま電流値のばらつきとなって、表
示パネルの表示むらとなって現れていた。特に、ソース
ドライバIC14は、幅が2mm程度で長さが20mm
程度という細長い形状をしているので、中央部と両端で
はトランジスタ特性のばらつきが大きく、このような問
題は顕著であると考えられる。
Conventional current drive type source driver IC
In (virtually assumed), the current value of the first-stage current source 631 is directly copied to the N × M third-stage current sources by the current mirror circuit. If there is a difference between the characteristics and the transistor characteristics of the third-stage current source, the difference directly causes a variation in the current value, resulting in display unevenness on the display panel. In particular, the source driver IC 14 has a width of about 2 mm and a length of 20 mm.
Since it has a long and narrow shape, there is a large variation in transistor characteristics between the central portion and both ends, and it is considered that such a problem is remarkable.

【0564】この課題に対して、本発明の多段式カレン
トミラー回路による電流駆動方式のソースドライバIC
(回路)14では、前記したように、第1段電流源63
1の電流値を直接N×M個の第3段電流源633にカレ
ントミラー回路でコピーするのではなく、中間に第2段
電流源632を配備しているので、そこでトランジスタ
特性のばらつきを吸収することが可能である。
To address this problem, a current-driving source driver IC using the multi-stage current mirror circuit of the present invention
In the (circuit) 14, as described above, the first stage current source 63
The current value of 1 is not directly copied to the N × M number of third-stage current sources 633 by the current mirror circuit, but the second-stage current source 632 is arranged in the middle, so that variations in transistor characteristics are absorbed. It is possible to

【0565】特に、本発明は、第1段のカレントミラー
回路(電流源631)と第2段にカレントミラー回路
(電流源632)を密接して配置するところに特徴があ
る。第1段の電流源631から第3段の電流源633
(つまり、カレントミラー回路の2段構成)であれば、
第1段の電流源と接続される第2段の電流源633の個
数が多く、第1段の電流源631と第3段の電流源63
3を密接して配置することができない。
In particular, the present invention is characterized in that the current mirror circuit (current source 631) in the first stage and the current mirror circuit (current source 632) in the second stage are closely arranged. First-stage current source 631 to third-stage current source 633
(That is, the two-stage configuration of the current mirror circuit),
The number of second-stage current sources 633 connected to the first-stage current sources is large, and the first-stage current sources 631 and the third-stage current sources 63 are connected.
3 cannot be placed close together.

【0566】本発明のソースドライバ回路14のよう
に、第1段のカレントミラー回路(電流源631)の電
流を第2段のカレントミラー回路(電流源632)にコ
ピーし、第2段のカレントミラー回路(電流源632)
の電流を第3段にカレントミラー回路(電流源632)
にコピーする構成である。この構成では、第1段のカレ
ントミラー回路(電流源631)に接続される第2段の
カレントミラー回路(電流源632)の個数は少ない。
したがって、第1段のカレントミラー回路(電流源63
1)と第2段のカレントミラー回路(電流源632)と
を密接して配置することがことができる。
Like the source driver circuit 14 of the present invention, the current of the first-stage current mirror circuit (current source 631) is copied to the second-stage current mirror circuit (current source 632), and the second-stage current mirror circuit (current source 632) is copied. Mirror circuit (current source 632)
Current to the third stage in the current mirror circuit (current source 632)
It is a configuration to be copied to. In this configuration, the number of second-stage current mirror circuits (current sources 632) connected to the first-stage current mirror circuits (current sources 631) is small.
Therefore, the first stage current mirror circuit (current source 63
1) and the second stage current mirror circuit (current source 632) can be arranged in close contact with each other.

【0567】密接してカレントミラー回路を構成するト
ランジスタを配置できれば、当然のことながら、トラン
ジスタのばらつきは少なくなるから、コピーされる電流
値のバラツキも少なくなる。また、第2段のカレントミ
ラー回路(電流源632)に接続される第3段のカレン
トミラー回路(電流源633)の個数も少なくなる。し
たがって、第2段のカレントミラー回路(電流源63
2)と第3段のカレントミラー回路(電流源633)と
を密接して配置することがことができる。
If the transistors forming the current mirror circuit can be arranged in close contact with each other, the variation of the transistors is naturally reduced, and the variation of the copied current value is also reduced. Also, the number of the third-stage current mirror circuits (current sources 633) connected to the second-stage current mirror circuits (current sources 632) is reduced. Therefore, the second stage current mirror circuit (current source 63
2) and the third stage current mirror circuit (current source 633) can be arranged in close contact with each other.

【0568】つまり、全体として、第1段のカレントミ
ラー回路(電流源631)、第2段のカレントミラー回
路(電流源632)、第3段のカレントミラー回路(電
流源633)の電流受け取り部のトランジスタを密接し
て配置することができる。したがって、密接してカレン
トミラー回路を構成するトランジスタを配置できるか
ら、トランジスタのばらつきは少なくなり、出力端子か
らの電流信号のバラツキは極めて少なくなる(精度が高
い)。
That is, as a whole, the current receiving section of the first-stage current mirror circuit (current source 631), the second-stage current mirror circuit (current source 632), and the third-stage current mirror circuit (current source 633). The transistors can be arranged closely. Therefore, since the transistors forming the current mirror circuit can be arranged in close contact with each other, variations in the transistors are reduced, and variations in current signals from the output terminals are extremely reduced (high accuracy).

【0569】なお、本例では簡単のため多段式カレント
ミラー回路を3段構成で説明したが、この段数が大きけ
れば大きいほど、電流駆動型表示パネルのソースドライ
バIC14の電流ばらつきが小さくなることは言うまで
もない。したがって、カレントミラー回路の段数は3段
に限定するものではなく、3段以上であってもよい。
In this example, the multi-stage current mirror circuit is described as a three-stage configuration for simplicity. However, the larger the number of stages, the smaller the current variation of the source driver IC 14 of the current-driven display panel. Needless to say. Therefore, the number of stages of the current mirror circuit is not limited to three and may be three or more.

【0570】本発明において、電流源631、632、
633と表現したり、カレントミラー回路と表現したり
している。これらは同義に用いている。つまり、電流源
とは、本発明の基本的な構成概念であり、電流源を具体
的に構成するとカレントミラー回路となるからである。
したがって、電流源はカレントミラー回路のみに限定す
るものではなく、図72に図示するようにオペアンプ7
22とトランジスタ631と抵抗Rの組み合わせからな
る電流回路でもよい。
In the present invention, the current sources 631, 632,
It is expressed as 633 or a current mirror circuit. These are used synonymously. That is, the current source is a basic configuration concept of the present invention, and when the current source is specifically configured, it becomes a current mirror circuit.
Therefore, the current source is not limited to the current mirror circuit, but the operational amplifier 7 as shown in FIG.
Alternatively, a current circuit including a combination of 22, a transistor 631, and a resistor R may be used.

【0571】図64はさらに具体的なソースドライバI
C(回路)14の構造図である。図64は第3の電流源
633の部分を図示している。つまり、1つのソース信
号線18に接続される出力部である。最終段のカレント
ミラー構成として、複数の同一サイズのカレントミラー
回路(電流源634(1単位))で構成されており、そ
の個数が画像データのビットに対応して、ビット重み付
けされている。
FIG. 64 shows a more specific source driver I.
It is a structural diagram of C (circuit) 14. FIG. 64 shows a portion of the third current source 633. That is, it is an output unit connected to one source signal line 18. As the final stage current mirror configuration, a plurality of current mirror circuits of the same size (current source 634 (1 unit)) are configured, and the number thereof is bit-weighted corresponding to the bits of the image data.

【0572】図64で明らかであるが、本発明の1実施
例として、6ビットのデジタル入力の場合を図示してい
る。つまり、2の6乗であるから、64階調表示であ
る。このソースドライバIC14をアレイ基板に積載す
ることにより、赤(R)、緑(G)、青(B)が各64
階調であるから、64×64×64=約26万色を表示
できることになる。
As is apparent from FIG. 64, the case of 6-bit digital input is shown as an example of the present invention. In other words, since it is 2 to the 6th power, 64 gradations are displayed. By mounting the source driver IC 14 on the array substrate, each of red (R), green (G) and blue (B) is 64
Since there are gradations, 64 × 64 × 64 = about 260,000 colors can be displayed.

【0573】図64において、D0はLSB入力を示し
ており、D5はMSB入力を示している。D0入力端子
にHレベル(正論理時)の時、スイッチ641a(オン
オフ手段である。もちろん、単体トランジスタで構成し
てもよいし、PチャンネルトランジスタとNチャンネル
トランジスタとを組み合わせたアナログスイッチなどで
もよい)がオンする。すると、カレントミラーを構成す
る電流源(1単位)634に向かって電流が流れる。こ
の電流はIC14内の内部配線643に流れる。この内
部配線643はIC14の端子電極を介してソース信号
線18に接続されているから、この内部配線643に流
れる電流が画素16のプログラム電流となる。
In FIG. 64, D0 indicates the LSB input, and D5 indicates the MSB input. When the D0 input terminal is at H level (in positive logic), the switch 641a (on / off means. Of course, a single transistor may be used, or an analog switch in which a P-channel transistor and an N-channel transistor are combined may be used. ) Turns on. Then, the current flows toward the current source (one unit) 634 that constitutes the current mirror. This current flows through the internal wiring 643 in the IC 14. Since the internal wiring 643 is connected to the source signal line 18 via the terminal electrode of the IC 14, the current flowing through the internal wiring 643 becomes the program current of the pixel 16.

【0574】D1入力端子にHレベル(正論理時)の
時、スイッチ641bがオンする。すると、カレントミ
ラーを構成する2つの電流源(1単位)634に向かっ
て電流が流れる。この電流はIC14内の内部配線64
3に流れる。この内部配線643はIC14の端子電極
を介してソース信号線18に接続されているから、この
内部配線643に流れる電流が画素16のプログラム電
流となる。
When the D1 input terminal is at H level (in positive logic), the switch 641b is turned on. Then, the current flows toward the two current sources (one unit) 634 that form the current mirror. This current is the internal wiring 64 in the IC14.
Flow to 3. Since the internal wiring 643 is connected to the source signal line 18 via the terminal electrode of the IC 14, the current flowing through the internal wiring 643 becomes the program current of the pixel 16.

【0575】他のスイッチ641でも同様である。D2
入力端子にHレベル(正論理時)の時は、スイッチ64
1cがオンする。すると、カレントミラーを構成する4
つの電流源(1単位)634に向かって電流が流れる。
D5入力端子にHレベル(正論理時)の時は、スイッチ
641fがオンする。すると、カレントミラーを構成す
る32つの電流源(1単位)634に向かって電流が流
れる。
The same applies to the other switches 641. D2
When the input terminal is at H level (in positive logic), switch 64
1c turns on. Then, configure the current mirror 4
Current flows toward one current source (one unit) 634.
When the D5 input terminal is at H level (in positive logic), the switch 641f is turned on. Then, the current flows toward the 32 current sources (1 unit) 634 that configure the current mirror.

【0576】以上のように、外部からのデータ(D0〜
D5)に応じて、それに対応する電流源(1単位)に向
かって電流が流れる。したがって、データに応じて、0
個から63個に電流源(1単位)に電流が流れるように
構成されている。なお、本発明は説明を容易にするた
め、電流源は6ビットの63個としているが、これに限
定するものではない。8ビットの場合は、255個の単
位電流源634を形成(配置)すればよい。また、4ビ
ットの時は、15個の単位電流源634を形成(配置)
すればよい。
As described above, external data (D0 to D0
According to D5), a current flows toward the corresponding current source (1 unit). Therefore, depending on the data, 0
The current is configured to flow from one to 63 current sources (one unit). In the present invention, the number of current sources is 63, which is 6 bits, for ease of explanation, but the present invention is not limited to this. In the case of 8 bits, 255 unit current sources 634 may be formed (arranged). In the case of 4 bits, 15 unit current sources 634 are formed (arranged)
do it.

【0577】また、電流源634はすべてが、同一の電
流を流すことに限定するものではない。たとえば、各電
流源634を重み付けしてもよい。たとえば、1単位の
電流源634と、2倍の電流源634と、4倍の電流源
634などを混在させて電流出力回路を構成してもよ
い。 しかし、電流源634を重み付けして構成する
と、各重み付けした電流源が重み付けした割合になら
ず、バラツキが発生する可能性がある。したがって、重
み付けする場合であっても、各電流源は、1単位の電流
源となるトランジスタを複数個形成することにより構成
することが好ましい。
Further, the current sources 634 are not limited to all supplying the same current. For example, each current source 634 may be weighted. For example, the current output circuit may be configured by mixing one unit current source 634, two times the current source 634, and four times the current source 634. However, if the current sources 634 are configured by weighting, the weighted current sources do not have the weighted ratio, and variations may occur. Therefore, even in the case of weighting, it is preferable that each current source is formed by forming a plurality of transistors each serving as a unit of current source.

【0578】図64の構成は図63に図示する第3段の
カレントミラー部である。したがって、第1の電流源6
31と第2段の電流源632が別途形成されており、こ
れらが密集(密接あるいは隣接)して配置されているの
である。また、第2段の電流源632と第3段の電流源
を構成するカラントミラー回路のトランジスタ633a
も密集(密接あるいは隣接)して配置される。
The configuration shown in FIG. 64 is the third stage current mirror section shown in FIG. Therefore, the first current source 6
31 and the second stage current source 632 are separately formed, and these are arranged densely (closely or adjacently). In addition, the transistor 633a of the currant mirror circuit that constitutes the second-stage current source 632 and the third-stage current source
Are also densely (closely or adjacently) arranged.

【0579】なお、特に電流源(1単位)634は、密
集して配置され、かつ微小な電流が流れる。したがっ
て、EL表示パネルなどから放射される光(発光光)
が、電流源634(他に631、632、633も考慮
すべきである)に光が照射されると、ホトコンダクタ現
象(ホトコン)により誤動作を引き起こす。この課題に
対応するため、チップの裏面に遮光膜を形成する。ま
た、基板に実装する箇所で、かつ、チップの電流源が形
成された箇所に遮光膜を形成する(パネル基板の表面に
金属薄膜、有機材料あるいは無機材料などからなる光吸
収膜を形成する)。この遮光膜は、EL素子15に電流
を供給するアノード配線、カソード配線の引き回す(I
Cチップ下に引き回す)ことにより、構成すれば形成が
容易であり、低コスト化できる。この構成は、ICチッ
プに限定されるものではない。低温ポリシリコン、高温
ポリシリコンもしくは固相成長により形成された半導体
膜(CGS)を用いてソースドライバ回路14にも適用
される。つまり、このソースドライバ回路14の裏面に
遮光膜を形成する。
Note that the current sources (1 unit) 634 are densely arranged and a minute current flows. Therefore, the light emitted from the EL display panel (emitted light)
However, when the current source 634 (in addition, 631, 632, and 633 should be considered) is irradiated with light, a malfunction occurs due to a photoconductor phenomenon (photocon). To cope with this problem, a light shielding film is formed on the back surface of the chip. In addition, a light-shielding film is formed on the board where it is mounted and where the current source of the chip is formed (a light-absorbing film made of a metal thin film, an organic material or an inorganic material is formed on the surface of the panel substrate). . This light-shielding film guides the anode wiring and the cathode wiring that supply a current to the EL element 15 (I
If it is constructed, it can be easily formed and the cost can be reduced. This configuration is not limited to the IC chip. It is also applied to the source driver circuit 14 using low-temperature polysilicon, high-temperature polysilicon, or a semiconductor film (CGS) formed by solid phase growth. That is, a light shielding film is formed on the back surface of the source driver circuit 14.

【0580】第2段のカレントミラー回路632を流れ
る電流は、第3段のカレントミラー回路を構成するトラ
ンジスタ633aにコピーされ、カレントミラー倍率が
1倍の時は、この電流がトランジスタ633bに流れ
る。この電流は、最終段のトランジスタ634にコピー
される。
The current flowing through the second-stage current mirror circuit 632 is copied to the transistor 633a which constitutes the third-stage current mirror circuit. When the current mirror magnification is 1, this current flows through the transistor 633b. This current is copied to the final stage transistor 634.

【0581】D0に対応する部分は、1個のトランジス
タ634で構成されているので、最終段電流源のトラン
ジスタ633に流れる電流値である。D1に対応する部
分は2個のトランジスタ634で構成されているので、
最終段電流源の2倍の電流値である。D2は4個のトラ
ンジスタ634で構成されているので、最終段電流源の
4倍の電流値であり、・・・、D5に対応する部分は3
2個のトランジスタで構成されているので、最終段電流
源の32倍の電流値である。したがって、6ビットの画
像データD0、D1、D2、・・・、D5で制御される
スイッチを介してプログラム電流Iwはソース信号線に
出力される(電流を引き込む)。したがって、6ビット
の画像データD0、D1、D2、・・・、D5のON、
OFFに応じて、出力線には、最終段電流源633の1
倍、2倍、4倍、・・・、32倍の電流が加算されて出
力される。すなわち、6ビットの画像データD0、D
1、D2、・・・、D5により、最終段電流源633の
0〜63倍の電流値が出力線より出力される(ソース信
号線18から電流を引き込む。
Since the portion corresponding to D0 is composed of one transistor 634, it is the current value flowing in the transistor 633 of the final stage current source. Since the portion corresponding to D1 is composed of two transistors 634,
The current value is twice that of the final stage current source. Since D2 is composed of four transistors 634, the current value is four times that of the final stage current source, and the portion corresponding to D5 is 3
Since it is composed of two transistors, the current value is 32 times that of the final stage current source. Therefore, the program current Iw is output to the source signal line (current is drawn) via the switches controlled by the 6-bit image data D0, D1, D2, ..., D5. Therefore, 6-bit image data D0, D1, D2, ..., D5 ON,
Depending on the OFF state, the output line has 1 of the final stage current source 633.
Double, double, quadruple, ..., 32-fold currents are added and output. That is, 6-bit image data D0, D
1, D2, ..., D5, a current value 0 to 63 times that of the final stage current source 633 is output from the output line (current is drawn from the source signal line 18).

【0582】以上のように、最終段電流源633の整数
倍の構成により、従来のW/Lの比例配分と比較して、
より高精度に電流値を制御できる(各端子の出力バラツ
キがなくなる)。
As described above, with the configuration of an integral multiple of the final stage current source 633, compared with the conventional proportional distribution of W / L,
The current value can be controlled with higher accuracy (the output variation of each terminal is eliminated).

【0583】ただし、この構成は、画素16を構成する
駆動用TFT11aがPチャンネルで構成され、かつ、
ソースドライバIC14を構成する電流源(1単位)部
634がNチャンネルトランジスタで構成されている場
合である。他の場合(例えば、画素16の駆動用TFT
11aがNチャンネルトランジスタで構成されている場
合など)は、プログラム電流Iwは吐き出し電流となる
構成も実施できることはいうまでもない。)。
However, in this structure, the driving TFT 11a forming the pixel 16 is composed of the P channel, and
This is a case where the current source (1 unit) unit 634 forming the source driver IC 14 is formed of an N-channel transistor. In other cases (for example, the TFT for driving the pixel 16)
It is needless to say that the program current Iw can be a discharge current when 11a is composed of N-channel transistors. ).

【0584】なお、最終段電流源633の0〜63倍の
電流が出力されるとしたが、これは最終段電流源633
のカレントミラー倍率が1倍の時である。カレントミラ
ー倍率が2倍の時は、最終段電流源633の0〜126
倍の電流が出力され、カレントミラー倍率が0.5倍の
時は、最終段電流源633の0〜31.5倍の電流が出
力される。以上のように、本発明は最終段電流源633
あるいは、それより前段の電流源(631、632な
ど)のカレントミラー倍率を変化させることにより、出
力の電流値を容易に変更できる。また、以上の事項は、
R、G、Bごとにカレントミラー倍率を変更する(異な
らせる)ことも好ましい。たとえば、Rのみ、いずれか
の電流源のカレントミラー倍率を他の色に対して(他の
色に対応する電流源回路に対して)、変化(異ならせ
る)させてもよい。特に、EL表示パネルは、各色
(R、G、Bあるいはシアン、イエロー、マゼンダ)ご
とに発光効率などが異なる。したがって、各色でカレン
トミラー倍率を変化させることにより、ホワイトバラン
スを良好にできる。
It is assumed that the current of 0 to 63 times that of the final stage current source 633 is output.
This is when the current mirror magnification of is 1. When the current mirror magnification is 2 times, the final stage current source 633 0 to 126
When the current mirror magnification is 0.5 times, the current of 0 to 31.5 times that of the final stage current source 633 is output. As described above, the present invention provides the final stage current source 633.
Alternatively, the current value of the output can be easily changed by changing the current mirror magnification of the current source (631, 632, etc.) in the preceding stage. In addition, the above items are
It is also preferable to change (make different) the current mirror magnification for each of R, G, and B. For example, only for R, the current mirror magnification of any current source may be changed (different) with respect to other colors (with respect to current source circuits corresponding to other colors). In particular, the EL display panel has different luminous efficiency for each color (R, G, B or cyan, yellow, magenta). Therefore, the white balance can be improved by changing the current mirror magnification for each color.

【0585】電流源のカレントミラー倍率を他の色に対
して(他の色に対応する電流源回路に対して)、変化
(異ならせる)させるという事項は、固定的なものに限
定されない。可変することも含まれる。可変は、電流源
にカレントミラー回路を構成するトランジスタを複数形
成しておき、外部からの信号によりカレント電流を流す
前記トランジスタの個数を切り替えることにより実現で
きる。このように構成することにより、作製されたEL
表示パネルの各色の発光状態を観察しながら、最適なホ
ワイトバランスに調整することが可能になる。特に、本
発明は、多数段に電流源(カレントミラー回路)を連結
する構成である。したがって、第1段の電流源631と
第2段の電流源632とのカレントミラー倍率を変化さ
せると、少ない連結部(カレントミラー回路など)によ
り容易に多数の出力の出力電流を変化できる。もちろ
ん、第2段の電流源632と第3段の電流源633との
カレントミラー倍率を変化させるよりも、少ない連結部
(カレントミラー回路など)により容易に多数の出力の
出力電流を変化できることはいうまでもない。
The matter of changing (changing) the current mirror magnification of the current source with respect to other colors (with respect to current source circuits corresponding to other colors) is not limited to fixed ones. It also includes changing. The variable can be realized by forming a plurality of transistors forming a current mirror circuit in a current source and switching the number of the transistors through which a current flows by an external signal. The EL manufactured by the above configuration
It becomes possible to adjust to the optimum white balance while observing the light emission state of each color of the display panel. In particular, the present invention has a configuration in which current sources (current mirror circuits) are connected in multiple stages. Therefore, when the current mirror magnifications of the first-stage current source 631 and the second-stage current source 632 are changed, the output currents of a large number of outputs can be easily changed with a small number of connecting portions (current mirror circuit or the like). Of course, it is possible to easily change the output current of a large number of outputs with a small number of connecting portions (current mirror circuit, etc.) rather than changing the current mirror magnification of the second stage current source 632 and the third stage current source 633. Needless to say.

【0586】なお、カレントミラー倍率を変化という概
念は、電流倍率を変化(調整)するということである。
したがって、カレントミラー回路のみに限定されるもの
ではない。たとえば、電流出力のオペアンプ回路、電流
出力のD/A回路などでも実現できる。
Note that the concept of changing the current mirror magnification means changing (adjusting) the current magnification.
Therefore, the present invention is not limited to the current mirror circuit. For example, it can be realized by a current output operational amplifier circuit, a current output D / A circuit, or the like.

【0587】以上に説明した事項は、本発明の他の実施
例についても適用されることはいうまでもない。
It goes without saying that the matters described above are also applicable to other embodiments of the present invention.

【0588】図65に、3段式カレントミラー回路によ
る176出力(N×M=176)の回路図の一例を示
す。図65では、第1段カレントミラー回路による電流
源631を親電流源、第2段カレントミラー回路による
電流源632を子電流源、第3段カレントミラー回路に
よる電流源633を孫電流源と記している。最終段カレ
ントミラー回路である第3段カレントミラー回路による
電流源の整数倍の構成により、176出力のばらつきを
極力抑え、高精度な電流出力が可能である。もちろん、
電流源531、632、633を密集して配置するとい
う構成を忘れてはならない。
FIG. 65 shows an example of a circuit diagram of 176 outputs (N × M = 176) by the three-stage current mirror circuit. In FIG. 65, the current source 631 based on the first-stage current mirror circuit is referred to as a parent current source, the current source 632 based on the second-stage current mirror circuit is referred to as a child current source, and the current source 633 based on the third-stage current mirror circuit is referred to as a grandchild current source. ing. With the configuration of the third stage current mirror circuit which is the final stage current mirror circuit, which is an integral multiple of the current source, it is possible to suppress variations in the 176 outputs as much as possible and to perform highly accurate current output. of course,
One must not forget the configuration in which the current sources 531, 632, 633 are densely arranged.

【0589】なお、密集して配置するとは、第1の電流
源631と第2の電流源632とを少なくとも8mm以
内の距離に配置(電流あるいは電圧の出力側と電流ある
いは電圧の入力側)することをいう。さらには、5mm
以内に配置することが好ましい。この範囲であれば、検
討によりシリコンチップ内で配置されてトランジスタの
特性(Vt、モビリティ(μ))差がほとんど発生しな
いからである。また、同様に、第2の電流源632と第
3の電流源633(電流の出力側と電流の入力側)も少
なくとも8mm以内の距離に配置する。さらに好ましく
は、5mm以内の位置に配置することが好ましい。以上
の事項は、本発明の他の実施例においても適用されるこ
とは言うまでもない。
The dense arrangement means that the first current source 631 and the second current source 632 are arranged at a distance of at least 8 mm (current or voltage output side and current or voltage input side). Say that. Furthermore, 5 mm
It is preferable to place it within. This is because, if it is within this range, a difference in characteristics (Vt, mobility (μ)) of the transistors arranged in the silicon chip hardly occurs by study. Similarly, the second current source 632 and the third current source 633 (current output side and current input side) are also arranged at a distance of at least 8 mm. More preferably, it is preferably arranged at a position within 5 mm. It goes without saying that the above items also apply to other embodiments of the present invention.

【0590】この電流あるいは電圧の出力側と電流ある
いは電圧の入力側とは、以下の関係を意味する。図66
の電圧受け渡しの場合は、第(I)段の電流源のトラン
ジスタ631(出力側)と第(I+1)の電流源のトラ
ンジスタ632a(入力側)とを密集して配置する関係
である。図67の電流受け渡しの場合は、第(I)段の
電流源のトランジスタ631a(出力側)と第(I+
1)の電流源のトランジスタ632b(入力側)とを密
集して配置する関係である。
The output side of the current or voltage and the input side of the current or voltage mean the following relationship. FIG. 66
In the case of voltage transfer, the transistor 631 (output side) of the (I) th stage current source and the transistor 632a (input side) of the (I + 1) th current source are closely arranged. In the case of current transfer in FIG. 67, the transistor 631a (output side) of the (I) th stage current source and the (I +) th stage
The relation is that the current source transistor 632b (input side) of 1) is densely arranged.

【0591】ここで、シリコンチップとしたが、これ
は、半導体チップの意味である。したがって、ガリウム
基板に形成されたチップ、ゲルマニウム基板など形成さ
れた他の半導体チップも同様である。
Here, a silicon chip is used, but this means a semiconductor chip. Therefore, the same applies to chips formed on a gallium substrate and other semiconductor chips formed on a germanium substrate or the like.

【0592】さらには、低温ポリシリコン、高温ポリシ
リコンもしくは固相成長により形成された半導体膜(C
GS)を用いてソースドライバ回路にも適用される。た
だし、この場合は、パネルが比較的大型の場合が多い。
パネルが大型であると多少のソース信号線18からの出
力バラツキがあっても視覚的に認識されにくい。したが
って、以上のガラス基板などに画素TFTと同時にソー
スドライバ回路14を形成する表示パネルでは、密集し
て配置するとは、第1の電流源631と第2の電流源6
32とを少なくとも30mm以内の距離に配置(電流の
出力側と電流の入力側)することをいう。さらには、2
0mm以内に配置することが好ましい。この範囲であれ
ば、検討によりこの範囲に配置されたトランジスタの特
性(Vt、モビリティ(μ))差がほとんど発生しない
からである。また、同様に、第2の電流源632と第3
の電流源633(電流の出力側と電流の入力側)も少な
くとも30mm以内の距離に配置する。さらに好ましく
は、20mm以内の位置に配置することが好ましい。
Furthermore, a low temperature polysilicon, a high temperature polysilicon or a semiconductor film (C
It is also applied to the source driver circuit using GS). However, in this case, the panel is often relatively large.
If the panel is large, it is difficult to be visually recognized even if there is some variation in the output from the source signal line 18. Therefore, in the display panel in which the source driver circuit 14 is formed simultaneously with the pixel TFTs on the glass substrate or the like, it means that the first current source 631 and the second current source 6 are densely arranged.
32 is arranged at a distance of at least 30 mm (current output side and current input side). Furthermore, 2
It is preferable to arrange it within 0 mm. This is because, within this range, a difference in characteristics (Vt, mobility (μ)) of the transistors arranged in this range hardly occurs as a result of examination. Similarly, the second current source 632 and the third current source 632
The current source 633 (current output side and current input side) is also arranged at a distance of at least 30 mm. More preferably, it is preferably arranged at a position within 20 mm.

【0593】以上の説明は、理解を容易に、あるいは説
明を容易にするため、カレントミラー回路間は電圧によ
り信号を受け渡すように説明をした。しかし、電流受け
渡し構成にすることにより。よりばらつきの小さい電流
駆動型表示パネルの駆動用ドライバー回路(IC)14
を実現することができる。
In the above description, for ease of understanding or for ease of explanation, it is explained that signals are transferred between the current mirror circuits by voltage. However, with the current passing configuration. Driver circuit (IC) 14 for driving a current-driven display panel with less variation
Can be realized.

【0594】図67は電流受け渡し構成の実施例であ
る。なお、図66は電圧受け渡し構成の実施例である。
図66、図67とも回路図としては同じであり、レイ
アウト構成すなわち配線の引き回し方が異なる。図66
において、631は第1段電流源用Nchトランジス
タ、632aは第2段電流源用Nchトランジスタ、6
32bは第2段電流源用Pchトランジスタである。
FIG. 67 shows an embodiment of the current transfer configuration. Note that FIG. 66 shows an example of a voltage transfer configuration.
66 and 67 are the same as the circuit diagram, but the layout configuration, that is, the way of wiring is different. FIG. 66
, 631 is a first-stage current source Nch transistor, 632a is a second-stage current source Nch transistor, 6
32b is a Pch transistor for the second stage current source.

【0595】図67において、631aは第1段電流源
用Nchトランジスタ、632aは第2段電流源用Nc
hトランジスタ、632bは第2段電流源用Pchトラ
ンジスタである。
In FIG. 67, 631a is a first-stage current source Nch transistor, and 632a is a second-stage current source Nc transistor.
The h transistor 632b is a Pch transistor for the second stage current source.

【0596】図66では、可変抵抗651(電流を変化
するために用いるものである)とNchトランジスタ6
31で構成される第1段電流源のゲート電圧が、第2段
電流源のNchトランジスタ632aのゲートに受け渡
されているので、電圧受け渡し方式のレイアウト構成と
なる。
In FIG. 66, the variable resistor 651 (used to change the current) and the Nch transistor 6 are used.
Since the gate voltage of the first-stage current source composed of 31 is transferred to the gate of the Nch transistor 632a of the second-stage current source, the layout structure is a voltage transfer system.

【0597】一方、図67では、可変抵抗651とNc
hトランジスタ631aで構成される第1段電流源のゲ
ート電圧が、隣接する第2段電流源のNchトランジス
タ632aのゲートに印加され、その結果トランジスタ
に流れる電流値が、第2段電流源のPchトランジスタ
632bに受け渡されているので、電流受け渡し方式の
レイアウト構成となる。
On the other hand, in FIG. 67, the variable resistors 651 and Nc are
The gate voltage of the first-stage current source composed of the h-transistor 631a is applied to the gate of the Nch transistor 632a of the adjacent second-stage current source, and as a result, the current value flowing through the transistor is Pch of the second-stage current source. Since it is delivered to the transistor 632b, the layout configuration is a current delivery system.

【0598】なお、本発明の実施例では説明を容易にす
るため、あるいは理解を容易にするために、第1の電流
源と第2の電流源との関係を中心に説明しているが、こ
れに限定されるものではなく、第2の電流源と第3の電
流源との関係、あるいはそれ以外の電流源との関係にお
いても適用される(適用できる)ことは言うまでもな
い。
In the embodiments of the present invention, the relationship between the first current source and the second current source is mainly described in order to facilitate the description or the understanding. It is needless to say that the present invention is not limited to this, and is applied (applicable) to the relationship between the second current source and the third current source or the relationship to other current sources.

【0599】図66の電圧受け渡し方式のカレントミラ
ー回路のレイアウト構成では、カレントミラー回路を構
成する第1段の電流源のNchトランジスタ631と第
2段の電流源のNchトランジスタ632aが離れ離れ
になる(離れ離れになりやすいというべきではある)の
で、両者のトランジスタ特性に相違が生じやすい。した
がって、第1段電流源の電流値が第2段電流源に正確に
伝達されず、ばらつきが生じやすい。
In the layout configuration of the voltage mirroring type current mirror circuit of FIG. 66, the Nch transistor 631 of the current source of the first stage and the Nch transistor 632a of the current source of the second stage forming the current mirror circuit are separated from each other ( It should be said that they are easily separated from each other), so that a difference is likely to occur in the transistor characteristics of both. Therefore, the current value of the first-stage current source is not accurately transmitted to the second-stage current source, and variations easily occur.

【0600】それに対して、図67の電流受け渡し方式
のカレントミラー回路のレイアウト構成では、カレント
ミラー回路を構成する第1段電流源のNchトランジス
タ631aと第2段電流源のNchトランジスタ632
aが隣接している(隣接して配置しやすい)ので、両者
のトランジスタ特性に相違は生じにくく、第1段電流源
の電流値が第2段電流源に正確に伝達され、ばらつきが
生じにくい。
On the other hand, in the layout configuration of the current transfer type current mirror circuit of FIG. 67, the Nch transistor 631a of the first stage current source and the Nch transistor 632 of the second stage current source forming the current mirror circuit.
Since a is adjacent (it is easy to arrange adjacent to each other), the transistor characteristics of the two are unlikely to differ, the current value of the first-stage current source is accurately transmitted to the second-stage current source, and variation is unlikely to occur. .

【0601】以上のことから、本発明の多段式カレント
ミラー回路の回路構成(本発明の電流駆動方式のソース
ドライバ回路(IC)14)として、電圧受け渡しでは
なく、電流受け渡しとなるレイアウト構成とすることに
より、よりばらつきの小さくでき好ましい。以上の実施
例は本発明の他の実施例にも適用できることは言うまで
もない。
From the above, the circuit configuration of the multistage current mirror circuit of the present invention (source driver circuit (IC) 14 of the current drive system of the present invention) has a layout configuration of current transfer instead of voltage transfer. This is preferable because the variation can be further reduced. It goes without saying that the above embodiment can be applied to other embodiments of the present invention.

【0602】なお、説明の都合上、第1段電流源から第
2段電流源の場合を示したが、第2段電流源から第3段
電流源、第3段電流源から第4段電流源、・・・の場合
も同様であることは言うまでもない。
For convenience of explanation, the case where the first-stage current source to the second-stage current source is shown, but the second-stage current source to the third-stage current source and the third-stage current source to the fourth-stage current source. It goes without saying that the same applies to the case of source.

【0603】図68は、図65の3段構成のカレントミ
ラー回路(3段構成の電流源)を、電流受け渡し方式に
した場合の例を示している(したがって、図65は電圧
受け渡し方式の回路構成である)。
FIG. 68 shows an example in which the current mirror circuit of the three-stage configuration (current source of the three-stage configuration) of FIG. 65 is set to the current delivery system (thus, FIG. 65 is a circuit of the voltage delivery system). Configuration).

【0604】なお、本発明のソースドライバIC(回
路)14を構成するトランジスタは、MOSタイプに限
定するものではなく、バイポーラタイプでもよい。ま
た、シリコン半導体に限定するものではなく、ガリ砒素
半導体でもよい。また、ゲルマニウム半導体でもよい。
また、基板に低温ポリシリコン技術で直接形成したもの
でもよい。以上の事項は他の実施例においても同様であ
る。
The transistors forming the source driver IC (circuit) 14 of the present invention are not limited to the MOS type, but may be the bipolar type. Further, it is not limited to a silicon semiconductor, and a gallium arsenide semiconductor may be used. Alternatively, a germanium semiconductor may be used.
Alternatively, it may be directly formed on the substrate by a low temperature polysilicon technique. The above matters also apply to the other embodiments.

【0605】図68では、まず、可変抵抗651とNc
hトランジスタ631aで基準電流が作成される。な
お、可変抵抗651で基準電流を調整するように説明し
ているが、実際は、ソースドライバIC(回路)14内
に形成(もしくは配置)された電子ボリウム回路により
トランジスタ631aのソース電圧が設定され、調整さ
れるように構成される。もしくは、図64に図示するよ
うな多数の電流源(1単位)634から構成される電流
方式の電子ボリウムから出力される電流を直接にトラン
ジスタ631のソース端子に供給することにより基準電
流は調整される(図69を参照のこと)。
In FIG. 68, first, the variable resistors 651 and Nc are connected.
A reference current is created by the h transistor 631a. Although the variable resistor 651 adjusts the reference current, the source voltage of the transistor 631a is actually set by the electronic volume circuit formed (or arranged) in the source driver IC (circuit) 14. Configured to be adjusted. Alternatively, the reference current is adjusted by directly supplying the current output from a current-type electronic volume composed of a large number of current sources (one unit) 634 as shown in FIG. 64 to the source terminal of the transistor 631. (See FIG. 69).

【0606】トランジスタ631aによる第1段電流源
のゲート電圧が、隣接する第2段電流源のNchトラン
ジスタ632aのゲートに印加され、その結果トランジ
スタに流れる電流値が、第2段電流源のPchトランジ
スタ632bに受け渡される。また、第2の電流源のト
ランジスタ6312bによるゲート電圧が、隣接する第
3段電流源のNchトランジスタ633aのゲートに印
加され、その結果トランジスタに流れる電流値が、第3
段電流源のNchトランジスタ633bに受け渡され
る。第3段電流源のNchトランジスタ633bのゲー
トには図64に図示する多数の電流源634が必要なビ
ット数に応じて形成(配置)される。
The gate voltage of the first stage current source formed by the transistor 631a is applied to the gate of the Nch transistor 632a of the adjacent second stage current source, and as a result, the current value flowing through the transistor is the Pch transistor of the second stage current source. It is delivered to 632b. Further, the gate voltage of the transistor 6312b of the second current source is applied to the gate of the Nch transistor 633a of the adjacent third stage current source, and as a result, the current value flowing through the transistor is the third value.
It is transferred to the Nch transistor 633b of the stage current source. A large number of current sources 634 shown in FIG. 64 are formed (disposed) at the gate of the Nch transistor 633b of the third stage current source according to the required number of bits.

【0607】トランジスタのVtバラツキ(特性バラツ
キ)は、1ウェハ内で100mV程度のばらつきがあ
る。しかし、100μ以内に近接して形成されたトラン
ジスタのVtバラツキは、少なくとも、10mV以下で
ある(実測)。つまり、トランジスタを近接して形成
し、カレントミラー回路を構成するとにより、カレント
ミラー回路の出力電流バラツキを減少させることができ
る。したがって、本発明のソースドライバICの各端子
の出力電流バラツキを少なくすることができる。
The Vt variation (characteristic variation) of the transistor varies by about 100 mV within one wafer. However, the Vt variation of the transistors formed close to each other within 100 μ is at least 10 mV or less (actual measurement). That is, by forming the transistors close to each other to form the current mirror circuit, it is possible to reduce the output current variation of the current mirror circuit. Therefore, it is possible to reduce variations in the output current of each terminal of the source driver IC of the present invention.

【0608】図105はトランジスタの形成面積(平方
ミリメートル)と、単体トランジスタの出力電流バラツ
キ(3σ)との測定結果を示している。出力電流バラツ
キとは、Vt電圧での電流バラツキである。黒点は所定
の形成面積内に作製された評価サンプル(10−200
個)のトランジスタ出力電流バラツキである。図105
のA領域(形成面積0.5平方ミリメートル以内)内で
形成されたトランジスタには、ほとんど出力電流のバラ
ツキがない(ほぼ、誤差範囲の出力電流バラツキしかな
い。つまり、一定の出力電流が出力される)。逆にC領
域(形成面積2.4平方ミリメートル以上)では、形成
面積に対する出力電流のバラツキが急激に大きくなる傾
向がある。B領域(形成面積0.5平方ミリメートル以
上2.4平方ミリメートル以下)では、形成面積に対す
る出力電流のバラツキはほぼ比例の関係にある。
FIG. 105 shows the measurement results of the transistor formation area (square millimeter) and the output current variation (3σ) of a single transistor. The output current variation is a current variation at the Vt voltage. Black dots are evaluation samples (10-200) produced within a predetermined formation area.
Variations in transistor output current. FIG. 105
The transistor formed in the area A (formed area within 0.5 mm 2) has almost no variation in output current (almost only output current variation within error range. That is, a constant output current is output). ). On the contrary, in the C region (forming area of 2.4 square millimeters or more), the variation of the output current with respect to the forming area tends to increase sharply. In the B region (forming area of 0.5 square millimeters or more and 2.4 square millimeters or less), the variation of the output current is substantially proportional to the forming area.

【0609】ただし、出力電流の絶対値は、ウェハごと
に異なる。しかし、この問題は、本発明のソースドライ
バ回路(IC)14において、基準電流を調整するこ
と、あるいは所定値にすることにより対応できる。ま
た、カレントミラー回路などの回路工夫で対応できる
(解決できる)。
However, the absolute value of the output current is different for each wafer. However, this problem can be solved by adjusting the reference current or setting it to a predetermined value in the source driver circuit (IC) 14 of the present invention. In addition, it can be solved (solved) by devising a circuit such as a current mirror circuit.

【0610】本発明は、入力デジタルデータ(D)によ
り、単位トランジスタ634に流れる電流数を切り替え
ることによりソース信号線18に流れる電流量を変化
(制御)する。階調数が64階調以上であれば、1/6
4=0.015であるから、理論的には、1〜2%以内
の出力電流バラツキ以内にする必要がある。なお、1%
以内の出力バラツキは、視覚的には判別することが困難
になり、0.5%以下ではほぼ判別することができない
(均一に見える)。
According to the present invention, the amount of current flowing through the source signal line 18 is changed (controlled) by switching the number of currents flowing through the unit transistors 634 according to the input digital data (D). If the number of gradations is 64 or more, then 1/6
Since 4 = 0.015, theoretically it is necessary to keep the output current within 1 to 2%. 1%
It is difficult to visually discriminate the output variation within the range of 0.5% or less (almost uniform).

【0611】出力電流バラツキ(%)を1%以内にする
ためには、図105の結果に示すようにトランジスタ群
(バラツキの発生を抑制すべきトランジスタ)の形成面
積を2平方ミリメーター以内にする必要がある。さらに
好ましくは、出力電流のバラツキ(つまり、トランジス
タのVtバラツキ)を0.5%以内にすることが好まし
い。図105の結果に示すようにトランジスタ群681
の形成面積を1.2平方ミリメーター以内にすればよ
い。なお、形成面積とは、縦×横の長さの面積である。
たとえば、一例として、1.2平方ミリメートルでは、
1mm×1.2mmである。
In order to keep the output current variation (%) within 1%, as shown in the result of FIG. 105, the formation area of the transistor group (transistor whose variation should be suppressed) is set within 2 square millimeters. There is a need. More preferably, the variation in the output current (that is, the Vt variation in the transistor) is preferably within 0.5%. As shown in the result of FIG. 105, the transistor group 681
The formation area of s should be 1.2 square millimeters or less. The formation area is an area of length × width.
For example, as an example, with 1.2 square millimeters,
It is 1 mm × 1.2 mm.

【0612】なお、以上は、特に8ビット(256階
調)以上の場合である。256階調以下の場合、たとえ
ば、6ビット(64階調)の場合は、出力電流のバラツ
キは2%程度であっても良い(画像表示上、実状は問題
がない)。この場合は、トランジスタ群681は、5平
方ミリメートル以内に形成すればよい。また、トランジ
スタ群681(図68では、トランジスタ群681aと
681bの2つを図示している)の両方が、この条件を
満足することを要しない。少なくとも一方が(3つ以上
ある場合は、1つ以上のトランジスタ群681)この条
件を満足するように構成すれば本発明の効果が発揮され
る。特に、下位のトランジスタ群681(681aが上
位で、681bが下位の関係)に、関してこの条件を満
足させることが好ましい。画像表示に問題が発生しにく
くなるからである。
The above is especially the case of 8 bits (256 gradations) or more. In the case of 256 gradations or less, for example, in the case of 6 bits (64 gradations), the variation of the output current may be about 2% (there is no problem in image display in actuality). In this case, the transistor group 681 may be formed within 5 square millimeters. Both of the transistor groups 681 (two transistor groups 681a and 681b are illustrated in FIG. 68) do not need to satisfy this condition. The effect of the present invention is exerted if at least one of them (when there are three or more, one or more transistor groups 681) is configured to satisfy this condition. In particular, it is preferable to satisfy this condition with respect to the lower transistor group 681 (the relationship in which 681a is the upper layer and 681b is the lower layer). This is because problems in image display are less likely to occur.

【0613】以上の事項は本発明の他の実施例において
も適用され、また、本発明の表示パネル、アレイ、表示
装置などと組み合わせることができる。
The above items are also applicable to other embodiments of the present invention, and can be combined with the display panel, array, display device or the like of the present invention.

【0614】本発明のソースドライバ回路(IC)14
は、図68に図示するように、親、子、孫というように
少なくとも複数の電流源を多段接続し、かつ各電流源密
配置にしている(もちろん、親、子の2段接続でもよ
い)。また、各電流源間(トランジスタ群681間)を
電流受け渡しにしている。具体的には、図68の点線で
囲った範囲(トランジスタ群681)を密配置にする。
このトランジスタ群681は電圧受け渡しの関係にあ
る。また、親の電流源631と子の電流源632aと
は、ソースドライバIC14チップの略中央部に形成ま
たは配置する。チップの左右に配置された子の電流源を
構成するトランジスタ632aと、子の電流源を構成す
るトランジスタ632bとの距離を比較的短くすること
ができるからである。つまり、最上位のトランジスタ群
681aをICチップの略中央部に配置する。そして、
ICチップ14の左右に、下位のトランジスタ群681
bを配置する。好ましくは、この下位のトランジスタ群
681bの個数がICチップの左右で略等しくなるよう
に配置または、形成もしくは作製するのである。なお、
以上の事項は、ICチップ14に限定されず、低温ある
いは高温ポリシリコン技術で基板71に直接形成したソ
ースドライバ回路14にも適用される。他の事項も同様
である。
Source Driver Circuit (IC) 14 of the Present Invention
68, as shown in FIG. 68, at least a plurality of current sources such as a parent, a child, and a grandchild are connected in multiple stages, and each current source is densely arranged (of course, a two-stage connection of the parent and the child is also possible). . In addition, current is passed between the respective current sources (between the transistor groups 681). Specifically, a range (transistor group 681) surrounded by a dotted line in FIG. 68 is densely arranged.
The transistor group 681 has a voltage transfer relationship. Further, the parent current source 631 and the child current source 632a are formed or arranged in the substantially central portion of the source driver IC 14 chip. This is because the distance between the transistor 632a forming the child current source and the transistor 632b forming the child current source arranged on the left and right of the chip can be made relatively short. That is, the uppermost transistor group 681a is arranged substantially in the center of the IC chip. And
On the left and right of the IC chip 14, lower transistor groups 681
Place b. Preferably, the lower transistor groups 681b are arranged, formed or manufactured such that the numbers of the lower transistor groups 681b are substantially equal on the left and right sides of the IC chip. In addition,
The above items are not limited to the IC chip 14, and are also applied to the source driver circuit 14 directly formed on the substrate 71 by the low temperature or high temperature polysilicon technique. Other matters are also the same.

【0615】本発明では、トランジスタ群681aはI
Cチップ14の略中央部に1つ構成または配置または形
成あるいは作製されたおり、チップの左右に8個づつト
ランジスタ群681bが形成されている(N=8+8、
図63を参照のこと)。子のトランジスタ群681bは
チップの左右に等しくなるように、もしくは、チップの
左側に形成または配置されたトランジスタ群681bの
個数と、チップの右側に形成または配置されたトランジ
スタ群681bの個数との差が、4個以内となるように
構成することが好ましい。さらには、チップの左側に形
成または配置されたトランジスタ群681bの個数と、
チップの右側に形成または配置されたトランジスタ群6
81bの個数との差が、1個以内となるように構成する
ことが好ましい。以上の事項は、孫にあたるトランジス
タ群(図68では省略されているが)についても同様で
ある。
In the present invention, the transistor group 681a is I
One C-chip 14 is formed, arranged, formed or manufactured in the substantially central portion, and eight transistor groups 681b are formed on the left and right sides of the chip (N = 8 + 8,
See FIG. 63). The child transistor groups 681b are equal to each other on the left and right sides of the chip, or the difference between the number of transistor groups 681b formed or arranged on the left side of the chip and the number of transistor groups 681b formed or arranged on the right side of the chip. It is preferable that the number is 4 or less. Furthermore, the number of transistor groups 681b formed or arranged on the left side of the chip,
Transistor group 6 formed or arranged on the right side of the chip
It is preferable that the difference from the number of 81b is within one. The above items are the same for the grandchild transistor group (not shown in FIG. 68).

【0616】親電流源631と子電流源632a間は電
圧受け渡し(電圧接続)されている。したがって、トラ
ンジスタのVtバラツキの影響を受けやすい。そのた
め、トランジスタ群681aの部分を密配置する。この
トランジスタ群681aの形成面積を、図105の図示
するように2平方ミリメートル以内の面積に形成する。
さらに好ましくは1.2平方ミリメートル以内に形成す
る。もちろん、階調数が64階調以下の場合は、5平方
ミリメートル以内でもよい。
Voltage is transferred (voltage-connected) between the parent current source 631 and the child current source 632a. Therefore, it is easily affected by the Vt variation of the transistor. Therefore, the transistor group 681a is densely arranged. The formation area of the transistor group 681a is formed within an area of 2 mm 2 as shown in FIG.
More preferably, it is formed within 1.2 mm 2. Of course, when the number of gradations is 64 gradations or less, it may be within 5 square millimeters.

【0617】トランジスタ群681aを子トランジスタ
632b間は電流でデータを受け渡し(電流受け渡し)
をしているので、多少、距離は流れても構わない。この
距離の範囲(たとえば、上位のトランジスタ群681a
の出力端から下位のトランジスタ681bの入力端まで
の距離)は、先に説明したように、第2の電流源(子)
を構成するトランジスタ632aと第2の電流源(子)
を構成するトランジスタ632bとを、少なくとも10
mm以内の距離に配置する。このましくは8mm以内に
配置または形成する。さらには、5mm以内に配置する
ことが好ましい。この範囲であれば、検討によりシリコ
ンチップ内で配置されてトランジスタの特性(Vt、モ
ビリティ(μ))差が、電流受け渡しではほとんど影響
しないからである。特に、この関係は、下位のトランジ
スタ群で実施することが好ましい。たとえば、トランジ
スタ群681aが上位で、その下位にトランジスタ群6
81b、さらにその下位にトランジスタ群681cがあ
れば、トランジスタ群681bとトランジスタ群681
cの電流受け渡しをこの関係を満足させる。したがっ
て、すべてのトランジスタ群681がこの関係を満足さ
せることに、本発明が限定されるものではない。少なく
とも1組のトランジスタ群681がこの関係を満足さえ
るようにすればよい。特に、下位の方が、トランジスタ
群681の個数が多くなるからである。
Data is transferred by current between the transistor group 681a and the child transistor 632b (current transfer).
Since it is doing, it does not matter if the distance flows a little. This distance range (for example, the upper transistor group 681a
From the output end of the second current source (child) to the input end of the lower transistor 681b), as described above.
632a and second current source (child) that configure the
And a transistor 632b forming the
Place it within a distance of mm. This is preferably placed or formed within 8 mm. Furthermore, it is preferable to arrange within 5 mm. This is because, if it is within this range, the difference in characteristics (Vt, mobility (μ)) of the transistors arranged in the silicon chip has almost no effect on the current transfer when examined. In particular, this relationship is preferably implemented in the lower transistor group. For example, the transistor group 681a is in the upper layer, and the transistor group 6 is in the lower layer.
81b, and if there is a transistor group 681c below it, there are transistor group 681b and transistor group 681.
The current passing of c satisfies this relationship. Therefore, the present invention is not limited to the case where all the transistor groups 681 satisfy this relationship. It suffices that at least one transistor group 681 satisfy this relationship. This is because the number of transistor groups 681 in the lower layer is particularly large.

【0618】第3の電流源(孫)を構成するトランジス
タ633aと第3の電流源を構成するトランジスタ63
3bについても同様である。なお、電圧受け渡しでも、
ほぼ適用することができることは言うまでもない。
[0618] The transistor 633a forming the third current source (grandchild) and the transistor 63 forming the third current source.
The same applies to 3b. In addition, even when passing voltage,
It goes without saying that it is almost applicable.

【0619】トランジスタ群681bはチップの左右方
向(長手方向、つまり、出力端子761と対面する位置
に)に形成または作製あるいは配置されている。トラン
ジスタ群681bはチップの左右方向(長手方向、つま
り、出力端子761と対面する位置に)に形成または作
製あるいは配置されている。このトランジスタ群681
bの個数Mは、本発明では11個(図63を参照)であ
る。
The transistor group 681b is formed, manufactured or arranged in the left-right direction of the chip (longitudinal direction, that is, at a position facing the output terminal 761). The transistor group 681b is formed, manufactured, or arranged in the left-right direction of the chip (longitudinal direction, that is, at a position facing the output terminal 761). This transistor group 681
In the present invention, the number M of b is 11 (see FIG. 63).

【0620】子電流源632bと孫電流源633a間は
電圧受け渡し(電圧接続)されている。そのため、トラ
ンジスタ群681aと同様にトランジスタ群681bの
部分を密配置する。このトランジスタ群681bの形成
面積を、図105の図示するように2平方ミリメートル
以内の面積に形成する。さらに好ましくは1.2平方ミ
リメートル以内に形成する。ただし、このトランジスタ
群681b部分のVtが少しでもばらつくと画像として
認識されやすい。したがって、ほとんどバラツキが発生
しないように、形成面積は図105のA領域(0.5平
方ミリメートル以内)にすることが好ましい。
Voltage is transferred (voltage connected) between the child current source 632b and the grandchild current source 633a. Therefore, similarly to the transistor group 681a, the transistor group 681b is densely arranged. The formation area of the transistor group 681b is formed within an area of 2 mm 2 as shown in FIG. More preferably, it is formed within 1.2 mm 2. However, if the Vt of the transistor group 681b varies even a little, it is easily recognized as an image. Therefore, the formation area is preferably set to the area A in FIG. 105 (within 0.5 mm 2), so that almost no variation occurs.

【0621】トランジスタ群681bを孫トランジスタ
633aとトランジスタ633b間は電流でデータを受
け渡し(電流受け渡し)をしているので、多少、距離は
流れても構わない。この距離の範囲についても先の説明
と同様である。第3の電流源(孫)を構成するトランジ
スタ633aと第2の電流源(孫)を構成するトランジ
スタ633bとを、少なくとも8mm以内の距離に配置
する。さらには、5mm以内に配置することが好まし
い。
[0621] Since the transistor group 681b transfers data by current (current transfer) between the grandchild transistor 633a and the transistor 633b, a slight distance may flow. The range of this distance is similar to the above description. The transistor 633a included in the third current source (grandchild) and the transistor 633b included in the second current source (grandchild) are arranged at a distance of at least 8 mm. Furthermore, it is preferable to arrange within 5 mm.

【0622】図69では、前記多段式カレントミラー回
路の第1段電流源631に、電流値調整用素子が具備さ
れていることを特徴としている。この構成により、第1
段電流源631の電流値を変化させることにより、出力
電流をコントロールすることが可能となる。
In FIG. 69, the first-stage current source 631 of the multistage current mirror circuit is provided with a current value adjusting element. With this configuration, the first
The output current can be controlled by changing the current value of the stage current source 631.

【0623】図69に、前記電流値制御用素子として、
電子ボリウムで構成した場合を示す。電子ボリウムは抵
抗691(電流制限および各基準電圧を作成する。抵抗
691はポリシリで形成する)、デコーダ692、レベ
ルシフタ693などで構成される。なお、電子ボリウム
は電流を出力する。トランジスタ641はアナログスイ
ッチ回路として機能する。
FIG. 69 shows, as the current value control element,
A case where the electronic volume is used is shown. The electronic volume is composed of a resistor 691 (current limit and each reference voltage are created. The resistor 691 is formed of polysilicon), a decoder 692, a level shifter 693, and the like. The electronic volume outputs a current. The transistor 641 functions as an analog switch circuit.

【0624】また、電子ボリウム回路は、EL表示パネ
ルの色数に応じて形成(もしくは配置)する。たとえ
ば、RGBの3原色であれば、各色に対応する3つの電
子ボリウム回路を形成(もしくは配置)し、各色を独立
に調整できるようにすることが好ましい。しかし、1つ
の色を基準にする(固定する)場合は、色数−1分の電
子ボリウム回路を形成(もしくは配置)する。
The electronic volume circuit is formed (or arranged) according to the number of colors of the EL display panel. For example, for the three primary colors of RGB, it is preferable to form (or arrange) three electronic volume circuits corresponding to the respective colors so that the respective colors can be adjusted independently. However, when one color is used as a reference (fixed), an electronic volume circuit for the number of colors minus 1 is formed (or arranged).

【0625】図76は、RGBの3原色を独立に基準電
流を制御する抵抗素子651を形成(配置)した構成で
ある。もちろん、抵抗素子651は電子ボリウムに置き
換えてもよいことは言うまでもない。電流源631、電
流源632などの親電流源、子電流源など基本(根本)
となる電流源は図76に図示する領域に電流出力回路7
04に密集して配置する。密集して配置することによ
り、各ソース信号線18からの出力バラツキが低減す
る。図76に図示するようにICチップ(回路)14の
中央部に電流出力回路704に配置することのより、I
Cチップ(回路)14の左右に電流源631、632な
どから電流を均等に分配することが容易となる。したが
って、左右の出力バラツキが発生しにくい。
FIG. 76 shows a structure in which a resistance element 651 for independently controlling the reference currents of the three primary colors of RGB is formed (arranged). Needless to say, the resistance element 651 may be replaced with an electronic volume. Basic (root) such as parent current sources such as current source 631 and current source 632, child current sources
The current source becomes the current output circuit 7 in the area shown in FIG.
Place it densely on 04. By arranging them densely, the variation in the output from each source signal line 18 is reduced. By arranging the current output circuit 704 in the central portion of the IC chip (circuit) 14 as shown in FIG.
It becomes easy to distribute the current evenly from the current sources 631 and 632 to the left and right of the C chip (circuit) 14. Therefore, left and right output variations are unlikely to occur.

【0626】電流出力回路704は、R、G、Bごとに
形成(配置)し、かつ、このRGBの電流出力回路70
4R、704G、704Bも近接して配置する。また、
各色(R、G、B)ごとに、図73に図示する低電流領
域の基準電流INLを調整し、また、図74に図示する
低電流領域の基準電流INHを調整する(図79も参照
のこと)。したがって、Rの電流出力回路704Rには
低電流領域の基準電流INLを調整するボリウム(もし
くは、電圧出力もしくは電流出力の電子ボリウム)65
1RLが配置され、高電流領域の基準電流INHを調整
するボリウム(もしくは、電圧出力もしくは電流出力の
電子ボリウム)651RHが配置される。同様に、Gの
電流出力回路704Gには低電流領域の基準電流INL
を調整するボリウム(もしくは、電圧出力もしくは電流
出力の電子ボリウム)651GLが配置され、高電流領
域の基準電流INHを調整するボリウム(もしくは、電
圧出力もしくは電流出力の電子ボリウム)651GHが
配置される。また、Bの電流出力回路704Bには低電
流領域の基準電流INLを調整するボリウム(もしく
は、電圧出力もしくは電流出力の電子ボリウム)651
BLが配置され、高電流領域の基準電流INHを調整す
るボリウム(もしくは、電圧出力もしくは電流出力の電
子ボリウム)651BHが配置される。なお、ボリウム
651などは、EL素子15の温特を補償できるよう
に、温度で変化するように構成することが好ましい。ま
た、図79のガンマ特性で、折れ曲がり点が2点以上あ
るときは、各色の基準電流を調整する電子ボリウムある
いは抵抗などは3個以上にしてもよいことは言うまでも
ない。
The current output circuit 704 is formed (arranged) for each of R, G and B, and the RGB current output circuit 70 is provided.
4R, 704G, and 704B are also arranged close to each other. Also,
The low-current region reference current INL shown in FIG. 73 is adjusted for each color (R, G, B), and the low-current region reference current INH shown in FIG. 74 is also adjusted (see also FIG. 79). thing). Therefore, the R current output circuit 704R has a volume (or voltage output or current output electronic volume) 65 for adjusting the reference current INL in the low current region.
1RL is arranged, and a volume (or a voltage output or current output electronic volume) 651RH for adjusting the reference current INH in the high current region is arranged. Similarly, the reference current INL in the low current region is applied to the G current output circuit 704G.
Is arranged (or a voltage output or current output electronic volume) 651GL, and a volume (or voltage output or current output electronic volume) 651GH is arranged to adjust the reference current INH in the high current region. Further, the B current output circuit 704B has a volume (or voltage output or current output electronic volume) 651 for adjusting the reference current INL in the low current region.
BL is arranged, and a volume (or electronic volume for voltage output or current output) 651BH for adjusting the reference current INH in the high current region is arranged. The volume 651 and the like are preferably configured to change with temperature so that the temperature characteristics of the EL element 15 can be compensated. Further, in the gamma characteristic of FIG. 79, when there are two or more bending points, it goes without saying that the number of electronic regulators or resistors for adjusting the reference current of each color may be three or more.

【0627】ICチップの出力端子には、出力パッド7
61が形成または配置されている。この出力パッドと、
表示パネルのソース信号線18とが接続される。出力バ
ッド761は、メッキ技術あるいはネイルヘッドボンダ
技術によりバンプ(突起)が形成されている。突起の高
さは10μm以上40μm以下の高さにする。
Output pad 7 is connected to the output terminal of the IC chip.
61 is formed or arranged. This output pad,
The source signal line 18 of the display panel is connected. The output pad 761 has bumps (projections) formed by a plating technique or a nail head bonder technique. The height of the protrusion is 10 μm or more and 40 μm or less.

【0628】前記バンプと各ソース信号線18とは導電
性接合層(図示せず)を介して電気的に接続されてい
る。導電性接合層は接着剤としてエポキシ系、フェノー
ル系等を主剤とし、銀(Ag)、金(Au)、ニッケル
(Ni)、カーボン(C)、酸化錫(SnO2)などの
フレークを混ぜた物、あるいは紫外線硬化樹脂などであ
る。導電性接合層は、転写等の技術でバンプ上に形成す
る。また、バンブとソース信号線18とをACF樹脂で
熱圧着される。なお、バンプあるいは出力パッド761
とソース信号線18との接続は、以上の方式に限定する
ものではない。また、アレイ基板上にIC14を積載せ
ず、フィルムキャリヤ技術を用いてもよい。また、ポリ
イミドフィルム等を用いてソース信号線18などと接続
しても良い。
The bumps and the source signal lines 18 are electrically connected to each other via a conductive bonding layer (not shown). The conductive bonding layer is mainly composed of epoxy-based or phenol-based adhesive as an adhesive, and is mixed with flakes of silver (Ag), gold (Au), nickel (Ni), carbon (C), tin oxide (SnO 2 ), etc. Or a UV curable resin. The conductive bonding layer is formed on the bump by a technique such as transfer. Further, the bump and the source signal line 18 are thermocompression-bonded with ACF resin. Note that bumps or output pads 761
The connection between the source signal line 18 and the source signal line 18 is not limited to the above method. Alternatively, the film carrier technique may be used without mounting the IC 14 on the array substrate. Alternatively, the source signal line 18 and the like may be connected using a polyimide film or the like.

【0629】図69において、入力された4ビットの電
流値制御用データ(DI)は、4ビットデコーダ回路6
92でデコードされる(分割数が64必要であれば、6
ビットにすることは言うまでもない。ここでは説明を容
易にするため、4ビットとして説明をする)。その出力
はレベルシフタ回路693により、ロジックレベルの電
圧値からアナログレベルの電圧値に昇圧され、アナログ
スイッチ641に入力される。
In FIG. 69, the input 4-bit current value control data (DI) is the 4-bit decoder circuit 6
Decoded by 92 (or 6 if the number of divisions is 64)
Needless to say that it is a bit. Here, in order to facilitate the description, the description will be made with 4 bits). The output is boosted from the logic level voltage value to the analog level voltage value by the level shifter circuit 693, and is input to the analog switch 641.

【0630】電子ボリウム回路の主構成部は、固定抵抗
R0691aと16個の単位抵抗r691bで構成され
ている。デコーダ回路692の出力は、16個のアナロ
グスイッチ641のいずれかに接続されており、デコー
ダ回路692の出力により、電子ボリウムの抵抗値が定
まるように構成されている。すなわち、例えば、デコー
ダ回路692の出力が4であれば、電子ボリウムの抵抗
値はR0+5rとなる。この電子ボリウムの抵抗は、第
1段電流源631の負荷となっており、アナログ電源A
Vddにプルアップされている。したがって、この電子
ボリウムの抵抗値が変化すると、第1段電流源631の
電流値が変化し、その結果、第2段電流源632の電流
値が変化し、その結果、第3段電流源633の電流値も
変化して、ドライバーICの出力電流はコントロールさ
れることになる。
The main constituent part of the electronic volume circuit is composed of a fixed resistor R0691a and 16 unit resistors r691b. The output of the decoder circuit 692 is connected to any of the 16 analog switches 641. The output of the decoder circuit 692 is configured to determine the resistance value of the electronic volume. That is, for example, when the output of the decoder circuit 692 is 4, the resistance value of the electronic volume is R0 + 5r. The resistance of this electronic volume serves as a load of the first stage current source 631.
Pulled up to Vdd. Therefore, when the resistance value of the electronic volume changes, the current value of the first stage current source 631 changes, and as a result, the current value of the second stage current source 632 changes, and as a result, the third stage current source 633. The current value of is also changed, and the output current of the driver IC is controlled.

【0631】なお、説明の都合上、電流値制御用データ
は4ビットとしたが、これは4ビットに固定されるもの
ではなく、ビット数が多ければ多いほど、電流値の可変
数は多くなることは言うまでもない。また、多段式カレ
ントミラーの構成を3段として説明したが、これも3段
に固定されるものではなく、任意の段数でもかまわない
ことは言うまでもない。
For convenience of explanation, the current value control data is set to 4 bits, but it is not fixed to 4 bits. The larger the number of bits, the larger the variable number of current values. Needless to say. Further, the configuration of the multistage current mirror has been described as having three stages, but it is needless to say that this is not fixed to three stages and that any number of stages may be used.

【0632】また、温度変化により、EL素子の発光輝
度が変化するという課題に対して、電子ボリウム回路の
構成として、温度により抵抗値が変化する外付け抵抗6
91aを具備させることが好ましい。温度により抵抗値
が変化する外付け抵抗とは、サーミスタ、ポジスタなど
が例示さえる。一般に、素子に流れる電流に応じて輝度
が変化する発光素子は、温度特性を持っており、同じ電
流値を流しても、その発光輝度は温度により変化する。
そこで、温度により抵抗値が変化する外付け抵抗691
aを電子ボリウムに付けることにより、定電流出力の電
流値を温度により変化させることができ、温度が変化し
ても発光輝度が常に一定にすることができる。
Further, in order to solve the problem that the light emission luminance of the EL element changes due to the temperature change, the external resistor 6 whose resistance value changes depending on the temperature is constituted as the electronic volume circuit.
It is preferable to include 91a. Examples of the external resistor whose resistance value changes with temperature include a thermistor and a posistor. In general, a light emitting element whose brightness changes according to the current flowing through the element has a temperature characteristic, and even if the same current value is passed, the light emission brightness changes depending on the temperature.
Therefore, an external resistor 691 whose resistance value changes with temperature
By attaching a to the electronic regulator, the current value of the constant current output can be changed depending on the temperature, and the light emission luminance can be kept constant even if the temperature changes.

【0633】なお、前記多段式カレントミラー回路が、
赤(R)用、緑(G)用、青(B)用の3系統に分離す
ることが好ましい。一般に有機EL等の電流駆動型発光
素子では、R、G、Bで発光特性が異なる。従って、
R、G、Bで同じ輝度にするためには、発光素子に流す
電流値をR、G、Bでそれぞれ調整する必要がある。ま
た、有機EL表示パネル等の電流駆動型発光素子では、
R、G、Bで温度特性が異なる。従って、温度特性を補
正するためのサーミスタ等の外部補助素子の特性も、
R、G、Bでそれぞれ調整する必要がある。
The multi-stage current mirror circuit is
It is preferable to separate into three systems for red (R), green (G), and blue (B). Generally, in a current drive type light emitting element such as an organic EL, the light emitting characteristics differ for R, G and B. Therefore,
In order to obtain the same brightness for R, G, and B, it is necessary to adjust the value of the current flowing through the light emitting element with R, G, and B, respectively. Further, in a current-driven light emitting element such as an organic EL display panel,
The temperature characteristics differ for R, G, and B. Therefore, the characteristics of the external auxiliary element such as the thermistor for correcting the temperature characteristics,
It is necessary to adjust R, G and B respectively.

【0634】本発明では、前記多段式カレントミラー回
路が、R用、G用、B用の3系統に分離されているの
で、発光特性や温度特性をR、G、Bでそれぞれ調整す
ることができ、最適なホワイトバランスを得ることが可
能である。
In the present invention, since the multistage current mirror circuit is separated into three systems for R, G and B, the light emission characteristics and the temperature characteristics can be adjusted by R, G and B, respectively. It is possible to obtain the optimum white balance.

【0635】先にも説明しているが、電流駆動方式で
は、黒表示時で、画素に書き込む電流が小さい。そのた
め、ソース信号線18などに寄生容量があると、1水平
走査期間(1H)に画素16に十分な電流を書き込むこ
とができないという問題点があった。一般に、電流駆動
型発光素子では、黒レベルの電流値は数nA程度と微弱
であるため、その信号値で数10pF程度あると思われ
る寄生容量(配線負荷容量)を駆動することは困難であ
る。この課題を解決するためには、ソース信号線18に
画像データを書き込む前に、プリチャージ電圧を印加
し、ソース信号線18の電位レベルを画素のTFT11
aの黒表示電流(基本的にはTFT11aはオフ状態)
にすることが有効である。このプリチャージ電圧の形成
(作成)には、画像データの上位ビットをデコードする
ことにより、黒レベルの定電圧出力を行うことが有効で
ある。
As described above, in the current driving method, the current written in the pixel is small during black display. Therefore, if the source signal line 18 or the like has a parasitic capacitance, there is a problem that a sufficient current cannot be written in the pixel 16 in one horizontal scanning period (1H). Generally, in a current-driven light-emitting element, the black level current value is as small as several nanoamperes, so it is difficult to drive the parasitic capacitance (wiring load capacitance) which is thought to be several tens of pF in terms of the signal value. . In order to solve this problem, a precharge voltage is applied before the image data is written to the source signal line 18, and the potential level of the source signal line 18 is set to the pixel TFT 11.
a black display current (a TFT 11a is basically off)
It is effective to In order to form (create) this precharge voltage, it is effective to output a constant voltage of black level by decoding the upper bits of the image data.

【0636】図70に、本発明のプリチャージ機能を有
した電流出力方式のソースドライバ回路(IC)14の
一例を示す。図70では、6ビットの定電流出力回路の
出力段にプリチャージ機能を搭載した場合を示してい
る。図70において、プリチャージ制御信号は、画像デ
ータD0〜D5の上位3ビットD3、D4、D5がすべ
て0である場合をNOR回路702でデコードし、水平
同期信号HDによるリセット機能を有するドットクロッ
クCLKのカウンタ回路701の出力とのAND回路7
03をとり、一定期間黒レベル電圧Vpを出力するよう
に構成されている。他の場合は、図68などで説明した
電流出力段704からの出力電流がソース信号線18に
印加される(ソース信号線18からプログラム電流Iw
を吸収する)。この構成により、画像データが黒レベル
に近い0階調目〜7階調目の場合、1水平期間のはじめ
の一定期間だけ黒レベルに相当する電圧が書き込まれ
て、電流駆動の負担が減り、書き込み不足を補うことが
可能となる。なお、完全黒表示を0階調目とし、完全白
表示を63階調目とする(64階調表示の場合)。
FIG. 70 shows an example of a current output type source driver circuit (IC) 14 having a precharge function of the present invention. FIG. 70 shows a case where a precharge function is provided in the output stage of a 6-bit constant current output circuit. In FIG. 70, the precharge control signal is decoded by the NOR circuit 702 when the upper 3 bits D3, D4, and D5 of the image data D0 to D5 are all 0, and the dot clock CLK having the reset function by the horizontal synchronizing signal HD. AND circuit 7 with the output of the counter circuit 701 of
03, and outputs the black level voltage Vp for a certain period. In other cases, the output current from the current output stage 704 described with reference to FIG. 68 and the like is applied to the source signal line 18 (from the source signal line 18 to the program current Iw).
Absorbs). With this configuration, when the image data has 0th to 7th gradations close to the black level, the voltage corresponding to the black level is written only for the first fixed period of one horizontal period, and the load of current driving is reduced. It becomes possible to make up for the insufficient writing. Note that the completely black display is the 0th gradation and the completely white display is the 63rd gradation (in the case of the 64 gradation display).

【0637】なお、プリチャージを行う階調は、黒表示
領域に限定すべきである。つまり、書き込み画像データ
を判定し、黒領域階調(低輝度、つまり、電流駆動方式
では、書き込み電流が小さい(微小))を選択しプリチ
ャージする(選択プリチャージ)。全階調データに対
し、プリチャージすると、今度は、白表示領域で、輝度
の低下(目標輝度に到達しない)が発生する。また、画
像に縦筋が表示される。
Note that the gradation for precharging should be limited to the black display area. That is, the write image data is determined, and the black region gradation (low luminance, that is, the write current is small (minute) in the current drive method) is selected and precharged (selective precharge). When all the grayscale data are precharged, the brightness is lowered (the target brightness is not reached) in the white display area. In addition, vertical stripes are displayed on the image.

【0638】好ましくは、階調データの階調0から1/
8の領域の階調で、選択プリチャージを行う(たとえ
ば、64階調の時は、0階調目から7階調目までの画像
データの時、プリチャージを行ってから、画像データを
書き込む)。さらに、好ましくは、階調データの階調0
から1/16の領域の階調で、選択プリチャージを行う
(たとえば、64階調の時は、0階調目から3階調目ま
での画像データと時、プリチャージを行ってから、画像
データを書き込む)。
[0638] It is preferable that the gradation data from gradation 0 to 1 /
Selective precharge is performed in the gradation of the area of 8 (for example, in the case of 64 gradations, in the case of image data of 0th gradation to 7th gradation, precharge is performed and then the image data is written. ). Further, it is preferable that the gradation of the gradation data is 0.
Selective precharge is performed in the gradation of the region from 1/16 to 1/16 (for example, in the case of 64 gradations, the image data from 0th gradation to 3rd gradation and Write the data).

【0639】特に黒表示で、コントラストを高くするた
めには、階調0のみを検出してプリチャージする方式も
有効である。極めて黒表示が良好になる。問題は、画面
全体が階調1、2の場合に画面が黒浮きして見えること
である。したがって、階調データの階調0から1/8の
領域の階調と、一定の範囲で選択プリチャージを行う。
Particularly in black display, a method of detecting only gradation 0 and precharging is also effective in order to increase the contrast. Very good black display. The problem is that when the entire screen has gradations 1 and 2, the screen appears black. Therefore, the selective precharge is performed within a certain range from the gradation 0 to 1/8 of the gradation data.

【0640】なお、プリチャージの電圧、階調範囲は、
R、G、Bで異ならせることも有効である。EL表示素
子15は、R、G、Bで発光開始電圧、発光輝度が異な
っているからである。たとえば、Rは、階調データの階
調0から1/8の領域の階調で、選択プリチャージを行
う(たとえば、64階調の時は、01階調目から7階調
目までの画像データの時、プリチャージを行ってから、
画像データを書き込む)。他の色(G、B)は、階調デ
ータの階調0から1/16の領域の階調で、選択プリチ
ャージを行う(たとえば、64階調の時は、0階調目か
ら3階調目までの画像データと時、プリチャージを行っ
てから、画像データを書き込む)などの制御を行う。ま
た、プリチャージ電圧も、Rは7(V)であれば、他の
色(G、B)は、7.5(V)の電圧をソース信号線1
8に書き込むようにする。最適なプリチャージ電圧は、
EL表示パネルの製造ロットで異なることが多い。した
がって、プリチャージ電圧は、外部ボリウムなどで調整
できるように構成しておくことが好ましい。この調整回
路も電子ボリウム回路を用いることにより容易に実現で
きる。
The precharge voltage and gradation range are
It is also effective to make R, G, and B different. This is because the EL display element 15 has different emission start voltages and emission brightness for R, G, and B. For example, R is a gradation in the region of gradation 0 to 1/8 of gradation data, and performs selective precharge (for example, in the case of 64 gradations, an image from gradation 01 to gradation 7). At the time of data, after precharging,
Write the image data). The other colors (G, B) are selectively precharged in the gradation range of 0 to 1/16 of the gradation data (for example, in the case of 64 gradations, 0th gradation to 3rd floor) When the image data up to the tone is reached, the image data is written after the precharge is performed). As for the precharge voltage, if R is 7 (V), the voltage of 7.5 (V) is applied to the source signal line 1 for the other colors (G, B).
Write to 8. The optimum precharge voltage is
It often differs depending on the manufacturing lot of the EL display panel. Therefore, it is preferable that the precharge voltage can be adjusted by an external regulator or the like. This adjusting circuit can also be easily realized by using an electronic volume circuit.

【0641】また、全くプリチャージしない第0モー
ド、階調0のみをプリチャージする第1モード、階調0
から階調3の範囲でプリチャージする第2モード、階調
0から階調7の範囲でプリチャージする第3モード、全
階調の範囲でプリチャージする第4モードなどを設定
し、これらをコマンドで切り替えるように構成すること
が好ましい。これらは、ソースドライバ回路(IC)1
4内においてロジック回路を構成(設計)することによ
り容易に実現できる。
The 0th mode in which no precharge is performed at all, the first mode in which only gradation 0 is precharged, and gradation 0
Set the second mode that precharges in the range from 3 to 3 and the 3rd mode that precharges in the range from 0 to 7 and the 4th mode that precharges in the range of all gradations. It is preferable to be configured to switch by a command. These are source driver circuits (IC) 1
This can be easily realized by configuring (designing) a logic circuit within 4.

【0642】図75は選択プリチャージ回路部の具体化
構成図である。PVはプリチャージ電圧の入力端子であ
る。外部入力あるいは、電子ボリウム回路におり、R、
G、Bで個別のプリチャージ電圧が設定される。なお、
R、G、Bで個別のプリチャージ電圧を設定するとした
がこれに限定するものではない。R、G、Bで共通であ
ってもよい。プリチャージ電圧は、画素16の駆動TF
T11aのVtに相関するものであり、この画素16は
R、G、B画素で同一だからである。逆には、画素16
の駆動TFT11aのW/L比などがR、G、Bで異な
らせている(異なった設計となっている)場合は、プリ
チャージ電圧を異なった設計に対応して調整することが
好ましい。たとえば、Lが大きくなれば、TFT11a
のダイオード特性は悪くなり、ソース−ドレイン(S
D)電圧は大きくなる。したがって、プリチャージ電圧
は、ソース電位(Vdd)に対して低く設定する必要が
ある。
FIG. 75 is a specific block diagram of the selective precharge circuit section. PV is an input terminal for the precharge voltage. External input or electronic volume circuit, R,
Individual precharge voltages are set by G and B. In addition,
Although the individual precharge voltages are set for R, G, and B, the present invention is not limited to this. R, G, and B may be common. The precharge voltage is the driving TF of the pixel 16.
This is because it is related to Vt of T11a, and this pixel 16 is the same for R, G, and B pixels. Conversely, pixel 16
When the W / L ratio of the driving TFT 11a is different for R, G, and B (different designs), it is preferable to adjust the precharge voltage corresponding to the different designs. For example, if L becomes large, the TFT 11a
The diode characteristics of, and the source-drain (S
D) The voltage increases. Therefore, the precharge voltage needs to be set lower than the source potential (Vdd).

【0643】プリチャージ電圧PVはアナログスイッチ
731に入力されている。このアナログスイッチのW
(チャンネル幅)はオン抵抗を低減するために、10μ
m以上にする必要がある。しかし、あまりWが大きい
と、寄生容量も大きくなるので100μm以下にする。
さらに好ましくは、チャンネル幅Wは15μm以上60
μm以下にすることが好ましい。以上の事項は図75の
スイッチ641bのアナログスイッチ731、図73の
アナログスイッチ731にも適用される。
The precharge voltage PV is input to the analog switch 731. W of this analog switch
(Channel width) is 10μ in order to reduce ON resistance
It must be m or more. However, if W is too large, the parasitic capacitance also becomes large, so the value is set to 100 μm or less.
More preferably, the channel width W is 15 μm or more and 60
It is preferable that the thickness is less than μm. The above items also apply to the analog switch 731 of the switch 641b of FIG. 75 and the analog switch 731 of FIG.

【0644】スイッチ641aはプリチャージイネーブ
ル(PEN)信号、選択プリチャージ信号(PSL)
と、図74のロジック信号の上位3ビット(H5、H
4、H3)で制御される。一例としたロジック信号の上
位3ビット(H5、H4、H3)の意味は、上位3ビッ
トが“0”の時に選択プリチャージが実施されるように
したためである。つまり、下位3ビットが“1”の時
(階調0から階調7)の時を選択してプリチャージが実
施されるように構成している。
The switch 641a has a precharge enable (PEN) signal and a selection precharge signal (PSL).
And the upper 3 bits (H5, H) of the logic signal of FIG.
4, H3). The meaning of the upper 3 bits (H5, H4, H3) of the logic signal as an example is that the selective precharge is executed when the upper 3 bits are “0”. That is, the configuration is such that when the lower 3 bits are "1" (gray scale 0 to gray scale 7), the precharge is performed.

【0645】なお、この選択プリチャージは、階調0の
みをプリチャージするとか、階調0から階調7の範囲で
プリチャージするとか固定してもよいが、低階調流域
(図79の階調0から階調R1もしくは階調(R1−
1))を選択プリチャージするというように、低階調領
域と連動させてもよい。つまり、選択プリチャージは、
低階調領域が階調0から階調R1の時はこの範囲で実施
し、低階調領域が階調0から階調R2の時はこの範囲で
実施するように連動させて実施する。なお、この制御方
式の方が他の方式に比較して、ハード規模が小さくな
る。
This selective precharge may be fixed by precharging only gradation 0 or precharging in the range of gradation 0 to gradation 7, but it is fixed in the low gradation range (see FIG. 79). Gradation 0 to gradation R1 or gradation (R1-
1)) may be interlocked with the low gradation region such as selective precharge. In other words, the selective precharge is
When the low gradation region is from gradation 0 to gradation R1, it is performed in this range, and when the low gradation region is from gradation 0 to gradation R2, it is performed in this range. Note that this control method has a smaller hardware scale than other methods.

【0646】以上の信号の印加状態により、スイッチ6
41aがオンオフ制御され、スイッチ641aオンの
時、プリチャージ電圧PVがソース信号線18に印加さ
れる。なお、プリチャージ電圧PVを印加する時間は、
別途形成したカウンタ(図示せず)により設定される。
このカウンタはコマンドにより設定できるように構成さ
れている。また、プリチャージ電圧の印加時間は1水平
走査期間(1H)の1/100以上1/5以下の時間に
設定することが好ましい。たとえば、1Hが100μs
ecとすれば、1μsec以上20μsecとする。さ
らに好ましくは、2μsec以上10μsecとする。
[0646] Depending on the applied state of the above signals, the switch 6
41a is on / off controlled, and when the switch 641a is on, the precharge voltage PV is applied to the source signal line 18. The time for applying the precharge voltage PV is
It is set by a counter (not shown) formed separately.
This counter is configured to be set by a command. Further, the application time of the precharge voltage is preferably set to a time of 1/100 or more and 1/5 or less of one horizontal scanning period (1H). For example, 1H is 100 μs
If ec, it is 1 μsec or more and 20 μsec. More preferably, it is set to 2 μsec or more and 10 μsec.

【0647】また、プリチャージ印加時間は、R、G、
Bで異ならせたりすることも良好な結果が得られる。た
とえば、Rのプリチャージ時間をG、Bのプリチャージ
時間よりも長くするなどである。これば、有機ELなど
では、RGBの各材料で発光開始時間などが異なるから
である。また、次にソース信号線18に印加する画像デ
ータにより、プリチャージ電圧PV印加時間を可変する
ことによっても良好な結果が得られる。たとえば、完全
黒表示の階調0では印加時間を長くし、階調4ではそれ
よりも短くするなどである。また、1H前の画像データ
と次に印加する画像データの差を考慮して、印加時間を
設定することも良好な結果を得ることができる。たとえ
ば、1H前にソース信号線に画素を白表示にする電流と
書き込み、次の1Hに、画素に黒表示にする電流を書き
込む時は、プリチャージ時間を長くする。黒表示の電流
は微小であるからである。逆に、1H前にソース信号線
に画素を黒表示にする電流と書き込み、次の1Hに、白
素に黒表示にする電流を書き込む時は、プリチャージ時
間を短くするか、もしくはプリチャージを停止する(行
わない)。白表示の書き込み電流は大きいからである。
[0647] The precharge application time is R, G,
Good results can also be obtained by making B different. For example, the R precharge time is set longer than the G and B precharge times. This is because, in an organic EL or the like, the light emission start time is different for each of the RGB materials. Also, a good result can be obtained by changing the pre-charge voltage PV application time according to the image data applied to the source signal line 18 next. For example, the application time is set longer at the gradation 0 of the completely black display and shorter than that at the gradation 4. Also, it is possible to obtain a good result by setting the application time in consideration of the difference between the image data of 1H before and the image data of the next application. For example, when the current for writing the pixel in the white display is written to the source signal line 1H before and the current for writing the black display in the pixel is written in the next 1H, the precharge time is lengthened. This is because the black display current is very small. On the contrary, when the current for writing the pixel in black is written to the source signal line 1H before and the current for writing the black in white is written in the next 1H, the precharge time is shortened or the precharge is performed. Stop (do not do). This is because the write current for white display is large.

【0648】また、印加する画像データに応じてプリチ
ャージ電圧を変化かえることも有効である。黒表示の書
き込み電流は微小であり、白表示の書き込み電流は大き
いからである。したがって、低階調領域になるにしたが
って、プリチャージ電圧を高く(Vddに対して。な
お、画素TFT11aがPチャンネルの時)し、高階調
領域になるにしたがって、プリチャージ電圧を低く(画
素TFT11aがPチャンネルの時)する。
It is also effective to change the precharge voltage according to the image data to be applied. This is because the write current for black display is minute and the write current for white display is large. Therefore, the precharge voltage becomes higher (to Vdd, when the pixel TFT 11a is the P channel) in the lower gradation region, and becomes lower (in the pixel TFT 11a in the higher gradation region). Is for P channel).

【0649】プログラム電流オープン端子(PO端子)
が“0”の時は、スイッチ641bがオフ状態となり、
IL端子およびIH端子とソース信号線18とは切り離
される(Iout端子が、ソース信号線18と接続され
ている)。したがって、プログラム電流Iwはソース信
号線18には流れない。PO端子はプログラム電流Iw
をソース信号線に印加している時は、“1”とし、スイ
ッチ641bをオンして、プログラム電流Iwをソース
信号線18に流す。
[0649] Program current open terminal (PO terminal)
When is “0”, the switch 641b is turned off,
The IL terminal and the IH terminal are disconnected from the source signal line 18 (the Iout terminal is connected to the source signal line 18). Therefore, the program current Iw does not flow in the source signal line 18. Program current Iw at PO terminal
Is applied to the source signal line, it is set to "1", the switch 641b is turned on, and the program current Iw is supplied to the source signal line 18.

【0650】PO端子に“0”を印加し、スイッチ64
1bをオープンにする時は、表示領域のいずれの画素行
も選択されていない時である。電流源634は入力デー
タ(D0〜D5)に基づいて電流をたえず、ソース信号
線18から引き込んでいる。この電流が選択された画素
16のVdd端子からTFT11aを介してソース信号
線18に流れ込む電流である。したがって、いずれの画
素行も選択されていない時は、画素16からソース信号
線18に電流が流れる経路がない。いずれの画素行も選
択されていない時とは、任意の画素行が選択され、次の
画素行が選択されるまでの間に発生する。なお、このよ
うないずれの画素(画素行)も選択されず、ソース信号
線18に流れ込む(流れ出す)経路がない状態を、全非
選択期間と呼ぶ。
[0650] Apply "0" to the PO terminal and switch 64
When 1b is opened, no pixel row in the display area is selected. The current source 634 does not maintain the current based on the input data (D0 to D5) and draws it from the source signal line 18. This current is a current flowing from the Vdd terminal of the selected pixel 16 into the source signal line 18 via the TFT 11a. Therefore, when no pixel row is selected, there is no path for current to flow from the pixel 16 to the source signal line 18. The time when no pixel row is selected occurs until an arbitrary pixel row is selected and the next pixel row is selected. Note that a state in which no such pixel (pixel row) is selected and there is no path for flowing into (flowing out from) the source signal line 18 is referred to as a total non-selection period.

【0651】この状態で、IOUT端子がソース信号線
18に接続されていると、オンしている単位電流源63
4(実際にはオンしているのはD0〜D5端子のデータ
により制御されるスイッチ641であるが)に電流が流
れる。そのため、ソース信号線18の寄生容量に充電さ
れた電荷が放電し、ソース信号線18の電位が、急激に
低下する。
In this state, when the IOUT terminal is connected to the source signal line 18, the unit current source 63 which is turned on is turned on.
4 (currently turned on is the switch 641 controlled by the data of the D0 to D5 terminals). Therefore, the electric charge charged in the parasitic capacitance of the source signal line 18 is discharged, and the potential of the source signal line 18 drops sharply.

【0652】以上のように、ソース信号線18の電位が
低下すると、本来ソース信号線18に書き込む電流によ
り、元の電位まで回復するのに時間を要するようになっ
てしまう。
As described above, when the potential of the source signal line 18 drops, it takes time to recover the original potential due to the current originally written in the source signal line 18.

【0653】この課題を解決するため、本発明は、全非
選択期間に、PO端子に“0”を印加し、図75のスイ
ッチ641bをオフとして、IOUT端子とソース信号
線18とを切り離す。切り離すことにより、ソース信号
線18から電流源634に電流が流れ込むことはなくな
るから、全非選択期間にソース信号線18の電位変化は
発生しない。以上のように、全非選択期間にPO端子を
制御し、ソース信号線18から電流源を切り離すことに
より、良好な電流書き込みを実施することができる。
To solve this problem, in the present invention, "0" is applied to the PO terminal and the switch 641b in FIG. 75 is turned off to disconnect the IOUT terminal and the source signal line 18 during the entire non-selection period. By disconnecting, the current does not flow from the source signal line 18 to the current source 634, so that the potential change of the source signal line 18 does not occur during the entire non-selection period. As described above, by controlling the PO terminal and disconnecting the current source from the source signal line 18 during the entire non-selection period, excellent current writing can be performed.

【0654】また、画面に白表示領域(一定の輝度を有
する領域)の面積(白面積)と、黒表示領域(所定以下
の輝度の領域)の面積(黒面積)が混在し、白面積と黒
面積の割合が一定の範囲の時、プリチャージを停止する
という機能を付加することは有効である(適正プリチャ
ージ)。この一定の範囲で、画像に縦筋が発生するから
である。もちろん、逆に一定の範囲で、プリチャージす
るという場合もある。また、画像が動いた時、画像がノ
イズ的になるからである。適正プリチャージは、演算回
路で白面積と黒面積に該当する画素のデータをカウント
(演算)することにより、容易に実現することができ
る。また、適正プリチャージは、R、G、Bで異ならせ
ることも有効である。EL表示素子15は、R、G、B
で発光開始電圧、発光輝度が異なっているからである。
たとえば、Rは、所定輝度の白面積:所定輝度の黒面積
の比が1:20以上でプリチャージを停止または開始
し、GとBは、所定輝度の白面積:所定輝度の黒面積の
比が1:16以上でプリチャージを停止または開始する
という構成である。なお、実験および検討結果によれ
ば、有機EL表示パネルの場合、所定輝度の白面積:所
定輝度の黒面積の比が1:100以上(つまり、黒面積
が白面積の100倍以上)でプリチャージを停止するこ
とが好ましい。さらには、所定輝度の白面積:所定輝度
の黒面積の比が1:200以上(つまり、黒面積が白面
積の200倍以上)でプリチャージを停止することが好
ましい。
Also, the area (white area) of the white display area (area having a constant brightness) and the area (black area) of the black display area (area of brightness below a predetermined level) are mixed on the screen, and the white area It is effective to add the function of stopping precharge when the ratio of black area is in a certain range (proper precharge). This is because vertical stripes are generated in the image within this fixed range. Of course, on the contrary, there are also cases where precharging is performed within a certain range. Moreover, when the image moves, the image becomes noise. The proper precharge can be easily realized by counting (calculating) the data of the pixels corresponding to the white area and the black area by the arithmetic circuit. It is also effective to make the proper precharge different for R, G, and B. The EL display element 15 includes R, G, B
This is because the light emission starting voltage and the light emission luminance are different.
For example, R indicates that the precharge is stopped or started when the ratio of the white area of the predetermined luminance: the black area of the predetermined luminance is 1:20 or more, and G and B are the ratio of the white area of the predetermined luminance: the black area of the predetermined luminance. Is configured to stop or start precharging at 1:16 or more. According to the results of experiments and examinations, in the case of an organic EL display panel, when the ratio of the white area of a predetermined brightness to the black area of a predetermined brightness is 1: 100 or more (that is, the black area is 100 times or more the white area), It is preferable to stop the charging. Furthermore, it is preferable to stop the precharge when the ratio of the white area of the predetermined brightness to the black area of the predetermined brightness is 1: 200 or more (that is, the black area is 200 times or more the white area).

【0655】プリチャージ電圧PVは、画素16の駆動
TFT11aがPチャンネルの場合、Vdd(図1を参
照)に近い電圧をソースドライバ回路(IC)14から
出力する必要がある。しかし、このプリチャージ電圧P
VがVddに近いほど、ドライバー回路(IC)14は
高耐圧プロセスの半導体を使用する必要がある(高耐圧
といっても、5(V)〜10(V)であるが、しかし、
5(V)耐圧を超えると、半導体プロセス価格は高くな
る点が課題である。したがって、5(V)耐圧のプロセ
スを採用することのより高精細、低価格のプロセスを使
用することができる)。
When the driving TFT 11a of the pixel 16 is a P channel, the precharge voltage PV needs to be output from the source driver circuit (IC) 14 at a voltage close to Vdd (see FIG. 1). However, this precharge voltage P
As V becomes closer to Vdd, the driver circuit (IC) 14 needs to use a semiconductor having a high withstand voltage process (the high withstand voltage is 5 (V) to 10 (V), but
The problem is that if the withstand voltage exceeds 5 (V), the semiconductor process price increases. Therefore, it is possible to use a higher-definition, lower-priced process that adopts a 5 (V) withstand voltage process.

【0656】画素16の駆動用TFT11aのダイオー
ド特性が良好で白表示のオン電流が確保した時、5
(V)以下であれば、ソースドライバIC14も5
(V)プロセスを使用できるから問題は発生しない。し
かし、ダイオード特性が5(V)を越えると時、問題と
なる。特に、プリチャージは、TFT11aのソース電
圧Vddに近いプリチャージ電圧PVを印加する必要が
あるので、IC14から出力することができなくなる。
When the driving TFT 11a of the pixel 16 has a good diode characteristic and an on-state current for white display is secured, 5
If (V) or less, the source driver IC 14 is also 5
(V) Since the process can be used, no problem occurs. However, when the diode characteristic exceeds 5 (V), it becomes a problem. Particularly, the precharge cannot be output from the IC 14 because it is necessary to apply the precharge voltage PV close to the source voltage Vdd of the TFT 11a.

【0657】図92は、この課題を解決するパネル構成
である。図92では、アレイ71側にスイッチ回路64
1を形成している。ソースドライバIC14からは、ス
イッチ641のオンオフ信号を出力する。このオンオフ
信号は、アレイ71に形成されたレベルシフト回路69
3で昇圧され、スイッチ641をオンオフ動作させる。
なお、スイッチ641およびレベルシフト回路693が
画素のTFTを形成するプロセスで同時に、もしくは順
次に、形成する。もちろん、外付け回路(IC)で別途
形成し、アレイ71上に実装などしてもよい。
FIG. 92 shows a panel structure for solving this problem. In FIG. 92, the switch circuit 64 is provided on the array 71 side.
1 is formed. The source driver IC 14 outputs an ON / OFF signal for the switch 641. This on / off signal is applied to the level shift circuit 69 formed in the array 71.
The voltage is boosted at 3, and the switch 641 is turned on and off.
Note that the switch 641 and the level shift circuit 693 are formed simultaneously or sequentially in the process of forming the TFT of the pixel. Of course, it may be separately formed by an external circuit (IC) and mounted on the array 71.

【0658】オンオフ信号は、先に説明(図75など)
したプリチャージ条件に基づいて、IC14の端子76
1aから出力される。したがって、プリチャージ電圧の
印加、駆動方法は図92の実施例においても適用できる
ことは言うまでもない。端子761aから出力される電
圧(信号)は、5(V)以下と低い。この電圧(信号)
がレベルシフタ回路693でスイッチ641のオンオフ
ロジックレベルまで振幅が大きくされる。
The ON / OFF signal has been described above (FIG. 75, etc.).
The terminal 76 of the IC 14 is
It is output from 1a. Therefore, it goes without saying that the method of applying and driving the precharge voltage can be applied to the embodiment of FIG. The voltage (signal) output from the terminal 761a is as low as 5 (V) or less. This voltage (signal)
The level shifter circuit 693 increases the amplitude up to the on / off logic level of the switch 641.

【0659】以上のように構成することにより、ソース
ドライバ回路(IC)14はプログラム電流Iwを駆動
できる動作電圧範囲の電源電圧で十分になる。プリチャ
ージ電圧PVは、動作電圧が高いアレイ基板71で課題
はなくなる。したがって、プリチャージもVdd電圧ま
で十分印加できるようになる。
With the above structure, the source driver circuit (IC) 14 has a sufficient power supply voltage within the operating voltage range capable of driving the program current Iw. The pre-charge voltage PV is no problem in the array substrate 71 having a high operating voltage. Therefore, the precharge can be sufficiently applied up to the Vdd voltage.

【0660】図89のスイッチ回路641もソースドラ
イバ回路(IC)14内に形成(配置)するとなると耐
圧が問題となる。たとえば、画素16のVdd電圧が、
IC14の電源電圧よりも高い場合、IC14の端子7
61にIC14を破壊するような電圧が印加される危険
があるからである。
If the switch circuit 641 of FIG. 89 is also formed (arranged) in the source driver circuit (IC) 14, the breakdown voltage becomes a problem. For example, if the Vdd voltage of pixel 16 is
If it is higher than the power supply voltage of IC14, terminal 7 of IC14
This is because there is a risk that a voltage that destroys the IC 14 is applied to 61.

【0661】この課題を解決する実施例が図91の構成
である。アレイ基板71にスイッチ回路641を形成
(配置)している。スイッチ回路641の構成などは図
92で説明した構成、仕様などと同一または近似であ
る。
The embodiment shown in FIG. 91 solves this problem. A switch circuit 641 is formed (arranged) on the array substrate 71. The configuration and the like of the switch circuit 641 is the same as or similar to the configuration and specifications described in FIG.

【0662】スイッチ641はIC14の出力よりも先
で、かつソース信号線18の途中に配置されている。ス
イッチ641がオンすることにより、画素16をプログ
ラムする電流Iwがソースドライバ回路(IC)14に
流れ込む。スイッチ641がオフすることにより、ソー
スドライバ回路(IC)14はソース信号線18から切
り離される。このスイッチ641を制御することによ
り、図90に図示する駆動方式などを実施することがで
きる。
The switch 641 is arranged before the output of the IC 14 and in the middle of the source signal line 18. When the switch 641 is turned on, the current Iw for programming the pixel 16 flows into the source driver circuit (IC) 14. When the switch 641 is turned off, the source driver circuit (IC) 14 is disconnected from the source signal line 18. By controlling this switch 641, it is possible to implement the drive system shown in FIG.

【0663】図92と同様に端子761aから出力され
る電圧(信号)は、5(V)以下と低い。この電圧(信
号)がレベルシフタ回路693でスイッチ641のオン
オフロジックレベルまで振幅が大きくされる。
Similar to FIG. 92, the voltage (signal) output from the terminal 761a is as low as 5 (V) or less. The amplitude of this voltage (signal) is increased to the on / off logic level of the switch 641 by the level shifter circuit 693.

【0664】以上のように構成することにより、ソース
ドライバ回路(IC)14はプログラム電流Iwを駆動
できる動作電圧範囲の電源電圧で十分になる。また、ス
イッチ641もアレイ71の電源電圧で動作するため、
画素16からVdd電圧がソース信号線18に印加され
てもスイッチ641が破壊することはなく、また、ソー
スドライバ回路(IC)14が破壊されることもない。
With the above configuration, the source driver circuit (IC) 14 has a sufficient power supply voltage within the operating voltage range capable of driving the program current Iw. Further, since the switch 641 also operates with the power supply voltage of the array 71,
Even if the Vdd voltage is applied to the source signal line 18 from the pixel 16, the switch 641 is not destroyed, and the source driver circuit (IC) 14 is not destroyed.

【0665】なお、図91のソース信号線18の途中に
配置(形成)されたスイッチ641とプリチャージ電圧
PV印加用スイッチ641の双方をアレイ基板71に形
成(配置)してもよいことは言うまでもない(図91+
図92の構成)。
It goes without saying that both the switch 641 and the precharge voltage PV application switch 641 arranged (formed) in the middle of the source signal line 18 in FIG. 91 may be formed (arranged) on the array substrate 71. Yes (Fig. 91+
92 configuration).

【0666】以前にも説明したが、図1のように画素1
6の駆動用TFT11a、選択TFT(11b、11
c)がPチャンネルTFTの場合は、突き抜け電圧が発
生する。これは、ゲート信号線17aの電位変動が、選
択TFT(11b、11c)のG−S容量(寄生容量)
を介して、コンデンサ19の端子に突き抜けるためであ
る。Pチャンネルトランジスタ11bがオフするときに
はVgh電圧となる。そのため、コンデンサ19の端子
電圧がVdd側に少しシフトする。そのため、トランジ
スタ11aのゲート(G)端子電圧は上昇し、より黒表
示となる。
As described above, as shown in FIG.
6 driving TFT 11a, selection TFT (11b, 11
When c) is a P-channel TFT, a penetration voltage is generated. This is because the potential variation of the gate signal line 17a is caused by the G-S capacitance (parasitic capacitance) of the selection TFT (11b, 11c).
This is because it penetrates through the terminal of the capacitor 19 via. When the P-channel transistor 11b turns off, the voltage becomes Vgh voltage. Therefore, the terminal voltage of the capacitor 19 slightly shifts to the Vdd side. Therefore, the gate (G) terminal voltage of the transistor 11a rises, resulting in a more black display.

【0667】しかし、反面、第1階調の完全黒表示は実
現できるが、第2階調などは表示しにくいことになる。
もしくは、第1階調から第2階調まで大きく階調飛びが
発生したり、特定の階調範囲で黒つぶれが発生したりす
る。
On the other hand, although complete black display of the first gradation can be realized, it is difficult to display the second gradation.
Alternatively, a large gradation jump occurs from the first gradation to the second gradation, or blackout occurs in a specific gradation range.

【0668】この課題を解決する構成が、図71の構成
である。出力電流値を嵩上げする機能を有することを特
徴としている。嵩上げ回路711の主たる目的は、突き
抜け電圧の補償である。また、画像データが黒レベル0
であっても、ある程度(数10nA)電流が流れるよう
にし、黒レベルの調整にも用いることができる。
A structure for solving this problem is the structure shown in FIG. It is characterized by having a function of raising the output current value. The main purpose of the padding circuit 711 is to compensate for punch-through voltage. Also, the image data is black level 0.
Even in such a case, the current can be made to flow to some extent (several tens nA) and can be used for adjusting the black level.

【0669】基本的には、図71は、図64の出力段に
嵩上げ回路(図71の点線で囲まれた部分)を追加した
ものである。図71は、電流値嵩上げ制御信号として3
ビット(K0、K1、K2)を仮定したものであり、こ
の3ビットの制御信号により、孫電流源の電流値の0〜
7倍の電流値を出力電流に加算することが可能である。
Basically, in FIG. 71, a padding circuit (a portion surrounded by a dotted line in FIG. 71) is added to the output stage of FIG. FIG. 71 shows 3 as the current value raising control signal.
Bits (K0, K1, K2) are assumed, and 0 to 3 of the current value of the grandchild current source are controlled by the control signal of 3 bits.
It is possible to add a sevenfold current value to the output current.

【0670】以上が本発明のソースドライバ回路(I
C)14の基本的な概要である。以後、さらに詳細に本
発明のソースドライバ回路(IC)14について説明を
する。
The above is the source driver circuit (I
C) A basic overview of 14. Hereinafter, the source driver circuit (IC) 14 of the present invention will be described in more detail.

【0671】EL素子15に流す電流I(A)と発光輝
度B(nt)とは線形の関係がある。つまり、EL素子
15に流す電流I(A)と発光輝度B(nt)とは比例
する。電流駆動方式では、1ステップ(階調刻み)は、
電流(電流源634(1単位))である。
There is a linear relationship between the current I (A) flowing through the EL element 15 and the light emission brightness B (nt). That is, the current I (A) flowing through the EL element 15 is proportional to the emission brightness B (nt). In the current drive method, 1 step (gradation step)
Current (current source 634 (1 unit)).

【0672】人間の輝度に対する視覚は2乗特性をもっ
ている。つまり、2乗の曲線で変化する時、明るさは直
線的に変化しているように認識される。しかし、図83
の関係であると、低輝度領域でも高輝度領域でも、EL
素子15に流す電流I(A)と発光輝度B(nt)とは
比例する。したがって、1ステップきざみづつ変化させ
ると、低階調部(黒領域)では、1ステップに対する輝
度変化が大きい(黒飛びが発生する)。高階調部(白領
域)は、ほぼ2乗カーブの直線領域と一致するので、1
ステップに対する輝度変化は等間隔で変化しているよう
に認識される。以上のことから、電流駆動方式(1ステ
ップが電流きざみの場合)において(電流駆動方式のソ
ースドライバ回路(IC)14において)、黒表示領域
が課題となる。
[0672] The visual sense of human brightness has a squared characteristic. That is, the brightness is perceived as changing linearly when it changes with a square curve. However, FIG.
The relationship between EL in both low and high brightness areas
The current I (A) flowing through the element 15 is proportional to the light emission brightness B (nt). Therefore, when the brightness is changed step by step, the luminance change with respect to one step is large in the low gradation part (black area) (black jump occurs). Since the high gradation part (white area) almost coincides with the linear area of the square curve,
It is perceived that the luminance changes for the steps are changing at equal intervals. From the above, in the current driving method (when one step is the current step) (in the current driving method source driver circuit (IC) 14), the black display region becomes a problem.

【0673】この課題に対して、本発明は、図79に図
示するように、低階調領域(階調0(完全黒表示)から
階調(R1))の電流出力の傾きを小さくし、高階調領
域(階調(R1)から最大階調(R))の電流出力の傾
きを大きくする。つまり、低階調領域では、1階調あた
りに(1ステップ)増加する電流量と小さくする。高階
調領域では、1階調あたりに(1ステップ)増加する電
流量と大きくする。図79の2つの階調領域で1ステッ
プあたりに変化する電流量を異ならせることにより、階
調特性が2乗カーブに近くなり、低階調領域での黒飛び
の発生はない。以上の図79などに図示する、階調−電
流特性カーブをガンマカーブと呼ぶ。
To address this problem, the present invention reduces the slope of the current output in the low gradation region (gradation 0 (complete black display) to gradation (R1)) as shown in FIG. The slope of the current output in the high gradation region (gradation (R1) to maximum gradation (R)) is increased. That is, in the low gradation region, the amount of current increases per gradation (1 step) and is small. In the high gradation region, the amount of current increases per gradation (one step), which is large. By making the amount of current changing per step different in the two gradation regions of FIG. 79, the gradation characteristics become close to a square curve, and blackening does not occur in the low gradation region. The gradation-current characteristic curve illustrated in FIG. 79 and the like above is called a gamma curve.

【0674】なお、以上の実施例では、低階調領域と高
階調領域の2段階の電流傾きとしたが、これに限定する
ものではない。3段階以上であっても良いことは言うま
でもない。しかし、2段階の場合は回路構成が簡単にな
るので好ましいことは言うまでもない。
In the above embodiment, the current gradient has two levels, that is, the low gradation region and the high gradation region. However, the present invention is not limited to this. It goes without saying that the number of steps may be three or more. However, it goes without saying that the case of two stages is preferable because the circuit configuration becomes simple.

【0675】本発明の技術的思想は、電流駆動方式のソ
ースドライバ回路(IC)などにおいて(基本的には電
流出力で階調表示を行う回路である。したがって、表示
パネルがアクティブマトリックス型に限定されるもので
はなく、単純マトリックス型も含まれる。)、階調1ス
テップあたりの電流増加量が複数存在させることであ
る。
The technical idea of the present invention is a circuit in which a source driver circuit (IC) of a current drive system is used (basically, a gradation display is made by a current output. Therefore, the display panel is limited to an active matrix type. However, a simple matrix type is also included.) That is, a plurality of current increase amounts per one gradation step exist.

【0676】ELなどの電流駆動型の表示パネルは、印
加される電流量に比例して表示輝度が変化する。したが
って、本発明のソースドライバ回路(IC)14では、
1つの電流源(1単位)634に流れるもととなる基準
電流を調整することにより、容易に表示パネルの輝度を
調整することができる。
In a current-driven display panel such as EL, the display brightness changes in proportion to the amount of applied current. Therefore, in the source driver circuit (IC) 14 of the present invention,
The brightness of the display panel can be easily adjusted by adjusting the reference current that is a source of current flowing through one current source (one unit) 634.

【0677】EL表示パネルでは、R、G、Bで発光効
率が異なり、また、NTSC基準に対する色純度がずれ
ている。したがって、ホワイトバランスを最適にするた
めにはRGBの比率を適正に調整する必要がある。調整
は、RGBのそれぞれの基準電流を調整することにより
行う。たとえば、Rの基準電流を2μAにし、Gの基準
電流を1.5μAにし、Bの基準電流を3.5μAにす
る。基準電流は、なお、本発明のドライバーでは、図6
7の第1段の電流源631のカラントミラー倍率を小さ
くし(たとえば、基準電流が1μAであれば、トランジ
スタ632bに流れる電流を1/100の10nAにす
るなど)、外部から調整する基準電流の調整精度をラフ
にできるようにし、かつ、チップ内の微小電流の精度を
効率よく調整できるように構成している。
In the EL display panel, R, G, and B have different luminous efficiencies, and the color purity with respect to the NTSC standard is deviated. Therefore, in order to optimize the white balance, it is necessary to properly adjust the RGB ratio. The adjustment is performed by adjusting the respective reference currents of RGB. For example, the reference current for R is 2 μA, the reference current for G is 1.5 μA, and the reference current for B is 3.5 μA. In the driver of the present invention, the reference current is as shown in FIG.
The current mirror 631 of the first stage current source 631 of No. 7 has a small current mirror magnification (for example, if the reference current is 1 μA, the current flowing through the transistor 632b is set to 1/100, 10 nA), and the reference current adjusted from the outside The adjustment accuracy can be made rough and the accuracy of the minute current in the chip can be adjusted efficiently.

【0678】図79のガンマカーブを実現できるよう
に、低階調領域の基準電流の調整回路と高階調領域の基
準電流の調整回路を具備している。また、RGBで独立
に調整できるように、RGBごとに低階調領域の基準電
流の調整回路と高階調領域の基準電流の調整回路を具備
している。もちろん、1色を固定し、他の色の基準電流
を調整することによりホワイトバランスを調整する時
は、2色(たとえば、Gを固定している場合は、R、
B)を調整する低階調領域の基準電流の調整回路と高階
調領域の基準電流の調整回路を具備させればよい。
In order to realize the gamma curve of FIG. 79, a reference current adjusting circuit in the low gradation region and a reference current adjusting circuit in the high gradation region are provided. Further, each RGB is provided with a reference current adjusting circuit for a low gradation region and a reference current adjusting circuit for a high gradation region so that RGB can be adjusted independently. Of course, when one color is fixed and the white balance is adjusted by adjusting the reference currents of the other colors, two colors (for example, when G is fixed, R,
It suffices to provide a reference current adjusting circuit in the low gradation region and a reference current adjusting circuit in the high gradation region for adjusting B).

【0679】電流駆動方式は、図83にも図示したよう
に、ELに流す電流Iと輝度の関係は直線の関係があ
る。したがって、RGBの混合によるホワイトバランス
の調整は、所定の輝度の一点でRGBの基準電流を調整
するだけでよい。つまり、所定の輝度の一点でRGBの
基準電流を調整し、ホワイトバランスを調整すれば、基
本的には全階調にわたりホワイトバランスがとれてい
る。
In the current driving method, as shown in FIG. 83, the relationship between the current I flowing through the EL and the luminance has a linear relationship. Therefore, the adjustment of the white balance by mixing the RGB need only adjust the RGB reference current at one point of the predetermined brightness. That is, if the RGB reference currents are adjusted and the white balance is adjusted at one point of a predetermined brightness, the white balance is basically achieved over all the gradations.

【0680】しかし、図79のガンマカーブの場合は、
少し注意が必要である。まず、RGBのホワイトバラン
スを取るためには、ガンマカーブの折れ曲がり位置(階
調R1)をRGBで同一にする必要がある(逆に言え
ば、電流駆動方式では、ガンマカーブの相対的な関係を
RGBで同一にできるということになる)。また、低階
調領域の傾きと高階調領域の傾きとの比率をRGBで、
一定にする必要がある(つまり、電流駆動方式では、ガ
ンマカーブの相対的な関係をRGBで同一にできるとい
うことになる)。たとえば、低階調領域で1階調あたり
10nA増加(低階調領域でのガンマカーブの傾き)
し、高階調領域で1階調あたり50nA増加(高階調領
域でのガンマカーブの傾き)する(なお、高階調領域で
1階調あたり電流増加量/低階調領域で1階調あたり電
流増加量をガンマ電流比率と呼ぶ。この実施例では、ガ
ンマ電流比率は、50nA/10nA=5である)。す
ると、RGBでガンマ電流比率を同一にする。つまり、
RGBでは、ガンマ電流比率を同一にした状態でEL素
子15に流れる電流を調整するように構成する。
However, in the case of the gamma curve of FIG. 79,
A little caution is required. First, in order to obtain the white balance of RGB, it is necessary to make the bending position (gradation R1) of the gamma curve the same for RGB (conversely, in the current drive method, the relative relationship of the gamma curve is It means that RGB can be the same). In addition, the ratio of the inclination of the low gradation area to the inclination of the high gradation area is RGB,
It is necessary to make them constant (that is, in the current drive method, the relative relationship of the gamma curves can be the same for RGB). For example, 10 nA increase per gradation in the low gradation area (gradient of gamma curve in the low gradation area)
Then, increase by 50 nA per gradation in the high gradation area (gradient of gamma curve in the high gradation area) (Note that the current increase amount per gradation in the high gradation area / current increase per gradation in the low gradation area) The quantity is referred to as the gamma current ratio, which in this example is 50 nA / 10 nA = 5). Then, the RGB gamma current ratios are made the same. That is,
In RGB, the current flowing through the EL element 15 is adjusted with the gamma current ratio kept the same.

【0681】図80ではそのガンマカーブの例である。
図80(a)では、低階調部と高階調部とも1階調あた
りの電流増加が大きい。図80(b)では、低階調部と
高階調部とも1階調あたりの電流増加は図80(a)に
比較して小さい。ただし、図80(a)、図80(b)
ともガンマ電流比率は同一にしている。このようにガン
マ電流比率を、RGBで同一に維持したまま調整するこ
とは、各色ごとに、低階調部に印加する基準電流を発生
する定電流回路と、高階調部に印加する基準電流を発生
する定電流回路とを作製し、これらを相対的に流す電流
を調整するボリウムを作製(配置)すればよいからであ
る。
FIG. 80 shows an example of the gamma curve.
In FIG. 80A, the current increase per gradation is large in both the low gradation part and the high gradation part. In FIG. 80 (b), the increase in current per gradation in both the low gradation part and the high gradation part is smaller than that in FIG. 80 (a). However, FIG. 80 (a) and FIG. 80 (b)
Both have the same gamma current ratio. In this way, adjusting the gamma current ratio while maintaining the same for RGB allows the constant current circuit that generates the reference current to be applied to the low gradation part and the reference current to be applied to the high gradation part for each color to be adjusted. This is because a constant current circuit to be generated may be manufactured, and a volume for adjusting a current flowing through these may be manufactured (arranged).

【0682】図77はガンマ電流比率を維持したまま、
出力電流を可変する回路構成である。電流制御回路77
2で低電流領域の基準電流源771Lと高電流領域の基
準電流源771Hとのガンマ電流比率を維持したまま、
電流源633L、633Hに流れる電流を変化させる。
FIG. 77 shows that the gamma current ratio is maintained,
This is a circuit configuration that changes the output current. Current control circuit 77
2, while maintaining the gamma current ratio between the reference current source 771L in the low current region and the reference current source 771H in the high current region,
The currents flowing through the current sources 633L and 633H are changed.

【0683】また、図78に図示するように、ICチッ
プ(回路)14内に形成した温度検出回路781で相対
的な表示パネルの温度を検出することが好ましい。有機
EL素子は、RGBを構成する材料により温度特性が異
なるからである。この温度の検出は、バイポーラトラン
ジスタの接合部の状態が温度により変化し、出力電流が
温度により変化することを利用する。この検出した温度
を各色ごとに配置(形成)した温度制御回路782にフ
ィードバックし、電流制御回路772により温度補償を
行う。
Further, as shown in FIG. 78, it is preferable that the temperature detection circuit 781 formed in the IC chip (circuit) 14 detect the relative temperature of the display panel. This is because the organic EL element has different temperature characteristics depending on the materials forming RGB. This temperature detection utilizes that the state of the junction of the bipolar transistor changes with temperature and the output current changes with temperature. The detected temperature is fed back to the temperature control circuit 782 arranged (formed) for each color, and the current control circuit 772 performs temperature compensation.

【0684】なお、ガンマ比率は、検討により、3以上
10以下の関係にすることが適切である。さらに好まし
くは、4以上8以下の関係にすることが適切である。特
にガンマ電流比率は5以上7以下の関係を満足させるこ
とが好ましい。これを第1の関係と呼ぶ。
Note that it is appropriate to set the gamma ratio to a relationship of 3 or more and 10 or less by study. More preferably, it is appropriate that the relationship is 4 or more and 8 or less. In particular, it is preferable that the gamma current ratio satisfies the relationship of 5 or more and 7 or less. This is called the first relationship.

【0685】また、低階調部と高階調部との変化ポイン
ト(図79の階調R1)は、最大階調数Kの1/32以
上1/4以下に設定するのが適切である(たとえば、最
大階調数Kが6ビットの64階調とすれば、64/32
=2階調番目以上、64/4=16階調番目以下にす
る)。さらに好ましくは、低階調部と高階調部との変化
ポイント(図79の階調R1)は、最大階調数Kの1/
16以上1/4以下に設定するのが適切である(たとえ
ば、最大階調数Kが6ビットの64階調とすれば、64
/16=4階調番目以上、64/4=16階調番目以下
にする)。さらに好ましくは、最大階調数Kの1/10
以上1/5以下に設定するのが適切である(なお、計算
により小数点以下が発生する場合は切り捨てる。たとえ
ば、最大階調数Kが6ビットの64階調とすれば、64
/10=6階調番目以上、64/5=12階調番目以下
にする)。以上の関係を第2の関係と呼ぶ。なお、以上
の説明は、2つの電流領域のガンマ電流比率の関係であ
る。しかし、以上の第2の関係は、3つ以上の電流領域
のガンマ電流比率がある(つまり、折れ曲がり点が2箇
所以上ある)場合にも適用される。つまり、3つ以上の
傾きに対し、任意の2つの傾きに対する関係に適用すれ
ばよい。
Further, it is appropriate that the change point between the low gradation part and the high gradation part (gradation R1 in FIG. 79) is set to 1/32 or more and 1/4 or less of the maximum gradation number K ( For example, if the maximum gradation number K is 64 gradations of 6 bits, 64/32
= 2nd gray scale or more and 64/4 = 16 gray scale or less). More preferably, the change point between the low gradation part and the high gradation part (gradation R1 in FIG. 79) is 1 / the maximum gradation number K.
It is appropriate to set it to 16 or more and 1/4 or less (for example, if the maximum gradation number K is 6 bits, 64 gradations, 64
/ 16 = 4th gradation or more and 64/4 = 16th gradation or less). More preferably, it is 1/10 of the maximum gradation number K.
It is appropriate to set it to ⅕ or less (if a decimal point is generated by calculation, it is rounded down. For example, if the maximum gradation number K is 64 bits of 6 bits, 64
/ 10 = 6th gradation or more and 64/5 = 12th gradation or less). The above relationship is called the second relationship. Note that the above description relates to the gamma current ratio in the two current regions. However, the above second relationship is also applied when there are three or more current region gamma current ratios (that is, there are two or more bending points). That is, it is only necessary to apply the relationship to any two inclinations with respect to three or more inclinations.

【0686】以上の第1の関係と第2の関係の両方を同
時に満足させることにより、黒飛びがなく良好な画像表
示を実現できる。
By satisfying both the above first relationship and second relationship at the same time, it is possible to realize a good image display without blackout.

【0687】図82は、本発明の電流駆動方式のソース
ドライバ回路(IC)14を1つの表示パネルに複数個
用いた実施例である。本発明のソースドライバIC14
は複数のドライバーIC14を用いることを想定した、
スレーブ/マスター(S/M)端子を具備している。S
/M端子をHレベルにすることによりマスターチップと
して動作し、基準電流出力端子(図示せず)から、基準
電流を出力する。この電流がスレーブのIC14(14
a、14c)の図73、図74のINL、INH端子に
流れる電流となる。S/M端子をLレベルにすることに
よりIC14はスレーブチップとして動作し、基準電流
入力端子(図示せず)から、マスターチップの基準電流
を受け取る。この電流が図73、図74のINL、IN
H端子に流れる電流となる。
FIG. 82 shows an embodiment in which a plurality of current source type source driver circuits (ICs) 14 of the present invention are used in one display panel. Source driver IC 14 of the present invention
Is supposed to use multiple driver ICs 14,
It has a slave / master (S / M) terminal. S
It operates as a master chip by setting the / M terminal to the H level, and outputs the reference current from the reference current output terminal (not shown). This current is the slave IC14 (14
a, 14c), the current flows through the INL and INH terminals in FIGS. 73 and 74. By setting the S / M terminal to the L level, the IC 14 operates as a slave chip and receives the reference current of the master chip from the reference current input terminal (not shown). This current is INL, IN in FIGS. 73 and 74.
It becomes the current flowing through the H terminal.

【0688】基準電流入力端子、基準電流出力端子間で
受け渡される基準電流は、各色の低階調領域と高階調領
域の2系統である。したがって、RGBの3色では、3
×2で6系統となる。なお、上記の実施例では、各色2
系統としたがこれに限定するものではなく、各色3系統
以上であっても良い。
The reference current transferred between the reference current input terminal and the reference current output terminal is of two systems, a low gradation area and a high gradation area of each color. Therefore, in the three colors of RGB, 3
X2 gives 6 lines. In the above embodiment, each color is 2
Although the system is used, the system is not limited to this, and three or more systems for each color may be used.

【0689】本発明の電流駆動方式では、図81に図示
するように、折れ曲がり点(階調R1など)を変更でき
るように構成している。図81(a)では、階調R1で
低階調部と高階調部とを変化させ、図81(b)では、
階調R2で低階調部と高階調部とを変化させている。こ
のように、折れ曲がり位置を複数箇所で変化できるよう
にしている。
In the current driving system of the present invention, as shown in FIG. 81, the bending point (gradation R1 etc.) can be changed. In FIG. 81 (a), the low gradation part and the high gradation part are changed at gradation R1, and in FIG. 81 (b),
The low gradation portion and the high gradation portion are changed at the gradation R2. In this way, the bending position can be changed at a plurality of positions.

【0690】具体的には、本発明では64階調表示を実
現できる。折れ曲がり点(R1)は、なし、2階調目、
4階調目、8階調目、16階調目としている。なお、完
全黒表示を階調0としているため、折れ曲がり点は2、
4、8、16となるのであって、完全に黒表示の階調を
階調1とするのであれば、折れ曲がり点は、3、5、
9、17、33となる。以上のように、折れ曲がり位置
を2の倍数の箇所(もしくは、2の倍数+1の箇所:完
全黒表示を階調1とした場合)でできるように構成する
ことにより、回路構成が容易になるという効果が発生す
る。
Specifically, the present invention can realize 64-gradation display. No bending point (R1), 2nd gradation,
The 4th gradation, the 8th gradation, and the 16th gradation are set. In addition, since the gradation is 0 for completely black display, the number of bending points is 2,
If the gradation of black display is completely set to gradation 1, the bending points are 3, 5,
It becomes 9, 17, 33. As described above, it is possible to simplify the circuit configuration by arranging the bending position at a position that is a multiple of 2 (or a position that is a multiple of 2 + 1 when perfect black display is gradation 1). The effect occurs.

【0691】図73は低電流領域の電流源回路部の構成
図である。また、図74は高電流領域の電流源部および
嵩上げ電流回路部の構成図である。図73に図示するよ
うに低電流源回路部は基準電流INLが印加され、基本
的にはこの電流が単位電流となり、入力データL0〜L
4により、電流源634が必要個数動作し、その総和と
して低電流部のプログラム電流IwLが流れる。
FIG. 73 is a block diagram of a current source circuit section in the low current region. In addition, FIG. 74 is a configuration diagram of the current source unit and the padding current circuit unit in the high current region. As shown in FIG. 73, a reference current INL is applied to the low current source circuit section, and this current basically becomes a unit current, and the input data L0 to L
4, the required number of the current sources 634 operate, and the program current IwL of the low current portion flows as a total thereof.

【0692】また、図74に図示するように高電流源回
路部は基準電流INHが印加され、基本的にはこの電流
が単位電流となり、入力データH0〜L5により、電流
源634が必要個数動作し、その総和として低電流部の
プログラム電流IwHが流れる。
As shown in FIG. 74, the reference current INH is applied to the high current source circuit section, and basically this current becomes a unit current, and the required number of current sources 634 operate according to the input data H0 to L5. However, the program current IwH of the low current portion flows as the sum thereof.

【0693】嵩上げ電流回路部も同様であって、図74
に図示するように基準電流INHが印加され、基本的に
はこの電流が単位電流となり、入力データAK0〜AK
2により、電流源634が必要個数動作し、その総和と
して嵩上げ電流に対応する電流IwKが流れるソース信
号線18に流れるプログラム電流IwはIw=IwH+
IwL+IwKである。なお、IwHとIwLの比率、
つまりガンマ電流比率は、先にも説明した第1の関係を
満足させるようにする。
The same is true for the padding current circuit section, as shown in FIG.
A reference current INH is applied as shown in FIG. 2, and this current basically becomes a unit current, and the input data AK0 to AK
2, the required number of the current sources 634 operate, and the program current Iw flowing through the source signal line 18 in which the current IwK corresponding to the padding current flows as a total is Iw = IwH +
IwL + IwK. The ratio of IwH and IwL,
That is, the gamma current ratio is set to satisfy the first relationship described above.

【0694】なお、図73、図74に図示するようにオ
ンオフスイッチ641は、インバータ732とPチャン
ネルトランジスタとNチャンネルトランジスタからなる
アナログスイッチ731から構成される。このようにス
イッチ641を、インバータ732とPチャンネルトラ
ンジスタとNチャンネルトランジスタからなるアナログ
スイッチ731から構成することにより、オン抵抗を低
下することができ、電流源634とソース信号線18間
の電圧降下が極めて小さくすることができる。
As shown in FIGS. 73 and 74, the on / off switch 641 is composed of an inverter 732 and an analog switch 731 composed of a P-channel transistor and an N-channel transistor. By configuring the switch 641 with the inverter 732 and the analog switch 731 including the P-channel transistor and the N-channel transistor as described above, the on-resistance can be reduced, and the voltage drop between the current source 634 and the source signal line 18 can be reduced. It can be extremely small.

【0695】図73の低電流回路部と図74の高電流回
路部の動作について説明をする。本発明のソースドライ
バ回路(IC)14は、低電流回路部L0〜L4の5ビ
ットで構成され、高電流回路部H0〜H5の6ビットで
構成される。なお、回路の外部から入力されるデータは
D0〜D5の6ビット(各色64階調)である。この6
ビットデータをL0〜L4の5ビット、高電流回路部H
0〜H5の6ビットに変換してソース信号線に画像デー
タに対応するプログラム電流Iwを印加する。つまり、
入力6ビットデータを、5+6=11ビットデータに変
換をしている。したがって、高精度のガンマカーブを形
成できる。
Operation of the low current circuit section of FIG. 73 and the high current circuit section of FIG. 74 will be described. The source driver circuit (IC) 14 of the present invention is configured by 5 bits of the low current circuit units L0 to L4 and 6 bits of the high current circuit units H0 to H5. The data input from the outside of the circuit is 6 bits D0 to D5 (64 gradations for each color). This 6
Bit data of 5 bits of L0 to L4, high current circuit section H
The program current Iw corresponding to the image data is applied to the source signal line after being converted into 6 bits of 0 to H5. That is,
The input 6-bit data is converted into 5 + 6 = 11-bit data. Therefore, a highly accurate gamma curve can be formed.

【0696】以上のように、入力6ビットデータを、5
+6=11ビットデータに変換をしている。本発明で
は、高電流領域の回路のビット数(H)は、入力データ
(D)のビット数と同一にし、低電流領域の回路のビッ
ト数(L)は、入力データ(D)のビット数−1として
いる。なお、低電流領域の回路のビット数(L)は、入
力データ(D)のビット数−2としてもよい。このよう
に構成することにより、低電流領域のガンマカーブと、
高電流領域のガンマカーブとが、EL表示パネルの画像
表示に最適になる。
[0696] As described above, input 6-bit data is converted to 5
It is converted to + 6 = 11-bit data. In the present invention, the number of bits (H) of the circuit in the high current region is the same as the number of bits of the input data (D), and the number of bits (L) of the circuit in the low current region is the number of bits of the input data (D). -1. The bit number (L) of the circuit in the low current region may be the bit number-2 of the input data (D). With this configuration, the gamma curve in the low current region and
The gamma curve in the high current region is most suitable for image display on the EL display panel.

【0697】以下、低電流領域の回路制御データ(L0
〜L4)と高電流領域の回路制御データ(H0〜H4)
との制御方法について、図84から図86を参照しなが
ら説明をする。
The circuit control data (L0
~ L4) and circuit control data of high current area (H0 to H4)
The control method for and will be described with reference to FIGS. 84 to 86.

【0698】本発明は図73の図73のL4端子に接続
された、電流源634aの動作に特徴がある。この63
4aは1単位の電流源となる1つのトランジスタで構成
されている。このトランジスタをオンオフさせることに
より、プログラム電流Iwの制御(オンオフ制御)が容
易になる。
The present invention is characterized by the operation of the current source 634a connected to the L4 terminal of FIG. 73 of FIG. This 63
4a is composed of one transistor which serves as a unit of current source. By turning on / off this transistor, control of the program current Iw (on / off control) becomes easy.

【0699】図84は、低電流領域と高電流領域を階調
4で切り替える場合の低電流側信号線(L)と高電流側
信号線(H)との印加信号である。なお、図84から図
86において、階調0から18まで図示しているが、実
際は63階調目まである。したがって、各図面において
階調18以上は省略している。また、表の“1”の時に
スイッチ641がオンし、該当電流源634とソース信
号線18とが接続され、表の“0”の時にスイッチ64
1がオフするとしている。
FIG. 84 shows applied signals to the low current side signal line (L) and the high current side signal line (H) when the low current region and the high current region are switched by gradation 4. 84 to 86, the gradations 0 to 18 are shown, but actually the gradations are up to the 63rd gradation. Therefore, gradations 18 and above are omitted in each drawing. The switch 641 is turned on when the value is “1” in the table, the corresponding current source 634 and the source signal line 18 are connected, and the switch 641 is selected when the value is “0” in the table.
It is said that 1 is off.

【0700】図84において、完全黒表示の階調0の場
合は、(L0〜L4)=(0、0、0、0、0)であ
り、(H0〜H5)=(0、0、0、0、0)である。
したがって、すべてのスイッチ641はオフ状態であ
り、ソース信号線18にはプログラム電流Iw=0であ
る。
In FIG. 84, in the case of gradation 0 of completely black display, (L0 to L4) = (0,0,0,0,0), and (H0 to H5) = (0,0,0) , 0, 0).
Therefore, all the switches 641 are off, and the source signal line 18 has the program current Iw = 0.

【0701】階調1では、(L0〜L4)=(1、0、
0、0、0)であり、(H0〜H5)=(0、0、0、
0、0)である。したがって、低電流領域の1つの単位
電流源634がソース信号線18に接続されている。高
電流領域の単位電流源はソース信号線18には接続され
ていない。
At gradation 1, (L0 to L4) = (1, 0,
0, 0, 0), and (H0 to H5) = (0, 0, 0,
0, 0). Therefore, one unit current source 634 in the low current region is connected to the source signal line 18. The unit current source in the high current region is not connected to the source signal line 18.

【0702】階調2では、(L0〜L4)=(0、1、
0、0、0)であり、(H0〜H5)=(0、0、0、
0、0)である。したがって、低電流領域の2つの単位
電流源634がソース信号線18に接続されている。高
電流領域の単位電流源はソース信号線18には接続され
ていない。
At gradation 2, (L0 to L4) = (0, 1,
0, 0, 0), and (H0 to H5) = (0, 0, 0,
0, 0). Therefore, the two unit current sources 634 in the low current region are connected to the source signal line 18. The unit current source in the high current region is not connected to the source signal line 18.

【0703】階調3では、(L0〜L4)=(1、1、
0、0、0)であり、(H0〜H5)=(0、0、0、
0、0)である。したがって、低電流領域の2つのスイ
ッチ641La、641Lbがオンし、3つの単位電流
源634がソース信号線18に接続されている。高電流
領域の単位電流源はソース信号線18には接続されてい
ない。
At gradation 3, (L0 to L4) = (1, 1,
0, 0, 0), and (H0 to H5) = (0, 0, 0,
0, 0). Therefore, the two switches 641La and 641Lb in the low current region are turned on, and the three unit current sources 634 are connected to the source signal line 18. The unit current source in the high current region is not connected to the source signal line 18.

【0704】階調4では、(L0〜L4)=(1、1、
0、0、1)であり、(H0〜H5)=(0、0、0、
0、0)である。したがって、低電流領域の3つのスイ
ッチ641La、641Lb、641Leがオンし、4
つの単位電流源634がソース信号線18に接続されて
いる。高電流領域の単位電流源はソース信号線18には
接続されていない。
At gradation 4, (L0 to L4) = (1, 1,
0, 0, 1), and (H0 to H5) = (0, 0, 0,
0, 0). Therefore, the three switches 641La, 641Lb, 641Le in the low current region are turned on, and
One unit current source 634 is connected to the source signal line 18. The unit current source in the high current region is not connected to the source signal line 18.

【0705】階調5以上では、低電流領域(L0〜L
4)=(1、1、0、0、1)は変化がない。しかし、
高電流領域において、階調5では(H0〜H5)=
(1、0、0、0、0)であり、スイッチ641Haが
オンし、高電流領域の1つの単位電流源641がソース
信号線18と接続されている。また、階調6では(H0
〜H5)=(0、1、0、0、0)であり、スイッチ6
41Hbがオンし、高電流領域の2つの単位電流源64
1がソース信号線18と接続される。同様に、階調7で
は(H0〜H5)=(1、1、0、0、0)であり、2
つのスイッチ641Haスイッチ641Hbがオンし、
高電流領域の3つの単位電流源641がソース信号線1
8と接続される。さらに、階調8では(H0〜H5)=
(0、0、1、0、0)であり、1つのスイッチ641
Hcがオンし、高電流領域の4つの単位電流源641が
ソース信号線18と接続される。以後、図84のように
順次スイッチ641がオンオフし、プログラム電流Iw
がソース信号線18に印加される。
At a gradation level of 5 or higher, the low current region (L0 to L
4) = (1,1,0,0,1) is unchanged. But,
In the high current region, at gradation 5, (H0 to H5) =
(1, 0, 0, 0, 0), the switch 641Ha is turned on, and one unit current source 641 in the high current region is connected to the source signal line 18. For gradation 6, (H0
~ H5) = (0, 1, 0, 0, 0) and switch 6
41Hb is turned on, and two unit current sources 64 in the high current region
1 is connected to the source signal line 18. Similarly, for gradation 7, (H0 to H5) = (1,1,0,0,0), and 2
One switch 641Ha switch 641Hb turns on,
The three unit current sources 641 in the high current region are the source signal lines 1
8 is connected. Furthermore, at gradation 8, (H0 to H5) =
(0, 0, 1, 0, 0) and one switch 641
Hc is turned on, and the four unit current sources 641 in the high current region are connected to the source signal line 18. Thereafter, the switch 641 is sequentially turned on and off as shown in FIG. 84, and the program current Iw
Is applied to the source signal line 18.

【0706】以上の動作で特徴てきなのは、折れ曲がり
点(低電流領域と高電流領域の切り換わり点、正確に
は、プログラム電流Iwとしては、高電流領域の階調の
場合、低電流IwLが加算されているので、切換り点と
いう表現は正しくない(また、嵩上げ電流IwKも加算
される)。つまり、高階調部の階調では、低階調部の電
流に加算されて、高階調部のステップ(階調)に応じた
電流がプログラム電流Iwとなっているのである。1ス
テップの階調(電流が変化する点あるいはポイントもし
くは位置というべきであろう)を境として、低電流領域
の制御ビット(L)が変化しない点である。また、この
時、図73のL4端子に“1”となり、スイッチ641
eがオンし、トランジスタ634aに電流が流れている
点である。したがって、図84の階調4では低階調部の
単位トランジスタ(電流源)634が4個動作してい
る。そして、階調5では、低階調部の単位トランジスタ
(電流源)634が4個動作し、かつ高階調部のトラン
ジスタ(電流源)634が1個動作している。以後同様
に、階調6では、低階調部の単位トランジスタ(電流
源)634が4個動作し、かつ高階調部のトランジスタ
(電流源)634が2個動作する。したがって、折れ曲
がりポイントである階調5以上では、折れ曲がりポイン
ト以下の低階調領域の電流源634が階調分(この場
合、4個)オンし、これに加えて、順次、高階調部の電
流源634が階調に応じた個数順次オンしていく。
A characteristic feature of the above operation is a bending point (a switching point between a low current region and a high current region, more precisely, a low current IwL is added as the program current Iw in the case of a gradation in the high current region. Therefore, the expression "switching point" is not correct (and the padding current IwK is also added), that is, in the gradation of the high gradation part, it is added to the current of the low gradation part, The current corresponding to the step (gradation) is the program current Iw.Control of the low current region is performed with the gradation of one step (which should be called a point or point or position where the current changes) as a boundary. The bit (L) does not change, and at this time, the L4 terminal in FIG.
This is a point at which e is turned on and a current flows through the transistor 634a. Therefore, in gradation 4 in FIG. 84, four unit transistors (current sources) 634 in the low gradation part are operating. Then, at gradation 5, four unit transistors (current sources) 634 in the low gradation portion are operating and one transistor (current source) 634 in the high gradation portion is operating. Thereafter, similarly, in the gradation 6, four unit transistors (current sources) 634 in the low gradation part operate and two transistors (current source) 634 in the high gradation part operate. Therefore, when the gray level is 5 or more, which is the bending point, the current sources 634 in the low gray level region below the bending point are turned on for the gray level (4 in this case), and in addition to this, the current of the high gray level portion is sequentially added. The number of sources 634 sequentially turns on according to the gradation.

【0707】したがって、図73のL4端子のトランジ
スタ634aの1個は有用に作用していることがわか
る。このトランジスタ634aがないと、階調3の次
に、高階調部のトランジスタ634が1個オンする動作
になる。そのため、切り替わりポイントが4、8、16
というように2の乗数にならない。2の乗数は1信号に
みが“1”となった状態である。したがって、2の重み
付けの信号ラインが“1”となったという条件判定がや
りやすい。そのため、条件判定のハード規模が小さくす
ることができる。つまり、ICチップの論理回路が簡略
化し、結果としてチップ面積小さいICを設計できるの
である(低コスト化が可能である)。
Therefore, it can be seen that one of the transistors 634a at the L4 terminal in FIG. 73 works effectively. If this transistor 634a is not provided, the operation is such that one transistor 634 in the high gradation part is turned on next to the gradation 3. Therefore, the switching points are 4, 8 and 16
It doesn't become a power of 2. The multiplier of 2 is a state in which only one signal is "1". Therefore, it is easy to determine the condition that the signal line with the weight of 2 becomes "1". Therefore, the hardware scale for condition determination can be reduced. That is, the logic circuit of the IC chip is simplified, and as a result, an IC having a small chip area can be designed (cost can be reduced).

【0708】図85は、低電流領域と高電流領域を階調
8で切り替える場合の低電流側信号線(L)と高電流側
信号線(H)との印加信号の説明図である。
FIG. 85 is an explanatory diagram of applied signals to the low current side signal line (L) and the high current side signal line (H) when switching the low current region and the high current region at the gradation 8.

【0709】図85において、完全黒表示の階調0の場
合は、図84と同様であり、(L0〜L4)=(0、
0、0、0、0)であり、(H0〜H5)=(0、0、
0、0、0)である。したがって、すべてのスイッチ6
41はオフ状態であり、ソース信号線18にはプログラ
ム電流Iw=0である。
In FIG. 85, in the case of gradation 0 of completely black display, it is the same as in FIG. 84, and (L0 to L4) = (0,
0, 0, 0, 0), and (H0 to H5) = (0, 0,
0, 0, 0). Therefore, all switches 6
41 is in the off state, and the source signal line 18 has the program current Iw = 0.

【0710】同様に階調1では、(L0〜L4)=
(1、0、0、0、0)であり、(H0〜H5)=
(0、0、0、0、0)である。したがって、低電流領
域の1つの単位電流源634がソース信号線18に接続
されている。高電流領域の単位電流源はソース信号線1
8には接続されていない。
Similarly, for gradation 1, (L0 to L4) =
(1,0,0,0,0) and (H0-H5) =
(0, 0, 0, 0, 0). Therefore, one unit current source 634 in the low current region is connected to the source signal line 18. The unit current source in the high current region is the source signal line 1
8 is not connected.

【0711】階調2では、(L0〜L4)=(0、1、
0、0、0)であり、(H0〜H5)=(0、0、0、
0、0)である。したがって、低電流領域の2つの単位
電流源634がソース信号線18に接続されている。高
電流領域の単位電流源はソース信号線18には接続され
ていない。
For gradation 2, (L0 to L4) = (0, 1,
0, 0, 0), and (H0 to H5) = (0, 0, 0,
0, 0). Therefore, the two unit current sources 634 in the low current region are connected to the source signal line 18. The unit current source in the high current region is not connected to the source signal line 18.

【0712】階調3では、(L0〜L4)=(1、1、
0、0、0)であり、(H0〜H5)=(0、0、0、
0、0)である。したがって、低電流領域の2つのスイ
ッチ641La、641Lbがオンし、3つの単位電流
源634がソース信号線18に接続されている。高電流
領域の単位電流源はソース信号線18には接続されてい
ない。
For gradation 3, (L0 to L4) = (1, 1,
0, 0, 0), and (H0 to H5) = (0, 0, 0,
0, 0). Therefore, the two switches 641La and 641Lb in the low current region are turned on, and the three unit current sources 634 are connected to the source signal line 18. The unit current source in the high current region is not connected to the source signal line 18.

【0713】以下も同様に、階調4では、(L0〜L
4)=(0、0、1、0、0)であり、(H0〜H5)
=(0、0、0、0、0)である。また、階調5では、
(L0〜L4)=(1、0、1、0、0)であり、(H
0〜H5)=(0、0、0、0、0)である。階調6で
は、(L0〜L4)=(0、1、1、0、0)であり、
(H0〜H5)=(0、0、0、0、0)である。ま
た、階調7では、(L0〜L4)=(1、1、1、0、
0)であり、(H0〜H5)=(0、0、0、0、0)
である。
Similarly, for gradation 4, (L0 to L)
4) = (0,0,1,0,0), and (H0-H5)
= (0,0,0,0,0). Also, with gradation 5,
(L0 to L4) = (1, 0, 1, 0, 0), and (H
0 to H5) = (0,0,0,0,0). At gradation 6, (L0 to L4) = (0, 1, 1, 0, 0),
(H0 to H5) = (0,0,0,0,0). Further, in the gradation 7, (L0 to L4) = (1,1,1,0,
0), and (H0 to H5) = (0, 0, 0, 0, 0)
Is.

【0714】階調8が切り替わりポイント(折れ曲がり
位置)である。階調8では、(L0〜L4)=(1、
1、1、0、1)であり、(H0〜H5)=(0、0、
0、0、0)である。したがって、低電流領域の4つの
スイッチ641La、641Lb、641Lc、641
Leがオンし、8つの単位電流源634がソース信号線
18に接続されている。高電流領域の単位電流源はソー
ス信号線18には接続されていない。
[0714] Gradation 8 is the switching point (bending position). At gradation 8, (L0 to L4) = (1,
1, 1, 0, 1), and (H0 to H5) = (0, 0,
0, 0, 0). Therefore, the four switches 641La, 641Lb, 641Lc, 641 in the low current region
Le is turned on, and eight unit current sources 634 are connected to the source signal line 18. The unit current source in the high current region is not connected to the source signal line 18.

【0715】階調8以上では、低電流領域(L0〜L
4)=(1、1、1、0、1)は変化がない。しかし、
高電流領域において、階調9では(H0〜H5)=
(1、0、0、0、0)であり、スイッチ641Haが
オンし、高電流領域の1つの単位電流源641がソース
信号線18と接続されている。
[0715] For gradations 8 and above, a low current region (L0 to L
4) = (1,1,1,0,1) is unchanged. But,
In the high current region, at gradation 9, (H0 to H5) =
(1, 0, 0, 0, 0), the switch 641Ha is turned on, and one unit current source 641 in the high current region is connected to the source signal line 18.

【0716】以下、同様に、階調ステップに応じて、高
電流領域のトランジスタ634の個数が1個ずつ増加す
る。つまり、階調10では(H0〜H5)=(0、1、
0、0、0)であり、スイッチ641Hbがオンし、高
電流領域の2つの単位電流源641がソース信号線18
と接続される。同様に、階調11では(H0〜H5)=
(1、1、0、0、0)であり、2つのスイッチ641
Haスイッチ641Hbがオンし、高電流領域の3つの
単位電流源641がソース信号線18と接続される。さ
らに、階調12では(H0〜H5)=(0、0、1、
0、0)であり、1つのスイッチ641Hcがオンし、
高電流領域の4つの単位電流源641がソース信号線1
8と接続される。以後、図84のように順次スイッチ6
41がオンオフし、プログラム電流Iwがソース信号線
18に印加される。
Similarly, the number of transistors 634 in the high current region is increased by one according to the gradation step. That is, at gradation 10, (H0 to H5) = (0, 1,
0, 0, 0), the switch 641Hb is turned on, and the two unit current sources 641 in the high current region are connected to the source signal line 18
Connected with. Similarly, for gradation 11, (H0 to H5) =
(1, 1, 0, 0, 0) and two switches 641
The Ha switch 641Hb is turned on, and the three unit current sources 641 in the high current region are connected to the source signal line 18. Further, in gradation 12, (H0 to H5) = (0, 0, 1,
0, 0), one switch 641Hc is turned on,
The four unit current sources 641 in the high current region are the source signal lines 1
8 is connected. After that, as shown in FIG.
41 is turned on and off, and the program current Iw is applied to the source signal line 18.

【0717】図86は、低電流領域と高電流領域を階調
16で切り替える場合の低電流側信号線(L)と高電流
側信号線(H)との印加信号の説明図である。この場合
も図84、図85と基本的な動作は同じである。
FIG. 86 is an explanatory diagram of applied signals to the low current side signal line (L) and the high current side signal line (H) when the low current region and the high current region are switched by the gradation 16. Also in this case, the basic operation is the same as in FIGS. 84 and 85.

【0718】つまり、図86において、完全黒表示の階
調0の場合は、図85と同様であり、(L0〜L4)=
(0、0、0、0、0)であり、(H0〜H5)=
(0、0、0、0、0)である。したがって、すべての
スイッチ641はオフ状態であり、ソース信号線18に
はプログラム電流Iw=0である。同様に階調1から階
調16までは、高階調領域の(H0〜H5)=(0、
0、0、0、0)である。したがって、低電流領域の1
つの単位電流源634がソース信号線18に接続されて
いる。高電流領域の単位電流源はソース信号線18には
接続されていない。つまり、低階調領域の(L0〜L
4)のみが変化する。
That is to say, in FIG. 86, the case of gradation 0 of full black display is the same as in FIG. 85, and (L0 to L4) =
(0, 0, 0, 0, 0) and (H0-H5) =
(0, 0, 0, 0, 0). Therefore, all the switches 641 are off, and the source signal line 18 has the program current Iw = 0. Similarly, from the gradation 1 to the gradation 16, (H0 to H5) = (0,
0, 0, 0, 0). Therefore, in the low current region 1
One unit current source 634 is connected to the source signal line 18. The unit current source in the high current region is not connected to the source signal line 18. That is, (L0 to L in the low gradation region)
Only 4) changes.

【0719】つまり、階調1では、(L0〜L4)=
(1、0、0、0、0)であり、階調2では、(L0〜
L4)=(0、1、0、0、0)であり、階調3では、
(L0〜L4)=(1、1、0、0、0)であり、階調
2では、(L0〜L4)=(0、0、1、0、0)であ
る。以下階調16まで順次カウントされる。つまり、階
調15では、(L0〜L4)=(1、1、1、1、0)
であり、階調16では、(L0〜L4)=(1、1、
1、1、1)である。階調16では、階調を示すD0〜
D5の5ビット目(D4)のみが1本オンするため、デ
ータD0〜D5の表現している内容が16であるという
ことが、1データ信号線(D4)の判定で決定できる。
したがって、論理回路のハード規模が小さくすることが
できる。
That is, for gradation 1, (L0 to L4) =
(1, 0, 0, 0, 0), and at gradation 2, (L0-
L4) = (0,1,0,0,0), and in gradation 3,
(L0 to L4) = (1,1,0,0,0), and at gradation 2, (L0 to L4) = (0,0,1,0,0). The gradation is counted up to 16 in sequence. That is, at gradation 15, (L0 to L4) = (1,1,1,1,0)
And in gradation 16, (L0 to L4) = (1, 1,
1, 1, 1). In gradation 16, D0 indicating gradation
Since only one of the fifth bit (D4) of D5 is turned on, it can be determined by the determination of one data signal line (D4) that the content represented by the data D0 to D5 is 16.
Therefore, the hardware scale of the logic circuit can be reduced.

【0720】階調16が切り替わりポイント(折れ曲が
り位置)である(もしくは階調17が切り替わりポイン
トというべきであるかもしれないが)。階調16では、
(L0〜L4)=(1、1、1、1、1)であり、(H
0〜H5)=(0、0、0、0、0)である。したがっ
て、低電流領域の4つのスイッチ641La、641L
b、641Lc、641d、641Leがオンし、16
つの単位電流源634がソース信号線18に接続されて
いる。高電流領域の単位電流源はソース信号線18には
接続されていない。
The gradation 16 is the switching point (the bending position) (or the gradation 17 may be the switching point). At gradation 16,
(L0 to L4) = (1, 1, 1, 1, 1), and (H
0 to H5) = (0,0,0,0,0). Therefore, the four switches 641La and 641L in the low current region
b, 641Lc, 641d, 641Le turn on, 16
One unit current source 634 is connected to the source signal line 18. The unit current source in the high current region is not connected to the source signal line 18.

【0721】階調16以上では、低電流領域(L0〜L
4)=(1、1、1、0、1)は変化がない。しかし、
高電流領域において、階調17では(H0〜H5)=
(1、0、0、0、0)であり、スイッチ641Haが
オンし、高電流領域の1つの単位電流源641がソース
信号線18と接続されている。以下、同様に、階調ステ
ップに応じて、高電流領域のトランジスタ634の個数
が1個ずつ増加する。つまり、階調18では(H0〜H
5)=(0、1、0、0、0)であり、スイッチ641
Hbがオンし、高電流領域の2つの単位電流源641が
ソース信号線18と接続される。同様に、階調19では
(H0〜H5)=(1、1、0、0、0)であり、2つ
のスイッチ641Haスイッチ641Hbがオンし、高
電流領域の3つの単位電流源641がソース信号線18
と接続される。さらに、階調20では(H0〜H5)=
(0、0、1、0、0)であり、1つのスイッチ641
Hcがオンし、高電流領域の4つの単位電流源641が
ソース信号線18と接続される。
At gradation levels 16 and above, a low current region (L0 to L
4) = (1,1,1,0,1) is unchanged. But,
In the high current region, at gradation 17, (H0 to H5) =
(1, 0, 0, 0, 0), the switch 641Ha is turned on, and one unit current source 641 in the high current region is connected to the source signal line 18. Hereinafter, similarly, the number of the transistors 634 in the high current region is increased by one according to the gradation step. That is, at gradation 18, (H0-H
5) = (0,1,0,0,0), and the switch 641
Hb is turned on, and the two unit current sources 641 in the high current region are connected to the source signal line 18. Similarly, in gradation 19, (H0 to H5) = (1,1,0,0,0), two switches 641Ha switch 641Hb are turned on, and three unit current sources 641 in the high current region are source signals. Line 18
Connected with. Furthermore, at gradation 20, (H0 to H5) =
(0, 0, 1, 0, 0) and one switch 641
Hc is turned on, and the four unit current sources 641 in the high current region are connected to the source signal line 18.

【0722】以上のように、切り替わりポイント(折れ
曲がり位置)で、2の乗数の個数の電流源(1単位)6
34がオンもしくはソース信号線18と接続(逆に、オ
フとなる構成も考えられる)ように構成するロジック処
理などがきわめて容易になる。たとえば、図84に図示
するように折れ曲がり位置が階調4(4は2の乗数であ
る)であれば、4個の電流源(1単位)634が動作な
どするように構成する。そして、それ以上の階調では、
高電流領域の電流源(1単位)634が加算されるよう
に構成する。また、図85に図示するように折れ曲がり
位置が階調8(8は2の乗数である)であれば、8個の
電流源(1単位)634が動作などするように構成す
る。そして、それ以上の階調では、高電流領域の電流源
(1単位)634が加算されるように構成する。本発明
の構成を採用すれば、64階調に限らず(16階調:4
096色、256階調:1670万色など)、あらゆる
階調表現で、ハード構成が小さなガンマ制御回路を構成
できる。
As described above, at the switching point (the bending position), the number of current sources (1 unit) of the number of powers of 2 is 6
The logic processing for configuring 34 to be turned on or connected to the source signal line 18 (conversely, a configuration in which it is turned off is also conceivable) becomes extremely easy. For example, as shown in FIG. 84, if the bending position is gradation 4 (4 is a multiplier of 2), four current sources (one unit) 634 are operated. And for higher tones,
The current source (1 unit) 634 in the high current region is configured to be added. Further, as shown in FIG. 85, if the bending position is gradation 8 (8 is a multiplier of 2), eight current sources (one unit) 634 are configured to operate. Then, for gradations higher than that, the current sources (1 unit) 634 in the high current region are configured to be added. If the configuration of the present invention is adopted, it is not limited to 64 gradations (16 gradations: 4
(096 colors, 256 gradations: 16.7 million colors, etc.), a gamma control circuit with a small hardware configuration can be configured with any gradation expression.

【0723】なお、図84、図85、図86で説明した
実施例では、切り替わりポイントの階調が2の乗数とな
るとしたが、これは、完全黒階調が階調0とした場合で
ある。階調1を完全黒表示とする場合は、+1する必要
がある。しかし、これらは便宜上の事項である。本発明
で重要なのは、複数の電流領域(低電流領域、高電流領
域など)を有し、その切り替わりポイントを信号入力が
少なく判定(処理)できるように構成することである。
その一例として、2の乗数であれば、1信号線を検出す
るだけでよいからハード規模が極めて小さくなるという
技術的思想である。また、その処理を容易にするため、
電流源634aを付加する。
In the embodiments described with reference to FIGS. 84, 85 and 86, the gradation at the switching point is a multiplier of 2, but this is the case where the complete black gradation is gradation 0. . When the gradation 1 is to be displayed completely in black, it is necessary to add +1. However, these are matters of convenience. What is important in the present invention is to have a plurality of current regions (low current region, high current region, etc.), and to configure the switching point so that the signal input can be determined (processed) with a small amount of signal input.
As an example, if it is a multiplier of 2, it is a technical idea that the hardware scale becomes extremely small because only one signal line needs to be detected. Also, in order to facilitate the process,
A current source 634a is added.

【0724】したがって、負論理であれば、2、4、8
・・・ではなく、階調1、3、7、15・・・で切り替
わりポイントとすればよい。また、階調0を完全黒表示
としたが、これに限定するものではない。たとえば、6
4階調表示であれば、階調63を完全黒表示状態とし、
階調0を最大の白表示としてもよい。この場合は、逆方
向に考慮して、切り替わりポイントを処理すればよい。
したがって、2の乗数から処理上、異なる構成となる場
合がある。
Therefore, with negative logic, 2, 4, 8
.., but gradations 1, 3, 7, 15 ,. Further, although the gradation 0 is displayed completely in black, it is not limited to this. For example, 6
In case of 4 gradation display, gradation 63 is set to a completely black display state,
The gradation 0 may be the maximum white display. In this case, the switching points may be processed in consideration of the reverse direction.
Therefore, there may be a case where the processing is different from the multiplier of 2 in terms of processing.

【0725】また、切り替わりポイント(折れ曲がり位
置)が1つのガンマカーブに限定されるものではない。
折れ曲がり位置が複数存在しても本発明の回路を構成す
ることができる。たとえば、折れ曲がり位置が階調4と
階調16に設定することができる。また、階調4と階調
16と階調32というように3ポイント以上に設定する
こともできる。
The switching point (bending position) is not limited to one gamma curve.
The circuit of the present invention can be configured even if there are a plurality of bending positions. For example, the bending position can be set to gradation 4 and gradation 16. It is also possible to set three points or more such as gradation 4, gradation 16, and gradation 32.

【0726】また、以上の実施例は、階調が2の乗数に
設定するとして説明をしたが、本発明はこれに限定する
ものではない。たとえば、2の乗数の2と8(2+8=
10階調目、つまり、判定に要する信号線は2本)で折
れ曲がり点を設定してもよい。それ以上の2の乗数の2
と8と16(2+8+16=26階調目、つまり、判定
に要する信号線は3本)で折れ曲がり点を設定してもよ
い。この場合は、多少判定あるいは処理に要するハード
規模が大きくなるが、回路構成上、十分に対応すること
ができる。また、以上の説明した事項は本発明の技術的
範疇に含まれることは言うまでもない。
In the above embodiment, the gradation is set to a power of 2, but the present invention is not limited to this. For example, the powers of 2 and 8 (2 + 8 =
The bending point may be set at the tenth gradation, that is, two signal lines required for the determination. 2 of 2 or more
The bending points may be set at 8 and 16 (2 + 8 + 16 = 26th gradation, that is, three signal lines are required for determination). In this case, although the hardware scale required for the determination or the processing becomes somewhat large, it is possible to sufficiently deal with it in terms of the circuit configuration. Needless to say, the matters described above are included in the technical scope of the present invention.

【0727】図87に図示するように、本発明のソース
ドライバ回路(IC)14は3つの部分の電流出力回路
704から構成されている。高階調領域で動作する高電
流領域電流出力回路704aであり、低電流領域および
高階調領域で動作する低電流領域電流出力回路704b
であり、嵩上げ電流を出力する電流嵩上げ電流出力回路
704bである。
As shown in FIG. 87, the source driver circuit (IC) 14 of the present invention is composed of three parts of the current output circuit 704. A high current region current output circuit 704a which operates in a high gradation region and a low current region current output circuit 704b which operates in a low current region and a high gradation region.
The current raising current output circuit 704b outputs the raising current.

【0728】高電流領域電流出力回路704aと電流嵩
上げ電流出力回路704cは高電流を出力する基準電流
源771aを基準電流として動作し、低電流領域電流出
力回路704bは低電流を出力する基準電流源771b
を基準電流として動作する。
The high current region current output circuit 704a and the current raising current output circuit 704c operate with the reference current source 771a that outputs a high current as a reference current, and the low current region current output circuit 704b outputs a low current. 771b
Operates as a reference current.

【0729】なお、先にも説明したが、電流出力回路7
04は、高電流領域電流出力回路704a、低電流領域
電流出力回路704b、電流嵩上げ電流出力回路704
cの3つに限定するものではなく、高電流領域電流出力
回路704aと低電流領域電流出力回路704bの2つ
でもよく、また、3つ以上の電流出力回路704から構
成してもよい。また、基準電流源771はそれぞれの電
流領域電流出力回路704に対応して配置または形成し
てもよく、また、すべての電流領域電流出力回路704
に共通にしてもよい。
As described above, the current output circuit 7
Reference numeral 04 denotes a high current region current output circuit 704a, a low current region current output circuit 704b, and a current raising current output circuit 704.
It is not limited to three of c, but may be two of a high current region current output circuit 704a and a low current region current output circuit 704b, or may be composed of three or more current output circuits 704. Further, the reference current source 771 may be arranged or formed corresponding to each current domain current output circuit 704, and all the current domain current output circuits 704 may be provided.
You may make it common to.

【0730】以上の電流出力回路704が階調データに
対応して、内部のトランジスタ634が動作し、ソース
信号線18から電流を吸収する。前記とトランジスタ6
34は、1水平走査期間(1H)信号に同期して動作す
る。つまり、1Hの期間の間、該当する階調データに基
づく電流を入力する(トランジスタ634がNチャンネ
ルの場合)。
The above current output circuit 704 operates the internal transistor 634 in response to the grayscale data to absorb the current from the source signal line 18. And transistor 6
34 operates in synchronization with the signal for one horizontal scanning period (1H). That is, the current based on the corresponding grayscale data is input during the period of 1H (when the transistor 634 is an N channel).

【0731】一方、ゲートドライバ回路12も1H信号
に同期して、基本的には1本のゲート信号線17aを順
次選択する。つまり、1H信号に同期して、第1H期間
にはゲート信号線17a(1)を選択し、第2H期間に
はゲート信号線17a(2)を選択し、第3H期間には
ゲート信号線17a(3)を選択し、第4H期間にはゲ
ート信号線17a(4)を選択する。
On the other hand, the gate driver circuit 12 basically selects one gate signal line 17a sequentially in synchronization with the 1H signal. That is, in synchronization with the 1H signal, the gate signal line 17a (1) is selected in the first H period, the gate signal line 17a (2) is selected in the second H period, and the gate signal line 17a is selected in the third H period. (3) is selected, and the gate signal line 17a (4) is selected in the fourth H period.

【0732】しかし、第1のゲート信号線17aが選択
されてから、次の第2のゲート信号線17aが選択され
る期間には、どのゲート信号線17aも選択されない期
間(非選択期間、図88のt1を参照)を設ける。非選
択期間は、ゲート信号線17aの立ち上がり期間、立下
り期間が必要であり、TFT11dのオンオフ制御期間
を確保するために設ける。
However, from the selection of the first gate signal line 17a to the selection of the next second gate signal line 17a, a period in which no gate signal line 17a is selected (non-selection period, 88 t1). The non-selection period needs a rising period and a falling period of the gate signal line 17a, and is provided to secure an on / off control period of the TFT 11d.

【0733】いずれかのゲート信号線17aにオン電圧
が印加され、画素16のTFT11b、TFT11cが
オンしていれば、Vdd電源(アノード電圧)から駆動
用TFT11aを介して、ソース信号線18にプログラ
ム電流Iwが流れる。このプログラム電流Iwがトラン
ジスタ634に流れる(図88のt2期間)。なお、ソ
ース信号線18には寄生容量Cが発生している(ゲート
信号線とソース信号線とのクロスポイントの容量などに
より寄生容量が発生する)。
If the ON voltage is applied to any of the gate signal lines 17a and the TFTs 11b and 11c of the pixel 16 are turned on, the source signal line 18 is programmed from the Vdd power source (anode voltage) through the driving TFT 11a. The current Iw flows. The program current Iw flows through the transistor 634 (period t2 in FIG. 88). A parasitic capacitance C is generated in the source signal line 18 (a parasitic capacitance is generated due to the capacitance at the cross point between the gate signal line and the source signal line).

【0734】しかし、いずれのゲート信号線17aも選
択されていない(非選択期間 図88のt1期間)はT
FT11aを流れる電流経路がない。トランジスタ63
4は電流を流すから、ソース信号線18の寄生容量から
電荷を吸収する。そのため、ソース信号線18の電位が
低下する(図88のAの部分)。ソース信号線18の電
位が低下すると、次の画像データに対応する電流を書き
込むのに時間がかかる。
However, when none of the gate signal lines 17a is selected (non-selected period, t1 period in FIG. 88), T is set.
There is no current path through the FT 11a. Transistor 63
Since 4 passes a current, it absorbs electric charges from the parasitic capacitance of the source signal line 18. Therefore, the potential of the source signal line 18 decreases (portion A in FIG. 88). When the potential of the source signal line 18 drops, it takes time to write a current corresponding to the next image data.

【0735】この課題に解決するため、図89に図示す
るように、ソース端子761との出力端にスイッチ64
1aを形成する。また、嵩上げ電流電流出力回路704
cの出力段にスイッチ641bを形成または配置する。
To solve this problem, as shown in FIG. 89, a switch 64 is provided at the output end of the source terminal 761.
1a is formed. Further, the padding current / current output circuit 704
The switch 641b is formed or placed in the output stage of c.

【0736】非選択期間t1に、制御端子S1に制御信
号を印加し、スイッチ641aをオフ状態にする。選択
期間t2ではスイッチ641aをオン状態(導通状態)
にする。オン状態の時にはプログラム電流Iw=IwH
+IwL+IwKが流れる。スイッチ641aをオフに
するとIw電流は流れない。したがって、図90に図示
するように図88のAのような電位に低下(変化はな
い)。なお、スイッチ641のアナログスイッチ731
のチャンネル幅Wは、10μm以上100μm以下にす
る。このアナログスイッチのW(チャンネル幅)はオン
抵抗を低減するために、10μm以上にする必要があ
る。しかし、あまりWが大きいと、寄生容量も大きくな
るので100μm以下にする。さらに好ましくは、チャ
ンネル幅Wは15μm以上60μm以下にすることが好
ましい。
In the non-selection period t1, a control signal is applied to the control terminal S1 to turn off the switch 641a. In the selection period t2, the switch 641a is turned on (conduction state).
To Program current Iw = IwH in ON state
+ IwL + IwK flows. When the switch 641a is turned off, the Iw current does not flow. Therefore, as shown in FIG. 90, the potential as indicated by A in FIG. 88 decreases (no change). The analog switch 731 of the switch 641
The channel width W is set to 10 μm or more and 100 μm or less. The W (channel width) of this analog switch needs to be 10 μm or more in order to reduce the ON resistance. However, if W is too large, the parasitic capacitance also becomes large, so the value is set to 100 μm or less. More preferably, the channel width W is preferably 15 μm or more and 60 μm or less.

【0737】スイッチ641bは低階調表示のみに制御
するスイッチである。低階調表示(黒表示)時は、画素
16のTFT11aのゲート電位はVddに近くする必
要がある(したがって、黒表示では、ソース信号線18
の電位はVdd近くにする必要がある)。また、黒表示
では、プログラム電流Iwが小さく、図88のAように
一度、電位が低下してしまうと、正規の電位に復帰する
のに長時間を要する。
The switch 641b is a switch for controlling only low gradation display. During low gradation display (black display), the gate potential of the TFT 11a of the pixel 16 needs to be close to Vdd (thus, in black display, the source signal line 18).
Must be near Vdd). In black display, the program current Iw is small, and once the potential drops as shown in A of FIG. 88, it takes a long time to return to the normal potential.

【0738】そのため、低階調表示の場合は、非選択期
間t1が発生することを避けなくてはならない。逆に、
高階調表示では、プログラム電流Iwが大きいため、非
選択期間t1が発生しても問題がない場合が多い。した
がって、本発明では、高階調表示の画像書き込みでは、
非選択期間でもスイッチ641a、スイッチ641bの
両方をオンさせておく。また、嵩上げ電流IwKも切断
しておく必要がある。極力黒表示を実現するためであ
る。低階調表示の画像書き込みでは、非選択期間ではス
イッチ641aをオンさせておき、スイッチ641bは
オフするというように駆動する。スイッチ641bは端
子S2で制御する。
Therefore, in the case of low gradation display, it is necessary to avoid the occurrence of the non-selection period t1. vice versa,
In high gradation display, since the program current Iw is large, there is often no problem even if the non-selection period t1 occurs. Therefore, in the present invention, when writing an image of high gradation display,
Even in the non-selection period, both the switch 641a and the switch 641b are turned on. It is also necessary to cut off the padding current IwK. This is to realize black display as much as possible. In the image writing for low gradation display, the switch 641a is turned on and the switch 641b is turned off during the non-selection period. The switch 641b is controlled by the terminal S2.

【0739】もちろん、低階調表示および高階調表示の
両方で、非選択期間t1にスイッチ641aをオフ(非
導通状態)、スイッチ641bはオン(導通)させたま
まにするという駆動を実施してもよい。もちろん、低階
調表示および高階調表示の両方で、非選択期間t1にス
イッチ641a、スイッチ641bの両方をオフ(非導
通)させた駆動を実施してもよい。
Of course, in both the low gradation display and the high gradation display, the switch 641a is turned off (non-conducting state) and the switch 641b is kept on (conducting) during the non-selection period t1. Good. Of course, in both the low gradation display and the high gradation display, driving may be performed with both the switches 641a and 641b turned off (non-conducting) during the non-selection period t1.

【0740】いずれにしても、制御端子S1、S2の制
御でスイッチ641を制御できる。なお、制御端子S
1、S2はコマンド制御で制御する。
In any case, the switch 641 can be controlled by controlling the control terminals S1 and S2. The control terminal S
1, S2 is controlled by command control.

【0741】たとえば、制御端子S2は非選択期間t1
をオーバーラップするようにt3期間を“0”ロジック
レベルとする。このように制御にすることにより、図8
8のAの状態は発生しない。また、階調が一定以上の黒
表示レベルの時は、制御端子S1を“0”ロジックレベ
ルとする。すると、嵩上げ電流IwKは停止し、より黒
表示を実現できる。
For example, the control terminal S2 is set in the non-selection period t1.
The period t3 is set to the "0" logic level so as to overlap with each other. By controlling in this way, FIG.
State A of 8 does not occur. Further, when the gradation is a black display level above a certain level, the control terminal S1 is set to the "0" logic level. Then, the padding current IwK is stopped, and more black display can be realized.

【0742】以上の実施例は、表示パネルに1つのソー
スドライバIC14を積載することを前提に実施例とし
て説明した。しかし、本発明はこの構成に限定されるも
のではない。ソースドライバIC14を1つの表示パネ
ルに複数積載する構成でもよい。たとえば、図93は3
つのソースドライバIC14を積載した表示パネルの実
施例である。
The above embodiments have been described on the assumption that one source driver IC 14 is mounted on the display panel. However, the present invention is not limited to this configuration. A plurality of source driver ICs 14 may be stacked on one display panel. For example, FIG.
It is an embodiment of a display panel on which one source driver IC 14 is loaded.

【0743】本発明のソースドライバIC14は、図7
3、図74、図76、図77などでも説明したように、
少なくとも低階調領域の基準電流と、高階調領域の基準
電流の2系統を具備する。このことは、図82でも説明
をした。
The source driver IC 14 of the present invention is shown in FIG.
As described in FIG. 3, FIG. 74, FIG. 76, FIG. 77, etc.,
At least two systems of a reference current in the low gradation region and a reference current in the high gradation region are provided. This is also explained in FIG. 82.

【0744】図82でも説明したように、本発明の電流
駆動方式のソースドライバ回路(IC)14は複数のド
ライバーIC14を用いることを想定した、スレーブ/
マスター(S/M)端子を具備している。S/M端子を
Hレベルにすることによりマスターチップとして動作
し、基準電流出力端子(図示せず)から、基準電流を出
力する。もちろん、S/M端子のロジックは逆極性でも
よい。また、ソースドライバIC14へのコマンドによ
り切り替えても良い。基準電流は可スケート電流接続線
931で伝達される。S/M端子をLレベルにすること
によりIC14はスレーブチップとして動作し、基準電
流入力端子(図示せず)から、マスターチップの基準電
流を受け取る。この電流が図73、図74のINL、I
NH端子に流れる電流となる。
As described with reference to FIG. 82, the current driver type source driver circuit (IC) 14 of the present invention assumes that a plurality of driver ICs 14 are used.
It has a master (S / M) terminal. It operates as a master chip by setting the S / M terminal to H level, and outputs a reference current from a reference current output terminal (not shown). Of course, the logic of the S / M terminal may have opposite polarities. Alternatively, the source driver IC 14 may be switched by a command. The reference current is transmitted through the skate current connection line 931. By setting the S / M terminal to the L level, the IC 14 operates as a slave chip and receives the reference current of the master chip from the reference current input terminal (not shown). This current is INL, I in FIGS. 73 and 74.
It becomes the current flowing through the NH terminal.

【0745】基準電流はICチップ14の中央部(真中
部分)の電流出力回路704で発生させる。マスターチ
ップの基準電流は外部から外付け抵抗、あるいはIC内
部に配置あるいは構成された電流きざみ方式の電子ボリ
ウムにより、基準電流が調整されて印加される。なお、
ICチップ14の中央部にはコントロール回路(コマン
ドデコーダなど)なども形成(配置)される。基準電流
源をチップの中央部に形成するのは、基準電流発生回路
とプログラム電流出力端子761までの距離を極力短く
するためである。
The reference current is generated by the current output circuit 704 in the central portion (middle portion) of the IC chip 14. The reference current of the master chip is applied from the outside by adjusting the reference current by an external resistor or a current stepping type electronic volume arranged or configured inside the IC. In addition,
A control circuit (command decoder or the like) is also formed (arranged) in the central portion of the IC chip 14. The reference current source is formed in the center of the chip in order to minimize the distance between the reference current generating circuit and the program current output terminal 761.

【0746】図93の構成では、マスターチップ14b
より基準電流が2つのスレーブチップ(14a、14
c)に伝達される。スレーブチップは基準電流を受け取
り、この電流を基準として、親、子、孫電流を発生させ
る。なお、マスターチップ14bがスレーブチップに受
け渡す基準電流は、カレントミラー回路の電流受け渡し
により行う(図67を参照のこと)。電流受け渡しを行
うことにより、複数のチップで基準電流のずれはなくな
り、画面の分割線が表示されなくなる。
In the configuration of FIG. 93, the master chip 14b
The slave chips (14a, 14
c). The slave chip receives a reference current and generates parent, child, and grandchild currents based on this reference current. The reference current delivered by the master chip 14b to the slave chip is provided by the current delivery of the current mirror circuit (see FIG. 67). By passing the current, the deviation of the reference current between the chips is eliminated, and the dividing line of the screen is not displayed.

【0747】図94は基準電流の受け渡し端子位置を概
念的に図示している。ICチップの中央部に配置されて
信号入力端子941iに基準電流信号線932が接続さ
れている。この基準電流信号線932に印加される電流
(なお、電圧の場合もある。図76を参照のこと)は、
EL材料の温特補償がされている。また、EL材料の寿
命劣化による補償がされている。
FIG. 94 conceptually shows the positions of the reference current transfer terminals. The reference current signal line 932 is arranged at the center of the IC chip and connected to the signal input terminal 941i. The current applied to the reference current signal line 932 (which may be a voltage, see FIG. 76) is
The temperature characteristics of the EL material are compensated. In addition, compensation is made by the deterioration of the life of the EL material.

【0748】基準電流信号線932に印加された電流
(電圧)に基づき、チップ14内で各電流源(631、
632、633、634)を駆動する。この基準電流が
カレントミラー回路を介して、スレーブチップへの基準
電流として出力される。スレーブチップへの基準電流は
端子941oから出力される。端子941oは基準電流
発生回路704の左右に少なくとも1個以上配置(形
成)される。図94では、左右に2個づつ配置(形成)
されている。この基準電流が、カスケード信号線931
a1、931a2、931b1、931b2でスレーブ
チップ14に伝達される。なお、スレーブチップ14a
に印加された基準電流を、マスターチップ14bにフィ
ードバックし、ずれ量を補正するように回路を構成して
もよい。
On the basis of the current (voltage) applied to the reference current signal line 932, each current source (631,
632, 633, 634). This reference current is output as a reference current to the slave chip via the current mirror circuit. The reference current to the slave chip is output from the terminal 941o. At least one terminal 941o is arranged (formed) on the left and right of the reference current generation circuit 704. In FIG. 94, two pieces are arranged (formed) on each side.
Has been done. This reference current is the cascade signal line 931.
It is transmitted to the slave chip 14 through a1, 931a2, 931b1, and 931b2. The slave chip 14a
The reference current applied to the master chip 14b may be fed back to the master chip 14b to correct the deviation amount.

【0749】以上に説明した本発明の表示パネル、表示
装置を用いる、もしくは、本発明の駆動方式を実施する
本発明の表示機器についての実施例について説明をす
る。
An embodiment of the display device of the present invention which uses the display panel and display device of the present invention described above or which implements the drive system of the present invention will be described.

【0750】図57は情報端末装置の1例としての携帯
電話の平面図である。筐体573にアンテナ571、テ
ンキー572などが取り付けられている。572などが
表示色切換キーあるいは電源オンオフ、フレームレート
切り替えキーである。
[0750] Fig. 57 is a plan view of a mobile phone as an example of the information terminal device. An antenna 571, a numeric keypad 572, and the like are attached to the housing 573. Reference numeral 572 and the like are display color switching keys or power on / off and frame rate switching keys.

【0751】キー572を1度押さえると表示色は8色
モードに、つづいて同一キー572を押さえると表示色
は256色モード、さらにキー572を押さえると表示
色は4096色モードとなるようにシーケンスを組んで
もよい。キーは押さえるごとに表示色モードが変化する
トグルスイッチとする。なお、別途表示色に対する変更
キーを設けてもよい。この場合、キー572は3つ(以
上)となる。
When the key 572 is pressed once, the display color is changed to the 8-color mode, when the same key 572 is pressed, the display color is changed to the 256-color mode, and when the key 572 is pressed, the display color is changed to the 4096-color mode. May be assembled. The key is a toggle switch whose display color mode changes each time it is pressed. A change key for the display color may be separately provided. In this case, the number of keys 572 is three (or more).

【0752】キー572はプッシュスイッチの他、スラ
イドスイッチなどの他のメカニカルなスイッチでもよ
く、また、音声認識などにより切換るものでもよい。た
とえば、4096色を受話器に音声入力すること、たと
えば、「高品位表示」、「256色モード」あるいは
「低表示色モード」と受話器に音声入力することにより
表示パネルの表示画面50に表示される表示色が変化す
るように構成する。これは現行の音声認識技術を採用す
ることにより容易に実現することができる。
The key 572 may be a push switch, another mechanical switch such as a slide switch, or may be switched by voice recognition or the like. For example, by voice inputting 4096 colors into the handset, for example, "high quality display", "256 color mode" or "low display color mode" is input to the handset and displayed on the display screen 50 of the display panel. It is configured so that the display color changes. This can be easily realized by adopting the existing voice recognition technology.

【0753】また、表示色の切り替えは電気的に切換る
スイッチでもよく、表示パネルの表示部21に表示させ
たメニューを触れることにより選択するタッチパネルで
も良い。また、スイッチを押さえる回数で切換る、ある
いはクリックボールのように回転あるいは方向により切
換るように構成してもよい。
The display color can be switched by an electrically switching switch or a touch panel for selecting by touching a menu displayed on the display unit 21 of the display panel. Alternatively, the switch may be switched depending on the number of times the switch is pressed, or may be switched by rotation or direction like a click ball.

【0754】572は表示色切換キーとしたが、フレー
ムレートを切換るキーなどとしてもよい。また、動画と
静止画とを切換るキーなどとしてもよい。また、動画と
静止画とフレームレートなどの複数の要件を同時に切り
替えてもよい。また、押さえ続けると徐々に(連続的
に)フレームレートが変化するように構成してもよい。
この場合は発振器を構成するコンデンサC、抵抗Rのう
ち、抵抗Rを可変抵抗にしたり、電子ボリウムにしたり
することにより実現できる。また、コンデンサはトリマ
コンデンサとすることにより実現できる。また、半導体
チップに複数のコンデンサを形成しておき、1つ以上の
コンデンサを選択し、これらを回路的に並列に接続する
ことにより実現してもよい。
Although 572 is a display color switching key, it may be a key for switching the frame rate or the like. Also, it may be a key for switching between a moving image and a still image. Also, a plurality of requirements such as a moving image, a still image, and a frame rate may be switched at the same time. Alternatively, the frame rate may be gradually (continuously) changed when the button is held down.
In this case, it can be realized by changing the resistance R of the capacitor C and the resistance R constituting the oscillator to a variable resistance or an electronic volume. The capacitor can be realized by using a trimmer capacitor. Alternatively, it may be realized by forming a plurality of capacitors on a semiconductor chip, selecting one or more capacitors, and connecting them in parallel in a circuit.

【0755】なお、表示色などによりフレームレートを
切換るという技術的思想は携帯電話に限定されるもので
はなく、パームトップコンピュータや、ノートパソコ
ン、ディスクトップパソコン、携帯時計など表示画面を
有する機器に広く適用することができる。また、液晶表
示装置(液晶表示パネル)に限定されるものではなく、
液晶表示パネル、有機EL表示パネルや、トランジスタ
パネル、PLZTパネルや、CRTにも適用することが
できる。
The technical idea of switching the frame rate according to the display color is not limited to the mobile phone, and is applicable to devices having a display screen such as a palmtop computer, a notebook computer, a desktop computer, and a mobile clock. It can be widely applied. Further, it is not limited to the liquid crystal display device (liquid crystal display panel),
It can also be applied to a liquid crystal display panel, an organic EL display panel, a transistor panel, a PLZT panel, and a CRT.

【0756】図19で説明した本発明の携帯電話では図
示していないが、筐体の裏側にCCDカメラを備えてい
る。CCDカメラで撮影し画像は即時に表示パネルの表
示画面50に表示できる。CCDカメラで撮影したデー
タは、表示画面50に表示することができる。CCDカ
メラの画像データは24ビット(1670万色)、18
ビット(26万色)、16ビット(6.5万色)、12
ビット(4096色)、8ビット(256色)をキー5
72入力で切り替えることができる。
Although not shown in the mobile phone of the present invention described with reference to FIG. 19, a CCD camera is provided on the back side of the housing. The image taken by the CCD camera can be immediately displayed on the display screen 50 of the display panel. Data captured by the CCD camera can be displayed on the display screen 50. Image data of CCD camera is 24 bits (16.7 million colors), 18
Bit (260,000 colors), 16 bits (650,000 colors), 12
Bit 5 (4096 colors), 8-bit (256 colors) key 5
It can be switched with 72 inputs.

【0757】表示データが12ビット以上の時は、誤差
拡散処理を行って表示する。つまり、CCDカメラから
の画像データが内蔵メモリーの容量以上の時は、誤差拡
散処理などを実施し、表示色数を内蔵画像メモリーの容
量以下となるように画像処理を行う。
When the display data is 12 bits or more, the error diffusion processing is performed for display. That is, when the image data from the CCD camera exceeds the capacity of the built-in memory, error diffusion processing or the like is performed, and the image processing is performed so that the number of display colors becomes equal to or less than the capacity of the built-in image memory.

【0758】今、ソースドライバIC14には4096
色(RGB各4ビット)で1画面の内蔵RAMを具備し
ているとして説明する。モジュール外部から送られてく
る画像データが4096色の場合は、直接ソースドライ
バIC14の内蔵画像RAMに格納され、この内蔵画像
RAMから画像データを読み出し、表示画面50に画像
を表示する。
Now, the source driver IC 14 has 4096
A description will be given assuming that a built-in RAM for one screen is provided for each color (4 bits for each RGB). When the image data sent from outside the module is 4096 colors, it is directly stored in the built-in image RAM of the source driver IC 14, the image data is read from this built-in image RAM, and the image is displayed on the display screen 50.

【0759】画像データが26万色(G:6ビット、
R、B:5ビットの計16ビット)の場合は、誤差拡散
コントローラの演算メモリーにいったん格納され、かつ
同時に誤差拡散あるいはディザ処理を行う演算回路で誤
差拡散あるいはディザ処理が行われる。この誤差拡散処
理などにより16ビットの画像データは内蔵画像RAM
のビット数である12ビットに変換されてソースドライ
バIC14に転送される。ソースドライバIC14はR
GB各4ビット(4096色)の画像データを出力し、
表示画面50に画像を表示する。
Image data has 260,000 colors (G: 6 bits,
In the case of R and B: 5 bits in total (16 bits), the error diffusion or dither processing is performed by an operation circuit that is temporarily stored in the operation memory of the error diffusion controller and at the same time performs error diffusion or dither processing. 16-bit image data is stored in the built-in image RAM by this error diffusion process.
Is converted to 12 bits, which is the number of bits, and transferred to the source driver IC 14. Source driver IC14 is R
Output 4-bit (4096 color) image data for each GB
The image is displayed on the display screen 50.

【0760】さらに、本発明のEL表示パネルあるいは
EL表示装置もしくは駆動方法を採用した実施の形態に
ついて、図面を参照しながら説明する。
Further, an embodiment adopting the EL display panel, the EL display device or the driving method of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0761】図58は本発明の実施の形態におけるビュ
ーファインダの断面図である。但し、説明を容易にする
ため模式的に描いている。また一部拡大あるいは縮小し
た箇所が存在し、また、省略した箇所もある。たとえ
ば、図58において、接眼カバーを省略している。以上
のことは他の図面においても該当する。
FIG. 58 is a sectional view of the viewfinder in the embodiment of the present invention. However, it is schematically drawn for ease of explanation. In addition, there are some areas that are enlarged or reduced, and some areas are omitted. For example, in FIG. 58, the eyepiece cover is omitted. The above also applies to other drawings.

【0762】ボデー573の裏面は暗色あるいは黒色に
されている。これは、EL表示パネル(表示装置)57
4から出射した迷光がボデー573の内面で乱反射し表
示コントラストの低下を防止するためである。また、表
示パネルの光出射側には位相板(λ/4板など)10
8、偏光板109などが配置されている。このことは図
10、図11でも説明している。
The back surface of the body 573 is dark or black. This is an EL display panel (display device) 57.
This is to prevent the stray light emitted from No. 4 from being irregularly reflected on the inner surface of the body 573 and lowering the display contrast. Further, a phase plate (λ / 4 plate, etc.) 10 is provided on the light emitting side of the display panel.
8, a polarizing plate 109 and the like are arranged. This is also explained in FIGS. 10 and 11.

【0763】接眼リング581には拡大レンズ582が
取り付けられている。観察者は接眼リング581をボデ
ー573内での挿入位置を可変して、表示パネル574
の表示画像50にピントがあうように調整する。
A magnifying lens 582 is attached to the eyepiece ring 581. The observer can change the insertion position of the eyepiece ring 581 in the body 573 to display the display panel 574.
The display image 50 is adjusted so that it is in focus.

【0764】また、必要に応じて表示パネル574の光
出射側に正レンズ583を配置すれば、拡大レンズ58
2に入射する主光線を収束させることができる。そのた
め、拡大レンズ582のレンズ径を小さくすることがで
き、ビューファインダを小型化することができる。
If a positive lens 583 is arranged on the light emitting side of the display panel 574 as needed, the magnifying lens 58 can be provided.
The principal ray incident on 2 can be converged. Therefore, the lens diameter of the magnifying lens 582 can be reduced, and the viewfinder can be downsized.

【0765】図59はビデオカメラの斜視図である。ビ
デオカメラは撮影(撮像)レンズ部592とビデオかメ
ラ本体573と具備し、撮影レンズ部592とビューフ
ァインダ部573とは背中合わせとなっている。また、
ビューファインダ(図58も参照)573には接眼カバ
ーが取り付けられている。観察者(ユーザー)はこの接
眼カバー部から表示パネル574の画像50を観察す
る。
FIG. 59 is a perspective view of a video camera. The video camera includes a photographing (imaging) lens unit 592 and a video or camera body 573, and the photographing lens unit 592 and the viewfinder unit 573 are back to back. Also,
An eyepiece cover is attached to the viewfinder (see also FIG. 58) 573. An observer (user) observes the image 50 on the display panel 574 through the eyepiece cover.

【0766】一方、本発明のEL表示パネルは表示モニ
ターとしても使用されている。表示部50は支点591
で角度を自由に調整できる。表示部50を使用しない時
は、格納部593に格納される。
On the other hand, the EL display panel of the present invention is also used as a display monitor. Display unit 50 is fulcrum 591
You can freely adjust the angle with. When the display unit 50 is not used, it is stored in the storage unit 593.

【0767】スイッチ594は以下の機能を実施する切
り替えあるいは制御スイッチである。スイッチ594は
表示モード切り替えスイッチである。スイッチ594
は、携帯電話などにも取り付けることが好ましい。この
表示モード切り替えスイッチ594について説明をす
る。
Switch 594 is a changeover or control switch that performs the following functions. The switch 594 is a display mode switching switch. Switch 594
Is preferably attached to a mobile phone or the like. The display mode changeover switch 594 will be described.

【0768】本発明の駆動方法の1つにN倍の電流をE
L素子15に流し、1Fの1/Mの期間だけ点灯させる
方法がある。この点灯させる1/MのMの値だけをきり
かえることのより、明るさをデジタル的に変更すること
ができる。たとえば、N=4として、EL素子15には
4倍の電流を流す。点灯期間を1/Mとし、M=1、
2、3、4と切り替えれば、1倍から4倍までの明るさ
切り替えが可能となる。なお、M=1、1.5、2、
3、4、5、6などと変更できるように構成してもよ
い。
One of the driving methods of the present invention is applied with N times the current E
There is a method of supplying the light to the L element 15 and turning on the light only for 1 / M of 1F. The brightness can be digitally changed by changing only the M value of 1 / M to be turned on. For example, assuming N = 4, a four times larger current is passed through the EL element 15. The lighting period is 1 / M, and M = 1,
By switching to 2, 3 and 4, it is possible to switch the brightness from 1 to 4 times. In addition, M = 1, 1.5, 2,
It may be configured so that it can be changed to 3, 4, 5, 6, and the like.

【0769】以上の切り替え動作は、携帯電話の電源を
オンしたときに、表示画面50を非常に明るく表示し、
一定の時間を経過した後は、電力セーブするために、表
示輝度を低下させる構成に用いる。また、ユーザーが希
望する明るさに設定する機能としても用いることができ
る。たとえば、屋外などでは、画面を非常に明るくす
る。屋外では周辺が明るく、画面が全く見えなくなるか
らである。しかし、高い輝度で表示し続けるとEL素子
15は急激に劣化する。そのため、非常に明るくする場
合は、短時間で通常の輝度に復帰させるように構成して
おく。さらに、高輝度で表示させる場合は、ユーザーが
ボタンと押すことにより表示輝度を高くできるようの構
成しておく。
The above switching operation causes the display screen 50 to be displayed very bright when the power of the mobile phone is turned on.
It is used in a configuration in which the display brightness is lowered in order to save power after a certain time has elapsed. It can also be used as a function of setting the brightness desired by the user. For example, when outdoors, the screen is made very bright. This is because when you are outdoors, the surrounding area is bright and you cannot see the screen at all. However, if the display is continued at high brightness, the EL element 15 deteriorates rapidly. Therefore, when it is made extremely bright, it is configured to restore the normal brightness in a short time. Furthermore, when displaying with high brightness, the user can press the button to increase the display brightness.

【0770】したがって、ユーザーがボタン594で切
り替えできるようにしておくか、設定モードで自動的に
変更できるか、外光の明るさを検出して自動的に切り替
えできるように構成しておくことが好ましい。また、表
示輝度を50%、60%、80%とユーザーなどが設定
できるように構成しておくことが好ましい。
[0770] Therefore, it is necessary to allow the user to switch using the button 594, to automatically change the setting mode, or to detect the brightness of external light and automatically switch. preferable. In addition, it is preferable that the display brightness can be set to 50%, 60%, and 80% by the user or the like.

【0771】なお、表示画面50はガウス分布表示にす
ることが好ましい。ガウス分布表示とは、中央部の輝度
が明るく、周辺部を比較的暗くする方式である。視覚的
には、中央部が明るければ周辺部が暗くとも明るいと感
じられる。主観評価によれば、周辺部が中央部に比較し
て70%の輝度を保っておれば、視覚的に遜色ない。さ
らに低減させて、50%輝度としてもほぼ、問題がな
い。本発明の自己発光型表示パネルでは、以前に説明し
たN倍パルス駆動(N倍の電流をEL素子15に流し、
1Fの1/Mの期間だけ点灯させる方法)を用いて画面
の上から下方向に、ガウス分布を発生させている。
The display screen 50 is preferably a Gaussian distribution display. The Gaussian distribution display is a method in which the brightness of the central part is bright and the peripheral part is relatively dark. Visually, if the central part is bright, it is perceived as bright even if the peripheral part is dark. According to the subjective evaluation, if the peripheral part maintains a luminance of 70% as compared with the central part, it is visually comparable. There is almost no problem even if the luminance is further reduced to 50%. In the self-emission type display panel of the present invention, the N-time pulse drive (the N-time current is passed through the EL element 15 described above,
A Gaussian distribution is generated from the top to the bottom of the screen by using a method of lighting only for 1 / M period of 1F).

【0772】具体的には、画面の上部と下部ではMの値
と大きくし、中央部でMの値を小さくする。これは、ゲ
ートドライバ12のシフトレジスタの動作速度を変調す
ることなどにより実現する。画面の左右の明るさ変調
は、テーブルのデータと映像データとを乗算することに
より発生させている。以上の動作により、周辺輝度(画
角0.9)を50%にした時、100%輝度の場合に比
較して約20%の低消費電力化が可能である。周辺輝度
(画角0.9)を70%にした時、100%輝度の場合
に比較して約15%の低消費電力化が可能である。
Specifically, the value of M is increased in the upper and lower parts of the screen, and the value of M is decreased in the central part. This is realized by modulating the operation speed of the shift register of the gate driver 12. The brightness modulation on the left and right of the screen is generated by multiplying the table data and the video data. By the above operation, when the peripheral brightness (angle of view 0.9) is set to 50%, it is possible to reduce the power consumption by about 20% as compared with the case of 100% brightness. When the peripheral brightness (angle of view 0.9) is 70%, it is possible to reduce the power consumption by about 15% as compared with the case of 100% brightness.

【0773】なお、ガウス分布表示はオンオフできるよ
うに切り替えスイッチなどを設けることが好ましい。た
とえば、屋外などで、ガウス表示させると画面周辺部が
全く見えなくなるからである。したがって、ユーザーが
ボタンで切り替えできるようにしておくか、設定モード
で自動的に変更できるか、外光の明るさを検出して自動
的に切り替えできるように構成しておくことが好まし
い。また、周辺輝度を50%、60%、80%とユーザ
ーなどが設定できるように構成しておくことがこのまし
い。
Note that it is preferable to provide a changeover switch or the like so that the Gaussian distribution display can be turned on and off. This is because, for example, when a Gaussian display is made outdoors, the periphery of the screen becomes completely invisible. Therefore, it is preferable that the user can switch with a button, can be automatically changed in the setting mode, or can be automatically switched by detecting the brightness of external light. Further, it is preferable that the peripheral brightness can be set to 50%, 60%, 80% by the user or the like.

【0774】液晶表示パネルではバックライトで固定の
ガウス分布を発生させている。したがって、ガウス分布
のオンオフを行うことはできない。ガウス分布をオンオ
フできるのは自己発光型の表示デバイス特有の効果であ
る。
In the liquid crystal display panel, a fixed Gaussian distribution is generated by the backlight. Therefore, the Gaussian distribution cannot be turned on / off. The fact that the Gaussian distribution can be turned on and off is an effect peculiar to self-luminous display devices.

【0775】また、フレームレートが所定の時、室内の
蛍光灯などの点灯状態と干渉してフリッカが発生する場
合がある。つまり、蛍光灯が60Hzの交流で点灯して
いるとき、EL表示素子15がフレームレート60Hz
で動作していると、微妙な干渉が発生し、画面がゆっく
りと点滅しているように感じられる場合がある。これを
さけるにはフレームレートを変更すればよい。本発明は
フレームレートの変更機能を付加している。また、N倍
パルス駆動(N倍の電流をEL素子15に流し、1Fの
1/Mの期間だけ点灯させる方法)において、Nまたは
Mの値を変更できるように構成している。
Also, when the frame rate is predetermined, there may be a case where flicker occurs by interfering with the lighting state of indoor fluorescent lamps. In other words, when the fluorescent lamp is lit with an alternating current of 60 Hz, the EL display element 15 has a frame rate of 60 Hz.
When you are operating in, slight interference may occur and you may feel that the screen is blinking slowly. To avoid this, change the frame rate. The present invention adds a frame rate changing function. Further, in N-fold pulse driving (a method in which a N-fold current is passed through the EL element 15 to turn on for 1 / M of 1F), the value of N or M can be changed.

【0776】以上の機能をスイッチ594で実現できる
ようにする。スイッチ594は表示画面50のメニュー
にしたがって、複数回おさえることにより、以上に説明
した機能を切り替え実現する。
The above function is realized by the switch 594. The switch 594 implements the function described above by holding down the switch 594 multiple times according to the menu on the display screen 50.

【0777】なお、以上の事項は、携帯電話だけに限定
されるものではなく、テレビ、モニターなどに用いるこ
とができることはいうまでもない。また、どのような表
示状態にあるかをユーザーがすぐに認識できるように、
表示画面にアイコン表示をしておくことが好ましい。以
上の事項は以下の事項に対しても同様である。
Needless to say, the above items are not limited to mobile phones, but can be applied to televisions, monitors and the like. Also, so that the user can immediately recognize what kind of display state,
It is preferable to display icons on the display screen. The above items also apply to the following items.

【0778】本実施の形態のEL表示装置などはビデオ
カメラだけでなく、図60に示すような電子カメラにも
適用することができる。表示装置はカメラ本体601に
付属されたモニター50として用いる。カメラ本体60
1にはシャッタ603の他、スイッチ594が取り付け
られている。
The EL display device of this embodiment can be applied not only to a video camera but also to an electronic camera as shown in FIG. The display device is used as the monitor 50 attached to the camera body 601. Camera body 60
In addition to the shutter 603, a switch 594 is attached to the apparatus 1.

【0779】本発明のビデオカメラなどは、タッチパネ
ルを搭載し、指やペンでWebブラウジングやEメール
などを操作できるインターネット端末機能を有してい
る。また、ハードディスク装置の代わりに256Mバイ
ト以上のコンパクト・フラッシュ・カード(誤り訂正機
能付き)を搭載することが好ましい。ウィンドウズ(登
録商標)OSの基本機能部分だけを採用することで低容
量化が図る。HDDがないため、ディスク・クラッシュ
などの心配がなく堅牢性を確保できる。PCカード・ス
ロットを2つ装備させる。モデムや、ISDN、PIA
FS、LAN、無線LANなどを利用できるように構成
することが好ましい。無線LAN用のアンテナ内蔵させ
る。USB/RS232Cインターフェースにより、バ
ーコード・リーダなどの業務用周辺機器も接続できるよ
うにしている。キーボードがない省スペース設計に加
え、水濡れやホコリに耐える(JIS防滴2級に準拠)
ように構成する。タッチパネルや、アプリケーションを
簡単に起動できる「ワンタッチ・キー」の採用、手書き
E−mail機能(手書きメモ機能を含む)の搭載な
ど、BtoBtoCでの一般ユーザーの利用を想定して
操作性の向上を図っている。以上の機能などは本発明の
他の表示装置、情報端末なども搭載する。
The video camera of the present invention is equipped with a touch panel and has an Internet terminal function capable of operating Web browsing, E-mail and the like with a finger or a pen. Further, it is preferable to mount a compact flash card (with error correction function) of 256 Mbytes or more instead of the hard disk device. The capacity can be reduced by adopting only the basic function part of the Windows (registered trademark) OS. Since there is no HDD, you can secure robustness without worrying about disk crashes. Equipped with two PC card slots. Modem, ISDN, PIA
It is preferable to configure so that FS, LAN, wireless LAN, etc. can be used. Built-in antenna for wireless LAN. With the USB / RS232C interface, commercial peripherals such as bar code readers can also be connected. In addition to a keyboard-less space-saving design, it can withstand water and dust (conforms to JIS Drip-proof 2)
To configure. We have improved the operability by assuming the use of BtoBtoC for general users, such as the adoption of a touch panel, "one-touch keys" that can easily start applications, and the installation of handwritten E-mail functions (including handwritten memo functions). ing. The above functions and the like are also mounted on another display device, information terminal, and the like of the present invention.

【0780】以上は表示パネルの表示領域が比較的小型
の場合であるが、30インチ以上と大型となると表示画
面50がたわみやすい。その対策のため、本発明では図
61に示すように表示パネルに外枠611をつけ、外枠
611をつりさげられるように固定部材614で取り付
けている。この固定部材614を用いて、壁などに取り
付ける。
The above is the case where the display area of the display panel is relatively small, but the display screen 50 is easily bent when the display area is large such as 30 inches or more. To prevent this, in the present invention, an outer frame 611 is attached to the display panel as shown in FIG. 61, and the outer frame 611 is attached by a fixing member 614 so that it can be suspended. Using this fixing member 614, it is attached to a wall or the like.

【0781】しかし、表示パネルの画面サイズが大きく
なると重量も重たくなる。そのため、表示パネルの下側
に脚取り付け部613を配置し、複数の脚612で表示
パネルの重量を保持できるようにしている。
However, the larger the screen size of the display panel, the heavier the weight becomes. Therefore, the leg mounting portion 613 is arranged on the lower side of the display panel so that the weight of the display panel can be held by the plurality of legs 612.

【0782】脚612はAに示すように左右に移動で
き、また、脚612はBに示すように収縮できるように
構成されている。そのため、狭い場所であっても表示装
置を容易に設置することができる。
The leg 612 is constructed so that it can move to the left and right as shown in A, and the leg 612 can contract as shown in B. Therefore, the display device can be easily installed even in a narrow place.

【0783】なお、脚612あるいは筐体(他の本発明
においても)にはプラスチックフィルム−金属板複合材
(以後、複合材と呼ぶ)を使用する。複合材は、金属と
プラスチックフィルムを特殊表面処理層(接着層)を介
して強力に接着したものである。金属板は0.2mm以
上0.8mm以下が好ましく、金属板に特殊表面処理層
を介してはりあわされるプラスチックフィルムは15μ
m以上100μm以下にすることが好ましい。特殊接着
法によりプラスチックと金属板間に強固な密着力を有す
るようになる。この複合材を使用することにより、プラ
スチック層への着色、染色、印刷が可能となり、また、
プレス部品での二次加工工程(フィルムの手貼り、メッ
キ塗装)の削除が可能となる。また、従来では不可能で
あった深絞り成形やDI成形に適する。
A plastic film-metal plate composite material (hereinafter referred to as a composite material) is used for the leg 612 or the housing (also in the present invention). The composite material is obtained by strongly adhering a metal and a plastic film via a special surface treatment layer (adhesive layer). The metal plate is preferably 0.2 mm or more and 0.8 mm or less, and the plastic film laminated on the metal plate via the special surface treatment layer has a thickness of 15 μm.
It is preferable that the thickness is not less than m and not more than 100 μm. The special adhesion method provides a strong adhesion between the plastic and the metal plate. By using this composite material, it is possible to color, dye, and print the plastic layer.
It is possible to eliminate the secondary processing steps (hand-attaching the film, plating coating) on the pressed parts. It is also suitable for deep drawing and DI molding, which has been impossible in the past.

【0784】図61のテレビでは、画面の表面を保護フ
ィルム(保護板でもよい)で被覆している。これは、表
示パネルの表面に物体があたって破損することを防止す
ることが1つの目的である。保護フィルムの表面にはA
IRコートが形成されており、また、表面をエンボス加
工することにより表示パネルに外の状況(外光)が写り
込むことを抑制している。
In the television shown in FIG. 61, the surface of the screen is covered with a protective film (may be a protective plate). This is one purpose to prevent the surface of the display panel from being hit and damaged. A on the surface of the protective film
An IR coat is formed, and the surface is embossed to prevent external conditions (external light) from being reflected on the display panel.

【0785】保護フィルムと表示パネル間にビーズなど
を散布することにより、一定の空間が配置されるように
構成されている。また、保護フィルムの裏面に微細な凸
部を形成し、この凸部で表示パネルと保護フィルム間に
空間を保持させる。このように空間を保持することによ
り保護フィルムからの衝撃が表示パネルに伝達すること
を抑制する。
A certain space is arranged by dispersing beads or the like between the protective film and the display panel. Further, a fine convex portion is formed on the back surface of the protective film, and the convex portion holds a space between the display panel and the protective film. By holding the space in this way, it is possible to prevent the impact from the protective film from being transmitted to the display panel.

【0786】また、保護フィルムと表示パネル間にアル
コール、エチレングリコールなど液体あるいはゲル状の
アクリル樹脂あるいはエポキシなどの固体樹脂などの光
結合剤を配置または注入することも効果がある。界面反
射を防止できるとともに、前記光結合剤が緩衝材として
機能するからである。
Further, it is also effective to dispose or inject an optical binder such as alcohol or ethylene glycol liquid or gel acrylic resin or epoxy solid resin between the protective film and the display panel. This is because interface reflection can be prevented and the optical coupling agent functions as a buffer material.

【0787】保護フィルムをしては、ポリカーボネート
フィルム(板)、ポリプロピレンフィルム(板)、アク
リルフィルム(板)、ポリエステルフィルム(板)、P
VAフィルム(板)などが例示される。その他エンジニ
アリング樹脂フィルム(ABSなど)を用いることがで
きることは言うまでもない。また、強化ガラスなど無機
材料からなるものでもよい。保護フィルムを配置するか
わりに、表示パネルの表面をエポキシ樹脂、フェノール
樹脂、アクリル樹脂で0.5mm以上2.0mm以下の
厚みでコーティングすることも同様の効果がある。ま
た、これらの樹脂表面にエンボス加工などをすることも
有効である。
As a protective film, a polycarbonate film (board), a polypropylene film (board), an acrylic film (board), a polyester film (board), P
An example is a VA film (plate). It goes without saying that other engineering resin films (ABS, etc.) can be used. It may also be made of an inorganic material such as tempered glass. The same effect can be obtained by coating the surface of the display panel with an epoxy resin, a phenol resin, or an acrylic resin in a thickness of 0.5 mm or more and 2.0 mm or less, instead of disposing the protective film. It is also effective to emboss the surface of these resins.

【0788】また、保護フィルムあるいはコーティング
材料の表面をフッ素コートすることも効果がある。表面
についた汚れを洗剤などで容易にふき落とすことができ
るからである。また、保護フィルムを厚く形成し、フロ
ントライトと兼用してもよい。
It is also effective to coat the surface of the protective film or the coating material with fluorine. This is because stains on the surface can be easily wiped off with a detergent or the like. In addition, the protective film may be formed thick to serve also as the front light.

【0789】画面は4:3に限定されるものではなく、
ワイド表示ディスプレイでもよい。解像度は1280×
768ドット以上にすることが好ましい。ワイド型をす
ることにより、DVD映画やテレビ放送など、横長表示
のタイトルや番組をフルスクリーンで楽しむことができ
る。表示パネルの明るさは300cd/m2(カンデラ
/平方メートル)にすることが好ましい。さらに好まし
くは、表示パネルの明るさは500cd/m2(カンデ
ラ/平方メートル)にすることが好ましい。また、イン
ターネットや通常のパソコン作業に適した明るさ(20
0cd/m2)で表示できるように切り替えスイッチを
設置している。
The screen is not limited to 4: 3,
A wide display may be used. Resolution is 1280x
It is preferably 768 dots or more. With the wide type, you can enjoy full-screen titles and programs in landscape display such as DVD movies and TV broadcasts. The brightness of the display panel is preferably 300 cd / m 2 (candela / square meter). More preferably, the brightness of the display panel is preferably 500 cd / m 2 (candela / square meter). Also, the brightness (20
The changeover switch is installed so that it can be displayed at 0 cd / m 2 ).

【0790】したがって、使用者は表示内容あるいは使
用方法により、最適に画面の明るさにすることができ
る。さらに動画を表示しているウインドウだけを500
cd/m2にして、その他の部分は200cd/m2にす
る設定も用意している。テレビ番組をディスプレイの隅
に表示しておいて、メールをチェックするといった使い
方にも柔軟に対応する。 スピーカーはタワー型の形状
になり、前方向だけではなく、空間全体に音が広がるよ
うに設計されている。
Therefore, the user can set the brightness of the screen to the optimum depending on the display content or the usage method. Furthermore, only the window displaying the video is 500
in the cd / m 2, the other parts are also available settings to 200cd / m 2. It is flexible enough to display TV programs in the corner of the display and check mail. The speaker has a tower shape and is designed to spread the sound not only in the front direction but also in the entire space.

【0791】テレビ番組の再生、録画機能も使い勝手が
向上させている。iモードからの録画予約が簡単にでき
るようにしている。従来は新聞などのテレビ番組表で時
間、チャンネルを確認してから予約する必要があった
が、電子番組表をiモードで確認して予約できる。これ
なら、放送時間が分からなくて困ることもない。また、
録画番組の短縮再生もできるようにしている。ニュース
番組などのテロップや音声の有無で重要性を判断しなが
ら、不必要と判断した部分を飛ばして、番組の概要を短
時間で見ることができる(30分番組で1〜10分程
度)。
[0791] The functions of reproducing and recording TV programs are improved. It makes it easy to schedule recordings from i-mode. Conventionally, it was necessary to make a reservation after checking the time and channel on a TV program guide such as a newspaper, but it is possible to make a reservation by checking the electronic program guide in i-mode. This way, you don't have to worry about not knowing the broadcast time. Also,
It also allows short playback of recorded programs. While judging the importance of the presence or absence of telops and voices in news programs and the like, you can skip the parts that you have decided to be unnecessary and see the outline of the program in a short time (1 to 10 minutes for a 30-minute program).

【0792】テレビ録画ができるようにディスク容量が
40GB以上のハードディスクを積載している。 本体
のほかに電源と映像用入出力端子をまとめた拡張ボック
スで構成している。ビデオなどのAV機器の接続に使う
拡張ボックスには、パソコンとテレビのほかに2系統の
映像機器を接続できる。映像入力はBSデジタルチュー
ナー用のD1端子のほかにS端子入力も備え、接続する
機器に合わせて選択できる。ゲーム機などの接続に便利
なようにAV用の端子は前面に配置されている。
A hard disk having a disk capacity of 40 GB or more is mounted so that television recording can be performed. In addition to the main body, it is composed of an expansion box that combines the power supply and video input / output terminals. In addition to a personal computer and TV, two types of video equipment can be connected to the expansion box used to connect AV equipment such as video. In addition to the D1 terminal for the BS digital tuner, the video input also has an S terminal input, which can be selected according to the connected device. The terminals for AV are arranged on the front for convenient connection with game consoles.

【0793】また、表示画面を前屈30度以上、後屈1
20度以上とすることにより、90度/180/270
度に回転できるように構成することにより、操作環境に
あわせた自在な設置が可能となる。たとえば、90度回
転させてブラウザー画面を縦長に表示することができ
る。また、145度後屈させることによって対面に座っ
た人へ向かって画面を表示できる。
[0793] Also, the display screen is bent forward 30 degrees or more and backward bent 1
90 degrees / 180/270 by setting it to 20 degrees or more
By being configured so that it can be rotated once, it can be installed freely according to the operating environment. For example, the browser screen can be displayed vertically by rotating it 90 degrees. In addition, the screen can be displayed toward the person who sits face-to-face by bending backward by 145 degrees.

【0794】以上の保護フィルム、筐体、構成、特性、
機能などに関する事項は本発明の他の表示装置あるいは
情報表示装置などにも適用されることは言うまでもな
い。
The above protective film, housing, configuration, characteristics,
It goes without saying that matters relating to functions and the like also apply to other display devices or information display devices of the present invention.

【0795】以上の実施例では、EL素子15はR、
G、Bであるとしたが、これに限定するものではない。
たとえば、シアン、イエロー、マゼンダでもよいし、任
意の2色でもよい。R、G、B、シアン、イエロー、マ
ゼンダの6色あるいは任意の4色以上であってもよい。
また、白単色であってもよいし、白単色光をカラーフィ
ルターでRGBにしたのもでもよい。また、有機EL素
子に限定するものではなく、無機EL素子であってもよ
い。
In the above embodiments, the EL element 15 is R,
Although G and B have been described, the present invention is not limited to this.
For example, cyan, yellow, magenta, or any two colors may be used. Six colors of R, G, B, cyan, yellow, and magenta, or any four or more colors may be used.
Further, it may be a single white color, or white monochromatic light may be converted into RGB by a color filter. Further, it is not limited to the organic EL element, and may be an inorganic EL element.

【0796】なお、本発明の実施例では、アクティブマ
トリックス型表示パネルを例示して説明したがこれに限
定するものではない。ソースドライバIC14などから
は所定電流のN倍電流をソース信号線18に印加(から
吸収)する。また、複数の画素行を同時に選択する。そ
して、所定の期間の間だけ、EL素子に電流を流し、他
の期間は電流を流さない、という概念は、単純マトリッ
クス型表示パネルにも適用できるものである。
The embodiment of the present invention has been described by exemplifying the active matrix type display panel, but the present invention is not limited to this. From the source driver IC 14 or the like, N times the predetermined current is applied to (source of) the source signal line 18. In addition, a plurality of pixel rows are simultaneously selected. The concept that a current is passed through the EL element only during a predetermined period and no current is passed during other periods can be applied to a simple matrix display panel.

【0797】また、EL素子15は点灯初期に特性変化
が大きい。そのため、焼きツキなどが発生しやすい。こ
の対策のため、パネル形成後、20時間以上150時間
以内の間、白ラスター表示でエージングを行った後に、
商品として出荷することが好ましい。このエージングで
は所定表示輝度よりも2−10倍程度の明るさで表示さ
せることが好ましい。
The EL element 15 has a large characteristic change in the initial stage of lighting. Therefore, burning and the like are likely to occur. For this measure, after aging with white raster display for 20 hours to 150 hours after panel formation,
It is preferable to ship as a product. In this aging, it is preferable to display with a brightness which is about 2-10 times higher than the predetermined display brightness.

【0798】本発明の実施例における表示パネルは、3
辺フリーの構成と組み合わせることも有効であることは
いうまでもない。特に3辺フリーの構成は画素がアモル
ファスシリコン技術を用いて作製されているときに有効
である。また、アモルファスシリコン技術で形成された
パネルでは、トランジスタ素子の特性バラツキのプロセ
ス制御が不可能のため、本発明のN倍パルス駆動、リセ
ット駆動、ダミー画素駆動などを実施することが好まし
い。つまり、本発明におけるトランジスタなどは、ポリ
シリコン技術によるものに限定するものではなく、アモ
ルファスシリコンによるものであってもよい。
The display panel in the embodiment of the present invention is 3
It goes without saying that combining with the edge-free configuration is also effective. In particular, the three-side free structure is effective when the pixel is manufactured by using the amorphous silicon technology. Further, in a panel formed by the amorphous silicon technology, it is not possible to perform process control of the characteristic variation of the transistor element, so it is preferable to carry out the N-fold pulse driving, reset driving, dummy pixel driving, etc. of the present invention. That is, the transistors and the like in the present invention are not limited to those based on polysilicon technology, and may be based on amorphous silicon.

【0799】なお、本発明のN倍パルス駆動(図13、
図16、図19、図20、図22、図24、図30な
ど)などは、低温ポリシリコン技術でトランジスタ11
を形成して表示パネルよりも、アモルファスシリコン技
術でトランジスタ11を形成した表示パネルに有効であ
る。アモルファスシリコンのトランジスタ11では、隣
接したトランジスタの特性がほぼ一致しているからであ
る。したがって、加算した電流で駆動しても個々のトラ
ンジスタの駆動電流はほぼ目標値となっている(特に、
図22、図24、図30のN倍パルス駆動はアモルファ
スシリコンで形成したトランジスタの画素構成において
有効である)。
The N-fold pulse driving of the present invention (see FIG. 13,
16, FIG. 19, FIG. 20, FIG. 22, FIG. 24, FIG.
Is more effective for a display panel in which the transistor 11 is formed by the amorphous silicon technique than in the case where the transistor 11 is formed. This is because in the amorphous silicon transistor 11, the characteristics of adjacent transistors are substantially the same. Therefore, the drive current of each transistor is almost the target value even if it is driven by the added current (especially,
The N-fold pulse driving of FIGS. 22, 24, and 30 is effective in the pixel configuration of the transistor formed of amorphous silicon).

【0800】本明細書で説明した画素構成、あるいは駆
動方法は、などの画素構成あるいはアレイ構成などはE
L表示パネルにのみ限定されるものではない。たとえ
ば、液晶表示パネルにも適用することができる。その際
は、EL素子15を液晶層、PLZT、LEDなどの光
変調層に置き換えればよい。たとえば、液晶の場合は、
TN(Twisted Nematic)、IPS(I
n−Plane Switching)、FLC(Fe
rroelectric Liquid Crysta
l)、OCB(OpticallyCompensat
ory Bend)、STN(Supper Twis
ted Nematic)、VA(Verticall
y Aligned)、ECB(Electrical
ly Controlled Birefringen
ce )およびHAN(Hybrid Aligned
Nematic)モード、DSMモード(動的散乱モ
ード)などである。特に、DSMは印加する電流により
光変調できるので、本発明とはマッチングがよい。
The pixel configuration or the driving method described in this specification is such that
The display panel is not limited to the L display panel. For example, it can be applied to a liquid crystal display panel. In that case, the EL element 15 may be replaced with a liquid crystal layer or a light modulation layer such as PLZT or LED. For example, in the case of liquid crystal,
TN (Twisted Nematic), IPS (I
n-Plane Switching), FLC (Fe
rroelectric Liquid Crystal
l), OCB (Optically Compensat)
ory Bend), STN (Super Twis)
ted Nematic), VA (Vertical all)
y Aligned), ECB (Electrical)
ly Controlled Birefringen
ce) and HAN (Hybrid Aligned)
Nematic mode, DSM mode (dynamic scattering mode), and the like. In particular, the DSM can be optically modulated by the applied current, so that it is well matched with the present invention.

【0801】本発明の実施例で説明した技術的思想はビ
デオカメラ、プロジェクター、立体テレビ、プロジェク
ションテレビなどに適用できる。また、ビューファイン
ダ、携帯電話のモニター、PHS、携帯情報端末および
そのモニター、デジタルカメラおよびそのモニターにも
適用できる。
The technical idea described in the embodiments of the present invention can be applied to video cameras, projectors, stereoscopic televisions, projection televisions, and the like. Further, it is also applicable to a viewfinder, a mobile phone monitor, a PHS, a personal digital assistant and its monitor, a digital camera and its monitor.

【0802】また、電子写真システム、ヘッドマウント
ディスプレイ、直視モニターディスプレイ、ノートパー
ソナルコンピュータ、ビデオカメラ、電子スチルカメラ
にも適用できる。また、現金自動引き出し機のモニタ
ー、公衆電話、テレビ電話、パーソナルコンピュータ、
腕時計およびその表示装置にも適用できる。
Also, the present invention can be applied to an electrophotographic system, head mounted display, direct view monitor display, notebook personal computer, video camera, electronic still camera. Also, monitors of cash drawers, payphones, videophones, personal computers,
It can also be applied to a wristwatch and its display device.

【0803】さらに、家庭電器機器の表示モニター、ポ
ケットゲーム機器およびそのモニター、表示パネル用バ
ックライトあるいは家庭用もしくは業務用の照明装置な
どにも適用あるいは応用展開できることは言うまでもな
い。照明装置は色温度を可変できるように構成すること
が好ましい。これは、RGBの画素をストライプ状ある
いはドットマトリックス状に形成し、これらに流す電流
を調整することにより色温度を変更できる。また、広告
あるいはポスターなどの表示装置、RGBの信号器、警
報表示灯などにも応用できる。
Further, it is needless to say that the present invention can be applied or expanded to a display monitor of home electric appliances, a pocket game machine and its monitor, a backlight for a display panel or a lighting device for home or business use. It is preferable that the lighting device is configured so that the color temperature can be changed. In this, the color temperature can be changed by forming RGB pixels in a stripe shape or a dot matrix shape and adjusting the current flowing through these. Further, the present invention can be applied to display devices for advertisements or posters, RGB traffic lights, alarm indicators, etc.

【0804】また、スキャナの光源としても有機EL表
示パネルは有効である。RGBのドットマトリックスを
光源として、対象物に光を照射し、画像を読み取る。も
ちろん、単色でもよいことは言うまでもない。また、ア
クティブマトリックスに限定するものではなく、単純マ
トリックスでもよい。色温度を調整できるようにすれば
画像読み取り精度も向上する。
The organic EL display panel is also effective as the light source of the scanner. The object is irradiated with light using the RGB dot matrix as a light source to read an image. Of course, it is needless to say that it may be a single color. Further, the matrix is not limited to the active matrix, and a simple matrix may be used. If the color temperature can be adjusted, the image reading accuracy will be improved.

【0805】また、液晶表示装置のバックライトにも有
機EL表示装置は有効である。EL表示装置(バックラ
イト)のRGBの画素をストライプ状あるいはドットマ
トリックス状に形成し、これらに流す電流を調整するこ
とにより色温度を変更でき、また、明るさの調整も容易
である。その上、面光源であるから、画面の中央部を明
るく、周辺部を暗くするガウス分布を容易に構成でき
る。また、R、G、B光を交互に走査する、フィールド
シーケンシャル方式の液晶表示パネルのバックライトと
しても有効である。また、バックライトを点滅しても黒
挿入することにより動画表示用などの液晶表示パネルの
バックライトとしても用いることができる。
The organic EL display device is also effective as a backlight of a liquid crystal display device. It is possible to change the color temperature and easily adjust the brightness by forming the RGB pixels of the EL display device (backlight) in a stripe shape or a dot matrix shape and adjusting the current flowing through them. In addition, since it is a surface light source, a Gaussian distribution that brightens the central part of the screen and darkens the peripheral part can be easily configured. It is also effective as a backlight for a field-sequential liquid crystal display panel that alternately scans R, G, and B lights. Also, by inserting black even if the backlight blinks, it can be used as a backlight of a liquid crystal display panel for displaying moving images.

【0806】本発明のソースドライバ回路は、スタート
パルスが通過してないとき、シフトレジスタは動作を停
止し、またブランキング期間ではシフトクロックが動作
を停止するので低消費電力を実現できる。また、スター
トパルス入力後、1原振クロック遅れで表示データを入
力できるので、ブランキング期間を短く設定でき、フリ
ッカ等の発生が抑制されて高品位表示を実現することが
できる。
In the source driver circuit of the present invention, the shift register stops operating when the start pulse has not passed and the shift clock stops operating during the blanking period, so that low power consumption can be realized. Further, since the display data can be input with a delay of one original oscillation clock after the input of the start pulse, the blanking period can be set short, flicker and the like can be suppressed, and high quality display can be realized.

【0807】[0807]

【発明の効果】本発明の表示パネル、表示装置等は、高
画質、良好な動画表示性能、低消費電力、低コスト化、
高輝度化等のそれぞれの構成に応じて特徴ある効果を発
揮する。
EFFECTS OF THE INVENTION The display panel, display device, and the like of the present invention have high image quality, good moving image display performance, low power consumption, and low cost.
A characteristic effect is exhibited according to each structure such as high brightness.

【0808】なお、本発明を用いれば、低消費電力の情
報表示装置などを構成できるので、電力を消費しない。
また、小型軽量化できるので、資源を消費しない。ま
た、高精細の表示パネルであっても十分に対応できる。
したがって、地球環境、宇宙環境に優しいこととなる。
By using the present invention, a low power consumption information display device or the like can be formed, so that power consumption is not performed.
In addition, since the size and weight can be reduced, resources are not consumed. Further, even a high-definition display panel can be sufficiently dealt with.
Therefore, it is friendly to the global environment and space environment.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の表示パネルの画素構成図である。FIG. 1 is a pixel configuration diagram of a display panel of the present invention.

【図2】 本発明の表示パネルの画素構成図である。FIG. 2 is a pixel configuration diagram of a display panel of the present invention.

【図3】 本発明の表示パネルの動作の説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of the operation of the display panel of the present invention.

【図4】 本発明の表示パネルの動作の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of the operation of the display panel of the present invention.

【図5】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 5 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図6】 本発明の表示装置の構成図である。FIG. 6 is a configuration diagram of a display device of the present invention.

【図7】 本発明の表示パネルの製造方法の説明図であ
る。
FIG. 7 is an explanatory view of the method for manufacturing the display panel of the present invention.

【図8】 本発明の表示装置の構成図である。FIG. 8 is a configuration diagram of a display device of the present invention.

【図9】 本発明の表示装置の構成図である。FIG. 9 is a configuration diagram of a display device of the present invention.

【図10】 本発明の表示パネルの断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of a display panel of the present invention.

【図11】 本発明の表示パネルの断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view of a display panel of the present invention.

【図12】 本発明の表示パネルの説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図13】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 13 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図14】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 14 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図15】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 15 is an explanatory diagram of a driving method of a display device of the present invention.

【図16】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 16 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図17】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 17 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図18】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 18 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図19】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 19 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図20】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 20 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図21】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る 。
FIG. 21 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図22】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 22 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図23】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 23 is an explanatory diagram of a driving method of a display device of the present invention.

【図24】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 24 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図25】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 25 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図26】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 26 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図27】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 27 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図28】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 28 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図29】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 29 is an explanatory diagram of a driving method of a display device of the present invention.

【図30】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 30 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図31】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 31 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図32】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 32 is an explanatory diagram of a driving method of a display device of the present invention.

【図33】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 33 is an explanatory diagram of a driving method of a display device of the present invention.

【図34】 本発明の表示装置の構成図である。FIG. 34 is a configuration diagram of a display device of the present invention.

【図35】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 35 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図36】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 36 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図37】 本発明の表示装置の構成図である。FIG. 37 is a configuration diagram of a display device of the present invention.

【図38】 本発明の表示装置の構成図である。FIG. 38 is a configuration diagram of a display device of the present invention.

【図39】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 39 is an explanatory diagram of a driving method of a display device of the present invention.

【図40】 本発明の表示装置の構成図である。FIG. 40 is a configuration diagram of a display device of the present invention.

【図41】 本発明の表示装置の構成図である。FIG. 41 is a configuration diagram of a display device of the present invention.

【図42】 本発明の表示パネルの画素構成図である。FIG. 42 is a pixel configuration diagram of a display panel of the present invention.

【図43】 本発明の表示パネルの画素構成図である。FIG. 43 is a pixel configuration diagram of a display panel of the present invention.

【図44】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 44 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図45】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 45 is an explanatory diagram of a driving method of a display device of the present invention.

【図46】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 46 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図47】 本発明の表示パネルの画素構成図である。FIG. 47 is a pixel configuration diagram of a display panel of the present invention.

【図48】 本発明の表示装置の構成図である。FIG. 48 is a configuration diagram of a display device of the present invention.

【図49】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 49 is an explanatory diagram of a driving method of a display device of the present invention.

【図50】 本発明の表示パネルの画素構成図である。FIG. 50 is a pixel configuration diagram of a display panel of the present invention.

【図51】 本発明の表示パネルの画素図である。FIG. 51 is a pixel diagram of a display panel of the present invention.

【図52】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 52 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図53】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 53 is an explanatory diagram of a driving method of a display device of the present invention.

【図54】 本発明の表示パネルの画素構成図である。FIG. 54 is a pixel configuration diagram of a display panel of the present invention.

【図55】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 55 is an explanatory diagram of a driving method of a display device of the present invention.

【図56】 本発明の表示装置の駆動方法の説明図であ
る。
FIG. 56 is an explanatory diagram of a driving method of the display device of the present invention.

【図57】 本発明の携帯電話の説明図である。FIG. 57 is an explanatory diagram of a mobile phone according to the present invention.

【図58】 本発明のビューファインダの説明図であ
る。
FIG. 58 is an explanatory diagram of a viewfinder of the present invention.

【図59】 本発明のビデオカメラの説明図である。FIG. 59 is an explanatory diagram of a video camera of the present invention.

【図60】 本発明のデジタルカメラの説明図である。FIG. 60 is an explanatory diagram of a digital camera of the present invention.

【図61】 本発明のテレビ(モニター)の説明図であ
る。
FIG. 61 is an explanatory diagram of a television (monitor) according to the present invention.

【図62】 従来の表示パネルの画素構成図である。FIG. 62 is a pixel configuration diagram of a conventional display panel.

【図63】 本発明のドライバー回路の機能ブロック図
である。
FIG. 63 is a functional block diagram of a driver circuit of the present invention.

【図64】 本発明のドライバー回路の説明図である。FIG. 64 is an explanatory diagram of a driver circuit of the present invention.

【図65】 本発明のドライバー回路の説明図であるFIG. 65 is an explanatory diagram of a driver circuit of the present invention.

【図66】 電圧受け渡し方式の多段式カレントミラー
回路の説明図である。
FIG. 66 is an explanatory diagram of a voltage transfer multistage current mirror circuit.

【図67】 電流受け渡し方式の多段式カレントミラー
回路の説明図である。
FIG. 67 is an explanatory diagram of a current transfer multistage current mirror circuit.

【図68】 本発明の他の実施例におけるドライバー回
路の説明図である。
FIG. 68 is an explanatory diagram of a driver circuit according to another embodiment of the present invention.

【図69】 本発明の他の実施例におけるドライバー回
路の説明図である。
FIG. 69 is an explanatory diagram of a driver circuit according to another embodiment of the present invention.

【図70】 本発明の他に実施例におけるドライバー回
路の説明図である。
FIG. 70 is an explanatory diagram of a driver circuit according to another embodiment of the present invention.

【図71】 本発明の他の実施例におけるドライバー回
路の説明図である。
FIG. 71 is an explanatory diagram of a driver circuit according to another embodiment of the present invention.

【図72】 従来のドライバー回路の説明図である。FIG. 72 is an explanatory diagram of a conventional driver circuit.

【図73】 本発明のドライバー回路の説明図である。FIG. 73 is an explanatory diagram of a driver circuit according to the present invention.

【図74】 本発明のドライバー回路の説明図である。FIG. 74 is an explanatory diagram of a driver circuit of the present invention.

【図75】 本発明のドライバー回路の説明図である。FIG. 75 is an explanatory diagram of a driver circuit of the present invention.

【図76】 本発明のドライバー回路の説明図である。FIG. 76 is an explanatory diagram of a driver circuit of the present invention.

【図77】 本発明のドライバー回路の制御方法の説明
図である。
FIG. 77 is an explanatory diagram of a control method of a driver circuit of the present invention.

【図78】 本発明のドライバー回路の説明図である。FIG. 78 is an explanatory diagram of a driver circuit according to the present invention.

【図79】 本発明のドライバー回路の説明図である。FIG. 79 is an explanatory diagram of a driver circuit of the present invention.

【図80】 本発明のドライバー回路の説明図である。FIG. 80 is an explanatory diagram of a driver circuit of the present invention.

【図81】 本発明のドライバー回路の説明図である。FIG. 81 is an explanatory diagram of a driver circuit of the present invention.

【図82】 本発明のドライバー回路の説明図である。FIG. 82 is an explanatory diagram of a driver circuit of the present invention.

【図83】 本発明のドライバー回路の説明図である。FIG. 83 is an explanatory diagram of a driver circuit according to the present invention.

【図84】 本発明のドライバー回路の説明図である。FIG. 84 is an explanatory diagram of a driver circuit of the present invention.

【図85】 本発明のドライバー回路の説明図である。FIG. 85 is an explanatory diagram of a driver circuit of the present invention.

【図86】 本発明のドライバー回路の説明図である。FIG. 86 is an explanatory diagram of a driver circuit of the present invention.

【図87】 本発明のドライバー回路の説明図である。FIG. 87 is an explanatory diagram of a driver circuit of the present invention.

【図88】 本発明の駆動方法の説明図である。FIG. 88 is an explanatory diagram of a driving method of the present invention.

【図89】 本発明のドライバー回路の説明図である。FIG. 89 is an explanatory diagram of a driver circuit of the present invention.

【図90】 本発明の駆動方法の説明図である。FIG. 90 is an explanatory diagram of a driving method of the present invention.

【図91】 本発明のEL表示装置の構成図である。FIG. 91 is a configuration diagram of an EL display device of the present invention.

【図92】 本発明のEL表示装置の構成図である。FIG. 92 is a configuration diagram of an EL display device of the present invention.

【図93】 本発明のドライバー回路の説明図である。FIG. 93 is an explanatory diagram of a driver circuit of the present invention.

【図94】 本発明のドライバー回路の説明図である。FIG. 94 is an explanatory diagram of a driver circuit of the present invention.

【図95】 本発明のシフトレジスタの回路図である。FIG. 95 is a circuit diagram of a shift register of the present invention.

【図96】 本発明のシフトレジスタのタイミングチャ
ート図である。
96 is a timing chart of the shift register of the present invention. FIG.

【図97】 本発明のシフトレジスタのタイミングチャ
ート図である。
97 is a timing chart of the shift register of the invention. FIG.

【図98】 本発明のクロック停止回路のタイミングチ
ャート図である。
98 is a timing chart of the clock stop circuit according to the present invention. FIG.

【図99】 本発明の制御信号の生成回路の構成図であ
る。
FIG. 99 is a configuration diagram of a control signal generation circuit of the present invention.

【図100】 本発明のシフトレジスタ部のタイミング
チャート図である。
100 is a timing chart of the shift register section of the present invention. FIG.

【図101】 本発明のシフトレジスタの構成図であ
る。
101 is a configuration diagram of a shift register of the present invention. FIG.

【図102】 従来の信号線駆動用ドライバーICの説
明図である。
FIG. 102 is an explanatory diagram of a conventional signal line driver driver IC.

【図103】 従来のシフトレジスタ回路の説明図であ
る。
103 is an explanatory diagram of a conventional shift register circuit. FIG.

【図104】 従来のシフトレジスタ回路のタイミング
チャート図である。
FIG. 104 is a timing chart of a conventional shift register circuit.

【図105】 本発明のドライバー回路の説明図であ
る。
FIG. 105 is an explanatory diagram of a driver circuit according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 TFT(薄膜トランジスタ) 12 ゲートドライバIC(回路) 14 ソースドライバIC(回路) 15 EL(素子)(発光素子) 16 画素 17 ゲート信号線 18 ソース信号線 19 蓄積容量(付加コンデンサ、付加容量) 50 表示画面 51 書き込み画素(行) 52 非表示画素(非表示領域、非点灯領域) 53 表示画素(表示領域、点灯領域) 61 シフトレジスタ 62 インバータ 63 出力バッファ 71 アレイ基板(表示パネル) 72 レーザー照射範囲(レーザースポット) 73 位置決めマーカー 74 ガラス基板(アレイ基板) 81 コントロールIC(回路) 82 電源IC(回路) 83 プリント基板 84 フレキシブル基板 85 封止フタ 86 カソード配線 87 アノード配線(Vdd) 88 データ信号線 89 ゲート制御信号線 101 土手(リブ) 102 層間絶縁膜 104 コンタクト接続部 105 画素電極 106 カソード電極 107 乾燥剤 108 λ/4板 109 偏光板 111 薄膜封止膜 281 ダミー画素(行) 341 出力段回路 371 OR回路 401 点灯制御線 471 逆バイアス線 472 ゲート電位制御線 561 電子ボリウム回路 562 TFTのSD(ソース−ドレイン)ショート 571 アンテナ 572 キー 573 筐体 574 表示パネル 581 接眼リング 582 拡大レンズ 583 凸レンズ 591 支点(回転部) 592 撮影レンズ 593 格納部 594 スイッチ 601 本体 602 撮影部 603 シャッタスイッチ 611 取り付け枠 612 脚613 取り付け台 614 固定部 631 電流源 632 電流源 633 電流源 641 スイッチ(オンオフ手段) 634 電流源(1単位) 643 内部配線 651 ボリウム(電流調整手段) 681 トランジスタ群 691 抵抗(電流制限手段、所定電圧発生手段) 692 デコーダ回路 693 レベルシフタ回路 701 カウンタ(計数手段) 702 NOR 703 AND 704 電流出力回路 711 嵩上げ回路 721 D/A変換器 722 オペアンプ 731 アナログスイッチ(オンオフ手段) 732 インバータ 761 出力パッド(出力信号端子) 771 基準電流源 772 電流制御回路 781 温度検出回路 782 温度制御回路 931 カスケード電流接続線 932 基準電流信号線 941i 電流入力端子 941o 電流出力端子 951 ベースアノード線(アノード電圧線) 952 アノード配線 953 接続端子 961 接続アノード線 962 共通アノード線 971 コンタクトホール 991 ベースカソード線 992 入力信号線 1001 接続樹脂(導電性樹脂、異方向性導電樹脂) 1011 光吸収膜 1012 樹脂ビーズ 1013 封止樹脂 1021 回路形成部 1051 ゲート電圧線 1091 電源回路(IC) 1092 電源IC制御信号 1093 ゲートドライバ回路制御信号 11 TFT (thin film transistor) 12 Gate driver IC (circuit) 14 Source driver IC (circuit) 15 EL (element) (light emitting element) 16 pixels 17 Gate signal line 18 Source signal line 19 Storage capacity (additional capacitor, addition capacity) 50 display screen 51 write pixels (row) 52 Non-display pixel (non-display area, non-lighting area) 53 display pixels (display area, lighting area) 61 shift register 62 inverter 63 output buffer 71 Array substrate (display panel) 72 Laser irradiation range (laser spot) 73 Positioning marker 74 Glass substrate (array substrate) 81 Control IC (circuit) 82 Power supply IC (circuit) 83 Printed circuit board 84 Flexible substrate 85 sealing lid 86 cathode wiring 87 Anode wiring (Vdd) 88 data signal line 89 Gate control signal line 101 Bank (rib) 102 interlayer insulating film 104 contact connection part 105 pixel electrode 106 cathode electrode 107 desiccant 108 λ / 4 plate 109 Polarizer 111 Thin film sealing film 281 dummy pixels (row) 341 output stage circuit 371 OR circuit 401 lighting control line 471 reverse bias line 472 gate potential control line 561 Electronic volume circuit 562 TFT SD (source-drain) short circuit 571 antenna 572 key 573 housing 574 display panel 581 eyepiece ring 582 magnifying lens 583 convex lens 591 Support point (rotating part) 592 shooting lens 593 Storage 594 switch 601 body 602 shooting section 603 shutter switch 611 mounting frame 612 leg 613 mounting base 614 Fixed part 631 current source 632 current source 633 current source 641 switch (on / off means) 634 Current source (1 unit) 643 internal wiring 651 volume (current adjusting means) 681 transistor group 691 resistance (current limiting means, predetermined voltage generating means) 692 decoder circuit 693 level shifter circuit 701 counter (counting means) 702 NOR 703 AND 704 Current output circuit 711 padding circuit 721 D / A converter 722 operational amplifier 731 Analog switch (on / off means) 732 Inverter 761 Output pad (output signal terminal) 771 Reference current source 772 Current control circuit 781 Temperature detection circuit 782 Temperature control circuit 931 Cascade current connection line 932 Reference current signal line 941i current input terminal 941o current output terminal 951 Base anode line (anode voltage line) 952 Anode wiring 953 connection terminal 961 connection anode wire 962 common anode line 971 contact hole 991 Base cathode line 992 Input signal line 1001 Connection resin (conductive resin, anisotropic conductive resin) 1011 light absorption film 1012 resin beads 1013 sealing resin 1021 circuit forming unit 1051 Gate voltage line 1091 power supply circuit (IC) 1092 Power supply IC control signal 1093 Gate driver circuit control signal

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09G 3/20 642 G09G 3/20 642A G11C 19/00 G11C 19/00 J H05B 33/14 H05B 33/14 A (72)発明者 柘植 仁志 東京都港区港南四丁目1番8号 東芝松下 ディスプレイテクノロジー株式会社内 Fターム(参考) 3K007 AB00 AB02 AB17 AB18 BA06 BB07 DB03 GA04 5C080 AA06 BB05 DD05 FF11 JJ02 JJ03 JJ04 JJ05 JJ06 KK43 KK47 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G09G 3/20 642 G09G 3/20 642A G11C 19/00 G11C 19/00 J H05B 33/14 H05B 33/14 A (72) Inventor Hitoshi Tsuge 4-8 Konan, Minato-ku, Tokyo F-term within Toshiba Matsushita Display Technology Co., Ltd. (reference) 3K007 AB00 AB02 AB17 AB18 BA06 BB07 DB03 GA04 5C080 AA06 BB05 DD05 FF11 JJ02 JJ03 JJ04 JJ05 JJ06 KK43 KK47

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ソース信号線を駆動するドライバー回路
であって、 原振クロックの立ち上がりで表示データをラッチするラ
ッチ回路と、 クロック停止付きシフトレジスタを具備し、 第1段のシフトレジスタのシフトレジスタ出力と、前記
原振クロックの2クロック分の長さに調整されたスター
トパルスを出力する回路を具備するドライバー回路。
1. A driver circuit for driving a source signal line, comprising: a latch circuit for latching display data at a rising edge of an original clock; and a shift register with a clock stop, the shift register being a first-stage shift register. A driver circuit comprising an output and a circuit for outputting a start pulse adjusted to a length of two clocks of the original clock.
【請求項2】 自段のシフトレジスタの正転出力信号と
後段シフトレジスタの反転出力信号との論理積をシフト
レジスタの出力信号とする請求項1記載のドライバー回
路。
2. The driver circuit according to claim 1, wherein a logical product of a normal output signal of the shift register of its own stage and an inverted output signal of the latter shift register is used as an output signal of the shift register.
【請求項3】 最終段のシフトレジスタの後段にダミー
のシフトレジスタを具備する請求項1記載のドライバー
回路。
3. The driver circuit according to claim 1, further comprising a dummy shift register at a stage subsequent to the shift register at the final stage.
【請求項4】 シフトレジスタの正転出力信号と、自段
のシフトレジスタの正転出力信号の論理和により、自段
のシフトレジスタのクロック信号の入力を遮断する請求
項1記載のドライバー回路。
4. The driver circuit according to claim 1, wherein the input of the clock signal of the shift register of the self stage is interrupted by the logical sum of the normal output signal of the shift register and the normal output signal of the shift register of the self stage.
【請求項5】 原振クロックの1クロック長のリセット
信号を発生するリセット回路において、 入力されたスタートパルスを原振クロックの立ち上がり
で保持する第1のD型フリップフロップの正転出力と、
前記正転出力を原振クロックの立ち上がりで保持する第
2のD型フリップフロップの反転出力との反転論理積で
構成される請求項1記載のドライバー回路。
5. A normal output of a first D-type flip-flop that holds an input start pulse at the rising edge of the original clock in a reset circuit that generates a reset signal of one clock length of the original clock,
2. The driver circuit according to claim 1, wherein the driver circuit is configured by an inverted logical product with an inverted output of a second D-type flip-flop that holds the normal output at the rising edge of the original clock.
【請求項6】 原振クロックを前記原振クロックの立下
りで分周する第3のD型のフリップフロップと、前記原
振クロックの1クロック長のリセット信号により生成さ
れる請求項1記載のドライバー回路。
6. A third D-type flip-flop that divides an original clock by a falling edge of the original clock, and a reset signal having one clock length of the original clock. Driver circuit.
【請求項7】 原振クロックの1クロック長のリセット
信号の反転信号と、その反転信号を原振クロックの立ち
上がりで保持する第4のD型フリップフロップの正転出
力との論理和で構成される請求項1記載のドライバー回
路。
7. A logical sum of an inversion signal of a reset signal having a length of one clock of the original clock and a non-inverted output of a fourth D flip-flop which holds the inverted signal at the rising edge of the original clock. The driver circuit according to claim 1, further comprising:
【請求項8】 シフトクロックをブランキング期間の
間、停止することを特徴とする請求項7記載のドライバ
ー回路。
8. The driver circuit according to claim 7, wherein the shift clock is stopped during the blanking period.
【請求項9】 ブランキング期間の間、シフトクロック
を停止させる手段として、最終段のシフトレジスタの出
力信号を原振クロックの立ち上がりで保持する第5のD
型フリップフロップの正転出力により、前記第1のD型
フリップフロップの分周動作を停止させ、またリセット
信号により前記第5のD型フリップフロップをリセット
することにより、前記第1のD型フリップフロップの分
周動作を開始させる請求項7記載のドライバー回路。
9. A fifth D which holds the output signal of the shift register at the final stage at the rising edge of the original clock as means for stopping the shift clock during the blanking period.
Of the first D-type flip-flop by stopping the frequency dividing operation of the first D-type flip-flop by the normal output of the first D-type flip-flop and resetting the fifth D-type flip-flop by the reset signal. 8. The driver circuit according to claim 7, which starts the frequency dividing operation of the driver.
【請求項10】 請求項1から9記載のいずれかに記載
のドライバー回路と、マトリックス状に配置されたEL
素子とを具備するEL表示装置。
10. The driver circuit according to claim 1, and ELs arranged in a matrix.
An EL display device including an element.
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