JP2003307860A - 電子写真感光体、これを搭載した画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】表面硬度が高く、耐摩耗性が高く、繰り返し時
の電子写真特性が高温高湿下でも安定な、従って、良好
な画像が繰り返し使用に於いても得られる電子写真感光
体を提供する。 【解決手段】導電性支持体上に感光層を設けた電子写真
感光体において、該感光層のバインダー樹脂が少なくと
も下記一般式（１）で表される共重合樹脂を含有するこ
とを特徴とする電子写真感光体。 （式中、Ｒ¹、Ｒ⁵、Ｒ⁷、Ｒ³⁰、Ｒ³²は水素またはメチ
ル基、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は炭素数１〜４のアルキル基、ま
たは炭素数１〜４のアルコキシ基を表し、アルコキシ基
は一つ以上、三つ以下置換されていてもよい。Ｒ⁶、
Ｒ⁸、Ｒ³¹は水素、炭素数１〜４のアルキル基もしくは
アリール基を表し、Ｒ³³はポリシロキサン置換アルキル
基を表す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電子写真感光体、該
電子写真感光体を有する電子写真装置及びプロセスカー
トリッジに関し、詳しくは、感光層におけるバインダー
樹脂を硬化させた電子写真感光体、該電子写真感光体を
有する電子写真装置及び電子写真装置用プロセスカート
リッジに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、電子写真感光体は有機光導電性物
質を含有する有機感光体が最も広く用いられている。有
機感光体は可視光から赤外光まで各種露光光源に対応し
た材料が開発し易いこと、環境汚染のない材料を選択で
きること、製造コストが安いこと等が他の無機光導電性
物質を含有する感光体（無機電子写真感光体）に対して
有利な点であるが、唯一の欠点は機械的強度が弱く、多
数枚の複写やプリント時に感光体表面の劣化や傷の発生
がしやすいことである。

【０００３】電子写真感光体の表面には、帯電器、現像
器、転写手段、及びクリーニングブラシ・ブレード等に
より、電気的、機械的な外力が直接加えられるため、そ
れらに対する耐久性が要求される。具体的には、摺擦に
よる感光体表面の摩耗や傷の発生、コロナ帯電時に発生
するオゾンや活性酸素、放電による耐アーク性等による
感光体表面の劣化等に対する耐久性が要求される。

【０００４】上記のような感光体表面に要求される様々
な特性を満たすため、これまで種々のことが検討されて
きた。例えば、有機感光体の表面層にＢＰＺポリカーボ
ネートをバインダー樹脂として用いることにより、表面
層の摩耗特性、トナーフィルミング特性が改善されるこ
とが知られている。また、特開平６−１１８６８１号公
報では感光体の表面保護層として、コロイダルシリカ含
有硬化性シリコーン樹脂を用いることが報告されてい
る。しかし、ＢＰＺポリカーボネートバインダーを用い
た有機感光体では、なお耐摩耗特性が不足しており、十
分な耐久性を有していない。一方、コロイダルシリカ含
有硬化性シリコーン樹脂の表面層では耐摩耗特性は改善
されるが、繰り返し使用時の電子写真特性が不十分であ
り、カブリや画像ボケが発生しやすく、やはりこれも耐
久性が不十分である。

【０００５】この様な欠点を改善する方法として、特開
平９−１２４９４３号公報や特開平９−１９０００４号
公報では、有機ケイ素変性正孔輸送性化合物を硬化性有
機ケイ素系高分子中に結合させた樹脂層を、表面層とし
て有する感光体を提案している。しかし、この樹脂層は
高湿環境下でカブリや画像ボケが発生しやすく十分な耐
久性を有していない。また特開２０００−１７１９９０
号公報では水酸基をもつ電荷輸送材とシランカップリン
グ剤とを反応させて得られた硬化膜で保護層を設けてい
るが、未反応シラノールが残存して高湿環境で画像ボケ
が発生し十分でない。また、シリコーン樹脂と従来の電
荷輸送材とは相溶性が悪く白濁する。このため、シリコ
ーン樹脂との相溶性基である水酸基をもつ電荷輸送材が
使用される、しかし水酸基は電荷輸送でのトラップサイ
トとなり、感度低下をまねく、あるいは水酸基はオゾ
ン、Ｎｏｘ、活性酸素との作用が大きく表面抵抗を下
げ、そのために画像での解像力低下が発生する。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の問題点を解決するものであって、表面硬度が高く、耐
摩耗性が高く、繰り返し時の電子写真特性が高温高湿下
でも安定な、従って、良好な画像が繰り返し使用に於い
ても得られる電子写真感光体を提供し、さらには前記感
光体を用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を
提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題は下記（１）〜
（６）によって解決される。 （１）導電性支持体上に感光層を設けた電子写真感光体
において、該感光層のバインダー樹脂が少なくとも下記
一般式（１）で表される共重合樹脂を含有することを特
徴とする電子写真感光体。

【化５】 （式中、Ｒ¹、Ｒ⁵、Ｒ⁷、Ｒ³⁰、Ｒ³²は水素またはメチ
ル基、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は炭素数１〜４のアルキル基、ま
たは炭素数１〜４のアルコキシ基を表し、これら置換基
は同一でも異なってもよく、アルコキシ基は一つ以上、
三つ以下置換されていてもよい。Ｒ⁶は水素、炭素数１
〜４の置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは
無置換のアリール基、Ｒ⁸は、炭素数１〜４の置換もし
くは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換の
アリール基を表し、Ｒ³¹は水素、炭素数１〜４の置換も
しくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換
のアリール基を表し、Ｒ³³はポリシロキサン置換アルキ
ル基を表す。ｎは１〜４の整数、ｍは１〜５の整数、
Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｗ、Ｖは共重合比を表し、全重量比で０．
１≦Ｘ≦０．７、０．２≦Ｙ≦０．８、０≦Ｚ≦０．
５、０≦Ｗ≦０．５、０≦Ｖ≦０．５の範囲（Ｘ＋Ｙ＋
Ｚ＋Ｗ＋Ｖ＝１）で表す。Ｓは繰り返し単位を表し１０
〜１０００の整数である。）

【０００８】（２）導電性支持体上に感光層を設けた電
子写真感光体において、該感光層のバインダー樹脂が少
なくとも下記一般式（２）で表される共重合樹脂を含有
することを特徴とする電子写真感光体。

【化６】 （式中、Ｒ¹、Ｒ⁷、Ｒ³⁰、Ｒ³²は水素またはメチル基、
Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は炭素数１〜４のアルキル基、または炭
素数１〜４のアルコキシ基を表し、これら置換基は同一
でも異なってもよく、アルコキシ基は一つ以上、三つ以
下置換されていてもよい。Ｒ⁹は水素またはメチル基を
表す。Ａｒ¹、Ａｒ²は置換もしくは無置換のアリール基
を表し、これらは同一であっても異なってもよい。Ａｒ
³、Ａｒ⁴は置換もしくは無置換のアリーレン基を表し、
これらは同一であっても異なってもよい。Ｄは単結合、
置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置
換シクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレ
ンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表
す。Ｒ⁸は、炭素数１〜４の置換もしくは無置換のアル
キル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表
し、Ｒ³¹は水素、炭素数１〜４の置換もしくは無置換の
アルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基、
Ｒ³³はポリシロキサン置換アルキル基を表す。ｎは１〜
４の整数、Ｏ、Ｐ、Ｑ、Ｇ、Ｈは共重合比を表し、全重
量比で０．１≦Ｏ≦０．７、０．２≦Ｐ≦０．８、０≦
Ｑ≦０．５、０≦Ｇ≦０．５、０≦Ｈ≦０．５の範囲
（Ｏ＋Ｐ＋Ｑ＋Ｇ＋Ｈ＝１）で表す。ｔは繰り返し単位
を表し１０〜１０００の整数である。）

【０００９】（３）導電性支持体上に感光層を設けた電
子写真感光体において、該感光層のバインダー樹脂が少
なくとも下記一般式（３）で表される共重合樹脂を含有
することを特徴とする電子写真感光体。

【化７】 （式中、Ｒ¹、Ｒ⁷、Ｒ³⁰、Ｒ³²は水素またはメチル基、
Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は炭素数１〜４のアルキル基、または炭
素数１〜４のアルコキシ基を表し、これら置換基は同一
でも異なってもよく、アルコキシ基は一つ以上、三つ以
下置換されていてもよい。Ｒ¹⁰は水素またはメチル基を
表す。Ａｒ⁵、Ａｒ⁶は置換もしくは無置換のアリール
基、Ａｒ⁷は置換もしくは無置換のアリーレン基を表
し、Ｒ⁸は、炭素数１〜４の置換もしくは無置換のアル
キル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表
し、Ｒ³¹は水素、炭素数１〜４の置換もしくは無置換の
アルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を
表し、Ｒ³³はポリシロキサン置換アルキル基を表す。ｎ
は１〜４の整数、ａ、ｂ、ｃ、ｅ、ｆは共重合比を表
し、全重量比で０．１≦ａ≦０．７、０．２≦ｂ≦０．
８、０≦ｃ≦０．５、０≦ｅ≦０．５、０≦ｆ≦０．５
の範囲（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｅ＋ｆ＝１）で表す。ｕは繰り返
し単位を表し１０〜１０００の整数である。）

【００１０】（４）導電性支持体上に感光層を設けた電
子写真感光体において、該感光層のバインダー樹脂が少
なくとも上記一般式（１）、（２）、（３）で表された
共重合体と下記一般式（４）で表される化合物の一種あ
るいは二種以上を共存させ硬化させたことを特徴とする
上記（１）〜（３）のいずれかに記載の電子写真感光
体。

【化８】 （式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴は水酸基、炭素数１〜
４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはア
リール基を表す。）

【００１１】（５）少なくとも感光体、帯電手段、画像
露光手段、現像手段及び転写手段を備えた画像形成装置
であって、該感光体が導電性支持体上に上記（１）〜
（４）のいずれかに記載の共重合樹脂をバインダーとし
て用いた感光層を設けた電子写真感光体であることを特
徴とする画像形成装置。

【００１２】（６）感光体と、帯電手段、現像手段及び
クリーニング手段から選ばれた少なくとも一つの手段と
を一体的に支持してなり、画像形成装置に着脱自在とし
た画像形成装置用プロセスカートリッジであって、該感
光体が上記（１）〜（４）のいずれかに記載の電子写真
感光体であることを特徴とする画像形成装置用プロセス
カートリッジ。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。本発明の電子写真感光体は、感光層におけるバイ
ンダーとして一般式（１）で表された共重合樹脂を用い
ることで従来の電荷輸送材との相溶性がよく、かつ電気
特性がよい硬化膜を形成させたものである。一般式
（１）で表された共重合体はアルコキシシリル基が置換
されたアクリルエステルあるいはメタクリルエステルの
反応サイトと、フィルム成膜性と電荷輸送材との相溶サ
イトであるスチレン及びその誘導体と、アクリルエステ
ルあるいはメタクリルエステルの共重合体である。

【化９】

【００１４】（式中、Ｒ¹、Ｒ⁵、Ｒ⁷、Ｒ³⁰、Ｒ³²は水
素またはメチル基、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は炭素数１〜４のア
ルキル基、または炭素数１〜４のアルコキシ基を表し、
これら置換基は同一でも異なってもよく、アルコキシ基
は一つ以上、三つ以下置換されていてもよい。Ｒ⁶は水
素、炭素数１〜４の置換もしくは無置換のアルキル基、
置換もしくは無置換のアリール基、Ｒ⁸は、炭素数１〜
４の置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もし
くは無置換のアリール基を表し、Ｒ³¹は水素、炭素数１
〜４の置換もしくは無置換のアルキル基、または置換も
しくは無置換のアリール基を表し、Ｒ³³はポリシロキサ
ン置換アルキル基を表す。ｎは１〜４の整数、ｍは１〜
５の整数、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｗ、Ｖは共重合比を表し、全重
量比で０．１≦Ｘ≦０．７、０．２≦Ｙ≦０．８、０≦
Ｚ≦０．５、０≦Ｗ≦０．５、０≦Ｖ≦０．５の範囲
（Ｘ＋Ｙ＋Ｚ＋Ｗ＋Ｖ＝１）で表す。Ｓは繰り返し単位
を表し１０〜１０００の整数である。）

【００１５】 Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴の炭素数１〜４のアル
キル基とは直鎖、分岐のアルキル基を表し、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチ
ル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基で定
義され、 炭素数１〜４のアルコキシ基とは直鎖、分岐のアル
キル基を表し、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキ
シ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキ
シ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基で定義される。

【００１６】Ｒ⁶の炭素数１〜４のアルキル基は前記
で定義される炭素数１〜４のアルコキシ基と同じであ
り、 置換アルキル基とは、上記で定義されたアルキル
基にフッ素原子、水酸基、シアノ基、炭素数１〜４のア
ルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子、炭素数１〜
４のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で
置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的にはト
リフルオロメチル基、２−ヒドロキエチル基、２−エト
キシエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシエチ
ル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチル
ベンジル基、４−フェニルベンジル基、テトラヒドロフ
ルフリル基、等が挙げられ、 置換もしくは無置換のアリール基としては具体例と
して、縮合多環式炭化水素基、非縮合炭素環式基及び複
素環基が挙げられる。

【００１７】該縮合多環式炭化水素基としては、好まし
くは環を形成する炭素数が１８個以下のもの例えば、ペ
ンタニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル
基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、ａｓ−インダ
セニル基、ｓ−インダセニル基、フルオレニル基、アセ
ナフチレニル基、プレイアデニル基、アセナフテニル
基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントリル
基、フルオランテニル基、アセフェナントリレニル基、
アセアントリレニル基、トリフェニレル基、ピレニル
基、クリセニル基、及びナフタセニル基等が挙げられ
る。

【００１８】該非縮合炭素環式基としては、ベンゼン、
ジフェニルエーテル、ポリエチレンジフェニルエーテ
ル、ジフェニルチオエーテル及びジフェニルスルホン等
の単環式炭化水素化合物の１価基、あるいはビフェニ
ル、ポリフェニル、ジフェニルアルカン、ジフェニルア
ルケン、ジフェニルアルキン、トリフェニルメタン、ジ
スチリルベンゼン、１，１−ジフェニルシクロアルカ
ン、ポリフェニルアルカン、及びポリフェニルアルケン
等の非縮合多環式炭化水素化合物の１価基、あるいは
９，９−ジフェニルフルオレン等の環集合炭化水素化合
物の１価基が挙げられる。

【００１９】複素環基としては、カルバゾール、ジベン
ゾフラン、ジベンゾチオフェン、オキサジアゾール、及
びチアジアゾール等の１価基が挙げられる。

【００２０】アリール基は例えば以下に示すような置換
基を有してもよい。 （１）ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等。

【００２１】（２）トリフルオロメチル基、２−ヒドロ
キエチル基、２−エトキシエチル基、２−シアノエチル
基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベ
ンジル基、４−メチルベンジル基、４−フェニルベンジ
ル基等。

【００２２】（３）アルコキシ基（−ＯＲ²⁰）であり、
Ｒ²⁰はで定義したアルキル基を表す。具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポ
キシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキ
シ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、ベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。

【００２３】（４）アリールオキシ基であり、アリール
基としてはフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これ
は、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアル
キル基またはハロゲン原子を置換基として含有してもよ
い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ
基、２−ナフチルオキシ基、４−メトキシフェノキシ
基、４−メチルフェノキシ基等が挙げられる。

【００２４】（５）

【化１０】 （式中、Ｒ²¹及びＲ²²は各々独立に水素原子、で定義
したアルキル基、またはアリール基を表す。アリール基
としては、例えばフェニル基、ビフェニル基又はナフチ
ル基が挙げられ、これらは炭素数１〜４のアルコキシ
基、炭素数１〜４のアルキル基またはハロゲン原子を置
換基として含有してもよい。Ｒ²¹及びＲ²²は共同で環を
形成してもよい） 具体的には、アミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル
−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ
基、Ｎ，Ｎ−ジ（トリール）アミノ基、ジベンジルアミ
ノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基等が
挙げられる。

【００２５】（６）置換又は無置換のスチリル基、置換
又は無置換のβ−フェニルスチリル基、ジフェニルアミ
ノフェニル基、ジトリルアミノフェニル基等。

【００２６】（７）下記アルキレン、ビニレンで連結さ
れた置換もしくは無置換のアリール基

【化１１】 （Ｒ²³は水素、アルキル基〔前記で定義されるアルキ
ル基と同じ〕、アリール基としては、フェニル基、ビフ
ェニル基、トリフェニルアミノ基、ジトリルアミノフェ
ニル基等、ｉは２〜４、ｋは１または２を表す。）

【００２７】Ｒ⁸は炭素数１〜４の置換もしくは無置換
のアルキル基（前記で定義されるアルキル基と同じ）
であり、置換アルキル基としては前記で定義されたも
のと同じ、置換もしくは無置換のアリール基としては前
記で定義されたものと同じである。

【００２８】Ｒ³¹は水素、炭素数１〜４の置換もしくは
無置換のアルキル基（前記で定義されるアルキル基と
同じ）であり、置換アルキル基として前記で定義され
たものと同じ、置換もしくは無置換のアリール基として
は前記で定義されたものと同じである。

【００２９】Ｒ³³はポリシロキサン置換アルキル基を表
し、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロ
キサン置換アルキル基である。

【００３０】一般式（１）の共重合体を構成するための
具体例モノマー化合物としては以下に挙げられるが、こ
れに限定されるものでない。３−メタクリルオキシプロ
ピルジメトキシメチルシラン、３−メタクリルオキシプ
ロピルトリメトキシシラン、スチレン、４−メチルスチ
レン、３−メチルスチレン、２，５−ジメチルスチレ
ン、４−エチルスチレン、３−エチルスチレン、４−イ
ソプロピルスチレン、４−ブチルスチレン、４−メトキ
シスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、α−
メチルスチレン、４−クロル−α−メチルスチレン、４
−ビニル−ｏ−テルフェニル、４−ジフェニルアミノス
チレン、４−ジトリルアミノスチレン、４−フェニルス
チレン、４−トリフェニルメチルスチレン、メチルメタ
クリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタ
クリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、アリルメタク
リレート、ｉ−ブチルメタクリレート、メチルアクリレ
ート、エチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、
フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ｐ
−ビフェニルメタクリレート、ｍ−ビフェニルメタクリ
レート、トリフルオロメチルメタクリレート、アクリル
酸、メタクリル酸、グリシジルメタクリレート、テトラ
ヒドロフルフリルメタクリレート、シクロヘキシルメタ
クリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、２−メトキシエチルメタ
クリレート等。

【００３１】一般式（２）、（３）で表わされた共重合
体は、一般式（１）の共重合体と同様に、アルコキシシ
リル基が置換されたアクリルエステルあるいはメタクリ
ルエステルと、電荷輸送機能及び相溶サイトであるアリ
ールアミン（メタ）アクリルエステルと、アクリルエス
テルあるいはメタクリルエステルとの共重合体である。

【００３２】

【化１２】

【００３３】

【化１３】

【００３４】ここでＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ
³¹、Ｒ³²及びＲ³³は一般式（１）で説明した置換基と同
様であり、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰は水素、メチル基を表し、Ａｒ¹、
Ａｒ ²、Ａｒ⁵、Ａｒ⁶は置換もしくは無置換のアリール
基で同一であっても異なってもよく、前記で定義され
た１価のアリール基、Ａｒ³、Ａｒ⁴、Ａｒ⁷は置換もし
くは無置換のアリーレン基で同一であっても異なっても
よく、前記で定義された２価のアリーレン基、Ｄは単
結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしく
は無置換シクロアルキレン基、置換もしくは無置換のア
ルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基
を表す。Ｏ、Ｐ、Ｑ、Ｇ、Ｈは共重合比を表し、全重量
比で０．１≦Ｏ≦０．７、０．２≦Ｐ≦０．８、０≦Ｑ
≦０．５、０≦Ｇ≦０．５、０≦Ｈ≦０．５（Ｏ＋Ｐ＋
Ｑ＋Ｇ＋Ｈ＝１）で表され、ａ、ｂ、ｃ、ｅ、ｆは共重
合比を表し、全重量比で０．１≦ａ≦０．７、０．２≦
ｂ≦０．８、０≦ｃ≦０．５、０≦ｅ≦０．５、０≦ｆ
≦０．５（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｅ＋ｆ＝１）で表される。ｔは
繰り返し単位を表し１０〜１０００の整数、ｕは繰り返
し単位を表し１０〜１０００の整数である。

【００３５】上記アリールアミン（メタ）アクリル化合
物の具体例としては以下のものが挙げられる。

【００３６】

【表１】

【００３７】

【表２】

【００３８】これら共重合体は２〜５のモノマー成分を
トルエン、あるいはトルエンとイソプロピルアルコール
との混合溶媒中でアゾビスイソブチロニトリル、アゾビ
スジメチルバレロニトリルなどのアゾ系、あるいは過酸
化ベンゾイルなどの過酸化物の開始剤を用いて溶液重合
される。反応液は粘度が上昇して１２０〜３００ｃｐ
（２０℃）で得られる。モノマー固形分濃度は３０％以
上で、好ましくは５０％以上で重合する。共重合体はポ
リスチレン換算分子量Ｍｗで１万以上が好ましく、さら
に好ましくは１万〜１０万である。１万以下であると塗
工液粘度が低く塗工膜厚が得られない。

【００３９】共重合比はアルコキシシリル（メタ）アク
リルモノマーの重量比で５％以上で好ましくは１０％以
上であり、電荷輸送化合物との相溶性から８０％以下が
望ましい、８０％以上であると電荷輸送化合物との相溶
性が悪くなり、塗膜が濁り不透明化する。従って、スチ
レンあるいはその誘導体（又はアリールアミン（メタ）
アクリルモノマー）、メタクリルモノマー、あるいはア
クリルモノマーの共重合比率は２０〜９０％である。膜
の硬度はアルコキシシリル（メタ）アクリルモノマーの
比率が増すと未硬化膜硬度が下がるが、主鎖のモノマー
種によるところも大きく、スチレンあるいは電荷輸送モ
ノマーの比率が多くなると膜硬度が上昇する、

【００４０】上記一般式（１）、（２）、（３）で表さ
れるバインダー樹脂は反応性のアルコキシシリル基を含
有していることから縮重合し、分子鎖間で架橋構造をと
り、硬化し、硬い膜になる特徴をもち、またアルコキシ
シリル置換アクリレートは従来の電荷輸送化合物は相溶
せず白化し不透明になるが、相溶サイトとしてスチレン
またはその誘導体、あるいは一般式２、及び３で表され
るアリールアミン（メタ）アクリルモノマーを使用する
ことで透明な相溶した膜が得られる。感光層の透明化は
露光光源の光を透過することで感度劣化防止、残留電位
発生抑制で重要であり、電荷輸送材と相溶することが必
須である。

【００４１】ポリスチレンと電荷輸送化合物との分子分
散膜は電荷の移動機能がポリカーボネート樹脂より高
く、感光体としては好ましいバインダー樹脂であるが、
膜は脆く、摩耗量が大きく、実際には使用できない、従
ってバインダー樹脂の架橋硬化は機械的特性で硬度の向
上で耐久性の高いものとなる。

【００４２】一般式（１）、（２）、（３）で表された
バインダー樹脂は単独で塩酸、硫酸、酢酸などの酸触
媒、あるいはジブチル錫化合物の触媒を用いて硬化反応
が進行して硬化膜が得られるが、下記一般式（４）で表
されるシランカップリング剤をバインダー樹脂間の架橋
として用いるのが好ましい。この場合、シランカップリ
ング剤に前記の酸触媒を添加しておき、その後バインダ
ー樹脂とを混合することが望ましい。

【００４３】

【化１４】 （式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴は水酸基、炭素数１〜
４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、アリー
ル基を表す。）

【００４４】具体的には、テトラメトキシシラン、メチ
ルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ト
リメチルメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキ
シシラン、ジメトキシメチルフェニルシラン、ジエトキ
シメチルフェニルシラン、ジフェニルシランジオール、
フェニルトリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、
エチルトリメトキシシラン、ジエトキシジメチルシラ
ン、トリエトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、
エチルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、トリエトキシビニルシラン、アリルトリエトキシシ
ラン、テトラプロポキシシラン、プロピルトリエトキシ
シラン、メチルトリプロポキシシラン、ジブトキシジメ
チルシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリイソプ
ロポキシシラン、メチルトリス（２−メトキシエトキ
シ）シラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、３，３，３−トリフロオロプロピルトリメトキシシ
ラン、ジメトキシ−３，３，３−トリフロロオロプロピ
ルシラン、ベンジルトリエトキシシラン等があげられ
る。

【００４５】これらシランカップリング剤はそれぞれ１
〜４官能基をもち、１官能基の調合が多いと架橋度が下
がり、硬度が下がり、４官能基の調合が多いと架橋度が
上昇し硬度が上がるが、塗工溶液の寿命、固体高分子反
応のために未反応シラノールが残るため、それが湿度依
存性を発生させ、画像ボケの原因となるため、１〜４官
能基調合量、及び添加量が適宜決められる。

【００４６】一般式（１）、（２）、（３）のバインダ
ー樹脂とそれを硬化させる一般式（４）のシランカップ
リング剤に電荷輸送化合物、特に下記一般式（５）また
は（６）の電荷輸送化合物が添加されるのが好ましい。
これら電荷輸送材はポリカーボネート、ポリスチレン、
メタクリル樹脂などフィルム成膜性のよいバインダー樹
脂とは相溶するが、特に反応サイトをもった硬化性樹脂
とは相溶しないが一般式（１）、（２）、（３）の樹脂
には相溶する。一般式（５）、（６）の電荷輸送材は硬
化反応には組み込まれないがバインダー樹脂は硬化す
る。

【００４７】

【化１５】 （式中、Ａｒ⁸、Ａｒ⁹は置換もしくは無置換のアリール
基で同一であっても、異なってもよい、Ｒ¹⁵は置換基も
しくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のアル
キル基、アルコキシ基を表す。ｌは１〜４の整数であ
る。）

【００４８】上記アリール基としては前記で定義され
たもの、アルキル基としては前記及び前記で定義さ
れるものである。表３及び表４に具体例を示す。

【００４９】

【表３】

【００５０】

【表４】

【００５１】

【化１６】 （式中、Ａｒ¹⁰、Ａｒ¹¹は置換もしくは未置換のアリー
ル基で同一であっても、異なってもよい、Ｒ¹⁶は置換基
もしくは未置換のアリール基、置換基もしくは未置換の
アルキル基である。） ここでＡｒ¹⁰、Ａｒ¹¹は前記で定義されるアリール
基、Ｒ¹⁶は前記で定義されるアリール基、前記、
で定義されるアルキル基である。表５に具体例を示す。

【００５２】

【表５】

【００５３】次に、本発明の電子写真感光体の層構成に
ついて説明する。導電性支持体としては、体積抵抗１０
¹⁰Ω以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、
ニッケル、クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金、鉄等
の金属、酸化スズ、酸化インジウム等の酸化物を、蒸着
またはスパッタリングによりフィルム状もしくは円筒状
のプラスチック、紙等に被覆したもの、又はアルミニウ
ム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等の板及
びそれらをＤ．Ｉ．，Ｉ．Ｉ．，押出し、引き抜き等の
工法で素管化後、切削、超仕上げ、研磨等で表面処理し
た管等を使用することができる。

【００５４】本発明における感光層は、単層型であって
も積層型であってもよいが、ここでは積層型について説
明する。

【００５５】まず、電荷発生層について説明する。電荷
発生層は、電荷発生材を主成分とする層で、必要に応じ
てバインダー樹脂を用いることもある。電荷発生材とし
ては、無機系材料と有機系材料を用いることができる。

【００５６】無機系材料には、結晶セレン、アモルファ
ス・セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲ
ン、セレン−ヒ素化合物やアモルファス・シリコン等が
挙げられる。アモルファス・シリコンにおいては、ダン
グリングボンドを水素原子、ハロゲン原子でターミネー
トしたものやホウ素原子、リン原子等をドープしたもの
が良好に用いられる。

【００５７】一方、有機系材料としては、公知の材料を
用いることができる。例えば、金属フタロシアニン、無
金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、アズレ
ニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾ
ール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を
有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔
料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオ
レノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を
有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔
料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔
料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペ
リレン系顔料、アントラキノン系または多環キノン系顔
料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフ
ェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系
顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系
顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料等が挙げられる。
これらの電荷発生材は、単独又は２種以上の混合物とし
て用いることができる。

【００５８】電荷発生層に必要に応じて用いられるバイ
ンダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポ
キシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン
樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ
−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミド等が用
いられる。これらのバインダー樹脂は、単独又は２種以
上の混合物として用いることができる。

【００５９】さらに、必要に応じて電荷発生層には電荷
輸送材を添加してもよい。電荷輸送材としては、電子供
与性物質が挙げられ、例えば、オキサゾール誘導体、オ
キサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェ
ニルアミン誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリル
アントラセン）、１，１−ビス−（４−ジベンジルアミ
ノフェニル）プロパン、スチリルアントラセン、スチリ
ルピラゾリン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルス
チルベン誘導体、チアゾール誘導体、トリアゾール誘導
体、フェナジン誘導体、アクリジン誘導体、ベンゾフラ
ン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、チオフェン誘導
体等が挙げられる。これらの正孔輸送物質は、単独又は
２種以上の混合物として用いることができる。

【００６０】電荷発生層を形成する方法には、真空薄膜
作製法と、溶液分散系からのキャスティング法とが挙げ
られる。前者の真空薄膜作製法には、真空蒸着法、グロ
ー放電分解法、イオンプレーティング法、スパッタリン
グ法、反応性スパッタリング法、ＣＶＤ法等が用いら
れ、上記した無機系材料、有機系材料により良好に形成
できる。また、後記のキャスティング法によって電荷発
生層を設けるには、上記した無機系又は有機系電荷発生
材を、必要ならばバインダー樹脂と共にテトラヒドロフ
ラン、シクロヘキサノン、ジオキサン、ジクロロエタ
ン、ブタノン等の溶媒を用いてボールミル、アトライタ
ー、サンドミル等により分散し、分散液を適度に希釈し
て塗布することにより形成できる。

【００６１】塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビ
ードコート法等を用いて行なうことができる。このよう
にして設けられる電荷発生層の膜厚は、０．０１〜５μ
ｍ程度が適当であり、好ましくは０．０５〜２μｍであ
る。

【００６２】次に、電荷輸送層について説明する。一般
式（１）、（２）及び／又は（３）のバインダー樹脂溶
液に一般式（５）及び／又は（６）で表される電荷輸送
材を溶解ないし分散し、あるいは一般式（１）、（２）
及び／又は（３）のバインダー樹脂溶液に一般式（４）
で示されるシランカップリング剤と一般式（５）及び／
又は（６）で表される電荷輸送材とを溶解ないし分散
し、これを塗工するが、バインダー樹脂と電荷輸送材と
の比率は固形分濃度でバインダー樹脂の０．５〜１．５
倍量で好ましくは０．７〜１．１倍量である。電荷輸送
層の膜厚は５〜５０μｍ、好ましくは１０〜２５μｍで
ある。なお、電荷輸送層のバインダー樹脂には、従来か
ら使用されてきた樹脂を本発明の効果が阻害されない範
囲で加えることができる。

【００６３】重合溶媒がトルエン、トルエン−イソプロ
ピルアルコールなどの混合溶媒であると、電荷輸送材の
溶解には限度があり、テトラヒドロフラン、ジオキサン
などの環状エーテル溶媒、メチルエチケトン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸
ブチルなどのエステル系溶媒で溶解する。この溶液に塩
酸、硫酸、酢酸などの酸触媒、あるいはジブチル錫化合
物の触媒を添加して、上記電荷発生層上に浸漬法、スプ
レー法、リングコート法などで１０〜３０μｍの電荷輸
送層を設ける。

【００６４】また一般式（４）の化合物を添加する場
合、アルコキシシラン化合物を塩酸水溶液、硫酸水溶
液、酢酸水溶液などの酸水溶液、ジブチル錫化合物で加
水分解させた溶液を準備し、バインダー樹脂と電荷輸送
材溶液中に添加する、添加量はバインダー樹脂の固形分
に対して０．１〜１倍量で添加されるのが好ましい。乾
燥、及び硬化反応は５０℃以上で望ましくは１２０℃以
上で行う。

【００６５】次に感光層が単層構成３３の場合について
述べる。上述した電荷発生材、電荷輸送材（好ましくは
一般式（５）及び／又は（６）で表されるもの）を本発
明の結着樹脂中に分散した感光体が使用できる。感光層
は、電荷発生材および電荷輸送材および結着樹脂をテト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロエタン、シクロ
ヘキサン等の溶剤に溶解ないし分散し、これを浸漬塗工
法やスプレーコート、ビードコート、リングコートなど
で塗工して形成できる。また、必要により可塑剤やレベ
リング剤、酸化防止剤等を添加することもできる。感光
層３３の膜厚は５〜２５μｍ程度が適当である。

【００６６】上記感光層又は電荷輸送層の上に、耐久性
の向上を目的として必要に応じて、フィラー、分散剤、
結着樹脂、さらに電荷輸送材等を適当な溶媒に分散ある
いは溶解し、塗布及び乾燥を行うことによって、保護層
を設けてもよい。

【００６７】前記保護層に用いることができるフィラー
は、耐摩耗性を向上させる目的で添加される。フィラー
は有機フィラー及び無機フィラーとに分類され、有機フ
ィラー材料としては、ポリテトラフルオロエチレンのよ
うなフッ素樹脂微粒子、シリコーン樹脂微粒子、ａ−カ
ーボン粉末等が挙げられ、無機フィラー材料としては、
銅、スズ、アルミニウム、インジウムなどの金属粉末、
シリカ、酸化錫、酸化亜鉛、酸化チタン、アルミナ、酸
化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸
化ビスマス、酸化カルシウム、アンチモンをドープした
酸化錫、錫をドープした酸化インジウム等の金属酸化
物、フッ化錫、フッ化カルシウム、フッ化アルミニウム
等の金属フッ化物、チタン酸カリウム、窒化硼素などの
無機材料が挙げられる。これらのフィラーの中で、フィ
ラーの硬度の点から無機材料を用いることが耐摩耗性の
向上に対し有利である。

【００６８】フィラーの平均一次粒径は、０．０１〜
０．５μｍであることが、保護層の光透過率や耐摩耗性
の点から好ましい。フィラーの平均一次粒径が０．０１
μｍ以下の場合は、凝集、分散性の低下等から耐摩耗性
の低下を引き起こし、０．５μｍ以上の場合には、フィ
ラーの沈降性が促進されたり、それを用いて作製した感
光体によって得られる画像に異常画像が発生したりする
可能性がある。

【００６９】保護層全体の膜厚としては、１μｍ〜１０
μｍ、好ましくは２〜６μｍが適当である。膜厚が極度
に薄い場合には、膜の均一性が低下したり、十分な耐摩
耗性が得られない場合があり、膜厚が極度に厚い場合に
は、残留電位上昇の影響が増大したり、光透過率の低下
により解像度やドット再現性の低下を引き起こす場合が
ある。

【００７０】本発明の感光体においては、導電性支持体
と感光層との間に下引き層を設けることができる。下引
き層は一般には樹脂を主成分とするが、これらの樹脂は
その上に感光層を溶剤で塗布することを考えると、一般
の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂であることが望
ましい。

【００７１】このような樹脂としては、ポリビニルアル
コール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶
性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等
のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹
脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポ
キシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が
挙げられる。

【００７２】また、下引き層にはモアレ防止、残留電位
の低減等のために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化
ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示でき
る金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。

【００７３】これらの下引き層は、前述の感光層の如く
適当な溶媒及び塗工法を用いて形成することができる。

【００７４】更に本発明の下引き層として、シランカッ
プリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリン
グ剤等を使用することもできる。さらに、各種分散剤を
添加することも可能である。この他、下引き層には、Ａ
ｌ₂Ｏ₃を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレ
ン（パリレン）等の有機物やＳｉＯ₂、ＳｎＯ₂、ＴｉＯ
₂、ＩＴＯ、ＣｅＯ₂等の無機物を真空薄膜作成法にて設
けたものも良好に使用できる。このほかにも公知のもの
を用いることができる。下引き層の膜厚は０〜５μｍが
適当である。

【００７５】また、本発明においては、耐環境性の改善
のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止す
る目的で、酸化防止剤、可塑剤、滑剤、紫外線吸収剤な
どを添加することができる。これら酸化防止剤等は、有
機物を含む層（例えば、電荷発生層、電荷輸送層、下引
き層、保護層、中間層等の少なくとも一層であればいず
れに添加してもよいが、電荷輸送材を含む層に添加する
と良好な結果が得られる。

【００７６】本発明に用いることができる酸化防止剤と
しては、例えば、下記のものが挙げられる。

【００７７】（ａ）モノフェノール系化合物として、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒ
ドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エ
チルフェノール、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート等が
挙げられる。

【００７８】（ｂ）ビスフェノール系化合物として、
２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブ
チルフェノール）、２，２’−メチレン−ビス−（４−
エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオ
ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
４，４’−ブチリデンビス−（３−メチル−６−ｔ−ブ
チルフェノール）等が挙げられる。

【００７９】（ｃ）高分子フェノール系化合物として、
１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−
５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメ
チル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス−［メ
チレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス
［３，３’−ビス（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチ
ルフェニル）ブチリックアッシド］クリコールエステ
ル、トコフェロール類等が挙げられる。

【００８０】（ｄ）パラフェニレンジアミン類として、
Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレ
ンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ
−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’
−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン等が挙げら
れる。

【００８１】（ｅ）ハイドロキノン類として、２，５−
ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジドデシル
ハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキノン、２−ド
デシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔ−オクチル
−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オクタデセニ
ル）−５−メチルハイドロキノン等が挙げられる。

【００８２】（ｆ）有機硫黄化合物類として、ジラウリ
ル−３，３’−チオジプロピオネ−ト、ジステアリル−
３，３’−チオジプロピオネート、ジテトラデシル−
３，３’−チオジプロピオネート等が挙げられる。

【００８３】（ｇ）有機燐化合物類として、トリフェニ
ルホスフィン、トリ（ノニルフェニル）ホスフィン、ト
リ（ジノニルフェニル）ホスフィン、トリクレジルホス
フィン、トリ（２，４−ジブチルフェノキシ）ホスフィ
ン等が挙げられる。

【００８４】これら化合物は、ゴム、プラスチック、油
脂類等の酸化防止剤として知られており、市販品を容易
に入手できる。本発明における酸化防止剤の添加量は、
電荷輸送材１００重量部に対して０．１〜１００重量
部、好ましくは２〜３０重量部である。

【００８５】各層に添加できる可塑剤として、例えば下
記のものが挙げられるがこれらに限定されるものではな
い。

【００８６】（ａ）リン酸エステル系可塑剤 リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、リン酸トリ
オクチル、リン酸オクチルジフェニル、リン酸トリクロ
ルエチル、リン酸クレジルジフェニル、リン酸トリブチ
ル、リン酸トリ−２−エチルヘキシル、リン酸トリフェ
ニルなど。

【００８７】（ｂ）フタル酸エステル系可塑剤 フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジイソ
ブチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタ
ル酸ジ−２−エチルヘキシル、フタル酸ジイソオクチ
ル、フタル酸ジ−ｎ−オクチル、フタル酸ジノニル、フ
タル酸ジイソノニル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸
ジウンデシル、フタル酸ジトリデシル、フタル酸ジシク
ロヘキシル、フタル酸ブチルベンジル、フタル酸ブチル
ラウリル、フタル酸メチルオレイル、フタル酸オクチル
デシル、フマル酸ジブチル、フマル酸ジオクチルなど。

【００８８】（ｃ）芳香族カルボン酸エステル系可塑剤 トリメリット酸トリオクチル、トリメリット酸トリ−ｎ
−オクチル、オキシ安息香酸オクチルなど。

【００８９】（ｄ）脂肪族二塩基酸エステル系可塑剤 アジピン酸ジブチル、アジピン酸ジ−ｎ−ヘキシル、ア
ジピン酸ジ−２−エチルヘキシル、アジピン酸ジ−ｎ−
オクチル、アジピン酸−ｎ−オクチル−ｎ−デシル、ア
ジピン酸ジイソデシル、アジピン酸ジカプリル、アゼラ
イン酸ジ−２−エチルヘキシル、セバシン酸ジメチル、
セバシン酸ジエチル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸
ジ−ｎ−オクチル、セバシン酸ジ−２−エチルヘキシ
ル、セバシン酸ジ−２−エトキシエチル、コハク酸ジオ
クチル、コハク酸ジイソデシル、テトラヒドロフタル酸
ジオクチル、テトラヒドロフタル酸ジ−ｎ−オクチルな
ど。

【００９０】（ｅ）脂肪酸エステル誘導体 オレイン酸ブチル、グリセリンモノオレイン酸エステ
ル、アセチルリシノール酸メチル、ペンタエリスリトー
ルエステル、ジペンタエリスリトールヘキサエステル、
トリアセチン、トリブチリンなど。

【００９１】（ｆ）オキシ酸エステル系可塑剤 アセチルリシノール酸メチル、アセチルリシノール酸ブ
チル、ブチルフタリルブチルグリコレート、アセチルク
エン酸トリブチルなど。

【００９２】（ｇ）エポキシ可塑剤 エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、エポキシステ
アリン酸ブチル、エポキシステアリン酸デシル、エポキ
システアリン酸オクチル、エポキシステアリン酸ベンジ
ル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキ
シヘキサヒドロフタル酸ジデシルなど。

【００９３】（ｈ）二価アルコールエステル系可塑剤 ジエチレングリコールジベンゾエート、トリエチレング
リコールジ−２−エチルブチラートなど。

【００９４】（ｉ）含塩素可塑剤 塩素化パラフィン、塩素化ジフェニル、塩素化脂肪酸メ
チル、メトキシ塩素化脂肪酸メチルなど。

【００９５】（ｊ）ポリエステル系可塑剤 ポリプロピレンアジペート、ポリプロピレンセバケー
ト、ポリエステル、アセチル化ポリエステルなど。

【００９６】（ｋ）スルホン酸誘導体 ｐ−トルエンスルホンアミド、ｏ−トルエンスルホンア
ミド、ｐ−トルエンスルホンエチルアミド、ｏ−トルエ
ンスルホンエチルアミド、トルエンスルホン−Ｎ−エチ
ルアミド、ｐ−トルエンスルホン−Ｎ−シクロヘキシル
アミドなど。

【００９７】（ｌ）クエン酸誘導体 クエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリエチル、ク
エン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリブチル、アセ
チルクエン酸トリ−２−エチルヘキシル、アセチルクエ
ン酸−ｎ−オクチルデシルなど。

【００９８】（ｍ）その他 ターフェニル、部分水添ターフェニル、ショウノウ、２
−ニトロジフェニル、ジノニルナフタリン、アビエチン
酸メチルなど。

【００９９】各層に添加できる滑剤としては、例えば下
記のものが挙げられるがこれらに限定されるものではな
い。

【０１００】（ａ）炭化水素系化合物 流動パラフィン、パラフィンワックス、マイクロワック
ス、低重合ポリエチレンなど。

【０１０１】（ｂ）脂肪酸系化合物 ラウリン酸、ミリスチン酸、パルチミン酸、ステアリン
酸、アラキジン酸、ベヘン酸など。

【０１０２】（ｃ）脂肪酸アミド系化合物 ステアリルアミド、パルミチルアミド、オレインアミ
ド、メチレンビスステアロアミド、エチレンビスステア
ロアミドなど。

【０１０３】（ｄ）エステル系化合物 脂肪酸の低級アルコールエステル、脂肪酸の多価アルコ
ールエステル、脂肪酸ポリグリコールエステルなど。

【０１０４】（ｅ）アルコール系化合物 セチルアルコール、ステアリルアルコール、エチレング
リコール、ポリエチレングリコール、ポリグリセロール
など。

【０１０５】（ｆ）金属石けん ステアリン酸鉛、ステアリン酸カドミウム、ステアリン
酸バリウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜
鉛、ステアリン酸マグネシウムなど。

【０１０６】（ｇ）天然ワックス カルナバロウ、カンデリラロウ、蜜ロウ、鯨ロウ、イボ
タロウ、モンタンロウなど。

【０１０７】（ｈ）その他 シリコーン化合物、フッ素化合物など。

【０１０８】各層に添加できる紫外線吸収剤として、例
えば下記のものが挙げられるがこれらに限定されるもの
ではない。

【０１０９】（ａ）ベンゾフェノン系 ２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシ
ベンゾフェノン、２，２’，４−トリヒドロキシベンゾ
フェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベン
ゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ４−メトキシベン
ゾフェノンなど。

【０１１０】（ｂ）サルシレート系 フェニルサルシレート、２，４ジ−ｔ−ブチルフェニル
３，５−ジ−ｔ−ブチル４ヒドロキシベンゾエートな
ど。

【０１１１】（ｃ）ベンゾトリアゾール系 （２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
（２’−ヒドロキシ５’−メチルフェニル）ベンゾトリ
アゾール、（２’−ヒドロキシ５’−メチルフェニル）
ベンゾトリアゾール、（２’−ヒドロキシ３’−ターシ
ャリブチル５’−メチルフェニル）５−クロロベンゾト
リアゾール

【０１１２】（ｄ）シアノアクリレート系 エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレー
ト、メチル２−カルボメトキシ３（パラメトキシ）アク
リレートなど。

【０１１３】（ｅ）クエンチャー（金属錯塩系） ニッケル（２，２’チオビス（４−ｔ−オクチル）フェ
ノレート）ノルマルブチルアミン、ニッケルジブチルジ
チオカルバメート、ニッケルジブチルジチオカルバメー
ト、コバルトジシクロヘキシルジチオホスフェートな
ど。

【０１１４】（ｆ）ＨＡＬＳ（ヒンダードアミン） ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニ
ルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピリジン、
８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オ
クチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４，５〕ウンデ
カン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジンなど。

【０１１５】次に図面に基づいて、本発明の画像形成装
置について説明する。図１は、本発明の画像形成装置を
説明するための概略図であり、下記するような変形例も
本発明の範疇に属するものである。図１において、感光
体１は導電性支持体上に少なくとも感光層を有するもの
である。感光体１はドラム状の形状を示しているが、シ
ート状、エンドレスベルト状のものであってもよい。帯
電チャージャ３、転写前チャージャ７、転写チャージャ
１０、分離チャージャ１１、クリーニング前チャージャ
１３には、コロトロン、スコロトロン、固体帯電器（ソ
リッド・ステート・チャージャー）、帯電ローラをはじ
めとする公知の手段が用いられる。転写手段には、一般
に上記の帯電器が使用できるが、図に示されるように転
写チャージャーと分離チャージャーを併用したものが効
果的である。

【０１１６】また、画像露光部５、除電ランプ２等の光
源には、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンラン
プ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード（ＬＥ
Ｄ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセ
ンス（ＥＬ）等の発光物全般を用いることができる。

【０１１７】そして、所望の波長域の光のみを照射する
ために、シャープカットフィルター、バンドパスフィル
ター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィル
ター、干渉フィルター、色温度変換フィルター等の各種
フィルターを用いることもできる。このような光源等
は、図１に示される工程の他に光照射を併用した転写工
程、除電工程、クリーニング工程、又は前露光等の工程
を設けることにより、感光体に光が照射される。

【０１１８】そして、現像ユニット６により感光体１上
に現像されたトナーは、転写紙９に転写されるが、全部
が転写されるわけではなく、感光体１上に残存するトナ
ーも生ずる。このようなトナーは、ファーブラシ１４及
びブレード１５により、感光体より除去される。クリー
ニングは、クリーニングブラシだけで行なわれることも
あり、クリーニングブラシにはファーブラシ、マグファ
ーブラシをはじめとする公知のものが用いられる。

【０１１９】電子写真感光体に正（負）帯電を施し、画
像露光を行なうと、感光体表面上には正（負）の静電潜
像が形成される。これを負（正）極性のトナー（検電微
粒子）で現像すれば、ポジ画像が得られ、また正（負）
極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。この
現像手段には、公知の方法が適用され、また、除電手段
にも公知の方法が用いられる。

【０１２０】図２に、本発明の画像形成装置の別の例を
示す。感光体２１はエンドレスベルト状であり、これが
駆動ローラ２２ａ、２２ｂにより駆動され、帯電器２３
による帯電、光源２４による像露光、現像（図示せ
ず）、帯電器２５を用いる転写、光源２６によるクリー
ニング前露光、ブラシ２７によるクリーニング、光源２
８による除電が繰返し行なわれる。図２においては、感
光体２１（この場合は支持体が透光性である）に支持体
側よりクリーニング前露光の光照射が行なわれる。

【０１２１】以上の図示した電子写真プロセスは、本発
明における実施形態を例示するものであって、他の実施
形態も可能である。例えば、図２において支持体側より
クリーニング前露光を行っているが、これは感光層側か
ら行ってもよいし、また、像露光、除電光の照射を支持
体側から行ってもよい。一方、光照射工程は、像露光、
クリーニング前露光、除電露光が図示されているが、他
に転写前露光、像露光のプレ露光、及びその他公知の光
照射工程を設けて、感光体に光照射を行なうこともでき
る。

【０１２２】図３には現像部、クリーニング部、帯電ロ
ーラーを一体化したユニットを示した、感光体３１は帯
電ローラー３３で帯電され、露光光源４１は蛍光灯、タ
ングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、発光ダイ
オード、半導体レーザーなどを用いて表面電荷を減衰さ
せ、現像ユニット３４、現像スリーブ、３７上にドクタ
ー３９で薄層化されたトナーで現像し、トナーは転写紙
上に転写する（図示せず）、未転写トナーはクリーニン
グユニット３５でクリーニングブレード３２でクリーニ
ングされる。除去されたトナーはトナー搬送コイルで再
度現像ユニットに回収され利用される。

【０１２３】このような一体化ユニットは複写装置、フ
ァクシミリ、プリンター内に固定して組み込まれてもよ
いが、プロセスカートリッジの形でそれらの装置内に組
み込まれてもよい。プロセスカートリッジとは、感光体
を内蔵し、他に帯電手段、露光手段、現像手段、転写手
段、クリーニング手段、除電手段の少なくとも１つを含
んだ一つの装置（部品）である。

【０１２４】

【実施例】次に実施例を上げて、本発明を具体的に説明
する。ここでの部は重量基準である。

【０１２５】［重合例１］１００ｍｌの四つ口フラスコ
にメタアクリル酸３−トリメトキシシリルプロピル（Ｌ
Ｓ３３８０、信越化学社製）１０ｇ、スチレン（Ｓｔ）
１０ｇ、トルエン１３．３ｇ、アゾビスイソブチロニト
リル０．２ｇを取り、攪拌しながらフラスコ中に窒素ガ
スを流し、窒素置換する。その後７０℃に昇温し、３時
間反応し、７５℃に温度を上げ３時間、８０℃で２時間
反応させ、重合を終了させて一般式（１）でＸ：０．
５、Ｙ：０．５、Ｚ、Ｗ及びＶは０の共重合体（ポリス
チレン換算重量平均分子量Ｍｗ（以下同じ）：２５００
０の共重合体１）を得た。

【０１２６】［重合例２〜１４］表６の組成で重合例１
と同様にして重合し、一般式（１）で表わされる共重合
体２〜１４を製造した。

【表６】 ＬＳ３３７５ ：メタアクリル酸３−ジメトキシメチルシリルプロピ ル（信越化学社製） ＢｉＰＭＡ ：ビフェニルメタクリレート ＰｈＭＡ ：フェニルメタクリレート ＭＭＡ ：メチルメタクリレート ＢＭＡ ：ｎ−ブチルメタクリレート ＭＡ ：メタクリル酸 ＨＥＭＡ ：２−ヒドロキシエチルメタクリレート Ｘ−２２−１７４ＤＸ：片末端アクリル変性シリコーンオイル （信越化学社製） ＩＰＡ ：イソプロピルアルコール

【０１２７】この重合例２〜１４で製造された共重合体
は下記のとおりである。 共重合体２はＸ：０．３３、Ｙ：０．６７、Ｚ、Ｗ、Ｖ
は０でＭｗ＝１５０００。 共重合体３はＸ：０．２５、Ｙ：０．７５、Ｚ、Ｗ、Ｖ
は０でＭｗ＝１２０００。 共重合体４はＸ：０．２、Ｙ：０．７、Ｚ：０．１、
Ｗ、Ｖは０でＭｗ＝１８０００。 共重合体５はＸ：０．５、Ｙ：０．２５、Ｚ＝．２５、
Ｗ、Ｖは０でＭｗ＝３５０００。 共重合体６はＸ：０．２５、Ｙ：０．３７５、Ｚ＝０．
３７５、Ｗ、Ｖは０でＭｗ＝２７０００。 共重合体７はＸ：０．５、Ｙ：０．５、Ｚ、Ｗ、Ｖは０
でＭｗ＝１９０００。 共重合体８はＸ：０．２５、Ｙ：０．２５、Ｚ＝０．２
５、Ｗ＝０．２５、Ｖは０でＭｗ＝４７０００。 共重合体９はＸ：０．２５、Ｙ：０．２５、Ｚ＝０．２
５、Ｗ＝０．２５、Ｖは０でＭｗ＝３５０００。 共重合体１０はＸ：０．５、Ｙ：０．２５、Ｚ＝．２
５、Ｗ、Ｖは０でＭｗ＝３００００。 共重合体１１はＸ：０．５、Ｙ：０．４、Ｚ＝０．０
５、Ｗ＝０、Ｖ＝０．０５でＭｗ＝４５０００。 共重合体１２はＸ：０．５、Ｙ：０．３、Ｚ＝０．１、
Ｗ＝０．０５、Ｖ＝０．０５でＭｗ＝６５０００。 共重合体１３はＸ：０．５、Ｙ：０．３、Ｚ＝０．１、
Ｗ＝０．０５、Ｖ＝０．０５でＭｗ＝７１０００。 共重合体１４はＸ：０．５、Ｙ：０．３、Ｚ＝０．０
５、Ｗ＝０．０５、Ｖ＝０．１でＭｗ＝８００００。

【０１２８】［重合例１５］１００ｍｌの四つ口フラス
コにメタアクリル酸３−トリメトキシシリルプロピル
（ＬＳ３３８０、信越化学社製）１０ｇ、Ｎｏ．１０の
化合物 １０ｇ、トルエン ２０ｇ、アゾビスイソブチ
ロニトリル（ＡＩＢＮ）０．２ｇを取り、攪拌しながら
フルスコ中に窒素ガスを流し、窒素置換する。その後７
０℃に昇温し、３時間反応し、７５℃に温度を上げ３時
間、８０℃で２時間反応させ、重合を終了させて、一般
式（２）でＯ＝０．５、Ｐ＝０．５、Ｑ、Ｇ及びＨは０
の共重合体（Ｍｗ：１１０００）の共重合体１５を得
た。

【０１２９】［重合例１６〜２４］表７の組成で重合例
１５と同様にして重合し、一般式（２）又は（３）で表
わされる共重合体１６〜２４を製造した。

【０１３０】

【表７】

【０１３１】この重合例１６〜２４で製造された共重合
体は下記のとおりである。共重合体１６はＯ＝０．４、
Ｐ＝０．６、Ｑ、Ｇ、Ｈは０の一般式（２）で表される
共重合体でＭｗ２４０００である。共重合体１７はａ＝
０．３５、ｂ＝０．５、ｃ＝０．１５、ｅ、ｆは０の一
般式（３）で表される共重合体でＭｗ２８０００であ
る。共重合体１８はａ＝０．５、ｂ＝０．５、ｃ、ｅ、
ｆは０の一般式（３）で表される共重合体でＭｗ１５０
００である。共重合体１９はＯ＝０．５、Ｐ＝０．５、
Ｑ、Ｇ、Ｈは０の一般式（２）で表される共重合体でＭ
ｗ２２０００である。共重合体２０はＯ＝０．４５、Ｐ
＝０．５５、Ｑ、Ｇ、Ｈは０の一般式（２）で表される
共重合体でＭｗ２５０００である。共重合体２１はＯ＝
０．５、Ｐ＝０．４、Ｑ＝０、Ｇ＝０．０５、Ｈ＝０．
０５の一般式（２）で表される共重合体でＭｗ３０００
０である。共重合体２２はａ＝０．５、ｂ＝０．３、ｃ
＝０．１、ｅ＝０．０５、ｆ＝０．０５の一般式（３）
で表される共重合体でＭｗ１９０００である。共重合体
２３はＯ＝０．５、Ｐ＝０．３、Ｑ＝０．１、Ｇ＝０．
０５、Ｈ＝０．０５の一般式（２）で表される共重合体
でＭｗ２５０００である。共重合体２４はＯ＝０．５、
Ｐ＝０．３、Ｑ＝０．０５、Ｇ＝０．０５、Ｈ＝０．１
の一般式（２）で表される共重合体でＭｗ２６０００で
ある。

【０１３２】（実施例１）φ３０、３４０ｍｍのアルミ
ニウムシリンダーに、下記の下引き層用塗工液、電荷発
生層用塗工液を浸漬法により塗工した後、電荷輸送層用
塗工液をリング塗工し、１５０℃で３０分間乾燥、硬化
させて電子写真感光体を作製した。膜厚は、下引き層：
４μｍ、電荷発生層：０．２μｍ、電荷輸送層：２０μ
ｍであった。

【０１３３】〔下引き層用塗工液〕下記組成をボールミ
ルで２４時間分散して調製した。 アルキッド樹脂（ベッコゾール １３０７−６０−ＥＬ、 大日本インキ化学工業製） ６部 メラミン樹脂（スーパーベッカミン Ｇ−８２１−６０、 大日本インキ化学工業製） ４部 酸化チタン（ＣＲＥＬ 石原産業社製） ４０部 メチルエチルケトン ２００部

【０１３４】〔電荷発生層用塗工液〕下記組成をボーリ
ミルで７２時間粉砕、分散して調整した。

【化１７】 ポリビニルブチラール（ＵＣＣ：ＸＹＨＬ） １部 テトラヒドロフラン ５０部

【０１３５】 〔電荷輸送層用塗工液〕 重合例１の共重合体（固形分６０％） １．７部 Ｎｏ．２２の電荷輸送材 １部 テトラヒドロフラン（ＴＨＦ） ２部 ジブチル錫アセテート ０．０２部 の溶液を３時間攪拌して調製した。

【０１３６】（実施例２）実施例１と同様に下引き層、
電荷発生層を設けた上に、下記電荷輸送層用塗工液をリ
ング塗工で塗工、１５０℃で３０分間乾燥、硬化させ２
０μｍの電荷輸送層を設けて電子写真感光体を作製し
た。 ［電荷輸送層塗工液］ 重合例２の共重合体（固形分６０％） １．７部 Ｎｏ．２２の電荷輸送材 １部 ＴＨＦ ２部 トリメトキシメチルシラン ０．２部 ジメチルジメトキシシラン ０．２部 ジブチル錫アセテート ０．０２部 の溶液を３時間攪拌して調製した。

【０１３７】（実施例３〜１２）実施例２と同様にして
表８に示した組成で電子写真感光体を作製した。

【表８】

【０１３８】［比較重合例１］１００ｍｌの四つ口フラ
スコにＬＳ３３８０ （信越化学社製）２０ｇ、イソプ
ロピルアルコール ２０ｇ、ＡＩＢＮ ０．２ｇを取
り、攪拌しながらフルスコ中に窒素ガスを流し、窒素置
換する。その後７０℃に昇温し、３時間反応し、７５℃
に温度を上げ３時間、８０℃で２時間反応させ、重合を
終了させた。この単重合体Ｍｗは３３０００であった。

【０１３９】［比較重合例２］比較重合例１と同様にし
てＬＳ３３７５（信越化学社製）を重合した。この単重
合体Ｍｗは３５０００であった。

【０１４０】［比較重合例３］１００ｍｌの四つ口フラ
スコにＬＳ３３８０（信越化学社製）１８ｇ、Ｓｔ２
ｇ、トルエン １０ｇ、イソプロピルアルコール １０
ｇ、ＡＩＢＮ ０．２ｇを取り、攪拌しながらフルスコ
中に窒素ガスを流し、窒素置換する。その後７０℃に昇
温し、３時間反応し、７５℃に温度を上げ３時間、８０
℃で２時間反応させ、重合を終了させた。この共重合体
は一般式（１）のＸ＝０．９、Ｙ＝０．１、Ｚ、Ｗ及び
Ｖは０の組成で、Ｍｗ：２８０００であった。

【０１４１】［比較重合例４］１００ｍｌの四つ口フラ
スコにＬＳ３３８０（信越化学社製）１６ｇ、Ｓｔ２
ｇ、トルエン １０ｇ、ＭＭＡ ２ｇ、イソプロピルア
ルコール １０ｇ、ＡＩＢＮ ０．２ｇを取り、攪拌し
ながらフルスコ中に窒素ガスを流し、窒素置換する。そ
の後７０℃に昇温し、３時間反応し、７５℃に温度を上
げ３時間、８０℃で２時間反応させ、重合を終了させ
た。この共重合体は一般式（１）のＸ＝０．８、Ｙ＝
０．１、Ｚ＝０．１、Ｗ及びＶは０の組成で、Ｍｗ：４
８０００であった。

【０１４２】（比較例１）実施例１と同様に下引き層、
電荷発生層を設けた上に下記電荷輸送層用塗工液をリン
グ塗工で塗工し、１５０℃で３０分間乾燥して、硬化さ
せ、２０μｍの電荷輸送層を設けて電子写真感光体を作
製した。電荷輸送層は相溶性が悪く、透明性がなく白化
した。 ［電荷輸送層用塗工液］ 比較重合例１の重合体（固形分５０％） ２部 Ｎｏ．２２の電荷輸送材 １部 ＴＨＦ ２部 トリメトキシメチルシラン ０．２部 ジメチルジメトキシシラン ０．２部 ジブチル錫アセテート ０．０２部 の溶液を３時間攪拌して調製した。

【０１４３】（比較例２）比較例１の比較合成例１を比
較合成例２に変更以外は同様にして電子写真感光体を作
製した。電荷輸送層は相溶性が悪く、透明性がなく白化
した。

【０１４４】（比較例３）比較例１の比較合成例１を比
較合成例３に変更以外は同様にして電子写真感光体を作
製した。塗膜は比較例１、２に比較すると白化はないも
のの濁りがあり、透明性に欠けるものであった。

【０１４５】（比較例４）実施例１と同様に下引き層、
電荷発生層を設けた上に下記電荷輸送層（厚さ２０μ
ｍ）をもうけて電子写真感光体を作製した。 〔電荷輸送層用塗工液〕 下記組成を溶解し調製した。 ポリスチレン（ＭＷ１ トーヨースチロール社製） １０部 Ｎｏ．２２の電荷輸送材 ７部 テトラヒドロフラン ７０部 １％シリコーンオイル（ＫＦ５０ 信越シリコーン社製） （テトラヒドフラン溶液） １部

【０１４６】（比較例５）実施例１と同様に下引き層、
電荷発生層を設けた上に下記電荷輸送層（厚さ２０μ
ｍ）をもうけた。 〔電荷輸送層用塗工液〕 下記組成を溶解し調製した。 ポリカーボネートＺ（ＴＳ２０５０ 帝人化成社製） １０部 Ｎｏ．２２の電荷輸送材 ７部 テトラヒドロフラン ７０部 １％シリコーンオイル（ＫＦ５０ 信越シリコーン社製） （テトラヒドフラン溶液） １部

【０１４７】実施例１〜１２及び比較例１〜５の感光体
をローラー帯電方式、６５５ｎｍのレーザー露光、２成
分現像方式、ウレタンゴムブレードカウンタークリーニ
ング方式を具備したリコー製イマジオＭＦ２２００に装
着し、１万枚のランニング試験を行った。結果を表９に
示す。なお、感光層の摩耗量はフィッシャー製渦電流膜
厚計で計測した。

【０１４８】

【表９】

【０１４９】（実施例１３）φ３０ｍｍアルミニウムシ
リンダー上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生
層用塗工液を順次、塗布乾燥することにより、３．５μ
ｍの下引き層、０．２μｍの電荷発生層を設けた。この
上に、下組成の電荷輸送層用塗工液をリング塗工し、１
５０℃で３０分間乾燥、硬化させ２０μｍの電荷輸送層
を形成させ電子写真感光体を得た。

【０１５０】 〔下引き層用塗工液〕 アルキッド樹脂 ６部 （ベッコゾール １３０７−６０−ＥＬ、大日本インキ化学工業製） メラミン樹脂 ４部 （スーパーベッカミン Ｇ−８２１−６０、大日本インキ化学工業製） 酸化チタン ４０部 （ＣＲＥＬ 石原産業社製） メチルエチルケトン ２００部

【０１５１】 〔電荷発生層用塗工液〕 オキソチタニウムフタロシアニン顔料 ２部 ポリビニルブチラール（ＵＣＣ：ＸＹＨＬ） ０．２部 テトラヒドロフラン ５０部

【０１５２】 〔電荷輸送層用塗工液〕 重合例１１固形分５０％ ４部 Ｎｏ．３１の電荷輸送材 ０．７部 ジメトキシジメチルシラン ０．２５部 メチルトリメトキシシラン ０．７５部 ＴＨＦ １部 ジブチル錫アセテート ０．０５部 の溶液を４時間攪拌して調製した。

【０１５３】（実施例１４）実施例１３と同様に下引き
層、電荷発生層を設けた上に、下記電荷輸送層（厚さ２
０μｍ）を設けて電子写真感光体を作製した。 ［電荷輸送層用塗工液］ 重合例１２の共重合体（固形分５０％） ４部 Ｎｏ．２３の電荷輸送材 ２部 ジメトキシジメチルシラン ０．２５部 メチルトリメトキシシラン ０．７５部 ＴＨＦ ２部 ジブチル錫アセテート ０．０５部 の溶液を４時間攪拌して調製した。

【０１５４】（実施例１５〜１７）実施例１３と同様に
して表１０の組成で電子写真感光体を作製した。

【０１５５】

【表１０】

【０１５６】続いて、実施例１３〜１７で得られた感光
体を図３に示したプロセスカートリッジに装着して、リ
コー製イマジオ２２００で１万枚のランニング試験を行
った。結果を表１１に示した。

【０１５７】

【表１１】

【０１５８】（実施例１８）比較例４の感光体上に実施
例１１で用いた電荷輸送塗工液をリング塗工して、１５
０℃３０分間乾燥、硬化して最上層に３μｍ設けた。

【０１５９】（実施例１９）比較例４の感光体上に重合
例１２（固形分濃度５０％）１部、電荷輸送材（Ｎｏ．
３２）、０．３部、エタノール１．７部、ジブチル錫ア
セテート０．０２部の溶液をリング塗工して、１５０℃
３０分間乾燥、硬化させて３μｍ膜厚の最上層を設け
た。

【０１６０】（実施例２０）比較例５の感光体上に以下
の塗工液をリング塗工して、１５０℃３０分間乾燥、硬
化させて３μｍ膜厚の最上層を設けた。

【０１６１】（塗工液）重合例１４を５部、アルミナ
（ＡＡ０３ 住友化学社製）１．５部、エタノール８部
を振動ミルで２時間分散後、Ｎｏ．３２の電荷輸送材
１．７部添加して再度３０分間分散して塗工液とした。

【０１６２】続いて、実施例１８〜２０で得られた感光
体を図３に示したプロセスカートリッジに装着して、リ
コー製イマジオ２２００で１万枚のランニング試験を行
った。結果を表１２に示した。

【０１６３】

【表１２】

【０１６４】（実施例２１）実施例１と同様に下引き
層、電荷発生層を設けた上に重合例１５化合物（固形分
濃度５０％）２部、ジブチル錫アセテート ０．０５部
の塗工液をリング塗工で塗工し、１５０℃で３０分間乾
燥、硬化させ２０μｍの電荷輸送層を設けて電子写真感
光体を作製した。

【０１６５】（実施例２２〜２６）実施例１と同様に下
引き層、電荷発生層を設けた上に、下記表１３に示した
電荷輸送層塗工液を塗布し実施例２１と同様に感光体を
作製した。

【表１３】

【０１６６】実施例２１〜２６の感光体を実施例１と同
様にリコー製イマジオＭＦ２２００に装着し、１万枚の
ランニング試験を行った。結果を表１４に示した。

【表１４】

【０１６７】実施例１〜２６の感光体を温度３０℃、湿
度９０％の環境で画像出しを行った結果、全ての感光体
で画像ボケは観察されなかった。

【０１６８】

【発明の効果】本発明によれば、相溶性が良く、感光特
性が良好な硬化バインダー樹脂を使用することで高耐久
性な電子写真感光体が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の画像形成・装置の概略図である。

【図２】本発明の別の画像形成・装置の概略図である。

【図３】本発明の画像形成装置用プロセスカートリッジ
の概略図である。

【符号の説明】

１ 感光体 ２ 除電ランプ ３ 帯電チャージャ ４ イレーサ ５ 画像露光部 ６ 現像ユニット ７ 転写前チャージャ ８ レジストローラ ９ 転写紙 １０ 転写チャージャ １１ 分離チャージャ １２ 分離爪 １３ クリーニング前チャージャ １４ ファーブラシ １５ クリーニングブラシ １６ 感光体 １７ 帯電チャージャ １８ クリーニングブラシ １９ 画像露光部 ２０ 現像ローラ ２１ 感光体 ２２ 駆動ローラ ２３ 帯電チャージャ ２４ 像露光源 ２５ 転写チャージャ ２６ クリーニング前露光 ２７ クリーニングブラシ ２８ 除電光源 ３１ 感光体 ３２ クリーニングブレード ３３ 帯電ローラ ３４ 現像ユニット ３５ クリーニングユニット ３６ 搬送スクリュー ３７ 現像スリーブ ３８ 現像剤セットケース ３９ ドクター ４０ トナー搬送コイル ４１ 画像露光部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｋ 5/541 Ｃ０８Ｌ 25/14 Ｃ０８Ｌ 25/14 33/08 33/08 Ｃ０８Ｋ 5/54 Ｆターム(参考） 2H068 AA13 AA14 BA58 BB07 BB08 BB10 BB21 BB33 BB52 BB53 FA03 FA27 4J002 BC071 BG041 BG051 EX036 FD020 FD050 FD070 FD090 FD146 FD170 GP03 4J100 AB04P AB07P AL03P AL03R AL03S AL03T AL08Q AL08R AL08S BA31P BA72Q BA77Q BA81T BC43P BC43R BC43S CA03 CA04 CA05 CA06 CA31 HA53 HC78 JA37

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性支持体上に感光層を設けた電子写
   真感光体において、該感光層のバインダー樹脂が少なく
   とも下記一般式（１）で表される共重合樹脂を含有する
   ことを特徴とする電子写真感光体。 【化１】 （式中、Ｒ¹、Ｒ⁵、Ｒ⁷、Ｒ³⁰、Ｒ³²は水素またはメチ
   ル基、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は炭素数１〜４のアルキル基、ま
   たは炭素数１〜４のアルコキシ基を表し、これら置換基
   は同一でも異なってもよく、アルコキシ基は一つ以上、
   三つ以下置換されていてもよい。Ｒ⁶は水素、炭素数１
   〜４の置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは
   無置換のアリール基、Ｒ⁸は、炭素数１〜４の置換もし
   くは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換の
   アリール基を表し、Ｒ³¹は水素、炭素数１〜４の置換も
   しくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換
   のアリール基を表し、Ｒ³³はポリシロキサン置換アルキ
   ル基を表す。ｎは１〜４の整数、ｍは１〜５の整数、
   Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｗ、Ｖは共重合比を表し、全重量比で０．
   １≦Ｘ≦０．７、０．２≦Ｙ≦０．８、０≦Ｚ≦０．
   ５、０≦Ｗ≦０．５、０≦Ｖ≦０．５の範囲（Ｘ＋Ｙ＋
   Ｚ＋Ｗ＋Ｖ＝１）で表す。Ｓは繰り返し単位を表し１０
   〜１０００の整数である。）
2. 【請求項２】 導電性支持体上に感光層を設けた電子写
   真感光体において、該感光層のバインダー樹脂が少なく
   とも下記一般式（２）で表される共重合樹脂を含有する
   ことを特徴とする電子写真感光体。 【化２】 （式中、Ｒ¹、Ｒ⁷、Ｒ³⁰、Ｒ³²は水素またはメチル基、
   Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は炭素数１〜４のアルキル基、または炭
   素数１〜４のアルコキシ基を表し、これら置換基は同一
   でも異なってもよく、アルコキシ基は一つ以上、三つ以
   下置換されていてもよい。Ｒ⁹は水素またはメチル基を
   表す。Ａｒ¹、Ａｒ²は置換もしくは無置換のアリール基
   を表し、これらは同一であっても異なってもよい。Ａｒ
   ³、Ａｒ⁴は置換もしくは無置換のアリーレン基を表し、
   これらは同一であっても異なってもよい。Ｄは単結合、
   置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置
   換シクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレ
   ンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表
   す。Ｒ⁸は、炭素数１〜４の置換もしくは無置換のアル
   キル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表
   し、Ｒ³¹は水素、炭素数１〜４の置換もしくは無置換の
   アルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基、
   Ｒ³³はポリシロキサン置換アルキル基を表す。ｎは１〜
   ４の整数、Ｏ、Ｐ、Ｑ、Ｇ、Ｈは共重合比を表し、全重
   量比で０．１≦Ｏ≦０．７、０．２≦Ｐ≦０．８、０≦
   Ｑ≦０．５、０≦Ｇ≦０．５、０≦Ｈ≦０．５の範囲
   （Ｏ＋Ｐ＋Ｑ＋Ｇ＋Ｈ＝１）で表す。ｔは繰り返し単位
   を表し１０〜１０００の整数である。）
3. 【請求項３】 導電性支持体上に感光層を設けた電子写
   真感光体において、該感光層のバインダー樹脂が少なく
   とも下記一般式（３）で表される単量体の共重合樹脂を
   含有することを特徴とする電子写真感光体。 【化３】 （式中、Ｒ¹、Ｒ⁷、Ｒ³⁰、Ｒ³²は水素またはメチル基、
   Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は炭素数１〜４のアルキル基、または炭
   素数１〜４のアルコキシ基を表し、これら置換基は同一
   でも異なってもよく、アルコキシ基は一つ以上、三つ以
   下置換されていてもよい。Ｒ¹⁰は水素またはメチル基を
   表す。Ａｒ⁵、Ａｒ⁶は置換もしくは無置換のアリール
   基、Ａｒ⁷は置換もしくは無置換のアリーレン基を表
   し、Ｒ⁸は、炭素数１〜４の置換もしくは無置換のアル
   キル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表
   し、Ｒ³¹は水素、炭素数１〜４の置換もしくは無置換の
   アルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を
   表し、Ｒ³³はポリシロキサン置換アルキル基を表す。ｎ
   は１〜４の整数、ａ、ｂ、ｃ、ｅ、ｆは共重合比を表
   し、全重量比で０．１≦ａ≦０．７、０．２≦ｂ≦０．
   ８、０≦ｃ≦０．５、０≦ｅ≦０．５、０≦ｆ≦０．５
   の範囲（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｅ＋ｆ＝１）で表す。ｕは繰り返
   し単位を表し１０〜１０００の整数である。）
4. 【請求項４】 導電性支持体上に感光層を設けた電子写
   真感光体において、該感光層のバインダー樹脂が少なく
   とも上記一般式（１）、（２）又は（３）で表された共
   重合体と下記一般式（４）で表される化合物の一種ある
   いは二種以上を共存させ硬化させたものであることを特
   徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の電子写真感光
   体。 【化４】 （式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴は水酸基、炭素数１〜
   ４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはア
   リール基を表す。）
5. 【請求項５】 少なくとも感光体、帯電手段、画像露光
   手段、現像手段及び転写手段を備えた画像形成装置であ
   って、該感光体が導電性支持体上に請求項１〜４のいず
   れかに記載の共重合体樹脂をバインダーとして用いた感
   光層を設けた電子写真感光体であることを特徴とする画
   像形成装置。
6. 【請求項６】 感光体と、帯電手段、現像手段及びクリ
   ーニング手段から選ばれた少なくとも一つの手段とを一
   体的に支持してなり、画像形成装置に着脱自在とした画
   像形成装置用プロセスカートリッジであって、該感光体
   が請求項１〜４のいずれかに記載の電子写真感光体であ
   ることを特徴とする画像形成装置用プロセスカートリッ
   ジ。