JP2003233180A - Photosensitive planographic printing plate material and image forming method - Google Patents
Photosensitive planographic printing plate material and image forming methodInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、感光性平版印刷版
材料、感光性平版印刷版材料を用いた画像形成方法に関
するものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate material and an image forming method using the photosensitive lithographic printing plate material.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、親水化表面処理を行った支持
体上に、光重合性感光層及び保護層を積層した感光性平
版印刷版材料が知られている。また、特に近年は、迅速
に高解像度の平版印刷版材料を得る為、又、フィルムレ
ス化を目的として、レーザーを使用する画像情報に基づ
くデジタル露光を行い、これを現像して平版印刷版を製
造する方法が汎用化されている。2. Description of the Related Art Conventionally, there is known a photosensitive lithographic printing plate material in which a photopolymerizable photosensitive layer and a protective layer are laminated on a support which has been subjected to a hydrophilic surface treatment. In addition, particularly in recent years, in order to quickly obtain a high-resolution lithographic printing plate material, and for the purpose of filmless, digital exposure based on image information using a laser is performed, and this is developed to obtain a lithographic printing plate. The manufacturing method is generalized.
【0003】例えば一例を挙げると、電子製版システム
や画像処理システム等からの出力信号ないしは通信回線
等により伝送された画像信号により、光源を変調し、感
光性材料に直接走査露光をして、印刷版を形成するシス
テムが知られている。As an example, for example, an output signal from an electronic plate making system or an image processing system or an image signal transmitted through a communication line modulates a light source to directly scan and expose a photosensitive material for printing. Systems for forming plates are known.
【0004】光重合性感光層は、一般的にアクリル系単
量体、アルカリ可溶性樹脂及び光重合性開始剤、更に必
要に応じて(特にレーザー書き込みを行う際)波長に適
合させるために増感色素を含有することが知られてい
る。The photopolymerizable photosensitive layer is generally sensitized in order to adjust the wavelength to an acrylic monomer, an alkali-soluble resin and a photopolymerizable initiator and, if necessary (particularly when performing laser writing), a wavelength. It is known to contain pigments.
【0005】また、酸素による重合阻害を防止する目的
で、保護層を設けることも知られている。It is also known to provide a protective layer for the purpose of preventing polymerization inhibition by oxygen.
【0006】光重合型の感光性平版印刷版材料を露光・
製版する光源としては、Arレーザー(488nm)や
FD−YAGレーザー(532nm)の様な長波長の可
視光源が用いられている。さらに近年では、例えば、I
nGaN系やZnSe系の材料を用い、350nmから
450nm域で連続発振可能な半導体レーザーが実用段
階となっている。これらの短波光源を用いた走査露光シ
ステムは、半導体レーザーが構造上、安価に製造出来る
ため、十分な出力を有しながら、経済的なシステムを構
築できるといった長所を有する。さらに、従来のFD−
YAGやArレーザーを使用するシステムに比較して、
より明るいセーフライト下での作業が可能な感光域が短
波な感光性平版印刷版材料に使用できる可能性がある。Exposure of a photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate material
As a light source for plate making, a long-wavelength visible light source such as an Ar laser (488 nm) or an FD-YAG laser (532 nm) is used. More recently, for example, I
A semiconductor laser that uses nGaN-based or ZnSe-based materials and is capable of continuous oscillation in the 350 nm to 450 nm region is in the practical stage. The scanning exposure system using these short-wave light sources has an advantage that an economical system can be constructed while having a sufficient output because the semiconductor laser can be manufactured inexpensively due to its structure. Furthermore, conventional FD-
Compared to systems that use YAG or Ar lasers,
There is a possibility that it can be used for a photosensitive lithographic printing plate material having a short-wavelength photosensitive region that can be operated under a brighter safe light.
【0007】光重合型の感光性平版印刷版材料では通
常、画像露光、必要に応じ加熱処理を行った後、保護層
除去のための水洗、未露光部分を溶解除去するための現
像処理、水洗処理、非画像部の親水化のためのフィニッ
シャーガム処理を行い、平版印刷版を得ている。このと
き画像露光後、加熱処理を行うことで重合反応を促進さ
せて高感度化、高耐刷化が得られることが知られてい
る。In the case of a photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate material, it is usually subjected to image exposure and, if necessary, heat treatment, followed by washing with water for removing the protective layer, developing treatment for dissolving and removing unexposed portions, and washing with water. Treatment and finisher gum treatment for making the non-image area hydrophilic are performed to obtain a lithographic printing plate. At this time, it is known that a heat treatment is carried out after the image exposure to accelerate the polymerization reaction to obtain high sensitivity and high printing durability.
【0008】一方、感光性平版印刷版材料の現像液とし
ては、非画像部の感光層を完全に除去する為、即ち現像
を行う為に、通常、水系アルカリ現像液として、pH1
2.5以上で用いられることが一般的であった。しかし
ながら、近年に至り、作業性、安全性、環境適性等の観
点からより低いpHのアルカリ現像液での処理が望まれ
る様になってきている。On the other hand, as a developer for the photosensitive lithographic printing plate material, in order to completely remove the photosensitive layer in the non-image area, that is, to perform development, it is usually used as an aqueous alkaline developer at pH 1
It was generally used at 2.5 or higher. However, in recent years, treatment with an alkaline developer having a lower pH has been desired from the viewpoint of workability, safety, environmental suitability and the like.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法では、光と熱の2度の反応を利用するため、露光の際
の光の散乱の影響が表れやすく、安定した網点の再現性
に問題がある。特にレーザー走査による画像露光終了か
ら加熱までの時間差のため面内での網点均一性に問題が
あった。However, in this method, since the reaction between light and heat is used twice, the influence of light scattering during exposure is apt to appear, and there is a problem in stable halftone dot reproducibility. There is. In particular, there is a problem in halftone dot uniformity within the plane due to the time difference between the end of image exposure by laser scanning and the heating.
【0010】また、光重合型の感光性平版印刷版材料
は、感度、長期保存性を確保するのが難しいという問題
がある。これは、長期保存により暗反応を起こすためで
ある。Further, the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate material has a problem that it is difficult to secure sensitivity and long-term storage stability. This is because a long-term storage causes a dark reaction.
【0011】さらに、低いpHの現像液での現像を行う
と、現像性や現像スラッジ量が増加する等の問題が明ら
かとなり、また一方、低いpHの現像液での現像で感光
性重合層の現像性を高めようとすると、感度、網点再現
性、保存安定性が悪くなるという問題が発生してしまう
という課題があった。Further, when developing with a developing solution having a low pH, problems such as an increase in developability and the amount of developing sludge become apparent, and, on the other hand, the developing with a developing solution having a low pH results in formation of a photosensitive polymer layer. There is a problem in that, when trying to improve the developability, sensitivity, halftone dot reproducibility and storage stability are deteriorated.
【0012】本発明はかかる課題に鑑みてなされたもの
であり、本発明の目的は、保存安定性がよく、感度、網
点再現性に優れ画像性能の高い感光性平版印刷版材料及
び画像形成方法を提供することである。The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate material having excellent storage stability, excellent sensitivity and halftone dot reproducibility and high image performance, and image formation. Is to provide a method.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成により達成された。The above object of the present invention has been achieved by the following constitution.
【0014】(1) 支持体上に、付加重合可能なエチ
レン性不飽和結合含有単量体、光重合開始剤および高分
子結合剤を含有する、少なくとも1層の光重合性感光層
を有する感光性平版印刷版材料であり、画像露光して画
像様に該感光層を光硬化させた後、前記光重合性感光層
の非画像部分を現像液で支持体から除去して光硬化画像
を形成する感光性平版印刷版材料において、前記高分子
結合剤は、重量平均分子量(Mw)が15000〜30
000であり、カルボキシル基を有するモノマー単位
(A)および該カルボキシル基を有するモノマー単位の
少なくとも一部にエポキシ基含有不飽和化合物を反応さ
せた単位(B)を構成要素として有し、かつ、前記
(B)を10〜30モル%含有する共重合体であり、画
像露光後、加熱処理を施した後に現像処理を行うことを
特徴とする感光性平版印刷版材料。(1) A photosensitive material having at least one photopolymerizable photosensitive layer containing an addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing monomer, a photopolymerization initiator and a polymer binder on a support. Photolithographic printing plate material, which is imagewise exposed to light to cure the photosensitive layer imagewise, and then the non-image part of the photopolymerizable photosensitive layer is removed from the support with a developer to form a photocured image. In the photosensitive lithographic printing plate material described above, the polymer binder has a weight average molecular weight (Mw) of 15,000 to 30.
000, and has a monomer unit (A) having a carboxyl group and a unit (B) obtained by reacting an epoxy group-containing unsaturated compound with at least a part of the monomer unit having a carboxyl group as constituent elements, and A photosensitive lithographic printing plate material, which is a copolymer containing 10 to 30 mol% of (B), and which is subjected to a heat treatment and a development treatment after imagewise exposure.
【0015】(2) 支持体上に、付加重合可能なエチ
レン性不飽和結合含有単量体、光重合開始剤および高分
子結合剤を含有する、少なくとも1層の光重合性感光層
を有する感光性平版印刷版材料であり、画像露光して画
像様に該感光層を光硬化させた後、前記光重合性感光層
の非画像部分を現像液で支持体から除去して光硬化画像
を形成する感光性平版印刷版材料において、前記高分子
結合剤は、酸価が60〜110mgKOH/gであり、
カルボキシル基を有するモノマー単位(A)および該カ
ルボキシル基を有するモノマー単位の少なくとも一部に
エポキシ基含有不飽和化合物を反応させた単位(B)を
構成要素として有し、かつ、前記(B)を10〜30モ
ル%含有する共重合体であり、画像露光後、加熱処理を
施した後に現像処理を行うことを特徴とする感光性平版
印刷版材料。(2) A photosensitive material having at least one photopolymerizable photosensitive layer on a support, which contains an addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing monomer, a photopolymerization initiator and a polymer binder. Photolithographic printing plate material, which is imagewise exposed to light to cure the photosensitive layer imagewise, and then the non-image part of the photopolymerizable photosensitive layer is removed from the support with a developer to form a photocured image. In the photosensitive lithographic printing plate material, the polymer binder has an acid value of 60 to 110 mgKOH / g,
A monomer unit (A) having a carboxyl group and a unit (B) obtained by reacting at least a part of the monomer unit having a carboxyl group with an epoxy group-containing unsaturated compound, as constituent elements, and A photosensitive lithographic printing plate material which is a copolymer containing 10 to 30 mol% and is characterized in that after imagewise exposure, it is subjected to heat treatment and then development.
【0016】(3) 支持体上に、付加重合可能なエチ
レン性不飽和結合含有単量体、光重合開始剤および高分
子結合剤を含有する、少なくとも1層の光重合性感光層
を有する感光性平版印刷版材料であり、画像露光して画
像様に該感光層を光硬化させた後、前記光重合性感光層
の非画像部分を現像液で支持体から除去して光硬化画像
を形成する感光性平版印刷版材料において、前記高分子
結合剤は、重量平均分子量(Mw)が15000〜30
000であり、酸価が60〜110mgKOH/gであ
り、カルボキシル基を有するモノマー単位(A)および
該カルボキシル基を有するモノマー単位の少なくとも一
部にエポキシ基含有不飽和化合物を反応させた単位
(B)を構成要素として有し、かつ、前記(B)を10
〜30モル%含有する共重合体であり、画像露光後、加
熱処理を施した後に現像処理を行うことを特徴とする感
光性平版印刷版材料。(3) A photosensitive material having at least one photopolymerizable photosensitive layer containing an addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing monomer, a photopolymerization initiator and a polymer binder on a support. Photolithographic printing plate material, which is imagewise exposed to light to cure the photosensitive layer imagewise, and then the non-image part of the photopolymerizable photosensitive layer is removed from the support with a developer to form a photocured image. In the photosensitive lithographic printing plate material described above, the polymer binder has a weight average molecular weight (Mw) of 15,000 to 30.
000, an acid value of 60 to 110 mgKOH / g, and a unit (B) obtained by reacting a monomer unit (A) having a carboxyl group and at least a part of the monomer unit having the carboxyl group with an epoxy group-containing unsaturated compound. ) As a component, and (B) 10
A photosensitive lithographic printing plate material, characterized in that the copolymer is contained in an amount of ˜30 mol%, and the imagewise exposure is followed by heat treatment and then development.
【0017】(4) 前記現像液は珪酸塩を含有し、p
H10.0〜12.5であることを特徴とする(1)〜
(3)のいずれか1項に記載の感光性平版印刷版材料。(4) The developer contains a silicate,
H10.0 to 12.5 (1) to
The photosensitive lithographic printing plate material as described in any one of (3).
【0018】(5) 前記加熱処理が、版面温度100
〜130℃で5〜60秒行うことを特徴とする(1)〜
(4)のいずれか1項に記載の感光性平版印刷版材料。(5) The heat treatment is performed at a plate surface temperature of 100.
~ 130 ° C for 5 to 60 seconds, characterized by (1) ~
The photosensitive lithographic printing plate material as described in any one of (4).
【0019】(6) 前記加熱処理が、画像露光後30
0秒以内に行われることを特徴とする(5)に記載の感
光性平版印刷版材料。(6) The heat treatment is carried out 30 times after image exposure.
The photosensitive lithographic printing plate material as described in (5), which is performed within 0 seconds.
【0020】(7) 前記光重合性感光層の上に、酸素
遮断層を有することを特徴とする(1)〜(6)のいず
れか1項に記載の感光性平版印刷版材料。(7) The photosensitive lithographic printing plate material as described in any one of (1) to (6), which has an oxygen barrier layer on the photopolymerizable photosensitive layer.
【0021】(8) 前記支持体が、少なくとも粗面化
および陽極酸化処理が施されたアルミニウム支持体であ
ることを特徴とする(1)〜(7)のいずれか1項に記
載の感光性平版印刷版材料。(8) The photosensitive material according to any one of (1) to (7), wherein the support is an aluminum support which has been at least roughened and anodized. Lithographic printing plate material.
【0022】(9) 前記支持体が、更に親水化処理ま
たは下引き処理が施されたアルミニウム支持体であるこ
とを特徴とする(8)に記載の感光性平版印刷版材料。(9) The photosensitive lithographic printing plate material as described in (8), wherein the support is an aluminum support which is further subjected to a hydrophilic treatment or an undercoat treatment.
【0023】(10) 支持体上に、付加重合可能なエ
チレン性不飽和結合含有単量体、光重合開始剤および高
分子結合剤を含有する、少なくとも1層の光重合性感光
層を有する感光性平版印刷版材料に、画像露光して画像
様に該感光層を光硬化させた後、前記光重合性感光層の
非画像部分を現像液で支持体から除去して光硬化画像を
形成する画像形成方法において、前記高分子結合剤は、
重量平均分子量(Mw)が15000〜30000であ
り、カルボキシル基を有するモノマー単位(A)および
該カルボキシル基を有するモノマー単位の少なくとも一
部にエポキシ基含有不飽和化合物を反応させた単位
(B)を構成要素として有し、かつ、前記(B)を10
〜30モル%含有する共重合体であり、画像露光後、加
熱処理を施した後に現像処理を行うことを特徴とする画
像形成方法。(10) A photosensitive material having at least one photopolymerizable photosensitive layer containing an addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing monomer, a photopolymerization initiator and a polymer binder on a support. Image-wise exposing the photosensitive lithographic printing plate material imagewise to photo-cur the photosensitive layer, and then a non-image portion of the photo-polymerizable photosensitive layer is removed from the support with a developer to form a photo-cured image. In the image forming method, the polymer binder is
A weight average molecular weight (Mw) is 15,000 to 30,000, and a monomer unit (A) having a carboxyl group and a unit (B) obtained by reacting at least a part of the monomer unit having a carboxyl group with an epoxy group-containing unsaturated compound are prepared. It has as a component and the above (B) is 10
The image forming method is characterized in that the copolymer is contained in an amount of ˜30 mol%, and the imagewise exposure is followed by heat treatment and then development.
【0024】(11) 支持体上に、付加重合可能なエ
チレン性不飽和結合含有単量体、光重合開始剤および高
分子結合剤を含有する、少なくとも1層の光重合性感光
層を有する感光性平版印刷版材料に、画像露光して画像
様に該感光層を光硬化させた後、前記光重合性感光層の
非画像部分を現像液で支持体から除去して光硬化画像を
形成する画像形成方法において、前記高分子結合剤は、
酸価が60〜110mgKOH/gであり、カルボキシ
ル基を有するモノマー単位(A)および該カルボキシル
基を有するモノマー単位の少なくとも一部にエポキシ基
含有不飽和化合物を反応させた単位(B)を構成要素と
して有し、かつ、前記(B)を10〜30モル%含有す
る共重合体であり、画像露光後、加熱処理を施した後に
現像処理を行うことを特徴とする画像形成方法。(11) A photosensitive material having at least one photopolymerizable photosensitive layer containing an addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing monomer, a photopolymerization initiator and a polymer binder on a support. Image-wise exposing the photosensitive lithographic printing plate material imagewise to photo-cur the photosensitive layer, and then a non-image portion of the photo-polymerizable photosensitive layer is removed from the support with a developer to form a photo-cured image. In the image forming method, the polymer binder is
The acid value is 60 to 110 mgKOH / g, and the monomer unit (A) having a carboxyl group and the unit (B) obtained by reacting at least a part of the monomer unit having a carboxyl group with an epoxy group-containing unsaturated compound are constituent elements. Which is a copolymer containing (B) in an amount of 10 to 30 mol% and which is subjected to a heat treatment and a development treatment after the image exposure.
【0025】(12) 支持体上に、付加重合可能なエ
チレン性不飽和結合含有単量体、光重合開始剤および高
分子結合剤を含有する、少なくとも1層の光重合性感光
層を有する感光性平版印刷版材料に、画像露光して画像
様に該感光層を光硬化させた後、前記光重合性感光層の
非画像部分を現像液で支持体から除去して光硬化画像を
形成する画像形成方法において、前記高分子結合剤は、
重量平均分子量(Mw)が15000〜30000であ
り、酸価が60〜110mgKOH/gであり、カルボ
キシル基を有するモノマー単位(A)および該カルボキ
シル基を有するモノマー単位の少なくとも一部にエポキ
シ基含有不飽和化合物を反応させた単位(B)を構成要
素として有し、かつ、前記(B)を10〜30モル%含
有する共重合体であり、画像露光後、加熱処理を施した
後に現像処理を行うことを特徴とする画像形成方法。(12) A photosensitive material having at least one photopolymerizable photosensitive layer containing an addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing monomer, a photopolymerization initiator and a polymer binder on a support. Image-wise exposing the photosensitive lithographic printing plate material imagewise to photo-cur the photosensitive layer, and then a non-image portion of the photo-polymerizable photosensitive layer is removed from the support with a developer to form a photo-cured image. In the image forming method, the polymer binder is
The weight average molecular weight (Mw) is 15,000 to 30,000, the acid value is 60 to 110 mgKOH / g, and at least a part of the monomer unit (A) having a carboxyl group and the monomer unit having the carboxyl group does not contain an epoxy group. A copolymer having a unit (B) obtained by reacting a saturated compound as a constituent and also containing 10 to 30 mol% of the above (B), which is subjected to heat treatment after image exposure and development treatment. An image forming method characterized by performing.
【0026】(13) 前記現像液は珪酸塩を含有し、
pH10.0〜12.5であることを特徴とする(1
0)〜(12)のいずれか1項に記載の画像形成方法。(13) The developer contains a silicate,
It is characterized in that the pH is 10.0 to 12.5 (1
The image forming method according to any one of 0) to (12).
【0027】(14) 前記加熱処理が、版面温度10
0〜130℃で5〜60秒行うことを特徴とする(1
0)〜(13)のいずれか1項に記載の画像形成方法。(14) In the heat treatment, the plate surface temperature is 10
Characterized by performing the treatment at 0 to 130 ° C. for 5 to 60 seconds (1
The image forming method according to any one of 0) to (13).
【0028】(15) 前記加熱処理が、画像露光後3
00秒以内に行われることを特徴とする(14)に記載
の画像形成方法。(15) The heat treatment is performed 3 times after image exposure.
The image forming method as described in (14), which is performed within 00 seconds.
【0029】(16) 前記光重合性感光層の上に、酸
素遮断層を有することを特徴とする(10)〜(15)
のいずれか1項に記載の画像形成方法。(16) An oxygen barrier layer is provided on the photopolymerizable photosensitive layer (10) to (15).
The image forming method according to any one of 1.
【0030】(17) 前記支持体が、少なくとも粗面
化および陽極酸化処理が施されたアルミニウム支持体で
あることを特徴とする(10)〜(16)のいずれか1
項に記載の画像形成方法。(17) Any one of (10) to (16), wherein the support is an aluminum support that has been at least roughened and anodized.
The image forming method according to item.
【0031】(18) 前記支持体が、更に親水化処理
または下引き処理が施されたアルミニウム支持体である
ことを特徴とする(17)に記載の画像形成方法。(18) The image forming method as described in (17), wherein the support is an aluminum support which has been further subjected to a hydrophilic treatment or a subbing treatment.
【0032】以下に本発明を詳細に説明する。本発明の
感光性平版印刷版材料及び本発明の画像形成方法で用い
る感光性平版印刷版材料に用いることができる支持体
は、例えばアルミニウム、ステンレス、クロム、ニッケ
ル等の金属板、また、ポリエステルフィルム、ポリエチ
レンフィルム、ポリプロピレンフィルム等のプラスチッ
クフィルムに前述の金属薄膜をラミネート又は蒸着した
もの、また、ポリエステルフィルム、塩化ビニルフィル
ム、ナイロンフィルム等の表面に親水化処理を施したも
の等が使用できるが、アルミニウム板が好ましく使用さ
れ、この場合、純アルミニウム板及びアルミニウム合金
板等であってもかまわない。The present invention will be described in detail below. The support that can be used in the photosensitive lithographic printing plate material of the present invention and the photosensitive lithographic printing plate material used in the image forming method of the present invention is, for example, a metal plate of aluminum, stainless steel, chromium, nickel or the like, or a polyester film. , A polyethylene film, a plastic film such as a polypropylene film laminated or vapor-deposited with the above-mentioned metal thin film, or a polyester film, a vinyl chloride film, a nylon film or the like whose surface is subjected to a hydrophilic treatment can be used. An aluminum plate is preferably used, and in this case, a pure aluminum plate or an aluminum alloy plate may be used.
【0033】支持体のアルミニウム合金としては、種々
のものが使用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、マグ
ネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チ
タン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が
用いられる。As the aluminum alloy for the support, various materials can be used. For example, alloys of aluminum with metals such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel, titanium, sodium and iron. Is used.
【0034】本発明の感光性平版印刷版材料及び本発明
の画像形成方法に用いることができる支持体は、粗面化
(砂目立て処理)するに先立って表面の圧延油を除去す
るために脱脂処理を施すことが好ましい。脱脂処理とし
ては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処
理、ケシロン、トリエタノール等のエマルジョンを用い
たエマルジョン脱脂処理等が用いられる。又、脱脂処理
には、苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることも
できる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用
いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸
化皮膜も除去することができる。脱脂処理に苛性ソーダ
等のアルカリ水溶液を用いた場合、支持体の表面にはス
マットが生成するので、この場合には、燐酸、硝酸、硫
酸、クロム酸等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬しデス
マット処理を施すことが好ましい。The photosensitive lithographic printing plate material of the present invention and the support which can be used in the image forming method of the present invention are degreased in order to remove rolling oil on the surface before roughening (graining treatment). It is preferable to apply a treatment. As the degreasing treatment, a degreasing treatment using a solvent such as trichlene and thinner, an emulsion degreasing treatment using an emulsion such as kesilon, triethanol and the like are used. An aqueous solution of alkali such as caustic soda can be used for the degreasing treatment. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, it is possible to remove stains and oxide films which cannot be removed only by the above degreasing treatment. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, smut is formed on the surface of the support. In this case, dip it in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, or a mixed acid thereof to desmut it. It is preferable to apply a treatment.
【0035】粗面化の方法としては、例えば、機械的方
法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。Examples of the surface roughening method include a mechanical method and an electrolytic etching method.
【0036】用いられる機械的粗面化法は特に限定され
るものではないが、ブラシ研磨法、ホーニング研磨法が
好ましい。ブラシ研磨法による粗面化は、例えば、直径
0.2〜0.8mmのブラシ毛を使用した回転ブラシを
回転し、支持体表面に、例えば、粒径10〜100μm
の火山灰の粒子を水に均一に分散させたスラリーを供給
しながら、ブラシを押し付けて行うことができる。ホー
ニング研磨による粗面化は、例えば、粒径10〜100
μmの火山灰の粒子を水に均一に分散させ、ノズルより
圧力をかけ射出し、支持体表面に斜めから衝突させて粗
面化を行うことができる。又、例えば、支持体表面に、
粒径10〜100μmの研磨剤粒子を、100〜200
μmの間隔で、2.5×103〜10×103個/cm2
の密度で存在するように塗布したシートを張り合わせ、
圧力をかけてシートの粗面パターンを転写することによ
り粗面化を行うこともできる。The mechanical surface roughening method used is not particularly limited, but a brush polishing method and a honing polishing method are preferable. The roughening by the brush polishing method is performed by, for example, rotating a rotating brush using brush bristles having a diameter of 0.2 to 0.8 mm, and, for example, a particle diameter of 10 to 100 μm on the support surface.
It can be carried out by pressing a brush while supplying a slurry in which the particles of the volcanic ash are uniformly dispersed in water. Roughening by honing polishing is performed, for example, with a particle size of 10 to 100.
Particles of μm volcanic ash can be evenly dispersed in water, pressure is applied from a nozzle to eject, and the surface of the support can be obliquely collided for roughening. Also, for example, on the surface of the support,
Abrasive particles having a particle size of 10 to 100 μm are
2.5 × 10 3 to 10 × 10 3 pieces / cm 2 at intervals of μm
Laminate the coated sheets so that they exist at the density of
Roughening can also be performed by applying pressure to transfer the rough surface pattern of the sheet.
【0037】上記の機械的粗面化法で粗面化した後、支
持体の表面に食い込んだ研磨剤、形成されたアルミニウ
ム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬
することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫
酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基として
は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用い
られる。これらの中でも、水酸化ナトリウム等のアルカ
リ水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの
溶解量としては、0.5〜5g/m2が好ましい。アル
カリ水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、
クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を
施すことが好ましい。After the surface is roughened by the above-mentioned mechanical surface roughening method, it is preferable to immerse it in an aqueous solution of acid or alkali in order to remove the abrasive, the aluminum scraps and the like formed on the surface of the support. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid and the like, and examples of the base include sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like. Among these, it is preferable to use an alkaline aqueous solution such as sodium hydroxide. The amount of aluminum dissolved on the surface is preferably 0.5 to 5 g / m 2 . After soaking in an alkaline solution, phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid,
It is preferable to perform a neutralization treatment by immersing in an acid such as chromic acid or a mixed acid thereof.
【0038】電気化学的粗面化法も特に限定されるもの
ではないが、酸性電解液中で電気化学的に粗面化を行う
方法が好ましい。酸性電解液は、電気化学的粗面化法に
通常用いられる酸性電解液を使用することができるが、
塩酸系または硝酸系電解液を用いるのが好ましい。電気
化学的粗面化方法については、例えば、特公昭48−2
8123号公報、英国特許第896,563号公報、特
開昭53−67507号公報に記載されている方法を用
いることができる。この粗面化法は、一般には、1〜5
0ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うこと
ができるが、10〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ま
しい。電流密度は、10〜200A/dm2の範囲を用
いることが出来るが、50〜150A/dm2の範囲か
ら選ぶのが好ましい。電気量は、100〜5000c/
dm2の範囲を用いることができるが、100〜200
0c/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。この粗面化
法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いることが出
来るが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。The electrochemical surface-roughening method is not particularly limited, but a method of electrochemically surface-roughening in an acidic electrolyte is preferable. As the acidic electrolytic solution, an acidic electrolytic solution which is usually used in an electrochemical roughening method can be used,
It is preferable to use a hydrochloric acid-based or nitric acid-based electrolyte. For the electrochemical roughening method, for example, Japanese Patent Publication No. 48-2
The methods described in Japanese Patent No. 8123, British Patent No. 896,563, and Japanese Patent Laid-Open No. 53-67507 can be used. This roughening method is generally 1-5.
It can be carried out by applying a voltage in the range of 0 V, but it is preferable to select it in the range of 10 to 30 V. Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, preferably selected from the range of 50 to 150 A / dm 2. Electricity is 100-5000c /
A range of dm 2 can be used, but from 100 to 200
It is preferable to select from the range of 0 c / dm 2 . The temperature for carrying out this surface roughening method may be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C.
【0039】電解液として硝酸系電解液を用いて電気化
学的粗面化を行う場合、一般には、1〜50ボルトの範
囲の電圧を印加することによって行うことができるが、
10〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密
度は、10〜200A/dm 2の範囲を用いることがで
きるが、20〜100A/dm2の範囲から選ぶのが好
ましい。電気量は、100〜5000c/dm2の範囲
を用いることができるが、100〜2000c/dm2
の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行
う温度は、10〜50℃の範囲を用いることができる
が、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液
における硝酸濃度は0.1〜5質量%が好ましい。電解
液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、ア
ルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸
等を加えることができる。Electrification using nitric acid-based electrolyte as the electrolyte
When performing a surface roughening, a range of 1 to 50 volts is generally used.
Can be done by applying a voltage of
It is preferable to select from the range of 10 to 30 volts. Current density
10 to 200 A / dm 2The range of
Can, but 20-100A / dm2It is preferable to choose from the range
Good Electricity is 100-5000c / dm2Range of
Can be used, but 100 to 2000 c / dm2
It is preferable to select from the range. Performs an electrochemical roughening method
The heating temperature may be in the range of 10 to 50 ° C.
Is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C. Electrolyte
The nitric acid concentration in is preferably 0.1 to 5 mass%. electrolytic
The solution should contain nitrates, chlorides, amines, and
Luthedes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid
Etc. can be added.
【0040】電解液として塩酸系電解液を用いる場合、
一般には、1〜50ボルトの範囲の電圧を印加すること
によって行うことができるが、2〜30ボルトの範囲か
ら選ぶのが好ましい。電流密度は、10〜200A/d
m2の範囲を用いることができるが、50〜150A/
dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100
〜5000c/dm2の範囲を用いることができるが、
100〜2000c/dm2、更には200〜1000
c/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗
面化法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いること
ができるが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好まし
い。電解液における塩酸濃度は0.1〜5質量%が好ま
しい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、ア
ミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢
酸、しゅう酸等を加えることができる。When a hydrochloric acid-based electrolyte is used as the electrolyte,
Generally, it can be performed by applying a voltage in the range of 1 to 50 V, but it is preferable to select from the range of 2 to 30 V. Current density is 10 to 200 A / d
A range of m 2 can be used, but 50 to 150 A /
It is preferable to select from the range of dm 2 . The amount of electricity is 100
A range of up to 5000 c / dm 2 can be used,
100 to 2000 c / dm 2 , further 200 to 1000
It is preferable to select from the range of c / dm 2 . The temperature for carrying out the electrochemical graining method may be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected in the range of 15 to 45 ° C. The concentration of hydrochloric acid in the electrolytic solution is preferably 0.1 to 5% by mass. If necessary, nitrates, chlorides, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid and the like can be added to the electrolytic solution.
【0041】上記の電気化学的粗面化法で粗面化した
後、表面のアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はア
ルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸として
は、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等
が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でもア
ルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニ
ウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好まし
い。又、アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐
酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に
浸漬し中和処理を施すことが好ましい。After the surface is roughened by the above-mentioned electrochemical surface roughening method, it is preferable to immerse it in an aqueous solution of acid or alkali in order to remove aluminum dust and the like on the surface. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid and the like, and examples of the base include sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like. Among these, it is preferable to use an aqueous solution of alkali. The amount of aluminum dissolved on the surface is preferably 0.5 to 5 g / m 2 . Further, it is preferable that after the dipping treatment with an aqueous alkali solution, the dipping treatment is carried out by dipping in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof.
【0042】機械的粗面化処理法、電気化学的粗面化法
はそれぞれ単独で用いて粗面化してもよいし、又、機械
的粗面化処理法に次いで電気化学的粗面化法を行って粗
面化してもよい。The mechanical surface-roughening treatment method and the electrochemical surface-roughening method may be used independently for surface-roughening, or the mechanical surface-roughening method may be followed by the electrochemical surface-roughening method. You may carry out and roughen.
【0043】粗面化処理の次には、陽極酸化処理を行う
ことができる。本発明において用いることができる陽極
酸化処理の方法には特に制限はなく、公知の方法を用い
ることができる。陽極酸化処理を行うことにより、支持
体上には酸化皮膜が形成される。該陽極酸化処理には、
硫酸及び/又は燐酸等を10〜50%の濃度で含む水溶
液を電解液として、電流密度1〜10A/dm2で電解
する方法が好ましく用いられるが、他に、米国特許第
1,412,768号公報に記載されている硫酸中で高
電流密度で電解する方法や、同3,511,661号公
報に記載されている燐酸を用いて電解する方法、クロム
酸、シュウ酸、マロン酸等を一種又は二種以上含む溶液
を用いる方法等が挙げられる。形成された陽極酸化被覆
量は、1〜50mg/dm2が適当であり、好ましくは
10〜40mg/dm2である。陽極酸化被覆量は、例
えばアルミニウム板を燐酸クロム酸溶液(燐酸85%
液:35ml、酸化クロム(IV):20gを1Lの水に
溶解して作製)に浸積し、酸化被膜を溶解し、板の被覆
溶解前後の質量変化測定等から求められる。After the surface roughening treatment, anodizing treatment can be performed. The method of anodizing treatment that can be used in the present invention is not particularly limited, and a known method can be used. By performing the anodizing treatment, an oxide film is formed on the support. The anodizing treatment includes
A method in which an aqueous solution containing sulfuric acid and / or phosphoric acid or the like at a concentration of 10 to 50% is used as an electrolytic solution and electrolysis is performed at a current density of 1 to 10 A / dm 2 is preferably used, but in addition, US Pat. No. 1,412,768 is used. The method of electrolyzing in sulfuric acid at a high current density described in Japanese Patent No. 3,511,661, the method of electrolysis using phosphoric acid described in Japanese Patent No. 3,511,661, chromic acid, oxalic acid, malonic acid, etc. Examples include a method of using a solution containing one kind or two or more kinds. The formed anodic oxide coating amount is appropriately 1 to 50 mg / dm 2 , and preferably 10 to 40 mg / dm 2 . The anodic oxide coating amount is, for example, an aluminum plate with a phosphoric acid chromic acid solution (phosphoric acid 85%
Liquid: 35 ml, chromium oxide (IV): 20 g is dissolved in 1 L of water) to dissolve the oxide film, and the mass change of the plate before and after dissolution is measured.
【0044】陽極酸化処理された支持体は、必要に応じ
封孔処理を施してもよい。これら封孔処理は、熱水処
理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロ
ム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処
理等公知の方法を用いて行うことができる。The anodized support may be subjected to a sealing treatment if necessary. These sealing treatments can be performed by using known methods such as hot water treatment, boiling water treatment, steam treatment, sodium silicate treatment, dichromate aqueous solution treatment, nitrite treatment and ammonium acetate treatment.
【0045】更に、これらの処理を行った後に、水溶性
の樹脂、たとえばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基
を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル
酸、水溶性金属塩(例えばホウ酸亜鉛)もしくは、黄色
染料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。更
に、特開平5−304358号公報に開示されているよ
うなラジカルによって付加反応を起し得る官能基を共有
結合させたゾル−ゲル処理基板も好適に用いられる。Further, after these treatments are carried out, water-soluble resins such as polyvinylphosphonic acid, polymers and copolymers having a sulfonic acid group in the side chain, polyacrylic acid, water-soluble metal salts (eg boric acid). Zinc), a yellow dye, an amine salt or the like as an undercoat is also suitable. Further, a sol-gel treated substrate having a functional group capable of causing an addition reaction by a radical covalently bonded as disclosed in JP-A-5-304358 is also suitably used.
【0046】支持体としては上述の様に各種のものが使
用でき、また例えば、ポリエステルフィルム、塩化ビニ
ルフィルム、ナイロンフィルム等の表面に親水化処理を
施したもの等も使用することができ、プラスチックフィ
ルムの親水化処理方法としては、硫酸処理、酸素プラズ
マエッチング処理、コロナ放電処理、水溶性樹脂層塗布
層を設ける等が好ましく用いられる。本発明の実施にお
いては、表面を粗面化処理、陽極酸化処理、封孔処理、
および下塗り処理を施したアルミニウム板が特に好まし
い。As the support, various materials can be used as described above, and, for example, a polyester film, a vinyl chloride film, a nylon film or the like whose surface has been hydrophilized can also be used. As a hydrophilic treatment method for the film, sulfuric acid treatment, oxygen plasma etching treatment, corona discharge treatment, provision of a water-soluble resin layer coating layer and the like are preferably used. In the practice of the present invention, the surface is roughened, anodized, sealed,
And an aluminum plate subjected to a subbing treatment is particularly preferable.
【0047】本発明の感光性平版印刷版材料及び本発明
の画像形成方法で用いる感光性平版印刷版材料の光重合
性感光層(以下、感光層と称する場合あり)に用いるこ
とができる付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合含
有単量体(以下、単量体と称する場合あり)にはラジカ
ル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する公知の単量
体が包含される。Addition polymerization that can be used in the photosensitive lithographic printing plate material of the present invention and the photopolymerizable photosensitive layer (hereinafter sometimes referred to as photosensitive layer) of the photosensitive lithographic printing plate material used in the image forming method of the present invention. Possible ethylenically unsaturated double bond-containing monomers (hereinafter sometimes referred to as monomers) include known monomers having radically polymerizable ethylenically unsaturated bonds.
【0048】具体的な化合物としては、例えば、2−エ
チルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルア
クリレート、グリセロールアクリレート、テトラヒドロ
フルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレー
ト、ノニルフェノキシエチルアクリレート、テトラヒド
ロフルフリルオキシエチルアクリレート、テトラヒドロ
フルフリルオキシヘキサノリドアクリレート、1,3−
ジオキサンアルコールのε−カプロラクトン付加物のア
クリレート、1,3−ジオキソランアクリレート等の単
官能アクリル酸エステル類、或いはこれらのアクリレー
トをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マ
レエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン
酸、マレイン酸エステル、例えば、エチレングリコール
ジアクリレート、トリエチレングルコールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレート、ハイドロキ
ノンジアクリレート、レゾルシンジアクリレート、ヘキ
サンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコール
ジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレ
ート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールの
ジアクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートの
ジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグ
リコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレー
ト、2−(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)
−5−ヒドロキシメチル−5−エチル−1,3−ジオキ
サンジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールア
クリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレー
トのε−カプロラクトン付加物、1,6−ヘキサンジオ
ールのジグリシジルエーテルのジアクリレート等の2官
能アクリル酸エステル類、或いはこれらのアクリレート
をメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレ
エートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン
酸、マレイン酸エステル、例えばトリメチロールプロパ
ントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ
アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペン
タアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの
ε−カプロラクトン付加物、ピロガロールトリアクリレ
ート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールトリアク
リレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、ヒドロキシピバリルアルデヒド変性ジ
メチロールプロパントリアクリレート等の多官能アクリ
ル酸エステル酸、およびこれらのEO変性体、或いはこ
れらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、
クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタ
コン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル等を挙げるこ
とができる。Specific compounds include, for example, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, glycerol acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenoxyethyl acrylate, nonylphenoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryloxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl. Oxyhexanolide acrylate, 1,3-
Acrylate of ε-caprolactone adduct of dioxane alcohol, monofunctional acrylic acid esters such as 1,3-dioxolane acrylate, or methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, in which these acrylates are replaced by methacrylate, itaconate, crotonate, maleate, Maleic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, hydroquinone diacrylate, resorcin diacrylate, hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, hydroxypivalin. Acid neopentyl glycol diacrylate, neopentyl glycol adipate diacrylate, Diacrylate ε- caprolactone adduct of Dorokishipibarin neopentyl glycol, 2- (2-hydroxy-1,1-dimethylethyl)
-5-Hydroxymethyl-5-ethyl-1,3-dioxane diacrylate, tricyclodecane dimethylol acrylate, ε-caprolactone adduct of tricyclodecane dimethylol acrylate, diglycidyl ether of 1,6-hexanediol Bifunctional acrylic acid esters such as acrylates, or methacrylic acid obtained by replacing these acrylates with methacrylate, itaconate, crotonate, maleate, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid ester such as trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate , Trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate , Dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, ε-caprolactone adduct of dipentaerythritol hexaacrylate, pyrogallol triacrylate, propionic acid / dipentaerythritol triacrylate, propionic acid / dipentaerythritol tetraacrylate, hydroxypivalyl Aldehyde-modified dimethylolpropane triacrylate and other polyfunctional acrylic acid ester acids, and their EO-modified products, or these acrylates as methacrylates, itaconates,
Examples thereof include methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, and maleic acid ester, which are substituted for crotonate and maleate.
【0049】また、プレポリマーも上記同様に使用する
ことができる。プレポリマーとしては、後述する様な化
合物等が挙げることができ、また、適当な分子量のオリ
ゴマーにアクリル酸、又はメタクリル酸を導入し、光重
合性を付与したプレポリマーも好適に使用できる。これ
らプレポリマーは、1種又は2種以上を併用してもよい
し、上述の単量体及び/又はオリゴマーと混合して用い
てもよい。Prepolymers can also be used in the same manner as above. Examples of the prepolymer include the compounds described below, and a prepolymer obtained by introducing photopolymerizability by introducing acrylic acid or methacrylic acid into an oligomer having an appropriate molecular weight can also be preferably used. These prepolymers may be used alone or in combination of two or more, or may be used as a mixture with the above-mentioned monomer and / or oligomer.
【0050】プレポリマーとしては、例えばアジピン
酸、トリメリット酸、マレイン酸、フタル酸、テレフタ
ル酸、ハイミック酸、マロン酸、こはく酸、グルタール
酸、イタコン酸、ピロメリット酸、フマル酸、グルター
ル酸、ピメリン酸、セバシン酸、ドデカン酸、テトラヒ
ドロフタル酸等の多塩基酸と、エチレングリコール、プ
ロピレングルコール、ジエチレングリコール、プロピレ
ンオキサイド、1,4−ブタンジオール、トリエチレン
グリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレン
グリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペ
ンタエリスリトール、ソルビトール、1,6−ヘキサン
ジオール、1,2,6−ヘキサントリオール等の多価の
アルコールの結合で得られるポリエステルに(メタ)ア
クリル酸を導入したポリエステルアクリレート類、例え
ば、ビスフェノールA・エピクロルヒドリン・(メタ)
アクリル酸、フェノールノボラック・エピクロルヒドリ
ン・(メタ)アクリル酸のようにエポキシ樹脂に(メ
タ)アクリル酸を導入したエポキシアクリレート類、例
えば、エチレングリコール・アジピン酸・トリレンジイ
ソシアネート・2−ヒドロキシエチルアクリレート、ポ
リエチレングリコール・トリレンジイソシアネート・2
−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルフ
タリルメタクリレート・キシレンジイソシアネート、
1,2−ポリブタジエングリコール・トリレンジイソシ
アネート・2−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメ
チロールプロパン・プロピレングリコール・トリレンジ
イソシアネート・2−ヒドロキシエチルアクリレートの
ように、ウレタン樹脂に(メタ)アクリル酸を導入した
ウレタンアクリレート、例えば、ポリシロキサンアクリ
レート、ポリシロキサン・ジイソシアネート・2−ヒド
ロキシエチルアクリレート等のシリコーン樹脂アクリレ
ート類、その他、油変性アルキッド樹脂に(メタ)アク
リロイル基を導入したアルキッド変性アクリレート類、
スピラン樹脂アクリレート類等のプレポリマーが挙げら
れる。Examples of the prepolymer include adipic acid, trimellitic acid, maleic acid, phthalic acid, terephthalic acid, hymic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, itaconic acid, pyromellitic acid, fumaric acid, glutaric acid, Polybasic acids such as pimelic acid, sebacic acid, dodecanoic acid and tetrahydrophthalic acid, and ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, propylene oxide, 1,4-butanediol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, glycerin (Meth) acrylic acid was introduced into a polyester obtained by binding a polyhydric alcohol such as trimethylolpropane, pentaerythritol, sorbitol, 1,6-hexanediol, and 1,2,6-hexanetriol. Li ester acrylates, such as bisphenol A · epichlorhydrin · (meth)
Epoxy acrylates such as acrylic acid, phenol novolac, epichlorohydrin, and (meth) acrylic acid in which (meth) acrylic acid is introduced into an epoxy resin, such as ethylene glycol, adipic acid, tolylene diisocyanate, 2-hydroxyethyl acrylate, and polyethylene. Glycol Tolylene Diisocyanate / 2
-Hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl phthalyl methacrylate / xylene diisocyanate,
Urethane acrylate obtained by introducing (meth) acrylic acid into urethane resin, such as 1,2-polybutadiene glycol / tolylene diisocyanate / 2-hydroxyethyl acrylate and trimethylolpropane / propylene glycol / tolylene diisocyanate / 2-hydroxyethyl acrylate. For example, polysiloxane acrylate, silicone resin acrylates such as polysiloxane diisocyanate and 2-hydroxyethyl acrylate, and other alkyd-modified acrylates obtained by introducing a (meth) acryloyl group into an oil-modified alkyd resin,
Examples include prepolymers such as spirane resin acrylates.
【0051】本発明の感光性平版印刷版材料及び本発明
の画像形成方法で用いる感光性平版印刷版材料の光重合
性感光層には、ホスファゼンモノマー、トリエチレング
リコール、イソシアヌール酸EO(エチレンオキシド)
変性ジアクリレート、イソシアヌール酸EO変性トリア
クリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレ
ート、トリメチロールプロパンアクリル酸安息香酸エス
テル、アルキレングリコールタイプアクリル酸変性、ウ
レタン変性アクリレート等の単量体及び該単量体から形
成される構成単位を有する付加重合性のオリゴマー及び
プレポリマーを含有することができる。The photosensitive lithographic printing plate material of the present invention and the photopolymerizable photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate material used in the image forming method of the present invention have a phosphazene monomer, triethylene glycol and isocyanuric acid EO (ethylene oxide).
Monomers such as modified diacrylate, isocyanuric acid EO modified triacrylate, dimethylol tricyclodecane diacrylate, trimethylol propane acrylic acid benzoate, alkylene glycol type acrylic acid modified, urethane modified acrylate and the like It may contain addition-polymerizable oligomers and prepolymers having the constituent units formed.
【0052】更に、本発明の感光性平版印刷版材料及び
本発明の画像形成方法で用いる感光性平版印刷版材料に
用いられるエチレン性単量体として、少なくとも一つの
(メタ)アクリロイル基を含有するリン酸エステル化合
物が挙げられる。該化合物は、リン酸の水酸基の少なく
とも一部がエステル化された化合物であり、しかも、
(メタ)アクリロイル基を有する限り特に限定はされな
い。Furthermore, the photosensitive lithographic printing plate material of the present invention and the photosensitive lithographic printing plate material used in the image forming method of the present invention contain at least one (meth) acryloyl group as an ethylenic monomer. Examples thereof include phosphoric acid ester compounds. The compound is a compound in which at least a part of the hydroxyl groups of phosphoric acid is esterified, and
There is no particular limitation as long as it has a (meth) acryloyl group.
【0053】この他に特開昭58−212994号公
報、同61−6649号公報、同62−46688号公
報、同62−48589号公報、同62−173295
号公報、同62−187092号公報、同63−671
89号公報、特開平1−244891号公報等に記載の
化合物などを挙げることができ、更に「11290の化
学商品」化学工業日報社、p.286〜p.294に記
載の化合物、「UV・EB硬化ハンドブック(原料
編)」高分子刊行会、p.11〜65に記載の化合物な
ども本発明においては好適に用いることができる。これ
らの中で、分子内に2以上のアクリル基又はメタクリル
基を有する化合物が本発明においては好ましく、更に分
子量が10,000以下、より好ましくは5,000以
下のものが好ましい。In addition to these, Japanese Patent Laid-Open Nos. 58-212994, 61-6649, 62-46688, 62-48589 and 62-173295.
No. 62-187092 and No. 63-671.
89, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-244891, and the like, and the like. Further, "11290 chemical products", Chemical Industry Daily, p. 286-p. 294, the compound described in "UV / EB curing handbook (raw material)", Polymer Publishing Association, p. The compounds described in 11 to 65 and the like can also be preferably used in the present invention. Among these, compounds having two or more acryl groups or methacryl groups in the molecule are preferable in the present invention, and those having a molecular weight of 10,000 or less, more preferably 5,000 or less are preferable.
【0054】本発明の感光性平版印刷版材料及び本発明
の画像形成方法で用いる感光性平版印刷版材料の光重合
性感光層には、上記した単量体を該感光層の感光性組成
物において、1.0〜80.0質量%の範囲で含有する
のが好ましく、より好ましくは3.0〜70.0質量%
の範囲である。In the photopolymerizable photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate material of the present invention and the photosensitive lithographic printing plate material of the present invention, the above-mentioned monomer is contained in the photosensitive composition of the photosensitive layer. In, in the range of 1.0 to 80.0 mass% is preferable, and more preferably 3.0 to 70.0 mass%.
Is the range.
【0055】本発明の感光性平版印刷版材料及び本発明
の画像形成方法で用いる感光性平版印刷版材料に用いる
ことができる高分子結合剤は、カルボキシル基を有する
モノマー単位を有する共重合体に、例えば、アリルグリ
シジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレート、α
−エチルグリシジル(メタ)アクリレート、グリシジル
クロトネート、グリシジルイソクロトネート、クロトニ
ルグリシジルエーテル、イタコン酸モノアルキルモノグ
リシジルエステル、フマール酸モノアルキルモノグリシ
ジルエステル、マレイン酸モノアルキルモノグリシジル
エステル等の脂肪族エポキシ基含有不飽和化合物、又
は、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)ア
クリレート等の脂環式エポキシ基含有不飽和化合物を、
該カルボキシル基と反応させることにより得られた反応
生成物であり、該カルボキシル基とエポキシ基含有不飽
和化合物が反応した単位を10〜30モル%含有する共
重合体である。The polymer binder that can be used in the photosensitive lithographic printing plate material of the present invention and the photosensitive lithographic printing plate material used in the image forming method of the present invention is a copolymer having a monomer unit having a carboxyl group. , For example, allyl glycidyl ether, glycidyl (meth) acrylate, α
Aliphatic epoxies such as ethyl glycidyl (meth) acrylate, glycidyl crotonate, glycidyl isocrotonate, crotonyl glycidyl ether, itaconic acid monoalkyl monoglycidyl ester, fumaric acid monoalkyl monoglycidyl ester, maleic acid monoalkyl monoglycidyl ester A group-containing unsaturated compound, or an alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound such as 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate,
It is a reaction product obtained by reacting with the carboxyl group, and is a copolymer containing 10 to 30 mol% of units in which the carboxyl group and the epoxy group-containing unsaturated compound have reacted.
【0056】本発明の少なくとも一つは、高分子結合剤
の重量平均分子量(Mw)が15000〜30000で
あるが、他の本発明も、高分子結合剤の重量平均分子量
が15000〜30000であることが好ましい。これ
により、保存安定性がよく、感度、網点再現性に優れ画
像性能の高い感光性平版印刷版材料とすることができ
る。In at least one of the present inventions, the weight average molecular weight (Mw) of the polymer binder is 15,000 to 30,000, but also in the present invention, the weight average molecular weight of the polymer binder is 15,000 to 30,000. It is preferable. This makes it possible to obtain a photosensitive lithographic printing plate material having good storage stability, excellent sensitivity and halftone dot reproducibility and high image performance.
【0057】また、本発明の少なくとも一つは、高分子
結合剤の酸価が60〜110mgKOH/gであるが、
他の本発明も、高分子結合剤の酸価が60〜110mg
KOH/gであることが好ましい。これにより、保存安
定性がよく、感度、網点再現性に優れ画像性能の高い感
光性平版印刷版材料とすることができる。At least one of the present inventions has an acid value of the polymer binder of 60 to 110 mgKOH / g.
In another invention, the acid value of the polymer binder is 60 to 110 mg.
It is preferably KOH / g. This makes it possible to obtain a photosensitive lithographic printing plate material having good storage stability, excellent sensitivity and halftone dot reproducibility and high image performance.
【0058】本発明において、重量平均分子量は、ゲル
パーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によっ
て測定された値である。In the present invention, the weight average molecular weight is a value measured by gel permeation chromatography (GPC).
【0059】本発明において、酸価とは、その高分子結
合剤1gを中和するのに必要な水酸化カリウムのmg数
である。酸価は次のようにして測定することができる。
試料をメチルセロソルブで50倍に希釈し、0.1規定
の水酸化カリウムで滴定する。pHメータを用いて求め
たpH曲線の変曲点を中和点とする。この中和点に至る
までに要する水酸化カリウムの量から酸価を算出する。In the present invention, the acid value is the number of mg of potassium hydroxide necessary to neutralize 1 g of the polymer binder. The acid value can be measured as follows.
The sample is diluted 50 times with methyl cellosolve and titrated with 0.1 N potassium hydroxide. The inflection point of the pH curve obtained using a pH meter is the neutralization point. The acid value is calculated from the amount of potassium hydroxide required to reach this neutralization point.
【0060】カルボキシル基を有するモノマー単位を有
する共重合体とエポキシ基含有不飽和化合物との反応
は、例えば、80〜120℃程度の温度、1〜50時間
程度の時間で反応させることができる。該反応生成物の
合成方法としては、一般的に知られた重合方法にて合成
することができ、例えば、「高分子合成実験法」東京化
学同人、W.R.Sorenson、T.W.Camp
bell共著等の文献や特開平10−315598号公
報、特開平11−271963号公報等の特許に記載さ
れた方法等及びこれに準じて合成することができる。The copolymer having a monomer unit having a carboxyl group and the epoxy group-containing unsaturated compound can be reacted at a temperature of about 80 to 120 ° C. and a time of about 1 to 50 hours. As a method for synthesizing the reaction product, a generally known polymerization method can be used. For example, “polymer synthesis experimental method” by Tokyo Kagaku Dojin, W. R. Sorenson, T .; W. Camp
It can be synthesized according to the methods described in literatures such as Bell's co-authorship and patents such as JP-A-10-315598 and JP-A-11-271963, and the like.
【0061】また、上記カルボキル基を有するモノマー
単位を有する共重合体として、下記(5)に記載のα,
β−不飽和カルボン酸類のモノマー単位を構成要素とし
て有するビニル系共重合体が好ましく、また、下記
(1)〜(17)に記載のモノマーの少なくとも1種か
らなるビニル系共重合体を含有することも好ましい。Further, as a copolymer having a monomer unit having the above-mentioned carbonyl group, α, as described in (5) below,
A vinyl-based copolymer having a β-unsaturated carboxylic acid monomer unit as a constituent is preferable, and a vinyl-based copolymer containing at least one of the monomers described in (1) to (17) below is contained. Is also preferable.
【0062】(1)芳香族水酸基を有するモノマー、例
えばo−(又はp−,m−)ヒドロキシスチレン、o−
(又はp−,m−)ヒドロキシフェニルアクリレート
等。(1) A monomer having an aromatic hydroxyl group, for example, o- (or p-, m-) hydroxystyrene, o-
(Or p-, m-) hydroxyphenyl acrylate and the like.
【0063】(2)脂肪族水酸基を有するモノマー、例
えば2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、N−メチロールアクリルアミ
ド、N−メチロールメタクリルアミド、4−ヒドロキシ
ブチルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリ
レート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、6−
ヒドロキシヘキシルアクリレート、6−ヒドロキシヘキ
シルメタクリレート、N−(2−ヒドロキシエチル)ア
クリルアミド、N−(2−ヒドロキシエチル)メタクリ
ルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル等。(2) Monomers having aliphatic hydroxyl groups, such as 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, 4-hydroxybutyl methacrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, 5 -Hydroxypentyl methacrylate, 6-
Hydroxyhexyl acrylate, 6-hydroxyhexyl methacrylate, N- (2-hydroxyethyl) acrylamide, N- (2-hydroxyethyl) methacrylamide, hydroxyethyl vinyl ether and the like.
【0064】(3)アミノスルホニル基を有するモノマ
ー、例えばm−(又はp−)アミノスルホニルフェニル
メタクリレート、m−(又はp−)アミノスルホニルフ
ェニルアクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェ
ニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニル
フェニル)アクリルアミド等。(3) A monomer having an aminosulfonyl group, for example, m- (or p-) aminosulfonylphenyl methacrylate, m- (or p-) aminosulfonylphenyl acrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like.
【0065】(4)スルホンアミド基を有するモノマ
ー、例えばN−(p−トルエンスルホニル)アクリルア
ミド、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミ
ド等。(4) Monomers having a sulfonamide group, such as N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide.
【0066】(5)α,β−不飽和カルボン酸類、例え
ばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイ
ン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、β−メタクリロイ
ルオキシエチルハイドロジェンフタレート、β−メタク
リロイルオキシエチルハイドロジェンサクシネート等。(5) α, β-unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride, β-methacryloyloxyethyl hydrogen phthalate, β-methacryloyloxyethyl Hydrogen succinate, etc.
【0067】(6)置換又は無置換のアルキルアクリレ
ート、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミ
ル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリ
ル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、
アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アクリル
酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−
2−クロロエチル、N,N−ジメチルアミノエチルアク
リレート、グリシジルアクリレート等。(6) Substituted or unsubstituted alkyl acrylate, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, heptyl acrylate, octyl acrylate, nonyl acrylate. , Decyl acrylate,
Undecyl acrylate, dodecyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, acrylic acid-
2-chloroethyl, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, glycidyl acrylate and the like.
【0068】(7)置換又は無置換のアルキルメタクリ
レート、例えばメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタ
クリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸
ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニ
ル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ウンデシル、メ
タクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリ
ル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−2−クロロエチ
ル、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グ
リシジルメタクリレート等。(7) Substituted or unsubstituted alkyl methacrylate, for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, heptyl methacrylate, octyl methacrylate, nonyl methacrylate. , Decyl methacrylate, undecyl methacrylate, dodecyl methacrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, glycidyl methacrylate and the like.
【0069】(8)アクリルアミド又はメタクリルアミ
ド類、例えばアクリルアミド、メタクリルアミド、N−
エチルアクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、
N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−フェニルアク
リルアミド、N−(4−ニトロフェニル)アクリルアミ
ド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド、N−
(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4
−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド等。(8) Acrylamide or methacrylamide, such as acrylamide, methacrylamide, N-
Ethyl acrylamide, N-hexyl acrylamide,
N-cyclohexylacrylamide, N-phenylacrylamide, N- (4-nitrophenyl) acrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide, N-
(4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4
-Hydroxyphenyl) methacrylamide and the like.
【0070】(9)弗化アルキル基を含有するモノマ
ー、例えばトリフルオロエチルアクリレート、トリフル
オロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメ
タクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレー
ト、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフル
オロペンチルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシ
ルメタクリレート、N−ブチル−N−(2−アクリロキ
シエチル)ヘプタデカフルオロオクチルスルホンアミド
等。(9) Monomers containing a fluorinated alkyl group such as trifluoroethyl acrylate, trifluoroethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, hexafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl acrylate, octafluoropentyl methacrylate, heptadecafluorodecyl Methacrylate, N-butyl-N- (2-acryloxyethyl) heptadecafluorooctylsulfonamide and the like.
【0071】(10)ビニルエーテル類、例えば、エチ
ルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、
プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オク
チルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等。(10) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether,
Propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, phenyl vinyl ether, etc.
【0072】(11)ビニルエステル類、例えばビニル
アセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレー
ト、安息香酸ビニル等。(11) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
【0073】(12)スチレン類、例えばスチレン、メ
チルスチレン、クロロメチルスチレン等。(12) Styrenes such as styrene, methylstyrene, chloromethylstyrene and the like.
【0074】(13)ビニルケトン類、例えばメチルビ
ニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケト
ン、フェニルビニルケトン等。(13) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone and phenyl vinyl ketone.
【0075】(14)オレフィン類、例えばエチレン、
プロピレン、i−ブチレン、ブタジエン、イソプレン
等。(14) Olefins such as ethylene,
Propylene, i-butylene, butadiene, isoprene and the like.
【0076】(15)N−ビニルピロリドン、N−ビニ
ルカルバゾール、4−ビニルピリジン等。(15) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine and the like.
【0077】(16)シアノ基を有するモノマー、例え
ばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、2−ペンテ
ンニトリル、2−メチル−3−ブテンニトリル、2−シ
アノエチルアクリレート、o−(又はm−,p−)シア
ノスチレン等。(16) Monomers having a cyano group, for example, acrylonitrile, methacrylonitrile, 2-pentenenitrile, 2-methyl-3-butenenitrile, 2-cyanoethyl acrylate, o- (or m-, p-) cyanostyrene. etc.
【0078】(17)アミノ基を有するモノマー、例え
ばN,N−ジエチルアミノエチルメタクリレート、N,
N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジメ
チルアミノエチルメタクリレート、ポリブタジエンウレ
タンアクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピルア
クリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、アク
リロイルモルホリン、N−i−プロピルアクリルアミ
ド、N,N−ジエチルアクリルアミド等。(17) A monomer having an amino group, such as N, N-diethylaminoethyl methacrylate, N,
N-dimethylaminoethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, polybutadiene urethane acrylate, N, N-dimethylaminopropyl acrylamide, N, N-dimethyl acrylamide, acryloyl morpholine, N-i-propyl acrylamide, N, N- Diethyl acrylamide etc.
【0079】上記高分子結合剤には、必要に応じてポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド
樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹
脂、天然樹脂等、他の任意の高分子結合剤を併用しても
よい。If necessary, the above-mentioned polymer binder may be used in combination with any other polymer binder such as polyvinyl butyral resin, polyurethane resin, polyamide resin, polyester resin, epoxy resin, novolac resin and natural resin. Good.
【0080】上記した共重合体は、該高分子結合剤にお
いて、50〜100質量%であることが好ましく、10
0質量%であることがより好ましい。The above copolymer preferably accounts for 50 to 100% by mass in the polymer binder.
It is more preferably 0% by mass.
【0081】感光層を塗布し形成する感光性組成物中に
おける高分子結合剤の含有量は、10〜90質量%の範
囲が好ましく、15〜70質量%の範囲が更に好まし
く、20〜50質量%の範囲で使用することが感度の面
から特に好ましい。The content of the polymer binder in the photosensitive composition for coating and forming the photosensitive layer is preferably in the range of 10 to 90% by mass, more preferably 15 to 70% by mass, and further preferably 20 to 50% by mass. From the viewpoint of sensitivity, it is particularly preferable to use in the range of%.
【0082】本発明の感光性平版印刷版材料及び本発明
の画像形成方法で用いる感光性平版印刷版材料に用いる
ことができる光重合開始剤として好ましく使用できるも
のは、例えばJ.コーサー(J.Kosar)著「ライ
ト・センシテイブ・システムズ」第5章に記載されるよ
うな、カルボニル化合物、有機硫黄化合物、過硫化物、
レドックス系化合物、アゾ化合物、ジアゾ化合物、ハロ
ゲン化合物、光還元性色素などが挙げられ、英国特許第
1,459,563号に開示されている化合物も好まし
い。Photopolymerization initiators which can be preferably used in the photosensitive lithographic printing plate material of the present invention and the photosensitive lithographic printing plate material used in the image forming method of the present invention are preferably those described in J. Carbonyl compounds, organosulfur compounds, persulfides, as described in Chapter 5 of "Light Sensitive Systems" by J. Kosar.
Examples thereof include redox compounds, azo compounds, diazo compounds, halogen compounds, photoreducible dyes, and the like, and the compounds disclosed in British Patent 1,459,563 are also preferable.
【0083】具体的には、以下の例を挙げることができ
るが、これらに限定されない。即ち、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾイン−i−プロピルエーテル、α,α
−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン等のベンゾ
イン誘導体;ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾ
フェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,4′−
ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン等のベンゾフェ
ノン誘導体;2−クロロチオキサントン、2−i−プロ
ピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体;2−ク
ロロアントラキノン、2−メチルアントラキノン等のア
ントラキノン誘導体;N−メチルアクリドン、N−ブチ
ルアクリドン等のアクリドン誘導体;α,α−ジエトキ
シアセトフェノン、ベンジル、フルオレノン、キサント
ン、ウラニル化合物の他、特公昭59−1281号公
報、同61−9621号公報ならびに特開昭60−60
104号公報に記載のトリアジン誘導体;特開昭59−
1504号公報、同61−243807号公報に記載の
有機過酸化物;特公昭43−23684号公報、同44
−6413号公報、同44−6413号公報、同47−
1604号公報ならびに米国特許第3,567,453
号に記載のジアゾニウム化合物;米国特許第2,84
8,328号、同2,852,379号ならびに同2,
940,853号に記載の有機アジド化合物;特公昭3
6−22062号公報、同37−13109号公報、同
38−18015号公報ならびに同45−9610号公
報に記載のo−キノンジアジド類;特公昭55−391
62号公報、特開昭59−14023号公報ならびに
「マクロモレキュルス(Macromolecule
s)」10巻,1307頁(1977年)記載の各種オ
ニウム化合物;特開昭59−142205号公報に記載
のアゾ化合物;特開平1−54440号公報、ヨーロッ
パ特許第109,851号、同126,712号ならび
に「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス
(J.Imag.Sci.)」30巻,174頁(19
86年)記載の金属アレン錯体;特開平5−21386
1号及び同5−255347号記載の(オキソ)スルホ
ニウム有機硼素錯体;特開昭59−152396号公
報、特開昭61−151197号公報に記載のチタノセ
ン類;「コーディネーション・ケミストリー・レビュー
(Coordination Chemistry R
eview)」84巻,85〜277頁(1988年)
ならびに特開平2−182701号公報に記載のルテニ
ウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体;特開平3−
209477号公報に記載の2,4,5−トリアリール
イミダゾール二量体;四臭化炭素、特開昭59−107
344号公報に記載の有機ハロゲン化合物等。Specifically, the following examples can be given, but the invention is not limited thereto. That is, benzoin methyl ether, benzoin-i-propyl ether, α, α
Benzoin derivatives such as -dimethoxy-α-phenylacetophenone; benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4'-
Benzophenone derivatives such as bis (dimethylamino) benzophenone; thioxanthone derivatives such as 2-chlorothioxanthone and 2-i-propylthioxanthone; anthraquinone derivatives such as 2-chloroanthraquinone and 2-methylanthraquinone; N-methylacridone, N-butyl Acridone derivatives such as acridone; α, α-diethoxyacetophenone, benzyl, fluorenone, xanthone and uranyl compounds, as well as JP-B-59-1281, JP-A-61-9621 and JP-A-60-60.
The triazine derivative described in JP-A-104-104; JP-A-59-
1504 and 61-243807; organic peroxides; JP-B-43-23684 and 44;
No. 6413, No. 44-6413, No. 47-
1604 and U.S. Pat. No. 3,567,453.
Diazonium compounds described in U.S. Pat.
No. 8,328, No. 2,852,379 and No. 2,
Organic azide compounds described in 940,853; Japanese Patent Publication Sho 3
6-22062, 37-13109, 38-18015 and 45-9610, o-quinone diazides; JP-B-55-391.
62, JP-A-59-14023, and "Macromolecules".
s) ”, various onium compounds described in Vol. 10, p. 1307 (1977); azo compounds described in JP-A-59-142205; JP-A-1-54440, European Patents 109, 851 and 126. , 712 and "Journal of Imaging Science (J.Imag.Sci.)", Vol. 30, p. 174 (19).
1986). Metal allene complexes described in JP-A-5-21386.
No. 1 and No. 5-255347 (oxo) sulfonium organic boron complex; titanocenes described in JP-A-59-152396 and JP-A-61-151197; "Coordination Chemistry Review (Coordination Chemistry Review). R
84), pages 85-277 (1988).
And transition metal complexes containing a transition metal such as ruthenium described in JP-A-2-182701;
2,4,5-Triarylimidazole dimers described in JP-A-209477; carbon tetrabromide, JP-A-59-107.
Organic halogen compounds described in Japanese Patent No. 344, etc.
【0084】中でも好ましい物は、チタノセン類であ
る。チタノセン類の具体例としては、ジ−シクロペンタ
ジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジ
エニル−Ti−ビス―フェニル、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオ
ロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti
−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−
イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,
4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペ
ンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ
−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシク
ロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−
ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペ
ンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフ
ルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イ
ル、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジ
フルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル)チタニウ
ム(IRUGACURE784:チバスペシャリティー
ケミカルズ社製)等が挙げられるが、これに限定される
ものではない。Among them, titanocenes are preferable. Specific examples of titanocenes include di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4. , 5,6-Pentafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti
-Bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1-
Il, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,
4,6-Trifluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-
2,4-difluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-
Pentafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2, 4-difluorophen-1-yl, bis (cyclopentadienyl) -bis (2,6-difluoro-3- (pyrid-1-yl) phenyl) titanium (IRUGACURE784: manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and the like can be mentioned. However, the present invention is not limited to this.
【0085】光源にレーザー光を用いる場合、好ましく
は感光層に増感色素を添加することがこのましい。When laser light is used as the light source, it is preferable to add a sensitizing dye to the photosensitive layer.
【0086】可視光から近赤外まで波長増感させる化合
物としては、例えばシアニン、フタロシアニン、メロシ
アニン、ポルフィリン、スピロ化合物、フェロセン、フ
ルオレン、フルギド、イミダゾール、ペリレン、フェナ
ジン、フェノチアジン、ポリエン、アゾ化合物、ジフェ
ニルメタン、トリフェニルメタン、ポリメチンアクリジ
ン、クマリン、ケトクマリン、キナクリドン、インジ
ゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、
ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合
物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体
等が挙げられ、更に欧州特許568,993号、米国特
許4,508,811号、同5,227,227号、特
開2001−125255号公報、特開平11−271
969号公報等に記載の化合物も用いられる。Examples of the compound for wavelength sensitizing from visible light to near infrared include cyanine, phthalocyanine, merocyanine, porphyrin, spiro compound, ferrocene, fluorene, flugide, imidazole, perylene, phenazine, phenothiazine, polyene, azo compound, diphenylmethane. , Triphenylmethane, polymethine acridine, coumarin, ketocoumarin, quinacridone, indigo, styryl, pyrylium compounds, pyrromethene compounds,
Examples thereof include pyrazolotriazole compounds, benzothiazole compounds, barbituric acid derivatives, and thiobarbituric acid derivatives, and further, European Patent 568,993, US Patents 4,508,811, 5,227,227, and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-125255, JP-A-11-271
The compounds described in Japanese Patent No. 969 etc. are also used.
【0087】本発明において、上記の光重合開始剤と増
感色素の組合せの好ましい具体例としては、特開200
1−125255号公報、特開平11−271969号
公報に記載のある組合せが挙げられる。In the present invention, a preferable specific example of the combination of the above-mentioned photopolymerization initiator and sensitizing dye is described in JP-A-200
The combination described in JP-A No. 1-125255 and JP-A No. 11-271969 can be mentioned.
【0088】これら光重合開始剤の配合量は特に限定さ
れないが、好ましくは、本発明に係る付加重合可能なエ
チレン性不飽和二重結合含有単量体100質量部に対し
て0.1〜20質量部である。光重合開始剤と増感色素
の配合比率は、モル比で1:100〜100:1の範囲
が、好ましい。The blending amount of these photopolymerization initiators is not particularly limited, but preferably 0.1 to 20 with respect to 100 parts by mass of the addition-polymerizable ethylenically unsaturated double bond-containing monomer according to the present invention. Parts by mass. The molar ratio of the photopolymerization initiator to the sensitizing dye is preferably 1: 100 to 100: 1.
【0089】本発明の感光性平版印刷版材料及び本発明
の画像形成方法で用いる感光性平版印刷版材料の光重合
性感光層の塗布組成物には、上記した成分の他に、感光
性平版印刷版材料の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和二重結合単量体の不要な重合を
阻止するために、重合防止剤を添加することが望まし
い。適当な重合防止剤としてはハイドロキノン、p−メ
トキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、
ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、
4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェ
ノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−
t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロ
キシルアミン第一セリウム塩、2−t−ブチル−6−
(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジ
ル)−4−メチルフェニルアクリレート、2,2,6,
6,−テトラメチルピペリジン誘導体等のヒンダードア
ミン類等があげられる。In the photosensitive lithographic printing plate material of the present invention and the coating composition of the photopolymerizable photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate material used in the image forming method of the present invention, in addition to the components described above, a photosensitive lithographic printing plate is used. It is desirable to add a polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary polymerization of the polymerizable ethylenically unsaturated double bond monomer during the production or storage of the printing plate material. Suitable polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol,
Pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone,
4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-)
t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxylamine primary cerium salt, 2-t-butyl-6-
(3-t-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate, 2,2,6
Examples thereof include hindered amines such as 6, -tetramethylpiperidine derivatives.
【0090】重合防止剤の添加量は、上記組成物の全固
形分の質量に対して、約0.01%〜約5%が好まし
い。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止する
ためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘
導体等を添加したり、塗布後の乾燥の過程で感光性層の
表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量
は、全組成物の約0.5%〜約10%が好ましい。The addition amount of the polymerization inhibitor is preferably about 0.01% to about 5% with respect to the total solid content of the composition. Further, if necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, or may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer during the drying process after coating. Good. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.5% to about 10% of the total composition.
【0091】また、着色剤も使用することができ、着色
剤としては、市販のものを含め従来公知のものが好適に
使用できる。例えば、改訂新版「顔料便覧」,日本顔料
技術協会編(誠文堂新光社)、カラーインデックス便覧
等に述べられているものが挙げられる。A coloring agent can also be used, and as the coloring agent, conventionally known ones including commercially available ones can be preferably used. For example, those described in the revised new edition "Pigment Handbook", edited by Japan Pigment Technology Association (Seibundo Shinkosha), Color Index Handbook, etc. may be mentioned.
【0092】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、赤色顔料、褐色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔
料、蛍光顔料、金属粉顔料等が挙げられる。具体的に
は、無機顔料(二酸化チタン、カーボンブラック、グラ
ファイト、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミウ
ム、酸化鉄、ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウ
ムのクロム酸塩等)及び有機顔料(アゾ系、チオインジ
ゴ系、アントラキノン系、アントアンスロン系、トリフ
ェンジオキサジン系の顔料、バット染料顔料、フタロシ
アニン顔料及びその誘導体、キナクリドン顔料等)が挙
げられる。The types of pigments include black pigments, yellow pigments, red pigments, brown pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments and metal powder pigments. Specifically, inorganic pigments (titanium dioxide, carbon black, graphite, zinc oxide, Prussian blue, cadmium sulfide, iron oxide, and chromates of lead, zinc, barium and calcium) and organic pigments (azo, thioindigo). Pigments, anthraquinone pigments, anthanthrone pigments, triphendioxazine pigments, vat dye pigments, phthalocyanine pigments and their derivatives, quinacridone pigments, etc.).
【0093】これらの中でも、使用する露光レーザーに
対応した分光増感色素の吸収波長域に実質的に吸収を持
たない顔料を選択して使用することが好ましく、この場
合、使用するレーザー波長での積分球を用いた顔料の反
射吸収が0.05以下であることが好ましい。又、顔料
の添加量としては、上記組成物の固形分に対し0.1〜
10質量%が好ましく、より好ましくは0.2〜5質量
%である。Among these, it is preferable to select and use a pigment having substantially no absorption in the absorption wavelength range of the spectral sensitizing dye corresponding to the exposure laser used, and in this case, the pigment at the laser wavelength used is selected. The reflection absorption of the pigment using the integrating sphere is preferably 0.05 or less. The amount of the pigment added is 0.1 to the solid content of the composition.
It is preferably 10% by mass, more preferably 0.2 to 5% by mass.
【0094】露光光源として、アルゴンレーザー(48
8nm)又はSHG−YAGレーザー(532nm)を
使用する場合には、上記の感光波長領域での顔料吸収及
び現像後の可視画性の観点から、紫色顔料、青色顔料を
用いるのが好ましい。このようなものとしては、例えば
コバルトブルー、セルリアンブルー、アルカリブルーレ
ーキ、フォナトーンブルー6G、ビクトリアブルーレー
キ、無金属フタロシアニンブルー、フタロシアニンブル
ーフアーストスカイブルー、インダンスレンブルー、イ
ンジコ、ジオキサンバイオレット、イソビオランスロン
バイオレット、インダンスロンブルー、インダンスロン
BC等を挙げることができる。これらの中で、より好ま
しくはフタロシアニンブルー、ジオキサンバイオレット
である。As an exposure light source, an argon laser (48
(8 nm) or SHG-YAG laser (532 nm), it is preferable to use a violet pigment or a blue pigment from the viewpoints of pigment absorption in the above-mentioned photosensitive wavelength region and visibility after development. Examples of such materials include cobalt blue, cerulean blue, alkali blue lake, phonatone blue 6G, Victoria blue lake, metal-free phthalocyanine blue, phthalocyanine blue farst sky blue, indanthrene blue, indico, dioxane violet, iso Examples thereof include biolanthrone violet, indanthrone blue, and indanthrone BC. Among these, phthalocyanine blue and dioxane violet are more preferable.
【0095】また、支持体への接着性を向上させるため
に可塑剤を含有することが出来る。可塑剤としては、ジ
メチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタ
レート、ジヘプチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシ
ルフタレート、ジ−n−オクチルフタレート、ジドデシ
ルフタレート、ジイソデシルフタレート、ブチルベンジ
ルフタレート、ジイソノニルフタレート、エチルフタリ
ルエチルグリコール、ジメチルイソフタレート、トリエ
チレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコール
フタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルア
ジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリ
ンなどを挙げることができる。可塑剤の添加量は、上記
組成物の固形分に対し好ましくは約0〜3質量%であ
り、より好ましくは0.1〜2質量%である。Further, a plasticizer may be contained in order to improve the adhesiveness to the support. Examples of the plasticizer include dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diheptyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, di-n-octyl phthalate, didodecyl phthalate, diisodecyl phthalate, butylbenzyl phthalate, diisononyl phthalate, ethyl phthalyl ethyl. Examples thereof include glycol, dimethyl isophthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, and triacetyl glycerin. The addition amount of the plasticizer is preferably about 0 to 3% by mass, more preferably 0.1 to 2% by mass, based on the solid content of the composition.
【0096】また、上記組成物は、本発明の性能を損わ
ない範囲で、界面活性剤を塗布性改良剤として含有する
ことが出来る。その中でも好ましいのはフッ素系界面活
性剤である。Further, the above composition may contain a surfactant as a coatability improving agent within a range not impairing the performance of the present invention. Among them, the fluorine-based surfactant is preferable.
【0097】また、硬化皮膜の物性を改良するために、
無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレー
ト、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を
加えてもよい。これらの添加量は全固形分の10%以下
が好ましい。In order to improve the physical properties of the cured film,
Additives such as inorganic fillers and plasticizers such as dioctyl phthalate, dimethyl phthalate and tricresyl phosphate may be added. The addition amount of these is preferably 10% or less of the total solid content.
【0098】本発明の感光性平版印刷版材料及び本発明
の画像形成方法で用いる感光性平版印刷版材料の光重合
性感光層の感光性組成物を調製する際に使用する溶剤と
しては、例えば、アルコール:多価アルコールの誘導体
類では、sec−ブタノール、イソブタノール、n−ヘ
キサノール、ベンジルアルコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコー
ル、1,5−ペンタンジオール、又エーテル類:プロピ
レングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコール
モノメチルエーテル、又ケトン類、アルデヒド類:ジア
セトンアルコール、シクロヘキサノン、メチルシクロヘ
キサノン、又エステル類:乳酸エチル、乳酸ブチル、シ
ュウ酸ジエチル、安息香酸メチル等が好ましく挙げられ
る。The solvent used when preparing the photosensitive lithographic printing plate material of the present invention and the photosensitive composition of the photopolymerizable photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate material used in the image forming method of the present invention is, for example, , Alcohol: polyhydric alcohol derivatives, sec-butanol, isobutanol, n-hexanol, benzyl alcohol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,5-pentanediol, and ethers: propylene glycol monobutyl ether. , Dipropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, ketones, aldehydes: diacetone alcohol, cyclohexanone, methylcyclohexanone, and esters: ethyl lactate, butyl lactate, diethyl oxalate, Ikikosan methyl and the like preferably.
【0099】調製された感光性組成物(感光層塗布液)
は、従来公知の方法で支持体上に塗布し、乾燥し、感光
性平版印刷版材料を作製することが出来る。塗布液の塗
布方法としては、例えばエアドクタコータ法、ブレード
コータ法、ワイヤバー法、ナイフコータ法、ディップコ
ータ法、リバースロールコータ法、グラビヤコータ法、
キャストコーティング法、カーテンコータ法及び押し出
しコータ法等を挙げることが出来る。Prepared Photosensitive Composition (Photosensitive Layer Coating Solution)
Can be coated on a support by a conventionally known method and dried to prepare a photosensitive lithographic printing plate material. As a coating method of the coating liquid, for example, air doctor coater method, blade coater method, wire bar method, knife coater method, dip coater method, reverse roll coater method, gravure coater method,
Cast coating method, curtain coater method, extrusion coater method and the like can be mentioned.
【0100】感光層の乾燥温度は、低いと十分な耐刷性
を得ることが出来ず、又高過ぎるとマランゴニーを生じ
てしまうばかりか、非画線部のカブリを生じてしまう。
好ましい乾燥温度範囲としては、60〜160℃の範囲
が好ましく、より好ましくは80〜140℃、特に好ま
しくは、90〜120℃の範囲で乾燥することが好まし
い。When the drying temperature of the photosensitive layer is low, sufficient printing durability cannot be obtained, and when it is too high, not only Marangoni occurs but also fog in non-image area occurs.
As a preferable drying temperature range, a range of 60 to 160 ° C is preferable, a range of 80 to 140 ° C is more preferable, and a range of 90 to 120 ° C is particularly preferable.
【0101】本発明の感光性平版印刷版材料及び本発明
の画像形成方法で用いる感光性平版印刷版材料の光重合
性感光層の上側には、保護層を設けることが好ましい。
該保護層(酸素遮断層)は、後述する現像液(一般には
アルカリ水溶液)への溶解性が高いことが好ましい。A protective layer is preferably provided on the upper side of the photopolymerizable photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate material of the present invention and the photosensitive lithographic printing plate material used in the image forming method of the present invention.
The protective layer (oxygen barrier layer) preferably has high solubility in a developer (generally an alkaline aqueous solution) described later.
【0102】該保護層を構成する素材として好ましい例
は、ポリビニルアルコール、ポリサッカライド、ポリビ
ニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ゼラチン、
膠、カゼイン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキ
シメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエ
チル澱粉、アラビアゴム、サクローズオクタアセテー
ト、アルギン酸アンモニウム、アルギン酸ナトリウム、
ポリビニルアミン、ポリエチレンオキシド、ポリスチレ
ンスルホン酸、ポリアクリル酸、水溶性ポリアミド等が
挙げられる。これらの化合物を単独又は2種以上併用し
塗布組成物とし用いることができる。特に好ましい化合
物としてはポリビニルアルコールが挙げられる。Preferred examples of the material constituting the protective layer include polyvinyl alcohol, polysaccharides, polyvinylpyrrolidone, polyethylene glycol, gelatin,
Glue, casein, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, methyl cellulose, hydroxyethyl starch, gum arabic, sucrose octaacetate, ammonium alginate, sodium alginate,
Examples thereof include polyvinylamine, polyethylene oxide, polystyrene sulfonic acid, polyacrylic acid, water-soluble polyamide and the like. These compounds may be used alone or in combination of two or more to form a coating composition. A particularly preferable compound is polyvinyl alcohol.
【0103】保護層塗布組成物を調製するには、上記の
素材を適当な溶剤に溶解して塗布液とすることができ、
この塗布液を本発明に係る光重合性感光層上に塗布し、
乾燥して保護層を形成することができる。保護層の厚み
は0.1〜5.0μmが好ましく、特に好ましくは0.
5〜3.0μmである。保護層には、更に必要に応じて
界面活性剤、マット剤等を含有することができる。To prepare a protective layer coating composition, the above materials can be dissolved in a suitable solvent to prepare a coating solution.
This coating solution is coated on the photopolymerizable photosensitive layer according to the present invention,
The protective layer can be formed by drying. The thickness of the protective layer is preferably 0.1 to 5.0 μm, particularly preferably 0.
It is 5 to 3.0 μm. The protective layer may further contain a surfactant, a matting agent, etc., if necessary.
【0104】保護層の塗布方法としても、上記例に挙げ
た公知の方法を好適に用いることができる。保護層の乾
燥温度は、感光層の乾燥温度よりも低い方がより好まし
い。好ましくは感光層乾燥温度との差が10℃以上、よ
り好ましくは20℃以上である場合が好ましく、その場
合の上限はせいぜい50℃程度が好ましい。As the coating method of the protective layer, the known methods mentioned in the above examples can be preferably used. The drying temperature of the protective layer is more preferably lower than the drying temperature of the photosensitive layer. The difference from the drying temperature of the photosensitive layer is preferably 10 ° C. or more, more preferably 20 ° C. or more, and the upper limit in that case is preferably about 50 ° C. at most.
【0105】また、保護層の乾燥温度が、感光層が含有
するバインダーのガラス転移温度(Tg)より低いこと
が好ましい。保護層の乾燥温度と、感光層が含有するバ
インダーのガラス転移温度(Tg)の差は20℃以上で
あることが好ましく、より好ましくは40℃以上であ
り、その差の上限はせいぜい60℃程度が好ましい。The drying temperature of the protective layer is preferably lower than the glass transition temperature (Tg) of the binder contained in the photosensitive layer. The difference between the drying temperature of the protective layer and the glass transition temperature (Tg) of the binder contained in the photosensitive layer is preferably 20 ° C. or more, more preferably 40 ° C. or more, and the upper limit of the difference is at most about 60 ° C. Is preferred.
【0106】本発明の感光性平版印刷版材料及び本発明
の画像形成方法で用いる感光性平版印刷版材料に画像露
光する光源としては、例えばレーザー、発光ダイオー
ド、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、ハロ
ゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドラン
プ、タングステンランプ、高圧水銀ランプ、無電極光源
等を挙げることができる。The light source for imagewise exposing the photosensitive lithographic printing plate material of the present invention and the photosensitive lithographic printing plate material used in the image forming method of the present invention is, for example, a laser, a light emitting diode, a xenon lamp, a xenon flash lamp or a halogen lamp. , Carbon arc lamps, metal halide lamps, tungsten lamps, high pressure mercury lamps, electrodeless light sources and the like.
【0107】一括露光する場合には、光重合性感光層上
に、所望の露光画像のネガパターンを遮光性材料で形成
したマスク材料を重ね合わせ、露光すればよい。In the case of collective exposure, a mask material having a negative pattern of a desired exposure image formed of a light-shielding material may be superposed on the photopolymerizable photosensitive layer and exposed.
【0108】発光ダイオードアレイ等のアレイ型光源を
使用する場合や、ハロゲンランプ、メタルハライドラン
プ、タングステンランプ等の光源を、液晶、PLZT等
の光学的シャッター材料で露光制御する場合には、画像
信号に応じたデジタル露光をすることが可能であり好ま
しい。この場合は、マスク材料を使用せず、直接書込み
を行うことができる。When an array type light source such as a light emitting diode array is used, or when a light source such as a halogen lamp, a metal halide lamp or a tungsten lamp is exposed and controlled by an optical shutter material such as liquid crystal or PLZT, an image signal is used. It is possible and preferable to perform appropriate digital exposure. In this case, direct writing can be performed without using a mask material.
【0109】レーザー露光の場合には、光をビーム状に
絞り画像データに応じた走査露光が可能なので、マスク
材料を使用せず、直接書込みを行うのに適している。
又、レーザーを光源として用いる場合には、露光面積を
微小サイズに絞ることが容易であり、高解像度の画像形
成が可能となる。The laser exposure is suitable for direct writing without using a mask material, because light can be focused into a beam and scanning exposure can be performed according to image data.
Further, when a laser is used as a light source, it is easy to reduce the exposure area to a minute size, and high-resolution image formation becomes possible.
【0110】レーザー光源としては、アルゴンレーザ
ー、He−Neガスレーザー、YAGレーザー、半導体
レーザー等を何れも好適に用いることが可能である。レ
ーザーの走査方法としては、円筒外面走査、円筒内面走
査、平面走査などがある。円筒外面走査では、記録材料
を外面に巻き付けたドラムを回転させながらレーザー露
光を行い、ドラムの回転を主走査としレーザー光の移動
を副走査とする。円筒内面走査では、ドラムの内面に記
録材料を固定し、レーザービームを内側から照射し、光
学系の一部又は全部を回転させることにより円周方向に
主走査を行い、光学系の一部又は全部をドラムの軸に平
行に直線移動させることにより軸方向に副走査を行う。
平面走査では、ポリゴンミラーやガルバノミラーとfθ
レンズ等を組み合わせてレーザー光の主走査を行い、記
録媒体の移動により副走査を行う。円筒外面走査及び円
筒内面走査の方が光学系の精度を高め易く、高密度記録
には適している。As the laser light source, any of an argon laser, a He-Ne gas laser, a YAG laser, a semiconductor laser and the like can be preferably used. Laser scanning methods include cylinder outer surface scanning, cylinder inner surface scanning, and plane scanning. In the cylindrical outer surface scanning, laser exposure is performed while rotating a drum having a recording material wound on the outer surface, and rotation of the drum is main scanning and movement of laser light is sub scanning. In the cylindrical inner surface scanning, the recording material is fixed to the inner surface of the drum, the laser beam is irradiated from the inner side, and the main scanning is performed in the circumferential direction by rotating a part or the whole of the optical system, and a part of the optical system or Sub-scanning is performed in the axial direction by linearly moving the whole body in parallel with the axis of the drum.
In plane scanning, a polygon mirror or galvanometer mirror and fθ
Main scanning of laser light is performed by combining a lens and the like, and sub-scanning is performed by moving the recording medium. The scanning of the outer surface of the cylinder and the scanning of the inner surface of the cylinder make it easier to increase the accuracy of the optical system and are suitable for high-density recording.
【0111】本発明では、画像露光後、画像形成反応の
促進、感度や耐刷性の向上のため加熱処理が施される。
加熱処理の方法は特に限定されないが画像形成面への非
接触方式が好ましく、通常の恒温槽、熱風式乾燥機およ
び加熱処理部を装着した市販の自動現像機を使用でき
る。加熱温度は版面温度で100〜130℃で行うこと
が好ましい。温度が高すぎると非画像部のかぶりが生じ
る等の問題があり、また温度が低すぎると感度、耐刷性
が不十分等の問題が生じる。加熱時間は5〜60秒で行
うことが好ましい。加熱時間が長すぎると非画像部のか
ぶりが生じる等の問題があり、また加熱時間が短すぎる
と感度、耐刷性が不十分等の問題が生じる。露光終了か
ら加熱処理までの時間は300秒以内が好ましい。30
0秒を越えると感度、耐刷性が不十分等の問題が生じ
る。In the present invention, after the image exposure, a heat treatment is carried out in order to accelerate the image forming reaction and improve the sensitivity and printing durability.
The method of heat treatment is not particularly limited, but a non-contact method with respect to the image forming surface is preferable, and a commercially available automatic processor equipped with an ordinary thermostatic bath, a hot air dryer and a heat treatment section can be used. The heating temperature is preferably a plate surface temperature of 100 to 130 ° C. If the temperature is too high, there are problems such as fogging of non-image areas, and if the temperature is too low, there are problems such as insufficient sensitivity and printing durability. The heating time is preferably 5 to 60 seconds. If the heating time is too long, there is a problem such as fogging of the non-image area, and if the heating time is too short, there are problems such as insufficient sensitivity and printing durability. The time from the end of exposure to the heat treatment is preferably within 300 seconds. Thirty
If it exceeds 0 seconds, problems such as insufficient sensitivity and printing durability occur.
【0112】本発明の感光性平版印刷版材料及び本発明
の画像形成方法で用いる感光性平版印刷版材料の画像露
光した光重合性感光層は露光部が硬化する。これを現像
液で現像処理することにより、未露光部が除去され画像
形成が可能となる。このような現像液としては、従来よ
り知られているアルカリ水溶液が使用できる。珪酸ナト
リウム、同カリウム、同アンモニウム;第二燐酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム;重炭酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム;炭酸ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム;炭酸水素ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム;硼酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム;水酸化ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム及び同リチウム等の無機アルカリ剤を使
用するアルカリ現像液が挙げられる。The image-exposed photopolymerizable photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate material of the present invention and the photosensitive lithographic printing plate material used in the image forming method of the present invention is cured in the exposed area. By developing this with a developing solution, an unexposed portion is removed and an image can be formed. As such a developing solution, a conventionally known alkaline aqueous solution can be used. Sodium silicate, potassium, ammonium; sodium diphosphate, potassium, ammonium; sodium bicarbonate, potassium, ammonium; sodium carbonate, potassium, ammonium; sodium bicarbonate, potassium, ammonium; boric acid Sodium, potassium, ammonium; sodium hydroxide, potassium,
An alkaline developing solution using an inorganic alkaline agent such as ammonium and lithium can be used.
【0113】また、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノ−i−プロピルアミン、
ジ−i−プロピルアミン、トリ−i−プロピルアミン、
ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミン、モノ−i−プロパノール
アミン、ジ−i−プロパノールアミン、エチレンイミ
ン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も
用いることができる。Further, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, mono-i-propylamine,
Di-i-propylamine, tri-i-propylamine,
Organic alkali agents such as butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, mono-i-propanolamine, di-i-propanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine can also be used.
【0114】これらのアルカリ剤は、単独又は2種以上
組み合わせて用いられる。又、該現像液には、必要に応
じてアニオン性界面活性剤、両性活性剤やアルコール等
の有機溶媒を加えることができる。These alkaline agents may be used alone or in combination of two or more. If necessary, an organic solvent such as an anionic surfactant, an amphoteric surfactant or alcohol can be added to the developer.
【0115】本発明で用いる現像液は、珪酸塩を含有
し、pH10.0〜12.5であることが好ましく、よ
り好ましくはpH10.5〜12.4の範囲である。係
る現像により、本発明の効果が特異的に奏されるもので
ある。即ち、従来不十分であった現像性や感度を十分な
性能として引き出すこともさることながら、現像スラッ
ジ性能の改良、耐刷性の改良等の性能も同時に改善でき
るものである。The developer used in the present invention contains a silicate and preferably has a pH of 10.0 to 12.5, more preferably pH 10.5 to 12.4. The effect of the present invention is specifically exhibited by such development. That is, not only can the developability and sensitivity that were conventionally insufficient be brought out as sufficient performance, but also the performance such as improvement of development sludge performance and improvement of printing durability can be improved at the same time.
【0116】[0116]
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
尚、実施例における「部」は、特に断りない限り「質量
部」を表す。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited thereto.
In addition, "part" in an Example represents a "mass part" unless there is particular notice.
【0117】実施例1−1 感光性平版印刷版材料1〜
20の作製
(高分子結合剤A〜Tの作製)窒素気流下の三ツ口フラ
スコに、メタクリル酸メチル(化合物1)19.5部
(0.195モル)、メタクリル酸(化合物2)27.
0部(0.314モル)、メタクリル酸エチル(化合物
3)3.5部(0.031モル)、エタノール100部
及びα,α′−アゾビスイソブチロニトリル1.23部
を入れ、窒素気流中80℃のオイルバスで6時間反応さ
せて高分子重合体を得た。その後、該重合体に、トリエ
チルアンモニウムクロライド1部及びグリシジルメタク
リレート(エポキシ基含有不飽和化合物:化合物4)2
3.1部(0.163モル)を加えて、温度25℃で3
時間反応させて高分子結合剤A(化合物6)を得た。G
PCを用いて測定した重量平均分子量は約28,000
であった。Example 1-1 Photosensitive planographic printing plate material 1
Preparation of 20 (Preparation of Polymer Binders A to T) In a three-necked flask under a nitrogen stream, 19.5 parts (0.195 mol) of methyl methacrylate (Compound 1) and methacrylic acid (Compound 2) 27.
0 parts (0.314 mol), 3.5 parts of ethyl methacrylate (compound 3) (0.031 mol), 100 parts of ethanol and 1.23 parts of α, α′-azobisisobutyronitrile were added, and nitrogen was added. A polymer was obtained by reacting in an oil bath at 80 ° C. for 6 hours in an air stream. Then, 1 part of triethylammonium chloride and glycidyl methacrylate (epoxy group-containing unsaturated compound: compound 4) 2 were added to the polymer.
3.1 parts (0.163 mol) were added, and the mixture was mixed at a temperature of 25 ° C for 3
The reaction was carried out for a time to obtain a polymer binder A (Compound 6). G
The weight average molecular weight measured using PC is about 28,000.
Met.
【0118】[0118]
【化1】 [Chemical 1]
【0119】表1に示すモノマー単位比率およびカルボ
キシル基に反応させるエポキシ基含有不飽和化合物の比
率を、仕込量を変えることで変更し、また、重合体の反
応時間を調整して重量平均分子量を変更した以外は高分
子結合剤Aの作製と同様の操作を行い、高分子結合剤B
〜Tを得た。The monomer unit ratio shown in Table 1 and the ratio of the epoxy group-containing unsaturated compound reacted with the carboxyl group were changed by changing the charged amount, and the reaction time of the polymer was adjusted to change the weight average molecular weight. Polymer binder B was prepared in the same manner as in the preparation of polymer binder A, except that it was changed.
~ T was obtained.
【0120】[0120]
【化2】 [Chemical 2]
【0121】[0121]
【表1】 [Table 1]
【0122】(支持体の作製)厚さ0.24mmのアル
ミニウム板(材質1050,調質H16)を65℃に保
たれた5%水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、1分間の
脱脂処理を行った後、水洗した。この脱脂アルミニウム
板を、25℃に保たれた10%塩酸水溶液中に1分間浸
漬して中和した後、水洗した。次いで、このアルミニウ
ム板を、0.3質量%の塩酸水溶液中で、25℃、電流
密度100A/dm2の条件下に交流電流により60秒
間、電解粗面化を行った後、60℃に保たれた5%水酸
化ナトリウム水溶液中で10秒間のデスマット処理を行
った。デスマット処理を行った粗面化アルミニウム板
を、15%硫酸溶液中で、25℃、電流密度10A/d
m2、電圧15Vの条件下に1分間陽極酸化処理を行
い、更に3%硅酸ナトリウムで90℃で封孔処理を行っ
て支持体を作製した。この時、表面の中心線平均粗さ
(Ra)は0.65μmであった。
(支持体の表面処理)上記処理を行った後、続けて下記
溶液中で浸漬し処理を行った。
溶液温度 80℃
ビニルホスホン酸 0.2%
ポリビニルホスホン酸 1.5%
上記溶液中にアルミニウム板を30秒間通し、乾燥し
た。
(感光性平版印刷版材料1〜20の作製)上記表面処理
済みの支持体上に、下記組成の光重合性感光層塗工液を
乾燥時1.4g/m2になるようワイヤーバーで塗布
し、95℃で1.5分間乾燥した。その後、更に該感光
層上に、下記組成のオーバーコート層塗工液を乾燥時
2.0g/m2になるようにアプリケーターで塗布し、
75℃で1.5分間乾燥して感光性平版印刷版材料1を
作製した。(Production of Support) An aluminum plate (material 1050, temper H16) having a thickness of 0.24 mm was immersed in a 5% sodium hydroxide aqueous solution kept at 65 ° C., and degreasing treatment was performed for 1 minute. Then, it was washed with water. This degreased aluminum plate was immersed in a 10% hydrochloric acid aqueous solution kept at 25 ° C. for 1 minute for neutralization, and then washed with water. Next, this aluminum plate was electrolytically surface-roughened for 60 seconds by an alternating current in a 0.3% by mass aqueous hydrochloric acid solution at 25 ° C. and a current density of 100 A / dm 2 , and then kept at 60 ° C. Desmutting treatment was performed for 10 seconds in a dripped 5% aqueous sodium hydroxide solution. The desmutted roughened aluminum plate is placed in a 15% sulfuric acid solution at 25 ° C. and a current density of 10 A / d.
Anodizing treatment was carried out for 1 minute under the condition of m 2 and voltage of 15 V, and further, sealing treatment was carried out with 3% sodium silicate at 90 ° C. to prepare a support. At this time, the center line average roughness (Ra) of the surface was 0.65 μm. (Surface Treatment of Support) After the above treatment, the substrate was immersed in the following solution for treatment. Solution temperature 80 ° C. Vinylphosphonic acid 0.2% Polyvinylphosphonic acid 1.5% An aluminum plate was passed through the above solution for 30 seconds and dried. (Preparation of Photosensitive Planographic Printing Plate Materials 1 to 20) A photopolymerizable photosensitive layer coating solution having the following composition was applied on the above-mentioned surface-treated support with a wire bar so that the coating solution would have a dry weight of 1.4 g / m 2. And dried at 95 ° C. for 1.5 minutes. After that, an overcoat layer coating solution having the following composition was further applied onto the photosensitive layer with an applicator so as to have a dryness of 2.0 g / m 2 .
A photosensitive lithographic printing plate material 1 was prepared by drying at 75 ° C. for 1.5 minutes.
【0123】
〈光重合性感光層塗工液〉
高分子結合剤A 35.0部
分光増感色素1(化合物7) 2.0部
分光増感色素2(化合物8) 2.0部
IRGACURE 784(チバスペシャリティケミカルズ製)4.0部
多官能ウレタンアクリレート
(NKオリゴU−4HA:新中村化学工業社製) 40.0部
ポリエチレングリコール#200ジメタクリレート
(NKエステル4G:新中村化学工業社製) 10.0部
フタロシアニン顔料(MHI454:御国色素社製) 6.0部
2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジ
ル)−4−メチルフェニルアクリレート
(スミライザーGS:住友3M社製) 0.5部
弗素系界面活性剤(F178K;大日本インキ化学工業社製) 0.5部
メチルエチルケトン(沸点=79.6℃) 80部
シクロペンタノン(沸点=129℃) 820部
〈オーバーコート層(保護層)塗工液〉
ポリビニルアルコール(GL−03:日本合成化学社製) 89部
水溶性ポリアミド(P−70:東レ社製) 10部
界面活性剤(F1405:大日本インキ工業社製) 0.5部
水 900部
さらに、感光性平版印刷版材料1の作製において、光重
合性感光層塗工液の高分子結合剤Aを高分子結合剤B〜
Tに変更する以外は感光性平版印刷版材料1の作製法と
同様にして感光性平版印刷版材料2〜20をそれぞれ作
製した。<Photopolymerizable Photosensitive Layer Coating Liquid> Polymer Binder A 35.0 parts Spectral sensitizing dye 1 (compound 7) 2.0 parts Spectral sensitizing dye 2 (compound 8) 2.0 parts IRGACURE 784 (Ciba Specialty Chemicals) 4.0 parts Polyfunctional urethane acrylate (NK oligo U-4HA: manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.) 40.0 parts Polyethylene glycol # 200 dimethacrylate (NK ester 4G: manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.) 10.0 parts Phthalocyanine pigment (MHI454: manufactured by Mikuni Dye Co., Ltd.) 6.0 parts 2-t-butyl-6- (3-t-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate (Sumilyzer) GS: Sumitomo 3M Co., Ltd.) 0.5 part Fluorine-based surfactant (F178K; Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) 0.5 part Methyl ethyl keto (Boiling point = 79.6 ° C.) 80 parts Cyclopentanone (boiling point = 129 ° C.) 820 parts <Overcoat layer (protective layer) coating liquid> Polyvinyl alcohol (GL-03: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 89 parts Water-soluble Polyamide (P-70: manufactured by Toray) 10 parts Surfactant (F1405: manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.5 part Water 900 parts Further, in the preparation of the photosensitive lithographic printing plate material 1, a photopolymerizable photosensitive layer The polymer binder A of the coating liquid is replaced with the polymer binder B ~
Photosensitive lithographic printing plate materials 2 to 20 were produced in the same manner as in the preparation of photosensitive lithographic printing plate material 1 except that T was changed to T.
【0124】[0124]
【化3】 [Chemical 3]
【0125】実施例1−2 感光性平版印刷版材料1〜
20の画像形成及び評価
(感光性平版印刷版材料1〜20の画像形成)感光性平
版印刷版材料1〜20について、FD−YAGレーザー
光源を搭載したCTP露光装置(Tigercat:E
CRM社製)を用いて2540dpi(dpiとは1イ
ンチ即ち2.54cm当たりのドット数を表す)の解像
度で画像露光を行った。次いで、現像前に加熱装置部、
オーバーコート層を除去する前水洗部、下記現像液組成
1を充填した現像部、版面に付着した現像液を取り除く
水洗部、画線部保護のためのガム液(GW−3:三菱化
学社製を2倍希釈したもの)を備えたCTP自動現像機
(PHW23−V:Technigraph社製)で現
像処理を行い、画像を形成した感光性平版印刷版材料1
〜20を得た。このとき加熱装置部は、版面温度115
℃、版滞在時間15秒となるように設定した。また露光
終了から自現機の加熱装置部への版挿入は60秒以内に
行った。さらに現像液の温度は30℃とした。Example 1-2 Photosensitive planographic printing plate materials 1 to
Image formation and evaluation of 20 (image formation of photosensitive lithographic printing plate materials 1 to 20) For the photosensitive lithographic printing plate materials 1 to 20, a CTP exposure device (Tigercat: E) equipped with an FD-YAG laser light source was used.
Image exposure was carried out at a resolution of 2540 dpi (dpi represents the number of dots per inch, that is, 2.54 cm) by using CRM. Then, the heating device section before development,
A water washing part before removing the overcoat layer, a developing part filled with the following developer composition 1, a water washing part for removing the developer adhering to the plate surface, and a gum solution for protecting the image area (GW-3: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. 1) and a CTP automatic developing machine (PHW23-V: manufactured by Technigraph) were used for development processing to form an image on the photosensitive lithographic printing plate material 1
Got ~ 20. At this time, the heating device section sets the plate surface temperature to 115
The temperature was set to 15 ° C. and the plate staying time was set to 15 seconds. The plate was inserted into the heating device of the automatic developing machine within 60 seconds after the exposure. Further, the temperature of the developing solution was 30 ° C.
【0126】
現像液組成1(下記添加剤を含有する水溶液)
Aケイ酸カリ(珪酸カリウム) 8.0質量%
ペレックスNBL:花王(株)製 3.0質量%
苛性カリ pH=12.3となるよう調整
(画像形成した感光性平版印刷版材料1〜20の評価)
上記のようにして得られた画像形成した感光性平版印刷
版材料1〜20について、以下の評価を行った。評価結
果を表2に示す。Developer Composition 1 (Aqueous Solution Containing the Following Additives) A Potassium Silicate (Potassium Silicate) 8.0% by Mass Perex NBL: Kao Corporation 3.0% by Mass Caustic Potassium pH = 12.3 Adjustment (evaluation of the imaged photosensitive lithographic printing plate materials 1 to 20)
The following evaluations were performed on the image-formed photosensitive lithographic printing plate materials 1 to 20 obtained as described above. The evaluation results are shown in Table 2.
【0127】《感度》画像部の膜減りが観察されず、か
つ、175線・50%の網点露光部が、作製した平版印
刷版面上で50%に再現できる露光量の2倍の光量で描
画し、これを感度とした。<< Sensitivity >> No film loss in the image area was observed, and the halftone dot exposure area of 175 lines and 50% was twice as light as the exposure quantity that could be reproduced 50% on the prepared lithographic printing plate surface. It was drawn and used as the sensitivity.
【0128】《網点再現性》500×600mmのサイ
ズの光重合型平版印刷版材料を上記感度で求めた適正露
光量にて175線・50%の網点を全面露光、現像処理
した。画像形成された網点領域を500倍の光学顕微鏡
で撮影し、2mm×2mmの範囲の画像部9点の面積を
算出して平均値1、および標準偏差1を算出し、標準偏
差1を網点再現性の指標とした。<< Reproducibility of Halftone Dots >> A photopolymerization type lithographic printing plate material having a size of 500 × 600 mm was subjected to full exposure and development of halftone dots of 175 lines and 50% at an appropriate exposure amount determined by the above sensitivity. The imaged halftone dot area was photographed with a 500 × optical microscope, the area of 9 points of the image part in the area of 2 mm × 2 mm was calculated, the average value 1 and the standard deviation 1 were calculated, and the standard deviation 1 was screened. It was used as an index of point reproducibility.
【0129】《保存安定性》光重合型平版印刷版材料を
強制劣化させるため、温度55℃、湿度50%の環境下
の恒温槽に5日間保存した光重合型平版印刷版材料につ
いて、上記網点再現性と同様の方法で平均値2、および
標準偏差2を算出した。このとき、平均値2−平均値
1、標準偏差2−標準偏差1の値を保存安定性の指標と
した。<Storage Stability> The photopolymerizable lithographic printing plate material was stored for 5 days in a thermostatic chamber at a temperature of 55 ° C. and a humidity of 50% in order to forcibly deteriorate the photopolymerizable lithographic printing plate material. The average value 2 and the standard deviation 2 were calculated by the same method as the point reproducibility. At this time, the value of average value 2−average value 1 and standard deviation 2−standard deviation 1 was used as an index of storage stability.
【0130】[0130]
【表2】 [Table 2]
【0131】表2の結果より、画像形成した感光性平版
印刷版材料1〜12は感度、網点再現性、保存安定性に
優れていることが分かった。また、感光性平版印刷版材
料9、10、11、12は感度、網点再現性、保存安定
性に特に優れていることが分かった。さらに、画像形成
した感光性平版印刷版材料1〜12を現像した現像液
は、現像液のpHが12.3と低いpHでありながら、
現像スラッジの発生が抑えられていることが分かった。From the results shown in Table 2, it was found that the image-formed photosensitive lithographic printing plate materials 1 to 12 were excellent in sensitivity, halftone dot reproducibility and storage stability. It was also found that the photosensitive lithographic printing plate materials 9, 10, 11 and 12 are particularly excellent in sensitivity, halftone dot reproducibility and storage stability. Further, the developing solution for developing the image-formed photosensitive lithographic printing plate materials 1 to 12 has a low pH of 12.3,
It was found that the development sludge generation was suppressed.
【0132】実施例2−1 感光性平版印刷版材料21
〜40の作製
(支持体の下引き層処理)実施例1−1で作製した表面
処理を施した支持体上に、下記組成の下引き層塗工液を
乾燥時0.1g/m2になるようワイヤーバーで塗布
し、90℃で1分間乾燥し、更に110℃で3分間の加
熱処理を行って、下引き済み支持体を作製した。Example 2-1 Photosensitive lithographic printing plate material 21
˜40 (undercoat layer treatment of support) On the surface-treated support produced in Example 1-1, an undercoat layer coating solution having the following composition was dried to 0.1 g / m 2 . A wire bar was applied thereto to dry it, dried at 90 ° C. for 1 minute, and further heat-treated at 110 ° C. for 3 minutes to prepare an undercoated support.
【0133】
〈下引き層塗工液〉
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 1部
メチルエチルケトン 80部
シクロヘキサノン 19部
(感光性平版印刷版材料21〜40の作製)上記下引き
済み支持体上に、下記組成の光重合性感光層塗工液を乾
燥時1.4g/m2になるようワイヤーバーで塗布し、
95℃で1.5分間乾燥した。その後、更に該感光層上
に、下記組成のオーバーコート層塗工液を乾燥時2.0
g/m2になるようにアプリケーターで塗布し、75℃
で1.5分間乾燥して平版印刷版材料21を作製した。<Undercoating Layer Coating Liquid> γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane 1 part Methylethylketone 80 parts Cyclohexanone 19 parts (Preparation of photosensitive lithographic printing plate materials 21 to 40) Apply the photopolymerizable photosensitive layer coating liquid of the composition with a wire bar so as to be 1.4 g / m 2 when dried,
It was dried at 95 ° C for 1.5 minutes. After that, an overcoat layer coating solution having the following composition was further dried on the photosensitive layer at a dry time of 2.0.
Apply with an applicator so that the g / m 2 becomes 75 ° C.
And dried for 1.5 minutes to prepare a planographic printing plate material 21.
【0134】
〈光重合性感光層塗工液〉
高分子結合剤A 42.5部
分光増感色素1(化合物7) 2.0部
分光増感色素2(化合物8) 2.0部
IRGACURE 784(チバスペシャリティケミカルズ製)4.0部
EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート
(ライトアクリレートTMP−6EO−3A:共栄社化学社製)
42.5部
フタロシアニン顔料(MHI454:御国色素社製) 6.0部
2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−
メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート
(スミライザーGS:住友3M社製) 0.5部
弗素系界面活性剤(F178K;大日本インキ化学工業社製) 0.5部
メチルエチルケトン(沸点=79.6℃) 80部
シクロペンタノン(沸点=129℃) 820部
〈オーバーコート層(保護層)塗工液〉
ポリビニルアルコール(GL−03:日本合成化学社製) 89部
水溶性ポリアミド(P−70:東レ社製) 10部
界面活性剤(F1405:大日本インキ工業社製) 0.5部
水 900部
さらに、感光性平版印刷版材料21の作製において、光
重合性感光層塗工液の高分子結合剤Aを高分子結合剤B
〜Tに変更する以外は感光性平版印刷版材料21の作製
法と同様にして感光性平版印刷版材料22〜40をそれ
ぞれ作製した。<Photopolymerizable Photosensitive Layer Coating Liquid> Polymer Binder A 42.5 parts Spectral sensitizing dye 1 (compound 7) 2.0 parts Spectral sensitizing dye 2 (compound 8) 2.0 parts IRGACURE 784 (Ciba Specialty Chemicals) 4.0 parts EO modified trimethylolpropane triacrylate (light acrylate TMP-6EO-3A: Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 42.5 parts Phthalocyanine pigment (MHI454: Mikuni pigment company) 6.0 parts 2 -T-butyl-6- (3-t-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate (Sumilyser GS: manufactured by Sumitomo 3M Ltd.) 0.5 part Fluorine-based surfactant (F178K; (Manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.5 part Methyl ethyl ketone (boiling point = 79.6 ° C.) 80 parts Cyclopentanone (boiling point = 129 ° C.) 820 parts <Overcoat layer (protective layer) coating liquid> Polyvinyl alcohol (GL-03: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry) 89 parts Water-soluble polyamide (P-70: manufactured by Toray) 10 parts Surfactant (F1405: Large) (Manufactured by Nippon Ink Kogyo Co., Ltd.) 0.5 part Water 900 parts Further, in the preparation of the photosensitive lithographic printing plate material 21, the polymer binder A of the photopolymerizable photosensitive layer coating liquid is replaced with the polymer binder B.
Photosensitive lithographic printing plate materials 22 to 40 were produced in the same manner as in the method for producing photosensitive lithographic printing plate material 21 except for changing to T.
【0135】実施例2−2 感光性平版印刷版材料21
〜40の画像形成及び評価
(感光性平版印刷版材料21〜40の画像形成)実施例
1−2と同様の方法で、感光性平版印刷版材料21〜4
0に画像形成を行った。Example 2-2 Photosensitive planographic printing plate material 21
To 40 (image formation of photosensitive lithographic printing plate materials 21 to 40) In the same manner as in Example 1-2, photosensitive lithographic printing plate materials 21 to 4
Image formation was performed at 0.
【0136】(画像形成した感光性平版印刷版材料21
〜40の評価)上記のようにして得られた画像形成した
感光性平版印刷版材料21〜40について、実施例1−
2に記載した感度、網点再現性、保存安定性の評価を行
った。評価結果を表3に示す。(Image-formed photosensitive lithographic printing plate material 21)
Evaluation of -40) Regarding the image-formed photosensitive lithographic printing plate materials 21 to 40 obtained as described above, Example 1-
The sensitivity, halftone dot reproducibility and storage stability described in 2 were evaluated. The evaluation results are shown in Table 3.
【0137】[0137]
【表3】 [Table 3]
【0138】表3の結果より、画像形成した感光性平版
印刷版材料21〜32は感度、網点再現性、保存安定性
に優れていることが分かった。また、感光性平版印刷版
材料29、30、31、32は感度、網点再現性、保存
安定性に特に優れていることが分かった。さらに、画像
形成した感光性平版印刷版材料21〜32を現像した現
像液は、現像液のpHが12.3と低いpHでありなが
ら、現像スラッジの発生が抑えられていることが分かっ
た。From the results shown in Table 3, it was found that the image-formed photosensitive lithographic printing plate materials 21 to 32 were excellent in sensitivity, halftone dot reproducibility and storage stability. It was also found that the photosensitive lithographic printing plate materials 29, 30, 31, 32 are particularly excellent in sensitivity, halftone dot reproducibility and storage stability. Further, it was found that the developing solution in which the image-formed photosensitive lithographic printing plate materials 21 to 32 were developed had development sludge suppressed while the developing solution had a low pH of 12.3.
【0139】実施例3−1 感光性平版印刷版材料41
〜46の作製
(感光性平版印刷版材料41〜46の作製)実施例2−
1で述べた下引き済み支持体上に、下記組成の光重合性
感光層塗工液を乾燥時1.4g/m2になるようワイヤ
ーバーで塗布し、95℃で1.5分間乾燥した。その
後、更に該感光層上に、下記組成のオーバーコート層塗
工液を乾燥時2.0g/m2になるようにアプリケータ
ーで塗布し、75℃で1.5分間乾燥して感光性平版印
刷版材料41を作製した。
光重合性感光層塗工液
高分子結合剤A 42.5部
化合物9 0.7部
化合物10 0.7部
化合物11 0.7部
化合物12 0.7部
化合物13 0.7部
化合物14 0.7部
化合物15 0.7部
EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート
(ライトアクリレートTMP−6EO−3A:共栄社化学社製)
42.5部
フタロシアニン顔料(MHI454:御国色素社製) 6.0部
2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−
メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート
(スミライザーGS:住友3M社製) 0.5部
弗素系界面活性剤(F178K;大日本インキ化学工業社製) 0.5部
メチルエチルケトン(沸点=79.6℃) 80部
シクロペンタノン(沸点=129℃) 820部
〈オーバーコート層(保護層)塗工液〉
ポリビニルアルコール(GL−03:日本合成化学社製) 89部
水溶性ポリアミド(P−70:東レ社製) 10部
化合物16 2部
界面活性剤(F1405:大日本インキ工業社製) 0.5部
水 900部Example 3-1 Photosensitive lithographic printing plate material 41
-46 (Preparation of photosensitive lithographic printing plate materials 41-46) Example 2-
The photopolymerizable photosensitive layer coating solution having the following composition was coated on the undercoated support described in 1 above with a wire bar so that the coating solution had a dry amount of 1.4 g / m 2 , and dried at 95 ° C. for 1.5 minutes. . After that, an overcoat layer coating solution having the following composition was further applied onto the photosensitive layer with an applicator so that the dryness was 2.0 g / m 2 , and dried at 75 ° C. for 1.5 minutes to perform photosensitive lithographic printing A plate material 41 was produced. Photopolymerizable photosensitive layer coating liquid Polymer binder A 42.5 parts Compound 9 0.7 parts Compound 10 0.7 parts Compound 11 0.7 parts Compound 12 0.7 parts Compound 13 0.7 parts Compound 140 0.7 parts Compound 15 0.7 parts EO-modified trimethylolpropane triacrylate (light acrylate TMP-6EO-3A: manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 42.5 parts Phthalocyanine pigment (MHI454: manufactured by Mikuni Pigment Co., Ltd.) 6.0 parts 2- t-Butyl-6- (3-t-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate (Sumilyser GS: Sumitomo 3M) 0.5 parts Fluorine-based surfactant (F178K; large) Made by Nippon Ink Chemical Co., Ltd. 0.5 part Methyl ethyl ketone (boiling point = 79.6 ° C.) 80 parts Cyclopentanone (boiling point = 129 ° C.) 820 parts <Over Coat layer (protective layer) coating liquid> Polyvinyl alcohol (GL-03: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 89 parts Water-soluble polyamide (P-70: manufactured by Toray Industries) 10 parts Compound 16 2 parts Surfactant (F1405: large) Made by Nippon Ink Industry Co., Ltd.) 0.5 parts Water 900 parts
【0140】[0140]
【化4】 [Chemical 4]
【0141】さらに、感光性平版印刷版材料41の作製
において、光重合性感光層塗工液の高分子結合剤Aを高
分子結合剤E、I、M、N、Oに変更する以外は感光性
平版印刷版材料41の作製法と同様にして感光性平版印
刷版材料42〜46をそれぞれ作製した。Furthermore, in the preparation of the photosensitive lithographic printing plate material 41, the photopolymerizable photosensitive layer coating liquid was exposed to light except that the polymer binder A was changed to the polymer binders E, I, M, N and O. Photosensitive planographic printing plate materials 42 to 46 were prepared in the same manner as in the preparation of the photosensitive planographic printing plate material 41.
【0142】実施例3−2 感光性平版印刷版材料41
〜46の画像形成及び評価
(感光性平版印刷版材料41〜46の画像形成)実施例
1−2において、FD−YAGレーザー光源を搭載した
CTP装置を、発振波長405nmのInGaN系半導
体レーザーを搭載した自作の装置に変更した以外は、実
施例1−2と同様にして感光性平版印刷版材料41〜4
6の画像形成を行った。Example 3-2 Photosensitive planographic printing plate material 41
~ 46 image formation and evaluation (image formation of photosensitive lithographic printing plate materials 41-46) In Example 1-2, a CTP device equipped with an FD-YAG laser light source was installed, and an InGaN semiconductor laser with an oscillation wavelength of 405 nm was installed. Photosensitive lithographic printing plate materials 41 to 4 were prepared in the same manner as in Example 1-2, except that the device was changed to a self-made device.
Image formation of No. 6 was performed.
【0143】(画像形成した感光性平版印刷版材料41
〜46の評価)上記のようにして得られた画像形成した
感光性平版印刷版材料41〜46について、実施例1−
2で記載した感度、網点再現性、保存安定性の評価を行
った。評価結果を表4に示す。(Image-formed photosensitive lithographic printing plate material 41)
Evaluation of -46) The image-formed photosensitive lithographic printing plate materials 41 to 46 obtained as described above were used in Example 1-
The sensitivity, halftone dot reproducibility and storage stability described in 2 were evaluated. The evaluation results are shown in Table 4.
【0144】[0144]
【表4】 [Table 4]
【0145】表4の結果より、画像形成した感光性平版
印刷版材料41、42、43は感度、網点再現性、保存
安定性に優れていることが分かった。さらに、画像形成
した感光性平版印刷版材料41、42、43を現像した
現像液は、現像液のpHが12.3と低いpHでありな
がら、現像スラッジの発生が抑えられていることが分か
った。From the results shown in Table 4, it was found that the image-formed photosensitive lithographic printing plate materials 41, 42 and 43 were excellent in sensitivity, halftone dot reproducibility and storage stability. Further, it was found that the developing solution in which the image-formed photosensitive lithographic printing plate material 41, 42, 43 was developed had development sludge suppressed while the developing solution had a low pH of 12.3. It was
【0146】[0146]
【発明の効果】本発明によって、保存安定性がよく、感
度、網点再現性に優れ画像性能の高い感光性平版印刷版
材料及び画像形成方法を提供することができた。According to the present invention, it is possible to provide a photosensitive lithographic printing plate material having good storage stability, excellent sensitivity and halftone dot reproducibility and high image performance, and an image forming method.
Claims (18)
不飽和結合含有単量体、光重合開始剤および高分子結合
剤を含有する、少なくとも1層の光重合性感光層を有す
る感光性平版印刷版材料であり、画像露光して画像様に
該感光層を光硬化させた後、前記光重合性感光層の非画
像部分を現像液で支持体から除去して光硬化画像を形成
する感光性平版印刷版材料において、前記高分子結合剤
は、重量平均分子量(Mw)が15000〜30000
であり、カルボキシル基を有するモノマー単位(A)お
よび該カルボキシル基を有するモノマー単位の少なくと
も一部にエポキシ基含有不飽和化合物を反応させた単位
(B)を構成要素として有し、かつ、前記(B)を10
〜30モル%含有する共重合体であり、画像露光後、加
熱処理を施した後に現像処理を行うことを特徴とする感
光性平版印刷版材料。1. A photosensitive material having, on a support, at least one photopolymerizable photosensitive layer containing an addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing monomer, a photopolymerization initiator and a polymer binder. A lithographic printing plate material, which is image-wise exposed to light and photo-cures the photosensitive layer, and then a non-image portion of the photo-polymerizable photosensitive layer is removed from a support with a developer to form a photo-cured image. In the photosensitive lithographic printing plate material, the polymer binder has a weight average molecular weight (Mw) of 15,000 to 30,000.
And a monomer unit (A) having a carboxyl group and a unit (B) obtained by reacting at least a part of the monomer unit having a carboxyl group with an epoxy group-containing unsaturated compound, and B) 10
A photosensitive lithographic printing plate material, characterized in that the copolymer is contained in an amount of ˜30 mol%, and the imagewise exposure is followed by heat treatment and then development.
不飽和結合含有単量体、光重合開始剤および高分子結合
剤を含有する、少なくとも1層の光重合性感光層を有す
る感光性平版印刷版材料であり、画像露光して画像様に
該感光層を光硬化させた後、前記光重合性感光層の非画
像部分を現像液で支持体から除去して光硬化画像を形成
する感光性平版印刷版材料において、前記高分子結合剤
は、酸価が60〜110mgKOH/gであり、カルボ
キシル基を有するモノマー単位(A)および該カルボキ
シル基を有するモノマー単位の少なくとも一部にエポキ
シ基含有不飽和化合物を反応させた単位(B)を構成要
素として有し、かつ、前記(B)を10〜30モル%含
有する共重合体であり、画像露光後、加熱処理を施した
後に現像処理を行うことを特徴とする感光性平版印刷版
材料。2. A photosensitive material having, on a support, at least one photopolymerizable photosensitive layer containing an addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing monomer, a photopolymerization initiator and a polymer binder. A lithographic printing plate material, which is image-wise exposed to light and photo-cures the photosensitive layer, and then a non-image portion of the photo-polymerizable photosensitive layer is removed from a support with a developer to form a photo-cured image. In the photosensitive lithographic printing plate material, the polymer binder has an acid value of 60 to 110 mgKOH / g, and a monomer unit (A) having a carboxyl group and an epoxy group in at least a part of the monomer unit having the carboxyl group. A copolymer having a unit (B) obtained by reacting a contained unsaturated compound as a constituent and also containing 10 to 30 mol% of the above (B), which is developed after heat treatment after image exposure. Do the processing A photosensitive lithographic printing plate material characterized in that
不飽和結合含有単量体、光重合開始剤および高分子結合
剤を含有する、少なくとも1層の光重合性感光層を有す
る感光性平版印刷版材料であり、画像露光して画像様に
該感光層を光硬化させた後、前記光重合性感光層の非画
像部分を現像液で支持体から除去して光硬化画像を形成
する感光性平版印刷版材料において、前記高分子結合剤
は、重量平均分子量(Mw)が15000〜30000
であり、酸価が60〜110mgKOH/gであり、カ
ルボキシル基を有するモノマー単位(A)および該カル
ボキシル基を有するモノマー単位の少なくとも一部にエ
ポキシ基含有不飽和化合物を反応させた単位(B)を構
成要素として有し、かつ、前記(B)を10〜30モル
%含有する共重合体であり、画像露光後、加熱処理を施
した後に現像処理を行うことを特徴とする感光性平版印
刷版材料。3. A photosensitive material having at least one photopolymerizable photosensitive layer containing an addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing monomer, a photopolymerization initiator and a polymer binder on a support. A lithographic printing plate material, which is image-wise exposed to light and photo-cures the photosensitive layer, and then a non-image portion of the photo-polymerizable photosensitive layer is removed from a support with a developer to form a photo-cured image. In the photosensitive lithographic printing plate material, the polymer binder has a weight average molecular weight (Mw) of 15,000 to 30,000.
And an acid value of 60 to 110 mgKOH / g, a monomer unit having a carboxyl group (A) and a unit (B) obtained by reacting at least a part of the monomer unit having a carboxyl group with an epoxy group-containing unsaturated compound. Is a copolymer containing 10 to 30 mol% of the above (B) as a constituent element, and is subjected to a development treatment after a heat treatment after the image exposure, Plate material.
0.0〜12.5であることを特徴とする請求項1〜3
のいずれか1項に記載の感光性平版印刷版材料。4. The developer contains a silicate and has a pH of 1
It is 0.0-12.5, The Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.
The photosensitive lithographic printing plate material as described in any one of 1.
0℃で5〜60秒行うことを特徴とする請求項1〜4の
いずれか1項に記載の感光性平版印刷版材料。5. The plate temperature of 100 to 13 in the heat treatment.
The photosensitive lithographic printing plate material according to any one of claims 1 to 4, which is performed at 0 ° C for 5 to 60 seconds.
内に行われることを特徴とする請求項5に記載の感光性
平版印刷版材料。6. The photosensitive lithographic printing plate material according to claim 5, wherein the heat treatment is performed within 300 seconds after image exposure.
を有することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項
に記載の感光性平版印刷版材料。7. The photosensitive lithographic printing plate material according to claim 1, further comprising an oxygen barrier layer on the photopolymerizable photosensitive layer.
陽極酸化処理が施されたアルミニウム支持体であること
を特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の感光
性平版印刷版材料。8. The photosensitive lithographic printing plate as claimed in claim 1, wherein the support is an aluminum support which has been at least roughened and anodized. material.
引き処理が施されたアルミニウム支持体であることを特
徴とする請求項8に記載の感光性平版印刷版材料。9. The photosensitive lithographic printing plate material according to claim 8, wherein the support is an aluminum support which is further subjected to a hydrophilic treatment or an undercoating treatment.
性不飽和結合含有単量体、光重合開始剤および高分子結
合剤を含有する、少なくとも1層の光重合性感光層を有
する感光性平版印刷版材料に、画像露光して画像様に該
感光層を光硬化させた後、前記光重合性感光層の非画像
部分を現像液で支持体から除去して光硬化画像を形成す
る画像形成方法において、前記高分子結合剤は、重量平
均分子量(Mw)が15000〜30000であり、カ
ルボキシル基を有するモノマー単位(A)および該カル
ボキシル基を有するモノマー単位の少なくとも一部にエ
ポキシ基含有不飽和化合物を反応させた単位(B)を構
成要素として有し、かつ、前記(B)を10〜30モル
%含有する共重合体であり、画像露光後、加熱処理を施
した後に現像処理を行うことを特徴とする画像形成方
法。10. A photosensitive material having at least one photopolymerizable photosensitive layer containing an addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing monomer, a photopolymerization initiator and a polymer binder on a support. An image which forms a photocured image by imagewise exposing the planographic printing plate material to photocuring of the photosensitive layer and then removing the non-image portion of the photopolymerizable photosensitive layer from the support with a developer. In the forming method, the polymer binder has a weight average molecular weight (Mw) of 15000 to 30000, and at least a part of the monomer unit (A) having a carboxyl group and the monomer unit having the carboxyl group does not contain an epoxy group. A copolymer having a unit (B) obtained by reacting a saturated compound as a constituent and also containing 10 to 30 mol% of the above (B), which is subjected to heat treatment after image exposure and development treatment. An image forming method characterized by performing.
性不飽和結合含有単量体、光重合開始剤および高分子結
合剤を含有する、少なくとも1層の光重合性感光層を有
する感光性平版印刷版材料に、画像露光して画像様に該
感光層を光硬化させた後、前記光重合性感光層の非画像
部分を現像液で支持体から除去して光硬化画像を形成す
る画像形成方法において、前記高分子結合剤は、酸価が
60〜110mgKOH/gであり、カルボキシル基を
有するモノマー単位(A)および該カルボキシル基を有
するモノマー単位の少なくとも一部にエポキシ基含有不
飽和化合物を反応させた単位(B)を構成要素として有
し、かつ、前記(B)を10〜30モル%含有する共重
合体であり、画像露光後、加熱処理を施した後に現像処
理を行うことを特徴とする画像形成方法。11. A photosensitive material having, on a support, at least one photopolymerizable photosensitive layer containing an addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing monomer, a photopolymerization initiator and a polymer binder. An image which forms a photocured image by imagewise exposing the planographic printing plate material to photocuring of the photosensitive layer and then removing the non-image portion of the photopolymerizable photosensitive layer from the support with a developer. In the forming method, the polymer binder has an acid value of 60 to 110 mgKOH / g, and a monomer unit (A) having a carboxyl group and an epoxy group-containing unsaturated compound in at least a part of the monomer unit having the carboxyl group. Is a copolymer containing 10 to 30 mol% of the above-mentioned (B) as a constituent element, and is subjected to a development treatment after a heat treatment after the image exposure. Features Image forming method.
性不飽和結合含有単量体、光重合開始剤および高分子結
合剤を含有する、少なくとも1層の光重合性感光層を有
する感光性平版印刷版材料に、画像露光して画像様に該
感光層を光硬化させた後、前記光重合性感光層の非画像
部分を現像液で支持体から除去して光硬化画像を形成す
る画像形成方法において、前記高分子結合剤は、重量平
均分子量(Mw)が15000〜30000であり、酸
価が60〜110mgKOH/gであり、カルボキシル
基を有するモノマー単位(A)および該カルボキシル基
を有するモノマー単位の少なくとも一部にエポキシ基含
有不飽和化合物を反応させた単位(B)を構成要素とし
て有し、かつ、前記(B)を10〜30モル%含有する
共重合体であり、画像露光後、加熱処理を施した後に現
像処理を行うことを特徴とする画像形成方法。12. A photosensitive material having at least one photopolymerizable photosensitive layer containing an addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing monomer, a photopolymerization initiator and a polymer binder on a support. An image which forms a photocured image by imagewise exposing the planographic printing plate material to photocuring of the photosensitive layer and then removing the non-image portion of the photopolymerizable photosensitive layer from the support with a developer. In the forming method, the polymer binder has a weight average molecular weight (Mw) of 15,000 to 30,000, an acid value of 60 to 110 mgKOH / g, and has a monomer unit (A) having a carboxyl group and the carboxyl group. A copolymer having a unit (B) in which at least a part of a monomer unit is reacted with an epoxy group-containing unsaturated compound as a constituent, and containing 10 to 30 mol% of the (B). An image forming method, characterized in that after imagewise exposure, heat treatment is performed and then development treatment is performed.
0.0〜12.5であることを特徴とする請求項10〜
12のいずれか1項に記載の画像形成方法。13. The developer contains a silicate and has a pH of 1
It is 0.0-12.5, It is characterized by the above-mentioned.
13. The image forming method according to any one of 12.
30℃で5〜60秒行うことを特徴とする請求項10〜
13のいずれか1項に記載の画像形成方法。14. The plate temperature of 100 to 1 in the heat treatment.
11. Performing for 5 to 60 seconds at 30 ° C. 11.
14. The image forming method according to any one of 13 above.
以内に行われることを特徴とする請求項14に記載の画
像形成方法。15. The image forming method according to claim 14, wherein the heat treatment is performed within 300 seconds after the image exposure.
層を有することを特徴とする請求項10〜15のいずれ
か1項に記載の画像形成方法。16. The image forming method according to claim 10, further comprising an oxygen barrier layer on the photopolymerizable photosensitive layer.
び陽極酸化処理が施されたアルミニウム支持体であるこ
とを特徴とする請求項10〜16のいずれか1項に記載
の画像形成方法。17. The image forming method according to claim 10, wherein the support is at least a roughened and anodized aluminum support.
下引き処理が施されたアルミニウム支持体であることを
特徴とする請求項17に記載の画像形成方法。18. The image forming method according to claim 17, wherein the support is an aluminum support which has been further subjected to a hydrophilic treatment or an undercoat treatment.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002032224A JP2003233180A (en) | 2002-02-08 | 2002-02-08 | Photosensitive planographic printing plate material and image forming method |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006098100A1 (en) * | 2005-03-14 | 2006-09-21 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Lithographic printing plate making method and image exposing system |
-
2002
- 2002-02-08 JP JP2002032224A patent/JP2003233180A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2006098100A1 (en) * | 2005-03-14 | 2006-09-21 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Lithographic printing plate making method and image exposing system |
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