JP2003223005A - 投影露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光源の発する光束を所定のパターンが形成さ
れたマスクに透過させたうえで被露光体に投射し、前記
所定のパターンを前記被露光体に転写する、投影露光装
置であって、プリント配線基板の配線パターンや液晶パ
ネルの透明薄膜電極などを高精度に描画可能かつ低コス
トの投影露光装置を提供することである。 【解決手段】 投影露光装置が、マスクを通過した光束
を偏向させる第１の平面鏡と、第１の平面鏡によって偏
向した光束が入射されるレンズユニットと、レンズユニ
ットから射出された光束を反射させてレンズユニットに
再度入射させる反射手段と、反射手段によって反射され
たのち、レンズユニットから射出された光束を偏向さ
せ、被露光体上でそれぞれ結像させる第２の平面鏡と、
の第１の平面鏡と、第２の平面鏡とを、所定のパターン
の結像位置を変えるように進退させる平面鏡駆動機構
と、を有することにより、上記問題を解決した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光源の発する光束
を所定のパターンが形成されたマスクに透過させたうえ
で被露光体に投射し、前記所定のパターンを前記被露光
体に転写する、投影露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】プリント配線基板の配線パターンや液晶
パネルの透明薄膜電極などを描画する方法として、従来
より投影露光装置等が利用されている。投影露光装置は
超高圧水銀灯などの高出力の光源から発せられる光束を
所定のパターンがかかれたマスクに投射し、さらにこの
光束を投影光学系を通して感光剤の塗布されたプリント
配線基板や集積回路、液晶パネルなどの被露光体上で結
像させてマスクのパターンを被露光体に転写するもので
ある。

【０００３】このような投影露光装置においては、光源
は固定されており、マスクおよび被露光体を同期移動さ
せて走査を行うことにより、被露光体全体にパターンが
転写される。このような投影露光装置を用いて、液晶パ
ネルの透明薄膜電極のような高い精度が要求される露光
を行う場合、マスクおよび被露光体は0.5μm程度の高い
アライメント精度で位置合わせが行われた状態で駆動さ
れる必要がある。すなわち、従来の露光装置は、比較的
大型かつ大重量のマスクおよび被露光体をそれぞれ、マ
スクおよび被露光体の寸法分という大ストロークで移動
させる精密駆動機構を必要とするため、装置のコストが
高いという問題があった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の問題に
鑑み、プリント配線基板の配線パターンや液晶パネルの
透明薄膜電極などを描画可能かつ低コストの投影露光装
置を提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の投影露光装置は、投影露光装置が、マスク
の複数の所定位置を照射するために前記マスクに複数の
光束を照射する光源ユニットと、光源ユニットより発せ
られ、マスクを通過した複数の光束をそれぞれ偏向させ
る複数の第１の平面鏡と、第１の平面鏡によって偏向し
た複数の光束がそれぞれ入射される複数のレンズユニッ
トと、レンズユニットから射出された複数の光束をそれ
ぞれ反射させてレンズユニットに再度入射させる複数の
反射手段と、反射手段によって反射されたのち、レンズ
ユニットから射出された複数の光束をそれぞれ偏向さ
せ、マスクと平行に配置された被露光体上でそれぞれ結
像させる複数の第２の平面鏡と、複数の第１の平面鏡
と、複数の第２の平面鏡とを、所定のパターンの結像位
置を変えるように進退させる平面鏡駆動機構と、を有す
る。

【０００６】上記のように構成された投影露光装置にお
いては、平面鏡駆動機構が第１の平面鏡と第２の平面鏡
とを移動させることにより、被露光体上に形成される像
の結像位置が前記被露光体の面方向に移動する。従っ
て、マスクと被露光体との位置合わせを平面鏡駆動機構
を用いて行うことが可能となり、マスクおよび被露光体
を高精度で駆動することなく位置合わせを行うことがで
きる。第１の平面鏡および第２の平面鏡は一般にマスク
や被露光体よりもはるかに小型軽量であり、また位置合
わせに必要な第１の平面鏡および第２の平面鏡のストロ
ーク量は数ミリ程度であるので、平面鏡駆動機構は簡素
な構成であっても高精度の駆動が可能である。従って、
本発明の投影露光装置はマスク、基板ホルダという大重
量部材を各々大ストロークで移動させる精密駆動機構を
必要としないため、装置のコストを低く抑えられる。

【０００７】また、第１の平面鏡と第２の平面鏡が折り
返しミラーの一部分として構成されることにより、平面
鏡駆動機構が駆動する部材は一つのみに限定されるた
め、その構成をより簡素なものとすることが可能とな
る。好ましくは、折り返しミラーは直角二等辺三角形断
面の３角柱形状であり、第１の平面鏡と第２の平面鏡は
それぞれ前記折り返しミラーの二等辺部側面に形成され
ている。

【０００８】また、反射手段がダハミラーであり、ダハ
ミラーの反射面が前記マスクに対して垂直に配置されて
いる構成とすると、被露光体を走査する際、副走査方向
のマスクと基板の像の向きを同じとすることができる。
この結果、副走査方向に光源および結像光学系を並べて
露光を行おうとする場合であってもマスクのパターンが
そのまま基板に転写されるため、一度の走査で基板全体
を露光することができる。

【０００９】なお、ダハミラーの反射面の代わりに直角
プリズムの内側の面を反射面として利用する構成として
も同様の効果が得られる。

【００１０】また、投影露光装置が、マスクと、被露光
体との位置ずれ量を検出する第１の位置検出手段と、第
１の位置検出手段からの検出結果を元に前記第１の平面
鏡および前記第２の平面鏡の移動量を決定し、平面鏡駆
動機構を制御して第１の平面鏡と第２の平面鏡とをこの
移動量だけ移動させる第１のコントローラを有する構成
としてもよい。

【００１１】また、好ましくは、光束が前記マスクに入
射する位置と前記マスク上に形成された位置合わせ用マ
ークとの距離、および光束が被露光体に入射する位置と
被露光体上に形成された位置合わせ用マークとの距離を
計測することにより、マスクと被露光体との位置ずれ量
を検出する。

【００１２】また、好ましくは、マスクおよび被露光体
を照射する位置検出用照明手段と、位置検出用照明手段
によって照明されたマスクおよび被露光体を撮影する撮
影手段と、撮影手段によって撮影されたマスクおよび被
露光体の画像を処理して、光束が前記マスクに入射する
位置と前記マスク上に形成された位置合わせ用マークと
の距離、および光束が被露光体に入射する位置と被露光
体上に形成された位置合わせ用マークとの距離を演算す
る距離演算手段と、を有する構成とすることにより、マ
スクと被露光体との位置ずれ量が検出される。

【００１３】また、投影露光装置は所定方向に前記マス
クおよび前記被露光体を移動させながら被露光体に前記
所定のパターンを形成する走査型の投影露光装置であっ
て、投影露光装置が、被露光体に前記所定のパターンを
形成している時にマスクと被露光体との位置ずれ量を検
出する第２の位置検出手段と、第２の位置検出手段から
の検出結果を元に第１の平面鏡および第２の平面鏡の移
動量を決定し、平面鏡駆動機構を制御して第１の平面鏡
と第２の平面鏡とを移動量だけ移動させる第２のコント
ローラを有する構成としても良い。

【００１４】このような構成とすることにより、駆動伝
達系の精度誤差等の原因により、マスク4とプリント配
線基板Ｂとの移動が正確に同期できない場合であって
も、位置ずれを起こすことなく露光することができる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を図
面を用いて詳細に説明する。図１は、本実施形態による
投影露光装置を模式的に示したものである。本実施形態
の投影露光装置１は、複数の光源２を有する光源ユニッ
ト１００、複数のコリメータレンズ３、マスク４、複数
の折り返しミラー５、複数のレンズユニット６、複数の
ダハミラー７、基板ホルダ８を有する。基板ホルダ８の
上には、被露光体としてのプリント配線基板Ｂが載置さ
れている。以下の説明においては、主走査方向（マスク
および被露光体としてのプリント基板が駆動される方
向）をＸ軸、副走査方向をＹ軸、光束がプリント基板に
入射する方向をＺ軸と定義している。また、Ｘ軸につい
ては折り返しミラー５からレンズユニット６に向かう方
向を正とし、Ｚ軸については基板ホルダ８からマスク４
に向かう方向を正とする。マスク４および基板ホルダ８
は主走査方向に同期駆動される。図１に示されるよう
に、光源２から照射された光束は、コリメータレンズ３
を通過し、マスク４を通過し、折り返しミラー５で反射
し、レンズユニット６を通過し、ダハミラー７で反射
し、再度レンズユニット６を通過し、折り返しミラー５
で再度反射し、次いで、プリント配線基板Ｂに入射す
る。

【００１６】図２は、図１に記載の投影露光装置１の一
部を示したものである。図１においては、コリメータレ
ンズ３、折り返しミラー５、レンズユニット６、および
ダハミラー７で構成される光学系と光源２とが複数（３
組）示されているが、図２では、説明を簡単なものとす
るために、それぞれのうち１組のみが示されている。投
影露光装置１の各光学系の挙動は同一であるため、以下
の説明は、図２を参照して行なわれる。

【００１７】なお、図１においては光学系および光源２
は３組のみ記載されているが、実際の投影露光装置に於
いては、より多くの光学系および光源２が、Ｙ軸方向に
配列されている。このような構成とすることによって、
一回の主走査でプリント配線基板全体を露光することが
できる。

【００１８】光源２は例えば超高圧水銀灯のような、被
露光体としてのプリント配線基板に塗布された感光剤を
感光させるのに充分な波長と出力を有する光源である。
光源２から照射される光束はコリメータレンズ３によっ
てマスク４上で矩形状に照明され、次いで折り返しミラ
ー５に入射する。基板ホルダ８とマスク４とを同期駆動
して主走査を行なったときにプリント配線基板Ｂの露光
面の全面が照射されるように、各コリメートレンズ３に
よって照明された矩形状エリア同士はＹ軸方向に隣接す
るようになっている。なお、図１に示されるように、各
コリメートレンズ３によって照明された矩形状エリアが
Ｘ軸方向にずれて配置されるような構成としてもよい。

【００１９】折り返しミラー５は、直角二等辺三角形断
面の三角柱形状の部材であり、その高さ方向はＹ軸に平
行である。また、折り返しミラー５の二等辺部側面は反
射面であり、その反射面の法線は共に、Ｘ軸と４５度の
角度をなしている。折り返しミラー５の一方の反射面５
ａはマスク４を通過した光束を反射してＸ軸方向に屈曲
させてレンズユニット６に入射させるとともに、折り返
しミラー５の他方の反射面５ｂはレンズユニット６から
折り返しミラー５に投射される光束を反射してＺ軸方向
に屈曲させて基板ホルダ８に固定されたプリント配線基
板Ｂに入射させる。なお、折り返しミラー５の一方の反
射面５ａおよび他方の反射面ｂそれぞれの角度は、上記
説明した角度に限定されるものではない。すなわち、図
１および図２に示されているように、一方の反射面５ａ
の角度は、マスク４を通過して一方の反射面５ａに入射
した光束が反射してレンズユニット６に入射するような
任意の角度が可能である。同様に、他方の反射面５ｂの
角度は、レンズユニット６を通過して他方の反射面５ｂ
に入射した光束が反射してプリント配線基板Ｂに入射す
るような任意の角度が可能である。

【００２０】レンズユニット６は複数の光学部材をＸ軸
方向に並べたユニットであり、全体としては凸レンズと
同様の働きをする。

【００２１】ダハミラー７は、２つの反射面がＸＹ面上
において９０度の角度で内側を向くように構成されたミ
ラーであり、レンズユニット６からダハミラー７に投射
される光束をＸＹ平面上で入射方向と同じ方向に反射し
てレンズユニット６に戻す。ダハミラー７は、レンズユ
ニット６の焦点位置付近に固定されている。この構成に
よりマスク４のパターンは基板Ｂ上でＸＹ方向共反転す
ることなく同じ向きに転写される。

【００２２】なお、ダハミラー７の反射面の代わりに直
角プリズムの内側の面を反射面として利用する構成とし
てもよい。

【００２３】マスク４とプリント配線基板Ｂとはレンズ
ユニット６に対して共役となるような位置に配置されて
いるので、マスク４の像は折り返しミラー５の位置に関
わらず基板Ｂ上で結像される。

【００２４】また、マスク４および基板ホルダ８はそれ
ぞれマスク駆動機構１４、基板ホルダ駆動機構１８によ
って駆動され、Ｘ軸方向に移動可能である。同様に、折
り返しミラー５はミラー駆動機構１５によって駆動さ
れ、Ｚ軸方向に移動可能である。

【００２５】また、投影露光装置１は第１のマスク位置
検出手段２４および第１の基板位置検出手段２８を有す
る。第１のマスク位置検出手段２４および第１の基板位
置検出手段２８はそれぞれプリント配線基板Ｂに塗布さ
れた感光剤と反応しない波長域および強度のランプと、
ＣＣＤカメラとを備えている。第１のマスク位置検出手
段２４はランプによってマスク４を照射すると共に、Ｃ
ＣＤカメラによってマスク４の全体画像を取得する。同
様に、第１の基板位置検出手段２８はランプによってプ
リント配線基板Ｂを照射すると共に、ＣＣＤカメラによ
ってプリント配線基板Ｂの全体画像を取得する。マスク
４、プリント配線基板Ｂのそれぞれには位置合わせ用の
マークがあり、コントローラ１０は第１のマスク位置検
出手段２４と第１の基板位置検出手段２８のそれぞれの
ＣＣＤカメラによって取得されたマスク４およびプリン
ト配線基板Ｂの全体画像を画像処理することにより、マ
スク４およびプリント配線基板Ｂのそれぞれについて、
位置合わせ用のマークと光源２から発せられた光束の入
射位置との距離を算出することができる。

【００２６】また、マスク駆動機構１４には第２のマス
ク位置検出手段１４ａが備えられている。第２のマスク
位置検出手段１４ａは、例えばマスク駆動機構１４の水
平移動部（ラック−ピニオン機構のラック部等）に備え
られたリニアエンコーダ等を有し、Ｘ軸方向のマスクの
移動量を検出可能としている。また、基板ホルダ駆動機
構１８には第２の基板位置検出手段１８ａが備えられて
おり、第２のマスク位置検出手段１４ａと同様に基板ホ
ルダ駆動機構１８によるプリント配線基板Ｂの移動量を
検出可能である。

【００２７】以上のように構成された投影露光装置１に
よる、マスク４とプリント配線基板Ｂとの位置合わせ方
法を図面を用いて以下に説明する。

【００２８】図３は、図２の投影露光装置１をＹ軸方向
に投影した側面図である。図３においては、図面の簡略
化のためレンズユニット６は一枚の凸レンズとして、ま
たダハミラー７は１枚の平面鏡として記載されている。
なお、図２においては折り返しミラー５がマスク４とプ
リント配線基板Ｂとの中間点に位置するとき、この位置
のＺ軸成分を原点Ｏと定義している。また、マスク４と
プリント配線基板Ｂとの位置合わせを行っているとき
は、光源２は消灯している。

【００２９】投影露光装置１のコントローラ１０は第１
のマスク位置検出手段２４から得られる画像を処理し
て、光源２から発せられる光束Ｌがマスク４に入射する
位置Ｉ１とマスク４上に配置された位置合わせ用マーク
Ｍ１との距離ｌ１を計測可能である。同様に、コントロ
ーラ１０は第１の基板位置検出手段２８から得られる画
像を処理して、光束Ｌがプリント配線基板Ｂに入射する
位置Ｉ２とプリント配線基板Ｂ上に配置された位置合わ
せ用マークＭ２との距離ｌ２を計測可能である。

【００３０】図３においては、折り返しミラー５は原点
Ｏに配置されている。また、ｌ１＞ｌ２であるので、ｌ
１＝ｌ２となるようにマスク４とプリント配線基板Ｂと
の位置合わせを行う必要がある。

【００３１】最初に、コントローラ１０はｌ１とｌ２の
差Δｌを演算する。次いで、コントローラ１０はミラー
駆動機構１５を制御して、折り返しミラー５を長さΔｌ
／２だけ移動させる。なお、ｌ１＞ｌ２であれば折り返
しミラー５がマスク４に近づくよう（すなわちＺ軸正の
方向に）駆動し、ｌ１＜ｌ２であれば折り返しミラー５
がプリント配線基板Ｂに近づくよう（すなわちＺ軸負の
方向に）駆動する。

【００３２】本例においては、ｌ１＞ｌ２であるので、
折り返しミラー５はマスク４にΔｌ／２だけ近づく。図
４に折り返しミラー５移動後の投影露光装置１を示す。
図４に示されるように、折り返しミラー５をマスク４に
Δｌ／２だけ近づけることにより、光束Ｌがプリント配
線基板Ｂに入射する位置Ｉ２’は位置合わせ用マークＭ
２から距離Δｌだけ遠ざかる。従って、位置Ｉ２’とプ
リント配線基板Ｂ上に印刷された位置合わせ用マークＭ
２との距離ｌ２’は光束Ｌがマスク４に入射する位置Ｉ
１とマスク４上に印刷された位置合わせ用マークＭ１と
の距離ｌ１と等しくなる。

【００３３】このようにマスク4とプリント配線基板Ｂ
との位置合わせを行った後、光源２を点灯し、マスク4
とプリント配線基板Ｂとを同期を取ってＸ方向に移動す
ることにより、正確に位置決めされた状態でマスク4に
描かれたパターンがプリント配線基板Ｂに転写される。

【００３４】上記のように折り返しミラー５を駆動して
マスク４とプリント配線基板Ｂとの位置合わせが行われ
るので、マスク４や基板ホルダ８は単一の駆動機構によ
り駆動することが可能になる。またマスク４と基板ホル
ダ８各々駆動機構を持つ場合においてその駆動精度が数
〜数十μmと低くても相対的な駆動誤差分を折り返しミ
ラー５で駆動することにより、マスク４とプリント配線
基板Ｂとのアライメント精度が確保される。また、ミラ
ー駆動機構１５は0.5μm程度の高精度で折り返しミラー
５を駆動する必要があるが、折り返しミラー５はマスク
４や基板ホルダ８と比較して極めて小型かつ軽量であ
り、さらに折り返しミラー５の駆動ストロークは10mm程
度でよい。従って、ミラー駆動機構１５は簡素な構成で
あっても充分な駆動精度を確保することができる。

【００３５】また、マスク４と基板ホルダ８各々駆動機
構を持つ場合の精度確保方法について記述する。マスク
4とプリント配線基板Ｂとを移動する際、駆動伝達系の
精度誤差等の原因により、必ずしもマスク4とプリント
配線基板Ｂとの移動が正確に同期できない場合がある。
そこで、第２のマスク位置検出手段１４ａおよび第２の
基板位置検出手段１８ａの検出結果をもとにマスク4と
プリント配線基板Ｂの位置ずれ量を算出し、この位置ず
れ量に基づいて折り返しミラー５をＺ軸方向に移動させ
て適宜位置ずれ補正を行うことにより、マスク4とプリ
ント配線基板Ｂとの移動が正確に同期できない場合であ
っても位置ずれを起こすことなく露光することができ
る。なお、この場合の折り返しミラー５の移動量は、位
置ずれ量の半分である。また、マスク4がプリント配線
基板ＢよりもＸ軸正の方向に進んでいる場合は折り返し
ミラー５がマスク４に近づくよう（すなわちＺ軸正の方
向に）移動し、プリント配線基板Ｂがマスク4よりもＸ
軸正の方向に進んでいる場合は折り返しミラー５がプリ
ント配線基板Ｂに近づくよう（すなわちＺ軸負の方向
に）移動する。

【００３６】以上説明した本実施形態の投影露光装置１
は、光源ユニット１００が各光学系ごとに光源２を有す
る構成としているが、本発明は上記構成に限定されるも
のではない。例えば、光源ユニットが光源を１つだけ備
え、その光源から照射される光束をビームスプリッタ等
を用いて各光学系のコリメータレンズ３に分配する構成
としてもよい。

【００３７】

【発明の効果】以上のように、本発明の投影露光装置に
よれば、高精度で駆動する必要があるのは駆動ストロー
クの短い軽量の部材のみに限定されるので、装置の低コ
スト化、及び高精度化が実現される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態による投影露光装置を模式
的に示した概略図である。

【図２】図１の投影露光装置を簡略化したものである。

【図３】本発明の実施の形態の投影露光装置の位置合わ
せ機構を模式的に示した概略図である。

【図４】本発明の実施の形態の投影露光装置の位置合わ
せ機構を模式的に示した概略図である。

【符号の説明】

１ 投影露光装置 ２ 光源 ３ コリメータレンズ ４ マスク ５ 折り返しミラー ５ａ、５ｂ 反射面 ６ レンズユニット ７ ダハミラー ８ 基板ホルダ １０ コントローラ １４ マスク駆動機構 １４ａ 第２のマスク位置検出手段 １５ ミラー駆動機構 １８ 基板ホルダ駆動機構 １８ａ 第２の基板位置検出手段 ２４ 第１のマスク位置検出手段 ２８ 第１の基板位置検出手段 １００ 光源ユニット

【手続補正書】

【提出日】平成１４年１１月２０日（２００２．１１．
２０）

【手続補正１】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図１

【補正方法】変更

【補正内容】

【図１】

【手続補正２】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図２

【補正方法】変更

【補正内容】

【図２】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 原 正人 東京都板橋区前野町２丁目36番９号 ペン タックス株式会社内 Ｆターム(参考） 2H097 GB02 KA12 KA13 KA18 KA28 LA09 LA12 5F046 BA05 CB02 CB10 CB14 CB25

Claims (26)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 所定のパターンが形成されたマスクの像
   を被露光体に転写して、前記被露光体に前記所定のパタ
   ーンを形成する、投影露光装置であって、 前記投影露光装置が、 前記マスクの複数の所定位置を照射するために前記マス
   クに複数の光束を照射する光源ユニットと、 前記光源ユニットより発せられ、前記マスクを通過した
   複数の光束をそれぞれ偏向させる複数の第１の平面鏡
   と、 前記第１の平面鏡によって偏向した複数の光束がそれぞ
   れ入射される複数のレンズユニットと、 前記レンズユニットから射出された複数の光束をそれぞ
   れ反射させて前記レンズユニットに再度入射させる複数
   の反射手段と、 前記反射手段によって反射されたのち、前記レンズユニ
   ットから射出された複数の光束をそれぞれ偏向させ、前
   記マスクと平行に配置された前記被露光体上でそれぞれ
   結像させる複数の第２の平面鏡と、 前記複数の第１の平面鏡と、前記複数の第２の平面鏡と
   を、前記所定のパターンの結像位置を変えるように進退
   させる平面鏡駆動機構と、を有することを特徴とする投
   影露光装置。
2. 【請求項２】 前記複数のレンズユニットのそれぞれは
   正のパワーを持つことを特徴とする、請求項１に記載の
   投影露光装置。
3. 【請求項３】 前記複数の第１の平面鏡のそれぞれと、
   これに対応する前記複数の第２の平面鏡の１つとは、そ
   れぞれ複数の折り返しミラーの一部分を構成することを
   特徴とする、請求項１または請求項２に記載の投影露光
   装置。
4. 【請求項４】 前記複数の折り返しミラーはそれぞれ直
   角二等辺三角形断面の３角プリズムであり、前記複数の
   第１の平面鏡と、対応する前記複数の第２の平面鏡の１
   つは、それぞれ前記複数の折り返しミラーの二等辺部側
   面に形成されていることを特徴とする、請求項３に記載
   の投影露光装置。
5. 【請求項５】 前記光源ユニットより発せられた光束の
   それぞれは前記マスクの法線方向に進んで前記マスクを
   通過し、 前記マスクを通過した光束のそれぞれは前記複数の第１
   の平面鏡によって９０度屈曲してこれに対応するレンズ
   ユニットのそれぞれに入射し、また、前記複数の反射手
   段で反射されてこれに対応するレンズユニットを通過し
   た光束のそれぞれは前記複数の第２の平面鏡によって前
   記マスクの法線方向と平行になるよう９０度屈曲して前
   記被露光体に入射させるように、前記複数の折り返しミ
   ラーは配置されており、 前記平面鏡駆動機構は、前記複数の折り返しミラーを、
   前記マスクの法線方向に駆動することを特徴とする、請
   求項４に記載の投影露光装置。
6. 【請求項６】 前記複数の反射手段は、それぞれ前記複
   数のレンズユニットの焦点位置に配置されていることを
   特徴とする、請求項１から請求項５のいずれかに記載の
   投影露光装置。
7. 【請求項７】 前記複数の反射手段がダハミラーを有
   し、前記複数のダハミラーの反射面のそれぞれが前記マ
   スクに対して垂直に配置されていることを特徴とする、
   請求項１から請求項６のいずれかに記載の投影露光装
   置。
8. 【請求項８】 前記複数の反射手段のそれぞれが直角プ
   リズムであり、前記複数の直角プリズムの直角面の内側
   の面で前記複数の光束はそれぞれ反射し、前記複数の直
   角プリズムの直角面はそれぞれ前記マスクに対して垂直
   に配置されていることを特徴とする、請求項１から請求
   項６のいずれかに記載の投影露光装置。
9. 【請求項９】 前記マスクと前記被露光体とを前記複数
   のレンズユニットの光軸方向に同期駆動することによっ
   て前記被露光体の走査が行われることを特徴とする、請
   求項１から請求項８のいずれかに記載の投影露光装置。
10. 【請求項１０】 前記投影露光装置が、 前記マスクと、前記被露光体との位置ずれ量を検出する
    第１の位置検出手段と、 前記第１の位置検出手段からの検出結果を元に前記第１
    の平面鏡および前記第２の平面鏡の移動量を決定し、前
    記平面鏡駆動機構を制御して前記複数の第１の平面鏡と
    前記複数の第２の平面鏡とを前記移動量だけ移動させる
    第１のコントローラを有することを特徴とする、請求項
    １から請求項９のいずれかに記載の投影露光装置。
11. 【請求項１１】 前記第１の位置検出手段は、前記光束
    が前記マスクに入射する位置と前記マスク上に形成され
    た位置合わせ用マークとの距離、および前記光束が前記
    被露光体に入射する位置と前記被露光体上に形成された
    位置合わせ用マークとの距離を計測することによって、
    前記マスクと、前記被露光体との位置ずれ量を検出する
    ことを特徴とする、請求項１０に記載の投影露光装置。
12. 【請求項１２】 前記第１の位置検出手段は、 前記マスクおよび前記被露光体を照射する位置検出用照
    明手段と、 前記位置検出用照明手段によって照明された前記マスク
    および前記被露光体を撮影する撮影手段と、 前記撮影手段によって撮影された前記マスクおよび前記
    被露光体の画像を処理して、前記光束が前記マスクに入
    射する位置と前記マスク上に形成された位置合わせ用マ
    ークとの距離、および前記光束が前記被露光体に入射す
    る位置と前記被露光体上に形成された位置合わせ用マー
    クとの距離を演算する距離演算手段と、を有することを
    特徴とする請求項１１に記載の投影露光装置。
13. 【請求項１３】 前記位置検出用照明手段は、前記被露
    光体を露光させない波長および光量の光で前記マスクお
    よび前記被露光体を照明することを特徴とする、請求項
    １２に記載の投影露光装置。
14. 【請求項１４】 前記投影露光装置は、所定方向に前記
    マスクおよび前記被露光体を同期移動させながら前記被
    露光体に前記所定のパターンを形成する、走査型の投影
    露光装置であって、 前記投影露光装置が、 前記被露光体に前記所定のパターンを形成している時に
    前記マスクと、前記被露光体との位置ずれ量を検出する
    第２の位置検出手段と、 前記第２の位置検出手段からの検出結果を元に前記複数
    の第１の平面鏡および前記複数の第２の平面鏡の移動量
    を決定し、前記平面鏡駆動機構を制御して前記複数の第
    １の平面鏡と前記複数の第２の平面鏡とを前記移動量だ
    け移動させる第１のコントローラを有することを特徴と
    する、請求項１から請求項１３のいずれかに記載の投影
    露光装置。
15. 【請求項１５】 前記第２の位置検出手段は、 前記マスク上に形成されたスケールを読み取って前記マ
    スクの位置を検出する第１のリニアエンコーダと、 前記被露光体上に形成されたスケールを読み取って前記
    被露光体の位置を検出する第２のリニアエンコーダと、 前記第１および第２のリニアエンコーダの検出結果から
    前記マスクと前記被露光体との位置ずれ量を算出する差
    分演算手段と、を有することを特徴とする、請求項１４
    に記載の投影露光装置。
16. 【請求項１６】 前記光源ユニットは、そのそれぞれが
    前記複数の光束のそれぞれを照射する、複数の光源を有
    することを特徴とする、請求項１から請求項１５のいず
    れかに記載の投影露光装置
17. 【請求項１７】 前記光源ユニットは、単一の光束を照
    射する単一の光源と、前記単一の光束を前記複数の光束
    に分割するビームスプリッタと、を有することを特徴と
    する、請求項１から請求項１５のいずれかに記載の投影
    露光装置。
18. 【請求項１８】 互いに平行に配置された、所定のパタ
    ーンが形成されたマスクおよび被露光体を所定方向に同
    期移動させながら前記被露光体に前記所定のパターンを
    形成する、走査型の投影露光装置であって、 前記投影露光装置が、 前記マスクの複数の所定位置を照射するために前記マス
    クに少なくとも１つの光束を照射する光源ユニットであ
    って、前記少なくとも１つの光束が前記マスクを通過し
    て前記被露光体に向かうような光源ユニットと、 前記光源ユニットより発せられ、前記マスクを通過して
    前記被露光体に向かう方向の前記少なくとも１つの光束
    の光路上に配置された偏向部材であって、前記偏向部材
    は第１の平面鏡と第２の平面鏡を備え、第１と第２の平
    面鏡の角度が１８０度以上であるような偏向部材と、 前記第１の平面鏡によって偏向した少なくとも１つの光
    束が入射される少なくとも１つのレンズユニットと、 前記第１の平面鏡によって偏向されて前記レンズユニッ
    トを経由して射出された前記少なくとも１つの光束を反
    射させて前記レンズユニットに再度入射させる反射手段
    であって、前記反射手段によって反射された前記少なく
    とも１つの光束は前記レンズユニットを経由して前記第
    ２の平面鏡に入射し、前記第２の平面鏡は入射した前記
    少なくとも１つの光束を偏向して前記被露光体に照射
    し、前記マスクから前記第１の平面鏡に向かう前記少な
    くとも１つの光束と前記第２の平面鏡から前記被露光体
    に向かう光束とがおおよそ平行になっているような反射
    手段と、 前記偏向部材を前記所定のパターンの結像位置を変える
    ように進退させる偏向部材駆動機構と、を有することを
    特徴とする投影露光装置。
19. 【請求項１９】 前記偏向部材は直角二等辺三角形断面
    の３角プリズムであり、前記第１の平面鏡と、前記第２
    の平面鏡は、それぞれ前記偏向部材の二等辺部側面に形
    成されていることを特徴とする、請求項１８に記載の投
    影露光装置。
20. 【請求項２０】 前記偏向部材駆動機構は、前記偏向部
    材を、前記マスクから前記第１の平面鏡に向かう前記少
    なくとも１つの光束の交軸方向に駆動することを特徴と
    する、請求項１９に記載の投影露光装置。
21. 【請求項２１】 前記反射手段がダハミラーであること
    を特徴とする、請求項１８から請求項２０のいずれかに
    記載の投影露光装置。
22. 【請求項２２】 所定のパターンが形成されたマスクの
    像を被露光体に転写して、前記被露光体に前記所定のパ
    ターンを形成する、投影露光装置であって、 前記投影露光装置が、 前記マスクの複数の所定位置を照射するために前記マス
    クに光束を照射する光源であって、前記光束が前記マス
    クを通過して前記被露光体に向かうような光源と、 前記光源より発せられ、前記マスクを通過して前記被露
    光体に向かう方向の光束の光路上に配置された第１の平
    面鏡であって、前記第１の平面鏡と第２の平面鏡の角度
    が１８０度以上であるような第１の平面鏡と、 前記第１の平面鏡によって偏向した光束が入射される少
    なくとも１つのレンズユニットと、 前記第１の平面鏡によって偏向されて前記レンズユニッ
    トを経由して射出された光束を反射させて前記レンズユ
    ニットに再度入射させる反射手段であって、前記反射手
    段によって反射された光束は前記レンズユニットを経由
    して前記第２の平面鏡に入射し、前記第２の平面鏡は入
    射した光束を偏向して前記マスクと平行に配置された前
    記被露光体上でそれぞれ結像させるような反射手段と、 前記第１及び第２の平面鏡を前記所定のパターンの結像
    位置を変えるように進退させる平面鏡駆動機構と、を有
    することを特徴とする投影露光装置。
23. 【請求項２３】 前記第１の平面鏡と、前記第２の平面
    鏡は、それぞれ折り返しミラーの一部分を構成すること
    を特徴とする、請求項２２に記載の投影露光装置。
24. 【請求項２４】 前記折り返しミラーは直角二等辺三角
    形断面の３角プリズムであり、前記第１の平面鏡と、前
    記第２の平面鏡は、それぞれ前記折り返しミラーの二等
    辺部側面に形成されていることを特徴とする、請求項２
    ３に記載の投影露光装置。
25. 【請求項２５】 前記光源ユニットより発せられた前記
    少なくとも１つの光束のそれぞれは前記マスクの法線方
    向に進んで前記マスクを通過し、 前記マスクを通過した前記光束は前記第１の平面鏡によ
    って９０度屈曲して前記レンズユニットに入射し、ま
    た、前記反射手段で反射されて前記レンズユニットを通
    過した前記光束は前記第２の平面鏡によって前記マスク
    の法線方向と平行になるよう９０度屈曲して前記被露光
    体に入射させるように、前記折り返しミラーは配置され
    ており、 前記平面鏡駆動機構は、前記折り返しミラーを、前記マ
    スクの法線方向に駆動することを特徴とする、請求項２
    ４に記載の投影露光装置。
26. 【請求項２６】 前記反射手段がダハミラーであること
    を特徴とする、請求項２２から請求項２５のいずれかに
    記載の投影露光装置。