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JP2003203883A - Microscope and observing method - Google Patents

Microscope and observing method

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Publication number
JP2003203883A
JP2003203883A JP2002000554A JP2002000554A JP2003203883A JP 2003203883 A JP2003203883 A JP 2003203883A JP 2002000554 A JP2002000554 A JP 2002000554A JP 2002000554 A JP2002000554 A JP 2002000554A JP 2003203883 A JP2003203883 A JP 2003203883A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
work
microscope
image
ccd camera
white light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002000554A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuyuki Sakatani
康之 酒谷
Masayuki Azuma
正幸 東
Kazuya Fukuoka
一也 福岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Seimitsu Co Ltd filed Critical Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority to JP2002000554A priority Critical patent/JP2003203883A/en
Publication of JP2003203883A publication Critical patent/JP2003203883A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microscope, and its observing method, in which the surface and rear surface of a semiconductor, e.g. a silicon wafer, or a work, e.g. an electronic component material, can be observed readily without requiring exchange of a microscope for picking up the surface image and a microscope for picking up the rear surface image. <P>SOLUTION: A CCD camera 12E for white light picking up a white light image and a CCD camera 12F for IR picking up an infrared light image are built in a microscope 12 for observing a work W so that a white light image and an infrared light image can be picked up simultaneously or individually through electrical switching without. replacing the microscope or the CCD camera. Consequently, the surface and rear surface of a work W, e.g. a silicon wafer, can be observed extremely easily. In the dicing process of a semiconductor wafer, surface and rear surface images of the work are displayed simultaneously on one monitor screen so that chipping occurring at the edge part of a cut groove on the surface side of the wafer and chipping on the rear surface side can be observed comparatively and machining quality can be evaluated readily. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はワークを観察する顕
微鏡、及び該顕微鏡を用いたワークの観察方法に関し、
特に半導体や電子部品材料等のワークに溝加工や切断加
工を行うダイシング装置等に用いられ、 ワークの表面及
び裏面を観察する顕微鏡、及びその観察方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a microscope for observing a work and a work observing method using the microscope.
In particular, the present invention relates to a microscope for observing the front surface and the back surface of a work, which is used in a dicing device or the like for grooving or cutting a work such as a semiconductor or electronic component material, and an observation method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体や電子部品材料等のワークは、ダ
イシング装置で溝加工や切断加工が行われる。ダイシン
グ装置においては、高速で回転するブレードと称する薄
型砥石で研削水をかけながらワークを加工する。このダ
イシング装置には加工するワークを観察する顕微鏡が設
けられており、顕微鏡には顕微鏡画像を撮像するCCD
カメラが組込まれている。加工に先立ってこの顕微鏡を
用いてワークのアライメントが行われる。アライメント
は、ワーク表面に形成された回路パターンの顕微鏡画像
を前記CCDカメラで撮像して行われる。このワークの
表面画像の撮像には、通常の白色光用のCCDカメラが
用いられる。
2. Description of the Related Art A workpiece such as a semiconductor or electronic component material is subjected to groove processing and cutting processing by a dicing device. In a dicing device, a thin grindstone called a blade that rotates at high speed is used to process a workpiece while applying grinding water. This dicing device is provided with a microscope for observing a workpiece to be processed, and the microscope has a CCD for picking up a microscope image.
A camera is built in. Workpiece alignment is performed using this microscope prior to processing. The alignment is performed by taking a microscopic image of the circuit pattern formed on the surface of the work with the CCD camera. A normal white light CCD camera is used to capture the surface image of the work.

【0003】また、半導体ワークの中でも例えばCCD
ウエーハのように表面の汚れを極端に嫌うワークを切断
する場合には、研削時の研削粉がワーク表面に付着しな
いように、ワークの表面側を下にしてワークテーブルに
載置し、ワークの裏面側から溝研削をおこなう。この場
合のワークのアライメントは、ワーク表面にある回路パ
ターンをワークの裏面側から撮像しなければならず、通
常の白色光用のCCDカメラでは撮像できない。このよ
うな場合には、ワークを透過する赤外光を用い、Inf
rared Ray用CCDカメラ(以下IR用CCD
カメラという)で撮像する。
Among semiconductor works, for example, CCD
When cutting a workpiece such as a wafer that extremely dislikes dirt on the surface, place it on the work table with the surface side of the workpiece facing down so that the grinding powder during grinding does not adhere to the workpiece surface. Grooves are grinded from the back side. In this case, the alignment of the work must capture an image of the circuit pattern on the front side of the work from the back side of the work, which cannot be captured by a normal CCD camera for white light. In such a case, Inf
CCD camera for rare ray (hereinafter CCD for IR
Take a picture with a camera.

【0004】また、半導体等のワークは高脆性材料であ
るため、切断溝の縁部にチッピングが生じやすい。この
ため、切断加工後のワークの加工状態を観察する必要が
ある。この場合、ワーク表面側の溝の縁部チッピングは
通常の白色光用のCCDカメラで撮像して観察する。ま
た、裏面側のチッピングはワークの表面側から赤外光を
照射し、ワークを透過してワークの裏面で反射し、戻っ
てくる光をIR用CCDカメラで撮像する。
Further, since a work such as a semiconductor is a highly brittle material, chipping is likely to occur at the edge of the cutting groove. Therefore, it is necessary to observe the processing state of the work after cutting. In this case, the edge chipping of the groove on the surface side of the work is observed by imaging with a normal CCD camera for white light. In addition, for chipping on the back surface side, infrared light is emitted from the front surface side of the work, transmitted through the work, reflected by the back surface of the work, and returning light is imaged by an IR CCD camera.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところが、この従来の
ダイシング装置で用いられている顕微鏡は、通常の白色
光用のCCDカメラが組込まれている顕微鏡と、IR用
CCDカメラが組込まれている顕微鏡とが夫々別個独立
の顕微鏡であった。そのため、ワークの表面を撮像する
場合と、ワークの裏面を撮像する場合とで、その都度白
色光用のCCDカメラが組込まれた顕微鏡とIR用CC
Dカメラが組込まれた顕微鏡とを交換しなければならな
かった。このため顕微鏡を交換する度に顕微鏡の姿勢調
整と位置調整とをしなければならず、ワークの観察に多
大な工数を要していた。また、ワークの表面画像と裏面
画像とを1つの画面に同時に表示したい場合には、非常
に煩雑な操作が必要で、ワークの様々な部位を観察する
場合には、実用上不可能に近かった。
However, the microscope used in this conventional dicing apparatus is a microscope in which a CCD camera for normal white light is incorporated and a microscope in which a CCD camera for IR is incorporated. And were separate and independent microscopes. For this reason, a microscope in which a CCD camera for white light is incorporated and a CC for IR are used for imaging the front surface of the work and the back surface of the work.
I had to replace the microscope with the D camera built in. For this reason, every time the microscope is exchanged, the posture and position of the microscope must be adjusted, which requires a lot of man-hours for observing the work. Further, when it is desired to display the front surface image and the back surface image of the work on one screen at the same time, a very complicated operation is required, and when observing various parts of the work, it is practically impossible. .

【0006】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、シリコンウエーハ等の半導体や電子部品材料
等のワークの表面及び裏面を観察するにあたり、表面撮
像用の顕微鏡と裏面撮像用の顕微鏡との交換を必要とせ
ずに、表面と裏面とを容易に観察することができる顕微
鏡、及びその観察方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and when observing the front and back surfaces of a workpiece such as a semiconductor such as a silicon wafer or an electronic component material, a microscope for front surface imaging and a back surface imaging are used. An object of the present invention is to provide a microscope capable of easily observing the front surface and the back surface without requiring replacement with the microscope, and an observation method thereof.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は前記目的を達成
するために、ワークを観察する顕微鏡であって、該顕微
鏡には、白色光画像を撮像するCCDカメラと、赤外光
画像を撮像するIR用CCDカメラとが組込まれている
ことを特徴としている。本発明の顕微鏡によれば、顕微
鏡やCCDカメラの交換をすることなく、白色光画像と
赤外光画像とを同時に、あるいは電気的に切替えて別々
に撮像することができる。このためシリコンウエーハ等
のワークの表面及び裏面の観察を極めて容易に行うこと
ができる。
In order to achieve the above object, the present invention is a microscope for observing a work, wherein the microscope includes a CCD camera for capturing a white light image and an infrared light image. It is characterized in that it has a built-in IR CCD camera. According to the microscope of the present invention, the white light image and the infrared light image can be taken simultaneously or separately by electrically switching them without replacing the microscope or the CCD camera. Therefore, the front and back surfaces of a work such as a silicon wafer can be observed very easily.

【0008】また、本発明は、前記の顕微鏡を用いてワ
ークの表面及び裏面を観察する方法において、ワークの
表面に前記顕微鏡の焦点を合わせる工程と、ワークの裏
面に前記顕微鏡の焦点を合わせる工程と、ワークの表面
側から、ワークの表面を前記白色光画像を撮像するCC
Dカメラで撮像する工程と、ワークの表面側から、ワー
クの裏面を前記赤外光画像を撮像するIR用CCDカメ
ラで撮像する工程と、前記撮像した画像を記憶する工程
と、前記白色光画像を撮像するCCDカメラで撮像した
ワークの表面画像と、前記赤外光画像を撮像するIR用
CCDカメラで撮像したワークの裏面画像とを、1つの
モニター画面に同時に表示する工程と、を有するワーク
の表面及び裏面の観察方法を特徴としている。
Further, in the present invention, in the method of observing the front surface and the back surface of a work by using the microscope, the step of focusing the microscope on the surface of the work and the step of focusing the microscope on the back surface of the work. And CC for capturing the white light image on the surface of the work from the front side of the work.
D camera, a step of picking up the back surface of the work from the front side of the work by an IR CCD camera for picking up the infrared light image, a step of storing the picked-up image, the white light image And a step of simultaneously displaying on the same monitor screen a front surface image of the work captured by a CCD camera that captures the image and a back surface image of the work captured by the IR CCD camera that captures the infrared light image. It features a method of observing the front and back surfaces of.

【0009】本発明の観察方法によれば、ワークの表面
画像とワークの裏面画像とを1つのモニター画面に同時
に表示することができるので、例えば半導体ウエーハの
ダイシング工程において、ウエーハ表面側の切断溝縁部
に発生するチッピングと裏面側のチッピングとを比較観
察することができ、加工品質を容易に評価することがで
きる。また、顕微鏡のワーク表面に焦点の合う位置とワ
ーク裏面に焦点の合う位置とを夫々記憶することによ
り、同一品種のワークであれば自動で表面と裏面の観察
画像を作成することができる。
According to the observation method of the present invention, the front surface image of the work and the back surface image of the work can be simultaneously displayed on one monitor screen. Therefore, for example, in a dicing step of a semiconductor wafer, a cutting groove on the front surface side of the wafer is formed. The chipping generated on the edge and the chipping on the back surface side can be compared and observed, and the processing quality can be easily evaluated. Further, by memorizing the position where the surface of the microscope is focused on the front surface and the position where the surface of the microscope is focused on the rear surface of the workpiece, it is possible to automatically create an observation image of the front surface and the rear surface of the same type of workpiece.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
る顕微鏡の好ましい実施の形態について詳説すると共
に、その顕微鏡をダイシング装置に設けた場合のワーク
の観察方法を例として詳説する。尚、各図において同一
部材には同一の番号を付してある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A preferred embodiment of a microscope according to the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings, and a method of observing a work when the microscope is provided in a dicing device will be described as an example. In each figure, the same members are given the same numbers.

【0011】図1は本発明に係る顕微鏡の構成を表わす
概念図である。顕微鏡12はワークテーブル25に載置
されたワークWを観察する実体顕微鏡で、図1に示すよ
うに、対物レンズ12A、接眼レンズ12B、12C、
ハーフミラー12D、12J、白色光用CCDカメラ1
2E、IR用CCDカメラ12F、フィルタ12G、コ
ンバージングレンズ12H、及び光源12I等から構成
されている。
FIG. 1 is a conceptual diagram showing the structure of a microscope according to the present invention. The microscope 12 is a stereoscopic microscope for observing the work W placed on the work table 25, and includes an objective lens 12A, eyepieces 12B and 12C, as shown in FIG.
Half mirrors 12D, 12J, CCD camera 1 for white light
2E, an IR CCD camera 12F, a filter 12G, a converging lens 12H, a light source 12I, and the like.

【0012】ハーフミラー12Dは、直進光路と直進光
路に直角な光路とに光路を分岐する。接眼レンズ12
B、12Cの夫々の焦点位置には白色光用CCDカメラ
12E、IR用CCDカメラ12Fの撮像面が位置して
いる。接眼レンズ12CとIR用CCDカメラ12Fと
の間には、赤外光のみを透過するフィルタ12Gが挿入
されている。また、コンバージングレンズ12H、及び
ハーフミラー12Jを通してワークWを照明する光源1
2Iが組込まれている。白色光用CCDカメラ12E、
及びIR用CCDカメラ12Fは夫々画像処理装置17
に接続され、更にモニターテレビ13に接続されてい
る。また、顕微鏡12は、顕微鏡上下駆動手段16によ
って上下方向に移動されるようになっている。
The half mirror 12D splits the optical path into a straight optical path and an optical path perpendicular to the straight optical path. Eyepiece 12
The image pickup surfaces of the white light CCD camera 12E and the IR CCD camera 12F are located at the focal positions of B and 12C, respectively. A filter 12G that transmits only infrared light is inserted between the eyepiece lens 12C and the IR CCD camera 12F. Further, the light source 1 for illuminating the work W through the converging lens 12H and the half mirror 12J.
2I is incorporated. CCD camera 12E for white light,
And the IR CCD camera 12F are the image processing devices 17 respectively.
To the monitor television 13. Further, the microscope 12 is moved in the vertical direction by the microscope vertical drive means 16.

【0013】次に、このように構成された顕微鏡12の
作用について説明する。図1に示すように、観察される
ワークWは表面を上に、裏面を下にしてワークテーブル
25に載置されている。光源12Iから発光される照明
光は、コンバージングレンズ12Hによって顕微鏡12
の焦点位置を照明するように収斂され、ハーフミラー1
2Jによって下方に直角に光路を変更されてワークWを
照明する。観察されるワークWの画像は、対物レンズ1
2Aを経由した後ハーフミラー12Dで直角に曲げら
れ、接眼レンズ12Bによって白色光用CCDカメラ1
2Eの撮像面に焦点を結び結像する。白色光用CCDカ
メラ12Eはこの結像画像を撮像し、ディジタルデータ
として画像処理装置17に出力する。一方、ハーフミラ
ー12Dを直進する光は接眼レンズ12Cで収斂され、
フィルタ12Gを透過した赤外光画像としてIR用CC
Dカメラ12Fの撮像面に結像する。この赤外光結像画
面はIR用CCDカメラ12Fで撮像され、同じくディ
ジタルデータとして画像処理装置17に出力される。
Next, the operation of the microscope 12 constructed as above will be described. As shown in FIG. 1, the observed work W is placed on the work table 25 with its front surface facing up and its back surface facing down. The illuminating light emitted from the light source 12I is supplied to the microscope 12 by the converging lens 12H.
Converged to illuminate the focal position of the half mirror 1
The optical path is vertically changed downward by 2J to illuminate the work W. The image of the workpiece W observed is the objective lens 1
After passing through 2A, it is bent at a right angle by the half mirror 12D and the white light CCD camera 1 by the eyepiece lens 12B.
An image is formed by focusing on the imaging surface of 2E. The white light CCD camera 12E captures the formed image and outputs it as digital data to the image processing device 17. On the other hand, the light traveling straight through the half mirror 12D is converged by the eyepiece lens 12C,
CC for IR as an infrared image transmitted through the filter 12G
An image is formed on the imaging surface of the D camera 12F. This infrared light imaging screen is imaged by the IR CCD camera 12F and is also output to the image processing device 17 as digital data.

【0014】このように、本発明の顕微鏡12は、白色
光用CCDカメラ12EとIR用CCDカメラ12Fと
が組込まれているので、ワークWの画像を白色光画像と
して撮像するか、又は電気的に切替えてと赤外光画像と
して撮像することができると共に、白色光画像と赤外光
画像とを同時に撮像することもできる。
As described above, since the microscope 12 of the present invention incorporates the white light CCD camera 12E and the IR CCD camera 12F, the image of the work W is picked up as a white light image or electrically. It is possible to pick up an infrared light image by switching to, and it is also possible to pick up a white light image and an infrared light image at the same time.

【0015】図2は、本発明の顕微鏡12を備えた半導
体や電子部品材料等のワークを個々のチップに切断する
ダイシング装置を示している。ダイシング装置10は、
ミストカバー40で覆われた加工部20でワークWを加
工する。加工部20ではワークWの溝加工や切断加工を
行う図示しない回転ブレードが高周波モータ内臓のエア
ーベアリングスピンドルに取付けられ、30,000r
pm〜60,000rpmの高速で回転されるととも
に、不図示の送り機構によって図の矢印Y方向にインデ
ックス送りされる。 この回転ブレードは薄い円盤状で、
ダイヤモンド砥粒やCBN砥粒をニッケルで電着した電
着ブレードや、樹脂で結合したレジンブレードが用いら
れる。 加工されるワークWはワークテーブル25の上面
に吸着固定され図の矢印X方向に研削送りされるように
なっている。
FIG. 2 shows a dicing apparatus equipped with the microscope 12 of the present invention for cutting a workpiece such as a semiconductor or electronic component material into individual chips. The dicing device 10 is
The work W is processed by the processing unit 20 covered with the mist cover 40. In the processing unit 20, a rotary blade (not shown) that performs groove processing and cutting processing of the work W is attached to the air bearing spindle incorporated in the high frequency motor, and 30,000 r
It is rotated at a high speed of pm to 60,000 rpm, and is index-fed in the arrow Y direction in the figure by a feed mechanism (not shown). This rotating blade is a thin disk,
An electrodeposition blade in which diamond abrasive grains or CBN abrasive grains are electrodeposited with nickel, or a resin blade bonded with resin is used. The work W to be processed is sucked and fixed on the upper surface of the work table 25 and is fed by grinding in the direction of arrow X in the figure.

【0016】加工部20の外側には、ワークWの表面を
観察する顕微鏡12が設けられ、画像はCCDカメラ1
2E、12Fを介してモニターテレビ13の画面で観察
することができる。操作・表示部11にはダイシング装
置10の各部の操作を行うスイッチや表示手段が設けら
れている。コントローラ15はダイシング装置10の各
動作をコントロールする部分で、マイクロプロセッサ、
メモリ、及び入出力回路等で構成され、ダイシング装置
10の架台内部に格納されている。 表示灯14は、ダイ
シング装置10の稼動中、加工終了、待機中、及び警報
等を表示するもので、離れたところからでも判明できる
ように高い位置に設けられている。
A microscope 12 for observing the surface of the work W is provided outside the processing section 20, and the image is taken by the CCD camera 1.
It can be observed on the screen of the monitor TV 13 via 2E and 12F. The operation / display unit 11 is provided with switches and display means for operating each unit of the dicing device 10. The controller 15 is a part that controls each operation of the dicing device 10, and includes a microprocessor,
It is composed of a memory, an input / output circuit, and the like, and is stored inside the pedestal of the dicing device 10. The indicator lamp 14 displays the dicing apparatus 10 in operation, processing completion, standby, alarm, etc., and is provided at a high position so that it can be seen from a distance.

【0017】ワークテーブル25に載置されたワークW
は、加工前のアライメントのため、あるいは加工後の研
削溝の縁部に発生するチッピングの大きさ等を調べるた
め、顕微鏡12で観察される。ワークWのアライメント
の場合は、通常のワークWはアライメント用パターンが
形成されている表面側を上にしてワークテーブル25に
載置されているので、白色光用CCDカメラ12Eでア
ライメント用パターンを撮像する。また、ワークWが受
光素子やCCD又は発光素子の場合には、ダイシング時
の研削粉が表面に付着することを避けるため、パターン
面を下にして載置し裏面側からダイシングすることがあ
る。このような場合のアライメントは、ワークWを透過
する赤外光を用い、IR用CCDカメラ12Fで赤外光
画像を撮像して行う。加工後の研削溝の縁部に発生する
チッピングの大きさ等を調べる場合には、白色光用CC
Dカメラ12Eによる表面の白色光画像と、IR用CC
Dカメラ12Fによる裏面の赤外光画像とを用いて行わ
れる。
The work W placed on the work table 25
Is observed with the microscope 12 for alignment before processing or for examining the size of chipping generated at the edge of the grinding groove after processing. In the case of the alignment of the work W, since the normal work W is placed on the work table 25 with the surface side on which the alignment pattern is formed facing up, the white light CCD camera 12E images the alignment pattern. To do. When the work W is a light receiving element, a CCD, or a light emitting element, in order to prevent the grinding powder from adhering to the surface during dicing, the work may be placed with the pattern surface facing down and dicing from the back surface side. In such a case, the alignment is performed by using the infrared light passing through the work W and capturing the infrared light image with the IR CCD camera 12F. When checking the size of chipping generated at the edge of the grind groove after processing, CC for white light
White light image of the surface by D camera 12E and IR CC
This is performed using an infrared light image of the back surface obtained by the D camera 12F.

【0018】本発明の顕微鏡12には、白色光用CCD
カメラ12E及びIR用CCDカメラ12Fの両方が組
込まれているので、ワークWの表面の観察と、裏面の観
察とにおいて、顕微鏡またはCCDカメラを交換する必
要がなく、その都度交換して撮像する従来の装置に比べ
て工数が大幅に削減される。
The microscope 12 of the present invention includes a CCD for white light.
Since both the camera 12E and the IR CCD camera 12F are incorporated, it is not necessary to replace the microscope or the CCD camera in the observation of the front surface and the back surface of the work W, and the conventional imaging method is performed each time. Compared with other equipment, man-hours are greatly reduced.

【0019】図3は、本発明に係るワークの表面及び裏
面の観察方法の実施形態の1例を示すフローチャートで
ある。観察されるワークWは図1に示すように、表面を
上に、裏面を下にしてワークテーブル25に載置されて
いる。ワークWの表面及び裏面の観察にあたっては、図
3に示すように、最初に観察するワークWの表面に顕微
鏡12の焦点を合わす作業から行われる。この焦点の合
う顕微鏡の位置が前もって位置データとして記憶されて
いるか否かが確認される(ステップS11)。データが
記憶されている場合には、その記憶されている位置デー
タを基に顕微鏡駆動手段16が駆動され、自動で焦点が
合わされる(ステップS14)。位置データが記憶され
ていない場合は、顕微鏡駆動手段16が手動で操作され
て焦点合わせが行われる(ステップS12)。この手動
操作により焦点合わせされた位置データが記憶される
(ステップS13)。ワークW表面に対する自動又は手
動による顕微鏡12の焦点合わせが完了すると、白色光
用CCDカメラ12EによってワークWの表面画像が撮
像され(ステップS15)、画像データがディジタルデ
ータとして画像処理装置17内に記憶される(ステップ
S16)。
FIG. 3 is a flow chart showing an example of an embodiment of the method for observing the front surface and the back surface of a work according to the present invention. As shown in FIG. 1, the observed work W is placed on the work table 25 with the front surface facing up and the back surface facing down. When observing the front surface and the back surface of the work W, as shown in FIG. 3, the operation of focusing the microscope 12 on the front surface of the work W to be observed first is performed. It is confirmed whether or not the position of the in-focus microscope is previously stored as position data (step S11). If the data is stored, the microscope drive means 16 is driven based on the stored position data, and the focus is automatically adjusted (step S14). If the position data is not stored, the microscope driving means 16 is manually operated for focusing (step S12). The position data focused by this manual operation is stored (step S13). When the automatic or manual focusing of the microscope 12 on the surface of the work W is completed, the surface image of the work W is captured by the white light CCD camera 12E (step S15), and the image data is stored in the image processing device 17 as digital data. Is performed (step S16).

【0020】次に、ワークWの裏面に顕微鏡12の焦点
を合わす作業に移る。ここでも、ワークWの裏面に顕微
鏡12の焦点が合う顕微鏡の位置データが記憶されてい
るか否かが確認される(ステップS17)。データが記
憶されている場合には、その記憶されている位置データ
を基に顕微鏡駆動手段16が駆動され、自動で焦点が合
わされる(ステップS120)。位置データが記憶され
ていない場合は、顕微鏡駆動手段16が手動で操作され
て焦点合わせが行われる(ステップS18)。この手動
操作によりワークWの裏面に焦点合わせされた位置デー
タも記憶される(ステップS19)。ワークW裏面に対
する自動又は手動による顕微鏡12の焦点合わせが完了
すると、IR用CCDカメラ12FによってワークWの
裏面画像が撮像され(ステップS21)、画像データが
ディジタルデータとして画像処理装置17内に記憶され
る(ステップS22)。次に撮像されて記憶されたワー
クWの表面と裏面の画像データが画像処理装置17で処
理され、ワークWの表面の画像と裏面の画像とが1つの
画面に合成され、モニターテレビ13のモニター画面に
表示される(ステップS23)。
Next, the operation of focusing the microscope 12 on the back surface of the work W will be described. Also here, it is confirmed whether or not the position data of the microscope on which the microscope 12 is focused is stored on the back surface of the work W (step S17). If the data is stored, the microscope driving means 16 is driven based on the stored position data, and the focus is automatically adjusted (step S120). If the position data is not stored, the microscope driving means 16 is manually operated for focusing (step S18). Position data focused on the back surface of the work W by this manual operation is also stored (step S19). When the focus of the microscope 12 on the back surface of the work W is completed automatically or manually, the back surface image of the work W is captured by the IR CCD camera 12F (step S21), and the image data is stored in the image processing device 17 as digital data. (Step S22). Next, the image data of the front surface and the back surface of the work W that is picked up and stored is processed by the image processing device 17, the front surface image and the back surface image of the work W are combined into one screen, and the monitor of the monitor TV 13 is displayed. It is displayed on the screen (step S23).

【0021】図4に、前記の方法によって作成されたモ
ニターテレビ13のモニター画面を示す。画面中央部の
小画面はワークWの裏面モニター画像13Bを表わし、
周縁部の画面はワークWの表面モニター画像13Aを表
わしている。どちらもワークWに形成された研削溝とそ
の縁部に発生したチッピングの様子が観察される。この
画面からは、ワークWの裏面に発生するチッピングの方
が表面のチッピングよりも小さいことが観察される。こ
のように、表面と裏面の加工状況を合成画面で1つの画
面に同時に表示することができるので、加工品質の評価
を容易に行うことができる。
FIG. 4 shows a monitor screen of the monitor television 13 created by the above method. The small screen in the center of the screen represents the backside monitor image 13B of the work W,
The screen of the peripheral portion represents the surface monitor image 13A of the work W. In both cases, the grinding groove formed in the work W and the state of chipping generated at the edge thereof are observed. From this screen, it is observed that the chipping generated on the back surface of the work W is smaller than the chipping on the front surface. In this way, the processing statuses of the front surface and the back surface can be simultaneously displayed on one screen on the composite screen, so that the processing quality can be easily evaluated.

【0022】尚、本実施の形態では、顕微鏡12にハー
フミラー12Dを設け、白色光用CCDカメラ12Eに
入射する光路とIR用CCDカメラ12Fに入射する光
路とに分岐したが、これに限らず、ハーフミラー12D
の代わりに可動型の全反射ミラーを設け、光路を白色光
用CCDカメラ12Eに入射させる場合とIR用CCD
カメラ12Fに入射させる場合とに切替えるようにして
もよい。また、照明用光源を白色光と赤外光の共用光源
としたが、赤外光用光源を別個独立に設け、目的に応じ
切り替えるようにしてもよい。また、照明は同軸照明で
構成したが、斜光照明であってもよく、更に、同軸照明
と斜光照明とを両方設けて、目的に応じ使い分けてもよ
い。
In the present embodiment, the microscope 12 is provided with the half mirror 12D and branched into the optical path entering the white light CCD camera 12E and the optical path entering the IR CCD camera 12F. However, the present invention is not limited to this. , Half mirror 12D
Instead of the above, a movable total reflection mirror is provided, and the optical path is made incident on the CCD camera 12E for white light and the CCD for IR.
You may make it switch to the case where it injects into the camera 12F. Further, although the illumination light source is the common light source for white light and infrared light, the infrared light source may be provided separately and switched according to the purpose. Further, although the illumination is configured as coaxial illumination, it may be oblique illumination, or both coaxial illumination and oblique illumination may be provided and used properly according to the purpose.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、顕
微鏡には白色光画像を撮像するCCDカメラと、赤外光
画像を撮像するIR用CCDカメラとが組込まれている
ので、顕微鏡やCCDカメラの交換をすることなく、白
色光画像と赤外光画像とを同時に、あるいは電気的に切
替えて個別に撮像することができる。このためシリコン
ウエーハ等のワークの表面及び裏面の観察を極めて容易
に行うことができる。また、顕微鏡を交換する必要がな
く、2種類の顕微鏡を用意しておく必要がないので設備
費用を削減できると共に、顕微鏡交換に伴う装置のダウ
ンタイムを削減できる。
As described above, according to the present invention, the microscope is equipped with a CCD camera for capturing a white light image and an IR CCD camera for capturing an infrared light image. The white light image and the infrared light image can be simultaneously or electrically switched and individually captured without replacing the CCD camera. Therefore, the front and back surfaces of a work such as a silicon wafer can be observed very easily. Further, since it is not necessary to replace the microscope and it is not necessary to prepare two kinds of microscopes, it is possible to reduce the equipment cost and the downtime of the device due to the microscope replacement.

【0024】また、ワークの表面画像とワークの裏面画
像とを1つのモニター画面に同時に表示することができ
るので、例えば半導体ウエーハのダイシング工程におい
て、ウエーハ表面側の切断溝縁部に発生するチッピング
と裏面側のチッピングとを容易に比較観察することがで
き、加工品質を正確に評価することができる。更に、顕
微鏡のワーク表面に焦点の合う位置とワーク裏面に焦点
の合う位置とを夫々記憶することにより、同一品種のワ
ークであれば自動で表面と裏面の観察画像を作成するこ
とができる。
Further, since the front surface image of the work and the back surface image of the work can be simultaneously displayed on one monitor screen, for example, in the dicing process of a semiconductor wafer, chipping that occurs at the edge of the cutting groove on the front surface side of the wafer and The chipping on the back surface side can be easily compared and observed, and the processing quality can be accurately evaluated. Furthermore, by storing the position where the surface of the microscope is focused on the front surface and the position where the surface of the microscope is focused on the rear surface of the microscope, it is possible to automatically create an observation image of the front surface and the rear surface of the same type of workpiece.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態に係る顕微鏡の構成を示す
概念図
FIG. 1 is a conceptual diagram showing a configuration of a microscope according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の顕微鏡を装備したダイシング装置の斜
視図
FIG. 2 is a perspective view of a dicing device equipped with the microscope of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態に係る観察方法を説明する
フローチャート
FIG. 3 is a flowchart illustrating an observation method according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の観察方法によるモニター画面を表わす
概念図
FIG. 4 is a conceptual diagram showing a monitor screen according to the observation method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

W…ワーク、10…ダイシング装置、12…顕微鏡、1
2A…対物レンズ、12B、12C…接眼レンズ、12
D、12J…ハーフミラー、12E…白色光用CCDカ
メラ、12F…IR用CCDカメラ、12H…コンバー
ジングレンズ、12I…光源、13…モニターテレビ、
25…ワークテーブル
W ... Work, 10 ... Dicing device, 12 ... Microscope, 1
2A ... Objective lens, 12B, 12C ... Eyepiece lens, 12
D, 12J ... Half mirror, 12E ... White light CCD camera, 12F ... IR CCD camera, 12H ... Converging lens, 12I ... Light source, 13 ... Monitor TV,
25 ... Work table

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福岡 一也 東京都三鷹市下連雀9丁目7番1号 株式 会社東京精密内 Fターム(参考) 2H052 AA11 AB25 AC13 AC14 AD02 AF21 AF25    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Kazuya Fukuoka             9-7 Shimorenjaku, Mitaka City, Tokyo Stocks             Company Tokyo Seimitsu F term (reference) 2H052 AA11 AB25 AC13 AC14 AD02                       AF21 AF25

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ワークを観察する顕微鏡であって、該顕微
鏡には、白色光画像を撮像するCCDカメラと、赤外光
画像を撮像するIR用CCDカメラとが組込まれている
ことを特徴とする顕微鏡。
1. A microscope for observing a work, wherein the microscope includes a CCD camera for capturing a white light image and an IR CCD camera for capturing an infrared light image. A microscope to do.
【請求項2】前記請求項1に記載の顕微鏡を用いてワー
クの表面及び裏面を観察する方法において、 ワークの表面に前記顕微鏡の焦点を合わせる工程と、 ワークの裏面に前記顕微鏡の焦点を合わせる工程と、 ワークの表面側から、ワークの表面を前記白色光画像を
撮像するCCDカメラで撮像する工程と、 ワークの表面側から、ワークの裏面を前記赤外光画像を
撮像するIR用CCDカメラで撮像する工程と、 前記撮像した画像を記憶する工程と、 前記白色光画像を撮像するCCDカメラで撮像したワー
クの表面画像と、前記赤外光画像を撮像するIR用CC
Dカメラで撮像したワークの裏面画像とを、1つのモニ
ター画面に同時に表示する工程と、を有するワークの表
面及び裏面の観察方法。
2. A method for observing a front surface and a back surface of a work by using the microscope according to claim 1, wherein the step of focusing the microscope on the front surface of the work and the focus of the microscope on the back surface of the work. And a step of capturing the surface of the work from the front side of the work with a CCD camera that captures the white light image, and a CCD camera for IR that captures the back surface of the work from the infrared light image of the back side of the work And a step of storing the captured image, a surface image of the work captured by a CCD camera that captures the white light image, and an IR CC that captures the infrared light image.
A method of observing the front surface and the back surface of a work, which includes a step of simultaneously displaying a back surface image of the work captured by a D camera on one monitor screen.
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