JP2003295102A - 揺動型2次元走査装置 - Google Patents
揺動型2次元走査装置Info
- Publication number
- JP2003295102A JP2003295102A JP2002099563A JP2002099563A JP2003295102A JP 2003295102 A JP2003295102 A JP 2003295102A JP 2002099563 A JP2002099563 A JP 2002099563A JP 2002099563 A JP2002099563 A JP 2002099563A JP 2003295102 A JP2003295102 A JP 2003295102A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scanning
- sub
- oscillating
- scanning device
- dimensional scanning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 互いに異なる二方向の走査を揺動によって行
う揺動型2次元走査装置において、主走査と副走査との
速度比を高く設定可能とする。 【解決手段】 揺動型2次元走査装置において、振幅を
可変することで機構部に副走査動作を行わせる。XY方
向の振幅比を維持したまま振幅を漸減させると、走査経
路は符号24a,24b,24cで示すように移行し、
これにより、視野の外側から内側へと副走査βが行われ
る。副走査βの速度は、主走査αの速度とは無関係に可
変できるから、振幅の変化によって副走査動作を行うこ
とにより、機構上の制約とは無関係に、主走査αと副走
査βの任意の速度比を得ることができ、自由度の高い走
査を実現できる。
う揺動型2次元走査装置において、主走査と副走査との
速度比を高く設定可能とする。 【解決手段】 揺動型2次元走査装置において、振幅を
可変することで機構部に副走査動作を行わせる。XY方
向の振幅比を維持したまま振幅を漸減させると、走査経
路は符号24a,24b,24cで示すように移行し、
これにより、視野の外側から内側へと副走査βが行われ
る。副走査βの速度は、主走査αの速度とは無関係に可
変できるから、振幅の変化によって副走査動作を行うこ
とにより、機構上の制約とは無関係に、主走査αと副走
査βの任意の速度比を得ることができ、自由度の高い走
査を実現できる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、互いに異なる第1
の方向および第2の方向に揺動する可動子を備えた揺動
型2次元走査装置に関する。
の方向および第2の方向に揺動する可動子を備えた揺動
型2次元走査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、レーザ式などの測定装置における
走査機構として、磁界中のコイルへの通電によって生ず
る電磁力を利用して2次元方向に動作する揺動型2次元
走査装置が提案されている。
走査機構として、磁界中のコイルへの通電によって生ず
る電磁力を利用して2次元方向に動作する揺動型2次元
走査装置が提案されている。
【0003】この揺動型2次元走査装置は、図9に示さ
れる機構部110と、図示しない制御部とから構成され
ている。機構部110は、外周コイルが形成された枠体
101の内側に、内周コイルが形成されたミラーパネル
102を配置し、これらミラーパネル102と枠体10
1とを、互いに直交する方向に延設されたトーションバ
ー103,104によりそれぞれ揺動自在に保持してな
る可動子105を、永久磁石106による磁界中に配置
したものである。
れる機構部110と、図示しない制御部とから構成され
ている。機構部110は、外周コイルが形成された枠体
101の内側に、内周コイルが形成されたミラーパネル
102を配置し、これらミラーパネル102と枠体10
1とを、互いに直交する方向に延設されたトーションバ
ー103,104によりそれぞれ揺動自在に保持してな
る可動子105を、永久磁石106による磁界中に配置
したものである。
【0004】ミラーパネル102の内周コイルに電流I
Aを流すと、磁界の成分BAとの相互作用によって電流
値に応じた力FAが生じ、ミラーパネル102をトーシ
ョンバー103の復元力に釣り合う位置まで旋回させ
る。また枠体101の外周コイルに電流IBを流すと、
磁界の成分BBとの相互作用によって電流値に応じた力
FBが生じ、枠体101をトーションバー104の復元
力に釣り合う位置まで旋回させる。このようにしてミラ
ーパネル102が、X・Yの2方向にそれぞれ揺動す
る。
Aを流すと、磁界の成分BAとの相互作用によって電流
値に応じた力FAが生じ、ミラーパネル102をトーシ
ョンバー103の復元力に釣り合う位置まで旋回させ
る。また枠体101の外周コイルに電流IBを流すと、
磁界の成分BBとの相互作用によって電流値に応じた力
FBが生じ、枠体101をトーションバー104の復元
力に釣り合う位置まで旋回させる。このようにしてミラ
ーパネル102が、X・Yの2方向にそれぞれ揺動す
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、この揺動の
周波数を、ミラーパネル102や可動子105の質量・
形状とトーションバー103,104の弾性率などによ
って定まるミラーパネル102や可動子105の固有振
動周波数に等しく設定する場合には、ミラーパネル10
2や可動子105の共振により、小電力で大きい運動が
得られるため特に好適である。
周波数を、ミラーパネル102や可動子105の質量・
形状とトーションバー103,104の弾性率などによ
って定まるミラーパネル102や可動子105の固有振
動周波数に等しく設定する場合には、ミラーパネル10
2や可動子105の共振により、小電力で大きい運動が
得られるため特に好適である。
【0006】しかし、このような共振型の揺動型2次元
走査装置によって、図10に示すようなラスタスキャン
(すなわち、主走査α方向に速く副走査β方向に遅い2
次元走査動作)を行うことを考えた場合、主走査αと副
走査βとの速度比を大きくするために、主走査方向(例
えばX方向)と副走査方向(例えばY方向)との揺動の
周波数比を大きく設定する必要がある。しかし、揺動の
周波数比を大きく設定するには、ミラーパネル102の
寸法の縦横比を大きくする必要があって寸法上の制約に
必ずしも合致せず、またトーションバー103,104
の弾性率比を大きくするにも、両者の材質を互いに異な
らせるのは部品増や工程増を招くし、両者の寸法を互い
に異ならせるのは寸法上の制約があって容易でない。
走査装置によって、図10に示すようなラスタスキャン
(すなわち、主走査α方向に速く副走査β方向に遅い2
次元走査動作)を行うことを考えた場合、主走査αと副
走査βとの速度比を大きくするために、主走査方向(例
えばX方向)と副走査方向(例えばY方向)との揺動の
周波数比を大きく設定する必要がある。しかし、揺動の
周波数比を大きく設定するには、ミラーパネル102の
寸法の縦横比を大きくする必要があって寸法上の制約に
必ずしも合致せず、またトーションバー103,104
の弾性率比を大きくするにも、両者の材質を互いに異な
らせるのは部品増や工程増を招くし、両者の寸法を互い
に異ならせるのは寸法上の制約があって容易でない。
【0007】このため、このような共振型の揺動型2次
元走査装置では、例えばX方向・Y方向の周波数比を
5:6に(ならびに位相差を90°に)とることで、図
3において符号54で示すような経路の走査を行わざる
を得ず、測定領域の中央付近の領域の解像度(走査密
度)が粗いなど、測定の自由度が低いという欠点があっ
た。
元走査装置では、例えばX方向・Y方向の周波数比を
5:6に(ならびに位相差を90°に)とることで、図
3において符号54で示すような経路の走査を行わざる
を得ず、測定領域の中央付近の領域の解像度(走査密
度)が粗いなど、測定の自由度が低いという欠点があっ
た。
【0008】そこで本発明の目的は、互いに異なる二方
向の走査を揺動によって行う揺動型2次元走査装置にお
いて、主走査と副走査との速度比を高く設定できるよう
にすることにある。
向の走査を揺動によって行う揺動型2次元走査装置にお
いて、主走査と副走査との速度比を高く設定できるよう
にすることにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】第1の本発明は、請求項
1に記載のとおり、互いに異なる第1の方向および第2
の方向に揺動する少なくとも1つの可動子を備えた機構
部と、前記機構部を制御する制御部と、を備えた揺動型
2次元走査装置であって、前記制御部は、前記第1の方
向と前記第2の方向の少なくとも一方の揺動の振幅を可
変することで前記機構部に副走査動作を行わせることを
特徴とする揺動型2次元走査装置である。
1に記載のとおり、互いに異なる第1の方向および第2
の方向に揺動する少なくとも1つの可動子を備えた機構
部と、前記機構部を制御する制御部と、を備えた揺動型
2次元走査装置であって、前記制御部は、前記第1の方
向と前記第2の方向の少なくとも一方の揺動の振幅を可
変することで前記機構部に副走査動作を行わせることを
特徴とする揺動型2次元走査装置である。
【0010】理解の容易のために、仮に第1の方向と第
2の方向を互いに直交するXYの2方向とし、揺動をい
ずれも単振動とすると、互いに異なる二方向の走査を揺
動によって行う場合の走査経路は、周知のリサジュー図
形(Lissajous figures)を描く。例えばXY方向の周
波数比を1:2、位相差を60°とした場合の走査経路
は、図3において符号24で示すとおりとなる。
2の方向を互いに直交するXYの2方向とし、揺動をい
ずれも単振動とすると、互いに異なる二方向の走査を揺
動によって行う場合の走査経路は、周知のリサジュー図
形(Lissajous figures)を描く。例えばXY方向の周
波数比を1:2、位相差を60°とした場合の走査経路
は、図3において符号24で示すとおりとなる。
【0011】ここで第1の本発明では、制御部が、機構
部の第1の方向と第2の方向の少なくとも一方の揺動の
振幅を可変することで機構部に副走査動作を行わせるの
で、例えば振幅を漸減させることによって、図4におい
て符号24a,24b,24cで示すように、視野の外
側から内側へと副走査βを行うことができる。この副走
査βの速度は、主走査αの速度とは無関係に可変でき
る。このように第1の本発明では、振幅の変化によって
副走査動作を行うことにより、機構上の制約とは無関係
に、主走査α(この例では、符号24で示される経路)
と副走査βの任意の速度比を得ることができ、自由度の
高い走査を実現できる。
部の第1の方向と第2の方向の少なくとも一方の揺動の
振幅を可変することで機構部に副走査動作を行わせるの
で、例えば振幅を漸減させることによって、図4におい
て符号24a,24b,24cで示すように、視野の外
側から内側へと副走査βを行うことができる。この副走
査βの速度は、主走査αの速度とは無関係に可変でき
る。このように第1の本発明では、振幅の変化によって
副走査動作を行うことにより、機構上の制約とは無関係
に、主走査α(この例では、符号24で示される経路)
と副走査βの任意の速度比を得ることができ、自由度の
高い走査を実現できる。
【0012】第2の本発明は、請求項2に記載のとお
り、互いに異なる第1の方向および第2の方向に揺動す
る少なくとも1つの可動子を備えた機構部と、前記機構
部を制御する制御部と、を備えた揺動型2次元走査装置
であって、前記制御部は、前記第1の方向と前記第2の
方向の揺動の位相差を可変することで前記機構部に副走
査動作を行わせることを特徴とする揺動型2次元走査装
置である。
り、互いに異なる第1の方向および第2の方向に揺動す
る少なくとも1つの可動子を備えた機構部と、前記機構
部を制御する制御部と、を備えた揺動型2次元走査装置
であって、前記制御部は、前記第1の方向と前記第2の
方向の揺動の位相差を可変することで前記機構部に副走
査動作を行わせることを特徴とする揺動型2次元走査装
置である。
【0013】第2の本発明では、制御部が、機構部の第
1の方向と第2の方向の揺動の位相差を可変することで
前記機構部に副走査動作を行わせるので、例えば位相差
を漸減させることによって、図3において符号24で示
される経路から、符号23,22,21で示す経路へ
と、視野の外側から内側に向かう副走査を行うことがで
きる。この副走査の速度は、主走査の速度とは無関係に
可変できる。このように第2の本発明では、位相差の変
化によって副走査動作を行うことにより、機構上の制約
とは無関係に、主走査(この例では、符号24で示され
る経路)と副走査の任意の速度比を得ることができ、自
由度の高い走査を実現できる。
1の方向と第2の方向の揺動の位相差を可変することで
前記機構部に副走査動作を行わせるので、例えば位相差
を漸減させることによって、図3において符号24で示
される経路から、符号23,22,21で示す経路へ
と、視野の外側から内側に向かう副走査を行うことがで
きる。この副走査の速度は、主走査の速度とは無関係に
可変できる。このように第2の本発明では、位相差の変
化によって副走査動作を行うことにより、機構上の制約
とは無関係に、主走査(この例では、符号24で示され
る経路)と副走査の任意の速度比を得ることができ、自
由度の高い走査を実現できる。
【0014】第3の本発明は、請求項3に記載のとお
り、請求項1または2に記載の揺動型2次元走査装置で
あって、前記第1の方向と前記第2の方向の揺動の周波
数を1:1としたことを特徴とする揺動型2次元走査装
置である。
り、請求項1または2に記載の揺動型2次元走査装置で
あって、前記第1の方向と前記第2の方向の揺動の周波
数を1:1としたことを特徴とする揺動型2次元走査装
置である。
【0015】第3の本発明では、第1の方向と第2の方
向の揺動の周波数を1:1としたことにより、走査経路
が図3において符号14で示されるように、円(あるい
は、振幅比が1:1でない場合や、位相差が90°でな
い場合には、楕円)になる。このように走査経路が円ま
たは楕円になることの利点は、走査の1周期において走
査経路の交差が生じないことにある。すなわち第3の本
発明では、走査経路の交差が生じないことにより、視野
内における走査密度の不均衡を抑制できる。
向の揺動の周波数を1:1としたことにより、走査経路
が図3において符号14で示されるように、円(あるい
は、振幅比が1:1でない場合や、位相差が90°でな
い場合には、楕円)になる。このように走査経路が円ま
たは楕円になることの利点は、走査の1周期において走
査経路の交差が生じないことにある。すなわち第3の本
発明では、走査経路の交差が生じないことにより、視野
内における走査密度の不均衡を抑制できる。
【0016】第4の本発明は、請求項4に記載のとお
り、請求項1ないし3のいずれか1に記載の揺動型2次
元走査装置であって、前記可動子を利用した送信または
受信の頻度を、前記揺動の振幅が大から小に向かうに従
って漸減させることを特徴とする揺動型2次元走査装置
である。
り、請求項1ないし3のいずれか1に記載の揺動型2次
元走査装置であって、前記可動子を利用した送信または
受信の頻度を、前記揺動の振幅が大から小に向かうに従
って漸減させることを特徴とする揺動型2次元走査装置
である。
【0017】例えば、仮にXY2方向の周波数比を1:
1、位相差を90°、振幅比を1:1とした場合の走査
経路は符号14のとおり円形となるが、ここで例えば振
幅比を1:1に保ったままXY両方向の振幅を共に漸減
させた場合の走査経路は、図5に示されるとおりの渦巻
状(ないしは、振幅指示信号の指示値をステップ的に変
化させ、かつ機構部の動作に十分高い応答性ないし追従
性がある場合には、図6に示されるような同心円状)と
なる。ここで、走査中に一定時間ごとのサンプリングを
行う場合には、走査経路におけるサンプリング点pの間
隔が、走査経路の収縮に伴って小さくなるため、視野の
外側の領域と内側の領域との間で、サンプリング点pの
空間的密度に不均衡を生じることが考えられる。この
点、第4の本発明では、前記可動子を利用した送信また
は受信の頻度を、揺動の振幅が大から小に向かうに従っ
て漸減(図7参照)させたので、視野内におけるサンプ
リング点pの空間的密度の不均衡を抑制できる。
1、位相差を90°、振幅比を1:1とした場合の走査
経路は符号14のとおり円形となるが、ここで例えば振
幅比を1:1に保ったままXY両方向の振幅を共に漸減
させた場合の走査経路は、図5に示されるとおりの渦巻
状(ないしは、振幅指示信号の指示値をステップ的に変
化させ、かつ機構部の動作に十分高い応答性ないし追従
性がある場合には、図6に示されるような同心円状)と
なる。ここで、走査中に一定時間ごとのサンプリングを
行う場合には、走査経路におけるサンプリング点pの間
隔が、走査経路の収縮に伴って小さくなるため、視野の
外側の領域と内側の領域との間で、サンプリング点pの
空間的密度に不均衡を生じることが考えられる。この
点、第4の本発明では、前記可動子を利用した送信また
は受信の頻度を、揺動の振幅が大から小に向かうに従っ
て漸減(図7参照)させたので、視野内におけるサンプ
リング点pの空間的密度の不均衡を抑制できる。
【0018】第5の本発明は、請求項5に記載のとお
り、請求項1ないし4のいずれか1に記載の揺動型2次
元走査装置であって、前記可動子が単一の可動子であ
り、当該可動子に一体的にミラーが固定され、前記第1
の方向および第2の方向が互いに直交することを特徴と
する揺動型2次元走査装置である。
り、請求項1ないし4のいずれか1に記載の揺動型2次
元走査装置であって、前記可動子が単一の可動子であ
り、当該可動子に一体的にミラーが固定され、前記第1
の方向および第2の方向が互いに直交することを特徴と
する揺動型2次元走査装置である。
【0019】第5の本発明では、可動子が単一の可動子
であるため第1の方向と第2の方向との走査の基準点を
一致させることができ、可動子に一体的にミラーが固定
された反射型の構造としたので他の素子を可動子に固定
する場合に比して可動子を小型軽量化でき、また第1の
方向および第2の方向が互いに直交することとしたの
で、直交座標系を用いた使用に好適に適用できる。
であるため第1の方向と第2の方向との走査の基準点を
一致させることができ、可動子に一体的にミラーが固定
された反射型の構造としたので他の素子を可動子に固定
する場合に比して可動子を小型軽量化でき、また第1の
方向および第2の方向が互いに直交することとしたの
で、直交座標系を用いた使用に好適に適用できる。
【0020】
【発明の実施の形態】本発明の好適な実施形態につい
て、以下に図面に従って説明する。本発明の実施形態に
係る揺動型2次元走査装置は、図1に示される機構部1
0と、図2に示される制御部60とを含んで構成されて
いる。
て、以下に図面に従って説明する。本発明の実施形態に
係る揺動型2次元走査装置は、図1に示される機構部1
0と、図2に示される制御部60とを含んで構成されて
いる。
【0021】図1において、機構部10は、外周コイル
が形成された枠体1の内側に、内周コイルが形成された
ミラーパネル2を配置し、これらミラーパネル2と枠体
1とを、互いに直交する方向に延設されたトーションバ
ー3,4によりそれぞれ揺動自在に保持してなる可動子
5を、永久磁石6による磁界中に配置したものである。
ミラーパネル2の表面にはミラー部7が形成されてい
る。トーションバー3を軸とした旋回方向をX方向、ト
ーションバー4を軸とした旋回方向をY方向とすると、
X方向の旋回面とY方向の旋回面とは互いに直交してい
る。
が形成された枠体1の内側に、内周コイルが形成された
ミラーパネル2を配置し、これらミラーパネル2と枠体
1とを、互いに直交する方向に延設されたトーションバ
ー3,4によりそれぞれ揺動自在に保持してなる可動子
5を、永久磁石6による磁界中に配置したものである。
ミラーパネル2の表面にはミラー部7が形成されてい
る。トーションバー3を軸とした旋回方向をX方向、ト
ーションバー4を軸とした旋回方向をY方向とすると、
X方向の旋回面とY方向の旋回面とは互いに直交してい
る。
【0022】したがって、ミラーパネル2の内周コイル
に電流IAを流すと、磁界の成分BAとの相互作用によ
って電流値に応じた力FAが生じ、ミラーパネル2をト
ーションバー3の復元力に釣り合う位置まで、図中X方
向に旋回させる。また枠体1の外周コイルに電流IBを
流すと、磁界の成分BBとの相互作用によって電流値に
応じた力FBが生じ、枠体1をトーションバー4の復元
力に釣り合う位置まで、図中Y方向に旋回させる。この
ようにしてミラーパネル2が、X・Yの互いに直交する
2方向にそれぞれ揺動する。
に電流IAを流すと、磁界の成分BAとの相互作用によ
って電流値に応じた力FAが生じ、ミラーパネル2をト
ーションバー3の復元力に釣り合う位置まで、図中X方
向に旋回させる。また枠体1の外周コイルに電流IBを
流すと、磁界の成分BBとの相互作用によって電流値に
応じた力FBが生じ、枠体1をトーションバー4の復元
力に釣り合う位置まで、図中Y方向に旋回させる。この
ようにしてミラーパネル2が、X・Yの互いに直交する
2方向にそれぞれ揺動する。
【0023】図2において、制御部60は、ミラー駆動
回路61、X方向およびY方向の角度検出回路62a,
62b、レーザ駆動回路63、および演算処理部64を
含んで構成されている。
回路61、X方向およびY方向の角度検出回路62a,
62b、レーザ駆動回路63、および演算処理部64を
含んで構成されている。
【0024】ミラー駆動回路61は、機構部10に電流
IA,IBを供給することで機構部10を制御する。角
度検出回路62a,62bは、機構部10への給電がオ
フされた際の各コイルの姿勢の復帰に伴う各コイルから
の誘起起電力を検出することで、給電がオフされる直前
の機構部10の旋回角度を2次元方向についてそれぞれ
算出し、これをフィードバック信号として演算処理部6
4に出力する。
IA,IBを供給することで機構部10を制御する。角
度検出回路62a,62bは、機構部10への給電がオ
フされた際の各コイルの姿勢の復帰に伴う各コイルから
の誘起起電力を検出することで、給電がオフされる直前
の機構部10の旋回角度を2次元方向についてそれぞれ
算出し、これをフィードバック信号として演算処理部6
4に出力する。
【0025】レーザ駆動回路63は、適宜箇所に固定さ
れたレーザダイオード70へのパルス信号の給電により
これを駆動する。レーザダイオード70の光軸は、機構
部10のミラー部7の中心に向けられている。なお、レ
ーザダイオード70とミラー部7との間の光路中には、
測定対象からの反射波を抽出するためのビームスプリッ
タ光学系(図示せず)が介装されている。
れたレーザダイオード70へのパルス信号の給電により
これを駆動する。レーザダイオード70の光軸は、機構
部10のミラー部7の中心に向けられている。なお、レ
ーザダイオード70とミラー部7との間の光路中には、
測定対象からの反射波を抽出するためのビームスプリッ
タ光学系(図示せず)が介装されている。
【0026】演算処理部64は、その詳細は図示しない
が、CPU(中央処理装置)を中心としたワンチップマ
イクロプロセッサとして構成されており、処理プログラ
ムを記憶させたROMと、データやプログラムを一時的
に保持するRAMと、入出力インターフェイスとを備え
ている。演算処理部64は、制御部60の各部の制御を
行うほか、外部からの操作信号を取得し、また距離演算
部(図示せず)に対して、ミラー部7のX・Y各方向の
現在の角度とレーザ光のパルス信号の位相とを出力す
る。なお距離演算部では、反射波の位相との位相差に所
定の係数を乗じて、測定対象までの距離を角度別(方向
別)に演算することで、方向別の距離情報を算出する。
が、CPU(中央処理装置)を中心としたワンチップマ
イクロプロセッサとして構成されており、処理プログラ
ムを記憶させたROMと、データやプログラムを一時的
に保持するRAMと、入出力インターフェイスとを備え
ている。演算処理部64は、制御部60の各部の制御を
行うほか、外部からの操作信号を取得し、また距離演算
部(図示せず)に対して、ミラー部7のX・Y各方向の
現在の角度とレーザ光のパルス信号の位相とを出力す
る。なお距離演算部では、反射波の位相との位相差に所
定の係数を乗じて、測定対象までの距離を角度別(方向
別)に演算することで、方向別の距離情報を算出する。
【0027】以上のとおり構成された実施形態の動作に
ついて説明する。本実施形態では、X方向に対する電流
出力としてIA=Acos(nt)、Y方向に対する電
流出力としてIB=Bcos(mt+δ)の正弦波信号
を、駆動信号としてそれぞれ出力する。ここでA,Bは
振幅、n,mは周波数、tは時刻、δは位相差である。
周波数n,mは、それぞれミラーパネル2および可動子
5の固有振動周波数に等しくする。この場合には、X方
向・Y方向の揺動がいずれも単振動であるから、揺動に
よって形成される走査経路は、周知のリサジュー図形
(Lissajous figures)を描く。
ついて説明する。本実施形態では、X方向に対する電流
出力としてIA=Acos(nt)、Y方向に対する電
流出力としてIB=Bcos(mt+δ)の正弦波信号
を、駆動信号としてそれぞれ出力する。ここでA,Bは
振幅、n,mは周波数、tは時刻、δは位相差である。
周波数n,mは、それぞれミラーパネル2および可動子
5の固有振動周波数に等しくする。この場合には、X方
向・Y方向の揺動がいずれも単振動であるから、揺動に
よって形成される走査経路は、周知のリサジュー図形
(Lissajous figures)を描く。
【0028】第1の制御例は、振幅を可変することで機
構部10に副走査動作を行わせるものである。いま、例
えばXY方向の周波数比(n/m)を1:2、位相差δ
を60°とした場合の走査経路は、図3において符号2
4で示すとおりとなる。ここで、制御部60の出力によ
り、機構部10のXY方向の振幅比(A/B)を維持し
たまま、XY方向の振幅A,Bを共に漸減させると、走
査経路は図4において符号24a,24b,24cで示
すように移行し、これにより、視野の外側から内側へと
副走査βが行われる。この第1の制御例では、副走査β
の速度を、主走査αの速度とは無関係に可変できるか
ら、振幅の変化によって副走査動作を行うことにより、
機構上の制約とは無関係に、主走査αと副走査βの任意
の速度比を得ることができ、自由度の高い走査を実現で
きる。
構部10に副走査動作を行わせるものである。いま、例
えばXY方向の周波数比(n/m)を1:2、位相差δ
を60°とした場合の走査経路は、図3において符号2
4で示すとおりとなる。ここで、制御部60の出力によ
り、機構部10のXY方向の振幅比(A/B)を維持し
たまま、XY方向の振幅A,Bを共に漸減させると、走
査経路は図4において符号24a,24b,24cで示
すように移行し、これにより、視野の外側から内側へと
副走査βが行われる。この第1の制御例では、副走査β
の速度を、主走査αの速度とは無関係に可変できるか
ら、振幅の変化によって副走査動作を行うことにより、
機構上の制約とは無関係に、主走査αと副走査βの任意
の速度比を得ることができ、自由度の高い走査を実現で
きる。
【0029】第2の制御例は、位相差δを可変すること
で機構部10に副走査動作を行わせるものである。い
ま、制御部60の出力により、機構部10のXY方向の
振幅比(A/B)および周波数比(n/m)を維持した
まま、XY方向の位相差δを漸減させると、走査経路は
図4において符号24の状態から符号23,22,21
で示すように移行し、これにより、視野の外側から内側
へと副走査が行われる。この第2の制御例では、副走査
の速度を、主走査の速度とは無関係に可変できるから、
位相差δの変化によって副走査動作を行うことにより、
機構上の制約とは無関係に、主走査と副走査の任意の速
度比を得ることができ、自由度の高い走査を実現でき
る。
で機構部10に副走査動作を行わせるものである。い
ま、制御部60の出力により、機構部10のXY方向の
振幅比(A/B)および周波数比(n/m)を維持した
まま、XY方向の位相差δを漸減させると、走査経路は
図4において符号24の状態から符号23,22,21
で示すように移行し、これにより、視野の外側から内側
へと副走査が行われる。この第2の制御例では、副走査
の速度を、主走査の速度とは無関係に可変できるから、
位相差δの変化によって副走査動作を行うことにより、
機構上の制約とは無関係に、主走査と副走査の任意の速
度比を得ることができ、自由度の高い走査を実現でき
る。
【0030】第3の制御例は、X方向とY方向の揺動の
周波数を1:1として行われる。この場合の走査経路
は、図3に符号14で示されるように、円(位相差δが
90°でない場合には、楕円)になる。この第3の制御
例では、走査経路が円または楕円になるため、走査の1
周期において走査経路の交差が生じないことにより、視
野内における走査密度の不均衡を抑制することができ
る。
周波数を1:1として行われる。この場合の走査経路
は、図3に符号14で示されるように、円(位相差δが
90°でない場合には、楕円)になる。この第3の制御
例では、走査経路が円または楕円になるため、走査の1
周期において走査経路の交差が生じないことにより、視
野内における走査密度の不均衡を抑制することができ
る。
【0031】次に、振幅比を1:1に保ったまま、XY
両方向の振幅を共に漸減させる。この場合の走査経路
は、図5に示されるような渦巻状(ないしは、振幅指示
信号の指示値をステップ的に変化させ、かつ機構部10
の動作に十分高い応答性ないし追従性がある場合には、
図6に示されるような同心円状)となる。ここで、走査
中に一定時間ごとのサンプリングを行う場合には、走査
経路におけるサンプリング点pの間隔が、走査経路の収
縮に伴って小さくなるため、視野の外側の領域と内側の
領域との間で、サンプリング点pの空間的密度に不均衡
を生じることが考えられる。そこで第3の制御例では、
レーザパルスの送信の頻度を、揺動の振幅が大から小に
向かうに従って漸減(図7参照)させる。したがって第
3の制御例では、視野内におけるサンプリング点pの空
間的密度の不均衡を抑制することができる。
両方向の振幅を共に漸減させる。この場合の走査経路
は、図5に示されるような渦巻状(ないしは、振幅指示
信号の指示値をステップ的に変化させ、かつ機構部10
の動作に十分高い応答性ないし追従性がある場合には、
図6に示されるような同心円状)となる。ここで、走査
中に一定時間ごとのサンプリングを行う場合には、走査
経路におけるサンプリング点pの間隔が、走査経路の収
縮に伴って小さくなるため、視野の外側の領域と内側の
領域との間で、サンプリング点pの空間的密度に不均衡
を生じることが考えられる。そこで第3の制御例では、
レーザパルスの送信の頻度を、揺動の振幅が大から小に
向かうに従って漸減(図7参照)させる。したがって第
3の制御例では、視野内におけるサンプリング点pの空
間的密度の不均衡を抑制することができる。
【0032】なお、第3の制御例における振幅比を常時
1:1とする代わりに、振幅比を他の比率にすることに
より、視野(走査領域)を縦長や横長の楕円形とするこ
とができる。すなわち、本発明の構成を利用して、振幅
比を変更することにより、用途や目的に応じて、縦長領
域や横長領域など任意の注目領域を容易に選択すること
ができる。
1:1とする代わりに、振幅比を他の比率にすることに
より、視野(走査領域)を縦長や横長の楕円形とするこ
とができる。すなわち、本発明の構成を利用して、振幅
比を変更することにより、用途や目的に応じて、縦長領
域や横長領域など任意の注目領域を容易に選択すること
ができる。
【0033】また、上記実施形態の各制御例における振
幅の変更方法はどのような順序であってもよいが、振幅
を例えば正弦波のように、漸増と漸減を繰り返すように
周期的に設定すれば、機構部10の応答性ないし追従性
に拘わらず良好な動作を行うことができ好適である。ま
た位相についても、同様に漸増と漸減を繰り返すなど、
連続的に可変させるのが好適である。
幅の変更方法はどのような順序であってもよいが、振幅
を例えば正弦波のように、漸増と漸減を繰り返すように
周期的に設定すれば、機構部10の応答性ないし追従性
に拘わらず良好な動作を行うことができ好適である。ま
た位相についても、同様に漸増と漸減を繰り返すなど、
連続的に可変させるのが好適である。
【0034】以上のとおり説明した実施形態では、可動
子5が単一の可動子であるため、X方向とY方向との走
査の基準点を、ミラー部7の中心点で一致させることが
できる。また上記実施形態では、可動子5に一体的にミ
ラー部7が形成された反射型の構造としたので、発光素
子や受光素子などの他の素子を可動子5に固定する場合
に比して可動子5を小型軽量化でき、共振周波数を上げ
ることができる。また上記実施形態では、揺動の方向を
互いに直交するX方向およびY方向としたので、直交座
標系を用いた使用に好適に適用できる。
子5が単一の可動子であるため、X方向とY方向との走
査の基準点を、ミラー部7の中心点で一致させることが
できる。また上記実施形態では、可動子5に一体的にミ
ラー部7が形成された反射型の構造としたので、発光素
子や受光素子などの他の素子を可動子5に固定する場合
に比して可動子5を小型軽量化でき、共振周波数を上げ
ることができる。また上記実施形態では、揺動の方向を
互いに直交するX方向およびY方向としたので、直交座
標系を用いた使用に好適に適用できる。
【0035】なお、上記実施形態では、単一の可動子5
を二方向に揺動させる構成としたが、本発明における可
動子は単一でなくてもよい。すなわち、図8に示す変形
例のとおり、上記第1実施形態におけるミラーパネル2
とトーションバー4とに相当する単動型(1軸型)の機
構部110a,110bを、両者の揺動方向が直交する
ように略対向させて設置し、それぞれを電流IA,IB
の出力側に接続すると共に、第1実施形態におけるもの
と同様の制御部60・レーザダイオード70を利用して
同様に制御することにより、第1実施形態と同様の効果
を得ることができる。
を二方向に揺動させる構成としたが、本発明における可
動子は単一でなくてもよい。すなわち、図8に示す変形
例のとおり、上記第1実施形態におけるミラーパネル2
とトーションバー4とに相当する単動型(1軸型)の機
構部110a,110bを、両者の揺動方向が直交する
ように略対向させて設置し、それぞれを電流IA,IB
の出力側に接続すると共に、第1実施形態におけるもの
と同様の制御部60・レーザダイオード70を利用して
同様に制御することにより、第1実施形態と同様の効果
を得ることができる。
【0036】また、上記実施形態では可動子5またはミ
ラーパネル2の揺動をいずれも単振動としたが、本発明
における可動子の運動は、揺動であれば正弦波振動であ
る必要はない。また、上記実施形態では本発明における
第1の方向と第2の方向を互いに直交するXYの2方向
としたが、他の角度でもよい。また、第1の方向と第2
の方向の周波数比は、上記に例示したもの以外にも各種
のものを選択でき、例えば1:3、2:3、5:6を選
択してもよい。また、本発明および上記各制御例にいう
1:1、1:2、1:3、2:3、5:6などの周波数
比は、その値を中心とした所定の誤差範囲内にあるもの
を含む。
ラーパネル2の揺動をいずれも単振動としたが、本発明
における可動子の運動は、揺動であれば正弦波振動であ
る必要はない。また、上記実施形態では本発明における
第1の方向と第2の方向を互いに直交するXYの2方向
としたが、他の角度でもよい。また、第1の方向と第2
の方向の周波数比は、上記に例示したもの以外にも各種
のものを選択でき、例えば1:3、2:3、5:6を選
択してもよい。また、本発明および上記各制御例にいう
1:1、1:2、1:3、2:3、5:6などの周波数
比は、その値を中心とした所定の誤差範囲内にあるもの
を含む。
【0037】また、上記実施形態およびその変形例で
は、揺動の周波数と可動子またはミラーパネルの固有振
動周波数とが略等しい共振型の機構部10を利用した
が、本発明は動作周波数と可動子の固有振動周波数が無
関係に定められた非共振型の機構部(ガルバノミラー機
構)についても適用が可能である。
は、揺動の周波数と可動子またはミラーパネルの固有振
動周波数とが略等しい共振型の機構部10を利用した
が、本発明は動作周波数と可動子の固有振動周波数が無
関係に定められた非共振型の機構部(ガルバノミラー機
構)についても適用が可能である。
【0038】また、上記実施形態では、可動子5に一体
的にミラー部7を設けた構成としたが、可動子5に固定
される部材は走査動作に関与する部材であれば他の部材
でもよく、例えば発光素子、受光素子または透光性の光
学部材を可動子に固定してもよい。
的にミラー部7を設けた構成としたが、可動子5に固定
される部材は走査動作に関与する部材であれば他の部材
でもよく、例えば発光素子、受光素子または透光性の光
学部材を可動子に固定してもよい。
【0039】また上記実施形態では、光パルス式の測距
装置に本発明を適用した例について説明したが、本発明
は他の方式の測距装置や、画像入力装置、画像再生装
置、複写機、レーザ加工装置など、走査動作を必要とす
るどのような装置にも適用でき、かかる構成も本発明の
範疇に属するものである。
装置に本発明を適用した例について説明したが、本発明
は他の方式の測距装置や、画像入力装置、画像再生装
置、複写機、レーザ加工装置など、走査動作を必要とす
るどのような装置にも適用でき、かかる構成も本発明の
範疇に属するものである。
【図1】 本発明の実施形態に係る機構部の概略構成を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図2】 機構部および制御部を示すブロック図であ
る。
る。
【図3】 周波数比、位相差を変化させた場合の走査経
路を示す説明図である。
路を示す説明図である。
【図4】 第1の制御例に係る走査経路を示す説明図で
ある。
ある。
【図5】 第3の制御例に係る走査経路の一例を示す説
明図である。
明図である。
【図6】 第3の制御例に係る走査経路の他の一例を示
す説明図である。
す説明図である。
【図7】 第3の制御例における振幅と時間あたりパル
ス数(送信頻度)との関係を示すグラフである。
ス数(送信頻度)との関係を示すグラフである。
【図8】 変形例に係る機構部および制御部を示すブロ
ック図である。
ック図である。
【図9】 本発明による改良前の機構部の概略構成を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図10】 ラスタスキャンにおける走査経路を示す説
明図である。
明図である。
1,101 枠体、2,102 ミラーパネル、3,
4,103,104 トーションバー、5,105 可
動子、6,106 永久磁石、7,107 ミラー部、
10,110 機構部、60 制御部、64 演算処理
部、70 レーザダイオード、p サンプリング点。
4,103,104 トーションバー、5,105 可
動子、6,106 永久磁石、7,107 ミラー部、
10,110 機構部、60 制御部、64 演算処理
部、70 レーザダイオード、p サンプリング点。
Claims (5)
- 【請求項1】 互いに異なる第1の方向および第2の方
向に揺動する少なくとも1つの可動子を備えた機構部
と、前記機構部を制御する制御部と、を備えた揺動型2
次元走査装置であって、 前記制御部は、前記第1の方向と前記第2の方向の少な
くとも一方の揺動の振幅を可変することで前記機構部に
副走査動作を行わせることを特徴とする揺動型2次元走
査装置。 - 【請求項2】 互いに異なる第1の方向および第2の方
向に揺動する少なくとも1つの可動子を備えた機構部
と、前記機構部を制御する制御部と、を備えた揺動型2
次元走査装置であって、 前記制御部は、前記第1の方向と前記第2の方向の揺動
の位相差を可変することで前記機構部に副走査動作を行
わせることを特徴とする揺動型2次元走査装置。 - 【請求項3】 請求項1または2に記載の揺動型2次元
走査装置であって、 前記第1の方向と前記第2の方向の揺動の周波数を1:
1としたことを特徴とする揺動型2次元走査装置。 - 【請求項4】 請求項1ないし3のいずれか1に記載の
揺動型2次元走査装置であって、 前記可動子を利用した送信または受信の頻度を、前記揺
動の振幅が大から小に向かうに従って漸減させることを
特徴とする揺動型2次元走査装置。 - 【請求項5】 請求項1ないし4のいずれか1に記載の
揺動型2次元走査装置であって、 前記可動子が単一の可動子であり、当該可動子に一体的
にミラーが固定され、前記第1の方向および第2の方向
が互いに直交することを特徴とする揺動型2次元走査装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002099563A JP2003295102A (ja) | 2002-04-02 | 2002-04-02 | 揺動型2次元走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002099563A JP2003295102A (ja) | 2002-04-02 | 2002-04-02 | 揺動型2次元走査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003295102A true JP2003295102A (ja) | 2003-10-15 |
Family
ID=29240947
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002099563A Pending JP2003295102A (ja) | 2002-04-02 | 2002-04-02 | 揺動型2次元走査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003295102A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1708004A1 (en) * | 2005-03-02 | 2006-10-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Light deflector |
JP2008170500A (ja) * | 2007-01-09 | 2008-07-24 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | 2次元走査装置 |
JP2009042607A (ja) * | 2007-08-10 | 2009-02-26 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | 2次元走査装置 |
JP2009048786A (ja) * | 2007-08-13 | 2009-03-05 | Koito Mfg Co Ltd | 車両用前照灯 |
JP2011053137A (ja) * | 2009-09-03 | 2011-03-17 | Nippon Signal Co Ltd:The | 光測距装置 |
WO2012011183A1 (ja) * | 2010-07-22 | 2012-01-26 | パイオニア株式会社 | 画像生成装置 |
JP4865109B1 (ja) * | 2011-01-31 | 2012-02-01 | パイオニア株式会社 | 画像表示装置 |
WO2012081234A1 (ja) * | 2010-12-14 | 2012-06-21 | 株式会社ニコン | 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2013037324A (ja) * | 2011-08-11 | 2013-02-21 | Nippon Signal Co Ltd:The | 光走査装置 |
JP6704537B1 (ja) * | 2019-06-12 | 2020-06-03 | 三菱電機株式会社 | 障害物検出装置 |
-
2002
- 2002-04-02 JP JP2002099563A patent/JP2003295102A/ja active Pending
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1708004A1 (en) * | 2005-03-02 | 2006-10-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Light deflector |
KR100742882B1 (ko) * | 2005-03-02 | 2007-07-25 | 캐논 가부시끼가이샤 | 광편향기 |
US7310176B2 (en) | 2005-03-02 | 2007-12-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Light deflector using torsional rotation about two axes |
JP2008170500A (ja) * | 2007-01-09 | 2008-07-24 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | 2次元走査装置 |
JP2009042607A (ja) * | 2007-08-10 | 2009-02-26 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | 2次元走査装置 |
JP2009048786A (ja) * | 2007-08-13 | 2009-03-05 | Koito Mfg Co Ltd | 車両用前照灯 |
JP2011053137A (ja) * | 2009-09-03 | 2011-03-17 | Nippon Signal Co Ltd:The | 光測距装置 |
WO2012011183A1 (ja) * | 2010-07-22 | 2012-01-26 | パイオニア株式会社 | 画像生成装置 |
US9019176B2 (en) | 2010-07-22 | 2015-04-28 | Pioneer Corporation | Image forming apparatus |
JP5557913B2 (ja) * | 2010-07-22 | 2014-07-23 | パイオニア株式会社 | 画像生成装置 |
JPWO2012081234A1 (ja) * | 2010-12-14 | 2014-05-22 | 株式会社ニコン | 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
US8735051B2 (en) | 2010-12-14 | 2014-05-27 | Nikon Corporation | Exposure method and exposure apparatus, and device manufacturing method |
WO2012081234A1 (ja) * | 2010-12-14 | 2012-06-21 | 株式会社ニコン | 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
US9575417B2 (en) | 2010-12-14 | 2017-02-21 | Nikon Corporation | Exposure apparatus including a mask holding device which holds a periphery area of a pattern area of the mask from above |
WO2012104973A1 (ja) * | 2011-01-31 | 2012-08-09 | パイオニア株式会社 | 画像表示装置 |
JP4865109B1 (ja) * | 2011-01-31 | 2012-02-01 | パイオニア株式会社 | 画像表示装置 |
JP2013037324A (ja) * | 2011-08-11 | 2013-02-21 | Nippon Signal Co Ltd:The | 光走査装置 |
JP6704537B1 (ja) * | 2019-06-12 | 2020-06-03 | 三菱電機株式会社 | 障害物検出装置 |
WO2020250343A1 (ja) * | 2019-06-12 | 2020-12-17 | 三菱電機株式会社 | 障害物検出装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4533407B2 (ja) | 画像形成装置 | |
JP5702059B2 (ja) | 光測距装置 | |
US20090284190A1 (en) | Vibrating Element | |
JP2010092018A (ja) | アクチュエータの駆動装置 | |
JP2003295102A (ja) | 揺動型2次元走査装置 | |
JP5184909B2 (ja) | 揺動体装置及び光偏向装置 | |
JP2012068349A (ja) | 光走査装置及びこれを用いた光測距装置 | |
JP5065116B2 (ja) | 揺動体装置、光偏向装置、及びその制御方法 | |
JP2016156913A (ja) | 光走査装置 | |
JP4212305B2 (ja) | レーザ照射装置 | |
JP2009058616A (ja) | 揺動体装置、光偏向装置、及びそれを用いた画像形成装置 | |
JP2003329961A (ja) | 反射型走査装置 | |
JP5283966B2 (ja) | 光偏向装置、及び画像形成装置 | |
EP3112895B1 (en) | Optical probe and measuring apparatus | |
JP4203260B2 (ja) | 揺動型走査装置 | |
JP5188315B2 (ja) | 揺動体装置、光偏向装置、及びそれを用いた光学機器 | |
JP2018132666A (ja) | 光走査装置及び距離画像センサ | |
JP2008170500A (ja) | 2次元走査装置 | |
JP2022121521A (ja) | 測距装置及び光走査装置 | |
JP2010048928A (ja) | 揺動体装置、及びそれを用いた光偏向装置 | |
JP6369357B2 (ja) | 走査装置 | |
JP7546752B2 (ja) | アクチュエーター | |
JP2009086557A (ja) | 揺動体装置、光偏向装置、及びそれを用いた光学機器 | |
JP2008233449A (ja) | 光ビーム走査装置および画像形成装置 | |
JP5058661B2 (ja) | 画像形成装置 |