JP2003268112A - Phosphorus-containing resin and method for producing the same - Google Patents
Phosphorus-containing resin and method for producing the sameInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、低分散かつ高屈折
率であり、かつ極めて透明性の高い無色透明な熱可塑性
樹脂に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a colorless and transparent thermoplastic resin having a low dispersion, a high refractive index and extremely high transparency.
【0002】[0002]
【従来の技術】無色透明材料の主要な用途として光学レ
ンズがあるが、その中で眼鏡用レンズについては、薄型
化、軽量化、ファッション性等の観点から活発な材料開
発が行われている。現在では耐衝撃性、軽量性等の利点
から、市場の90%は樹脂レンズが占めるようになって
いる。2. Description of the Related Art Optical lenses are used mainly as colorless transparent materials. Among them, spectacle lenses are being actively developed from the viewpoints of thinning, weight saving and fashionability. At present, 90% of the market is occupied by resin lenses due to advantages such as impact resistance and light weight.
【0003】従来の眼鏡レンズ用樹脂はCR39、アクリ
ル、ウレタンの3つに大別され(特開平06−0167
29号公報)、低分散、高屈折を目指して多くの樹脂が
開発実用化されている。これらの樹脂はすべて熱硬化性
であるため、光学レンズへの成形は注型重合が用いられ
るが、この方法は重合時間が長く、その後のアニーリン
グプロセスなど、製造コストが高いという問題点があ
る。Conventional spectacle lens resins are roughly classified into three types, CR39, acrylic, and urethane (Japanese Patent Laid-Open No. 06-0167).
No. 29), many resins have been developed and put to practical use aiming at low dispersion and high refraction. Since all of these resins are thermosetting, casting polymerization is used for molding into an optical lens, but this method has a problem that the polymerization time is long and the manufacturing cost is high, such as the subsequent annealing process.
【0004】一方、熱可塑性光学用樹脂の代表的なもの
としてポリカーボネートがある。これはその無色透明性
や耐衝撃性を生かしてディスク用基板等に用いられてい
る。この樹脂をレンズに適用する場合、熱可塑性である
ため成形性がよく、熱硬化性樹脂に比べ格段にレンズ製
造コストを安くできるという利点がある。しかし、屈折
率が低いため(1.58)眼鏡レンズ用途としては保護眼鏡
程度にしか適用されていない。ポリカーボネート以外の
芳香族系の熱可塑性樹脂は屈折率は高いものの高分散
性、着色性等の問題があった。またホスホン酸残基を主
鎖中に有し、特に、ビスフェノール類等との縮合重合体
である芳香族ポリホスホネート熱可塑性樹脂(米国特許
第6288210号)は、高屈折率特性を持つことが報
告されているが、靭性が足りない等の問題がある。ポリ
ホスホネート樹脂の靭性向上に対する試みとして、高分
子量化(特開昭61−285225号公報)する等の報
告もあるが、後処理工程である脱溶剤時の際には300
℃以上に加熱することから、着色が発生することを本発
明者らは確認しており、これにより得られた樹脂は光学
用途には適していない。他にも高分子量化の手段とし
て、アルカリ土類金属水酸化物を含有する水溶液中で相
間移動触媒の存在下で反応させる重合方法の報告(特開
昭61−238826号公報)もあるが、同様の方法で
は高分子量化できないことは本発明者らは確認してい
る。またポリホスホネート樹脂を高分子量化(数平均分
子量:30000以上)すると、ビスフェノール部分の
分子構造によっては、樹脂組成物の溶解性、融解性が悪
いため、その成形体は白濁し、著しく透明性を損なって
しまう問題があった。On the other hand, polycarbonate is a typical thermoplastic optical resin. This is used for a disk substrate or the like by taking advantage of its colorless transparency and impact resistance. When this resin is applied to a lens, it has an advantage that it has good moldability because it is thermoplastic and that the lens manufacturing cost can be significantly reduced as compared with a thermosetting resin. However, due to its low refractive index (1.58), it is applied only to protective eyewear as a spectacle lens application. Aromatic thermoplastic resins other than polycarbonate have high refractive index, but have problems such as high dispersibility and colorability. Further, it is reported that an aromatic polyphosphonate thermoplastic resin (US Pat. No. 6,288,210), which has a phosphonic acid residue in the main chain and is a condensation polymer with bisphenols, etc., has high refractive index characteristics. However, there are problems such as lack of toughness. As an attempt to improve the toughness of the polyphosphonate resin, it has been reported that the polyphosphonate resin has a high molecular weight (Japanese Patent Laid-Open No. 61-285225).
The present inventors have confirmed that coloring occurs due to heating at a temperature of not lower than 0 ° C., and the resin obtained by this is not suitable for optical use. In addition, as a means for increasing the molecular weight, there is a report on a polymerization method of reacting in an aqueous solution containing an alkaline earth metal hydroxide in the presence of a phase transfer catalyst (JP-A-61-238826). The present inventors have confirmed that high molecular weight cannot be obtained by a similar method. When the polyphosphonate resin is made to have a high molecular weight (number average molecular weight: 30,000 or more), depending on the molecular structure of the bisphenol portion, the resin composition has poor solubility and meltability, so that the molded product becomes cloudy and remarkably transparent. There was a problem of being damaged.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高屈折率、
低分散特性を有し、かつ、極めて透明性が高く、かつ、
靭性の高い熱可塑性樹脂を提供することを目的とする。The present invention has a high refractive index,
It has low dispersion properties, is extremely transparent, and
An object is to provide a thermoplastic resin having high toughness.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために以下の構成を有するものである。The present invention has the following constitution in order to solve the above problems.
【0007】下記式(1)で示される繰り返し単位、下
記式(2)で示される繰り返し単位およびカーボネート
残基からなる樹脂であって、前記式(1)の繰り返し単
位と前記式(2)の繰り返し単位のモル分率が式(3)
を満足し、厚さ3mmの成形体にした時、全光線透過率
70%以上、ヘーズ30%以下かつ数平均分子量300
00以上であることを特徴とする樹脂。A resin comprising a repeating unit represented by the following formula (1), a repeating unit represented by the following formula (2) and a carbonate residue, wherein the repeating unit of the above formula (1) and the above formula (2) The molar fraction of the repeating unit is represented by the formula (3)
And a molded product having a thickness of 3 mm is satisfied, the total light transmittance is 70% or more, the haze is 30% or less, and the number average molecular weight is 300.
A resin characterized by being 00 or more.
【0008】[0008]
【化3】 [Chemical 3]
【0009】[0009]
【化4】 [Chemical 4]
【0010】[式(1)中Rは炭素数1〜20の脂肪族
炭化水素基または芳香族炭化水素基、Xは酸素、硫黄あ
るいはセレンを表し、RあるいはXの異なるホスホン酸
残基をともに含んでもよい。式(2)中R’は各々独立
に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の脂肪族炭
化水素基、炭素数1〜20の芳香族炭化水素基、ニトロ
基からなる群から選ばれ、p、qはp+q=0〜8の整
数。Yは単結合、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、
アルキリデン基、シクロアルキレン基、シクロアルキリ
デン基、ハロ置換アルキレン基、ハロ置換アルキリデン
基、フェニルアルキリデン基、カルボニル基、スルホン
基、脂肪族ホスフィンオキシド基、芳香族ホスフィンオ
キシド基、アルキルシラン基、ジアルキルシラン基、フ
ルオレン基からなる群から選ばれる。]
1≧(a)/{(a)+(b)}≧0.05 (3)
[式(3)中、(a)は前記式(1)の繰り返し単位の
モル数、(b)はカーボネート残基のモル数。][In the formula (1), R represents an aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, X represents oxygen, sulfur or selenium, and R or a phosphonic acid residue having different X are both present. May be included. R'in the formula (2) is independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a nitro group, p and q are integers of p + q = 0 to 8. Y is a single bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group,
Alkylidene group, cycloalkylene group, cycloalkylidene group, halo-substituted alkylene group, halo-substituted alkylidene group, phenylalkylidene group, carbonyl group, sulfone group, aliphatic phosphine oxide group, aromatic phosphine oxide group, alkylsilane group, dialkylsilane group , A fluorene group. 1 ≧ (a) / {(a) + (b)} ≧ 0.05 (3) [In the formula (3), (a) is the number of moles of the repeating unit of the formula (1), and (b) is Number of moles of carbonate residues. ]
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】本発明に用いるホスホネート樹脂
は、以下の構造を有している。すなわち、下記式(1)
で示される繰り返し単位、下記式(2)で示される繰り
返し単位およびカーボネート残基からなる樹脂である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The phosphonate resin used in the present invention has the following structure. That is, the following formula (1)
The resin is composed of a repeating unit represented by, a repeating unit represented by the following formula (2), and a carbonate residue.
【0012】[0012]
【化5】 [Chemical 5]
【0013】[0013]
【化6】 [Chemical 6]
【0014】[式(1)中Rは炭素数1〜20の脂肪族
炭化水素基または芳香族炭化水素基、Xは酸素、硫黄あ
るいはセレンを表し、RあるいはXの異なるホスホン酸
残基をともに含んでもよい。式(2)中R’は各々独立
に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の脂肪族炭
化水素基または芳香族炭化水素基、ニトロ基からなる群
から選ばれ、p、qはp+q=0〜8の整数、Yは単結
合、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、アルキリデン
基、シクロアルキレン基、シクロアルキリデン基、ハロ
置換アルキレン基、ハロ置換アルキリデン基、フェニル
アルキリデン基、カルボニル基、スルホン基、脂肪族ホ
スフィンオキシド基、芳香族ホスフィンオキシド基、ア
ルキルシラン基、ジアルキルシラン基、フルオレン基か
らなる群から選ばれる。]
上記式(1)で表される化合物のリン原子上の置換基R
の具体例としては、フェニル、ハロ置換フェニル、メト
キシフェニル、エトキシフェニル、エチル、イソプロピ
ル、シクロヘキシル、ビニル、アリル、ベンジル、アミ
ノアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロ置換アルキル、
アルキルサルファイド基等が挙げられる。またこれら式
(1)で表されるホスホン酸残基を構成するホスホン酸
を具体的に例示すると、メチルホスホン酸、エチルホス
ホン酸、n−プロピルホスホン酸、イソプロピルホスホ
ン酸、n−ブチルホスホン酸、イソブチルホスホン酸、
t―ブチルホスホン酸、n−ペンチルホスホン酸、ネオ
ペンチルホスホン酸、シクロヘキシルホスホン酸、ベン
ジルホスホン酸、クロロメチルホスホン酸、ジクロロメ
チルホスホン酸、ブロモメチルホスホン酸、ジブロモメ
チルホスホン酸、2−クロロエチルホスホン酸、1、2
−ジクロロエチルホスホン酸、2―ブロモエチルホスホ
ン酸、1、2−ジブロモエチルホスホン酸、3−クロロ
プロピルホスホン酸、2、3−ジクロロプロピルホスホ
ン酸3−ブロモプロピルホスホン酸、2、3−ジブロモ
プロピルホスホン酸、2−クロロー1−メチルエチルホ
スホン酸、1、2−ジクロロー1−メチルエチルホスホ
ン酸、2−ブロモー1−メチルエチルホスホン酸、1、
2−ジブロモー1−メチルエチルホスホン酸、4−クロ
ロブチルホスホン酸、3、4−ジクロロブチルホスホン
酸、4−ブロモブチルホスホン酸、3、4−ジブロモブ
チルホスホン酸、3−クロロー1―メチルプロピルホス
ホン酸、2、3−ジクロロ−1−メチルプロピルホスホ
ン酸、3−ブロモ−1メチルプロピルホスホン酸、2、
3−ジブロモ−1−メチルホスホン酸、1−クロロメチ
ルプロピルホスホン酸、1−クロロー1−クロロメチル
プロピルホスホン酸、1−ブロモメチルプロピルホスホ
ン酸、1−ブロモ−1−ブロモメチルプロピルホスホン
酸、5−クロロペンチルホスホン酸、4、5−ジクロロ
ペンチルホスホン酸、5−ブロモペンチルホスホン酸、
4、5−ジブロモペンチルホスホン酸、1−ヒドロキシ
メチルホスホン酸、2−ヒドロキシエチルホスホン酸、
3−ヒドロキシプロピルホスホン酸、4−ヒドロキシブ
チルホスホン酸、5−ヒドロキシペンチルホスホン酸、
1−アミノメチルホスホン酸、2−アミノエチルホスホ
ン酸、3−アミノプロピルホスホン酸、4−アミノブチ
ルホスホン酸、5−アミノペンチルホスホン酸、メチル
チオメチルホスホン酸、メチルチオエチルホスホン酸、
メチルチオプロピルホスホン酸、メチルチオブチルホス
ホン酸、エチルチオメチルホスホン酸、エチルチオエチ
ルホスホン酸、エチルチオプロピルホスホン酸、プロピ
ルチオメチルホスホン酸、プロピルチオエチルホスホン
酸、ブチルチオメチルホスホン酸、フェニルホスホン
酸、4−クロロフェニルホスホン酸、3、4−ジクロロ
フェニルホスホン酸、3、5−ジクロロフェニルホスホ
ン酸、4−ブロモフェニルホスホン酸、3、4−ブロモ
フェニルホスホン酸、3、5−ブロモフェニルホスホン
酸、4−メトキシフェニルホスホン酸、3、4−ジメト
キシフェニルホスホン酸、1―ナフチルホスホン酸、2
―ナフチルホスホン酸、ベンジルホスホン酸、4−ブロ
モフェニルメチルホスホン酸、3、4−ジブロモフェニ
ルメチルホスホン酸、3、5−ジブロモフェニルメチル
ホスホン酸、2−フェニルエチルホスホン酸、2−(4
−ブロモフェニル)エチルホスホン酸、2−(3、4−ジ
ブロモフェニル)エチルホスホン酸、2−(3、5−ジブ
ロモフェニル)エチルホスホン酸、3−フェニルプロピ
ルホスホン酸、3−(4−ブロモフェニル)プロピルホス
ホン酸、3−(3、4−ジブロモフェニル)プロピルホス
ホン酸、3−(3、5−ジブロモフェニル)プロピルホス
ホン酸、4−フェニルブチルホスホン酸、4−(4−ブ
ロモフェニル)ブチルホスホン酸、4−(3、4−ジブロ
モフェニル)ブチルホスホン酸、4−(3、5−ジブロモ
フェニル)ブチルホスホン酸、2―ピリジルホスホン
酸、3−ピリジルホスホン酸、4−ピリジルホスホン
酸、1−ピロリジノメチルホスホン酸、1―ピロリジノ
エチルホスホン酸、1−ピロリジノプロピルホスホン
酸、1−ピロリジノブチルホスホン酸、ピロール−1−
ホスホン酸、ピロール−2―ホスホン酸、ピロール−3
−ホスホン酸、チオフェン−2―ホスホン酸、チオフェ
ン−3―ホスホン酸、ジチアン−2―ホスホン酸、トリ
チアン−2―ホスホン酸、フラン−2―ホスホン酸、フ
ラン−3―ホスホン酸、ビニルホスホン酸、アリルホス
ホン酸などが挙げられ、またこれらのリン原子に2重結
合で結合している酸素原子が硫黄原子に置換されたチオ
ホスホン酸も同様に挙げられる。これらは1種類でも、
複数種含まれるものであっても良い。[In the formula (1), R represents an aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, X represents oxygen, sulfur or selenium, and R or a phosphonic acid residue having different X together. May be included. In formula (2), R'is independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group, and a nitro group, and p and q are p + q = An integer of 0 to 8, Y is a single bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group, an alkylidene group, a cycloalkylene group, a cycloalkylidene group, a halo-substituted alkylene group, a halo-substituted alkylidene group, a phenylalkylidene group, a carbonyl group, a sulfone group. , An aliphatic phosphine oxide group, an aromatic phosphine oxide group, an alkylsilane group, a dialkylsilane group, and a fluorene group. ] The substituent R on the phosphorus atom of the compound represented by the above formula (1)
Specific examples of phenyl, halo-substituted phenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, ethyl, isopropyl, cyclohexyl, vinyl, allyl, benzyl, aminoalkyl, hydroxyalkyl, halo-substituted alkyl,
An alkyl sulfide group etc. are mentioned. Specific examples of the phosphonic acid constituting the phosphonic acid residue represented by the formula (1) include methylphosphonic acid, ethylphosphonic acid, n-propylphosphonic acid, isopropylphosphonic acid, n-butylphosphonic acid and isobutyl. Phosphonic acid,
t-butylphosphonic acid, n-pentylphosphonic acid, neopentylphosphonic acid, cyclohexylphosphonic acid, benzylphosphonic acid, chloromethylphosphonic acid, dichloromethylphosphonic acid, bromomethylphosphonic acid, dibromomethylphosphonic acid, 2-chloroethylphosphonic acid, 1, Two
-Dichloroethylphosphonic acid, 2-bromoethylphosphonic acid, 1,2-dibromoethylphosphonic acid, 3-chloropropylphosphonic acid, 2,3-dichloropropylphosphonic acid 3-bromopropylphosphonic acid, 2,3-dibromopropyl Phosphonic acid, 2-chloro-1-methylethylphosphonic acid, 1,2-dichloro-1-methylethylphosphonic acid, 2-bromo-1-methylethylphosphonic acid, 1,
2-dibromo-1-methylethylphosphonic acid, 4-chlorobutylphosphonic acid, 3,4-dichlorobutylphosphonic acid, 4-bromobutylphosphonic acid, 3,4-dibromobutylphosphonic acid, 3-chloro-1-methylpropylphosphonic acid Acid, 2,3-dichloro-1-methylpropylphosphonic acid, 3-bromo-1methylpropylphosphonic acid, 2,
3-dibromo-1-methylphosphonic acid, 1-chloromethylpropylphosphonic acid, 1-chloro-1-chloromethylpropylphosphonic acid, 1-bromomethylpropylphosphonic acid, 1-bromo-1-bromomethylpropylphosphonic acid, 5- Chloropentylphosphonic acid, 4,5-dichloropentylphosphonic acid, 5-bromopentylphosphonic acid,
4,5-dibromopentylphosphonic acid, 1-hydroxymethylphosphonic acid, 2-hydroxyethylphosphonic acid,
3-hydroxypropylphosphonic acid, 4-hydroxybutylphosphonic acid, 5-hydroxypentylphosphonic acid,
1-aminomethylphosphonic acid, 2-aminoethylphosphonic acid, 3-aminopropylphosphonic acid, 4-aminobutylphosphonic acid, 5-aminopentylphosphonic acid, methylthiomethylphosphonic acid, methylthioethylphosphonic acid,
Methylthiopropylphosphonic acid, methylthiobutylphosphonic acid, ethylthiomethylphosphonic acid, ethylthioethylphosphonic acid, ethylthiopropylphosphonic acid, propylthiomethylphosphonic acid, propylthioethylphosphonic acid, butylthiomethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid, 4-chlorophenyl Phosphonic acid, 3,4-dichlorophenylphosphonic acid, 3,5-dichlorophenylphosphonic acid, 4-bromophenylphosphonic acid, 3,4-bromophenylphosphonic acid, 3,5-bromophenylphosphonic acid, 4-methoxyphenylphosphonic acid 3,4-dimethoxyphenylphosphonic acid, 1-naphthylphosphonic acid, 2
-Naphthylphosphonic acid, benzylphosphonic acid, 4-bromophenylmethylphosphonic acid, 3,4-dibromophenylmethylphosphonic acid, 3,5-dibromophenylmethylphosphonic acid, 2-phenylethylphosphonic acid, 2- (4
-Bromophenyl) ethylphosphonic acid, 2- (3,4-dibromophenyl) ethylphosphonic acid, 2- (3,5-dibromophenyl) ethylphosphonic acid, 3-phenylpropylphosphonic acid, 3- (4-bromophenyl) ) Propylphosphonic acid, 3- (3,4-dibromophenyl) propylphosphonic acid, 3- (3,5-dibromophenyl) propylphosphonic acid, 4-phenylbutylphosphonic acid, 4- (4-bromophenyl) butylphosphone Acid, 4- (3,4-dibromophenyl) butylphosphonic acid, 4- (3,5-dibromophenyl) butylphosphonic acid, 2-pyridylphosphonic acid, 3-pyridylphosphonic acid, 4-pyridylphosphonic acid, 1- Pyrrolidinomethylphosphonic acid, 1-pyrrolidinoethylphosphonic acid, 1-pyrrolidinopropylphosphonic acid, 1-pyrrolidinobutylphosphonic acid Acid, pyrrole-1
Phosphonic acid, pyrrole-2-phosphonic acid, pyrrole-3
-Phosphonic acid, thiophen-2-phosphonic acid, thiophen-3-phosphonic acid, dithian-2-phosphonic acid, trithian-2-phosphonic acid, furan-2-phosphonic acid, furan-3-phosphonic acid, vinylphosphonic acid, Examples thereof include allylphosphonic acid and the like, and thiophosphonic acid in which the oxygen atom bonded to these phosphorus atoms by a double bond is substituted with a sulfur atom is also included. These are just one
It may include a plurality of types.
【0015】また、これらホスホン酸残基については、
それぞれ対応する3価のリン官能基であるホスホナイト
残基に一部好ましく置換することができる。これにより
樹脂の耐酸化性を付与することができる。その置換比率
としては、光学特性等の特性安定性を考慮すると、50
%以下が好ましく、より好ましくは25%以下、さらに
好ましくは10%以下である。Regarding these phosphonic acid residues,
It can be preferably partially substituted with the corresponding phosphonite residue which is a trivalent phosphorus functional group. This makes it possible to impart the oxidation resistance of the resin. The substitution ratio is 50 when considering the characteristic stability such as optical characteristics.
% Or less, more preferably 25% or less, still more preferably 10% or less.
【0016】次に、式(2)で表される2価フェノール
残基を構成する2価フェノールを具体的に例示すると、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,
1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−
ビス(4−メチル−2−ヒドロキシフェニル)メタン、
1,1−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)メタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−4−メチルペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)シクロヘプタン、1,1−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)シクロオクタン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス
(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)−2−エチルヘキサン、2,2−ビス
(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)
メタン、4,4'−ビフェノール、2,2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)ブタン、1,1−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)−2−メチルプロパン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルメタン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)オクタン、
1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)
シクロヘキサン、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−イソプ
ロピル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−
ビス(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(3−secブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロパン、ビスフェノールフロー
レン、1,1−ビス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5
−tert−ブチルフェニル)−2−メチルプロパン、
4,4'−〔1,4−フェニレン−ビス(2−プロピリ
デン)〕−ビス(2−メチルフェノール)、1,1−ビ
ス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサン、4,4'−ジヒドロキシフェニルエーテル、
1,1−ビス(2−ヒドロキシフェニル)メタン、2,
4'−メチレンビスフェノール、1,1−ビス(3−メ
チル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス
(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)エタン、1,
1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3−メチル−ブ
タン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチ
ルフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)シクロペンタン、1,1−ビス(3−メチル−
4−ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、3,3−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、3,3−ビス
(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、
3,3−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)ペンタン、2,2−ビス(2−ヒドロキシ−3,
5−ジメチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)ノナン、1,1−ビス(3−メチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、
1,1−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)デカン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)デカン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3−t
ert−ブチル−5−メチルフェニル)メタン、1,1
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、
テルペンジフェノール、1,1−ビス(3−tert−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1,1−ビス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−te
rt−ブチルフェニル)−2−メチルプロパン、2,2
−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、1,1−ビス(3,5−ジtert−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス
(3,5−ジsecブチル−4−ヒドロキシフェニル)
メタン、1,1−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒド
ロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(2−
ヒドロキシ−3,5−ジtert−ブチルフェニル)エ
タン、1,1−ビス(3−ノニル−4−ヒドロキシフェ
ニル)メタン、2,2−ビス(3,5−ジtert−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビ
ス(2−ヒドロキシ−3,5−ジtert−ブチル−6
−メチルフェニル)メタン、1,1−ビス(3−フェニ
ル−4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、
4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン酸、
ビス(4−ヒドロキシフェニル)酢酸ブチルエステル、
1,1−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニ
ル)メタン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−5−フル
オロフェニル)メタン、2,2−ビス(4ーヒドロキシ
フェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ
プロパン、2,2−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキ
シフェニル)プロパン、1,1−ビス(3−フルオロ−
4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルメタン、1,
1−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)−
1−(p−フルオロフェニル)メタン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−1−(p−フルオロフェ
ニル)メタン、2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒドロ
キシ−5−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス
(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、1,1−ビス(3,5−ジブロモ−4−
ヒドロキシフェニル)メタン、2,2−ビス(3,5−
ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2
−ビス(3−ニトロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、3,3'−ジメチル−4,4'−ビフェノール、3,
3',5,5'−テトラメチル−4,4'−ビフェノー
ル、3,3',5,5'−テトラtert−ブチル−4,
4'−ビフェノール、ビス(4−ヒドロキシフェニル)
ケトン、3,3'−ジフルオロ−4,4'−ビフェノー
ル、3,3',5,5'−テトラフルオロ−4,4'−ビ
フェノール、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジメチル
シラン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビ
ス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホン、
ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ス
ルホン、ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェ
ニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)チオ
エーテル、ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)エーテル、ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)チオエーテル、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)エーテル、ビス(3,5−ジメチル
−4−ヒドロキシフェニル)チオエーテル、1,1−ビ
ス(2,3,5−トリメチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−フェニルメタン、2,2−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)ドデカン、2,2−ビス(3−メチル−
4−ヒドロキシフェニル)ドデカン、2,2−ビス
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ドデカ
ン、1,1−ビス(3−tert−ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス
(3,5−ジtert−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス(2−メチル
−4−ヒドロキシ−5−シクロヘキシルフェニル)−2
−メチルプロパン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−
3,5−ジtert−ブチルフェニル)エタン、2,2
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン酸メチルエ
ステル、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン酸エチルエステル、イサチンビスフェノール、イサ
チンビスクレゾール、2,2',3,3',5,5'−ヘ
キサメチル−4,4'−ビフェノール、ビス(2−ヒド
ロキシフェニル)メタン、2,4'−メチレンビスフェ
ノール、1,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタ
ン、2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(2−ヒド
ロキシフェニル)プロパン、ビス(2−ヒドロキシ−3
−アリルフェニル)メタン、1,1−ビス(2−ヒドロ
キシ−3,5−ジメチルフェニル)−2−メチルプロパ
ン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−5−tert−ブ
チルフェニル)エタン、ビス(2−ヒドロキシ−5−フ
ェニルフェニル)メタン、1,1−ビス(2−メチル−
4−ヒドロキシ−5−tert−ブチルフェニル)ブタ
ン、ビス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−シクロヘ
キシルフェニル)メタン、2,2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)ペンタデカン、2,2−ビス(3−メチル
−4−ヒドロキシフェニル)ペンタデカン、2,2−ビ
ス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ペン
タデカン、1,2−ビス(3,5−ジtert−ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)エタン、ビス(2−ヒドロ
キシ−3,5−ジtert−ブチルフェニル)メタン、
2,2−ビス(3−スチリル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−(p−ニトロフェニル)エタン、ビス(3,
5−ジフルオロ−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビ
ス(3,5−ジフルオロ−4−ヒドロキシフェニル)−
1−フェニルメタン、ビス(3,5−ジフルオロ−4−
ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、ビス(3−フ
ルオロ−4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、
2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン、3,3',5,5'−テトラtert−ブチル
−2,2'−ビフェノール、2,2'−ジアリル−4,
4'−ビフェノール、1,1−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)−3,3,5−トリメチル−シクロヘキサン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,
5,5−テトラメチル−シクロヘキサン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,4−トリメチル
−シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)−3,3−ジメチル−5−エチル−シクロヘキサ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,
3,5−トリメチル−シクロペンタン、1,1−ビス
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−3,
3,5−トリメチル−シクロヘキサン、1,1−ビス
(3,5−ジフェニル−4−ヒドロキシフェニル)−
3,3,5−トリメチル−シクロヘキサン、1,1−ビ
ス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−3,3,
5−トリメチル−シクロヘキサン、1,1−ビス(3−
フェニル−4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−ト
リメチル−シクロヘキサン、1,1−ビス(3,5−ジ
クロロ−4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリ
メチル−シクロヘキサン、9,9−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)フルオレン、9、9−ビス(3,5−ジメ
チル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、1,1−
ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)−
3,3,5−トリメチル−シクロヘキサン、α、α−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)−1,4−ジイソプロピ
ルベンゼン等が挙げられ、これらは1種類でも、複数種
含まれるものであって良い。これら2価フェノールは得
られるポリマーの性能に応じて用いることができる。Next, the dihydric phenol constituting the dihydric phenol residue represented by the formula (2) will be specifically exemplified.
1,1-bis (4-hydroxyphenyl) methane, 1,
1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 1,1-
Bis (4-methyl-2-hydroxyphenyl) methane,
1,1-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -4-methylpentane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1 , 1-bis (4-hydroxyphenyl) cycloheptane, 1,1-bis (4
-Hydroxyphenyl) cyclooctane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane,
2,2-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -2- Ethylhexane, 2,2-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) propane,
1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl)
Methane, 4,4'-biphenol, 2,2-bis (4-
Hydroxyphenyl) butane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -2-methylpropane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylmethane,
2,2-bis (4-hydroxyphenyl) octane,
1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl)
Cyclohexane, 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-isopropyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-
Bis (3-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-secbutyl-4-)
Hydroxyphenyl) propane, bisphenolfluorene, 1,1-bis (2-methyl-4-hydroxy-5)
-Tert-butylphenyl) -2-methylpropane,
4,4 '-[1,4-phenylene-bis (2-propylidene)]-bis (2-methylphenol), 1,1-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 4,4'- Dihydroxyphenyl ether,
1,1-bis (2-hydroxyphenyl) methane, 2,
4'-methylenebisphenol, 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (2-hydroxy-5-methylphenyl) ) Ethane, 1,
1-bis (4-hydroxyphenyl) -3-methyl-butane, 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclopentane, 1 , 1-bis (3-methyl-
4-hydroxyphenyl) cyclopentane, 3,3-bis (4-hydroxyphenyl) pentane, 3,3-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) pentane,
3,3-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) pentane, 2,2-bis (2-hydroxy-3,
5-dimethylphenyl) propane, 2,2-bis (4-
Hydroxyphenyl) nonane, 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane,
1,1-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) decane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) decane, 1,1-bis (2-hydroxy-3-t
ert-butyl-5-methylphenyl) methane, 1,1
-Bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane,
Terpene diphenol, 1,1-bis (3-tert-
Butyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane,
1,1-bis (2-methyl-4-hydroxy-5-te
rt-Butylphenyl) -2-methylpropane, 2,2
-Bis (3-cyclohexyl-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (3,5-disecbutyl- 4-hydroxyphenyl)
Methane, 1,1-bis (3-cyclohexyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (2-
Hydroxy-3,5-ditert-butylphenyl) ethane, 1,1-bis (3-nonyl-4-hydroxyphenyl) methane, 2,2-bis (3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl) ) Propane, 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-ditert-butyl-6)
-Methylphenyl) methane, 1,1-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane,
4,4-bis (4-hydroxyphenyl) pentanoic acid,
Bis (4-hydroxyphenyl) acetic acid butyl ester,
1,1-bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (2-hydroxy-5-fluorophenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1, 1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (3-fluoro-
4-hydroxyphenyl) -1-phenylmethane, 1,
1-bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl)-
1- (p-fluorophenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1- (p-fluorophenyl) methane, 2,2-bis (3-chloro-4-hydroxy-5-methylphenyl) ) Propane, 2,2-bis (3,5-dichloro-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-chloro-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (3,5-dibromo) -4-
Hydroxyphenyl) methane, 2,2-bis (3,5-
Dibromo-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2
-Bis (3-nitro-4-hydroxyphenyl) propane, 3,3'-dimethyl-4,4'-biphenol, 3,
3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-biphenol, 3,3', 5,5'-tetra-tert-butyl-4,
4'-biphenol, bis (4-hydroxyphenyl)
Ketone, 3,3'-difluoro-4,4'-biphenol, 3,3 ', 5,5'-tetrafluoro-4,4'-biphenol, bis (4-hydroxyphenyl) dimethylsilane, bis (4- Hydroxyphenyl) sulfone, bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) sulfone,
Bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) sulfone, bis (3,5-dibromo-4-hydroxyphenyl) sulfone, bis (4-hydroxyphenyl) thioether, bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) Ether, bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) thioether, bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) ether, bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) thioether, 1,1-bis (2,3,5-Trimethyl-4-hydroxyphenyl) -1-phenylmethane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) dodecane, 2,2-bis (3-methyl-)
4-hydroxyphenyl) dodecane, 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) dodecane, 1,1-bis (3-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 1 , 1-Bis (3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 1,1-bis (2-methyl-4-hydroxy-5-cyclohexylphenyl) -2
-Methyl propane, 1,1-bis (2-hydroxy-
3,5-ditert-butylphenyl) ethane, 2,2
-Bis (4-hydroxyphenyl) propanoic acid methyl ester, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanoic acid ethyl ester, isatin bisphenol, isatin biscresol, 2,2 ', 3,3', 5 5'-hexamethyl-4,4'-biphenol, bis (2-hydroxyphenyl) methane, 2,4'-methylenebisphenol, 1,2-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 2- (4-hydroxyphenyl) -2- (2-hydroxyphenyl) propane, bis (2-hydroxy-3)
-Allylphenyl) methane, 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -2-methylpropane, 1,1-bis (2-hydroxy-5-tert-butylphenyl) ethane, bis ( 2-hydroxy-5-phenylphenyl) methane, 1,1-bis (2-methyl-)
4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, bis (2-methyl-4-hydroxy-5-cyclohexylphenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) pentadecane, 2,2-bis (3 -Methyl-4-hydroxyphenyl) pentadecane, 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) pentadecane, 1,2-bis (3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl) ethane , Bis (2-hydroxy-3,5-ditert-butylphenyl) methane,
2,2-bis (3-styryl-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1- (p-nitrophenyl) ethane, bis (3,3
5-difluoro-4-hydroxyphenyl) methane, bis (3,5-difluoro-4-hydroxyphenyl)-
1-phenylmethane, bis (3,5-difluoro-4-
Hydroxyphenyl) diphenylmethane, bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl) diphenylmethane,
2,2-bis (3-chloro-4-hydroxyphenyl)
Propane, 3,3 ', 5,5'-tetra-tert-butyl-2,2'-biphenol, 2,2'-diallyl-4,
4'-biphenol, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethyl-cyclohexane,
1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3
5,5-tetramethyl-cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,4-trimethyl-cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3-dimethyl-5 -Ethyl-cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,
3,5-trimethyl-cyclopentane, 1,1-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) -3,
3,5-Trimethyl-cyclohexane, 1,1-bis (3,5-diphenyl-4-hydroxyphenyl)-
3,3,5-Trimethyl-cyclohexane, 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) -3,3,3
5-trimethyl-cyclohexane, 1,1-bis (3-
Phenyl-4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethyl-cyclohexane, 1,1-bis (3,5-dichloro-4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethyl-cyclohexane, 9,9- Bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) fluorene, 1,1-
Bis (3,5-dibromo-4-hydroxyphenyl)-
Examples include 3,3,5-trimethyl-cyclohexane, α, α-bis (4-hydroxyphenyl) -1,4-diisopropylbenzene and the like, and these may be one kind or a plurality of kinds may be contained. These dihydric phenols can be used depending on the performance of the obtained polymer.
【0017】また更に、ジヒドロキシベンゼン単位を本
発明の効果が損なわれない範囲で含有することができ、
これらジヒドロキシベンゼン残基を与えるジヒドロキシ
ベンゼンとして、例えば、、レゾルシノール、ハイドロ
キノン、1,2−ジヒドロキシベンゼン等が挙げられ、
これらは1種類でも、複数種含有することができる。Furthermore, a dihydroxybenzene unit can be contained within a range that does not impair the effects of the present invention,
Examples of dihydroxybenzenes that give these dihydroxybenzene residues include resorcinol, hydroquinone, and 1,2-dihydroxybenzene.
These may be contained in one kind or in plural kinds.
【0018】また、本発明のポリマーは必ずしも直鎖状
である必要はなく、得られるポリマーの性能に応じて多
価フェノールを共重合することができる。このような多
価フェノールを具体的に例示すると、トリス(4−ヒド
ロキシフェニル)メタン、4,4'−〔1−〔4−〔1
−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル〕フ
ェニル〕エチリデン〕ビスフェノール、2,3,4,
4'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、4−〔ビス
(4−ヒドロキシフェニル)メチル〕−2−メトキシフ
ェノール、トリス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)メタン、4−〔ビス(3−メチル−4−ヒドロキシ
フェニル)メチル〕−2−メトキシフェノール、4−
〔ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)
メチル〕−2−メトキシフェノール、1,1,1−トリ
ス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1,1−ト
リス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)エタン、
1,1,1−トリス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキ
シフェニル)エタン、トリス(3−メチル−4−ヒドロ
キシフェニル)メタン、トリス(3,5−ジメチル−4
−ヒドロキシフェニル)メタン、2,6−ビス〔(2−
ヒドロキシ−5−メチルフェニル)メチル〕−4−メチ
ルフェノール、4−〔ビス(3,5−ジメチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)メチル〕−1,2−ジヒドロキシベ
ンゼン、2−〔ビス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5
−シクロヘキシルフェニル)メチル〕−フェノール、4
−〔ビス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−シクロヘ
キシルフェニル)メチル〕−1,2−ジヒドロキシベン
ゼン、4−メチルフェニル−1,2,3−トリヒドロキ
シベンゼン、4−〔(4−ヒドロキシフェニル)メチ
ル〕−1,2,3−トリヒドロキシベンゼン、4−〔1
−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチル−エチル〕
−1,3−ジヒドロキシベンゼン、4−〔(3,5−ジ
メチル−4−ヒドロキシフェニル)メチル〕−1,2,
3−トリヒドロキシベンゼン、1,4−ビス〔1−ビス
(3,4−ジヒドロキシフェニル)−1−メチル−エチ
ル〕ベンゼン、1,4−ビス〔1−ビス(2,3,4−
トリヒドロキシフェニル)−1−メチル−エチル〕ベン
ゼン、2,4−ビス〔(4−ヒドロキシフェニル)メチ
ル〕−1,3−ジヒドロキシベンゼン、2−〔ビス(3
−メチル−4−ヒドロキシフェイル)メチル〕フェノー
ル、4−〔ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェイ
ル)メチル〕フェノール、2−〔ビス(2−メチル−4
−ヒドロキシフェイル)メチル〕フェノール、4−〔ビ
ス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)メチル〕−
1,2−ジヒドロキシベンゼン、4−〔ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)メチル〕−2−エトキシフェノール、
2−〔ビス(2,3−ジメチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)メチル〕フェノール、4−〔ビス(3,5−ジメチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)メチル〕フェノール、3
−〔ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)メチル〕フェノール、2−〔ビス(2−ヒドロキシ
−3,6−ジメチルフェニル)メチル〕フェノール、4
−〔ビス(2−ヒドロキシ−3,6−ジメチルフェニ
ル)メチル〕フェノール、4−〔ビス(3,5−ジメチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)メチル〕−2−メトキシ
フェノール、3,6−〔ビス(3,5−ジメチル−4−
ヒドロキシフェニル)メチル〕−1,2−ジヒドロキシ
ベンゼン、4,6−〔ビス(3,5−ジメチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)メチル〕−1,2,3−トリヒドロ
キシベンゼン、2−〔ビス(2,3,6−トリメチル−
4−ヒドロキシフェニル)メチル〕フェノール、2−
〔ビス(2,3,5−トリメチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)メチル〕フェノール、3−〔ビス(2,3,5−
トリメチル−4−ヒドロキシフェニル)メチル〕フェノ
ール、4−〔ビス(2,3,5−トリメチル−4−ヒド
ロキシフェニル)メチル〕フェノール、4−〔ビス
(2,3,5−トリメチル−4−ヒドロキシフェニル)
メチル〕−1,2−ジヒドロキシベンゼン、3−〔ビス
(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−シクロヘキシルフ
ェニル)メチル〕フェノール、4−〔ビス(2−メチル
−4−ヒドロキシ−5−シクロヘキシルフェニル)メチ
ル〕フェノール、4−〔ビス(2−メチル−4−ヒドロ
キシ−5−シクロヘキシルフェニル)メチル〕−2−メ
トキシフェノール、2,4,6−〔トリス(4−ヒドロ
キシフェニルメチル)−1,3−ジヒドロキシベンゼ
ン、1,1,2,2−テトラ(3−メチル−4−ヒドロ
キシフェニル)エタン、1,1,2,2−テトラ(3,
5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,
4−〔〔ビス(4−ヒドロキシフェニル)メチル〕〕ベ
ンゼン、1,4−ジ〔ビス(3−メチル−4−ヒドロキ
シフェニル)メチル〕ベンゼン、1,4−ジ〔ビス
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)メチ
ル〕ベンゼン、4−〔1,1−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)エチル〕アニリン、(2,4−ジヒドロキシフ
ェニル)(4−ヒドロキシフェニル)ケトン、2−〔ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)メチル〕フェノール、
1,3,3−トリ(4−ヒドロキシフェニル)ブタン等
が挙げられ、これらは1種類でも、複数種併用すること
もできる。Further, the polymer of the present invention does not necessarily have to be linear, and a polyhydric phenol can be copolymerized depending on the performance of the obtained polymer. Specific examples of such polyphenols include tris (4-hydroxyphenyl) methane, 4,4 ′-[1- [4- [1
-(4-Hydroxyphenyl) -1-methylethyl] phenyl] ethylidene] bisphenol, 2,3,4
4'-tetrahydroxybenzophenone, 4- [bis (4-hydroxyphenyl) methyl] -2-methoxyphenol, tris (3-methyl-4-hydroxyphenyl) methane, 4- [bis (3-methyl-4-hydroxy) Phenyl) methyl] -2-methoxyphenol, 4-
[Bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl)
Methyl] -2-methoxyphenol, 1,1,1-tris (4-hydroxyphenyl) ethane, 1,1,1-tris (3-methyl-4-hydroxyphenyl) ethane,
1,1,1-tris (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) ethane, tris (3-methyl-4-hydroxyphenyl) methane, tris (3,5-dimethyl-4)
-Hydroxyphenyl) methane, 2,6-bis [(2-
Hydroxy-5-methylphenyl) methyl] -4-methylphenol, 4- [bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) methyl] -1,2-dihydroxybenzene, 2- [bis (2-methyl- 4-hydroxy-5
-Cyclohexylphenyl) methyl] -phenol, 4
-[Bis (2-methyl-4-hydroxy-5-cyclohexylphenyl) methyl] -1,2-dihydroxybenzene, 4-methylphenyl-1,2,3-trihydroxybenzene, 4-[(4-hydroxyphenyl ) Methyl] -1,2,3-trihydroxybenzene, 4- [1
-(4-hydroxyphenyl) -1-methyl-ethyl]
-1,3-dihydroxybenzene, 4-[(3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) methyl] -1,2,
3-trihydroxybenzene, 1,4-bis [1-bis (3,4-dihydroxyphenyl) -1-methyl-ethyl] benzene, 1,4-bis [1-bis (2,3,4-)
Trihydroxyphenyl) -1-methyl-ethyl] benzene, 2,4-bis [(4-hydroxyphenyl) methyl] -1,3-dihydroxybenzene, 2- [bis (3
-Methyl-4-hydroxyphenyl) methyl] phenol, 4- [bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) methyl] phenol, 2- [bis (2-methyl-4)
-Hydroxyphenyl) methyl] phenol, 4- [bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) methyl]-
1,2-dihydroxybenzene, 4- [bis (4-hydroxyphenyl) methyl] -2-ethoxyphenol,
2- [bis (2,3-dimethyl-4-hydroxyphenyl) methyl] phenol, 4- [bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) methyl] phenol, 3
-[Bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) methyl] phenol, 2- [bis (2-hydroxy-3,6-dimethylphenyl) methyl] phenol, 4
-[Bis (2-hydroxy-3,6-dimethylphenyl) methyl] phenol, 4- [bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) methyl] -2-methoxyphenol, 3,6- [bis ( 3,5-dimethyl-4-
Hydroxyphenyl) methyl] -1,2-dihydroxybenzene, 4,6- [bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) methyl] -1,2,3-trihydroxybenzene, 2- [bis (2 , 3,6-Trimethyl-
4-hydroxyphenyl) methyl] phenol, 2-
[Bis (2,3,5-trimethyl-4-hydroxyphenyl) methyl] phenol, 3- [bis (2,3,5-
Trimethyl-4-hydroxyphenyl) methyl] phenol, 4- [bis (2,3,5-trimethyl-4-hydroxyphenyl) methyl] phenol, 4- [bis (2,3,5-trimethyl-4-hydroxyphenyl) )
Methyl] -1,2-dihydroxybenzene, 3- [bis (2-methyl-4-hydroxy-5-cyclohexylphenyl) methyl] phenol, 4- [bis (2-methyl-4-hydroxy-5-cyclohexylphenyl) Methyl] phenol, 4- [bis (2-methyl-4-hydroxy-5-cyclohexylphenyl) methyl] -2-methoxyphenol, 2,4,6- [tris (4-hydroxyphenylmethyl) -1,3- Dihydroxybenzene, 1,1,2,2-tetra (3-methyl-4-hydroxyphenyl) ethane, 1,1,2,2-tetra (3
5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) ethane, 1,
4-[[bis (4-hydroxyphenyl) methyl]] benzene, 1,4-di [bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) methyl] benzene, 1,4-di [bis (3,5-dimethyl) -4-hydroxyphenyl) methyl] benzene, 4- [1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethyl] aniline, (2,4-dihydroxyphenyl) (4-hydroxyphenyl) ketone, 2- [bis (4 -Hydroxyphenyl) methyl] phenol,
1,3,3-tri (4-hydroxyphenyl) butane and the like are listed, and these may be used alone or in combination of two or more.
【0019】また、カーボネート残基とは、炭酸エステ
ル、炭酸ハライドなどを原料として得られる構造単位で
あり、例えばジフェニルカーボネート、ジトリールカー
ボネート、ビス(クロロフェニル)カーボネート、m−
クレジルカーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス
(ジフェニル)カーボネート、ジエチルカーボネート、
ジメチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシク
ロヘキシルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネー
トなどの炭酸エステル、ホスゲン、トリホスゲンなどの
炭酸ハライドが挙げられる。The carbonate residue is a structural unit obtained from a carbonic acid ester, a carbonic acid halide or the like as a raw material, and examples thereof include diphenyl carbonate, ditolyl carbonate, bis (chlorophenyl) carbonate and m-.
Cresyl carbonate, dinaphthyl carbonate, bis (diphenyl) carbonate, diethyl carbonate,
Examples thereof include carbonic acid esters such as dimethyl carbonate, dibutyl carbonate, dicyclohexyl carbonate and dicyclohexyl carbonate, and carbonic acid halides such as phosgene and triphosgene.
【0020】また、本発明のポリマーは前記式(1)で
示される繰り返し単位と前記のカーボネート残基との比
率が、
1≧(a)/{(a)+(b)}≧0.05 (3)
[ここで、(a)は、前記式(1)の繰り返し単位のモ
ル数、(b)はカーボネート残基のモル数。]である。
この値が、0.05未満である場合には、高屈折率、高
アッベ数特性が発現しないため、レンズ用途に用いるに
は不十分である。下限として、好ましくは0.20以上
であり、さらに好ましくは、0.50以上である。ま
た、靱性が向上し耐衝撃性が改良されるので、上限とし
て好ましくは0.8以下であり、更に好ましくは0.7
以下である。In the polymer of the present invention, the ratio of the repeating unit represented by the formula (1) to the carbonate residue is 1 ≧ (a) / {(a) + (b)} ≧ 0.05. (3) [where (a) is the number of moles of the repeating unit of the formula (1), and (b) is the number of moles of the carbonate residue. ].
When this value is less than 0.05, high refractive index and high Abbe number characteristics are not exhibited, and it is insufficient for use in lenses. The lower limit is preferably 0.20 or more, more preferably 0.50 or more. Further, since the toughness is improved and the impact resistance is improved, the upper limit is preferably 0.8 or less, more preferably 0.7.
It is the following.
【0021】また本発明は、力学特性を考慮して高分子
量体であっても光学特性を維持することができる。な
お、本発明に関わる樹脂組成物の数平均分子量は300
00〜1000000が好ましく使用され、更に好まし
くは30000〜500000である。また光学用途へ
適用するには、配向や複屈折等を抑止するため溶融粘度
の低いものが好ましく用いられるため、このような用途
には数平均分子量は10000〜200000が好まし
く使用される。Further, in the present invention, in consideration of mechanical properties, optical properties can be maintained even if the polymer is a high molecular weight substance. The number average molecular weight of the resin composition according to the present invention is 300.
00 to 1,000,000 is preferably used, and more preferably 30,000 to 500,000. In addition, for application to optical applications, those having a low melt viscosity are preferably used in order to suppress orientation, birefringence, etc. Therefore, for such applications, a number average molecular weight of 10,000 to 200,000 is preferably used.
【0022】次に本発明のポリマーの製造方法について
例を挙げて説明する。Next, the method for producing the polymer of the present invention will be described with reference to examples.
【0023】本発明のポリマーの製造方法としては、例
えば、酸ハライドと2価のフェノールを有機溶剤中で反
応させる溶液重合法(A.Conix Ind.En
g.chem.51,147,1959年、特公昭37
−5599号公報)、酸ハライドと2価のフェノールを
塩化マグネシウム等の触媒存在下で加熱する溶融重合
法、2価の酸と2価のフェノールをジアリルカーボネー
トの存在下で加熱する溶融重合法(特公昭38−262
99号公報)、水と相溶しない有機溶剤に溶解せしめた
2価の酸ハライドとアルカリ水溶液に溶解せしめた2価
のフェノールとを混合する界面重合法(W.M.EAR
ECKSON J.Poly.Sci.XL399,1
959年、特公昭40−1959号公報)等が挙げられ
るが、特に溶液重合法が好適に採用される。溶液重合法
について一例を説明すると、ホスホン酸残基の前駆体分
子であるホスホン酸誘導体と、2価フェノールをトリエ
チルアミンなどの塩基存在下混合して反応させ、続いて
カーボネート残基の前駆体分子、たとえばトリホスゲン
などを添加して縮合重合することによって本発明の樹脂
を得ることができる。ホスホン酸誘導体あるいはカーボ
ネート誘導体としてはそれらのハロゲン化物、酸無水
物、エステル等が用いられるが特に限定されない。The method for producing the polymer of the present invention includes, for example, a solution polymerization method (A. Conix Ind. En.) In which an acid halide and a divalent phenol are reacted in an organic solvent.
g. chem. 51, 147, 1959, Japanese Patent Publication No. 37
-5599), a melt polymerization method of heating an acid halide and a divalent phenol in the presence of a catalyst such as magnesium chloride, and a melt polymerization method of heating a divalent acid and a divalent phenol in the presence of diallyl carbonate ( Japanese Patent Publication 38-262
99), an interfacial polymerization method of mixing a divalent acid halide dissolved in an organic solvent incompatible with water and a divalent phenol dissolved in an alkaline aqueous solution (WM EAR).
ECKSON J. Poly. Sci. XL399,1
959, Japanese Patent Publication No. 40-1959), and the like, but the solution polymerization method is particularly preferably adopted. Explaining one example of the solution polymerization method, a phosphonic acid derivative which is a precursor molecule of a phosphonic acid residue and a dihydric phenol are mixed and reacted in the presence of a base such as triethylamine, and then a precursor molecule of a carbonate residue, For example, the resin of the present invention can be obtained by adding triphosgene and conducting condensation polymerization. As the phosphonic acid derivative or carbonate derivative, halides, acid anhydrides, esters and the like thereof are used, but are not particularly limited.
【0024】本発明のポリマーの分子量を調節する方法
としては、重合時に一官能の物質を添加して行うことが
できる。ここで言う分子量調節剤として用いられる一官
能物質としては、フェノール、クレゾール、p−ter
t−ブチルフェノール等の一価フェノール類、安息香酸
クロライド、メタンスルホニルクロライド、フェニルク
ロロホルメート等の一価酸クロライド類が挙げられる。
本発明の樹脂は、その透明性が極めて優れているわけで
あるが、ポリホスホネート樹脂のヘーズ値が高くなる原
因としては、当該樹脂の製法に帰因する場合と樹脂の本
質的な性質に帰因する場合があり、前者の場合、樹脂に
微細な異物が混入している場合等が挙げられで、具体的
には反応によって生じた塩類やモノマーに混入していた
異物、重合時に混入した異物、後処理時に混入した異物
などが原因していることが検討の結果判明した。一方、
後者については本発明者らが精力的に検討を行い、ポリ
ホスホネートの場合、ビスフェノール残基等の分子構造
によっては、高分子量化するにつれて、樹脂が析出しや
すくなる傾向があること、樹脂の溶解性や溶融性が悪化
し、このような原因から白濁が生じることを確認した。
この傾向は、特に剛直な骨格を有するビスフェノール類
において顕著であった。そこで本発明者らは、これらの
問題を解決すべく鋭意検討した結果、析出物、塩類の除
去については樹脂溶液状態での洗浄、濾過であり、樹脂
の本質的性質の改善としてはカーボネート基を共重合す
ることにより、溶解性、溶融性が改善されることを見い
だしたものである。As a method for controlling the molecular weight of the polymer of the present invention, a monofunctional substance can be added during the polymerization. Examples of the monofunctional substance used as the molecular weight regulator here include phenol, cresol, and p-ter.
Examples include monohydric phenols such as t-butylphenol, monohydric acid chlorides such as benzoic acid chloride, methanesulfonyl chloride, and phenylchloroformate.
The resin of the present invention is extremely excellent in transparency, but the cause of the high haze value of the polyphosphonate resin is attributed to the production method of the resin and the essential properties of the resin. In the former case, there is a case where fine foreign substances are mixed in the resin.Specifically, the foreign substances mixed in the salts and monomers produced by the reaction, the foreign substances mixed in during the polymerization. As a result of the investigation, it was found that the cause was foreign matter mixed in during the post-treatment. on the other hand,
The present inventors have vigorously studied the latter, and in the case of polyphosphonates, depending on the molecular structure of the bisphenol residue or the like, the resin tends to precipitate as the molecular weight increases, and the resin is dissolved. It was confirmed that the opacity and the meltability were deteriorated and that white turbidity occurred due to such a cause.
This tendency was particularly remarkable in bisphenols having a rigid skeleton. Therefore, as a result of intensive studies to solve these problems, the present inventors have found that removal of precipitates and salts is washing in a resin solution state, filtration, and that carbonate groups are used as an improvement in essential properties of the resin. It was found that the copolymerization improves the solubility and the meltability.
【0025】透明性を改善する具体的な手段として、た
とえば、本発明の重合時には、重合溶液中にトリエチル
アミンからなるアンモニウム塩が副生成物として生成す
るため、このアンモニウム塩がポリマー溶液中に混入し
ているとヘーズ値が悪化する。具体的にはアンモニウム
塩が樹脂重量比で100ppm以下に脱塩することがで
きれば透過率が向上し、ヘーズ値も改善されることを確
認している。またアンモニウム塩の除去には、溶液濾過
や溶液洗浄などが極めて有効な手段として用いることが
できる。As a specific means for improving the transparency, for example, during the polymerization of the present invention, an ammonium salt consisting of triethylamine is produced as a by-product in the polymerization solution, and therefore this ammonium salt is mixed into the polymer solution. Haze value deteriorates. Specifically, it has been confirmed that if the ammonium salt can be desalted to a resin weight ratio of 100 ppm or less, the transmittance is improved and the haze value is also improved. Further, solution filtration and solution washing can be used as extremely effective means for removing ammonium salts.
【0026】なお、アンモニウム塩酸塩の重量比測定は
1HNMRのトリエチルアミン塩酸塩エチル基のメチレ
ン基由来のピーク(3.14ppm)より算出すること
ができる。The weight ratio of ammonium hydrochloride can be measured by
It can be calculated from the peak (3.14 ppm) derived from the methylene group of the ethyl group of triethylamine hydrochloride in 1 HNMR.
【0027】アンモニア塩の除去には、また溶液洗浄が
有効であり、アンモニア塩以外の可溶性成分も除去でき
る。洗浄液は特に限定されるものではないが、低コス
ト、脱塩効率が良好で重合溶液を相溶しない等の理由か
ら水が好ましく用いられ、更には純水を用いることが最
も好ましく用いられる。また洗浄方法は特に限定されな
いが、洗浄液と重合溶液を混合させて攪拌する方法が好
ましく用いられる。このような攪拌を行うことで反応溶
液中に含まれていたアンモニウム塩が洗浄液に溶解して
いくため、重合溶液中のアンモニウム塩は除去されてい
く。なお、洗浄時の重合溶液の濃度は特に限定されない
が重合溶液濃度を希釈することで洗浄効率を向上できる
ため好ましく用いられる。攪拌後は重合溶液、洗浄液を
相分離させて、洗浄液を排出すればよい。洗浄回数につ
いても特に限定されないが、2回以上洗浄する方が多く
脱塩できるため好ましく用いられる。Solution cleaning is also effective for removing ammonia salts, and soluble components other than ammonia salts can also be removed. The washing liquid is not particularly limited, but water is preferably used because of low cost, good desalting efficiency, incompatibility with the polymerization solution, and the like, and pure water is most preferably used. The washing method is not particularly limited, but a method of mixing the washing liquid and the polymerization solution and stirring is preferably used. By carrying out such stirring, the ammonium salt contained in the reaction solution is dissolved in the washing solution, so that the ammonium salt in the polymerization solution is removed. The concentration of the polymerization solution at the time of washing is not particularly limited, but it is preferably used because the washing efficiency can be improved by diluting the concentration of the polymerization solution. After stirring, the polymerization solution and the washing solution may be phase-separated and the washing solution may be discharged. The number of times of washing is not particularly limited, but washing twice or more is preferable because it allows more desalting.
【0028】また、溶液濾過による異物除去も透過率の
向上、ヘーズ値低減の施策として用いることが可能であ
る。光学用途の場合には、人間が目視できる範囲の異物
除去が必要であることから0.5μm以下の溶液濾過が
好ましく用いられている。濾過方法は加圧濾過、減圧濾
過、常圧濾過等、特に限定されるものではないが、濾過
時間短縮という点では加圧濾過が好ましく用いられる。
濾過フィルターの材質も特に限定されるものではなく、
焼結金属、金網、濾紙、織布、不織布、グラスフィルタ
ー、メンブレンフィルター等を用いることができる。こ
れらの溶液濾過はフィルターをいくつか組み合わせて用
いることが可能で、0.5μm以上のフィルターと組み
合わせることもできる。以上のような濾過工程を含む製
造方法によって、樹脂に混入していた微細な異物、先に
述べたアンモニウム塩の除去を行い、高透過率、低ヘー
ズ値の樹脂を得ることができる。Further, removal of foreign matter by solution filtration can also be used as a measure for improving the transmittance and reducing the haze value. In the case of optical use, since it is necessary to remove foreign matter within a range visible to humans, solution filtration of 0.5 μm or less is preferably used. The filtration method is not particularly limited and includes pressure filtration, reduced pressure filtration and atmospheric filtration, but pressure filtration is preferably used in terms of shortening the filtration time.
The material of the filtration filter is not particularly limited,
Sintered metal, wire mesh, filter paper, woven cloth, non-woven cloth, glass filter, membrane filter and the like can be used. For these solution filtrations, it is possible to use some filters in combination, and it is also possible to combine with a filter of 0.5 μm or more. By the manufacturing method including the above-described filtration step, the fine foreign matter mixed in the resin and the ammonium salt described above can be removed to obtain a resin having a high transmittance and a low haze value.
【0029】本発明の樹脂の重合溶液は既知の湿式凝固
法によって樹脂固形分を得ることが好ましく用いられ、
湿式凝固法の貧溶媒には脱塩効率が良好である点から水
溶性の物が好ましく用いられ、具体的にはエタノール、
メタノール等のアルコール類が好ましく用いられる。ま
た、これらの貧溶媒は単独でも混合液でも用いることが
できる。また、前記した処理を行った場合でも、樹脂内
部にはアンモニウム塩が微量に残存している場合があ
り、これを洗浄で脱塩することは難しい。そこで、樹脂
組成物を真空加熱処理することで脱塩する方法も有効で
ある。真空度は10mmHg以下で塩が昇華しやすい雰
囲気にすることが好ましく、更に1mmHg以下である
と、樹脂を加熱した際にも着色しにくいことから最も好
ましい。また加熱温度については、特に限定されない
が、塩の昇華温度以上であることが好ましく用いられ、
更に好ましくは塩の昇華温度以上、かつ樹脂のガラス転
移温度以上まで加熱することである。この処理によって
ガラス転移温度で樹脂を僅かでも流動させることで樹脂
内部に残留しているアンモニウム塩を除去することがで
きる。加熱処理時間は特に限定されるものではないが、
0.5〜5時間の範囲が好ましく用いられる。また、加
熱温度が高温過ぎたり、加熱時間が長すぎると樹脂の着
色、樹脂の分解などの問題が生じる。The resin polymerization solution of the present invention is preferably used to obtain a resin solid content by a known wet coagulation method,
A water-soluble substance is preferably used as the poor solvent of the wet coagulation method from the viewpoint of good desalination efficiency. Specifically, ethanol,
Alcohols such as methanol are preferably used. Further, these poor solvents may be used alone or in a mixed solution. Even when the above-mentioned treatment is performed, a small amount of ammonium salt may remain inside the resin, and it is difficult to desalt this by washing. Therefore, a method of desalting the resin composition by vacuum heat treatment is also effective. It is preferable that the degree of vacuum is 10 mmHg or less and the atmosphere is such that the salt is easily sublimated, and if it is 1 mmHg or less, it is most preferable because the resin is less likely to be colored when heated. The heating temperature is not particularly limited, but it is preferably used that is higher than the sublimation temperature of the salt,
More preferably, it is heated to a temperature not lower than the sublimation temperature of the salt and not lower than the glass transition temperature of the resin. By this treatment, the ammonium salt remaining inside the resin can be removed by causing the resin to flow even slightly at the glass transition temperature. The heat treatment time is not particularly limited,
The range of 0.5 to 5 hours is preferably used. Further, if the heating temperature is too high or the heating time is too long, problems such as coloring of the resin and decomposition of the resin occur.
【0030】上述した方法は、単独でもまた好ましく組
み合わせて用いることもできる。The above-mentioned methods can be used alone or in combination preferably.
【0031】このような本発明の製法により、透明性の
高い樹脂をえることができる。By the production method of the present invention as described above, a highly transparent resin can be obtained.
【0032】本発明の樹脂の全光線透過率70%以上、
かつヘーズ30%以下である必要があり、好ましくは全
光線透過率80%以上、かつヘーズ15%以下、最も好
ましくは85%以上、かつヘーズ3%以下である。かか
る特性を満足することでレンズ用途や光学フィルム用途
に好適に用いることができる。The total light transmittance of the resin of the present invention is 70% or more,
Further, the haze needs to be 30% or less, preferably 80% or more of total light transmittance, and 15% or less of haze, most preferably 85% or more and 3% or less of haze. By satisfying such characteristics, it can be suitably used for lens applications and optical film applications.
【0033】なお、全光線透過率、ヘーズ値(曇価)と
は、日本工業規格JIS K7105に準じたものであ
る。なお、ヘーズ値は下記式(4)で示される値であ
る。The total light transmittance and the haze value (cloudiness value) are in accordance with Japanese Industrial Standard JIS K7105. The haze value is a value represented by the following formula (4).
【0034】
ヘーズ値(%)=拡散透過率/全光線透過率×100 (4)
また、本発明の樹脂は、光学的に低分散性を持ってお
り、すなわち、光学物質の光の分散の度合いを表す指標
として、アッベ数として、好ましく30以上である。こ
のアッベ数は、式(5)によって求められる。Haze value (%) = diffuse transmittance / total light transmittance × 100 (4) Further, the resin of the present invention has an optically low dispersibility, that is, of the dispersion of light of an optical substance. The Abbe number is preferably 30 or more as an index indicating the degree. This Abbe number is calculated by the equation (5).
【0035】 アッベ数(νd)=(nd−1)/(nf−nc) (5) nd:d線(波長587.6nm)屈折率 nf:f線(波長486.1nm)屈折率 nc:c線(波長656.3nm)屈折率 この数値が大きいほど低分散であることを示している。[0035] Abbe number (νd) = (nd-1) / (nf-nc) (5) nd: d line (wavelength 587.6 nm) Refractive index nf: f line (wavelength 486.1 nm) Refractive index nc: c line (wavelength 656.3 nm) Refractive index The larger this value is, the lower the dispersion is.
【0036】本発明のポリマーには、その特性を損なわ
ない範囲で、ヒンダードフェノール系、ヒンダードアミ
ン系、チオエーテル系、燐系の各種抗酸化剤を添加する
ことができる。To the polymer of the present invention, various antioxidants of hindered phenol type, hindered amine type, thioether type, and phosphorus type can be added within the range not impairing the properties thereof.
【0037】また、本発明のポリマーは、有機溶媒に対
して高い溶解性を有しており、このような溶媒として
は、塩化メチレン、クロロホルム、1,1,2,2−テ
トラクロロエタン、1,2−ジクロロエタン、テトラヒ
ドロフラン、1,4−ジオキサン、トルエン、キシレ
ン、γ−ブチロラクトン、ベンジルアルコール、イソホ
ロン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ヘキサフル
オロイソプロパノール等が挙げられる。さらに、本発明
のポリマーは非晶性であり、非晶性であるかどうかは、
公知の方法例えば示差走差熱量分析(DSC)や動的粘
弾性測定等によりガラス転移点もしくは、融点が存在し
ているかどうかを確認すればよい。The polymer of the present invention has a high solubility in organic solvents, and examples of such solvents include methylene chloride, chloroform, 1,1,2,2-tetrachloroethane, 1, 2-dichloroethane, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, toluene, xylene, γ-butyrolactone, benzyl alcohol, isophorone, chlorobenzene, dichlorobenzene, hexafluoroisopropanol and the like can be mentioned. Further, the polymers of the present invention are amorphous and whether amorphous
Whether or not the glass transition point or the melting point is present may be confirmed by a known method such as differential scanning calorimetry (DSC) or dynamic viscoelasticity measurement.
【0038】本発明の樹脂は、レンズ用途、光学フィル
ム用途などの光学分野において好適に用いられるが、他
の用途として液晶表示装置パネルやプラズマディスプレ
イパネル、有機電界表示装置等のプラスチック基板用
途、CD−ROM、DVDーROM、MO等に挙げられ
る光記録用途、また、光通信分野では高屈折率特性を生
かし、光ファイバーのコア材等に用いることができる。The resin of the present invention is preferably used in optical fields such as lens applications and optical film applications, but as other applications, liquid crystal display panel, plasma display panel, plastic substrate application such as organic electric field display, and CD. -It can be used as a core material of an optical fiber or the like by taking advantage of high refractive index characteristics in optical recording applications such as -ROM, DVD-ROM, MO and the like, and in the field of optical communication.
【0039】[0039]
【実施例】本発明の具体的実施態様を以下に実施例をも
って述べるが、本発明はこれに限定されるものではな
い。EXAMPLES Specific embodiments of the present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.
【0040】実施例1
窒素雰囲気下、塩化メチレン(50ml)中にメチルベン
ジリデンビスフェノールA(80mmol)、およびトリ
エチルアミン(168mmol)を混合し、氷冷下攪拌し
た。この溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(60
mmol)の塩化メチレン(10ml)溶液を15分間かけ
て滴下し、滴下終了後室温で60分間攪拌した。その
後、濃度0.571mol/lであるトリホスゲンの塩
化メチレン(11.68ml)溶液を10分かけて滴下し、
滴下終了後60分間攪拌した。Example 1 Methylbenzylidene bisphenol A (80 mmol) and triethylamine (168 mmol) were mixed in methylene chloride (50 ml) under a nitrogen atmosphere and stirred under ice cooling. Phenylphosphonic acid dichloride (60
A solution of mmol) in methylene chloride (10 ml) was added dropwise over 15 minutes, and after completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 60 minutes. Then, a solution of triphosgene having a concentration of 0.571 mol / l in methylene chloride (11.68 ml) was added dropwise over 10 minutes,
After completion of dropping, the mixture was stirred for 60 minutes.
【0041】後処理については反応溶液に純水300m
l加え、混合液を攪拌する洗浄工程を3回行った。続い
て相分離した樹脂反応溶液分離した後、0.5μmのフ
ィルターで異物を溶液濾過により除去し、次にエタノー
ル2000mlに投入して再沈し、ポリマーを濾取した
後、(1)エタノール1000ml(2)水/エタノール=
1/1混合溶液1000ml(3)水1000mlの順で生
成したポリマーを洗浄して、温度80℃で15時間真空
乾燥した後、温度150℃で4時間真空乾燥して目的の
樹脂粉末を収率90%で得た。得られた樹脂粉末は下記
に示す方法で成型し評価した。すなわちプレス成形の場
合は、成形温度を250℃にし、樹脂のガラス転移温度
点以上に金型を加熱した。250℃に加熱した金型に得
られた樹脂粉末を投入した。金型はφ30mmの円盤状
のプレートが成形可能なもの用いた。金型を閉じ、圧力
2tにて加圧後、金型を冷却した。金型を分割すること
によってφ30mm、厚さ3mmの円盤状の樹脂プレー
トを得た。得られた樹脂成形サンプルをサンドペーパ
ー、バフ研磨した。互いに直行する2面を研磨し、それ
らが鏡面仕上げになるように研磨した。For post-treatment, 300 m of pure water was added to the reaction solution.
The washing process of adding 1 and stirring the mixed solution was performed three times. Subsequently, after phase-separated resin reaction solution is separated, foreign matter is removed by solution filtration with a 0.5 μm filter, then put into 2000 ml of ethanol for reprecipitation, and the polymer is collected by filtration. (1) Ethanol 1000 ml (2) Water / ethanol =
The 1/1 polymer mixture was washed with 1000 ml (3) of water 1000 ml in this order, vacuum dried at 80 ° C for 15 hours, and then vacuum dried at 150 ° C for 4 hours to obtain the desired resin powder. Obtained at 90%. The obtained resin powder was molded and evaluated by the method shown below. That is, in the case of press molding, the molding temperature was set to 250 ° C. and the mold was heated above the glass transition temperature point of the resin. The obtained resin powder was put into a mold heated to 250 ° C. The mold used was one capable of forming a disk-shaped plate having a diameter of 30 mm. The mold was closed, and after applying pressure of 2 t, the mold was cooled. A disk-shaped resin plate having a diameter of 30 mm and a thickness of 3 mm was obtained by dividing the mold. The obtained resin molded sample was sanded and buffed. Two surfaces that were perpendicular to each other were polished and then mirror-finished.
【0042】研磨した樹脂サンプルを屈折計(カルニュ
ー光学工業(株)製:KPR−2)にて評価を行い、d
線(波長:587.6nm)屈折率(nd)、式(4)より
求められるアッベ数(νd)を測定した。The polished resin sample was evaluated with a refractometer (KPR-2 manufactured by Calnew Optical Co., Ltd.), and d
The line (wavelength: 587.6 nm) refractive index (nd) and the Abbe's number (νd) obtained from the equation (4) were measured.
【0043】
アッベ数(νd)=(nd−1)/(nf−nc):式(4)
nd:d線(波長587.6nm)屈折率
nf:f線(波長486.1nm)屈折率
nc:c線(波長656.3nm)屈折率
得られた樹脂成形サンプルをデジタルヘーズコンピュー
ター(スガ試験機(株)製:HGM−2DP)にて、全
光線透過率及びヘーズを測定した。また分子量の測定は
樹脂の0.1wt%クロロホルム溶液を、GPC(ゲル
・パーミエーション・クロマトグラフィー)〔東ソー
(株)製、GPC8020〕により測定し、数平均分子
量(Mn)を求めた。尚、測定値は、標準ポリスチレン
換算の値である。Abbe number (νd) = (nd-1) / (nf-nc): Formula (4) nd: d line (wavelength 587.6 nm) Refractive index nf: f line (wavelength 486.1 nm) Refractive index nc : C-line (wavelength 656.3 nm) Refractive index The obtained resin molded sample was measured for total light transmittance and haze with a digital haze computer (Huga-2DP manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.). Further, the molecular weight was measured by measuring a 0.1 wt% chloroform solution of the resin with GPC (gel permeation chromatography) [GPC8020 manufactured by Tosoh Corporation] to obtain the number average molecular weight (Mn). The measured values are standard polystyrene equivalent values.
【0044】実施例2
窒素雰囲気下、塩化メチレン(50ml)中にメチルベン
ジリデンビスフェノールA(80mmol)、およびトリ
エチルアミン(168mmol)を混合し、氷冷下攪拌し
た。この溶液にフェニルチオホスホン酸ジクロライド
(60mmol)の塩化メチレン(10ml)溶液を15分間
かけて滴下し、滴下終了後室温で60分間攪拌した。そ
の後、濃度0.571mol/lであるトリホスゲンの
塩化メチレン(11.68ml)溶液を10分かけて滴下
し、滴下終了後60分間攪拌した。Example 2 Methylbenzylidene bisphenol A (80 mmol) and triethylamine (168 mmol) were mixed in methylene chloride (50 ml) under a nitrogen atmosphere and stirred under ice cooling. Add phenylthiophosphonic acid dichloride to this solution.
A solution of (60 mmol) in methylene chloride (10 ml) was added dropwise over 15 minutes, and after completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 60 minutes. Then, a solution of triphosgene in methylene chloride (11.68 ml) having a concentration of 0.571 mol / l was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was stirred for 60 minutes after completion of the addition.
【0045】その後、実施例1と同様に洗浄、溶液濾
過、再沈処理(収率90%)し、つづいてプレス成形時
の金型温度を250℃に変更した以外は実施例1と同様
の方法で成形して評価した。Thereafter, washing, solution filtration and reprecipitation treatment (yield 90%) were carried out in the same manner as in Example 1, and then the mold temperature during press molding was changed to 250 ° C. It was molded by the method and evaluated.
【0046】実施例3
窒素雰囲気下、塩化メチレン(50ml)中にビスフェノ
ールA(80mmol)、およびトリエチルアミン(168
mmol)を混合し、氷冷下攪拌した。この溶液にフェニ
ルホスホン酸ジクロライド(60mmol)の塩化メチレ
ン(10ml)溶液を15分間かけて滴下し、滴下終了後
室温で60分間攪拌した。その後、濃度0.571mo
l/lであるトリホスゲンの塩化メチレン(11.68m
l)溶液を10分かけて滴下し、滴下終了後60分間攪拌
した。Example 3 Bisphenol A (80 mmol) and triethylamine (168) in methylene chloride (50 ml) under a nitrogen atmosphere.
Mmol) was mixed and stirred under ice cooling. A solution of phenylphosphonic acid dichloride (60 mmol) in methylene chloride (10 ml) was added dropwise to this solution over 15 minutes, and after completion of the addition, the mixture was stirred at room temperature for 60 minutes. After that, the density is 0.571mo
1 / l triphosgene methylene chloride (11.68 m
l) The solution was added dropwise over 10 minutes, and after the completion of the addition, the solution was stirred for 60 minutes.
【0047】その後、実施例1と同様に洗浄、溶液濾
過、溶液濾過、再沈処理(収率89%)し、つづいてプ
レス成形時の金型温度を220℃に変更した以外は実施
例1と同様の方法で成形して評価した。Thereafter, washing, solution filtration, solution filtration and reprecipitation treatment (yield 89%) were carried out in the same manner as in Example 1, and subsequently the mold temperature during press molding was changed to 220 ° C. Molded and evaluated in the same manner as in.
【0048】実施例4
窒素雰囲気下、塩化メチレン(50ml)中にビスフェノ
ールA(80mmol)、ペンタエリスリチル-テトラキス
[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロ
ピオネート](0.15g)、およびトリエチルアミン(1
68mmol)を混合し、氷冷下攪拌した。この溶液にフ
ェニルチオホスホン酸ジクロライド(60mmol)の塩
化メチレン(10ml)溶液を15分間かけて滴下し、滴
下終了後室温で60分間攪拌した。その後、濃度0.5
71mol/lであるトリホスゲンの塩化メチレン(1
1.68ml)溶液を10分かけて滴下し、滴下終了後6
0分間攪拌した。Example 4 Bisphenol A (80 mmol), pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] (methylene chloride (50 ml) under nitrogen atmosphere) 0.15 g), and triethylamine (1
68 mmol) were mixed and stirred under ice cooling. A solution of phenylthiophosphonic acid dichloride (60 mmol) in methylene chloride (10 ml) was added dropwise to this solution over 15 minutes, and after completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 60 minutes. After that, the density is 0.5
71 mol / l triphosgene methylene chloride (1
1.68 ml) solution was added dropwise over 10 minutes and after completion of the addition 6
Stir for 0 minutes.
【0049】その後、実施例1と同様に洗浄、溶液濾
過、再沈処理(収率91%)し、つづいてプレス成形時
の金型温度を220℃に変更した以外は実施例1と同様
の方法で成形して評価した。Thereafter, washing, solution filtration and reprecipitation treatment (yield 91%) were carried out in the same manner as in Example 1, and then the mold temperature during press molding was changed to 220 ° C. It was molded by the method and evaluated.
【0050】実施例5
窒素雰囲気下、塩化メチレン(50ml)中にビスフェノ
ールA(72mmol)、α、α−ビス(4-ヒドロキシフ
ェニル)-1,4-ジイソプロピルベンゼン(8mmo
l)、ペンタエリスリチル-テトラキス[3-(3,5-ジ-t-
ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート](0.
15g)、およびトリエチルアミン(168mmol)を混
合し、氷冷下攪拌した。この溶液にフェニルホスホン酸
ジクロライド(60mmol)の塩化メチレン(10ml)溶
液を15分間かけて滴下し、滴下終了後室温で60分間
攪拌した。その後、濃度0.571mol/lであるト
リホスゲンの塩化メチレン(11.68ml)溶液を10分
かけて滴下し、滴下終了後60分間攪拌した。Example 5 Bisphenol A (72 mmol), α, α-bis (4-hydroxyphenyl) -1,4-diisopropylbenzene (8 mmo) in methylene chloride (50 ml) under a nitrogen atmosphere.
l), pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-
Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] (0.
15 g) and triethylamine (168 mmol) were mixed, and the mixture was stirred under ice cooling. A solution of phenylphosphonic acid dichloride (60 mmol) in methylene chloride (10 ml) was added dropwise to this solution over 15 minutes, and after completion of the addition, the mixture was stirred at room temperature for 60 minutes. Then, a solution of triphosgene in methylene chloride (11.68 ml) having a concentration of 0.571 mol / l was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was stirred for 60 minutes after completion of the addition.
【0051】その後、実施例1と同様に洗浄、溶液濾
過、再沈処理(収率88%)し、つづいてプレス成形時
の金型温度を220℃に変更した以外は実施例1と同様
の方法で成形して評価した。Thereafter, washing, solution filtration and reprecipitation treatment (yield 88%) were carried out in the same manner as in Example 1, and then the mold temperature during press molding was changed to 220 ° C. It was molded by the method and evaluated.
【0052】実施例6
窒素雰囲気下、塩化メチレン(50ml)中にビスフェノ
ールA(72mmol)、α、α−ビス(4-ヒドロキシフ
ェニル)-1,4-ジイソプロピルベンゼン(8mmo
l)、ペンタエリスリチル-テトラキス[3-(3,5-ジ-t-
ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート](0.
15g)、およびトリエチルアミン(168mmol)を混
合し、氷冷下攪拌した。この溶液にフェニルチオホスホ
ン酸ジクロライド(60mmol)の塩化メチレン(10m
l)溶液を15分間かけて滴下し、滴下終了後室温で60
分間攪拌した。その後、濃度0.571mol/lであ
るトリホスゲンの塩化メチレン(11.68ml)溶液を1
0分かけて滴下し、滴下終了後60分間攪拌した。Example 6 Bisphenol A (72 mmol), α, α-bis (4-hydroxyphenyl) -1,4-diisopropylbenzene (8 mmo) in methylene chloride (50 ml) under a nitrogen atmosphere.
l), pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-
Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] (0.
15 g) and triethylamine (168 mmol) were mixed, and the mixture was stirred under ice cooling. To this solution was added phenylthiophosphonic acid dichloride (60mmol) in methylene chloride (10m).
l) Add the solution dropwise over 15 minutes, then at room temperature 60
Stir for minutes. Then, 1 solution of triphosgene in methylene chloride (11.68 ml) with a concentration of 0.571 mol / l was added.
The solution was added dropwise over 0 minutes and stirred for 60 minutes after the completion of the addition.
【0053】その後、実施例1と同様に洗浄、溶液濾
過、再沈処理(収率90%)し、つづいてプレス成形時
の金型温度を220℃に変更した以外は実施例1と同様
の方法で成形して評価した。Thereafter, washing, solution filtration and reprecipitation treatment (yield 90%) were carried out in the same manner as in Example 1, and then the mold temperature during press molding was changed to 220 ° C. It was molded by the method and evaluated.
【0054】実施例7
窒素雰囲気下、塩化メチレン(50ml)中に、1,1ビ
ス(4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン(80mm
ol)、およびトリエチルアミン(168mmol)を混合
し、氷冷下攪拌した。この溶液にフェニルホスホン酸ジ
クロライド(60mmol)の塩化メチレン(10ml)溶液
を15分間かけて滴下し、滴下終了後室温で60分間攪
拌した。その後、濃度0.571mol/lであるトリ
ホスゲンの塩化メチレン(11.68ml)溶液を10分か
けて滴下し、滴下終了後60分間攪拌した。その後、実
施例1と同様に処理(収率90%)し、つづいてプレス
成形時の金型温度を240℃に変更した以外は実施例1
と同様の方法で成形して評価した。Example 7 1,1 Bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane (80 mm) in methylene chloride (50 ml) under nitrogen atmosphere
Ol) and triethylamine (168 mmol) were mixed, and the mixture was stirred under ice cooling. A solution of phenylphosphonic acid dichloride (60 mmol) in methylene chloride (10 ml) was added dropwise to this solution over 15 minutes, and after completion of the addition, the mixture was stirred at room temperature for 60 minutes. Then, a solution of triphosgene in methylene chloride (11.68 ml) having a concentration of 0.571 mol / l was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was stirred for 60 minutes after completion of the addition. Thereafter, the same treatment as in Example 1 (yield 90%) was followed, except that the mold temperature during press molding was changed to 240 ° C.
Molded and evaluated in the same manner as in.
【0055】その後、実施例1と同様に洗浄、溶液濾
過、再沈処理(収率92%)し、つづいてプレス成形時
の金型温度を250℃に変更した以外は実施例1と同様
の方法で成形して評価した。Thereafter, washing, solution filtration and reprecipitation treatment (yield 92%) were carried out in the same manner as in Example 1, and then the mold temperature during press molding was changed to 250 ° C. It was molded by the method and evaluated.
【0056】実施例8
窒素雰囲気下、塩化メチレン(50ml)中に、1,1ビ
ス(4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン(80mm
ol)、およびトリエチルアミン(168mmol)を混合
し、氷冷下攪拌した。この溶液にフェニルチオホスホン
酸ジクロライド(60mmol)の塩化メチレン(10ml)
溶液を15分間かけて滴下し、滴下終了後室温で60分
間攪拌した。その後、濃度0.571mol/lである
トリホスゲンの塩化メチレン(11.68ml)溶液を10
分かけて滴下し、滴下終了後60分間攪拌した。その
後、実施例1と同様に洗浄、溶液濾過、再沈処理(収率
91%)し、つづいてプレス成形時の金型温度を250
℃に変更した以外は実施例1と同様の方法で成形して評
価した。Example 8 1,1 Bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane (80 mm) in methylene chloride (50 ml) under nitrogen atmosphere
Ol) and triethylamine (168 mmol) were mixed, and the mixture was stirred under ice cooling. To this solution was added phenyl thiophosphonic acid dichloride (60 mmol) in methylene chloride (10 mL).
The solution was added dropwise over 15 minutes, and after completion of the addition, the mixture was stirred at room temperature for 60 minutes. Then, a solution of triphosgene at a concentration of 0.571 mol / l in methylene chloride (11.68 ml) was added 10 times.
The solution was added dropwise over minutes, and after the completion of the addition, the mixture was stirred for 60 minutes. Thereafter, washing, solution filtration and reprecipitation treatment (yield 91%) were carried out in the same manner as in Example 1, and subsequently the mold temperature during press molding was 250.
Molding and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1 except that the temperature was changed to ° C.
【0057】実施例9
窒素雰囲気下、塩化メチレン(50ml)中に、1,1ビ
ス(4-ヒドロキシフェニル)シクロドデカン(80mm
ol)、およびトリエチルアミン(168mmol)を混合
し、氷冷下攪拌した。この溶液にフェニルホスホン酸ジ
クロライド(60mmol)の塩化メチレン(10ml)溶液
を15分間かけて滴下し、滴下終了後室温で60分間攪
拌した。その後、濃度0.571mol/lであるトリ
ホスゲンの塩化メチレン(11.68ml)溶液を10分か
けて滴下し、滴下終了後60分間攪拌した。その後、実
施例1と同様に洗浄、溶液濾過、再沈処理(収率87
%)し、つづいてプレス成形時の金型温度を255℃に
変更した以外は実施例1と同様の方法で成形して評価し
た。Example 9 1,1 bis (4-hydroxyphenyl) cyclododecane (80 mm) in methylene chloride (50 ml) under nitrogen atmosphere
Ol) and triethylamine (168 mmol) were mixed, and the mixture was stirred under ice cooling. A solution of phenylphosphonic acid dichloride (60 mmol) in methylene chloride (10 ml) was added dropwise to this solution over 15 minutes, and after completion of the addition, the mixture was stirred at room temperature for 60 minutes. Then, a solution of triphosgene in methylene chloride (11.68 ml) having a concentration of 0.571 mol / l was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was stirred for 60 minutes after completion of the addition. Then, washing, solution filtration, and reprecipitation treatment (yield 87
%), Followed by molding and evaluation in the same manner as in Example 1 except that the mold temperature during press molding was changed to 255 ° C.
【0058】実施例10
窒素雰囲気下、塩化メチレン(50ml)中に、1,1ビ
ス(4-ヒドロキシフェニル)シクロドデカン(80mm
ol)、およびトリエチルアミン(168mmol)を混合
し、氷冷下攪拌した。この溶液にフェニルチオホスホン
酸ジクロライド(60mmol)の塩化メチレン(10ml)
溶液を15分間かけて滴下し、滴下終了後室温で60分
間攪拌した。その後、濃度0.571mol/lである
トリホスゲンの塩化メチレン(11.68ml)溶液を10
分かけて滴下し、滴下終了後60分間攪拌した。その
後、実施例1と同様に洗浄、溶液濾過、再沈処理(収率
88%)し、つづいてプレス成形時の金型温度を255
℃に変更した以外は実施例1と同様の方法で成形して評
価した。Example 10 1,1 Bis (4-hydroxyphenyl) cyclododecane (80 mm) in methylene chloride (50 ml) under nitrogen atmosphere
Ol) and triethylamine (168 mmol) were mixed, and the mixture was stirred under ice cooling. To this solution was added phenyl thiophosphonic acid dichloride (60 mmol) in methylene chloride (10 mL).
The solution was added dropwise over 15 minutes, and after completion of the addition, the mixture was stirred at room temperature for 60 minutes. Then, a solution of triphosgene at a concentration of 0.571 mol / l in methylene chloride (11.68 ml) was added 10 times.
The solution was added dropwise over minutes, and after the completion of the addition, the mixture was stirred for 60 minutes. Thereafter, washing, solution filtration, and reprecipitation treatment (yield 88%) were carried out in the same manner as in Example 1, and subsequently the mold temperature during press molding was set to 255
Molding and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1 except that the temperature was changed to ° C.
【0059】実施例11
窒素雰囲気下、塩化メチレン(50ml)中に、1,1ビ
ス(4-ヒドロキシフェニル)シクロオクタン(80mm
ol)、およびトリエチルアミン(168mmol)を混合
し、氷冷下攪拌した。この溶液にフェニルホスホン酸ジ
クロライド(60mmol)の塩化メチレン(10ml)溶液
を15分間かけて滴下し、滴下終了後室温で60分間攪
拌した。その後、濃度0.571mol/lであるトリ
ホスゲンの塩化メチレン(11.68ml)溶液を10分か
けて滴下し、滴下終了後60分間攪拌した。その後、実
施例1と同様に洗浄、溶液濾過、再沈処理(収率89
%)し、つづいてプレス成形時の金型温度を240℃に
変更した以外は実施例1と同様の方法で成形して評価し
た。Example 11 1,1 bis (4-hydroxyphenyl) cyclooctane (80 mm) in methylene chloride (50 ml) under nitrogen atmosphere
Ol) and triethylamine (168 mmol) were mixed, and the mixture was stirred under ice cooling. A solution of phenylphosphonic acid dichloride (60 mmol) in methylene chloride (10 ml) was added dropwise to this solution over 15 minutes, and after completion of the addition, the mixture was stirred at room temperature for 60 minutes. Then, a solution of triphosgene in methylene chloride (11.68 ml) having a concentration of 0.571 mol / l was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was stirred for 60 minutes after completion of the addition. Thereafter, washing, solution filtration, and reprecipitation treatment (yield 89
%), Followed by molding and evaluation in the same manner as in Example 1 except that the mold temperature during press molding was changed to 240 ° C.
【0060】実施例12
窒素雰囲気下、塩化メチレン(50ml)中に、1,1ビ
ス(4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン(80mm
ol)、およびトリエチルアミン(168mmol)を混合
し、氷冷下攪拌した。この溶液にフェニルホスホン酸ジ
クロライド(40mmol)の塩化メチレン(10ml)溶液
を15分間かけて滴下し、滴下終了後室温で60分間攪
拌した。その後、濃度0.571mol/lであるトリ
ホスゲンの塩化メチレン(23.35ml)溶液を10分か
けて滴下し、滴下終了後60分間攪拌した。その後、実
施例1と同様に洗浄、溶液濾過、再沈処理(収率92
%)し、つづいてプレス成形時の金型温度を230℃に
変更した以外は実施例1と同様の方法で成形して評価し
た。Example 12 1,1 bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane (80 mm) in methylene chloride (50 ml) under nitrogen atmosphere
Ol) and triethylamine (168 mmol) were mixed, and the mixture was stirred under ice cooling. A solution of phenylphosphonic acid dichloride (40 mmol) in methylene chloride (10 ml) was added dropwise to this solution over 15 minutes, and after completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 60 minutes. Then, a solution of triphosgene in methylene chloride (23.35 ml) having a concentration of 0.571 mol / l was added dropwise over 10 minutes, and after the completion of the addition, the mixture was stirred for 60 minutes. Thereafter, washing, solution filtration and reprecipitation treatment (yield 92
%), Followed by molding and evaluation in the same manner as in Example 1 except that the mold temperature during press molding was changed to 230 ° C.
【0061】実施例13
窒素雰囲気下、塩化メチレン(50ml)中に、1,1ビ
ス(4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン(80mm
ol)、およびトリエチルアミン(168mmol)を混合
し、氷冷下攪拌した。この溶液にフェニルホスホン酸ジ
クロライド(4mmol)の塩化メチレン(10ml)溶液を
15分間かけて滴下し、滴下終了後室温で60分間攪拌
した。その後、濃度0.571mol/lであるトリホ
スゲンの塩化メチレン(44.37ml)溶液を10分かけ
て滴下し、滴下終了後60分間攪拌した。その後、実施
例1と同様に洗浄、溶液濾過、再沈処理(収率90%)
し、つづいてプレス成形時の金型温度を240℃に変更
した以外は実施例1と同様の方法で成形して評価した。Example 13 1,1 bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane (80 mm) in methylene chloride (50 ml) under nitrogen atmosphere
Ol) and triethylamine (168 mmol) were mixed, and the mixture was stirred under ice cooling. A solution of phenylphosphonic acid dichloride (4 mmol) in methylene chloride (10 ml) was added dropwise to this solution over 15 minutes, and after completion of the addition, the mixture was stirred at room temperature for 60 minutes. Then, a solution of triphosgene in methylene chloride (44.37 ml) having a concentration of 0.571 mol / l was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was stirred for 60 minutes after completion of the addition. Thereafter, washing, solution filtration and reprecipitation treatment (yield 90%) are carried out in the same manner as in Example 1.
Then, the molding was performed and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the mold temperature during press molding was changed to 240 ° C.
【0062】比較例1
窒素雰囲気下、塩化メチレン(50ml)中にメチルベン
ジリデンビスフェノールA(80mmol)、およびトリ
エチルアミン(168mmol)を混合し、氷冷下攪拌し
た。この溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(80
mmol)の塩化メチレン(10ml)溶液を15分間かけ
て滴下し、滴下終了後室温で60分間攪拌した。その
後、反応溶液をヘキサン500mlに投入して再沈し、
ポリマーを濾取した後、(1)エタノール250ml(2)
水/エタノール=1/1混合溶液250ml(3)水25
0mlの順で生成したポリマーを洗浄、乾燥してポリホ
スホネート樹脂粉末を収率90%で得た。得られた樹脂
粉末は下記に示す方法で成型し評価した。すなわちプレ
ス成形の場合は、得られた樹脂粉末を、樹脂のガラス転
移温度点以上である250℃に加熱した金型に投入し
た。金型はφ30mmの円盤状のプレートが成形可能な
もの用いた。金型を閉じ、圧力2tにて加圧後、金型を
冷却した。金型を分割することによってφ30mm、厚
さ3mmの円盤状の樹脂プレートを得た。得られた樹脂
成形サンプルをサンドペーパー、バフ研磨した。互いに
直行する2面を研磨し、それらが鏡面仕上げになるよう
に研磨した。Comparative Example 1 Methylbenzylidene bisphenol A (80 mmol) and triethylamine (168 mmol) were mixed in methylene chloride (50 ml) under a nitrogen atmosphere and stirred under ice cooling. Add phenylphosphonic acid dichloride (80
A solution of mmol) in methylene chloride (10 ml) was added dropwise over 15 minutes, and after completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 60 minutes. Then, the reaction solution was poured into 500 ml of hexane to reprecipitate,
After collecting the polymer by filtration, (1) 250 ml of ethanol (2)
Water / ethanol = 1/1 mixed solution 250 ml (3) water 25
The polymer produced in the order of 0 ml was washed and dried to obtain a polyphosphonate resin powder with a yield of 90%. The obtained resin powder was molded and evaluated by the method shown below. That is, in the case of press molding, the obtained resin powder was put into a mold heated to 250 ° C., which is higher than the glass transition temperature of the resin. The mold used was one capable of forming a disk-shaped plate having a diameter of 30 mm. The mold was closed, and after applying pressure of 2 t, the mold was cooled. A disk-shaped resin plate having a diameter of 30 mm and a thickness of 3 mm was obtained by dividing the mold. The obtained resin molded sample was sanded and buffed. Two surfaces that were perpendicular to each other were polished and then mirror-finished.
【0063】研磨した樹脂サンプルを屈折計(カルニュ
ー光学工業(株)製:KPR−2)にて評価を行い、d
線(波長:587.6nm)屈折率(nd)、およびアッベ
数(νd)を測定した。The polished resin sample was evaluated with a refractometer (KPR-2 manufactured by Calnew Optical Co., Ltd.), and d
The line (wavelength: 587.6 nm) refractive index (nd) and Abbe number (νd) were measured.
【0064】得られた樹脂成形サンプルをデジタルヘー
ズコンピューター(スガ試験機(株)製:HGM−2D
P)にて、全光線透過率及びヘーズを測定した。また分
子量の測定は樹脂の0.1wt%クロロホルム溶液を、
GPC(ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィ
ー)〔東ソー(株)製、GPC8020〕により測定
し、数平均分子量(Mn)を求めた。尚、測定値は、標
準ポリスチレン換算の値である。A resin haze sample obtained was used for a digital haze computer (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd .: HGM-2D).
In P), the total light transmittance and haze were measured. For the measurement of molecular weight, a 0.1 wt% chloroform solution of resin is used.
The number average molecular weight (Mn) was determined by measuring with GPC (gel permeation chromatography) [GPC8020 manufactured by Tosoh Corporation]. The measured values are standard polystyrene equivalent values.
【0065】比較例2
窒素雰囲気下、塩化メチレン(50ml)中にビスフェノ
ールA(80mmol)、およびトリエチルアミン(168
mmol)を混合し、氷冷下攪拌した。この溶液にフェニ
ルホスホン酸ジクロライド(80mmol)の塩化メチレ
ン(10ml)溶液を15分間かけて滴下し、滴下終了後
室温で60分間攪拌した。その後、比較例1と同様に再
沈処理(収率92%)し、つづいてプレス成形時の金型
温度を250℃に変更した以外は比較例1と同様の方法
で成形して評価した。Comparative Example 2 Bisphenol A (80 mmol) and triethylamine (168) in methylene chloride (50 ml) under a nitrogen atmosphere.
Mmol) was mixed and stirred under ice cooling. A solution of phenylphosphonic acid dichloride (80 mmol) in methylene chloride (10 ml) was added dropwise to this solution over 15 minutes, and after completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 60 minutes. Then, reprecipitation treatment (yield 92%) was carried out in the same manner as in Comparative Example 1, and subsequently, molding was carried out and evaluated in the same manner as in Comparative Example 1 except that the mold temperature at the time of press molding was changed to 250 ° C.
【0066】比較例3
窒素雰囲気下、塩化メチレン(50ml)中に1,1ビス
(4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン(80mmo
l)、およびトリエチルアミン(168mmol)を混合
し、氷冷下攪拌した。この溶液にフェニルホスホン酸ジ
クロライド(80mmol)の塩化メチレン(10ml)溶液
を15分間かけて滴下し、滴下終了後室温で60分間攪
拌した。その後、比較例1と同様に再沈処理(収率90
%)し、つづいてプレス成形時の金型温度を230℃に
変更した以外は比較例1と同様の方法で成形して評価し
た。Comparative Example 3 1,1 bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane (80 mmo in methylene chloride (50 ml) under a nitrogen atmosphere.
l) and triethylamine (168 mmol) were mixed, and the mixture was stirred under ice cooling. A solution of phenylphosphonic acid dichloride (80 mmol) in methylene chloride (10 ml) was added dropwise to this solution over 15 minutes, and after completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 60 minutes. Then, the reprecipitation treatment (yield 90
%), Followed by molding and evaluation in the same manner as in Comparative Example 1 except that the mold temperature during press molding was changed to 230 ° C.
【0067】比較例4
窒素雰囲気下、塩化メチレン(50ml)中に1,1ビス
(4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン(80mmo
l)、およびトリエチルアミン(168mmol)を混合
し、氷冷下攪拌した。この溶液にフェニルチオホスホン
酸ジクロライド(80mmol)の塩化メチレン(10ml)
溶液を15分間かけて滴下し、滴下終了後室温で60分
間攪拌した。その後、比較例1と同様に再沈処理(収率
90%)し、つづいてプレス成形時の金型温度を230
℃に変更した以外は比較例1と同様の方法で成形して評
価した。Comparative Example 4 1,1 bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane (80 mmo in methylene chloride (50 ml) under a nitrogen atmosphere.
l) and triethylamine (168 mmol) were mixed, and the mixture was stirred under ice cooling. To this solution was added phenylthiophosphonic acid dichloride (80 mmol) in methylene chloride (10 mL).
The solution was added dropwise over 15 minutes, and after completion of the addition, the mixture was stirred at room temperature for 60 minutes. Then, reprecipitation treatment (yield 90%) was carried out in the same manner as in Comparative Example 1, and subsequently the mold temperature during press molding was set to 230.
Molding and evaluation were carried out in the same manner as in Comparative Example 1 except that the temperature was changed to ° C.
【0068】比較例5
窒素雰囲気下、塩化メチレン(50ml)中に1,1ビス
(4-ヒドロキシフェニル)ドデカン(80mmol)、お
よびトリエチルアミン(168mmol)を混合し、氷冷
下攪拌した。この溶液にフェニルホスホン酸ジクロライ
ド(80mmol)の塩化メチレン(10ml)溶液を15分
間かけて滴下し、滴下終了後室温で60分間攪拌した。
その後、比較例1と同様に再沈処理(収率92%)し、
つづいてプレス成形時の金型温度を255℃に変更した
以外は比較例1と同様の方法で成形して評価した。Comparative Example 5 Under a nitrogen atmosphere, 1,1 bis (4-hydroxyphenyl) dodecane (80 mmol) and triethylamine (168 mmol) were mixed in methylene chloride (50 ml), and the mixture was stirred under ice cooling. A solution of phenylphosphonic acid dichloride (80 mmol) in methylene chloride (10 ml) was added dropwise to this solution over 15 minutes, and after completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 60 minutes.
Then, reprecipitation treatment (yield 92%) was performed in the same manner as in Comparative Example 1,
Subsequently, the molding was performed and evaluated in the same manner as in Comparative Example 1 except that the mold temperature during press molding was changed to 255 ° C.
【0069】実施例1〜13と比較例1〜5の方法で作
成した樹脂の評価結果を行った。また実施例1〜13と
比較例1〜5の樹脂に含有するアンモニウム塩の重量比
を、各樹脂をクロロホルム3wt%の溶液を作製し、1
HNMRから算出した。以上の評価結果を表1に示す。The evaluation results of the resins prepared by the methods of Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 to 5 were evaluated. The weight ratio of ammonium salt to be contained in the resin of Comparative Example 1-5 to Example 1-13, the respective resins to prepare a chloroform 3 wt% of the solution, 1
Calculated from 1 HNMR. Table 1 shows the above evaluation results.
【0070】[0070]
【表1】 [Table 1]
【0071】比較例から従来のポリホスホネート樹脂は
高屈折、低分散ではあるが、全光線透過率が低く、ヘー
ズ値も高いことからレンズやフィルム等の光学材料に用
いるにはとうてい不十分である。対して本発明の樹脂は
1HNMRの測定結果からはトリエチルアミン塩酸塩エ
チル基のメチレン基由来のピーク(3.14ppm)
が、全実施例の樹脂に検出できなかった。つまりアンモ
ニウム塩は全て除去しているため、全光線透過率が高
く、ヘーズ値も低いため、有用な光学特性を有している
ことがわかる。From the comparative example, the conventional polyphosphonate resin has a high refractive index and a low dispersion, but has a low total light transmittance and a high haze value, and therefore is insufficient for use in an optical material such as a lens or a film. . On the other hand, the resin of the present invention
From the 1 HNMR measurement results, the peak derived from the methylene group of the ethyl group of triethylamine hydrochloride (3.14 ppm)
However, it could not be detected in the resins of all the examples. That is, since all the ammonium salts have been removed, the total light transmittance is high and the haze value is low, so that it has useful optical characteristics.
【0072】[0072]
【発明の効果】本発明により低ヘーズ値で高屈折率、高
アッベ数を有する熱可塑性樹脂を提供でき、この樹脂よ
りなるレンズ、フィルムは各種分野に用いることができ
る。INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can provide a thermoplastic resin having a low haze value, a high refractive index and a high Abbe number, and lenses and films made of this resin can be used in various fields.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J030 CA01 CB33 CB34 CB35 CC25 CD11 CE02 CE11 CF09 CG06 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page F-term (reference) 4J030 CA01 CB33 CB34 CB35 CC25 CD11 CE02 CE11 CF09 CG06
Claims (6)
下記式(2)で示される繰り返し単位およびカーボネー
ト残基からなる樹脂であって、前記式(1)の繰り返し
単位と前記式(2)の繰り返し単位のモル分率が式
(3)を満足し、厚さ3mmの成形体にした時、全光線
透過率70%以上、かつヘーズ30%以下であり、かつ
数平均分子量30000以上であることを特徴とする樹
脂。 【化1】 【化2】 [式(1)中Rは炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基ま
たは芳香族炭化水素基、Xは酸素、硫黄あるいはセレン
を表し、RあるいはXの異なるホスホン酸残基をともに
含んでもよい。式(2)中R’は各々独立に水素原子、
ハロゲン原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、炭
素数1〜20の芳香族炭化水素基、ニトロ基からなる群
から選ばれ、p、qはp+q=0〜8の整数。Yは単結
合、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、アルキリデン
基、シクロアルキレン基、シクロアルキリデン基、ハロ
置換アルキレン基、ハロ置換アルキリデン基、フェニル
アルキリデン基、カルボニル基、スルホン基、脂肪族ホ
スフィンオキシド基、芳香族ホスフィンオキシド基、ア
ルキルシラン基、ジアルキルシラン基、フルオレン基か
らなる群から選ばれる。] 1≧(a)/{(a)+(b)}≧0.05 (3) [式(3)中、(a)は前記式(1)の繰り返し単位の
モル数、(b)はカーボネート残基のモル数。]1. A repeating unit represented by the following formula (1):
A resin comprising a repeating unit represented by the following formula (2) and a carbonate residue, wherein the mole fraction of the repeating unit of the formula (1) and the repeating unit of the formula (2) satisfies the formula (3). A resin having a total light transmittance of 70% or more and a haze of 30% or less and a number average molecular weight of 30,000 or more when formed into a molded product having a thickness of 3 mm. [Chemical 1] [Chemical 2] [In the formula (1), R represents an aliphatic hydrocarbon group or aromatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, X represents oxygen, sulfur, or selenium, and may include phosphonic acid residues having different R or X. . In formula (2), R'is independently a hydrogen atom,
It is selected from the group consisting of a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a nitro group, and p and q are integers of p + q = 0 to 8. Y is a single bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group, an alkylidene group, a cycloalkylene group, a cycloalkylidene group, a halo-substituted alkylene group, a halo-substituted alkylidene group, a phenylalkylidene group, a carbonyl group, a sulfone group, an aliphatic phosphine oxide group. , An aromatic phosphine oxide group, an alkylsilane group, a dialkylsilane group, and a fluorene group. 1 ≧ (a) / {(a) + (b)} ≧ 0.05 (3) [In the formula (3), (a) is the number of moles of the repeating unit of the formula (1), and (b) is Number of moles of carbonate residues. ]
あるホスホン酸残基の50モル%以下を対応するホスホ
ナイト残基に置換した樹脂を用い、前記式(3)におい
て(a)を該ホスホン酸残基と該ホスホナイト残基との
和として式(3)を満足することを特徴とする請求項1
記載の樹脂。2. A resin in which 50 mol% or less of the phosphonic acid residue, which is the repeating unit represented by the formula (1), is replaced with a corresponding phosphonite residue, and (a) in the formula (3) is replaced by The formula (3) is satisfied as the sum of the phosphonic acid residue and the phosphonite residue.
The listed resin.
ppm以下であることを特徴とする請求項1または2に
記載の樹脂。3. The content of ammonium salt is 100 by weight.
It is below ppm, The resin of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned.
とを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の樹脂の
製造方法。4. The method for producing a resin according to claim 1, further comprising a solution filtration step of 0.5 μm or less.
求項1〜3のいずれかに記載の樹脂の製造方法。5. The method for producing a resin according to claim 1, further comprising a solution washing step.
求項1〜3のいずれかに記載の樹脂の製造方法。6. The method for producing a resin according to claim 1, further comprising a vacuum heating step.
Priority Applications (1)
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