[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP2003264442A - Manufacturing method of surface acoustic wave device and multi-chamfer base board - Google Patents

Manufacturing method of surface acoustic wave device and multi-chamfer base board

Info

Publication number
JP2003264442A
JP2003264442A JP2002063945A JP2002063945A JP2003264442A JP 2003264442 A JP2003264442 A JP 2003264442A JP 2002063945 A JP2002063945 A JP 2002063945A JP 2002063945 A JP2002063945 A JP 2002063945A JP 2003264442 A JP2003264442 A JP 2003264442A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
base substrate
acoustic wave
chips
surface acoustic
chip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002063945A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shingo Masuko
真吾 増子
Kaoru Sakinada
薫 先灘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2002063945A priority Critical patent/JP2003264442A/en
Publication of JP2003264442A publication Critical patent/JP2003264442A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/16227Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the bump connector connecting to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/93Batch processes
    • H01L2224/95Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
    • H01L2224/97Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting

Landscapes

  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a surface acoustic wave device with high reliability of a resin sealed package. <P>SOLUTION: A plurality of chips on which surface acoustic wave elements are formed are prepared, a plurality of the chips are electrically and mechanically connected on a main surface of a planar base board part, a ring-shaped frame that surrounds around a plurality of the chips is arranged on the main surface of the base board part, a plurality of the chips are sealed by seal resin having fluidity and the seal resin and the base board part are made into individual fragments by every chip. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は弾性表面波装置の製
造方法及び多面取りベース基板に関わり、特に、複数の
チップを同時に樹脂封止するための多面取りベース基板
を用いた弾性表面波装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a surface acoustic wave device and a multi-chamber base substrate, and more particularly to a surface acoustic wave device using a multi-chamber base substrate for simultaneously sealing a plurality of chips with resin. It relates to a manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電波を使用する電子機器内のフィ
ルタ、遅延線、発振器等の素子として、弾性表面波装置
が幅広く用いられている。移動体通信等の分野において
は、使用される電子機器の小型化及び高信頼性化が要求
され、弾性表面波装置に対しても同様な要求がある。
2. Description of the Related Art In recent years, surface acoustic wave devices have been widely used as elements such as filters, delay lines, and oscillators in electronic devices that use radio waves. In the field of mobile communication and the like, miniaturization and high reliability of electronic devices used are required, and similar demands are made for surface acoustic wave devices.

【0003】この小型化の要求に答えるべく、従来の弾
性表面波装置はフリップチップボンディング構造及び樹
脂封止構造を採用する。また、生産効率などの観点か
ら、1つのベース基板上に複数のチップをボンディング
し、同時に樹脂封止する製造方法を採用している。
In order to meet the demand for miniaturization, a conventional surface acoustic wave device adopts a flip chip bonding structure and a resin sealing structure. Further, from the viewpoint of production efficiency and the like, a manufacturing method in which a plurality of chips are bonded on one base substrate and simultaneously resin-sealed is adopted.

【0004】図5(a)に示すように、弾性表面波素子
が形成された複数のチップ26を、バンプを介して多面
取りのベース基板27の上に電気的及び機械的に接続す
る。そして、流動性を有するシート状の封止樹脂29を
複数のチップ26に押し当てることで、複数のチップ2
6を封止樹脂29によって同時に封止する。熱を加えて
硬化させた封止樹脂29及び多面取りのベース基板27
を個片化することで、弾性表面波装置が製造される。
As shown in FIG. 5 (a), a plurality of chips 26 having surface acoustic wave elements formed thereon are electrically and mechanically connected to a multi-chamfered base substrate 27 via bumps. Then, the sheet-like sealing resin 29 having fluidity is pressed against the plurality of chips 26, whereby the plurality of chips 2
6 is simultaneously sealed with the sealing resin 29. Sealing resin 29 cured by heat and multi-sided base substrate 27
A surface acoustic wave device is manufactured by dividing into pieces.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記方法により製造さ
れた表面弾性波装置は安価で大量生産に富むが、樹脂封
止パッケージの信頼性が低く、封止不良の発生率が高い
という問題を有している。
The surface acoustic wave device manufactured by the above method is inexpensive and rich in mass production, but it has a problem that the reliability of the resin-sealed package is low and the incidence of sealing failure is high. is doing.

【0006】封止樹脂29は流動性を有するため、熱硬
化させる前に多面取りベース基板27の外周から封止樹
脂29の一部が流れ落ちてしまう。即ち、図5(b)に
示すように、多面取りベース基板27の中央に位置する
チップ26aの上部には十分な樹脂29が留まってい
る。しかし、最外周に位置するチップ26bの上部に
は、留まるはずの樹脂29が多面取りベース基板27か
ら流れ落ちてしまう。よって、多面取りベース基板27
の外周部に形成される封止樹脂29の厚みは、中央部の
それと比べて薄くなってしまう。更に、最外周に位置す
るチップ26bの上部が一部露出してしまう場合もあ
る。
Since the encapsulating resin 29 has fluidity, a part of the encapsulating resin 29 will flow down from the outer periphery of the multi-chambered base substrate 27 before being thermally cured. That is, as shown in FIG. 5B, a sufficient amount of resin 29 remains on the upper portion of the chip 26 a located at the center of the multi-chambered base substrate 27. However, the resin 29, which should remain, flows down from the multi-chambered base substrate 27 onto the upper portion of the chip 26b located at the outermost periphery. Therefore, the multi-chamfer base substrate 27
The thickness of the sealing resin 29 formed on the outer peripheral portion of the is smaller than that of the central portion. Furthermore, the upper part of the chip 26b located at the outermost periphery may be partially exposed.

【0007】本発明はこのような従来技術の問題点を解
決するために成されたものであり、その目的は、樹脂封
止パッケージの信頼性が高い弾性表面波装置の製造方法
及び多面取りベース基板を提供することである。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and an object thereof is a method of manufacturing a surface acoustic wave device having a highly reliable resin-sealed package and a multi-chamber base. It is to provide a substrate.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の第1の特徴は、弾性表面波素子が形成され
た複数のチップを用意し、複数のチップを平板状のベー
ス基板部の主表面上に電気的及び機械的に接続し、ベー
ス基板部の主表面上に複数のチップの周囲を取り囲むリ
ング状の枠を配置し、流動性を有する封止樹脂で複数の
チップを封止し、封止樹脂及びベース基板部をチップ毎
に個片化する弾性表面波装置の製造方法であることであ
る。
In order to achieve the above object, the first feature of the present invention is to prepare a plurality of chips having surface acoustic wave elements formed thereon, and to dispose the plurality of chips on a flat base substrate portion. Electrically and mechanically connected to the main surface of the base substrate, a ring-shaped frame surrounding the periphery of the multiple chips is placed on the main surface of the base substrate, and the multiple chips are sealed with a fluid sealing resin. That is, the method is a method for manufacturing a surface acoustic wave device, in which the sealing resin and the base substrate portion are separated into individual chips.

【0009】本発明の第2の特徴は、弾性表面波素子が
それぞれ形成された複数のチップを用意し、平板状のベ
ース基板部とベース基板部の主表面上に配置されたリン
グ状の枠とを有する多面取りベース基板を用意し、複数
のチップを枠の内側のベース基板部の主表面上に電気的
及び機械的に接続し、流動性を有する封止樹脂で複数の
チップを封止し、封止樹脂及びベース基板部をチップ毎
に個片化する弾性表面波装置の製造方法であることであ
る。
A second feature of the present invention is to prepare a plurality of chips each having a surface acoustic wave element formed thereon, and to form a flat base substrate portion and a ring-shaped frame arranged on the main surface of the base substrate portion. Prepare a multi-cavity base substrate having, and electrically and mechanically connect multiple chips to the main surface of the base substrate inside the frame, and seal multiple chips with a fluid sealing resin. The method for manufacturing a surface acoustic wave device is to separate the sealing resin and the base substrate into individual chips.

【0010】本発明の特徴によれば、枠は、封止樹脂が
ベース基板部から流れ落ちることを抑えることができ
る。よって、最外周に位置するチップの上部に形成され
る封止樹脂の厚さを、中央に位置するチップのそれと同
等に維持することができる。
According to the feature of the present invention, the frame can prevent the sealing resin from flowing down from the base substrate portion. Therefore, the thickness of the sealing resin formed on the uppermost chip located at the outermost periphery can be maintained equal to that of the central chip.

【0011】本発明の特徴において、枠の内周は、最外
周のチップの端からチップ1つ分外側までの間に配置さ
れていることが望ましい。これは、枠の内周と最外周の
チップの端からの距離があまり大きいと、封止時の最外
周のチップの端より外側への封止樹脂の流れが大きくな
り、最外周に位置するチップの上部に形成される封止樹
脂の厚さを、中央部に位置するチップのそれと同等にし
にくくなるためである。しかしながら、封止前の封止樹
脂の大きさを最外周に位置するチップ全体の大きさより
十分大きなもの(広いもの)を使用すれば、枠のみの効
果でも十分であるが、それはチップの封止に寄与しない
封止樹脂を多く使用することになるため、工業上好まし
くない。前記理由から、望ましい枠の内周と最外周のチ
ップの端からの距離を、チップ1つ分外側までの間に配
置されていることが望ましいとした。
In the feature of the present invention, it is desirable that the inner circumference of the frame is arranged between the end of the outermost chip and the outside by one chip. This is because if the distance from the inner edge of the frame to the edge of the outermost chip is too large, the flow of the sealing resin to the outside of the edge of the outermost chip at the time of sealing becomes large, and the resin is located at the outermost edge. This is because it is difficult to make the thickness of the sealing resin formed on the upper part of the chip equal to that of the chip located in the central part. However, if the size of the encapsulation resin before encapsulation is sufficiently larger (wider) than the size of the entire chip located at the outermost periphery, the effect of the frame alone is sufficient. Since a large amount of sealing resin that does not contribute to the use will be used, it is not industrially preferable. For the above reason, it is desirable that the distance between the inner edge of the frame and the edge of the outermost chip is one chip outside.

【0012】また、枠の高さをベース基板部に接続され
たチップの高さより50μm以上高くすることが望まし
い。これは、封止時の封止樹脂の枠外への漏出を十分防
止することが可能となるからである。
Further, it is desirable that the height of the frame is 50 μm or more higher than the height of the chip connected to the base substrate portion. This is because it is possible to sufficiently prevent the sealing resin from leaking out of the frame during sealing.

【0013】更に、封止樹脂及びベース基板部をチップ
毎に個片化することは、封止樹脂及びベース基板部をか
みそり状の刃を用いて打ち抜くことであることが望まし
い。これは、封止樹脂及びベース基板も精度良く、且つ
チップに余分な応力を加えることなく切断、個片化する
ことが可能となるからである。
Furthermore, it is desirable that the sealing resin and the base substrate portion be separated into individual chips by punching the sealing resin and the base substrate portion using a razor blade. This is because the sealing resin and the base substrate can be accurately cut, and the chips can be cut into individual pieces without applying extra stress to the chips.

【0014】更に、減圧雰囲気において、複数のチップ
を封止することが望ましい。これは、ボイドの発生を防
止すると共に、封止後にチップとベース基板の間に形成
される空間部を減圧雰囲気で封止できるため十分な封止
が得られ、またチップの特性劣化を防ぐことが可能とな
るためである。
Further, it is desirable to seal a plurality of chips in a reduced pressure atmosphere. This prevents the occurrence of voids, and because the space formed between the chip and the base substrate after sealing can be sealed in a reduced pressure atmosphere, sufficient sealing can be obtained, and the deterioration of the chip characteristics can be prevented. This is because it becomes possible.

【0015】更に、封止樹脂は少なくとも一部に透明な
層を有することが望ましい。これは、封止樹脂に透明な
層を有しておけば、封止されたチップのチップかけ等を
検査したり、不良解析を行う際に、内部観察が容易とな
るためである。
Further, it is desirable that the sealing resin has a transparent layer on at least a part thereof. This is because if the encapsulating resin has a transparent layer, the inside of the encapsulated chip can be easily inspected when inspecting chipping or the like and performing defect analysis.

【0016】本発明の第3の特徴は、弾性表面波素子が
形成された複数のチップが電気的及び機械的に接続され
る平板状のベース基板部と、ベース基板部の主表面上に
配置された、複数のチップの周囲を取り囲むリング状の
枠とを有する多面取りベース基板であることである。
A third feature of the present invention is that a plurality of chips, each having a surface acoustic wave element formed thereon, are electrically and mechanically connected to each other, and a flat base substrate portion is disposed on the main surface of the base substrate portion. And a ring-shaped frame that surrounds the periphery of a plurality of chips.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下図面を参照して、本発明の実
施の形態を説明する。図面の記載において同一あるいは
類似部分には同一あるいは類似な符号を付している。た
だし、図面は模式的なものであり、層の厚みと幅との関
係、各層の厚みの比率などは現実のものとは異なること
に留意すべきである。また、図面の相互間においても互
いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていること
はもちろんである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the description of the drawings, the same or similar parts are denoted by the same or similar reference numerals. However, it should be noted that the drawings are schematic, and the relationship between the thickness and width of layers, the ratio of the thickness of each layer, and the like are different from actual ones. Further, it is needless to say that the drawings include parts in which dimensional relationships and ratios are different from each other.

【0018】図1(a)に示すように、本発明の実施の
形態に係る弾性表面波装置は、平板状のベース基板部4
と、平板状のベース基板部4の上方に配置された、少な
くとも櫛歯電極5を有するチップ6と、チップ6を封止
する封止樹脂3と、ベース基板部4とチップ6の間を電
気的及び機械的に接続する複数の突起電極2とを有す
る。チップ6はベース基板4のほぼ中央に配置されてい
る。
As shown in FIG. 1A, the surface acoustic wave device according to the embodiment of the present invention has a flat base substrate portion 4.
A chip 6 having at least the comb-teeth electrode 5 arranged above the flat base substrate portion 4, a sealing resin 3 for sealing the chip 6, and an electrical connection between the base substrate portion 4 and the chip 6. And a plurality of protruding electrodes 2 that are mechanically and mechanically connected to each other. The chip 6 is arranged almost at the center of the base substrate 4.

【0019】図1(a)のA−A’断面で切断した切断
面の図1(b)に示すように、突起電極2は、ベース基
板部4とチップ6との間に配置され、両者を接続してい
る。封止樹脂3は、チップ6の上面のみに限らず、その
側面にも配置されている。
As shown in FIG. 1B, which is a sectional view taken along the line AA 'in FIG. 1A, the protruding electrode 2 is disposed between the base substrate portion 4 and the chip 6, and both Are connected. The sealing resin 3 is arranged not only on the upper surface of the chip 6 but also on the side surface thereof.

【0020】封止樹脂3は、チップ6を環境ストレス及
び機械的ストレスから保護する機能を有する。例えば、
封止樹脂3として、ポリイミド樹脂、PP/EPR系ポ
リマーアロイ(PP/Ethylene Propylene Rubber Blen
d)、TEX(東燃化学株式会社製、ポリオレフィン系
TPE(Polyolefine Thermoplastic Elastomer))、
タフプレン(旭化成株式会社製、SBS(Styrene-Buta
diene-Styrene Block Copolymer))、マクスロイA
(日本合成ゴム株式会社製)、X−9(ユニチカ株式会
社製、PA/PAR(PA/Polyarylate))、テナック
(旭化成株式会社製、POM/TPU(POM/Thermoplas
tic Polyurethane))などの高分子系材料を使用するこ
とができる。実施の形態においては、封止樹脂3として
無色透明の樹脂を使用する。
The sealing resin 3 has a function of protecting the chip 6 from environmental stress and mechanical stress. For example,
As the sealing resin 3, a polyimide resin, a PP / EPR-based polymer alloy (PP / Ethylene Propylene Rubber Blen
d), TEX (Polyolefin TPE (Polyolefine Thermoplastic Elastomer) manufactured by Tonen Chemical Co., Ltd.),
Toughprene (made by Asahi Kasei Corporation, SBS
diene-Styrene Block Copolymer)), Maxloy A
(Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.), X-9 (Unitika Corp., PA / PAR (PA / Polyarylate)), Tenac (Asahi Kasei Corp., POM / TPU (POM / Thermoplas)
Polymeric materials such as tic Polyurethane)) can be used. In the embodiment, a colorless and transparent resin is used as the sealing resin 3.

【0021】ベース基板部4として、セラミックス基
板、或いはビスマレイミド・トリアジン、ポリイミド
(BTレジン)、ポリイミド、ポリフェニレン・エーテ
ルから選ばれる1つ以上の高分子系材料から作られるフ
レキシブル基板を使用することができる。また、突起電
極2として例えば金(Au)を主成分とするAuバンプ
を使用するが、Auバンプの代わりにスズ−鉛(SnP
b)系のハンダボールを用いることも可能である。ベー
ス基板部4の厚みは、必要な強度を有するものであれば
何ら特定されるものではないが、100乃至200μm
であることが望ましい。実施の形態においては、ベース
基板部4として、厚さ180μmのBTレジンなら成る
フレキシブル基板を使用する。
As the base substrate portion 4, a ceramic substrate or a flexible substrate made of one or more polymer materials selected from bismaleimide / triazine, polyimide (BT resin), polyimide and polyphenylene ether can be used. it can. Further, although Au bumps containing gold (Au) as a main component are used as the bump electrodes 2, tin-lead (SnP) is used instead of Au bumps.
It is also possible to use solder balls of type b). The thickness of the base substrate portion 4 is not specified as long as it has a required strength, but is 100 to 200 μm.
Is desirable. In the embodiment, a flexible substrate made of BT resin having a thickness of 180 μm is used as the base substrate portion 4.

【0022】チップ6には、圧電性基板1と、圧電性基
板1の主面上に形成された櫛歯電極5を含む金属膜パタ
ーンとを有する弾性表面波素子が形成されている。ま
た、金属膜パターンは圧電性基板1のベース基板部4に
対向する主面上に形成されている。即ち、弾性表面波装
置はフリップチップボンディング構造を有する。櫛歯電
極5は、図示は省略するが、互いに噛み合う2以上の櫛
歯状の平面形状を有する金属電極である。弾性表面波
(SAW)は、櫛歯電極5によって励振及び検出され
る。櫛歯電極5の入力インターデジタルトランスジュー
サに電気信号を印加し、これを弾性表面波に変換して圧
電性基板1の上を伝達させる。さらにもう1つの櫛歯電
極5の出力インターデジタルトランスジューサに到達し
た弾性表面波は再度電気信号に変換されて外部に取り出
すことができる。櫛歯電極5の材料となる金属は、例え
ばAl(アルミニウム)あるいはAlを主成分とする合
金からなる。後者の場合、添加物として銅(Cu)、シ
リコン(Si)等を使用できる。なお、金属膜パターン
には、櫛歯電極5の他に、突起電極2に接続される電極
パッド、及び弾性表面波を反射する為の反射器などが含
まれる。
On the chip 6, a surface acoustic wave element having the piezoelectric substrate 1 and a metal film pattern including the comb-teeth electrode 5 formed on the main surface of the piezoelectric substrate 1 is formed. The metal film pattern is formed on the main surface of the piezoelectric substrate 1 facing the base substrate portion 4. That is, the surface acoustic wave device has a flip chip bonding structure. Although not shown, the comb-teeth electrode 5 is a metal electrode having two or more comb-teeth-like planar shapes that mesh with each other. The surface acoustic wave (SAW) is excited and detected by the comb electrode 5. An electric signal is applied to the input interdigital transducer of the comb-teeth electrode 5, which is converted into a surface acoustic wave and transmitted on the piezoelectric substrate 1. Further, the surface acoustic wave reaching the output interdigital transducer of the other comb-teeth electrode 5 is converted into an electric signal again and can be taken out to the outside. The metal used as the material of the comb-teeth electrode 5 is, for example, Al (aluminum) or an alloy containing Al as a main component. In the latter case, copper (Cu), silicon (Si) or the like can be used as an additive. The metal film pattern includes, in addition to the comb-teeth electrode 5, an electrode pad connected to the protruding electrode 2 and a reflector for reflecting surface acoustic waves.

【0023】入力インターデジタルトランスジューサに
印加される電気信号、及び出力インターデジタルトラン
スジューサによって再度電気信号に変換された電気信号
は、それぞれ突起電極2を介してベース基板部4から入
力され、或いはベース基板部4へ出力される。図示は省
略したが、ベース基板部4の表裏面にも互いに接続され
た配線が形成され、電気信号の送受信がこの配線を介し
て行われる。また、櫛歯電極5の周囲には封止樹脂3は
配置されていない。櫛歯電極5が形成されたチップ6の
アクティブエリアには中空領域が形成されている。これ
は、櫛歯電極5による弾性表面波の励振及び検出、及び
弾性表面波の圧電性基板1上の伝播を正常に行い得るよ
うにする為である。
The electric signal applied to the input interdigital transducer and the electric signal converted into the electric signal again by the output interdigital transducer are input from the base substrate portion 4 via the protruding electrodes 2 or the base substrate portion. 4 is output. Although not shown, wirings connected to each other are formed on the front and back surfaces of the base substrate portion 4, and electric signals are transmitted and received through these wirings. Further, the sealing resin 3 is not arranged around the comb-teeth electrode 5. A hollow region is formed in the active area of the chip 6 on which the comb-teeth electrode 5 is formed. This is to enable the comb-teeth electrode 5 to excite and detect the surface acoustic wave and to propagate the surface acoustic wave normally on the piezoelectric substrate 1.

【0024】圧電性基板1として、タンタル酸リチウム
(LiTaO)、ニオブ酸リチウム(LiNb
)、バリウム酸リチウム基板(LiB)、サ
ファイア、或いはクオーツ(SiO)などからなる単
結晶基板を使用することができる。若しくは、これらの
単結晶基板に代えて、チタン酸鉛(PbTiO)、チ
タン酸ジルコン酸鉛(PbZrTiO(PZT))、
或いはこれらの固溶体からなる圧電セラミックス基板を
用いることも可能である。
As the piezoelectric substrate 1, lithium tantalate (LiTaO 3 ) and lithium niobate (LiNb) are used.
A single crystal substrate made of O 3 ), a lithium barium oxide substrate (LiB 4 O 7 ), sapphire, quartz (SiO 2 ), or the like can be used. Alternatively, instead of these single crystal substrates, lead titanate (PbTiO 3 ), lead zirconate titanate (PbZrTiO 3 (PZT)),
Alternatively, it is also possible to use a piezoelectric ceramic substrate made of these solid solutions.

【0025】図1(a)及び(b)に示した弾性表面波
装置は、一例として示す以下に示す手順によって製造す
ることができる。
The surface acoustic wave device shown in FIGS. 1A and 1B can be manufactured by the procedure shown below as an example.

【0026】(イ)まず、図2(a)に示すように、ウ
ェハ状の圧電性基板1の上に膜厚数百nm程度の金属膜
を成膜する。この金属膜の上にレジスト膜を形成し、フ
ォトリソグラフィ法でレジスト膜を露光・現像する。そ
して、このレジスト膜をマスクとして金属膜を反応性イ
オンエッチング(RIE)法で選択的にエッチングし、
櫛歯電極5を含む金属膜パターンを形成する。金属膜の
成膜は、金属蒸着法、スパッタリング法、化学的気相成
長(CVD)法を使用することができる。
(A) First, as shown in FIG. 2A, a metal film having a film thickness of about several hundreds nm is formed on the wafer-shaped piezoelectric substrate 1. A resist film is formed on this metal film, and the resist film is exposed and developed by photolithography. Then, the metal film is selectively etched by the reactive ion etching (RIE) method using the resist film as a mask,
A metal film pattern including the comb electrode 5 is formed. The metal film can be formed by a metal vapor deposition method, a sputtering method, or a chemical vapor deposition (CVD) method.

【0027】(ロ)次に、図2(b)に示すように、金
属膜パターンの電極パッドの上に、バンプボンディング
装置を用いて突起電極2を形成する。
(B) Next, as shown in FIG. 2B, the bump electrode 2 is formed on the electrode pad of the metal film pattern by using the bump bonding apparatus.

【0028】(ハ)次に、図2(c)に示すように、ダ
イシング装置を用いてウェハ状の圧電性基板1を弾性表
面波素子ごとに切断、即ち個片化して、複数のチップ6
を製造する。
(C) Next, as shown in FIG. 2 (c), the wafer-shaped piezoelectric substrate 1 is cut into individual surface acoustic wave elements by using a dicing device, that is, divided into individual pieces, and a plurality of chips 6 are formed.
To manufacture.

【0029】(ニ)次に、図3(a)及び図3(a)の
B−B’断面で切断した切断面の図3(b)に示すよう
に、多数個取りベース基板(7、8)を用意する。多数
個取りベース基板(7、8)は、複数のチップ6が電気
的及び機械的に接続される平板状のベース基板部7と、
ベース基板部7の主表面上に配置された、複数のチップ
6の周囲を取り囲むリング状の枠8とを有する。ここ
で、「ベース基板部7」は弾性表面波装置を多数個取る
為の基板を示し、図1(a)及び(b)に示した複数の
「ベース基板部4」が連続して一体形成されているもの
である。したがって、厚み及び材料はベース基板部4と
同じである。
(D) Next, as shown in FIG. 3 (b) of the cross section taken along the line BB ′ of FIG. 3 (a) and FIG. 3 (a), a multi-cavity base substrate (7, 8) is prepared. The multi-cavity base substrate (7, 8) includes a flat base substrate portion 7 to which a plurality of chips 6 are electrically and mechanically connected,
It has a ring-shaped frame 8 arranged on the main surface of the base substrate part 7 and surrounding the periphery of the plurality of chips 6. Here, the "base substrate portion 7" indicates a substrate for taking a large number of surface acoustic wave devices, and the plurality of "base substrate portions 4" shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b) are continuously and integrally formed. It has been done. Therefore, the thickness and the material are the same as those of the base substrate part 4.

【0030】枠8の内周は、最外周のチップ6の端(複
数のチップ6の実装エリア)から外側へ1mm離れた場
所に配置されている。枠8の内周は、最外周のチップ6
の端からチップ1つ分外側までの間に配置されているこ
とが望ましい。枠8の高さは500μmであり、幅は1
0mmである。多数個取りベース基板(7、8)は、ベ
ース基板部7と枠8とを積層して接着することにより作
成される。
The inner circumference of the frame 8 is arranged at a position 1 mm outward from the end of the outermost chip 6 (mounting area for the plurality of chips 6). The inner circumference of the frame 8 is the outermost chip 6
It is desirable to be arranged between the end of the chip and the outside by one chip. The frame 8 has a height of 500 μm and a width of 1
It is 0 mm. The multi-cavity base substrate (7, 8) is created by stacking and adhering the base substrate portion 7 and the frame 8.

【0031】(ホ)次に、フリップチップボンディング
装置を用いて、複数のチップ1を多面取りベース基板
(7、8)の上に突起電極2を介して接続する。ここで
は、約400個のチップ6を1つの多面取りベース基板
(7、8)の上に接続する。具体的には、チップ6をベ
ース基板部7の主表面へ所定の圧力で押し当てると同時
に、突起電極2及びベース基板部7に超音波を印加する
ことで両者を接合する。チップ6とベース基板部7とは
突起電極2を介して電気的および機械的に接続される。
枠8の高さ(500μm)は、接続されたチップ6の高
さに応じたものにより適宜設定することが望ましい。具
体的には、枠8の高さを、ベース基板部7へ接続された
チップ6の高さよりも50μm以上高く設定することが
望ましい。なお前述したように、最外周のチップ6は、
枠8の内周から内側へ1mm離れた場所に配置されてい
る。
(E) Next, a plurality of chips 1 are connected to the multi-chambered base substrate (7, 8) via the protruding electrodes 2 by using a flip chip bonding device. Here, about 400 chips 6 are connected on one multi-sided base substrate (7, 8). Specifically, the chip 6 is pressed against the main surface of the base substrate portion 7 with a predetermined pressure and, at the same time, ultrasonic waves are applied to the protruding electrode 2 and the base substrate portion 7 to bond them. The chip 6 and the base substrate portion 7 are electrically and mechanically connected to each other via the protruding electrode 2.
It is desirable that the height (500 μm) of the frame 8 be appropriately set according to the height of the connected chip 6. Specifically, it is desirable to set the height of the frame 8 to be 50 μm or more higher than the height of the chip 6 connected to the base substrate portion 7. As described above, the outermost tip 6 is
The frame 8 is arranged at a position 1 mm away from the inner circumference of the frame 8.

【0032】(ヘ)次に、図4(a)に示すように、減
圧雰囲気において、流動性を有する封止樹脂3で複数の
チップ6を同時に封止する。具体的には、シート状の封
止樹脂3をチップ6の上に配置する。そして、封止樹脂
3とベース基板部7とを挟むように力を加え、同時に封
止樹脂3に熱を加える。隣接するチップ6の隙間に封止
樹脂3が入り込み、チップ6の上にのみならず、その側
面をも封止樹脂3によって覆い囲むことができる。封止
樹脂3は熱硬化成分を含有するため、加えられた熱によ
り硬化する。このようにして、複数のチップ6を封止樹
脂3によって同時に封止することができる。
(F) Next, as shown in FIG. 4 (a), a plurality of chips 6 are simultaneously sealed with a fluid sealing resin 3 in a reduced pressure atmosphere. Specifically, the sheet-shaped sealing resin 3 is placed on the chip 6. Then, a force is applied so as to sandwich the sealing resin 3 and the base substrate portion 7, and at the same time, heat is applied to the sealing resin 3. The sealing resin 3 enters the gap between the adjacent chips 6, so that not only the chip 6 but also the side surface thereof can be covered with the sealing resin 3. Since the sealing resin 3 contains a thermosetting component, it is cured by the applied heat. In this way, the plurality of chips 6 can be simultaneously sealed with the sealing resin 3.

【0033】なお、シート状の封止樹脂3は、チップ6
の実装エリアの大きさではなく、枠の上部にかかる程度
の大きさであると、封止後のチップ6側面のボイドの発
生をより防止することが可能となり、好ましい。
The sheet-shaped sealing resin 3 is used for the chip 6
It is preferable that the size is such that it covers the upper part of the frame instead of the size of the mounting area because it is possible to further prevent the occurrence of voids on the side surface of the chip 6 after sealing.

【0034】ここで、封止樹脂3は接着性を有する。枠
の高さ(500μm)まで封止樹脂3を所定の金型を用
いてプレスすることにより、封止樹脂3の高さを総ての
チップ6について均一な500μmにすることができ
る。したがって、ベース基板部7及び封止樹脂3の全体
厚みは680μmとなる。
Here, the sealing resin 3 has adhesiveness. By pressing the sealing resin 3 up to the height of the frame (500 μm) using a predetermined mold, the height of the sealing resin 3 can be made uniform to 500 μm for all the chips 6. Therefore, the total thickness of the base substrate portion 7 and the sealing resin 3 is 680 μm.

【0035】上記例においては、封止処理前の封止樹脂
3として、シート状のものを使用したが、これに限ら
ず、流動性のある樹脂を枠8内全体に配置後、スキージ
等で上面を例えば枠の高さに合わせて辺且つにしたの
ち、硬化して、複数のチップ6を封止樹脂3によって同
時に封止することも可能である。
In the above example, the sheet-like resin is used as the sealing resin 3 before the sealing process, but the present invention is not limited to this, and after the fluid resin is placed in the entire frame 8, a squeegee or the like is used. It is also possible to set the upper surface to a side having a height corresponding to the height of the frame, and then to cure it so that the plurality of chips 6 are simultaneously sealed with the sealing resin 3.

【0036】(ト)最後に、図4(b)に示すように、
ベース基板部7及び封止樹脂3をチップ6ごとに個片化
する。ここでは、かみそり状の刃を封止樹脂3或いはベ
ース基板部7に押し当ててプレスにより打ち抜くことに
よって個片化する。勿論、回転歯(ダイシングブレー
ド)を用いてダイシングしても構わない。以上の手順を
経て、図1(a)及び(b)に示した弾性表面波装置を
製造することができる。
(G) Finally, as shown in FIG.
The base substrate portion 7 and the sealing resin 3 are separated into individual chips 6. Here, a razor-shaped blade is pressed against the sealing resin 3 or the base substrate portion 7 and punched by a press to obtain individual pieces. Of course, dicing may be performed using rotating teeth (dicing blade). Through the above procedure, the surface acoustic wave device shown in FIGS. 1A and 1B can be manufactured.

【0037】以上説明したように、本発明の実施の形態
によれば、枠8は、封止樹脂3がベース基板部7から流
れ落ちることを抑えることができる。よって、最外周に
位置するチップ6の上部に形成される封止樹脂3の厚さ
を、中央に位置するチップ6のそれと同等に維持するこ
とができる。
As described above, according to the embodiment of the present invention, the frame 8 can prevent the sealing resin 3 from flowing down from the base substrate portion 7. Therefore, the thickness of the sealing resin 3 formed on the uppermost chip 6 located at the outermost periphery can be maintained equal to that of the chip 6 located at the center.

【0038】また、枠8は、封止樹脂3の流れ出しを防
ぐと同時に、封止樹脂3に加わる力が外側へ逃げること
を抑え、樹脂封止性を格段に向上することができる。ま
た、減圧雰囲気において樹脂封止を行うことで、封止樹
脂3の内部にボイドが発生することを抑えることができ
る。
Further, the frame 8 can prevent the sealing resin 3 from flowing out and at the same time suppress the force applied to the sealing resin 3 from escaping to the outside, and can remarkably improve the resin sealing property. Further, by performing resin sealing in a reduced pressure atmosphere, it is possible to suppress the generation of voids inside the sealing resin 3.

【0039】更に、封止樹脂3を枠8の高さまでプレス
することにより、封止樹脂3の厚みを枠8の高さによっ
て複数のチップ6について均一に制御することが可能と
なる。
Furthermore, by pressing the sealing resin 3 to the height of the frame 8, the thickness of the sealing resin 3 can be uniformly controlled for the plurality of chips 6 by the height of the frame 8.

【0040】また更に、ベース基板部7の外周に枠8を
設けることでベース基板部7の機械的強度が増す。よっ
て、ベース基板部7の厚さを薄くすることができる。例
えば、セラミックス基板7の周辺部に枠8を設けること
により、薄くなることによるセラミックス基板7の強度
劣化を補強することができ、弾性表面波装置の低背化に
寄与することができる。また、ベース基板7の厚さがよ
り薄いものを使用することができる。
Furthermore, by providing the frame 8 on the outer periphery of the base substrate portion 7, the mechanical strength of the base substrate portion 7 is increased. Therefore, the thickness of the base substrate part 7 can be reduced. For example, by providing the frame 8 in the peripheral portion of the ceramics substrate 7, it is possible to reinforce the strength deterioration of the ceramics substrate 7 due to thinning, and it is possible to contribute to the height reduction of the surface acoustic wave device. In addition, a thinner base substrate 7 can be used.

【0041】また更に、封止樹脂3が無色透明のものを
使用することにより、チップかけ等を検査したり、不良
解析を行う際に、内部観察が容易となる。
Furthermore, by using the colorless and transparent sealing resin 3, it becomes easy to observe the inside when inspecting the chipping or the like and conducting the failure analysis.

【0042】上記のように、本発明は、1つの実施の形
態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び
図面はこの発明を限定するものであると理解すべきでは
ない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、
実施例及び運用技術が明らかとなろう。
Although the present invention has been described by way of one embodiment as described above, it should not be understood that the description and drawings forming a part of this disclosure limit the present invention. From this disclosure, various alternative embodiments for those skilled in the art,
Examples and operational techniques will be clear.

【0043】本発明の実施の形態では、まず、ベース基
板部7及び枠8から成る多面取りベース基板を用意し、
その後、枠8の内側にチップ6を接続した。しかし、本
発明はこれに限定されるものではない。枠8が接続され
ていないベース基板部7にチップ6をまず接続し、その
後、チップ6の外側に枠8を接続しても構わない。即
ち、ベース基板部7へチップ6及び枠8を接続する順番
はどちらを先に行っても構わない。
In the embodiment of the present invention, first, a multi-faced base substrate including the base substrate portion 7 and the frame 8 is prepared,
Then, the chip 6 was connected to the inside of the frame 8. However, the present invention is not limited to this. The chip 6 may be first connected to the base substrate portion 7 to which the frame 8 is not connected, and then the frame 8 may be connected to the outside of the chip 6. That is, the chip 6 and the frame 8 may be connected to the base substrate portion 7 in any order.

【0044】また、封止樹脂3全体が無色透明な場合に
ついて説明したが、封止樹脂3の一部を透明な層にして
も構わない。
Although the case where the entire sealing resin 3 is colorless and transparent has been described, a part of the sealing resin 3 may be a transparent layer.

【0045】また、多面取りベース基板(7、8)は、
ベース基板部7と枠8は分割したものだけでなく、それ
らが一体的に形成された多面取りベース基板を用いても
構わない。
The multi-chamfered base substrate (7, 8) is
The base substrate portion 7 and the frame 8 are not limited to those divided, and a multi-chambered base substrate integrally formed with them may be used.

【0046】以上、電子部品装置として弾性表面波装置
を例に取り説明したが、本発明は、樹脂封止を用いる電
子部品装置においても同様に適用することが出来る。
Although the surface acoustic wave device has been described as an example of the electronic component device, the present invention can be similarly applied to an electronic component device using resin sealing.

【0047】このように、本発明はここでは記載してい
ない様々な実施の形態等を包含するということを理解す
べきである。したがって、本発明はこの開示から妥当な
特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ限定さ
れるものである。
As described above, it should be understood that the present invention includes various embodiments and the like not described here. Therefore, the present invention is limited only by the matters specifying the invention according to the scope of claims appropriate from this disclosure.

【0048】[0048]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
樹脂封止パッケージの信頼性が高い弾性表面波装置の製
造方法及び多面取りベース基板を提供することができ
る。
As described above, according to the present invention,
It is possible to provide a method for manufacturing a surface acoustic wave device having a highly reliable resin-sealed package and a multi-chamber base substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1(a)は、本発明の実施の形態に係る弾性
表面波装置を示す透過斜視図である。図1(b)は、図
1(a)のA−A’切断面に沿った弾性表面波装置の断
面図である。
FIG. 1A is a transparent perspective view showing a surface acoustic wave device according to an embodiment of the present invention. FIG. 1B is a cross-sectional view of the surface acoustic wave device taken along the section plane AA ′ of FIG.

【図2】図2(a)乃至(c)は、本発明の実施の形態
に係る弾性表面波装置の製造方法を示す工程断面図であ
る(その1)。
2A to 2C are process cross-sectional views showing a method of manufacturing a surface acoustic wave device according to an embodiment of the present invention (No. 1).

【図3】図3(a)は、本発明の実施の形態に係る弾性
表面波装置の製造方法における一製造工程を示す断面図
である。図3(b)は、のB−B’切断面に沿った断面
図である。
FIG. 3A is a cross-sectional view showing a manufacturing step in a method of manufacturing a surface acoustic wave device according to an embodiment of the present invention. FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG.

【図4】図4(a)及び(b)は、本発明の実施の形態
に係る弾性表面波装置の製造方法を示す工程断面図であ
る(その2)。
FIG. 4A and FIG. 4B are process cross-sectional views showing a method of manufacturing a surface acoustic wave device according to an embodiment of the present invention (No. 2).

【図5】図5(a)は、従来技術に係る弾性表面波装置
の製造方法における一製造工程を示す断面図である。図
5(b)は、のC−C’切断面に沿った断面図である。
FIG. 5A is a cross-sectional view showing a manufacturing step in a method of manufacturing a surface acoustic wave device according to a conventional technique. FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line CC ′ of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 圧電性基板 2 突起電極 3 封止樹脂 4、7 ベース基板部 5 櫛歯電極 6 チップ 8 枠 1 Piezoelectric substrate 2 protruding electrodes 3 Sealing resin 4, 7 Base board part 5 Comb-shaped electrode 6 chips 8 frames

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5F061 AA01 BA03 CA03 CA22 5J097 AA24 AA32 FF03 GG03 GG04 HA07 HA08 JJ03 JJ09 KK10 LL08    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 5F061 AA01 BA03 CA03 CA22                 5J097 AA24 AA32 FF03 GG03 GG04                       HA07 HA08 JJ03 JJ09 KK10                       LL08

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 弾性表面波素子が形成された複数のチッ
プを用意し、 前記複数のチップを、平板状のベース基板部の主表面上
に電気的及び機械的に接続し、 前記ベース基板部の主表面上に、前記複数のチップの周
囲を取り囲むリング状の枠を配置し、 流動性を有する封止樹脂で前記複数のチップを封止し、 前記封止樹脂及び前記ベース基板部を前記チップ毎に個
片化することを特徴とする弾性表面波装置の製造方法。
1. A plurality of chips on which a surface acoustic wave element is formed are prepared, and the plurality of chips are electrically and mechanically connected to a main surface of a flat base substrate part, the base substrate part A ring-shaped frame surrounding the periphery of the plurality of chips is arranged on the main surface of, and the plurality of chips are sealed with a sealing resin having fluidity, and the sealing resin and the base substrate part are A method of manufacturing a surface acoustic wave device, characterized in that each chip is divided into individual pieces.
【請求項2】 弾性表面波素子が形成された複数のチッ
プを用意し、 平板状のベース基板部と当該ベース基板部の主表面上に
配置されたリング状の枠とを有する多面取りベース基板
を用意し、 前記複数のチップを、前記枠の内側の前記ベース基板部
の前記主表面上に電気的及び機械的に接続し、 流動性を有する封止樹脂で前記複数のチップを封止し、 前記封止樹脂及び前記ベース基板部を前記チップ毎に個
片化することを特徴とする弾性表面波装置の製造方法。
2. A multiple chamfered base substrate having a plurality of chips on which surface acoustic wave elements are formed and having a flat base substrate portion and a ring-shaped frame arranged on the main surface of the base substrate portion. And electrically and mechanically connecting the plurality of chips to the main surface of the base substrate portion inside the frame, and sealing the plurality of chips with a sealing resin having fluidity. A method for manufacturing a surface acoustic wave device, characterized in that the encapsulating resin and the base substrate portion are divided into individual chips.
【請求項3】 前記枠の内周は、最外周の前記チップの
端からチップ1つ分外側までの間に配置されていること
を特徴とする請求項1及び請求項2いずれか1項記載の
弾性表面波装置の製造方法。
3. The inner circumference of the frame is arranged between the end of the outermost chip and the outside of one chip by one chip. Manufacturing method of the surface acoustic wave device.
【請求項4】 前記枠の高さは、前記ベース基板部に接
続された前記チップの高さより50μm以上高いことを
特徴とする請求項1及び請求項2いずれか1項記載の弾
性表面波装置の製造方法。
4. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the height of the frame is 50 μm or more higher than the height of the chip connected to the base substrate portion. Manufacturing method.
【請求項5】 前記封止樹脂及び前記ベース基板部を前
記チップ毎に個片化することは、前記封止樹脂及び前記
ベース基板部をかみそり状の刃を用いて打ち抜くことで
あることを特徴とする請求項1及び請求項2いずれか1
項記載の弾性表面波装置の製造方法。
5. The singulation of the sealing resin and the base substrate portion for each chip is punching the sealing resin and the base substrate portion with a razor blade. Either claim 1 or claim 1
A method for manufacturing a surface acoustic wave device according to the item.
【請求項6】 減圧雰囲気において、前記複数のチップ
を封止することを特徴とする請求項1及び請求項2いず
れか1項記載の弾性表面波装置の製造方法。
6. The method of manufacturing a surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the plurality of chips are sealed in a reduced pressure atmosphere.
【請求項7】 前記封止樹脂は少なくとも一部に透明な
層を有することを特徴とする請求項1及び請求項2いず
れか1項記載の弾性表面波装置の製造方法。
7. The method of manufacturing a surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the sealing resin has a transparent layer at least in a part thereof.
【請求項8】 弾性表面波素子が形成された複数のチッ
プが電気的及び機械的に接続される平板状のベース基板
部と、 当該ベース基板部の主表面上に配置された、前記複数の
チップの周囲を取り囲むリング状の枠とを有することを
特徴とする多面取りベース基板。
8. A flat base substrate portion to which a plurality of chips having surface acoustic wave elements are electrically and mechanically connected, and a plurality of the plurality of base substrate portions arranged on the main surface of the base substrate portion. A multi-sided base substrate having a ring-shaped frame surrounding the periphery of the chip.
JP2002063945A 2002-03-08 2002-03-08 Manufacturing method of surface acoustic wave device and multi-chamfer base board Pending JP2003264442A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002063945A JP2003264442A (en) 2002-03-08 2002-03-08 Manufacturing method of surface acoustic wave device and multi-chamfer base board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002063945A JP2003264442A (en) 2002-03-08 2002-03-08 Manufacturing method of surface acoustic wave device and multi-chamfer base board

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003264442A true JP2003264442A (en) 2003-09-19

Family

ID=29196968

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002063945A Pending JP2003264442A (en) 2002-03-08 2002-03-08 Manufacturing method of surface acoustic wave device and multi-chamfer base board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003264442A (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005071731A1 (en) * 2004-01-22 2005-08-04 Murata Manufacturing Co., Ltd. Electronic component manufacturing method
WO2006006343A1 (en) * 2004-07-14 2006-01-19 Murata Manufacturing Co., Ltd. Piezoelectric device
JP2006050582A (en) * 2004-06-28 2006-02-16 Kyocera Corp Manufacturing method for elastic surface wave apparatus and radio communication equipment
US7183124B2 (en) 2002-10-04 2007-02-27 Toyo Communication Equipment Co., Ltd. Surface mount saw device manufacturing method
JP2008108928A (en) * 2006-10-26 2008-05-08 Sony Corp Semiconductor device and its manufacturing method
JP2014112607A (en) * 2012-12-05 2014-06-19 New Japan Radio Co Ltd Manufacturing method and inspection method of device having hollow structure
US11757062B2 (en) 2019-09-10 2023-09-12 Nichia Corporation Method for manufacturing light emitting device using reinforcement member

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7183124B2 (en) 2002-10-04 2007-02-27 Toyo Communication Equipment Co., Ltd. Surface mount saw device manufacturing method
WO2005071731A1 (en) * 2004-01-22 2005-08-04 Murata Manufacturing Co., Ltd. Electronic component manufacturing method
KR100782280B1 (en) * 2004-01-22 2007-12-04 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 Electronic component manufacturing method
CN100390949C (en) * 2004-01-22 2008-05-28 株式会社村田制作所 Electronic component manufacturing method
US7752747B2 (en) 2004-01-22 2010-07-13 Murata Manufacturing Co., Ltd. Manufacturing method of electronic component
DE112004002236B4 (en) * 2004-01-22 2011-12-15 Murata Manufacturing Co., Ltd. Production method of an electronic component
JP2006050582A (en) * 2004-06-28 2006-02-16 Kyocera Corp Manufacturing method for elastic surface wave apparatus and radio communication equipment
WO2006006343A1 (en) * 2004-07-14 2006-01-19 Murata Manufacturing Co., Ltd. Piezoelectric device
US7259500B2 (en) 2004-07-14 2007-08-21 Murata Manufacturing Co., Ltd. Piezoelectric device
JP2008108928A (en) * 2006-10-26 2008-05-08 Sony Corp Semiconductor device and its manufacturing method
JP2014112607A (en) * 2012-12-05 2014-06-19 New Japan Radio Co Ltd Manufacturing method and inspection method of device having hollow structure
US11757062B2 (en) 2019-09-10 2023-09-12 Nichia Corporation Method for manufacturing light emitting device using reinforcement member

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7459829B2 (en) Surface acoustic wave device and method of manufacturing the same, IC card, and mobile electronic apparatus
US7259500B2 (en) Piezoelectric device
US8004160B2 (en) Acoustic wave device with adhesive layer and method of manufacturing the same
JP2002261582A (en) Surface acoustic wave device, its manufacturing method, and circuit module using the same
EP1143614A1 (en) Surface acoustic wave device and method of producing the same
US7382081B2 (en) Electronic component package
US7528522B2 (en) Surface acoustic wave device, package for the device, and method of fabricating the device
JP2017152870A (en) Acoustic wave device
JP2003032061A (en) Method of manufacturing surface acoustic wave device
JP2003264442A (en) Manufacturing method of surface acoustic wave device and multi-chamfer base board
JP4180982B2 (en) Surface acoustic wave device, package thereof and manufacturing method thereof
JP2004153412A (en) Surface acoustic wave device and manufacturing method thereof
JP2003283295A (en) Surface acoustic wave device and its manufacturing method
JP5252007B2 (en) Manufacturing method of electronic parts
JP2012160840A (en) Hollow resin package structure and manufacturing method of the same
KR100843419B1 (en) Semiconductor chip package and manufacturing the same
JP7297329B2 (en) Air-gap semiconductor device packaging structure and manufacturing method thereof
JP6942004B2 (en) Electronic components and their manufacturing methods
JP2004207674A (en) Method for producing electronic component
JPH09181562A (en) Double-layer arrangement type surface acoustic wave element
JP4130314B2 (en) Manufacturing method of surface acoustic wave device
JP2003037473A (en) Surface acoustic wave device, and manufacturing method therefor
KR20060115531A (en) Surface acoustic wave device package and method for manufacturing the same
WO2006123653A1 (en) Piezoelectric device
JP2003032077A (en) Surface acoustic wave device and its manufacturing method