【書類名】 明細書
【発明の名称】 レーザ加工装置およびレーザ加工方法
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光源と、前記レーザ光源から出射されるレーザ光を加工対象物の被加工面に所定パターンで光学的に投影する光学系とを有し、前記被加工面をアブレーション加工するレーザ加工装置であって、
前記加工対象物を収容する加工容器であって、前記レーザ光が入射する入射部、前記加工対象物が配設される位置を挟んで設けられた、前記レーザ光が透過する液体の流入口及び流出口を有する、加工容器と、
前記被加工面へ前記レーザ光の照射を行うとき、前記流入口から前記液体を導入し、前記被加工面を通して前記流出口へ前記液体を移動させる液体供給手段と、
を有する付着防止機構を備える
レーザ加工装置。
【請求項２】
前記付着防止機構は、前記レーザ光が透過するカバー部材を前記入射部に有し、
前記カバー部材は、前記被加工面からの高さが一定の閉空間を前記加工容器との間に形成するように設けられている
請求項１に記載のレーザ加工装置。
【請求項３】
前記加工容器を保持し、前記被加工面に対する前記レーザ光の照射位置を変更する移動位置決め手段をさらに有する
請求項２に記載のレーザ加工装置。
【請求項４】
前記レーザ光源は、エキシマレーザを含む
請求項１に記載のレーザ加工装置。
【請求項５】
前記加工容器を収容するチャンバと、
前記チャンバ内を減圧雰囲気下にするための減圧手段と、をさらに有する
請求項１に記載のレーザ加工装置。
【請求項６】
レーザ光を加工対象物の被加工面に所定パターンで光学的に投影し、前記被加工面をアブレーションにより加工するレーザ加工方法であって、
前記レーザ光が透過する液体の流入口及び流出口を有する加工容器に前記加工対象物を収容し、前記液体を前記被加工面上で前記流入口から前記流出口へ移動させながら前記被加工面への前記レーザ光の照射を行う
レーザ加工方法。
【請求項７】
前記加工対象物を前記移動する液体中に浸漬させた状態で前記被加工面への前記レーザ光の照射を行う
請求項６に記載のレーザ加工方法。
【請求項８】
前記レーザ光が透過するカバー部材を前記被加工面との隙間が一定になるように配置し、前記移動する液体を前記隙間に充満させた状態で前記被加工面への前記レーザ光の照射を行う
請求項６に記載のレーザ加工方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ光によるアブレーションを利用したレーザ加工方法およびレーザ加工装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
エキシマレーザ(exicited dimer laser)は、化学結合を切断できる高いフォトンエネルギを有し、アブレーション(abrasion)と呼ばれる光化学反応により、熱的な影響を抑えつつ加工対象物を除去することができる。
このようなアブレーションによるレーザ加工が注目を集めている。エネルギ密度を調整したエキシマレーザ光を照射することにより、プラスチック、金属、セラミックス等、種々の物質をアブレーション加工することができる。
【０００３】
アブレーション加工においては、レーザ照射を受けた加工対象物からデブリ(debris)と呼ばれる飛散物が加工領域周辺に付着する。デブリが発生すると、所望の加工精度が得られないこともある。
このデブリの低減方法として、デブリの発生そのものを抑制する方法や、デブリの堆積を少なくする方法や、デブリの堆積後に当該デブリを除去する方法などが知られている。
デブリの発生量を低減するためには、加工対象物へのレーザ光の照射とともにアシストガスを吹き付けることが有効であることが知られている。
また、デブリの発生そのものを抑制する方法としては、所定の雰囲気ガスによって分解、あるいは再付着防止する方法が知られている。また、真空度１０-2[Ｔｏｒｒ] 程度の減圧下で加工することにより、堆積による付着量を大幅に減少できることが知られている。
デブリの堆積後に当該デブリを除去する方法としては、レーザ加工時よりも低いエネルギー密度でエキシマレーザビームを照射し、発生したデブリを除去する方法が知られている。デブリが除去しやすいものである場合にはこの方法は有効である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述した方法では、デブリの除去が十分でない場合もある。レーザ加工時に発生するデブリの被加工面への付着を防止する他の技術が、たとえば、特開平９−１４１４８０号に開示されている。この刊行物に開示された技術は、アブレーション加工すべき加工対象物の表面に水等の液体を接触させ、この液体を通じてレーザ光を加工対象物の表面に照射することにより、発生したデブリを液体中に浮遊させ、加工終了後に液体とともにデブリを洗い流し、加工対象物の表面にデブリが付着するのを防止する。
しかしながら、上記の方法では、加工対象物の表面に接触した液体中に浮遊するデブリが加工対象物の表面に再付着する可能性があり、加工対象物の表面へのデブリの付着を完全には防止することができない。
【０００５】
本発明は、上述した問題に鑑みてなされたものであって、その目的は、レーザ光の照射によりアブレーション加工する際に生じる加工飛散物が加工対象物の表面に付着するのを防止することができるレーザ加工方法およびレーザ加工装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明のレーザ加工装置は、レーザ光源と、前記レーザ光源から出射されるレーザ光を加工対象物の被加工面に所定パターンで光学的に投影する光学系とを有し、前記被加工面をアブレーション加工するレーザ加工装置であって、前記加工対象物を収容する加工容器であって、前記レーザ光が入射する入射部、前記加工対象物が配設される位置を挟んで設けられた、前記レーザ光が透過する液体の流入口及び流出口を有する、加工容器と、前記被加工面へ前記レーザ光の照射を行うとき、前記流入口から前記液体を導入し、前記被加工面を通して前記流出口へ前記液体を移動させる液体供給手段と、を有する付着防止機構を備える。
【０００７】
本発明のレーザ加工方法は、レーザ光を加工対象物の被加工面に所定パターンで光学的に投影し、前記被加工面をアブレーションにより加工するレーザ加工方法であって、前記レーザ光が透過する液体の流入口及び流出口を有する加工容器に前記加工対象物を収容し、前記液体を前記被加工面上で前記流入口から前記流出口へ移動させながら前記被加工面への前記レーザ光の照射を行う。
【０００８】
本発明では、加工対象物の被加工面に液体を供給し、この液体を被加工面上で流入口から流出口へ移動させながらレーザ光を被加工面に照射する。レーザ光はこの液体を透過して被加工面の加工を行う。被加工面がレーザ光によりアブレーション加工されると、加工飛散物が発生する。このとき、被加工面上には液体が移動しているため、加工飛散物は液体とともに運搬される。加工飛散物を含む液体が被加工面を完全に通過すると、加工飛散物が被加工面に付着することがなくなる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
第１実施形態
図１は、本発明が適用されるレーザ加工装置の概略構成の一例を示す図である。
図１に示すレーザ加工装置２０は、レーザ光源１と、複数のミラー２，３，４と、ビーム整形器５と、マスク６と、縮小投影レンズ７と、ステージ８とを有する。
【００１０】
レーザ光源１は、レーザビームＬＢを出力する。このレーザ光源１から出力されるレーザビームＬＢによって加工対象物５０の被加工面５０ｆがアブレーション加工される。
レーザ光源１には、たとえば、エキシマレーザを用いる。エキシマレーザには、レーザ媒質の異なる複数の種類が存在する。レーザ媒質としては、波長の長いほうからＸｅＦ（３５１ｎｍ）、ＸｅＣｌ（３０８ｎｍ）、ＫｒＦ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦ（１９３ｎｍ）、Ｆ2 （１５７ｎｍ）が存在する。
エキシマレーザは、熱エネルギーを利用した加工を行うＹＡＧレーザ（１．０６μｍ）、ＣＯ2 レーザ（１０．６μｍ）と大きく異なる点は、発振波長が紫外線の領域にあることである。エキシマレーザは、本質的にパルスでのみ発振し、パルス幅は約２０ｎｓでありレーザビームの形は長方形である。
また、エキシマレーザは、アブレーションと呼ばれる、光化学的に直接結合を解離する熱的な影響を受けにくい加工を行うため、被加工面のエッジの仕上がりが非常にシャープとなる。これに対して、ＹＡＧレーザ、ＣＯ2 レーザでは加工部分が溶融後蒸発するため、熱の影響で周辺部が丸くなりきれいな端面とならない。
さらに、エキシマレーザは、初期のビームの断面が約１０×１０mmの寸法を有し、このレーザビームを後述するビーム整形器により長面積化、大面積化することにより比較的広い面積を一括して加工できる。したがって、大面積の領域を同時に加工するのにエキシマレーザは適している。
【００１１】
ビーム整形器５は、ミラー２および３によって反射されたレーザ光源１からのレーザビームＬＢを拡大整形し、ミラー４に向けて出力する。
【００１２】
マスク６は、ビーム整形器５で整形されミラー４で反射されたレーザビームＬＢを通過させる所定パターンを有している。このマスク６は、たとえば、金属材料で形成されたマスク、透明なガラス材料や透明な樹脂で形成されたマスク、誘電体材料で形成されたマスク等が用いられる。
【００１３】
縮小投影レンズ７は、マスク６のパターンを通過したレーザビームＬＢを所定倍率で縮小してステージ８上の加工対象物５０の被加工面５０ｆに投影する。
【００１４】
ステージ８は、縮小投影レンズ７から投影されるレーザビームＬＢが加工対象物５０の被加工面５０ｆに合焦するように縮小投影レンズ７に対して配置されている。このステージ８は、レーザビームＬＢが加工対象物５０の被加工面５０ｆ上を走査可能なように、レーザビームＬＢの光軸に垂直な平面に沿って移動位置決めが可能となっている。
【００１５】
上記構成のレーザ加工装置２０では、レーザ光源１にエキシマレーザを用いることにより、加工対象物５０の被加工面５０ｆに所定パターンのレーザビームＬＢが照射され、被加工面５０ｆがアブレーション加工される。
被加工面５０ｆは、アブレーション加工により、光化学的に直接結合を解離された被加工面５０ｆを形成する材料の飛散物であるデブリが発生する。このデブリが被加工面５０ｆに付着すると、加工精度等に影響を及ぼすことがあり、付着を防ぐ必要がある。
以下に、このデブリの付着を防止する付着防止機構の構成について説明する。
【００１６】
図２は、本発明の一実施形態に係る付着防止機構の構造を示す断面図である。 本実施形態に係る付着防止機構６０は、上記した加工対象物５０の被加工面５０ｆへのレーザビームＬＢの照射中に、レーザビームＬＢが透過する液体を被加工面５０ｆに供給し、当該液体を被加工面５０ｆ上で所定方向に移動させることにより、アブレーション加工により発生するデブリを洗い流す。
【００１７】
図２に示すように、付着防止機構３０は、保持機構６０と、液体供給源７０とを有している。
保持機構６０は、ステージ８上に設置され加工対象物５０を保持している。この保持機構６０は、加工容器６１と、カバー部材６２とを有している。
【００１８】
加工容器６１は、上記したステージ８上に設置されている。この加工容器６１は、上端側が開口し、底部に加工対象物５０が設置される。
【００１９】
カバー部材６２は、加工容器６１の開口側の内周に設置されており、加工容器６１の開口端に固定された固定部材６３により加工容器６１に固定されている。固定部材６３には、レーザビームＬＢを加工容器６１内に導き入れるための開口６３ａが形成されている。
カバー部材６２は、加工容器６１の開口側から入射されるレーザビームＬＢが透過する材料で形成されている。具体的には、たとえば、レーザ光源に波長が２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザを用いた場合には、ＫｒＦエキシマレーザに対して透過率の高い合成石英ガラスやフッ化カルシウム等で形成されたものを使用する。
また、カバー部材６２は、加工容器６１の底部に設置された加工対象物５０の被加工面５０ｆから所定の高さ、たとえば、１ｍｍ程度の位置に配置されている。すなわち、加工対象物５０の被加工面５０ｆとカバー部材６２との間には、所定の隙間Ｇｐが形成されている。この隙間Ｇｐを液体９０が通過する。
【００２０】
カバー部材６２が加工容器６１の内周に設置されることにより、カバー部材６２が加工容器６１との間に閉空間Ｓｐが形成されている。この閉空間Ｓｐに液体９０が供給され、閉空間Ｓｐは当該液体が充填される。
【００２１】
加工容器６１には、液体９０が供給される供給口６４と、当該加工容器６１の閉空間Ｓｐに供給された液体９０を外部に排出する排出口６５とが形成されている。
供給口６４には、供給管６６が接続されており、この供給管６６はバルブ６７を介して液体供給源７０に接続されている。バルブ６７は、供給管６６の管路の開閉および液体供給源７０から供給される液体９０の流量調整を行う。
排出口６５には、排出管６８が接続されており、この排出管６８にはバルブ６９が接続されている。バルブ６９は、排出管６８の管路の開閉および加工容器６１から排出される液体９０の流量調整を行う。
【００２２】
液体供給源７０は、液体９０を所定の圧力、流量に調整して加工容器６１に供給する。液体供給源７０が供給する液体９０は、レーザビームＬＢが透過する液体であり、たとえば、水が使用される。また、加工対象物５０を水に浸漬できない場合等には、レーザビームＬＢが透過する他の液体が使用される。
【００２３】
図３は、上記の加工容器６１を水平面に沿って切断した断面図であって、上記の供給口６４と排出口６５の配置を示している。
図３に示すように、加工容器６１は外形が矩形状であり、供給口６４および排出口６５は、加工容器６１の一方の対角の近傍にそれぞれ配置されている。
供給口６４および排出口６５を加工容器６１の対角線の近傍に配置したのは、図３に示すように、供給口６４から供給された液体９０を略均等に加工容器６１の全域を通過して排出口６５に向かわせるためである。すなわち、矩形状の加工容器６１の隅部で液体９０の澱みをできるだけ発生させないためである。
【００２４】
次に、上記構成の付着防止機構３０を備えたレーザ加工装置によるレーザ加工方法について説明する。
まず、カバー部材６２が取り外された状態の加工容器６１の底部に加工対象物５０を設置したのち、カバー部材６２を固定部材６３によって加工容器６１に固定する。これにより、保持機構６０が組み立てられる。
【００２５】
次いで、上記の状態の保持機構６０の加工容器６１をステージ８上に設置する。なお、保持機構６０への加工対象物５０の設置および保持機構６０のステージ８への設置は、ロボットの自動化装置により自動化することが可能である。
【００２６】
次いで、ステージ８上に設置された加工容器６１に液体供給源７０から液体９０を供給する。このとき、排出管６８に接続されたバルブ６９を開いておく。これにより、加工容器６１とカバー部材６２によって形成される閉空間Ｓｐには、液体９０が供給され、閉空間Ｓｐは液体９０によって満たされる。
このとき、加工対象物５０は液体９０中に浸漬された状態となり、また、カバー部材６２と加工対象物５０の被加工面５０ｆとの隙間Ｇｐにも液体９０が満たされる。
【００２７】
また、バルブ６９が開かれているため、閉空間Ｓｐに供給された液体９０は外部に排出され、閉空間Ｓｐ内に供給された液体９０は、図３に示したように、供給口６４から排出口６５に向けて移動する。
すなわち、閉空間Ｓｐへの液体９０の供給および閉空間Ｓｐからの液体９０の排出を同時に行うことにより、液体９０は閉空間Ｓｐ内を移動する。このため、カバー部材６２と加工対象物５０の被加工面５０ｆとの隙間Ｇｐに存在する液体９０も移動する。
これにより、加工対象物５０の被加工面５０ｆ上には、一定の厚さの液体９０が流れることになる。
【００２８】
次いで、上記のように、液体９０が加工対象物５０の被加工面５０ｆ上を流れている状態において、ステージ８を所望の位置に移動位置決めする。
この状態から被加工面５０ｆに縮小投影レンズ７を通じてレーザビームＬＢを照射する。これにより、被加工面５０ｆはアブレーション加工される。
【００２９】
被加工面５０ｆがアブレーション加工されると、上述したようにデブリが発生する。このデブリは、被加工面５０ｆ上の開放空間に向けて飛散するため、被加工面５０ｆ上を流れる液体９０に巻き込まれる。
このとき、液体９０が加工容器６１の供給口６４から排出口６５に向けて移動しているため、液体９０に巻き込まれたデブリは液体９０によって排出口６５に向けて搬送される。最終的には、デブリは排出口６５から排出される。
【００３０】
被加工面５０ｆの所望の箇所の加工が完了したのちには、ステージ７を再び移動位置決めし、上記したのと同様に次の加工箇所のアブレーション加工を繰り返し行う。これにより、被加工面５０ｆの加工が完了する。被加工面５０ｆの加工中には、継続して液体９０が加工容器６１に供給され、加工毎に発生するデブリは液体９０によって加工容器６１の外部に排出される。
【００３１】
このように、本実施形態では、レーザビームＬＢを加工対象物５０の被加工面５０ｆに照射してアブレーション加工したときに発生する加工飛散物を被加工面５０ｆ上を流れる液体９０によって捕捉し、これを加工容器６１の外部へ排出するため、液体９０が一度捕捉した加工飛散物が被加工面５０ｆに再び付着する可能性が極めて低い。この結果、被加工面５０ｆへの加工飛散物の付着を確実に防止することができる。
また、本実施形態によれば、加工容器６１への液体９０の供給位置および加工容器６１からの液体９０の排出位置を適切に選択することにより、装置を複雑化させることなく加工容器６１内における液体９０の澱みの発生を防ぐことができる。この結果、液体９０が捕捉した加工飛散物が加工容器６１から排出されず、加工容器６１内で滞留するのを防ぐことができる。
【００３２】
また、本実施形態によれば、加工容器６１に対してカバー部材６２を固定し、カバー部材６２と加工対象物５０の被加工面５０ｆとの間に一定の隙間Ｇｐを形成することにより、被加工面５０ｆ上を流れる液体９０の液面の高さが常に一定となり、液体９０を通じて被加工面５０ｆに照射されるレーザビームＬＢの強度を安定化することができる。この結果、加工精度が安定化する。
【００３３】
第２実施形態
図４は、本発明の他の実施形態に係る付着防止機構の構造を示す断面図である。なお、図４において、上述した第１の実施形態に係る付着防止機構と同一構成部分については同一の符号を使用している。
上述した第１の実施形態において説明したレーザ加工装置は、加工対象物５０を液体中に浸漬した状態でレーザ加工を行う構成としたが、加工対象物５０の種類や被加工面を構成する材料等の条件によっては液体中でのレーザ加工を行うことができない場合もある。
【００３４】
一方、アブレーション加工によって発生するデブリの被加工面への付着を抑制するには、加工対象物５０を、たとえば、真空度１０-2[ Ｔｏｒｒ] 程度の減圧下でレーザ加工を行う方法も、デブリの付着量を減少させるには有効な方法である。
【００３５】
加工対象物５０を液体中に浸漬した状態でレーザ加工を行う場合と減圧下でレーザ加工を行う場合とにおいて、別々の装置を準備すると、装置の稼働率が低下し、設備コストが嵩む等の不利益がある。
このため、本実施形態では、加工対象物５０を液体中に浸漬した状態でのレーザ加工および減圧下での加工対象物５０のレーザ加工の双方が可能な構成について説明する。
【００３６】
図４に示す付着防止機構１２０は、チャンバ１２１と、チャンバ１２１にバルブ６７を介して接続された液体供給源７０と、チャンバ１２１にバルブ１９２を介して接続された真空ポンプ１９０と、チャンバ１２１内に設置された保持機構１６０とを有する。
【００３７】
チャンバ１２１は、ステージ８上に設置されている。このチャンバ１２１の天井部には、レーザビームＬＢが透過する透過板１２２を備えている。
また、チャンバ１２１は、側面に加工対象物等の搬入、搬出を行うための開口部１２１ｈを備えている。この開口部１２１ｈは、開閉扉１２３により開閉され、開閉扉１２３を閉じた状態でシール部材１２４により密閉される。
【００３８】
液体供給源７０は、チャンバ１２１の下部に供給管６６によって接続されている。液体供給源７０は、上述した第１の実施形態と同様に、バルブ６７を通じて液体９０をチャンバ１２１内に供給可能となっている。
【００３９】
真空ポンプ１９０は、バルブ１９２を介してチャンバ１２１に接続されている。この真空ポンプ１９０により、密閉されたチャンバ１２１内は、たとえば、１０-2[ Ｔｏｒｒ] 程度の減圧雰囲気にされる。
【００４０】
チャンバ１２１の液体供給源７０が接続された側と反対側の下部には、排出管６８が接続されている。この排出管６８は、上述した第１の実施形態と同様に、液体９０をバルブ６９を通じてチャンバ１２１から外部に排出可能となっている。
【００４１】
チャンバ１２１には、ガス供給管１９５が接続されており、このガス供給管１９５はバルブ１９６によって開閉される。このガス供給管１９５は、チャンバ１２１内に窒素やヘリウム等の雰囲気ガスや塩化水素や三フッ化窒素等反応ガスを供給するのに用いられる。なお、雰囲気ガスや反応ガスがチャンバ１２１内に供給されるのは、チャンバ１２１を、エッチング加工等のために使用した場合である。
【００４２】
保持機構１６０は、チャンバ１２１の底部に設置されており、上述した第１の実施形態に係る保持機構６０と同様の構造を有している。
この保持機構１６０は、加工容器１６１と、カバー部材１６２と、固定部材１６３とを有している。
加工容器１６１の一側面１６１ａには、当該加工容器１６１内に液体９０が流入する流入口１６４が形成され、一側面１６１ａに対向する他側面１６１ｂには加工容器１６１内から液体９０が流出する流出口１６５が形成されている。
【００４３】
上記構成の付着防止機構１２０において、加工対象物５０を液体９０中に浸漬した状態でレーザ加工を行う場合には、液体供給源７０から液体９０をチャンバ１２１内に供給するとともに、排出管６８のバルブ６９を開く。
チャンバ１２１内に供給された液体９０は、加工容器１６１の流入口１６４から加工容器１６１内に流入し、チャンバ１２１に供給された液体９０の液面が上昇するのに伴って、カバー部材１６２と加工容器１６１との間に形成される閉空間Ｓｐ内に液体９０が充満する。
このとき、閉空間Ｓｐ内に液体９０が充満した状態を保ためには、加工容器１６１の外部における液体９０の液面の高さがカバー部材１６２の高さよりも高くなるように、液体供給源７０からの液体９０の供給量を調整するとともに、バルブ６９の開度を調整する。
【００４４】
加工容器１６１の流入口１６４から流入した液体９０は、加工容器１６１内を通過して流出口１６５から外部に流出する。このため、加工対象物５０の被加工面５０ｆとカバー部材１６２との間の隙間Ｇｐを液体９０が移動する。
【００４５】
この状態において、上述した第１の実施形態と同様に、ステージ８の移動位置決めを行いながら、レーザビームＬＢを被加工面５０ｆに照射しアブレーション加工を行う。
【００４６】
アブレーション加工によって発生したデブリは、被加工面５０ｆ上を液体９０によって搬送され、流出口１６５を通じて加工容器１６１外に排出され、さらに排出管６８からチャンバ１２１の外部に排出される。
【００４７】
上記の加工が終了したのちは、液体供給源７０からのチャンバ１２１への液体９０の供給を停止し、排出管６８からチャンバ１２１内の液体９０を全て排出する。
そして、保持機構１６０の全体を開口部１２１ｈを通じて外部に搬出する。
【００４８】
加工対象物５０を減圧雰囲気下でレーザ加工を行う場合には、液体９０が全て排出された状態のチャンバ１２１内を真空ポンプ１９０により減圧する。
チャンバ１２１が減圧された状態で、ステージ８の移動位置決めを行いながら、レーザビームＬＢを被加工面５０ｆに照射しアブレーション加工を行う。
【００４９】
以上のように、本実施形態によれば、液体中におけるレーザ加工および減圧雰囲気下におけるレーザ加工の双方を同一の装置で行うことができるため、装置の稼働率を向上させることができる。
【００５０】
本発明は上述した実施形態に限定されない。
上述した実施形態では、加工容器６０に供給口６４および排出口６５を形成して加工容器６０内の液体９０を移動させる構成としたが、供給口６４および排出口６５を互いに対向する位置に多数形成し、加工容器６０内の液体９０の移動を一層均一化する構成とすることも可能である。
【００５１】
【発明の効果】
本発明によれば、レーザ光によるアブレーション加工時に熱的な影響を少なくして被加工面へのデブリの付着を防止することができる。
この結果、精密なレーザ加工が実現でき、しかもデブリの付着を防止することができるという優れた効果を提供することが可能になり、レーザ加工の応用が拡がり、微細パターンを高精度でありながら低コストで形成することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明が適用されるレーザ加工装置の概略構成の一例を示す図である。
【図２】
本発明の一実施形態に係る液体供給機構の構造を示す断面図である。
【図３】
加工容器６１を水平面に沿って切断した断面図である。
【図４】
本発明の他の実施形態に係る液体供給機構の構造を示す断面図である。
【符号の説明】
１…レーザ光源、２，３，４…ミラー、５…ビーム整形器、６…マスク、７…縮小投影レンズ、８…ステージ、３０，１２０…液体供給機構、６１…加工容器、６２…カバー部材、５０…加工対象物、５０ｆ…被加工面、７０…液体供給源、９０…液体、１２１…チャンバ、１９０…真空ポンプ。
[Document name] statement
Patent application title: Laser processing apparatus and laser processing method
[Claim of claim]
[Claim 1]
Laser light source,SaidA laser processing apparatus comprising: an optical system for optically projecting a laser beam emitted from a laser light source on a surface to be processed of a workpiece in a predetermined pattern; and abrading the surface to be processed,
A processing container for containing the processing object, wherein an entrance portion to which the laser light is incident, an inlet for a liquid through which the laser light is transmitted, provided across the position where the processing object is disposed A processing vessel having an outlet,
A liquid supply means for introducing the liquid from the inlet and moving the liquid to the outlet through the surface when the laser light is irradiated onto the surface;
HaveAdhesion prevention mechanismPrepare
Laser processing equipment.
[Claim 2]
The adhesion prevention mechanism is,PreviousCover member through which laser light passesIn the incident part,
The cover member is provided so as to form a closed space having a constant height from the work surface with the processing vessel.
The laser processing apparatus according to claim 1.
[Claim 3]
Holding the processing container, the processing surfaceSaidThe apparatus further comprises moving positioning means for changing the irradiation position of the laser beam.
The laser processing apparatus according to claim 2.
[Claim 4]
The laser light source is an excimer laserincluding
The laser processing apparatus according to claim 1.
[Claim 5]
A chamber for containing the processing container;
Inside the chamberDepressurized atmosphereUnderWith decompression means to,Have more
The laser processing apparatus according to claim 1.
[6]
A laser processing method of optically projecting a laser beam on a surface to be processed of a processing object in a predetermined pattern and processing the surface to be processed by ablation,
SaidLaser lightButPermeable liquidContaining the object to be processed in a processing container having an inlet and an outlet ofOn the work surfaceFrom the inlet to the outletWhile moving it to the work surfaceSaidIrradiate laser light
Laser processing method.
[7]
Said processing objectSaidMoveLiquidIn the state of being immersed in the body,SaidIrradiate laser light
The laser processing method according to claim 6.
[Claim 8]
SaidLaser lightButPenetrateTheBar memberIn order to make the gap with the processing surface constantPlaceWith the moving liquid filled in the gapTo the work surfaceSaidIrradiate laser light
The laser processing method according to claim 6.
Detailed Description of the Invention
[0001]
Field of the Invention
The present invention relates to a laser processing method and a laser processing apparatus using ablation by laser light.
[0002]
[Prior Art]
An excimer laser (excited dimer laser) has high photon energy capable of breaking a chemical bond, and a photochemical reaction called ablation can remove an object to be processed while suppressing the thermal influence.
Laser processing by such ablation has attracted attention. By irradiation with excimer laser light whose energy density is adjusted, various substances such as plastics, metals, and ceramics can be ablated.
[0003]
In the ablation processing, scattered matter called debris is attached to the periphery of the processing area from the processing target that has been subjected to laser irradiation. If debris is generated, desired processing accuracy may not be obtained.
As a method of reducing the debris, a method of suppressing the occurrence of debris itself, a method of reducing the deposition of debris, a method of removing the debris after the deposition of debris, and the like are known.
In order to reduce the generation amount of debris, it is known that it is effective to spray an assist gas together with the irradiation of the laser beam to the object to be processed.
Further, as a method of suppressing the generation of debris itself, there is known a method of preventing decomposition or reattachment with a predetermined atmosphere gas. Also, the degree of vacuum is 10-2It is known that by processing under a reduced pressure of about [Torr], the deposition amount by deposition can be significantly reduced.
As a method of removing the debris after the deposition of the debris, a method of irradiating an excimer laser beam with an energy density lower than that at the time of laser processing and removing the generated debris is known. This method is effective when debris is easy to remove.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, removal of debris may not be sufficient with the method mentioned above. Another technique for preventing adhesion of debris generated during laser processing to a surface to be processed is disclosed, for example, in JP-A-9-141480. The technology disclosed in this publication is in contact with a liquid such as water on the surface of a workpiece to be ablated, and the laser light is irradiated to the surface of the workpiece through the liquid, thereby generating debris. It floats inside, and after processing is completed, the debris is washed away with the liquid to prevent debris from adhering to the surface of the object to be processed.
However, in the above method, debris suspended in the liquid in contact with the surface of the processing object may reattach to the surface of the processing object, and adhesion of debris to the surface of the processing object is completely eliminated. It can not be prevented.
[0005]
The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to prevent adhesion of processing debris generated during ablation processing by laser light irradiation to the surface of a processing object. It is providing the laser processing method and laser processing apparatus which can be performed.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
A laser processing apparatus according to the present invention is a laser light source;SaidA laser processing apparatus comprising: an optical system for optically projecting a laser beam emitted from a laser light source on a surface to be processed of a workpiece in a predetermined pattern; and abrading the surface to be processed,A processing container for containing the processing object, wherein an entrance portion to which the laser light is incident, an inlet for a liquid through which the laser light is transmitted, provided across the position where the processing object is disposed A processing container having an outlet, and a liquid supply means for introducing the liquid from the inlet and moving the liquid to the outlet through the processing surface when the laser light is irradiated to the processing surface AndAdhesion prevention mechanismPrepare.
[0007]
The laser processing method of the present invention is a laser processing method of optically projecting a laser beam on a surface to be processed of a processing object in a predetermined pattern, and processing the surface to be processed by ablation.SaidLaser lightButPermeable liquidContaining the object to be processed in a processing container having an inlet and an outlet ofOn the work surfaceFrom the inlet to the outletWhile moving it to the work surfaceSaidIrradiation of laser light is performed.
[0008]
In the present invention, the liquid is supplied to the surface to be processed of the object to be processed, and the liquid is processed on the surface to be processedFrom the inlet to the outletThe laser beam is irradiated to the processing surface while being moved. The laser beam transmits the liquid to process the processing surface. When the surface to be processed is subjected to ablation processing by a laser beam, a scattered object is generated. At this time, since the liquid is moving on the processing surface, the processed scattering material is transported together with the liquid. When the liquid including the processing scattering material completely passes through the processing surface, the processing scattering material does not adhere to the processing surface.
[0009]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
First embodiment
FIG. 1 is a view showing an example of a schematic configuration of a laser processing apparatus to which the present invention is applied.
A laser processing apparatus 20 shown in FIG. 1 has a laser light source 1, a plurality of mirrors 2, 3, 4, a beam shaper 5, a mask 6, a reduction projection lens 7, and a stage 8.
[0010]
The laser light source 1 outputs a laser beam LB. The processing surface 50 f of the processing target 50 is ablated by the laser beam LB output from the laser light source 1.
For the laser light source 1, for example, an excimer laser is used. Excimer lasers include different types of laser media. As the laser medium, XeF (351 nm), XeCl (308 nm), KrF (248 nm), ArF (193 nm), F from the longer wavelength side2 (157 nm) is present.
Excimer laser is a YAG laser (1.06 μm) that performs processing using thermal energy, CO2 A major difference from the laser (10.6 μm) is that the oscillation wavelength is in the ultraviolet range. The excimer laser oscillates essentially only in pulses, the pulse width is about 20 ns, and the shape of the laser beam is rectangular.
In addition, since the excimer laser performs processing called thermal ablation that is less susceptible to thermal effects such as photochemical direct bond dissociation, the finish of the edge of the surface to be processed is extremely sharp. On the other hand, YAG laser, CO2 In the laser, since the processing portion is melted and evaporated, the peripheral portion is rounded due to the heat and the end surface is not clean.
Furthermore, in the excimer laser, the cross section of the initial beam has a size of about 10 × 10 mm, and the laser beam is elongated and enlarged by a beam shaper described later to collectively make a relatively large area. It can be processed. Therefore, an excimer laser is suitable for simultaneously processing a large area.
[0011]
The beam shaper 5 magnifies and shapes the laser beam LB from the laser light source 1 reflected by the mirrors 2 and 3 and outputs it toward the mirror 4.
[0012]
The mask 6 has a predetermined pattern for passing the laser beam LB shaped by the beam shaper 5 and reflected by the mirror 4. As the mask 6, for example, a mask formed of a metal material, a mask formed of a transparent glass material or a transparent resin, a mask formed of a dielectric material, or the like is used.
[0013]
The reduction projection lens 7 reduces the laser beam LB that has passed through the pattern of the mask 6 by a predetermined magnification and projects the reduced laser beam LB onto the processing surface 50 f of the processing target 50 on the stage 8.
[0014]
The stage 8 is disposed relative to the reduction projection lens 7 so that the laser beam LB projected from the reduction projection lens 7 is focused on the processing surface 50 f of the object 50 to be processed. The stage 8 can be moved and positioned along a plane perpendicular to the optical axis of the laser beam LB so that the laser beam LB can scan the surface 50 f of the workpiece 50.
[0015]
In the laser processing apparatus 20 configured as described above, by using an excimer laser as the laser light source 1, the processing surface 50f of the processing target 50 is irradiated with the laser beam LB of a predetermined pattern, and the processing surface 50f is ablated.
Debris which is a scattering object of the material which forms the processing surface 50f from which the processing surface 50f was directly photochemically dissociated by ablation processing generate | occur | produces the processing surface 50f. When the debris adheres to the processing surface 50f, it may affect the processing accuracy and the like, and the adhesion needs to be prevented.
The configuration of the adhesion preventing mechanism for preventing the adhesion of debris will be described below.
[0016]
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the structure of the adhesion preventing mechanism according to the embodiment of the present invention. The adhesion preventing mechanism 60 according to the present embodiment is configured to irradiate the laser beam LB onto the processing surface 50 f of the processing object 50 described above.ButA liquid to be transmitted is supplied to the processing surface 50f, and the liquid is moved in a predetermined direction on the processing surface 50f to wash away debris generated by the ablation processing.
[0017]
As shown in FIG. 2, the adhesion preventing mechanism 30 has a holding mechanism 60 and a liquid supply source 70.
The holding mechanism 60 is installed on the stage 8 and holds the processing target 50. The holding mechanism 60 has a processing container 61 and a cover member 62.
[0018]
The processing container 61 is installed on the stage 8 described above. The upper end side of the processing container 61 is opened, and the processing target 50 is installed at the bottom.
[0019]
The cover member 62 is disposed on the inner periphery of the opening side of the processing container 61, and is fixed to the processing container 61 by a fixing member 63 fixed to the opening end of the processing container 61. The fixing member 63 is formed with an opening 63 a for introducing the laser beam LB into the processing container 61.
The cover member 62 has a laser beam LB incident from the opening side of the processing container 61.ButIt is formed of a permeable material. Specifically, for example, when a KrF excimer laser with a wavelength of 248 nm is used as a laser light source, one made of synthetic quartz glass or calcium fluoride having a high transmittance to the KrF excimer laser is used. .
In addition, the cover member 62 is disposed at a predetermined height, for example, about 1 mm, from the processing surface 50 f of the processing target 50 installed at the bottom of the processing container 61. That is, a predetermined gap Gp is formed between the processing surface 50 f of the processing target 50 and the cover member 62. The liquid 90 passes through the gap Gp.
[0020]
The cover member 62 is disposed on the inner periphery of the processing container 61, whereby a closed space Sp is formed between the cover member 62 and the processing container 61. The liquid 90 is supplied to the closed space Sp, and the closed space Sp is filled with the liquid.
[0021]
The processing container 61 is formed with a supply port 64 to which the liquid 90 is supplied, and a discharge port 65 from which the liquid 90 supplied to the closed space Sp of the processing container 61 is discharged to the outside.
A supply pipe 66 is connected to the supply port 64, and the supply pipe 66 is connected to the liquid supply source 70 via a valve 67. The valve 67 opens and closes the line of the supply pipe 66 and adjusts the flow rate of the liquid 90 supplied from the liquid supply source 70.
A discharge pipe 68 is connected to the discharge port 65, and a valve 69 is connected to the discharge pipe 68. The valve 69 performs opening / closing of the pipe line of the discharge pipe 68 and flow adjustment of the liquid 90 discharged from the processing container 61.
[0022]
The liquid supply source 70 adjusts the liquid 90 to a predetermined pressure and flow rate and supplies the liquid 90 to the processing container 61. The liquid 90 supplied by the liquid source 70 is a laser beam LB.ButPermeable liquid, for example, water is used. In addition, in the case where the processing target 50 can not be immersed in water, the laser beam LBButOther liquids that permeate are used.
[0023]
FIG. 3 is a cross-sectional view of the processing container 61 cut along the horizontal plane, showing the arrangement of the supply port 64 and the discharge port 65 described above.
As shown in FIG. 3, the processing container 61 has a rectangular outer shape, and the supply port 64 and the discharge port 65 are respectively disposed in the vicinity of one diagonal of the processing container 61.
The reason why the supply port 64 and the discharge port 65 are disposed in the vicinity of the diagonal of the processing container 61 is that the liquid 90 supplied from the supply port 64 passes through the entire area of the processing container 61 substantially equally as shown in FIG. This is to direct the discharge port 65. That is, stagnation of the liquid 90 is not generated as much as possible at the corners of the rectangular processing container 61.
[0024]
Next, the laser processing method by the laser processing apparatus provided with the adhesion prevention mechanism 30 of the said structure is demonstrated.
First, after the processing object 50 is installed on the bottom of the processing container 61 with the cover member 62 removed, the cover member 62 is fixed to the processing container 61 by the fixing member 63. Thus, the holding mechanism 60 is assembled.
[0025]
Next, the processing container 61 of the holding mechanism 60 in the above state is placed on the stage 8. The installation of the processing target 50 on the holding mechanism 60 and the installation of the holding mechanism 60 on the stage 8 can be automated by a robot automation device.
[0026]
Then, the liquid 90 is supplied from the liquid supply source 70 to the processing container 61 installed on the stage 8. At this time, the valve 69 connected to the discharge pipe 68 is opened. Thereby, the liquid 90 is supplied to the closed space Sp formed by the processing container 61 and the cover member 62, and the closed space Sp is filled with the liquid 90.
At this time, the processing target 50 is immersed in the liquid 90, and the gap 90 between the cover member 62 and the processing surface 50f of the processing target 50 is also filled with the liquid 90.
[0027]
Further, since the valve 69 is opened, the liquid 90 supplied to the closed space Sp is discharged to the outside, and the liquid 90 supplied into the closed space Sp is supplied from the supply port 64 as shown in FIG. Move toward the discharge port 65.
That is, the liquid 90 moves in the closed space Sp by simultaneously supplying the liquid 90 to the closed space Sp and discharging the liquid 90 from the closed space Sp. Therefore, the liquid 90 present in the gap Gp between the cover member 62 and the processing surface 50 f of the processing target 50 also moves.
As a result, the liquid 90 having a certain thickness flows on the processing surface 50 f of the processing target 50.
[0028]
Next, as described above, in a state where the liquid 90 is flowing on the processing surface 50 f of the processing target 50, the stage 8 is moved and positioned to a desired position.
From this state, the laser beam LB is irradiated to the processing surface 50 f through the reduction projection lens 7. Thereby, the processing surface 50f is ablated.
[0029]
When the processing surface 50f is ablated, debris is generated as described above. Since the debris scatters toward the open space on the processing surface 50f, the debris is caught in the liquid 90 flowing on the processing surface 50f.
At this time, since the liquid 90 moves from the supply port 64 of the processing container 61 toward the discharge port 65, the debris caught in the liquid 90 is transported by the liquid 90 toward the discharge port 65. Eventually, debris is discharged from the discharge port 65.
[0030]
After the processing of the desired portion of the processing surface 50f is completed, the stage 7 is moved and positioned again, and the ablation processing of the next processing portion is repeatedly performed in the same manner as described above. Thus, the processing of the work surface 50f is completed. During processing of the processing surface 50f, the liquid 90 is continuously supplied to the processing container 61, and debris generated for each processing is discharged to the outside of the processing container 61 by the liquid 90.
[0031]
As described above, in the present embodiment, the scattered material generated when the laser beam LB is irradiated to the work surface 50f of the processing target 50 for ablation processing is captured by the liquid 90 flowing on the work surface 50f. In order to discharge this to the outside of the processing container 61, there is very little possibility that the processing scatters once captured by the liquid 90 adhere to the processing surface 50f again. As a result, it is possible to reliably prevent adhesion of the processed scattered matter to the processing surface 50f.
Further, according to the present embodiment, by appropriately selecting the supply position of the liquid 90 to the processing container 61 and the discharging position of the liquid 90 from the processing container 61, the apparatus can be simplified without complicating the apparatus. The occurrence of stagnation of the liquid 90 can be prevented. As a result, it is possible to prevent the processed and scattered matter captured by the liquid 90 from being discharged from the processing container 61 and staying in the processing container 61.
[0032]
Further, according to the present embodiment, the cover member 62 is fixed to the processing container 61, and a certain gap Gp is formed between the cover member 62 and the processing surface 50f of the processing target 50, thereby achieving the object to be processed. The height of the liquid surface of the liquid 90 flowing on the processing surface 50 f is always constant, and the intensity of the laser beam LB irradiated to the processing surface 50 f through the liquid 90 can be stabilized. As a result, the processing accuracy is stabilized.
[0033]
Second embodiment
FIG. 4 is a cross-sectional view showing the structure of the adhesion preventing mechanism according to another embodiment of the present invention. In FIG. 4, the same components as those in the adhesion preventing mechanism according to the first embodiment described above are denoted by the same reference numerals.
The laser processing apparatus described in the first embodiment described above is configured to perform the laser processing in a state in which the processing target 50 is immersed in the liquid, but the type of the processing target 50 and the material constituting the processing surface Depending on conditions such as, it may not be possible to perform laser processing in liquid.
[0034]
On the other hand, in order to suppress adhesion of debris generated by ablation processing to the processing surface, the processing target 50 is, for example, 10 degrees of vacuum.-2Laser processing under a reduced pressure of about [Torr] is also an effective method to reduce the amount of debris attached.
[0035]
If separate devices are prepared in the case where the laser processing is performed in a state in which the processing object 50 is immersed in the liquid and the laser processing is performed under reduced pressure, the operation rate of the device decreases and the equipment cost increases There is a disadvantage.
Therefore, in the present embodiment, a configuration in which both laser processing in a state in which the processing target 50 is immersed in the liquid and laser processing of the processing target 50 under reduced pressure will be described.
[0036]
The adhesion preventing mechanism 120 shown in FIG. 4 includes a chamber 121, a liquid supply source 70 connected to the chamber 121 via a valve 67, a vacuum pump 190 connected to the chamber 121 via a valve 192, and the inside of the chamber 121. And a holding mechanism 160 installed on the
[0037]
The chamber 121 is installed on the stage 8. A laser beam LB is applied to the ceiling of the chamber 121.ButA transmissive plate 122 is provided to transmit light.
In addition, the chamber 121 is provided with an opening 121 h on the side surface for carrying in and out a processing object or the like. The opening 121 h is opened and closed by the open / close door 123, and is sealed by the seal member 124 in a state where the open / close door 123 is closed.
[0038]
The liquid supply source 70 is connected to the lower part of the chamber 121 by a supply pipe 66. The liquid supply source 70 can supply the liquid 90 into the chamber 121 through the valve 67, as in the first embodiment described above.
[0039]
The vacuum pump 190 is connected to the chamber 121 via a valve 192. The inside of the chamber 121 sealed by the vacuum pump 190 is, for example,-2The pressure is reduced to about [Torr].
[0040]
A discharge pipe 68 is connected to the lower part of the chamber 121 opposite to the side connected to the liquid supply source 70. The discharge pipe 68 can discharge the liquid 90 from the chamber 121 to the outside through the valve 69, as in the first embodiment described above.
[0041]
A gas supply pipe 195 is connected to the chamber 121, and the gas supply pipe 195 is opened and closed by a valve 196. The gas supply pipe 195 is used to supply an atmosphere gas such as nitrogen or helium or a reaction gas such as hydrogen chloride or nitrogen trifluoride into the chamber 121. The atmosphere gas and the reaction gas are supplied into the chamber 121 when the chamber 121 is used for etching or the like.
[0042]
The holding mechanism 160 is installed at the bottom of the chamber 121, and has the same structure as the holding mechanism 60 according to the first embodiment described above.
The holding mechanism 160 includes a processing container 161, a cover member 162, and a fixing member 163.
An inlet 164 through which the liquid 90 flows into the processing container 161 is formed on one side surface 161 a of the processing container 161, and a flow from which the liquid 90 flows out of the processing container 161 to the other side surface 161 b facing the one side 161 a. An outlet 165 is formed.
[0043]
In the adhesion preventing mechanism 120 configured as described above, when the laser processing is performed in a state where the object 50 is immersed in the liquid 90, the liquid 90 is supplied from the liquid supply source 70 into the chamber 121, and Open the valve 69.
The liquid 90 supplied into the chamber 121 flows into the processing container 161 from the inlet 164 of the processing container 161, and as the liquid level of the liquid 90 supplied to the chamber 121 rises, the cover member 162 The liquid 90 fills the closed space Sp formed between the processing container 161 and the processing container 161.
At this time, in order to maintain the state in which the liquid 90 is filled in the closed space Sp, the liquid supply source is set such that the level of the liquid 90 outside the processing container 161 is higher than the height of the cover member 162. While adjusting the supply amount of the liquid 90 from 70, the opening degree of the valve 69 is adjusted.
[0044]
The liquid 90 which has flowed in from the inlet 164 of the processing container 161 passes through the processing container 161 and flows out from the outlet 165 to the outside. Therefore, the liquid 90 moves in the gap Gp between the processing surface 50 f of the processing target 50 and the cover member 162.
[0045]
In this state, as in the first embodiment described above, the laser beam LB is irradiated to the processing surface 50f to perform ablation processing while positioning the stage 8 in motion.
[0046]
Debris generated by the ablation processing is transported by the liquid 90 on the processing surface 50 f, discharged from the processing container 161 through the outlet 165, and further discharged from the discharge pipe 68 to the outside of the chamber 121.
[0047]
After the above processing is completed, the supply of the liquid 90 from the liquid supply source 70 to the chamber 121 is stopped, and all the liquid 90 in the chamber 121 is discharged from the discharge pipe 68.
Then, the entire holding mechanism 160 is carried out to the outside through the opening 121 h.
[0048]
When the laser processing is performed on the processing object 50 in a reduced pressure atmosphere, the inside of the chamber 121 in a state where all the liquid 90 is discharged is reduced in pressure by the vacuum pump 190.
In the state where the pressure of the chamber 121 is reduced, the laser beam LB is irradiated to the processing surface 50f while performing the movement positioning of the stage 8, and the ablation processing is performed.
[0049]
As described above, according to the present embodiment, since both laser processing in a liquid and laser processing in a reduced pressure atmosphere can be performed by the same device, the operation rate of the device can be improved.
[0050]
The present invention is not limited to the embodiments described above.
In the embodiment described above, the supply port 64 and the discharge port 65 are formed in the processing container 60 to move the liquid 90 in the processing container 60. However, a large number of the supply ports 64 and the discharge ports 65 are opposed to each other. It is also possible to form so as to make the movement of the liquid 90 in the processing container 60 more uniform.
[0051]
【Effect of the invention】
According to the present invention, it is possible to reduce the thermal influence at the time of ablation processing by laser light and to prevent the adhesion of debris on the surface to be processed.
As a result, it becomes possible to provide an excellent effect that precise laser processing can be realized and moreover debris adhesion can be prevented, and the application of laser processing is expanded, and the fine pattern is highly accurate, yet low. It becomes possible to form at cost.
Brief Description of the Drawings
[Fig. 1]
It is a figure which shows an example of schematic structure of the laser processing apparatus to which this invention is applied.
[Fig. 2]
It is sectional drawing which shows the structure of the liquid supply mechanism which concerns on one Embodiment of this invention.
[Fig. 3]
It is sectional drawing which cut | disconnected the processing container 61 along the horizontal surface.
[Fig. 4]
It is sectional drawing which shows the structure of the liquid supply mechanism which concerns on other embodiment of this invention.
[Description of the code]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... laser light source, 2, 3, 4 ... mirror, 5 ... beam shaper, 6 ... mask, 7 ... reduction projection lens, 8 ... stage, 30, 120 ... liquid supply mechanism, 61 ... processing container, 62 ... cover member , 50: object to be processed, 50f: surface to be processed, 70: liquid supply source, 90: liquid, 121: chamber, 190: vacuum pump.