JP2003121635A - Color filter substrate, method of manufacturing the same, liquid crystal device and electronic equipment - Google Patents
Color filter substrate, method of manufacturing the same, liquid crystal device and electronic equipmentInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルタ基
板およびその製造方法、ならびに液晶装置及び電子機器
に関するものであり、特に半透過反射層を備えたカラー
フィルタ基板の製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter substrate and a method for manufacturing the same, and a liquid crystal device and an electronic device, and more particularly to a method for manufacturing a color filter substrate having a semi-transmissive reflective layer.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、反射型液晶装置は消費電力が小さ
いために携帯用の機器や装置の表示部等に多用されてい
るが、外光を利用して表示を視認可能にするものである
ので、暗い場所では表示が読みとれないという問題があ
った。このため、明るい場所では通常の反射型液晶装置
と同様に外光を利用して表示を視認し、暗い場所では内
部の光源により表示を視認できるようにしたタイプの液
晶装置が提案されている。2. Description of the Related Art Conventionally, a reflection type liquid crystal device has been widely used for a portable device or a display portion of the device because of its low power consumption. However, the display is visible by utilizing external light. Therefore, there was a problem that the display could not be read in a dark place. For this reason, there has been proposed a liquid crystal device of a type in which a display can be visually recognized by using external light in a bright place as in a normal reflective liquid crystal device, and a display can be visually recognized by an internal light source in a dark place.
【0003】例えば、特開昭57−049271号など
に記載されているように、液晶セルの観察者側とは反対
側の外面上に、偏光板、半透過反射板、およびバックラ
イトを順に配置した構成の半透過型液晶装置が知られて
いる。このような構成の液晶装置は、周囲が明るい場合
には外光を取り入れて半透過反射板にて反射された反射
光を利用して反射型の表示を行い、周囲が暗い場合には
バックライトを点灯させて、半透過反射板を透過した光
により表示を視認可能とする透過型の表示を行うもので
ある。また、近年ではカラー表示可能な液晶装置の需要
が高く、基板上に半透過反射膜と、着色層からなるカラ
ーフィルタを有するカラーフィルタ基板を備えた半透過
反射型のカラー液晶装置も知られている。半透過反射層
としては、Al、Cr、Ag等の金属材料からなる反射
層に光透過用の開口部を設けた構成のものが好適に用い
られている。For example, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-049271, a polarizing plate, a semi-transmissive reflector, and a backlight are sequentially arranged on the outer surface of the liquid crystal cell opposite to the viewer side. A transflective liquid crystal device having such a configuration is known. The liquid crystal device having such a configuration takes in external light when the surroundings are bright and uses the reflected light reflected by the semi-transmissive reflection plate to perform a reflective display, and when the surroundings are dark, the backlight is used. Is turned on to perform a transmissive display in which the display can be visually recognized by the light transmitted through the semi-transmissive reflection plate. Further, in recent years, there is a high demand for liquid crystal devices capable of color display, and a transflective color liquid crystal device including a color filter substrate having a semi-transmissive reflective film and a color filter made of a colored layer on the substrate is also known. There is. As the semi-transmissive reflective layer, one having a configuration in which an opening for light transmission is provided in a reflective layer made of a metal material such as Al, Cr and Ag is preferably used.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
半透過反射型のカラーフィルタ基板にあっては、半透過
反射層を形成するのに、予め、基板表面に微細な凹凸を
形成するためのフロスト加工を行っておき、スパッタ法
や真空蒸着法で金属材料からなる反射膜を形成した後、
該反射膜の一部をエッチング処理によって除去して開口
部を形成する方法を採っていたため、工程数も多く、大
掛かりな装置が必要であり、製造コストも高くなるとい
う問題があった。However, in the conventional transflective color filter substrate, the frost for forming fine irregularities on the substrate surface in advance is required to form the transflective layer. After processing, after forming a reflective film made of a metal material by a sputtering method or a vacuum deposition method,
Since a method of removing a part of the reflection film by etching to form the opening is adopted, there are problems that the number of steps is large, a large-scale device is required, and the manufacturing cost is high.
【0005】本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、基板のフロスト加工工程、スパッタ法や真空蒸着法
による成膜工程、エッチング工程などの煩雑で大掛かり
な装置を必要とする工程を削減して、短時間、低コスト
で半透過反射型のカラーフィルタ基板を製造できるよう
にすることを目的する。The present invention has been made in view of the above circumstances, and eliminates steps such as a frosting step of a substrate, a film forming step by a sputtering method or a vacuum evaporation method, an etching step, and the like, which require a complicated and large-scale apparatus. Thus, it is possible to manufacture a semi-transmissive reflection type color filter substrate in a short time and at low cost.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、基板上
に、光透過用の開口部を有する半透過反射層と、複数の
色要素からなる着色層とを備えたカラーフィルタ基板を
製造するカラーフィルタ基板の製造方法であって、前記
基板上に、各着色層ごとに仕切るためのバンクを形成す
る工程と、前記バンクにより仕切られた領域内であっ
て、前記開口部が形成される部位に撥液処理を施す撥液
処理工程と、該撥液処理工程後、前記バンクにより仕切
られた領域内に、液体材料をインクジェット法により吐
出して前記半透過反射層を形成する半透過反射層形成工
程と、該半透過反射層形成工程後、前記バンクにより仕
切られた領域内に着色層を形成する着色層形成工程とを
有することを特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a color filter substrate of the present invention comprises a semi-transmissive reflective layer having an opening for transmitting light and a plurality of color elements on the substrate. A method of manufacturing a color filter substrate having a color layer comprising a colored layer comprising: a step of forming a bank for partitioning each colored layer on the substrate; A liquid-repellent treatment step of performing a liquid-repellent treatment on a region where the opening is formed, and after the liquid-repellent treatment step, a liquid material is ejected by an inkjet method into a region partitioned by the bank. A semi-transmissive reflective layer forming step of forming the semi-transmissive reflective layer, and a colored layer forming step of forming a colored layer in the region partitioned by the bank after the semi-transmissive reflective layer forming step. Features and That.
【0007】この方法によれば、基板上にバンクを形成
した後、このバンクにより仕切られた領域内に半透過反
射層を形成する液体材料をインクジェット法により吐出
するので、バンクが、基板上に吐出された液体材料の広
がりを規制する土手の役割を果たし、半透過反射層をバ
ンクで囲まれた領域にのみ形成することができ、形状精
度も良い。また、従来は、スパッタ法や真空蒸着法によ
る成膜工程、エッチング工程など、煩雑な作業と大掛か
りな装置を必要としていた半透過反射層の形成を、イン
クジェット法により行うので、生産性の向上および低コ
スト化を図ることができる。また、バンクで囲まれた領
域内に半透過反射層を形成する液体材料を吐出する工程
に先立って、バンクで囲まれた領域内の基板の一部に撥
液処理を施すので、吐出された液体材料は、撥液処理が
施された部分を除く領域に塗膜を形成する。したがっ
て、撥液処理された領域上には塗膜が形成されないの
で、この部分に半透過反射層の開口部を容易に形成する
ことができる。またバンク内に半透過反射層を形成した
後、該バンク内に着色層を形成するので、バンクが、隣
り合う着色層どうしが混ざり合うのを防止する土手の役
割を果たす。これにより、バンクで囲まれた領域内にお
いて半透過反射層上に着色層が積層され、かつ半透過反
射層の開口部では基板上に着色層が積層された構成のカ
ラーフィルタ基板が得られる。According to this method, after the bank is formed on the substrate, the liquid material for forming the semi-transmissive reflective layer is ejected by the ink jet method into the region partitioned by the bank, so that the bank is placed on the substrate. It plays the role of a bank that controls the spread of the discharged liquid material, and the semi-transmissive reflective layer can be formed only in the region surrounded by the bank, and the shape accuracy is also good. Further, conventionally, a semi-transmissive reflective layer, which requires a complicated work and a large-scale apparatus such as a film forming step by a sputtering method or a vacuum vapor deposition method, an etching step, etc., is formed by an ink jet method, which improves productivity and Cost reduction can be achieved. Further, prior to the step of ejecting the liquid material for forming the semi-transmissive reflective layer in the area surrounded by the banks, a part of the substrate in the area surrounded by the banks is subjected to the liquid repellent treatment, so that it is ejected. The liquid material forms a coating film in a region other than the liquid-repellent treated portion. Therefore, since the coating film is not formed on the liquid-repellent treated area, the opening of the semi-transmissive reflective layer can be easily formed in this portion. Further, since the colored layer is formed in the bank after the semi-transmissive reflective layer is formed in the bank, the bank plays a role of a bank which prevents adjacent colored layers from being mixed with each other. As a result, a color filter substrate is obtained in which the colored layer is laminated on the semi-transmissive reflective layer in the region surrounded by the bank, and the colored layer is laminated on the substrate at the opening of the semi-transmissive reflective layer.
【0008】本発明の方法において、前記半透過反射層
形成工程後であって、前記着色層形成工程の前に、前記
撥液処理した部位に親液処理を施す親液処理工程を有す
ることが好ましい。かかる方法によれば、バンクで囲ま
れた領域内に着色層を形成したときに、開口部となる部
位における基板表面と着色層形成材料との親和性が向上
するので、基板との密着性が良好な着色層が得られる。In the method of the present invention, there may be a lyophilic treatment step of subjecting the lyophobic treated portion to a lyophilic treatment after the semi-transmissive reflective layer forming step and before the colored layer forming step. preferable. According to such a method, when the colored layer is formed in the region surrounded by the banks, the affinity between the substrate surface and the colored layer forming material in the region that becomes the opening is improved, and thus the adhesion to the substrate is improved. A good colored layer can be obtained.
【0009】本発明において、前記着色層形成工程が、
前記バンクにより仕切られた領域内に紫外線硬化性樹脂
組成物からなる着色層形成材料を導入する工程と、前記
領域内に紫外線を照射することにより、前記着色層形成
材料を硬化させると同時に該領域内の前記撥液処理した
部位を親液処理する工程を有する構成としてもよい。か
かる構成によれば、着色層を硬化させる工程において親
液処理を行うことができるので、工程数を増加させずに
親液処理を行うことができる。In the present invention, the colored layer forming step comprises
Introducing a colored layer forming material composed of an ultraviolet curable resin composition into the region partitioned by the bank, and irradiating the region with ultraviolet rays to cure the colored layer forming material and the region at the same time. It may be configured to include a step of performing a lyophilic treatment on the portion of the liquid-repellent treated inside. With such a configuration, the lyophilic treatment can be performed in the step of curing the colored layer, so that the lyophilic treatment can be performed without increasing the number of steps.
【0010】本発明において、前記着色層形成工程を、
前記バンクにより仕切られた領域内に液体の着色層形成
材料をインクジェット法により吐出する方法で行うこと
が好ましい。かかる方法を用いれば、半透過反射層形成
工程だけでなく、その後の着色層形成工程を、ともにイ
ンクジェット法により行うので、大掛かりな装置や煩雑
な作業を必要とせず、さらなる生産性の向上および低コ
スト化を図ることができる。In the present invention, the colored layer forming step is
It is preferable to carry out a method of ejecting a liquid colored layer forming material into an area partitioned by the bank by an inkjet method. If such a method is used, not only the semi-transmissive reflective layer forming step but also the subsequent coloring layer forming step is performed by an inkjet method, so that a large-scale device and complicated work are not required, and further improvement in productivity and low Cost can be reduced.
【0011】本発明において、前記半透過反射層を形成
する液体材料に光散乱材を含有させてもよい。かかる構
成によれば、光散乱材を含有する半透過反射層を形成す
ることができ、基板のフロスト処理を行わなくても半透
過反射層での反射光が散乱される効果が得られる。した
がって、簡単な製造工程で、反射型の表示特性が良好な
カラーフィルタ基板が得られる。In the present invention, the liquid material forming the semi-transmissive reflective layer may contain a light scattering material. According to such a configuration, the semi-transmissive reflective layer containing the light scattering material can be formed, and the effect of scattering the reflected light on the semi-transmissive reflective layer without frosting the substrate is obtained. Therefore, a color filter substrate having good reflection type display characteristics can be obtained by a simple manufacturing process.
【0012】本発明のカラーフィルタ基板は、複数の色
要素からなる着色層がマトリクス状に形成されてなるカ
ラーフィルタが基板上に形成されてなるカラーフィルタ
基板であって、前記基板上に設けられた、各着色層ごと
に仕切るためのバンクと、前記バンクによって囲まれた
領域に形成された、開口部を有する半透過反射層と、前
記半透過反射層を覆うように形成された着色層を有する
ことを特徴とする。かかる構成のカラーフィルタ基板に
あっては、各着色層ごとに仕切るためのバンクによって
囲まれた領域内にのみ半透過反射層が設けられているの
で、着色層が形成されていない領域での光の反射がな
く、反射光のコントラストが良好である。The color filter substrate of the present invention is a color filter substrate in which color filters each having a colored layer formed of a plurality of color elements formed in a matrix are formed on the substrate, and the color filter substrate is provided on the substrate. Further, a bank for partitioning each colored layer, a semi-transmissive reflective layer having an opening formed in a region surrounded by the bank, and a colored layer formed so as to cover the semi-transmissive reflective layer. It is characterized by having. In the color filter substrate having such a configuration, since the semi-transmissive reflective layer is provided only in the area surrounded by the bank for partitioning each colored layer, light in the area where the colored layer is not formed is provided. There is no reflection, and the contrast of the reflected light is good.
【0013】あるいは、本発明のカラーフィルタ基板
は、複数の色要素からなる着色層がマトリクス状に形成
されてなるカラーフィルタが基板上に形成されてなるカ
ラーフィルタ基板であって、前記基板上に設けられた、
各着色層ごとに仕切るためのバンクと、前記バンクによ
って囲まれた領域に形成された、開口部を有する半透過
反射層と、前記半透過反射層を覆うように形成された着
色層を有し、前記半透過反射層内に光散乱材が含有され
ていることを特徴とする。かかる構成のカラーフィルタ
基板にあっては、各着色層ごとに仕切るためのバンクに
よって囲まれた領域内にのみ半透過反射層が設けられて
いるので、着色層が形成されていない領域での光の反射
がなく、反射光のコントラストが良好であるうえ、半透
過反射層における散乱特性が優れているので、反射面で
の映り込みが防止され、良好な表示が得られる。Alternatively, the color filter substrate of the present invention is a color filter substrate in which a color filter formed by forming colored layers composed of a plurality of color elements in a matrix is formed on the substrate. Provided,
A bank for partitioning each colored layer, a semi-transmissive reflective layer having an opening formed in a region surrounded by the bank, and a colored layer formed so as to cover the semi-transmissive reflective layer. A light scattering material is contained in the semi-transmissive reflective layer. In the color filter substrate having such a configuration, since the semi-transmissive reflective layer is provided only in the area surrounded by the bank for partitioning each colored layer, light in the area where the colored layer is not formed is provided. Since there is no reflection and the contrast of the reflected light is good and the scattering property of the semi-transmissive reflection layer is excellent, reflection on the reflection surface is prevented, and good display can be obtained.
【0014】本発明の液晶装置は、複数の色要素からな
る着色層がマトリクス状に形成されてなるカラーフィル
タが基板上に形成されてなるカラーフィルタ基板と、対
向基板との間に液晶が挟持されてなる液晶装置であっ
て、前記基板上に設けられた、各着色層ごとに仕切るた
めのバンクと、前記バンクによって囲まれた領域に形成
された、開口部を有する半透過反射層と、前記半透過反
射層を覆うように形成された前記着色層を有することを
特徴とする。かかる構成の液晶装置によれば、カラーフ
ィルタ基板において、各着色層ごとに仕切るためのバン
クによって囲まれた領域内にのみ半透過反射層が設けら
れているので、着色層が形成されていない領域での光の
反射がなく、反射光のコントラストが良好となる。した
がって、表示特性に優れた液晶装置が得られる。In the liquid crystal device of the present invention, the liquid crystal is sandwiched between the counter substrate and the color filter substrate in which the color filter formed by forming colored layers consisting of a plurality of color elements in a matrix is formed on the substrate. A liquid crystal device comprising: a bank for partitioning each colored layer provided on the substrate; a semi-transmissive reflective layer having an opening formed in a region surrounded by the bank; It is characterized in that the colored layer is formed so as to cover the semi-transmissive reflective layer. According to the liquid crystal device having such a configuration, in the color filter substrate, since the semi-transmissive reflective layer is provided only in the region surrounded by the bank for partitioning each colored layer, the region where the colored layer is not formed There is no reflection of the light in and the contrast of the reflected light becomes good. Therefore, a liquid crystal device having excellent display characteristics can be obtained.
【0015】あるいは、本発明の液晶装置は、複数の色
要素からなる着色層がマトリクス状に形成されてなるカ
ラーフィルタが基板上に形成されてなるカラーフィルタ
基板と、対向基板との間に液晶が挟持されてなる液晶装
置であって、前記基板上に設けられた、各着色層ごとに
仕切るためのバンクと、前記バンクによって囲まれた領
域に形成された、開口部を有する半透過反射層と、前記
半透過反射層を覆うように形成された前記着色層を有
し、前記半透過反射層内に光散乱材が含有されているこ
とを特徴とする。かかる構成の液晶装置によれば、カラ
ーフィルタ基板において、各着色層ごとに仕切るための
バンクによって囲まれた領域内にのみ半透過反射層が設
けられているので、着色層が形成されていない領域での
光の反射がなく、反射光のコントラストが良好となるう
え、半透過反射層における散乱特性に優れているので、
反射面での映り込みが防止される。したがって、表示特
性に優れた液晶装置が得られる。Alternatively, in the liquid crystal device of the present invention, a liquid crystal is provided between a counter substrate and a color filter substrate in which a color filter formed by forming colored layers composed of a plurality of color elements in a matrix is formed on the substrate. A liquid crystal device in which a semi-transmissive reflective layer provided on the substrate for partitioning each colored layer and an opening formed in a region surrounded by the bank. And the colored layer formed so as to cover the semi-transmissive reflective layer, and the light-scattering material is contained in the semi-transmissive reflective layer. According to the liquid crystal device having such a configuration, in the color filter substrate, since the semi-transmissive reflective layer is provided only in the region surrounded by the bank for partitioning each colored layer, the region where the colored layer is not formed Since there is no reflection of light at, the contrast of the reflected light is good, and the scattering properties of the semi-transmissive reflective layer are excellent,
The reflection on the reflective surface is prevented. Therefore, a liquid crystal device having excellent display characteristics can be obtained.
【0016】本発明の液晶装置は、前記対向基板に、前
記各着色層に対応する画素電極、および該画素電極に接
続してなるアクティブ素子が形成された構成とすること
ができる。また本発明の液晶装置において、前記着色層
上に、透明電極が形成された構成とすることができる。
本発明の電子機器は、本発明の液晶表示装置を具備して
なることを特徴とする。The liquid crystal device of the present invention may be configured such that the counter substrate is provided with pixel electrodes corresponding to the colored layers and active elements connected to the pixel electrodes. Further, in the liquid crystal device of the present invention, a transparent electrode may be formed on the colored layer.
An electronic device of the present invention is characterized by including the liquid crystal display device of the present invention.
【0017】[0017]
【発明の実施の形態】(第1の実施形態)以下、本発明
に係る第1実施形態を、図1から図5を参照しながら説
明する。図1は本実施形態のカラーフィルタ基板を示し
たもので、(a)は平面図、(b)は1つの画素の模式
断面図である。このカラーフィルタ基板10は、基板1
1上に、マトリクス状に配された着色層15と、各着色
層の境目に形成された仕切り14とからなるカラーフィ
ルタを備えている。着色層15は、R(赤)、G
(緑)、B(青)のいずれかの色要素からなっており、
仕切り14は、遮光層からなるブラックマトリクス12
と、その上に形成されたバンク13とからなっている。
仕切り14によって囲まれた領域は個々の画素をなして
おり、それぞれの画素において、基板11上に半透過反
射層21が形成されている。また、図示していないが、
仕切り14および着色層15の上面には、必要に応じて
これらを一括的に覆う保護膜等が設けられる。図1の例
では、カラーフィルタにおけるR、G、Bの配列はスト
ライプ配列となっているが、その他の配列でも構わな
い。例えば図2(a)に示すようなモザイク配列でもよ
く、図2(b)に示すようなデルタ配列でもよい。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION (First Embodiment) A first embodiment according to the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 5. 1A and 1B show a color filter substrate of the present embodiment. FIG. 1A is a plan view and FIG. 1B is a schematic cross-sectional view of one pixel. This color filter substrate 10 is a substrate 1
1, a color filter including colored layers 15 arranged in a matrix and partitions 14 formed at boundaries between the colored layers is provided. Colored layer 15 is R (red), G
It consists of either the color element of (green) or B (blue),
The partition 14 is a black matrix 12 composed of a light shielding layer.
And a bank 13 formed thereon.
The region surrounded by the partition 14 constitutes an individual pixel, and the semi-transmissive reflective layer 21 is formed on the substrate 11 in each pixel. Also, although not shown,
If necessary, a protective film or the like is provided on the upper surfaces of the partition 14 and the colored layer 15 to collectively cover them. In the example of FIG. 1, the R, G, and B arrays in the color filter are stripe arrays, but other arrays may be used. For example, the mosaic arrangement shown in FIG. 2A may be used, or the delta arrangement shown in FIG. 2B may be used.
【0018】半透過反射層21には、光透過用の開口部
21aが設けられている。開口部21aの平面形状は特
に限定されず、例えば図3(a)に示すように、1つの
画素の中央に長い帯状の開口部21aを設けてもよく、
図3(b)に示すように、2つの短い帯状の開口部21
aを、1つの画素の対角部に設けてもよく、図3(c)
に示すように、1つの画素の中央に円形の開口部21a
を設けてもよい。開口部21aの大きさは、これによっ
て半透過反射層21における反射率および透過率が変わ
るが、反射型および透過型の表示をいずれも良好に行う
ためには、1つの画素の面積に対して開口部21aの面
積が10〜25%程度であることが好ましい。The semi-transmissive reflective layer 21 is provided with an opening 21a for transmitting light. The planar shape of the opening 21a is not particularly limited. For example, as shown in FIG. 3A, a long strip-shaped opening 21a may be provided at the center of one pixel.
As shown in FIG. 3B, two short strip-shaped openings 21 are formed.
a may be provided in a diagonal part of one pixel, and FIG.
, A circular opening 21a is formed in the center of one pixel.
May be provided. The size of the opening 21a changes the reflectance and the transmittance of the semi-transmissive reflective layer 21 depending on the size of the opening 21a. The area of the opening 21a is preferably about 10 to 25%.
【0019】図4は、本実施形態のカラーフィルタ基板
10を製造するのに好適に用いられるインクジェット装
置の例を示した概略斜視図である。この例の装置100
は、インクジェットヘッド群1、X方向駆動軸4、Y方
向ガイド軸5、制御装置6、載置台7、クリーニング機
構部8、基台9を備えている。載置台7は、Y方向ガイ
ド軸5上を移動可能に構成されており、液体材料が付与
される対象である基板11を基準位置に固定する機構を
備えている。インクジェットヘッド群1には、液体材料
を載置台7上の基板11に向かって吐出するノズル(吐
出口)を備えたインクジェットヘッドが複数設けられて
いる。FIG. 4 is a schematic perspective view showing an example of an ink jet device suitably used for manufacturing the color filter substrate 10 of this embodiment. Device 100 of this example
Includes an inkjet head group 1, an X-direction drive shaft 4, a Y-direction guide shaft 5, a control device 6, a mounting table 7, a cleaning mechanism section 8, and a base 9. The mounting table 7 is configured to be movable on the Y-direction guide shaft 5, and has a mechanism for fixing the substrate 11 to which the liquid material is applied at a reference position. The inkjet head group 1 is provided with a plurality of inkjet heads each having a nozzle (ejection port) for ejecting a liquid material toward the substrate 11 on the mounting table 7.
【0020】X方向駆動軸4には、X方向駆動モータ2
が接続されている。X方向駆動モータ2は、ステッピン
グモータ等であり、制御装置6からX軸方向の駆動信号
が供給されるとX方向駆動軸4を回転させる。X方向駆
動軸4が回転するとインクジェットヘッド群1がX軸方
向に移動する。Y方向ガイド軸5は、基台9に対して動
かないように固定されており、Y方向ガイド軸5上の載
置台7はY方向駆動モータ3に接続されている。Y方向
駆動モータ3は、ステッピングモータ等であり、制御装
置6からY軸方向の駆動信号が供給されると、載置台7
をY軸方向に移動させる。制御回路6は、インクジェッ
トヘッド群1に設けられている各インクジェットヘッド
に対してインク滴の吐出制御用の電圧を供給する。ま
た、X方向駆動モータ2に対して、インクジェットヘッ
ド群1のX軸方向の移動を制御するための駆動パルス信
号(X軸方向の駆動信号)を供給するとともに、Y方向
駆動モータ3に対して、載置台7のY軸方向の移動を制
御するための駆動パルス信号(Y軸方向の駆動信号)を
供給する。The X-direction drive motor 2 is attached to the X-direction drive shaft 4.
Are connected. The X-direction drive motor 2 is a stepping motor or the like, and rotates the X-direction drive shaft 4 when a drive signal in the X-axis direction is supplied from the control device 6. When the X-direction drive shaft 4 rotates, the inkjet head group 1 moves in the X-axis direction. The Y-direction guide shaft 5 is fixed so as not to move with respect to the base 9, and the mounting table 7 on the Y-direction guide shaft 5 is connected to the Y-direction drive motor 3. The Y-direction drive motor 3 is a stepping motor or the like, and when a drive signal in the Y-axis direction is supplied from the control device 6, the mounting table 7 is provided.
Is moved in the Y-axis direction. The control circuit 6 supplies a voltage for controlling ejection of ink droplets to each inkjet head provided in the inkjet head group 1. Further, a drive pulse signal (drive signal in the X-axis direction) for controlling the movement of the inkjet head group 1 in the X-axis direction is supplied to the X-direction drive motor 2, and also to the Y-direction drive motor 3. A drive pulse signal (a drive signal in the Y-axis direction) for controlling the movement of the mounting table 7 in the Y-axis direction is supplied.
【0021】クリーニング機構部8は、インクジェット
ヘッド群1をクリーニングする機構を備えている。クリ
ーニング機構部8は、図示しない駆動モータに接続され
ており、この駆動モータの駆動により、Y方向ガイド軸
5に沿って移動できるように構成されている。クリーニ
ング機構部8の移動も制御装置6によって制御される。The cleaning mechanism section 8 has a mechanism for cleaning the ink jet head group 1. The cleaning mechanism portion 8 is connected to a drive motor (not shown), and is configured to be movable along the Y-direction guide shaft 5 by driving the drive motor. The movement of the cleaning mechanism unit 8 is also controlled by the control device 6.
【0022】図5(a)〜(f)は、本実施形態のカラ
ーフィルタ基板10を製造する方法を工程順に示した模
式断面図である。これらの図では1つの画素を示してい
る。まず、図5(a)に示すように、基板11上にブラ
ックマトリクス12を形成する。基板11としては、一
般にガラス基板が用いられるが、カラーフィルタ基板と
しての用途において必要とされる透明性、機械的強度等
の特性を有するものであれば、ガラス以外の材料を用い
ることもできる。FIGS. 5A to 5F are schematic sectional views showing a method of manufacturing the color filter substrate 10 of this embodiment in the order of steps. In these figures, one pixel is shown. First, as shown in FIG. 5A, the black matrix 12 is formed on the substrate 11. As the substrate 11, a glass substrate is generally used, but a material other than glass can be used as long as it has characteristics such as transparency and mechanical strength required for use as a color filter substrate.
【0023】ブラックマトリクス12は、金属クロム、
金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック
等で形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス
12を形成するには、スパッタ法や蒸着法を用いること
ができる。また樹脂薄膜からなるブラックマトリクス1
2を形成するには、グラビア印刷法、フォトレジスト
法、熱転写法等を用いることができる。金属薄膜からな
るブラックマトリクス12の膜厚は0.1〜0.2μm
程度である。The black matrix 12 is made of metallic chrome,
It is formed of a laminate of metallic chromium and chromium oxide, or resin black or the like. To form the black matrix 12 made of a metal thin film, a sputtering method or a vapor deposition method can be used. Also, a black matrix 1 made of a resin thin film
For forming 2, the gravure printing method, the photoresist method, the thermal transfer method and the like can be used. The thickness of the black matrix 12 made of a metal thin film is 0.1 to 0.2 μm.
It is a degree.
【0024】続いて、ブラックマトリクス12上にバン
ク13を形成する。すなわち、図5(b)に示すよう
に、基板母材11およびブラックマトリクス12を覆う
ように、ネガ型の透明な感光性樹脂組成物からなるレジ
スト層17を形成し、その上面に、マトリクスパターン
形状に形成されたマスクフィルム18を密着させた状態
で露光処理を行う。そして、図5(c)に示すように、
レジスト層17の未露光部分をエッチング処理すること
によりレジスト層17をパターニングして、バンク13
を形成する。バンク13の高さは2.5〜2.8μm程
度であるこのバンク13とその下のブラックマトリクス
12は、この後の工程において、画素内に液体材料が導
入された際に液体材料の広がりを規制する土手の役割を
果たす仕切り14となる。Subsequently, the bank 13 is formed on the black matrix 12. That is, as shown in FIG. 5B, a resist layer 17 made of a negative type transparent photosensitive resin composition is formed so as to cover the substrate base material 11 and the black matrix 12, and a matrix pattern is formed on the upper surface thereof. The exposure process is performed in a state where the mask film 18 formed in a shape is in close contact with the mask film 18. Then, as shown in FIG.
The resist layer 17 is patterned by etching the unexposed portion of the resist layer 17, and the bank 13
To form. The height of the bank 13 is about 2.5 to 2.8 μm. The bank 13 and the black matrix 12 below the bank 13 spread the liquid material when the liquid material is introduced into the pixel in the subsequent process. It becomes the partition 14 which plays the role of a bank to regulate.
【0025】バンク13を形成する材料として、塗膜表
面が撥液性となる樹脂材料を用いると、この後の工程
で、インクジェット法を用いてバンク13で囲まれた画
素内に液体材料を吐出する際の、液滴の着弾位置精度が
向上するので好ましい。なおバンク13が撥液性の材料
からなる場合には、着色層15を形成した後、バンク1
3上面上に保護膜等を形成する前にバンク13の表面を
親液化することが好ましい。例えば、フッ素系の樹脂材
料を用いて撥液性のバンク13を形成し、画素内に着色
層15を形成する液体材料を導入した後、バンク13に
紫外線を照射することにより、バンク13の表面を親液
化することができる。If a resin material having a liquid-repellent coating film surface is used as a material for forming the bank 13, the liquid material is ejected into pixels surrounded by the bank 13 by an ink jet method in a subsequent step. This is preferable because the accuracy of the landing position of the liquid droplet is improved. When the bank 13 is made of a liquid repellent material, the bank 1 is formed after the colored layer 15 is formed.
3 It is preferable to make the surface of the bank 13 lyophilic before forming a protective film or the like on the upper surface. For example, the surface of the bank 13 is formed by forming the liquid-repellent bank 13 using a fluorine-based resin material, introducing a liquid material that forms the colored layer 15 into the pixel, and then irradiating the bank 13 with ultraviolet rays. Can be made lyophilic.
【0026】次に、図5(d)に示すように、仕切り1
4で囲まれた領域内、すなわち画素内であって、開口部
21が形成される部位に撥液処理を施して撥液部19を
形成する。撥液処理は、例えば以下のようなプラズマ重
合による方法を用いて行うことができる。このプラズマ
重合による撥液処理では、まず撥液処理のための原料液
を用意する。撥液処理用原料液としては、C4F10やC8
F16などの直鎖状PFCからなる液体有機物が好適に用
いられる。そして、撥液処理用原料液の蒸気をプラズマ
処理装置においてプラズマ化する。このようにして直鎖
状PFCの蒸気がプラズマ化されると、直鎖状PFCの
結合が一部切断されて活性化する。活性化されたPFC
が基板11の表面に到達すると、基板11上でPFCが
互いに重合し、撥液性を有するフッ素樹脂重合膜を形成
する。ここで、分子量の大きなPFCでは放電維持が困
難であるため、Arのような希ガスを添加することによ
って放電維持を容易にすることができる。また、撥液処
理の原料液がフルオロカーボンである場合、原料液より
も分子量の小さいPFC、例えばCF4等を添加するこ
とも可能である。活性化したCF4を添加すると、原料
をプラズマ化した際に原料液であるフルオロカーボンの
フッ素の一部が離脱したとしても、活性なフッ素が重合
膜に取り込まれるため、重合膜の撥液性を向上すること
ができる。好適には、これらを複数組み合わせることに
より、フッ化重合膜を形成する。例えば、放電ガスの流
量を、C8F18が20ccm、CF4が120〜130c
cm、Arが150ccmとすることが好ましい。Next, as shown in FIG. 5D, the partition 1
A liquid-repellent portion 19 is formed by performing a liquid-repellent treatment on a region surrounded by 4, that is, within a pixel, where the opening 21 is formed. The liquid repellent treatment can be performed by using the following method by plasma polymerization, for example. In the liquid repellent treatment by the plasma polymerization, first, a raw material liquid for the liquid repellent treatment is prepared. As the raw material liquid for liquid repellent treatment, C 4 F 10 or C 8
A liquid organic substance composed of linear PFC such as F 16 is preferably used. Then, the vapor of the raw material liquid for liquid repellent treatment is turned into plasma in the plasma processing apparatus. When the vapor of the linear PFC is plasmatized in this way, the bond of the linear PFC is partially broken and activated. Activated PFC
When reaches the surface of the substrate 11, PFCs are polymerized with each other on the substrate 11 to form a fluororesin polymer film having liquid repellency. Here, since it is difficult to maintain discharge with a PFC having a large molecular weight, it is possible to easily maintain discharge by adding a rare gas such as Ar. When the raw material liquid for the liquid repellent treatment is fluorocarbon, it is also possible to add PFC having a smaller molecular weight than the raw material liquid, such as CF 4 . When activated CF 4 is added, active fluorine is incorporated into the polymer film even if part of the fluorine of the fluorocarbon, which is the raw material liquid, is released when the raw material is converted into plasma, so that the liquid repellency of the polymer film is improved. Can be improved. Suitably, a fluoropolymer film is formed by combining a plurality of these. For example, the flow rate of the discharge gas is 20 ccm for C 8 F 18 and 120 to 130 c for CF 4 .
It is preferable that cm and Ar be 150 ccm.
【0027】本実施形態において、撥液部19は、画素
内の開口部21が形成される部位にのみ形成する。その
ためには、開口部21が形成される部位に対応する透過
部を有するマスクを用いて、上記の撥液処理を行うこと
が好ましい。あるいは、上記の撥液処理で得られるフッ
素樹脂重合膜は、紫外線を照射して分解除去することに
より親液性になるので、画素内の基板11全面に対して
上記の撥液処理を施した後、開口部21が形成される部
位に対応する遮蔽部を有するマスクを介して紫外線照射
を行うことにより、開口部21が形成される部位にのみ
撥液部19を形成することができる。In the present embodiment, the liquid repellent portion 19 is formed only in the portion of the pixel where the opening 21 is formed. For that purpose, it is preferable to perform the above-mentioned liquid repellent treatment using a mask having a transmissive portion corresponding to a portion where the opening 21 is formed. Alternatively, since the fluororesin polymer film obtained by the liquid repellent treatment becomes lyophilic by being decomposed and removed by irradiation with ultraviolet rays, the liquid repellent treatment is applied to the entire surface of the substrate 11 in the pixel. After that, the liquid repellent portion 19 can be formed only in the portion in which the opening 21 is formed by performing ultraviolet irradiation through a mask having a shielding portion corresponding to the portion in which the opening 21 is formed.
【0028】次に、図5(e)に示すように、仕切り1
4で囲まれた領域内、すなわち画素内にインクジェット
法を用いて半透過反射層21を形成する。半透過反射層
21は、銀、アルミニウム、アルミニウム合金、銀合
金、APC(銀−パラジウム−銅の合金)などから構成
される。具体的には、半透過反射層21を形成する液体
材料として、半透過反射層21を構成する金属の超微粒
子を溶媒に分散させた分散液を用い、この分散液を図4
に示す構成のインクジェット装置を用いて画素内に吐出
する。インクジェットヘッドとしては、ピエゾ圧電効果
を応用した精密ヘッドを用いることが好ましい。画素内
に吐出された液体材料は撥液部19以外の領域に広が
り、撥液部19上に開口を有する塗膜が形成される。こ
の塗膜を乾燥させた後、焼成することにより、開口部2
1aを有する半透過反射層21が形成される。Next, as shown in FIG. 5 (e), the partition 1
The semi-transmissive reflective layer 21 is formed in the area surrounded by 4, that is, in the pixel by using the inkjet method. The transflective layer 21 is made of silver, aluminum, an aluminum alloy, a silver alloy, APC (silver-palladium-copper alloy), or the like. Specifically, as the liquid material for forming the semi-transmissive reflective layer 21, a dispersion liquid in which ultrafine particles of metal forming the semi-transmissive reflective layer 21 are dispersed in a solvent is used.
The ink is ejected into the pixels by using the inkjet device having the configuration shown in FIG. As the inkjet head, it is preferable to use a precision head to which the piezoelectric effect is applied. The liquid material ejected into the pixel spreads in the area other than the liquid repellent portion 19, and a coating film having an opening is formed on the liquid repellent portion 19. The coating film is dried and then fired to form the opening 2
A transflective layer 21 having 1a is formed.
【0029】次いで、図5(f)に示すように、仕切り
14で囲まれた領域内、すなわち半透過反射層21が形
成された画素内に着色層15を形成する。具体的には、
図4に示す構成のインクジェット装置を用いて、液体の
着色層形成材料(インク)を画素内に吐出し、これを乾
燥および/または硬化させて着色層15をする。R、
G、Bの3色の着色層15は、各色要素毎に順に形成し
てもよく、3色のインクを予め設定されたプログラムに
従って、所定の配色パターンとなるように同時に吐出し
てもよい。半透過反射層21上における着色層15の厚
さは0.8〜1.2μm程度とされる。Next, as shown in FIG. 5F, the colored layer 15 is formed in the region surrounded by the partition 14, that is, in the pixel in which the semi-transmissive reflective layer 21 is formed. In particular,
A colored layer forming material (ink) that is a liquid is ejected into the pixels by using the inkjet device having the configuration shown in FIG. 4, and this is dried and / or cured to form the colored layer 15. R,
The colored layers 15 of three colors G and B may be sequentially formed for each color element, and the inks of three colors may be simultaneously ejected so as to form a predetermined color arrangement pattern according to a preset program. The thickness of the colored layer 15 on the semi-transmissive reflective layer 21 is about 0.8 to 1.2 μm.
【0030】着色層形成材料(インク)は、粘度が2〜
20mPa・sで、ノズル孔の周囲をなすノズルプレー
トに対する接触角が50゜より大きく、表面張力が20
〜40mN/mであるものが好ましい。インクの粘度が
高すぎると、インクが吐出した後の次のインクの供給が
間に合わなくて吐出不良を起こすおそれがあり、粘度が
低すぎると流動性がよすぎてインクの過供給となるおそ
れがある。またインクのノズルプレートに対する接触角
が低すぎるとノズルプレートがインクで濡れてしまい、
インク滴が吐出される際に、ノズルプレートに付着した
インクに、インク滴が引き寄せられて、正確な位置へ吐
出されないおそれがある。またインクの表面張力が大き
すぎても、小さすぎても、圧電素子の振動による安定し
たメニスカスコントロールができなくなる。着色層形成
材料(インク)としては、例えばアクリル樹脂カラーペ
ースト、水性メラミンカラーペースト、アクリレート系
組成物等が使用できる。The coloring layer forming material (ink) has a viscosity of 2 to
At 20 mPa · s, the contact angle to the nozzle plate surrounding the nozzle hole is greater than 50 ° and the surface tension is 20.
It is preferably about 40 mN / m. If the viscosity of the ink is too high, the next ink may not be supplied in time after the ink is ejected, which may cause ejection failure.If the viscosity is too low, the fluidity may be too good and the ink may be over-supplied. is there. If the contact angle of the ink to the nozzle plate is too low, the nozzle plate will get wet with the ink,
When the ink droplet is ejected, the ink droplet may be attracted to the ink adhering to the nozzle plate, and may not be ejected to an accurate position. Further, if the surface tension of the ink is too large or too small, stable meniscus control due to vibration of the piezoelectric element cannot be performed. As the colored layer forming material (ink), for example, an acrylic resin color paste, an aqueous melamine color paste, an acrylate composition, etc. can be used.
【0031】本実施形態によれば、バンク13により仕
切られた画素内に半透過反射層を形成するので、画素間
に反射膜が無いカラーフィルタ基板が得られる。また、
開口部21aを形成する部位に撥液処理を行うので、画
素内に半透過反射層を形成する液体材料を吐出するだけ
で、開口を有する塗膜が形成される。したがって、この
塗膜を硬化させることにより、開口部21aを有する半
透過反射層21を容易に形成することができる。またバ
ンク13により仕切られた画素内に着色層を形成するの
で、隣り合う着色層どうしの混ざり合いが無い着色層を
容易に形成することができる。また、半透過反射層21
の形成と、着色層15の形成を、ともにインクジェット
法により行うので、大掛かりな装置や煩雑な作業を必要
とせず、低コスト化を図ることができる。なお、着色層
15を形成するための液体材料は、画素内の半透過反射
層21の上面が完全に埋まるように、比較的多量に吐出
されるので、撥液部19上にも塗膜が形成される。According to this embodiment, since the semi-transmissive reflective layer is formed in the pixel partitioned by the bank 13, a color filter substrate having no reflective film between the pixels can be obtained. Also,
Since the liquid repellent treatment is performed on the portion where the opening 21a is formed, the coating film having the opening is formed only by discharging the liquid material that forms the semi-transmissive reflective layer in the pixel. Therefore, by curing this coating film, the semi-transmissive reflective layer 21 having the opening 21a can be easily formed. Further, since the colored layer is formed in the pixel partitioned by the bank 13, it is possible to easily form the colored layer in which the adjacent colored layers are not mixed with each other. In addition, the semi-transmissive reflective layer 21
Since the formation of the colored layer and the formation of the colored layer 15 are both performed by the inkjet method, a large-scale apparatus and complicated work are not required, and the cost can be reduced. Since the liquid material for forming the colored layer 15 is ejected in a relatively large amount so that the upper surface of the semi-transmissive reflective layer 21 in the pixel is completely filled, a coating film is also formed on the liquid repellent portion 19. It is formed.
【0032】(第2の実施形態)図6は、本発明のカラ
ーフィルタ基板の第2の実施形態を示したもので、1つ
の画素の模式断面図である。本実施形態のカラーフィル
タ基板20が、前記第1の実施形態のものと異なる点
は、半透過反射層21に光散乱材22が含有されている
点である。図6において、図1と同じ構成要素には同一
符号を付して、その説明を簡略化する。(Second Embodiment) FIG. 6 shows a second embodiment of the color filter substrate of the present invention and is a schematic sectional view of one pixel. The color filter substrate 20 of the present embodiment is different from that of the first embodiment in that the semi-transmissive reflective layer 21 contains a light scattering material 22. 6, the same components as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals to simplify the description.
【0033】本実施形態のカラーフィルタ基板20は、
基板11上に、マトリクス状に配された画素を備えてお
り、画素と画素の境目は、遮光層からなるブラックマト
リクス12と、その上に形成されたバンク13とからな
る仕切り14によって区切られている。1つ1つの画素
には開口部21aを有する半透過反射層21が形成され
ており、その上にR(赤)、G(緑)、B(青)のいず
れかのインクからなる着色層15が形成されている。
R、G、Bの配列は、いわゆるモザイク配列でもよく、
ストライプ配列、デルタ配列など、その他の配列でも構
わない。また、図示していないが、仕切り14および着
色層15の上面には、必要に応じてこれらを一括的に覆
う保護膜等が設けられる。The color filter substrate 20 of this embodiment is
Pixels arranged in a matrix are provided on the substrate 11, and a boundary between the pixels is divided by a partition 14 including a black matrix 12 formed of a light shielding layer and a bank 13 formed on the black matrix 12. There is. A semi-transmissive reflective layer 21 having an opening 21a is formed in each pixel, and a colored layer 15 made of any one of R (red), G (green), and B (blue) ink is formed thereon. Are formed.
The arrangement of R, G, B may be a so-called mosaic arrangement,
Other arrangements such as stripe arrangement and delta arrangement may be used. Although not shown, a protective film or the like that collectively covers the partition 14 and the colored layer 15 is provided on the upper surfaces of the partition 14 and the colored layer 15 if necessary.
【0034】半透過反射層21中に含有されている光散
乱材22は、半透過反射層21の表面形状に凹凸を与え
て、光散乱特性を向上させるものである。具体的には、
球形のアルミナ、シリカまたはチタニアなどからなるビ
ーズ22が好適に用いられる。The light-scattering material 22 contained in the semi-transmissive reflective layer 21 imparts irregularities to the surface shape of the semi-transmissive reflective layer 21 to improve the light-scattering characteristics. In particular,
The beads 22 made of spherical alumina, silica, titania or the like are preferably used.
【0035】本実施形態のカラーフィルタ基板20は、
前記第1の実施形態のカラーフィルタ基板10の製造方
法において、半透過反射層21を形成する液体材料中
に、予め光分散材22を分散させておき、この分散液を
インクジェットヘッドから吐出する他は同様にして製造
することができる。インクジェットヘッドのノズル径に
対して、ビーズ22の粒径が大きすぎたり、ビーズ22
の含有量が多すぎたりすると吐出異常が生じるおそれが
あるので、ビーズ22は、粒径が0.1〜1.0μm程
度のものを用い、インクジェットヘッドとして、ノズル
孔の内径が25〜100μm程度のものを用いることが
好ましい。また半透過反射層21を形成する液体材料中
におけるビーズ22の含有量は、少なすぎると十分な散
乱効果が得られないので、5〜20体積%程度とするこ
とが好ましい。The color filter substrate 20 of this embodiment is
In the method of manufacturing the color filter substrate 10 of the first embodiment, the light dispersion material 22 is previously dispersed in the liquid material forming the semi-transmissive reflective layer 21, and the dispersion liquid is discharged from the inkjet head. Can be manufactured in a similar manner. The particle size of the beads 22 is too large for the nozzle diameter of the inkjet head, or the beads 22
If the content of the beads is too large, abnormal ejection may occur. Therefore, the beads 22 having a particle diameter of about 0.1 to 1.0 μm should be used, and the inner diameter of the nozzle hole should be about 25 to 100 μm as an inkjet head. It is preferable to use the above-mentioned one. Further, if the content of the beads 22 in the liquid material forming the semi-transmissive reflective layer 21 is too small, a sufficient scattering effect cannot be obtained, so the content is preferably about 5 to 20% by volume.
【0036】本実施形態によれば、前記第1の実施形態
と同様の作用効果が得られる他、半透過反射層21に光
散乱材22が含有されているので、半透過反射層21に
おける光散乱特性が向上している。したがって、従来の
ような基板のフロスト処理を行わなくても半透過反射層
での正反射像の映り込みを防止することができ、液晶装
置に用いたときに反射型の表示特性が良好となるカラー
フィルタ基板が得られる。According to this embodiment, in addition to the same effects as the first embodiment, the light-scattering material 22 is contained in the semi-transmissive reflective layer 21, so that the light in the semi-transmissive reflective layer 21 is lighted. The scattering characteristics are improved. Therefore, it is possible to prevent the specular reflection image from being reflected on the semi-transmissive reflective layer without performing the conventional frosting process on the substrate, and the reflective display characteristics are improved when used in a liquid crystal device. A color filter substrate is obtained.
【0037】(第3の実施形態)本実施形態が前記第1
および第2の実施形態と異なる点は、半透過反射層21
を形成する工程と着色層15を形成する工程との間に、
親液処理を行う点である。すなわち本実施形態では、前
記第1の実施形態または第2の実施形態と同様にして、
基板11上にブラックマトリクス12、バンク13、撥
液部19を形成し、半透過反射層21を形成した後、親
液処理を施して撥液部19を親液化する。この親液処理
は、少なくとも前工程において撥液処理を施した部位、
すなわち撥液部19に対して行うが、この処理によっ
て、半透過反射層21の上面が親液化されても構わな
い。ただしバンク13の上面は、着色層15の形成前に
親液化させることは好ましくない。(Third Embodiment) This embodiment is based on the first embodiment.
The difference from the second embodiment is that the semi-transmissive reflective layer 21
Between the step of forming and the step of forming the colored layer 15,
This is the point of performing lyophilic treatment. That is, in the present embodiment, as in the first embodiment or the second embodiment,
After forming the black matrix 12, the bank 13 and the liquid repellent portion 19 on the substrate 11 and forming the semi-transmissive reflective layer 21, the liquid repellent portion 19 is rendered lyophilic by performing a lyophilic treatment. This lyophilic treatment is at least the part that has been subjected to the liquid repellent treatment in the previous step
That is, it is performed on the liquid repellent portion 19, but the upper surface of the semi-transmissive reflective layer 21 may be rendered lyophilic by this treatment. However, it is not preferable to make the upper surface of the bank 13 lyophilic before forming the colored layer 15.
【0038】例えば、撥液部19がフッ素樹脂重合膜か
らなる場合には、これに紫外線を照射すれば該重合膜に
分解が生じるので、これにより親液化することができ
る。また、紫外線はフッ素樹脂重合膜を分解するだけで
なく、照射面に付着している有機物を分解する作用を有
しているので、この洗浄作用によっても親液性が向上す
る。したがって、撥液部19と同時に半透過反射層21
の上面にも紫外線を照射することが好ましい。なお、バ
ンク13がフッ素化合物からなる場合には、マスク等を
用いてバンク13には紫外線が照射されないようにする
のが好ましい。For example, when the liquid-repellent portion 19 is made of a fluororesin polymer film, the polymer film is decomposed by irradiating it with ultraviolet rays, so that it can be made lyophilic. Further, the ultraviolet rays not only decompose the fluororesin polymer film, but also decompose organic compounds adhering to the irradiation surface, so that the cleaning action also improves the lyophilicity. Therefore, at the same time as the liquid repellent portion 19, the semi-transmissive reflective layer 21 is formed.
It is preferable to irradiate the upper surface of the substrate with ultraviolet rays. When the bank 13 is made of a fluorine compound, it is preferable to prevent the bank 13 from being irradiated with ultraviolet rays by using a mask or the like.
【0039】また親液処理は、紫外線照射による処理だ
けでなく、活性化した酸素ガスまたはオゾンガスで処理
する方法でも行うことができる。あるいは、アルカリ溶
剤で処置する方法も可能である。いずれの方法でも、少
なくとも撥液部19が親液化されるように、好ましくは
撥液部19と半透過反射層21の上面が撥液化されるよ
うに、かつバンク13の上面は親液化されないように、
適宜マスク等を用いて処理を行うことが好ましい。そし
て、親液処理を施した後、仕切り14で囲まれた領域
内、すなわち画素内に、上記第1の実施形態または第2
の実施形態と同様にして着色層15を形成することによ
り、カラーフィルタ基板10(20)が得られる。The lyophilic treatment can be carried out not only by ultraviolet irradiation, but also by activated oxygen gas or ozone gas. Alternatively, a method of treating with an alkaline solvent is also possible. In either method, at least the lyophobic portion 19 is made lyophilic, preferably the upper surfaces of the lyophobic portion 19 and the semi-transmissive reflective layer 21 are made lyophobic, and the upper surface of the bank 13 is not made lyophilic. To
It is preferable to perform the treatment using a mask or the like as appropriate. Then, after performing the lyophilic treatment, in the region surrounded by the partition 14, that is, in the pixel, the first embodiment or the second embodiment is performed.
The color filter substrate 10 (20) is obtained by forming the colored layer 15 in the same manner as in the above embodiment.
【0040】本実施形態によれば、特に、画素内に液体
の着色層形成材料を吐出したときに、画素内の撥液部1
9が親液化されているので、半透過反射層21上および
開口部21a内に速やかに塗膜が形成され、下層との密
着性が良好な着色層15が得られる。According to the present embodiment, particularly when the liquid colored layer forming material is ejected into the pixel, the liquid repellent portion 1 in the pixel is
Since 9 is lyophilic, a coating film is rapidly formed on the semi-transmissive reflective layer 21 and in the opening 21a, and the colored layer 15 having good adhesion to the lower layer is obtained.
【0041】(第4の実施形態)また、前記第3の実施
形態のように新たに親液処理工程を設けなくても、前記
第1および第2の実施形態の製造方法において、着色層
形成材料(インク)として紫外線硬化性樹脂組成物から
なるインクを用いれば、紫外線を照射して着色層を硬化
させると同時に撥液部19を親液化することも可能であ
る。すなわち本実施形態では、前記第1の実施形態また
は第2の実施形態と同様にして、基板11上にブラック
マトリクス12、バンク13を形成し、撥液部19を形
成した後、半透過反射層21を形成する。次いで、半透
過反射層21が形成された画素内に、紫外線硬化性樹脂
組成物からなる着色層形成材料をインクジェット法によ
り吐出した後、紫外線を照射する。この紫外線照射によ
って撥液部19が親液化されると同時に、画素内に吐出
された着色層形成材料が硬化して着色層15が形成され
る。紫外線の照射は、基板11の両面側から行うとより
効果的である。(Fourth Embodiment) In the manufacturing methods of the first and second embodiments, a colored layer is formed without newly providing a lyophilic treatment step as in the third embodiment. When an ink made of an ultraviolet curable resin composition is used as the material (ink), it is possible to irradiate ultraviolet rays to cure the colored layer and at the same time make the liquid repellent portion 19 lyophilic. That is, in the present embodiment, similarly to the first or second embodiment, the black matrix 12 and the bank 13 are formed on the substrate 11, the liquid repellent portion 19 is formed, and then the semi-transmissive reflective layer is formed. 21 is formed. Next, a coloring layer forming material made of an ultraviolet curable resin composition is ejected into the pixel in which the semi-transmissive reflective layer 21 is formed by an inkjet method, and then ultraviolet rays are irradiated. By this ultraviolet irradiation, the liquid repellent portion 19 becomes lyophilic, and at the same time, the colored layer forming material discharged into the pixels is cured to form the colored layer 15. It is more effective to irradiate the ultraviolet rays from both sides of the substrate 11.
【0042】本実施形態において、着色層15を形成す
るための紫外線硬化性樹脂組成物としてはアクリレート
系組成物等を用いることができる。なお、本実施形態に
おいては、着色層15の形成材料を吐出した後に紫外線
照射を行うので、着色層15の硬化と同時に、バンク1
3の上面にも紫外線を照射して親液化することが好まし
い。このようにすれば、着色層15およびバンク13を
覆う保護膜等を形成する際に、該保護膜等とバンク15
上面との間の親和性が良好になる。In this embodiment, an acrylate composition or the like can be used as the ultraviolet curable resin composition for forming the colored layer 15. In addition, in the present embodiment, since the ultraviolet ray irradiation is performed after the material for forming the colored layer 15 is discharged, the bank 1 is cured at the same time when the colored layer 15 is cured.
It is preferable that the upper surface of 3 is also irradiated with ultraviolet rays to be made lyophilic. By doing so, when forming a protective film or the like for covering the colored layer 15 and the bank 13, the protective film and the bank 15 are formed.
Good affinity with the top surface.
【0043】本実施形態によれば、特に、撥液部19上
に吐出された着色層形成材料の硬化進行中に撥液部19
が親液化されるので、これにより、下層との密着性が良
好な着色層15が得られる。According to this embodiment, in particular, the liquid repellent portion 19 is in progress while the curing of the colored layer forming material discharged onto the liquid repellent portion 19 is in progress.
Is made lyophilic, whereby the colored layer 15 having good adhesion to the lower layer is obtained.
【0044】図7は、上記第1の実施形態のカラーフィ
ルタ基板10を用いて液晶装置を構成した第1の例を示
したもので、パッシブマトリックス型液晶装置(液晶装
置)の概略構成を示す要部断面図である。この例の液晶
装置200に、液晶駆動用IC、支持体などの付帯要素
を装着することによって、最終製品としての半透過反射
型液晶装置が得られる。FIG. 7 shows a first example in which a liquid crystal device is constructed using the color filter substrate 10 of the first embodiment, and shows a schematic structure of a passive matrix type liquid crystal device (liquid crystal device). FIG. A semi-transmissive reflection type liquid crystal device as a final product can be obtained by mounting auxiliary elements such as a liquid crystal driving IC and a support on the liquid crystal device 200 of this example.
【0045】この液晶装置200は、第1の実施形態で
説明したカラーフィルタ基板10を備えており、カラー
フィルタ基板10は液晶組成物層203の下側(バック
ライト212側)に配置されている。尚、本実施形態に
おいてはカラーフィルタ基板10について簡略に説明す
ることとする。この例の液晶装置200は、カラーフィ
ルタ基板10とガラス基板等からなる対向基板201と
の間にSTN(Super Twisted Nematic)液晶組成物等
からなる液晶組成物層203が挟持されて概略構成され
ている。カラーフィルタ基板10は、基板11、ブラッ
クマトリクス12とバンク13とからなる仕切り14、
開口部21aを備えた半透過反射層21、および着色層
15r、15g、15bを備えており、これらの上面を
覆うように保護膜16が形成されている。The liquid crystal device 200 includes the color filter substrate 10 described in the first embodiment, and the color filter substrate 10 is arranged below the liquid crystal composition layer 203 (on the side of the backlight 212). . In the present embodiment, the color filter substrate 10 will be briefly described. The liquid crystal device 200 of this example is roughly configured by sandwiching a liquid crystal composition layer 203 made of STN (Super Twisted Nematic) liquid crystal composition or the like between a color filter substrate 10 and a counter substrate 201 made of a glass substrate or the like. There is. The color filter substrate 10 includes a substrate 11, a partition 14 including a black matrix 12 and a bank 13,
The semi-transmissive reflective layer 21 having the opening 21a and the colored layers 15r, 15g, and 15b are provided, and the protective film 16 is formed so as to cover the upper surfaces of these.
【0046】カラーフィルタ基板10の保護膜16上
(液晶組成物層203側)には、複数の第1の電極20
6が所定の間隔でストライプ状に形成されており、その
上面(液晶組成物層203側)を覆うように配向膜20
9が形成されている。一方、対向基板201におけるカ
ラーフィルタ基板10と対向する面上には、カラーフィ
ルタ基板10側の第1の電極206と直交する方向に延
在する複数の第2の電極205がストライプ状に所定の
間隔で形成され、その上面(液晶組成物層203側)を
覆うように配向膜207が形成されている。第1の電極
206と第2の電極205とが交差する部位が画素であ
り、この画素となる部位に、カラーフィルタ基板10の
着色層15r、15g、15bが位置するように構成さ
れている。また、対向基板201の外面側(視認側)に
は偏光板211aが設けられている。カラーフィルタ基
板10の外面側にも偏光板211bが設けられ、さらに
その外側にバックライト212が設けられている。ま
た、符号204は基板間の間隔(セルギャップという)
を基板面内で一定に保持するためのスペーサであり、符
号210は液晶組成物を基板間に保持するためのシール
材である。尚、第1の電極206および第2の電極20
5はITO(Indium Tin Oxide)などの透明導電材料を
平面視ストライプ状に形成したものである。On the protective film 16 of the color filter substrate 10 (on the liquid crystal composition layer 203 side), a plurality of first electrodes 20 are provided.
6 are formed in stripes at predetermined intervals, and the alignment film 20 covers the upper surface (on the side of the liquid crystal composition layer 203).
9 is formed. On the other hand, on the surface of the counter substrate 201 facing the color filter substrate 10, a plurality of second electrodes 205 extending in a direction orthogonal to the first electrodes 206 on the color filter substrate 10 side are formed in a predetermined stripe shape. An alignment film 207 is formed so as to be spaced apart and cover the upper surface (on the side of the liquid crystal composition layer 203). A portion where the first electrode 206 and the second electrode 205 intersect is a pixel, and the colored layers 15r, 15g, and 15b of the color filter substrate 10 are located at the portion that becomes the pixel. A polarizing plate 211a is provided on the outer surface side (viewing side) of the counter substrate 201. A polarizing plate 211b is also provided on the outer surface side of the color filter substrate 10, and a backlight 212 is provided outside the polarizing plate 211b. Further, reference numeral 204 is a space between the substrates (called a cell gap).
Is a spacer for holding the liquid crystal in a constant manner on the substrate surface, and reference numeral 210 is a seal material for holding the liquid crystal composition between the substrates. The first electrode 206 and the second electrode 20
A transparent conductive material 5 such as ITO (Indium Tin Oxide) is formed in a stripe shape in a plan view.
【0047】かかる構成の液晶装置200にあっては、
明るい場所では、カラーフィルタ基板10の半透過反射
層21からの反射光を利用して反射型の液晶表示を行
い、暗い場所ではバックライト212を点灯させ、半透
過反射層21の透過光を利用して透過型の液晶表示を行
うことができる。本実施形態の液晶装置200は、カラ
ーフィルタ基板10の半透過反射層を形成する工程と、
着色層を形成する工程を、インクジェット法により行う
ことができるので、カラーフィルタ基板の製造に大掛か
りな装置や煩雑な作業を必要とせず、低コスト化を図る
ことができる。また、本実施形態の液晶装置200によ
れば、カラーフィルタ基板10において半透過反射層2
1が画素内にのみに設けられており、隣り合う画素の間
にはバンクが形成されているので、画素以外の領域での
光の反射がなく、反射型の液晶表示を行う際のコントラ
ストが良好である。In the liquid crystal device 200 having such a structure,
In a bright place, reflected light from the semi-transmissive reflective layer 21 of the color filter substrate 10 is used to perform a reflective liquid crystal display, and in a dark place, a backlight 212 is turned on to use the transmitted light of the semi-transmissive reflective layer 21. Thus, a transmissive liquid crystal display can be performed. The liquid crystal device 200 of the present embodiment includes a step of forming a semi-transmissive reflective layer of the color filter substrate 10,
Since the step of forming the colored layer can be performed by the inkjet method, a large-scale device and complicated work for manufacturing the color filter substrate are not required, and the cost can be reduced. In addition, according to the liquid crystal device 200 of the present embodiment, the semi-transmissive reflective layer 2 is provided in the color filter substrate 10.
Since 1 is provided only in the pixel and a bank is formed between adjacent pixels, there is no reflection of light in the area other than the pixel, and the contrast when performing reflective liquid crystal display is improved. It is good.
【0048】図8は、上記第1の実施形態のカラーフィ
ルタ基板10を用いて液晶装置を構成した第2の例を示
したもので、TFT型(Thin Film Transistor 型)液
晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。この例の液
晶装置300に、液晶駆動用IC、支持体、バックライ
ト.などの付帯要素を装着することによって、最終製品
としての半透過反射型液晶装置が得られる。この液晶装
置300は、第1の実施形態で説明したカラーフィルタ
基板10を備えており、カラーフィルタ基板10は液晶
組成物層の下側(バックライト側)に配置されている。
尚、本実施形態においてはカラーフィルタ基板10につ
いては説明を簡略化する。FIG. 8 shows a second example in which a liquid crystal device is constructed by using the color filter substrate 10 of the first embodiment. A schematic structure of a TFT type (Thin Film Transistor type) liquid crystal device is shown. It is an exploded perspective view shown. The liquid crystal device 300 of this example includes a liquid crystal driving IC, a support, a backlight. A semi-transmissive reflection type liquid crystal device as a final product can be obtained by mounting an accessory element such as. The liquid crystal device 300 includes the color filter substrate 10 described in the first embodiment, and the color filter substrate 10 is arranged below the liquid crystal composition layer (backlight side).
In the present embodiment, the description of the color filter substrate 10 will be simplified.
【0049】この実施形態の液晶装置300は、カラー
フィルタ基板10と、これに対向するように配置された
対向基板314と、これらの間に挟持された図示しない
液晶組成物層とを主体として構成されている。なお図示
していないが、カラーフィルタ基板10の下面側(液晶
層組成物側と反対側)には偏光板316が敷設されてお
り、その下側にバックライトが設けられている。また、
対向基板314の上面側(観察者側)には図示しない偏
光板が設けられている。The liquid crystal device 300 of this embodiment is mainly composed of a color filter substrate 10, a counter substrate 314 arranged so as to face the color filter substrate 10, and a liquid crystal composition layer (not shown) sandwiched therebetween. Has been done. Although not shown, a polarizing plate 316 is laid on the lower surface side (opposite side of the liquid crystal layer composition side) of the color filter substrate 10, and a backlight is provided below the polarizing plate 316. Also,
A polarizing plate (not shown) is provided on the upper surface side (observer side) of the counter substrate 314.
【0050】カラーフィルタ基板10は、基板11、ブ
ラックマトリクス12とバンク13とからなる仕切り1
4、および着色層15r、15g、15bを備えてお
り、これらの上面を覆うように保護膜16が形成されて
いる。カラーフィルタ基板10の保護膜16上(液晶組
成物層側)には、液晶駆動用の電極318が形成されて
いる。この電極318は、ITO(Indium Tin Oxide)
などの透明導電材料からなり、後述の画素電極332が
形成される領域全体をカバーする全面電極とされてい
る。また、電極318を覆って液晶組成物層側に配向膜
319が設けられている。The color filter substrate 10 is a partition 1 including a substrate 11, a black matrix 12 and a bank 13.
4 and colored layers 15r, 15g, and 15b, and a protective film 16 is formed so as to cover the upper surfaces thereof. An electrode 318 for driving liquid crystal is formed on the protective film 16 of the color filter substrate 10 (on the liquid crystal composition layer side). This electrode 318 is made of ITO (Indium Tin Oxide)
It is made of a transparent conductive material such as and is a full-face electrode that covers the entire region where a pixel electrode 332 to be described later is formed. An alignment film 319 is provided on the liquid crystal composition layer side so as to cover the electrode 318.
【0051】一方、対向基板314上には絶縁層325
が形成されており、絶縁膜325の上には、TFT型の
スイッチング素子と画素電極332が形成されている。
なお、実際の液晶装置では、画素電極332上に配向膜
が設けられるが、この図では省略している。スイッチン
グ素子としての薄膜トランジスタT(TFT)は、対向
基板314上に形成された絶縁層325上に、マトリク
ス状に走査線351…と信号線352…とが形成され、
これら走査線351…と信号線352…とに囲まれた領
域毎に画素電極332が設けられ、各画素電極332の
コーナ部分と走査線351と信号線352との間の部分
に、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート
電極とを具備する薄膜トランジスタTが組み込まれて構
成されている。そして、走査線351と信号線352に
対する信号の印加によって薄膜トランジスタTをオン・
オフして画素電極332への通電制御を行うことができ
るように構成されている。On the other hand, the insulating layer 325 is formed on the counter substrate 314.
And a TFT type switching element and a pixel electrode 332 are formed on the insulating film 325.
Although an alignment film is provided on the pixel electrode 332 in the actual liquid crystal device, it is omitted in this figure. In a thin film transistor T (TFT) as a switching element, scanning lines 351 ... And signal lines 352 ... Are formed in a matrix on an insulating layer 325 formed on a counter substrate 314,
A pixel electrode 332 is provided in each region surrounded by the scanning lines 351 ... And the signal lines 352. The source electrode is provided at a corner portion of each pixel electrode 332 and a portion between the scanning line 351 and the signal line 352. A thin film transistor T including a drain electrode, a semiconductor, and a gate electrode is incorporated and configured. Then, the thin film transistor T is turned on by applying a signal to the scanning line 351 and the signal line 352.
It is configured so that it can be turned off to control the energization of the pixel electrode 332.
【0052】かかる構成の液晶装置300によれば、明
るい場所では、カラーフィルタ基板10の半透過反射層
21からの反射光を利用して反射型の液晶表示を行い、
暗い場所ではバックライトを点灯させ、半透過反射層2
1の透過光を利用して透過型の液晶表示を行うことがで
きる。本実施形態の液晶装置300は、カラーフィルタ
基板10の半透過反射層を形成する工程と、着色層を形
成する工程を、インクジェット法により行うことができ
るので、カラーフィルタ基板の製造に大掛かりな装置や
煩雑な作業を必要とせず、低コスト化を図ることができ
る。また、本実施形態の液晶装置300によれば、カラ
ーフィルタ基板10において半透過反射層21が画素内
にのみに設けられており、隣り合う画素の間にはバンク
が形成されているので、画素以外の領域での光の反射が
なく、反射型の液晶表示を行う際のコントラストが良好
である。According to the liquid crystal device 300 having such a configuration, in a bright place, the reflection type liquid crystal display is performed by utilizing the reflected light from the semi-transmissive reflective layer 21 of the color filter substrate 10,
The backlight is turned on in a dark place, and the semi-transmissive reflective layer 2
A transmission type liquid crystal display can be performed using the transmitted light of No. 1. In the liquid crystal device 300 of the present embodiment, the step of forming the semi-transmissive reflective layer of the color filter substrate 10 and the step of forming the colored layer can be performed by an inkjet method, and thus is a large-scale device for manufacturing the color filter substrate. The cost can be reduced without requiring complicated work. Further, according to the liquid crystal device 300 of the present embodiment, since the semi-transmissive reflective layer 21 is provided only in the pixel in the color filter substrate 10 and the bank is formed between the adjacent pixels, There is no light reflection in regions other than the above, and the contrast is good when a reflective liquid crystal display is performed.
【0053】図9は、上記第1の実施形態のカラーフィ
ルタ基板10を用いて液晶装置を構成した第3の例を示
したもので、TFD型(Thin Film Diode 型)液晶装置
の概略構成を示す分解斜視図である。この例の液晶装置
400に、液晶駆動用IC、支持体、バックライトなど
の付帯要素を装着することによって、最終製品としての
半透過反射型液晶装置が得られる。この液晶装置400
は、第1の実施形態で説明したカラーフィルタ基板10
を備えており、カラーフィルタ基板10は液晶組成物層
の下側(バックライト側)に配置されている。尚、本実
施形態においてはカラーフィルタ基板10については説
明を簡略化する。FIG. 9 shows a third example in which a liquid crystal device is constructed by using the color filter substrate 10 of the first embodiment. A schematic structure of a TFD type (Thin Film Diode type) liquid crystal device is shown. It is an exploded perspective view shown. A semi-transmissive reflection type liquid crystal device as a final product is obtained by mounting auxiliary elements such as a liquid crystal driving IC, a support and a backlight on the liquid crystal device 400 of this example. This liquid crystal device 400
Is the color filter substrate 10 described in the first embodiment.
The color filter substrate 10 is disposed below the liquid crystal composition layer (backlight side). In the present embodiment, the description of the color filter substrate 10 will be simplified.
【0054】この実施形態の液晶装置400は、カラー
フィルタ基板10と、これに対向するように配置された
対向基板430と、これらの間に挟持された図示しない
液晶組成物層とを主体として構成されている。カラーフ
ィルタ基板10の下面側(液晶層組成物側と反対側)に
は偏光板416が敷設されており、その下側にバックラ
イト(図示略)が設けられている。また、対向基板43
0の上面側(観察者側)には図示しない偏光板が設けら
れている。カラーフィルタ基板10は、図1(b)に示
す構成を有し、基板11、ブラックマトリクスとバンク
とからなる仕切り(図示略)、開口部21aを備えた半
透過反射層(図示略)、および着色層15r、15g、
15bを備えており、これらの上面を覆うように保護膜
16が形成されている。カラーフィルタ基板10の保護
膜16上(液晶組成物層側)には、ストライプ状の電極
418が形成されている。この電極418は、ITO
(Indium Tin Oxide)などの透明導電材料からなってい
る。また、電極418を覆って液晶組成物層側に配向膜
419が設けられている。The liquid crystal device 400 of this embodiment is mainly composed of a color filter substrate 10, a counter substrate 430 arranged so as to face the color filter substrate 10, and a liquid crystal composition layer (not shown) sandwiched therebetween. Has been done. A polarizing plate 416 is laid on the lower surface side (opposite side of the liquid crystal layer composition side) of the color filter substrate 10, and a backlight (not shown) is provided below the polarizing plate 416. In addition, the counter substrate 43
On the upper surface side (viewer side) of 0, a polarizing plate (not shown) is provided. The color filter substrate 10 has the configuration shown in FIG. 1B, and includes a substrate 11, a partition (not shown) composed of a black matrix and a bank, a semi-transmissive reflective layer (not shown) having openings 21a, and Colored layers 15r, 15g,
15b, and the protective film 16 is formed so as to cover these upper surfaces. Striped electrodes 418 are formed on the protective film 16 (on the liquid crystal composition layer side) of the color filter substrate 10. This electrode 418 is made of ITO
It is made of transparent conductive material such as (Indium Tin Oxide). Further, an alignment film 419 is provided on the liquid crystal composition layer side so as to cover the electrode 418.
【0055】一方、対向基板430の液晶組成物層側に
は絶縁層(図示略)が形成されており、この絶縁膜の上
には、以下に説明するTFD型のスイッチング素子と画
素電極が形成されている。すなわち、絶縁膜上には、カ
ラーフィルタ基板10上のストライプ状の電極418と
直交する方向に、データ線434…が所定間隔離間して
整列形成されており、各データ線434…間に、先のス
トライプ状の電極418と位置合わせするように、2端
子型非線形素子436を介して、ITOなど透明導電材
料からなる画素電極432が複数形成されている。そし
てカラーフィルタ基板10の着色層15r,15g,1
5bは、各画素電極432に対応する位置に配置されて
いる。On the other hand, an insulating layer (not shown) is formed on the liquid crystal composition layer side of the counter substrate 430, and a TFD type switching element and a pixel electrode described below are formed on this insulating film. Has been done. That is, on the insulating film, the data lines 434 ... Are aligned and formed in the direction orthogonal to the stripe-shaped electrodes 418 on the color filter substrate 10 with a predetermined gap therebetween. A plurality of pixel electrodes 432 made of a transparent conductive material such as ITO are formed via the two-terminal type non-linear element 436 so as to be aligned with the striped electrodes 418. Then, the colored layers 15r, 15g, 1 of the color filter substrate 10
5b is arranged at a position corresponding to each pixel electrode 432.
【0056】かかる構成の液晶装置400によれば、明
るい場所では、カラーフィルタ基板10の半透過反射層
からの反射光を利用して反射型の液晶表示を行い、暗い
場所ではバックライトを点灯させ、半透過反射層の開口
部21aを透過する透過光を利用して透過型の液晶表示
を行うことができる。本実施形態の液晶装置400は、
カラーフィルタ基板10の半透過反射層を形成する工程
と、着色層を形成する工程を、インクジェット法により
行うことができるので、カラーフィルタ基板の製造に大
掛かりな装置や煩雑な作業を必要とせず、低コスト化を
図ることができる。また、本実施形態の液晶装置400
によれば、カラーフィルタ基板10において半透過反射
層が画素内にのみに設けられており、隣り合う画素の間
にはバンクが形成されているので、画素以外の領域での
光の反射がなく、反射型の液晶表示を行う際のコントラ
ストが良好である。According to the liquid crystal device 400 having such a structure, reflective type liquid crystal display is performed by utilizing reflected light from the semi-transmissive reflective layer of the color filter substrate 10 in a bright place, and the backlight is turned on in a dark place. A transmissive liquid crystal display can be performed by utilizing the transmitted light transmitted through the opening 21a of the semi-transmissive reflective layer. The liquid crystal device 400 of this embodiment is
Since the step of forming the semi-transmissive reflective layer of the color filter substrate 10 and the step of forming the colored layer can be performed by an inkjet method, a large-scale device or complicated work is not required for manufacturing the color filter substrate, Cost reduction can be achieved. In addition, the liquid crystal device 400 of the present embodiment
According to this, since the semi-transmissive reflective layer is provided only in the pixel in the color filter substrate 10 and the bank is formed between the adjacent pixels, there is no reflection of light in the region other than the pixel. Good contrast when performing reflective liquid crystal display.
【0057】なお、上記各例の液晶装置200,30
0,400において、カラーフィルタ基板10に代えて
上記第2の実施形態のカラーフィルタ基板20、あるい
は上記第3または第4の実施形態のカラーフィルタ基板
を用いても、同様にして液晶装置を構成することができ
る。そして、特に上記第2の実施形態のカラーフィルタ
基板20を用いた場合には、半透過反射層21に光散乱
材22が分散されていて光散乱特性に優れているため、
半透過反射層21での正反射が防止され、映り込み等が
ない良好な表示が得られる。The liquid crystal devices 200 and 30 of the above respective examples
0,400, the liquid crystal device is similarly configured by using the color filter substrate 20 of the second embodiment or the color filter substrate of the third or fourth embodiment instead of the color filter substrate 10. can do. In particular, when the color filter substrate 20 of the second embodiment is used, the light-scattering material 22 is dispersed in the semi-transmissive reflective layer 21, which is excellent in light-scattering characteristics.
Specular reflection at the semi-transmissive reflective layer 21 is prevented, and good display without glare can be obtained.
【0058】次に、本発明の電子機器の実施形態につい
て説明する。図10(a)は、携帯電話の一例を示した
斜視図である。符号600は携帯電話本体を示し、符号
601は液晶表示部を示している。図10(b)は、ワ
ープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示
した斜視図である。符号700は情報処理装置、符号7
01はキーボードなどの入力部、符号703は情報処理
装置本体を示し、符号702は液晶表示部を示してい
る。図10(c)は、腕時計型電子機器の一例を示した
斜視図である。符号800は時計本体を示し、符号80
1は液晶表示部を示している。これらの電子機器におい
て、液晶表示部601、702、801は、前記第1な
いし第4の実施形態のカラーフィルタ基板のいずれかを
備えた液晶装置を用いて構成されている。Next, embodiments of the electronic equipment of the present invention will be described. FIG. 10A is a perspective view showing an example of a mobile phone. Reference numeral 600 indicates a mobile phone main body, and reference numeral 601 indicates a liquid crystal display unit. FIG. 10B is a perspective view showing an example of a portable information processing device such as a word processor and a personal computer. Reference numeral 700 is an information processing device, reference numeral 7
Reference numeral 01 denotes an input unit such as a keyboard, reference numeral 703 denotes an information processing apparatus main body, and reference numeral 702 denotes a liquid crystal display unit. FIG. 10C is a perspective view showing an example of a wrist watch type electronic device. Reference numeral 800 indicates a watch body, and reference numeral 80
1 has shown the liquid crystal display part. In these electronic devices, the liquid crystal display units 601, 702, and 801 are configured by using a liquid crystal device including any of the color filter substrates of the first to fourth embodiments.
【0059】[0059]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
従来は、スパッタ法や真空蒸着法による成膜工程および
エッチング工程など、煩雑な作業と大掛かりな装置を必
要とする工程を経て形成されていた半透過反射層を、イ
ンクジェット法を用いて簡単な工程で形成することがで
きる。したがって、半透過反射型のカラーフィルタ基板
を、短時間、低コストで製造することができる。また、
カラーフィルタ基板の半透過反射層だけでなく、着色層
もインクジェット法を用いて行うことが好ましく、これ
により半透過反射型のカラーフィルタ基板の生産性をよ
り向上させ、製造コストをより削減することができる。As described above, according to the present invention,
Conventionally, a semi-transmissive reflective layer was formed through a process that requires complicated work and a large-scale device such as a film forming process and an etching process by a sputtering method or a vacuum evaporation method, and a simple process using an inkjet method. Can be formed with. Therefore, the transflective color filter substrate can be manufactured in a short time at low cost. Also,
It is preferable that not only the semi-transmissive reflective layer of the color filter substrate but also the colored layer be formed by using the inkjet method, thereby further improving the productivity of the semi-transmissive reflective type color filter substrate and further reducing the manufacturing cost. You can
【図1】 本発明に係るカラーフィルタ基板の第1の実
施形態を示したもので、(a)は平面図、(b)は
(a)中のb−b線に沿う断面図である。1A and 1B show a first embodiment of a color filter substrate according to the present invention, FIG. 1A is a plan view, and FIG. 1B is a sectional view taken along line bb in FIG. 1A.
【図2】 本発明に係るカラーフィルタ基板における着
色層の配列の例を示した平面図である。FIG. 2 is a plan view showing an example of an arrangement of colored layers in a color filter substrate according to the present invention.
【図3】 本発明に係るカラーフィルタ基板における半
透過反射層の例を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing an example of a semi-transmissive reflective layer in a color filter substrate according to the present invention.
【図4】 本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法
に好適に用いられるインクジェット装置の例の概略構成
を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a schematic configuration of an example of an inkjet device that is preferably used in the method for manufacturing a color filter substrate according to the present invention.
【図5】 (a)〜(f)は、第1の実施形態のカラー
フィルタ基板を製造する方法を工程順に示した模式断面
図である。5A to 5F are schematic cross-sectional views showing a method of manufacturing the color filter substrate of the first embodiment in the order of steps.
【図6】 本発明に係るカラーフィルタ基板の第2の実
施形態を示す要部断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of essential parts showing a second embodiment of a color filter substrate according to the present invention.
【図7】 本発明に係る液晶装置の一例を示した要部断
面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of essential parts showing an example of a liquid crystal device according to the present invention.
【図8】 本発明に係る液晶装置の他の例を示した分解
斜視図である。FIG. 8 is an exploded perspective view showing another example of the liquid crystal device according to the present invention.
【図9】 本発明に係る液晶装置の他の例を示した分解
斜視図である。FIG. 9 is an exploded perspective view showing another example of the liquid crystal device according to the present invention.
【図10】 本発明に係る電子機器の例を示したもので
(a)は携帯電話の斜視図であり、(b)は携帯型情報
処理装置の斜視図であり、(c)は腕時計型電子機器の
斜視図である。FIG. 10 shows an example of an electronic device according to the present invention, where (a) is a perspective view of a mobile phone, (b) is a perspective view of a portable information processing device, and (c) is a wristwatch type. It is a perspective view of an electronic device.
10,20…カラーフィルタ基板 11…基板 13…バンク 15,15r,15g,15b…着色層 19…撥液部 21…半透過反射層 21a…開口部 22…光散乱材 200,300,400…液晶装置 201,314,430…対向基板 203…液晶組成物層 10, 20 ... Color filter substrate 11 ... Substrate 13 ... Bank 15, 15r, 15g, 15b ... Colored layer 19 ... Liquid repellent part 21 ... Semi-transmissive reflective layer 21a ... opening 22 ... Light scattering material 200, 300, 400 ... Liquid crystal device 201, 314, 430 ... Counter substrate 203 ... Liquid crystal composition layer
フロントページの続き Fターム(参考) 2C056 EA24 FB01 2H048 BA02 BA11 BA55 BA60 BA64 BB02 BB07 BB10 BB42 2H091 FA02Y FA14Y FA14Z FA35Y FB02 FB08 FC01 GA13 LA12 LA15 Continued front page F-term (reference) 2C056 EA24 FB01 2H048 BA02 BA11 BA55 BA60 BA64 BB02 BB07 BB10 BB42 2H091 FA02Y FA14Y FA14Z FA35Y FB02 FB08 FC01 GA13 LA12 LA15
Claims (14)
透過反射層と、複数の色要素からなる着色層とを備えた
カラーフィルタ基板を製造するカラーフィルタ基板の製
造方法であって、 前記基板上に、各着色層ごとに仕切るためのバンクを形
成する工程と、 前記バンクにより仕切られた領域内であって、前記開口
部が形成される部位に撥液処理を施す撥液処理工程と、 該撥液処理工程後、前記バンクにより仕切られた領域内
に、液体材料をインクジェット法により吐出して前記半
透過反射層を形成する半透過反射層形成工程と、 該半透過反射層形成工程後、前記バンクにより仕切られ
た領域内に着色層を形成する着色層形成工程とを有する
ことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。1. A method of manufacturing a color filter substrate, comprising: a color filter substrate having a semi-transmissive reflective layer having an opening for transmitting light and a colored layer composed of a plurality of color elements on the substrate. A step of forming a bank for partitioning each colored layer on the substrate, and a liquid-repellent treatment for applying a liquid-repellent treatment to a region where the opening is formed in a region partitioned by the bank A step of forming a semi-transmissive reflective layer by ejecting a liquid material by an inkjet method into a region partitioned by the bank after the liquid-repellent treatment step, and the semi-transmissive reflective layer. After the forming step, a colored layer forming step of forming a colored layer in a region partitioned by the bank is provided.
前記着色層形成工程の前に、前記撥液処理した部位に親
液処理を施す親液処理工程を有することを特徴とする請
求項1記載のカラーフィルタ基板の製造方法。2. After the step of forming the semi-transmissive reflective layer,
2. The method of manufacturing a color filter substrate according to claim 1, further comprising a lyophilic treatment step of performing a lyophilic treatment on the lyophobic treated portion before the colored layer forming step.
り仕切られた領域内に紫外線硬化性樹脂組成物からなる
着色層形成材料を導入する工程と、前記領域内に紫外線
を照射することにより、前記着色層形成材料を硬化させ
ると同時に該領域内の前記撥液処理した部位を親液処理
する工程を有することを特徴とする請求項1または2の
いずれかに記載のカラーフィルタ基板の製造方法。3. The step of forming a colored layer, the step of introducing a colored layer forming material composed of an ultraviolet curable resin composition into an area partitioned by the bank, and irradiating the area with ultraviolet rays, 3. The method for manufacturing a color filter substrate according to claim 1, further comprising the step of curing the colored layer forming material and, at the same time, subjecting the liquid-repellent treated portion in the region to a lyophilic treatment. .
り仕切られた領域内に液体の着色層形成材料をインクジ
ェット法により吐出する工程を有することを特徴とする
請求項1ないし3のいずれかに記載のカラーフィルタ基
板の製造方法。4. The coloring layer forming step comprises the step of discharging a liquid coloring layer forming material into an area partitioned by the bank by an ink jet method. A method for manufacturing the color filter substrate described.
光散乱材を含有してなることを特徴とする請求項1ない
し4のいずれかに記載のカラーフィルタ基板の製造方
法。5. The method of manufacturing a color filter substrate according to claim 1, wherein the liquid material forming the semi-transmissive reflective layer contains a light scattering material.
ス状に形成されてなるカラーフィルタが基板上に形成さ
れてなるカラーフィルタ基板であって、 前記基板上に設けられた、各着色層ごとに仕切るための
バンクと、 前記バンクによって囲まれた領域に形成された、開口部
を有する半透過反射層と、 前記半透過反射層を覆うように形成された着色層を有す
ることを特徴とするカラーフィルタ基板。6. A color filter substrate comprising a substrate and a color filter comprising a plurality of colored layers each composed of a plurality of color elements formed in a matrix, wherein each colored layer is provided on the substrate. A bank for partitioning into, a semi-transmissive reflective layer having an opening formed in a region surrounded by the bank, and a colored layer formed so as to cover the semi-transmissive reflective layer. Color filter substrate.
ス状に形成されてなるカラーフィルタが基板上に形成さ
れてなるカラーフィルタ基板であって、 前記基板上に設けられた、各着色層ごとに仕切るための
バンクと、 前記バンクによって囲まれた領域に形成された、開口部
を有する半透過反射層と、 前記半透過反射層を覆うように形成された着色層を有
し、 前記半透過反射層内に光散乱材が含有されていることを
特徴とするカラーフィルタ基板。7. A color filter substrate comprising a substrate and a color filter comprising a plurality of colored layers comprising a plurality of color elements formed in a matrix, wherein each colored layer is provided on the substrate. A bank for partitioning, a semi-transmissive reflective layer having an opening formed in a region surrounded by the bank, and a colored layer formed so as to cover the semi-transmissive reflective layer, A color filter substrate, characterized in that a light scattering material is contained in the reflective layer.
ス状に形成されてなるカラーフィルタが基板上に形成さ
れてなるカラーフィルタ基板と、対向基板との間に液晶
が挟持されてなる液晶装置であって、 前記基板上に設けられた、各着色層ごとに仕切るための
バンクと、 前記バンクによって囲まれた領域に形成された、開口部
を有する半透過反射層と、 前記半透過反射層を覆うように形成された前記着色層を
有することを特徴とする液晶装置。8. A liquid crystal device in which a liquid crystal is sandwiched between a counter filter substrate and a color filter substrate in which a color filter is formed on a substrate, in which a color layer formed of a plurality of color elements is formed in a matrix. A bank provided on the substrate for partitioning each colored layer, a semi-transmissive reflective layer having an opening formed in a region surrounded by the bank, and the semi-transmissive reflective layer A liquid crystal device comprising the colored layer formed so as to cover the liquid crystal device.
する画素電極、および該画素電極に接続してなるアクテ
ィブ素子が形成されてなることを特徴とする請求項8記
載の液晶装置。9. The liquid crystal device according to claim 8, wherein a pixel electrode corresponding to each of the colored layers and an active element connected to the pixel electrode are formed on the counter substrate.
れてなることを特徴とする請求項8または9のいずれか
に記載の液晶装置。10. The liquid crystal device according to claim 8, wherein a transparent electrode is formed on the colored layer.
クス状に形成されてなるカラーフィルタが基板上に形成
されてなるカラーフィルタ基板と、対向基板との間に液
晶が挟持されてなる液晶装置であって、 前記基板上に設けられた、各着色層ごとに仕切るための
バンクと、 前記バンクによって囲まれた領域に形成された、開口部
を有する半透過反射層と、 前記半透過反射層を覆うように形成された前記着色層を
有し、 前記半透過反射層内に光散乱材が含有されていることを
特徴とする液晶装置。11. A liquid crystal device in which a liquid crystal is sandwiched between a counter substrate and a color filter substrate in which a color filter is formed on a substrate, in which a color layer including a plurality of color elements is formed in a matrix. A bank provided on the substrate for partitioning each colored layer, a semi-transmissive reflective layer having an opening formed in a region surrounded by the bank, and the semi-transmissive reflective layer And a light scattering material contained in the semi-transmissive reflective layer.
応する画素電極、および該画素電極に接続してなるアク
ティブ素子が形成されてなることを特徴とする請求項1
1記載の液晶装置。12. The counter substrate is formed with a pixel electrode corresponding to each of the colored layers and an active element connected to the pixel electrode.
1. The liquid crystal device according to 1.
れてなることを特徴とする請求項11または12のいず
れかに記載の液晶装置。13. The liquid crystal device according to claim 11, wherein a transparent electrode is formed on the colored layer.
晶表示装置を具備してなることを特徴とする電子機器。14. An electronic device comprising the liquid crystal display device according to claim 8.
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