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JP2003176361A - Uv光吸収性第四級ポリシロキサン - Google Patents

Uv光吸収性第四級ポリシロキサン

Info

Publication number
JP2003176361A
JP2003176361A JP2002237096A JP2002237096A JP2003176361A JP 2003176361 A JP2003176361 A JP 2003176361A JP 2002237096 A JP2002237096 A JP 2002237096A JP 2002237096 A JP2002237096 A JP 2002237096A JP 2003176361 A JP2003176361 A JP 2003176361A
Authority
JP
Japan
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group
acid
formula
light absorbing
groups
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002237096A
Other languages
English (en)
Inventor
Michael Fender
フェンダー ミヒャエル
Manfred Krakenberg
クラッケンベルグ マンフレッド
Holger Leidreiter
ライドライター ホルガー
Sascha Oestreich
オーストリッチ サーシャ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Evonik Operations GmbH
Original Assignee
TH Goldschmidt AG
Goldschmidt GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TH Goldschmidt AG, Goldschmidt GmbH filed Critical TH Goldschmidt AG
Publication of JP2003176361A publication Critical patent/JP2003176361A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/72Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds
    • A61K8/84Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds obtained by reactions otherwise than those involving only carbon-carbon unsaturated bonds
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    • A61K8/896Polysiloxanes containing atoms other than silicon, carbon, oxygen and hydrogen, e.g. dimethicone copolyol phosphate
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    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
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    • A61Q17/00Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/045Polysiloxanes containing less than 25 silicon atoms
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    • C08G77/382Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon
    • C08G77/388Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon containing nitrogen
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 汎用的に使用することができ、さらに、天然
または合成の繊維に対して平滑化、保護および柔軟化作
用を示し、天然または合成の繊維(たとえば、羊毛、綿
または毛髪)あるいは他の表面(たとえば、皮膚)への
高い直接固着性を呈し、さらにまた、機械的および/ま
たは光学的作用(たとえば、UV光)による損傷を低減
させる化合物を提供する。 【解決手段】 本発明は、一般式(I) で表されるUV光吸収性第四級ポリシロキサンに関す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、UV光吸収性第四
級ポリシロキサンと、その調製方法と、編織布保護用品
および化粧用品に用いる配合物におけるその使用と、に
関する。
【0002】
【従来の技術】200〜400nmの波長のUV光は、
編織布、合成繊維および天然繊維(たとえば、羊毛、綿
および毛髪)の漂白および損傷の原因になることが知ら
れている。
【0003】このため、編織布、合成繊維および天然繊
維をUV線から保護するかまたは損傷の程度を制御しう
る化合物の必要性が増大している。
【0004】したがって、編織布または合成もしくは天
然の繊維に照射されるUV線を抑制することのできる化
合物を提供することが望ましい。
【0005】繊維、染料および顔料をUV光から保護す
るために使用される多くの化合物が文献に開示されてい
る。そのような化合物は、典型的には、繊維を調製する
ときに直接使用される。
【0006】しかしながら、これらの化合物は保護効果
も柔軟化効果も有していない。さらに、それらは、多く
の場合、繊維の表面への接着性が欠如している。このこ
とは、ほんの数回洗濯しただけで、繊維に対するUV保
護性が損なわれることを意味する。
【0007】したがって、天然または合成の繊維に対し
て保護作用を示し、繊維への高い直接固着性を呈し、さ
らにまた機械的および/または光学的(たとえば、UV
光)作用による損傷を防止する化合物を提供することが
望ましい。
【0008】何回か洗濯を行った後でさえも適切なUV
保護性を提供できるように、化合物はまた、布用柔軟剤
配合物に組み入れられて布柔軟化サイクル時に繊維に付
着することができなければならない。
【0009】第四級ポリシロキサンについても同様に文
献から公知であり、たとえば、欧州特許公開第0282
720号および西独特許公開第3719086号に記載
されている。そのような化合物は、特に、毛髪用化粧品
に加えられてコンディショニング性を示し、編織布処理
剤に加えられて柔軟化および保護効果を示すことが知ら
れている。このタイプの化合物はまた、編織布の弾性お
よび引裂強度の増大、編織布の折り目または皺の発生の
低減ならびに/あるいはその後のアイロンかけの容易化
(容易なアイロンかけ)を目的として使用される(国際
出願公開第01/25385号、国際出願公開第01/
25382号、国際出願公開第01/25381号、国
際出願公開第01/25380号、国際出願公開第99
/55953号)。しかしながら、欧州特許第2827
20号および西独特許第3719086号に記載されて
いる化合物は、UV線の悪影響に対する保護作用を示さ
ない。
【0010】したがって、先行技術の欠点は、上記の効
果を達成するためにいずれの場合においても特殊な化合
物を提供しなければならないということである。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】以上の状況にかんがみ
て、本発明の目的をまとめると、汎用的に使用すること
ができ、さらに、天然または合成の繊維に対して平滑
化、保護および柔軟化作用を示し、天然または合成の繊
維(たとえば、羊毛、綿または毛髪)あるいは他の表面
(たとえば、皮膚)への高い直接固着性を呈し、さらに
また、機械的および/または光学的作用(たとえば、U
V光)による損傷を低減させる化合物を提供することで
あった。
【0012】
【課題を解決するための手段】驚くべきことに、上記の
目的がUV光吸収性第四級ポリシロキサンによって達成
されることを見いだした。
【0013】したがって、本発明は、下記一般式(I)
で表されるUV光吸収性第四級ポリシロキサンを提供す
る。
【化18】 〔式中、基Rは、同一であるかまたは異なっており、
いずれの場合においても、1〜4個の炭素原子を有する
低級アルキル基であるかまたはフェニル基であり、基R
のうち一部分は、基Rの意味を有していてもよく、
残りの基Rは、式(Ia) R=−M−Z (Ia) {ここで、基Zは、式(Ib)
【化19】 [ここで、基R、Rは、1〜22個の炭素原子を有
するアルキル基または2〜22個の炭素原子を有するア
ルケニル基であり、該アルキル基または該アルケニル基
は、ヒドロキシル基を有していてもよく、基Rは、式
(Ic)
【化20】 (ここで、基Rは、
【化21】 であり、基Rは、−CH=CH−であり、基Rは、
同一であるかまたは異なっており、いずれの場合におい
ても、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、ハロゲ
ン基、フェニル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、ア
ミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、ジ
(ヒドロキシアルキル)アミノ基またはジ(ポリアルコ
キシ)アミノ基であり、 m=0または1、 n=0または1、 o=0〜5、 x=0〜6。) で表されるUV吸収の役割を担う1価の発色団基であ
る。]で表される基であり、基Mは、少なくとも4個の
炭素原子を有しかつ1個のヒドロキシル基を有する2価
の炭化水素基であり、該炭素原子は、1個以上の酸素原
子によって中断されていてもよく、基ZのN原子は、基
M中のC−OH基に隣接する炭素原子によって基Mに結
合されており、基Aは、生理学的に適合性のある慣用
的な酸HAから生じる無機または有機アニオンであ
る。}で表される基であるが、ただし、平均分子中、少
なくとも1個の基Rは、式−M−Zで表される
基であるという条件付きであり、aは、互いに独立し
て、1〜200の値を有し、bは、0〜10の値を有す
る。〕。
【0014】本発明はさらに、本発明に係る化合物の調
製方法を提供する。本発明に係る方法は、一般式(I
I)
【化22】 〔式中、基Rは、同一であるかまたは異なっており、
いずれの場合においても、1〜4個の炭素原子を有する
低級アルキル基であるかまたはフェニル基であり、基R
のうち一部分は、基Rの意味を有していてもよく、
残りの基Rは、Zおよびヒドロキシル基と結合する代
わりにエポキシド基を有する、基Mの構造に対応した1
価の基であるが、ただし、平均分子中、少なくとも1個
の基Rは、Zおよびヒドロキシル基と結合する代わり
にエポキシド基を有する、基Mの構造に対応した1価の
基であるという条件付きであり、aは、互いに独立し
て、1〜200の値を有し、bは、0〜10の値を有す
る。〕で表される化合物を、一般式(IIb)
【化23】 〔式中、基R、Rは、1〜22個の炭素原子を有す
るアルキル基または2〜22個の炭素原子を有するアル
ケニル基であり、該アルキル基または該アルケニル基
は、ヒドロキシル基を有していてもよく、基Rは、式
(Ic)
【化24】 {ここで、基Rは、
【化25】 であり、基Rは、−CH=CH−であり、基Rは、
同一であるかまたは異なっており、いずれの場合におい
ても、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、ハロゲ
ン基、フェニル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、ア
ミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、ジ
(ヒドロキシアルキル)アミノ基またはジ(ポリアルコ
キシ)アミノ基であり、 m=0または1、 n=0または1、 o=0〜5、 x=0〜6。} で表されるUV吸収の役割を担う1価の発色団基であ
る。〕で表される化合物を、それ自体公知の方法によ
り、各エポキシド基が少なくとも1個の第三級アミノ基
に対応した定量比で、反応させることを含み、四級化さ
れる窒素原子を基準にして等価量の生理学的に適合性の
ある慣用的な有機もしくは無機の酸HAの存在下および
40〜120℃の温度で、反応を行うことを含む。
【0015】基Rの好ましい例は、1〜4個の炭素原
子を有する低級アルキル基であるかまたはフェニル基で
あり、具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、イソプロピル基またはn−ブチル基、イソブチル基
が挙げられる。
【0016】少なくとも4個の炭素原子を有しかつ1個
のヒドロキシル基を有する2価の炭化水素基であり、該
炭素原子が、1個以上の酸素原子によって中断されてい
てもよく、基ZのN原子が、基M中のC−OH基に隣接
する炭素原子によって基Mに結合されている基Mの好ま
しい例は、下記のとおりである。
【化26】
【0017】本発明に係る化合物の範囲内において、基
Zは、同一の意味を有していても異なる意味を有してい
てもよい。
【0018】基Zの好ましい例は、下記のとおりであ
る。
【化27】
【0019】生理学的に適合性のある慣用的な酸HAか
ら生じる無機または有機アニオンであるAの好ましい
例は、酢酸イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、硫酸
水素イオン、硫酸イオン、メト硫酸イオン、エト硫酸イ
オン、クエン酸イオン、酒石酸イオンおよび乳酸イオ
ン、ならびに芳香族酸のアニオン、たとえば、p−トル
エンスルホン酸、安息香酸、サリチル酸、ケイ皮酸、4
−メトキシケイ皮酸、4−アミノ安息香酸、4−ビス
(ヒドロキシプロピル)アミノ安息香酸、4−ビス(ポ
リエトキシ)アミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息
香酸、3−イミダゾール−4−イルアクリル酸、2−フ
ェニルベンゾイミダゾール−5−スルホン酸、3,3’
−(1,4−フェニレンジメチン)ビス(7,7−ジメ
チル−2−オキソ−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−
1−メタンスルホン酸)、2−ヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフェノン−5−スルホン酸および3−(4’−
スルホ)ベンジリデンボルナン−2−オンのアニオン、
である。
【0020】当業者は、化合物が本質的に統計の法則に
よって支配された分布を有する混合物の形態で存在する
という事実を熟知している。したがって、指数aおよび
bの値は、平均値を表す。
【0021】UV光吸収性第四級ポリシロキサンの好ま
しい例は、下記の式で表される化合物である。
【化28】
【0022】
【発明の実施の形態】本発明に係る化合物の調製方法お
よびこれらの化合物の性質について以下の実施例でより
詳細に説明する。
【0023】実施例1: 下記の一般式で表される新規
なUV光吸収性第四級ポリシロキサンの調製
【化29】 攪拌機、滴下漏斗、温度計および還流冷却器を備えた1
L四口フラスコに、一般式
【化30】 で表される139.6g(0.6モル)の第三級アミン
を36.3g(0.6モル)の酢酸および120mlの
イソプロパノールと一緒に仕込む。30分後、一般式
【化31】 で表される330g(0.3モル)のエポキシシロキサ
ンを滴下し、還流温度まで加熱し、そして6時間攪拌す
る。その後、減圧下、100℃で蒸留を行う。高粘度の
黄褐色生成物が得られる(第四級窒素の実測値:1.4
%;理論値:1.7%)。
【0024】実施例1の紫外可視スペクトルを図1に示
す。
【0025】実施例2: 下記の一般式で表される新規
なUV光吸収性第四級ポリシロキサンの調製
【化32】 攪拌機、滴下漏斗、温度計および還流冷却器を備えた1
L四口フラスコに、一般式
【化33】 で表される158.0g(0.6モル)の第三級アミン
を36.3g(0.6モル)の酢酸および120mlの
イソプロパノールと一緒に仕込む。30分後、一般式
【化34】 で表される240g(0.12モル)のエポキシシロキ
サンを滴下し、還流温度まで加熱し、そして6時間攪拌
する。その後、減圧下、100℃で蒸留を行う。高粘度
の黄褐色生成物が得られる(第四級窒素の実測値:1.
65%;理論値:1.9%)。
【0026】実施例2の紫外可視スペクトルを図2に示
す。
【0027】実施例3: 下記の一般式で表される新規
なUV光吸収性第四級ポリシロキサンの調製
【化35】 攪拌機、滴下漏斗、温度計および還流冷却器を備えた
1.5L四口フラスコに、一般式
【化36】 で表される132.0g(0.6モル)の第三級アミン
を36.3g(0.6モル)の酢酸および120mlの
イソプロパノールと一緒に仕込む。30分後、一般式
【化37】 で表される774g(0.3モル)のエポキシシロキサ
ンを滴下し、還流温度まで加熱し、そして6時間攪拌す
る。その後、減圧下、100℃で蒸留を行う。高粘度の
黄褐色生成物が得られる(第四級窒素の実測値:0.7
%;理論値:0.9%)。
【0028】実施例3の紫外可視スペクトルを図3に示
す。
【0029】性能比較:性能を比較するために、以下の
新規なUV光吸収性第四級ポリシロキサンを使用した。 化合物1:
【化38】 化合物2:
【化39】 化合物3:
【化40】 化合物4:
【化41】 化合物5:
【化42】 化合物6:
【化43】 化合物7:
【化44】
【0030】新規な化合物1〜6を用いたヘアトリート
メント組成物の調製および試験:性能を評価するため
に、官能検査に使用する毛髪の房に標準的な方法でパー
マ処理および漂白処理を施して、あらかじめ破損を生じ
させておく。この目的のために、慣用的な整髪製品を使
用する。
【0031】材料 ・パーマ液(たとえば、「ondi」、Wella) ・中和剤(たとえば、「neutrafix」、Wel
la) ・漂白粉(たとえば、「blondor specia
l」、Wella) ・H(たとえば、「Welloxyd 9%」、
Wella) ・ケア成分のないシャンプー(たとえば、ナトリウムラ
ウリルエーテルスルフェート(12%洗浄活性物質、N
aCl増粘)) ・ビーカー ・ヘアカラーブラシ
【0032】次の順序で処理を行う。 1.パーマ処理 毛髪の房をパーマ液で湿潤させる(毛髪:液体の重量比
=1:2)。蓋をしたビーカー中、室温で15分間接触
させてから、2分間でパーマ液を注意深く洗い流す。次
に、ハンドタオルを毛髪の房に軽く押し当てる。中和液
(毛髪:液体の比=1:2)を室温で10分間接触させ
る。次に、中和液を2分間で注意深く洗い流す。その
後、毛髪を室温で一晩乾燥させる。
【0033】2.漂白処理 漂白粉およびHを配合してペーストにする(粉
末:Hの重量比=2:3)。次に、パーマ処理さ
れた毛髪にブラシを用いてペーストを直ちに適用する。
接触時間は室温で30分である。次に、流水下で漂白ペ
ーストを2分間で洗い流す。次に、ンディショナーのな
いシャンプーで毛髪を1分間洗浄してから(シャンプー
の量:0.5ml/毛髪の房)、1分間で洗い流す。官
能検査に使用する前、損傷を受けた毛髪の房を室温で一
晩乾燥させる。
【0034】試験処方 以下の組成を有する簡単なヘアリンスでコンディショニ
ング製剤を試験する。
【0035】
【表1】
【0036】「コンディショナー」は、本発明に係る化
合物例を表すために使用した用語である。
【0037】コンディショニングサンプルによる損傷し
た毛髪の房の標準的な処理:先に述べたように損傷を生
じさせた毛髪の房を、上記のコンディショニングリンス
を用いて次のように処理する。
【0038】温水を流して毛髪の房を湿潤させる。過剰
の水を手で軽く拭い取り、次に、リンスを適用して、徐
々に毛髪に作用させる(1ml/毛髪の房(2g))。
1分間接触させた後、毛髪を1分間すすぐ。
【0039】官能評価に付す前に、空気中、大気湿度5
0%および25℃の条件で毛髪を少なくとも12時間乾
燥させる。
【0040】評価判定基準 官能検査は1〜5段階で行う。1が最も悪い評価であ
り、5が最良の評価である。
【0041】
【表2】
【0042】
【表3】
【0043】
【表4】
【0044】
【表5】
【0045】
【表6】
【0046】ボリューム:ボリュームを評価するため
に、結合点で毛髪の房を保持し、毛髪の房を軽く振る。
【0047】
【表7】
【0048】本発明に係る物質およびプラセボを用いて
先に記載したようにして行った毛髪の房の処理に対する
官能評価の結果を、以下の表で比較する。
【0049】
【表8】
【0050】本発明に係る化合物例は官能評価において
非常に良好な化粧品評価が得られることがわかる。
【0051】本発明に係る化合物1〜7を用いた編織布
柔軟剤の試験:編織布の柔軟性およびUV保護作用を試
験するために、標準的な市販のエステルクアット(たと
えば、Rewoquat(登録商標)WE18)を用い
て、いずれの場合も化合物1〜6を1%〜5%添加して
なる濃度18%の布用柔軟剤配合物を調製する。柔軟性
は、標準的な市販の綿テリー布を用いて測定し、UV保
護作用は、USTM規格に従って着色試験布を用いて測
定する。使用した試験染料は、ダイレクトブルー1(D
B1)、ダイレクトブルー90(DB90)およびアシ
ッドレッド151(AR151)である。
【0052】化合物1〜6を有する配合物は、布の柔軟
性に対するプラスの効果を有していなければならない
が、中立の挙動も許容しうる。柔軟性に対するマイナス
の効果は、全体的な評価の低下をもたらす。すべての布
用柔軟剤配合物の使用濃度は、通常の国内産洗濯機のと
きと同様の0.025%である。
【0053】適用後、10名の熟練者からなる審査員に
よってテリー布をその柔軟な風合いに関して評価する。
【0054】すべてのケイ素含有配合物について、UV
光吸収性第四級ポリシロキサンを用いないとき(Rew
oquat(登録商標)WE18のみ)の洗濯物の柔軟
性と直接比較する。これに関連して、(1)=非常に柔
らかい、(5)=硬い。結果を以下の表にまとめる。
【0055】自然の太陽光にほぼ対応するスペクトルを
有する1000ワットのランプを用いて、染色した試験
布に4週間光照射した。
【0056】照射前および照射後、色測定装置を用い
て、染色した布片の色値(E)を測定した。それぞれの
場合について、照射前後の色値の差(ΔE)を以下の表
に与える。
【0057】
【表9】
【0058】標準的なWE18と比較して、本発明に係
る化合物が柔軟な風合いを改良し、有害なUV線を防止
する働きがあることは自明である。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1の紫外可視スペクトルである。
【図2】実施例2の紫外可視スペクトルである。
【図3】実施例3の紫外可視スペクトルである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A61K 7/50 A61K 7/50 C07F 7/10 C07F 7/10 W C09K 3/00 104 C09K 3/00 104Z (72)発明者 ホルガー ライドライター ドイツ国,ハッティンゲン D−45529 ランゲ シュトラッセ 41a (72)発明者 サーシャ オーストリッチ ドイツ国,エッセン D−45279 シュル テンヴェック 86 Fターム(参考) 4C083 AC072 AC302 AC692 AD161 AD162 CC19 CC23 CC33 CC38 EE12 EE28 4H049 VN01 VP09 VP10 VQ37 VU29 VW02 4J035 BA02 CA11U CA18M FB01 LB14

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(I)で表されるUV光吸収
    性第四級ポリシロキサン。 【化1】 〔式中、 基Rは、同一であるかまたは異なっており、いずれの
    場合においても、1〜4個の炭素原子を有する低級アル
    キル基であるかまたはフェニル基であり、 基Rのうち一部分は、基Rの意味を有していてもよ
    く、残りの基Rは、式(Ia) R=−M−Z (Ia) {ここで、基Zは、式(Ib) 【化2】 [ここで、 基R、Rは、1〜22個の炭素原子を有するアルキ
    ル基または2〜22個の炭素原子を有するアルケニル基
    であり、該アルキル基または該アルケニル基は、ヒドロ
    キシル基を有していてもよく、 基Rは、式(Ic) 【化3】 (ここで、基Rは、 【化4】 であり、 基Rは、−CH=CH−であり、 基Rは、同一であるかまたは異なっており、いずれの
    場合においても、水素原子、アルキル基、ハロアルキル
    基、ハロゲン基、フェニル基、ヒドロキシル基、アルコ
    キシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミ
    ノ基、ジ(ヒドロキシアルキル)アミノ基またはジ(ポ
    リアルコキシ)アミノ基であり、 m=0または1、 n=0または1、 o=0〜5、 x=0〜6。) で表されるUV吸収の役割を担う1価の発色団基であ
    る。]で表される基であり、 基Mは、少なくとも4個の炭素原子を有しかつ1個のヒ
    ドロキシル基を有する2価の炭化水素基であり、該炭素
    原子は、1個以上の酸素原子によって中断されていても
    よく、基ZのN原子は、基M中のC−OH基に隣接する
    炭素原子によって基Mに結合されており、 基Aは、生理学的に適合性のある慣用的な酸HAから
    生じる無機または有機アニオンである。}で表される基
    であるが、ただし、平均分子中、少なくとも1個の基R
    は、式−M−Zで表される基であるという条件
    付きであり、 aは、互いに独立して、1〜200の値を有し、 bは、0〜10の値を有する。〕
  2. 【請求項2】 Rが、メチル基、エチル基、n−プロ
    ピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基
    またはフェニル基であってよい、請求項1に記載のUV
    光吸収性化合物。
  3. 【請求項3】 Mが、基 【化5】 から選択された基のうちの1つと同一であるかまたは異
    なっている、請求項1または2に記載のUV光吸収性化
    合物。
  4. 【請求項4】 Zが、 【化6】 からなる群より選択された基のうちの1つと同一である
    かまたは異なっている、請求項1〜3のいずれか1項に
    記載のUV光吸収性化合物。
  5. 【請求項5】 Aが、酢酸イオン、塩化物イオン、臭
    化物イオン、硫酸水素イオン、硫酸イオン、メト硫酸イ
    オン、エト硫酸イオン、クエン酸イオン、酒石酸イオン
    および乳酸イオン、ならびに芳香族酸のアニオン、たと
    えば、p−トルエンスルホン酸、安息香酸、サリチル
    酸、ケイ皮酸、4−メトキシケイ皮酸、4−アミノ安息
    香酸、4−ビス(ヒドロキシプロピル)アミノ安息香
    酸、4−ビス(ポリエトキシ)アミノ安息香酸、4−ジ
    メチルアミノ安息香酸、3−イミダゾール−4−イルア
    クリル酸、2−フェニルベンゾイミダゾール−5−スル
    ホン酸、3,3’−(1,4−フェニレンジメチン)ビ
    ス(7,7−ジメチル−2−オキソ−ビシクロ[2.
    2.1]ヘプタン−1−メタンスルホン酸)、2−ヒド
    ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸
    および3−(4’−スルホ)ベンジリデンボルナン−2
    −オンのアニオン、からなる群より選択された基のうち
    の1つと同一であるかまたは異なっている、請求項1〜
    4のいずれか1項に記載のUV光吸収性化合物。
  6. 【請求項6】 式 【化7】 で表されるUV光吸収性化合物。
  7. 【請求項7】 式 【化8】 で表されるUV光吸収性化合物。
  8. 【請求項8】 式 【化9】 で表されるUV光吸収性化合物。
  9. 【請求項9】 式 【化10】 で表されるUV光吸収性化合物。
  10. 【請求項10】 式 【化11】 で表されるUV光吸収性化合物。
  11. 【請求項11】 式 【化12】 で表されるUV光吸収性化合物。
  12. 【請求項12】 式 【化13】 で表されるUV光吸収性化合物。
  13. 【請求項13】 UV光吸収性配合物を調製するため
    の、一般式(I)で表される化合物の使用。
  14. 【請求項14】 UV光吸収性化粧用配合物を調製する
    ための、一般式(I)で表される化合物の使用。
  15. 【請求項15】 UV光吸収性布用柔軟剤を調製するた
    めの、一般式(I)で表される化合物の使用。
  16. 【請求項16】 UV光吸収性ヘアクレンジングおよび
    ケア用組成物を調製するための、一般式(I)で表され
    る化合物の使用。
  17. 【請求項17】 UV光吸収性スキンプロテンション、
    スキンクレンジングおよび/またはスキンケア用組成物
    を調製するための、一般式(I)で表される化合物の使
    用。
  18. 【請求項18】 一般式(II) 【化14】 〔式中、 基Rは、同一であるかまたは異なっており、いずれの
    場合においても、1〜4個の炭素原子を有する低級アル
    キル基であるかまたはフェニル基であり、 基Rのうち一部分は、基Rの意味を有していてもよ
    く、残りの基Rは、Zおよびヒドロキシル基と結合す
    る代わりにエポキシド基を有する基Mの構造に対応した
    1価の基であるが、ただし、平均分子中、少なくとも1
    個の基Rは、Zおよびヒドロキシル基と結合する代わ
    りにエポキシド基を有する基Mの構造に対応した1価の
    基であるという条件付きであり、 aは、互いに独立して、1〜200の値を有し、 bは、0〜10の値を有する。〕で表される化合物を、
    一般式(IIb) 【化15】 〔式中、 基R、Rは、1〜22個の炭素原子を有するアルキ
    ル基または2〜22個の炭素原子を有するアルケニル基
    であり、該アルキル基または該アルケニル基は、ヒドロ
    キシル基を有していてもよく、 基Rは、式(Ic) 【化16】 {ここで、 基Rは、 【化17】 であり、 基Rは、−CH=CH−であり、 基Rは、同一であるかまたは異なっており、いずれの
    場合においても、水素原子、アルキル基、ハロアルキル
    基、ハロゲン基、フェニル基、ヒドロキシル基、アルコ
    キシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミ
    ノ基、ジ(ヒドロキシアルキル)アミノ基またはジ(ポ
    リアルコキシ)アミノ基であり、 m=0または1、 n=0または1、 o=0〜5、 x=0〜6。} で表されるUV吸収の役割を担う1価の発色団基であ
    る。〕で表される化合物を、それ自体公知の方法によ
    り、各エポキシド基が少なくとも1個の第三級アミノ基
    に対応した定量比で、反応させることを含み、四級化さ
    れる窒素原子を基準にして等価量の生理学的に適合性の
    ある慣用的な有機もしくは無機の酸HAの存在下および
    40〜120℃の温度で、反応を行うことを含む、UV
    光吸収性化合物の調製方法。
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