JP2003173875A - Organic el display panel - Google Patents
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Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、情報表示パネル、
各種計器パネル、動画・静止画を表示させるディスプレ
イ等、家電製品、自動車、二輪車電装品に使用され、有
機化合物を用いて構成された有機ＥＬディスプレイパネ
ルの構造に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to an information display panel,
The present invention relates to a structure of an organic EL display panel which is used in various home appliances, automobiles, and electric components of motorcycles, such as various instrument panels, displays for displaying moving images and still images, and which is composed of an organic compound.
【０００２】[0002]
【従来の技術】有機ＥＬ素子は、錫ドープ酸化インジウ
ム（ＩＴＯ）などの透明電極（ホール注入電極）上にト
リフェニルジアミン（ＴＰＤ）などのホール輸送材料を
蒸着により薄膜とし、さらにアルミキノリノール錯体
（Ａｌｑ3 ）などの蛍光物質を発光層として積層し、さ
らにＭｇなどの仕事関数の小さな金属電極（電子注入電
極）を形成した基本構成を有する素子で、１０V 前後の
電圧で数１００から数１００００cd/m2 ときわめて高い
輝度が得られることで、家電製品、自動車、二輪車電装
品等のディスプレイとして注目されている。2. Description of the Related Art An organic EL device is a thin film formed by vapor deposition of a hole transporting material such as triphenyldiamine (TPD) on a transparent electrode (hole injecting electrode) such as tin-doped indium oxide (ITO). An element having a basic structure in which a fluorescent substance such as Alq3) is laminated as a light emitting layer and a metal electrode (electron injection electrode) having a small work function such as Mg is further formed. With its extremely high brightness of 2 , it is attracting attention as a display for home appliances, automobiles, and electric components for motorcycles.
【０００３】従来、有機ＥＬディスプレイの多色化方式
としては、発光色の違う有機材料を別々に成膜する方式
（塗り分け方式）、所望の透過スペクトルを持った波長
選択層や蛍光変換層等を透明電極の下側に配する方式
（カラーフィル夕方式や蛍光変換方式）等がある。塗り
分け方式はそれぞれに発光色の異なる有機材料が必要で
あり、更に、有機成膜時にそれぞれの有機材料毎に成膜
する必要が有り、設備コストが増えたり、スループット
が悪くなる。Conventionally, as a multicolor system of an organic EL display, a system of separately forming organic materials having different emission colors (separate coating system), a wavelength selection layer having a desired transmission spectrum, a fluorescence conversion layer, etc. There is a method of arranging under the transparent electrode (color fill method or fluorescence conversion method). The separate coating method requires an organic material having a different emission color, and further needs to form a film for each organic material at the time of organic film formation, resulting in increased equipment cost and poor throughput.
【０００４】一方、残りの２つの方式は、有機ＥＬ素子
構造を形成する前にパネル基板上に波長選択層又は蛍光
変換層を形成する際、その層から出てくる水分等を防ぐ
為、保護膜を形成する必要が有る。これは、各色のパタ
ーニング工程に加えて更にパターニング工程の数を増や
すことにもなるため、コスト増の要因となる。On the other hand, the remaining two methods are protected in order to prevent water and the like from coming out of the wavelength selection layer or the fluorescence conversion layer when forming the wavelength selection layer or the fluorescence conversion layer on the panel substrate before forming the organic EL element structure. It is necessary to form a film. This will increase the number of patterning processes in addition to the patterning process for each color, and thus cause a cost increase.
【０００５】これらの問題を回避すべく、本発明者は特
開平１１−３４５６８８号公報において、別の補助基板
上に作製した波長選択層を貼り合わせるという手法を発
案した。しかしながら、パネル基板に厚みがある分だけ
視差が発生し、境界部分が見る角度によって色が変わる
という不具合が生じることがある。これは、補助基板を
貼りつける時の貼り付け精度からも影響を受けるので、
表示上の制約となり、デザインの自由度が狭まる恐れが
あった。In order to avoid these problems, the inventor of the present invention has proposed in Japanese Patent Laid-Open No. 11-345688 a method of bonding a wavelength selection layer formed on another auxiliary substrate. However, since the panel substrate has a large thickness, parallax occurs, which may cause a problem that the color changes depending on the angle at which the boundary portion is viewed. This is also affected by the attachment accuracy when attaching the auxiliary board,
There was a risk that the display would be restricted and the degree of freedom in design would be narrowed.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、設備
コストの増加や工程数を増やすこと無く、簡易的に多色
化が可能な有機ＥＬディスプレイパネルを提供すること
である。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an organic EL display panel which can be easily multicolored without increasing equipment cost and increasing the number of steps.
【０００７】また、積層構造や貼りつけ精度に起因する
視差の問題を最小限に抑える有機ＥＬディスプレイパネ
ルを提供することである。Another object of the present invention is to provide an organic EL display panel that minimizes the problem of parallax due to the laminated structure and the attachment accuracy.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】すなわち上記目的は、以
下の本発明の構成により達成される。
（１） パネル基板上に有機ＥＬ素子を有するディスプ
レイパネルであって、パネル基板の表示面側に波長選択
層を有する有機ＥＬディスプレイパネル。
（２） 前記波長選択層の波長選択率がパネル基板の面
方向に漸次的変化している上記（１）の有機ＥＬディス
プレイパネル。
（３） 前記波長選択層は、パネル基板の表示面側に直
接形成されている上記（１）または（２）の有機ＥＬデ
ィスプレイパネル。
（４） 前記波長選択層は、パネル基板の表示面側に貼
り合わせる基材上に形成されている上記（１）または
（２）の有機ＥＬディスプレイパネル。
（５） 前記パネル基板の表示面側に貼り合わせる基材
は、光学機能フィルムである上記（４）の有機ＥＬディ
スプレイパネル。
（６） 前記光学機能フィルムは、円偏光機能を有する
上記（５）の有機ＥＬディスプレイパネル。That is, the above object is achieved by the following constitution of the present invention. (1) A display panel having an organic EL element on a panel substrate, the organic EL display panel having a wavelength selection layer on the display surface side of the panel substrate. (2) The organic EL display panel according to (1), in which the wavelength selectivity of the wavelength selection layer gradually changes in the plane direction of the panel substrate. (3) The organic EL display panel according to (1) or (2) above, wherein the wavelength selection layer is directly formed on the display surface side of the panel substrate. (4) The organic EL display panel according to (1) or (2) above, wherein the wavelength selection layer is formed on a base material that is attached to the display surface side of the panel substrate. (5) The organic EL display panel according to (4) above, wherein the base material to be attached to the display surface side of the panel substrate is an optical functional film. (6) The organic EL display panel according to (5), wherein the optical function film has a circular polarization function.
【０００９】[0009]
【発明の実施の形態】本発明の有機ＥＬディスプレイパ
ネルは、有機ＥＬ素子が形成されているパネル基板の表
示面側に波長選択層を有するものである。また、好まし
くは前記波長選択層が有機ＥＬディスプレイパネル、つ
まりパネル基板の面方向に漸次的変化しているものであ
る。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The organic EL display panel of the present invention has a wavelength selection layer on the display surface side of a panel substrate on which organic EL elements are formed. Further, preferably, the wavelength selection layer is gradually changed in the plane direction of the organic EL display panel, that is, the panel substrate.
【００１０】このように、パネル基板の表示面側に波長
選択層を形成、配置することにより、波長選択層からダ
メージを受けやすい有機層等を保護する保護膜を形成す
る必要もなく、製造が容易になり、素子の信頼性も向上
する。また、発光層から波長選択層が離れることで視差
が生じやすくなるが、波長選択層を漸次的変化させるこ
とで見る角度による色の変化は認識しづらくなる。As described above, by forming and disposing the wavelength selection layer on the display surface side of the panel substrate, it is not necessary to form a protective film for protecting an organic layer or the like which is easily damaged by the wavelength selection layer, and it is possible to manufacture. It becomes easier and the reliability of the device is improved. Moreover, parallax is likely to occur when the wavelength selection layer is separated from the light emitting layer, but when the wavelength selection layer is gradually changed, it is difficult to recognize the color change depending on the viewing angle.
【００１１】表示面側に形成、配置される波長選択層
は、発光波長帯域のうち特定波長部分（特定波長ないし
特定波長帯域）を選択して取り出す機能を有する。選択
される波長部分は、青色でも、緑色でも、赤色でもよ
く、その他の色や中間色でもよい。波長選択層は１種以
上を用いることが好ましい。波長選択層には、液晶ディ
スプレイ等で用いられている波長選択機能を有する機能
膜を用いてもよいが、有機ＥＬの発光する光に合わせて
波長選択の特性を調製し、取り出し効率・色純度を最適
化するとよい。The wavelength selection layer formed and arranged on the display surface side has a function of selecting and extracting a specific wavelength portion (specific wavelength or specific wavelength band) of the emission wavelength band. The selected wavelength portion may be blue, green, red, or any other color or intermediate color. It is preferable to use one or more wavelength selection layers. For the wavelength selection layer, a functional film having a wavelength selection function used in liquid crystal displays may be used, but the wavelength selection characteristics are adjusted according to the light emitted by the organic EL, and the extraction efficiency and color purity are adjusted. Should be optimized.
【００１２】具体的には、オフセット印刷やスクリーン
印刷法を用いて、波長選択層を形成し、その際に用いる
顔料を調合する事で所望の波長選択特性を調整する事が
できる。Specifically, a desired wavelength selection characteristic can be adjusted by forming a wavelength selection layer by using offset printing or screen printing and blending a pigment used at that time.
【００１３】具体的には、オフセット印刷法による場
合、印刷部分が凹版になっている版の上にインキローラ
で顔料を含有したインキを載せ、それを表面がゴムで出
来たブランケットと呼ばれるローラーに転写し、それを
印刷対象物に押し付け、５０〜７０℃程度で１〜２時間
乾燥させて形成する。このオフセット法で形成すると、
膜厚が1〜5μm程度と薄く、印刷のドットピッチも細か
くできる。Specifically, in the case of the offset printing method, the ink containing a pigment is placed on an intaglio printing plate by an ink roller, and the ink is placed on a roller called a blanket whose surface is made of rubber. It is transferred, pressed against a printing object, and dried at about 50 to 70 ° C. for 1 to 2 hours to be formed. When formed by this offset method,
The film thickness is as thin as 1 to 5 μm, and the dot pitch for printing can be made fine.
【００１４】一方、スクリーン印刷法による場合、印刷
対象物の上に印刷部分にメッシュが入ったマスクを近づ
け、その上に顔料を含有したインキを載せて、スキージ
を用いてインキを押し出し、５０〜７０℃程度で１〜２
時間の乾燥させる。この方法によると、印刷膜の膜厚が
オフセット印刷に比べて厚くなる。On the other hand, in the case of the screen printing method, a mask having a mesh in the printed portion is brought close to the object to be printed, the ink containing the pigment is placed on the mask, and the ink is extruded using a squeegee, and then 50- 1-2 at 70 ℃
Let dry for hours. According to this method, the thickness of the print film becomes thicker than that in offset printing.
【００１５】このような印刷手法を用いることで、本来
のディスプレイパネルの製作工程が終了してから、素子
等に熱的負荷をかける事なく、波長選択層を形成でき、
製造工程上極めて有利である。By using such a printing method, it is possible to form the wavelength selection layer without applying a thermal load to the element or the like after the original manufacturing process of the display panel is completed,
It is extremely advantageous in the manufacturing process.
【００１６】このような波長選択層を用いてカラーディ
スプレイを得ようとする場合、波長選択層通過後の色
が、ＮＴＳＣ標準、あるいは現行のＣＲＴの色度座標に
適合するように調整してもよいが、独自の色度に調整し
てもよい。色度座標は、一般的な色度座標測定器、例え
ばトプコン社製のＢＭ−７、ＳＲ−１等を用いて測定で
きる。In order to obtain a color display using such a wavelength selection layer, even if the color after passing through the wavelength selection layer is adjusted so as to match the chromaticity coordinates of the NTSC standard or the current CRT. You may adjust it to your own chromaticity. The chromaticity coordinates can be measured using a general chromaticity coordinate measuring device, such as BM-7 and SR-1 manufactured by Topcon.
【００１７】波長選択層は、その波長選択性が好ましく
はディスプレイパネルの面方向に漸次変化するように形
成されている。漸次的に変化する波長選択性は、波長選
択層の特定波長透過率が変化するものであってもよい
し、選択波長が変化するものであってもよいが、通常、
特定波長透過率が変化するように形成される。The wavelength selection layer is preferably formed so that its wavelength selectivity gradually changes in the plane direction of the display panel. The wavelength selectivity that gradually changes may be such that the specific wavelength transmittance of the wavelength selection layer changes, or the selection wavelength may change, but in general,
It is formed so that the specific wavelength transmittance changes.
【００１８】波長選択層に漸次的変化を与えるには、印
刷するドットピッチを変化させたり、印刷するドットの
大きさ自体を変化させたりすることで、任意の漸次的変
化を与える事ができる。２種類以上の色による漸次的変
化(選択波長の変化)は、各色の漸次的変化を別々に印刷
し、それらを組み合わせる事で実現可能である。In order to give a gradual change to the wavelength selection layer, an arbitrary gradual change can be given by changing the pitch of dots to be printed or the size of dots to be printed. The gradual change (change in selected wavelength) due to two or more colors can be realized by printing the gradual change of each color separately and combining them.
【００１９】波長選択層の厚さは、特に限定されるもの
ではないが、通常、０．２〜２０μm 程度とすればよ
い。また、好ましくは０．５〜１０μm 程度、より好ま
しくは１〜５μm 程度である。Although the thickness of the wavelength selection layer is not particularly limited, it is usually about 0.2 to 20 μm. The thickness is preferably about 0.5 to 10 μm, more preferably about 1 to 5 μm.
【００２０】波長選択層は三原色表示によるフルカラー
表示に応用することも可能であるが、その他のキャラク
ター表示や、実施例に示すような単色のドットマトリク
スタイプの表示の一部分に用いることが好ましい。ま
た、発光層自体で複数の色を発色する場合、それぞれの
発光層の発光波長に合わせて波長選択層を設計すればよ
い。The wavelength selection layer can be applied to full color display by three primary color displays, but it is preferably used for a part of other character display or monochromatic dot matrix type display as shown in the embodiment. When the light emitting layer itself emits a plurality of colors, the wavelength selection layer may be designed according to the emission wavelength of each light emitting layer.
【００２１】波長選択層の大きさは、視野角が確保でき
る程度に画面の大きさよりも大きくすることが好まし
い。The size of the wavelength selection layer is preferably larger than the size of the screen so that a viewing angle can be secured.
【００２２】波長選択層の具体的な材料としては、フェ
ノール・アルキッド系のベース樹脂に所望の色の有機顔
料及び硬化触媒や硬化抑制材を適切な比率で配合し、高
沸点石油系の溶剤に溶かしたもの等を使用することが好
ましい。As a specific material for the wavelength selection layer, a phenol / alkyd base resin is mixed with an organic pigment of a desired color and a curing catalyst or a curing inhibitor in an appropriate ratio to prepare a high boiling point petroleum solvent. It is preferable to use a melted product.
【００２３】さらに本発明では、パネル基板に直接印刷
する方法の他に、パネル基板以外の別の基材に印刷する
印刷法がより好ましい。別の基材に波長選択層を印刷し
て形成し、最後に波長選択層が形成された基材を貼り合
わせることで、有機ＥＬ素子自体の製造が、波長選択層
の形成工程に制限されることなく自由に処理を行うこと
ができ、製造工程の自由度が向上する。Further, in the present invention, in addition to the method of directly printing on the panel substrate, a printing method of printing on another base material other than the panel substrate is more preferable. The wavelength-selective layer is printed on another base material, and the base material on which the wavelength-selective layer is formed is finally attached, whereby the production of the organic EL device itself is limited to the step of forming the wavelength-selective layer. It is possible to freely perform the processing without increasing the degree of freedom in the manufacturing process.
【００２４】パネル基板、波長選択層基材の材料として
は、どちらも光取り出し側となるため、光透過性を有す
る透明ないし半透明の材料を用いることが必要である。
ここで光透過性とは、発光波長帯域、通常３５０〜８０
０nm、特に可視光領域での光透過率が５０％以上、好ま
しくは７０％以上、特に８０％以上であることをいう。
具体的には積層する有機ＥＬ構造体や波長選択層の材質
等により適宜決めることができる。例えば、ガラス、石
英や樹脂等の透明ないし半透明材料、フェノール樹脂等
の熱硬化性樹脂、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂等
を用いることができる。Since both the panel substrate and the wavelength selection layer base material are on the light extraction side, it is necessary to use a transparent or semitransparent material having light transmittance.
Here, the light transmissivity means a light emission wavelength band, usually 350 to 80.
It means that the light transmittance at 0 nm, particularly in the visible light region, is 50% or more, preferably 70% or more, and particularly 80% or more.
Specifically, it can be appropriately determined according to the material of the organic EL structure to be laminated, the wavelength selection layer, and the like. For example, a transparent or translucent material such as glass, quartz or resin, a thermosetting resin such as phenol resin, or a thermoplastic resin such as polycarbonate can be used.
【００２５】特に、波長選択層基材の材料として、光学
機能フィルム、例えば円偏光板などの光学的効果に影響
を与えない材料が好ましい。具体的には、光学異方性を
持たない樹脂フィルムとして、TAC(トリアセテートセル
ロース)や無延伸のポリカーボネード等が挙げられる。In particular, as the material of the wavelength selection layer base material, a material that does not affect the optical effect, such as an optical functional film, for example, a circularly polarizing plate, is preferable. Specific examples of the resin film having no optical anisotropy include TAC (triacetate cellulose) and unstretched polycarbonate.
【００２６】パネル基板の厚みとしては０．３〜３mm程
度、特に０．５〜１．１mm程度、波長選択層基材の厚み
は０．１〜１mm程度、特に０．２〜０．５mm程度が好ま
しい。The thickness of the panel substrate is about 0.3 to 3 mm, especially about 0.5 to 1.1 mm, and the thickness of the wavelength selection layer substrate is about 0.1 to 1 mm, especially about 0.2 to 0.5 mm. Is preferred.
【００２７】波長選択層が形成された基材は、通常、パ
ネル基板上に有機ＥＬ構造体が積層され、封止板が設け
られた後に、この基板の有機ＥＬ構造体成膜面と反対側
の面、すなわち表示面側に貼り合わされる。貼り合わせ
には透明な粘着剤が用いられる。The substrate on which the wavelength selection layer is formed is usually the side opposite to the organic EL structure film formation surface of this substrate after the organic EL structure is laminated on the panel substrate and the sealing plate is provided. Surface, that is, the display surface side. A transparent adhesive is used for bonding.
【００２８】粘着剤としては、安定した粘着強度が保
て、波長選択層を浸食したり、透光性に影響を及ぼさな
い透明なものが好ましい。このようなものであれば特に
限定されるものではないが、アクリル系、ポリエステル
系、シリコーン系、エポキシ系の粘着剤が用いられ特に
透明性の高いアクリル系の粘着剤を用いることが好まし
い。As the pressure-sensitive adhesive, a transparent pressure-sensitive adhesive that maintains stable pressure-sensitive adhesive strength, does not erode the wavelength selection layer, and does not affect the translucency is preferable. The adhesive is not particularly limited as long as it is such, but an acrylic adhesive, a polyester adhesive, a silicone adhesive, or an epoxy adhesive is used, and an acrylic adhesive having a particularly high transparency is preferably used.
【００２９】また、波長選択基材として、元々有機ＥＬ
ディスプレイに用いられることの多い光学機能フィルム
を用いることも好ましい。光学機能フィルムを用いるこ
とで、余分に基材を用意する必要が無くなり、新たに貼
り合わせ工程を設ける必要がなくなる。Also, as the wavelength selection base material, the organic EL is originally used.
It is also preferable to use an optical functional film which is often used for a display. By using the optical function film, it is not necessary to prepare an extra base material and it is not necessary to newly provide a bonding step.
【００３０】光学機能フィルムとしては、反射防止、防
眩フィルムなどを用いることも可能であるが、円偏光板
（シート）を用いるとよい。円偏光板を用いることによ
り、金属電極である陰極（電子注入電極）からの反射光
を遮断することができ、ディスプレイの表示品質を飛躍
的に向上させることができる。As the optically functional film, an antireflection film, an antiglare film or the like can be used, but a circularly polarizing plate (sheet) is preferably used. By using the circularly polarizing plate, it is possible to block the reflected light from the cathode (electron injection electrode) which is a metal electrode, and it is possible to dramatically improve the display quality of the display.
【００３１】通常、円偏光板は偏光層と位相差層とを組
み合わせて形成される。そして、この円偏光板は、有機
ＥＬ素子形成面とは反対側の面、つまりディスプレイの
表示面側に配置される。Usually, a circularly polarizing plate is formed by combining a polarizing layer and a retardation layer. Then, this circularly polarizing plate is arranged on the surface opposite to the organic EL element forming surface, that is, on the display surface side of the display.
【００３２】このような円偏光板を配置すると、偏光層
を透過した外光は、先ず偏光層に入射することで特定の
偏光方向のみが透過し直線偏光となる。次に、この直線
偏光は位相差層を通過することで位相差が１／４λずれ
て円偏光となる。また、波長分散を考慮して位相差板を
設計すれば可視光域の光をほぼ円偏光に変換できる。When such a circularly polarizing plate is arranged, the external light transmitted through the polarizing layer first enters the polarizing layer and is transmitted only in a specific polarization direction to become linearly polarized light. Next, the linearly polarized light passes through the phase difference layer, and the phase difference is shifted by 1 / 4λ to become circularly polarized light. Further, if the retardation plate is designed in consideration of wavelength dispersion, light in the visible light range can be converted into substantially circularly polarized light.
【００３３】円偏光状態の光は、陰電極、配線電極等で
反射され、逆回りの円偏光状態となり、反射光は再び位
相差層を透過する。このとき、偏光状態はさらに１／４
λ進んで円偏光から直線偏光に変換される。この直線偏
光の角度は偏光層の透過軸の角度と直交している。この
ため、位相差層を透過した直線偏光は偏光層でほとんど
吸収される。つまり、外光の入射光が最終的に偏光層で
吸収されるので外光による反射がほとんど存在しないこ
とになる。ここで、偏光層の偏光の度合いを表わす偏光
度とは、透過光のうち、直線偏光に変換された割合を示
し、その値が高ければ高いほど、円偏光板としては、外
光による反射を抑える能力が高い事を間接的に意味する
が、円偏光板に使用される偏光層の偏光度としては、通
常、90%以上、好ましくは98%以上、特に99%以上の偏光
度があれば良い。The light in the circularly polarized state is reflected by the negative electrode, the wiring electrode, etc., becomes a circularly polarized state in the reverse direction, and the reflected light is transmitted through the retardation layer again. At this time, the polarization state is 1/4
The light is advanced by λ and converted from circularly polarized light to linearly polarized light. The angle of this linearly polarized light is orthogonal to the angle of the transmission axis of the polarizing layer. Therefore, most of the linearly polarized light transmitted through the retardation layer is absorbed by the polarizing layer. That is, since the incident light of the external light is finally absorbed by the polarizing layer, there is almost no reflection by the external light. Here, the degree of polarization, which indicates the degree of polarization of the polarizing layer, indicates the proportion of the transmitted light that is converted to linearly polarized light, and the higher the value, the more the circular polarizing plate detects the reflection of external light. Although it indirectly means that the ability to suppress is high, as the polarization degree of the polarizing layer used for the circularly polarizing plate, usually, 90% or more, preferably 98% or more, particularly 99% or more if there is a polarization degree. good.
【００３４】このような円偏光板は偏光層、位相差層の
貼り合わせ品として市販されていて、例えば偏光層：住
友化学社製のスミカランやサンリッツ社製、日東電工製
等、位相差層：住友化学社製のスミカライトやサンリッ
ツ社製、日東電工製等として入手することができる。ま
た、偏光層、位相差層以外でも同様な機能を有するもの
であれば使用することができる。もちろん、前述したよ
うに、別途、円偏光機能に影響を与えないような透明な
フィルム基材を印刷基材として用いてもよい。Such a circularly polarizing plate is commercially available as a laminated product of a polarizing layer and a retardation layer. For example, the polarizing layer: Sumikaran manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., Sanritz Co., Nitto Denko, etc. It can be obtained as Sumikalite manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., Sanritz Co., Nitto Denko, etc. Further, other than the polarizing layer and the retardation layer, any one having a similar function can be used. Of course, as described above, a transparent film substrate that does not affect the circularly polarizing function may be separately used as the printing substrate.
【００３５】本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの構
成例である概略断面図を図１に示す。図１に示される有
機ＥＬディスプレイパネルは、パネル基板１上に、有機
ＥＬ構造体として、ＩＴＯ等の透明なホール注入電極
（陽極）５と、発光層を含む有機層６と、電子注入電極
（陰極）７とを有する。FIG. 1 is a schematic sectional view showing a constitutional example of the organic EL display panel of the present invention. In the organic EL display panel shown in FIG. 1, a transparent hole injection electrode (anode) 5 such as ITO, an organic layer 6 including a light emitting layer, an electron injection electrode ( Cathode) 7.
【００３６】また、パネル基板１の有機ＥＬ構造体形成
面とは反対側、つまり光取り出し側には、赤、緑、青の
波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂと、光学機能層である円偏
光板、すなわち位相差層３と、偏光層４とが形成、配置
されている。なお、波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂは、必
ずしも３種用いる必要はなく、また、３原色である赤、
緑、青を用いる必要もない。波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２
Ｂは、ディスプレイに表示する画像のデザインにより、
最適な形態、色のものを用いればよい。On the side opposite to the surface of the panel substrate 1 on which the organic EL structure is formed, that is, on the light extraction side, the wavelength selection layers 2R, 2G and 2B of red, green and blue and the circularly polarized light which is an optical function layer are provided. A plate, that is, a retardation layer 3 and a polarizing layer 4 are formed and arranged. The wavelength selection layers 2R, 2G, and 2B do not necessarily need to use three types, and the three primary colors red,
There is no need to use green or blue. Wavelength selection layers 2R, 2G, 2
B is the design of the image displayed on the display,
The one with the most suitable form and color may be used.
【００３７】波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂは、パネル基
板２の光取り出し側に形成、配置されるが、前記円偏光
板との関係で、以下のような態様がある。The wavelength selection layers 2R, 2G, 2B are formed and arranged on the light extraction side of the panel substrate 2, and have the following modes in relation to the circularly polarizing plate.
【００３８】〔第１の態様〕図２は、波長選択層をＥＬ
パネルに取り付ける第１の態様を示した概略断面図であ
る。[First Embodiment] FIG.
It is a schematic sectional drawing which showed the 1st aspect attached to a panel.
【００３９】図２において、波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２
Ｂは、波長選択基材１２上に形成され、この基材１２の
波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ形成面とは反対側にある接
着層１１により図示しないパネル基板１に貼り付けられ
る。また、波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ上には、接着層
１１を介して、それぞれ位相差層３、偏光層４が貼り付
けられる。なお、波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂは必ずし
も、複数種設ける必要はなく、適用するディスプレイの
形態により最適なものとすればよい。以下の各態様にお
いても同様である。In FIG. 2, wavelength selection layers 2R, 2G, 2
B is formed on the wavelength selection base material 12, and is attached to the panel substrate 1 not shown by the adhesive layer 11 on the side opposite to the surface on which the wavelength selection layers 2R, 2G, and 2B are formed. Further, the retardation layer 3 and the polarizing layer 4 are attached on the wavelength selection layers 2R, 2G, and 2B via the adhesive layer 11, respectively. It is not always necessary to provide a plurality of types of wavelength selection layers 2R, 2G, and 2B, and they may be optimized depending on the form of the display to which they are applied. The same applies to each of the following aspects.
【００４０】〔第２の態様〕図３は、波長選択層をＥＬ
パネルに取り付ける第２の態様を示した概略断面図であ
る。[Second Embodiment] FIG.
It is a schematic sectional drawing which showed the 2nd aspect attached to a panel.
【００４１】図３において、波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２
Ｂは、波長選択基材１２上に形成され、この波長選択層
２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ上に設けられた接着層１１により図示
しないパネル基板１に貼り付けられる。また、波長選択
層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ上には、接着層１１を介して、それ
ぞれ位相差層３、偏光層４が貼り付けられる。In FIG. 3, wavelength selection layers 2R, 2G, 2
B is formed on the wavelength selection base material 12, and is attached to the panel substrate 1 not shown by the adhesive layer 11 provided on the wavelength selection layers 2R, 2G, and 2B. Further, the retardation layer 3 and the polarizing layer 4 are attached on the wavelength selection layers 2R, 2G, and 2B via the adhesive layer 11, respectively.
【００４２】〔第３の態様〕図４は、波長選択層をＥＬ
パネルに取り付ける第３の態様を示した概略断面図であ
る。[Third Embodiment] FIG. 4 shows a wavelength selection layer as an EL.
It is a schematic sectional drawing which showed the 3rd aspect attached to a panel.
【００４３】図４において、波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２
Ｂは、位相差層３上に形成され、この位相差層３の波長
選択層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ形成面とは反対側にある接着層
１１により図示しないパネル基板１に貼り付けられる。
また、位相差層３の波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ上に
は、接着層１１を介して偏光層４が貼り付けられる。In FIG. 4, the wavelength selection layers 2R, 2G, 2
B is formed on the retardation layer 3 and is attached to the panel substrate 1 not shown by an adhesive layer 11 on the side opposite to the surface of the retardation layer 3 on which the wavelength selection layers 2R, 2G and 2B are formed.
Further, the polarizing layer 4 is attached to the wavelength selection layers 2R, 2G, 2B of the retardation layer 3 via the adhesive layer 11.
【００４４】〔第４の態様〕図５は、波長選択層をＥＬ
パネルに取り付ける第４の態様を示した概略断面図であ
る。[Fourth Embodiment] FIG. 5 shows the wavelength selection layer as an EL element.
It is a schematic sectional drawing which showed the 4th aspect attached to a panel.
【００４５】図５において、波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２
Ｂは、位相差層３上に形成され、この波長選択層２Ｒ、
２Ｇ、２Ｂ上に設けられた接着層１１により図示しない
パネル基板１に貼り付けられる。また、位相差層３上に
は、接着層１１を介して偏光層４が貼り付けられる。In FIG. 5, wavelength selection layers 2R, 2G, 2
B is formed on the retardation layer 3, and the wavelength selection layer 2R,
It is attached to the panel substrate 1 (not shown) by the adhesive layer 11 provided on 2G and 2B. Further, the polarizing layer 4 is attached on the retardation layer 3 via the adhesive layer 11.
【００４６】〔第５の態様〕図６は、波長選択層をＥＬ
パネルに取り付ける第５の態様を示した概略断面図であ
る。[Fifth Embodiment] FIG. 6 shows a case where the wavelength selection layer is made of EL.
It is a schematic sectional drawing which showed the 5th aspect attached to a panel.
【００４７】図６において、波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２
Ｂは、偏光層４上に形成され、この偏光層４の波長選択
層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ上に設けられた接着層１１により、
位相差層３に貼り付けられる。また、位相差層３は、波
長選択層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ接着面と反対側にある接着層
１１により図示しないパネル基板に貼り付けられる。In FIG. 6, the wavelength selection layers 2R, 2G, 2
B is formed on the polarizing layer 4, and by the adhesive layer 11 provided on the wavelength selection layers 2R, 2G, and 2B of the polarizing layer 4,
It is attached to the retardation layer 3. The retardation layer 3 is attached to a panel substrate (not shown) by an adhesive layer 11 on the side opposite to the adhesive surfaces of the wavelength selection layers 2R, 2G, 2B.
【００４８】〔第６の態様〕図７は、波長選択層をＥＬ
パネルに取り付ける第６の態様を示した概略断面図であ
る。[Sixth Embodiment] FIG. 7 shows a wavelength selection layer as an EL.
It is a schematic sectional drawing which showed the 6th aspect attached to a panel.
【００４９】図７において、波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２
Ｂは、偏光層４上に形成され、この偏光層４の波長選択
層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ形成面と反対側にある接着層１１に
より、位相差層３に貼り付けられる。また、位相差層３
は、偏光層４接着面と反対側にある接着層１１により図
示しないパネル基板に貼り付けられる。In FIG. 7, wavelength selection layers 2R, 2G, 2
B is formed on the polarizing layer 4 and is attached to the retardation layer 3 by the adhesive layer 11 on the side opposite to the surface of the polarizing layer 4 on which the wavelength selection layers 2R, 2G and 2B are formed. In addition, the retardation layer 3
Is attached to a panel substrate (not shown) by an adhesive layer 11 on the side opposite to the adhesive surface of the polarizing layer 4.
【００５０】〔第７の態様〕図８は、波長選択層をＥＬ
パネルに取り付ける第７の態様を示した概略断面図であ
る。[Seventh Mode] FIG. 8 shows the wavelength selection layer as an EL element.
It is a schematic sectional drawing which showed the 7th aspect attached to a panel.
【００５１】図８において、波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２
Ｂは、パネル基板の光取り出し面に直接形成される。そ
して、このパネル基板１の波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ
上に、接着層を介してそれぞれ位相差層３、偏光層４が
貼り付けられる。In FIG. 8, wavelength selection layers 2R, 2G, 2
B is directly formed on the light extraction surface of the panel substrate. Then, the wavelength selection layers 2R, 2G, 2B of this panel substrate 1
The retardation layer 3 and the polarizing layer 4 are attached on the top of each via an adhesive layer.
【００５２】このように、種々の態様により波長選択層
を、パネル基板の表示面（光取り出し）側に形成配置す
ることができる。なお、上記態様のうち、発光層からな
るべく近い距離に波長選択層を形成、配置するという点
では、第２の態様、第４の態様、第７の態様が好ましい
といえる。As described above, the wavelength selection layer can be formed and arranged on the display surface (light extraction) side of the panel substrate in various modes. Among the above aspects, the second aspect, the fourth aspect, and the seventh aspect are preferable in terms of forming and arranging the wavelength selection layer as close as possible to the light emitting layer.
【００５３】しかしながら、現実の製造工程を考える
と、パネル基板上に波長選択を直接形成すると、上記の
ようにＥＬ構造体を形成する工程に制約を受ける。ま
た、フィルムに波長選択層を形成する場合、フィルムは
シート状であることが多いが、フィルムに粘着層を形成
する場合、フィルムはロール状で処理することが一般的
である。このため、フィルムがロール状のときに接着層
を形成し、その後シートにして波長選択層を形成する工
程が最も好ましい。従って、上記態様のうち粘着層を形
成してから印刷する事のできる第１の態様と、第３の態
様が好ましく、特別に基材を用意する必要が無く、貼り
付け工程も増えない第３の態様が現実的には最も好まし
い。この様態であれば、従来の円偏光板作成工程時、す
なわち円偏光板と位相差板を貼り合わせる前に印刷をす
るだけで実現可能となる。However, considering the actual manufacturing process, if the wavelength selection is directly formed on the panel substrate, the process for forming the EL structure is restricted as described above. Further, when the wavelength selection layer is formed on the film, the film is often in the form of a sheet, but when forming the adhesive layer on the film, the film is generally processed in the form of a roll. Therefore, the most preferable process is to form an adhesive layer when the film is in a roll shape, and then form a sheet to form a wavelength selection layer. Therefore, of the above aspects, the first aspect and the third aspect, in which the printing can be performed after forming the adhesive layer, are preferable, and it is not necessary to prepare a special base material and the number of attaching steps does not increase. The embodiment is practically the most preferable. In this state, it can be realized by performing printing in the conventional process for producing a circularly polarizing plate, that is, by simply printing before attaching the circularly polarizing plate and the retardation plate.
【００５４】次に、本発明のディスプレイパネルに好ま
しく用いられる有機ＥＬ素子について説明する。Next, the organic EL device preferably used in the display panel of the present invention will be described.
【００５５】電子注入電極としては、低仕事関数の物質
が好ましく、例えば、Ｋ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｌａ、Ｃ
ｅ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ａｌ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚ
ｎ、Ｚｒ等の金属元素単体、または安定性を向上させる
ためにそれらを含む２成分、３成分の合金系を用いるこ
とが好ましい。合金系としては、例えばＡｇ・Ｍｇ（Ａ
ｇ：０．１〜５０at％）、Ａｌ・Ｌｉ（Ｌｉ：０．０１
〜１４at％）、Ｉｎ・Ｍｇ（Ｍｇ：５０〜８０at％）、
Ａｌ・Ｃａ（Ｃａ：０．０１〜２０at％）等が好まし
い。電子注入電極は、上記配線電極と兼用してもよい
し、別々に形成してもよい。電子注入電極は蒸着法やス
パッタ法で形成することが可能である。As the electron injecting electrode, a substance having a low work function is preferable, for example, K, Li, Na, Mg, La and C.
e, Ca, Sr, Ba, Al, Ag, In, Sn, Z
It is preferable to use a simple metal element such as n or Zr, or a binary or ternary alloy system containing them in order to improve stability. As an alloy system, for example, Ag / Mg (A
g: 0.1 to 50 at%), Al.Li (Li: 0.01
˜14 at%), In.Mg (Mg: 50-80 at%),
Al.Ca (Ca: 0.01 to 20 at%) and the like are preferable. The electron injection electrode may be used also as the wiring electrode, or may be formed separately. The electron injection electrode can be formed by a vapor deposition method or a sputtering method.
【００５６】電子注入電極薄膜の厚さは、電子注入を十
分行える一定以上の厚さとすれば良く、０．１nm以上、
好ましくは１nm以上とすればよい。また、その上限値に
は特に制限はないが、通常膜厚は１〜５００nm程度とす
ればよい。The thickness of the electron injecting electrode thin film may be a certain thickness or more capable of sufficiently injecting electrons, and is 0.1 nm or more,
The thickness is preferably 1 nm or more. The upper limit value is not particularly limited, but the film thickness is usually about 1 to 500 nm.
【００５７】ホール注入電極は、通常パネル基板側から
発光した光を取り出す構成であるため、透明ないし半透
明な電極が好ましい。透明電極としては、ＩＴＯ（錫ド
ープ酸化インジウム）、ＩＺＯ（亜鉛ドープ酸化インジ
ウム）、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｉｎ2Ｏ3等が挙げられる
が、好ましくはＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、Ｉ
ＺＯ（亜鉛ドープ酸化インジウム）が好ましい。ＩＴＯ
は、通常Ｉｎ2Ｏ3とＳｎＯとを化学量論組成で含有する
が、Ｏ量は多少これから偏倚していてもよい。The hole injecting electrode is preferably a transparent or semitransparent electrode because it is usually constructed so that light emitted from the panel substrate side is extracted. Examples of the transparent electrode include ITO (tin-doped indium oxide), IZO (zinc-doped indium oxide), ZnO, SnO 2 , In 2 O 3 and the like, but ITO (tin-doped indium oxide) and I are preferable.
ZO (zinc-doped indium oxide) is preferred. ITO
Usually contains In 2 O 3 and SnO in a stoichiometric composition, but the amount of O may be slightly deviated from this.
【００５８】ホール注入電極は、発光波長帯域、通常３
５０〜８００nm、特に各発光光に対する光透過率が５０
％以上、特に６０％以上であることが好ましい。通常、
発光光はホール注入電極を通って取り出されるため、そ
の透過率が低くなると、発光層からの発光自体が減衰さ
れ、発光素子として必要な輝度が得られなくなる傾向が
ある。ただし、一方のみから発光光を取り出すときに
は、取り出す側が上記以上であればよい。The hole injecting electrode has an emission wavelength band, usually 3
50 ~ 800nm, especially the light transmittance for each emitted light is 50
% Or more, particularly preferably 60% or more. Normal,
Since the emitted light is extracted through the hole injecting electrode, if the transmittance thereof is low, the light emission itself from the light emitting layer is attenuated, and the luminance required as a light emitting element tends to be not obtained. However, when the emitted light is extracted from only one side, the side to be extracted may be the above or more.
【００５９】ホール注入電極の厚さは、ホール注入を十
分行える一定以上の厚さを有すれば良く、好ましくは５
０〜５００nm、さらには５０〜３００nmの範囲が好まし
い。また、その上限は特に制限はないが、あまり厚いと
剥離などの心配が生じる。厚さが薄すぎると、製造時の
膜強度やホール輸送能力、抵抗値の点で問題がある。The thickness of the hole injecting electrode may be a certain thickness or more capable of sufficiently injecting holes, and preferably 5
The range of 0 to 500 nm, preferably 50 to 300 nm is preferable. The upper limit is not particularly limited, but if it is too thick, peeling or the like may occur. If the thickness is too thin, there are problems in film strength during production, hole transport ability, and resistance value.
【００６０】このホール注入電極層は蒸着法やスパッタ
法等により形成できる。This hole injecting electrode layer can be formed by a vapor deposition method, a sputtering method or the like.
【００６１】次に、有機ＥＬ素子の有機層について説明
する。Next, the organic layer of the organic EL element will be described.
【００６２】発光層には発光機能を有する化合物である
蛍光性物質が用いられる。このような蛍光性物質として
は、例えば、特開昭６３−２６４６９２号公報に開示さ
れているような化合物、例えばキナクリドン、ルブレ
ン、スチリル系色素等の化合物から選択される少なくと
も１種が挙げられる。また、トリス（８−キノリノラ
ト）アルミニウム等の８−キノリノールないしその誘導
体を配位子とする金属錯体色素などのキノリン誘導体、
テトラフェニルブタジエン、アントラセン、ペリレン、
コロネン、１２−フタロペリノン誘導体等が挙げられ
る。さらには、特開平８−１２６００号公報（特願平６
−１１０５６９号）に記載のフェニルアントラセン誘導
体、特開平８−１２９６９号公報（特願平６−１１４４
５６号）に記載のテトラアリールエテン誘導体等を用い
ることができる。A fluorescent substance which is a compound having a light emitting function is used for the light emitting layer. Examples of such a fluorescent substance include at least one selected from compounds such as those disclosed in JP-A-63-264692, such as quinacridone, rubrene, and styryl dyes. Further, a quinoline derivative such as a metal complex dye having 8-quinolinol such as tris (8-quinolinolato) aluminum or a derivative thereof as a ligand,
Tetraphenyl butadiene, anthracene, perylene,
Examples include coronene and 12-phthaloperinone derivatives. Furthermore, JP-A-8-12600 (Japanese Patent Application No.
-110569), the phenylanthracene derivative described in JP-A-8-12969 (Japanese Patent Application No. 6-114144).
No. 56) and the like.
【００６３】このような蛍光物質はそれ自体で発光が可
能なホスト物質と組み合わせ、ドーパントとして使用す
ることができる。その場合、発光層における蛍光性物質
の含有量は０．０１〜１０wt% 、さらには０．１〜５wt
% であることが好ましい。ホスト物質と組み合わせて使
用することによって、ホスト物質の発光波長特性を変化
させることができ、長波長に移行した発光が可能になる
とともに、素子の発光効率や安定性が向上する。Such a fluorescent substance can be used as a dopant in combination with a host substance capable of emitting light by itself. In that case, the content of the fluorescent substance in the light emitting layer is 0.01 to 10 wt%, more preferably 0.1 to 5 wt%.
% Is preferred. When used in combination with the host material, the emission wavelength characteristic of the host material can be changed, light emission shifted to a long wavelength is possible, and the light emission efficiency and stability of the device are improved.
【００６４】ホスト物質としては、キノリノラト錯体が
好ましく、さらには８−キノリノールないしその誘導体
を配位子とするアルミニウム錯体が好ましい。このよう
なアルミニウム錯体としては、特開昭６３−２６４６９
２号、特開平３−２５５１９０号、特開平５−７０７７
３号、特開平５−２５８８５９号、特開平６−２１５８
７４号等に開示されているものを挙げることができる。The host substance is preferably a quinolinolato complex, more preferably an aluminum complex having 8-quinolinol or its derivative as a ligand. Such an aluminum complex is disclosed in JP-A-63-26469.
No. 2, JP-A-3-255190, and JP-A-5-7077.
No. 3, JP-A-5-258859, JP-A-6-2158.
Those disclosed in No. 74 and the like can be mentioned.
【００６５】具体的には、まず、トリス（８−キノリノ
ラト）アルミニウム、ビス（８−キノリノラト）マグネ
シウム、ビス（ベンゾ｛ｆ｝−８−キノリノラト）亜
鉛、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）アルミニウ
ムオキシド、トリス（８−キノリノラト）インジウム、
トリス（５−メチル−８−キノリノラト）アルミニウ
ム、８−キノリノラトリチウム、トリス（５−クロロ−
８−キノリノラト）ガリウム、ビス（５−クロロ−８−
キノリノラト）カルシウム、５，７−ジクロル−８−キ
ノリノラトアルミニウム、トリス（５，７−ジブロモ−
８−ヒドロキシキノリノラト）アルミニウム、ポリ［亜
鉛（II）−ビス（８−ヒドロキシ−５−キノリニル）メ
タン］、等がある。Specifically, first, tris (8-quinolinolato) aluminum, bis (8-quinolinolato) magnesium, bis (benzo {f} -8-quinolinolato) zinc, bis (2-methyl-8-quinolinolato) aluminum. Oxide, tris (8-quinolinolato) indium,
Tris (5-methyl-8-quinolinolato) aluminum, 8-quinolinolatolithium, tris (5-chloro-)
8-quinolinolato) gallium, bis (5-chloro-8-)
Quinolinolato) calcium, 5,7-dichloro-8-quinolinolato aluminum, tris (5,7-dibromo-)
8-hydroxyquinolinolato) aluminum, poly [zinc (II) -bis (8-hydroxy-5-quinolinyl) methane], and the like.
【００６６】また、８−キノリノールないしその誘導体
のほかに他の配位子を有するアルミニウム錯体であって
もよい。Further, it may be an aluminum complex having another ligand in addition to 8-quinolinol or its derivative.
【００６７】このほかのホスト物質としては、特開平８
−１２６００号公報に記載のフェニルアントラセン誘導
体や、特開平８−１２９６９号公報に記載のテトラアリ
ールエテン誘導体なども好ましい。Other host materials are disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. Hei 8
The phenylanthracene derivative described in JP-A-12600 and the tetraarylethene derivative described in JP-A-8-12969 are also preferable.
【００６８】発光層は電子注入輸送層を兼ねたものであ
ってもよく、このような場合はトリス（８−キノリノラ
ト）アルミニウム等を使用することが好ましい。The light emitting layer may also serve as the electron injecting and transporting layer. In such a case, it is preferable to use tris (8-quinolinolato) aluminum or the like.
【００６９】電子注入輸送性の化合物としては、キノリ
ン誘導体、さらには８−キノリノールないしその誘導体
を配位子とする金属錯体、特にトリス（８−キノリノラ
ト）アルミニウム（Ａｌｑ3 ）を用いることが好まし
い。また、上記のフェニルアントラセン誘導体、テトラ
アリールエテン誘導体を用いるのも好ましい。As the electron injecting and transporting compound, it is preferable to use a quinoline derivative, and further, a metal complex having 8-quinolinol or its derivative as a ligand, particularly tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq3). It is also preferable to use the above-mentioned phenylanthracene derivative or tetraarylethene derivative.
【００７０】ホール注入輸送層用の化合物としては、強
い蛍光を持ったアミン誘導体、例えばトリフェニルジア
ミン誘導体、スチリルアミン誘導体、芳香族縮合環を持
つアミン誘導体を用いるのが好ましい。As the compound for the hole injecting and transporting layer, it is preferable to use an amine derivative having strong fluorescence, for example, a triphenyldiamine derivative, a styrylamine derivative, or an amine derivative having an aromatic condensed ring.
【００７１】なお、上記電子注入輸送層、ホール注入輸
送層を無機物質（シリコン、ゲルマニウム、ストロンチ
ウム、ルビジウム等の酸化物など）を用いて形成するこ
ともできる。The electron injecting and transporting layer and the hole injecting and transporting layer can be formed by using an inorganic substance (oxide such as silicon, germanium, strontium, rubidium).
【００７２】有機ＥＬ素子各層を成膜した後に、ＳｉＯ
X 等の無機材料、テフロン（登録商標）、塩素を含むフ
ッ化炭素重合体等の有機材料等を用いた保護膜を形成し
てもよい。保護膜は透明でも不透明であってもよく、保
護膜の厚さは５０〜１２００nm程度とする。保護膜は、
前記の反応性スパッタ法の他に、一般的なスパッタ法、
蒸着法、ＰＥＣＶＤ法等により形成すればよい。After forming each layer of the organic EL device, SiO
A protective film may be formed using an inorganic material such as X , Teflon (registered trademark), an organic material such as a fluorocarbon polymer containing chlorine, or the like. The protective film may be transparent or opaque, and the thickness of the protective film is about 50 to 1200 nm. The protective film is
In addition to the reactive sputtering method described above, a general sputtering method,
It may be formed by a vapor deposition method, a PECVD method, or the like.
【００７３】有機ＥＬ構造体、配線電極、ダミー金属層
等を形成するパネル基板としては、非晶質基板たとえば
ガラス、石英など、結晶基板たとえば、Ｓｉ、ＧａＡ
ｓ、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＧａＰ、ＩｎＰなどがあげら
れ、またこれらの結晶基板に結晶質、非晶質あるいは金
属のバッファ層を形成した基板も用いることができる。
また金属基板としては、Ｍｏ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ａ
ｕ、Ｐｄなどを用いることができ、好ましくはガラス基
板が用いられる。パネル基板は、通常光取り出し側とな
るため、上記電極と同様な光透過性を有することが好ま
しい。As a panel substrate for forming the organic EL structure, the wiring electrodes, the dummy metal layer, etc., an amorphous substrate such as glass or quartz, a crystalline substrate such as Si or GaA is used.
s, ZnSe, ZnS, GaP, InP, and the like, and a substrate in which a crystalline, amorphous, or metal buffer layer is formed on these crystalline substrates can also be used.
Further, as the metal substrate, Mo, Al, Pt, Ir, A
u, Pd, or the like can be used, and a glass substrate is preferably used. Since the panel substrate is usually on the light extraction side, it preferably has the same light transmissivity as the above-mentioned electrodes.
【００７４】さらに、有機層や電極の劣化を防ぐため
に、有機ＥＬ構造体上を封止板等により封止することが
好ましい。封止板は、湿気の浸入を防ぐために、接着性
樹脂層を用いて、封止板を接着し密封する。封止ガス
は、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎ2 等の不活性ガス等が好ましい。ま
た、この封止ガスの水分含有量は、１００ppm 以下、よ
り好ましくは１０ppm 以下、特には１ppm 以下であるこ
とが好ましい。この水分含有量に下限値は特にないが、
通常０．１ppm 程度である。Further, in order to prevent deterioration of the organic layers and electrodes, it is preferable to seal the organic EL structure with a sealing plate or the like. The sealing plate adheres and seals the sealing plate using an adhesive resin layer in order to prevent the infiltration of moisture. The sealing gas is preferably an inert gas such as Ar, He or N 2 . The water content of the sealing gas is preferably 100 ppm or less, more preferably 10 ppm or less, and particularly preferably 1 ppm or less. There is no particular lower limit to this water content,
Usually, it is about 0.1 ppm.
【００７５】封止板の材料としては、好ましくは平板状
であって、ガラス、セラミック、金属、樹脂等の材料が
挙げられるが、特にガラスが好ましい。封止板は、スペ
ーサーを用いて高さを調整し、所望の高さに保持しても
よい。スペーサーの材料としては、樹脂ビーズ、シリカ
ビーズ、ガラスビーズ、ガラスファイバー等が挙げら
れ、特にガラスビーズ等が好ましい。The material of the sealing plate is preferably a flat plate, and examples thereof include glass, ceramics, metals, and resins, and glass is particularly preferable. The sealing plate may be held at a desired height by adjusting the height with a spacer. Examples of the material of the spacer include resin beads, silica beads, glass beads, glass fibers and the like, and glass beads are particularly preferable.
【００７６】なお、封止板に凹部を形成した場合には、
スペーサーは使用しても、使用しなくてもよい。使用す
る場合の好ましい大きさとしては、特に２〜４０μm の
範囲が好ましい。When the recess is formed in the sealing plate,
Spacers may or may not be used. When used, the size is preferably in the range of 2 to 40 μm.
【００７７】スペーサーは、予め封止用接着剤中に混入
されていても、接着時に混入してもよい。封止用接着剤
中におけるスペーサーの含有量は、好ましくは０．０１
〜３０wt％、より好ましくは０．１〜５wt％である。The spacer may be mixed in the sealing adhesive in advance, or may be mixed at the time of bonding. The content of the spacer in the sealing adhesive is preferably 0.01
-30 wt%, more preferably 0.1-5 wt%.
【００７８】接着剤としては、安定した接着強度が保
て、気密性が良好なものであれば特に限定されるもので
はないが、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ
樹脂接着剤を用いることが好ましい。The adhesive is not particularly limited as long as it has stable adhesive strength and good airtightness, but it is preferable to use a cation curing type ultraviolet curing epoxy resin adhesive. .
【００７９】各画素となる有機ＥＬ素子は、直流駆動や
パルス駆動等される。印加電圧は、通常、２〜３０V 程
度である。The organic EL element serving as each pixel is driven by direct current or pulse. The applied voltage is usually about 2 to 30V.
【００８０】[0080]
【実施例】円偏光板は偏光層：住友化学社製の商品名：
スミカラン、ＳＱシリーズ、位相差層：住友化学社製の
商品名：スミカライト、ＳＥＦシリーズを用いた。[Example] Polarizing layer of circularly polarizing plate: product name of Sumitomo Chemical Co., Ltd .:
Sumikaran, SQ series, retardation layer: Sumikalite, trade name: Sumikalite, SEF series were used.
【００８１】前記円偏光板の位相差層上に、オフセット
法を用いて波長選択層を形成した。このとき、図９に示
すように、波長選択層の透過率が漸次的に変化する領域
２１において、青色のドットサイズを漸次的に変化させ
ることで、面方向に青色の濃度が変化し、最大透過率を
有する領域２２で丁度無色透明になるようにした。な
お、この例では青色を用いたが、波長選択層に用いる色
は、もちろんディスプレイパネルの仕様に応じて適当な
色とすることができる。A wavelength selection layer was formed on the retardation layer of the circularly polarizing plate by the offset method. At this time, as shown in FIG. 9, in the region 21 in which the transmittance of the wavelength selection layer gradually changes, the blue dot size is gradually changed to change the blue density in the surface direction and increase the maximum value. The region 22 having the transmittance is made to be just colorless and transparent. Although blue is used in this example, the color used for the wavelength selection layer can of course be an appropriate color according to the specifications of the display panel.
【００８２】得られた波長選択付き位相差層に、偏光層
を貼り付け、図４に示すような構成とした。A polarizing layer was attached to the obtained retardation layer with wavelength selection to form a structure as shown in FIG.
【００８３】上記工程とは別に、ガラス基板上に、配線
電極としてアルミニウムをスパッタ法にて３００nmの膜
厚に成膜し、フォトリソグラフィーによりパターニング
を行った。Separately from the above steps, aluminum was formed as a wiring electrode to a film thickness of 300 nm on a glass substrate by a sputtering method and patterned by photolithography.
【００８４】次いで、ＩＴＯ透明電極（ホール注入電
極）をスパッタ法にて約１００nm成膜した。得られたＩ
ＴＯ薄膜を、フォトリソグラフィーの手法によりパター
ニング、エッチング処理し、６４×２５６ドット（画
素）のパターンを構成するホール注入電極層を形成し
た。Next, an ITO transparent electrode (hole injection electrode) was formed into a film with a thickness of about 100 nm by a sputtering method. Obtained I
The TO thin film was patterned and etched by a photolithography method to form a hole injection electrode layer forming a pattern of 64 × 256 dots (pixels).
【００８５】さらに、発光部を除き、フォトレジストを
用いてエッジカバーを成膜（パターニング）した。Further, except for the light emitting portion, an edge cover was formed (patterned) using a photoresist.
【００８６】その後、各電子注入電極を分離するために
素子分離構造体を形成した。After that, an element isolation structure was formed to isolate each electron injection electrode.
【００８７】ＩＴＯ透明電極、下地層、電極層等が形成
されているパネル基板の表面をＵＶ／Ｏ3 洗浄した後、
例えば特願平９−４１６６３号に示されているような、
有機層の遮蔽機能のあるひさし構造を有する素子分離構
造体を形成した。After the surface of the panel substrate on which the ITO transparent electrode, the underlayer, the electrode layer and the like are formed is washed with UV / O 3 ,
For example, as shown in Japanese Patent Application No. 9-41663,
An element isolation structure having an eaves structure having a function of shielding the organic layer was formed.
【００８８】次いで、真空蒸着装置の基板ホルダーに固
定して、槽内を１×１０-4Pa以下まで減圧した。４，
４’，４”−トリス（−Ｎ−（３−メチルフェニル）−
Ｎ−フェニルアミノ）トリフェニルアミン（以下、ｍ−
ＭＴＤＡＴＡ）を蒸着速度０.２nm／sec で４０nmの厚
さに蒸着し、ホール注入層とし、次いで減圧状態を保っ
たまま、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ｍ−トリル
−４，４’−ジアミノ−１，１’−ビフェニル（以下、
ＴＰＤ）を蒸着速度０．２nm／sec で３５nmの厚さに蒸
着し、ホール輸送層とした。さらに、減圧を保ったま
ま、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（以下、
Ａｌｑ3 ）を蒸着速度０.２nm／sec で５０nmの厚さに
蒸着して、電子注入輸送・発光層とした。Then, it was fixed to a substrate holder of a vacuum vapor deposition apparatus and the pressure in the tank was reduced to 1 × 10 -4 Pa or less. 4,
4 ', 4 "-tris (-N- (3-methylphenyl)-
N-phenylamino) triphenylamine (hereinafter, m-
MTDATA) was vapor-deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm / sec to a thickness of 40 nm to form a hole injecting layer, and then N, N′-diphenyl-N, N′-m-tolyl-4, while maintaining a reduced pressure. 4'-diamino-1,1'-biphenyl (hereinafter,
TPD) was vapor deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm / sec to a thickness of 35 nm to form a hole transport layer. Further, while maintaining the reduced pressure, tris (8-quinolinolato) aluminum (hereinafter,
Alq3) was vapor-deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm / sec. To a thickness of 50 nm to form an electron injecting / transporting / light emitting layer.
【００８９】次いで減圧を保ったまま、このＥＬ素子構
造体基板を真空蒸着装置からスパッタ装置に移し、スパ
ッタ圧力１．０PaにてＡｌＬｉ電子注入電極（Ｌｉ濃
度：７．２at％）を５０nmの厚さに成膜した。その際ス
パッタガスにはＡｒを用い、投入電力は１００Ｗ、ター
ゲットの大きさは４インチ径、基板とターゲットの距離
は９０mmとした。Then, while maintaining the reduced pressure, the EL element structure substrate was transferred from the vacuum vapor deposition apparatus to the sputtering apparatus, and the AlLi electron injection electrode (Li concentration: 7.2 at%) was formed to a thickness of 50 nm at a sputtering pressure of 1.0 Pa. It was formed into a film. At that time, Ar was used as the sputtering gas, the input power was 100 W, the size of the target was 4 inches, and the distance between the substrate and the target was 90 mm.
【００９０】さらに、減圧を保ったまま、このＥＬ素子
基板を他のスパッタ装置に移し、Ａｌターゲットを用い
たＤＣスパッタ法により、スパッタ圧力０．３PaにてＡ
ｌ保護電極を２００nmの厚さに成膜した。この時スパッ
タガスにはＡｒを用い、投入電力は５００Ｗ、ターゲッ
トの大きさは４インチ径、基板とターゲットの距離は９
０mmとした。前記マスクは、全ての成膜が終了した時点
で取り外した。Further, while keeping the reduced pressure, this EL element substrate was transferred to another sputtering apparatus and was subjected to A sputtering at a sputtering pressure of 0.3 Pa by a DC sputtering method using an Al target.
l A protective electrode was formed to a thickness of 200 nm. At this time, Ar was used as the sputtering gas, the input power was 500 W, the target size was 4 inches, and the distance between the substrate and the target was 9 W.
It was set to 0 mm. The mask was removed when all film formation was completed.
【００９１】最後にガラス封止板を貼り合わせ、反対面
の表示面側に波長変換層の入った円偏光板を貼り付け有
機ＥＬディスプレイパネルとした。これにより、円偏光
板貼り付け工程と同時に波長選択層も取り付けることが
でき全体の作業効率が損なわれる事はなく、印刷工程の
追加のみなのでコスト面でも有利なことがわかった。Finally, a glass sealing plate was attached, and a circularly polarizing plate containing a wavelength conversion layer was attached to the opposite display surface side to obtain an organic EL display panel. As a result, it was found that the wavelength selection layer can be attached at the same time as the step of attaching the circularly polarizing plate, the overall work efficiency is not impaired, and only the printing step is added, which is advantageous in terms of cost.
【００９２】得られた有機ＥＬディスプレイパネルを、
大気中で直流電圧を印加し、１０mA／cm2 の定電流密度
で連続駆動させた。このディスプレイについて視差が認
識できるか否かについて、無作為に抽出した１００人の
被験者に対して行ったところ、７１人が視差は認められ
ないと回答し、２９人がわからないと回答した。また、
視差が認められると回答した者はいなかった。The obtained organic EL display panel is
A direct current voltage was applied in the atmosphere, and it was continuously driven at a constant current density of 10 mA / cm 2 . As to whether or not parallax was recognizable on this display, it was performed on 100 randomly selected subjects. 71 subjects answered that parallax was not recognized, and 29 subjects did not know. Also,
Nobody answered that parallax was observed.
【００９３】また、比較サンプルとして漸次的を付け
ず、波長選択層がある位置で終わりすぐに透明になるよ
うにしたサンプルも作製して同様に評価した。その結
果、７３人が視差が認められる回答し、２７人がわから
ないと回答した。また、視差が認められないと回答した
者はいなかった。Further, as a comparative sample, a sample in which the wavelength selection layer was finished at a position where the wavelength selection layer was formed and was made transparent immediately afterward was also prepared and evaluated in the same manner. As a result, 73 people answered that parallax was recognized, and 27 people did not understand. Also, no one responded that no parallax was observed.
【００９４】さらに、上記実施例において、ディスプレ
イパネルと波長選択層付の円偏光板との貼り合わせを従
来の貼り合わせ精度の範囲内でわざとずらしたサンプル
を製作しても、漸次的変化により、官能試験等で表示の
品質は変わらないというデータが得られた。Further, in the above-mentioned embodiment, even if a sample was produced by intentionally shifting the bonding of the display panel and the circularly polarizing plate with the wavelength selection layer within the range of the conventional bonding accuracy, it was found that due to a gradual change, Data that the quality of the display did not change was obtained by sensory tests.
【００９５】また、部材コストの上昇も印刷費のみに抑
えることができ、大幅なコストアップにはつながらない
ことが分かった。Further, it has been found that the increase in the member cost can be suppressed only to the printing cost, which does not lead to a significant cost increase.
【００９６】[0096]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、形成する
波長選択層の透過スペクトルがパネル面方向に斬次的変
化することで色と色の境目が曖昧になり、厚みや貼り付
け精度に起因する視差が発生しても認識しにくい構造と
することができる。As described above, according to the present invention, since the transmission spectrum of the wavelength selection layer to be formed changes stepwise in the panel surface direction, the boundary between colors becomes ambiguous, and the thickness and sticking accuracy are improved. It is possible to make the structure difficult to recognize even if the parallax caused by is generated.
【００９７】さらに、この波長選択層を光学性機能フィ
ルムに直接印刷することで厚みを厚くすることなく、ま
た、特別な装置コストを生ずることなく、塗り分け方式
ではなし得ない微妙な色彩表現が可能となる。Further, by printing this wavelength selection layer directly on the optical functional film, the subtle color expression which cannot be achieved by the separate coating method can be achieved without increasing the thickness and without incurring a special apparatus cost. It will be possible.
【図１】本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの基本構
成を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the basic structure of an organic EL display panel of the present invention.
【図２】波長選択層をＥＬパネルに取り付ける第１の態
様を示した概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a first mode of attaching a wavelength selection layer to an EL panel.
【図３】波長選択層をＥＬパネルに取り付ける第２の態
様を示した概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a second mode in which the wavelength selection layer is attached to the EL panel.
【図４】波長選択層をＥＬパネルに取り付ける第３の態
様を示した概略断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a third mode in which the wavelength selection layer is attached to the EL panel.
【図５】波長選択層をＥＬパネルに取り付ける第４の態
様を示した概略断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a fourth mode of attaching the wavelength selection layer to the EL panel.
【図６】波長選択層をＥＬパネルに取り付ける第５の態
様を示した概略断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a fifth mode in which the wavelength selection layer is attached to the EL panel.
【図７】波長選択層をＥＬパネルに取り付ける第６の態
様を示した概略断面図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing a sixth aspect of attaching the wavelength selection layer to the EL panel.
【図８】波長選択層をＥＬパネルに取り付ける第７の態
様を示した概略断面図である。FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing a seventh mode in which the wavelength selection layer is attached to the EL panel.
【図９】実施例で形成した波長選択層の平面図である。FIG. 9 is a plan view of a wavelength selection layer formed in an example.
１ 基板 ２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ 波長選択層 ３ 位相差層 ４ 偏光層 ５ ホール注入電極 ６ 有機層 ７ 電子注入電極 1 substrate 2R, 2G, 2B wavelength selection layer 3 Phase difference layer 4 Polarizing layer 5 hole injection electrode 6 organic layers 7 Electron injection electrode
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H048 BA02 BA55 BB02 BB07 BB10 BB41 BB42 2H049 BA02 BA03 BA07 BB03 BB66 BC14 BC22 3K007 AB04 AB17 AB18 BA06 BB06 CB01 CB02 DB03 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page F-term (reference) 2H048 BA02 BA55 BB02 BB07 BB10 BB41 BB42 2H049 BA02 BA03 BA07 BB03 BB66 BC14 BC22 3K007 AB04 AB17 AB18 BA06 BB06 CB01 CB02 DB03
Claims (6)
ィスプレイパネルであって、 パネル基板の表示面側に波長選択層を有する有機ＥＬデ
ィスプレイパネル。1. A display panel having an organic EL element on a panel substrate, the organic EL display panel having a wavelength selection layer on the display surface side of the panel substrate.
板の面方向に漸次的変化している請求項１の有機ＥＬデ
ィスプレイパネル。2. The organic EL display panel according to claim 1, wherein the wavelength selectivity of the wavelength selection layer gradually changes in the plane direction of the panel substrate.
側に直接形成されている請求項１または２の有機ＥＬデ
ィスプレイパネル。3. The organic EL display panel according to claim 1, wherein the wavelength selection layer is directly formed on the display surface side of the panel substrate.
側に貼り合わせる基材上に形成されている請求項１また
は２の有機ＥＬディスプレイパネル。4. The organic EL display panel according to claim 1, wherein the wavelength selection layer is formed on a base material that is bonded to the display surface side of the panel substrate.
る基材は、光学機能フィルムである請求項４の有機ＥＬ
ディスプレイパネル。5. The organic EL device according to claim 4, wherein the base material bonded to the display surface side of the panel substrate is an optical functional film.
Display panel.
有する請求項５の有機ＥＬディスプレイパネル。6. The organic EL display panel according to claim 5, wherein the optical function film has a circular polarization function.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001370260A JP2003173875A (en) | 2001-12-04 | 2001-12-04 | Organic el display panel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2001370260A JP2003173875A (en) | 2001-12-04 | 2001-12-04 | Organic el display panel |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003173875A true JP2003173875A (en) | 2003-06-20 |
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| JP2001370260A Pending JP2003173875A (en) | 2001-12-04 | 2001-12-04 | Organic el display panel |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003173875A (en) |
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- 2001-12-04 JP JP2001370260A patent/JP2003173875A/en active Pending
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