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JP2003030669A - Image preparation method and system - Google Patents

Image preparation method and system

Info

Publication number
JP2003030669A
JP2003030669A JP2001211509A JP2001211509A JP2003030669A JP 2003030669 A JP2003030669 A JP 2003030669A JP 2001211509 A JP2001211509 A JP 2001211509A JP 2001211509 A JP2001211509 A JP 2001211509A JP 2003030669 A JP2003030669 A JP 2003030669A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pixel
image
mask
area
created
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2001211509A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomotaka Noda
智孝 野田
Naoki Kawai
直樹 河合
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2001211509A priority Critical patent/JP2003030669A/en
Publication of JP2003030669A publication Critical patent/JP2003030669A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Image Processing (AREA)
  • Image Generation (AREA)
  • Image Analysis (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image preparation method and system capable of preparing a pattern image which is not identical with a target pattern image though provided with a feature similar to it. SOLUTION: A (reduced) preparation image area in the same size as a (reduced) model image having a pattern to be a model as the area of an image to be prepared is prepared, and the pixel value of an outermost circumferential part in the model image is slightly changed and supplied to each pixel of the pixel imparting part of the preparation image area (a). For each pixel of a pixel decision part in the prepared image area, a mask is arranged on the preparation image area, the mask in the same shape as the above mask is arranged on the model image, and the similarity of a masked area on the preparation image area and the masked area on the model image is obtained while keeping the position of the mask on the preparation image area fixed and moving (b-e) the mask on the model image pixel by one pixel. The pixel whose positional relation with the mask (e) on the model image which is judged as most similar is the same as the positional relation between the mask on the preparation image area and the pixel to be decided is allocated as the pixel on the preparation image area.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、模様を有するモデル画
像を用いて、このモデル画像と同様の質感を有するが、
若干質感が異なる画像を作成する技術に関する。
The present invention uses a model image having a pattern and has a texture similar to that of the model image.
The present invention relates to a technique for creating an image having a slightly different texture.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、建材製品等の表面を装飾する
ものとして様々な模様画像が用いられている。このよう
な模様画像は、撮影した画像を修正して作成したり、コ
ンピュータの演算により人工的に作成したりすることに
より得られている。特にその模様が抽象的な模様画像の
場合は、その特徴(もしくは質感)を有した模様画像で
はあるが、同一の模様ではない模様画像を何種類か作成
したいという要望がある。すなわち、同一ではないが、
似たような特徴を持つ画像のバリエーションを増やした
いという要望がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, various pattern images have been used to decorate the surface of building materials and the like. Such a pattern image is obtained by correcting a photographed image and creating it or artificially creating it by a computer operation. In particular, when the pattern is an abstract pattern image, there is a demand to create several types of pattern images that have the characteristic (or texture) but are not the same pattern. I.e. not the same,
There is a desire to increase the variations of images with similar characteristics.

【0003】このように同様の特徴を有する画像のバリ
エーションを増やすために、従来は、画像作成ソフトウ
ェアを用いて、オペレータが目標とする模様画像を見な
がら、直接作成するか、目標とする画像を修正すること
により、類似の模様画像を作成していた。
In order to increase the variation of images having similar characteristics as described above, conventionally, an operator uses image creating software to directly create a target image while seeing a target pattern image or create a target image. By modifying it, a similar pattern image was created.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の模様画像の作成手法では、オペレータの主観に基づ
いて行われるため、作成された模様画像が目標とした模
様画像の特徴をなくしてしまい、見る者に全く異なった
印象を与える模様となってしまうことがしばしば生じ
る。
However, in the above-described conventional pattern image creating method, since it is performed based on the subjectivity of the operator, the created pattern image loses the target feature of the pattern image, It often happens that the pattern gives the person a completely different impression.

【0005】上記のような点に鑑み、本発明は、目標と
する模様画像と同様の特徴を有するが、同一ではない模
様画像を作成することが可能な画像作成方法およびシス
テムを提供することを課題とする。
In view of the above points, the present invention provides an image creating method and system having the same characteristics as a target pattern image, but capable of creating non-identical pattern images. It is an issue.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明では、作成画像の領域としてモデル画像と同
サイズの作成画像領域を用意し、モデル画像内の最外周
を含む所定数の画素の属性情報を基に前記作成画像領域
の対応する各画素に属性情報を与え、前記作成画像領域
のうち、既に属性情報が与えられた画素以外の各画素の
属性情報を決定することにより作成画像を作成し、特に
各画素の属性情報の決定は、前記作成画像領域上に所定
の形状のマスクを配置し、当該マスクと同形状のマスク
を前記モデル画像上に配置し、前記作成画像領域上のマ
スクの位置は固定したまま、前記モデル画像上のマスク
を1画素分ずつ移動させながら、前記作成画像領域上で
マスクされた領域と前記モデル画像上でマスクされた領
域の類似度を求め、当該類似度が最も高いと判定される
モデル画像上のマスクとの位置関係が、前記作成画像領
域上におけるマスクと決定すべき画素との位置関係と同
一となる位置関係にある画素の属性情報を、前記作成画
像領域上の画素の属性情報として割り当てることにより
行うようにしたことを特徴とする。本発明によれば、モ
デルとする模様画像と同サイズの作成画像を作成するに
あたり、作成画像の周囲については、モデル画像の同一
座標の画素の属性情報を若干異ならせて付与し、作成画
像の周囲以外については、作成画像とモデル画像の両者
においてマスクされた領域の類似度に基づいて決定する
ようにしており、特に作成画像の周囲の画素の属性情報
をモデル画像の対応画素から複写するのではなく、若干
異ならせているために、モデルとなる模様画像の特徴を
残したまま、若干異なった画像を得ることが可能とな
る。
In order to solve the above problems, in the present invention, a created image area of the same size as the model image is prepared as an area of the created image, and a predetermined number of pixels including the outermost periphery in the model image are prepared. Attribute information to each pixel corresponding to the created image area based on the attribute information of the created image area, the created image area by determining the attribute information of each pixel other than the pixel already provided attribute information In particular, the attribute information of each pixel is determined by arranging a mask having a predetermined shape on the created image area, arranging a mask having the same shape as the mask on the model image, and While the mask position is fixed, the mask on the model image is moved pixel by pixel, and the similarity between the masked area on the created image area and the masked area on the model image is obtained. The attribute information of pixels having a positional relationship with the mask on the model image determined to have the highest degree of similarity is the same as the positional relationship between the mask and the pixel to be determined on the created image area. It is characterized in that it is performed by assigning it as attribute information of a pixel on the created image area. According to the present invention, when creating a created image of the same size as the pattern image to be the model, the attribute information of the pixels of the same coordinates of the model image is given to the surroundings of the created image with slightly different attributes. Other than the surroundings, the determination is made based on the similarity of the masked areas in both the created image and the model image, and in particular, the attribute information of the pixels around the created image is copied from the corresponding pixel of the model image. Rather, since it is slightly different, it is possible to obtain a slightly different image while leaving the features of the model pattern image.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態について詳細に説明する。図1は、本発明に係る
画像作成方法の概略を示すフローチャートである。ま
ず、モデルとする模様を有する画像(以下、モデル画像
という)を入力する(ステップS1)。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 is a flowchart showing an outline of the image creating method according to the present invention. First, an image having a pattern as a model (hereinafter referred to as a model image) is input (step S1).

【0008】次に、入力されたモデル画像について、解
像度を落とす率である解像度削減率を設定する(ステッ
プS2)。ここで設定される解像度削減率は、元の画像
の何画素を1画素に落とすかを設定するものである。こ
れは、画素数を減らすことにより、演算量を削減するこ
とを主な目的として行う。
Next, a resolution reduction rate, which is a rate at which the resolution is reduced, is set for the input model image (step S2). The resolution reduction rate set here sets how many pixels of the original image are dropped to one pixel. This is done mainly for the purpose of reducing the calculation amount by reducing the number of pixels.

【0009】次に、設定された解像度削減率によりモデ
ル画像の解像度を落とした縮小モデル画像を作成する
(ステップS3)。縮小モデル画像は、解像度削減率を
rとしたときに、モデル画像上の横r×縦r個の画素の
平均値を、縮小モデル画像の1画素の画素値として与え
ることにより作成される。このとき、縮小モデル画像の
各画素は与えられた平均値をその画素値とすると共に、
画素特定情報としてその画素がモデル画像のどのr×r
個の画素を元に得られたものであるかを記録しておく。
これは、後に元のサイズに復元する際に利用される。縮
小作成画像において、画素値と画素特定情報をまとめて
画素の属性情報と呼ぶことにする。
Next, a reduced model image in which the resolution of the model image is reduced is created at the set resolution reduction rate (step S3). The reduced model image is created by giving an average value of horizontal r × vertical r pixels on the model image as a pixel value of one pixel of the reduced model image, where r is the resolution reduction rate. At this time, each pixel of the reduced model image has the given average value as its pixel value, and
Which r × r of the model image the pixel is as the pixel specifying information
It is recorded whether it is obtained based on the number of pixels.
This is used later when restoring to the original size. In the reduced created image, the pixel value and the pixel specifying information are collectively referred to as pixel attribute information.

【0010】続いて、縮小モデル画像と同サイズの縮小
作成画像領域を用意する(ステップS4)。この縮小作
成画像領域は、最終的に作成すべき画像(以下、作成画
像という)の解像度を落とした状態である縮小作成画像
を作成するための領域であり、画像メモリ上に確保され
る。ここで確保される縮小作成画像領域を図2(a)に
示す。図2(a)に示した縮小作成画像領域は、横sx
画素×縦sy画素分が確保されているが、これは縮小モ
デル画像が横sx画素×縦sy画素のサイズであること
を示している。
Then, a reduced created image area having the same size as the reduced model image is prepared (step S4). This reduced created image area is an area for creating a reduced created image in which the resolution of the image to be finally created (hereinafter referred to as created image) is reduced, and is secured in the image memory. The reduced created image area secured here is shown in FIG. The reduced created image area shown in FIG.
Pixels × vertical sy pixels are secured, which means that the reduced model image has a size of horizontal sx pixels × vertical sy pixels.

【0011】次に、図2(a)に示したような縮小作成
画像領域内の最外周部分に位置する画素に、モデル画像
の対応する部分の画素の属性情報に基づいて属性情報を
与える(ステップS5)。具体的には、縮小モデル画像
の最外周部分に位置する各画素の属性情報のうち、画素
値を若干変更して与えると共に、画素特定情報をコピー
する。縮小モデル画像と縮小作成画像領域は、全く同サ
イズで同数の画素が確保されているため、同座標の画素
の画素値を若干変更して、画素特定情報は単純にコピー
すれば良い。また、画素値の変更は具体的には、あらか
じめ変更可能な最大値を設定しておき、−1≦RANa
≦1の範囲で発生される乱数RANaを最大値に乗じた
値だけ変更するようにする。なお、最外周部分とは、図
2(b)において、網掛けにより示した部分である。こ
こでは、最外周を含む2画素分を最外周部分としてい
る。ここで、最外周部分を2画素分としたのは、後述す
る形状のマスクを用いた類似度の計算に必要となるため
である。図2に示すように縮小作成画像領域は、最外周
部分である画素付与部分と、その他の画素決定部分から
成っている。画素付与部分の画素の属性情報について
は、縮小モデル画像における同位置の画素の属性情報を
基に属性情報を付与することにより得られ、画素決定部
分の画素の属性情報については、次のステップS6によ
り決定される。この縮小作成画像領域の各画素につい
て、属性情報を与えられることにより縮小作成画像が得
られることになる。
Next, attribute information is given to the pixels located at the outermost peripheral portion in the reduced created image area as shown in FIG. 2A based on the attribute information of the pixels of the corresponding portion of the model image ( Step S5). Specifically, of the attribute information of each pixel located at the outermost periphery of the reduced model image, the pixel value is slightly changed and given, and the pixel specifying information is copied. Since the reduced model image and the reduced created image area have exactly the same size and the same number of pixels, the pixel values of the pixels having the same coordinates may be slightly changed and the pixel specifying information may be simply copied. To change the pixel value, a maximum changeable value is set in advance, and −1 ≦ RANa
The random number RANa generated in the range of ≦ 1 is changed by the value obtained by multiplying the maximum value. The outermost peripheral portion is a portion shown by hatching in FIG. Here, two pixels including the outermost circumference are the outermost circumference. Here, the reason that the outermost peripheral portion is two pixels is that it is necessary for the calculation of the degree of similarity using a mask having a shape described later. As shown in FIG. 2, the reduced created image area includes a pixel-added portion that is the outermost peripheral portion and other pixel-determined portions. The attribute information of the pixel of the pixel addition portion is obtained by adding the attribute information based on the attribute information of the pixel at the same position in the reduced model image. For the attribute information of the pixel of the pixel determination portion, the following step S6 is performed. Determined by The reduced created image is obtained by giving the attribute information to each pixel in the reduced created image area.

【0012】縮小作成画像領域の画素付与部分の画素に
ついての属性情報が得られたら、次に、縮小作成画像領
域の画素決定部分の各画素の値を決定していくことによ
り、縮小作成画像を作成する(ステップS6)。画素決
定部分において画素を決定すべき順序としては、色々考
えられるが、本実施形態では、図3(a)に斜線の網掛
けで示した左上端の画素から決定していくことにする。
左上端の画素を決定するためには、そのさらに左上に示
したような12個の画素に対応するマスクを利用する。
このようなマスクを画素決定部分の左上端の画素を決定
するための位置に配置すると、図3(a)のように画素
決定部分から上方向および左方向に2画素分ずつ、はみ
出すことになる。画素付与部分として、あらかじめ周囲
に2画素分属性情報を付与したのは、このためである。
After the attribute information about the pixels in the pixel-added portion of the reduced created image area is obtained, the value of each pixel in the pixel determination portion of the reduced created image area is then determined to obtain the reduced created image. Create (step S6). There are various conceivable orders for determining the pixels in the pixel determining portion, but in the present embodiment, the order is determined from the pixel at the upper left corner shown by hatching in FIG.
To determine the pixel at the upper left corner, a mask corresponding to 12 pixels as shown in the upper left corner is used.
When such a mask is arranged at a position for determining the pixel at the upper left end of the pixel determining portion, it is projected from the pixel determining portion by two pixels in the upward and leftward directions, as shown in FIG. 3A. . It is for this reason that the attribute information for two pixels is previously added to the periphery as the pixel addition portion.

【0013】図3(a)に斜線の網掛けで示した左上端
の画素について決定するために、具体的には、このマス
クと同形状のマスクを縮小モデル画像の全ての画素に対
応する位置に配置し、マスクされた領域の類似度を求め
る。そして、類似度が最も高いと判定された縮小モデル
画像上のマスクに対応する位置の画素を、図3(a)に
示した左上端の画素として決定し、その属性情報を記録
する。縮小モデル画像上のマスクとしては、まず図3
(b)に示す位置に配置し、そのマスクされた領域と図
3(a)に示したマスクされた領域との類似度を求め
る。次に、図3(c)に示すように1画素分マスクを右
側にずらして、そのマスクされた領域と図3(a)に示
したマスクされた領域との類似度を求める。同様にして
各画素位置について類似度を求める処理を行っていき、
マスクが縮小モデル画像上で右端に達したら、図3
(d)に示すようにマスクを1行下の左端に移動させ、
そのマスクされた領域と図3(a)に示したマスクされ
た領域との類似度を求める。このようにして、縮小モデ
ル画像上の全画素に対応する位置について、そのマスク
された領域と図3(a)に示したマスクされた領域との
類似度を求める。例えば、図3(e)に示すような位置
でマスクされた領域との類似度が最も高いと判定された
場合は、図3(e)に斜線の網掛けで示された画素が、
図3(a)に示した左上端の画素として割り当てられる
ことになる。すなわち、図3(e)に斜線の網掛けで示
した画素の属性情報を、図3(a)に示した左上端の画
素にコピーすることになる。
In order to determine the upper left pixel shown by hatching in FIG. 3 (a), specifically, a mask having the same shape as this mask is placed at positions corresponding to all the pixels of the reduced model image. And find the similarity of the masked area. Then, the pixel at the position corresponding to the mask on the reduced model image determined to have the highest degree of similarity is determined as the upper left pixel shown in FIG. 3A, and the attribute information is recorded. As a mask on the reduced model image, first, as shown in FIG.
It is arranged at the position shown in (b), and the degree of similarity between the masked area and the masked area shown in FIG. 3 (a) is obtained. Next, as shown in FIG. 3C, the mask for one pixel is shifted to the right, and the degree of similarity between the masked area and the masked area shown in FIG. 3A is obtained. In the same way, we perform processing to find the similarity for each pixel position,
When the mask reaches the right edge on the reduced model image,
Move the mask down one line to the left edge as shown in (d),
The degree of similarity between the masked area and the masked area shown in FIG. 3A is obtained. In this way, the degree of similarity between the masked area and the masked area shown in FIG. 3A is obtained for the positions corresponding to all the pixels on the reduced model image. For example, when it is determined that the similarity to the masked area at the position shown in FIG. 3E is the highest, the pixels shaded with diagonal lines in FIG.
The pixel is assigned as the upper left pixel shown in FIG. That is, the attribute information of the pixel shown by hatching in FIG. 3E is copied to the pixel at the upper left corner shown in FIG.

【0014】ここで、本発明において、縮小作成画像領
域でマスクされた領域と、縮小モデル画像上でマスクさ
れた領域の類似度を算出するための関数について説明す
る。この関数としては、縮小作成画像領域上のマスク位
置に存在する画素と縮小モデル画像上のマスク位置に存
在する画素との類似性を判定できるものであれば、どの
ようなものでも良いが、本実施形態では、以下の〔数式
1〕に示すものを利用している。
Here, in the present invention, a function for calculating the similarity between the masked area in the reduced created image area and the masked area in the reduced model image will be described. As this function, any function may be used as long as it can determine the similarity between the pixel existing at the mask position on the reduced created image area and the pixel existing at the mask position on the reduced model image. In the embodiment, the one shown in the following [Formula 1] is used.

【0015】〔数式1〕 V = Σi(Rs2+Gs2+Bs2) ただし、i=1〜12(画素数)[Formula 1] V = Σi (Rs 2 + Gs 2 + Bs 2 ) where i = 1 to 12 (number of pixels)

【0016】上記〔数式1〕において、Vは類似度を評
価するための評価値であり、Rs、Gs、Bsはそれぞ
れ、RGBのカラー画像を用いた場合の、縮小作成画像
領域上の画素と縮小モデル画像上の画素の各色成分の画
素値の差である。そのため、評価値Vの値が小さいほ
ど、値が近いということになり、類似度が高いと判定さ
れる。なお、上記の例ではi=1〜12としているが、
これは、図3に示したような標準的なマスクを使用した
場合であり、マスク形状により異なることになる。
In the above [Formula 1], V is an evaluation value for evaluating the degree of similarity, and Rs, Gs, and Bs are the pixels on the reduced image area when RGB color images are used. It is the difference between the pixel values of the respective color components of the pixels on the reduced model image. Therefore, the smaller the value of the evaluation value V, the closer the value is, and it is determined that the degree of similarity is high. Although i = 1 to 12 in the above example,
This is the case where a standard mask as shown in FIG. 3 is used, and it depends on the mask shape.

【0017】図3(a)に示したような左上端の画素が
決定したら、図4(a)に示すように、縮小作成画像領
域上のマスクを右側に1画素分ずらして同様の処理を行
う。このとき、マスクされた領域の類似度を求めるため
に利用される画素は、縮小作成画像領域の最外周部分の
11画素と、既に属性情報が決定した画素決定部分の左
上端の画素(図4(a)において○印で示す)の値が利
用される。
When the pixel at the upper left corner as shown in FIG. 3A is determined, as shown in FIG. 4A, the mask on the reduced image area is shifted to the right by one pixel and the same process is performed. To do. At this time, the pixels used to obtain the degree of similarity of the masked area are 11 pixels at the outermost peripheral portion of the reduced created image area and the pixel at the upper left corner of the pixel determination portion whose attribute information has already been determined (see FIG. 4). The value of (circle mark in (a)) is used.

【0018】同様にして、画素決定部分の1行目の画素
を決定していく。図4(b)は、1行目の右端の画素を
決定する場合のマスクの位置を示している。図4(b)
においても、○印で示した画素は、既に値が決定してい
るものである。1行目の右端の画素が決定したら、2行
目については、左端からでなく、右端から画素の決定を
行う。この際、図4(c)に示すように、マスクは1行
目の画素決定に利用したものと左右が反転した形状のも
のを使用する。なお、図4(c)においても○印は、既
に値が決定した画素を示している。図4(c)に示した
ようなマスクを用いた場合、類似度を求めるための縮小
モデル画像上のマスクは、当然図4(c)に示したもの
と同形状のものが用いられる。このようなマスクを使用
して、2行目の画素は右側から順次決定していく。画素
決定部分の3行目については、また図4(a)に示した
ようなマスクを使用して左端の画素から決定していく。
すなわち、1行ごとに左右反転したマスクを用いて左右
反対方向に向かって画素を決定していくことになる。全
ての行について、常に1方向から決定するようにしても
良いが、その場合、作成された画像上に斜め方向に意図
していない流れのようなものが現れてしまうという現象
が生じることがある。そのような不具合を解消するた
め、図4の例のようにジグザグに画素を決定していくこ
とが望ましい。
Similarly, the pixels in the first row of the pixel determining portion are determined. FIG. 4B shows the position of the mask when determining the rightmost pixel in the first row. Figure 4 (b)
Also in the above, the values of the pixels indicated by the circles have already been determined. When the rightmost pixel in the first row is determined, the pixels in the second row are determined from the right edge instead of the left edge. At this time, as shown in FIG. 4C, the mask used has a shape which is left-right inverted from that used for determining the pixels in the first row. It should be noted that in FIG. 4C as well, the ◯ mark indicates a pixel whose value has already been determined. When the mask as shown in FIG. 4C is used, the mask having the same shape as that shown in FIG. 4C is naturally used as the mask on the reduced model image for obtaining the similarity. Using such a mask, the pixels on the second row are sequentially determined from the right side. Regarding the third line of the pixel determination part, the pixel at the left end is determined using the mask as shown in FIG.
That is, the pixels are determined in the left-right opposite directions by using the mask that is horizontally inverted for each row. Although it is possible to determine all the rows from one direction at all times, in such a case, there may occur a phenomenon in which an unintended flow like a diagonal flow appears on the created image. . In order to eliminate such a problem, it is desirable to determine pixels in a zigzag manner as in the example of FIG.

【0019】画素決定部分の1行目〜下から3行目まで
については、図3、図4に示したような12個の画素か
らなるマスクを利用して画素を決定するが、画素決定部
分の下から2行分については、図5に示すような異なっ
た形状のマスクを用いる。なお、図5において、斜線の
網掛けで示したものが決定すべき画素、○印を付したも
のが既に決定された画素である。下から2行目の画素の
決定には、図5(a)に示すようなマスクを用いる。こ
のマスクは図3、図4に示したような12個の画素に加
えて、決定すべき画素の2行下の位置の5個の画素を加
えた形状となっている。また、1番下の行の画素を決定
するには、図5(b)に示すようなマスクを用いる。こ
のマスクは図3、図4に示したような12個の画素に加
えて、決定すべき画素の下2行の10個の画素を加えた
形状となっている。類似度の判定は、上記〔数式1〕の
ような評価値を算出することにより行うことができる。
ただし、〔数式1〕において、図5(a)に示したマス
クでは、i=1〜17となり、図5(b)に示したマス
クでは、i=1〜22となる。
From the first row to the third row from the bottom of the pixel determining portion, the pixels are determined using a mask of 12 pixels as shown in FIGS. 3 and 4, but the pixel determining portion For the two rows from the bottom, masks having different shapes as shown in FIG. 5 are used. In FIG. 5, the shaded areas are the pixels to be determined, and the circled ones are the already determined pixels. A mask as shown in FIG. 5A is used to determine the pixels in the second row from the bottom. This mask has a shape in which, in addition to the 12 pixels shown in FIGS. 3 and 4, 5 pixels located two rows below the pixel to be determined are added. Further, in order to determine the pixel on the bottom row, a mask as shown in FIG. 5B is used. This mask has a shape in which, in addition to the 12 pixels shown in FIGS. 3 and 4, 10 pixels in the lower two rows of the pixel to be determined are added. The determination of the degree of similarity can be performed by calculating the evaluation value as in [Equation 1].
However, in [Equation 1], i = 1 to 17 in the mask shown in FIG. 5A, and i = 1 to 22 in the mask shown in FIG. 5B.

【0020】下2行分の画素の決定において、図5のよ
うな形状のマスクを用いるのは、画素付与部分の画素の
値を反映させるためである。画素付与部分の画素は、上
述のように、縮小モデル画像の対応する位置から若干値
を変更して得られたものである。そのため、これらの画
素の値を反映させることは、画素決定部分の下側と画素
付与部分の繋ぎ目が目立たないということになる。図
3、図4に示したようなマスクのみを用い、画素付与部
分の画素を反映させないとすると、見る者には、画素決
定部分の下側と画素付与部分の間に段差があるように見
えることになる。なお、画素決定部分の上側と左右につ
いては、図3、図4に示した例でもわかるように、十分
に画素付与部分の画素の値を反映している。
The reason why the mask having the shape as shown in FIG. 5 is used in determining the pixels for the lower two rows is to reflect the value of the pixel in the pixel-added portion. The pixels in the pixel-added portion are obtained by slightly changing the values from the corresponding positions in the reduced model image as described above. Therefore, reflecting the values of these pixels means that the joint between the lower side of the pixel determination portion and the pixel addition portion is inconspicuous. If only the masks shown in FIGS. 3 and 4 are used and the pixels in the pixel-added portion are not reflected, it seems to the viewer that there is a step between the lower side of the pixel determination portion and the pixel-added portion. It will be. It should be noted that the upper side and the left and right of the pixel determination portion sufficiently reflect the pixel values of the pixel addition portion, as can be seen from the examples shown in FIGS. 3 and 4.

【0021】画素決定部分の各画素を決定することによ
り縮小作成画像が得られたら、次に、この縮小作成画像
に基づいて、元のモデル画像と同サイズ・同解像度の作
成画像を作成する(ステップS7)。縮小作成画像は、
上記説明のようにして作成されるため、その属性情報と
して各画素が縮小モデル画像のどの画素を割り当てたか
を記録している。また、縮小モデル画像上の各画素は、
その属性情報として、モデル画像のどのr×r個の画素
を元に得られたかを記録している。つまり、縮小モデル
画像上の各画素は、モデル画像上のどのr×r個の画素
と対応しているかがわかるので、縮小作成画像上の各画
素に、モデル画像上の対応するr×r個の画素を割り当
てることにより、モデル画像と同サイズ・同解像度の作
成画像が作成される。
When the reduced created image is obtained by deciding each pixel of the pixel decision part, next, based on the reduced created image, a created image having the same size and the same resolution as the original model image is created ( Step S7). The reduced image is
Since it is created as described above, as its attribute information, which pixel of the reduced model image each pixel is assigned is recorded. Also, each pixel on the reduced model image is
As the attribute information, which r × r pixels of the model image are obtained is recorded. That is, it is possible to know which r × r pixels on the model image correspond to each pixel on the reduced model image. Therefore, each pixel on the reduced created image corresponds to r × r pixels on the model image. By allocating the pixels of, the created image having the same size and the same resolution as the model image is created.

【0022】上記ステップS7の処理では、縮小作成画
像から作成画像を作成する際に、縮小作成画像から縮小
モデル画像を介してモデル画像上の対応画素を求め、そ
れをそのまま、作成画像上に割り当てるようにしたが、
この際、解像度削減率が小さい(r=3程度)場合に
は、それほど問題は生じないが、解像度削減率が大きい
場合には、解像度削減率に対応する画素数ごとに、固ま
りのようなものが見えるような現象が生じてしまう。例
えば、解像度削減率r=40であるならば、40×40
の画素からなるブロックを作成画像上に並べていくこと
になる。このとき、40×40画素の継ぎ目にあたる部
分では、隣接する画素の配置に連続性が考慮されていな
いため、継ぎ目が目立ってしまう。その結果、作成画像
全体が、40×40画素のブロックの集合体であるよう
に見えてしまう。
In the process of step S7, when the created image is created from the reduced created image, the corresponding pixel on the model image is obtained from the reduced created image through the reduced model image, and that pixel is directly assigned to the created image. I did
At this time, when the resolution reduction rate is small (r = 3 or so), there is not much problem, but when the resolution reduction rate is large, it is like a lump for each number of pixels corresponding to the resolution reduction rate. Will occur. For example, if the resolution reduction rate r = 40, then 40 × 40
Blocks composed of pixels will be arranged on the created image. At this time, in the portion corresponding to the joint of 40 × 40 pixels, the continuity is not taken into consideration in the arrangement of the adjacent pixels, so that the joint becomes conspicuous. As a result, the entire created image looks like an aggregate of blocks of 40 × 40 pixels.

【0023】そこで、ステップS7の処理では、以下の
ような処理を行うことで上記問題点を解決している。解
像度削減率r=40であった場合、本来40×40画素
を作成画像上に割り当てるべきであるが、モデル画像上
における46×46画素を作成画像上に割り当てるよう
にする。つまり、上下左右の3画素ずつを余分に抽出
し、割り当てることになる。この余分に抽出した画素
は、作成画像上に割り当てられた他の画素と合成する。
このときの合成率は、46×46画素のブロックの端に
近付けば近付くほど、小さくなる値とし、さらに、乱数
を用いて合成率を変動させる。合成率α算出は、以下の
〔数式2〕により行う。
Therefore, in the process of step S7, the above problem is solved by performing the following process. When the resolution reduction rate r = 40, originally 40 × 40 pixels should be allocated on the created image, but 46 × 46 pixels on the model image are allocated on the created image. In other words, the upper, lower, left, and right 3 pixels are extracted and allocated in excess. The extra extracted pixels are combined with other pixels assigned on the created image.
The synthesis rate at this time is set to a value that becomes smaller as it gets closer to the end of the block of 46 × 46 pixels, and the synthesis rate is changed using a random number. The synthesis rate α is calculated by the following [Formula 2].

【0024】〔数式2〕 α = DI(X)+RANb[Formula 2] α = DI (X) + RANb

【0025】上記〔数式2〕において、DI(X)は、
ブロックの端からの距離に応じて増加する関数であり、
0〜1の値をとる。また、RANbは、−0.5〜0.
5の値をとる乱数である。演算後、αは、0〜1の値に
なるように補正される。また、ここでは、上下左右に3
画素分を余分に抽出・割り当てするようにしたが、この
余分の画素数も解像度削減率に応じて変化される。以上
のようにして、モデル画像と同様の特徴を残しながら
も、異なった画像である作成画像が得られることになる
が、この作成画像の作成にあたって、効果的な手法につ
いて以下に説明する。
In the above [Formula 2], DI (X) is
Is a function that increases with the distance from the edge of the block,
It takes a value from 0 to 1. RANb is -0.5 to 0.
It is a random number that takes a value of 5. After the calculation, α is corrected to have a value of 0 to 1. In addition, here, 3
The extra pixels are extracted and assigned, but the number of extra pixels is also changed according to the resolution reduction rate. As described above, a created image which is a different image can be obtained while leaving the same characteristics as the model image. An effective method for creating the created image will be described below.

【0026】上記の例においては、演算量の削減のため
に、解像度を落とした縮小作成画像を作成した後で作成
画像を作成するようにしたが、この場合、図6に示すよ
うな問題が生じる。図6(a)は、縮小作成画像の一部
(3画素)拡大図であり、図6(b)は、作成画像の一
部拡大図である。なお、図6は解像度削減率r=3とし
た場合を示している。 r=3とした場合、縮小作成画
像上の1画素は、作成画像上の9(3×3)画素に復元
されることになるが、その場合、この9画素の配列は、
モデル画像上と同じ状態で復元される。そのため、図6
(a)に示すように縮小作成画像上の同一画素が連続し
て3回選ばれた場合、復元した際に、作成画像上の狭い
範囲において模様の繰り返しが生じてしまう。これは、
図6(b)に網掛けで示した画素でわかるように、特定
の画素が繰り返されてしまうからである。
In the above example, in order to reduce the amount of calculation, the reduced image with reduced resolution is generated and then the generated image is generated, but in this case, the problem as shown in FIG. 6 occurs. Occurs. FIG. 6A is an enlarged view of a part (three pixels) of the reduced created image, and FIG. 6B is a partially enlarged view of the created image. Note that FIG. 6 shows a case where the resolution reduction rate r = 3. When r = 3, one pixel on the reduced created image is restored to 9 (3 × 3) pixels on the created image. In that case, the array of 9 pixels is
It is restored in the same state as on the model image. Therefore, FIG.
When the same pixel on the reduced created image is selected three times in succession as shown in (a), the pattern repeats in a narrow range on the created image when restored. this is,
This is because a specific pixel is repeated, as can be seen from the pixels shaded in FIG. 6B.

【0027】そこで、本発明では、近傍の画素と同一の
画素を選択しないようにすることにより、上記のような
問題が生じないようにしている。図7は、縮小作成画像
の一部拡大図である。特に、図7(a)は、左から右方
向に画素を決定していく場合、図7(b)は、右から左
方向に画素を決定していく場合を示している。左から右
方向へ画素を決定していく場合、図7(a)の斜線の網
掛けで示した画素を決定する際には、○印で示した4つ
の画素と同一にならないようにする。斜線の網掛けで示
した画素を決定するにあたっては、上記の例で説明した
のと同様に、縮小作成画像上でマスクされた領域と、縮
小モデル画像上でマスクされた領域との類似度を求め、
類似度が最も高い場合の画素が選択されるが、ここで
は、選択された縮小モデル画像上の画素を、そのまま斜
線で示した画素とするのではなく、○印で示した4つの
画素と同一でないかどうかを調べるのである。これによ
り、近傍の画素と同一の画素を選択することがなくな
り、上述の問題が解決される。また、右から左方向へ画
素を決定していく場合は、図7(b)に示すような位置
関係、すなわち、図7(a)の場合と左右対称の画素を
対象として重複を防ぐ処理が行われる。
Therefore, in the present invention, the above-mentioned problem does not occur by not selecting the same pixel as a neighboring pixel. FIG. 7 is a partially enlarged view of the reduced created image. In particular, FIG. 7A shows a case where pixels are determined from left to right, and FIG. 7B shows a case where pixels are determined from right to left. When determining the pixels from the left to the right, when determining the pixels indicated by hatching in FIG. 7A, the pixels should not be the same as the four pixels indicated by the circles. In determining pixels indicated by hatching, the similarity between the masked area on the reduced created image and the masked area on the reduced model image is determined in the same manner as described in the above example. Seeking,
The pixel with the highest degree of similarity is selected, but here, the pixel on the selected reduced model image is not the pixel shown by diagonal lines as it is, but is the same as the four pixels shown by ○. Check if it isn't. As a result, the same pixel as a neighboring pixel is not selected, and the above problem is solved. Further, when pixels are determined from the right to the left, the positional relationship as shown in FIG. 7B, that is, the processing for preventing overlapping with respect to the pixels symmetrical to the case of FIG. 7A is performed. Done.

【0028】次に、上記画像作成方法を実行するための
システム構成について説明する。図8は、本発明による
画像作成システムの一実施形態を示す構成図である。図
8において、画像入力手段1は、モデル画像を入力する
機能を有する。画像入力手段1としては、モデル画像が
デジタルデータとして既に用意されている場合は、その
デジタルデータを記録した電子記録媒体を読取り可能な
読取り装置で実現でき、モデル画像が紙などの物理的な
媒体で用意されている場合は、スキャナ等の光学的読取
り装置で実現できる。
Next, a system configuration for executing the above-mentioned image creating method will be described. FIG. 8 is a block diagram showing an embodiment of the image creating system according to the present invention. In FIG. 8, the image input means 1 has a function of inputting a model image. As the image inputting means 1, when a model image is already prepared as digital data, it can be realized by a reading device capable of reading an electronic recording medium recording the digital data, and the model image is a physical medium such as paper. If it is prepared by (1), it can be realized by an optical reading device such as a scanner.

【0029】パラメータ設定手段2は、図1のステップ
S2において解像度削減率rを設定するためのものであ
り、マウスやキーボード等の入力機器により実現でき
る。また、パラメータ設定手段2は、乱数の設定等、必
要な種々のパラメータを設定するためにも利用される。
The parameter setting means 2 is for setting the resolution reduction rate r in step S2 of FIG. 1, and can be realized by an input device such as a mouse or a keyboard. The parameter setting means 2 is also used to set various necessary parameters such as setting random numbers.

【0030】マスク形状記憶手段3は、上記図1のステ
ップS6で説明したような、画素決定部分の画素決定の
ために縮小作成画像上と縮小モデル画像の両方に配置す
るためのマスクの形状を記憶するためのものである。
The mask shape storage means 3 stores the shapes of the masks to be arranged on both the reduced created image and the reduced model image for pixel determination in the pixel determination portion, as described in step S6 of FIG. It is for memory.

【0031】演算制御装置4は、本発明に係る画像作成
システムの中心的な役割を果たすものであり、画素決定
手段4a、解像度変換手段4bを有している。画素決定
手段4aは、図1のステップS4〜ステップS6の処理
を実行する機能を有しており、画像メモリ5上に縮小作
成画像の作成領域を確保し、画素を決定していく。解像
度変換手段4bは、図1のステップS3およびステップ
S7の処理を実行する機能を有しており、設定された解
像度削減率にしたがってモデル画像から縮小モデル画像
を作成すると共に、縮小作成画像から作成画像を作成す
る。演算制御装置4はコンピュータのCPU、メモリで
実現され、具体的な機能である画素決定手段4a、解像
度変換手段4bは、コンピュータに搭載された専用のソ
フトウェアプログラムにより実現される。
The arithmetic and control unit 4 plays a central role in the image forming system according to the present invention, and has a pixel determining unit 4a and a resolution converting unit 4b. The pixel determining unit 4a has a function of executing the processes of steps S4 to S6 of FIG. 1, and secures an area for creating a reduced created image on the image memory 5 to determine pixels. The resolution conversion means 4b has a function of executing the processing of steps S3 and S7 of FIG. 1, and creates a reduced model image from the model image according to the set resolution reduction rate and also creates it from the reduced creation image. Create an image. The arithmetic and control unit 4 is realized by a CPU and a memory of a computer, and the pixel determining means 4a and the resolution converting means 4b which are specific functions are realized by a dedicated software program installed in the computer.

【0032】画像メモリ5は、縮小作成画像を作成する
ための記憶領域であり、モデル画像に対して設定された
解像度削減率に従って作成された縮小モデル画像と同サ
イズの記憶領域を確保し、演算制御装置4により決定さ
れた画素の属性情報を記憶していく。
The image memory 5 is a storage area for creating a reduced created image, and secures a storage area of the same size as the reduced model image created according to the resolution reduction rate set for the model image, and performs calculation. The pixel attribute information determined by the control device 4 is stored.

【0033】以上、本発明の好適な実施形態について説
明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、種々の
変形が可能である。例えば、上記実施形態では、演算処
理の負荷軽減のために、モデル画像を縮小すると共に、
縮小されたサイズの縮小作成画像を作成した後、解像度
を戻して作成画像を作成するようにしたが、演算処理の
負荷を考慮しないのであれば、画像メモリには、モデル
画像と同サイズの作成画像領域を確保し、作成画像領域
の最外周部分には、モデル画像の同一位置の画素の属性
情報を、画素値を若干変更させて付与し、作成画像領域
の画素決定部分については、作成画像領域とモデル画像
上のマスクされた領域の類似度を求めることにより、画
素を決定していけば良い。
Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made. For example, in the above embodiment, in order to reduce the load of the arithmetic processing, the model image is reduced and
After creating the reduced created image of the reduced size, the resolution is restored to create the created image. However, if the calculation processing load is not taken into consideration, the image memory will be created with the same size as the model image. The image area is secured, and the attribute information of the pixel at the same position of the model image is given to the outermost peripheral portion of the created image area by slightly changing the pixel value. The pixels may be determined by obtaining the degree of similarity between the area and the masked area on the model image.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
作成画像の領域としてモデル画像と同サイズの作成画像
領域を用意し、モデル画像内の最外周を含む所定数の画
素の属性情報を基に作成画像領域の対応する各画素に属
性情報を与え、作成画像領域のうち、既に属性情報が与
えられた画素以外の各画素の属性情報を決定することに
より作成画像を作成し、特に各画素の属性情報の決定
は、作成画像領域上に所定の形状のマスクを配置し、当
該マスクと同形状のマスクをモデル画像上に配置し、作
成画像領域上のマスクの位置は固定したまま、モデル画
像上のマスクを1画素分ずつ移動させながら、作成画像
領域上でマスクされた領域と前記モデル画像上でマスク
された領域の類似度を求め、この類似度が最も高いと判
定されるモデル画像上のマスクとの位置関係が、作成画
像領域上におけるマスクと決定すべき画素との位置関係
と同一となる位置関係にある画素の属性情報を、作成画
像領域上の画素の属性情報として割り当てることにより
行うようにしたので、モデルとなる模様画像の特徴を残
したまま、若干異なった画像を得ることが可能となると
いう効果を奏する。
As described above, according to the present invention,
A prepared image area of the same size as the model image is prepared as an area of the created image, and attribute information is given to each corresponding pixel of the created image area based on the attribute information of a predetermined number of pixels including the outermost circumference in the model image, A created image is created by determining the attribute information of each pixel other than the pixels to which the attribute information has already been given in the created image area. In particular, the determination of the attribute information of each pixel is performed by setting a predetermined shape on the created image area. A mask of the same shape as the mask is placed on the model image, and the mask on the model image is moved one pixel at a time while the mask on the created image area is fixed. The similarity between the masked area on the area and the masked area on the model image is obtained, and the positional relationship between the mask on the model image determined to have the highest similarity is the mask in the created image area. The attribute information of a pixel having the same positional relationship as that of the pixel to be determined is assigned as the attribute information of the pixel in the created image area. It is possible to obtain a slightly different image while leaving the above.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る画像作成方法のフローチャートで
ある。
FIG. 1 is a flowchart of an image creating method according to the present invention.

【図2】画像メモリ上に確保される縮小作成画像領域を
示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a reduced created image area secured on an image memory.

【図3】縮小作成画像領域および縮小モデル画像と、そ
の上に配置されるマスクの関係を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a relationship between a reduced created image area and a reduced model image, and a mask arranged thereon.

【図4】左右交互に画素決定の順序を変える場合の縮小
作成画像領域とマスクの関係を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a relationship between a reduced created image area and a mask when the order of pixel determination is changed left and right alternately.

【図5】画素決定部分の下側部分のシームレス化処理を
行う場合の、縮小作成画像領域とマスクの関係を示す図
である。
FIG. 5 is a diagram showing a relationship between a reduced image area and a mask when performing a seamless process of a lower portion of a pixel determination portion.

【図6】縮小作成画像上で同一の画素が連続して選ばれ
た場合の、画素の関係を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a pixel relationship when the same pixel is continuously selected on a reduced created image.

【図7】決定すべき画素と、重複を禁止すべき画素との
位置関係を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a positional relationship between a pixel to be determined and a pixel whose duplication should be prohibited.

【図8】本発明による画像作成システムの一実施形態を
示す構成図である。
FIG. 8 is a configuration diagram showing an embodiment of an image creating system according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・画像入力手段 2・・・パラメータ設定手段 3・・・マスク形状記憶手段 4・・・演算制御装置 4a・・・画素決定手段 4b・・・解像度変換手段 5・・・画像メモリ 1. Image input means 2. Parameter setting means 3 ... Mask shape storage means 4 ... Arithmetic control device 4a ... Pixel determining means 4b ... Resolution conversion means 5 ... Image memory

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5B057 AA01 CA08 CA12 CA16 CB08 CB12 CB16 CC02 CD05 CE08 DA07 DB02 DB09 DC34 DC36 5B080 GA22 GA29 5L096 BA08 DA01 EA03 FA69 GA10 JA03    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F term (reference) 5B057 AA01 CA08 CA12 CA16 CB08                       CB12 CB16 CC02 CD05 CE08                       DA07 DB02 DB09 DC34 DC36                 5B080 GA22 GA29                 5L096 BA08 DA01 EA03 FA69 GA10                       JA03

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】所望の模様を有するモデル画像を利用し
て、当該モデル画像が表現している模様と同等の模様を
表現した画像を作成する方法であって、 作成すべき画像である作成画像の領域としてモデル画像
と同サイズの作成画像領域を用意する段階と、 モデル画像内の最外周を含む最外周部分に位置する画素
の属性情報を基に、前記作成画像領域の対応する部分で
ある画素付与部分の各画素に属性情報を与える画素情報
付与段階と、 前記作成画像領域のうち、前記画素情報付与段階におい
て属性情報を与えられた画素付与部分以外の領域である
画素決定部分の各画素の属性情報を決定する画素情報決
定段階と、を有し、 前記画素情報決定段階における各画素の決定は、前記作
成画像領域上に所定の形状のマスクを配置し、当該マス
クと同形状のマスクを前記モデル画像上に配置し、前記
作成画像領域上のマスクの位置は固定したまま、前記モ
デル画像上のマスクを1画素分ずつ移動させながら、前
記作成画像領域上でマスクされた領域と前記モデル画像
上でマスクされた領域の類似度を求め、当該類似度が最
も高いと判定されるモデル画像上のマスクとの位置関係
が、前記作成画像領域上におけるマスクと決定すべき画
素との位置関係と同一となる位置関係にある画素の属性
情報を、前記作成画像領域上の画素の属性情報として割
り当てることにより行うことを特徴とする画像作成方
法。
1. A method of using a model image having a desired pattern to create an image expressing a pattern equivalent to the pattern expressed by the model image, which is an image to be created. The prepared image area having the same size as the model image is prepared as the area of the model image, and the corresponding portion of the created image area based on the attribute information of the pixels located in the outermost peripheral portion including the outermost periphery in the model image. Pixel information giving step of giving attribute information to each pixel of the pixel giving portion, and each pixel of the pixel determining portion which is an area other than the pixel giving portion given the attribute information in the pixel information giving step in the created image area Pixel information determining step of determining attribute information of the pixel information determining step, and determining each pixel in the pixel information determining step includes arranging a mask having a predetermined shape on the created image area, and forming the same shape as the mask. A mask having a circular pattern is arranged on the model image, and the mask on the model image is masked on the model image while moving the mask on the model image by one pixel while the position of the mask is fixed on the model image. The positional relationship between the area and the mask on the model image for which the similarity between the masked area on the model image is determined and the similarity is determined to be the highest, and the pixel to be determined as the mask on the created image area And an attribute information of a pixel having the same positional relationship as that of the attribute information of the pixel on the created image area.
【請求項2】前記画素決定部分の各画素を決定する際、
画素決定部分の最後の所定数分の行については、前記マ
スク形状と異なる形状のマスクを使用し、当該マスクに
よりマスクされる画素として、画素決定部分の下方に位
置する画素付与部分の所定数の行の画素を利用するよう
にしたことを特徴とする請求項1に記載の画像作成方
法。
2. When determining each pixel of the pixel determining portion,
For the last predetermined number of rows of the pixel determining portion, a mask having a shape different from the mask shape is used, and as the pixels to be masked by the mask, the predetermined number of pixel applying portions located below the pixel determining portion are used. The image creating method according to claim 1, wherein the pixels of the row are used.
【請求項3】所望の模様を有するモデル画像を利用し
て、当該モデル画像が表現している模様と同等の模様を
表現した画像を作成する方法であって、 解像度削減率を設定する段階と、 前記設定された解像度削減率に従ってモデル画像の解像
度を落とした縮小モデル画像を作成する段階と、 前記縮小モデル画像と同サイズの縮小作成画像領域を用
意する段階と、 前記縮小モデル画像内の最外周を含む最外周部分に位置
する画素の属性情報を基に、前記縮小作成画像領域の対
応する部分である画素付与部分の各画素に属性情報を与
える画素情報付与段階と、 前記縮小作成画像領域のうち、前記画素情報付与段階に
おいて属性情報を与えられた画素付与部分以外の領域で
ある画素決定部分の各画素の属性情報を決定する画素情
報決定段階と、 前記画素情報決定段階により得られた縮小作成画像の各
画素の属性情報に基づいて元のモデル画像と同サイズの
作成画像を作成する段階と、を有し、 前記画素情報決定段階における各画素の決定は、前記縮
小作成画像領域上に所定の形状のマスクを配置し、当該
マスクと同形状のマスクを前記縮小モデル画像上に配置
し、前記縮小作成画像領域上のマスクの位置は固定した
まま、前記縮小モデル画像上のマスクを1画素分ずつ移
動させながら、前記縮小作成画像領域上でマスクされた
領域と前記縮小モデル画像上でマスクされた領域の類似
度を求め、当該類似度が最も高いと判定される縮小モデ
ル画像上のマスクとの位置関係が、前記縮小作成画像領
域上におけるマスクと決定すべき画素との位置関係と同
一となる位置関係にある画素の属性情報を、前記縮小作
成画像領域上の画素の属性情報として割り当てることに
より行うものであり、 前記作成画像を作成する段階は、前記縮小作成画像の属
性情報に従って各画素に割り当てられた縮小モデル画像
上の画素を介して、対応するモデル画像上の複数画素を
特定し、当該モデル画像上の複数画素を前記縮小作成画
像の各画素に対応させて配置していくことにより前記作
成画像を作成するものであることを特徴とする画像作成
方法。
3. A method of using a model image having a desired pattern to create an image expressing a pattern equivalent to the pattern expressed by the model image, comprising the step of setting a resolution reduction rate. A step of creating a reduced model image in which the resolution of the model image is reduced according to the set resolution reduction rate; a step of preparing a reduced created image area of the same size as the reduced model image; A pixel information giving step of giving attribute information to each pixel of a pixel-added portion which is a corresponding portion of the reduced created image area, based on attribute information of pixels located in the outermost peripheral portion including the outer circumference; A pixel information determining step of determining attribute information of each pixel of a pixel determining portion which is an area other than the pixel assigning portion to which the attribute information is given in the pixel information giving step; Creating a created image of the same size as the original model image based on the attribute information of each pixel of the reduced created image obtained in the pixel information determining step, and determining each pixel in the pixel information determining step. Is arranged a mask of a predetermined shape on the reduced created image area, a mask of the same shape as the mask is placed on the reduced model image, the position of the mask on the reduced created image area is fixed, While moving the mask on the reduced model image by one pixel, the similarity between the masked region on the reduced created image region and the masked region on the reduced model image is obtained, and the similarity is highest. The attribute information of the pixel having the positional relationship with the mask on the reduced model image determined to be the same as the positional relationship between the mask and the pixel to be determined on the reduced created image area. Is performed as attribute information of pixels on the reduced created image area, and the step of creating the created image is performed on the reduced model image assigned to each pixel according to the attribute information of the reduced created image. The created image is created by specifying a plurality of pixels on the corresponding model image via pixels and arranging the plurality of pixels on the model image in correspondence with each pixel of the reduced created image. An image creation method characterized by the fact that there is.
【請求項4】所望の模様を有するモデル画像を入力する
画像入力手段と、 作成すべき画像である作成画像の領域としてモデル画像
と同サイズの作成画像領域を用意し、モデル画像内の最
外周を含む最外周部分に位置する画素の属性情報を基に
前記作成画像領域の対応する部分である画素付与部分の
各画素に属性情報を与え、前記作成画像領域のうち、既
に属性情報を与えられた画素付与部分以外の領域である
画素決定部分の各画素の属性情報を決定する画素決定手
段と、を有し、 前記画素決定手段における各画素の決定は、前記作成画
像領域上に所定の形状のマスクを配置し、当該マスクと
同形状のマスクを前記モデル画像上に配置し、前記作成
画像領域上のマスクの位置は固定したまま、前記モデル
画像上のマスクを1画素分ずつ移動させながら、前記作
成画像領域上でマスクされた領域と前記モデル画像上で
マスクされた領域の類似度を求め、当該類似度が最も高
いと判定されるモデル画像上のマスクとの位置関係が、
前記作成画像領域上におけるマスクと決定すべき画素と
の位置関係と同一となる位置関係にある画素の属性情報
を、前記作成画像領域上の画素の属性情報として割り当
てることにより行うものであることを特徴とする画像作
成システム。
4. An image input means for inputting a model image having a desired pattern, and a prepared image area having the same size as the model image as an area of the created image which is an image to be created. The attribute information is given to each pixel of the pixel-added portion which is the corresponding portion of the created image area based on the attribute information of the pixel located in the outermost peripheral portion including And a pixel determining unit that determines attribute information of each pixel of a pixel determining portion that is an area other than the pixel-added portion, wherein each pixel is determined by the pixel determining unit in a predetermined shape on the created image area. The mask having the same shape as the mask is placed on the model image, and the mask on the model image is moved by one pixel while the position of the mask on the created image area is fixed. While, obtains the similarity of the masked area on the masked area the model image by the creation image area, the positional relationship between the mask on the model image in which the similarity is determined to highest,
The attribute information of a pixel having the same positional relationship as the positional relationship between the mask and the pixel to be determined on the created image area is assigned as the attribute information of the pixel on the created image area. Characteristic image creation system.
【請求項5】コンピュータに、作成すべき画像である作
成画像の領域としてモデル画像と同サイズの作成画像領
域を用意する段階、モデル画像内の最外周を含む最外周
部分に位置する画素の属性情報を基に前記作成画像領域
の対応する部分である画素付与部分の各画素に属性情報
を与える画素情報付与段階、前記作成画像領域のうち、
画素情報付与段階において属性情報を与えられた画素付
与部分以外の領域である画素決定部分の各画素の属性情
報を決定する画素情報決定段階を実行させ、 前記画素情報決定段階における各画素の決定は、前記作
成画像領域上に所定の形状のマスクを配置し、当該マス
クと同形状のマスクを前記モデル画像上に配置し、前記
作成画像領域上のマスクの位置は固定したまま、前記モ
デル画像上のマスクを1画素分ずつ移動させながら、前
記作成画像領域上でマスクされた領域と前記モデル画像
上でマスクされた領域の類似度を求め、当該類似度が最
も高いと判定されるモデル画像上のマスクとの位置関係
が、前記作成画像領域上におけるマスクと決定すべき画
素との位置関係と同一となる位置関係にある画素の属性
情報を、前記作成画像領域上の画素の属性情報として割
り当てることにより行うものであることを特徴とするプ
ログラム。
5. A step of preparing, in a computer, a created image area having the same size as a model image as an area of an created image which is an image to be created, and attributes of pixels located in an outermost peripheral portion including an outermost circumference in the model image. A pixel information giving step of giving attribute information to each pixel of a pixel giving portion which is a corresponding portion of the created image area based on information;
The pixel information determination step of determining the attribute information of each pixel of the pixel determination portion, which is an area other than the pixel addition portion to which the attribute information is given in the pixel information addition step, is executed, and the determination of each pixel in the pixel information determination step is performed. , A mask of a predetermined shape is placed on the created image area, a mask of the same shape as the mask is placed on the model image, and the position of the mask on the created image area is fixed, and the mask is placed on the model image. While moving the mask of 1 pixel by 1 pixel, the degree of similarity between the masked area on the created image area and the masked area on the model image is calculated, and the model image determined to have the highest similarity is calculated. Attribute information of pixels having a positional relationship with the mask that is the same as the positional relationship between the mask on the created image area and the pixel to be determined on the created image area. A program that is performed by assigning it as attribute information of the pixel.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8577500B2 (en) 2011-02-10 2013-11-05 Seiko Epson Corporation Robot apparatus, position detecting device, position detecting program, and position detecting method

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