JP2003026619A - テトラクロロエチレンの精製方法および該方法を用いるペンタフルオロエタンの製造方法 - Google Patents
テトラクロロエチレンの精製方法および該方法を用いるペンタフルオロエタンの製造方法Info
- Publication number
- JP2003026619A JP2003026619A JP2001206882A JP2001206882A JP2003026619A JP 2003026619 A JP2003026619 A JP 2003026619A JP 2001206882 A JP2001206882 A JP 2001206882A JP 2001206882 A JP2001206882 A JP 2001206882A JP 2003026619 A JP2003026619 A JP 2003026619A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tetrachloroethylene
- stabilizer
- hydroxyl group
- zeolite
- aromatic compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Treatment Of Liquids With Adsorbents In General (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 テトラクロロエチレン中に含まれる安定剤を
除去することができる、操作が容易で工業的に実施可能
なテトラクロロエチレンの精製方法と、該精製方法を用
いるペンタフルオロエタンの製造方法を提供する。 【解決手段】 安定剤を含むテトラクロロエチレンを、
平均細孔径が３．４〜１１Åであるゼオライト及び／ま
たは平均細孔径が３．４〜１１Åである炭素質吸着剤と
液相で接触させる。
除去することができる、操作が容易で工業的に実施可能
なテトラクロロエチレンの精製方法と、該精製方法を用
いるペンタフルオロエタンの製造方法を提供する。 【解決手段】 安定剤を含むテトラクロロエチレンを、
平均細孔径が３．４〜１１Åであるゼオライト及び／ま
たは平均細孔径が３．４〜１１Åである炭素質吸着剤と
液相で接触させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、テトラクロロエチ
レンの精製方法および該精製方法を用いるペンタフルオ
ロエタンの製造方法に関する。
レンの精製方法および該精製方法を用いるペンタフルオ
ロエタンの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】テトラクロロエチレン（以下、「ＣＣｌ
2＝ＣＣｌ2」あるいは「ＰＣＥ」ということがある。）
の製造方法としては、例えば、（１）四塩化炭素の熱分
解法、（２）塩素化オレフィンの塩素化と脱塩酸を同時
に行う方法、（３）天然ガスまたはＬＰＧなどの炭化水
素と塩素を原料とする方法等が知られている。その製造
工程では、テトラクロロエチレンの安定性を確保するた
め、安定剤が添加され、一般的に安定剤が数百〜数千ｐ
ｐｍ添加される。また、テトラクロロエチレンの用途と
しては、ドライクリーニング溶媒、フロンガス製造原
料、溶剤等に使用される。
2＝ＣＣｌ2」あるいは「ＰＣＥ」ということがある。）
の製造方法としては、例えば、（１）四塩化炭素の熱分
解法、（２）塩素化オレフィンの塩素化と脱塩酸を同時
に行う方法、（３）天然ガスまたはＬＰＧなどの炭化水
素と塩素を原料とする方法等が知られている。その製造
工程では、テトラクロロエチレンの安定性を確保するた
め、安定剤が添加され、一般的に安定剤が数百〜数千ｐ
ｐｍ添加される。また、テトラクロロエチレンの用途と
しては、ドライクリーニング溶媒、フロンガス製造原
料、溶剤等に使用される。
【０００３】一方、ペンタフルオロエタン（以下、「Ｃ
Ｆ3ＣＨＦ2」ということがある。）を製造する方法とし
ては、例えば、（１）テトラクロロエチレンまたはその
フッ素化物をフッ化水素でフッ素化する方法（特表平９
−５１１５１５号公報等）、（２）クロロペンタフルオ
ロエタン（ＣＣｌＦ2ＣＦ3）を水素化分解する方法（特
許第２５４０４０９号公報等）、（３）ハロゲン含有エ
チレンにフッ素ガスを反応させる方法（特開平１−３８
０３４号公報等）が挙げられる。
Ｆ3ＣＨＦ2」ということがある。）を製造する方法とし
ては、例えば、（１）テトラクロロエチレンまたはその
フッ素化物をフッ化水素でフッ素化する方法（特表平９
−５１１５１５号公報等）、（２）クロロペンタフルオ
ロエタン（ＣＣｌＦ2ＣＦ3）を水素化分解する方法（特
許第２５４０４０９号公報等）、（３）ハロゲン含有エ
チレンにフッ素ガスを反応させる方法（特開平１−３８
０３４号公報等）が挙げられる。
【０００４】例えば、テトラクロロエチレンとフッ化水
素とを気相でフッ素化触媒の存在下にて反応させてペン
タフルオロエタンを製造する方法は、反応条件が異なる
２段階の反応によって行われる。すなわち、テトラクロ
ロエチレンとフッ化水素（以下、「ＨＦ」ということが
ある。）をフッ素化触媒の存在下、気相で反応させて、
主として１、１−ジクロロ−２、２、２−トリフルオロ
エタン（以下、「ＣＨＣｌ2ＣＦ3」ということがあ
る。）および１−クロロ−１、２、２、２−テトラフル
オロエタン（以下、「ＣＨＣｌＦＣＦ3」ということが
ある。）を生成せしめる第１の反応と、第１の反応で生
成した、主としてＣＨＣｌ2ＣＦ3およびＣＨＣｌＦＣＦ
3とＨＦを、フッ素化触媒の存在下、気相で反応させ
て、主としてペンタフルオロエタンを生成せしめる第２
の反応によって製造される。
素とを気相でフッ素化触媒の存在下にて反応させてペン
タフルオロエタンを製造する方法は、反応条件が異なる
２段階の反応によって行われる。すなわち、テトラクロ
ロエチレンとフッ化水素（以下、「ＨＦ」ということが
ある。）をフッ素化触媒の存在下、気相で反応させて、
主として１、１−ジクロロ−２、２、２−トリフルオロ
エタン（以下、「ＣＨＣｌ2ＣＦ3」ということがあ
る。）および１−クロロ−１、２、２、２−テトラフル
オロエタン（以下、「ＣＨＣｌＦＣＦ3」ということが
ある。）を生成せしめる第１の反応と、第１の反応で生
成した、主としてＣＨＣｌ2ＣＦ3およびＣＨＣｌＦＣＦ
3とＨＦを、フッ素化触媒の存在下、気相で反応させ
て、主としてペンタフルオロエタンを生成せしめる第２
の反応によって製造される。
【０００５】この製造方法において、第１の反応原料の
１つであるテトラクロロエチレン中には、通常数十質量
ｐｐｍ〜数百質量ｐｐｍ程度の安定剤が分解による酸分
発生等を抑えるために含まれている。例えば、フェノー
ル、クレゾール等の水酸基を有する芳香族化合物が含ま
れており、テトラクロロエチレン中に安定剤が含まれな
い場合は、テトラクロロエチレンは安定性に欠け、酸分
の発生等の副反応が進行する。
１つであるテトラクロロエチレン中には、通常数十質量
ｐｐｍ〜数百質量ｐｐｍ程度の安定剤が分解による酸分
発生等を抑えるために含まれている。例えば、フェノー
ル、クレゾール等の水酸基を有する芳香族化合物が含ま
れており、テトラクロロエチレン中に安定剤が含まれな
い場合は、テトラクロロエチレンは安定性に欠け、酸分
の発生等の副反応が進行する。
【０００６】しかしながら、テトラクロロエチレン中に
含まれる安定剤は、例えばペンタフルオロエタンを製造
する際に用いられる触媒の活性劣化の原因となり、好ま
しくは安定剤は含まれないことが望ましい。そこで、例
えば第１の反応前に安定剤を除去すればよいが、従来の
分別蒸留等による除去方法は、操作が煩雑であり、実装
置に多額の費用を要するという問題がある。
含まれる安定剤は、例えばペンタフルオロエタンを製造
する際に用いられる触媒の活性劣化の原因となり、好ま
しくは安定剤は含まれないことが望ましい。そこで、例
えば第１の反応前に安定剤を除去すればよいが、従来の
分別蒸留等による除去方法は、操作が煩雑であり、実装
置に多額の費用を要するという問題がある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような背
景の下になされたものであって、本発明は、テトラクロ
ロエチレン中に含まれる安定剤を除去することができ
る、操作が容易で工業的に実施可能なテトラクロロエチ
レンの精製方法と、該精製方法を用いるペンタフルオロ
エタンの製造方法を提供することを課題とする。
景の下になされたものであって、本発明は、テトラクロ
ロエチレン中に含まれる安定剤を除去することができ
る、操作が容易で工業的に実施可能なテトラクロロエチ
レンの精製方法と、該精製方法を用いるペンタフルオロ
エタンの製造方法を提供することを課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決すべく鋭意検討した結果、安定剤を含むテトラ
クロロエチレンを、平均細孔径が３．４〜１１Åである
ゼオライト及び／または平均細孔径が３．４〜１１Åで
ある炭素質吸着剤と液相で接触させることにより、安定
剤を低減することができることを見出した。さらに、安
定剤が低減されたテトラクロロエチレンを原料として用
いることにより、効率的にペンタフルオロエタンを製造
することができるということを見出し、本発明を完成す
るに至った。本発明は以下の［１］〜［１０］に示され
るテトラクロロエチレンの精製方法および該精製方法を
用いるペンタフルオロエタンの製造方法である。
題を解決すべく鋭意検討した結果、安定剤を含むテトラ
クロロエチレンを、平均細孔径が３．４〜１１Åである
ゼオライト及び／または平均細孔径が３．４〜１１Åで
ある炭素質吸着剤と液相で接触させることにより、安定
剤を低減することができることを見出した。さらに、安
定剤が低減されたテトラクロロエチレンを原料として用
いることにより、効率的にペンタフルオロエタンを製造
することができるということを見出し、本発明を完成す
るに至った。本発明は以下の［１］〜［１０］に示され
るテトラクロロエチレンの精製方法および該精製方法を
用いるペンタフルオロエタンの製造方法である。
【０００９】［１］安定剤として水酸基を有する芳香族
化合物を含むテトラクロロエチレンを、平均細孔径が
３．４〜１１Åであるゼオライトおよび／または平均細
孔径が３．４〜１１Åである炭素質吸着剤と液相で接触
させ、前記安定剤を低減させることを特徴とするテトラ
クロロエチレンの精製方法。 ［２］前記ゼオライトのＳｉ／Ａｌ比が２以下である上
記［１］に記載のテトラクロロエチレンの精製方法。 ［３］前記ゼオライトが、モレキュラーシーブス４Ａ、
モレキュラーシーブス５Ａ、モレキュラーシーブス１０
Ｘおよびモレキュラーシーブス１３Ｘからなる群から選
ばれる少なくとも１種のゼオライトである上記［１］ま
たは［２］に記載のテトラクロロエチレンの精製方法。 ［４］前記炭素質吸着剤が、モレキュラーシービングカ
ーボン４Ａおよび／またはモレキュラーシービングカー
ボン５Ａである上記［１］に記載のテトラクロロエチレ
ンの精製方法。 ［５］安定剤として水酸基を有する芳香族化合物を含む
テトラクロロエチレンと、前記ゼオライトおよび／また
は前記炭素質吸着剤を接触させる温度が−２０〜８０℃
である上記［１］〜［４］のいずれかに記載のテトラク
ロロエチレンの精製方法。
化合物を含むテトラクロロエチレンを、平均細孔径が
３．４〜１１Åであるゼオライトおよび／または平均細
孔径が３．４〜１１Åである炭素質吸着剤と液相で接触
させ、前記安定剤を低減させることを特徴とするテトラ
クロロエチレンの精製方法。 ［２］前記ゼオライトのＳｉ／Ａｌ比が２以下である上
記［１］に記載のテトラクロロエチレンの精製方法。 ［３］前記ゼオライトが、モレキュラーシーブス４Ａ、
モレキュラーシーブス５Ａ、モレキュラーシーブス１０
Ｘおよびモレキュラーシーブス１３Ｘからなる群から選
ばれる少なくとも１種のゼオライトである上記［１］ま
たは［２］に記載のテトラクロロエチレンの精製方法。 ［４］前記炭素質吸着剤が、モレキュラーシービングカ
ーボン４Ａおよび／またはモレキュラーシービングカー
ボン５Ａである上記［１］に記載のテトラクロロエチレ
ンの精製方法。 ［５］安定剤として水酸基を有する芳香族化合物を含む
テトラクロロエチレンと、前記ゼオライトおよび／また
は前記炭素質吸着剤を接触させる温度が−２０〜８０℃
である上記［１］〜［４］のいずれかに記載のテトラク
ロロエチレンの精製方法。
【００１０】［６］安定剤として水酸基を有する芳香族
化合物を含むテトラクロロエチレンと、前記ゼオライト
および／または前記炭素質吸着剤を接触させる圧力が０
〜３ＭＰａである上記［１］〜［５］のいずれかに記載
のテトラクロロエチレンの精製方法。 ［７］上記［１］〜［６］のいずれかに記載の精製方法
を用いることを特徴とする安定剤として含まれる水酸基
を有する芳香族化合物が低減されたテトラクロロエチレ
ンの製造方法。 ［８］次の３つの工程を含むことを特徴とするペンタフ
ルオロエタンの製造方法。 （１）上記［１］〜［６］のいずれかに記載の精製方法
を用いてテトラクロロエチレン中に含まれる水酸基を有
する芳香族化合物を低減する工程 （２）（１）の工程を経て前記水酸基を有する芳香族化
合物が低減されたテトラクロロエチレンとＨＦを、アル
ミナ−クロミア触媒の存在下、気相で反応させて１、１
−ジクロロ−２、２、２−トリフルオロエタンおよび１
−クロロ−１、２、２、２−テトラフルオロエタンを含
む混合ガスを得る工程 （３）（２）の工程で得られる１、１−ジクロロ−２、
２、２−トリフルオロエタンおよび１−クロロ−１、
２、２、２−テトラフルオロエタンを含む混合ガスとＨ
Ｆを、アルミナ−クロミア触媒の存在下、気相で反応さ
せてペンタフルオロエタンを得る工程 ［９］前記（１）の工程を経た、前記水酸基を有する芳
香族化合物が３０質量ｐｐｍ以下に低減されたテトラク
ロロエチレンを用いて工程（２）を行う上記［８］に記
載のペンタフルオロエタンの製造方法。 ［１０］水酸基を有する芳香族化合物が、フェノール、
クレゾール、２、６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール
およびアミノメチルフェノールからなる群から選ばれる
少なくとも１種以上の化合物である上記［８］または
［９］に記載のペンタフルオロエタンの製造方法。
化合物を含むテトラクロロエチレンと、前記ゼオライト
および／または前記炭素質吸着剤を接触させる圧力が０
〜３ＭＰａである上記［１］〜［５］のいずれかに記載
のテトラクロロエチレンの精製方法。 ［７］上記［１］〜［６］のいずれかに記載の精製方法
を用いることを特徴とする安定剤として含まれる水酸基
を有する芳香族化合物が低減されたテトラクロロエチレ
ンの製造方法。 ［８］次の３つの工程を含むことを特徴とするペンタフ
ルオロエタンの製造方法。 （１）上記［１］〜［６］のいずれかに記載の精製方法
を用いてテトラクロロエチレン中に含まれる水酸基を有
する芳香族化合物を低減する工程 （２）（１）の工程を経て前記水酸基を有する芳香族化
合物が低減されたテトラクロロエチレンとＨＦを、アル
ミナ−クロミア触媒の存在下、気相で反応させて１、１
−ジクロロ−２、２、２−トリフルオロエタンおよび１
−クロロ−１、２、２、２−テトラフルオロエタンを含
む混合ガスを得る工程 （３）（２）の工程で得られる１、１−ジクロロ−２、
２、２−トリフルオロエタンおよび１−クロロ−１、
２、２、２−テトラフルオロエタンを含む混合ガスとＨ
Ｆを、アルミナ−クロミア触媒の存在下、気相で反応さ
せてペンタフルオロエタンを得る工程 ［９］前記（１）の工程を経た、前記水酸基を有する芳
香族化合物が３０質量ｐｐｍ以下に低減されたテトラク
ロロエチレンを用いて工程（２）を行う上記［８］に記
載のペンタフルオロエタンの製造方法。 ［１０］水酸基を有する芳香族化合物が、フェノール、
クレゾール、２、６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール
およびアミノメチルフェノールからなる群から選ばれる
少なくとも１種以上の化合物である上記［８］または
［９］に記載のペンタフルオロエタンの製造方法。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳しく説明
する。ペンタフルオロエタンの製造方法としては、例え
ば、テトラクロロエチレンとＨＦをフッ素化触媒の存在
下、気相で２段階の反応で製造する方法が知られてい
る。出発原料の１つであるテトラクロロエチレン中に
は、前記の理由により数百〜数千質量ｐｐｍ程度の安定
剤が含まれており、安定剤は微量であっても触媒活性劣
化の原因となるため、反応を行う前にできる限り低減す
ることが望ましい。
する。ペンタフルオロエタンの製造方法としては、例え
ば、テトラクロロエチレンとＨＦをフッ素化触媒の存在
下、気相で２段階の反応で製造する方法が知られてい
る。出発原料の１つであるテトラクロロエチレン中に
は、前記の理由により数百〜数千質量ｐｐｍ程度の安定
剤が含まれており、安定剤は微量であっても触媒活性劣
化の原因となるため、反応を行う前にできる限り低減す
ることが望ましい。
【００１２】本発明者らは、操作が容易で安価であり、
工業的に実用可能である、テトラクロロエチレン中に含
まれる安定剤を低減する方法を開発すべく鋭意検討した
結果、安定剤を含むテトラクロロエチレンを、平均細孔
径が３．４〜１１Åであるゼオライト及び／または平均
細孔径が３．４〜１１Åである炭素質吸着剤と液相で接
触させることにより、安定剤を低減することができるこ
とを見出した。
工業的に実用可能である、テトラクロロエチレン中に含
まれる安定剤を低減する方法を開発すべく鋭意検討した
結果、安定剤を含むテトラクロロエチレンを、平均細孔
径が３．４〜１１Åであるゼオライト及び／または平均
細孔径が３．４〜１１Åである炭素質吸着剤と液相で接
触させることにより、安定剤を低減することができるこ
とを見出した。
【００１３】本発明のテトラクロロエチレンの精製方法
に用いられるゼオライトは、３．４〜１１Åの平均細孔
径を有するものがよく、好ましくは３．４〜１０Åの平
均細孔径を有するものがよい。平均細孔径が１１Åより
大きいゼオライトは、テトラクロロエチレンの吸着量が
多くなり好ましくなく、平均細孔径が３．４Åより小さ
いゼオライトは安定剤を吸着する能力が小さくなり好ま
しくない。
に用いられるゼオライトは、３．４〜１１Åの平均細孔
径を有するものがよく、好ましくは３．４〜１０Åの平
均細孔径を有するものがよい。平均細孔径が１１Åより
大きいゼオライトは、テトラクロロエチレンの吸着量が
多くなり好ましくなく、平均細孔径が３．４Åより小さ
いゼオライトは安定剤を吸着する能力が小さくなり好ま
しくない。
【００１４】また、ゼオライトのＳｉ／Ａｌ比は２以下
であることが好ましく、ゼオライトのＳｉ／Ａｌ比が２
より大きい場合には、安定剤が選択的に吸着されない傾
向が見られる。ゼオライトとしては、モレキュラーシー
ブス４Ａ（ＭＳ−４Ａ）、モレキュラーシーブス５Ａ
（ＭＳ−５Ａ）、モレキュラーシーブス１０Ｘ（ＭＳ−
１０Ｘ）およびモレキュラーシーブス１３Ｘ（ＭＳ−１
３Ｘ）からなる群から選ばれる少なくとも１種のゼオラ
イトが好ましい。これらのゼオライトを用いることによ
り、テトラクロロエチレン中の水分も同時に低減するこ
とができる。
であることが好ましく、ゼオライトのＳｉ／Ａｌ比が２
より大きい場合には、安定剤が選択的に吸着されない傾
向が見られる。ゼオライトとしては、モレキュラーシー
ブス４Ａ（ＭＳ−４Ａ）、モレキュラーシーブス５Ａ
（ＭＳ−５Ａ）、モレキュラーシーブス１０Ｘ（ＭＳ−
１０Ｘ）およびモレキュラーシーブス１３Ｘ（ＭＳ−１
３Ｘ）からなる群から選ばれる少なくとも１種のゼオラ
イトが好ましい。これらのゼオライトを用いることによ
り、テトラクロロエチレン中の水分も同時に低減するこ
とができる。
【００１５】炭素質吸着剤は、３．４〜１１Åの平均細
孔径を有するものがよく、平均細孔径が１１Åより大き
い炭素質吸着剤は、テトラクロロエチレンの吸着量が多
くなり好ましくなく、平均細孔径が３．４Åより小さい
炭素質吸着剤は安定剤を吸着する能力が小さくなり好ま
しくない。炭素質吸着剤は、モレキュラーシービングカ
ーボン４Ａ及び／またはモレキュラーシービングカーボ
ン５Ａが好ましい。
孔径を有するものがよく、平均細孔径が１１Åより大き
い炭素質吸着剤は、テトラクロロエチレンの吸着量が多
くなり好ましくなく、平均細孔径が３．４Åより小さい
炭素質吸着剤は安定剤を吸着する能力が小さくなり好ま
しくない。炭素質吸着剤は、モレキュラーシービングカ
ーボン４Ａ及び／またはモレキュラーシービングカーボ
ン５Ａが好ましい。
【００１６】ゼオライトと炭素質吸着剤はそれぞれ単独
で使用することが吸着剤の再生を考慮すると好ましい
が、混合して使用することもできる。ゼオライトと炭素
質吸着剤を混合する割合は特に制限はないが、テトラク
ロロエチレン中の水分も低減することを考慮すると、混
合比はゼオライトに富む比率が好ましい。
で使用することが吸着剤の再生を考慮すると好ましい
が、混合して使用することもできる。ゼオライトと炭素
質吸着剤を混合する割合は特に制限はないが、テトラク
ロロエチレン中の水分も低減することを考慮すると、混
合比はゼオライトに富む比率が好ましい。
【００１７】安定剤を含むテトラクロロエチレンを、ゼ
オライト及び／または炭素質吸着剤と液相で接触させる
方法としては、回分式、連続式等の公知の方法を用いる
ことができる。工業的には吸着剤を固定床にて連続的に
流通させる方法が好ましく、液体基準の空間速度（ＬＨ
ＳＶ）は安定剤の濃度およびテトラクロロエチレンの処
理量により適宣選択することができる。通常は１〜５０
Ｈｒ-1の範囲が好ましい。また、テトラクロロエチレン
中の安定剤を低減する方法を工業的に実施するため、吸
着塔を２塔設け、２塔を切り替えて連続的に精製を行う
方法を用いてもよい。
オライト及び／または炭素質吸着剤と液相で接触させる
方法としては、回分式、連続式等の公知の方法を用いる
ことができる。工業的には吸着剤を固定床にて連続的に
流通させる方法が好ましく、液体基準の空間速度（ＬＨ
ＳＶ）は安定剤の濃度およびテトラクロロエチレンの処
理量により適宣選択することができる。通常は１〜５０
Ｈｒ-1の範囲が好ましい。また、テトラクロロエチレン
中の安定剤を低減する方法を工業的に実施するため、吸
着塔を２塔設け、２塔を切り替えて連続的に精製を行う
方法を用いてもよい。
【００１８】テトラクロロエチレンを液相で精製する際
の処理温度としては、−２０〜８０℃が好ましく、より
好ましくは０〜５０℃の範囲がよい。処理温度が８０℃
より高いと、装置の加熱や耐圧等の点で設備費が増大す
ることになるので好ましくなく、−２０℃より低い温度
では、冷却設備等が必要となり好ましくない。また、圧
力は０〜３ＭＰａの範囲が好ましく、より好ましくは０
〜１ＭＰａの範囲がよい。圧力が３ＭＰａより大きい場
合には、設備の耐圧等の点で経済的でなく、好ましくな
い。
の処理温度としては、−２０〜８０℃が好ましく、より
好ましくは０〜５０℃の範囲がよい。処理温度が８０℃
より高いと、装置の加熱や耐圧等の点で設備費が増大す
ることになるので好ましくなく、−２０℃より低い温度
では、冷却設備等が必要となり好ましくない。また、圧
力は０〜３ＭＰａの範囲が好ましく、より好ましくは０
〜１ＭＰａの範囲がよい。圧力が３ＭＰａより大きい場
合には、設備の耐圧等の点で経済的でなく、好ましくな
い。
【００１９】以上説明したように、本発明の精製方法を
用いることにより、テトラクロロエチレン中に含まれる
安定剤を低減することができる。本発明の精製方法は、
特にベンゼン環に水酸基を有する化合物に対して好まし
く用いられ、ベンゼン環に水酸基を有する化合物として
は、フェノール、クレゾール、２、６−ジ−ｔ−ブチル
−ｐ−クレゾール、アミノメチルフェノール等が挙げら
れる。
用いることにより、テトラクロロエチレン中に含まれる
安定剤を低減することができる。本発明の精製方法は、
特にベンゼン環に水酸基を有する化合物に対して好まし
く用いられ、ベンゼン環に水酸基を有する化合物として
は、フェノール、クレゾール、２、６−ジ−ｔ−ブチル
−ｐ−クレゾール、アミノメチルフェノール等が挙げら
れる。
【００２０】安定剤を含むテトラクロロエチレンを前記
のゼオライト及び／または前記の炭素質吸着剤と液相
で、前記の条件下で接触させ、安定剤が３０質量ｐｐｍ
以下に低減されたテトラクロロエチレンを得ることがで
きる。安定剤が１０質量ｐｐｍ以下に低減されたテトラ
クロロエチレン、さらに安定剤が５質量ｐｐｍ以下に低
減されたテトラクロロエチレンを得ることも可能であ
る。
のゼオライト及び／または前記の炭素質吸着剤と液相
で、前記の条件下で接触させ、安定剤が３０質量ｐｐｍ
以下に低減されたテトラクロロエチレンを得ることがで
きる。安定剤が１０質量ｐｐｍ以下に低減されたテトラ
クロロエチレン、さらに安定剤が５質量ｐｐｍ以下に低
減されたテトラクロロエチレンを得ることも可能であ
る。
【００２１】次に、本発明のペンタフルオロエタンの製
造方法について説明する。本発明のペンタフルオロエタ
ンの製造方法は、次の３つの工程を含むことを特徴とす
る。 （１）前記の精製方法を用いてテトラクロロエチレン中
に含まれる水酸基を有する芳香族化合物を低減する工程 （２）（１）の工程を経て前記水酸基を有する芳香族化
合物が低減されたテトラクロロエチレンとＨＦを、アル
ミナ−クロミア触媒の存在下、気相で反応させて１、１
−ジクロロ−２、２、２−トリフルオロエタンおよび１
−クロロ−１、２、２、２−テトラフルオロエタンを含
む混合ガスを得る工程 （３）（２）の工程で得られる１、１−ジクロロ−２、
２、２−トリフルオロエタンおよび１−クロロ−１、
２、２、２−テトラフルオロエタンを含む混合ガスとＨ
Ｆを、アルミナ−クロミア触媒の存在下、気相で反応さ
せてペンタフルオロエタンを得る工程
造方法について説明する。本発明のペンタフルオロエタ
ンの製造方法は、次の３つの工程を含むことを特徴とす
る。 （１）前記の精製方法を用いてテトラクロロエチレン中
に含まれる水酸基を有する芳香族化合物を低減する工程 （２）（１）の工程を経て前記水酸基を有する芳香族化
合物が低減されたテトラクロロエチレンとＨＦを、アル
ミナ−クロミア触媒の存在下、気相で反応させて１、１
−ジクロロ−２、２、２−トリフルオロエタンおよび１
−クロロ−１、２、２、２−テトラフルオロエタンを含
む混合ガスを得る工程 （３）（２）の工程で得られる１、１−ジクロロ−２、
２、２−トリフルオロエタンおよび１−クロロ−１、
２、２、２−テトラフルオロエタンを含む混合ガスとＨ
Ｆを、アルミナ−クロミア触媒の存在下、気相で反応さ
せてペンタフルオロエタンを得る工程
【００２２】（１）の工程を経て得られるテトラクロロ
エチレンは、前記水酸基を有する芳香族化合物が３０質
量ｐｐｍ以下に低減されたテトラクロロエチレンである
ことが好ましく、さらに好ましくは前記水酸基を有する
芳香族化合物が１０質量ｐｐｍ以下に低減されているこ
とがよく、特に好ましくは、前記水酸基を有する芳香族
化合物が５質量ｐｐｍ以下に低減されていることがよ
い。水酸基を有する芳香族化合物が３０質量ｐｐｍ以下
に低減されたテトラクロロエチレンを原料としてペンタ
フルオロエタンを製造すると、製造工程で使用する触媒
の高寿命が図れ、効率的、経済的にペンタフルオロエタ
ンを製造することができる。
エチレンは、前記水酸基を有する芳香族化合物が３０質
量ｐｐｍ以下に低減されたテトラクロロエチレンである
ことが好ましく、さらに好ましくは前記水酸基を有する
芳香族化合物が１０質量ｐｐｍ以下に低減されているこ
とがよく、特に好ましくは、前記水酸基を有する芳香族
化合物が５質量ｐｐｍ以下に低減されていることがよ
い。水酸基を有する芳香族化合物が３０質量ｐｐｍ以下
に低減されたテトラクロロエチレンを原料としてペンタ
フルオロエタンを製造すると、製造工程で使用する触媒
の高寿命が図れ、効率的、経済的にペンタフルオロエタ
ンを製造することができる。
【００２３】本発明のペンタフルオロエタンの製造方法
を反応式で表すと以下のようになる。 ＣＣｌ2＝ＣＣｌ2＋３ＨＦ→ＣＦ3ＣＨＣｌ2＋３ＨＣｌ（式１） ＣＣｌ2＝ＣＣｌ2＋４ＨＦ→ＣＦ3ＣＨＣｌＦ＋４ＨＣｌ（式２） ＣＦ3ＣＨＣｌ2＋２ＨＦ→ＣＦ3ＣＨＦ2＋２ＨＣｌ（式３） ＣＦ3ＣＨＣｌＦ＋ＨＦ→ＣＦ3ＣＨＦ2＋ＨＣｌ（式４）
を反応式で表すと以下のようになる。 ＣＣｌ2＝ＣＣｌ2＋３ＨＦ→ＣＦ3ＣＨＣｌ2＋３ＨＣｌ（式１） ＣＣｌ2＝ＣＣｌ2＋４ＨＦ→ＣＦ3ＣＨＣｌＦ＋４ＨＣｌ（式２） ＣＦ3ＣＨＣｌ2＋２ＨＦ→ＣＦ3ＣＨＦ2＋２ＨＣｌ（式３） ＣＦ3ＣＨＣｌＦ＋ＨＦ→ＣＦ3ＣＨＦ2＋ＨＣｌ（式４）
【００２４】上記の反応は、例えばアルミナ−クロミア
触媒の存在下、気相で行われるが、その反応条件は異な
り、式１および式２で表される第１の反応においては、
反応圧力が約０．３ＭＰａ、反応温度が約３００℃、Ｈ
Ｆ／ＰＣＥが６（モル比）、式３および式４で表される
第２の反応においては、反応圧力が約０．４ＭＰａ、反
応温度が約３３０℃、ＨＦ／（ＣＦ3ＣＨＣｌ2＋ＣＦ3
ＣＨＣｌＦ）が４〜８（モル比）の条件下で行うことが
できる。
触媒の存在下、気相で行われるが、その反応条件は異な
り、式１および式２で表される第１の反応においては、
反応圧力が約０．３ＭＰａ、反応温度が約３００℃、Ｈ
Ｆ／ＰＣＥが６（モル比）、式３および式４で表される
第２の反応においては、反応圧力が約０．４ＭＰａ、反
応温度が約３３０℃、ＨＦ／（ＣＦ3ＣＨＣｌ2＋ＣＦ3
ＣＨＣｌＦ）が４〜８（モル比）の条件下で行うことが
できる。
【００２５】
【実施例】以下、実施例および比較例により本発明をよ
り詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定さ
れるものではない。 （原料例）市販のテトラクロロエチレンをガスクロマト
グラフ（カラム：キャピラリー式／ＦＩＤ法）で分析し
たところ、安定剤のフェノールとクレゾールが総量で１
５０質量ｐｐｍ含まれ、テトラクロロエチレン中の水分
は約５０質量ｐｐｍであった。
り詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定さ
れるものではない。 （原料例）市販のテトラクロロエチレンをガスクロマト
グラフ（カラム：キャピラリー式／ＦＩＤ法）で分析し
たところ、安定剤のフェノールとクレゾールが総量で１
５０質量ｐｐｍ含まれ、テトラクロロエチレン中の水分
は約５０質量ｐｐｍであった。
【００２６】（実施例１）内容積２００ｍｌのステンレ
ス製シリンダーに、ゼオライト［モレキュラーシーブス
５Ａ（ユニオン昭和株式会社製：平均細孔径４．２Å、
Ｓｉ／Ａｌ比＝１）］を２０ｇ充填した。ゼオライトを
真空乾燥後、シリンダーを冷却しながら（原料例）のテ
トラクロロエチレンを１００ｇ充填し、温度を２０℃に
保ちながら時々撹拌し、約４時間後、液相部の一部を採
取して前記のガスクロマトグラフ条件下で分析した。そ
の結果、安定剤であるフェノールとクレゾールは共に検
出されなかった。また、処理後のテトラクロロエチレン
中の水分をカールフィシャーを用いて分析したところ、
水分値は３質量ｐｐｍ以下であった。
ス製シリンダーに、ゼオライト［モレキュラーシーブス
５Ａ（ユニオン昭和株式会社製：平均細孔径４．２Å、
Ｓｉ／Ａｌ比＝１）］を２０ｇ充填した。ゼオライトを
真空乾燥後、シリンダーを冷却しながら（原料例）のテ
トラクロロエチレンを１００ｇ充填し、温度を２０℃に
保ちながら時々撹拌し、約４時間後、液相部の一部を採
取して前記のガスクロマトグラフ条件下で分析した。そ
の結果、安定剤であるフェノールとクレゾールは共に検
出されなかった。また、処理後のテトラクロロエチレン
中の水分をカールフィシャーを用いて分析したところ、
水分値は３質量ｐｐｍ以下であった。
【００２７】（実施例２）内容積２００ｍｌのステンレ
ス製シリンダーに、炭素質吸着剤［モレキュラ−シービ
ングカーボン５Ａ、武田薬品工業株式会社製：平均細孔
径５Å］を２０ｇ充填した。炭素質吸着剤を真空乾燥
後、シリンダーを冷却しながら（原料例）のテトラクロ
ロエチレンを８０ｇ充填し、温度を２０℃に保ちながら
時々撹拌し、約５時間後、液相部の一部を採取して前記
のガスクロマトグラフ条件下で分析した。その結果、安
定剤であるフェノールとクレゾールは共に検出されなか
った。
ス製シリンダーに、炭素質吸着剤［モレキュラ−シービ
ングカーボン５Ａ、武田薬品工業株式会社製：平均細孔
径５Å］を２０ｇ充填した。炭素質吸着剤を真空乾燥
後、シリンダーを冷却しながら（原料例）のテトラクロ
ロエチレンを８０ｇ充填し、温度を２０℃に保ちながら
時々撹拌し、約５時間後、液相部の一部を採取して前記
のガスクロマトグラフ条件下で分析した。その結果、安
定剤であるフェノールとクレゾールは共に検出されなか
った。
【００２８】（実施例３）吸着剤としてゼオライト［モ
レキュラーシーブス１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製：
平均細孔径１０Å、Ｓｉ／Ａｌ比＝０．８１）］を２０
ｇ充填した以外は（実施例１）と同様な操作および条件
で処理し、分析を行った。その結果、フェノールとクレ
ゾールは共に検出されなかった。
レキュラーシーブス１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製：
平均細孔径１０Å、Ｓｉ／Ａｌ比＝０．８１）］を２０
ｇ充填した以外は（実施例１）と同様な操作および条件
で処理し、分析を行った。その結果、フェノールとクレ
ゾールは共に検出されなかった。
【００２９】（比較例１）吸着剤としてゼオライト［モ
レキュラーシーブスＸＨ−９（ユニオン昭和株式会社
製：平均細孔径３．２Å、Ｓｉ／Ａｌ比＝１）］を２０
ｇ充填した以外は（実施例１）と同様な操作および条件
で処理し、分析を行った。その結果、安定剤であるフェ
ノールとクレゾールはほとんど吸着されず、その総量は
１３２質量ｐｐｍであった。平均細孔径が３．４Åより
小さいゼオライトを用いた場合には安定剤の吸着効率が
低いことが分かった。
レキュラーシーブスＸＨ−９（ユニオン昭和株式会社
製：平均細孔径３．２Å、Ｓｉ／Ａｌ比＝１）］を２０
ｇ充填した以外は（実施例１）と同様な操作および条件
で処理し、分析を行った。その結果、安定剤であるフェ
ノールとクレゾールはほとんど吸着されず、その総量は
１３２質量ｐｐｍであった。平均細孔径が３．４Åより
小さいゼオライトを用いた場合には安定剤の吸着効率が
低いことが分かった。
【００３０】（比較例２）吸着剤として炭素質吸着剤
［活性炭：粒状白さぎＫＬ、武田薬品工業株式会社：平
均細孔径３５Å］を２０ｇ充填した以外は（実施例２）
と同様な操作および条件で処理し、分析を行った。その
結果、安定剤であるフェノールとクレゾールはほとんど
吸着されず、その総量は１１９質量ｐｐｍであった。ま
た、テトラクロロエチレンの吸着による吸着熱が大き
く、新たな分解生成物が検出された。
［活性炭：粒状白さぎＫＬ、武田薬品工業株式会社：平
均細孔径３５Å］を２０ｇ充填した以外は（実施例２）
と同様な操作および条件で処理し、分析を行った。その
結果、安定剤であるフェノールとクレゾールはほとんど
吸着されず、その総量は１１９質量ｐｐｍであった。ま
た、テトラクロロエチレンの吸着による吸着熱が大き
く、新たな分解生成物が検出された。
【００３１】（実施例４）内容積２００ｍｌのステンレ
ス製シリンダーに吸着剤として（実施例１）に記載した
モレキュラーシーブス５Ａを１５ｇと（実施例２）に記
載したモレキュラーシービングカーボン５Ａを５ｇ混合
して充填した。吸着剤を真空乾燥後、シリンダーを冷却
しながら（原料例）のテトラクロロエチレンを８０ｇ充
填し、温度を２０℃に保ちながら時々撹拌し、約４時間
後、液相部に一部を採取して前記のガスクロマトグラフ
条件下で分析を行った。その結果、安定剤であるフェノ
ールとクレゾールは共に検出されなかった。また、テト
ラクロロエチレン中の水分を分析したところ、水分値は
５質量ｐｐｍであった。
ス製シリンダーに吸着剤として（実施例１）に記載した
モレキュラーシーブス５Ａを１５ｇと（実施例２）に記
載したモレキュラーシービングカーボン５Ａを５ｇ混合
して充填した。吸着剤を真空乾燥後、シリンダーを冷却
しながら（原料例）のテトラクロロエチレンを８０ｇ充
填し、温度を２０℃に保ちながら時々撹拌し、約４時間
後、液相部に一部を採取して前記のガスクロマトグラフ
条件下で分析を行った。その結果、安定剤であるフェノ
ールとクレゾールは共に検出されなかった。また、テト
ラクロロエチレン中の水分を分析したところ、水分値は
５質量ｐｐｍであった。
【００３２】（実施例５）内容積５Ｌのステンレス製シ
リンダーにモレキュラーシーブス５Ａ（ＭＳ−５Ａ）を
４．８Ｌ充填し、（原料例）のテトラクロロエチレンを
室温（１５℃）、圧力約０．３ＭＰａの条件下で液相１
０Ｌ／ｈｒ-1の線速で連続供給した。供給開始より１０
０時間後、３００時間後および５００時間後の出口液を
採取し分析を行った。その結果、いずれも安定剤である
フェノールとクレゾールは検出されず、水分値もいずれ
も５質量ｐｐｍ以下であった。
リンダーにモレキュラーシーブス５Ａ（ＭＳ−５Ａ）を
４．８Ｌ充填し、（原料例）のテトラクロロエチレンを
室温（１５℃）、圧力約０．３ＭＰａの条件下で液相１
０Ｌ／ｈｒ-1の線速で連続供給した。供給開始より１０
０時間後、３００時間後および５００時間後の出口液を
採取し分析を行った。その結果、いずれも安定剤である
フェノールとクレゾールは検出されず、水分値もいずれ
も５質量ｐｐｍ以下であった。
【００３３】次に反応器にアルミナ−クロミア触媒を充
填し、反応温度３００℃、反応圧力が約０．３ＭＰａ、
ＨＦ／ＰＣＥが６（モル比）、ＳＶ７５０ｈｒ-1の条件
下で、前記のテトラクロロエチレンとＨＦを原料とする
連続反応を行った。反応を開始して、２４時間後のＰＣ
Ｅ転化率は９９．６％、５００時間後のＰＣＥ転化率は
９９．４％であり、触媒の活性低下は認められなかっ
た。
填し、反応温度３００℃、反応圧力が約０．３ＭＰａ、
ＨＦ／ＰＣＥが６（モル比）、ＳＶ７５０ｈｒ-1の条件
下で、前記のテトラクロロエチレンとＨＦを原料とする
連続反応を行った。反応を開始して、２４時間後のＰＣ
Ｅ転化率は９９．６％、５００時間後のＰＣＥ転化率は
９９．４％であり、触媒の活性低下は認められなかっ
た。
【００３４】（比較例３）反応器にアルミナークロミア
触媒を充填し、（原料例）の安定剤（総量１５０質量ｐ
ｐｍ）を含むテトラクロロエチレンとＨＦを、反応温度
３００℃、反応圧力約０．３ＭＰａ、ＨＦ／ＰＣＥが６
（モル比）、ＳＶ７５０ｈｒ-1の条件下で連続反応を行
った。反応を開始して、２４時間後のＰＣＥ転化率は９
９．５％、５００時間後のＰＣＥ転化率は８１．２％で
あり、触媒の活性低下が認められた。これにより安定剤
が触媒活性低下に関係しているのは明らかである。
触媒を充填し、（原料例）の安定剤（総量１５０質量ｐ
ｐｍ）を含むテトラクロロエチレンとＨＦを、反応温度
３００℃、反応圧力約０．３ＭＰａ、ＨＦ／ＰＣＥが６
（モル比）、ＳＶ７５０ｈｒ-1の条件下で連続反応を行
った。反応を開始して、２４時間後のＰＣＥ転化率は９
９．５％、５００時間後のＰＣＥ転化率は８１．２％で
あり、触媒の活性低下が認められた。これにより安定剤
が触媒活性低下に関係しているのは明らかである。
【００３５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の精製方法
を用いることにより、テトラクロロエチレン中に含まれ
る安定剤を低減することができる。本発明の精製方法
は、特にフェノールやクレゾールのような水酸基を有す
る芳香族化合物を含むテトラクロロエチレンに対して好
ましく用いられるが、アミン基を有する芳香族化合物を
含むテトラクロロエチレンに対しても用いることができ
る。また、水酸基を有する芳香族化合物が低減されたテ
トラクロロエチレンを原料としてペンタフルオロエタン
を製造すると、製造工程で使用する触媒の高寿命が図
れ、効率的、経済的にペンタフルオロエタンを製造する
ことができる。
を用いることにより、テトラクロロエチレン中に含まれ
る安定剤を低減することができる。本発明の精製方法
は、特にフェノールやクレゾールのような水酸基を有す
る芳香族化合物を含むテトラクロロエチレンに対して好
ましく用いられるが、アミン基を有する芳香族化合物を
含むテトラクロロエチレンに対しても用いることができ
る。また、水酸基を有する芳香族化合物が低減されたテ
トラクロロエチレンを原料としてペンタフルオロエタン
を製造すると、製造工程で使用する触媒の高寿命が図
れ、効率的、経済的にペンタフルオロエタンを製造する
ことができる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ０７Ｃ 17/08 Ｃ０７Ｃ 17/08
17/20 17/20
19/08 19/08
21/185 21/185
// Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Ｆターム(参考） 4D017 AA03 BA04 CA01 CA02 CB01
DA01
4G066 AA04B AA61B BA23 BA50
CA51 CA52 DA10
4H006 AA02 AC30 AD17 BA09 BA14
BA30 BC10 BC11 BC18 BE01
DA15
4H039 CA51 CD20
Claims (10)
- 【請求項１】 安定剤として水酸基を有する芳香族化合
物を含むテトラクロロエチレンを、平均細孔径が３．４
〜１１Åであるゼオライトおよび／または平均細孔径が
３．４〜１１Åである炭素質吸着剤と液相で接触させ、
前記安定剤を低減させることを特徴とするテトラクロロ
エチレンの精製方法。 - 【請求項２】 前記ゼオライトのＳｉ／Ａｌ比が２以下
である請求項１に記載のテトラクロロエチレンの精製方
法。 - 【請求項３】 前記ゼオライトが、モレキュラーシーブ
ス４Ａ、モレキュラーシーブス５Ａ、モレキュラーシー
ブス１０Ｘおよびモレキュラーシーブス１３Ｘからなる
群から選ばれる少なくとも１種のゼオライトである請求
項１または２に記載のテトラクロロエチレンの精製方
法。 - 【請求項４】 前記炭素質吸着剤が、モレキュラーシー
ビングカーボン４Ａおよび／またはモレキュラーシービ
ングカーボン５Ａである請求項１に記載のテトラクロロ
エチレンの精製方法。 - 【請求項５】 安定剤として水酸基を有する芳香族化合
物を含むテトラクロロエチレンと、前記ゼオライトおよ
び／または前記炭素質吸着剤を接触させる温度が−２０
〜８０℃である請求項１〜４のいずれかに記載のテトラ
クロロエチレンの精製方法。 - 【請求項６】 安定剤として水酸基を有する芳香族化合
物を含むテトラクロロエチレンと、前記ゼオライトおよ
び／または前記炭素質吸着剤を接触させる圧力が０〜３
ＭＰａである請求項１〜５のいずれかに記載のテトラク
ロロエチレンの精製方法。 - 【請求項７】 請求項１〜６のいずれかに記載の精製方
法を用いることを特徴とする安定剤として含まれる水酸
基を有する芳香族化合物が低減されたテトラクロロエチ
レンの製造方法。 - 【請求項８】 次の３つの工程を含むことを特徴とする
ペンタフルオロエタンの製造方法。 （１）請求項１〜６のいずれかに記載の精製方法を用い
てテトラクロロエチレン中に含まれる水酸基を有する芳
香族化合物を低減する工程 （２）（１）の工程を経て前記水酸基を有する芳香族化
合物が低減されたテトラクロロエチレンとＨＦを、アル
ミナ−クロミア触媒の存在下、気相で反応させて１、１
−ジクロロ−２、２、２−トリフルオロエタンおよび１
−クロロ−１、２、２、２−テトラフルオロエタンを含
む混合ガスを得る工程 （３）（２）の工程で得られる１、１−ジクロロ−２、
２、２−トリフルオロエタンおよび１−クロロ−１、
２、２、２−テトラフルオロエタンを含む混合ガスとＨ
Ｆを、アルミナ−クロミア触媒の存在下、気相で反応さ
せてペンタフルオロエタンを得る工程 - 【請求項９】 前記（１）の工程を経た、前記水酸基を
有する芳香族化合物が３０質量ｐｐｍ以下に低減された
テトラクロロエチレンを用いて工程（２）を行う請求項
８に記載のペンタフルオロエタンの製造方法。 - 【請求項１０】 水酸基を有する芳香族化合物が、フェ
ノール、クレゾール、２、６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−ク
レゾールおよびアミノメチルフェノールからなる群から
選ばれる少なくとも１種以上の化合物である請求項８ま
たは９に記載のペンタフルオロエタンの製造方法。
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001206882A JP5105672B2 (ja) | 2001-07-06 | 2001-07-06 | テトラクロロエチレンの精製方法および該方法を用いるペンタフルオロエタンの製造方法 |
| TW091114962A TW534898B (en) | 2001-07-06 | 2002-07-05 | Method for purifying tetrachloroethylene and process for producing hydrofluorocarbons |
| CNB2005100515259A CN1315765C (zh) | 2001-07-06 | 2002-07-05 | 纯化四氯乙烯的方法和生产氢氟烃的方法 |
| AU2002314560A AU2002314560A1 (en) | 2001-07-06 | 2002-07-05 | Method for purifying tetrachloroethylene and process for producing hydrofluorocarbons |
| US10/363,639 US7138553B2 (en) | 2001-07-06 | 2002-07-05 | Method for purifying tetrachloroethylene and process for producing hydrofluorocarbons |
| KR1020057018917A KR100619296B1 (ko) | 2001-07-06 | 2002-07-05 | 테트라클로로에틸렌의 정제 방법 |
| CNB028023285A CN100400484C (zh) | 2001-07-06 | 2002-07-05 | 纯化四氯乙烯的方法和生产氢氟烃的方法 |
| PCT/JP2002/006860 WO2003004445A2 (en) | 2001-07-06 | 2002-07-05 | Method for purifying tetrachloroethylene and process for producing hydrofluorocarbons |
| KR1020037003298A KR100575552B1 (ko) | 2001-07-06 | 2002-07-05 | 하이드로플루오로카본의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001206882A JP5105672B2 (ja) | 2001-07-06 | 2001-07-06 | テトラクロロエチレンの精製方法および該方法を用いるペンタフルオロエタンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003026619A true JP2003026619A (ja) | 2003-01-29 |
| JP5105672B2 JP5105672B2 (ja) | 2012-12-26 |
Family
ID=19042949
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001206882A Expired - Lifetime JP5105672B2 (ja) | 2001-07-06 | 2001-07-06 | テトラクロロエチレンの精製方法および該方法を用いるペンタフルオロエタンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5105672B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016056613A1 (ja) * | 2014-10-09 | 2016-04-14 | ダイキン工業株式会社 | ハロオレフィン化合物の製造方法及び安定剤の除去方法 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3751494A (en) * | 1971-03-08 | 1973-08-07 | Diamond Shamrock Corp | Purification of chlorinated hydrocarbons employing molecular sieves |
| JPS507046A (ja) * | 1973-05-21 | 1975-01-24 | ||
| JPS5948425A (ja) * | 1982-08-12 | 1984-03-19 | ワツカ−−ヒエミ−・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | トリクロルエテンまたはテトラクロルエテンの安定化法 |
| JPH03223219A (ja) * | 1990-01-26 | 1991-10-02 | Tokuyama Soda Co Ltd | テトラフルオロエチレンの精製方法 |
| JPH05286875A (ja) * | 1992-04-13 | 1993-11-02 | Showa Denko Kk | トリクロルエチレン中の安定剤の除去方法 |
| JPH06128178A (ja) * | 1992-10-16 | 1994-05-10 | Kanto Denka Kogyo Co Ltd | 脂肪族不飽和ハロゲン化炭化水素の安定化法 |
| JPH1072383A (ja) * | 1996-09-03 | 1998-03-17 | Tosoh Corp | 臭化アリルの安定化方法、及び安定化された臭化アリル組成物 |
-
2001
- 2001-07-06 JP JP2001206882A patent/JP5105672B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3751494A (en) * | 1971-03-08 | 1973-08-07 | Diamond Shamrock Corp | Purification of chlorinated hydrocarbons employing molecular sieves |
| JPS507046A (ja) * | 1973-05-21 | 1975-01-24 | ||
| JPS5948425A (ja) * | 1982-08-12 | 1984-03-19 | ワツカ−−ヒエミ−・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | トリクロルエテンまたはテトラクロルエテンの安定化法 |
| JPH03223219A (ja) * | 1990-01-26 | 1991-10-02 | Tokuyama Soda Co Ltd | テトラフルオロエチレンの精製方法 |
| JPH05286875A (ja) * | 1992-04-13 | 1993-11-02 | Showa Denko Kk | トリクロルエチレン中の安定剤の除去方法 |
| JPH06128178A (ja) * | 1992-10-16 | 1994-05-10 | Kanto Denka Kogyo Co Ltd | 脂肪族不飽和ハロゲン化炭化水素の安定化法 |
| JPH1072383A (ja) * | 1996-09-03 | 1998-03-17 | Tosoh Corp | 臭化アリルの安定化方法、及び安定化された臭化アリル組成物 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016056613A1 (ja) * | 2014-10-09 | 2016-04-14 | ダイキン工業株式会社 | ハロオレフィン化合物の製造方法及び安定剤の除去方法 |
| JP2016079095A (ja) * | 2014-10-09 | 2016-05-16 | ダイキン工業株式会社 | ハロオレフィン化合物の製造方法及び安定剤の除去方法 |
| US10407368B2 (en) | 2014-10-09 | 2019-09-10 | Daikin Industries, Ltd. | Method for producing haloolefin compound and method for removing stabilizer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP5105672B2 (ja) | 2012-12-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0370688B1 (en) | Purification of saturated halocarbons | |
| US7045668B2 (en) | Production and use of hexafluoroethane | |
| US7138553B2 (en) | Method for purifying tetrachloroethylene and process for producing hydrofluorocarbons | |
| US7084316B2 (en) | Process for purifying pentafluoroethane, process for producing the same, and use thereof | |
| JP2003533447A (ja) | 生成物流からの（ハイドロ）ハロアルケン不純物の除去 | |
| US6274782B1 (en) | Method for purifying hexafluoroethane | |
| JP3516322B2 (ja) | １，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの脱水方法 | |
| US7696392B2 (en) | Purification method of 1,1-difluoroethane | |
| JP4785532B2 (ja) | ハイドロフルオロカーボンの製造方法、その製品およびその用途 | |
| JP2003026619A (ja) | テトラクロロエチレンの精製方法および該方法を用いるペンタフルオロエタンの製造方法 | |
| KR100570802B1 (ko) | 플루오로에탄의 제조 방법 및 제조된 플루오로에탄의 용도 | |
| JP3862316B2 (ja) | ペンタフルオロエタン精製方法 | |
| JPH1015400A (ja) | 気相フッ素化用触媒の再生方法 | |
| KR100619296B1 (ko) | 테트라클로로에틸렌의 정제 방법 | |
| US7074974B2 (en) | Process for the production of fluoroethane and use of the same | |
| KR20030038792A (ko) | 헥사플루오로에탄의 제조방법 및 용도 | |
| US20070197843A1 (en) | Method for purification of 1,1-dichloroethane and process for production of 1,1-difluroethane using this method | |
| JP5025052B2 (ja) | ヘキサフルオロエタンの製造方法およびその用途 | |
| JPH05286875A (ja) | トリクロルエチレン中の安定剤の除去方法 | |
| JP2004035436A (ja) | ペンタフルオロエタンの精製方法および製造方法並びにその用途 | |
| JP4458784B2 (ja) | ペンタフルオロエタンの製造方法およびその用途 | |
| WO2018079727A1 (ja) | ２，３，３，３－テトラフルオロプロペンの製造方法 | |
| JP2005336164A (ja) | １，１−ジクロロエタンの精製方法およびその方法を用いる１，１−ジフルオロエタンの製造方法 | |
| JPH06321819A (ja) | トリクロロエチレン中の安定剤の除去方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080424 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111004 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111118 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20111118 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20111118 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120904 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121002 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5105672 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151012 Year of fee payment: 3 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |