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JP2003015113A - Substrate for display device - Google Patents

Substrate for display device

Info

Publication number
JP2003015113A
JP2003015113A JP2001197770A JP2001197770A JP2003015113A JP 2003015113 A JP2003015113 A JP 2003015113A JP 2001197770 A JP2001197770 A JP 2001197770A JP 2001197770 A JP2001197770 A JP 2001197770A JP 2003015113 A JP2003015113 A JP 2003015113A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
display device
gas barrier
layer
intrinsic birefringence
inorganic layered
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001197770A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Sumitaka Tatsuta
純隆 龍田
Toshiaki Aono
俊明 青野
Kohei Arakawa
公平 荒川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2001197770A priority Critical patent/JP2003015113A/en
Publication of JP2003015113A publication Critical patent/JP2003015113A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a substrate for a display device easily lightened in weight and thinned, strong against impact, excellent in flatness and adhesion to an ITO electrode, easily manufactured, excellent in gas barrier properties under high humidity and exhibiting high performance over a wide range. SOLUTION: The substrate for the display device has phase difference plate having >=70% average light transmittance in the 400-700 nm wavelength region and >=100 deg.C glass transition temperature and satisfying the formula Re (450) < Re (550) < Re (650), when the retardation values at wavelengths of 450 nm, 550 nm and 650 nm are defined as Re (450), Re (550) and Re (650), respectively, and a gas barrier layer of mono-or multicomponent metal oxide glass formed by a sol-gel method.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、パソコン、AV機
器、携帯電話、情報通信機器、ゲームやシミュレーショ
ン機器、及び、車載用のナビゲーションシステム等、種
々の分野の表示装置、特にSTN(スーパーツイスティ
ッドネマティック)型の液晶表示装置、2端子素子型液
晶表示装置、3端子素子型液晶表示装置等に好適な液晶
表示装置に用いられる表示装置用基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device in various fields such as a personal computer, an AV device, a mobile phone, an information communication device, a game and a simulation device, and an in-vehicle navigation system, and more particularly, STN (Super Twisted). The present invention relates to a display device substrate used for a liquid crystal display device suitable for a nematic liquid crystal display device, a two-terminal element type liquid crystal display device, a three-terminal element type liquid crystal display device, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、情報機器、通信機器等には、ST
N型液晶表示装置、MIN液晶表示装置、TFT液晶表
示装置等が使用されている。これらの液晶表示装置用の
基板としては、厚み1mm以下のホウケイ酸ガラス板、
ソーダライムガラス板、無アルカリガラス板等が用いら
れているが、ガラス基板は、耐衝撃性が低く、落下によ
って割れる等の問題があるため、耐衝撃性に優れたプラ
スチック基板で代替させるニーズが高い。
2. Description of the Related Art Conventionally, information devices, communication devices, etc.
N-type liquid crystal display devices, MIN liquid crystal display devices, TFT liquid crystal display devices and the like are used. As a substrate for these liquid crystal display devices, a borosilicate glass plate having a thickness of 1 mm or less,
Soda lime glass plate, non-alkali glass plate, etc. are used, but the glass substrate has low impact resistance and there is a problem such as breaking when dropped, so there is a need to replace it with a plastic substrate with excellent impact resistance. high.

【0003】しかしながら、プラチック基板は、ガラス
基板に比べ、水蒸気、酸素等に対するガスバリヤ性が低
い。このため、好適に液晶の性能を維持するためには、
高いガスバリヤ性が必要とされ、プラスチック基板にガ
スバリヤ性を付与する技術が種々検討されている。
However, the plastic substrate has a lower gas barrier property against water vapor, oxygen, etc. than the glass substrate. Therefore, in order to maintain the performance of the liquid crystal preferably,
High gas barrier properties are required, and various techniques for imparting gas barrier properties to plastic substrates have been studied.

【0004】例えば、特許第3054235号公報に
は、ガスバリヤ層として、ポリ塩化ビニル、ポリエステ
ル、ポリアクリロニトリル、ビニルアルコール及びその
共重合体等の樹脂で形成された層、二酸化珪素等の無機
化合物等の蒸着層等が開示されている。また、特許第3
059866号公報には、厚み0.0015〜0.25
mmの超薄ガラスをプラスチックに貼り付ける方法が開
示されている。
For example, Japanese Patent No. 3054235 discloses a gas barrier layer made of a resin such as polyvinyl chloride, polyester, polyacrylonitrile, vinyl alcohol and a copolymer thereof, and an inorganic compound such as silicon dioxide. A vapor deposition layer and the like are disclosed. Also, the patent No. 3
No. 059866 discloses a thickness of 0.0015 to 0.25.
A method of attaching mm thin glass to plastic is disclosed.

【0005】しかしながら、ポリビニルアルコール(P
VA)等の有機物で、所望のガスバリヤ性を有する層を
形成するには、厚い層を形成することが必要とされる。
また、湿度によってガスバリヤ特性が大きく影響を受け
る。この場合、無機化合物を用いれば、層の厚みを薄く
することはできるが、応力が加わるとひびが入ってしま
ったり、高コストになるという問題がある。更に、超薄
ガラスを用いる場合には、超薄ガラスは割れ易く、歩留
まり良く貼合せることが技術的に困難であり、高コスト
を招いてしまうという問題などがある。
However, polyvinyl alcohol (P
In order to form a layer having a desired gas barrier property with an organic substance such as VA), it is necessary to form a thick layer.
Also, the humidity greatly affects the gas barrier properties. In this case, if an inorganic compound is used, the thickness of the layer can be reduced, but if stress is applied, there is a problem that the layer will crack or the cost will increase. Furthermore, when ultra-thin glass is used, there is a problem that the ultra-thin glass is easily broken, it is technically difficult to bond the ultra-thin glass with good yield, and high cost is caused.

【0006】一方、無機層状化合物含有膜は、ガスや低
分子化合物のバリヤ性が高く、このような無機層状化合
物含有膜の中でも、バインダーとして水溶性ポリマーを
用いた雲母/ゼラチン膜、雲母/PVA膜はガスや低分
子化合物等の透過抑制に顕著な効果を示すことが知られ
ている(特開平10−90828号公報)。
On the other hand, the inorganic layered compound-containing film has a high barrier property against gas and low molecular weight compounds. Among such inorganic layered compound-containing films, a mica / gelatin film and a mica / PVA film using a water-soluble polymer as a binder are used. It is known that the membrane has a remarkable effect in suppressing the permeation of gas, low molecular weight compounds, etc. (Japanese Patent Laid-Open No. 10-90828).

【0007】しかしながら、このような水溶性ポリマー
をバインダーとするハイブリッド膜は、高湿(80%R
H以上)下では、そのガスバリヤ効果が大きく低下して
しまうという問題がある。
However, such a hybrid film using a water-soluble polymer as a binder has high humidity (80% R
Under H) or more), there is a problem that the gas barrier effect is significantly reduced.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課
題とする。即ち、本発明は、軽量化・薄型化が容易で、
衝撃に強く、平面性、ITO電極との密着性に優れ、製
造が容易で、更に、高湿下でのガスバリヤ性に優れ、広
帯域において高性能を示す表示装置用基板を提供するこ
とを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to solve the various problems in the prior art and achieve the following objects. That is, the present invention is easy to reduce the weight and thickness,
An object is to provide a substrate for a display device that is resistant to impact, has excellent flatness and adhesion to an ITO electrode, is easy to manufacture, has an excellent gas barrier property under high humidity, and exhibits high performance in a wide band. To do.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の手段としては、以下の通りである。請求項1の発明
は、波長400〜700nmにおける平均光透過率が7
0%以上、ガラス転移点が100℃以上、かつ、波長4
50nm、550nm及び650nmにおけるレターデ
ーション値をそれぞれRe(450)、Re(550)
及びRe(650)としたとき、Re(450)<Re
(550)<Re(650)を満たす位相差板と、ゾル
ゲル法による単一又は多成分系金属酸化物ガラスのガス
バリヤ層と、を有することを特徴とする表示装置用基板
である。
Means for solving the above-mentioned problems are as follows. The invention of claim 1 has an average light transmittance of 7 at a wavelength of 400 to 700 nm.
0% or more, glass transition point 100 ° C or more, and wavelength 4
Retardation values at 50 nm, 550 nm and 650 nm are Re (450) and Re (550), respectively.
And Re (650), Re (450) <Re
A substrate for a display device, comprising: a retardation film satisfying (550) <Re (650); and a gas barrier layer of a single or multi-component metal oxide glass by a sol-gel method.

【0010】請求項2の発明は、波長400〜700n
mにおける平均光透過率が70%以上、ガラス転移点が
100℃以上、かつ、波長450nm、550nm及び
650nmにおけるレターデーション値をそれぞれRe
(450)、Re(550)及びRe(650)とした
とき、Re(450)<Re(550)<Re(65
0)を満たす位相差板と、無機層状化合物及び単一又は
多成分系金属酸化物ガラスを含むガスバリヤ層と、を有
することを特徴とする表示装置用基板である。
The invention of claim 2 has a wavelength of 400 to 700 n.
The average light transmittance at m is 70% or more, the glass transition point is 100 ° C. or more, and the retardation values at wavelengths of 450 nm, 550 nm and 650 nm are Re, respectively.
When (450), Re (550) and Re (650) are set, Re (450) <Re (550) <Re (65
A substrate for a display device, comprising: a retardation film satisfying 0) and a gas barrier layer containing an inorganic layered compound and a single or multi-component metal oxide glass.

【0011】請求項3の発明は、位相差板が、固有複屈
折値が正の材料及び負の材料を含有する請求項1又は2
記載の表示装置用基板である。
In the invention of claim 3, the retardation plate contains a material having a positive intrinsic birefringence value and a material having a negative intrinsic birefringence value.
It is the substrate for a display device described.

【0012】請求項4の発明は、固有複屈折値が正の材
料及び負の材料が、ポリマーである請求項3記載の表示
装置用基板である。
A fourth aspect of the present invention is the display device substrate according to the third aspect, wherein the material having a positive intrinsic birefringence value and the material having a negative intrinsic birefringence value are polymers.

【0013】請求項5の発明は、位相差板の、波長45
0nm、550nm及び650nmにおけるレターデー
ション(Re)/波長(λ)の値が、0.2〜0.3で
ある請求項1乃至4のいずれか1項記載の表示装置用基
板である。
According to a fifth aspect of the invention, the wavelength of the retardation plate is 45 nm.
5. The display device substrate according to claim 1, wherein the value of retardation (Re) / wavelength (λ) at 0 nm, 550 nm and 650 nm is 0.2 to 0.3.

【0014】請求項6の発明は、無機層状化合物が、合
成雲母である請求項1乃至5のいずれか1項記載の表示
装置用基板である。
The invention according to claim 6 is the substrate for a display device according to any one of claims 1 to 5, wherein the inorganic layered compound is synthetic mica.

【0015】請求項7の発明は、無機層状化合物のアス
ペクト比が、20以上である請求項1乃至6のいずれか
1項記載の表示装置用基板である。
The invention according to claim 7 is the substrate for a display device according to any one of claims 1 to 6, wherein the aspect ratio of the inorganic layered compound is 20 or more.

【0016】請求項8の発明は、無機層状化合物のアス
ペクト比が、100以上である請求項1乃至7のいずれ
か1項記載の表示装置用基板である。
The invention of claim 8 is the substrate for a display device according to any one of claims 1 to 7, wherein the aspect ratio of the inorganic layered compound is 100 or more.

【0017】請求項9の発明は、無機層状化合物が、疎
水性基を有する三級又は四級塩化合物により疎水化され
たものである請求項1乃至8のいずれか1項記載の表示
装置用基板である。
The invention of claim 9 is a display device according to any one of claims 1 to 8, wherein the inorganic layered compound is hydrophobized with a tertiary or quaternary salt compound having a hydrophobic group. The substrate.

【0018】請求項10の発明は、ガスバリヤ層の酸素
透過率(温度40℃、湿度90%)が、0.5ml/m
・atm・day以下である請求項1乃至9のいずれ
か1項記載の表示装置用基板である。
According to a tenth aspect of the present invention, the oxygen permeability of the gas barrier layer (temperature: 40 ° C., humidity: 90%) is 0.5 ml / m.
The display device substrate according to any one of claims 1 to 9, which has a density of 2 · atm · day or less.

【0019】請求項11の発明は、ガスバリヤ層の上
に、ハードコート層及び密着層の少なくともいずれかを
有する請求項1乃至10のいずれか1項記載の表示装置
用基板である。
An eleventh aspect of the present invention is the display device substrate according to any one of the first to tenth aspects, which has at least one of a hard coat layer and an adhesion layer on the gas barrier layer.

【0020】請求項12の発明は、ハードコート層及び
密着層の少なくともいずれかの上に、透明導電層を有す
る請求項11記載の表示装置用基板である。
A twelfth aspect of the present invention is the display device substrate according to the eleventh aspect, which has a transparent conductive layer on at least one of the hard coat layer and the adhesion layer.

【0021】請求項13の発明は、ハードコート層及び
密着層の少なくともいずれかと、透明導電層と、の間に
カラーフィルターを有する請求項12記載の表示装置用
基板である。
The invention according to claim 13 is the substrate for a display device according to claim 12, which has a color filter between at least one of the hard coat layer and the adhesion layer and the transparent conductive layer.

【0022】本発明の表示装置用基板は、前記位相差板
と、前記ガスバリヤ層と、を有する。該ガスバリヤ層の
第1の態様としてゾルゲル法による単一又は多成分系金
属酸化物ガラスから形成され、この金属酸化物ガラスは
ガスバリヤ性に優れたものであり、高性能な表示装置用
基板が得られる。
The display device substrate of the present invention has the retardation plate and the gas barrier layer. The first aspect of the gas barrier layer is formed from a single or multi-component metal oxide glass by the sol-gel method, and this metal oxide glass is excellent in gas barrier property, and a high performance display device substrate can be obtained. To be

【0023】また、ガスバリヤ層の第2の態様としてガ
スバリヤ性に優れた単一又は多成分系金属酸化物ガラス
及び無機層状化合物を含む。該無機層状化合物は、多数
の薄片に劈開し、該薄片が、該ガスバリヤ層の厚み方向
と略直交する方向に、互いにずれた状態で層状に重なり
合って分散している。従ってガスが前記ガスバリヤ層を
透過するためには、該ガスバリヤ層の一方の面から層に
進入し、一旦、層状に多数分散した無機層状化合物の片
の層壁に沿って層中を進行した後、層壁端部で層中を厚
み方向に進行することを繰り返して、ガスバリヤ層の他
の面まで到達することにより透過する必要がある。この
ため、ガスがガスバリヤ層を透過するためには、ガスバ
リヤ層中で、ガスバリヤ層の厚み方向の距離に比べて相
当長い距離を進行する必要がある。その結果、ガスは、
該ガスバリヤ層を殆ど透過することなく、本発明におけ
る表示装置用基板は、ガスバリヤ性に優れ、特に高湿
(80%RH以上)下でのガスバリヤ効果が大きいもの
である。
The second aspect of the gas barrier layer includes a single or multi-component metal oxide glass excellent in gas barrier properties and an inorganic layered compound. The inorganic layered compound is cleaved into a large number of thin pieces, and the thin pieces are layered and dispersed in a state of being offset from each other in a direction substantially orthogonal to the thickness direction of the gas barrier layer. Therefore, in order for the gas to permeate the gas barrier layer, the gas enters the layer from one surface of the gas barrier layer, and once travels through the layer along the layer wall of the piece of the inorganic layered compound dispersed in a layered manner. It is necessary to repeat the process of advancing through the layer in the thickness direction at the end of the layer wall and reach the other surface of the gas barrier layer for permeation. Therefore, in order for the gas to pass through the gas barrier layer, it is necessary to travel a considerably long distance in the gas barrier layer as compared with the distance in the thickness direction of the gas barrier layer. As a result, the gas is
The substrate for a display device according to the present invention is excellent in gas barrier properties and hardly exhibits gas barrier properties, and particularly has a large gas barrier effect under high humidity (80% RH or more).

【0024】また、前記ガスバリヤ層においては、ゾル
ゲル法による金属酸化物ガラス及び無機層状化合物は、
一般的な塗布方法により形成可能である。このため、製
造が容易で生産性が高く低コストで得られる。
In the gas barrier layer, the metal oxide glass and the inorganic layered compound prepared by the sol-gel method are
It can be formed by a general coating method. Therefore, the manufacturing is easy, the productivity is high, and the cost is low.

【0025】この結果、ガスバリヤ性に優れた金属酸化
物ガラス及び無機層状化合物をガスバリヤ層に含ませる
ことにより、軽量化・薄型化が容易で、ひび等の衝撃に
強く、平面性、ITO電極との密着性が高く、製造が容
易で、更に、ガスバリヤ性に優れ、広帯域において高性
能を示す表示装置用基板の提供が可能となる。
As a result, by including the metal oxide glass and the inorganic layered compound having an excellent gas barrier property in the gas barrier layer, it is easy to reduce the weight and thickness, and is resistant to the impact such as cracks, flatness, and the ITO electrode. It is possible to provide a substrate for a display device, which has high adhesiveness, is easy to manufacture, has an excellent gas barrier property, and exhibits high performance in a wide band.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、本発明の表示装置用基板に
ついて詳細に説明する。本発明の表示装置用基板は、位
相差板と、ガスバリヤ層と、を有し、必要に応じてその
他の部材を有する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The substrate for a display device of the present invention will be described in detail below. The display device substrate of the present invention has a retardation plate and a gas barrier layer, and optionally other members.

【0027】[第1の態様のガスバリヤ層]前記ガスバ
リヤ層は、第一の態様としてゾルゲル法による単一又は
多成分系金属酸化物ガラスから形成されるものである。
[Gas Barrier Layer of First Embodiment] The gas barrier layer is formed of a single or multi-component metal oxide glass by the sol-gel method in the first embodiment.

【0028】前記金属酸化物ガラス膜は、加水分解可能
な有機金属化合物を、水と有機溶媒とからなる反応液中
において、ホウ素イオンの存在下でハロゲンイオンを触
媒とし、pHを4.5〜5.0に調整しながら加水分
化、脱水縮合させた後、反応精製物を基材表面に塗布
し、200℃以下の温度でガラス化して得られるもので
ある。
The metal oxide glass film has a pH of 4.5 to 4.5 in which a hydrolyzable organometallic compound is used as a catalyst in the reaction liquid consisting of water and an organic solvent in the presence of boron ions in the presence of boron ions. After being hydrolyzed and dehydration-condensed while adjusting to 5.0, the reaction purified product is applied to the surface of the substrate and vitrified at a temperature of 200 ° C. or lower.

【0029】前記有機金属化合物は、加水分解が可能な
ものであればよく、特に限定されないが、例えば、一般
式:MR (ORn−mで表される金属アルコシ
ドである。式中Mは酸化数nの金属、R及びRはア
ルキル基、mは0〜(n−1)の整数を表す。R及び
は同一でもよく、異なる基でもよい。なかでも好ま
しいのは、R及びRが炭素原子4個以下のアルキル
基、即ちメチル基CH (以下、Meで表す)、エチル
基C(以下、Etで表す)、プロピル基C
(以下、Prで表す)、イソピロピル基i−C
(以下、i−Prで表す)、ブチル基C(以
下、Buで表す)イソブチル基i−C(以下、i
−Buで表す)等の低級アルキル基が好適に用いられ
る。
The organometallic compound is hydrolyzable
It is not particularly limited as long as it is
Expression: MRTwo m(OR1)nmIs represented by
It is In the formula, M is a metal with an oxidation number of n, R1And RTwoA
A rualkyl group, m represents an integer of 0 to (n-1). R1as well as
RTwoMay be the same or different groups. Especially preferred
Shii is R1And RTwoIs an alkyl of 4 or less carbon atoms
Group, ie methyl group CH Three(Hereinafter referred to as Me), ethyl
Group CTwoH5(Hereinafter referred to as Et), propyl group CThreeH7
(Hereinafter referred to as Pr), isopyropyr group i-CThreeH
7(Hereinafter, represented by i-Pr), butyl group CFourH9(Below
Below, represented by Bu) Isobutyl group i-CFourH9(Hereafter, i
A lower alkyl group such as -Bu) is preferably used.
It

【0030】前記金属アルコキシドとしては、例えば、
リチウムエトキシドLiOEt、ニオブエトキシドNb
(OEt)、マグネシウムイソプロポキシドMg(O
Pr−i)、アルミニウムイソプロポキシドAl(O
Pr−i)、亜鉛プロポキシドZn(OPr)、テ
トラエトキシシランSi(OEt)、チタンイソプロ
ポキシドTi(OPr−i)、バリウムエトキシドB
a(OEt)、バリウムイソプロポキシドBa(OP
r−i)、トリエトキシボランB(OEt) 、ジル
コニウムプロポキシドZr(OPr)、ランタンプロ
ポキシドLa(OPr)、イットリウムプロポキシド
Y(OPr)、鉛イソプロポキシドPb(OPr−
i)等が挙げられる。これらの金属アルコキシドは何
れも市販品があり、容易に入手することができる。ま
た、金属アルコキシドは、部分的に加水分解して得られ
る低縮合物も市販されており、これを原料として使用す
ることも可能である。
Examples of the metal alkoxide include:
Lithium ethoxide LiOEt, niobium ethoxide Nb
(OEt)5, Magnesium isopropoxide Mg (O
Pr-i)Two, Aluminum isopropoxide Al (O
Pr-i)Three, Zinc propoxide Zn (OPr)Two, Te
Traethoxysilane Si (OEt)Four, Titanium isopro
Poxide Ti (OPr-i)Four, Barium ethoxide B
a (OEt)Two, Barium isopropoxide Ba (OP
r-i)Two, Triethoxyborane B (OEt) Three, Jill
Conium propoxide Zr (OPr)Four, Lantern pro
Poxide La (OPr)Three, Yttrium propoxide
Y (OPr)Three, Lead isopropoxide Pb (OPr-
i)TwoEtc. What are these metal alkoxides
These are also commercially available products and can be easily obtained. Well
In addition, metal alkoxides are obtained by partial hydrolysis.
Low condensates are also commercially available and can be used as raw materials.
It is also possible.

【0031】前記加水分解が可能な有機金属化合物はそ
のまま反応に用いてもよいが、反応の制御を容易にする
ため溶媒で希釈して用いることが望ましい。希釈用溶媒
は、上記の有機金属化合物を溶解することができ、かつ
水と均一に混合することができるものであればよい。一
般的には脂肪族の低級アルコール、例えば、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブ
タノール、イソブタノール、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール及びそれらの混合物等が好適に用いら
れる。また、ブタノール+セロソルブ+ブチルセロソル
ブ、あるいはキシロール+セロソルブアセテート+メチ
ルイソブチルケトン+シクロヘキサン等の混合溶媒を使
用することもできる。
The hydrolyzable organometallic compound may be used in the reaction as it is, but it is preferable to use it after diluting it with a solvent in order to facilitate the control of the reaction. Any solvent can be used as the diluent as long as it can dissolve the organometallic compound and can be uniformly mixed with water. Generally, lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, ethylene glycol, propylene glycol and mixtures thereof are preferably used. It is also possible to use a mixed solvent such as butanol + cellosolve + butyl cellosolve, or xylol + cellosolve acetate + methyl isobutyl ketone + cyclohexane.

【0032】前記有機金属化合物の中で金属がCa、M
g、Al等である場合には、反応液中の水と反応して水
酸化物を生成したり、炭酸イオンCO 2−が存在する
と炭酸塩を生成して沈澱を生ずるため、隠蔽剤としてト
リエタノールアミンのアルコール溶液を添加することが
望ましい。溶媒に混合溶解するときの有機金属化合物の
濃度は、通常70質量%以下、特に5〜70質量%の範
囲に希釈して使用することが望ましい。
Among the organometallic compounds, the metals are Ca and M.
When it is g, Al, etc., it reacts with water in the reaction solution to form a hydroxide, or when carbonate ion CO 3 2− is present, a carbonate is formed to cause precipitation, so that it is used as a masking agent. It is desirable to add an alcohol solution of triethanolamine. The concentration of the organometallic compound when mixed and dissolved in a solvent is usually 70% by mass or less, and preferably diluted to a range of 5 to 70% by mass before use.

【0033】前記反応液は、一般に水と有機溶媒とから
なる。反応液に用いる有機溶媒としては、水及び酸、ア
ルカリと均一な溶液をつくるものであればよく、通常前
記有機金属化合物の希釈に用いる脂肪族の低級アルコー
ル類が好適である。低級アルコール類のなかでも、メタ
ノール、エタノールより炭素数の多いプロパノール、イ
ソプロパノール、ブタノール及びイソブタノールが好ま
しい。これは、生成する金属酸化物ガラスの膜の成長が
安定であるためである。反応液を構成する水と有機溶媒
の割合は、水の濃度として0.2〜50モル/リットル
の範囲であればよい。
The reaction liquid generally comprises water and an organic solvent. The organic solvent used in the reaction solution may be any solvent that can form a homogeneous solution with water, an acid and an alkali, and aliphatic lower alcohols that are usually used for diluting the organometallic compound are preferable. Among the lower alcohols, propanol, isopropanol, butanol and isobutanol, which have more carbon atoms than methanol and ethanol, are preferable. This is because the growth of the produced metal oxide glass film is stable. The ratio of water to the organic solvent constituting the reaction liquid may be in the range of 0.2 to 50 mol / liter as the concentration of water.

【0034】前記反応液中において、ホウ素イオンの存
在下に、ハロゲンイオンを触媒として有機金属化合物を
加水分解することを特徴とする。ホウ素イオンB3+
与える化合物としては、トリアルコキシボラン〔B(O
R)〕が用いられる。なかでもトリエトキシボラン
〔B(OEt)〕は好適である。反応液中のB3+
オン濃度は1.0〜10.0モル/リットルの範囲であ
ることが好ましい。又はハロゲンイオンはF及びCl
もしくはこれらの混合物が用いられる。用いる化合物
としては、上記反応液中でFイオン及びClイオン
を生ずるものであればよく、例えばFイオン源にはフ
ッ化水素アンモニウム(NHF・HF)、フッ化ナト
リウム(NaF)等、Clイオン源には塩化アンモニ
ウム(NH Cl)等が好適である。
The presence of boron ions in the reaction solution
In the presence of organometallic compounds using halogen ions as catalysts
It is characterized by being hydrolyzed. Boron ion B3+To
As the compound to give, trialkoxyborane [B (O
R)Three] Is used. Among them, triethoxyborane
[B (OEt)Three] Is preferred. B in the reaction solution3+I
The on concentration is in the range of 1.0 to 10.0 mol / liter.
Preferably. Or halogen ion is FAnd Cl
Alternatively, a mixture of these is used. Compound used
In the above reaction solution,Ion and Clion
As long as it causesFor the ion source,
Ammonium hydrogen fluoride (NHFourF ・ HF), Nato fluoride
Li (NaF), etc., ClAmmonium chloride is used as the ion source
Umm (NH FourCl) and the like are preferable.

【0035】前記反応液中の上記ハロゲンイオンの濃度
は、製造しようとする金属酸化物ガラスの膜厚その他の
条件によって異なるため、範囲限定することが難しい。
一般的には、触媒を含む反応液の合計質量に対して0.
001〜2モル/kg、特に0.002〜0.3モル/
kgの範囲が好ましい。前記ハロゲンイオンの濃度が
0.001モル/kgより低いと、有機金属化合物の加
水分解が十分に進行し難くなり、膜の形成が困難となる
場合がある。一方、ハロゲンイオンの濃度が2モル/k
gを超えると、生成する金属酸化物ガラスが不均一にな
り易いためいずれも好ましくない。
The concentration of the halogen ions in the reaction solution varies depending on the film thickness of the metal oxide glass to be produced and other conditions, so that it is difficult to limit the range.
Generally, it is 0 .. to the total mass of the reaction liquid containing the catalyst.
001 to 2 mol / kg, especially 0.002 to 0.3 mol / kg
The range of kg is preferred. When the concentration of the halogen ions is lower than 0.001 mol / kg, hydrolysis of the organometallic compound is difficult to proceed sufficiently, and it may be difficult to form a film. On the other hand, the concentration of halogen ions is 2 mol / k
If it exceeds g, the metal oxide glass to be produced tends to be non-uniform, which is not preferable.

【0036】なお、反応時に使用したホウ素に関して
は、得られる金属酸化物の設計組成中にB成分と
して含有させる場合は、その含有量に応じた有機ホウ素
化合物の計算量を添加したまま生成物とすればよく、ま
た、ホウ素を除去したいときは、成膜後、溶媒としての
メタノールの存在下、又はメタノールに浸漬して加熱す
ればホウ素はホウ素メチルエステルとして蒸発させて除
去することができる。
Regarding the boron used in the reaction, when it is contained as a B 2 O 3 component in the design composition of the metal oxide to be obtained, the calculated amount of the organic boron compound according to the content is added as it is. The product may be used, and when it is desired to remove boron, after film formation, boron can be evaporated and removed as boron methyl ester by heating in the presence of methanol as a solvent or by immersing in methanol and heating. it can.

【0037】有機金属化合物の加水分解反応は、通常所
定量の有機金属化合物を所定量の水と有機溶媒との混合
溶媒に混合溶解した主剤溶液と、所定量のハロゲンイオ
ンを含有する所定量の反応液とを、所定の比で混合し十
分に攪拌して均一な反応溶液とした後、酸又はアルカリ
で反応溶液のpHを希望の値に調整し、数時間熟成させ
る。ホウ素化合物は主剤溶液又は反応液に予め所定量を
混合溶解しておく。アルコキシボランを用いる場合は、
他の有機金属化合物と共に主剤溶液に溶解するのが有利
である。
The hydrolysis reaction of an organometallic compound is usually carried out by dissolving a predetermined amount of an organometallic compound in a mixed solvent of a prescribed amount of water and an organic solvent and dissolving it, and a prescribed amount of a halogen ion containing a prescribed amount of halogen ion. The reaction solution and the reaction solution are mixed at a predetermined ratio and sufficiently stirred to form a uniform reaction solution, and then the pH of the reaction solution is adjusted to a desired value with an acid or an alkali and aged for several hours. A predetermined amount of the boron compound is mixed and dissolved in the main agent solution or the reaction solution in advance. When using alkoxy borane,
It is advantageous to dissolve in the base solution with other organometallic compounds.

【0038】反応溶液のpHは、目的によって選択しな
ければならない。即ち、金属酸化物ガラスの膜を目的と
するときは、例えば、塩酸等の酸を用いてpHを4.5
〜5の範囲に調整して熟成させる。この場合は、例え
ば、指示薬としてメチルレッド+ブロモクレゾールグリ
ーン等を用いると便利である。膜の形成は、熟成後の反
応溶液をそのまま、又は必要ならば適当な増粘剤を加え
て前記プラスチックフィルム等の基材表面に塗布し、2
00℃以下の温度に加熱して乾燥し、ガラス化させる。
加熱に当たっては、特に50〜70℃の温度区間を注意
して徐々に昇温して予備乾燥(溶媒揮散)工程を経た後
さらに昇温する。この乾燥は特に無孔化膜の形成に重要
である。
The pH of the reaction solution must be selected according to the purpose. That is, when a metal oxide glass film is intended, for example, an acid such as hydrochloric acid is used to adjust the pH to 4.5.
Adjust to a range of ~ 5 and ripen. In this case, it is convenient to use, for example, methyl red + bromocresol green as an indicator. The film is formed by coating the reaction solution after aging as it is or by adding an appropriate thickener if necessary onto the surface of the base material such as the plastic film.
It is heated to a temperature of 00 ° C. or lower, dried, and vitrified.
In heating, the temperature is gradually raised particularly in the temperature range of 50 to 70 ° C., and the temperature is further raised after the preliminary drying (solvent volatilization) step. This drying is particularly important for forming a non-porous film.

【0039】また、前記金属酸化物ガラス膜の製膜方法
としては、膜に同一成分の同一濃度の主剤溶液及び反応
液(B3+及びハロゲンイオンを含む)を所定のpHに
調整しながら逐次同一割合で追加添加することにより簡
単に継続して製造することもできる。なお、上記した反
応溶液の濃度は±50質量%の範囲で、水(酸又はアル
カリを含む)の濃度は、±30質量%の範囲で、及びハ
ロゲンイオンの濃度は±30質量%の範囲で変化させる
ことができる。
As the method for forming the metal oxide glass film, the main ingredient solution and the reaction solution (containing B 3+ and halogen ions) of the same component and the same concentration are sequentially adjusted to the same pH while adjusting the film to a predetermined pH. It can also be simply and continuously produced by additionally adding in proportion. In addition, the concentration of the above-mentioned reaction solution is within a range of ± 50% by mass, the concentration of water (including acid or alkali) is within a range of ± 30% by mass, and the concentration of halogen ions is within a range of ± 30% by mass. Can be changed.

【0040】このようにして得られる金属酸化物ガラス
膜が本発明の第1の態様に係るガスバリヤ層を構成す
る。なお、ガスバリヤ層の特性については後述する。
The metal oxide glass film thus obtained constitutes the gas barrier layer according to the first aspect of the present invention. The characteristics of the gas barrier layer will be described later.

【0041】[第2の態様のガスバリヤ層]前記ガスバ
リヤ層は、第2の態様として無機層状化合物及び単一又
は多成分系金属酸化物ガラスを含むものである。この場
合、単一又は多成分系金属酸化物ガラスとしては、前記
第1の態様に係るゾルゲル法による単一又は多成分系金
属酸化物ガラスと同じものを用いることができる。
[Gas Barrier Layer of Second Embodiment] The gas barrier layer of the second embodiment contains an inorganic layered compound and a single or multi-component metal oxide glass. In this case, as the single or multi-component metal oxide glass, the same as the single or multi-component metal oxide glass by the sol-gel method according to the first aspect can be used.

【0042】−無機層状化合物− 前記無機層状化合物は、約10〜15オングストローム
(Å)の厚さの単位結晶格子層を含む積層構造を有し、
格子内金属原子置換が他の粘土鉱物より著しく大きい。
このため、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償する
ために層間に陽イオンを吸着し介在させている。これら
層間に介在している陽イオン(交換性陽イオン)は、種
々の陽イオンと交換される。特に、陽イオンのイオン半
径が小さいと層状結晶格子間の結合が弱いため、水等に
より大きく膨潤する。膨潤した状態で無機層状化合物に
シェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾル
を形成する。
-Inorganic Layered Compound- The inorganic layered compound has a laminated structure including a unit crystal lattice layer having a thickness of about 10 to 15 angstroms (Å),
Intralattice metal atom substitution is significantly greater than other clay minerals.
For this reason, the lattice layer is deficient in positive charges, and cations are adsorbed and interposed between the layers to compensate for it. The cations (exchangeable cations) interposed between these layers are exchanged with various cations. In particular, when the ionic radius of the cation is small, the bond between the layered crystal lattices is weak, so that the cation swells greatly with water or the like. When the inorganic layered compound is swollen in the swollen state, it is easily cleaved to form a stable sol in water.

【0043】前記無機層状化合物において、前記層間に
介在する陽イオン(交換性陽イオン)は、Na、Ca
2+、Mg2+等であり、該陽イオンが、Li、Na
の場合には、イオン半径が小さいため、層状結晶格子
間の結合が弱く、水中で大きく膨潤し、本発明に好まし
く用いられる。
In the inorganic layered compound, the cations (exchangeable cations) interposed between the layers are Na + and Ca.
2+ , Mg 2+, etc., and the cations are Li + , Na
In the case of + , since the ionic radius is small, the bond between the layered crystal lattices is weak, and it swells greatly in water, and is preferably used in the present invention.

【0044】前記無機層状化合物としては、天然スメク
タイト、合成スメクタイト等のスメクタイト、膨潤性合
成雲母、バーミキュライト等の膨潤性の無機層状化合物
が特に好適に挙げられる。
Preferred examples of the inorganic layered compound include smectites such as natural smectite and synthetic smectite, and swellable inorganic layered compounds such as swelling synthetic mica and vermiculite.

【0045】前記スメクタイトは、中心にSiが入った
Si−O四面体が平面に広がった四面体シートと、A
l、Mg等の金属原子が中心に入った八面体シートと、
が2:1で構成された構造を有する。
The smectite is a tetrahedral sheet in which a Si-O tetrahedron containing Si at the center spreads in a plane, and
Octahedral sheet containing metal atoms such as l and Mg in the center,
Has a structure composed of 2: 1.

【0046】前記スメクタイトにおいて、四面体型では
SiがAlに置換された構造、八面体型ではAlがMg
に置換された構造となっているため、スメクタイトの結
晶層は、プラス電荷が不足し、表面荷電がマイナスとな
っている。前者の場合、四面体置換型(四面体荷電体)
であり、例えば、バイデライト、ノントロナイト、ボル
コンスコアイト、サポナイト、等が挙げられる。後者の
場合、八面体置換型(八面体荷電型)であり、例えば、
モンモリロナイト、ヘクトライト、スチーブンサイト等
が挙げられる。
In the smectite, the tetrahedral type has a structure in which Si is replaced by Al, and the octahedral type has Al replaced by Mg.
Since the structure is replaced with, the smectite crystal layer lacks positive charge and has negative surface charge. In the former case, tetrahedral substitution type (charged tetrahedron)
And examples thereof include beidellite, nontronite, volkonskite, saponite, and the like. In the latter case, it is an octahedral substitution type (octahedral charged type), for example,
Examples include montmorillonite, hectorite, and stevensite.

【0047】前記スメクタイトのうち、天然スメクタイ
トとしては、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトラ
イト、等が製品化されている。合成スメクタイトとして
は、サポナイト、ヘクトライト、スチーブンサイト、等
が製品化されている。
Among the above-mentioned smectites, montmorillonite, saponite, hectorite, etc. have been commercialized as natural smectites. As synthetic smectites, saponite, hectorite, stevensite, etc. have been commercialized.

【0048】前記膨潤性の無機層状化合物は、一般式:
A(B,C)2−3Si10(OH,F,O)
[但し、Aは、Na及びLiの何れか、B及びCは、
Mg及びLiの何れかである]等で表される。
The swellable inorganic layered compound has the general formula:
A (B, C) 2-3 Si 4 O 10 (OH, F, O)
2 [However, A is either Na or Li, and B and C are
Either Mg or Li] or the like.

【0049】前記膨潤性合成雲母としては、例えば、N
aテトラシックマイカNaMg2. (Si10
、Na又はLiテニオライト(NaLi)Mg
i(Si10)F、Na又はLiヘクトライト
(NaLi)1/3Mg2/3Li1/3(Si
10)F、等が挙げられる。
Examples of the swelling synthetic mica include N
a Tetrasic mica NaMg 2. 5 (Si 4 O 10 )
F 2 , Na or Li Teniolite (NaLi) Mg 2 L
i (Si 4 O 10 ) F 2 , Na or Li hectorite (NaLi) 1/3 Mg 2/3 Li 1/3 (Si 4 O
10 ) F 2 and the like.

【0050】前記無機層状化合物の中でも、水による膨
潤度が大きく、水中で容易に劈開し安定したゾルを形成
し易い点で、ベントナイト、膨潤性合成雲母等が好まし
く、特に、膨潤性合成雲母が好適である。
Among the above-mentioned inorganic layered compounds, bentonite, swellable synthetic mica and the like are preferable in that the degree of swelling with water is large and the sol is easily cleaved in water to easily form a stable sol. It is suitable.

【0051】これらの無機層状化合物は、その表面が親
水的であるため、水中に容易に膨潤し、シアーをかける
ことにより容易に分散する。このとき、水混和性の有機
溶媒、例えば、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコール、ジエチレングリコール等のア
ルコール類;ジメチルスルホキサイド、ジメチルホルム
アミド、アセトン等が挙げられる。
Since these inorganic layered compounds have hydrophilic surfaces, they easily swell in water and are easily dispersed by applying shear. At this time, water-miscible organic solvents, for example, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol, diethylene glycol; dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, acetone and the like can be mentioned.

【0052】前記無機層状化合物の大きさとしては、厚
みで1〜50nmが好ましく、2〜10nmがより好ま
しい。面サイズとしては、20〜200,000nmが
好ましく、40〜20,000nmがより好ましい。ア
スペクト比としては、10〜5,000が好ましく、2
0〜5,000がより好ましく、40〜3,000が更
に好ましく、100〜3,000が特に好ましい。該ア
スペクト比が、10未満であると、ガスバリヤ性が劣る
ことがある。
The size of the inorganic layered compound is preferably 1 to 50 nm, more preferably 2 to 10 nm in terms of thickness. The surface size is preferably 20 to 200,000 nm, more preferably 40 to 20,000 nm. The aspect ratio is preferably 10 to 5,000, and 2
0 to 5,000 is more preferable, 40 to 3,000 is further preferable, and 100 to 3,000 is particularly preferable. If the aspect ratio is less than 10, the gas barrier property may be poor.

【0053】−疎水化無機層状化合物− 前記無機層状化合物は、疎水性基を有する三級又は四級
塩化合物により疎水化することが好ましい。このように
疎水化した無機層状化合物を添加することにより、各種
有機溶媒及び/又はポリシロキサン類に分散させること
ができる。
-Hydrophobic Inorganic Layered Compound- The inorganic layered compound is preferably hydrophobized with a tertiary or quaternary salt compound having a hydrophobic group. By adding the inorganic layered compound that has been made hydrophobic in this way, it can be dispersed in various organic solvents and / or polysiloxanes.

【0054】前記有機溶媒としては、高極性、低極性あ
るいは無極性の各種有機溶媒、具体的には、例えばベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;テト
ラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;メタ
ノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール
等の低級アルコール類;デカノール、ヘキサノール、デ
カノールのような高級アルコール類;四塩化炭素、クロ
ロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、パークロ
ロエチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素
類;ジメチルホルムアミドのようなアミド類;酢酸エチ
ルのようなエステル類及びフタル酸ジオクチド、ジメチ
ルスルホキシド、メチルセロソルブ、N−メチル−2−
ピロリドンなどの溶剤に分散する。前記ポリシロキサン
類としては、例えば、各種のシリコーンオイル等に分散
させることができる。
As the organic solvent, various organic solvents having high polarity, low polarity or non-polarity, specifically, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; ethers such as tetrahydrofuran, acetone and methyl ethyl ketone are used. , Ketones such as methyl isobutyl ketone; lower alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol; higher alcohols such as decanol, hexanol, decanol; carbon tetrachloride, chloroform, dichloromethane, dichloroethane, perchloroethylene, chlorobenzene, etc. Halogenated hydrocarbons; amides such as dimethylformamide; esters such as ethyl acetate and phthalic acid dioctide, dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve, N-methyl-2-
Disperse in a solvent such as pyrrolidone. The polysiloxanes can be dispersed in various silicone oils, for example.

【0055】前記疎水性基を有する三級又は四級塩化合
物としては、特に制限されないが、前記三級塩化合物と
しては、例えば、ジメチルヘキシルアミン塩酸塩、ジメ
チルオクチルアミン塩酸塩、ジメチルデシルアミン塩酸
塩、ジメチルドデシルアミン塩酸塩、ジメチルラウリル
アミン塩酸塩、ジメチルステアリルアミン塩酸塩、ジメ
チルヤシアミン塩酸塩、ジメチルテトラデシルアミン塩
酸塩、ジメチルオレイルアミン酢酸塩、ジメチルステア
リルアミン酢酸塩、ジメチルステアリルアミノプロピル
アミン酸酸塩、ジメチルオクタデシルアミン酢酸塩等の
アミン塩型;ラウリルピリジニウムクロライド、ミリス
チルピリジニウムクロライド、セチルピリジニウムクロ
ライド等のピリジニウム塩型などを用いることができ
る。
The tertiary or quaternary salt compound having a hydrophobic group is not particularly limited, but examples of the tertiary salt compound include dimethylhexylamine hydrochloride, dimethyloctylamine hydrochloride and dimethyldecylamine hydrochloride. Salt, dimethyldodecylamine hydrochloride, dimethyllaurylamine hydrochloride, dimethylstearylamine hydrochloride, dimethylcocoamineamine hydrochloride, dimethyltetradecylamine hydrochloride, dimethyloleylamine acetate, dimethylstearylamine acetate, dimethylstearylaminopropylamine acid Acid salts, amine salt types such as dimethyloctadecylamine acetate, and pyridinium salt types such as laurylpyridinium chloride, myristylpyridinium chloride, and cetylpyridinium chloride can be used.

【0056】前記四級塩化合物としては、下記一般式
(1)で表される第四級アンモニウム塩などが好適であ
る。
The quaternary salt compound is preferably a quaternary ammonium salt represented by the following general formula (1).

【0057】[0057]

【化1】 〔式中、Rは炭素数8〜22のアルキル基又はアルケ
ニル基、R、R、R はいずれも炭素数1〜5のア
ルキル基又は(AO)H基(但し、AOは炭素数2〜
4のオキシアルキレン基を示し、sは1〜10の実数で
ある)であって、R、R、Rのうちの少なくとも
一つは(AO)H基である。Xは対アニオンを示
す。〕
[Chemical 1] [In the formula, R6Is an alkyl group having 8 to 22 carbon atoms or an alkene
Nyl group, R7, R8, R 9Are all carbon numbers 1 to 5
Rukiru group or (AO)sH group (however, AO has 2 to 2 carbon atoms)
4 is an oxyalkylene group, and s is a real number from 1 to 10.
Yes, and R7, R8, R9At least of
One is (AO)sH group. XIndicates a counter anion
You ]

【0058】式(1)中、Rは炭素数8〜22、好ま
しくは12〜20のアルキル基又はアルケニル基であ
る。なお、Rは植物性及び動物性の天然脂肪酸残基で
ある混合アルキル基、混合アルケニル基であっても構わ
ない。
In the formula (1), R 6 is an alkyl group or alkenyl group having 8 to 22 carbon atoms, preferably 12 to 20 carbon atoms. In addition, R 6 may be a mixed alkyl group or a mixed alkenyl group which is a natural fatty acid residue of plant or animal origin.

【0059】また、AOは炭素数2〜4のオキシアルキ
レン基、好ましくはオキシエチレン基を示し、sは1〜
10、好ましくは1〜5である。
AO represents an oxyalkylene group having 2 to 4 carbon atoms, preferably an oxyethylene group, and s is 1 to
10, preferably 1-5.

【0060】Xは、無機又は有機アニオンを示し、例
えばCl、Br、NO 、OH、CHCOO
等の陰イオン、酢酸アニオン残基、メトサルフェート
アニオンなどが挙げられる。
X represents an inorganic or organic anion, for example, Cl , Br , NO 3 , OH , CH 3 COO.
And the like, anion such as , acetate anion residue, methosulfate anion and the like.

【0061】このような疎水性基を有する四級塩化合物
としては、例えば、ラウリルトリメチルアンモニウムク
ロライド、セチルトリメチルアンモニウムクロライド、
ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジラウ
リルジメチルアンモニウムクロライド、ジステアリルジ
メチルアンモニウムクロライド、ラウリルジヒドロキシ
エチルメチルアンモニウムクロライド、オレイルビスポ
リオキシエチレンメチルアンモニウムクロライド、ステ
アリルヒドロキシエチルジメチルアンモニウムクロライ
ド、ラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライ
ド、ラウロイルアミノプロピルジメチルエチルアンモニ
ウムエトサルフェート、ラウロイルアミノプロピルジメ
チルヒドロキシエチルアンモニウムパークロレート、ド
デシルトリメチルアンモニウムクロライド、ヤシアルキ
ルトリメチルアンモニウムクロライド、ヘキサデシルト
リメチルアンモニウムクロライド、牛脂アルキルトリメ
チルアンモニウムクロライド、硬化牛脂アルキルトリメ
チルアンモニウムクロライド、オクタデシルトリメチル
アンモニウムクロライド、ベヘニルトリメチルアンモニ
ウムクロライド、ヤシアルキルジメチルベンジルアンモ
ニウムクロライド、テトラデシルジメチルベンジルアン
モニウムクロライド、オクタデシルジメチルベンジルア
ンモニウムクロライド、N−牛脂アルキルN,N,
N’,N’,N’−ペンタメチルプロピレンジアンモニ
ウムジクロライド、l−ヒドロキシ・エチル2−アルキ
ル(硬化牛脂)イミダゾリン四級塩、ヤシアルキルイソ
キノリニウムブロマイド、ジ硬化牛脂アルキルジメチル
アンモニウムクロライド、ジオレイルジメチルアンモニ
ウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロラ
イド、N,N−ジポリオキシエチレン N−ステアリル
N−メチルアンモニウムクロライド、トリエチルメチ
ルアンモニウムクロライド、N−ポリオキシエチレン
N,N−ジオレイル N−メチルアンモニウムクロライ
ドなどが挙げられる。
Examples of such a quaternary salt compound having a hydrophobic group include lauryl trimethyl ammonium chloride, cetyl trimethyl ammonium chloride,
Stearyltrimethylammonium chloride, dilauryldimethylammonium chloride, distearyldimethylammonium chloride, lauryldihydroxyethylmethylammonium chloride, oleylbispolyoxyethylenemethylammonium chloride, stearylhydroxyethyldimethylammonium chloride, lauryldimethylbenzylammonium chloride, lauroylaminopropyldimethyl Ethyl ammonium ethosulfate, lauroyl aminopropyl dimethyl hydroxyethyl ammonium perchlorate, dodecyl trimethyl ammonium chloride, palm alkyl trimethyl ammonium chloride, hexadecyl trimethyl ammonium chloride, tallow alkyl trimethyl ammonium chloride Ride, hardened tallow alkyl trimethyl ammonium chloride, octadecyl trimethyl ammonium chloride, behenyl trimethyl ammonium chloride, coconut alkyl dimethyl benzyl ammonium chloride, tetradecyl dimethyl benzyl ammonium chloride, octadecyl dimethyl benzyl ammonium chloride, N- tallow-alkyl N, N,
N ', N', N'-pentamethylpropylenediammonium dichloride, l-hydroxyethyl 2-alkyl (hardened beef tallow) imidazoline quaternary salt, cocoalkylisoquinolinium bromide, di-hardened beef tallow alkyldimethylammonium chloride, geo Rail dimethyl ammonium chloride, didecyl dimethyl ammonium chloride, N, N-dipolyoxyethylene N-stearyl N-methylammonium chloride, triethylmethylammonium chloride, N-polyoxyethylene N, N-dioleyl N-methylammonium chloride, etc. Can be mentioned.

【0062】前記無機層状化合物を疎水化する方法とし
ては、無機層状化合物の層間に介在する陽イオンを前記
疎水性基を有する三級又は四級塩化合物の疎水性基と交
換することにより行うことができる。例えば、無機層状
化合物を水中に分散させて、無機層状化合物の懸濁液を
作成する。この場合、分散濃度は、特に制限されない
が、通常1〜15質量%である。次に、無機層状化合物
の懸濁液に上述の疎水性基を有する三級又は四級塩化合
物溶液を添加するか、又は逆に上述の疎水性基を有する
三級又は四級塩化合物溶液に無機層状化合物の懸濁液を
添加することによって、無機層状化合物と三級又は四級
塩化合物との複合体を製造することができる。
The method for hydrophobizing the inorganic layered compound is carried out by exchanging the cations existing between the layers of the inorganic layered compound with the hydrophobic groups of the tertiary or quaternary salt compound having the hydrophobic group. You can For example, the inorganic layered compound is dispersed in water to prepare a suspension of the inorganic layered compound. In this case, the dispersion concentration is not particularly limited, but is usually 1 to 15% by mass. Next, the tertiary or quaternary salt compound solution having the above-mentioned hydrophobic group is added to the suspension of the inorganic layered compound, or conversely, to the tertiary or quaternary salt compound solution having the above-mentioned hydrophobic group. A composite of an inorganic layered compound and a tertiary or quaternary salt compound can be produced by adding a suspension of the inorganic layered compound.

【0063】この場合、三級又は四級塩化合物溶液の添
加量は、無機層状化合物の陽イオン交換容量と当量用い
ることが望ましいが、これより少ない量でも製造するこ
とは可能であり、また、陽イオン交換容量に対して過剰
量添加しても差し支えなく、具体的には、無機層状化合
物の陽イオン交換容量の0.5〜1.5倍量(ミリ当量
換算)、特に0.8〜1.2倍量であることが好まし
い。
In this case, the addition amount of the tertiary or quaternary salt compound solution is preferably the same as the cation exchange capacity of the inorganic layered compound, but it is possible to produce even a smaller amount. There is no problem even if an excessive amount is added to the cation exchange capacity, and specifically, 0.5 to 1.5 times the cation exchange capacity of the inorganic layered compound (milliequivalent conversion), particularly 0.8 to The amount is preferably 1.2 times.

【0064】反応は室温でも十分進行するが、加温して
も構わない。加温の最高温度は用いる三級又は四級塩化
合物の分解点以下であれば任意に設定が可能である。次
いで、固液を分離し、生成した無機層状化合物と三級又
は四級塩化合物との複合体を水洗浄して、副生電解質を
十分に除去する。これを乾燥し、必要に応じて粉砕する
ことにより、疎水化された無機層状化合物が得られる。
The reaction proceeds sufficiently even at room temperature, but may be heated. The maximum heating temperature can be arbitrarily set as long as it is equal to or lower than the decomposition point of the tertiary or quaternary salt compound used. Then, the solid-liquid is separated, and the resulting composite of the inorganic layered compound and the tertiary or quaternary salt compound is washed with water to sufficiently remove the by-product electrolyte. This is dried and, if necessary, pulverized to obtain a hydrophobized inorganic layered compound.

【0065】第2の態様に係るガスバリヤ層における、
前記無機層状化合物の含有量としては、組成物全体に対
して1〜50質量%、より好ましくは5〜30質量%で
ある。前記無機層状化合物の含有量が、1質量%未満で
あると、ガスバリヤ性が充分でない場合がある。一方、
50質量%を超えると、透明性、ヘイズの増加等が発生
する場合がある。
In the gas barrier layer according to the second aspect,
The content of the inorganic layered compound is 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, based on the entire composition. If the content of the inorganic layered compound is less than 1% by mass, the gas barrier property may not be sufficient. on the other hand,
If it exceeds 50% by mass, transparency and haze may increase.

【0066】前記ガスバリヤ層は、水等の溶媒を攪拌し
ながら、前記膨潤性の無機層状化合物を添加して充分水
等になじませ、無機層状化合物を膨潤させた後、分散機
にて分散させ、塗布等により形成する。これを、前記ガ
ラス化前の金属酸化物ガラスのコーティング剤中に添加
し攪拌した後、前記プラスチックフィルム上に塗布する
方法、予め別々に製造した金属酸化物ガラス膜とプラス
チックフィルムとを接着剤で貼合せる方法等により、形
成することができる。
The gas barrier layer is prepared by adding the swelling inorganic layered compound while sufficiently stirring the solvent such as water, so that the inorganic layered compound is sufficiently swelled, and then dispersed by a disperser. It is formed by coating, etc. This, after adding and stirring in the coating agent of the metal oxide glass before vitrification, a method of applying on the plastic film, a metal oxide glass film and a plastic film separately prepared in advance with an adhesive It can be formed by a method such as laminating.

【0067】この場合、前記無機層状化合物は、表面が
親水的であるため、水中で容易に膨潤しシェアーをかけ
ることにより容易に分散する。この時、水混和性の有機
溶媒、例えば、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール等のアルコール類のほか、ジメチルスルホ
キサイド、ジメチルホルムアミド、アセトン等を所望に
より加えることができる。
In this case, since the surface of the inorganic layered compound is hydrophilic, it is easily swelled in water and easily dispersed by shearing. At this time, a water-miscible organic solvent, for example, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, ethylene glycol, diethylene glycol, etc., as well as dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, acetone, etc. can be added if desired.

【0068】また、表面を四級塩界面活性剤等により疎
水化処理した膨潤性の無機層状化合物を用いる場合、前
記ガスバリヤ層は、疎水化処理した無機層状化合物を、
トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、アセトン、
メチルイソブチルケトン、プロパノール、イソプロパノ
ール、四級塩炭素、パークロロエチレン、メチルセロソ
ルブ、ジメチルホルムアミド、等の有機溶媒に充分なじ
ませ、膨油させた後、分散機にて分散し、塗布等により
形成される。
When a swellable inorganic layered compound whose surface is hydrophobized with a quaternary salt surfactant or the like is used, the gas barrier layer contains the hydrophobized inorganic layered compound,
Toluene, xylene, methyl ethyl ketone, acetone,
Methyl isobutyl ketone, propanol, isopropanol, quaternary salt carbon, perchlorethylene, methyl cellosolve, dimethylformamide, etc. After sufficiently swelling and swelling, dispersed with a disperser, formed by coating etc. It

【0069】前記分散機としては、機械的に直接力を加
えて分散する各種ミル等の分散機、大きな剪断力を有す
る高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与え
る分散機等がある。具体的には、ボールミル、サンドグ
ラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホモジナ
イザーディゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモ
ブレンダーケディミル、ジェットアジター、毛細管式乳
化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポール
マン笛を有する乳化装置等がある。前記分散機により分
散され得られた分散物は、高粘度或いはゲル状であり、
保存安定性は極めて良好である。塗布液に添加する際
は、水又は溶剤で希釈し充分攪拌した後添加する。
Examples of the disperser include dispersers such as various mills for mechanically applying a direct force to disperse, a high-speed stirring disperser having a large shearing force, and a disperser giving high-strength ultrasonic energy. . Specifically, a ball mill, a sand grinder mill, a visco mill, a colloid mill, a homogenizer dissolver, a polytron, a homomixer, a homo blender kedy mill, a jet agitator, a capillary emulsifier, a liquid siren, an electromagnetic distortion type ultrasonic generator, a pole. There is an emulsifier with a man whistle. The dispersion obtained by being dispersed by the disperser has a high viscosity or a gel state,
Storage stability is very good. When it is added to the coating liquid, it is diluted with water or a solvent and sufficiently stirred, and then added.

【0070】<ガスバリヤ層の特性>前記第1及び第2
の態様のガスバリヤ層の厚みとしては、0.1〜10μ
mであることが好ましく、1〜2μmであることがより
好ましい。前記厚みが、0.1μm未満であると、ガス
バリヤ性が充分でないことがある一方、10μmを超え
ると、薄膜化・軽量化の点で充分でないことがある。
<Characteristics of Gas Barrier Layer> The first and second
The thickness of the gas barrier layer of the embodiment is 0.1 to 10 μm.
It is preferably m, and more preferably 1 to 2 μm. If the thickness is less than 0.1 μm, the gas barrier property may not be sufficient, while if it exceeds 10 μm, the thinning and weight reduction may not be sufficient.

【0071】本発明の第1及び第2の態様のガスバリヤ
層の酸素透過率(温度40℃、湿度90%)としては、
0.5ml/m・atm・day以下が好ましく、
0.2ml/m・atm・day以下がより好まし
い。前記酸素透過率が、前記数値範囲内であれば、充分
なガスバリヤ性を有するガスバリヤ層となる。尚、前記
酸素透過率は、ガス透過率測定装置(モコン社製)によ
り求めた値である。
The oxygen permeability (temperature 40 ° C., humidity 90%) of the gas barrier layers of the first and second aspects of the present invention is as follows.
0.5 ml / m 2 · atm · day or less is preferable,
0.2 ml / m 2 · atm · day or less is more preferable. When the oxygen permeability is within the above numerical range, the gas barrier layer has sufficient gas barrier properties. The oxygen permeability is a value obtained by a gas permeability measuring device (manufactured by Mocon).

【0072】[位相差板]前記位相差板は、波長450
nm、550nm及び650nmにおけるレターデーシ
ョン値をそれぞれRe(450)、Re(550)及び
Re(650)としたとき、Re(450)<Re(5
50)<Re(650)を満たす。換言すれば、前記レ
ターデーション値と波長とが正の相関関係を有すること
が必要である。該相関関係を有することにより、可視光
域の入射光に対し一定の位相差特性を有し、白黒化、カ
ラー化等が容易となる。また、前記位相差板は、波長4
00〜700nmにおける平均光透過率が70%以上、
ガラス転移点が100℃以上であることが必要である。
[Phase retarder] The retarder has a wavelength of 450
Re (450) <Re (5), where Re (450), Re (550) and Re (650) are the retardation values at nm, 550 nm and 650 nm, respectively.
50) <Re (650) is satisfied. In other words, it is necessary that the retardation value and the wavelength have a positive correlation. By having this correlation, it has a constant phase difference characteristic with respect to the incident light in the visible light region, and it becomes easy to make black and white and color. Further, the retardation plate has a wavelength of 4
The average light transmittance at 70 to 70 nm is 70% or more,
The glass transition point needs to be 100 ° C. or higher.

【0073】前記位相差板の、波長450nm、550
nm及び650nmにおけるレターデーション(Re)
/波長(λ)の値としては、用いる液晶の性質等により
多少変動することがあるが、0.2〜0.3が好まし
く、0.23〜0.27がより好ましい。前記レターデ
ーション(Re)/波長(λ)の値が、前記数値範囲内
であれば、可視光全域の入射光に対して、より均一な位
相差特性を有する広帯域1/4位相差板となる。
The wavelength of the retardation plate is 450 nm, 550
(Re) at nm and 650 nm
The value of / wavelength (λ) may vary to some extent depending on the properties of the liquid crystal used, but is preferably 0.2 to 0.3, and more preferably 0.23 to 0.27. When the value of the retardation (Re) / wavelength (λ) is within the above numerical range, a wideband 1/4 phase difference plate having more uniform phase difference characteristics with respect to incident light in the entire visible light range is obtained. .

【0074】<位相差板の態様>前記位相差板の態様と
しては、固有複屈折値が正の材料及び負の材料を含有す
る第一の態様、固有複屈折値が正の材料からなる層及び
負の材料からなる層の積層体を含む第二の態様、固有複
屈折値が正の部位及び負の部位を有する材料を含有する
第三の態様、WO00/26705号公報記載の材料を
用いる第四の態様、酢酸セルロースを利用した第五の態
様等の、一枚で広帯域における1/4波長板特性を有す
る材料も有効に利用可能であるが、本発明においては、
固有複屈折値が正及び負の組み合わせを有するのが、光
弾性が小さく、特に好ましい。
<Aspect of Retardation Plate> As an aspect of the retardation plate, a first embodiment containing a material having a positive intrinsic birefringence value and a material having a negative intrinsic birefringence value, a layer made of a material having a positive intrinsic birefringence value And a second aspect including a laminate of layers made of a negative material, a third aspect including a material having a positive intrinsic birefringence value and a negative intrinsic birefringence value, and the material described in WO00 / 26705 is used. The fourth aspect, such as the fifth aspect utilizing cellulose acetate, it is possible to effectively use a material having a quarter-wave plate characteristic in a wide band in one sheet, but in the present invention,
It is particularly preferable that the intrinsic birefringence value has a combination of positive and negative values because the photoelasticity is small.

【0075】<<第一の態様>>第一の態様は、前記位
相差板が、固有複屈折値が正の材料及び負の材料を含有
(「同一層中に含有」を意味する。)し、必要に応じて
その他の成分を含有する態様である。 −−固有複屈折値が正の材料−− 前記固有複屈折値が正の材料は、分子に一軸性の配向規
則を与えたときに、光学的に正の一軸性を示す特性を有
する材料であり、ポリマー、棒状液晶、棒状液晶ポリマ
ーなどがその例として挙げられる。これらは、1種単独
で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。本発
明においては、これらの中でも固有複屈折値が正のポリ
マーが好ましい。
<< First Mode >> In the first mode, the retardation plate contains a material having a positive intrinsic birefringence value and a material having a negative intrinsic birefringence value (meaning “containing in the same layer”). However, it is an embodiment in which other components are contained as necessary. --- Material having a positive intrinsic birefringence value --- The material having a positive intrinsic birefringence value is a material having a property of exhibiting optically positive uniaxiality when a uniaxial orientation rule is given to a molecule. Examples thereof include polymers, rod-shaped liquid crystals and rod-shaped liquid crystal polymers. These may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, among these, polymers having a positive intrinsic birefringence value are preferable.

【0076】前記固有複屈折値が正の材料において、前
記固有複屈折値が正のポリマーとしては、ポリオレフィ
ン系ポリマー(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ノルボルネン系ポリマーなど)、ポリエステル系ポ
リマー(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレートなど)、ポリアリーレンサルファ
イド系ポリマー(例えば、ポリフェニレンサルファイド
など)、ポリビニルアルコール系ポリマー、ポリカーボ
ネート系ポリマー、ポリアリレート系ポリマー、セルロ
ースエステル系ポリマー(前記固有複屈折値が負である
ものもある)、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリ
スルホン系ポリマー、ポリアリルスルホン系ポリマー、
ポリ塩化ビニル系ポリマー、あるいはこれらの多元(二
元、三元等)共重合ポリマーなどが挙げられる。これら
は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用して
もよい。本発明においては、これらの中でも、変性ポリ
カーボネート等のポリカーボネート系、ノルボルネン
系、ポリエーテルスルホン系等のポリマーが、耐熱性、
透明性等の点で好ましい。
In the material having a positive intrinsic birefringence value, examples of the polymer having a positive intrinsic birefringence value include a polyolefin-based polymer (eg, polyethylene, polypropylene, norbornene-based polymer, etc.) and a polyester-based polymer (eg, polyethylene terephthalate). , Polybutylene terephthalate, etc.), polyarylene sulfide-based polymers (eg, polyphenylene sulfide, etc.), polyvinyl alcohol-based polymers, polycarbonate-based polymers, polyarylate-based polymers, cellulose ester-based polymers (the ones in which the intrinsic birefringence value is negative are also available. A), polyether sulfone polymer, polysulfone polymer, polyallyl sulfone polymer,
Examples thereof include polyvinyl chloride-based polymers, and multi-component (binary, ternary, etc.) copolymers thereof. These may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, among these, polycarbonate-based polymers such as modified polycarbonate, norbornene-based polymers, polyether sulfone-based polymers, etc.
It is preferable in terms of transparency.

【0077】前記棒状液晶としては、棒状のネマチック
配向を示す液晶が好適に挙げられ、低分子液晶であって
もよいし、高分子液晶であってもよい。前記低分子液晶
の具体例としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノ
ビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エ
ステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル
類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェ
ニルピリジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、ア
ルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類、などが好適
に挙げられる。
Suitable examples of the rod-shaped liquid crystal include a liquid crystal exhibiting a rod-shaped nematic orientation, and may be a low-molecular liquid crystal or a high-molecular liquid crystal. Specific examples of the low-molecular liquid crystal include azomethines, azoxys, cyanobiphenyls, cyanophenyl esters, benzoic acid esters, cyclohexanecarboxylic acid phenyl esters, cyanophenylcyclohexanes, cyano-substituted phenylpyridines, and phenyldioxane. Preferable examples thereof include tolanes, tolans, alkenylcyclohexylbenzonitriles, and the like.

【0078】−−固有複屈折値が負の材料−− 前記固有複屈折値が負の材料は、分子に一軸性の配向規
則を与えたときに、光学的に負の一軸性を示す特性を有
する材料であり、ポリマー、ディスコティック液晶、デ
ィスコティック液晶ポリマーなどがその例として挙げら
れる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以
上を併用してもよい。本発明においては、これらの中で
も固有複屈折値が負のポリマーが好ましい。
--- Material with Negative Intrinsic Birefringence Value --- The material with a negative intrinsic birefringence value has a characteristic of exhibiting optically negative uniaxiality when a uniaxial orientation rule is given to a molecule. Examples of the material include polymers such as polymers, discotic liquid crystals, and discotic liquid crystal polymers. These may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, among these, polymers having a negative intrinsic birefringence value are preferable.

【0079】前記固有複屈折値が負の材料において、前
記固有複屈折値が負のポリマーとしては、ポリスチレン
系ポリマー、ポリアクリロニトリル系ポリマー、ポリメ
チルメタクリレート系ポリマー、酢酸セルロース系等の
セルロースエステル系ポリマー(前記固有複屈折値が正
であるものもある)、あるいはこれらの多元(二元、三
元等)共重合ポリマーなどが挙げられる。これらは、1
種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよ
い。本発明においては、これらの中でも、複屈折の発現
性の点で、スチレン系ポリマー等が好ましく、特に耐熱
性の点で、スチレン及び無水マレイン酸の共重合体がよ
り好ましい。
In the material having a negative intrinsic birefringence value, examples of the polymer having a negative intrinsic birefringence value include polystyrene-based polymers, polyacrylonitrile-based polymers, polymethylmethacrylate-based polymers, and cellulose ester-based polymers such as cellulose acetate-based polymers. (Some of the above-mentioned intrinsic birefringence values are positive), or multi-component (binary, ternary, etc.) copolymers thereof. These are 1
They may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, among these, a styrene-based polymer or the like is preferable in terms of birefringence manifestation, and a copolymer of styrene and maleic anhydride is more preferable in terms of heat resistance.

【0080】前記固有複屈折値が正の材料及び負の材料
としては、波長分散が互いに大きく異なるのが好まし
く、また、前記レターデーション(Re)の発現性が共
に大きいのが好ましい。
It is preferable that the material having a positive intrinsic birefringence value and the material having a negative intrinsic birefringence value have greatly different wavelength dispersions from each other, and it is preferable that both the retardation (Re) are highly developable.

【0081】前記固有複屈折値が負で、レターデーショ
ン(Re)の発現性が大きい材料としては、スチレン系
素材が特に好適に挙げられる。スチレン系素材は波長分
散が大きいため、組み合わせる固有複屈折値が正の材料
としては、前記波長分散が小さい材料が好適に用いられ
る。前記波長分散が小さい材料としては、オレフィン
系、ポリビニルアルコール系、等のポリマーが挙げられ
るが、耐熱性、寸度安定性等の点から、ノルボルネン系
ポリマー等のシクロオレフィン系ポリマーが特に好適で
ある。
As a material having a negative intrinsic birefringence value and a large expression of retardation (Re), a styrene-based material is particularly preferable. Since the styrene-based material has a large wavelength dispersion, a material having a small wavelength dispersion is preferably used as a material having a positive intrinsic birefringence value to be combined. Examples of the material having a small wavelength dispersion include olefin-based and polyvinyl alcohol-based polymers, and cycloolefin-based polymers such as norbornene-based polymers are particularly preferable in terms of heat resistance and dimensional stability. .

【0082】−−その他の成分−− 前記位相差板に含有されるその他の成分としては、本発
明の効果を害しない限り特に制限はなく、目的に応じて
適宜選択することができ、例えば相溶化剤などが好適に
挙げられる。前記相溶化剤は、前記固有複屈折値が正の
材料と負の材料とを混合した際に相分離が生じてしまう
場合等に好適に使用することができ、該相溶化剤を使用
することによって、前記固有複屈折値が正の材料と負の
材料との混合状態を良好にすることができる。
--Other Components-- The other components contained in the retardation plate are not particularly limited as long as they do not impair the effects of the present invention, and can be appropriately selected according to the purpose. Suitable examples include solubilizers. The compatibilizer can be preferably used when phase separation occurs when a material having a positive intrinsic birefringence value and a material having a negative birefringence value are mixed, and the compatibilizer is used. This makes it possible to improve the mixed state of the material having a positive intrinsic birefringence value and the material having a negative intrinsic birefringence value.

【0083】−−第一の態様における位相差板の製造−
− 前記第一の態様における位相差板の製造方法としては、
特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ
る。例えば、前記固有複屈折値が正の材料と負の材料と
を、適宜選択し、配合比を決定し、必要により前記相溶
化剤等を添加し、これらを配合する。その後、この配合
物を溶液化して塗布し乾燥することにより成形する溶液
成膜法、あるいはペレット化し溶融押出しして成形する
押出成形法、等に従ってフィルム状乃至シート状等に成
形し、延伸によってレターデーション(Re)の値を前
記数値範囲内に制御して、位相差板が製造される。前記
延伸としては、機械的流れ方向に延伸する縦一軸延伸、
機械的流れ方向に直交する方向に延伸する横一軸延伸
(例えば、テンター延伸など)などが好適に挙げられる
が、若干であれば二軸延伸であってもよい。
--Production of Retardation Plate in First Embodiment--
-As the method for producing the retardation plate in the first aspect,
There is no particular limitation and it can be appropriately selected according to the purpose. For example, a material having a positive intrinsic birefringence value and a material having a negative intrinsic birefringence value are appropriately selected, the compounding ratio is determined, the compatibilizer and the like are added as necessary, and these are compounded. After that, the composition is formed into a film or sheet according to a solution film forming method in which the composition is applied and dried and then formed, or an extrusion forming method in which the mixture is pelletized, melt-extruded and formed, and the like and stretched to form a letter. The retardation plate is manufactured by controlling the value of the retardation (Re) within the above numerical range. The stretching, longitudinal uniaxial stretching to stretch in the mechanical flow direction,
Suitable examples include lateral uniaxial stretching (for example, tenter stretching) in which stretching is performed in a direction orthogonal to the mechanical flow direction, but biaxial stretching may be used as long as it is slight.

【0084】<<第二の態様>>第二の態様は、前記位
相差板が、固有複屈折値が正の材料からなる層及び負の
材料からなる層の積層体を含み、必要に応じてその他の
層を含む態様である。
<< Second Mode >> In the second mode, the retardation plate includes a laminate of a layer made of a material having a positive intrinsic birefringence value and a layer made of a material having a negative intrinsic birefringence value. And other layers.

【0085】前記積層体における、前記固有複屈折値が
正の材料及び負の材料としては、前記「第一の態様」で
既に述べたのと同様の材料がすべて好適に挙げられ、特
に好ましい材料についてもすべて同様である。前記その
他の層としては、前記固有複屈折値が正の材料からなる
層及び負の材料からなる層を良好に接着可能な接着層な
どが挙げられる。
As the material having a positive intrinsic birefringence value and the material having a negative birefringence value in the laminate, the same materials as those already described in the above-mentioned "first aspect" are preferably mentioned, and particularly preferable materials. Is the same for all. Examples of the other layer include an adhesive layer capable of favorably adhering the layer made of a material having a positive intrinsic birefringence value and the layer made of a negative material.

【0086】−−第二の態様における位相差板の製造−
− 第二の態様における位相差板の製造方法としては、特に
制限はないが、積層体の製造が容易となる点で、前記固
有複屈折値が正の材料及び負の材料を共押出しして形成
されるのが好ましい。前記共押出しにおいては、例え
ば、前記固有複屈折値が正のポリマー、負のポリマー、
及び、所望により接着層用のポリマーを、押出ダイ内部
に導き、該ダイ内部もしくはダイの開口部で各ポリマー
を接触させ、一体化させて積層体を形成することができ
る。
--Production of Retardation Plate in Second Mode--
-The method for producing the retardation plate in the second aspect is not particularly limited, but in that the laminate is easily produced, the intrinsic birefringence value is coextruded with a positive material and a negative material. It is preferably formed. In the co-extrusion, for example, the intrinsic birefringence value positive polymer, negative polymer,
And, if desired, the polymer for the adhesive layer may be introduced into the extrusion die, and the polymers may be brought into contact with each other inside the die or in the opening of the die to integrate them to form a laminate.

【0087】前記ダイとしては、特に制限はないが、T
ダイを好適に用いることができ、該Tダイの内部形状と
しては、特に制限はなく、種々の形状が挙げられる。所
望により、押し出された溶融状態の積層体を、複数のロ
ールに張架させ、該ロールの回転に追従させて移動させ
ることにより、積層体の厚みを所望の厚みに調整するこ
とができる。
The die is not particularly limited, but T
A die can be preferably used, and the internal shape of the T die is not particularly limited and various shapes can be mentioned. If desired, the extruded molten laminate may be stretched over a plurality of rolls and moved by following the rotation of the rolls to adjust the thickness of the laminate to a desired thickness.

【0088】図1は、前記共押出しに好適に用いられる
共押出装置の概略構成図である。共押出装置20は、押
出ダイ22、押出器24,26、及び、張架ロール2
8,30,32を有する。共押出装置20において、押
出器24及び押出器26内に格納された、固有複屈折値
が正のポリマー及び負のポリマーは、押出ダイ22内部
に導かれ、押出ダイ22の開口部で合流し、各ポリマー
が接触し一体化されて積層体34が形成される。尚、固
有複屈折値が正のポリマー及び負のポリマーの密着性が
悪い場合には、更に、接着層形成用の押出器を設けても
良い。形成された積層体34は、回転する張架ロール2
8,30,32により張架され、張架ロール28,3
0,32の回転に追従して移動し、所望の厚みに調整さ
れフィルム状乃至シート状に成形され、その正面のレタ
ーデーション(Re)の値が110〜165nmであれ
ばそのまま、前記数値範囲内にない場合には更に延伸す
ることにより、前記レターデーション(Re)の値を前
記数値範囲内に制御して、位相差板が製造される。前記
延伸としては、前記「第一の態様における位相差板の製
造」において述べた「延伸」と同様の延伸が好適に挙げ
られる。
FIG. 1 is a schematic block diagram of a coextrusion apparatus preferably used for the coextrusion. The co-extrusion device 20 includes an extrusion die 22, extruders 24 and 26, and a tension roll 2.
It has 8, 30, 32. In the co-extrusion device 20, the polymer having a positive intrinsic birefringence value and the polymer having a negative intrinsic birefringence value, which are stored in the extruder 24 and the extruder 26, are introduced into the extrusion die 22 and meet at the opening of the extrusion die 22. , The respective polymers are brought into contact with each other and integrated to form a laminated body 34. When the adhesion between the polymer having a positive intrinsic birefringence value and the polymer having a negative intrinsic birefringence value is poor, an extruder for forming an adhesive layer may be further provided. The formed laminated body 34 is a stretched roll 2 that rotates.
Stretched by 8, 30, 32 and stretched rolls 28, 3
If the retardation (Re) value on the front surface is 110 to 165 nm, it is within the above numerical range as it is. If it does not exist, the retardation (Re) value is controlled within the above numerical range by further stretching to produce a retardation plate. Preferable examples of the stretching include the same stretching as the “stretching” described in the above “Production of retardation plate in first embodiment”.

【0089】<<第三の態様>>第三の態様は、前記位
相差板が、固有複屈折値が正の部位及び負の部位を有す
る材料を含有し、必要に応じてその他の成分を含有する
態様である。
<< Third Aspect >> In the third aspect, the retardation plate contains a material having a positive intrinsic part and a negative intrinsic birefringence value, and if necessary, other components. It is an aspect to contain.

【0090】−−固有複屈折値が正の部位及び負の部位
を有する材料−− 前記固有複屈折値が正の部位及び負の部位を有する材料
としては、一軸性の配向規則を与えた場合に、正の一軸
性を示す鎖と負の一軸性を示す鎖とを有する共重合組成
物が好ましく、固有複屈折値が正のポリマーを構成する
単量体(モノマー)と、負のポリマーを構成する単量体
と、の共重合組成物等が特に好ましい。該共重合組成物
としては、特に制限はないが、主鎖と、該主鎖にグラフ
ト結合するグラフト鎖と、を有するグラフト共重合体が
好ましく、該主鎖が、前記固有複屈折値が正のポリマー
を構成する単量体からなる鎖であり、前記グラフト鎖
が、前記固有複屈折値が負のポリマーを構成する単量体
からなる鎖が特に好ましい。前記固有複屈折値が正のポ
リマー及び負のポリマーとしては、前記「第一の態様」
で既に述べたのと同様のポリマーがすべて好適に挙げら
れ、特に好ましいポリマー等についてもすべて同様であ
る。
--- Material having positive and negative portions of intrinsic birefringence value --- As the material having positive and negative portions of intrinsic birefringence value, when uniaxial orientation rule is given In addition, a copolymer composition having a chain exhibiting positive uniaxiality and a chain exhibiting negative uniaxiality is preferable, and a monomer constituting the polymer having a positive intrinsic birefringence value (monomer) and a negative polymer are A copolymer composition with the constituent monomers is particularly preferable. The copolymer composition is not particularly limited, but a graft copolymer having a main chain and a graft chain graft-bonded to the main chain is preferred, and the main chain has a positive intrinsic birefringence value. It is particularly preferable that the graft chain is a chain composed of a monomer constituting the polymer of 1. and the graft chain is a chain composed of a monomer constituting the polymer having a negative intrinsic birefringence value. As the polymer having a positive intrinsic birefringence value and the polymer having a negative birefringence value, the “first aspect” is used.
The same polymers as those already mentioned above are preferably mentioned, and particularly preferable polymers and the like are also the same.

【0091】前記グラフト共重合体の製造方法として
は、特に制限はなく、塊状重合、沈殿重合、乳化重合、
溶液重合、懸濁重合、などの公知の重合方法が好適に挙
げられる。これらの中でも、懸濁重合又は溶液重合が好
ましい。
The method for producing the graft copolymer is not particularly limited, and bulk polymerization, precipitation polymerization, emulsion polymerization,
Well-known polymerization methods such as solution polymerization and suspension polymerization are preferred. Among these, suspension polymerization or solution polymerization is preferable.

【0092】前記懸濁重合の手法としては、例えば「高
分子合成の実験法」(大津隆行、木下雅悦共著、化学同
人社)130頁及び146頁〜147頁に記載された方
法を参考にすることができる。
The suspension polymerization method is referred to, for example, the method described in “Experimental Method for Polymer Synthesis” (Takayuki Otsu, Masayoshi Kinoshita, Kagaku Dojinsha), pages 130 and 146 to 147. can do.

【0093】前記懸濁重合によると、前記グラフト共重
合体は、無機塩類及び/又は水溶性ポリマー分散剤の存
在下、水系の分散媒を用いて油溶性開始剤により開始さ
れた付加重合反応により、50μm以上の粒子として得
られる。
According to the suspension polymerization, the graft copolymer is obtained by an addition polymerization reaction initiated by an oil-soluble initiator using an aqueous dispersion medium in the presence of inorganic salts and / or a water-soluble polymer dispersant. , 50 μm or more.

【0094】前記無機塩類は、分散安定化、単量体等の
水溶化防止等の目的で用いられ、該無機塩類としては、
例えば、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化カルシウ
ム、塩化マグネシウム、塩化アンモニウム、硫酸カリウ
ム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸アンモニ
ウム、硫酸アルミニウムカリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、リン酸水素カルシウム、などが挙げられ
る。
The above-mentioned inorganic salts are used for the purpose of stabilizing dispersion and preventing water-solubilization of monomers and the like.
For example, sodium chloride, potassium chloride, calcium chloride, magnesium chloride, ammonium chloride, potassium sulfate, calcium sulfate, magnesium sulfate, ammonium sulfate, potassium aluminum sulfate, sodium carbonate, potassium carbonate, calcium hydrogen phosphate and the like can be mentioned.

【0095】前記水溶性ポリマー分散剤としては、例え
ば、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸ソーダ、ス
チレン−無水マレイン酸共重合体のアルカリ加水分解物
(例えばクラレ社製の「イソバン」)、アルギン酸ナト
リウム及び水溶性セルロース誘導体(三晶株式会社製の
「メイプロガット」、「ケルコSCS」、「クアーガ
ム」、ヘキストジャパン(株)製の「MH−K」)など
が挙げられる。
Examples of the water-soluble polymer dispersant include polyvinyl alcohol, sodium polyacrylate, an alkaline hydrolyzate of a styrene-maleic anhydride copolymer (for example, "isoban" manufactured by Kuraray Co., Ltd.), sodium alginate and water-soluble agents. Examples of the functional cellulose derivative (“Mayprogut”, “Kelco SCS”, “Quar gum” manufactured by Sansho Co., Ltd., “MH-K” manufactured by Hoechst Japan KK) and the like.

【0096】前記懸濁重合に用いる重合開始剤として
は、水不溶性でかつ油溶性の重合開始剤が好ましく、例
えば、アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリ
ル)、アゾビスイソブチロニトリル、2,2'−アゾビ
ス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2'−ア
ゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリ
ル)、2,2'−アゾビスイソ酪酸ジメチル、過酸化ベ
ンゾイル、過酸化ラウロイウル、過酸化−t−ブチル,
過酸化−t−アミル、過酸化クミル、t−ブチル過酸化
ベンゾエート、t−ブチル過酸化フェニルアセテート、
等が挙げられる。これらの中でも、過酸化物系の重合開
始剤が好ましい。
The polymerization initiator used in the suspension polymerization is preferably a water-insoluble and oil-soluble polymerization initiator, and examples thereof include azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), azobisisobutyronitrile, and 2,2. '-Azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), dimethyl 2,2'-azobisisobutyrate, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, Peroxide-t-butyl,
Peroxide-t-amyl, cumyl peroxide, t-butyl peroxide benzoate, t-butyl peroxide phenylacetate,
Etc. Among these, peroxide-based polymerization initiators are preferable.

【0097】グラフト重合の際の重合温度としては、グ
ラフト重合を行う単量体の種類、沸点、天井温度(重合
と解重合とが平衡に達する温度)等により異なり一概に
規定することはできないが、通常、0〜100℃であ
り、40〜90℃が好ましい。
The polymerization temperature at the time of the graft polymerization varies depending on the kind of the monomer to be graft-polymerized, the boiling point, the ceiling temperature (the temperature at which the polymerization and the depolymerization reach equilibrium), etc., but cannot be specified unconditionally. , Usually 0 to 100 ° C, preferably 40 to 90 ° C.

【0098】−−その他の成分−− 前記位相差板に含有されるその他の成分としては、前記
「第一の態様」で述べたのと同様のその他の成分が好適
に挙げられる。
--Other Components-- As the other components contained in the retardation plate, other components similar to those described in the above-mentioned "first embodiment" are preferably cited.

【0099】−−第三の態様における位相差板の製造−
− 前記第三の態様における位相差板の製造方法としては、
特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ
る。例えば、前記固有複屈折値が正の部位及び負の部位
を有する材料を適宜選択し、所望により相溶化剤等を添
加し、これらを配合する。そして、その後、この配合物
を、溶液化して塗布し乾燥することにより成形する溶液
成膜法、あるいはペレット化し溶融押出しして成形する
押出成形法、等に従ってフィルム状乃至シート状等に成
形され、その正面のレターデーション(Re)の値が、
110〜165nmであればそのまま、前記数値範囲内
にない場合には更に延伸することにより、前記レターデ
ーション(Re)の値を前記数値範囲内に制御して、位
相差板が製造される。
--Production of Retardation Plate in Third Mode--
-As the method for manufacturing the retardation plate in the third aspect,
There is no particular limitation and it can be appropriately selected according to the purpose. For example, a material having a positive portion and a negative portion having the intrinsic birefringence value is appropriately selected, and a compatibilizer or the like is added if desired, and these are blended. Then, thereafter, this composition is formed into a film or sheet according to a solution film-forming method of forming a solution by applying and drying, or an extrusion forming method of forming by pelletizing, melt-extruding, and the like, The value of the retardation (Re) in front of it is
If it is 110 nm to 165 nm, the retardation (Re) value is controlled within the above numerical range by further stretching if it is not within the above numerical range, and the retardation plate is manufactured.

【0100】前記延伸としては、前記「第一の態様にお
ける位相差板の製造」において述べた「延伸」と同様の
延伸が好適に挙げられる。
Suitable examples of the stretching include the same stretching as the “stretching” described in the above “Production of retardation plate in the first embodiment”.

【0101】<位相差板の物性>前記位相差板の光弾性
としては、20ブルースター以下が好ましく、5ブルー
スター以下がより好ましい。前記光弾性が、20ブルー
スターを超えると、位相差板に応力を印加した際の歪み
により複屈折が発現し、光の洩れ等により好ましくない
ことがある。
<Physical Properties of Retardation Plate> The photoelasticity of the retardation plate is preferably 20 Brewster or less, more preferably 5 Brewster or less. If the photoelasticity exceeds 20 Brewster, birefringence may occur due to strain when stress is applied to the retardation plate, which may be undesirable due to light leakage or the like.

【0102】前記位相差板の厚みとしては、特に制限は
ないが、30〜300μmが好ましく、50〜200μ
mがより好ましい。
The thickness of the retardation plate is not particularly limited, but is preferably 30 to 300 μm, and 50 to 200 μm.
m is more preferred.

【0103】〔その他の部材〕前記その他の部材として
は、ハードコート層、保護層、密着層、透明導電層、カ
ラーフィルター、等が挙げられる。
[Other Members] Examples of the other members include a hard coat layer, a protective layer, an adhesion layer, a transparent conductive layer, and a color filter.

【0104】前記ハードコート層、保護層、密着層の材
質としては、エポキシ樹脂、エポキシアクリレート、S
iO、SiO、Al、Si、Ti
、AlN、ZnO、ZnS、ZrO、SiC、S
i:O:N、Si:O:H、Si:N:H、Si:O:
N:H、等の公知の材質が好適に利用できる。前記ハー
ドコート層及び密着層は、前記ガスバリヤ層の上に配さ
れるのが好ましい。
Materials for the hard coat layer, the protective layer, and the adhesion layer are epoxy resin, epoxy acrylate, and S.
iO 2 , Si x O, Al 2 O 3 , Si 3 O 4 , Ti
O 2 , AlN, ZnO, ZnS, ZrO 2 , SiC, S
i: O: N, Si: O: H, Si: N: H, Si: O:
Known materials such as N: H can be preferably used. The hard coat layer and the adhesion layer are preferably disposed on the gas barrier layer.

【0105】前記透明導電層の材質としては、ITO
(酸化インジウムスズ)等の透明導電層の材質として公
知のものが挙げられる。該透明導電層は、前記ハードコ
ート層及び密着層の上に配されるのが好ましい。
The material of the transparent conductive layer is ITO.
Known materials can be used as the material of the transparent conductive layer such as (indium tin oxide). The transparent conductive layer is preferably provided on the hard coat layer and the adhesion layer.

【0106】前記カラーフィルターの材質としては、染
料系(染色:フォトリソ、染料分散:エッチング)、顔
料系(フォトリソ、エッチング、印刷、電着、蒸着)、
金属酸化物系、コレステリック液晶系、等のカラーフィ
ルターの材質として公知のものが挙げられる。該カラー
フィルターは、前記ハードコート層及び密着層等と、前
記透明導電層と、の間に配されるのが好ましい。
The material of the color filter includes dyes (dyeing: photolithography, dye dispersion: etching), pigments (photolithography, etching, printing, electrodeposition, vapor deposition),
Known materials can be used as the material of the color filter such as metal oxide type and cholesteric liquid crystal type. The color filter is preferably arranged between the hard coat layer, the adhesion layer and the like and the transparent conductive layer.

【0107】<表示装置用基板の構成等>本発明の表示
装置用基板の構成としては、ガスバリヤ性、強度及びカ
ール防止等の点で、前記位相差板の両方の面上に、前記
ガスバリヤ層を有するのが好ましい。また、本発明の表
示装置用基板を液晶表示装置に用いる場合、少なくと
も、液晶セルに接する側の面に、前記ガスバリヤ層を配
置するのが特に好ましい。
<Structure of Display Device Substrate> The display device substrate of the present invention has a gas barrier layer on both surfaces of the retardation plate in terms of gas barrier properties, strength, curl prevention and the like. Preferably. When the display device substrate of the present invention is used in a liquid crystal display device, it is particularly preferable to dispose the gas barrier layer on at least the surface in contact with the liquid crystal cell.

【0108】<表示装置用基板の用途等>以上述べた本
発明の表示装置用基板は、従来の広帯域1/4波長板等
及びガラス基板を、ガスバリヤ層を有する実質一枚のプ
ラスチック基板に置き換えることから、軽量化・薄型化
が容易で、衝撃に強く、平面性、ITO電極との密着
性、製造が容易で、更に、高湿下でのガスバリヤ性に優
れ、広帯域において高性能を示すため、種々の分野の表
示装置として利用可能な液晶表示装置に特に好適に用い
ることができる。
<Uses of Display Device Substrate> In the display device substrate of the present invention described above, the conventional broadband quarter-wave plate or the like and the glass substrate are replaced with a substantially single plastic substrate having a gas barrier layer. Therefore, it is easy to reduce the weight and thickness, is resistant to impact, is flat, has good adhesion to ITO electrodes, is easy to manufacture, and has an excellent gas barrier property under high humidity and exhibits high performance in a wide band. It can be particularly suitably used for a liquid crystal display device that can be used as a display device in various fields.

【0109】[0109]

【実施例】以下、実施例及び比較例を示し、本発明につ
いて更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例
に何ら限定されるものではない。
The present invention will be described in more detail below by showing Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

【0110】〔実施例1〕 −位相差板の作製− ノルボルネン樹脂(JSR社製;アートン「F」)(固
有複屈折値が正の材料)16質量部と、スチレン及び無
水マレイン酸の共重合体(積水化学社製;「ダイラーク
232」)(固有複屈折値が負の材料)11質量部と、
をトルエンに溶解し、塗布液(27質量%)を調製し
た。前記塗布液を、ガラス板上にドクターブレードを用
いて流延し、乾燥して透明フィルム(厚み:120μ
m)を得た。該透明フィルムを、125℃で35%一軸
延伸し位相差板を作製した。
Example 1-Preparation of Retardation Plate- 16 parts by mass of norbornene resin (manufactured by JSR; Arton "F") (material having a positive intrinsic birefringence value) and styrene and maleic anhydride are co-weighted. Combined (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd .; “Dailark 232”) (material having a negative intrinsic birefringence value) 11 parts by mass,
Was dissolved in toluene to prepare a coating liquid (27% by mass). The coating solution was cast on a glass plate using a doctor blade and dried to obtain a transparent film (thickness: 120 μm).
m) was obtained. The transparent film was uniaxially stretched at 125 ° C. by 35% to produce a retardation plate.

【0111】<波長分散等の測定>得られた位相差板に
ついて、レターデーション測定器(王子計測社製;「K
OBRA−21ADH」)を用いて、レターデーション
(Re)の波長分散を測定した。結果を図2に示す。
<Measurement of Wavelength Dispersion> Regarding the obtained retardation plate, a retardation measuring device (manufactured by Oji Scientific Co., Ltd .; “K”) was used.
OBRA-21ADH ") was used to measure the wavelength dispersion of the retardation (Re). The results are shown in Figure 2.

【0112】図2に示すように、実施例1における位相
差板は、波長450nm、550nm及び650nmに
おけるレターデーション(Re)値を各々Re(45
0)、Re(550)及びRe(650)としたとき、
Re(450)<Re(550)<Re(650)を満
たしており、広帯域で優れた1/4位相差板特性を有し
ていることがわかった。また、該位相差板の平均光透過
率は90%、ガラス転移点は155℃であった。
As shown in FIG. 2, in the retardation plate of Example 1, the retardation (Re) values at wavelengths of 450 nm, 550 nm and 650 nm were Re (45), respectively.
0), Re (550) and Re (650),
It was found that Re (450) <Re (550) <Re (650) was satisfied, and that it had excellent 1/4 retardation plate characteristics in a wide band. The average light transmittance of the retardation plate was 90%, and the glass transition point was 155 ° C.

【0113】−表示装置用基板の作製− 主剤;テトラエトキシシランSi(OEt)を質量で
5:1(溶媒)の比で水+メタノール+エタノール+イ
ソプロパノール(以下、HO+MeOH+EtOH+
i−PrOHのように表す)=1:1:1:4の割合か
らなる混合溶媒に混合し、この混合物に、さらに、トリ
エトキシボランB(OEt)を0.2モル/kgの割
合で添加して、10分間攪拌溶解して主剤を調製した。
触媒;ハロゲンイオン源として酸性沸化アンモニウムN
F・HFを用い、上記主剤と同一の混合溶媒との合
計質量に対するF濃度を0.1モル/kgとなるよう
に調製した。
-Preparation of substrate for display device-Main ingredient: Tetraethoxysilane Si (OEt) 4 in a mass ratio of 5: 1 (solvent) of water + methanol + ethanol + isopropanol (hereinafter, H 2 O + MeOH + EtOH +).
i-PrOH) = 1: 1: 1: 4, and mixed with triethoxyborane B (OEt) 3 at a rate of 0.2 mol / kg. The main ingredient was prepared by adding and stirring and dissolving for 10 minutes.
Catalyst; acidic ammonium fluoride N as a halogen ion source
It was prepared by using H 4 F.HF so that the F concentration was 0.1 mol / kg with respect to the total mass of the main solvent and the same mixed solvent.

【0114】上記のようにして調製した主剤と触媒とを
質量比3:1の割合で混合して10分間攪拌した後、塩
酸とアンモニア水を用いて、混合液のpHを5.0(指
示薬としてメチルレッド+ブロモクレゾールグリーンの
エタノール溶液を使用)に調整し、3時間熟成し加水分
解、脱水縮合させてコーティング剤とした。
After mixing the main agent and the catalyst prepared as described above in a mass ratio of 3: 1 and stirring for 10 minutes, hydrochloric acid and aqueous ammonia were used to adjust the pH of the mixed solution to 5.0 (indicator As an ethanol solution of methyl red + bromocresol green), and aged for 3 hours for hydrolysis and dehydration condensation to obtain a coating agent.

【0115】このコーティング剤を前記位相差板に10
μmの膜厚で塗布し、塗布フィルムを50〜70℃の温
度区間を注意して徐々に昇温して予備乾燥(溶媒揮散工
程)を行った後、120℃で30分間保持して焼成しガ
ラス化させて、実施例1の表示装置用基板を作製した。
This coating agent is applied to the retardation plate 10 times.
After coating with a film thickness of μm, the coating film is preliminarily dried (solvent volatilization step) by gradually raising the temperature in the temperature range of 50 to 70 ° C., and then baked at 120 ° C. for 30 minutes. It was vitrified to prepare a display device substrate of Example 1.

【0116】〔実施例2〕実施例1のコーティング剤に
対し、膨潤性合成雲母〔ME−100(コープケミカル
社製)〕を5質量%添加したコーティング剤を前記実施
例1の位相差板に10μmの膜厚で塗布し、塗布フィル
ムを50〜70℃の温度区間を注意して徐々に昇温して
予備乾燥(溶媒揮散工程)を行った後、120℃で30
分間保持して焼成しガラス化させて、実施例2の表示装
置用基板を作製した。
[Example 2] The retardation plate of Example 1 was prepared by adding 5% by mass of swelling synthetic mica [ME-100 (manufactured by Coop Chemical Co.)] to the coating agent of Example 1. After coating with a film thickness of 10 μm, the coating film is preliminarily dried by gradually raising the temperature in the temperature range of 50 to 70 ° C. (solvent volatilization step), and then at 120 ° C. for 30 minutes.
The substrate for display device of Example 2 was manufactured by holding for a minute and firing to vitrify.

【0117】〔実施例3〕実施例1のコーティング剤に
対し、膨潤性合成雲母〔ME−100(コープケミカル
社製)〕を10質量%添加したコーティング剤を前記実
施例1の位相差板に10μmの膜厚で塗布し、得られた
塗布フィルムを50〜70℃の温度区間を注意して徐々
に昇温して予備乾燥(溶媒揮散工程)を行った後、12
0℃で30分間保持して焼成しガラス化させて、実施例
3の表示装置用基板を作製した。
[Example 3] A coating agent prepared by adding 10% by mass of swelling synthetic mica [ME-100 (manufactured by Corp Chemical Co.)] to the coating agent of Example 1 was applied to the retardation plate of Example 1 described above. After coating with a film thickness of 10 μm, the coating film thus obtained is gradually heated in a temperature range of 50 to 70 ° C. to be preliminarily dried (solvent volatilization step), and then 12
The substrate for a display device of Example 3 was manufactured by holding at 0 ° C. for 30 minutes, firing and vitrifying.

【0118】〔実施例4〕実施例1のコーティング剤に
対し、膨潤性合成雲母〔ME−100(コープケミカル
社製)〕を20質量%添加したコーティング剤を前記実
施例1の位相差板に10μmの膜厚で塗布し、得られた
塗布フィルムを50〜70℃の温度区間を注意して徐々
に昇温して予備乾燥(溶媒揮散工程)を行った後、12
0℃で30分間保持して焼成しガラス化させて、実施例
4の表示装置用基板を作製した。
Example 4 A coating agent prepared by adding 20% by mass of swelling synthetic mica [ME-100 (manufactured by Cope Chemical Co.)] to the coating agent of Example 1 was applied to the retardation plate of Example 1 described above. After coating with a film thickness of 10 μm, the coating film thus obtained is gradually heated in a temperature range of 50 to 70 ° C. to be preliminarily dried (solvent volatilization step), and then 12
The substrate for display device of Example 4 was produced by holding at 0 ° C. for 30 minutes, firing and vitrifying.

【0119】〔実施例5〕実施例1のコーティング剤に
対し、膨潤性合成雲母〔ME−100(コープケミカル
社製)〕の表面を下記一般式で示される四級アンモニウ
ム塩で疎水化した疎水性合成雲母を5質量%添加したコ
ーティング剤を前記実施例1の位相差板に10μmの膜
厚で塗布し、得られた塗布フィルムを50〜70℃の温
度区間を注意して徐々に昇温して予備乾燥(溶媒揮散工
程)を行った後、120℃で30分間保持して焼成しガ
ラス化させて、実施例5の表示装置用基板を作製した。
Example 5 With respect to the coating agent of Example 1, the surface of swelling synthetic mica [ME-100 (manufactured by Corp Chemical)] was hydrophobized with a quaternary ammonium salt represented by the following general formula. A coating agent containing 5% by mass of synthetic mica was applied to the retardation plate of Example 1 to have a film thickness of 10 μm, and the obtained coated film was gradually heated while paying attention to a temperature range of 50 to 70 ° C. After preliminary drying (solvent volatilization step), the substrate for display device of Example 5 was manufactured by holding at 120 ° C. for 30 minutes and baking to vitrify.

【0120】[0120]

【化2】 (但し、n=25、X=Clを表す)[Chemical 2] (However, n = 25 and X = Cl are represented.)

【0121】〔実施例6〕実施例1のコーティング剤に
対し、膨潤性合成雲母〔ME−100(コープケミカル
社製)〕の表面を実施例5と同様の四級アンモニウム塩
で疎水化した疎水性合成雲母を10質量%添加したコー
ティング剤を前記実施例1の位相差板に10μmの膜厚
で塗布し、得られた塗布フィルムを50〜70℃の温度
区間を注意して徐々に昇温して予備乾燥(溶媒揮散工
程)を行った後、120℃で30分間保持して焼成しガ
ラス化させて、実施例6の表示装置用基板を作製した。
[Example 6] The surface of swelling synthetic mica [ME-100 (manufactured by Coop Chemical Co.)] with respect to the coating agent of Example 1 was hydrophobized with the same quaternary ammonium salt as in Example 5. A coating agent containing 10% by mass of synthetic mica was applied to the retardation film of Example 1 to a film thickness of 10 μm, and the obtained coating film was gradually heated while paying attention to the temperature range of 50 to 70 ° C. Then, preliminary drying (solvent volatilization step) was performed, and then the glass substrate was held at 120 ° C. for 30 minutes to be baked and vitrified, whereby a display device substrate of Example 6 was manufactured.

【0122】〔実施例7〕実施例1のコーティング剤に
対し、膨潤性合成雲母〔ME−100(コープケミカル
社製)〕の表面を実施例5と同様の四級アンモニウム塩
で疎水化した疎水性合成雲母を20質量%添加したコー
ティング剤を前記実施例1の位相差板に10μmの膜厚
で塗布し、得られた塗布フィルムを50〜70℃の温度
区間を注意して徐々に昇温して予備乾燥(溶媒揮散工
程)を行った後、120℃で30分間保持して焼成しガ
ラス化させて、実施例7の表示装置用基板を作製した。
[Example 7] The surface of swelling synthetic mica [ME-100 (manufactured by Coop Chemical Co.)] with respect to the coating agent of Example 1 was hydrophobized with the same quaternary ammonium salt as in Example 5. A coating agent containing 20% by mass of synthetic mica was applied to the retardation plate of Example 1 to have a film thickness of 10 μm, and the obtained coated film was gradually heated while paying attention to a temperature range of 50 to 70 ° C. Then, preliminary drying (solvent volatilization step) was performed, and then the glass substrate was held at 120 ° C. for 30 minutes to be baked and vitrified, whereby a display device substrate of Example 7 was manufactured.

【0123】〔比較例1〕前記実施例1の位相差板に、
ポリビニルアルコールで厚さ10μmのガスバリヤ層を
形成し、比較例1の表示装置用基板を作製した。
[Comparative Example 1] In the retardation plate of Example 1,
A gas barrier layer having a thickness of 10 μm was formed from polyvinyl alcohol to prepare a display device substrate of Comparative Example 1.

【0124】得られた実施例1〜7及び比較例1の表示
装置用基板について、下記方法により酸素透過率及び透
湿率を測定した。結果を表1に示す。
With respect to the obtained display device substrates of Examples 1 to 7 and Comparative Example 1, the oxygen permeability and moisture permeability were measured by the following methods. The results are shown in Table 1.

【0125】<酸素透過率の測定>得られた表示装置用
基板について、ガス透過率測定装置(モコン社製)によ
り温度40℃、湿度90%下での酸素透過率を求めた。
<Measurement of Oxygen Permeability> With respect to the obtained display device substrate, the oxygen permeability at a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% was determined by a gas permeability measuring device (manufactured by Mocon).

【0126】<透湿率の測定>得られた表示装置用基板
について、LYSSY社製 L80により透湿率を求め
た。
<Measurement of Moisture Permeability> The moisture permeability of the obtained display device substrate was determined by L80 manufactured by LYSSY.

【0127】[0127]

【表1】 [Table 1]

【0128】[0128]

【発明の効果】本発明によれば、軽量化・薄型化が容易
で、衝撃に強く、平面性、ITO電極との密着性に優
れ、製造が容易であると共に、高湿度下でのガスバリヤ
性に優れ、広帯域において高性能を示す表示装置用基板
を提供することができる。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, it is easy to reduce the weight and thickness, is resistant to impacts, has excellent flatness and adhesion to ITO electrodes, is easy to manufacture, and has a gas barrier property under high humidity. It is possible to provide a substrate for a display device which is excellent and has high performance in a wide band.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、共押出しに好適に用いられる共押出装
置の概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a co-extrusion device suitably used for co-extrusion.

【図2】図2は、実施例1において得られた表示装置用
基板について、レターデーション測定器を用いて、レタ
ーデーション(Re)の波長分散を測定した結果を示す
図である。
FIG. 2 is a diagram showing the results of measuring the wavelength dispersion of retardation (Re) with respect to the display device substrate obtained in Example 1, using a retardation measuring device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20 共押出装置 22 押出ダイ 24 押出器 26 押出器 28 張架ロール 30 張架ロール 32 張架ロール 20 Coextrusion equipment 22 Extrusion die 24 extruder 26 Extruder 28 tension roll 30 tension roll 32 tension roll

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02B 1/10 G02B 5/30 5C094 5/30 G09F 9/30 310 G09F 9/30 310 G02B 1/10 Z (72)発明者 荒川 公平 静岡県富士宮市大中里200番地 富士写真 フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H049 BA06 BA42 BB62 BC09 2H090 JA06 JB03 JB13 JC07 JD01 JD11 LA06 2K009 AA15 CC02 CC03 CC06 CC42 CC45 EE00 4F006 AA02 AA11 AA12 AA15 AA17 AA19 AA22 AA35 AA36 AA40 AB64 AB67 AB74 AB76 BA05 CA05 CA08 EA01 4J002 AB02W AB02X BB01W BB03W BB12W BC02X BD03W BE02W BG05X BG10X CF05W CF06W CF07W CG00W CN01W CN03W GP00 GQ00 5C094 AA15 AA38 AA43 BA43 DA13 EB02 ED14 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G02B 1/10 G02B 5/30 5C094 5/30 G09F 9/30 310 G09F 9/30 310 G02B 1/10 Z (72) Inventor Kohei Arakawa 200 Onakazato, Fujinomiya-shi, Shizuoka Fuji Photo Film Co., Ltd. F-term (reference) 2H049 BA06 BA42 BB62 BC09 2H090 JA06 JB03 JB13 JC07 JD01 JD11 LA06 2K009 AA15 CC02 CC03 CC06 CC42 CC45 EE00 4F006A02 AA12 AA15 AA17 AA19 AA22 AA35 AA36 AA40 AB64.

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 波長400〜700nmにおける平均光
透過率が70%以上、ガラス転移点が100℃以上、か
つ、波長450nm、550nm及び650nmにおけ
るレターデーション値をそれぞれRe(450)、Re
(550)及びRe(650)としたとき、Re(45
0)<Re(550)<Re(650)を満たす位相差
板と、ゾルゲル法による単一又は多成分系金属酸化物ガ
ラスのガスバリヤ層と、を有することを特徴とする表示
装置用基板。
1. An average light transmittance at a wavelength of 400 to 700 nm is 70% or more, a glass transition point is 100 ° C. or more, and retardation values at wavelengths of 450 nm, 550 nm and 650 nm are Re (450) and Re, respectively.
(550) and Re (650), Re (45
0) <Re (550) <Re (650), and a gas barrier layer of a single or multi-component metal oxide glass by a sol-gel method.
【請求項2】 波長400〜700nmにおける平均光
透過率が70%以上、ガラス転移点が100℃以上、か
つ、波長450nm、550nm及び650nmにおけ
るレターデーション値をそれぞれRe(450)、Re
(550)及びRe(650)としたとき、Re(45
0)<Re(550)<Re(650)を満たす位相差
板と、無機層状化合物及び単一又は多成分系金属酸化物
ガラスを含むガスバリヤ層と、を有することを特徴とす
る表示装置用基板。
2. The average light transmittance at a wavelength of 400 to 700 nm is 70% or more, the glass transition point is 100 ° C. or more, and the retardation values at wavelengths of 450 nm, 550 nm and 650 nm are Re (450) and Re, respectively.
(550) and Re (650), Re (45
0) <Re (550) <Re (650), and a gas barrier layer containing an inorganic layered compound and a single or multi-component metal oxide glass. .
【請求項3】 位相差板が、固有複屈折値が正の材料及
び負の材料を含有する請求項1又は2記載の表示装置用
基板。
3. The display device substrate according to claim 1, wherein the retardation plate contains a material having a positive intrinsic birefringence value and a material having a negative intrinsic birefringence value.
【請求項4】 固有複屈折値が正の材料及び負の材料
が、ポリマーである請求項3記載の表示装置用基板。
4. The display device substrate according to claim 3, wherein the material having a positive intrinsic birefringence value and the material having a negative intrinsic birefringence value are polymers.
【請求項5】 位相差板の、波長450nm、550n
m及び650nmにおけるレターデーション(Re)/
波長(λ)の値が、0.2〜0.3である請求項1乃至
4のいずれか1項記載の表示装置用基板。
5. The wavelength of the retardation plate is 450 nm and 550 n.
Retardation (Re) at m and 650 nm
The display device substrate according to claim 1, wherein the value of the wavelength (λ) is 0.2 to 0.3.
【請求項6】 無機層状化合物が、合成雲母である請求
項1乃至5のいずれか1項記載の表示装置用基板。
6. The substrate for a display device according to claim 1, wherein the inorganic layered compound is synthetic mica.
【請求項7】 無機層状化合物のアスペクト比が、20
以上である請求項1乃至6のいずれか1項記載の表示装
置用基板。
7. The aspect ratio of the inorganic layered compound is 20.
The substrate for a display device according to claim 1, which is the above.
【請求項8】 無機層状化合物のアスペクト比が、10
0以上である請求項1乃至7のいずれか1項記載の表示
装置用基板。
8. The aspect ratio of the inorganic layered compound is 10.
The display device substrate according to any one of claims 1 to 7, which is 0 or more.
【請求項9】 無機層状化合物が、疎水性基を有する三
級又は四級塩化合物により疎水化されたものである請求
項1乃至8のいずれか1項記載の表示装置用基板。
9. The substrate for a display device according to claim 1, wherein the inorganic layered compound is hydrophobized with a tertiary or quaternary salt compound having a hydrophobic group.
【請求項10】 ガスバリヤ層の酸素透過率(温度40
℃、湿度90%)が、0.5ml/m・atm・da
y以下である請求項1乃至9のいずれか1項記載の表示
装置用基板。
10. The oxygen permeability of the gas barrier layer (temperature 40
℃, humidity 90%), 0.5 ml / m 2 · atm · da
The display device substrate according to any one of claims 1 to 9, which is y or less.
【請求項11】 ガスバリヤ層の上に、ハードコート層
及び密着層の少なくともいずれかを有する請求項1乃至
10のいずれか1項記載の表示装置用基板。
11. The display device substrate according to claim 1, further comprising at least one of a hard coat layer and an adhesion layer on the gas barrier layer.
【請求項12】 ハードコート層及び密着層の少なくと
もいずれかの上に、透明導電層を有する請求項11記載
の表示装置用基板。
12. The display device substrate according to claim 11, further comprising a transparent conductive layer on at least one of the hard coat layer and the adhesion layer.
【請求項13】 ハードコート層及び密着層の少なくと
もいずれかと、透明導電層と、の間にカラーフィルター
を有する請求項12記載の表示装置用基板。
13. The display device substrate according to claim 12, further comprising a color filter between at least one of the hard coat layer and the adhesion layer and the transparent conductive layer.
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