JP2003015146A - Liquid crystal display device - Google Patents
Liquid crystal display deviceInfo
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- JP2003015146A JP2003015146A JP2001203418A JP2001203418A JP2003015146A JP 2003015146 A JP2003015146 A JP 2003015146A JP 2001203418 A JP2001203418 A JP 2001203418A JP 2001203418 A JP2001203418 A JP 2001203418A JP 2003015146 A JP2003015146 A JP 2003015146A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はアクティブマトリク
ス型の液晶表示装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an active matrix type liquid crystal display device.
【0002】[0002]
【従来の技術】液晶、表示表示素子は、例えば、ガラス
などの2枚の透明な絶縁基板を所定の間隔を設けて配置
し、その隙間に液晶を注入して構成されている。ガラス
基板と液晶層の間には配向膜と呼ばれる高分子薄膜が配
置され、液晶分子を配列させるために配向処理が施され
ている。2. Description of the Related Art A liquid crystal display device is constructed, for example, by arranging two transparent insulating substrates of glass or the like at a predetermined interval and injecting the liquid crystal into the space. A polymer thin film called an alignment film is arranged between the glass substrate and the liquid crystal layer, and an alignment treatment is performed to align the liquid crystal molecules.
【0003】また、液晶表示素子は、その駆動方法から
単純マトリクス型とアクティブマトリクス型の大きく2
つに分類される。この2つのうち、特に表示品位の点
で、アクティブマトリクス型が注目されており、現在の
液晶表示装置では、その代表格である薄膜トランジスタ
(TFT:Thin Film Transistor)
を用いた駆動が主流である。Liquid crystal display elements are classified into a simple matrix type and an active matrix type, depending on the driving method.
Classified into one. Of these two, the active matrix type is drawing attention especially in terms of display quality, and in the current liquid crystal display device, a typical example thereof is a thin film transistor (TFT).
Drive using is the mainstream.
【0004】TFT駆動型液晶表示装置では、液晶表示
素子を構成する一方のガラス基板上に、そのX方向に延
在し、かつ、Y方向に並設される走査配線群と、この走
査配線群と絶縁されてY方向に延在し、X方向に並設さ
れる信号配線群とが形成されており、これら走査配線群
と信号配線群とで囲まれた各領域がそれぞれ画素領域と
なり、この画素領域に能動素子としてTFTが形成され
ている。走査配線に走査信号が供給されるとTFTはオ
ン状態となり、TFTを介して信号配線からの映像信号
が画素電極に供給される。これにより各画素は直接的に
駆動される。なお、各走査配線、信号配線はそれぞれ基
板の周辺部まで延在されて外部端子を構成し、それぞれ
を駆動するための駆動ICが基板の周辺に外付けされる
ようになっている。In the TFT drive type liquid crystal display device, a scanning wiring group extending in the X direction and arranged in parallel in the Y direction on one glass substrate constituting the liquid crystal display element, and this scanning wiring group. Signal wiring groups that are insulated from each other and extend in the Y direction and are arranged in parallel in the X direction are formed. Each region surrounded by the scanning wiring group and the signal wiring group serves as a pixel region. A TFT is formed as an active element in the pixel area. When the scanning signal is supplied to the scanning wiring, the TFT is turned on, and the video signal from the signal wiring is supplied to the pixel electrode through the TFT. As a result, each pixel is directly driven. The scanning wirings and the signal wirings extend to the peripheral portion of the substrate to form external terminals, and a driving IC for driving each of them is externally attached to the periphery of the substrate.
【0005】駆動ICの実装方法としては、主にTCP
実装とFCA実装(またはCOG実装)がある。TCP
実装では駆動ICを薄いポリイミド製のフレキシブルテ
ープにテープオートメイテッドボンディング法(TA
B)を用いて実装されたテープキャリアパッケージ(T
CP)を、異方性導電膜(ACF)により液晶表示素子
に接続している。このような実装法では柔らかいフレキ
シブルテープの寸法安定性が悪いために結線の精度が出
しにくく、細密ピッチ化には非常に不適である。TCP is mainly used as a mounting method of the driving IC.
There are implementation and FCA implementation (or COG implementation). TCP
In mounting, the drive IC is mounted on a thin polyimide flexible tape using the tape automated bonding method (TA
Tape carrier package (T
CP) is connected to the liquid crystal display element by an anisotropic conductive film (ACF). In such a mounting method, since the soft flexible tape has poor dimensional stability, it is difficult to obtain the connection accuracy, and it is extremely unsuitable for a fine pitch.
【0006】さらに、駆動ICに必要な液晶表示データ
や液晶用タイミング信号を形成し、各駆動ICへ伝達す
る周辺回路をプリント基板に配線してテープキャリアパ
ッケージ(TCP)の周辺に配置し、テープキャリアパ
ッケージ(TCP)と接続をとることによって液晶表示
装置を構成している。そのために液晶表示装置の表示領
域外(いわゆる額縁)の占める面積が大きくなってしま
う。なお、現在実用化されている技術では、TCP実装
は約130ppiが限度であるとされている。Further, peripheral circuits for forming liquid crystal display data and liquid crystal timing signals necessary for the drive ICs and transmitting them to the respective drive ICs are wired on a printed circuit board and arranged around the tape carrier package (TCP) to form a tape. A liquid crystal display device is configured by connecting to a carrier package (TCP). Therefore, the area occupied by the outside of the display area (so-called frame) of the liquid crystal display device becomes large. It should be noted that in the technology currently put into practical use, TCP mounting is limited to about 130 ppi.
【0007】一方、FCA実装ではTCP部品を使用せ
ずに駆動ICを液晶表示素子の基板上に直接搭載する方
法であり、細密なピッチにも対応できること、また、狭
額縁にできることが特長である。On the other hand, the FCA mounting is a method in which the driving IC is directly mounted on the substrate of the liquid crystal display element without using a TCP component, and is characterized in that it can cope with a fine pitch and can have a narrow frame. .
【0008】現在FCA実装により駆動ICを液晶表示
素子の基板上に直接結線する場合には、まず液晶表示素
子の基板上で駆動ICを接着する部位にACF(異方性
導電膜)を塗布し、その後、液晶表示素子の電極パター
ンと駆動ICの電極パターンのアライメントを行う。そ
して、圧着ツールにより駆動IC側より押し当て、高
温,高圧の条件で本圧着する。通常、本圧着時の温度は
170℃程度である。Currently, in the case of directly connecting a drive IC to a substrate of a liquid crystal display element by FCA mounting, first, ACF (anisotropic conductive film) is applied to a portion of the substrate of the liquid crystal display element where the drive IC is bonded. After that, the electrode pattern of the liquid crystal display element and the electrode pattern of the drive IC are aligned. Then, it is pressed from the side of the driving IC with a crimping tool, and the main crimping is performed under conditions of high temperature and high pressure. Usually, the temperature at the time of main pressure bonding is about 170 ° C.
【0009】ここでACFは球状のポリマの表面が金で
覆われており、さらにその上に絶縁膜がコーティングさ
れている。圧着によって、この球状ポリマが押し潰さ
れ、駆動ICの電極と液晶表示素子の電極は金を介して
導通する。他方、この球状ポリマの最表面は絶縁層でコ
ーティングされているために、ポリマ同士が導通するこ
とはない。Here, in the ACF, the surface of a spherical polymer is covered with gold, and an insulating film is further coated thereon. The spherical polymer is crushed by pressure bonding, and the electrodes of the drive IC and the electrodes of the liquid crystal display element are electrically connected via gold. On the other hand, since the outermost surface of this spherical polymer is coated with an insulating layer, the polymers do not conduct with each other.
【0010】このような液晶表示装置は軽量・薄型・低
消費電力と云った特長を活かし、時計、電卓、携帯電話
からノート型パソコンなど多くの製品に用いられてい
る。また、CRTに代わりデスクトップ型パソコンモニ
タや、さらにはテレビへの用途も拡大している。こうし
た状況の中で、今後の液晶表示装置への要求は多々ある
が、主に3つの項目が今後の液晶表示装置には特に重要
である。即ち、高精細(高解像度)、高画質(広視野
角、色再現性、高コントラスト比)、高開口率である。
以下、これら3項目についてその必要性を説明する。Such a liquid crystal display device is used in many products such as watches, calculators, mobile phones, notebook computers and the like by taking advantage of its features such as light weight, thin shape and low power consumption. In addition, applications for desktop personal computer monitors instead of CRTs, and even televisions are expanding. Under such circumstances, there are many demands for liquid crystal display devices in the future, but mainly three items are particularly important for future liquid crystal display devices. That is, high definition (high resolution), high image quality (wide viewing angle, color reproducibility, high contrast ratio) and high aperture ratio.
The necessity of these three items will be described below.
【0011】(1)高精細(高解像度)
現在市場に供給されている液晶表示装置のほとんどは1
インチ当たり80〜100画素、即ち、80〜100p
piの精細度である。ここでppiは精細度の単位であ
り、1インチ当たりの画素数を示す。一部、ノート型パ
ソコン用の液晶表示装置では、15インチUXGA(1
600×1200画素)の130ppiまで進み、また
モニタ向けでは19〜20インチのUXGA(100p
pi程度)が相次いで開発されている。(1) High definition (high resolution) Most of the liquid crystal display devices currently on the market are
80-100 pixels per inch, ie 80-100p
This is the definition of pi. Here, ppi is a unit of definition and indicates the number of pixels per inch. In some LCDs for laptop computers, 15 inch UXGA (1
Proceeds up to 130 ppi (600 x 1200 pixels), and 19-20 inch UXGA (100p for monitor)
pi) are being developed one after another.
【0012】しかしながら、美術鑑賞用ディスプレイ、
さらにはレントゲン写真を表示したり、術中に内視鏡で
の画像をモニタに表示したいと云う医療業界の要求や、
特に印刷業界で要求されている写真画質並の表示を考え
ると、さらなる精細度が必要となってくる。但し、画質
は画面と人間の視点との距離によって決まるために、必
要とされる精細度は画面の大きさによって異なる。However, an art appreciation display,
Furthermore, the demand of the medical industry that wants to display radiographs and images of the endoscope during surgery on the monitor,
In particular, when considering the display of a photo quality comparable to that required in the printing industry, further definition is required. However, since the image quality is determined by the distance between the screen and the human's viewpoint, the required definition depends on the size of the screen.
【0013】例えば、人間が画面を見た場合に、一つ一
つの画素を認識できない精細度を写真画質とすると、1
5インチモニタではおおよそ140ppi以上必要とさ
れている(フラットパネルディスプレイ2000、日経
BP社)。また、近年IBMより200ppiと云う高
精細液晶表示装置(20.8インチ)が試作されてい
る。200ppiは人間の目が45cmの距離で物を見
る場合の最高分解能に相当する。[0013] For example, when a person is looking at the screen and the degree of definition in which each pixel cannot be recognized is photographic image quality, 1
A 5-inch monitor requires about 140 ppi or more (flat panel display 2000, Nikkei BP). Further, in recent years, a high-definition liquid crystal display device (20.8 inches) called 200 ppi has been prototyped from IBM. 200 ppi corresponds to the maximum resolution when the human eye sees an object at a distance of 45 cm.
【0014】(2)高画質(広視野角、色再現性、高コ
ントラスト比)
画質についても精細度同様、医療用や美術鑑賞用、さら
にはインターネット商品閲覧を考えれば高画質化が必要
である。ここで云う高画質とは、高コントラスト比、色
再現性、広視野角などである。現在、株式会社日立製作
所で量産されているS−IPSでは、コントラスト比3
50:1、視野角170度(上下共にコントラスト比1
0:1以上)、またNTSC比で60%以上の高色純度
を達成しており、静止画最高峰の画質と云われている
が、少なくともこれと同等の画質が必要である。(2) High image quality (wide viewing angle, color reproducibility, high contrast ratio) Similarly to the definition, the image quality needs to be improved for medical purposes, art appreciation, and Internet product browsing. . The high image quality referred to here is a high contrast ratio, color reproducibility, a wide viewing angle, and the like. Currently, the S-IPS mass-produced by Hitachi, Ltd. has a contrast ratio of 3
50: 1, 170 ° viewing angle (contrast ratio 1 at the top and bottom
It has a high color purity of 60% or more in the NTSC ratio and is said to have the highest image quality of still images, but at least an image quality equivalent to this is required.
【0015】(3)高開口率
今後の高精細化が進めば、画素ピッチが狭くなってく
る。例えば、140ppiでは画素ピッチはおよそ20
0μmである。このような微小領域の中に、必要な配線
や電極を配置すると、当然、光の透過できる領域は小さ
くなり、開口率が低下してくる。開口率の低下は、直接
的に輝度の低下に関係する大きな問題である。(3) High aperture ratio The pixel pitch will become narrower as the definition becomes higher in the future. For example, at 140 ppi, the pixel pitch is about 20.
It is 0 μm. If necessary wirings and electrodes are arranged in such a minute area, the area through which light can pass is naturally reduced and the aperture ratio is lowered. The decrease in aperture ratio is a major problem directly related to the decrease in brightness.
【0016】この開口率低下による輝度の低下をバック
ライトにより補償するには、消費電力が大きくならざる
を得ない。開口率の低下は消費電力にも大きく影響する
因子である。やはり、輝度や消費電力を考えると、高開
口率化が必要となる。In order to compensate the decrease in brightness due to the decrease in aperture ratio with the backlight, power consumption must be increased. The decrease in aperture ratio is a factor that also greatly affects power consumption. Again, considering the brightness and power consumption, it is necessary to increase the aperture ratio.
【0017】今後の液晶ディスプレイを考えれば、前記
の3項目は非常に重要なものである。そこで、これらの
項目に着目し、従来の液晶表示装置についてまとめた。
表1には、各従来技術における各項目の達成度を示し
た。達成度の高いものを○、達成度の低いものあるいは
達成できないものを×、また条件付で達成できるものを
△として示した。以下に各技術についての詳細を述べる
が、この表から現状では3項目を全て、かつ、同時に満
足する技術はないことが分かる。Considering future liquid crystal displays, the above three items are very important. Therefore, focusing on these items, the conventional liquid crystal display device is summarized.
Table 1 shows the degree of achievement of each item in each conventional technique. The ones with high achievement are indicated by ◯, those with low achievement or those not achieved are indicated by x, and those attainable with conditions are indicated by Δ. The details of each technology will be described below, but from this table, it is clear that no technology currently satisfies all three items at the same time.
【0018】[0018]
【表1】
上記のようなTFT駆動型液晶表示装置の代表的なもの
にTN方式の液晶表示装置がある。TN方式液晶表示装
置では、液晶層を挟む2枚の基板の内側に、画素のほぼ
一面を覆うように電極が配置され、これら電極により基
板に垂直な方向に電界を印加することによって、予め基
板内で90度ねじれて配向している液晶分子を駆動し光
をスイッチする。また、偏光板は、その液晶表示素子の
上下基板の外面にクロスニコル配置し、かつ、ノーマリ
ーオープンになるよう配置されている。即ち、電圧無印
加時に白表示となり、電圧印加時に黒表示となる。[Table 1] A typical example of the above TFT driving type liquid crystal display device is a TN type liquid crystal display device. In a TN mode liquid crystal display device, electrodes are arranged inside two substrates sandwiching a liquid crystal layer so as to cover almost one surface of a pixel, and by applying an electric field in a direction perpendicular to the substrates by these electrodes, the substrates are preliminarily obtained. The light is switched by driving the liquid crystal molecules which are twisted and twisted by 90 degrees inside. Further, the polarizing plates are arranged in a crossed Nicol pattern on the outer surfaces of the upper and lower substrates of the liquid crystal display element and are arranged so as to be normally open. That is, white display is performed when no voltage is applied, and black display is performed when a voltage is applied.
【0019】このようなTN方式の液晶表示装置は主に
ノート型パソコンに用いられており、液晶表示素子とバ
ックライトなどの照明光源や、その他の光学素子と共に
一体化した液晶表示モジュールの外形寸法を小さくした
いと云う要求から、TCP部品を使用せず、駆動ICを
液晶表示素子の一方の基板に直接搭載するFCA方式
(またはCOG方式)が採用されている。FCA方式を
採用している場合には、上述したように細密ピッチにも
対応できることから液晶表示素子の高精細化にも対応可
能である。また、画素領域をほぼ一面覆う画素電極およ
びその対向電極がITOなどの透明導電膜により形成さ
れていることから高開口率をも達成できる。Such a TN type liquid crystal display device is mainly used for a notebook type personal computer, and an external dimension of a liquid crystal display module integrated with a liquid crystal display element, an illumination light source such as a backlight, and other optical elements. In order to reduce the size, the FCA method (or COG method) in which the driving IC is directly mounted on one substrate of the liquid crystal display element is adopted without using TCP parts. When the FCA method is adopted, it is possible to deal with the fine pitch as described above, so that it is possible to deal with the high definition of the liquid crystal display element. In addition, since the pixel electrode covering almost the entire surface of the pixel region and its counter electrode are formed of a transparent conductive film such as ITO, a high aperture ratio can be achieved.
【0020】しかしながら、TN方式液晶表示装置で
は、基板に垂直な方向の電界(縦電界)により、液晶分
子を基板に垂直に立たせることによって画像を表示して
いるために、画面の見る角度によって画質が異なる、即
ち、視野角が狭いと云う課題がある。また、電圧を印加
することによって黒色を表示するためにその黒レベルが
悪く、コントラスト比は200程度とそれほど高くな
い。However, in the TN type liquid crystal display device, since an image is displayed by vertically standing the liquid crystal molecules on the substrate by an electric field (longitudinal electric field) in the direction perpendicular to the substrate, the image is displayed depending on the viewing angle of the screen. There is a problem that the image quality is different, that is, the viewing angle is narrow. Further, since black is displayed by applying a voltage, the black level is poor, and the contrast ratio is not so high as about 200.
【0021】TN方式の視野角や色再現性の問題を解決
するために、櫛歯電極を用いて、発生する電界が基板面
にほぼ平行な成分を有するようにして、液晶分子を基板
面にほぼ平行な面内で回転させ、液晶の複屈折性を利用
して表示を行うIPS方式が、特公昭63−21907
号、USP4,345,249号公報などにより開示され
ている。In order to solve the problems of the viewing angle and color reproducibility of the TN system, a comb-teeth electrode is used so that the generated electric field has a component that is substantially parallel to the substrate surface, and liquid crystal molecules are deposited on the substrate surface. An IPS method in which a display is made by utilizing the birefringence of a liquid crystal by rotating in a substantially parallel plane is Japanese Patent Publication No. 63-21907.
And USP 4,345,249.
【0022】この方式では液晶分子を面内で回転させる
ことにより光をスイッチしているため、画面を見る角度
によって階調、色調の反転が生じることがなく、従来の
TN方式に比べ視野角が広い。また、電圧オフの状態で
黒色を表示する、いわゆるノーマリークローズのため
に、TN方式に比べ黒レベルも良好であり、高コントラ
スト比を実現できる。In this system, the light is switched by rotating the liquid crystal molecules in the plane, so that the gradation and color tone are not inverted depending on the viewing angle of the screen, and the viewing angle is wider than that of the conventional TN system. wide. Further, because of so-called normally closing, which displays black when the voltage is off, the black level is better than in the TN method, and a high contrast ratio can be realized.
【0023】このようなIPS方式の液晶表示装置の代
表的な構成を図19に示した。まずガラス基板8上に共
通電極3と走査配線4を形成する。次にSiNなどの絶
縁膜7を形成し、その絶縁膜上に信号配線1、画素電極
2が形成される。なお、画素電極は能動素子TFT5を
介して信号配線に接続されている。さらにSiNなどの
絶縁膜6を形成し電極基板となる。A typical structure of such an IPS type liquid crystal display device is shown in FIG. First, the common electrode 3 and the scanning wiring 4 are formed on the glass substrate 8. Next, an insulating film 7 such as SiN is formed, and the signal wiring 1 and the pixel electrode 2 are formed on the insulating film. The pixel electrode is connected to the signal wiring via the active element TFT5. Further, an insulating film 6 such as SiN is formed to serve as an electrode substrate.
【0024】一方、対向ガラス基板9上には光を遮光す
るためのブラックマトリクス24、RGBカラーフィル
タ23、それらを平坦化するためのオーバーコート膜2
2が形成されカラーフィルタ基板となる。これら電極基
板およびカラーフィルタ基板上に液晶を配向させるため
の配向膜21を形成する。一般に配向膜にはポリイミド
が用いられ、これらを例えばラビング(布でこする)な
どして液晶分子を規定の方向に配向させる。On the other hand, on the counter glass substrate 9, a black matrix 24 for shielding light, an RGB color filter 23, and an overcoat film 2 for flattening them.
2 is formed to serve as a color filter substrate. An alignment film 21 for aligning liquid crystal is formed on the electrode substrate and the color filter substrate. Generally, polyimide is used for the alignment film, and the liquid crystal molecules are aligned in a specified direction by rubbing (rubbing with a cloth) or the like.
【0025】これら両基板を組み立て、その隙間に液晶
20を注入し、さらに偏光板25をクロスニコルで、ノ
ーマリークローズ(電圧無印加で黒表示)の条件となる
よう貼合せることにより液晶表示素子を構成する。な
お、電圧は画素電極2と共通電極3との間に印加され、
これにより生じる基板にほぼ平行な電界26で液晶分子
を面内で駆動し、光をスイッチする。A liquid crystal display device is manufactured by assembling these two substrates, injecting the liquid crystal 20 into the space between them, and further laminating the polarizing plate 25 with a crossed Nicol so as to satisfy the condition of normally closed (black display without voltage application). Make up. The voltage is applied between the pixel electrode 2 and the common electrode 3,
The resulting electric field 26, which is substantially parallel to the substrate, drives the liquid crystal molecules in-plane to switch the light.
【0026】このような視角特性に優れたIPS方式
は、従来のTN方式に変わる新しい液晶表示装置として
期待され、今後の高精細および大画面液晶パネルや液晶
テレビにとって重要な技術である。以下、IPS方式液
晶表示装置の従来技術の詳細を述べる。The IPS method having excellent viewing angle characteristics is expected as a new liquid crystal display device replacing the conventional TN method, and is an important technology for future high-definition and large-screen liquid crystal panels and liquid crystal televisions. The details of the prior art of the IPS liquid crystal display device will be described below.
【0027】 S−IPS
従来のIPS方式では画面を斜め方向から見た場合に、
その見る角度によって色調が青色に変化する方向と黄色
に変化する方向があった。そこでこれらを改善し、さら
なる広視野角化のための技術が特開平11−30784
号公報などにより公開された。S-IPS In the conventional IPS method, when the screen is viewed from an oblique direction,
There was a direction in which the color tone changed to blue and a direction in which it changed to yellow depending on the viewing angle. Therefore, a technique for improving these and further widening the viewing angle is disclosed in JP-A-11-30784.
It was published in the official gazette.
【0028】実際、ここで提案されているくの字電極構
造を有するIPS方式の液晶表示装置が「S−IPS」
として製品化(株式会社日立製作所)されている。In fact, the IPS type liquid crystal display device having the dogleg-shaped electrode structure proposed here is "S-IPS".
Has been commercialized as (Hitachi, Ltd.).
【0029】S−IPSでは、画素の短軸方向(通常は
走査配線方向)で画素を分割するように配置された櫛歯
状電極が、くの字型に形成されることにより、一つの画
素内に電圧印加時の液晶分子の回転方向が異なる2つの
ドメインを形成するため色変化が抑えられている。これ
によりS−IPSでは、コントラスト比350:1、視
野角170度(上下ともコントラスト比10:1以
上)、また、NTSC比で60%以上の高色純度を達成
しており、静止画最高峰の画質と云われている。In S-IPS, the comb-teeth-shaped electrodes arranged so as to divide the pixel in the minor axis direction of the pixel (usually the scanning wiring direction) are formed in a dogleg shape, so that one pixel is formed. Color change is suppressed because two domains in which liquid crystal molecules rotate in different directions when a voltage is applied are formed therein. As a result, S-IPS has achieved a contrast ratio of 350: 1, a viewing angle of 170 degrees (contrast ratio of 10: 1 or more in the upper and lower directions), and a high color purity of 60% or more in the NTSC ratio, which is the highest peak in still images. It is said that the image quality.
【0030】しかしながら、S−IPSにおいて高精細
化と高開口率化の両立は困難である。以下その理由を説
明する。However, it is difficult to achieve both high definition and high aperture ratio in S-IPS. The reason will be described below.
【0031】S−IPSの高精細化を考えた場合、当然
画素ピッチは小さくなる。その小さくなった画素の中に
必要な電極および配線を、それらの間隔を狭めて配置し
なければならない。しかし、S−IPSではこれら電極
および配線がクロムなどの金属材料で形成されているた
めに電極部では光が透過せず、精細度が上がるほど開口
率が大きく低下していく。即ち、高精細化により画素ピ
ッチが小さくなると、高開口率を達成できない。Considering the high definition of S-IPS, the pixel pitch is naturally small. Necessary electrodes and wirings must be arranged in the reduced pixel with a small space therebetween. However, in S-IPS, since these electrodes and wirings are formed of a metal material such as chromium, light does not pass through the electrode portions, and the aperture ratio decreases greatly as the definition increases. That is, if the pixel pitch becomes smaller due to higher definition, a high aperture ratio cannot be achieved.
【0032】また、高精細化した時に、開口率を優先し
て画素内の電極本数を減らすなど、例えば1つの画素内
に3本あった画素電極を1本にするなど(後述する2分
割IPSに相当)した場合には、液晶表示装置の駆動電
圧に大きく影響する電極間隔が精細度によって決まり、
生産効率に大きく影響する。詳細については後述する。Further, when the resolution is increased, the aperture ratio is prioritized to reduce the number of electrodes in a pixel, for example, the number of pixel electrodes which is three in one pixel is reduced to one (two-division IPS which will be described later). In the case of), the electrode spacing, which greatly affects the driving voltage of the liquid crystal display device, is determined by the definition,
It greatly affects the production efficiency. Details will be described later.
【0033】一方、画素ピッチを小さくする(櫛歯電極
間隔を狭める)ことによる開口率の低下を抑制するため
に、S−IPSにおいて電極材料としてITOなどのよ
うな透明導電膜を用いることが、特開平9−61842
号公報に提案されている。他にも同様の提案はあるが、
これらは全て画素の短軸方向(通常は走査配線方向)で
画素を分割するように配置された櫛歯状電極への適用に
限定されている。これらの提案については、確かに高精
細化に伴う画素ピッチ縮小による開口率の低下を抑制す
ることは可能である。しかし、本発明者の検討により、
高精細化と同時に副作用の生じることが分かった。On the other hand, in order to suppress a decrease in aperture ratio due to a reduction in pixel pitch (narrowing the comb-teeth electrode spacing), it is preferable to use a transparent conductive film such as ITO as an electrode material in S-IPS. Japanese Patent Laid-Open No. 9-61842
It is proposed in Japanese Patent Publication No. There are other similar suggestions,
All of these are limited to application to comb-teeth-shaped electrodes arranged so as to divide the pixel in the minor axis direction of the pixel (normally the scanning wiring direction). With respect to these proposals, it is certainly possible to suppress the decrease in the aperture ratio due to the pixel pitch reduction accompanying the higher definition. However, by the study of the present inventor,
It was found that side effects occur at the same time as high definition.
【0034】通常透明導電材として使用されているIT
Oなどは、金属電極に比べ非常に加工精度が悪い。高精
細化により電極間隔が非常に狭くなると、この加工精度
が電極間隔のばらつきに大きく反映されることになる。
即ち、電極間隔が狭くなればなるほど加工精度の悪い透
明導電膜では電極間隔のばらつきが大きくなり、このこ
とは輝度ムラを生じる原因となる。これらのことからも
分かるように、現在のS−IPSにおいては、高精細化
と高開口率化はトレードオフの関係にあり、これらを同
時に達成することは困難である。IT normally used as a transparent conductive material
O and the like have much poorer processing accuracy than metal electrodes. When the electrode spacing becomes very narrow due to the high definition, the processing accuracy is largely reflected in the variation in the electrode spacing.
That is, the narrower the electrode spacing, the greater the variation in the electrode spacing in the transparent conductive film having poor processing accuracy, which causes uneven brightness. As can be seen from these, in the current S-IPS, there is a trade-off relationship between high definition and high aperture ratio, and it is difficult to achieve both at the same time.
【0035】また、駆動ICの実装方式から高精細化を
考えた場合、次のことが指摘できる。上述したように、
高精細液晶表示装置の場合、駆動ICの実装にはTCP
実装よりもFCA実装が適している。しかしながら、現
在のS−IPSにFCA実装を適用すると、液晶表示素
子の周辺で輝度ムラを生じることが分かっている。これ
は、現在のS−IPSでは駆動電圧がTNに比べほぼ2
倍程度高いために高出力の駆動ICを必要とするからで
ある。Further, the following points can be pointed out when considering the high definition from the mounting method of the driving IC. As mentioned above,
In the case of a high-definition liquid crystal display device, TCP is used to mount the driving IC.
FCA implementation is more suitable than implementation. However, it has been known that when FCA mounting is applied to the current S-IPS, luminance unevenness occurs around the liquid crystal display element. This is because the driving voltage of the current S-IPS is about 2 compared to TN.
This is because the drive IC of high output is required because it is about twice as high.
【0036】高出力の駆動ICではICそのものからの
発熱が大きく、この熱が直接結線されたガラス基板に伝
わり、例えば、液晶がTni点(液晶相・等方相相転移
温度)を超えるなどして輝度ムラを生じる。従って、現
在では発熱部の駆動ICを液晶表示素子から隔離すると
云う思想の基にTCP実装を採用している。現状のS−
IPSでは実装方法にも課題があり、高精細化が困難な
状況にある。In a high-output drive IC, the heat generated from the IC itself is large, and this heat is directly transmitted to the glass substrate that is connected, and for example, the liquid crystal exceeds the Tni point (liquid crystal phase / isotropic phase transition temperature). Uneven brightness occurs. Therefore, at present, TCP mounting is adopted based on the idea of separating the driving IC of the heat generating portion from the liquid crystal display element. Current S-
In IPS, there is a problem in the mounting method, and it is difficult to achieve high definition.
【0037】フィッシュボーンIPS(FB−IP
S)
S−IPSとは異なる電極構造により色変化を低減し、
画質を向上させる手段が特開平11−202323号公
報やIDRC‘97L9−L12で提案されている。Fishbone IPS (FB-IP
S) Color change is reduced by an electrode structure different from S-IPS,
A means for improving image quality is proposed in Japanese Patent Laid-Open No. 11-202323 and IDRC'97L9-L12.
【0038】ここで示された電極構造を有する液晶表示
装置がフィッシュボーンIPS(FB−IPS)であ
る。フィッシュボーンIPSでは画素電極とその対向で
ある共通電極をくの字形状とし、各くの字電極を画素の
長軸方向(通常は信号配線の延在方向)で分割するよう
に魚骨状に配置した構造である。The liquid crystal display device having the electrode structure shown here is a fishbone IPS (FB-IPS). In the fishbone IPS, the pixel electrode and the common electrode that faces the pixel electrode are formed into a dogleg shape, and each dogleg electrode is divided into a fishbone shape so as to be divided in the long axis direction of the pixel (usually the extending direction of the signal wiring). The structure is arranged.
【0039】このような構造においても、S−IPSと
同様に、電圧を印加した場合に一つの画素内に液晶分子
の回転方向が異なる2つのドメインを有するため、視野
角や斜め方向視野からの色付きなど視角特性が非常に良
好であり高画質を達成できる。In such a structure, as in the case of S-IPS, since two domains having different rotation directions of liquid crystal molecules are provided in one pixel when a voltage is applied, the viewing angle and the oblique viewing angle are different. The viewing angle characteristics such as coloring are very good and high image quality can be achieved.
【0040】また、S−IPSにない利点もある。それ
はS−IPSと異なりフィッシュボーンIPSでは、画
素の長軸方向に沿って画素を分割していることによる。
これによりS−IPSに比べ電極間隔を選択する裕度が
広がる。例えば、精細度に関わらず液晶材料を同一に
し、電極間隔を調整することによって任意の駆動電圧に
設定するためには、この裕度が大きく効いてくる。There is also an advantage that S-IPS does not have. This is because unlike the S-IPS, the fishbone IPS divides the pixels along the long axis direction of the pixels.
As a result, the margin for selecting the electrode interval is wider than in S-IPS. For example, this margin is very effective for setting the liquid crystal material to be the same regardless of the definition and setting an arbitrary drive voltage by adjusting the electrode interval.
【0041】液晶材料は、液晶表示装置の表示特性(例
えば駆動電圧、保持率など)を大きく左右するため、生
産効率から考えれば液晶表示装置の精細度に係らず同一
の液晶材料を使用したい。このような場合に電極間隔の
設計に裕度があるフィッシュボーンIPSが適してい
る。さらにフィッシュボーンIPSでは、製造工程で生
じた電極間隔のばらつきに対して非常に鈍感である。即
ち、電極間隔のばらつきによる輝度ムラが見え難い。こ
れは次の理由による。The liquid crystal material greatly affects the display characteristics of the liquid crystal display device (for example, driving voltage, holding ratio, etc.). Therefore, from the viewpoint of production efficiency, it is desirable to use the same liquid crystal material regardless of the definition of the liquid crystal display device. In such a case, a fishbone IPS having a margin in designing the electrode spacing is suitable. Further, in the fishbone IPS, it is very insensitive to the variation in the electrode spacing caused in the manufacturing process. That is, it is difficult to see the uneven brightness due to the variation in the electrode interval. This is for the following reason.
【0042】フィッシュボーンIPSでは、一つの画素
内にさまざまな電極間隔を有する構造となっている。こ
のような構造では、上記の電極間隔を狭くしたときに生
じる電極間隔ばらつきによる輝度ムラは見え難い。構造
的に複数の電極間隔を一つの画素内に有することは、あ
る電圧に対して様々な輝度を一つの画素内に有すること
を意味する。このために、製造工程で発生した電極間隔
のばらつきによる輝度変化が、一つの画素内に有する輝
度変化の中に含まれてしまうからである。The fishbone IPS has a structure having various electrode intervals in one pixel. With such a structure, it is difficult to see the uneven brightness due to the variation in the electrode spacing that occurs when the electrode spacing is narrowed. Having a plurality of electrode intervals structurally in one pixel means having various luminances in one pixel for a certain voltage. For this reason, the luminance change due to the variation in the electrode interval generated in the manufacturing process is included in the luminance change in one pixel.
【0043】しかし、上記公知例(特開平11−202
323号公報およびIDRC‘97L9−L12)にお
けるフィッシュボーンIPSでは電極材料の記載もな
く、また開口率、輝度ムラなどに関する記載もないが、
画素電極および共通電極が金属材料であれば、S−IP
S同様に、高精細化に伴う電極の狭間隔化により、開口
率は大きく低下すると云う課題が生じる。即ち、フィッ
シュボーンIPSにおいても、S−TFTと同様に高精
細化と高開口率はトレードオフの関係にあり、同時に達
成することはできない。However, the above-mentioned known example (JP-A-11-202)
No. 323 and the fishbone IPS in IDRC'97L9-L12) have no description of electrode material, and no description of aperture ratio, brightness unevenness, etc.
If the pixel electrode and the common electrode are metallic materials, S-IP
Similar to S, there is a problem that the aperture ratio is significantly reduced due to the narrowing of the electrodes due to the high definition. That is, also in the fishbone IPS, there is a trade-off relationship between high definition and high aperture ratio as in the S-TFT, and they cannot be achieved at the same time.
【0044】 2分割IPS
また、従来IPSの構造において、一つの画素を金属櫛
歯電極により2分割することによって200ppiと云
う高精細化を実現した液晶表示装置(20.8インチ)
が試作(IBM社)された。しかし、このような2分割
IPSでは、どの精細度においても常に画素が2分割さ
れているために、ある特定の精細度においてのみ高画
質、高開口率を達成できる。駆動電圧に大きく影響する
電極間隔は精細度に大きく依存する。即ち、2分割IP
Sでは精細度の低いものほど電極間隔が広がるために駆
動電圧は上昇していく。Two-division IPS Further, in the conventional IPS structure, a liquid crystal display device (20.8 inches) which realizes high definition of 200 ppi by dividing one pixel into two by metal comb-teeth electrodes.
Was prototyped (IBM). However, in such a two-division IPS, a pixel is always divided into two at any definition, so that a high image quality and a high aperture ratio can be achieved only at a specific definition. The electrode spacing that greatly affects the drive voltage greatly depends on the definition. That is, two-part IP
In S, the lower the definition, the wider the electrode interval, so the drive voltage increases.
【0045】これを解決するためには、液晶材料の誘電
率異方性を大きくする手段も考えられるがこれにも限度
があり、また、誘電率異方性を大きくすることによる副
作用(例えば不純物イオンを持込み易いなど)を生じ
る。また、精細度により、それぞれに応じた液晶材料を
用意することは、生産効率を大きく低下させることにつ
ながる。In order to solve this, a means for increasing the dielectric anisotropy of the liquid crystal material can be considered, but there is a limit to this, and side effects (for example, impurities) due to the increase of the dielectric anisotropy are also considered. It is easy to bring in ions). In addition, depending on the definition, preparing a liquid crystal material corresponding to each of them leads to a great decrease in production efficiency.
【0046】[0046]
【発明が解決しようとする課題】前記の従来技術では、
今後の液晶表示装置に要求される高精細化、高画質化、
高開口率化と云う3項目を全て、かつ、同時に達成でき
るものはない(表1)。従って、本発明の目的はまず上
記3項目を全て、かつ、同時に達成できる液晶表示装置
を提供することにある。また、画質に大きく影響する残
像現象を低減することにより更なる高画質化を達成し、
生産効率を向上させることも重要な課題である。In the above prior art,
High definition and high image quality required for future liquid crystal display devices,
None of the three items of high aperture ratio can be achieved at the same time (Table 1). Therefore, an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device which can achieve all of the above three items at the same time. In addition, we have achieved higher image quality by reducing the afterimage phenomenon that greatly affects image quality.
Improving production efficiency is also an important issue.
【0047】[0047]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決し、高精細化、高画質化、高開口率化と云う3項目を
全て、かつ、同時に達成できる液晶表示装置の提供にあ
る。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention provides a liquid crystal display device which solves the above problems and can achieve all three items of high definition, high image quality and high aperture ratio at the same time. .
【0048】〔1〕 少なくとも一方が透明な一対の基
板と、その一対の基板に挟持された液晶層とを有し、前
記基板の一方に複数の走査配線と、該走査配線にマトリ
クス状に形成された複数の信号配線、該複数の信号配線
と前記複数の走査配線とのそれぞれの交点に対応して形
成された複数の能動素子と、該能動素子に接続された複
数の画素電極と、前記複数の走査配線のそれぞれの間に
形成された共通配線と、該複数の共通配線に接続された
複数の共通電極とを有し、前記画素電極と前記共通電極
間に電圧を印加し、前記一対の基板に支配的に生じる平
行な電界により前記液晶の配向を制御することにより表
示を行う液晶表示装置において、前記画素電極および前
記共通電極が共に透明導電膜によりくの字型に形成さ
れ、前記走査配線と前記信号配線により囲まれた画素の
中で該画素の長手方向に画素を分割するように前記くの
字型画素電極と前記くの字型共通電極が交互に配置さ
れ、かつ、同一画素内の画素電極は互いに画素の両端
で、また、共通電極は互いに画素の両端でそれぞれ接続
されていることを特徴とする液晶表示装置にある。[1] A pair of substrates, at least one of which is transparent, and a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates. A plurality of scanning wirings are formed on one of the substrates, and the scanning wirings are formed in a matrix. A plurality of signal wirings, a plurality of active elements formed corresponding to respective intersections of the plurality of signal wirings and the plurality of scanning wirings, a plurality of pixel electrodes connected to the active elements, A common wire formed between each of the plurality of scan wires and a plurality of common electrodes connected to the plurality of common wires; applying a voltage between the pixel electrode and the common electrode; In a liquid crystal display device that performs display by controlling the alignment of the liquid crystal by a parallel electric field that occurs predominantly on the substrate, the pixel electrode and the common electrode are both formed in a dogleg shape by a transparent conductive film, and Scan wiring and front In the pixel surrounded by the signal wiring, the V-shaped pixel electrode and the V-shaped common electrode are alternately arranged so as to divide the pixel in the longitudinal direction of the pixel, and in the same pixel. In the liquid crystal display device, the pixel electrodes are connected to each other at both ends of the pixel, and the common electrodes are connected to each other at both ends of the pixel.
【0049】〔2〕 少なくとも一方が透明な一対の基
板と、その一対の基板に挟持された液晶層とを有し、前
記一対の基板の一方に、複数の走査配線と、これら走査
配線にマトリクス状に形成された複数の信号配線、これ
ら複数の信号配線と前記複数の走査配線とのそれぞれの
交点に対応して形成された複数の能動素子と、それら能
動素子に接続された複数の画素電極と、前記複数の走査
配線のそれぞれの間に形成された共通配線と、前記複数
の共通配線に接続された複数の共通電極とからなり、前
記画素電極と前記共通電極間に電圧を印加し、前記一対
の基板に支配的に生じる平行な電界により前記液晶の配
向を制御して表示を行う液晶表示装置において、前記画
素電極および前記共通電極が共に透明導電膜でY字型に
形成され、前記走査配線と前記信号配線によって囲まれ
た画素の中で該画素の長手方向に画素を分割するように
前記Y字型画素電極と前記Y字型共通電極が交互に配置
され、かつ、同一画素内の画素電極は互いに画素の両端
で、また、共通電極は互いに画素の両端でそれぞれ接続
されていることを特徴とする液晶表示装置にある。[2] A pair of substrates, at least one of which is transparent, and a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates. A plurality of scanning wirings are provided on one of the pair of substrates, and a matrix is formed on these scanning wirings. A plurality of signal wirings formed in a shape, a plurality of active elements formed corresponding to respective intersections of the plurality of signal wirings and the plurality of scanning wirings, and a plurality of pixel electrodes connected to the active elements A common line formed between each of the plurality of scan lines, and a plurality of common electrodes connected to the plurality of common lines, and applying a voltage between the pixel electrode and the common electrode, In a liquid crystal display device for displaying by controlling the alignment of the liquid crystal by parallel electric fields predominantly generated on the pair of substrates, both the pixel electrode and the common electrode are formed in a transparent conductive film in a Y shape, scanning In the pixel surrounded by the wiring and the signal wiring, the Y-shaped pixel electrode and the Y-shaped common electrode are alternately arranged so as to divide the pixel in the longitudinal direction of the pixel, and in the same pixel. In the liquid crystal display device, the pixel electrodes are connected to each other at both ends of the pixel, and the common electrodes are connected to each other at both ends of the pixel.
【0050】〔3〕 前記Y字型画素電極および前記Y
字型共通電極が絶縁膜を介して異なる層に形成され、前
記Y字型画素電極および前記Y字型共通電極中心線が、
隣合う電極間で、前記電極群が形成されている前記基板
に垂直な方向で重畳している領域を有しない前記〔2〕
の液晶表示装置にある。[3] The Y-shaped pixel electrode and the Y-shaped pixel electrode
V-shaped common electrodes are formed in different layers via an insulating film, and the Y-shaped pixel electrode and the Y-shaped common electrode center line are
The above [2], which does not have a region between adjacent electrodes that overlaps in a direction perpendicular to the substrate on which the electrode group is formed.
Liquid crystal display device.
【0051】〔4〕 前記信号配線、前記走査配線、前
記共通配線、前記共通電極および前記画素電極が液晶層
とガラス基板との間に形成され、このうち前記共通電極
が、他の前記電極群および配線群と少なくとも一層以上
の絶縁膜を介して異なる層に形成され、かつ、前記共通
電極が、他の前記電極群および前記配線群の中で最も液
晶層側に形成されている〔1〕または〔2〕に記載の液
晶表示装置にある。[4] The signal wiring, the scanning wiring, the common wiring, the common electrode, and the pixel electrode are formed between a liquid crystal layer and a glass substrate, of which the common electrode is another electrode group. And the wiring group, which is formed in a different layer with at least one insulating film interposed therebetween, and the common electrode is formed closest to the liquid crystal layer among the other electrode groups and the wiring group [1]. Alternatively, it is in the liquid crystal display device according to [2].
【0052】前記共通電極の一部が少なくとも一層以上
の絶縁膜を介して信号配線の上に重畳して形成されてい
てもよい。A part of the common electrode may be formed so as to overlap with the signal wiring through at least one insulating film.
【0053】また、少なくとも前記共通電極と前記信号
配線が重畳している領域では、前記共通電極と前記信号
配線との間に、容量負荷を低減させるための低容量絶縁
膜が介在していてもよい。In addition, at least in the region where the common electrode and the signal line overlap, a low-capacitance insulating film for reducing the capacitive load may be interposed between the common electrode and the signal line. Good.
【0054】〔5〕 前記電極群および前記配線群が形
成されている基板と対向する基板上に、前記走査配線延
在方向に延在配置された遮光用ブラックマトリクスが形
成され、かつ、前記信号配線延在方向には遮光用ブラッ
クマトリクスが形成されていない前記の液晶表示装置に
ある。[5] A light-shielding black matrix extending in the extending direction of the scanning wiring is formed on a substrate facing the substrate on which the electrode group and the wiring group are formed, and the signal is provided. In the liquid crystal display device, the black matrix for shading is not formed in the wiring extending direction.
【0055】〔6〕 前記共通電極の一部が少なくとも
一層以上の絶縁膜を介して走査配線の上に重畳して形成
されている〔4〕に記載の液晶表示装置にある。[6] The liquid crystal display device according to [4], wherein a part of the common electrode is formed so as to overlap with the scanning wiring via at least one insulating film.
【0056】〔7〕 少なくとも前記共通電極と前記走
査配線が重畳している領域では、前記共通電極と前記走
査配線との間に、容量負荷を低減させるための低容量絶
縁膜が介在している〔4〕に記載の液晶表示装置にあ
る。[7] At least in the region where the common electrode and the scanning wiring overlap, a low-capacity insulating film for reducing the capacitive load is interposed between the common electrode and the scanning wiring. The liquid crystal display device according to [4].
【0057】また、前記共通電極の一部が少なくとも一
層以上の絶縁膜を介して前記走査配線および前記信号配
線の両配線上に同時に重畳して形成されていてもよい。Further, a part of the common electrode may be simultaneously formed on both the scanning wiring and the signal wiring via at least one insulating film.
【0058】〔8〕 少なくとも前記共通電極と前記信
号配線が重畳している領域、前記共通電極と前記走査配
線が重畳している領域では、前記共通電極と前記信号配
線との間に、また、前記共通電極と前記走査配線との間
に、容量負荷を低減させるための低容量絶縁膜が介在し
ている前記〔7〕に記載の液晶表示装置にある。[8] At least in a region where the common electrode and the signal line overlap and in a region where the common electrode and the scanning line overlap, between the common electrode and the signal line, and The liquid crystal display device according to [7], wherein a low-capacity insulating film for reducing a capacitive load is interposed between the common electrode and the scanning wiring.
【0059】[0059]
〔9〕 前記電極群および前記配線群が形
成されている基板と対向する基板上に、遮光用ブラック
マトリクスが形成されていない〔8〕に記載の液晶表示
装置にある。[9] The liquid crystal display device according to [8], in which the black matrix for light shielding is not formed on the substrate facing the substrate on which the electrode group and the wiring group are formed.
【0060】〔10〕 前記共通電極が形成された層よ
り最も離れた層に前記画素電極が形成されている前記の
液晶表示装置にある。[10] In the liquid crystal display device, the pixel electrode is formed in a layer farthest from the layer in which the common electrode is formed.
【0061】〔11〕 画素内に前記共通電極と前記画
素電極の配置構造が、画素の対角線の交点を対称心とし
て反転した状態で配置されている前記の液晶表示装置に
ある。[11] In the liquid crystal display device, the arrangement structure of the common electrode and the pixel electrode is arranged in a pixel in an inverted state with an intersection of diagonal lines of the pixel as a center of symmetry.
【0062】〔12〕 前記共通電極と前記共通配線が
異なる層に形成され、これら電極間に少なくとも一層以
上の絶縁膜が介在し、該絶縁膜に形成されたコンタクト
ホールを通じて前記共通電極と前記共通配線が接続され
ている前記の液晶表示装置にある。[12] The common electrode and the common wiring are formed in different layers, at least one insulating film is interposed between these electrodes, and the common electrode and the common electrode are formed through a contact hole formed in the insulating film. In the above liquid crystal display device to which the wiring is connected.
【0063】〔13〕 前記電極群が形成されている前
記基板側で、液晶を配向させるための配向制御膜の直下
に、前記電極群を形成する工程で生じた段差を平坦化す
るための平坦化絶縁膜が配置されている前記の液晶表示
装置にある。[13] On the side of the substrate on which the electrode group is formed, directly below the alignment control film for aligning the liquid crystal, a flat surface for flattening a step generated in the step of forming the electrode group. In the above liquid crystal display device in which the chemical insulating film is arranged.
【0064】〔14〕 前記走査配線と前記信号配線に
囲まれた一つの画素内に、少なくとも一つ以上前記能動
素子が形成され、かつ、該能動素子が多結晶シリコンで
形成されている前記の液晶表示装置にある。[14] At least one active element is formed in one pixel surrounded by the scanning wiring and the signal wiring, and the active element is made of polycrystalline silicon. It is in a liquid crystal display device.
【0065】〔15〕 前記走査配線および前記信号配
線、前記共通配線に信号を供給するための駆動ICが、
FCA実装により、液晶表示装置を構成する前記基板上
に直接実装されている前記の液晶表示装置にある。[15] A drive IC for supplying a signal to the scanning wiring, the signal wiring, and the common wiring,
The liquid crystal display device is directly mounted on the substrate constituting the liquid crystal display device by FCA mounting.
【0066】前記駆動ICと液晶表示装置を構成する前
記基板との間に、応力歪を緩和するための応力緩衝材
が、前記駆動ICおよび前記基板に接して配置されてい
てもよい。A stress buffering material for relieving stress strain may be disposed between the drive IC and the substrate constituting the liquid crystal display device in contact with the drive IC and the substrate.
【0067】また、前記駆動ICを形成する材料の熱膨
張係数と前記基板の熱膨張係数がほぼ同じであることが
好ましい。Further, it is preferable that the coefficient of thermal expansion of the material forming the drive IC and the coefficient of thermal expansion of the substrate are substantially the same.
【0068】また、前記駆動ICが紫外線硬化樹脂を用
いて、加熱圧着せずに前記基板上に直接実装されている
ことが好ましい。Further, it is preferable that the drive IC is directly mounted on the substrate by using an ultraviolet curable resin without thermocompression bonding.
【0069】さらにまた、前記駆動ICと前記基板との
間に、前記駆動ICにより発生した熱を基板に伝導させ
ないための断熱材または熱吸収材が前記駆動ICに接し
て設けてもよい。Furthermore, a heat insulating material or heat absorbing material for preventing heat generated by the driving IC from being conducted to the substrate may be provided between the driving IC and the substrate in contact with the driving IC.
【0070】〔16〕 前記透明導電膜が酸化インジウ
ムスズ(ITO),酸化インジウムゲルマニウム(IG
O)および酸化インジウム亜鉛(IZO)のう少なくと
も一種からなる前記の液晶表示装置にある。[16] The transparent conductive film is made of indium tin oxide (ITO) or indium germanium oxide (IG).
O) and at least one of indium zinc oxide (IZO).
【0071】〔17〕 液晶表示装置の解像度が140
ppi以上である前記の液晶表示装置にある。[17] The resolution of the liquid crystal display device is 140
The liquid crystal display device has a ppi or more.
【0072】〔18〕 液晶表示装置を構成する前記基
板の辺のうち、ラビング方向とほぼ直交する辺のどちら
か一辺に液晶を注入するための封入口を少なくとも一つ
以上有し、液晶注入後に封入口を塞ぐための封止材によ
り封止されている前記の液晶表示装置にある。[18] Out of the sides of the substrate constituting the liquid crystal display device, at least one or more sealing ports for injecting the liquid crystal are provided on one of the sides which are substantially orthogonal to the rubbing direction. The above liquid crystal display device is sealed with a sealing material for closing the filling port.
【0073】[0073]
【発明の実施の形態】フィッシュボーンIPSの電極構
造と、その電極として透明導電材を用いることで、今後
の液晶表示装置に求められる高精細化、高画質化および
高開口率化の全てを、同時に達成することができる。こ
れは、フィッシュボーンIPSの電極材料として透明導
電材を用いることにより、高精細化と高開口率化と云う
相反する関係を解消したものである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION By using a fishbone IPS electrode structure and a transparent conductive material as the electrode, it is possible to achieve all of high definition, high image quality and high aperture ratio required for future liquid crystal display devices. Can be achieved at the same time. This is because the use of a transparent conductive material as the electrode material of the fishbone IPS eliminates the conflicting relations of high definition and high aperture ratio.
【0074】図1に透明電極を用いたフィッシュボーン
IPSの構成の代表的な模式平面図およびその断面図を
示した。FIG. 1 shows a typical schematic plan view of a structure of a fishbone IPS using a transparent electrode and its sectional view.
【0075】フィッシュボーンIPS構造では「くの字
型」の画素電極102と「くの字型」の共通電極103
が、信号配線101と走査配線104で囲まれた画素の
中で、その画素の長手方向(図1では信号配線101の
方向)に分割されるように交互に配置される。そして、
画素内の各くの字型画素電極102は画素の両端で接続
され、薄膜トランジスタ(TFT)105などの能動素
子を介して信号配線に接続されている。また、同様に画
素内の各くの字型共通電極は画素の両端で接続され、共
通配線と一体化している。即ち、画素の両端では結果的
に共通電極103と画素電極102が絶縁膜107を介
して重畳した構成となっている。In the fishbone IPS structure, a “dogleg” pixel electrode 102 and a “dogleg” common electrode 103 are provided.
However, among the pixels surrounded by the signal wiring 101 and the scanning wiring 104, they are alternately arranged so as to be divided in the longitudinal direction of the pixel (the direction of the signal wiring 101 in FIG. 1). And
The V-shaped pixel electrodes 102 in the pixel are connected at both ends of the pixel and are connected to the signal wiring through an active element such as a thin film transistor (TFT) 105. Similarly, the V-shaped common electrodes in the pixel are connected at both ends of the pixel and integrated with the common wiring. That is, at both ends of the pixel, the common electrode 103 and the pixel electrode 102 eventually overlap each other with the insulating film 107 interposed therebetween.
【0076】図1では共通配線の上に画素電極を重畳し
た構成となっている。電圧はこの画素電極102と共通
電極103との間に印加され、ここで発生する電界によ
り液晶を駆動する。In FIG. 1, the pixel electrode is superposed on the common wiring. The voltage is applied between the pixel electrode 102 and the common electrode 103, and the electric field generated here drives the liquid crystal.
【0077】電界によって駆動する液晶分子は、各電極
構造がくの字型であるために、液晶分子が時計周りに回
転する領域と、反時計周りに回転する領域が存在する。
なお、液晶材料として、ポジ型液晶(誘電率異方性が正
の液晶)を用いる場合にはラビング方向は走査配線10
4に平行な方向であり、ネガ型液晶(誘電率異方性が負
の液晶)を用いる場合にはラビング方向は信号配線10
1に平行な方向である。Liquid crystal molecules driven by an electric field have a region where the liquid crystal molecules rotate clockwise and a region where the liquid crystal molecules rotate counterclockwise because each electrode structure has a dogleg shape.
When a positive type liquid crystal (liquid crystal having positive dielectric anisotropy) is used as the liquid crystal material, the rubbing direction is the scanning wiring 10.
4, the rubbing direction is the signal wiring 10 when a negative type liquid crystal (liquid crystal with negative dielectric anisotropy) is used.
It is a direction parallel to 1.
【0078】一つの画素内に液晶分子の駆動方向が異な
る2つの領域が存在することにより、液晶表示装置を斜
め方向から見た場合の色付きを低減すると共に、広視野
角をも達成でき、液晶表示装置として高い画質を得るこ
とができる。The presence of two regions having different driving directions of liquid crystal molecules in one pixel can reduce coloring when the liquid crystal display device is viewed from an oblique direction and can achieve a wide viewing angle. High image quality can be obtained as a display device.
【0079】さらに別の利点もある。高精細化のために
画素ピッチを小さくし、それに応じて電極間隔を狭めて
行と、従来のIPS方式の液晶表示装置では表示領域面
内で、電極間隔のばらつきによる輝度ムラを生じる。特
に、クロムなどの金属電極に比べ加工精度が良くない透
明導電膜ITOなどでは、電極間隔を狭めるほど電極間
隔のばらつきは大きくなり、輝度ムラを生じ易い。There is another advantage. If the pixel pitch is made smaller for higher definition and the electrode interval is made narrower accordingly, in the conventional IPS type liquid crystal display device, unevenness in brightness occurs due to the variation in electrode interval in the display area plane. Particularly, in the case of a transparent conductive film ITO or the like, which has a poorer processing accuracy than a metal electrode such as chrome, the narrower the electrode spacing, the greater the variation in the electrode spacing, and the uneven brightness is likely to occur.
【0080】しかしながらフィッシュボーン構造におい
ては、図1からも分かるように一つの画素の中に連続し
た様々な電極間隔が含まれているために、狭電極間隔化
によって生じる輝度ムラの課題を解消できる。このこと
は前記従来技術でも述べた通りである。However, in the fishbone structure, as can be seen from FIG. 1, since various continuous electrode intervals are included in one pixel, the problem of uneven brightness caused by the narrowed electrode interval can be solved. . This is as described in the prior art.
【0081】これにより、フィッシュボーンIPSでは
透明導電膜との有効な組合せが可能となり、高精細化と
高開口率のトレードオフを解決できる。従って、液晶表
示装置に求められる高精細化、高開口率化、高画質化と
云う要求を全て、同時に達成することは、画素電極およ
び共通電極に透明導電膜を用いたフィッシュボーンIP
Sによって初めて可能となった。なお、ここで透明導電
材としては酸化インジウムスズ(ITO)や酸化インジ
ウム亜鉛(IZO)、酸化インジウムゲルマニウム(I
GO)などが挙げられる。As a result, the fishbone IPS can be effectively combined with the transparent conductive film, and the trade-off between high definition and high aperture ratio can be solved. Therefore, it is possible to simultaneously achieve all the demands for high definition, high aperture ratio, and high image quality required for liquid crystal display devices by using a fishbone IP using a transparent conductive film for the pixel electrode and the common electrode.
It became possible by S for the first time. Here, as the transparent conductive material, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium germanium oxide (I
GO) and the like.
【0082】また、このフィッシュボーンIPS構造で
は、電極間隔の設計に裕度があると云う利点がある。従
来のS−TFTなどでは、櫛歯電極によって画素を短軸
方向(通常は走査配線方向)で分割していたのに対し、
フィッシュボーン構造では画素を長手方向(通常は信号
配線方向)で分割するためである。このことは液晶表示
装置にとって非常に大きな利点である。In addition, this fishbone IPS structure has an advantage that there is a margin in the design of the electrode spacing. In the conventional S-TFT and the like, the pixel is divided in the short axis direction (usually the scanning wiring direction) by the comb-teeth electrode, whereas
This is because the pixels are divided in the longitudinal direction (usually the signal wiring direction) in the fishbone structure. This is a great advantage for liquid crystal display devices.
【0083】これについて説明する。液晶表示装置の表
示特性は液晶材料に大きく依存することが分かってい
る。例えば、駆動電圧は液晶の誘電率異方性(Δε)な
どに大きく依存する。このような液晶表示装置において
表示特性を安定化するためには、液晶表示装置の精細度
に係らず、同一の液晶材料を使用することが望まれる。
上記のように、このフィッシュボーン構造においては電
極間隔設計の裕度があるために、液晶材料に合わせて電
極間隔を設定でき、同一の液晶材料を使用することが可
能である。このことは生産性向上に大きく貢献する。さ
らに、透明導電膜を採用することにより、電極間隔を狭
めることが可能となり、駆動電圧の低減、即ち、低消費
電力化に大きく寄与する。This will be described. It has been known that the display characteristics of a liquid crystal display device largely depend on the liquid crystal material. For example, the driving voltage greatly depends on the dielectric anisotropy (Δε) of the liquid crystal. In order to stabilize the display characteristics in such a liquid crystal display device, it is desirable to use the same liquid crystal material regardless of the definition of the liquid crystal display device.
As described above, in this fishbone structure, there is a margin in the design of the electrode spacing, so the electrode spacing can be set according to the liquid crystal material, and the same liquid crystal material can be used. This greatly contributes to productivity improvement. Further, by adopting the transparent conductive film, the electrode interval can be narrowed, which greatly contributes to the reduction of driving voltage, that is, the reduction of power consumption.
【0084】次に、さらなる電極構造の工夫によって、
フィッシュボーンIPSの開口率を上げるための手段を
検討した。以下、その具体的電極構造を示し、それぞれ
について詳細に説明する。Next, by further devising the electrode structure,
The means for increasing the aperture ratio of fishbone IPS were examined. Hereinafter, specific electrode structures thereof will be shown and each will be described in detail.
【0085】(1)最上層共通電極構造
図2は本電極構造の説明図で、図1に示したフィッシュ
ボーンIPS構造と比較して、共通電極203が絶縁膜
206を介し画素電極202の上層に形成された構造で
ある。電極基板側で共通電極203がその他電極および
配線も含めた電極群の中で最も上層(最も液晶層に近い
層)に形成されていると云う意味で「最上層共通電極」
構造と云う。なお、画素電極と共通電極は透明電極であ
り、共通電極は共通配線と一体化している。(1) Uppermost layer common electrode structure FIG. 2 is an explanatory diagram of the present electrode structure. Compared with the fishbone IPS structure shown in FIG. 1, the common electrode 203 is an upper layer of the pixel electrode 202 with the insulating film 206 interposed therebetween. It is a structure formed in. "The uppermost common electrode" in the sense that the common electrode 203 is formed in the uppermost layer (the layer closest to the liquid crystal layer) in the electrode group including other electrodes and wirings on the electrode substrate side.
It is called a structure. The pixel electrode and the common electrode are transparent electrodes, and the common electrode is integrated with the common wiring.
【0086】このような電極構造では、液晶分子の電圧
無印加時の初期配向方向(ラビング方向)と、表示領域
以外に発生するノイズ電界(共通電極と信号配線間に生
じる電界、または共通電極と走査配線間に生じる電界)
の方向を利用して、信号配線方向の遮光用ブラックマト
リクス、もしくは走査配線方向の遮光用ブラックマトリ
クスのどちらか一方を不要とすることができる。In such an electrode structure, the initial alignment direction (rubbing direction) of the liquid crystal molecules when no voltage is applied, and the noise electric field (electric field generated between the common electrode and the signal wiring or the common electrode) generated outside the display region. Electric field generated between scanning lines)
It is possible to eliminate the need for either the light-shielding black matrix in the signal wiring direction or the light-shielding black matrix in the scanning wiring direction by utilizing the above direction.
【0087】従来、このような遮光用ブラックマトリク
スは、電極基板の対向基板であるカラーフィルタ側に形
成され、液晶表示装置の製造工程において、これら基板
の重ね合わせのずれは、液晶表示装置としての開口率が
低下する一つの要因となっていた。従って、遮光用ブラ
ックマトリクスが不要になると云うことは、重ね合わせ
の裕度を生じ、重ね合わせずれによる開口率の低下の抑
制につながる。その結果、液晶表示装置としての開口率
を向上することができる。以下、本電極構造において遮
光用ブラックマトリクスが不要になる理由を述べる。Conventionally, such a light-shielding black matrix is formed on the side of a color filter which is a counter substrate of an electrode substrate, and in a manufacturing process of a liquid crystal display device, misalignment of these substrates is caused in the liquid crystal display device. It was one of the factors that lowered the aperture ratio. Therefore, the fact that the black matrix for shading is not necessary causes a margin of superposition, which leads to the suppression of the reduction of the aperture ratio due to the misalignment of superposition. As a result, the aperture ratio of the liquid crystal display device can be improved. The reason why the black matrix for shading is unnecessary in the present electrode structure will be described below.
【0088】図2に示した構造から分かるように、信号
配線201と共通電極203の間に印加される電界の方
向は走査配線204に平行な方向となり、さらに走査配
線204と共通電極203の間に印加される電界の方向
は信号配線201と平行な方向となる。なお、偏光板は
クロスニコル配置であり、ノーマリークローズモード
(電圧無印加時に黒表示)である。As can be seen from the structure shown in FIG. 2, the direction of the electric field applied between the signal wiring 201 and the common electrode 203 is parallel to the scanning wiring 204, and further between the scanning wiring 204 and the common electrode 203. The direction of the electric field applied to is parallel to the signal wiring 201. The polarizing plates are arranged in a crossed Nicol mode, and are in a normally closed mode (black display when no voltage is applied).
【0089】この時、液晶材料として、ポジ型液晶(液
晶分子の誘電率異方性が正(Δε>0)を用いた場合に
は、ラビング方向(電圧無印加状態での液晶分子初期配
向方向に一致)は信号配線に垂直(走査配線に平行)方
向であり、信号配線と最上層共通電極間に生じる電界方
向と一致する。このため、その領域での液晶分子は初期
状態から動くことが無く、黒表示となる。従って、信号
配線近傍で光の漏れが無く自己遮光効果を有し、信号配
線方向の遮光用ブラックマトリクスを不要とすることが
できる。At this time, when a positive liquid crystal (dielectric anisotropy of liquid crystal molecules is positive (Δε> 0) is used as the liquid crystal material, the rubbing direction (the initial alignment direction of the liquid crystal molecules when no voltage is applied) is used. Coincides with the direction of the electric field generated between the signal line and the common electrode in the uppermost layer, which means that liquid crystal molecules in that region may move from their initial state. Therefore, there is no light leakage in the vicinity of the signal wiring, the self-shading effect is obtained, and the black matrix for shading in the signal wiring direction can be eliminated.
【0090】一方、ネガ型液晶を用いた場合には、ラビ
ング方向(電圧無印加状態での液晶分子初期配向方向に
一致)は信号配線に平行(走査配線に垂直)方向であ
り、これは共通電極と走査配線間に生じる電界方向に一
致する。このため、その領域での液晶分子は初期状態か
ら動くことが無く、黒表示となる。従って、走査配線近
傍で光の漏れが無く自己遮光効果を有し、走査配線方向
の遮光用ブラックマトリクスを不要とすることができ
る。On the other hand, when the negative type liquid crystal is used, the rubbing direction (which coincides with the initial alignment direction of liquid crystal molecules when no voltage is applied) is parallel to the signal wiring (perpendicular to the scanning wiring), and this is common. It matches the direction of the electric field generated between the electrode and the scanning wiring. Therefore, liquid crystal molecules in that region do not move from the initial state, and black display is performed. Therefore, there is no light leakage in the vicinity of the scanning wiring and the self-shielding effect is achieved, and the black matrix for shading in the scanning wiring direction can be eliminated.
【0091】特に、信号配線に比べ走査配線は、表示む
らを引起こすTFTスイッチの遅延に大きく影響するた
めに、できる限りの低抵抗化が求められている。これに
対して、走査配線材料としてアルミなどの低比抵抗の材
料を用いることはもちろん、配線幅を広くすることによ
り低抵抗化を達成している。In particular, the scanning wiring has a greater effect on the delay of the TFT switch that causes display unevenness than the signal wiring, so that the resistance is required to be as low as possible. On the other hand, a low specific resistance material such as aluminum is used as the scanning wiring material, and the resistance is reduced by widening the wiring width.
【0092】従って、本電極構造においては、ネガ型液
晶を用い、この幅広い走査配線方向のブラックマトリク
スを不要とできることは、ポジ型液晶を用いて信号配線
方向のブラックマトリクスを不要とするよりも開口率の
向上に大きく貢献する。Therefore, in the present electrode structure, the negative type liquid crystal is used, and the black matrix in the wide scanning line direction can be eliminated, as compared with the case where the positive type liquid crystal is used and the black matrix in the signal line direction is not required. It greatly contributes to the improvement of the rate.
【0093】また、ポジ型液晶とネガ型液晶では、画素
領域内で生じる電界方向による挙動が異なることから、
次のような特徴を生じる。Further, since the positive type liquid crystal and the negative type liquid crystal behave differently depending on the direction of the electric field generated in the pixel region,
The following characteristics are produced.
【0094】即ち、ポジ型液晶を用いた場合よりもネガ
型液晶を用いた場合の方が最終的な透過率は高い。特
に、高精細化に伴い、電圧を印加するための電極間隔が
狭くなり、電極材料としてITOなどの透明電極を用い
た場合には、その差は大きい。以下、この点について説
明する。That is, the final transmittance is higher when the negative liquid crystal is used than when the positive liquid crystal is used. In particular, the gap between electrodes for applying a voltage becomes narrower as the definition becomes higher, and the difference is large when a transparent electrode such as ITO is used as an electrode material. Hereinafter, this point will be described.
【0095】本電極構造のように同一基板面に2種の異
なる電極(画素電極と共通電極)が形成され、これら電
極間に電圧が印加された場合には、基本的に基板面に平
行な横電界を生じる。しかし、特に電極近傍では液晶層
に印加される電界は均一な横電界とはならず、同時に縦
電界成分も生じる。この縦電界成分は電極間隔が狭まく
なるほどその割合も大きくなる。When two kinds of different electrodes (pixel electrode and common electrode) are formed on the same substrate surface as in the present electrode structure and a voltage is applied between these electrodes, the electrodes are basically parallel to the substrate surface. A transverse electric field is generated. However, especially in the vicinity of the electrodes, the electric field applied to the liquid crystal layer does not become a uniform horizontal electric field, and at the same time, a vertical electric field component is generated. The ratio of this vertical electric field component increases as the electrode spacing decreases.
【0096】ポジ型液晶では、この縦電界成分により基
板面に対して液晶分子が立ち上がってしまう。この液晶
分子の立ち上がりにより、液晶層としての実効的な屈折
率異方性Δnが変化し、Δnの最適値からのずれにより
透過率は低下する。In the positive type liquid crystal, liquid crystal molecules stand up on the surface of the substrate due to this vertical electric field component. Due to the rising of the liquid crystal molecules, the effective refractive index anisotropy Δn of the liquid crystal layer changes, and the transmittance decreases due to the deviation from the optimum value of Δn.
【0097】一方、ネガ型液晶においては、誘電率異方
性が負であるために電界の縦成分には影響されず、液晶
分子が立ち上がることがない。従って、実効的な屈折率
異方性Δnが変化し難く、最大透過率も下がることはな
い。高精細化などで開口率が低下した場合はもちろん、
透過率の向上にはポジ型液晶に比べネガ型液晶の方が有
効である。On the other hand, in the negative type liquid crystal, since the dielectric anisotropy is negative, it is not affected by the vertical component of the electric field and the liquid crystal molecules do not rise. Therefore, the effective refractive index anisotropy Δn hardly changes, and the maximum transmittance does not decrease. Of course, when the aperture ratio decreases due to high definition,
Negative type liquid crystals are more effective than positive type liquid crystals for improving the transmittance.
【0098】さらにポジ型液晶では、この縦電界成分に
よる液晶分子立ち上がり方向が2方向ある。電極の両端
で立ち上がる方向が異なり、電極中央部がその境界とな
る。このような場合には、その境界において光が透過し
ない領域を形成するために、結果として最大透過率はネ
ガ型液晶を用いた場合に比べ低くなる。Further, in the positive type liquid crystal, there are two rising directions of liquid crystal molecules due to the vertical electric field component. The rising direction is different at both ends of the electrode, and the central part of the electrode serves as the boundary. In such a case, a region where light is not transmitted is formed at the boundary, and as a result, the maximum transmittance is lower than that in the case of using the negative type liquid crystal.
【0099】ネガ型液晶の場合には、縦電界成分に応じ
て液晶分子が基板面に対して立ち上がることが無く、基
板面に平行な面内でのみ回転することから、ポジ型液晶
のような境界線を生じることがない。なお、このような
境界を生じる領域は、主に櫛歯電極の中央部で生じ、本
発明のように電極材料としてITOなどの透明電極を用
いる場合には、透過率を低下させる大きな問題となる。
また、電極間隔を狭めるほど縦電界成分の割合が大きく
なり、この境界部での透過率低減は大きな課題となって
くる。In the case of a negative type liquid crystal, liquid crystal molecules do not rise up with respect to the substrate surface depending on the vertical electric field component and rotate only in a plane parallel to the substrate surface. No boundaries are created. The region where such a boundary is generated mainly occurs at the central portion of the comb-teeth electrode, and when a transparent electrode such as ITO is used as the electrode material as in the present invention, it causes a big problem of lowering the transmittance. .
Further, the narrower the electrode spacing, the larger the ratio of the vertical electric field component, and the reduction of the transmittance at this boundary becomes a major issue.
【0100】また図2では共通電極は共通配線と一体化
している。しかし、配線抵抗の問題等で、共通配線も透
明電極にすることが困難な場合には、図3で示すよう
に、最上層に形成された画素内の透明共通電極303は
スルーホール(コンタクトホール)309を介して、異
層に形成された金属共通配線310に接続されていても
よい。配線に用いる金属材料としては抵抗が低ければ特
に制約はなく、クロム、アルミニウム、銅などでもよ
い。Further, in FIG. 2, the common electrode is integrated with the common wiring. However, when it is difficult to make the common wiring a transparent electrode due to wiring resistance or the like, as shown in FIG. 3, the transparent common electrode 303 in the pixel formed on the uppermost layer is a through hole (contact hole). ) 309, it may be connected to the metal common wiring 310 formed in a different layer. The metal material used for the wiring is not particularly limited as long as it has low resistance, and chromium, aluminum, copper or the like may be used.
【0101】さらに、図3の構造では、共通配線310
と走査配線304は同層に形成されるため、図から連想
されるように共通配線310は隣りの画素の走査配線3
04と近接しているために短絡する可能性がある。Further, in the structure of FIG. 3, the common wiring 310
Since the scan line 304 and the scan line 304 are formed in the same layer, the common line 310 is the scan line 3 of the adjacent pixel as can be recalled from the figure.
Since it is close to 04, there is a possibility of short circuit.
【0102】これを回避するために一般にはこれら共通
配線310と隣の画素の走査配線304の間隔を広げて
設計する。しかし、これは光の通らない領域を広げるこ
とになり、開口率の低下につながる。そこで、図4のよ
うな電極構造も考えられる。In order to avoid this, in general, the common wiring 310 and the scanning wiring 304 of the adjacent pixel are designed to be widened. However, this increases the area where light cannot pass, leading to a reduction in the aperture ratio. Therefore, an electrode structure as shown in FIG. 4 is also conceivable.
【0103】共通電極410を画素の中心部に配置し、
かつ、くの字電極は画素中心を対称点として反転させた
配置となっている。このような構造では図3の構造のよ
うに無駄な共通配線と走査配線の間を広げる必要もな
く、光の透過しない領域を最小限に抑えることができ、
走査配線方向のブラックマトリクス幅を狭くできるた
め、結果として開口率を向上できる。The common electrode 410 is arranged at the center of the pixel,
Moreover, the V-shaped electrodes are arranged so as to be inverted with respect to the pixel center. With such a structure, it is not necessary to widen the space between the common wiring and the scanning wiring as in the structure of FIG. 3, and the region where light is not transmitted can be minimized.
Since the width of the black matrix in the scanning wiring direction can be narrowed, the aperture ratio can be improved as a result.
【0104】また、中心部の共通電極部が広いためにス
ルーホールの精度もそれほど要求されず生産性も高い。
さらに共通配線に対して、くの字電極が対称に配置され
ていることから、結果として一つの画素内に液晶駆動方
向の異なる領域が4つ存在することになる。これは視野
角の拡大、斜め方向からの色付きを低減できると云う優
れた効果を生む。なお、このような電極構造は図4の構
造に限られる訳けでなく、以下に述べる電極構造にも適
用できる。Further, since the common electrode portion in the central portion is wide, the accuracy of the through hole is not so required and the productivity is high.
Further, since the V-shaped electrodes are symmetrically arranged with respect to the common wiring, as a result, four regions having different liquid crystal driving directions are present in one pixel. This produces an excellent effect that the viewing angle can be widened and coloring from an oblique direction can be reduced. Note that such an electrode structure is not limited to the structure shown in FIG. 4 and can be applied to the electrode structure described below.
【0105】最上層共通電極構造により図1の電極構造
に比べ高開口率化を達成でき、さらに電極の配置工夫に
より画質の向上をも図ることができる。With the common electrode structure of the uppermost layer, a higher aperture ratio can be achieved as compared with the electrode structure of FIG. 1, and the image quality can be improved by devising the arrangement of the electrodes.
【0106】(2)共通電極が信号配線に重畳した電極
構造
本電極構造においては図5で説明する。本電極構造は図
2〜4に示した電極構造と比較して、最上層に形成され
た共通電極を走査配線と平行な方向に引き伸ばし、その
端部を信号配線に重畳した構造になっている。なお、信
号配線と共通電極の重畳によって形成される負荷容量を
できるだけ低減するために、これら電極間には誘電率の
低い絶縁膜511、例えば有機絶縁膜などが介在してい
る。なお、前記(1)と同様に共通電極および画素電極
は透明導電材で形成され、共通電極はスルーホールを介
して金属で形成された共通配線に接続されていてもよ
い。(2) Electrode Structure in which Common Electrode is Overlaid on Signal Wiring This electrode structure will be described with reference to FIG. Compared with the electrode structure shown in FIGS. 2 to 4, this electrode structure has a structure in which the common electrode formed in the uppermost layer is extended in a direction parallel to the scanning wiring and the end portion thereof is superimposed on the signal wiring. . Note that an insulating film 511 having a low dielectric constant, such as an organic insulating film, is interposed between these electrodes in order to reduce the load capacitance formed by overlapping the signal wiring and the common electrode as much as possible. Note that the common electrode and the pixel electrode may be formed of a transparent conductive material, and the common electrode may be connected to a common wiring formed of metal through a through hole, as in the above (1).
【0107】このような電極構造においては、信号配線
501と共通電極503が重畳している領域では、電界
がほとんど印加されず液晶分子は動かない。即ち、この
領域では自己遮光効果により光が漏れることは無い。従
って、対向基板に形成されるカラーフィルタにも信号配
線方向の遮光用ブラックマトリクスが不要となり、その
基板合わせずれによる開口率の低下を抑制できる。In such an electrode structure, an electric field is hardly applied and liquid crystal molecules do not move in a region where the signal wiring 501 and the common electrode 503 overlap. That is, light does not leak in this region due to the self-shielding effect. Therefore, the color filter formed on the counter substrate does not need the black matrix for light shielding in the signal wiring direction, and it is possible to suppress the decrease in the aperture ratio due to the substrate misalignment.
【0108】さらに、このような電極構造では、前記
(1)で示した電極構造に比べ、共通電極が走査配線延
在方向に平行な方向で広くなっているために開口率が向
上する。これら2つの効果により開口率の向上が望め
る。Further, in such an electrode structure, the aperture ratio is improved because the common electrode is wider in the direction parallel to the extending direction of the scanning wiring than in the electrode structure shown in (1) above. The improvement of the aperture ratio can be expected by these two effects.
【0109】(3)共通電極が走査配線に重畳した電極
構造
図6は本電極構造の模式図である。本電極構造は図2〜
4に示した電極構造と比較して、最上層に形成された共
通電極を信号配線と平行な方向に引き伸ばし、その端部
を走査配線に重畳した構造になっている。なお、走査配
線と共通電極の重畳によって形成される負荷容量をでき
るだけ低減するために、これらの電極間には誘電率の低
い絶縁膜が介在している。なお、前記(1)と同様に共
通電極および画素電極は透明導電材で形成され、共通電
極はスルーホールを介して金属で形成された共通配線に
接続されていてもよい。(3) Electrode Structure in which Common Electrode is Overlaid on Scanning Wiring FIG. 6 is a schematic diagram of this electrode structure. This electrode structure is shown in Figs.
Compared with the electrode structure shown in FIG. 4, the common electrode formed in the uppermost layer is extended in the direction parallel to the signal wiring, and the end portion thereof is superposed on the scanning wiring. Note that an insulating film having a low dielectric constant is interposed between these electrodes in order to reduce the load capacitance formed by the superposition of the scanning wiring and the common electrode as much as possible. Note that the common electrode and the pixel electrode may be formed of a transparent conductive material, and the common electrode may be connected to a common wiring formed of metal through a through hole, as in the above (1).
【0110】この構造においても開口率の向上が期待で
きる。即ち、前記(2)における信号配線が走査配線に
置き換わった点を考えれば、カラーフィルタにおいて走
査配線方向のブラックマトリクスは不要である。また、
前記(1)で説明した理由において、信号配線方向のブ
ラックマトリクスも不要となる。これら2つのブラック
マトリクスが不要となることから、基板合わせづれによ
り生じる開口率の低下を大幅に抑えることができる。Even in this structure, improvement of the aperture ratio can be expected. That is, considering that the signal wiring in (2) is replaced with the scanning wiring, the black matrix in the scanning wiring direction is not necessary in the color filter. Also,
For the reason described in (1) above, the black matrix in the signal wiring direction is also unnecessary. Since these two black matrices are not necessary, it is possible to greatly suppress the decrease in the aperture ratio caused by the misalignment of the substrates.
【0111】(4)共通電極が走査配線および信号配線
の両方に重畳した電極構造
本電極構造においては図7で説明する。本電極構造は図
2〜4に示した電極構造と比較して、最上層の共通電極
を走査配線方向および信号配線方向の双方向に引き伸ば
し、共通電極を走査配線と信号配線の両方に重畳した構
造である。(4) Electrode Structure in which Common Electrode is Overlaid on Both Scanning Wiring and Signal Wiring This electrode structure will be described with reference to FIG. Compared with the electrode structure shown in FIGS. 2 to 4, this electrode structure stretches the uppermost common electrode in both the scanning wiring direction and the signal wiring direction, and the common electrode is superposed on both the scanning wiring and the signal wiring. It is a structure.
【0112】この電極構造によれば、電極が重畳してい
る領域で自己遮光効果を有すること、そして、カラーフ
ィルタにおいて走査配線方向および信号配線方向の遮光
用ブラックマトリクスが不要であることから、前記
(2),(3)の構造よりも高開口率を望める。According to this electrode structure, the self-shading effect is provided in the region where the electrodes are overlapped, and the black matrix for shading in the scanning wiring direction and the signal wiring direction is unnecessary in the color filter. A higher aperture ratio can be expected than the structures of (2) and (3).
【0113】なお、前記(1)と同様に共通電極および
画素電極は透明導電材で形成され、共通電極はスルーホ
ールを介して金属で形成された共通配線に接続されてい
てもよい。As in the case of (1), the common electrode and the pixel electrode may be made of a transparent conductive material, and the common electrode may be connected to a common wiring made of metal through a through hole.
【0114】上記ではフィッシュボーン構造として画素
電極および共通電極をくの字型とした。しかし、くの字
電極の屈曲部付近は、電界印加時に液晶分子が回転する
方向が異なる領域の境界になっている。そのために、い
わゆるリバースドメインを生じ、そのような領域では暗
くなる。このようなドメインを無くし、できるだけその
境界領域において安定的に光を透過させるために、各共
通電極および画素電極をY字構造にしてもよい。図8に
示したように、画素電極802、共通電極803共に透
明導電膜で形成されたY字構造である。各電極がY字構
造であるために、画素内では図18に示したような電界
22の発生により、リバースドメインを生じ難い。な
お、このY字型電極構造は上記で説明した前記(1)〜
(4)の全ての構造に適用できる。適用した電極構造を
図9〜11に示した。In the above, the pixel electrode and the common electrode have a dogleg shape as the fishbone structure. However, the vicinity of the bent portion of the doglegged electrode is the boundary of the regions where the liquid crystal molecules rotate in different directions when an electric field is applied. As a result, a so-called reverse domain is generated, and the area becomes dark. Each common electrode and pixel electrode may have a Y-shaped structure in order to eliminate such a domain and transmit light stably in the boundary region as much as possible. As shown in FIG. 8, both the pixel electrode 802 and the common electrode 803 have a Y-shaped structure formed of a transparent conductive film. Since each electrode has a Y-shaped structure, the reverse domain is unlikely to occur in the pixel due to the generation of the electric field 22 as shown in FIG. In addition, this Y-shaped electrode structure has the above-mentioned (1) to
It can be applied to all structures of (4). The applied electrode structure is shown in FIGS.
【0115】なお、上記の前記(1)〜(4)で説明し
た図2〜11の電極構造では、信号配線と画素電極を同
一層で形成した場合として示しているが、信号配線と画
素電極は絶縁膜を介して異層に形成されていてもよい。
同層に形成されている場合に、画素電極と信号配線が短
絡する可能性がある。従ってこのことを考えれば、例え
ば図14に示したように信号配線と画素電極は、異層に
形成する方が生産効率を向上することができる。In the electrode structures of FIGS. 2 to 11 described in the above (1) to (4), the signal wiring and the pixel electrode are formed in the same layer, but the signal wiring and the pixel electrode are shown. May be formed in a different layer via an insulating film.
When formed in the same layer, the pixel electrode and the signal wiring may be short-circuited. Therefore, considering this, for example, as shown in FIG. 14, it is possible to improve the production efficiency by forming the signal wiring and the pixel electrode in different layers.
【0116】また、画質の向上を追及する上では残像・
画像焼付き現象の解決も重要な課題である。ここで云う
残像・画像焼付き現象とは、一つの画像を長時間表示さ
せた後に別の画像を表示した時、それまで表示されてい
た前の画像が同時に表示される現象である。In addition, in the pursuit of improvement in image quality, afterimages
Resolving the image sticking phenomenon is also an important issue. The afterimage / image sticking phenomenon mentioned here is a phenomenon in which, when one image is displayed for a long time and then another image is displayed, the previous image that has been displayed up to that time is simultaneously displayed.
【0117】なお、フィッシュボーンIPSのように同
一基板面に形成された異なる電極間に電圧を印加するこ
とによって基板面にほぼ平行な電界を生じ、これにより
液晶分子を基板にほぼ平行な面内で駆動させることによ
って光をスイッチするIPS方式の液晶表示装置では、
従来のTN方式で見られた電荷の残留により発生する残
像と、これら残留電荷に依存しない残像があることは分
かっている。By applying a voltage between different electrodes formed on the same substrate surface as in the fishbone IPS, an electric field almost parallel to the substrate surface is generated, which causes liquid crystal molecules to be in a plane substantially parallel to the substrate. In the IPS type liquid crystal display device that switches light by driving
It has been known that there are afterimages caused by the residual charge observed in the conventional TN method and afterimages that do not depend on these residual charges.
【0118】この蓄積電界に依存しない残像・画像焼付
き現象はIPS方式特有の現象であり、特開平10−3
19406号公報に示されているように、電界印加によ
って液晶分子の面内捻れ変形で発生する回転トルクによ
り、液晶分子の初期配向方向を規制している配向膜表面
が、塑性変形することによって生じるものと考えられて
いる。The afterimage / image sticking phenomenon which does not depend on the accumulated electric field is a phenomenon peculiar to the IPS system.
As disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 19406, the rotational torque generated by the in-plane twist deformation of liquid crystal molecules due to the application of an electric field is caused by the plastic deformation of the alignment film surface that regulates the initial alignment direction of the liquid crystal molecules. Is believed to be.
【0119】残留電荷により発生する残像現象について
は、液晶表示素子を多層誘電体と考え、図17に示すよ
うに、共通電極3と画素電極2の間の電界が通る経路か
ら、抵抗Rと容量CからなるCR等価回路モデルを考え
ると、系全体の緩和時定数τ(∝C×R)を小さくし、
液晶表示素子内に蓄積した電荷を抜け易くすることによ
り解決できる。Regarding the afterimage phenomenon caused by the residual charge, the liquid crystal display element is considered to be a multi-layered dielectric, and as shown in FIG. Considering a CR equivalent circuit model consisting of C, the relaxation time constant τ (∝C × R) of the entire system is reduced,
This can be solved by making it easier for the charges accumulated in the liquid crystal display element to escape.
【0120】その具体的手段としては、電圧が印加され
る画素電極と共通電極の間に誘電体、即ち、絶縁膜をで
きるだけ多く介在させることである。例えば、本発明で
提案した最上層に共通電極を配置したフィッシュボーン
IPSでは、図14(a)に示したように、画素電極2
は最下層にあることが望ましい。この構造では共通電極
3と画素電極2の間に配向膜、液晶、配向膜、絶縁膜3
層の計6層の誘電体が介在していることになる。As a concrete means, a dielectric, that is, an insulating film, is interposed as much as possible between the pixel electrode to which the voltage is applied and the common electrode. For example, in the fishbone IPS in which the common electrode is arranged on the uppermost layer proposed by the present invention, as shown in FIG.
Is preferably in the bottom layer. In this structure, the alignment film, the liquid crystal, the alignment film, and the insulating film 3 are provided between the common electrode 3 and the pixel electrode 2.
A total of 6 layers of dielectric material are interposed.
【0121】もう一つの残留電荷に依存しない残像現象
については、配向膜の弾性率を大きくし、塑性変形を抑
制することにより解決する手段が特開平10−3194
06号公報に示されている。Regarding the residual image phenomenon which does not depend on the residual charge, a means for solving it by increasing the elastic modulus of the alignment film and suppressing plastic deformation is disclosed in JP-A-10-3194.
No. 06 publication.
【0122】一方、本発明者の検討から、この配向膜表
面の塑性変形による残像は、液晶に極度に大きな電界
が印加された領域で生じていること、ラビング効率の
低い(ラビング布毛が当り難い)領域で生じていること
が分かった。On the other hand, according to the study by the present inventor, the afterimage due to the plastic deformation of the surface of the alignment film is generated in the region where an extremely large electric field is applied to the liquid crystal, and the rubbing efficiency is low (the rubbing cloth hits). It was found that it occurred in the (difficult) area.
【0123】そこでまずに基づきフィッシュボーンI
PSでの電極構造を考えると、特に、Y字型電極を有す
る構造では、画素内に交互に配置されたY字型の画素電
極および共通電極の中心部位が、図12(b)に示すよ
うに、隣合う電極で重畳して形成されている場合、これ
ら電極の間隔は実質的にそれらの間に介在する絶縁膜6
の厚みに等しい。このような領域では電界集中を生じ、
画素内の他領域に比べ極度に大きな電界を発生する。こ
れにより配向膜表面の塑性変形による残像を生じる結果
となる。Therefore, first, based on Fishbone I
Considering the electrode structure of the PS, particularly in the structure having the Y-shaped electrode, the central portions of the Y-shaped pixel electrodes and the common electrode alternately arranged in the pixel are as shown in FIG. In the case where adjacent electrodes are formed so as to overlap with each other, the space between these electrodes is substantially the same as the insulating film 6 interposed therebetween.
Equal to the thickness of. Electric field concentration occurs in such areas,
An extremely large electric field is generated as compared with other regions in the pixel. This results in an afterimage due to plastic deformation of the surface of the alignment film.
【0124】またについても、これら電極の重畳して
いる部位では大きな電極段差を生じる。このような段差
の大きな領域ではラビング効率が低くなり残像を生じる
結果となる。そこで、本発明ではフィッシュボーンIP
Sの特長を損なわず、残像現象を抑制するために、図1
2(a)に示すように隣合うY字電極の中心線が重畳し
ない構造とした。Also, regarding this, a large electrode step is generated in the portion where these electrodes overlap. In such an area having a large step, the rubbing efficiency is lowered, and an afterimage is generated. Therefore, in the present invention, fishbone IP
In order to suppress the afterimage phenomenon without impairing the features of S, FIG.
As shown in FIG. 2A, the structure is such that the center lines of adjacent Y-shaped electrodes do not overlap.
【0125】さらに、については図13に示すよう
に、最上層に形成された共通電極3の上に、画素内の電
極などによる段差を低減するための平坦化絶縁膜12を
塗布し、ラビングの効率を向上させることでも残像を抑
制できる。Further, as shown in FIG. 13, the common electrode 3 formed on the uppermost layer is coated with a flattening insulating film 12 for reducing a step due to an electrode in a pixel, and is rubbed. Afterimages can also be suppressed by improving efficiency.
【0126】また、この平坦化絶縁膜を塗布する効果
は、前記のCR等価回路モデルで考えると、緩和時間τ
を小さくすることに相当し、残留電荷により発生する残
像現象の抑制についても効果的である。The effect of applying this flattening insulating film is considered to be the relaxation time τ when considering the above CR equivalent circuit model.
Is also effective in suppressing the afterimage phenomenon caused by residual charges.
【0127】次に、液晶表示装置の高精細化について再
度考える。液晶表示装置の高精細化は画素が小さくな
り、それに伴う画素内の電極構成による課題だけを考え
ていても解決しない。高精細化により、各画素に信号を
供給する手段についても考える必要がある。Next, the high definition of the liquid crystal display device will be considered again. The high definition of a liquid crystal display device has a small pixel, and it cannot be solved even if only the problem due to the electrode configuration in the pixel is considered. It is also necessary to consider means for supplying a signal to each pixel due to high definition.
【0128】現在、一般にアクティブマトリクス型液晶
表示装置はアモルファスSi−TFTを用いたものが代
表的である。この場合、それらを駆動させるための駆動
ICを液晶表示素子の周辺に配置,接続しなければなら
ない。現状ではこの駆動ICの実装には主に2つの方
式、TCP実装とFCA実装がある。At present, a typical active matrix type liquid crystal display device uses an amorphous Si-TFT. In this case, a driving IC for driving them must be arranged and connected around the liquid crystal display element. At present, there are mainly two methods for mounting this driving IC, TCP mounting and FCA mounting.
【0129】TCP実装においては、現状ではおよそ1
30ppi程度までが限度とされており、さらなる高精
細化(例えば15インチモニタで写真画質並の表示をす
るためには、おおよそ140ppi程度が必要とされて
いる)にはFCA実装が有効である。In the TCP implementation, it is currently about 1
The limit is about 30 ppi, and FCA implementation is effective for further high definition (for example, about 140 ppi is required for displaying on a 15-inch monitor at a photo quality level).
【0130】一方、アモルファスSi−TFTを用いず
に多結晶Si−TFTを用いたアクティブマトリクス型
液晶表示装置がある。多結晶Si−TFTを用いること
により、駆動回路そのものを画素の中に組み込むことが
可能となる。駆動回路を一体化できることにより、例え
ば200ppiと云った高精細も可能となる。また、従
来の駆動回路の実装技術における制約がなくなる。即
ち、高精細液晶表示装置において、画素の電極群に信号
を供給し、駆動することを考えればFCA実装および多
結晶Si−TFT技術が有効である。以下にFCA実装
の詳細について述べる。高精細化に伴い、画素ピッチが
小さくなるために実装時の電極配線間隔も狭くなる。T
CP実装では駆動ICをフレキシブルなポリイミドなど
のテープ上に結線するために精度が高くなく、現在実用
化されている技術では130ppiが限度である。On the other hand, there is an active matrix type liquid crystal display device using a polycrystalline Si-TFT instead of an amorphous Si-TFT. By using the polycrystalline Si-TFT, the driving circuit itself can be incorporated in the pixel. Since the drive circuit can be integrated, a high definition of, for example, 200 ppi is possible. Further, there are no restrictions on the conventional mounting technology of the drive circuit. That is, in the high-definition liquid crystal display device, the FCA mounting and the polycrystalline Si-TFT technology are effective in view of supplying and driving a signal to the electrode group of the pixel. The details of FCA implementation are described below. Along with the higher definition, the pixel pitch becomes smaller, so that the electrode wiring interval at the time of mounting also becomes narrower. T
In the CP mounting, the drive IC is wired on a flexible tape such as polyimide, so that the accuracy is not high, and 130 ppi is the limit in the technology currently put into practical use.
【0131】一方、FCA実装では駆動ICを直接液晶
表示素子基板上に結線するために140ppi以上の精
細度でも十分に対応できる。これは駆動ICを形成する
材質(一般にはSi)も液晶表示素子基板(通常SiO
2)も硬質であり、フレキシブルなテープを介在しない
ためである。さらに、FCA実装による液晶表示装置で
はテープを用いず、結線回数を低減できるなど低コスト
化が可能であり、また、狭額縁化も可能であるという利
点もある。On the other hand, in the FCA mounting, since the driving IC is directly connected to the liquid crystal display element substrate, a fineness of 140 ppi or more can sufficiently cope. This is because the material forming the driving IC (generally Si) is also the liquid crystal display element substrate (generally SiO).
This is because 2 ) is also hard and does not involve a flexible tape. Further, in the liquid crystal display device mounted with FCA, there is an advantage that the cost can be reduced by not using a tape and the number of connection can be reduced, and the frame can be narrowed.
【0132】しかしながら、結線する駆動ICと基板と
も硬質であるために生じる課題もある。FCA実装にお
いては上記のように液晶表示素子の電極パターンと駆動
ICの電極パターンのアライメントを行った後、圧着ツ
ールを駆動IC側より押し当て、高温高圧の条件下で圧
着する。通常、圧着時の温度は170℃程度である。However, there is a problem that occurs because the drive IC and the substrate to be connected are hard. In the FCA mounting, after the electrode pattern of the liquid crystal display element and the electrode pattern of the driving IC are aligned as described above, a pressure bonding tool is pressed from the driving IC side and pressure bonding is performed under high temperature and high pressure conditions. Usually, the temperature during pressure bonding is about 170 ° C.
【0133】このような場合、駆動ICを形成する材質
(一般にはSi)と液晶表示素子基板の材質(Si
O2)の熱膨張係数が異なるために、圧着後に応力歪を
生じ、結線部位が接触不良となり、正常に画像を表示で
きない。In such a case, the material forming the drive IC (generally Si) and the material forming the liquid crystal display element substrate (Si
Since the coefficient of thermal expansion of O 2 ) is different, stress strain is generated after crimping, and the connection of the connecting portion becomes poor, so that an image cannot be displayed normally.
【0134】これを解決することを目的に、(1)駆動I
Cと液晶表示素子基板の間に応力緩和材を配置するこ
と、(2)駆動ICを形成する材料と液晶表示素子基板の
材料の熱膨張係数をほぼ同じにすること、(3)熱を加え
ずに駆動ICを紫外線硬化樹脂により結線すること、を
検討した。To solve this, (1) Drive I
Disposing a stress relaxation material between C and the liquid crystal display element substrate, (2) making the thermal expansion coefficient of the material forming the drive IC and the material of the liquid crystal display element substrate substantially the same, and (3) applying heat It was studied to connect the driving IC with an ultraviolet curable resin without using it.
【0135】応力緩和材を駆動ICと基板に接して配置
することで、駆動ICと液晶表示素子基板の間に生じる
応力歪を吸収し、接続不良を解決できる。また、両材料
の熱膨張係数をほぼ同じになるよう設計すれば、応力歪
はほとんど生じない。さらに、紫外線硬化樹脂を用いて
熱を加えずに常温で結線すれば、各材料間の熱膨張係数
の違いに関係なく応力歪を生じない。By disposing the stress relaxation material in contact with the drive IC and the substrate, the stress strain generated between the drive IC and the liquid crystal display element substrate can be absorbed and the connection failure can be solved. Further, if the two materials are designed so that the coefficients of thermal expansion are almost the same, stress strain hardly occurs. Furthermore, if the ultraviolet curable resin is used and the wires are connected at room temperature without applying heat, stress strain does not occur regardless of the difference in thermal expansion coefficient between the respective materials.
【0136】FCA実装には応力歪以外にもう一つ課題
がある。駆動ICで発生した熱が直接液晶表示素子基板
に伝導し、この熱により液晶の温度が上昇し、例えば、
Tni点(液晶相・等方相相転移温度)を超えるなどし
て液晶表示素子周辺で輝度ムラを生じる。特に、現状の
IPS液晶表示装置では高い駆動電圧を必要とするため
に高出力駆動ICを用いざるを得ない。しかし、このよ
うな高出力駆動ICは高い熱を発し易く、液晶表示装置
周辺での輝度ムラが顕著である。There is another problem in FCA mounting other than stress and strain. The heat generated by the driving IC is directly conducted to the liquid crystal display element substrate, and the heat raises the temperature of the liquid crystal.
Brightness unevenness occurs around the liquid crystal display element, for example, when it exceeds the Tni point (liquid crystal phase / isotropic phase transition temperature). Particularly, in the current IPS liquid crystal display device, a high output driving IC is inevitably used because a high driving voltage is required. However, such a high output drive IC easily emits high heat, and brightness unevenness is remarkable around the liquid crystal display device.
【0137】これの解決を目的に、駆動ICと液晶表示
素子基板との間に断熱材または熱吸収材を配置すること
を検討した。このように断熱材または熱吸収材を配置、
あるいはこれら材料で駆動ICを包み込むことによっ
て、駆動ICで発生した熱を液晶表示素子基板への伝導
を抑制する。For the purpose of solving this, it was examined to dispose a heat insulating material or a heat absorbing material between the drive IC and the liquid crystal display element substrate. Arrange the heat insulating material or heat absorbing material in this way,
Alternatively, by enclosing the drive IC with these materials, the heat generated in the drive IC is suppressed from being conducted to the liquid crystal display element substrate.
【0138】最後に生産性について述べる。一部既述し
たように、フィッシュボーン構造ではどのような精細度
においても、液晶材料をほとんど変える必要がないこと
から、生産性の向上を望めることを示したが、ここでは
製造工程について述べる。Finally, the productivity will be described. As described above, it has been shown that productivity can be expected in the fishbone structure because the liquid crystal material hardly needs to be changed at any degree of fineness, but the manufacturing process will be described here.
【0139】現在、液晶表示装置の製造工程おいて、そ
の製造時間の大半は液晶表示装置内への液晶注入工程に
ある。液晶注入工程では、一般に液晶表示素子内を真空
状態にし、その上で予め液晶表示素子に設けた封入口か
ら液晶を注入する。基本的に液晶の浸透はラビング方向
に沿った方向が最も早く、ラビング方向に垂直な方向が
最も遅い。従って、図16に示すように、液晶注入口1
9はラビング方向17とほぼ垂直な辺に配置するのがよ
い。At present, in the manufacturing process of a liquid crystal display device, most of the manufacturing time is in the process of injecting liquid crystal into the liquid crystal display device. In the liquid crystal injection step, generally, the inside of the liquid crystal display element is set to a vacuum state, and then liquid crystal is injected from a sealing port provided in the liquid crystal display element in advance. Basically, the penetration of liquid crystal is the fastest in the direction along the rubbing direction and the slowest in the direction perpendicular to the rubbing direction. Therefore, as shown in FIG.
9 is preferably arranged on a side substantially perpendicular to the rubbing direction 17.
【0140】フィッシュボーンIPS構造において、ポ
ジ型液晶を用いた場合にはラビング方向17は液晶表示
素子の長軸にほぼ平行な方向であることから、液晶表示
素子の短軸側に液晶注入口19を配置すればよい(図1
6(a))。In the fishbone IPS structure, when the positive type liquid crystal is used, the rubbing direction 17 is substantially parallel to the long axis of the liquid crystal display element, so that the liquid crystal injection port 19 is provided on the short axis side of the liquid crystal display element. Should be placed (Fig. 1
6 (a)).
【0141】また、ネガ型液晶を用いた場合にはラビン
グ方向17が液晶表示素子の短軸にほぼ平行な方向であ
ることから、液晶表示素子の長辺側に液晶注入口19を
配置すればよい(図16(b))。これにより生産効率
を向上することができる。When the negative type liquid crystal is used, the rubbing direction 17 is substantially parallel to the short axis of the liquid crystal display element. Therefore, if the liquid crystal injection port 19 is arranged on the long side of the liquid crystal display element. Good (Fig. 16 (b)). This can improve the production efficiency.
【0142】以下に本発明の実施例を図を用いて具体的
に説明する。本実施例では特に14.1インチ液晶表示
装置における141ppi仕様(UXGA相当)につい
て、開口率および視野角、色付きなどの画質を評価,検
討しているが、本発明はこの精細度に限られず、それ以
上の精細度に対しても適用できる。Embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings. In this embodiment, the image quality such as the aperture ratio, viewing angle, and coloring is evaluated and examined especially for the 141 ppi specification (equivalent to UXGA) in the 14.1 inch liquid crystal display device, but the present invention is not limited to this definition. It can be applied to higher definition.
【0143】〔実施例 1〕本実施例での液晶表示装置
の画素部の概略図を図1に示す。また、図20に表示マ
トリクス部の等価回路とその周辺回路を示した。Example 1 FIG. 1 shows a schematic view of a pixel portion of a liquid crystal display device of this example. Further, FIG. 20 shows an equivalent circuit of the display matrix portion and its peripheral circuits.
【0144】液晶表示装置はくの字電極構造のフィッシ
ュボーンIPSであり、同一基板上に形成された画素電
極102と共通電極103との間に電圧を印加し、これ
により発生する基板面にほぼ平行な電界により液晶分子
を駆動させ、光学的な状態を制御し、画像を表示する。The liquid crystal display device is a fishbone IPS having a dogleg-shaped electrode structure, and a voltage is applied between the pixel electrode 102 and the common electrode 103 formed on the same substrate, and the voltage is almost generated on the substrate surface. Liquid crystal molecules are driven by parallel electric fields to control the optical state and display an image.
【0145】液晶表示素子は表示部が対角14.1イン
チであり、解像度は141ppi(UXGA相当)であ
る。なお、画素ピッチは180マイクロメータ(μm)
である。液晶表示素子を形成する基板には、厚さ0.7
mmで表面を研磨したガラス基板を用いた。The liquid crystal display device has a diagonal display of 14.1 inches and a resolution of 141 ppi (equivalent to UXGA). The pixel pitch is 180 micrometers (μm)
Is. The substrate on which the liquid crystal display element is formed has a thickness of 0.7.
A glass substrate whose surface was polished by mm was used.
【0146】一方のガラス基板108上には信号配線1
01、走査配線104、共通配線103をマトリクス状
に形成した。まず、ガラス基板上に走査配線104と共
通配線103を形成し、その後、SiNを用いて絶縁層
(第一絶縁膜107)を形成した。さらに、上記絶縁層
上に信号配線101および画素電極102を形成した
後、絶縁層(第二絶縁膜106)を積層した。なお、共
通電極は共通配線と一体化している。The signal wiring 1 is provided on one of the glass substrates 108.
01, the scanning wiring 104, and the common wiring 103 were formed in a matrix. First, the scan wiring 104 and the common wiring 103 were formed on a glass substrate, and then an insulating layer (first insulating film 107) was formed using SiN. Further, after forming the signal wiring 101 and the pixel electrode 102 on the insulating layer, an insulating layer (second insulating film 106) was laminated. The common electrode is integrated with the common wiring.
【0147】また、画素電極102はアモルファスシリ
コンにより形成された薄膜トランジスタ105を介して
信号配線101に接続されている。ここで信号配線10
1、走査配線104はクロムにより形成し、画素電極1
02、共通電極103は透明導電膜ITOを用いて形成
した。信号配線101および走査配線104の材料に
は、電気抵抗の低いものであれば特に問題はなく、アル
ミニウム、銅などでもよい。また、画素電極102およ
び共通電極103にはIZOやIGOなどの透明導電膜
でもよい。各画素は薄膜トランジスタ(TFT)10
5、画素電極102、共通電極103から構成され、電
圧はこれら画素電極102と共通電極103との間に発
生する電界によって液晶を駆動する。The pixel electrode 102 is connected to the signal wiring 101 via the thin film transistor 105 made of amorphous silicon. Signal wiring 10
1. The scanning wiring 104 is made of chrome, and the pixel electrode 1
02, the common electrode 103 was formed using a transparent conductive film ITO. There is no particular problem with the material of the signal wiring 101 and the scanning wiring 104 as long as it has a low electric resistance, and aluminum, copper or the like may be used. The pixel electrode 102 and the common electrode 103 may be transparent conductive films such as IZO and IGO. Each pixel is a thin film transistor (TFT) 10
5, the pixel electrode 102 and the common electrode 103, and the voltage drives the liquid crystal by the electric field generated between the pixel electrode 102 and the common electrode 103.
【0148】次に、液晶表示素子の製造工程を図19を
用いて説明する。対向のガラス基板9にはストライプ状
の3色RGBカラーフィルタ23とブラックマトリクス
24とを兼ね備えた構造とした。カラーフィルタとブラ
ックマトリクス上には平坦化するためのオーバーコート
樹脂22を形成した。オーバーコート樹脂としてはエポ
キシ樹脂を用いた。Next, the manufacturing process of the liquid crystal display element will be described with reference to FIG. The opposing glass substrate 9 has a structure in which both stripe-shaped RGB color filters 23 and a black matrix 24 are combined. An overcoat resin 22 for flattening was formed on the color filter and the black matrix. An epoxy resin was used as the overcoat resin.
【0149】次に両ガラス基板の表面に液晶分子を配列
させるために必要なポリイミド配向膜21を形成した。
一般にポリイミド膜は、その前駆体であるポリアミック
酸をガラス基板上に印刷機などで塗布し、高温で焼成す
ることによって形成される。次に液晶分子を配向させる
ための配向処理を施した。配向処理は両ガラス基板上に
形成されたポリイミド配向膜21の表面をラビング処理
することにより行った。ラビング処理にはラビング機を
使用し、ラビングロールにはレーヨン製バフ布を用い
た。ラビング方向はガラス基板の長辺に平行な方向とし
た。Next, a polyimide alignment film 21 necessary for aligning liquid crystal molecules was formed on the surfaces of both glass substrates.
Generally, a polyimide film is formed by applying polyamic acid, which is its precursor, on a glass substrate with a printing machine or the like and baking it at a high temperature. Next, an alignment treatment for aligning the liquid crystal molecules was performed. The alignment treatment was performed by rubbing the surface of the polyimide alignment film 21 formed on both glass substrates. A rubbing machine was used for the rubbing treatment, and a buff cloth made of rayon was used for the rubbing roll. The rubbing direction was parallel to the long side of the glass substrate.
【0150】一方のガラス基板の表示領域周縁部にシー
ル材(熱硬化型樹脂)を塗布し、対向ガラス基板を重ね
合わせた後、加熱しながら加圧し、両基板を接着固定し
た。ガラス基板間のギャップ(液晶層厚み)を4マイク
ロメートル(μm)とした。なお、液晶を液晶表示素子
内に注入するための注入口は、ガラス基板の短辺側に形
成した。その後、注入口から液晶を真空封入法により注
入し、紫外線硬化樹脂で注入口を封止した。なお、本実
施例ではポジ型液晶を用いた。A sealing material (thermosetting resin) was applied to the peripheral portion of the display area of one of the glass substrates, and the opposing glass substrates were superposed on each other and then heated and pressed to bond and fix both substrates. The gap between the glass substrates (thickness of the liquid crystal layer) was set to 4 micrometers (μm). The injection port for injecting the liquid crystal into the liquid crystal display element was formed on the short side of the glass substrate. Then, liquid crystal was injected from the injection port by a vacuum sealing method, and the injection port was sealed with an ultraviolet curable resin. In this example, a positive type liquid crystal was used.
【0151】組み合わせたガラス基板の両面に偏光板2
5を貼りつけ液晶表示素子を完成させた。なお、偏光板
はクロスニコル配置とし、液晶表示装置がノーマリクロ
ーズ特性(低電圧で黒表示、高電圧で白表示)となるよ
うに貼りつけた。Polarizing plates 2 are provided on both sides of the combined glass substrate.
5 was attached to complete the liquid crystal display device. The polarizing plates were arranged in a crossed Nicol state and were attached so that the liquid crystal display device had normally closed characteristics (black display at low voltage, white display at high voltage).
【0152】さらに液晶表示素子には図20に示すよう
に液晶表示素子に走査配線駆動回路27、信号配線駆動
回路28、電源回路およびコントロール回路30を接続
し、走査信号電圧、信号電圧、タイミング信号を供給
し、アクティブマトリクス駆動した。Further, as shown in FIG. 20, the scanning line driving circuit 27, the signal wiring driving circuit 28, the power supply circuit and the control circuit 30 are connected to the liquid crystal display element to connect the scanning signal voltage, the signal voltage and the timing signal to the liquid crystal display element. Were supplied and driven by active matrix.
【0153】その後、液晶表示素子に図23で示したシ
ールドケース32、拡散板33、導光体34、反射板3
5、バックライト36、下側ケース37、インバータ回
路基板38を組み合わせることにより液晶表示装置39
を組み立てた。このようにして組み立てた液晶表示装置
について、表示特性を評価した。本実施例で組み立てた
液晶表示素子は、141ppiと云う高精細であると同
時に、透明電極ITOを用いたことによる、高開口率
(〜40%)をも達成できた。After that, the shield case 32, the diffusing plate 33, the light guide 34, and the reflecting plate 3 shown in FIG.
5, the backlight 36, the lower case 37, and the inverter circuit board 38 are combined to form a liquid crystal display device 39.
Assembled. The display characteristics of the liquid crystal display device assembled in this manner were evaluated. The liquid crystal display element assembled in this example has a high definition of 141 ppi and, at the same time, can achieve a high aperture ratio (-40%) by using the transparent electrode ITO.
【0154】また、従来のIPSでは電極の狭間隔化に
伴い生じると懸念された電極間隔のばらつきによる輝度
ムラも見えなかった。視野角やコントラスト比などの画
質についても静止画最高峰と云われているS−IPSと
ほぼ同等であり、視野角170度(コントラスト比10
以上)、コントラスト比350:1であり、また、斜め
方向から画面を見た場合の色付きも生じなかった。Further, in the conventional IPS, the brightness unevenness due to the variation in the electrode spacing, which was feared to occur with the narrowing of the electrodes, was not seen. The image quality such as viewing angle and contrast ratio is almost the same as that of S-IPS, which is said to be the highest peak of still images, and the viewing angle is 170 degrees (contrast ratio 10
As described above, the contrast ratio was 350: 1, and no coloring occurred when the screen was viewed from an oblique direction.
【0155】これにより、高精細、高画質、高開口率と
云う3項目の全てを同時に達成する液晶表示装置を得る
ことができた。As a result, it was possible to obtain a liquid crystal display device that simultaneously achieves all three items of high definition, high image quality, and high aperture ratio.
【0156】〔実施例 2〕本実施例の液晶表示装置の
画素部の概略図を図2に示す。画素内の共通電極が画素
電極の形成されている層より上層にあり、配向膜を除け
ば電極基板上で最上層にある点と、また、そのためにカ
ラーフィルタ側基板において信号配線方向のブラックマ
トリクスが不要である点で実施例1と異なる。Example 2 FIG. 2 shows a schematic view of a pixel portion of the liquid crystal display device of this example. The common electrode in the pixel is located above the layer on which the pixel electrode is formed, and is located on the uppermost layer on the electrode substrate except for the alignment film, and because of that, the black matrix in the signal wiring direction on the color filter side substrate. Is different from the first embodiment in that it is unnecessary.
【0157】液晶表示素子のサイズ、解像度および画素
ピッチは実施例1と同様、14.1インチ、141pp
i(UXGA相当)、画素ピッチ180マイクロメータ
(μm)である。液晶表示素子を形成する基板には、厚
さ0.7mmで表面を研磨したガラス基板を用いた。The size, resolution and pixel pitch of the liquid crystal display element are the same as in Example 1, 14.1 inches and 141 pp.
i (equivalent to UXGA) and a pixel pitch of 180 micrometers (μm). A glass substrate having a thickness of 0.7 mm and having a polished surface was used as a substrate for forming the liquid crystal display element.
【0158】一方のガラス基板208上に走査配線20
4を形成し、その後、SiNを用いて絶縁層207を形
成した。さらに、絶縁層207上に信号配線201およ
び画素電極202を形成した後、絶縁層206を積層し
た。その後さらに共通電極203を形成した。なお、共
通電極は共通配線と一体化している。The scanning wiring 20 is formed on one glass substrate 208.
4 was formed, and then the insulating layer 207 was formed using SiN. Further, after the signal wiring 201 and the pixel electrode 202 are formed over the insulating layer 207, the insulating layer 206 is stacked. After that, the common electrode 203 was further formed. The common electrode is integrated with the common wiring.
【0159】また、画素電極202はアモルファスシリ
コンにより形成された薄膜トランジスタ205を介して
信号配線201に接続されている。ここで信号配線、走
査配線はクロムにより形成し、画素電極、共通電極は透
明導電膜ITOを用いて形成した。信号配線および走査
配線の材料には電気抵抗の低いものであれば特に問題は
なく、アルミニウム、銅などでもよい。The pixel electrode 202 is connected to the signal wiring 201 via the thin film transistor 205 formed of amorphous silicon. Here, the signal wiring and the scanning wiring were formed of chrome, and the pixel electrode and the common electrode were formed using the transparent conductive film ITO. There is no particular problem with the material of the signal wiring and the scanning wiring as long as they have low electric resistance, and aluminum, copper or the like may be used.
【0160】また、画素電極および共通電極にはIZO
やIGOなどの透明導電膜でもよい。各画素は薄膜トラ
ンジスタ(TFT)、画素電極、共通電極から構成さ
れ、電圧はこれら画素電極と共通電極との間に発生する
電界によって液晶を駆動する。IZO is used for the pixel electrode and the common electrode.
Or a transparent conductive film such as IGO may be used. Each pixel is composed of a thin film transistor (TFT), a pixel electrode, and a common electrode, and a voltage drives the liquid crystal by an electric field generated between the pixel electrode and the common electrode.
【0161】なお、本実施例では共通電極と共通配線は
一体化しており、透明導電膜ITOで形成されている
が、配線材料の抵抗が問題である場合には、例えば、共
通配線を金属材料で形成し、共通電極とは異なる下層に
形成し、スルーホールを介して共通配線と共通電極を接
続してもよい。このスルーホールを有する電極構造につ
いての検討結果は次の実施例3で述べる。In this embodiment, the common electrode and the common wiring are integrated and are formed of the transparent conductive film ITO. However, when the resistance of the wiring material is a problem, for example, the common wiring is made of a metal material. It may be formed in a lower layer different from the common electrode, and the common wiring and the common electrode may be connected through the through hole. The results of the examination of the electrode structure having this through hole will be described in the following Example 3.
【0162】一方、対向のガラス基板にはストライプ状
の3色RGBカラーフィルタとブラックマトリクスとを
兼ね備えた構造とした。なお、信号配線方向のブラック
マトリクスは形成していない。以下の液晶表示装置組み
立て工程は実施例1と同様である。On the other hand, the opposing glass substrate has a structure in which both stripe-shaped RGB color filters and a black matrix are combined. The black matrix in the signal wiring direction is not formed. The subsequent liquid crystal display device assembling process is the same as that of the first embodiment.
【0163】このようにして組み立てた液晶表示装置に
ついて表示特性を評価した。本実施例の液晶表示素子
は、141ppiと云う高精細であると同時に、高開口
率(〜45%)をも達成できている。本実施例における
高開口率化の主な理由は、対向カラーフィルタ基板の一
部(信号配線方向)にブラックマトリクスが形成されて
いないことにより、従来の基板合わせずれによって生じ
ていた開口率低下を抑制できたことによる。The display characteristics of the liquid crystal display device thus assembled were evaluated. The liquid crystal display device of the present embodiment has a high definition of 141 ppi and a high aperture ratio (up to 45%). The main reason for increasing the aperture ratio in this embodiment is that the black matrix is not formed in a part of the counter color filter substrate (in the signal wiring direction), and thus the aperture ratio reduction caused by the conventional substrate misalignment occurs. Because it was able to be suppressed.
【0164】また、実施例1と同様に、電極間隔のばら
つきによる輝度ムラも見えなかった。視野角やコントラ
スト比などの画質についも静止画最高峰と云われている
S−IPSとほぼ同等であり、視野角170度(コント
ラスト比10以上)、コントラスト比350:1で、ま
た、斜め方向から画面を見た場合の色付きもなかった。Further, as in the first embodiment, the uneven brightness due to the variation in the electrode spacing was not visible. The image quality such as viewing angle and contrast ratio is almost the same as that of S-IPS, which is said to be the highest peak of still images, with a viewing angle of 170 degrees (contrast ratio of 10 or more), a contrast ratio of 350: 1, and an oblique direction. It was not colored when I saw the screen from.
【0165】これにより、高精細、高画質、高開口率と
云う3項目を同時に達成する液晶表示装置を得ることが
できた。As a result, it was possible to obtain a liquid crystal display device which simultaneously achieves the three items of high definition, high image quality and high aperture ratio.
【0166】〔実施例 3〕本実施例の液晶表示装置の
画素部の概略図を図3に示す。実施例2では共通電極が
共通配線と一体化しており、共通配線は透明導電膜IT
Oで形成されていた。この一体化は実施例2において画
質を大きく悪化させるような問題とはならなかったが、
例えば、配線抵抗によっては信号遅延の問題を生じる可
能性がある。[Embodiment 3] FIG. 3 is a schematic view of a pixel portion of a liquid crystal display device of this embodiment. In the second embodiment, the common electrode is integrated with the common wiring, and the common wiring is the transparent conductive film IT.
It was formed of O. Although this integration did not cause a problem that the image quality is significantly deteriorated in the second embodiment,
For example, depending on the wiring resistance, the problem of signal delay may occur.
【0167】そこで、本実施例では共通電極303と共
通配線310を別々に形成し、コンタクトホール309
を通じて、これらを接続する電極構造とした。ここで共
通電極303には透明導電材ITOを、共通配線310
には金属クロムを用いた。なお、本実施例で作製した液
晶表示素子のサイズ、解像度および画素ピッチは実施例
1と同様に14.1インチ、141ppi(UXGA相
当)、画素ピッチ180マイクロメータ(μm)であ
る。Therefore, in this embodiment, the common electrode 303 and the common wiring 310 are separately formed, and the contact hole 309 is formed.
An electrode structure for connecting them is provided. Here, the transparent conductive material ITO is used for the common electrode 303 and the common wiring 310.
Metal chromium was used for this. The size, resolution, and pixel pitch of the liquid crystal display element manufactured in this example are 14.1 inches, 141 ppi (corresponding to UXGA), and the pixel pitch is 180 micrometers (μm), as in the first example.
【0168】まず、ガラス基板308上に走査配線30
4および共通配線310を金属クロムで形成した。その
後、SiNを用いて絶縁層307を形成し、さらに、信
号配線301および画素電極302を形成した後、絶縁
層306を積層した。この後、共通電極と共通配線の接
続を確保するためのコンタクトホール309を形成し、
それから共通電極303をITOにより形成した。First, the scanning wiring 30 is formed on the glass substrate 308.
4 and the common wiring 310 are formed of metallic chromium. After that, the insulating layer 307 was formed using SiN, the signal wiring 301 and the pixel electrode 302 were further formed, and then the insulating layer 306 was stacked. After that, a contact hole 309 for ensuring the connection between the common electrode and the common wiring is formed,
Then, the common electrode 303 was formed of ITO.
【0169】また、画素電極302はアモルファスシリ
コンにより形成された薄膜トランジスタ305を介して
信号配線301に接続されている。電圧はこれら画素電
極と共通電極との間に発生する電界によって液晶を駆動
する。なお、液晶表示素子の組み立て工程は実施例2と
同様である。The pixel electrode 302 is connected to the signal wiring 301 via the thin film transistor 305 made of amorphous silicon. The voltage drives the liquid crystal by the electric field generated between the pixel electrode and the common electrode. The assembling process of the liquid crystal display element is similar to that of the second embodiment.
【0170】組み立てた液晶表示装置についてその表示
特性を評価した。表示特性としては実施例2とほぼ同じ
であり、高精細、高画質、高開口率と云う3項目を同時
に達成する液晶表示装置を得ることができた。こうした
構造は共通配線の材料として抵抗の低いクロムやアルミ
ニウムなどの金属電極が使い易く、信号遅延などの問題
も生じなかった。The display characteristics of the assembled liquid crystal display device were evaluated. The display characteristics were almost the same as those in Example 2, and a liquid crystal display device capable of simultaneously achieving the three items of high definition, high image quality, and high aperture ratio could be obtained. In such a structure, a metal electrode having low resistance such as chromium or aluminum is easily used as a material for the common wiring, and a problem such as signal delay does not occur.
【0171】〔実施例 4〕本実施例の液晶表示装置の
画素部の概略図を図4に示す。本実施例における電極構
造の特徴は、共通電極と共通配線が一体しておらずコ
ンタクトホールを通じて接続されている、共通配線が
画素中央部で走査配線と平行方向に配置されている、
画素中心部を対称点としてくの字電極の向きが対称に配
置されている、ことである。[Embodiment 4] FIG. 4 shows a schematic view of a pixel portion of a liquid crystal display device of this embodiment. The feature of the electrode structure in the present embodiment is that the common electrode and the common wiring are not integrated and are connected through a contact hole, the common wiring is arranged in the central portion of the pixel in a direction parallel to the scanning wiring,
That is, the V-shaped electrodes are arranged symmetrically with respect to the central portion of the pixel.
【0172】なお、本実施例で作製した液晶表示素子の
サイズ、解像度および画素ピッチは実施例1と同様、1
4.1インチ、141ppi(UXGA相当)、画素ピ
ッチ180マイクロメータ(μm)である。The size, resolution and pixel pitch of the liquid crystal display element manufactured in this example are the same as in Example 1.
It is 4.1 inches, 141 ppi (equivalent to UXGA), and has a pixel pitch of 180 micrometers (μm).
【0173】まず、ガラス基板408上に走査配線40
4および共通配線410を金属クロムで形成した。その
後、SiNを用いて絶縁膜407を形成し、さらに、信
号配線401および画素電極402を形成後、第二絶縁
膜406を積層した。この後、共通電極403と共通配
線410の接続を確保するためのコンタクトホール40
9(スルホール)を形成し、それから共通電極403を
ITOにより形成した。First, the scanning wiring 40 is formed on the glass substrate 408.
4 and the common wiring 410 were made of metallic chrome. After that, the insulating film 407 was formed using SiN, the signal wiring 401 and the pixel electrode 402 were further formed, and then the second insulating film 406 was laminated. After that, the contact hole 40 for ensuring the connection between the common electrode 403 and the common wiring 410
9 (through hole) was formed, and then the common electrode 403 was formed of ITO.
【0174】また、画素電極402はアモルファスシリ
コンにより形成された薄膜トランジスタ405を介して
信号配線401に接続されている。電圧はこれら画素電
極402と共通電極403との間に発生する電界によっ
て液晶を駆動する。この後の液晶表示素子の組み立て工
程は実施例2と同様である。The pixel electrode 402 is connected to the signal wiring 401 via the thin film transistor 405 made of amorphous silicon. The voltage drives the liquid crystal by the electric field generated between the pixel electrode 402 and the common electrode 403. The subsequent assembling process of the liquid crystal display element is similar to that of the second embodiment.
【0175】このようにして組み立てた液晶表示装置に
ついて表示特性を評価した。開口率については実施例2
および実施例3とほぼ同程度の高い開口率を実現でき
た。さらに、画質、特に、斜め方向視野からの色付きは
大きく抑制することができた。これは、くの字電極を画
素中心の対称点に逆向きに配置したために、結果として
一つの画素中に液晶分子回転方向の異なる領域が4つ存
在することによると考えられる。The display characteristics of the liquid crystal display device thus assembled were evaluated. Example 2 for the aperture ratio
Moreover, a high aperture ratio substantially equal to that of Example 3 was realized. Further, the image quality, especially the coloring from the oblique visual field, could be greatly suppressed. It is considered that this is because the dog-legged electrode is arranged in the opposite direction at the symmetry point of the pixel center, and as a result, there are four regions having different liquid crystal molecule rotation directions in one pixel.
【0176】また、本実施例での液晶表示装置において
は、特に、実施例3の液晶表示装置と比べて生産性の裕
度が大きい。この理由は2つあり、一つは画素の中心部
にほぼひし形に近い共通電極の領域があり、この領域が
広いためにコンタクトホールを形成し易いことによる。
もう一つは、共通配線310が画素中央部に配置されて
いるために、同層に形成されている走査配線304との
短絡がないことによる(図3)。In addition, the liquid crystal display device of this embodiment has a large productivity margin, especially compared with the liquid crystal display device of the third embodiment. There are two reasons for this, and one is that there is a common electrode region close to a rhombus in the center of the pixel, and since this region is wide, it is easy to form a contact hole.
Another reason is that since the common wiring 310 is arranged in the central portion of the pixel, there is no short circuit with the scanning wiring 304 formed in the same layer (FIG. 3).
【0177】実施例3の電極構造(図3)では、画素の
端に共通配線310が配置されているために、隣接する
画素の走査配線と短絡する可能性があり、これを回避す
るために生産性を考えれば、隣合う画素の共通配線と走
査配線の間隔を広げた設計となる。これは光の透過しな
い領域を広げることになり、結果として開口率を低下さ
せる可能性がある。本実施例ではこの問題は予め回避さ
れており、この理由による開口率低下の問題がなく、高
開口率を達成できる。In the electrode structure of the third embodiment (FIG. 3), since the common wiring 310 is arranged at the end of the pixel, there is a possibility of short-circuiting with the scanning wiring of the adjacent pixel. Considering productivity, the design is such that the interval between the common wiring and the scanning wiring of the adjacent pixels is widened. This expands the area where light is not transmitted, and as a result, the aperture ratio may be reduced. In the present embodiment, this problem is avoided in advance, and there is no problem of reduction in aperture ratio due to this reason, and a high aperture ratio can be achieved.
【0178】〔実施例 5〕本実施例での液晶表示装置
の画素部の概略図を図5に示した。本実施例では以下4
つの点で実施例1と異なる。なお、実施例で作製した液
晶表示素子のサイズ、解像度および画素ピッチは実施例
1と同様、14.1インチ、141ppi(UXGA相
当)、画素ピッチ180マイクロメータ(μm)であ
る。[Embodiment 5] A schematic view of a pixel portion of a liquid crystal display device in this embodiment is shown in FIG. In this embodiment, the following 4
It differs from Example 1 in one respect. The size, resolution, and pixel pitch of the liquid crystal display element manufactured in the example are 14.1 inches, 141 ppi (corresponding to UXGA), and the pixel pitch is 180 micrometers (μm) as in the case of the example 1.
【0179】 画素内の共通電極が最上層に形成され
ている
画素内の共通電極の一部が信号配線に重畳するよう
に広がっている
その重畳のために生じる容量負荷を低減するための
低容量絶縁膜を有している
カラーフィルター基板において、信号配線延在方向
のブラックマトリクスを有さない。The common electrode in the pixel is formed in the uppermost layer. A part of the common electrode in the pixel is spread so as to overlap with the signal wiring. A low capacitance for reducing the capacitive load caused by the overlap. A color filter substrate having an insulating film does not have a black matrix extending in the signal wiring extending direction.
【0180】まず、ガラス基板508上に走査配線50
4を金属クロムで形成した。その後、SiNを用いて第
一絶縁膜507を形成し、さらに、信号配線501およ
び画素電極502を形成した後、第二絶縁膜506を積
層した。First, the scanning wiring 50 is formed on the glass substrate 508.
4 was made of metallic chromium. After that, the first insulating film 507 was formed using SiN, the signal wiring 501 and the pixel electrode 502 were further formed, and then the second insulating film 506 was laminated.
【0181】画素電極502はアモルファスシリコンに
より形成された薄膜トランジスタ505を介して信号配
線501に接続されている。次いで第三絶縁膜(低容量
絶縁膜)511を形成し、その上に共通電極503を形
成した。なお、断面図からも分かるように、共通電極5
03の一部は信号配線501と2層の絶縁膜を介して重
畳している。The pixel electrode 502 is connected to the signal wiring 501 through the thin film transistor 505 made of amorphous silicon. Next, a third insulating film (low-capacity insulating film) 511 was formed, and a common electrode 503 was formed thereon. As can be seen from the cross-sectional view, the common electrode 5
A part of 03 is overlapped with the signal wiring 501 via a two-layer insulating film.
【0182】低容量絶縁膜511は、この重畳により生
じる共通電極と信号配線間の容量を小さくするためのも
のである。なお、低容量絶縁膜511は誘電率の低いも
のが望ましく、有機材料、無機材料のいずれでもよい。
なお、本実施例では共通電極と共通配線は一体化してい
るが、実施例3,4のように、異なる層および異なる電
極材料によりそれぞれ形成し、コンタクトホールを介し
て接続してもよい。電圧はこれら画素電極と共通電極と
の間に発生する電界によって液晶を駆動する。この後の
液晶表示素子の組み立て工程は実施例2と同様である。The low-capacitance insulating film 511 is for reducing the capacitance between the common electrode and the signal wiring caused by this superposition. The low-capacity insulating film 511 preferably has a low dielectric constant, and may be an organic material or an inorganic material.
Although the common electrode and the common wiring are integrated in this embodiment, they may be formed of different layers and different electrode materials and connected through a contact hole as in the third and fourth embodiments. The voltage drives the liquid crystal by the electric field generated between the pixel electrode and the common electrode. The subsequent assembling process of the liquid crystal display element is similar to that of the second embodiment.
【0183】こうして組み立てた液晶表示装置につい
て、表示特性を評価した。本実施例で組み立てた液晶表
示素子は、141ppiと云う高精細であると同時に、
高開口率(〜50%)をも達成できている。The display characteristics of the liquid crystal display device thus assembled were evaluated. The liquid crystal display device assembled in this example has a high definition of 141 ppi and
A high aperture ratio (up to 50%) can also be achieved.
【0184】本実施例における高開口率化の主な理由
は、対向カラーフィルタ基板の一部(信号配線方向)に
ブラックマトリクスが形成されていないことにより、従
来の基板合わせずれによって生じていた開口率低下を抑
制できたこと、そして、共通電極を信号配線に重畳させ
たことにより画素内に電極のない領域が広がったことに
ある。The main reason for the high aperture ratio in this embodiment is that the black matrix is not formed in a part of the counter color filter substrate (in the signal wiring direction), and the aperture caused by the conventional misalignment of the substrates. This is because the rate decrease can be suppressed, and the common electrode is overlapped with the signal wiring, so that a region without an electrode is expanded in the pixel.
【0185】また、実施例1と同様に、電極間隔のばら
つきによる輝度ムラも見えなかった。視野角やコントラ
スト比などの画質についも静止画最高峰と云われている
S−IPSとほぼ同等であり、視野角170度(コント
ラスト比10以上)、コントラスト比350:1であ
り、また斜め方向から画面を見た場合の色付きもなかっ
た。Further, as in the case of Example 1, the uneven brightness due to the variation in the electrode spacing was not visible. The image quality such as the viewing angle and the contrast ratio is almost the same as that of S-IPS, which is said to be the highest still image, the viewing angle is 170 degrees (the contrast ratio is 10 or more), the contrast ratio is 350: 1, and the diagonal direction. It was not colored when I saw the screen from.
【0186】これにより、高精細、高画質、高開口率と
云う3項目を同時に達成する液晶表示装置を得ることが
できた。As a result, it was possible to obtain a liquid crystal display device that simultaneously achieves the three items of high definition, high image quality, and high aperture ratio.
【0187】〔実施例 6〕本実施例での液晶表示装置
の画素部の概略図を図6に示した。本実施例では以下4
つの点で実施例1と異なる。なお、本実施例で作製した
液晶表示素子のサイズ、解像度および画素ピッチは実施
例1と同様、14.1インチ、141ppi(UXGA
相当)、画素ピッチ180マイクロメータ(μm)であ
る。[Embodiment 6] A schematic view of a pixel portion of a liquid crystal display device according to this embodiment is shown in FIG. In this embodiment, the following 4
It differs from Example 1 in one respect. The size, resolution, and pixel pitch of the liquid crystal display element manufactured in this example are the same as in Example 1, 14.1 inches, 141 ppi (UXGA).
Equivalent), and the pixel pitch is 180 micrometers (μm).
【0188】 画素内の共通電極が最上層に形成され
ている
画素内の共通電極の一部が走査配線に重畳するよう
に広がっている
その重畳のために生じる容量負荷を低減するための
低容量絶縁膜を有している
カラーフィルター基板において、信号配線および走
査配線延在方向のブラックマトリクスを有さない。The common electrode in the pixel is formed in the uppermost layer. A part of the common electrode in the pixel spreads so as to overlap the scanning wiring. A low capacitance for reducing the capacitive load caused by the overlap. A color filter substrate having an insulating film does not have a black matrix extending in the extending direction of signal lines and scanning lines.
【0189】まず、ガラス基板608上に走査配線60
4を金属クロムで形成した。その後、SiNを用いて第
一絶縁膜607を形成し、さらに、信号配線601およ
び画素電極602を形成した後、第二絶縁膜606を積
層した。First, the scanning wiring 60 is formed on the glass substrate 608.
4 was made of metallic chromium. After that, a first insulating film 607 was formed using SiN, a signal wiring 601 and a pixel electrode 602 were further formed, and then a second insulating film 606 was laminated.
【0190】画素電極602はアモルファスシリコンに
より形成された薄膜トランジスタ605を介して信号配
線601に接続されている。この後、低容量絶縁膜61
1を形成し、その上に共通電極603を形成した。な
お、断面図からも分かるように共通電極603の一部
は、走査配線604と絶縁膜を介して重畳している。低
容量絶縁膜611は、この重畳により生じる共通電極と
走査配線間の容量を小さくするためのものである。低容
量絶縁膜は誘電率の低いものが望ましく、有機材料、無
機材料のいずれでもよい。The pixel electrode 602 is connected to the signal wiring 601 through the thin film transistor 605 formed of amorphous silicon. After that, the low-capacity insulating film 61
1 was formed, and the common electrode 603 was formed thereon. Note that as can be seen from the cross-sectional view, part of the common electrode 603 overlaps with the scan wiring 604 with the insulating film interposed therebetween. The low-capacitance insulating film 611 is for reducing the capacitance between the common electrode and the scanning wiring caused by this superposition. The low-capacity insulating film preferably has a low dielectric constant, and may be either an organic material or an inorganic material.
【0191】なお、本実施例では共通電極と共通配線は
一体化しているが、実施例3,4のように、異なる層お
よび異なる電極材料によりそれぞれ形成し、コンタクト
ホールを介して接続してもよい。電圧はこれら画素電極
と共通電極との間に発生する電界によって液晶を駆動す
る。この後の液晶表示素子の組み立て工程は実施例2と
同様である。Although the common electrode and the common wiring are integrated in this embodiment, they may be formed of different layers and different electrode materials and connected through a contact hole as in the third and fourth embodiments. Good. The voltage drives the liquid crystal by the electric field generated between the pixel electrode and the common electrode. The subsequent assembling process of the liquid crystal display element is similar to that of the second embodiment.
【0192】こうして組み立てた液晶表示装置につい
て、表示特性を評価した。本実施例の液晶表示素子は、
141ppiと云う高精細であると同時に、高開口率
(〜50%)をも達成できている。本実施例における高
開口率化の主な理由は、対向カラーフィルタ基板にブラ
ックマトリクスが形成されていないことにより、従来の
基板合わせずれによって生じていた開口率の低下を抑制
できたことである。また、実施例1と同様に、電極間隔
のばらつきによる輝度ムラも見えなかった。視野角やコ
ントラスト比などの画質についも静止画最高峰と云われ
ているS−IPSとほぼ同等であり、視野角170度
(コントラスト比10以上)、コントラスト比350:
1であり、また斜め方向から画面を見た場合の色付きも
なかった。The display characteristics of the liquid crystal display device thus assembled were evaluated. The liquid crystal display element of this embodiment is
While achieving a high definition of 141 ppi, a high aperture ratio (up to 50%) can be achieved. The main reason for increasing the aperture ratio in this embodiment is that the black matrix is not formed on the counter color filter substrate, so that the reduction in aperture ratio caused by the conventional substrate misalignment can be suppressed. Further, as in Example 1, the uneven brightness due to the variation in the electrode spacing was not visible. The image quality such as the viewing angle and the contrast ratio is almost the same as that of S-IPS which is said to be the highest peak of a still image, the viewing angle is 170 degrees (the contrast ratio is 10 or more) and the contrast ratio is 350:
It was 1, and there was no color when the screen was viewed from an oblique direction.
【0193】これにより、高精細、高画質、高開口率を
同時に達成する液晶表示装置を得ることができた。As a result, it was possible to obtain a liquid crystal display device that simultaneously achieves high definition, high image quality, and high aperture ratio.
【0194】〔実施例 7〕本実施例での液晶表示装置
の画素部の概略図を図7に示した。本実施例では以下4
つの点で実施例1と異なる。なお、実施例で作製した液
晶表示素子のサイズ、解像度および画素ピッチは実施例
1と同様、14.1インチ、141ppi(UXGA相
当)、画素ピッチ180マイクロメータ(μm)であ
る。[Embodiment 7] A schematic view of a pixel portion of a liquid crystal display device according to this embodiment is shown in FIG. In this embodiment, the following 4
It differs from Example 1 in one respect. The size, resolution, and pixel pitch of the liquid crystal display element manufactured in the example are 14.1 inches, 141 ppi (corresponding to UXGA), and the pixel pitch is 180 micrometers (μm) as in the case of the example 1.
【0195】 画素内の共通電極が最上層に形成され
ている
画素内の共通電極の一部が信号配線および走査配線
に重畳するように広がっている
その重畳のために生じる容量負荷を低減するための
低容量絶縁膜を有している
カラーフィルター基板において、信号配線および走
査配線延在方向のブラックマトリクスを有さない。The common electrode in the pixel is formed in the uppermost layer. A part of the common electrode in the pixel is spread so as to overlap the signal wiring and the scanning wiring. To reduce the capacitive load caused by the overlapping. In the color filter substrate having the low-capacity insulating film, the black matrix in the extending direction of the signal wiring and the scanning wiring is not provided.
【0196】まず、ガラス基板708上に走査配線70
4を金属クロムで形成した。その後、SiNを用いて第
一絶縁膜707を形成し、さらに、信号配線701およ
び画素電極702を形成後、第二絶縁膜706を積層し
た。画素電極702はアモルファスシリコンにより形成
された薄膜トランジスタ705を介して信号配線701
に接続されている。この後、低容量絶縁膜711を形成
し、その上に共通電極703を形成した。なお、断面図
からも分かるように共通電極703の一部は走査配線7
04および信号配線701と絶縁膜を介して重畳してい
る。First, the scanning wiring 70 is formed on the glass substrate 708.
4 was made of metallic chromium. After that, a first insulating film 707 was formed using SiN, a signal wiring 701 and a pixel electrode 702 were further formed, and then a second insulating film 706 was laminated. The pixel electrode 702 is provided with a signal wiring 701 through a thin film transistor 705 formed of amorphous silicon.
It is connected to the. After that, a low-capacity insulating film 711 was formed and a common electrode 703 was formed thereon. As can be seen from the cross-sectional view, a part of the common electrode 703 is a part of the scanning wiring 7
04 and the signal wiring 701 via the insulating film.
【0197】低容量絶縁膜711は、この重畳により生
じる共通電極と走査配線間の容量を小さくするためのも
のである。低容量絶縁膜は誘電率の低いものが望まし
く、有機材料、無機材料のいずれでもよい。The low-capacity insulating film 711 is for reducing the capacitance between the common electrode and the scanning wiring caused by this superposition. The low-capacity insulating film preferably has a low dielectric constant, and may be either an organic material or an inorganic material.
【0198】なお、本実施例では共通電極と共通配線は
一体化しているが、実施例3,4のように、異なる層お
よび異なる電極材料によりそれぞれ形成し、コンタクト
ホールを介して接続してもよい。電圧はこれら画素電極
と共通電極との間に発生する電界によって液晶を駆動す
る。この後の液晶表示素子の組み立て工程については実
施例2と同様である。Although the common electrode and the common wiring are integrated in this embodiment, they may be formed of different layers and different electrode materials and connected through a contact hole as in the third and fourth embodiments. Good. The voltage drives the liquid crystal by the electric field generated between the pixel electrode and the common electrode. The subsequent assembling process of the liquid crystal display element is the same as that of the second embodiment.
【0199】こうして組み立てた液晶表示装置につい
て、表示特性を評価した。本実施例で組み立てた液晶表
示素子は、141ppiと云う高精細であると同時に、
高開口率(〜52%)をも達成できている。本実施例に
おける高開口率化の主な理由は、対向カラーフィルタ基
板にブラックマトリクスが形成されていないこと、そし
て、共通電極を信号配線に重畳させたことにより画素内
に電極のない領域が広がったことである。The display characteristics of the liquid crystal display device thus assembled were evaluated. The liquid crystal display device assembled in this example has a high definition of 141 ppi and
A high aperture ratio (~ 52%) is also achieved. The main reason for the high aperture ratio in this embodiment is that the black matrix is not formed on the counter color filter substrate and that the common electrode is overlapped with the signal line, so that the region without the electrode spreads in the pixel. That is.
【0200】また、実施例1と同様に、電極間隔のばら
つきによる輝度ムラも見えなかった。視野角やコントラ
スト比などの画質についも静止画最高峰と云われている
S−IPSとほぼ同等であり、視野角170度(コント
ラスト比10以上)、コントラスト比350:1であ
り、斜め方向から画面を見た場合の色付きもなかった。Further, as in Example 1, the uneven brightness due to the variation in the electrode interval was not visible. The image quality such as viewing angle and contrast ratio is almost the same as that of S-IPS, which is said to be the highest peak in still images, with a viewing angle of 170 degrees (contrast ratio of 10 or more) and a contrast ratio of 350: 1. It was not colored when I saw the screen.
【0201】これにより、高精細、高画質、高開口率と
云う3項目を同時に達成する液晶表示装置を得ることが
できた。As a result, it was possible to obtain a liquid crystal display device that simultaneously achieves the three items of high definition, high image quality, and high aperture ratio.
【0202】〔実施例 8〕本実施例での液晶表示装置
の画素部の概略図を図8に示した。本実施例では共通電
極および画素電極の形状が異なる点で実施例1と異な
る。共通電極および画素電極がY字型となっている。な
お、実施例で作製した液晶表示素子のサイズ、解像度お
よび画素ピッチは実施例1と同様14.1インチ、14
1ppi(UXGA相当)、画素ピッチ180マイクロ
メータ(μm)である。[Embodiment 8] FIG. 8 shows a schematic view of a pixel portion of a liquid crystal display device according to this embodiment. This example is different from Example 1 in that the shapes of the common electrode and the pixel electrode are different. The common electrode and the pixel electrode are Y-shaped. The size, resolution and pixel pitch of the liquid crystal display element manufactured in the example are the same as those in the example 1, 14.1 inches and 14 inches.
The pixel pitch is 1 ppi (equivalent to UXGA) and the pixel pitch is 180 micrometers (μm).
【0203】まず、ガラス基板808上に走査配線80
4および共通電極803と一体になった共通配線を形成
した。その後、SiNを用いて第一絶縁膜807を形成
し、さらに、信号配線801および画素電極802を形
成した後、第二絶縁膜806を積層した。First, the scanning wiring 80 is formed on the glass substrate 808.
4 and the common wiring integrated with the common electrode 803 were formed. After that, a first insulating film 807 was formed using SiN, a signal wiring 801 and a pixel electrode 802 were further formed, and then a second insulating film 806 was laminated.
【0204】画素電極802はアモルファスシリコンに
より形成された薄膜トランジスタ805を介して信号配
線801に接続されている。信号配線および走査配線は
クロム金属で、Y字型画素電極およびY字型共通電極は
ITO透明電極で形成した。The pixel electrode 802 is connected to the signal wiring 801 through the thin film transistor 805 made of amorphous silicon. The signal wiring and the scanning wiring were made of chrome metal, and the Y-shaped pixel electrode and the Y-shaped common electrode were formed of ITO transparent electrodes.
【0205】本実施例ではくの字型電極をY字型電極に
することで、画素の中央部で発生していたリバースドメ
インを対策するものである。電圧はこれら画素電極と共
通電極との間に発生する電界によって液晶を駆動する。
この後の液晶表示素子の組み立て工程については実施例
1と同様である。In this embodiment, the V-shaped electrode is a Y-shaped electrode to prevent the reverse domain generated in the central portion of the pixel. The voltage drives the liquid crystal by the electric field generated between the pixel electrode and the common electrode.
The subsequent steps of assembling the liquid crystal display element are the same as those in the first embodiment.
【0206】こうして組み立てた液晶表示装置につい
て、表示特性を評価した。本実施例で組み立てた液晶表
示素子は、141ppiと云う高精細であると同時に、
高開口率(〜40%)をも達成できている。また、実施
例1と同様に、電極間隔のばらつきによる輝度ムラも見
えなかった。視野角やコントラスト比などの画質につい
も静止画最高峰と云われているS−IPSとほぼ同等で
あり、視野角170度(コントラスト比10以上)、コ
ントラスト比350:1であり、また斜め方向から画面
を見た場合の色付きもなかった。The display characteristics of the liquid crystal display device thus assembled were evaluated. The liquid crystal display device assembled in this example has a high definition of 141 ppi and
A high aperture ratio (~ 40%) can also be achieved. Further, as in Example 1, the uneven brightness due to the variation in the electrode spacing was not visible. The image quality such as viewing angle and contrast ratio is almost the same as that of S-IPS, which is said to be the highest peak in still images, the viewing angle is 170 degrees (contrast ratio 10 or more), the contrast ratio is 350: 1, and the diagonal direction. It was not colored when I saw the screen from.
【0207】これにより、高精細、高画質、高開口率と
云う3項目を同時に達成する液晶表示装置を得ることが
できた。As a result, it was possible to obtain a liquid crystal display device that simultaneously achieves the three items of high definition, high image quality, and high aperture ratio.
【0208】また、実施例2〜7で実施した検討結果
は、Y字型電極においても同様の効果を示す。それぞれ
に対応するY字型電極を用いた代表的な電極構造につい
て図9〜11に示した。また、Y字型電極構造において
も共通電極と共通配線をそれぞれ独立に形成し、コンタ
クトホールを介して接続してもよい。Further, the examination results carried out in Examples 2 to 7 show the same effect in the Y-shaped electrode. Representative electrode structures using Y-shaped electrodes corresponding to each are shown in FIGS. Further, also in the Y-shaped electrode structure, the common electrode and the common wiring may be independently formed and connected through the contact hole.
【0209】〔実施例 9〕本実施例での液晶表示装置
の画素部の概略図を図12(a)に示した。図から分か
るように隣合うY字型の画素電極2および共通電極3に
おいて、中心線が絶縁膜を介して重畳している領域を完
全になくした構造である。なお、実施例で作製した液晶
表示素子のサイズ、解像度および画素ピッチは実施例1
と同様14.1インチ、141ppi(UXGA相
当)、画素ピッチ180マイクロメータ(μm)であ
る。また、隣合う共通電極と画素電極の中心線が重畳し
ていないことを除けば、液晶表示装置の組み立て工程は
実施例8と同様である。[Embodiment 9] A schematic view of a pixel portion of a liquid crystal display device in this embodiment is shown in FIG. As can be seen from the figure, in the Y-shaped pixel electrode 2 and the common electrode 3 which are adjacent to each other, the region where the center line overlaps with the insulating film is completely eliminated. The size, resolution and pixel pitch of the liquid crystal display device manufactured in the example are the same as those in the example 1.
Similar to the above, 14.1 inches, 141 ppi (corresponding to UXGA), and a pixel pitch of 180 micrometers (μm). The assembling process of the liquid crystal display device is the same as that of the eighth embodiment except that the center lines of the common electrode and the pixel electrode which are adjacent to each other are not overlapped.
【0210】こうして組み立てた液晶表示装置につい
て、表示特性を評価した。本実施例で組み立てた液晶表
示素子は、141ppiと云う高精細であると同時に、
実施例8と同様に高開口率(〜40%)をも達成できて
いる。ここでは特に残像について評価した。The display characteristics of the liquid crystal display device thus assembled were evaluated. The liquid crystal display device assembled in this example has a high definition of 141 ppi and
A high aperture ratio (-40%) can be achieved as in the case of Example 8. In particular, the afterimage was evaluated here.
【0211】液晶表示装置の画像焼付き、残像を定量的
に評価するためにホトダイオードを組み合わせたオシロ
スコープを用いて評価した。Image sticking and afterimage of the liquid crystal display device were quantitatively evaluated using an oscilloscope combined with a photodiode.
【0212】まず、画面上に最大輝度でウィンドのパタ
ーンを30分間表示し、その後残像が最も目立つ中間調
表示を、輝度が最大輝度の10%となるように表示画面
全面を切り替え、ウィンドのエッジ部のパターンが消え
るまでの時間を残像時間として評価し、また、ウィンド
の残像部分と周辺中間調部分の輝度Bの輝度変動分の大
きさΔB/B(10%)を残像強度として評価した。但
し、ここで許容される残像強度は3%以下である。First, the window pattern is displayed on the screen at the maximum brightness for 30 minutes, and then the halftone display in which the afterimage is most noticeable is switched over the entire display screen so that the brightness becomes 10% of the maximum brightness, and the edge of the window The time until the partial pattern disappeared was evaluated as the afterimage time, and the size ΔB / B (10%) of the brightness variation of the brightness B of the afterimage part of the window and the peripheral halftone part was evaluated as the afterimage intensity. However, the afterimage strength allowed here is 3% or less.
【0213】上記による本実施例の液晶表示装置につい
て残像を評価した結果、残像強度は1%であり、目視に
よる画像残像検査においても、画像の焼付き、残像によ
る表示ムラも一切見られず、高い表示(画質)特性が得
られた。As a result of evaluating the afterimage of the liquid crystal display device of the present example as described above, the afterimage intensity was 1%, and no image sticking or display unevenness due to the afterimage was observed even in the visual image afterimage inspection. High display (image quality) characteristics were obtained.
【0214】なお、電極部を重畳させた電極構造(図1
2(b))について検討した結果は後述の比較例1で述
べる。The electrode structure in which the electrode portions are overlapped (see FIG.
The result of examination of 2 (b)) will be described in Comparative Example 1 below.
【0215】〔実施例 10〕本実施例での液晶表示装
置の画素部の概略図を図13に示した。図から分かるよ
うに実施例9における電極構造に加え、最上層に平坦化
絶縁膜120を塗布,形成した構造である。なお、本実
施例で作製した液晶表示素子のサイズ、解像度および画
素ピッチは実施例1と同様、14.1インチ、141p
pi(UXGA相当)、画素ピッチ180マイクロメー
タ(μm)である。また、隣合う共通電極と画素電極の
中心線が重畳していないことを除けば、液晶表示装置の
組み立て工程は実施例8と同様である。[Embodiment 10] A schematic view of a pixel portion of a liquid crystal display device according to this embodiment is shown in FIG. As can be seen from the figure, in addition to the electrode structure in Example 9, a flattening insulating film 120 is applied and formed on the uppermost layer. The size, resolution, and pixel pitch of the liquid crystal display element manufactured in this example are the same as in Example 1, 14.1 inches, 141p.
pi (corresponding to UXGA) and a pixel pitch of 180 micrometers (μm). The assembling process of the liquid crystal display device is the same as that of the eighth embodiment except that the center lines of the common electrode and the pixel electrode which are adjacent to each other are not overlapped.
【0216】こうして組み立てた液晶表示装置につい
て、表示特性を評価した。本実施例の液晶表示素子は、
141ppiと云う高精細であると同時に、実施例8と
同様に高開口率(〜40%)をも達成した。ここでは特
に残像について評価した。The display characteristics of the liquid crystal display device thus assembled were evaluated. The liquid crystal display element of this embodiment is
While achieving a high definition of 141 ppi, a high aperture ratio (-40%) was achieved as in Example 8. In particular, the afterimage was evaluated here.
【0217】液晶表示装置の画像焼付き、残像を定量的
に評価するためにホトダイオードを組み合わせたオシロ
スコープを用いて評価した。The image sticking and afterimage of the liquid crystal display device were quantitatively evaluated by using an oscilloscope combined with a photodiode.
【0218】まず、画面上に最大輝度でウィンドのパタ
ーンを30分間表示し、その後残像が最も目立つ中間調
表示を、輝度が最大輝度の10%となるように表示画面
全面を切り替え、ウィンドのエッジ部のパターンが消え
るまでの時間を残像時間として評価し、またウィンドの
残像部分と周辺中間調部分の輝度Bの輝度変動分の大き
さΔB/B(10%)を残像強度として評価した。但
し、ここで許容される残像強度は3%以下である。First, the window pattern is displayed on the screen at the maximum brightness for 30 minutes, and then the halftone display in which the afterimage is most noticeable is switched over the entire display screen so that the brightness becomes 10% of the maximum brightness, and the edge of the window is displayed. The time until the partial pattern disappeared was evaluated as the afterimage time, and the size ΔB / B (10%) of the brightness variation of the brightness B of the afterimage part of the window and the peripheral halftone part was evaluated as the afterimage intensity. However, the afterimage strength allowed here is 3% or less.
【0219】上記によって、本実施例の液晶表示装置に
ついて残像を評価した結果、残像強度は0.5%であ
り、目視による画像残像検査においても、画像の焼付
き、残像による表示ムラも一切見られず、非常に高い表
示(画質)特性が得られた。Afterimages of the liquid crystal display device of this example were evaluated as described above. As a result, the afterimage intensity was 0.5%, and image sticking and display unevenness due to afterimages were not observed even in visual image afterimage inspection. However, a very high display (image quality) characteristic was obtained.
【0220】〔実施例 11〕既述したように、例えば
図5,6に示した電極縦構造を有する液晶表示装置にお
いては、信号配線501、601と画素電極502、6
02が同層、かつ、近接して形成されているために、短
絡などの問題を生じる可能性がある。生産性の向上のた
めには、これら電極を異層に形成することである。異層
への形成には図14に示すように、例えば画素電極を配
置できる層から考えると二通りの電極縦構造がある。[Embodiment 11] As described above, in the liquid crystal display device having the vertical electrode structure shown in FIGS. 5 and 6, for example, the signal wirings 501 and 601 and the pixel electrodes 502 and 6 are used.
Since 02 is formed in the same layer and close to each other, a problem such as a short circuit may occur. To improve productivity, these electrodes are formed in different layers. As shown in FIG. 14, there are two types of vertical electrode structures for forming the layers in different layers, considering the layers in which pixel electrodes can be arranged.
【0221】しかし、蓄積電荷により生じる残像を考え
た場合には、その画質を左右する残像発生に影響する。
そこで、本実施例では図14(a),(b)に示した電
極縦構造を有する液晶表示装置により残像を評価した。
なお、本実施例で作製した液晶表示素子のサイズ、解像
度および画素ピッチは実施例1と同様14.1インチ、
141ppi(UXGA相当)、画素ピッチ180マイ
クロメータ(μm)である。また、液晶表示装置の組み
立て工程は実施例5と同様である。各電極縦構造に対す
る液晶表示装置を14(a),(b)とする。However, when the afterimage caused by the accumulated charge is considered, it affects the afterimage generation which influences the image quality.
Therefore, in this example, the afterimage was evaluated by the liquid crystal display device having the vertical electrode structure shown in FIGS.
The size, resolution and pixel pitch of the liquid crystal display element manufactured in this example are the same as in Example 1, 14.1 inches,
The pixel pitch is 141 ppi (equivalent to UXGA) and the pixel pitch is 180 micrometers (μm). The assembling process of the liquid crystal display device is similar to that of the fifth embodiment. The liquid crystal display devices for each electrode vertical structure are 14 (a) and 14 (b).
【0222】こうして組み立てた液晶表示装置につい
て、残像特性を評価した。液晶表示装置の画像焼付き、
残像を定量的に評価するためにホトダイオードを組み合
わせたオシロスコープを用いて評価した。Afterimage characteristics of the liquid crystal display device thus assembled were evaluated. Image sticking of liquid crystal display device,
The afterimage was evaluated using an oscilloscope combined with a photodiode in order to quantitatively evaluate the afterimage.
【0223】まず、画面上に最大輝度でウィンドのパタ
ーンを30分間表示し、その後残像が最も目立つ中間調
表示を、輝度が最大輝度の10%となるように表示画面
全面を切り替え、ウィンドのエッジ部のパターンが消え
るまでの時間を残像時間として評価し、またウィンドの
残像部分と周辺中間調部分の輝度Bの輝度変動分の大き
さΔB/B(10%)を残像強度として評価した。但
し、ここで許容される残像強度は3%以下である。First, the window pattern is displayed on the screen at the maximum brightness for 30 minutes, and then the halftone display in which the afterimage is most noticeable is switched over the entire display screen so that the brightness becomes 10% of the maximum brightness, and the edge of the window is displayed. The time until the partial pattern disappeared was evaluated as the afterimage time, and the size ΔB / B (10%) of the brightness variation of the brightness B of the afterimage part of the window and the peripheral halftone part was evaluated as the afterimage intensity. However, the afterimage strength allowed here is 3% or less.
【0224】上記によって、本実施例の液晶表示装置に
ついて残像を評価した結果、残像強度はともに1.5%
と小さかったが、残像が完全に消失するまでの時間は1
4(a)に比べ(b)が数分長いことが確認された。こ
れは、図17で示したようなCR等価回路モデルを考え
れば、電極間に介在する誘電体が少ないために緩和時定
数τが大きくなるためである。このことから、画素電極
−液晶−共通電極を通過する電気力線の経路には、なる
べく多くの誘電体が介在するのがよいことが分かった。Afterimages of the liquid crystal display device of this example were evaluated as described above. As a result, the afterimage intensity was 1.5%.
Although it was small, the time until the afterimage completely disappeared is 1
It was confirmed that (b) was several minutes longer than 4 (a). This is because, considering the CR equivalent circuit model as shown in FIG. 17, the relaxation time constant τ becomes large because there is little dielectric material interposed between the electrodes. From this, it was found that as many dielectrics as possible should intervene in the path of the lines of electric force passing through the pixel electrode-liquid crystal-common electrode.
【0225】〔実施例 12〕本実施例での液晶表示素
子の構造は実施例1と同様である。この液晶表示素子の
信号配線、走査配線に信号を供給しなければ画像を表示
することはできない。この画像を表示するための駆動信
号を供給するのが駆動ICである。[Embodiment 12] The structure of the liquid crystal display element of this embodiment is the same as that of the first embodiment. An image cannot be displayed unless a signal is supplied to the signal wiring and scanning wiring of this liquid crystal display element. A drive IC supplies a drive signal for displaying this image.
【0226】各画素からの共通配線、信号配線、走査配
線の各配線は基板の周辺部まで延在され、駆動ICの電
極パターンと一対一に対応するような電極パターンを構
成している。The common wiring, the signal wiring, and the scanning wiring from each pixel are extended to the peripheral portion of the substrate to form an electrode pattern having a one-to-one correspondence with the electrode pattern of the driving IC.
【0227】従来FCA実装では図15(a)に示すよ
うに、駆動IC12はAuバンプ13と異方性導電膜
(ACF)15を介して基板8上に形成された電極パタ
ーン14に接続される。In the conventional FCA mounting, as shown in FIG. 15A, the drive IC 12 is connected to the electrode pattern 14 formed on the substrate 8 via the Au bumps 13 and the anisotropic conductive film (ACF) 15. .
【0228】一方、本実施例での構造は図15(b)に
示した。液晶表示素子の基板8上で駆動IC12を接着
する部位に、加熱圧着後の駆動ICと液晶表示素子基板
との間に生じる応力歪を緩和するための、応力緩衝材1
6を形成した。ここで使用する緩衝材は、駆動ICによ
る発熱によって変質しない耐熱性のものが適当であり、
また、同時に液晶表示素子基板に駆動ICの熱を伝えに
くい断熱性、熱吸収の効果があるものが望ましい。On the other hand, the structure of this embodiment is shown in FIG. A stress buffer material 1 for relaxing the stress strain generated between the drive IC after thermocompression bonding and the liquid crystal display element substrate at the portion where the drive IC 12 is bonded on the substrate 8 of the liquid crystal display element.
6 was formed. It is appropriate that the cushioning material used here is a heat-resistant material that does not deteriorate due to heat generated by the driving IC.
At the same time, it is desirable that the liquid crystal display element substrate has a heat insulating property that makes it difficult to transfer the heat of the drive IC to the liquid crystal display element substrate and has a heat absorbing effect.
【0229】また、応力緩衝材にはコンタクトホールが
形成されており、これを介して駆動ICの電極と液晶表
示素子の電極が結線され、必要な信号が画素へ供給され
る。この液晶表示素子の組み立て工程は実施例1と同様
である。A contact hole is formed in the stress buffer material, and the electrode of the drive IC and the electrode of the liquid crystal display element are connected through the contact hole to supply a necessary signal to the pixel. The process of assembling this liquid crystal display element is similar to that of the first embodiment.
【0230】こうして得られた液晶表示装置は、FCA
実装における大きな課題である応力歪の問題と、駆動I
Cの熱による周辺輝度ムラの問題を同時に解決した、高
精細、かつ、結線不良により点灯しない画素(点欠陥、
線欠陥)のない画質も良好なものであった。The liquid crystal display device thus obtained was manufactured by FCA.
The problem of stress strain, which is a major issue in mounting, and drive I
Pixels that do not light up due to high-definition and defective connection (point defects, point defects,
The image quality without line defects was also good.
【0231】〔実施例 13〕多結晶Si−TFTを用
いることにより、駆動回路そのものを画素の中に組み込
むことが可能となる。駆動回路を一体化できることによ
り、例えば200ppiと云った高精細も可能となる。
また、従来の駆動回路の実装技術における制約がなくな
る。本実施例では多結晶Si−TFTを能動素子とした
透明電極フィッシュボーンIPSについて検討した結果
について述べる。[Embodiment 13] By using a polycrystalline Si-TFT, the driving circuit itself can be incorporated in a pixel. Since the drive circuit can be integrated, a high definition of, for example, 200 ppi is possible.
Further, there are no restrictions on the conventional mounting technology of the drive circuit. In this example, the result of studying a transparent electrode fishbone IPS using a polycrystalline Si-TFT as an active element will be described.
【0232】図21は、周辺駆動回路とTFTアクティ
ブマトリクスを同一基板上に集積した液晶表示装置の全
体の等価回路を示すものである。FIG. 21 shows an equivalent circuit of the whole liquid crystal display device in which the peripheral drive circuit and the TFT active matrix are integrated on the same substrate.
【0233】画素部952およびTFT951と、これ
を駆動する垂直走査回路953、一走査線分のビデオ信
号を複数のブロックに分割して時分割的に供給するため
の水平走査回路954、ビデオ信号データを供給するデ
ータ信号線Vdr1,Vdg1,Vdb1,…、ビデオ信号を
分割ブロック毎に画素部へ供給するスイッチマトリクス
回路955、走査配線956、信号配線957で構成さ
れる。A pixel portion 952 and a TFT 951, a vertical scanning circuit 953 for driving the same, a horizontal scanning circuit 954 for dividing a video signal of one scanning line into a plurality of blocks and supplying them in a time division manner, video signal data. Data signal lines Vdr1, Vdg1, Vdb1, ..., A switch matrix circuit 955 for supplying a video signal to the pixel portion for each divided block, a scanning wiring 956, and a signal wiring 957.
【0234】図22は、本実施例におけるTFTアクテ
ィブマトリクス部の断面図である。下からガラス基板9
68、バッファ層969、真性半導体層900、低抵抗
n型半導体層902、高抵抗n型半導体層903、ゲー
ト絶縁膜904、スルーホール部905、ソース電極9
58、信号配線957、層間絶縁膜906、コンタクト
ホール960、第一のゲート電極907、第二のゲート
電極908からなる。FIG. 22 is a sectional view of the TFT active matrix portion in this embodiment. Glass substrate 9 from below
68, buffer layer 969, intrinsic semiconductor layer 900, low resistance n-type semiconductor layer 902, high resistance n-type semiconductor layer 903, gate insulating film 904, through hole portion 905, source electrode 9
58, a signal wire 957, an interlayer insulating film 906, a contact hole 960, a first gate electrode 907, and a second gate electrode 908.
【0235】なお、液晶表示装置の駆動回路には、CM
OS型薄膜トランジスタ(TFT)を使用する。The drive circuit of the liquid crystal display device has a CM
An OS type thin film transistor (TFT) is used.
【0236】このような多結晶シリコンによるTFTと
の組み合わせにより、高精細、高画質、高開口率と云う
3項目を同時に達成する液晶表示装置を得ることができ
た。By combining with such a TFT made of polycrystalline silicon, it was possible to obtain a liquid crystal display device which simultaneously achieves the three items of high definition, high image quality and high aperture ratio.
【0237】〔比較例 1〕本比較例での液晶表示装置
の画素部の概略図を図12(b)に示す。図から分かる
ように、隣合うY字型の画素電極2と共通電極3とは、
中心線が絶縁膜を介して重畳している構造である。ま
た、本構造では重畳していることにより、表面での段差
が大きい。Comparative Example 1 A schematic view of the pixel portion of the liquid crystal display device of this comparative example is shown in FIG. 12 (b). As can be seen from the figure, the adjacent Y-shaped pixel electrode 2 and common electrode 3 are
This is a structure in which the center line overlaps with an insulating film. In addition, in this structure, the step difference on the surface is large due to the overlap.
【0238】なお、本比較例で作製した液晶表示素子の
サイズ、解像度および画素ピッチは実施例1と同様1
4.1インチ、141ppi(UXGA相当)、画素ピ
ッチ180マイクロメータ(μm)である。また、液晶
表示装置の組み立て工程は実施例9と同様である。The size, resolution and pixel pitch of the liquid crystal display element produced in this comparative example were the same as in Example 1.
It is 4.1 inches, 141 ppi (equivalent to UXGA), and has a pixel pitch of 180 micrometers (μm). The assembling process of the liquid crystal display device is the same as that of the ninth embodiment.
【0239】こうして組み立てた液晶表示装置につい
て、表示特性を評価した。本比較例で組み立てた液晶表
示素子は、141ppiと云う高精細であると同時に、
実施例8と同様に高開口率(〜40%)をも達成した。
ここでは特に実施例9との比較のために残像について評
価した。The display characteristics of the liquid crystal display device thus assembled were evaluated. The liquid crystal display device assembled in this comparative example has a high definition of 141 ppi and
A high aperture ratio (~ 40%) was also achieved as in Example 8.
Here, the afterimage was evaluated particularly for comparison with Example 9.
【0240】液晶表示装置の画像焼付き、残像を定量的
に評価するためにホトダイオードを組み合わせたオシロ
スコープを用いて評価した。Image sticking and afterimage of the liquid crystal display device were quantitatively evaluated using an oscilloscope combined with a photodiode.
【0241】まず、画面上に最大輝度でウィンドのパタ
ーンを30分間表示し、その後残像が最も目立つ中間調
表示を、輝度が最大輝度の10%となるように表示画面
全面を切り替え、ウィンドのエッジ部のパターンが消え
るまでの時間を残像時間として評価し、またウィンドの
残像部分と周辺中間調部分の輝度Bの輝度変動分の大き
さΔB/B(10%)を残像強度として評価した。但
し、ここで許容される残像強度は3%以下である。First, the window pattern is displayed on the screen at the maximum brightness for 30 minutes, and then the halftone display in which the afterimage is most noticeable is switched over the entire display screen so that the brightness becomes 10% of the maximum brightness, and the edge of the window is displayed. The time until the partial pattern disappeared was evaluated as the afterimage time, and the size ΔB / B (10%) of the brightness variation of the brightness B of the afterimage part of the window and the peripheral halftone part was evaluated as the afterimage intensity. However, the afterimage strength allowed here is 3% or less.
【0242】上記によって、本比較例の液晶表示装置に
ついて残像を評価した結果、残像強度は5%と大きく、
残像が消失するまでの時間も約30分を要し、目視によ
る画像残像検査においても、明らかな画像の焼付きと、
残像による表示ムラが確認された。この悪い残像の発生
は、画素電極と共通電極を重畳したことによる電界の集
中と、大きな電極段差を形成したことによるものであ
る。As a result of evaluating the afterimage of the liquid crystal display device of this comparative example as described above, the afterimage intensity was as large as 5%,
It takes about 30 minutes for the afterimage to disappear, and even in the image afterimage inspection by visual observation, there is clear image sticking,
Display unevenness due to afterimages was confirmed. The occurrence of this bad afterimage is due to the concentration of the electric field due to the overlapping of the pixel electrode and the common electrode and the formation of a large electrode step.
【0243】[0243]
【発明の効果】本発明によれば、高精細(140ppi
以上)、高画質、高開口率を同時に実現できる液晶表示
装置を提供することができる。また、低消費電力化およ
び生産効率の向上も可能となる。According to the present invention, high definition (140 ppi)
As described above, it is possible to provide a liquid crystal display device capable of simultaneously achieving high image quality and high aperture ratio. Further, it is possible to reduce power consumption and improve production efficiency.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】実施例1の液晶表示装置の電極構造を説明する
模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram illustrating an electrode structure of a liquid crystal display device according to a first embodiment.
【図2】実施例2の液晶表示装置の電極構造を説明する
模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram illustrating an electrode structure of a liquid crystal display device of Example 2.
【図3】実施例3の液晶表示装置の電極構造を説明する
模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram illustrating an electrode structure of a liquid crystal display device of Example 3.
【図4】実施例4の液晶表示装置の電極構造を説明する
模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram illustrating an electrode structure of a liquid crystal display device of Example 4.
【図5】実施例5の液晶表示装置の電極構造を説明する
模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram illustrating an electrode structure of a liquid crystal display device of Example 5.
【図6】実施例6の液晶表示装置の電極構造を説明する
模式図である。FIG. 6 is a schematic diagram illustrating an electrode structure of a liquid crystal display device of Example 6.
【図7】実施例7の液晶表示装置の電極構造を説明する
模式図である。FIG. 7 is a schematic diagram illustrating an electrode structure of a liquid crystal display device of Example 7.
【図8】実施例8の液晶表示装置の電極構造を説明する
模式図である。FIG. 8 is a schematic diagram illustrating an electrode structure of a liquid crystal display device of Example 8.
【図9】実施例2の液晶表示装置において、リバースド
メインを改善するY字型電極構造の模式図である。FIG. 9 is a schematic diagram of a Y-shaped electrode structure for improving a reverse domain in the liquid crystal display device of Example 2.
【図10】実施例3の液晶表示装置において、リバース
ドメインを改善するY字型電極構造の模式図である。FIG. 10 is a schematic diagram of a Y-shaped electrode structure for improving a reverse domain in the liquid crystal display device of Example 3.
【図11】実施例5の液晶表示装置において、リバース
ドメインを改善するY字型電極構造の模式図である。FIG. 11 is a schematic diagram of a Y-shaped electrode structure for improving the reverse domain in the liquid crystal display device of Example 5.
【図12】実施例9及び比較例1の液晶表示装置の電極
構造を説明する模式図である。12 is a schematic diagram illustrating an electrode structure of a liquid crystal display device of Example 9 and Comparative Example 1. FIG.
【図13】実施例10の液晶表示装置の画素部の電極構
造を説明する模式図である。FIG. 13 is a schematic diagram illustrating an electrode structure of a pixel portion of the liquid crystal display device of Example 10.
【図14】液晶表示装置の信号配線と画素電極の配置の
一例を示す模式断面図である。FIG. 14 is a schematic cross-sectional view showing an example of arrangement of signal wirings and pixel electrodes of a liquid crystal display device.
【図15】従来FCA実装と実施例12の実装による液
晶表示素子の模式断面図である。FIG. 15 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display element by the conventional FCA mounting and the mounting of Example 12.
【図16】液晶表示素子におけるラビング方向と液晶注
入口との位置関係の説明図である。FIG. 16 is an explanatory diagram of a positional relationship between a rubbing direction and a liquid crystal inlet in a liquid crystal display element.
【図17】液晶表示素子を多層誘電体と考えたときの等
価回路モデルを説明するための図である。FIG. 17 is a diagram for explaining an equivalent circuit model when the liquid crystal display element is considered as a multilayer dielectric.
【図18】Y字型フィッシュボーン構造において画素内
に生じる電界方向の概略説明図である。FIG. 18 is a schematic explanatory diagram of an electric field direction generated in a pixel in a Y-shaped fishbone structure.
【図19】液晶表示素子の各電極の配置の説明図であ
る。FIG. 19 is an explanatory diagram of arrangement of electrodes of a liquid crystal display element.
【図20】液晶表示装置の周辺駆動回路とTFTアクテ
ィブマトリクスを同一基板上に集積した液晶表示装置全
体の等価回路を示す説明図である。FIG. 20 is an explanatory diagram showing an equivalent circuit of the entire liquid crystal display device in which a peripheral drive circuit of the liquid crystal display device and a TFT active matrix are integrated on the same substrate.
【図21】液晶表示装置の駆動システムの構成を説明す
る説明図である。FIG. 21 is an explanatory diagram illustrating a configuration of a drive system of a liquid crystal display device.
【図22】実施例13の液晶表示装置のTFTアクティ
ブマトリクス部の単位画素の模式断面図である。FIG. 22 is a schematic cross-sectional view of a unit pixel of a TFT active matrix portion of the liquid crystal display device of Example 13.
【図23】液晶表示装置の各構成要素を説明する模式分
解斜視図である。FIG. 23 is a schematic exploded perspective view illustrating each component of the liquid crystal display device.
1,101,201,301,401,501,60
1,701,801,901,1001,1101…信
号配線、2,102,202,302,402,50
2,602,702,802,902,1001,11
01…画素電極、3,103,203,303,40
3,503,603,703,803,903,100
3,1103…共通電極、4,104,204,30
4,404,504,604,704,804,90
4,1004,1104…走査配線、5,105,20
5,305,405,505,605,705,80
5,905,1005,1105…薄膜トランジスタ
(TFT)、6,106,206,306,406,5
06,606,706,806,906,1006,1
106…第二絶縁膜、7,107,207,307,4
07,507,607,707,807,907,10
07,1107…第一絶縁膜、8,108,208,3
08,408,508,608,708,808,90
8,1008,1108…基板、309,409,10
09…コンタクトホール(スルーホール)、310,4
10,1010…共通配線、611,711,111
1,…第三絶縁膜(低容量絶縁膜)、12…駆動IC、
13…Auバンプ、14…電極パターン、15…異方性
導電膜(ACF)、16…応力緩衝材、17…ラビング
方向、18…液晶パネル、19…液晶注入口、20…液
晶、21…配向膜、22…オーバーコート膜(カラーフ
ィルタ保護膜)、23…カラーフィルタ、24…ブラッ
クマトリクス、25…偏光板、26…電界、27…走査
電極駆動回路、28…信号電極駆動回路、29…共通電
極駆動回路、30…電源回路およびコントロール回路、
31…液晶表示素子(液晶表示パネル)、32…シール
ドケース、33…拡散板、34…導光板、35…反射
板、36…バックライト、37…下側ケース、38…イ
ンバータ回路基板、39…液晶表示装置、900…真性
半導体層、902…低抵抗n型半導体層、903…高抵
抗n型半導体層、904…ゲート絶縁膜、905…スル
ーホール部、906…層間絶縁膜、907…第一のゲー
ト電極、908…第二のゲート電極、951…薄膜トラ
ンジスタ(TFT)、952…画素部、953…垂直走
査回路、954…水平走査回路、955…スイッチマト
リクス回路、956…走査配線、957…信号配線、9
58…ソース電極、960…コンタクトホール、961
…画素電極、968…ガラス基板、969…バッファ
層、120…上層平坦化絶縁膜。1, 101, 201, 301, 401, 501, 60
1, 701, 801, 901, 1001, 1101 ... Signal wiring, 2, 102, 202, 302, 402, 50
2,602,702,802,902,1001,11
01 ... Pixel electrode, 3, 103, 203, 303, 40
3,503,603,703,803,903,100
3, 1103 ... Common electrode, 4, 104, 204, 30
4,404,504,604,704,804,90
4, 1004, 1104 ... Scan wiring, 5, 105, 20
5,305,405,505,605,705,80
5,905,1005,1105 ... Thin film transistor (TFT), 6,106,206,306,406,5
06,606,706,806,906,1006,1
106 ... Second insulating film, 7, 107, 207, 307, 4
07, 507, 607, 707, 807, 907, 10
07, 1107 ... First insulating film, 8, 108, 208, 3
08,408,508,608,708,808,90
8, 1008, 1108 ... Substrate, 309, 409, 10
09 ... Contact hole (through hole), 310, 4
10, 1010 ... Common wiring, 611, 711, 111
1, ... Third insulating film (low capacitance insulating film), 12 ... Driving IC,
13 ... Au bump, 14 ... Electrode pattern, 15 ... Anisotropic conductive film (ACF), 16 ... Stress buffering material, 17 ... Rubbing direction, 18 ... Liquid crystal panel, 19 ... Liquid crystal injection port, 20 ... Liquid crystal, 21 ... Alignment Film, 22 ... Overcoat film (color filter protective film), 23 ... Color filter, 24 ... Black matrix, 25 ... Polarizing plate, 26 ... Electric field, 27 ... Scan electrode drive circuit, 28 ... Signal electrode drive circuit, 29 ... Common Electrode drive circuit, 30 ... Power supply circuit and control circuit,
31 ... Liquid crystal display element (liquid crystal display panel), 32 ... Shield case, 33 ... Diffusion plate, 34 ... Light guide plate, 35 ... Reflector plate, 36 ... Backlight, 37 ... Lower case, 38 ... Inverter circuit board, 39 ... Liquid crystal display device, 900 ... Intrinsic semiconductor layer, 902 ... Low resistance n-type semiconductor layer, 903 ... High resistance n-type semiconductor layer, 904 ... Gate insulating film, 905 ... Through hole portion, 906 ... Interlayer insulating film, 907 ... First , 908 ... Second gate electrode, 951 ... Thin film transistor (TFT), 952 ... Pixel portion, 953 ... Vertical scanning circuit, 954 ... Horizontal scanning circuit, 955 ... Switch matrix circuit, 956 ... Scan wiring, 957 ... Signal Wiring, 9
58 ... Source electrode, 960 ... Contact hole, 961
... Pixel electrode, 968 ... Glass substrate, 969 ... Buffer layer, 120 ... Upper planarization insulating film.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H089 LA22 NA29 2H092 GA14 GA20 GA43 HA03 HA04 JB58 KA04 NA01 NA07 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page F-term (reference) 2H089 LA22 NA29 2H092 GA14 GA20 GA43 HA03 HA04 JB58 KA04 NA01 NA07
Claims (25)
その一対の基板に挟持された液晶層とを有し、前記基板
の一方に複数の走査配線と、該走査配線にマトリクス状
に形成された複数の信号配線、該複数の信号配線と前記
複数の走査配線とのそれぞれの交点に対応して形成され
た複数の能動素子と、該能動素子に接続された複数の画
素電極と、前記複数の走査配線のそれぞれの間に形成さ
れた共通配線と、該複数の共通配線に接続された複数の
共通電極とを有し、前記画素電極と前記共通電極間に電
圧を印加し、前記一対の基板に支配的に生じる平行な電
界により前記液晶の配向を制御することにより表示を行
う液晶表示装置において、 前記画素電極および前記共通電極が共に透明導電膜によ
りくの字型に形成され、前記走査配線と前記信号配線に
より囲まれた画素の中で該画素の長手方向に画素を分割
するように前記くの字型画素電極と前記くの字型共通電
極が交互に配置され、かつ、同一画素内の画素電極は互
いに画素の両端で、また、共通電極は互いに画素の両端
でそれぞれ接続されていることを特徴とする液晶表示装
置。1. A pair of substrates, at least one of which is transparent,
A liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, a plurality of scanning wirings on one side of the substrate, a plurality of signal wirings formed in a matrix on the scanning wirings, the plurality of signal wirings and the plurality of signal wirings. A plurality of active elements formed corresponding to respective intersections with the scanning lines, a plurality of pixel electrodes connected to the active elements, and a common line formed between each of the plurality of scanning lines, A plurality of common electrodes connected to the plurality of common wirings, a voltage is applied between the pixel electrode and the common electrode, and a parallel electric field predominantly generated in the pair of substrates is used to align the liquid crystal. In a liquid crystal display device that performs display by controlling, the pixel electrode and the common electrode are both formed in a V shape by a transparent conductive film, and the pixel is surrounded by the scanning wiring and the signal wiring. Image in the longitudinal direction of The V-shaped pixel electrodes and the V-shaped common electrodes are alternately arranged so as to divide an element, and pixel electrodes within the same pixel are at both ends of the pixel, and common electrodes are at the pixel positions. A liquid crystal display device, which is connected at both ends.
その一対の基板に挟持された液晶層とを有し、前記一対
の基板の一方に、複数の走査配線と、これら走査配線に
マトリクス状に形成された複数の信号配線、これら複数
の信号配線と前記複数の走査配線とのそれぞれの交点に
対応して形成された複数の能動素子と、それら能動素子
に接続された複数の画素電極と、前記複数の走査配線の
それぞれの間に形成された共通配線と、前記複数の共通
配線に接続された複数の共通電極とからなり、前記画素
電極と前記共通電極間に電圧を印加し、前記一対の基板
に支配的に生じる平行な電界により前記液晶の配向を制
御して表示を行う液晶表示装置において、 前記画素電極および前記共通電極が共に透明導電膜でY
字型に形成され、前記走査配線と前記信号配線によって
囲まれた画素の中で該画素の長手方向に画素を分割する
ように前記Y字型画素電極と前記Y字型共通電極が交互
に配置され、かつ、同一画素内の画素電極は互いに画素
の両端で、また、共通電極は互いに画素の両端でそれぞ
れ接続されていることを特徴とする液晶表示装置。2. A pair of substrates, at least one of which is transparent,
A liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, a plurality of scanning wirings, a plurality of signal wirings formed in a matrix on the scanning wirings, and the plurality of signal wirings on one of the pair of substrates. A plurality of active elements formed corresponding to respective intersections with the plurality of scanning lines, a plurality of pixel electrodes connected to the active elements, and a common formed between the plurality of scanning lines Wiring and a plurality of common electrodes connected to the plurality of common wirings, a voltage is applied between the pixel electrode and the common electrode, and a parallel electric field predominantly generated in the pair of substrates causes the liquid crystal In a liquid crystal display device that controls the orientation to perform display, both the pixel electrode and the common electrode are transparent conductive films.
The Y-shaped pixel electrode and the Y-shaped common electrode are alternately arranged so as to divide the pixel in the longitudinal direction of the pixel formed in the V-shape and surrounded by the scanning wiring and the signal wiring. And a pixel electrode within the same pixel is connected to both ends of the pixel, and a common electrode is connected to both ends of the pixel.
通電極が絶縁膜を介して異なる層に形成され、前記Y字
型画素電極および前記Y字型共通電極中心線が、隣合う
電極間で、前記電極群が形成されている前記基板に垂直
な方向で重畳している領域を有しない請求項2に記載の
液晶表示装置。3. The Y-shaped pixel electrode and the Y-shaped common electrode are formed in different layers via an insulating film, and the Y-shaped pixel electrode and the Y-shaped common electrode center line are adjacent to each other. The liquid crystal display device according to claim 2, wherein the liquid crystal display device does not have a region overlapping in a direction perpendicular to the substrate on which the electrode group is formed.
配線、前記共通電極および前記画素電極が液晶層とガラ
ス基板との間に形成され、このうち前記共通電極が、他
の前記電極群および配線群と少なくとも一層以上の絶縁
膜を介して異なる層に形成され、かつ、前記共通電極
が、他の前記電極群および前記配線群の中で最も液晶層
側に形成されている請求項1または2に記載の液晶表示
装置。4. The signal line, the scanning line, the common line, the common electrode, and the pixel electrode are formed between a liquid crystal layer and a glass substrate, of which the common electrode is another electrode group and The wiring group is formed in a different layer through at least one insulating film, and the common electrode is formed closest to the liquid crystal layer among the other electrode groups and the wiring group. 2. The liquid crystal display device according to item 2.
上の絶縁膜を介して信号配線の上に重畳して形成されて
いる請求項4に記載の液晶表示装置。5. The liquid crystal display device according to claim 4, wherein a part of the common electrode is formed so as to overlap with the signal wiring via at least one insulating film.
が重畳している領域では、前記共通電極と前記信号配線
との間に、容量負荷を低減させるための低容量絶縁膜が
介在している請求項5に記載の液晶表示装置。6. A low-capacity insulating film for reducing a capacitive load is interposed between the common electrode and the signal line at least in a region where the common electrode and the signal line overlap each other. Item 5. The liquid crystal display device according to item 5.
ている基板と対向する基板上に、前記走査配線延在方向
に延在配置された遮光用ブラックマトリクスが形成さ
れ、かつ、前記信号配線延在方向には遮光用ブラックマ
トリクスが形成されていない請求項4,5または6に記
載の液晶表示装置。7. A light-shielding black matrix extending in the scanning wiring extending direction is formed on a substrate facing a substrate on which the electrode group and the wiring group are formed, and the signal wiring is formed. 7. The liquid crystal display device according to claim 4, 5 or 6, wherein a black matrix for shading is not formed in the extending direction.
上の絶縁膜を介して走査配線の上に重畳して形成されて
いる請求項4に記載の液晶表示装置。8. The liquid crystal display device according to claim 4, wherein a part of the common electrode is formed so as to overlap the scanning wiring with at least one insulating film interposed therebetween.
が重畳している領域では、前記共通電極と前記走査配線
との間に、容量負荷を低減させるための低容量絶縁膜が
介在している請求項8に記載の液晶表示装置。9. A low-capacity insulating film for reducing a capacitive load is interposed between the common electrode and the scanning wiring at least in a region where the common electrode and the scanning wiring overlap. Item 9. A liquid crystal display device according to item 8.
以上の絶縁膜を介して前記走査配線および前記信号配線
の両配線上に同時に重畳して形成されている請求項4に
記載の液晶表示装置。10. The liquid crystal display device according to claim 4, wherein a part of the common electrode is formed so as to be simultaneously overlapped on both the scanning wiring and the signal wiring through at least one insulating film. .
線が重畳している領域、前記共通電極と前記走査配線が
重畳している領域では、前記共通電極と前記信号配線と
の間に、また、前記共通電極と前記走査配線との間に、
容量負荷を低減させるための低容量絶縁膜が介在してい
る請求項10に記載の液晶表示装置。11. At least a region where the common electrode and the signal line overlap, and a region where the common electrode and the scanning line overlap, between the common electrode and the signal line, and Between the common electrode and the scanning wiring,
The liquid crystal display device according to claim 10, wherein a low-capacity insulating film for reducing the capacitive load is interposed.
れている基板と対向する基板上に、遮光用ブラックマト
リクスが形成されていない請求項8〜11のいずれかに
記載の液晶表示装置。12. The liquid crystal display device according to claim 8, wherein a black matrix for light shielding is not formed on a substrate facing a substrate on which the electrode group and the wiring group are formed.
離れた層に前記画素電極が形成されている請求項4〜1
2のいずれかに記載の液晶表示装置。13. The pixel electrode is formed in a layer farthest from a layer in which the common electrode is formed.
3. The liquid crystal display device according to any one of 2.
の配置構造が、画素の対角線の交点を対称心として反転
した状態で配置されている請求項1〜13のいずれかに
記載の液晶表示装置。14. The liquid crystal display according to claim 1, wherein an arrangement structure of the common electrode and the pixel electrode is arranged in a pixel in an inverted state with an intersection of diagonal lines of the pixel as a center of symmetry. apparatus.
層に形成され、これら電極間に少なくとも一層以上の絶
縁膜が介在し、該絶縁膜に形成されたコンタクトホール
を通じて前記共通電極と前記共通配線が接続されている
請求項1〜14のいずれかに記載の液晶表示装置。15. The common electrode and the common wiring are formed in different layers, at least one insulating film is interposed between these electrodes, and the common electrode and the common wiring are formed through a contact hole formed in the insulating film. 15. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is connected.
側で、液晶を配向させるための配向制御膜の直下に、前
記電極群を形成する工程で生じた段差を平坦化するため
の平坦化絶縁膜が配置されている請求項1〜15のいず
れかに記載の液晶表示装置。16. A flattening process for flattening a step formed in the step of forming the electrode group, directly below an alignment control film for aligning liquid crystals on the substrate side where the electrode group is formed. The liquid crystal display device according to claim 1, further comprising an insulating film.
た一つの画素内に、少なくとも一つ以上前記能動素子が
形成され、かつ、該能動素子が多結晶シリコンで形成さ
れている請求項1〜15のいずれかに記載の液晶表示装
置。17. The at least one active element is formed in one pixel surrounded by the scanning wiring and the signal wiring, and the active element is made of polycrystalline silicon. 16. The liquid crystal display device according to any one of 15 to 15.
記共通配線に信号を供給するための駆動ICが、FCA
実装により、液晶表示装置を構成する前記基板上に直接
実装されている請求項1〜16のいずれかに記載の液晶
表示装置。18. A drive IC for supplying a signal to the scan wiring, the signal wiring, and the common wiring is an FCA.
The liquid crystal display device according to claim 1, which is directly mounted on the substrate that constitutes the liquid crystal display device by mounting.
る前記基板との間に、応力歪を緩和するための応力緩衝
材が、前記駆動ICおよび前記基板に接して配置されて
いる請求項18に記載の液晶表示装置。19. A stress buffer material for relaxing stress strain is arranged between the drive IC and the substrate constituting the liquid crystal display device in contact with the drive IC and the substrate. The liquid crystal display device according to item 1.
係数と前記基板の熱膨張係数がほぼ同じである請求項1
8に記載の液晶表示装置。20. The coefficient of thermal expansion of the material forming the drive IC and the coefficient of thermal expansion of the substrate are substantially the same.
8. The liquid crystal display device according to item 8.
て、加熱圧着せずに前記基板上に直接実装されている請
求項18に記載の液晶表示装置。21. The liquid crystal display device according to claim 18, wherein the drive IC is directly mounted on the substrate by using an ultraviolet curable resin without thermocompression bonding.
記駆動ICにより発生した熱を基板に伝導させないため
の断熱材または熱吸収材が前記駆動ICに接して設けら
れている請求項18に記載の液晶表示装置。22. A heat insulating material or heat absorbing material for preventing heat generated by the driving IC from being conducted to the substrate is provided between the driving IC and the substrate in contact with the driving IC. The liquid crystal display device according to item 1.
(ITO),酸化インジウムゲルマニウム(IGO)お
よび酸化インジウム亜鉛(IZO)のう少なくとも一種
からなる請求項1〜22のいずれかに記載の液晶表示装
置。23. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the transparent conductive film is made of at least one of indium tin oxide (ITO), indium germanium oxide (IGO) and indium zinc oxide (IZO). .
以上である請求項1〜23のいずれかに記載の液晶表示
装置。24. The liquid crystal display device has a resolution of 140 ppi.
The liquid crystal display device according to claim 1, which is the above.
のうち、ラビング方向とほぼ直交する辺のどちらか一辺
に液晶を注入するための封入口を少なくとも一つ以上有
し、液晶注入後に封入口を塞ぐための封止材により封止
されている請求項1〜24のいずれかに記載の液晶表示
装置。25. At least one of the sides of the substrate constituting the liquid crystal display device, which is substantially orthogonal to the rubbing direction, has at least one sealing port for injecting the liquid crystal, and the sealing is performed after the liquid crystal is injected. The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 24, which is sealed with a sealing material for closing the inlet.
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