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JP2003068798A - Semiconductor mounting method and semiconductor mounting device - Google Patents

Semiconductor mounting method and semiconductor mounting device

Info

Publication number
JP2003068798A
JP2003068798A JP2001252098A JP2001252098A JP2003068798A JP 2003068798 A JP2003068798 A JP 2003068798A JP 2001252098 A JP2001252098 A JP 2001252098A JP 2001252098 A JP2001252098 A JP 2001252098A JP 2003068798 A JP2003068798 A JP 2003068798A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
semiconductor device
semiconductor
thermocompression
thermocompression bonding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001252098A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
雅則 ▲高▼橋
Masanori Takahashi
Toshimichi Ouchi
俊通 大内
Kenji Niihori
憲二 新堀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2001252098A priority Critical patent/JP2003068798A/en
Publication of JP2003068798A publication Critical patent/JP2003068798A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor mounting method which can mount a semiconductor device suppressing deviating at thermocompression bonding and have a fine electrode terminal of a connecting pitch to the substrate and to provide the semiconductor device. SOLUTION: The substrate 1 is moved to a thermocompression bonding position just under a heating means 18 by a moving means 22 which fixes and holds the substrate 1 and the substrate 1 which was moved to the thermocompression bonding position by the moving means 22 is adsorbed and fixed by a fixing portion 20 arranged right under the heating means 18. After this, while the heating means 18 thermocompression-bonds the semiconductor device 4, a position deviation of the substrate 1 in the thermocompression bonding position due to thermal expansion at the thermocompression bonding time can be prevented by releasing a fixing state of the substrate 1 by the moving means 22.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板に半導体装置
を実装する半導体の実装方法及び半導体実装装置に関
し、特に基板に半導体装置を接着剤を介して直接実装す
るものに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor mounting method and a semiconductor mounting apparatus for mounting a semiconductor device on a substrate, and more particularly to a semiconductor device directly mounted on a substrate via an adhesive.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、EL表示パネル、単純マトリクス
型やアクティブマトリクス型の液晶表示パネル等のマト
リクス状に表示画素電極が形成された表示パネルを備え
た表示装置がある。そして、このような装置において
は、マトリクス状に配線形成された画素電極を備えたガ
ラス基板やプラスチック基板等の透明基板に対し、TA
B法(Tape Automated Bondin
g)により駆動用半導体装置が搭載されたTCP(Ta
pe Carrier Package)を導電性粒子
を絶縁性接着剤中に分散してなる異方性導電接着膜(A
CF:Anisotropic Conductive
film)を用いて接続する接続構造、バンプ付きI
CチップをACFを用いて接続するCOG(Chip
on glass)法による接続構造が取られていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, there is a display device including a display panel in which display pixel electrodes are formed in a matrix such as an EL display panel, a simple matrix type or an active matrix type liquid crystal display panel. Then, in such a device, a transparent substrate such as a glass substrate or a plastic substrate having pixel electrodes in which wirings are formed in a matrix is used as a TA substrate.
Method B (Tape Automated Bondin
g), the TCP (Ta
An anisotropic conductive adhesive film (A) in which conductive particles are dispersed in an insulating adhesive.
CF: Anisotropic Conductive
connection structure using bumps, with bumps I
COG (Chip that connects C chip using ACF)
on-glass) connection structure.

【0003】なお、図5は、このようなCOG法により
ガラス基板に半導体装置が接続されている液晶パネルの
平面図であり、同図において、4、5が、ガラス基板1
に接続された半導体装置である。なお、6、7は一層の
フレキシブル配線基板、8、9は多層構成のPWB、1
0、11はフレキシブル基板である。
Incidentally, FIG. 5 is a plan view of a liquid crystal panel in which a semiconductor device is connected to a glass substrate by such a COG method. In FIG. 5, 4 and 5 are glass substrates 1.
Is a semiconductor device connected to. In addition, 6 and 7 are flexible wiring boards having a single layer, 8 and 9 are PWBs having a multilayer structure, and 1
Reference numerals 0 and 11 are flexible substrates.

【0004】ここで、COG法により半導体装置4,5
をガラス基板1に接続する場合は、まず半導体装置4,
5と、ガラス基板1の周辺に延在された不図示の配線電
極端子とをACFを介して相対峙して位置合わせした
後、加熱ヘッドにより熱圧着して接続固定する方法が取
られている。
Here, the semiconductor devices 4, 5 are manufactured by the COG method.
When connecting the to the glass substrate 1, first, the semiconductor device 4,
5 and a wiring electrode terminal (not shown) extending around the glass substrate 1 are aligned and positioned relative to each other via the ACF, and then thermocompression bonding is performed by a heating head to connect and fix them. .

【0005】ところで、最近では表示装置の表示画素は
高精細化されており、これに伴い半導体装置の出力端子
数が増加する一方、接続電極端子ピッチが微小化し、接
続電極端子のバンプサイズも小さくなってきている。
By the way, recently, the display pixels of a display device have been made finer, and the number of output terminals of the semiconductor device has been increased accordingly, while the pitch of the connection electrode terminals has become smaller and the bump size of the connection electrode terminals has become smaller. It has become to.

【0006】ここで、TCPを接続する場合は、通常、
基板の接続電極端子は基板の辺にそった方向(X方向)
に配列され、その接続電極は辺に垂直な方向(Y方向)
に長手形状に形成されるため、位置合わせ及び熱圧着時
の位置精度は、X方向の精度を保つことにより十分に確
保することができる。
Here, when connecting TCP, normally,
The connection electrode terminals of the board are along the side of the board (X direction)
And the connection electrodes are arranged in a direction perpendicular to the side (Y direction).
Since it is formed in the longitudinal shape, the positional accuracy at the time of alignment and thermocompression bonding can be sufficiently ensured by maintaining the accuracy in the X direction.

【0007】しかしながら、COG法により半導体装置
を接続する方法では、例えば半導体装置の入力及び出力
電極端子が、図6に示すように半導体装置4,5の周辺
4辺、或いは対向する2辺に形成され、この電極端子1
2,13の形状も半導体装置4,5のサイズを小さくす
るため正方形に近く、このため位置合わせ及び熱圧着時
の位置精度を確保するためには、XY両方向の精度を保
つ必要がある。
However, in the method of connecting the semiconductor devices by the COG method, for example, the input and output electrode terminals of the semiconductor devices are formed on the four sides around the semiconductor devices 4 and 5 or on the opposite two sides as shown in FIG. This electrode terminal 1
The shapes of 2 and 13 are close to squares in order to reduce the size of the semiconductor devices 4 and 5. Therefore, in order to secure the positional accuracy during alignment and thermocompression bonding, it is necessary to maintain the accuracy in both XY directions.

【0008】そこで、従来の半導体実装装置において
は、まず例えば半導体装置を加熱ヘッドにフェースダウ
ンで吸着保持すると共に基板を専用のステージで吸着等
により固定保持し、次に半導体装置と基板との相互の位
置合わせマークを認識した後、圧着ヘッド又はステージ
に対してXYθの移動補正を行なって位置合わせし、こ
の後、加熱ヘッドを下降させて熱圧着を行なうようにし
ている。
Therefore, in the conventional semiconductor mounting apparatus, for example, the semiconductor device is first held by the heating head face down by suction, and the substrate is fixedly held by suction or the like by a dedicated stage, and then the semiconductor device and the substrate are held together. After recognizing the alignment mark, the XYθ movement is corrected with respect to the pressure bonding head or the stage to align the position, and then the heating head is lowered to perform thermocompression bonding.

【0009】なお、この熱圧着は、まず短時間、低温で
行って半導体装置を基板に位置合わせ仮固定した状態と
し、この後、専用ステージで基板を吸着固定しながら圧
着位置に搬送して別途、加熱ヘッドにより半導体装置を
上部より加熱押圧して本圧着を行なっていた。
The thermocompression bonding is first carried out at a low temperature for a short time so that the semiconductor device is aligned and temporarily fixed to the substrate. After that, the substrate is sucked and fixed by a dedicated stage and conveyed to the pressure bonding position and separately. The semiconductor device was heated and pressed from above by the heating head to perform the main compression bonding.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
従来の半導体実装装置においては、加熱ヘッドにより半
導体装置を基板に熱圧着する際、熱圧着される基板の周
辺部分が熱膨張するようになる。ここで、この熱圧着の
際、基板は専用ステージで吸着固定されているため、こ
のように基板の周辺部分が熱膨張すると、基板の熱圧着
部分が熱圧着位置からずれるようになり、これが半導体
装置を熱圧着する際の位置ずれの要因となっていた。そ
して、このような位置ずれが生じると、微小な接続ピッ
チの電極端子を有する半導体装置を精度良く基板に実装
することができなくなっていた。
However, in such a conventional semiconductor mounting device, when the semiconductor device is thermocompression bonded to the substrate by the heating head, the peripheral portion of the substrate to be thermocompression bonded is thermally expanded. . Here, during this thermocompression bonding, the substrate is adsorbed and fixed by the dedicated stage, so when the peripheral portion of the substrate thermally expands in this way, the thermocompression bonding portion of the substrate shifts from the thermocompression bonding position. It was a cause of positional displacement when the device was thermocompression bonded. Then, if such a positional deviation occurs, it becomes impossible to mount the semiconductor device having the electrode terminals with a minute connection pitch on the substrate with high accuracy.

【0011】また、半導体装置と基板との接続は、熱圧
着時の加熱及び加圧によりACFを溶融、流動し、図7
に示すようにACF16に含まれる導電性粒子17,1
7’を半導体装置4の入力及び出力電極端子12,13
と、ガラス基板1の配線電極端子14,15との間に挟
み込んで樹脂硬化することにより行われるようになって
いる。しかし、このようにACF16を溶融しながら加
圧することにより、半導体装置4とガラス基板1とを接
続する場合、加熱圧着時、ガラス基板1に平面方向の力
が加わると、位置ずれが生じ易いという問題があった。
Further, the semiconductor device and the substrate are connected by melting and flowing the ACF by heating and pressurizing at the time of thermocompression bonding.
As shown in FIG.
7'is the input and output electrode terminals 12, 13 of the semiconductor device 4.
And the wiring electrode terminals 14 and 15 of the glass substrate 1 are sandwiched between them and the resin is cured. However, when the semiconductor device 4 and the glass substrate 1 are connected to each other by melting and pressing the ACF 16 in this manner, a position shift is likely to occur when a force in the plane direction is applied to the glass substrate 1 during thermocompression bonding. There was a problem.

【0012】なお、このような熱圧着の際の基板の位置
ずれを防止するため、専用ステージ及び専用ステージの
位置調整駆動部、専用ステージ搬送駆動部の剛性をあ
げ、さらに熱圧着ヘッドの加圧駆動部の剛性を上げる必
要があるが、このように各部の剛性を上げた場合、半導
体実装装置の重量及びコストが増大すると共に、実装速
度も遅くなる。
In order to prevent the displacement of the substrate during such thermocompression bonding, the rigidity of the dedicated stage, the position adjustment drive unit of the dedicated stage, and the dedicated stage transport drive unit is increased, and the pressure of the thermocompression bonding head is further increased. Although it is necessary to increase the rigidity of the drive section, if the rigidity of each section is increased in this way, the weight and cost of the semiconductor mounting device increase and the mounting speed also decreases.

【0013】そこで、本発明は、このような現状に鑑み
てなされたものであり、熱圧着時の基板の位置ずれを防
止して微小な接続ピッチの電極端子を有する半導体装置
を精度良く基板に実装することのできる半導体の実装方
法及び半導体実装装置を提供することを目的とするもの
である。
Therefore, the present invention has been made in view of such a situation as described above, and a semiconductor device having electrode terminals with a minute connection pitch is accurately formed on a substrate by preventing positional displacement of the substrate during thermocompression bonding. An object of the present invention is to provide a semiconductor mounting method and a semiconductor mounting device that can be mounted.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明は、基板と半導体
装置との間に接着剤を配すると共に、前記半導体装置に
加熱手段を圧接させ、該半導体装置を前記接着剤を介し
て前記基板に熱圧着する半導体の実装方法において、移
動手段により前記基板を固定保持した状態で該基板を前
記加熱手段の直下に移動すると共に、前記加熱手段によ
り前記基板に半導体装置を熱圧着する間、前記加熱手段
の直下に設けられた固定部により前記基板を固定する一
方、前記移動手段による基板の固定を解除するようにし
たことを特徴とするものである。
According to the present invention, an adhesive is provided between a substrate and a semiconductor device, heating means is pressed against the semiconductor device, and the semiconductor device is attached to the substrate through the adhesive. In the method of mounting a semiconductor by thermocompression bonding, the substrate is moved to a position directly below the heating device while the substrate is fixed and held by a moving device, and the semiconductor device is thermocompression bonded to the substrate by the heating device while The substrate is fixed by a fixing portion provided directly below the heating means, and the fixing of the substrate by the moving means is released.

【0015】また本発明は、基板と半導体装置との間に
接着剤を配すると共に、前記半導体装置に加熱手段を圧
接させ、該半導体装置を前記接着剤を介して前記基板に
熱圧着する半導体実装装置において、前記基板を固定保
持すると共に、該基板を前記加熱手段の直下の熱圧着位
置に移動する移動手段と、前記加熱手段の直下に設けら
れ、前記移動手段により前記熱圧着位置に移動した基板
を固定する固定部と、を備え、前記移動手段により基板
を前記加熱手段の直下に移動すると共に、前記加熱手段
により前記基板に半導体装置を熱圧着する間、前記固定
部により前記基板を固定する一方、前記移動手段による
基板の固定を解除するようにしたことを特徴とするもの
である。
Further, according to the present invention, a semiconductor is provided in which an adhesive is provided between the substrate and the semiconductor device, a heating means is pressed against the semiconductor device, and the semiconductor device is thermocompression bonded to the substrate through the adhesive. In the mounting apparatus, while fixing and holding the substrate, a moving unit that moves the substrate to a thermocompression bonding position directly below the heating unit, and a moving unit that is provided immediately below the heating unit and moves to the thermocompression bonding position by the moving unit. And a fixing unit for fixing the substrate, wherein the moving unit moves the substrate directly below the heating unit, and the fixing unit fixes the substrate while the semiconductor device is thermocompression-bonded to the substrate by the heating unit. While fixing, the fixing of the substrate by the moving means is released.

【0016】また本発明は、前記移動手段及び前記固定
部は、それぞれ吸着により前記基板を固定する吸着部を
備えていることを特徴とするものである。
Further, the present invention is characterized in that the moving means and the fixed portion each include a suction portion for fixing the substrate by suction.

【0017】また本発明は、前記固定部は、前記加熱手
段により前記基板に半導体装置を熱圧着する間、前記基
板を固定保持することを特徴とするものである。
Further, the present invention is characterized in that the fixing portion fixes and holds the substrate while the semiconductor device is thermocompression bonded to the substrate by the heating means.

【0018】また本発明は、前記半導体装置は、前記移
動手段により前記基板と共に熱圧着位置に移動するよう
になっていることを特徴とするものである。
Further, the present invention is characterized in that the semiconductor device is moved to a thermocompression bonding position together with the substrate by the moving means.

【0019】また本発明は、前記接着剤は、異方性導電
接着膜であることを特徴とするものである。
The present invention is also characterized in that the adhesive is an anisotropic conductive adhesive film.

【0020】また発明のように、基板を固定保持する移
動手段により基板を加熱手段の直下の熱圧着位置に移動
すると共に、移動手段により熱圧着位置に移動した基板
を加熱手段の直下に設けられた固定部により吸着固定す
る。そして、この後、加熱手段が半導体装置を熱圧着す
る間、移動手段による基板の固定を解除することによ
り、熱圧着の際の熱膨張による熱圧着位置における基板
の位置ずれを防ぐようにする。
Further, as in the invention, the moving means for fixing and holding the substrate moves the substrate to the thermocompression bonding position directly below the heating means, and the substrate moved to the thermocompression bonding position by the moving means is provided directly below the heating means. Adsorption is fixed by the fixing unit. Then, after that, while the heating unit thermocompresses the semiconductor device, the fixation of the substrate by the moving unit is released to prevent the displacement of the substrate at the thermocompression bonding position due to thermal expansion during thermocompression bonding.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を用いて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0022】図1は、本発明の実施の形態に係る半導体
実装装置の構成を示す図であり、図2は、この半導体実
装装置を矢印B方向から見た図である。なお、図1及び
図2において、図5と同一符号は同一又は相当部分を示
している。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a semiconductor mounting device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram of the semiconductor mounting device as seen from the direction of arrow B. 1 and 2, the same reference numerals as those in Fig. 5 indicate the same or corresponding portions.

【0023】図1及び図2において、18は加熱手段で
ある加熱ヘッド、19は加熱ヘッド18を昇降させる上
下駆動ユニットであり、加熱ヘッド18は半導体装置4
をガラス基板1に実装する際、上下駆動ユニット19に
より下降し、半導体装置4をガラス基板1に不図示のA
CF等の接着剤により接着するようになっている。
In FIG. 1 and FIG. 2, 18 is a heating head which is a heating means, 19 is a vertical drive unit which raises and lowers the heating head 18, and the heating head 18 is the semiconductor device 4
When the semiconductor device 4 is mounted on the glass substrate 1, the semiconductor device 4 is lowered on the glass substrate 1 by the vertical drive unit 19, and the semiconductor device 4 is mounted on the glass substrate 1.
It is designed to be bonded by an adhesive such as CF.

【0024】なお、この加熱ヘッド18は、不図示のシ
ーズヒータが理め込まれたコンスタントヒータヘッドで
あり、また上下駆動ユニット19は、不図示のヘッド平
行調整機能、モータによる上下粗動機構及び加圧力調整
エアシリンダ機構等を有するものである。また、接着剤
は、予めガラス基板1の半導体装置実装位置に配されて
いる。
The heating head 18 is a constant heater head in which a sheathed heater (not shown) is incorporated, and the vertical drive unit 19 includes a head parallel adjustment function (not shown), a vertical coarse movement mechanism by a motor, and a vertical coarse movement mechanism. It has a pressurizing force adjusting air cylinder mechanism and the like. Further, the adhesive is arranged in advance on the glass substrate 1 at the semiconductor device mounting position.

【0025】一方、20は加熱ヘッド18の直下に設け
られた固定部である圧着受台部であり、21はこの圧着
受台部20の上面に設けられ、半導体装置4をガラス基
板1に実装する際、ガラス基板1を吸着固定する吸着部
である吸着固定部である。
On the other hand, 20 is a crimping pedestal portion which is a fixing portion provided directly below the heating head 18, and 21 is provided on the upper surface of the crimping pedestal portion 20, and the semiconductor device 4 is mounted on the glass substrate 1. At this time, it is an adsorption fixing part which is an adsorption part for adsorbing and fixing the glass substrate 1.

【0026】また、22はガラス基板1を吸着部である
吸着固定機構部23により吸着固定すると共に、半導体
装置4をガラス基板1に実装する際、ガラス基板1を加
熱ヘッド18の直下の熱圧着位置に移動する移動手段で
あるステージである。ここで、本実施の形態において、
半導体装置4は予めガラス基板1の電極端子14,15
(図7参照)とを位置合わせした状態でガラス基板1に
搭載されており、ステージ22によりガラス基板1と共
に熱圧着位置に移動するようになっている。
Further, numeral 22 is for adsorbing and fixing the glass substrate 1 by an adsorbing and fixing mechanism portion 23 which is an adsorbing portion, and at the time of mounting the semiconductor device 4 on the glass substrate 1, the glass substrate 1 is thermocompression-bonded directly under the heating head 18. It is a stage that is a moving unit that moves to a position. Here, in the present embodiment,
The semiconductor device 4 has the electrode terminals 14, 15 of the glass substrate 1 in advance.
It is mounted on the glass substrate 1 in a state of being aligned with (see FIG. 7), and is moved to the thermocompression bonding position together with the glass substrate 1 by the stage 22.

【0027】なお、図1において、2Aは液晶パネルで
あり、この液晶パネル2Aは一対のガラス基板1,2に
より不図示の液晶を挟持すると共に、これらのガラス基
板1,2の表面には偏光板3,3’が配されている。ま
た、図2において、4’は圧着済みの半導体装置であ
る。
In FIG. 1, reference numeral 2A denotes a liquid crystal panel. The liquid crystal panel 2A holds a liquid crystal (not shown) between a pair of glass substrates 1 and 2, and the surfaces of these glass substrates 1 and 2 are polarized. Plates 3 and 3'are arranged. Further, in FIG. 2, reference numeral 4'denotes a semiconductor device which has been pressure bonded.

【0028】ところで、本実施の形態においては、加熱
ヘッド18が上下駆動ユニット19により下降し、半導
体装置4を熱圧着している間、ステージ22の吸着固定
機構部23は、その吸着を解除するようにしている。
By the way, in the present embodiment, while the heating head 18 is lowered by the vertical drive unit 19 and the semiconductor device 4 is thermocompression bonded, the suction fixing mechanism portion 23 of the stage 22 releases the suction. I am trying.

【0029】そして、このように吸着を解除することに
より、加熱ヘッド18による熱圧着の際、ガラス基板1
が熱膨張し、図1においてAで示す部分が矢印Y方向に
伸びようとしても、ガラス基板1の熱圧着側端部が圧着
受台部20の吸着固定部21に吸着固定されているた
め、ガラス基板1はステージ22上を矢印Yと反対方向
に伸びるようになる。これにより、ガラス基板1のY方
向への位置ずれを防止することができる。
By releasing the adsorption in this manner, the glass substrate 1 is subjected to thermocompression bonding by the heating head 18.
Is thermally expanded, and the portion indicated by A in FIG. 1 tends to extend in the direction of the arrow Y, the end portion of the glass substrate 1 on the thermocompression bonding side is adsorbed and fixed to the adsorbing and fixing portion 21 of the press-fitting receiving portion 20, The glass substrate 1 extends on the stage 22 in the direction opposite to the arrow Y. As a result, the displacement of the glass substrate 1 in the Y direction can be prevented.

【0030】次に、このような構成の半導体実装装置の
実装方法について説明する。
Next, a mounting method of the semiconductor mounting apparatus having such a structure will be described.

【0031】まず、半導体装置4を、ガラス基板1の電
極端子14,15(図7参照)と位置合わせしてガラス
基板1に搭載する。ここで、この位置合わせの際、ガラ
ス基板1は、ステージ22の吸着固定機構部23で吸着
固定された状態で位置合わせが行われる。そして、この
位置合わせ終了後、図3に示すようにステージ22がY
方向に移動し、これにより加熱ヘッド18の真下の圧着
受台部20に半導体装置4及びガラス基板1の電極端子
14,15が位置するようになる。
First, the semiconductor device 4 is mounted on the glass substrate 1 in alignment with the electrode terminals 14 and 15 (see FIG. 7) of the glass substrate 1. Here, at the time of this alignment, the alignment is performed while the glass substrate 1 is suction-fixed by the suction-fixing mechanism portion 23 of the stage 22. After the alignment is completed, the stage 22 moves to Y as shown in FIG.
In this manner, the semiconductor device 4 and the electrode terminals 14 and 15 of the glass substrate 1 are positioned on the pressure-bonding receiving base portion 20 directly below the heating head 18.

【0032】次に、このように半導体装置4及びガラス
基板1が圧着受台部20に位置すると、圧着受台部20
の吸着固定部21によりガラス基板1を固定し、この
後、加熱ヘッド18が、上下駆動ユニット19により下
降し、図1及び図2に示すように半導体装置4を熱圧着
する。
Next, when the semiconductor device 4 and the glass substrate 1 are positioned on the pressure-bonding pedestal portion 20 in this way, the pressure-bonding pedestal portion 20.
The glass substrate 1 is fixed by the suction fixing portion 21 of FIG. 1, and then the heating head 18 is lowered by the vertical drive unit 19 to thermocompress the semiconductor device 4 as shown in FIGS.

【0033】ここで、このときステージ22の吸着固定
機構部23は、吸着を解除しているので、加熱ヘッド1
8による加熱によりガラス基板1が膨張し、矢印Y方向
に伸びようとしてもガラス基板1は矢印Yの反対の方向
にすべり、ガラス基板1の電極端子部のY方向への位置
ずれは生じない。
At this time, since the suction fixing mechanism 23 of the stage 22 has released the suction, the heating head 1
Even if the glass substrate 1 expands by heating by 8 and tries to expand in the arrow Y direction, the glass substrate 1 slips in the direction opposite to the arrow Y, and the displacement of the electrode terminal portion of the glass substrate 1 in the Y direction does not occur.

【0034】そして、このようにして圧着が終了した
後、或いは、終了直前に吸着固定機構部23がガラス基
板1の吸着を開始すると共に、圧着受台部20の吸着固
定部21の吸着を解除し、次の半導体装置4の圧着位置
にステージ22が移動し、上記動作を繰り返す。
After the pressure-bonding is completed in this way, or immediately before the pressure-bonding is completed, the suction-fixing mechanism 23 starts sucking the glass substrate 1 and the suction-fixing part 21 of the pressure-receiving base 20 is released. Then, the stage 22 moves to the next pressure bonding position of the semiconductor device 4, and the above operation is repeated.

【0035】このように、加熱ヘッド18が半導体装置
4を熱圧着する間、ステージ22によるガラス基板1の
固定を解除することにより、熱圧着の際の熱膨張による
熱圧着位置におけるガラス基板1の位置ずれを防ぐこと
ができ、これにより微小な接続ピッチの電極端子を有す
る半導体装置4を精度良くガラス基板1に実装すること
ができる。
Thus, while the heating head 18 thermocompresses the semiconductor device 4, the glass substrate 1 is unfixed by the stage 22, so that the glass substrate 1 at the thermocompression bonding position due to thermal expansion during thermocompression bonding. Positional deviation can be prevented, and thus the semiconductor device 4 having the electrode terminals with a fine connection pitch can be mounted on the glass substrate 1 with high accuracy.

【0036】なお、既述した圧着受台部20の吸着固定
部21によるガラス基板1の固定は、ガラス基板1が圧
着受台部20に位置したときから加熱ヘッド18が半導
体装置4を圧着開始するまでの間で行うようにしてい
る。
The glass substrate 1 is fixed by the suction-fixing portion 21 of the pressure-bonding pedestal portion 20 as described above, when the glass substrate 1 is positioned on the pressure-bonding pedestal portion 20, the heating head 18 starts pressure-bonding the semiconductor device 4. I'll do it in the meantime.

【0037】そして、このようなタイミングでガラス基
板1を固定することにより、ガラス基板1が平面方向の
力を受けても位置ずれを生じないようにすることができ
る。また、吸着固定位置が、半導体装置4の圧着位置に
近いためガラス基板1の熱膨脹による伸びは、圧着位置
を中心にして生じるため位置ずれがさらに生じにくくな
る。
By fixing the glass substrate 1 at such a timing, it is possible to prevent the glass substrate 1 from being displaced even when it receives a force in the plane direction. Further, since the suction fixing position is close to the pressure bonding position of the semiconductor device 4, the expansion due to the thermal expansion of the glass substrate 1 occurs around the pressure bonding position, so that the positional deviation is further unlikely to occur.

【0038】ところで、これまでの説明においては、圧
着受台部20とステージ22とを別体とした構成につい
て説明してきたが、本発明はこれに限らず、例えば図4
に示すように圧着受台部20とステージ22とを一体で
形成し、半導体装置4を熱圧着する際には、ステージ2
2と共に圧着受台部20が移動するようにしても良い。
なお、このように構成した場合でも、ガラス基板1の熱
膨脹による半導体装置4と基板電極端子の位置ずれを防
止することができる。
By the way, in the above description, the constitution in which the crimping pedestal portion 20 and the stage 22 are separately provided has been described, but the present invention is not limited to this, and for example, FIG.
When the semiconductor device 4 is thermocompression-bonded by integrally forming the pressure-bonding base 20 and the stage 22 as shown in FIG.
The crimping cradle unit 20 may move together with 2.
Even with such a configuration, it is possible to prevent the positional deviation between the semiconductor device 4 and the substrate electrode terminal due to the thermal expansion of the glass substrate 1.

【0039】また、これまでの説明においては、液晶表
示装置(液晶パネル)の場合について述べてきたが、本
発明はこれに限らず、他のマトリクス状の画素を有する
表示装置においても適用可能であり、また基板は、ガラ
ス製の透明基板によらずともセラミック、プラスチッ
ク、ガラスエポキシ等の基材からなる基板に対しても適
用可能である。
In the above description, the case of a liquid crystal display device (liquid crystal panel) has been described, but the present invention is not limited to this, and can be applied to a display device having other matrix-shaped pixels. In addition, the substrate is not limited to a transparent substrate made of glass, but is applicable to a substrate made of a base material such as ceramic, plastic, or glass epoxy.

【0040】さらに、半導体装置4と基板1を接続する
接着剤として、異方性導電接着膜を示したが、加熱によ
り接続が行なえる部材であれば、接着材料によらず適用
可能である。また、加熱ヘッド18は、コンスタントヒ
ートヘッドに限らず、金属ヘッドに直接電流を流すパル
スヒータヘッド、セラミックヒータヘッドを用いても適
用可能である。
Further, an anisotropic conductive adhesive film is shown as an adhesive for connecting the semiconductor device 4 and the substrate 1, but any member that can be connected by heating can be applied regardless of the adhesive material. Further, the heating head 18 is not limited to the constant heat head, and a pulse heater head or a ceramic heater head for directly supplying an electric current to the metal head may be used.

【0041】またさらに、これまで述べたような半導体
装置4とガラス基板1とを位置合わせした後、加熱ヘッ
ド18により圧着し、そのままACF16を硬化して本
圧着する場合に限らず、半導体装置4とガラス基板1と
の位置を位置合わせした後、加熱ヘッド18により短時
間、低温で圧着し、半導体装置4をガラス基板1に位置
合わせ仮固定した状態とし、ステージ22でガラス基板
1を圧着位置に搬送して、別途加熱ヘッド18により半
導体装置4を上部より加熱押圧して本圧着を行う場合で
も適用可能である。
Furthermore, the semiconductor device 4 is not limited to the case where the semiconductor device 4 and the glass substrate 1 are aligned as described above, and then the heating head 18 press-bonds the ACF 16 as it is and the main press-bonding is performed. After the positions of the glass substrate 1 and the glass substrate 1 are aligned, the semiconductor device 4 is pressure-bonded by the heating head 18 at a low temperature for a short time, and the semiconductor device 4 is aligned and temporarily fixed to the glass substrate 1. The present invention can also be applied to the case where the semiconductor device 4 is conveyed to the above and the semiconductor device 4 is separately heated and pressed from above by the heating head 18 to perform the main compression bonding.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上説明したように本発明のように、移
動手段により基板を加熱手段の直下の熱圧着位置に移動
すると共に、加熱手段が半導体装置を熱圧着する間、移
動手段による基板の固定を解除することにより、熱圧着
の際の熱膨張による熱圧着位置における基板の位置ずれ
を防ぐことができる。
As described above, according to the present invention, the moving means moves the substrate to the thermocompression bonding position immediately below the heating means, and while the heating means thermocompresses the semiconductor device, the moving means moves the substrate. By releasing the fixation, it is possible to prevent the displacement of the substrate at the thermocompression bonding position due to the thermal expansion during thermocompression bonding.

【0043】これにより、微小な接続ピッチの電極端子
を有する半導体装置を精度良く基板に実装することがで
きる。また、実装装置の加熱手段及び移動手段等の剛性
を小さくすることができると共に軽量化が可能となりコ
ストを低減することができ、さらに実装速度も向上を図
ることができる。
As a result, a semiconductor device having electrode terminals with a fine connection pitch can be mounted on the substrate with high accuracy. Further, the rigidity of the heating means and the moving means of the mounting apparatus can be reduced, the weight can be reduced, the cost can be reduced, and the mounting speed can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態に係る半導体実装装置の構
成を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a semiconductor mounting device according to an embodiment of the present invention.

【図2】上記半導体実装装置を矢印B方向から見た図。FIG. 2 is a diagram of the semiconductor mounting device viewed from a direction of an arrow B.

【図3】上記半導体実装装置の加熱ヘッドの真下の圧着
受台部に半導体装置及びガラス基板が移動してきたとき
の様子を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing a state in which the semiconductor device and the glass substrate are moved to a pressure-bonding cradle portion directly below a heating head of the semiconductor mounting device.

【図4】上記半導体実装装置の他の構成を示す図。FIG. 4 is a diagram showing another configuration of the semiconductor mounting device.

【図5】COG法によりガラス基板に半導体装置が接続
されている液晶パネルの平面図。
FIG. 5 is a plan view of a liquid crystal panel in which a semiconductor device is connected to a glass substrate by a COG method.

【図6】上記半導体装置の平面図。FIG. 6 is a plan view of the semiconductor device.

【図7】上記半導体装置がACFにより基板電極端子に
接続される構造を示す図。
FIG. 7 is a diagram showing a structure in which the semiconductor device is connected to a substrate electrode terminal by an ACF.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2 ガラス基板 4 半導体装置 12,13 入出力端子 16 ACF l7,17’ 導電性粒子 18 加熱ヘッド 19 上下駆動ユニット 20 圧着受台部 21 吸着固定部 22 ステージ 23 吸着固定機構部 1, 2 glass substrate 4 Semiconductor device 12, 13 I / O terminals 16 ACF l7,17 'conductive particles 18 heating head 19 Vertical drive unit 20 Crimp cradle 21 Adsorption fixing part 22 stages 23 Adsorption fixing mechanism

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 新堀 憲二 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 Fターム(参考) 5F044 KK02 KK04 KK06 LL09 PP15 PP19    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Kenji Shinbori             3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo             Non non corporation F term (reference) 5F044 KK02 KK04 KK06 LL09 PP15                       PP19

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板と半導体装置との間に接着剤を配す
ると共に、前記半導体装置に加熱手段を圧接させ、該半
導体装置を前記接着剤を介して前記基板に熱圧着する半
導体の実装方法において、 移動手段により前記基板を固定保持した状態で該基板を
前記加熱手段の直下に移動すると共に、前記加熱手段に
より前記基板に半導体装置を熱圧着する間、前記加熱手
段の直下に設けられた固定部により前記基板を固定する
一方、前記移動手段による基板の固定を解除するように
したことを特徴とする半導体の実装方法。
1. A method of mounting a semiconductor in which an adhesive is provided between a substrate and a semiconductor device, a heating means is pressed against the semiconductor device, and the semiconductor device is thermocompression bonded to the substrate via the adhesive. In the above, while the substrate is fixedly held by the moving means, the substrate is moved to directly below the heating means, and is provided directly below the heating means while the semiconductor device is thermocompression-bonded to the substrate by the heating means. A method of mounting a semiconductor, characterized in that the substrate is fixed by a fixing portion while the substrate is fixed by the moving means.
【請求項2】 基板と半導体装置との間に接着剤を配す
ると共に、前記半導体装置に加熱手段を圧接させ、該半
導体装置を前記接着剤を介して前記基板に熱圧着する半
導体実装装置において、 前記基板を固定保持すると共に、該基板を前記加熱手段
の直下の熱圧着位置に移動する移動手段と、 前記加熱手段の直下に設けられ、前記移動手段により前
記熱圧着位置に移動した基板を固定する固定部と、 を備え、 前記移動手段により基板を前記加熱手段の直下に移動す
ると共に、前記加熱手段により前記基板に半導体装置を
熱圧着する間、前記固定部により前記基板を固定する一
方、前記移動手段による基板の固定を解除するようにし
たことを特徴とする半導体実装装置。
2. A semiconductor mounting device in which an adhesive is provided between a substrate and a semiconductor device, a heating means is brought into pressure contact with the semiconductor device, and the semiconductor device is thermocompression-bonded to the substrate via the adhesive. , A moving means for fixing and holding the substrate and moving the substrate to a thermocompression bonding position directly below the heating means, and a substrate provided directly below the heating means and moved to the thermocompression bonding position by the moving means. A fixing unit for fixing the substrate, the moving unit moves the substrate directly below the heating unit, and the fixing unit fixes the substrate while the semiconductor device is thermocompression-bonded to the substrate by the heating unit. The semiconductor mounting device, wherein the fixing of the substrate by the moving means is released.
【請求項3】 前記移動手段及び前記固定部は、それぞ
れ吸着により前記基板を固定する吸着部を備えているこ
とを特徴とする請求項2記載の半導体実装装置。
3. The semiconductor mounting device according to claim 2, wherein the moving unit and the fixing unit each include a suction unit that fixes the substrate by suction.
【請求項4】 前記固定部は、前記加熱手段により前記
基板に半導体装置を熱圧着する間、前記基板を固定保持
することを特徴とする請求項2又は3記載の半導体実装
装置。
4. The semiconductor mounting device according to claim 2, wherein the fixing portion holds the substrate while the semiconductor device is thermocompression bonded to the substrate by the heating means.
【請求項5】 前記半導体装置は、前記移動手段により
前記基板と共に熱圧着位置に移動するようになっている
ことを特徴とする請求項2又は4記載の半導体実装装
置。
5. The semiconductor mounting device according to claim 2, wherein the semiconductor device is moved together with the substrate to a thermocompression bonding position by the moving means.
【請求項6】 前記接着剤は、異方性導電接着膜である
ことを特徴とする請求項2記載の半導体実装装置。
6. The semiconductor mounting device according to claim 2, wherein the adhesive is an anisotropic conductive adhesive film.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP5608829B1 (en) * 2014-03-31 2014-10-15 アルファーデザイン株式会社 Component mounting equipment

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