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JP2003045091A - Method of manufacturing optical recording medium - Google Patents

Method of manufacturing optical recording medium

Info

Publication number
JP2003045091A
JP2003045091A JP2001233848A JP2001233848A JP2003045091A JP 2003045091 A JP2003045091 A JP 2003045091A JP 2001233848 A JP2001233848 A JP 2001233848A JP 2001233848 A JP2001233848 A JP 2001233848A JP 2003045091 A JP2003045091 A JP 2003045091A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical recording
film
light
recording layer
transmissive film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001233848A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Yamazaki
剛 山崎
Tomomi Yukimoto
智美 行本
Toshiyuki Kashiwagi
俊行 柏木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2001233848A priority Critical patent/JP2003045091A/en
Publication of JP2003045091A publication Critical patent/JP2003045091A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing an optical recording medium which is capable of solving the problem to make initialization difficult particularly in the case of a phase transition layer by improving the handling of a thin light transparent film and suppressing flawing thereof in manufacturing the optical recording medium having >=2 layers of optical recording layers. SOLUTION: Rugged shapes are formed on one surface of a medium substrate 10 and the first optical recording layer 11 is formed on this rugged shape forming surface. On the other hand, rugged shapes are formed on one surface of the light transparent film 14 and the second optical recording layer 13 is formed on this rugged shape forming surface. Next, the first optical recording layer 11 and the second optical recording layer 13 are bonded together. Before the process step of forming the second optical recording layer 13, a supporting substrate 22 is bonded together to the surface of the light transparent film 14 on the side opposite to the rugged shape forming surface and the formation of the second optical recording layer 13 is performed in the state of bonding together the light transparent film 14 to the supporting substrate 22 in the process step of forming the second optical recording layer 13.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光学記録媒体(以
下光ディスクとも言う)の製造方法に関し、特に光学記
録層を複数層有する光学記録媒体の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an optical recording medium (hereinafter also referred to as an optical disk), and more particularly to a method for manufacturing an optical recording medium having a plurality of optical recording layers.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報記録の分野においては、光学
情報記録方式に関する研究が各所で進められている。こ
の光学情報記録方式は、非接触で記録・再生が行えるこ
と、再生専用型、追記型、書換可能型のそれぞれのメモ
リ形態に対応できるなどの数々の利点を有し、安価な大
容量ファイルの実現を可能とする方式として産業用から
民生用まで幅広い用途が考えられている。
2. Description of the Related Art In recent years, in the field of information recording, researches on optical information recording methods have been advanced in various places. This optical information recording system has a number of advantages such as non-contact recording / reproducing, read-only type, write-once type, and rewritable type memory formats. A wide range of applications from industrial to consumer use are considered as possible methods.

【0003】上記の各種光学情報記録方式用の光学記録
媒体(以下、光ディスクともいう)の大容量化は、主
に、光学情報記録方式に用いる光源となるレーザ光の短
波長化と、高開口数のレンズを採用することにより、焦
点面でのスポットサイズを小さくすることで達成してき
た。
Increasing the capacity of the above-mentioned optical recording medium for various optical information recording systems (hereinafter also referred to as an optical disk) is mainly due to the shortening of the wavelength of laser light used as a light source used in the optical information recording system and the high aperture. This has been achieved by reducing the spot size at the focal plane by employing several lenses.

【0004】例えば、CD(コンパクトディスク)で
は、レーザ光波長が780nm、レンズの開口数(N
A)が0.45であり、650MBの容量であったが、
DVD−ROM(デジタル多用途ディスク−再生専用メ
モリ)では、レーザ光波長が650nm、NAが0.6
であり、4.7GBの容量となっている。さらに、次世
代の光ディスクシステムにおいては、光学記録層上に例
えば100μm程度の薄い光透過性の保護膜(カバー
層)が形成された光ディスクを用いて、レーザ光波長を
450nmm以下、NAを0.78以上とすることで2
2GB以上の大容量化が可能である。
For example, in a CD (compact disc), the laser light wavelength is 780 nm and the numerical aperture of the lens (N
A) was 0.45 and had a capacity of 650 MB,
In DVD-ROM (digital versatile disk-playback-only memory), the laser light wavelength is 650 nm and the NA is 0.6.
And the capacity is 4.7 GB. Further, in the next-generation optical disc system, an optical disc in which a thin light-transmitting protective film (cover layer) of, for example, about 100 μm is formed on the optical recording layer is used, and the laser light wavelength is 450 nm or less and the NA is 0. 2 by setting it to 78 or more
A large capacity of 2 GB or more is possible.

【0005】ところで、近年、このような光ディスクの
大記憶容量化に対する要求が高まってきており、これに
対応するべく、例えば、特開平11−136432号公
報などに2層あるいはそれ以上の層の光学記録層を設け
た光ディスクが提案されている。図30(a)は、上記
の2層の光学記録層を設けた光ディスクの光の照射の様
子を示す模式斜視図である。光ディスクDCは、中心部
にセンターホールCHが開口された略円盤形状をしてお
り、ドライブ方向DRに回転駆動される。情報を記録ま
たは再生するときには、光ディスクDC中の光学記録層
に対して、例えば開口数が0.8以上の対物レンズOL
により、青〜青紫色の領域のレーザ光などの光LTが照
射される。
By the way, in recent years, there has been an increasing demand for a large storage capacity of such an optical disc, and in order to meet this demand, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 11-136432 discloses an optical system having two or more layers. An optical disk provided with a recording layer has been proposed. FIG. 30A is a schematic perspective view showing how light is emitted from an optical disc provided with the above-mentioned two optical recording layers. The optical disc DC has a substantially disc shape with a center hole CH opened in the center, and is rotationally driven in the drive direction DR. When recording or reproducing information, the objective lens OL having a numerical aperture of 0.8 or more is recorded on the optical recording layer in the optical disc DC.
Thus, light LT such as laser light in a blue to blue-violet region is emitted.

【0006】図30(b)は模式断面図であり、図30
(c)は図30(b)の模式断面図の要部を拡大した断
面図である。厚さが約1.1mmのポリカーボネートな
どからなるディスク基板10の一方の表面に、例えば射
出成形により凹部10dが設けられている。この凹部1
0dを含む凹凸に沿って第1光学記録積層体11が形成
されている。第1光学記録層11は、上層側から例えば
誘電体膜、相変化膜などの記録膜、誘電体膜および反射
膜などがこの順番で積層された構成であり、層構成や層
数は、記録材料の種類や設計によって異なる。第1光学
記録層11の上層に接着層12が形成されており、その
上層に第2光学記録層13が形成されている。第2光学
記録層13は、上層側から例えば誘電体膜、相変化膜な
ど記録膜、誘電体膜および半透過性の反射膜などがこの
順番で積層された構成であり、層構成や層数は、記録材
料の種類や設計によって異なる。第2光学記録層13の
上層に、例えば0.1mmの膜厚の光透過性フイルム1
4が形成されている。光透過性フイルム14は、第2光
学記録層13側の表面に凹部14dが設けられている。
この凹部14dを含む凹凸に沿って、第2光学記録積層
体13が形成されている。
FIG. 30 (b) is a schematic sectional view.
FIG. 30C is an enlarged sectional view of a main part of the schematic sectional view of FIG. A recess 10d is provided on one surface of a disk substrate 10 made of polycarbonate or the like having a thickness of about 1.1 mm by, for example, injection molding. This recess 1
The first optical recording laminate 11 is formed along the unevenness including 0d. The first optical recording layer 11 has a structure in which, for example, a dielectric film, a recording film such as a phase change film, a dielectric film, and a reflective film are laminated in this order from the upper layer side. Depends on material type and design. An adhesive layer 12 is formed on the first optical recording layer 11, and a second optical recording layer 13 is formed on the adhesive layer 12. The second optical recording layer 13 has a structure in which a recording film such as a dielectric film and a phase change film, a dielectric film, and a semi-transmissive reflective film are laminated in this order from the upper layer side. Depends on the type and design of the recording material. On the upper layer of the second optical recording layer 13, for example, the light transmissive film 1 having a film thickness of 0.1 mm.
4 are formed. The light transmissive film 14 is provided with a recess 14d on the surface on the second optical recording layer 13 side.
The second optical recording laminate 13 is formed along the irregularities including the concave portions 14d.

【0007】上記の光ディスクを記録あるいは再生する
場合には、対物レンズOLにより、レーザ光などの光L
Tを光透過性フイルム14側から第1光学記録層11あ
るいは第2光学記録層13に合焦するように照射する。
対物レンズOLの光ディスクからの距離を調整して第1
光学記録層11と第2光学記録層13のいずれかに焦点
を合わせるかにより、第1光学記録層11と第2光学記
録層13のいずれかを選択的に記録または再生する。上
記の構成で、第2光学記録層13は半透過性であり、光
LTを第1光学記録層11に照射する場合には第2光学
記録層13を透過させて行う。光ディスクの再生時にお
いては、第1および第2光学記録層(11、13)のい
ずれかで反射された戻り光が受光素子で受光され、信号
処理回路により所定の信号を生成して、再生信号が取り
出される。
When recording or reproducing the above-mentioned optical disc, a light L such as a laser beam is passed through the objective lens OL.
T is irradiated from the light-transmissive film 14 side so as to focus on the first optical recording layer 11 or the second optical recording layer 13.
Adjusting the distance of the objective lens OL from the optical disc
Depending on whether the optical recording layer 11 or the second optical recording layer 13 is focused, either the first optical recording layer 11 or the second optical recording layer 13 is selectively recorded or reproduced. With the above configuration, the second optical recording layer 13 is semi-transparent, and when the light LT is applied to the first optical recording layer 11, the second optical recording layer 13 is transmitted. During reproduction of the optical disc, the return light reflected by any of the first and second optical recording layers (11, 13) is received by the light receiving element, and the signal processing circuit generates a predetermined signal to reproduce the reproduction signal. Is taken out.

【0008】上記のような光ディスクにおいて、第1光
学記録層11および第2光学記録層13は、ディスク基
板10の表面に形成された凹部10dあるいは光透過性
フイルム14の表面に形成された凹部14dに起因した
凹凸形状を有している。例えば、この凹部(10d,1
4d)を含む凹凸形状によりトラック領域が区分されて
いる。上記の凹部(10d,14d)により区分された
トラック領域はランドおよびグルーブと呼ばれ、ランド
とグルーブの両者に情報を記録するランド・グルーブ記
録方式を適用することで大容量化が可能である。また、
ランドとグルーブのいずれか一方のみを記録領域とする
ことも可能である。
In the optical disc as described above, the first optical recording layer 11 and the second optical recording layer 13 have a recess 10d formed on the surface of the disk substrate 10 or a recess 14d formed on the surface of the light transmissive film 14. It has an uneven shape due to. For example, this recess (10d, 1
The track region is divided by the uneven shape including 4d). The track areas divided by the recesses (10d, 14d) are called lands and grooves, and the capacity can be increased by applying a land / groove recording method for recording information on both the lands and the grooves. Also,
It is also possible to use only one of the land and the groove as the recording area.

【0009】また、上記のディスク基板10および光透
過性フイルム14の凹部(10d,14d)に起因する
凹凸形状を記録データに対応する長さを有するピットと
して、光学記録膜をアルミニウム膜などの反射膜で構成
することにより、再生専用(ROM)型の光ディスクと
することもできる。
Further, the concave and convex shapes due to the concave portions (10d, 14d) of the disk substrate 10 and the light transmissive film 14 described above are used as pits having a length corresponding to the recording data, and the optical recording film is reflected by an aluminum film or the like. By using a film, a read-only (ROM) type optical disk can be obtained.

【0010】上記の2層の光学記録層を有する光ディス
クの製造方法としては、例えば、まず図31(a)に示
すように、凹凸パターンを有するスタンパ20を金型の
一部に使用した射出成形により、凹凸パターンを有する
ディスク基板10を形成する。ここで、ディスク基板1
0の表面には、スタンパ20の凸部20pに対応する位
置に、凹部(溝)10dが形成される。
As a method of manufacturing an optical disc having the above-mentioned two optical recording layers, for example, as shown in FIG. 31 (a), first, an injection molding using a stamper 20 having a concavo-convex pattern as a part of a mold is performed. Thus, the disk substrate 10 having the uneven pattern is formed. Here, the disk substrate 1
On the surface of 0, a concave portion (groove) 10d is formed at a position corresponding to the convex portion 20p of the stamper 20.

【0011】次に、図31(b)に示すように、例えば
スパッタリング法などにより、反射膜、誘電体膜、相変
化膜などの記録膜、誘電体膜をこの順で積層させ、凹部
10dに応じた凹凸形状を有する第1光学記録層11を
形成する。上記の記録膜として相変化膜を成膜した場合
には、次に、図31(c)に示すように、対物レンズO
Lにより赤外光IRを集光して第1光学記録層11に照
射し、熱を与えて溶融させた後、急冷して結晶化させ
る。これは、第1光学記録層11の初期化工程に相当す
る。
Next, as shown in FIG. 31 (b), a recording film such as a reflection film, a dielectric film, a phase change film, and a dielectric film are laminated in this order by, for example, a sputtering method and the like, and are formed in the recess 10d. The first optical recording layer 11 having a corresponding uneven shape is formed. When a phase change film is formed as the above recording film, next, as shown in FIG.
Infrared light IR is condensed by L, irradiated onto the first optical recording layer 11, heated and melted, and then rapidly cooled to be crystallized. This corresponds to the initialization process of the first optical recording layer 11.

【0012】一方、図32(a)に示すように、例え
ば、凹凸パターンを有するスタンパ21上に、光透過性
フイルム用シートを加熱しながら加圧する方法などによ
り、スタンパの凸部21pに対応する位置に凹部(溝)
14dが転写された光透過性フイルム14を形成する。
次に、図32(b)に示すように、得られた光透過性フ
イルム14をスタンパ21から離型する。
On the other hand, as shown in FIG. 32 (a), for example, by pressing the light-transmitting film sheet on the stamper 21 having an uneven pattern while heating it, the protrusions 21p of the stamper can be dealt with. Recess in position (groove)
The light-transmissive film 14 on which 14d is transferred is formed.
Next, as shown in FIG. 32B, the obtained light transmissive film 14 is released from the stamper 21.

【0013】次に、図33(a)の全体を示す模式図お
よびその部分拡大図である図33(b)に示すように、
例えばスパッタリング装置内のステージ40上に光透過
性フイルム14を戴置し、図33(c)に示すように、
スパッタリング法により、誘電体膜、相変化膜などの記
録膜、誘電体膜、半透過性の反射膜をこの順で積層さ
せ、溝14dに応じた凹凸形状を有する第2光学記録層
13を形成する。このとき、光透過性フイルム14は剛
性が低いために、ステージ40上に戴置したときに皺が
よっったり、端部がめくれたりして、均一な成膜が困難
となってしまいやすいので、押さえとなる治具41を光
透過性フイルム14の端部上に設置して上記のように成
膜を行う。
Next, as shown in FIG. 33 (b) which is a schematic view showing the whole of FIG. 33 (a) and a partially enlarged view thereof,
For example, the light transmissive film 14 is placed on the stage 40 in the sputtering apparatus, and as shown in FIG.
A dielectric film, a recording film such as a phase change film, a dielectric film, and a semi-transmissive reflective film are laminated in this order by a sputtering method to form a second optical recording layer 13 having an uneven shape corresponding to the groove 14d. To do. At this time, since the light-transmissive film 14 has low rigidity, wrinkles may occur when the film is placed on the stage 40, or the edges may be turned up, which makes it difficult to form a uniform film. Then, the jig 41 serving as a presser is installed on the end portion of the light transmissive film 14, and the film is formed as described above.

【0014】次に、図34(a)の全体を示す模式図お
よびその部分拡大図である図34(b)に示すように、
例えば光照射装置内のステージ42上に第2光学記録層
13を形成した光透過性フイルム14を戴置し、図34
(c)に示すように、対物レンズOLにより赤外光IR
を集光して第2光学記録層13に照射し、熱を与えて溶
融させた後、急冷して結晶化させる。これは、第2光学
記録層13の初期化工程に相当する。
Next, as shown in FIG. 34 (b) which is a schematic view showing the whole of FIG. 34 (a) and a partially enlarged view thereof,
For example, the light transmissive film 14 having the second optical recording layer 13 formed thereon is placed on the stage 42 in the light irradiation device, as shown in FIG.
As shown in (c), the infrared light IR is transmitted by the objective lens OL.
Is condensed and applied to the second optical recording layer 13 to apply heat to melt it, followed by rapid cooling for crystallization. This corresponds to the initialization process of the second optical recording layer 13.

【0015】次に、図35に示すように、上記のディス
ク基板10に形成した第1光学記録層11と光透過性フ
イルム14に形成した第2光学記録層13とを接着層1
2により貼り合わせる。接着層12としては、例えば紫
外線硬化樹脂系の接着剤や感圧性粘着剤などを用いるこ
とができる。
Next, as shown in FIG. 35, the first optical recording layer 11 formed on the disk substrate 10 and the second optical recording layer 13 formed on the light transmissive film 14 are bonded to each other by the adhesive layer 1.
Stick together by 2. As the adhesive layer 12, for example, an ultraviolet curable resin adhesive or a pressure sensitive adhesive can be used.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
2層の光学記録層を有する光ディスクの製造方法におい
ては、光透過性フイルムは非常に薄いためにハンドリン
グが難しく、その表面に光学記録層を形成し、初期化を
行う工程に用いる成膜装置や赤外光照射装置をフイルム
用に設備を整えるためにコストが高くなるという問題が
あった。また、上記の光透過性フイルムの表面に光学記
録層を形成し、初期化を行う工程においては、光透過性
フイルムを直接各装置内のステージ上に戴置しているた
め、傷が付きやすいという欠点があった。光透過性フイ
ルムは、光ディスクを記録あるいは再生する場合に光を
透過させる膜であり、この膜に傷がある場合には記録や
再生に障害がでてしまう場合がある。
However, in the method of manufacturing an optical disc having the above-mentioned two optical recording layers, the light transmissive film is very thin and thus difficult to handle, and the optical recording layer is formed on the surface thereof. However, there is a problem that the cost is increased because the film forming apparatus and the infrared light irradiation apparatus used in the initialization process are prepared for the film. Further, in the step of forming the optical recording layer on the surface of the light-transmitting film and performing the initialization, the light-transmitting film is directly placed on the stage in each device, so that it is easily scratched. There was a drawback. The light-transmissive film is a film that transmits light when recording or reproducing on an optical disc, and if the film is scratched, recording or reproduction may be disturbed.

【0017】また、光透過性フイルムの表面に光学記録
層を形成する装置内は、微細なゴミが多数存在してお
り、光透過性フイルムを直接ステージ上に戴置するとき
に、ゴミが付着しやすい。このようにゴミが付着したま
ま、次工程で赤外光照射による初期化を行うと、図36
に示すように、光透過性フイルム14とステージ42の
間にゴミDSを挟み込んでしまい、光透過性フイルム1
4が浮いてしまうことになる。この場合、対物レンズO
Lにより集光する赤外光IRの焦点深度のマージンが小
さいため、光透過性フイルム14が浮いてしまった部分
では第2光学記録層13の位置で合焦とならなくなっ
て、この部分での初期化ができなくなるという問題が生
じる。
Further, a large amount of fine dust is present in the apparatus for forming the optical recording layer on the surface of the light transmissive film, and the dust adheres when the light transmissive film is directly placed on the stage. It's easy to do. If initialization is performed by irradiation of infrared light in the next step with the dust attached in this way, FIG.
As shown in FIG. 3, dust DS is sandwiched between the light transmissive film 14 and the stage 42, and the light transmissive film 1
4 will float. In this case, the objective lens O
Since the margin of the depth of focus of the infrared light IR condensed by L is small, the light transmissive film 14 is not focused at the position of the second optical recording layer 13 in the part where it floats. There is a problem that initialization cannot be performed.

【0018】本発明は上記の状況に鑑みてなされたもの
であり、従って本発明の目的は、2層以上の光学記録層
を有する光学記録媒体の製造方法において、薄い光透過
性フイルムのハンドリングを向上し、光透過性フイルム
に傷がつくのを抑制し、特に相変化層の場合に初期化が
困難となる問題を解決できる光学記録媒体の製造方法を
提供することである。
The present invention has been made in view of the above circumstances. Therefore, the object of the present invention is to handle a thin light-transmitting film in a method for producing an optical recording medium having two or more optical recording layers. It is an object of the present invention to provide a method for producing an optical recording medium, which is improved, suppresses scratches on the light-transmissive film, and can solve the problem that initialization is difficult particularly in the case of a phase change layer.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の光学記録媒体の製造方法は、少なくとも
2層の光学記録層を有する光学記録媒体の製造方法であ
って、媒体基板の一方の面に凹凸形状を形成する工程
と、上記媒体基板の凹凸形状形成面上に第1光学記録層
を形成する工程と、光透過性フイルムの一方の面に凹凸
形状を形成する工程と、上記光透過性フイルムの凹凸形
状形成面上に第2光学記録層を形成する工程と、上記第
1光学記録層と上記第2光学記録層とを貼り合わせる工
程とを有し、少なくとも上記第2光学記録層を形成する
工程の前に、上記光透過性フイルムの凹凸形状形成面の
反対側の面において、上記光透過性フイルムを支持基板
に接着層により貼り合わせる工程を有し、少なくとも上
記第2光学記録層を形成する工程において、上記光透過
性フイルムを上記支持基板に貼り合わせた状態で行う。
In order to achieve the above object, the method for producing an optical recording medium of the present invention is a method for producing an optical recording medium having at least two optical recording layers, which is a medium substrate. Forming a concavo-convex shape on one surface of the medium substrate, forming a first optical recording layer on the concavo-convex shape forming surface of the medium substrate, and forming a concavo-convex shape on one surface of the light transmissive film. And a step of forming a second optical recording layer on the surface of the light-transmissive film having an uneven shape, and a step of bonding the first optical recording layer and the second optical recording layer together, at least the first 2 Before the step of forming the optical recording layer, there is a step of adhering the light-transmissive film to a supporting substrate with an adhesive layer on the surface of the light-transmissive film opposite to the surface on which the uneven shape is formed. The second optical recording layer In the step of forming, performs the light-transmitting film in a state laminated on the supporting substrate.

【0020】上記の本発明の光学記録媒体の製造方法
は、好適には、上記光透過性フイルムを上記支持基板に
接着層により貼り合わせる工程においては、上記接着層
と上記支持基板との接着強度よりも上記接着層と上記光
透過性フイルムとの接着強度の方が弱くなるように貼り
合わせる。さらに好適には、上記接着層として、一方の
面での接着強度と他方の面での接着強度が異なる接着層
を用いる。
In the above-mentioned method for producing an optical recording medium of the present invention, preferably, in the step of attaching the light transmissive film to the supporting substrate with an adhesive layer, the adhesive strength between the adhesive layer and the supporting substrate is The adhesive layer and the light-transmissive film are bonded so that the adhesive strength between them is weaker than that of the adhesive layer. More preferably, as the adhesive layer, an adhesive layer having different adhesive strength on one surface and adhesive strength on the other surface is used.

【0021】上記の本発明の光学記録媒体の製造方法
は、好適には、上記第2光学記録層を形成する工程の
後、上記第1光学記録層と上記第2光学記録層とを貼り
合わせる工程の前に、上記光透過性フイルムと上記接着
層の界面で剥離する工程をさらに有する。あるいは好適
には、上記第1光学記録層と上記第2光学記録層とを貼
り合わせる工程において、上記光透過性フイルムを上記
支持基板に貼り合わせた状態で行い、上記第1光学記録
層と上記第2光学記録層とを貼り合わせる工程の後、上
記光透過性フイルムと上記接着層の界面で剥離する工程
をさらに有する。
In the above-mentioned method for producing an optical recording medium of the present invention, preferably, the first optical recording layer and the second optical recording layer are bonded together after the step of forming the second optical recording layer. Before the step, the method further includes a step of peeling at the interface between the light transmissive film and the adhesive layer. Alternatively, preferably, in the step of attaching the first optical recording layer and the second optical recording layer, it is performed in a state where the light transmissive film is attached to the supporting substrate, and the first optical recording layer and the After the step of attaching the second optical recording layer, the method further comprises a step of peeling at the interface between the light transmissive film and the adhesive layer.

【0022】上記の本発明の光学記録媒体の製造方法
は、好適には、上記光透過性フイルムには、凹凸形状形
成面の反対側の面にプロテクトフイルムが設けられてお
り、上記光透過性フイルムと上記支持基板に貼り合わせ
る工程においては、上記光透過性フイルムに設けられた
上記プロテクトフイルムを上記支持基板に接着層を介し
て貼り合わせる。さらに好適には、上記第2光学記録層
を形成する工程の後、上記第1光学記録層と上記第2光
学記録層とを貼り合わせる工程の前に、上記光透過性フ
イルムと上記プロテクトフイルムの界面で剥離する工程
をさらに有する。あるいは、さらに好適には、上記第2
光学記録層を形成する工程の後、上記第1光学記録層と
上記第2光学記録層とを貼り合わせる工程の前に、上記
プロテクトフイルムと上記接着層の界面で剥離する工程
をさらに有し、上記第1光学記録層と上記第2光学記録
層とを貼り合わせる工程の後に、上記光透過性フイルム
と上記プロテクトフイルムの界面で剥離する工程をさら
に有する。あるいは、さらに好適には、上記第1光学記
録層と上記第2光学記録層とを貼り合わせる工程におい
て、上記光透過性フイルムに設けられたプロテクトフイ
ルムを上記支持基板に貼り合わせた状態で行い、上記第
1光学記録層と上記第2光学記録層とを貼り合わせる工
程の後、上記光透過性フイルムと上記プロテクトフイル
ムの界面で剥離する工程をさらに有する。
In the above-mentioned method for producing an optical recording medium of the present invention, preferably, the light transmissive film is provided with a protect film on the surface opposite to the surface on which the uneven shape is formed, In the step of attaching the film to the supporting substrate, the protect film provided on the light transmissive film is attached to the supporting substrate via an adhesive layer. More preferably, after the step of forming the second optical recording layer and before the step of bonding the first optical recording layer and the second optical recording layer, the light transmissive film and the protect film are formed. The method further includes a step of peeling at the interface. Alternatively, more preferably, the second
After the step of forming the optical recording layer and before the step of attaching the first optical recording layer and the second optical recording layer, the method further includes a step of peeling at the interface between the protect film and the adhesive layer, After the step of attaching the first optical recording layer and the second optical recording layer, the method further includes a step of peeling at the interface between the light transmissive film and the protect film. Alternatively, more preferably, in the step of attaching the first optical recording layer and the second optical recording layer, the protective film provided on the light transmissive film is attached to the support substrate, After the step of bonding the first optical recording layer and the second optical recording layer, the method further comprises a step of peeling at the interface between the light transmissive film and the protect film.

【0023】上記の本発明の光学記録媒体の製造方法
は、好適には、上記接着層として、ハードコート剤を用
いる。さらに好適には、上記光透過性フイルムを上記支
持基板にハードコート剤を用いた接着層により貼り合わ
せる工程においては、上記接着層と上記支持基板との接
着強度よりも上記接着層と上記光透過性フイルムとの接
着強度の方が強くなるように貼り合わせる。あるいは、
さらに好適には、上記第2光学記録層を形成する工程の
後、上記第1光学記録層と上記第2光学記録層とを貼り
合わせる工程の前に、上記支持基板と上記ハードコート
剤を用いた接着層の界面で剥離する工程をさらに有す
る。あるいは、さらに好適には、上記第1光学記録層と
上記第2光学記録層とを貼り合わせる工程において、上
記光透過性フイルムを上記支持基板に貼り合わせた状態
で行い、上記第1光学記録層と上記第2光学記録層とを
貼り合わせる工程の後、上記支持基板と上記ハードコー
ト剤を用いた接着層の界面で剥離する工程をさらに有す
る。
In the above-mentioned method for producing an optical recording medium of the present invention, a hard coat agent is preferably used as the adhesive layer. More preferably, in the step of adhering the light transmissive film to the supporting substrate with an adhesive layer using a hard coating agent, the adhesive layer and the light transmitting layer are more strongly than the adhesive strength between the adhesive layer and the supporting substrate. It is attached so that the adhesive strength with the film is stronger. Alternatively,
More preferably, after the step of forming the second optical recording layer and before the step of bonding the first optical recording layer and the second optical recording layer, the supporting substrate and the hard coat agent are used. The method further includes the step of peeling at the interface of the adhesive layer. Alternatively, more preferably, in the step of bonding the first optical recording layer and the second optical recording layer, it is performed in a state where the light transmissive film is bonded to the supporting substrate, and the first optical recording layer is formed. After the step of adhering the second optical recording layer and the second optical recording layer, the method further comprises a step of peeling at the interface between the supporting substrate and the adhesive layer using the hard coating agent.

【0024】上記の本発明の光学記録媒体の製造方法
は、好適には、上記媒体基板の一方の面に凹凸形状を形
成する工程および上記光透過性フイルムの一方の面に凹
凸形状を形成する工程においては、トラック領域を区分
する溝を形成し、上記第1および第2光学記録層として
相変化型の光学記録層を形成する。さらに好適には、上
記媒体基板の凹凸形状形成面上に第1光学記録層を形成
する工程が、当該第1光学記録層の初期化を含み、上記
光透過性フイルムの凹凸形状形成面上に第2光学記録層
を形成する工程が、当該第2光学記録層の初期化を含
む。
In the above-mentioned method for producing an optical recording medium of the present invention, preferably, the step of forming an uneven shape on one surface of the medium substrate and the uneven shape on one surface of the light transmissive film are formed. In the step, a groove that divides the track region is formed, and a phase change type optical recording layer is formed as the first and second optical recording layers. More preferably, the step of forming the first optical recording layer on the uneven surface of the medium substrate includes initialization of the first optical recording layer, and the step of forming the first optical recording layer on the uneven surface of the light transmissive film is performed. The step of forming the second optical recording layer includes initialization of the second optical recording layer.

【0025】上記の本発明の光学記録媒体の製造方法
は、好適には、上記媒体基板の一方の面に凹凸形状を形
成する工程および上記光透過性フイルムの一方の面に凹
凸形状を形成する工程においては、トラック領域を区分
する溝を形成し、上記第1および第2光学記録層として
光磁気記録型の光学記録層を形成する。また、好適に
は、上記媒体基板の一方の面に凹凸形状を形成する工程
および上記光透過性フイルムの一方の面に凹凸形状を形
成する工程においては、トラック領域を区分する溝を形
成し、上記第1および第2光学記録層として有機色素を
含有する光学記録層を形成する。また、好適には、上記
媒体基板の一方の面に凹凸形状を形成する工程および上
記光透過性フイルムの一方の面に凹凸形状を形成する工
程においては、情報ピットとなる凹凸を形成し、上記第
1および第2光学記録層として反射膜を形成する。
In the above-mentioned method for producing an optical recording medium of the present invention, preferably, the step of forming an uneven shape on one surface of the medium substrate and the uneven shape on one surface of the light transmissive film are formed. In the step, a groove that divides the track region is formed, and a magneto-optical recording type optical recording layer is formed as the first and second optical recording layers. Further, preferably, in the step of forming an uneven shape on one surface of the medium substrate and the step of forming an uneven shape on one surface of the light transmissive film, forming a groove for partitioning the track region, An optical recording layer containing an organic dye is formed as the first and second optical recording layers. Further, preferably, in the step of forming the uneven shape on one surface of the medium substrate and the step of forming the uneven shape on one surface of the light transmissive film, the unevenness to be an information pit is formed, and Reflective films are formed as the first and second optical recording layers.

【0026】上記の本発明の光学記録媒体の製造方法
は、好適には、光透過性フイルムの一方の面に凹凸形状
を形成する工程が、凹凸形状が形成されたスタンパ上に
当該凹凸形状を転写するように光透過性材料を設けて光
透過性フイルムを形成する工程と、当該光透過性フイル
ムを上記スタンパから剥離する工程とを含む。さらに好
適には、上記凹凸形状が形成されたスタンパ上に当該凹
凸形状を転写するように光透過性材料を設けて光透過性
フイルムを形成する工程の後、当該光透過性フイルムを
上記スタンパから剥離する工程の前に、上記光透過性フ
イルムの凹凸形状形成面の反対側の面において、上記光
透過性フイルムを支持基板に接着層により貼り合わせ、
さらに好適には、上記光透過性フイルムを支持基板に接
着層により貼り合わせる工程において、偏芯調整ピンを
用いて上記支持基板に設けられたセンターホールと上記
スタンパのセンターホールとの位置合わせを行い、上記
光透過性フイルムの凹凸形状に対して上記支持基板を偏
芯調整して貼り合わせる。
In the above-described method for producing an optical recording medium of the present invention, preferably, the step of forming an uneven shape on one surface of the light transmissive film is performed by forming the uneven shape on a stamper on which the uneven shape is formed. It includes a step of forming a light-transmitting film by providing a light-transmitting material so as to be transferred, and a step of peeling the light-transmitting film from the stamper. More preferably, after the step of forming a light-transmissive film by providing a light-transmissive material on the stamper on which the uneven shape is formed so as to transfer the uneven shape, the light-transmissive film is removed from the stamper. Prior to the step of peeling, on the surface opposite to the concavo-convex shape forming surface of the light transmissive film, the light transmissive film is bonded to a supporting substrate with an adhesive layer,
More preferably, in the step of attaching the light-transmissive film to the support substrate with an adhesive layer, the center hole provided in the support substrate and the center hole of the stamper are aligned using an eccentricity adjustment pin. The eccentricity of the supporting substrate is adjusted with respect to the concavo-convex shape of the light transmissive film, and the substrates are bonded together.

【0027】また、さらに好適には、上記凹凸形状が形
成されたスタンパ上に当該凹凸形状を転写するように光
透過性材料を設けて光透過性フイルムを形成する工程に
おいては、上記スタンパ上に光透過性フイルム用シート
を加熱しながら押圧する。また、さらに好適には、上記
凹凸形状が形成されたスタンパ上に当該凹凸形状を転写
するように光透過性材料を設けて光透過性フイルムを形
成する工程においては、上記スタンパ上に光透過性フイ
ルム用シートを光透過性フイルム用接着剤により貼り合
わせ、当該光透過性フイルム用接着剤を固化させる。ま
た、さらに好適には、上記凹凸形状が形成されたスタン
パ上に当該凹凸形状を転写するように光透過性材料を設
けて光透過性フイルムを形成する工程においては、上記
スタンパ上に光透過性フイルム用樹脂を塗布し、当該光
透過性フイルム用樹脂を固化させる。
More preferably, in the step of forming a light-transmissive film by providing a light-transmissive material on the stamper on which the uneven shape is formed so as to transfer the uneven shape, the stamper is formed on the stamper. The light-transmissive film sheet is pressed while being heated. Further, more preferably, in the step of forming a light-transmissive film by providing a light-transmissive material on the stamper on which the uneven shape is formed so as to transfer the uneven shape, the light-transmittance on the stamper is increased. The film sheets are bonded together with a light-transmissive film adhesive, and the light-transmissive film adhesive is solidified. Further, more preferably, in the step of forming a light-transmissive film by providing a light-transmissive material on the stamper on which the uneven shape is formed so as to transfer the uneven shape, the light-transmittance on the stamper is increased. A film resin is applied to solidify the light transmissive film resin.

【0028】上記の本発明の光学記録媒体の製造方法
は、媒体基板の一方の面に凹凸形状を形成し、媒体基板
の凹凸形状形成面上に第1光学記録層を形成する。一
方、光透過性フイルムの一方の面に凹凸形状を形成し、
光透過性フイルムの凹凸形状形成面上に第2光学記録層
を形成する。次に、第1光学記録層と第2光学記録層と
を貼り合わせる。ここで、少なくとも第2光学記録層を
形成する工程の前に、光透過性フイルムの凹凸形状形成
面の反対側の面において、光透過性フイルムを支持基板
に接着層により貼り合わせ、少なくとも第2光学記録層
を形成する工程において光透過性フイルムを支持基板に
貼り合わせた状態で行う。さらに、相変化型の光学記録
層の場合にはその状態で初期化を行う。
In the above-described method for producing an optical recording medium of the present invention, the uneven shape is formed on one surface of the medium substrate, and the first optical recording layer is formed on the uneven surface of the medium substrate. On the other hand, an uneven shape is formed on one surface of the light transmissive film,
The second optical recording layer is formed on the surface of the light transmissive film on which the uneven shape is formed. Next, the first optical recording layer and the second optical recording layer are bonded together. Here, before at least the step of forming the second optical recording layer, the light-transmissive film is attached to the supporting substrate by an adhesive layer on the surface of the light-transmissive film opposite to the concavo-convex shape forming surface, and at least the second optical recording layer is formed. In the step of forming the optical recording layer, the light transmissive film is attached to the supporting substrate. Furthermore, in the case of a phase change type optical recording layer, initialization is performed in that state.

【0029】上記の本発明の光学記録媒体の製造方法に
よれば、2層以上の光学記録層を有する光学記録媒体を
製造するときに、光透過性フイルムを支持基板に貼り合
わせた状態で光学記録層の成膜、さらには初期化を行う
ので、薄い光透過性フイルムのハンドリングが向上して
おり、光透過性フイルムを直接装置内のステージ上に戴
置せずにすむので、光透過性フイルムに傷がつくのを抑
制し、ゴミなどによりステージ上で光透過性フイルムの
一部が浮いてしまうこともないので相変化層の場合に初
期化が困難となる問題を解決することができる。
According to the above-described method for producing an optical recording medium of the present invention, when an optical recording medium having two or more optical recording layers is produced, the optical transmission is performed with the light transmissive film bonded to the supporting substrate. Since the recording layer is formed and further initialized, the handling of thin light-transmissive film is improved, and the light-transmissive film does not have to be directly placed on the stage in the device, so Suppresses scratches on the film and prevents part of the light-transmissive film from floating on the stage due to dust, etc., thus solving the problem that initialization is difficult in the case of a phase change layer. .

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を用いて詳しく説明する。本実施の形態は、光学
記録媒体(光ディスク)の製造方法に関する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. The present embodiment relates to a method for manufacturing an optical recording medium (optical disc).

【0031】第1実施形態 図1(a)は、本実施形態に係る2層の光学記録層を設
けた光ディスクの光の照射の様子を示す模式斜視図であ
る。光ディスクDCは、中心部にセンターホールCHが
開口された略円盤形状をしており、ドライブ方向DRに
回転駆動される。情報を記録または再生するときには、
光ディスクDC中の光学記録層に対して、例えば開口数
が0.8以上の対物レンズOLにより、青〜青紫色の領
域のレーザ光などの光LTが照射される。
First Embodiment FIG. 1A is a schematic perspective view showing a state of light irradiation of an optical disc having two optical recording layers according to this embodiment. The optical disc DC has a substantially disc shape with a center hole CH opened in the center, and is rotationally driven in the drive direction DR. When recording or playing back information,
The optical recording layer in the optical disc DC is irradiated with light LT such as laser light in a blue to blue-violet region by an objective lens OL having a numerical aperture of 0.8 or more, for example.

【0032】図1(b)は模式断面図であり、図1
(c)は図1(b)の模式断面図の要部を拡大した断面
図である。厚さが0.3mm以上(例えば1.1mm)
のポリカーボネートなどからなるディスク基板10の一
方の表面に、例えば射出成形により凹部10dが設けら
れている。この凹部10dを含む凹凸に沿って第1光学
記録積層体11が形成されている。第1光学記録層11
は、上層側から例えば誘電体膜、相変化膜などの記録
膜、誘電体膜および反射膜などがこの順番で積層された
構成であり、層構成や層数は、記録材料の種類や設計に
よって異なる。第1光学記録層11の上層に接着層12
が形成されており、その上層に第2光学記録層13が形
成されている。第2光学記録層13は、上層側から例え
ば誘電体膜、相変化膜など記録膜、誘電体膜および半透
過性の反射膜などがこの順番で積層された構成であり、
層構成や層数は、記録材料の種類や設計によって異な
る。第2光学記録層13の上層に、例えば0.1mmの
膜厚の光透過性フイルム14が形成されている。光透過
性フイルム14は、第2光学記録層13側の表面に凹部
14dが設けられている。この凹部14dを含む凹凸に
沿って、第2光学記録積層体13が形成されている。
FIG. 1 (b) is a schematic sectional view.
FIG. 1C is an enlarged sectional view of a main part of the schematic sectional view of FIG. Thickness is 0.3 mm or more (for example, 1.1 mm)
A recess 10d is formed on one surface of the disk substrate 10 made of polycarbonate or the like by injection molding, for example. The first optical recording laminate 11 is formed along the unevenness including the recess 10d. First optical recording layer 11
Is a structure in which a recording film such as a dielectric film and a phase change film, a dielectric film and a reflective film are laminated in this order from the upper layer side. different. The adhesive layer 12 is provided on the first optical recording layer 11.
Is formed, and the second optical recording layer 13 is formed thereon. The second optical recording layer 13 has a structure in which a recording film such as a dielectric film and a phase change film, a dielectric film, and a semi-transmissive reflective film are laminated in this order from the upper layer side,
The layer structure and the number of layers differ depending on the type and design of the recording material. On the upper layer of the second optical recording layer 13, a light transmissive film 14 having a film thickness of, for example, 0.1 mm is formed. The light transmissive film 14 is provided with a recess 14d on the surface on the second optical recording layer 13 side. The second optical recording laminate 13 is formed along the irregularities including the concave portions 14d.

【0033】上記の光ディスクを記録あるいは再生する
場合には、対物レンズOLにより、レーザ光などの光L
Tを光透過性フイルム14側から第1光学記録層11あ
るいは第2光学記録層13に合焦するように照射する。
対物レンズOLの光ディスクからの距離を調整して第1
光学記録層11と第2光学記録層13のいずれかに焦点
を合わせるかにより、第1光学記録層11と第2光学記
録層13のいずれかを選択的に記録または再生する。上
記の構成で、第2光学記録層13は半透過性であり、光
LTを第1光学記録層11に照射する場合には第2光学
記録層13を透過させて行う。光ディスクの再生時にお
いては、第1および第2光学記録層(11、13)のい
ずれかで反射された戻り光が受光素子で受光され、信号
処理回路により所定の信号を生成して、再生信号が取り
出される。
When recording or reproducing the above-mentioned optical disc, a light L such as a laser beam is passed through the objective lens OL.
T is irradiated from the light-transmissive film 14 side so as to focus on the first optical recording layer 11 or the second optical recording layer 13.
Adjusting the distance of the objective lens OL from the optical disc
Depending on whether the optical recording layer 11 or the second optical recording layer 13 is focused, either the first optical recording layer 11 or the second optical recording layer 13 is selectively recorded or reproduced. With the above configuration, the second optical recording layer 13 is semi-transparent, and when the light LT is applied to the first optical recording layer 11, the second optical recording layer 13 is transmitted. During reproduction of the optical disc, the return light reflected by any of the first and second optical recording layers (11, 13) is received by the light receiving element, and the signal processing circuit generates a predetermined signal to reproduce the reproduction signal. Is taken out.

【0034】上記のような光ディスクにおいて、第1光
学記録層11および第2光学記録層13は、ディスク基
板10の表面に形成された凹部10dあるいは光透過性
フイルム14の表面に形成された凹部14dに起因した
凹凸形状を有している。例えば、この凹部(10d,1
4d)を含む凹凸形状によりトラック領域が区分されて
いる。上記の凹部(10d,14d)により区分された
トラック領域はランドおよびグルーブと呼ばれ、ランド
とグルーブの両者に情報を記録するランド・グルーブ記
録方式を適用することで大容量化が可能である。また、
ランドとグルーブのいずれか一方のみを記録領域とする
ことも可能である。
In the optical disc as described above, the first optical recording layer 11 and the second optical recording layer 13 have a recess 10d formed on the surface of the disk substrate 10 or a recess 14d formed on the surface of the light transmissive film 14. It has an uneven shape due to. For example, this recess (10d, 1
The track region is divided by the uneven shape including 4d). The track areas divided by the recesses (10d, 14d) are called lands and grooves, and the capacity can be increased by applying a land / groove recording method for recording information on both the lands and the grooves. Also,
It is also possible to use only one of the land and the groove as the recording area.

【0035】また、上記のディスク基板10および光透
過性フイルム14の凹部(10d,14d)に起因する
凹凸形状を記録データに対応する長さを有するピットと
して、光学記録膜をアルミニウム膜などの反射膜で構成
することにより、再生専用(ROM)型の光ディスクと
することもできる。
Further, the concave / convex shape resulting from the concave portions (10d, 14d) of the disc substrate 10 and the light transmissive film 14 is used as a pit having a length corresponding to the recording data, and the optical recording film is reflected by an aluminum film or the like. By using a film, a read-only (ROM) type optical disk can be obtained.

【0036】次に、上記の2層の光学記録層を有する光
ディスクの製造方法について説明する。まず、従来より
知られている所定の方法によって、ディスク基板に転写
するための反転したパターンである凸部20pを含む凹
凸パターンを表面に有するディスク基板用スタンパ20
を作成する。次に、図2(a)に示すように、上記のデ
ィスク基板用スタンパ20を金型(MD1,MD2)か
らなるキャビティ内に、ディスク基板用スタンパ20の
凸部形成面20p’がキャビティ内側を臨むように設置
して固定し、射出成形用金型を構成する。上記の射出成
形用金型のキャビティ内に、例えば溶融状態のポリカー
ボネートなどの樹脂10’を金型の注入口MSから射出
することで、図2(b)に示すように、ディスク基板用
スタンパ20上にディスク基板10を形成する。ここ
で、ディスク基板10の表面には、ディスク基板用スタ
ンパ20の凸部20pに対応する位置に、凹部(溝)1
0dが形成される。
Next, a method for manufacturing an optical disc having the above-mentioned two optical recording layers will be described. First, a stamper 20 for a disk substrate having on its surface a concavo-convex pattern including a convex portion 20p which is an inverted pattern for transferring to the disc substrate by a predetermined method known in the related art.
To create. Next, as shown in FIG. 2A, the above-mentioned disk substrate stamper 20 is placed in the cavity formed by the molds (MD1, MD2), and the convex portion forming surface 20p ′ of the disk substrate stamper 20 is placed inside the cavity. The mold for injection molding is constructed by installing and fixing so as to face. By injecting a resin 10 ′ such as a molten polycarbonate from the injection port MS of the mold into the cavity of the injection molding mold, as shown in FIG. The disk substrate 10 is formed on top. Here, on the surface of the disk substrate 10, a concave portion (groove) 1 is provided at a position corresponding to the convex portion 20p of the disk substrate stamper 20.
0d is formed.

【0037】上記の射出成形金型から離型することで、
図3(a)に示すような表面にグルーブパターンあるい
はピットパターンとなる凹部10dを含む凹凸パターン
が形成されたディスク基板10が得られる。次に、図3
(b)に示すように、ディスク基板10の表面に空気や
窒素ガスなどのガスを吹き付けてダストを除去した後、
例えばスパッタリング法などにより、反射膜、誘電体
膜、記録膜、誘電体膜の積層体を有する第1光学記録膜
11をこの成膜順序で成膜する。上記の記録膜は、例え
ば、相変化型の光学記録膜、光磁気記録膜あるいは有機
色素を含む記録膜を用いることができる。あるいは、R
OM型光ディスクの場合には、光学記録膜をアルミニウ
ム膜などの反射膜により形成する。
By releasing from the above injection molding die,
As shown in FIG. 3A, the disc substrate 10 having the concave-convex pattern including the concave portions 10d to be the groove pattern or the pit pattern on the surface is obtained. Next, FIG.
As shown in (b), after gas such as air or nitrogen gas is blown onto the surface of the disk substrate 10 to remove dust,
For example, the first optical recording film 11 having a laminated body of a reflective film, a dielectric film, a recording film, and a dielectric film is formed in this order by a sputtering method or the like. As the recording film, for example, a phase change type optical recording film, a magneto-optical recording film, or a recording film containing an organic dye can be used. Or R
In the case of the OM type optical disc, the optical recording film is formed of a reflective film such as an aluminum film.

【0038】上記の記録膜として相変化膜を成膜した場
合には、次に、図3(c)に示すように、対物レンズO
Lにより、YAGレーザ光などの赤外光IRを集光し
て、例えばディスク基板10を回転しながら、照射位置
を径方向に移動させることで、第1光学記録層11に全
面に照射し、熱を与えて溶融させた後、急冷して結晶化
させる。これは、第1光学記録層11の初期化工程に相
当する。
When a phase change film is formed as the above recording film, next, as shown in FIG.
Infrared light IR such as YAG laser light is condensed by L, and the irradiation position is moved in the radial direction while rotating the disk substrate 10, for example, so that the entire first optical recording layer 11 is irradiated. After being heated and melted, it is rapidly cooled to crystallize. This corresponds to the initialization process of the first optical recording layer 11.

【0039】一方、以下に示す種々の方法により、表面
にグルーブパターンあるいはピットパターンとなる凹部
14dを含む凹凸パターンが転写された光透過性フイル
ム14を形成する。まず、第1の方法としては、図4
(a)に示すように、例えば凸部21pを含む凹凸パタ
ーンを有する光透過性フイルム用スタンパ21上に、光
透過性フイルム用シート14sを配置し、図4(b)に
示すように加熱(TH)しながら押圧(PR)する。こ
のとき、光透過性フイルム用シート14sの表面が加熱
されて溶融し、光透過性フイルム用スタンパ21の凹凸
パターンに沿って変形する。この状態で急冷することで
光透過性フイルム14が形成される。次に、図4(c)
に示すように、光透過性フイルム用スタンパ21から離
型すると、得られた光透過性フイルム14の表面には、
光透過性フイルム用スタンパ21の凸部21pに対応す
る位置に凹部(溝)14dが転写されている。
On the other hand, the light-transmitting film 14 on which the concavo-convex pattern including the concave portions 14d to be the groove pattern or the pit pattern is transferred is formed by various methods described below. First, the first method is as shown in FIG.
As shown in (a), for example, the light-transmissive film sheet 14s is placed on the light-transmissive film stamper 21 having a concavo-convex pattern including the convex portions 21p, and heated as shown in FIG. 4 (b). Press (PR) while TH). At this time, the surface of the light transmissive film sheet 14s is heated and melted, and is deformed along the concavo-convex pattern of the light transmissive film stamper 21. By rapidly cooling in this state, the light transmissive film 14 is formed. Next, FIG. 4 (c)
As shown in, when the mold is released from the light transmissive film stamper 21, the surface of the obtained light transmissive film 14 is
A concave portion (groove) 14d is transferred to a position corresponding to the convex portion 21p of the light transmissive film stamper 21.

【0040】また、第2の方法としては、図5(a)に
示すように、例えば凸部21pを含む凹凸パターンを有
する光透過性フイルム用スタンパ21上に、紫外線硬化
樹脂14rを塗布などにより供給し、図5(b)に示す
ように、その上層に光透過性フイルム用シート14sを
配置する。この状態で回転させるスピンコートの手法に
より、図5(c)に示すように、光透過性フイルム用ス
タンパ21と光透過性フイルム用シート14sの間隙に
均一な膜厚となるように紫外線硬化樹脂14rを行き渡
らせる。次に、図6(a)に示すように、紫外線UVを
照射して、紫外線硬化樹脂14rを硬化せしめ、光透過
性フイルム用シート14sと紫外線硬化樹脂14rを一
体化させ、光透過性フイルム14を形成する。次に、図
6(b)に示すように、光透過性フイルム用スタンパ2
1から離型すると、得られた光透過性フイルム14の表
面には、光透過性フイルム用スタンパ21の凸部21p
に対応する位置に凹部(溝)14dが転写されている。
As a second method, as shown in FIG. 5 (a), for example, an ultraviolet curable resin 14r is applied on a light-transmitting film stamper 21 having a concavo-convex pattern including a convex portion 21p. Then, as shown in FIG. 5B, the light-transmissive film sheet 14s is arranged on the upper layer thereof. As shown in FIG. 5 (c), an ultraviolet curable resin is applied to the gap between the light-transmitting film stamper 21 and the light-transmitting film sheet 14 s by a spin coating method of rotating in this state so that a uniform film thickness is obtained. Spread 14r. Next, as shown in FIG. 6A, the UV curable resin 14r is irradiated with UV rays to cure the UV curable resin 14r, and the light transmissive film sheet 14s and the UV curable resin 14r are integrated with each other to form the light transmissive film 14r. To form. Next, as shown in FIG. 6B, the light-transmitting film stamper 2 is used.
When the mold is released from the mold 1, the projections 21p of the light-transmitting film stamper 21 are formed on the surface of the obtained light-transmitting film 14.
The recessed portion (groove) 14d is transferred to the position corresponding to.

【0041】また、第3の方法としては、図7(a)に
示すように、例えば凸部21pを含む凹凸パターンを有
する光透過性フイルム用スタンパ21上に、紫外線硬化
樹脂14rを供給し、この状態で回転させるスピンコー
トの手法により、図7(b)に示すように、紫外線硬化
樹脂14rを均一な膜厚で塗布する。次に、図8(a)
に示すように、紫外線UVを照射して、紫外線硬化樹脂
14rを硬化せしめ、光透過性フイルム14を形成す
る。次に、図8(b)に示すように、光透過性フイルム
用スタンパ21から離型すると、得られた光透過性フイ
ルム14の表面には、光透過性フイルム用スタンパ21
の凸部21pに対応する位置に凹部(溝)14dが転写
されている。
As a third method, as shown in FIG. 7 (a), the ultraviolet curable resin 14r is supplied onto the light transmissive film stamper 21 having a concavo-convex pattern including convex portions 21p, for example. By the spin coating method of rotating in this state, as shown in FIG. 7B, the ultraviolet curable resin 14r is applied with a uniform film thickness. Next, FIG. 8 (a)
As shown in FIG. 3, ultraviolet light UV is irradiated to cure the ultraviolet curable resin 14r to form the light transmissive film 14. Next, as shown in FIG. 8B, when the mold is released from the light transmissive film stamper 21, the surface of the obtained light transmissive film 14 is provided with the light transmissive film stamper 21.
The concave portion (groove) 14d is transferred to a position corresponding to the convex portion 21p.

【0042】次に、図9(a)に示すように、上記のよ
うにして形成した光透過性フイルム14の凹凸形成面の
反対側の面を、接着剤あるいは感圧性粘着剤などの接着
層23により、ポリカーボネートあるいはその他の材料
などからなる支持基板22に貼り合わせる。
Next, as shown in FIG. 9 (a), the surface of the light-transmissive film 14 formed as described above opposite to the surface on which the concavities and convexities are formed is attached to an adhesive layer such as an adhesive or a pressure-sensitive adhesive. It is attached to the support substrate 22 made of polycarbonate or other material by 23.

【0043】次に、図9(b)に示すように、光透過性
フイルム14を支持基板22に貼り合わせた状態で、光
透過性フイルム14の表面に空気や窒素ガスなどのガス
を吹き付けてダストを除去した後、例えばスパッタリン
グ法などにより、誘電体膜、記録膜、誘電体膜、半透過
性の反射膜の積層体を有する第2光学記録膜13をこの
成膜順序で成膜する。上記の記録膜は、例えば、相変化
型の光学記録膜、光磁気記録膜あるいは有機色素を含む
記録膜を用いることができる。あるいは、ROM型光デ
ィスクの場合には、光学記録膜をアルミニウム膜などか
らなる半透過性の反射膜により形成する。
Next, as shown in FIG. 9B, with the light transmissive film 14 bonded to the support substrate 22, a gas such as air or nitrogen gas is blown onto the surface of the light transmissive film 14. After removing the dust, the second optical recording film 13 having a laminated body of a dielectric film, a recording film, a dielectric film, and a semi-transmissive reflective film is formed in this order by, for example, a sputtering method. As the recording film, for example, a phase change type optical recording film, a magneto-optical recording film, or a recording film containing an organic dye can be used. Alternatively, in the case of a ROM type optical disc, the optical recording film is formed of a semi-transmissive reflective film such as an aluminum film.

【0044】上記の記録膜として相変化膜を成膜した場
合には、図10(a)に示すように、上記の第1光学記
録層の場合と同様の手法で、対物レンズOLにより赤外
光IRを集光して第2光学記録層13に照射し、熱を与
えて溶融させた後、急冷して結晶化させる。これは、第
2光学記録層13の初期化工程に相当する。
When a phase change film is formed as the above recording film, as shown in FIG. 10 (a), infrared rays are radiated by the objective lens OL in the same manner as in the case of the above first optical recording layer. The light IR is condensed and applied to the second optical recording layer 13, and heat is applied to melt it, followed by rapid cooling and crystallization. This corresponds to the initialization process of the second optical recording layer 13.

【0045】次に、図10(b)に示すように、接着層
23と光透過性フイルム14の界面で剥離することで、
第2光学記録層13が形成された光透過性フイルム14
を得る。上記のように接着層23と光透過性フイルム1
4の界面で剥離可能とするため、接着層23による接着
について、接着層23と支持基板22との接着強度より
も接着層23と光透過性フイルム14との接着強度の方
が弱くなるようにしておく。この接着強度の差により、
接着層23と光透過性フイルム14の界面で剥離が可能
となる。
Next, as shown in FIG. 10B, by peeling at the interface between the adhesive layer 23 and the light transmissive film 14,
Light-transmissive film 14 having second optical recording layer 13 formed thereon
To get As described above, the adhesive layer 23 and the light transmissive film 1
In order to enable peeling at the interface of No. 4, the adhesive strength between the adhesive layer 23 and the light-transmissive film 14 is weaker than the adhesive strength between the adhesive layer 23 and the support substrate 22 in terms of adhesion by the adhesive layer 23. Keep it. Due to this difference in adhesive strength,
Peeling is possible at the interface between the adhesive layer 23 and the light transmissive film 14.

【0046】例えば、接着層23として接着剤を用いる
場合には、図11(a)に示すように、光透過性フイル
ム14と支持基板22とを異なる材質から選択すること
で、接着強度に差を持たせることが可能となる。また、
図11(b)に示すように、支持基板22と接着層23
との界面と光透過性フイルム14と接着層22との界面
のいずれか一方に表面処理FTをもたらす方法がある。
表面処理としては、例えば、プライマあるいはシリコー
ンなどの化学的処理を施す方法、あるいは、表面を荒ら
すなどの物理的処理により機械的接着強度を高める方法
などがある。また、一般に剛性が異なる部材への接着剤
の接着強度は異なることを利用して、図11(c)に示
すように、光透過性フイルム14と支持基板22との剛
性の差から接着層23と光透過性フイルム14との接着
強度の方が弱くなるようにすることも可能である。
For example, when an adhesive is used as the adhesive layer 23, as shown in FIG. 11 (a), the light transmissive film 14 and the support substrate 22 are selected from different materials, so that the adhesive strength is different. It becomes possible to have. Also,
As shown in FIG. 11B, the support substrate 22 and the adhesive layer 23
There is a method in which the surface treatment FT is performed on either one of the interface with and the interface between the light transmissive film 14 and the adhesive layer 22.
The surface treatment includes, for example, a method of chemically treating a primer or silicone, or a method of increasing mechanical adhesion strength by a physical treatment such as roughening the surface. Further, by utilizing the fact that the adhesive strengths of the adhesives to the members having different rigidity are generally different, as shown in FIG. It is also possible to make the adhesive strength between the transparent film 14 and the transparent film 14 weaker.

【0047】また、例えば、接着層23として感圧性粘
着剤を用いる場合においても、図12(a)に示すよう
に、光透過性フイルム14と支持基板22とを異なる材
質から選択することで、接着強度に差を持たせることが
可能となる。また、図12(b)に示すように、支持基
板22と接着層23との界面と光透過性フイルム14と
接着層22との界面のいずれか一方に表面処理FTをも
たらす方法がある。表面処理としては、例えば、プライ
マあるいはシリコーンなどの化学的処理を施す方法、あ
るいは、表面を荒らすなどの物理的処理により機械的接
着強度を高める方法などがある。また、図13(a)に
示すように、弱粘着剤層23aと強粘着剤層23bの2
層から接着層23を構成することによって接着強度に差
を持たせることが可能となる。さらに、図13(b)に
示すように、接着層として、基体23cの一方の面に弱
粘着剤層23aを設け、他方の面に強粘着剤層23bを
設けた粘着シートを用いることもできる。
Also, for example, when a pressure sensitive adhesive is used as the adhesive layer 23, by selecting the light transmissive film 14 and the support substrate 22 from different materials, as shown in FIG. It is possible to give different adhesive strengths. Further, as shown in FIG. 12B, there is a method of applying the surface treatment FT to either one of the interface between the support substrate 22 and the adhesive layer 23 and the interface between the light transmissive film 14 and the adhesive layer 22. The surface treatment includes, for example, a method of chemically treating a primer or silicone, or a method of increasing mechanical adhesion strength by a physical treatment such as roughening the surface. In addition, as shown in FIG. 13 (a), two of the weak adhesive layer 23a and the strong adhesive layer 23b are used.
By forming the adhesive layer 23 from the layers, it becomes possible to give different adhesive strengths. Further, as shown in FIG. 13B, a pressure-sensitive adhesive sheet in which a weak pressure-sensitive adhesive layer 23a is provided on one surface of a substrate 23c and a strong pressure-sensitive adhesive layer 23b is provided on the other surface can be used as an adhesive layer. .

【0048】次に、上記のディスク基板10に形成した
第1光学記録層11と光透過性フイルム14に形成した
第2光学記録層13とを接着層12により貼り合わせ
る。接着層12としては、例えば紫外線硬化樹脂系の接
着剤や感圧性粘着剤などを用いることができる。
Next, the first optical recording layer 11 formed on the disk substrate 10 and the second optical recording layer 13 formed on the light transmissive film 14 are bonded together by the adhesive layer 12. As the adhesive layer 12, for example, an ultraviolet curable resin adhesive or a pressure sensitive adhesive can be used.

【0049】図14(a)に示すように、剥離シート1
2a有する感圧性粘着シート12sを用いる場合には、
例えばディスク基板10に形成した第1光学記録層11
上に感圧性粘着シート12sを押し当て、パッドあるい
はローラなどにより押圧して、図14(b)に示すよう
に第1光学記録層11と感圧性粘着シート12sを接着
する。次に、図14(c)に示すように、剥離シート1
2aを剥離し、図15(a)に示すように、光透過性フ
イルム14に形成した第2光学記録層13を感圧性粘着
シート12sに、第1光学記録層11と第2光学記録層
13との位置を合わせて押し当て、パッドあるいはロー
ラなどにより押圧して、図15(b)に示すように、第
1光学記録層11と第2光学記録層13とを貼り合わせ
る。以上で、図1に示す構成の2層の光学記録層を設け
た光ディスクを製造することができる。
As shown in FIG. 14A, the release sheet 1
When using the pressure-sensitive adhesive sheet 12s having 2a,
For example, the first optical recording layer 11 formed on the disc substrate 10
The pressure-sensitive adhesive sheet 12s is pressed onto the top and pressed by a pad or a roller to bond the first optical recording layer 11 and the pressure-sensitive adhesive sheet 12s as shown in FIG. 14 (b). Next, as shown in FIG. 14C, the release sheet 1
2a is peeled off, and as shown in FIG. 15A, the second optical recording layer 13 formed on the light transmissive film 14 is used as the pressure-sensitive adhesive sheet 12s, and the first optical recording layer 11 and the second optical recording layer 13 are formed. 15 and are pressed against each other and pressed by a pad or a roller to bond the first optical recording layer 11 and the second optical recording layer 13 together as shown in FIG. 15B. As described above, an optical disc having the two optical recording layers having the structure shown in FIG. 1 can be manufactured.

【0050】上記においては、感圧性粘着シート12s
を先に第1光学記録層11に接着し、次いで第2光学記
録層13に接着させているが、逆に、第2光学記録層1
3に接着し、次いで第1光学記録層11に接着させるこ
ともできる。
In the above, the pressure-sensitive adhesive sheet 12s
Is first adhered to the first optical recording layer 11 and then to the second optical recording layer 13, but conversely, the second optical recording layer 1
It is also possible to adhere to No. 3 and then to the first optical recording layer 11.

【0051】ここで、上記の第1光学記録層11と第2
光学記録層13とは、各記録層の信号部が偏芯なく貼り
合わされなければならないので、例えば以下のようにし
て貼り合わせることが重要である。例えば、第2光学記
録層13が形成された光透過性フイルム14をXYステ
ージ上に戴置し、真空あるいは静電吸着により保持す
る。次に、光透過性フイルム14の外周あるいは内周に
信号部とミラー部の境界となる円周上に、90°で等配
分された位置にCCDカメラを配置し、その境界をエッ
ジ検出する。エッジの位置情報から、センターピンが信
号部の中心にくるようXYステージを移動させる。次
に、第1光学記録層11を設けたディスク基板10をセ
ンターピンに嵌め合わせ、パッドなどで圧着させる。以
上で、第1光学記録層11と第2光学記録層13との各
信号部が偏芯ないように貼り合わせることができる。
Here, the first optical recording layer 11 and the second optical recording layer
Since the signal portion of each recording layer must be attached to the optical recording layer 13 without eccentricity, it is important to attach them as follows, for example. For example, the light transmissive film 14 having the second optical recording layer 13 formed thereon is placed on an XY stage and held by vacuum or electrostatic adsorption. Next, the CCD cameras are arranged on the outer circumference or the inner circumference of the light-transmitting film 14 on the circumference which is the boundary between the signal portion and the mirror portion, at positions equally distributed at 90 °, and the boundary is subjected to edge detection. Based on the edge position information, the XY stage is moved so that the center pin comes to the center of the signal section. Next, the disk substrate 10 provided with the first optical recording layer 11 is fitted to the center pin and pressure-bonded with a pad or the like. As described above, the signal portions of the first optical recording layer 11 and the second optical recording layer 13 can be bonded together without eccentricity.

【0052】また、XYステージ上に第1光学記録層1
1を設けたディスク基板10を保持し、センターピンが
信号部中心にくるようXYステージを移動させ、第2光
学記録層13が形成された光透過性フイルム14をセン
ターピンに嵌め合わせ、パッドなどで圧着させることも
可能である。
Further, the first optical recording layer 1 is placed on the XY stage.
1 is held, the XY stage is moved so that the center pin comes to the center of the signal portion, the light-transmissive film 14 having the second optical recording layer 13 is fitted to the center pin, a pad, etc. It is also possible to crimp.

【0053】また、上記の第1光学記録層11と第2光
学記録層13とを貼り合わせるのに、紫外線硬化樹脂系
接着剤などを用いることもできる。この場合には、図1
6(a)に示すように、例えばディスク基板10に形成
された第1光学記録層11上に、紫外線硬化樹脂12r
を塗布などにより供給し、図16(b)に示すように、
光透過性フイルム14の第2光学記録層13側を紫外線
硬化樹脂12r側にして配置する。この状態で回転させ
るスピンコートの手法により、図16(c)に示すよう
に、第1光学記録層11と第2光学記録層13の間隙に
均一な膜厚となるように紫外線硬化樹脂12rを行き渡
らせる。次に、図17(a)に示すように、紫外線UV
を照射して、紫外線硬化樹脂12rを硬化せしめ、接着
層12として、図17(b)に示すように、第1光学記
録層11と第2光学記録層13とを貼り合わせる。以上
で、図1に示す構成の2層の光学記録層を設けた光ディ
スクを製造することができる。
Further, an ultraviolet curable resin adhesive or the like may be used to attach the first optical recording layer 11 and the second optical recording layer 13 described above. In this case,
As shown in FIG. 6A, for example, the ultraviolet curable resin 12r is formed on the first optical recording layer 11 formed on the disc substrate 10.
Is supplied by coating or the like, and as shown in FIG.
The light transmissive film 14 is disposed with the second optical recording layer 13 side facing the ultraviolet curable resin 12r side. As shown in FIG. 16C, the UV curable resin 12r is applied to the gap between the first optical recording layer 11 and the second optical recording layer 13 by a spin coating method of rotating in this state so that a uniform film thickness is obtained. Spread. Next, as shown in FIG. 17A, ultraviolet UV
Is irradiated to cure the ultraviolet curable resin 12r, and as the adhesive layer 12, the first optical recording layer 11 and the second optical recording layer 13 are bonded together as shown in FIG. 17 (b). As described above, an optical disc having the two optical recording layers having the structure shown in FIG. 1 can be manufactured.

【0054】この場合には、上記の第1光学記録層11
と第2光学記録層13とで各記録層の信号部を偏芯なく
貼り合わせるため、上述のように、XYステージ上に第
2光学記録層13を設けた光透過性フイルム14を保持
し、センターピンが信号部中心にくるようXYステージ
を移動させ、第1光学記録層11が形成されたディスク
基板10をセンターピンに嵌め合わせた状態でスピンコ
ートを行う方法と、光透過性フイルムのセンターホール
を第2光学記録層13の信号部に対して同心円状に打ち
抜き、テーパ状のセンター治具をガイドとして中心位置
を合わせる方法がある。
In this case, the first optical recording layer 11 described above is used.
In order to bond the signal parts of the respective recording layers with the second optical recording layer 13 without eccentricity, as described above, the light transmissive film 14 provided with the second optical recording layer 13 is held on the XY stage, The XY stage is moved so that the center pin is located at the center of the signal portion, and spin coating is performed with the disk substrate 10 having the first optical recording layer 11 fitted on the center pin, and the center of the light-transmitting film. There is a method in which the holes are punched out concentrically with respect to the signal portion of the second optical recording layer 13 and the center position is aligned with a tapered center jig as a guide.

【0055】本実施形態において、記録膜が相変化膜の
場合、初期化は2層の光学記録層を積層した後に行って
もよいが、下層側の光学記録層の初期化には必要な光量
が増加してしまい、2層の記録層が近接しているので干
渉の影響が避けられないなどの問題があり、上記の実施
形態のように成膜直後に初期化することが好ましい。
In the present embodiment, when the recording film is a phase change film, the initialization may be performed after laminating two optical recording layers, but the amount of light necessary for initializing the lower optical recording layer is set. However, since the two recording layers are close to each other, there is a problem that the influence of interference cannot be avoided. Therefore, it is preferable to perform initialization immediately after film formation as in the above-described embodiment.

【0056】上記の本実施形態に係る2層の光学記録層
を有する光ディスクの製造方法によれば、光透過性フイ
ルムを支持基板に貼り合わせた状態で第2光学記録層の
成膜、さらには相変化膜の場合には初期化を行ってお
り、剛性のある支持基板に貼り合わせることで薄い光透
過性フイルムのハンドリングが向上して、装置内での保
持が容易となり、成膜装置および初期化の光照射装置は
通常の構成のものを使用可能となる。また、光透過性フ
イルムの裏面は保護されており、直接装置内のステージ
上に接触せずにすむので、光透過性フイルムにゴミや傷
がつくのを抑制することができる。さらに、ゴミが付着
しないので、ゴミによりステージ上で光透過性フイルム
の一部が浮いてしまうことがなく、相変化層の場合に初
期化が困難となる問題を解決することができる。
According to the above-described method for manufacturing an optical disc having two optical recording layers according to the present embodiment, the second optical recording layer is formed with the light transmissive film bonded to the supporting substrate, and further, In the case of a phase change film, initialization is performed, and by attaching it to a rigid support substrate, the handling of a thin light-transmitting film is improved, and it becomes easier to hold it in the device. The light irradiating device can be of a normal structure. Further, since the back surface of the light-transmissive film is protected and does not need to come into direct contact with the stage in the apparatus, it is possible to suppress dust and scratches on the light-transmissive film. Furthermore, since dust does not adhere, a part of the light-transmissive film does not float on the stage due to dust, and it is possible to solve the problem that initialization is difficult in the case of a phase change layer.

【0057】第2実施形態 本実施形態に係る光ディスクの構成は実質的に第1実施
形態と同様であり、製造方法が一部異なっている。即
ち、図3(c)に示すように、表面にグルーブパターン
あるいはピットパターンとなる凹部10dを含む凹凸パ
ターンが形成されたディスク基板10を形成し、第1光
学記録膜11を成膜し、さらに赤外光を集光して第1光
学記録層11の初期化を行う工程まで、第1実施形態と
同様に行う。
Second Embodiment The structure of the optical disc according to the present embodiment is substantially the same as that of the first embodiment, and the manufacturing method is partially different. That is, as shown in FIG. 3C, a disc substrate 10 having a concave-convex pattern including a concave portion 10d to be a groove pattern or a pit pattern is formed on the surface, and a first optical recording film 11 is formed. The steps up to the step of condensing infrared light and initializing the first optical recording layer 11 are performed in the same manner as in the first embodiment.

【0058】一方、図10(a)に示すように、表面に
グルーブパターンあるいはピットパターンとなる凹部1
4dを含む凹凸パターンが形成された光透過性フイルム
14を形成し、第2光学記録膜13を成膜し、さらに赤
外光を集光して第2光学記録層13の初期化を行う工程
まで、第1実施形態と同様に行う。
On the other hand, as shown in FIG. 10A, the concave portion 1 having a groove pattern or a pit pattern on the surface is formed.
A step of forming a light-transmitting film 14 on which a concavo-convex pattern including 4d is formed, forming a second optical recording film 13, and further condensing infrared light to initialize the second optical recording layer 13. Up to this, the same operation as in the first embodiment is performed.

【0059】次に、図18(a)に示すように、接着層
23と光透過性フイルム14の界面で剥離する前に、上
記のディスク基板10に形成した第1光学記録層11と
光透過性フイルム14に形成した第2光学記録層13と
を接着層12により貼り合わせる。接着層12として
は、例えば紫外線硬化樹脂系の接着剤や感圧性粘着剤な
どを用いることができる。接着剤を用いる場合の工程は
図16および17に示す第1実施形態の工程と同様に、
感圧性粘着剤を用いる場合の工程は図14および15に
示す第1実施形態の工程と同様に行うことができる。上
記の貼り合わせ工程では、第1光学記録層11と第2光
学記録層13とで各記録層の信号部を偏芯なく貼り合わ
せるため、第1実施形態と同様に貼り合わせることがで
きる。
Next, as shown in FIG. 18A, before peeling at the interface between the adhesive layer 23 and the light transmissive film 14, the first optical recording layer 11 and the light transmissive layer formed on the disk substrate 10 are transferred. The second optical recording layer 13 formed on the flexible film 14 is attached by the adhesive layer 12. As the adhesive layer 12, for example, an ultraviolet curable resin adhesive or a pressure sensitive adhesive can be used. The process when using an adhesive is similar to the process of the first embodiment shown in FIGS. 16 and 17,
The process of using the pressure sensitive adhesive can be performed in the same manner as the process of the first embodiment shown in FIGS. 14 and 15. In the above-mentioned bonding step, the signal portions of the respective recording layers of the first optical recording layer 11 and the second optical recording layer 13 are bonded without eccentricity, and therefore the bonding can be carried out as in the first embodiment.

【0060】次に、図18(b)に示すように、接着層
23と光透過性フイルム14の界面で剥離する。以上
で、図1に示す構成の2層の光学記録層を設けた光ディ
スクを製造することができる。
Next, as shown in FIG. 18B, the adhesive layer 23 and the light-transmissive film 14 are separated at the interface. As described above, an optical disc having the two optical recording layers having the structure shown in FIG. 1 can be manufactured.

【0061】上記の本実施形態に係る2層の光学記録層
を有する光ディスクの製造方法によれば、第1実施形態
と同様に、光透過性フイルムを支持基板に貼り合わせた
状態で光学記録層の成膜、さらには初期化を行うので、
薄い光透過性フイルムのハンドリングが向上しており、
光透過性フイルムを直接装置内のステージ上に戴置せず
にすむので、光透過性フイルムに傷がつくのを抑制し、
ゴミなどによりステージ上で光透過性フイルムの一部が
浮いてしまうこともないので相変化層の場合に初期化が
困難となる問題を解決することができる。
According to the method of manufacturing an optical disc having two optical recording layers according to the present embodiment, the optical recording layer is attached to the supporting substrate with the light transmissive film, as in the first embodiment. Film formation and further initialization,
The handling of thin light-transmissive films is improved,
Since the light-transmissive film does not have to be directly placed on the stage in the device, it is possible to prevent the light-transmissive film from being scratched,
Part of the light transmissive film does not float on the stage due to dust or the like, so that the problem that initialization is difficult in the case of a phase change layer can be solved.

【0062】第3実施形態 本実施形態に係る光ディスクの構成は実質的に第1実施
形態と同様であり、製造方法が一部異なっている。即
ち、図3(c)に示すように、例えば射出成形により表
面にグルーブパターンあるいはピットパターンとなる凹
部10dを含む凹凸パターンが形成されたディスク基板
10を形成し、第1光学記録膜11を成膜し、さらに赤
外光を集光して第1光学記録層11の初期化を行う工程
まで、第1実施形態と同様に行う。
Third Embodiment The structure of the optical disk according to the present embodiment is substantially the same as that of the first embodiment, and the manufacturing method is partially different. That is, as shown in FIG. 3C, a disc substrate 10 having a concave-convex pattern including a concave portion 10d to be a groove pattern or a pit pattern is formed on the surface by injection molding, for example, and a first optical recording film 11 is formed. The steps up to the step of forming the film and further condensing infrared light to initialize the first optical recording layer 11 are performed in the same manner as in the first embodiment.

【0063】一方、図4に示す工程と同様にして、表面
にグルーブパターンあるいはピットパターンとなる凹部
14dを含む凹凸パターンが形成された光透過性フイル
ム14を形成する。ここで、図19(a)に示すよう
に、光透過性フイルム14の凹凸形成面の反対側の表面
に、プロテクトフイルム14tが設けられている。例え
ば、一方の表面に予めプロテクトフイルム14tが設け
られている光透過性フイルム14を用い、他方の面に凹
凸を有するスタンパを押圧しながら加熱し、形成するこ
とができる。プロテクトフイルム14tを設けた光透過
性フイルム14としては、例えば、表面に酢酸ブチルな
どの薬品で処理した後、ポリエチレンフイルムを貼り合
わせたもの、あるいは、PET(ポリエチレンテレフタ
レート)フイルムに微粘着性の感圧性粘着剤を貼り合わ
せたものなどがある。また、第1実施形態に記載の方法
と同様にして、表面にグルーブパターンあるいはピット
パターンとなる凹部14dを含む凹凸パターンが形成さ
れた光透過性フイルム14を形成した後、凹凸パターン
形成面の反対側の面にプロテクトフイルムを貼り合わせ
てもよい。
On the other hand, similarly to the step shown in FIG. 4, the light-transmitting film 14 having the concave-convex pattern including the concave portions 14d to be the groove pattern or the pit pattern is formed on the surface. Here, as shown in FIG. 19A, a protect film 14t is provided on the surface of the light transmissive film 14 opposite to the concavo-convex forming surface. For example, the light-transmissive film 14 having the protect film 14t provided on one surface in advance can be used, and the stamper having irregularities on the other surface can be pressed and heated to be formed. As the light-transmitting film 14 provided with the protect film 14t, for example, the surface of which is treated with a chemical such as butyl acetate and then laminated with polyethylene film, or a PET (polyethylene terephthalate) film having a slightly tacky feeling. For example, a pressure-sensitive adhesive may be attached. In the same manner as in the method described in the first embodiment, after forming the light-transmitting film 14 on the surface of which the concave-convex pattern including the concave portions 14d to be the groove pattern or the pit pattern is formed, the surface opposite to the concave-convex pattern forming surface is formed. A protective film may be attached to the side surface.

【0064】次に、図19(b)に示すように、上記の
ようにして形成した光透過性フイルム14に設けられた
プロテクトフイルム14tの表面を、接着剤あるいは感
圧性粘着剤などの接着層23により、ポリカーボネート
あるいはその他の材料などからなる支持基板22に貼り
合わせる。
Next, as shown in FIG. 19B, the surface of the protect film 14t provided on the light transmissive film 14 formed as described above is covered with an adhesive layer such as an adhesive or a pressure sensitive adhesive. It is attached to the support substrate 22 made of polycarbonate or other material by 23.

【0065】次に、図19(c)に示すように、光透過
性フイルム14に設けられたプロテクトフイルム14t
を支持基板22に貼り合わせた状態で、光透過性フイル
ム14の表面に空気や窒素ガスなどのガスを吹き付けて
ダストを除去した後、例えばスパッタリング法などによ
り、誘電体膜、記録膜、誘電体膜、半透過性の反射膜の
積層体を有する第2光学記録膜13をこの成膜順序で成
膜する。上記の記録膜は、例えば、相変化型の光学記録
膜、光磁気記録膜あるいは有機色素を含む記録膜を用い
ることができる。あるいは、ROM型光ディスクの場合
には、光学記録膜をアルミニウム膜などからなる半透過
性の反射膜により形成する。
Next, as shown in FIG. 19C, the protect film 14t provided on the light transmissive film 14 is provided.
In a state where the film is attached to the support substrate 22, a gas such as air or nitrogen gas is blown onto the surface of the light transmissive film 14 to remove dust, and then the dielectric film, the recording film, or the dielectric film is formed by, for example, a sputtering method. The second optical recording film 13 having a laminated body of a film and a semi-transmissive reflective film is formed in this order. As the recording film, for example, a phase change type optical recording film, a magneto-optical recording film, or a recording film containing an organic dye can be used. Alternatively, in the case of a ROM type optical disc, the optical recording film is formed of a semi-transmissive reflective film such as an aluminum film.

【0066】上記の記録膜として相変化膜を成膜した場
合には、図20(a)に示すように、対物レンズOLに
より赤外光IRを集光して第2光学記録層13に照射
し、熱を与えて溶融させた後、急冷して結晶化させる。
これは、第2光学記録層13の初期化工程に相当する。
When a phase change film is formed as the above recording film, as shown in FIG. 20A, the infrared light IR is condensed by the objective lens OL and the second optical recording layer 13 is irradiated with the infrared light IR. Then, heat is applied to melt it, and then it is rapidly cooled to crystallize.
This corresponds to the initialization process of the second optical recording layer 13.

【0067】次に、図20(b)に示すように、プロテ
クトフイルム14tと光透過性フイルム14の界面で剥
離することで、第2光学記録層13が形成された光透過
性フイルム14を得る。以降の工程としては、第1実施
形態と同様にして、ディスク基板10に形成した第1光
学記録層11と光透過性フイルム14に形成した第2光
学記録層13とを接着層12により貼り合わせる。接着
層12としては、例えば紫外線硬化樹脂系の接着剤や感
圧性粘着剤などを用いることができる。接着剤を用いる
場合の工程は図16および17に示す第1実施形態の工
程と同様に、感圧性粘着剤を用いる場合の工程は図14
および15に示す第1実施形態の工程と同様に行うこと
ができる。上記の貼り合わせ工程では、第1光学記録層
11と第2光学記録層13とで各記録層の信号部を偏芯
なく貼り合わせるため、第1実施形態と同様に貼り合わ
せることができる。
Next, as shown in FIG. 20 (b), the protective film 14t and the transparent film 14 are peeled off at the interface to obtain the transparent film 14 having the second optical recording layer 13 formed thereon. . As the subsequent steps, the first optical recording layer 11 formed on the disk substrate 10 and the second optical recording layer 13 formed on the light transmissive film 14 are bonded together by the adhesive layer 12 as in the first embodiment. . As the adhesive layer 12, for example, an ultraviolet curable resin adhesive or a pressure sensitive adhesive can be used. The process when using an adhesive is similar to the process of the first embodiment shown in FIGS. 16 and 17, and the process when using a pressure sensitive adhesive is shown in FIG.
It can be performed in the same manner as the steps of the first embodiment shown in FIGS. In the above-mentioned bonding step, the signal portions of the respective recording layers of the first optical recording layer 11 and the second optical recording layer 13 are bonded without eccentricity, and therefore the bonding can be carried out as in the first embodiment.

【0068】本実施形態においては、接着層23と支持
基板22の界面および接着層23とプロテクトフイルム
14tの界面に比べて、プロテクトフイルム14tと光
透過性フイルム14の界面の接着強度が弱くなっている
必要がある。この方法では、プロテクトフイルムを支持
基板と同時に剥離してしまうので、プロテクトフイルム
を剥離するための工程が不要となり、工程数を減らすこ
とができる。
In the present embodiment, the adhesive strength at the interface between the protect film 14t and the light transmissive film 14 is weaker than that at the interface between the adhesive layer 23 and the support substrate 22 and the interface between the adhesive layer 23 and the protect film 14t. Need to be In this method, the protect film is peeled off at the same time as the supporting substrate, so that the step for peeling the protect film is unnecessary, and the number of steps can be reduced.

【0069】上記の本実施形態に係る2層の光学記録層
を有する光ディスクの製造方法によれば、第1実施形態
と同様に、光透過性フイルムを支持基板に貼り合わせた
状態で光学記録層の成膜、さらには初期化を行うので、
薄い光透過性フイルムのハンドリングが向上しており、
光透過性フイルムを直接装置内のステージ上に戴置せず
にすむので、光透過性フイルムに傷がつくのを抑制し、
特にプロテクトフイルムが剥離されるまで光透過性フイ
ルムは保護されており、傷やゴミが付きにくい利点があ
る。また、ゴミなどによりステージ上で光透過性フイル
ムの一部が浮いてしまうこともないので相変化層の場合
に初期化が困難となる問題を解決することができる。ま
た、支持基板とプロテクトフイルムを貼り合わせること
ができればよいので、支持基板に対する材料選択の幅が
広がる。
According to the method for manufacturing an optical disc having the two optical recording layers according to the present embodiment, the optical recording layer is attached to the supporting substrate with the light transmissive film as in the first embodiment. Film formation and further initialization,
The handling of thin light-transmissive films is improved,
Since the light-transmissive film does not have to be directly placed on the stage in the device, it is possible to prevent the light-transmissive film from being scratched,
In particular, the light-transmissive film is protected until the protect film is peeled off, which has an advantage that scratches and dust are not easily attached. Further, since part of the light transmissive film does not float on the stage due to dust or the like, it is possible to solve the problem that initialization is difficult in the case of a phase change layer. Further, since it suffices that the support substrate and the protect film can be attached to each other, the range of material selection for the support substrate is widened.

【0070】第4実施形態 本実施形態に係る光ディスクの構成は実質的に第1実施
形態と同様であり、製造方法が一部異なっている。即
ち、第3実施形態と同様に光透過性フイルム14の凹凸
形成面の反対側の表面にプロテクトフイルム14tを設
ける方法であり、第3実施形態とは一部の工程が異なっ
ている。即ち、図3(c)に示すように、例えば射出成
形により表面にグルーブパターンあるいはピットパター
ンとなる凹部10dを含む凹凸パターンが形成されたデ
ィスク基板10を形成し、第1光学記録膜11を成膜
し、さらに赤外光を集光して第1光学記録層11の初期
化を行う工程まで、第1実施形態と同様に行う。
Fourth Embodiment The structure of the optical disk according to the present embodiment is substantially the same as that of the first embodiment, and the manufacturing method is partially different. That is, like the third embodiment, this is a method of providing the protect film 14t on the surface of the light transmissive film 14 opposite to the concavo-convex forming surface, and some steps are different from the third embodiment. That is, as shown in FIG. 3C, a disc substrate 10 having a concave-convex pattern including a concave portion 10d to be a groove pattern or a pit pattern is formed on the surface by injection molding, for example, and a first optical recording film 11 is formed. The steps up to the step of forming the film and further condensing infrared light to initialize the first optical recording layer 11 are performed in the same manner as in the first embodiment.

【0071】一方、図19に示すように、表面にグルー
ブパターンあるいはピットパターンとなる凹部14dを
含む凹凸パターンが形成された光透過性フイルム14を
形成し、第2光学記録膜13を成膜し、さらに赤外光を
集光して第2光学記録層13の初期化を行う工程まで、
第1実施形態と同様に行う。一方、図19に示すよう
に、凹凸パターンが形成された光透過性フイルム14に
設けられたプロテクトフイルム14tの表面を、接着剤
あるいは感圧性粘着剤などの接着層23により、ポリカ
ーボネートあるいはその他の材料などからなる支持基板
22に貼り合わせ、第2光学記録膜13を成膜した後、
第2光学記録膜13に含まれる記録膜として相変化膜を
成膜した場合には、図21(a)に示すように、対物レ
ンズOLにより赤外光IRを集光して第2光学記録層1
3に照射し、熱を与えて溶融させた後、急冷して結晶化
させる。これは、第2光学記録層13の初期化工程に相
当する。
On the other hand, as shown in FIG. 19, a light-transmissive film 14 having a concave-convex pattern including concave portions 14d which are groove patterns or pit patterns is formed on the surface, and a second optical recording film 13 is formed. , Up to the step of further condensing infrared light to initialize the second optical recording layer 13,
The same operation as in the first embodiment is performed. On the other hand, as shown in FIG. 19, the surface of the protect film 14t provided on the light-transmitting film 14 on which the concavo-convex pattern is formed is covered with polycarbonate or another material by an adhesive layer 23 such as an adhesive or a pressure-sensitive adhesive. After being attached to a support substrate 22 made of, for example, the second optical recording film 13 is formed,
When a phase change film is formed as a recording film included in the second optical recording film 13, the infrared light IR is condensed by the objective lens OL as shown in FIG. Layer 1
Irradiate No. 3 and apply heat to melt it, followed by rapid cooling for crystallization. This corresponds to the initialization process of the second optical recording layer 13.

【0072】次に、図21(b)に示すように、プロテ
クトフイルム14tと接着層23の界面で剥離すること
で、一方の面に第2光学記録層13が形成され、他方の
面がプロテクトフイルム14tで保護された光透過性フ
イルム14を得る。
Next, as shown in FIG. 21B, the second optical recording layer 13 is formed on one surface and the other surface is protected by peeling at the interface between the protect film 14t and the adhesive layer 23. The light transmissive film 14 protected by the film 14t is obtained.

【0073】次に、図22(a)に示すように、第1実
施形態と同様にして、ディスク基板10に形成した第1
光学記録層11と光透過性フイルム14に形成した第2
光学記録層13とを接着層12により貼り合わせる。接
着層12としては、例えば紫外線硬化樹脂系の接着剤や
感圧性粘着剤などを用いることができる。上記の接着工
程は、光透過性フイルム14からプロテクトフイルム1
4tを剥離する前に行う。接着剤を用いる場合の工程は
図16および17に示す第1実施形態の工程と同様に、
感圧性粘着剤を用いる場合の工程は図14および15に
示す第1実施形態の工程と同様に行うことができる。上
記の貼り合わせ工程では、第1光学記録層11と第2光
学記録層13とで各記録層の信号部を偏芯なく貼り合わ
せるため、第1実施形態と同様に貼り合わせることがで
きる。
Next, as shown in FIG. 22A, the first substrate formed on the disk substrate 10 in the same manner as the first embodiment.
Second layer formed on the optical recording layer 11 and the light transmissive film 14
The optical recording layer 13 and the optical recording layer 13 are bonded together by the adhesive layer 12. As the adhesive layer 12, for example, an ultraviolet curable resin adhesive or a pressure sensitive adhesive can be used. The above-mentioned adhesion process is performed from the light transmitting film 14 to the protect film 1.
It is performed before peeling 4t. The process when using an adhesive is similar to the process of the first embodiment shown in FIGS. 16 and 17,
The process of using the pressure sensitive adhesive can be performed in the same manner as the process of the first embodiment shown in FIGS. 14 and 15. In the above-mentioned bonding step, the signal portions of the respective recording layers of the first optical recording layer 11 and the second optical recording layer 13 are bonded without eccentricity, and therefore the bonding can be carried out as in the first embodiment.

【0074】次に、図22(b)に示すように、光透過
性フイルム14からプロテクトフイルム14tを剥離す
る。以上で、図1に示す構成の2層の光学記録層を設け
た光ディスクを製造することができる。
Next, as shown in FIG. 22B, the protect film 14t is peeled off from the light transmissive film 14. As described above, an optical disc having the two optical recording layers having the structure shown in FIG. 1 can be manufactured.

【0075】本実施形態においては、接着層23と支持
基板22の界面およびプロテクトフイルム14tと光透
過性フイルム14の界面に比べて、接着層23とプロテ
クトフイルム14tの界面の接着強度が弱くなっている
必要がある。この方法では、ディスク基板10に形成し
た第1光学記録層11と光透過性フイルム14に形成し
た第2光学記録層13とを接着層12により貼り合わせ
た後でプロテクトフイルム14tの剥離を行うので、完
成直前まで光透過性フイルム14をプロテクトフイルム
14tで保護することができ、光透過性フイルム14に
ゴミや傷が付くのを防止することができる。
In the present embodiment, the adhesive strength at the interface between the adhesive layer 23 and the protect film 14t is weaker than that at the interface between the adhesive layer 23 and the support substrate 22 and the interface between the protect film 14t and the light transmissive film 14. Need to be In this method, since the first optical recording layer 11 formed on the disk substrate 10 and the second optical recording layer 13 formed on the light-transmissive film 14 are bonded together by the adhesive layer 12, the protect film 14t is peeled off. The light-transmitting film 14 can be protected by the protect film 14t until just before the completion, and the light-transmitting film 14 can be prevented from being dusted or scratched.

【0076】上記の本実施形態に係る2層の光学記録層
を有する光ディスクの製造方法によれば、第1実施形態
と同様に、光透過性フイルムを支持基板に貼り合わせた
状態で光学記録層の成膜、さらには初期化を行うので、
薄い光透過性フイルムのハンドリングが向上しており、
光透過性フイルムを直接装置内のステージ上に戴置せず
にすむので、光透過性フイルムに傷がつくのを抑制し、
ゴミなどによりステージ上で光透過性フイルムの一部が
浮いてしまうこともないので相変化層の場合に初期化が
困難となる問題を解決することができる。また、支持基
板とプロテクトフイルムを貼り合わせることができれば
よいので、支持基板に対する材料選択の幅が広がる。
According to the method of manufacturing an optical disc having the two optical recording layers according to the present embodiment, the optical recording layer with the light transmissive film bonded to the supporting substrate is formed as in the first embodiment. Film formation and further initialization,
The handling of thin light-transmissive films is improved,
Since the light-transmissive film does not have to be directly placed on the stage in the device, it is possible to prevent the light-transmissive film from being scratched,
Part of the light transmissive film does not float on the stage due to dust or the like, so that the problem that initialization is difficult in the case of a phase change layer can be solved. Further, since it suffices that the support substrate and the protect film can be attached to each other, the range of material selection for the support substrate is widened.

【0077】第5実施形態 本実施形態に係る光ディスクの構成は実質的に第1実施
形態と同様であり、製造方法が一部異なっている。即
ち、第3実施形態と同様に光透過性フイルム14の凹凸
形成面の反対側の表面にプロテクトフイルム14tを設
ける方法であり、第3実施形態とは一部の工程が異なっ
ている。即ち、図3(c)に示すように、例えば射出成
形により表面にグルーブパターンあるいはピットパター
ンとなる凹部10dを含む凹凸パターンが形成されたデ
ィスク基板10を形成し、第1光学記録膜11を成膜
し、さらに赤外光を集光して第1光学記録層11の初期
化を行う工程まで、第1実施形態と同様に行う。
Fifth Embodiment The structure of the optical disk according to the present embodiment is substantially the same as that of the first embodiment, and the manufacturing method is partially different. That is, like the third embodiment, this is a method of providing the protect film 14t on the surface of the light transmissive film 14 opposite to the concavo-convex forming surface, and some steps are different from the third embodiment. That is, as shown in FIG. 3C, a disc substrate 10 having a concave-convex pattern including a concave portion 10d to be a groove pattern or a pit pattern is formed on the surface by injection molding, for example, and a first optical recording film 11 is formed. The steps up to the step of forming the film and further condensing infrared light to initialize the first optical recording layer 11 are performed in the same manner as in the first embodiment.

【0078】一方、図19および図20に示すように、
凹凸パターンが形成された光透過性フイルム14に設け
られたプロテクトフイルム14tの表面を、接着剤ある
いは感圧性粘着剤などの接着層23により、ポリカーボ
ネートあるいはその他の材料などからなる支持基板22
に貼り合わせ、第2光学記録膜13を成膜し、さらに赤
外光を集光して第2光学記録層13の初期化を行う工程
まで、第3実施形態と同様に行う。
On the other hand, as shown in FIGS. 19 and 20,
The surface of the protect film 14t provided on the light-transmitting film 14 on which the concavo-convex pattern is formed is covered with an adhesive layer 23 such as an adhesive or a pressure-sensitive adhesive to form a support substrate 22 made of polycarbonate or another material.
The process is similar to that of the third embodiment up to the step of laminating the second optical recording film 13, forming the second optical recording film 13, and further concentrating infrared light to initialize the second optical recording layer 13.

【0079】次に、図23(a)に示すように、上記の
ディスク基板10に形成した第1光学記録層11と光透
過性フイルム14に形成した第2光学記録層13とを接
着層12により貼り合わせる。接着層12としては、例
えば紫外線硬化樹脂系の接着剤や感圧性粘着剤などを用
いることができる。接着剤を用いる場合の工程は図16
および17に示す第1実施形態の工程と同様に、感圧性
粘着剤を用いる場合の工程は図14および15に示す第
1実施形態の工程と同様に行うことができる。上記の貼
り合わせ工程では、第1光学記録層11と第2光学記録
層13とで各記録層の信号部を偏芯なく貼り合わせるた
め、第1実施形態と同様に貼り合わせることができる。
Next, as shown in FIG. 23A, the first optical recording layer 11 formed on the disk substrate 10 and the second optical recording layer 13 formed on the light transmissive film 14 are bonded to each other by the adhesive layer 12. Stick together. As the adhesive layer 12, for example, an ultraviolet curable resin adhesive or a pressure sensitive adhesive can be used. The process when using an adhesive is shown in FIG.
Similar to the steps of the first embodiment shown in FIGS. 16 and 17, the step of using the pressure-sensitive adhesive can be performed in the same manner as the steps of the first embodiment shown in FIGS. 14 and 15. In the above-mentioned bonding step, the signal portions of the respective recording layers of the first optical recording layer 11 and the second optical recording layer 13 are bonded without eccentricity, and therefore the bonding can be carried out as in the first embodiment.

【0080】次に、図23(b)に示すように、プロテ
クトフイルム14tと光透過性フイルム14の界面で剥
離する。以上で、図1に示す構成の2層の光学記録層を
設けた光ディスクを製造することができる。
Next, as shown in FIG. 23 (b), the protective film 14t and the light transmissive film 14 are separated at the interface. As described above, an optical disc having the two optical recording layers having the structure shown in FIG. 1 can be manufactured.

【0081】本実施形態においては、接着層23と支持
基板22の界面および接着層23とプロテクトフイルム
14t界面に比べて、プロテクトフイルム14tと光透
過性フイルム14の界面の接着強度が弱くなっている必
要がある。この方法では、プロテクトフイルムを支持基
板と同時に剥離してしまうので、プロテクトフイルムを
剥離するための工程が不要となり、工程数を減らすこと
ができる。また、ディスク基板10に形成した第1光学
記録層11と光透過性フイルム14に形成した第2光学
記録層13とを接着層12により貼り合わせた後でプロ
テクトフイルム14tの剥離を行うので、完成直前まで
光透過性フイルム14をプロテクトフイルム14tで保
護することができ、光透過性フイルム14にゴミや傷が
付くのを防止することができる。
In the present embodiment, the adhesive strength at the interface between the protect film 14t and the light transmissive film 14 is weaker than at the interface between the adhesive layer 23 and the support substrate 22 and the interface between the adhesive layer 23 and the protect film 14t. There is a need. In this method, the protect film is peeled off at the same time as the supporting substrate, so that the step for peeling the protect film is unnecessary, and the number of steps can be reduced. In addition, after the first optical recording layer 11 formed on the disk substrate 10 and the second optical recording layer 13 formed on the light transmissive film 14 are bonded to each other by the adhesive layer 12, the protect film 14t is peeled off. The light-transmitting film 14 can be protected by the protect film 14t until immediately before, and the light-transmitting film 14 can be prevented from being dusted or scratched.

【0082】上記の本実施形態に係る2層の光学記録層
を有する光ディスクの製造方法によれば、第1実施形態
と同様に、光透過性フイルムを支持基板に貼り合わせた
状態で光学記録層の成膜、さらには初期化を行うので、
薄い光透過性フイルムのハンドリングが向上しており、
光透過性フイルムを直接装置内のステージ上に戴置せず
にすむので、光透過性フイルムに傷がつくのを抑制し、
ゴミなどによりステージ上で光透過性フイルムの一部が
浮いてしまうこともないので相変化層の場合に初期化が
困難となる問題を解決することができる。また、支持基
板とプロテクトフイルムを貼り合わせることができれば
よいので、支持基板に対する材料選択の幅が広がる。
According to the method of manufacturing an optical disc having two optical recording layers according to the present embodiment, the optical recording layer is attached to the supporting substrate with the light transmissive film as in the first embodiment. Film formation and further initialization,
The handling of thin light-transmissive films is improved,
Since the light-transmissive film does not have to be directly placed on the stage in the device, it is possible to prevent the light-transmissive film from being scratched,
Part of the light transmissive film does not float on the stage due to dust or the like, so that the problem that initialization is difficult in the case of a phase change layer can be solved. Further, since it suffices that the support substrate and the protect film can be attached to each other, the range of material selection for the support substrate is widened.

【0083】第6実施形態 図24は、本実施形態に係る光ディスクの断面図であ
る。実質的に第1実施形態に係る光ディスクと同様であ
るが、光透過性フイルム14の表面にハードコート層1
5が形成されていることが異なる。ハードコート層15
が形成されているので、光透過性フイルム14の表面が
傷つきにくくなっている。
Sixth Embodiment FIG. 24 is a sectional view of an optical disc according to this embodiment. Substantially the same as the optical disc according to the first embodiment, except that the hard coat layer 1 is formed on the surface of the light transmissive film 14.
5 is different. Hard coat layer 15
Thus, the surface of the light transmissive film 14 is less likely to be damaged.

【0084】本実施形態に係る光ディスクは、実質的に
第1実施形態と同様にして製造することができる。即
ち、図3(c)に示すように、例えば射出成形により表
面にグルーブパターンあるいはピットパターンとなる凹
部10dを含む凹凸パターンが形成されたディスク基板
10を形成し、第1光学記録膜11を成膜し、さらに赤
外光を集光して第1光学記録層11の初期化を行う工程
まで、第1実施形態と同様に行う。
The optical disk according to this embodiment can be manufactured substantially in the same manner as in the first embodiment. That is, as shown in FIG. 3C, a disc substrate 10 having a concave-convex pattern including a concave portion 10d to be a groove pattern or a pit pattern is formed on the surface by injection molding, for example, and a first optical recording film 11 is formed. The steps up to the step of forming the film and further condensing infrared light to initialize the first optical recording layer 11 are performed in the same manner as in the first embodiment.

【0085】一方、図4〜図8に示すように、表面にグ
ルーブパターンあるいはピットパターンとなる凹部14
dを含む凹凸パターンが転写された光透過性フイルム1
4を形成する工程まで、第1実施形態と同様に行う。次
に、図25(a)に示すように、上記のようにして形成
した光透過性フイルム14の凹凸形成面の反対側の面
を、ハードコート層15として機能する接着層23によ
り、ポリカーボネートあるいはその他の材料などからな
る支持基板22に貼り合わせる。
On the other hand, as shown in FIGS. 4 to 8, concave portions 14 having a groove pattern or a pit pattern are formed on the surface.
Light-transmissive film 1 on which an uneven pattern including d is transferred
The steps up to the step of forming 4 are performed in the same manner as in the first embodiment. Next, as shown in FIG. 25 (a), the surface of the light-transmitting film 14 formed as described above opposite to the concavo-convex forming surface is coated with a polycarbonate or an adhesive layer 23 functioning as a hard coat layer 15. It is attached to the support substrate 22 made of other material or the like.

【0086】次に、図25(b)に示すように、光透過
性フイルム14を支持基板22に貼り合わせた状態で、
光透過性フイルム14の表面に空気や窒素ガスなどのガ
スを吹き付けてダストを除去した後、例えばスパッタリ
ング法などにより第2光学記録膜13をこの成膜順序で
成膜する。
Next, as shown in FIG. 25B, with the light transmissive film 14 bonded to the support substrate 22,
A gas such as air or nitrogen gas is blown onto the surface of the light-transmissive film 14 to remove dust, and then the second optical recording film 13 is formed in this order by, for example, a sputtering method.

【0087】上記の第2光学記録膜13に含まれる記録
膜として相変化膜を成膜した場合には、図26(a)に
示すように、上記の第1光学記録層の場合と同様の手法
で、対物レンズOLにより赤外光IRを集光して第2光
学記録層13に照射し、熱を与えて溶融させた後、急冷
して結晶化させる。これは、第2光学記録層13の初期
化工程に相当する。
When a phase change film is formed as the recording film included in the second optical recording film 13, the same as in the case of the first optical recording layer described above, as shown in FIG. By the method, the infrared light IR is condensed by the objective lens OL, irradiated onto the second optical recording layer 13, heated and melted, and then rapidly cooled to be crystallized. This corresponds to the initialization process of the second optical recording layer 13.

【0088】次に、図26(b)に示すように、ハード
コート層15(接着層23)と支持基板22の界面で剥
離することで、第2光学記録層13およびハードコート
層15が形成された光透過性フイルム14を得る。本実
施形態においては、例えば支持基板22として接着性の
悪い基板を用いたり、シリコーンなどを支持基板に塗布
することなどにより、ハードコート層15と光透過性フ
イルム14の界面に比べて、ハードコート層15と支持
基板22の界面の接着強度が弱くなるようにしておく。
Next, as shown in FIG. 26B, the second optical recording layer 13 and the hard coat layer 15 are formed by peeling at the interface between the hard coat layer 15 (adhesion layer 23) and the supporting substrate 22. The transparent film 14 thus obtained is obtained. In the present embodiment, for example, a substrate having poor adhesiveness is used as the support substrate 22, or silicone or the like is applied to the support substrate, so that the hard coat layer 15 and the light transmissive film 14 are harder than the interface. The adhesive strength at the interface between the layer 15 and the support substrate 22 is set to be weak.

【0089】以降の工程としては、上記のディスク基板
10に形成した第1光学記録層11と光透過性フイルム
14に形成した第2光学記録層13とを接着層12によ
り貼り合わせる。接着層12としては、例えば紫外線硬
化樹脂系の接着剤や感圧性粘着剤などを用いることがで
きる。接着剤を用いる場合の工程は図16および17に
示す第1実施形態の工程と同様に、感圧性粘着剤を用い
る場合の工程は図14および15に示す第1実施形態の
工程と同様に行うことができる。上記の貼り合わせ工程
では、第1光学記録層11と第2光学記録層13とで各
記録層の信号部を偏芯なく貼り合わせるため、第1実施
形態と同様に貼り合わせることができる。以上で、図2
4に示す構成の2層の光学記録層を設けた光ディスクを
製造することができる。
In the subsequent steps, the first optical recording layer 11 formed on the disc substrate 10 and the second optical recording layer 13 formed on the light transmissive film 14 are bonded together by the adhesive layer 12. As the adhesive layer 12, for example, an ultraviolet curable resin adhesive or a pressure sensitive adhesive can be used. The process when using an adhesive is the same as the process of the first embodiment shown in FIGS. 16 and 17, and the process when using a pressure sensitive adhesive is the same as the process of the first embodiment shown in FIGS. 14 and 15. be able to. In the above-mentioned bonding step, the signal portions of the respective recording layers of the first optical recording layer 11 and the second optical recording layer 13 are bonded without eccentricity, and therefore the bonding can be carried out as in the first embodiment. With the above, FIG.
It is possible to manufacture an optical disc having two optical recording layers having the structure shown in FIG.

【0090】上記の本実施形態に係る2層の光学記録層
を有する光ディスクの製造方法によれば、第1実施形態
と同様に、光透過性フイルムを支持基板に貼り合わせた
状態で光学記録層の成膜、さらには初期化を行うので、
薄い光透過性フイルムのハンドリングが向上しており、
光透過性フイルムを直接装置内のステージ上に戴置せず
にすむので、光透過性フイルムに傷がつくのを抑制し、
ゴミなどによりステージ上で光透過性フイルムの一部が
浮いてしまうこともないので相変化層の場合に初期化が
困難となる問題を解決することができる。また、接着層
をハードコート層として用いるので、ハードコート層を
形成するための工程数を減らすことができる。
According to the method of manufacturing an optical disc having two optical recording layers according to the present embodiment, the optical recording layer is attached to the support substrate with the light transmissive film, as in the first embodiment. Film formation and further initialization,
The handling of thin light-transmissive films is improved,
Since the light-transmissive film does not have to be directly placed on the stage in the device, it is possible to prevent the light-transmissive film from being scratched,
Part of the light transmissive film does not float on the stage due to dust or the like, so that the problem that initialization is difficult in the case of a phase change layer can be solved. Further, since the adhesive layer is used as the hard coat layer, the number of steps for forming the hard coat layer can be reduced.

【0091】第7実施形態 本実施形態に係る光ディスクの構成は実質的に第6実施
形態と同様であり、製造方法が一部異なっている。即
ち、第6実施形態と同様に光透過性フイルム14の凹凸
形成面の反対側の表面にハードコート層15を設ける方
法であり、第3実施形態とは一部の工程が異なってい
る。即ち、図3(c)に示すように、例えば射出成形に
より表面にグルーブパターンあるいはピットパターンと
なる凹部10dを含む凹凸パターンが形成されたディス
ク基板10を形成し、第1光学記録膜11を成膜し、さ
らに赤外光を集光して第1光学記録層11の初期化を行
う工程まで、第1実施形態と同様に行う。
Seventh Embodiment The structure of the optical disk according to the present embodiment is substantially the same as that of the sixth embodiment, and the manufacturing method is partially different. That is, like the sixth embodiment, this is a method in which the hard coat layer 15 is provided on the surface of the light transmissive film 14 opposite to the concavo-convex forming surface, and some steps are different from the third embodiment. That is, as shown in FIG. 3C, a disc substrate 10 having a concave-convex pattern including a concave portion 10d to be a groove pattern or a pit pattern is formed on the surface by injection molding, for example, and a first optical recording film 11 is formed. The steps up to the step of forming the film and further condensing infrared light to initialize the first optical recording layer 11 are performed in the same manner as in the first embodiment.

【0092】一方、図26(a)に示すように、凹凸パ
ターンが形成された光透過性フイルム14の表面を、ハ
ードコート層として機能する接着層23により、ポリカ
ーボネートあるいはその他の材料などからなる支持基板
22に貼り合わせ、第2光学記録膜13を成膜し、さら
に赤外光を集光して第2光学記録層13の初期化を行う
工程まで、第6実施形態と同様に行う。
On the other hand, as shown in FIG. 26 (a), the surface of the light-transmissive film 14 on which the concavo-convex pattern is formed is supported by the adhesive layer 23 functioning as a hard coat layer and made of polycarbonate or other material. The same steps as in the sixth embodiment are performed up to the step of laminating the second optical recording film 13 on the substrate 22, forming the second optical recording film 13, and condensing infrared light to initialize the second optical recording layer 13.

【0093】次に、図27(a)に示すように、上記の
ディスク基板10に形成した第1光学記録層11と光透
過性フイルム14に形成した第2光学記録層13とを接
着層12により貼り合わせる。接着層12としては、例
えば紫外線硬化樹脂系の接着剤や感圧性粘着剤などを用
いることができる。接着剤を用いる場合の工程は図16
および17に示す第1実施形態の工程と同様に、感圧性
粘着剤を用いる場合の工程は図14および15に示す第
1実施形態の工程と同様に行うことができる。上記の貼
り合わせ工程では、第1光学記録層11と第2光学記録
層13とで各記録層の信号部を偏芯なく貼り合わせるた
め、第1実施形態と同様に貼り合わせることができる。
Next, as shown in FIG. 27A, the first optical recording layer 11 formed on the disk substrate 10 and the second optical recording layer 13 formed on the light transmissive film 14 are bonded to each other by the adhesive layer 12. Stick together. As the adhesive layer 12, for example, an ultraviolet curable resin adhesive or a pressure sensitive adhesive can be used. The process when using an adhesive is shown in FIG.
Similar to the steps of the first embodiment shown in FIGS. 16 and 17, the step of using the pressure-sensitive adhesive can be performed in the same manner as the steps of the first embodiment shown in FIGS. 14 and 15. In the above-mentioned bonding step, the signal portions of the respective recording layers of the first optical recording layer 11 and the second optical recording layer 13 are bonded without eccentricity, and therefore the bonding can be carried out as in the first embodiment.

【0094】次に、図27(b)に示すように、支持基
板22とハードコート層15の界面で剥離する。以上
で、図24に示す構成の2層の光学記録層を設けた光デ
ィスクを製造することができる。
Next, as shown in FIG. 27B, the support substrate 22 and the hard coat layer 15 are separated at the interface. As described above, an optical disc having two optical recording layers having the structure shown in FIG. 24 can be manufactured.

【0095】本実施形態においては、例えば支持基板2
2として接着性の悪い基板を用いたり、シリコーンなど
を支持基板に塗布することなどにより、ハードコート層
15と光透過性フイルム14の界面に比べて、ハードコ
ート層15と支持基板22の界面の接着強度が弱くなる
ようにしておく。
In this embodiment, for example, the support substrate 2
By using a substrate having poor adhesiveness as 2 or applying silicone or the like to the support substrate, the interface between the hard coat layer 15 and the support substrate 22 is larger than the interface between the hard coat layer 15 and the light transmissive film 14. Make sure the adhesive strength is weak.

【0096】上記の本実施形態に係る2層の光学記録層
を有する光ディスクの製造方法によれば、第1実施形態
と同様に、光透過性フイルムを支持基板に貼り合わせた
状態で光学記録層の成膜、さらには初期化を行うので、
薄い光透過性フイルムのハンドリングが向上しており、
光透過性フイルムを直接装置内のステージ上に戴置せず
にすむので、光透過性フイルムに傷がつくのを抑制し、
ゴミなどによりステージ上で光透過性フイルムの一部が
浮いてしまうこともないので相変化層の場合に初期化が
困難となる問題を解決することができる。また、接着層
をハードコート層として用いるので、ハードコート層を
形成するための工程数を減らすことができる。
According to the method for manufacturing an optical disc having the two optical recording layers according to the present embodiment, the optical recording layer is attached in the state where the light transmissive film is bonded to the supporting substrate, as in the first embodiment. Film formation and further initialization,
The handling of thin light-transmissive films is improved,
Since the light-transmissive film does not have to be directly placed on the stage in the device, it is possible to prevent the light-transmissive film from being scratched,
Part of the light transmissive film does not float on the stage due to dust or the like, so that the problem that initialization is difficult in the case of a phase change layer can be solved. Further, since the adhesive layer is used as the hard coat layer, the number of steps for forming the hard coat layer can be reduced.

【0097】第8実施形態 本実施形態は、第1〜第7実施形態において、光透過性
フイルムを支持基板に貼り合わせる工程の変形例を示
す。即ち、図28(a)に示すように、凸部21pを含
む凹凸パターンを有する光透過性フイルム用スタンパ2
1上に、表面にグルーブパターンあるいはピットパター
ンとなる凹部14dを含む凹凸パターンが転写された光
透過性フイルム14を形成し、得られた光透過性フイル
ム14を光透過性フイルム用スタンパ21から離型する
工程の前に、スタンパ21の反対側の表面に支持基板2
2を接着層23により貼り合わせる。次に、図28
(b)に示すように、光透過性フイルム14と光透過性
フイルム用スタンパ21の界面で剥離して、離型する。
得られた支持基板に貼り合わされた光透過性フイルム
は、そのまま第2光学記録層の成膜工程へと進められ、
以降は、第1〜第7実施形態のそれぞれの工程が行われ
る。本実施形態の光ディスクの製造方法は、光透過性フ
イルムをハンドリング性の悪いフイルム形態で扱う工程
がなくなる利点がある。
Eighth Embodiment This embodiment shows a modification of the steps of attaching the light-transmissive film to the support substrate in the first to seventh embodiments. That is, as shown in FIG. 28A, the light-transmitting film stamper 2 having a concavo-convex pattern including a convex portion 21p.
1. A light-transmitting film 14 on which a concavo-convex pattern including recesses 14d to be a groove pattern or a pit pattern was transferred is formed on the surface 1, and the obtained light-transmitting film 14 is separated from the light-transmitting film stamper 21. Before the molding step, the support substrate 2 is provided on the surface opposite to the stamper 21.
2 are bonded together by the adhesive layer 23. Next, FIG.
As shown in (b), the light-transmissive film 14 and the light-transmissive film stamper 21 are peeled off at the interface and released.
The light-transmissive film bonded to the obtained supporting substrate is directly advanced to the film forming step of the second optical recording layer,
After that, the respective steps of the first to seventh embodiments are performed. The optical disc manufacturing method of the present embodiment has an advantage of eliminating the step of handling the light transmissive film in the form of a film having poor handleability.

【0098】第9実施形態 本実施形態は、第8実施形態において、偏芯調整を行う
方法の変形例を示す。スタンパなどから転写して得た光
透過性フイルムに形成した光学記録層の信号部と、支持
基板のセンターホールとを、予め偏芯調整することが可
能である。調整方法としては、スタンパなどの信号部
を、前述のような円周上に90°で等配分された位置に
配置されたCCDカメラを用いて検出し、センターピン
に対して偏芯がないようにスタンパなどの位置を移動さ
せる。あるいは、スタンパなどにセンターホールを開口
しておき、このセンターホールを基準にしてセンターピ
ンの位置を決定する。
Ninth Embodiment This embodiment shows a modification of the method for adjusting the eccentricity in the eighth embodiment. The eccentricity of the signal portion of the optical recording layer formed on the light-transmitting film obtained by transfer from the stamper and the center hole of the supporting substrate can be adjusted in advance. As the adjustment method, the signal parts such as the stamper are detected by using the CCD cameras arranged at the positions equally distributed at 90 ° on the circumference as described above, so that the center pin is not eccentric. Move the position such as stamper to. Alternatively, a center hole is opened in a stamper or the like, and the position of the center pin is determined with reference to this center hole.

【0099】例えば、図29(a)に示すように、上記
のようにステージ30上に配置したスタンパ29の凸部
形成面29p’上において、例えば紫外線硬化樹脂14
rを供給し、光透過性フイルム用シート14sを戴置し
て、スピンコートの手法でスタンパ21と光透過性フイ
ルム用シート14sの間隙に紫外線硬化樹脂14rを行
き渡らせ、紫外線を照射して、紫外線硬化樹脂14rと
光透過性フイルム用シート14sが一体化した光透過性
フイルム14を形成する。このとき、スタンパ21のセ
ンターホールCHに合わせて外径φ31の位置合わせ用の
センターピン31を配置し、等しい内径のセンターホー
ルを打ち抜いた光透過性フイルム用シート14sを位置
合わせして、上記のように光透過性フイルム14を形成
する。
For example, as shown in FIG. 29A, for example, the ultraviolet curable resin 14 is formed on the convex portion forming surface 29p 'of the stamper 29 arranged on the stage 30 as described above.
r is supplied, the light-transmissive film sheet 14s is placed, and the ultraviolet curable resin 14r is spread in the gap between the stamper 21 and the light-transmissive film sheet 14s by a spin coating method, and ultraviolet rays are irradiated. The light transmissive film 14 in which the ultraviolet curable resin 14r and the light transmissive film sheet 14s are integrated is formed. At this time, the center pin 31 for alignment having the outer diameter φ 31 is arranged in accordance with the center hole CH of the stamper 21, and the light transmissive film sheet 14s obtained by punching out the center holes having the same inner diameter is aligned, The light transmissive film 14 is formed as described above.

【0100】次に、スタンパ21のセンターホールCH
に合わせて外径φ32の位置合わせ用のセンターピン32
を配置し、等しい内径のセンターホールを打ち抜いた支
持基板22に、予め感圧性粘着剤23を設けておき、セ
ンターピンに対して偏芯がないように位置合わせして光
透過性フイルム14上に押圧して貼り合わせる。
Next, the center hole CH of the stamper 21
Center pin 32 for alignment of outer diameter φ 32 according to
The pressure sensitive adhesive 23 is provided in advance on the support substrate 22 in which the center holes having the same inner diameter are punched out, and are aligned on the light transmissive film 14 so that there is no eccentricity with respect to the center pin. Press and stick together.

【0101】以上で、スタンパなどの信号部に対して偏
芯なく支持基板を貼り合わせることができ、これによ
り、支持基板のセンターホールとディスク基板のセンタ
ーホールとを合わせることで第1光学記録層と第2光学
記録層とを偏芯なく貼り合わせることが可能となる。
As described above, the supporting substrate can be attached to the signal portion such as the stamper without eccentricity, whereby the center hole of the supporting substrate and the center hole of the disk substrate can be aligned to each other to form the first optical recording layer. And the second optical recording layer can be bonded together without eccentricity.

【0102】(実施例1)片面に情報ピットの凹凸パタ
ーンが形成されたポリカーボネートの光ディスク基板
(厚み1.1mm、外径120mm、センターホール径
15mm)を射出成形により形成した。次に、第1反射
膜としてアルミニウムを30nmの膜厚でスパッタリン
グにより形成した。
Example 1 A polycarbonate optical disk substrate (thickness 1.1 mm, outer diameter 120 mm, center hole diameter 15 mm) having an uneven pattern of information pits formed on one surface was formed by injection molding. Next, aluminum was formed as the first reflective film to a thickness of 30 nm by sputtering.

【0103】一方、ニッケルスタンパをディスク形状
(外径119〜130mm、センターホール径10m
m)に加工した。また、厚さ70μmのポリカーボネー
トフイルム(帝人社製、パンライト)をリング形状(外
径120mm、内径22mm)に打ち抜いた。上記スタ
ンパ上に紫外線硬化樹脂(第日本インキ社製、SD−3
01)をリング状に塗布し、センターを合わせるために
コーン状のセンター治具を用いてスタンパ上にポリカー
ボネートフイルムを戴置し、5000rpmで20秒間
回転させてスピンコートして、紫外線硬化樹脂を行き渡
らせた。次に、水銀ランプにより1000mJ/cm2
の強度の紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂を硬化させ、
スタンパに設けられた凹凸形状を転写した。次に、スタ
ンパから離型して情報ピットの凹凸パターンが形成され
た光透過性フイルムを作成した。
On the other hand, a nickel stamper was formed into a disk shape (outer diameter 119 to 130 mm, center hole diameter 10 m).
m). Further, a 70 μm-thick polycarbonate film (manufactured by Teijin Ltd., Panlite) was punched into a ring shape (outer diameter 120 mm, inner diameter 22 mm). UV-curable resin (SD-3, manufactured by Nippon Ink Co., Ltd.) on the stamper.
01) is applied in a ring shape, a polycarbonate film is placed on the stamper using a cone-shaped center jig to align the centers, and spin coated at 5000 rpm for 20 seconds to spread the UV curable resin. Let Next, with a mercury lamp, 1000 mJ / cm 2
Irradiate the ultraviolet rays of the intensity of, to cure the ultraviolet curing resin,
The uneven shape provided on the stamper was transferred. Next, a light-transmitting film having an uneven pattern of information pits formed thereon was prepared by releasing from the stamper.

【0104】上記のように形成した光透過性フイルムを
接着剤でポリカーボネートの支持基板(厚み1.1m
m、外形122mm、センターホール15mm)に以下
のようにして貼り合わせた。支持基板の外径は光ディス
クと同一ではない方が、剥離のときのきっかけが取りや
すい傾向であった。上記の支持基板上に予めリング状
(外径119.8mm、センターホール22.2mm)
に打ち抜いた剥離ライナー付きの感圧性粘着剤(住友ス
リーエム社製9415C)を圧着パッドで押圧し、剥離
ライナーを剥離した。次に、感圧性粘着剤付きの支持基
板上に情報ピットの凹凸パターンが形成された光透過性
フイルムをパッドで押圧し、接着した。このとき、感圧
性粘着剤は最初に接着する面が強接着面になっており、
剥離の際には光透過性フイルム側で剥離するようにし
た。感圧性粘着剤の外径は、押圧したときにはみ出さな
いように、光透過性フイルムの外径と同一か小さくし、
センターホールに関しても光透過性フイルムのセンター
ホールと同一か大きくすることが好ましい。支持基板に
貼り合わせた状態で半透過性の第2反射膜としてアルミ
ニウムを10nmの膜厚でスパッタリングにより形成し
た。成膜終了後に、支持基板から光透過性フイルムを剥
離した。
The light-transmissive film formed as described above is bonded with an adhesive to a supporting substrate of polycarbonate (thickness: 1.1 m).
m, outer diameter 122 mm, center hole 15 mm). When the outer diameter of the supporting substrate was not the same as that of the optical disc, it tended to be easier to get a trigger for peeling. A ring shape (outer diameter 119.8 mm, center hole 22.2 mm) is previously formed on the supporting substrate.
The pressure-sensitive adhesive with a release liner (9415C, manufactured by Sumitomo 3M Ltd.) punched in was pressed with a pressure pad to remove the release liner. Next, a light-transmissive film having an uneven pattern of information pits formed thereon was pressed by a pad and adhered onto a support substrate having a pressure-sensitive adhesive. At this time, the pressure-sensitive adhesive has a strong adhesion surface at the first adhesion,
At the time of peeling, the light-transmitting film side was peeled off. The outer diameter of the pressure-sensitive adhesive is the same as or smaller than the outer diameter of the light-transmissive film so that it does not protrude when pressed.
The center hole is also preferably the same as or larger than the center hole of the light transmissive film. Aluminum was formed as a semi-transmissive second reflective film with a film thickness of 10 nm by sputtering in a state of being attached to the supporting substrate. After the film formation was completed, the light transmissive film was peeled off from the supporting substrate.

【0105】次に、感圧性粘着剤を用いて、以下のよう
にして光透過性フイルムの半透過性の第2反射膜と、光
ディスク基板の第1反射膜とを貼り合わせた。即ち、剥
離フイルム付きの感圧性粘着剤(厚み25μm、日東電
工社製CS−9603)を外径119.5mm、センタ
ーホール22.1mmのリング状に打ち抜き、光ディス
ク基板の第1反射膜上に圧着パッドで貼り合わせ、剥離
フイルムを除去した。一方、第2反射膜を成膜した光透
過性フイルムをフラットなXYステージ上に戴置し、こ
の状態で第2反射膜の信号部の位置をCCDカメラで読
み取り、センターピンが信号部の中央に来るようにステ
ージ上の光透過性フイルムを移動させた。この状態で、
センターピンをガイドとして感圧性粘着剤付きの光ディ
スク基板を圧着パッドで押圧し、貼り合わせた。
Next, the semi-transmissive second reflective film of the light transmissive film and the first reflective film of the optical disk substrate were bonded together using a pressure sensitive adhesive as follows. That is, a pressure-sensitive adhesive with a release film (thickness: 25 μm, CS-9603 manufactured by Nitto Denko Corporation) was punched into a ring shape having an outer diameter of 119.5 mm and a center hole of 22.1 mm, and pressure-bonded onto the first reflective film of the optical disc substrate. The pieces were attached with a pad and the release film was removed. On the other hand, the light transmissive film having the second reflective film formed thereon is placed on a flat XY stage, and in this state, the position of the signal portion of the second reflective film is read by the CCD camera, and the center pin is at the center of the signal portion. The light-transmissive film on the stage was moved so that it came to. In this state,
Using the center pin as a guide, the optical disk substrate with the pressure sensitive adhesive was pressed by the pressure bonding pad and bonded.

【0106】(実施例2)実施例1と同様にして第1反
射膜上に感圧性粘着剤を設けた光ディスク基板を形成し
た。一方、実施例1と同様にして光透過性フイルム上に
半透過性の第2反射膜を形成した後、支持基板から光透
過性フイルムを剥離せずに、XYステージ上に戴置し
た。このとき、支持基板のセンターホール径は、支持基
板に対してセンターピンが移動可能なように15mmよ
り大きくし、一方で光透過性フイルムのセンターホール
径(22mm)よりも小さいことが好ましいことから、
20mmの径に設定した。光透過性フイルムの第2反射
膜の信号部の位置を検出し、センターピンが信号部の中
央に来るようにステージ上の光透過性フイルムを支持基
板ごと移動させた。次に、センターピンをガイドとして
感圧性粘着剤付きの光ディスク基板を圧着パッドで押圧
し、貼り合わせた。貼り合わせの後に、支持基板と光透
過性フイルムとを接着していた感圧性粘着剤との界面で
剥離した。光透過性フイルムの半透過性の第2反射膜
と、光ディスク基板の第1反射膜とを接着する感圧性粘
着剤は強粘着としていたので、弱粘着としていた持基板
と光透過性フイルムとを接着していた感圧性粘着剤との
界面で剥離できた。
(Example 2) In the same manner as in Example 1, an optical disk substrate having a pressure sensitive adhesive provided on the first reflective film was formed. On the other hand, after forming the semi-transmissive second reflective film on the light transmissive film in the same manner as in Example 1, the light transmissive film was placed on the XY stage without being peeled off from the supporting substrate. At this time, it is preferable that the center hole diameter of the supporting substrate is larger than 15 mm so that the center pin can move with respect to the supporting substrate, and smaller than the center hole diameter (22 mm) of the light transmissive film. ,
The diameter was set to 20 mm. The position of the signal portion of the second reflective film of the light transmissive film was detected, and the light transmissive film on the stage was moved together with the supporting substrate so that the center pin was located at the center of the signal portion. Next, the center pin was used as a guide to press the optical disk substrate with the pressure-sensitive adhesive with a pressure pad to bond them together. After the bonding, the supporting substrate and the light-transmissive film were peeled off at the interface between the pressure-sensitive adhesive and the adhesive. Since the pressure-sensitive adhesive that adheres the semi-transmissive second reflective film of the light-transmissive film and the first reflective film of the optical disk substrate has a strong adhesive force, the holding substrate and the light-transmissive film, which are weakly adhered, are It could be peeled off at the interface with the pressure-sensitive adhesive that had been adhered.

【0107】(実施例3)実施例1と同様に、光透過性
フイルムとして、予めプロテクトフイルムとして微粘着
剤を介してPETフイルムが貼り合わされたポリカーボ
ネートフイルムを用い、これをリング状(外径120m
m、センターホール22mm)に打ち抜いて、スタンパ
上に紫外線硬化樹脂を塗布し、光透過性フイルムを戴置
してスピンコートし、紫外線を照射してスタンパの凹凸
パターンを転写した。得られた凹凸パターンが転写され
た光透過性フイルムを、支持基板上に強粘着性の感圧性
粘着剤(日東電工社製CS−9603)でパッドで貼り
合わせた。次に、光透過性フイルムの凹凸パターン上に
第2反射膜を成膜した後、プロテクトフイルムの微粘着
剤と光透過性フイルムの界面で剥離した。最後に、実施
例1と同様に偏芯を調整して、光透過性フイルムの第2
反射膜上に、実施例1と同様にして予め形成しておいた
第1反射膜上に感圧性粘着剤を設けた光ディスク基板を
貼り合わせた。
(Embodiment 3) As in Embodiment 1, as the light-transmitting film, a polycarbonate film having a PET film bonded beforehand with a slight adhesive as a protect film was used, and this was ring-shaped (outer diameter 120 m).
m, center hole 22 mm), an ultraviolet curable resin was applied on the stamper, a light transmissive film was placed on the stamper, and spin coating was performed. The obtained light-transmissive film to which the concavo-convex pattern was transferred was bonded onto a supporting substrate with a pad using a strong pressure-sensitive adhesive (CS-9603 manufactured by Nitto Denko Corporation). Next, a second reflective film was formed on the concavo-convex pattern of the light-transmitting film, and then peeled off at the interface between the slight adhesive of the protect film and the light-transmitting film. Finally, the eccentricity was adjusted in the same manner as in Example 1, and the second film of the light transmissive film was adjusted.
An optical disk substrate provided with a pressure-sensitive adhesive on the first reflective film, which was previously formed in the same manner as in Example 1, was attached to the reflective film.

【0108】(実施例4)実施例1と同様に、光透過性
フイルムとして、予めプロテクトフイルムとして微粘着
剤を介してPETフイルムが貼り合わされたポリカーボ
ネートフイルムを用い、これをリング状(外径120m
m、センターホール22mm)に打ち抜いて、スタンパ
上に紫外線硬化樹脂を塗布し、光透過性フイルムを戴置
してスピンコートし、紫外線を照射してスタンパの凹凸
パターンを転写した。次に、支持基板上にリング状に紫
外線硬化樹脂を塗布し、上記で得られた凹凸パターンが
転写された光透過性フイルムをプロテクトフイルム面か
ら戴置し、スピンコートした。紫外線を照射して、樹脂
を硬化させて接着した。紫外線硬化樹脂とPETフイル
ムの接着性は、プロテクトフイルムの微粘着剤とPET
フイルムとの接着性よりも弱いので、剥離時には紫外線
硬化樹脂とPETフイルムの界面で剥離された。さら
に、PETフイルム表面にシリコーンを塗布すること
で、さらに接着性を下げることができた。次に、光透過
性フイルムの凹凸パターン上に第2反射膜を成膜した
後、プロテクトフイルムのPETフイルムと紫外線硬化
樹脂の界面で剥離した。次に、実施例1と同様に偏芯を
調整して、プロテクトフイルムが付いたままの光透過性
フイルムの第2反射膜上に、実施例1と同様にして予め
形成しておいた第1反射膜上に感圧性粘着剤を設けた光
ディスク基板を貼り合わせた。最後に、プロテクトフイ
ルムの微粘着剤と光透過性フイルムの界面で剥離して、
プロテクトフイルムを除去した。
(Example 4) As in Example 1, as the light-transmitting film, a polycarbonate film in which a PET film was previously bonded as a protect film via a slight adhesive was used, and this was ring-shaped (outer diameter 120 m).
m, center hole 22 mm), an ultraviolet curable resin was applied on the stamper, a light transmissive film was placed on the stamper, and spin coating was performed. Next, an ultraviolet curable resin was applied in a ring shape on the supporting substrate, and the light-transmitting film having the concavo-convex pattern obtained as described above was placed on the surface of the protect film and spin-coated. The resin was cured by UV irradiation and adhered. The adhesiveness between the UV curable resin and the PET film is
Since it is weaker in adhesiveness to the film, it was peeled off at the interface between the ultraviolet curable resin and the PET film during peeling. Furthermore, by applying silicone to the surface of the PET film, the adhesiveness could be further reduced. Next, a second reflective film was formed on the concavo-convex pattern of the light transmissive film, and then peeled off at the interface between the PET film of the protect film and the ultraviolet curable resin. Next, the eccentricity was adjusted in the same manner as in Example 1, and the first film formed in advance in the same manner as in Example 1 was formed on the second reflective film of the light transmissive film with the protect film attached. An optical disk substrate provided with a pressure-sensitive adhesive on the reflective film was attached. Finally, peel off at the interface between the light-transmissive film and the slight adhesive of the protect film,
The protect film was removed.

【0109】(実施例5)実施例1と同様に、光透過性
フイルムとして、予めプロテクトフイルムとして微粘着
剤を介してPETフイルムが貼り合わされたポリカーボ
ネートフイルムを用い、これをリング状(外径120m
m、センターホール22mm)に打ち抜いて、スタンパ
上に紫外線硬化樹脂を塗布し、光透過性フイルムを戴置
してスピンコートし、紫外線を照射してスタンパの凹凸
パターンを転写した。得られた凹凸パターンが転写され
た光透過性フイルムを、支持基板上に強粘着性の感圧性
粘着剤(日東電工社製CS−9603)でパッドで貼り
合わせた。次に、光透過性フイルムの凹凸パターン上に
第2反射膜を成膜した。次に、実施例1と同様に偏芯を
調整して、光透過性フイルムの第2反射膜上に、実施例
1と同様にして予め形成しておいた第1反射膜上に感圧
性粘着剤を設けた光ディスク基板を貼り合わせた。最後
に、プロテクトフイルムの微粘着剤と光透過性フイルム
の界面で剥離した。
(Embodiment 5) As in Embodiment 1, as the light-transmitting film, a polycarbonate film, which was previously laminated with a PET film via a slight adhesive as a protect film, was used, and this was formed into a ring shape (outer diameter 120 m).
m, center hole 22 mm), an ultraviolet curable resin was applied on the stamper, a light transmissive film was placed on the stamper, and spin coating was performed. The obtained light-transmissive film to which the concavo-convex pattern was transferred was bonded onto a supporting substrate with a pad using a strong pressure-sensitive adhesive (CS-9603 manufactured by Nitto Denko Corporation). Next, a second reflective film was formed on the uneven pattern of the light transmissive film. Next, the eccentricity is adjusted in the same manner as in Example 1, and the pressure-sensitive adhesive is formed on the second reflective film of the light transmissive film and on the first reflective film previously formed in the same manner as in Example 1. The optical disk substrates provided with the agent were bonded together. Finally, it was peeled off at the interface between the light-transmissive film and the slight adhesive of the protect film.

【0110】(実施例6)実施例1と同様に、光透過性
フイルムとしてポリカーボネートフイルムを用い、これ
をリング状(外径120mm、センターホール22m
m)に打ち抜いて、スタンパ上に紫外線硬化樹脂を塗布
し、光透過性フイルムを戴置してスピンコートし、紫外
線を照射してスタンパの凹凸パターンを転写した。接着
性の悪い環状ポリオレフィン(日本ゼオン社製、ZEO
NEX)からなる支持基板上に、ハードコート剤(三菱
レーヨン社製、UR−4501)をリング状に塗布し、
スピンコートにより上記で得られた凹凸パターンが転写
された光透過性フイルムを貼り合わせた。成膜後に剥離
すると、支持基板とハードコート剤の界面で剥離するこ
とを確認した。次に、光透過性フイルムの凹凸パターン
上に第2反射膜を成膜した。次に、実施例1と同様に偏
芯を調整して、光透過性フイルムの第2反射膜上に、実
施例1と同様にして予め形成しておいた第1反射膜上に
感圧性粘着剤を設けた光ディスク基板を貼り合わせた。
最後に、支持基板とハードコート剤の界面で剥離した。
(Example 6) As in Example 1, a polycarbonate film was used as the light-transmitting film, and this was formed into a ring shape (outer diameter 120 mm, center hole 22 m).
m), the UV-curable resin was applied onto the stamper, the light-transmissive film was placed on the stamper, and spin-coated. Cyclic polyolefin with poor adhesion (ZEO manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.
A hard coating agent (UR-4501 manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) is applied in a ring shape on a supporting substrate made of NEX,
The light-transmissive film having the concavo-convex pattern obtained above was transferred by spin coating. It was confirmed that when the film was peeled off after the film formation, it was peeled off at the interface between the supporting substrate and the hard coat agent. Next, a second reflective film was formed on the uneven pattern of the light transmissive film. Next, the eccentricity is adjusted in the same manner as in Example 1, and the pressure-sensitive adhesive is formed on the second reflective film of the light transmissive film and on the first reflective film previously formed in the same manner as in Example 1. The optical disk substrates provided with the agent were bonded together.
Finally, it was peeled off at the interface between the supporting substrate and the hard coat agent.

【0111】(実施例7)片面に情報ピットの凹凸パタ
ーンが形成されたポリカーボネートの光ディスク基板
(厚み1.1mm、外径120mm、センターホール径
15mm)を射出成形により形成した。次に、第1反射
膜としてアルミニウムを30nmの膜厚でスパッタリン
グにより形成した。
Example 7 A polycarbonate optical disk substrate (thickness 1.1 mm, outer diameter 120 mm, center hole diameter 15 mm) having an uneven pattern of information pits formed on one side was formed by injection molding. Next, aluminum was formed as the first reflective film to a thickness of 30 nm by sputtering.

【0112】一方、ニッケルスタンパをディスク形状
(外径119〜130mm、センターホール径10m
m)に加工した。また、厚さ70μmのポリカーボネー
トフイルム(帝人社製、パンライト)をリング形状(外
径120mm、内径22mm)に打ち抜いた。上記スタ
ンパ上に紫外線硬化樹脂(第日本インキ社製、SD−3
01)をリング状に塗布し、センターを合わせるために
コーン状のセンター治具を用いてスタンパ上にポリカー
ボネートフイルムを戴置し、5000rpmで20秒間
回転させてスピンコートして、紫外線硬化樹脂を行き渡
らせた。次に、水銀ランプにより1000mJ/cm2
の強度の紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂を硬化させ、
スタンパに設けられた凹凸形状を転写した。
On the other hand, a nickel stamper was formed into a disk shape (outer diameter 119 to 130 mm, center hole diameter 10 m).
m). Further, a 70 μm-thick polycarbonate film (manufactured by Teijin Ltd., Panlite) was punched into a ring shape (outer diameter 120 mm, inner diameter 22 mm). UV-curable resin (SD-3, manufactured by Nippon Ink Co., Ltd.) on the stamper.
01) is applied in a ring shape, a polycarbonate film is placed on the stamper using a cone-shaped center jig to align the centers, and spin coated at 5000 rpm for 20 seconds to spread the UV curable resin. Let Next, with a mercury lamp, 1000 mJ / cm 2
Irradiate the ultraviolet rays of the intensity of, to cure the ultraviolet curing resin,
The uneven shape provided on the stamper was transferred.

【0113】次に、支持基板上に剥離ライナー付きの感
圧性粘着剤を圧着パッドで押圧し、剥離ライナーを剥離
した。次に、感圧性粘着剤付きの支持基板上に情報ピッ
トの凹凸パターンが形成された光透過性フイルムをパッ
ドで押圧し、接着した。次に、スタンパから光透過性フ
イルムを離型して、光透過性フイルムのみを支持基板に
接着することが可能であった。以降は、実施例1あるい
は実施例2と同様にして、半透過性の第2反射膜を成膜
し、光透過性フイルムの半透過性の第2反射膜と、光デ
ィスク基板の第1反射膜とを貼り合わせて、2層の反射
膜を有する光ディスクを製造できた。
Next, the pressure-sensitive adhesive with a release liner was pressed onto the supporting substrate with a pressure-bonding pad to peel off the release liner. Next, a light-transmissive film having an uneven pattern of information pits formed thereon was pressed by a pad and adhered onto a support substrate having a pressure-sensitive adhesive. Next, it was possible to release the light transmissive film from the stamper and bond only the light transmissive film to the supporting substrate. After that, in the same manner as in Example 1 or Example 2, the semi-transmissive second reflective film is formed, and the semi-transmissive second reflective film of the light transmissive film and the first reflective film of the optical disk substrate are formed. By bonding and, an optical disk having a two-layer reflective film could be manufactured.

【0114】(実施例8)信号を転写するニッケルスタ
ンパの信号部を基準として10mmの径のセンターホー
ルを打ち抜いた。支持基板としては、外径120mm、
センターホール径15mmのものを用いた。センターピ
ンは10mmの径を基準として、上部が支持基板のセン
ターホール径と同一となるようにした。はじめにニッケ
ルスタンパに紫外線硬化樹脂をリング状に塗布し、リン
グ状(外径120mm、センターホール径22mm)に
打ち抜いたポリカーボネートフイルムを、センター治具
を用いて戴置した。スピンコートの後、紫外線を照射し
て紫外線硬化樹脂を硬化させた。支持基板には外径11
9.5mm、センターホール径22.1mmでリング状
に打ち抜いた剥離フイルム付きの粘着剤をパッド圧着で
貼り合わせ、剥離フイルムを除去したものを用意した。
次に、上記のセンターピンをニッケルスタンパのセンタ
ーホールに嵌め込み、このピンを基準として粘着剤付き
の支持基板をパッドで圧着した。以上で、スタンパの信
号部に対して偏芯なく支持基板を貼り合わせることがで
きた。
(Embodiment 8) A center hole having a diameter of 10 mm was punched out with reference to the signal portion of a nickel stamper for transferring a signal. The support substrate has an outer diameter of 120 mm,
A center hole having a diameter of 15 mm was used. The center pin has a diameter of 10 mm as a reference, and the upper part thereof has the same diameter as the center hole of the supporting substrate. First, an ultraviolet curable resin was applied in a ring shape to a nickel stamper, and a polycarbonate film punched into a ring shape (outer diameter 120 mm, center hole diameter 22 mm) was placed using a center jig. After spin coating, ultraviolet rays were irradiated to cure the ultraviolet curable resin. The support substrate has an outer diameter of 11
A pressure-sensitive adhesive with a release film punched in a ring shape with a diameter of 9.5 mm and a center hole diameter of 22.1 mm was bonded by pad pressure bonding, and the release film was removed.
Next, the above center pin was fitted into the center hole of the nickel stamper, and the support substrate with the adhesive was pressure-bonded with the pad using this pin as a reference. As described above, the support substrate could be attached to the signal portion of the stamper without eccentricity.

【0115】本発明は、上記の実施の形態に限定されな
い。例えば、光学記録膜の層構成は、実施形態で説明し
た構成に限らず、記録膜の材料などに応じて種々の構造
とすることができる。光学記録膜は3層以上としてもよ
い。また、相変化型の光学記録媒体の他、光磁気記録媒
体や、有機色素材料を用いた光ディスク媒体にも適用可
能であり、これらの記録層の成膜方法は、スパッタリン
グの他、蒸着法やスピンコート法を用いることも可能で
ある。また、情報ピットとなる凹凸形状上にアルミニウ
ムなどの反射膜を設けたROM型光ディスクにも適用で
きる。その他、本発明の要旨を変更しない範囲で種々の
変更をすることができる。
The present invention is not limited to the above embodiment. For example, the layer structure of the optical recording film is not limited to the structure described in the embodiment, and various structures can be used depending on the material of the recording film and the like. The optical recording film may have three or more layers. Further, in addition to the phase change type optical recording medium, it is also applicable to a magneto-optical recording medium and an optical disc medium using an organic dye material. It is also possible to use a spin coating method. Further, the present invention can be applied to a ROM type optical disc in which a reflection film such as aluminum is provided on the uneven shape which becomes the information pit. In addition, various modifications can be made without changing the gist of the present invention.

【0116】[0116]

【発明の効果】本発明の光学記録媒体の製造方法によれ
ば、2層以上の光学記録層を有する光学記録媒体を製造
するときに、薄い光透過性フイルムのハンドリングを向
上し、光透過性フイルムに傷がつくのを抑制し、特に相
変化層の場合に初期化が困難となる問題を解決できる。
According to the method for producing an optical recording medium of the present invention, when an optical recording medium having two or more optical recording layers is produced, the handling of a thin light-transmitting film is improved and the light transmitting property is improved. It is possible to prevent the film from being scratched, and to solve the problem that initialization is difficult especially in the case of a phase change layer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1(a)は本発明の第1実施形態に係る光デ
ィスクの光の照射の様子を示す模式斜視図であり、図1
(b)は模式断面図であり、図1(c)は図1(b)の
模式断面図の要部を拡大した断面図である。
FIG. 1A is a schematic perspective view showing a state of light irradiation of an optical disc according to a first embodiment of the present invention.
1B is a schematic sectional view, and FIG. 1C is an enlarged sectional view of a main part of the schematic sectional view of FIG. 1B.

【図2】図2は、第1実施形態に係る光ディスクの製造
方法の製造工程におけるディスク基板の射出成形工程を
示す(a)模式図および(b)断面図である。
FIG. 2A is a schematic view and FIG. 2B is a sectional view showing an injection molding step of a disc substrate in a manufacturing process of the optical disc manufacturing method according to the first embodiment.

【図3】図3は図2の続きの工程を示す断面図であり、
(a)はディスク基板を形成する工程まで、(b)は第
1光学記録膜を形成する工程まで、(c)は第1光学記
録膜を初期化する工程までを示す。
3 is a cross-sectional view showing a step that follows FIG. 2,
(A) shows up to the step of forming a disk substrate, (b) shows up to the step of forming a first optical recording film, and (c) shows up to the step of initializing the first optical recording film.

【図4】図4は、第1実施形態に係る光ディスクの製造
方法の製造工程において凹凸パターンを有する光透過性
フイルムを形成する工程を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a step of forming a light-transmitting film having a concavo-convex pattern in the manufacturing process of the optical disc manufacturing method according to the first embodiment.

【図5】図5は、第1実施形態に係る光ディスクの製造
方法の製造工程において凹凸パターンを有する光透過性
フイルムを形成する工程を示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a step of forming a light-transmitting film having a concavo-convex pattern in the manufacturing process of the optical disc manufacturing method according to the first embodiment.

【図6】図6は、第1実施形態に係る光ディスクの製造
方法の製造工程において凹凸パターンを有する光透過性
フイルムを形成する工程を示す断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a step of forming a light-transmitting film having a concavo-convex pattern in the manufacturing process of the optical disc manufacturing method according to the first embodiment.

【図7】図7は、第1実施形態に係る光ディスクの製造
方法の製造工程において凹凸パターンを有する光透過性
フイルムを形成する工程を示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a step of forming a light-transmitting film having a concavo-convex pattern in the manufacturing process of the optical disc manufacturing method according to the first embodiment.

【図8】図8は、第1実施形態に係る光ディスクの製造
方法の製造工程において凹凸パターンを有する光透過性
フイルムを形成する工程を示す断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a step of forming a light-transmitting film having a concavo-convex pattern in the manufacturing process of the optical disc manufacturing method according to the first embodiment.

【図9】図9は第1実施形態に係る光ディスクの製造方
法の製造工程を示す断面図であり、(a)は光透過性フ
イルムを支持基板に貼り合わせる工程まで、(b)は光
透過性フイルム上に第2光学記録層を形成する工程まで
を示す。
9A and 9B are cross-sectional views showing a manufacturing process of the optical disc manufacturing method according to the first embodiment, in which FIG. 9A is a process of attaching a light-transmissive film to a support substrate, and FIG. 9B is a light-transmissive film. The process up to the step of forming the second optical recording layer on the functional film will be described.

【図10】図10は図9の続きの工程を示す断面図であ
り、(a)は第2光学記録層を初期化する工程まで、
(b)は光透過性フイルムを支持基板から剥離する工程
までを示す。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing a step that follows FIG. 9, in which (a) is a step until the step of initializing the second optical recording layer,
(B) shows up to the step of peeling the light transmissive film from the supporting substrate.

【図11】図11は、光透過性フイルムと支持基板を接
着する接着層の接着強度を説明する断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating the adhesive strength of an adhesive layer that bonds a light-transmitting film and a supporting substrate.

【図12】図12は、光透過性フイルムと支持基板を接
着する接着層の接着強度を説明する断面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view illustrating the adhesive strength of an adhesive layer that bonds a light-transmitting film and a supporting substrate.

【図13】図13は、光透過性フイルムと支持基板を接
着する接着層の接着強度を説明する断面図である。
FIG. 13 is a cross-sectional view illustrating the adhesive strength of an adhesive layer that adheres a light-transmitting film and a support substrate.

【図14】図14は第1実施形態に係る光ディスクの製
造方法の製造工程を示す断面図であり、(a)は剥離シ
ート付き感圧性粘着剤を第1光学記録層上に配置する工
程まで、(b)は剥離シート付き感圧性粘着剤を第1光
学記録層に圧着する工程まで、(c)は剥離シートを剥
離する工程までを示す。
FIG. 14 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the method for manufacturing an optical disc according to the first embodiment, (a) up to the step of disposing a pressure-sensitive adhesive with a release sheet on the first optical recording layer. , (B) shows up to the step of pressing the pressure-sensitive adhesive with a release sheet onto the first optical recording layer, and (c) shows the step of releasing the release sheet.

【図15】図15は図14の続きの工程を示す断面図で
あり、(a)は光透過性フイルムを感圧性粘着剤上に配
置する工程まで、(b)は光透過性フイルムを感圧性粘
着剤に圧着する工程までを示す。
15 is a cross-sectional view showing a step following that of FIG. 14, wherein (a) is a step of arranging a light-transmitting film on a pressure-sensitive adhesive, and (b) is a light-transmitting film. The process up to pressure bonding to the pressure-sensitive adhesive is shown.

【図16】図16は第1実施形態に係る光ディスクの製
造方法の製造工程を示す断面図であり、(a)は紫外線
硬化樹脂系接着剤を第2光学記録層上に供給する工程ま
で、(b)は光透過性フイルムを紫外線硬化樹脂系接着
剤上に配置する工程まで、(c)はスピンコート工程ま
でを示す。
FIG. 16 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the optical disc manufacturing method according to the first embodiment, and FIG. 16A is a process up to the step of supplying an ultraviolet curable resin adhesive onto the second optical recording layer; (B) shows up to the step of disposing the light transmissive film on the ultraviolet curable resin adhesive, and (c) shows up to the spin coating step.

【図17】図17は図16の続きの工程を示す断面図で
あり、(a)は紫外線を照射する工程まで、(b)は紫
外線硬化樹脂系接着剤が固化した状態を示す。
FIG. 17 is a cross-sectional view showing a step following that of FIG. 16, in which (a) shows up to the step of irradiating with ultraviolet rays, and (b) shows the state in which the ultraviolet curable resin adhesive is solidified.

【図18】図18は第2実施形態に係る光ディスクの製
造方法の製造工程を示す断面図であり、(a)は支持基
板を貼り合わせた光透過性フイルムの第2光学記録層と
ディスク基板の第1光学記録層を貼り合わせる工程ま
で、(b)は光透過性フイルムから支持基板を剥離する
工程までを示す。
FIG. 18 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the method for manufacturing an optical disc according to the second embodiment, and FIG. 18 (a) is a second optical recording layer of a light transmissive film having a support substrate bonded thereto and a disc substrate. (B) shows up to the step of adhering the first optical recording layer to step (b) up to the step of peeling the supporting substrate from the light transmissive film.

【図19】図19は第3実施形態に係る光ディスクの製
造方法の製造工程を示す断面図であり、(a)は凹凸パ
ターンを有するプロテクトフイルム付きの光透過性フイ
ルムを形成する工程まで、(b)は光透過性フイルムを
支持基板に貼り合わせる工程まで、(c)は光透過性フ
イルム上に第2光学記録層を形成する工程までを示す。
FIG. 19 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the optical disc manufacturing method according to the third embodiment, (a) up to the process of forming a light-transmitting film with a protect film having an uneven pattern ( b) shows up to the step of adhering the light transmissive film to the supporting substrate, and (c) shows up to the step of forming the second optical recording layer on the light transmissive film.

【図20】図20は図19の続きの工程を示す断面図で
あり、(a)は第2光学記録層を初期化する工程まで、
(b)は光透過性フイルムとプロテクトフイルムの界面
で剥離する工程までを示す。
FIG. 20 is a cross-sectional view showing a step that follows FIG. 19, in which (a) is a step until the step of initializing the second optical recording layer,
(B) shows up to the step of peeling at the interface between the light transmissive film and the protect film.

【図21】図21は第4実施形態に係る光ディスクの製
造方法の製造工程を示す断面図であり、(a)は凹凸パ
ターンを有するプロテクトフイルム付きの光透過性フイ
ルムに支持基板に貼り合わせて、第2光学記録層を初期
化する工程まで、(b)はプロテクトフイルムと接着層
の界面で剥離する工程までを示す。
FIG. 21 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the optical disc manufacturing method according to the fourth embodiment, and FIG. 21 (a) is a light-transmitting film with a protect film having a concavo-convex pattern bonded to a support substrate. , Up to the step of initializing the second optical recording layer, and (b) shows up to the step of peeling at the interface between the protect film and the adhesive layer.

【図22】図22は図21の続きの工程を示す断面図で
あり、(a)はプロテクトフイルム付きの光透過性フイ
ルムの第2光学記録層をディスク基板の第1光学記録層
に貼り合わせる工程まで、(b)はプロテクトフイルム
を剥離する工程までを示す。
FIG. 22 is a cross-sectional view showing a step that follows FIG. 21, in which (a) is a second optical recording layer of a light-transmitting film with a protect film, which is attached to a first optical recording layer of a disk substrate. Up to the step, (b) shows up to the step of peeling off the protect film.

【図23】図23は第5実施形態に係る光ディスクの製
造方法の製造工程を示す断面図であり、(a)は支持基
板を貼り合わせた凹凸パターンを有するプロテクトフイ
ルム付きの光透過性フイルムの第2光学記録層とディス
ク基板の第1光学記録層を貼り合わせる工程まで、
(b)はプロテクトフイルムと光透過性フイルムの界面
で剥離する工程までを示す。
FIG. 23 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the optical disk manufacturing method according to the fifth embodiment, and FIG. 23 (a) is a light-transmitting film with a protect film having a concavo-convex pattern in which supporting substrates are bonded. Until the step of bonding the second optical recording layer and the first optical recording layer of the disc substrate,
(B) shows up to the step of peeling at the interface between the protect film and the light transmissive film.

【図24】図24は本発明の第6実施形態に係る光ディ
スクの断面図である。
FIG. 24 is a cross-sectional view of an optical disc according to a sixth embodiment of the present invention.

【図25】図25は第6実施形態に係る光ディスクの製
造方法の製造工程を示す断面図であり、(a)は光透過
性フイルムを支持基板にハードコート剤で貼り合わせる
工程まで、(b)は光透過性フイルム上に第2光学記録
層を形成する工程までを示す。
FIG. 25 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of a method for manufacturing an optical disc according to a sixth embodiment, (a) is a process of bonding a light-transmissive film to a supporting substrate with a hard coating agent, ) Indicates up to the step of forming the second optical recording layer on the light transmissive film.

【図26】図26は図25の続きの工程を示す断面図で
あり、(a)は第2光学記録層を初期化する工程まで、
(b)はハードコート層と支持基板の界面で剥離する工
程までを示す。
FIG. 26 is a cross-sectional view showing a step that follows FIG. 25, in which (a) is a step until the step of initializing the second optical recording layer,
(B) shows up to the step of peeling at the interface between the hard coat layer and the supporting substrate.

【図27】図27は第7実施形態に係る光ディスクの製
造方法の製造工程を示す断面図であり、(a)は支持基
板をハードコート剤で貼り合わせた凹凸パターンを有す
る光透過性フイルムの第2光学記録層とディスク基板の
第1光学記録層を貼り合わせる工程まで、(b)はハー
ドコート層と支持基板の界面で剥離する工程までを示
す。
FIG. 27 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of a method for manufacturing an optical disc according to a seventh embodiment, (a) of a light-transmitting film having a concavo-convex pattern in which a supporting substrate is bonded with a hard coating agent. Up to the step of bonding the second optical recording layer and the first optical recording layer of the disk substrate, (b) shows up to the step of peeling at the interface between the hard coat layer and the supporting substrate.

【図28】図28は第8実施形態に係る光ディスクの製
造方法の製造工程を示す断面図であり、(a)は凹凸パ
ターンを有する光透過性フイルムに支持基板を貼り合わ
せる工程まで、(b)は光透過性フイルムをスタンパか
ら離型する工程までを示す。
FIG. 28 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of a method for manufacturing an optical disc according to an eighth embodiment, (a) is a process of adhering a supporting substrate to a light-transmitting film having a concavo-convex pattern, ) Indicates up to the step of releasing the light transmissive film from the stamper.

【図29】図29は第9実施形態に係る光ディスクの製
造方法の製造工程を示す断面図であり、(a)は凹凸パ
ターンを有するスタンパ上に紫外線硬化樹脂を供給し、
光透過性フイルムを貼り合わせる工程まで、(b)光透
過性フイルムに支持基板を貼り合わせる工程までを示
す。
FIG. 29 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the optical disc manufacturing method according to the ninth embodiment, and FIG. 29 (a) is a diagram showing an ultraviolet curable resin supplied on a stamper having an uneven pattern,
The process up to the step of adhering the light transmissive film to the step (b) adhering the support substrate to the light transmissive film are shown.

【図30】図30(a)は従来例に係る光ディスクの光
の照射の様子を示す模式斜視図であり、図30(b)は
模式断面図であり、図30(c)は図30(b)の模式
断面図の要部を拡大した断面図である。
FIG. 30 (a) is a schematic perspective view showing a state of light irradiation of an optical disc according to a conventional example, FIG. 30 (b) is a schematic sectional view, and FIG. It is sectional drawing which expanded the principal part of the schematic sectional view of b).

【図31】図31は、従来例に係る光ディスクの製造方
法の製造工程を示す断面図であり、(a)は射出成形工
程まで、(b)はディスク基板上に第1光学記録層を形
成する工程まで、(c)は第1光学記録膜を初期化する
工程までを示す。
FIG. 31 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of a method for manufacturing an optical disc according to a conventional example, (a) up to an injection molding process, and (b) forming a first optical recording layer on a disc substrate. (C) shows up to the step of initializing the first optical recording film.

【図32】図32は、従来例に係る光ディスクの製造方
法の製造工程を示す断面図であり、(a)は凹凸パター
ンを有する光透過性フイルムを形成する工程まで、
(b)は離型する工程までを示す。
FIG. 32 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of a method for manufacturing an optical disc in a conventional example, (a) up to a process of forming a light-transmitting film having an uneven pattern,
(B) shows up to the step of releasing.

【図33】図33は図32の続きの工程を示す断面図で
あり、(a)および(b)はスパッタリング装置内に光
透過性フイルムを戴置する工程まで、(c)は第2光学
記録層を形成する工程までを示す。
33 is a cross-sectional view showing a step that follows FIG. 32, wherein (a) and (b) are up to the step of placing the light-transmitting film in the sputtering apparatus, and (c) is the second optical method. The steps up to the step of forming the recording layer are shown.

【図34】図34は図33の続きの工程を示す断面図で
あり、(a)および(b)は光照射装置内に光透過性フ
イルムを戴置する工程まで、(c)は第2光学記録層を
初期化する工程までを示す。
34 is a cross-sectional view showing a step that follows FIG. 33, wherein (a) and (b) are up to the step of placing the light-transmitting film in the light irradiation device, and (c) is the second step. The steps up to the step of initializing the optical recording layer will be shown.

【図35】図35は図34の続きの工程である光透過性
フイルムの第2光学記録層とディスク基板の第1光学記
録層を貼り合わせる工程を示す断面図である。
FIG. 35 is a cross-sectional view showing a step of adhering the second optical recording layer of the light transmissive film and the first optical recording layer of the disk substrate, which is a step following that of FIG. 34.

【図36】図36は従来例の問題点を説明する断面図で
ある。
FIG. 36 is a sectional view for explaining the problems of the conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…ディスク基板、10d…凹部、11…第1光学記
録層、12…接着層、12a…剥離シート、12s…感
圧性粘着シート、13…第2光学記録層、14…光透過
性フイルム、14d…凹部、14r…紫外線硬化樹脂、
14s…光透過性フイルム用シート、14t…プロテク
トフイルム、15…ハードコート層、20,21…スタ
ンパ、20p,21p…凸部、21p’…凸部形成面、
22…支持基板、23…接着層、23a…弱粘着剤層、
23b…強粘着剤層、23c…基体、30…ステージ3
0、31,32…センターピン、40,42…ステー
ジ、41…治具、CH…センターホール、DC…光ディ
スク、DR…ドライブ方向、DS…ゴミ、FT…表面処
理、IR…赤外線、LT…光、MD1,MD2…金型、
MS…注入口、OL…対物レンズ、PR…押圧、TH…
加熱、UV…紫外線。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Disk substrate, 10d ... Recessed part, 11 ... 1st optical recording layer, 12 ... Adhesive layer, 12a ... Release sheet, 12s ... Pressure sensitive adhesive sheet, 13 ... 2nd optical recording layer, 14 ... Light transmissive film, 14d ... recesses, 14r ... UV curable resin,
14s ... Light-transmitting film sheet, 14t ... Protect film, 15 ... Hard coat layer, 20, 21 ... Stamper, 20p, 21p ... Convex portion, 21p '... Convex portion forming surface,
22 ... Support substrate, 23 ... Adhesive layer, 23a ... Weak adhesive layer,
23b ... Strong adhesive layer, 23c ... Substrate, 30 ... Stage 3
0, 31, 32 ... Center pin, 40, 42 ... Stage, 41 ... Jig, CH ... Center hole, DC ... Optical disc, DR ... Drive direction, DS ... Dust, FT ... Surface treatment, IR ... Infrared, LT ... Light , MD1, MD2 ... Mold,
MS ... injection port, OL ... objective lens, PR ... press, TH ...
Heating, UV ... ultraviolet rays.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柏木 俊行 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 5D121 AA07 DD05 DD06 EE26 FF01 FF15 FF20    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Toshiyuki Kashiwagi             6-735 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Soni             -Inside the corporation F term (reference) 5D121 AA07 DD05 DD06 EE26 FF01                       FF15 FF20

Claims (24)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも2層の光学記録層を有する光学
記録媒体の製造方法であって、 媒体基板の一方の面に凹凸形状を形成する工程と、 上記媒体基板の凹凸形状形成面上に第1光学記録層を形
成する工程と、 光透過性フイルムの一方の面に凹凸形状を形成する工程
と、 上記光透過性フイルムの凹凸形状形成面上に第2光学記
録層を形成する工程と、 上記第1光学記録層と上記第2光学記録層とを貼り合わ
せる工程と を有し、 少なくとも上記第2光学記録層を形成する工程の前に、
上記光透過性フイルムの凹凸形状形成面の反対側の面に
おいて、上記光透過性フイルムを支持基板に接着層によ
り貼り合わせる工程を有し、 少なくとも上記第2光学記録層を形成する工程におい
て、上記光透過性フイルムを上記支持基板に貼り合わせ
た状態で行う光学記録媒体の製造方法。
1. A method of manufacturing an optical recording medium having at least two optical recording layers, comprising the step of forming a concavo-convex shape on one surface of a medium substrate; 1 a step of forming an optical recording layer, a step of forming an uneven shape on one surface of the light transmissive film, a step of forming a second optical recording layer on the uneven surface forming surface of the light transmissive film, Bonding the first optical recording layer and the second optical recording layer, and at least before the step of forming the second optical recording layer,
A step of adhering the light-transmissive film to a supporting substrate with an adhesive layer on the surface of the light-transmissive film opposite to the concavo-convex shape forming surface, and at least in the step of forming the second optical recording layer, A method for producing an optical recording medium, which comprises performing a process in which a light transmissive film is attached to the supporting substrate.
【請求項2】上記光透過性フイルムを上記支持基板に接
着層により貼り合わせる工程においては、上記接着層と
上記支持基板との接着強度よりも上記接着層と上記光透
過性フイルムとの接着強度の方が弱くなるように貼り合
わせる請求項1に記載の光学記録媒体の製造方法。
2. In the step of adhering the light transmissive film to the support substrate with an adhesive layer, the adhesive strength between the adhesive layer and the light transmissive film is higher than the adhesive strength between the adhesive layer and the support substrate. The method for producing an optical recording medium according to claim 1, wherein the optical recording medium and the optical recording medium are attached so as to become weaker.
【請求項3】上記接着層として、一方の面での接着強度
と他方の面での接着強度が異なる接着層を用いる請求項
2に記載の光学記録媒体の製造方法。
3. The method for producing an optical recording medium according to claim 2, wherein an adhesive layer having different adhesive strength on one surface and adhesive strength on the other surface is used as the adhesive layer.
【請求項4】上記第2光学記録層を形成する工程の後、
上記第1光学記録層と上記第2光学記録層とを貼り合わ
せる工程の前に、上記光透過性フイルムと上記接着層の
界面で剥離する工程をさらに有する請求項1に記載の光
学記録媒体の製造方法。
4. After the step of forming the second optical recording layer,
The optical recording medium according to claim 1, further comprising a step of peeling at the interface between the light transmissive film and the adhesive layer before the step of bonding the first optical recording layer and the second optical recording layer. Production method.
【請求項5】上記第1光学記録層と上記第2光学記録層
とを貼り合わせる工程において、上記光透過性フイルム
を上記支持基板に貼り合わせた状態で行い、 上記第1光学記録層と上記第2光学記録層とを貼り合わ
せる工程の後、上記光透過性フイルムと上記接着層の界
面で剥離する工程をさらに有する請求項1に記載の光学
記録媒体の製造方法。
5. The step of attaching the first optical recording layer and the second optical recording layer is performed in a state where the light transmissive film is attached to the support substrate, and the first optical recording layer and the second optical recording layer are attached. The method of manufacturing an optical recording medium according to claim 1, further comprising a step of peeling at the interface between the light transmissive film and the adhesive layer after the step of attaching the second optical recording layer.
【請求項6】上記光透過性フイルムには、凹凸形状形成
面の反対側の面にプロテクトフイルムが設けられてお
り、 上記光透過性フイルムと上記支持基板に貼り合わせる工
程においては、上記光透過性フイルムに設けられた上記
プロテクトフイルムを上記支持基板に接着層を介して貼
り合わせる請求項1に記載の光学記録媒体の製造方法。
6. The light transmissive film is provided with a protect film on the surface opposite to the surface on which the uneven shape is formed, and in the step of adhering the light transmissive film and the supporting substrate, the light transmissive film is formed. The method for producing an optical recording medium according to claim 1, wherein the protect film provided on the protective film is attached to the supporting substrate via an adhesive layer.
【請求項7】上記第2光学記録層を形成する工程の後、
上記第1光学記録層と上記第2光学記録層とを貼り合わ
せる工程の前に、上記光透過性フイルムと上記プロテク
トフイルムの界面で剥離する工程をさらに有する請求項
6に記載の光学記録媒体の製造方法。
7. After the step of forming the second optical recording layer,
7. The optical recording medium according to claim 6, further comprising a step of peeling at the interface between the light transmissive film and the protect film before the step of bonding the first optical recording layer and the second optical recording layer. Production method.
【請求項8】上記第2光学記録層を形成する工程の後、
上記第1光学記録層と上記第2光学記録層とを貼り合わ
せる工程の前に、上記プロテクトフイルムと上記接着層
の界面で剥離する工程をさらに有し、 上記第1光学記録層と上記第2光学記録層とを貼り合わ
せる工程の後に、上記光透過性フイルムと上記プロテク
トフイルムの界面で剥離する工程をさらに有する請求項
6に記載の光学記録媒体の製造方法。
8. After the step of forming the second optical recording layer,
Before the step of bonding the first optical recording layer and the second optical recording layer, the method further comprises a step of peeling at the interface between the protect film and the adhesive layer, and the first optical recording layer and the second optical recording layer. 7. The method for producing an optical recording medium according to claim 6, further comprising a step of peeling at the interface between the light transmissive film and the protect film after the step of attaching the optical recording layer.
【請求項9】上記第1光学記録層と上記第2光学記録層
とを貼り合わせる工程において、上記光透過性フイルム
に設けられたプロテクトフイルムを上記支持基板に貼り
合わせた状態で行い、 上記第1光学記録層と上記第2光学記録層とを貼り合わ
せる工程の後、上記光透過性フイルムと上記プロテクト
フイルムの界面で剥離する工程をさらに有する請求項6
に記載の光学記録媒体の製造方法。
9. The step of attaching the first optical recording layer and the second optical recording layer is performed in a state where the protect film provided on the light transmissive film is attached to the supporting substrate, 7. The method further comprising a step of peeling at the interface between the light transmissive film and the protect film after the step of laminating the first optical recording layer and the second optical recording layer.
A method for manufacturing the optical recording medium according to.
【請求項10】上記接着層として、ハードコート剤を用
いる請求項1に記載の光学記録媒体の製造方法。
10. The method for producing an optical recording medium according to claim 1, wherein a hard coat agent is used as the adhesive layer.
【請求項11】上記光透過性フイルムを上記支持基板に
ハードコート剤を用いた接着層により貼り合わせる工程
においては、上記接着層と上記支持基板との接着強度よ
りも上記接着層と上記光透過性フイルムとの接着強度の
方が強くなるように貼り合わせる請求項10に記載の光
学記録媒体の製造方法。
11. In the step of adhering the light transmissive film to the supporting substrate with an adhesive layer using a hard coating agent, the adhesive layer and the light transmitting layer are more strongly than the adhesive strength between the adhesive layer and the supporting substrate. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 10, wherein the optical recording medium and the optical film are attached so that the adhesive strength with the functional film is stronger.
【請求項12】上記第2光学記録層を形成する工程の
後、上記第1光学記録層と上記第2光学記録層とを貼り
合わせる工程の前に、上記支持基板と上記ハードコート
剤を用いた接着層の界面で剥離する工程をさらに有する
請求項10に記載の光学記録媒体の製造方法。
12. The support substrate and the hard coat agent are applied after the step of forming the second optical recording layer and before the step of attaching the first optical recording layer and the second optical recording layer. The method for producing an optical recording medium according to claim 10, further comprising a step of peeling at the interface of the adhesive layer.
【請求項13】上記第1光学記録層と上記第2光学記録
層とを貼り合わせる工程において、上記光透過性フイル
ムを上記支持基板に貼り合わせた状態で行い、 上記第1光学記録層と上記第2光学記録層とを貼り合わ
せる工程の後、上記支持基板と上記ハードコート剤を用
いた接着層の界面で剥離する工程をさらに有する請求項
10に記載の光学記録媒体の製造方法。
13. The step of attaching the first optical recording layer and the second optical recording layer is performed in a state where the light transmissive film is attached to the support substrate, and the first optical recording layer and the second optical recording layer are attached. The method for producing an optical recording medium according to claim 10, further comprising a step of peeling at the interface between the supporting substrate and the adhesive layer using the hard coating agent after the step of bonding the second optical recording layer.
【請求項14】上記媒体基板の一方の面に凹凸形状を形
成する工程および上記光透過性フイルムの一方の面に凹
凸形状を形成する工程においては、トラック領域を区分
する溝を形成し、 上記第1および第2光学記録層として相変化型の光学記
録層を形成する請求項1に記載の光学記録媒体の製造方
法。
14. A groove for partitioning a track region is formed in the step of forming an uneven shape on one surface of the medium substrate and the step of forming an uneven shape on one surface of the light transmissive film, The method for producing an optical recording medium according to claim 1, wherein a phase change type optical recording layer is formed as the first and second optical recording layers.
【請求項15】上記媒体基板の凹凸形状形成面上に第1
光学記録層を形成する工程が、当該第1光学記録層の初
期化を含み、 上記光透過性フイルムの凹凸形状形成面上に第2光学記
録層を形成する工程が、当該第2光学記録層の初期化を
含む請求項14に記載の光学記録媒体の製造方法。
15. A first substrate is formed on the surface of the medium substrate on which unevenness is formed.
The step of forming the optical recording layer includes the initialization of the first optical recording layer, and the step of forming the second optical recording layer on the concave-convex shape forming surface of the light transmissive film is the second optical recording layer. 15. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 14, further comprising the initialization of.
【請求項16】上記媒体基板の一方の面に凹凸形状を形
成する工程および上記光透過性フイルムの一方の面に凹
凸形状を形成する工程においては、トラック領域を区分
する溝を形成し、 上記第1および第2光学記録層として光磁気記録型の光
学記録層を形成する請求項1に記載の光学記録媒体の製
造方法。
16. A groove for partitioning a track region is formed in the step of forming an uneven shape on one surface of the medium substrate and the step of forming an uneven shape on one surface of the light transmissive film. The method of manufacturing an optical recording medium according to claim 1, wherein a magneto-optical recording type optical recording layer is formed as the first and second optical recording layers.
【請求項17】上記媒体基板の一方の面に凹凸形状を形
成する工程および上記光透過性フイルムの一方の面に凹
凸形状を形成する工程においては、トラック領域を区分
する溝を形成し、 上記第1および第2光学記録層として有機色素を含有す
る光学記録層を形成する請求項1に記載の光学記録媒体
の製造方法。
17. A groove for partitioning a track region is formed in the step of forming an uneven shape on one surface of the medium substrate and the step of forming an uneven shape on one surface of the light transmissive film, The method for producing an optical recording medium according to claim 1, wherein an optical recording layer containing an organic dye is formed as the first and second optical recording layers.
【請求項18】上記媒体基板の一方の面に凹凸形状を形
成する工程および上記光透過性フイルムの一方の面に凹
凸形状を形成する工程においては、情報ピットとなる凹
凸を形成し、 上記第1および第2光学記録層として反射膜を形成する
請求項1に記載の光学記録媒体の製造方法。
18. In the step of forming unevenness on one surface of the medium substrate and the step of forming unevenness on one surface of the light transmissive film, unevenness to be information pits is formed, The method for producing an optical recording medium according to claim 1, wherein reflective films are formed as the first and second optical recording layers.
【請求項19】光透過性フイルムの一方の面に凹凸形状
を形成する工程が、凹凸形状が形成されたスタンパ上に
当該凹凸形状を転写するように光透過性材料を設けて光
透過性フイルムを形成する工程と、当該光透過性フイル
ムを上記スタンパから剥離する工程とを含む請求項1に
記載の光学記録媒体の製造方法。
19. The step of forming an uneven shape on one surface of a light-transmitting film, wherein a light-transmitting material is provided so that the uneven shape is transferred onto a stamper having the uneven shape formed thereon. The method for producing an optical recording medium according to claim 1, further comprising: a step of forming an optical recording medium; and a step of peeling the light transmissive film from the stamper.
【請求項20】上記凹凸形状が形成されたスタンパ上に
当該凹凸形状を転写するように光透過性材料を設けて光
透過性フイルムを形成する工程の後、当該光透過性フイ
ルムを上記スタンパから剥離する工程の前に、上記光透
過性フイルムの凹凸形状形成面の反対側の面において、
上記光透過性フイルムを支持基板に接着層により貼り合
わせる請求項19に記載の光学記録媒体の製造方法。
20. After the step of forming a light-transmissive film by providing a light-transmissive material on the stamper on which the uneven shape is formed so as to transfer the uneven shape, the light-transmissive film is removed from the stamper. Before the peeling step, on the surface opposite to the concavo-convex shape forming surface of the light transmissive film,
20. The method for producing an optical recording medium according to claim 19, wherein the light transmissive film is attached to a supporting substrate with an adhesive layer.
【請求項21】上記光透過性フイルムを支持基板に接着
層により貼り合わせる工程において、偏芯調整ピンを用
いて上記支持基板に設けられたセンターホールと上記ス
タンパのセンターホールとの位置合わせを行い、上記光
透過性フイルムの凹凸形状に対して上記支持基板を偏芯
調整して貼り合わせる請求項20に記載の光学記録媒体
の製造方法。
21. In the step of adhering the light-transmissive film to a support substrate with an adhesive layer, the center hole provided in the support substrate and the center hole of the stamper are aligned using an eccentricity adjusting pin. 21. The method of manufacturing an optical recording medium according to claim 20, wherein the support substrate is attached with eccentricity adjustment with respect to the uneven shape of the light transmissive film.
【請求項22】上記凹凸形状が形成されたスタンパ上に
当該凹凸形状を転写するように光透過性材料を設けて光
透過性フイルムを形成する工程においては、上記スタン
パ上に光透過性フイルム用シートを加熱しながら押圧す
る請求項19に記載の光学記録媒体の製造方法。
22. In the step of forming a light-transmissive film by providing a light-transmissive material on the stamper having the concavo-convex shape formed thereon so as to transfer the concavo-convex shape, The method of manufacturing an optical recording medium according to claim 19, wherein the sheet is pressed while being heated.
【請求項23】上記凹凸形状が形成されたスタンパ上に
当該凹凸形状を転写するように光透過性材料を設けて光
透過性フイルムを形成する工程においては、上記スタン
パ上に光透過性フイルム用シートを光透過性フイルム用
接着剤により貼り合わせ、当該光透過性フイルム用接着
剤を固化させる請求項19に記載の光学記録媒体の製造
方法。
23. In the step of forming a light-transmissive film by providing a light-transmissive material on the stamper on which the uneven shape is formed so as to transfer the uneven shape, a light-transmissive film for use on the stamper is formed. 20. The method for producing an optical recording medium according to claim 19, wherein the sheets are attached to each other with a light-transmissive film adhesive, and the light-transmissive film adhesive is solidified.
【請求項24】上記凹凸形状が形成されたスタンパ上に
当該凹凸形状を転写するように光透過性材料を設けて光
透過性フイルムを形成する工程においては、上記スタン
パ上に光透過性フイルム用樹脂を塗布し、当該光透過性
フイルム用樹脂を固化させる請求項19に記載の光学記
録媒体の製造方法。
24. In the step of forming a light-transmissive film by providing a light-transmissive material on the stamper on which the uneven shape is formed so as to transfer the uneven shape, a light-transmissive film for the stamper is formed. The method for producing an optical recording medium according to claim 19, wherein a resin is applied to solidify the resin for a light transmissive film.
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