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JP2003042875A - Package for pressure detecting apparatus - Google Patents

Package for pressure detecting apparatus

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Publication number
JP2003042875A
JP2003042875A JP2001226643A JP2001226643A JP2003042875A JP 2003042875 A JP2003042875 A JP 2003042875A JP 2001226643 A JP2001226643 A JP 2001226643A JP 2001226643 A JP2001226643 A JP 2001226643A JP 2003042875 A JP2003042875 A JP 2003042875A
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JP
Japan
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ceramic
metallized
ceramic plate
electrode
semiconductor element
Prior art date
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Application number
JP2001226643A
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Japanese (ja)
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Inventor
Koji Kinomura
浩司 木野村
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Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a compact and highly sensitive pressure detecting apparatus capable of accurately detecting external pressure over a long period. SOLUTION: This package for the pressure detecting apparatus is formed by joining a ceramic plate 2 to one main surface of a ceramic substrate 1 in which a semiconductor element 3 is mounted to the other main surface in such a way as to form a sealed space S in-between to the ceramic substrate 1. The other main surface of the ceramic substrate 1 is provided with a frame part 1d surrounding the ceramic plate 2 and higher than the ceramic plate 2.

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、圧力を検出するた
めの圧力検出装置に使用される圧力検出装置用パッケー
ジに関するものである。 【0002】 【従来の技術】従来、圧力を検出するための圧力検出装
置として静電容量型の圧力検出装置が知られている。こ
の静電容量型の圧力検出装置は、例えば図3に断面図で
示すように、セラミックス材料や樹脂材料から成る配線
基板21上に、静電容量型の感圧素子22と、パッケージ28
に収容された演算用の半導体素子29とを備えている。感
圧素子22は、例えばセラミックス材料等の電気絶縁材料
から成り、上面中央部に静電容量形成用の一方の電極23
が被着された凹部を有する絶縁基体24と、この絶縁基体
24の上面に絶縁基体24との間に密閉空間を形成するよう
にして可撓な状態で接合され、下面に静電容量形成用の
他方の電極25が被着された絶縁板26と、各静電容量形成
用の電極23・25をそれぞれ外部に電気的に接続するため
の外部リード端子27とから構成されており、外部の圧力
に応じて絶縁板26が撓むことにより各静電容量形成用の
電極23・25間に形成される静電容量が変化する。そし
て、この静電容量の変化を演算用の半導体素子29により
演算処理することにより外部の圧力を検出することがで
きる。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の圧力検出装置によると、感圧素子22と半導体素子29
とを配線基板21上に個別に実装していることから、圧力
検出装置が大型化してしまうとともに圧力検出用の電極
23・25と半導体素子29との間の配線が長いものとなり、
この長い配線間に不要な静電容量が形成されるため感度
が低いという問題点を有していた。 【0004】そこで、本願出願人は、先に特願2000-178
618において、一方の主面に半導体素子が搭載される搭
載部を有する絶縁基体と、この絶縁基体の表面および内
部に配設され、半導体素子の各電極が電気的に接続され
る複数の配線導体と、絶縁基体の他方の主面の中央部に
被着され、配線導体の一つに電気的に接続された静電容
量形成用の第一電極と、絶縁基体の他方の主面に、この
主面の中央部との間に密閉空間を形成するように可撓な
状態で接合された絶縁板と、この絶縁板の内側主面に第
一電極と対向して被着され、配線導体の他の一つに電気
的に接続された静電容量形成用の第二電極とを具備する
圧力検出装置用パッケージを提案した。 【0005】この圧力検出装置用パッケージによると、
一方の主面に半導体素子が搭載される搭載部を有する絶
縁基体の他方の主面に静電容量形成用の第一電極を設け
るとともに、この第一電極と対向する静電容量形成用の
第二電極を内側面に有する絶縁板を、絶縁基体の他方の
主面との間に密閉空間を形成するようにして可撓な状態
で接合させたことから、半導体素子を収容するパッケー
ジに感圧素子が一体に形成され、その結果、圧力検出装
置を小型とすることができるとともに圧力検出用の電極
と半導体素子とを接続する配線を短いものとして、これ
らの配線間に発生する不要な静電容量を小さなものとす
ることができる。 【0006】しかしながら、この特願2000-178618で提
案した圧力検出装置用パッケージによると、絶縁板が脆
性を有するセラミックス材料から成ることから、この絶
縁板の外周縁に外部からの機械的衝撃が印加されると、
絶縁板の外周縁に微小なクラックが発生し、これが徐々
に絶縁板の中央部まで進行して、遂には、絶縁基体と絶
縁板との間の密閉空間の気密性が低下し、そのため外部
の圧力を正確に検出することができなくなってしまうこ
とがあるという問題点を有していた。 【0007】本発明は、かかる上述の問題点に鑑み完成
されたものであり、その目的は、小型でかつ感度が高
く、しかも外部の圧力を長期間にわたり正確に検出する
ことが可能な圧力検出装置を提供することにある。 【0008】 【課題を解決するための手段】本発明の圧力検出装置用
パッケージは、一方の主面に半導体素子が搭載される搭
載部を有するセラミック基体と、このセラミック基体の
表面および内部に配設されており、半導体素子の各電極
が電気的に接続される複数のメタライズ配線導体と、セ
ラミック基体の他方の主面の中央部に被着されており、
メタライズ配線導体の一つに電気的に接続された静電容
量形成用の第一メタライズ電極と、セラミック基体の他
方の主面にこの主面の中央部との間に密閉空間を形成す
るように可撓な状態で接合されたセラミック板と、この
セラミック板の内側主面に第一メタライズ電極と対向す
るように被着されており、メタライズ配線導体の他の一
つに電気的に接続された静電容量形成用の第二メタライ
ズ電極とを具備して成る圧力検出装置用パッケージであ
って、セラミック基体は、その他方の主面に、セラミッ
ク板を取り囲みかつセラミック板よりも高い枠部を有し
ていることを特徴とするものである。 【0009】本発明の圧力検出装置用パッケージによれ
ば、セラミック基体の他方の主面に、セラミック板を取
り囲みかつセラミック板よりも高い枠部が形成されてい
ることから、この枠部によりセラミック板が外部からの
機械的衝撃から保護され、それによりセラミック板の外
周縁に微小なクラックが発生することを有効に防止する
ことができる。 【0010】 【発明の実施の形態】次に、本発明を添付の図面を基に
詳細に説明する。図1は、本発明の圧力検出装置用パッ
ケージの実施の形態の一例を示す断面図であり、図中、
1はセラミック基体、2はセラミック板、3は半導体素
子である。 【0011】セラミック基体1は、酸化アルミニウム質
焼結体や窒化アルミニウム質焼結体・ムライト質焼結体
・炭化珪素質焼結体・窒化珪素質焼結体・ガラス−セラ
ミックス等のセラミックス材料から成る積層体であり、
例えば酸化アルミニウム質焼結体から成る場合であれ
ば、酸化アルミニウム・酸化珪素・酸化マグネシウム・
酸化カルシウム等のセラミック原料粉末に適当な有機バ
インダ・溶剤・可塑剤・分散剤を添加混合して泥漿状と
なすとともにこれを従来周知のドクタブレード法を採用
してシート状に成形することにより複数枚のセラミック
グリーンシートを得、しかる後、これらのセラミックグ
リーンシートに適当な打ち抜き加工・積層加工・切断加
工を施すことにより絶縁基体1用の生セラミック成形体
を得るとともにこの生セラミック成形体を約1600℃の温
度で焼成することにより製作される。 【0012】セラミック基体1は、その下面中央部に半
導体素子3を収容するための凹部1aが形成されてお
り、これにより半導体素子3を収容する容器として機能
する。そして、この凹部1aの底面中央部が半導体素子
3が搭載される搭載部1bとなっており、この搭載部1
bに半導体素子3を搭載するとともに凹部1a内に例え
ばエポキシ樹脂等の樹脂製封止材4を充填することによ
り半導体素子3が封止される。なお、この例では半導体
素子3は樹脂製封止材4を凹部1a内に充填することに
より封止されるが、半導体素子3はセラミック基体1の
下面に金属やセラミックスから成る蓋体を凹部1aを塞
ぐように接合させることにより封止されてもよい。 【0013】また、搭載部1bには半導体素子3の各電
極と接続される複数のメタライズ配線導体5が導出して
おり、このメタライズ配線導体5と半導体素子3の各電
極を半田バンプ6等の導電性材料から成る電気的接続手
段を介して接続することにより半導体素子3の各電極と
各メタライズ配線導体5とが電気的に接続されるととも
に半導体素子3が搭載部1bに固定される。なお、この
例では、半導体素子3の電極とメタライズ配線導体5と
は半田バンプ6を介して接続されるが、半導体素子3の
電極とメタライズ配線導体5とはボンディングワイヤ等
の他の種類の電気的接続手段により接続されてもよい。 【0014】メタライズ配線導体5は、半導体素子3の
各電極を外部電気回路および後述する第一メタライズ電
極7・第二メタライズ電極9に電気的に接続するための
導電路として機能し、その一部はセラミック基体1の外
周下面に導出し、別の一部は第一メタライズ電極7・第
二メタライズ電極9に電気的に接続されている。そし
て、半導体素子3の各電極をこれらのメタライズ配線導
体5に導電性接合材6を介して電気的に接続するととも
に半導体素子3を樹脂製封止材4で封止した後、メタラ
イズ配線導体5のセラミック基体1外周下面に導出した
部位を外部電気回路基板の配線導体に半田等の導電性接
合材を介して接合することにより、内部に収容する半導
体素子3が外部電気回路に電気的に接続されることとな
る。 【0015】このようなメタライズ配線導体5は、タン
グステンやモリブデン・銅・銀等の金属粉末メタライズ
から成り、タングステン等の金属粉末に適当な有機バイ
ンダ・溶剤・可塑剤・分散剤等を添加混合して得たメタ
ライズペーストを従来周知のスクリーン印刷法を採用し
てセラミック基体1用のセラミックグリーンシートに所
定のパターンに印刷塗布し、これをセラミック基体1用
の生セラミック成形体とともに焼成することによってセ
ラミック基体1の内部および表面に所定のパターンに形
成される。なお、メタライズ配線導体5の露出表面に
は、メタライズ配線導体5が酸化腐食するのを防止する
とともにメタライズ配線導体5と半田等の導電性接合材
との接合を良好なものとするために、通常であれば、厚
みが1〜10μm程度のニッケルめっき層と厚みが0.1〜
3μm程度の金めっき層とが順次被着されている。 【0016】また、セラミック基体1の上面中央部には
深さが0.01〜5mm程度の密閉空間形成用の凹部1cが
形成されている。この凹部1cは、後述するように、セ
ラミック板2との間に密閉空間を形成するためのもので
あり、この凹部1cの底面には静電容量形成用の第一メ
タライズ電極7が被着されている。 【0017】この第一メタライズ電極7は、後述する第
二メタライズ電極9とともに感圧素子用の静電容量を形
成するためのものであり、例えば略円形のパターンに形
成されている。そして、この第一メタライズ電極7には
メタライズ配線導体5の一つ5aが接続されており、そ
れによりこのメタライズ配線導体5aに半導体素子3の
電極を半田バンプ6等の電気的接続手段を介して接続す
ると半導体素子3の電極と第一メタライズ電極7とが電
気的に接続されるようになっている。 【0018】このような第一メタライズ電極7は、タン
グステンやモリブデン・銅・銀等の金属粉末メタライズ
から成り、タングステン等の金属粉末に適当な有機バイ
ンダ・溶剤・可塑剤・分散剤を添加混合して得たメタラ
イズペーストを従来周知のスクリーン印刷法を採用して
セラミック基体1用のセラミックグリーンシートに印刷
塗布し、これをセラミック基体1用の生セラミック成形
体とともに焼成することによってセラミック基体1の凹
部1c底面に所定のパターンに形成される。なお、第一
メタライズ電極7の露出表面には、第一メタライズ電極
7が酸化腐食するのを防止するために、通常であれば、
厚みが1〜10μm程度のニッケルめっき層が被着されて
いる。 【0019】また、セラミック基体1上面の凹部1c周
囲にはその全周にわたり枠状の第一接合用メタライズ層
8が被着されており、この第一接合用メタライズ層8に
は、下面に第二メタライズ電極9および第二接合用メタ
ライズ層10を有するセラミック板2が銀−銅ろう材等の
導電性接合材を介して接合されている。 【0020】この第一接合用メタライズ層8にはメタラ
イズ配線導体5の一つ5bが接続されており、それによ
りこのメタライズ配線導体5bに半導体素子3の電極を
半田バンプ6等の電気的接続手段を介して電気的に接続
するとメタライズ配線導体5bおよび第一接合用メタラ
イズ層8および第二接合用メタライズ層10を介して第二
メタライズ電極9と半導体素子3の電極とが電気的に接
続されるようになっている。 【0021】第一接合用メタライズ層8は、タングステ
ンやモリブデン・銅・銀等の金属粉末メタライズから成
り、タングステン等の金属粉末に適当な有機バインダ・
溶剤・可塑剤・分散剤を添加混合して得たメタライズペ
ーストを従来周知のスクリーン印刷法を採用してセラミ
ック基体1用のセラミックグリーンシートに印刷塗布
し、これをセラミック基体1用の生セラミック成形体と
ともに焼成することによってセラミック基体1上面の凹
部1c周囲に枠状の所定のパターンに形成される。な
お、接合用メタライズ層8の露出表面には、接合用メタ
ライズ層8が酸化腐食するのを防止するとともに接合用
メタライズ層8と導電性接合材との接合を強固なものと
するために、通常であれば、厚みが1〜10μm程度のニ
ッケルめっき層が被着されている。 【0022】また、セラミック基体1の上面には凹部1
cとの間に密閉空間Sを形成するようにしてセラミック
板2が接合されている。このセラミック板2は、酸化ア
ルミニウム質焼結体や窒化アルミニウム質焼結体・ムラ
イト質焼結体・ガラス−セラミックス等のセラミックス
材料から成る厚みが0.01〜5mmの略平板であり、外部
の圧力に応じて撓むいわゆる圧力検出用のダイアフラム
として機能する。 【0023】なお、セラミック板2は、その厚みが0.01
mm未満では、その機械的強度が小さいものとなってし
まうため、これに大きな外部圧力が印加された場合に破
壊されてしまう危険性が大きなものとなり、他方、5m
mを超えると、小さな圧力では撓みにくくなり、圧力検
出用のダイアフラムとしては不適となってしまう。した
がって、セラミック板2の厚みは0.01〜5mmの範囲が
好ましい。 【0024】このようなセラミック板2は、例えば酸化
アルミニウム質焼結体から成る場合であれば、酸化アル
ミニウム・酸化珪素・酸化マグネシウム・酸化カルシウ
ム等のセラミック原料粉末に適当な有機バインダ・溶剤
・可塑剤・分散剤を添加混合して泥漿状となすとともに
これを従来周知のドクタブレード法を採用してシート状
に成形することによりセラミックグリーンシートを得、
しかる後、このセラミックグリーンシートに適当な打ち
抜き加工や切断加工を施すことによりセラミック板2用
の生セラミック成形体を得るとともにこの生セラミック
成形体を約1600℃の温度で焼成することにより製作され
る。 【0025】また、セラミック板2の下面中央部には、
静電容量形成用の略円形の第二メタライズ電極9が被着
されている。この第二メタライズ電極9は前述の第一メ
タライズ電極7とともに感圧素子用の静電容量を形成す
るための電極として機能する。 【0026】このような第二メタライズ電極9は、タン
グステンやモリブデン・銅・銀等の金属粉末メタライズ
から成り、タングステン等の金属粉末に適当な有機バイ
ンダ・溶剤・可塑剤・分散剤を添加混合して得たメタラ
イズペーストを従来周知のスクリーン印刷法を採用して
セラミック板2用のセラミックグリーンシートに印刷塗
布し、これをセラミック板2用の生セラミック成形体と
ともに焼成することによってセラミック板2の下面の中
央部に所定のパターンに形成される。なお、第二メタラ
イズ電極9の露出表面には、第二メタライズ電極9が酸
化腐食するのを防止するために、通常であれば、厚みが
1〜10μm程度のニッケルめっき層が被着されている。 【0027】さらに、セラミック板2の下面外周部に
は、第二メタライズ電極9に電気的に接続された枠状の
第二接合用メタライズ層10が被着されている。この第二
接合用メタライズ層10はセラミック板2をセラミック基
体1に接合するための接合用下地金属層として機能し、
第一接合用メタライズ層8と第二接合用メタライズ層10
とを銀−銅ろう等の導電性接合材を介して接合すること
によりセラミック基体1にセラミック板2が接合される
とともにメタライズ配線導体5bと第二メタライズ電極
9とが電気的に接続される。 【0028】このような第二接合用メタライズ層10は、
タングステンやモリブデン・銅・銀等の金属粉末メタラ
イズから成り、タングステン等の金属粉末に適当な有機
バインダ・溶剤・可塑剤・分散剤を添加混合して得たメ
タライズペーストを従来周知のスクリーン印刷法を採用
してセラミック板2用のセラミックグリーンシートに印
刷塗布し、これをセラミック板2用の生セラミック成形
体とともに焼成することによってセラミック板2の下面
の外周部に所定のパターンに形成される。なお、第二接
合用メタライズ層10の表面には、第二接合用メタライズ
層10が酸化腐食するのを防止するととも第二接合用メタ
ライズ層10と導電性接合材との接合を良好とするため
に、通常であれば、厚みが1〜10μm程度のニッケルめ
っき層が被着されている。 【0029】このとき、第一メタライズ電極7と第二メ
タライズ電極9とは、セラミック基体1とセラミック板
2との間に形成された密閉空間Sを挟んで対向してお
り、これらの間には、第一メタライズ電極7や第二メタ
ライズ電極9の面積および第一メタライズ電極7と第二
メタライズ電極9との間隔に応じて所定の静電容量が形
成される。そして、セラミック板2の上面に外部の圧力
が印加されると、その圧力に応じてセラミック板2がセ
ラミック基体1側に撓んで第一メタライズ電極7と第二
メタライズ電極9との間隔が変わり、それにより第一メ
タライズ電極7と第二メタライズ電極9との間の静電容
量が変化するので、外部の圧力の変化を静電容量の変化
として感知する感圧素子として機能する。そして、この
静電容量の変化を凹部1a内に収容した半導体素子3に
メタライズ配線導体5a・5bを介して伝達し、これを
半導体素子3で演算処理することによって外部の圧力の
大きさを知ることができる。 【0030】なお、第一メタライズ電極7と第二メタラ
イズ電極9との間隔が1気圧中において0.01mm未満の
場合、セラミック板2に大きな圧力が印加された際に、
第一メタライズ電極7と第二メタライズ電極9とが接触
して圧力を検出することができなくなってしまう危険性
があり、他方、5mmを超えると、第一メタライズ電極
7と第二メタライズ電極9との間に形成される静電容量
が小さなものとなり、圧力を検出する感度が低いものと
なる傾向にある。したがって、第一メタライズ電極7と
第二メタライズ電極9との間隔は、1気圧中において0.
01〜5mmの範囲が好ましい。 【0031】さらに本発明においては、セラミック基体
1の上面外周部にセラミック板2を取り囲む枠部1dが
形成されている。枠部1dは、セラミック板2の外周縁
に外部からの機械的衝撃が直接印加されることがないよ
うに保護するための保護部材として機能し、セラミック
板2よりも高くなっている。このように本発明の圧力検
出装置用パッケージによれば、セラミック基体1の上面
外周部にセラミック板2を取り囲みかつセラミック板2
よりも高い枠部1dが形成されていることから、外部か
ら機械的衝撃が印加されたとしても、その衝撃はセラミ
ック板2の外周縁に直接印加されることはなく、したが
ってセラミック板2に外部からの衝撃によるクラックが
発生することはない。その結果、そのようなクラックが
セラミック板2の中央部まで進行してセラミック基体1
とセラミック板2との間に形成された密閉空間Sの気密
性が低下することはなく、外部の圧力を長期間にわたり
正確に検出することが可能である。 【0032】なお、枠部1dは、その厚みがセラミック
板2よりも0.05mm未満高い場合、外部からの機械的衝
撃がセラミック板2の外周縁に直接印加されてクラック
が発生してしまう危険性が大きくなる傾向にあり、他方
0.5mmを超えて高い場合、そのような高さの枠部1d
を設けるためにパッケージの厚みが不要に厚くなって、
圧力検出装置の小型化が困難となってしまう。したがっ
て、枠部1dの厚みはセラミック板2よりも0.05〜0.5
mm厚いことが好ましい。 【0033】また、枠部1dは、その幅が0.3mm未満
では、外部からの機械的衝撃により破壊されてしまいや
すく、セラミック板2を外部からの機械的衝撃から良好
に保護することが困難となる傾向にあり、他方、1mm
を超えると、そのような幅の枠部1dを設けるためにパ
ッケージの大きさが大きくなってしまい、圧力検出装置
の小型化が困難となってしまう。したがって、枠部1d
の幅は0.3〜1mmの範囲が好ましい。 【0034】さらに、枠部1dとセラミック板2との隙
間が0.1mm未満の場合、セラミック板2とセラミック
基体1とを接合する際に、枠部1d内にセラミック板2
を効率良くはめ込むことが困難となる傾向にあり、他
方、1mmを超えると、セラミック板2の外周縁に外部
からの機械的衝撃が直接印加されてしまう危険性が大き
くなってしまう。したがって、枠部1dとセラミック板
2との隙間は0.1〜1mmの範囲が好ましい。 【0035】以上説明したように、本発明の圧力検出装
置用パッケージによれば、一方の主面に半導体素子3が
搭載されるセラミック基体1の他方の主面に、静電容量
形成用の第一メタライズ電極7を設けるとともにこの第
一メタライズ電極7と対向する静電容量形成用の第二メ
タライズ電極9を内側主面に有するセラミック板2をセ
ラミック基体1との間に密閉空間Sを形成するように可
撓な状態で接合させたことから、半導体素子3を収容す
る容器と感圧素子とが一体となり、その結果、圧力検出
装置を小型化することができる。また、静電容量形成用
の第一メタライズ電極7および第二メタライズ電極9
を、セラミック基体1に設けたメタライズ配線導体5a
・5bを介して半導体素子3に接続することから、第一
メタライズ電極7および第二メタライズ電極9を短い距
離で半導体素子3に接続することができ、その結果、こ
れらのメタライズ配線導体5a・5b間に発生する不要
な静電容量を小さなものとして感度の高い圧力検出装置
を提供することができる。また、セラミック基体1の上
面外周部にセラミック板2を取り囲みかつセラミック板
2よりも高い枠部1dが形成されていることから、この
枠部1dによりセラミック板2が機械的衝撃から良好に
保護され、その結果、セラミック板2にクラックが発生
することはなく、密閉空間Sの気密性を常に維持されて
外部の圧力を長期間にわたり正確に検出することができ
る。 【0036】かくして、上述の圧力検出装置用パッケー
ジによれば、搭載部1bに半導体素子3を搭載するとと
もに半導体素子3の各電極とメタライズ配線導体5とを
電気的に接続し、しかる後、半導体素子3を封止するこ
とによって小型でかつ感度の高く、しかも外部の圧力を
長期間にわたり正確に検出することが可能な高信頼性の
圧力検出装置となる。 【0037】なお、本発明は、上述の実施の形態の一例
に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない
範囲であれば種々の変更は可能である。例えば上述の実
施の形態の一例では、セラミック基体1の上面中央部に
密閉空間S形成用の凹部1cを設け、このセラミック基
体1上面にセラミック板2を接合することにより凹部1
cとセラミック板2との間に密閉空間Sを設けるように
したが、図2に断面図で示すように、セラミック板2の
下面中央部に密閉空間S形成用の凹部2aを設け、この
セラミック板2をセラミック基体1上面に接合すること
によってセラミック基体1と凹部2aとの間に密閉空間
Sを設けるようにしてもよい。なお、図2で示した実施
形態例においては、図1で示した実施形態例と実質的に
共通の部分については図1で用いた符号と同じ符号を用
い、その説明を省略した。 【0038】 【発明の効果】以上、説明したように、本発明の圧力検
出装置用パッケージによれば、一方の主面に半導体素子
が搭載される搭載部を有するセラミック基体の他方の主
面に静電容量形成用の第一メタライズ電極を設けるとと
もに、この第一メタライズ電極と対向する静電容量形成
用の第二メタライズ電極を内側面に有するセラミック板
を、セラミック基体の他方の主面との間に密閉空間を形
成するようにして可撓な状態で接合させたことから、半
導体素子を収容するパッケージに感圧素子が一体とな
り、その結果、圧力検出装置を小型とすることができ
る。また、静電容量形成用の第一メタライズ電極および
第二メタライズ電極を、絶縁基体に設けたメタライズ配
線導体を介して半導体素子に接続することから、第一メ
タライズ電極および第二メタライズ電極を短い距離で半
導体素子に接続することができ、その結果、これらのメ
タライズ配線導体間に発生する不要な静電容量を小さな
ものとして感度の高い圧力検出装置を提供することがで
きる。さらに、セラミック基体の他方の主面にセラミッ
ク板を取り囲みかつセラミック板よりも高い枠部を設け
たことから、この枠部によりセラミック板が外部からの
機械的衝撃から良好に保護され、その結果、セラミック
板にクラックが発生することはなく、セラミック基板と
セラミック板との間に形成された密閉空間の気密性が常
に良好に保たれて外部の圧力を長期間にわたり正確に検
出することができる。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pressure detecting device package used for a pressure detecting device for detecting pressure. 2. Description of the Related Art Conventionally, a capacitance type pressure detecting device has been known as a pressure detecting device for detecting pressure. As shown in a sectional view of FIG. 3, for example, a capacitance type pressure sensing device 22 and a package 28 are provided on a wiring board 21 made of a ceramic material or a resin material.
And a semiconductor element 29 for arithmetic operation housed in the computer. The pressure-sensitive element 22 is made of, for example, an electrically insulating material such as a ceramic material.
An insulating substrate 24 having a concave portion to which
An insulating plate 26, which is joined in a flexible state on the upper surface of the insulating substrate 24 so as to form a sealed space between the insulating substrate 24 and the other electrode 25 for forming a capacitance on the lower surface, Each of the electrodes 23 and 25 for forming a capacitance includes an external lead terminal 27 for electrically connecting the electrode to the outside, and each of the capacitances is formed by bending the insulating plate 26 according to an external pressure. The capacitance formed between the forming electrodes 23 and 25 changes. An external pressure can be detected by subjecting this change in capacitance to arithmetic processing by the semiconductor element 29 for arithmetic operation. [0003] However, according to this conventional pressure detecting device, the pressure-sensitive element 22 and the semiconductor element 29 are not provided.
Are individually mounted on the wiring board 21, which increases the size of the pressure detection device and the pressure detection electrode.
The wiring between 23 and 25 and the semiconductor element 29 becomes longer,
There is a problem that the sensitivity is low because an unnecessary capacitance is formed between the long wires. Accordingly, the applicant of the present application has previously filed Japanese Patent Application No. 2000-178.
618, an insulating substrate having a mounting portion on which a semiconductor element is mounted on one main surface; and a plurality of wiring conductors disposed on and inside the insulating substrate and electrically connected to respective electrodes of the semiconductor element. A first electrode for forming a capacitance, which is attached to a central portion of the other main surface of the insulating base and is electrically connected to one of the wiring conductors; An insulating plate joined in a flexible state so as to form a sealed space with the central portion of the main surface; and an inner main surface of the insulating plate is attached to the first main surface so as to face the first electrode. A pressure sensing device package including a second electrode for forming a capacitance electrically connected to another one is proposed. According to the pressure detecting device package,
A first electrode for forming a capacitance is provided on the other main surface of an insulating base having a mounting portion on which a semiconductor element is mounted on one main surface, and a first electrode for forming a capacitance opposing the first electrode. Since the insulating plate having the two electrodes on the inner surface is joined in a flexible state so as to form a sealed space between the insulating plate and the other main surface of the insulating base, the insulating plate is pressure-sensitive to the package containing the semiconductor element. The elements are formed integrally, which makes it possible to reduce the size of the pressure detecting device and to shorten the wiring connecting the electrode for pressure detection and the semiconductor element, thereby reducing unnecessary static electricity generated between these wirings. The capacity can be reduced. However, according to the pressure detecting device package proposed in Japanese Patent Application No. 2000-178618, since the insulating plate is made of a brittle ceramic material, external mechanical shock is applied to the outer peripheral edge of the insulating plate. When done
Small cracks are generated on the outer peripheral edge of the insulating plate, gradually progressing to the center of the insulating plate, and finally the airtightness of the sealed space between the insulating base and the insulating plate is reduced, so that the external There has been a problem that the pressure may not be detected accurately. The present invention has been completed in view of the above-mentioned problems, and has as its object to provide a pressure detection device which is small in size, has high sensitivity, and is capable of accurately detecting external pressure for a long period of time. It is to provide a device. A package for a pressure detecting device according to the present invention comprises a ceramic base having a mounting portion on one side of which a semiconductor element is mounted, and a surface and an interior of the ceramic base. A plurality of metallized wiring conductors to which the respective electrodes of the semiconductor element are electrically connected, and are attached to the center of the other main surface of the ceramic base,
A sealed space is formed between a first metallized electrode for forming a capacitance electrically connected to one of the metallized wiring conductors and a central portion of the other main surface of the ceramic base on the main surface. A ceramic plate joined in a flexible state, and is attached to the inner main surface of the ceramic plate so as to face the first metallized electrode, and is electrically connected to another one of the metallized wiring conductors. A package for a pressure detecting device comprising a second metallized electrode for forming a capacitance, wherein the ceramic base has a frame surrounding the ceramic plate and higher than the ceramic plate on the other main surface. It is characterized by doing. According to the package for a pressure detecting device of the present invention, a frame portion surrounding the ceramic plate and being higher than the ceramic plate is formed on the other main surface of the ceramic base. Is protected from external mechanical impact, thereby effectively preventing the occurrence of minute cracks on the outer peripheral edge of the ceramic plate. Next, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of an embodiment of a package for a pressure detection device according to the present invention.
1 is a ceramic base, 2 is a ceramic plate, 3 is a semiconductor element. The ceramic substrate 1 is made of a ceramic material such as a sintered body of aluminum oxide, a sintered body of aluminum nitride, a sintered body of mullite, a sintered body of silicon carbide, a sintered body of silicon nitride, and a glass-ceramic. A laminate comprising
For example, if it is made of an aluminum oxide sintered body, aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide,
A ceramic raw material powder such as calcium oxide is mixed with an appropriate organic binder, a solvent, a plasticizer, and a dispersant to form a slurry, which is formed into a sheet by using a conventionally known doctor blade method. A plurality of ceramic green sheets were obtained, and thereafter, these ceramic green sheets were subjected to appropriate punching, laminating, and cutting to obtain a green ceramic molded body for the insulating substrate 1 and to reduce the green ceramic green body to about It is manufactured by firing at a temperature of 1600 ° C. The ceramic substrate 1 has a concave portion 1a for accommodating the semiconductor element 3 in the center of the lower surface thereof, and thereby functions as a container for accommodating the semiconductor element 3. The center of the bottom surface of the concave portion 1a is a mounting portion 1b on which the semiconductor element 3 is mounted.
The semiconductor element 3 is sealed by mounting the semiconductor element 3 on the substrate b and filling the recess 1a with a resin sealing material 4 such as an epoxy resin. In this example, the semiconductor element 3 is sealed by filling a resin sealing material 4 in the recess 1a. However, the semiconductor element 3 is provided with a lid made of metal or ceramic on the lower surface of the ceramic base 1 in the recess 1a. May be sealed by joining them so as to close them. A plurality of metallized wiring conductors 5 connected to the respective electrodes of the semiconductor element 3 are led out from the mounting portion 1b. The metallized wiring conductor 5 and the respective electrodes of the semiconductor element 3 are connected to the solder bumps 6 and the like. Each electrode of the semiconductor element 3 and each metallized wiring conductor 5 are electrically connected to each other by being connected via an electrical connection means made of a conductive material, and the semiconductor element 3 is fixed to the mounting portion 1b. In this example, the electrodes of the semiconductor element 3 and the metallized wiring conductors 5 are connected via the solder bumps 6, but the electrodes of the semiconductor element 3 and the metallized wiring conductors 5 are connected to another type of electric wire such as a bonding wire. May be connected by a dynamic connection means. The metallized wiring conductor 5 functions as a conductive path for electrically connecting each electrode of the semiconductor element 3 to an external electric circuit and a first metallized electrode 7 and a second metallized electrode 9 to be described later. Is led out to the lower surface of the outer periphery of the ceramic base 1, and another part is electrically connected to the first metallized electrode 7 and the second metallized electrode 9. The electrodes of the semiconductor element 3 are electrically connected to the metallized wiring conductors 5 via a conductive bonding material 6 and the semiconductor element 3 is sealed with a resin sealing material 4. The semiconductor element 3 housed inside is electrically connected to an external electric circuit by joining a portion led out to the lower surface of the outer periphery of the ceramic base 1 to a wiring conductor of an external electric circuit board via a conductive bonding material such as solder. Will be done. The metallized wiring conductor 5 is made of a metal powder such as tungsten, molybdenum, copper, silver or the like, and is mixed with a metal powder such as tungsten by adding an appropriate organic binder, solvent, plasticizer, dispersant and the like. The metallized paste thus obtained is printed and applied in a predetermined pattern on a ceramic green sheet for the ceramic substrate 1 by employing a conventionally well-known screen printing method, and is fired together with the green ceramic molded body for the ceramic substrate 1 to obtain a ceramic. A predetermined pattern is formed inside and on the surface of the base 1. In order to prevent the metallized wiring conductor 5 from being oxidized and corroded and to improve the bonding between the metallized wiring conductor 5 and a conductive bonding material such as solder, the exposed surface of the metallized wiring conductor 5 is usually formed on the exposed surface. If so, the nickel plating layer having a thickness of about 1 to 10 μm and the thickness of 0.1 to
A gold plating layer of about 3 μm is sequentially applied. A recess 1c for forming a closed space having a depth of about 0.01 to 5 mm is formed at the center of the upper surface of the ceramic substrate 1. The concave portion 1c is for forming a closed space between the concave portion 1c and the ceramic plate 2 as described later, and a first metallized electrode 7 for forming a capacitance is attached to the bottom surface of the concave portion 1c. ing. The first metallized electrode 7 is for forming a capacitance for a pressure-sensitive element together with a second metallized electrode 9 to be described later, and is formed, for example, in a substantially circular pattern. One of the metallized wiring conductors 5a is connected to the first metallized electrode 7 so that the electrode of the semiconductor element 3 is connected to the metallized wiring conductor 5a via an electrical connection means such as a solder bump 6. When connected, the electrode of the semiconductor element 3 and the first metallized electrode 7 are electrically connected. The first metallized electrode 7 is made of metallized metal powder such as tungsten, molybdenum, copper, silver or the like. A suitable organic binder, solvent, plasticizer or dispersant is added to the metal powder such as tungsten and mixed. The metallized paste thus obtained is printed and applied to a ceramic green sheet for the ceramic substrate 1 by employing a conventionally well-known screen printing method, and is fired together with the green ceramic molded body for the ceramic substrate 1 to thereby form recesses in the ceramic substrate 1. 1c is formed in a predetermined pattern on the bottom surface. In addition, in order to prevent the first metallized electrode 7 from being oxidized and corroded, the exposed surface of the first metallized electrode 7
A nickel plating layer having a thickness of about 1 to 10 μm is applied. A frame-shaped first bonding metallization layer 8 is attached over the entire periphery of the concave portion 1c on the upper surface of the ceramic base 1, and the first bonding metallization layer 8 has a lower surface on the lower surface. The ceramic plate 2 having the two metallized electrodes 9 and the second metallized layer 10 for bonding is bonded via a conductive bonding material such as a silver-copper brazing material. One of the metallized wiring conductors 5b is connected to the first bonding metallized layer 8 so that the electrodes of the semiconductor element 3 can be electrically connected to the metallized wiring conductor 5b such as solder bumps 6 or the like. And the second metallized electrode 9 is electrically connected to the electrode of the semiconductor element 3 via the metallized wiring conductor 5b, the first metallized layer 8 for bonding, and the metallized layer 10 for second bonding. It has become. The first bonding metallization layer 8 is made of a metal powder of metal such as tungsten, molybdenum, copper, silver, or the like.
A metallized paste obtained by adding and mixing a solvent, a plasticizer and a dispersant is printed and applied on a ceramic green sheet for the ceramic substrate 1 by employing a conventionally known screen printing method, and this is formed into a green ceramic for the ceramic substrate 1. By firing together with the body, a predetermined frame-shaped pattern is formed around the concave portion 1c on the upper surface of the ceramic base 1. The exposed surface of the bonding metallization layer 8 is usually provided on the exposed surface of the bonding metallization layer 8 in order to prevent the bonding metallization layer 8 from being oxidized and corroded and to strengthen the bonding between the bonding metallization layer 8 and the conductive bonding material. In this case, a nickel plating layer having a thickness of about 1 to 10 μm is applied. A recess 1 is formed on the upper surface of the ceramic base 1.
The ceramic plate 2 is joined so as to form a closed space S with the ceramic plate 2c. The ceramic plate 2 is a substantially flat plate having a thickness of 0.01 to 5 mm and made of a ceramic material such as an aluminum oxide sintered body, an aluminum nitride sintered body, a mullite sintered body, and a glass-ceramic. It functions as a so-called pressure detection diaphragm that flexes accordingly. The ceramic plate 2 has a thickness of 0.01.
If it is less than 5 mm, its mechanical strength will be small, and the danger of being destroyed when a large external pressure is applied thereto will be great.
If it exceeds m, it becomes difficult to bend under a small pressure, and it becomes unsuitable as a diaphragm for pressure detection. Therefore, the thickness of the ceramic plate 2 is preferably in the range of 0.01 to 5 mm. When such a ceramic plate 2 is made of, for example, an aluminum oxide sintered body, an organic binder, a solvent, and a plastic suitable for ceramic raw material powder such as aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, and calcium oxide. A ceramic green sheet is obtained by adding and mixing an agent and a dispersing agent to form a slurry and forming this into a sheet by employing a conventionally known doctor blade method.
Thereafter, the ceramic green sheet is subjected to appropriate punching and cutting to obtain a green ceramic molded body for the ceramic plate 2 and to fire the green ceramic molded body at a temperature of about 1600 ° C. . In the center of the lower surface of the ceramic plate 2,
A substantially circular second metallized electrode 9 for forming a capacitance is provided. The second metallized electrode 9 functions as an electrode for forming a capacitance for a pressure-sensitive element together with the first metallized electrode 7 described above. The second metallized electrode 9 is made of metal powder such as tungsten, molybdenum, copper, silver or the like, and is mixed with a metal powder such as tungsten by adding an appropriate organic binder, solvent, plasticizer and dispersant. The metallized paste obtained as described above is printed and applied to a ceramic green sheet for the ceramic plate 2 by employing a conventionally known screen printing method, and is fired together with a green ceramic molded body for the ceramic plate 2 to thereby obtain a lower surface of the ceramic plate 2. Is formed in a predetermined pattern at the center of the. In addition, in order to prevent the second metallized electrode 9 from being oxidized and corroded, a nickel plating layer having a thickness of about 1 to 10 μm is usually applied to the exposed surface of the second metallized electrode 9. . Further, a frame-shaped second bonding metallization layer 10 electrically connected to the second metallization electrode 9 is applied to the outer peripheral portion of the lower surface of the ceramic plate 2. The second metallizing layer 10 for bonding functions as a bonding base metal layer for bonding the ceramic plate 2 to the ceramic base 1,
First bonding metallization layer 8 and second bonding metallization layer 10
Are bonded via a conductive bonding material such as silver-copper brazing, whereby the ceramic plate 2 is bonded to the ceramic base 1 and the metallized wiring conductor 5b and the second metallized electrode 9 are electrically connected. Such a second bonding metallization layer 10 is
Metallization paste made of metal powders such as tungsten, molybdenum, copper, silver, etc., and metallized paste obtained by adding and mixing an appropriate organic binder, solvent, plasticizer, and dispersant to metal powders such as tungsten. Adopted and printed on a ceramic green sheet for the ceramic plate 2, and baked with a green ceramic molded body for the ceramic plate 2 to form a predetermined pattern on the outer peripheral portion of the lower surface of the ceramic plate 2. In addition, on the surface of the second bonding metallization layer 10, to prevent the second bonding metallization layer 10 from being oxidized and corroded, and to improve the bonding between the second bonding metallization layer 10 and the conductive bonding material. Usually, a nickel plating layer having a thickness of about 1 to 10 μm is applied. At this time, the first metallized electrode 7 and the second metallized electrode 9 are opposed to each other with a closed space S formed between the ceramic base 1 and the ceramic plate 2 therebetween. A predetermined capacitance is formed according to the area of the first metallized electrode 7 or the second metallized electrode 9 and the distance between the first metallized electrode 7 and the second metallized electrode 9. When an external pressure is applied to the upper surface of the ceramic plate 2, the ceramic plate 2 bends toward the ceramic base 1 according to the applied pressure, and the distance between the first metallized electrode 7 and the second metallized electrode 9 changes, As a result, the capacitance between the first metallized electrode 7 and the second metallized electrode 9 changes, so that it functions as a pressure-sensitive element that senses a change in external pressure as a change in capacitance. Then, the change in the capacitance is transmitted to the semiconductor element 3 housed in the concave portion 1a via the metallized wiring conductors 5a and 5b, and the magnitude of the external pressure is known by performing arithmetic processing on the semiconductor element 3. be able to. When the distance between the first metallized electrode 7 and the second metallized electrode 9 is less than 0.01 mm at 1 atm, when a large pressure is applied to the ceramic plate 2,
There is a danger that the first metallized electrode 7 and the second metallized electrode 9 will come into contact with each other and the pressure cannot be detected. The capacitance formed between them tends to be small, and the sensitivity for detecting pressure tends to be low. Therefore, the distance between the first metallized electrode 7 and the second metallized electrode 9 is 0.
A range of 01 to 5 mm is preferred. Further, in the present invention, a frame portion 1d surrounding the ceramic plate 2 is formed on the outer peripheral portion of the upper surface of the ceramic base 1. The frame portion 1d functions as a protection member for protecting the outer peripheral edge of the ceramic plate 2 from being directly applied with a mechanical shock from the outside, and is higher than the ceramic plate 2. As described above, according to the pressure detecting device package of the present invention, the ceramic plate 2 surrounds the ceramic plate 2
Since the higher frame portion 1d is formed, even if a mechanical shock is applied from the outside, the shock is not directly applied to the outer peripheral edge of the ceramic plate 2, and therefore the ceramic plate 2 No cracks occur due to impact from the vehicle. As a result, such cracks progress to the center of the ceramic plate 2 and the ceramic substrate 1
The airtightness of the closed space S formed between the ceramic plate 2 and the ceramic plate 2 does not decrease, and it is possible to accurately detect the external pressure over a long period of time. When the thickness of the frame portion 1d is lower than the thickness of the ceramic plate 2 by less than 0.05 mm, there is a risk that a mechanical shock from the outside is directly applied to the outer peripheral edge of the ceramic plate 2 to cause cracks. Tends to increase, while
If it is higher than 0.5 mm, the frame part 1d of such height
The thickness of the package becomes unnecessarily thick to provide
It becomes difficult to reduce the size of the pressure detecting device. Therefore, the thickness of the frame portion 1d is 0.05 to 0.5 than that of the ceramic plate 2.
mm thick is preferred. If the width of the frame portion 1d is less than 0.3 mm, the frame portion 1d is likely to be broken by an external mechanical impact, and it is difficult to properly protect the ceramic plate 2 from the external mechanical impact. On the other hand, 1 mm
Is exceeded, the size of the package increases due to the provision of the frame portion 1d having such a width, which makes it difficult to reduce the size of the pressure detection device. Therefore, the frame portion 1d
Is preferably in the range of 0.3 to 1 mm. Further, when the gap between the frame portion 1d and the ceramic plate 2 is less than 0.1 mm, when the ceramic plate 2 and the ceramic base 1 are joined, the ceramic plate 2
There is a tendency that it is difficult to insert the ceramic plate efficiently, while if it exceeds 1 mm, the danger that a mechanical shock from the outside is directly applied to the outer peripheral edge of the ceramic plate 2 increases. Therefore, the gap between the frame portion 1d and the ceramic plate 2 is preferably in the range of 0.1 to 1 mm. As described above, according to the pressure detecting device package of the present invention, the other main surface of the ceramic base 1 on which the semiconductor element 3 is mounted on one main surface is provided with the first capacitance forming surface. A closed space S is formed between the ceramic base 2 and the ceramic plate 2 provided with one metallized electrode 7 and having a second metallized electrode 9 for capacitance formation facing the first metallized electrode 7 on the inner main surface. Since the bonding is performed in such a flexible state, the container for accommodating the semiconductor element 3 and the pressure-sensitive element are integrated, and as a result, the pressure detection device can be downsized. Further, the first metallized electrode 7 and the second metallized electrode 9 for forming the capacitance are formed.
To the metallized wiring conductor 5 a provided on the ceramic base 1.
5b, the first metallized electrode 7 and the second metallized electrode 9 can be connected to the semiconductor element 3 over a short distance. As a result, these metallized wiring conductors 5a, 5b It is possible to provide a highly sensitive pressure detecting device with a small unnecessary capacitance generated therebetween. Further, since the frame 1d surrounding the ceramic plate 2 and being higher than the ceramic plate 2 is formed on the outer periphery of the upper surface of the ceramic base 1, the ceramic plate 2 is well protected from mechanical shock by the frame 1d. As a result, cracks do not occur in the ceramic plate 2, and the hermeticity of the sealed space S is always maintained, so that the external pressure can be accurately detected for a long period of time. Thus, according to the above-described package for a pressure detecting device, the semiconductor element 3 is mounted on the mounting portion 1b, and each electrode of the semiconductor element 3 is electrically connected to the metallized wiring conductor 5. By sealing the element 3, a highly reliable pressure detection device which is small and has high sensitivity and can accurately detect external pressure over a long period of time. The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. For example, in one example of the above-described embodiment, a concave portion 1c for forming a closed space S is provided at the center of the upper surface of the ceramic substrate 1, and the ceramic plate 2 is joined to the upper surface of the ceramic substrate 1 to thereby form the concave portion 1c.
Although a closed space S is provided between the ceramic plate 2 and the ceramic plate 2, a concave portion 2 a for forming a closed space S is provided in the center of the lower surface of the ceramic plate 2 as shown in a sectional view in FIG. The closed space S may be provided between the ceramic base 1 and the recess 2a by joining the plate 2 to the upper surface of the ceramic base 1. In the embodiment shown in FIG. 2, portions substantially common to the embodiment shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals as those used in FIG. 1, and description thereof is omitted. As described above, according to the pressure detecting device package of the present invention, the ceramic substrate having the mounting portion on which the semiconductor element is mounted on one main surface has the other main surface. A first metallized electrode for forming a capacitance is provided, and a ceramic plate having an inner surface having a second metallized electrode for forming a capacitance opposing the first metallized electrode is formed with the other main surface of the ceramic base. The pressure-sensitive element is integrated with the package accommodating the semiconductor element, since the pressure-sensitive element is integrated with the package accommodating the semiconductor element so as to form a sealed space therebetween. As a result, the pressure detection device can be downsized. In addition, since the first metallized electrode and the second metallized electrode for forming the capacitance are connected to the semiconductor element via the metallized wiring conductor provided on the insulating base, the first metallized electrode and the second metallized electrode can be short distance. As a result, an unnecessary capacitance generated between these metallized wiring conductors can be reduced to provide a highly sensitive pressure detecting device. Furthermore, since the other main surface of the ceramic base body surrounds the ceramic plate and has a frame portion higher than the ceramic plate, the ceramic plate is well protected by the frame portion from external mechanical shock. Cracks do not occur in the ceramic plate, and the hermeticity of the sealed space formed between the ceramic substrate and the ceramic plate is always kept good, so that the external pressure can be accurately detected for a long period of time.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の圧力検出装置用パッケージの実施形態
の一例を示す断面図である。 【図2】本発明の圧力検出装置用パッケージの実施形態
の他の例を示す断面図である。 【図3】従来の圧力検出装置を示す断面図である。 【符号の説明】 1・・・・・セラミック基体 1b・・・・搭載部 1d・・・・枠部 2・・・・・セラミック板 3・・・・・半導体素子 5・・・・・メタライズ配線導体 7・・・・・第一メタライズ電極 9・・・・・第二メタライズ電極 S・・・・・密閉空間
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an embodiment of a package for a pressure detecting device according to the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of the embodiment of the pressure detection device package of the present invention. FIG. 3 is a sectional view showing a conventional pressure detecting device. [Description of Signs] 1... Ceramic base 1b... Mounting section 1d... Frame section 2... Wiring conductor 7 First metallized electrode 9 Second metallized electrode S Sealed space

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 一方の主面に半導体素子が搭載される搭
載部を有するセラミック基体と、該セラミック基体の表
面および内部に配設されており、前記半導体素子の各電
極が電気的に接続される複数のメタライズ配線導体と、
前記セラミック基体の他方の主面の中央部に被着されて
おり、前記メタライズ配線導体の一つに電気的に接続さ
れた静電容量形成用の第一メタライズ電極と、前記他方
の主面に前記中央部との間に密閉空間を形成するように
可撓な状態で接合されたセラミック板と、前記セラミッ
ク板の内側主面に前記第一メタライズ電極と対向するよ
うに被着されており、前記メタライズ配線導体の他の一
つに電気的に接続された静電容量形成用の第二メタライ
ズ電極とを具備して成る圧力検出装置用パッケージであ
って、前記セラミック基体は、前記他方の主面に、前記
セラミック板を取り囲みかつ前記セラミック板よりも高
い枠部を有していることを特徴とする圧力検出装置用パ
ッケージ。
Claims: 1. A ceramic substrate having a mounting portion on one side of which a semiconductor element is mounted, and disposed on the surface and inside of the ceramic substrate, and each electrode of the semiconductor element is provided. A plurality of metallized wiring conductors electrically connected to each other;
A first metallized electrode for capacitance formation, which is attached to the center of the other main surface of the ceramic base and is electrically connected to one of the metallized wiring conductors, and is attached to the other main surface. A ceramic plate joined in a flexible state so as to form a sealed space with the central portion, and is attached to an inner main surface of the ceramic plate so as to face the first metallized electrode, A package for a pressure detection device comprising: a second metallized electrode for forming a capacitance electrically connected to another one of the metallized wiring conductors; A package for a pressure detecting device, comprising a frame surrounding the ceramic plate and having a higher frame portion than the ceramic plate on a surface.
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