JP2002542233A - 置換ピリミジンの製造方法 - Google Patents
置換ピリミジンの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
式Ｉ（式中、R1、R2、R3、R4、およびＸは請求項１で定義したとおりである）で表される置換ピリミジンの製造方法であって、式IIで表されるアミジンまたはその塩と、式III（式中、Ｌは、ハロゲン原子または式-X-R2で表される基である）で表される3,3-二置換ビニルカルボニル化合物とを、(a) Ｌがハロゲン原子である場合には、不活性溶媒中、塩基および式IV：H-X-R2で表される化合物の存在下にて、または(b) Ｌが式-X-R2で表される基である場合には、不活性溶媒中、塩基の存在下にて反応させることを含む方法に関する。
Description
【０００１】発明の背景 本発明は、置換ピリミジンの改良された製造方法に関する。
【０００２】 ４位がヒドロカルビルオキシ基またはヒドロカルビルチオ基で置換されたピリ
ミジンは、非常に有効な殺虫剤または医薬品として商業的に非常に興味深い。米
国特許第3,498,984号には、興味深い薬学的特性を有する2-フェニル-4-チオピリ
ミジンが開示されている。米国特許第5,824,624号には、2-フェニル-4-オキシピ
リミジンを含む除草剤組成物が記載されている。国際特許出願の国際公開公報WO
98/40379号およびWO98/56789号には、ピリミジン部分の２位に５員環のヘテロ芳
香族基が結合した除草剤4-オキシピリミジンが開示されている。
ミジンは、非常に有効な殺虫剤または医薬品として商業的に非常に興味深い。米
国特許第3,498,984号には、興味深い薬学的特性を有する2-フェニル-4-チオピリ
ミジンが開示されている。米国特許第5,824,624号には、2-フェニル-4-オキシピ
リミジンを含む除草剤組成物が記載されている。国際特許出願の国際公開公報WO
98/40379号およびWO98/56789号には、ピリミジン部分の２位に５員環のヘテロ芳
香族基が結合した除草剤4-オキシピリミジンが開示されている。
【０００３】 これらの化合物は、例えば、塩酸ベンズアミジンを置換アセチルアセテートで
強塩基の存在下で処理して2-フェニルピリミジ-4-オンを生成する工程、次いで
ハロゲン化剤、特にハロゲン化ホスホリルで処理して4-ハロ-2-フェニルピミリ
ジンを得る工程、そしてアルコールまたはチオアルコールと反応させる工程を含
む多段プロセスで製造しうる。
強塩基の存在下で処理して2-フェニルピリミジ-4-オンを生成する工程、次いで
ハロゲン化剤、特にハロゲン化ホスホリルで処理して4-ハロ-2-フェニルピミリ
ジンを得る工程、そしてアルコールまたはチオアルコールと反応させる工程を含
む多段プロセスで製造しうる。
【０００４】 しかし、この方法は、工業規模で比較的大量に生産するためには使用できない
。なぜなら、ハロゲン化工程の水性後処理中に制御不能な熱の発生の危険が高い
からである。
。なぜなら、ハロゲン化工程の水性後処理中に制御不能な熱の発生の危険が高い
からである。
【０００５】 W. Schrothら, Z. Chem. 24(1984), 435-436には、トリフルオロボランの存在
下で3,3-ジクロロアクロレインとチオアミドを縮合することによる1,3-チアジン
-6-チオンの製造が開示されている。
下で3,3-ジクロロアクロレインとチオアミドを縮合することによる1,3-チアジン
-6-チオンの製造が開示されている。
【０００６】 しかし、特にトリフルオロボランは大量生産には適切ではないので、置換ピリ
ミジンの製造にこの反応を適用する動機付けにはならない。
ミジンの製造にこの反応を適用する動機付けにはならない。
【０００７】発明の概要 本発明は、式Ｉ
【化５】 （式中、 R1およびR2は、それぞれ独立に、置換されていてもよいアルキル基、シクロア
ルキル基、フェニル基またはヘテロアリール基であり、 R3およびR4は、それぞれ独立に、水素原子または置換されていてもよいアルキ
ル基もしくはフェニル基であり、 Ｘは、ＯまたはＳである。） で表される置換ピリミジンの製造方法であって、 式II
ルキル基、フェニル基またはヘテロアリール基であり、 R3およびR4は、それぞれ独立に、水素原子または置換されていてもよいアルキ
ル基もしくはフェニル基であり、 Ｘは、ＯまたはＳである。） で表される置換ピリミジンの製造方法であって、 式II
【化６】 （式中、R1は式Ｉで定義したとおりである。） で表されるアミジンまたはその塩と、式III
【化７】 （式中、R3およびR4は上記で定義したとおりであり、Ｌは、ハロゲン原子または
式-X-R2で表される基である。） で表される3,3-二置換ビニルカルボニル化合物とを、 (a) Ｌがハロゲン原子である場合には、不活性溶媒中、塩基および式IV H-X-R2 (IV) （式中、ＸおよびR2は上記で定義したとおりである。） で表される化合物の存在下にて、または (b) Ｌが式-X-R2で表される基である場合には、不活性溶媒中、塩基の存在下
にて、 反応させることを含む、有効かつ効率的な方法を提供する。
式-X-R2で表される基である。） で表される3,3-二置換ビニルカルボニル化合物とを、 (a) Ｌがハロゲン原子である場合には、不活性溶媒中、塩基および式IV H-X-R2 (IV) （式中、ＸおよびR2は上記で定義したとおりである。） で表される化合物の存在下にて、または (b) Ｌが式-X-R2で表される基である場合には、不活性溶媒中、塩基の存在下
にて、 反応させることを含む、有効かつ効率的な方法を提供する。
【０００８】 したがって、本発明の目的は、置換ピリミジンの効率的な新規製造方法を提供
することである。
することである。
【０００９】 本発明の別の目的および利点は、下記の説明および特許請求の範囲から当業者
には明らかであろう。
には明らかであろう。
【００１０】好適な実施形態の詳細な説明 どの基であっても置換されていてもよいと明示されている場合には、その任意
に存在する置換基は、殺虫／医薬化合物の修飾および／または開発に通常用いら
れている基であればどれでもよく、特に、本発明の化合物に付随する除草活性を
維持もしくは増強する置換基、またはそのような除草化合物の作用の持続性、土
壌もしくは植物浸透性、もしくはその他の任意の望ましい特性に影響を及ぼす置
換基である。分子の各部分に同一または異なる置換基が１つ以上存在しうる。
に存在する置換基は、殺虫／医薬化合物の修飾および／または開発に通常用いら
れている基であればどれでもよく、特に、本発明の化合物に付随する除草活性を
維持もしくは増強する置換基、またはそのような除草化合物の作用の持続性、土
壌もしくは植物浸透性、もしくはその他の任意の望ましい特性に影響を及ぼす置
換基である。分子の各部分に同一または異なる置換基が１つ以上存在しうる。
【００１１】 置換されていてもよいアルキル基またはシクロアルキル基を含むものとして上
記で定義した基に関し、そのような置換基の特定の例としては、フェニル、ハロ
ゲン原子、ニトロ、シアノ、ヒドロキシル、C1-4アルコキシ、C1-4ハロアルコキ
シおよびC1-4アルコキシカルボニル基が挙げられる。
記で定義した基に関し、そのような置換基の特定の例としては、フェニル、ハロ
ゲン原子、ニトロ、シアノ、ヒドロキシル、C1-4アルコキシ、C1-4ハロアルコキ
シおよびC1-4アルコキシカルボニル基が挙げられる。
【００１２】 置換されていてもよいフェニル基またはヘテロアリール基を含むものとして上
記で定義した基に関し、任意の置換基としては、ハロゲン、特にフッ素原子、塩
素原子および臭素原子、ならびにニトロ、シアノ、アミノ、ヒドロキシル、C1-4 アルキル、C1-4アルコキシ、C1-4ハロアルキル、C1-4ハロアルコキシ、C1-4ハロ
アルキルチオおよびハロスルファニル基(例えばSF5など)が挙げられる。１〜５
個の置換基を用いるのが適しており、１〜２個の置換基が好ましい。典型的には
、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基およびハロアルキルチオ基は、トリフルオ
ロメチル基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基およびトリフルオ
ロメチルチオ基である。
記で定義した基に関し、任意の置換基としては、ハロゲン、特にフッ素原子、塩
素原子および臭素原子、ならびにニトロ、シアノ、アミノ、ヒドロキシル、C1-4 アルキル、C1-4アルコキシ、C1-4ハロアルキル、C1-4ハロアルコキシ、C1-4ハロ
アルキルチオおよびハロスルファニル基(例えばSF5など)が挙げられる。１〜５
個の置換基を用いるのが適しており、１〜２個の置換基が好ましい。典型的には
、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基およびハロアルキルチオ基は、トリフルオ
ロメチル基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基およびトリフルオ
ロメチルチオ基である。
【００１３】 基本的に、特に指定しない限り、本明細書で基または部分に関して使用される
アルキルという用語は、直鎖状または分枝状の基または部分を意味する。原則と
して、そのような基は、10個以下、特に６個以下の炭素原子を有する。適切には
アルキル基は１〜６個の炭素原子を有し、好ましくは１〜３個の炭素原子を有す
る。好ましいアルキル基はメチルであり、あるいは特にエチル基である。
アルキルという用語は、直鎖状または分枝状の基または部分を意味する。原則と
して、そのような基は、10個以下、特に６個以下の炭素原子を有する。適切には
アルキル基は１〜６個の炭素原子を有し、好ましくは１〜３個の炭素原子を有す
る。好ましいアルキル基はメチルであり、あるいは特にエチル基である。
【００１４】 基本的に、特に指定しない限り、本明細書で基または部分に関して使用される
シクロアルキルという用語は、10個以下、特に８個以下の炭素原子を有するシク
ロアルキル基を意味する。適切にはシクロアルキル基は３〜６個の炭素原子を有
し、好ましくは３〜６個の炭素原子を有する。好ましいシクロアルキル基はシク
ロプロピル、シクロペンチルおよびシクロヘキシル基である。
シクロアルキルという用語は、10個以下、特に８個以下の炭素原子を有するシク
ロアルキル基を意味する。適切にはシクロアルキル基は３〜６個の炭素原子を有
し、好ましくは３〜６個の炭素原子を有する。好ましいシクロアルキル基はシク
ロプロピル、シクロペンチルおよびシクロヘキシル基である。
【００１５】 基本的に、特に指定しない限り、本明細書で基または部分に関して使用される
ヘテロアリールという用語は、窒素を含有する５員または６員のヘテロ芳香族基
もしくはヘテロ芳香族部分を意味する。原則として、そのような基は、少なくと
も１個の窒素原子を有し、５員の基の場合には任意に１個の酸素原子または硫黄
原子を有する。ヘテロアリールは、好ましくは、５員のアゾール、ジアゾール、
トリアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、特にピロールお
よびピラゾール、ならびに６員のアジンおよびジアジン、特にピリジン、ピリミ
ジン、ピリダジンおよびピラジンから選択される。
ヘテロアリールという用語は、窒素を含有する５員または６員のヘテロ芳香族基
もしくはヘテロ芳香族部分を意味する。原則として、そのような基は、少なくと
も１個の窒素原子を有し、５員の基の場合には任意に１個の酸素原子または硫黄
原子を有する。ヘテロアリールは、好ましくは、５員のアゾール、ジアゾール、
トリアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、特にピロールお
よびピラゾール、ならびに６員のアジンおよびジアジン、特にピリジン、ピリミ
ジン、ピリダジンおよびピラジンから選択される。
【００１６】 好ましい実施形態においては、R1は、置換されていてもよいフェニル、ピリジ
-3-イル、ピリダジン-2-イル、ピラジン-3-イル、チアゾール-2-イル、オキサゾ
ール-2-イル、1,3,4-チアジアゾール-2-イル、1,2,4-オキサジアゾール-2-イル
、1,3,4-オキサジアゾール-2-イル、ピラゾール-1-イルまたはC3-6シクロアルキ
ル基である。
-3-イル、ピリダジン-2-イル、ピラジン-3-イル、チアゾール-2-イル、オキサゾ
ール-2-イル、1,3,4-チアジアゾール-2-イル、1,2,4-オキサジアゾール-2-イル
、1,3,4-オキサジアゾール-2-イル、ピラゾール-1-イルまたはC3-6シクロアルキ
ル基である。
【００１７】 好ましい実施形態においては、R2は、置換されていてもよいフェニル、ピリジ
-2-イル、ピリジ-3-イル、ピリジ-4-イル、ピラゾール-5-イル、ピリダジン-2-
イルまたはC3-6シクロアルキル基である。
-2-イル、ピリジ-3-イル、ピリジ-4-イル、ピラゾール-5-イル、ピリダジン-2-
イルまたはC3-6シクロアルキル基である。
【００１８】 基R1およびR2は、それぞれ独立に、１個以上のアルキル基、フルオロアルキル
基、アルコキシ基またはフルオロアルキル基で置換されているのが好ましい。
基、アルコキシ基またはフルオロアルキル基で置換されているのが好ましい。
【００１９】 適当な塩基は、有機または無機の弱塩基、好ましくは炭酸水素アルカリ（例え
ば炭酸水素ナトリウム）、炭酸アルカリ（例えば炭酸カリウムまたは炭酸ナトリ
ウム）、および第３級アミン（例えばピリジンまたはトリエチルアミン）である
。
ば炭酸水素ナトリウム）、炭酸アルカリ（例えば炭酸カリウムまたは炭酸ナトリ
ウム）、および第３級アミン（例えばピリジンまたはトリエチルアミン）である
。
【００２０】 本発明の方法のさらに好ましい実施形態は、 ・反応を、炭酸アルカリおよび第３級アミンからなる群より選択される塩基、特
に炭酸カリウムまたは炭酸ナトリウムの存在下で行う方法、 ・式IIで表されるアミジンと式IIIで表される3,3-二置換ビニルカルボニル化合
物とのモル比が１：５〜１：0.5、特に１：1.5〜１：0.7、最も好ましくは１：1
.1〜１：0.9である方法、 ・反応工程が、実質的に式IIで表されるアミジンと、式IIIで表される3,3-二置
換ビニルカルボニル化合物と、不活性希釈剤と、塩基と、置換されていてもよい
アルコール、チオアルコール、フェノールまたはチオフェノールとからなる混合
物を、０℃〜150℃、好ましくは60℃〜145℃、特に80〜140℃、最も好ましくは
希釈剤の沸点付近の温度で撹拌することをさらに含む方法、 ・不活性希釈剤が、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン
、シクロヘキサン、ジクロロメタン、テトラクロロメタン、ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、2,2-ジメトキシプロパ
ン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロ
ピラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、
ジメチルスルホキシドおよびジオキサンならびにそれらの混合物からなる群より
選択され、特にトルエン、ジメトキシエタンまたはアセトニトリルである方法、 ・R1が、少なくとも１個のハロゲン原子または少なくとも１個のアルキル基、ア
ルコキシ基、ハロアルキル基もしくはハロアルコキシ基で置換されたフェニル基
であり、特に、１個もしくは２個の塩素原子もしくはフッ素原子、または１個も
しくは２個のC1-4アルキル基、C1-4アルコキシ基、C1-4フルオロアルキル基もし
くはC1-4フルオロアルコキシ基で置換されたフェニル基であり、最も好ましくは
R1が4-トリフルオロメチルフェニル基、ジフルオロメトキシピリジ-2-イルまた
は1-メチル-3-トリフルオロメチルピラゾール-5-イル基である方法、 ・R1およびR2が、それぞれ独立に、少なくとも１個のハロゲン原子および／また
は少なくとも１個のアルキル基、アルコキシ基、ハロアルキル基もしくはハロア
ルコキシ基で置換されたフェニル基であり、ＸがＯであり、そして反応工程を、
少なくとも１個のハロゲン原子および／または少なくとも１個のアルキル基、ア
ルコキシ基、ハロアルキル基もしくはハロアルコキシ基で置換されたフェノール
、特に１個もしくは２個の塩素原子もしくはフッ素原子、または１個もしくは２
個のC1-4アルキル基、C1-4アルコキシ基、C1-4フルオロアルキル基もしくはC1-4 フルオロアルコキシ基で置換されたフェノール、最も好ましくは3-トリフルオロ
メチルフェノールの存在下で行なうことを含む方法、 ・式IIIで表される3,3-二置換ビニルカルボニル化合物が3,3-ジクロロアクロレ
インである方法、 である。
に炭酸カリウムまたは炭酸ナトリウムの存在下で行う方法、 ・式IIで表されるアミジンと式IIIで表される3,3-二置換ビニルカルボニル化合
物とのモル比が１：５〜１：0.5、特に１：1.5〜１：0.7、最も好ましくは１：1
.1〜１：0.9である方法、 ・反応工程が、実質的に式IIで表されるアミジンと、式IIIで表される3,3-二置
換ビニルカルボニル化合物と、不活性希釈剤と、塩基と、置換されていてもよい
アルコール、チオアルコール、フェノールまたはチオフェノールとからなる混合
物を、０℃〜150℃、好ましくは60℃〜145℃、特に80〜140℃、最も好ましくは
希釈剤の沸点付近の温度で撹拌することをさらに含む方法、 ・不活性希釈剤が、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン
、シクロヘキサン、ジクロロメタン、テトラクロロメタン、ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、2,2-ジメトキシプロパ
ン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロ
ピラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、
ジメチルスルホキシドおよびジオキサンならびにそれらの混合物からなる群より
選択され、特にトルエン、ジメトキシエタンまたはアセトニトリルである方法、 ・R1が、少なくとも１個のハロゲン原子または少なくとも１個のアルキル基、ア
ルコキシ基、ハロアルキル基もしくはハロアルコキシ基で置換されたフェニル基
であり、特に、１個もしくは２個の塩素原子もしくはフッ素原子、または１個も
しくは２個のC1-4アルキル基、C1-4アルコキシ基、C1-4フルオロアルキル基もし
くはC1-4フルオロアルコキシ基で置換されたフェニル基であり、最も好ましくは
R1が4-トリフルオロメチルフェニル基、ジフルオロメトキシピリジ-2-イルまた
は1-メチル-3-トリフルオロメチルピラゾール-5-イル基である方法、 ・R1およびR2が、それぞれ独立に、少なくとも１個のハロゲン原子および／また
は少なくとも１個のアルキル基、アルコキシ基、ハロアルキル基もしくはハロア
ルコキシ基で置換されたフェニル基であり、ＸがＯであり、そして反応工程を、
少なくとも１個のハロゲン原子および／または少なくとも１個のアルキル基、ア
ルコキシ基、ハロアルキル基もしくはハロアルコキシ基で置換されたフェノール
、特に１個もしくは２個の塩素原子もしくはフッ素原子、または１個もしくは２
個のC1-4アルキル基、C1-4アルコキシ基、C1-4フルオロアルキル基もしくはC1-4 フルオロアルコキシ基で置換されたフェノール、最も好ましくは3-トリフルオロ
メチルフェノールの存在下で行なうことを含む方法、 ・式IIIで表される3,3-二置換ビニルカルボニル化合物が3,3-ジクロロアクロレ
インである方法、 である。
【００２１】 式IIで表される化合物またはその塩は、好ましくは置換されていてもよいベン
ズアミジンまたはベンズアミジニウム塩であり、最も好ましくは4-トリフルオロ
メチルベンズアミジンであり、これは市販の置換されていてもよいベンゾニトリ
ル、特に4-トリフルオロメチルベンゾニトリルから、アンモニアまたはアンモニ
ウム塩の付加により調製しうる。
ズアミジンまたはベンズアミジニウム塩であり、最も好ましくは4-トリフルオロ
メチルベンズアミジンであり、これは市販の置換されていてもよいベンゾニトリ
ル、特に4-トリフルオロメチルベンゾニトリルから、アンモニアまたはアンモニ
ウム塩の付加により調製しうる。
【００２２】 好ましいベンズアミジニウム塩は、塩化物、硫酸塩、硝酸塩およびカルボン酸
塩であり、特に酢酸塩およびチオグリコール酸塩である。
塩であり、特に酢酸塩およびチオグリコール酸塩である。
【００２３】 式IIIにおいてＬがハロゲン原子である3,3-二置換ビニルカルボニルは市販さ
れており、あるいはテトラハロメタンとビニルエーテルとの反応により調製しう
る。
れており、あるいはテトラハロメタンとビニルエーテルとの反応により調製しう
る。
【００２４】 本発明の好ましい実施形態においては、この反応で得られる1,1,1,3-テトラハ
ロ-3-アルコキシプロパンをin-situで加水分解することにより式IIIで表される
対応するビニルカルボニル化合物を得ることができ、次いで好ましくはさらなる
単離工程および／または精製工程を行わずに、すなわちワンポット合成で式IIで
表される化合物と反応させる。
ロ-3-アルコキシプロパンをin-situで加水分解することにより式IIIで表される
対応するビニルカルボニル化合物を得ることができ、次いで好ましくはさらなる
単離工程および／または精製工程を行わずに、すなわちワンポット合成で式IIで
表される化合物と反応させる。
【００２５】 式IIIにおいてＬが式-X-R2で表される基である3,3-二置換ビニルカルボニルは
、式IIIにおいてＬがハロゲン原子である化合物と、式IV H-X-R2 (IV) で表される化合物とを、任意に塩基の存在下で反応させることにより調製できる
。
、式IIIにおいてＬがハロゲン原子である化合物と、式IV H-X-R2 (IV) で表される化合物とを、任意に塩基の存在下で反応させることにより調製できる
。
【００２６】 原則として、式IIで表されるアミジンと、式IIIで表される3,3-二置換ビニル
カルボニル化合物と、任意成分であるアルコール、フェノール、チオアルコール
またはチオフェノールとの反応は、高温、好ましくは35〜150℃、特に80〜145℃
、最も好ましくは希釈剤の沸点にて行われる。
カルボニル化合物と、任意成分であるアルコール、フェノール、チオアルコール
またはチオフェノールとの反応は、高温、好ましくは35〜150℃、特に80〜145℃
、最も好ましくは希釈剤の沸点にて行われる。
【００２７】 得られた粗生成物は、標準的な方法、例えば減圧蒸留、クロマトグラフ法また
は結晶化によって精製できる。
は結晶化によって精製できる。
【００２８】 反応は、原則として５〜50時間以内、特に10〜25時間以内に完了する。
【００２９】 本発明の方法の特に好ましい実施形態においては、任意に不活性希釈剤、特に
アセトニトリルで希釈した3,3-ジクロロアクロレイン(1モル)を、式IIにおいてR 1 が置換されていてもよいフェニル基であるベンズアミジン、特に4-トリフルオ
ロメチルベンズアミジン(1モル)、置換されていてもよいフェノール、特に3-ト
リフルオロメチルフェノール(1.1モル)、炭酸カリウム(3〜5モル)および希釈剤
からなる混合物に還流下で攪拌しながら添加する。反応混合物を還流しながら10
〜40時間攪拌し、次いで周囲温度まで冷却し、濾過する。有機相を減圧濃縮する
。残留物を有機溶媒で洗浄し、溶媒を蒸留除去する。残留物をクロマトグラフィ
ーで精製する。
アセトニトリルで希釈した3,3-ジクロロアクロレイン(1モル)を、式IIにおいてR 1 が置換されていてもよいフェニル基であるベンズアミジン、特に4-トリフルオ
ロメチルベンズアミジン(1モル)、置換されていてもよいフェノール、特に3-ト
リフルオロメチルフェノール(1.1モル)、炭酸カリウム(3〜5モル)および希釈剤
からなる混合物に還流下で攪拌しながら添加する。反応混合物を還流しながら10
〜40時間攪拌し、次いで周囲温度まで冷却し、濾過する。有機相を減圧濃縮する
。残留物を有機溶媒で洗浄し、溶媒を蒸留除去する。残留物をクロマトグラフィ
ーで精製する。
【００３０】 本発明の方法により得られる式Ｉで表される化合物は一部は公知であり、一部
は新規である。本発明は、式IA
は新規である。本発明は、式IA
【化８】 （式中、 R3およびR4は、式Ｉで定義したとおりであり、 R1は、置換されていてもよいC3-8シクロアルキル基またはピラジン-2-イル基
であり、 R5は、ハロゲン原子またはハロアルキル基もしくはハロアルコキシ基であり、 W-Vは、N-CH、S-CH、N-CH-CH、CH-CH-CHまたはN-N(R6)（ここでR6はC1-4アル
キル基である。）である。） で表される新規化合物にも関する。
であり、 R5は、ハロゲン原子またはハロアルキル基もしくはハロアルコキシ基であり、 W-Vは、N-CH、S-CH、N-CH-CH、CH-CH-CHまたはN-N(R6)（ここでR6はC1-4アル
キル基である。）である。） で表される新規化合物にも関する。
【００３１】 本発明のさらなる理解を容易にするために、以下に実施例を示す。本発明は、
記載または例示した特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲
の全範囲を包含する。
記載または例示した特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲
の全範囲を包含する。
【００３２】実施例１ 4-(3-トリフルオロメチルフェノキシ)-2-(4-トリフルオロメチルフェニル)-ピリ ミジンの製造 アセトニトリル(50ml)で希釈した3,3-ジクロロアクロレイン(10ミリモル)を、
4-トリフルオロメチルベンズアミジン(10ミリモル)、3-トリフルオロメチルフェ
ノール(11ミリモル)、炭酸カリウム(40ミリモル)およびアセトニトリル(100ml)
からなる混合物に還流下で攪拌しながらゆっくり添加した。3,3-ジクロロアクロ
レインの添加が完了したら、さらに4-トリフルオロメチルベンズアミジン(0.5ミ
リモル)を添加した。反応混合物を還流しながら20時間攪拌し、次いで周囲温度
まで冷却してシリカを通して濾過した。有機相を酢酸エチルで洗浄し、減圧濃縮
した。残留物をAl2O3でのクロマトグラフィー(石油エーテル／酢酸エチル：２／
１)により精製し、融点66〜67℃の純粋な生成物3.25g(85％)を得た。
4-トリフルオロメチルベンズアミジン(10ミリモル)、3-トリフルオロメチルフェ
ノール(11ミリモル)、炭酸カリウム(40ミリモル)およびアセトニトリル(100ml)
からなる混合物に還流下で攪拌しながらゆっくり添加した。3,3-ジクロロアクロ
レインの添加が完了したら、さらに4-トリフルオロメチルベンズアミジン(0.5ミ
リモル)を添加した。反応混合物を還流しながら20時間攪拌し、次いで周囲温度
まで冷却してシリカを通して濾過した。有機相を酢酸エチルで洗浄し、減圧濃縮
した。残留物をAl2O3でのクロマトグラフィー(石油エーテル／酢酸エチル：２／
１)により精製し、融点66〜67℃の純粋な生成物3.25g(85％)を得た。
【００３３】 同様にして、 3-メチル-4-(3-トリフルオロメチルフェノキシ)-2-(4-トリフルオロメチルフ
ェニル)-ピリミジン、 5-メチル-4-(3-トリフルオロメチルフェノキシ)-2-(4-トリフルオロメチルフ
ェニル)-ピリミジン、 4-フェノキシ-2-(4-トリフルオロメチルフェニル)-ピリミジン、 を製造した。
ェニル)-ピリミジン、 5-メチル-4-(3-トリフルオロメチルフェノキシ)-2-(4-トリフルオロメチルフ
ェニル)-ピリミジン、 4-フェノキシ-2-(4-トリフルオロメチルフェニル)-ピリミジン、 を製造した。
【００３４】実施例２〜８ 4-(3-トリフルオロメチルフェノキシ)-2-(4-トリフルオロメチルフェニル)-ピリ ミジンの製造 実施例１と同様に、4-トリフルオロメチルベンズアミジンまたはその塩を、3,
3-ジクロロアクロレインと、3-トリフルオロメチルフェノールの存在下、異なる
溶媒中、異なる温度にて反応させた。
3-ジクロロアクロレインと、3-トリフルオロメチルフェノールの存在下、異なる
溶媒中、異なる温度にて反応させた。
【００３５】 反応物および溶媒、反応温度および収率を表１に示す。表１では下記の略号を
使用している： TFBA：4-トリフルオロメチルベンズアミジン TFBA＊HCl：4-トリフルオロメチルベンズアミジン塩酸塩 TFBA＊Ac：4-トリフルオロメチルベンズアミジニウム酢酸塩 TFBA＊TG：4-トリフルオロメチルベンズアミジニウムチオグリコール酸塩 TBME：tert-ブチルメチルエーテル DME：ジメトキシエタン
使用している： TFBA：4-トリフルオロメチルベンズアミジン TFBA＊HCl：4-トリフルオロメチルベンズアミジン塩酸塩 TFBA＊Ac：4-トリフルオロメチルベンズアミジニウム酢酸塩 TFBA＊TG：4-トリフルオロメチルベンズアミジニウムチオグリコール酸塩 TBME：tert-ブチルメチルエーテル DME：ジメトキシエタン
【００３６】
【表１】
【００３７】実施例９ 4-(3-トリフルオロメチルフェノキシ)-2-(4-トリフルオロメチルフェニル)-ピリ ミジンの製造 3,3-ビス-(3-トリフルオロメチルフェノキシ)-アクロレイン(10ミリモル)、4-
トリフルオロメチルベンズアミジン(10ミリモル)、炭酸カリウム(10ミリモル)お
よびアセトニトリル(100ml)からなる混合物を、80℃で4時間攪拌した。反応混合
物を周囲温度まで冷却し、シリカを通して濾過した。有機相を酢酸エチルで洗浄
し、減圧濃縮した。残留物をAl2O3でのクロマトグラフィー(石油エーテル／酢酸
エチル：２／１)により精製し、融点66℃の純粋な生成物3.06g(80％)を得た。
トリフルオロメチルベンズアミジン(10ミリモル)、炭酸カリウム(10ミリモル)お
よびアセトニトリル(100ml)からなる混合物を、80℃で4時間攪拌した。反応混合
物を周囲温度まで冷却し、シリカを通して濾過した。有機相を酢酸エチルで洗浄
し、減圧濃縮した。残留物をAl2O3でのクロマトグラフィー(石油エーテル／酢酸
エチル：２／１)により精製し、融点66℃の純粋な生成物3.06g(80％)を得た。
【００３８】実施例10 4-(3-トリフルオロメチルフェノキシ)-2-(4-トリフルオロメチルフェニル)-ピリ ミジンの製造 4-トリフルオロメチルベンズアミジニウム酢酸塩(5ミリモル)、炭酸ナトリウ
ム(40ミリモル)およびアセトニトリル(35ml)からなる混合物に、還流下で攪拌し
ながら3-トリフルオロメチルフェノール(5ミリモル)を添加し、次いで3,3-ジク
ロロアクロレイン(5ミリモル）を添加した。反応混合物を還流しながら20時間攪
拌し、次いで周囲温度まで冷却し、シリカを通して濾過した。有機相を酢酸エチ
ルで洗浄し、減圧濃縮した。残留物をAl2O3でのクロマトグラフィー(石油エーテ
ル／酢酸エチル：２／１)により精製し、融点66〜67℃の純粋な生成物1.1g(60％
)を得た。
ム(40ミリモル)およびアセトニトリル(35ml)からなる混合物に、還流下で攪拌し
ながら3-トリフルオロメチルフェノール(5ミリモル)を添加し、次いで3,3-ジク
ロロアクロレイン(5ミリモル）を添加した。反応混合物を還流しながら20時間攪
拌し、次いで周囲温度まで冷却し、シリカを通して濾過した。有機相を酢酸エチ
ルで洗浄し、減圧濃縮した。残留物をAl2O3でのクロマトグラフィー(石油エーテ
ル／酢酸エチル：２／１)により精製し、融点66〜67℃の純粋な生成物1.1g(60％
)を得た。
【００３９】実施例11 4-(3-トリフルオロメチルフェノキシ)-2-(4-トリフルオロメチルフェニル)-ピリ ミジンの増大された製造 水(20ミリモル)を、1,1,1,3-テトラクロロ-3-エトキシプロパン(10ミリモル)
をジメトキシエタン(25ml)に溶かした溶液に添加した。反応混合物を還流しなが
ら２時間攪拌した。得られた混合物を、4-トリフルオロメチルベンズアミジン塩
酸塩(10ミリモル)、3-トリフルオロメチルフェノール(11ミリモル)、炭酸カリウ
ム(60ミリモル)およびジメトキシエタン(50ml)からなる混合物に還流下で攪拌し
ながらゆっくり添加した。3,3-ジクロロアクロレイン溶液の添加が完了したら、
さらに4-トリフルオロメチルベンズアミジン塩酸塩(1ミリモル)を添加した。反
応混合物を還流しながら２時間攪拌し、次いで周囲温度まで冷却し、シリカを通
して濾過し、有機相を減圧濃縮した。残留物をSiO2でのクロマトグラフィー(石
油エーテル／ジイソプロピルエーテル：６／１)により精製し、融点66〜67℃の
生成物3.07g(80％)を得た。
をジメトキシエタン(25ml)に溶かした溶液に添加した。反応混合物を還流しなが
ら２時間攪拌した。得られた混合物を、4-トリフルオロメチルベンズアミジン塩
酸塩(10ミリモル)、3-トリフルオロメチルフェノール(11ミリモル)、炭酸カリウ
ム(60ミリモル)およびジメトキシエタン(50ml)からなる混合物に還流下で攪拌し
ながらゆっくり添加した。3,3-ジクロロアクロレイン溶液の添加が完了したら、
さらに4-トリフルオロメチルベンズアミジン塩酸塩(1ミリモル)を添加した。反
応混合物を還流しながら２時間攪拌し、次いで周囲温度まで冷却し、シリカを通
して濾過し、有機相を減圧濃縮した。残留物をSiO2でのクロマトグラフィー(石
油エーテル／ジイソプロピルエーテル：６／１)により精製し、融点66〜67℃の
生成物3.07g(80％)を得た。
【００４０】実施例12 2-(4-クロロフェニル)-4-(3-トリフルオロメチルフェノキシ)ピリミジンの製造 ジメトキシエタン(35ml)で希釈した3,3-ジクロロアクロレイン(10ミリモル)を
、4-クロロベンズアミジン塩酸塩(10ミリモル)、3-トリフルオロメチルフェノー
ル(11ミリモル)、炭酸カリウム(40ミリモル)およびジメトキシエタン(40ml)から
なる混合物に還流下で攪拌しながらゆっくり添加した。3,3-ジクロロアクロレイ
ンの添加が完了したら、さらに4-クロロベンズアミジン塩酸塩(1ミリモル)を添
加した。反応混合物を還流しながら３時間攪拌し、次いで周囲温度まで一晩にわ
たり冷却し、シリカを通して濾過した。有機相を減圧濃縮した。残留物をAl2O3
でのクロマトグラフィー(石油エーテル／酢酸エチル：20／１)により精製し、融
点92℃の純粋な生成物2.79g(80％)を得た。
、4-クロロベンズアミジン塩酸塩(10ミリモル)、3-トリフルオロメチルフェノー
ル(11ミリモル)、炭酸カリウム(40ミリモル)およびジメトキシエタン(40ml)から
なる混合物に還流下で攪拌しながらゆっくり添加した。3,3-ジクロロアクロレイ
ンの添加が完了したら、さらに4-クロロベンズアミジン塩酸塩(1ミリモル)を添
加した。反応混合物を還流しながら３時間攪拌し、次いで周囲温度まで一晩にわ
たり冷却し、シリカを通して濾過した。有機相を減圧濃縮した。残留物をAl2O3
でのクロマトグラフィー(石油エーテル／酢酸エチル：20／１)により精製し、融
点92℃の純粋な生成物2.79g(80％)を得た。
【００４１】実施例13 4-(3-トリフルオロメチルフェノキシ)-2-(4-フルオロフェニル)ピリミジンの製
造 ジメトキシエタン(35ml)で希釈した3,3-ジクロロアクロレイン(10ミリモル)を
、4-フルオロベンズアミジン酢酸塩(10ミリモル)、3-トリフルオロメチルフェノ
ール(11ミリモル)、炭酸カリウム(40ミリモル)およびジメトキシエタン(40ml)か
らなる混合物に還流下で攪拌しながらゆっくり添加した。3,3-ジクロロアクロレ
インの添加が完了したら、さらに4-フルオロベンズアミジン酢酸塩(1ミリモル)
を添加した。反応混合物を還流しながら３時間攪拌し、次いで周囲温度まで一晩
にわたり冷却し、シリカを通して濾過した。有機相を減圧濃縮した。残留物をAl 2 O3でのクロマトグラフィー(石油エーテル／酢酸エチル：20／１)により精製し
、融点52℃の純粋な生成物2.52g(75％)を得た。
造 ジメトキシエタン(35ml)で希釈した3,3-ジクロロアクロレイン(10ミリモル)を
、4-フルオロベンズアミジン酢酸塩(10ミリモル)、3-トリフルオロメチルフェノ
ール(11ミリモル)、炭酸カリウム(40ミリモル)およびジメトキシエタン(40ml)か
らなる混合物に還流下で攪拌しながらゆっくり添加した。3,3-ジクロロアクロレ
インの添加が完了したら、さらに4-フルオロベンズアミジン酢酸塩(1ミリモル)
を添加した。反応混合物を還流しながら３時間攪拌し、次いで周囲温度まで一晩
にわたり冷却し、シリカを通して濾過した。有機相を減圧濃縮した。残留物をAl 2 O3でのクロマトグラフィー(石油エーテル／酢酸エチル：20／１)により精製し
、融点52℃の純粋な生成物2.52g(75％)を得た。
【００４２】実施例14 2-シクロプロピル-4-(3-トリフルオロメチルフェノキシ)ピリミジンの製造 ジメトキシエタン(35ml)で希釈した3,3-ジクロロアクロレイン(10ミリモル)を
、シクロプロピルカルバミジン塩酸塩(10ミリモル)、3-トリフルオロメチルフェ
ノール(11ミリモル)、炭酸カリウム(40ミリモル)およびジメトキシエタン(40ml)
からなる混合物に還流下で攪拌しながらゆっくり添加した。3,3-ジクロロアクロ
レインの添加が完了したら、さらにシクロプロピルカルバミジン塩酸塩(1ミリモ
ル)を添加した。反応混合物を還流しながら３時間攪拌し、次いで周囲温度まで
一晩にわたり冷却し、シリカを通して濾過した。有機相を減圧濃縮した。残留物
をAl2O3でのクロマトグラフィー(石油エーテル／酢酸エチル：20／１)により精
製し、無色の液体として純粋な生成物2.1g(75％)を得た。1H NMR(CDCl3)：δ＝2
.10ppm(m, N=C(=N)-CH)。
、シクロプロピルカルバミジン塩酸塩(10ミリモル)、3-トリフルオロメチルフェ
ノール(11ミリモル)、炭酸カリウム(40ミリモル)およびジメトキシエタン(40ml)
からなる混合物に還流下で攪拌しながらゆっくり添加した。3,3-ジクロロアクロ
レインの添加が完了したら、さらにシクロプロピルカルバミジン塩酸塩(1ミリモ
ル)を添加した。反応混合物を還流しながら３時間攪拌し、次いで周囲温度まで
一晩にわたり冷却し、シリカを通して濾過した。有機相を減圧濃縮した。残留物
をAl2O3でのクロマトグラフィー(石油エーテル／酢酸エチル：20／１)により精
製し、無色の液体として純粋な生成物2.1g(75％)を得た。1H NMR(CDCl3)：δ＝2
.10ppm(m, N=C(=N)-CH)。
【００４３】実施例15 2-(4-フルオロフェニル)-4-(5-トリフルオロメチル-2-メチルピラゾール-3-イル オキシ)ピリミジンの製造 水(20ミリモル)を、1,1,1,3-テトラクロロ-3-エトキシプロパン(10ミリモル)
をジメトキシエタン(25ml)に溶かした溶液に添加した。反応混合物を40℃で6.5
時間攪拌した。得られた混合物を、4-フルオロベンズアミジン塩酸塩(10ミリモ
ル)、4-トリフルオロメチル-2-メチルピラゾール-1-オン(11ミリモル)、炭酸カ
リウム(60ミリモル)およびジメトキシエタン(50ml)からなる混合物に還流下で攪
拌しながらゆっくり添加した。3,3-ジクロロアクロレイン溶液の添加が完了した
ら、さらに4-フルオロベンズアミジン塩酸塩(0.5ミリモル)を添加した。反応混
合物を還流しながら２時間攪拌し、次いで周囲温度まで冷却し、シリカを通して
濾過し、有機相を減圧濃縮した。残留物をSiO2でのクロマトグラフィー(石油エ
ーテル／酢酸エチル：２／１)により精製し、融点101〜102℃のベージュ色の結
晶1.40g(46％)を得た。
をジメトキシエタン(25ml)に溶かした溶液に添加した。反応混合物を40℃で6.5
時間攪拌した。得られた混合物を、4-フルオロベンズアミジン塩酸塩(10ミリモ
ル)、4-トリフルオロメチル-2-メチルピラゾール-1-オン(11ミリモル)、炭酸カ
リウム(60ミリモル)およびジメトキシエタン(50ml)からなる混合物に還流下で攪
拌しながらゆっくり添加した。3,3-ジクロロアクロレイン溶液の添加が完了した
ら、さらに4-フルオロベンズアミジン塩酸塩(0.5ミリモル)を添加した。反応混
合物を還流しながら２時間攪拌し、次いで周囲温度まで冷却し、シリカを通して
濾過し、有機相を減圧濃縮した。残留物をSiO2でのクロマトグラフィー(石油エ
ーテル／酢酸エチル：２／１)により精製し、融点101〜102℃のベージュ色の結
晶1.40g(46％)を得た。
【００４４】実施例16 4-(2-ジフルオロメトキシピリジン-4-イルオキシ)-2-(ピラジン-2-イル)-ピリミ ジンの製造 水(20ミリモル)を、1,1,1,3-テトラクロロ-3-エトキシプロパン(10ミリモル)
をジメトキシエタン(25ml)に溶かした溶液に添加した。混合物を60℃で２時間攪
拌した。得られた混合物を、ピラジン-2-カルボキサミジン塩酸塩(10ミリモル)
、2-ジフルオロメトキシピリジン-4-オール(10ミリモル)、炭酸カリウム(60ミリ
モル)およびジメトキシエタン(50ml)からなる混合物に還流下で攪拌しながらゆ
っくり添加した。3,3-ジクロロアクロレイン溶液の添加が完了したら、さらにピ
ラジン-2-カルボキサミジン塩酸塩(0.5ミリモル)を添加した。反応混合物を還流
しながら２時間攪拌し、次いで周囲温度まで冷却し、シリカを通して濾過し、有
機相を減圧濃縮した。残留物をSiO2でのクロマトグラフィー(酢酸エチル)により
精製し、融点128〜129℃のベージュ色の結晶2.60g(82％)を得た。
をジメトキシエタン(25ml)に溶かした溶液に添加した。混合物を60℃で２時間攪
拌した。得られた混合物を、ピラジン-2-カルボキサミジン塩酸塩(10ミリモル)
、2-ジフルオロメトキシピリジン-4-オール(10ミリモル)、炭酸カリウム(60ミリ
モル)およびジメトキシエタン(50ml)からなる混合物に還流下で攪拌しながらゆ
っくり添加した。3,3-ジクロロアクロレイン溶液の添加が完了したら、さらにピ
ラジン-2-カルボキサミジン塩酸塩(0.5ミリモル)を添加した。反応混合物を還流
しながら２時間攪拌し、次いで周囲温度まで冷却し、シリカを通して濾過し、有
機相を減圧濃縮した。残留物をSiO2でのクロマトグラフィー(酢酸エチル)により
精製し、融点128〜129℃のベージュ色の結晶2.60g(82％)を得た。
【００４５】実施例17 4-(3-トリフルオロメチルフェノキシ)-2-(3,5-ジメチルピラゾール-1-イル)-ピ
リミジンの製造 水(20ミリモル)を、1,1,1,3-テトラクロロ-3-エトキシプロパン(10ミリモル)
をジメトキシエタン(25ml)に溶かした溶液に添加した。混合物を90℃で２時間攪
拌した。得られた混合物を、3,5-ジメチルピラゾール-1-カルボキサミジン硝酸
塩(10ミリモル)、3-トリフルオロメチルフェノール(10ミリモル)、炭酸カリウム
(60ミリモル)およびジメトキシエタン(50ml)からなる混合物に還流下で攪拌しな
がらゆっくり添加した。3,3-ジクロロアクロレイン溶液の添加が完了したら、さ
らに3,5-ジメチルピラゾール-1-カルボキサミジン硝酸塩(0.5ミリモル)を添加し
た。反応混合物を還流しながら10時間攪拌し、次いで周囲温度まで冷却し、シリ
カを通して濾過し、有機相を減圧濃縮した。残留物をSiO2でのクロマトグラフィ
ー(酢酸エチル)により精製し、黄色の固体2.2gを得た。この固体を石油エーテル
(50ml)で洗浄し、融点101〜102℃の無色の結晶1.75g(52％)を得た。
リミジンの製造 水(20ミリモル)を、1,1,1,3-テトラクロロ-3-エトキシプロパン(10ミリモル)
をジメトキシエタン(25ml)に溶かした溶液に添加した。混合物を90℃で２時間攪
拌した。得られた混合物を、3,5-ジメチルピラゾール-1-カルボキサミジン硝酸
塩(10ミリモル)、3-トリフルオロメチルフェノール(10ミリモル)、炭酸カリウム
(60ミリモル)およびジメトキシエタン(50ml)からなる混合物に還流下で攪拌しな
がらゆっくり添加した。3,3-ジクロロアクロレイン溶液の添加が完了したら、さ
らに3,5-ジメチルピラゾール-1-カルボキサミジン硝酸塩(0.5ミリモル)を添加し
た。反応混合物を還流しながら10時間攪拌し、次いで周囲温度まで冷却し、シリ
カを通して濾過し、有機相を減圧濃縮した。残留物をSiO2でのクロマトグラフィ
ー(酢酸エチル)により精製し、黄色の固体2.2gを得た。この固体を石油エーテル
(50ml)で洗浄し、融点101〜102℃の無色の結晶1.75g(52％)を得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ， ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，Ｃ Ｒ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ， ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，Ｋ Ｚ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ， ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，Ｓ Ｋ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 グータイル，ディーター ドイツ連邦共和国 ディー−55545 バト クリューツナッハ，ゴッテンシュトラー セ 29 Ｆターム(参考） 4C063 AA01 AA03 BB01 BB08 CC29 CC34 DD22 DD29 EE01
Claims (12)
- 【請求項１】 式Ｉ 【化１】 （式中、 R1およびR2は、それぞれ独立に、置換されていてもよいアルキル基、シクロア
ルキル基、フェニル基またはヘテロアリール基であり、 R3およびR4は、それぞれ独立に、水素原子または置換されていてもよいアルキ
ル基もしくはフェニル基であり、 Ｘは、ＯまたはＳである。） で表される置換ピリミジンの製造方法であって、 式II 【化２】 （式中、R1は式Ｉで定義したとおりである。） で表されるアミジンまたはその塩と、式III 【化３】 （式中、R3およびR4は上記で定義したとおりであり、Ｌは、ハロゲン原子または
式-X-R2で表される基である。） で表される3,3-二置換ビニルカルボニル化合物とを、 (a) Ｌがハロゲン原子である場合には、不活性溶媒中、塩基および式IV H-X-R2 (IV) （式中、ＸおよびR2は上記で定義したとおりである。） で表される化合物の存在下にて、または (b) Ｌが式-X-R2で表される基である場合には、不活性溶媒中、塩基の存在下
にて、 反応させることを含む、上記方法。 - 【請求項２】 反応を、炭酸水素アルカリ、炭酸アルカリおよび第３級アミ
ンからなる群より選択される塩基の存在下で行う、請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 式IIで表されるアミジンと式IIIで表される3,3-二置換ビニ
ルカルボニル化合物とのモル比が１：５〜１：0.5である、請求項１に記載の方
法。 - 【請求項４】 反応工程が、実質的に式IIで表されるアミジンと、式IIIで
表される3,3-二置換ビニルカルボニル化合物と、不活性希釈剤と、塩基と、置換
されていてもよいアルコール、チオアルコール、フェノールまたはチオフェノー
ルとからなる混合物を、０℃〜150℃の温度で撹拌することをさらに含む、請求
項１に記載の方法。 - 【請求項５】 不活性希釈剤が、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、ヘキサン、シクロヘキサン、ジクロロメタン、テトラクロロメタン、ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、2,2-
ジメトキシプロパン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、テトラヒドロフラ
ン、テトラヒドロピラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メ
チルピロリドン、ジメチルスルホキシドおよびジオキサンならびにそれらの混合
物からなる群より選択される、請求項４に記載の方法。 - 【請求項６】 R1が、少なくとも１個のハロゲン原子または少なくとも１個
のアルキル基、アルコキシ基、ハロアルキル基もしくはハロアルコキシ基で置換
されたフェニル基である、請求項１に記載の方法。 - 【請求項７】 R1が、4-トリフルオロメチルフェニル基である、請求項６に
記載の方法。 - 【請求項８】 式Ｉにおいて、 R1およびR2が、それぞれ独立に、少なくとも１個のハロゲン原子および／また
は少なくとも１個のアルキル基、アルコキシ基、ハロアルキル基もしくはハロア
ルコキシ基で置換されたフェニル基であり、 ＸがＯである、 4-フェノキシ-2-アリールピリミジンを製造するための請求項１に記載の方法で
あって、 反応工程を、少なくとも１個のハロゲン原子および／または少なくとも１個の
アルキル基、アルコキシ基、ハロアルキル基もしくはハロアルコキシ基で置換さ
れたフェノールの存在下で行なうことを含む、上記方法。 - 【請求項９】 反応工程を3-トリフルオロメチルフェノールの存在下で行な
う、請求項８に記載の方法。 - 【請求項１０】 3,3-二置換ビニルカルボニル化合物が3,3-ジクロロアクロ
レインである、請求項１に記載の方法。 - 【請求項１１】 3,3-ジクロロアクロレインが、1,1,1,3-テトラクロロ-3-
アルコキシプロパンのin situ加水分解によって調製される、請求項１０に記載
の方法。 - 【請求項１２】 式IA 【化４】 （式中、 R3およびR4は、請求項１で定義したとおりであり、 R1は、置換されていてもよいC3-8シクロアルキル基またはピラジン-2-イル基
であり、 R5は、ハロゲン原子またはハロアルキル基もしくはハロアルコキシ基であり、 W-Vは、N-CH、S-CH、N-CH-CH、CH-CH-CHまたはN-N(R6)（ここでR6はC1-4アル
キル基である。）である。） で表される化合物。
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Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
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| JP2009514876A (ja) * | 2005-11-03 | 2009-04-09 | アイアールエム・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー | タンパク質キナーゼのための化合物および組成物 |
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