JP2002372586A - Radiation image pickup unit, device and system - Google Patents
Radiation image pickup unit, device and systemInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、放射線撮像ユニッ
ト、装置及びシステムに関し、特に、医療用のX線撮像
装置や産業用の被破壊装置などの放射線撮像ユニット、
装置及びシステムに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a radiation imaging unit, apparatus and system, and more particularly, to a radiation imaging unit such as a medical X-ray imaging apparatus and an industrial destruction apparatus.
The present invention relates to an apparatus and a system.
【0002】なお、本明細書では、放射線の範ちゅう
に、X線、α線、β線、γ線などの電磁波も含むものと
する。[0002] In the present specification, radiation includes electromagnetic waves such as X-rays, α-rays, β-rays, and γ-rays.
【0003】[0003]
【従来の技術】従来、放射線撮像装置、特に医療を目的
とするX線撮影装置ではX線動画が可能で画像品位が優
れ、かつ、薄型で大面積入力範囲を有するX線撮像装置
が求められている。また医療用のみならず、産業用非破
壊検査機などにも薄型で安価な大面積のX線撮像装置が
求められている。2. Description of the Related Art Conventionally, a radiation imaging apparatus, particularly an X-ray imaging apparatus for medical use, is required to have a thin X-ray imaging apparatus which is capable of performing X-ray moving images, has excellent image quality, and has a large area input range. ing. Further, there is a demand for a thin, inexpensive, large-area X-ray imaging apparatus not only for medical use but also for industrial non-destructive inspection machines.
【0004】このようなX線撮像装置としては、たとえ
ば、ファイバープレートの厚みに段差をつけてCCDセ
ンサの非受光部が干渉しないように大面積化したX線検
出装置などがある。As such an X-ray imaging apparatus, for example, there is an X-ray detection apparatus having a large area so that the non-light receiving portion of the CCD sensor does not interfere with a step in the thickness of the fiber plate.
【0005】上記(1)の構成のX線検出装置の概略的
断面図を図17に示す。図17には、X線を可視光に変
換するシンチレータなどからなる蛍光体3と、蛍光体3
によって変換された可視光を撮像素子1側へ導く光ファ
イバーなどのファイバープレート2と、ファイバープレ
ート2によって伝送された可視光を電気信号に変換する
撮像素子1とを示している。FIG. 17 is a schematic cross-sectional view of the X-ray detecting device having the structure (1). FIG. 17 shows a phosphor 3 composed of a scintillator for converting X-rays into visible light, and a phosphor 3.
FIG. 1 shows a fiber plate 2 such as an optical fiber that guides visible light converted by the optical device to the image sensor 1 and an image sensor 1 that converts visible light transmitted by the fiber plate 2 into an electric signal.
【0006】このX線撮像装置は、ファイバープレート
2を撮像素子1に対して傾斜を設けており、ファイバー
プレート2間には、各撮像素子1を駆動して各撮像素子
1からの電気信号の読み出しを制御する制御手段が設け
られている。このため、制御手段にはX線が入射せず、
X線入射によるノイズの発生が抑制できる。In this X-ray imaging apparatus, the fiber plate 2 is inclined with respect to the image sensor 1, and between the fiber plates 2, each image sensor 1 is driven to transmit an electric signal from each image sensor 1. Control means for controlling reading is provided. Therefore, no X-rays are incident on the control means,
Generation of noise due to X-ray incidence can be suppressed.
【0007】上記(2)の構成のX線検出装置の概略的
斜視図を図18に示す。なお、図18において、図17
と同様の部分には、同一の符号を付している。図18に
示すように、ファイバープレート2の長さを変えて、た
とえば3つの撮像素子1を一組として各組毎に段差を設
けることによって、各撮像素子1に制御手段を設けられ
るようにしている。但し、蛍光体の大きさによっては周
辺に位置する撮像素子1に設けられている制御手段には
X線が入射する場合があるので、これを防止するために
撮像素子の周辺には、鉛などのX線遮蔽部材を設ける必
要がある。FIG. 18 is a schematic perspective view of the X-ray detecting device having the configuration (2). In FIG. 18, FIG.
The same reference numerals are given to the same parts as. As shown in FIG. 18, by changing the length of the fiber plate 2, for example, by providing three image pickup devices 1 as a set and providing a step for each set, control means can be provided for each image pickup device 1. I have. However, depending on the size of the phosphor, X-rays may be incident on the control means provided in the image sensor 1 located in the periphery. It is necessary to provide the X-ray shielding member described above.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記(1)の
構成は、まず、斜めにファイバープレートを切断するた
め、ファイバープレートの加工が困難なこと、加えてロ
ット当りの取り個数が少なくなるので価格が高くなると
いった問題がある。また、傾斜を設けると、ファイバー
プレートの各ファイバーで光の伝送効率が悪くなりセン
サの感度が低下する。However, the configuration of the above (1) first cuts the fiber plate obliquely, so that the processing of the fiber plate is difficult and the number of pieces per lot is reduced. There is a problem that the price is high. In addition, when the inclination is provided, the transmission efficiency of light in each fiber of the fiber plate deteriorates, and the sensitivity of the sensor decreases.
【0009】さらに、図示したものは2×2ブロックの
ファイバープレートを貼り合わせたもので、現有するフ
ァイバープレートを使用すると100×100mm程度
の大きさが限界である。しかるにファイバーの傾斜を変
えて3×3等にすると、各撮像素子内の画素のうち、中
央に配置しているファイバープレートよりも、周辺に配
置しているファイバープレートの方が光の透過率が劣
り、各撮像素子から出力される信号にムラが生じる。Further, the illustrated one is obtained by laminating 2 × 2 blocks of fiber plates. When the existing fiber plates are used, the size is limited to about 100 × 100 mm. However, if the inclination of the fiber is changed to 3 × 3 or the like, among the pixels in each image sensor, the light transmittance of the fiber plate arranged at the periphery is higher than that of the fiber plate arranged at the center. Inferiorly, unevenness occurs in the signals output from the respective image sensors.
【0010】また、上記(2)の構成は、X線撮像装置
が大型化したり、鉛などのX線遮蔽部材を備えることで
重量化するという問題がある。また、各段差部分と撮像
素子との位置合わせ精度が厳しいため、製造工数が多く
なり、且つ高精度な位置合わせ装置が必要になる。これ
らを鑑みると上記(2)の構成は現実的ではない。In addition, the configuration (2) has a problem that the X-ray imaging apparatus is increased in size, and the weight is increased due to the provision of an X-ray shielding member such as lead. In addition, since the positioning accuracy between each stepped portion and the image sensor is strict, the number of manufacturing steps is increased, and a highly accurate positioning device is required. In view of these, the configuration of (2) is not realistic.
【0011】上記従来のX線撮像装置では、X線撮像装
置の大型化、重量化、低コスト化、製造工程での作業性
等の要請に対して必ずしも十分なものではなかった。The above-mentioned conventional X-ray imaging apparatus is not always sufficient to meet the demands of the X-ray imaging apparatus such as increase in size, weight, cost reduction, workability in a manufacturing process and the like.
【0012】そこで、本発明は、X線撮像装置の大型
化、低コスト化に適し、製造工程での作業性により優れ
た放射線撮像装置及び放射線撮像システムを提供するこ
とを課題とする。It is an object of the present invention to provide a radiation imaging apparatus and a radiation imaging system which are suitable for increasing the size and cost of an X-ray imaging apparatus and which are more excellent in workability in a manufacturing process.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、蛍光体で変換された光を光電変換手段へ
導くと共に当該蛍光体で変換しきれなかった放射線を遮
蔽するファイバープレートと、前記光電変換手段で変換
された電気信号の読み出しを制御する制御手段とを備え
た放射線撮像ユニットであって、前記ファイバープレー
トよりも小さい前記制御手段を当該ファイバープレート
の下に納まるように配置することを特徴とする。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a fiber plate for guiding light converted by a phosphor to photoelectric conversion means and shielding radiation that could not be completely converted by the phosphor. And a control means for controlling reading of the electric signal converted by the photoelectric conversion means, wherein the control means smaller than the fiber plate is disposed so as to fit under the fiber plate. It is characterized by doing.
【0014】また、本発明の放射線線撮像システムは、
上記放射線撮像装置と、前記放射線撮像装置からの信号
を処理する信号処理手段と、前記信号処理手段からの信
号を記録するための記録手段と、前記信号処理手段から
の信号を表示するための表示手段と、前記放射線を発生
させるための放射線源とを具備することを特徴とする。Further, the radiation ray imaging system of the present invention comprises:
The radiation imaging apparatus, signal processing means for processing a signal from the radiation imaging apparatus, recording means for recording a signal from the signal processing means, and display for displaying a signal from the signal processing means Means and a radiation source for generating said radiation.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面を参照して説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0016】(実施形態1) 「構成の説明」図1は、本発明の実施形態1のX線撮像
装置の断面図である。図1には、X線を可視光等の撮像
素子(光電変換手段)1で検知可能な波長の光に変換す
るシンチレータとしての蛍光体(波長変換手段)3と、
蛍光体3によって変換された光を撮像素子側へ導くと共
に蛍光体3で変換しきれなかったX線を遮蔽する遮蔽材
を含む複数の光ファイバからなるファイバープレート2
と、ファイバープレート2を相互に接着する接着材7
と、ファイバープレート2と撮像素子1とを接着する弾
性に優れた透明接着材6と、光を電気信号に変換する撮
像素子1と、撮像素子1からの電気信号を外部に出力す
るフレキシブル基板4と、フレキシブル基板4と撮像素
子1とを電気的に接続するバンプ5と、フレキシブル基
板4が接続されるプリント基板12と、蛍光体3を保護
するアルミニウムなどからなる保護シート8と、撮像素
子1を搭載するベース基板10と、ベース基板10を保
持するためのベース筐体11と、ベース筐体11に備え
られた筐体カバー9と、撮像素子1とファイバープレー
ト2との間に設けられた一定間隔を保持するためのスペ
ーサ13と、透明接着材6をファイバープレート2と撮
像素子1との間に介在させるための目地うめ接着材14
と、撮像素子1を外気から遮断する封止樹脂15を示し
ている。(Embodiment 1) "Description of Configuration" FIG. 1 is a sectional view of an X-ray imaging apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 1 shows a phosphor (wavelength conversion means) 3 as a scintillator for converting X-rays into light having a wavelength detectable by an image sensor (photoelectric conversion means) 1 such as visible light,
A fiber plate 2 composed of a plurality of optical fibers including a shielding material for guiding the light converted by the phosphor 3 to the image pickup device side and shielding X-rays that could not be converted by the phosphor 3
And an adhesive 7 for bonding the fiber plate 2 to each other
A transparent adhesive 6 having excellent elasticity for bonding the fiber plate 2 and the image sensor 1, an image sensor 1 for converting light into an electric signal, and a flexible substrate 4 for outputting an electric signal from the image sensor 1 to the outside. A bump 5 for electrically connecting the flexible substrate 4 and the imaging device 1; a printed substrate 12 to which the flexible substrate 4 is connected; a protection sheet 8 made of aluminum or the like for protecting the phosphor 3; Is mounted between the imaging element 1 and the fiber plate 2, a base housing 10 for holding the base substrate 10, a housing cover 9 provided on the base housing 11, Spacer 13 for maintaining a constant interval, and joint filling adhesive 14 for interposing transparent adhesive 6 between fiber plate 2 and image sensor 1
And a sealing resin 15 that blocks the image sensor 1 from the outside air.
【0017】ここで、図1に示すように、本実施形態で
はプリント基板12をファイバープレート2よりも小さ
くし、ファイバープレート2の下に納まるように配置し
ている。このため、蛍光体3で光に変換しきれなかった
X線がプリント基板12側へ入射しないようになる。ち
なみに、このような手法を採用しない場合には、筐体カ
バー9に鉛などのX線遮蔽部材を取り付けたり、筐体カ
バー9を鉛などによって製造しなければならないので、
装置が重量化する。Here, as shown in FIG. 1, in the present embodiment, the printed circuit board 12 is made smaller than the fiber plate 2 and arranged so as to fit under the fiber plate 2. Therefore, X-rays that could not be converted into light by the phosphor 3 do not enter the printed circuit board 12 side. Incidentally, when such a method is not adopted, an X-ray shielding member such as lead must be attached to the housing cover 9 or the housing cover 9 must be manufactured from lead or the like.
The device is heavy.
【0018】なお、接着材7には、エチレン・酢酸ビニ
ル共重合体、カルボキシル変成エチレン・酢酸ビニル共
重合体、エチレン・イソブチルアクリレート共重合体、
ポリアミド、ポリエステル、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリビニルエーテル、ポリビニルブチラール、ポリ
ウレタン、スチレン・ブチレン・スチレン(SBS)共
重合体、カルボキシル変性SBS共重合体、スチレン・
イソプレン・スチレン(SIS)共重合体、スチレン・
エチレン・ブチレン・スチレン(SEBS)共重合体、
マレイン酸変性SEBS共重合体、ポリブタジエンゴ
ム、クロロプレンゴム(CR)、カルボキシル変性C
R、スチレン・ブタジエンゴム、イソブチレン・イソプ
レン共重合体、アクリロニトリル・ブタジエンゴム(N
BR)、カルボキシル変性NBR、エポキシ樹脂、シリ
コーンゴム(SR)などが挙げられ、これらは1種単独
又は2種以上を組合せて使用される。The adhesive 7 includes an ethylene / vinyl acetate copolymer, a carboxyl-modified ethylene / vinyl acetate copolymer, an ethylene / isobutyl acrylate copolymer,
Polyamide, polyester, polymethyl methacrylate, polyvinyl ether, polyvinyl butyral, polyurethane, styrene / butylene / styrene (SBS) copolymer, carboxyl-modified SBS copolymer, styrene
Isoprene-styrene (SIS) copolymer, styrene
Ethylene-butylene-styrene (SEBS) copolymer,
Maleic acid-modified SEBS copolymer, polybutadiene rubber, chloroprene rubber (CR), carboxyl-modified C
R, styrene / butadiene rubber, isobutylene / isoprene copolymer, acrylonitrile / butadiene rubber (N
BR), carboxyl-modified NBR, epoxy resin, silicone rubber (SR), and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
【0019】さらに、必要に応じて、反応性助剤、架橋
剤としてのフェノール樹脂、ポリオール類、イソシアネ
ート類、メラミン樹脂、尿素樹脂、ウロトロピン樹脂、
アミン類、酸無水物、過酸化物、金属酸化物、トリフル
オロ酢酸クロム塩などの有機金属塩、チタン、ジルコニ
ア、アルミニウムなどのアルコキシド、ジブチル錫ジオ
キサイドなどの有機金属化合物、2,2−ジエトシキア
セトフェノン、ベンジルなどの光開始剤、アミン類、リ
ン化合物、塩素化合物などの増感剤、さらには硬化剤、
加硫剤、制御剤、劣化防止剤、耐熱添加剤、熱伝導向上
剤、軟化剤、着色剤、各種カップリング剤、金属不活性
剤などを適宜添加してもよい。Further, if necessary, a reactive auxiliary agent, a phenol resin as a crosslinking agent, a polyol, an isocyanate, a melamine resin, a urea resin, a urotropin resin,
Amines, acid anhydrides, peroxides, metal oxides, organic metal salts such as chromium trifluoroacetate, alkoxides such as titanium, zirconia and aluminum, organic metal compounds such as dibutyltin dioxide, 2,2-die Photoinitiators such as toshiquiacetophenone and benzyl, sensitizers such as amines, phosphorus compounds and chlorine compounds, and further curing agents,
Vulcanizing agents, control agents, deterioration inhibitors, heat-resistant additives, heat conduction improvers, softeners, coloring agents, various coupling agents, metal deactivators, and the like may be appropriately added.
【0020】また、ファイバープレート2や接着材7に
含有させる遮蔽材には、鉄、コバルト、ニッケル、銅、
亜鉛、銀、スズ、ガドリニウム、タングステン、白金、
金、鉛、ビスマスなどの重金属及びその化合物若しくは
合金や、半田(Pb−Sn)ペースト、銀ペーストで用
いる合金、金属粒子や、無機若しくは有機材からなる粒
(カーボン粒子、プラスチックボール)にメッキ、スパ
ッタ等で重金属を皮膜した粒子などを用いることができ
る。The shielding materials contained in the fiber plate 2 and the adhesive 7 include iron, cobalt, nickel, copper,
Zinc, silver, tin, gadolinium, tungsten, platinum,
Plating on heavy metals such as gold, lead and bismuth and their compounds or alloys, alloys used for solder (Pb-Sn) paste and silver paste, metal particles, and particles (carbon particles, plastic balls) made of inorganic or organic materials, Particles coated with a heavy metal by sputtering or the like can be used.
【0021】ちなみに、図1に示すX線撮像装置は、フ
ァイバープレート2を複数備えたファイバープレート基
体と撮像素子1とを、透明接着材6によって貼り合わせ
ることによって製造してもよいし、図19に示すよう
に、撮像素子1又はファイバープレート2の大きさなど
を基準にしたX線撮像ユニットを複数貼り合わせること
によって製造してもよい。Incidentally, the X-ray imaging apparatus shown in FIG. 1 may be manufactured by bonding a fiber plate base having a plurality of fiber plates 2 and the imaging element 1 with a transparent adhesive 6, or FIG. As shown in (1), it may be manufactured by bonding a plurality of X-ray imaging units based on the size of the imaging device 1 or the fiber plate 2 or the like.
【0022】図2は、図1の撮像素子1の概略的な構成
を示す平面図である。図2には、2次元配列した複数の
撮像素子を含む通常画素101と、駆動回路103の外
側に設けられた複数の周辺画素104と、各通常画素1
01及び各周辺画素104を順次駆動する駆動回路10
3と、撮像素子1の入出力端子102とを示している。FIG. 2 is a plan view showing a schematic configuration of the image pickup device 1 of FIG. FIG. 2 shows a normal pixel 101 including a plurality of image sensors arranged two-dimensionally, a plurality of peripheral pixels 104 provided outside a driving circuit 103, and each normal pixel 1
01 and a drive circuit 10 for sequentially driving each peripheral pixel 104
3 and the input / output terminal 102 of the image sensor 1 are shown.
【0023】通常画素101は、ほぼ撮像素子1の全面
に配しており、通常画素101のピッチは、後述するよ
うに、たとえば160μmとしている。通常画素101
間には駆動回路103を分割して分散配置している。な
お、周辺画素104は、通常画素101に比べて面積が
小さいため、画素信号を補正処理することによって、面
積の相違がなくなるようにしている。The normal pixels 101 are arranged substantially over the entire surface of the image pickup device 1, and the pitch of the normal pixels 101 is, for example, 160 μm as described later. Normal pixel 101
The driving circuit 103 is divided and arranged in a distributed manner. Since the area of the peripheral pixel 104 is smaller than that of the normal pixel 101, the pixel signal is corrected so that the difference in the area is eliminated.
【0024】図3(a)は、図1のバンプ5及びフレキ
シブル配線基板4付近の概略的断面図、図3(b)は、
図3(a)の上面図である。図3には、図1,図2に示
した部材の他に、バンプ5に接続されるフレキシブル基
板4のインナーリード401と、撮像素子1の端部とイ
ンナーリード401とのショートの防止及び撮像素子1
の端部欠損を防止するポリイミド樹脂層などの有機絶縁
層105とを示している。FIG. 3A is a schematic sectional view showing the vicinity of the bump 5 and the flexible wiring board 4 shown in FIG. 1, and FIG.
FIG. 3 is a top view of FIG. In FIG. 3, in addition to the members shown in FIGS. 1 and 2, the inner lead 401 of the flexible substrate 4 connected to the bump 5 and the prevention of short-circuit between the end of the image sensor 1 and the inner lead 401 and the imaging Element 1
And an organic insulating layer 105 such as a polyimide resin layer for preventing edge loss.
【0025】「製造工程の説明」図4は、図3に示した
バンプ5とフレキシブル基板4との電気的接続の様子を
示す図である。はじめに、有機絶縁層105としてたと
えばポリイミド樹脂層を25μmの厚さとなるように形
成する。つぎに、バンプ5とフレキシブル基板4との電
気的接続を行うために、まず、撮像素子1の入出力端子
102に、スタッドバンプ方式やメッキなどによりバン
プ5を形成する。"Explanation of Manufacturing Process" FIG. 4 is a view showing a state of electrical connection between the bump 5 and the flexible substrate 4 shown in FIG. First, for example, a polyimide resin layer is formed as the organic insulating layer 105 so as to have a thickness of 25 μm. Next, in order to electrically connect the bump 5 to the flexible substrate 4, the bump 5 is first formed on the input / output terminal 102 of the imaging device 1 by a stud bump method, plating, or the like.
【0026】そして、バンプ5とインナーリード401
とを、たとえば超音波により金属間接合する。ちなみ
に、インナーリード401は、銅箔などをエッチングす
ることによって形成し、ニッケル及び金を用いてメッキ
を施して、18μm程度の厚さとし、またフレキシブル
配線基板の総厚は、50μm程度としている。Then, the bump 5 and the inner lead 401
Are bonded together by, for example, ultrasonic waves. Incidentally, the inner lead 401 is formed by etching a copper foil or the like, and is plated with nickel and gold to have a thickness of about 18 μm, and the total thickness of the flexible wiring board is about 50 μm.
【0027】つぎに、撮像素子1を保持台17,18に
よって保持した状態で、治具19を保持台17,18の
方向に移動させる。こうして、撮像素子1の端部でイン
ナーリード401を図面下側に向けて90°程度曲げ
る。Next, the jig 19 is moved in the direction of the holding tables 17 and 18 while the image pickup device 1 is held by the holding tables 17 and 18. Thus, the inner lead 401 is bent at about 90 ° toward the lower side in the drawing at the end of the image sensor 1.
【0028】図5(a)は、図1の撮像素子1のフレキ
シブル配線基板4付近の拡大図である。図5(b)は、
図5(a)の平面図である。図5に示すように、X方向
の長さは周辺画素104の幅が通常画素101の幅より
小さくなっており(S1<S2)、各周辺画素104間
及び各通常画素101と各周辺画素104との間のピッ
チは一定となるように配置されている(P1=P2=
P)。さらに、各通常画素101間のピッチも同ピッチ
(P)となるように配置されている。このことから、画
素ピッチはすべて等ピッチとなり、画像品位は劣らな
い。FIG. 5A is an enlarged view of the vicinity of the flexible wiring board 4 of the image sensor 1 of FIG. FIG. 5 (b)
It is a top view of FIG. As shown in FIG. 5, in the length in the X direction, the width of the peripheral pixel 104 is smaller than the width of the normal pixel 101 (S1 <S2). Are arranged so as to be constant (P1 = P2 =
P). Further, the pixels are arranged such that the pitch between the normal pixels 101 is also the same (P). From this, the pixel pitches are all equal pitches, and the image quality is not inferior.
【0029】図6は、図1の撮像素子1とベース基板1
0との接着工程を示す図である。まず、図4を用いて説
明したように、フレキシブル基板4を備えた複数の撮像
素子1を、X,Y,Z方向及びθ(回転)方向に可動す
るアライメントヘッド及びアライメントカメラを用いて
位置合わせしながらステージ上に載置する。このとき、
各撮像素子1は、ステージに形成されている孔からバキ
ューム装置などで吸引されることによってステージ上に
固定される(図6(a))。FIG. 6 shows the image pickup device 1 and the base substrate 1 shown in FIG.
It is a figure which shows the bonding process with 0. First, as described with reference to FIG. 4, the plurality of image pickup devices 1 including the flexible substrate 4 are aligned using an alignment head and an alignment camera movable in X, Y, Z directions and θ (rotation) directions. While placing it on the stage. At this time,
Each image sensor 1 is fixed on the stage by being sucked from a hole formed in the stage with a vacuum device or the like (FIG. 6A).
【0030】この状態で、各撮像素子1が所要の動作を
行うかどうかの検査を行う。この検査では、検査治具を
用いて、たとえば静電気などによって各撮像素子1が破
壊されているかどうかなどを調べる(図6(b))。In this state, an inspection is performed to determine whether each image sensor 1 performs a required operation. In this inspection, it is checked using an inspection jig whether or not each imaging element 1 is broken by, for example, static electricity or the like (FIG. 6B).
【0031】そして、検査の結果、撮像素子1に欠陥が
発見されれば、その撮像素子の下方のバキューム装置を
オフして、アライメントヘッドを用いて交換する(図6
(c))。If a defect is found in the image pickup device 1 as a result of the inspection, the vacuum device below the image pickup device is turned off and replaced with an alignment head (FIG. 6).
(C)).
【0032】つづいて、撮像素子1上に、紫外線硬化型
又はシリコーン樹脂などの接着材を塗布する(図6
(d))。Subsequently, an adhesive such as an ultraviolet curing type or a silicone resin is applied onto the image pickup device 1 (FIG. 6).
(D)).
【0033】そして、ベース基板10に設けられた長孔
にフレキシブル基板4を挿入し、それから撮像素子1と
ベース基板10とを密着させた後に紫外線を照射したり
加圧することによって接着する(図6(e))。Then, the flexible substrate 4 is inserted into the long hole provided in the base substrate 10, and then the image pickup device 1 and the base substrate 10 are brought into close contact with each other, and thereafter, are bonded by irradiating ultraviolet rays or pressing (FIG. 6). (E)).
【0034】なお、図6(e)に示すように、ファイバ
ープレート2の大きさと撮像素子1との大きさを同じに
して、これらを位置合わせするとよい。また、ここで
は、ベース基板10には、撮像素子1との間における熱
膨張率などを考量して、ガラス又はパーマアロイ(鉄+
ニッケル)合金を用いている。As shown in FIG. 6 (e), it is preferable that the size of the fiber plate 2 and the size of the image pickup device 1 are the same, and these are aligned. Here, the base substrate 10 is made of glass or permalloy (iron +
Nickel) alloy is used.
【0035】そして、撮像素子1とベース基板10とを
接着した後に、バキューム装置をオフにして、ステージ
などの治具から撮像素子1及びベース基板10を取り外
す(図6(f))。Then, after bonding the image pickup device 1 and the base substrate 10, the vacuum device is turned off, and the image pickup device 1 and the base substrate 10 are removed from a jig such as a stage (FIG. 6 (f)).
【0036】図7は、図1の撮像素子1及びベース基板
10とファイバープレート基体とを貼り合わせる工程の
説明図である。なお、図7(a)及び図7(c)は、断
面図、図7(b)及び図7(d)は平面図としている。FIG. 7 is an explanatory diagram of a process of bonding the image pickup device 1 and the base substrate 10 of FIG. 1 to the fiber plate base. FIGS. 7A and 7C are cross-sectional views, and FIGS. 7B and 7D are plan views.
【0037】図6を用いて説明したように、ベース基板
10と接着した各撮像素子1上に、各撮像素子1とファ
イバープレート基体2との間隔を保持できるように、ス
ペーサ13を配置する(図7(a))。As described with reference to FIG. 6, the spacers 13 are arranged on each of the imaging elements 1 bonded to the base substrate 10 so as to maintain a space between each of the imaging elements 1 and the fiber plate base 2 ( FIG. 7A).
【0038】スペーサ13は球でも円柱形状でもよい。
つぎに、シール材及び目地うめ接着材を、撮像素子1上
に塗布する(図7(b))。The spacer 13 may be spherical or cylindrical.
Next, a sealing material and a joint filling adhesive are applied on the image sensor 1 (FIG. 7B).
【0039】目地うめ接着材は撮像素子1間の隙間を埋
めるるために充填されるものである。シール材は、図7
(b)に示すように一部が開口されており、後述するよ
うに、ここから真空注入の方式を用いて透明接着材6を
充填する。注入する際、真空リークの原因とならぬよう
に目地うめ接着材を撮像素子1間の隙間に充填してい
る。それから、スペーサ13上に、ファイバープレート
基体2を貼り合わせる(図7(c))。The joint filling material is filled to fill the gap between the image pickup devices 1. Fig. 7
As shown in (b), a part is opened, and as described later, the transparent adhesive 6 is filled from here by using a vacuum injection method. At the time of injection, a gap filling adhesive is filled in the gap between the imaging elements 1 so as not to cause a vacuum leak. Then, the fiber plate substrate 2 is bonded onto the spacer 13 (FIG. 7C).
【0040】さらにファイバープレート2を相互に接着
する接着材7が、各撮像素子1間の隙間若しくは各画素
間の直上に配置されるように行うとより好ましい。加
圧、加熱プレスにより撮像素子1とファイバープレート
の間隔を均一にし、シール材を硬化させる。そして、真
空チャンバー内で、ファイバープレート基体と各撮像素
子1との隙間を真空状態にしたところで、透明接着材6
を溜めたボートに開口部分をつけ真空状態を大気圧に戻
すことで、透明接着材6が隙間に充填される。その後、
開口部分を封止する(図7(d))。It is more preferable that the adhesive 7 for adhering the fiber plates 2 to each other is disposed in a gap between the image pickup devices 1 or directly above each pixel. The distance between the image pickup device 1 and the fiber plate is made uniform by pressing and heating, and the sealing material is cured. Then, in a vacuum chamber, when the gap between the fiber plate base and each image sensor 1 is evacuated, the transparent adhesive 6
The transparent adhesive 6 is filled in the gap by opening an opening portion in the boat storing the water and returning the vacuum state to the atmospheric pressure. afterwards,
The opening is sealed (FIG. 7D).
【0041】それから、ファイバープレート基体2とベ
ース基板10との間に封止樹脂15を塗布して、撮像素
子1を外気と遮断できるようにしている。Then, a sealing resin 15 is applied between the fiber plate base 2 and the base substrate 10 so that the image pickup device 1 can be shielded from the outside air.
【0042】さらに、たとえばシート上の蛍光体3をフ
ァイバープレート基体2上に貼りつけることによって、
X線撮像装置が形成される。Further, for example, by attaching the phosphor 3 on a sheet to the fiber plate substrate 2,
An X-ray imaging device is formed.
【0043】なお、蛍光体3はファイバープレート基体
上に蒸着する手法や粉末状の蛍光体を結合材に混合させ
て塗布することによって設けることもできるが、この場
合、図7(c)を用いて説明した工程の前に、ファイバ
ープレート基体上に蛍光体3を設けておく。The phosphor 3 can be provided by a method of vapor deposition on a fiber plate substrate or by mixing and applying a powdered phosphor to a binder, and in this case, referring to FIG. Before the steps described above, the phosphor 3 is provided on the fiber plate substrate.
【0044】ちなみに、図19に示すように、複数のX
線撮像ユニットからX線撮像装置を製造する場合には、
以下説明する図20(a)〜図20(d)に示すような
工程によって撮像素子1及びベース基板10とファイバ
ープレート基体とを貼り合わせればよい。By the way, as shown in FIG.
When manufacturing an X-ray imaging device from a X-ray imaging unit,
The image sensor 1 and the base substrate 10 may be bonded to the fiber plate base by the steps shown in FIGS. 20A to 20D described below.
【0045】すなわち、ファイバープレート2を、撮像
素子1の面積に合わせて研磨し、且つ光入出射面も両面
研磨して平坦化する。そして、ベース基板10と接着し
た各撮像素子1上に、各撮像素子1とファイバープレー
ト2との間隔を保持できるように、球や円柱形状などの
スペーサ13を配置する(図20(a))。That is, the fiber plate 2 is polished according to the area of the image pickup device 1, and the light input / output surface is polished on both sides to be flattened. Then, a spacer 13 such as a sphere or a column is arranged on each of the image sensors 1 bonded to the base substrate 10 so as to maintain a space between each of the image sensors 1 and the fiber plate 2 (FIG. 20A). .
【0046】つぎに、シール材14を、撮像素子1上に
塗布する(図20(b))。Next, the sealing material 14 is applied on the image pickup device 1 (FIG. 20B).
【0047】シール材は、図20(b)に示すように一
部が開口されており、後述するように、ここから真空注
入の方式を用いて透明接着材6を充填する。注入する
際、真空リークの原因とならぬように目地うめ接着材を
撮像素子1間の隙間に充填している。ファイバープレー
ト2をスペーサ13上に、位置決めした後にファイバー
プレート2と撮像素子1を互いに加圧、加熱して貼り合
わせる(図20(c))。As shown in FIG. 20B, a part of the sealing material is opened, and as described later, the transparent adhesive 6 is filled from here using a vacuum injection method. At the time of injection, a gap filling adhesive is filled in the gap between the imaging elements 1 so as not to cause a vacuum leak. After positioning the fiber plate 2 on the spacer 13, the fiber plate 2 and the imaging device 1 are bonded to each other by pressing and heating each other (FIG. 20C).
【0048】そして、真空チャンバー内で、各ファイバ
ープレート2と各撮像素子1との隙間を真空状態にした
ところで、透明接着材6を溜めたボートに開口部分をつ
け真空状態を大気圧に戻すことで、透明接着材6が隙間
に充填される。その後、開口部分を封止する(図20
(d))。When the gap between each fiber plate 2 and each image pickup device 1 is evacuated in the vacuum chamber, an opening is formed in the boat storing the transparent adhesive 6 to return the vacuum to atmospheric pressure. Thus, the gap is filled with the transparent adhesive 6. Thereafter, the opening is sealed (FIG. 20).
(D)).
【0049】また、ファイバープレート2の光入射面側
にある蛍光体3は蒸着、塗布、又は印刷により形成さ
れ、その工程はファイバープレート2の研磨後あるいは
撮像素子1との貼り合わせ後のいずれかで行う。The phosphor 3 on the light incident surface side of the fiber plate 2 is formed by vapor deposition, coating, or printing, and the process is performed after polishing the fiber plate 2 or after bonding the same to the imaging device 1. Do with.
【0050】図8は、図1のファイバープレート基体の
製造工程を示す模式図である。図8を用いてファイバー
プレート基体の製造工程について説明する。なお、図8
(a)〜図8(c)は平面図であり、図8(d),図8
(e)は断面図である。FIG. 8 is a schematic view showing a manufacturing process of the fiber plate substrate of FIG. The manufacturing process of the fiber plate substrate will be described with reference to FIG. FIG.
FIGS. 8A to 8C are plan views, and FIGS.
(E) is a sectional view.
【0051】まず、図8(a)に示すように、ファイバ
ープレート2を相互に、接着材7により貼り合わせる。
このとき、図8(a)に示すように、ファイバープレー
ト2は、注意して貼っても厳密にはどうしても相互に位
置がずれて貼り合わされるのでファイバープレート間に
隙間が発生する。この隙間を解消するため、相互に位置
がずれて貼り合わされる。そして、図8(a)の点線部
分まで研磨して、図8(b)に示すように、片側を平坦
化してそろえる。First, as shown in FIG. 8A, the fiber plates 2 are attached to each other with an adhesive 7.
At this time, as shown in FIG. 8A, even if the fiber plates 2 are attached with care, they are strictly displaced from each other and are attached to each other, so that a gap is generated between the fiber plates. In order to eliminate these gaps, they are bonded with their positions shifted from each other. Then, polishing is performed up to the dotted line portion in FIG. 8A, and one side is flattened and aligned as shown in FIG. 8B.
【0052】つづいて、図8(a),図8(b)で説明
したのと同様の手順によって、片側がそろえられた2枚
のファイバープレート2を、相互にそれぞれの平坦面を
合わせるように貼り合わせる(図8(c))。Subsequently, by the same procedure as described with reference to FIGS. 8A and 8B, the two fiber plates 2 having one side aligned are so arranged that their flat surfaces are mutually aligned. Affix (FIG. 8 (c)).
【0053】そして、図8(c)の点線部分まで研磨し
て、図8(a),図8(b)で説明したのと同様の手順
によって、片側がそろえられた2枚のファイバープレー
ト2を、さらに、4枚のファイバープレート2に貼り合
わせる。Then, the two fiber plates 2 whose one side is aligned are polished up to the dotted line portion in FIG. 8C and by the same procedure as described in FIGS. 8A and 8B. Is further bonded to four fiber plates 2.
【0054】こうして貼り合わせたファイバープレート
2の断面は、図8(d)に示すように、各貼り合わせ部
分には、側面を研磨した際や工程中の取り扱いにより、
チッピングが生じる。そのため、張り合わせを終えたフ
ァイバープレート2は、表面及び裏面を、それぞれチッ
ピングがなくなるまで両面を研磨して、図8(e)に示
すような張り合わせ部に隙間やチッピングのないファイ
バープレート基体を作成する。As shown in FIG. 8 (d), the cross section of the fiber plate 2 thus bonded is formed on each bonded portion by polishing the side surface or by handling during the process.
Chipping occurs. For this reason, the fiber plate 2 after bonding is polished on both the front surface and the back surface until chipping is eliminated, thereby creating a fiber plate substrate having no gap or chipping in the bonded portion as shown in FIG. .
【0055】なお、図8(e)に示すファイバープレー
ト基体は、図7(c)を用いて説明したように、スペー
サ13を介して、ベース基板10側と張り合わせされ
る。The fiber plate substrate shown in FIG. 8E is bonded to the base substrate 10 via the spacer 13 as described with reference to FIG. 7C.
【0056】ちなみに、ここでは、6枚のファイバープ
レート2を貼り合わせてファイバープレート基体を製造
する場合を例に説明したが、実際には、ファイバープレ
ート基体が所要の大きさになるように、所定の枚数のフ
ァイバープレート2を貼り合わせる。Incidentally, here, the case where the fiber plate substrate is manufactured by bonding the six fiber plates 2 has been described as an example, but actually, the predetermined size is set so that the fiber plate substrate has a required size. The number of fiber plates 2 are stuck together.
【0057】「動作の説明」つぎに、図1を用いてX線
撮像装置の動作について説明する。蛍光体3側に図示し
ないX線源を設置し、さらに、X線源とX線撮像装置と
の間に被写体を位置させた状態で、X線源からX線を照
射すると、そのX線は被写体に曝射される。すると、X
線は被写体を透過するときに強度差を有するレントゲン
情報を含んでX線撮像装置側に送られる。[Description of Operation] Next, the operation of the X-ray imaging apparatus will be described with reference to FIG. When an X-ray source (not shown) is installed on the phosphor 3 side, and X-rays are emitted from the X-ray source in a state where the subject is located between the X-ray source and the X-ray imaging apparatus, the X-rays are The subject is exposed. Then X
The line is transmitted to the X-ray imaging apparatus including X-ray information having an intensity difference when transmitted through the subject.
【0058】X線撮像装置側では、到達したX線のほと
んどが蛍光体3において、X線の強度に応じた可視光等
の光に変換される。変換されることで得られた光は、フ
ァイバープレート2を通じて撮像素子1側へ伝送され
る。このとき、ファイバープレート2と撮像素子1とが
透明接着材6によって接着されているため、光は透明接
着材6を通過するときに減衰することなく撮像素子1に
入射される。On the X-ray imaging apparatus side, most of the X-rays that have arrived are converted by the phosphor 3 into light such as visible light according to the intensity of the X-rays. The light obtained by the conversion is transmitted to the image sensor 1 through the fiber plate 2. At this time, since the fiber plate 2 and the image sensor 1 are bonded by the transparent adhesive 6, light is incident on the image sensor 1 without attenuation when passing through the transparent adhesive 6.
【0059】一方、X線撮像装置側へ到達したX線のう
ち、蛍光体3で変換しきれなかったX線や、蛍光体3へ
入射しないX線は、撮像素子1で検知できる波長に変換
されないまま、撮像素子1側へ進行する。このようなX
線は、ファイバープレート2に含まれる遮蔽材によって
遮蔽され、撮像素子1やプリント基板12へ入射しな
い。On the other hand, of the X-rays that have reached the X-ray imaging apparatus side, X-rays that cannot be converted by the phosphor 3 and X-rays that do not enter the phosphor 3 are converted into wavelengths that can be detected by the image sensor 1. It proceeds to the image sensor 1 side without being performed. X like this
The lines are shielded by the shielding member included in the fiber plate 2 and do not enter the imaging device 1 or the printed circuit board 12.
【0060】また、光は、接着材7にも入射される。接
着材7に入射した光は、吸収又は反射等されて光の透過
率が小さくなる。この光が撮像素子1の画素上に入射さ
れるとライン欠陥になるが、上述したように、ファイバ
ープレート2の大きさと撮像素子1との大きさを同じに
して、これらを位置合わせすると接着材7からの光が撮
像素子1の画素に影響を与えにくい構成とすることがで
きる。The light is also incident on the adhesive 7. The light incident on the adhesive 7 is absorbed or reflected, and the light transmittance is reduced. When this light is incident on the pixels of the image sensor 1, a line defect occurs. As described above, the size of the fiber plate 2 and the size of the image sensor 1 are made equal to each other, and when these are aligned, an adhesive material is formed. It is possible to adopt a configuration in which light from 7 hardly affects the pixels of the image sensor 1.
【0061】撮像素子1では、入射された光を、光の強
度に応じた電気信号に変換する。この電気信号は、図示
しない読み出し回路の指示に応じて、バンプ5を介して
フレキシブル基板4に読み出される。フレキシブル基板
4に読み出された電気信号は、図示しない外部回路基板
に送られ、A/D変換された後に画像処理がされる。The image sensor 1 converts the incident light into an electric signal corresponding to the intensity of the light. This electric signal is read out to the flexible substrate 4 via the bump 5 in accordance with an instruction of a reading circuit (not shown). The electric signal read out to the flexible board 4 is sent to an external circuit board (not shown), and is subjected to A / D conversion and image processing.
【0062】(実施形態2)図9(a)は、本発明の実
施形態2に係るファイバープレート基体の断面図であ
る。図9(b)は、図9(a)の破線部分の拡大図であ
る。図9には、鉛等のX線遮蔽部材を含有したエポキシ
樹脂等を接着材によって、ファイバープレート2を相互
に接続して、ファイバープレート基体を作成している様
子を示している。(Embodiment 2) FIG. 9A is a sectional view of a fiber plate base according to Embodiment 2 of the present invention. FIG. 9B is an enlarged view of a portion indicated by a broken line in FIG. FIG. 9 shows a state in which the fiber plates 2 are connected to each other by an epoxy resin or the like containing an X-ray shielding member such as lead with an adhesive to form a fiber plate base.
【0063】本実施形態のX線撮像装置は、蛍光体3に
入射したX線のうち、光に変換されないものが撮像素子
1に入射するのを防止するものである。すなわち、蛍光
体3に入射したX線のうち、光に変換されないものは、
鉛等を含有させたファイバープレート2及び遮蔽性部材
を含有させた接着材によって遮蔽する。こうして、本実
施形態では、撮像素子1にX線が入射されることを防止
して、ノイズ等の発生を抑制している。The X-ray imaging apparatus according to the present embodiment is intended to prevent the X-rays that have not been converted into light out of the X-rays incident on the phosphor 3 from being incident on the image sensor 1. That is, of the X-rays incident on the phosphor 3, those which are not converted into light are:
The fiber plate 2 containing lead or the like is shielded by an adhesive containing a shielding member. Thus, in the present embodiment, the incidence of X-rays on the image sensor 1 is prevented, and the occurrence of noise and the like is suppressed.
【0064】なお、接着材には、エチレン・酢酸ビニル
共重合体、カルボキシル変性エチレン・酢酸ビニル共重
合体、エチレン・イソブチルアクリレート共重合体、ポ
リアミド、ポリエステル、ポリメチルメタクリレート、
ポリビニルエーテル、ポリビニルブチラール、ポリウレ
タン、スチレン・ブチレン・スチレン(SBS)共重合
体、カルボキシル変性SBS共重合体、スチレン・イソ
プレン・スチレン(SIS)共重合体、スチレン・エチ
レン・ブチレン・スチレン(SEBS)共重合体、マレ
イン酸変性SEBS共重合体、ポリブタジエンゴム、ク
ロロプレンゴム(CR)、カルボキシル変性CR、スチ
レン・ブタジエンゴム、イソブチレン・イソプレン共重
合体、アクリロニトリル・ブタジエンゴム(NBR)、
カルボキシル変性NBR、エポキシ樹脂、シリコーンゴ
ム(SR)などが挙げられ、これらは1種単独又は2種
以上を組合せて使用される。The adhesive includes ethylene / vinyl acetate copolymer, carboxyl-modified ethylene / vinyl acetate copolymer, ethylene / isobutyl acrylate copolymer, polyamide, polyester, polymethyl methacrylate,
Polyvinyl ether, polyvinyl butyral, polyurethane, styrene / butylene / styrene (SBS) copolymer, carboxyl-modified SBS copolymer, styrene / isoprene / styrene (SIS) copolymer, styrene / ethylene / butylene / styrene (SEBS) Polymer, maleic acid-modified SEBS copolymer, polybutadiene rubber, chloroprene rubber (CR), carboxyl-modified CR, styrene / butadiene rubber, isobutylene / isoprene copolymer, acrylonitrile / butadiene rubber (NBR),
Examples thereof include carboxyl-modified NBR, epoxy resin, and silicone rubber (SR), and these are used alone or in combination of two or more.
【0065】さらに、必要に応じて、反応性助剤、架橋
剤としてのフェノール樹脂、ポリオール類、イソシアネ
ート類、メラミン樹脂、尿素樹脂、ウロトロピン樹脂、
アミン類、酸無水物、過酸化物、金属酸化物、トリフル
オロ酢酸クロム塩などの有機金属塩、チタン、ジルコニ
ア、アルミニウムなどのアルコキシド、ジブチル錫ジオ
キサイドなどの有機金属化合物、2,2−ジエトシキア
セトフェノン、ベンジルなどの光開始剤、アミン類、リ
ン化合物、塩素化合物などの増感剤、さらには硬化剤、
加硫剤、制御剤、劣化防止剤、耐熱添加剤、熱伝導向上
剤、軟化剤、着色剤、各種カップリング剤、金属不活性
剤などを適宜添加してもよい。Further, if necessary, a reactive auxiliary agent, a phenol resin as a crosslinking agent, a polyol, an isocyanate, a melamine resin, a urea resin, a urotropin resin,
Amines, acid anhydrides, peroxides, metal oxides, organic metal salts such as chromium trifluoroacetate, alkoxides such as titanium, zirconia and aluminum, organic metal compounds such as dibutyltin dioxide, 2,2-die Photoinitiators such as toshiquiacetophenone and benzyl, sensitizers such as amines, phosphorus compounds and chlorine compounds, and further curing agents,
Vulcanizing agents, control agents, deterioration inhibitors, heat-resistant additives, heat conduction improvers, softeners, coloring agents, various coupling agents, metal deactivators, and the like may be appropriately added.
【0066】また、遮蔽性部材には、鉄、コバルト、ニ
ッケル、銅、亜鉛、銀、スズ、ガドリニウム、タングス
テン、白金、金、鉛、ビスマスなどの重金属及びその化
合物若しくは合金や、半田(Pb−Sn)ペースト、銀
ペーストで用いる合金、金属粒子や、無機若しくは有機
材からなる粒(カーボン粒子、プラスチックボール)に
メッキ、スパッタ等で重金属を皮膜した粒子などを用い
ることができる。The shielding member includes heavy metals such as iron, cobalt, nickel, copper, zinc, silver, tin, gadolinium, tungsten, platinum, gold, lead and bismuth, and compounds or alloys thereof, and solder (Pb- Sn) alloys and metal particles used for the paste and silver paste, particles obtained by coating heavy metal by plating, sputtering, or the like on particles (carbon particles, plastic balls) made of an inorganic or organic material can be used.
【0067】図10は、図9に示すファイバープレート
基体の製造工程の説明図である。まず、図10(a)に
示すように、接着材とX線遮蔽部材とを撹拌棒などを用
いて撹拌する。それから、撹拌によって生じた泡がなく
なった後に、ディスペンサー若しくはスクリーン印刷で
ファイバープレート間にX線遮蔽部材を含有する接着材
を充填する(図10(b))。充填は、隙間の空気が抜
けやすいように真空雰囲気内で行うとよい。FIG. 10 is an explanatory diagram of a manufacturing process of the fiber plate substrate shown in FIG. First, as shown in FIG. 10A, the adhesive and the X-ray shielding member are stirred using a stirring rod or the like. Then, after the bubbles generated by the stirring have disappeared, the adhesive containing the X-ray shielding member is filled between the fiber plates by a dispenser or screen printing (FIG. 10B). The filling is preferably performed in a vacuum atmosphere so that air in the gap is easily released.
【0068】そして、ファイバープレート2を相互に加
圧しながら接着材を硬化させる。硬化には、UV照射
や、常温〜200℃の範囲で加熱するとよい。その後、
ファイバープレート2の上面よりはみ出した接着材を削
り取る(図10(c))。こうして、ファイバープレー
ト基体を形成する。Then, the adhesive is cured while the fiber plates 2 are pressed against each other. For curing, UV irradiation or heating at a temperature in the range of room temperature to 200 ° C. is preferable. afterwards,
The adhesive protruding from the upper surface of the fiber plate 2 is scraped off (FIG. 10C). Thus, a fiber plate substrate is formed.
【0069】(実施形態3)図11は、本発明の実施形
態3に係るファイバープレート基体の断面図である。本
実施形態では、低融点金属(融点が330℃以下の金
属)及び液状フラックスを用いてファイバープレート基
体を作成する。(Embodiment 3) FIG. 11 is a sectional view of a fiber plate substrate according to Embodiment 3 of the present invention. In the present embodiment, a fiber plate substrate is prepared using a low-melting metal (metal having a melting point of 330 ° C. or less) and a liquid flux.
【0070】低融点金属には、Pb、Sn、Bi、S
b、In、Ag、Cdなどの金属を2種以上含む合金、
たとえばSn−Pb(63:37wt%)の共晶半田や
Sn−Pb(10:90wt%)の高融点半田を用いる
ことができる。また、低融点金属は、液状フラックスに
混ざりやすいように、粒形状であることが望ましい。Pb, Sn, Bi, S
b, an alloy containing two or more kinds of metals such as In, Ag, and Cd;
For example, Sn-Pb (63:37 wt%) eutectic solder or Sn-Pb (10:90 wt%) high melting point solder can be used. Further, it is desirable that the low melting point metal has a granular shape so as to be easily mixed with the liquid flux.
【0071】また、液状フラックスには、ロジン系液状
フラックスでは、精製ロジン、水添ロジン、重合ロジン
等の樹脂成分及びアルコール類、たとえばテルピネオー
ル、1,4−ブタンジオール、メチルセロソルブ等、又
はケトン類、たとえばメチルエチルケトン、メチルイソ
プロピルケトン、メチルイソブチルケトン等の溶剤成分
を必須成分とし、これに更にポリエチレングリコール、
ポリビニルブチラール、石油樹脂等の粘度調整剤、マロ
ン酸、コハク酸、トリエタノールアミン等の活性剤など
の添加剤成分を適宜配合したものが用いられる。In the liquid flux, rosin-based liquid flux includes resin components such as purified rosin, hydrogenated rosin, and polymerized rosin, and alcohols such as terpineol, 1,4-butanediol, methyl cellosolve, and ketones. For example, a solvent component such as methyl ethyl ketone, methyl isopropyl ketone, and methyl isobutyl ketone is an essential component, and polyethylene glycol,
What appropriately added additive components such as a viscosity modifier such as polyvinyl butyral and petroleum resin and an activator such as malonic acid, succinic acid and triethanolamine is used.
【0072】また、水溶性の液状フラックスとしては、
ポリエチレングリコール、グリセリン、ポリビニルアル
コール等の多価アルコール成分、溶剤成分としての水を
必須成分とし、これに更にポリアクリル酸アミド等の粘
度調整剤、有機酸、有機若しくは無機ハロゲン化塩、塩
酸ジエチルアミン等の活性剤などの添加剤成分を適宜配
合したものが用いられる。中でも、水溶性の液状フラッ
クスが好ましく使用される。The water-soluble liquid flux includes:
Polyhydric alcohol components such as polyethylene glycol, glycerin and polyvinyl alcohol, water as a solvent component are essential components, and further a viscosity modifier such as polyacrylamide, organic acid, organic or inorganic halide salt, diethylamine hydrochloride, etc. What mix | blends the additive component, such as an activator, suitably is used. Among them, a water-soluble liquid flux is preferably used.
【0073】図12は、図11に示すファイバープレー
ト基体の製造工程の説明図である。まず、図12(a)
に示すように、粉末状の低融点金属と液状フラックスと
を混合する。それから、撹拌によって生じた泡がなくな
った後に、ディスペンサー若しくはスクリーン印刷でフ
ァイバープレート間にX線遮蔽部材を含有する液状フラ
ックスを充填する(図12(b))。充填は、隙間の空
気が抜けやすいように真空雰囲気内で行うとよい。FIG. 12 is an explanatory diagram of a manufacturing process of the fiber plate substrate shown in FIG. First, FIG.
As shown in (1), a powdery low melting point metal and a liquid flux are mixed. Then, after the bubbles generated by the stirring disappear, the liquid flux containing the X-ray shielding member is filled between the fiber plates by a dispenser or screen printing (FIG. 12B). The filling is preferably performed in a vacuum atmosphere so that air in the gap is easily released.
【0074】そして、ファイバープレート2を相互に加
圧し、同時に融点以上の温度で加熱して低融点金属を融
着させる。こうして、図12(c)に示すようなファイ
バープレート基体を形成する。Then, the fiber plates 2 are mutually pressurized and simultaneously heated at a temperature higher than the melting point to fuse the low melting point metal. Thus, a fiber plate base as shown in FIG. 12C is formed.
【0075】(実施形態4)図13は、本発明の実施形
態4に係るファイバープレート基体の断面図である。本
実施形態では、第1,第2の金属層によってファイバー
プレートを貼り合わせてファイバープレート基体を作成
する。(Embodiment 4) FIG. 13 is a sectional view of a fiber plate base according to Embodiment 4 of the present invention. In this embodiment, the fiber plate is bonded by the first and second metal layers to form a fiber plate base.
【0076】図14は、図13に示すファイバープレー
ト基体の製造工程の説明図である。まず、たとえばファ
イバープレート2の両面に、感光性フィルムなどの耐酸
性用エッチングレジストをコーティングする(図14
(a))。そして、このレジストを加熱によってファイ
バープレート2に密着させる。それから、後述する第1
の金属層とガラスとの密着性を上げるため、フッ酸、フ
ッ化カリウム、酸性フッ化アンモニウムなどを用いて、
ファイバープレート2の端面をエッチングして表面を粗
す(図14(b))。FIG. 14 is an explanatory diagram of a manufacturing process of the fiber plate substrate shown in FIG. First, for example, both sides of the fiber plate 2 are coated with an acid-resistant etching resist such as a photosensitive film (FIG. 14).
(A)). Then, the resist is brought into close contact with the fiber plate 2 by heating. Then, the first
To increase the adhesion between the metal layer and the glass, use hydrofluoric acid, potassium fluoride, ammonium acid fluoride, etc.
The end surface of the fiber plate 2 is etched to roughen the surface (FIG. 14B).
【0077】つづいて、エッチングした端面にニッケル
や銅などの第1の金属層を無電解メッキによって形成す
る(図14(c))。そして、第1の金属層に、合金で
ある第2の金属層を電気メッキする(図14(d))。
第2の金属層はガラスのような不導体に直接メッキする
ことが難しい。そこで上述した第1の金属層を先に設け
て導体処理を行い、その後に第2の金属層を電気メッキ
処理によって形成する。Subsequently, a first metal layer such as nickel or copper is formed on the etched end face by electroless plating (FIG. 14C). Then, a second metal layer, which is an alloy, is electroplated on the first metal layer (FIG. 14D).
It is difficult for the second metal layer to be plated directly on a non-conductor such as glass. Therefore, the above-described first metal layer is provided first to perform conductor processing, and thereafter, the second metal layer is formed by electroplating.
【0078】それから、レジストを剥離して、ファイバ
ープレート2を相互に加圧しながら、第2の金属層を融
点以上330℃以下の温度で加熱する(図14
(e))。その後、ファイバープレート2の上面よりは
み出した第1,第2の金属層を削り取る。こうして、フ
ァイバープレート基体を形成する。Then, the resist is peeled off, and the second metal layer is heated at a temperature of not less than the melting point and not more than 330 ° C. while mutually pressing the fiber plates 2 (FIG. 14).
(E)). After that, the first and second metal layers protruding from the upper surface of the fiber plate 2 are scraped off. Thus, a fiber plate substrate is formed.
【0079】以上説明したように、実施形態2〜4で
は、X線を遮蔽する遮蔽性を有する接着部によってファ
イバープレート2を相互に接続するようにしているた
め、蛍光体3で光に変換されないでファイバープレート
基体側へ出射したX線がファイバープレート基体で遮蔽
されるため、撮像素子1を入射されず、ノイズ等の発生
を抑制することができる。As described above, in the second to fourth embodiments, since the fiber plates 2 are connected to each other by the adhesive portion having a shielding property for shielding X-rays, they are not converted into light by the phosphor 3. Thus, the X-rays emitted to the fiber plate substrate side are shielded by the fiber plate substrate, so that the X-rays are not incident on the imaging device 1 and the occurrence of noise and the like can be suppressed.
【0080】(実施形態5)図15は、実施形態1で説
明したX線撮像装置を備えた非破壊検査システムの構成
を示す概念図である。図15には、実施形態1で説明し
たX線撮像装置1000と、たとえば電気機器に組み込
まれる非破壊検査対象物である被写体2000と、被写
体2000にX線を照射するマイクロフォーカスX線発
生器3000と、X線撮像装置1000から出力される
信号を処理する画像処理装置6000と、画像処理装置
6000によって処理された画像を表示するモニタ40
00と、画像処理装置6000及びモニタ4000を操
作するコントローラ5000とを示している。(Embodiment 5) FIG. 15 is a conceptual diagram showing a configuration of a nondestructive inspection system provided with the X-ray imaging apparatus described in Embodiment 1. FIG. 15 shows an X-ray imaging apparatus 1000 described in the first embodiment, a subject 2000 which is a non-destructive inspection target incorporated in, for example, an electric device, and a microfocus X-ray generator 3000 which irradiates the subject 2000 with X-rays. An image processing device 6000 for processing a signal output from the X-ray imaging device 1000; and a monitor 40 for displaying an image processed by the image processing device 6000.
00 and a controller 5000 that operates the image processing device 6000 and the monitor 4000.
【0081】図15に示す非破壊検査システムは、マイ
クロフォーカスX線発生器3000によって発生された
X線を、非破壊検査を行いたい被写体2000に照射す
ると、被写体2000の内部における破壊の有無の情報
が、X線撮像装置1000を通じて画像処理装置600
0に出力される。画像処理装置6000では、出力され
た信号を、前述している各撮像素子1の周辺画素間の画
像信号を処理したり、ダーク補正などを施して、モニタ
4000に画像として表示する。The non-destructive inspection system shown in FIG. 15 irradiates an object 2000 to be subjected to a non-destructive inspection with X-rays generated by the microfocus X-ray generator 3000. However, through the X-ray imaging apparatus 1000, the image processing apparatus 600
Output to 0. In the image processing device 6000, the output signal is processed as an image signal between the peripheral pixels of each of the imaging elements 1 described above, subjected to dark correction, and the like, and displayed as an image on the monitor 4000.
【0082】モニタ4000に表示されている画像は、
コントローラ5000によって指示を入力することで、
たとえば拡大又は縮小したり、濃淡の制御等を行うこと
ができる。こうして、モニタ4000に表示された画像
を通じて、被写体2000の内部における破壊の有無を
検査する。そして、被写体2000に破壊が発見されな
ければ、それを良品とみなして電気機器に組み込む。一
方、被写体2000に破壊が発見されれば、それを不良
品とみなして製造工程から除外する。The image displayed on the monitor 4000 is
By inputting instructions by the controller 5000,
For example, enlargement or reduction, shading control, and the like can be performed. Thus, through the image displayed on the monitor 4000, the presence or absence of destruction inside the subject 2000 is inspected. Then, if no destruction is found in the object 2000, it is regarded as a non-defective product and incorporated into the electric device. On the other hand, if a break is found in the object 2000, it is regarded as a defective product and is excluded from the manufacturing process.
【0083】(実施形態6)図16は、実施形態1で説
明したX線撮像装置を備えたX線診断システムの構成を
示す概念図である。図16には、X線撮像装置1000
を備えたベッドと、被写体2000にX線を照射するた
めのX線発生装置7000と、X線撮像装置1000か
ら出力される画像信号の処理及びX線発生装置7000
からのX線の照射時期等を制御するイメージプロセッサ
ー8000と、イメージプロセッサー8000によって
処理された画像信号を表示するモニタ4000とを示し
ている。なお、図16において、図9で示した部分と同
様の部分には、同一の符号を付している。(Embodiment 6) FIG. 16 is a conceptual diagram showing the configuration of an X-ray diagnostic system provided with the X-ray imaging apparatus described in Embodiment 1. FIG. 16 shows an X-ray imaging apparatus 1000.
, An X-ray generator 7000 for irradiating the subject 2000 with X-rays, processing of an image signal output from the X-ray imaging device 1000, and an X-ray generator 7000
The figure shows an image processor 8000 for controlling the timing of X-ray irradiation from the camera and a monitor 4000 for displaying an image signal processed by the image processor 8000. In FIG. 16, the same parts as those shown in FIG. 9 are denoted by the same reference numerals.
【0084】図16に示すX線診断システムは、X線発
生装置7000は、イメージプロセッサー8000から
の指示に基づいてX線を発生させ、このX線をベッド上
の被写体2000に照射すると、被写体2000のレン
トゲン情報がX線撮像装置1000を通じてイメージプ
ロセッサー8000に出力される。イメージプロセッサ
ー8000では、出力された信号を、前述している各撮
像素子1の周辺画素間の画像信号を処理したり、ダーク
補正などを施して、図示しないメモリに格納したり、モ
ニタ4000に画像として表示する。In the X-ray diagnostic system shown in FIG. 16, an X-ray generator 7000 generates X-rays based on an instruction from an image processor 8000 and irradiates the X-rays to a subject 2000 on a bed. Is output to the image processor 8000 through the X-ray imaging apparatus 1000. In the image processor 8000, the output signal is processed by processing the above-described image signal between the peripheral pixels of each image sensor 1, subjected to dark correction or the like, and stored in a memory (not shown). Display as
【0085】モニタ4000に表示されている画像は、
イメージプロセッサー8000によって指示を入力する
ことで、たとえば拡大又は縮小したり、濃淡の制御等を
行うことができる。こうして、モニタ4000に表示さ
れた画像を通じて、医師が被写体2000を診察する。The image displayed on the monitor 4000 is
By inputting an instruction with the image processor 8000, for example, enlargement or reduction, shading control, and the like can be performed. Thus, the doctor examines the subject 2000 through the image displayed on the monitor 4000.
【0086】また、医師が診察した後の被写体2000
のレントゲン情報は、本システムの記録手段を設けて、
ディスク上の記録媒体などの記録媒体に記録するように
してもよい。The subject 2000 after the doctor's consultation
X-ray information is provided by the recording means of this system,
The information may be recorded on a recording medium such as a recording medium on a disk.
【0087】なお、以上説明した本発明の各実施形態で
は、X線を用いた場合を例に説明したが、α,β,γ線
等の放射線を用いることができる。また、光は画素によ
り検出可能な波長領域の電磁波であり、可視光を含む。
さらに、たとえば放射線を含む電磁波を電気信号に変換
する電磁波電気信号変換装置にも適用することができ
る。In each of the embodiments of the present invention described above, the case where X-rays are used has been described as an example. However, radiation such as α, β, and γ-rays can be used. Light is an electromagnetic wave in a wavelength region that can be detected by a pixel, and includes visible light.
Further, the present invention can be applied to, for example, an electromagnetic wave electric signal converter that converts electromagnetic waves including radiation into electric signals.
【0088】[0088]
【発明の効果】以上、説明したように、本発明は、波長
変換手段と光電変換手段との間に設けられ波長変換手段
からの光を光電変換手段へ導く複数のファイバープレー
トとを有するファイバープレート基体は、複数のファイ
バープレートを相互に接着材を用いて貼り合わせること
によって作成されているため、面倒なファイバープレー
トの加工や位置合わせすることなく放射線撮像装置を製
造することができる。As described above, the present invention relates to a fiber plate having a plurality of fiber plates provided between a wavelength conversion means and a photoelectric conversion means for guiding light from the wavelength conversion means to the photoelectric conversion means. Since the base is made by bonding a plurality of fiber plates to each other using an adhesive, the radiation imaging apparatus can be manufactured without complicated processing and alignment of the fiber plates.
【図1】本発明の実施形態1のX線撮像装置の断面図で
ある。FIG. 1 is a sectional view of an X-ray imaging apparatus according to a first embodiment of the present invention.
【図2】図1の撮像素子の概略的な構成を示す平面図で
ある。FIG. 2 is a plan view showing a schematic configuration of the image sensor of FIG. 1;
【図3】図1のバンプ及びフレキシブル配線基板付近の
概略図である。FIG. 3 is a schematic view of the vicinity of a bump and a flexible wiring board of FIG. 1;
【図4】図3に示したバンプとフレキシブル基板との電
気的接続の様子を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a state of electrical connection between a bump and a flexible substrate illustrated in FIG. 3;
【図5】図1の撮像素子のフレキシブル配線基板付近の
拡大図である。FIG. 5 is an enlarged view of the vicinity of a flexible wiring board of the imaging device of FIG. 1;
【図6】図1の撮像素子とベース基板との接着工程を示
す図である。FIG. 6 is a view showing a bonding step between the image pickup device of FIG. 1 and a base substrate.
【図7】図1の撮像素子1及びベース基板とファイバー
プレート基体とを貼り合わせる工程の説明図である。FIG. 7 is an explanatory view of a step of bonding the image pickup device 1 and the base substrate of FIG. 1 to a fiber plate base.
【図8】図1のファイバープレート基体の製造工程を示
す模式図である。FIG. 8 is a schematic view showing a manufacturing process of the fiber plate substrate of FIG.
【図9】本発明の実施形態2に係るファイバープレート
基体の断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of a fiber plate base according to Embodiment 2 of the present invention.
【図10】図9に示すファイバープレート基体の製造工
程の説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram of a manufacturing process of the fiber plate substrate shown in FIG.
【図11】本発明の実施形態3に係るファイバープレー
ト基体の断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view of a fiber plate base according to Embodiment 3 of the present invention.
【図12】図11に示すファイバープレート基体の製造
工程の説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram of a manufacturing process of the fiber plate substrate shown in FIG.
【図13】本発明の実施形態4に係るファイバープレー
ト基体の断面図である。FIG. 13 is a sectional view of a fiber plate base according to a fourth embodiment of the present invention.
【図14】図13に示すファイバープレート基体の製造
工程の説明図である。14 is an explanatory diagram of a manufacturing process of the fiber plate base shown in FIG.
【図15】実施形態1等で説明したX線撮像装置を備え
た非破壊検査システムの構成を示す概念図である。FIG. 15 is a conceptual diagram illustrating a configuration of a nondestructive inspection system including the X-ray imaging device described in the first embodiment and the like.
【図16】実施形態1等で説明したX線撮像装置を備え
たX線診断システムの構成を示す概念図である。FIG. 16 is a conceptual diagram illustrating a configuration of an X-ray diagnostic system including the X-ray imaging device described in the first embodiment and the like.
【図17】従来技術(1)のX線撮像装置の斜視図であ
る。FIG. 17 is a perspective view of an X-ray imaging apparatus according to the related art (1).
【図18】従来技術(2)のX線撮像装置の斜視図であ
る。FIG. 18 is a perspective view of an X-ray imaging apparatus of the related art (2).
【図19】X線撮像ユニットの断面図である。FIG. 19 is a sectional view of the X-ray imaging unit.
【図20】図19の撮像素子1及びベース基板とファイ
バープレート基体とを貼り合わせる工程の説明図であ
る。20 is an explanatory diagram of a step of bonding the image pickup device 1 and the base substrate and the fiber plate base in FIG. 19;
1 撮像素子 2 ファイバープレート 3 蛍光体(波長変換手段) 4 フレキシブル基板 5 バンプ 6 透明接着材 7 接着材 8 保護シート 9 筐体カバー 10 ベース基板 11 ベース筐体 12 プリント基板 13 スペーサ 14 目地うめ接着材 15 封止樹脂 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Image sensor 2 Fiber plate 3 Phosphor (wavelength conversion means) 4 Flexible substrate 5 Bump 6 Transparent adhesive 7 Adhesive 8 Protective sheet 9 Housing cover 10 Base substrate 11 Base housing 12 Printed circuit board 13 Spacer 14 Joint filling adhesive 15 sealing resin
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 27/14 D (72)発明者 梶原 賢治 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 Fターム(参考) 2G088 EE01 EE29 FF02 FF04 FF05 FF06 GG15 GG19 JJ05 JJ09 JJ31 JJ33 JJ37 4M118 AA01 AA06 AB01 CB11 CB20 GA10 GB01 GB10 HA03 HA21 HA23 HA25 HA26 HA31 5C024 AX12 AX16 CX41 CY47 CY48 EX22 EX25 EX54 GY00 HX01──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 27/14 D (72) Inventor Kenji Kajiwara 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. F-term (reference) 2G088 EE01 EE29 FF02 FF04 FF05 FF06 GG15 GG19 JJ05 JJ09 JJ31 JJ33 JJ37 4M118 AA01 AA06 AB01 CB11 CB20 GA10 GB01 GB10 HA03 HA21 HA23 HA25 HA26 HA31 5C024 EX24 AX16 CAX AX12 AX16 C
Claims (7)
導くと共に当該蛍光体で変換しきれなかった放射線を遮
蔽するファイバープレートと、前記光電変換手段で変換
された電気信号の読み出しを制御する制御手段とを備え
た放射線撮像ユニットであって、 前記ファイバープレートよりも小さい前記制御手段を当
該ファイバープレートの下に納まるように配置すること
を特徴とする放射線撮像ユニット。1. A fiber plate that guides light converted by a phosphor to a photoelectric conversion unit and shields radiation that could not be converted by the phosphor, and controls reading of an electric signal converted by the photoelectric conversion unit. A radiation imaging unit, comprising: a control unit that is smaller than the fiber plate; and wherein the control unit that is smaller than the fiber plate is disposed under the fiber plate.
て平坦化することを特徴とする請求項1記載の放射線撮
像ユニット。2. The radiation imaging unit according to claim 1, wherein a surface of said fiber plate is polished and flattened.
手段に貼り合わせた後にファイバープレートの光の入出
射しない側面を該光電変換手段の面積に合わせて研磨す
ることを特徴とする請求項1記載の放射線撮像ユニッ
ト。3. The radiation according to claim 1, wherein after the fiber plate is bonded to the photoelectric conversion means, a side of the fiber plate where light does not enter and exit is polished according to an area of the photoelectric conversion means. Imaging unit.
びパフを設けた回転台に取り付けてスラリーを研磨剤と
して用いることによって研磨する、又は機械的に研磨す
ることを特徴とする請求項1記載の放射線撮像ユニッ
ト。4. The radiation imaging apparatus according to claim 1, wherein the fiber plate is attached to a turntable provided with a felt and a puff, and is polished by using a slurry as an abrasive, or is mechanically polished. unit.
互に接着材で貼り合わせることにより作成することを特
徴とする放射線撮像装置。5. A radiation imaging apparatus, wherein the radiation imaging unit according to claim 1 is formed by bonding together with an adhesive.
わせる接着材は、前記放射線を遮蔽する遮蔽性を有する
接着材であることを特徴とする請求項5記載の放射線撮
像装置。6. The radiation imaging apparatus according to claim 5, wherein the adhesive for bonding the fiber plates to each other is an adhesive having a shielding property for shielding the radiation.
と、 前記信号処理手段からの信号を記録するための記録手段
と、 前記信号処理手段からの信号を表示するための表示手段
と、 前記信号処理手段からの信号を伝送するための伝送処理
手段と、 前記放射線を発生させるための放射線源とを具備するこ
とを特徴とする放射線線撮像システム。7. A radiation imaging apparatus according to claim 5, signal processing means for processing a signal from said radiation imaging apparatus, recording means for recording a signal from said signal processing means, and said signal processing means. A radiation means for displaying a signal from the signal processing means, a transmission processing means for transmitting a signal from the signal processing means, and a radiation source for generating the radiation. system.
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---|---|---|---|
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