JP2002346367A - Vacuum apparatus, method for controlling degree of vacuum in the apparatus, and program for controlling degree of vacuum - Google Patents
Vacuum apparatus, method for controlling degree of vacuum in the apparatus, and program for controlling degree of vacuumInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、真空装置,その真
空度制御方法及び真空度制御プログラムに関し、特に、
真空装置の真空度に関する制御において、排気の異常検
出及び目標真空度への到達時間の予測を可能とする真空
度制御装置を用いた真空装置,その真空度制御方法及び
真空度制御プログラムに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum device, a method of controlling the degree of vacuum, and a program for controlling a degree of vacuum.
The present invention relates to a vacuum device using a vacuum control device capable of detecting an abnormality in exhaust and predicting a time required to reach a target vacuum in a control relating to the vacuum of the vacuum device, a vacuum control method thereof, and a vacuum control program.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体製造装置用の真空装置は、先ず、
ルーツブロワなどの補助ポンプで排気され、続いて、ク
ライオポンプやターボ分子ポンプなどの主ポンプによっ
て排気されることにより、たとえば、1×10−6(P
a)オーダーの高真空状態に到達する。つまり、真空装
置は、真空容器内の気体分子を、冷却されたクライオ面
に吸着したり、ターボ分子ポンプの羽根で弾き飛ばすこ
とにより排気しており、高真空状態に至るまでに、通
常、数時間から十数時間を必要とする。また、この真空
装置は、熱を発して真空容器内壁面の脱ガスを促進する
電気式脱ガス部材(ベーキングヒータ)が配設されてい
る。2. Description of the Related Art A vacuum apparatus for a semiconductor manufacturing apparatus first comprises:
By being evacuated by an auxiliary pump such as a Roots blower and subsequently evacuated by a main pump such as a cryopump or a turbo molecular pump, for example, 1 × 10 −6 (P
a) A high vacuum state of the order is reached. In other words, a vacuum device exhausts gas molecules in a vacuum vessel by adsorbing them on a cooled cryosurface or by flipping them off with the blades of a turbo-molecular pump. It takes 10 to 10 hours. In addition, the vacuum device is provided with an electric degassing member (baking heater) that generates heat to promote degassing of the inner wall surface of the vacuum vessel.
【0003】また、上記半導体製造装置用の真空装置と
は、通常、スパッタ装置,ドライエッチング装置,Eガ
ン装置,CVD装置などの半導体製造装置に用いられる
真空装置をいう。なお、本発明の真空装置,その真空度
制御方法及び真空度制御プログラムは、これら装置に用
いられる真空装置に限定するものではない。The above-mentioned vacuum apparatus for a semiconductor manufacturing apparatus generally means a vacuum apparatus used for a semiconductor manufacturing apparatus such as a sputtering apparatus, a dry etching apparatus, an E-gun apparatus, and a CVD apparatus. In addition, the vacuum apparatus, the vacuum degree control method thereof, and the vacuum degree control program of the present invention are not limited to the vacuum apparatuses used in these apparatuses.
【0004】従来、高真空状態を実現する真空装置は、
最終到達真空容器内圧力や、電気式脱ガス部材への最終
通電電流値を知ることはできても、真空引き開始から真
空引き終了までの真空容器内部における真空状態の推移
を把握することができなかった。Conventionally, a vacuum device for realizing a high vacuum state has
Although it is possible to know the final pressure inside the vacuum vessel and the final energizing current to the electric degassing member, it is possible to grasp the transition of the vacuum state inside the vacuum vessel from the start of evacuation to the end of evacuation. Did not.
【0005】つまり、真空装置は、真空容器内部の汚れ
や、真空用バルブなどのシール部の不具合などといった
高真空状態を達成できない要因が存在しても、排気途中
で精度良くこれらの異常を判定できなかったため、予定
された真空引き終了時刻まで、数時間から十数時間の
間、主ポンプを作動させていた。また、従来の真空装置
は、高真空状態を達成できない要因について対策する
際、有効な情報を得ることができず、排気異常の原因調
査に多大な労力を費やしていた。That is, even if there are factors that cannot achieve a high vacuum state, such as dirt inside the vacuum vessel or failure of a sealing portion such as a vacuum valve, the vacuum device accurately determines these abnormalities during the evacuation. Because it was not possible, the main pump was operated for several hours to several tens hours until the scheduled evacuation end time. Further, the conventional vacuum apparatus cannot obtain effective information when taking measures against a factor that cannot achieve a high vacuum state, and has spent a great deal of effort in investigating the cause of exhaust abnormality.
【0006】近年、この不具合を改善する技術として、
特開平5−184904号公報において、「半導体製造
装置用真空装置の減圧方法および半導体製造装置用真空
装置」の技術が開示されている。この技術について、図
面を参照して説明する。In recent years, as a technique for improving this problem,
Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-184904 discloses a technique of "a method for reducing the pressure of a vacuum apparatus for a semiconductor manufacturing apparatus and a vacuum apparatus for a semiconductor manufacturing apparatus". This technique will be described with reference to the drawings.
【0007】(従来例)図8は、従来例における半導体
製造装置用真空脱ガス装置の概略構成図を示している。
また、図9は、従来例における半導体製造装置用真空脱
ガス装置に使用する表示装置における表示画面の概略拡
大図を示している。(Conventional Example) FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a vacuum degassing apparatus for a semiconductor manufacturing apparatus in a conventional example.
FIG. 9 is a schematic enlarged view of a display screen of a display device used in a conventional vacuum degassing device for a semiconductor manufacturing apparatus.
【0008】同図において、この真空脱ガス装置本体1
01は、真空容器102と、この真空容器102と直列
に接続されたバルブ105,主ポンプ103,バルブ1
06及び補助ポンプ104と、真空容器102の内部に
配設された電気式の発熱する被脱ガス部材107および
圧力センサ114と、脱ガス電源装置108,制御装置
109及び表示装置111とで構成してある。In FIG. 1, the vacuum degassing device main body 1
01 denotes a vacuum vessel 102, a valve 105, a main pump 103, and a valve 1 connected in series with the vacuum vessel 102.
06, an auxiliary pump 104, an electrically heated degassing target member 107 and a pressure sensor 114 disposed inside the vacuum vessel 102, a degassing power supply device 108, a control device 109, and a display device 111. It is.
【0009】ここで、制御装置109は、被脱ガス部材
107へ通電された電流量を測定する電流計を内蔵して
おり、また、真空容器102の真空容器内圧力を検出す
る圧力センサ114が接続されている。これにより、真
空脱ガス装置本体101は、真空容器102内を真空排
気する際、真空容器102内の圧力の経時変化と、真空
容器102の脱ガスを促進する被脱ガス部材107へ通
電された電流量の経時変化を記録する。したがって、作
業者などは、真空容器102の真空状態に何らかの不具
合が生じたとき、真空容器102内の圧力の経時変化及
び被脱ガス部材107へ通電された電流量の経時変化に
もとづいて、この不具合の生じた原因を追求する。Here, the control device 109 has a built-in ammeter for measuring the amount of current supplied to the member 107 to be degassed, and a pressure sensor 114 for detecting the pressure inside the vacuum vessel of the vacuum vessel 102. It is connected. Thus, when the inside of the vacuum vessel 102 is evacuated, the vacuum degassing apparatus main body 101 is energized to the degassing member 107 that promotes the change of the pressure in the vacuum vessel 102 with time and the degassing of the vacuum vessel 102. The current change over time is recorded. Therefore, when any trouble occurs in the vacuum state of the vacuum container 102, an operator or the like based on the temporal change of the pressure in the vacuum container 102 and the temporal change of the amount of current supplied to the degassed member 107 based on this change. Pursue the cause of the failure.
【0010】このように構成された真空脱ガス装置本体
101は、先ず、真空容器102が補助ポンプ104に
より真空引きされ、続いて、主ポンプ103により真空
引きされる。そして、真空脱ガス装置本体101は、あ
らかじめ設定された設定圧力より真空容器102内の圧
力が低くなると、制御装置109が、脱ガス電流を被脱
ガス部材107へ供給する。[0010] In the vacuum degassing apparatus main body 101 thus configured, first, the vacuum container 102 is evacuated by the auxiliary pump 104, and then the main pump 103 is evacuated. Then, in the vacuum degassing apparatus main body 101, when the pressure in the vacuum vessel 102 becomes lower than a preset pressure, the control device 109 supplies a degassing current to the degassing target 107.
【0011】ここで、真空容器102内の圧力の経時変
化、および、被脱ガス部材107へ通電された電流量の
経時変化を表示する表示装置111は、図9に示すよう
に、真空容器102内の真空圧力の変化曲線112と脱
ガス電流の増加曲線113を表示する。したがって、作
業者などは、真空容器102の真空状態に何らかの不具
合が生じたとき、表示装置111に記録されている真空
圧力の変化曲線112と脱ガス電流の増加曲線113に
もとづいて、不具合の生じた原因を追求できる。Here, a display device 111 for displaying a temporal change of the pressure in the vacuum vessel 102 and a temporal change of the amount of current supplied to the degassing member 107 is provided as shown in FIG. The change curve 112 of the vacuum pressure in the inside and the increase curve 113 of the degassing current are displayed. Therefore, when any trouble occurs in the vacuum state of the vacuum container 102, the worker or the like generates a trouble based on the change curve 112 of the vacuum pressure and the increase curve 113 of the degassing current recorded on the display device 111. The cause can be pursued.
【0012】次に、真空容器102の真空容器内圧力が
設定値に達し、かつ、脱ガス電流が設定値に達したと
き、真空脱ガス装置本体101は、主ポンプ103を停
止させて、真空容器102を使用する半導体製造工程へ
移行する。Next, when the pressure in the vacuum chamber 102 reaches the set value and the degassing current reaches the set value, the main body 103 of the vacuum degassing apparatus stops the main pump 103 and sets the vacuum pump. The process shifts to a semiconductor manufacturing process using the container 102.
【0013】[0013]
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記真空脱
ガス装置本体101は、真空圧力の変化曲線112と脱
ガス電流の増加曲線113を記憶しているだけであり、
真空容器102の真空状態に異常が発生すると、作業者
などが、これらの記録にもとづいて不具合の生じた原因
を追求するとなっているものの、特開平5−18490
4号公報には、真空圧力の変化曲線112と脱ガス電流
の増加曲線113からの異常状態の判定、不具合原因の
判別方法について、明記されていない。つまり、真空脱
ガス装置本体101は、真空容器102の真空排気中
に、真空容器102の異常脱ガスの発生や、シール不良
による真空容器102の外部からのガスの侵入といった
異常を早期に検知することができず、また、異常の原因
を効率良く調査できないといった問題があった。However, the vacuum degassing apparatus main body 101 only stores a change curve 112 of the vacuum pressure and an increase curve 113 of the degassing current.
When an abnormality occurs in the vacuum state of the vacuum vessel 102, an operator or the like pursues the cause of the failure based on these records.
In Japanese Patent Application Publication No. 4 (1999) -1995, there is no description about a method of judging an abnormal state and a method of judging a cause of a defect from the change curve 112 of the vacuum pressure and the increase curve 113 of the degassing current. In other words, the vacuum degassing apparatus main body 101 early detects abnormalities such as the occurrence of abnormal degassing of the vacuum vessel 102 and the intrusion of gas from outside the vacuum vessel 102 due to defective sealing during the evacuation of the vacuum vessel 102. And the cause of the abnormality cannot be efficiently investigated.
【0014】また、真空脱ガス装置本体101は、目標
真空度に到達するか否かの判定機能を持っていないた
め、真空容器10の真空排気中に、半導体製造工程に適
した目標真空度に到達するか、到達しないかを判定する
ことができないといった問題があった。Further, since the vacuum degassing apparatus main body 101 does not have a function of determining whether or not the target vacuum degree is reached, the vacuum degassing apparatus 101 sets the target vacuum degree suitable for the semiconductor manufacturing process during the evacuation of the vacuum vessel 10. There was a problem that it was not possible to determine whether to reach or not to reach.
【0015】また、真空脱ガス装置本体101は、真空
圧力の変化曲線112と脱ガス電流の増加曲線113か
ら、設定圧力になるまでの時間を予測する機能をもって
いないため、真空容器102を真空引きしている途中
で、半導体製造工程に適した設定圧力になるまでの時間
を予測することができないといった問題があった。Further, since the vacuum degassing apparatus main body 101 does not have a function of predicting the time until the set pressure is reached from the vacuum pressure change curve 112 and the degassing current increase curve 113, the vacuum vessel 102 is evacuated. During this process, there is a problem that it is impossible to predict a time until the pressure reaches a set pressure suitable for the semiconductor manufacturing process.
【0016】さらにまた、従来の真空装置及び真空度制
御方法では、電気式脱ガス部材によるベーキング時間と
真空度の関係について十分考慮されていなかったため
に、短時間で目標真空度に到達させるためのベーキング
時間の最適化を図ることができないといった問題があっ
た。Further, in the conventional vacuum apparatus and vacuum degree control method, the relationship between the baking time by the electric degassing member and the degree of vacuum is not sufficiently considered, and therefore, the target vacuum degree is required to be reached in a short time. There is a problem that the baking time cannot be optimized.
【0017】本発明は、上記の問題を解決すべくなされ
たものであり、真空装置の真空排気中に、異常脱ガスの
発生やシール不良による真空容器の外部からのガスの侵
入といった異常を早期に検知して、排気異常の原因を効
率良く調査するとともに、目標真空度に到達するまでの
時間を予測し、また、短時間で目標真空度に到達させる
ためのベーキング時間の最適化を図ることができる真空
装置,その真空度制御方法及び真空度制御プログラムの
提供を目的としている。The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is possible to prevent abnormal occurrence of abnormal degassing or intrusion of gas from the outside of a vacuum vessel due to poor sealing during vacuum evacuation of a vacuum apparatus. To efficiently investigate the cause of the exhaust abnormality, predict the time to reach the target vacuum degree, and optimize the baking time to reach the target vacuum degree in a short time It is an object of the present invention to provide a vacuum device capable of performing the above, a vacuum degree control method thereof, and a vacuum degree control program.
【0018】[0018]
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明の真空装置は、真空容器,この真空容器の真
空度を制御する真空度制御装置,前記真空容器内の気体
を排気する真空ポンプ,前記真空容器内の壁面を加熱す
るベーキングヒータ,前記真空容器内の圧力を測定する
圧力測定手段,前記真空容器内の壁面温度を測定する壁
面温度測定手段,及び前記真空容器内の気体温度を測定
する気体温度測定手段を備えた真空装置であって、前記
真空度制御装置が、任意時刻から単位時間経過後の真空
容器内理論圧力を予測する理論圧力予測手段と、前記任
意時刻から単位時間経過後に前記圧力測定手段によって
測定した真空容器内測定圧力と前記理論圧力予測手段で
予測した前記真空容器内理論圧力との差から、異常ガス
量を算出する異常ガス量算出手段と、前記異常ガス量の
異常を判定する異常判定手段とを具備した構成としてあ
る。In order to achieve this object, a vacuum apparatus according to the present invention comprises a vacuum container, a vacuum control device for controlling the degree of vacuum of the vacuum container, and a vacuum for exhausting gas in the vacuum container. A pump, a baking heater for heating a wall in the vacuum vessel, a pressure measuring means for measuring a pressure in the vacuum vessel, a wall temperature measuring means for measuring a wall temperature in the vacuum vessel, and a gas temperature in the vacuum vessel A vacuum device comprising gas temperature measuring means for measuring the pressure, wherein the vacuum degree control device, the theoretical pressure prediction means for predicting the theoretical pressure in the vacuum vessel after a unit time has elapsed from an arbitrary time, the unit from the arbitrary time An abnormal gas for calculating an abnormal gas amount from a difference between a measured pressure in the vacuum vessel measured by the pressure measuring means after a lapse of time and a theoretical pressure in the vacuum vessel predicted by the theoretical pressure predicting means. And quantity calculating means is a configuration in which and a abnormality determination means for determining an abnormality of said abnormal gas amount.
【0019】このようにすると、任意時刻から単位時間
経過後に圧力測定手段によって測定した真空容器内測定
圧力と理論圧力予測手段が予測した真空容器内理論圧力
との差から、異常ガス量を算出するので、異常ガス量の
異常を精度良く判定することができる。Thus, the abnormal gas amount is calculated from the difference between the measured pressure in the vacuum vessel measured by the pressure measuring means after a unit time has elapsed from an arbitrary time and the theoretical pressure in the vacuum vessel predicted by the theoretical pressure predicting means. Therefore, the abnormality of the abnormal gas amount can be accurately determined.
【0020】また、本発明の真空装置は、前記理論圧力
予測手段が、前記任意時刻における、前記真空容器内の
壁面のガス放出量,前記圧力測定手段によって測定され
た真空容器内圧力,前記真空容器の容積,前記真空ポン
プの排気速度,及び,前記真空ポンプの排気限界圧力に
もとづいて、前記任意時刻から単位時間経過後の真空容
器内理論圧力を予測する構成としてある。このようにす
ると、真空容器内理論圧力を精度良く予測することがで
きる。Further, in the vacuum apparatus according to the present invention, the theoretical pressure predicting means may be configured such that the amount of gas released from the wall surface inside the vacuum vessel at the arbitrary time, the pressure inside the vacuum vessel measured by the pressure measuring means, The theoretical pressure in the vacuum vessel after a unit time has elapsed from the arbitrary time is predicted based on the volume of the vessel, the pumping speed of the vacuum pump, and the pumping limit pressure of the vacuum pump. In this way, the theoretical pressure in the vacuum vessel can be accurately predicted.
【0021】また、本発明の真空装置は、前記異常ガス
量を、単位時間当たりの前記真空容器内の壁面からの脱
ガス量と前記真空容器の外部からの侵入ガス量の和とし
た構成としてある。このようにすると、異常ガス量の異
常に対して、異常の原因を限定することができる。In the vacuum apparatus according to the present invention, the abnormal gas amount may be a sum of a degas amount from a wall surface in the vacuum vessel per unit time and an intrusion gas amount from outside the vacuum vessel. is there. In this way, the cause of the abnormality can be limited with respect to the abnormality of the abnormal gas amount.
【0022】また、本発明の真空装置は、前記異常判定
手段が、前記異常ガス量にもとづいて、前記脱ガス量及
び/又は侵入ガス量の異常を判定する構成としてある。
このようにすると、異常ガス量の異常に対して、脱ガス
量の異常であるのか、侵入ガス量の異常であるのか、あ
るいは、脱ガス量と侵入ガス量の異常であるのかを検出
することができ、異常の原因を具体的に特定することが
できる。In the vacuum apparatus according to the present invention, the abnormality judging means judges the abnormality of the degassing amount and / or the intruding gas amount based on the abnormal gas amount.
In this way, it is possible to detect whether the abnormal gas amount is abnormal, whether the amount of degassing gas is abnormal, the amount of intruding gas, or whether the amount of degassing gas is abnormal. And the cause of the abnormality can be specifically identified.
【0023】また、本発明の真空装置は、前記異常判定
手段が、ベーキング開始から前記異常ガス量がほぼ変化
しなくなるまでの時間区間において、前記異常ガス量の
値が、あらかじめ設定した異常判定値より小さくなる
と、前記脱ガス量の異常と判定する構成としてある。こ
のようにすると、特に、ベーキング開始後の真空引きの
段階において、たとえば、ベーキング用ヒータの故障な
どによりベーキングが行われない、あるいは、ベーキン
グが不十分である場合に、油分などの高温で気化しやす
い物質が十分気化されないこととなり、脱ガス量に関す
る異常を検出することができる。また、排気異常の原因
をベーキング不良と特定できるので、原因調査を容易に
行なうことができる。Further, in the vacuum apparatus according to the present invention, the abnormality determining means may be configured such that the value of the abnormal gas amount is set to a predetermined abnormality determination value in a time interval from the start of baking until the abnormal gas amount hardly changes. When it becomes smaller, the degassing amount is determined to be abnormal. In this manner, particularly in the evacuation stage after the start of baking, for example, when baking is not performed due to a failure of a baking heater or when baking is insufficient, vaporization is performed at a high temperature such as oil. A substance that is easy to be vaporized is not sufficiently vaporized, and an abnormality relating to the amount of degassing can be detected. Further, since the cause of the exhaust abnormality can be specified as baking failure, the cause can be easily investigated.
【0024】また、本発明の真空装置は、前記異常判定
手段が、ベーキングの開始された後であって、前記異常
ガス量がほぼ変化しなくなってからベーキング終了まで
の時間区間において、前記異常ガス量の値が、あらかじ
め設定した前記異常ガス量の異常判定値より大きくなる
と、前記脱ガス量及び/又は侵入ガス量の異常と判定す
る構成としてある。Further, in the vacuum apparatus according to the present invention, the abnormal gas judging means may be provided in a time interval after the start of baking and after the amount of the abnormal gas hardly changes until the end of the baking. When the value of the amount is larger than a predetermined abnormality determination value of the abnormal gas amount, it is determined that the degassing amount and / or the intrusion gas amount is abnormal.
【0025】このようにすると、ベーキングの開始され
た後であって、異常ガス量がほぼ変化しなくなってから
ベーキング終了までの時間区間において、たとえば、真
空容器内の壁面からの脱ガス量や、真空容器の外部から
の侵入ガス量の異常を検出することができ、排気異常の
原因調査を容易に行なうことができる。また、ベーキン
グ開始から異常ガス量がほぼ変化しなくなるまでの時間
区間において、異常ガス量の値が、あらかじめ設定した
異常判定値より大きくなり、脱ガス量の異常と判定され
なかった場合であって、異常ガス量がほぼ変化しなくな
ってからベーキング終了までの時間区間において、異常
ガス量の値が、あらかじめ設定した異常ガス量の異常判
定値より大きくなったときは、通常、排気異常の原因を
真空系のシール不良と特定できるので、原因調査を容易
に行なうことができる。In this way, after the baking is started, and during the time interval from the time when the abnormal gas amount hardly changes to the time when the baking is completed, for example, the degassing amount from the wall surface in the vacuum vessel, An abnormality in the amount of gas entering from outside the vacuum vessel can be detected, and the cause of the abnormality in the exhaust can be easily investigated. Further, in the time interval from the start of baking until the abnormal gas amount hardly changes, the value of the abnormal gas amount becomes larger than the abnormality determination value set in advance, and it is determined that the degas amount is not abnormal. When the value of the abnormal gas amount becomes larger than the preset abnormal gas amount abnormality determination value in the time interval from the time when the abnormal gas amount hardly changes until the end of baking, the cause of the exhaust abnormality is usually determined. Since it can be identified as a vacuum-system seal failure, the cause can be easily investigated.
【0026】また、本発明の真空装置は、前記異常判定
手段が、ベーキング終了後から目標真空度に到達するま
での時間区間において、前記異常ガス量がほぼ一定値に
収束しないで増加すると、前記侵入ガス量の異常と判定
する構成としてある。このようにすると、ベーキング終
了から目標真空度に到達するまでの時間区間において、
たとえば、真空系のシール不良にもとづく侵入ガス量を
検出することができ、排気異常の原因調査を容易に行な
うことができる。Further, the vacuum apparatus of the present invention is characterized in that, when the abnormality determining means increases the abnormal gas amount without converging to a substantially constant value in a time interval from the end of baking to reaching the target vacuum degree, It is configured to determine that the amount of intruding gas is abnormal. In this way, during the time interval from the end of baking to the target vacuum degree,
For example, it is possible to detect the amount of invading gas based on a bad seal of the vacuum system, and it is possible to easily investigate the cause of the exhaust abnormality.
【0027】また、本発明の真空装置は、前記異常判定
手段が、前記異常ガス量の累積値にもとづいて、前記脱
ガス量及び/又は侵入ガス量の異常を判定する構成とし
てある。このようにすると、異常ガス量の累積値にもと
づいて、脱ガス量の異常であるのか、侵入ガス量の異常
であるのか、あるいは、脱ガス量と侵入ガス量の異常で
あるのかを精度良く検出することができ、異常の原因を
具体的に特定することができる。In the vacuum apparatus according to the present invention, the abnormality determining means determines an abnormality in the degassing amount and / or the intruding gas amount based on the accumulated value of the abnormal gas amount. In this manner, based on the accumulated value of the abnormal gas amount, it is accurately determined whether the abnormality is the degas amount, the intrusion gas amount, or the abnormality of the degas amount and the intrusion gas amount. It can be detected, and the cause of the abnormality can be specified specifically.
【0028】また、本発明の真空装置は、前記異常判定
手段が、ベーキング終了後、前記異常ガス量の累積値が
下がらないと、前記脱ガス量及び/又は侵入ガス量の異
常と判定する構成としてある。このようにすると、ベー
キング終了後において、たとえば、ベーキングヒータが
正常にオフされないために、真空容器内の気体が壁面に
再吸着されないことによる脱ガス量や、微小リークによ
る真空容器の外部からの侵入ガス量の異常を検出するこ
とができ、排気異常の原因調査を容易に行なうことがで
きる。Further, in the vacuum apparatus according to the present invention, the abnormality determining means determines that the degassing amount and / or the intruding gas amount is abnormal if the accumulated value of the abnormal gas amount does not decrease after the completion of the baking. There is. In this way, after the baking is completed, for example, since the baking heater is not normally turned off, the amount of degas due to the gas in the vacuum container not being re-adsorbed to the wall surface, or the intrusion from outside the vacuum container due to a minute leak An abnormality in the gas amount can be detected, and the cause of the exhaust abnormality can be easily investigated.
【0029】また、本発明の真空装置は、前記真空ポン
プをクライオポンプとし、前記理論圧力が、下記(1)
式Further, in the vacuum apparatus of the present invention, the vacuum pump is a cryopump and the theoretical pressure is as follows:
formula
【数3】 t:時間 P(t):時間tにおける真空容器内理論圧力 P0:時間t=0における圧力(任意時刻における圧力測
定手段によって測定された真空容器内圧力) Peq0:クライオポンプのクライオ面の圧力,気体温度
及びクライオ面温度から求められる定数(=気体種類と
ポンプとで決まる真空ポンプ排気限界係数) Sc:クライオポンプの排気速度係数(=定数) V:真空容器の容積 Cv:真空容器内壁面の表面積,気体分子の熱運動速
度,気体分子の真空容器内壁面における吸着時間,気体
分子の真空容器内壁面における付着確率,真空容器内壁
面の表面粗さ係数から求められる値(=気体の係数,気
体の温度,真空容器によって変わるガス放出係数) で求められ、前記理論圧力予測手段が、任意時刻におけ
る前記圧力測定手段からの真空容器内圧力を初期真空容
器内圧力としてP0に代入し、t時間後の真空容器内理論
圧力P(t)を計算する構成としてある。このようにする
と、真空ポンプがクライオポンプの場合に、理論圧力予
測手段における単位時間経過後の理論圧力を、精度良く
予測することができる。(Equation 3) t: time P (t): theoretical pressure in the vacuum vessel at time t P 0 : pressure at time t = 0 (pressure in the vacuum vessel measured by pressure measuring means at an arbitrary time) P eq0 : pressure on the cryopump of the cryopump pressure, constant determined from the gas temperature and the cryo-surface temperature (= vacuum pumping limit coefficient determined by the gas type and pump) S c: pumping speed factor of the cryopump (= constant) V: the vacuum container volume C v: vacuum The value obtained from the surface area of the inner wall of the vessel, the thermal velocity of gas molecules, the adsorption time of gas molecules on the inner wall of the vacuum vessel, the probability of gas molecules adhering to the inner wall of the vacuum vessel, and the surface roughness coefficient of the inner wall of the vacuum vessel (= The gas pressure coefficient, the gas temperature, and the gas release coefficient that varies depending on the vacuum vessel. The internal pressure of the chamber is substituted into P 0 as the initial pressure in the vacuum vessel, and the theoretical pressure P (t) in the vacuum vessel after t hours is calculated. In this case, when the vacuum pump is a cryopump, the theoretical pressure after the elapse of a unit time in the theoretical pressure prediction means can be accurately predicted.
【0030】また、本発明の真空装置は、ベーキングを
開始してから所定時間経過した後の、単位時間経過ごと
の時刻からベーキング終了時刻までは、前記単位時間経
過ごとの時刻における異常ガス量を、単位時間ごとの圧
力補正値として算出し、かつ、ベーキング終了時刻から
目標真空度に到達する時刻までは、あらかじめ算出され
記憶されているベーキング終了時刻から単位時間ごとに
算出された異常ガス量を当該ベーキング終了時刻におけ
る異常ガス量で割り、さらに、前記単位時間経過ごとの
時刻における異常ガス量をかけた値を、単位時間ごとの
圧力補正値として算出する圧力補正値算出手段と、前記
単位時間経過ごとの時刻における、前記真空容器内壁面
のガス放出量,前記真空ポンプの排気速度,前記真空ポ
ンプの排気限界圧力,前記真空容器内壁面からの脱ガス
量,前記真空容器の容積,及び,前記圧力補正値算出手
段によって算出した単位時間ごとに算出される圧力補正
値にもとづいて、前記単位時間経過ごとの時刻における
真空容器内圧力を初期圧力として単位時間経過後の予測
圧力を予測し、さらに、当該予測した予測圧力を初期圧
力として、次の単位時間後の予測圧力を予測する計算を
繰り返し、当該繰り返し計算により予測された予測圧力
が目標真空度に到達する時刻を算出し、前記単位時間経
過ごとの時刻から前記目標真空度に到達する時刻までの
時間を、目標真空度到達時間として予測する目標真空度
到達時間予測手段とを有する構成としてある。Further, the vacuum apparatus according to the present invention is characterized in that the amount of abnormal gas at the time of the elapse of the unit time after the elapse of a predetermined time from the start of the baking until the end of the baking from the time of the elapse of the unit time. , Calculated as a pressure correction value per unit time, and from the baking end time to the time when the target vacuum degree is reached, the abnormal gas amount calculated per unit time from the baking end time calculated and stored in advance and stored. A pressure correction value calculating means for calculating a value obtained by dividing by the abnormal gas amount at the baking end time and multiplying the abnormal gas amount at the time of each unit time elapse as a pressure correction value per unit time; and The amount of gas released from the inner surface of the vacuum vessel, the pumping speed of the vacuum pump, and the limiting pressure of the vacuum pump at each time A time for each elapse of the unit time based on a degas amount from the inner wall surface of the vacuum vessel, a volume of the vacuum vessel, and a pressure correction value calculated for each unit time calculated by the pressure correction value calculation means. The predicted pressure after a lapse of a unit time is predicted using the pressure in the vacuum vessel as an initial pressure in the above, and the predicted pressure after the next unit time is predicted using the predicted pressure as an initial pressure. Calculates the time at which the predicted pressure reaches the target vacuum degree, and predicts the time from the time at which the unit time elapses to the time at which the target vacuum degree is reached as the target vacuum degree arrival time. It is configured to have arrival time prediction means.
【0031】このようにすると、圧力補正値算出手段が
算出した圧力補正値にもとづいて、目標真空度到達時間
を精度良く予測することができる。In this way, the target vacuum arrival time can be accurately predicted on the basis of the pressure correction value calculated by the pressure correction value calculation means.
【0032】また、本発明の真空装置は、前記真空ポン
プはクライオポンプであり、単位時間経過後の予測圧力
が、下記(2)式Further, in the vacuum apparatus of the present invention, the vacuum pump is a cryopump, and a predicted pressure after a lapse of a unit time is expressed by the following equation (2).
【数4】 t:時間 P(t):時間tにおける予測圧力 P0:時間t=0における圧力(任意時刻における圧力測
定手段によって測定された真空容器内圧力) Peq0:クライオポンプのクライオ面の圧力,気体温度
及びクライオ面温度から求められる定数(=気体種類と
ポンプとで決まる真空ポンプ排気限界係数) Sc:クライオポンプの排気速度(=定数) V:真空容器の容積 Cv:真空容器内壁面の表面積,気体分子の熱運動速
度,気体分子の真空容器内壁面における吸着時間,気体
分子の真空容器内壁面における付着確率,真空容器内壁
面の表面粗さ係数から求められる値(=気体の係数,気
体の温度,真空容器によって変わるガス放出係数) Px(t):前記圧力補正値算出手段によって求めた圧力補
正値 で求められ、目標真空度到達時間予測手段が、繰り返し
計算における一回前の予測圧力P(t)をP0に代入し、t時
間後の予測圧力P(t)を計算する構成としてある。(Equation 4) t: time P (t): predicted pressure at time t P 0 : pressure at time t = 0 (pressure in the vacuum vessel measured by pressure measuring means at an arbitrary time) P eq0 : pressure and gas on the cryopump surface of the cryopump Constant obtained from temperature and cryosurface temperature (= vacuum pump evacuation limit coefficient determined by gas type and pump) S c : Evacuation speed of cryo pump (= constant) V: Vacuum container volume C v : Vacuum container inner wall surface Surface area, thermal motion velocity of gas molecules, adsorption time of gas molecules on the inner wall of vacuum vessel, adhesion probability of gas molecules on the inner wall of vacuum vessel, value obtained from surface roughness coefficient of inner wall of vacuum vessel (= coefficient of gas, temperature of the gas, the gas discharge coefficient varies by vacuum container) P x (t): calculated in a pressure correction value obtained by said pressure correction value calculating means, the target degree of vacuum arrival time predicting means , There once before predicted pressure P in the iterative calculation of (t) as a configuration substituted into P 0, to calculate the predicted pressure P after t time (t).
【0033】このようにすると、真空ポンプがクライオ
ポンプの場合に、目標真空度到達時間予測手段における
単位時間経過後の予測圧力を、精度良く予測することが
できる。Thus, when the vacuum pump is a cryopump, it is possible to accurately predict the predicted pressure after the elapse of the unit time in the target vacuum degree reaching time predicting means.
【0034】また、本発明の真空装置は、前記目標真空
度到達時間予測手段が、前記ベーキング終了時刻を変更
して、当該変更されたベーキング終了時刻に対して、目
標真空度到達時間を予測し、当該目標真空度到達時間の
最も短いベーキング終了時刻を、最適ベーキング終了時
刻として選択する構成としてある。このようにすると、
最も短い時間で目標真空度に到達するように、ベーキン
グ終了時刻をシミュレーションすることができる。Further, in the vacuum apparatus of the present invention, the target vacuum degree reaching time predicting means changes the baking end time and predicts the target vacuum degree reaching time with respect to the changed baking end time. The baking end time with the shortest target vacuum degree arrival time is selected as the optimum baking end time. This way,
The baking end time can be simulated so that the target degree of vacuum is reached in the shortest time.
【0035】また、本発明の真空装置の真空度制御方法
は、真空容器,この真空容器の真空度を制御する真空度
制御装置,前記真空容器内の気体を排気する真空ポン
プ,前記真空容器内の壁面を加熱するベーキングヒー
タ,前記真空容器内の圧力を測定する圧力測定手段,前
記真空容器内の壁面温度を測定する壁面温度測定手段,
及び前記真空容器内の気体温度を測定する気体温度測定
手段を備えた真空装置の真空度制御方法であって、前記
真空度制御装置の理論圧力予測手段が任意時刻から単位
時間経過後の真空容器内理論圧力を予測し、前記真空度
制御装置の異常ガス量算出手段が、前記任意時刻から単
位時間経過後に前記圧力測定手段によって測定した真空
容器内測定圧力と前記理論圧力予測手段で予測した前記
真空容器内理論圧力との差から、異常ガス量を算出し、
前記真空度制御装置の異常判定手段が、前記異常ガス量
の異常を判定する方法としてある。Further, the method for controlling the degree of vacuum of a vacuum apparatus according to the present invention comprises a vacuum vessel, a vacuum degree control device for controlling the degree of vacuum of the vacuum vessel, a vacuum pump for exhausting gas in the vacuum vessel, A baking heater for heating a wall of the vacuum vessel, a pressure measuring means for measuring a pressure in the vacuum vessel, a wall temperature measuring means for measuring a wall temperature in the vacuum vessel,
And a method of controlling the degree of vacuum of a vacuum device comprising gas temperature measuring means for measuring a gas temperature in the vacuum vessel, wherein the theoretical pressure predicting means of the vacuum degree control device is a vacuum vessel after a unit time elapses from an arbitrary time. Predict the internal theoretical pressure, the abnormal gas amount calculating means of the vacuum degree control device, the measured pressure in the vacuum vessel measured by the pressure measuring means after a unit time has elapsed from the arbitrary time and the theoretical pressure predicting means predicted by the theoretical pressure predicting means Calculate the abnormal gas amount from the difference with the theoretical pressure in the vacuum vessel,
An abnormality determining means of the vacuum control device determines the abnormality of the abnormal gas amount.
【0036】このように、本発明は真空装置における真
空度制御方法としても有効であり、この制御方法によれ
ば、異常ガス量算出手段から求められる異常ガス量にも
とづいて、排気異常を検出することができる。As described above, the present invention is also effective as a method of controlling the degree of vacuum in a vacuum apparatus. According to this control method, an exhaust abnormality is detected based on the abnormal gas amount obtained from the abnormal gas amount calculating means. be able to.
【0037】また、本発明の真空装置の真空度制御方法
は、前記真空度制御装置の圧力補正値算出手段が、ベー
キングを開始してから所定時間経過した後の、単位時間
経過ごとの時刻からベーキング終了時刻までは、前記単
位時間経過ごとの時刻における異常ガス量を、単位時間
ごとの圧力補正値として算出し、かつ、ベーキング終了
時刻から目標真空度に到達する時刻までは、あらかじめ
算出され記憶されているベーキング終了時刻から単位時
間ごとに算出された異常ガス量を当該ベーキング終了時
刻における異常ガス量で割り、さらに、前記単位時間経
過ごとの時刻における異常ガス量をかけた値を、単位時
間ごとの圧力補正値として算出し、前記真空度制御装置
の目標真空度到達時間予測手段が、前記単位時間経過ご
との時刻における、前記真空容器内壁面のガス放出量,
前記真空ポンプの排気速度,前記真空ポンプの排気限界
圧力,前記真空容器内壁面からの脱ガス量,前記真空容
器の容積,及び,前記圧力補正値算出手段によって算出
した単位時間ごとに算出される圧力補正値にもとづい
て、前記単位時間経過ごとの時刻における真空容器内圧
力を初期圧力として単位時間経過後の予測圧力を予測
し、さらに、当該予測した予測圧力を初期圧力として、
次の単位時間後の予測圧力を予測する計算を繰り返し、
当該繰り返し計算により予測された予測圧力が目標真空
度に到達する時刻を算出し、前記単位時間経過ごとの時
刻から前記目標真空度に到達する時刻までの時間を、目
標真空度到達時間として予測する方法としてある。この
ようにすると、目標真空度到達時間予測手段により、目
標真空度到達時間を予測することができる。Further, in the method of controlling the degree of vacuum of a vacuum apparatus according to the present invention, the pressure correction value calculating means of the vacuum degree control device may calculate a time from a time every unit time after a predetermined time has elapsed since the start of baking. Until the baking end time, the abnormal gas amount at the time of each unit time elapse is calculated as a pressure correction value per unit time, and is calculated and stored in advance from the baking end time to the time of reaching the target vacuum degree. The abnormal gas amount calculated for each unit time from the baking end time is divided by the abnormal gas amount at the baking end time, and a value obtained by multiplying the abnormal gas amount at the unit time elapse time by a unit time Calculated as a pressure correction value for each unit, the target degree of vacuum arrival time prediction means of the vacuum degree control device, Gas discharge amount of the vacuum vessel wall,
The pumping speed of the vacuum pump, the pumping limit pressure of the vacuum pump, the degassing amount from the inner wall surface of the vacuum vessel, the volume of the vacuum vessel, and the unit time calculated by the pressure correction value calculating means. Based on the pressure correction value, predicting the predicted pressure after the elapse of a unit time as the initial pressure with the pressure in the vacuum vessel at the time of the elapse of the unit time, further, the predicted pressure as the initial pressure,
Repeat the calculation to predict the predicted pressure after the next unit time,
The time at which the predicted pressure predicted by the repeated calculation reaches the target vacuum degree is calculated, and the time from the time at which the unit time elapses to the time at which the target vacuum degree is reached is predicted as the target vacuum degree arrival time. There is a way. In this way, the target vacuum arrival time prediction means can predict the target vacuum arrival time.
【0038】また、本発明の真空装置の真空度制御プロ
グラムは、真空容器,この真空容器の真空度を制御する
真空度制御装置,前記真空容器内の気体を排気する真空
ポンプ,前記真空容器内の壁面を加熱するベーキングヒ
ータ,前記真空容器内の圧力を測定する圧力測定手段,
前記真空容器内の壁面温度を測定する壁面温度測定手
段,及び前記真空容器内の気体温度を測定する気体温度
測定手段を備えた真空装置の真空度制御プログラムであ
って、任意時刻から単位時間経過後の真空容器内理論圧
力を予測する手順と、前記任意時刻から単位時間経過後
に前記圧力測定手段によって測定した真空容器内測定圧
力と前記理論圧力予測手段で予測した前記真空容器内理
論圧力との差から、異常ガス量を算出する手順と、前記
異常ガス量の異常を判定するする手順とを実行させる構
成としてある。The vacuum control program for a vacuum device according to the present invention comprises a vacuum container, a vacuum control device for controlling the degree of vacuum of the vacuum container, a vacuum pump for exhausting gas in the vacuum container, Baking heater for heating the wall of the vessel, pressure measuring means for measuring the pressure in the vacuum vessel,
A vacuum degree control program for a vacuum apparatus comprising a wall surface temperature measuring means for measuring a wall temperature in the vacuum vessel, and a gas temperature measuring means for measuring a gas temperature in the vacuum vessel, wherein a unit time elapses from an arbitrary time. The procedure for predicting the theoretical pressure in the vacuum chamber after, and the measured pressure in the vacuum vessel measured by the pressure measuring means after the unit time elapses from the arbitrary time and the theoretical pressure in the vacuum vessel predicted by the theoretical pressure prediction means It is configured to execute a procedure of calculating an abnormal gas amount from the difference and a procedure of determining an abnormality of the abnormal gas amount.
【0039】このように、本発明は真空装置の真空度制
御プログラムとしても有効であり、この制御プログラム
によれば、異常ガス量算出手段から求められる異常ガス
量にもとづいて、排気異常を検出することができる。As described above, the present invention is also effective as a vacuum degree control program for a vacuum apparatus. According to this control program, an exhaust abnormality is detected based on the abnormal gas amount obtained from the abnormal gas amount calculating means. be able to.
【0040】また、本発明の真空装置の真空度制御プロ
グラムは、ベーキングを開始してから所定時間経過した
後の、単位時間経過ごとの時刻からベーキング終了時刻
までは、前記単位時間経過ごとの時刻における異常ガス
量を、単位時間ごとの圧力補正値として算出し、かつ、
ベーキング終了時刻から目標真空度に到達する時刻まで
は、あらかじめ算出され記憶されているベーキング終了
時刻から単位時間ごとに算出された異常ガス量を当該ベ
ーキング終了時刻における異常ガス量で割り、さらに、
前記単位時間経過ごとの時刻における異常ガス量をかけ
た値を、単位時間ごとの圧力補正値として算出する手順
と、前記単位時間経過ごとの時刻における、前記真空容
器内壁面のガス放出量,前記真空ポンプの排気速度,前
記真空ポンプの排気限界圧力,前記真空容器内壁面から
の脱ガス量,前記真空容器の容積,及び,前記圧力補正
値算出手段によって算出した単位時間ごとに算出される
圧力補正値にもとづいて、前記単位時間経過ごとの時刻
における真空容器内圧力を初期圧力として単位時間経過
後の予測圧力を予測し、さらに、当該予測した予測圧力
を初期圧力として、次の単位時間後の予測圧力を予測す
る計算を繰り返し、当該繰り返し計算により予測された
予測圧力が目標真空度に到達する時刻を算出し、前記単
位時間経過ごとの時刻から前記目標真空度に到達する時
刻までの時間を、目標真空度到達時間として予測する手
順とを実行させる構成としてある。このようにすると、
目標真空度到達時間を予測することができる。Further, the vacuum degree control program of the vacuum apparatus of the present invention is characterized in that, after a lapse of a predetermined time from the start of baking, from the time every unit time has elapsed until the baking end time, the time every unit time has elapsed. Is calculated as a pressure correction value per unit time, and
From the baking end time to the time when the target vacuum degree is reached, the abnormal gas amount calculated per unit time from the previously calculated and stored baking end time is divided by the abnormal gas amount at the baking end time, and
A procedure of calculating a value obtained by multiplying the abnormal gas amount at the time of each unit time as a pressure correction value for each unit time, and the gas release amount of the vacuum vessel inner wall surface at the time of the unit time, The pumping speed of the vacuum pump, the pumping limit pressure of the vacuum pump, the degassing amount from the inner wall surface of the vacuum vessel, the volume of the vacuum vessel, and the pressure calculated per unit time calculated by the pressure correction value calculating means. Based on the correction value, predicting a predicted pressure after a lapse of a unit time by using the pressure in the vacuum vessel at the time of each lapse of the unit time as an initial pressure, and further using the predicted pressure as an initial pressure, and It repeats the calculation for predicting the predicted pressure of, calculates the time when the predicted pressure predicted by the repeated calculation reaches the target vacuum degree, and The time from time to time to reach the target degree of vacuum, it is constituted to execute a step of predicting a desired vacuum degree arrival time. This way,
The target vacuum arrival time can be predicted.
【0041】また、本発明の真空装置は、真空容器,こ
の真空容器の真空度を制御する真空度制御装置,前記真
空容器内の気体を排気する真空ポンプ,前記真空容器内
の壁面を加熱するベーキングヒータ,前記真空容器内の
圧力を測定する圧力測定手段,前記真空容器内の壁面温
度を測定する壁面温度測定手段,及び前記真空容器内の
気体温度を測定する気体温度測定手段を備えた真空装置
であって、上記請求項16又は請求項17に記載の真空
装置の真空度制御プログラムを搭載した構成としてあ
る。このように、本発明の真空装置は、真空度制御プロ
グラムを搭載した真空装置とすることによっても、異常
ガス量にもとづいて、排気異常を検出することができ、
また、目標真空度到達時間を予測することができる。Further, the vacuum apparatus of the present invention comprises a vacuum vessel, a vacuum control device for controlling the degree of vacuum in the vacuum vessel, a vacuum pump for exhausting gas in the vacuum vessel, and heating the wall surface in the vacuum vessel. A vacuum comprising a baking heater, pressure measuring means for measuring the pressure in the vacuum vessel, wall temperature measuring means for measuring the wall temperature in the vacuum vessel, and gas temperature measuring means for measuring the gas temperature in the vacuum vessel. An apparatus, wherein the vacuum degree control program for a vacuum apparatus according to claim 16 or 17 is installed. As described above, the vacuum apparatus of the present invention can detect an exhaust abnormality based on an abnormal gas amount by using a vacuum apparatus equipped with a vacuum degree control program.
In addition, it is possible to predict the target vacuum arrival time.
【0042】[0042]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態につい
て、図面を参照して説明する。まず、本発明の真空装置
の実施形態について、図面を参照して説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, an embodiment of a vacuum device of the present invention will be described with reference to the drawings.
【0043】[真空装置]図1は、本発明に係る真空装
置の実施形態の基本構成を説明するための概略ブロック
図を示している。同図において、真空装置1は、真空容
器1a,この真空容器1aの真空度を制御する真空度制
御装置2,真空容器1a内の気体を排気する真空ポンプ
12,真空容器1a内の壁面を加熱するベーキングヒー
タ13,真空容器1a内の圧力を測定する圧力測定手段
3,真空容器1a内の壁面温度を測定する壁面温度測定
手段4,及び,真空容器1a内の気体温度を測定する気
体温度測定手段5を備えた構成としてある。[Vacuum Apparatus] FIG. 1 is a schematic block diagram for explaining a basic configuration of an embodiment of a vacuum apparatus according to the present invention. In FIG. 1, a vacuum device 1 includes a vacuum container 1a, a vacuum control device 2 for controlling the degree of vacuum of the vacuum container 1a, a vacuum pump 12 for evacuating gas in the vacuum container 1a, and heating the wall surface in the vacuum container 1a. Baking heater 13, pressure measuring means 3 for measuring the pressure in vacuum vessel 1a, wall temperature measuring means 4 for measuring the wall temperature in vacuum vessel 1a, and gas temperature measurement for measuring the gas temperature in vacuum vessel 1a. The configuration includes the means 5.
【0044】ここで、真空容器1aは、半導体装置の製
造工程などにおいて、真空プロセス処理を行う高真空状
態を達成するための容器であり、真空容器1aの内部
は、真空引きに対して悪影響を与える油分などを除去す
るため、専用の洗浄液などで十分洗浄してある。Here, the vacuum vessel 1a is a vessel for achieving a high vacuum state for performing a vacuum process in a semiconductor device manufacturing process or the like, and the inside of the vacuum vessel 1a has an adverse effect on evacuation. In order to remove the applied oil and the like, it has been sufficiently washed with a dedicated washing liquid or the like.
【0045】真空ポンプ12は、真空容器1a内の気体
を真空容器1a外に排出するクライオポンプや、拡散ポ
ンプなどの真空ポンプであり、図示してないが、真空用
配管,真空用バルブ,真空用継手などを介して、真空容
器1aと接続してあり、真空容器1aの内部の気体を排
気する。The vacuum pump 12 is a vacuum pump such as a cryopump or a diffusion pump for discharging gas in the vacuum vessel 1a to the outside of the vacuum vessel 1a. Although not shown, a vacuum pipe, a vacuum valve, a vacuum It is connected to the vacuum vessel 1a via a fitting or the like, and exhausts gas inside the vacuum vessel 1a.
【0046】ベーキングヒータ13は、真空容器1aの
内部壁面に配設してあり、真空容器1aの内部壁面を加
熱(ベーキング)し、内部壁面に付着した揮発性物質を
早期に揮発させ、真空引きを補助する。また、ベーキン
グヒータ13は、真空容器1aの内部壁面に配設される
ヒータに限定するものではなく、たとえば、真空容器1
aに投入される半導体素子などの投入物の周囲に配設さ
れ、投入物の表面に付着した揮発性物質を早期に揮発さ
せ、真空引きを補助するためのヒータ(図示せず)をも
含むものとする。The baking heater 13 is disposed on the inner wall surface of the vacuum vessel 1a, heats (bakes) the inner wall face of the vacuum vessel 1a, volatilizes volatile substances attached to the inner wall face at an early stage, and evacuates. To assist. Further, the baking heater 13 is not limited to a heater provided on the inner wall surface of the vacuum vessel 1a.
a) A heater (not shown) is provided around an input material such as a semiconductor element to be input into the device (a) to volatilize volatile substances attached to the surface of the input material at an early stage and assist in evacuation. Shall be considered.
【0047】圧力測定手段3は、マクランドゲージ、ス
ピンニングローターゲージなどの圧力計であり、真空容
器1a内の圧力を測定するために、真空容器1a内に配
設してある。The pressure measuring means 3 is a pressure gauge such as a Mcland gauge or a spinning rotor gauge, and is disposed in the vacuum vessel 1a for measuring the pressure in the vacuum vessel 1a.
【0048】壁面温度測定手段4および気体温度測定手
段5は、熱電対、白金熱抵抗体などの温度計であり、真
空容器1a内の壁面温度を測定するために、真空容器1
a内の壁面に配設してある。なお、気体温度測定手段5
を配設しないで、壁面温度測定手段4により測定された
真空容器1aの内部壁面温度から気体温度を推測するこ
ともできる。また、圧力測定手段3,壁面温度測定手段
4及び気体温度測定手段5は、真空容器1aに対して、
真空用継手などにより取り付けられており、真空容器1
aが高真空状態を維持できる構成としてある。The wall surface temperature measuring means 4 and the gas temperature measuring means 5 are thermometers such as a thermocouple and a platinum thermal resistor, and are used for measuring the wall surface temperature in the vacuum vessel 1a.
It is arranged on the wall in a. The gas temperature measuring means 5
Is not provided, the gas temperature can be estimated from the inner wall surface temperature of the vacuum vessel 1a measured by the wall surface temperature measuring means 4. Further, the pressure measuring means 3, the wall surface temperature measuring means 4 and the gas temperature measuring means 5 are provided for the vacuum vessel 1a.
It is attached with a vacuum joint, etc.
a has a configuration capable of maintaining a high vacuum state.
【0049】真空装置1における真空度制御装置2は、
理論圧力予測手段6,異常ガス量算出手段7,異常判定
手段8,圧力補正値算出手段9,目標真空度到達時間予
測手段10,及び,表示手段11とで構成してある。The vacuum control device 2 in the vacuum device 1
It comprises theoretical pressure predicting means 6, abnormal gas amount calculating means 7, abnormal determining means 8, pressure correction value calculating means 9, target vacuum arrival time predicting means 10, and display means 11.
【0050】理論圧力予測手段6は、任意時刻から単位
時間経過後の真空容器内理論圧力を予測する。つまり、
理論圧力予測手段6は、圧力測定手段3,壁面温度測定
手段4及び気体温度測定手段5と電気的に接続してあ
り、真空容器1a内の真空容器内圧力,壁面温度及び気
体温度を入力する。そして、理論圧力予測手段6は、任
意時刻における真空容器1a内の壁面のガス放出量,圧
力測定手段3によって測定された真空容器内圧力,真空
容器1aの容積,真空ポンプ12の排気速度,及び,真
空ポンプ12の排気限界圧力にもとづいて、任意時刻か
ら単位時間経過後の真空容器内理論圧力を予測(算出)
する。The theoretical pressure predicting means 6 predicts the theoretical pressure in the vacuum vessel after a lapse of a unit time from an arbitrary time. That is,
The theoretical pressure predicting unit 6 is electrically connected to the pressure measuring unit 3, the wall surface temperature measuring unit 4, and the gas temperature measuring unit 5, and inputs the pressure inside the vacuum container, the wall surface temperature, and the gas temperature in the vacuum container 1a. . The theoretical pressure predicting means 6 calculates the amount of gas released from the wall surface inside the vacuum vessel 1a at any time, the pressure inside the vacuum vessel measured by the pressure measuring means 3, the volume of the vacuum vessel 1a, the pumping speed of the vacuum pump 12, and Based on the exhaust pressure limit of the vacuum pump 12, predict (calculate) the theoretical pressure in the vacuum vessel after a lapse of a unit time from an arbitrary time.
I do.
【0051】このようにすると、理論圧力予測手段6
は、真空容器内理論圧力を精度良く予測することができ
る。また、理論圧力予測手段6は、この算出結果を異常
ガス量算出手段7及び表示手段11に出力する。なお、
理論圧力予測手段6は、真空ポンプ12の排気方式が限
定されるものではなく、クライオポンプや、拡散ポンプ
などの排気方式の異なる真空ポンプに対しても、支障な
く理論圧力を予測することができる。Thus, the theoretical pressure predicting means 6
Can accurately predict the theoretical pressure in a vacuum vessel. Further, the theoretical pressure prediction means 6 outputs the calculation result to the abnormal gas amount calculation means 7 and the display means 11. In addition,
The theoretical pressure estimating means 6 is not limited to the evacuation method of the vacuum pump 12, and can predict the theoretical pressure without trouble even for vacuum pumps having different evacuation methods such as a cryopump and a diffusion pump. .
【0052】ここで、任意時刻における真空容器1a内
の壁面のガス放出量は、気体温度測定手段5により測定
された気体温度および気体分子量から求められる真空容
器1a内の気体分子の熱運動速度,壁面温度測定手段4
によって測定された壁面温度から求められる真空容器1
a内壁面における気体分子の吸着時間,真空容器1a内
壁面の表面積,気体分子の真空容器1a内における付着
確率,及び,真空容器1a内壁面の表面粗さ係数から求
められる。Here, the amount of gas released from the wall surface in the vacuum vessel 1a at an arbitrary time is determined by the thermal motion velocity of the gas molecules in the vacuum vessel 1a obtained from the gas temperature and the gas molecular weight measured by the gas temperature measuring means 5, Wall temperature measuring means 4
Container 1 determined from the wall temperature measured by
It can be obtained from the adsorption time of gas molecules on the inner wall surface a, the surface area of the inner wall surface of the vacuum vessel 1a, the probability of gas molecules adhering in the vacuum vessel 1a, and the surface roughness coefficient of the inner wall surface of the vacuum vessel 1a.
【0053】なお、本明細書において、「単位時間」と
は、真空度制御装置2にあらかじめ設定された時間をい
うものとする。つまり、真空容器1aを高真空状態まで
真空引きするには、通常、数時間から数十時間もかかる
ことから、単位時間として、たとえば、一秒を設定する
と、時間間隔が短すぎ、また、一時間を設定すると、時
間間隔が長すぎるので、単位時間として、一般的に、数
分間が設定される。また、この単位時間をどのくらいの
間隔で設定するかについては、自由であることは勿論で
ある。In this specification, the term “unit time” refers to a time preset in the vacuum controller 2. That is, it usually takes several hours to several tens of hours to evacuate the vacuum container 1a to a high vacuum state. Therefore, if the unit time is set to, for example, one second, the time interval is too short. When the time is set, the time interval is too long, so that a few minutes is generally set as the unit time. In addition, it is needless to say that the unit time can be set at any interval.
【0054】また、上述した真空容器1a内の壁面のガ
ス放出量は、下記(3)式The amount of gas released from the wall surface in the vacuum vessel 1a is expressed by the following equation (3).
【数5】 CV:真空容器内壁面のガス放出量 v:気体分子の熱運動平均速度 τ:真空容器内壁面における気体分子の吸着時間 T:真空容器内の表面温度 A:真空容器内の表面積 δ:真空容器内壁面における気体分子の付着確率 β:真空容器内壁面の表面粗さ係数 で求められる。ここで、理論圧力予測手段6は、(3)
式を用いてガス放出量を算出するとよく、このようにす
ると、精度良く真空容器1a内の壁面のガス放出量を算
出することができる。(Equation 5) C V : Amount of gas released from the inner wall surface of the vacuum vessel v: Average velocity of thermal motion of gas molecules τ: Adsorption time of gas molecules on the inner wall surface of the vacuum vessel T: Surface temperature in the vacuum vessel A: Surface area in the vacuum vessel δ: Vacuum Adhesion probability of gas molecules on the inner wall surface of the container β: It is obtained by the surface roughness coefficient of the inner wall surface of the vacuum container. Here, the theoretical pressure predicting means 6 includes (3)
It is preferable to calculate the gas release amount using the equation. In this case, the gas release amount on the wall surface inside the vacuum vessel 1a can be calculated with high accuracy.
【0055】また、上述した熱運動量速度として、最確
速度を採用するものとし、この熱運動量速度(最確速
度)は、下記(4)式Further, the most probable speed is adopted as the above-mentioned thermal momentum speed, and this thermal momentum speed (most probable speed) is expressed by the following equation (4).
【数6】 M':気体分子量 Tg:気体温度 で求められる。ここで、理論圧力予測手段6は、(4)
式を用いて熱運動量速度を算出するとよく、このように
すると、精度良く熱運動量速度を算出することができ
る。(Equation 6) M ': Gas molecular weight Tg: Gas temperature Here, the theoretical pressure predicting means 6 satisfies (4)
It is preferable to calculate the thermal momentum velocity by using the equation. In this case, the thermal momentum velocity can be calculated with high accuracy.
【0056】また、上述した真空容器内壁面における気
体分子の吸着時間は、下記(5)式The adsorption time of gas molecules on the inner wall surface of the vacuum vessel is expressed by the following equation (5).
【数7】 τ:真空容器内壁面における気体分子の吸着時間 τ0:気体滞在時間定数 E:気体離脱の活性化エネルギー R:気体定数 T:真空容器内の表面温度 で求められる。ここで、理論圧力予測手段6は、(5)
式を用いて吸着時間を算出するとよく、このようにする
と、精度良く真空容器1a内壁面における気体分子の吸
着時間を算出することができる。(Equation 7) τ: adsorption time of gas molecules on the inner wall surface of the vacuum vessel τ 0 : gas residence time constant E: activation energy of gas desorption R: gas constant T: surface temperature in the vacuum vessel Here, the theoretical pressure predicting means 6 satisfies (5)
It is preferable to calculate the adsorption time by using the equation. In this case, the adsorption time of the gas molecules on the inner wall surface of the vacuum vessel 1a can be calculated with high accuracy.
【0057】また、理論圧力予測手段6は、真空容器1
a内の気体を、当該気体中に最も多く含まれる物質の蒸
気と仮定し、気体分子量として、当該物質の気体分子量
を用いる構成とするとよく、このようにすると、真空容
器1a内の気体が、複数の物質の蒸気を主成分とする場
合であっても、精度良く、気体分子の熱運動速度を算出
することができる。The theoretical pressure predicting means 6 is provided for the vacuum vessel 1
The gas in a is assumed to be the vapor of the substance most contained in the gas, and the gas molecular weight of the substance may be used as the gas molecular weight. In this case, the gas in the vacuum chamber 1a is Even when the vapor of a plurality of substances is used as a main component, the thermal motion velocity of gas molecules can be calculated with high accuracy.
【0058】したがって、理論圧力予測手段6は、真空
容器1a内の気体が水蒸気を主成分とする場合は、真空
容器1a内の気体を水蒸気と仮定し、気体分子量とし
て、水の気体分子量を用いる構成としてもよく、このよ
うにすると、精度良く、気体分子の熱運動速度を算出す
ることができる。Therefore, when the gas in the vacuum vessel 1a is mainly composed of water vapor, the theoretical pressure predicting means 6 assumes that the gas in the vacuum vessel 1a is water vapor and uses the gas molecular weight of water as the gas molecular weight. In this case, the thermal motion velocity of the gas molecule can be calculated with high accuracy.
【0059】また、理論圧力予測手段6は、真空容器1
a内の気体が油蒸気を主成分とする場合は、真空容器1
a内の気体を油蒸気と仮定し、気体分子量として、真空
用油の気体分子量を用いる構成としてもよく、このよう
にすると、精度良く、気体分子の熱運動速度を算出する
ことができる。The theoretical pressure predicting means 6 is provided for the vacuum vessel 1.
When the gas in a is mainly composed of oil vapor, the vacuum vessel 1
The gas in a may be assumed to be oil vapor, and the gas molecular weight of the vacuum oil may be used as the gas molecular weight. In this case, the thermal motion velocity of the gas molecules can be calculated with high accuracy.
【0060】異常ガス量算出手段7は、圧力測定手段3
および理論圧力予測手段6と電気的に接続され、上記任
意時刻から単位時間経過後における真空容器内理論圧力
と、上記任意時刻から単位時間経過後における圧力測定
手段3によって測定された真空容器内圧力とを入力す
る。また、異常ガス量算出手段7は、測定された真空容
器内圧力と真空容器内理論圧力との差を算出し、この圧
力差にもとづいて、異常ガス量を算出する。また、異常
ガス量算出手段7は、異常判定手段8,圧力補正値算出
手段9及び表示手段11と電気的に接続してあり、異常
判定手段8,圧力補正値算出手段9及び表示手段11に
上記異常ガス量を出力する。The abnormal gas amount calculating means 7 includes the pressure measuring means 3
And a theoretical pressure in the vacuum vessel after a unit time has elapsed from the arbitrary time, and a pressure in the vacuum vessel measured by the pressure measuring means 3 after a unit time has elapsed from the arbitrary time. Enter Further, the abnormal gas amount calculating means 7 calculates a difference between the measured vacuum vessel pressure and the vacuum vessel theoretical pressure, and calculates an abnormal gas quantity based on the pressure difference. The abnormal gas amount calculation means 7 is electrically connected to the abnormality determination means 8, the pressure correction value calculation means 9 and the display means 11, and is connected to the abnormality determination means 8, the pressure correction value calculation means 9 and the display means 11. The abnormal gas amount is output.
【0061】このように、真空装置1は、異常ガス量算
出手段7が、圧力測定手段によって測定した真空容器内
測定圧力と理論圧力予測手段6が予測した真空容器内理
論圧力との差から、異常ガス量を算出するので、異常判
定手段8が、異常ガス量の異常を精度良く判定すること
ができる。As described above, in the vacuum apparatus 1, the abnormal gas amount calculating means 7 calculates the difference between the measured pressure in the vacuum vessel measured by the pressure measuring means and the theoretical pressure in the vacuum vessel predicted by the theoretical pressure predicting means 6. Since the abnormal gas amount is calculated, the abnormality determining means 8 can accurately determine the abnormality of the abnormal gas amount.
【0062】また、真空装置1は、上記異常ガス量を、
単位時間当たりの真空容器1a内の壁面からの脱ガス量
と真空容器1aの外部からの侵入ガス量の和とした構成
とするとよく、このようにすると、異常ガス量の異常に
対して、異常の原因を脱ガス及び/又は侵入ガスに限定
することができる。Further, the vacuum apparatus 1 calculates the abnormal gas amount
The amount of degassing from the wall surface inside the vacuum vessel 1a per unit time and the amount of gas entering from the outside of the vacuum vessel 1a may be configured to be a sum. Can be limited to degassing and / or invading gas.
【0063】また、真空装置1は、異常判定手段8が、
異常ガス量算出手段7が算出した異常ガス量にもとづい
て、脱ガス量及び/又は侵入ガス量の異常を判定し、判
定結果を表示手段11に出力する。このようにすると、
異常ガス量の異常に対して、脱ガス量の異常であるの
か、侵入ガス量の異常であるのか、あるいは、脱ガス量
と侵入ガス量の異常であるのかを検出することができ、
異常の原因を具体的に特定することができる。なお、異
常判定手段8は、たとえば、正常な状態で真空引きした
際の異常ガス量のプロファイルと比較することにより、
排気異常か否かを判定することができる。In the vacuum apparatus 1, the abnormality judging means 8
On the basis of the abnormal gas amount calculated by the abnormal gas amount calculating means 7, the abnormality of the degassing amount and / or the intrusion gas amount is determined, and the determination result is output to the display means 11. This way,
It is possible to detect whether the abnormal gas amount is abnormal, whether the amount of degassing amount is abnormal, the amount of intruding gas amount, or the abnormal amount of degassing amount and the amount of intruding gas amount.
The cause of the abnormality can be specifically identified. Note that the abnormality determination means 8 compares the profile with the profile of the abnormal gas amount when vacuuming is performed in a normal state, for example.
It is possible to determine whether or not the exhaust is abnormal.
【0064】また、真空装置1は、異常判定手段8が、
異常ガス量の累積値にもとづいて、脱ガス量及び/又は
侵入ガス量の異常を判定する構成とするとよく、このよ
うにすると、異常ガス量の累積値にもとづいて、脱ガス
量の異常であるのか、侵入ガス量の異常であるのか、あ
るいは、脱ガス量と侵入ガス量の異常であるのかを精度
良く検出することができ、異常の原因を具体的に特定す
ることができる。In the vacuum apparatus 1, the abnormality determining means 8
It is preferable to determine the abnormality of the degassing amount and / or the intrusion gas amount based on the accumulated value of the abnormal gas amount. In this case, the abnormality of the degassing amount is determined based on the accumulated value of the abnormal gas amount. It is possible to accurately detect whether there is an abnormality, an abnormality in the amount of intruding gas, or an abnormality in the amount of degassing and the amount of intruding gas, and specifically identify the cause of the abnormality.
【0065】つまり、異常判定手段8は、単位時間ごと
に算出される異常ガス量にもとづいて判定する場合に限
定されるものではなく、異常ガス量算出手段7が算出す
る異常ガス量の累積値があらかじめ設定してある値を超
えた場合に、排気異常と判定する構成としてもよく、こ
のようにすると、異常ガス量の累積値にもとづいて、高
真空状態あるいは高真空に近い状態における排気異常に
対して、より精度の高い判定を行うことができる。In other words, the abnormality determination means 8 is not limited to the case where the determination is made based on the abnormal gas amount calculated for each unit time, but the cumulative value of the abnormal gas amount calculated by the abnormal gas amount calculation means 7 May exceed the preset value, it may be determined that the exhaust is abnormal. In such a case, based on the cumulative value of the abnormal gas amount, the exhaust abnormality in the high vacuum state or a state close to the high vacuum state may be determined. Can be determined with higher accuracy.
【0066】また、本明細書において、「脱ガス量及び
/又は侵入ガス量の異常」とは、脱ガス量の異常,侵入
ガス量の異常,又は,脱ガス量と侵入ガス量の異常をい
うものとし、適宜、これら異常をまとめて、排気異常と
略称する。In this specification, “abnormality of the outgassing amount and / or the amount of the intruding gas” means “abnormality of the outgassing amount, the abnormality of the intruding gas amount, or the abnormality of the outgassing amount and the intrusion gas amount”. These abnormalities are collectively referred to as exhaust abnormality.
【0067】異常判定手段8は、ベーキング開始から異
常ガス量がほぼ変化しなくなるまでの時間区間におい
て、異常ガス量の値が、あらかじめ設定した異常判定値
より小さくなると、脱ガス量の異常と判定する構成とす
るとよく、このようにすると、特に、ベーキング開始後
の真空引きの段階において、たとえば、ベーキング用ヒ
ータの故障などによりベーキングが行われない、あるい
は、ベーキングが不十分である場合に、油分などの高温
で気化しやすい物質が十分気化されないこととなり、脱
ガス量に関する異常を検出することができる。また、排
気異常の原因をベーキング不良と特定できるので、原因
調査を容易に行なうことができる。The abnormality determining means 8 determines that the degassing amount is abnormal when the value of the abnormal gas amount becomes smaller than a predetermined abnormality determination value in the time interval from the start of baking until the abnormal gas amount hardly changes. In this case, particularly when the baking is not performed due to a failure of the baking heater or the baking is insufficient at the evacuation stage after the start of the baking, the oil content is reduced. For example, a substance that easily vaporizes at a high temperature, such as a high temperature, is not sufficiently vaporized, and an abnormality relating to the degassing amount can be detected. Further, since the cause of the exhaust abnormality can be specified as baking failure, the cause can be easily investigated.
【0068】なお、この時間区間で、油分などの高温で
気化しやすい物質が十分気化しないと、真空引きを続け
ても、高真空状態に到達できなかったり、到達時間が長
くなり、結果的に、排気異常となる。If a substance which is easily vaporized at a high temperature, such as oil, is not sufficiently vaporized during this time interval, a high vacuum state cannot be reached or the arrival time becomes long even if the evacuation is continued. , And the exhaust becomes abnormal.
【0069】また、異常判定手段8は、ベーキングの開
始された後であって、異常ガス量がほぼ変化しなくなっ
てからベーキング終了までの時間区間において、異常ガ
ス量の値が、あらかじめ設定した異常ガス量の異常判定
値より大きくなると、脱ガス量及び/又は侵入ガス量の
異常と判定する構成とするとよく、このようにすると、
ベーキングの開始された後であって、異常ガス量がほぼ
変化しなくなってからベーキング終了までの時間区間に
おいて、たとえば、真空容器内の壁面からの脱ガス量
や、真空容器の外部からの侵入ガス量の異常を検出する
ことができ、排気異常の原因調査を容易に行なうことが
できる。Further, after the baking has been started, the abnormality determining means 8 determines the value of the abnormal gas amount in a time interval from when the abnormal gas amount hardly changes to the end of the baking. When the gas amount is larger than the abnormality determination value, it is preferable to determine that the amount of degassing and / or the amount of intruding gas is abnormal.
After the start of baking, in the time interval from the time when the amount of abnormal gas hardly changes to the end of baking, for example, the amount of degassing from the wall surface in the vacuum vessel or the intrusion gas from the outside of the vacuum vessel An abnormality in the amount can be detected, and the cause of the exhaust abnormality can be easily investigated.
【0070】また、異常判定手段8は、ベーキング終了
後、異常ガス量の累積値が下がらないと、脱ガス量及び
/又は侵入ガス量の異常と判定する構成とするとよく、
このようにすると、ベーキング終了後において、たとえ
ば、ベーキングヒータが正常にオフされないために、真
空容器内の気体が壁面に再吸着されないことによる脱ガ
ス量や、微小リークによる真空容器の外部からの侵入ガ
ス量の異常を検出することができ、排気異常の原因調査
を容易に行なうことができる。The abnormality determination means 8 may be configured to determine that the amount of degassing and / or the amount of invading gas is abnormal if the cumulative value of the amount of abnormal gas does not decrease after baking.
In this way, after the baking is completed, for example, since the baking heater is not normally turned off, the amount of degassing due to the gas in the vacuum vessel not being re-adsorbed to the wall surface, or intrusion from outside the vacuum vessel due to a minute leak An abnormality in the gas amount can be detected, and the cause of the exhaust abnormality can be easily investigated.
【0071】また、異常判定手段8は、ベーキング終了
後から目標真空度に到達するまでの時間区間において、
異常ガス量がほぼ一定に収束せず増加すると、侵入ガス
量の異常と判定する構成とするとよく、このようにする
と、ベーキング終了から目標真空度に到達するまでの時
間区間において、たとえば、真空系のシール不良にもと
づく侵入ガス量を検出することができ、排気異常の原因
調査を容易に行なうことができる。Further, the abnormality determination means 8 determines whether the abnormality has occurred in the time interval from the end of baking to the time when the target vacuum degree is reached.
When the abnormal gas amount does not converge to a substantially constant value and increases, it is preferable to determine that the amount of the intruding gas is abnormal. In this case, for example, in the time interval from the end of baking to reaching the target vacuum degree, for example, the vacuum system It is possible to detect the amount of invading gas based on the defective seal, and to easily investigate the cause of the exhaust abnormality.
【0072】なお、ベーキング開始から、異常ガス量が
ほぼ変化しなくなるまでの時間においては、真空容器1
a内の温度が上昇することにより、真空容器1aの内部
に付着した油分などが、盛んに気化するので、通常、異
常ガス量は、安定せずばらついた値となることは勿論で
ある。In the period from the start of baking until the abnormal gas amount hardly changes, the vacuum vessel 1
As the temperature in the area a rises, the oil and the like adhering to the inside of the vacuum vessel 1a evaporate vigorously, so that the amount of the abnormal gas usually becomes a variable value without being stabilized.
【0073】次に、真空ポンプ12をクライオポンプと
した場合の各計算式について、説明する。先ず、真空ポ
ンプ12がクライオポンプの場合、任意時刻からの単位
時間経過後の真空容器内理論圧力は、上述した(1)式Next, each calculation formula when the vacuum pump 12 is a cryopump will be described. First, when the vacuum pump 12 is a cryopump, the theoretical pressure in the vacuum vessel after a lapse of a unit time from an arbitrary time is calculated by the above equation (1).
【数8】 t:時間 P(t):時間tにおける真空容器内理論圧力 P0:時間t=0における圧力(任意時刻における圧力測
定手段によって測定された真空容器内圧力) Peq0:クライオポンプのクライオ面の圧力,気体温度
及びクライオ面温度から求められる定数(=気体種類と
ポンプとで決まる真空ポンプ排気限界係数) Sc:クライオポンプの排気速度(=定数) V:真空容器の容積 Cv:真空容器の表面積,気体分子の熱運動速度,気体
分子の真空容器内壁面における吸着時間,気体分子の真
空容器内壁面における付着確率,真空容器内壁面の表面
粗さ係数から求められる値(=気体の係数,気体の温
度,真空容器によって変わるガス放出係数) で求めらる。ここで、理論圧力予測手段6は、任意時刻
における圧力測定手段3からの真空容器内圧力を初期真
空容器内圧力としてP0に代入し、t時間後の真空容器内
理論圧力P(t)を計算する構成とするとよく、このように
すると、真空ポンプをクライオポンプとした場合に、精
度良く真空容器内理論圧力を予測することができる。(Equation 8) t: time P (t): theoretical pressure in the vacuum vessel at time t P 0 : pressure at time t = 0 (pressure in the vacuum vessel measured by pressure measuring means at an arbitrary time) P eq0 : cryopump of the cryopump pressure, constant determined from the gas temperature and the cryo-surface temperature (= the gas type and the vacuum pumping limit coefficient determined by the pump) S c: pumping speed of the cryopump (= constant) V: the vacuum container volume C v: vacuum container Surface area, thermal velocity of gas molecules, adsorption time of gas molecules on the inner wall of the vacuum vessel, adhesion probability of gas molecules on the inner wall of the vacuum vessel, value obtained from the surface roughness coefficient of the inner wall of the vacuum vessel (= gas coefficient) , Gas temperature, and gas release coefficient depending on the vacuum vessel). Here, the theoretical pressure predicting means 6 substitutes the pressure in the vacuum vessel from the pressure measuring means 3 at an arbitrary time into P 0 as the initial vacuum vessel pressure, and calculates the theoretical pressure P (t) in the vacuum vessel after t hours. The calculation is preferably performed. In this case, when the vacuum pump is a cryopump, the theoretical pressure in the vacuum vessel can be accurately predicted.
【0074】また、理論圧力予測手段6は、(1)式を
採用し、ガス放出係数Cvを考慮して、真空容器内理論
圧力を予測する際、真空容器1a内の真空度が高くな
り、あるいは、ベーキングヒータ13がオンすると、真
空容器1a内において脱ガスが理論圧力に大きく影響す
ることから、(1)式において、算出した理論圧力と実
測した圧力がほぼ同じになるように、ガス放出係数Cv
を修正して設定してもよいことは、勿論である。The theoretical pressure predicting means 6 adopts the equation (1), and when estimating the theoretical pressure in the vacuum vessel in consideration of the gas release coefficient C v , the degree of vacuum in the vacuum vessel 1a increases. Alternatively, when the baking heater 13 is turned on, the degassing greatly affects the theoretical pressure in the vacuum vessel 1a. Therefore, in the equation (1), the gas pressure is set so that the calculated theoretical pressure and the actually measured pressure become substantially the same. Emission coefficient C v
May be modified and set.
【0075】また、(1)式を計算する際、クライオポ
ンプの排気速度は、下記(6)式When calculating the equation (1), the pumping speed of the cryopump is calculated by the following equation (6).
【数9】 Sc:クライオポンプの排気速度 C:真空ポンプの排気口と低温面間のクラウジング係数 A:真空ポンプのクライオ面の面積 c(Tg):真空ポンプのクライオ面における凝縮確率 v(Tg):気体分子の熱運動平均速度 で求められる。ここで、理論圧力予測手段6は、(6)
式を用いてクライオポンプの排気速度を算出するとよ
く、このようにすると、理論圧力予測手段6は、精度良
くクライオポンプの排気速度を算出することができる。(Equation 9) Sc: Pumping speed of the cryopump C: Crowsing coefficient between the exhaust port of the vacuum pump and the low-temperature surface A: Area of the cryogenic surface of the vacuum pump c (Tg): Condensation probability on the cryogenic surface of the vacuum pump v (Tg): Gas molecule It is determined by the average thermal motion velocity of. Here, the theoretical pressure predicting means 6 includes (6)
The pumping speed of the cryopump may be calculated using the equation. In this case, the theoretical pressure predicting means 6 can calculate the pumping speed of the cryopump with high accuracy.
【0076】また、(1)式を計算する際、クライオポ
ンプ排気限界圧力は、下記(7)式When calculating the equation (1), the cryopump exhaust limit pressure is calculated by the following equation (7).
【数10】 Peq0:クライオポンプ排気限界圧力 Peq:クライオ面の圧力 Ts:クライオ面温度 Tg:気体温度 で求められる。ここで、理論圧力予測手段6は、(7)
式を用いてクライオポンプ排気限界圧力を算出するとよ
く、このようにすると、理論圧力予測手段6は、精度良
くクライオポンプ排気限界圧力を算出することができ
る。(Equation 10) P eq0 : Cryo pump exhaust limit pressure P eq : Cryo surface pressure Ts: Cryo surface temperature Tg: Gas temperature Here, the theoretical pressure predicting means 6 calculates (7)
It is preferable to calculate the cryopump exhaust limit pressure using the equation. In this case, the theoretical pressure predicting means 6 can accurately calculate the cryopump exhaust limit pressure.
【0077】次に、上記(1)式を、クライオポンプの
排気速度の基礎式から証明する。クライオポンプの排気
速度S(m3/sec)の基礎式は、クライオ面の面積をA
(m2)、ポンプの排気口と低温面間のクラウジング係数
をC、凝縮の確率を低温面にやってくる入射分子の温度
関数c(T)、気体分子の熱運動速度の平均値v(T)、気
体分子の温度Tg(K)、クライオ面の温度Ts(K)、圧
力P(Pa)クライオ面の圧力Peq(Pa)とすると、下記
(8)式で表される。Next, the above equation (1) will be proved from the basic equation of the pumping speed of the cryopump. The basic formula for the pump speed S (m 3 / sec) of the cryopump
(m 2 ), the Crowsing coefficient between the pump outlet and the cold surface is C, the probability of condensation is the temperature function c (T) of the incident molecule coming to the cold surface, and the average value of the thermal motion velocity v (T) of the gas molecule. , The temperature of the gas molecules Tg (K), the temperature of the cryogenic surface Ts (K), the pressure P (Pa), and the pressure of the cryogenic surface P eq (Pa), the following expression (8) is obtained.
【数11】 [Equation 11]
【0078】ここで、ガスの温度、クライオ面の温度を
一定とし、下記(9)式Here, the temperature of the gas and the temperature of the cryosurface are kept constant, and the following equation (9) is obtained.
【数12】 及び、下記(10)式(Equation 12) And the following equation (10)
【数13】 とおきかえ簡略化すると、上述した(8)式は、下記
(11)式となる。(Equation 13) In other words, the above equation (8) is simplified to the following equation (11).
【数14】 [Equation 14]
【0079】また、真空容器1aの壁面からの脱ガス量
は、圧力P(Pa)、分子の熱運動速度の平均値v(m/sec)、
吸着時間τ(sec)、分子の付着確率δ(0<δ<1)、表
面粗さ係数β(>1)とすると、容器表面の吸着ガス密
度σ(Pa・m3・m−2)[2 ]が、下記(12)式で表さ
れる。Further, the degassing amount from the wall surface of the vacuum vessel 1a includes a pressure P (Pa), an average value v (m / sec) of thermal velocities of molecules,
Adsorption time τ (sec), the probability adhesion molecules δ (0 <δ <1) , when the surface roughness coefficient β (> 1), the suction gas density σ (Pa · m 3 · m -2) of the container surface [ 2 ] is represented by the following equation (12).
【数15】 (Equation 15)
【0080】真空容器1a内の表面積A(m2)、圧力
変化量ΔP(Pa)とすると、上記(12)式は、下記(1
3)式で表される。Assuming that the surface area A (m 2 ) and the pressure change ΔP (Pa) in the vacuum vessel 1 a are expressed by the following equation (12),
3) It is expressed by the equation.
【数16】 (Equation 16)
【0081】真空容器1a,クライオポンプの排気性
能、壁面からの脱ガス量を加えた(8)式は、真空容器
内の圧力をP(t)(Pa)、容積をV(m3)、真空容器内
の表面積A(m2)、固体表面のガス密度をσ(Pa・m
3・m−2)、クライオポンプの排気速度S(m3/sec)
としたとき、tからΔt時間経過した時間t+Δtの真
空容器内のガス量PVは、時間tの真空容器内のガス量PV
に、固体部分のガス放出量Aσのtからt+Δt時間の
変化量、クライオポンプがΔt時間に排気するガス量を
加えたものと等しいと考えると、下記(14)式で表す
ことができる。The equation (8) in which the exhaust performance of the vacuum vessel 1a and the cryopump and the amount of degassing from the wall are added, the pressure in the vacuum vessel is P (t) (Pa), the volume is V (m 3 ), The surface area A (m 2 ) in the vacuum vessel and the gas density on the solid surface are represented by σ (Pa · m
3・ m −2 ), Cryopump pumping speed S (m 3 / sec)
Where, the gas amount PV in the vacuum vessel at time t + Δt after the elapse of Δt time from t is the gas quantity PV in the vacuum vessel at time t.
If it is considered that this is equal to the sum of the change in the gas release amount Aσ of the solid portion from t to t + Δt time and the amount of gas exhausted by the cryopump in the Δt time, the following equation (14) can be expressed.
【数17】 ここで、AΔPvτδβ/4は、Δt時間での壁面からの
脱ガス量であり、ΔPはΔt時間での圧力の変化量P(t+
Δt)−P(t)である。[Equation 17] Here, AΔPvτδβ / 4 is the amount of degassing from the wall surface at the time Δt, and ΔP is the pressure change amount P (t +
Δt) -P (t).
【0082】また、上記(14)式を整理し微分方程式
にすると、下記(15)式で表される。When the above equation (14) is rearranged into a differential equation, it is expressed by the following equation (15).
【数18】 (Equation 18)
【0083】そして、上記(15)式の微分方程式を解
くと、クライオポンプを使用した真空容器1a内の真空
容器内理論圧力を予測する式は、上述した(1)式When the differential equation of the above equation (15) is solved, the equation for predicting the theoretical pressure inside the vacuum vessel 1a using the cryopump is given by the above equation (1).
【数19】 となる。ここで、Cvは、下記(3)式[Equation 19] Becomes Here, Cv is given by the following equation (3).
【数20】 としてあり、また、Peq0は、下記(7)式(Equation 20) And P eq0 is the following equation (7)
【数21】 としてある。(Equation 21) There is.
【0084】なお、上記(1)式、(3)式、(7)式
において、 V:真空容器1aの容積(m3) Peq:クライオ面の圧力(Pa) Tg:気体温度(K) Ts:クライオ面温度(K) Sc:クライオポンプの排気速度(m3/sec) A:真空容器内の表面積(m2) v:気体分子の熱運動速度の平均値(m/sec) τ:気体分子の壁面における吸着時間(sec) δ:気体分子の付着確率 β:表面粗さ係数 としてある。In the above formulas (1), (3) and (7), V: volume (m 3 ) of the vacuum vessel 1a P eq : pressure on the cryo surface (P a ) Tg: gas temperature (K ) Ts: cryo surface temperature (K) S c: pumping speed of the cryopump (m 3 / sec) a: surface area of the vacuum vessel (m 2) v: average value of the thermal velocity of gas molecules (m / sec) τ: adsorption time (sec) of gas molecules on the wall δ: adhesion probability of gas molecules β: surface roughness coefficient
【0085】また、理論圧力予測手段6は、上記の真空
容器1a内の真空容器内理論圧力を予測するための
(1)式のP0に、圧力測定手段3で測定した真空容器
1a内の真空容器内圧力を代入し、tに単位時間を入れ
て算出することにより、単位時間後の真空容器内理論圧
力を予測することができる。[0085] In addition, the theoretical pressure prediction means 6, the P 0 of equation (1) for predicting the vacuum vessel theoretical pressure in said vacuum container 1a, in the vacuum container 1a as measured by the pressure measuring means 3 By substituting the pressure in the vacuum container and calculating by adding a unit time to t, the theoretical pressure in the vacuum container after the unit time can be predicted.
【0086】また、真空装置1は、真空容器1aが真空
ポンプ12により排気されて、約10−3(Pa)オー
ダーの真空領域に到達すると、真空度が内部壁面からの
脱ガスに支配される領域となり、壁面からガス放出係数
Cvを、適切に設定する必要がある。このため、(3)
式において、真空容器内壁面の表面粗さ係数βを1以上
の値とする構成とするとよく、このようにすると、
(1)式において算出した理論圧力と実測した圧力がほ
ぼ同じになるように、ガス放出係数Cvを大きく修正す
ることができる。In the vacuum device 1, when the vacuum vessel 1a is evacuated by the vacuum pump 12 and reaches a vacuum region on the order of about 10 -3 (Pa), the degree of vacuum is controlled by degassing from the inner wall surface. becomes the area, the gas discharge coefficient C v from the wall surface, it is necessary to appropriately set. Therefore, (3)
In the formula, the surface roughness coefficient β of the inner wall surface of the vacuum vessel is preferably set to a value of 1 or more.
The gas release coefficient Cv can be largely corrected so that the theoretical pressure calculated in the equation (1) and the actually measured pressure become substantially the same.
【0087】また、真空装置1は、気体分子の付着確率
として、真空容器1の内部壁面に気体分子が衝突して当
該壁面に吸着する確率を0から1までの値であらわす構
成とするとよく、このようにすると、気体分子の付着確
率を、実用的な精度の値とすることができる。Further, the vacuum apparatus 1 may be configured so that the probability of gas molecules colliding with the inner wall surface of the vacuum vessel 1 and being adsorbed on the wall surface is represented by a value from 0 to 1 as a gas molecule adhesion probability. In this way, the probability of gas molecule adhesion can be set to a value of practical accuracy.
【0088】なお、真空装置1は、真空容器1aの壁面
内部における壁面温度を、真空容器1a内の気体温度と
仮定する構成としてもよく、このようにすると、気体温
度測定手段5を取り付けるために、真空容器1aにシー
ル不良の原因となる可能性のある取付け孔を穿設しなく
て済むので、この分シール不良の危険性を低減すること
ができる。The vacuum apparatus 1 may be configured such that the wall temperature inside the wall of the vacuum vessel 1a is assumed to be the gas temperature in the vacuum vessel 1a. In addition, since it is not necessary to form a mounting hole which may cause a sealing failure in the vacuum vessel 1a, the danger of the sealing failure can be reduced by that much.
【0089】次に、真空装置1の圧力補正値算出手段及
び目標真空度到達時間予測手段について、説明する。真
空装置1は、圧力補正値算出手段9及び目標真空度到達
時間予測手段10を有する構成とするとよく、このよう
にすると、圧力補正値算出手段9が算出した圧力補正値
にもとづいて、目標真空度到達時間予測手段10が目標
真空度到達時間を精度良く算出することができる。Next, the pressure correction value calculating means and the target degree of vacuum reaching time estimating means of the vacuum apparatus 1 will be described. The vacuum apparatus 1 preferably includes a pressure correction value calculation unit 9 and a target vacuum degree arrival time prediction unit 10. In this case, the target vacuum is calculated based on the pressure correction value calculated by the pressure correction value calculation unit 9. The attainment time estimating means 10 can accurately calculate the target evacuation time.
【0090】ここで、圧力補正値算出手段9は、異常ガ
ス量算出手段7と電気的に接続してあり、ベーキングを
開始してから所定時間経過した後の、単位時間経過ごと
の時刻における異常ガス量が、ベーキング終了時刻まで
変化しないものと仮定して、上記単位時間経過ごとの時
刻からベーキング終了時刻までは、上記単位時間経過ご
との時刻における異常ガス量を、単位時間ごとの圧力補
正値として算出する。なお、ベーキングを開始してから
の所定時間を、ベーキング開始から異常ガス量がほぼ変
化しなくなるまでの時間とするとよく、このようにする
と、ベーキング開始後における脱ガス量の初期変動の影
響を受けずに、精度良く圧力補正値を求めることができ
る。Here, the pressure correction value calculating means 9 is electrically connected to the abnormal gas amount calculating means 7 and detects abnormalities at a time every unit time after a lapse of a predetermined time from the start of baking. Assuming that the gas amount does not change until the baking end time, the abnormal gas amount at the time of the unit time elapse from the time of each unit time elapse to the baking end time is a pressure correction value for each unit time. Is calculated as The predetermined time from the start of baking may be set to the time from the start of baking until the abnormal gas amount hardly changes. In such a case, the predetermined time is affected by the initial fluctuation of the degassing amount after the start of baking. The pressure correction value can be obtained with high accuracy without any need.
【0091】また、圧力補正値算出手段9は、ベーキン
グ終了時刻から目標真空度に到達する時刻までは、あら
かじめ算出され記憶されているベーキング終了時刻から
単位時間ごとに算出された異常ガス量を当該ベーキング
終了時刻における異常ガス量で割り、さらに、上記単位
時間経過ごとの時刻における異常ガス量をかけた値を、
単位時間ごとの圧力補正値として算出し、この圧力補正
値を目標真空度到達時間予測手段10に出力する。The pressure correction value calculating means 9 calculates the abnormal gas amount calculated per unit time from the baking end time calculated and stored in advance from the baking end time to the time when the target degree of vacuum is reached. A value obtained by dividing by the abnormal gas amount at the baking end time and further multiplying the abnormal gas amount at the time of each unit time elapse,
The pressure correction value is calculated as a pressure correction value for each unit time, and this pressure correction value is output to the target vacuum arrival time prediction means 10.
【0092】目標真空度到達時間予測手段10は、圧力
測定手段3,壁面温度測定手段4,気体温度測定手段5
及び圧力補正値算出手段9と電気的に接続してあり、真
空容器内圧力,壁面温度,気体温度及び圧力補正値を入
力する。The target vacuum degree arrival time predicting means 10 includes pressure measuring means 3, wall temperature measuring means 4, gas temperature measuring means 5,
And is electrically connected to the pressure correction value calculating means 9 for inputting the pressure inside the vacuum vessel, the wall temperature, the gas temperature and the pressure correction value.
【0093】また、目標真空度到達時間予測手段10
は、上記単位時間経過ごとの時刻における、真空容器1
a壁面のガス放出量,真空ポンプ12の排気速度,真空
ポンプ12の排気限界圧力,真空容器1内壁面からの脱
ガス量,真空容器1の容積,及び,圧力補正値算出手段
9によって算出した単位時間ごとに変わる圧力補正値に
もとづいて、上記単位時間経過ごとの時刻における真空
容器1a内圧力を初期圧力として単位時間経過後の予測
圧力を予測し、さらに、当該予測した予測圧力を初期圧
力として、次の単位時間後の予測圧力を予測する計算を
繰り返し、当該繰り返し計算により予測された予測圧力
が目標真空度に到達する時刻を算出し、上記単位時間経
過ごとの時刻から目標真空度に到達する時刻までの時間
を、目標真空度到達時間として予測し、上記到達する時
刻及び/又は到達する時刻までの時間を表示手段11に
出力する。The target vacuum degree arrival time predicting means 10
Is the vacuum vessel 1 at each time the unit time has passed.
a The amount of gas released from the wall surface, the evacuation speed of the vacuum pump 12, the evacuation limit pressure of the vacuum pump 12, the amount of degassing from the inner wall surface of the vacuum vessel 1, the volume of the vacuum vessel 1, and the pressure correction value calculation means 9. Based on the pressure correction value that changes every unit time, the pressure inside the vacuum vessel 1a at the time of each elapse of the unit time is predicted as the initial pressure, and the predicted pressure after the elapse of the unit time is predicted. As, the calculation for predicting the predicted pressure after the next unit time is repeated, the time at which the predicted pressure predicted by the repetitive calculation reaches the target vacuum degree is calculated, and the time at each unit time elapse is set to the target vacuum degree. The time until the arrival time is predicted as the target vacuum degree arrival time, and the arrival time and / or the time until the arrival time is output to the display unit 11.
【0094】なお、上記単位時間経過ごとの時刻におけ
る真空容器1a壁面のガス放出量は、同時刻における圧
力測定手段3によって測定した真空容器内圧力,気体温
度測定手段5によって測定された気体温度および気体分
子量から求められる真空容器1a内の気体分子の熱運動
速度,真空容器1a内壁面における気体分子の吸着時
間,真空容器1a内壁面の表面積,気体分子の真空容器
1a内における付着確率,真空容器1a内壁面の表面粗
さ係数から求められる。The amount of gas released from the wall surface of the vacuum vessel 1a at each time when the unit time has elapsed is determined by the pressure inside the vacuum vessel measured by the pressure measuring means 3, the gas temperature measured by the gas temperature measuring means 5 at the same time. Thermal velocity of gas molecules in vacuum vessel 1a determined from gas molecular weight, adsorption time of gas molecules on inner wall surface of vacuum vessel 1a, surface area of inner wall surface of vacuum vessel 1a, probability of adhesion of gas molecules in vacuum vessel 1a, vacuum vessel 1a is determined from the surface roughness coefficient of the inner wall surface.
【0095】また、真空ポンプ12をクライオポンプと
した場合、単位時間経過後の予測圧力は、上述した
(2)式When the vacuum pump 12 is a cryopump, the predicted pressure after a lapse of a unit time is calculated by the above equation (2).
【数22】 t:時間 P(t):時間tにおける予測圧力 P0:時間t=0における圧力(任意時刻における圧力測
定手段によって測定された真空容器内圧力) Peq0:クライオポンプのクライオ面の圧力,気体温度
及びクライオ面温度から求められる定数(=気体種類と
ポンプとで決まる真空ポンプ排気限界係数) Sc:クライオポンプの排気速度(=定数) V:真空容器の容積 Cv:真空容器内壁面の表面積,気体分子の熱運動速
度,気体分子の真空容器内壁面における吸着時間,気体
分子の真空容器内壁面における付着確率,真空容器内壁
面の表面粗さ係数から求められる値(=気体の係数,気
体の温度,真空容器によって変わるガス放出係数) Px(t):前記圧力補正値算出手段によって求めた圧力補
正値 で求められる。ここで、目標真空度到達時間予測手段1
0は、繰り返し計算における一回前の予測圧力P(t)をP0
に代入し、t時間後の予測圧力P(t)を計算する構成とす
るとよく、このようにすると、真空ポンプ12がクライ
オポンプの場合に、目標真空度到達時間予測手段10に
おける単位時間経過後の予測圧力を、精度良く算出する
ことができる。(Equation 22) t: time P (t): predicted pressure at time t P 0 : pressure at time t = 0 (pressure in the vacuum vessel measured by pressure measuring means at an arbitrary time) P eq0 : pressure and gas on the cryopump surface of the cryopump constant determined from the temperature and cryo surface temperature (= the gas type and the vacuum pumping limit coefficient determined by the pump) S c: pumping speed of the cryopump (= constant) V: the vacuum vessel volume C v: in the vacuum chamber wall Value obtained from surface area, thermal velocity of gas molecules, adsorption time of gas molecules on the inner wall of vacuum vessel, adhesion probability of gas molecules on the inner wall of vacuum vessel, surface roughness coefficient of inner wall of vacuum vessel (= coefficient of gas, P x (t): The pressure correction value obtained by the pressure correction value calculation means. Here, target vacuum arrival time prediction means 1
0 is the predicted pressure P (t) immediately before in the repetitive calculation as P 0
To calculate the predicted pressure P (t) after time t. In this case, when the vacuum pump 12 is a cryopump, the target pressure elapse time estimating means 10 after the unit time elapses Can be accurately calculated.
【0096】また、真空装置1は、圧力測定手段3によ
って測定した真空容器内圧力,理論圧力予測手段6によ
って予測した単位時間経過後の真空容器内理論圧力,異
常判定手段8によって判定した判定結果,目標真空度到
達時間予測手段10により予測した予測圧力,及び,目
標真空度到達時間を表示する、CRTなどの表示手段1
1を備えている構成とするとよく、このようにすると、
真空容器1a内の真空状態を容易に把握することができ
るので、操作性を改善することができる。Further, the vacuum apparatus 1 determines the pressure inside the vacuum vessel measured by the pressure measuring means 3, the theoretical pressure inside the vacuum vessel after the elapse of a unit time predicted by the theoretical pressure predicting means 6, and the determination result determined by the abnormality determining means 8. Display means 1 such as a CRT for displaying the predicted pressure predicted by the target vacuum arrival time prediction means 10 and the target vacuum arrival time.
It is good to have a configuration provided with 1.
Since the vacuum state in the vacuum vessel 1a can be easily grasped, the operability can be improved.
【0097】また、真空装置1の真空度制御装置2は、
理論圧力予測手段6,異常ガス量算出手段7,異常判定
手段8,圧力補正値算出手段9及び目標真空度到達時間
予測手段10を、個々に有する必要はなく、これら各手
段を、演算処理装置(CPU)とメモリを有する一台の
コンピュータとし、当該コンピュータが、上記各手段の
各処理を、後述する制御プログラムにより実行される構
成としてもよいことは、勿論である。つまり、上記各手
段の各処理は、制御プログラムとコンピュータとが協働
した真空度制御装置2により実行される。The vacuum control device 2 of the vacuum device 1
The theoretical pressure predicting means 6, the abnormal gas amount calculating means 7, the abnormal determining means 8, the pressure correction value calculating means 9 and the target vacuum arrival time predicting means 10 do not need to be individually provided. It is a matter of course that a single computer having a (CPU) and a memory may be used, and the computer may execute each process of the above-described units by a control program described later. In other words, each process of each of the above means is executed by the vacuum control device 2 in which the control program and the computer cooperate.
【0098】次に、上記構成からなる真空装置1の動作
について説明する。まず、真空容器1aは、粗引き真空
ポンプ(図示せず)により排気され、次に、クライオポ
ンプなどの真空ポンプ12により真空排気されるととも
に、ベーキングヒータ13により内部壁面が加熱(ベー
キング)される。ここで、真空容器1a内の圧力は、ま
ず、粗引き真空ポンプによって排気されて下がり、次
に、ベーキングヒータ13の加熱によって一旦上昇し、
続いて、真空ポンプ12によって排気されて徐々に下が
る。Next, the operation of the vacuum apparatus 1 having the above configuration will be described. First, the vacuum vessel 1a is evacuated by a roughing vacuum pump (not shown), then evacuated by a vacuum pump 12 such as a cryopump, and the inner wall surface is heated (baked) by a baking heater 13. . Here, the pressure in the vacuum chamber 1a is firstly reduced by being evacuated by the roughing vacuum pump, and then increased once by the heating of the baking heater 13,
Subsequently, the air is evacuated by the vacuum pump 12 and gradually lowers.
【0099】理論圧力予測手段6は、単位時間ごとに圧
力測定手段3によって測定された真空容器1a内の真空
容器内圧力、壁面温度測定手段4によって測定された壁
面温度、気体温度測定手段5によって測定された気体温
度を入力し、たとえば、真空ポンプ12がクライオポン
プである場合、上述したクライオポンプの真空容器内理
論圧力算出式である(1)式を用いて、単位時間後の真
空容器内理論圧力を予測する。The theoretical pressure predicting means 6 is provided by means of the pressure inside the vacuum vessel 1a measured by the pressure measuring means 3 per unit time, the wall temperature measured by the wall temperature measuring means 4, and the gas temperature measuring means 5 When the measured gas temperature is inputted, for example, when the vacuum pump 12 is a cryopump, the inside of the vacuum vessel after a unit time is calculated using the above-mentioned equation (1) which is a formula for calculating the theoretical pressure inside the vacuum vessel of the cryopump. Predict the theoretical pressure.
【0100】続いて、異常ガス量算出手段7は、理論圧
力予測手段6で算出された単位時間経過後の真空容器内
理論圧力と単位時間経過後の圧力測定手段3からの真空
容器内圧力を入力し、圧力測定手段3の単位時間経過後
の真空容器内圧力から理論圧力予測手段6で算出された
単位時間経過後の真空容器内理論圧力を引いた値を異常
ガス量(脱ガス量と侵入ガス量の和)として算出する。Subsequently, the abnormal gas amount calculating means 7 calculates the theoretical pressure in the vacuum vessel after the elapse of the unit time calculated by the theoretical pressure estimating means 6 and the pressure in the vacuum vessel from the pressure measuring means 3 after the elapse of the unit time. The value obtained by subtracting the theoretical pressure in the vacuum vessel after the elapse of the unit time calculated by the theoretical pressure estimating means 6 from the pressure in the vacuum vessel after the elapse of the unit time of the pressure measuring means 3 is calculated as the abnormal gas amount (the degassing amount and (Sum of the amount of invading gas).
【0101】次に、真空装置1は、異常判定手段8が、
異常ガス量算出手段7により算出した異常ガス量を用い
て異常判定を行う。ここで、異常判定手段8は、異常ガ
ス量算出手段7が異常ガス量の算出を開始すると、ベー
キング開始から目標真空度に到達するまでの時間を、ベ
ーキング開始から異常ガス量算出手段7によって算出さ
れた異常ガス量が変化しなくなるまでの第一の時間区
間,異常ガス量算出手段7によって算出された異常ガス
量が変化しなくなってからベーキング終了までの第二の
時間区間,ベーキング終了から目標真空度に到達するま
での第三の時間区間に分け、それぞれの時間区間におい
て、異常判定方法を切り替えて異常判定を行う。Next, in the vacuum apparatus 1, the abnormality determining means 8
An abnormality is determined using the abnormal gas amount calculated by the abnormal gas amount calculating means 7. Here, when the abnormal gas amount calculating means 7 starts calculating the abnormal gas amount, the abnormality determining means 8 calculates the time from the start of baking to the target degree of vacuum by the abnormal gas amount calculating means 7 from the start of baking. A first time interval until the abnormal gas amount no longer changes, a second time interval from when the abnormal gas amount calculated by the abnormal gas amount calculating means 7 does not change to the end of baking, and a target from the end of the baking. The method is divided into a third time section until the degree of vacuum is reached, and in each time section, the abnormality determination method is switched to perform the abnormality determination.
【0102】まず、第一の時間区間における異常判定方
法を、図面を参照して説明する。図2は、第一の時間区
間における異常判定図を説明するための概略図を示して
いる。同図において、横軸をベーキング開始からの時間
(sec)とし、縦軸を異常ガス量算出手段7によって
算出された異常ガス量(同図において、モル数に換算し
て表示している。)とし、正常時二例および異常時二例
のモル数(異常ガス量)の推移を示している。なお、こ
のモル数の推移は、例示である。First, an abnormality determination method in the first time section will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a schematic diagram for explaining an abnormality determination diagram in a first time section. In the figure, the horizontal axis is the time (sec) from the start of baking, and the vertical axis is the amount of abnormal gas calculated by the abnormal gas amount calculating means 7 (in the figure, the number of moles is displayed). And the transition of the number of moles (abnormal gas amount) in two cases during normal times and two cases during abnormal times. This transition of the number of moles is an example.
【0103】なお、上記モル数への換算は、異常判定手
段8が、異常ガス量算出手段7により求めた異常ガス量
(圧力値として求められる。)を、気体方程式PV=nRTを
式変形した下記(16)式The conversion into the number of moles is performed by the abnormality determining means 8 by transforming the abnormal gas amount (obtained as a pressure value) obtained by the abnormal gas amount calculating means 7 into a gas equation PV = nRT. Equation (16) below
【数23】 に代入することにより、行っている。このようにする
と、圧力値として求められる異常ガス量を、気体量であ
るモル数に換算でき、このモル数を用いて、異常判定を
行うことができる。(Equation 23) Is done by substituting into In this way, the abnormal gas amount obtained as the pressure value can be converted to the number of moles, which is the gas amount, and abnormality determination can be performed using this number of moles.
【0104】第一の時間区間、すなわち、同図におい
て、0secから約5000secまでの区間におい
て、異常ガス量算出手段7が算出した異常ガス量は、ベ
ーキング開始(0sec)から約1800secまでは
低下し、約1800secから増加する。ここで、約1
800secにおける異常ガス量の最小値は、モル数に
換算すると、通常、負の値となる。In the first time section, that is, in the section from 0 sec to about 5000 sec in the figure, the abnormal gas quantity calculated by the abnormal gas quantity calculating means 7 decreases from the start of baking (0 sec) to about 1800 sec. , About 1800 sec. Here, about 1
The minimum value of the abnormal gas amount at 800 sec is usually a negative value when converted to the number of moles.
【0105】そして、異常判定手段8は、この時間区間
の異常判定として、上記負の値の最小値が、この時間区
間で目標真空度に達した正常時における負の値の最小値
を基準に、あらかじめ設定してある第一の正常異常判定
値を、下回った場合に異常と判定する。Then, the abnormality determination means 8 determines the abnormality in this time interval based on the minimum value of the negative value based on the minimum value of the negative value in the normal state when the target vacuum degree is reached in this time interval. If the value falls below a first normal / abnormal judgment value set in advance, it is judged as abnormal.
【0106】つまり、単位時間経過後の圧力測定手段3
によって測定された真空容器内圧力と単位時間経過後の
真空容器内理論圧力との差が負の値になるのは、単位時
間経過後の真空容器内理論圧力より圧力測定手段3によ
り測定した真空容器内圧力が小さくなったためで、この
時点(単位時間経過後の時点)での脱ガス量が少なかっ
たことを意味している。そして、異常ガス量の最小値
が、第一の正常異常判定値を下回った場合、真空装置1
は、たとえば、ベーキング用ヒータの故障などによりベ
ーキングが行われない、あるいは、ベーキングが不十分
である場合に、油分などの高温で気化しやすい物質が十
分気化されない状態となっている。That is, the pressure measuring means 3 after the elapse of the unit time
The difference between the vacuum pressure measured in the vacuum vessel and the theoretical pressure in the vacuum vessel after the elapse of the unit time becomes a negative value because the vacuum measured by the pressure measuring means 3 from the theoretical pressure in the vacuum vessel after the elapse of the unit time This is because the pressure in the container has decreased, which means that the degassing amount at this time (after the elapse of the unit time) is small. Then, when the minimum value of the abnormal gas amount falls below the first normal / abnormal judgment value, the vacuum device 1
For example, when baking is not performed due to a failure of a baking heater, or when baking is insufficient, a substance that is easily vaporized at a high temperature, such as oil, is not sufficiently vaporized.
【0107】したがって、真空装置1は、異常判定手段
8が、異常ガス量のモル数があらかじめ設定してある第
一の正常異常判定値を下回った場合に、脱ガス量に関す
る異常と判定するので、早期に異常検出を行うことがで
きるとともに、排気異常の原因をベーキング不良と特定
できるので、原因調査を容易に行なうことができ、異常
があるにもかかわらず、真空引きしようとする徒労を回
避することができる。なお、同図においては、1000
0secまで、真空装置1を作動させているが、実作業
においては、異常ガス量のモル数が第一の正常異常判定
値を下回ったところで、真空装置1を停止して原因対策
を行うことができる。Therefore, in the vacuum apparatus 1, the abnormality judging means 8 judges that there is an abnormality relating to the degassing amount when the number of moles of the abnormal gas amount falls below the first normal abnormality judging value set in advance. , The abnormality can be detected at an early stage, and the cause of the exhaust abnormality can be identified as a baking defect, making it easy to investigate the cause and avoiding the trouble of trying to evacuate despite the abnormality. can do. Note that in FIG.
The vacuum apparatus 1 is operated until 0 sec. However, in actual work, when the number of moles of the abnormal gas amount falls below the first normal abnormality determination value, the vacuum apparatus 1 may be stopped to take measures against the cause. it can.
【0108】次に、第二の時間区間における異常判定方
法を、図面を参照して説明する。図3は、第二の時間区
間における異常判定図を説明するための概略図を示して
いる。同図において、横軸をベーキング開始からの時間
(sec)とし、縦軸を異常ガス量算出手段7によって
算出された異常ガス量(同図において、モル数に換算し
て表示している。)とし、正常時二例および異常時二例
のモル数(異常ガス量)の推移を示している。なお、こ
のモル数の推移は、例示である。Next, an abnormality determination method in the second time section will be described with reference to the drawings. FIG. 3 is a schematic diagram for explaining an abnormality determination diagram in a second time section. In the figure, the horizontal axis is the time (sec) from the start of baking, and the vertical axis is the amount of abnormal gas calculated by the abnormal gas amount calculating means 7 (in the figure, the number of moles is displayed). And the transition of the number of moles (abnormal gas amount) in two cases during normal times and two cases during abnormal times. This transition of the number of moles is an example.
【0109】第二の時間区間、すなわち、同図におい
て、約5000secから約25000secまでの区
間において、異常ガス量算出手段7が算出した異常ガス
量は、ほぼ一定の値となる。また、このほぼ一定の値と
なる異常ガス量は、通常、正の値となる。In the second time section, that is, in the section from about 5000 sec to about 25000 sec in the figure, the abnormal gas amount calculated by the abnormal gas amount calculating means 7 has a substantially constant value. The abnormal gas amount having a substantially constant value is usually a positive value.
【0110】したがって、異常判定手段8は、この時間
区間の異常判定として、上記のほぼ一定となる値が、目
標真空度に達した正常時におけるほぼ一定となった値を
基準に、あらかじめ設定してある第二の正常異常判定値
を、上回った場合に異常と判定する。Therefore, the abnormality determination means 8 sets the above-mentioned substantially constant value in advance as the abnormality determination in this time interval based on the substantially constant value in the normal state when the target vacuum degree is reached. If the value exceeds a given second normal / abnormality determination value, it is determined to be abnormal.
【0111】また、単位時間経過後の圧力測定手段3に
よって測定された真空容器内圧力と単位時間経過後の真
空容器内理論圧力との差が正の値になるのは、単位時間
経過後の真空容器内理論圧力より圧力測定手段3によっ
て測定された真空容器内圧力が大きいからであり、脱ガ
ス量及び/又は侵入ガス量が多いことを意味している。
そして、異常ガス量のほぼ一定となった値が、第二の正
常異常判定値を上回った場合、真空装置1は、たとえ
ば、真空容器1a内の壁面からの脱ガス量や、真空容器
1aの外部からの侵入ガス量が多い状態となっている。The difference between the pressure inside the vacuum vessel measured by the pressure measuring means 3 after the lapse of the unit time and the theoretical pressure inside the vacuum vessel after the lapse of the unit time becomes a positive value because the pressure after the lapse of the unit time This is because the pressure inside the vacuum vessel measured by the pressure measuring means 3 is larger than the theoretical pressure inside the vacuum vessel, which means that the amount of degassed and / or invaded gas is larger.
If the value of the abnormal gas amount that has become substantially constant exceeds the second normal / abnormal judgment value, the vacuum device 1 may, for example, remove the amount of degas from the wall surface in the vacuum vessel 1a or the vacuum vessel 1a. There is a large amount of gas entering from the outside.
【0112】したがって、真空装置1は、異常判定手段
8が、異常ガス量のモル数があらかじめ設定してある第
二の正常異常判定値を上回った場合に、脱ガス量及び/
又は侵入ガス量に関する異常と判定するので、早期に異
常検出を行うことができ、異常があるにもかかわらず、
真空引きしようとする徒労を回避することができる。な
お、同図においては、30000secまで、真空装置
1を作動させているが、実作業においては、異常ガス量
のモル数が第二の正常異常判定値を上回ったところで、
真空装置1を停止して原因対策を行うことができる。Therefore, when the abnormality determining means 8 determines that the number of moles of the abnormal gas exceeds the second normal abnormality determination value set in advance, the vacuum apparatus 1 sets the degassing amount and / or
Or, since it is determined that there is an abnormality related to the amount of intruding gas, abnormality detection can be performed at an early stage.
Efforts to evacuate can be avoided. Although the vacuum device 1 is operated up to 30,000 seconds in FIG. 3, in actual work, when the number of moles of the abnormal gas amount exceeds the second normal abnormality determination value,
It is possible to stop the vacuum device 1 and take measures against the cause.
【0113】また、ベーキング開始から異常ガス量がほ
ぼ変化しなくなるまでの第一の時間区間において、異常
ガス量の最小値が、あらかじめ設定した第一の正常異常
判定値より大きくなり、脱ガス量の異常と判定されなか
った場合であって、異常ガス量がほぼ変化しなくなって
からベーキング終了までの第二の時間区間において、異
常ガス量の値が、あらかじめ設定した第二の正常異常判
定値より大きくなったときは、通常、排気異常の原因を
真空系のシール不良(微小リークによる侵入ガス量の不
良)と特定できるので、原因調査を容易に行なうことが
できる。In the first time interval from the start of baking until the abnormal gas amount hardly changes, the minimum value of the abnormal gas amount becomes larger than the first normal abnormality judgment value set in advance, and the degassing amount becomes smaller. In the case where it is not determined that the abnormality is abnormal, in the second time interval from the time when the abnormal gas amount hardly changes until the end of baking, the value of the abnormal gas amount is the second normal abnormality determination value set in advance. When it becomes larger, normally, the cause of the exhaust abnormality can be specified as a vacuum system sealing defect (defective intrusion gas amount due to minute leak), so that the cause investigation can be easily performed.
【0114】また、第一の時間区間において、異常ガス
量の最小値が、あらかじめ設定した第一の正常異常判定
値より小さくなり、脱ガス量の異常と判定された場合
や、脱ガス量の異常と判定されていないが、異常ガス量
の最小値が小さく、第一の正常異常判定値に近いような
場合は、第二の時間区間において、真空容器1aの内部
壁面に存在する気体が多くなるので、排気異常の原因を
脱ガス量の異常と特定できる場合がある。なお、異常ガ
ス量の値が、第二の正常異常判定値より大きくなったと
きは、脱ガス量及び侵入ガス量の不良として特定できる
場合があることは、勿論である。In the first time interval, the minimum value of the abnormal gas amount becomes smaller than the first normal abnormality determination value set in advance, and it is determined that the degas amount is abnormal. If it is not determined to be abnormal, but the minimum value of the abnormal gas amount is small and close to the first normal abnormality determination value, in the second time interval, the gas present on the inner wall surface of the vacuum vessel 1a increases. Therefore, the cause of the exhaust abnormality may be specified as the abnormality of the degassing amount in some cases. When the value of the abnormal gas amount becomes larger than the second normal / abnormal judgment value, it is needless to say that there may be a case where the abnormal gas amount can be specified as a defect of the degassing amount and the intrusion gas amount.
【0115】次に、第三の時間区間における異常判定方
法を、図面を参照して説明する。図4は、第三の時間区
間における第一の異常判定図を説明するための概略図を
示している。同図において、横軸をベーキング開始から
の時間(sec)とし、縦軸を異常ガス量算出手段7に
よって算出された異常ガス量(同図において、モル数に
換算して表示している。)の累積値とし、正常時一例お
よび異常時一例の累積モル数(累積異常ガス量)の推移
を示している。なお、この累積モル数の推移は、例示で
ある。Next, a method of determining abnormality in a third time section will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is a schematic diagram illustrating a first abnormality determination diagram in a third time section. In the figure, the horizontal axis is the time (sec) from the start of baking, and the vertical axis is the amount of abnormal gas calculated by the abnormal gas amount calculating means 7 (in the figure, the number of moles is displayed). The transition of the accumulated mole number (accumulated abnormal gas amount) in one example in a normal state and one example in an abnormal state is shown. The transition of the cumulative mole number is an example.
【0116】第三の時間区間、すなわち、同図におい
て、ベーキングOFF時から目標真空度に到達するまで
の区間において、正常時における、異常ガス量算出手段
7が算出した累積異常ガス量(累積モル数)は、ベーキ
ングOFF時から低下する。つまり、真空装置1は、ベ
ーキングがOFFされると、真空容器1a内の壁面温度
が低下し、真空容器1a内に残っている気体が壁面に再
吸着されるので、累積モル数が、ベーキングOFF時か
ら低下する。In the third time section, that is, in the section from the time of baking OFF to the time of reaching the target degree of vacuum in the same figure, the cumulative abnormal gas amount (cumulative Number) decreases from the time of baking OFF. That is, when the baking is turned off, the temperature of the wall surface in the vacuum vessel 1a decreases, and the gas remaining in the vacuum vessel 1a is re-adsorbed on the wall face. Decreases from time to time.
【0117】これに対し、ベーキングOFF時から累積
モル数が下がらない場合は、たとえば、ベーキングをO
FFしたにもかからず、ベーキングヒータ13への通電
が遮断されずに、真空容器1a内の壁面温度が低下せ
ず、真空容器1a内に残っている気体が壁面に再吸着さ
れないために、脱ガス異常が発生している場合や、ある
いは、真空系のシール不良(微小リークによる侵入ガス
量の不良)が発生している場合である。On the other hand, if the cumulative number of moles does not decrease from the time of baking OFF, for example, baking is
In spite of the FF, the power supply to the baking heater 13 is not interrupted, the wall surface temperature in the vacuum container 1a does not decrease, and the gas remaining in the vacuum container 1a is not re-adsorbed to the wall surface. This is the case where a degassing abnormality has occurred, or a case where a vacuum-based sealing defect (defective intrusion gas amount due to minute leak) has occurred.
【0118】したがって、異常判定手段8は、第三の正
常異常判定基準として、ベーキング終了(OFF)後、
異常ガス量の累積値が下がらないと、脱ガス量及び/又
は侵入ガス量の異常と判定する。このようにすると、ベ
ーキング終了後において、たとえば、ベーキングヒータ
にもとづく脱ガス量の異常や、微小リークによる真空容
器の外部からの侵入ガス量の異常を検出することがで
き、排気異常の原因調査を容易に行なうことができる。Therefore, the abnormality judging means 8 sets the third normal abnormality judgment criterion after the completion of baking (OFF).
If the cumulative value of the abnormal gas amount does not decrease, it is determined that the amount of degassing and / or the amount of intruding gas is abnormal. In this way, after the baking is completed, for example, it is possible to detect an abnormality in the amount of degassing based on the baking heater or an abnormality in the amount of gas entering from outside the vacuum vessel due to a minute leak, and to investigate the cause of the exhaust abnormality. It can be done easily.
【0119】また、通常、ベーキングヒータ13のオン
オフ制御の信頼性が高いことを考慮すると、異常判定手
段8は、第二の時間区間において、排気異常の原因が、
侵入ガス量の不良によるものか否かを確認するために、
ベーキングヒータ13を一時的にオフして、微小リーク
による侵入ガス量の異常のないことを確認することがで
きる。In consideration of the fact that the reliability of the on / off control of the baking heater 13 is usually high, the abnormality determining means 8 determines that the cause of the exhaust abnormality in the second time interval is as follows.
In order to confirm whether or not this is due to a defect in the amount of intruding gas,
By turning off the baking heater 13 temporarily, it is possible to confirm that there is no abnormality in the amount of intruding gas due to a minute leak.
【0120】また、図5は、第三の時間区間における第
二の異常判定図を説明するための概略図を示している。
同図において、横軸をベーキング開始からの時間(se
c)とし、縦軸を異常ガス量算出手段7によって算出さ
れた異常ガス量(同図において、モル数に換算して表示
している。)とし、正常時一例および異常時一例のモル
数(異常ガス量)の推移を示している。なお、このモル
数の推移は、例示である。FIG. 5 is a schematic diagram for explaining a second abnormality determination diagram in a third time section.
In the figure, the horizontal axis represents time (se) from the start of baking.
c), and the vertical axis is the abnormal gas amount calculated by the abnormal gas amount calculating means 7 (in the figure, converted to the number of moles and displayed). Over time). This transition of the number of moles is an example.
【0121】第三の時間区間、すなわち、同図におい
て、ベーキングOFF時から目標真空度に到達するまで
の区間において、正常時における、異常ガス量算出手段
7が算出した異常ガス量(モル数)は、ベーキングOF
F時から低下し、その後増加し、ほぼ一定の値となる。
つまり、真空装置1は、ベーキングがOFFされ、真空
容器1a内に残っている気体が壁面に再吸着されると、
異常ガス量(モル数)がほぼ一定の値となる。In the third time section, that is, in the section from the time of baking OFF to the time of reaching the target degree of vacuum in the same figure, the abnormal gas amount (molar number) calculated by the abnormal gas amount calculating means 7 in a normal state. Is baking OF
It decreases from the time of F, then increases and becomes a substantially constant value.
That is, when the baking is turned off and the gas remaining in the vacuum vessel 1a is re-adsorbed to the wall surface,
The amount of abnormal gas (number of moles) becomes a substantially constant value.
【0122】これに対し、異常ガス量(モル数)が、ベ
ーキングOFF時から低下し、その後増加し、さらに、
ほぼ一定の値とならずに増加する場合は、真空系のシー
ル不良(微小リークによる侵入ガス量の不良)が発生し
ている場合である。On the other hand, the amount of abnormal gas (number of moles) decreased from the time of baking OFF, increased thereafter, and further increased.
The case where the value increases without being substantially constant is a case where a vacuum seal failure (defective intrusion gas amount due to a minute leak) has occurred.
【0123】したがって、異常判定手段8は、第四の正
常異常判定基準として、ベーキングOFF後から目標真
空度に到達するまでの時間区間において、異常ガス量が
ほぼ一定とならず増加すると、侵入ガス量の異常と判定
する。このようにすると、ベーキングOFFから目標真
空度に到達するまでの時間区間において、たとえば、真
空系のシール不良にもとづく侵入ガス量を検出すること
ができ、排気異常の原因調査を容易に行なうことができ
る。Therefore, as a fourth normal abnormality determination criterion, the abnormality determining means 8 determines whether the amount of the invading gas increases when the amount of abnormal gas increases rather than becoming substantially constant during the time interval from baking OFF to reaching the target vacuum degree. It is determined that the amount is abnormal. In this way, for example, during the time interval from baking OFF to reaching the target degree of vacuum, it is possible to detect, for example, the amount of invasive gas based on a vacuum system sealing defect, and to easily investigate the cause of the exhaust abnormality. it can.
【0124】次に、圧力補正値算出手段9は、ベーキン
グを開始してから所定時間経過した後の、単位時間経過
ごとの時刻における異常ガス量が、ベーキング終了時刻
まで変化しないものと仮定して、上記単位時間経過ごと
の時刻からベーキング終了時刻までは、上記単位時間経
過ごとの時刻における異常ガス量を、単位時間ごとの圧
力補正値として算出する。Next, the pressure correction value calculating means 9 assumes that the abnormal gas amount at the time of each unit time elapse after a predetermined time has elapsed from the start of baking does not change until the baking end time. From the time at which the unit time elapses to the baking end time, the abnormal gas amount at the time at which the unit time elapses is calculated as a pressure correction value per unit time.
【0125】また、圧力補正値算出手段9は、ベーキン
グ終了時刻から目標真空度に到達する時刻までは、あら
かじめ算出され記憶されているベーキング終了時刻から
単位時間ごとに算出された異常ガス量を当該ベーキング
終了時刻における異常ガス量で割り、さらに、上記単位
時間経過ごとの時刻における異常ガス量をかけた値を、
単位時間ごとの圧力補正値として算出する。The pressure correction value calculating means 9 calculates the abnormal gas amount calculated per unit time from the baking end time calculated and stored in advance from the baking end time to the time when the target degree of vacuum is reached. A value obtained by dividing by the abnormal gas amount at the baking end time and further multiplying the abnormal gas amount at the time of each unit time elapse,
It is calculated as a pressure correction value for each unit time.
【0126】次に、目標真空度到達時間予測手段10
は、上記単位時間経過ごとの時刻における、真空容器1
a内壁面のガス放出量,真空ポンプ12の排気速度,真
空ポンプ12の排気限界圧力,真空容器1a内壁面から
の脱ガス量,真空容器1aの容積,及び,圧力補正値算
出手段9によって算出した単位時間ごとに算出される圧
力補正値にもとづいて、上記単位時間経過ごとの時刻に
おける真空容器1a内圧力を初期圧力として単位時間経
過後の予測圧力を予測し、さらに、当該予測した予測圧
力を初期圧力として、次の単位時間後の予測圧力を予測
する計算を繰り返し、当該繰り返し計算により予測され
た予測圧力が目標真空度に到達する時刻を算出し、上記
単位時間経過ごとの時刻から目標真空度に到達する時刻
までの時間を、目標真空度到達時間として予測し、上記
到達する時刻及び/又は到達する時刻までの時間を表示
手段11に出力する。Next, the target vacuum degree arrival time prediction means 10
Is the vacuum vessel 1 at each time the unit time has passed.
a The amount of gas released from the inner wall surface, the pumping speed of the vacuum pump 12, the limit pressure of the vacuum pump 12, the amount of degassing from the inner wall surface of the vacuum vessel 1a, the volume of the vacuum vessel 1a, and the pressure correction value calculation means 9 Based on the pressure correction value calculated for each unit time, a predicted pressure after a lapse of a unit time is predicted using the pressure in the vacuum vessel 1a at each time of the unit time as an initial pressure, and the predicted pressure With the initial pressure as the initial pressure, the calculation for predicting the predicted pressure after the next unit time is repeated, the time at which the predicted pressure predicted by the repetitive calculation reaches the target vacuum degree is calculated, and the target time is calculated from the time for each elapse of the unit time. The time to reach the degree of vacuum is predicted as the target time to reach the degree of vacuum, and the time to reach and / or the time to reach the time is output to the display means 11. .
【0127】また、目標真空度到達時間予測手段10
は、ベーキング終了時刻を自動的に変更して、当該変更
されたベーキング終了時刻に対して、目標真空度到達時
間を予測し、当該目標真空度到達時間の最も短いベーキ
ング終了時刻を、最適ベーキング終了時刻として選択す
る構成とするとよく、このようにすると、最も短い時間
で目標真空度に到達するように、ベーキング終了時刻を
シミュレーションすることができる。Further, the target vacuum degree arrival time prediction means 10
Automatically changes the baking end time, predicts the target vacuum degree reaching time with respect to the changed baking end time, and determines the shortest baking end time with the target vacuum degree reaching time as the optimal baking end time. It is preferable that the time is selected as the time. In this case, the baking end time can be simulated so that the target degree of vacuum is reached in the shortest time.
【0128】また、目標真空度到達時間予測手段10
は、予定された真空引き終了時刻における予測圧力を算
出することもでき、このようにすると、真空引きの途中
の段階で、このまま真空引きを続けた場合、予定された
真空引き終了時刻における真空度を予測圧力から予測す
ることができる。Further, the target vacuum arrival time prediction means 10
Can also calculate the predicted pressure at the scheduled evacuation end time. In this way, if evacuation is continued in the middle of evacuation, the degree of vacuum at the evacuation end time is estimated. Can be predicted from the predicted pressure.
【0129】また、表示手段11は、たとえば、圧力測
定手段3により測定された真空容器内圧力と、理論圧力
予測手段6によって算出した単位時間後の真空容器内理
論圧力と、異常ガス量算出手段7によって算出された異
常ガス量と、異常判定手段8によって判定した判定結果
と、目標真空度到達時間予測手段10により算出した最
適ベーキング終了時刻,予測圧力及び目標真空度到達時
間などを、グラフ、数値、文字などで表示する。The display means 11 displays, for example, the pressure inside the vacuum vessel measured by the pressure measuring means 3, the theoretical pressure inside the vacuum vessel after a unit time calculated by the theoretical pressure predicting means 6, and the abnormal gas amount calculating means. 7 is a graph showing the abnormal gas amount calculated by 7, the determination result determined by the abnormality determining means 8, the optimal baking end time, the predicted pressure, and the target vacuum degree reaching time calculated by the target vacuum degree reaching time predicting means 10. Display with numerical values, characters, etc.
【0130】このように、本発明における真空装置は、
真空容器の真空排気中に、異常脱ガスの発生やシール不
良による真空容器の外部からのガスの侵入といった異常
を検知して、異常の原因を効率良く調査するとともに、
目標真空度に到達するまでの時間を予測し、また、短時
間で目標真空度に到達させるためのベーキング時間の最
適化を図ることができる。また、真空ポンプ12がクラ
イオポンプの場合には、(2)式を用いて目標真空度到
達時間を算出するとよく、このようにすると、目標真空
度到達時間を精度良く算出することができる。As described above, the vacuum device of the present invention
During vacuum evacuation of the vacuum vessel, abnormalities such as the occurrence of abnormal degassing or intrusion of gas from outside the vacuum vessel due to poor sealing are detected, and the cause of the abnormality is efficiently investigated.
It is possible to predict the time required to reach the target degree of vacuum, and to optimize the baking time to reach the target degree of vacuum in a short time. If the vacuum pump 12 is a cryopump, the target vacuum arrival time may be calculated using the equation (2). In this case, the target vacuum arrival time can be calculated with high accuracy.
【0131】また、この真空装置1は、上記構成に限定
するものではなく、たとえば、理論圧力予測手段6にお
いて、誤差は生じるものの、真空容器1a内の壁面温度
および真空容器1a内の気体温度を測定しないで、一定
値としておき、単位時間後の真空容器内理論圧力を予測
することができる。また、目標真空度到達時間予測手段
10において、誤差は生じるものの、真空容器1a内の
壁面温度、真空容器1a内の気体温度を測定しないで、
一定値としておき、単位時間経過後の予測圧力を算出す
ることができる。The vacuum apparatus 1 is not limited to the above configuration. For example, although an error occurs in the theoretical pressure predicting means 6, the wall temperature in the vacuum vessel 1a and the gas temperature in the vacuum vessel 1a are controlled. It is possible to predict the theoretical pressure in the vacuum vessel after a unit time by not measuring but keeping a constant value. In the target vacuum degree reaching time prediction means 10, although an error occurs, the wall temperature in the vacuum vessel 1a and the gas temperature in the vacuum vessel 1a are not measured.
With a fixed value, a predicted pressure after a lapse of a unit time can be calculated.
【0132】また、この真空装置1は、理論圧力予測手
段6が、真空ポンプ12としてクライオポンプ以外のポ
ンプを使用した場合であっても、単位時間経過後の真空
容器内理論圧力算出式のクライオポンプ項を、使用する
真空ポンプの項に置きかえることにより、どのような真
空ポンプに対しても単位時間経過後の真空容器内理論圧
力を予測することができる。また、同様に、目標真空度
到達時間予測手段10が、真空ポンプ12としてクライ
オポンプ以外のポンプを使用した場合であっても、単位
時間経過後の真空容器内理論圧力算出式のクライオポン
プ項を、使用する真空ポンプの項に置きかえることによ
り、どのような真空ポンプに対しても単位時間後の予測
圧力を算出することができる。Further, even if the theoretical pressure predicting means 6 uses a pump other than a cryopump as the vacuum pump 12, the vacuum apparatus 1 uses the cryogenic pressure calculation formula for calculating the theoretical pressure in the vacuum vessel after a unit time has elapsed. By replacing the pump term with the term of the vacuum pump to be used, it is possible to predict the theoretical pressure inside the vacuum vessel after a unit time has elapsed for any vacuum pump. Similarly, even when the target vacuum degree reaching time prediction means 10 uses a pump other than a cryopump as the vacuum pump 12, the target cryopump term of the theoretical pressure calculation formula in the vacuum vessel after the elapse of the unit time is obtained. By substituting the term of the vacuum pump to be used, it is possible to calculate a predicted pressure after a unit time for any vacuum pump.
【0133】[真空装置の真空度制御方法]また、本発
明は、真空装置の真空度制御方法としても有効であり、
上記構成の真空装置を稼働させる真空度制御方法につい
て、図面を参照して説明する。図6は、本発明における
真空装置の真空度制御方法を説明するための概略タイム
チャート図を示している。また、図7は、本発明におけ
る真空装置の真空度制御方法を説明するための概略フロ
ーチャート図を示している。[Vacuum Degree Control Method of Vacuum Apparatus] The present invention is also effective as a vacuum degree control method of a vacuum apparatus.
A method of controlling the degree of vacuum for operating the vacuum device having the above configuration will be described with reference to the drawings. FIG. 6 is a schematic time chart for explaining the method of controlling the degree of vacuum of the vacuum apparatus according to the present invention. FIG. 7 is a schematic flowchart for explaining the method of controlling the degree of vacuum of the vacuum apparatus according to the present invention.
【0134】図6において、先ず、真空度制御装置2が
電源ONされ、続いて、データ入力が行われる。ここ
で、入力されるデータは、真空容器1aの容積などのデ
ータ,真空ポンプ12の種類や性能などのデータ,ベー
キング開始時刻と終了時刻,目標真空度,真空引き予定
終了時刻,第一の正常異常判定値,第二の正常異常判定
値,あらかじめ算出されたベーキング終了時刻における
異常ガス量,当該ベーキング終了時刻から単位時間ごと
に算出された異常ガス量などである。In FIG. 6, first, the power of the vacuum control device 2 is turned on, and subsequently, data input is performed. Here, the input data includes data such as the volume of the vacuum vessel 1a, data such as the type and performance of the vacuum pump 12, baking start time and end time, target degree of vacuum, scheduled evacuation end time, and first normal time. An abnormality determination value, a second normal abnormality determination value, an abnormal gas amount at a previously calculated baking end time, an abnormal gas amount calculated per unit time from the baking end time, and the like.
【0135】次に、真空ポンプ12がONされ、真空容
器1aの真空引きが開始され、続いて、任意時刻T0に
おいて、理論圧力予測手段6及び異常ガス量算出手段7
が、異常ガス量の算出を開始し、単位時間経過ごとに異
常ガス量を算出し続ける。[0135] Next, the vacuum pump 12 is turned ON, the start evacuation of the vacuum vessel 1a is followed at any time T 0, the theoretical pressure prediction means 6 and the abnormal gas amount calculating means 7
Starts calculating the amount of abnormal gas and continues to calculate the amount of abnormal gas every unit time.
【0136】ここで、上記単位時間経過ごとに異常ガス
量を算出し続ける方法は、図7に示すように、真空度制
御装置2が、単位時間n−1における処理を開始する
(ステップS1)。そして、理論圧力予測手段6は、圧
力測定手段3から圧力値P(n−1)を取得し(ステッ
プS2)、続いて、壁面温度測定手段4から壁面温度T
h(n−1)を取得し(ステップS3)、さらに、気体
温度測定手段5から気体温度Tg(n−1)を取得し
(ステップS4)する。次に、理論圧力予測手段6は、
単位時間nの予測圧力P′(n)を算出し、さらに、メ
モリに保存する(ステップS5)。Here, in the method of continuously calculating the abnormal gas amount every time the unit time elapses, as shown in FIG. 7, the vacuum control device 2 starts the process at the unit time n-1 (step S1). . Then, the theoretical pressure predicting means 6 acquires the pressure value P (n-1) from the pressure measuring means 3 (step S2), and subsequently obtains the wall temperature T from the wall temperature measuring means 4.
h (n-1) is obtained (step S3), and further, the gas temperature Tg (n-1) is obtained from the gas temperature measuring means 5 (step S4). Next, the theoretical pressure prediction means 6
The predicted pressure P '(n) for the unit time n is calculated and further stored in the memory (step S5).
【0137】次に、単位時間n−1から、単位時間が経
過して、単位時間nとなると、真空度制御装置2は、単
位時間nにおける処理を開始する(ステップS11)。
そして、理論圧力予測手段6は、圧力測定手段3から圧
力値P(n)を取得し(ステップS12)、続いて、壁
面温度測定手段4から壁面温度Th(n)を取得し(ス
テップS13)、さらに、気体温度測定手段5から気体
温度Tg(n)を取得し(ステップS14)する。次
に、理論圧力予測手段6は、単位時間n+1の予測圧力
P′(n+1)を算出し、さらに、メモリに保存する
(ステップS15)。続いて、異常ガス量算出手段7
は、予測圧力P′(n)と圧力値P(n)から異常ガス
量Px(n)を算出する(ステップS16)。Next, when the unit time elapses from the unit time n-1 and reaches the unit time n, the vacuum control device 2 starts the processing in the unit time n (step S11).
Then, the theoretical pressure predicting unit 6 acquires the pressure value P (n) from the pressure measuring unit 3 (step S12), and subsequently acquires the wall surface temperature Th (n) from the wall surface temperature measuring unit 4 (step S13). Further, a gas temperature Tg (n) is obtained from the gas temperature measuring means 5 (step S14). Next, the theoretical pressure predicting means 6 calculates a predicted pressure P '(n + 1) for the unit time n + 1, and further stores it in the memory (step S15). Subsequently, the abnormal gas amount calculating means 7
Calculates an abnormal gas amount P x (n) from the predicted pressure P ′ (n) and the pressure value P (n) (step S16).
【0138】次に、真空度制御装置2は、圧力補正値算
出手段9が、異常ガス量算出手段7から異常ガス量Px
(n)を入力し、圧力補正値を算出する(ステップS1
7)。ここで、圧力補正値の算出方法は、真空引きの区
間により異なっている。続いて、目標真空度到達時間予
測手段10により、単位時間n+1以降の予測圧力を予
測する(ステップS18)。そして、表示手段11が、
予測圧力を結果表示する(ステップS20)。Next, in the vacuum control device 2, the pressure correction value calculating means 9 sends the abnormal gas amount Px
(N) is input to calculate a pressure correction value (step S1).
7). Here, the method of calculating the pressure correction value differs depending on the section of evacuation. Subsequently, the predicted pressure after the unit time n + 1 is predicted by the target degree of vacuum arrival time prediction means 10 (step S18). And the display means 11
The predicted pressure is displayed as a result (step S20).
【0139】また、異常判定手段8は、異常ガス量算出
手段7から異常ガス量Px(n)を入力し、上述した第
一、第二及び第三の時間区間におけるそれぞれの異常判
定方法によって、異常判定する(ステップS19)。そ
して、表示手段11が、異常判定結果を結果表示する
(ステップS20)。Further, the abnormality determining means 8 receives the abnormal gas amount Px (n) from the abnormal gas amount calculating means 7 and calculates the abnormal gas amount Px (n) by the above-described abnormality determining method in the first, second and third time intervals. An abnormality is determined (step S19). Then, the display unit 11 displays the result of the abnormality determination (step S20).
【0140】次に、単位時間nから単位時間が経過し
て、単位時間n+1となると、真空度制御装置2は、単
位時間n+1における処理を開始する(ステップS2
1)。そして、理論圧力予測手段6は、圧力測定手段3
から圧力値P(n+1)を取得し(ステップS22)、
続いて、壁面温度測定手段4から壁面温度Th(n+
1)を取得し(ステップS23)、さらに、気体温度測
定手段5から気体温度Tg(n+1)を取得し(ステッ
プS24)する。次に、理論圧力予測手段6は、単位時
間n+2の予測圧力P′(n+2)を算出し、さらに、
メモリに保存する(ステップS25)。続いて、異常ガ
ス量算出手段7は、予測圧力P′(n+1)と圧力値P
(n+1)から異常ガス量Px(n+1)を算出する
(ステップS26)。Next, when the unit time elapses from the unit time n and reaches the unit time n + 1, the vacuum control device 2 starts processing in the unit time n + 1 (step S2).
1). Then, the theoretical pressure predicting means 6 includes the pressure measuring means 3
Pressure value P (n + 1) is obtained from (step S22),
Subsequently, the wall surface temperature Th (n +
1) is obtained (step S23), and the gas temperature Tg (n + 1) is obtained from the gas temperature measuring means 5 (step S24). Next, the theoretical pressure predicting means 6 calculates a predicted pressure P ′ (n + 2) for the unit time n + 2,
The data is stored in the memory (step S25). Subsequently, the abnormal gas amount calculating means 7 calculates the predicted pressure P ′ (n + 1) and the pressure value P
The abnormal gas amount P x (n + 1) is calculated from (n + 1) (step S26).
【0141】次に、真空度制御装置2は、圧力補正値算
出手段9が、異常ガス量算出手段7から異常ガス量Px
(n+1)を入力し、圧力補正値を算出する(ステップ
S27)。ここで、圧力補正値の算出方法は、真空引き
の区間により異なっている。続いて、目標真空度到達時
間予測手段10により、単位時間n+2以降の予測圧力
を予測する(ステップS28)。そして、表示手段11
が、予測圧力を結果表示する(ステップS30)。Next, in the vacuum control device 2, the pressure correction value calculating means 9 sends the abnormal gas amount P x
(N + 1) is input, and a pressure correction value is calculated (step S27). Here, the method of calculating the pressure correction value differs depending on the section of evacuation. Subsequently, the predicted pressure after the unit time n + 2 is predicted by the target degree of vacuum arrival time prediction means 10 (step S28). And display means 11
Displays the predicted pressure as a result (step S30).
【0142】また、異常判定手段8は、異常ガス量算出
手段7から異常ガス量Px(n+1)を入力し、上述し
た第一、第二及び第三の時間区間におけるそれぞれの異
常判定方法によって、異常判定する(ステップS2
9)。そして、表示手段11が、異常判定結果を結果表
示する(ステップS30)。このように、真空度制御装
置2は、単位時間経過ごとに(単位時間n−1→単位時
間n→単位時間n+1→…)異常ガス量を算出し続け
る。Further, the abnormality determining means 8 receives the abnormal gas amount P x (n + 1) from the abnormal gas amount calculating means 7 and performs the above-described abnormality determining method in the first, second and third time sections. Is determined (Step S2
9). Then, the display means 11 displays the result of the abnormality determination (step S30). In this manner, the vacuum control device 2 continues to calculate the abnormal gas amount every unit time (unit time n−1 → unit time n → unit time n + 1 →...).
【0143】次に、異常判定手段8の異常ガス量の異常
判定方法について、図6を参照して説明する。異常判定
手段8は、上述したように、異常ガス量算出手段7によ
り算出した異常ガス量を用いて異常判定を行う。Next, a method of determining an abnormal gas amount by the abnormality determining means 8 will be described with reference to FIG. As described above, the abnormality determination unit 8 performs the abnormality determination using the abnormal gas amount calculated by the abnormal gas amount calculation unit 7.
【0144】ここで、異常判定手段8は、異常ガス量算
出手段7が異常ガス量の算出を開始すると、ベーキング
開始から異常ガス量算出手段7によって算出された異常
ガス量が変化しなくなるまでの第一の時間区間,異常ガ
ス量算出手段7によって算出された異常ガス量が変化し
なくなってからベーキング終了までの第二の時間区間,
ベーキング終了から目標真空度に到達するまでの第三の
時間区間に分け、それぞれの時間区間において、あらか
じめ入力された第一の正常異常判定値,第二の正常異常
判定値,第三及び第四の正常異常判定基準にもとづい
て、異常判定を行う。Here, when the abnormal gas amount calculating means 7 starts calculating the abnormal gas amount, the abnormal judging means 8 operates from the start of baking until the abnormal gas amount calculated by the abnormal gas amount calculating means 7 does not change. A first time interval, a second time interval from the time when the abnormal gas amount calculated by the abnormal gas amount calculating means 7 does not change to the end of baking,
It is divided into a third time interval from the end of baking to reaching the target vacuum degree, and in each time interval, a first normal abnormality judgment value, a second normal abnormality judgment value, a third normal Abnormality is determined based on the normal / abnormality determination standard.
【0145】また、圧力補正値算出手段9は、ベーキン
グ開始後であって、異常ガス量算出手段7によって算出
された異常ガス量がほぼ変化しなくなるある時刻Tnか
ら、圧力補正値を算出する。[0145] The pressure correction value calculating means 9, even after baking start, from time T n which abnormal gas quantity calculated is not substantially changed by the abnormal gas amount calculating means 7 calculates the pressure correction value .
【0146】ここで、圧力補正値算出手段9は、ベーキ
ングを開始してから所定時間経過した後の、単位時間経
過ごとの時刻(Tn+3)における異常ガス量(Q
n+3)が、ベーキング終了時刻まで変化しないものと
仮定して、つまり、ベーキングを開始して所定時間経過
後のある時刻(Tn)から、単位時間経過ごとの時刻
(T n+3)における異常ガス量(Qn+3)が、上記
単位時間経過ごとの時刻(T n+3)からベーキング終
了時刻まで変化しないものと仮定して、上記単位時間経
過ごとの時刻(Tn+3)からベーキング終了時刻まで
は、上記単位時間経過ごとの時刻(Tn+3)における
異常ガス量(Qn+3)を、単位時間ごとの圧力補正値
として算出する。Here, the pressure correction value calculating means 9 is a
Unit time after a predetermined time has passed since the start of
Time of every passing (Tn + 3Abnormal gas volume (Q)
n + 3) Does not change until the baking end time
Assuming, that is, a certain amount of time has elapsed since baking started
Some time later (Tn) To the time per unit time
(T n + 3Abnormal gas volume (Q)n + 3) But above
The time (T n + 3) To finish baking
Assuming that it does not change until the
Time of every passing (Tn + 3) To baking end time
Is the time (Tn + 3In)
Abnormal gas volume (Qn + 3) Is the pressure compensation value per unit time
Is calculated as
【0147】なお、同図において、たとえば、現時点か
ら一つの単位時間が経過したときは、単位時間経過ごと
の時刻は、Tn+4(図示せず)となり、単位時間経過
ごとの時刻(Tn+4)からベーキング終了時刻まで
は、単位時間経過ごとの時刻(Tn+4)における異常
ガス量(Qn+4)を、単位時間ごとの圧力補正値とし
て算出する。In the figure, for example, when one unit time has elapsed from the present time, the time for each elapse of the unit time is T n + 4 (not shown), and the time for each elapse of the unit time (T n + 4 ) From the time t to the baking end time, the abnormal gas amount (Q n + 4 ) at the time (T n + 4 ) every unit time has been calculated as a pressure correction value per unit time.
【0148】また、圧力補正値算出手段9は、ベーキン
グ終了時刻から目標真空度に到達する時刻までは、あら
かじめ算出され記憶されているベーキング終了時刻から
単位時間ごとに算出された異常ガス量(Qm1,
Qm2,Qm3…)を当該ベーキング終了時刻における
異常ガス量(Qm0)で割り、さらに、上記単位時間経
過ごとの時刻Tn+3における異常ガス量Qn+3をか
けた値、すなわち、Qn+3×(Qm1/Qm0),Q
n+3×(Qm2/Qm0),Qn+3×(Qm3/Q
m0)…を単位時間ごとの圧力補正値として算出する。
つまり、この圧力補正値は、あらかじめ算出され記憶さ
れている、ベーキング終了時刻から任意の単位時間が経
過した時刻Tmにおける異常ガス量Qmに比例する。From the baking end time to the time when the target degree of vacuum is reached, the pressure correction value calculating means 9 calculates the abnormal gas amount (Q) calculated per unit time from the previously calculated and stored baking end time. m1 ,
Q m2 , Q m3 ...) is divided by the abnormal gas amount (Q m0 ) at the baking end time, and further multiplied by the abnormal gas amount Q n + 3 at the time T n + 3 for each unit time, that is, Q n + 3 × ( Qm1 / Qm0 ), Q
n + 3 × (Q m2 / Q m0 ), Q n + 3 × (Q m3 / Q
m0 ) are calculated as pressure correction values per unit time.
That is, the pressure correction value is previously calculated and stored, any unit time baking end time is proportional to the abnormal gas amount Q m at the time Tm has elapsed.
【0149】次に、目標真空度到達時間予測手段10
は、単位時間経過ごとの時刻(Tn+ 3)における、真
空容器1a内壁面のガス放出量,真空ポンプ12の排気
速度,真空ポンプ12の排気限界圧力,真空容器1a内
壁面からの脱ガス量,真空容器1aの容積,及び,圧力
補正値算出手段9によって算出した単位時間ごとに算出
される圧力補正値にもとづいて、単位時間経過ごとの時
刻(Tn+3)における真空容器内圧力を初期圧力とし
て単位時間経過後の予測圧力を予測し、さらに、当該算
出した予測圧力を初期圧力として、次の単位時間後の予
測圧力を予測する計算を繰り返し、当該繰り返し計算に
より算出された予測圧力が目標真空度に到達する時刻を
算出し、単位時間経過ごとの時刻(Tn+3)から目標
真空度に到達する時刻までの時間を、目標真空度到達時
間として予測する。Next, the target vacuum arrival time prediction means 10
Are the amount of gas released from the inner wall surface of the vacuum vessel 1a, the exhaust speed of the vacuum pump 12, the limit pressure of exhaustion of the vacuum pump 12, and the amount of degassing from the inner wall surface of the vacuum vessel 1a at the time ( Tn + 3 ) every unit time. , The volume of the vacuum container 1a, and the pressure correction value calculated for each unit time calculated by the pressure correction value calculation means 9, the pressure in the vacuum container at the time (T n + 3 ) at each unit time has elapsed. The predicted pressure after the elapse of the unit time is predicted as the initial pressure, and further, the calculation for predicting the predicted pressure after the next unit time is repeated using the calculated predicted pressure as the initial pressure, and the predicted pressure calculated by the repeated calculation is the target pressure. The time to reach the degree of vacuum is calculated, and the time from the time (T n + 3 ) at each unit time elapse to the time to reach the target vacuum degree is predicted as the target vacuum degree time I do.
【0150】このように、真空容器における真空度制御
方法によれば、真空容器の真空排気中に、異常脱ガスの
発生やシール不良による真空容器の外部からのガスの侵
入といった異常を検知して、異常の原因を効率良く調査
するとともに、目標真空度に到達するまでの時間を予測
し、また、短時間で目標真空度に到達させるためのベー
キング時間の最適化を図ることができる。As described above, according to the method for controlling the degree of vacuum in the vacuum vessel, during the evacuation of the vacuum vessel, abnormalities such as occurrence of abnormal degassing or intrusion of gas from outside the vacuum vessel due to poor sealing are detected. In addition, the cause of the abnormality can be efficiently investigated, the time required to reach the target vacuum degree can be predicted, and the baking time for reaching the target vacuum degree in a short time can be optimized.
【0151】[真空装置の真空度制御プログラム]ま
た、本発明は、真空装置の真空度制御プログラムとして
も有効であり、本発明における真空度制御プログラム
は、上述した真空度制御装置2に各処理を実行させる。
つまり、真空度制御プログラムは、真空容器内理論圧力
を予測し、異常ガス量を算出し、排気異常を判定する異
常判定処理を行うとともに、圧力補正値を算出し、目標
真空度到達時間を予測する目標真空度到達時間予測処理
を行うことができる。[Vacuum Degree Control Program for Vacuum Apparatus] The present invention is also effective as a vacuum degree control program for a vacuum apparatus. Is executed.
In other words, the vacuum degree control program predicts the theoretical pressure in the vacuum vessel, calculates an abnormal gas amount, performs an abnormality determination process for determining an exhaust abnormality, calculates a pressure correction value, and predicts a target vacuum degree arrival time. Target vacuum degree reaching time prediction processing can be performed.
【0152】つまり、異常判定処理及び目標真空度到達
時間予測処理は、制御プログラムと真空度制御装置2と
が協働した真空装置1により実行される。具体的には、
真空度制御プログラムは、理論圧力予測手段6に真空容
器内理論圧力を予測させる手順と、異常ガス量算出手段
7に異常ガス量を算出させる手順と、異常判定手段8に
排気異常を判定させる手順と、圧力補正値算出手段9に
圧力補正値を予測させる手順と、目標真空度到達時間予
測手段10に目標真空度到達時間を予測させる手順と、
表示手段11に真空容器1a内の真空状態に関する情報
を表示させる手順とを実行させる構成としてある。That is, the abnormality determination processing and the target vacuum degree arrival time prediction processing are executed by the vacuum apparatus 1 in which the control program and the vacuum degree controller 2 cooperate. In particular,
The degree of vacuum control program includes a procedure for causing the theoretical pressure predicting means 6 to predict the theoretical pressure in the vacuum vessel, a procedure for causing the abnormal gas amount calculating means 7 to calculate an abnormal gas amount, and a procedure for causing the abnormal determining means 8 to determine exhaust abnormality. A procedure for causing the pressure correction value calculating means 9 to predict the pressure correction value, a procedure for causing the target vacuum degree reaching time predicting means 10 to predict the target vacuum degree reaching time,
And a procedure for causing the display means 11 to display information on the vacuum state in the vacuum vessel 1a.
【0153】このように、真空装置の真空度制御プログ
ラムは、真空容器の真空排気中に、異常脱ガスの発生や
シール不良による真空容器の外部からのガスの侵入とい
った異常を検知して、異常の原因を効率良く調査すると
ともに、目標真空度に到達するまでの時間を予測し、ま
た、短時間で目標真空度に到達させるためのベーキング
時間の最適化を図ることができる。As described above, the vacuum degree control program of the vacuum apparatus detects abnormalities such as occurrence of abnormal degassing or intrusion of gas from the outside of the vacuum container due to poor sealing during the evacuation of the vacuum container, In addition to efficiently examining the cause, the time required to reach the target vacuum degree can be predicted, and the baking time for reaching the target vacuum degree in a short time can be optimized.
【0154】なお、この真空度制御プログラムは、コン
ピュータのROMに記憶される他、コンピュータ読み取
り可能な記録媒体、例えば、外部記憶装置及び可搬記録
媒体等に格納することができる。ここで、外部記憶装置
とは、磁気ディスク等の記録媒体を内蔵し、情報処理装
置11に外部接続される記憶増設装置をいう。一方、可
搬記録媒体とは、記録媒体駆動装置(ドライブ装置)に
装着でき、かつ、持ち運び可能な記録媒体であって、た
とえば、CD−ROM、フレキシブルディスク、メモリ
カード、光磁気ディスク等をいう。The vacuum control program can be stored not only in the ROM of the computer but also in a computer-readable recording medium such as an external storage device and a portable recording medium. Here, the external storage device refers to a storage expansion device that incorporates a recording medium such as a magnetic disk and is externally connected to the information processing device 11. On the other hand, a portable recording medium is a recording medium that can be mounted on a recording medium drive (drive device) and that is portable, such as a CD-ROM, a flexible disk, a memory card, and a magneto-optical disk. .
【0155】そして、記録媒体に記憶されたプログラム
は、コンピュータのRAMにロードされて、CPUによ
り実行される。この実行により、上述した真空度制御装
置2の各機能が実現される。さらに、コンピュータで制
御プログラムをロードする場合、他のコンピュータで保
有された制御プログラムを、通信回線を利用して自己の
有するRAMや外部記憶装置にダウンロードすることも
できる。Then, the program stored in the recording medium is loaded into the RAM of the computer and executed by the CPU. By this execution, each function of the above-described vacuum control device 2 is realized. When a control program is loaded by a computer, the control program held by another computer can be downloaded to its own RAM or external storage device using a communication line.
【0156】また、本発明の真空装置は、真空容器,こ
の真空容器の真空度を制御する真空度制御装置,真空容
器内の気体を排気する真空ポンプ,真空容器内の壁面を
加熱するベーキングヒータ,真空容器内の圧力を測定す
る圧力測定手段,真空容器内の壁面温度を測定する壁面
温度測定手段,及び真空容器内の気体温度を測定する気
体温度測定手段を備えた真空装置であって、上記請求項
16又は請求項17に記載の真空装置の真空度制御プロ
グラムを搭載した構成としてもよく、このように、真空
度制御プログラムを搭載した真空装置とすることによっ
て、異常ガス量にもとづいて、排気異常を検出すること
ができ、また、目標真空度到達時間を予測することがで
きる。Further, the vacuum apparatus of the present invention comprises a vacuum vessel, a vacuum control device for controlling the degree of vacuum in the vacuum vessel, a vacuum pump for exhausting gas in the vacuum vessel, and a baking heater for heating the wall surface in the vacuum vessel. A pressure measuring means for measuring a pressure in the vacuum vessel, a wall temperature measuring means for measuring a wall temperature in the vacuum vessel, and a gas temperature measuring means for measuring a gas temperature in the vacuum vessel, comprising: A vacuum device control program for the vacuum device according to claim 16 or 17 may be installed. In this way, by using a vacuum device having the vacuum control program installed, the vacuum device can be configured based on an abnormal gas amount. In addition, it is possible to detect an exhaust abnormality, and to predict a target vacuum degree reaching time.
【0157】なお、本発明の真空装置において、異常判
定手段が、異常ガス量の累積値にもとづいて、排気異常
を判定する真空度制御装置,異常判定手段が、真空引き
の各時間区間において、異なる異常判定方法により判定
する真空度制御装置,真空ポンプをクライオポンプとし
た真空度制御装置,圧力補正値を用いて、目標真空度到
達時間を算出する真空度制御装置,最適ベーキング終了
時刻として選択する真空度制御装置は、それぞれ単独で
実施することができるとともに、これらの組み合わせと
しても実施することができ、それぞれの効果を発揮する
ことができることは勿論である。また、真空装置として
説明したが、本発明は、真空装置の真空度制御方法及び
真空装置の真空度制御プログラムとしても、同様の効果
を発揮できることは勿論である。In the vacuum apparatus according to the present invention, the abnormality determining means determines the exhaustion abnormality based on the accumulated value of the abnormal gas amount. Vacuum control device that determines by different abnormality determination methods, vacuum control device using a vacuum pump as a cryopump, vacuum control device that calculates target vacuum arrival time using pressure correction value, selected as optimal baking end time The degree of vacuum control devices can be implemented independently of each other, and can also be implemented as a combination of these, and it goes without saying that the respective effects can be exhibited. Although the present invention has been described as a vacuum device, the present invention can, of course, exert the same effects as a vacuum degree control method for a vacuum device and a vacuum degree control program for a vacuum device.
【0158】[0158]
【発明の効果】以上のように、本発明における真空装
置,その真空度制御方法及び真空度制御プログラムによ
れば、真空容器の真空排気の途中で、真空容器の異常脱
ガスやシール不良による真空容器の外部からのガスの侵
入といった異常を判定することができ、異常脱ガスの発
生やガスの侵入といった異常を検知して、異常の原因を
効率良く調査することができる。また、真空装置,その
真空度制御方法及び真空度制御プログラムによれば、目
標真空度に到達するまでの時間を予測し、また、短時間
で目標真空度に到達させるためのベーキング時間の最適
化を図ることができる。As described above, according to the vacuum apparatus, the method of controlling the degree of vacuum, and the program for controlling the degree of vacuum according to the present invention, during the evacuation of the vacuum vessel, the vacuum caused by abnormal degassing of the vacuum vessel or defective sealing is caused. An abnormality such as gas intrusion from the outside of the container can be determined, and an abnormality such as occurrence of abnormal degassing or gas intrusion can be detected, and the cause of the abnormality can be efficiently investigated. Further, according to the vacuum apparatus, its degree of vacuum control method and the degree of vacuum control program, the time required to reach the target degree of vacuum is predicted, and the baking time for reaching the target degree of vacuum in a short time is optimized. Can be achieved.
【図1】図1は、本発明に係る真空装置の実施形態の基
本構成を説明するための概略ブロック図を示している。FIG. 1 is a schematic block diagram for explaining a basic configuration of an embodiment of a vacuum apparatus according to the present invention.
【図2】図2は、第一の時間区間における異常判定図を
説明するための概略図を示している。FIG. 2 is a schematic diagram for explaining an abnormality determination diagram in a first time section.
【図3】図3は、第二の時間区間における異常判定図を
説明するための概略図を示している。FIG. 3 is a schematic diagram for explaining an abnormality determination diagram in a second time section.
【図4】図4は、第三の時間区間における第一の異常判
定図を説明するための概略図を示している。FIG. 4 is a schematic diagram for explaining a first abnormality determination diagram in a third time section.
【図5】図5は、第三の時間区間における第二の異常判
定図を説明するための概略図を示している。FIG. 5 is a schematic diagram for explaining a second abnormality determination diagram in a third time section.
【図6】図6は、本発明における真空装置の真空度制御
方法を説明するための概略タイムチャート図を示してい
る。FIG. 6 is a schematic time chart for explaining a method of controlling the degree of vacuum of the vacuum apparatus according to the present invention.
【図7】図7は、本発明における真空装置の真空度制御
方法を説明するための概略フローチャート図を示してい
る。FIG. 7 is a schematic flowchart for explaining a method of controlling the degree of vacuum of the vacuum apparatus according to the present invention.
【図8】図8は、従来例における半導体製造装置用真空
脱ガス装置の概略構成図を示している。FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a vacuum degassing apparatus for a semiconductor manufacturing apparatus in a conventional example.
【図9】図9は、従来例における半導体製造装置用真空
脱ガス装置に使用する表示装置における表示画面の概略
拡大図を示している。FIG. 9 is a schematic enlarged view of a display screen of a display device used in a vacuum degassing device for a semiconductor manufacturing apparatus in a conventional example.
1 真空容器 1a 真空容器 2 制御装置 3 圧力測定手段 4 壁面温度測定手段 5 気体温度測定手段 6 理論圧力予測手段 7 異常ガス量算出手段 8 異常判定手段 9 圧力補正値算出手段 10 目標真空度到達時間予測手段 11 表示手段 12 真空ポンプ 13 ベーキングヒータ 101 真空脱ガス装置本体 102 真空容器 103 主ポンプ 104 補助ポンプ 105 バルブ 106 バルブ 107 被脱ガス部材 108 脱ガス電源装置 109 制御装置 111 表示装置 112 真空圧力の変化曲線 113 脱ガス電流の増加曲線 114 圧力センサ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vacuum container 1a Vacuum container 2 Controller 3 Pressure measuring means 4 Wall temperature measuring means 5 Gas temperature measuring means 6 Theoretical pressure predicting means 7 Abnormal gas amount calculating means 8 Abnormality judging means 9 Pressure correction value calculating means 10 Target vacuum arrival time Predicting means 11 Display means 12 Vacuum pump 13 Baking heater 101 Vacuum degassing device main body 102 Vacuum vessel 103 Main pump 104 Auxiliary pump 105 Valve 106 Valve 107 Degassing member 108 Degassing power supply 109 Control device 111 Display device 112 Vacuum pressure Change curve 113 Degassing current increase curve 114 Pressure sensor
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/3065 H01L 21/31 A 21/31 21/302 B Fターム(参考) 4K029 DA02 EA03 FA00 4K030 DA06 EA11 JA09 5F004 AA16 BC02 CA02 CA07 5F045 BB08 EG03 EG05 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 21/3065 H01L 21/31 A 21/31 21/302 BF Term (Reference) 4K029 DA02 EA03 FA00 4K030 DA06 EA11 JA09 5F004 AA16 BC02 CA02 CA07 5F045 BB08 EG03 EG05
Claims (18)
する真空度制御装置,前記真空容器内の気体を排気する
真空ポンプ,前記真空容器内の壁面を加熱するベーキン
グヒータ,前記真空容器内の圧力を測定する圧力測定手
段,前記真空容器内の壁面温度を測定する壁面温度測定
手段,及び前記真空容器内の気体温度を測定する気体温
度測定手段を備えた真空装置であって、 前記真空度制御装置が、 任意時刻から単位時間経過後の真空容器内理論圧力を予
測する理論圧力予測手段と、 前記任意時刻から単位時間経過後に前記圧力測定手段に
よって測定した真空容器内測定圧力と前記理論圧力予測
手段で予測した前記真空容器内理論圧力ととの差から、
異常ガス量を算出する異常ガス量算出手段と、 前記異常ガス量の異常を判定する異常判定手段とを具備
したことを特徴とする真空装置。1. A vacuum container, a vacuum control device for controlling the degree of vacuum of the vacuum container, a vacuum pump for exhausting gas in the vacuum container, a baking heater for heating a wall surface in the vacuum container, A vacuum measuring device for measuring the pressure of the vacuum vessel, a wall temperature measuring means for measuring a wall temperature in the vacuum vessel, and a gas temperature measuring means for measuring a gas temperature in the vacuum vessel; A degree control device, a theoretical pressure predicting means for predicting a theoretical pressure in the vacuum vessel after a lapse of a unit time from an arbitrary time, a measured pressure in the vacuum vessel measured by the pressure measuring means after a lapse of a unit time from the arbitrary time, and the theoretical From the difference from the theoretical pressure in the vacuum vessel predicted by pressure prediction means,
A vacuum apparatus comprising: an abnormal gas amount calculating unit that calculates an abnormal gas amount; and an abnormality determining unit that determines an abnormality of the abnormal gas amount.
における、前記真空容器内の壁面のガス放出量,前記圧
力測定手段によって測定された真空容器内圧力,前記真
空容器の容積,前記真空ポンプの排気速度,及び,前記
真空ポンプの排気限界圧力にもとづいて、前記任意時刻
から単位時間経過後の真空容器内理論圧力を予測するこ
とを特徴とする請求項1記載の真空装置。2. The method according to claim 1, wherein the theoretical pressure predicting means is configured to determine, at the arbitrary time, the amount of gas released from the wall surface in the vacuum vessel, the pressure inside the vacuum vessel measured by the pressure measuring means, the volume of the vacuum vessel, and the vacuum pump. 2. The vacuum apparatus according to claim 1, wherein a theoretical pressure in the vacuum vessel after a lapse of a unit time from the arbitrary time is predicted based on a pumping speed of the vacuum pump and a pumping limit pressure of the vacuum pump.
記真空容器内の壁面からの脱ガス量と前記真空容器の外
部からの侵入ガス量の和としたことを特徴とする請求項
1又は2記載の真空装置。3. The method according to claim 1, wherein the abnormal gas amount is a sum of a degas amount from a wall surface in the vacuum vessel per unit time and an intrusion gas amount from the outside of the vacuum vessel. 3. The vacuum apparatus according to 2.
もとづいて、前記脱ガス量及び/又は侵入ガス量の異常
を判定することを特徴とする請求項3記載の真空装置。4. The vacuum apparatus according to claim 3, wherein the abnormality determining means determines an abnormality in the degassing amount and / or the intruding gas amount based on the abnormal gas amount.
ら前記異常ガス量がほぼ変化しなくなるまでの時間区間
において、前記異常ガス量の値が、あらかじめ設定した
異常判定値より小さくなると、前記脱ガス量の異常と判
定することを特徴とする請求項4記載の真空装置。5. The abnormality determination means, when the value of the abnormal gas amount becomes smaller than a predetermined abnormality determination value in a time interval from the start of baking until the abnormal gas amount hardly changes, the degassing is performed. The vacuum apparatus according to claim 4, wherein it is determined that the amount is abnormal.
された後であって、前記異常ガス量がほぼ変化しなくな
ってからベーキング終了までの時間区間において、前記
異常ガス量の値が、あらかじめ設定した前記異常ガス量
の異常判定値より大きくなると、前記脱ガス量及び/又
は侵入ガス量の異常と判定することを特徴とする請求項
4又は5記載の真空装置。6. The abnormality determination means sets the value of the abnormal gas amount in advance in a time interval after the start of the baking and after the abnormal gas amount hardly changes until the end of the baking. The vacuum apparatus according to claim 4, wherein when the abnormal gas amount becomes larger than the abnormal determination value, the degas amount and / or the intruding gas amount are determined to be abnormal.
から目標真空度に到達するまでの時間区間において、前
記異常ガス量がほぼ一定値に収束しないで増加すると、
前記侵入ガス量の異常と判定することを特徴とする請求
項4〜6のいずれかに記載の真空装置。7. The abnormality judging means, when the abnormal gas amount increases without converging to a substantially constant value in a time interval from the end of baking to reaching a target vacuum degree,
The vacuum apparatus according to claim 4, wherein it is determined that the amount of the intruding gas is abnormal.
累積値にもとづいて、前記脱ガス量及び/又は侵入ガス
量の異常を判定することを特徴とする請求項3〜7のい
ずれかに記載の真空装置。8. The apparatus according to claim 3, wherein the abnormality determining means determines an abnormality in the degassing amount and / or the intruding gas amount based on a cumulative value of the abnormal gas amount. The vacuum apparatus according to claim 1.
後、前記異常ガス量の累積値が下がらないと、前記脱ガ
ス量及び/又は侵入ガス量の異常と判定することを特徴
とする請求項8記載の真空装置。9. The abnormality determining means determines that the degassing amount and / or the intruding gas amount is abnormal if the accumulated value of the abnormal gas amount does not decrease after the baking is completed. The vacuum device as described.
し、前記理論圧力が、下記式 【数1】 t:時間 P(t):時間tにおける真空容器内理論圧力 P0:時間t=0における圧力(任意時刻における圧力測
定手段によって測定された真空容器内圧力) Peq0:クライオポンプのクライオ面の圧力,気体温度
及びクライオ面温度から求められる定数(=気体種類と
ポンプとで決まる真空ポンプ排気限界係数) Sc:クライオポンプの排気速度係数(=定数) V:真空容器の容積 Cv:真空容器内壁面の表面積,気体分子の熱運動速
度,気体分子の真空容器内壁面における吸着時間,気体
分子の真空容器内壁面における付着確率,真空容器内壁
面の表面粗さ係数から求められる値(=気体の係数,気
体の温度,真空容器によって変わるガス放出係数) で求められ、前記理論圧力予測手段が、任意時刻におけ
る前記圧力測定手段からの真空容器内圧力を初期真空容
器内圧力としてP0に代入し、t時間後の真空容器内理論
圧力P(t)を計算することを特徴とする請求項1〜9のい
ずれかに記載の真空装置。10. The cryopump is used as the vacuum pump, and the theoretical pressure is calculated by the following equation. t: time P (t): theoretical pressure in the vacuum vessel at time t P 0 : pressure at time t = 0 (pressure in the vacuum vessel measured by pressure measuring means at an arbitrary time) P eq0 : pressure on the cryopump of the cryopump pressure, constant determined from the gas temperature and the cryo-surface temperature (= vacuum pumping limit coefficient determined by the gas type and pump) S c: pumping speed factor of the cryopump (= constant) V: the vacuum container volume C v: vacuum The value obtained from the surface area of the inner wall of the vessel, the thermal velocity of gas molecules, the adsorption time of gas molecules on the inner wall of the vacuum vessel, the probability of gas molecules adhering to the inner wall of the vacuum vessel, and the surface roughness coefficient of the inner wall of the vacuum vessel (= The gas pressure coefficient, the gas temperature, and the gas release coefficient that varies depending on the vacuum vessel. The vessel internal pressure is substituted into P 0 as an initial vacuum chamber pressure, vacuum device according to any one of claims 1 to 9, wherein calculating a time t after the vacuum vessel theoretical pressure P (t) .
過した後の、単位時間経過ごとの時刻からベーキング終
了時刻までは、前記単位時間経過ごとの時刻における異
常ガス量を、単位時間ごとの圧力補正値として算出し、
かつ、ベーキング終了時刻から目標真空度に到達する時
刻までは、あらかじめ算出され記憶されているベーキン
グ終了時刻から単位時間ごとに算出された異常ガス量を
当該ベーキング終了時刻における異常ガス量で割り、さ
らに、前記単位時間経過ごとの時刻における異常ガス量
をかけた値を、単位時間ごとの圧力補正値として算出す
る圧力補正値算出手段と、 前記単位時間経過ごとの時刻における、前記真空容器内
壁面のガス放出量,前記真空ポンプの排気速度,前記真
空ポンプの排気限界圧力,前記真空容器内壁面からの脱
ガス量,前記真空容器の容積,及び,前記圧力補正値算
出手段によって算出した単位時間ごとに算出される圧力
補正値にもとづいて、前記単位時間経過ごとの時刻にお
ける真空容器内圧力を初期圧力として単位時間経過後の
予測圧力を予測し、さらに、当該予測した予測圧力を初
期圧力として、次の単位時間後の予測圧力を予測する計
算を繰り返し、当該繰り返し計算により予測された予測
圧力が目標真空度に到達する時刻を算出し、前記単位時
間経過ごとの時刻から前記目標真空度に到達する時刻ま
での時間を、目標真空度到達時間として予測する目標真
空度到達時間予測手段とを有することを特徴とする請求
項1〜10のいずれかに記載の真空装置。11. From a time after each elapse of a unit time after a predetermined time has elapsed from the start of baking to a baking end time, the abnormal gas amount at the time of each elapse of the unit time is corrected for pressure by the unit time. Calculated as a value,
And, from the baking end time to the time to reach the target vacuum degree, the abnormal gas amount calculated per unit time from the previously calculated and stored baking end time is divided by the abnormal gas amount at the baking end time, and A pressure correction value calculation unit that calculates a value obtained by multiplying the abnormal gas amount at a time every unit time by a time as a pressure correction value per unit time; For each unit time calculated by the gas discharge amount, the pumping speed of the vacuum pump, the pumping limit pressure of the vacuum pump, the degassing amount from the inner wall surface of the vacuum vessel, the volume of the vacuum vessel, and the pressure correction value calculating means. Based on the pressure correction value calculated in the above, the pressure in the vacuum vessel at the time of each elapse of the unit time is set as the initial pressure for the unit time The predicted pressure after the passage of time is predicted, and the predicted pressure is predicted as the initial pressure, and the calculation for predicting the predicted pressure after the next unit time is repeated. A target vacuum degree arrival time predicting means for calculating a time of arrival, and estimating a time from the time of elapse of the unit time to the time of reaching the target vacuum degree as a target vacuum degree arrival time. The vacuum device according to any one of claims 1 to 10.
り、単位時間経過後の予測圧力が、下記式 【数2】 t:時間 P(t):時間tにおける予測圧力 P0:時間t=0における圧力(任意時刻における圧力測
定手段によって測定された真空容器内圧力) Peq0:クライオポンプのクライオ面の圧力,気体温度
及びクライオ面温度から求められる定数(=気体種類と
ポンプとで決まる真空ポンプ排気限界係数) Sc:クライオポンプの排気速度(=定数) V:真空容器の容積 Cv:真空容器内壁面の表面積,気体分子の熱運動速
度,気体分子の真空容器内壁面における吸着時間,気体
分子の真空容器内壁面における付着確率,真空容器内壁
面の表面粗さ係数から求められる値(=気体の係数,気
体の温度,真空容器によって変わるガス放出係数) Px(t):前記圧力補正値算出手段によって求めた圧力補
正値 で求められ、目標真空度到達時間予測手段が、繰り返し
計算における一回前の予測圧力P(t)をP0に代入し、t時
間後の予測圧力P(t)を計算することを特徴とする請求項
1〜11のいずれかに記載の真空装置。12. The vacuum pump is a cryopump, and a predicted pressure after a lapse of a unit time is expressed by the following equation: t: time P (t): predicted pressure at time t P 0 : pressure at time t = 0 (pressure in the vacuum vessel measured by pressure measuring means at an arbitrary time) P eq0 : pressure and gas on the cryopump surface of the cryopump Constant obtained from temperature and cryosurface temperature (= vacuum pump evacuation limit coefficient determined by gas type and pump) S c : Evacuation speed of cryo pump (= constant) V: Vacuum container volume C v : Vacuum container inner wall surface Surface area, thermal motion velocity of gas molecules, adsorption time of gas molecules on the inner wall of vacuum vessel, adhesion probability of gas molecules on the inner wall of vacuum vessel, value obtained from surface roughness coefficient of inner wall of vacuum vessel (= coefficient of gas, temperature of the gas, the gas discharge coefficient varies by vacuum container) P x (t): calculated in a pressure correction value obtained by said pressure correction value calculating means, the target degree of vacuum arrival time predicting means , Once before the predicted pressure P in the iterative calculation (t) is substituted into P 0, according to any one of claims 1 to 11, characterized in that to calculate the predicted pressure P after t time (t) Vacuum equipment.
前記ベーキング終了時刻を変更して、当該変更されたベ
ーキング終了時刻に対して、目標真空度到達時間を予測
し、当該目標真空度到達時間の最も短いベーキング終了
時刻を、最適ベーキング終了時刻として選択することを
特徴とする請求項11又は12記載の真空装置。13. The target vacuum degree arrival time predicting means,
The baking end time is changed, the target vacuum degree arrival time is predicted with respect to the changed baking end time, and the shortest baking end time with the target vacuum degree arrival time is selected as the optimum baking end time. 13. The vacuum apparatus according to claim 11, wherein:
御する真空度制御装置,前記真空容器内の気体を排気す
る真空ポンプ,前記真空容器内の壁面を加熱するベーキ
ングヒータ,前記真空容器内の圧力を測定する圧力測定
手段,前記真空容器内の壁面温度を測定する壁面温度測
定手段,及び前記真空容器内の気体温度を測定する気体
温度測定手段を備えた真空装置の真空度制御方法であっ
て、 前記真空度制御装置の理論圧力予測手段は、任意時刻か
ら単位時間経過後の真空容器内理論圧力を予測し、 前記真空度制御装置の異常ガス量算出手段は、前記任意
時刻から単位時間経過後に前記圧力測定手段によって測
定した真空容器内測定圧力と前記理論圧力予測手段で予
測した前記真空容器内理論圧力との差から、異常ガス量
を算出し、 前記真空度制御装置の異常判定手段は、前記異常ガス量
の異常を判定することを特徴とする真空装置の真空度制
御方法。14. A vacuum container, a vacuum control device for controlling the degree of vacuum of the vacuum container, a vacuum pump for exhausting gas in the vacuum container, a baking heater for heating a wall surface in the vacuum container, A pressure measuring means for measuring the pressure of the vacuum vessel, a wall temperature measuring means for measuring the wall temperature in the vacuum vessel, and a method for controlling the degree of vacuum of a vacuum apparatus comprising a gas temperature measuring means for measuring the gas temperature in the vacuum vessel. The theoretical pressure predicting means of the vacuum degree control device predicts a theoretical pressure in a vacuum vessel after a lapse of a unit time from an arbitrary time, and the abnormal gas amount calculating means of the vacuum degree control device calculates a unit pressure from the arbitrary time. Calculating an abnormal gas amount from a difference between a measured pressure in the vacuum vessel measured by the pressure measuring means after a lapse of time and a theoretical pressure in the vacuum vessel predicted by the theoretical pressure predicting means; A method for controlling the degree of vacuum of a vacuum device, wherein the abnormality determining means of the airiness control device determines an abnormality of the abnormal gas amount.
手段は、ベーキングを開始してから所定時間経過した後
の、単位時間経過ごとの時刻からベーキング終了時刻ま
では、前記単位時間経過ごとの時刻における異常ガス量
を、単位時間ごとの圧力補正値として算出し、かつ、ベ
ーキング終了時刻から目標真空度に到達する時刻まで
は、あらかじめ算出され記憶されているベーキング終了
時刻から単位時間ごとに算出された異常ガス量を当該ベ
ーキング終了時刻における異常ガス量で割り、さらに、
前記単位時間経過ごとの時刻における異常ガス量をかけ
た値を、単位時間ごとの圧力補正値として算出し、 前記真空度制御装置の目標真空度到達時間予測手段は、
前記単位時間経過ごとの時刻における、前記真空容器内
壁面のガス放出量,前記真空ポンプの排気速度,前記真
空ポンプの排気限界圧力,前記真空容器内壁面からの脱
ガス量,前記真空容器の容積,及び,前記圧力補正値算
出手段によって算出した単位時間ごとに算出される圧力
補正値にもとづいて、前記単位時間経過ごとの時刻にお
ける真空容器内圧力を初期圧力として単位時間経過後の
予測圧力を予測し、さらに、当該予測した予測圧力を初
期圧力として、次の単位時間後の予測圧力を予測する計
算を繰り返し、当該繰り返し計算により予測された予測
圧力が目標真空度に到達する時刻を算出し、前記単位時
間経過ごとの時刻から前記目標真空度に到達する時刻ま
での時間を、目標真空度到達時間として予測することを
特徴とする請求項14記載の真空装置の真空度制御方
法。15. The pressure correction value calculation means of the vacuum degree control device, wherein after the elapse of a predetermined time from the start of baking, from the time every unit time elapse to the baking end time, The abnormal gas amount at the time is calculated as a pressure correction value per unit time, and from the baking end time to the time when the target degree of vacuum is reached, is calculated per unit time from the previously calculated and stored baking end time. Divided abnormal gas amount by the abnormal gas amount at the baking end time,
The value obtained by multiplying the abnormal gas amount at the time of the elapse of the unit time is calculated as a pressure correction value for the unit time, and the target degree of vacuum arrival time prediction means of the vacuum degree control device is:
The amount of gas released from the inner surface of the vacuum vessel, the pumping speed of the vacuum pump, the exhaust pressure limit of the vacuum pump, the amount of degassing from the inner wall surface of the vacuum vessel, and the volume of the vacuum vessel at each time the unit time elapses Based on the pressure correction value calculated for each unit time calculated by the pressure correction value calculation means, the pressure inside the vacuum vessel at the time of each elapse of the unit time is set as the initial pressure, and the predicted pressure after the elapse of the unit time is calculated. Predicting, and further using the predicted pressure as the initial pressure, repeat the calculation of predicting the predicted pressure after the next unit time, and calculate the time at which the predicted pressure predicted by the repeated calculation reaches the target vacuum degree. And estimating a time from a time at which the unit time elapses to a time at which the target vacuum degree is reached as a target vacuum degree arrival time. 4 vacuum degree control method for a vacuum apparatus according.
御する真空度制御装置,前記真空容器内の気体を排気す
る真空ポンプ,前記真空容器内の壁面を加熱するベーキ
ングヒータ,前記真空容器内の圧力を測定する圧力測定
手段,前記真空容器内の壁面温度を測定する壁面温度測
定手段,及び前記真空容器内の気体温度を測定する気体
温度測定手段を備えた真空装置の真空度制御プログラム
であって、 任意時刻から単位時間経過後の真空容器内理論圧力を予
測する手順と、 前記任意時刻から単位時間経過後に前記圧力測定手段に
よって測定した真空容器内測定圧力と前記真空容器内理
論圧力との差から、異常ガス量を算出する手順と、 前記異常ガス量の異常を判定するする手順とを実行させ
るための真空装置の真空度制御プログラム。16. A vacuum container, a vacuum control device for controlling the degree of vacuum of the vacuum container, a vacuum pump for exhausting gas in the vacuum container, a baking heater for heating a wall surface in the vacuum container, Pressure measurement means for measuring the pressure of the vacuum vessel, wall temperature measurement means for measuring the wall temperature in the vacuum vessel, and a vacuum control program for a vacuum apparatus provided with gas temperature measurement means for measuring the gas temperature in the vacuum vessel. And a procedure for predicting the theoretical pressure in the vacuum vessel after a lapse of a unit time from an arbitrary time, and the measured pressure in the vacuum vessel and the theoretical pressure in the vacuum vessel measured by the pressure measuring means after a lapse of a unit time from the arbitrary time. And a procedure for calculating an abnormal gas amount based on the difference between the two, and a procedure for determining whether the abnormal gas amount is abnormal.
過した後の、単位時間経過ごとの時刻からベーキング終
了時刻までは、前記単位時間経過ごとの時刻における異
常ガス量を、単位時間ごとの圧力補正値として算出し、
かつ、ベーキング終了時刻から目標真空度に到達する時
刻までは、あらかじめ算出され記憶されているベーキン
グ終了時刻から単位時間ごとに算出された異常ガス量を
当該ベーキング終了時刻における異常ガス量で割り、さ
らに、前記単位時間経過ごとの時刻における異常ガス量
をかけた値を、単位時間ごとの圧力補正値として算出す
る手順と、 前記単位時間経過ごとの時刻における、前記真空容器内
壁面のガス放出量,前記真空ポンプの排気速度,前記真
空ポンプの排気限界圧力,前記真空容器内壁面からの脱
ガス量,前記真空容器の容積,及び,前記圧力補正値算
出手段によって算出した単位時間ごとに算出される圧力
補正値にもとづいて、前記単位時間経過ごとの時刻にお
ける真空容器内圧力を初期圧力として単位時間経過後の
予測圧力を予測し、さらに、当該予測した予測圧力を初
期圧力として、次の単位時間後の予測圧力を予測する計
算を繰り返し、当該繰り返し計算により予測された予測
圧力が目標真空度に到達する時刻を算出し、前記単位時
間経過ごとの時刻から前記目標真空度に到達する時刻ま
での時間を、目標真空度到達時間として予測する手順と
を実行させるための請求項16記載の真空装置の真空度
制御プログラム。17. After a predetermined time elapses from the start of baking, from the time every unit time elapse to the baking end time, the abnormal gas amount at the time every unit time elapse is corrected by the pressure correction per unit time. Calculated as a value,
And, from the baking end time to the time to reach the target vacuum degree, the abnormal gas amount calculated per unit time from the previously calculated and stored baking end time is divided by the abnormal gas amount at the baking end time, and Calculating a value obtained by multiplying the abnormal gas amount at each time unit time by a time as a pressure correction value per unit time; and The pumping speed of the vacuum pump, the pumping limit pressure of the vacuum pump, the degassing amount from the inner wall surface of the vacuum vessel, the volume of the vacuum vessel, and the unit time calculated by the pressure correction value calculating means. Based on the pressure correction value, the predicted pressure after the elapse of the unit time is set as the initial pressure with the pressure in the vacuum vessel at the time of the elapse of the unit time. Predict the force, furthermore, with the predicted pressure as the initial pressure, repeat the calculation to predict the predicted pressure after the next unit time, the time when the predicted pressure predicted by the repeated calculation reaches the target vacuum degree And estimating the time from the time of elapse of each unit time to the time of reaching the target vacuum degree as a target vacuum degree arrival time. program.
御する真空度制御装置,前記真空容器内の気体を排気す
る真空ポンプ,前記真空容器内の壁面を加熱するベーキ
ングヒータ,前記真空容器内の圧力を測定する圧力測定
手段,前記真空容器内の壁面温度を測定する壁面温度測
定手段,及び前記真空容器内の気体温度を測定する気体
温度測定手段を備えた真空装置であって、 上記請求項16又は請求項17に記載の真空装置の真空
度制御プログラムを搭載したことを特徴とする真空装
置。18. A vacuum container, a vacuum control device for controlling the degree of vacuum in the vacuum container, a vacuum pump for exhausting gas in the vacuum container, a baking heater for heating a wall surface in the vacuum container, Claims: 1. A vacuum apparatus comprising: a pressure measuring means for measuring a pressure of a gas; a wall temperature measuring means for measuring a wall temperature in the vacuum vessel; and a gas temperature measuring means for measuring a gas temperature in the vacuum vessel. A vacuum apparatus, wherein the vacuum control program for a vacuum apparatus according to claim 16 or 17 is installed.
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