JP2002236352A - Pellicle - Google Patents
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- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、露光原版上に設け
られるペリクルに関する。The present invention relates to a pellicle provided on an exposure original.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ＬＳＩなどの半導体装置、あるいは液晶
表示板などの製造においては、半導体ウェーハまたは液
晶原版に塗布されているレジストに光を照射して、露光
原版に形成されているパターンを転写する、いわゆる露
光工程があり、このとき用いられている露光原版をレチ
クルと称している。2. Description of the Related Art In the manufacture of a semiconductor device such as an LSI or a liquid crystal display panel, a resist applied to a semiconductor wafer or a liquid crystal master is irradiated with light to transfer a pattern formed on the exposure master. There is a so-called exposure step, and the exposure original used at this time is called a reticle.
【０００３】ところで、このレチクル上、特にレチクル
に形成されているパターン面にゴミが付着していると、
このゴミが光をさえぎり、転写したパターンが変形し
て、半導体装置や液晶表示板などの歩留まりを低下させ
てしまう。By the way, if dust adheres to the reticle, especially to the pattern surface formed on the reticle,
The dust blocks light, and the transferred pattern is deformed, thereby lowering the yield of semiconductor devices and liquid crystal display panels.
【０００４】ペリクルは、このようなレチクル上のごみ
による問題を解決するためのものであり、レチクルのパ
ターン面側にペリクル枠を設け、このペリクル枠によっ
てレチクル面から空間を空けて透明なペリクル膜を設け
たものである。The pellicle is provided to solve such a problem caused by dust on the reticle. A pellicle frame is provided on the pattern surface side of the reticle, and the pellicle frame leaves a space from the reticle surface to form a transparent pellicle film. Is provided.
【０００５】これにより、ごみなどがレチクルに直接付
着するのを防止し、もし、ペリクル面にごみなどが付着
した場合でも、露光の際には、フォーカスがパターンに
合わされるため、そこから距離が離れているペリクル膜
上のごみにはフォーカスがあわないため、極度に大きな
ごみを除いて、ごみによる露光不良を防止することがで
きるのである。This prevents dust and the like from directly adhering to the reticle. Even if dust and the like adhere to the pellicle surface, the focus is adjusted to the pattern at the time of exposure. Since the debris on the pellicle film which is far away is not focused, it is possible to prevent exposure failure due to the debris except for extremely large debris.
【０００６】従来、このようなペリクルは、たとえばニ
トロセルロース、酢酸セルロース、変性ポリビニルアル
コール、フッ素系ポリマーなどの透明な高分子素材から
なるペリクル膜を、レチクル表面から所定の空間を確保
するための、たとえばアルミニウム合金、ステンレス、
ポリエチレンなどからなるペリクル枠の上部に貼着する
ことにより形成している。Conventionally, such a pellicle has been used to secure a predetermined space from a reticle surface by forming a pellicle film made of a transparent polymer material such as nitrocellulose, cellulose acetate, modified polyvinyl alcohol, or a fluoropolymer. For example, aluminum alloy, stainless steel,
It is formed by sticking on the upper part of a pellicle frame made of polyethylene or the like.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ペリクルは、ペリクル膜として高分子素材を用いている
ため、ペリクルをつけた後のレチクルをハンドリングす
る際や、ペリクル膜上に乗っているごみをエアブローに
よって飛ばそうとするときなどに破れてしまうことがあ
る。このような場合に、破れてしまったペリクル膜がレ
チクルのパターン面に付着したり、あるいは、ペリクル
膜が破れた際に、ペリクル膜をペリクル枠に貼着するた
めの粘着剤が（または接着剤）が飛散してパターン面に
付着するといったことが起こる。However, since the conventional pellicle uses a polymer material as the pellicle film, the conventional pellicle is used for handling the reticle after the pellicle is attached or for removing dust on the pellicle film. It may be broken when trying to fly by air blow. In such a case, when the torn pellicle film adheres to the pattern surface of the reticle, or when the pellicle film is torn, an adhesive (or adhesive) for attaching the pellicle film to the pellicle frame is used. ) Scatter and adhere to the pattern surface.
【０００８】このため従来のペリクルでは、パターン面
に付着したペリクル膜や粘着剤などを除去する際に、レ
チクルのパターンに傷をつけてしまうおそれがあった。For this reason, in the conventional pellicle, when removing the pellicle film or the adhesive adhered to the pattern surface, the reticle pattern may be damaged.
【０００９】そこで、本発明の目的は、ペリクル膜が破
れた場合に、この破れたペリクル膜がレチクルに付着し
たり、ペリクル膜が破れた際に粘着材などが飛散してレ
チクルに付着したりしないようにしたペリクルを提供す
ることである。Therefore, an object of the present invention is to provide a pellicle film that is broken and adheres to the reticle when the pellicle film is broken, or an adhesive material or the like is scattered and adheres to the reticle when the pellicle film is broken. The purpose is to provide a pellicle that is not used.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、以下の
構成により達成される。The object of the present invention is achieved by the following constitution.
【００１１】（１）露光原版のパターン面側に設けられ
たペリクル枠と、前記ペリクル枠上部に貼着された第１
のペリクル膜と、前記第１のペリクル膜の上部に配設さ
れた第２のペリクル膜と、を有することを特徴とするペ
リクル。(1) A pellicle frame provided on the pattern surface side of the exposure original plate and a first pellicle frame adhered on the pellicle frame.
And a second pellicle film provided on the first pellicle film.
【００１２】（２）前記第２のペリクル膜は、前記第１
のペリクル膜に密着していることを特徴とする。(2) The second pellicle film is formed of the first pellicle film.
Characterized by being in close contact with the pellicle film.
【００１３】（３）前記第２のペリクル膜は、前記第１
のペリクル膜から空間を空けて配設されていることを特
徴とする。(3) The second pellicle film is formed of the first pellicle film.
Characterized by being arranged with a space from the pellicle film.
【００１４】（４）前記第２のペリクル膜は、前記第１
のペリクル膜上に設けられたペリクル枠に貼着されてい
ることを特徴とする。(4) The second pellicle film is formed of the first pellicle film.
Is attached to a pellicle frame provided on the pellicle film.
【００１５】（５）前記第２のペリクル膜は、前記第１
のペリクル膜を貼着した前記ペリクル枠より高く、かつ
外側に設けられたペリクル枠に貼着されていることを特
徴とする。(5) The second pellicle film is formed of the first pellicle film.
Characterized in that the pellicle film is attached to a pellicle frame provided on the outside and higher than the pellicle frame to which the pellicle film is attached.
【００１６】[0016]
【発明の実施の形態】以下添付した図面を参照して本発
明の一実施の形態を説明する。An embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
【００１７】＜第１の実施の形態＞図１は、本発明を適
用したペリクルの第１の実施の形態を説明するための図
面で、図１Ａは本実施の形態におけるペリクルを設けた
レチクルの斜視図であり、図１Ｂは図１Ａにおけるａ−
ａ線に沿う断面図である。<First Embodiment> FIG. 1 is a drawing for explaining a first embodiment of a pellicle to which the present invention is applied. FIG. 1A is a view showing a reticle provided with a pellicle according to the present embodiment. FIG. 1B is a perspective view, and FIG.
It is sectional drawing which follows the a line.
【００１８】本実施の形態におけるペリクル１は、レチ
クル５０のパターン５１形成面に、ペリクル枠１１を設
け、このペリクル枠１１上に第１のペリクル膜１２を貼
着し、さらにその上から第２のペリクル膜１４を貼着し
たものである。In the pellicle 1 of the present embodiment, a pellicle frame 11 is provided on the pattern 51 forming surface of the reticle 50, a first pellicle film 12 is adhered on the pellicle frame 11, and a second The pellicle film 14 of FIG.
【００１９】ペリクル枠１１への第１のペリクル膜の貼
着には、ペリクル枠１１上端部に粘着剤を塗布するか、
あるいは粘着テープを貼りつけ、その上から第１のペリ
クル膜１２を貼着している。When attaching the first pellicle film to the pellicle frame 11, an adhesive is applied to the upper end of the pellicle frame 11 or
Alternatively, an adhesive tape is stuck, and the first pellicle film 12 is stuck thereon.
【００２０】第２のペリクル膜１４は、第１のペリクル
膜１２の上のペリクル枠部分に、粘着剤を塗布するか、
あるいは粘着テープを貼りつけ、第１のペリクル膜１２
に対して、第２のペリクル膜１４が密着するように貼り
つけたものである。The second pellicle film 14 is formed by applying an adhesive to the pellicle frame on the first pellicle film 12 or
Alternatively, the first pellicle film 12
Is adhered so that the second pellicle film 14 is in close contact.
【００２１】このように、第１のペリクル膜１２上に、
さらに第２のペリクル膜１４を設けることで、たとえ
ば、このレチクル５０をハンドリングする際になどに、
上層にある第２のペリクル膜１４が破れても、第１のペ
リクル膜１２があるため、破れた第２のペリクル膜１４
がパターンに付着したり、粘着剤が飛散してレチクルに
付着したりするといったことを防止することができる。As described above, on the first pellicle film 12,
Further, by providing the second pellicle film 14, for example, when handling the reticle 50,
Even if the upper second pellicle film 14 is torn, the second pellicle film 14 is torn because of the first pellicle film 12.
Can be prevented from adhering to the pattern and the adhesive from scattering and adhering to the reticle.
【００２２】また、本実施の形態では、従来と同様に構
成されたペリクル枠１１と、第１のペリクル膜１２の上
に、さらに第２のペリクル膜１４を設けただけであるの
で、簡単に実施することができる。Further, in the present embodiment, the pellicle frame 11 and the first pellicle film 12, which are configured in the same manner as in the prior art, are provided only on the second pellicle film 14, so that the structure is simple. Can be implemented.
【００２３】＜第２の実施の形態＞図２は、本発明を適
用したペリクルの第２の実施の形態を説明するための図
面で、図２Ａは本実施の形態におけるペリクルを設けた
レチクルの斜視図であり、図２Ｂは図２Ａにおけるａ−
ａ線に沿う断面図である。<Second Embodiment> FIG. 2 is a drawing for explaining a second embodiment of a pellicle to which the present invention is applied, and FIG. 2A is a view of a reticle provided with a pellicle according to the present embodiment. FIG. 2B is a perspective view, and FIG.
It is sectional drawing which follows the a line.
【００２４】本実施の形態におけるペリクル２は、レチ
クル５０のパターン５１形成面に、第１のペリクル枠２
１を設け、このペリクル枠２１上に第１のペリクル膜２
２を貼着し、さらにその上に第２のペリクル枠２３を設
けて、このペリクル枠２３上に第２のペリクル膜２４を
貼着したものである。The pellicle 2 in the present embodiment has a first pellicle frame 2 on the surface of the reticle 50 on which the pattern 51 is formed.
1, a first pellicle film 2 is provided on the pellicle frame 21.
2 is adhered, a second pellicle frame 23 is further provided thereon, and a second pellicle film 24 is adhered on the pellicle frame 23.
【００２５】第１のペリクル枠２１への第１のペリクル
膜２２の貼着は、ペリクル枠２１上端部に粘着剤を塗布
するか、あるいは粘着テープを貼りつけ、その上から第
１のペリクル膜２２を貼着している。The first pellicle film 22 is adhered to the first pellicle frame 21 by applying an adhesive or an adhesive tape to the upper end of the pellicle frame 21 and then applying the first pellicle film from above. 22 is stuck.
【００２６】第２のペリクル膜２４は、第１のペリクル
膜２２の上の第１のペリクル枠部分に、粘着剤を塗布す
るか、あるいは粘着テープを貼りつけ、第２のペリクル
枠２３を貼りつけ、この第２のペリクル枠２３上に、粘
着剤を塗布するか、あるいは粘着テープを貼りつけて、
第２のペリクル膜２４を貼着している。The second pellicle film 24 is formed by applying an adhesive or attaching an adhesive tape to the first pellicle frame portion on the first pellicle film 22 and attaching the second pellicle frame 23. Attaching an adhesive or sticking an adhesive tape on the second pellicle frame 23,
The second pellicle film 24 is stuck.
【００２７】このように、第１のペリクル膜２２上に、
さらに第２のペリクル枠２３によって空間を空けて第２
のペリクル膜２４を設けることで、上層にある第２のペ
リクル膜２４が破れても、第１のペリクル膜２２がある
ため、破れた第２のペリクル膜２４がパターンに付着し
たり、粘着剤が飛散してレチクルに付着したりするとい
ったことを防止することができる。したがって、破れた
第２のペリクル膜を除去する際にパターンを傷つけてし
まうといったことを防止することができる。Thus, on the first pellicle film 22,
Further, a second pellicle frame 23 is used to separate
By providing the pellicle film 24 of the above, even if the second pellicle film 24 in the upper layer is torn, since the first pellicle film 22 is present, the torn second pellicle film 24 adheres to the pattern or the adhesive Can be prevented from scattering and attaching to the reticle. Therefore, it is possible to prevent the pattern from being damaged when removing the torn second pellicle film.
【００２８】また、本実施の形態では、第１のペリクル
膜２２と第２のペリクル膜２４との間に空間を空けてあ
るため、たとえばペリクル膜上のごみをエアブローによ
って飛ばす際に、エアが第１のペリクル膜２２に当たっ
て波打ったり、風圧によって変形したりすることがない
ので、もし、エアブローによってペリクル膜が破れてし
まうような場合でも、直接エアの当たる第２のペリクル
膜２４だけが破れることになり、確実に、ペリクル膜の
破れによるパターンへの付着などを防止することができ
る。Further, in the present embodiment, since a space is provided between the first pellicle film 22 and the second pellicle film 24, when dust on the pellicle film is blown off by air blow, for example, air is blown off. Since the first pellicle film 22 does not undulate or is deformed by wind pressure, even if the pellicle film is broken by air blow, only the second pellicle film 24 directly hit by air is broken. That is, it is possible to reliably prevent the pellicle film from adhering to the pattern due to the tearing.
【００２９】さらに、この空間があるために、ペリクル
付きレチクルをハンドリングしたときに引っ掛けた場合
でも、最上層の第２のペリクル膜２４のみが破れて、第
１のペリクル膜２２は残る可能性が高い。Furthermore, because of this space, even when the reticle with a pellicle is hooked when handled, there is a possibility that only the uppermost second pellicle film 24 is broken and the first pellicle film 22 remains. high.
【００３０】さらにまた、本実施の形態では、第１のペ
リクル枠２１と第１のペリクル膜２２、第２のペリクル
枠２３と第２のペリクル膜２４が、それぞれ１セットの
ペリクルを構成しているため、従来からあるペリクル枠
とペリクル膜よりなるペリクルを２段重ねすることで、
簡単に実施することができる。Further, in the present embodiment, the first pellicle frame 21 and the first pellicle film 22 and the second pellicle frame 23 and the second pellicle film 24 constitute one set of pellicles. Therefore, by stacking a pellicle consisting of a conventional pellicle frame and a pellicle film in two stages,
It can be easily implemented.
【００３１】ただし、露光装置の制約でペリクル膜まで
の高さに制限がある場合は、従来より低いペリクル枠を
用いる必要がある。However, when the height to the pellicle film is limited due to the limitation of the exposure apparatus, it is necessary to use a pellicle frame lower than the conventional one.
【００３２】＜第３の実施の形態＞図３は、本発明を適
用したペリクルの第３の実施の形態を説明するための図
面で、図３Ａは本実施の形態におけるペリクルを設けた
レチクルの斜視図であり、図３Ｂは図３Ａにおけるａ−
ａ線に沿う断面図である。<Third Embodiment> FIG. 3 is a drawing for explaining a third embodiment of a pellicle to which the present invention is applied. FIG. 3A shows a reticle provided with a pellicle according to the present embodiment. FIG. 3B is a perspective view, and FIG.
It is sectional drawing which follows the a line.
【００３３】本実施の形態におけるペリクル３は、レチ
クル５０のパターン５１形成面に、第１のペリクル枠３
１を設け、このペリクル枠３１上に第１のペリクル膜３
２を貼着し、さらにその外側に第１のペリクル枠３１よ
りも高い第２のペリクル枠３３を設けて第２のペリクル
膜３４を貼着したものである。The pellicle 3 according to the present embodiment has a first pellicle frame 3 on the surface of the reticle 50 on which the pattern 51 is formed.
The first pellicle film 3 is provided on the pellicle frame 31.
2 is attached, and a second pellicle frame 33 is attached to the outside of the second pellicle frame 33 by providing a second pellicle frame 33 higher than the first pellicle frame 31.
【００３４】第１のペリクル枠３１への第１のペリクル
膜３２の貼着には、第１のペリクル枠３１上端部に粘着
剤を塗布するか、あるいは粘着テープを貼りつけ、その
上から第１のペリクル膜３２を貼着している。To attach the first pellicle film 32 to the first pellicle frame 31, an adhesive is applied to the upper end of the first pellicle frame 31 or an adhesive tape is attached, and the first One pellicle film 32 is adhered.
【００３５】そして、この第１のペリクル枠３１の外側
に、第２のペリクル枠３３を設け、同様に、第２のペリ
クル枠３３上に粘着剤を塗布するか、あるいは粘着テー
プを貼りつけ、第２のペリクル膜３４を貼着する。A second pellicle frame 33 is provided outside the first pellicle frame 31. Similarly, an adhesive is applied to the second pellicle frame 33, or an adhesive tape is attached thereto. The second pellicle film 34 is attached.
【００３６】このように、第１のペリクル枠３１の外側
にそれよりも高い第２のペリクル枠３３を設けて、第１
のペリクル膜３２と第２のペリクル膜３４との間に空間
を空けることで、上層にある第２のペリクル膜３４が破
れても、第１のペリクル膜３２があるため、破れた第２
のペリクル膜３４がパターンに付着したり、粘着剤が飛
散してレチクルに付着したりするといったことを防止す
ることができる。したがって、破れた第２のペリクル膜
を除去する際にパターンを傷つけてしまうといったこと
を防止することができる。As described above, the second pellicle frame 33 higher than the first pellicle frame 31 is provided outside
By providing a space between the pellicle film 32 and the second pellicle film 34, even if the second pellicle film 34 in the upper layer is torn, the first pellicle film 32 is present.
The pellicle film 34 can be prevented from adhering to the pattern and the adhesive from scattering and adhering to the reticle. Therefore, it is possible to prevent the pattern from being damaged when removing the torn second pellicle film.
【００３７】また、本実施の形態でも前述の第２の実施
の形態と同様に、第１のペリクル膜３２と第２のペリク
ル膜３４との間に空間を空けてあるため、たとえばエア
ブローやハンドリングの際に、第１のペリクル膜３２が
破れることが少なく、確実に、ペリクル膜の破れによる
パターンへの付着などを防止することができる。Also, in the present embodiment, as in the above-described second embodiment, since a space is provided between the first pellicle film 32 and the second pellicle film 34, for example, air blowing or handling is performed. In this case, the first pellicle film 32 is less likely to be torn, and the adhesion of the pellicle film to the pattern due to the tearing can be reliably prevented.
【００３８】以上本実施の形態を説明したが、本発明
は、このような実施の形態に限定されるものではない。
たとえば、上述した実施の形態では、いずれも２枚のペ
リクル膜を設けたものであるが、本発明はさらに、複数
のペリクル膜を設けてもよい。たとえば、上述した第１
の実施の形態においては、３枚、４枚のペリクル膜をい
ずれも密着させて積層してもよく、第２の実施の形態に
おいては、ペリクル枠とペリクル膜よりなるセットを３
段、４段と積み重ねることにより実施してもよく、同様
に、第３の実施の形態においても、少しずつ背の高いペ
リクル枠を順次外側に配置してペリクル膜を複数枚設け
るようにするとよい。Although the present embodiment has been described above, the present invention is not limited to such an embodiment.
For example, in each of the above-described embodiments, two pellicle films are provided, but the present invention may further include a plurality of pellicle films. For example, the first
In the embodiment, three or four pellicle films may be laminated in close contact with each other. In the second embodiment, a set of a pellicle frame and
It may be carried out by stacking four or four steps. Similarly, in the third embodiment, a plurality of pellicle films may be provided by sequentially arranging tall pellicle frames outside gradually. .
【００３９】なお、このように複数枚のペリクル膜を設
ける場合には、露光装置の光源波長や光の強さに応じ
て、複数枚のペリクル膜の総厚さを露光に支障のないよ
うにペリクル膜の枚数を調整するとよい。When a plurality of pellicle films are provided as described above, the total thickness of the plurality of pellicle films is adjusted so as not to hinder the exposure according to the light source wavelength and the light intensity of the exposure apparatus. It is advisable to adjust the number of pellicle films.
【００４０】また、各実施の形態において用いられてい
るレチクルは、たとえば半導体装置製造工程や液晶表示
装置製造工程における露光工程に用いられる露光原版と
してのレチクルである。The reticle used in each of the embodiments is, for example, a reticle used as an exposure original used in an exposure step in a semiconductor device manufacturing process or a liquid crystal display device manufacturing process.
【００４１】[0041]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
露光原版の少なくともパターン面上に設けられたペリク
ル枠に貼着された第１のペリクル膜の上部に、さらに第
２のペリクル膜を設けたので、上層にある第２のペリク
ル膜が破れても、第１のペリクル膜によって、破れた第
２のペリクル膜がパターンに付着したり、粘着剤が飛散
してレチクルに付着したりするといったことを防止する
ことができる。したがって、破れた第２のペリクル膜を
除去する際に露光原版に形成されているパターンに傷つ
けてしまうようなおそれがない。As described above, according to the present invention,
Since the second pellicle film is further provided on the first pellicle film attached to the pellicle frame provided on at least the pattern surface of the exposure original, even if the second pellicle film in the upper layer is torn. The first pellicle film can prevent the torn second pellicle film from adhering to the pattern and the adhesive from scattering and adhering to the reticle. Therefore, there is no fear that the pattern formed on the exposure original is damaged when the torn second pellicle film is removed.
【００４２】また、本発明によれば、第１のペリクル膜
に第２のペリクル膜を密着させるようにすることで、従
来からあるペリクル枠とペリクル膜の上から、第２のペ
リクル膜を重ねるだけでよく、非常に簡単な構成で、ペ
リクル膜の破れによるパターン面へのペリクル膜の付着
を防止することができる。According to the present invention, the second pellicle film is brought into close contact with the first pellicle film, so that the second pellicle film is overlaid on the conventional pellicle frame and pellicle film. With a very simple configuration, it is possible to prevent the pellicle film from adhering to the pattern surface due to the tearing of the pellicle film.
【００４３】また、本発明によれば、第１のペリクル膜
に第２のペリクル膜の間に空間を空けることで、第２の
ペリクルが破れる際に、空間がある分第１のペリクル膜
が一緒に破れてしまうのを防ぐことが可能となり、確実
にペリクル膜の破れによるパターン面へのペリクル膜の
付着を防止することができる。Further, according to the present invention, by providing a space between the first pellicle film and the second pellicle film, when the second pellicle is broken, the first pellicle film is reduced by an amount corresponding to the space. It is possible to prevent the pellicle film from being broken together, and it is possible to reliably prevent the pellicle film from adhering to the pattern surface due to the tearing of the pellicle film.
【００４４】また、本発明によれば、第１のペリクル枠
と第１のペリクル膜の上に、第２のペリクル枠と第２の
ペリクル膜を乗せた構造としたので、同じ大きさのペリ
クル枠とペリクル膜よりなるペリクルを２段重ねするこ
とにより簡単に第１と第２のペリクル膜の間に空間を空
けることができる。Further, according to the present invention, since the second pellicle frame and the second pellicle film are placed on the first pellicle frame and the first pellicle film, the pellicles have the same size. By stacking the pellicle composed of the frame and the pellicle film in two stages, a space can be easily provided between the first and second pellicle films.
【００４５】また、本発明によれば、第１のペリクル膜
を貼着した第１のペリクル枠の外側に、この第１のペリ
クル枠よりも高い第２のペリクル枠を設けて第２のペリ
クル膜を貼着することとしたので、異なる大きさのペリ
クル枠を用いても簡単に第１と第２のペリクル膜の間に
空間を空けた構成とすることができる。Further, according to the present invention, a second pellicle frame is provided outside the first pellicle frame to which the first pellicle film is adhered, the second pellicle frame being higher than the first pellicle frame. Since the film is attached, even if pellicle frames of different sizes are used, it is possible to easily provide a configuration in which a space is provided between the first and second pellicle films.
【図１】 本発明を適用したペリクルの第１の実施の形
態を説明するための図面で、図１Ａはペリクルを設けた
レチクルの斜視図であり、図１Ｂは図１Ａにおけるａ−
ａ線に沿う断面図である。FIG. 1 is a drawing for explaining a first embodiment of a pellicle to which the present invention is applied. FIG. 1A is a perspective view of a reticle provided with a pellicle, and FIG.
It is sectional drawing which follows the a line.
【図２】 本発明を適用したペリクルの第２の実施の形
態を説明するための図面で、図２Ａはペリクルを設けた
レチクルの斜視図であり、図２Ｂは図２Ａにおけるａ−
ａ線に沿う断面図である。FIG. 2 is a drawing for explaining a second embodiment of a pellicle to which the present invention is applied, FIG. 2A is a perspective view of a reticle provided with a pellicle, and FIG.
It is sectional drawing which follows the a line.
【図３】 本発明を適用したペリクルの第３の実施の形
態を説明するための図面で、図３Ａはペリクルを設けた
レチクルの斜視図であり、図３Ｂは図３Ａにおけるａ−
ａ線に沿う断面図である。3A and 3B are drawings for explaining a third embodiment of a pellicle to which the present invention is applied, FIG. 3A is a perspective view of a reticle provided with a pellicle, and FIG.
It is sectional drawing which follows the a line.
１、２、３…ペリクル １１…ペリクル枠 １２、２２、３２…第１のペリクル膜 １４、２４、３４…第２のペリクル膜 ２１、３１…第１のペリクル枠 ２３、３３…第２のペリクル枠 ５０…レチクル ５１…パターン 1, 2, 3 pellicle 11 pellicle frame 12, 22, 32 first pellicle film 14, 24, 34 second pellicle film 21, 31 first pellicle frame 23, 33 second pellicle Frame 50: Reticle 51: Pattern
Claims (5)
リクル枠と、 前記ペリクル枠上部に貼着された第１のペリクル膜と、 前記第１のペリクル膜の上部に配設された第２のペリク
ル膜と、 を有することを特徴とするペリクル。1. A pellicle frame provided on a pattern surface side of an exposure original, a first pellicle film adhered on an upper portion of the pellicle frame, and a second pellicle film provided on an upper portion of the first pellicle film. A pellicle comprising: a pellicle film;
リクル膜に密着していることを特徴とする請求項１記載
のペリクル。2. The pellicle according to claim 1, wherein the second pellicle film is in close contact with the first pellicle film.
リクル膜から空間を空けて配設されていることを特徴と
する請求項１記載のペリクル。3. The pellicle according to claim 1, wherein the second pellicle film is provided with a space from the first pellicle film.
リクル膜上に設けられたペリクル枠に貼着されているこ
とを特徴とする請求項３記載のペリクル。4. The pellicle according to claim 3, wherein the second pellicle film is attached to a pellicle frame provided on the first pellicle film.
リクル膜を貼着した前記ペリクル枠より高く、かつ外側
に設けられたペリクル枠に貼着されていることを特徴と
する請求項３記載のペリクル。5. The pellicle frame according to claim 1, wherein the second pellicle film is higher than the pellicle frame to which the first pellicle film is bonded and is attached to a pellicle frame provided outside. 3. The pellicle according to 3.
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|---|---|---|---|
| JP2001034030A JP2002236352A (en) | 2001-02-09 | 2001-02-09 | Pellicle |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
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|---|---|
| JP2002236352A true JP2002236352A (en) | 2002-08-23 |
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| JP2001034030A Withdrawn JP2002236352A (en) | 2001-02-09 | 2001-02-09 | Pellicle |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002236352A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108873600A (en) * | 2017-05-15 | 2018-11-23 | Imec 非营利协会 | A kind of photo mask board system |
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-
2001
- 2001-02-09 JP JP2001034030A patent/JP2002236352A/en not_active Withdrawn
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