JP2002289515A - 製品の製造方法、露光装置の製造方法、露光装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 専用の大型の調整治具を用いることなく、効
率的に露光装置を製造する。 【解決手段】 露光光源１６からの露光光で、照明系Ｉ
Ｌ１，ＩＬ２を介してレチクルステージ系ＲＳＴに保持
されているレチクルＲ１を照明し、レチクルＲ１のパタ
ーンの像を投影光学系ＰＬを介してウエハステージ系Ｗ
ＳＴに保持されているウエハＷ１上に投影する露光装置
の製造方法である。第１の製造ラインにおいて、フレー
ムキャスタ２、本体支持部３、及び本体コラム５等から
なる本体モジュールの組立を行い、この本体モジュール
に照明系及び投影光学系ＰＬの搭載を行う。その後、別
の第２の製造ラインにおいて別の本体モジュールを用い
て組立調整されたステージモジュール（レチクルステー
ジ系ＲＳＴ及びウエハステージ系ＷＳＴ）を、その第１
の製造ラインの本体モジュールに搭載する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、モジュールを本体
に組み込む工程を有する製造ライン上での製品の製造方
法に関し、特に、例えば半導体素子、撮像素子（ＣＣＤ
等）、液晶表示素子、プラズマディスプレイ素子、又は
薄膜磁気ヘッド等のデバイスを製造するためのリソグラ
フィ工程でマスクパターンを基板上に転写する際に使用
される露光装置の製造方法に関する。更に本発明は、そ
の製造方法を用いて製造される露光装置、及びその露光
装置を用いるデバイス製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体素子等を製造するためのフォトリ
ソグラフィ工程で、マスクとしてのレチクル（又はフォ
トマスク等）のパターンを基板としてのウエハ（又はガ
ラスプレート等）上に転写するために、一括露光型（ス
テッパー型）又は走査露光型（ステップ・アンド・スキ
ャン方式等）の露光装置が使用されている。これらの露
光装置においては、益々微細化し、高集積化する半導体
素子に対応するために、露光波長がＫｒＦエキシマレー
ザの２４８ｎｍからＡｒＦエキシマレーザの１９３ｎｍ
やＦ₂ レーザの１５７ｎｍのような真空紫外域にまで短
波長化している。最近では、更に広い視野で０．６５を
超える程度の開口数が必要になって来ているために、投
影光学系がかなり大型化して来ている。なお、走査露光
型の露光装置においては、投影光学系の視野の最も広い
方向に直交する方向を走査方向とすることによって、投
影光学系の大型化を実用的な範囲に抑えて、必要な大き
さのショット領域への露光が可能となっている。

【０００３】また、従来の露光装置は一般に、定盤上に
箱型のコラムを設置して、そのコラムの中央部にウエハ
ステージ系を設置した後、そのコラムに投影光学系、レ
チクルステージ系、及び照明光学系等の各機構部を順次
積み上げるようにして組み込むことによって製造されて
いた。そして、各機構部を組み込む際に必要に応じて相
互の位置関係等をチェックするための計測を行い、この
計測結果に基づいて位置関係の調整等を行っていた。こ
の場合、ウエハステージ系やレチクルステージ系は、そ
の定盤が設置されている場所とは別の位置に配置された
専用の調整用治具上で予め大まかな組み立てが行われて
いた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記の如く従来の露光
装置は、各機構部を順次積み上げる積み上げ方式によっ
て製造されるとともに、ステージ系は専用の調整治具を
用いて予め組み立てが行われていた。これに関して、最
近の露光装置は、露光光源や投影光学系が大型化してい
るとともに、スループットを高めることも求められてい
るため、その投影光学系の稼働効率を高めるために、ウ
エハステージ系を２台の可動ステージを用いるダブル・
ステージ方式とすることが提案されている。この方式で
は、一方の可動ステージ上のウエハの露光中に他方の可
動ステージ上のウエハの交換やアライメントを行うこと
によって、スループットを高めることができる。同様
に、レチクルステージ側においても、例えば２枚のレチ
クルを交互に使用できるように、１台の可動ステージ上
に２枚のレチクルを保持できるダブル・ホルダ方式が採
用されつつある。なお、ダブル・ステージ方法は、例え
ば国際公開（ＷＯ）９８／２４１１５号、又は国際公開
（ＷＯ）９８／４０７９１号（対応する米国特許第６，
２６２，７９６号）などに開示され、ダブル・ホルダ方
法は、例えば特開平１０−２０９０８９号公報（対応す
る米国特許第６，３２７，０２２号）などに開示されて
いる。

【０００５】しかしながら、このようにウエハステージ
系やレチクルステージ系が大型化した状態で、従来のよ
うにステージ系を専用の調整治具を用いて組み立てるも
のとすると、その専用の調整治具が大型化してしまい、
露光装置の製造設備の設置面積が全体として広くなり過
ぎるという不都合がある。更に、露光装置の種々の機種
毎にそのような大型の専用の調整治具を用意するのは困
難でもあるとともに、仮にそのような専用の調整治具を
用意するものとすると、その作業のために露光装置の製
造効率が低下するという不都合もある。これに対して、
それらのステージ系を調整治具を用いることなくコラム
上で直接組み立てると照明系や投影系などの他の機構部
の調整や組み付け作業の妨げとなる。また、それらのス
テージ系は、露光装置に組み付ける前に単体として性能
評価する必要もある。このため、それらのステージ系
は、モジュールとして予め組み立てた上で、露光装置に
導入する必要があった。

【０００６】また、最近の露光装置は、露光精度（転写
忠実度、重ね合わせ精度等）を向上するために、振動の
影響をできるだけ軽減できる構造を採用することが求め
られている。特に、走査露光型の露光装置においては、
露光中にレチクルとウエハとが投影光学系の倍率を速度
比として走査されるため、その加減速等に生じる振動を
低減する必要がある。しかしながら、定盤上に各機構部
を順次積み上げるような構造の露光装置では、ステージ
系で発生する振動が相互に伝わり易いとともに、その振
動が投影光学系にも伝わり易いという不都合がある。

【０００７】そこで、露光装置については従来よりも振
動の影響を低減できる構造の開発が行われているが、こ
のような構造であっても、できるだけ高い製造効率で、
即ち全体として短時間に各露光装置を製造できることが
望ましい。本発明は斯かる点に鑑み、専用の大型の調整
治具を用いることなく、効率的に露光装置などの製品を
製造できる製造方法を提供することを第１の目的とす
る。

【０００８】更に本発明は、振動の影響を低減できる構
造の露光装置を効率的に製造できる露光装置の製造方法
を提供することを第２の目的とする。更に本発明は、そ
のような製造方法で製造するのに適した構造の露光装
置、及びこの露光装置を用いた高精度なデバイスの製造
方法を提供することをも目的とする。本発明の更に別の
目的は、モジュールを製品本体に組み付ける工程を有す
る製造ラインにおける作業効率及び生産性を向上させる
ことにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明による製品の製造
方法は、本体と第１モジュールとを含む製品を製造する
製造方法であって、複数のラインで、それぞれ、第１モ
ジュール（９１Ａ、９１Ｂ）を製造すること及び第１モ
ジュールを本体（９０Ａ，９０Ｂ）に組み付けることを
含み、それらの複数のラインのシーケンスが時間的にず
れており、一のラインで製造されたその第１モジュール
（９１Ａ）が別のラインに移送されて別のライン上で本
体（９０Ｂ）に組み付けられるものである。

【００１０】本発明の製造方法によると、第１モジュー
ルをライン外で製造する場合に比べて、製造スペースや
第１モジュール製造のための治具が不要となる。また、
本発明の製造方法は、最終製品の組立完成までに、所定
のモジュールを本体に好適な時期に導入し、又は取り外
す必要がある製造ラインに好適である。たとえば、半導
体の製造装置などの特定製品の製造ラインにおいては、
所定のモジュールの本体への導入を、他のモジュールの
組立又は本体への組み付けが完成するまでに、遅延させ
なければならない場合や、所定モジュールを一旦本体に
組み込んだ後に、他のモジュールや部品を本体に組み付
けるために、或いはそれらの特性調整のために、所定モ
ジュールを本体から取り外す必要のある場合がある。本
発明では、各ラインのシーケンスが時間的にずれて実行
されるので、一のラインで第１モジュールを本体に組み
込むことが要求されるタイミングに、別のラインで組み
立てられた第１モジュールがその一のラインに搬送され
てくる。このために、そのタイミングまでに一のライン
で行われる他のモジュールの製造や調整のような作業を
妨害することがない。さらに、複数のラインのシーケン
スの時間的ずれを適当な関係に調整することにより、複
数のラインによる製品の量産効率を一層向上させること
ができる。

【００１１】本発明において、複数のラインが、第１ラ
イン及び第２ラインを含み、第１及び第２ラインで、そ
れぞれ、第１モジュール（９１Ａ，９１Ｂ）を製造する
こと、第２モジュール（ＩＬ１，ＩＬ２）を製造するこ
と、及び第１モジュールを本体（９０Ａ，９０Ｂ）に組
み付けることが繰り返し行われ、第１ラインと第２ライ
ンのシークエンスが時間的にずれており、第２ラインて
製造された第１モジュール（９１Ｂ）が第１ラインに移
送されて第１ライン上で本体（９０Ａ）に組み付けら
れ、第１ラインで製造された第１モジュール（９１Ａ）
が第２ラインに移送されて第２ライン上で本体（９０
Ｂ）に組み付けられるようにしてもよい。

【００１２】上記方法において、一例として、その製品
は露光装置であり、その本体は露光装置の本体フレーム
てあり、その第１モジュールはステージ系であり、その
第２モジュールは照明系である。そのステージ系は、一
例として転写パターンを有する物体を移動するステージ
と被露光物体を移動するステージとを含む。この場合、
或る製造ラインの本体フレームをその所定の機構部の調
整治具として使用しているため、別途大型の専用調整治
具を用意する必要がなくなり、効率的に露光装置を製造
できる。特に、そのステージ系が例えばダブル・ホルダ
方式、又はダブル・ステージ方式である場合には、その
ステージ系が大型化するため、本発明によって専用調整
治具を設ける必要がなくなると、製造設備等のコストを
大きく低減できる。

【００１３】本明細書において、「製造ライン」とはコ
ンベア方式て部品、モジュール、アッセンブリなどを作
業サイトに対して移動させながら組立や組み付け作業を
行う作業エリアのみならず、一の区画又は複数の区画で
各部品の組み立てや他の部品や本体への組み付け作業を
手作業又は機械若しくはロボットを用いて行う作業エリ
アも含む概念である。例えば、露光装置の製造ラインと
は、露光装置の各本体フレームが設置され、そこで露光
装置の組立が行われるクリーンルーム内の一つの区画も
含む。

【００１４】次に、本発明の第１の露光装置の製造方法
は、露光ビームで投影系（ＰＬ）を介して物体（Ｗ１）
を露光する露光装置の製造方法において、複数の製造ラ
インにおいて、それぞれ本体フレーム（９０Ａ，９０
Ｂ）に各種機構部を装着して露光装置を組み上げるに際
して、一の製造ラインで組立調整が行われた所定の機構
部（９１Ｂ）を、他の製造ラインで組立調整中の露光装
置の機構部として使用するものである。斯かる本発明に
よれば、或る製造ラインの本体フレームをその所定の機
構部の調整治具として使用しているため、別途大型の専
用調整治具を用意する必要がなくなり、効率的に露光装
置を製造できる。

【００１５】この場合、その所定の機構部の一例は、そ
の物体の位置決めを行うステージ系である。次に、本発
明による第２の露光装置の製造方法は、露光ビームで第
１物体（Ｒ１）及び投影系（ＰＬ）を介して第２物体
（Ｗ１）を露光する露光装置の製造方法において、第１
製造ライン上でその露光装置の第１本体フレーム（９０
Ａ）を組み上げる第１工程（ステップ１０１）と、第２
製造ライン上でその露光装置の第２本体フレーム（９０
Ｂ）を組み上げる第２工程（ステップ１２１）と、その
第１製造ラインにおいて、その第１本体フレームのその
第１物体の位置決め用のステージが載置される位置に第
１調整用ステージ（ＲＳＴＡ）を搭載して、その第１本
体フレームに搭載される照明系（ＩＬ１，ＩＬ２）の組
立調整を行う第３工程（ステップ１０２，１０３）と、
その第２製造ラインにおいて、その第２本体フレームを
用いてその第１物体及びその第２物体の位置決めを行う
ステージ系（９１Ｂ）の組立調整を行う第４工程（ステ
ップ１２２〜１２４）と、その第１製造ラインにおい
て、その第１本体フレームからその第１調整用ステージ
を取り外すとともに、その第１本体フレームにその投影
系（ＰＬ）、及びその第２本体フレームから取り外され
たそのステージ系（９１Ｂ）を搭載して第１露光装置を
組み上げる第５工程（ステップ１０５〜１０７）とを有
するものである。

【００１６】斯かる本発明によれば、第２製造ラインで
第２本体フレーム（９０Ｂ）を用いて組み立て調整され
たステージ系（９１Ｂ）を第１製造ラインの第１本体フ
レーム（９０Ａ）に組み込んでいるため、そのステージ
系の調整のために大型の専用調整治具を設ける必要がな
い。この場合、その第５工程に続いて、その第２製造ラ
インにおいて、その第２本体フレーム（９０Ｂ）を用い
て第２露光装置の組立調整を行うことが望ましい（ステ
ップ１２６〜１２９）。これによって、露光装置を連続
的に製造することができる。

【００１７】また、その第５工程は、一例として、その
第１本体フレームにその投影系を搭載する第１副工程
（ステップ１０５）と、その第１本体フレームのその第
２物体の位置決め用のステージが載置される位置に第２
調整用ステージ（ＷＳＴＡ）を搭載して、その投影系の
調整を行う第２副工程（ステップ１０６）と、その第１
本体フレームからその第１及び第２調整用ステージを取
り外す第３副工程（ステップ１０７の前半部）と、その
第１本体フレームに、その第２本体フレームから取り外
されたそのステージ系を搭載する第４副工程（ステップ
１０７の後半部）とを有するものである。また、その第
２製造ラインにおいて、そのステージ系をその第２本体
フレームから取り外した後に、その第２製造ラインにお
いて、その第２本体フレームの第１物体の位置決め用の
ステージが載置される位置にその取り外された第１調整
用ステージを搭載して、その第２本体フレームに搭載さ
れる照明系の組立調整を行う工程をさらに含めるように
してもよい。さらに、その第２本体フレームの第２物体
の位置決め用のステージが載置される位置に、その取り
外された第２調整用ステージを搭載してその投影系の調
整を行う工程を含むようにしてもよい。

【００１８】このように第１及び第２調整用ステージの
着脱を行う場合には、その露光装置の構造は、所定のベ
ース部材上に順次各機構部を積み上げる構造ではなく、
本体フレームの底部に第２物体用のステージを吊り下げ
るように支持し、本体フレームの上部に第１物体用のス
テージを支持するような構造であることが望ましい。こ
のような構造は、振動の影響を低減できる構造でもある
ため、本発明によって振動の影響を低減できる構造の露
光装置を効率的に製造することができる。

【００１９】この場合、その第１調整用ステージは、一
例として２次元的に移動可能なピンホール（６４ａ）
と、このピンホールを通過した露光ビームを光学的なフ
ーリエ変換面で検出する光電検出器（６８）とを有する
ものであり、この調整用ステージを用いて、その照明系
のコヒーレンスファクタのばらつきを計測することがで
きる。

【００２０】また、その露光装置が、その１物体とその
第２物体とを所定の走査方向に同期移動して露光を行う
走査露光型の露光装置である場合、その第１調整用ステ
ージは、一例としてその走査方向に交差する非走査方向
に移動可能なピンホール（６４ａ）と、このピンホール
を通過した露光ビームを検出する光電検出器（６８）と
を有するものであり、この調整用ステージを用いて、そ
の照明系の実質的に２次元的な照度むらを計測すること
ができる。

【００２１】また、その第１調整用ステージは、他の例
としてその走査方向に交差する非走査方向に移動可能な
スリット（６４ｂ）と、このスリットを通過した露光ビ
ームを検出する光電検出器（７１）とを有するものであ
り、この調整用ステージを用いて、その照明系の実質的
に２次元的な照度むらを計測することができる。また、
その第１本体フレームとその第１調整用ステージとの位
置関係に基づいて、その第２本体フレームに装着されて
いるそのステージ系の調整を行うことが望ましく、同様
にその第１本体フレームとその第２調整用ステージとの
位置関係に基づいて、その第２本体フレームに装着され
ているそのステージ系の調整を行うことが望ましい。

【００２２】また、その照明系のその第１物体側の部分
照明系（ＩＬ２）は、その第１本体フレーム（９０Ａ）
に対してスライド可能に装着され、その第１本体フレー
ムに対するその第１調整用ステージの着脱時、及びその
ステージ系の装着時に、その部分照明系を待避させるこ
とが望ましい。これによって、調整用ステージの着脱や
そのステージ系の搭載が容易になる。

【００２３】次に、本発明の第１の露光装置は、露光ビ
ームで第１物体（Ｒ１）及び投影系（ＰＬ）を介して第
２物体（Ｗ１）を露光する露光装置において、本体フレ
ーム（９０Ａ）と、この本体フレームに対してスライド
可能な部分照明系（ＩＬ２）を含み、その露光ビームで
その第１物体を照明する照明系（ＩＬ１，ＩＬ２）と、
その部分照明系がその本体フレームに対して待避してい
るときにその本体フレームに装着可能で、その第１物体
及び第２物体の位置決めを行うステージ系（ＲＳＴ，Ｗ
ＳＴ）とを有するものである。

【００２４】斯かる露光装置は、その部分照明系を待避
させた状態で、そのステージ系の代わりに調整用ステー
ジを容易に搭載できるため、本発明の露光装置の製造方
法で製造することができる。また、そのステージ系は、
その第１物体及び第２物体の位置決めをそれぞれ行う第
１ステージ（ＲＳＴ）及び第２ステージ（ＷＳＴ）を備
え、その第２ステージは、その本体フレームに対して吊
り下げられるように支持され、その第１ステージは、そ
の本体フレームに対して防振部材（５、又は７）を介し
て支持されることが望ましい。

【００２５】また、その本体フレームは、一例としてベ
ース部材（３）と、このベース部材に対して防振部材
（４）を介して載置される第１部材（５）と、この第１
部材に対して防振部材（６）を介して載置される第２部
材（１３，１４，２５）とを有し、その照明系のその部
分照明系は、その第２部材の上部に支持され、その投影
系は、その第２部材の底部に支持されるものである。

【００２６】また、そのそのステージ系は、その第１物
体及び第２物体の位置決めをそれぞれ行う第１ステージ
及び第２ステージを備え、その第１ステージ（ＲＳＴ）
は、一例としてその第１部材に対して防振部材（７）を
介して載置されるものである。また、その第１ステージ
は、別の例として、その第２部材に対してその部分照明
系と並列に載置されるものである。

【００２７】次に、本発明の第２の露光装置は、露光ビ
ームで第１物体（Ｒ１）及び投影系（ＰＬ）を介して第
２物体（Ｗ１）を照明する露光装置において、ベース部
材（３）と、このベース部材に対して第１防振部材（２
２）を介して載置される第１部材（５）とを備える本体
フレームと、その第１部材に対して第２防振部材（６）
を介して載置されてその投影系を保持する第２部材（１
３，１４，２５）と、その第１部材に支持されてその第
１物体の位置決めを行う第１ステージ（ＲＳＴ）と、そ
の第１部材に対して吊り下げられるように支持されてそ
の第２物体の位置決めを行う第２ステージ（ＷＳＴ）と
を有し、その第１ステージ及びその第２ステージはそれ
ぞれその第１部材に対して着脱可能に支持されるもので
ある。

【００２８】斯かる露光装置は、その第２ステージが吊
り下げられるように支持され、それと上下方向にほぼ対
称にその第１ステージが支持されるため、相互に振動の
影響が伝わりにくくなり、振動の影響を低減することが
できる。また、それらのステージは着脱が容易であり、
それらのステージの代わりに調整用ステージを容易に搭
載できるため、本発明の露光装置の製造方法で製造する
ことができる。この場合にも、その第１ステージ又はそ
の第２ステージが、ダブル・ホルダ方式又はダブル・ス
テージ方式のステージであるときには、大型の専用調整
治具を省略できる効果は極めて大きい。

【００２９】この場合、その第１ステージは、一例とし
てその第１部材に対して第３の防振部材（７）を介して
支持されるものである。これによって、第１ステージと
第２ステージとの間での相互の振動の影響が更に低減さ
れる。また、その第１ステージは、別の例としてその第
２部材に対してその投影系と並列に支持されるものであ
る。この構成でも、第２部材と第１部材との間には防振
部材があるため、第１ステージと第２ステージとの間で
の相互の振動の影響が更に低減される。

【００３０】また、その第２部材に、その第２ステージ
及びその第２物体の少なくとも一方の位置を検出するた
めのセンサ（２４Ａ）が設けられることが望ましい。こ
のセンサの検出情報を用いて、その第２ステージの位置
の調整を行うことができる。また、本発明のデバイス製
造方法は、本発明の何れかの露光装置を用いて、デバイ
スパターンをワークピース（Ｗ１）上に転写する工程を
含むものである。本発明のデバイス製造方法によって、
高機能のデバイスを高精度に又は低い製造コストで製造
することができる。

【００３１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の一例
につき図１〜図９を参照して説明する。本例はステップ
・アンド・スキャン方式よりなる走査露光方式の投影露
光装置を製造する場合に本発明を適用したものである。
図１は、本例の投影露光装置を示し、この図１におい
て、一例として本例の投影露光装置は半導体デバイス製
造工場の床１上のクリーンルーム内に設置されている。
先ず、その投影露光装置の露光光源１６として、本例で
はＫｒＦ（波長２４８ｎｍ）、又はＡｒＦ（波長１９３
ｎｍ）等のエキシマレーザ光源が使用されているが、そ
れ以外に、Ｆ₂ レーザ光源（波長１５７ｎｍ）、Ｋｒ₂
レーザ光源（波長１４６ｎｍ）、ＹＡＧレーザの高調波
発生装置、半導体レーザの高調波発生装置、又は水銀ラ
ンプ等が使用できる。

【００３２】露光時に露光光源１６から射出された露光
ビームとしての露光光ＩＬは、第１サブチャンバ１７内
の第１照明系ＩＬ１に入射する。第１照明系ＩＬ１は、
ビームマッチングユニット（ＢＭＵ）、ビーム整形光学
系、照度分布均一化用のオプティカル・インテグレータ
（ユニフォマイザ、又はホモジナイザ）、光量モニタ、
可変開口絞り、及びリレーレンズ系等より構成されてい
る。第１照明系ＩＬ１の射出面は、被照明体としてのレ
チクルのパターン面（レチクル面）とほぼ共役であり、
この射出面に可動視野絞り１９が配置され、可動視野絞
り１９の入射側の近傍の面（レチクル面との共役面から
デフォーカスした面）に、照明領域での照度分布を補正
するための照度分布補正フィルタ１８が配置されてい
る。

【００３３】前者の可動視野絞り１９は、被露光基板と
してのウエハの各ショット領域への走査露光の開始時及
び終了時に、本来の回路パターン以外のパターンが露光
されないように視野を開閉する役割を果たす。更に、可
動視野絞り１９は、走査露光に先立ち、転写対象の回路
パターンの非走査方向に関する大きさに応じて、その視
野の非走査方向の幅を変更できるようにも構成されてい
る。このように視野の開閉時に振動を発生する恐れのあ
る可動視野絞り１９が配置された第１照明系ＩＬ１は、
露光本体部とは別体として支持されているため、露光本
体部での露光精度（重ね合わせ精度、転写忠実度等）が
向上する。

【００３４】可動視野絞り１９を通過した露光光ＩＬ
は、露光本体部の所定のコラムに取り付けられた第２サ
ブチャンバ１５内の第２照明系ＩＬ２に入射する。な
お、後述のように第２照明系ＩＬ２の射出側の一部の部
材は、第２サブチャンバ１５の外部に設置されている。
第２照明系ＩＬ２は、リレーレンズ系、光路折り曲げ用
のミラー、コンデンサレンズ系、及び固定視野絞り２１
を含み、この第２照明系ＩＬ２を通過した露光光ＩＬ
は、マスクとしてのレチクルＲ１（又はＲ２）のパター
ン面（レチクル面）の照明領域を照明する。本例の固定
視野絞り２１は、レチクルＲ１，Ｒ２のアライメントを
行うためのレチクルアライメント顕微鏡が配置されてい
るレチクルアライメント部２０の底面に固定されてい
る。即ち、固定視野絞り２１は、レチクルＲ１，Ｒ２に
近接した上面、即ちレチクル面から所定量だけデフォー
カスした面に配置されている。固定視野絞り２１には、
レチクル面での照明領域を走査方向に直交する非走査方
向に細長いスリット状の領域に規定するための開口が形
成されている。なお、固定視野絞り２１を、レチクル面
との共役面の近傍、例えば可動視野絞り１９の設置面の
近傍に配置してもよい。また、本例では第１照明系ＩＬ
１と第２照明系ＩＬ２とで照明系（照明光学系）が構成
される。

【００３５】露光光ＩＬのもとで、レチクルＲ１（又は
Ｒ２）の照明領域内のパターンの像は、露光用の投影系
としての投影光学系ＰＬを介して投影倍率β（βは、１
／４倍又は１／５倍等）で、感光基板（被露光基板）と
してのフォトレジストが塗布されたウエハ（wafer)Ｗ１
（又はＷ２）上のスリット状の露光領域に投影される。
この状態でレチクルＲ１及びウエハＷ１を投影倍率βを
速度比として所定の走査方向に同期移動することで、ウ
エハＷ１上の一つのショット領域にレチクルＲ１のパタ
ーン像が転写される。レチクルＲ１，Ｒ２が本発明の第
１物体に対応し、ウエハＷ１，Ｗ２が本発明の第２物体
に対応しており、ウエハＷ１，Ｗ２は例えば半導体（シ
リコン等）又はＳＯＩ(silicon on insulator)等の円板
状の基板である。

【００３６】投影光学系ＰＬの構成については後述する
が、以下では、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに平行にＺ軸
を取り、Ｚ軸に垂直な平面（本例ではほぼ水平面に合致
している）内で走査露光時のレチクルＲ１及びウエハＷ
１の走査方向ＳＤに直交する非走査方向（即ち、図１の
紙面に垂直な方向）に沿ってＸ軸を取り、その走査方向
ＳＤ（即ち、図１の紙面に平行な方向）に沿ってＹ軸を
取って説明する。

【００３７】先ず、本例のレチクルＲ１，Ｒ２を支持す
るステージ系、投影光学系ＰＬ、及びウエハＷ１，Ｗ２
を支持するステージ系を含む露光本体部の全体の構成に
つき説明する。即ち、床１上にほぼ長方形の平板状のフ
レームキャスタ２が設置され、フレームキャスタ２の＋
Ｙ方向の端部に第１の照明系支持部２２を介して、第１
照明系ＩＬ１が収納された第１サブチャンバ１７が固定
されている。また、フレームキャスタ２の上面周辺部の
ほぼ正三角形の頂点に対応する３箇所にそれぞれ円柱状
の本体支持部３が設置され、３個の本体支持部３の上面
に能動型防振台４を介して本体コラム５が設置され、本
体コラム５に電気式の水準器、又は光学式の傾斜角検出
器等の変位センサ（不図示）が設置されている。能動型
防振台４はそれぞれエアーダンパ又は油圧式のダンパ等
の大重量に耐える機械式のダンパと、ボイスコイルモー
タ等の電磁式のアクチュエータよりなる電磁式のダンパ
とを含み、一例としてその変位センサで検出される本体
コラム５の下端部のサブコラム５ａの上面の水平面に対
する傾斜角が許容範囲内に収まるように、３個の能動型
防振台４中の電磁式のダンパが駆動され、必要に応じて
機械式のダンパの空気圧又は油圧等が制御される。この
場合、機械的なダンパによって、床からの高い周波数の
振動は露光本体部に伝わる前に減衰され、残存している
低い周波数の振動は電磁的なダンパによって減衰され
る。

【００３８】本体コラム５の上面に、後述のレチクルス
テージ系ＲＳＴを覆うための気密室としてのレチクル室
８が設置され、このレチクル室８の内側に、レチクルス
テージ系ＲＳＴの微動ステージ３２を走査方向に一定速
度で駆動すると共に、同期誤差を補正するようにも駆動
するための矩形の枠状のレチクル駆動機構９が設置され
ている。

【００３９】また、本体コラム５の中間の高さの位置に
サブコラム５ｂが突き出ており、サブコラム５ｂの上面
にほぼ正三角形の頂点に位置する３個の能動型防振台７
を介してレチクル支持部ＲＳが設置され、レチクル支持
部ＲＳの上面にベース部材としてのレチクルベース３１
が固定され、レチクルベース３１の中央部には露光光Ｉ
Ｌを通過させるための開口が形成されている。レチクル
ベース３１の上面は平面度の極めて良好なガイド面に加
工され、このガイド面にレチクル側の可動ステージとし
ての微動ステージ３２が、エアーベアリングを介して円
滑に２次元的に摺動自在に載置され、微動ステージ３２
上に２枚のレチクルＲ１及びＲ２が真空吸着等によって
保持されている。微動ステージ３２上でレチクルＲ１，
Ｒ２は走査方向に隣接するようにダブルホルダ方式で保
持されており、例えば二重露光などが効率的に実行でき
るように構成されている。更に、レチクルベース３１の
＋Ｙ方向の端部にレチクルアライメント部２０の支持部
が固定され、上述のようにレチクルアライメント部２０
にレチクルアライメント顕微鏡、及び固定視野絞り２１
が取り付けられている。

【００４０】能動型防振台７は、能動型防振台４と同じ
構成であり（但し、耐加重性は能動型防振台４よりも低
く設定されている）、レチクルベース３１のガイド面の
端部に電気式の水準器、又は光学式の傾斜角検出器等の
変位センサ（不図示）が設置されている。一例としてそ
の変位センサで検出されるそのガイド面の水平面に対す
る傾斜角（２軸の回り、即ちＸ軸及びＹ軸の回りの傾斜
角）が許容範囲内に収まるように、３個の能動型防振台
７の動作が制御される。

【００４１】本例の微動ステージ３２の周囲を囲むよう
に、上記のレチクル駆動機構９が配置されており、レチ
クル駆動機構９は、＋Ｙ方向、及び−Ｙ方向に交互に一
定速度で駆動される粗動ステージと、この粗動ステージ
に対して微動ステージ３２を所定の狭い範囲内でＸ方
向、Ｙ方向、及び回転方向に微小量駆動するアクチュエ
ータとを備えている。また、微動ステージ３２の２次元
的な位置及び回転角、並びにその粗動ステージのＹ方向
の位置はそれぞれ不図示のレーザ干渉計によって高精度
に計測され、この計測結果に基づいて微動ステージ３２
の位置及び速度が制御される。

【００４２】本例では、レチクルベース３１、微動ステ
ージ３２、レチクル駆動機構９、及び不図示のレーザ干
渉計等からレチクルステージ系ＲＳＴが構成されてい
る。レチクルステージ系ＲＳＴのより詳細な構成は、例
えば特開平１０−２０９０３９号公報（対応する米国特
許第６，３２７，０２２号）などに開示されている。本
例のレチクルステージ系ＲＳＴはダブルホルダ方式であ
るが、そのレチクルステージ系ＲＳＴを２枚のレチクル
を互いに独立の可動ステージ（シングルホルダ方式）上
に載置するダブル・レチクルステージ方式としてもよ
く、更には１枚のレチクルを用いるシングルホルダ方式
のシングルステージとしてもよい。

【００４３】また、本体コラム５の下端部のサブコラム
５ａの上面に、ほぼ正三角形の頂点に位置する３個の能
動型防振台６を介して中央部にＵ字型の開口が形成され
た投影系コラム１３が支持され、投影系コラム１３のそ
の開口にリング状のサブコラム２５を介して、中央部に
フランジ部を持つ投影光学系ＰＬが設置されている。能
動型防振台６は、能動型防振台４と同じ構成であり（但
し、耐加重性は能動型防振台４よりも低く設定されてい
る）、投影系コラム１３の上面に電気式の水準器、又は
光学式の傾斜角検出器等の変位センサ（不図示）が設置
されている。一例としてその変位センサで検出されるそ
の投影系コラム１３の上面の水平面に対する傾斜角（２
軸の回り、即ちＸ軸及びＹ軸の回りの傾斜角）が許容範
囲内に収まるように、３個の能動型防振台６の動作が制
御される。

【００４４】また、投影系コラム１３のサブチャンバ１
７側の上面に円柱状の第２の照明系支持部１４が固定さ
れ、この照明系支持部１４の上端に第２サブチャンバ１
５（第２照明系ＩＬ２が収納されている）が支持されて
いる。このように本例では、共通の能動型防振台６の上
に第２照明系ＩＬ２及び投影光学系ＰＬが支持されてい
るため、投影光学系ＰＬの結像特性が安定に維持され
る。

【００４５】更に、投影系コラム１３の底面に２本のサ
ブコラム３３を介して、中央に投影光学系ＰＬを通すた
めの開口が形成された平板状のセンサーコラム３４が吊
り下げるように支持され、このセンサーコラム３４にオ
フ・アクシス方式でＦＩＡ（Field Image Alignment)方
式よりなる結像方式のアライメントセンサ３５Ａが固定
されている。アライメントセンサ３５Ａと共に、投影光
学系ＰＬをＸ方向に挟むように別のアライメントセンサ
３５Ｂ（図２参照）が配置されている。また、センサー
コラム３４には、ウエハステージからの所定の光束を検
出する受光部２４Ａが設けられ、この受光部２４Ａによ
って投影光学系ＰＬにたいするウエハステージの位置を
計測できるように構成されている。更に、センサーコラ
ム３４には、露光対象のウエハの表面の投影光学系ＰＬ
の像面に対するデフォーカス量を計測するためのオート
フォーカスセンサ（不図示）も設置されている。

【００４６】次に、本例のウエハステージ系につき詳細
に説明する。先ず、本体コラム５の下端部のサブコラム
５ａの底面に、Ｙ方向に対向するように配置された２箇
所のウエハステージ吊り下げ部３６Ａ，３６Ｂを介し
て、小型定盤よりなるベース部材としてのウエハベース
３８が吊り下げられて支持されている。ウエハベース３
８の上面は平面度の極めて良好なガイド面に加工され、
このガイド面に第１のウエハステージ４１Ａが、エアー
ベアリングを介して円滑に、かつＹ軸スライダ４２Ａ、
及びＸ軸リニアガイド３９，４０に沿って２次元的に摺
動自在に載置され、ウエハステージ４１Ａ上にウエハホ
ルダ４３Ａを介して第１のウエハＷ１が真空吸着等によ
って保持されている。

【００４７】ウエハステージ４１Ａは、例えばリニアモ
ータ方式でＹ方向に連続移動すると共に、Ｘ方向及びＹ
方向にステップ移動する。更に、ウエハステージ４１Ａ
の内部にはウエハＷ１をＸ方向、Ｙ方向、及びＺ軸の回
りの回転方向の３自由度で微小駆動すると共に、レベリ
ング及びフォーカシングを行うためにウエハＷ１をＺ方
向の変位、及び２軸の回り（即ち、Ｘ軸及びＹ軸の回
り）の傾斜角の３自由度で駆動するための試料台が組み
込まれている。

【００４８】本例では、ウエハベース３８上に第１のウ
エハステージ４１Ａと共に第２のウエハステージ４１Ｂ
がエアーベアリングを介して移動自在に載置され、ウエ
ハステージ４１Ｂ上にウエハホルダ４３Ｂを介して第２
のウエハＷ２が載置されている。第２のウエハステージ
４１Ｂも例えばリニアモータ方式で、ウエハステージ４
１Ａと機械的に干渉しないように２次元的に駆動され
る。ウエハベース３８、ウエハステージ４１Ａ，４１
Ｂ、ウエハホルダ４３Ａ，４３Ｂ、及びこれらの駆動機
構より本例のダブル・ウエハステージ方式（又はツイン
ステージ方式）のウエハステージ系ＷＳＴが構成されて
いる。この構成では、例えば第１のウエハステージ４１
Ａ側でウエハＷ１に対する走査露光中に、第２のウエハ
ステージ４１Ｂ側でウエハＷ２の交換及びアライメント
を行うことができるため、高いスループットが得られ
る。

【００４９】ウエハステージ４１Ａ，４１Ｂの２次元的
な位置、及びヨーイング量、ピッチング量、ローリング
量は不図示のレーザ干渉計によって高精度に計測され、
露光中のウエハＷ１，Ｗ２のフォーカス位置（投影光学
系ＰＬの光軸方向の位置）及び傾斜角は不図示のオート
フォーカスセンサによって計測されており、これらの計
測値に基づいてウエハステージ４１Ａ，４１Ｂの位置、
及びウエハＷ１，Ｗ２のフォーカス位置や傾斜角等が制
御されている。

【００５０】また、図１において、ウエハステージ吊り
下げ部３６Ｂを介してウエハステージ系ＷＳＴの上方
に、ウエハＷ１，Ｗ２のプリアライメントを行うための
プリアライメント機構３７が配置されている。更に、露
光本体部に対して−Ｙ方向に近接してウエハローダ系１
０が配置され、この上にレチクルローダ系１１が設置さ
れ、レチクルローダ系１１とレチクルステージ系ＲＳＴ
との間に、レチクル交換部１２が配置されている。

【００５１】次に、本例のダブル・ウエハステージ方式
のウエハステージ系ＷＳＴの構成につき図２を参照して
詳細に説明する。図２は、図１のウエハステージ系ＷＳ
Ｔを示す平面図であり、図２に示すように、本例では投
影光学系ＰＬをＸ方向（非走査方向）に挟むようにウエ
ハアライメント用の１対のアライメントセンサ３５Ａ及
び３５Ｂが配置されている。そして、本例のウエハステ
ージ系ＷＳＴの２つのウエハステージ４１Ａ，４１Ｂを
走査露光時の走査方向ＳＤ（Ｙ方向）に挟むように、Ｘ
軸に平行に１対のＸ軸リニアガイド３９，４０が固定さ
れている。Ｘ軸リニアガイド３９及び４０に対してそれ
ぞれエアーパッドを介してＸ方向に摺動自在に第１の１
対のＸ軸スライダ４４Ａ及び４５Ａが載置され、Ｘ軸ス
ライダ４４Ａ，４５Ａにそれぞれエアーパッドを介して
Ｙ方向に摺動自在に、Ｙ方向に伸びた第１のＹ軸スライ
ダ４２Ａが配置され、Ｙ軸スライダ４２Ａに対してエア
ーパッドを介してＹ方向に摺動自在に第１のウエハステ
ージ４１Ａが配置されている。

【００５２】また、Ｘ軸リニアガイド３９，４０に対し
てそれぞれＸ軸スライダ４４Ａ及び４５ＡをＸ方向に相
対駆動するためのＸ軸リニアモータ（不図示）と、Ｙ軸
スライダ４２Ａに対してウエハステージ４１ＡをＹ方向
に相対駆動するためのＹ軸リニアモータ（不図示）とが
設置されている。本例では、Ｙ軸スライダ４２Ａは、Ｘ
軸スライダ４４Ａ，４５Ａに対してＹ方向に移動できる
ように支持されており、Ｙ軸スライダ４２Ａに対するウ
エハステージ４１ＡのＹ方向（走査方向）への駆動は運
動量保存則を満たすように行われる。これによって、走
査露光中に振動が少なくなり、露光精度が向上する。こ
の際に、ウエハステージ４１ＡのＸＹ平面内での位置、
及び回転角を計測するために、ウエハステージ４１Ａの
−Ｘ方向側の側面及び＋Ｙ方向側の側面にそれぞれＸ軸
の移動鏡４９ＸＡ及びＹ軸の移動鏡４９ＹＡが配置され
ている。

【００５３】更に、１対のＸ軸スライダ４４Ａ，４５Ａ
と並列に、Ｘ軸リニアガイド３９及び４０に対してそれ
ぞれエアーパッドを介してＸ方向に摺動自在に第２の１
対のＸ軸スライダ４４Ｂ及び４５Ｂも載置され、Ｘ軸ス
ライダ４４Ｂ，４５Ｂにそれぞれエアーパッドを介して
Ｙ方向に摺動自在に、第２のＹ軸スライダ４２Ｂが配置
され、Ｙ軸スライダ４２Ｂに対してエアーパッドを介し
てＹ方向に相対移動できるように第２のウエハステージ
４１Ｂが配置されている。このウエハステージ４１Ｂに
関しても、Ｘ軸リニアガイド３９，４０に対してＸ軸ス
ライダ４４Ｂ，４５ＢをＸ方向に相対駆動するためのＸ
軸リニアモータ（不図示）と、Ｙ軸スライダ４２Ｂに対
してウエハステージ４１ＢをＹ方向に相対駆動するため
のＹ軸リニアモータ（不図示）とが設置されている。

【００５４】本例のダブル・ウエハステージ（ツインス
テージ）構成では、第１のウエハステージ４１Ａ及び第
２のウエハステージ４１Ｂはそれぞれ投影光学系ＰＬの
露光領域の他に、ウエハベース３８上のほぼ−Ｘ方向側
の半面、及び＋Ｘ方向側の半面を主な移動可能領域とし
ており、一方のウエハステージの露光中に他方のウエハ
ステージではウエハ交換やウエハアライメントが実行さ
れる。また、投影光学系ＰＬに対して−Ｘ方向側のアラ
イメントセンサ３５Ａは、第１のウエハステージ４１Ａ
上のウエハＷ１のアライメントを行う場合に使用され、
＋Ｘ方向側のアライメントセンサ３５Ｂは、第２のウエ
ハステージ４１Ｂ上のウエハＷ２のアライメントを行う
場合に使用される。

【００５５】そのアライメントセンサ３５Ａのベースラ
イン量（検出中心との露光中心との間隔）の計測を行う
ために、第１のウエハステージ４１Ａの上面の右上の端
部に、所定の基準マークが形成された基準マーク部材４
６Ａが固定されている。基準マーク部材４６Ａには、図
１のレチクルアライメント部２０に設置されているレチ
クルアライメント顕微鏡を用いてレチクルＲ１，Ｒ２の
アライメントを行う際に使用される基準マークも形成さ
れている。一方、第２のウエハステージ４１Ｂにおいて
は、＋Ｘ方向側の端部及び＋Ｙ方向側の端部にそれぞれ
Ｘ軸の移動鏡４９ＸＢ及びＹ軸の移動鏡４９ＹＢが固定
されており、ウエハステージ４１Ｂの左上の端部にアラ
イメントセンサ３５Ｂのベースライン・チェック用、及
びレチクルアライメント用の基準マーク部材４６Ｂが固
定されている。即ち、それら２つのウエハステージ４１
Ａ，４１ＢはＹ軸に平行な軸に関してほぼ対称に構成さ
れている。なお、ウエハステージ４１Ａ，４１Ｂの端面
を鏡面加工して反射面とし、移動鏡４９ＸＡ，４９Ｙ
Ａ，４９ＸＢ，４９ＹＢの代わりに用いてもよい。

【００５６】また、図２において、Ｘ軸リニアガイド３
９の手前（−Ｙ方向側）において、−Ｘ方向側に第１の
ウエハステージ４１Ａ用のウエハローダ系（不図示）が
配置され、＋Ｘ方向側に第２のウエハステージ４１Ｂ用
のウエハローダ系（不図示）が配置されている。更に、
ウエハステージ４１Ａ，４１Ｂ上には、それぞれ発光部
２３Ａ及び２３Ｂが設置されている。発光部２３Ａは、
図１の受光部２４Ａに対してウエハステージ４１Ａの位
置を示す光束を発生し、発光部２３Ｂは対応する受光部
に対してウエハステージ４１Ｂの位置を示す光束を発生
する。

【００５７】次に、本例のウエハステージ系ＷＳＴの計
測システムの一例につき説明する。図２において、投影
光学系ＰＬの光軸ＡＸ（露光中心）と、第１のアライメ
ントセンサ３５Ａの光軸（検出中心）と、第２のアライ
メントセンサ３５Ｂの光軸（検出中心）とはＸ軸に平行
な直線上に配列されている。そして、光軸ＡＸを通りＸ
軸に平行な軸を対称軸とする２つの計測ビームが−Ｘ方
向のレーザ干渉計５０ＸＡから第１のウエハステージ４
１ＡのＸ軸の移動鏡４９ＡＸに照射されている。その計
測ビームと光軸ＡＸに関して対称に、２つの計測ビーム
が＋Ｘ方向のレーザ干渉計５０ＸＢから第２のウエハス
テージ４１ＢのＸ軸の移動鏡４９ＸＢに照射されてい
る。それら２つの計測ビームの他に、実際にはＺ方向に
離れた計測ビームも移動鏡４９ＸＡ，４９ＸＢに照射さ
れており、レーザ干渉計５０ＸＡ，５０ＸＢはそれぞれ
ウエハステージ４１Ａ，４１ＢのＸ方向の位置、Ｚ軸の
回りの回転角（ヨーイング量）、及びＹ軸の回りの回転
角（ローリング量）を計測する。なお、レーザ干渉計５
０ＸＡ，５０ＸＢの各計測値は、投影光学系ＰＬを用い
た露光時、及びアライメントセンサ３５Ａ又は３５Ｂの
使用時の両方で用いられる。

【００５８】また、光軸ＡＸを通りＹ軸に平行な対称軸
を持つ２つの計測ビームがレーザ干渉計５０ＹＡから照
射されている。その計測ビームの他にＺ方向に離れた計
測ビームも含まれており、それらの計測ビームは、ウエ
ハステージ４１ＡのＹ軸の移動鏡４９ＹＡ、又はウエハ
ステージ４１ＢのＹ軸の移動鏡４０ＹＢの何れかに照射
され、レーザ干渉計５０ＹＡによって走査露光中のウエ
ハステージ４１Ａ（又は４１Ｂ）のＹ方向の位置、Ｚ軸
の回りの回転角（ヨーイング量）、及びＸ軸の回りの回
転角（ピッチング量）が計測される。また、アライメン
トセンサ３５Ａ，３５Ｂのそれぞれの検出中心を通りＹ
軸に平行な計測ビームを有するレーザ干渉計５０ＹＢ，
５０ＹＣも設けられている。本例の場合、投影光学系Ｐ
Ｌを用いた露光時のウエハステージ４１Ａ，４１ＢのＹ
方向の位置計測には、中央のレーザ干渉計５０ＹＡの計
測値が用いられ、アライメントセンサ３５Ａ、又は３５
Ｂの使用時のウエハステージ４１Ａ、又は４１ＢのＹ方
向の位置計測には、それぞれレーザ干渉計５０ＹＢ、又
は５０ＹＣの計測値が用いられる。レーザ干渉計５０Ｘ
Ａ，５０ＸＢ及び５０ＹＡ〜５０ＹＣの計測値の分解能
は、一例として０．６〜５ｎｍ（０．０００６〜０．０
０５μｍ）程度である。

【００５９】これらのウエハステージ系ＷＳＴ用のレー
ザ干渉計５０ＸＡ，５０ＸＢ，５０ＹＡ〜５０ＹＣは、
図１のセンサーコラム３４に固定されている。また、例
えばアライメント動作から露光動作に移行する途中、又
はウエハ交換動作からアライメント動作に移行する途中
などで、レーザ干渉計５０ＸＡ，５０ＹＡ等からの計測
ビームがウエハステージ４１Ａ，４１Ｂの移動鏡４９Ｘ
Ａ等から外れて、ウエハステージ４１Ａ，４１Ｂの位置
計測ができなくなる恐れがある。このような場合に備え
て、Ｘ軸リニアガイド４０及びＹ軸スライダ４２Ａ，４
２Ｂにはそれぞれ光学式、磁気式、又は静電容量式等の
リニアエンコーダのスケール５１及び５３Ａ，５３Ｂが
固定され、これらを読み取るために、Ｘ軸スライダ４５
Ａ，４５Ｂ及びウエハステージ４１Ａ，４１Ｂにはそれ
ぞれＸ軸の検出器５２ＸＡ，５２ＸＢ及びＹ軸の検出器
５２ＹＡ，５２ＹＢが取り付けられている。これらのリ
ニアエンコーダの検出器５２ＸＡ，５２ＸＢ及び５２Ｙ
Ａ，５２ＹＢによってウエハステージ４１Ａ，４１Ｂの
全ストローク内で、ウエハステージ４１Ａ，４１ＢのＸ
座標及びＹ座標が例えば１μｍ程度の分解能で大まかに
計測されている。

【００６０】これに関して、例えば図２のウエハステー
ジ４１Ａにおいて、アライメントが終了してから露光動
作に移行するときには、Ｙ軸のレーザ干渉計５０ＹＢが
レーザ干渉計５０ＹＡに切り換えられる。この際にＹ座
標をレーザ干渉計５０ＹＢからレーザ干渉計５０ＹＡに
実質的に高精度に受け渡すには、一例としてウエハステ
ージ４１ＡのＹ軸の移動鏡４９ＹＡに２軸のレーザ干渉
計５０ＹＡ，５０ＹＢからの計測ビームが同時に照射さ
れる状態で、レーザ干渉計５０ＸＡによって計測される
ウエハステージ４１Ａのヨーイング量を所定値に設定し
てから、レーザ干渉計５０ＹＢの計測値をレーザ干渉計
５０ＹＡの計測値にプリセットすればよい。

【００６１】また、別の方法として、例えば移動鏡４９
ＹＡのＸ方向の長さが、レーザ干渉計５０ＹＢ，５０Ｙ
Ａの計測ビームの間隔よりも狭いようなときには、アラ
イメント時にはウエハステージ４１Ａの基準マーク部材
４６Ａを用いてアライメントセンサ３５Ａの検出中心を
基準としてＹ座標の原点を設定し、露光時にはその基準
マーク部材４６Ａ及びレチクルアライメント顕微鏡を用
いて露光中心を基準としてＹ座標の原点を設定するよう
にしてもよい。この方法において、移動鏡４９ＹＡにレ
ーザ干渉計５０ＹＢ，５０ＹＡからの計測ビームが照射
されない区間では、上記のＹ軸のリニアエンコーダの検
出器５２ＹＡの計測値に基づいてウエハステージ４１Ａ
を駆動すればよい。

【００６２】上記のように本例のウエハステージ系ＷＳ
Ｔの計測システムは、Ｘ軸のレーザ干渉計５０ＸＡ，５
０ＸＢ、Ｙ軸のレーザ干渉計５０ＹＡ〜５０ＹＣ、Ｘ軸
のリニアエンコーダ（５１，５２ＸＡ，５２ＸＢ）、及
びＹ軸のリニアエンコーダ（５３Ａ，５３Ｂ，５２Ｙ
Ａ，５２ＹＢ）を含んで構成されている。同様に、図１
のレチクルステージ系ＲＳＴの計測システムは、レチク
ルステージ３２（微動ステージ）のＸＹ平面内の２次元
的な位置を計測するレーザ干渉計（不図示）、及びレチ
クル駆動機構９内の粗動ステージのＹ方向の位置を計測
するレーザ干渉計（不図示）を含んで構成されており、
これらのレーザ干渉計は、レチクルベース３１上に固定
されている。

【００６３】また、本例の投影露光装置の露光光ＩＬが
ＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）又はＦ₂ レー
ザ（波長１５７ｎｍ）のような実質的に真空紫外域の光
である場合には、通常の空気では吸収率が高くなるた
め、露光光源１６からウエハステージ４１Ａ，１４Ｂま
での露光光ＩＬの光路には、真空紫外光を透過する窒
素、及び希ガス（ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプ
トン、キセノン、ラドン）等からなる気体群から選択さ
れた１種類、又は複数種類のパージガスを供給する必要
がある。そのために、サブチャンバ１７，１５、レチク
ルステージ系ＲＳＴを囲む空間（レチクル室８）、投影
光学系ＰＬの内部、及びウエハステージ系ＷＳＴを囲む
空間はそれぞれ気密化されて、その内部の気体がパージ
ガスで置換される。

【００６４】次に、本例の投影露光装置の製造方法の一
例につき図３〜図９を参照して説明する。本例では、投
影露光装置を本体モジュール（本体フレーム）、照明系
（照明モジュール）、投影光学系ＰＬ（レンズモジュー
ル）、ステージモジュール、及びローダモジュールに分
けて、基本的にモジュール別に組立調整を行い、所定段
階で複数のモジュールの連結を行うことによって、１台
の投影露光装置を製造する。この製造は温度管理のなさ
れたクリーンルーム内で行われる。

【００６５】先ず、各モジュールの構成につき説明す
る。図３は、本体モジュール及び照明モジュールを示
し、この図３において、実線で表されている本体フレー
ムとしての本体モジュール９０Ａは、フレームキャスタ
２、本体支持部３、能動型防振台４，６，７、本体コラ
ム５、投影系コラム１３、サブコラム２５、照明系支持
部１４、レチクル支持部ＲＳ、サブコラム３３、及び一
方のウエハステージ吊り下げ部３６Ａより構成されてい
る。一方、本例の照明モジュールは、露光光源１６、サ
ブチャンバ１７に格納された第１照明系ＩＬ１、及びサ
ブチャンバ１５に格納された部分照明系としての第２照
明系ＩＬ２より構成されている。このとき、サブチャン
バ１７（第１照明系ＩＬ１）は、フレームキャスタ２上
に固定された照明系支持部２２に固定され、サブチャン
バ１５（第２照明系ＩＬ２）は、投影系コラム１３上に
固定された照明系支持部１４の上端部に固定されてい
る。

【００６６】また、サブチャンバ１５の内部にはＹ方向
（走査方向）に平行にガイド軸１５ａが設けてあり、照
明系支持部１４に対してガイド軸１５ａ及びサブチャン
バ１５（第２照明系ＩＬ２）をＹ方向にシフトできるよ
うに構成されている。ガイド軸１５ａは、例えば、照明
系支持部１４に対してスライド移動可能に照明系支持部
１４に係合されたボールねじやアクチュエータから構成
し得る。更に、そのサブチャンバ１５を露光時の位置に
固定した状態で、例えばリミットスイッチを設けること
によって、そのサブチャンバ１５をその露光時の位置に
例えば０．１ｍｍ程度の再現性で繰り返し位置決めでき
るように構成されている。本例によれば、例えばレチク
ルステージ系等を本体モジュール９０Ａに装着する際に
は、照明系支持部１４に対して２点鎖線で示す位置Ｐ１
までサブチャンバ１５（第２照明系ＩＬ２）を待避させ
ることによって、レチクルステージ系等の着脱作業を容
易に行うことができる。そして、その着脱作業の終了後
には、照明系支持部１４に対してサブチャンバ１５を上
記のリミットスイッチの位置までスライドさせるだけ
で、サブチャンバ１５（第２照明系ＩＬ２）を迅速に露
光時の位置に復帰させることができる。

【００６７】図４（Ｂ）は本例の投影光学系ＰＬ（レン
ズモジュール）を示し、この図４（Ｂ）において、投影
光学系ＰＬは、複数（本例では７個）の分割鏡筒８１
Ａ，８１Ｂ，…８１Ｇを光軸方向に連結することによっ
て構成されており、最下段の分割鏡筒８１Ａ，８１Ｂ内
にはそれぞれレンズ枠８３Ａ，８３Ｂを介して互いに異
なる複数枚のレンズ８４Ａ，８４Ｂが収納され、同様に
他の分割鏡筒８１Ｃ〜８１Ｇ内にもレンズ又は凹面鏡等
が収納されている。それらのレンズの中には非球面レン
ズも含まれている。また、中央の分割鏡筒８１Ｄに固定
用のフランジ部が設けられ、最上段の分割鏡筒８１Ｇの
先端部に収差補正板が収納された収差補正部８２が設け
られている。更に、上部の分割鏡筒８１Ｅ〜８１Ｇに
は、投影光学系ＰＬの結像特性を補正するために所定の
レンズを光軸方向、及び光軸に垂直な面に対して直交す
る２つの軸の回りの回転方向の何れかに駆動する駆動機
構が組み込まれている。

【００６８】また、図４（Ｂ）のＡＡ線に沿う断面図で
ある図５に示すように、分割鏡筒８１Ｂには等角度間隔
で３箇所に切り欠き部８１Ｂａ〜８１Ｂｃ及び貫通穴が
設けられ、これらの切り欠き部８１Ｂａ〜８１Ｂｃにそ
れぞれボルト８５が配置されている。それに対応してそ
の下段の分割鏡筒８１Ａの上面の３箇所にねじ穴が設け
られ、隣接する分割鏡筒８１Ａ，８１Ｂは３箇所のボル
ト８５によって光軸方向に連結されている。この場合、
切り欠き部８１Ｂａ〜８１Ｂｃに設けられた貫通穴とボ
ルト８５の外径との遊び分によって、分割鏡筒８１Ａ，
８１Ｂ間の光軸調整を行うことができる。同様に、その
上段の隣接する分割鏡筒８１Ｂ〜８１Ｇもそれぞれ不図
示のボルトによって、光軸調整を行うことができる状態
で連結されている。このように切り欠き部８１Ｂａ〜８
１Ｂｃにボルト８５を収納することによって、投影光学
系ＰＬを全体として小型化することができる。

【００６９】本例の投影光学系ＰＬを製造する場合に
は、先ず図４（Ａ）に示すように、分割鏡筒８１Ａ〜８
１Ｇ毎に個別に組立が行われる。その後、矢印ＡＣで示
すように、互いに光軸調整を行いながら分割鏡筒８１Ａ
〜８１Ｇの連結が行われる。その後、投影光学系ＰＬ全
体として波面収差計測を行うとともに、ペッツバール和
（Petzval sum ）が求められる。そして、波面収差又は
ペッツバール和が許容範囲を超えている場合には、矢印
ＡＤで示すように、投影光学系ＰＬを再び個々の分割鏡
筒８１Ａ〜８１Ｇに分解して、波面収差不良の原因とな
っている分割鏡筒の再調整を行う。また、ペッツバール
和が不良である場合には、その不良の原因となっている
レンズの再研磨、又は交換を行う。その後、矢印ＡＣで
示すように、分割鏡筒８１Ａ〜８１Ｇの連結が行われ、
波面収差及びペッツバール和がともに許容範囲内に収ま
った状態で、投影光学系ＰＬの組立調整が完了する。な
お、投影光学系ＰＬの組立調整の工程では、前述の如く
計測された波面収差に基づき、例えばツェルニケ（Zern
ike ）多項式も用いてディストーション、鏡面湾曲など
の各収差につきその高次成分までも算出するとともに、
この計算結果に基づいて投影光学系ＰＬの少なくとも一
部を交換又は調整することが好ましい。このとき、投影
光学系ＰＬの光学素子単位、又は分割鏡面単位で交換を
行えばよい。また、上記調整として投影光学系ＰＬの少
なくとも１つの光学素子を再加工してもよく、特にレン
ズエレメントでは必要に応じてその表面を非球面に加工
してもよい。この光学素子は、レンズエレメントなどの
屈折光学素子だけでなく、例えば凹面鏡などの反射光学
素子、又は投影光学系の収差（ディストーション、球面
収差など）、特にその非回転対称成分を補正する収差補
正板などでもよい。さらに、投影光学系ＰＬの調整では
光学素子の位置（他の光学素子との間隔を含む）や傾斜
などを変更するだけでもよいし、特に光学素子がレンズ
エレメントであるときはその偏芯を変更したり、あるい
は光軸を中心として回転させてもよい。

【００７０】なお、投影光学系ＰＬを本体モジュール
（本体フレーム）に取り付けた後で再度、波面収差を計
測して投影光学系ＰＬの光学調整を行う場合でも、光学
素子の交換又は再加工などを行ってもよい。また、投影
光学系ＰＬには少なくとも１つの光学素子をピエゾ素子
などで駆動して結像特性を調整する駆動機構が組み込ま
れているので、前述の計測結果によってはその駆動機構
だけで光学特性（ディストーションなどの各収差あるい
は波面収差など）を許容範囲内に抑えるようにしてもよ
い。

【００７１】また、本例の投影光学系ＰＬは、一例とし
て屈折系より構成されているが、投影光学系ＰＬとし
て、例えば国際公開(WO) 00/39623 号に開示されている
ように、１本の光軸に沿って複数の屈折レンズと、それ
ぞれ光軸の近傍に開口を有する２つの凹面鏡とを配置し
て構成される直筒型の反射屈折系（カタジオプトリック
光学系）を用いてもよい。更に、例えば国際公開(WO)01
/65296号に開示されているように、Ｖ字型に折れ曲がっ
た光軸を有し、内部で中間像を２回形成する反射屈折
系、又は例えば特開2000-47114に開示されているよう
に、Ｖ字型に折れ曲がった光軸を有するが、内部で中間
像を１回形成する反射屈折系等を投影光学系ＰＬとして
使用してもよい。国際公開(WO)00/39623号（対応する米
国特許出願09/644,645）、国際公開(WO)01/65296号（対
応する米国特許出願09/769,832）及び特開2000-47114号
公報（対応する米国特許出願09/094,579）にそれらのよ
り詳細なレンズ構成が開示されている。

【００７２】次に、図７は本例のステージモジュール９
１Ｂを示し、この図７において、実線で表されているス
テージモジュール９１Ｂは、ダブル・ホルダ方式のレチ
クルステージ系ＲＳＴ、これを格納するレチクル室８、
ダブル・ステージ方式のウエハステージ系ＷＳＴ（レー
ザ干渉計を含む）、プリアライメント装置３７、一方の
ウエハステージ吊り下げ部３６Ｂ、及びセンサーモジュ
ールより構成されている。このセンサーモジュールは、
サブコラム３３に支持されるセンサーコラム３４と、こ
のセンサーコラム３４に固定される受光部２４Ａ、アラ
イメントセンサ３５Ａ、及び不図示のオートフォーカス
センサ等とから構成されている。

【００７３】このステージモジュールの組立調整を行う
際には、レチクルベース３１の上面（レチクルステージ
３２のガイド面）、センサーコラム３４のサブコラム３
３との接触面、及びウエハステージ４１Ａ，４１Ｂの上
面がそれぞれ予め定められている高さになるように調整
が行われる。また、必要に応じて、このステージモジュ
ール９１Ｂが実際に搭載される本体モジュールでの実測
値に基づいて、それらの面の位置の再調整が行われる。
更に、固定視野絞り２１の調整を行う場合には、実際に
露光光が照射されることが望ましいが、このためには、
例えば図１の露光光源１と同じ波長域の照明光を発生す
る小型で小出力の固体レーザ（例えばＹＡＧレーザの高
調波発生装置など）を、調整用レーザとして使用しても
よい。

【００７４】また、図８は本例のローダモジュールを示
し、この図８において、ローダモジュール９２Ａは、ウ
エハローダ系１０、この上に設置されるレチクルローダ
系１１、及びレチクル交換部１２より構成されている。
ウエハローダ系１０には、図１の本体モジュール中のフ
レームキャスタ２との位置関係を検出するセンサが備え
られており、そのセンサによって検出される位置関係に
基づいて例えばウエハの受け渡し位置を自動調整するこ
とによって、一度ローダモジュール９２Ａを本体モジュ
ールに組み込んだ後は、ローダモジュール９２Ａの位置
調整を行う必要がないように構成されている。

【００７５】続いて図９のフローチャートを参照して、
上記のモジュール構成の投影露光装置の製造工程につき
説明する。本例では、第１製造ライン及び第２製造ライ
ンで並列に、且つ互いに一部の機構部としてのモジュー
ルの受け渡しを行いながら投影露光装置を製造する。な
お、その製造ラインとは、一つのクリーンルーム内で投
影露光装置の組立調整を行う領域を意味しており、本例
の第１製造ラインの設置されているクリーンルーム（こ
れを「クリーンルームＡ」と呼ぶ。）と、第２製造ライ
ンの設置されているクリーンルーム（これを「クリーン
ルームＢ」と呼ぶ。）とは異なっている。但し、同一の
クリーンルーム内に第１製造ラインと第２製造ラインと
を並列に設置してもよい。

【００７６】先ず第１製造ラインにおける製造工程につ
き説明すると、図９のステップ１０１において、図３の
実線で示すように、クリーンルームＡの床１Ａ上で投影
露光装置の本体モジュール９０Ａの組立を行う。それに
続くステップ１０２において、その本体モジュール９０
Ａのフレームキャスタ２上に照明系支持部２２を介して
第１照明系ＩＬ１が収納されているサブチャンバ１７を
設置し、照明系支持部１４上に第２照明系ＩＬ２が収納
されているサブチャンバ１５を設置し、第１照明系ＩＬ
１に対応して露光光源１６を設置することによって、照
明系（照明モジュール）の組立を行う。

【００７７】その後、ステップ１０３において、レチク
ル支持部ＲＳ上に２点鎖線で示すように、調整用ステー
ジとしての工具レチクルステージ系ＲＳＴＢを搭載す
る。この際に、工具レチクルステージ系の搭載を容易に
行えるように、照明系支持部１４に対してサブチャンバ
１５（第２照明系ＩＬ２）が位置Ｐ１まで待避され、工
具レチクルステージ系が搭載された後に、サブチャンバ
１５（第２照明系ＩＬ２）は露光時の位置に戻される。
本例の工具レチクルステージ系ＲＳＴＢは、図１の実際
の製品のレチクルステージ系ＲＳＴ中のレチクルベース
３１、及びレチクルステージ３２より構成されている。
更に、不図示であるが、レチクルステージ３２上には、
照明系による照明領域の照度分布やコヒーレンスファク
タ（σ値）の分布を計測するための計測装置が設置され
ており、この計測装置で計測される照度むらやコヒーレ
ンスファクタのばらつきが許容範囲内に収まるように照
明系の調整を行う。

【００７８】これまでの工程と並行してステップ１０４
において、図４を参照して説明したように投影光学系Ｐ
Ｌの組立調整が行われている。そして、ステップ１０５
において、照明系の組み込み及び調整が完了した本体モ
ジュール９０Ａに対してその投影光学系ＰＬの搭載が行
われる。そのためには、図３の本体モジュール９０Ａか
ら取り外したサブコラム２５を、組立調整が完了した投
影光学系ＰＬに装着し、この投影光学系ＰＬ及びサブコ
ラム２５を投影系コラム１３に搭載すればよい。このよ
うに投影光学系ＰＬが搭載された状態が、図６の実線で
示されている。

【００７９】次のステップ１０６において、図６の工具
レチクルステージ系ＲＳＴＢに対してレチクルアライメ
ント部２０を介して固定視野絞り２１を設置して、本体
コラム５の底面に２点鎖線で示すように調整用ステージ
としての工具ウエハステージ系ＷＳＴＢを搭載する。本
例の工具ウエハステージ系ＷＳＴＢは、図１の実際の製
品のウエハステージ系ＷＳＴとほぼ同じ構造である。ま
た、サブコラム３３に対して調整用のセンサーコラム３
４も設置される。この状態で、テストプリント等を行い
ながら投影光学系ＰＬのディストーションや解像度等の
調整が行われる。

【００８０】それに続くステップ１０７において、図６
の本体モジュール９０Ａから工具レチクルステージ系Ｒ
ＳＴＢ及び工具ウエハステージ系ＷＳＴＢを取り外す。
そして、上記の第２製造ラインで組立調整済み（詳細後
述）のステージモジュール、即ち図７に実線で示すステ
ージモジュール９１Ｂを図６の本体モジュール９０Ａに
搭載する。この際に、必要に応じてサブチャンバ１５
（第２照明系ＩＬ２）が照明系支持部１４上で、ウエハ
ステージ系の着脱に支障が無い位置に待避するため、そ
の着脱を極めて短時間に行うことができる。また、並行
して組立調整が行われていた図８に示すローダモジュー
ル９２Ａも本体モジュール９０Ａに組み込まれる。その
後、配線や複数の気密室の気密化等を行うことによっ
て、図１の投影露光装置と同じ投影露光装置が完成す
る。その後のステップ１０８において、その完成された
投影露光装置は製品ＡとしてクリーンルームＡから搬出
される。

【００８１】それに続くステップ１０９において、その
クリーンルームＡでは再び図３の本体モジュール９０Ａ
の組立が行われる。その後のステップ１１０では、その
本体モジュール９０Ａを調整用治具として、図１のレチ
クルステージ系ＲＳＴ、センサーコラム３４及びこれに
装着される各種センサ（センサーコラムユニット）、並
びにウエハステージ系ＷＳＴよりなるステージモジュー
ルの組立調整が行われる。このステージモジュールは、
その後のステップ１１１で取り外されて後述のように第
２製造ラインの本体モジュールに搭載される。そして、
ステージモジュールの取り外された本体モジュール９０
Ａは、ステップ１０２に移行して照明系の組立が行わ
れ、以下ステップ１０３〜１０８が繰り返されて次の製
品が完成されて搬出される。

【００８２】次に第２製造ラインにおける製造工程につ
き説明すると、図９のステップ１２１において、図７の
２点鎖線で示すように、クリーンルームＢの床１Ｂ上で
投影露光装置の本体モジュール９０Ｂの組立を行う。そ
れに続くステップ１２２において、その本体モジュール
９０Ｂを調整用治具として、図７に実線で示すように、
レチクルステージ系ＲＳＴの組立及び調整を行う。更に
ステップ１２３において、本体モジュール９０Ａのサブ
コラム３３にセンサーコラム３４を設置し、センサーコ
ラム３４に受光部２４Ａ、アライメントセンサ３５Ａ、
及びレーザ干渉計（不図示）等を搭載することによって
センサーコラムユニットの組立及び調整を行う。そし
て、ステップ１２４において、本体モジュール９０Ａの
ウエハステージ吊り下げ部３６Ａ、及び新たに用意した
ウエハステージ吊り下げ部３６Ｂを介して本体コラム５
に吊り下げるように、ウエハステージ系ＷＳＴの組立及
び調整を行う。これによって、ステージモジュール９１
Ｂが完成する。それに続くステップ１２５において、図
７の本体モジュール９０Ｂから組立調整済みのステージ
モジュール９１Ｂを取り外す。取り外されたステージモ
ジュール９１Ｂは、既に説明したように第１製造ライン
のステップ１０７で、図６の本体モジュール９０Ａに搭
載される。

【００８３】ステップ１２５でステージモジュール９１
Ｂの取り外された本体モジュール９０Ｂに、ステップ１
０７で取り外した工具レチクルステージＲＳＴＢを組み
込む。そして、ステップ１２６において、ステップ１０
２及び１０３と同様にして、工具レチクルステージ系を
用いて照明系の組立及び調整が行われる。そして、これ
と並行してステップ１２７にて投影光学系ＰＬの組立調
整が行われており、ステップ１２８において、ステップ
１０７で取り外した工具ウエハステージ系ＷＳＴＢを本
体モジュール９０Ｂに組み込む。そして、ステップ１０
５及び１０６と同様にして、工具ウエハステージ系を用
いて投影光学系ＰＬの本体モジュール９０Ｂに対する搭
載及び調整が行われる。

【００８４】それに続くステップ１２９において、図７
の本体モジュール９０Ｂから工具レチクルステージ系及
び工具ウエハステージ系を取り外して、上記の第１製造
ラインのステップ１１０で組立調整済みのステージモジ
ュールを本体モジュール９０Ｂに搭載して、配線や複数
の気密室の気密化等を行うことによって、図１の投影露
光装置と同じ投影露光装置が完成する。その後のステッ
プ１３０において、その完成された投影露光装置は製品
ＢとしてクリーンルームＢから搬出される。その後は再
びステップ１２１〜１３０が繰り返され、次の製品が完
成されて搬出される。すなわち、第１製造ライン（第１
ライン）と第２製造ライン（第２ライン）とは同じシー
ケンスを時間的にずらして実行しているものである。こ
の時間的なずれは、第１製造ラインのステップ１０７に
おけるステージ系の組み込み時までに、第２製造ライン
のステップ１２４におけるウエハステージ系の組立・調
整が完了しているように制御すればよい。

【００８５】本例の製造方法は、同一機種の露光装置を
２台以上製造する場合に適用できるため、通常の殆どの
露光装置を製造する場合に適用することができる。本例
によれば、第１製造ラインで本体モジュール９０Ａに搭
載されるステージモジュール９１Ｂは、第２製造ライン
で別の本体モジュール９０Ｂを調整用治具として組立及
び調整が行われているため、ステージモジュール９１Ｂ
用に専用の調整治具を用意する必要がなくなり、投影露
光装置の製造工場の必要面積を狭くすることができると
ともに、製造コストを低減することができる。特に、本
例のようにステージモジュール９１Ｂがダブル・ホルダ
方式又はダブル・ステージ方式の大型のステージ系を有
する場合には、仮に専用の調整治具を用意するとなる
と、そのステージ系以上の大型の調整治具が必要となる
ため、本例のように製品の一部である本体モジュール９
０Ｂを調整治具として使用する方法の効果は極めて大き
い。

【００８６】また、本例では最初にステージモジュール
９１Ｂの調整治具として使用された本体モジュール９０
Ｂも最終的に製品となるため、無駄が無いという利点が
ある。また、本例の投影露光装置は、本体コラム５の底
面にウエハステージ系ＷＳＴを吊り下げるように支持
し、それと上下方向にほぼ対称にレチクルステージ系Ｒ
ＳＴを支持しており、本体コラム５に対して能動型防振
台６を介して投影光学系ＰＬを支持しているため、走査
露光時の振動等が互いに他の部材に伝わりにくくなり、
振動の影響を大きく低減できる利点がある。また、この
ような構造では、レチクルステージ系ＲＳＴ及びウエハ
ステージ系ＷＳＴの着脱が従来の積み上げ方式の構造と
比べて容易であるため、本例のように所定のモジュール
の調整を行うために工具レチクルステージ系や工具ウエ
ハステージ系を用いたり、更には別の本体モジュールを
用いて組立調整したステージモジュールを利用するとい
う手法を適用し易いという利点もある。

【００８７】なお、上記の実施の形態では、２つの製造
ラインを設けているが、更に第３の製造ライン（例えば
第３のクリーンルーム内に配置される）を用意して、こ
の第３の製造ラインにおいて、図９のステップ１０９〜
１１１のステージモジュールの組立作業を行うようにし
てもよい。あるいは、図９の第１及び第２製造ラインと
同様な各ステップを有するとともに、第２製造ラインよ
りも遅い時期に本体モジュール（９０Ｃ）の組立ステッ
プ（ステップ１０９及ぴステップ１２１に相当する）を
開始するシーケンスを有する第３の製造ラインを設ける
ことができる。この場合、第１製造ラインのステップ１
１１て取り外されたステージモジュールを第３製造ライ
ンにおける工具ステージを取り外すステップ（ステッブ
１０７及びステップ１２９に相当）で、第３製造ライン
の本体モジュールに搭載することができる。そして、第
３製造ラインにおけるステージモジュールの取り外しス
テップ（ステップ１１１及び１２５に相当）で取り外さ
れたステージモジュールを第２製造ラインのステップ１
２９で第２製造ラインの本体モジュール９０Ｂに搭載す
るようにステージモジュールの流れを変更することがで
きる。

【００８８】同様にして４以上の製造ラインを設けて、
各製造ラインて同じシーケンスのステップ群を有する
が、所定ステップの作業開始時期が各製造ラインで少し
ずつ遅れるようにして各製造ラインを稼動させて、開始
時期がより遅い製造ラインに、組み立てられたステージ
モジュールを移送するようにしてもよい。この場合、所
定ステップを最も遅く開始した製造ラインからは最も早
く開始した製造ラインにステージモジュールを移送する
ことができる。すなわち、本発明の製造方法は、同一の
繰り返しステップを有するシーケンスを有する複数の製
造ライン（複数のライン）をそれらの開始時期を所定時
間だけシフトさせて稼動させることによって実行するこ
とができる。

【００８９】また、図１の投影露光装置では、投影系コ
ラム１３上の照明系支持部１４上に第２照明系ＩＬ２が
収納されたサブチャンバ１５を支持しているが、本例で
は固定視野絞り２１がレチクルベース３１上に設置され
ているため、その第２照明系ＩＬ２及びサブチャンバ１
５は、例えばフレームキャスタ２上で第１照明系ＩＬ１
（サブチャンバ１７）を支持している照明系支持部２２
によって支持するようにしてもよい。

【００９０】また、図１の投影露光装置では、本体コラ
ム５のサブコラム５ｂに防振部材７を介してレチクル支
持部ＲＳを支持し、このレチクル支持部ＲＳにレチクル
ステージ系ＲＳＴを支持している。その他の構成とし
て、投影光学系ＰＬを支持するサブコラム２５上にレチ
クル支持部ＲＳを固定し、このレチクル支持部ＲＳによ
ってレチクルステージ系ＲＳＴを支持するようにしても
よい。

【００９１】次に、本発明の実施の形態の他の例につき
図１０〜図１２を参照して説明する。本例は、図９のス
テップ１０３及び１０６でそれぞれ使用される工具レチ
クルステージ系及び工具ウエハステージ系として、より
簡略化されたステージ系を使用するものであり、図１０
において、図１及び図３に対応する部分には同一符号を
付してその詳細説明を省略する。

【００９２】図１０は、第１製造ラインの床１Ａ上で本
例の投影露光装置を製造する工程中で、本体モジュール
９０Ａに照明系、投影光学系ＰＬ、工具レチクルステー
ジ系ＲＳＴＡ、及び工具ウエハステージ系ＷＳＴＡを搭
載した状態を示し、この図１０において、第１の調整用
ステージとしての工具レチクルステージ系ＲＳＴＡは、
レチクル支持部ＲＳ上に載置されるベース部材３１Ａ
と、このベース部材３１Ａ上に２次元的に移動自在に載
置される可動ステージ３２Ａと、この可動ステージ３２
ＡをＸ方向、Ｙ方向に駆動する例えばリニアモータ又は
ステッピングモータ方式の駆動装置６１と、可動ステー
ジ３２Ａ上に固定される照明系計測装置６３と、可動ス
テージ３２Ａ上に載置されるダミーレチクルＲＡと、ベ
ース部材３１Ａ上に固定される支持部２０Ａと、支持部
２０Ａに固定される固定視野絞り２１Ａとを備えてい
る。本例のベース部材３１Ａは、図１のレチクルベース
３１よりも小型であり、レチクルステージ系ＲＳＴはダ
ブル・ホルダ方式であるのに対して、工具レチクルステ
ージ系ＲＳＴＡは、シングル・ホルダ方式のシングル・
ステージであるため、工具レチクルステージ系ＲＳＴＡ
は、全体としてレチクルステージ系ＲＳＴよりも大幅に
小型で、かつ軽量化されている。本例の照明系計測装置
６３は、照明系の照度分布のむら、コヒーレンスファク
タのばらつき、及びテレセントリシティを計測すること
ができる。

【００９３】また、図１０において、第２の調整用ステ
ージとしての工具ウエハステージ系ＷＳＴＡは、本体モ
ジュール９０Ａのサブコラム３３に支持されるコラム３
４Ａと、このコラム３４Ａに対して吊り下げ部３６Ｃ，
３６Ｄを介して吊り下げるように支持されるベース部材
３８Ａと、このベース部材３８Ａ上に２次元的に移動自
在に載置されて上面にウエハが載置される可動ステージ
４１Ｃと、この可動ステージ４１ＣをＸ方向に駆動する
ためのＸ軸リニアガイド３９Ａ，４０Ａと、可動ステー
ジ４１ＣをＹ方向に駆動するためのＹ軸スライダ４２Ｃ
と、不図示のリニアモータ等の駆動装置とを備えてい
る。この場合、ベース部材３８Ａは、図１のウエハベー
ス３８よりもかなり小型であり、可動ステージ４１Ｃの
可動範囲も図１のウエハステージ４１Ａ，４１Ｂに比べ
るとかなり狭く設定されている。更に、ウエハステージ
系ＷＳＴはダブル・ステージ方式であるのに対して、工
具ウエハステージ系ＷＳＴＡは、シングル・ホルダ方式
のシングル・ステージであるため、工具ウエハステージ
系ＷＳＴＡは、全体としてウエハステージ系ＷＳＴより
も大幅に小型で、かつ軽量化されている。

【００９４】次に、図１０中の照明系計測装置６３の構
成例につき説明する。図１１（Ａ）は、照明系計測装置
６３の一例を示す平面図、図１１（Ｂ）はその正面から
見た断面図であり、図１１（Ａ），（Ｂ）に示すよう
に、照明系計測装置６３の箱状の本体部の上面の開口を
覆うように露光光を透過するガラス基板６４が設置さ
れ、ガラス基板６４の下面に遮光膜を背景としてピンホ
ール６４ａ及び走査方向ＳＤ（Ｙ方向）に細長いスリッ
ト６４ｂが形成されている。スリット６４ｂの長さは、
露光光の照明領域２６Ｒよりも長く設定されており、ス
リット６４ｂの底面にはスリット６４ｂを通過した露光
光を受光する光電検出器６６が配置されている。また、
ピンホール６４ａの底面には集光レンズ６７が配置さ
れ、集光レンズ６７による光学的なフーリエ変換面（瞳
面）にＣＣＤ等の２次元の撮像素子６８の受光面が配置
され、撮像素子６８及び光電検出器６６の検出信号が信
号処理装置６９に供給されている。

【００９５】また、照明系計測装置６３の本体部の上面
のガラス基板６４に隣接する開口を覆うように、照明領
域２６Ｒとほぼ同じ大きさの領域内に複数の特性評価用
の２次元のパターン６６Ａ〜６６Ｅが形成された露光光
を透過する基準板６５が設置されており、基準板６５の
底面は露光光が透過するように開口となっている。この
基準板６５の特性評価用のパターン６６Ａ〜６６Ｅの像
を投影光学系ＰＬを介してウエハステージ系側に投影
し、その像の位置を計測することによって、投影光学系
ＰＬのディストーションや倍率誤差等を評価することが
できる。

【００９６】また、図１１の照明系計測装置６３を用い
て照明領域２６Ｒの非走査方向（Ｘ方向）の照度むらを
計測する場合には、露光光の照明領域２６Ｒをスリット
６４ｂがＹ方向に覆うように照明系計測装置６３を位置
決めした後、駆動装置６１を用いて矢印Ａで示すように
照明系計測装置６３をＸ方向（非走査方向）に移動させ
て、光電検出器６６の検出信号をモニタすればよい。こ
の方法では、照明領域２６Ｒ中の走査方向の照度むらは
計測できないが、走査露光方式では、走査方向の照度む
らは積分効果で平均化されるため、ここでは計測してい
ない。

【００９７】一方、照明領域２６Ｒ中のコヒーレンスフ
ァクタ（σ値）のばらつきを計測する場合、ピンホール
６４ａで照明領域２６ＲをＸ方向、Ｙ方向に走査するよ
うに照明系計測装置６３を駆動して、各計測点毎に撮像
素子６８上での入射光の中心点（光量の重心点）、及び
その入射光の広がりの大きさをモニタする。この際、そ
の入射光の広がりの大きさが各計測点でのσ値に対応す
る。また、その入射光の中心点がその入射光の入射角に
対応するため、各計測点での入射光の中心点をモニタす
ることで、照明系のテレセントリシティも計測すること
ができる。更に、その光量の積分値より走査方向の照度
むらも計測できる。

【００９８】なお、照明系計測装置６３としては、図１
２のような構成も用いることができる。図１２（Ａ）
は、照明系計測装置６３の他の例の要部であるガラス基
板６４Ａを示す平面図、図１２（Ｂ）はその側面図、図
１２（Ｃ）はその正面図であり、この図１２（Ａ）〜
（Ｃ）に示すように、ガラス基板６４Ａの下面に遮光膜
を背景としてピンホール６４ａ及び走査方向ＳＤ（Ｙ方
向）に細長いスリット６４ｂが非走査方向に並べて形成
されている。そして、ピンホール６４ａの底面には集光
レンズ６７、及び２次元の撮像素子６８（この受光面は
瞳面に位置している）が配置され、スリット６４ｂの底
面にはＸ方向に屈折力を持つシリンドリカルレンズ７０
が配置され、このシリンドリカルレンズ７０の光学的な
フーリエ変換面（瞳面）にＣＣＤ等の２次元の撮像素子
７１の受光面が配置されている。

【００９９】この例では、図１２（Ａ）に示すように、
スリット６４ｂで照明領域２６Ｒを覆うようにして、矢
印Ａで示すようにガラス基板６４Ａ及び検出系を非走査
方向（Ｘ方向）に移動して、各計測点で撮像素子７１に
対する入射光の光量分布のＸ方向の幅のばらつきをモニ
タすることによって、照明領域２６Ｒ内での非走査方向
のコヒーレンスファクタのむらを計測することができ
る。なお、照明領域２６Ｒの走査方向の幅は狭く、照明
領域２６Ｒ内でのコヒーレンスファクタの走査方向のば
らつきは小さいため、この例ではコヒーレンスファクタ
の走査方向のばらつきは計測していない。

【０１００】更に、ピンホール６４ａを照明領域２６Ｒ
の走査方向の中央に設置した状態で、ガラス基板６４Ａ
及び検出系を非走査方向に移動して、各計測点で撮像素
子６８に対する入射光の光量分布のＸ方向、Ｙ方向の中
心位置をモニタすることによって、照明領域２６Ｒ中で
のテレセントリシティをほぼ正確に計測することができ
る。なお、前述の照明光学系（第１及び第２照明系ＩＬ
１、ＩＬ２）の波面収差を計測して収差調整を行っても
よい。

【０１０１】なお、上記の実施の形態の投影露光装置を
用いてウエハ上に半導体デバイスを製造する場合、この
半導体デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うス
テップ、このステップに基づいたレチクルを製造するス
テップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、
上記の実施の形態の投影露光装置によりアライメントを
行ってレチクルのパターンをウエハに露光するステッ
プ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボン
ディング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ
等を経て製造される。

【０１０２】なお、本発明の露光装置の用途としては半
導体デバイス製造用の露光装置に限定されることなく、
例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素
子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装
置用の露光装置や、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマ
シン、薄膜磁気ヘッド、又はＤＮＡチップ等の各種デバ
イスを製造するための露光装置にも広く適用できる。更
に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成さ
れたマスク（フォトマスク、レチクル等）をフォトリソ
グラフィ工程を用いて製造する際の、露光工程（露光装
置）にも適用することができる。

【０１０３】また、本発明は、ステップ・アンド・スキ
ャン方式のような走査露光方式の投影露光装置のみなら
ず、ステップ・アンド・リピート方式（一括露光方式）
の投影露光装置、更には投影光学系を使用しないプロキ
シミティ方式等の露光装置にも適用することができる。
これらの場合、ウエハステージ系やレチクルステージ系
にリニアモータを用いる場合は、エアーベアリングを用
いたエアー浮上型、又は磁気浮上型等の何れの方式で可
動ステージを保持してもよい。

【０１０４】また、可動ステージは、ガイドに沿って移
動するタイプでもよいし、ガイドを設けないガイドレス
タイプであってもよい。また、ウエハステージ、又はレ
チクルステージのステップ移動時や走査露光時等の加減
速時に発生する反力は、それぞれ例えば米国特許(USP)
第5,528,118 号、又は米国特許(USP) 第6,020,710 号
（特開平８−３３０２２号公報）に開示されているよう
に、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がし
てもよい。

【０１０５】このように本発明は上述の実施の形態に限
定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成
を取り得る。

【０１０６】

【発明の効果】本発明によれば、他の製造ラインで組立
が行われた機構部を用いることによって、専用の大型の
調整治具を用いることなく、効率的に露光装置を製造す
ることができる。また、振動の影響を軽減するために例
えば第２物体用のステージを吊り下げるように支持した
場合には、第１物体及び第２物体用のステージの着脱が
比較的容易になるため、本発明の製造方法の適用が容易
になり、露光装置を効率的に製造することができる。

【０１０７】また、本発明のデバイスの製造方法によれ
ば、高機能のデバイスを低い製造コストで量産できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施の形態の一例の投影露光装置を
示す一部を切り欠いた構成図である。

【図２】 図１のウエハステージ系を示す平面図であ
る。

【図３】 第１の製造ラインで製造中の投影露光装置の
本体モジュール９０Ａ及び照明系を示す一部を切り欠い
た構成図である。

【図４】 図１中の投影光学系ＰＬの構造及び製造方法
を示す図である。

【図５】 図４のＡＡ線に沿う断面図である。

【図６】 第１の製造ラインで製造中の投影露光装置の
本体モジュール９０Ａ、照明系、及び投影光学系ＰＬを
示す一部を切り欠いた構成図である。

【図７】 第１の製造ラインで製造中の投影露光装置の
ステージモジュール９１Ｂを示す一部を切り欠いた構成
図である。

【図８】 図１中のローダモジュール９２Ａを示す図で
ある。

【図９】 その実施の形態の投影露光装置の製造シーケ
ンスの一例を示すフローチャートである。

【図１０】 本発明の実施の形態の他の例において、投
影露光装置の本体モジュール９０Ａに工具レチクルステ
ージ系ＲＳＴＡ、及び工具ウエハステージ系ＷＳＴＡを
搭載した状態を示す一部を切り欠いた構成図である。

【図１１】 （Ａ）は図１０の照明系計測装置６３の一
例を示す平面図、（Ｂ）は図１１（Ａ）の正面から見た
断面図である。

【図１２】 （Ａ）は図１０の照明系計測装置６３の他
の例の要部を示す平面図、（Ｂ）は図１２（Ａ）の側面
図、（Ｃ）は図１２（Ａ）の正面図である。

【符号の説明】

２…フレームキャスタ、３…本体支持部、４，６，７…
能動型防振台、５…本体コラム、１３…投影系コラム、
１４，２２…照明系支持部、１５，１７…サブチャン
バ、１６…露光光源、ＩＬ１…第１照明系、ＩＬ２…第
２照明系、２１…固定視野絞り、ＲＳＴ…レチクルステ
ージ系、Ｒ１，Ｒ２…レチクル、ＰＬ…投影光学系、Ｗ
ＳＴ…ウエハステージ系、Ｗ１，Ｗ２…ウエハ、３４…
センサーコラム、９０Ａ，９０Ｂ…本体モジュール、９
１Ｂ…ステージモジュール、ＲＳＴＡ，ＲＳＴＢ…工具
レチクルステージ系、ＷＳＴＡ，ＷＳＴＢ…工具ウエハ
ステージ系

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/30 ５０３Ｂ ５０３Ｆ Ｆターム(参考） 3C030 DA01 DA04 5F031 CA02 CA07 HA13 HA42 HA53 HA55 JA01 JA06 JA09 JA14 JA17 JA32 KA06 LA07 MA27 NA02 NA05 5F046 AA23 AA28 BA04 BA05 CC01 CC02 DD06

Claims (33)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 本体と第１モジュールとを含む製品を製
   造する製造方法であって、 複数のラインで、それぞれ、前記第１モジュールを製造
   すること及び前記第１モジュールを前記本体に組み付け
   ることを含み、 前記複数のラインのシーケンスが時間的にずれており、
   一のラインで製造された前記第１モジュールが別のライ
   ンに移送されて該別のライン上で前記本体に組み付けら
   れることを特徴とする製品の製造方法。
2. 【請求項２】 前記複数のラインが、第１ライン及び第
   ２ラインを含み、該第１及び第２ラインで、それぞれ、
   前記第１モジュールを製造すること、第２モジュールを
   製造すること、及び前記第１モジュールを前記本体に組
   み付けることが繰り返し行われ、 前記第１ラインと前記第２ラインのシーケンスが時間的
   にずれており、前記第２ラインで製造された前記第１モ
   ジュールが前記第１ラインに移送されて前記第１ライン
   上で前記本体に組み付けられ、前記第１ラインで製造さ
   れた前記第１モジュールが前記第２ラインに移送されて
   前記第２ライン上で前記本体に組み付けられる請求項１
   に記載の製品の製造方法。
3. 【請求項３】 前記製品が露光装置であり、前記本体が
   露光装置の本体フレームであり、前記第１モジュールが
   ステージ系であり、前記第２モジュールが照明系である
   請求項２に記載の製品の製造方法。
4. 【請求項４】 前記第１ラインで前記本体の組立及び前
   記照明系の組立を行った後、前記第２ラインで組立てら
   れた前記ステージ系が前記第１ラインに搬送されて前記
   第１ラインで前記本体に組み付けられ、次いで前記第１
   ラインで前記ステージ系が組み立てられて前記第２ライ
   ンに搬送される請求項３に記載の製品の製造方法。
5. 【請求項５】 前記第２ラインで前記本体の組立及び前
   記ステージ系の組立が行われ、組み立てられた前記ステ
   ージ系を前記第１ラインに搬送し、次いで前記第１ライ
   ンで組み立てられた前記ステージ系が前記第２ラインに
   搬送される請求項４に記載の製品の製造方法。
6. 【請求項６】 前記第１及び第２ラインに前記第２及び
   第１ラインから前記ステージ系がそれぞれ搬送される前
   に、各ラインにおいて前記本体に投影系が搭載される請
   求項５に記載の製品の製造方法。
7. 【請求項７】 前記第１及び第２ラインに前記第２及び
   第１ラインから前記ステージ系がそれぞれ搬送される前
   に、各ラインにおいて調整用ステージ系が前記本体に搭
   載され且つ調整完了後に取り外される請求項５に記載の
   製品の製造方法。
8. 【請求項８】 前記ステージ系が、転写パターンを有す
   る物体を移動するステージと被露光物体を移動するステ
   ージを含む請求項３に記載の製品の製造方法。
9. 【請求項９】 露光ビームで投影系を介して物体を露光
   する露光装置の製造方法において、 複数の製造ラインにおいて、それぞれ本体フレームに各
   種機構部を装着して露光装置を組み上げるに際して、 一の製造ラインで組立調整が行われた所定の機構部を、
   他の製造ラインで組立調整中の露光装置の機構部として
   使用することを特徴とする露光装置の製造方法。
10. 【請求項１０】 前記所定の機構部は、前記物体の位置
    決めを行うステージ系であることを特徴とする請求項９
    に記載の露光装置の製造方法。
11. 【請求項１１】 露光ビームで第１物体及び投影系を介
    して第２物体を露光する露光装置の製造方法であって、 第１製造ライン上で前記露光装置の第１本体フレームを
    組み上げる第１工程と；第２製造ライン上で前記露光装
    置の第２本体フレームを組み上げる第２工程と；前記第
    １製造ラインにおいて、前記第１本体フレームの前記第
    １物体の位置決め用のステージが載置される位置に第１
    調整用ステージを搭載して、前記第１本体フレームに搭
    載される照明系の組立調整を行う第３工程と；前記第２
    製造ラインにおいて、前記第２本体フレームを用いて前
    記第１物体及び前記第２物体の位置決めを行うステージ
    系の組立調整を行う第４工程と；前記第１製造ラインに
    おいて、前記第１本体フレームから前記第１調整用ステ
    ージを取り外すと共に、前記第１本体フレームに前記投
    影系、及び前記第２本体フレームから取り外された前記
    ステージ系を搭載して第１露光装置を組み上げる第５工
    程と；を有する露光装置の製造方法。
12. 【請求項１２】 前記第５工程に続いて、前記第２製造
    ラインにおいて、前記第２本体フレームを用いて第２露
    光装置の組立調整を行う請求項１１に記載の露光装置の
    製造方法。
13. 【請求項１３】 前記第５工程は、 前記第１本体フレームに前記投影系を搭載する第１副工
    程と；前記第１本体フレームの前記第２物体の位置決め
    用のステージが載置される位置に第２調整用ステージを
    搭載して、前記投影系の調整を行う第２副工程と；前記
    第１本体フレームから前記第１及び第２調整用ステージ
    を取り外す第３副工程と；前記第１本体フレームに、前
    記第２本体フレームから取り外された前記ステージ系を
    搭載する第４副工程と；を有する請求項１１に記載の露
    光装置の製造方法。
14. 【請求項１４】 前記第１調整用ステージは、２次元的
    に移動可能なピンホールと、該ピンホールを通過した露
    光ビームを光学的なフーリエ変換面で検出する光電検出
    器とを有し、 該調整用ステージを用いて、前記照明系のコヒーレンス
    ファクタのばらつきを計測する請求項１１に記載の露光
    装置の製造方法。
15. 【請求項１５】 前記露光装置は、前記第１物体と前記
    第２物体とを所定の走査方向に同期移動して露光を行う
    走査露光型の露光装置であり、 前記第１調整用ステージは、前記走査方向に交差する非
    走査方向に移動可能なピンホールと、該ピンホールを通
    過した露光ビームを検出する光電検出器とを有し、 該調整用ステージを用いて、前記照明系の実質的に２次
    元的な照度むらを計測する請求項１１に記載の露光装置
    の製造方法。
16. 【請求項１６】 前記第２製造ラインにおいて、前記ス
    テージ系を第２本体フレームから取り外した後に、前記
    第２製造ラインにおいて、第２本体フレームの第１物体
    の位置決め用のステージが載置される位置に前記取り外
    された第１調整用ステージを搭載して、第２本体フレー
    ムに搭載される照明系の組立調整を行う工程を更に含む
    請求項１３に記載の露光装置の製造方法。
17. 【請求項１７】 前記第２製造ラインにおいて、前記第
    ２本体フレームの前記第２物体の位置決め用のステージ
    が載置される位置に、前記取り外された第２調整用ステ
    ージを搭載して前記投影系の調整を行う工程を更に含む
    請求項１６に記載の露光装置の製造方法。
18. 【請求項１８】 前記露光装置は、前記第１物体と前記
    第２物体とを所定の走査方向に同期移動して露光を行う
    走査露光型の露光装置であり、 前記第１調整用ステージは、前記走査方向に交差する非
    走査方向に移動可能なスリットと、該スリットを通過し
    た露光ビームを検出する光電検出器とを有し、 該調整用ステージを用いて、前記照明系の実質的に２次
    元的な照度むらを計測する請求項１１に記載の露光装置
    の製造方法。
19. 【請求項１９】 前記第１本体フレームと前記第１調整
    用ステージとの位置関係に基づいて、前記第２本体フレ
    ームに装着されている前記ステージ系の調整を行う請求
    項１１に記載の露光装置の製造方法。
20. 【請求項２０】 前記第１本体フレームと前記第２調整
    用ステージとの位置関係に基づいて、前記第２本体フレ
    ームに装着されている前記ステージ系の調整を行う請求
    項１３に記載の露光装置の製造方法。
21. 【請求項２１】 前記照明系の前記第１物体側の部分照
    明系は、前記第１本体フレームに対してスライド可能に
    装着され、 前記第１本体フレームに対する前記第１調整用ステージ
    の着脱時、及び前記ステージ系の装着時に、前記部分照
    明系を待避させる請求項２０に記載の露光装置の製造方
    法。
22. 【請求項２２】 露光ビームで第１物体及び投影系を介
    して第２物体を露光する露光装置であって、 本体フレームと；該本体フレームに対してスライド可能
    な部分照明系を含み、前記露光ビームで前記第１物体を
    照明する照明系と；前記部分照明系が前記本体フレーム
    に対して待避している状態で前記本体フレームに装着可
    能で、前記第１物体及び第２物体の位置決めを行うステ
    ージ系と；を有する露光装置。
23. 【請求項２３】 前記ステージ系は、前記第１物体及び
    第２物体の位置決めをそれぞれ行う第１ステージ及び第
    ２ステージを備え、 前記第２ステージは、前記本体フレームに対して吊り下
    げられるように支持され、 前記第１ステージは、前記本体フレームに対して防振部
    材を介して支持される請求項２２に記載の露光装置。
24. 【請求項２４】 前記本体フレームは、ベース部材と、
    該ベース部材に対して防振部材を介して載置される第１
    部材と、該第１部材に対して防振部材を介して載置され
    る第２部材とを有し、 前記照明系の前記部分照明系は、前記第２部材の上部に
    支持され、 前記投影系は、前記第２部材の底部に支持される請求項
    ２２に記載の露光装置。
25. 【請求項２５】 前記ステージ系は、前記第１物体及び
    第２物体を位置決めする第１ステージ及び第２ステージ
    を備え、 前記第１ステージは、前記第１部材に対して防振部材を
    介して載置される請求項２４に記載の露光装置。
26. 【請求項２６】 前記ステージ系は、前記第１物体及び
    第２物体を位置決めする第１ステージ及び第２ステージ
    を備え、 前記第１ステージは、前記第２部材に対して前記部分照
    明系と並列に載置される請求項２４に記載の露光装置。
27. 【請求項２７】 前記照明系が、前記部分照明系を支持
    する支持部と該支持部に対して前記部分照明系をスライ
    ドさせるガイド軸とを備える請求項２２に記載の露光装
    置。
28. 【請求項２８】 露光ビームで第１物体及び投影系を介
    して第２物体を照明する露光装置であって、 ベース部材と、該ベース部材に対して第１防振部材を介
    して載置される第１部材とを備える本体フレームと；前
    記第１部材に対して第２防振部材を介して載置されて前
    記投影系を保持する第２部材と；前記第１部材に支持さ
    れて前記第１物体の位置決めを行う第１ステージと；前
    記第１部材に対して吊り下げられるように支持されて前
    記第２物体の位置決めを行う第２ステージと；を有し、 前記第１ステージ及び前記第２ステージはそれぞれ前記
    第１部材に対して着脱可能に支持される露光装置。
29. 【請求項２９】 前記第１ステージは、前記第１部材に
    対して第３防振部材を介して支持される請求項２８に記
    載の露光装置。
30. 【請求項３０】 前記第１ステージは、前記第２部材に
    対して前記投影系と並列に支持される請求項２８に記載
    の露光装置
31. 【請求項３１】 前記第２部材に、前記第２ステージ及
    び前記第２物体の少なくとも一方の位置を検出するため
    のセンサが設けられている請求項２８に記載の露光装
    置。
32. 【請求項３２】 前記第２ステージは、ダブルステージ
    方式のステージ装置である請求項２８に記載の露光装
    置。
33. 【請求項３３】 請求項２２又は２８に記載の露光装置
    を用いて、デバイスパターンをワークピース上に転写す
    る工程を含むデバイス製造方法。