JP2002268054A - Liquid crystal display device and method for manufacturing liquid crystal display device - Google Patents
Liquid crystal display device and method for manufacturing liquid crystal display deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示装置に
係り、特に、一画素領域内に外光を反射することによっ
て画像を表示する反射部とバックライト光を透過するこ
とによって画像を表示する透過部とを有する半透過型の
カラー液晶表示装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a reflective portion for displaying an image by reflecting external light in one pixel region and displaying an image by transmitting backlight light. The present invention relates to a transflective color liquid crystal display device having a transmissive portion.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、液晶表示装置は、パーソナルコ
ンピュータ、各種モニタ、カーナビゲーションシステ
ム、TVなど様々な用途に応用されている。中でも反射
型液晶表示装置は、バックライトユニットが不要である
ことから低消費電力、薄型軽量といった利点を生かし
て、モバイルPCなどの携帯機器用ディスプレイへの応
用が広がりつつある。2. Description of the Related Art In general, liquid crystal display devices are applied to various uses such as personal computers, various monitors, car navigation systems, and TVs. Above all, the reflection type liquid crystal display device has been applied to a display for a portable device such as a mobile PC, taking advantage of low power consumption, thinness and light weight since a backlight unit is not required.
【0003】反射型液晶表示装置は、内部に光反射層を
内蔵し、外部から入射した光を反射することで画像を表
示する。このような原理から、従来の反射型液晶表示装
置は、使用環境が暗い場合に表示画面も暗くなり、表示
画像が見難くいものとなる。特に、暗闇では全く使用す
ることができない。A reflection type liquid crystal display device has a built-in light reflection layer inside and displays an image by reflecting light incident from the outside. From such a principle, in the conventional reflective liquid crystal display device, when the use environment is dark, the display screen becomes dark, and the displayed image is difficult to see. In particular, it cannot be used at all in the dark.
【0004】こうした問題を解決するために、半透過型
液晶表示装置が実用化されている。この半透過型液晶表
示装置は、バックライトユニットを液晶表示パネルの背
面に配置し、暗い環境下では透過型液晶表示素子として
利用し、明るい環境下では反射型液晶表示素子として利
用するものである。In order to solve these problems, transflective liquid crystal display devices have been put to practical use. In this transflective liquid crystal display device, a backlight unit is arranged on a back surface of a liquid crystal display panel, and is used as a transmissive liquid crystal display element in a dark environment, and is used as a reflective liquid crystal display element in a bright environment. .
【0005】この半透過型液晶表示装置は、内蔵する反
射層を半透過反射層、すなわちハーフミラーとする、ま
たは、1つの画素領域を透過部と反射部に分割すること
によってある程度のバックライト光を透過させるように
構成されている。いずれの方式であっても、外部からの
入射光を反射させると同時にバックライトからの光もあ
る割合で透過させることにより、使用環境下の明るさに
かかわらず表示性能を確保できるようにしたものであ
る。In this transflective liquid crystal display device, the built-in reflection layer is a transflective layer, that is, a half mirror, or one pixel region is divided into a transmissive portion and a reflective portion to provide a certain amount of backlight light. Is transmitted. Regardless of the system, the display performance is ensured regardless of the brightness under the usage environment by reflecting the light from the outside and transmitting a certain percentage of the light from the backlight at the same time. It is.
【0006】こうした半透過型液晶表示装置もカラーフ
ィルタを内蔵することによりカラー表示が可能となる。[0006] Such a transflective liquid crystal display device can also perform color display by incorporating a color filter.
【0007】このような半透過型液晶表示装置では、反
射型として機能する場合、外光は、反射電極上に設けら
れたカラーフィルタを2回通過する。したがって、カラ
ーフィルタは、外光が2回通過した時に所望の色が得ら
れるような分光波長特性を有している必要がある。ま
た、この場合、用いる光は外光であり、その光強度は自
由に制御できない。In such a transflective liquid crystal display device, when functioning as a reflective type, external light passes twice through a color filter provided on a reflective electrode. Therefore, the color filter needs to have a spectral wavelength characteristic such that a desired color can be obtained when external light passes twice. In this case, the light used is external light, and the light intensity cannot be freely controlled.
【0008】加えて、他の構成要素である偏光板などに
より素子全体の透過率は十分なものとはならないので、
できるだけ表示画面の輝度を高く保つ(透過率を高く保
つ)ために、カラーフィルタの分光波長特性は、外光が
1回通過した時に十分な着色が得られないほど淡い特性
となるように設計せざるを得ない。反射型として用いる
場合、表示明るさとの兼ね合いからこのような分光波長
特性を有するカラーフィルタを用いざるを得ない。In addition, the transmittance of the entire device is not sufficient due to other components such as a polarizing plate.
In order to keep the brightness of the display screen as high as possible (keeping the transmittance high), the spectral wavelength characteristics of the color filters are designed to be so light that sufficient coloring cannot be obtained when external light passes once. I have no choice. When used as a reflection type, a color filter having such a spectral wavelength characteristic has to be used in consideration of display brightness.
【0009】また、半透過型液晶表示装置が透過型とし
て機能する場合、バックライト光は、カラーフィルタを
1回だけ通過する。したがって、カラーフィルタは、バ
ックライト光が1回だけ通過した時に所望の色が得られ
るような分光波長特性を有している必要がある。すなわ
ち、透過型として機能する場合、カラーフィルタの分光
波長特性は、カラーフィルタを1回通過した時の分光波
長特性、つまりはカラーフィルタの分光波長特性そのも
のとなる。When the transflective type liquid crystal display device functions as a transmissive type, the backlight light passes through the color filter only once. Therefore, the color filter needs to have a spectral wavelength characteristic such that a desired color can be obtained when the backlight passes only once. That is, when functioning as a transmission type, the spectral wavelength characteristic of the color filter is the spectral wavelength characteristic when the light passes through the color filter once, that is, the spectral wavelength characteristic of the color filter itself.
【0010】反射型として機能する場合に最適な分光波
長特性を有するようなカラーフィルタを透過型に用いた
場合、極めて淡い色濃度となってしまう。逆に、透過型
として機能する場合に最適な分光波長特性を有するよう
なカラーフィルタを反射型に用いた場合、極めて輝度が
低下してしまう。When a color filter having an optimum spectral wavelength characteristic when used as a reflection type is used as a transmission type, an extremely light color density results. Conversely, when a color filter having an optimum spectral wavelength characteristic when functioning as a transmissive type is used for a reflective type, the luminance is extremely reduced.
【0011】従来、このような問題を解決するために、
アレイ基板側と対向基板側とにそれぞれカラーフィルタ
を配置し、反射部に対応するアレイ基板側または対向基
板側のカラーフィルタを透明樹脂で置き換えればよい。
ただし、この方法では、アレイ基板側及び対向基板側に
それぞれカラーフィルタが必要となり、部品点数が増え
ることに加えて、製造プロセスが複雑となり、製品のコ
ストアップにつながるおそれがある。また、対向基板側
のカラーフィルタを画素に対応して領域分割すること
は、対向基板上のカラーフィルタとアレイ基板のカラー
フィルタとの位置合わせに高い精度が要求され、これも
製造歩留まりを低下させ、結果的に製品のコストアップ
につながる問題がある。Conventionally, in order to solve such a problem,
Color filters may be disposed on the array substrate side and the counter substrate side, respectively, and the color filter on the array substrate side or the counter substrate side corresponding to the reflection portion may be replaced with a transparent resin.
However, in this method, a color filter is required on each of the array substrate side and the opposing substrate side, and in addition to an increase in the number of components, the manufacturing process becomes complicated, which may lead to an increase in product cost. In addition, dividing the color filter on the counter substrate side into regions corresponding to pixels requires high precision in alignment between the color filter on the counter substrate and the color filter on the array substrate, which also lowers the manufacturing yield. There is a problem that results in an increase in the cost of the product.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】上述したように、半透
過型カラー液晶表示装置では、反射型として機能した場
合に表示画像の輝度が著しく低下するか、透過型として
機能した場合に表示画像の輝度が著しく淡くなるかの光
学特性しか得られない。As described above, in a transflective color liquid crystal display device, the brightness of a display image is significantly reduced when functioning as a reflection type, or the display image is deteriorated when functioning as a transmission type. Only the optical characteristics of whether the luminance is extremely low can be obtained.
【0013】この発明は、上述した問題点に鑑みなされ
たものであって、その目的は、使用環境下の明るさにか
かわらず、反射型及び透過型として機能した場合であっ
ても高品位な画像を表示することが可能な液晶表示装置
及びこの液晶表示装置の製造方法を提供することにあ
る。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems, and has as its object to achieve high quality even when functioning as a reflection type and a transmission type regardless of the brightness under the use environment. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of displaying an image and a method for manufacturing the liquid crystal display device.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、請求項1に記載の液晶表示装置は、一
対の基板間に液晶組成物を挟持した液晶表示パネルと、
前記液晶表示パネルを照明するバックライトユニット
と、を備えた液晶表示装置において、一方の基板上に形
成された一画素領域は、第1カラーフィルタ層及び反射
型電極を備え外光を反射する反射部と、第2カラーフィ
ルタ層及び透過型電極を備え前記バックライトユニット
からのバックライト光を透過する透過部と、を有し、前
記第1カラーフィルタ層及び第2カラーフィルタ層は、
同一膜厚の同一材料によって形成され、且つ、互いに光
学特性が異なることを特徴とする。In order to solve the above problems and achieve the object, a liquid crystal display device according to claim 1 comprises a liquid crystal display panel having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of substrates;
A backlight unit for illuminating the liquid crystal display panel, wherein one pixel region formed on one of the substrates has a first color filter layer and a reflective electrode for reflecting external light. And a transmissive unit that includes a second color filter layer and a transmissive electrode and transmits backlight light from the backlight unit, wherein the first color filter layer and the second color filter layer are:
It is formed of the same material having the same thickness and has different optical characteristics.
【0015】請求項7に記載の液晶表示装置の製造方法
は、一対の基板間に液晶組成物を挟持した液晶表示パネ
ルと、前記液晶表示パネルを照明するバックライトユニ
ットと、を備え、一方の基板上に形成された一画素領域
は、第1カラーフィルタ層及び反射型電極を備え外光を
反射する反射部と、第2カラーフィルタ層及び透過型電
極を備え前記バックライトユニットからのバックライト
光を透過する透過部と、を有する液晶表示装置の製造方
法において、フォトリソグラフィ工程により、前記反射
型電極上に前記第1カラーフィルタ層を形成し、同時
に、前記第1カラーフィルタ層に前記反射型電極まで貫
通する複数の開口部を形成することを特徴とする。According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a liquid crystal display panel having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of substrates; and a backlight unit for illuminating the liquid crystal display panel. One pixel region formed on the substrate includes a first color filter layer and a reflection type electrode, and a reflection unit for reflecting external light, and a second color filter layer and a transmission type electrode, and a backlight from the backlight unit. A method of manufacturing a liquid crystal display device having a light-transmitting portion, wherein the first color filter layer is formed on the reflective electrode by a photolithography step, and at the same time, the light is reflected on the first color filter layer. A plurality of openings penetrating to the mold electrode are formed.
【0016】請求項8に記載の液晶表示装置の製造方法
は、一対の基板間に液晶組成物を挟持した液晶表示パネ
ルと、前記液晶表示パネルを照明するバックライトユニ
ットと、を備え、一方の基板上に形成された一画素領域
は、第1カラーフィルタ層及び反射型電極を備え外光を
反射する反射部と、第2カラーフィルタ層及び透過型電
極を備え前記バックライトユニットからのバックライト
光を透過する透過部と、を有する液晶表示装置の製造方
法において、インクジェット方式により、前記第1カラ
ーフィルタ層及び前記第2カラーフィルタ層を形成し、
前記第1カラーフィルタ層及び前記第2カラーフィルタ
層は、それぞれに含まれる着色剤の含有量が異なること
を特徴とする。According to a eighth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a liquid crystal display panel having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of substrates; and a backlight unit for illuminating the liquid crystal display panel. One pixel region formed on the substrate includes a first color filter layer and a reflection type electrode, and a reflection unit for reflecting external light, and a second color filter layer and a transmission type electrode, and a backlight from the backlight unit. A method of manufacturing a liquid crystal display device having a light-transmitting portion, wherein the first color filter layer and the second color filter layer are formed by an inkjet method;
The first color filter layer and the second color filter layer are different in the content of the coloring agent contained in each.
【0017】請求項9に記載の液晶表示装置の製造方法
は、一対の基板間に液晶組成物を挟持した液晶表示パネ
ルと、前記液晶表示パネルを照明するバックライトユニ
ットと、を備え、一方の基板上に形成された一画素領域
は、第1カラーフィルタ層及び反射型電極を備え外光を
反射する反射部と、第2カラーフィルタ層及び透過型電
極を備え前記バックライトユニットからのバックライト
光を透過する透過部と、を有する液晶表示装置の製造方
法において、フォトリソグラフィ工程により、前記第1
カラーフィルタ層及び前記第2カラーフィルタ層を形成
し、前記第1カラーフィルタ層は、ハーフトーンマスク
を介して露光することにより、前記第2カラーフィルタ
層とは膜厚が異なることを特徴とする。According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a liquid crystal display panel having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of substrates; and a backlight unit for illuminating the liquid crystal display panel. One pixel region formed on the substrate includes a first color filter layer and a reflection type electrode, and a reflection unit for reflecting external light, and a second color filter layer and a transmission type electrode, and a backlight from the backlight unit. A method for manufacturing a liquid crystal display device having a light transmitting portion, wherein the first portion is formed by a photolithography process.
A color filter layer and the second color filter layer are formed, and the first color filter layer is different in film thickness from the second color filter layer by exposing through a halftone mask. .
【0018】[0018]
【発明の実施の形態】以下、この発明の液晶表示装置及
びこの液晶表示装置の製造方法の一実施の形態について
図面を参照して説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment of a liquid crystal display device of the present invention and a method of manufacturing the liquid crystal display device will be described with reference to the drawings.
【0019】この発明の実施の形態に係る液晶表示装置
は、図1及び図2に示すように、アレイ基板(第1基
板)100と、アレイ基板100に対して所定の間隔を
おいて対向配置された対向基板(第2基板)200と、
アレイ基板100と対向基板200との間の所定のギャ
ップに保持された液晶組成物を含む液晶層300とを有
した液晶表示パネル(液晶セル)10を備えている。こ
の液晶表示装置は、さらに、液晶表示パネル10を背面
から照明するバックライトユニット30を備えている。As shown in FIG. 1 and FIG. 2, a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention is arranged such that an array substrate (first substrate) 100 is opposed to the array substrate 100 at a predetermined interval. Opposing substrate (second substrate) 200,
A liquid crystal display panel (liquid crystal cell) 10 having a liquid crystal layer 300 containing a liquid crystal composition held in a predetermined gap between the array substrate 100 and the counter substrate 200 is provided. The liquid crystal display device further includes a backlight unit 30 that illuminates the liquid crystal display panel 10 from the back.
【0020】このような液晶表示パネル10において、
画像を表示する表示領域102は、アレイ基板100と
対向基板200とを貼り合わせる外縁シール部材106
によって囲まれた領域内に形成されている。表示領域1
02内から引出された配線や駆動回路、電源供給配線な
どを有する周辺領域104は、外縁シール部材106の
外側の領域に形成されている。In such a liquid crystal display panel 10,
A display area 102 for displaying an image includes an outer edge sealing member 106 for bonding the array substrate 100 and the counter substrate 200.
Are formed in a region surrounded by. Display area 1
A peripheral area 104 having a wiring, a driving circuit, a power supply wiring, and the like drawn out from inside 02 is formed in a region outside the outer edge seal member 106.
【0021】表示領域102において、アレイ基板10
0は、図2に示すように、マトリクス状に配置されたm
xn個の画素電極151、これら画素電極151の行方
向に沿って形成されたm本の走査線Y1〜Ym、これら
画素電極151の列方向に沿って形成されたn本の信号
線X1〜Xn、mxn個の画素電極151に対応して走
査線Y1〜Ymおよび信号線X1〜Xnの交差位置近傍
にスイッチング素子として配置されたmxn個の薄膜ト
ランジスタすなわち画素TFT121を有している。In the display area 102, the array substrate 10
0 is m arranged in a matrix as shown in FIG.
xn pixel electrodes 151, m scanning lines Y1 to Ym formed along the row direction of these pixel electrodes 151, and n signal lines X1 to Xn formed along the column direction of these pixel electrodes 151 , And m × n pixel electrodes 151, and m × n thin film transistors, ie, pixel TFTs 121, arranged as switching elements near intersections of the scanning lines Y1 to Ym and the signal lines X1 to Xn.
【0022】また、周辺領域104において、アレイ基
板100は、走査線Y1〜Ymを駆動する走査線駆動回
路18、信号線X1〜Xnを駆動する信号線駆動回路1
9などを有している。これら走査線駆動回路18や信号
線駆動回路19は、nチャネル型薄膜トランジスタ及び
Pチャネル型薄膜トランジスタからなる相補型の回路に
よって構成されている。In the peripheral region 104, the array substrate 100 includes a scanning line driving circuit 18 for driving the scanning lines Y1 to Ym and a signal line driving circuit 1 for driving the signal lines X1 to Xn.
9 and the like. Each of the scanning line driving circuit 18 and the signal line driving circuit 19 is configured by a complementary circuit including an n-channel thin film transistor and a p-channel thin film transistor.
【0023】図2に示すように、液晶容量CLは、画素
電極151、対向電極204、及びこれらの電極間に挟
持された液晶層300によって形成される。また、補助
容量Csは、液晶容量CLと電気的に並列に形成され
る。この補助容量Csは、絶縁層を介して対向配置され
た一対の電極、すなわち、画素電極151と同電位の補
助容量電極61と、所定の電位に設定された補助容量線
52とによって形成される。補助容量電極61は、ポリ
シリコン薄膜によって形成され、画素電極151にコン
タクトしている。また、補助容量線52は、ゲート電極
114と一体の走査線Yと同一材料によって形成されて
いる。As shown in FIG. 2, the liquid crystal capacitance CL is formed by the pixel electrode 151, the counter electrode 204, and the liquid crystal layer 300 sandwiched between these electrodes. The auxiliary capacitance Cs is formed electrically in parallel with the liquid crystal capacitance CL. The auxiliary capacitance Cs is formed by a pair of electrodes opposed to each other via an insulating layer, that is, an auxiliary capacitance electrode 61 having the same potential as the pixel electrode 151 and an auxiliary capacitance line 52 set to a predetermined potential. . The auxiliary capacitance electrode 61 is formed of a polysilicon thin film and is in contact with the pixel electrode 151. The auxiliary capacitance line 52 is formed of the same material as the scanning line Y integrated with the gate electrode 114.
【0024】これらのアレイ基板100及び対向基板2
00は、図示しない柱状スペーサによって所定のギャッ
プを形成した状態でシール材106によって貼り合わさ
れる。液晶層300は、このアレイ基板100と対向基
板200との間に形成された所定のギャップに封入され
る。The array substrate 100 and the counter substrate 2
No. 00 is adhered by a sealing material 106 in a state where a predetermined gap is formed by a columnar spacer (not shown). The liquid crystal layer 300 is sealed in a predetermined gap formed between the array substrate 100 and the counter substrate 200.
【0025】図3及び図4に示すように、画素領域P
は、概ねアレイ基板100に設けられた走査線Y及び信
号線Xによって区画された領域に相当する。一画素領域
Pは、外部からの外光を選択的に反射することによって
画像を表示する反射部PRと、バックライトユニット3
0からのバックライト光を選択的に透過することによっ
て画像を表示する透過部PTとを有している。As shown in FIGS. 3 and 4, the pixel area P
Generally corresponds to a region defined by the scanning lines Y and the signal lines X provided on the array substrate 100. The one pixel region P includes a reflector PR for displaying an image by selectively reflecting external light from the outside, and a backlight unit 3.
And a transmission portion PT for displaying an image by selectively transmitting backlight light from 0.
【0026】これら各画素領域Pには、カラー表示を実
現するために、三原色に着色されたカラーフィルタCF
が設けられている。この実施の形態では、例えば、赤画
素領域、緑画素領域、青画素領域に、それぞれ、赤
(R)、緑(G)、青(B)に着色されたカラーフィル
タCFが設けられている。このカラーフィルタCFは、
例えば、各色成分の顔料を分散させた樹脂によって形成
されている。Each of the pixel regions P includes a color filter CF colored in three primary colors in order to realize color display.
Is provided. In this embodiment, for example, color filters CF colored red (R), green (G), and blue (B) are provided in the red pixel region, the green pixel region, and the blue pixel region, respectively. This color filter CF
For example, it is formed of a resin in which pigments of each color component are dispersed.
【0027】図4に示したバックライトユニット30
は、液晶表示パネル10におけるアレイ基板100の背
面に配置されている。このバックライトユニット30
は、楔型の断面を有する導光板、この導光板の一側面に
配置された光源、この光源を囲む反射板、導光板とアレ
イ基板との間に配置されるプリズムシートなどの光学シ
ートなどを有して構成されている。The backlight unit 30 shown in FIG.
Are arranged on the back surface of the array substrate 100 in the liquid crystal display panel 10. This backlight unit 30
Is a light guide plate having a wedge-shaped cross section, a light source disposed on one side of the light guide plate, a reflection plate surrounding the light source, an optical sheet such as a prism sheet disposed between the light guide plate and the array substrate, and the like. It is configured to have.
【0028】反射部PRは、透明な絶縁性基板、例えば
厚さが0.7mmのガラス基板101上に配置された、
アクリル樹脂レジストなどの透明樹脂によって形成され
たバンプ161と、このバンプ161の上に設けられた
アルミニウムや銀などの金属反射膜によって形成された
反射電極151Rとを備えている。反射電極151Rの
上には、カラーフィルタCFRが設けられている。The reflection part PR is disposed on a transparent insulating substrate, for example, a glass substrate 101 having a thickness of 0.7 mm.
The bump 161 includes a bump 161 formed of a transparent resin such as an acrylic resin resist, and a reflective electrode 151R formed on the bump 161 and formed of a metal reflective film such as aluminum or silver. A color filter CFR is provided on the reflective electrode 151R.
【0029】透過部PTは、ガラス基板101上に配置
された、カラーフィルタCFTと、このカラーフィルタ
CFTの上に設けられたインジウム−ティン−オキサイ
ドすなわちITOなどの透明導電性部材によって形成さ
れた透過電極151Tとを備えている。この透過電極1
51Tは、図3及び図4に示すように、反射部PR及び
透過部PTを合わせた一画素領域全体に配置されてもよ
いし、透過部PTのみに配置されてもよい。The transmitting portion PT is formed by a color filter CFT disposed on the glass substrate 101 and a transparent conductive member formed of a transparent conductive member such as indium-tin-oxide, ie, ITO, provided on the color filter CFT. And an electrode 151T. This transmission electrode 1
As shown in FIGS. 3 and 4, 51T may be arranged in the entire one pixel region including the reflection part PR and the transmission part PT, or may be arranged only in the transmission part PT.
【0030】反射電極151R及び透過電極151T
は、TFT121のソース電極に電気的に接続された画
素電極151として機能する。すなわち、これら反射電
極151R及び透過電極151Tは、電気的に導通さ
れ、同電位に保たれる。The reflection electrode 151R and the transmission electrode 151T
Functions as a pixel electrode 151 electrically connected to the source electrode of the TFT 121. That is, the reflective electrode 151R and the transmissive electrode 151T are electrically conducted and are kept at the same potential.
【0031】反射部PRのカラーフィルタCFRの膜厚
d1は、透過部PTのカラーフィルタCFTの膜厚d2
とほぼ同等である。このカラーフィルタCFは、赤
(R)、緑(G)、青(B)のそれぞれについて、図5
に示すような分光波長特性を有する材料によってそれぞ
れ形成されている。The thickness d1 of the color filter CFR of the reflection part PR is equal to the thickness d2 of the color filter CFT of the transmission part PT.
Is almost equivalent to This color filter CF is provided for each of red (R), green (G), and blue (B) as shown in FIG.
Are formed of materials having spectral wavelength characteristics as shown in FIG.
【0032】カラーフィルタCFの膜厚は、1μm以下
であり、アレイ基板100と対向基板200との間に形
成される間隔(セルギャップ:10μm以下)に比べて
十分小さい。このため、このカラーフィルタCFは、セ
ルギャップを乱す要因とはならない。The thickness of the color filter CF is 1 μm or less, which is sufficiently smaller than the interval (cell gap: 10 μm or less) formed between the array substrate 100 and the counter substrate 200. For this reason, the color filter CF does not become a factor that disturbs the cell gap.
【0033】TFT121は、走査線Yから突出した部
分をゲート電極とし、この上にゲート絶縁膜を介して積
層されたアモルファスシリコン膜やポリシリコン膜など
によって形成された半導体膜を有している。TFT12
1のドレイン電極は、画素電極151に電気的に接続さ
れている。また、TFT121のソース電極は、信号線
Xに電気的に接続されている。図3及び図4に示した例
では、TFT121は、信号線X及び走査線Yの交差部
付近のバンプ161の下層に配置されている。The TFT 121 has a portion protruding from the scanning line Y as a gate electrode, and has a semiconductor film formed of an amorphous silicon film, a polysilicon film, or the like laminated on the gate electrode via a gate insulating film. TFT12
One drain electrode is electrically connected to the pixel electrode 151. The source electrode of the TFT 121 is electrically connected to the signal line X. In the example shown in FIGS. 3 and 4, the TFT 121 is disposed below the bump 161 near the intersection of the signal line X and the scanning line Y.
【0034】画素電極151としての反射電極151R
は、TFT121のドレイン電極上のバンプ161に形
成されたコンタクトホールを介してドレイン電極にコン
タクトし、電気的に接続されている。また、画素電極1
51としての透過電極151Tは、TFT121のドレ
イン電極上のバンプ161及びカラーフィルタCFRに
形成されたコンタクトホールを介してドレイン電極にコ
ンタクトし、電気的に接続されている。The reflection electrode 151R as the pixel electrode 151
Is in contact with the drain electrode via a contact hole formed in the bump 161 on the drain electrode of the TFT 121, and is electrically connected. Also, the pixel electrode 1
The transmission electrode 151T as 51 is in contact with the drain electrode via the bump 161 on the drain electrode of the TFT 121 and the contact hole formed in the color filter CFR, and is electrically connected.
【0035】透過電極151Tの表面は、対向基板20
0との間に介在される液晶組成物300を配向させるた
めの配向膜141によって覆われている。The surface of the transmission electrode 151T is
0, and is covered with an alignment film 141 for aligning the liquid crystal composition 300 interposed therebetween.
【0036】表示領域102において、対向基板200
は、図4に示すように、透明な絶縁性基板、例えば厚さ
が0.7mmのガラス基板201上に配設された対向電
極204を備えている。この対向電極204は、画素電
極151との間で電位差を形成する透明導電性部材、例
えばITOによって形成されている。また、この対向電
極204の表面は、アレイ基板100との間に介在され
る液晶組成物300を配向させるための配向膜205に
よって覆われている。対向電極204は、複数の画素電
極151に対向して基準電位に設定される。In the display area 102, the counter substrate 200
As shown in FIG. 4, a counter electrode 204 is provided on a transparent insulating substrate, for example, a glass substrate 201 having a thickness of 0.7 mm. The counter electrode 204 is formed of a transparent conductive member that forms a potential difference with the pixel electrode 151, for example, ITO. The surface of the counter electrode 204 is covered with an alignment film 205 for aligning the liquid crystal composition 300 interposed between the counter electrode 204 and the array substrate 100. The counter electrode 204 is set to a reference potential so as to face the plurality of pixel electrodes 151.
【0037】基板の周囲に配置された電極転移材すなわ
ちトランスファとしての銀ペーストは、アレイ基板10
0から対向基板200へ電圧を供給するために設けら
れ、対向電極204は、トランスファを介して接続され
た対向電極駆動回路20により駆動される。The electrode transfer material disposed around the substrate, ie, silver paste as a transfer, is
The counter electrode 204 is provided to supply a voltage from 0 to the counter substrate 200, and the counter electrode 204 is driven by the counter electrode driving circuit 20 connected via a transfer.
【0038】アレイ基板100のガラス基板101の外
面には、λ/4波長板181、及び偏光板183が配設
されている。対向基板200のガラス基板201の外面
には、拡散板207、λ/4波長板209、及び偏光板
211が配設されている。偏光板183及び211の偏
向面は、液晶表示装置の表示モードや、液晶組成物のツ
イスト角などに応じて最適な方向が選択される。On the outer surface of the glass substrate 101 of the array substrate 100, a λ / 4 wavelength plate 181 and a polarizing plate 183 are provided. On the outer surface of the glass substrate 201 of the counter substrate 200, a diffusion plate 207, a λ / 4 wavelength plate 209, and a polarizing plate 211 are provided. For the polarizing surfaces of the polarizing plates 183 and 211, an optimal direction is selected according to the display mode of the liquid crystal display device, the twist angle of the liquid crystal composition, and the like.
【0039】液晶組成物300が挟持される液晶層の厚
さ、すなわちアレイ基板100と対向基板200との間
に形成された所定幅のギャップは、信号線X及び走査線
Yなどの配線パターン、TFT121、画素電極15
1、周辺額縁部などの非画素領域に配置されたスペーサ
によって確保されている。The thickness of the liquid crystal layer between which the liquid crystal composition 300 is sandwiched, that is, the gap having a predetermined width formed between the array substrate 100 and the counter substrate 200 is determined by the wiring patterns of the signal lines X and the scanning lines Y, TFT 121, pixel electrode 15
1. Secured by spacers arranged in non-pixel areas such as peripheral picture frames.
【0040】この液晶層300の厚さは、上述したよう
に、反射部PRにバンプ161を設けたことにより、反
射部PRと透過部PTとで異ならせている。これは、双
方の光学構成を一致させるためであり、光が液晶層30
0を往復する(つまり2回透過する)反射部PRの光学
的な光路長を透過部PTの半分とするためである。As described above, the thickness of the liquid crystal layer 300 is made different between the reflection part PR and the transmission part PT by providing the bump 161 on the reflection part PR. This is to make the two optical configurations coincide with each other.
This is because the optical path length of the reflection portion PR that reciprocates in 0 (that is, transmits twice) is set to half of the transmission portion PT.
【0041】例えば、90度ツイストのTNモードを用
いる場合、液晶層300の実際の厚さ(セルギャップ)
をd、液晶層300の複屈折率をΔnとしたとき、リタ
デーション値Δndは、反射部PRで約0.21μmで
あり、透過部PTで約0.46μmとすればよい。具体
的には、複屈折率Δnが0.09のネマティック液晶を
用いた場合には、図4に示すように、液晶層300の厚
さdは、反射部PRで約2.3μmであり、透過部PT
で約5.1μmとすればよい。したがって、反射部PR
に設けられるバンプ161の厚さは、約2.8μmとす
ればよい。For example, when using the TN mode of 90 ° twist, the actual thickness of the liquid crystal layer 300 (cell gap)
Where d is the birefringence of the liquid crystal layer 300 and Δn is the retardation value Δnd at the reflection part PR and about 0.46 μm at the transmission part PT. Specifically, when a nematic liquid crystal having a birefringence Δn of 0.09 is used, as shown in FIG. 4, the thickness d of the liquid crystal layer 300 is about 2.3 μm at the reflection part PR, Transmission part PT
Should be about 5.1 μm. Therefore, the reflection part PR
The thickness of the bump 161 provided on the substrate may be about 2.8 μm.
【0042】ところで、この液晶表示装置、すなわち1
画素領域内に反射部PR及び透過部PTを有する半透過
型液晶表示装置においては、図4に示すように、反射部
PR及び透過部PTにわたって設けられるカラーフィル
タCFは、同一の膜厚で同一の材料によって形成されて
いる。しかも、反射部PRにおけるカラーフィルタCF
Rは、透過部PTにおけるカラーフィルタCFTとは光
学特性、すなわち分光波長特性が異なる。By the way, this liquid crystal display device, ie, 1
In a transflective liquid crystal display device having a reflective portion PR and a transmissive portion PT in a pixel region, as shown in FIG. 4, the color filters CF provided over the reflective portion PR and the transmissive portion PT have the same film thickness and the same thickness. Is formed of the material. Moreover, the color filter CF in the reflection part PR
R differs from the color filter CFT in the transmission part PT in optical characteristics, that is, spectral wavelength characteristics.
【0043】すなわち、反射部PR及び透過部PTにわ
たって設けられるカラーフィルタCFは、上述したよう
に、図5に示すような分光波長特性を有する材料によっ
て形成される。That is, the color filter CF provided over the reflection part PR and the transmission part PT is formed of a material having a spectral wavelength characteristic as shown in FIG. 5, as described above.
【0044】透過部PTにおいては、バックライトユニ
ット30から発生されたバックライト光は、アレイ基板
100の下面側から入射し、カラーフィルタCFTを1
回だけ透過し、さらに、液晶層300を通過して対向基
板200側に選択的に出射される。In the transmission part PT, the backlight light generated from the backlight unit 30 enters from the lower surface side of the array substrate 100 and passes through the color filter CFT by one.
The light is transmitted only once, and further passes through the liquid crystal layer 300 and is selectively emitted to the counter substrate 200 side.
【0045】この透過部PTにおいては、バックライト
光がカラーフィルタCFTを1回透過するのみであり、
このとき、対向基板200側から出射される光の輝度
は、カラーフィルタCFを形成する材料の分光波長特性
そのものであり、図5に示したような分光波長特性にし
たがった輝度となる。In this transmission part PT, the backlight light only passes through the color filter CFT once,
At this time, the luminance of the light emitted from the counter substrate 200 side is the spectral wavelength characteristic itself of the material forming the color filter CF, and is a luminance according to the spectral wavelength characteristic as shown in FIG.
【0046】一方、反射部PRにおいては、対向基板2
00側から入射した外光は、液晶層300を通過した
後、カラーフィルタCFRを透過し、さらに、反射電極
151Rによって反射され、再びカラーフィルタCFR
を透過した後、液晶層300を通過して対向基板200
側から選択的に出射される。On the other hand, in the reflection portion PR, the opposite substrate 2
External light incident from the 00 side passes through the liquid crystal layer 300, passes through the color filter CFR, is further reflected by the reflection electrode 151R, and is again reflected by the color filter CFR.
After passing through the liquid crystal layer 300,
It is selectively emitted from the side.
【0047】この反射部PRにおいては、外光は、カラ
ーフィルタCFTを2回透過する。したがって、通常
は、対向基板200側から出射される光の輝度は、カラ
ーフィルタCFRを形成する材料の分光波長特性におけ
る透過率を2乗したものとなる。すなわち、反射部PR
における分光波長特性は、図5に示した分光波長特性を
2乗したものとなり、図6に示すような特性となる。In this reflecting section PR, external light passes through the color filter CFT twice. Therefore, normally, the luminance of the light emitted from the counter substrate 200 side is the square of the transmittance in the spectral wavelength characteristic of the material forming the color filter CFR. That is, the reflection part PR
Is obtained by squaring the spectral wavelength characteristic shown in FIG. 5, and has the characteristic shown in FIG.
【0048】カラーフィルタCFの分光波長特性を、バ
ックライト光が透過部PTにおけるカラーフィルタCF
Tを1回のみ透過した場合に最適な輝度が得られるよう
に設定した場合、反射部PRにおいては最適な輝度が得
られず、表示画像の輝度が著しく低下してしまう。The spectral wavelength characteristic of the color filter CF is determined by the following equation.
When the setting is such that the optimum luminance is obtained when T is transmitted only once, the optimum luminance cannot be obtained in the reflection part PR, and the luminance of the display image is significantly reduced.
【0049】そこで、反射部PRにおけるカラーフィル
タCFRを、透過部PTにおけるカラーフィルタCFT
と同一の材料で同一の膜厚で形成しながら、反射部PR
におけるカラーフィルタCFRの分光波長特性を改善す
る必要がある。すなわち、反射部PRにおけるカラーフ
ィルタCFRの分光波長特性を、外光がカラーフィルタ
CFRを2回透過したときに最適な輝度が得られるよう
にする必要がある。Therefore, the color filter CFR in the reflection part PR is replaced with the color filter CFT in the transmission part PT.
While forming the same material and the same film thickness with the reflection part PR
It is necessary to improve the spectral wavelength characteristics of the color filter CFR in the above. That is, it is necessary to set the spectral wavelength characteristics of the color filter CFR in the reflection part PR so that an optimum luminance can be obtained when the external light transmits the color filter CFR twice.
【0050】このため、この半透過型液晶表示装置で
は、図3に示すように、反射部PRにおけるカラーフィ
ルタCFRは、その面内に反射電極151Rまで貫通す
る複数の微小な開口部400を有している。この開口部
400の開口径及び開口部400の数は、適宜設定する
ことが可能である。For this reason, in this transflective liquid crystal display device, as shown in FIG. 3, the color filter CFR in the reflection part PR has a plurality of minute openings 400 penetrating to the reflection electrode 151R in the plane thereof. are doing. The diameter of the opening 400 and the number of the openings 400 can be set as appropriate.
【0051】このように、反射部PRにおけるカラーフ
ィルタCFRに微小な開口部400を多数形成すること
により、開口部400の総面積と、残りのカラーフィル
タCFRの総面積との比で、カラーフィルタCFRの分
光波長特性を調整することができる。As described above, by forming a large number of minute openings 400 in the color filter CFR in the reflection section PR, the color filter is formed by the ratio of the total area of the opening 400 to the total area of the remaining color filters CFR. The spectral wavelength characteristics of the CFR can be adjusted.
【0052】したがって、開口400の開口径及び開口
部400の数によって、開口部の総面積と、残りのカラ
ーフィルタCFRの総面積との比を最適条件に設定する
ことにより、外光がカラーフィルタCFRを2回透過し
たときに最適な輝度が得られるような最適な分光波長特
性を得ることが可能となる。Therefore, by setting the ratio of the total area of the opening to the total area of the remaining color filters CFR to an optimum condition according to the diameter of the opening 400 and the number of the openings 400, the external light can be filtered by the color filter. It is possible to obtain an optimum spectral wavelength characteristic such that an optimum luminance is obtained when the light passes through the CFR twice.
【0053】次に、この液晶表示装置の製造方法につい
て説明する。Next, a method of manufacturing this liquid crystal display device will be described.
【0054】すなわち、厚さ0.7mmのガラス基板1
01上に、金属膜及び絶縁膜の成膜とパターニングとを
繰り返し、TFT121のゲート電極を含む走査線Y及
び補助容量電極52、ゲート絶縁膜、TFT121の半
導体膜、信号線X、TFT121のソース電極及びドレ
イン電極などを形成する。That is, a glass substrate 1 having a thickness of 0.7 mm
01, a metal film and an insulating film are repeatedly formed and patterned, and the scanning line Y including the gate electrode of the TFT 121 and the auxiliary capacitance electrode 52, the gate insulating film, the semiconductor film of the TFT 121, the signal line X, and the source electrode of the TFT 121 are formed. And a drain electrode and the like.
【0055】続いて、このガラス基板101の全面に、
透明な紫外線硬化型アクリル樹脂レジストをスピンナー
を用いて塗布し、乾燥する。その後、このアクリル樹脂
レジストを、各画素領域Pの反射部PRに対応した所定
のパターン形状のフォトマスクを用いて露光した後、所
定の現像液によって現像する。そして、焼成することに
より、膜厚2.8μmのバンプ161を形成する。この
とき、同時に、このバンプ161にTFT121のドレ
イン電極まで貫通するコンタクトホールを形成する。Subsequently, on the entire surface of the glass substrate 101,
A transparent UV-curable acrylic resin resist is applied using a spinner and dried. Thereafter, the acrylic resin resist is exposed using a photomask having a predetermined pattern shape corresponding to the reflection portion PR of each pixel region P, and then developed with a predetermined developing solution. Then, by baking, the bump 161 having a film thickness of 2.8 μm is formed. At this time, a contact hole penetrating to the drain electrode of the TFT 121 is formed in the bump 161 at the same time.
【0056】続いて、ガラス基板101の全面に、アル
ミニウム薄膜をスパッタリング法により成膜する。この
とき、バンプ161のコンタクトホールにもアルミニウ
ムを充填し、TFT121のドレイン電極と画素電極1
51とを電気的に接続する。その後、このアルミニウム
薄膜が、バンプ161上に残るような所定の画素電極形
状にパターニングする。これより、バンプ161上に、
反射電極すなわち画素電極151Rを形成する。Subsequently, an aluminum thin film is formed on the entire surface of the glass substrate 101 by a sputtering method. At this time, the contact hole of the bump 161 is also filled with aluminum, and the drain electrode of the TFT 121 and the pixel electrode 1 are filled.
51 is electrically connected. After that, this aluminum thin film is patterned into a predetermined pixel electrode shape so as to remain on the bump 161. Thus, on the bump 161,
A reflection electrode, that is, a pixel electrode 151R is formed.
【0057】続いて、ガラス基板101の全面に、フォ
トリソグラフィ工程により、カラーフィルタCFを形成
する。すなわち、ガラス基板101の全面に、赤色の顔
料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストをス
ピンナーを用いて所定の膜厚で塗布する。このとき、こ
のアクリル樹脂レジストは、バンプ161を有する反射
部PRでの膜厚がバンプ161のない透過部PTでの膜
厚とほぼ同一であるように形成される。Subsequently, a color filter CF is formed on the entire surface of the glass substrate 101 by a photolithography process. That is, an ultraviolet curable acrylic resin resist in which a red pigment is dispersed is applied to a predetermined thickness on the entire surface of the glass substrate 101 using a spinner. At this time, the acrylic resin resist is formed such that the film thickness at the reflection part PR having the bump 161 is substantially the same as the film thickness at the transmission part PT without the bump 161.
【0058】そして、このアクリル樹脂レジストを乾燥
した後、赤画素領域に対応した形状のフォトマスクを用
いて露光した後、所定の現像液によって現像する。そし
て、焼成することにより、透過部PT、および、反射部
PRで、所定の膜厚の赤色カラーフィルタCFを形成す
る。After drying the acrylic resin resist, the resist is exposed using a photomask having a shape corresponding to the red pixel region, and then developed with a predetermined developing solution. Then, by firing, a red color filter CF having a predetermined thickness is formed in the transmission part PT and the reflection part PR.
【0059】同様に、緑色の顔料を分散させた紫外線硬
化型アクリル樹脂レジスト、及び青色の顔料を分散させ
た紫外線硬化型アクリル樹脂レジストにより、緑画素領
域に緑色カラーフィルタCF、及び青画素領域に青色カ
ラーフィルタCFをそれぞれ形成する。Similarly, a green color filter CF in the green pixel region and a green color filter CF in the blue pixel region by using an ultraviolet-curable acrylic resin resist in which a green pigment is dispersed and an ultraviolet-curable acrylic resin resist in which a blue pigment is dispersed. The blue color filters CF are respectively formed.
【0060】同時に、このカラーフィルタCFのフォト
リソグラフィ工程では、反射部PRにおいて、最適な分
光波長特性が得られるようにカラーフィルタCFRに反
射電極151Rまで貫通する微小な開口部400を複数
形成する。これにより、各色のカラーフィルタCFを形
成する際のフォトリソグラフィ工程で、カラーフィルタ
CFのパターニングとともに開口部400の形成を同時
に行うことができる。このため、プロセス数を増加する
ことなく、反射部PRにおけるカラーフィルタCFRの
分光波長特性を最適条件に調整することが可能となる。At the same time, in the photolithography process of the color filter CF, a plurality of minute openings 400 penetrating to the reflection electrode 151R are formed in the color filter CFR in the reflection portion PR so as to obtain optimum spectral wavelength characteristics. Thereby, in the photolithography process when forming the color filters CF of each color, the opening 400 can be formed simultaneously with the patterning of the color filters CF. For this reason, it is possible to adjust the spectral wavelength characteristics of the color filters CFR in the reflection unit PR to the optimum conditions without increasing the number of processes.
【0061】また同時に、このカラーフィルタCFにT
FT121のドレイン電極まで貫通するコンタクトホー
ルを形成する。At the same time, T is applied to the color filter CF.
A contact hole penetrating to the drain electrode of the FT 121 is formed.
【0062】続いて、ガラス基板101の全面に、IT
O薄膜をスパッタリング法により成膜する。このとき、
カラーフィルタCFのコンタクトホールにもITOを充
填し、TFT121のドレイン電極と画素電極151と
を電気的に接続する。その後、このITO薄膜が、一画
素領域P全体に残るような所定の画素電極形状にパター
ニングする。これより、透過電極すなわち画素電極15
1Tを形成する。Subsequently, the entire surface of the glass substrate 101
An O thin film is formed by a sputtering method. At this time,
The contact hole of the color filter CF is also filled with ITO, and the drain electrode of the TFT 121 and the pixel electrode 151 are electrically connected. After that, the ITO thin film is patterned into a predetermined pixel electrode shape so as to remain in the entire one pixel region P. Thus, the transmission electrode, that is, the pixel electrode 15
Form 1T.
【0063】続いて、配向膜材料を基板の全面に塗布
し、ラビング処理を行うことにより、配向膜141を形
成する。Subsequently, an alignment film material is applied to the entire surface of the substrate, and a rubbing process is performed to form an alignment film 141.
【0064】一方、厚さ0.7mmのガラス基板201
上に、対向電極204、及び配向膜205をそれぞれ形
成し、対向基板200を形成する。On the other hand, a glass substrate 201 having a thickness of 0.7 mm
A counter electrode 204 and an alignment film 205 are formed thereon, and a counter substrate 200 is formed.
【0065】続いて、対向基板200の配向膜205周
辺に沿って、液晶注入口を除いて、シール材106を印
刷する。さらに、アレイ基板100側から対向基板20
0側の対向電極204に電圧を供給するための電極転移
材を、シール材106周辺の電極転移電極上に形成す
る。Subsequently, the sealing material 106 is printed along the periphery of the alignment film 205 of the counter substrate 200 except for the liquid crystal injection port. Further, from the array substrate 100 side,
An electrode transfer material for supplying a voltage to the 0-side counter electrode 204 is formed on the electrode transfer electrode around the seal member 106.
【0066】続いて、配向膜141及び205が互いに
対向するようにアレイ基板100及び対向基板200を
配置し、加熱してシール材106を硬化させ、2枚の基
板を貼り合せる。このとき、アレイ基板100と対向基
板200との間には、図示しないスペーサにより所定の
ギャップが形成される。Subsequently, the array substrate 100 and the counter substrate 200 are arranged so that the alignment films 141 and 205 face each other, and the sealing material 106 is cured by heating, and the two substrates are bonded. At this time, a predetermined gap is formed between the array substrate 100 and the counter substrate 200 by a spacer (not shown).
【0067】続いて、液晶注入口から、アレイ基板10
0と対向基板200との間に液晶組成物300にカイラ
ル剤を添加したしたものを注入し、液晶注入口を紫外線
硬化樹脂で封止する。注入された液晶組成物300は、
アレイ基板100側の配向膜141と、対向基板200
側の配向膜203とによって、ツイスト角90度のネマ
ティック液晶層を形成する。Subsequently, the array substrate 10 is inserted through the liquid crystal injection port.
A liquid crystal composition 300 to which a chiral agent is added is injected between the liquid crystal composition 300 and the counter substrate 200, and the liquid crystal injection port is sealed with an ultraviolet curable resin. The injected liquid crystal composition 300 is
An alignment film 141 on the side of the array substrate 100;
A nematic liquid crystal layer having a twist angle of 90 degrees is formed by the alignment film 203 on the side.
【0068】液晶層の厚さは、画素領域Pの反射部PR
と透過部PTとで異なる。反射部PRでは、カラーフィ
ルタCFRがバンプ161の上に形成されている分、ガ
ラス基板101表面からの厚さが透過部PTより厚くな
り、反射部PRにおける液晶層の厚さが約2.3μmで
あるのに対して、透過部PTにおける液晶層の厚さが約
5.1μmである。The thickness of the liquid crystal layer depends on the reflection part PR of the pixel region P.
And the transmission part PT. In the reflection part PR, the thickness from the surface of the glass substrate 101 becomes larger than that of the transmission part PT, and the thickness of the liquid crystal layer in the reflection part PR is about 2.3 μm because the color filter CFR is formed on the bump 161. On the other hand, the thickness of the liquid crystal layer in the transmission part PT is about 5.1 μm.
【0069】このため、透過部PTでは、アレイ基板側
から液晶層に入射したバックライト光は、対向基板側に
透過するまでにλ/2の位相差を生じる。反射部PRで
は、対向基板側から液晶層に入射した外光は、片道でλ
/4の位相差を生じ、反射電極151Rで反射された反
射光は、対向基板側に出射されるまでに、往復でλ/2
の位相差を生じる。For this reason, in the transmissive portion PT, the backlight light incident on the liquid crystal layer from the array substrate generates a phase difference of λ / 2 before transmitting to the counter substrate. In the reflection part PR, external light incident on the liquid crystal layer from the counter substrate side is λ in one way.
The reflected light generated by the reflection electrode 151R having a phase difference of / 4 reciprocates by λ / 2 before being emitted to the counter substrate side.
Is generated.
【0070】アレイ基板100の外面には、λ/4波長
板181、および偏光板183がこの順に積層される。
また、対向基板200の外面には、拡散板207、λ/
4波長板209、および偏光板211がこの順に積層さ
れる。On the outer surface of the array substrate 100, a λ / 4 wavelength plate 181 and a polarizing plate 183 are laminated in this order.
In addition, a diffusion plate 207, λ /
The four-wavelength plate 209 and the polarizing plate 211 are stacked in this order.
【0071】偏向板を通過し、位相差板を通過すること
によって生じる円偏光は、液晶層300への電圧のON
/OFFにより、順方向または逆方向の円偏光に変換さ
れる。これにより、再び位相差板を通過した後、偏光板
の通過/非通過が選択される。これを利用して、暗所で
は、バックライト光を選択的に透過することにより、画
像を表示する。また、明所では、外光を選択的に反射す
ることにより、画像を表示する。The circularly polarized light generated by passing through the deflecting plate and passing through the phase difference plate turns ON the voltage to the liquid crystal layer 300.
By / OFF, the light is converted into circularly polarized light in the forward or reverse direction. Thereby, after passing through the phase difference plate again, the pass / non-pass of the polarizing plate is selected. By utilizing this, in a dark place, an image is displayed by selectively transmitting backlight light. In a bright place, an image is displayed by selectively reflecting external light.
【0072】このように、半透過型液晶表示装置は、一
画素領域Pに反射部PRと透過部PTとを備え、明所で
は、反射部PRにより、外光を選択的に反射して画像を
表示する反射型液晶表示装置として機能し、暗所では、
透過部PTにより、バックライトユニット30から出射
されたバックライト光を選択的に透過して画像を表示す
る透過型液晶表示装置として機能することにより、常に
透過型液晶表示装置としてバックライトユニットを駆動
した場合と比較して、消費電力を大幅に低減することが
可能となる。As described above, the transflective liquid crystal display device includes the reflection portion PR and the transmission portion PT in one pixel region P. In a bright place, the reflection portion PR selectively reflects external light to form an image. Function as a reflective liquid crystal display device that displays
The transmissive portion PT functions as a transmissive liquid crystal display device that selectively transmits the backlight emitted from the backlight unit 30 and displays an image, thereby always driving the backlight unit as a transmissive liquid crystal display device. Power consumption can be greatly reduced as compared with the case where the power consumption is reduced.
【0073】なお、上述した実施の形態では、反射部P
RにおけるカラーフィルタCFRの分光波長特性の調整
は、カラーフィルタCFRに反射電極151Rまで貫通
する開口部を設けることによって行ったが、他の方法で
あってもよい。In the above-described embodiment, the reflecting portion P
Adjustment of the spectral wavelength characteristic of the color filter CFR in R was performed by providing an opening penetrating to the reflective electrode 151R in the color filter CFR, but other methods may be used.
【0074】例えば、第1の方法として、反射部PRに
おけるカラーフィルタCFRの分光波長特性の調整は、
カラーフィルタCFに含まれる着色剤、例えば染料の量
を調整することによって行っても良い。すなわち、反射
部PRにおけるカラーフィルタCFRは、透過部PTに
おけるカラーフィルタCFTより染料の含有量が少ない
材料によって形成される。つまり、カラーフィルタCF
Rは、カラーフィルタCFTより若干淡い分光波長特性
を有している。For example, as a first method, the adjustment of the spectral wavelength characteristic of the color filter CFR in the reflection section PR is performed as follows.
The adjustment may be performed by adjusting the amount of a coloring agent, for example, a dye contained in the color filter CF. That is, the color filter CFR in the reflection part PR is formed of a material having a smaller dye content than the color filter CFT in the transmission part PT. That is, the color filter CF
R has a spectral wavelength characteristic slightly lighter than the color filter CFT.
【0075】これにより、透過部PT及び反射部PRに
おけるカラーフィルタCFの膜厚を同一とし、且つ母材
を同一としながらも、透過部PTにおいて、1回だけ透
過するバックライト光により最適な輝度の画像を表示す
ることが可能となるとともに、反射部PRにおいて、2
回透過する外光により最適な輝度の画像を表示すること
が可能となる。Thus, while the thickness of the color filter CF in the transmission part PT and the reflection part PR is the same, and the base material is the same, the optimum luminance is obtained by the backlight transmitted only once in the transmission part PT. Can be displayed, and at the reflecting portion PR, 2
It is possible to display an image with an optimum luminance by the external light that is transmitted twice.
【0076】このようなカラーフィルタCFは、例え
ば、インクジェット方式により形成される。すなわち、
インクジェット方式によりカラーフィルタCFの形成
は、あらかじめ形成した透明樹脂によるカラーフィルタ
母材にインクジェット方式により各色に対応した染料を
含浸させるものである。したがって、このときに最適量
の染料をインクジェット方式によってカラーフィルタ母
材に含浸させることにより、所望の分光波長特性を実現
することが可能となる。Such a color filter CF is formed by, for example, an ink jet method. That is,
The formation of the color filter CF by the ink-jet method involves impregnating dyes corresponding to the respective colors by the ink-jet method in a color filter base material made of a transparent resin formed in advance. Therefore, at this time, by impregnating the color filter base material with the optimum amount of dye by the ink jet method, it is possible to realize a desired spectral wavelength characteristic.
【0077】また、第2の方法として、反射部PRにお
けるカラーフィルタCFRの分光波長特性の調整は、カ
ラーフィルタCFを形成するフォトリソグラフィ工程に
おいて利用するマスクとしてハーフトーンマスクを用い
て行っても良い。すなわち、カラーフィルタCFは、以
下のようにして形成される。As a second method, the adjustment of the spectral wavelength characteristic of the color filter CFR in the reflection section PR may be performed using a halftone mask as a mask used in a photolithography process for forming the color filter CF. . That is, the color filter CF is formed as follows.
【0078】まず、基板上の全面にカラーフィルタ材料
を成膜する。そして、成膜したカラーフィルタ材料を、
画素領域に対応した形状のフォトマスクを介して露光す
る。このとき、用いるフォトマスクは、透過光量を調整
することが可能なハーフトーンマスクである。このハー
フトーンマスクは、光を完全に遮断せず、任意の領域ご
とに任意の光量だけを透過させるようにしたものであ
る。First, a color filter material is formed on the entire surface of the substrate. Then, the formed color filter material is
Exposure is performed through a photomask having a shape corresponding to the pixel region. At this time, the photomask used is a halftone mask capable of adjusting the amount of transmitted light. This halftone mask does not completely block light but transmits only an arbitrary amount of light for each arbitrary region.
【0079】このようなマスクを用いて露光することに
より、カラーフィルタ材料の膜厚を、透過部PTと反射
部PRとで異ならせることができる。これにより、例え
ば、透過部PTにおけるカラーフィルタCFTの膜厚を
厚くし、反射部PRにおけるカラーフィルタCFRの膜
厚を薄くして、カラーフィルタCFRは、カラーフィル
タCFTより若干淡い分光波長特性を有するように調整
することが可能である。By performing exposure using such a mask, the film thickness of the color filter material can be made different between the transmission part PT and the reflection part PR. Thereby, for example, the film thickness of the color filter CFT in the transmission part PT is increased, and the film thickness of the color filter CFR in the reflection part PR is reduced, so that the color filter CFR has a slightly lighter spectral wavelength characteristic than the color filter CFT. It is possible to adjust as follows.
【0080】なお、あらかじめ各カラーフィルタの膜厚
を知ってカラーフィルタCFRの下部に配置されるバン
プの厚さを調整しておくことにより、セルギャップに与
える影響を回避することができる。The influence on the cell gap can be avoided by knowing in advance the thickness of each color filter and adjusting the thickness of the bump disposed below the color filter CFR.
【0081】これにより、透過部PT及び反射部PRに
おけるカラーフィルタCFを同一の材料によって形成し
ながらも、1回のフォトリソグラフィ工程で膜厚の異な
るカラーフィルタCFT及びCFRを形成することが可
能であり、透過部PTにおいて、1回だけ透過するバッ
クライト光により最適な輝度の画像を表示することが可
能となるとともに、反射部PRにおいて、2回透過する
外光により最適な輝度の画像を表示することが可能とな
る。Thus, it is possible to form the color filters CFT and CFR having different film thicknesses in one photolithography process while forming the color filters CF in the transmission part PT and the reflection part PR using the same material. In the transmission part PT, it is possible to display an image of optimal luminance by the backlight light transmitted only once, and in the reflection part PR, to display an image of optimal luminance by external light transmitted twice. It is possible to do.
【0082】[0082]
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、使用環境下の明るさにかかわらず、反射型及び透過
型として機能した場合であっても高品位な画像を表示す
ることが可能な液晶表示装置及びこの液晶表示装置の製
造方法を提供することができる。As described above, according to the present invention, a high-quality image can be displayed regardless of the brightness under the use environment, even when the device functions as a reflection type or a transmission type. A liquid crystal display device and a method for manufacturing the liquid crystal display device can be provided.
【図1】図1は、この発明の液晶表示装置に適用される
液晶表示パネルの一例を概略的に示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view schematically showing an example of a liquid crystal display panel applied to a liquid crystal display device of the present invention.
【図2】図2は、この発明の液晶表示装置の構成を概略
的に示す図である。FIG. 2 is a diagram schematically showing a configuration of a liquid crystal display device of the present invention.
【図3】図3は、図1に示した液晶表示パネルの一画素
領域を概略的に示す平面図である。FIG. 3 is a plan view schematically showing one pixel region of the liquid crystal display panel shown in FIG.
【図4】図4は、図3に示した一画素領域をA−B線で
切断した時の断面を概略的に示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a cross section when one pixel region shown in FIG. 3 is cut along line AB.
【図5】図5は、この発明の液晶表示装置に適用される
カラーフィルタの分光波長特性を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing spectral wavelength characteristics of a color filter applied to the liquid crystal display device of the present invention.
【図6】図6は、図5に示した分光波長特性を有するカ
ラーフィルタを用いて反射型として機能させた場合のカ
ラーフィルタの分光波長透過率を示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a spectral wavelength transmittance of the color filter when the color filter having the spectral wavelength characteristic illustrated in FIG. 5 is used as a reflection type.
10…液晶表示パネル 30…バックライトユニット 100…アレイ基板 121…薄膜トランジスタ 151…画素電極 151R…反射電極 151T…透過電極 161…バンプ 200…対向基板 300…液晶組成物 400…開口部 P…画素領域 PR…反射部 PT…透過部 CF(T、R)…カラーフィルタ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Liquid crystal display panel 30 ... Backlight unit 100 ... Array substrate 121 ... Thin film transistor 151 ... Pixel electrode 151R ... Reflection electrode 151T ... Transmissive electrode 161 ... Bump 200 ... Counter substrate 300 ... Liquid crystal composition 400 ... Opening part P ... Pixel area PR ... Reflection part PT ... Transmission part CF (T, R) ... Color filter
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/30 349 G09F 9/30 349B 349D (72)発明者 多胡 恵二 埼玉県深谷市幡羅町一丁目9番地2号 株 式会社東芝深谷工場内 (72)発明者 山田 義孝 埼玉県深谷市幡羅町一丁目9番地2号 株 式会社東芝深谷工場内 (72)発明者 高瀬 剛 埼玉県深谷市幡羅町一丁目9番地2号 株 式会社東芝深谷工場内 (72)発明者 渡辺 良一 埼玉県深谷市幡羅町一丁目9番地2号 株 式会社東芝深谷工場内 Fターム(参考) 2H048 BA64 BB02 BB07 BB08 BB44 2H091 FA02Y FA08X FA08Z FA11X FA11Z FA14Z FA21Z FA23Z FA41Z GA13 LA16 2H092 GA40 JA24 NA01 PA08 PA12 PA13 5C094 AA51 BA03 BA43 CA19 CA24 EA04 EA06 EA07 EB02 ED03 ED11 GB10 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G09F 9/30 349 G09F 9/30 349B 349D (72) Inventor Keiji Tago 1-chome, Hara-cho, Fukaya-shi, Saitama No. 2 Inside the Toshiba Fukaya Plant (72) Inventor Yoshitaka Yamada 1-9-9 Hara-cho, Fukaya-shi, Saitama Prefecture No. 2 Inside the Toshiba Fukaya Plant (72) Inventor Tsuyoshi Takase, Hara-cho, Fukaya-shi, Saitama No. 9-2, Toshiba Fukaya Plant Co., Ltd. (72) Inventor Ryoichi Watanabe 1-9-2, Hara-cho, Fukaya-shi, Saitama F-Terminator, Toshiba Fukaya Plant Co., Ltd. 2H048 BA64 BB02 BB07 BB08 BB44 2H091 FA02Y FA08X FA08Z FA11X FA11Z FA14Z FA21Z FA23Z FA41Z GA13 LA16 2H092 GA40 JA24 NA01 PA08 PA12 PA13 5C094 AA51 BA03 BA43 CA19 CA24 EA04 EA06 EA07 EB02 ED03 ED11 GB10
Claims (9)
表示パネルと、前記液晶表示パネルを照明するバックラ
イトユニットと、を備えた液晶表示装置において、 一方の基板上に形成された一画素領域は、第1カラーフ
ィルタ層及び反射型電極を備え外光を反射する反射部
と、第2カラーフィルタ層及び透過型電極を備え前記バ
ックライトユニットからのバックライト光を透過する透
過部と、を有し、 前記第1カラーフィルタ層及び第2カラーフィルタ層
は、同一膜厚の同一材料によって形成され、且つ、互い
に光学特性が異なることを特徴とする液晶表示装置。1. A liquid crystal display device comprising: a liquid crystal display panel having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of substrates; and a backlight unit for illuminating the liquid crystal display panel. A pixel region including a first color filter layer and a reflective electrode for reflecting external light, and a second color filter layer and a transmissive portion for transmitting backlight light from the backlight unit including a transmissive electrode; Wherein the first color filter layer and the second color filter layer are formed of the same material having the same thickness, and have different optical characteristics from each other.
電極上に配置され、外光が2回透過することにより所定
の色に着色されるような分光波長特性を有することを特
徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。2. The method according to claim 1, wherein the first color filter layer is disposed on the reflective electrode and has a spectral wavelength characteristic such that the first color filter layer is colored in a predetermined color by transmitting external light twice. The liquid crystal display device according to claim 1.
電極上に配置され、その面内に前記反射型電極まで貫通
する複数の開口部を有することを特徴とする請求項1に
記載の液晶表示装置。3. The device according to claim 1, wherein the first color filter layer is disposed on the reflection type electrode, and has a plurality of openings penetrating to the reflection type electrode in a plane thereof. Liquid crystal display.
ラーフィルタ層は、それぞれに含まれる着色剤の含有量
が異なることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装
置。4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the first color filter layer and the second color filter layer have different coloring agent contents.
列された走査線、これら走査線に直交するように列方向
に配列された信号線、前記走査線と前記信号線との交差
部に配置されたスイッチング素子、及び、前記スイッチ
ング素子に電気的に接続された反射型電極及び透過型電
極からなる画素電極を有することを特徴とする請求項1
に記載の液晶表示装置。5. One of the substrates includes scanning lines arranged in a row direction on one main surface, signal lines arranged in a column direction orthogonal to the scanning lines, and the scanning lines and the signal lines. A switching element disposed at the intersection of the first and second pixel elements, and a pixel electrode composed of a reflective electrode and a transmissive electrode electrically connected to the switching element.
3. The liquid crystal display device according to 1.
ンプを備えたことを特徴とする請求項1に記載の液晶表
示装置。6. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the reflection section includes a bump below the reflection type electrode.
表示パネルと、前記液晶表示パネルを照明するバックラ
イトユニットと、を備え、一方の基板上に形成された一
画素領域は、第1カラーフィルタ層及び反射型電極を備
え外光を反射する反射部と、第2カラーフィルタ層及び
透過型電極を備え前記バックライトユニットからのバッ
クライト光を透過する透過部と、を有する液晶表示装置
の製造方法において、 フォトリソグラフィ工程により、前記反射型電極上に前
記第1カラーフィルタ層を形成し、同時に、前記第1カ
ラーフィルタ層に前記反射型電極まで貫通する複数の開
口部を形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方
法。7. A liquid crystal display panel having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of substrates, and a backlight unit for illuminating the liquid crystal display panel, wherein one pixel region formed on one of the substrates has A liquid crystal display comprising: a reflecting portion provided with one color filter layer and a reflective electrode for reflecting external light; and a transmitting portion provided with a second color filter layer and a transmissive electrode and transmitting the backlight from the backlight unit. In the method of manufacturing a device, the first color filter layer is formed on the reflective electrode by a photolithography process, and simultaneously, a plurality of openings penetrating to the reflective electrode are formed in the first color filter layer. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising:
表示パネルと、前記液晶表示パネルを照明するバックラ
イトユニットと、を備え、一方の基板上に形成された一
画素領域は、第1カラーフィルタ層及び反射型電極を備
え外光を反射する反射部と、第2カラーフィルタ層及び
透過型電極を備え前記バックライトユニットからのバッ
クライト光を透過する透過部と、を有する液晶表示装置
の製造方法において、 インクジェット方式により、前記第1カラーフィルタ層
及び前記第2カラーフィルタ層を形成し、 前記第1カラーフィルタ層及び前記第2カラーフィルタ
層は、それぞれに含まれる着色剤の含有量が異なること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。8. A liquid crystal display panel having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of substrates, and a backlight unit for illuminating the liquid crystal display panel, wherein one pixel region formed on one of the substrates has A liquid crystal display comprising: a reflecting portion provided with one color filter layer and a reflective electrode for reflecting external light; and a transmitting portion provided with a second color filter layer and a transmissive electrode and transmitting the backlight from the backlight unit. In the method for manufacturing a device, the first color filter layer and the second color filter layer are formed by an inkjet method, and the first color filter layer and the second color filter layer each include a colorant contained therein. A method for manufacturing a liquid crystal display device, wherein the amounts are different.
表示パネルと、前記液晶表示パネルを照明するバックラ
イトユニットと、を備え、一方の基板上に形成された一
画素領域は、第1カラーフィルタ層及び反射型電極を備
え外光を反射する反射部と、第2カラーフィルタ層及び
透過型電極を備え前記バックライトユニットからのバッ
クライト光を透過する透過部と、を有する液晶表示装置
の製造方法において、 フォトリソグラフィ工程により、前記第1カラーフィル
タ層及び前記第2カラーフィルタ層を形成し、 前記第1カラーフィルタ層は、ハーフトーンマスクを介
して露光することにより、前記第2カラーフィルタ層と
は膜厚が異なることを特徴とする液晶表示装置の製造方
法。9. A liquid crystal display panel having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of substrates, and a backlight unit for illuminating the liquid crystal display panel, wherein one pixel region formed on one of the substrates has a A liquid crystal display comprising: a reflecting portion provided with one color filter layer and a reflective electrode for reflecting external light; and a transmitting portion provided with a second color filter layer and a transmissive electrode and transmitting the backlight from the backlight unit. In the device manufacturing method, the first color filter layer and the second color filter layer are formed by a photolithography process, and the first color filter layer is exposed to light through a halftone mask to form the second color filter layer. A method for manufacturing a liquid crystal display device, wherein the film thickness is different from a color filter layer.
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