JP2002133944A - Conductive ink composition, method for printing very fine pattern using the same, and manufacturing method of translucent electromagnetic shield member - Google Patents
Conductive ink composition, method for printing very fine pattern using the same, and manufacturing method of translucent electromagnetic shield memberInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、特に凹版オフセッ
ト印刷法によって微細なパターンを印刷するのに適した
新規な導電性インキ組成物と、この組成物を用いた微細
パターンの印刷方法と、この印刷方法によって形成され
る微細パターンを使用した透光性電磁波シールド部材の
製造方法とに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel conductive ink composition particularly suitable for printing a fine pattern by an intaglio offset printing method, a fine pattern printing method using this composition, and The present invention relates to a method for manufacturing a transparent electromagnetic wave shield member using a fine pattern formed by a printing method.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、電子機器類などから放射される電
磁波が人体に与える影響について種々の報告がなされて
おり、それに伴って例えばCRT(ブラウン管)、PD
P(プラズマ・ディスプレイ・パネル)等の表示画面か
ら照射される電磁波を効果的にシールド(遮蔽)する技
術について関心が高まっている。通常の電気機器などか
ら放射される電磁波をシールドするためには、その筐体
を金属製にするか、あるいは筐体に金属板を貼り付ける
といった方法が行われる。2. Description of the Related Art In recent years, various reports have been made on the effects of electromagnetic waves emitted from electronic devices on the human body. Along with this, for example, CRTs (cathode ray tubes), PDs, etc.
There is increasing interest in technology for effectively shielding electromagnetic waves emitted from a display screen such as a P (plasma display panel). In order to shield an electromagnetic wave emitted from a normal electric device or the like, a method of making the case metal or attaching a metal plate to the case is performed.
【0003】しかし、上記CRTやPDPの表示画面か
ら照射される電磁波をシールドするためには、ただ単に
電磁波のシールド効果に優れるだけでなく、上記表示画
面の表示の視認性を阻害しないために可視光の透過性
(透光性)にも優れることが求められるので、金属板を
そのまま使用することはできない。そこで、CRT等の
表示画面から照射される電磁波を、表示の視認性を阻害
することなくシールドすることを目的として、例えば
(1) 導電性の高い金属フィラメントを混入した繊維から
なるメッシュ、(2) ステンレス、タングステン等の導電
性材料の繊維を内部に埋め込んだ透明基板(特開平3−
35284号公報、特開平5−269912号公報、特
開平5−327274号公報)、(3) 表面に金属または
金属酸化物の蒸着膜を形成した透明基板(特開平1−2
78800号公報、特開平5−323101号公報)な
どが用いられている。However, in order to shield the electromagnetic waves emitted from the display screen of the CRT or PDP, not only the electromagnetic wave shielding effect is excellent, but also the visibility of the display on the display screen is not hindered. Since it is also required to have excellent light transmissivity (translucency), the metal plate cannot be used as it is. Therefore, for the purpose of shielding electromagnetic waves emitted from a display screen such as a CRT without impairing the visibility of the display, for example,
(1) A mesh made of fibers mixed with a highly conductive metal filament, (2) a transparent substrate having fibers of a conductive material such as stainless steel or tungsten embedded therein
No. 35284, JP-A-5-269912, and JP-A-5-327274), (3) A transparent substrate having a metal or metal oxide vapor deposition film formed on the surface (JP-A 1-2).
78800, JP-A-5-323101) and the like are used.
【0004】しかし、上記のうち(1)のメッシュを用い
ると表示画面が暗くなって、コントラストや解像度が低
下するという問題がある。また(2)の透明部材は内部に
繊維が埋め込まれていることから、製造方法が複雑にな
ってコストが高くつく上、やはり表示画面が暗くなっ
て、コントラストや解像度が低下するという問題があ
る。さらに(3)の場合には、充分な透光性を維持し得る
程度にまで蒸着膜を薄くすると、当該膜の表面抵抗が低
下して電磁波の減衰特性が低下することから、透光性と
シールド効果とを両立できないという問題がある。However, the use of the mesh (1) among the above causes a problem that the display screen becomes dark and the contrast and resolution are lowered. In addition, since the transparent member of (2) has fibers embedded inside, the manufacturing method is complicated and the cost is high, and the display screen is also dark, and there is a problem that contrast and resolution are deteriorated. .. Further, in the case of (3), if the vapor deposition film is thinned to the extent that sufficient translucency can be maintained, the surface resistance of the film is reduced and the attenuation property of electromagnetic waves is reduced. There is a problem that the shield effect cannot be achieved at the same time.
【0005】CRT等の表示画面を覆って電磁波をシー
ルドする部材としては、上記例示の他にも例えば、透明
基板の表面に、導電性の高い金属粉末を混合したインキ
を、スクリーン印刷法によって格子状または縞状のパタ
ーンに印刷形成したもの(特開昭62−57297号公
報、特開平9−283977号公報)や、導電性インキ
からなる網目状のパターンを、スクリーン印刷法によっ
て印刷形成したのち真空中で焼き付けたもの(特開平2
−52499号公報)、あるいは紫外線硬化型エポキシ
アクリレート樹脂に金属粉末を混合したインキを、印刷
法は不明であるが透明基板の表面に、格子状に印刷形成
したのち紫外線を照射して硬化したもの(特公平2−4
8159号公報)などが知られているが、これらの部材
を用いても、充分な電磁波のシールド効果と透光性とを
両立することはできない。As a member for covering a display screen of a CRT or the like to shield electromagnetic waves, for example, in addition to the above examples, for example, an ink prepared by mixing a highly conductive metal powder on the surface of a transparent substrate is grid-shaped by a screen printing method. Formed by printing in a striped or striped pattern (JP-A-62-57297, JP-A-9-283977) and a mesh pattern made of conductive ink, which is formed by screen printing. Those baked in vacuum
No. 52499), or an ink in which a metal powder is mixed with an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, the printing method is unknown, but the surface of a transparent substrate is printed and formed in a grid pattern and then cured by irradiating with ultraviolet rays. (Tokuhei 2-4
However, even if these members are used, a sufficient electromagnetic wave shielding effect and translucency cannot be achieved at the same time.
【0006】すなわち、すぐれた電磁波のシールド効果
と透光性とを両立するには、パターンの線幅とパターン
の間隙(ピッチ)とを最適化し、さらにパターンの電気
抵抗を小さくする必要があるが、このような観点に対す
る考慮は、上記各公報のいずれに記載の技術においても
なされておらず、またパターンの作成方法に対する考慮
も不充分であると考えられる。例えば充分な透光性を得
るには、パターンの線幅を極めて細くし、かつその間隔
を大きくするのが好ましいが、この場合にはシールド効
果が不充分になる。また、スクリーン印刷法によって数
10μm以下といった極めて細い線幅のパターンを形成
するのは困難であって、パターンの線幅にばらつきが生
じたり、パターンが途切れる箇所が多数発生したりする
といった問題が生じる。That is, in order to achieve both excellent electromagnetic wave shielding effect and translucency, it is necessary to optimize the pattern line width and the pattern gap (pitch) and further reduce the electric resistance of the pattern. It is considered that such a viewpoint is not considered in any of the techniques described in each of the above-mentioned publications, and that the method for creating a pattern is also insufficiently considered. For example, in order to obtain sufficient translucency, it is preferable that the line width of the pattern be extremely thin and the interval be large, but in this case, the shield effect becomes insufficient. Further, it is difficult to form a pattern having an extremely narrow line width of several tens of μm or less by the screen printing method, and there arises a problem that the line width of the pattern varies or a number of places where the pattern is interrupted occur. ..
【0007】特公平2−48159号公報に記載のもの
についても、その実施例ではパターンの線幅が100μ
mとなっていることから、やはりスクリーン印刷法等の
従来法にて印刷を行っているものと推測され、数10μ
m以下といった極めて細い線幅のパターンを形成するの
は困難であって、上記のようにパターンの線幅にばらつ
きが生じたり、パターンが途切れる箇所が多数発生した
りするといった問題がある。In the embodiment disclosed in Japanese Patent Publication No. 2-48159, the pattern line width is 100 μm.
Since it is m, it is estimated that printing is performed by a conventional method such as a screen printing method, and it is several tens of μ.
It is difficult to form a pattern having an extremely thin line width of m or less, and there are problems that the line width of the pattern varies as described above, or that a number of places where the pattern is interrupted occur.
【0008】一方、シールド効果を高めるには、パター
ンの電気抵抗を極力低くすることが好ましいが、金属粉
末と樹脂とからなる一般的な導電性ペーストをインキと
して用いた場合、その比抵抗は充分に小さいものの、極
めて細いパターンを形成した際に、パターン間の電気抵
抗が非常に高くなってしまって、シールド効果を充分に
高めることが困難になる。また上記導電性ペーストにて
形成したパターンは金属光沢を有し、外光や内部発光の
反射によって、表示画面のコントラストの低下を引き起
こすという問題がある。On the other hand, in order to enhance the shielding effect, it is preferable to reduce the electric resistance of the pattern as much as possible. However, when a general conductive paste composed of metal powder and resin is used as the ink, its specific resistance is sufficient. Although extremely small, when an extremely thin pattern is formed, the electric resistance between the patterns becomes very high, and it becomes difficult to sufficiently enhance the shielding effect. Further, the pattern formed by the conductive paste has a metallic luster, and there is a problem that the contrast of the display screen is deteriorated by reflection of external light or internal light emission.
【0009】そこでコントラストの低下を抑制するため
に、導電性のカーボンブラックを金属粉末と併用して、
印刷パターンを黒くすることが考えられるが、カーボン
ブラックは金属粉末に比べて抵抗値が高いために、併用
すると印刷パターンの導電性が低くなって電磁波のシー
ルド性が悪くなるという問題がある。また特にPDP用
途では厳しい電磁波シールド性能が要求されているとと
もに、今後その要求がますます厳しくなることが予想さ
れており、上記の、金属粉末やカーボンブラックを主と
する導電性ペーストのみにてパターン形成されたシール
ド部材では、この要求に対応する十分なシールド性能が
得られなくなりつつあるという問題もある。Therefore, in order to suppress the decrease in contrast, conductive carbon black is used in combination with the metal powder,
Although it is conceivable to make the printed pattern black, carbon black has a higher resistance value than metal powder, and therefore when used together there is a problem that the conductivity of the printed pattern becomes low and the electromagnetic wave shielding property deteriorates. In addition, in particular for PDP applications, severe electromagnetic wave shielding performance is required, and it is expected that the demand will become more severe in the future. Patterns can be formed only with the above-mentioned conductive paste mainly composed of metal powder or carbon black. There is also a problem that the formed shield member is becoming unable to obtain sufficient shield performance to meet this requirement.
【0010】特開平3−35284号公報には、透明プ
ラスチック基板の表面に、金属薄膜を蒸着等によって形
成した後、ケミカルエッチングプロセスによってパター
ニングする旨の記載があり、また特開平10−4168
2号公報には、金属薄膜からなる幾何学模様を、これも
ケミカルエッチングプロセスによって透明基板の表面に
設ける旨の記載がある。また同様に特開平10−163
673号公報には、透明基板の表面にめっき触媒を含む
透明樹脂塗膜を形成し、その上に無電解めっきによって
銅などの金属薄膜を形成したのち、やはりケミカルエッ
チングプロセスによってパターニングする旨の記載があ
る。Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 3-35284 describes that a thin metal film is formed on the surface of a transparent plastic substrate by vapor deposition or the like, and then patterned by a chemical etching process.
Japanese Patent Publication No. 2 discloses that a geometric pattern made of a metal thin film is provided on the surface of a transparent substrate also by a chemical etching process. Also, in the same manner, JP-A-10-163
Japanese Patent No. 673 describes that a transparent resin coating film containing a plating catalyst is formed on the surface of a transparent substrate, a metal thin film such as copper is formed on the transparent resin coating film by electroless plating, and then patterning is also performed by a chemical etching process. There is.
【0011】これらの方法によれば、非常に微細なパタ
ーンを高い精度でもって形成することができる上、特に
PDP用途で要求される厳しい電磁波シールド性能を達
成することもできる。しかしながらケミカルエッチング
プロセスにおいては、かかる微細なパターンを形成する
ためにフォトリソグラフ法を用いる必要があり、製造コ
ストが極めて高くつくため、コスト面で不利である。特
に、PDP等の大型画面に対応させるためには露光装置
やエッチング装置を大型化せねばならず、製造設備が非
常に高価になる。According to these methods, a very fine pattern can be formed with high precision, and the severe electromagnetic wave shielding performance required especially for PDP applications can be achieved. However, in the chemical etching process, it is necessary to use the photolithography method to form such a fine pattern, and the manufacturing cost is extremely high, which is disadvantageous in terms of cost. In particular, in order to deal with a large screen such as a PDP, the exposure apparatus and the etching apparatus must be upsized, and the manufacturing equipment becomes very expensive.
【0012】また、透明基板の表面に一旦、形成した金
属薄膜の大部分を除去する必要があって無駄が多い上、
エッチング後の廃液の処理に時間と手間と費用とがかか
るという問題もある。Further, most of the metal thin film once formed on the surface of the transparent substrate needs to be removed, which is wasteful.
There is also a problem that it takes time, labor and cost to treat the waste liquid after etching.
【0013】[0013]
【発明が解決しようとする課題】そこで発明者らは先
に、凹版の表面に形成したインキ像を転写体の表面に転
写し、ついでこの転写体の表面から被印刷物の表面に印
刷する凹版オフセット印刷法によって、被印刷物として
の透明基板の表面に、導電性インキ組成物からなる、線
幅5〜40μmの微細な印刷パターンを印刷したのち、
この印刷パターン上に、電気めっきまたは無電解めっき
によって金属層を選択的に積層、形成して透光性電磁波
シールド部材を製造することを検討した。Therefore, the present inventors firstly transferred the ink image formed on the surface of the intaglio plate to the surface of the transfer body, and then printed from the surface of the transfer body to the surface of the printing medium. After printing a fine print pattern made of a conductive ink composition and having a line width of 5 to 40 μm on the surface of a transparent substrate as a printing object by a printing method,
It was studied to selectively laminate and form a metal layer on this printed pattern by electroplating or electroless plating to manufacture a translucent electromagnetic wave shield member.
【0014】この方法によれば、上記のように線幅5〜
40μmという、スクリーン印刷法では印刷不可能な微
細な印刷パターンを、凹版オフセット印刷法を採用する
ことで、ケミカルエッチングプロセスに比べて簡易かつ
低コストで形成することができる。このため、透光性と
電磁波のシールド効果との両方にすぐれるとともにコン
トラストを低下させるおそれがない透光性電磁波シール
ド部材を、簡易かつ低コストで製造することが可能とな
る。According to this method, as described above, the line width is 5 to 5.
By adopting the intaglio offset printing method, a fine print pattern of 40 μm, which cannot be printed by the screen printing method, can be formed easily and at low cost as compared with the chemical etching process. Therefore, it is possible to easily and inexpensively manufacture a light-transmitting electromagnetic wave shield member that is excellent in both light-transmitting property and electromagnetic wave shielding effect and has no fear of lowering contrast.
【0015】ところがその後、上記の方法を実用化し
て、実際に透光性電磁波シールド部材を生産すべく、発
明者らがさらに検討を行ったところ、上記凹版オフセッ
ト印刷法によって、同じ凹版、および同じ転写体を使用
して、多数枚の透明基板上に、印刷パターンを連続的に
印刷する工程で、下記のような問題を生じることが明ら
かとなった。 (a) 印刷初期には、目的とする、線幅5〜40μmの微
細な印刷パターンを良好に印刷できるものの、印刷枚数
を経るごとに、導電性インキ組成物の、主に凹版から転
写体への転写性が低下する結果、厚みが薄くなったり、
あるいはパターンが途切れて抜ける個所が多数、発生し
たりするようになる。つまり連続印刷時に印刷パターン
の形状変化を生じやすく、連続印刷特性が悪い。However, after that, the inventors further studied to put the above method into practical use and actually produce a transparent electromagnetic wave shield member. As a result, the same intaglio and the same intaglio were obtained by the intaglio offset printing method. It has been clarified that the following problems occur in the process of continuously printing a print pattern on a large number of transparent substrates using a transfer body. (a) In the initial stage of printing, the desired fine print pattern having a line width of 5 to 40 μm can be satisfactorily printed, but as the number of printed sheets passes, the conductive ink composition, mainly from the intaglio plate to the transfer body, is printed. As a result, the transferability of
Alternatively, there are many places where the pattern is interrupted and comes off. That is, the shape of the print pattern easily changes during continuous printing, and the continuous printing characteristics are poor.
【0016】(b) 連続印刷による印刷パターンの形状変
化はほとんど生じないものの、印刷初期からにじみが生
じやすく、目的とする線幅より太目の印刷パターンしか
得られない。つまり初期印刷特性が悪い。発明者らの検
討によると、これらの問題はいずれも、透光性電磁波シ
ールド部材のように、広い面積の全面に亘って均一でか
つ微細な印刷パターンを施す必要のある印刷において顕
著に発生し、その原因を追求してゆくと、主として導電
性インキ組成物の物性に起因することが明らかとなっ
た。(B) Although there is almost no change in the shape of the print pattern due to continuous printing, bleeding easily occurs from the initial stage of printing, and only a print pattern thicker than the intended line width can be obtained. That is, the initial printing characteristics are poor. According to the study by the inventors, all of these problems occur remarkably in printing that requires a uniform and fine print pattern over the entire surface of a large area, such as a transparent electromagnetic wave shield member. However, when the cause was pursued, it became clear that it was mainly due to the physical properties of the conductive ink composition.
【0017】本発明の主たる目的は、上記のような印刷
不良を生じることなく、常に良好な印刷パターンを連続
して形成することができる新規な導電性インキ組成物を
提供することにある。また本発明の他の目的は、上記の
導電性インキ組成物を使用して、常に良好な印刷パター
ンを連続して形成することができる新規な微細パターン
の印刷方法を提供することにある。A main object of the present invention is to provide a novel conductive ink composition capable of continuously forming a good printing pattern without causing the above-mentioned printing defects. Another object of the present invention is to provide a novel method for printing a fine pattern, which can always form a good print pattern continuously by using the above conductive ink composition.
【0018】また、本発明のさらに他の目的は、上記の
印刷方法を利用することで、透光性と電磁波のシールド
効果との両方にすぐれるとともにコントラストを低下さ
せるおそれがない良好な、品質の安定した透光性電磁波
シールド部材を、簡易かつ低コストで連続的に製造する
ことができる、新規な透光性電磁波シールド部材の製造
方法を提供することにある。Still another object of the present invention is to use the above-mentioned printing method, which is excellent in both translucency and shielding effect of electromagnetic waves, and which is free from the possibility of lowering the contrast and is of good quality. Another object of the present invention is to provide a novel method of manufacturing a transparent electromagnetic wave shield member capable of continuously manufacturing a stable transparent electromagnetic wave shield member of (3) easily and at low cost.
【0019】[0019]
【課題を解決するための手段および発明の効果】上記課
題を解決するため、発明者らは、導電性インキ組成物の
物性について検討を行った。その結果、平らなプレート
と、頂角を鈍角に形成した頂点が上記プレート面に垂直
に、しかも点接触するように配置された円錐形のコーン
とを有する、いわゆるコーンプレート型回転粘度計を使
用して測定されるインキの粘度の比 η1/η2 〔但しη1、η2はそれぞれ、測定時のずり速度以外は同
条件下で、コーンプレート型回転粘度計により測定され
たインキ組成物の粘度であって、η1はずり速度1se
c-1での粘度、η2はずり速度12sec-1での粘度で
ある。〕が、導電性インキ組成物の、連続印刷時の印刷
特性に大きくかかわっていることを見出した。Means for Solving the Problems and Effects of the Invention In order to solve the above problems, the inventors examined the physical properties of the conductive ink composition. As a result, a so-called cone-plate type rotary viscometer having a flat plate and a cone-shaped cone having an apex with an obtuse angle formed perpendicularly to the plate surface and in point contact is used. The ratio of the viscosity of the ink measured by η 1 /η 2 [wherein η 1 and η 2 are ink compositions measured by a cone-plate type rotational viscometer under the same conditions except for the shear rate at the time of measurement] Viscosity of η 1 offset speed 1se
The viscosity at c −1 and the viscosity at η 2 offset speed of 12 sec −1 . ] Has a great influence on the printing characteristics of the conductive ink composition during continuous printing.
【0020】すなわち導電性インキ組成物は、上記比η
1/η2が小さいほど、特に凹版から転写体への転写性の
低下が小さくなって連続印刷特性が良好になるものの、
にじみやすくなって初期印刷特性が悪化し、逆に比η1
/η2が大きいほど、にじみにくくなって初期印刷特性
が向上するものの、凹版から転写体への転写性の低下が
大きくなって連続印刷特性が悪化するのである。そこで
発明者らは、連続印刷特性と初期印刷特性の両方のバラ
ンスが良く、当該両特性に優れた良好な印刷が可能な導
電性インキ組成物を形成しうる、比η1/η2の範囲につ
いてさらに検討を行った結果、本発明を完成するに至っ
た。That is, the conductive ink composition has the above ratio η
The smaller 1 /η 2 is, the smaller the decrease in transferability from the intaglio plate to the transfer body is, and the better the continuous printing characteristics are.
Bleeding is more likely to occur and the initial printing characteristics deteriorate, and conversely the ratio η 1
As /η 2 is larger, bleeding is less likely to occur and the initial printing characteristics are improved, but the transferability from the intaglio plate to the transfer body is greatly deteriorated and continuous printing characteristics are deteriorated. Therefore, the inventors have formed a conductive ink composition which has a good balance between both continuous printing characteristics and initial printing characteristics and is capable of good printing with excellent characteristics, and has a ratio range of η 1 /η 2 . As a result of further examination of the above, the present invention has been completed.
【0021】したがって本発明の導電性インキ組成物
は、導電性粉末の配合により導電性が付与されたインキ
組成物であって、式(1): 4≦η1/η2≦12 (1) 〔式中η1、η2はそれぞれ、測定時のずり速度以外は同
条件下で、コーンプレート型回転粘度計により測定され
たインキ組成物の粘度であって、η1はずり速度1se
c-1での粘度、η2はずり速度12sec-1での粘度で
ある。〕を満足することを特徴とする。Therefore, the conductive ink composition of the present invention is an ink composition to which conductivity is imparted by blending a conductive powder, and the formula (1): 4≦η 1 /η 2 ≦12 (1) [wherein eta 1, eta 2 are each other than a shear rate during the measurement under the same conditions, a viscosity of the measured ink composition by a cone plate type rotational viscometer, eta 1 is a shear rate 1se
The viscosity at c −1 and the viscosity at η 2 offset speed of 12 sec −1 . ] Is satisfied.
【0022】また、本発明の微細パターンの印刷方法
は、凹版の表面に形成したインキ像を転写体の表面に転
写し、ついでこの転写体の表面から被印刷物の表面に印
刷する凹版オフセット印刷法により、被印刷物の表面
に、導電性インキ組成物からなる、線幅5〜40μmの
微細パターンを印刷する印刷方法であって、導電性イン
キ組成物として、導電性粉末の配合により導電性が付与
された、前記式(1)を満足するものを用いることを特徴
とする。The fine pattern printing method of the present invention is an intaglio offset printing method in which an ink image formed on the surface of an intaglio plate is transferred to the surface of a transfer body, and then the surface of the transfer body is printed on the surface of a printing material. Is a printing method for printing a fine pattern having a line width of 5 to 40 μm, which is made of a conductive ink composition, on the surface of an object to be printed by adding conductive powder as a conductive ink composition. It is characterized by using the above-mentioned one satisfying the above formula (1).
【0023】かかる本発明の導電性インキ組成物、およ
び微細パターンの印刷方法によれば、前記のように連続
印刷特性と初期印刷特性の両方のバランスをとって、当
該両特性に優れた良好な印刷を行うことができるため、
線幅5〜40μmという微細な印刷パターンを、常に良
好な状態を維持しつつ、連続して形成することが可能と
なる。また本発明の透光性電磁波シールド部材の製造方
法は、可視光を透過し、かつ電磁波を透過しない電磁波
シールドパターンを有する透光性電磁波シールド部材を
製造する方法であって、上記本発明の微細パターンの印
刷方法によって、被印刷物としての透明基板の表面に、
導電性インキ組成物からなる、線幅5〜40μmで、か
つ式(2): 1≦Sk/Ss≦9 (2) 〔式中Ssは、透明基板の表面に印刷パターンが印刷さ
れた領域の全表面積、Skは印刷されていない領域の全
表面積を示す。〕を満足する、ストライプ状、格子状ま
たは幾何学模様からなる印刷パターンを形成した後、当
該印刷パターン上に選択的に、金属層を積層、形成して
電磁波シールドパターンを構成する工程を有することを
特徴とする。According to the conductive ink composition of the present invention and the method for printing a fine pattern, both the continuous printing characteristics and the initial printing characteristics are balanced as described above, and excellent characteristics are obtained. Because you can print
It is possible to continuously form a fine print pattern having a line width of 5 to 40 μm while always maintaining a good state. The method for producing a translucent electromagnetic wave shield member of the present invention is a method for producing a translucent electromagnetic wave shield member having an electromagnetic wave shield pattern that transmits visible light and does not transmit electromagnetic waves, wherein By the method of printing the pattern, on the surface of the transparent substrate as the printed material,
A conductive ink composition having a line width of 5 to 40 μm and a formula (2): 1≦Sk/Ss≦9 (2) [wherein Ss is a region where a print pattern is printed on the surface of the transparent substrate. The total surface area Sk is the total surface area of the unprinted area. ] Forming a print pattern consisting of a stripe pattern, a grid pattern or a geometric pattern that satisfies the above, and then selectively laminating and forming a metal layer on the print pattern to form an electromagnetic wave shield pattern. Is characterized by.
【0024】かかる本発明の製造方法によれば、前記微
細パターンの印刷方法によって連続的に、常に良好な状
態を維持しつつ形成される、線幅5〜40μmという微
細な印刷パターンの上に金属層を積層、形成して電磁波
シールドパターンを構成できるため、透光性と電磁波の
シールド効果との両方にすぐれるとともにコントラスト
を低下させるおそれがない良好な、品質の安定した透光
性電磁波シールド部材を、簡易かつ低コストで連続的に
製造することが可能となる。According to the manufacturing method of the present invention, a metal is formed on a fine printed pattern having a line width of 5 to 40 μm which is continuously formed by the fine pattern printing method while always maintaining a good state. Since the electromagnetic wave shield pattern can be formed by stacking and forming layers, the light-transmitting electromagnetic wave shield member is excellent in both the light-transmitting property and the electromagnetic wave shielding effect and is not likely to deteriorate the contrast, and is stable in quality. Can be continuously manufactured simply and at low cost.
【0025】[0025]
【発明の実施の形態】以下に、本発明を説明する。 〈導電性インキ組成物〉本発明の導電性インキ組成物
は、前記のように導電性粉末の配合により導電性が付与
されたインキ組成物であって、式(1): 4≦η1/η2≦12 (1) 〔式中η1、η2はそれぞれ、測定時のずり速度以外は同
条件下で、コーンプレート型回転粘度計により測定され
たインキ組成物の粘度であって、η1はずり速度1se
c-1での粘度、η2はずり速度12sec-1での粘度で
ある。〕を満足するものである必要がある。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described below. <Conductive ink composition> The conductive ink composition of the present invention is an ink composition to which conductivity is imparted by blending the conductive powder as described above, and has the formula (1): 4≦η 1 / η 2 ≦12 (1) [wherein η 1 and η 2 are the viscosities of the ink compositions measured by a cone-plate type rotational viscometer under the same conditions except for the shear rate at the time of measurement, 1 off speed 1se
The viscosity at c −1 and the viscosity at η 2 offset speed of 12 sec −1 . ] Must be satisfied.
【0026】比η1/η2が4未満では、前記のように特
に凹版から転写体への転写性の低下が小さくなって連続
印刷特性は良好になるものの、にじみやすくなって初期
印刷特性が悪化する。逆に比η1/η2が12を超えた場
合には、にじみにくくなって初期印刷特性は向上するも
のの、凹版から転写体への転写性の低下が大きくなって
連続印刷特性が悪化する。なお比η1/η2は、連続印刷
特性と初期印刷特性のバランスをとって、両特性に優れ
た良好な印刷を行うことを考慮すると、上記の範囲内で
も特に5〜11.5程度であるのが好ましい。If the ratio η 1 /η 2 is less than 4, as described above, the deterioration of the transferability from the intaglio plate to the transfer member is small and the continuous printing characteristics are good, but the bleeding is likely to occur and the initial printing characteristics are deteriorated. Getting worse. On the other hand, when the ratio η 1 /η 2 exceeds 12, bleeding is less likely to occur and the initial printing characteristics are improved, but the transferability from the intaglio plate to the transfer body is greatly deteriorated and continuous printing characteristics are deteriorated. Note that the ratio η 1 /η 2 is in the range of about 5 to 11.5, especially within the above range, considering that the continuous printing characteristics and the initial printing characteristics are balanced to perform good printing with excellent characteristics. Preferably.
【0027】粘度η1、η2はそれぞれ、図1に示すよう
に平らなプレートPと、頂角(180°−2θ)が鈍角
に形成された頂点C1を、上記プレートPの表面P1に
垂直に、しかも点接触するように配置した円錐形のコー
ンCとを有する、いわゆるコーンプレート型回転粘度計
を用い、試料であるインキIをコーンCとプレートPの
隙間に注入した状態で、図中矢印で示すようにコーンC
を一定速度で回転させてインキIにせん断を起こさせた
際にプレートPに加わるトルクを測定することで求めら
れる。The viscosities η 1 and η 2 are, as shown in FIG. 1, a flat plate P and an apex C1 having an obtuse apex angle (180°-2θ) formed perpendicular to the surface P1 of the plate P. In addition, a so-called cone-plate type rotational viscometer having a cone-shaped cone C arranged so as to make point contact is used, and the ink I as a sample is injected into the gap between the cone C and the plate P. Cone C as shown by the arrow
Can be obtained by measuring the torque applied to the plate P when the ink I is sheared by rotating at a constant speed.
【0028】測定条件は、前記のようにずり速度を1s
ec-1(粘度η1の場合)および12sec-1(粘度η2
の場合)に変更すること以外は全く同条件とされる。そ
の具体的な数値は特に限定されないが、後述する実施
例、比較例では、測定温度23±1℃、相対湿度65±
5%の条件で測定を行った。本発明の導電性インキ組成
物は、従来同様に、溶剤可溶の樹脂と、当該樹脂を溶解
しうる溶剤と、導電性粉末とを含むものであるのが好ま
しい。The measurement condition is that the shear rate is 1 s as described above.
ec -1 (for viscosity η 1 ) and 12 sec -1 (for viscosity η 2
In the case of), the conditions are exactly the same except that it is changed to. The specific numerical value is not particularly limited, but in the examples and comparative examples described later, the measurement temperature is 23±1° C. and the relative humidity is 65±.
The measurement was performed under the condition of 5%. As in the prior art, the conductive ink composition of the present invention preferably contains a solvent-soluble resin, a solvent capable of dissolving the resin, and a conductive powder.
【0029】このうち導電性粉末としては、特に金属粉
末が好適に使用され、金属粉末としては、例えば銀、
銅、鉄、ニッケル、アルミニウムおよび金などがあげら
れる。金属粉末はそれぞれ1種単独で使用できる他、2
種以上を併用することもできる。またメッキ複合体(例
えば銀メッキ銅)や合金体としてもよい。これら金属粉
末の中でも特に導電性とコスト、そして耐酸化性、すな
わち絶縁性の高い酸化物を生成しにくい特性を考慮する
と銀、ニッケルまたは銅の粉末が好適に使用される。Among these, as the conductive powder, metal powder is particularly preferably used, and as the metal powder, for example, silver,
Examples include copper, iron, nickel, aluminum and gold. Each metal powder can be used alone, or 2
It is also possible to use two or more kinds in combination. Further, it may be a plated composite (for example, silver-plated copper) or an alloy. Among these metal powders, silver, nickel, or copper powder is preferably used in consideration of conductivity, cost, and oxidation resistance, that is, the property that an oxide having high insulating property is hard to be generated.
【0030】特に平均粒径1〜10μmの銀粉末と、平
均粒径0.1〜1μmのニッケル粉末との併用系が好ま
しく、かかる併用系においては、銀粉末[Ag]とニッ
ケル粉末[Ni]とを、重量比[Ag]/[Ni]で1
/8〜8/1の割合で配合することによって、粘度の比
η1/η2が、前記4〜12の範囲に調整される。すなわ
ち、上記の割合よりも銀粉末が多い場合には、比η1/
η2が4を下回るおそれがあり、逆にニッケル粉末が多
い場合には、比η1/η2が12を超えるおそれがある。In particular, a combination system of silver powder having an average particle size of 1 to 10 μm and nickel powder having an average particle size of 0.1 to 1 μm is preferable. In such a combination system, silver powder [Ag] and nickel powder [Ni] are used. And the weight ratio [Ag]/[Ni] is 1
By blending in a ratio of /8 to 8/1, the viscosity ratio η 1 /η 2 is adjusted to the range of 4 to 12 described above. That is, when the amount of silver powder is larger than the above ratio, the ratio η 1 /
η 2 may fall below 4, and conversely, when the amount of nickel powder is large, the ratio η 1 /η 2 may exceed 12.
【0031】なお重量比[Ag]/[Ni]は、上記の
範囲内でも特に1/1〜6/2であるのがさらに好まし
い。導電性インキ組成物中での金属粉末は、印刷パター
ンの導電性を高くして、電気めっきによる金属層の形成
をより一層、良好に行うという観点から、その充填密度
が高いほど好ましい。また印刷パターンの導電性は、使
用する金属粉末自体の体積固有抵抗のみで決まるもので
はなく、パターン中での金属粉末間の接触抵抗によって
も大きく左右される。例えば、印刷パターンの内部に金
属粒子が高密度で充填されていても、金属粉末間の接触
抵抗が大きければ、印刷パターン全体の導電性が低くな
る。The weight ratio [Ag]/[Ni] is more preferably 1/1 to 6/2 even within the above range. The higher the packing density of the metal powder in the conductive ink composition is, the more preferable it is from the viewpoint of increasing the conductivity of the printed pattern and further favorably forming the metal layer by electroplating. Further, the conductivity of the printed pattern is not only determined by the volume resistivity of the metal powder itself used, but is greatly influenced by the contact resistance between the metal powders in the pattern. For example, even if the inside of the print pattern is densely filled with metal particles, if the contact resistance between the metal powders is large, the conductivity of the entire print pattern will be low.
【0032】それゆえ金属粉末としては、球状や粟状の
ものなどよりも、金属粉末同士の接触面を大きくするこ
とを考慮して鱗片状のものが好ましく使用されるが、上
記球状や粟状のものを排除するものではない。上記金属
粉末などの導電性粉末の、導電性インキ組成物への添加
量は、樹脂の総量100重量部に対して400〜120
0重量部程度であるのが好ましく、700〜1000重
量部程度であるのがさらに好ましい。前述した銀粉末と
ニッケル粉末との併用系では、両者の総量が、この範囲
に規定される。Therefore, as the metal powder, scale-like ones are preferably used in consideration of increasing the contact surface between the metal powders, rather than spherical or millet-like ones. It does not exclude things. The amount of the conductive powder such as the metal powder added to the conductive ink composition is 400 to 120 with respect to 100 parts by weight of the total amount of the resin.
The amount is preferably about 0 parts by weight, more preferably about 700 to 1000 parts by weight. In the above-mentioned combination system of silver powder and nickel powder, the total amount of both is regulated within this range.
【0033】導電性粉末の添加量が上記の範囲未満で
は、印刷パターンの導電性が低下するため、透光性電磁
波シールド部材の製造において、上記印刷パターンの表
面に、電気めっき、および/または無電解めっきによっ
て導電性にすぐれた金属層を積層、形成するのが容易で
なくなり、電磁波シールド効果にすぐれた電磁波シール
ドパターンを構成できないおそれがある。また逆に、導
電性粉末の添加量がこの範囲を超えた場合には、導電性
粉末同士を結合させるバインダーとしての樹脂の結合力
が弱まるために、やはり印刷パターンの導電性が低下し
て、その表面に、電気めっき、および/または無電解め
っきによって導電性にすぐれた金属層を積層、形成する
のが容易でなくなり、電磁波シールド効果にすぐれた電
磁波シールドパターンを構成できないおそれがある。If the amount of the conductive powder added is less than the above range, the electroconductivity of the printed pattern is lowered. Therefore, in the production of the translucent electromagnetic wave shield member, the surface of the printed pattern is not electroplated and/or non-exposed. Electrolytic plating makes it difficult to stack and form a metal layer having excellent conductivity, and it may not be possible to form an electromagnetic wave shielding pattern having an excellent electromagnetic wave shielding effect. On the contrary, when the amount of the conductive powder added exceeds this range, the binding force of the resin as the binder that binds the conductive powders to each other is weakened, so that the conductivity of the printing pattern is also reduced. It is not easy to laminate and form a metal layer having excellent conductivity on the surface by electroplating and/or electroless plating, and it may not be possible to form an electromagnetic wave shielding pattern having an excellent electromagnetic wave shielding effect.
【0034】上記導電性粉末とともに導電性インキ組成
物を形成する樹脂としては、熱硬化性、紫外線硬化性、
あるいは熱可塑性などの種々の樹脂がいずれも使用可能
であるが、特に印刷パターンの耐熱性、耐候性などを考
慮すると熱硬化性または紫外線硬化性の樹脂が好適に使
用される。熱硬化性の樹脂としては、例えばポリエステ
ル−メラミン、メラミン、エポキシ−メラミン、フェノ
ール、ポリイミド、熱硬化性アクリル、およびポリウレ
タンなどの各種樹脂があげられる。また紫外線硬化性の
樹脂としては、例えばポリエステル、ポリビニルブチラ
ール、アクリル、フェノール、ポリウレタンなどの各種
樹脂があげられる。The resin that forms the conductive ink composition together with the above-mentioned conductive powder includes thermosetting, ultraviolet curable,
Alternatively, various resins such as thermoplastic resins can be used, but thermosetting or ultraviolet curable resins are preferably used in consideration of heat resistance and weather resistance of the printed pattern. Examples of the thermosetting resin include various resins such as polyester-melamine, melamine, epoxy-melamine, phenol, polyimide, thermosetting acrylic, and polyurethane. Examples of the ultraviolet curable resin include various resins such as polyester, polyvinyl butyral, acryl, phenol and polyurethane.
【0035】また前者の熱硬化性の樹脂を使用する際
に、例えば被印刷物の耐熱性などの関係で硬化温度を高
くできないようなときには、パラトルエンスルホン酸や
アミンでブロックしたパラトルエンスルホン酸、あるい
はブロックイソシアネートなどの硬化触媒を添加しても
よい。溶剤は、上記樹脂を溶解して、当該樹脂と導電性
粉末とを含む導電性インキ組成物の粘度を、凹版オフセ
ット印刷に適した範囲に調整するために添加されるもの
で、かかる溶剤としては、例えばその沸点が150℃以
上であるような従来公知の種々の溶剤が、好適に使用さ
れる。溶剤の沸点が150℃を下回ると、印刷時に乾燥
しやすくなって、インキ組成物が経時変化を起こしやす
くなるためである。When the former thermosetting resin is used and the curing temperature cannot be increased due to, for example, the heat resistance of the material to be printed, paratoluenesulfonic acid or paratoluenesulfonic acid blocked with amine, Alternatively, a curing catalyst such as blocked isocyanate may be added. The solvent is added to dissolve the resin and adjust the viscosity of the conductive ink composition containing the resin and the conductive powder to a range suitable for intaglio offset printing. For example, various conventionally known solvents having a boiling point of 150° C. or higher are preferably used. This is because when the boiling point of the solvent is lower than 150° C., the ink composition is likely to be dried during printing and the ink composition is likely to change over time.
【0036】かかる溶剤の具体例としては、例えばアル
コール類〔ヘキサノール、オクタノール、ノナノール、
デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカ
ノール、テトラデカノール、ベンタデカノール、ステア
リルアルコール、セリルアルコール、シクロヘキサノー
ル、テルピネオールなど〕や、アルキルエーテル類〔エ
チレングリコールモノブチルエーテル(ブチルセロソル
ブ)、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエ
チレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエ
ーテル(ブチルカルビトール)、セロソルブアセテー
ト、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテ
ート、ブチルカルビトールアセテートなど〕があげら
れ、この中から1種または2種以上が、印刷適性や作業
性等を考慮して適宜、選択される。Specific examples of such a solvent include alcohols [hexanol, octanol, nonanol,
Decanol, undecanol, dodecanol, tridecanol, tetradecanol, ventadecanol, stearyl alcohol, ceryl alcohol, cyclohexanol, terpineol, etc.] and alkyl ethers [ethylene glycol monobutyl ether (butyl cellosolve), ethylene glycol monophenyl ether, diethylene glycol, Diethylene glycol monobutyl ether (butyl carbitol), cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, butyl carbitol acetate, etc.], and one or more of them may be used in consideration of printability and workability. It is selected as appropriate.
【0037】溶剤として高級アルコールを使用する場合
は、インキ組成物の乾燥性や流動性が低下するおそれが
あるため、これらよりも乾燥性が良好なブチルカルビト
ール、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチル
セロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート
などを併用すればよい。溶剤は、導電性インキ組成物の
粘度が50〜2000ポアズ(P)程度、特に100〜
1000P程度となるように、その添加量を調整するの
が好ましい。When a higher alcohol is used as a solvent, the drying property and fluidity of the ink composition may be deteriorated. Therefore, butyl carbitol, butyl cellosolve, ethyl carbitol, and butyl cellosolve acetate, which have better drying properties than these, may be used. , Butyl carbitol acetate, etc. may be used together. The solvent has a viscosity of the conductive ink composition of about 50 to 2000 poise (P), particularly 100 to
It is preferable to adjust the addition amount so that the amount becomes about 1000P.
【0038】導電性インキ組成物の粘度がこの範囲を下
回るか、あるいは逆に上回った場合には、そのいずれに
おいても、導電性インキ組成物の印刷適性が低下して、
微細なパターンを形成できなくなるおそれがあるからで
ある。ここでいう粘度は、前記コーンプレート型回転粘
度計により測定された、ずり速度12sec-1での粘度
η2である。導電性インキ組成物は、上記の各成分を配
合し、十分に攪拌混合したのち、混練することによって
調製される。When the viscosity of the conductive ink composition is lower than this range or is higher than this range, the printability of the conductive ink composition is deteriorated in either case,
This is because it is possible that a fine pattern cannot be formed. The viscosity here is the viscosity η 2 measured at the shear rate of 12 sec −1 , which was measured by the cone-plate type rotational viscometer. The conductive ink composition is prepared by blending the above-mentioned components, thoroughly stirring and mixing, and then kneading.
【0039】〈微細パターンの印刷方法〉本発明の微細
パターンの印刷方法は、凹版の表面に形成したインキ像
を転写体の表面に転写し、ついでこの転写体の表面から
被印刷物の表面に印刷する凹版オフセット印刷法によ
り、被印刷物の表面に、導電性インキ組成物からなる、
線幅5〜40μmの微細パターンを印刷する方法であっ
て、上記導電性インキ組成物として、上で説明した本発
明の組成物を使用することを特徴とするものである。<Fine Pattern Printing Method> In the fine pattern printing method of the present invention, the ink image formed on the surface of the intaglio plate is transferred to the surface of the transfer body, and then the surface of the transfer body is printed on the surface of the printing object. By the intaglio offset printing method, on the surface of the substrate to be printed, consisting of a conductive ink composition,
A method for printing a fine pattern having a line width of 5 to 40 μm, characterized by using the composition of the present invention described above as the conductive ink composition.
【0040】上記印刷方法に使用する凹版としては、基
板の表面に、印刷パターンに対応した所定の凹部を形成
した平板状のものや、平板状のものを円筒状に巻き付け
たもの、円筒状のもの、あるいは円柱状のものなどがあ
げられる。上記基板は、表面の平滑性が重要である。平
滑性が悪いと、インキ組成物をドクターブレードによっ
て凹版の凹部に充てんする際に、凹版表面の、凹部以外
の個所にインキのかき残りが発生して、非画線部の汚れ
(地汚れ)が発生する。The intaglio plate used in the above printing method has a flat plate shape in which a predetermined concave portion corresponding to the printing pattern is formed on the surface of the substrate, a flat plate shape wound in a cylindrical shape, or a cylindrical shape. Examples include a thing or a cylindrical thing. The smoothness of the surface of the substrate is important. If the smoothness is poor, when the ink composition is filled in the recesses of the intaglio plate with a doctor blade, ink will remain on the surface of the intaglio plate other than the recesses, and stains on the non-image areas (ground stains). Occurs.
【0041】平滑性の程度については特に限定されない
が、十点平均粗さRzで表しておよそ1μm以下程度で
あるのが好ましく、0.5μm以下程度であるのがさら
に好ましい。かかる基板としては、例えばソーダライム
ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス、低アルカリ
ガラス、低膨張ガラスなどのガラス製の基板のほか、フ
ッ素樹脂、ポリカーポネート(PC)、ポリエーテルス
ルホン(PES)、ポリエステル、ポリメタクリル樹脂
等の樹脂板、ステンレス、銅、ニッケル、低膨脹合金ア
ンバー等の金属基板などが使用可能である。中でも、最
も安価に表面平滑性の良好な凹版を製造できる上、パタ
ーンのエッヂ形状を非常にシャープに形成することが可
能なガラス製のものを用いるのが好ましい。The degree of smoothness is not particularly limited, but it is preferably about 1 μm or less, more preferably about 0.5 μm or less, expressed by the ten-point average roughness Rz. Examples of such a substrate include glass substrates such as soda lime glass, non-alkali glass, quartz glass, low alkali glass, and low expansion glass, as well as fluororesin, polycarbonate (PC), polyether sulfone (PES), Resin plates such as polyester and polymethacrylic resin, and metal substrates such as stainless steel, copper, nickel and low expansion alloy amber can be used. Among them, it is preferable to use a glass plate that can produce the intaglio plate having a good surface smoothness at the lowest cost and can form the edge shape of the pattern very sharply.
【0042】ただし、LSIなどの分野でフォトリソグ
ラフ用の印刷原版などに用いられるノンアルカリガラス
は非常に高価であるため、透光性電磁波シールド部材の
印刷パターン程度の精度であれば、ソーダライムガラス
で十分である。凹版の凹部は、フォトリングラフ法、エ
ッチング法もしくは電鋳法等により形成される。凹部の
深さは、目的とする印刷パターンの厚みに応じて適宜、
設定すればよいが、凹部内へのインキの残り(通常は、
その深さの約半分量程度のインキが凹部内へ残る)や、
あるいは溶剤の蒸発による印刷後の厚みの減少などを考
慮すると、およそ1〜50μm程度、特に3〜20μm
程度であるのが好ましい。However, since non-alkali glass used for printing original plates for photolithography in the field of LSI and the like is very expensive, soda lime glass is required as long as the accuracy is about the printing pattern of the transparent electromagnetic wave shielding member. Is enough. The concave portion of the intaglio plate is formed by a photolithography method, an etching method, an electroforming method, or the like. The depth of the concave portion is appropriately set according to the thickness of the target print pattern,
You can set it, but the ink remaining in the recess (usually,
About half the amount of the ink remains in the recess),
Or considering the reduction of the thickness after printing due to evaporation of the solvent, it is about 1 to 50 μm, especially 3 to 20 μm.
It is preferably about the same.
【0043】上記凹版とともに凹版オフセット印刷に使
用される転写体としては、その表面がインキの離型性に
優れたものであれば特に限定されないが、インキ離型性
を示す指標としての表面エネルギーの値が15〜30d
yn/cm程度、特に18〜25dyn/cm程度であ
るものが、転写体として好ましい。かかる転写体として
は、少なくともその表面層がシリコーンゴム、フッ素樹
脂、フッ素ゴムまたはこれらの混合物などで形成された
種々のものがあげられるが、中でもシリコーンゴムがイ
ンキ離型性にすぐれており、凹版から転写されたインキ
をほぼ100%、被印刷物上に転写できるため好適に使
用される。The transfer body used in the intaglio offset printing together with the intaglio printing plate is not particularly limited as long as its surface has excellent ink releasability, but the surface energy as an index showing the ink releasability is not limited. Value is 15 to 30d
The transfer material is preferably about yn/cm, particularly about 18 to 25 dyn/cm. Examples of such a transfer material include various materials in which at least the surface layer is formed of silicone rubber, fluororesin, fluororubber, or a mixture thereof. Among them, silicone rubber has excellent ink releasability, It is preferably used because almost 100% of the ink transferred from the can be transferred onto the printing material.
【0044】またシリコーンゴムとしては加熱硬化型
(HTV)、室温硬化型(RTV)等の種々のシリコー
ンゴムがあげられるが、特に室温硬化型の付加型シリコ
ーンゴムは硬化の際に副生成物を全く発生せず、寸法精
度においてすぐれているので、好適に使用される。上記
シリコーンゴムなどで形成される転写体の表面層の硬さ
は、印刷精度などを考慮すると、日本工業規格JISK
6301に規定されたスプリング式硬さ(JIS A)
で表して20〜70°程度、特に30〜60°程度であ
るのが好ましい。Examples of the silicone rubber include various silicone rubbers such as heat curing type (HTV) and room temperature curing type (RTV). Particularly, room temperature curing type addition type silicone rubber produces a by-product during curing. Since it does not occur at all and has excellent dimensional accuracy, it is preferably used. The hardness of the surface layer of the transfer body formed of the above silicone rubber or the like is determined according to Japanese Industrial Standard JISK in consideration of printing accuracy and the like.
6301 spring type hardness (JIS A)
Is about 20 to 70°, preferably about 30 to 60°.
【0045】すなわち表面層の硬さがこの範囲を超える
硬い転写体は、凹版オフセット印刷において凹版に圧接
した際に、上記表面層が凹部内に十分に圧入されないた
めに、凹部内のインキが転写体の表面に十分に転写され
ず、精度のよい印刷を行えないおそれがある。また逆
に、表面層の硬さがこの範囲未満の柔らかい転写体は、
凹版オフセット印刷において凹版や被印刷物に圧接した
際に、上記表面層の変形が大きくなるために、やはり精
度のよい印刷を行えないおそれがある。That is, in the case of a hard transfer member having a surface layer hardness exceeding this range, the ink in the recesses is transferred because the surface layer is not sufficiently pressed into the recesses when pressed against the intaglio printing plate in intaglio offset printing. There is a possibility that the transfer may not be sufficiently transferred to the surface of the body and accurate printing may not be performed. Conversely, a soft transfer member whose surface layer has a hardness less than this range is
In the intaglio offset printing, when the intaglio plate or the object to be printed is pressed into contact with the plate, the deformation of the surface layer becomes large, so that it may be impossible to perform accurate printing.
【0046】また転写体の表面は、これも印刷精度など
を考慮すると平滑で、その表面の凹凸などが印刷に影響
を及ぼさないことが好ましく、具体的には十点平均粗さ
で表して1.0μm以下、特に0.5μm以下であるの
が好ましい。転写体の形状はブランケット状(シート
状)のもの(円筒状の胴に巻き付けるなどして使用)、
ローラ状のもの、あるいは印刷ずれの生じないものであ
ればパット印刷等に用いられる曲面状の弾性体などであ
ってもよい。The surface of the transfer member is preferably smooth in consideration of printing accuracy and the like, and it is preferable that the unevenness of the surface does not affect the printing. Specifically, it is represented by ten-point average roughness. It is preferably 0.0 μm or less, and particularly preferably 0.5 μm or less. The transfer body has a blanket (sheet) shape (used by wrapping it around a cylindrical body),
A roller-shaped member or a curved elastic member used for pad printing or the like may be used as long as it does not cause print misalignment.
【0047】上記本発明の微細パターンの印刷方法によ
れば、前述したように、その線幅が5〜40μmという
微細な印刷パターンを、常に良好な状態で、連続して形
成することができる。したがって、以下に述べるように
上記印刷パターン上に、選択的に金属層を積層、形成し
て電磁波シールドパターンを構成することで、品質の安
定した良好な透光性電磁波シールド部材を製造すること
が可能となる。また本発明の導電性インキ組成物と、そ
れを用いた微細パターンの印刷方法とは、プリント配線
板の製造にも適している。According to the fine pattern printing method of the present invention, as described above, a fine print pattern having a line width of 5 to 40 μm can be continuously formed in a good condition. Therefore, as described below, by selectively laminating and forming a metal layer on the printed pattern to form an electromagnetic wave shield pattern, it is possible to manufacture a good transparent electromagnetic wave shield member with stable quality. It will be possible. Further, the conductive ink composition of the present invention and the method for printing a fine pattern using the same are also suitable for manufacturing a printed wiring board.
【0048】すなわち絶縁基板上に、本発明のインキ組
成物を使用して、本発明の印刷方法で、線幅が5〜40
μmという微細な印刷パターンを形成し、形成された印
刷パターン上に、必要に応じて、上記と同様に選択的に
金属層を積層、形成して導体回路を構成することでプリ
ント配線板が製造される。かくして得られたプリント配
線板は、従来の、スクリーン印刷法によって導体回路ま
たはその元になる印刷パターンを形成したものに比べて
線幅および線間隔を狭くして回路密度を向上できる上、
ケミカルエッチングプロセスによるパターニングを利用
して導体回路を形成したものに比べて簡易かつ低コスト
での製造が可能となる。That is, the ink composition of the present invention is used on the insulating substrate and the line width is 5 to 40 by the printing method of the present invention.
A printed wiring board is manufactured by forming a fine print pattern of μm, and optionally laminating and forming a metal layer on the formed print pattern in the same manner as above to form a conductor circuit. To be done. The printed wiring board thus obtained can improve the circuit density by narrowing the line width and the line interval as compared with the conventional one in which a conductor circuit or a printed pattern which is its origin is formed by a screen printing method.
This makes it possible to perform the manufacturing more easily and at a lower cost than that in which a conductor circuit is formed using patterning by a chemical etching process.
【0049】しかも印刷パターン形成時の初期印刷特性
と連続印刷特性のバランスがとれているため、本発明に
よれば、上記のように優れた特性を有するプリント配線
板を、これらの特性を維持しつつ連続的に製造すること
が可能となる。 〈透光性電磁波シールド部材の製造方法〉本発明の透光
性電磁波シールド部材の製造方法は、上で述べた微細パ
ターンの印刷方法によって、被印刷物としての透明基板
の表面に、導電性インキ組成物からなる、ストライプ
状、格子状または幾何学模様からなる印刷パターンを形
成した後、当該印刷パターン上に選択的に、金属層を積
層、形成して電磁波シールドパターンを構成する工程を
有することを特徴とするものである。Moreover, since the initial printing characteristics and the continuous printing characteristics at the time of forming the printing pattern are well balanced, according to the present invention, the printed wiring board having the excellent characteristics as described above is maintained with these characteristics. However, it becomes possible to manufacture continuously. <Manufacturing Method of Translucent Electromagnetic Wave Shield Member> The manufacturing method of the translucent electromagnetic wave shield member of the present invention comprises a conductive ink composition on the surface of a transparent substrate as a material to be printed by the method of printing a fine pattern described above. After forming a print pattern consisting of a striped pattern, a grid pattern, or a geometric pattern made of an object, a step of selectively laminating and forming a metal layer on the print pattern to form an electromagnetic wave shield pattern is included. It is a feature.
【0050】透明基板としては、可視光線に対する充分
な透光性を有するガラスやフィルムがいずれも使用可能
であるが、特にロール状にして連続処理できる樹脂のフ
ィルムやシートが好ましい。フィルムやシートを形成す
る樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート
(PET)に代表されるポリエステル類、ポリエチレ
ン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、ポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどの含ハロゲン樹脂類、
ポリスチレンなどのスチレン系樹脂類、ポリエーテルス
ルホン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、
アクリル樹脂などがあげられ、中でも特に透光性が良好
であり、かつ安価であるうえ柔軟性にすぐれ、しかも導
電性インキ組成物を印刷した後、加熱工程もしくは紫外
線照射工程を経る場合にも熱変形などしない耐熱性を有
するPETが、最も好適に使用される。As the transparent substrate, any glass or film having sufficient transparency to visible light can be used, but a resin film or sheet which can be continuously processed in a roll form is preferable. Examples of the resin forming the film or sheet include polyesters typified by polyethylene terephthalate (PET), polyolefins such as polyethylene and polypropylene, halogen-containing resins such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride,
Styrene-based resins such as polystyrene, polyether sulfone, polycarbonate, polyamide, polyimide,
Acrylic resins and the like can be mentioned. Among them, particularly, the light-transmitting property is good, the cost is low, and the flexibility is excellent. Moreover, even after the conductive ink composition is printed, a heat treatment or an ultraviolet irradiation treatment is performed. PET having heat resistance that does not deform is most preferably used.
【0051】透明基板の厚みは特に限定されないが、電
磁波シールド部材の透光性を維持するという観点からす
ると薄いほど好ましく、通常は、使用時の形態(フィル
ム状、シート状)や必要とされる機械的強度に応じて
0.05〜5mmの範囲で適宜、厚みが設定される。透
明基板の表面に印刷形成される印刷パターンは、前述し
たように、その線幅5〜40μmで、かつ式(2): 1≦Sk/Ss≦9 (2) 〔式中Ssは、透明基板の表面に印刷パターンが印刷さ
れた領域の全表面積、Skは印刷されていない領域の全
表面積を示す。〕を満足するものである必要がある。そ
の理由は以下のとおりである。The thickness of the transparent substrate is not particularly limited, but from the viewpoint of maintaining the light-transmitting property of the electromagnetic wave shield member, the thinner it is, the more preferable it is. Usually, the form in use (film form, sheet form) or required. The thickness is appropriately set in the range of 0.05 to 5 mm depending on the mechanical strength. As described above, the print pattern formed by printing on the surface of the transparent substrate has a line width of 5 to 40 μm and formula (2): 1≦Sk/Ss≦9 (2) [where Ss is a transparent substrate] Shows the total surface area of the area where the print pattern is printed, and Sk shows the total surface area of the non-printed area. ] Must be satisfied. The reason is as follows.
【0052】発明者のうち近藤は先に、線幅5〜80μ
m、線間隔200〜3000μmのストライプパターン
が、周波数1〜500MHzでの電界成分を十分にカッ
トできる性能を有することを見出した。しかし発明者ら
がさらに検討したところ、この線幅の範囲では、特に周
波数が500MHzを超える領域での電磁波シールド性
能が不十分であり、前述したPDP用途で要求される厳
しい電磁波シールド性能、具体的には周波数0.1MH
z〜1GHzでの電界成分を十分にカットする性能を達
成できない場合のあることが明らかとなった。Among the inventors, Kondo was first in the line width 5 to 80 μm.
It has been found that a stripe pattern having a line spacing of m and a line interval of 200 to 3000 μm has a capability of sufficiently cutting an electric field component at a frequency of 1 to 500 MHz. However, as a result of further study by the inventors, the electromagnetic wave shielding performance is insufficient in this line width range, particularly in the region where the frequency exceeds 500 MHz, and the severe electromagnetic wave shielding performance required for the PDP application described above, specifically, Frequency of 0.1 MH
It has become clear that the performance of sufficiently cutting the electric field component at z to 1 GHz may not be achieved in some cases.
【0053】そこで発明者らは、前記導電性インキ組成
物からなる印刷パターンと、後述する金属層との積層構
造を有するストライプ状のモデルパターンを作製して、
等価回路から、印刷パターンの線幅および開口率〔印刷
されていない領域の割合、式(3): 開口率(%)=Sk/(Sk+Ss)×100 (3) で求められる。〕と、電磁波シールド性能との関係につ
いて検討を行った。Therefore, the inventors prepared a striped model pattern having a laminated structure of a printed pattern made of the conductive ink composition and a metal layer described later,
From the equivalent circuit, the line width of the printed pattern and the aperture ratio [proportion of the area not printed, Formula (3): aperture ratio (%)=Sk/(Sk+Ss)×100 (3) can be obtained. ] And the electromagnetic wave shielding performance were examined.
【0054】その結果、同じ開口率であれば線幅の細い
方が、電磁波シールド性能が向上することが明らかとな
った。つまり、開口率によって規定される透光性を落と
さずに電磁波シールド性能を向上させて、上記PDP用
途で要求される厳しい電磁波シールド性能を達成するた
めには、できるだけ線幅の細いパターンを数多く形成す
ればよく、その具体的な範囲について検討したところ、
線幅が40μm以下であればよいことを見出した。As a result, it has been clarified that the thinner the line width is, the better the electromagnetic wave shielding performance is at the same aperture ratio. That is, in order to improve the electromagnetic wave shielding performance without deteriorating the translucency defined by the aperture ratio and to achieve the severe electromagnetic wave shielding performance required for the above PDP application, a large number of patterns having a line width as small as possible are formed. After examining the specific range,
It was found that the line width should be 40 μm or less.
【0055】また、線幅の下限値についても検討を行っ
たところ、線幅が5μm未満では、印刷パターンを形成
する際に断線が発生しやすくなって、良品を安定して生
産できないことも判明し、これらの結果から印刷パター
ンの線幅は、5〜40μmの範囲内である必要のあるこ
とが明らかとなった。また前記開口率が高いほど、透光
性の指標である可視光線の透過率は向上するが、逆に電
磁波シールド性が低下するので、その兼ね合いを考慮す
ると開口率は50〜90%の範囲内である必要があるこ
とも判明した。Further, when the lower limit of the line width is examined, it is also found that if the line width is less than 5 μm, disconnection is likely to occur when forming a print pattern, and a good product cannot be stably produced. However, it was revealed from these results that the line width of the printed pattern needs to be within the range of 5 to 40 μm. Further, as the aperture ratio is higher, the transmittance of visible light, which is an index of translucency, is improved, but on the contrary, the electromagnetic wave shielding property is deteriorated. Therefore, considering the trade-off, the aperture ratio is within the range of 50 to 90%. It also turned out to have to be.
【0056】そこでこの開口率の範囲と、上記線幅の範
囲とをもとに、透明基板の表面における印刷された領域
の全表面積Ssと、印刷されていない領域の全表面積S
kとの比Sk/Ssを求めたところ、前記のように1〜
9の範囲内である必要のあることが明らかとなったので
ある。なおPDP用途で要求される厳しい電磁波シール
ド性能を達成するためには、開口率は、上記の範囲内で
も特に60〜80%であるのが好ましく、この開口率の
範囲と、線幅(=5〜40μm)とから、上記比Sk/
Ssのより好適な範囲を求めたところ2〜7程度である
ことも明らかとなった。Therefore, based on the range of the aperture ratio and the range of the line width, the total surface area Ss of the printed area and the total surface area S of the non-printed area on the surface of the transparent substrate.
When the ratio Sk/Ss to k is calculated, 1 to
It became clear that it was necessary to be within the range of 9. In order to achieve the severe electromagnetic wave shielding performance required for PDP applications, the aperture ratio is particularly preferably 60 to 80% within the above range, and the aperture ratio range and the line width (=5 ˜40 μm), the above ratio Sk/
When a more preferable range of Ss was determined, it was also found to be about 2 to 7.
【0057】印刷パターンの形状は、例えば図2(a)お
よび図3に示す、前述したストライプ状の他、図4〜図
6に示す格子状などが好適に採用される。このうちスト
ライプ状の印刷パターン10においては、例えば図3に
示すように、当該印刷パターン10を構成する各インキ
層10aの線幅Wsと、インキ層10a間の、透明基板
2が露出した領域の幅Wkと、そしてインキ層10aの
本数とを調整することで、比Sk/Ssが前記の範囲に
規定される。As the shape of the print pattern, for example, in addition to the above-mentioned stripe shape shown in FIGS. 2A and 3, the grid shape shown in FIGS. 4 to 6 is preferably adopted. Of these, in the striped print pattern 10, for example, as shown in FIG. 3, the line width Ws of each ink layer 10a forming the print pattern 10 and the area between the ink layers 10a in which the transparent substrate 2 is exposed. By adjusting the width Wk and the number of ink layers 10a, the ratio Sk/Ss is regulated within the above range.
【0058】また同様に図4、図5に示す格子状の印刷
パターン10においては、それぞれの図に示すように縦
方向および横方向のインキ層10b、10cの線幅Ws
1、Ws2と、上記両方向のそれぞれにおける、インキ層
10b、10c間の、透明基板2が露出した領域の幅W
k1、Wk2と、そして両方向のインキ層10b、10c
の本数とをそれぞれ調整することで、比Sk/Ssが前
記の範囲に規定される。Similarly, in the grid-shaped print pattern 10 shown in FIGS. 4 and 5, the line width Ws of the ink layers 10b and 10c in the vertical direction and the horizontal direction as shown in the respective figures.
1 and Ws 2 and the width W of the region where the transparent substrate 2 is exposed between the ink layers 10b and 10c in each of the above two directions.
k 1 , Wk 2 , and ink layers 10b, 10c in both directions
The ratio Sk/Ss is defined in the above range by adjusting the number of lines and the number of lines.
【0059】また図6は、正方形の格子状の印刷パター
ン10であって、縦方向および横方向のインキ層10
b、10cの線幅Ws1、Ws2が同一(Ws1=Ws2)
で、かつインキ層10b、10c間の、透明基板2が露
出した領域の幅Wk1、Wk2が同一(Wk1=Wk2)で
ある場合を示しており、この場合にもやはり上記線幅W
s1、Ws2、および領域の幅Wk1、Wk2と、そして両
方向のインキ層10b、10cの本数とをそれぞれ調整
することで、比Sk/Ssが前記の範囲に規定される。FIG. 6 shows a printing pattern 10 in the form of a square grid, in which the ink layers 10 in the vertical and horizontal directions are formed.
bs and 10c have the same line width Ws 1 and Ws 2 (Ws 1 =Ws 2 )
And the widths Wk 1 and Wk 2 of the areas where the transparent substrate 2 is exposed between the ink layers 10b and 10c are the same (Wk 1 =Wk 2 ). W
By adjusting s 1 and Ws 2 , the widths Wk 1 and Wk 2 of the regions, and the number of ink layers 10b and 10c in both directions, the ratio Sk/Ss is defined within the above range.
【0060】なおこの際、各図において各インキ層10
a、10b、10cの線幅Ws、Ws1、Ws2が、それ
ぞれ前述した5〜40μmの範囲に限定されることは言
うまでもない。また、表示画面のドットピッチとの関係
で、画像にモアレ縞(干渉縞)が生じないように、上記
線幅などに注意することも肝要である。上記以外の印刷
パターンとしては、例えば図7(a)に示す円形模様、図
7(b)に示す菱形模様、図7(c)に示す正六角形模様など
の幾何学模様があげられる。At this time, in each drawing, each ink layer 10
It goes without saying that the line widths Ws, Ws 1 and Ws 2 of a, 10b and 10c are limited to the ranges of 5 to 40 μm described above. It is also important to pay attention to the line width and the like so that moire fringes (interference fringes) do not occur in the image in relation to the dot pitch of the display screen. Examples of print patterns other than the above include geometric patterns such as a circular pattern shown in FIG. 7A, a diamond pattern shown in FIG. 7B, and a regular hexagonal pattern shown in FIG. 7C.
【0061】上記各図において符号10aが、印刷パタ
ーン10を構成する各インキ層、符号2が、インキ層1
0a間で露出した透明基板を示すことは、先の各図の例
と同様である。なお図7(a)の円形模様の印刷パターン
10においては、当該円を同面積の正方形と置き換えた
と仮定したときに、隣り合う正方形間に設けられる印刷
パターン部の幅を、線幅として規定する。In each of the above figures, reference numeral 10a is each ink layer constituting the print pattern 10, and reference numeral 2 is the ink layer 1.
Showing the transparent substrate exposed between 0a is similar to the example in each of the previous figures. In the circular print pattern 10 of FIG. 7A, assuming that the circle is replaced with a square having the same area, the width of the print pattern portion provided between adjacent squares is defined as the line width. ..
【0062】印刷パターン10の寸法、形状を規定する
他の数値については特に限定されないが、当該印刷パタ
ーン10を構成するインキ層10a、10b、10cの
膜厚は、前述したように断線などがなく、原版に忠実な
正確な印刷パターン10を得るとともに、当該印刷パタ
ーン10を陰極として電気めっきを行って、その上に、
以下に述べる金属層11を、これも原版に忠実な正確な
パターンでもって積層、形成するために、およそ0.5
〜50μm程度であるのが好ましく、1〜30μm程度
であるのがさらに好ましい。 〈金属層〉本発明では、図2(b)に示したように、上記
各印刷パターン10を構成するインキ層10aの上に、
当該印刷パターン10を陰極とする電気めっき、および
/または無電解めっきによって選択的に、金属層11が
積層、形成されることで、電磁波シールドパターン1が
形成されて、図2(a)に示すような透光性電磁波シール
ド部材が完成する。Other numerical values that define the size and shape of the print pattern 10 are not particularly limited, but the thickness of the ink layers 10a, 10b, 10c forming the print pattern 10 is free from disconnection as described above. , An accurate printing pattern 10 faithful to the original plate is obtained, and electroplating is performed using the printing pattern 10 as a cathode, and then,
In order to stack and form the metal layer 11 described below with an accurate pattern that is also faithful to the original plate, approximately 0.5
It is preferably about 50 μm, more preferably about 1 to 30 μm. <Metal Layer> In the present invention, as shown in FIG. 2( b ), on the ink layer 10 a that constitutes each of the printing patterns 10,
As shown in FIG. 2A, the electromagnetic wave shield pattern 1 is formed by selectively laminating and forming the metal layer 11 by electroplating using the printed pattern 10 as a cathode and/or electroless plating. Such a translucent electromagnetic wave shield member is completed.
【0063】かかる金属層11を形成する金属として
は、導電性にすぐれ、かつ電気めっきが可能である種々
の金属、もしくは無電解めっきが可能な種々の金属がい
ずれも使用可能である。金属の例としては銀、銅、鉄、
ニッケル、アルミニウムおよび金からなる群より選ばれ
た少なくとも1種があげられ、特に導電性やコストの点
で、銀または銅が好適に使用される。また、上記金属層
11の表面を黒色化して、主に内部発光の反射による表
示画面のコントラストの低下を防止するために、金属層
11の最表層に、黒色ニッケルめっきなどを施すことも
できる。As the metal forming the metal layer 11, any of various metals having excellent conductivity and capable of electroplating or various metals capable of electroless plating can be used. Examples of metals are silver, copper, iron,
At least one selected from the group consisting of nickel, aluminum and gold can be used, and silver or copper is preferably used in terms of conductivity and cost. Further, the surface of the metal layer 11 may be blackened, and black nickel plating or the like may be applied to the outermost surface layer of the metal layer 11 in order to prevent deterioration of the contrast of the display screen mainly due to reflection of internal light emission.
【0064】金属層11の膜厚は、良好な電磁波シール
ド効果を得ることを考慮すると、0.5μm以上である
ことが好ましい。なお金属層11の膜厚の、上限値につ
いては特に限定されないが、膜厚が50μmを超えても
それ以上の電磁波シールド効果が得られないだけでな
く、めっき工程に長時間を要するために生産性やコスト
の点でも問題を生じるおそれがある。それゆえ金属層1
1の膜厚は、上記の範囲内でも特に50μm以下である
のが好ましく、1〜30μm程度であるのがさらに好ま
しい。The thickness of the metal layer 11 is preferably 0.5 μm or more in consideration of obtaining a good electromagnetic wave shielding effect. The upper limit of the film thickness of the metal layer 11 is not particularly limited, but even if the film thickness exceeds 50 μm, not only a further electromagnetic wave shielding effect cannot be obtained, but also the plating step requires a long time to produce the film. There is a risk of problems in terms of efficiency and cost. Therefore metal layer 1
Within the above range, the film thickness of 1 is preferably 50 μm or less, and more preferably about 1 to 30 μm.
【0065】金属層は、単層でも複層でも良く、複層の
場合は無電解めっきによる層と電気めっきによる層との
積層構造でも良い。The metal layer may be a single layer or multiple layers, and in the case of multiple layers, it may have a laminated structure of a layer formed by electroless plating and a layer formed by electroplating.
【0066】[0066]
メラミン樹脂 20 ・硬化触媒 パラトルエンスルホン酸 1 ・溶剤 ブチルカルビトールアセテート 40 実施例2、3 銀粉末およびニッケル粉末の配合量を下記表1に示す値
に変更したこと以外は実施例1と同様にして、実施例
2、3の導電性インキ組成物を作製した。Melamine resin 20-Curing catalyst Para-toluenesulfonic acid 1-Solvent Butyl carbitol acetate 40 Examples 2 and 3 The same as Example 1 except that the amounts of silver powder and nickel powder were changed to the values shown in Table 1 below. Thus, the conductive ink compositions of Examples 2 and 3 were produced.
【0067】比較例1 ニッケル粉末を配合せず、銀粉末の配合量を900重量
部としたこと以外は実施例1と同様にして、比較例1の
導電性インキ組成物を作製した。 比較例2 銀粉末を配合せず、ニッケル粉末の配合量を800重量
部としたこと以外は実施例1と同様にして、比較例2の
導電性インキ組成物を作製した。Comparative Example 1 A conductive ink composition of Comparative Example 1 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the nickel powder was not mixed and the silver powder was mixed in an amount of 900 parts by weight. Comparative Example 2 A conductive ink composition of Comparative Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the silver powder was not blended and the nickel powder was blended in an amount of 800 parts by weight.
【0068】コーンプレート型回転粘度計による粘度測
定 上記実施例、比較例で作製した導電性インキ組成物の粘
度η1、η2を、レオロジー社製のコーンプレート型回転
粘度計(型番MR101)を使用して、下記の条件で測
定し、その結果より比η1/η2を求めた。 〈測定条件〉 ・測定温度:23±1℃(プレートPを恒温水槽に接続
して調整) ・コーンC 頂点C1の頂角(180°−2θ):170° 直径:20mm ・ずり速度:1sec-1または12sec-1 印刷特性の評価 〈印刷工程〉実施例、比較例で作製した導電性インキ組
成物を、下記の凹版、および転写体としてのシリコーン
ブランケットを使用した凹版オフセット印刷法によっ
て、透明基板としての厚み0.1mmの透明PETフィ
ルムの表面に印刷した後、クリーンオーブンにて100
℃で1時間、加熱、硬化させて、凹版のパターンに対応
した、図6に示す正方形の格子状で、かつインキ層10
b、10cの厚み10μm、線幅Ws1=Ws2=20μ
m、線間隔Wk1=Wk2=100μm、Sk/Ss=
2.27である印刷パターン10を形成した。 (凹版)ソーダライムガラス製の基板の表面に、上記所
定のパターンに対応した凹部(深さ=10μm)をエッ
チング形成したもの。 (シリコーンブランケット)最表層に、スプリング式硬
さ(JIS A)が40°の付加型RTVシリコーンゴ
ムの層(表面の十点平均粗さ0.3μm)を形成したも
の。Viscosity Measurement by Cone Plate Type Rotational Viscometer The viscosities η 1 and η 2 of the conductive ink compositions prepared in the above Examples and Comparative Examples were measured using a cone plate type rotational viscometer (model number MR101) manufactured by Rheology Co. It was used and measured under the following conditions, and the ratio η 1 /η 2 was determined from the results. <Measurement conditions> Measurement temperature: apex angle of 23 ± 1 ° C. (adjusted by connecting the plate P in a constant temperature water bath) Cone C vertex C1 (180 ° -2θ): 170 ° diameter: 20 mm, shear rate: 1 sec - 1 or 12 sec -1 Evaluation of Printing Characteristics <Printing Step> The conductive ink compositions prepared in Examples and Comparative Examples were used to prepare a transparent substrate by an intaglio offset printing method using the following intaglio and a silicone blanket as a transfer body. After printing on the surface of a transparent PET film with a thickness of 0.1 mm as
The ink layer 10 was heated and cured at 0° C. for 1 hour to form a square grid pattern shown in FIG. 6 corresponding to the intaglio pattern.
b, 10c thickness 10 μm, line width Ws 1 =Ws 2 =20 μ
m, line spacing Wk 1 =Wk 2 =100 μm, Sk/Ss=
Printed pattern 10 was 2.27. (Intaglio plate) A substrate made of soda lime glass, in which recesses (depth=10 μm) corresponding to the above-described predetermined pattern are formed by etching. (Silicone blanket) A layer (additional-type RTV silicone rubber layer having a spring hardness (JIS A) of 40° (10-point average surface roughness of 0.3 μm) is formed on the outermost layer.
【0069】〈初期印刷特性〉上記印刷工程で印刷パタ
ーンを形成した1枚目のPETフィルムを目視にて観察
して、下記の基準で評価した。 (評価基準) ○:インキのにじみやはみ出しが全くなく、初期印刷特
性はきわめて良好であった。<Initial printing characteristics> The first PET film on which a printing pattern was formed in the above printing step was visually observed and evaluated according to the following criteria. (Evaluation Criteria) O: No ink bleeding or squeeze-out was observed, and the initial printing characteristics were extremely good.
【0070】△:インキが僅かににじんではみ出してい
たが、実用上は差し支えなく、初期印刷特性は良好であ
った。 ×:インキのにじみ、はみ出しがかなりあり、また部分
的に線の太りも見られ、初期印刷特性は不良であった。 〈連続印刷特性〉印刷工程を20枚、連続して行ない、
印刷パターンを形成した全てのPETフィルムを目視に
て観察して、1枚目(初期)からの印刷状態の推移を下
記の基準で評価した。Δ: The ink slightly oozes and spills out, but there is no problem in practical use and the initial printing characteristics were good. Poor: Ink bleeding and squeezing out were considerable, and line thickening was partially observed, and initial printing characteristics were poor. <Continuous printing characteristics> 20 printing steps are performed continuously,
All the PET films on which the print patterns were formed were visually observed, and the transition of the print state from the first sheet (initial) was evaluated according to the following criteria.
【0071】(評価基準) ○:20枚目まで、1枚目と印刷状態が変化せず、連続
印刷特性は良好であった。 △:連続印刷の途中で、印刷パターンの一部に濃度ムラ
が発生した。連続印刷特性はやや不良であった。 ×:連続印刷の途中で、印刷パターンの一部に抜けが発
生した。連続印刷特性は不良であった。(Evaluation Criteria) A: Up to the 20th sheet, the printing state did not change from the first sheet, and the continuous printing characteristics were good. Δ: Density unevenness occurred in a part of the print pattern during the continuous printing. The continuous printing characteristics were somewhat poor. X: A dropout occurred in part of the print pattern during the continuous printing. The continuous printing characteristics were poor.
【0072】以上の結果を表1に示す。The above results are shown in Table 1.
【0073】[0073]
【表1】 [Table 1]
【0074】表より、粘度の比η1/η2が4未満である
比較例1の導電性インキ組成物を使用した場合には、連
続印刷特性が良好であるものの、初期印刷特性が悪く、
一方、粘度の比η1/η2が12を超える比較例2の導電
性インキ組成物を使用した場合には、逆に初期印刷特性
は良好であるものの、連続印刷特性が悪いことがわかっ
た。これに対し、粘度の比η1/η2が4〜12の範囲内
である実施例1〜3の導電性インキ組成物を使用した場
合には、初期印刷特性および連続印刷特性のバランスが
よく、良好な印刷を連続して行えることが確認された。
中でも粘度の比η1/η2が5〜11.5の範囲内である
実施例2、3の導電性インキ組成物を使用した場合に
は、初期印刷特性および連続印刷特性の両方に特に優れ
た印刷を行うことができた。From the table, when the conductive ink composition of Comparative Example 1 having a viscosity ratio η 1 /η 2 of less than 4 was used, the continuous printing characteristics were good, but the initial printing characteristics were poor.
On the other hand, when the conductive ink composition of Comparative Example 2 in which the viscosity ratio η 1 /η 2 exceeds 12 was used, conversely, although the initial printing characteristics were good, the continuous printing characteristics were found to be poor. .. On the other hand, when the conductive ink compositions of Examples 1 to 3 in which the viscosity ratio η 1 /η 2 is within the range of 4 to 12, the initial printing characteristics and the continuous printing characteristics are well balanced. It was confirmed that good printing can be continuously performed.
In particular, when the conductive ink compositions of Examples 2 and 3 in which the viscosity ratio η 1 /η 2 is in the range of 5 to 11.5 are used, both initial printing characteristics and continuous printing characteristics are particularly excellent. It was possible to print.
【0075】透光性電磁波シールド部材の製造 前記印刷工程で各実施例、比較例の導電性インキ組成物
を使用して印刷パターンを形成した、1枚目および20
枚目のPETフィルムを使用して、下記の工程により、
透光性電磁波シールド部材を製造した。 〈金属層の積層形成〉上記PETフィルムを硫酸酸銅め
っき液に浸漬し、その表面に形成された印刷パターンを
陰極として、2A/dm2の電流を流して電気銅めっき
を行って、当該印刷パターンの上に選択的に、厚み5μ
mの銅被覆層を形成して、前述した図6に示す正方形の
格子状にパターン形成された電磁波シールドパターン
(総厚み15μm)を有する透光性電磁波シールド部材
を製造した。Production of Translucent Electromagnetic Wave Shield Member A print pattern was formed using the conductive ink compositions of Examples and Comparative Examples in the printing step, the first and 20th sheets.
Using the first PET film, the following steps
A transparent electromagnetic wave shield member was manufactured. <Layer formation of metal layer> The PET film is dipped in a copper sulfate plating solution, and the printed pattern formed on the surface thereof is used as a cathode to apply an electric current of 2 A/dm 2 to perform electrolytic copper plating to perform the printing. 5μ thick selectively on the pattern
A copper coating layer of m was formed to produce a transparent electromagnetic wave shield member having an electromagnetic wave shield pattern (total thickness 15 μm) patterned in the above-mentioned square lattice pattern shown in FIG.
【0076】透光性電磁波シールド部材の評価 上記透光性電磁波シールド部材について、以下の各試験
を行って、その特性を評価した。 電磁波シールド効果試験 透光性電磁波シールド部材を縦20cm×横20cmに
切り出し、クローズセルに挟みこんで作製したサンプル
について、社団法人関西電子工業振興センターが制定し
たKEC法によって、周波数0.1MHz〜1GHzの
範囲の電磁波の減衰率(dB)を測定して、上記周波数
範囲での、各サンプルの電磁波シールド効果を評価し
た。Evaluation of Translucent Electromagnetic Wave Shield Member The above-mentioned translucent electromagnetic wave shield member was subjected to the following tests to evaluate its characteristics. Electromagnetic wave shield effect test About a sample produced by cutting a translucent electromagnetic wave shield member into a length of 20 cm and a width of 20 cm, and sandwiching it in a closed cell, a frequency of 0.1 MHz to 1 GHz according to the KEC method established by the Kansai Electronics Industry Promotion Center. The attenuation factor (dB) of the electromagnetic wave in the range was measured to evaluate the electromagnetic wave shielding effect of each sample in the above frequency range.
【0077】なお後述する表には、シールド効果の指標
として、周波数1GHzでの電磁波の減衰率(dB)
を、下記の評価基準で評価した結果を示す。 (評価基準) ××:0〜20dB ×:20〜40dB △:40〜60dB ○:60〜70dB ◎:70dB超 透光性試験 透光性電磁波シールド部材における、可視光線(波長4
00〜700nm)の分光透過率を測定した。そしてそ
の最低値を指標として、各透光性電磁波シールド部材の
透光性を、下記の評価基準で評価した。In the table which will be described later, as an index of the shield effect, the attenuation rate (dB) of electromagnetic waves at a frequency of 1 GHz.
The following shows the results of evaluation by the following evaluation criteria. (Evaluation Criteria) XX: 0 to 20 dB X: 20 to 40 dB Δ: 40 to 60 dB ◯: 60 to 70 dB ⊚: 70 dB translucency test Visible light (wavelength 4) in the translucent electromagnetic wave shield member.
Spectral transmittance of 100 to 700 nm) was measured. Then, using the lowest value as an index, the translucency of each translucent electromagnetic wave shield member was evaluated according to the following evaluation criteria.
【0078】(評価基準) ××:0〜50% ×:50〜60% △:60〜70% ○:70〜80% ◎:80%超 視認性試験 透光性電磁波シールド部材を、電磁波シールドパターン
を内側にして、PDPパネルの表示画面に、アクリル系
透明粘着剤を介して接着したのち、表示画像の視認性を
下記の基準で評価した。(Evaluation Criteria) XX: 0 to 50% X: 50 to 60% Δ: 60 to 70% ◯: 70 to 80% ⊚: over 80% Visibility test After adhering to the display screen of the PDP panel via the acrylic transparent adhesive with the pattern inside, the visibility of the display image was evaluated according to the following criteria.
【0079】(評価基準) ×:全面にわたってムラやメッシュが見られた。 △:かすかにムラやメッシュが見られた。 ○:ムラやメッシュは全く見られなかった。またコント
ラストも十分に高く、良好な画像が得られた。 ◎:ムラやメッシュが全く見られない上、コントラスト
が著しく高く、きわめて良好な画像が得られた。(Evaluation Criteria) x: Unevenness and mesh were observed over the entire surface. Δ: Slight unevenness and mesh were observed. ◯: No unevenness or mesh was observed. Also, the contrast was sufficiently high, and a good image was obtained. ⊚: No unevenness or mesh was observed, and the contrast was extremely high, and an extremely good image was obtained.
【0080】結果を表2に示す。The results are shown in Table 2.
【0081】[0081]
【表2】 [Table 2]
【0082】表より、比較例1の導電性インキ組成物を
使用して印刷パターンを形成した透光性電磁波シールド
部材は、印刷1枚目において既に視認性がやや十分でな
いことがわかった。また比較例2の導電性インキ組成物
を使用して印刷パターンを形成した透光性電磁波シール
ド部材は、印刷1枚目から電磁波シールド効果がやや低
い傾向を示すとともに、印刷20枚目において視認性が
悪化しているのが確認された。From the table, it was found that the light-transmitting electromagnetic wave shield member having the printed pattern formed using the conductive ink composition of Comparative Example 1 had a slightly insufficient visibility on the first printed sheet. In addition, the transparent electromagnetic wave shield member in which a printed pattern was formed using the conductive ink composition of Comparative Example 2 showed a tendency that the electromagnetic wave shield effect was slightly lower than that of the first printed sheet, and the visibility of the 20th printed sheet was high. Was confirmed to have deteriorated.
【0083】一方、実施例1〜3の導電性インキ組成物
を使用して印刷パターンを形成した透光性電磁波シール
ド部材はいずれも、それぞれ1枚目、20枚目ともに優
れた電磁波シールド効果を有する上、透光性、視認性に
も優れることが確認された。On the other hand, all of the transparent electromagnetic wave shielding members having a printed pattern formed by using the conductive ink compositions of Examples 1 to 3 have excellent electromagnetic wave shielding effect on the first and 20th sheets, respectively. In addition, it was confirmed that it has excellent translucency and visibility.
【図1】導電性インキ組成物の粘度を測定するための、
コーンプレート型回転粘度計の概略を示す図である。FIG. 1 is a diagram for measuring the viscosity of a conductive ink composition,
It is a figure which shows the outline of a cone-plate type rotational viscometer.
【図2】本発明において製造される透光性電磁波シール
ド部材の一例を示す図であって、同図(a)は全体を示す
斜視図、同図(b)は同図(a)のB−B線拡大断面図であ
る。2A and 2B are views showing an example of a translucent electromagnetic wave shield member manufactured according to the present invention, wherein FIG. 2A is a perspective view showing the whole, and FIG. 2B is a perspective view of FIG. 2A. It is a -B line expanded sectional view.
【図3】透光性電磁波シールド部材における、印刷パタ
ーンの一例としてのストライプ状のパターンを示す平面
図である。FIG. 3 is a plan view showing a stripe-shaped pattern as an example of a printed pattern in a transparent electromagnetic wave shield member.
【図4】印刷パターンの他の例としての、格子状のパタ
ーンを示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing a grid pattern as another example of a print pattern.
【図5】印刷パターンのさらに他の例としての、別の格
子状のパターンを示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing another grid-like pattern as still another example of the print pattern.
【図6】印刷パターンのさらに他の例としての、さらに
別の格子状のパターンを示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing still another grid pattern as another example of the print pattern.
【図7】印刷パターンのさらに他の例としての幾何学模
様のパターンを示す平面図であって、同図(a)は円形模
様のパターン、同図(b)は菱形模様のパターン、同図(c)
は正六角形模様のパターンである。FIG. 7 is a plan view showing a geometric pattern as still another example of a print pattern, in which FIG. 7A is a circular pattern, FIG. 7B is a rhombic pattern, and FIG. (c)
Is a regular hexagonal pattern.
1 電磁波シールドパターン 10 印刷パターン 11 金属層 2 透明基板 1 Electromagnetic wave shield pattern 10 Printing pattern 11 Metal layer 2 Transparent substrate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 9/00 H05K 9/00 V Fターム(参考) 2H113 AA01 AA04 AA06 BA03 BB07 BB09 BC12 CA17 CA31 CA42 EA06 EA08 EA10 EA12 FA06 4J039 AD07 AD09 AE02 AE03 AE04 AE05 AE06 AE09 BA06 BA32 BA38 BC07 BC12 BC14 BC15 BC79 CA07 EA03 EA04 EA24 EA42 EA48 GA03 5E321 AA04 BB23 BB25 BB32 GG05 GH01 5G301 DA03 DA04 DA05 DA06 DA07 DA10 DA42 DA51 DA53 DA55 DA57 DA59 DD02 5G323 CA05 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H05K 9/00 H05K 9/00 VF term (reference) 2H113 AA01 AA04 AA06 BA03 BB07 BB09 BC12 CA17 CA31 CA42 EA06 EA08 EA10 EA12 FA06 4J039 AD07 AD09 AE02 AE03 AE04 AE05 AE06 AE09 BA06 BA32 BA38 BC07 BC12 BC14 BC15 BC79 CA07 EA03 EA04 EA24 EA42 EA48 GA03 5E321 AA04 BB23 DA25 DA05 DA05 DA05 DA05 DA05 DA05 DA05 DA05 DA05 DA05 DA05 DA05 DA05 DA03 DA03 DA03 DA04 DA04 DA05
Claims (8)
たインキ組成物であって、式(1): 4≦η1/η2≦12 (1) 〔式中η1、η2はそれぞれ、測定時のずり速度以外は同
条件下で、コーンプレート型回転粘度計により測定され
たインキ組成物の粘度であって、η1はずり速度1se
c-1での粘度、η2はずり速度12sec-1での粘度で
ある。〕を満足することを特徴とする導電性インキ組成
物。1. An ink composition to which conductivity is imparted by blending a conductive powder, the formula (1): 4≦η 1 /η 2 ≦12 (1) [wherein η 1 and η 2 are each other shear rate during the measurement under the same conditions, a viscosity of the measured ink composition by a cone plate type rotational viscometer, eta 1 is a shear rate 1se
The viscosity at c −1 and the viscosity at η 2 offset speed of 12 sec −1 . ] The conductive ink composition characterized by satisfying these.
溶剤と、導電性粉末とを含むことを特徴とする請求項1
記載の導電性インキ組成物。2. A solvent-soluble resin, a solvent capable of dissolving the resin, and a conductive powder.
The conductive ink composition described.
の銀粉末[Ag]と、平均粒径0.1〜1μmのニッケ
ル粉末[Ni]とを、重量比[Ag]/[Ni]で1/
8〜8/1の割合で、かつ樹脂の総量100重量部に対
して、両者を総量で400〜1200重量部の割合で含
むことを特徴とする請求項2記載の導電性インキ組成
物。3. A conductive powder having an average particle size of 1 to 10 μm.
Silver powder [Ag] and nickel powder [Ni] having an average particle size of 0.1 to 1 μm in a weight ratio [Ag]/[Ni] of 1/
The conductive ink composition according to claim 2, wherein the ratio is 8 to 8/1 and the total amount of both is 400 to 1200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the resin.
表面に転写し、ついでこの転写体の表面から被印刷物の
表面に印刷する凹版オフセット印刷法により、被印刷物
の表面に、導電性インキ組成物からなる、線幅5〜40
μmの微細パターンを印刷する印刷方法であって、導電
性インキ組成物として、導電性粉末の配合により導電性
が付与された、式(1): 4≦η1/η2≦12 (1) 〔式中η1、η2はそれぞれ、測定時のずり速度以外は同
条件下で、コーンプレート型回転粘度計により測定され
たインキ組成物の粘度であって、η1はずり速度1se
c-1での粘度、η2はずり速度12sec-1での粘度で
ある。〕を満足するものを用いることを特徴とする微細
パターンの印刷方法。4. An intaglio offset printing method in which an ink image formed on the surface of an intaglio plate is transferred to the surface of a transfer body, and then the surface of the transfer body is printed on the surface of the printing object by an intaglio offset printing method. Line width 5-40 consisting of ink composition
A printing method for printing a fine pattern of μm, wherein conductivity is imparted by blending conductive powder as a conductive ink composition, formula (1): 4≦η 1 /η 2 ≦12 (1) [wherein eta 1, eta 2 are each other than a shear rate during the measurement under the same conditions, a viscosity of the measured ink composition by a cone plate type rotational viscometer, eta 1 is a shear rate 1se
The viscosity at c −1 and the viscosity at η 2 offset speed of 12 sec −1 . ] A method of printing a fine pattern, characterized by using a material satisfying the following.
する表面が、シリコーンゴムによって形成されたものを
用いる請求項4記載の微細パターンの印刷方法。5. The method of printing a fine pattern according to claim 4, wherein a surface of the transfer body which is in direct contact with the conductive ink is formed of silicone rubber.
する表面の表面粗さ(十点平均粗さ)Rzが0.5μm
以下のものを用いる請求項4記載の微細パターンの印刷
方法。6. The surface roughness (10-point average roughness) Rz of the surface of the transfer member which is in direct contact with the conductive ink is 0.5 μm.
The method for printing a fine pattern according to claim 4, wherein the following is used.
電磁波シールドパターンを有する透光性電磁波シールド
部材を製造する方法であって、請求項4記載の微細パタ
ーンの印刷方法によって、被印刷物としての透明基板の
表面に、導電性インキ組成物からなる、線幅5〜40μ
mで、かつ式(2): 1≦Sk/Ss≦9 (2) 〔式中Ssは、透明基板の表面に印刷パターンが印刷さ
れた領域の全表面積、Skは印刷されていない領域の全
表面積を示す。〕を満足する、ストライプ状、格子状ま
たは幾何学模様からなる印刷パターンを形成した後、当
該印刷パターン上に選択的に、金属層を積層、形成して
電磁波シールドパターンを構成する工程を有することを
特徴とする透光性電磁波シールド部材の製造方法。7. A method for producing a translucent electromagnetic wave shield member having an electromagnetic wave shield pattern which transmits visible light but does not transmit electromagnetic waves, which is used as a material to be printed by the method for printing a fine pattern according to claim 4. On the surface of the transparent substrate of the conductive ink composition, line width 5 ~ 40μ
m and the formula (2): 1≦Sk/Ss≦9 (2) [where Ss is the total surface area of the region where the print pattern is printed on the surface of the transparent substrate, and Sk is the total of the unprinted region. Indicates the surface area. ] Forming a print pattern consisting of a stripe pattern, a grid pattern or a geometric pattern that satisfies the above, and then selectively laminating and forming a metal layer on the print pattern to form an electromagnetic wave shield pattern. A method for manufacturing a translucent electromagnetic wave shield member, comprising:
電解めっきのうちの少なくとも一方によって金属層を積
層、形成する請求項7記載の透光性電磁波シールド部材
の製造方法。8. The method for producing a translucent electromagnetic wave shield member according to claim 7, wherein a metal layer is laminated and formed on the printed pattern by at least one of electroplating and electroless plating.
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070919 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100126 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A02 | Decision of refusal |
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