[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP2002128754A - Urethane compound, its resin composition and cured product thereof - Google Patents

Urethane compound, its resin composition and cured product thereof

Info

Publication number
JP2002128754A
JP2002128754A JP2000324949A JP2000324949A JP2002128754A JP 2002128754 A JP2002128754 A JP 2002128754A JP 2000324949 A JP2000324949 A JP 2000324949A JP 2000324949 A JP2000324949 A JP 2000324949A JP 2002128754 A JP2002128754 A JP 2002128754A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
meth
acrylate
resin composition
compound
polyol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000324949A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Mizutani
剛 水谷
Kiyohisa Tokuda
清久 徳田
Kazuhiko Ishii
一彦 石井
Minoru Yokoshima
実 横島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Kayaku Co Ltd filed Critical Nippon Kayaku Co Ltd
Priority to JP2000324949A priority Critical patent/JP2002128754A/en
Publication of JP2002128754A publication Critical patent/JP2002128754A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a resin composition providing a cured product having antistatic performances, scarcely sticking dust and having good wet-heat resistance. SOLUTION: This resin composition comprises (A) a urethane compound which is a reactional product of (a) a bis(2-hydroxyethyl)taurine quaternary ammonium salt with (b) 2-isocyanatoethyl methacrylate and (B) an unsaturated group-containing compound other than the component (A).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、活性エネルギー線
で硬化するウレタン化合物及び樹脂組成物、その硬化物
に関し、更に詳しくは、光信号を高速、高密度に記録再
生する光ディスク記録媒体用の帯電防止能を有する保護
コート剤や光ディスクの傷つき防止用ハードコート剤と
して好適に用いることができる樹脂組成物及び硬化物に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a urethane compound and a resin composition which are cured by an active energy ray, and a cured product thereof. The present invention relates to a resin composition and a cured product that can be suitably used as a protective coating agent having a protective ability or a hard coating agent for preventing scratches on an optical disc.

【0002】[0002]

【従来の技術】記録層あるいは光反射層からなる光記録
層に情報を記録および再生したり、情報記録層に形成さ
れた情報を再生するデジタルオーディオディスクや光デ
ィスク、光磁気ディスクの基板として、ポリカーボネー
ト、アモルファスポリオレフィンなどの合成樹脂基板が
用いられている。
2. Description of the Related Art Polycarbonate is used as a substrate of a digital audio disk, an optical disk, and a magneto-optical disk for recording and reproducing information on an optical recording layer comprising a recording layer or a light reflecting layer, and reproducing information formed on the information recording layer. A synthetic resin substrate such as amorphous polyolefin is used.

【0003】これらの樹脂は、光学的に均質で透明性が
高く、成形性、機械的強度等に優れた特徴を有している
が、表面硬度が低く、基板表面に傷等がつきやすく、こ
れによりディスクに記録された情報の読取り感度が低下
したり、エラーが発生しやすくなるという欠点を有す
る。
[0003] These resins are optically homogeneous and have high transparency, and are excellent in moldability and mechanical strength. However, their surface hardness is low, and the substrate surface is easily scratched. This has the disadvantage that the read sensitivity of the information recorded on the disc is reduced and errors are likely to occur.

【0004】また、合成樹脂基板は、使用時に帯電しや
すく、ゴミやホコリなどを表面に吸着しやすいため、こ
れによりやはり信号の読取り感度が低下したり、エラー
が発生するなどの欠点を有する。
Further, the synthetic resin substrate is liable to be charged when used, and is liable to adsorb dust and dirt on the surface thereof, which also has the disadvantage that the signal reading sensitivity is lowered and an error occurs.

【0005】このような問題点を解決するために、合成
樹脂基板上に光あるいは熱により硬化する樹脂組成物を
塗布し、これを硬化させることにより基板を保護する表
面保護コート剤が開発されている。
[0005] In order to solve such problems, a resin composition curable by light or heat is applied to a synthetic resin substrate, and a surface protective coating agent for protecting the substrate by curing the resin composition has been developed. I have.

【0006】さらに、基板の帯電性を防止するために、
保護コート剤は帯電防止能が必要とされているが、保護
コート剤の中に、帯電防止剤を添加する方法などではデ
ィスクの表面に帯電防止剤がブリードを起こすため、長
期安定性に問題がある。
Further, in order to prevent the charging property of the substrate,
Protective coating agents are required to have antistatic ability, but methods such as adding an antistatic agent to the protective coating agent cause bleeding of the antistatic agent on the disk surface, which poses a problem with long-term stability. is there.

【0007】したがって、基板表面の保護と同時に、ゴ
ミの付着を防止するための帯電防止能を合わせ持ち、か
つ長期安定性に優れた保護コートを形成するための保護
コート剤が要求されている。
Therefore, there is a need for a protective coating agent which has an antistatic function for preventing the attachment of dust while protecting the substrate surface and for forming a protective coat having excellent long-term stability.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は耐擦傷性に優
れ、帯電防止能を有し、かつ均一に硬化し、各種基材面
の保護コートを形成するための樹脂組成物及び硬化物を
提出することにある。特に好適には、ディスク表面の長
期安定性に優れた保護コートを形成するための光ディス
ク用材料及び硬化物を提出することにある。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention relates to a resin composition and a cured product which are excellent in scratch resistance, have an antistatic property, are cured uniformly, and are used for forming protective coats on various substrate surfaces. To submit. Particularly preferred is to provide an optical disk material and a cured product for forming a protective coat having excellent long-term stability on the disk surface.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するために、鋭意検討を行なった結果、特定の
ウレタン化合物(A)を用いることにより、目的とする
機能を有する樹脂組成物及びその硬化物が得られること
を見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発
明は、(1)ビス(2−ヒドロキシエチル)タウリン第
4級アンモニウム塩(a)と2−イソシアネートエチル
メタクリレート(b)の反応物であるウレタン化合物
(A)。(2)(1)項に記載のウレタン化合物(A)
と(A)成分以外の不飽和基含有化合物(B)を含有す
る樹脂組成物、(3)光重合開始剤(C)を含有する
(2)項に記載の樹脂組成物、(4)光ディスク用材料
である(2)または(3)項に記載の樹脂組成物、
(5)(2)ないし(4)のいずれか1項に記載の樹脂
組成物の硬化物、に関する。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies in order to solve the above problems, and as a result, by using a specific urethane compound (A), a resin having a desired function has been obtained. The present inventors have found that a composition and a cured product thereof can be obtained, and have completed the present invention. That is, the present invention provides (1) a urethane compound (A) which is a reaction product of a quaternary ammonium salt of bis (2-hydroxyethyl) taurine (a) and 2-isocyanatoethyl methacrylate (b). (2) Urethane compound (A) according to item (1)
And a resin composition containing an unsaturated group-containing compound (B) other than the component (A), (3) a resin composition according to the item (2) containing a photopolymerization initiator (C), and (4) an optical disk. The resin composition according to (2) or (3), which is a material for use,
(5) A cured product of the resin composition according to any one of (2) to (4).

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明のウレタン化合物(A)
は、ビス(2−ヒドロキシエチル)タウリン第4級アン
モニウム塩(a)と2−イソシアネートエチルメタクリ
レート(b)を反応させて得られる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The urethane compound (A) of the present invention
Is obtained by reacting bis (2-hydroxyethyl) taurine quaternary ammonium salt (a) with 2-isocyanatoethyl methacrylate (b).

【0011】ビス(2−ヒドロキシエチル)タウリン第
4級アンモニウム塩(a)の具体例としては、例えば、
N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アミノエタンス
ルホン酸テトラメチルアンモニウム塩、N,N−ビス
(2−ヒドロキシエチル)アミノエタンスルホン酸テト
ラエチルアンモニウム塩、N,N−ビス(2−ヒドロキ
シエチル)アミノエタンスルホン酸ベンジルトリエチル
アンモニウム塩等、炭素数の合計が4〜30のアルキル
(ベンゼン環、その他の置換基を有していてもよい)ア
ンモニウム塩が挙げられる。
Specific examples of the bis (2-hydroxyethyl) taurine quaternary ammonium salt (a) include, for example,
N, N-bis (2-hydroxyethyl) aminoethanesulfonic acid tetramethylammonium salt, N, N-bis (2-hydroxyethyl) aminoethanesulfonic acid tetraethylammonium salt, N, N-bis (2-hydroxyethyl) Examples thereof include an alkyl ethane (optionally having a benzene ring or another substituent) having 4 to 30 carbon atoms, such as benzyltriethylammonium aminoethanesulfonate.

【0012】2−イソシアネートエチルメタクリレート
(b)は、市場より容易に入手することができる。例え
ば、昭和電工(株)製、品名、カレンズMOI等を挙げ
ることができる。
2-isocyanatoethyl methacrylate (b) can be easily obtained from the market. For example, a product name, Karenz MOI, etc., manufactured by Showa Denko KK can be used.

【0013】本発明のウレタン化合物(A)は、例えば
以下の様にして調製することができる。ビス(2−ヒド
ロキシエチル)タウリン第4級アンモニウム塩(a)1
モルに対して、2−イソシアネートエチルメタクリレー
ト(b)1〜2モルを反応させるのが好ましい。反応温
度は、通常、常温〜100℃、好ましくは50〜90℃
である。この反応中にラジカル重合によるゲル化を防ぐ
ために、通常、50〜2000ppmのハイドロキノ
ン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、P−メトキシ
フェノール、P−ベンゾキノン等の重合禁止剤を添加す
るのが好ましい。これら水酸基とイソシアネート基の反
応は無触媒で進行するが、例えばジブチルスズラウリレ
ート、ジブチルスズジアセテート等の触媒を添加しても
良い。
The urethane compound (A) of the present invention can be prepared, for example, as follows. Bis (2-hydroxyethyl) taurine quaternary ammonium salt (a) 1
It is preferable to react 1 to 2 mol of 2-isocyanatoethyl methacrylate (b) with respect to the mol. The reaction temperature is usually from room temperature to 100 ° C, preferably from 50 to 90 ° C.
It is. In order to prevent gelation due to radical polymerization during this reaction, it is usually preferable to add 50 to 2000 ppm of a polymerization inhibitor such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, P-methoxyphenol, and P-benzoquinone. The reaction between the hydroxyl group and the isocyanate group proceeds without a catalyst. For example, a catalyst such as dibutyltin laurate or dibutyltin diacetate may be added.

【0014】(A)成分以外の不飽和基含有化合物
(B)の具体例としては、例えば、N−ビニルピロリド
ン、N−ビニルカプロラクトン、N,N−ジメチルアミ
ノ(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン、
各種(メタ)アクリレートモノマー類、ウレタン(メ
タ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポ
リエステル(メタ)アクリレート、ポリブタジエン(メ
タ)アクリレート等のオリゴマー類等を挙げることがで
きる。
Specific examples of the unsaturated group-containing compound (B) other than the component (A) include, for example, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactone, N, N-dimethylamino (meth) acrylamide, acryloylmorpholine,
Examples include various (meth) acrylate monomers, oligomers such as urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, and polybutadiene (meth) acrylate.

【0015】[0015]

【0016】各種アクリレートモノマー類は単官能アク
リレートモノマー類と多官能アクリレートモノマー類に
大別される。単官能アクリレート類はアクリレート基を
1個有する化合物で、例えばフェノキシエチル(メタ)
アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロ
ヘキシル(メタ)アクリレート、フェニルオキシエチル
オキシエチル(メタ)アクリレート、イソボニル(メ
タ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリ
レート、ステアリル(メタ)アクリレート、テトラヒド
ロフルフリル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変
性テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ラウ
リル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリ
レート、トリデシル(メタ)アクリレート、ジシクロペ
ンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオ
キシエチル(メタ)アクリレート、カルビトール(メ
タ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、ノニルフ
ェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレー
ト、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール(メ
タ)アクリレート、水酸基含有(メタ)アクリレートと
多価カルボン酸化合物の酸無水物とを反応させたハーフ
エステル類があげられる。水酸基含有(メタ)アクリレ
ートとしては、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレー
ト等があげられる。多価カルボン酸化合物の酸無水物と
しては、例えば無コハク酸、無水マレイン酸、無水フタ
ル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フ
タル酸等があげられる。
Various acrylate monomers are roughly classified into monofunctional acrylate monomers and polyfunctional acrylate monomers. Monofunctional acrylates are compounds having one acrylate group, for example, phenoxyethyl (meth)
Acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenyloxyethyloxyethyl (meth) acrylate, isobonyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) Acrylate, caprolactone-modified tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, carbitol (Meth) acrylate, acryloylmorpholine, nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxypo Propylene glycol (meth) acrylate, a half-esters and the like obtained by reacting an acid anhydride of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate and a polycarboxylic acid compound. Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 1,4-butanediol mono (meth) acrylate. Examples of the acid anhydride of the polycarboxylic acid compound include succinic anhydride, maleic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride and the like.

【0017】多官能アクリレートモノマー類はアクリレ
ート基を2個またはそれ以上有する化合物で、例えばエ
チレンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アク
リレート、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールA
ジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビス
フェノールFジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタン
ジオールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル
ジ(メタ)アクリレート、ヒドリキシピバリン酸ネオペ
ンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、カプルラク
トン変性ヒドリキシピバリン酸ネオペンチルグリコール
ジ(メタ)アクリレートポリエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ
(メタ)アクリレート、グリセリンポリプロポキシトリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールとε−
カプロラクトンの反応物のポリ(メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート、モ
ノ又はポリグリシジル化合物と(メタ)アクリル酸の反
応物であるエポキシ(メタ)アクリレート等があげられ
る。モノ又はポリグリシジル化合物としては、例えばブ
チルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテ
ル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポ
リプロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,6
−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリン
ポリグリシジルエーテル、グリセリンポリエトキシグリ
シジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジ
ルエーテル、トリメチロールプロパンポリエトキシポリ
グリシジルエーテル等があげられる。
The polyfunctional acrylate monomers are compounds having two or more acrylate groups, for example, ethylene oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate, propylene oxide-modified bisphenol A
Di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified bisphenol F di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) hydrivapivalate Acrylate, capullactone-modified neopentyl glycol dihydroxypivalate di (meth) acrylate polyethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth)
Acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane polyethoxytri (meth) acrylate, glycerin polypropoxytri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol and ε-
Caprolactone reactant poly (meth) acrylate,
Examples include dipentaerythritol poly (meth) acrylate, and epoxy (meth) acrylate which is a reaction product of a mono- or polyglycidyl compound and (meth) acrylic acid. Mono- or polyglycidyl compounds include, for example, butyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, 1,6
-Hexanediol diglycidyl ether, glycerin polyglycidyl ether, glycerin polyethoxyglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, trimethylolpropane polyethoxypolyglycidyl ether and the like.

【0018】オリゴマー類のウレタン(メタ)アクリレ
ート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル
(メタ)アクリレートの具体例としては、ウレタン(メ
タ)アクリレートとしては、ポリオール化合物(I)と
ポリイソシアネート化合物(II)と水酸基含有(メ
タ)アクリレート(III)の反応物等を挙げることが
できる。ポリオール化合物(I)としては、例えばアル
キルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテ
ルポリオール、アクリルポリオール、ポリブタジエンポ
リオール、フェノーリックポリオール及び/又は難燃性
ポリオール等が挙げられる。
Specific examples of the urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and polyester (meth) acrylate oligomers include, as urethane (meth) acrylate, a polyol compound (I) and a polyisocyanate compound (II). A reaction product of a hydroxyl group-containing (meth) acrylate (III) can be exemplified. Examples of the polyol compound (I) include an alkyl polyol, a polyester polyol, a polyether polyol, an acrylic polyol, a polybutadiene polyol, a phenolic polyol, and / or a flame-retardant polyol.

【0019】アルキルポリオールとしては、例えば1,
4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,
8−オクタンジオール、ネオペンチルグリコール、シク
ロヘキサンジメタノール、トリメチロールプロパン、ペ
ンタエリスリトール等が挙げられる。
As the alkyl polyol, for example, 1,
4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,
8-octanediol, neopentyl glycol, cyclohexanedimethanol, trimethylolpropane, pentaerythritol, and the like.

【0020】ポリエステルポリオールとしては、例えば
縮合型ポリエステルポリオール、付加重合ポリエステル
ポリオール、ポリカーボネートポリオール等が挙げられ
る。縮合型ポリエステルポリオールとしては、例えばジ
オール化合物と、アジピン酸、イソフタル酸、テレフタ
ル酸、セバシン酸等の有機多塩基酸との縮合反応によっ
て得られ、分子量は100〜100,000が好まし
い。ジオール化合物としては、例えばエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、
1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、
1,6−ヘキサンジオール、3−メチル1,5−ペンタ
ンジオール、1,9−ノナンジオール、1,4−ヘキサ
ンジメタノール、ダイマー酸ジオール、ポリエチレング
リコール等があげられる。
Examples of the polyester polyol include a condensation type polyester polyol, an addition polymerization polyester polyol, and a polycarbonate polyol. The condensation type polyester polyol is obtained by, for example, a condensation reaction of a diol compound and an organic polybasic acid such as adipic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, and sebacic acid, and preferably has a molecular weight of 100 to 100,000. As the diol compound, for example, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol,
1,4-butanediol, neopentyl glycol,
Examples thereof include 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 1,4-hexanedimethanol, dimer acid diol, and polyethylene glycol.

【0021】付加重合ポリエステルポリオールとして
は、例えばポリカプロラクトンが挙げられ、分子量は1
00〜100,000が好ましい。ポリカーボネートポ
リオールはポリオールの直接ホスゲン化、ジフェニルカ
ーボネートによるエステル交換法などによって合成さ
れ、分子量は100〜100,000が好ましい。
The addition-polymerized polyester polyol includes, for example, polycaprolactone, and has a molecular weight of 1
00 to 100,000 is preferred. Polycarbonate polyol is synthesized by direct phosgenation of polyol, transesterification with diphenyl carbonate, and the like, and preferably has a molecular weight of 100 to 100,000.

【0022】ポリエーテルポリオールとしては、例えば
PEG(ポリエチレングリコール)系、PPG(ポリプ
ロピレングリコール)系、PTG(ポリテトラメチレン
グリコール)系ポリオール等が挙げられる。PEG系ポ
リオールは、活性水素を有する化合物を反応開始剤とし
て、エチレンオキサイドを付加重合させたもので、分子
量は100〜100,000が好ましい。
Examples of the polyether polyol include PEG (polyethylene glycol), PPG (polypropylene glycol) and PTG (polytetramethylene glycol) polyols. The PEG-based polyol is obtained by subjecting ethylene oxide to addition polymerization using a compound having active hydrogen as a reaction initiator, and preferably has a molecular weight of 100 to 100,000.

【0023】PPG系ポリオールは、活性水素を有する
化合物を反応開始剤として、プロピレンオキサイドを付
加重合させたもので、分子量は100〜100,000
が好ましい。PTG系ポリオールは、テトラヒドロフラ
ンのカチオン重合によって合成され、分子量は100〜
100,000が好ましい。
The PPG-based polyol is obtained by subjecting propylene oxide to addition polymerization using a compound having active hydrogen as a reaction initiator, and has a molecular weight of 100 to 100,000.
Is preferred. The PTG-based polyol is synthesized by cationic polymerization of tetrahydrofuran and has a molecular weight of 100 to
100,000 is preferred.

【0024】上記ポリエーテルポリオール以外のポリエ
ーテルポリオールとしては、ビスフェノールAのエチレ
ンキサイド付加物又はプロピレンオキサイド付加物等が
挙げられ、分子量は100〜100,000が好まし
い。
Examples of polyether polyols other than the above polyether polyols include bisphenol A ethylene oxide adducts and propylene oxide adducts, and the molecular weight is preferably 100 to 100,000.

【0025】その他のポリオールとして、ヒドロキシル
基含有(メタ)アクリル酸エステルとそれ以外の(メ
タ)アクリル酸エステルの共重合物である(メタ)アク
リルポリオール、ブタジエンの共重合物で末端にヒドロ
キシル基を有するホモ又はコポリマーである、ポリブタ
ジエンポリオール、シリコン変性ポリオール、分子内に
フェノール分子を含有するフェノーリックポリオール、
エポキシポリオール、リン原子、ハロゲン原子等を含有
する難燃ポリオール等が挙げられ、分子量は100〜1
00,000が好ましい。これらポリオール化合物は、
単独又は2種以上を混合して使用することができる。
Other polyols include (meth) acryl polyols, which are copolymers of (meth) acrylates containing hydroxyl groups and other (meth) acrylates, and copolymers of butadiene with hydroxyl groups at the terminals. A homo- or copolymer having a polybutadiene polyol, a silicon-modified polyol, a phenolic polyol containing a phenol molecule in the molecule,
Epoxy polyols, flame-retardant polyols containing a phosphorus atom, a halogen atom, etc., and the like, having a molecular weight of 100
00,000 is preferred. These polyol compounds,
They can be used alone or in combination of two or more.

【0026】ポリイソシアネート化合物(II)として
は、2,4−及び/又は2,6−トリレンジイソシアネ
ート、4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネート
(MDI)、ポリメリックMDI、1,5−ナフチレン
ジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、1,6
−ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサ
メチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネー
ト、キシリレンジイソシアネート(XDI)、水添XD
I、水添MDI、リジンジイソシアネート、トリフェニ
ルメタントリイソシアネート、トリス(イソシアネート
フェニル)チオフォスフェート等が挙げられる。これら
ポリイソシアネート化合物は、単独又は2種以上を混合
して使用することができる。
Examples of the polyisocyanate compound (II) include 2,4- and / or 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (MDI), polymeric MDI, 1,5-naphthylene diisocyanate, and trizine. Diisocyanate, 1,6
-Hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated XD
I, hydrogenated MDI, lysine diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris (isocyanatophenyl) thiophosphate and the like. These polyisocyanate compounds can be used alone or in combination of two or more.

【0027】水酸基含有(メタ)アクリレート(II
I)としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、
4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、カプロラ
クトン変性2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、
グリセロールジアクリレート等が挙げられる。単独又は
2種以上を混合して使用することができる。
Hydroxyl-containing (meth) acrylate (II)
I) includes 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate,
4-hydroxybutyl (meth) acrylate, caprolactone-modified 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate,
Glycerol diacrylate and the like can be mentioned. They can be used alone or in combination of two or more.

【0028】エポキシ(メタ)アクリレートとしては、
例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂(例、油化シェ
ルエポキシ(株)製、エピコート1001、1002、
1004、1006等)、ビスフェノールF型樹脂
(例、油化シェルエポキシ(株)製、エピコート80
7、EP−4001、EP−4002、EP−4004
等)、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェニルグ
リシジルエーテル(例、油化シェルエポキシ(株)製、
YX−4000)、フェノールノボラック型エポキシ樹
脂(例、日本化薬(株)製、EPPN−201、油化シ
ェルエポキシ(株)製、EP−152、EP−154、
ダウケミカル(株)製、DEN−438)、クレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂(例、日本化薬(株)製、E
OCN−102S、EOCN−1020、EOCN−1
04S)、トリグリシジルイソシアヌレート(例、日産
化学(株)製、TEPIC)、トリスフェノールメタン
型エポキシ樹脂(例、日本化薬(株)製、EPPN−5
01、EPPN−502、EPPN−503)、フルオ
レンエポキシ樹脂(例、新日鐵化学(株)製、カルドエ
ポキシ樹脂、ESF−300)、脂環式エポキシ樹脂
(例、ダイセル化学工業(株)製、セロキサイド202
1P、セロキサイドEHPE)等と(メタ)アクリル酸
等との反応物等が挙げられる。
As the epoxy (meth) acrylate,
For example, bisphenol A type epoxy resin (eg, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., Epicoat 1001, 1002,
1004, 1006, etc.), bisphenol F type resin (eg, Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., Epicoat 80)
7, EP-4001, EP-4002, EP-4004
Etc.), bisphenol S type epoxy resin, biphenyl glycidyl ether (eg, Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.)
YX-4000), phenol novolak type epoxy resin (eg, Nippon Kayaku Co., Ltd., EPPN-201, Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., EP-152, EP-154,
Dow Chemical Co., Ltd., DEN-438), cresol novolak type epoxy resin (eg, Nippon Kayaku Co., Ltd., E
OCN-102S, EOCN-1020, EOCN-1
04S), triglycidyl isocyanurate (eg, TEPIC manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.), trisphenol methane type epoxy resin (eg, Nippon Kayaku Co., Ltd., EPPN-5)
01, EPPN-502, EPPN-503), fluorene epoxy resin (eg, Nippon Steel Chemical Co., Ltd., cardo epoxy resin, ESF-300), alicyclic epoxy resin (eg, Daicel Chemical Industries, Ltd.) , Celoxide 202
(P, celloxide EHPE) and (meth) acrylic acid.

【0029】ポリエステル(メタ)アクリレートとして
は、上記のポリオール化合物と同様のポリオール化合物
と(メタ)アクリル酸の縮合物が挙げられる。
Examples of the polyester (meth) acrylate include a condensate of the same polyol compound as the above-mentioned polyol compound and (meth) acrylic acid.

【0030】ポリブタジエン(メタ)アクリレートとし
ては、末端水酸基を有する液状ポリブタジエン化合物と
(メタ)アクリル酸の縮合物や、末端水酸基を有する液
状ポリブタジエン化合物と上記のポリイソシアネート化
合物を反応させ、さらに上記の水酸基含有(メタ)アク
リレートと同様の水酸基含有(メタ)アクリレートとを
反応させた化合物が挙げられる。光重合開始剤(C)と
しては、例えばベンゾフェノン、2,4−ジエチルチオ
キサントン、イソプロピルチオキサントン、2−メチル
−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォ
リノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチル
アミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン
−1、4−ベンゾイル−4´−メチルジフェニルスルフ
ィド、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プ
ロパン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−
フェニル−ケトン、ベンジルジメチルケタール、2,
4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオ
キサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)
−フェニルホスフィンオキサイド等を挙げることができ
る。又、光重合促進剤を併用することもできる。光重合
促進剤としては、例えばN,N−ジメチルアミノ安息香
酸エチルエステル、N,N−ジメチルアミノ安息香酸イ
ソアミルエステル等のアミン類があげられる。これら光
重合開始剤は、1種または、2種以上を任意の割合で混
合して使用する事が出来る。
As the polybutadiene (meth) acrylate, a condensate of a liquid polybutadiene compound having a terminal hydroxyl group and (meth) acrylic acid, or a reaction between the liquid polybutadiene compound having a terminal hydroxyl group and the above polyisocyanate compound, Compounds obtained by reacting the same hydroxyl group-containing (meth) acrylate with the same (meth) acrylate can be used. Examples of the photopolymerization initiator (C) include benzophenone, 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,4-benzoyl-4′-methyldiphenylsulfide, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-
Phenyl-ketone, benzyldimethylketal, 2,
4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl)
-Phenylphosphine oxide and the like. Further, a photopolymerization accelerator can be used in combination. Examples of the photopolymerization accelerator include amines such as N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester and N, N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester. These photopolymerization initiators can be used alone or as a mixture of two or more kinds in an arbitrary ratio.

【0031】本発明に使用されるウレタン化合物(A)
の使用量は、組成物中、好ましくは1〜30重量%、特
に好ましくは3〜20重量%である。不飽和基含有化合
物(B)の量は、組成物中、好ましくは70〜99重量
%、特に好ましくは80〜97重量%である。光重合開
始剤(C)の量は、好ましくは0〜15重量%、特に好
ましくは、0〜7重量%である。
Urethane compound (A) used in the present invention
Is preferably 1 to 30% by weight, particularly preferably 3 to 20% by weight in the composition. The amount of the unsaturated group-containing compound (B) in the composition is preferably 70 to 99% by weight, particularly preferably 80 to 97% by weight. The amount of the photopolymerization initiator (C) is preferably from 0 to 15% by weight, particularly preferably from 0 to 7% by weight.

【0032】本発明の樹脂組成物は、各成分(A)、
(B)及び(C)成分を均一混合、溶解することにより
得ることができる。本発明の組成物には、更に、シラン
カップリング剤、重合禁止剤、レベリング剤、スリップ
剤、光安定剤、酸化防止剤、有機溶剤フィラー、着色剤
等を使用することができる。
The resin composition of the present invention comprises each component (A),
It can be obtained by uniformly mixing and dissolving the components (B) and (C). In the composition of the present invention, a silane coupling agent, a polymerization inhibitor, a leveling agent, a slip agent, a light stabilizer, an antioxidant, an organic solvent filler, a coloring agent, and the like can be further used.

【0033】本発明の組成物の硬化物は、常法により紫
外線照射により得ることができる。具体的には例えば、
低圧又は、高圧水銀灯、キセノン灯等を用いて紫外線を
照射して得ることができる。本発明の組成物は、特に光
ディスク用保護コート剤や光ディスク用ハードコート剤
等の光ディスク用材料として有用であるが、その他に
も、プラスチック、ゴム、紙、木材及びセラミックス用
塗料等にも使用できる。本発明の光ディスク用材料を用
いた光ディスクの記録膜の保護膜の形成は、光ディスク
の記録膜の上に光ディスク用材料を例えば、スピンコー
ト法等により塗布し、紫外線を照射して硬化することに
よって保護膜を形成させる。光ディスクの記録膜の上に
光ディスク用材料を塗布する場合、その厚さは、通常1
〜100μ程度とするのが好ましい。なお、これらの方
法において、組成物特に光ディスク用材料の硬化は、紫
外線照射の代りに電子線照射によることもできる。電子
線照射であれば重合開始剤は必要ではない。
The cured product of the composition of the present invention can be obtained by ultraviolet irradiation in a conventional manner. Specifically, for example,
It can be obtained by irradiating ultraviolet rays using a low-pressure or high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, or the like. The composition of the present invention is particularly useful as a material for optical disks such as a protective coating agent for optical disks and a hard coating agent for optical disks, but can also be used as a coating material for plastics, rubber, paper, wood and ceramics. . The protective film of the recording film of the optical disk using the optical disk material of the present invention is formed by applying the optical disk material on the recording film of the optical disk by, for example, a spin coating method, and irradiating ultraviolet rays to cure the material. A protective film is formed. When an optical disc material is applied on the recording film of the optical disc, the thickness is usually 1
It is preferably about 100 μm. In these methods, the curing of the composition, particularly the material for an optical disk, can be performed by electron beam irradiation instead of ultraviolet irradiation. A polymerization initiator is not required for electron beam irradiation.

【0034】[0034]

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
する。なお、実施例中の部は、重量部である。 (ウレタン化合物(A)の合成実施例) 合成実施例1 ビス(2−ヒドロキシエチル)アミノエチルスルホン酸
ベンジルトリエチルアンモニウム塩(分子量404.
6)404.6部、2−イソシアネートエチルメタクリ
レート(分子量155)310部及びP−メトキシフェ
ノール0.2部を仕込み、85℃で約10時間反応さ
せ、イソシアネート濃度が0.3%になったところで反
応を終了し、ウレタン化合物(A−1)を得た。
EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. Parts in Examples are parts by weight. (Synthesis Example of Urethane Compound (A)) Synthesis Example 1 Bis (2-hydroxyethyl) aminoethylsulfonic acid benzyltriethylammonium salt (molecular weight 404.
6) 404.6 parts, 310 parts of 2-isocyanatoethyl methacrylate (molecular weight: 155) and 0.2 part of P-methoxyphenol were charged and reacted at 85 ° C. for about 10 hours, and when the isocyanate concentration reached 0.3%. The reaction was completed to obtain a urethane compound (A-1).

【0035】応用実施例1 合成実施例1で得たウレタン化合物(A−1)15部、
ペンタエリスリトールトリアクリレート35部、ペンタ
エリスリトールテトラアクリレート30部、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート10部、1,6−ヘキサ
ンジオールジアクリレート5部、トリシクロデカンアク
リレート20部及び1−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン7部を混合、溶解し本発明の樹脂組成物(光
ディスク用材料)を得た。
Application Example 1 15 parts of the urethane compound (A-1) obtained in Synthesis Example 1,
35 parts of pentaerythritol triacrylate, 30 parts of pentaerythritol tetraacrylate, 10 parts of trimethylolpropane triacrylate, 5 parts of 1,6-hexanediol diacrylate, 20 parts of tricyclodecane acrylate and 7 parts of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone Then, the resin composition was dissolved to obtain a resin composition (optical disk material) of the present invention.

【0036】ポリカーボネート基板に記録膜を作製した
光ディスクの記録膜の上に、上記の本発明の樹脂組成物
をスピンコーターで塗布し、高圧水銀灯により照射し該
組成物を硬化させた。保護コートされた光ディスクを6
0℃、90%RHの条件下で耐湿熱性試験を行った所、
1000時間を経過しても記録膜や硬化物に異常はなか
った。又、保護コートされた光ディスクのコートされた
面の表面抵抗は、1.1×10 12Ωであった。同様
にコートされた面で、タバコ吸着テスト(コートされた
面をテフロン(登録商標)布で15回強く摩擦した後タ
バコの灰をふりかけ、吸着していない灰を、光ディスク
をふって落とし、灰の付着の程度を目視で観察した。)
の結果は、ほとんど灰の付着は見られなかった。
The above resin composition of the present invention was applied on a recording film of an optical disk having a recording film formed on a polycarbonate substrate by a spin coater, and irradiated with a high-pressure mercury lamp to cure the composition. 6 protectively coated optical disks
After performing a moist heat resistance test under the conditions of 0 ° C. and 90% RH,
There was no abnormality in the recording film or cured product even after 1000 hours. The surface resistance of the coated surface of the protective-coated optical disk was 1.1 × 10 12 Ω. Similarly, on the coated surface, a cigarette absorption test (the coated surface was rubbed fifteen times with a Teflon (registered trademark) cloth and then sprinkled with tobacco ash, and the non-adsorbed ash was wiped off the optical disc to remove the ash The degree of adhesion was visually observed.)
As a result, almost no ash adhesion was observed.

【0037】応用実施例2 エポキシアクリレート(エピコート828(油化シェル
エポキシ(株)製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂)
をアクリル酸でエステル化して得られた。)10部、合
成実施例1で得たウレタン化合物(A−1)15部、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート40部、トリシク
ロデカンジメチロールジアクリレート20部、テトラヒ
ドロフルフリルアクリレート20部及び1−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン7部を混合、溶解し本発
明の樹脂組成物(光ディスク用材料)を得た。これを用
い、実施例1と同様にして、保護コートされた光ディス
クを得た。実施例1と同様に試験を行ない、耐湿熱性試
験の結果、1000時間経過しても異常がなかった。表
面抵抗は、9.5×10 11Ωで、タバコ吸着テスト
の結果は、ほとんどの灰の付着は見られなかった。
Application Example 2 Epoxy acrylate (Epicoat 828 (Bisphenol A type epoxy resin manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.))
Was obtained by esterification with acrylic acid. 10 parts, 15 parts of the urethane compound (A-1) obtained in Synthesis Example 1, 40 parts of pentaerythritol triacrylate, 20 parts of tricyclodecane dimethylol diacrylate, 20 parts of tetrahydrofurfuryl acrylate and 1-hydroxycyclohexylphenyl 7 parts of ketone were mixed and dissolved to obtain a resin composition of the present invention (optical disc material). Using this, a protective-coated optical disk was obtained in the same manner as in Example 1. The test was performed in the same manner as in Example 1. As a result of the moist heat resistance test, there was no abnormality even after 1000 hours. The surface resistance was 9.5 × 10 11 Ω, and as a result of the tobacco adsorption test, almost no ash adhesion was observed.

【0038】比較例1 実施例1の中でウレタン化合物(A−1)を除いた以外
は実施例1と同様に混合、溶解し、樹脂組成物(光ディ
スク用材料)を得た。これを用い、実施例1と同様にし
て、保護コートされた光ディスクを得た。実施例1と同
様に試験を行ない、耐湿熱性試験の結果、1000時間
経過しても異常がなかった。表面抵抗は3.0×10
16Ωで、タバコ吸着テストの結果は、灰の付着が見ら
れた。
Comparative Example 1 A resin composition (material for an optical disk) was obtained by mixing and dissolving in the same manner as in Example 1 except that the urethane compound (A-1) was omitted. Using this, a protective-coated optical disk was obtained in the same manner as in Example 1. The test was performed in the same manner as in Example 1. As a result of the moist heat resistance test, there was no abnormality even after 1000 hours. Surface resistance is 3.0 × 10
At 16Ω, the result of the tobacco adsorption test showed that ash had adhered.

【0039】[0039]

【発明の効果】本発明のウレタン化合物を用いた樹脂組
成物を硬化して得られる硬化物は、帯電防止性能を有し
ており、ゴミが付着しにくく、耐湿熱性が良好で特に光
ディスク用保護コート剤、光ディスク用ハードコート剤
として好適に用いることができる。
The cured product obtained by curing the resin composition using the urethane compound of the present invention has an antistatic property, hardly adheres dust, has good wet heat resistance, and is particularly suitable for optical disc protection. It can be suitably used as a coating agent and a hard coating agent for optical disks.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA13 AB14 AB20 AC01 AD01 BC13 BC34 BC81 BC87 4H006 AA01 AB46 4J011 AC04 QA03 QA06 QA07 QA08 QA14 QA18 QA33 QA38 QA39 QA40 QB01 QB05 QB13 QB14 QB15 QB16 QB19 QB20 QB22 QB23 QB24 QB25 SA01 SA16 SA21 SA22 SA31 SA32 SA35 SA36 SA51 SA52 SA64 SA83 SA84 UA01 VA01 WA02 WA07 4J100 AL04Q AL05Q AL08Q AL09Q AL62Q AL63Q AL66P AL66Q AL67Q AM19Q AQ01Q AQ08Q AQ15Q BA02Q BA03Q BA08Q BA21Q BA29P BA38P BA56P BC04Q BC08Q BC12Q BC28Q BC43Q BC45Q BC53Q CA04 FA03 FA17 JA36 5D029 LA03 LA06 LA07 LB07 LC13 LC25  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H025 AA13 AB14 AB20 AC01 AD01 BC13 BC34 BC81 BC87 4H006 AA01 AB46 4J011 AC04 QA03 QA06 QA07 QA08 QA14 QA18 QA33 QA38 QA39 QA40 QB01 QB05 QB13 QB14 QB15 QB14 QB14 SA16 SA21 SA22 SA31 SA32. LA06 LA07 LB07 LC13 LC25

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ビス(2−ヒドロキシエチル)タウリン第
4級アンモニウム塩(a)と2−イソシアネートエチル
メタクリレート(b)の反応物であるウレタン化合物
(A)。
1. A urethane compound (A) which is a reaction product of a quaternary ammonium salt of bis (2-hydroxyethyl) taurine (a) and 2-isocyanatoethyl methacrylate (b).
【請求項2】請求項1に記載のウレタン化合物(A)と
(A)成分以外の不飽和基含有化合物(B)を含有する
樹脂組成物。
2. A resin composition comprising the urethane compound (A) according to claim 1 and a compound (B) containing an unsaturated group other than the component (A).
【請求項3】光重合開始剤(C)を含有する請求項2に
記載の樹脂組成物。
3. The resin composition according to claim 2, which contains a photopolymerization initiator (C).
【請求項4】光ディスク用材料である請求項2または3
に記載の樹脂組成物。
4. A material for an optical disk according to claim 2 or 3.
3. The resin composition according to item 1.
【請求項5】請求項2ないし4のいずれか1項に記載の
樹脂組成物の硬化物。
5. A cured product of the resin composition according to any one of claims 2 to 4.
JP2000324949A 2000-10-25 2000-10-25 Urethane compound, its resin composition and cured product thereof Pending JP2002128754A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000324949A JP2002128754A (en) 2000-10-25 2000-10-25 Urethane compound, its resin composition and cured product thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000324949A JP2002128754A (en) 2000-10-25 2000-10-25 Urethane compound, its resin composition and cured product thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002128754A true JP2002128754A (en) 2002-05-09

Family

ID=18802400

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000324949A Pending JP2002128754A (en) 2000-10-25 2000-10-25 Urethane compound, its resin composition and cured product thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002128754A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003102942A1 (en) * 2002-06-04 2003-12-11 Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. Optical disc and its manufacturing method
JP2005213193A (en) * 2004-01-29 2005-08-11 Yokkaichi Chem Co Ltd New quaternary ammonium sulfonate
JP2005264149A (en) * 2004-02-16 2005-09-29 Yokkaichi Chem Co Ltd Aqueous polyurethane resin composition and method for producing the same
JP2006213776A (en) * 2005-02-01 2006-08-17 Yokkaichi Chem Co Ltd Manufacturing process of crosslinked amphoteric polyurethane elastomer

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003102942A1 (en) * 2002-06-04 2003-12-11 Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. Optical disc and its manufacturing method
JP2005213193A (en) * 2004-01-29 2005-08-11 Yokkaichi Chem Co Ltd New quaternary ammonium sulfonate
JP2005264149A (en) * 2004-02-16 2005-09-29 Yokkaichi Chem Co Ltd Aqueous polyurethane resin composition and method for producing the same
JP2006213776A (en) * 2005-02-01 2006-08-17 Yokkaichi Chem Co Ltd Manufacturing process of crosslinked amphoteric polyurethane elastomer

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100827431B1 (en) Adhesive for optical disk and optical disk
JPH09183929A (en) Ultraviolet-curable resin composition for ink jet recording system and cured product thereof
JP2010043194A (en) Curable composition and optical information-recording medium
US20060074209A1 (en) Uv-cure adhesive composition for optical disk, cured material and goods
JP2002114949A (en) Adhesive composition for optical disk, cured product and article
JPH101659A (en) Adhesive composition for optical disk, cured product, article and adhesion
JP2002128754A (en) Urethane compound, its resin composition and cured product thereof
JP2537644B2 (en) Overcoat composition for optical disk
JP2714990B2 (en) Resin composition, optical disk material, coating material composition and cured product thereof
JP3016401B2 (en) (Meth) acrylate derivative, resin composition containing the same, and coating agent for optical disk
JPH04337307A (en) Resin composition for optical material, material for optical disc and cured product of the composition
JPH107751A (en) Resin composition, its cured item, and its article
JPH108018A (en) Adfhesive composition, cured product, article and bonding
JP2002265886A (en) Adhesive composition for optical disk, cured product, and article therefrom
JPH10130586A (en) Adhesive composition, cured material, article and bonding
JP3228432B2 (en) Optical disk material and its cured product
JP4641108B2 (en) Adhesive composition for optical disk, cured product and article
JP2995858B2 (en) Optical recording medium
JP4479940B2 (en) Urethane oligomer, its resin composition, its cured product
JP2009026387A (en) Radiation curable composition for optical recording medium and its cured product, and its laminate
JPH08194968A (en) Protective coating agent for high density optical disc and hardened matter thereof
JP2001163937A (en) Resin composition for lens and lens sheet
JPH04102240A (en) Overcoat composition for optical disk and its hardened material
JPH11306596A (en) Resin composition, resin composition for optical disk and its hardened material
JPH0354214A (en) Resin composition and optical disk material