JP2002107749A - Liquid crystal display device and manufacturing method therefor - Google Patents
Liquid crystal display device and manufacturing method thereforInfo
- Publication number
- JP2002107749A JP2002107749A JP2000297421A JP2000297421A JP2002107749A JP 2002107749 A JP2002107749 A JP 2002107749A JP 2000297421 A JP2000297421 A JP 2000297421A JP 2000297421 A JP2000297421 A JP 2000297421A JP 2002107749 A JP2002107749 A JP 2002107749A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- display device
- crystal display
- pixel
- pixel electrodes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、薄膜トランジスタ
(TFT)型の液晶表示装置及びその製造方法に係り、
特に画像を表示する画素領域の画素電極の構造に関す
る。The present invention relates to a thin film transistor (TFT) type liquid crystal display device and a method of manufacturing the same.
In particular, the present invention relates to a structure of a pixel electrode in a pixel region for displaying an image.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、液晶表示装置、特に薄膜トラ
ンジスタ(TFT)を使用した液晶表示装置では、信号
線と走査線の交差部にTFTを介して画素電極が配置さ
れて画素領域が形成されている。画素の開口率を上げて
明るい液晶パネルを得るために、ガラス基板上の開口部
分とソース電極の上を有機樹脂系の着色層(層間絶縁
膜)で覆って平坦化し、その上に画素電極を配置する構
造が採られている。2. Description of the Related Art Conventionally, in a liquid crystal display device, particularly a liquid crystal display device using a thin film transistor (TFT), a pixel electrode is arranged at an intersection of a signal line and a scanning line via a TFT to form a pixel region. I have. In order to increase the aperture ratio of the pixels and obtain a bright liquid crystal panel, the openings on the glass substrate and the source electrode are covered with an organic resin-based coloring layer (interlayer insulating film) and flattened. The structure to arrange is adopted.
【0003】図4は、従来の画素領域の配置を示した概
略平面図である。画素領域31には、画素電極32がマ
トリクス状に配列されている。これら画素電極32はV
列反転駆動される場合、縦方向に隣接する画素電極32
に印加される電圧極性は1フレーム毎に交互に反転す
る。FIG. 4 is a schematic plan view showing a conventional arrangement of pixel regions. In the pixel region 31, the pixel electrodes 32 are arranged in a matrix. These pixel electrodes 32 have V
When the column inversion driving is performed, the pixel electrode 32 adjacent in the vertical direction is used.
Are alternately inverted for each frame.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】上記のようなV列反転
駆動法では、隣合う画素電極の極性が反転するため、図
5に示すように隣り合う画素電極32の間に、横方向の
電場が生じて、画素電極端の液晶分子の配向が乱れる。
図6は画素電極間に発生した横方向の電場と、これによ
り発生する配向不良領域での光抜け(以下、リバースと
称す)の様子を示した説明図である。図中下段で示した
ように、画素電極32間に横方向の電場が生じるため、
図中上段に示すように、リバースなる光抜けaが生じて
いることが示されている。尚、図中、33は信号線であ
る。In the above-described V column inversion driving method, since the polarity of the adjacent pixel electrodes is inverted, a horizontal electric field is applied between the adjacent pixel electrodes 32 as shown in FIG. Occurs, and the alignment of the liquid crystal molecules at the edge of the pixel electrode is disturbed.
FIG. 6 is an explanatory diagram showing a horizontal electric field generated between pixel electrodes and a state of light leakage (hereinafter, referred to as “reverse”) in a misalignment region generated by the electric field. As shown in the lower part of the figure, since a horizontal electric field is generated between the pixel electrodes 32,
As shown in the upper part of the figure, it is shown that reverse light leakage a has occurred. In the figure, reference numeral 33 denotes a signal line.
【0005】したがって、従来構造の液晶表示装置にお
いてV列反転駆動を行った場合には、前記光抜けにより
コントラストが低くなり、表示品位が悪くなるという問
題点があった。Therefore, when the V-column inversion drive is performed in the liquid crystal display device having the conventional structure, there is a problem that the light leaks to lower the contrast and deteriorate the display quality.
【0006】本発明の目的は、リバースなる光抜けの発
生を抑え、表示品位に優れた画像を得ることができる液
晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of suppressing reverse light leakage and obtaining an image with excellent display quality, and a method of manufacturing the same.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1の発明は、マトリクス状に配置された複数
の画素電極により画素領域が形成された液晶表示装置に
おいて、前記各画素電極の一辺の端部が折れ曲がった構
造を有することを特徴とする。According to a first aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device in which a plurality of pixel electrodes arranged in a matrix form a pixel region. Is characterized in that the end of one side has a bent structure.
【0008】請求項2の発明は、請求項1において、前
記画素領域がV列反転駆動されることを特徴とする。A second aspect of the present invention is characterized in that, in the first aspect, the pixel region is driven by V column inversion.
【0009】また、上記目的を達成するために、請求項
3の発明は、格子状に配列された信号線と走査線の交差
部に薄膜トランジスタを介して接続された画素電極がマ
トリクス状に配置されて画素領域が形成された液晶表示
装置の製造方法において、着色した有機系樹脂をストラ
イプ状にパターンニングする際に、この着色層の片側の
端部が、先にストライプ状にパターンニングした別の着
色層の一部に上から重なるようにパターンニングする工
程と、前記のようにパターンニングした複数の着色層の
上に、リバース側の一辺が前記着色層の重なり部分の上
部に達するように画素電極を形成する工程とを含むこと
を特徴とする。According to another aspect of the present invention, a pixel electrode connected via a thin film transistor to an intersection of a signal line and a scanning line arranged in a grid is arranged in a matrix. In the method of manufacturing a liquid crystal display device in which a pixel region is formed, when the colored organic resin is patterned in a stripe shape, one end of the colored layer is first patterned in a stripe shape. Patterning a part of the coloring layer so as to overlap from above, and forming a pixel on the plurality of coloring layers patterned as described above such that one side on the reverse side reaches the upper part of the overlapping part of the coloring layer. Forming an electrode.
【0010】請求項4の発明は、請求項3において、前
記着色層が透明な有機膜であることを特徴とする。A fourth aspect of the present invention is characterized in that, in the third aspect, the coloring layer is a transparent organic film.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】以下、本発明に係わる液晶表示装
置の一実施形態を図面を参照しながら説明する。図1
は、本実施形態に係わる液晶表示装置の画素領域の構造
を示す概略断面図であり、とくに画素電極の構造を示し
たものである。画素電極12の一辺の端部bが図示しな
いアレイ基板(画素電極12の下方に位置している)に
対して上方に折れ曲がって跳ね上がった構造を有してい
る。画素電極12の端部を跳ね上げる辺は、光抜けが起
きるリバース側の辺である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a liquid crystal display according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating a structure of a pixel region of a liquid crystal display device according to the present embodiment, and particularly illustrates a structure of a pixel electrode. The end b of one side of the pixel electrode 12 has a structure in which it is bent upward and jumps up with respect to an array substrate (located below the pixel electrode 12) (not shown). The side that jumps up the end of the pixel electrode 12 is the side on the reverse side where light leakage occurs.
【0012】図2は、上記した構造の画素電極12を用
い、V列反転駆動した場合の画素電極間に発生する電場
と、リバースなる光抜けの様子を示した説明図である。
図中、下段で示した画素電極間に発生する電場は従来よ
りも多少立ってきて、横方向成分が減少している。これ
により、画素電極端の液晶分子が横に引っ張られて配向
が乱れる度合いが弱まる。したがって、図中、上段のa
で示したように、本例の画素電極構造を採ることによ
り、光抜けが従来よりも抑制されているのが分かる。
尚、図中6は信号線を示している。FIG. 2 is an explanatory view showing an electric field generated between the pixel electrodes when the V-column inversion driving is performed using the pixel electrode 12 having the above-described structure, and a state of reverse light leakage.
In the figure, the electric field generated between the pixel electrodes shown in the lower part is slightly higher than the conventional one, and the horizontal component is reduced. This weakens the degree to which the liquid crystal molecules at the edge of the pixel electrode are laterally pulled and the alignment is disturbed. Therefore, in the figure, a
As shown in the figure, it can be seen that the adoption of the pixel electrode structure of this example suppresses light leakage more than before.
In the figure, reference numeral 6 denotes a signal line.
【0013】本実施形態によれば、画素領域に配置され
ている画素電極12の一辺の端部を折り曲げて跳ね上げ
る構造にすることにより、リバースなる光抜けを抑え、
コントラストを高めて表示品位を上げることができる。According to the present embodiment, by forming a structure in which the edge of one side of the pixel electrode 12 arranged in the pixel region is bent and jumped up, reverse light leakage is suppressed.
The display quality can be improved by increasing the contrast.
【0014】図3は、上記のように構成された本実施形
態に係わる液晶表示装置の製造プロセスを説明するため
の概略断面図である。ここでは、特に画素電極などが形
成されるアレイ基板の断面を示している。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view for explaining a manufacturing process of the liquid crystal display device according to the present embodiment configured as described above. Here, in particular, a cross section of an array substrate on which pixel electrodes and the like are formed is shown.
【0015】まず、ガラス基板(アレイ基板)50上に
CVD法により500nmのSiOx膜1を形成する。
この層をガラス基板50からの不純物のブロッキング層
として、その上に薄膜トランジスタの半導体層となるa
−Si(アモルファスシリコン)500ÅをプラズマC
VD法により成膜し、エキシマレーザーアニール(EL
A)を行い、p−Si(多結晶シリコン)層2を形成す
る。このp−Si層2の上にレジストを被着させ、その
レジストにマスクを用いてパターニングを行った後、ド
ライエッチングで加工する。First, a 500 nm SiOx film 1 is formed on a glass substrate (array substrate) 50 by a CVD method.
This layer is used as a blocking layer for impurities from the glass substrate 50 and a semiconductor layer of the thin film transistor is formed thereon.
-Si (amorphous silicon) 500 ° plasma C
Film formation by VD method, excimer laser annealing (EL
A) is performed to form a p-Si (polycrystalline silicon) layer 2. A resist is applied on the p-Si layer 2, and the resist is patterned by using a mask, and then processed by dry etching.
【0016】その後、ゲート絶縁膜としてSiOx膜3
をCVD法で1000Å成膜する。次に、通常のソー
ス,ドレイン形成方法でP(リン)のイオン注入を行い、
ソース、ドレインを形成する。その後,モリブタングス
テン合金(MoW)を成膜して、これをドライエッチン
グで加工することによりゲート電極4を形成する。次
に、層間絶縁膜5としてSiOxをCVD法で5000
Å形成する。その後、ソースおよびドレインの活性化処
理をELAを用いて行う。続いて、フォトレジストでコ
ンタクトホールの形状にマスクパターニングし、ドライ
エッチングで開孔する。Thereafter, a SiOx film 3 is used as a gate insulating film.
Is formed to a thickness of 1000 ° by the CVD method. Next, P (phosphorus) ion implantation is performed by a normal source and drain formation method,
Form source and drain. After that, a molybdenum tungsten alloy (MoW) is formed into a film, which is processed by dry etching to form the gate electrode 4. Next, SiOx is deposited as the interlayer insulating film 5 by the CVD method.
Å Form. After that, the source and drain are activated using ELA. Subsequently, a mask is patterned into a shape of a contact hole by using a photoresist, and a hole is formed by dry etching.
【0017】その後、端部がドレイン電極を兼ねた信号
線6およびソース電極7をスパッタ法にて成膜し、これ
をパターニングする。After that, a signal line 6 and a source electrode 7 whose ends also serve as a drain electrode are formed by sputtering and patterned.
【0018】更に、この上に保護膜としてSiNx膜8
をプラズマCVD法で4000Å形成し、パッド部の開
孔部を穿設した後、さらに凹凸を平坦化し、且つカラー
フィルターの機能をもつ赤色に着色した有機系樹脂によ
る着色層9を2μm塗布し、SiNx層と同様の場所に
開孔してストライプ状にパターニングする。Further, a SiNx film 8 is formed thereon as a protective film.
Is formed by plasma CVD, and the opening of the pad portion is formed. After that, the unevenness is further flattened, and a colored layer 9 made of an organic resin colored red having the function of a color filter is applied at 2 μm. A hole is formed in the same place as the SiNx layer and patterned in a stripe shape.
【0019】その後、同様に、青色に着色した有機系樹
脂10を2μm塗布した後、ストライプ状にパターニン
グする。この時、青色層の端部が先にストライプ状にパ
ターニングした赤色層の端部に3μm程度重なるように
調整する。更に続けて、緑色層11を2μm塗布し、今
度は、ストライプ端が赤色層および青色層の両方に3μ
m重なるようにしてパターニングする。Thereafter, similarly, a blue colored organic resin 10 is applied in a thickness of 2 μm and then patterned in a stripe shape. At this time, the adjustment is performed so that the end of the blue layer overlaps the end of the red layer patterned in a stripe shape by about 3 μm. Subsequently, a green layer 11 is applied to a thickness of 2 μm, and the stripe edge is applied to both the red layer and the blue layer by 3 μm.
Patterning is performed so that m overlaps.
【0020】最後に画素電極12を、そのリバース側端
部が上記の着色層重なり部(土手状部)上に来るように
形成すると、図1に示したような一辺の端部が折れ曲が
って跳ね上がった画素電極12を容易に作成でき、アレ
イ基板側が完成する。Finally, when the pixel electrode 12 is formed such that its reverse side end is on the above-mentioned colored layer overlapping portion (bank-like portion), one end of the side as shown in FIG. 1 is bent and jumps up. The pixel electrode 12 can be easily formed, and the array substrate side is completed.
【0021】このアレイ基板を用いて通常の方法で液晶
表示装置を作成したところ、リバースなる光抜けが抑え
られ、コントラストの高い表示品位に優れた画像を得る
ことができた。When a liquid crystal display device was prepared using this array substrate by an ordinary method, reverse light leakage was suppressed, and an image having high contrast and excellent display quality could be obtained.
【0022】上記実施形態では、着色層を重ね合わせて
土手を形成したが、透明な有機膜を用いて、同様なスト
ライプ状のパターニングを行っても、透明な有機膜によ
り土手が形成され、この上に同様に画素電極をパターニ
ングすることによって、図1に示した構造の画素電極を
得ることができる。この方法で作成したアレイ基板によ
り液晶表示装置を作成しても、上記実施形態と同様のリ
バースなる光抜けの少ない高品位の画像を得ることがで
きる。In the above embodiment, the bank is formed by overlapping the colored layers. However, even if the same stripe patterning is performed using a transparent organic film, the bank is formed by the transparent organic film. By patterning the pixel electrode in the same manner as above, a pixel electrode having the structure shown in FIG. 1 can be obtained. Even when a liquid crystal display device is formed using the array substrate formed by this method, a high-quality image with little light leakage, which is the same as the above embodiment, can be obtained.
【0023】[0023]
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
わる液晶表示装置によれば、縦方向に隣接する画素電極
間に生じる電場の横方向成分を減少させることにより、
リバースなる光抜けの発生を抑えて、表示品位に優れた
画像を得ることができる。As described above in detail, according to the liquid crystal display device of the present invention, the horizontal component of the electric field generated between the vertically adjacent pixel electrodes can be reduced.
An image with excellent display quality can be obtained by suppressing the occurrence of reverse light leakage.
【0024】また、液晶表示装置の製造方法によれば、
画素電極の端部を折り曲げて跳ね上げた構造に容易にす
ることができる。According to the method of manufacturing a liquid crystal display device,
A structure in which the end of the pixel electrode is bent and jumped up can be easily provided.
【図1】本実施形態に係わる液晶表示装置の画素領域の
構造を示す概略断面図。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating a structure of a pixel region of a liquid crystal display device according to an embodiment.
【図2】図1に示した構造の画素電極を用い、V列反転
駆動した場合の画素電極間に発生する電場と光抜けの様
子を示した説明図。FIG. 2 is an explanatory diagram showing an electric field generated between pixel electrodes and light leakage when V column inversion driving is performed using the pixel electrode having the structure shown in FIG. 1;
【図3】本実施形態に係わる液晶表示装置の製造プロセ
スを説明するための概略断面図。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view for explaining a manufacturing process of the liquid crystal display device according to the embodiment.
【図4】従来の液晶表示装置の画素領域を示した概略平
面図。FIG. 4 is a schematic plan view showing a pixel region of a conventional liquid crystal display device.
【図5】図4に示した画素電極の側面を示した概略側面
図。FIG. 5 is a schematic side view showing a side surface of the pixel electrode shown in FIG. 4;
【図6】図5に示した画素電極間に発生した横方向の電
場と光抜けの様子を示した説明図。FIG. 6 is an explanatory diagram showing a state of a horizontal electric field and light leakage generated between the pixel electrodes shown in FIG. 5;
1,3…SiOx膜、2…p−Si(多結晶シリコン)
層、4…ゲート電極、5…層間絶縁膜、6…信号線、7
…ソース電極、8…SiNx膜、9…着色層、10…有
機系樹脂、11…緑色層、12…画素電極 50 ガラス基板1,3: SiOx film, 2: p-Si (polycrystalline silicon)
Layer, 4 gate electrode, 5 interlayer insulating film, 6 signal line, 7
... Source electrode, 8 ... SiNx film, 9 ... Colored layer, 10 ... Organic resin, 11 ... Green layer, 12 ... Pixel electrode 50 Glass substrate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H091 FA02Y FB02 FC12 FD04 GA03 GA07 GA13 GA16 LA03 LA15 LA17 2H092 GA13 GA21 HA03 HA28 JA24 JA35 JB57 JB58 KA04 KA05 KA10 KA12 KA19 KB24 KB25 MA07 MA27 MA30 NA01 PA08 2H093 NA16 NA32 NA43 ND04 5C094 AA02 AA06 AA43 BA03 BA43 CA19 EA04 EA05 EB02 HA08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H091 FA02Y FB02 FC12 FD04 GA03 GA07 GA13 GA16 LA03 LA15 LA17 2H092 GA13 GA21 HA03 HA28 JA24 JA35 JB57 JB58 KA04 KA05 KA10 KA12 KA19 KB24 KB25 MA07 MA27 MA30 NA01 PA08 2H09 NA16 5C094 AA02 AA06 AA43 BA03 BA43 CA19 EA04 EA05 EB02 HA08
Claims (4)
極により画素領域が形成された液晶表示装置において、 前記各画素電極の一辺の端部が折れ曲がった構造を有す
ることを特徴とする液晶表示装置。1. A liquid crystal display device in which a pixel region is formed by a plurality of pixel electrodes arranged in a matrix, wherein an edge of one side of each of the pixel electrodes has a bent structure. .
を特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the pixel region is driven by V column inversion.
差部に薄膜トランジスタを介して接続された画素電極が
マトリクス状に配置されて画素領域が形成された液晶表
示装置の製造方法において、 着色した有機系樹脂をストライプ状にパターンニングす
る際に、この着色層の片側の端部が、先にストライプ状
にパターンニングした別の着色層の一部に上から重なる
ようにパターンニングする工程と、 前記のようにパターンニングした複数の着色層の上に、
一辺が前記着色層の重なり部分の上部に達するように画
素電極を形成する工程と、 を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。3. A method for manufacturing a liquid crystal display device, wherein pixel electrodes connected via a thin film transistor at intersections of signal lines and scanning lines arranged in a lattice are arranged in a matrix to form a pixel region. When patterning the colored organic resin in a stripe pattern, a step of patterning such that one end of the colored layer overlaps a part of another colored layer previously patterned in a stripe form from above. And, on the plurality of colored layers patterned as described above,
Forming a pixel electrode such that one side reaches an upper part of the overlapping portion of the colored layer. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising:
特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置の製造方法。4. The method according to claim 3, wherein the colored layer is a transparent organic film.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000297421A JP2002107749A (en) | 2000-09-28 | 2000-09-28 | Liquid crystal display device and manufacturing method therefor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000297421A JP2002107749A (en) | 2000-09-28 | 2000-09-28 | Liquid crystal display device and manufacturing method therefor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002107749A true JP2002107749A (en) | 2002-04-10 |
Family
ID=18779538
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000297421A Pending JP2002107749A (en) | 2000-09-28 | 2000-09-28 | Liquid crystal display device and manufacturing method therefor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002107749A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011002617A (en) * | 2009-06-18 | 2011-01-06 | Hitachi Displays Ltd | Liquid crystal display device |
US8953122B2 (en) | 2009-06-18 | 2015-02-10 | Japan Display Inc. | Liquid crystal display device and manufacturing method for same |
-
2000
- 2000-09-28 JP JP2000297421A patent/JP2002107749A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011002617A (en) * | 2009-06-18 | 2011-01-06 | Hitachi Displays Ltd | Liquid crystal display device |
US8953122B2 (en) | 2009-06-18 | 2015-02-10 | Japan Display Inc. | Liquid crystal display device and manufacturing method for same |
US9274367B2 (en) | 2009-06-18 | 2016-03-01 | Japan Display Inc. | Liquid crystal display device and manufacturing method for same |
US9933668B2 (en) | 2009-06-18 | 2018-04-03 | Japan Display Inc. | Liquid crystal display device and manufacturing method for same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100657387B1 (en) | Thin film transistor, fabrication method thereof and liquid crystal display having the thin film transistor | |
JP5519979B2 (en) | Semiconductor thin film transistor substrate and manufacturing method thereof | |
KR101147437B1 (en) | Low-Cost Large-Screen Wide-Angle Fast-Response Active Matrix Liquid Crystal Display Apparatus | |
JP2004070284A (en) | Method of forming a color filter on a substrate having pixel driving elements | |
JP5384088B2 (en) | Display device | |
KR100534495B1 (en) | Liquid crystal display device | |
JP2007011351A (en) | Liquid crystal display element for reducing leakage current and manufacturing method thereof | |
JP2002107758A (en) | Method for manufacturing liquid crystal display device, method for manufacturing display device and liquid crystal display device | |
US20090166633A1 (en) | Array substrate and method for manufacturing the same | |
US20040135939A1 (en) | Liquid crystal display device with light shielding structure and method for forming the same | |
KR101955992B1 (en) | Array substrate for fringe field switching mode liquid crystal display device and method for fabricating the same | |
JPH11119254A (en) | Reflection type liquid crystal display device | |
JP6436333B2 (en) | Display device | |
US7777230B2 (en) | Display device | |
JP4019600B2 (en) | Electro-optical device and projector | |
JP2010210732A (en) | Liquid crystal display panel and method of manufacturing the same | |
JP2002107749A (en) | Liquid crystal display device and manufacturing method therefor | |
JP5405770B2 (en) | Display device and manufacturing method thereof | |
US8435722B2 (en) | Method for fabricating liquid crystal display device | |
JP4216615B2 (en) | Liquid crystal display | |
KR102685534B1 (en) | Display device | |
KR20040048118A (en) | Structure of lcd pixel | |
KR20080032704A (en) | LCD panel | |
JPH09101542A (en) | Array substrate for display device and its production | |
KR101245968B1 (en) | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same |