JP2002182371A - ペリクル - Google Patents
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- adhesive
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 露光光ないし乱反射光による粘着剤もしくは
接着剤からの分解物がペリクルとレチクルに囲まれた空
間に放出されない構造のペリクルを提供する。 【解決手段】 ペリクルをレチクル５に装着するための
粘着剤層４およびペリクル膜１をペリクルフレーム３に
接着する接着剤層２のうち少なくとも一つの層を、ペリ
クルとレチクル５に囲まれた空間からの乱反射光から、
遮蔽するための遮蔽手段を設ける。また、同じく少なく
とも一つの層を、ペリクルとレチクル５に囲まれた空間
に対し、密閉するするための手段を設ける。前記遮蔽手
段が、ペリクルフレーム３の少なくとも一つの端面に設
けられた突起７であること、あるいは、同じく少なくと
も一つの端面のペリクル内部に面した側に塗布した耐光
性の高いポリマーであることが好ましい。
接着剤からの分解物がペリクルとレチクルに囲まれた空
間に放出されない構造のペリクルを提供する。 【解決手段】 ペリクルをレチクル５に装着するための
粘着剤層４およびペリクル膜１をペリクルフレーム３に
接着する接着剤層２のうち少なくとも一つの層を、ペリ
クルとレチクル５に囲まれた空間からの乱反射光から、
遮蔽するための遮蔽手段を設ける。また、同じく少なく
とも一つの層を、ペリクルとレチクル５に囲まれた空間
に対し、密閉するするための手段を設ける。前記遮蔽手
段が、ペリクルフレーム３の少なくとも一つの端面に設
けられた突起７であること、あるいは、同じく少なくと
も一つの端面のペリクル内部に面した側に塗布した耐光
性の高いポリマーであることが好ましい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、リソグラフィー用
ペリクル、特には、ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置
あるいは液晶表示板を製造する際の、ゴミよけとして使
用されるリソグラフィー用ペリクルに関する。
ペリクル、特には、ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置
あるいは液晶表示板を製造する際の、ゴミよけとして使
用されるリソグラフィー用ペリクルに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体デ
バイスあるいは液晶表示板などの製造においては、半導
体ウエハーあるいは液晶用原板に光を照射してパターニ
ングを行う工程がある。この場合に用いる露光原版（レ
チクル）にゴミが付着していると、このゴミが光を吸収
したり、光を反射してしまうため、転写したパターニン
グが変形したり、エッジががさついたりしてしまい、寸
法、品質、外観などがそこなわれ、半導体装置や液晶表
示板などの性能劣化や製造歩留まりの低下を来すという
問題があった。
バイスあるいは液晶表示板などの製造においては、半導
体ウエハーあるいは液晶用原板に光を照射してパターニ
ングを行う工程がある。この場合に用いる露光原版（レ
チクル）にゴミが付着していると、このゴミが光を吸収
したり、光を反射してしまうため、転写したパターニン
グが変形したり、エッジががさついたりしてしまい、寸
法、品質、外観などがそこなわれ、半導体装置や液晶表
示板などの性能劣化や製造歩留まりの低下を来すという
問題があった。
【０００３】このため、これらの作業は通常クリーンル
ームで行われるが、このクリーンルーム内でも露光原版
を常に清浄に保つことが難しいので、露光原版の表面に
ゴミよけのために、露光用の光を良く通過させるペリク
ル膜を貼着したペリクルを使用する方法が行われてい
る。この場合、ゴミは露光原版の表面には直接付着せ
ず、ペリクル膜上に付着するため、リソグラフィー時に
焦点を露光原版のパターン上に合わせておけば、ペリク
ル膜上のゴミは転写に無関係となるという利点がある。
ームで行われるが、このクリーンルーム内でも露光原版
を常に清浄に保つことが難しいので、露光原版の表面に
ゴミよけのために、露光用の光を良く通過させるペリク
ル膜を貼着したペリクルを使用する方法が行われてい
る。この場合、ゴミは露光原版の表面には直接付着せ
ず、ペリクル膜上に付着するため、リソグラフィー時に
焦点を露光原版のパターン上に合わせておけば、ペリク
ル膜上のゴミは転写に無関係となるという利点がある。
【０００４】このペリクルは、光を良く通過させるニト
ロセルロース、酢酸セルロース、もしくはフッ素樹脂な
どからなる透明なペリクル膜を、アルミニウム、ステン
レス、ポリエチレン等からなるペリクル枠の上部にペリ
クル膜の良溶媒を塗布し、風乾して接着する（特開昭５
８−２１９０２３号公報）か、アクリル樹脂やエポキシ
樹脂もしくはフッ素樹脂などの接着剤で接着し（米国特
許第４８６１４０２号明細書、特公昭６３−２７７０７
号公報、特開平７−１６８３４５号公報）、ペリクル枠
の下部にはポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アク
リル樹脂、シリコーン樹脂等からなる粘着層および粘着
層を保護する離型層（セパレータ）を積層して構成され
ている。
ロセルロース、酢酸セルロース、もしくはフッ素樹脂な
どからなる透明なペリクル膜を、アルミニウム、ステン
レス、ポリエチレン等からなるペリクル枠の上部にペリ
クル膜の良溶媒を塗布し、風乾して接着する（特開昭５
８−２１９０２３号公報）か、アクリル樹脂やエポキシ
樹脂もしくはフッ素樹脂などの接着剤で接着し（米国特
許第４８６１４０２号明細書、特公昭６３−２７７０７
号公報、特開平７−１６８３４５号公報）、ペリクル枠
の下部にはポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アク
リル樹脂、シリコーン樹脂等からなる粘着層および粘着
層を保護する離型層（セパレータ）を積層して構成され
ている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】露光原版（レチクル）
の表面にはパターンが描かれている。露光中は、このパ
ターンのパターンエッジで露光光が散乱して乱反射光
（散乱光）となり、一部粘着剤層もしくは接着剤層に直
接当たることがある。この場合、粘着剤もしくは接着剤
が光を吸収し、その結果分解物が発生する危険性があ
る。この分解物は、ペリクルとレチクルに囲まれた空間
に放出され、ペリクル面もしくはレチクル面に析出して
異物や曇りとなり、リソグラフィーに多大な影響を与え
ることがある。
の表面にはパターンが描かれている。露光中は、このパ
ターンのパターンエッジで露光光が散乱して乱反射光
（散乱光）となり、一部粘着剤層もしくは接着剤層に直
接当たることがある。この場合、粘着剤もしくは接着剤
が光を吸収し、その結果分解物が発生する危険性があ
る。この分解物は、ペリクルとレチクルに囲まれた空間
に放出され、ペリクル面もしくはレチクル面に析出して
異物や曇りとなり、リソグラフィーに多大な影響を与え
ることがある。
【０００６】粘着剤もしくは接着剤がリソグラフィーの
露光用の光を吸収しないか、もしくは吸収しても光劣化
を起こさなければ、上記の様な乱反射光による問題は発
生しないのであるが、粘着剤および接着剤において、粘
着力もしくは接着力を出現させるための樹脂は、化学構
造の上から、一般に紫外線域に、特に真空紫外線域に吸
収を持つため、粘着力もしくは接着力と紫外線域の耐光
性を両立させることは非常に困難である。
露光用の光を吸収しないか、もしくは吸収しても光劣化
を起こさなければ、上記の様な乱反射光による問題は発
生しないのであるが、粘着剤および接着剤において、粘
着力もしくは接着力を出現させるための樹脂は、化学構
造の上から、一般に紫外線域に、特に真空紫外線域に吸
収を持つため、粘着力もしくは接着力と紫外線域の耐光
性を両立させることは非常に困難である。
【０００７】近年はより微細な加工を行うことを目的と
して、露光光が短波長化してきており、短波長になるほ
ど光子エネルギーが大きくなるので、粘着剤もしくは接
着剤に光が当たった時の劣化も激しくなる。粘着剤もし
くは接着剤に光が当たらない構造もしくは光が当たった
としてもペリクルとレチクルに囲まれた空間に光分解物
が放出されない構造のペリクルが必要となってきた。し
たがって、本発明は、露光光ないし乱反射光による粘着
剤もしくは接着剤からの分解物がペリクルとレチクルに
囲まれた空間に放出されない構造のペリクルを提供する
ことを課題とする。
して、露光光が短波長化してきており、短波長になるほ
ど光子エネルギーが大きくなるので、粘着剤もしくは接
着剤に光が当たった時の劣化も激しくなる。粘着剤もし
くは接着剤に光が当たらない構造もしくは光が当たった
としてもペリクルとレチクルに囲まれた空間に光分解物
が放出されない構造のペリクルが必要となってきた。し
たがって、本発明は、露光光ないし乱反射光による粘着
剤もしくは接着剤からの分解物がペリクルとレチクルに
囲まれた空間に放出されない構造のペリクルを提供する
ことを課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明のペリクルは、ペリクルをレチクルに装着
するための粘着剤層およびペリクル膜をペリクルフレー
ムに接着する接着剤層のうち少なくとも一つの層を、ペ
リクルとレチクルに囲まれた空間からの乱反射光から、
遮蔽するための遮蔽手段を設ける。また、ペリクルをレ
チクルに装着するための粘着剤層およびペリクル膜をペ
リクルフレームに接着する接着剤層のうち少なくとも一
つの層を、ペリクルとレチクルに囲まれた空間に対し、
密閉するするための手段を設ける。
めに、本発明のペリクルは、ペリクルをレチクルに装着
するための粘着剤層およびペリクル膜をペリクルフレー
ムに接着する接着剤層のうち少なくとも一つの層を、ペ
リクルとレチクルに囲まれた空間からの乱反射光から、
遮蔽するための遮蔽手段を設ける。また、ペリクルをレ
チクルに装着するための粘着剤層およびペリクル膜をペ
リクルフレームに接着する接着剤層のうち少なくとも一
つの層を、ペリクルとレチクルに囲まれた空間に対し、
密閉するするための手段を設ける。
【０００９】この場合、前記遮蔽手段が、ペリクルフレ
ームの粘着剤塗布面および接着剤塗布面のうち少なくと
も一つの面に設けられた突起であること、あるいは、ペ
リクルフレームの粘着剤塗布面の粘着剤層および接着剤
塗布面の接着剤層のうち少なくとも一つの層のペリクル
内部に面した側に塗布した耐光性の高いポリマーである
ことが好ましい。また、前記密閉するための手段が、ペ
リクルフレームの粘着剤塗布面の粘着剤層および接着剤
塗布面の接着剤層のうち少なくとも一つの層のペリクル
内部に面した側に塗布した耐光性の高いポリマーである
ことが好ましい。
ームの粘着剤塗布面および接着剤塗布面のうち少なくと
も一つの面に設けられた突起であること、あるいは、ペ
リクルフレームの粘着剤塗布面の粘着剤層および接着剤
塗布面の接着剤層のうち少なくとも一つの層のペリクル
内部に面した側に塗布した耐光性の高いポリマーである
ことが好ましい。また、前記密閉するための手段が、ペ
リクルフレームの粘着剤塗布面の粘着剤層および接着剤
塗布面の接着剤層のうち少なくとも一つの層のペリクル
内部に面した側に塗布した耐光性の高いポリマーである
ことが好ましい。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明は、このような課題を解決
するためになされたもので、粘着剤層および接着剤層が
ペリクル内部からの光に曝されない遮蔽手段、もしくは
ペリクル内部からの光に曝されたとしても光分解物がペ
リクル閉空間内に放出しないように密閉する手段、具体
的には、ペリクルフレームの端面の内側に突起を設け
る、あるいは粘着層および接着層の内側に、露光光に対
して粘着剤もしくは接着剤よりも光劣化が少ないポリマ
ー層を設けることにより、粘着剤層および接着剤層が劣
化しないか、劣化したとしてもペリクルとレチクルとに
囲まれた空間内に劣化に基づく分解物が侵入しないよう
な構造を持ったペリクルを提供することができる。
するためになされたもので、粘着剤層および接着剤層が
ペリクル内部からの光に曝されない遮蔽手段、もしくは
ペリクル内部からの光に曝されたとしても光分解物がペ
リクル閉空間内に放出しないように密閉する手段、具体
的には、ペリクルフレームの端面の内側に突起を設け
る、あるいは粘着層および接着層の内側に、露光光に対
して粘着剤もしくは接着剤よりも光劣化が少ないポリマ
ー層を設けることにより、粘着剤層および接着剤層が劣
化しないか、劣化したとしてもペリクルとレチクルとに
囲まれた空間内に劣化に基づく分解物が侵入しないよう
な構造を持ったペリクルを提供することができる。
【００１１】本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検
討した結果、リソグラフィーに使用されるペリクルフレ
ームの、粘着剤および接着剤が塗布される端面の内側に
突起を設けることにより、もしくは、ペリクルをレチク
ルに貼り付けるための粘着層およびペリクル膜をペリク
ルフレームに接着するための接着層の内側に、露光光な
いし乱反射光に対して粘着剤および接着剤よりも劣化が
少ないポリマー層を設けることにより、ペリクル内側か
らの光が粘着剤層に直接曝されない機構、もしくは曝さ
れたとしても光分解物をペリクル閉空間内に放出しない
構造をもたせることで、上記課題を解決できることを見
い出した。
討した結果、リソグラフィーに使用されるペリクルフレ
ームの、粘着剤および接着剤が塗布される端面の内側に
突起を設けることにより、もしくは、ペリクルをレチク
ルに貼り付けるための粘着層およびペリクル膜をペリク
ルフレームに接着するための接着層の内側に、露光光な
いし乱反射光に対して粘着剤および接着剤よりも劣化が
少ないポリマー層を設けることにより、ペリクル内側か
らの光が粘着剤層に直接曝されない機構、もしくは曝さ
れたとしても光分解物をペリクル閉空間内に放出しない
構造をもたせることで、上記課題を解決できることを見
い出した。
【００１２】通常、ペリクルをレチクルに貼り付けるた
めの粘着剤層は、ペリクルフレームの端面に設けられて
おり、ペリクルをレチクルに貼り付けた時、粘着剤層の
厚み分だけはペリクル内部に向かって曝されている。ペ
リクルとレチクルに囲まれたペリクル内部に存在するレ
チクル上のパターンから乱反射光があった場合、内側に
曝された粘着剤層が光を吸収して分解し、分解物をペリ
クル内部にまき散らす可能性があった。一方、ペリクル
膜をペリクルフレームに接着するための接着剤層の場合
も同様で、接着剤層の厚み分はペリクルとレチクルに囲
まれたペリクル内部に曝されているため、上記と同様の
問題が発生する可能性がある。
めの粘着剤層は、ペリクルフレームの端面に設けられて
おり、ペリクルをレチクルに貼り付けた時、粘着剤層の
厚み分だけはペリクル内部に向かって曝されている。ペ
リクルとレチクルに囲まれたペリクル内部に存在するレ
チクル上のパターンから乱反射光があった場合、内側に
曝された粘着剤層が光を吸収して分解し、分解物をペリ
クル内部にまき散らす可能性があった。一方、ペリクル
膜をペリクルフレームに接着するための接着剤層の場合
も同様で、接着剤層の厚み分はペリクルとレチクルに囲
まれたペリクル内部に曝されているため、上記と同様の
問題が発生する可能性がある。
【００１３】これらの分解物は、ペリクル膜上、もしく
はレチクル表面に吸着し曇りを発生させたり、もしくは
吸着後更に光反応を起こし、異物や曇りとなる。これら
の異物や曇りが発生すると、パターンを異物で汚染した
り、曇りにより透過率が低下したりといったリソグラフ
ィーに関しての大きな問題となっていた。そこで、ペリ
クルフレーム端面の内側に遮光を目的とした突起を設
け、粘着剤および接着剤はその突起の外側に設ける構造
にすることにより、ペリクル内側からの光は突起で遮ら
れ、粘着剤および接着剤には直接当たらないので、粘着
剤もしくは接着剤の劣化を防ぐことができる。
はレチクル表面に吸着し曇りを発生させたり、もしくは
吸着後更に光反応を起こし、異物や曇りとなる。これら
の異物や曇りが発生すると、パターンを異物で汚染した
り、曇りにより透過率が低下したりといったリソグラフ
ィーに関しての大きな問題となっていた。そこで、ペリ
クルフレーム端面の内側に遮光を目的とした突起を設
け、粘着剤および接着剤はその突起の外側に設ける構造
にすることにより、ペリクル内側からの光は突起で遮ら
れ、粘着剤および接着剤には直接当たらないので、粘着
剤もしくは接着剤の劣化を防ぐことができる。
【００１４】また、ペリクルをレチクルに貼り付けるた
めの粘着層およびペリクル膜をペリクルフレームに貼り
付けるための接着剤の内側全周に、露光用の光（露光光
および乱反射光を含む）に対して粘着剤および接着剤よ
りも劣化が少ないポリマー層を設けることにより、露光
用の光が粘着剤層および接着剤層に直接当たらないか、
もしくは劣化の少ないポリマー層を通して当たったとし
ても、ポリマー層があるため、接着剤層の分解物がペリ
クルとレチクルに囲まれた空間に放出されることがな
い。
めの粘着層およびペリクル膜をペリクルフレームに貼り
付けるための接着剤の内側全周に、露光用の光（露光光
および乱反射光を含む）に対して粘着剤および接着剤よ
りも劣化が少ないポリマー層を設けることにより、露光
用の光が粘着剤層および接着剤層に直接当たらないか、
もしくは劣化の少ないポリマー層を通して当たったとし
ても、ポリマー層があるため、接着剤層の分解物がペリ
クルとレチクルに囲まれた空間に放出されることがな
い。
【００１５】なお、フレームの突起の設置および光劣化
の少ないポリマー層の設置は、粘着剤層および接着剤層
両方に行った方が効果的であるが、場合に応じて粘着剤
層のみ、接着剤層のみの採用も可能である。また、粘着
剤層にはフレーム部の突起の設置、接着剤層にはポリマ
ー層の設置といった選択も可能であり、必要に応じて組
み合わせることが可能である。
の少ないポリマー層の設置は、粘着剤層および接着剤層
両方に行った方が効果的であるが、場合に応じて粘着剤
層のみ、接着剤層のみの採用も可能である。また、粘着
剤層にはフレーム部の突起の設置、接着剤層にはポリマ
ー層の設置といった選択も可能であり、必要に応じて組
み合わせることが可能である。
【００１６】以下に、図面に基づいて本発明をさらに詳
細に説明する。図１は、一般的なペリクルの説明図、図
２は、本発明の第１の実施の形態を示す説明図、図３
は、本発明の第２の実施の形態を示す説明図である。図
１に示すように、一般のペリクルは、少なくともペリク
ル膜１、ペリクルフレーム３、接着剤層２および粘着剤
層４を有しており、ペリクルはレチクル５と粘着剤層４
を介して接着されている。ペリクルフレーム３の接着剤
層２および粘着剤層４が設けられる端面は、平面状に形
成されている。レチクル５にはパターン６が描かれてお
り、これがリソグラフィーでの露光原版になる。
細に説明する。図１は、一般的なペリクルの説明図、図
２は、本発明の第１の実施の形態を示す説明図、図３
は、本発明の第２の実施の形態を示す説明図である。図
１に示すように、一般のペリクルは、少なくともペリク
ル膜１、ペリクルフレーム３、接着剤層２および粘着剤
層４を有しており、ペリクルはレチクル５と粘着剤層４
を介して接着されている。ペリクルフレーム３の接着剤
層２および粘着剤層４が設けられる端面は、平面状に形
成されている。レチクル５にはパターン６が描かれてお
り、これがリソグラフィーでの露光原版になる。
【００１７】そして、ペリクル膜１は露光光に対して透
明であり耐光性がある樹脂からなり、ペリクルフレーム
３は、同様に従来公知のアルミニウム、ステンレス等か
らなる。接着剤層２、粘着剤層４は、ペリクル膜１とペ
リクルフレーム３、および、レチクル５とペリクルフレ
ーム３を接着・粘着できる材料であればよいが、例え
ば、接着剤層２にはアクリル樹脂やエポキシ樹脂もしく
はフッ素樹脂などの接着剤が用いられ、粘着剤層４には
ポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、
シリコーン樹脂等からなる粘着剤が用いられる。
明であり耐光性がある樹脂からなり、ペリクルフレーム
３は、同様に従来公知のアルミニウム、ステンレス等か
らなる。接着剤層２、粘着剤層４は、ペリクル膜１とペ
リクルフレーム３、および、レチクル５とペリクルフレ
ーム３を接着・粘着できる材料であればよいが、例え
ば、接着剤層２にはアクリル樹脂やエポキシ樹脂もしく
はフッ素樹脂などの接着剤が用いられ、粘着剤層４には
ポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、
シリコーン樹脂等からなる粘着剤が用いられる。
【００１８】本発明の第１の実施の形態を示す図２にお
いて、ペリクル膜１、ペリクルフレーム３、接着剤層２
および粘着剤層４を有しており、ペリクルはレチクル５
と粘着剤層４を介して接着されている。ペリクルフレー
ム３にはペリクルフレーム端面の内側全周に上面が平坦
な突起７が設けられており、この突起によって粘着剤層
４および接着剤層２がペリクル内側の乱反射光に曝され
るのを防いでいる。突起７の高さは、接着剤層２および
粘着剤層４のそれぞれの厚みとほぼ同等でよい。
いて、ペリクル膜１、ペリクルフレーム３、接着剤層２
および粘着剤層４を有しており、ペリクルはレチクル５
と粘着剤層４を介して接着されている。ペリクルフレー
ム３にはペリクルフレーム端面の内側全周に上面が平坦
な突起７が設けられており、この突起によって粘着剤層
４および接着剤層２がペリクル内側の乱反射光に曝され
るのを防いでいる。突起７の高さは、接着剤層２および
粘着剤層４のそれぞれの厚みとほぼ同等でよい。
【００１９】本発明の第２の実施の形態を示す図３にお
いて、ペリクル膜１、ペリクルフレーム３、接着剤層２
および粘着剤層４を有しており、ペリクルはレチクル５
と粘着剤層４を介して接着されている。粘着剤層４およ
び接着剤層２の内側には、粘着剤層４および接着剤層２
よりも光劣化の少ないポリマー層８が設けられている。
ポリマー層８は、露光用の光に対して、透明でも、不透
明でも良い。ポリマー層８によって粘着剤層４および接
着剤層２がペリクル内側の乱反射光に曝されるのを、も
しくは曝されても分解物が閉空間に飛び散るのを防いで
いる。
いて、ペリクル膜１、ペリクルフレーム３、接着剤層２
および粘着剤層４を有しており、ペリクルはレチクル５
と粘着剤層４を介して接着されている。粘着剤層４およ
び接着剤層２の内側には、粘着剤層４および接着剤層２
よりも光劣化の少ないポリマー層８が設けられている。
ポリマー層８は、露光用の光に対して、透明でも、不透
明でも良い。ポリマー層８によって粘着剤層４および接
着剤層２がペリクル内側の乱反射光に曝されるのを、も
しくは曝されても分解物が閉空間に飛び散るのを防いで
いる。
【００２０】
【実施例】以下本発明の実施例を示す。 ［実施例１］粘着剤塗布用端面および接着剤塗布用端面
の内側に突起をもった、図２に示す形態の、アルミ製ペ
リクルフレームを使用した。フレームの接着剤塗布用端
面の突起の外側にフッ素系ポリマーからなる接着剤を塗
布し、一方フレームの粘着剤塗布用端面の突起の外側に
レチクル接着用の粘着剤を塗布した。
の内側に突起をもった、図２に示す形態の、アルミ製ペ
リクルフレームを使用した。フレームの接着剤塗布用端
面の突起の外側にフッ素系ポリマーからなる接着剤を塗
布し、一方フレームの粘着剤塗布用端面の突起の外側に
レチクル接着用の粘着剤を塗布した。
【００２１】ペリクル膜材料であるフッ素系ポリマー：
サイトップ（旭硝子社製製品名）をフッ素系溶媒に溶解
したものを、シリコン基板上に塗布し、その後シリコン
基板を加熱し溶媒を蒸発させてシリコン基板上にポリマ
ー薄膜（厚さ１μｍ）を形成した。シリコン基板からポ
リマー薄膜を剥離し、この膜を上記のペリクルフレーム
に接着することによりペリクルを完成させた。このペリ
クルをレチクルに貼り付けた場合、フレームに突起が存
在するため、粘着剤層および接着剤層はペリクルとレチ
クルに囲まれた閉空間には曝されておらず、レチクル上
のパターン面で露光光の乱反射が起こっても、乱反射光
は粘着剤層および接着剤層に当たらず、分解物の生成が
抑制され、高品質のリソグラフィーが可能となった。
サイトップ（旭硝子社製製品名）をフッ素系溶媒に溶解
したものを、シリコン基板上に塗布し、その後シリコン
基板を加熱し溶媒を蒸発させてシリコン基板上にポリマ
ー薄膜（厚さ１μｍ）を形成した。シリコン基板からポ
リマー薄膜を剥離し、この膜を上記のペリクルフレーム
に接着することによりペリクルを完成させた。このペリ
クルをレチクルに貼り付けた場合、フレームに突起が存
在するため、粘着剤層および接着剤層はペリクルとレチ
クルに囲まれた閉空間には曝されておらず、レチクル上
のパターン面で露光光の乱反射が起こっても、乱反射光
は粘着剤層および接着剤層に当たらず、分解物の生成が
抑制され、高品質のリソグラフィーが可能となった。
【００２２】［実施例２］粘着剤塗布用端面および接着
剤塗布用端面の内側に突起を持たない、図３に示す形態
の、アルミ製ペリクルフレームを使用した。フレーム端
面の内側半分に全周にわたってペリクル膜材料と同質の
ポリマー層［サイトップ（旭硝子社製製品名）]を形成
した。その後フレーム端面の外側半分に実施例１と同様
の接着剤、粘着剤をそれぞれ塗布した。
剤塗布用端面の内側に突起を持たない、図３に示す形態
の、アルミ製ペリクルフレームを使用した。フレーム端
面の内側半分に全周にわたってペリクル膜材料と同質の
ポリマー層［サイトップ（旭硝子社製製品名）]を形成
した。その後フレーム端面の外側半分に実施例１と同様
の接着剤、粘着剤をそれぞれ塗布した。
【００２３】実施例１と同様の方法でポリマー薄膜を形
成し、その膜を上記のペリクルフレームに接着すること
でペリクルを完成させた。このペリクルをレチクルに貼
り付けた場合、粘着剤層および接着剤層の内側全周にポ
リマー層が存在するため、レチクル上のパターン面で露
光光の乱反射が起こって、粘着剤および接着剤にポリマ
ー層を通して乱反射光が当たっても、粘着剤および接着
剤の光分解物はポリマー層に遮られ、ペリクルとレチク
ルに囲まれた閉空間には放出されないので、高品質のリ
ソグラフィーが可能となった。
成し、その膜を上記のペリクルフレームに接着すること
でペリクルを完成させた。このペリクルをレチクルに貼
り付けた場合、粘着剤層および接着剤層の内側全周にポ
リマー層が存在するため、レチクル上のパターン面で露
光光の乱反射が起こって、粘着剤および接着剤にポリマ
ー層を通して乱反射光が当たっても、粘着剤および接着
剤の光分解物はポリマー層に遮られ、ペリクルとレチク
ルに囲まれた閉空間には放出されないので、高品質のリ
ソグラフィーが可能となった。
【００２４】［比較例］粘着剤塗布用端面および接着剤
塗布用端面の内側に突起を持たない、図１に示す一般
の、アルミ製ペリクルフレームに実施例１と同様の接着
剤、粘着剤を塗布用端面全面に塗布した。実施例１と同
様の方法でポリマー薄膜を形成し、その膜を上記のペリ
クルフレームに接着することでペリクルを完成させた。
このペリクルをレチクルに貼り付けた場合、粘着剤層お
よび接着剤層はペリクルとレチクルに囲まれた閉空間に
直接曝されており、レチクル上のパターン面で露光光の
乱反射が起こった場合に、乱反射光は粘着剤層および接
着剤層に直接当たることで分解物の生成が起こり、ペリ
クル膜面に白濁が発生した。
塗布用端面の内側に突起を持たない、図１に示す一般
の、アルミ製ペリクルフレームに実施例１と同様の接着
剤、粘着剤を塗布用端面全面に塗布した。実施例１と同
様の方法でポリマー薄膜を形成し、その膜を上記のペリ
クルフレームに接着することでペリクルを完成させた。
このペリクルをレチクルに貼り付けた場合、粘着剤層お
よび接着剤層はペリクルとレチクルに囲まれた閉空間に
直接曝されており、レチクル上のパターン面で露光光の
乱反射が起こった場合に、乱反射光は粘着剤層および接
着剤層に直接当たることで分解物の生成が起こり、ペリ
クル膜面に白濁が発生した。
【００２５】
【発明の効果】本発明によれば、粘着剤塗布面および接
着剤塗布面の内側に突起を持つペリクルフレームを用い
てペリクルを完成させた場合、粘着剤層および接着剤層
は、レチクルパターン面での乱反射光に曝されることが
なく、その結果粘着剤および接着剤の光劣化による分解
物の発生が抑制でき、また、粘着剤層および接着剤層の
内側全周に露光光に対して粘着剤および接着剤よりも劣
化が少ないポリマー層を設ける場合には、そのポリマー
層からの露光に基づく分解物の発生を極めて少なくする
ことができ、かつ、ポリマー層を透過して粘着剤層およ
び接着剤層に光が当たり、分解物が生成してもポリマー
層に阻止されて露光閉空間に分解物が漏れることがない
ので、高品質なリソグラフィーを提供することが出来
る。
着剤塗布面の内側に突起を持つペリクルフレームを用い
てペリクルを完成させた場合、粘着剤層および接着剤層
は、レチクルパターン面での乱反射光に曝されることが
なく、その結果粘着剤および接着剤の光劣化による分解
物の発生が抑制でき、また、粘着剤層および接着剤層の
内側全周に露光光に対して粘着剤および接着剤よりも劣
化が少ないポリマー層を設ける場合には、そのポリマー
層からの露光に基づく分解物の発生を極めて少なくする
ことができ、かつ、ポリマー層を透過して粘着剤層およ
び接着剤層に光が当たり、分解物が生成してもポリマー
層に阻止されて露光閉空間に分解物が漏れることがない
ので、高品質なリソグラフィーを提供することが出来
る。
【図１】 一般的なペリクルの説明図である。
【図２】 本発明の第１の実施の形態を示す説明図であ
る。
る。
【図３】 本発明の第２の実施の形態を示す説明図であ
る。
る。
１：ペリクル膜 ２：接着剤層 ３：ペリクルフレーム ４：粘着剤層 ５：レチクル ６：パターン ７：突起 ８：ポリマー層
Claims (5)
- 【請求項１】 リソグラフィーに用いられるペリクルに
おいて、ペリクルをレチクルに装着するための粘着剤層
およびペリクル膜をペリクルフレームに接着する接着剤
層のうち少なくとも一つの層を、ペリクルとレチクルに
囲まれた空間からの乱反射光から、遮蔽するための遮蔽
手段を設けたことを特徴とするペリクル。 - 【請求項２】 リソグラフィーに用いられるペリクルに
おいて、ペリクルをレチクルに装着するための粘着剤層
およびペリクル膜をペリクルフレームに接着する接着剤
層のうち少なくとも一つの層を、ペリクルとレチクルに
囲まれた空間に対し、密閉するするための手段を設けた
ことを特徴とするペリクル。 - 【請求項３】 前記遮蔽手段が、ペリクルフレームの粘
着剤塗布面および接着剤塗布面のうち少なくとも一つの
面に設けられた突起であることを特徴とする請求項１に
記載のペリクル。 - 【請求項４】 前記遮蔽手段が、ペリクルフレームの粘
着剤塗布面の粘着剤層および接着剤塗布面の接着剤層の
うち少なくとも一つの層のペリクル内部に面した側に塗
布した耐光性の高いポリマーであることを特徴とする請
求項１に記載のペリクル。 - 【請求項５】 前記密閉するための手段が、ペリクルフ
レームの粘着剤塗布面の粘着剤層および接着剤塗布面の
接着剤層のうち少なくとも一つの層のペリクル内部に面
した側に塗布した耐光性の高いポリマーであることを特
徴とする請求項２に記載のペリクル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000379723A JP4380910B2 (ja) | 2000-12-14 | 2000-12-14 | ペリクル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000379723A JP4380910B2 (ja) | 2000-12-14 | 2000-12-14 | ペリクル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002182371A true JP2002182371A (ja) | 2002-06-26 |
| JP4380910B2 JP4380910B2 (ja) | 2009-12-09 |
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ID=18848033
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000379723A Expired - Fee Related JP4380910B2 (ja) | 2000-12-14 | 2000-12-14 | ペリクル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4380910B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004191986A (ja) * | 2002-12-09 | 2004-07-08 | Asml Holding Nv | 多孔質フィルタ挿入体及び突出したボンディング面を備えたペリクルフレームのための方法及び装置 |
| JP2011076042A (ja) * | 2009-10-02 | 2011-04-14 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクル |
| JP2011203568A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | リソグラフィー用ペリクル |
| JP2019032388A (ja) * | 2017-08-07 | 2019-02-28 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム及びペリクル |
| JPWO2018151056A1 (ja) * | 2017-02-17 | 2019-12-12 | 三井化学株式会社 | ペリクル、露光原版、露光装置、及び半導体装置の製造方法 |
| CN114815519A (zh) * | 2022-04-26 | 2022-07-29 | 深圳市龙图光电有限公司 | 掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10983430B2 (en) * | 2018-02-22 | 2021-04-20 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Mask assembly and haze acceleration method |
-
2000
- 2000-12-14 JP JP2000379723A patent/JP4380910B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2004191986A (ja) * | 2002-12-09 | 2004-07-08 | Asml Holding Nv | 多孔質フィルタ挿入体及び突出したボンディング面を備えたペリクルフレームのための方法及び装置 |
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| JP2011203568A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | リソグラフィー用ペリクル |
| US8349526B2 (en) | 2010-03-26 | 2013-01-08 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle for lithography |
| KR101832488B1 (ko) * | 2010-03-26 | 2018-02-28 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 리소그래피용 펠리클 |
| JPWO2018151056A1 (ja) * | 2017-02-17 | 2019-12-12 | 三井化学株式会社 | ペリクル、露光原版、露光装置、及び半導体装置の製造方法 |
| US11137677B2 (en) | 2017-02-17 | 2021-10-05 | Mitsui Chemicals, Inc. | Pellicle, exposure original plate, exposure device, and semiconductor device manufacturing method |
| JP2019032388A (ja) * | 2017-08-07 | 2019-02-28 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム及びペリクル |
| CN114815519A (zh) * | 2022-04-26 | 2022-07-29 | 深圳市龙图光电有限公司 | 掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置 |
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|---|---|
| JP4380910B2 (ja) | 2009-12-09 |
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