JP2002168348A - O-ring structure - Google Patents
O-ring structureInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置製造装
置に係り、特にプラズマ等のガスに曝される密着部に設
けられた消耗の激しいOリングに適用されるOリング構
造に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for manufacturing a semiconductor device, and more particularly to an O-ring structure applied to an intensely worn O-ring provided at a contact portion exposed to a gas such as plasma.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体装置製造におけるウェハの微細加
工は、要所に等方性エッチング及び異方性エッチングの
技術が利用される。その技術を支えるドライエッチング
として例えばプラズマエッチングは一般的な技術の一つ
である。2. Description of the Related Art Microfabrication of wafers in the manufacture of semiconductor devices utilizes isotropic etching and anisotropic etching techniques at key points. For example, plasma etching is one of the common techniques as dry etching that supports the technique.
【0003】半導体製造装置、例えばプラズマエッチン
グ装置の内部には、プラズマガスに曝されるバルブ系や
管、蓋などの部材どうしの密着部が多く存在し、いずれ
も高いシール性が要求される。これら密着部にはシール
用のOリングが設けられる。すなわち、Oリングは接合
や密着を要する管や蓋などの部材周縁に設けられ、ある
程度の変形を伴って部材どうしをシールする。[0003] Inside a semiconductor manufacturing apparatus, for example, a plasma etching apparatus, there are many close contact portions between members such as a valve system, a pipe, and a lid which are exposed to a plasma gas, and all of them require high sealing performance. O-rings for sealing are provided at these contact portions. That is, the O-ring is provided on the periphery of a member such as a pipe or a lid that requires joining or close contact, and seals the members with some deformation.
【0004】Oリングは、押さえつけられたり解放され
たり変形の繰り返しによって徐々に原形を損なうことに
なる。すなわち、Oリングは使用と共に表面が劣化して
いく消耗品である。よって、Oリングは、定期的に劣化
状況を観察するなどして、適宜交換する必要がある。The O-ring gradually loses its original shape by being repeatedly pressed down, released, and deformed. That is, the O-ring is a consumable whose surface deteriorates with use. Therefore, the O-ring needs to be replaced as appropriate, for example, by periodically observing the deterioration state.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】Oリングはシール用と
して、劣化し難い形状、つぶれ等の応力に強い素材等、
様々に工夫されてはいるが、いずれにしても消耗品であ
り、交換のタイミングが重要である。The O-ring is used for sealing, and is made of a material which is hardly deteriorated and which is resistant to stress such as crushing.
Although various ideas have been devised, they are consumables in any case, and the timing of replacement is important.
【0006】Oリングの交換のタイミングは、シール性
の悪化、パーティクル数の増加、及び、顕微鏡などによ
るOリング自体の観察、検査結果等で判断してきた。こ
のため、Oリングの劣化状況を判断するのに多くの時間
が浪費される。また、ウェハ製品に対し品質異常が発生
してからOリング交換となるケースが懸念される。ある
いは、品質異常を防止するためOリングの交換頻度が過
剰となり経済的にも好ましくない。さらにこのような現
状によれば、半導体製造装置の生産効率が低下する原因
にもなり問題である。The timing of replacement of the O-ring has been determined based on deterioration of the sealing property, increase in the number of particles, observation of the O-ring itself with a microscope, inspection results, and the like. For this reason, much time is wasted in determining the state of deterioration of the O-ring. Further, there is a concern about a case where the O-ring is replaced after a quality abnormality occurs in the wafer product. Alternatively, the frequency of replacement of the O-ring becomes excessive in order to prevent quality abnormality, which is not economically preferable. Further, according to such a current situation, there is a problem that the production efficiency of the semiconductor manufacturing apparatus is reduced.
【0007】本発明は上記のような事情を考慮してなさ
れたもので、短時間で容易に使用限界を検知でき、適切
なOリング交換を実施できるOリング構造を提供しよう
とするものである。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an O-ring structure capable of easily detecting a usage limit in a short time and performing appropriate O-ring replacement. .
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明に係るOリング構
造は、半導体製造装置で密着部に用いられるOリングに
おいて、Oリング表面の劣化に応じて露出する識別可能
な内部シグナル部材を備えたことを特徴とする。An O-ring structure according to the present invention includes an O-ring used for a contact portion in a semiconductor manufacturing apparatus, which has an identifiable internal signal member exposed according to deterioration of the O-ring surface. It is characterized by the following.
【0009】上記本発明に係るOリング構造よれば、O
リング表面が崩れたり亀裂が入るなどして、損傷が所定
深さに至るような劣化状態になると、識別可能な内部シ
グナル部材が露出し、Oリングの交換時期が来たことを
確認することができる。According to the O-ring structure of the present invention,
If the ring surface breaks or cracks, etc., and the damage reaches a predetermined depth, the internal signal member that can be identified is exposed, and it can be confirmed that it is time to replace the O-ring. it can.
【0010】なお、識別可能なように、上記内部シグナ
ル部材は少なくともOリング表面を構成する材質とは異
なっていることを特徴とする。また、内部シグナル部材
はOリング表面と目視比較できる色が付いていることを
特徴とする。The internal signal member is different from at least the material constituting the O-ring surface so that it can be identified. Also, the internal signal member is characterized in that it has a color that can be visually compared with the O-ring surface.
【0011】本発明に係るより好ましい実施態様として
のOリング構造は、半導体製造装置で密着部に用いられ
るOリングにおいて、Oリングの劣化状態検出用として
の色付き部材を含み、この色付き部材が少なくとも使用
限界を規定する領域に固定されていることを特徴とす
る。An O-ring structure according to a more preferred embodiment of the present invention includes, in an O-ring used for a contact portion in a semiconductor manufacturing apparatus, a colored member for detecting a deterioration state of the O-ring. It is characterized in that it is fixed in an area that defines a use limit.
【0012】上記本発明に係るOリング構造によれば、
Oリングの劣化状態検出用としての色付き部材が使用限
界を規定する領域に固定されている。Oリング表面が崩
れたり亀裂が入るなどして、使用限界を規定する領域に
おける色付き部材が確認されればOリングの交換時期と
みなすことができる。According to the O-ring structure of the present invention,
A colored member for detecting the deterioration state of the O-ring is fixed in an area defining a use limit. If a colored member in an area that defines the service limit due to collapse of the O-ring surface or cracking is confirmed, it can be considered that the O-ring needs to be replaced.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】図1は、本発明の一実施形態に係
る半導体製造装置に用いられるOリングの要部を示す断
面図である。図示しない例えばプラズマエッチング装置
の内部には、プラズマガスに曝されるバルブ系や管、蓋
などの部材どうしの密着部が多く存在し、いずれも高い
シール性が要求される。これら密着部にはシール用のO
リングが設けられる。すなわち、Oリングは接合や密着
を要する管や蓋などの部材周縁に設けられ、ある程度の
変形を伴って部材どうしをシールする。FIG. 1 is a sectional view showing a main part of an O-ring used in a semiconductor manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention. For example, inside a plasma etching apparatus (not shown), there are many close contact portions between members such as a valve system, a pipe, and a lid which are exposed to a plasma gas, and all of them require high sealing properties. These sealing portions have O
A ring is provided. That is, the O-ring is provided on the periphery of a member such as a pipe or a lid that requires joining or close contact, and seals the members with some deformation.
【0014】図1に示すように、本発明におけるOリン
グ10は、その断面に特徴がある。Oリング表面101
の劣化に応じて露出する識別可能な内部シグナル部材1
02を備えている。上記内部シグナル部材は、識別可能
な条件として、少なくともOリング表面を構成する材質
とは異なっており、また、好ましくはOリング表面と目
視で比較できる色が付いている。As shown in FIG. 1, the O-ring 10 of the present invention is characterized by its cross section. O-ring surface 101
Internal signal member 1 that is exposed according to deterioration of
02. The internal signal member is different from at least the material constituting the O-ring surface as a condition that can be identified, and preferably has a color that can be visually compared with the O-ring surface.
【0015】図2(a),(b)は、それぞれ図1のO
リングの劣化段階を一例として示す断面図である。Oリ
ング10は、装置を構成する部材21と22の間で押さ
えつけられたり解放されたり変形の繰り返しによって徐
々に原形を損なうことになる。FIGS. 2 (a) and 2 (b) respectively show O in FIG.
It is sectional drawing which shows the deterioration stage of a ring as an example. The O-ring 10 gradually loses its original shape by being pressed and released between the members 21 and 22 constituting the device, and by repeated deformation.
【0016】図2(a)は、Oリングは使用と共に表面
が崩れたり亀裂が入るが初期段階であって、シール性に
支障はなく未だ使用に耐え得る。図2(b)では、さら
なる使用によりOリング表面101が大きく崩れ、また
深く亀裂が入るなどして、損傷が所定深さに至る。この
ような劣化状態になると、識別可能な内部シグナル部材
102が露出し、Oリング10の交換時期が来たことを
容易に確認することができる。FIG. 2A shows that the surface of the O-ring is broken or cracked during use, but the O-ring is in the initial stage and does not hinder the sealing property and can withstand use. In FIG. 2B, the O-ring surface 101 is greatly collapsed by further use, and the O-ring surface is deeply cracked, so that the damage reaches a predetermined depth. In such a deteriorated state, the identifiable internal signal member 102 is exposed, and it is possible to easily confirm that the time to replace the O-ring 10 has come.
【0017】図3は、Oリングの劣化状態検出の一例方
法を示す外観図である。装置が停止されるメンテナンス
時に、Oリング10を目視により検査する。その際、捻
るなどの負荷を与えて深部を観察する。ここではOリン
グの劣化状態検出用として、例えば使用限界を規定する
領域に色付き部材(内部シグナル部材102と同等)が
固定されている。すなわち、損傷が所定深さ(使用限界
を規定する領域)に至るような劣化状態であれば、色付
き部材である内部シグナル部材102を目視で確認する
ことができる。FIG. 3 is an external view showing an example of a method for detecting the deterioration state of the O-ring. At the time of maintenance when the apparatus is stopped, the O-ring 10 is visually inspected. At that time, a deep portion is observed by applying a load such as twisting. In this case, a colored member (equivalent to the internal signal member 102) is fixed to an area defining a use limit, for example, for detecting the deterioration state of the O-ring. That is, if the damage is in a deteriorated state that reaches a predetermined depth (a region that defines a use limit), the internal signal member 102 that is a colored member can be visually confirmed.
【0018】上記構成によれば、明確にしかも短時間で
Oリング10の適切な交換時期が特定できる。従来にお
いて、Oリングの交換のタイミングは、シール性の悪
化、パーティクル数の増加傾向により、かつ、顕微鏡な
どによるOリング自体の観察、検査結果等で判断してき
た。このため、Oリングの劣化状況を判断するのに多く
の時間が浪費されていた。上述の本発明の構成によれ
ば、ウェハ製品に対し品質異常が発生してからのOリン
グ交換、あるいは、過剰なOリングの交換を避け、適切
なOリング交換の実施が期待できる。この結果、経済的
にも改善されることはもとより、半導体製造装置の生産
効率の向上にも寄与する。According to the above configuration, an appropriate replacement time of the O-ring 10 can be specified clearly and in a short time. Conventionally, the timing of replacing the O-ring has been determined based on the deterioration of the sealing property, the tendency of increasing the number of particles, and observation of the O-ring itself using a microscope or the like, inspection results, and the like. For this reason, much time is wasted in determining the state of deterioration of the O-ring. According to the configuration of the present invention described above, it is possible to avoid O-ring replacement after a quality abnormality has occurred in a wafer product or excessive O-ring replacement, and to perform appropriate O-ring replacement. As a result, not only is it economically improved, but it also contributes to improving the production efficiency of the semiconductor manufacturing apparatus.
【0019】なお、上記実施形態ではOリングの断面構
造が略同心円状のものを用いたが、これに限らない。押
さえつけられたり解放されたり変形の繰り返しに劣化し
難い断面形状として知られているダブテールやケムラッ
ツなどにも本発明の構成を適用することが可能である。
すなわち、ダブテールやケムラッツなどの断面形状を有
するOリングにおいて、Oリング表面の劣化に応じて露
出する識別可能な内部シグナル部材を備えてもよい。In the above embodiment, the O-ring has a substantially concentric cross-sectional structure, but is not limited to this. The configuration of the present invention can also be applied to dovetails and chemuratz, which are known to have a cross-sectional shape that is not easily deteriorated by repeated pressing and release or deformation.
That is, an O-ring having a cross-sectional shape such as a dovetail or a chemuratz may include an identifiable internal signal member that is exposed according to the deterioration of the O-ring surface.
【0020】図4は、ダブテールと呼ばれる断面形状を
有するOリングにおいて、本発明に係る構成を採用した
要部の断面図である。Oリング40の劣化状態検出用と
して少なくともOリング表面401から使用限界を規定
する深部の領域に色付き部材402が固定されている。
Oリング40は、装置を構成する部材41と42の間で
押さえつけられたり解放されたり変形の繰り返しによっ
て徐々に原形を損なうことになる。FIG. 4 is a cross-sectional view of a main part of an O-ring having a cross-sectional shape called a dovetail, which employs the structure according to the present invention. A colored member 402 is fixed at least in a deep region that defines a use limit from the O-ring surface 401 for detecting the deterioration state of the O-ring 40.
The O-ring 40 gradually loses its original shape by being repeatedly pressed or released or deformed between the members 41 and 42 constituting the device.
【0021】図示しないが、長時間の使用によりOリン
グ表面401が大きく崩れ、また深く亀裂が入るなどし
て、損傷が所定深さに至る。このような劣化状態になる
と、Oリングの検査時、色付き部材402の露出が確認
でき、Oリング40の交換時期が来たことを容易に知る
ことができる。Although not shown, the O-ring surface 401 is greatly collapsed by long-term use, and the O-ring surface 401 is deeply cracked. In such a deteriorated state, when the O-ring is inspected, the exposure of the colored member 402 can be confirmed, and it can be easily known that the time to replace the O-ring 40 has come.
【0022】図5は、ケムラッツと呼ばれる断面形状を
有するOリングにおいて、本発明に係る構成を採用した
要部の断面図である。Oリング50の劣化状態検出用と
して少なくともOリング表面501から使用限界を規定
する深部の領域に色付き部材502が固定されている。
Oリング50は、部材51と52の間で押さえつけられ
たり解放されたり変形の繰り返しによって徐々に原形を
損なうことになる。FIG. 5 is a cross-sectional view of a main part of an O-ring having a cross-sectional shape called a chemuratz, which employs the configuration according to the present invention. A colored member 502 is fixed at least in a deep region that defines a use limit from the O-ring surface 501 for detecting the deterioration state of the O-ring 50.
The O-ring 50 gradually loses its original shape by being repeatedly pressed and released or deformed between the members 51 and 52.
【0023】図示しないが、長時間の使用によりOリン
グ表面501が大きく崩れ、また深く亀裂が入るなどし
て、損傷が所定深さに至る。このような劣化状態になる
と、Oリングの検査時、色付き部材502の露出が確認
でき、Oリング50の交換時期が来たことを容易に知る
ことができる。Although not shown, the O-ring surface 501 is greatly collapsed and cracked deeply due to long-time use, so that damage reaches a predetermined depth. In such a deteriorated state, when the O-ring is inspected, the exposure of the colored member 502 can be confirmed, and it can be easily known that the time to replace the O-ring 50 has come.
【0024】[0024]
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るOリ
ング構造によれば、Oリング表面が崩れたり亀裂が入る
などして、使用限界を規定する所定深さに損傷が至るよ
うな劣化状態になると、識別可能な内部シグナル部材
(色付き部材)が露出し、Oリングの交換時期が来たこ
とを確認することができる。これにより、明確にしかも
短時間でOリング10の適切な交換時期が特定できる。
この結果、短時間で容易に使用限界を検知でき、適切な
Oリング交換を実施できるOリング構造を提供すること
ができる。As described above, according to the O-ring structure according to the present invention, the O-ring surface is deteriorated such that the O-ring surface is damaged or cracked, and the O-ring is damaged to a predetermined depth that defines the service limit. In this state, the identifiable internal signal member (colored member) is exposed, and it is possible to confirm that the O-ring replacement time has come. Thereby, it is possible to specify an appropriate replacement time of the O-ring 10 clearly and in a short time.
As a result, it is possible to provide an O-ring structure capable of easily detecting the usage limit in a short time and performing appropriate O-ring replacement.
【図1】本発明の一実施形態に係る半導体製造装置に用
いられるOリングの要部を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing a main part of an O-ring used in a semiconductor manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図2】(a),(b)は、それぞれ図1のOリングの
劣化段階を一例として示す断面図である。FIGS. 2A and 2B are cross-sectional views each showing an example of a deterioration stage of the O-ring in FIG. 1;
【図3】Oリングの劣化状態検出の一例方法を示す外観
図である。FIG. 3 is an external view showing an example of a method for detecting a deterioration state of an O-ring.
【図4】ダブテールと呼ばれる断面形状を有するOリン
グにおいて、本発明に係る構成を採用した要部の断面図
である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a main part of an O-ring having a cross-sectional shape called a dovetail, which employs a configuration according to the present invention.
【図5】ケムラッツと呼ばれる断面形状を有するOリン
グにおいて、本発明に係る構成を採用した要部の断面図
である。FIG. 5 is a cross-sectional view of a main part of an O-ring having a cross-sectional shape called a chemuratz, which employs a configuration according to the present invention.
10,40,50…Oリング 101,401,501…Oリング表面 102…内部シグナル部材 402,502…色付き部材 21,22,41,42,51,52…装置を構成する
部材10, 40, 50 O-ring 101, 401, 501 O-ring surface 102 Internal signal member 402, 502 Colored member 21, 22, 41, 42, 51, 52 Member constituting device
Claims (4)
リングにおいて、 Oリング表面の劣化に応じて露出する識別可能な内部シ
グナル部材を備えたことを特徴とするOリング構造。1. An O used for a contact portion in a semiconductor manufacturing apparatus.
An O-ring structure comprising a ring and an identifiable internal signal member that is exposed according to deterioration of the O-ring surface.
ング表面を構成する材質とは異なっていることを特徴と
する請求項1記載のOリング構造。2. The O-ring structure according to claim 1, wherein the internal signal member is different from at least a material forming an O-ring surface.
目視比較できる色が付いていることを特徴とする請求項
1または2記載のOリング構造。3. The O-ring structure according to claim 1, wherein the internal signal member has a color that can be visually compared with the O-ring surface.
リングにおいて、 Oリングの劣化状態検出用としての色付き部材を含み、
この色付き部材が少なくとも使用限界を規定する領域に
固定されていることを特徴としたOリング構造。4. An O used for a contact portion in a semiconductor manufacturing apparatus.
The ring includes a colored member for detecting a deterioration state of the O-ring,
An O-ring structure characterized in that the colored member is fixed at least in a region defining a use limit.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000359875A JP2002168348A (en) | 2000-11-27 | 2000-11-27 | O-ring structure |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000359875A JP2002168348A (en) | 2000-11-27 | 2000-11-27 | O-ring structure |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002168348A true JP2002168348A (en) | 2002-06-14 |
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ID=18831566
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000359875A Withdrawn JP2002168348A (en) | 2000-11-27 | 2000-11-27 | O-ring structure |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002168348A (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20040049883A (en) * | 2002-12-05 | 2004-06-14 | 아남반도체 주식회사 | O-ring |
US7398692B2 (en) | 2003-09-29 | 2008-07-15 | Tokyo Electron Limited | Sealing ring and its managing system |
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KR102142138B1 (en) * | 2020-05-28 | 2020-08-06 | 주식회사 에스에스케이 | O ring enable to distinguish and prevent of twisting |
WO2020176617A1 (en) * | 2019-02-28 | 2020-09-03 | O&M Halyard Inc. | Defect-indicating gasket for sterilization container |
-
2000
- 2000-11-27 JP JP2000359875A patent/JP2002168348A/en not_active Withdrawn
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Legal Events
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