JP2002162753A - 平版印刷版の製版方法及び感光性平版印刷版用後露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ＣＴＰシステムにおいて有効な手段である後
露光において、光源の発熱に伴う平板印刷版の温度上昇
を抑制する方法及び装置を提供する。 【解決手段】 （ａ）付加重合可能なエチレン性不飽和
結合を有する化合物、及び（ｂ）光重合開始剤系を含む
光重合性感光層を有する光重合性感光性平版印刷版を、
レーザー光により画像露光し、次いで現像を行った後、
更に後露光を行う平版印刷版の製造方法において、後露
光時、光重合性感光性平版印刷版の温度上昇を抑制する
手段を用いる平版印刷版の製版方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はレーザーによって露
光を行う平版印刷版の製版方法、及び処理装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、コンピュータに入力し編集された
デジタルデータをレーザー走査線により直接感光性平版
印刷版上に出力する製版システム（ＣＴＰ）が実用が進
んでいる。このシステムによる中間工程の省略によっ
て、刷版作成工程の大幅な合理化が可能となった。

【０００３】ここに用いる版材としては取り扱いの簡便
性や廃液の問題等から、光重合性感光材料を用いたフォ
トポリマーが好ましい。しかしながら元来フォトポリマ
ーは感度の点で銀塩系に劣り、また支持体との接着性も
乏しいため、製版や印刷のやり方（高精細、低露光、湿
し水やプレートクリーナーの種類等）によっては耐刷力
が極端に悪くなる等の問題があった。

【０００４】これを回避するため、特開平１１−２６５
０６９や特開２０００−６６４１６等で、レーザー露光
し現像した版を、さらに全面露光（以下、後露光と記
載）することで画像の強度を向上させる発明が提案され
ている。これらの発明は、比較的弱いレーザー光で露光
された感光層の重合度を上げることから、耐刷力の向上
に非常に効果的である。

【０００５】しかしながら、後露光の強度やその連続処
理時間によっては、光源の発熱の影響で平版印刷版自体
も昇温してしまい、熱いため後露光後の版を直ぐに手で
取り扱うことが出来なかったり、版の熱膨張やたわみに
よって、印刷機取り付け用の自動の穴あけ装置に適応出
来なくなったりといった問題が見られた。尚、特開２０
００−６６４１６の様に、後露光の際に、光源以外の熱
源から積極的に加熱する場合も当然同様の問題が発生す
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、ＣＴＰシステムにおいて非常に効果的な手段である
後露光において、光源の発熱に伴う版の昇温を、取り扱
い上問題が無いレベルにくい止めることにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意検討を重
ねた結果、光重合性感光性平版印刷版をレーザー露光
後、現像処理した後に、更に後露光する後露光の際、光
重合性感光性平版印刷版の温度上昇を抑制する手段を用
いることで、上記課題が解決されることを見出した。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下本発明について詳細に説明す
る。本発明に用いる感光性平版印刷版は、支持体上に光
重合性組成物からなる感光層が施けられたものである。
支持体としては、例えば、アルミニウム、マグネシウ
ム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、鉄等の金属又はそれ
らを主成分とした合金の板、それらの金属又は合金をメ
ッキ又は蒸着した金属板、それらの金属の箔を貼着した
紙、上質紙、アート紙、剥離紙等の紙、ガラス、セラミ
ックス等の無機質板、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リメチルメタクリレート、ポリアミド、ポリスチレン、
ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、セルローストリアセテ
ート、セルロースアセテートブチレート等のプラスチッ
クシート、それらのプラスチックを塗布した紙等が挙げ
られ、中で、アルミニウム板（アルミニウム合金板も含
む）が特に好ましく、その厚さは、通常、０．０１〜１
０ｍｍ程度、好ましくは０．０５〜１ｍｍ程度である。

【０００９】アルミニウム板支持体としては、その表面
への光重合性組成物からなる感光層の形成に先立ち、通
常、脱脂処理、粗面化処理（砂目立て処理）、デスマッ
ト処理、陽極酸化処理、封孔処理、下引き処理等が施さ
れたものが用いられる。ここで、脱脂処理は、溶剤を用
いて拭き取り、浸漬、又は蒸気洗浄する方法、アルカリ
水溶液を用いて浸漬、又は噴霧した後、酸水溶液で中和
する方法、界面活性剤を用いて浸漬、又は噴霧する方法
等の常法に従ってなされる。又、粗面化処理（砂目立て
処理）は、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨
法、ホーニング研磨法、バフ研磨法等の機械的処理方
法、或いは、電解エッチング法、化学エッチング法等の
常法により、ＪＩＳ Ｂ０６０１に規定される平均粗さ
Ｒa が０．１〜１．５μｍ程度、好ましくは０．２〜
１．０μｍ程度となるようになされる。

【００１０】又、必要に応じてなされるデスマット処理
は、硫酸、硝酸、塩酸、燐酸、クロム酸等の酸、又は、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、メタ珪酸ナトリウ
ム、燐酸ナトリウム、ピロ燐酸ナトリウム、燐酸カリウ
ム、アルミン酸ナトリウム等のアルカリの水溶液を用い
て浸漬、又は噴霧する等の常法に従ってなされる。又、
陽極酸化処理は、通常、硫酸単独、又は硫酸を主体と
し、修酸、燐酸、クロム酸、マロン酸等を含む水溶液を
電解液とし、アルミニウム板を陽極として電解を行うこ
とによりなされ、これにより形成される酸化皮膜量は、
１〜１００ｍｇ／ｄｍ² 、特には１０〜５０ｍｇ／ｄｍ
² であるのが好ましい。又、必要に応じてなされる封孔
処理は、沸騰水、水蒸気、珪酸ナトリウム水溶液、重ク
ロム酸塩水溶液等を用いて浸漬、又は噴霧する等の常法
に従ってなされる。

【００１１】又、必要に応じてなされる下引き処理は、
カチオン性４級アンモニウム塩基を有する樹脂、ポリビ
ニルホスホン酸、澱粉、セルロース等の水溶性高分子、
フッ化ジルコン酸等の金属塩の水溶液等を用いて浸漬、
又は噴霧する等の常法に従ってなされる。前記支持体上
に形成される感光層を構成する光重合性組成物として
は、（ａ）エチレン性不飽和化合物、（ｂ）光重合開始
系を必須成分として含有するものである。

【００１２】成分（ａ）としてのエチレン性不飽和化合
物とは、光重合性組成物が活性光線の照射を受けたとき
に、光重合開始剤系の作用により付加重合し、場合によ
り架橋、硬化するようなエチレン性不飽和結合を有する
単量体を言う。尚、ここで言う単量体の意味するところ
は、いわゆる重合体に相対する概念であって、狭義の単
量体以外にも、二量体、三量体、その他オリゴマーをも
包含するものとする。本発明において、エチレン性不飽
和化合物としては、エチレン性不飽和結合を１分子中に
１個有する化合物、具体的には、例えば、アクリル酸、
メタクリル酸（尚、以降、「アクリル」及び「メタクリ
ル」を纏めて「（メタ）アクリル」と言う場合があ
る。）、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、イ
タコン酸、シトラコン酸等の不飽和カルボン酸、及びそ
のアルキルエステル、（メタ）アクリロニトリル、（メ
タ）アクリルアミド、スチレン等、であってもよいが、
エチレン性不飽和結合を１分子中に２個以上有する化合
物が好ましい。エチレン性不飽和化合物としては、
（ａ）不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒドロキシ化合物
とのエステル類、（ｂ）アクリロイルオキシ基又はメタ
クリロイルオキシ基含有ホスフェート類、（ｃ）ウレタ
ン（メタ）アクリレート類、（ｄ）エポキシ（メタ）ア
クリレート類等が挙げられる。

【００１３】不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒドロキシ
化合物とのエステル類としては前記の如き不飽和カルボ
ン酸と、エチレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、
プロピレングリコール、トリメチレングリコール、１，
３−ブタンジオール、テトラメチレングリコール、ネオ
ペンチルグリコール、ヘキサメチレングリコール、トリ
メチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセロ
ール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトー
ル、ソルビトール等の脂肪族ポリヒドロキシ化合物との
エステル類があり、具体的には、例えば、エチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）
アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリ
レート、ヘキサメチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレー
ト、テトラメチロールエタントリ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、グリセロールジ（メタ）アクリレート、グリセロー
ルトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）
アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）
アクリレート、ソルビトールトリ（メタ）アクリレー
ト、ソルビトールテトラ（メタ）アクリレート、ソルビ
トールペンタ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキ
サ（メタ）アクリレート、及び同様のクロトネート、イ
ソクロトネート、マレエート、イタコネート、シトラコ
ネート等が挙げられる。

【００１４】アクリロイルオキシ基又はメタクリロイル
オキシ基含有ホスフェート類としては、特に、下記一般
式(Ia)又は(Ib)で表されるものが好ましい。

【００１５】

【化１】

【００１６】〔式(Ia)及び(Ib)中、Ｒ¹ は水素原子又は
メチル基を示し、ｎは１〜２５の整数、ｍは１、２、又
は３である。〕 ここで、ｎは１〜１０、特に１〜４であるのが好まし
く、これらの具体例としては、例えば、メタクリロイル
オキシエチルホスフェート、ビス（メタクリロイルオキ
シエチル）ホスフェート、メタクリロイルオキシエチレ
ングリコールホスフェート等が挙げられ、これらはそれ
ぞれ単独で用いても混合物として用いてもよい。ウレタ
ン（メタ）アクリレート類としては、例えば、ヘキサメ
チレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジ
イソシアネート等の脂肪族ポリイソシアネート、シクロ
ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネー
ト等の脂環式ポリイソシアネート、トリレンジイソシア
ネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタ
ンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート等の
ポリイソシアネート化合物と、ヒドロキシメチル（メ
タ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、ペンタエ
リスリトールトリ（メタ）アクリレート、テトラメチロ
ールエタントリ（メタ）アクリレート等の不飽和ヒドロ
キシ化合物とのウレタン（メタ）アクリレート類があ
り、具体的には、例えば、ヘキサメチレンビス〔（メ
タ）アクリロイルオキシメチルウレタン〕、ヘキサメチ
レンビス〔（メタ）アクリロイルオキシエチルウレタ
ン〕、ヘキサメチレンビス｛トリス〔（メタ）アクリロ
イルオキシメチル〕メチルウレタン｝、ヘキサメチレン
ビス｛トリス〔（メタ）アクリロイルオキシメチル〕エ
チルウレタン｝等が挙げられる。

【００１７】エポキシ（メタ）アクリレートとしては、
例えば、（ポリ）エチレングリコールポリグリシジルエ
ーテル、（ポリ）プロピレングリコールポリグリシジル
エーテル、（ポリ）テトラメチレングリコールポリグリ
シジルエーテル、（ポリ）ペンタメチレングリコールポ
リグリシジルエーテル、（ポリ）ネオペンチルグリコー
ルポリグリシジルエーテル、（ポリ）ヘキサメチレング
リコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）トリメチロ
ールプロパンポリグリシジルエーテル、（ポリ）グリセ
ロールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ソルビトール
ポリグリシジルエーテル等のポリエポキシ化合物と、ヒ
ドロキシメチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチ
ル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ（メタ）アクリ
レート化合物とのエポキシ（メタ）アクリレート類が挙
げられる。

【００１８】更に、上記以外のエチレン性不飽和化合物
としては、例えば、前記の如き不飽和カルボン酸と、メ
チレンジアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリア
ミン、ヘキサメチレンジアミン等の脂肪族ポリアミン化
合物とのアミド類があり、具体的には、例えば、メチレ
ンビス（メタ）アクリルアミド、エチレンビス（メタ）
アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス（メタ）
アクリルアミド、ヘキサメチレンビス（メタ）アクリル
アミド等が挙げられる。更に、例えば、ヒドロキノンジ
（メタ）アクリレート、レゾルシンジ（メタ）アクリレ
ート、ピロガロールトリ（メタ）アクリレート等の芳香
族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステ
ル類、エチレングリコールの（メタ）アクリロイルエチ
レンオキシド付加物、２，２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパンの（メタ）アクリロイルジエチレンオ
キシド付加物等の（メタ）アクリルヒドロキシ化合物
類、及び、エチレングリコールと（メタ）アクリル酸と
フタル酸との縮合物、ジエチレングリコールと（メタ）
アクリル酸とマレイン酸との縮合物、ペンタエリスリト
ールと（メタ）アクリル酸とテレフタル酸との縮合物、
ブタンジオールとグリセリンと（メタ）アクリル酸とア
ジピン酸との縮合物等のポリヒドロキシ化合物と不飽和
カルボン酸と多価カルボン酸との縮合物類等が挙げられ
る。上記の中で（メタ）アクリロイルオキシ基含有ホス
フエート類を含有するのが好ましく、光重合性組成物の
一成分としての前記エチレン性不飽和化合物全体に占め
るその含有量は、１〜６０重量％、特には２〜４０重量
％であるのが好ましい。この範囲においては、感光層と
しての露光感度、耐刷性が向上すると共に、現像性（非
画線部の汚れ）が改善される。

【００１９】又、本発明において、光重合性組成物の成
分（Ｂ）としての光重合開始剤は、通常、ラジカル発生
剤と増感剤、場合により、更に重合加速剤を含む。ラジ
カル発生剤は、光重合性組成物が活性光線の照射を受け
たときに、活性ラジカルを発生し、前記エチレン性不飽
和化合物を重合に到らしめる化合物であって、例えば、
特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９
７号、特開昭６３−４１４８４号、特開平２−２４９
号、特開平２−４７０５号、特開平５−８３５８８号各
公報等に記載されるチタノセン化合物、特公平６−２９
２８５号公報等に記載されるヘキサアリールビイミダゾ
ール化合物、特開昭５３−１３３４２８号公報、英国特
許１３８８４９２号明細書、若林等;Bull.Chem.Soc.Jap
an;42,2924(1969)、F.C.Schaefer等;J.Org.Chem.;29,15
27(1964)等に記載されるハロゲン化炭化水素誘導体、ジ
アリールヨードニウム塩、有機硼素錯体、カルボニル化
合物、及び有機過酸化物等が挙げられる。中で、光重合
性組成物としての感度、支持体に対する密着性、及び、
保存安定性等の面から、チタノセン化合物、及び、ヘキ
サアリールビイミダゾール化合物が好ましい。

【００２０】ここで、チタノセン化合物としては、具体
的には、例えば、ジシクロペンタジエニルチタニウムジ
クロライド、ジシクロペンタジエニルチタニウムビスフ
ェニル、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，
４−ジフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチ
タニウムビス（２，６−ジフルオロフェニル）、ジシク
ロペンタジエニルチタニウムビス（２，４，６−トリフ
ルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウム
ビス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）、ジ
シクロペンタジエニルチタニウムビス（２，３，４，
５，６−ペンタフルオロフェニル）、ジ（メチルシクロ
ペンタジエニル）チタニウムビス（２，６−ジフルオロ
フェニル）、ジ（メチルシクロペンタジエニル）チタニ
ウムビス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ
ル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス〔２，６
−ジフルオロ−３−（１−ピロリル）フェニル〕等のジ
シクロペンタジエニル構造とビフェニル構造を有するチ
タン系化合物が挙げられ、ビフェニル構造がハロゲン原
子で置換されているのが好ましい。

【００２１】又、ヘキサアリールビイミダゾール化合物
としては、具体的には、例えば、２，２’−ビス（ｏ−
クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−
クロロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ
−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）ビイミ
ダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−フルオロフェニル）
ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジブロモ
フェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロ
モフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−
ジクロロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス
（ｏ−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
（ｐ−ヨードフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビ
ス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラ（ｏ−クロロ−ｐ−メトキシフェニル）ビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロナフチル）ビイミ
ダゾール等のハロゲン置換芳香族環を有するヘキサアリ
ールビイミダゾール化合物が挙げられる。

【００２２】又、活性光線の照射時に前記ラジカル発生
剤を活性化して効果的に活性ラジカルを発生させるため
の増感剤としては、照射する活性光線の波長に応じて適
宜選択されるが、例えば、米国特許第３４７９１８５号
明細書に開示されるロイコクリスタルバイオレットやロ
イコマラカイトグリーン等のトリフェニルメタン系ロイ
コ色素、エリスロシンやエオシンＹ等の光還元性染料、
米国特許第３５４９３６７号、同第３６５２２７５号各
明細書に開示されるミヒラーズケトンやアミノスチリル
ケトン等のアミノフェニルケトン類、米国特許第３８４
４７９０号明細書に開示されるβ−ジケトン類、米国特
許第４１６２１６２号明細書に開示されるインダノン
類、特開昭５２−１１２６８１号公報に開示されるケト
クマリン類、特開昭５９−５６４０３号公報に開示され
るアミノスチレン誘導体やアミノフェニルブタジエン誘
導体、米国特許第４５９４３１０号明細書に開示される
アミノフェニル複素環類、米国特許第４９６６８３０号
明細書に開示されるジュロリジン複素環類、特開平５−
２４１３３８号公報に開示されるピロメテン系色素等の
化合物が挙げられる。

【００２３】又、光重合開始能力を高めるための重合加
速剤として、例えば、２−メルカプトベンゾチアゾー
ル、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプ
トベンズオキサゾール、３−メルカプト−１，２，４−
トリアゾール等のメルカプト基含有化合物類、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルアミノ安息香酸エステル（尚、このエステル
としては、メチル、エチル、プロピル、ベンジル等、置
換基を有していてもよいアルキル基のエステルが好まし
い。）、Ｎ−フェニルグリシン、又はそのアンモニウム
やナトリウム塩等の塩、同上のエステル等の誘導体、ア
ニリノプロピオン酸、又はそのアンモニウムやナトリウ
ム塩等の塩、同上のエステル等の誘導体等の芳香族核を
有するアミノ酸又はその誘導体類等の水素供与性化合物
であって、好ましくは分子量が２０００以下、特に好ま
しくは１０００以下の化合物が挙げられる。本発明の光
重合性感光層には、この他高分子結合剤を用いることが
好ましく、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アク
リル酸エステル、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）
アクリルアミド、マレイン酸、スチレン、酢酸ビニル、
塩化ビニリデン、マレイミド等の単独又は共重合体、並
びに、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、ポリ
ウレタン、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリド
ン、ポリエチレンオキシド、アセチルセルロース等が挙
げられるが、中で、アルカリ現像性の面から、カルボキ
シル基含有重合体が好適であり、具体的には、（メタ）
アクリル酸と（メタ）アクリル酸エステルを共重合成分
として含有する共重合体が好ましく、このカルボキシル
基含有重合体の酸価は１０〜２５０が好ましい。

【００２４】又、特開平１０−３１２０５５号公報に記
載されるカルボキシル基及び不飽和結合を有するものも
好ましい。更に、本発明においては、高分子結合剤とし
て、側鎖にエチレン性不飽和結合を有するものが感度、
画像強度の点で好適であり、そのエチレン性不飽和結合
として、特に、下記一般式(IIa) 、(IIb) 、又は(IIc)
で表されるものが好ましい。

【００２５】

【化２】

【００２６】〔式(IIa) 、(IIb) 、及び(IIc) 中、Ｒ²
は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ³、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶
、及びＲ⁷ は各々独立して、水素原子、ハロゲン原
子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、
アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ
基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有
していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよ
いアルキルアミノ基、置換基を有していてもよいアルキ
ルスルホニル基、置換基を有していてもよいアリール
基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換
基を有していてもよいアリールアミノ基、又は、置換基
を有していてもよいアリールスルホニル基を示し、Ｚは
酸素原子、硫黄原子、イミノ基、又は、アルキルイミノ
基を示す。〕 ここで、Ｒ³ 〜Ｒ⁷ におけるアルキル基、アルコキシ
基、アルキルアミノ基、アルキルスルホニル基、アリー
ル基、アリールオキシ基、アリールアミノ基、アリール
スルホニル基の置換基としては、例えば、アルキル基、
アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、ジアルキル
アミノ基、ニトロ基、シアノ基、フェニル義、及び、ハ
ロゲン原子等が挙げられる。前記式(IIa) で表されるエ
チレン性不飽和結合を側鎖に有する高分子結合材は、カ
ルボキシル基含有重合体に、アリルグリシジルエーテ
ル、グリシジル（メタ）アクリレート、α−エチルグリ
シジル（メタ）アクリレート、グリシジルクロトネー
ト、グリシジルイソクロトネート、クロトニルグリシジ
ルエーテル、イタコン酸モノアルキルモノグリシジルエ
ステル、フマール酸モノアルキルモノグリシジルエステ
ル、マレイン酸モノアルキルモノグリシジルエステル等
の脂肪族エポキシ基含有不飽和化合物、又は、３，４−
エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート等
の脂環式エポキシ基含有不飽和化合物等を、８０〜１２
０℃程度の温度、１〜５０時間程度の時間で、カルボキ
シル基含有重合体の有するカルボキシル基の５〜９０モ
ル％、好ましくは３０〜７０モル％程度を反応させるこ
とにより得られる。

【００２７】又、前記式(IIb) で表されるエチレン性不
飽和結合を側鎖に有する高分子結合材は、アリル（メ
タ）アクリレート、３−アリルオキシ−２−ヒドロキシ
プロピル（メタ）アクリレート、シンナミル（メタ）ア
クリレート、クロトニル（メタ）アクリレート、メタリ
ル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジアリル（メタ）ア
クリルアミド等の２種以上の不飽和基を有する化合物
と、又、前記式(IIc) で表されるエチレン性不飽和結合
を側鎖に有する高分子結合材は、ビニル（メタ）アクリ
レート、１−クロロビニル（メタ）アクリレート、２−
フェニルビニル（メタ）アクリレート、１−プロペニル
（メタ）アクリレート、ビニルクロトネート、ビニル
（メタ）アクリルアミド等の２種以上の不飽和基を有す
る化合物と、それぞれ、（メタ）アクリル酸等の不飽和
カルボン酸、又は更に不飽和カルボン酸エステルとを、
前者の不飽和基を有する化合物の全体に占める割合を１
０〜９０モル％、好ましくは３０〜８０モル％程度とな
るように共重合させることにより得られる。

【００２８】尚、本発明の高分子結合剤の重量平均分子
量としては、通常０．５万〜２００万であり好ましくは
３．５万〜１５０万である。本発明において、光重合性
感光層を構成する光重性組成物としての前記エチレン性
不飽和化合物、前記光重合開始系、前記高分子結合剤、
の重合比は光重合性組成物全体を１００とした場合、エ
チレン性不飽和化合物については、好ましくは１０〜５
０、特に好ましくは１５〜４０である。

【００２９】光重合開始系については、好ましくは０．
１〜４０、特に好ましくは０．５〜３０である。又、高
分子結合剤については、好ましくは３０〜９０、更に好
ましくは５０〜８０である。更に、本発明における光重
合性組成物としては、各種添加剤、例えば、ヒドロキノ
ン、ｐ−メトキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル
−ｐ−クレゾール等の熱重合防止剤を光重合性組成物全
体を１００として５以下、有機又は無機の染顔料からな
る着色剤を同じく２０以下、オクチルフタレート、ジド
デシルフタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑
剤を同じく１０以下、三級アミンやチオール等の感度特
性改善剤、フッ素系等の界面活性剤等の塗布性改良剤や
現像促進剤を同じく１０以下、色素前駆体を同じく２０
以下等の割合で、含有していてもよい。

【００３０】本発明の感光性平版印刷版において、前記
光重合性感光層は、通常、前記各成分を適当な溶媒に溶
解した溶液として前記支持体表面に塗布された後、加
熱、乾燥されることにより、支持体上に該光重合性組成
物からなる感光層が形成される。ここで、その溶媒とし
ては、使用成分に対して十分な溶解度を持ち、良好な塗
膜性を与えるものであれば特に制限はないが、例えば、
メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソル
ブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のセロソ
ルブ系溶媒、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピ
レングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリ
コールジメチルエーテル等のプロピレングリコール系溶
媒、酢酸ブチル、酢酸アミル、酪酸エチル、酪酸ブチ
ル、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル
−２−ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテー
ト、乳酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン
酸メチル等のエステル系溶媒、ヘプタノール、ヘキサノ
ール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール等
のアルコール系溶媒、シクロヘキサノン、メチルアミル
ケトン等のケトン系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の高極性溶
媒、或いはこれらの混合溶媒、更にはこれらに芳香族炭
化水素を添加したもの等が挙げられる。溶媒の使用割合
は、光重合性組成物の総量に対して、通常、重量比で１
〜２０倍程度の範囲である。

【００３１】又、その塗布方法としては、従来公知の方
法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗
布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布、及
びカーテン塗布等を用いることができる。塗布量は用途
により異なるが、乾燥膜厚として、０．１〜２０ｇ／ｍ
² の範囲とするのが好ましく、０．５〜５ｇ／ｍ² の範
囲とするのが更に好ましい。尚、その際の乾燥温度とし
ては、例えば、３０〜１５０℃程度、好ましくは４０〜
１１０℃程度、乾燥時間としては、例えば、５秒〜１０
分間程度、好ましくは１０秒〜５分間程度が採られる。
尚、通常、前記光重合性組成物層の上には、酸素による
重合禁止作用を防止するために、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキシド、セ
ルロース等の酸素遮断層が設けられる。

【００３２】本発明の光重合性感光性平版印刷版は、レ
ーザー光にて画像形成される。レーザー露光光源として
は特に限定されないが、例えばヘリウムカドミウムレー
ザー、アルゴンイオンレーザー、ＦＤ−ＹＡＧレーザ
ー、ヘリウムネオンレーザー、半導体レーザー、ＹＡＧ
レーザー、ルビーレーザー等の従来公知のレーザー光源
がが用いらる。レーザー露光のエネルギーは、レーザー
光源やプロッターの機種によって適正値は変わるが、例
えば３９０〜４３０ｎｍの青紫色領域の半導体レーザー
では０．５〜１００μＪ／ｃｍ²、４８８ｎｍ近辺のア
ルゴンイオンレーザーや５３２ｎｍ近辺のＦＤ−ＹＡＧ
レーザーでは５〜５００μＪ／ｃｍ²程度が好ましい。

【００３３】尚、場合によってはレーザー露光後、４０
〜２００℃の温度範囲で加熱処理しても良い。本発明の
製版方法では、光重合性感光性平版印刷版をレーザー露
光した後、現像処理を行うが、保護層がある場合、現像
処理前に予め水洗して保護層の全部又は一部を除去して
も良い。水洗方法は特に限定されないが、例えば水中に
浸漬して溶解する方法、シャワー状に水を吹き付けるこ
とで溶解除去させる方法、更には、水に浸漬もしくは水
を吹き付けた状態でブラシ除去する方法等が挙げられ
る。水洗の温度は通常４〜７０℃、好ましくは１０〜５
０℃、更に好ましくは１５〜３５℃である。水洗時間は
水洗方法や水温によるが１〜５秒程度が適当である。
尚、水洗水は必要に応じて界面活性剤、水混和性有機溶
剤、硬水軟化剤等を含んでいても良い。現像処理に用い
る現像液としては、例えば、珪酸ナトリウム、珪酸カリ
ウム、珪酸リチウム、珪酸アンモニウム、メタ珪酸ナト
リウム、メタ珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、第二燐酸ナトリウム、第三燐
酸ナトリウム、第二燐酸アンモニウム、第三燐酸アンモ
ニウム、硼酸ナトリウム、硼酸カリウム、硼酸アンモニ
ウム等の無機アルカリ塩、又は、モノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、
ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピル
アミン、ジイソプロピルアミン、モノブチルアミン、モ
ノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノ
ールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロ
パノールアミン等の有機アミン化合物等の０．１〜１０
重量％程度の水溶液からなるアルカリ現像液が用いられ
る。

【００３４】又、前記現像液には、画質向上、現像時間
の短縮等を目的として、必要に応じて、例えば、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレンアル
キルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノ
グリセリドアルキルエステル類等のノニオン系、アルキ
ルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホ
ン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキルスルホン酸塩
類、スルホコハク酸エステル塩類等のアニオン系、アル
キルベタイン類、アミノ酸類等の両性の界面活性剤、イ
ソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセ
ロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プ
ロピレングリコール、ジアセトンアルコール等の水溶性
有機溶剤、水酸基又はカルボキシル基を有する低分子化
合物、消泡剤、ＥＤＴＡ等の硬水軟化剤等を添加するこ
とができる。現像液のｐＨは、８〜１４とするのが好ま
しいが、本発明の効果はｐＨ１２以下の場合、より顕著
である。尚、現像は、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ
現像、超音波現像等の公知の現像法により、通常、好ま
しくは１０〜６０℃程度、更に好ましくは１５〜４５℃
程度の温度でなされる。

【００３５】本発明では製造方法は、現像処理後の平版
印刷版に対し、後露光（全面露光）を行う。ここで用い
る後露光光源としてはカーボンアーク、水銀灯、キセノ
ンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タング
ステンランプ、ハロゲンランプ等が挙げられるが、特に
水銀灯が効果的である。水銀灯としては、超高圧・高圧
・低圧のいずれも用いることが出来、又その点灯方式と
しても、通常の定常光タイプ、フラッシュ照射タイプ、
瞬間点灯タイプ等のいずれであっても良い。又、その形
状は特に限定されないが、例えば通常、汎用の感光性平
版印刷版を露光する際に用いられる球状タイプの他、棒
状のタイプ（アイグラフィックス社製、Ｈ０３−Ｌ３
１、Ｈ０４−Ｌ４１等）や、セルフバランスト水銀タイ
プ（アイグラフィックス社製、ＢＨＦ２００／２２０Ｖ
３００Ｗ等）等が挙げられる。

【００３６】尚、本発明の後露光時における平版印刷版
の非露光面での光強度は２０ｍＷ／ｃｍ²以上であるこ
とが好ましく、さらに好ましくは３０ｍＷ／ｃｍ²以
上、特に好ましくは７０ｍＷ／ｃｍ²以上である。光強
度が前記範囲未満では十分な効果を得ることは困難であ
る。光強度は大きいほど効果的ではあるが過剰に大きく
ても画像強度改良効果が飽和し、経済面や作業性面で不
利を招くことになるため、上限は通常７００ｍＷ／ｃｍ
²、好ましくは５００ｍＷ／ｃｍ²、特に好ましくは３０
０ｍＷ／ｃｍ²である。本発明の特徴は、後露光の際、
平版印刷版の版面温度が上昇し過ぎない様に制御すると
ころに存する。通常、先の条件にて連続的に複数の枚数
を処理した場合、輻射熱で平版印刷版自体も昇温してし
まい、熱さのため後露光後の版を直ぐに手で取り扱うこ
とが出来ずに作業性を落としたり、版の熱膨張やたわみ
によって、印刷機取り付け用の自動の穴あけ装置に適応
出来なくなったりといった問題が見られ、実用上、版面
の温度上昇は９０℃以下、好ましくは７０℃以下に保ち
たい。また、本発明により、後露光装置出口到達時点
（図１のＡ点）の版温を７０℃以下、好ましくは５０℃
以下とすることができる。

【００３７】この問題を回避する手段として、後露光を
行う際、後露光の光源と後露光される平版印刷版の間に
赤外線吸収型フィルターや赤外線反射型フィルターを介
在させることが挙げられる。赤外線吸収型フィルターと
は赤外線をほとんど遮断し、可視や紫外域を透過するフ
ィルターで、赤外線反射型フィルターとは赤外線をほと
んど反射させ、可視や紫外域を透過するフィルターであ
り、これらは単独で用いても双方同時に用いても良い。
赤外線吸収型フィルターや赤外線反射型フィルターの赤
外線透過率は８００ｎｍで３０％以下、好ましくは１０
％以下である。また、後露光を行う光源が反射鏡を有
し、該反射鏡に赤外線透過性のものを用いるのも効果的
である。この赤外線透過性の反射鏡としては８００ｎｍ
の光の透過率が６０％以上、好ましくは８０％以上、３
５０ｎｍの光の反射率としては７０％以上、好ましくは
９０％以上である。

【００３８】尚、この赤外線透過性の反射鏡と、先に挙
げた赤外線吸収型フィルターや赤外線反射型フィルター
は単独に用いても、同時に用いても良い。本発明の後露
光方式を、後露光光源と平版印刷版の搬送手段を備えた
後露光装置として考える場合、赤外線吸収型フィルター
や赤外線反射型フィルターは後露光光源と搬送手段の間
に設置する必要があり、後露光光源が反射鏡を有する場
合は、赤外線吸収型フィルターや赤外線反射型フィルタ
ーは反射鏡を介した光の焦点位置に設置することが有効
である。当然、この反射鏡は、先に挙げた様な赤外線透
過性であれば尚好ましい。尚、後露光光源は１個でも複
数でも、露光を受ける版面の総露光量が必要露光量を満
たしていれば良い。

【００３９】この後露光装置で後露光を行う場合、平版
印刷版を停止させて行っても、連続的に移動させて行っ
ても良いが、実際の現場では、現像機からインラインで
連続処理出来るのが作業性の上で好ましい。その際用い
る搬送手段としてはコンベアー等一般の搬送手段が考え
られる。又その搬送速度としては、光源や光源からの距
離等で異なってくるものの、作業性や現像機インライン
行程として行う際の制約等から、常識的な範囲として、
１０ｃｍ／分〜６ｍ／分、好ましくは５０ｃｍ／分〜３
ｍ／分である。

【００４０】後露光光源から平版印刷版までの距離は、
光源や必要光量、搬送速度により、特に制限されるもの
でもないが、装置のサイズや効率上、常識的な範囲は１
ｃｍから２ｍ、好ましくは２ｃｍから１ｍ程度である。

【００４１】

【実施例】以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的
に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、これ
らの実施例に限定されるものではない。 ［感光性平版印刷版−１の作製］下記のアルミニウム板
支持体表面に、下記の（ａ）成分のエチレン性不飽和化
合物、（ｂ）成分の重合開始系としてのラジカル発生
剤、増感剤、重合加速剤、及びその他成分、並びに溶媒
からなる光重合性組成物塗布液をバーコーターを用いて
乾燥膜厚が２．０ｇ／ｍ² となるように塗布し、乾燥し
て光重合性組成物からなる感光性層を形成し、更にその
上に、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの
混合水溶液（ポリビニルアルコール：ポリビニルピロリ
ドン＝７０重量％：３０重量％）をバーコーターを用い
て乾燥膜厚が３ｇ／ｍ² となるように塗布し、乾燥して
酸素遮断層を形成することにより、光重合性画像形成材
としての感光性平版印刷版−１を作製した。支持体 アルミニウム板（厚さ０．２４ｍｍ）を３重量％水酸化
ナトリウム水溶液にて脱脂処理した後、水洗し、３０重
量％硫酸水溶液に浸漬して中和処理し、更に水洗した。
次いで、２重量％硝酸水溶液を電解液として、電流密度
８０Ａ／ｄｍ²で、２５℃で１１秒間電解粗面化処理
し、水洗後、１重量％水酸化ナトリウム水溶液に５０℃
で３秒間浸漬することによってデスマット処理し、その
後水洗し、３０重量％硫酸水溶液に浸漬して中和処理
し、更に水洗した。

【００４２】引き続いて、１８重量％硫酸水溶液を電解
液として、電流密度１０Ａ／ｄｍ²で、３０℃で陽極酸
化処理することにより、２３ｍｇ／ｄｍ² の酸化皮膜を
形成し、水洗した。その後、８５℃の０．１重量％酢酸
アンモニウム水溶液（ｐＨ＝９．０）に２０秒間浸漬
し、９０℃の熱水で１０秒間処理し、乾燥してＲａ＝
０．６０μｍのアルミニウム板支持体を得た。（ａ）エチレン性不飽和化合物 下記Ａのメタクリロイルオキシエチルホスフェートと
ビス（メタクリロイルオキシエチル）ホスフェートとの
混合物；１１重量部 下記Ｂのヘキサメチレンビス〔トリス（アクリロイル
オキシメチル）エチルウレタン〕；２２重量部 下記Ｃの２，２−ビス（４−アクリロイルオキシジエ
チレンオキシフェニル）プロパン；２２重量部

【００４３】

【化３】

【００４４】（ｂ）光重合開始系 （ｂ−１）ラジカル発生剤 ジシクロペンタジエニルチタニウムビス〔２，６−ジ
フルオロ−３−（１−ピロリル）フェニル〕；５重量部（ｂ−２）増感剤 下記Ｄの化合物；０．５重量部 下記Ｅの化合物；０．５重量部

【００４５】

【化４】

【００４６】（ｂ−３）重合加速剤 ２−メルカプトベンゾチアゾール；５重量部 Ｎ−フェニルグリシンベンジルエステル；５重量部高分子結合材 メチルメタクリレート（８０モル％）／メタクリル酸
（２０モル％）共重合体（重量平均分子量５万）に、
３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートを
反応させて得られた反応生成物（酸化５３、メタクリル
酸成分のカルボキシル基の５０モル％が反応）；４５重
量部その他成分 顔料（Ｐ．Ｂ．１５：６）；４重量部 分散剤（ビックケミー社製「Disperbyk １６１」）；
２重量部 界面活性剤（花王社製「エマルゲン１０４Ｐ」）；２
重量部 界面活性剤（旭硝子社製「Ｓ−３８１」）；０．３重
量部溶媒 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト；６００重量部 シクロヘキサノン；５４５重量部 ［露光及び現像処理］感光性平版印刷版−１をＦＤ−Ｙ
ＡＧレーザー露光機（Cymbolic Science International
社製「Platejet」）を用いて、２０００ｄｐｉ、６．８
ｍＷの条件（露光量１２０μＪ／ｃｍ²）で１００％画
像を露光したあと、現像液−１（三菱化学社製フォトポ
リＣＴＰ用現像液「ＤＲ−５１」の５倍希釈液）を仕込
んだ自現機（米、ウエスタンリソテック社製「Diamond
Processer」)にて、液温３０℃、速度４ｆｅｅｔ／ｍｉ
ｎの条件にて現像処理を行った。 ［後露光処理］ 参考例１、比較例１、及び実施例１〜４ この後、図１に示す後露光装置２の条件を表−１の通り
に設定し、露光量３１２ｍＪ／ｃｍ² 、搬送速度２００
ｃｍ／ｍｉｎの条件で後露光を実施し、平版印刷版１〜
６を得た。

【００４７】得られた平版印刷版が後露光装置２のＡの
位置（図１の８）に搬送されてきた際の版面温度を測定
し、後露光処理終了直後に素手で取り上げることが可能
か否かの判断を行った。さらに後露光装置から連続的に
自動穴開け装置（Optical Punch Bender)へ搬送し、問
題無く処理されるかを確認した。結果は表−１に示し
た。

【００４８】

【表１】

【００４９】実施例５〜９ 図１に示す後露光装置２の条件を表−１の平版印刷版Ｎ
ｏ．６と同様に設定し、搬送速度と露光量を下記表−２
の通りに変更したこと以外は、実施例４と同様にして後
露光処理を行った結果を表−２に示した。

【００５０】

【表２】

【００５１】

【発明の効果】本発明の方法及び装置を用いることによ
り、後露光を行った後の平板印刷版の昇温を、取り扱い
上問題ないレベルに抑制でき、版の熱膨張やたわみによ
って、印刷機取り付け用の自動穴開け装置に適用できな
くなる等の問題を回避することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の後露光装置を示す図である。

【符号の説明】

１ 自現機 ２ 後露光装置 ３ 自動穴開け装置（ＯＰＢ） ４ ランプボックス ５ 反射鏡 ６ フィルター ７ 光源 ８ Ａ位置 ９ ファン １０ ベルトコンベアー

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H096 AA06 BA05 EA04 EA23 GA08 HA03 LA30 2H097 AA03 BA06 CA17 FA02 JA03 JA06 LA03

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）付加重合可能なエチレン性不飽和
   結合を有する化合物、及び（ｂ）光重合開始剤系を含む
   光重合性感光層を有する光重合性感光性平版印刷版を、
   レーザー光により画像露光し、次いで現像を行った後、
   更に後露光を行う平版印刷版の製版方法において、後露
   光時、光重合性感光性平版印刷版の温度上昇を抑制する
   手段を用いることを特徴とする平版印刷版の製版方法。
2. 【請求項２】 感光性平版印刷版の温度上昇抑制手段
   が、赤外線吸収型フィルター及び／又は赤外線反射型フ
   ィルターであり、該赤外線吸収型フィルター及び／又は
   該赤外線反射型フィルターを後露光を行う光源と感光性
   平版印刷版の間に介在させることを特徴とする請求項１
   に記載の平版印刷版の製版方法。
3. 【請求項３】 赤外線吸収型フィルター及び赤外線反射
   型フィルターの、８００nmの光の透過率が３０％以下で
   あることを特徴とする請求項１又は２に記載の平版印刷
   版の製版方法。
4. 【請求項４】 後露光を行う光源が反射鏡を有し、該反
   射鏡が赤外線透過性であることを特徴とする請求項１〜
   ３のいずれかに記載の平版印刷版の製版方法。
5. 【請求項５】 反射鏡の、８００ｎｍの光の透過率が６
   ０％以上であり、３５０ｎｍの光の反射率が７０％以上
   であることを特徴とする請求項４に記載の平版印刷版の
   製版方法。
6. 【請求項６】 後露光時の感光性平版印刷版の版面温度
   が９０℃以下であることを特徴とする請求項１〜５のい
   ずれかに記載の平版印刷版の製版方法。
7. 【請求項７】 後露光用光源が、水銀灯であることを特
   徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の平版印刷版の
   製版方法。
8. 【請求項８】 現像を、ｐＨ１２以下のアルカリ現像液
   で行うことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載
   の平版印刷版の製版方法。
9. 【請求項９】 光重合性感光性平版印刷版をレーザー光
   により画像露光し、次いで現像を行った後、更に後露光
   するための後露光装置であって、（１）該平版印刷版を
   後露光するための後露光光源、（２）該平版印刷版を搬
   送するための手段、（３）該後露光光源と該平板印刷版
   を搬送するための手段の間に、赤外線吸収型フィルター
   及び／又は赤外線反射型フィルター、を有することを特
   徴とする感光性平版印刷版用後露光装置。
10. 【請求項１０】 後露光用光源が反射鏡を有し、赤外線
    吸収型フィルター及び／又は赤外線反射型フィルター
    が、該反射鏡を介した光の焦点位置に設けられているこ
    とを特徴とする請求項９に記載の後露光装置。
11. 【請求項１１】 後露光用光源が反射鏡を有し、該反射
    鏡が赤外線透過性であることを特徴とする請求項９又は
    １０に記載の後露光装置。
12. 【請求項１２】 赤外線吸収型フィルター及び赤外線反
    射型フィルターの、８００nmの光の透過率が３０％以下
    であることを特徴とする請求項９〜１１のいずれかに記
    載の後露光装置。
13. 【請求項１３】 反射鏡の、８００ｎｍの光の透過率が
    ６０％以上であり、３５０ｎｍの光の反射率が７０％以
    上であることを特徴とする請求項９〜１２のいずれかに
    記載の後露光装置。
14. 【請求項１４】 後露光用光源が、水銀灯であることを
    特徴とする請求項９〜１３のいずれかに記載の後露光装
    置。