JP2002037787A

JP2002037787A - ［１，２，４］トリアゾロ［１，５−ｃ］ピリミジン誘導体の製造法

Info

Publication number: JP2002037787A
Application number: JP2001144465A
Authority: JP
Inventors: Toshiyuki Atsumi; 敏幸渥美; Hiroshi Tsumiki; 浩積木; Shunichi Ikeda; 俊一池田; Koji Suzuki; 公二鈴木
Original assignee: Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd
Current assignee: KH Neochem Co Ltd
Priority date: 2000-05-16
Filing date: 2001-05-15
Publication date: 2002-02-06

Abstract

(57)【要約】【課題】[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体を
安価かつ大量に製造するための製造法およびその製造中
間体を提供する。【解決手段】（式中、Xはハロゲン等を表し、Yはハロゲン等を表し、
Wはハロゲン等を表し、Zは芳香族複素環基等を表す）式（II）で表される化合物（II）を、式（III）で表さ
れる化合物（III）と反応させ、式（IV）で表される化
合物（IV）に導き、当該化合物（IV）を環化させ、式
（V）で表される化合物（V）に導き、当該化合物（V）
を転位させることを特徴とする式（I）で表される[1,2,
4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の製造法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、アデノシンA_2A受
容体拮抗作用を示し、アデノシンA_2A受容体の機能亢進
に由来する各種疾患（例えば、パーキンソン病、老人性
痴呆症またはうつ病等）に対する治療または予防に有用
な5-アミノ[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体
の製造用中間体として有用な[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]
ピリミジン誘導体を製造する方法及びその製造中間体に
関する。

【０００２】

【従来の技術】WO98/42711に、5-アミノ[1,2,4]トリア
ゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体が、アデノシンA_2A受容体
の機能亢進に由来する各種疾患（例えば、パーキンソン
病、老人性痴呆症またはうつ病等）に対する治療または
予防に有用な医薬品であることが開示されている。WO98
/42711には、4,6-ジクロロ-2-メチルチオピリミジンを
出発原料とした5-アミノ[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリ
ミジン誘導体の製造方法が記載されている。中でも、5-
アミノ-7-クロロ[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン
誘導体を経由した5-アミノ[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピ
リミジン誘導体の製造方法が記載されている。

【０００３】しかしながら、WO98/42711に記載された製
造方法は、その中間体である5-アミノ-7-クロロ[1,2,4]
トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の合成に多段階の
工程が必要であったり、高価な出発原料を用いているた
め工業的製造法としては必ずしも満足し得る方法とは言
えない。安価な原料化合物から簡便に効率よく、医薬品
として有用な5-アミノ[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミ
ジン誘導体の製造中間体である5-アミノ-7-クロロ[1,2,
4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体、または医薬品
として有用な5-アミノ[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミ
ジン誘導体を製造する方法の開発が求められている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、アデノシン
A_2A受容体拮抗作用を示し、アデノシンA_2A受容体の機能
亢進に由来する各種疾患（例えば、パーキンソン病、老
人性痴呆症またはうつ病等）に対する治療または予防に
有用な5-アミノ[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘
導体の製造中間体として有用な[1,2,4]トリアゾロ[1,5-
c]ピリミジン誘導体を、安価かつ大量に製造するための
製造法を提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究の
結果、安価な原料化合物から簡便に効率良く、[1,2,4]
トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体を製造する方法を
見い出した。本発明で開示される製造方法の中間体は、
5-アミノ[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の
製造中間体として有用である。

【０００６】すなわち本発明は、以下の（１）〜（４
２）に関する。（１）式（II）

【０００７】

【化３３】

【０００８】｛式中、Xはハロゲン、OQ（式中、Qは水
素、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは
非置換のアリール、置換もしくは非置換の芳香族複素環
基、置換もしくは非置換のアルキルスルホニルまたは置
換もしくは非置換のアリールスルホニルを表す）、置換
もしくは非置換の低級アルキルチオ、置換もしくは非置
換のアリールチオ、置換もしくは非置換の低級アルキル
スルフィニル、置換もしくは非置換のアリールスルフィ
ニル、置換もしくは非置換の低級アルキルスルホニルま
たは置換もしくは非置換のアリールスルホニルを表し、
Wはハロゲン、OQ²（式中、Q²は前記のQの定義から水素
を除いたものを表す）、置換もしくは非置換の低級アル
キルチオ、置換もしくは非置換のアリールチオ、置換も
しくは非置換の低級アルキルスルフィニル、置換もしく
は非置換のアリールスルフィニル、置換もしくは非置換
の低級アルキルスルホニルまたは置換もしくは非置換の
アリールスルホニルを表し、１）XがOQ（式中、Qは前記と同義である）、置換もしく
は非置換の低級アルキルチオ、置換もしくは非置換のア
リールチオ、置換もしくは非置換の低級アルキルスルフ
ィニル、置換もしくは非置換のアリールスルフィニル、
置換もしくは非置換の低級アルキルスルホニルまたは置
換もしくは非置換のアリールスルホニルを表すとき、Y
はハロゲン、OQ¹（式中、Q¹は前記のQと同義である）、
置換もしくは非置換の低級アルキルチオ、置換もしくは
非置換のアリールチオ、置換もしくは非置換の低級アル
キルスルフィニル、置換もしくは非置換のアリールスル
フィニル、置換もしくは非置換の低級アルキルスルホニ
ル、置換もしくは非置換のアリールスルホニルまたはNR
¹R²［式中、R¹およびR²は同一または異なって、水素、
ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換
もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換
の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルカノ
イル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非
置換のアラルキル、置換もしくは非置換の低級アルコキ
シカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカ
ルボニルまたはトリ低級アルキルシリルを表すか、R¹お
よびR²が隣接する窒素原子と一緒になってフタルイミド
または、式（VII）

【０００９】

【化３４】

【００１０】（式中、nは１〜３の整数を表す）で表さ
れる基を形成する］を表し、２）Xがハロゲンを表すとき、Yはハロゲン、OQ¹（式
中、Q¹は前記のQと同義である）、置換低級アルキルチ
オ、置換もしくは非置換のアリールチオ、置換もしくは
非置換の低級アルキルスルフィニル、置換もしくは非置
換のアリールスルフィニル、置換もしくは非置換の低級
アルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアリールス
ルホニルまたはNR¹R ²（式中、R¹およびR²はそれぞれ前
記と同義である）を表す｝で表される化合物（II）を、
式（III）

【００１１】

【化３５】

【００１２】（式中、Zは置換もしくは非置換のアリー
ルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基を表す）
で表される化合物（III）と反応させ、式（IV）

【００１３】

【化３６】

【００１４】（式中、X、YおよびZはそれぞれ前記と同
義である）で表される化合物（IV）に導き、当該化合物
（IV）を環化させ、式（V）

【００１５】

【化３７】

【００１６】（式中、X、YおよびZはそれぞれ前記と同
義である）で表される化合物（V）に導き、当該化合物
（V）を転位させることを特徴とする式（I）

【００１７】

【化３８】

【００１８】（式中、X、YおよびZはぞれぞれ前記と同
義である）で表される[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミ
ジン誘導体の製造法。（２）式（IVa）

【００１９】

【化３９】

【００２０】［式中、Y¹は塩素またはNR^1aR^2a（式中、R
^1aおよびR^2aは同一または異なって、水素または置換も
しくは非置換のアラルキルを表す）を表す］で表される
ピリミジン誘導体またはその塩。（３）式（Va）

【００２１】

【化４０】

【００２２】（式中、Y¹は前記と同義である）で表され
る[1,2,4]トリアゾロ[4,3-c]ピリミジン誘導体またはそ
の塩。（４）式（II）

【００２３】

【化４１】

【００２４】（式中、X、YおよびWはそれぞれ前記と同
義である）で表される化合物（II）を、式（III）

【００２５】

【化４２】

【００２６】（式中、Zは前記と同義である）で表され
る化合物（III）と反応させ、式（IV）

【００２７】

【化４３】

【００２８】（式中、X、YおよびZはそれぞれ前記と同
義である）で表される化合物（IV）に導き、次いで当該
化合物（IV）の環化、転位を一工程で行うことを特徴と
する式（I）

【００２９】

【化４４】

【００３０】（式中、X、YおよびZはそれぞれ前記と同
義である）で表される[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミ
ジン誘導体の製造法。（５）Xがハロゲンである第（１）項または（４）項に
記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の製
造法。（６）YがハロゲンまたはNR¹R²（式中、R¹およびR²はそ
れぞれ前記と同義である）である第（１）項、（４）項
または（５）項に記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリ
ミジン誘導体の製造法。（７）Wがハロゲンである第（１）項、（４）項〜
（６）項のいずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]
ピリミジン誘導体の製造法。（８）Zが置換もしくは非置換の芳香族複素環基である
第（１）項、（４）項〜（７）項のいずれかに記載の
[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の製造法。（９）Zがフリルである第（１）項、（４）項〜（７）
項のいずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミ
ジン誘導体の製造法。（１０）式（IIA）

【００３１】

【化４５】

【００３２】｛式中、X^Aはハロゲン、OQ^A（式中、Q^Aは
水素、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしく
は非置換のアリール、置換もしくは非置換の芳香族複素
環基、置換もしくは非置換のアルキルスルホニルまたは
置換もしくは非置換のアリールスルホニルを表す）、置
換もしくは非置換の低級アルキルチオ、置換もしくは非
置換のアリールチオ、置換もしくは非置換の低級アルキ
ルスルフィニル、置換もしくは非置換のアリールスルフ
ィニル、置換もしくは非置換の低級アルキルスルホニル
または置換もしくは非置換のアリールスルホニルを表
し、Y^Aはハロゲン、OQ^1A（式中、Q^1Aは前記のQ^Aと同義
である）、置換もしくは非置換の低級アルキルチオ、置
換もしくは非置換のアリールチオ、置換もしくは非置換
の低級アルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のア
リールスルフィニル、置換もしくは非置換の低級アルキ
ルスルホニル、置換もしくは非置換のアリールスルホニ
ルまたはNR^1AR^2A［式中、R^1AおよびR^2Aは同一または異
なって、水素、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級
アルキル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換
もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換
の低級アルカノイル、置換もしくは非置換のアロイル、
置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換
の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のア
リールオキシカルボニルまたはトリ低級アルキルシリル
を表すか、R^1AおよびR^2Aが隣接する窒素原子と一緒にな
ってフタルイミドまたは、式（VIIA）

【００３３】

【化４６】

【００３４】（式中、naは１〜３の整数を表す）で表さ
れる基を形成する］を表し、W^Aはハロゲン、OQ^2A（式
中、Q^2Aは前記のQ^Aの定義から水素を除いたものを表
す）、置換もしくは非置換の低級アルキルチオ、置換も
しくは非置換のアリールチオ、置換もしくは非置換の低
級アルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のアリー
ルスルフィニル、置換もしくは非置換の低級アルキルス
ルホニルまたは置換もしくは非置換のアリールスルホニ
ルを表す、但しX^AがハロゲンであるときにはY^Aは低級ア
ルキルチオではない｝で表される化合物（IIA）を、式
（IIIA）

【００３５】

【化４７】

【００３６】（式中、Z^Aは置換もしくは非置換のアリー
ルまたは置換もしくは非置換の芳香族複素環基を表す）
で表される化合物（IIIA）と反応させ、式（IVA）

【００３７】

【化４８】

【００３８】（式中、X^A、Y^AおよびZ^Aはそれぞれ前記と
同義である）で表される化合物（IVA）に導き、当該化
合物（IVA）を環化させ、式（VA）

【００３９】

【化４９】

【００４０】（式中、X^A、Y^AおよびZ^Aはそれぞれ前記と
同義である）で表される化合物（VA）に導き、当該化合
物（VA）を転位させることを特徴とする式（IA）

【００４１】

【化５０】

【００４２】（式中、X^A、Y^AおよびZ^Aはそれぞれ前記と
同義である）で表される[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリ
ミジン誘導体の製造法。（１１）式（IIA）

【００４３】

【化５１】

【００４４】（式中、X^A、Y^AおよびZ^Aはそれぞれ前記と
同義である）で表される化合物（IIA）を、式（IIIA）

【００４５】

【化５２】

【００４６】（式中、Z^Aは前記と同義である）で表され
る化合物（IIIA）と反応させ、式（IVA）

【００４７】

【化５３】

【００４８】（式中、X^A、Y^AおよびZ^Aはそれぞれ前記と
同義である）で表される化合物（IVA）に導き、次いで
当該化合物（IVA）の環化、転位を一工程で行うことを
特徴とする式（IA）

【００４９】

【化５４】

【００５０】（式中、X^A、Y^AおよびZ^Aはそれぞれ前記と
同義である）で表される[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリ
ミジン誘導体の製造法。（１２）X^Aがハロゲンである第（１０）項または（１
１）項に記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘
導体の製造法。（１３）Y^AがハロゲンまたはNR^1AR^2A（式中、R^1Aおよび
R^2Aはそれぞれ前記と同義である）である第（１０）項
〜（１２）項のいずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,
5-c]ピリミジン誘導体の製造法。（１４）W^Aがハロゲンである第（１０）項〜（１３）項
のいずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジ
ン誘導体の製造法。（１５）Z^Aが置換もしくは非置換の芳香族複素環基であ
る第（１０）項〜（１４）項のいずれかに記載の[1,2,
4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の製造法。（１６）Z^Aがフリルである第（１０）項〜（１４）項の
いずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン
誘導体の製造法。（１７）式（IVa）

【００５１】

【化５５】

【００５２】（式中、Y¹は前記と同義である）で表され
るピリミジン誘導体またはその塩を、脱水縮合剤、酸無
水物、酸塩化物またはルイス酸で処理することを特徴と
する式（Ia）

【００５３】

【化５６】

【００５４】（式中、Y¹は前記と同義である）で表され
る[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の製造
法。（１８）式（Va）

【００５５】

【化５７】

【００５６】（式中、Y¹は前記と同義である）で表され
る[1,2,4]トリアゾロ[4,3-c]ピリミジン誘導体またはそ
の塩を、塩基または酸の存在下、処理することを特徴と
する式（Ia）

【００５７】

【化５８】

【００５８】（式中、Y¹は前記と同義である）で表され
る[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の製造
法。（１９）式（IV）

【００５９】

【化５９】

【００６０】（式中、X、YおよびZはそれぞれ前記と同
義である）で表される化合物（IV）またはその塩を溶媒
存在下または非存在下、脱水縮合剤で処理することを特
徴とする式（I）

【００６１】

【化６０】

【００６２】（式中、X、YおよびZはそれぞれ前記と同
義である）で表される[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミ
ジン誘導体の製造法。（２０）脱水縮合剤が五酸化二リンである第（１９）項
に記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の
製造法。（２１）溶媒がスルホランである第（１９）項または
（２０）項に記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジ
ン誘導体の製造法。（２２）反応温度が100〜130℃である第（１９）項〜
（２１）項のいずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-
c]ピリミジン誘導体の製造法。（２３）Xがハロゲンである第（１９）項〜（２２）項
のいずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジ
ン誘導体の製造法。（２４）YがNR¹R²（式中、R¹およびR²はそれぞれ前記と
同義である）である第（１９）項〜（２３）項のいずれ
かに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体
の製造法。（２５）Yがアミノである第（１９）項〜（２３）項の
いずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン
誘導体の製造法。（２６）Zが置換もしくは非置換の芳香族複素環基であ
る第（１９）項〜（２５）項のいずれかに記載の[1,2,
4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の製造法。（２７）Zがフリルである第（１９）項〜（２５）項の
いずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン
誘導体の製造法。（２８）式（IVA）

【００６３】

【化６１】

【００６４】（式中、X^A、Y^AおよびZ^Aはそれぞれ前記と
同義である）で表される化合物（IVA）またはその塩を
溶媒存在下または非存在下、脱水縮合剤で処理すること
を特徴とする式（IA）

【００６５】

【化６２】

【００６６】（式中、X^A、Y^AおよびZ^Aはそれぞれ前記と
同義である）で表される[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリ
ミジン誘導体の製造法。（２９）脱水縮合剤が五酸化二リンである第（２８）項
に記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の
製造法。（３０）溶媒がスルホランである第（２８）項または第
（２９）項に記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジ
ン誘導体の製造法。（３１）反応温度が100〜130℃である第（２８）項〜
（３０）項のいずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-
c]ピリミジン誘導体の製造法。（３２）X^Aがハロゲンである第（２８）項〜（３１）項
のいずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジ
ン誘導体の製造法。（３３）Y^AがNR^1AR^2A（式中、R^1AおよびR^2Aはそれぞれ
前記と同義である）である第（２８）項〜（３２）項の
いずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン
誘導体の製造法。（３４）Y^Aがアミノである第（２８）項〜（３２）項の
いずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン
誘導体の製造法。（３５）Z^Aが置換もしくは非置換の芳香族複素環基であ
る第（２８）項〜（３４）項のいずれかに記載の[1,2,
4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の製造法。（３６）Z^Aがフリルである第（２８）項〜（３４）項の
いずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン
誘導体の製造法。（３７）式（IVa）

【００６７】

【化６３】

【００６８】（式中、Y¹は前記と同義である）で表され
る化合物（IVa）またはその塩を溶媒存在下または非存
在下、脱水縮合剤で処理することを特徴とする式（Ia）

【００６９】

【化６４】

【００７０】（式中、Y¹は前記と同義である）で表され
る[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の製造
法。（３８）脱水縮合剤が五酸化二リンである第（３７）項
に記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の
製造法。（３９）溶媒がスルホランである第（３７）項または第
（３８）項に記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジ
ン誘導体の製造法。（４０）反応温度が100〜130℃である第（３７）項〜
（３９）項のいずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-
c]ピリミジン誘導体の製造法。（４１）Y¹がNR^1aR^2a（式中、R^1aおよびR^2aはそれぞれ
前記と同義である）である第（３７）項〜（４０）項の
いずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン
誘導体の製造法。（４２）Y¹がアミノ基である第（３７）項〜（４０）項
のいずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジ
ン誘導体の製造法。

【００７１】

【発明の実施の形態】以下、式（I）で表される化合物
を化合物（I）と呼ぶ。化合物（Va）および化合物（V-
c）は化合物（V）に包含されることを意味する。他の式
番号で表される化合物についても同様である。化合物
（I）〜（V）、化合物（IA）〜（VA）の各基の定義にお
いて、ハロゲンはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素の各原子
を包含する。低級アルキルおよび低級アルコキシ、低級
アルキルチオ、低級アルキルスルフィニル、低級アルキ
ルスルホニル、低級アルカノイル、低級アルコキシカル
ボニル、トリ低級アルキルシリルのアルキル部分として
は、直鎖または分岐状の炭素数1〜6の、例えばメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ル、sec -ブチル、tert-ブチル、ペンチル、ネオペンチ
ル、ヘキシル等が挙げられる。またトリ低級アルキルシ
リルの各低級アルキル部分は、同一であっても異なって
いてもよい。

【００７２】低級アルケニルとしては、直鎖または分岐
状の炭素数２〜６の、例えばビニル、アリル、ブテニ
ル、ペンテニル、ヘキセニル等が挙げられる。アリール
としては、例えばフェニル、ナフチル、インデニル、ア
ントリル等が挙げられる。アリールチオ、アリールスル
フィニル、アリールスルホニル、アロイルおよびアリー
ルオキシカルボニルにおけるアリール部分は、前記アリ
ールと同義である。

【００７３】芳香族複素環基としては、フリル、チエニ
ル、ピロリル、ピリジル、オキサゾリル、チアゾリル、
イミダゾリル、トリアゾリル、ピリミジニル、ピラジニ
ル、ピリダジニル、トリアジニル、インドリル、キノリ
ニル、シンノリニル、キナゾリニル、キノキサリニル、
フタラジニル、プリニル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾ
チアゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾトリアゾリル
等が挙げられる。

【００７４】アラルキルとしては炭素数7〜20の、例え
ばベンジル、ナフチルメチルまたはトリフェニルメチル
等が挙げられる。置換低級アルコキシ、置換低級アルキ
ルチオ、置換低級アルキルスルフィニル、置換低級アル
キルスルホニル、置換低級アルケニル、置換低級アルカ
ノイル、置換低級アルキル、置換アリールチオ、置換ア
リールスルホニル、置換アリールスルフィニル、置換ア
リール、置換芳香族複素環基、置換アラルキル、置換低
級アルコキシカルボニルおよび置換アリールオキシカル
ボニルの置換基としては、同一または異なって置換数1
〜3の、例えば低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルコ
キシ、低級アルキルチオ、低級アルカノイルオキシ、低
級アルカノイル、置換もしくは非置換のアロイル（該置
換アロイルの置換基は後記の置換アロイルの置換基と同
義である）、低級アルキルアミノ、アミノ、ハロゲン、
ニトロ、シアノ等が挙げられる。置換低級アルコキシ、
置換低級アルキルチオ、置換低級アルキルスルフィニ
ル、置換低級アルキルスルホニル、置換低級アルケニ
ル、置換低級アルカノイル、置換低級アルキル、置換ア
リールチオ、置換アリールスルホニル、置換アリールス
ルフィニル、置換アリール、置換芳香族複素環基、置換
アラルキル、置換低級アルコキシカルボニルおよび置換
アリールオキシカルボニルの置換基の定義における低級
アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級ア
ルカノイル、ハロゲンおよびアロイルはそれぞれ前記と
同義であり、低級アルカノイルオキシおよび低級アルキ
ルアミノのアルキル部分は前記低級アルキルと同義であ
る。

【００７５】置換アロイルの置換基としては、同一また
は異なって置換数1〜3の、例えば低級アルキル、ヒドロ
キシ、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルカ
ノイルオキシ、低級アルカノイル、低級アルキルアミ
ノ、アミノ、ハロゲン、ニトロ、シアノ等が挙げられ
る。置換アロイルの定義における低級アルキル、低級ア
ルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルカノイルオキ
シ、低級アルカノイル、低級アルキルアミノおよびハロ
ゲンはそれぞれ前記と同義である。

【００７６】化合物（IVa）および化合物（Va）の塩と
しては、塩酸塩、硫酸塩およびリン酸塩等の無機酸塩、
酢酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、酒石酸塩およびク
エン酸塩等の有機酸塩が挙げられる。以下、化合物
（I）の製造法について記載する。なお、化合物（IA）
も以下に示す化合物（I）の製造法に準じて製造するこ
とができる。

【００７７】なお、以下に示した製造法において、定義
した基が実施する方法の条件下変化するか、または方法
を実施するのに不適切な場合には、有機合成化学で常用
される方法、たとえば官能基の保護、脱保護の手段［プ
ロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シン
セシス（PROTECTIVE GROUPS IN ORGANIC SYNTHESIS）、
309頁（ウィリー・インターサイエンス出版（WILEY-INT
ERSCIENCE PUBLICATION）、1991年）］、酸化、還元、
加水分解等の方法に付すことにより容易に製造を実施す
ることができる。製造法１化合物（I）は化合物（II）から次の反応工程に従い製
造することができる。

【００７８】

【化６５】

【００７９】（式中、X、Y、ZおよびWはそれぞれ前記と
同義である）化合物（II）および化合物（III）は市販品として得ら
れるか、もしくは公知の方法〔新実験化学講座14 有機
化合物の合成と反応（II）、1221頁（丸善）（1977
年）〕またはそれに準じて得ることができる。工程１化合物(II)を、無溶媒もしくは適当な溶媒中、1〜10当
量好ましくは1〜3当量の化合物(III)と、必要に応じて1
〜20当量の適当な塩基の存在下、通常0〜200℃で5分〜4
8時間反応させることにより化合物(IV)を製造すること
ができる。

【００８０】適当な塩基としては、トリメチルアミン、
トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピル
エチルアミン、1,8-ジアザビシクロ[4.5.0]-7-ウンデセ
ン(DBU)、ピリジン、N-メチルモルホリン等の有機塩
基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウムtert-ブトキシド、ナトリウムtert-ブトキシド、
リチウムジイソプロピルアミド、n-ブチルリチウム等の
有機金属塩、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシ
ウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等の無機
塩基、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カル
シウム等の金属水素化物等が挙げられる。中でも、DB
U、カリウムtert-ブトキシド、炭酸カリウム等が好まし
く用いられる。

【００８１】適当な溶媒としては、特に限定されない
が、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の脂
肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素系溶媒、テトラリン、酢酸エチル、ジ
フェニルエーテル、ピリジン、アセトニトリル、N,N-ジ
メチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、1-メ
チル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノ
ン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルスル
ホン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、エチレングリコールジメチルエーテル、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール等が挙げら
れ、中でもN,N-ジメチルアセトアミド、1-メチル-2-ピ
ロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチ
ルスルホキシド等が好ましく用いられ、これらを単独も
しくは混合して用いることができる。

【００８２】工程２工程１で得られる化合物(IV)を、無溶媒もしくは適当な
溶媒中、通常0〜250℃で5分〜48時間、1当量〜100当量
の適当な酸無水物または1当量〜100当量の適当な脱水
剤、又は１当量〜100当量の適当な酸塩化物で処理する
ことにより、化合物(V)を製造することができる。この
とき、場合によっては１当量〜100当量の適当な塩基を
存在させることができる。

【００８３】適当な酸無水物としては、無水酢酸、トリ
フルオロ酢酸無水物、メタンスルホン酸無水物、ベンセ
ンスルホン酸無水物、トリフルオロメタンスルホン酸無
水物等が挙げられ、適当な脱水剤としては五酸化二リ
ン、ポリリン酸、ポリリン酸トリメチルシリルエステ
ル、ポリリン酸エチルエステル等が挙げられる。また、
適当な酸塩化物としては、ジエチルリン酸クロリド、ベ
ンゼンスルホン酸クロリド、p-トルエンスルホン酸クロ
リド、p-ブロモベンゼンスルホン酸クロリド、p-メトキ
シベンゼンスルホン酸クロリドまたはメタンスルホン酸
クロリド等が挙げられる。更に場合によって存在させる
ことのできる適当な塩基としては、トリメチルアミン、
トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピル
エチルアミン、DBU、ピリジン、N-メチルモルホリン等
の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシ
ウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等の無機
塩基、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カル
シウム等の金属水素化物等が挙げられる。

【００８４】適当な溶媒としては、特に限定されない
が、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の脂
肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素系溶媒、テトラリン、酢酸エチル、ジ
フェニルエーテル、塩化メチレン、クロロホルム、ジク
ロロエタン、四塩化炭素、ピリジン、アセトニトリル、
N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミ
ド、1-メチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾ
リジノン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチ
ルスルホン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、エチレングリコールジメチルエーテル、シ
ロキサン、ジエチルエーテル、ジフェニルエーテル、酢
酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、
メタンスルホン酸等が挙げられ、これらを単独もしくは
混合して用いることができる。

【００８５】工程３工程２で得られる化合物(V)を、無溶媒もしくは適当な
溶媒中、必要ならば0.1〜100当量の適当な塩基または酸
の存在下、通常0〜250℃で5分〜48時間処理することに
より、化合物(I)を製造することができる。

【００８６】適当な塩基としては、トリメチルアミン、
トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピル
エチルアミン、DBU、ピリジン、N-メチルモルホリン等
の有機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド、カリウムtert-ブトキシド、ナトリウムtert-ブト
キシド、リチウムジイソプロピルアミド、n-ブチルリチ
ウム等の有機金属塩、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化リチウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム
等の無機塩基、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水
素化カルシウム等の金属水素化物等が挙げられる。

【００８７】適当な酸としては、酢酸、プロピオン酸、
ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メ
タンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロメ
タンスルホン酸、塩酸、硫酸等が挙げられる。適当な溶
媒としては、特に限定されないが、例えばペンタン、ヘ
キサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶
媒、テトラリン、ジフェニルエーテル、酢酸エチル、塩
化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、四塩化炭
素、ピリジン、アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムア
ミド、N,N-ジメチルアセトアミド、1-メチル-2-ピロリ
ドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチルス
ルホキシド、スルホラン、ジメチルスルホン、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、エチレン
グリコールジメチルエーテル、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール等が挙げられ、これらを
単独もしくは混合して用いることができる。

【００８８】工程４化合物（I）は、工程１で得られる化合物（IV）から一
工程で製造することもできる。

【００８９】すなわち、化合物（IV）を1/3〜100当量の
適当な脱水縮合剤、適当な酸無水物、適当な酸塩化物ま
たは適当なルイス酸で、無溶媒もしくは適当な溶媒中、
通常0〜250℃、好ましくは80〜250℃で、5分〜48時間処
理することにより、化合物(V)を単離することなく化合
物(I)を製造することができる。このとき、場合によっ
ては１当量〜100当量の適当な塩基を存在させることが
できる。

【００９０】適当な脱水縮合剤としては、五酸化二リ
ン、ポリリン酸、ポリリン酸エチルエステルまたはポリ
リン酸トリメチルシリルエステル等が挙げられる。適当
な酸無水物としては、トリフルオロメタンスルホン酸無
水物、トリフルオロ酢酸無水物、無水酢酸、メタンスル
ホン酸無水物、ベンゼンスルホン酸無水物またはフルオ
ロスルホン酸無水物などが挙げられ、適当な酸塩化物と
してはジエチルリン酸クロリド、ベンゼンスルホン酸ク
ロリド、p-トルエンスルホン酸クロリド、p-ブロモベン
ゼンスルホン酸クロリド、p-メトキシベンゼンスルホン
酸クロリドまたはメタンスルホン酸クロリド等が挙げら
れ、適当なルイス酸としては、塩化アルミニウム、四塩
化チタン、二塩化スズまたは二塩化亜鉛等が挙げられ
る。

【００９１】工程４において用いられる適当な脱水縮合
剤、適当な酸無水物、適当な酸塩化物または適当なルイ
ス酸の中では適当な脱水縮合剤が好ましく、適当な脱水
縮合剤の中では五酸化二リンが好ましい。更に場合によ
って存在させることのできる適当な塩基としては、トリ
メチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミン、DBU、ピリジン、N-メチ
ルモルホリン等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化リチ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カル
シウム等の無機塩基、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ム、水素化カルシウム等の金属水素化物等が挙げられ
る。

【００９２】適当な溶媒としては、特に限定されない
が、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の脂
肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素系溶媒、テトラリン、ジフェニルエー
テル、酢酸エチル、塩化メチレン、クロロホルム、ジク
ロロエタン、四塩化炭素、ピリジン、アセトニトリル、
N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミ
ド、1-メチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾ
リジノン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチ
ルスルホン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、エチレングリコールジメチルエーテル、酢
酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、
メタンスルホン酸等が挙げられ、これらを単独もしくは
混合して用いることができる。適当な溶媒の中では、ス
ルホランまたは1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノンが好
ましい。

【００９３】化合物(I)においてYがNR¹R²(式中、R¹およ
びR²はそれぞれ前記と同義である)である化合物(I-a)
は、上記の工程１〜４で得られる化合物（I）においてY
がNR¹R²(式中、R¹およびR²はそれぞれ前記と同義であ
る)もしくはヒドロキシでない化合物(I-b)

【００９４】

【化６６】

【００９５】［式中、Y²は前記Yの定義からNR¹R²(式
中、R¹およびR²はそれぞれ前記と同義である)およびヒ
ドロキシを除いた基を表し、XおよびZはそれぞれ前記と
同義である］または化合物(V-c)

【００９６】

【化６７】

【００９７】（式中、Y²、XおよびZはそれぞれ前記と同
義である）を原料として、下記の工程aによって製造す
ることができる。工程a

【００９８】

【化６８】

【００９９】（式中、X、Z、R¹、R²およびY²はそれぞれ
前記と同義である）化合物(I-b)または化合物(V-c)を、適当な溶媒中（適当
な溶媒としては前記工程１における適当な溶媒と同様の
ものが挙げられる）、必要により1〜20当量の適当な塩
基（適当な塩基としては前記工程１における適当な塩基
と同様のものが挙げられる）の共存下、0〜200℃で5分
〜48時間、1〜20当量のR¹R²NH(式中、R¹およびR²はそれ
ぞれ前記と同義である)で表される化合物（VI）または
その塩（化合物（VI）の塩としては、化合物（IVa）お
よび化合物（Va）の塩と同様のものが挙げられる）と反
応させることで、化合物(I-a)を製造することができ
る。

【０１００】化合物（I-a）は、化合物（I）においてY
がヒドロキシである化合物(I-c)を原料にして、下記の
工程bによって製造することもできる。工程b

【０１０１】

【化６９】

【０１０２】（式中、X、Z、R¹およびR²はそれぞれ前記
と同義であり、Y³はハロゲン、置換もしくは非置換の低
級アルキルスルホニルオキシまたは置換もしくは非置換
のアリールスルホニルオキシを表す） Y³の定義におけるハロゲンは前記と同義である。Y³の定
義における置換もしくは非置換の低級アルキルスルホニ
ルオキシの低級アルキルスルホニル部分は前記の低級ア
ルキルスルホニルと同義であり、置換低級アルキルスル
ホニルオキシの置換基は、置換低級アルキルスルホニル
の置換基と同義である。Y³の定義における置換もしくは
非置換のアリールスルホニルオキシのアリールスルホニ
ル部分は前記のアリールスルホニルと同義であり、置換
アリールスルホニルオキシの置換基は、置換アリールス
ルホニルの置換基と同義である。

【０１０３】化合物(I-c)を、公知の方法[例えば、新実
験化学講座14 有機化合物の合成と反応（I）、373頁
（丸善）（1977年）]またはそれに準じて、ハロゲン化
またはスルホン酸エステル化し、化合物（I）においてY
がハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキルスルホ
ニルオキシまたは置換もしくは非置換のアリールスルホ
ニルオキシである化合物(I-bb)を製造することができ
る。

【０１０４】その後、前記工程aに準じて、化合物（I-b
b）に化合物（VI）またはその塩を反応させることで、
化合物（I-a）を製造することができる。化合物(I)のう
ち、YがNH₂である化合物(I-aa)は、工程１〜４もしくは
工程a、bで得られる化合物(I-a)のうちR¹とR²が同時に
水素ではない化合物を原料にして下記の工程cの変換を
行うことによっても製造することができる。

【０１０５】工程c 化合物(I-a)のうちR¹とR²が同時に水素ではない化合物
を用いて、文献記載の方法［プロテクティブ・グループ
ス・イン・オーガニック・シンセシス（PROTECTIVE GRO
UPS IN ORGANIC SYNTHESIS）、309頁（ウィリー・イン
ターサイエンス出版（WILEY-INTERSCIENCE PUBLICATIO
N）、1991年）］またはそれに準じて、化合物(I-aa)を
製造することができる。

【０１０６】工程cの原料化合物としては、化合物（I-
a）においてR¹とR²が同一または異なって、水素、ヒド
ロキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換も
しくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換
のアロイル、置換もしくは非置換のアラルキル、置換も
しくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしく
は非置換のアリールオキシカルボニルまたはトリ低級ア
ルキルシリルを表すか、R¹およびR²が隣接する窒素原子
と一緒になってフタルイミドまたは、式（VII）

【０１０７】

【化７０】

【０１０８】（式中、nは１〜３の整数を表す）で表さ
れる基を形成する化合物（但し、R¹とR ²は同時には水素
ではない）等が挙げられる。また、化合物（II）、化合
物（IV）、化合物（V）において、上記の工程a、b、cと
同様の反応を行い、化合物（II）、化合物（IV）、化合
物（V）のYを変換して新たな化合物（II）、化合物（I
V）、化合物（V）に導いた後に、工程1、工程2、工程
3、工程4を行い、所望の化合物（I）を製造することも
できる。

【０１０９】製造法２化合物（I）の中でYがNR¹R²(式中、R¹およびR²はそれぞ
れ前記と同義である)である化合物(I-a)は、上記製造法
１による方法の他、工程1で得られる化合物（IV）のう
ち、YがNR¹R²(式中、R¹およびR²はそれぞれ前記と同義
である)もしくはヒドロキシでない化合物（IV-b）か
ら、次の反応工程に従い製造することができる。

【０１１０】

【化７１】

【０１１１】（式中、X、Z、Y²、R¹およびR²はそれぞれ
前記と同義である）工程５化合物(IV-b)を無溶媒もしくは適当な溶媒中、1〜10当
量の適当な酸無水物で、通常0〜200℃で5分〜48時間処
理した後、1〜100当量の化合物(VI)またはその塩と、必
要に応じて0.1〜10当量の適当な塩基の存在下、通常-15
〜100℃で1分〜48時間反応させることにより、化合物(V
-b)を製造することができる。

【０１１２】適当な溶媒としては、特に限定されない
が、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の脂
肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素系溶媒、テトラリン、ジフェニルエー
テル、酢酸エチル、塩化メチレン、クロロホルム、ジク
ロロエタン、四塩化炭素、ピリジン、アセトニトリル、
N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミ
ド、1-メチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾ
リジノン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチ
ルスルホン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、エチレングリコールジメチルエーテル、酢
酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、
メタンスルホン酸等が挙げられ、これらを単独もしくは
混合して用いることができる。

【０１１３】適当な酸無水物としては、トリフルオロメ
タンスルホン酸無水物、トリフルオロ酢酸無水物、無水
酢酸、メタンスルホン酸無水物、ベンゼンスルホン酸無
水物等が挙げられる。適当な塩基としては、トリメチル
アミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミン、DBU、ピリジン、N-メチルモル
ホリン等の有機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシド、カリウム tert-ブトキシド、ナトリウム
tert-ブトキシド、リチウムジイソプロピルアミド、n-
ブチルリチウム等の有機金属塩、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化
リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
カルシウム等の無機塩基、水素化ナトリウム、水素化カ
リウム、水素化カルシウム等の金属水素化物等が挙げら
れる。

【０１１４】工程６化合物(V-b)を用い、工程３と同様の操作を行うことに
より、化合物(I-a)を製造することができる。

【０１１５】化合物（I-a）は、化合物（IV-b）から一
工程で、中間体を単離することなく製造することもでき
る。工程７化合物(IV-b)を適当な溶媒中、1〜10当量の適当な脱水
縮合剤、適当な酸無水物、適当な酸塩化物または適当な
ルイス酸で、無溶媒もしくは適当な溶媒中、通常0〜250
℃、好ましくは80〜250℃で、5分〜48時間処理した後、
1〜100当量の化合物(VI)またはその塩と、必要に応じ
て、0.1〜10当量の適当な塩基の存在下、通常-15〜100
℃で1分〜48時間反応させ、その後、必要に応じて、0.1
〜10当量の適当な塩基の存在下、0〜200℃で5分〜48時
間処理することにより化合物（I-a）を製造することが
できる。

【０１１６】適当な脱水縮合剤としては、五酸化二リ
ン、ポリリン酸、ポリリン酸エチルエステルまたはポリ
リン酸トリメチルシリルエステル等が挙げられる。適当
な酸無水物としては、トリフルオロメタンスルホン酸無
水物、トリフルオロ酢酸無水物、無水酢酸、メタンスル
ホン酸無水物、ベンゼンスルホン酸無水物またはフルオ
ロスルホン酸無水物などが挙げられ、適当な酸塩化物と
してはジエチルリン酸クロリド、ベンゼンスルホン酸ク
ロリド、p-トルエンスルホン酸クロリド、p-ブロモベン
ゼンスルホン酸クロリド、p-メトキシベンゼンスルホン
酸クロリドまたはメタンスルホン酸クロリド等が挙げら
れ、適当なルイス酸としては、塩化アルミニウム、四塩
化チタン、二塩化スズまたは二塩化亜鉛等が挙げられ
る。

【０１１７】適当な溶媒としては、特に限定されない
が、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の脂
肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素系溶媒、テトラリン、ジフェニルエー
テル、酢酸エチル、塩化メチレン、クロロホルム、ジク
ロロエタン、四塩化炭素、ピリジン、アセトニトリル、
N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミ
ド、1-メチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾ
リジノン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチ
ルスルホン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、エチレングリコールジメチルエーテル、酢
酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、
メタンスルホン酸等が挙げられ、これらを単独もしくは
混合して用いることができる。

【０１１８】1〜100当量の化合物(VI)またはその塩と通
常-15〜100℃で1分〜48時間反応させる際に必要に応じ
て添加される適当な塩基および0〜200℃で5分〜48時間
処理する際の適当な塩基としては、トリメチルアミン、
トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピル
エチルアミン、DBU、ピリジン、N-メチルモルホリン等
の有機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド、カリウムtert-ブトキシド、ナトリウム tert-ブ
トキシド、リチウムジイソプロピルアミド、n-ブチルリ
チウム等の有機金属塩、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシ
ウム等の無機塩基、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ム、水素化カルシウム等の金属水素化物等が挙げられ
る。

【０１１９】上記製造法における中間体および目的化合
物は、有機合成化学で常用される精製法、例えば濾過、
抽出、洗浄、乾燥、濃縮、再結晶、各種カラムクロマト
グラフィー等に付して単離精製することができる。また
中間体においては、特に単離することなく次の反応に供
することも可能である。化合物（IVa）の塩または化合
物（Va）の塩を取得したいとき、化合物（IVa）または
化合物（Va）が塩の形で得られる場合にはそのまま精製
すればよく、また遊離の形で得られる場合には、通常の
方法により、すなわち化合物（IVa）または化合物（V
a）を適当な溶媒に溶解または懸濁し、所望の酸を添加
し塩を形成させ単離精製すればよい。

【０１２０】また、化合物（IVa）および化合物（Va）
ならびにそれらの塩は、水または各種溶媒との付加物の
形で存在することもあるが、これら付加物も本発明に包
含される。化合物（IVa）および化合物(Va)の中には、
光学異性体などの立体異性体が存在し得るものもある
が、本発明は、これらを含め、全ての可能な異性体およ
びそれらの混合物を包含する。

【０１２１】以下、実施例により本発明を更に具体的に
説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定される
ものではない。

【０１２２】

【実施例】実施例1 2-アミノ-6-クロロ-4(2-(2-フロイルヒドラジノ))ピリ
ミジン［化合物（IV-1）］ 2-アミノ-4,6-ジクロロピリミジン 500 g（305 mol）を
ジメチルスルホキシド（DMSO） 2.5 Lに溶解させ、攪拌
している中に 2-フロイックヒドラジド（III-1）475 g
（3.77mol）、カリウム tert -ブトキシド 710 g（6.33
mol）を添加し、30℃にて2時間攪拌した。反応終了後
に酢酸 362 mL（6.33 mol）を加え、室温にて30分間攪
拌した後、水2.5 Lを加え、室温にて2時間攪拌した。析
出した結晶を濾取し、水 2.6 Lで洗浄後、減圧乾燥を行
うことで化合物（IV-1）741 g（収率97%）を得た。

【０１２３】¹H NMR（DMSO-d₆）δ（ppm）：10.29 (1H,
brs), 8.98 (1H, brs), 7.83 (1H,d, J = 0.9 Hz), 7.
18 (1H, d, J = 3.3 Hz), 6.60 (1H, dd, J = 0.9, 3.3
Hz), 6.56 (2H, brs) , 5.72 (1H, brs).¹³ C NMR（DMSO-d₆）δ（ppm）:166.1, 162.9, 158.9,
157.6, 146.1, 145.8,114.7, 111.9, 90.2. MS（SIMS） m/z = 256, 254 (M⁺+1), C₉H₈ ³⁵ClN₅O₂= 2
53.

【０１２４】実施例2 5-アミノ-7-クロロ-3-(フラン-2-イル) [1,2,4]トリア
ゾロ[4,3-c]ピリミジン［化合物（V-1）］実施例1で得られる化合物（IV-1）をトリフルオロ酢酸
40 mLに溶解させ、攪拌している中にトリフルオロメタ
ンスルホン酸無水物 19.8 mL（118 mmol）を滴下した。
8時間加熱還流した後、室温にて水 4 mL を加え、氷冷
下にて 10 mol/L水酸化カリウム水溶液 80 mLを攪拌し
ながら滴下した。更に 10 mol/L水酸化カリウム水溶液
20 mLを滴下し、反応液のpHを7.1とした。氷冷下3時間
攪拌した後、析出した結晶を濾取し、水 350 mLで洗浄
後、減圧乾燥を行うことで化合物（V-1） 8.55 g（収率
77%）を得た。

【０１２５】¹H NMR（DMSO-d₆）δ（ppm）：8.04 (1H,
dd, J = 0.8, 1.8 Hz), 7.65 (2H,brs), 7.14 (1H, s),
7.13 (1H, dd, J = 0.8, 3.5 Hz), 6.78 (1H, dd, J =
1.8, 3.5 Hz).¹³ C NMR（DMSO-d₆）δ（ppm）:152.6, 146.1, 145.7,
145.2, 139.5, 136.5,115.6, 112.2, 95.8. MS（EI）m/z = 237, 235 (M⁺), C₉H₆ ³⁵ClN₅O= 235.

【０１２６】実施例3 5-アミノ-7-クロロ-2-(フラン-2-イル) [1,2,4]トリア
ゾロ[1,5-c]ピリミジン［化合物（I-1）］実施例2で得られる化合物（V-1）10.0 g（2.81 mmol）
を1-メチル-2-ピロリドン 40 mLに溶解させ、80℃にて1
時間攪拌した。反応終了後、室温にて水 200 mLを加
え、2時間攪拌した。析出した結晶を濾取し、水 50 mL
で洗浄した後、減圧乾燥することで化合物（I-1）8.02
g（収率73%）を得た。

【０１２７】¹H NMR（DMSO-d₆）δ（ppm）：8.44 (2H,
brs), 7.95 (1H, dd, J = 0.7, 1.8Hz), 7.21 (1H, dd,
J = 0.7, 3.5 Hz), 7.06 (1H, s), 6.73 (1H, dd, J =
1.8, 3.5 Hz).¹³ C NMR（DMSO-d₆）δ（ppm）:157.4, 154.9, 149.2,
147.7, 146.0, 145.6,113.5, 112.9, 97.3. MS（EI）m/z = 237, 235 (M⁺), C₉H₆ ³⁵ClN₅O= 235.

【０１２８】実施例4 5-アミノ-7-クロロ-2-(フラン-2-イル) [1,2,4]トリア
ゾロ[1,5-c]ピリミジン［化合物（I-1）］五酸化二リン 224 mg（791 mmol）とビストリメチルシ
リルエーテル 336 mL（1.58 mmol）、キシレン100 mLの
混合物を90℃で2時間攪拌した。これに実施例1で得られ
る化合物（IV-1）100 g(3.95 mmol)を1,3-ジメチル-2-
イミダゾリジノン 500 mLに溶解させた溶液を、90℃で3
0分かけて滴下した。反応物を130℃で3時間攪拌した
後、放冷し氷水 2 L中に注入し、室温で2時間攪拌し
た。析出した固体を濾取し、得られた固体を水 300 mL
で洗浄した後、50℃で8時間減圧乾燥し、化合物（I-1）
70.1 g（収率76％）を得た。

【０１２９】実施例5 4,6-ジクロロ-4(2-(2-フロイルヒドラジノ))ピリミジン
［化合物（IV-2）］ 2,4,6-トリクロロピリミジン 100 g（545 mmol）をN,N-
ジメチルアセトアミド500 mLに溶解させ攪拌している中
に、2-フロイックヒドラジド（III-1）140 g（1.11 mo
l）を添加し、室温にて4時間攪拌した。反応終了後に水
2 Lを1時間かけて滴下し、室温にて2時間攪拌した。析
出した結晶を濾取し、水 500 mLで洗浄後、減圧乾燥を
行うことで化合物（IV-2）129 g（収率81%）を得た。

【０１３０】¹H NMR（DMSO-d₆）δ（ppm）：10.71 (1H,
brs), 10.21 (1H, brs), 7.92 (1H, m), 7.27 (1H,
m), 6.68 (1H, m), 6.65 (1H, brs). MS（EI） m/z = 276, 274, 272 (M⁺), C₉H₆ ³⁵Cl₂N₄O₂=
272.

【０１３１】実施例6 5,7-ジクロロ-3-(フラン-2-イル) [1,2,4]トリアゾロ
[4,3-c]ピリミジン［化合物（V-2）］トルエン 10 mL にトリフルオロメタンスルホン酸無水
物 0.92 mL（5.5 mmol）を加え攪拌している中に、実施
例5で得られる化合物（IV-2）1.00 g（3.66 mmol）を添
加し、70℃にて3時間攪拌した。氷冷下にて酢酸エチル
10 mL、水 10 mLを加えて分液を行い、有機層を減圧濃
縮した。濃縮残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘキ
サン：酢酸エチル 4：1→3：1→2：1）で精製し、化合
物（V-2）550 mg（収率59%）を得た。

【０１３２】¹H NMR（CDCl₃）δ（ppm）：7.73 (1H, d
d, J = 0.7, 1.8 Hz), 7.71 (1H, s), 7.02 (1H, dd, J
= 0.7, 3.5 Hz), 6.65 (1H, dd, J = 1.8, 3.5 Hz).¹³ C NMR（CDCl₃）δ（ppm）:151.9, 145.5, 144.4, 13
8.4, 137.9, 136.0, 117.2, 112.0, 108.5. MS（EI）m/z = 258, 256, 254 (M⁺), C₉H₄ ³⁵Cl₂N₄O= 2
54.

【０１３３】実施例7 5-アミノ-7-クロロ-3-(フラン-2-イル) [1,2,4]トリア
ゾロ[4,3-c]ピリミジン［化合物（V-1）］トルエン 10 mL にトリフルオロメタンスルホン酸無水
物 0.92 mL（5.5 mmol）を加え攪拌している中に実施例
5で得られる化合物（IV-2）1.00 g（3.66 mmol）を添加
し、70℃にて3時間攪拌した。氷冷下にて 2 mol/Lのア
ンモニア/メタノール溶液 9.20 mL（18.4 mmol）を1時
間かけて滴下した後、水 10 mL を加え室温にて3時間攪
拌した。析出した結晶を濾取し、水2 mLで洗浄後、減圧
乾燥を行い、化合物（V-1）303 mg（収率35%）を得た。

【０１３４】実施例8 5-ベンジルアミノ-7-クロロ-3-(フラン-2-イル) [1,2,
4]トリアゾロ[4,3-c]ピリミジン[化合物（V-3）] トルエン 10 mL にトリフルオロメタンスルホン酸無水
物 0.92 mL（5.5 mmol）を加え攪拌している中に実施例
5で得られる化合物（IV-2）1.00 g（3.66 mmol）を添加
し、70℃にて3時間攪拌した。氷冷下にてベンジルアミ
ン 2.00 mL （18.3 mmol）を1時間かけて滴下した後、
水 10 mL を加え室温にて1時間攪拌した。分液を行い、
有機層を水 500 mL で洗浄した後、減圧濃縮を行った。
濃縮残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢
酸エチル 10：1→5：1→2：1→1：1）で精製し、化合物
（V-3）943 mg（収率79%）を得た。

【０１３５】¹H NMR（DMSO-d₆）δ（ppm）：7.95 (1H,
dd, J = 0.7, 1.8 Hz), 7.36-7.28(6H, m), 7.18 (1H,
s), 7.12 (1H, dd, J = 0.7, 3.5 Hz), 6.74 (1H, dd,
J =1.8, 3.5 Hz), 4.64 (2H, brs).¹³ C NMR（DMSO-d₆）δ（ppm）:152.4, 145.9, 145.4,
143.8, 139.5, 137.3,136.5, 128.4 (2C), 127.4 (2C),
127.3, 115.6, 112.2, 96.3, 45.3. MS（EI）m/z = 327, 325 (M⁺), C₁₆H₁₂ ³⁵ClN₅O= 325.

【０１３６】実施例9 5-ベンジルアミノ-7-クロロ-2-(フラン-2-イル) [1,2,
4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン[化合物（I-2）] 実施例8で得られる化合物（V-3）48 mg（0.15 mmol）を
トルエン 0.50 mL に溶解させ、DBU 0.020 mL（0.15 mm
ol）を添加し、60℃にて3時間攪拌した。反応混合物を
減圧濃縮し、濃縮残渣をメタノール 1.0 mLに溶解させ
た後、水 1.0 mLを加え氷冷下にて1時間攪拌した。析出
した結晶を濾取し、水 1.0 mLで洗浄後、減圧乾燥を行
うことで化合物（I-2）33 mg（収率69%）を得た。

【０１３７】¹H NMR（DMSO-d₆）δ（ppm）:9.30 (1H,
t, J = 6.3 Hz), 7.93 (1H, dd, J =0.7, 1.7 Hz), 7.4
1-7.21 (5H, m), 7.20 (1H, dd, J = 0.7, 3.3 Hz), 7.
08 (1H, s), 6.71 (1H, dd, J = 1.7, 3.3 Hz), 4.67
(2H, d, J = 6.3 Hz).¹³ C NMR（DMSO-d₆）δ（ppm）:156.8, 154.1, 148.2,
145.5, 145.4, 145.2,138.3, 128.3 (2C), 127.4 (2C),
127.0, 112.7, 112.1, 96.9, 44.0. MS（EI）m/z = 327, 325 (M⁺), C₁₆H₁₂ ³⁵ClN₅O= 325.

【０１３８】実施例10 5-ベンジルアミノ-7-クロロ-2-(フラン-2-イル) [1,2,
4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン[化合物（I-2）] トルエン1.0 Lにトリフルオロメタンスルホン酸無水物
92.0 mL（547 mmol）を加え50℃にて攪拌している中に
実施例5で得られる化合物（IV-2）100 g（366mmol）を
添加し、70℃にて5時間攪拌した。氷冷下にてベンジル
アミン 200 mL（1.83 mol）を1時間かけて滴下した後、
水 1 Lを加え室温にて1時間攪拌した。分液を行い、有
機層を水 500 mLで洗浄した。有機層にDBU 33.0 mL（22
1 mmol）を添加し、60℃にて4時間攪拌した後、反応混
合物を減圧濃縮した。濃縮残渣をエタノール 500 mLに
溶解させ、水 300 mLを加えて氷冷下にて3時間攪拌し
た。析出した結晶を濾取し、エタノール 300 mLで洗浄
後、減圧乾燥を行うことで化合物（I-2）83.5 g（収率6
9%）を得た。

【０１３９】実施例11 5-アミノ-7-クロロ-2-(フラン-2-イル) [1,2,4]トリア
ゾロ[1,5-c]ピリミジン［化合物（I-1）］ポリリン酸 5.0 mLに実施例9または10で得られる化合物
（I-2）1.00 g（3.07mmol）を加え、80℃にて5時間攪拌
した。析出した固体を濾取し、水 5 mLで洗浄した。固
体をトルエン10mLに懸濁させ、60℃にて1時間攪拌し
た。懸濁液を室温まで放冷した後、固体を濾取し、トル
エン 2 mLで洗浄後、減圧乾燥を行うことで、化合物（I
-1）520 mg（収率67％）を得た。

【０１４０】実施例12 5-アミノ-7-クロロ-2-(フラン-2-イル)[1,2,4]トリアゾ
ロ[1,5-c]ピリミジン［化合物（I-1）］ 1 Lナスフラスコにスルホラン500 mLを加え、約50℃で
攪拌しながら、五酸化二リン123 g (433 mmol)を加え、
五酸化二リン/スルホラン懸濁液を調製した。

【０１４１】10 L四径フラスコに、実施例1で得られる
化合物(IV-1) 100 g(394 mmol)とスルホラン1000 mLを
加え120℃に加熱し、化合物（IV-1）を溶解させた。こ
れに、上記の五酸化二リン/スルホラン懸濁液(約50℃に
加温して使用)をゆっくり添加した後、120〜130℃で2時
間攪拌した。反応溶液を50℃になるまで放冷し、水 50m
Lをゆっくり滴下した。次いで、水 3150 mLを加え、室
温で約2時間攪拌した後、析出した結晶を濾取し、水 40
0 mLで洗浄した。得られた結晶を減圧乾燥することによ
り、化合物（I-1）78.2 g(収率84％)を得た。

【０１４２】

【発明の効果】本発明により、アデノシンA_2A受容体拮
抗作用を示し、アデノシンA_2A受容体の機能亢進に由来
する各種疾患（例えば、パーキンソン病、老人性痴呆症
またはうつ病等）に対する治療または予防に有用な[1,
2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の製造中間体
を、安価かつ大量に製造するための製造法が提供され
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者鈴木公二大阪府堺市高須町一丁目１番53号協和醗酵工業株式会社堺研究所内Ｆターム(参考） 4C050 AA01 BB06 CC08 EE04 FF01 GG02 GG04 HH02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】式（II）【化１】｛式中、Xはハロゲン、OQ（式中、Qは水素、置換もしく
は非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のアリー
ル、置換もしくは非置換の芳香族複素環基、置換もしく
は非置換のアルキルスルホニルまたは置換もしくは非置
換のアリールスルホニルを表す）、置換もしくは非置換
の低級アルキルチオ、置換もしくは非置換のアリールチ
オ、置換もしくは非置換の低級アルキルスルフィニル、
置換もしくは非置換のアリールスルフィニル、置換もし
くは非置換の低級アルキルスルホニルまたは置換もしく
は非置換のアリールスルホニルを表し、Wはハロゲン、O
Q²（式中、Q²は前記のQの定義から水素を除いたものを
表す）、置換もしくは非置換の低級アルキルチオ、置換
もしくは非置換のアリールチオ、置換もしくは非置換の
低級アルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のアリ
ールスルフィニル、置換もしくは非置換の低級アルキル
スルホニルまたは置換もしくは非置換のアリールスルホ
ニルを表し、１）XがOQ（式中、Qは前記と同義である）、置換もしく
は非置換の低級アルキルチオ、置換もしくは非置換のア
リールチオ、置換もしくは非置換の低級アルキルスルフ
ィニル、置換もしくは非置換のアリールスルフィニル、
置換もしくは非置換の低級アルキルスルホニルまたは置
換もしくは非置換のアリールスルホニルを表すとき、Y
はハロゲン、OQ¹（式中、Q¹は前記のQと同義である）、
置換もしくは非置換の低級アルキルチオ、置換もしくは
非置換のアリールチオ、置換もしくは非置換の低級アル
キルスルフィニル、置換もしくは非置換のアリールスル
フィニル、置換もしくは非置換の低級アルキルスルホニ
ル、置換もしくは非置換のアリールスルホニルまたはNR
¹R²［式中、R¹およびR²は同一または異なって、水素、
ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換
もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換
の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルカノ
イル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非
置換のアラルキル、置換もしくは非置換の低級アルコキ
シカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカ
ルボニルまたはトリ低級アルキルシリルを表すか、R¹お
よびR²が隣接する窒素原子と一緒になってフタルイミド
または、式（VII）【化２】（式中、nは１〜３の整数を表す）で表される基を形成
する］を表し、２）Xがハロゲンを表すとき、Yはハロゲン、OQ¹（式
中、Q¹は前記のQと同義である）、置換低級アルキルチ
オ、置換もしくは非置換のアリールチオ、置換もしくは
非置換の低級アルキルスルフィニル、置換もしくは非置
換のアリールスルフィニル、置換もしくは非置換の低級
アルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアリールス
ルホニルまたはNR¹R ²（式中、R¹およびR²はそれぞれ前
記と同義である）を表す｝で表される化合物（II）を、
式（III）【化３】（式中、Zは置換もしくは非置換のアリールまたは置換
もしくは非置換の芳香族複素環基を表す）で表される化
合物（III）と反応させ、式（IV）【化４】（式中、X、YおよびZはそれぞれ前記と同義である）で
表される化合物（IV）に導き、当該化合物（IV）を環化
させ、式（V）【化５】（式中、X、YおよびZはそれぞれ前記と同義である）で
表される化合物（V）に導き、当該化合物（V）を転位さ
せることを特徴とする式（I）【化６】（式中、X、YおよびZはそれぞれ前記と同義である）で
表される[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の
製造法。
【請求項２】式（IVa）【化７】［式中、Y¹は塩素またはNR^1aR^2a（式中、R^1aおよびR^2a
は同一または異なって、水素または置換もしくは非置換
のアラルキルを表す）を表す］で表されるピリミジン誘
導体またはその塩。
【請求項３】式（Va）【化８】（式中、Y¹は前記と同義である）で表される[1,2,4]ト
リアゾロ[4,3-c]ピリミジン誘導体またはその塩。
【請求項４】式（II）【化９】（式中、X、YおよびWはそれぞれ前記と同義である）で
表される化合物（II）を、式（III）【化１０】（式中、Zは前記と同義である）で表される化合物（II
I）と反応させ、式（IV）【化１１】（式中、X、YおよびZはそれぞれ前記と同義である）で
表される化合物（IV）に導き、次いで当該化合物（IV）
の環化、転位を一工程で行うことを特徴とする式（I）【化１２】（式中、X、YおよびZはそれぞれ前記と同義である）で
表される[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の
製造法。
【請求項５】 Xがハロゲンである請求項１または４に
記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の製
造法。
【請求項６】 YがハロゲンまたはNR¹R²（式中、R¹およ
びR²はそれぞれ前記と同義である）である請求項１、４
または５に記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン
誘導体の製造法。
【請求項７】 Wがハロゲンである請求項１、４〜６の
いずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン
誘導体の製造法。
【請求項８】 Zが置換もしくは非置換の芳香族複素環
基である請求項１、４〜７のいずれかに記載の[1,2,4]
トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の製造法。
【請求項９】 Zがフリルである請求項１、４〜７のい
ずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘
導体の製造法。
【請求項１０】式（IIA）【化１３】｛式中、X^Aはハロゲン、OQ^A（式中、Q^Aは水素、置換も
しくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のア
リール、置換もしくは非置換の芳香族複素環基、置換も
しくは非置換のアルキルスルホニルまたは置換もしくは
非置換のアリールスルホニルを表す）、置換もしくは非
置換の低級アルキルチオ、置換もしくは非置換のアリー
ルチオ、置換もしくは非置換の低級アルキルスルフィニ
ル、置換もしくは非置換のアリールスルフィニル、置換
もしくは非置換の低級アルキルスルホニルまたは置換も
しくは非置換のアリールスルホニルを表し、Y^Aはハロゲ
ン、OQ^1A（式中、Q^1Aは前記のQ^Aと同義である）、置換
もしくは非置換の低級アルキルチオ、置換もしくは非置
換のアリールチオ、置換もしくは非置換の低級アルキル
スルフィニル、置換もしくは非置換のアリールスルフィ
ニル、置換もしくは非置換の低級アルキルスルホニル、
置換もしくは非置換のアリールスルホニルまたはNR^1AR
^2A［式中、R^1AおよびR^2Aは同一または異なって、水素、
ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換
もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換
の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルカノ
イル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非
置換のアラルキル、置換もしくは非置換の低級アルコキ
シカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカ
ルボニルまたはトリ低級アルキルシリルを表すか、R^1A
およびR^2Aが隣接する窒素原子と一緒になってフタルイ
ミドまたは、式（VIIA）【化１４】（式中、naは１〜３の整数を表す）で表される基を形成
する］を表し、W^Aはハロゲン、OQ^2A（式中、Q^2Aは前記
のQ^Aの定義から水素を除いたものを表す）、置換もしく
は非置換の低級アルキルチオ、置換もしくは非置換のア
リールチオ、置換もしくは非置換の低級アルキルスルフ
ィニル、置換もしくは非置換のアリールスルフィニル、
置換もしくは非置換の低級アルキルスルホニルまたは置
換もしくは非置換のアリールスルホニルを表す、但しX^A
がハロゲンであるときにはY^Aは低級アルキルチオではな
い｝で表される化合物（IIA）を、式（IIIA）【化１５】（式中、Z^Aは置換もしくは非置換のアリールまたは置換
もしくは非置換の芳香族複素環基を表す）で表される化
合物（IIIA）と反応させ、式（IVA）【化１６】（式中、X^A、Y^AおよびZ^Aはそれぞれ前記と同義である）
で表される化合物（IVA）に導き、当該化合物（IVA）を
環化させ、式（VA）【化１７】（式中、X^A、Y^AおよびZ^Aはそれぞれ前記と同義である）
で表される化合物（VA）に導き、当該化合物（VA）を転
位させることを特徴とする式（IA）【化１８】（式中、X^A、Y^AおよびZ^Aはそれぞれ前記と同義である）
で表される[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体
の製造法。
【請求項１１】式（IIA）【化１９】（式中、X^A、Y^AおよびZ^Aはそれぞれ前記と同義である）
で表される化合物（IIA）を、式（IIIA）【化２０】（式中、Z^Aは前記と同義である）で表される化合物（II
IA）と反応させ、式（IVA）【化２１】（式中、X^A、Y^AおよびZ^Aはそれぞれ前記と同義である）
で表される化合物（IVA）に導き、次いで当該化合物（I
VA）の環化、転位を一工程で行うことを特徴とする式
（IA）【化２２】（式中、X^A、Y^AおよびZ^Aはそれぞれ前記と同義である）
で表される[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体
の製造法。
【請求項１２】 X^Aがハロゲンである請求項１０または
１１に記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導
体の製造法。
【請求項１３】 Y^AがハロゲンまたはNR^1AR^2A（式中、R
^1AおよびR^2Aはそれぞれ前記と同義である）である請求
項１０〜１２のいずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,
5-,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の製造法。
【請求項１４】 W^Aがハロゲンである請求項１０〜１３
のいずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジ
ン誘導体の製造法。
【請求項１５】 Z^Aが置換もしくは非置換の芳香族複素
環基である請求項１０〜１４のいずれかに記載の[1,2,
4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の製造法。
【請求項１６】 Z^Aがフリルである請求項１０〜１４の
いずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン
誘導体の製造法。
【請求項１７】式（IVa）【化２３】（式中、Y¹は前記と同義である）で表されるピリミジン
誘導体またはその塩を、脱水縮合剤、酸無水物、酸塩化
物またはルイス酸で処理することを特徴とする式（Ia）【化２４】（式中、Y¹は前記と同義である）で表される[1,2,4]ト
リアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の製造法。
【請求項１８】式（Va）【化２５】（式中、Y¹は前記と同義である）で表される[1,2,4]ト
リアゾロ[4,3-c]ピリミジン誘導体またはその塩を、塩
基または酸の存在下、処理することを特徴とする式（I
a）【化２６】（式中、Y¹は前記と同義である）で表される[1,2,4]ト
リアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の製造法。
【請求項１９】式（IV）【化２７】（式中、X、YおよびZはそれぞれ前記と同義である）で
表される化合物（IV）またはその塩を溶媒存在下または
非存在下、脱水縮合剤で処理することを特徴とする式
（I）【化２８】（式中、X、YおよびZはそれぞれ前記と同義である）で
表される[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の
製造法。
【請求項２０】脱水縮合剤が五酸化二リンである請求
項１９に記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘
導体の製造法。
【請求項２１】溶媒がスルホランである請求項１９ま
たは２０に記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン
誘導体の製造法。
【請求項２２】反応温度が100〜130℃である請求項１
９〜２１のいずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]
ピリミジン誘導体の製造法。
【請求項２３】 Xがハロゲンである請求項１９〜２２
のいずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジ
ン誘導体の製造法。
【請求項２４】 YがNR¹R²（式中、R¹およびR²はそれぞ
れ前記と同義である）である請求項１９〜２３のいずれ
かに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体
の製造法。
【請求項２５】 Yがアミノである請求項１９〜２３の
いずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン
誘導体の製造法。
【請求項２６】 Zが置換もしくは非置換の芳香族複素
環基である請求項１９〜２５のいずれかに記載の[1,2,
4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の製造法。
【請求項２７】 Zがフリルである請求項１９〜２５の
いずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン
誘導体の製造法。
【請求項２８】式（IVA）【化２９】（式中、X^A、Y^AおよびZ^Aはそれぞれ前記と同義である）
で表される化合物（IVA）またはその塩を溶媒存在下ま
たは非存在下、脱水縮合剤で処理することを特徴とする
式（IA）【化３０】（式中、X^A、Y^AおよびZ^Aはそれぞれ前記と同義である）
で表される[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体
の製造法。
【請求項２９】脱水縮合剤が五酸化二リンである請求
項２８に記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘
導体の製造法。
【請求項３０】溶媒がスルホランである請求項２８ま
たは２９に記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン
誘導体の製造法。
【請求項３１】反応温度が100〜130℃である請求項２
８〜３０のいずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]
ピリミジン誘導体の製造法。
【請求項３２】 X^Aがハロゲンである請求項２８〜３１
のいずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジ
ン誘導体の製造法。
【請求項３３】 Y^AがNR^1AR^2A（式中、R^1AおよびR^2Aは
それぞれ前記と同義である）である請求項２８〜３２の
いずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン
誘導体の製造法。
【請求項３４】 Y^Aがアミノである請求項２８〜３２の
いずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン
誘導体の製造法。
【請求項３５】 Z^Aが置換もしくは非置換の芳香族複素
環基である請求項２８〜３４のいずれかに記載の[1,2,
4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の製造法。
【請求項３６】 Z^Aがフリルである請求項２８〜３４の
いずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン
誘導体の製造法。
【請求項３７】式（IVa）【化３１】（式中、Y¹は前記と同義である）で表される化合物（IV
a）またはその塩を溶媒存在下または非存在下、脱水縮
合剤で処理することを特徴とする式（Ia）【化３２】（式中、Y¹は前記と同義である）で表される[1,2,4]ト
リアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘導体の製造法。
【請求項３８】脱水縮合剤が五酸化二リンである請求
項３７に記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン誘
導体の製造法。
【請求項３９】溶媒がスルホランである請求項３７ま
たは３８に記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン
誘導体の製造法。
【請求項４０】反応温度が100〜130℃である請求項３
７〜３９のいずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]
ピリミジン誘導体の製造法。
【請求項４１】 Y¹がNR^1aR^2a（式中、R^1aおよびR^2aは
それぞれ前記と同義である）である請求項３７〜４０の
いずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジン
誘導体の製造法。
【請求項４２】 Y¹がアミノ基である請求項３７〜４０
のいずれかに記載の[1,2,4]トリアゾロ[1,5-c]ピリミジ
ン誘導体の製造法。