JP2002015859A - 有機エレクトロルミネッセンス素子及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 良好な可撓性を備え、且つ発光特性及び耐久
性に優れた有機ＥＬ素子及び有機ＥＬ表示装置を提供す
る。 【解決手段】 基板上に、第１電極４と、有機化合物か
らなる発光材料を有する有機エレクトロルミネッセンス
層１０と、第２電極８とをこの順で備え、上記基板が、
フィルム状金属基板２であり、上記第２電極８が、透光
性を有するであり、上記第１電極４と、上記有機エレク
トロルミネッセンス層１０と、上記第２電極８とを備え
る構造体が上記基板上に直接形成されてなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表示素子や発光素
子等として利用される有機エレクトロルミネッセンス素
子（有機ＥＬ素子）及び有機エレクトロルミネッセンス
表示装置（有機ＥＬ表示装置）に関する。

【０００２】

【従来の技術】エレクトロルミネッセンス素子（以下Ｅ
Ｌ素子と呼ぶ。）は、蛍光性化合物に電場を加えること
で励起し、発光させる素子である。そして、ＥＬ素子は
自己発光性であるため視認性が高く、また完全固体素子
であるため、耐衝撃性に優れている等の特徴を有するこ
とから、発光材料として無機及び有機化合物を用いた種
々のＥＬ素子が研究、開発されている。このようなＥＬ
素子は、使用する蛍光性化合物により無機ＥＬ素子と、
有機ＥＬ素子とに分類できる。

【０００３】そのうち、有機ＥＬ素子は、外部から電子
とホール（正孔）とを注入し、それらが有機化合物から
なる発光層中で再結合し、このときの再結合エネルギー
によって発光中心を励起するものである。また、有機Ｅ
Ｌ素子は、直流で動作し、且つ無機ＥＬ素子に比べると
はるかに低電圧で駆動する。また、発光層及びキャリア
輸送層を陰極及び陽極の両電極で挟んだサンドイッチ構
造であり、電極の少なくとも一方を透明にすることよっ
て、面状発光体を得ることができる等の特徴を有する。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したよ
うな有機ＥＬ素子の用途としては、薄膜パネル、ベルト
状、円筒状等の種々の形状、例えば線、図面、画像等の
表示用途があり、このような用途に使用する有機ＥＬ素
子を作製するには、基板として、薄く且つ可撓性を有す
る基板を用いるのが好ましい。このような薄く且つ可撓
性を有する基板として、例えば、特開平２−２５１４２
９号公報や特開平６−１２４７８５号公報では、高分子
フィルムが用いられている。しかしながら、これらの有
機ＥＬ素子の場合は、基板である高分子フィルムを透過
して有機ＥＬ素子内に侵入する酸素や水蒸気により有機
膜が劣化してしまうため、発光特性が不十分となり、ま
た、耐久性に不安がある。すなわち、良好な可撓性を備
え、且つ発光特性及び耐久性に優れた有機ＥＬ素子及び
有機エレクトロルミネッセンス表示装置（以下、有機Ｅ
Ｌ表示装置と呼ぶ。）は、まだ確立されていないのが現
状である。

【０００５】したがって、本発明は、上述した従来の実
情に鑑みて創案されたものであり、良好な可撓性を備
え、且つ発光特性及び耐久性に優れた有機ＥＬ素子及び
有機ＥＬ表示装置を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明に係る有機エレク
トロルミネッセンス素子（以下有機ＥＬ素子と呼ぶ。）
は、基板上に、第１電極と有機化合物からなる発光材料
を有する有機エレクトロルミネッセンス層と第２電極と
をこの順で備え、基板がフィルム状金属基板であり、第
２電極が透光性を有する電極であり、第１電極と有機エ
レクトロルミネッセンス層と第２電極とを備える構造体
が基板上に直接形成されてなることを特徴とするもので
ある。

【０００７】本発明に係る有機ＥＬ素子は、基板として
フィルム状金属基板が用いられているため、酸素や水蒸
気等が基板を透過して有機ＥＬ素子内に侵入・拡散する
ことが防止される。したがって、有機ＥＬ素子の外部の
酸素や水蒸気等が有機ＥＬ素子内に侵入・拡散すること
により、有機ＥＬ素子内部が劣化することがない。

【０００８】また、この有機ＥＬ素子は、基板としてフ
ィルム状金属基板を用いているため、従来のガラス基板
を用いた有機ＥＬ素子と比較して大幅に軽量化される。

【０００９】そして、この有機ＥＬ素子は、フィルム状
金属基板を用いているため、フィルム状金属基板が有す
る可撓性により有機ＥＬ素子自体も優れた可撓性を有す
るものとされる。そして、有機ＥＬ素子は、可撓性を有
することにより、この有機ＥＬ素子を用いて種々の機器
を構成した場合、例えばディスプレイ等を構成した場合
において、丸めて収納することが可能となるなど、種々
の使用形態に対応可能とされる。

【００１０】さらに、この有機ＥＬ素子は、ガラス基板
に比べて落下等の衝撃に対する耐衝撃性に優れるフィル
ム状金属基板を用いているため、耐衝撃性に優れたもの
とされる。

【００１１】また、この有機ＥＬ素子では、当該有機Ｅ
Ｌ素子を構成する構造体が基板上に直接成膜されて素子
を形成している。したがって、この有機ＥＬ素子は、素
子の厚みが薄いものとされる。そして、有機ＥＬ素子の
厚みが薄くなることにより、有機ＥＬ素子を用いて機器
を構成する際に機器の小型化が可能とされ、機器構成の
自由度が大きくなる。

【００１２】また、有機ＥＬ素子自体の厚みが薄くされ
ることにより、有機ＥＬ素子の可撓性がさらに良好なも
のとされ、この有機ＥＬ素子を用いて種々の機器を構成
した場合の使用形態がさらに広がる。

【００１３】そして、この有機ＥＬ素子では、多層薄膜
が基板上に直接成膜されるため、有機ＥＬ素子作製の工
程が簡便なものとされ、生産効率に優れたものとされ
る。

【００１４】本発明に係る有機エレクトロルミネッセン
ス表示装置（以下、有機ＥＬ表示装置と呼ぶ。）は、画
面部と当該画面部を駆動する回路部とを備え、画面部は
フィルム状金属基板上に直接形成された有機エレクトロ
ルミネッセンス素子と当該有機エレクトロルミネッセン
ス素子と回路部とを接続する配線とを有し、巻回収納可
能とされてなることを特徴とするものである。

【００１５】本発明に係る有機ＥＬ表示装置は、その画
面部が可撓性を有するフィルム状金属基板上に形成され
た有機ＥＬ素子を備えて構成されている。したがって、
画面部は、可撓性を有することとなり、この可撓性によ
り画面部は巻回収納が可能とされる。

【００１６】また、この有機ＥＬ表示装置子では、画面
部を構成する有機ＥＬ素子が基板上に直接成膜されて素
子を形成している。したがって、この有機ＥＬ素子は、
素子の厚みが薄いものとされる。そして、有機ＥＬ素子
の厚みが薄くなることにより、画面部の厚みを薄くする
ことができるため、種々の使用形態に対応することが可
能となる。

【００１７】そして、この有機ＥＬ表示装置では、有機
ＥＬ素子を構成する際に多層薄膜が基板上に直接成膜さ
れるため、製造工程が簡便なものとされ、生産効率に優
れたものとされる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した有機エレ
クトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子と呼
ぶ。）について図面を参照して詳説する。

【００１９】図１は、本発明を適用した有機ＥＬ素子の
一構成例を示した要部断面図である。

【００２０】有機ＥＬ素子１は、フィルム状金属基板２
と、フィルム状金属基板２上に形成された絶縁層３と、
絶縁層３上に形成された陰極である第１電極４と、第１
電極４上に形成された有機ＥＬ層１０と、有機ＥＬ層１
０上に形成された陽極である第２電極８と、第２電極８
上に形成された保護層９とを備えて構成される。

【００２１】フィルム状金属基板２は、有機ＥＬ素子１
の支持体となるものであり、このフィルム状金属基板２
上に有機ＥＬ素子１を構成する各層が形成される。この
有機ＥＬ素子１では、基板としてフィルム状金属基板２
を用いることを特徴とする。

【００２２】この有機ＥＬ素子１では、基板としてフィ
ルム状金属基板２を用いているため、酸素や水蒸気等が
基板を透過することを防止することができる。すなわ
ち、この有機ＥＬ素子１では、基板としてフィルム状金
属基板２を用いているため、有機ＥＬ素子１の外部の酸
素や水蒸気等が基板を透過して有機ＥＬ素子１内に侵入
することを防止することができる。有機ＥＬ素子では、
有機ＥＬ素子の外部から酸素や水蒸気等が有機ＥＬ素子
内に侵入すると、これらにより有機ＥＬ素子を構成する
各層、特に有機ＥＬ層が劣化してしまう。しかしなが
ら、この有機ＥＬ素子１では基板としてフィルム状金属
基板２を用いることにより基板を透過して酸素や水蒸気
等が有機ＥＬ素子１内に侵入することが防止されるた
め、外部から基板を透過して侵入した酸素や水蒸気等に
より、有機ＥＬ素子１を構成する各層、特に有機ＥＬ層
１０が劣化することを防止することができる。したがっ
て、この有機ＥＬ素子１は、有機ＥＬ素子１内の劣化に
起因した発光特性や耐久性の劣化が防止され、発光特性
に優れ、また、耐久性に優れた有機ＥＬ素子１とされ
る。

【００２３】また、この有機ＥＬ素子１では、基板とし
てフィルム状金属基板２を用いているため、従来のガラ
ス基板を用いた有機ＥＬ素子に比べて、大幅に軽量化さ
れる。これにより、当該有機ＥＬ素子１を用いて種々の
機器を構成した場合、例えば大型ディスプレイ等を構成
した場合においても、機器を軽量化することが可能とな
るため、機器設計の自由度を大きくすることが可能とさ
れる。

【００２４】そして、この有機ＥＬ素子１では、基板と
して良好な可撓性を有するフィルム状金属基板２を用い
ているため、有機ＥＬ素子１自体も可撓性を備えること
となる。すなわち、この有機ＥＬ素子１では、基板とし
てフィルム状金属基板２を用いているため、従来のガラ
ス板等を基板として用いた場合と異なり、フィルム状金
属基板２自体の有する可撓性により有機ＥＬ素子１を良
好な可撓性を有するものとすることができる。そして、
この有機ＥＬ素子１は、基板としてフィルム状金属基板
２を用いることにより良好な可撓性を有するものとされ
るため、当該有機ＥＬ素子１を用いて種々の機器を構成
した場合、例えばディスプレイ等を構成した場合におい
て、丸めて収納することが可能となるなど種々の使用形
態をとることが可能となる。

【００２５】さらに、フィルム状金属基板２は、ガラス
基板のような脆性を示すことがない。したがって、この
ようなフィルム状金属基板２を用いた有機ＥＬ素子１
は、従来のガラス基板を用いた有機ＥＬ素子と比較し
て、落下等、外部からの衝撃により割れ易い、すなわ
ち、壊れ易いということがなく、外部からの衝撃に対す
る耐衝撃性を大幅に向上させることができる。

【００２６】フィルム状金属基板２に用いる材料として
は、例えばステンレス、Ｆｅ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｕ
やこれらの合金等、常温・常圧においてフィルム状態と
することが可能な金属であれば何れの金属も用いること
ができる。

【００２７】ここで、フィルム状金属基板２の厚みは、
５０μｍ以上５００μｍ以下とすることが好ましい。こ
れは、フィルム状金属基板２の厚みを５０μｍ未満とし
た場合には、フィルム状金属基板２自体が十分な平坦性
を保持することが難しいため、有機ＥＬ素子１を構成し
た際に、有機ＥＬ素子１の良好な平坦性を維持すること
が困難になる虞があるからである。また、フィルム状金
属基板２の厚みを５００μｍよりも厚くした場合には、
フィルム状金属基板２自体を自由に曲げることが困難に
なる、すなわちフィルム状金属基板２自体の可撓性が乏
しくなるため、有機ＥＬ素子１を構成した際に、有機Ｅ
Ｌ素子１の可撓性が悪くなるからである。

【００２８】絶縁層３は、フィルム状金属基板２上に直
接形成されており、フィルム状金属基板２と陰極である
第１電極４とを絶縁するものである。この有機ＥＬ素子
１では、基板としてフィルム状金属基板２を用いている
ため、フィルム状金属基板２と陰極である第１電極４と
を絶縁しないと、フィルム状金属基板２と陰極である第
１電極４とが短絡してしまう虞がある。また、この有機
ＥＬ素子１では、基板としてフィルム状金属基板２を用
いているため、フィルム状金属基板２と陰極である第１
電極４とを絶縁しないと、有機ＥＬ素子１を複数形成す
ることにより機器を構成した場合等においてフィルム状
金属基板２により陰極である第１電極４同士が短絡して
しまう虞がある。したがって、これらの理由から、フィ
ルム状金属基板２と陰極である第１電極４とを絶縁する
ことが必要となる。

【００２９】そこで、この有機ＥＬ素子１では、フィル
ム状金属基板２と陰極である第１電極４との間に絶縁層
３を設けることによって、フィルム状金属基板２と陰極
である第１電極４とが絶縁されているため、フィルム状
金属基板２と陰極である第１電極４とが短絡すること、
また、複数の有機ＥＬ素子１により機器を構成した場合
等においてフィルム状金属基板２により陰極である第１
電極４同士が短絡することが防止される。

【００３０】絶縁層３に用いる材料としては、ＳｉＮや
ＡｌＮ等の窒化物、ＳｉＯ₂やＡｌ₂Ｏ₃等の酸化物、有
機系高分子材料等を用いることができる。その中でも、
特に酸素を含有しない窒化物を用いることが好ましい。
酸素を含有しない窒化物を絶縁層３の材料として用いる
ことにより、絶縁層３内の酸素が有機ＥＬ素子１内に拡
散する虞が皆無とすることができ、絶縁層３内から有機
ＥＬ素子１内に酸素が拡散し、有機ＥＬ素子１を構成す
る各層、特に有機ＥＬ層１０を劣化させることを防止す
ることができる。

【００３１】また、絶縁層３の厚みは、例えば５００ｎ
ｍ程度とすることが好ましい。絶縁層３の厚みが、５０
０ｎｍよりも大幅に薄い場合には、フィルム状金属基板
２と陰極である第１電極４とを確実に絶縁することがで
きない虞があり、その場合、フィルム状金属基板２と陰
極である第１電極４とが短絡してしまう虞があるからで
ある。また、絶縁層３の厚みが、５００ｎｍよりも大幅
に厚い場合には、絶縁層３の平坦性が悪くなり、絶縁層
３上に形成される有機ＥＬ素子１の各層の平坦性も同様
に悪くなる。その結果、有機ＥＬ素子１自体の平坦性が
悪くなり、この有機ＥＬ素子１の平坦性の悪さに起因し
て有機ＥＬ素子１の特性が劣化する虞があるからであ
る。

【００３２】陰極である第１電極４に用いる陰極材料と
しては、効率良く電子を注入するために、電極材料の真
空準位からの仕事関数が小さい金属を用いるのが好まし
い。

【００３３】具体的には、アルミニウム、インジウム、
マグネシウム、銀、カルシウム、バリウムリチウム等の
仕事関数が小さい金属を単体で用いても良く、またこれ
らの金属を他の金属との合金として安定性を高めて使用
しても良い。

【００３４】有機ＥＬ層は、電子輸送層と５、発光層６
と、正孔輸送層７とを備えて構成され、これら各層がこ
の順で陰極である第１電極４上に形成されてなる。

【００３５】電子輸送層５は、陰極である第１電極４か
ら注入された電子を発光層６まで輸送する。電子輸送層
５の材料として使用可能な材料としては、キノリン、ペ
リレン、ビススチリル、ピラジン、又はこれらの誘導体
が挙げられる。

【００３６】具体的には、８−ヒドロキシキノリンアル
ミニウム、アントラセン、ナフタリン、フェナントレ
ン、ピレン、クリセン、ペリレン、ブタジエン、クマリ
ン、アクリジン、スチルベン、又はこれらの誘導体等が
挙げられる。

【００３７】発光層６では、電子と正孔が結合して、そ
の結合エネルギーが光として放射される。図１において
は、発光層６が独立して設けられているが、正孔輸送層
７と発光層６とを兼ねた正孔輸送性発光層や、電子輸送
層５と発光層６とを兼ねた電子輸送性発光層を用いるこ
ともできる。正孔輸送性発光層を用いた場合には、陽極
から正孔輸送性発光層に注入された正孔が電子輸送層に
よって閉じこめられるため、再結合効率が向上する。ま
た、電子輸送性発光層を用いた場合には、陰極から電子
輸送性発光層に注入された電子が電子輸送性発光層に閉
じこめられるため、正孔輸送性発光層を用いた場合と同
様に再結合効率が向上する。

【００３８】発光層６の材料としては、電圧印加時に陽
極側から正孔を、また、陰極側から電子を注入できるこ
と、注入された電荷、すなわち正孔及び電子を移動さ
せ、正孔と電子が再結合する場を提供できること、発光
効率が高いこと、等の条件を満たしている例えば低分子
蛍光色素、蛍光性の高分子、金属錯体等の有機材料を使
用することができる。

【００３９】このような材料としては、例えばアントラ
セン、ナフタリン、フェナントレン、ピレン、クリセ
ン、ペリレン、ブタジエン、クマリン、アクリジン、ス
チルベン、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム錯
体、ビス（ベンゾキノリノラト）ベリリウム錯体、トリ
（ジベンゾイルメチル）フェナントロリンユーロピウム
錯体、ジトルイルビニルビフェニル等を挙げることがで
きる。

【００４０】正孔輸送層７は、陽極である第２電極８か
ら注入された正孔を発光層まで輸送する。正孔輸送材料
として使用可能な材料としては、ベンジン、スチリルア
ミン、トリフェニルメタン、ポルフィリン、トリアゾー
ル、イミダゾール、オキサジアゾール、ポリアリールア
ルカン、フェニレンジアミン、アリールアミン、オキサ
ゾール、アントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、ス
チルベン、又はこれらの誘導体、並びにポリシラン系化
合物、ビニルカルバゾール系化合物、チオフェン系化合
物、アニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマ、オ
リゴマ、ポリマ等が挙げられる。

【００４１】具体的には、α−ナフチルフェニルジアミ
ン、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリン、
金属ナフタロシアニン、４，４’，４”−トリメチルト
リフェニルアミン、４，４’，４”−トリス（３−メチ
ルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン）トリ
フェニルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ
−トリル）ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，
Ｎ’−テトラフェニル４，４’−ジアミノビフェニル、
Ｎ−フェニルカルバゾール、４−ジ−ｐ−トリルアミノ
スチルベン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ
（チオフェンビニレン）、ポリ（２，２’−チエニルピ
ロール）等が挙げられるが、これらに限定されるもので
はない。

【００４２】陽極である第２電極８に用いる陽極材料と
しては、効率良くホールを注入するために電極材料の真
空準位からの仕事関数が大きく、また、陽極側から有機
電界発光を取り出せるように、透光性を有する材料を用
いるのが好ましい。

【００４３】具体的には、ＩＴＯ、ＳｎＯ₂、ＺｎＯ等
が挙げられる。特に、生産性、制御性の観点からは、Ｉ
ＴＯ（Indium Tin Oxide）を好ましく用いることができ
る。

【００４４】しかしながら、陽極材料が酸素やインジウ
ムを含んでいる場合、これらの酸素やインジウムが有機
ＥＬ層１０と陽極との界面から有機ＥＬ層１０中に侵入
・拡散する虞がある。そして、酸素やインジウムが有機
ＥＬ層１０中に侵入・拡散した場合、この酸素やインジ
ウムにより有機ＥＬ層１０が劣化し、これに起因して発
光特性の低下や耐久性の低下が生じる虞がある。したが
って、陽極を構成する陽極材料中には、極力、酸素やイ
ンジウムが含まれていないことがより好ましい。

【００４５】このような条件を満たす陽極材料として
は、窒化物を好適に用いることができる。ここで、窒化
物とは、酸素やインジウムを含まない窒素化合物をい
う。

【００４６】陽極材料として窒化物を用いることによ
り、陽極材料中に酸素やインジウムが存在しないため、
上述したように、陽極材料中の酸素やインジウムが有機
ＥＬ層１０と陽極との界面から有機ＥＬ層１０中に侵入
・拡散する虞がない。そして、陽極材料中の酸素やイン
ジウムが有機ＥＬ層１０に侵入・拡散して、有機ＥＬ層
１０を劣化させるという現象が生じないため、この有機
ＥＬ層１０の劣化に起因して、発光特性の低下や耐久性
の低下が生じることがない。すなわち、陽極材料として
窒化物を用いることにより、陽極材料中の酸素やインジ
ウムに起因して発光特性の低下や耐久性の低下が生じる
ことが無くなるため、発光特性及び耐久性に優れた有機
ＥＬ素子を実現することができる。

【００４７】このような陽極材料として用いることがで
きる窒化物としては、例えばＴｉＮが挙げられが、これ
に限定されることはなく、電極材料の真空準位からの仕
事関数が大きく、透光性を有する材料であれば何れの材
料も用いることが可能である。

【００４８】ここで、上述したＴｉＮを陽極として用い
る場合には、ＴｉＮの厚みは、３μｍ以上１０μｍ以下
とすることが好ましい。これは、ＴｉＮの厚みが３μｍ
未満の場合、厚みが薄すぎるために陽極として十分に機
能しなくなるからである。また、ＴｉＮの厚みが１０μ
ｍよりも厚い場合には、可視光の透過率が悪くなり、実
用に適さなくなるからである。

【００４９】保護層９は、有機ＥＬ素子１の駆動の信頼
性を確保するため、また、有機ＥＬ素子１の劣化を防止
するために、有機ＥＬ素子１を封止し、酸素や水分を遮
断する作用をするものである。保護層９に用いられる材
料としては、気密性を保つことが可能であり、また、発
光層６で発生した発光が透過可能な金属単体、若しくは
その合金等を適宜選択して用いることができる。

【００５０】具体的には、アルミニウム、金、クロム、
ニオブ、タンタル、チタン、酸化シリコン等を挙げるこ
とができる。

【００５１】また、上述した有機ＥＬ素子１を構成する
各層は、それぞれが複数層からなる積層構造とされてい
ても良い。

【００５２】以上のように構成された有機ＥＬ素子１
は、上述したように基板としてフィルム状金属基板２を
用いているため、酸素や水蒸気等が基板を透過すること
を防止することができる。すなわち、この有機ＥＬ素子
１では、基板としてフィルム状金属基板２を用いている
ため、有機ＥＬ素子１の外部の酸素や水蒸気等が基板を
透過して有機ＥＬ素子１内に侵入することを防止するこ
とができる。したがって、この有機ＥＬ素子１は、有機
ＥＬ素子１内の劣化に起因した発光特性や耐久性の劣化
が防止され、発光特性に優れ、また、耐久性に優れた有
機ＥＬ素子とされる。

【００５３】また、この有機ＥＬ素子１では、基板とし
てフィルム状金属基板２を用いているため、従来のガラ
ス基板を用いた有機ＥＬ素子に比べて、大幅に軽量化す
ることができる。これにより、当該有機ＥＬ素子１を用
いて種々の機器を構成した場合、例えば大型ディスプレ
イ等を構成した場合においても、機器を軽量化すること
が可能となるため、機器設計の自由度を大きくすること
が可能となる。

【００５４】また、この有機ＥＬ素子１は、基板として
良好な可撓性を有するフィルム状金属基板２を用いてい
るため、有機ＥＬ素子１自体も良好な可撓性を有するも
のとされる。したがって、この有機ＥＬ素子１は、当該
有機ＥＬ素子１を用いて種々の機器を構成した場合、例
えばディスプレイ等を構成した場合において、種々の使
用形態に対応可能とされる。

【００５５】そして、この有機ＥＬ素子１は、基板とし
て落下等の衝撃に対する耐衝撃性に優れるフィルム状金
属基板２を用いているため、耐衝撃性を大幅に向上させ
ることができる。

【００５６】さらに、この有機ＥＬ素子１は、フィルム
状金属基板２上に上述した各層が直接成膜されることに
より形成されているため、生産性に優れたものとされ
る。すなわち、この有機ＥＬ素子１では、有機ＥＬ素子
１を構成する各層は、フィルム状金属基板２以外の他の
基板やシート等の上に形成された後、フィルム状金属基
板２上に配されるのではなく、フィルム状金属基板２上
に直接上述した各層を成膜して形成されるため、生産工
程が簡便であり、生産効率の良いものとされている。ま
た、この有機ＥＬ素子１は、フィルム状金属基板２上に
上述した各層が直接成膜されるため、フィルム状金属基
板２以外に他の支持体等を使用することがなく、コスト
的にも優れたものとされる。

【００５７】以上のように構成された有機ＥＬ素子１
は、陰極である第１電極４と陽極である第２電極８との
間に直流電圧を選択的に印可することにより、陽極であ
る第２電極８から注入された正孔が正孔輸送層７を経
て、また陰極である第１電極４から注入された電子が電
子輸送層５を経て移動し、それぞれ発光層６に到達す
る。その結果、発光層においては、電子と正孔との再結
合が生じ、ここから所定の波長で発光が生じる。また、
発光層６の材料を選択することにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの三
色を発光するフルカラー用、マルチカラー用の有機ＥＬ
素子とすることができる。この有機ＥＬ素子１は、例え
ばディスプレイ用として用いることができるが、その他
にも光源等としても使用可能であり、種々の光学的用途
等に用いることが可能である。

【００５８】以上のように構成された有機ＥＬ素子１
は、例えば次にようにして作製することができる。

【００５９】まず、基板として例えば厚み５０μｍのス
テンレスからなるフィルム状金属基板２を準備し、この
フィルム状金属基板２の主面上に絶縁層３として例えば
ＳｉＯ₂膜を真空蒸着法により成膜する。

【００６０】次に、上記のように形成された絶縁層３上
に、陰極である第１電極４として例えばＡｌＴｉ膜を１
００ｎｍの厚みにスパッタリングにより成膜する。

【００６１】次に、上述した陰極である第１電極上４
に、有機ＥＬ層１０を形成する。有機ＥＬ層１０は、電
子輸送層５、発光層６、及び正孔輸送層７をこの順に真
空蒸着法により成膜することで形成する。ここで、電子
輸送層５は、例えばＡｌｑ₃を成膜することにより形成
する。また、発光層６は、例えばα−ＮＰＤを成膜する
ことにより形成する。そして、正孔輸送層７は、例えば
ｍ−ＭＴＤＡＴＡを成膜することにより形成する。そし
て、有機ＥＬ層１０の厚みは、例えば１５０ｎｍとす
る。

【００６２】さらに、上記のように形成された有機ＥＬ
層１０上に、陽極である第２電極８として例えばＴｉＮ
膜を１０ｎｍの厚みに反応性ＤＣスパッタリングにより
成膜する。

【００６３】最後に、上記において形成した各層を覆う
ように例えばＳｉＮからなる厚み１０００ｎｍの保護層
９をスパッタリングにより形成することにより有機ＥＬ
素子１を作製することができる。

【００６４】次に、本発明を適用した有機エレクトロル
ミネッセンス表示装置（以下、有機ＥＬ表示装置と呼
ぶ。）について説明する。

【００６５】図２及び図３は、本発明を適用した有機Ｅ
Ｌ表示装置の構成を示した概略斜視図である。図２は、
この有機ＥＬ表示装置１１を使用する状態、すなわち画
面に表示を行う状態を示している。そして、図３は、こ
の有機ＥＬ表示装置１１を収納した状態を示している。
この有機ＥＬ表示装置１１は、画面部１２と、画面部１
２の一側端部に配され、画面部１２の駆動制御を行う駆
動回路、有機ＥＬ表示装置１１全体に電源を供給する電
源回路、表示信号を受信する信号処理回路等が収納され
た回路収納部１３と、回路収納部１３を略中心としてそ
のまわりに配され、画面部１２を収納する円筒状の画面
収納部１４とを備えて構成されている。

【００６６】画面部１２は、可撓性を有する基板上に有
機ＥＬ素子が多数形成されて構成された画素部２１と、
各有機ＥＬ素子を駆動するために各有機ＥＬ素子と各駆
動回路とを接続し、縦配線２２と横配線２３とからなる
配線２７が配された配線部２８とを備えている。図４
に、この有機ＥＬ表示装置１１を使用する状態、すなわ
ち、画面部１２が収納部より引き出された状態の平面図
を示す。回路収納部１３は、図４においては図示されて
いないが、画面収納部１４の中心部に画面収納部１４の
長手方向と平行に収納されている。また、ここでは、説
明の便宜上、画面部１２における回路収納部１３と対向
した辺を第１の辺２４、回路収納部１３及び第１の辺２
４と直交する２つの辺をそれぞれ第２の辺２５、及び第
３の辺２６と呼ぶこととする。

【００６７】画素部２１は、有機ＥＬ素子をマトリック
ス状に多数配列することにより形成されている。ここ
で、この有機ＥＬ表示装置１１では、有機ＥＬ表示とし
て、上述した有機ＥＬ素子１を用いている。図５に有機
ＥＬ素子の構成を示す要部斜視図を示す。すなわち、こ
の画素部２１は、図５に示すようにフィルム状金属基板
２上に絶縁層３が設けられ、その上にストライプ状（帯
状）に陰極である第１電極４が複数設けられ、その上に
電子輸送層５と発光層６と正孔輸送層７とが積層されて
なるシート状の有機ＥＬ層１０が設けられている。そし
て、さらに陰極である第１電極４と直交するようにして
ストライプ状（帯状）の陽極である第２電極８が複数設
けられ、その上に保護層９が設けられて構成されたもの
で、陰極である第１電極４と陽極である第２電極８とが
交差する位置に有機ＥＬ素子１が形成されている。

【００６８】画素部２１は、上述したような有機ＥＬ素
子１により構成されており、有機ＥＬ素子１の基板とし
てフィルム状金属基板２を用いているため、酸素や水蒸
気等が基板を透過することを防止することができる。す
なわち、この有機ＥＬ素子１では、基板としてフィルム
状金属基板２を用いているため、有機ＥＬ素子１の外部
の酸素や水蒸気等が基板を透過して有機ＥＬ素子１内に
侵入することを防止することができる。有機ＥＬ素子で
は、有機ＥＬ素子の外部から酸素や水蒸気等が有機ＥＬ
素子内に侵入すると、これらにより有機ＥＬ素子を構成
する各層、特に有機ＥＬ層が劣化してしまう。しかしな
がら、この有機ＥＬ素子１では基板としてフィルム状金
属基板２を用いることにより基板を透過して酸素や水蒸
気等が有機ＥＬ素子１内に侵入することが防止されるた
め、外部から基板を透過して侵入した酸素や水蒸気等に
より、有機ＥＬ素子１を構成する各層、特に有機ＥＬ層
１０が劣化することを防止することができる。したがっ
て、画素部２１は、画素部２１を構成する有機ＥＬ素子
１内の劣化に起因した発光特性や耐久性の劣化が防止さ
れ、発光特性に優れ、また、耐久性に優れた画素部とさ
れる。

【００６９】また、この画素部２１は、画素部２１を構
成する有機ＥＬ素子１の基板としてフィルム状金属基板
２を用いているため、従来のガラス基板を用いた有機Ｅ
Ｌ素子を用いた場合と比較して大幅に軽量化される。

【００７０】そして、この画素部２１は、画素部２１を
構成する有機ＥＬ素子１の基板として良好な可撓性を有
するフィルム状金属基板２を用いているため、有機ＥＬ
素子１自体も良好な可撓性を有するものとされる。そし
て、この有機ＥＬ素子１の可撓性により画素部２１に可
撓性を付加することが可能となり、本発明に係る有機Ｅ
Ｌ表示装置１１の特徴である画面部１２の巻回収納が可
能される。

【００７１】さらに、この画素部２１は、画素部２１を
構成する有機ＥＬ素子１の基板として落下等の衝撃に対
する耐衝撃性に優れるフィルム状金属基板２を用いてい
るため、耐衝撃性を大幅に向上させることができる。そ
のため、有機ＥＬ表示装置１１の耐衝撃性を大幅に向上
させることが可能とされる。

【００７２】また、画素部２１では、フィルム状金属基
板２上に有機ＥＬ素子１を構成する各層が直接成膜され
ることにより形成されているため、生産性に優れたもの
とされる。すなわち、この画素部２１では、有機ＥＬ素
子１を構成する各層が、フィルム状金属基板２以外の他
の基板やシート等の上に形成された後、フィルム状金属
基板２上に配されるのではなく、フィルム状金属基板２
上に直接上述した各層を成膜して形成されるため、生産
工程が簡便であり、生産効率の良いものとされている。
また、この画素部２１では、有機ＥＬ素子１がフィルム
状金属基板２上に有機ＥＬ素子１を構成する各層が直接
成膜されるため、フィルム状金属基板２以外に他の支持
体等を使用することがなく、コスト的にも優れたものと
される。

【００７３】以上のように構成された画素部２１は、有
機ＥＬ素子１の陰極である第１電極４と陽極である第２
電極８との間に直流電圧を選択的に印可することによ
り、陰極である第１電極４から注入された電子が電子輸
送層５を経て、また陽極である第２電極８から注入され
た正孔が正孔輸送層７を経て移動し、それぞれ発光層６
に到達する。その結果、発光層６においては、電子と正
孔との再結合が生じ、ここから所定の波長で発光が生じ
る。また、発光層６の材料を選択することにより、Ｒ、
Ｇ、Ｂの三色を発光するフルカラー用、マルチカラー用
の画素部とすることができる。

【００７４】配線部２８は、有機ＥＬ素子１の陰極であ
る第１電極４とから引き出された縦配線２２と、陽極で
ある第２電極８から引き出された横配線２３との２種類
の配線により構成された配線２７が配されている。

【００７５】縦配線２２は、陽極である第２電極８より
引き出され、画素部２１上において回路収納部１３と直
交する方向、すなわち、回路収納部１３と第１の辺２４
とに略垂直な方向に配されている。そして、縦配線２２
は、図４に示すように、画素部２１からそのまま直線状
に回路収納部１３まで配され、各有機ＥＬ素子１と輝度
信号回路（図示せず）とを接続している。

【００７６】また、横配線２３は、陰極である第１電極
４より引き出され、画素部２１上において回路収納部１
３と平行な方向、すなわち、第２の辺２５と第３の辺２
６とに略垂直な方向に引き出され、回路収納部１３まで
配される。すなわち、横配線２３は、まず、画面部１２
上において第２の辺２５又は第３の辺２６側の画素部２
１から外れた位置に陰極である第１電極４より引き出さ
れ、さらに縦配線２２と平行な方向に屈曲させられるこ
とにより、直線状に回路収納部１３まで配され、各有機
ＥＬ素子１と走査回路（図示せず）とを接続している。

【００７７】図４では、横配線２３は、第２の辺２５側
と第３の辺２６側との両方向に引き出されている。この
ように画素部２１を画素部を画面部の第１の辺２４と平
行な方向において、略中心部に配置し、横配線２３を第
２の辺２５側と第３の辺２６側との両方向に引き出すこ
とにより、画素部２１を画面部１２の第１の辺２４と平
行な方向において、略中心部に配置することができる。
また、画素部２１の位置を画面部１２の第１の辺２４と
平行な方向において調整したい場合は、画素部２１を所
望の位置に配置し、第２の辺２５側と第３の辺２６側と
で画素部２１からの横配線２３の引き出し長さを調整す
れば良い。そして、横配線２３は、必ずしも第２の辺２
５側と第３の辺２６側との両方向に引き出す必要はな
く、画素部２１を画面部１２の第１の辺２４と平行な方
向において第２の辺２５側又は第３の辺２６側の一方に
偏った配置とする場合には、画素部２１を所望の位置に
配置し、横配線２３を第２の辺２５側又は第３の辺２６
側のどちらか一方のみに引き出せば良い。

【００７８】また、縦配線２２及び横配線２３の材料と
しては、例えばＡｕ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｃｕ等の比抵抗率が
低く、安定性に優れた材料が挙げられる。

【００７９】以上のように構成された画面部１２は、画
面部１２の基板と、画素部２１の基板、すなわち画素部
２１を構成する有機ＥＬ素子１の基板とは兼用されてお
り、可撓性を有する基板が用いられている。画面部１２
の基板として、可撓性を有する基板を用いることによ
り、画面部１２に可撓性を付与することが可能となる。
そして、画面部１２に可撓性が付与されることにより、
画面部１２を折曲して巻回することが可能とされ、その
結果、画面部１２を巻回収納することが可能とされる。

【００８０】このような可撓性を有し、且つ、画面部１
２の基板として十分な機械的強度及び巻回するための十
分な曲げ強度を有するものとして、有機ＥＬ表示装置１
１ではフィルム状金属基板を用いている。フィルム状金
属基板は、良好な可撓性を有し、且つ画面部１２の基板
としても十分な機械的強度及び巻回するための十分な曲
げ強度を有するため、この主面上に有機ＥＬ素子や配線
等を配することにより、画面部１２に可撓性を付与する
ことができ、画面部１２を折曲して巻回することを可能
とするため、画面部１２を巻回収納可能とすることがで
きる。

【００８１】したがって、可撓性を有する基板を用いる
ことにより、従来のガラス基板を用いた場合には、不可
能であった画面部１２の巻回収納が可能とされる。そし
て、従来のガラス基板を用いた場合には、有機ＥＬ表示
装置１１の平面上の大きさ、すなわち、画面部１２と平
行な面においての大きさは、ほぼ画面部１２の大きさに
より決まってしまっていた。これは、画面部１２の基板
として、ガラス基板を用いているため、ガラス基板の特
性上、画面部１２に可撓性を付与することができなかっ
た。すなわち、画面部１２が可撓性を有していないた
め、画面部１２を折り畳んだり、巻回したりして画面部
１２の面積を縮小することができなかった。

【００８２】しかしながら、この有機ＥＬ表示装置１１
では、画面部１２の基板として可撓性を有する基板を用
いているため、画面部１２を巻回し、画面部１２の面積
を縮小することが可能とされる。その結果、画面部１２
全体を収納することが可能となる。

【００８３】回路収納部１３は、画面部１２の一側端部
に配され、有機ＥＬ素子の輝度の制御を行う輝度信号回
路や有機ＥＬ素子の走査駆動を制御する走査回路等の画
面部１２の駆動制御を行う駆動回路、有機ＥＬ表示装置
１１全体に電源を供給する電源回路、表示信号を受信す
る信号処理回路等が収納されている。また、回路収納部
１３は、回路類を回路収納ケースで覆うことにより構成
されている。回路収納ケースは、回路類を保護し、ま
た、画面部１２を巻回収納する際の軸となるものであ
る。回路収納ケースの形状は、円筒形とされることが好
ましい。これは、画面部１２を巻回収納する際に、画面
部１２表面に傷を付けたり、不均一な応力がかからない
ようにするためである。また、画面部１２を巻回収納す
る際の軸としての機能を考慮した場合、回路収納ケース
３１の直径又は太さは、画面部１２の基板の材質、機械
的強度等を考慮して所定の寸法とすることが好ましい。

【００８４】画面収納部１４は、画面部１２を巻回収納
する部分であり、図３に示すように回路収納ケースを略
中心として回路収納ケースを覆うように円筒状の画面収
納ケース３１を配することにより構成されている。ここ
で、画面収納ケースには、図６に示すように、その長手
方向に沿って画面部１２の厚みよりもやや大とされた幅
を有する開口部３２が設けられている。当該開口部３２
を設けることにより、画面部１２を収納又は引き出す場
合には、この開口部３２より画面部１２が出入可能とさ
れる。

【００８５】そして、画面部１２の回路収納部１３が設
けられた辺と対向する一辺、すなわち第１の辺２４の端
部には、図７に示すように画面収納ケース３２に設けら
れた開口部３１の幅よりもやや大とされた幅を有するス
トッパー３３を設けておく。画面部１２の回路収納部１
３が設けられた辺と対向する一辺、すなわち第１の辺２
４の端部にストッパー３３を設けることにより、画面部
１２が全て画面収納ケース３１に入り込んでしまい。画
面部１２が引き出せなくなる不具合を防止することがで
きる。図８にストッパー３３を備えた有機ＥＬ表示装置
１１を巻回収納した状態の斜視図を示す。ストッパー３
３は、画面部１２の回路収納部１３が設けられた辺と対
向する一辺、すなわち第１の辺２４の端部全域に設ける
必要はなく、画面部１２を巻回収納した際に、画面部１
２全体が画面収納ケース３１に入り込むことを防止する
ことができる大きさで設けられれば良い。

【００８６】また、本発明においては、画面収納ケース
３１の形状は円筒状に限定されることはない。有機ＥＬ
表示装置を巻回収納した際に、机上等に載置したときの
安定性を考慮した場合には、外周部に少なくとも平坦な
一主面を有する形状とされれば良く、例えば立方体とさ
れても良い。

【００８７】ここで、画面部１２を巻回収納する方法と
しては、例えば回路収納ケースの長手方向の両端を画面
収納ケース３１の長手方向の両端から突出するように構
成し、この突出した回路収納ケースの両端を回転させる
ことにより画面部１２を画面収納ケース３１内に巻回収
納するようにすれば良い。そして、画面部１２を画面収
納ケース３１から引き出すときは、画面部１２の回路収
納部１３が設けられた辺と対向する一辺、すなわち第１
の辺２４の端部に設けられたストッパー３３又は画面収
納ケース３１から突出している画面部１２の一側端部を
持ち、引っ張れば良い。

【００８８】また、上記においては、手動で画面部１２
を巻回収納する場合について説明したが、画面収納ケー
ス３１内に、画面部１２巻き取り機構を備えて、自動で
画面部１２を巻回収納するようにしても良い。

【００８９】また、上記においては、有機ＥＬ表示装置
１１が画面収納ケース３１を備えて、画面部１２が画面
収納ケース３１内に収納される場合について説明した
が、本発明に係る有機ＥＬ表示装置は、必ずしも画面収
納ケースを備えてる必要はない。

【００９０】すなわち、例えば、画面収納ケースを設け
ずに、回路収納ケースを軸として画面部１２を巻回収納
しても良い。この場合は、画面部１２の一主面、すなわ
ち、画面部において画像等が表示される主面とは反対側
の主面に、保護シートを配しておくことが好ましい。保
護シートを配することにより、巻回収納した際に画面部
１２に傷等が付くことを防止することができる。また、
撥水性を有する保護シートを用いることにより、巻回収
納した際に有機ＥＬ表示装置を外部の水分から保護する
ことができる。

【００９１】また、画面収納ケースを設けない場合に
は、画面部１２を巻回収納した状態に保持する手段を設
けることが好ましい。例えば、単にバンド等により巻回
収納した画面部１２が広がらないようにしても良い。ま
た、巻回収納した際に、最外周に位置する画面部１２の
所定の位置とそれに対応する位置とを、図９に示すよう
にマジックテープ（登録商標）３４により係止するよう
にしても良いし、図１０に示すようにホック３５により
掛止するようにしても良い。また、有機ＥＬ表示装置を
巻回収納した状態で、図１１に示すように、その長手方
向の両端面を覆うようにキャップ３６をはめることによ
り画面部１２を巻回収納した状態に保持しても良い。こ
のようにキャップ３６をはめることにより、画面部１２
を巻回収納した状態に保持するとともに、巻回収納され
た有機ＥＬ表示装置１１の長手方向の両端面を保護する
ことができる。

【００９２】以上のように構成された有機ＥＬ表示装置
１１は、走査回路及び輝度信号回路によって陰極である
第１電極４と陽極である第２電極８との交差位置におけ
る有機ＥＬ層１０に時系列に信号電圧を印加することに
より有機ＥＬ層１０が発光することにより所定の画像を
表示する。

【００９３】以上のように構成された有機ＥＬ表示装置
１１は、画面部１２が可撓性を有することにより巻回収
納可能とされる。すなわち、有機ＥＬ表示装置１１は、
画面部１２が巻回収納可能とされるため、有機ＥＬ表示
装置自体の大きさを回路収納部１３と略同等の大きさと
することが可能となり、有機ＥＬ表示装置の収納性・携
帯性に優れた有機ＥＬ表示装置とされる。そして、この
有機ＥＬ表示装置１１においては、画面を大型化した場
合においても、回路収納部１３と略同等の大きさに巻回
収納することが可能とされるため、画面の大型化が可能
であり、且つ収納性・携帯性に優れた有機ＥＬ表示装置
とされる。

【００９４】また、上述した有機ＥＬ表示装置１１にお
いて、画素部２１は図１２に示すように構成されても良
い。図１２は、有機ＥＬ表示装置１１に形成する有機Ｅ
Ｌ素子１の他の例である。図１２に示す画素部２１は、
フィルム状金属基板２上に絶縁層３が設けられ、その上
にストライプ状（帯状）の陰極である第１電極４が設け
られ、その上に電子輸送層５と発光層６と正孔輸送層７
とからなるストライプ状の有機ＥＬ層１０ａ、１０ｂ、
１０ｃ陰極である第１電極４と直交した状態に設けら
れ、さらにこれらのストライプ状（帯状）の有機ＥＬ層
１０ａ、１０ｂ、１０ｃ上に、それぞれと略同寸法を有
するストライプ状（帯状）の陽極である第２電極８が設
けられた構成となっている。ここで、有機ＥＬ層１０
ａ、１０ｂ、１０ｃは、それぞれ、赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）に対応する発光特性を有しており、こ
れにより画素部２１は、フルカラー又はマルチカラーの
表示が可能とされる。

【００９５】以上のように構成された有機ＥＬ表示装置
１１は、例えば以下のようにして作製することができ
る。

【００９６】まず、フィルム状金属基板４１上に、絶縁
材料を塗布して絶縁層４２を形成する。

【００９７】次に、絶縁層４２上に陰極である第１電極
４３膜を成膜し、これをパターニングすることにより図
１３に示すようなストライプ状の陰極、すなわち第１電
極４３を形成する。

【００９８】次に、上記において形成したストライプ状
の第１電極４３を覆った状態に第１電極４３上に絶縁材
料を塗布して絶縁膜を成膜し、さらにこれをパターニン
グすることにより図１４に示すように、陰極である第１
電極４３上に開口部４４を有する絶縁層４５を形成す
る。

【００９９】次に、真空蒸着法により陰極である第１電
極４３上の全面に有機ＥＬ層用の有機材料を成膜し、こ
れにより図１５に示すように絶縁層４５上を覆うととも
に、上述した開口部４４内においては、陰極である第１
電極４３上面に当接する有機ＥＬ層４６を形成する。こ
こで、有機ＥＬ層４６は、例えば電子輸送層、発光層、
及び正孔輸送層をこの順に真空蒸着により成膜すること
により形成する。

【０１００】その後、有機ＥＬ層４６をマスクを用いて
パターニングし、図１６に示すように陽極に直交するス
トライプ状の陽極である第２電極４７、及び有機ＥＬ層
４６を積層した状態で並列して形成する。そして、陽極
である第２電極４７を覆って絶縁層等を形成することに
より有機ＥＬ素子を用いた画面部を得ることができる。

【０１０１】次いで、上記において作製した画面部の所
定の一側端部、具体的には、陰極である第１電極４３が
形作るストライプと平行な一辺の側端部に例えば輝度信
号回路、走査回路、電源回路等の回路を上述した一辺に
沿って配置する。

【０１０２】次いで、各有機ＥＬ素子と各回路との接続
に関して説明する。ここで、図４における配線部２８に
は、図１７に示すようにマスクによるパターニングによ
り予め配線２７、すなわち縦配線２２及び横配線２３が
形成されており、上記において陰極である第１電極４３
を形成することにより、陰極である第１電極４３と縦配
線２２とはつながった状態とされている。

【０１０３】また、上記において絶縁層４５、有機ＥＬ
層４６を形成した後に、陽極である第２電極４７を形成
するが、陽極である第２電極４７は図１８に示すように
横配線２３と重なる部分ができるように画素部２１より
やや広い領域においてマスクによりパターニングし形成
する。このことにより、予め形成された横配線２３と陽
極である第２電極４７が接合される。このようにして、
陰極である第１電極４３から縦配線２２を、陽極である
第２電極４７から横配線２３を引き出す。

【０１０４】次いで、上記において形成した縦配線２２
を例えば輝度信号回路に、また、横配線２３を例えば走
査回路に接続することにより、各有機ＥＬと回路とを接
続することができる。

【０１０５】次いで、輝度信号回路や走査回路等の回路
類を回路収納ケースで覆う。

【０１０６】最後に、回路収納ケースを略中心として回
路収納ケースを覆うように円筒状の画面収納ケースを取
り付けることにより、図２に示すような有機ＥＬ表示装
置１１を得ることができる。

【０１０７】

【発明の効果】本発明に係る有機エレクトロルミネッセ
ンス素子（以下有機ＥＬ素子と呼ぶ。）は、基板上に、
第１電極と有機化合物からなる発光材料を有する有機エ
レクトロルミネッセンス層と第２電極とをこの順で備
え、基板がフィルム状金属基板であり、第２電極が透光
性を有する電極であり、第１電極と有機エレクトロルミ
ネッセンス層と第２電極とを備える構造体が基板上に直
接形成されてなる。

【０１０８】本発明に係る有機ＥＬ素子は、基板として
金属フィルムが用いられているため、酸素や水蒸気等が
基板を透過して有機ＥＬ素子内に侵入・拡散することに
より有機ＥＬ素子内部が劣化することを防止することが
できる。これにより、この有機ＥＬ素子では、基板を透
過した酸素や水蒸気等による有機ＥＬ素子内の劣化に起
因した発光特性や耐久性の劣化が防止され、発光特性及
び耐久性を向上させることが可能である。

【０１０９】また、本発明に係る有機ＥＬ素子は、基板
としてフィルム状金属基板を用いているため、従来のガ
ラス基板を用いた有機ＥＬ素子と比較して大幅に軽量化
することが可能であり、当該有機ＥＬ素子を用いて種々
の機器を構成した場合において、機器を軽量化すること
が可能となるため、機器設計の自由度を大きくすること
ができる。

【０１１０】また、本発明に係る有機ＥＬ素子は、可撓
性を有する基板であるフィルム状金属基板を用いている
ため、良好な可撓性を有するものとされ、当該有機ＥＬ
素子を用いて種々の機器を構成した場合において、丸め
て収納することが可能となるなど種々の使用形態をとる
ことが可能となる。

【０１１１】また、本発明に係る有機ＥＬ素子は、落下
等の衝撃に対する耐衝撃性に優れるフィルム状金属基板
を用いているため、耐衝撃性を大幅に向上させることが
できる。

【０１１２】そして、本発明に係る有機ＥＬ素子では、
当該有機ＥＬ素子を構成する構造体が基板上に直接成膜
されて素子を形成しているため、素子の厚みが薄いもの
とされ、当該有機ＥＬ素子を用いて機器を構成する際に
機器の小型化が可能となるため機器構成の自由度を大き
くすることができる。

【０１１３】さらに、本発明に係る有機ＥＬ素子では、
多層薄膜が基板上に直接成膜されて素子が形成されてい
るため、有機ＥＬ素子作製の工程が簡便なものとされ、
生産効率に優れたものとされる。

【０１１４】また、本発明に係る有機エレクトロルミネ
ッセンス表示装置（以下、有機ＥＬ表示装置と呼ぶ。）
は、画面部と当該画面部を駆動する回路部とを備え、画
面部は、フィルム状金属基板上に形成された有機エレク
トロルミネッセンス素子と当該有機エレクトロルミネッ
センス素子と上記回路部とを接続する配線とを有し、巻
回収納可能とされてなるものである。

【０１１５】本発明に係る有機ＥＬ表示装置は、その画
面部が、上述した本発明に係る有機ＥＬ素子であり、可
撓性を有するフィルム状金属基板上に形成された有機Ｅ
Ｌ素子を備えて構成されている。これにより、画面部
は、可撓性を有することとなり、この可撓性により画面
部は巻回収納することが可能となる。

【０１１６】また、本発明に係る有機ＥＬ表示装置は、
上述した本発明に係る有機ＥＬ素子を備えていることよ
り、軽量、且つ、発光特性及び耐久性に優れたものとさ
れる。

【０１１７】そして、この有機ＥＬ表示装置では、画面
部を構成する有機ＥＬ素子が基板上に直接成膜されて素
子を形成している。したがって、この有機ＥＬ素子は、
素子の厚みが薄いものとされる。そして、有機ＥＬ素子
の厚みが薄くなることにより、画面部の厚みを薄くする
ことができるため、この有機ＥＬ表示装置は種々の使用
形態に対応することが可能となる。

【０１１８】さらに、この有機ＥＬ表示装置では、有機
ＥＬ素子を構成する際に多層薄膜が基板上に直接成膜さ
れるため、製造工程が簡便なものとされ、生産効率に優
れたものとされる。

【０１１９】したがって、本発明によれば、良好な可撓
性を備え、且つ発光特性及び耐久性に優れた有機ＥＬ素
子及び有機ＥＬ表示装置を提供するすることが可能とな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した有機ＥＬ素子の一構成例を示
す縦断面図である。

【図２】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置を使用する
状態を示した概略斜視図である。

【図３】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置を巻回収納
した状態を示す概略斜視図である。

【図４】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置の画面部が
収納部より引き出された状態を示す平面図である。

【図５】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置に備えられ
た有機ＥＬ素子の構成を示す要部斜視である。

【図６】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置に備えられ
た画面収納ケースの斜視図である。

【図７】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置の画面部の
一側端部にストッパーが配された状態を示す斜視図であ
る。

【図８】画面部の一側端部にストッパーが配された本発
明を適用した有機ＥＬ表示装置を巻回収納した状態を示
す斜視図である。

【図９】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置を巻回収納
した状態に保持する手段としてマジックテープを配した
状態を示す斜視図である。

【図１０】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置を巻回収
納した状態に保持する手段としてホックを配した状態を
示す斜視図である。

【図１１】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置を巻回収
納した状態に保持する手段としてキャップを配した状態
を示す斜視図である。

【図１２】有機ＥＬ素子の一構成例を示す要部斜視図で
ある。

【図１３】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置の製造工
程を示す縦断面図である。

【図１４】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置の製造工
程を示す縦断面図である。

【図１５】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置の製造工
程を示す縦断面図である。

【図１６】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置の製造工
程を示す縦断面図である。

【図１７】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置の製造工
程を示す平面図である。

【図１８】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置の製造工
程を示す平面図である。

【符号の説明】

１ 有機ＥＬ素子、２ フィルム状金属基板、３ 絶縁
層、４ 第１電極、５電子輸送層、６ 発光層、７ 正
孔輸送層、８第２電極、９ 保護層、１０有機ＥＬ層、
１１ 有機ＥＬ表示装置、１２ 画面部、１３ 回路収
納部、１４画面収納部、２１ 画素部、２２ 縦配線、
２３ 横配線、３１ 画面収納ケース、３２ 開口部、
３３ ストッパー、３４ マジックテープ、３５ ホッ
ク、３６ キャップ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大迫 純一 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 Ｆターム(参考） 3K007 AB00 AB11 AB18 BA06 BA07 CA04 CA06 CB01 DA01 DB03 EA01 EB00 FA02

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に、第１電極と、有機化合物から
   なる発光材料を有する有機エレクトロルミネッセンス層
   と、第２電極とをこの順で備え、 上記基板が、フィルム状金属基板であり、 上記第２電極が、透光性を有する電極であり、 上記第１電極と、上記有機エレクトロルミネッセンス層
   と、上記第２電極とを備える構造体が上記基板上に直接
   形成されてなることを特徴とする有機エレクトロルミネ
   ッセンス素子。
2. 【請求項２】 上記フィルム状金属基板の厚みが、５０
   μｍ以上５００μｍ以下であることを特徴とする請求項
   １記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
3. 【請求項３】 上記第２電極が、窒化物からなる透光性
   を有する電極であることを特徴とする請求項１記載の有
   機エレクトロルミネッセンス素子。
4. 【請求項４】 上記窒化物が、ＴｉＮであることを特徴
   とする請求項３記載の有機エレクトロルミネッセンス素
   子。
5. 【請求項５】 画面部と、当該画面部を駆動する回路部
   とを備え、 上記画面部は、フィルム状金属基板上に直接形成された
   有機エレクトロルミネッセンス素子と、当該有機エレク
   トロルミネッセンス素子と上記回路部とを接続する配線
   とを有し、巻回収納可能とされてなることを特徴とする
   有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
6. 【請求項６】 上記回路部が、上記画面部の所定の一側
   端部に配されることを特徴とする請求項５記載の有機エ
   レクトロルミネッセンス表示装置。
7. 【請求項７】 上記画面部は、上記画面部における上記
   回路部が配された辺と直交する辺を折曲させて巻回収納
   可能とされることを特徴とする請求項５記載の有機エレ
   クトロルミネッセンス表示装置。
8. 【請求項８】 上記フィルム状金属基板の厚みが５０μ
   ｍ以上５００μｍ以下であることを特徴とする請求項５
   記載のエレクトロルミネッセンス表示装置。
9. 【請求項９】 上記画面部と上記回路部とを収納可能な
   収納部を備えることを特徴とする請求項５記載のエレク
   トロルミネッセンス表示装置。