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JP2002014467A - 感光性樹脂、感光性樹脂組成物及びプリント配線板 - Google Patents

感光性樹脂、感光性樹脂組成物及びプリント配線板

Info

Publication number
JP2002014467A
JP2002014467A JP2000194204A JP2000194204A JP2002014467A JP 2002014467 A JP2002014467 A JP 2002014467A JP 2000194204 A JP2000194204 A JP 2000194204A JP 2000194204 A JP2000194204 A JP 2000194204A JP 2002014467 A JP2002014467 A JP 2002014467A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive resin
acid
reacting
epoxy
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000194204A
Other languages
English (en)
Inventor
Takao Ono
隆生 大野
Ichiro Miura
一郎 三浦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tamura Kaken Corp
Original Assignee
Tamura Kaken Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tamura Kaken Corp filed Critical Tamura Kaken Corp
Priority to JP2000194204A priority Critical patent/JP2002014467A/ja
Publication of JP2002014467A publication Critical patent/JP2002014467A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】紫外線露光及び希アルカリ水溶液による現像可
能で、塗布膜の乾燥時の未露光対応部分の現像時除去可
能な硬化度の熱的許容限度の管理である、いわゆる熱管
理幅が広く、高感度であって、耐熱性、電気絶縁性、耐
薬品性に優れ、特に現像性の優れたプリント配線板用の
ソルダーレジスト膜に好適な感光性樹脂、感光性樹脂組
成物及びプリント配線板を提供する。 【解決手段】多官能性エポキシ樹脂のエポキシ基の少な
くとも一部に不飽和モノカルボン酸を反応させ、さらに
多塩基酸を反応させることにより得られる感光性樹脂又
はこの感光性樹脂のカルボキシル基に、1分子中に不飽
和基を少なくとも1つ有するグリシジル化合物を反応さ
せて得られる感光性樹脂。これを含有する感光性樹脂組
成物。この組成物を用いたプリント配線板。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、紫外線露光及び希アル
カリ水溶液による現像で画像形成可能であり、塗布膜乾
燥時の未露光対応部分の現像時除去可能な塗布膜硬化度
の熱的許容限度の管理である、いわゆる熱管理幅が広
く、高感度であり、しかも耐熱性、耐薬品性が優れ、特
に現像性の優れた塗膜を与えることができる、例えばプ
リント配線板用ソルダーレジスト膜に好適な感光性樹
脂、感光性樹脂組成物及びこれらを用いたプリント配線
板に関する。
【0002】
【従来の技術】エポキシアクリレート樹脂を含めアクリ
レートオリゴマー類はその光硬化特性が優れている事か
ら、広く産業界に応用されている。その中でもエポキシ
アクリレート樹脂は光硬化性と共に密着性、耐熱性、耐
薬品性が他のアクリレートオリゴマー類に比べて優れて
いるため、金属コーティングやプリント配線板のソルダ
ーレジストの塗膜の主要成分として広く利用されてき
た。例えばプリント配線板は、基板の上に導体回路のパ
ターンを形成し、そのパターンのはんだ付けランドに電
子部品をはんだ付けすることにより搭載するためのもの
であり、そのはんだ付けランドを除く回路部分は永久保
護皮膜としてのソルダーレジスト膜で被覆される。これ
により、プリント配線板に電子部品をはんだ付けする際
にはんだが不必要な部分に付着するのを防止すると共
に、回路導体が空気に直接曝されて酸化や湿度により腐
食されるのを防止する。従来、ソルダーレジスト膜は、
基板上にその溶液組成物をスクリーン印刷法でパターン
形成し、溶剤を除く乾燥をした後、紫外線または熱によ
り硬化させることが主流とされてきた。
【0003】ところが、最近、プリント配線基板の配線
密度の向上(細密化)の要求にともないソルダーレジス
ト組成物(ソルダーレジストインキ組成物ともいう)も
高解像性、高精度化が要求され、民生用基板、産業用基
板を問わずスクリーン印刷法から、位置精度、導体エッ
ジ部の被覆性に優れる液状フォトソルダーレジスト法
(写真現像法)が提案されている。例えば特開昭50ー
144431号、特開昭51ー40451号公報には、
ビスフェノール型エポキシアクリレート、増感剤、エポ
キシ化合物、エポキシ硬化剤などからなるソルダーレジ
スト組成物が開示されている。これらのソルダーレジス
ト組成物は、プリント配線板上に感光性樹脂組成物であ
る液状組成物を全面塗布し、溶媒を揮発させた後、露光
して未露光部分を有機溶剤を用いて除去し、現像するも
のである。しかし、この有機溶剤による未露光部分の除
去(現像)は、有機溶剤を多量に使用するため、環境汚
染や火災などの危険性があるのみならず、環境汚染の問
題があり、特に人体に与える影響が最近大きくクローズ
アップされてきていることから、その対策に苦慮してい
るのが現状である。
【0004】これらの問題を解決するために、希アルカ
リ水溶液で現像可能なアルカリ現像型フォトソルダーレ
ジスト組成物が提案されている。例えば特開昭56ー4
0329号、特開昭57ー45785号公報には、エポ
キシ樹脂に不飽和モノカルボン酸を反応させ、更に多塩
基酸無水物を付加させた反応生成物をベースポリマーと
する材料が開示されている。また、特公平1ー5439
0号公報には、ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和モノ
カルボン酸との反応物と、飽和または不飽和多塩基酸無
水物とを反応せしめて得られる活性エネルギー線硬化性
樹脂と、光重合開始剤を含有する希アルカリ水溶液によ
り現像可能な光硬化性の液状レジストインキ組成物が開
示されている。
【0005】これらの液状ソルダーレジスト組成物は、
エポキシアクリレートにカルボキシル基を導入すること
によって、光感光性や希アルカリ水溶液での現像性を付
与させたものであり、作業性、生産性の点では改善され
ているが、より高感度を求める要求を十分には満たすこ
とができない。この改善策として、特開平11−242
54号公報には、多官能性エポキシ樹脂にアクリル酸又
はメタクリル酸を反応させ、さらに多塩基酸無水物を反
応させることにより生成したカルボキシル基にグリシジ
ルアクリレート又はグリシジルメタクリレートを付加さ
せた反応生成物をベースポリマーとして含有する液状ソ
ルダーレジスト組成物が開示されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記特開平11−24
254号公報に記載の液状ソルダーレジスト組成物は、
高感度であり、しかも、耐熱性、電気絶縁性、耐薬品性
に優れたプリント配線板用のソルダーレジスト膜に好適
な感光性樹脂組成物であるが、プリント基板における塗
布膜乾燥時の未露光対応部分の現像時除去可能な塗布膜
硬化度の熱的許容限度の管理である、いわゆる熱管理幅
が狭くなってしまっている。このような熱管理幅が狭い
と、すなわち熱による温度の上昇の許容範囲が狭いと、
液状ソルダーレジスト組成物をプリント配線板へ塗布
し、その溶剤を除去する乾燥過程で、その許容範囲を超
えた時間もしくは温度により塗布膜の樹脂組成物が硬化
をし始め、その後に露光し、現像すると、未露光部分が
現像液により除去され難いという問題を生じ、上述した
高解像性や高精度化の点で問題を生じることがある。本
発明は、特にこの熱管理幅を広くすることができること
を明確にし、その選択性を明らかにした感光性樹脂と、
その応用物の感光性樹脂組成物及びこれらを用いた硬化
膜被着体を提供するものである。
【0007】本発明の第1の目的は、紫外線露光及び希
アルカリ水溶液による現像により画像形成可能であっ
て、高感度であり、しかも耐熱性、電気絶縁性及び耐薬
品性に優れたパターンを与えることができる、新規な構
成の感光性樹脂を提供することにある。本発明の第2の
目的は、紫外線露光及び希アルカリ水溶液による現像に
より画像形成可能であって、熱管理幅が広く、かつ高感
度であり、しかも耐熱性、電気絶縁性及び耐薬品性に優
れたパターンを与えることができる感光性樹脂を提供す
ることにある。本発明の第3の目的は、高酸価の高分子
であること、またその高酸価の故にグリシジル化合物を
多く付加しても酸価の水準を下げ過ぎることがないこと
により、現像性の優れた感光性樹脂を提供することにあ
る。本発明の第4の目的は、カルボキシル基を高分子の
主鎖から離れた部位に配置することができることにより
希アルカリ水溶液による現像性の優れた感光性樹脂を提
供することにある。本発明の第5の目的は、例えばプリ
ント配線板用ソルダーレジストとして好適な感光性樹脂
組成物を提供することにある。本発明の第6の目的は、
そのソルダーレジスト膜の硬化膜を有する電子部品搭載
前又は後のプリント配線板を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するために鋭意研究した結果、多官能型エポキシ
樹脂のエポキシ基の少なくとも一部にラジカル重合性不
飽和モノカルボン酸を反応させ、さらに多塩基酸を反応
させることによりラジカル重合性不飽和基とカルボキシ
ル基を持つ感光性樹脂、あるいはこの感光性樹脂に対
し、1分子中に少なくとも1つの不飽和基(1つ以上の
不飽和基)を持つグリシジル化合物を反応させて得られ
る感光性樹脂が希アルカリ水溶液による現像性に特に優
れ、熱管理幅が広く、感光特性が良好であり、耐現像
性、耐熱性および耐薬品性に優れた、特にプリント配線
板製造用ソルダーレジスト用として好適な感光性樹脂を
提供することを見出し、本発明をするに至った。すなわ
ち、本発明は、(1)、多官能型エポキシ樹脂のエポキ
シ基の少なくとも一部にラジカル重合性不飽和モノカル
ボン酸を反応させ、さらに多塩基酸を反応させることに
より得られる、1分子中に少なくとも1つのラジカル重
合性不飽和基とカルボキシル基を有する感光性樹脂又は
該感光性樹脂と主要部において同一の高分子の構造を有
するその他の感光性樹脂を提供するものである。また、
本発明は、(2)、多官能型エポキシ樹脂のエポキシ基
の少なくとも一部にラジカル重合性不飽和モノカルボン
酸を反応させ、さらに多塩基酸を反応させることにより
生成した多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ
樹脂のカルボキシル基に、1分子中に不飽和基を少なく
とも1つ有するグリシジル化合物を反応させて得られる
感光性樹脂又は該感光性樹脂と主要部において同一の高
分子の構造を有するその他の感光性樹脂、(3)、多官
能型エポキシ樹脂のエポキシ基の少なくとも一部にラジ
カル重合性不飽和モノカルボン酸を反応させ、さらに多
塩基酸を反応させることにより生成した多塩基酸変性不
飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂のカルボキシル基
に、1分子中に不飽和基を少なくとも1つ有するグリシ
ジル化合物を反応させて得られる感光性樹脂であって、
上記多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂
が上記多官能型エポキシ樹脂のエポキシ基の1当量に対
し、上記ラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を0.7 〜
1.2 当量反応させ、さらに該反応生成物の水酸基1モル
に対し、上記多塩基酸を0.3 〜1.0 モルの割合で反応さ
せて得られる樹脂である感光性樹脂又は該感光性樹脂と
主要部において同一の高分子の構造を有するその他の感
光性樹脂、(4)、多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸
化エポキシ樹脂のカルボキシル基1モルに対し、1分子
中に不飽和基を少なくとも1つ有するグリシジル化合物
を0.05〜0.5 モルの割合で反応させて得られる上記
(2)又は(3)の感光性樹脂又は該感光性樹脂と主要
部において同一の高分子の構造を有するその他の感光性
樹脂、(5)、感光性樹脂の酸価が45〜250 mgKOH/gで
ある上記(1)ないし(4)のいずれかの感光性樹脂、
(6)、上記(1)ないし(5)のいずれかの感光性樹
脂を含有する感光性樹脂組成物、(7)、上記(6)の
感光性樹脂組成物の硬化膜を有するソルダーレジスト膜
を被覆した電子部品を搭載する前又はした後のプリント
配線板を提供するものである。
【0009】本発明において、上記(1)の「多官能型
エポキシ樹脂のエポキシ基の少なくとも一部にラジカル
重合性不飽和モノカルボン酸を反応させ、さらに多塩基
酸を反応させることにより、1分子中に少なくとも1つ
のラジカル重合性不飽和基とカルボキシル基を有する感
光性樹脂又は該感光性樹脂と主要部において同一の高分
子の構造を有するその他の感光性樹脂」、上記(2)の
「多官能型エポキシ樹脂のエポキシ基の少なくとも一部
にラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を反応させ、さ
らに多塩基酸を反応させることにより生成した多塩基酸
変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂のカルボキシ
ル基に、1分子中に不飽和基を少なくとも1つ有するグ
リシジル化合物を反応させて得られる感光性樹脂」と
は、それぞれ反応形態の一例を用いて得られる感光性樹
脂を示しており、「該感光性樹脂と主要部において同一
の高分子の構造を有するその他の感光性樹脂」とは、得
られる結果物としての感光性樹脂の高分子の構造が主要
部において同一であれば、その原料の反応順序、原料の
種類(多塩基酸の代わりに多塩基酸無水物を使用する場
合は除く)等の反応形態にかかわりなく、本発明の技術
的範囲に属することを示すものである。「主要部におい
て同一」には、上記(1)に明示の全使用原料が関与し
た生成物と実質的に同じといえる共通した高分子の構造
を有する場合は含まれる。上記(2)の発明の該当部分
についても同様である。なお、「感光性樹脂又は該感光
性樹脂と主要部」を「感光性樹脂と主要部」とし、後続
の「その他の」を削除してもよい。
【0010】本発明において、多官能性エポキシ樹脂と
しては、2官能以上のエポキシ樹脂であればいずれでも
使用可能であり、エポキシ当量の制限は特にないが、通
常1,000以下、好ましくは100〜500のものを
用いる。例えば、ビスフェノールA型、ビスフノールF
型、ビスフェノールAD型、フェノールノボラック型、
о−クレゾールノボラック型等のクレゾールノボラック
型、ビスフェノールAノボラック型等のエポキシ樹脂、
環状脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルエステル系樹脂、
グリシジルアミン系樹脂、複素環式エポキシ樹脂等をあ
げることができる。また、これらの樹脂にBr,Cl等
のハロゲン原子を導入したものなども挙げられる。これ
らの内でも耐熱性を考慮すると、ノボラック型エポキシ
樹脂が好ましい。これらのエポキシ樹脂は単独で用いて
もよく、また2種以上を併用してもよい。
【0011】これらのエポキシ樹脂とラジカル重合性不
飽和モノカルボン酸を反応させる。エポキシ基とカルボ
キシル基の反応によりエポキシ基が開裂し水酸基とエス
テル結合が生成する。使用するラジカル重合性不飽和モ
ノカルボン酸としては、特に制限は無く、例えばアクリ
ル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸などがある
が、アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも一方(以
下、(メタ)アクリル酸ということがある。)が好まし
く、特にアクリル酸が好ましい。エポキシ樹脂とラジカ
ル重合性不飽和モノカルボン酸との反応方法に特に制限
は無く、例えばエポキシ樹脂とアクリル酸を適当な希釈
剤中で加熱することにより反応できる。希釈剤として
は、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等
のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、メタノール、イソプロパノール、シクロヘキサノー
ル、などのアルコール類、シクロヘキサン、メチルシク
ロヘキサン等の脂環式炭化水素類、石油エーテル、石油
ナフサ等の石油系溶剤類、セロソルブ、ブチルセロソル
ブ等のセロソルブ類、カルビトール、ブチルカルビトー
ル等のカルビトール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロ
ソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カル
ビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等
の酢酸エステル類等を挙げることができる。また触媒と
しては、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン
などのアミン類、トリフェニルホスフィン、トリフェニ
ルホスフェートなどのリン化合物類等を挙げることがで
きる。
【0012】上記のエポキシ樹脂とラジカル重合性不飽
和モノカルボン酸の反応において、エポキシ樹脂が有す
るエポキシ基1当量あたりラジカル重合性不飽和モノカ
ルボン酸を0.7〜1.2当量反応させる事が好まし
い。アクリル酸又はメタクリル酸の少なくとも一方を用
いるときは、さらに好ましくは0.8〜1.0当量加え
て反応させる。ラジカル重合性不飽和モノカルボン酸が
0.7当量未満であると、後続の工程の合成反応時にゲ
ル化を起こすことがあったり、あるいは樹脂の安定性が
低下する。また、ラジカル重合性不飽和モノカルボン酸
が過剰であると未反応のカルボン酸が多く残存するた
め、硬化物の諸特性(例えば耐水性等)を低下させる恐
れがある。エポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカ
ルボン酸の反応は、加熱状態で行うのが好ましく、その
反応温度は、80〜140℃である事が好ましい。反応
温度が140℃を超えるとラジカル重合性不飽和モノカ
ルボン酸が熱重合を起こし易くなり合成が困難になるこ
とがあり、また80℃未満では反応速度が遅くなり、実
際の製造上好ましくないことがある。エポキシ樹脂とラ
ジカル重合性不飽和モノカルボン酸の希釈剤中での反応
においては、希釈剤の配合量が反応系の総重量に対し
て、20〜50%である事が好ましい。エポキシ樹脂と
ラジカル重合性不飽和モノカルボン酸の反応生成物は単
離することなく、希釈剤の溶液のまま、次の多塩基酸類
との反応に供する事ができる。
【0013】上記エポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和
モノカルボン酸との反応生成物である不飽和モノカルボ
ン酸化エポキシ樹脂に、多塩基酸を反応させる。多塩基
酸としては、特に制限は無く、飽和、不飽和のいずれも
使用できる。このような多塩基酸としては、コハク酸、
マレイン酸、アジピン酸、クエン酸、フタル酸、テトラ
ヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルテトラ
ヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、エンド
メチレンテトラヒドロフタル酸、メチルエンドメチレン
テトラヒドロフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット
酸及びジグリコール酸等が挙げられる。これらの化合物
は単独で使用することができ、また2種以上を混合して
もよい。多塩基酸は、上記のエポキシ樹脂とラジカル重
合性不飽和モノカルボン酸との反応で生成した水酸基に
反応し、樹脂に遊離のカルボキシル基を持たせる。反応
させようとする多塩基酸の使用量は、エポキシ樹脂とラ
ジカル重合性不飽和モノカルボン酸との反応生成物が有
する水酸基1モルに対し0.3〜1.0モルである事が
望ましい。露光時に高感度の樹脂膜が得られる点から
は、好ましくは0.4〜1.0モル、さらに好ましくは
0.6〜1.0モルの割合で反応させる。0.3モル未
満であると得られた樹脂の希アルカリ現像性が低下する
ことがあり、また1.0モルを超えると最終的に得られ
る硬化塗膜の諸特性(例えば耐水性等)を低下させるこ
とがある。多塩基酸は、上記の不飽和モノカルボン酸化
エポキシ樹脂に添加され、脱水縮合反応され、反応時生
成した水は反応系から連続的に取り出すことが好ましい
が、その反応は加熱状態で行うのが好ましく、その反応
温度は、70〜130℃である事が好ましい。反応温度
が130℃を超えると、エポキシ樹脂に結合されたもの
や、未反応モノマーのラジカル重合性不飽和基が熱重合
を起こし易くなり合成が困難になることがあり、また7
0℃以下では反応速度が遅くなり、実際の製造上好まし
くないことがある。上記の多塩基酸と不飽和モノカルボ
ン酸化エポキシ樹脂との反応生成物である多塩基酸変性
不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂の酸価は、60〜
300mgKOH/gが好ましい。反応させる多塩基酸の量に
より、反応生成物の酸価は調整できる。
【0014】本発明においては、上記の多塩基酸変性不
飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂も感光性樹脂として
使用できるが、上記の多塩基酸変性不飽和モノカルボン
酸化エポキシ樹脂の有するカルボキシル基に、1つ以上
のラジカル重合性不飽和基とエポキシ基を持つグリシジ
ル化合物を反応させることにより、ラジカル重合性不飽
和基を更に導入し、さらに感光性を向上させた感光性樹
脂とすることも好ましい。この感光性を向上させた感光
性樹脂は、最後のグリシジル化合物の反応によってラジ
カル重合性不飽和基が、その前駆体の感光性樹脂の高分
子の骨格の側鎖に結合するため、光重合反応性が高く、
優れた感光特性を持つことができる。1つ以上のラジカ
ル重合性不飽和基とエポキシ基を持つ化合物としては、
例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリ
レート、アリルグリシジルエーテル、ペンタエリスリト
ールトリアクリレートモノグリシジルエーテル等が挙げ
られる。なお、グリシジル基は1分子中に複数有してい
てもよい。これらの化合物は単独で用いてもよく、混合
して用いてもよい。上記グリシジル化合物は、上記の多
塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂の溶液
に添加して反応させるが、その樹脂に導入したカルボキ
シル基1モルに対し、通常0.05〜0.5モルの割合
で反応させる。得られる感光性樹脂を含有する感光性樹
脂組成物の感光性(感度)や、上述した熱管理幅及び電
気絶縁性等の電気特性などのことを考慮すると、好まし
くは0.1〜0.5モルの割合で反応させるのが有利で
ある。反応温度は80〜120℃が好ましい。このよう
にして得られるグリシジル化合物付加多塩基酸変性不飽
和モノカルボン酸化エポキシ樹脂からなる感光性樹脂は
酸価が45〜250mgKOH/gである事が好ましい。
【0015】本発明の感光性樹脂は、光重合開始剤及び
反応性希釈剤、さらには必要に応じてエポキシ化合物等
の熱硬化性化合物と混合して使用することにより、本発
明の感光性樹脂組成物とすることができ、例えばプリン
ト配線板製造用ソルダーレジスト組成物として好適に使
用することができる。光重合開始剤としては、特に制限
はなく、従来知られているものはいずれも使用できる。
具体的には、代表的なものとしては例えば、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインー
nーブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、
アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、2,
2- ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2
−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2- ヒド
ロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オ
ン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2
−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−
モルフォリノ−プロパン−1−オン、4- (2-ヒドロキシ
エトキシ) フェニル−2-(ヒドロキシ-2- プロピル) ケ
トン、ベンゾフェノン、p-フェニルベンゾフェノン、
4, 4′ージエチルアミノベンゾフェノン、ジクロルベ
ンゾフェノン、2−メチルアントラキノン、2−エチル
アントラキノン、2- ターシャリーブチルアントラキノ
ン、2−アミノアントラキノン、 2−メチルチオキサ
ントン、2−エチルチオキサントン、2−クロルチオキ
サントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4ジ
エチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ア
セトフェノンジメチルケタール、P−ジメチルアミノ安
息香酸エチルエステル等が挙げられる。これらを単独ま
たは組み合わせて用いることができる。光重合開始剤の
使用量は、上記感光性樹脂100gに対して、通常0.
5〜50gである。0.5g未満では、感光性樹脂の光硬
化反応が進行し難くなり、50gを超えるとその加える
量の割には効果は向上せず、むしろ経済的には不利とな
ったり、硬化塗膜の機械的特性が低下することがある。
光硬化性、経済性、硬化塗膜の機械的特性などの点から
は、その使用量は、好ましくは2.0〜30gである。
【0016】上記反応性希釈剤は、上記感光性樹脂の光
硬化を更に十分にして、耐酸性、耐熱性、耐アルカリ性
などを有する塗膜を得るために使用するもので、1分子
中に二重結合を少なくとも2個有する化合物が好ましく
用いられる。その反応性希釈剤の代表的なものとして
は、例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリ
レート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ネオペンチルグリコールアジペートジ(メタ)アクリレ
ート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ
(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)
アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニル
ジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性燐酸
ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ
(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)ア
クリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アク
リレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリ
レート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メ
タ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロ
ールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アク
リロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン酸変性
ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、
カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メ
タ)アクリレート等の反応性希釈剤が挙げられる。
【0017】上記の2〜6官能その他の多官能反応性希
釈剤は単品又は複数の混合系のいずれにおいても使用可
能である。この反応性希釈剤の添加量は、感光性樹脂1
00gに対して、通常2.0〜40gである。その添加
量が2.0gより少ないと十分な光硬化が得られず、硬
化塗膜の耐酸性、耐熱性等において十分な特性が得られ
ず、また、添加量が40gを越えるとタックが激しく、
露光の際アートワークフィルムの基板への付着が生じ易
くなり、目的とする硬化塗膜が得られ難くなる。光硬化
性、硬化塗膜の耐酸性、耐熱性等、アートワークフィル
ムの基板への付着の防止の点からは、反応性希釈剤の添
加量は、好ましくは4.0〜20gである。
【0018】本発明の感光性樹脂組成物においては、ポ
ストキュアー後において十分に強靭な塗膜を得るために
熱硬化性化合物を加えることも好ましい。この熱硬化性
化合物の代表的なものとしては、例えばビスフェノール
A型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、
ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラッ
ク型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂、(プロピレン、ポリプロピレ
ン)グリコールジグリシジルエーテル、ポリテトラメチ
レングリコールジグリシジルエーテル、グリセロールポ
リグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグ
リシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテル、
1.6ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、(エチ
レン、プロピレン)グリコールジグリシジルエーテル、
ソルビトールポリグリシジルエーテル、ソルビタンポリ
グリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシ
ジルエーテル、トリス(2,3−エポキシプロピル)イ
ソシアヌレート、トリグリシジルトリス(2−ヒドロキ
シエチル)イソシアヌレート等の1分子中に2個以上の
エポキシ基を有するエポキシ化合物が好ましい。これら
の熱硬化性化合物は単独で用いてもよいし、複数併用し
てもよい。
【0019】熱硬化性化合物は、更に反応促進剤として
メラミン化合物、イミダゾール化合物、フェノール化合
物等の公知のエポキシ硬化促進剤を併用して、塗膜をポ
ストキュアーすることを促進することもできる。この熱
硬化性化合物の併用により、得られるレジスト皮膜の耐
熱性、耐酸性、耐溶剤性、密着性、硬度などの諸特性を
向上させることができ、プリント配線板用のソルダーレ
ジストとして有用である。この熱硬化性化合物は、上記
感光性樹脂100gに対し、通常2〜40gの割合で添
加される。この添加量が2重量部未満ではポストキュア
ー後において、所望の物性を有する塗膜が得られないこ
とがあるし、40gを超えると感光性樹脂の光硬化性が
低下することがある。ポスキキュアー後の塗膜物性及び
感光性樹脂の光硬化性などの点から、この熱硬化性化合
物の添加量は、好ましくは4〜20gである。
【0020】本発明の感光性樹脂組成物には、上記の成
分のほかに、必要に応じて種々の添加剤、例えばシリ
カ、アルミナ、タルク、炭酸カルシウム、硫酸バリウム
等の無機顔料からなる充填剤、フタロシアニングリー
ン、フタロシアニンブルー等のフタロシアニン系、アゾ
系等の有機顔料や二酸化チタン等の無機顔料の公知の着
色顔料、消泡剤、レベリング剤等の塗料用添加剤などを
含有させることができる。
【0021】上述のようにして得られた本発明の感光性
樹脂組成物は、例えば銅張り積層板の銅箔をエッチング
して形成した回路のパターンを有するプリント配線板に
所望の厚さで塗布し、60〜80℃程度の温度で15〜
60分間程度加熱して溶剤を揮散させた後、これに上記
回路のパターンのはんだ付けランド以外は透光性にした
パターンのネガフィルムを密着させ、その上から紫外線
を照射させ、このはんだ付けランドに対応する非露光領
域を希アルカリ水溶液で除去することにより塗膜が現像
される。この際使用される希アルカリ水溶液としては
0.5〜5%の炭酸ナトリウム水溶液が一般的である
が、他のアルカリも使用可能である。次いで、熱硬化性
化合物を含有する場合には、130〜170℃の熱風循
環式の乾燥機等で20〜80分間ポストキュアーを行う
ことにより目的とするソルダーレジスト皮膜を形成せし
めることができる。このようにしてソルダーレジスト膜
で被覆したプリント配線板が得られ、これに電子部品が
噴流はんだ付け方法や、リフローはんだ付け方法により
はんだ付けされることにより接続、固定されて搭載さ
れ、一つの電子回路ユニットが形成される。本発明にお
いては、その電子部品搭載前のソルダーレジスト皮膜を
被覆したプリント配線板、このプリント配線板に電子部
品搭載した電子部品搭載後のプリント配線板のいずれを
もその対象に含む。なお、上記混合して使用する各成分
の具体例、混合量、使用方法等は特願平11−6795
3号に記載されているものを適用できる。
【0022】
【発明の実施の形態】後述する実施例で使用する各成分
及びその成分比を中心に、各成分の上述した化合物の中
から選択された類似化合物、各成分比の上述した好まし
い範囲について、後述する実施例を包括する上位概念の
発明を構成することができる。例えば、ラジカル重合性
不飽和モノカルボン酸としてアクリル酸及びメタクリル
酸の少なくとも一方、多官能性エポキシ樹脂としてノボ
ラック型エポキシ樹脂、多塩基酸としてフタル酸類(無
水フタル酸類は除く)、アジピン酸、クエン酸、ピロメ
リット酸、グリシジル化合物としてグリシジルアクリレ
ート又はグリジジルメタクリレートを挙げることができ
る。
【0023】
【実施例】次ぎに、本発明を実施例によりさらに詳細に
説明するが、本発明は、これらの実施例によってなんら
限定されるものではない。 製造例1 カルビトールアセテート218 g に、クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂( 住友化学工業製、ESCN-220、エポキ
シ当量220) 220g 及びアクリル酸68.4g を溶解し、還流
下に反応させてクレゾールノボラック型エポキシアクリ
レートを得た。次いで、このエポキシアクリレートにフ
タル酸116.2 g を加え、酸価が理論値になるまで還流下
で反応させて、酸価97mgKOH/g 、固形分65%の感光性樹
脂を得た。
【0024】製造例2 カルビトールアセテート210 g に、クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂( 住友化学工業製、ESCN-220、エポキ
シ当量220) 220g 及びアクリル酸68.4g を溶解し、還流
下に反応させてクレゾールノボラック型エポキシアクリ
レートを得た。次いで、このエポキシアクリレートにア
ジピン酸102.2 g を加え、酸価が理論値になるまで還流
下で反応させて、酸価100mgKOH/g、固形分65%の感光性
樹脂を得た。
【0025】製造例3 カルビトールアセテート235 g に、クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂( 住友化学工業製、ESCN-220、エポキ
シ当量220) 220g 及びアクリル酸68.4g を溶解し、還流
下に反応させてクレゾールノボラック型エポキシアクリ
レートを得た。次いで、このエポキシアクリレートにク
エン酸147.2 g を加え、酸価が理論値になるまで還流下
で反応させて、酸価180mgKOH/g、固形分65%の感光性樹
脂を得た。
【0026】製造例4 カルビトールアセテート251 g に、クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂( 住友化学工業製、ESCN-220、エポキ
シ当量220) 220g 及びアクリル酸68.4g を溶解し、還流
下に反応させてクレゾールノボラック型エポキシアクリ
レートを得た。次いで、このエポキシアクリレートにピ
ロメリット酸177.8 g を加え、酸価が理論値になるまで
還流下で反応させて、酸価250mgKOH/g、固形分65%の感
光性樹脂を得た。
【0027】製造例5 カルビトールアセテート266 g に、クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂( 住友化学工業製、ESCN-220、エポキ
シ当量220) 220g 及びアクリル酸68.4g を溶解し、還流
下に反応させてクレゾールノボラック型エポキシアクリ
レートを得た。次いで、このエポキシアクリレートにク
エン酸147.2 g を加え、酸価が理論値になるまで還流下
で反応させた。次いで、グリシジルメタクリレートを5
6.8g を反応させて、酸価113mgKOH/g、固形分65%の感
光性樹脂を得た。
【0028】製造例6 カルビトールアセテート297 g に、クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂( 住友化学工業製、ESCN-220、エポキ
シ当量220) 220g 及びアクリル酸68.4g を溶解し、還流
下に反応させてクレゾールノボラック型エポキシアクリ
レートを得た。次いで、このエポキシアクリレートにピ
ロメリット酸177.8 g を加え、酸価が理論値になるまで
還流下で反応させた。次いで、グリシジルメタクリレー
トを85.2g を反応させて、酸価152mgKOH/g、固形分65%
の感光性樹脂を得た。
【0029】製造例7 カルビトールアセテート195 g に、クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂( 住友化学工業製、ESCN-220、エポキ
シ当量220) 220g 及びアクリル酸68.4g を溶解し、還流
下に反応させてクレゾールノボラック型エポキシアクリ
レートを得た。次いで、このエポキシアクリレートに無
水フタル酸74 gを加え、酸価が理論値になるまで還流下
で反応させて、酸価77mgKOH/g 、固形分65%の感光性樹
脂を得た。
【0030】製造例8 カルビトールアセテート241 g に、クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂( 住友化学工業製、ESCN-220、エポキ
シ当量220) 220g 及びアクリル酸68.4g を溶解し、還流
下に反応させてクレゾールノボラック型エポキシアクリ
レートを得た。次いで、このエポキシアクリレートに無
水フタル酸103.6 g を加え、酸価が理論値になるまで還
流下で反応させた。次いで、グリシジルメタクリレート
を56.8gを反応させて、酸価38 mgKOH/g、固形分65%の
感光性樹脂を得た。
【0031】製造例9 カルビトールアセテート219 g に、クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂( 住友化学工業製、ESCN-220、エポキ
シ当量220) 220g 及びアクリル酸68.4g を溶解し、還流
下に反応させてクレゾールノボラック型エポキシアクリ
レートを得た。次いで、このエポキシアクリレートに無
水フタル酸103.6 g を加え、酸価が理論値になるまで還
流下で反応させた。次いで、グリシジルメタクリレート
を14.2gを反応させて、酸価82 mgKOH/g、固形分65%の
感光性樹脂を得た。
【0032】実施例1 製造例1で得られた感光性樹脂100 gに対し、2 ‐メチ
ル‐1 ‐[4‐(メチルチオ)フェニル] ‐2 ‐モルフォ
リノ‐1 ‐プロパノンを8.0 g、トリメチロールプロパ
ントリアクリレートを8.0 g、トリグリシジルトリス(2
‐ヒドロキシエチル) イソシアヌレートを8.0 g、フタ
ロシアニングリーンを0.5 g及びタルクを8.0 gの割合
で配合し、これらを3 本ロールで混合分散させて、感光
性樹脂組成物の溶液を調製した。この感光性樹脂組成物
の塗膜の感度、熱管理幅及び塗膜性能を後述の試験法に
よって調べた結果を表1に示す。
【0033】実施例2 製造例2で得られた感光性樹脂100 g に対し、2 ‐メチ
ル‐1 ‐[4‐(メチルチオ)フェニル] ‐2 ‐モルフォ
リノ‐1 ‐プロパノンを8.0 g、トリメチロールプロパ
ントリアクリレートを8.0 g 、トリグリシジルトリス(2
‐ヒドロキシエチル) イソシアヌレートを8.0 g 、フタ
ロシアニングリーンを0.5 g 及びタルクを8.0 g の割合
で配合し、これらを3 本ロールで混合分散させて、感光
性樹脂組成物の溶液を調製した。この感光性樹脂組成物
の塗膜の感度、熱管理幅及び塗膜性能を実施例1と同様
にして調べた結果を表1に示す。
【0034】実施例3 製造例3で得られた感光性樹脂100 gに対し、2 ‐メチ
ル‐1 ‐[4‐(メチルチオ)フェニル] ‐2 ‐モルフォ
リノ‐1 ‐プロパノンを8.0 g、トリメチロールプロパ
ントリアクリレートを8.0 g、トリグリシジルトリス(2
‐ヒドロキシエチル) イソシアヌレートを8.0 g、フタ
ロシアニングリーンを0.5 g及びタルクを8.0 gの割合
で配合し、これらを3 本ロールで混合分散させて、感光
性樹脂組成物の溶液を調製した。この感光性樹脂組成物
の塗膜の感度、熱管理幅及び塗膜性能を実施例1と同様
にして調べた結果表1に示す。
【0035】実施例4 製造例4で得られた感光性樹脂100 gに対し、2 ‐メチ
ル‐1 ‐[4‐(メチルチオ)フェニル] ‐2 ‐モルフォ
リノ‐1 ‐プロパノンを8.0 g、トリメチロールプロパ
ントリアクリレートを8.0 g、トリグリシジルトリス(2
‐ヒドロキシエチル) イソシアヌレートを8.0 g、フタ
ロシアニングリーンを0.5 g及びタルクを8.0 gの割合
で配合し、これらを3 本ロールで混合分散させて、感光
性樹脂組成物の溶液を調製した。この感光性樹脂組成物
の塗膜の感度、熱管理幅及び塗膜性能を実施例1と同様
にして調べた結果表1に示す。
【0036】実施例5 製造例5で得られた感光性樹脂100 gに対し、2 ‐メチ
ル‐1 ‐[4‐(メチルチオ)フェニル] ‐2 ‐モルフォ
リノ‐1 ‐プロパノンを8.0 g、トリメチロールプロパ
ントリアクリレートを8.0 g、トリグリシジルトリス(2
‐ヒドロキシエチル) イソシアヌレートを8.0 g、フタ
ロシアニングリーンを0.5 g及びタルクを8.0 gの割合
で配合し、これらを3 本ロールで混合分散させて、感光
性樹脂組成物の溶液を調製した。この感光性樹脂組成物
の塗膜の感度、熱管理幅及び塗膜性能を実施例1と同様
にして調べた結果表1に示す。
【0037】実施例6 製造例6で得られた感光性樹脂100 gに対し、2 ‐メチ
ル‐1 ‐[4‐(メチルチオ)フェニル] ‐2 ‐モルフォ
リノ‐1 ‐プロパノンを8.0 g、トリメチロールプロパ
ントリアクリレートを8.0 g、トリグリシジルトリス(2
‐ヒドロキシエチル) イソシアヌレートを8.0 g、フタ
ロシアニングリーンを0.5 g及びタルクを8.0 gの割合
で配合し、これらを3 本ロールで混合分散させて、感光
性樹脂組成物の溶液を調製した。この感光性樹脂組成物
の塗膜の感度、熱管理幅及び塗膜性能を実施例1と同様
にして調べた結果表1に示す。
【0038】比較例1 製造例7で得られた感光性樹脂100 gに対し、2 ‐メチ
ル‐1 ‐[4‐(メチルチオ)フェニル] ‐2 ‐モルフォ
リノ‐1 ‐プロパノンを8.0 g、トリメチロールプロパ
ントリアクリレートを8.0 g、トリグリシジルトリス(2
‐ヒドロキシエチル) イソシアヌレートを8.0 g、フタ
ロシアニングリーンを0.5 g及びタルクを8.0 gの割合
で配合し、これらを3 本ロールで混合分散させて、感光
性樹脂組成物の溶液を調製した。この感光性樹脂組成物
の塗膜の感度、熱管理幅及び塗膜性能を実施例1と同様
にして調べた結果表1に示す。
【0039】比較例2 製造例8で得られた感光性樹脂100 gに対し、2 ‐メチ
ル‐1 ‐[4‐(メチルチオ)フェニル] ‐2 ‐モルフォ
リノ‐1 ‐プロパノンを8.0 g、トリメチロールプロパ
ントリアクリレートを8.0 g、トリグリシジルトリス(2
‐ヒドロキシエチル) イソシアヌレートを8.0 g、フタ
ロシアニングリーンを0.5 g及びタルクを8.0 gの割合
で配合し、これらを3 本ロールで混合分散させて、感光
性樹脂組成物の溶液を調製した。この感光性樹脂組成物
の塗膜の感度、熱管理幅及び塗膜性能を実施例1と同様
にして調べた結果表1に示す。
【0040】比較例3 製造例9で得られた感光性樹脂100 gに対し、2 ‐メチ
ル‐1 ‐[4‐(メチルチオ)フェニル] ‐2 ‐モルフォ
リノ‐1 ‐プロパノンを8.0 重量部、トリメチロールプ
ロパントリアクリレートを8.0 g、トリグリシジルトリ
ス(2‐ヒドロキシエチル) イソシアヌレートを8.0 g、
フタロシアニングリーンを0.5 g及びタルクを8.0 gの
割合で配合し、これらを3 本ロールで混合分散させて、
感光性樹脂組成物の溶液を調製した。この感光性樹脂組
成物の塗膜の感度、熱管理幅及び塗膜性能を実施例1と
同様にして調べた結果表1に示す。
【0041】感光性樹脂組成物の塗膜の感度、熱管理幅
及び塗膜性能(はんだ耐熱性、耐薬品性、耐溶剤性、電
気特性)の評価方法は、以下のとおりである。塗膜性能
は、予め面処理済みの基板(銅張り積層板)に、スクリ
ーン印刷法により、上記実施例1〜6、比較例1〜3の
それぞれの感光性樹脂組成物を35μmの厚さ(乾燥
前)に塗工してそれぞれの塗工基板を作製し、それぞれ
の塗工基板を80℃、20分間予備乾燥後、600mJ
/cm2 の露光量で紫外線を照射し、次いで1%炭酸ナ
トリウム水溶液で60秒間現像した後、乾燥させてそれ
ぞれの試験片を作製し、このそれぞれの試験片の塗膜に
ついて評価を行った。
【0042】(I) 塗膜の感度及び熱管理幅 (i) 感度 上述の塗膜性能を調べるための試験片を作製する際の塗
工基板を作成する際、予備乾燥後の塗工基板に感度測定
用ステップタブレット(コダック21段)を設置し、ス
テップタブレットを通しメインピ−クが365nmの波
長の紫外線の照射光量をオ−ク製作所社製の積算光量計
を用い300mJ/cm2 照射したものをテストピ−ス
とし、1重量%の炭酸ナトリウム水溶液を用い、2.0
kg/cm2 のスプレ−圧で60秒間現像を行った後の
露光部分の除去されない部分を数字(ステップ数)で表
した。ステップ数が大きいほど感光特性が良好であるこ
とを示す。
【0043】(ii) 熱管理幅 上述の塗膜性能を調べるための試験片を作製する際の塗
工基板を作成する工程において、予備乾燥時間を10分
間隔で120分まで延長した塗工基板を試験片とし、1
重量%の炭酸ナトリウム水溶液を用い、2.0kg/c
2 のスプレー圧で60秒現像を行い、塗工膜を完全に
除去することができるのに要した最長の予備乾燥時間
(min)を測定した。
【0044】(II) 塗膜性能 (i) はんだ耐熱性 硬化塗膜を有する塗工基板を、JIS C 6481の
試験方法に従って、260℃のはんだ槽に30秒浸漬
後、セロハンテープによるピーリング試験を1サイクル
とした計1〜3サイクルを行った後の塗膜状態を目視に
より評価した。 ◎:3サイクル後も塗膜に変化がないもの ○:3サイクル後に僅かに変化しているもの △:2サイクル後に変化しているもの ×:1サイクル後に剥離を生じるもの
【0045】(ii) 耐酸性 硬化塗膜を有する塗工基板を常温の10%の硫酸水溶液
に30分間浸漬したのち、水洗後、セロハン粘着テープ
によるピーリング試験を行い、塗膜の剥がれ、変色につ
いて観察し、耐酸性を評価した。 ◎:全く変化が認められないもの ○:ほんの僅かに変化したもの △:顕著に変化しているもの ×:塗膜が膨潤して剥離したもの
【0046】(iii) 耐溶剤性 硬化塗膜を有する塗工基板を常温の塩化メチレンに30
分間浸漬したのち、水洗後、セロハン粘着テープによる
ピーリング試験を行い、塗膜の剥がれ,変色について観
察し、耐溶剤性を評価した。 ◎:全く変化が認められないもの ○:ほんの僅か変化しているもの △:顕著に変化しているもの ×:塗膜が膨潤して剥離したもの
【0047】(iv) 電気特性(絶縁抵抗及び変色) 硬化塗膜にIPC−SM−840B B−25テストク
ーポンのくし型電極を置き、60℃、90%RH(相対
湿度)の恒温恒湿槽中で100Vの直流電圧を印加し、
500時間後の絶縁抵抗及び変色を評価した。 ◎:全く変色していないもの ○:薄く変色しているもの △:顕著に変色しているもの ×:黒く焦げ付いているもの
【0048】
【表1】
【0049】表1の結果から、カルボキシル基を2つ以
上(少なくとも2つ)有する多塩基酸を用いた製造例1
〜4の感光性樹脂(感光性プレポリマー)を使用した実
施例1〜4のもの、さらにその感光性樹脂にグリジジル
化合物を付加した製造例5、6の感光性樹脂(感光性プ
レポリマー)を使用した実施例5、6のものは、いずれ
の性能も優れている。熱管理幅は、特にカルボキシル基
を3つ有する製造例3の感光性プレポリマーを使用した
実施例3、カルボキシル基を4つ有する製造例4の感光
性プレポリマーを使用した実施例4、カルボキシル基を
主鎖から遠い位置に配置できる感光性プレポリマー(ア
ジピン酸は直鎖が直線状に延びることができる)を使用
した実施例1のものが優れ、これは現像性が良いことも
示し、感度は、特にグリジジル化合物を付加した感光性
プレポリマーを使用した実施例5、6のものが特に一層
優れていることが分かる。これに対し、多塩基酸の代わ
りに多塩基酸無水物、すなわち無水フタル酸を用いた製
造例7〜9の感光性プレポリマーを使用した比較例1〜
3のものは、熱管理幅が極端に悪く、特に実施例1と比
較例1では、フタル酸を使用したかその無水物を使用し
たかの差異に過ぎないといえるが、前者がいずれの性能
も顕著に優れ、比較例2、3ではフタル酸無水物を使用
し、さらにグリシジル化合物を付加した感光性プレポリ
マーを使用した場合には、酸価が低い場合には現像不能
になり、その酸価を高くしても、実施例1と比較例3で
は感光性プレポリマーの酸価はほぼ同程度とみることが
できるが、熱管理幅は実施例1のものが顕著に優れてい
ることが分かる。比較例3に使用の感光性プレポリマー
は無水フタル酸を使用し、グリシジル化合物を付加する
限り、酸価はそれ以上大きくはでき難いのに対し、実施
例3〜6に使用の感光性プレポリマーは3塩基酸又は4
塩基酸を使用することにより、その酸価を大きくできる
ことにより現像性を高め、このように酸基が3以上の多
塩基酸を使用すると、その高酸価のために多くのグリジ
ジル化合物の付加をでき、その酸価をさげることなく高
水準あるいは通常水準に維持でき、しかもラジカル重合
性二重結合を導入してその数を多くできることにより硬
化性を良くしてその現像性を高めることができる。さら
に分子量の大きい多塩基酸、特に鎖が長い化合物の多塩
基酸、例えば実施例2の感光性プレポリマーにおけるア
ジピン酸や、実施例3〜6の感光性プレポリマーにおけ
る多塩基酸を使用することによりカルボキシル基を感光
性プレポリマーの主鎖から離れた遠い位置に配置するこ
とができるので、主鎖に邪魔されることなく、この点か
らも効率的に現像性を高めることができる。なお、上述
した発明において、「感光性樹脂(組成物)」を「ソル
ダーレジスト用感光性樹脂(組成物)」としてもよく、
さらに「塗布膜乾燥時の未露光対応部分の現像時除去可
能な(又は(解像度、精度において)現像性に優れる)
塗布膜硬化度の熱的許容限度の管理である熱管理幅が広
い」の用途限定を加えてもよく、「ソルダーレジスト膜
を被覆したプリント配線板及びその製造方法」としても
よく、また、「多塩基酸」を「酸基が少なくとも3の多
塩基酸(酸基が3以上の多塩基酸)」の限定、その他の
上述した数値その他の限定、さらにはこれらの任意の複
数を組み合わせた限定を加えた発明としてもよい。
【0050】
【発明の効果】本発明によれば、紫外線露光及び希アル
カリ水溶液による現像により画像形成可能であって、熱
管理幅が広く、かつ高感度であり、しかも耐熱性、電気
絶縁性及び耐薬品性に優れたパターンを与えることがで
きる、新規な構成の感光性樹脂を提供することができ
る。特に高酸価の感光性プレポリマーが得られ、それだ
けグリシジル化合物の多くを付加してもその酸価を下げ
過ぎないようにでき、しかもカルボキシル基を高分子の
主鎖から離れた部位に配置することができることにより
現像性に優れた感光性樹脂を提供することができる。そ
して、本発明は、例えばプリント配線板用ソルダーレジ
ストとして好適な感光性樹脂組成物、そのソルダーレジ
スト膜の硬化膜を有する電子部品搭載前又は後のプリン
ト配線板を提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA01 AA04 AA06 AA10 AB15 AC01 AD01 BC13 BC74 BC83 BC85 BC86 BJ10 FA17 4J011 QB19 QB20 QB22 QC07 UA06 VA01 WA01 4J027 AC03 AC06 AE02 AE03 AE04 AE05 AE06 AE07 AJ05 AJ08 BA03 BA19 BA24 BA26 CA10 CA14 CA16 CA18 CA25 CA33 CA34 CB10 CC04 CD10 4J036 AA01 CA19 CA21 CA22 CA24 CA25 CA28 HA02 JA10 5E314 AA27 AA32 CC07 DD07 FF05 FF19 GG24

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】多官能型エポキシ樹脂のエポキシ基の少な
    くとも一部にラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を反
    応させ、さらに多塩基酸を反応させることにより得られ
    る、1分子中に少なくとも1つのラジカル重合性不飽和
    基とカルボキシル基を有する感光性樹脂又は該感光性樹
    脂と主要部において同一の高分子の構造を有するその他
    の感光性樹脂。
  2. 【請求項2】多官能型エポキシ樹脂のエポキシ基の少な
    くとも一部にラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を反
    応させ、さらに多塩基酸を反応させることにより生成し
    た多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂の
    カルボキシル基に、1分子中に不飽和基を少なくとも1
    つ有するグリシジル化合物を反応させて得られる感光性
    樹脂又は該感光性樹脂と主要部において同一の高分子の
    構造を有するその他の感光性樹脂。
  3. 【請求項3】多官能型エポキシ樹脂のエポキシ基の少な
    くとも一部にラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を反
    応させ、さらに多塩基酸を反応させることにより生成し
    た多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂の
    カルボキシル基に、1分子中に不飽和基を少なくとも1
    つ有するグリシジル化合物を反応させて得られる感光性
    樹脂であって、上記多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸
    化エポキシ樹脂が上記多官能型エポキシ樹脂のエポキシ
    基の1当量に対し、上記ラジカル重合性不飽和モノカル
    ボン酸を0.7 〜1.2 当量反応させ、さらに該反応生成物
    の水酸基1モルに対し、上記多塩基酸を0.3 〜1.0 モル
    の割合で反応させて得られる樹脂である感光性樹脂又は
    該感光性樹脂と主要部において同一の高分子の構造を有
    するその他の感光性樹脂。
  4. 【請求項4】多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポ
    キシ樹脂のカルボキシル基1モルに対し、1分子中に不
    飽和基を少なくとも1つ有するグリシジル化合物を0.05
    〜0.5 モルの割合で反応させて得られる請求項2又は3
    に記載の感光性樹脂又は該感光性樹脂と主要部において
    同一の高分子の構造を有するその他の感光性樹脂。
  5. 【請求項5】感光性樹脂の酸価が45〜250 mgKOH/gであ
    る請求項1ないし4のいずれかに記載の感光性樹脂。
  6. 【請求項6】請求項1ないし5のいずれかに記載の感光
    性樹脂を含有する感光性樹脂組成物。
  7. 【請求項7】請求項6記載の感光性樹脂組成物の硬化膜
    を有するソルダーレジスト膜を被覆した電子部品を搭載
    する前又はした後のプリント配線板。
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