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JP2002076722A - Wiring board - Google Patents

Wiring board

Info

Publication number
JP2002076722A
JP2002076722A JP2000261742A JP2000261742A JP2002076722A JP 2002076722 A JP2002076722 A JP 2002076722A JP 2000261742 A JP2000261742 A JP 2000261742A JP 2000261742 A JP2000261742 A JP 2000261742A JP 2002076722 A JP2002076722 A JP 2002076722A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
waveguide
signal transmission
dielectric
transmission line
wiring board
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000261742A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Kitazawa
謙治 北澤
Naoyuki Shino
直行 志野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP2000261742A priority Critical patent/JP2002076722A/en
Publication of JP2002076722A publication Critical patent/JP2002076722A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the transmission loss of a signal between a signal transmission line formed on the surface of a wiring board and a waveguide, and to improve reliability. SOLUTION: A wiring board is equipped with a ceramic dielectric board 1, a signal transmission line 5 that is applied and formed on one surface of the dielectric board 1 and has an open end 5a, a metal cover 2 mounted on one of the dielectric board 1, a waveguide bonding member 17 that an opening part 18 is formed at a corresponding position through the open end 5a of the signal transmission line 5 and the dielectric board 1. Connecting and fixing an open end of the waveguide B to the opening part 18 of the waveguide connection member 17 enables the signal transmission between the signal transmission line 5 and the waveguide B. In the wiring board, a difference in thermal expansion of the ceramic dielectric board 1 and the waveguide bonding member 17 in the temperature range from the normal temperature to 400 deg.C is 5×10-6/ deg.C or less. The ratio of a volume of the cover to a volume of the bonding member in the metal cover 2 and the waveguide connection member 17 is 0.5 to 2. Then curvature of a bonding face of the waveguide connection member 17 and the waveguide B is controlled to be 50 μm/cm or less.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】 本発明は、高周波用半導体
素子や高周波用受動素子などの高周波素子等を収納する
為の高周波用パッケージ、あるいはそれら素子を収納し
たパッケージを実装する回路基板、あるいは各種素子を
直接表面実装した回路基板などに用いられ、導波管との
接続が可能な配線基板に関し、信号伝送線路−導波管間
で効率よく信号伝送できる配線基板に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high-frequency package for accommodating a high-frequency element such as a high-frequency semiconductor element or a high-frequency passive element, a circuit board on which a package containing such elements is mounted, or various elements. The present invention relates to a wiring board that can be connected to a waveguide, and is used for a circuit board or the like in which is directly mounted on a surface, and a wiring board that can efficiently transmit a signal between a signal transmission line and a waveguide.

【0002】[0002]

【従来技術】近年、社会の情報化が進み、情報の伝達は
携帯電話に代表されるように無線化、パーソナル化が進
んでいる。このような状況の中、さらに高速大容量の情
報伝達を可能にするために、ミリ波(30〜300GH
z)領域で動作する半導体素子の開発が進んでいる。最
近ではこのような高周波半導体素子技術の進歩に伴い、
その応用として車間レーダーや無線LANのようなミリ
波の電波を用いたさまざまな応用システムも提案される
ようになってきた。例えば、ミリ波を用いた車間レーダ
ー(1995年電子情報通信学会エレクトロニクスソサ
イエティ大会、SC−7−6参照)、コードレスカメラ
システム(1995年電子情報通信学会エレクトロニク
スソサイエティ大会、C−137参照)、高速無線LA
N(1995年電子情報通信学会エレクトロニクスソサ
イエティ大会、C−139参照)が提案されている。
2. Description of the Related Art In recent years, society has become more computerized, and information has been transmitted wirelessly and personalized as represented by mobile phones. Under these circumstances, in order to enable even higher-speed and large-capacity information transmission, millimeter-wave (30 to 300 GHz)
The development of a semiconductor device operating in the z) region is in progress. Recently, with the progress of such high-frequency semiconductor device technology,
Various application systems using millimeter wave radio waves such as inter-vehicle radar and wireless LAN have been proposed as applications. For example, an inter-vehicle radar using millimeter waves (see IEICE Electronics Society Conference 1995, SC-7-6), a cordless camera system (see IEICE Electronics Society Conference 1995, C-137), high-speed wireless communication LA
N (see IEICE Electronics Society Conference, 1995, C-139).

【0003】このようにミリ波の応用が進むにつれ、そ
れらの応用を可能とするための要素技術の開発も同時に
進められており、特に、各種の電子部品においては、必
要な伝送特性を有しながら、いかに小型化と低コスト化
を図るかが、大きな課題となっている。
As the applications of millimeter waves have progressed, the development of elemental technologies for enabling these applications has been progressing at the same time. In particular, various electronic components have required transmission characteristics. However, how to reduce the size and cost is a major issue.

【0004】このような要素技術の中でも、高周波素子
が収納された回路基板あるいはパッケージと、外部回路
基板とをいかに簡単で且つ小型な構造で接続するかが重
要な要素として位置づけられている。とりわけ、伝送損
失の最も小さい導波管が形成された外部回路基板と、高
周波素子を搭載した回路基板あるいはパッケージとをい
かに接続するかが大きな問題であった。
Among such element technologies, how to connect a circuit board or a package containing a high-frequency element to an external circuit board with a simple and small structure is regarded as an important element. In particular, how to connect an external circuit board on which a waveguide with the smallest transmission loss is formed to a circuit board or a package on which a high-frequency element is mounted has been a major problem.

【0005】従来における回路基板あるいはパッケージ
を外部回路基板に形成された導波管に接続する方法とし
ては、高周波用パッケージからコネクタを用いて一旦同
軸線路に変換して導波管と接続する方法、外部回路基板
において、導波管を一旦マイクロストリップ線路等に接
続した後、そのマイクロストリップ線路と高周波用パッ
ケージとを接続する方法が採用される。
Conventional methods for connecting a circuit board or a package to a waveguide formed on an external circuit board include a method of converting a high-frequency package into a coaxial line once using a connector and connecting to a waveguide. In the external circuit board, a method is used in which the waveguide is once connected to a microstrip line or the like, and then the microstrip line is connected to a high-frequency package.

【0006】最近では、導波管をパッケージに設けられ
た開口部に直接的に結合して導波管とパッケージ内のマ
イクロストリップ線路とを結合した簡易な構造が特開平
6−283914号、特開平11−243307号等で
提案されている。
Recently, a simple structure in which a waveguide is directly coupled to an opening provided in a package to couple the waveguide with a microstrip line in the package is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-283914. It has been proposed in Kaihei 11-243307 and the like.

【0007】また、本出願人によって特開平11−11
2209号では、キャビティ内のマイクロストリップ線
路と導波管とをグランド層に形成したスロットによって
電磁的に結合することによって、半導体素子の気密封止
が容易にできる構造も提案されている。
Further, the present applicant has disclosed Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-11 / 1999.
No. 2209 proposes a structure in which a microstrip line and a waveguide in a cavity are electromagnetically coupled by a slot formed in a ground layer, so that a hermetic sealing of a semiconductor element can be easily performed.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ように、導波管を一旦、コネクタやマイクロストリップ
線路などの他の伝送線路形態を介して、パッケージと接
続する方法では、接続構造自体が複雑化するとともに、
コネクタや他の伝送線路を形成する領域を確保する必要
があるために、接続構造自体が大型化してしまうという
問題があった。しかも、他の線路形態やコネクタを介す
ることにより伝送損失が増大する可能性もあった。
However, as described above, in the method of once connecting a waveguide to a package via another transmission line form such as a connector or a microstrip line, the connection structure itself is complicated. Along with
Since it is necessary to secure areas for forming connectors and other transmission lines, there is a problem that the connection structure itself becomes large. In addition, there is a possibility that transmission loss may increase due to other line forms or connectors.

【0009】これに対して、導波管から電磁波の形でパ
ッケージのキャビティ内部まで直接導入する方法は、接
続構造を小型化できる点では有効的であるが、蓋などの
キャビティ形成部材を通過する際に電磁波の損失を小さ
くするために、その通過部を誘電率および誘電正接が小
さい材料を使用することが必要であり、そのために、石
英などの低誘電率、低損失材料を埋め込む処理が必要と
なる。このような埋め込み処理は、気密封止性の信頼性
を損なうばかりでなく、量産には全く不向きである。
[0009] On the other hand, a method of direct introduction from the waveguide to the inside of the cavity of the package in the form of an electromagnetic wave is effective in that the connection structure can be reduced in size, but passes through a cavity forming member such as a lid. In order to reduce the loss of electromagnetic waves, it is necessary to use a material having a small dielectric constant and a small dielectric loss tangent for the passing part, and therefore, a process of embedding a low dielectric constant and low loss material such as quartz is required Becomes Such an embedding process not only impairs the reliability of hermetic sealing, but is completely unsuitable for mass production.

【0010】また、キャビティ形成部材をすべて低誘電
率、低損失材料によって構成することも考えられるが、
パッケージを構成する材料として、それら電気特性以外
にも機械的な強度や気密封止性、メタライズ性など各種
の特性が要求され、それら特性をすべて満足し、且つ安
価に製造できるような適切な材料は見当たらない。
It is also conceivable that all the cavity forming members are made of a material having a low dielectric constant and a low loss.
Various materials such as mechanical strength, hermetic sealing properties, and metallization properties are required in addition to the electrical properties as materials constituting the package. Suitable materials that satisfy all of these properties and can be manufactured at low cost Is not found.

【0011】また、特開平11−112209号におい
て、パッケージに対して導波管を取り付けるには、パッ
ケージに導波管を直接ねじ締めすることが必要となる
が、その際にパッケージにクラック、破損による不良が
発生する。そのため、パッケージ側に接続部材をロウ付
け接合し、この接続部材に導波管をネジ止めすることも
提案されている。
Further, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-112209, it is necessary to directly screw the waveguide to the package in order to attach the waveguide to the package. This causes a defect. Therefore, it has been proposed that a connecting member is brazed to the package side and a waveguide is screwed to the connecting member.

【0012】この場合の接続部材のロウ付け温度は70
0℃以上と非常に高いため、パッケージの誘電体基板を
低温焼成セラミックスによって構成した場合、ロウ付け
工程で再焼成が行われることとなり、セラミックス中の
変化等により電気的特性(誘電率、誘電損失)が変化す
ることがある。その結果、本来の伝送特性を損なう場合
があった。
In this case, the brazing temperature of the connecting member is 70.
Since the temperature is extremely high at 0 ° C. or higher, when the dielectric substrate of the package is made of low-temperature fired ceramics, re-firing is performed in the brazing process, and the electrical characteristics (dielectric constant, dielectric loss ) May change. As a result, the original transmission characteristics may be impaired.

【0013】また、接続部材と誘電体材料との熱的特性
の差などによってパッケージが反るなとの問題があっ
た。その結果、導波管と接続部材、あるいは接続部材と
パッケージとの接合部に隙間が発生しこれによって、導
波管−マイクロストリップ線路間の伝送特性が劣化する
という問題があった。
Further, there is a problem that the package does not warp due to a difference in thermal characteristics between the connection member and the dielectric material. As a result, a gap is generated at the junction between the waveguide and the connection member or between the connection member and the package, which causes a problem that transmission characteristics between the waveguide and the microstrip line are deteriorated.

【0014】さらに、両者の間に生じる隙間を小さくす
るために、ねじ締めをさらに行うと、パッケージの誘電
体基板の応力が集中する個所にクラック、破損がおこる
問題があった。
Further, if the screws are further tightened in order to reduce the gap between the two, cracks and breakage may occur at locations where the stress of the dielectric substrate of the package is concentrated.

【0015】本発明は、前記課題を解消せんとして成さ
れたもので、配線基板表面に形成された信号伝送線路
と、導波管との間での信号の伝送損失が小さく、信頼性
に優れた配線基板を提供することを目的とするものであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and has a small signal transmission loss between a signal transmission line formed on the surface of a wiring board and a waveguide, and has excellent reliability. It is an object of the present invention to provide a printed circuit board.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、セラミ
ック誘電体基板と、該誘電体基板の一方の表面に被着形
成され且つ開放端を有する信号伝送線路と、前記誘電体
基板の一方の表面に取着された金属製蓋体と、前記誘電
体基板の他方の表面に取着され、前記信号伝送線路の開
放端と前記誘電体基板を介して対峙する位置に開口部が
形成された導波管接続部材とを具備し、前記導波管接続
部材の開口部に導波管の開放端を接続固定することによ
って、前記信号伝送線路と前記導波管との信号の伝達が
可能な配線基板において、前記導波管接続部材の導波管
との接続面の反り量を50μm/cm以下に抑制するこ
とによって、配線基板表面に形成された信号伝送線路
と、導波管との接続時の信号損失が小さく、また反射の
小さい接続が可能となる。
According to the present invention, there is provided a ceramic dielectric substrate, a signal transmission line formed on one surface of the dielectric substrate and having an open end, and one of the dielectric substrates. A metal lid attached to the surface of the substrate, and an opening formed at a position opposed to the open end of the signal transmission line via the dielectric substrate and attached to the other surface of the dielectric substrate. A signal transmission line and the waveguide can be transmitted by connecting and fixing an open end of the waveguide to an opening of the waveguide connection member. In a simple wiring board, by suppressing the amount of warpage of the connection surface of the waveguide connecting member with the waveguide to 50 μm / cm or less, the signal transmission line formed on the surface of the wiring board and the waveguide Low signal loss during connection and low reflection connection That.

【0017】また、導波管接続部材の導波管との接続面
の反り量を50μm/cm以下に抑える上で、導波管接
続部材と誘電体基板との熱膨張係数差が常温から400
℃の範囲において5×10-6/℃以下となることが望ま
しい。また、配線基板の一方の表面側に取着されたコの
字状の金属製蓋体と、裏面側に取着された導波管接続部
材との、(接続部材の体積量)/(蓋体の体積量)の比
率は0.5〜2であることが望ましい。
In order to suppress the warpage of the connecting surface of the waveguide connecting member to the waveguide to 50 μm / cm or less, the difference in thermal expansion coefficient between the waveguide connecting member and the dielectric substrate is set to 400 from normal temperature.
It is desirable that the temperature be 5 × 10 −6 / ° C. or less in the range of ° C. Further, the (U) -shaped metal lid attached to one surface side of the wiring board and the waveguide connection member attached to the rear surface side are: (volume of connection member) / (cover) The ratio of (body volume) is preferably 0.5 to 2.

【0018】また、前記セラミック誘電体基板の内部ま
たは裏面に、前記信号伝送線路の開放端と対峙する位置
にスロット孔を有するグランド層が形成されてなり、該
スロット孔を介して前記信号伝送線路と前記導波管とを
電磁的に結合し、特に前記グランド層のスロット孔形成
表面に誘電体部を形成することによって損失が小さく且
つ封止性の良好な接続が可能となる。
A ground layer having a slot hole is formed inside or on the back of the ceramic dielectric substrate at a position facing the open end of the signal transmission line, and the signal transmission line is formed through the slot hole. By electromagnetically coupling the waveguide and the waveguide, and particularly forming a dielectric portion on the surface of the ground layer on which the slot hole is formed, a connection with a small loss and a good sealing property can be achieved.

【0019】また、かかる電磁結合構造においては、さ
らに前記誘電体部内部または導波管との接続側表面にお
ける前記スロット孔と対峙する位置に導体層を形成する
ことがより望ましく、前記セラミック誘電体基板の裏面
に誘電体層を形成し、前記誘電体部を前記誘電体層に形
成された複数の垂直導体によって囲むことによって形成
することによって、誘電体部を誘電体基板と同時焼成等
によって形成することができる。
In the electromagnetic coupling structure, it is more preferable that a conductor layer is further formed inside the dielectric portion or on the surface on the connection side with the waveguide, at a position facing the slot hole. By forming a dielectric layer on the back surface of the substrate and surrounding the dielectric portion with a plurality of vertical conductors formed on the dielectric layer, the dielectric portion is formed by simultaneous firing with the dielectric substrate or the like. can do.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】 以下、本発明の配線基板の構造
について、典型的な応用例として高周波用パッケージの
一例を以下に図面をもとに説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, an example of a high-frequency package as a typical application example of the structure of a wiring board according to the present invention will be described with reference to the drawings.

【0021】図1は、本発明に一例である高周波用パッ
ケージを示すものであって、(a)は概略断面図、
(b)は誘電体基板の一方の表面のパターンを示す平面
図、(c)はパッケージの第1誘電体層の底面のパター
ンを示す平面図、(d)はこのパッケージに導波管を接
続した時の概略断面図である。
FIG. 1 shows a high-frequency package which is an example of the present invention, wherein (a) is a schematic sectional view,
(B) is a plan view showing a pattern on one surface of the dielectric substrate, (c) is a plan view showing a pattern on the bottom surface of the first dielectric layer of the package, and (d) connects a waveguide to the package. It is a schematic sectional view at the time of doing.

【0022】まず、図1に示される高周波用パッケージ
A1によれば、誘電体基板1と、金属製蓋体2によって
形成されたキャビティ3内において、誘電体基板1表面
に高周波素子4が実装搭載されている。また、誘電体基
板1のキャビティ3側の表面には、高周波素子4と一端
が接続され、且つ開放端5aを有する信号伝送線路5が
形成されており、高周波素子4と接続されている。
First, according to the high-frequency package A1 shown in FIG. 1, the high-frequency element 4 is mounted on the surface of the dielectric substrate 1 in the cavity 3 formed by the dielectric substrate 1 and the metal lid 2. Have been. A signal transmission line 5 having one end connected to the high-frequency element 4 and having an open end 5 a is formed on the surface of the dielectric substrate 1 on the cavity 3 side, and is connected to the high-frequency element 4.

【0023】なお、この金属製蓋体2は、断面がコの字
状からなり、誘電体基板の表面側にロウ付け接合されて
おり、キャビティ3は、金属製蓋体2によって気密に封
止されている。
The metal lid 2 has a U-shaped cross section and is brazed to the surface of the dielectric substrate. The cavity 3 is hermetically sealed by the metal lid 2. Have been.

【0024】一方、誘電体基板1の信号伝送線路5や高
周波素子4が搭載された表面とは反対の表面には、一面
にグランド層7が形成されており、そしてそのグランド
層7の信号伝送線路5の開放端5aと対峙する部分には
導体が形成されていないアイリス(以下、スロット孔と
いう。)6が形成されている。
On the other hand, on the surface of the dielectric substrate 1 opposite to the surface on which the signal transmission line 5 and the high-frequency element 4 are mounted, a ground layer 7 is formed on one surface, and the signal transmission of the ground layer 7 is performed. An iris (hereinafter, referred to as a slot hole) 6 in which a conductor is not formed is formed in a portion facing the open end 5a of the line 5.

【0025】このパッケージにおいては、信号伝送線路
5は、これが中心導体をなし、グランド層7とともにマ
イクロストリップ構造の線路を形成している。なお、信
号伝送線路は上記マイクロストリップ線路に限らず、信
号伝送線路(中心導体)の両脇に他のグランド層を形成
し、グランド層7とともにグランド付きコプレーナ構造
の線路でも良い。また、誘電体基板1の信号伝送線路5
の周辺には、蓋体2をロウ付けするための導体層8が形
成されている。
In this package, the signal transmission line 5 forms a central conductor and forms a microstrip line with the ground layer 7. The signal transmission line is not limited to the above-mentioned microstrip line, and another ground layer may be formed on both sides of the signal transmission line (center conductor), and a line having a grounded coplanar structure may be formed together with the ground layer 7. Also, the signal transmission line 5 of the dielectric substrate 1
Is formed with a conductor layer 8 for brazing the lid 2.

【0026】また、図1の高周波用パッケージA1にお
いては、グランド層7のスロット孔6が形成された部分
の表面には、第1の誘電体層10が積層形成されてい
る。そして、この第1の誘電体層10には、平面的にみ
てグランド層7のスロット孔6を囲むように、複数の垂
直導体14が信号波長の1/4波長長さ未満の間隔で配
列されている。またこの垂直導体14によって囲まれた
領域には、マイクロストリップ線路と導波管の特性イン
ピーダンスをマッチングさせ、かつ広帯域の伝送変換を
達成するために誘電体部9が形成されている。また、第
1の誘電体層10の表面には、導体層11が形成されて
おり、この導体層11とグランド層7とは前記垂直導体
14によって接続されている。なお、ここでは垂直導体
14の形状に円柱状のものを用いているが、角柱状のも
のでも楕円柱のものでも特に問題は無い。
In the high-frequency package A1 shown in FIG. 1, a first dielectric layer 10 is formed on the surface of the ground layer 7 where the slot hole 6 is formed. A plurality of vertical conductors 14 are arranged in the first dielectric layer 10 so as to surround the slot holes 6 of the ground layer 7 in a plan view at intervals less than a quarter of the signal wavelength. ing. In a region surrounded by the vertical conductor 14, a dielectric portion 9 is formed in order to match the characteristic impedances of the microstrip line and the waveguide and to achieve wideband transmission conversion. A conductor layer 11 is formed on the surface of the first dielectric layer 10, and the conductor layer 11 and the ground layer 7 are connected by the vertical conductor 14. Although the vertical conductor 14 has a columnar shape here, there is no particular problem if the vertical conductor 14 has a prismatic shape or an elliptical shape.

【0027】上記の線路構成において、マイクロストリ
ップ線路の信号伝送線路5は、スロット孔6と電磁結合
されている、言い換えれば電磁結合によりスロット孔6
に給電する。この電磁結合構造は、具体的には、特開平
3−129903号に記載されており、図1(b)の誘
電体基板1の平面図に示すように、マイクロストリップ
線路の信号伝送線路5の開放端5aがスロット孔6中心
から信号周波数の1/4波長の長さLで突出するように
形成することにより、電磁結合することができる。しか
し、電磁結合は必ずしも前記寸法の組み合わせだけでな
く、その他の組み合わせでも良好な結合は可能である。
In the above line configuration, the signal transmission line 5 of the microstrip line is electromagnetically coupled to the slot hole 6, in other words, the slot hole 6 is electromagnetically coupled.
Power. This electromagnetic coupling structure is specifically described in JP-A-3-129903. As shown in the plan view of the dielectric substrate 1 in FIG. By forming the open end 5a so as to protrude from the center of the slot hole 6 by a length L of a quarter wavelength of the signal frequency, electromagnetic coupling can be achieved. However, electromagnetic coupling is not limited to the combination of dimensions described above, and good coupling is possible with other combinations.

【0028】また、図1のパッケージA1においては、
導体層11に銅−タングステン、銅、コバールなどから
なる導波管接続部材17がロウ剤等によって取付けられ
ている。この接続部材17には、信号伝送線路5の開放
端5aと誘電体基板1を介して対峙する位置に開口部1
8が形成されている。この開口部18は、接続される導
波管17の内径形状とほぼ同様の形状からなる。
In the package A1 shown in FIG.
A waveguide connecting member 17 made of copper-tungsten, copper, Kovar, or the like is attached to the conductor layer 11 with a brazing agent or the like. The connection member 17 has an opening 1 at a position facing the open end 5 a of the signal transmission line 5 via the dielectric substrate 1.
8 are formed. The opening 18 has substantially the same shape as the inner diameter of the waveguide 17 to be connected.

【0029】そして、この接続部材17に対して、導波
管Bの開放端に設けられたフランジB’をロウ付けした
り、フランジB’を接続部材17にネジ止めして導波管
Bを接続部材に固定する。
Then, a flange B ′ provided at the open end of the waveguide B is brazed to the connection member 17, or the flange B ′ is screwed to the connection member 17 to connect the waveguide B. Secure to the connection member.

【0030】このようにして導波管Bの導体壁16を導
体層11および垂直導体14を介してグランド層7と電
気的に接続することにより、グランド層7と導波管Bの
導体壁16の電位を共通にすることができる。
By electrically connecting the conductor wall 16 of the waveguide B to the ground layer 7 via the conductor layer 11 and the vertical conductor 14 in this manner, the ground layer 7 and the conductor wall 16 of the waveguide B are electrically connected. Can be made common.

【0031】かかる導波管Bとの接続構造においては、
導波管接続部材17を接合した高周波用パッケージA1
と、導波管Bの開放端のフランジB’は良好な伝送特性
を得る上で、密接に接合される必要がある。そのため、
導波管Bの開放端のフランジB’と接続される導波管接
続部材17の接続面の反り量が50μm/cm以下であ
ることが重要であって、特に40μm/cm以下である
ことが望ましい。これは、導波管Bの開放端のフランジ
B’と接続される導波管接続部材17の接続面の反り量
が50μm/cmを超えると、高周波用パッケージA1
と導波管BのフランジB’との間に大きな隙間が発生
し、この隙間によって導波管接続部材17とフランジ
B’間での電流の流れる経路が部分的に変化してしまう
結果、伝送特性の劣化につながるためである。また隙間
が大きくなると、ミリ波以上の高周波領域において、電
磁場がこの隙間から洩れる原因となり特性劣化の原因に
なる。
In such a connection structure with the waveguide B,
High-frequency package A1 to which waveguide connecting member 17 is joined
The flange B 'at the open end of the waveguide B needs to be closely joined to obtain good transmission characteristics. for that reason,
It is important that the amount of warpage of the connection surface of the waveguide connecting member 17 connected to the flange B ′ at the open end of the waveguide B is 50 μm / cm or less, and particularly 40 μm / cm or less. desirable. This is because when the warpage of the connection surface of the waveguide connecting member 17 connected to the flange B ′ at the open end of the waveguide B exceeds 50 μm / cm, the high-frequency package A1
As a result, a large gap is generated between the waveguide B and the flange B ′ of the waveguide B, and the gap partially changes the current flow path between the waveguide connecting member 17 and the flange B ′, resulting in transmission. This is because the characteristics are degraded. In addition, when the gap becomes large, in a high frequency region of a millimeter wave or more, an electromagnetic field leaks from the gap and causes deterioration of characteristics.

【0032】このように、導波管Bの開放端のフランジ
B’と接続される導波管接続部材17の接続面の反り量
を上記範囲に小さくするには、高周波用パッケージA1
の誘電体基板1と接続部材17との熱膨張係数差が常温
から400℃の範囲において5×10-6/℃以下、特に
3×10-6/℃以下であることが望ましい。また、さら
には、高周波用パッケージA1の誘電体基板1と金属製
蓋体2との常温から400℃の範囲における熱膨張係数
差も5×10-6/℃以下、特に3×10-6/℃以下であ
ることが望ましい。
As described above, in order to reduce the warpage of the connection surface of the waveguide connecting member 17 connected to the flange B 'at the open end of the waveguide B to the above range, the high-frequency package A1 is used.
It is desirable that the difference in thermal expansion coefficient between the dielectric substrate 1 and the connecting member 17 be 5 × 10 −6 / ° C. or less, particularly 3 × 10 −6 / ° C. or less in the range from room temperature to 400 ° C. Furthermore, the difference in thermal expansion coefficient between the dielectric substrate 1 and the metal lid 2 of the high-frequency package A1 in the range from room temperature to 400 ° C. is 5 × 10 −6 / ° C. or less, particularly 3 × 10 −6 / ° C. It is desirable that the temperature is not more than ° C.

【0033】さらには、高周波用パッケージA1の表裏
に設けられる金属製蓋体2と、接続部材17とを同じ材
質によって形成し、接続部材17と、誘電体基板1およ
び金属製蓋体2との組み合わせによって残留応力の発生
を緩和し、反りの発生を抑制することができる。
Further, the metal cover 2 provided on the front and back of the high-frequency package A1 and the connection member 17 are formed of the same material, and the connection member 17, the dielectric substrate 1 and the metal cover 2 are connected to each other. The combination can reduce the occurrence of residual stress and suppress the occurrence of warpage.

【0034】その場合、(接続部材の体積量)/(蓋体
の体積量)の比率が0.5〜2、特に0.7〜1.3で
あることが望ましい。つまり、この体積比が上記の範囲
を逸脱すると、高周波用パッケージA1、金属製蓋体2
と、接続部材17間で発生する残留応力によるバランス
が崩れ、応力がパッケージA1の一方の面側に集中して
不均衡となるために、パッケージA1自体に反りが発生
し、それに接続されている金属製蓋体2や接続部材17
自体にも反りが発生し、前記反り量が50μm/cmよ
りも大きくなるのである。
In this case, it is desirable that the ratio of (volume of connection member) / (volume of lid) be 0.5 to 2, particularly 0.7 to 1.3. That is, if the volume ratio deviates from the above range, the high-frequency package A1, the metal lid 2
And the balance due to the residual stress generated between the connecting members 17 is lost, and the stress is concentrated on one surface side of the package A1 and becomes unbalanced, so that the package A1 itself is warped and connected to the package A1. Metal cover 2 and connection member 17
The warp itself occurs, and the warp amount becomes larger than 50 μm / cm.

【0035】また、かかる構造によれば、導波管Bを接
続部材17が接合した高周波用パッケージA1に対して
強固に接合することができ、パッケージA1と導波管B
との接続信頼性を高めることができる。
Further, according to this structure, the waveguide B can be firmly joined to the high-frequency package A1 to which the connecting member 17 is joined, and the package A1 and the waveguide B
Connection reliability can be improved.

【0036】なお、図1では、誘電体基板1の底面に接
続部材17を一体的に接合形成したが、この接続部材1
7は、パッケージA1の入力用変換部および出力用変換
部に対して別体で設けても良い。
Although the connecting member 17 is integrally formed on the bottom surface of the dielectric substrate 1 in FIG.
7 may be provided separately from the input conversion unit and the output conversion unit of the package A1.

【0037】さらにこの構造においては、第1の誘電体
層10に設けられた垂直導体14によって囲まれた誘電
体部9の大きさを接続部材17に形成された開口部18
よりも小さくすることで接続部材17と誘電体部9との
接続時のズレに起因する特性バラツキを抑えることがで
き、また導体層11と接続部材17との接続端面の段差
部にロウ材のメニスカスを形成することが可能となり、
接続端面における応力集中を回避できロウ付け時に生じ
る温度変化からくる応力の発生を抑制でき歩留りを向上
することができる。
Further, in this structure, the size of the dielectric portion 9 surrounded by the vertical conductor 14 provided in the first dielectric layer 10 is reduced by the size of the opening 18 formed in the connection member 17.
By making the connection member 17 smaller than the above, it is possible to suppress a variation in characteristics due to a deviation at the time of connection between the connection member 17 and the dielectric portion 9, and to use a brazing material at a step portion of a connection end face between the conductor layer 11 and the connection member 17. It is possible to form a meniscus,
Stress concentration at the connection end face can be avoided, and the generation of stress due to a temperature change occurring during brazing can be suppressed, and the yield can be improved.

【0038】この図1の構造のパッケージA1は、誘電
体基板1と誘電体層10のセラミック絶縁材料と、高周
波伝送線路5、グランド層7、導体層11、垂直導体1
4などの導体材料とを、周知のセラミック積層技術を用
いて、焼成前のセラミック材料に導体ペーストを印刷塗
布して、一括して焼成することによって製造することが
できる点で有利である。
The package A1 having the structure shown in FIG. 1 includes a ceramic insulating material for the dielectric substrate 1 and the dielectric layer 10, a high-frequency transmission line 5, a ground layer 7, a conductor layer 11, and a vertical conductor 1.
This is advantageous in that a conductive material such as No. 4 can be manufactured by printing and applying a conductive paste to a ceramic material before firing using a well-known ceramic laminating technique, and firing the batch.

【0039】図2は、図1の高周波用パッケージA1に
基づく変形例である高周波用パッケージA2に導波管B
を接続した時の概略断面図である。この高周波用パッケ
ージA2によれば、誘電体部9の内部のスロット孔6と
対峙する位置に導体層19を設けることもできる。この
導体層19は、誘電体部内で発生する電磁界を2つに分
割する作用をなす。また、この導体層19は、誘電体部
9の導波管Bとの接続側の表面に形成してもよい。
FIG. 2 shows a modification of the high-frequency package A1 shown in FIG.
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view when connecting the. According to the high-frequency package A2, the conductor layer 19 can be provided at a position facing the slot hole 6 inside the dielectric portion 9. The conductor layer 19 has a function of dividing an electromagnetic field generated in the dielectric portion into two. The conductor layer 19 may be formed on the surface of the dielectric portion 9 on the connection side with the waveguide B.

【0040】また、図1のパッケージA1においては、
高周波素子4は、誘電体基板1の表面に実装された構造
であるが、その変形例として、図2のパッケージA2に
示すように、誘電体基板1と誘電体層10によりキャビ
ティ2を形成して、グランド層7を誘電体層10の表面
に形成して、さらにそのグランド層7の表面に高周波素
子4を実装することも可能である。
In the package A1 shown in FIG.
The high-frequency element 4 has a structure mounted on the surface of the dielectric substrate 1. As a modified example, as shown in a package A2 in FIG. 2, a cavity 2 is formed by the dielectric substrate 1 and the dielectric layer 10. Thus, it is also possible to form the ground layer 7 on the surface of the dielectric layer 10 and further mount the high-frequency element 4 on the surface of the ground layer 7.

【0041】さらに、図1のパッケージA1において
は、誘電体基板1の裏面に形成したグランド層7の表面
に第1の誘電体層10を形成し、この第1の誘電体層1
0に垂直導体14を設けて誘電体部9を内在させたが、
図3のパッケージA3に示すように、第1の誘電体層1
0を形成することなく、誘電体部9をグランド層10に
おけるスロット孔6の表面に直接接着してもよく、その
場合、接続部材17をグランド層7に直接接合すること
もできる。かかる場合においても図2のパッケージA2
の導体層19と同様に、誘電体部9の内部または導波管
Bとの接続側表面に導体層19を形成することもでき
る。
Further, in the package A1 shown in FIG. 1, a first dielectric layer 10 is formed on the surface of a ground layer 7 formed on the back surface of the dielectric substrate 1, and the first dielectric layer 1
0, a vertical conductor 14 is provided, and the dielectric portion 9 is made internal.
As shown in the package A3 in FIG. 3, the first dielectric layer 1
Without forming 0, the dielectric portion 9 may be directly bonded to the surface of the slot hole 6 in the ground layer 10, and in that case, the connecting member 17 may be directly bonded to the ground layer 7. In such a case, the package A2 in FIG.
Similarly to the conductor layer 19, the conductor layer 19 can be formed inside the dielectric portion 9 or on the surface on the connection side with the waveguide B.

【0042】上記図1〜図3に示した本発明の高周波パ
ッケージA1、A2、A3においては、誘電体基板1、
誘電体部9、誘電体層10は、セラミックスまたは有機
樹脂、あるいはそれらの複合体からなる構成することが
できる。例えば、セラミックスとしては、Al23、A
lN、Si34などのセラミック材料や、ガラス材料、
あるいはガラスとAl23、SiO2、MgOなどの無
機質フィラーとの複合体からなるガラスセラミック材料
により形成でき、これらの原料粉末を用いて所定の基板
形状に成形した後、焼成することにより形成される。ま
た、有機樹脂としては、有機系材料からなるプリント基
板やテフロン基板によって形成することができる。
In the high-frequency packages A1, A2, and A3 of the present invention shown in FIGS.
The dielectric portion 9 and the dielectric layer 10 can be made of ceramics, organic resin, or a composite thereof. For example, as ceramics, Al 2 O 3 , A
ceramic materials such as 1N and Si 3 N 4 , glass materials,
Alternatively, it can be formed by a glass ceramic material composed of a composite of glass and an inorganic filler such as Al 2 O 3 , SiO 2 , MgO, etc., formed by using these raw material powders into a predetermined substrate shape, and then firing. Is done. The organic resin can be formed on a printed circuit board or a Teflon substrate made of an organic material.

【0043】また、信号の伝達を担う各伝送線路および
グランド層は、タングステン、モリブデンなどの高融点
金属や、金、銀、銅などの低抵抗金属などにより形成す
ることができ、これらは、用いる基板材料に応じて適宜
選択して、従来の積層技術をもって一体的に形成するこ
とができる。
Each transmission line and ground layer for transmitting signals can be made of a high melting point metal such as tungsten or molybdenum, or a low resistance metal such as gold, silver or copper. It can be appropriately selected according to the substrate material, and can be integrally formed by a conventional lamination technique.

【0044】例えば、基板をAl23、AlN、Si3
4などのセラミック材料により形成する場合には、タ
ングステン、モリブデン等の高融点金属を用いて未焼成
体に印刷塗布して、1500〜1900℃の温度で焼成
することが望ましい。基板をガラス材料、ガラスセラミ
ック材料により形成する場合には、銅、金、銀などを用
いて同様にして800〜1100℃の温度で焼成するこ
とにより作製できる。なお、基板を有機樹脂を含む絶縁
材料により形成する場合には、銅、金、銀などを用いて
ペーストを塗布するか、金属箔を接着することにより線
路やグランド層を形成することができる。基板にガラス
材料、ガラスセラミック材料、有機樹脂を含む絶縁材料
により形成する場合には、接続部材と接合する場合は、
ロウ材の選定を行う必要があり、導電性接着剤、An−
Sn、An−Si等を用いることが望ましい。また、誘
電体基板1に取着される金属製蓋体2や、接続部材17
は、Fe−Co−Ni合金、Ni−Cr−Fe合金、C
u−Wや、Cuの群から選ばれる少なくとも1種の金属
材料によって好適に形成される。あるいは、蓋体2を誘
電体基板1を形成するような前述した絶縁材料からなり
蓋体の内面に導体材料を塗布したものであってもよい。
また、接続部材17においても、前記絶縁材料からな
り、開口部18の内壁に導体材料を塗布形成したもので
あってもよい。
For example, when the substrate is made of Al 2 O 3 , AlN, Si 3
When it is formed of a ceramic material such as N 4, it is preferable to print and apply it to a green body using a high melting point metal such as tungsten or molybdenum, and fire it at a temperature of 1500 to 1900 ° C. When the substrate is formed of a glass material or a glass ceramic material, it can be manufactured by similarly baking at a temperature of 800 to 1100 ° C. using copper, gold, silver, or the like. When the substrate is formed of an insulating material containing an organic resin, a line or a ground layer can be formed by applying a paste using copper, gold, silver, or the like, or by bonding a metal foil. In the case where the substrate is formed of a glass material, a glass ceramic material, or an insulating material including an organic resin, in the case of joining with a connection member,
It is necessary to select brazing material, conductive adhesive, An-
It is desirable to use Sn, An-Si, or the like. In addition, the metal lid 2 attached to the dielectric substrate 1 and the connecting member 17
Are Fe-Co-Ni alloy, Ni-Cr-Fe alloy, C
It is preferably formed of at least one metal material selected from the group consisting of u-W and Cu. Alternatively, the lid 2 may be made of the above-described insulating material for forming the dielectric substrate 1 and a conductive material applied to the inner surface of the lid.
Also, the connection member 17 may be made of the insulating material and formed by applying a conductive material to the inner wall of the opening 18.

【0045】[0045]

【実施例】図1のパッケージA1を基本的な構造とし、
高周波素子搭載部を有しない図4に示す評価用パッケー
ジA4を作製し、導波管Bと信号伝送線路5間の接続特
性を評価した。評価用パッケージは、対象周波数を77
GHzとして設計した。測定には、ベクトル型ネットワ
ークアナライザーを用いた。測定形態は以下の通りであ
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The package A1 shown in FIG.
An evaluation package A4 shown in FIG. 4 having no high-frequency element mounting portion was manufactured, and connection characteristics between the waveguide B and the signal transmission line 5 were evaluated. The evaluation package has a target frequency of 77
GHz. A vector network analyzer was used for the measurement. The measurement form is as follows.

【0046】図4に示すようにネットワークアナライザ
ーからの導波管Bを評価用パッケージA4の接続部材1
7にねじ止め(図示せず)して接続し、導波管B内の信
号が入力用変換部x1で変換され、マイクロストリップ
線路5を通過し再び出力用変換部x2で変換され導波管
Bにつながる形態とした。作製したパッケージに対し
て、S21を評価した。
As shown in FIG. 4, the waveguide B from the network analyzer is connected to the connection member 1 of the evaluation package A4.
7 and connected by screwing (not shown), the signal in the waveguide B is converted by the input converter x1, passes through the microstrip line 5, is converted again by the output converter x2, and is B was adopted. S21 was evaluated for the produced package.

【0047】なお、パッケージA4における誘電体基板
および誘電体層10としては誘電率9.0、室温から4
00℃における熱膨張係数が7×10-6/℃のアルミナ
セラミックスを用い、線路5、グランド層7、垂直導体
14、導体層8,11などの表面および内部の導体材料
としてタングステンを用いて誘電体基板1や誘電体層1
0と同時焼成して形成した。
The dielectric substrate and the dielectric layer 10 in the package A4 have a dielectric constant of 9.0, and a
Alumina ceramics having a coefficient of thermal expansion of 7 × 10 −6 / ° C. at 00 ° C. is used, and tungsten is used as a conductor material on the surface and inside of the line 5, the ground layer 7, the vertical conductor 14, and the conductor layers 8 and 11. Body substrate 1 and dielectric layer 1
0 and formed simultaneously.

【0048】なお、上記導体層のうち、露出している線
路5や導体層8、11の表面には厚さ3μmのAuメッ
キを施した。また、導波管接続部材17および蓋体2に
は、Fe−Co−Ni合金を用い導体層8、11に対し
てAgロウで接合した。
The exposed surfaces of the lines 5 and the conductor layers 8 and 11 were plated with Au having a thickness of 3 μm. The waveguide connecting member 17 and the lid 2 were joined to the conductor layers 8 and 11 with an Ag solder using an Fe—Co—Ni alloy.

【0049】また、パッケージにおいては、接続部材、
蓋体として表1に示す種々の材料を用いた。なお各材料
の誘電体基板との熱膨張差(α差)を表1に示した。ま
た、接続部材や蓋体の厚みなどを変えることによって接
続部材Xと蓋体Yとの体積比率を求め、表1に示した。
In the package, a connecting member,
Various materials shown in Table 1 were used for the lid. Table 1 shows the thermal expansion difference (α difference) between each material and the dielectric substrate. The volume ratio between the connection member X and the lid Y was determined by changing the thickness of the connection member and the lid, and the results are shown in Table 1.

【0050】さらに、導波管Bと接続される導波管接続
部材17の開口部以外の接続面に対して、表面粗さ計を
用い、1方向に対して触針を1cm移動させて得られる
チャートから、最大反り量(μm)/測定長(cm)を
測定した。この測定をパッケージの長辺方向と短辺方向
に各5回づつ測定し、それらの平均を求め、これを接続
面の反り量とした。
Further, by using a surface roughness meter, the stylus is moved by 1 cm in one direction with respect to the connection surface other than the opening of the waveguide connection member 17 connected to the waveguide B. The maximum warpage (μm) / measured length (cm) was measured from the chart obtained. This measurement was performed five times in each of the long side direction and the short side direction of the package, and the average thereof was obtained, and this was defined as the amount of warpage of the connection surface.

【0051】また、パッケージの伝送特性評価後に熱衝
撃試験を行い信頼性の評価も行った。この評価は液槽に
よるもので、0℃および100℃の水中で各5分間保持
し、これを1サイクルとして最高1000サイクルまで
行った。なお、表中、1000サイクル後においても異
常が認められないものに〇、1000サイクル未満で破
壊が生じたものに×を付した。なお、試験前の段階です
でにクラック等の発生が認められたものについては初期
破壊として示した。
After the evaluation of the transmission characteristics of the package, a thermal shock test was performed to evaluate the reliability. This evaluation was based on a liquid tank, and was held in water at 0 ° C. and 100 ° C. for 5 minutes each. In the table, 〇 indicates that no abnormality was observed even after 1000 cycles, and X indicates that failure occurred after less than 1000 cycles. In addition, the thing which generation | occurrence | production of a crack etc. was already recognized at the stage before the test was shown as initial fracture.

【0052】[0052]

【表1】 [Table 1]

【0053】表1から明らかなように、本発明に基づく
試料No.4〜11では、いずれも反り量が50μm/
cm以下であり、伝送特性(S21)が4.5dB以
下、信頼性評価でも1000サイクルにおいてもクラッ
クなどの発生は認められなかった。
As is clear from Table 1, the sample No. In Nos. 4 to 11, the warpage amount was 50 μm /
cm or less, the transmission characteristic (S21) was 4.5 dB or less, and no occurrence of cracks or the like was recognized even after 1000 cycles in reliability evaluation.

【0054】これに対して、蓋体を設けなかった試料N
o.1〜3、接続部材と誘電体基板との熱膨張差が5×
10-6/℃よりも大きい試料No.14、15、(接続
部材の体積量)/(蓋体の体積量)の比率が0.5より
も小さい試料No.12、比率が2よりも大きい試料N
o.13では、いずれも反り量が50μm/cmよりも
大きくなり、その結果、伝送特性が劣化した。また、信
頼性試験では、いずれも初期破壊または熱衝撃試験で1
00サイクルで破壊が認められ、信頼性が低いことがわ
かった。
On the other hand, the sample N without the lid was used.
o. 1-3, the thermal expansion difference between the connecting member and the dielectric substrate is 5 ×
Sample No. larger than 10 −6 / ° C. Sample Nos. 14 and 15 having a ratio of (volume of connection member) / (volume of lid) smaller than 0.5. 12. Sample N with ratio greater than 2
o. In No. 13, the warpage amount was larger than 50 μm / cm, and as a result, the transmission characteristics deteriorated. In the reliability tests, the initial fracture or thermal shock test was 1
Destruction was observed at 00 cycles, indicating low reliability.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明によれば、配
線基板表面に形成された信号伝送線路と導波管との信号
の伝送にあたり、導波管接続部材における導波管との接
続面の反り量を50μm/cm以下に制限することで導
波管との接続を安定して行うことができ、信号伝送線路
―導波管間の信号伝送損失の低減と信頼性の向上を図る
ことができる。
As described above in detail, according to the present invention, when a signal is transmitted between the signal transmission line formed on the surface of the wiring board and the waveguide, the connection between the waveguide and the waveguide at the waveguide connecting member is performed. By limiting the amount of warpage of the surface to 50 μm / cm or less, the connection with the waveguide can be performed stably, thereby reducing the signal transmission loss between the signal transmission line and the waveguide and improving the reliability. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の配線基板の一例である高周波用パッケ
ージA1を示すものであって、(a)は概略断面図、
(b)は誘電体基板の一方の表面のパターンを示す平面
図、(c)はパッケージA1の第1誘電体層の底面のパ
ターンを示す平面図、(d)はこのパッケージA1に導
波管を接続した時の概略断面図である。
FIG. 1 shows a high-frequency package A1 which is an example of a wiring board according to the present invention, wherein FIG.
(B) is a plan view showing a pattern on one surface of the dielectric substrate, (c) is a plan view showing a pattern on the bottom surface of the first dielectric layer of the package A1, and (d) is a waveguide in the package A1. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view when connecting the.

【図2】本発明の他の実施態様である高周波用パッケー
ジA2に導波管Bを接続した時の概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view when a waveguide B is connected to a high frequency package A2 according to another embodiment of the present invention.

【図3】本発明のさらに他の実施態様である高周波用パ
ッケージA3に導波管Bを接続した時の概略断面図であ
る。
FIG. 3 is a schematic sectional view when a waveguide B is connected to a high-frequency package A3 according to still another embodiment of the present invention.

【図4】実施例における評価用パッケージA4に対して
導波管Bを接続した時の概略断面図である。
FIG. 4 is a schematic sectional view when a waveguide B is connected to an evaluation package A4 in the embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A1,A2,A3 高周波用パッケージ B 導波管 B’ フランジ 1 誘電体基板 2 金属製蓋体 3 キャビティ 4 高周波素子 5 信号伝送線路 5a 開放端 6 スロット孔 7 グランド層 8,11,19 導体層 9 誘電体部 10 誘電体層 14 垂直導体 16 導波管壁 17 導波管接続部材 A1, A2, A3 High frequency package B Waveguide B 'Flange 1 Dielectric substrate 2 Metal lid 3 Cavity 4 High frequency element 5 Signal transmission line 5a Open end 6 Slot hole 7 Ground layer 8, 11, 19 Conductive layer 9 Dielectric part 10 Dielectric layer 14 Vertical conductor 16 Waveguide wall 17 Waveguide connection member

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】セラミック誘電体基板と、該誘電体基板の
一方の表面に被着形成され且つ開放端を有する信号伝送
線路と、前記誘電体基板の一方の表面に取着された金属
製蓋体と、前記誘電体基板の他方の表面に取着され、前
記信号伝送線路の開放端と前記誘電体基板を介して対峙
する位置に開口部が形成された導波管接続部材とを具備
し、前記導波管接続部材の開口部に導波管の開放端を接
続固定することによって、前記信号伝送線路と前記導波
管との信号の伝達が可能な配線基板において、前記導波
管接続部材の前記導波管との接続面の反り量が、50μ
m/cm以下であることを特徴とする配線基板。
1. A ceramic dielectric substrate, a signal transmission line attached to one surface of the dielectric substrate and having an open end, and a metal lid attached to one surface of the dielectric substrate And a waveguide connecting member attached to the other surface of the dielectric substrate and having an opening formed at a position facing the open end of the signal transmission line via the dielectric substrate. A wiring board capable of transmitting a signal between the signal transmission line and the waveguide by connecting and fixing an open end of the waveguide to an opening of the waveguide connection member; The warpage of the connecting surface of the member with the waveguide is 50 μm.
m / cm or less.
【請求項2】セラミック誘電体基板と、前記導波管接続
部材との常温から400℃の範囲における熱膨張差が5
×10-6/℃以下であることを特徴とする配線基板。
2. The thermal expansion difference between the ceramic dielectric substrate and the waveguide connecting member in the range from room temperature to 400.degree.
A wiring board having a temperature of 10-6 / C or less.
【請求項3】前記金属製蓋体と、前記導波管接続部材と
の(接続部材の体積量)/(蓋体の体積量)の比率が
0.5〜2であることを特徴とする請求項1または請求
項2記載の配線基板。
3. The ratio of (volume of connection member) / (volume of lid) between the metal lid and the waveguide connecting member is 0.5 to 2. The wiring board according to claim 1 or 2.
【請求項4】前記セラミック誘電体基板の内部または裏
面に、前記信号伝送線路の開放端と対峙する位置にスロ
ット孔を有するグランド層が形成されてなり、該スロッ
ト孔を介して前記信号伝送線路と前記導波管とを電磁的
に結合してなることを特徴とする請求項1及び請求項3
記載の配線基板。
4. A ground layer having a slot hole at a position facing an open end of the signal transmission line inside or at the back of the ceramic dielectric substrate, and the signal transmission line is formed through the slot hole. 4. The apparatus according to claim 1, wherein said waveguide and said waveguide are electromagnetically coupled.
The wiring board as described.
【請求項5】前記グランド層のスロット孔形成表面に誘
電体部が形成されてなることを特徴とする請求項4記載
の配線基板。
5. The wiring board according to claim 4, wherein a dielectric portion is formed on the surface of the ground layer on which the slot holes are formed.
【請求項6】前記誘電体部内部または導波管との接続側
表面における前記スロット孔と対峙する位置に導体層が
形成されてなる請求項5記載の配線基板。
6. The wiring board according to claim 5, wherein a conductor layer is formed inside the dielectric portion or on a surface on the connection side with the waveguide, facing the slot hole.
【請求項7】前記セラミック誘電体基板の裏面に誘電体
層が形成されており、前記誘電体部が前記誘電体層に形
成された複数の垂直導体によって囲まれて形成されてい
ることを特徴とする請求項5または請求項6記載の配線
基板。
7. A dielectric layer is formed on a back surface of said ceramic dielectric substrate, and said dielectric portion is formed by being surrounded by a plurality of vertical conductors formed on said dielectric layer. The wiring board according to claim 5 or 6, wherein
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